WO2021220920A1

WO2021220920A1 - 表面改質金属酸化物微粒子の製造方法、表面改質金属酸化物微粒子、表面改質金属酸化物微粒子分散液、固体物品、表面改質金属酸化物微粒子分散液の製造方法、及び固体物品の製造方法

Info

Publication number: WO2021220920A1
Application number: PCT/JP2021/016228
Authority: WO
Inventors: 麻祐美黒子; 和也染谷; 大塩田
Original assignee: 東京応化工業株式会社
Priority date: 2020-05-01
Filing date: 2021-04-21
Publication date: 2021-11-04
Also published as: JPWO2021220920A1

Abstract

種々の組成の分散液中での分散安定性に優れる表面改質金属酸化物微粒子を製造できる表面改質金属酸化物微粒子の製造方法と、当該製造方法により製造され得る表面改質金属酸化物微粒子と、当該表面改質金属酸化物微粒子を含む表面改質金属酸化物微粒子分散液と、当該表面改質金属酸化物微粒子分散液を用いて形成される固体物品と、前述の表面改質金属酸化物微粒子分散液の製造方法と、前述の固体物品の製造方法とを提供すること。　金属酸化物微粒子の表面の少なくとも一部を、水酸基又はグリシジル基を有する特定の構造の多環式芳香族化合物で被覆することを含む方法により、表面改質金属酸化物微粒子を製造する。

Description

表面改質金属酸化物微粒子の製造方法、表面改質金属酸化物微粒子、表面改質金属酸化物微粒子分散液、固体物品、表面改質金属酸化物微粒子分散液の製造方法、及び固体物品の製造方法

　本発明は、種々の組成の分散液中での分散安定性に優れる表面改質金属酸化物微粒子を製造できる表面改質金属酸化物微粒子の製造方法と、当該製造方法により製造され得る表面改質金属酸化物微粒子と、当該表面改質金属酸化物微粒子を含む表面改質金属酸化物微粒子分散液と、当該表面改質金属酸化物微粒子分散液を用いて形成される固体物品と、前述の表面改質金属酸化物微粒子分散液の製造方法と、前述の固体物品の製造方法とに関する。

　光学材料、及び電子部品材料や、例えば研磨剤のような種々の物品の加工に用いられる材料として、金属酸化物微粒子が広く使用されている。かかる金属酸化物微粒子は、輸送、計量、取り扱い等が容易であることから分散液として使用されることが多い。しかし、未処理の金属酸化物微粒子を、有機溶媒のような分散媒中に分散させる場合、金属酸化物微粒子が凝集しやすい問題がある。分散媒中で金属酸化物微粒子が凝集すると、金属酸化物微粒子が有する機能を発揮しにくい。このため、金属酸化物微粒子に、有機溶媒等の分散媒に対する良好な分散安定性を付与するために、金属酸化物微粒子の表面処理方法が提案されている。

　かかる表面処理方法として、金属酸化物微粒子の表面の少なくとも一部を、芳香族構造を有するカルボン酸化合物で被覆する方法が提案されている（特許文献１）。

特開２０１５－０１７０２６号公報

　しかしながら、特許文献１に記載の方法で表面処理された金属酸化物微粒子の分散安定性にはさらなる改良の余地があった。また、特許文献１に記載の方法で表面処理された金属酸化物微粒子は、分散液に含まれる成分の種類によっては凝集しやすい場合があった。

　本発明は上記の課題に鑑みなされたものであって、種々の組成の分散液中での分散安定性に優れる表面改質金属酸化物微粒子を製造できる表面改質金属酸化物微粒子の製造方法と、当該製造方法により製造され得る表面改質金属酸化物微粒子と、当該表面改質金属酸化物微粒子を含む表面改質金属酸化物微粒子分散液と、当該表面改質金属酸化物微粒子分散液を用いて形成される固体物品と、前述の表面改質金属酸化物微粒子分散液の製造方法と、前述の固体物品の製造方法とを提供することを目的とする。

　本発明者らは、金属酸化物微粒子の表面の少なくとも一部を、水酸基又はグリシジル基を有する特定の構造の多環式芳香族化合物で被覆することを含む方法により、表面改質金属酸化物微粒子を製造することにより、上記の課題を解決できることを見出し本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。

　本発明の第１の態様は、被覆剤（Ａ）により金属酸化物微粒子（Ｂ）を被覆することを含み、
　被覆剤（Ａ）が、下記式（ａ－Ｉ）で表される化合物を含む、表面改質金属酸化物微粒子の製造方法である。

（式（ａ－Ｉ）中、Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、下記式（ａ－ＩＩ）：

で表される基であり、
　式（ａ－ＩＩ）中、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｘは単結合又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^Ａ１は単結合、炭素原子数が１以上４以下であるアルキレン基、又は炭素原子数が１以上４以下であるアルキレンオキシ基を示し、Ｒ^Ａ１がアルキレンオキシ基である場合、アルキレンオキシ基中の酸素原子が環Ｚと結合し、Ｒ^Ａ２は１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基、スルホ基、又は１価炭化水素基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、若しくは－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基、メシルオキシ基、若しくはスルホ基で置換された基を示し、Ｒ^４ａ～Ｒ^４ｄは独立に１価炭化水素基を示し、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ^Ａ３は水素原子、又はグリシジル基であり、
　環Ｙ^１及び環Ｙ^２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示し、Ｒは単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、－Ｏ－で示される基、－ＮＨ－で示される基、又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは独立にシアノ基、ハロゲン原子、又は１価炭化水素基を示し、ｎ１及びｎ２は独立に０以上４以下の整数を示す。）

　本発明の第２の態様は、表面の少なくとも一部が、下記式（ａ－Ｉ）で表される化合物を含む被覆剤（Ａ）で被覆されている表面改質金属酸化物微粒子である。

　本発明の第３の態様は、第２の態様にかかる表面改質金属酸化物微粒子を含む、表面改質金属酸化物微粒子分散液である。

　本発明の第４の態様は、基材成分（Ｄ）を含有する第３の態様にかかる表面改質金属酸化微粒子分散液が、乾燥、水分による硬化、加熱、及び露光からなる群より選択される１以上の方法により固化した固体物品である。
である。

　本発明の第５の態様は、第１の態様にかかる方法により表面改質金属酸化物微粒子を製造することと、
　表面改質金属酸化物微粒子、及び基材成分（Ｄ）を溶媒（Ｓ）中で混合して、表面改質金属酸化物微粒子分散液を得ることと、を含む表面改質金属酸化物微粒子分散液の製造方法である。

　本発明の第６の態様は、第５の態様にかかる方法により表面改質金属酸化物微粒子分散液を製造することと、
　表面改質金属酸化物微粒子分散液を、形成される固体物品の形状に応じて成形することと、
　成形された表面改質金属酸化物微粒子分散液を、乾燥、水分による硬化、加熱、及び露光からなる群より選択される１以上の方法により固化させることと、を含む固体物品の製造方法である。

　本発明によれば、種々の組成の分散液中での分散安定性に優れる表面改質金属酸化物微粒子を製造できる表面改質金属酸化物微粒子の製造方法と、当該製造方法により製造され得る表面改質金属酸化物微粒子と、当該表面改質金属酸化物微粒子を含む表面改質金属酸化物微粒子分散液と、当該表面改質金属酸化物微粒子分散液を用いて形成される固体物品と、前述の表面改質金属酸化物微粒子分散液の製造方法と、前述の固体物品の製造方法とを提供することができる。

≪表面改質金属酸化物微粒子の製造方法≫
　表面改質金属酸化物微粒子の製造方法は、被覆剤（Ａ）により金属酸化物微粒子（Ｂ）を被覆することを含む。被覆剤（Ａ）は、下記式（ａ－Ｉ）で表される化合物を含む。

　上記式（ａ－Ｉ）で表される化合物は、Ｗ^１及びＷ^２として、水酸基又はグリシジル基を有する。他方、金属酸化物微粒子（Ｂ）は、通常その表面に水酸基を有する、このため式（ａ－Ｉ）で表される化合物を含む被覆剤（Ａ）を金属酸化物微粒子（Ｂ）と接触させると、水酸基同士の相互作用、又は孤立電子対を有するグリシジル基と水酸基との相互作用によって被覆剤（Ａ）が金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面に良好に付着すると考えられる。
　また、式（ａ－Ｉ）で表される化合物は、芳香環を含む多環式基を有する。かかる多環式基は、疎水性を有し嵩高い。このため、金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面に式（ａ－Ｉ）で表される化合物が付着することにより、ミセル様の被覆された金属酸化物微粒子が形成されると考えられる。その結果、上記の方法により製造される、式（ａ－Ｉ）で表される化合物が表面に付着した表面改質金属酸化物微粒子は、種々の組成の分散液中で良好に分散すると考えられる。

　金属酸化物微粒子（Ｂ）の被覆は、典型的には、有機溶媒の存在下に、被覆剤（Ａ）を金属酸化物微粒子（Ｂ）と接触させることにより行われる。
　被覆時に使用される有機溶媒としては、金属酸化物微粒子（Ｂ）を分散させることができ、被覆剤（Ａ）が可溶である限り特に限定されない。被覆剤（Ａ）による被覆を良好に行いやすい点から、有機溶媒は、水酸基、及びカルボキシ基を有さないのが好ましい。

　有機溶媒の具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等のケトン類；３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ－プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。

　被覆処理に使用される有機溶媒の使用量は特に限定されず、典型的には、金属酸化物微粒子（Ｂ）１００質量部に対して、０．１質量部以上５０００質量部以下が好ましく、５０質量部以上１０００質量部以下がより好ましく、１００質量部以上５００質量部以下がさらに好ましい。

　被覆剤（Ａ）と金属酸化物微粒子（Ｂ）とを接触させる際の温度は、金属酸化物微粒子（Ｂ）や、被覆剤（Ａ）に加熱による劣化や分解が生じない温度であれば特に限定されない。被覆剤（Ａ）と金属酸化物微粒子（Ｂ）とを接触させる際の温度は、例えば、－２０℃以上１５０℃以下であり、－１０℃以上１００℃以下が好ましく、２０℃以上１００℃以下がより好ましい。
　被覆剤（Ａ）と金属酸化物微粒子（Ｂ）とを接触させる際の圧力は、特に制限されず大気圧下、減圧下、高圧下であってよい。簡便性の点では大気圧下又は減圧下が好ましい。

　被覆剤（Ａ）と金属酸化物微粒子（Ｂ）とを接触させる時間も特に限定されない。被覆剤（Ａ）と金属酸化物微粒子（Ｂ）とを接触させる際の時間は、例えば５分以上２４時間以下であり、１０分以上１２時間以下が好ましく、３０分以上６時間以下がより好ましい。

　被覆剤（Ａ）と金属酸化物微粒子（Ｂ）とを接触させる際のｐＨは、例えば３以上６以下が好ましい。ｐＨはｐＨ試験紙等で確認すればよい。

　また、被覆剤（Ａ）による金属酸化物微粒子（Ｂ）の被覆を行う前に、金属酸化物微粒子（Ｂ）と、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートとを接触させるのが好ましい。

　このような処理を行うことにより、金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面に、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートが結合又は付着する。
　かかる結合又は付着は、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートが有する－ＣＯＯＨ又は－ＣＯＯ^－との相互作用により生じると考えられる。

　金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面に芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートが結合又は付着すると、金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面に芳香族基が露出する。
　そうすると、前述した水酸基同士の相互作用、又は孤立電子対を有するグリシジル基と水酸基との相互作用だけでなく、式（ａ－Ｉ）で表される化合物が有する芳香族基と、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートが有する芳香族基との相互作用によって、被覆剤（Ａ）による被覆をより良好に行いやすい。

　なお、カルボキシレートは、金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面に結合又は付着し得る、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）由来のカルボン酸アニオン、又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）の塩である。
　芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートの、金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面への結合又は付着については、例えば、Ｘ線光電子分光装置（ＸＰＳ）等で確認することができる。
　芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）の塩において、カルボン酸アニオンに対する対カチオンは、無機カチオンであっても有機カチオンであってもよく、無機カチオンが好ましい。対カチオンは、１価のカチオンであっても、２価以上の多価カチオンであってもよい。
　芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）の塩において、カルボン酸アニオンに対する対カチオンは、無機カチオンであっても有機カチオンであってもよく、無機カチオンが好ましい。対カチオンは、１価のカチオンであっても、２価以上の多価カチオンであってもよい。無機カチオンとしては、特に限定されないが、ナトリウムイオンやカリウムイオン等のアルカリ金属カチオンや、金属酸化物微粒子（Ｂ）に含まれる金属元素に由来するカチオン等が好ましい。
　金属酸化物微粒子（Ｂ）に含まれ得る、好ましい金属元素については後述する。

　金属酸化物微粒子（Ｂ）と、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートとを接触させる条件、及び接触時に使用される有機溶媒は、被覆剤（Ａ）と金属酸化物微粒子（Ｂ）とを接触させる条件と同様である。ただし、金属酸化物微粒子（Ｂ）とを接触させる際の圧力は、減圧下又は高圧下が好ましく、簡便性の点では減圧下が好ましい。

　ただし、金属酸化物微粒子（Ｂ）と、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートとの接触は、含窒素有機溶媒中で行われるのが好ましい。

　金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面の水酸基と、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートとの間で水素結合を形成する際に、含窒素有機溶媒がバッファー的に作用し、水素結合の形成を促進させると思われる。その結果、含窒素有機溶媒中で、金属酸化物微粒子（Ｂ）と、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートとを接触させると、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートが、金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面に良好に結合又は付着しやすい。

　含窒素有機溶媒としては、窒素原子を有する限り特に限定されない。含窒素有機溶媒は、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、アニリン等のアミン類であっても、ピリジン、ピリミジン等の含窒素芳香族複素環化合物であっても、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド構造を有する化合物であってもよい。
　これらの中では、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートの金属酸化物微粒子（Ｂ）への結合又は付着を促進させやすいことから、アミド構造を有する化合物が好ましい。

　アミド構造を有する化合物におけるアミド構造とは、－（Ｃ＝Ｏ）－Ｎ＜で表される構造である。
　アミド構造を有する化合物の好ましい例としては、下式（Ｓ０１）で表される化合物が挙げられる。

（式（Ｓ０１）中、Ｒ^ｓ０１及びＲ^ｓ０２は、それぞれ独立に炭素原子数１以上３以下のアルキル基であり、Ｒ^ｓ０３は下式（Ｓ０１－１）又は下式（Ｓ０１－２）：

で表される基である。
　式（Ｓ０１－１）中、Ｒ^ｓ０４は、水素原子又は水酸基であり、Ｒ^ｓ０５及びＲ^ｓ０６は、それぞれ独立に炭素原子数１以上３以下のアルキル基である。式（Ｓ０１－２）中、Ｒ^ｓ０７及びＲ^ｓ０８は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数１以上３以下のアルキル基である。）

　式（Ｓ０１）で表される化合物のうち、Ｒ^ｓ０３が式（Ｓ０１－１）で表される基である場合の具体例としては、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド、Ｎ－エチル，Ｎ，２－ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル－２－メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，２－トリメチル－２－ヒドロキシプロピオンアミド、Ｎ－エチル－Ｎ，２－ジメチル－２－ヒドロキシプロピオンアミド、及びＮ，Ｎ－ジエチル－２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオンアミド等が挙げられる。

　式（Ｓ０１）で表される化合物のうち、Ｒ^ｓ０３が式（Ｓ０１－２）で表される基である場合の具体例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレア、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラエチルウレア等が挙げられる。

　式（Ｓ０１）で表される化合物のうち、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド、及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレアが特に好ましい。

　アミド構造を有する化合物について、式（Ｓ０１）で表される化合物以外の好ましい例としては、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及び１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられる。
　アミド構造を有する化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　含窒素有機溶媒の使用量は、所望する効果が得られる限りにおいて特に限定されない。
　含窒素有機溶媒の使用量は特に限定されず、典型的には、製造される表面改質金属酸化物微粒子、又は分散される金属酸化物微粒子１００質量部に対して、１０質量部以上５０００質量部以下が好ましく、２０質量部以上１０００質量部以下がより好ましく、５０質量部以上５００質量部以下がさらに好ましい。

　以下、表面改質金属酸化物微粒子の製造方法において、使用する主な材料である、被覆剤（Ａ）、金属酸化物微粒子（Ｂ）、及び芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）について説明する。

＜被覆剤（Ａ）＞
　被覆剤（Ａ）は、下記式（ａ－Ｉ）で表される化合物を含む。

で表される基であり、
　式（ａ－ＩＩ）中、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｘは単結合又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^Ａ１は単結合、炭素原子数が１以上４以下であるアルキレン基、又は炭素原子数が１以上４以下であるアルキレンオキシ基を示し、Ｒ^Ａ１がアルキレンオキシ基である場合、アルキレンオキシ基中の酸素原子が環Ｚと結合し、Ｒ^Ａ２は１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基、スルホ基、又は１価炭化水素基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、若しくは－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基、メシルオキシ基、若しくはスルホ基で置換された基を示し、Ｒ^４ａ～Ｒ^４ｄは独立に１価炭化水素基を示し、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ^Ａ３は、水素原子、又はグリシジル基であり、
　環Ｙ^１及び環Ｙ^２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示し、Ｒは単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、－Ｏ－で示される基、－ＮＨ－で示される基、又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは独立にシアノ基、ハロゲン原子、又は１価炭化水素基を示し、ｎ１及びｎ２は独立に０以上４以下の整数を示す。）

　上記式（ａ－ＩＩ）において、環Ｚとしては、例えば、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環［例えば、縮合二環式炭化水素環（例えば、ナフタレン環等のＣ_８－２０縮合二環式炭化水素環、好ましくはＣ_{１０－１６}縮合二環式炭化水素環）、縮合三環式芳香族炭化水素環（例えば、アントラセン環、フェナントレン環等）等の縮合２乃至４環式芳香族炭化水素環］等が挙げられる。環Ｚは、ベンゼン環又はナフタレン環であるのが好ましく、ナフタレン環であるのがより好ましい。なお、式（ａ－Ｉ）中のＷ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、上記式（ａ－ＩＩ）で表される基であるため、Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ環Ｚを含む。Ｗ^１に含まれる環ＺとＷ^２に含まれる環Ｚとは、同一でも異なっていてもよく、例えば、一方の環がベンゼン環、他方の環がナフタレン環等であってもよいが、いずれの環もナフタレン環であることが被覆剤の疎水化又は高屈化の点で特に好ましい。

　また、Ｗ^１及びＷ^２の両方が直結する炭素原子にＸを介して結合する環Ｚの置換位置は、特に限定されない。例えば、環Ｚがナフタレン環の場合、上記炭素原子に結合する環Ｚに対応する基は、１－ナフチル基、２－ナフチル基等であってもよい。

　上記式（ａ－ＩＩ）において、Ｘは、独立に単結合又は－Ｓ－で示される基を示し、典型的には単結合である。

　上記式（ａ－ＩＩ）において、Ｒ^Ａ１としては、例えば、単結合；メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン－１，２－ジイル基等の炭素原子数が１以上４以下であるアルキレン基；メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基等の炭素原子数が１以上４以下であるアルキレンオキシ基が挙げられ、単結合；Ｃ_２－４アルキレン基（特に、エチレン基、プロピレン基等のＣ_２－３アルキレン基）；Ｃ_２－４アルキレンオキシ基（特に、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基等のＣ_２－３アルキレン基）が好ましく、単結合がより好ましい。なお、Ｒ^Ａ１がアルキレンオキシ基である場合、アルキレンオキシ基中の酸素原子が環Ｚと結合する。また、式（ａ－Ｉ）中のＷ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、上記式（ａ－ＩＩ）で表される基であるため、Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ２価の基であるＲ^Ａ１を含む。Ｗ^１に含まれるＲ^Ａ１とＷ^２に含まれるＲ^Ａ１とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。

　上記式（ａ－ＩＩ）において、Ｒ^Ａ２としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等のＣ_１－１２アルキル基、好ましくはＣ_１－８アルキル基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基等のＣ_５－１０シクロアルキル基、好ましくはＣ_５－８シクロアルキル基、より好ましくはＣ_５－６シクロアルキル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のＣ_６－１４アリール基、好ましくはＣ_６－１０アリール基、より好ましくはＣ_６－８アリール基等）、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基等のＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキル基等）等の１価炭化水素基；水酸基；アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のＣ_１－１２アルコキシ基、好ましくはＣ_１－８アルコキシ基、より好ましくはＣ_１－６アルコキシ基等）、シクロアルコキシ基（シクロヘキシルオキシ基等のＣ_５－１０シクロアルコキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基等のＣ_６－１０アリールオキシ基）、アラルキルオキシ基（例えば、ベンジルオキシ基等のＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルオキシ基）等の－ＯＲ^４ａで示される基［式中、Ｒ^４ａは１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等のＣ_１－１２アルキルチオ基、好ましくはＣ_１－８アルキルチオ基、より好ましくはＣ_１－６アルキルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（シクロヘキシルチオ基等のＣ_５－１０シクロアルキルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基等のＣ_６－１０アリールチオ基）、アラルキルチオ基（例えば、ベンジルチオ基等のＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルチオ基）等の－ＳＲ^４ｂで示される基［式中、Ｒ^４ｂは１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；アシル基（アセチル基等のＣ_１－６アシル基等）；アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基等のＣ_１－４アルコキシ－カルボニル基等）；ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）；ニトロ基；シアノ基；メルカプト基；カルボキシ基；アミノ基；カルバモイル基；アルキルアミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基等のＣ_１－１２アルキルアミノ基、好ましくはＣ_１－８アルキルアミノ基、より好ましくはＣ_１－６アルキルアミノ基等）、シクロアルキルアミノ基（シクロヘキシルアミノ基等のＣ_５－１０シクロアルキルアミノ基等）、アリールアミノ基（フェニルアミノ基等のＣ_６－１０アリールアミノ基）、アラルキルアミノ基（例えば、ベンジルアミノ基等のＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルアミノ基）等の－ＮＨＲ^４ｃで示される基［式中、Ｒ^４ｃは１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；ジアルキルアミノ基（ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基等のジ（Ｃ_１－１２アルキル）アミノ基、好ましくはジ（Ｃ_１－８アルキル）アミノ基、より好ましくはジ（Ｃ_１－６アルキル）アミノ基等）、ジシクロアルキルアミノ基（ジシクロヘキシルアミノ基等のジ（Ｃ_５－１０シクロアルキル）アミノ基等）、ジアリールアミノ基（ジフェニルアミノ基等のジ（Ｃ_６－１０アリール）アミノ基）、ジアラルキルアミノ基（例えば、ジベンジルアミノ基等のジ（Ｃ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキル）アミノ基）等の－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基［式中、Ｒ^４ｄは独立に１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；（メタ）アクリロイルオキシ基；スルホ基；上記の１価炭化水素基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、若しくは－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が上記の１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、メシルオキシ基、若しくはスルホ基で置換された基［例えば、アルコキシアリール基（例えば、メトキシフェニル基等のＣ_１－４アルコキシＣ_６－１０アリール基）、アルコキシカルボニルアリール基（例えば、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基等のＣ_１－４アルコキシ－カルボニルＣ_６－１０アリール基等）］等が挙げられる。

　これらのうち、代表的には、Ｒ^Ａ２は、１価炭化水素基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基等であってもよい。

　好ましいＲ^Ａ２としては、１価炭化水素基［例えば、アルキル基（例えば、Ｃ_１－６アルキル基）、シクロアルキル基（例えば、Ｃ_５－８シクロアルキル基）、アリール基（例えば、Ｃ_６－１０アリール基）、アラルキル基（例えば、Ｃ_６－８アリール－Ｃ_１－２アルキル基）等］、アルコキシ基（Ｃ_１－４アルコキシ基等）等が挙げられる。特に、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂは、アルキル基［Ｃ_１－４アルキル基（特にメチル基）等］、アリール基［例えば、Ｃ_６－１０アリール基（特にフェニル基）等］等の１価炭化水素基（特に、アルキル基）であるのが好ましい。

　なお、ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^Ａ２は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、Ｗ^１に含まれるＲ^Ａ２とＷ^２に含まれるＲ^Ａ２とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。

　上記式（ａ－ＩＩ）において、Ｒ^Ａ２の数ｍは、環Ｚの種類に応じて選択でき、例えば、０以上４以下、好ましくは０以上３以下、より好ましくは０以上２以下であってもよい。なお、Ｗ^１におけるｍとＷ^２におけるｍとは、同一でも異なっていてもよい。

　上記式（ａ３）において、Ｒ^Ａ３は、水素原子、又はグリシジル基である。

　Ｗ^１に含まれるＲ^Ａ３とＷ^２に含まれるＲ^Ａ３とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｗ^１に含まれるＲ^Ａ３とＷ^２に含まれるＲ^Ａ３とは、双方が同一の基であるのが好ましい。

　上記式（ａ－Ｉ）において、環Ｙ^１及び環Ｙ^２としては、例えば、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環［例えば、縮合二環式炭化水素環（例えば、ナフタレン環等のＣ_８－２０縮合二環式炭化水素環、好ましくはＣ_{１０－１６}縮合二環式炭化水素環）、縮合三環式芳香族炭化水素環（例えば、アントラセン環、フェナントレン環等）等の縮合２乃至４環式芳香族炭化水素環］等が挙げられる。環Ｙ^１及び環Ｙ^２は、ベンゼン環又はナフタレン環であるのが好ましく、ベンゼン環であるのがより好ましい。なお、環Ｙ^１及び環Ｙ^２は、同一でも異なっていてもよく、例えば、一方の環がベンゼン環、他方の環がナフタレン環等であってもよい。

　上記式（ａ－Ｉ）において、Ｒは単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、－Ｏ－で示される基、－ＮＨ－で示される基、又は－Ｓ－で示される基を示し、典型的には単結合である。ここで、置換基としては、例えば、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、１価炭化水素基［例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基等のＣ_１－６アルキル基）、アリール基（フェニル基等のＣ_６－１０アリール基）等］等が挙げられ、ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、珪素原子等が挙げられる。

　上記式（ａ－Ｉ）において、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂとしては、通常、非反応性置換基、例えば、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、１価炭化水素基［例えば、アルキル基、アリール基（フェニル基等のＣ_６－１０アリール基）等］等が挙げられ、シアノ基又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることが特に好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基等のＣ_１－６アルキル基（例えば、Ｃ_１－４アルキル基、特にメチル基）等が例示できる。なお、ｎ１が２以上の整数である場合、Ｒ^３ａは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、ｎ２が２以上の整数である場合、Ｒ^３ｂは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。さらに、Ｒ^３ａとＲ^３ｂとが同一であってもよく、異なっていてもよい。また、環Ｙ^１及び環Ｙ^２に対するＲ^３ａ及びＲ^３ｂの結合位置（置換位置）は、特に限定されない。好ましい置換数ｎ１及びｎ２は、０又は１、特に０である。なお、ｎ１及びｎ２は、互いに同一でも異なっていてもよい。

　上記式（ａ－Ｉ）で表される化合物は、優れた光学的特性及び熱的特性を保持する。特に、環Ｙ^１及び環Ｙ^２がベンゼン環であり、Ｒが単結合である場合、上記式（ａ－Ｉ）で表される化合物は、フルオレン骨格を有し、光学的特性及び熱的特性にさらに優れる。

　上記式（ａ－Ｉ）で表される化合物のうち、特に好ましい具体例としては、９，９－ビス［４－［２－（グリシジルオキシ）エトキシ］フェニル］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス［４－［２－（グリシジルオキシ）エチル］フェニル］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス［４－（グリシジルオキシ）－３－メチルフェニル］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス［４－（グリシジルオキシ）－３，５－ジメチルフェニル］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（６‐グリシジルオキシナフタレン－１－イル）－９Ｈ－フルオレン及び９，９－ビス（５‐グリシジルオキシナフタレン－２－イル）－９Ｈ－フルオレン等のエポキシ基含有フルオレン化合物；９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル）］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエチル）フェニル］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキ－３，５－ジメチルフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（６－ヒドロキシナフタレン－１－イル）－９Ｈ－フルオレン及び９，９－ビス（５－ヒドロキシナフタレン－２－イル）－９Ｈ－フルオレン等のヒドロキシ基含有フルオレン化合物；並びに下記式で表される化合物が挙げられる。

　以上説明した式（ａ－Ｉ）で表される化合物の中では、以下の化合物が特に好ましい。

　被覆剤（Ａ）は、上記式（ａ－Ｉ）で表される化合物、及び後述の芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）以外の他の被覆剤を含んでいてもよい。被覆剤（Ａ）の質量に対する式（ａ－Ｉ）で表される化合物の質量の比率は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらに好ましく、９０質量％以上がさらにより好ましく、９５質量％以上が特に好ましく、１００質量％であってもよい。

　被覆剤（Ａ）が、式（ａ－Ｉ）で表される化合物以外に含んでいもよいその他の被覆剤としては、例えば、
・式（ａ－Ｉ）で表される化合物に該当しない、後述する種々のエポキシ化合物
・後述のシラン化合物（ｉ）～（ｉｉｉ）で挙げた化合物；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン等のモノビニルトリアルコキシシラン；３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシアルキルモノアルキルジアルコキシシラン；３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシアルキルトリアルコキシシラン；３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等の非脂環式エポキシフルオレニリデン基含有アルキルトリ（又はジ）アルコキシシラン；３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等の非脂環式エポキシ基含有アルキルモノアルキルジアルコキシシラン；２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチルジエトキシシラン等の脂環式エポキシ基含有アルキルトリ（又はジ）アルコキシシラン；２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン等の脂環式エポキシ基含有アルキルモノアルキルジアルコキシシラン；〔（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリメトキシシラン、〔（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリエトキシシラン等のオキセタニル基含有アルキルトリアルコキシシラン；３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトアルキルトリアルコキシシラン；３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプトアルキルモノアルキルジアルコキシシラン；ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－ドデシルトリメトキシシラン、ｎ－ドデシルトリエトキシシラン、ｎ－ヘキサデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、２－［メトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］－トリメトキシシラン、メトキシトリ（エチレンオキシ）プロピルトリメトキシシラン、３－｛２－メトキシ［ポリ（エチレンオキシ）］｝プロピルトリメトキシシラン、３－｛２－メトキシ［ポリ（エチレンオキシ）］｝プロピルトリエトキシシラン、３－｛２－メトキシ［トリ（エチレンオキシ）］｝プロピルトリメトキシシラン、３－｛２－メトキシ［トリ（エチレンオキシ）］｝プロピルトリエトキシシラン、１－ヘキセニルトリメトキシシラン、１－オクテニルトリメトキシシラン等その他の鎖状トリアルコキシシラン；等の加水分解縮合性ケイ素化合物；等が挙げられ、１種でも２種以上を組み合わせて用いてもよい。被覆剤（Ａ）における他の被覆剤は、式（ａ－Ｉ）で表される化合物による被覆処理に先だって用いられていてもよい。式（ａ－Ｉ）で表される化合物による金属酸化物微粒子（Ｂ）への被覆の効果を向上させる点で、被覆剤（Ａ）における他の被覆剤としての、上述のトリアルコキシシラン等の加水分解縮合性ケイ素化合物が被覆処理されている金属酸化物微粒子（Ｂ）を用いることが好ましく、その他の鎖状トリアルコキシシランで被覆処理されている金属酸化物微粒子（Ｂ）を用いることがより好ましい。

　被覆剤（Ａ）の使用量は、金属酸化物微粒子（Ｂ）１００質量部に対して、例えば０．１質量部以上５００質量部以下であり、０．５質量部以上３００質量部以下が好ましく、１質量部以上１００質量部以下がより好ましい。
　また、被覆剤（Ａ）における式（ａ－Ｉ）で表される化合物の使用量は、金属酸化物微粒子（Ｂ）１００質量部に対して、例えば０．１質量部以上５００質量部以下であり、０．５質量部以上３００質量部以下が好ましく、１質量部以上１００質量部以下がより好ましく、２質量部以上２０質量以下がさらに好ましい。
　また、被覆剤（Ａ）における式（ａ－Ｉ）で表される化合物を用いる前に芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）で処理された金属酸化物微粒子（Ｂ）を用いる場合は、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）の質量と金属酸化物微粒子（Ｂ）の質量との合計１００質量部に対して、被覆剤（Ａ）又は被覆剤（Ａ）における式（ａ－Ｉ）で表される化合物の使用量は、例えば１質量部以上５００質量部以下であり、２質量部以上３００質量部以下が好ましく、５質量部以上１００質量部以下がより好ましい。
　また、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）を用いる場合、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）の１質量部に対する被覆剤（Ａ）又は被覆剤（Ａ）における式（ａ－Ｉ）で表される化合物の使用量として、０．５質量部以上７０質量部以下が好ましく、０．７質量部以上５０質量部以下がさらに好ましく、０．８質量部以上４５質量部以下が特に好ましい。
　被覆後の表面改質金属酸化物微粒子の疎水性と親水性とのバランスの点で、被覆剤（Ａ）の使用量が芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）の使用量以上であるのが好ましい。

＜金属酸化物微粒子（Ｂ）＞
　金属酸化物微粒子（Ｂ）としては、従来種々の目的で使用されている種々の金属酸化物微粒子を特に限定なく用いることができる。例えば、ＺｒＯ_２微粒子のような金属酸化物は、高屈折材料において、高屈折率を達成させるためのフィラーとして使用されている。

　金属酸化物微粒子（Ｂ）の形状は特に限定されない。金属酸化物微粒子（Ｂ）の形状としては、球状、粒状、楕円球状、立方体状、直方体状、ピラミッド状、針状、柱状、棒状、筒状、りん片状、板状、及び薄片状等が挙げられ、球状、粒状、柱状等が好ましい。

　金属酸化物微粒子（Ｂ）を構成する金属酸化物の種類は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。金属酸化物微粒子は、単一の金属酸化物からなる微粒子であってもよく、２種以上の金属酸化物からなる微粒子であってもよい。
　また、被覆剤（Ａ）による被覆処理には、１種の金属酸化物微粒子（Ｂ）を単独で用いてもよく、２種以上の金属酸化物微粒子（Ｂ）を組み合わせて用いてもよい。

　金属酸化物微粒子（Ｂ）を構成する金属酸化物に含まれる金属としては、例えば、Ａｇ、Ｃｕ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｒｕ及びＣｅからなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。高屈折率の金属酸化物を提供できるという観点からは、上記の金属元素の中でも、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｓｎ及びＣｅよりなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、Ｚｒが特に好ましい。
　金属酸化物微粒子（Ｂ）を構成する金属酸化物の好適な例としては、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸化ランタン（Ｌａ_２Ｏ_３）、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）、酸化セリウム（ＣｅＯ_２）、酸化ルテニウム（ＲｕＯ_２）及び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等の単一金属酸化物；ＩＴＯ、及びＡＴＯ等の金属酸化物の固溶体；チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ_３）、灰チタン石（ＣａＴｉＯ_３）、及びスピネル（ＭｇＡｌ_２Ｏ_４）等の複合金属酸化物が挙げられる。

　金属酸化物微粒子（Ｂ）の平均粒子径は、本発明の目的を阻害しない範囲で、特に限定されない。金属酸化物微粒子（Ｂ）の平均粒子径は、例えば，５０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１５ｎｍ以下がさらに好ましく、１２ｎｍ以下が特に好ましい。金属酸化物微粒子（Ｂ）の平均粒子径の下限は、例えば、１ｎｍ以上であり、２ｎｍ以上であってもよい。
　金属酸化物微粒子（Ｂ）の平均粒子径は、粒度分布計を用いて測定される、Ｚ平均径（Ｚ－Ａｖｅｒａｇｅサイズ）である。
　金属酸化物微粒子（Ｂ）の、動的光散乱法を用いて測定される累積粒度体積分布における累積値９９．９９％での粒子径は、高屈折率化の点で、例えば５０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましい。下限値は特にないが、例えば５ｎｍ以上である。

＜芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）＞
　芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）は、被覆剤（Ａ）による被覆処理に先だって、金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面の前処理に使用される。
　前述の通り、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）は、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートとして使用されてもよい。
　芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）は、分子内に芳香族基とカルボキシ基とを有する化合物であれば特に限定されない。芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても、芳香族複素環基であってもよく、芳香族炭化水素基が好ましい。
　芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、アントラセン環、フルオレン環、ジベンゾチオフェン環、スチルベン環、ビスフェノール環、又はフェナントレン環から１又は２以上の水素原子を除いた基である、１価又は２価以上の多価の基が挙げられる。
　具体的には、ベンゼン構造、フルオレン構造、アントラセン構造、ジベンゾチオフェン構造、カルバゾール構造、スチルベン環、ビフェニル環、ビスフェノール構造、及びナフタレン構造からなる群より選ばれる少なくとも１つの構造を有する芳香族構造を有するカルボン酸化合物を芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）として好適に用いることができる。さらに、（メタ）アクリロイル構造を有する上記芳香族構造を有するカルボン酸化合物も、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）として好適に用いることができる。
　なお、本出願の明細書において、例えば、ベンゾイミダゾール環、カルバゾール環、キノリン環のような芳香族炭化水素環と複素環とが縮合した縮合環構造を有する芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）については、芳香族炭化水素基を有すると解する。

　芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）としては、下記式（１）で表される化合物、置換基を有してもよい安息香酸、及び置換基を有してもよいナフトエ酸からなる群より選択される１種以上が好ましい。

（式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子、又は１価の有機基であり、Ｒ^１とＲ^２とが互いに結合して環を形成してもよく、前記環は、環構成元素としてＮ、Ｓ、及びＯからなる群より選択される元素を１つ以上含んでいてもよく、Ｒ^３は、置換基を有してもよい芳香族基であり、Ｒ^４は、メチレン基、又は単結合である。）
で表されるカルボン酸化合物及び／又は式（１）で表されるカルボン酸化合物由来のカルボキシレートで被覆することを含む、方法である。

　以下、便宜上、式（１）で表されるカルボン酸化合物についてのみ説明するが、式（１）で表されるカルボン酸化合物に由来するカルボキシレートも、式（１）で表されるカルボン酸化合物と同様に被覆に用いることができる。

　式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子又は１価の有機基である。１価の有機基としては、特に限定されない。１価の有機基は、例えば、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよい脂肪族複素環基、及び置換基を有してもよい芳香族基等であってもよい。
　Ｒ^１及びＲ^２が１価の有機基である場合、当該有機基の炭素原子数は、１以上４０以下が好ましく、１以上３０以下がより好ましく、１以上２０以下がさらにより好ましく、１以上１０以下が特に好ましい。
　また、Ｒ^１とＲ^２とは、互いに結合して環を形成してもよい。

　Ｒ^１及びＲ^２としては、Ｒ^１及びＲ^２が、それぞれ独立に水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよい芳香族基であるのか、Ｒ^１とＲ^２とが結合して環を形成しているのが好ましい。

　Ｒ^１及びＲ^２がアルキル基である場合、当該アルキル基は鎖中に、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、スルフィド結合、及びジスルフィド結合等を有してもよい。
　Ｒ^１及びＲ^２としてのアルキル基の炭素原子数は１以上４０以下が好ましく、１以上３０以下がより好ましく、１以上２０以下がさらにより好ましく、１以上１０以下が特に好ましく、１以上５以下が最も好ましい。

　Ｒ^１及びＲ^２としてのアルキル基が有していてもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。アルキル基が有していてもよい置換基の具体例としては、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、及びハロゲン原子等が挙げられる。アルキレン基は、直鎖アルキル基であっても、分岐鎖アルキル基であってもよく、直鎖アルキル基が好ましい。

　Ｒ^１及びＲ^２としてのアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、２－エチル－ｎ－ヘキシル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、及びｎ－イコシル基が挙げられる。

　Ｒ^１及びＲ^２としての置換基を有してもよい芳香族基は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基でもよく、置換基を有してもよい芳香族複素環基でもよい。

　芳香族炭化水素基の種類は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。芳香族炭化水素基は、単環式の芳香族基であってもよく、２以上の芳香族炭化水素基が縮合して形成された基であってもよく、２以上の芳香族炭化水素基が単結合により結合して形成された基であってもよい。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アンスリル基、フェナンスレニル基が好ましい。

　芳香族複素環基の種類は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。芳香族複素環基は、単環式基であってもよく、多環式基であってもよい。芳香族複素環基としては、ピリジル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、及びベンゾイミダゾリル基が好ましい。

　フェニル基、多環芳香族炭化水素基、又は芳香族複素環基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、及び有機基が挙げられる。フェニル基、多環芳香族炭化水素基、又は芳香族複素環基が複数の置換基を有する場合、当該複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

　芳香族基が有する置換基が有機基である場合、当該有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、及びアラルキル基等が挙げられる。この有機基は、当該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状、及びこれらの構造の組み合わせのいずれでもよい。この有機基は、通常は１価であるが、環状構造を形成する場合等には、２価以上の有機基となり得る。

　芳香族基が隣接する炭素原子上に置換基を有する場合、隣接する炭素原子上に結合する２つの置換基はそれが結合して環状構造を形成してもよい。環状構造としては、脂肪族炭化水素環や、ヘテロ原子を含む脂肪族環が挙げられる。

　芳香族基が有する置換基が有機基である場合に、当該有機基に含まれる結合は本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、有機基は、酸素原子、窒素原子、珪素原子等のヘテロ原子を含む結合を含んでいてもよい。ヘテロ原子を含む結合の具体例としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合（－Ｎ＝Ｃ（－Ｒ）－、－Ｃ（＝ＮＲ）－：Ｒは水素原子又は有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合、アゾ結合等が挙げられる。

　有機基が有してもよいヘテロ原子を含む結合としては、式（１）で表されるカルボン酸化合物の耐熱性の観点から、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、アミノ結合（－ＮＲ－：Ｒは水素原子又は１価の有機基を示す）ウレタン結合、イミノ結合（－Ｎ＝Ｃ（－Ｒ）－、－Ｃ（＝ＮＲ）－：Ｒは水素原子又は１価の有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合が好ましい。

　有機基が炭化水素基以外の置換基である場合、炭化水素基以外の置換基の種類は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。炭化水素基以外の置換基の具体例としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアルミ基、モノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。

　フェニル基、多環芳香族炭化水素基、又は芳香族複素環基が有する置換基としては、炭素原子数１以上１２以下のアルキル基、炭素原子数１以上１２以下のアリール基、炭素原子数１以上１２以下のアルコキシ基、炭素原子数１以上１２以下のアリールオキシ基、炭素原子数１以上１２以下のアリールアミノ基、及びハロゲン原子が好ましい。

　Ｒ^１とＲ^２とは、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ^１とＲ^２とが結合して形成される環は、含窒素複素環である。当該含窒素環は、環構成元素としてＮ、Ｓ、及びＯからなる群より選択される元素を１つ以上含む。
　当該含窒素環は、単環でも多環でもよく、単環が好ましい。また、当該含窒素複素環は、脂肪族環であっても、芳香族環であっても、１以上の脂肪族単環と１以上の芳香族単環とが縮合した縮合多環であってもよい。

　Ｒ^１とＲ^２とが結合して形成される含窒素複素環の好適な例としては、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピロリジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、インドール、ベンゾイミダゾール、プリン、フェノキサジン、及びフェノチアジンが挙げられる。これらの中では、ピロリジン、ピロール、イミダゾール、及びピラゾールが好ましく、イミダゾールがより好ましい。
　つまり、式（１）において、Ｒ^１とＲ^２とが結合してイミダゾール環を形成するのが好ましい。Ｒ^１とＲ^２とが結合して形成されたイミダゾール環を有するカルボン酸化合物は、金属酸化物微粒子（Ｂ）を被覆する際の、被覆による効果に優れる。

　Ｒ^１とＲ^２とが結合して形成される含窒素複素環は、置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、及び有機基が挙げられる。含窒素複素環上の置換基の数は特に限定されない。
　含窒素複素環上に複数の置換基が存在する場合、複数の置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

　含窒素複素環が有する置換基が有機基である場合、当該有機基は、Ｒ^１及びＲ^２が置換基を有してもよい芳香族基である場合の、置換基としての有機基と同様である。

　含窒素複素環が有する置換基が有機基である場合、有機基としては、アルキル基、芳香族炭化水素基、及び芳香族複素環基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数１以上８以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、及びイソプロピル基がより好ましい。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アンスリル基、及びフェナンスレニル基が好ましく、フェニル基、及びナフチル基がより好ましく、フェニル基が特に好ましい。芳香族複素環基としては、ピリジル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、及びベンゾイミダゾリル基が好ましく、フリル基、及びチエニル基がより好ましい。

　式（１）中、Ｒ^３は、置換基を有してもよい芳香族基である。Ｒ^３としての１価の有機基としては、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基が好ましい。Ｒ^３としての置換基を有してもよい芳香族基は、Ｒ^１及びＲ^２としての置換基を有してもよい芳香族基と同様である。

　Ｒ^４は、単結合、又はメチレン基である。Ｒ^４がメチレン基である場合、式（１）で表される化合物としては、被覆による所望する効果を得やすい点で、下記式（１－１）で表されるカルボン酸化合物が好ましい。

（式（１－１）中、Ｒ^３は置換基を有してもよい芳香族基であり、Ｒ^５は、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基であり、ｎは０以上３以下の整数である。）

　上記式（１－１）中の、Ｒ^３は、式（１）について前述した通りである。
　また、式（１－１）中のＲ^５が有機基である場合、当該有機基は、Ｒ^１及びＲ^２が置換基を有してもよい芳香族基である場合の、置換基としての有機基と同様である。ｎが２又は３である場合、複数のＲ^５は、同一であっても異なっていてもよい。

　上記式（１－１）で表されるカルボン酸化合物の中では、安価且つ容易に合成可能である点から、下記式（１－２）で表される化合物が好ましい。

（式（１－２）中、Ｒ^５及びｎは、式（１－１）と同じであり、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、及びＲ^１０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基である。ただし、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、及びＲ^１０のうち少なくとも１つは水素原子以外の基である。Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、及びＲ^１０のうち少なくとも２つが結合して環状構造を形成してもよい。Ｒ^１はＲ^８と結合して環状構造を形成してもよい。）

　式（１－２）中、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、及びＲ^１０が有機基である場合、当該有機基は、式（１）におけるＲ^１及びＲ^２が置換基として有する有機基と同様である。Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、カルボン酸化合物の溶媒に対する溶解性の点から水素原子であるのが好ましい。

　中でも、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、及びＲ^１０のうち少なくとも１つは、下記置換基であることが好ましく、Ｒ^１０が下記置換基であるのが特に好ましい。Ｒ^１０が下記置換基である場合、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は水素原子であるのが好ましい。
　－Ｏ－Ｒ^１１
（Ｒ^１１は水素原子又は有機基である。）

　Ｒ^１１が有機基である場合、当該有機基は、式（１）におけるＲ^１及びＲ^２が置換基として有する有機基と同様である。Ｒ^１１としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数１以上８以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１以上３以下のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。

　式（１）で表される、式（１）中のＲ^４がメチレン基であるカルボン酸化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

　置換基を有してもよい安息香酸、及び置換基を有してもよいナフトエ酸における置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、及びｎ－ブチル基等のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、及びｎ－ブチルオキシ基等のアルコキシ基；フェニル基、ナフタレン－１－イル基、及びナフタレン－２－イル基等のアリール基；フェノキシ基、ナフタレン－１－イルオキシ基、及びナフタレン－２－イルオキシ基等のアリールオキシ基；アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ベンゾイル基、１－ナフトイル基、及び２－ナフトイル基等のアシルオキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等のハロゲン原子；アミノ基；ニトロ基；メトキシカルボニル基、及びエトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；２－メトキシエトキシカルボニル基、及び２－エトキシエトキシカルボニル基等のアルコキシアルコキシカルボニル基；２－アセトキシエトキシカルボニル基、及び２－（メタ）アクリロイルオキシエトキシカルボニル基等のアシルオキシアルコキシカルボニル基等が挙げられる。

　置換基を有してもよい安息香酸としては、例えば、安息香酸；ｏ－メチル安息香酸、ｍ－メチル安息香酸、ｐ－メチル安息香酸、ｏ－エチル安息香酸、ｍ－エチル安息香酸、及びｐ－エチル安息香酸等のアルキル置換安息香酸類；ｏ－フェニル安息香酸、ｍ－フェニル安息香酸、及びｐ－フェニル安息香酸等のフェニル置換安息香酸類；ｏ－メトキシ安息香酸、ｍ－メトキシ安息香酸、ｐ－メトキシ安息香酸、ｏ－エトキシ安息香酸、ｍ－エトキシ安息香酸、及びｐ－エトキシ安息香酸等のアルコキシ置換安息香酸類；ｏ－フェノキシ安息香酸、ｍ－フェノキシ安息香酸、及びｐ－フェノキシ安息香酸等のフェノキシ置換安息香酸類；ｏ－アセトキシ安息香酸、ｍ－アセトキシ安息香酸、ｐ－アセトキシ安息香酸、ｏ－ベンゾイルオキシ安息香酸、ｍ－ベンゾイルオキシ安息香酸、及びｐ－ベンゾイルオキシ安息香酸等のアシルオキシ安息香酸類；ｏ－クロロ安息香酸、ｐ－クロロ安息香酸、ｍ－クロロ安息香酸、ｏ－ブロモ安息香酸、ｍ－ブロモ安息香酸、ｐ－ブロモ安息香酸、ｏ－フルオロ安息香酸、ｍ－フルオロ安息香酸、及びｐ－フルオロ安息香酸等のハロゲン化安息香酸類；ｏ－アミノ安息香酸、ｍ－アミノ安息香酸、及びｐ－アミノ安息香酸等のアミノ安息香酸類；ｏ－ニトロ安息香酸、ｍ－ニトロ安息香酸、及びｐ－ニトロ安息香酸等のニトロ安息香酸類；テレフタル酸モノメチルエステル、イソフタル酸モノメチルエステル、フタル酸モノメチルエステル、テレフタル酸モノエチルエステル、イソフタル酸モノエチルエステル、フタル酸モノメチルエステル、テレフタル酸モノ－２－メトキシエチルエステル、イソフタル酸モノ－２－メトキシエチルエステル、フタル酸モノ－２－メトキシエチルエステル、テレフタル酸モノ－２－アクリロイルオキシエチルエステル、イソフタル酸モノ－２－アクリロイルオキシエチルエステル、及びフタル酸モノ－２－アクリロイルオキシエチルエステル（２－アクリロイルオキシエチルフタル酸）等のベンゼンジカルボン酸モノエステル類が挙げられる。

　置換基を有してもよいナフトエ酸としては、１－ナフトエ酸、及び２－ナフトエ酸等のナフトエ酸；２－メチル－１－ナフトエ酸、３－メチル－１－ナフトエ酸、４－メチル－１－ナフトエ酸、５－メチル－１－ナフトエ酸、６－メチル－１－ナフトエ酸、７－メチル－１－ナフトエ酸、８－メチル－１－ナフトエ酸、１－メチル－２－ナフトエ酸、３－メチル－２－ナフトエ酸、４－メチル－２－ナフトエ酸、５－メチル－２－ナフトエ酸、６－メチル－２－ナフトエ酸、７－メチル－２－ナフトエ酸、及び８－メチル－２－ナフトエ酸等のアルキルナフトエ酸類；２－メトキシ－１－ナフトエ酸、３－メトキシ－１－ナフトエ酸、４－メトキシ－１－ナフトエ酸、５－メトキシ－１－ナフトエ酸、６－メトキシ－１－ナフトエ酸、７－メトキシ－１－ナフトエ酸、８－メトキシ－１－ナフトエ酸、１－メトキシ－２－ナフトエ酸、３－メトキシ－２－ナフトエ酸、４－メトキシ－２－ナフトエ酸、５－メトキシ－２－ナフトエ酸、６－メトキシ－２－ナフトエ酸、７－メトキシ－２－ナフトエ酸、及び８－メトキシ－２－ナフトエ酸等のアルコキシナフトエ酸類；２－アセトキシ－１－ナフトエ酸、３－アセトキシ－１－ナフトエ酸、４－アセトキシ－１－ナフトエ酸、５－アセトキシ－１－ナフトエ酸、６－アセトキシ－１－ナフトエ酸、７－アセトキシ－１－ナフトエ酸、８－アセトキシ－１－ナフトエ酸、１－アセトキシ－２－ナフトエ酸、３－アセトキシ－２－ナフトエ酸、４－アセトキシ－２－ナフトエ酸、５－アセトキシ－２－ナフトエ酸、６－アセトキシ－２－ナフトエ酸、７－アセトキシ－２－ナフトエ酸、及び８－アセトキシ－２－ナフトエ酸等のアシルオキシナフトエさん類；２，６－ナフタレンジカルボン酸モノメチルエステル、２，７－ナフタレンジカルボン酸モノメチルエステル、１，４－ナフタレンジカルボン酸モノメチルエステル、２，６－ナフタレンジカルボン酸モノエチルエステル、２，７－ナフタレンジカルボン酸モノエチルエステル、１，４－ナフタレンジカルボン酸モノエチルエステル２，６－ナフタレンジカルボン酸モノ－２－メトキシエチルエステルエステル、２，７－ナフタレンジカルボン酸モノ－２－メトキシエチルエステルエステル、１，４－ナフタレンジカルボン酸モノ－２－メトキシエチルエステルエステル、２，６－ナフタレンジカルボン酸モノ－２－アクリロイルオキシエチルエステル、２，７－ナフタレンジカルボン酸モノ－２－アクリロイルオキシエチルエステル、及び１，４－ナフタレンジカルボン酸モノ－２－アクリロイルオキシエチルエステル等のナフタレンジカルボン酸モノエステル類が挙げられる。

　なお、本発明の目的を阻害しない範囲で、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）とともに、脂肪族カルボン酸化合物を用いることができる。脂肪族カルボン酸化合物の具体例としては、炭素原子数４以上２０以下の直鎖状カルボン酸（直鎖状脂肪族カルボン酸、好ましくは直鎖状飽和脂肪族カルボン酸等）、炭素原子数４以上２０以下の分枝鎖状カルボン酸（分岐鎖状脂肪族カルボン酸）、炭素原子数４以上２０以下の環状カルボン酸（脂環式カルボン酸、好ましくは不飽和二重結合を有さない脂環式カルボン酸等）のカルボン酸基を有する炭化水素類を好ましく採用し得る。
　脂肪族カルボン酸の具体例としては、例えば酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ドデカン酸、テトラデカン酸、及びステアリン酸等の直鎖状カルボン酸；ピバリン酸、２，２－ジメチル酪酸、３，３－ジメチル酪酸、２，２－ジメチル吉草酸、２，２－ジエチル酪酸、３，３－ジエチル酪酸、２－エチルヘキサン酸、２－メチルヘプタン酸、４－メチルオクタン酸、及びネオデカン酸等の分枝鎖状カルボン酸；ナフテン酸、及びシクロヘキサンジカルボン酸等の環状カルボン酸等が挙げられる。
　芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）の質量と、脂肪族カルボン酸化合物の質量との合計に対する、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）の質量の比率は、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましく、１００質量％が特に好ましい。

　被覆剤（Ａ）による被覆処理に先だって用いられる芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）の使用量は、金属酸化物微粒子（Ｂ）１００質量部に対して、０．１質量部以上３００質量部以下が好ましく、０．５質量部以上２００質量部以下がより好ましく、１質量部以上１００質量部以下がさらに好ましい。

　以上のようにして金属酸化物微粒子（Ｂ）の被覆処理を行うことにより、表面の少なくとも一部が上記式（ａ－Ｉ）で表される化合物を含む被覆剤（Ａ）で被覆されている表面改質金属酸化物微粒子が得られる。
　また、被覆剤（Ａ）による被覆処理の前に、金属酸化物微粒子（Ｂ）と芳香族基含有カルボン酸化合物とを接触させる場合、表面の少なくとも一部が、被覆剤（Ａ）と芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）とで被覆され、表面改質金属酸化物微粒子の最表面の少なくとも一部に式（ａ－Ｉ）で表される化合物が存在する、表面改質金属酸化物微粒子が得られる。

　上記の方法により得られる表面改質金属酸化物微粒子は、分散媒に分散された状態、乾固、又は遠沈等の方法により分散媒から分離された状態で種々の用途に用いられる。

≪表面改質金属酸化物微粒子分散液≫
　表面改質金属酸化物微粒子分散液は、前述の表面改質金属酸化物微粒子を含む。表面改質金属酸化物微粒子分散液は、表面改質金属酸化物微粒子以外の金属酸化物微粒子を含んでいてもよい。
　表面改質金属酸化物微粒子分散液中の金属酸化物微粒子の総質量における、前述の表面改質金属酸化物微粒子の量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。表面改質金属酸化物微粒子の含有量は、金属酸化物微粒子の総質量に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましく、１００質量％が特に好ましい。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液は、溶融した樹脂等に表面改質金属酸化物微粒子が分散した分散液であってもよく、溶媒中に表面改質金属酸化物微粒子が分散した分散液であってもよく、種々の添加成分が溶媒中に溶解した液に表面改質金属酸化物微粒子が分散した分散液であってもよい。
　かかる表面改質金属酸化物微粒子分散液が、金属酸化物微粒子として、前述の表面改質金属酸化物微粒子を含むことによって、表面改質金属酸化物微粒子分散液は、分散安定性に優れる。このため、表面改質金属酸化物微粒子分散液は、種々の用途において好適に使用される。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液の用途は特に限定されない。表面改質金属酸化物微粒子分散液の用途としては、例えば、研磨液、封止用組成物、及び高屈折率膜形成用組成物等が挙げられる。
　表面改質金属酸化物微粒子分散液を封止用途や、成膜用途等に用いる場合には、金属酸化物微粒子分散液が基材成分（Ｄ）を含有するのが好ましい。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液が基材成分（Ｄ）と金属酸化物微粒子とを含む場合、表面改質金属酸化物微粒子分散液中の金属酸化物微粒子の量は、表面改質金属酸化物微粒子分散液の用途を考慮して適宜定められる。
　表面改質金属酸化物微粒子分散液が基材成分（Ｄ）を含む場合、金属酸化物微粒子の量は、表面改質金属酸化物微粒子分散液中の基材成分（Ｄ）１００質量部に対して、０．１質量部以上２００質量部以下が好ましく、１質量部以上１５０質量部以下がより好ましく、３質量部以上１００質量部以下が特に好ましい。
　金属酸化物微粒子の量の上限は、基材成分（Ｄ）１００質量部に対して、８０質量部以下であっても、５０質量部以下であっても、３０質量部以下であってもよい。
　金属酸化物微粒子の量の下限は、基材成分（Ｄ）１００質量部に対して、５質量部以上であっても、１０質量部以上であっても、２０質量部以上であってもよい。

＜基材成分（Ｄ）＞
　基材成分（Ｄ）は、表面改質金属酸化物微粒子分散液に、そのままで溶融加工法等の周知の方法で所望する形状の物品を製造可能な賦形性か、露光、加熱、水との反応等の処理により所望する形状の物品を製造可能な賦形性を付与する成分である。
　基材成分（Ｄ）は、表面改質金属酸化物微粒子分散液に所望する賦形性を与えることができる材料であれば特に限定されない。
　基材成分（Ｄ）としては、典型的には高分子化合物からなる樹脂材料、加熱により架橋して高分子化合物を生じたり、加熱により分子内環化等の化学変性が生じたりすることにより硬化する熱硬化性材料、露光により硬化し得る光重合性の化合物、組成物中や雰囲気中の水分により加水分縮合する加水分解縮合性のシラン化合物等が用いられる。
　加水分解縮合性のシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物等が挙げられる。加水分解縮合性シラン化合物は、これらのシラン化合物の部分加水分解縮合物であってもよい。

　また、表面改質金属酸化物微粒子分散液は、高屈折率の物品、特に高屈折率膜を形成しやすい点で、基材成分（Ｄ）として、下記式（ｂ－０１）：

（式（ｂ－０１）中、Ｗ^０１及びＷ^０２は、それぞれ独立に、下記式（ｂ－０２）：

で表される基であり、
　式（ｂ－０２）中、環Ｚ^０１は芳香族炭化水素環を示し、Ｘ^０１は単結合又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^０１は単結合、炭素原子数１以上４以下のアルキレン基、又は炭素原子数が１以上４以下であるアルキレンオキシ基を示し、Ｒ^０１がアルキレンオキシ基である場合、アルキレンオキシ基中の酸素原子が環Ｚ^０１と結合し、Ｒ^０１は１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４Ａで示される基、－ＳＲ^４Ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４Ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４Ｄ）_２で示される基、スルホ基、又は１価炭化水素基、－ＯＲ^４Ａで示される基、－ＳＲ^４Ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、－ＮＨＲ^４Ｃで示される基、若しくは－Ｎ（Ｒ^４Ｄ）_２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４Ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４Ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４Ｄ）_２で示される基、メシルオキシ基、若しくはスルホ基で置換された基を示し、Ｒ^４Ａ～Ｒ^４Ｄは独立に１価炭化水素基を示し、Ｍは０以上の整数を示し、Ｒ^０３は、水素原子、ビニル基、チイラン－２－イルメチル基、グリシジル基、又は（メタ）アクリロイル基であり、
　Ｗ^０１とＷ^０２との双方がＲ^０３として水素原子を有することはなく、
　環Ｙ^０１及び環Ｙ^０２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示し、Ｒ^００は単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、－Ｏ－で示される基、－ＮＨ－で示される基、又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^３Ａ及びＲ^３Ｂは独立にシアノ基、ハロゲン原子、又は１価炭化水素基を示し、Ｎ１及びＮ２は独立に０～４の整数を示す。）
で表される化合物を含むのも好ましい。
　上記式（ｂ－０１）で表される化合物は、必要に応じて硬化剤と組み合わせて使用されることによって、熱硬化又は光硬化し得る。

　上記式（ｂ－０２）において、環Ｚ^０１としては、例えば、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環［例えば、縮合二環式炭化水素環（例えば、ナフタレン環等のＣ_８－２０縮合二環式炭化水素環、好ましくはＣ_{１０－１６}縮合二環式炭化水素環）、縮合三環式芳香族炭化水素環（例えば、アントラセン環、フェナントレン環等）等の縮合２乃至４環式芳香族炭化水素環］等が挙げられる。環Ｚ^０１は、ベンゼン環又はナフタレン環であるのが好ましく、ナフタレン環であるのがより好ましい。なお、式（ｂ－０１）中のＷ^０１及びＷ^０２は、それぞれ独立に、上記式（ｂ－０２）で表される基であるため、Ｗ^０１及びＷ^０２は、それぞれ環Ｚ^０１を含む。Ｗ^０１に含まれる環Ｚ^０１とＷ^０２に含まれる環Ｚ^０１とは、同一でも異なっていてもよく、例えば、一方の環がベンゼン環、他方の環がナフタレン環等であってもよいが、いずれの環もナフタレン環であることが特に好ましい。

　また、Ｗ^０１及びＷ^０２の両方が直結する炭素原子にＸ^０１を介して結合する環Ｚ^０１の置換位置は、特に限定されない。例えば、環Ｚ^０１がナフタレン環の場合、上記炭素原子に結合する環Ｚ^０１に対応する基は、１－ナフチル基、２－ナフチル基等であってもよい。

　上記式（ｂ－０２）において、Ｘ^０１は、独立に単結合又は－Ｓ－で示される基を示し、典型的には単結合である。

　上記式（ｂ－０２）において、Ｒ^０１としては、例えば、単結合；メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン－１，２－ジイル基等の炭素原子数が１以上４以下であるアルキレン基；メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基等の炭素原子数が１以上４以下であるアルキレンオキシ基が挙げられ、単結合；Ｃ_２－４アルキレン基（特に、エチレン基、プロピレン基等のＣ_２－３アルキレン基）；Ｃ_２－４アルキレンオキシ基（特に、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基等のＣ_２－３アルキレン基）が好ましく、単結合がより好ましい。なお、Ｒ^０１がアルキレンオキシ基である場合、アルキレンオキシ基中の酸素原子が環Ｚ^０１と結合する。また、式（ｂ－０１）中のＷ^０１及びＷ^０２は、それぞれ独立に、上記式（ｂ－０２）で表される基であるため、Ｗ^０１及びＷ^０２は、それぞれ２価の基であるＲ^０１を含む。Ｗ^０１に含まれるＲ^０１とＷ^０２に含まれるＲ^０１とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。

　上記式（ｂ－０２）において、Ｒ^０２としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等のＣ_１－１２アルキル基、好ましくはＣ_１－８アルキル基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基等のＣ_５－１０シクロアルキル基、好ましくはＣ_５－８シクロアルキル基、より好ましくはＣ_５－６シクロアルキル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のＣ_６－１４アリール基、好ましくはＣ_６－１０アリール基、より好ましくはＣ_６－８アリール基等）、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基等のＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキル基等）等の１価炭化水素基；水酸基；アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のＣ_１－１２アルコキシ基、好ましくはＣ_１－８アルコキシ基、より好ましくはＣ_１－６アルコキシ基等）、シクロアルコキシ基（シクロヘキシルオキシ基等のＣ_５－１０シクロアルコキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基等のＣ_６－１０アリールオキシ基）、アラルキルオキシ基（例えば、ベンジルオキシ基等のＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルオキシ基）等の－ＯＲ^４Ａで示される基［式中、Ｒ^４Ａは１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等のＣ_１－１２アルキルチオ基、好ましくはＣ_１－８アルキルチオ基、より好ましくはＣ_１－６アルキルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（シクロヘキシルチオ基等のＣ_５－１０シクロアルキルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基等のＣ_６－１０アリールチオ基）、アラルキルチオ基（例えば、ベンジルチオ基等のＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルチオ基）等の－ＳＲ^４Ｂで示される基［式中、Ｒ^４Ｂは１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；アシル基（アセチル基等のＣ_１－６アシル基等）；アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基等のＣ_１－４アルコキシ－カルボニル基等）；ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）；ニトロ基；シアノ基；メルカプト基；カルボキシ基；アミノ基；カルバモイル基；アルキルアミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基等のＣ_１－１２アルキルアミノ基、好ましくはＣ_１－８アルキルアミノ基、より好ましくはＣ_１－６アルキルアミノ基等）、シクロアルキルアミノ基（シクロヘキシルアミノ基等のＣ_５－１０シクロアルキルアミノ基等）、アリールアミノ基（フェニルアミノ基等のＣ_６－１０アリールアミノ基）、アラルキルアミノ基（例えば、ベンジルアミノ基等のＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルアミノ基）等の－ＮＨＲ^４Ｃで示される基［式中、Ｒ^４Ｃは１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；ジアルキルアミノ基（ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基等のジ（Ｃ_１－１２アルキル）アミノ基、好ましくはジ（Ｃ_１－８アルキル）アミノ基、より好ましくはジ（Ｃ_１－６アルキル）アミノ基等）、ジシクロアルキルアミノ基（ジシクロヘキシルアミノ基等のジ（Ｃ_５－１０シクロアルキル）アミノ基等）、ジアリールアミノ基（ジフェニルアミノ基等のジ（Ｃ_６－１０アリール）アミノ基）、ジアラルキルアミノ基（例えば、ジベンジルアミノ基等のジ（Ｃ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキル）アミノ基）等の－Ｎ（Ｒ^４Ｄ）_２で示される基［式中、Ｒ^４Ｄは独立に１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；（メタ）アクリロイルオキシ基；スルホ基；上記の１価炭化水素基、－ＯＲ^４Ａで示される基、－ＳＲ^４Ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、－ＮＨＲ^４Ｃで示される基、若しくは－Ｎ（Ｒ^４Ｄ）_２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が上記の１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４Ａで示される基、－ＳＲ^４Ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４Ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４Ｄ）_２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、メシルオキシ基、若しくはスルホ基で置換された基［例えば、アルコキシアリール基（例えば、メトキシフェニル基等のＣ_１－４アルコキシＣ_６－１０アリール基）、アルコキシカルボニルアリール基（例えば、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基等のＣ_１－４アルコキシ－カルボニルＣ_６－１０アリール基等）］等が挙げられる。

　これらのうち、代表的には、Ｒ^０２は、１価炭化水素基、－ＯＲ^４Ａで示される基、－ＳＲ^４Ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＮＨＲ^４Ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４Ｄ）_２で示される基等であってもよい。

　好ましいＲ^０２としては、１価炭化水素基［例えば、アルキル基（例えば、Ｃ_１－６アルキル基）、シクロアルキル基（例えば、Ｃ_５－８シクロアルキル基）、アリール基（例えば、Ｃ_６－１０アリール基）、アラルキル基（例えば、Ｃ_６－８アリール－Ｃ_１－２アルキル基）等］、アルコキシ基（Ｃ_１－４アルコキシ基等）等が挙げられる。特に、Ｒ^０２は、アルキル基［Ｃ_１－４アルキル基（特にメチル基）等］、アリール基［例えば、Ｃ_６－１０アリール基（特にフェニル基）等］等の１価炭化水素基（特に、アルキル基）であるのが好ましい。

　なお、Ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^０２は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、Ｗ^０１に含まれるＲ^０２とＷ^２に含まれるＲ^０２とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。

　上記式（ｂ－０２）において、Ｒ^０２の数Ｍは、環Ｚ^０１の種類に応じて選択でき、例えば、０以上４以下、好ましくは０以上３以下、より好ましくは０以上２以下であってもよい。なお、Ｗ^０１におけるＭとＷ^０２におけるＭとは、同一でも異なっていてもよい。

　上記式（ｂ－０２）において、Ｒ^０３は、水素原子、ビニル基、チイラン－２－イルメチル基、グリシジル基、又は（メタ）アクリロイル基である。なお、Ｗ^０１とＷ^０２との双方がＲ^０３として水素原子を有することはない。
　ビニルオキシ基、チイラン－２－イルメチル基、及びグリシジル基は、いずれもカチオン重合性の官能基である。従って、式（ｂ－０１）で表される化合物であって、Ｒ^０３として、ビニル基、チイラン－２－イルメチル基、又はグリシジル基を有する化合物はカチオン重合性の化合物である。
　他方、式（ｂ－０１）で表される化合物であって、Ｒ^０３として、（メタ）アクリロイル基を有する化合物はラジカル重合性の化合物である。

　Ｗ^０１に含まれるＲ^０３とＷ^０２に含まれるＲ^０３とは、双方が水素原子でない限りにおいて、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｗ^０１に含まれるＲ^０３とＷ^０２に含まれるＲ^０３とは、双方が、ビニル基、チイラン－２－イルメチル基、又はグリシジル基であるのが好ましく、双方が、ビニル基、チイラン－２－イルメチル基、及びグリシジル基からなる群より選択される同一の基であるのがより好ましい。
　また、Ｗ^０１に含まれるＲ^０３とＷ^０２に含まれるＲ^０３とは、双方が、（メタ）アクリロイル基であるのも好ましい。

　Ｒ^０３としては、式（ｂ－０１）で表される化合物の合成や入手が容易であることから、ビニル基、グリシジル基、又は（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　なお、成分の種類を少なくしつつ、硬化性の表面改質金属酸化物微粒子分散液を調製できることから、式（ｂ－０１）で表される化合物は、ビニル基、チイラン－２－イルメチル基、及びグリシジル基から選択される基のみを反応性基として有するか、（メタ）アクリロイル基のみを反応性基として有するのが好ましい。

　上記式（ｂ－０１）において、環Ｙ^０１及び環Ｙ^０２としては、例えば、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環［例えば、縮合二環式炭化水素環（例えば、ナフタレン環等のＣ_８－２０縮合二環式炭化水素環、好ましくはＣ_{１０－１６}縮合二環式炭化水素環）、縮合三環式芳香族炭化水素環（例えば、アントラセン環、フェナントレン環等）等の縮合２乃至４環式芳香族炭化水素環］等が挙げられる。環Ｙ^０１及び環Ｙ^０２は、ベンゼン環又はナフタレン環であるのが好ましく、ベンゼン環であるのがより好ましい。なお、環Ｙ^０１及び環Ｙ^０２は、同一でも異なっていてもよく、例えば、一方の環がベンゼン環、他方の環がナフタレン環等であってもよい。

　上記式（ｂ－０１）において、Ｒ^００は単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、－Ｏ－で示される基、－ＮＨ－で示される基、又は－Ｓ－で示される基を示し、典型的には単結合である。ここで、置換基としては、例えば、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、１価炭化水素基［例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等のＣ_１－６アルキル基）、アリール基（フェニル基等のＣ_６－１０アリール基）等］等が挙げられ、ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、珪素原子等が挙げられる。

　上記式（ｂ－０１）において、Ｒ^３Ａ及びＲ^３Ｂとしては、通常、非反応性置換基、例えば、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、１価炭化水素基［例えば、アルキル基、アリール基（フェニル基等のＣ_６－１０アリール基）等］等が挙げられ、シアノ基又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることが特に好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等のＣ_１－６アルキル基（例えば、Ｃ_１－４アルキル基、特にメチル基）等が例示できる。なお、Ｎ１が２以上の整数である場合、Ｒ^３Ａは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、Ｎ２が２以上の整数である場合、Ｒ^３Ｂは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。さらに、Ｒ^３ＡとＲ^３Ｂとが同一であってもよく、異なっていてもよい。また、環Ｙ^０１及び環Ｙ^０２に対するＲ^３Ａ及びＲ^３Ｂの結合位置（置換位置）は、特に限定されない。好ましい置換数Ｎ１及びＮ２は、０又は１、特に０である。なお、Ｎ１及びＮ２は、互いに同一でも異なっていてもよい。

　上記式（ｂ－０１）で表される化合物は、優れた光学的特性及び熱的特性を保持しつつ、カチオン重合性の官能基を有するため、高い反応性を有する。特に、環Ｙ^０１及び環Ｙ^０２がベンゼン環であり、Ｒ^００が単結合である場合、上記式（ｂ－０１）で表される化合物は、フルオレン骨格を有し、光学的特性及び熱的特性にさらに優れる。
　さらに、上記式（ｂ－０１）で表される化合物は、高い硬度を有する硬化物を与え、表面改質金属酸化物微粒子分散液中の基材成分（Ｄ）として好ましい。

　上記式（ｂ－０１）で表される化合物のうち、特に好ましい具体例としては、９，９－ビス［４－［２－（グリシジルオキシ）エトキシ］フェニル］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス［４－［２－（グリシジルオキシ）エチル］フェニル］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス［４－（グリシジルオキシ）－３－メチルフェニル］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス［４－（グリシジルオキシ）－３，５－ジメチルフェニル］－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（６‐グリシジルオキシナフタレン－１－イル）－９Ｈ－フルオレン及び９，９－ビス（５‐グリシジルオキシナフタレン－２－イル）－９Ｈ－フルオレン等のエポキシ基含有フルオレン化合物；並びに下記式で表される化合物が挙げられる。

　以上説明した式（ｂ－０１）で表される化合物の中では、以下の化合物が特に好ましい。

〔樹脂材料〕
　基材成分（Ｄ）のうち、樹脂材料の例としては、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂（ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート等）、ＦＲ－ＡＳ樹脂、ＦＲ－ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミドビスマレイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾチアゾール樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、シリコーン樹脂、ＢＴ樹脂、ポリメチルペンテン、超高分子量ポリエチレン、ＦＲ－ポリプロピレン、（メタ）アクリル樹脂（例えば、ポリメチルメタクリレート等）、及びポリスチレン等が挙げられる。

　樹脂材料を基材成分（Ｄ）として用いる場合、樹脂材料に対して、前述の表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子が所定量配合された表面改質金属酸化物微粒子分散液を、従来知られる方法により膜等に成形することにより、膜等の形態の種々の物品が製造される。表面改質金属酸化物微粒子分散液を用いて製造される物品の形態としては、膜が好ましい。
　なお、表面改質金属酸化物微粒子分散液は、融液であっても、溶液であってもよい。

　製膜方法としては、Ｔダイ法（キャスト法）、インフレーション法、プレス法等の溶融加工法や、溶液を用いるキャスト法、インクジェット法、スピンコート法等が挙げられる。
　キャスト法、インクジェット法、スピンコート法では、樹脂材料と金属酸化物微粒子とを含む液を基板上に塗布又は流涎して膜を形成した後、必要に応じて、当該膜から加熱等の方法により溶媒を除去することにより金属酸化物微粒子含有膜が形成される。
　表面改質金属酸化物微粒子分散液を用いて得られた金属酸化物微粒子含有膜には、必要に応じて一軸延伸や二軸延伸等の延伸処理が施されてもよい。

　基材成分（Ｄ）として上記の樹脂材料を用いる場合、表面改質金属酸化物微粒子分散液は、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、離型剤、可塑剤、金属酸化物微粒子以外の充填材、及び強化材等の添加剤を含んでいてもよい。
　また、表面改質金属酸化物微粒子分散液がキャスト用の組成物である場合、表面改質金属酸化物微粒子分散液は溶剤を含んでいてもよい。溶剤の種類は、樹脂材料の種類に応じて、適宜選択される。

〔熱硬化性材料〕
　熱硬化性材料としては、従来から広く用いられている種々の熱硬化性樹脂の前駆体材料が挙げられる。熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂等が挙げられる。

　また、加熱により、分子内での芳香環形成反応、及び／又は分子間での架橋反応を生じさせる樹脂も熱硬化性材料として好適に使用される。以下、加熱により、分子内での芳香環形成反応、及び／又は分子間での架橋反応を生じさせる樹脂を、前駆体樹脂とも称する。

　これらの中では、耐熱性、耐化学薬品性、機械的特性等に優れる金属酸化物微粒子含有膜を特に形成しやすいことから、エポキシ樹脂前駆体と、前駆体樹脂とが特に好ましい。
　以下、熱硬化性材料について、基材成分（Ｄ）として特に好適な前駆体材料について説明する。

（エポキシ樹脂前駆体）
　エポキシ樹脂前駆体としては、従来から広く知られる種々のエポキシ化合物を用いることができる。表面改質金属酸化物微粒子分散液において、必要に応じて、硬化剤や硬化促進剤と、エポキシ樹脂前駆体とを組み合わせて用いることにより、表面改質金属酸化物微粒子分散液を熱硬化性の組成物とすることができる。なお、表面改質金属酸化物微粒子分散液において、感光性の硬化剤と、エポキシ樹脂前駆体とを組み合わせて用いることにより、表面改質金属酸化物微粒子分散液を光硬化し得る感光性組成物とすることもできる。
　エポキシ樹脂前駆体としてのエポキシ化合物の分子量は特に限定されない。エポキシ化合物の中では、耐熱性、耐化学薬品性、機械的特性等に優れる金属酸化物微粒子含有膜を形成しやすいことから、分子内に２以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物が好ましい。エポキシ樹脂前駆体は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　多官能エポキシ化合物は、２官能以上のエポキシ化合物であれば特に限定されない。多官能エポキシ化合物の例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、テトラブロムビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂等の２官能エポキシ樹脂；ダイマー酸グリシジルエステル、及びトリグリシジルエステル等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂；テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジル－ｐ－アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、及びテトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂；１，３－ジグリシジル－５－メチル－５－エチルヒダントイン等のヒダントイン型エポキシ樹脂；ハイドロキノン型エポキシ樹脂；フルオレン型エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂；フロログリシノールトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシビフェニルトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシフェニルメタントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、２－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－２－［４－［１，１－ビス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］エチル］フェニル］プロパン、及び１，３－ビス［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－［４－［１－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－１－メチルエチル］フェニル］エチル］フェノキシ］－２－プロパノール等の３官能型エポキシ樹脂；テトラヒドロキシフェニルエタンテトラグリシジルエーテル、テトラグリシジルベンゾフェノン、ビスレゾルシノールテトラグリシジルエーテル、及びテトラグリシドキシビフェニル等の４官能型エポキシ樹脂が挙げられる。これらのエポキシ化合物はハロゲン化されていてもよく、水素添加されていてもよい。

　市販されている多官能エポキシ化合物としては、例えばジャパンエポキシレジン社製のＪＥＲコート８２８、１００１、８０１Ｎ、８０６、８０７、１５２、６０４、６３０、８７１、ＹＸ８０００、ＹＸ８０３４、ＹＸ４０００、ＤＩＣ社製のエピクロン８３０、ＥＸＡ８３５ＬＶ、ＨＰ４０３２Ｄ、ＨＰ８２０、株式会社ＡＤＥＫＡ製のＥＰ４１００シリーズ、ＥＰ４０００シリーズ、ＥＰＵシリーズ、ダイセル社製のセロキサイドシリーズ（２０２１、２０２１Ｐ、２０８３、２０８５、３０００等）、エポリードシリーズ、ＥＨＰＥシリーズ、新日鐵化学社製のＹＤシリーズ、ＹＤＦシリーズ、ＹＤＣＮシリーズ、ＹＤＢシリーズ、フェノキシ樹脂（ビスフェノール類とエピクロルヒドリンより合成されるポリヒドロキシポリエーテルで両末端にエポキシ基を有する；ＹＰシリーズ等）、ナガセケムテックス社製のデナコールシリーズ、共栄社化学社製のエポライトシリーズ等が挙げられるがこれらに限定されない。

　また、脂環式エポキシ化合物も、高硬度の硬化物を与える点で多官能エポキシ化合物として好ましい。脂環式エポキシ化合物の具体例としては、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル－５，５－スピロ－３，４－エポキシ）シクロヘキサン－メタ－ジオキサン、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシル－３’，４’－エポキシ－６’－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε－カプロラクトン変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β－メチル－δ－バレロラクトン変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサン）、エチレングリコールのジ（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、及びエポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジ－２－エチルヘキシル、トリシクロデセンオキサイド基を有するエポキシ樹脂や、下記式（ａ０１－１）～（ａ０１－５）で表される化合物が挙げられる。

　これらの脂環式エポキシ化合物の具体例の中では、高硬度の硬化物を与えることから、下記式（ａ０１－１）～（ａ０１－５）で表される脂環式エポキシ化合物が好ましい。

（式（ａ０１－１）中、Ｚ^０１は単結合又は連結基（１以上の原子を有する２価の基）を示す。Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。）

　連結基Ｚ^０１としては、例えば、２価の炭化水素基、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＢｒ_２－、－Ｃ（ＣＢｒ_３）_２－、－Ｃ（ＣＦ_３）_２－、及び－Ｒ^ａ０１９－Ｏ－ＣＯ－からなる群より選択される２価の基及びこれらが複数個結合した基等を挙げることができる。

　連結基Ｚである２価の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数が１以上１８以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、２価の脂環式炭化水素基等を挙げることができる。炭素原子数が１以上１８以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基等を挙げることができる。上記２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、１，２－シクロペンチレン基、１，３－シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、１，２－シクロヘキシレン基、１，３－シクロヘキシレン基、１，４－シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基（シクロアルキリデン基を含む）等を挙げることができる。

　Ｒ^ａ０１９は、炭素原子数１以上８以下のアルキレン基であり、メチレン基又はエチレン基であるのが好ましい。

（式（ａ０１－２）中、Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１８は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。Ｒ^ａ０２及びＲ^ａ０１０は、互いに結合してもよい。Ｒ^ａ０１３及びＲ^ａ０１６は互いに結合して環を形成してもよい。ｍ^ａ１は、０又は１である。）

　上記式（ａ０１－２）で表される脂環式エポキシ化合物としては、上記式（ａ０１－２）におけるｍ^ａ１が０である化合物に該当する、下記式（ａ０１－２－１）で表される化合物が好ましい。

（式（ａ０１－２－１）中、Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１２は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。Ｒ^ａ０２及びＲ^ａ０１０は互いに結合して環を形成してもよい。）

（式（ａ０１－３）中、Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１０は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。Ｒ^ａ０２及びＲ^ａ０８は、互いに結合してもよい。）

（式（ａ０１－４）中、Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１２は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。Ｒ^ａ０２及びＲ^ａ０１０は、互いに結合してもよい。）

（式（ａ０１－５）中、Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１２は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。）

　式（ａ０１－１）～（ａ０１－５）中、Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１８が有機基である場合、有機基は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、炭化水素基であっても、炭素原子とハロゲン原子とからなる基であっても、炭素原子及び水素原子とともにハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ケイ素原子のようなヘテロ原子を含むような基であってもよい。ハロゲン原子の例としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、及びフッ素原子等が挙げられる。

　有機基としては、炭化水素基と、炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基と、ハロゲン化炭化水素基と、炭素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基と、炭素原子、水素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基とが好ましい。有機基が炭化水素基である場合、炭化水素基は、芳香族炭化水素基でも、脂肪族炭化水素基でも、芳香族骨格と脂肪族骨格とを含む基でもよい。有機基の炭素原子数は１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上５以下が特に好ましい。

　炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、及びｎ－イコシル基等の鎖状アルキル基；ビニル基、１－プロペニル基、２－ｎ－プロペニル基（アリル基）、１－ｎ－ブテニル基、２－ｎ－ブテニル基、及び３－ｎ－ブテニル基等の鎖状アルケニル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル基等のシクロアルキル基；フェニル基、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、α－ナフチル基、β－ナフチル基、ビフェニル－４－イル基、ビフェニル－３－イル基、ビフェニル－２－イル基、アントリル基、及びフェナントリル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基、α－ナフチルメチル基、β－ナフチルメチル基、α－ナフチルエチル基、及びβ－ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。

　ハロゲン化炭化水素基の具体例は、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、及びパーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロノニル基、及びパーフルオロデシル基等のハロゲン化鎖状アルキル基；２－クロロシクロヘキシル基、３－クロロシクロヘキシル基、４－クロロシクロヘキシル基、２，４－ジクロロシクロヘキシル基、２－ブロモシクロヘキシル基、３－ブロモシクロヘキシル基、及び４－ブロモシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基；２－クロロフェニル基、３－クロロフェニル基、４－クロロフェニル基、２，３－ジクロロフェニル基、２，４－ジクロロフェニル基、２，５－ジクロロフェニル基、２，６－ジクロロフェニル基、３，４－ジクロロフェニル基、３，５－ジクロロフェニル基、２－ブロモフェニル基、３－ブロモフェニル基、４－ブロモフェニル基、２－フルオロフェニル基、３－フルオロフェニル基、４－フルオロフェニル基等のハロゲン化アリール基；２－クロロフェニルメチル基、３－クロロフェニルメチル基、４－クロロフェニルメチル基、２－ブロモフェニルメチル基、３－ブロモフェニルメチル基、４－ブロモフェニルメチル基、２－フルオロフェニルメチル基、３－フルオロフェニルメチル基、４－フルオロフェニルメチル基等のハロゲン化アラルキル基である。

　炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基の具体例は、ヒドロキシメチル基、２－ヒドロキシエチル基、３－ヒドロキシ－ｎ－プロピル基、及び４－ヒドロキシ－ｎ－ブチル基等のヒドロキシ鎖状アルキル基；２－ヒドロキシシクロヘキシル基、３－ヒドロキシシクロヘキシル基、及び４－ヒドロキシシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基；２－ヒドロキシフェニル基、３－ヒドロキシフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、２，３－ジヒドロキシフェニル基、２，４－ジヒドロキシフェニル基、２，５－ジヒドロキシフェニル基、２，６－ジヒドロキシフェニル基、３，４－ジヒドロキシフェニル基、及び３，５－ジヒドロキシフェニル基等のヒドロキシアリール基；２－ヒドロキシフェニルメチル基、３－ヒドロキシフェニルメチル基、及び４－ヒドロキシフェニルメチル基等のヒドロキシアラルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ウンデシルオキシ基、ｎ－トリデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基、ｎ－ペンタデシルオキシ基、ｎ－ヘキサデシルオキシ基、ｎ－ヘプタデシルオキシ基、ｎ－オクタデシルオキシ基、ｎ－ノナデシルオキシ基、及びｎ－イコシルオキシ基等の鎖状アルコキシ基；ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、２－ｎ－プロペニルオキシ基（アリルオキシ基）、１－ｎ－ブテニルオキシ基、２－ｎ－ブテニルオキシ基、及び３－ｎ－ブテニルオキシ基等の鎖状アルケニルオキシ基；フェノキシ基、ｏ－トリルオキシ基、ｍ－トリルオキシ基、ｐ－トリルオキシ基、α－ナフチルオキシ基、β－ナフチルオキシ基、ビフェニル－４－イルオキシ基、ビフェニル－３－イルオキシ基、ビフェニル－２－イルオキシ基、アントリルオキシ基、及びフェナントリルオキシ基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、α－ナフチルメチルオキシ基、β－ナフチルメチルオキシ基、α－ナフチルエチルオキシ基、及びβ－ナフチルエチルオキシ基等のアラルキルオキシ基；メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ－プロポキシメチル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－ｎ－プロポキシエチル基、３－メトキシ－ｎ－プロピル基、３－エトキシ－ｎ－プロピル基、３－ｎ－プロポキシ－ｎ－プロピル基、４－メトキシ－ｎ－ブチル基、４－エトキシ－ｎ－ブチル基、及び４－ｎ－プロポキシ－ｎ－ブチル基等のアルコキシアルキル基；メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、ｎ－プロポキシメトキシ基、２－メトキシエトキシ基、２－エトキシエトキシ基、２－ｎ－プロポキシエトキシ基、３－メトキシ－ｎ－プロポキシ基、３－エトキシ－ｎ－プロポキシ基、３－ｎ－プロポキシ－ｎ－プロポキシ基、４－メトキシ－ｎ－ブチルオキシ基、４－エトキシ－ｎ－ブチルオキシ基、及び４－ｎ－プロポキシ－ｎ－ブチルオキシ基等のアルコキシアルコキシ基；２－メトキシフェニル基、３－メトキシフェニル基、及び４－メトキシフェニル基等のアルコキシアリール基；２－メトキシフェノキシ基、３－メトキシフェノキシ基、及び４－メトキシフェノキシ基等のアルコキシアリールオキシ基；ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、及びデカノイル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル基、α－ナフトイル基、及びβ－ナフトイル基等の芳香族アシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、ｎ－ブチルオキシカルボニル基、ｎ－ペンチルオキシカルボニル基、ｎ－ヘキシルカルボニル基、ｎ－ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ－オクチルオキシカルボニル基、ｎ－ノニルオキシカルボニル基、及びｎ－デシルオキシカルボニル基等の鎖状アルキルオキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、α－ナフトキシカルボニル基、及びβ－ナフトキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基；ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、及びデカノイルオキシ基等の脂肪族アシルオキシ基；ベンゾイルオキシ基、α－ナフトイルオキシ基、及びβ－ナフトイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基である。

　Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、及び炭素原子数１以上５以下のアルコキシ基からなる群より選択される基が好ましく、特に機械的特性に優れる硬化膜を形成しやすいことから、Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１８が全て水素原子であるのがより好ましい。

　式（ａ０１－２）～（ａ０１－５）中、Ｒ^ａ０１～Ｒ^ａ０１８は、式（ａ０１－１）におけるＲ^ａ０１～Ｒ^ａ０１８と同様である。式（ａ０１－２）及び式（ａ０１－４）において、Ｒ^ａ０２及びＲ^ａ０１０が、互いに結合する場合、式（ａ０１－２）において、Ｒ^ａ０１３及びＲ^ａ０１６が、互いに結合する場合、及び式（ａ０１－３）において、Ｒ^ａ０２及びＲ^ａ０８が、互いに結合する場合に形成される２価の基としては、例えば、－ＣＨ_２－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－が挙げられる。

　式（ａ０１－１）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、下記式（ａ０１－１ａ）、式（ａ０１－１ｂ）、及び式（ａ０１－１ｃ）で表される脂環式エポキシ化合物や、２，２－ビス（３，４－エポキシシクロヘキサン－１－イル）プロパン［＝２，２－ビス（３，４－エポキシシクロヘキシル）プロパン］等を挙げることができる。

　式（ａ０１－２）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、下記式（ａ０１－２ａ）及び下記式（ａ０１－２ｂ）で表される脂環式エポキシ化合物が挙げられる。

　式（ａ０１－３）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、Ｓスピロ［３－オキサトリシクロ［３．２．１．０^２，４］オクタン－６，２’－オキシラン］等が挙げられる。

　式（ａ０１－４）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、４－ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジペンテンジオキシド、リモネンジオキシド、１－メチルー４－（３－メチルオキシラン－２－イル）－７－オキサビシクロ［４．１．０］ヘプタン等が挙げられる。

　式（ａ０１－５）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、１，２，５，６－ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。

　さらに、下記式（ａ１－Ｉ）で表される化合物をエポキシ樹脂前駆体として好適に使用し得る。

（式（ａ１－Ｉ）中、Ｘ^ａ１、Ｘ^ａ２、及びＸ^ａ３は、それぞれ独立に、水素原子、又はエポキシ基を含んでいてもよい有機基であり、Ｘ^ａ１、Ｘ^ａ２、及びＸ^ａ３が有するエポキシ基の総数が２以上である。）

　上記式（ａ１－Ｉ）で表される化合物としては、下記式（ａ１－ＩＩ）で表される化合物が好ましい。

（式（ａ１－ＩＩ）中、Ｒ^ａ２０～Ｒ^ａ２２は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－及びこれらの組み合わせからなる基であり、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。Ｅ^１～Ｅ^３は、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和基、アルコキシシリル基、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、チオール基、カルボキシ基、水酸基及びコハク酸無水物基からなる群より選択される少なくとも１種の置換基又は水素原子である。ただし、Ｅ^１～Ｅ^３のうち少なくとも２つは、エポキシ基及びオキセタニル基からなる群より選択される少なくとも１種である。）

　式（ａ１－ＩＩ）中、Ｒ^ａ２０とＥ^１、Ｒ^ａ２１とＥ^２、及びＲ^ａ２２とＥ^３で示される基は、例えば、少なくとも２つが、それぞれ、下記式（ａ１－ＩＩａ）で表される基であることが好ましく、いずれもが、それぞれ、下記式（ａ１－ＩＩａ）で表される基であることがより好ましい。１つの化合物に結合する複数の式（ａ１－ＩＩａ）で表される基は、同じ基であることが好ましい。
　－Ｌ－Ｃ^ａ　　（ａ１－ＩＩａ）
（式（ａ１－ＩＩａ）中、Ｌは直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－及びこれらの組み合わせからなる基であり、Ｃ^ａはエポキシ基である。式（ａ１－ＩＩａ）中、ＬとＣ^ａとが結合して環状構造を形成していてもよい。）

　式（ａ１－ＩＩａ）中、Ｌとしての直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基としては、炭素原子数１以上１０以下であるアルキレン基が好ましく、また、Ｌとしてのアリーレン基としては、炭素原子数５以上１０以下であるアリーレン基が好ましい。式（ａ１－ＩＩａ）中、Ｌは、直鎖状の炭素原子数が１以上３以下であるアルキレン基、フェニレン基、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－及びこれらの組み合わせからなる基であることが好ましく、メチレン基等の直鎖状の炭素原子数が１以上３以下であるアルキレン基及びフェニレン基の少なくとも１種、又は、これらと、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－及びＮＨ－の少なくとも１種との組み合わせからなる基が好ましい。

　式（ａ１－ＩＩａ）中、ＬとＣ^ａとが結合して環状構造を形成している場合としては、例えば、分岐鎖状のアルキレン基とエポキシ基とが結合して環状構造（脂環構造のエポキシ基を有する構造）を形成している場合、下記式（ａ１－ＩＩｂ）～（ａ１－ＩＩｄ）で表される有機基が挙げられる。

（式（ａ１－ＩＩｂ）中、Ｒ^ａ２３は、水素原子又はメチル基である。）

　以下、式（ａ１－ＩＩ）で表される化合物の例としてオキシラニル基、又は脂環式エポキシ基を有するエポキシ化合物の例を示すが、これらに限定されない。

　また、分子内に２以上のグリシジル基又は脂環式エポキシ基を有するシロキサン化合物（以下、単に「シロキサン化合物」とも記す。）をエポキシ樹脂前駆体として好適に使用し得る。

　シロキサン化合物は、シロキサン結合（Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ）により構成されたシロキサン骨格と、２以上のグリシジル基又は脂環式エポキシ基とを分子内に有する化合物である。
　シロキサン化合物におけるシロキサン骨格としては、例えば、環状シロキサン骨格やかご型やラダー型のポリシルセスキオキサン骨格を挙げることができる。

　シロキサン化合物としては、なかでも、下記式（ａ１－ＩＩＩ）で表される環状シロキサン骨格を有する化合物（以下、「環状シロキサン」という場合がある）が好ましい。

　式（ａ１－ＩＩＩ）中、Ｒ^ａ２４、及びＲ^ａ２５は、エポキシ基を含有する１価の基又はアルキル基を示す。ただし、式（ａ１－ＩＩＩ）で表される化合物におけるｘ１個のＲ^ａ２４及びｘ１個のＲ^ａ２５のうち、少なくとも２個はエポキシ基を含有する１価の基である。また、式（ａ１－ＩＩＩ）中のｘ１は３以上の整数を示す。尚、式（ａ１－ＩＩＩ）で表される化合物におけるＲ^ａ２４、Ｒ^ａ２５は同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、複数のＲ^ａ２４は同一であってもよいし、異なっていてもよい。複数のＲ^ａ２５も同一であってもよいし、異なっていてもよい。
　上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素原子数が１以上１８以下である直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。上記アルキル基の炭素原子数は、好ましくは１以上６以下であり、特に好ましくは１以上３以下である。

　式（ａ１－ＩＩＩ）中のｘ１は３以上の整数を示し、なかでも、硬化膜を形成する際の架橋反応性に優れる点で３以上６以下の整数が好ましい。

　シロキサン化合物が分子内に有するエポキシ基の数は２個以上であり、硬化膜を形成する際の架橋反応性に優れる点から２個以上６個以下が好ましく、特に好ましくは２個以上４個以下である。

　上記エポキシ基を含有する１価の基としては、脂環式エポキシ基、及び－Ｄ－Ｏ－Ｒ^ａ２６で表されるグリシジルエーテル基［Ｄはアルキレン基を示し、Ｒ^ａ２６はグリシジル基を示す］が好ましく、脂環式エポキシ基がより好ましく、下記式（ａ１－ＩＩＩａ）又は下記式（ａ１－ＩＩＩｂ）で表される脂環式エポキシ基がさらに好ましい。上記Ｄ（アルキレン基）としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基等の炭素原子数が１以上１８以下である直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基等を挙げることができる。

（上記式（ａ１－ＩＩＩａ）及び式（ａ１－ＩＩＩｂ）中、Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、ｍｓは０以上２以下の整数を表す。）

　表面改質金属酸化物微粒子分散液は、エポキシ樹脂前駆体として、式（ａ１－ＩＩＩ）で表されるシロキサン化合物以外にも、脂環式エポキシ基含有環状シロキサン、特開２００８－２４８１６９号公報に記載の脂環式エポキシ基含有シリコーン樹脂、及び特開２００８－１９４２２号公報に記載の１分子中に少なくとも２個のエポキシ官能性基を有するオルガノポリシルセスキオキサン樹脂等のシロキサン骨格を有する化合物を含有していてもよい。

　シロキサン化合物としては、より具体的には、下記式で表される、分子内に２以上のグリシジル基又は脂環式エポキシ基を有する環状シロキサン等を挙げることができる。また、シロキサン化合物としては、例えば、商品名「Ｘ－４０－２６７０」、「Ｘ－４０－２７０１」、「Ｘ－４０－２７２８」、「Ｘ－４０－２７３８」、「Ｘ－４０－２７４０」（以上、信越化学工業社製）等の市販品を用いることができる。

［前駆体樹脂］
　基材成分（Ｄ）としては、加熱により、分子内での芳香環形成反応、及び／又は分子間での架橋反応を生じさせる樹脂である前駆体樹脂が好ましい。また、焼成により硬化物を与える前駆体樹脂も基材成分（Ｄ）として好ましい。

　分子内での芳香環形成反応によれば、樹脂を構成する分子鎖の構造が剛直化し、耐熱性及び機械的特性に優れる金属酸化物微粒子含有膜を形成できる。分子内での芳香環形成反応のうち好ましい反応としては、例えば、下式（Ｉ）～（ＶＩ）で示される反応が挙げられる。なお、下式中の反応は芳香環形成反応の一例にすぎず、基材成分（Ｄ）として使用される、加熱により分子内での芳香環形成反応を生じさせる樹脂の構造は、下式中に示される前駆体ポリマーの構造に限定されない。

（分子中に、水酸基、カルボン酸無水物基、カルボキシ基、及びエポキシ基から選択される基を有する樹脂）
　分子間での架橋反応によれば、樹脂を構成する分子鎖が相互に架橋され、三次元架橋構造が形成される。このため、加熱により架橋反応を生じさせる、分子中に、水酸基、カルボン酸無水物基、カルボキシ基、及びエポキシ基から選択される基を有する樹脂を基材成分（Ｄ）として用いると、耐熱性及び機械的特性に優れる金属酸化物微粒子含有膜が得られる。

　水酸基を有する樹脂を用いる場合、脱水縮合剤の作用により、樹脂に含まれる分子間に水酸基間の脱水縮合による架橋が生じる。また、水酸基は、活性水素原子を含み反応性に富むため、種々の架橋剤と反応することで、架橋された樹脂を含む硬化物を与える。

　カルボン酸無水物基を有する樹脂を用いる場合、酸無水物基の加水分解により生じるカルボキシ基同士が、脱水縮合剤の作用によって脱水縮合して架橋する。また、酸無水物基自体も反応性に富むため、例えば、２以上の水酸基を有するポリオール、２以上のアミノ基を有するポリアミン等の架橋剤を用いることにより、架橋された樹脂を含む硬化物を与える。

　カルボキシ基を有する樹脂を用いる場合、脱水縮合剤の作用によって、樹脂に含まれる分子間にカルボキシ基間の脱水縮合による架橋が生じる。また、イソシアネート基のようにカルボキシ基と反応し得る官能基を有する架橋剤を用いて、架橋されることも可能である。

　エポキシ基を有する樹脂を用いる場合、必要に応じて周知の硬化促進剤等を用いることにより、樹脂に含まれる分子間にエポキシ基間の重付加反応による架橋が生じる。

　分子中にカルボン酸無水物基を有する樹脂としては、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、及びイタコン酸無水物から選択される１種以上の単量体を含む、不飽和二重結合を有する単量体の混合物を重合させて得られる共重合体が好ましい。このような重合体としては、スチレン－マレイン酸共重合体が好ましい。

　分子中にカルボキシ基を有する樹脂としては、前述の分子中にカルボン酸無水物基を有する樹脂中の酸無水物基を加水分解して得られる樹脂や、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、及びイタコン酸から選択される１種以上の単量体を含む、不飽和二重結合を有する単量体の混合物を重合させて得られる共重合体が好ましい。

　分子中にエポキシ基を有するエポキシ基含有樹脂については、詳細に後述する。

　このような加熱により分子内での芳香環形成反応や、分子間での架橋反応を生じさせる化合物の中では、耐熱性に優れる金属酸化物微粒子含有膜を形成しやすいことから、ポリアミック酸、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリベンゾチアゾール前駆体、ポリベンゾイミダゾール前駆体、スチレン－マレイン酸共重合体、及びエポキシ基含有樹脂が好ましい。

〔ポリイミド樹脂前駆体〕
　ポリイミド樹脂前駆体としては、ポリアミック酸が挙げられ、基材成分（Ｄ）としてポリアミック酸を含む表面改質金属酸化物微粒子分散液を製膜した後、必要に応じてイミド化剤の存在下に形成された膜を加熱すると、ポリイミド樹脂を含む耐熱性に優れる金属酸化物微粒子含有膜が形成される。

　ポリアミック酸の分子量は、質量平均分子量として、５，０００以上３０，０００以下であるのが好ましく、１０，０００以上２０，０００以下であるのがより好ましい。かかる範囲内の質量平均分子量のポリアミック酸を用いる場合、耐熱性に優れる金属酸化物微粒子含有膜を形成しやすい。
　好適なポリアミック酸としては、例えば、下式（Ａ１）で表される構成単位からなるポリアミック酸が挙げられる。

（式（Ａ１）中、Ｒ^ａ０２０は４価の有機基であり、Ｒ^ａ０２１は２価の有機基であり、ｎ^ａは式（Ａ１）で表される構成単位の繰り返し数である。）

　式（Ａ１）中、Ｒ^ａ０２０及びＲ^ａ０２１の炭素原子数は２以上５０以下が好ましく、２以上３０以下がより好ましい。Ｒ^ａ０２０及びＲ^ａ０２１は、それぞれ、脂肪族基であっても、芳香族基であっても、これらの構造を組み合わせた基であってもよい。４価の芳香族基は、後述のＲ^ａ０２２と同様である。Ｒ^ａ０２０及びＲ^ａ０２１は、炭素原子、及び水素原子の他に、ハロゲン原子、酸素原子、及び硫黄原子を含んでいてもよい。Ｒ^ａ０２０及びＲ^ａ０２１が酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を含む場合、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子は、含窒素複素環基、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－ＣＯＯ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－Ｓ－、及び－Ｓ－Ｓ－から選択される基として、Ｒ^ａ０２０及びＲ^ａ０２１に含まれてもよく、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－Ｓ－、及び－Ｓ－Ｓ－から選択される基として、Ｒ^ａ０２０及びＲ^ａ０２１に含まれるのがより好ましい。

　ポリアミック酸は、通常、テトラカルボン酸二無水物成分と、ジアミン成分とを反応させることにより調製される。以下、ポリアミック酸の調製に用いられる、テトラカルボン酸二無水物成分、ジアミン成分、及びポリアミック酸の製造方法について説明する。

（テトラカルボン酸二無水物成分）
　ポリアミック酸の合成原料となるテトラカルボン酸二無水物成分は、ジアミン成分と反応することによりポリアミック酸を形成可能であれば特に限定されない。テトラカルボン酸二無水物成分は、従来からポリアミック酸の合成原料として使用されているテトラカルボン酸二無水物から適宜選択することができる。テトラカルボン酸二無水物成分は、芳香族テトラカルボン酸二無水物であっても、脂肪族テトラカルボン酸二無水物であってもよく、例えば、下記式（ａ１－０１）で表されるテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、芳香族テトラカルボン酸二無水物が好ましい。テトラカルボン酸二無水物成分は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（式（ａ１－０１）中、Ｒ^ａ０２０は式（Ａ１）のＲ^ａ０２０と同様である。）

　芳香族テトラカルボン酸二無水物の好適な具体例としては、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、４，４’－オキシジフタル酸無水物、及び３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらの中では、価格、入手容易性等から、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、及びピロメリット酸二無水物が好ましい。

（ジアミン成分）
　ポリアミック酸の合成原料となるジアミン成分は、テトラカルボン酸二無水物成分と反応することによりポリアミック酸を形成可能であれば特に限定されない。ジアミン成分は、従来からポリアミック酸の合成原料として使用されているジアミンから適宜選択することができ、例えば、下記式（ａ１－０２）で表されるジアミン成分や、後述のＹ^ｄを与えるジアミンが挙げられる。ジアミン成分は、芳香族ジアミンであっても、脂肪族ジアミンであってもよいが、芳香族ジアミンが好ましい。ジアミン成分は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（式（ａ１－０２）中、Ｒ^ａ０２１は式（Ａ１）のＲ^ａ０２１と同様である。）

　芳香族ジアミンの好適な具体例としては、ｐ－フェニレンジアミン、ｍ－フェニレンジアミン、２，４－ジアミノトルエン、４，４’－ジアミノビフェニル、４，４’－ジアミノ－２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、３，３’－ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’－ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’－ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，３’－ジアミノジフェニルエーテル、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３－ビス（３－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］スルフォン、ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］スルフォン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、９，９－ビス（４－アミノフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（４－アミノ－３－メチルフェニル）－９Ｈ－フルオレン、４，４’－［１，４－フェニレンビス（１－メチルエタン－１，１－ジイル）］ジアニリン等が挙げられる。これらの中では、価格、入手容易性等から、ｐ－フェニレンジアミン、ｍ－フェニレンジアミン、２，４－ジアミノトルエン、及び４，４’－ジアミノジフェニルエーテルが好ましい。

（ポリアミック酸の製造方法）
　以上説明した、テトラカルボン酸二無水物成分と、ジアミン成分とを、両者を溶解させることができる溶媒中で反応させることにより、ポリアミック酸が得られる。ポリアミック酸を合成する際の、テトラカルボン酸二無水物成分及びジアミン成分の使用量は特に限定されない。テトラカルボン酸二無水物成分１モルに対して、ジアミン成分を０．５０モル以上１．５０モル以下用いるのが好ましく、０．６０モル以上１．３０モル以下用いるのがより好ましく、０．７０モル以上１．２０モル以下用いるのが特に好ましい。

　ポリアミック酸の合成に用いることができる溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレア、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、及びγ－ブチロラクトン等の非プロトン性極性有機溶媒や、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート等のグリコールエーテル類が挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレアを用いるのが好ましい。

　ポリアミック酸を合成する際の溶媒の使用量は、所望の分子量のポリアミック酸を合成できれば特に限定されない。典型的には、溶媒の使用量は、テトラカルボン酸二無水物成分の量とジアミン成分の量との合計１００質量部に対して、１００質量部以上４０００質量部以下が好ましく、１５０質量部以上２０００質量部以下がより好ましい。

　テトラカルボン酸二無水物成分と、ジアミン成分とを反応させる際の温度は、反応が良好に進行する限り特に限定されない。典型的には、テトラカルボン酸二無水物成分と、ジアミン成分との反応温度は、－５℃以上１５０℃以下が好ましく、０℃以上１２０℃以下がより好ましく、０℃以上７０℃以下が特に好ましい。また、テトラカルボン酸二無水物成分と、ジアミン成分とを反応させる時間は、反応温度によっても異なるが、典型的には、１時間以上５０時間以下が好ましく、２時間以上４０時間以下がより好ましく、５時間以上３０時間以下が特に好ましい。

　以上の方法によれば、ポリアミック酸の溶液又はペーストが得られる。かかる溶液又はペーストをそのまま表面改質金属酸化物微粒子分散液の調製に用いてもよい。また、ポリアミック酸の溶液又はペーストから溶媒除去して得られる固体状のポリアミック酸を表面改質金属酸化物微粒子分散液の調製に用いてもよい。

〔ポリベンゾオキサゾール前駆体〕
　ポリベンゾオキサゾール前駆体は、典型的には、芳香族ジアミンジオールと、特定の構造のジカルボニル化合物とを反応させて製造される。以下、芳香族ジアミンジオールと、ジカルボニル化合物と、ポリベンゾオキサゾール前駆体の合成に用いられる溶剤と、ポリベンゾオキサゾール前駆体の製造方法とについて説明する。

（芳香族ジアミンジオール）
　芳香族ジアミンジオールとしては、従来よりポリベンゾオキサゾールの合成に使用されている芳香族ジアミンジオールを特に制限なく使用することができる。芳香族ジアミンジオールとしては、下式（ａ０２）で表される化合物を用いるのが好ましい。芳香族ジアミンジオールは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（式（ａ０２）中、Ｒ^ａ０２２は１以上の芳香環を含む４価の有機基であり、式（ａ０２）で表される芳香族ジアミンジオールに含まれる２組のアミノ基と水酸基との組み合わせに関して、それぞれの組み合わせでは、アミノ基と水酸基とは、Ｒ^ａ０２２に含まれる芳香環上の隣接する２つの炭素原子に結合している。）

　式（ａ０２）中、Ｒ^ａ０２２は、１以上の芳香環を含む４価の有機基であり、その炭素原子数は６以上５０以下が好ましく、６以上３０以下がより好ましい。Ｒ^ａ０２２は、芳香族基であってもよく、２以上の芳香族基が、脂肪族炭化水素基及びハロゲン化脂肪族炭化水素基や、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子等のヘテロ原子を含む結合を介して結合された基であってもよい。Ｒ^ａ０２２に含まれる、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子等のヘテロ原子を含む結合としては、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－ＣＯＯ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－Ｓ－、及び－Ｓ－Ｓ－等が挙げられ、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－Ｓ－、及び－Ｓ－Ｓ－が好ましい。

　Ｒ^ａ０２２に含まれる芳香環は、芳香族複素環であってもよい。Ｒ^ａ０２２中のアミノ基及び水酸基と結合する芳香環はベンゼン環であるのが好ましい。Ｒ^ａ０２２中のアミノ基及び水酸基と結合する環が２以上の環を含む縮合環である場合、当該縮合環中のアミノ基及び水酸基と結合する環はベンゼン環であるのが好ましい。

　Ｒ^ａ０２２の好適な例としては、下記式（ａ０２－１）～（ａ０２－９）で表される基が挙げられる。

（式（ａ０２－１）中、Ｘ^０１は、炭素原子数１～１０のアルキレン基、炭素原子数１～１０のフッ素化アルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－、及び単結合からなる群より選択される１種である。式（ａ０２－２）～（ａ０２－５）中、Ｙ^０１は、それぞれ、同一でも異なっていてもよく、－ＣＨ_２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、及び単結合からなる群より選択される１種である。）

　上記式（ａ０２－１）～（ａ０２－９）で表される基は、芳香環上に１又は複数の置換基を有していてもよい。置換基の好適な例としては、フッ素原子、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数１以上６以下のフッ素化アルキル基、炭素原子数１以上６以下のフッ素化アルコキシ基が好ましい。置換基がフッ素化アルキル基又はフッ素化アルコキシ基である場合、パーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基であるのが好ましい。

　上記式（ａ０２）で表される化合物の具体例としては、２，４－ジアミノ－１，５－ベンゼンジオール、２，５－ジアミノ－１，４－ベンゼンジオール、２，５－ジアミノ－３－フルオロ－１，４－ベンゼンジオール、２，５－ジアミノ－３，６－ジフルオロ－１，４－ベンゼンジオール、２，６－ジアミノ－１，５－ジヒドロキシナフタレン、１，５－ジアミノ－２，６－ジヒドロキシナフタレン、２，６－ジアミノ－３，７－ジヒドロキシナフタレン、１，６－ジアミノ－２，５－ジヒドロキシナフタレン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジヒドロキシビフェニル、３，３’－ジアミノ－４，４’－ジヒドロキシビフェニル、２，３’－ジアミノ－３，２’－ジヒドロキシビフェニル、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシビフェニル、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルビフェニル、３，３’－ジアミノ－４，４’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルビフェニル、２，３’－ジアミノ－３，２’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルビフェニル、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルビフェニル、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジヒドロキシ－５，５’－ジトリフルオロメチルビフェニル、３，３’－ジアミノ－４，４’－ジヒドロキシ－５，５’－ジトリフルオロメチルビフェニル、２，３’－ジアミノ－３，２’－ジヒドロキシ－５，５’－ジトリフルオロメチルビフェニル、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシ－５，５’－ジトリフルオロメチルビフェニル、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）メタン、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチル）メタン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチル）メタン、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルジフェニルメタン、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）ジフルオロメタン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ジフルオロメタン、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシジフェニルジフルオロメタン、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロメタン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）ジフルオロメタン、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルジフェニルジフルオロメタン、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）エーテル、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシジフェニルエーテル、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）エーテル、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）エーテル、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルジフェニルエーテル、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ケトン、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシジフェニルケトン、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチル）ケトン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチル）ケトン、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルジフェニルケトン、２，２－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）－２－（４’－アミノ－３’－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）プロパン、２－（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）－２－（４’－アミノ－３’－ヒドロキシ－６’－トリフルオロメチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－５－トリフルオロメチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）－２－（４’－アミノ－３’－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２－（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチルフェニル）－２－（４’－アミノ－３’－ヒドロキシ－６’－トリフルオロメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－５－トリフルオロメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）スルホン、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシジフェニルスルホン、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチル）スルホン、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチル）スルホン、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルジフェニルスルホン、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）スルフィド、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシジフェニルスルフィド、ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチル）スルフィド、ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシ－６－トリフルオロメチル）スルフィド、３，４’－ジアミノ－４，３’－ジヒドロキシ－６，６’－ジトリフルオロメチルジフェニルスルフィド、（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）４－アミノ－３－ヒドロキシフェニルベンゾエート、（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）３－アミノ４－ヒドロキシフェニルベンゾエート、（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）４－アミノ－３－ヒドロキシフェニルベンゾエート、（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）３－アミノ－４－ヒドロキシフェニルベンゾエート、Ｎ－（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）４－アミノ－３－ヒドロキシベンズアミド、Ｎ－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）３－アミノ４－ヒドロキシフェニルベンズアミド、Ｎ－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）４－アミノ－３－ヒドロキシフェニルベンズアミド、Ｎ－（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）３－アミノ－４－ヒドロキシフェニルベンズアミド、２，４’－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）ビフェニル、２，４’－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）ビフェニル、４，４’－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）ビフェニル、４，４’－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）ビフェニル、ジ［４－（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）フェニル］エーテル、ジ［４－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）フェニル］エーテル、２，４’－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）ベンゾフェノン、２，４’－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）ベンゾフェノン、２，４’－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、２，４’－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、４，４’－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、４，４’－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、２，４’－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロベンゾフェノン、２，４’－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロベンゾフェノン、４，４’－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロベンゾフェノン、４，４’－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロベンゾフェノン、２，２－ビス［４－（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス［４－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，８－ジアミノ－３，７－ジヒドロキシジベンゾフラン、２，８－ジアミノ－３，７－ジヒドロキシフルオレン、２，６－ジアミノ－３，７－ジヒドロキシキサンテン、９，９－ビス－（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）フルオレン、及び９，９－ビス－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）フルオレンが挙げられる。

　これらの中では、２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンが好ましい。

（ジカルボニル化合物）
　ポリベンゾオキサゾール前駆体の合成原料としては、以上説明した芳香族ジアミンジオールとともに、下式（ａ０３）で表されるジカルボニル化合物を用いる。前述の芳香族ジアミンジオールと、下式（ａ０３）で表されるジカルボニル化合物とを縮合させることにより、ポリベンゾオキサゾール前駆体が得られる。

（式（ａ０３）中、Ｒ^ａ０２３は２価の有機基であり、Ａ^０は水素原子又はハロゲン原子を表す。）

　式（ａ０３）中のＲ^ａ０２３は、芳香族基であってもよく、脂肪族基であってもよく、芳香族基と脂肪族基とを組み合わせた基であってもよい。得られるポリベンゾオキサゾール樹脂の耐熱性、機械的特性、耐薬品性等が良好である点から、Ｒ^ａ０２３は、芳香族基及び／又は脂環式基を含む基であるのが好ましい。Ｒ^ａ０２３に含まれる芳香族基は、芳香族炭化水素基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。

　Ｒ^ａ０２３は、炭素原子、及び水素原子の他に、ハロゲン原子、酸素原子、及び硫黄原子を含んでいてもよい。Ｒ^ａ０２３が酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を含む場合、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子は、含窒素複素環基、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－ＣＯＯ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－Ｓ－、及び－Ｓ－Ｓ－から選択される基として、Ｒ^ａ０２３に含まれてもよく、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－Ｓ－、及び－Ｓ－Ｓ－から選択される基として、Ｒ^ａ０２３に含まれるのがより好ましい。

　式（ａ０３）中、２つのＡ^０の一方が水素原子であり、他方がハロゲン原子であってもよいが、２つのＡがともに水素原子であるか、２つのＡ^０がともにハロゲン原子であるのが好ましい。Ａ^０がハロゲン原子である場合、Ａ^０として塩素、臭素、及びヨウ素が好ましく、塩素がより好ましい。

　式（ａ０３）で表されるジカルボニル化合物として、２つのＡ^０がともに水素原子であるジアルデヒド化合物を用いる場合、下式（Ａ２）で表されるポリベンゾオキサゾール前駆体が製造される。

（式（Ａ２）中、Ｒ^ａ０２２及びＲ^ａ０２３は、式（ａ０２）及び式（ａ０３）と同様であり、ｎ^１は式（Ａ２）で表される単位の繰り返し数である。）

　式（ａ０３）で表されるジカルボニル化合物として、２つのＡ^０がともにハロゲン原子であるジカルボン酸ジハライドを用いる場合、下式（Ａ３）で表されるポリベンゾオキサゾール前駆体が製造される。

（式（Ａ３）中、Ｒ^ａ０２２及びＲ^ａ０２３は、式（ａ０２）及び式（ａ０３）と同様であり、ｎ^２は式（Ａ３）で表される単位の繰り返し数である。）

　以下、ジカルボニル化合物として好適な化合物である、ジアルデヒド化合物と、ジカルボン酸ジハライドとについて説明する。

（ジアルデヒド化合物）
　ポリベンゾオキサゾール前駆体の原料として用いるジアルデヒド化合物は、下式（ａ０２－Ｉ）で表される化合物である。ジアルデヒド化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（式（ａ２－Ｉ）中、Ｒ^ａ０２３は、式（ａ０３）と同様である。）

　式（ａ２－Ｉ）中のＲ^ａ２０３として好適な芳香族基又は芳香環含有基としては、以下の基が挙げられる。

（上記式中、Ｘ^０２は、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基、炭素原子数１以上１０以下のフッ素化アルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－、及び単結合からなる群より選択される１種である。Ｘ^０２が複数である場合、複数のＸ^０２は同一でも異なっていてもよい。Ｙ^０２は、それぞれ、同一でも異なっていてもよく、－ＣＨ_２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、及び単結合からなる群より選択される１種である。ｐ^０及びｑ^０は、それぞれ０～３の整数である。）

　式（ａ２－Ｉ）中のＲ^ａ０２３として好適な脂環式基又は脂環含有基としては、以下の基が挙げられる。

（上記式中、Ｘ^０２は、炭素原子数１以上１０以下のアルキレン基、炭素原子数１以上１０以下のフッ素化アルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－、及び単結合からなる群より選択される１種である。Ｘ^０２が複数である場合、複数のＸ^２は同一でも異なっていてもよい。Ｙ^０２は、それぞれ、同一でも異なっていてもよく、－ＣＨ_２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、及び単結合からなる群より選択される１種である。Ｚ^０は、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、及び－ＣＨ＝ＣＨ－からなる群より選択される１種である。ｐ^０は、それぞれ０～３の整数である。）

　上記のＲ^ａ０２３として好適な基に含まれる芳香環又は脂環は、その環上に１又は複数の置換基を有していてもよい。置換基の好適な例としては、フッ素原子、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数１以上６以下のフッ素化アルキル基、炭素原子数１以上６以下のフッ素化アルコキシ基が好ましい。置換基がフッ素化アルキル基又はフッ素化アルコキシ基である場合、パーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルコキシ基であるのが好ましい。

　式（ａ２－Ｉ）で表されるジアルデヒド化合物が芳香族ジアルデヒドである場合、その好適な例としては、ベンゼンジアルデヒド類、ピリジンジアルデヒド類、ピラジンジアルデヒド類、ピリミジンジアルデヒド類、ナフタレンジアルデヒド類、ビフェニルジアルデヒド類、ジフェニルエーテルジアルデヒド類、ジフェニルスルホンジアルデヒド類、ジフェニルスルフィドジアルデヒド類、ビス（ホルミルフェノキシ）ベンゼン類、［１，４－フェニレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスベンズアルデヒド類、２，２－ビス［４－（ホルミルフェノキシ）フェニル］プロパン類、ビス［４－（ホルミルフェノキシ）フェニル］スルフィド類、ビス［４－（ホルミルフェノキシ）フェニル］スルホン類、及び含フルオレンジアルデヒドが挙げられる。

　ベンゼンジアルデヒド類の具体例としては、フタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、３－フルオロフタルアルデヒド、４－フルオロフタルアルデヒド、２－フルオロイソフタルアルデヒド、４－フルオロイソフタルアルデヒド、５－フルオロイソフタルアルデヒド、２－フルオロテレフタルアルデヒド、３－トリフルオロメチルフタルアルデヒド、４－トリフルオロメチルフタルアルデヒド、２－トリフルオロメチルイソフタルアルデヒド、４－トリフルオロメチルイソフタルアルデヒド、５－トリフルオロメチルイソフタルアルデヒド、２－トリフルオロメチルテレフタルアルデヒド、３，４，５，６－テトラフルオロフタルアルデヒド、２，４，５，６－テトラフルオロイソフタルアルデヒド、及び２，３，５，６－テトラフルオロテレフタルアルデヒド等が挙げられる。

　ピリジンジアルデヒド類の具体例としては、ピリジン－２，３－ジアルデヒド、ピリジン－３，４－ジアルデヒド、及びピリジン－３，５－ジアルデヒド等が挙げられる。
　ピラジンジアルデヒド類の具体例としては、ピラジン－２，３－ジアルデヒド、ピラジン－２，５－ジアルデヒド、及びピラジン－２，６－ジアルデヒド等が挙げられる。
　ピリミジンジアルデヒド類の具体例としては、ピリミジン－２，４－ジアルデヒド、ピリミジン－４，５－ジアルデヒド、及びピリミジン－４，６－ジアルデヒド等が挙げられる。

　ナフタレンジアルデヒド類の具体例としては、ナフタレン－１，５－ジアルデヒド、ナフタレン－１，６－ジアルデヒド、ナフタレン－２，６－ジアルデヒド、ナフタレン－３，７－ジアルデヒド、２，３，４，６，７，８－ヘキサフルオロナフタレン－１，５－ジアルデヒド、２，３，４，５，６，８－ヘキサフルオロナフタレン－１，６－ジアルデヒド、１，３，４，５，７，８－ヘキサフルオロナフタレン－２，６－ジアルデヒド、１－トリフルオロメチルナフタレン－２，６－ジアルデヒド、１，５－ビス（トリフルオロメチル）ナフタレン－２，６－ジアルデヒド、１－トリフルオロメチルナフタレン－３，７－ジアルデヒド、１，５－ビス（トリフルオロメチル）ナフタレン－３，７－ジアルデヒド、１－トリフルオロメチル－２，４，５，６，８－ペンタフルオロナフタレン－３，７－ジアルデヒド、１－ビス（トリフルオロメチル）メトキシ－２，４，５，６，８－ペンタフルオロナフタレン－３，７－ジアルデヒド、１，５－ビス（トリフルオロメチル）－２，４，６，８－テトラフルオロナフタレン－３，７－ジアルデヒド、及び１，５－ビス［ビス（トリフルオロメチル）メトキシ］－２，４，６，８－テトラフルオロナフタレン－３，７－ジアルデヒド等が挙げられる。

　ビフェニルジアルデヒド類の具体例としては、ビフェニル－２，２’－ジアルデヒド、ビフェニル－２，４’－ジアルデヒド、ビフェニル－３，３’－ジアルデヒド、ビフェニル－４，４’－ジアルデヒド、６，６’－ジフルオロビフェニル－３，４’－ジアルデヒド、６，６’－ジフルオロビフェニル－２，４’－ジアルデヒド、６，６’－ジフルオロビフェニル－３，３’－ジアルデヒド、６，６’－ジフルオロビフェニル－３，４’－ジアルデヒド、６，６’－ジフルオロビフェニル－４，４’－ジアルデヒド、６，６’－ジトリフルオロメチルビフェニル－２，２’－ジアルデヒド、６，６’－ジトリフルオロメチルビフェニル－２，４’－ジアルデヒド、６，６’－ジトリフルオロメチルビフェニル－３，３’－ジアルデヒド、６，６’－ジトリフルオロメチルビフェニル－３，４’－ジアルデヒド、及び６，６’－ジトリフルオロメチルビフェニル－４，４’－ジアルデヒド等が挙げられる。

　ジフェニルエーテルジアルデヒド類の具体例としては、ジフェニルエーテル－２，４’－ジアルデヒド、ジフェニルエーテル－３，３’－ジアルデヒド、ジフェニルエーテル－３，４’－ジアルデヒド、及びジフェニルエーテル－４，４’－ジアルデヒド等が挙げられる。

　ジフェニルスルホンジアルデヒド類の具体例としては、ジフェニルスルホン－３，３’－ジアルデヒド、ジフェニルスルホン－３，４’－ジアルデヒド、及びジフェニルスルホン－４，４’－ジアルデヒド等が挙げられる。

　ジフェニルスルフィドジアルデヒド類の具体例としては、ジフェニルスルフィド－３，３’－ジアルデヒド、ジフェニルスルフィド－３，４’－ジアルデヒド、及びジフェニルスルフィド－４，４’－ジアルデヒド等が挙げられる。

　ジフェニルケトンジアルデヒド類の具体例としては、ジフェニルケトン－３，３’－ジアルデヒド、ジフェニルケトン－３，４’－ジアルデヒド、及びジフェニルケトン－４，４’－ジアルデヒド等が挙げられる。

　ビス（ホルミルフェノキシ）ベンゼン類の具体例としては、１，３－ビス（３－ホルミルフェノキシ）ベンゼン、１，４－ビス（３－ホルミルフェノキシ）ベンゼン、及び１，４－ビス（４－ホルミルフェノキシ）ベンゼン等が挙げられる。

　［１，４－フェニレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスベンズアルデヒド類の具体例としては、３，３’－［１，４－フェニレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスベンズアルデヒド、３，４’－［１，４－フェニレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスベンズアルデヒド、及び４，４’－［１，４－フェニレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスベンズアルデヒド等が挙げられる。

　２，２－ビス［４－（ホルミルフェノキシ）フェニル］プロパン類の具体例としては、２，２－ビス［４－（２－ホルミルフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（３－ホルミルフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（４－ホルミルフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（３－ホルミルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、及び２，２－ビス［４－（４－ホルミルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。

　ビス［４－（ホルミルフェノキシ）フェニル］スルフィド類の具体例としては、ビス［４－（３－ホルミルフェノキシ）フェニル］スルフィド、及びビス［４－（４－ホルミルフェノキシ）フェニル］スルフィド等が挙げられる。

　ビス［４－（ホルミルフェノキシ）フェニル］スルホン類の具体例としては、ビス［４－（３－ホルミルフェノキシ）フェニル］スルホン、及びビス［４－（４－ホルミルフェノキシ）フェニル］スルホン等が挙げられる。

　含フルオレンジアルデヒドの具体例としては、フルオレン－２，６－ジアルデヒド、フルオレン－２，７－ジアルデヒド、ジベンゾフラン－３，７－ジアルデヒド、９，９－ビス（４－ホルミルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（３－ホルミルフェニル）フルオレン、及び９－（３－ホルミルフェニル）－９－（４’－ホルミルフェニル）フルオレン等が挙げられる。

　また、下式で表される、ジフェニルアルカンジアルデヒド又はジフェニルフルオロアルカンジアルデヒドも、芳香族ジアルデヒド化合物として好適に使用できる。

　さらに、下記式で表されるイミド結合を有する化合物も、芳香族ジアルデヒド化合物として好適に使用することができる。

　式（ａ２－Ｉ）で表されるジカルボニル化合物が脂環式基を含む脂環式ジアルデヒドである場合、その好適な例としては、シクロヘキサン－１，４－ジアルデヒド、シクロヘキサン－１，３－ジアルデヒド、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン－２，５－ジアルデヒド、ビシクロ［２．２．２］オクタン－２，５－ジアルデヒド、ビシクロ［２．２．２］オクタ－７－エン－２，５－ジアルデヒド、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン－２，３－ジアルデヒド、ビシクロ［２．２．１］ヘプタ－５－エン－２，３－ジアルデヒド、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン－３，４－ジアルデヒド、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカ－４－エン－８，９－ジアルデヒド、ペルヒドロナフタレン－２，３－ジアルデヒド、ペルヒドロナフタレン－１，４－ジアルデヒド、ペルヒドロナフタレン－１，６－ジアルデヒド、ペルヒドロ－１，４－メタノナフタレン－２，３－ジアルデヒド、ペルヒドロ－１，４－メタノナフタレン－２，７－ジアルデヒド、ペルヒドロ－１，４－メタノナフタレン－７，８－ジアルデヒド、ペルヒドロ－１，４：５，８－ジメタノナフタレン－２，３－ジアルデヒド、ペルヒドロ－１，４：５，８－ジメタノナフタレン－２，７－ジアルデヒド、ペルヒドロ－１，４：５，８：９，１０－トリメタノアントラセン－２，３－ジアルデヒド、ビシクロヘキシル－４，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルエーテル－３，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルメタン－３，３’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルメタン－３，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルメタン－４，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルジフルオロメタン－３，３’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルジフルオロメタン－３，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルジフルオロメタン－４，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルスルホン－３，３’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルスルホン－３，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルスルホン－４，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルスルフィド－３，３’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルスルフィド－３，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルスルフィド－４，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルケトン－３，３’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルケトン－３，４’－ジアルデヒド、ジシクロヘキシルケトン－４，４’－ジアルデヒド、２，２－ビス（３－ホルミルシクロヘキシル）プロパン、２，２－ビス（４－ホルミルシクロヘキシル）プロパン、２，２－ビス（３－ホルミルシクロヘキシル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（４－ホルミルシクロヘキシル）ヘキサフルオロプロパン、１，３－ビス（３－ホルミルシクロヘキシル）ベンゼン、１，４－ビス（３－ホルミルシクロヘキシル）ベンゼン、１，４－ビス（４－ホルミルシクロヘキシル）ベンゼン、３，３’－［１，４－シクロヘキシレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスシクロヘキサンカルバルデヒド、３，４’－［１，４－シクロヘキシレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスシクロヘキサンカルバルデヒド、４，４’－［１，４－シクロヘキシレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスシクロヘキサンカルバルデヒド、２，２－ビス［４－（３－ホルミルシクロヘキシル）シクロヘキシル］プロパン、２，２－ビス［４－（４－ホルミルシクロヘキシル）シクロヘキシル］プロパン、２，２－ビス［４－（３－ホルミルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス［４－（４－ホルミルフェノキシ）シクロヘキシル］ヘキサフルオロプロパン、ビス［４－（３－ホルミルシクロヘキシルオキシ）シクロヘキシル］スルフィド、ビス［４－（４－ホルミルシクロヘキシルオキシ）シクロヘキシル］スルフィド、ビス［４－（３－ホルミルシクロヘキシルオキシ）シクロヘキシル］スルホン、ビス［４－（４－ホルミルシクロヘキシルオキシ）シクロヘキシル］スルホン、２，２’－ビシクロ［２．２．１］ヘプタン－５，６’－ジアルデヒド、２，２’－ビシクロ［２．２．１］ヘプタン－６，６’－ジアルデヒド、及び１，３－ジホルミルアダマンタン等が挙げられる。

　以上説明したジアルデヒド化合物の中では、合成や入手が容易であることや、耐熱性及び機械的性質に優れるポリベンゾオキサゾール樹脂を与えるポリベンゾオキサゾール前駆体を得やすいことから、イソフタルアルデヒドが好ましい。

（ジカルボン酸ジハライド）
　ポリベンゾオキサゾール前駆体の原料として用いるジカルボン酸ジハライドは、下式（ａ２－ＩＩ）で表される化合物である。ジカルボン酸ジハライドは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（式（ａ２－ＩＩ）中、Ｒ^ａ０２３は、式（ａ０３）と同様であり、Ｈａｌはハロゲン原子である。）

　式（ａ２－ＩＩ）中、Ｈａｌとしては、塩素、臭素、及びヨウ素が好ましく、塩素がより好ましい。

　式（ａ２－ＩＩ）で表される化合物として好適な化合物としては、ジアルデヒド化合物の好適な例として前述した化合物が有する２つのアルデヒド基を、ハロカルボニル基、好ましくはクロロカルボニル基に置換した化合物が挙げられる。

　以上説明したジカルボン酸ジハライドの中では、合成や入手が容易であることや、耐熱性及び機械的性質に優れるポリベンゾオキサゾール樹脂を与えるポリベンゾオキサゾール前駆体を得やすいことから、テレフタル酸二クロライドが好ましい。

（溶剤）
　ポリイミド樹脂前駆体又はポリベンゾオキサゾール前駆体の調製に用いる溶剤は特に限定されず、従来からポリイミド樹脂前駆体又はポリベンゾオキサゾール前駆体の調製に使用されていた溶剤から適宜選択できる。ポリイミド樹脂前駆体又はポリベンゾオキサゾール前駆体の調製に用いる溶剤としては、前述の式（Ｓ０１）で表される化合物を含む溶剤を用いるのが好ましい。

　前述の式（Ｓ０１）で表される化合物を含む溶剤を用いてポリベンゾオキサゾール前駆体を合成する場合、ポリベンゾオキサゾール前駆体を低温で熱処理する場合でも、ポリベンゾオキサゾール前駆体を加熱する際の樹脂の着色による透明性の低下を抑制しつつ、引張伸度のような機械的特性や耐薬品性に優れるポリベンゾオキサゾール樹脂を製造できる。

　また、前述の式（Ｓ０１）で表される化合物を含む溶剤を用いて合成されたポリベンゾオキサゾール前駆体を加熱してポリベンゾオキサゾール樹脂を製造する場合、ポリベンゾオキサゾール樹脂の表面での、膨れ、割れ、発泡等の欠陥の発生を抑制できる。このため、式（Ｓ０１）で表される化合物を含む溶剤を用いて合成されたポリベンゾオキサゾール前駆体を含む膜を加熱してポリベンゾオキサゾール樹脂のフィルムを製造する場合、割れ、ブリスター、ピンホール等の欠陥がなく外観に優れるフィルムを製造しやすい。

　式（Ｓ０１）で表される化合物の好適な例については前述の通りである。

　式（Ｓ０１）で表される化合物のうち、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド、及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレアが特に好ましい。Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミドの大気圧下での沸点は１７５℃であって、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレアの大気圧下での沸点は１７７℃である。このように、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド、及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレアは、芳香族ジアミンジオール、ジカルボニル化合物、及び生成するポリベンゾオキサゾール前駆体を溶解可能な溶媒の中では比較的沸点が低い。このため、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド、及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレアから選択される少なくとも１種を含む溶剤を用いて合成されたポリベンゾオキサゾール前駆体を用いてポリベンゾオキサゾール樹脂を形成すると、ポリベンゾオキサゾール前駆体を加熱する際に、生成するポリベンゾオキサゾール樹脂中に溶剤が残存しにくく、得られるポリベンゾオキサゾール樹脂の引張伸度の低下等を招きにくい。

　さらに、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド、及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレアは、ＥＵ（欧州連合）でのＲＥＡＣＨ規則において、有害性が懸念される物質であるＳＶＨＣ（Ｓｕｂｓｔａｎｃｅ　ｏｆ　Ｖｅｒｙ　Ｈｉｇｈ　Ｃｏｎｃｅｒｎ、高懸念物質）に指定されていないように、有害性が低い物質である点でも有用である。

　ポリベンゾオキサゾール前駆体の調製に用いる溶剤が式（Ｓ０１）で表される化合物を含む場合、溶剤中の式（Ｓ０１）で表される化合物の含有量は、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、１００質量％であるのが最も好ましい。

　溶剤が式（Ｓ０１）で表される化合物を含む場合に、式（Ｓ０１）で表される化合物とともに使用することができる有機溶剤としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等の含窒素極性溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、及びイソホロン等のケトン類；γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、δ－バレロラクトン、γ－カプロラクトン、ε－カプロラクトン、α－メチル－γ－ブチロラクトン、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、及び酢酸－ｎ－ブチル等のエステル類；ジオキサン、及びテトラヒドロフラン等の環状エーテル類；エチレンカーボネート、及びプロピレンカーボネート等の環状エステル類；トルエン、及びキシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類が挙げられる。

（ポリベンゾオキサゾール前駆体の製造方法）
　ポリベンゾオキサゾール前駆体は、前述の芳香族ジアミンジオールと、ジカルボニル化合物とを、溶剤中で、周知の方法に従って反応させることによって製造される。以下ポリベンゾオキサゾール前駆体の製造方法の代表的な例として、ジカルボニル化合物がジアルデヒド化合物である場合の製造方法と、ジカルボニル化合物がジカルボン酸ハライドである場合の製造方法とについて説明する。

・芳香族ジアミンジオールとジアルデヒド化合物との反応
　芳香族ジアミンジオールとジアルデヒド化合物との反応はシッフ塩基の形成反応であり、周知の方法に従って行うことができる。反応温度は特に限定されないが、通常、２０℃以上２００℃以下が好ましく、２０℃以上１６０℃以下がより好ましく、１００℃以上１６０℃以下が特に好ましい。

　芳香族ジアミンジオールとジアルデヒド化合物との反応は、溶剤にエントレーナーを添加し、還流脱水しながら行われてもよい。エントレーナーとしては、特に限定されず、水と共沸混合物を形成し、室温にて水と二相系を形成する有機溶剤から適宜選択される。エントレーナーの好適な例としては、酢酸イソブチル、酢酸アリル、プロピオン酸－ｎ－プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸－ｎ－ブチル、及びプロピオン酸イソブチル等のエステル；ジクロロメチルエーテル、及びエチルイソアミルエーテル等のエーテル類；エチルプロピルケトン等のケトン類；トルエン等の芳香族炭化水素が挙げられる。

　芳香族ジアミンジオールとジアルデヒド化合物との反応時間は特に限定されないが、典型的には２時間以上７２時間以下程度が好ましい。

　ポリベンゾオキサゾール前駆体を製造する際の、ジアルデヒド化合物の使用量は、芳香族ジアミンジオール１モルに対して、０．５モル以上１．５モル以下が好ましく、０．７モル以上１．３モル以下がより好ましい。

　溶剤の使用量は、芳香族ジアミンジオールとジアルデヒド化合物との反応が良好に進行する限り特に限定されない。典型的には、芳香族ジアミンジオールの質量と、ジアルデヒド化合物の質量との合計に対して、１倍以上４０倍以下、好ましくは１．５倍以上２０倍以下の質量の溶剤が使用される。

　芳香族ジアミンジオールとジアルデヒド化合物との反応は、生成するポリベンゾオキサゾール前駆体の数平均分子量が、好ましくは１０００以上２００００以下、より好ましくは１２００以上５０００以下となるまで行われる。

・芳香族ジアミンジオールとジカルボン酸ジハライドとの反応
　芳香族ジアミンジオールとジカルボン酸ジハライドとを反応させる反応温度は特に限定されないが、通常、－２０℃以上１５０℃以下が好ましく、－１０℃以上１５０℃以下がより好ましく、－５℃以上７０℃以下が特に好ましい。芳香族ジアミンジオールとジカルボン酸ジハライドとの反応ではハロゲン化水素が副生する。かかるハロゲン化水素を中和するために、トリエチルアミン、ピリジン、及びＮ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン等の有機塩基や、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を、反応液中に少量加えてもよい。

　芳香族ジアミンジオールとジカルボン酸ジハライドとの反応時間は特に限定されないが、典型的には２時間以上７２時間以下程度が好ましい。

　ポリベンゾオキサゾール前駆体を製造する際の、ジカルボン酸ジハライドの使用量は、芳香族ジアミンジオール１モルに対して、０．５モル以上１．５モル以下が好ましく、０．７モル以上１．３モル以下がより好ましい。

　溶剤の使用量は、芳香族ジアミンジオールとジカルボン酸ジハライドとの反応が良好に進行する限り特に限定されない。典型的には、芳香族ジアミンジオールの質量と、ジカルボン酸ジハライドの質量との合計に対して、１倍以上４０倍以下、好ましくは１．５倍以上２０倍以下の質量の溶剤が使用される。

　芳香族ジアミンジオールとジカルボン酸ジハライドとの反応は、生成するポリベンゾオキサゾール前駆体の数平均分子量が、好ましくは１０００以上２００００以下、より好ましくは１２００以上５０００以下となるまで行われる。

　以上説明した方法により、ポリベンゾオキサゾール前駆体の溶液が得られる。ポリベンゾオキサゾール前駆体を基材成分（Ｄ）として含む表面改質金属酸化物微粒子分散液を調製する際には、ポリベンゾオキサゾール前駆体の溶液をそのまま用いてもよい。また、減圧下に、ポリベンゾオキサゾール前駆体のポリベンゾオキサゾール樹脂への変換が生じない程度の低温で、ポリベンゾオキサゾール前駆体の溶液から溶剤の少なくとも一部を除去して得られる、ポリベンゾオキサゾール前駆体のペースト又は固体を、表面改質金属酸化物微粒子分散液の調製に用いることもできる。

〔ポリベンゾチアゾール前駆体〕
　ポリベンゾチアゾール前駆体は、典型的には、芳香族ジアミンジチオールと、特定の構造のジカルボニル化合物とを反応させて製造される。芳香族ジアミンジチオールとしては、ポリベンゾオキサール前駆体の合成に使用される芳香族ジアミンジオールの水酸基がメルカプト基に置換された化合物を用いることができる。ジカルボニル化合物としては、ポリベンゾオキサゾール前駆体の合成に使用されるジカルボニル化合物と同様の化合物を使用することができる。

　芳香族ジアミンジチオールとジカルボニル化合物とを反応させてポリベンゾチアゾール前駆体を合成する際の、反応方法、反応条件等は、芳香族ジアミンジオールとジカルボニル化合物とを反応させてポリベンゾオキサゾール前駆体を合成する場合と同様である。

〔ポリベンゾイミダゾール前駆体〕
　ポリベンゾイミダゾール前駆体は、典型的には、芳香族テトラアミンと、ジカルボン酸ジハライドとを反応させて製造される。芳香族テトラアミンとしては、ポリベンゾオキサゾール前駆体の合成に使用される芳香族ジアミンジオールの水酸基がアミノ基に置換された化合物を用いることができる。ジカルボン酸ジハライドとしては、ポリベンゾオキサゾール前駆体の合成に使用されるジカルボン酸ジハライドと同様の化合物を使用することができる。

　芳香族テトラアミンとジカルボン酸ジハライドとを反応させてポリベンゾイミダゾール前駆体を合成する際の、反応方法、反応条件等は、芳香族ジアミンジオールとジカルボン酸ジハライドとを反応させてポリベンゾオキサゾール前駆体を合成する場合と同様である。

〔スチレン－マレイン酸共重合体〕
　スチレン－マレイン酸共重合体の種類は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。スチレン－マレイン酸共重合体における、スチレン／マレイン酸の共重合比率（質量比）は、１／９以上９／１以下が好ましく、２／８以上８／１以下がより好ましく、１／１以上８／１以下が特に好ましい。スチレン－マレイン酸共重合体の分子量は特に限定されないが、ポリスチレン換算の質量平均分子量として、１０００以上１０００００以下であるのが好ましく、５０００以上１２０００以下であるのがより好ましい。

〔エポキシ基含有樹脂〕
　エポキシ基含有樹脂を基材成分（Ｄ）として用いると、必要に応じて硬化剤や硬化促進剤の存在下に、所望する形状に成形された表面改質金属酸化物微粒子分散液を加熱することで、エポキシ基含有樹脂が有するエポキシ基同士が架橋される。その結果、耐熱性や機械的特性に優れる硬化物が得られる。エポキシ基含有樹脂は、エポキシ基を有する分子から構成される樹脂であれば特に限定されない。

　エポキシ基含有樹脂は、エポキシ基を有する単量体又はエポキシ基を有する単量体を含む単量体混合物を重合させて得られる重合体であってもよい。エポキシ基含有樹脂は、水酸基、カルボキシ基、アミノ基等の反応性を有する官能基を有する重合体に対して、例えばエピクロルヒドリンのようなエポキシ基を有する化合物を用いてエポキシ基を導入した樹脂であってもよい。入手、調製、重合体中のエポキシ基の量の調整等が容易であることから、エポキシ基を有する重合体としては、エポキシ基を有する単量体又はエポキシ基を有する単量体を含む単量体混合物を重合させて得られる重合体が好ましい。

　エポキシ基含有樹脂の好ましい一例としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、及びビスフェノールＡＤノボラック型エポキシ樹脂等のノボラックエポキシ樹脂；ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂のエポキシ化物等の環式脂肪族エポキシ樹脂；ナフタレン型フェノール樹脂のエポキシ化物等の芳香族エポキシ樹脂が挙げられる。

　また、エポキシ基含有樹脂の中では、調製が容易であったり、金属酸化物微粒子含有膜の物性の調整が容易であったりすることから、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体か、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルと他の単量体との共重合体が好ましい。

　エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルは、鎖状脂肪族エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルであっても、後述するような、脂環式エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルであってもよい。また、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルは、芳香族基を含んでいてもよい。エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルの中では、鎖状脂肪族エポキシ基を有する脂肪族（メタ）アクリル酸エステルや、脂環式エポキシ基を有する脂肪族（メタ）アクリル酸エステルが好ましく、脂環式エポキシ基を有する脂肪族（メタ）アクリル酸エステルがより好ましく、パターニング特性の観点では、脂環式エポキシ基における環構造に多環式構造を含む脂環式エポキシ基を有する脂肪族（メタ）アクリル酸エステルがさらに好ましい。

　芳香族基を含み、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルの例としては、４－グリシジルオキシフェニル（メタ）アクリレート、３－グリシジルオキシフェニル（メタ）アクリレート、２－グリシジルオキシフェニル（メタ）アクリレート、４－グリシジルオキシフェニルメチル（メタ）アクリレート、３－グリシジルオキシフェニルメチル（メタ）アクリレート、及び２－グリシジルオキシフェニルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　鎖状脂肪族エポキシ基を有する脂肪族（メタ）アクリル酸エステルの例としては、エポキシアルキル（メタ）アクリレート、及びエポキシアルキルオキシアルキル（メタ）アクリレート等のような、エステル基（－Ｏ－ＣＯ－）中のオキシ基（－Ｏ－）に鎖状脂肪族エポキシ基が結合する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。このような（メタ）アクリル酸エステルが有する鎖状脂肪族エポキシ基は、鎖中に１又は複数のオキシ基（－Ｏ－）を含んでいてもよい。鎖状脂肪族エポキシ基の炭素原子数は、特に限定されないが、３以上２０以下が好ましく、３以上１５以下がより好ましく、３以上１０以下が特に好ましい。

　鎖状脂肪族エポキシ基を有する脂肪族（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、６，７－エポキシヘプチル（メタ）アクリレート等のエポキシアルキル（メタ）アクリレート；２－グリシジルオキシエチル（メタ）アクリレート、３－グリシジルオキシ－ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、４－グリシジルオキシ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、５－グリシジルオキシ－ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、６－グリシジルオキシ－ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート等のエポキシアルキルオキシアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。

　脂環式エポキシ基を有する脂肪族（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、例えば下記式（ａ０５－１）～（ａ０５－１５）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、下記式（ａ０５－１）～（ａ０５－５）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ０５－１）～（ａ０５－２）で表される化合物がより好ましい。また、これら各化合物に関し、脂環に対するエステル基の酸素原子の結合部位はここで示されている位置に限られず、一部位置異性体を含んでいてもよい。

　上記式中、Ｒ^ａ０３２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^ａ０３３は炭素原子数１以上６以下の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒ^ａ０３４は炭素原子数１以上１０以下の２価の炭化水素基を示し、ｔ^０は０以上１０以下の整数を示す。Ｒ^ａ０３３としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒ^ａ０３４としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基が好ましい。

　エポキシ基を有する重合体としては、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体、及びエポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルと他の単量体との共重合体のいずれも用いることができるが、エポキシ基を有する重合体中の、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する単位の含有量は、例えば、１質量％以上１００質量％以下であり、１０質量％以上９０質量％以下が好ましく、３０質量％以上８０質量％以下がより好ましく、５０質量％以上７５質量％以下が特に好ましい。

　エポキシ基を有する重合体が、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルと他の単量体との共重合体である場合、他の単量体としては、不飽和カルボン酸、エポキシ基を持たない（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらの化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。表面改質金属酸化物微粒子分散液の保存安定性や、表面改質金属酸化物微粒子分散液を用いて形成される膜等の物品のアルカリ等に対する耐薬品性の点からは、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルと他の単量体との共重合体は、不飽和カルボン酸に由来する単位を含まないのが好ましい。

　不飽和カルボン酸の例としては、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸アミド；クロトン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、これらジカルボン酸の無水物が挙げられる。

　エポキシ基を持たない（メタ）アクリル酸エステルの例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－オクチル（メタ）アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル（メタ）アクリレート；クロロエチル（メタ）アクリレート、２，２－ジメチルヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート；脂環式骨格を有する基を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。エポキシ基を持たない（メタ）アクリル酸エステルの中では、脂環式骨格を有する基を有する（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。

　脂環式骨格を有する基を有する（メタ）アクリル酸エステルにおいて、脂環式骨格を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。

　脂環式骨格を有する基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば下記式（ａ０６－１）～（ａ０６－８）で表される化合物が挙げられる。これらの中では、下記式（ａ０６－３）～（ａ０６－８）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ０６－３）又は（ａ０６－４）で表される化合物がより好ましい。

　上記式中、Ｒ^ａ０３５は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^ａ０３６は単結合又は炭素原子数１以上６以下の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒ^ａ０３７は水素原子又は炭素原子数１以上５以下のアルキル基を示す。Ｒ^ａ０３６としては、単結合、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒ^ａ０３７としては、メチル基、エチル基が好ましい。

　（メタ）アクリルアミド類の例としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－アルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジアルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチル－Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。

　アリル化合物の例としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類；アリルオキシエタノール；等が挙げられる。

　ビニルエーテル類の例としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、１－メチル－２，２－ジメチルプロピルビニルエーテル、２－エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等の脂肪族ビニルエーテル；ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル－２，４－ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル；等が挙げられる。

　ビニルエステル類の例としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル－β－フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。

　スチレン類の例としては、スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン；メトキシスチレン、４－メトキシ－３－メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン；クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、２－ブロモ－４－トリフルオロメチルスチレン、４－フルオロ－３－トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン；等が挙げられる。

　エポキシ基含有樹脂の分子量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されないが、ポリスチレン換算の質量平均分子量として、３，０００以上３０，０００以下が好ましく、５，０００以上１５，０００以下がより好ましい。

〔焼成により硬化膜を生成させる樹脂〕
　前述の通り、焼成により硬化膜を生成させる樹脂も、基材成分（Ｄ）としての前駆体樹脂として好ましい。焼成により硬化膜を生成させる樹脂としては、例えば、ケイ素含有樹脂が挙げられる。ケイ素含有樹脂の好ましい例としては、シロキサン樹脂、及びポリシランから選択される１種以上が挙げられる。これらのケイ素含有樹脂を含む表面改質金属酸化物微粒子分散液を塗布することでケイ素含有樹脂を含む金属酸化物微粒子含有膜が得られる。
　ケイ素含有樹脂組成物である表面改質金属酸化物微粒子分散液については、詳細に後述する。

　基材成分（Ｄ）として上記の熱硬化性材料又は焼成により硬化膜を生成させる樹脂を用いる場合、表面改質金属酸化物微粒子分散液は、必要に応じて、硬化剤、硬化促進剤、脱水縮合剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、離型剤、可塑剤、充填材、及び強化材等の添加剤を含んでいてもよい。
　また、製膜を容易にするため、表面改質金属酸化物微粒子分散液は溶剤を含むのが好ましい。溶剤の種類は、熱硬化性材料の種類に応じて、適宜選択される。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液としては、以上説明した、非熱硬化性の樹脂を基材成分（Ｄ）として含む非感エネルギー性の組成物や、熱硬化性材料を基材成分（Ｄ）として含む感熱性の組成物以外に、所謂フォトレジスト組成物として知られる感光性組成物も好ましい。
　良好に分散された金属酸化物微粒子を含み、且つ、耐熱性や耐薬品性に優れた金属酸化物微粒子を含む膜等の物品を形成しやすいことから、表面改質金属酸化物微粒子分散液は、感熱性、及び／又は感光性を備える感エネルギー性組成物であるのが好ましい。

　従来知られる種々の感エネルギー性組成物に、所望する量の表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子を加えることにより、感エネルギー性の組成物である表面改質金属酸化物微粒子分散液が得られる。
　従来知られる感エネルギー性組成物には、種々の熱硬化性又は光硬化性の化合物や、アルカリ可溶性樹脂、露光されることでアルカリに対する溶解性が高まる樹脂等が基材成分（Ｄ）として含まれる。
　感光性の表面改質金属酸化物微粒子分散液は、露光により現像液に対して不溶化するネガ型の感光性組成物であってもよく、露光により現像液に対して可溶化するポジ型の感光性組成物であってもよい。
　以下、好適な感エネルギー性組成物と、焼成により硬化膜を生成させる樹脂を含む組成物の好適な例であるケイ素含有樹脂組成物と、について説明する。

（１）第１の態様の感エネルギー性組成物
　第１の態様の感エネルギー性組成物は、アルカリ可溶性樹脂、光重合性化合物、及び光重合開始剤とともに、表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子、及び有機溶剤を含有するネガ型感光性組成物である。
　第１の態様の感エネルギー性組成物では、アルカリ可溶性樹脂と、光重合性化合物とが基材成分（Ｄ）に該当する。

　第１の態様の感エネルギー性組成物は、後述するようにアルカリ可溶性樹脂として、（メタ）アクリル酸や、（メタ）アクリル酸エステル等を重合して得られる（メタ）アクリル樹脂を含む場合がある。
　例えば、特許文献１に記載されるような被覆処理を施された金属酸化物微粒子を（メタ）アクリル樹脂を含む組成物に配合する場合、金属酸化物微粒子が良好に分散しない場合がある。
　しかし、前述の、表面の少なくとも一部が式（ａ－Ｉ）で表される化合物により被覆された表面改質金属酸化物微粒子は、（メタ）アクリル樹脂を含む組成物中でも安定に分散しやすい。

　第１の態様の感エネルギー性組成物におけるアルカリ可溶性樹脂としては、特に限定されず、従来公知のアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。このアルカリ可溶性樹脂は、エチレン性不飽和基を有してもよく、エチレン性不飽和基を有さなくてもよい。
　なお、本明細書においてアルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度２０質量％の樹脂溶液（溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）により、膜厚１μｍの樹脂膜を基板上に形成し、２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液に１分間浸漬した際に、膜厚０．０１μｍ以上溶解する樹脂をいう。

　エチレン性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、エポキシ化合物と不飽和カルボン酸との反応物を、さらに多塩基酸無水物と反応させることにより得られる樹脂を用いることができる。

　その中でも、下記式（ａ－１）で表される樹脂が好ましい。この式（ａ－１）で表される樹脂は、それ自体が、光硬化性が高い点で好ましい。

　上記式（ａ－１）中、Ｘ^ａは、下記式（ａ－２）で表される基を示す。

　上記式（ａ－２）中、Ｒ^ａ１は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上６以下の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ｒ^ａ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｗ^ａは、単結合又は下記式（ａ－３）で表される基を示す。

　上記式（ａ－１）中、Ｙ^ａは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基（－ＣＯ－Ｏ－ＣＯ－）を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。

　上記式（ａ－１）中、Ｚ^ａは、テトラカルボン酸二無水物から２個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
　上記式（ａ－１）中、ｍは、０以上２０以下の整数を示す。

　エチレン性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、多価アルコール類と一塩基酸又は多塩基酸とを縮合して得られるポリエステルプレポリマーに（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオールと２個のイソシアネート基を持つ化合物とを反応させた後、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、フェノール又はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、レゾール型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエステル、脂肪族又は脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート樹脂等を用いることもできる。
　本明細書において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸とメタクリル酸との両方を意味する。同様に、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートとの両方を意味する。

　一方、エチレン性不飽和基を有さないアルカリ可溶性樹脂としては、不飽和カルボン酸と、他の不飽和化合物とを共重合させて得られる樹脂を用いることができる。他の不飽和化合物としては、エポキシ基含有不飽和化合物、及び脂環式基含有不飽和化合物から選択される少なくとも１種を用いるのが好ましい。

　不飽和カルボン酸としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸；これらジカルボン酸の無水物；等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、得られる樹脂のアルカリ溶解性、入手の容易性等の点から、（メタ）アクリル酸及び無水マレイン酸が好ましい。これらの不飽和カルボン酸は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　エポキシ基含有不飽和化合物としては、脂環式基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物と、脂環式基を有するエポキシ基含有不飽和化合物とが挙げられる。
　脂環式基を有するエポキシ基含有不飽和化合物としては、前述の式（ａ０５－１）～（ａ０５－１５）で表される化合物が挙げられる。
　脂環式基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、６，７－エポキシヘプチル（メタ）アクリレート等のエポキシアルキル（メタ）アクリレート；２－グリシジルオキシエチル（メタ）アクリレート、３－グリシジルオキシ－ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、４－グリシジルオキシ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、５－グリシジルオキシ－ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、６－グリシジルオキシ－ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート等のエポキシアルキルオキシアルキル（メタ）アクリレート；α－エチルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－プロピルアクリル酸グリシジル、α－ｎ－ブチルアクリル酸グリシジル、α－エチルアクリル酸６，７－エポキシヘプチル等のα－アルキルアクリル酸エポキシアルキルエステル類；ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類；等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、硬化後の樹脂の強度等の点から、グリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、６，７－エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、及びｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテルが好ましい。
　これらのエポキシ基含有不飽和化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　脂環式基含有不飽和化合物としては、脂環式基を有する不飽和化合物であれば特に限定されない。脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。具体的に、脂環式基含有不飽和化合物としては、例えば前述の式（ａ０６－１）～（ａ０６－８）で表される化合物が挙げられる。

　不飽和カルボン酸に対して、上記以外の他の化合物をさらに重合させるのも好ましい。このような他の化合物としては、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類、マレイミド類等が挙げられる。これらの化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　他の化合物に関して、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、及びスチレン類についての好適な例は、エポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルと他の単量体との共重合体について説明した、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、及びスチレン類についての好適例と同様である。

　他の化合物としての（メタ）アクリル酸エステル類としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－オクチル（メタ）アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル（メタ）アクリレート；クロロエチル（メタ）アクリレート、２，２－ジメチルヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート；等が挙げられる。

　他の化合物としてのマレイミド類としては、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－エチルマレイミド、Ｎ－ｎ－プロピルマレイミド、Ｎ－イソプロピルマレイミド、Ｎ－ｎ－ブチルマレイミド、Ｎ－ｎ－ペンチルマレイミド、Ｎ－ｎ－ヘキシルマレイミド等の炭素原子数１以上１０以下のアルキル基でＮ置換されたマレイミド；Ｎ－シクロペンチルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－シクロヘプチルマレイミド等の炭素原子数３以上２０以下の脂環式基でＮ置換されたマレイミド：Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－α－ナフチルマレイミド、Ｎ－β－ナフチルマレイミド等の炭素原子数６以上２０以下のアリール基でＮ置換されたＮ－アリールマレイミド；Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－フェネチルマレイミド等の炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基でＮ置換されたＮ－アラルキルマレイミドが挙げられる。

　また、不飽和カルボン酸に由来する構成単位とともに、後述する光重合性化合物との重合可能部位を有する構成単位とを少なくとも有する共重合体、又は不飽和カルボン酸に由来する構成単位と、エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構成単位と、後述する光重合性化合物との重合可能部位を有する構成単位とを少なくとも有する共重合体も、アルカリ可溶性樹脂として好適に使用することができる。
　これらのアルカリ可溶性樹脂を用いる場合、機械的に強度に優れ、基板への密着性に優れる金属酸化物微粒子含有膜を形成することができる。

　上記の光重合性化合物との重合可能部位を有する構成単位を有する共重合体は、上述の（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類、及びマレイミド類等に由来する１種以上の構成単位をさらに有していてもよい。

　光重合性化合物との重合可能部位を有する構成単位は、光重合性化合物との重合可能部位としてエチレン性不飽和基を有するのが好ましい。このような構成単位を有する共重合体は、不飽和カルボン酸の単独重合体に含まれるカルボキシ基の少なくとも一部と、エポキシ基含有不飽和化合物とを反応させることにより、調製することができる。
　また、不飽和カルボン酸に由来する構成単位と、エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構成単位とを有する共重合体におけるエポキシ基の少なくとも一部と、不飽和カルボン酸とを反応させることでも、光重合性化合物との重合可能部位を有する構成単位を有する共重合体を調製することができる。

　このアルカリ可溶性樹脂中における上記不飽和カルボン酸に由来する構成単位の割合は、３質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、５質量％以上２５質量％以下であることがより好ましい。また、上記エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構成単位の割合は、３０質量％以上９５質量％以下であることが好ましく、５０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましい。また、上記脂環式基含有不飽和化合物に由来する構成単位の割合は、１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２５質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上２０質量％以下であることがさらに好ましい。上記の範囲とすることにより、得られる樹脂のアルカリ溶解性を適度としながら、第１の態様の感エネルギー性組成物の硬化物の基板への密着性、第１の態様の感エネルギー性組成物の硬化後の強度を高めることができる。

　アルカリ可溶性樹脂の質量平均分子量は、１０００以上４００００以下であることが好ましく、２０００以上３００００以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、十分な耐熱性、膜強度を得ることができる。

　アルカリ可溶性樹脂の含有量は、第１の態様の感光性組成物の固形分に対して５質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスがとりやすい傾向がある。

　第１の態様の感エネルギー性組成物における光重合性化合物としては、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。
　単官能モノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ－メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　光重合性化合物の含有量は、第１の態様の感エネルギー性組成物の固形分に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上２０質量％以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感度、現像性、解像性のバランスがとりやすい傾向がある。

　第１の態様の感エネルギー性組成物における光重合開始剤としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。

　光重合開始剤として具体的には、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ビス（４－ジメチルアミノフェニル）ケトン、２－メチル－１－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾル－３－イル］，１－（Ｏ－アセチルオキシム）、（９－エチル－６－ニトロ－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）［４－（２－メトキシ－１－メチルエトキシ）－２－メチルフェニル］メタノンＯ－アセチルオキシム、２－（ベンゾイルオキシイミノ）－１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１－オクタノン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４－ベンゾイル－４’－メチルジメチルスルフィド、４－ジメチルアミノ安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４－ジメチルアミノ－２－エチルヘキシル安息香酸、４－ジメチルアミノ－２－イソアミル安息香酸、ベンジル－β－メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（Ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２－クロロチオキサンテン、２，４－ジエチルチオキサンテン、２－メチルチオキサンテン、２－イソプロピルチオキサンテン、２－エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロペルオキシド、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（ｍ－メトキシフェニル）－イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’－ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、３，３－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン－ｎ－ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルジクロロアセトフェノン、α，α－ジクロロ－４－フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、２－メチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル－４－ジメチルアミノベンゾエート、９－フェニルアクリジン、１，７－ビス－（９－アクリジニル）ヘプタン、１，５－ビス－（９－アクリジニル）ペンタン、１，３－ビス－（９－アクリジニル）プロパン、ｐ－メトキシトリアジン、２，４，６－トリス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－メチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（フラン－２－イル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－［２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル］－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－エトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－ｎ－ブトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）フェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（３－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン、２，４－ビス－トリクロロメチル－６－（２－ブロモ－４－メトキシ）スチリルフェニル－ｓ－トリアジン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　これらの中でも、オキシムエステル系の光重合開始剤を用いることが、感度の面で特に好ましい。オキシム系の光重合開始剤の中で、特に好ましい化合物としては、Ｏ－アセチル－１－［６－（２－メチルベンゾイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノンオキシム、エタノン，１－［９－エチル－６－（ピロール－２－イルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾル－３－イル］，１－（Ｏ－アセチルオキシム）、及び１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］が挙げられる。

　光重合開始剤としては、また、下記式（ｃ１）で表されるオキシムエステル化合物を用いることも好ましい。

（Ｒ^ｃ１は、１価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、
ｎ１は０以上４以下の整数であり、
ｎ２は０、又は１であり、
Ｒ^ｃ２は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基であり、
Ｒ^ｃ３は、水素原子、又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基である。）

　式（ｃ１）中、Ｒ^ｃ１は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Ｒ^ｃ１が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン－１－イル基、及びピペラジン－１－イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。ｎ１が２以上４以下の整数である場合、Ｒ^ｃ１は同一であっても異なっていてもよい。また、置換基の炭素原子数には、置換基がさらに有する置換基の炭素原子数を含まない。

　Ｒ^ｃ１がアルキル基である場合、炭素原子数１以上２０以下が好ましく、炭素原子数１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ１がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ１がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ１がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ１がアルコキシ基である場合、炭素原子数１以上２０以下が好ましく、炭素原子数１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ１がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ１がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ－オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ１がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ１がシクロアルキル基、又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数３以上１０以下が好ましく、炭素原子数３以上６以下がより好ましい。Ｒ^ｃ１がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ１がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ１が飽和脂肪族アシル基、又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数２以上２０以下が好ましく、炭素原子数２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ１が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ－ブタノイル基、２－メチルプロパノイル基、ｎ－ペンタノイル基、２，２－ジメチルプロパノイル基、ｎ－ヘキサノイル基、ｎ－ヘプタノイル基、ｎ－オクタノイル基、ｎ－ノナノイル基、ｎ－デカノイル基、ｎ－ウンデカノイル基、ｎ－ドデカノイル基、ｎ－トリデカノイル基、ｎ－テトラデカノイル基、ｎ－ペンタデカノイル基、及びｎ－ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ１が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ－ブタノイルオキシ基、２－メチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ペンタノイルオキシ基、２，２－ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ヘキサノイルオキシ基、ｎ－ヘプタノイルオキシ基、ｎ－オクタノイルオキシ基、ｎ－ノナノイルオキシ基、ｎ－デカノイルオキシ基、ｎ－ウンデカノイルオキシ基、ｎ－ドデカノイルオキシ基、ｎ－トリデカノイルオキシ基、ｎ－テトラデカノイルオキシ基、ｎ－ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ－ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ１がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数２以上２０以下が好ましく、炭素原子数２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ１がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ－ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニル基、ｎ－ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシカルボニル基、ｎ－ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ－ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ－オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－オクチルオキシルカルボニル基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシカルボニル基、ｎ－ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ－デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ１がフェニルアルキル基である場合、炭素原子数７以上２０以下が好ましく、炭素原子数７以上１０以下がより好ましい。またＲ^ｃ１がナフチルアルキル基である場合、炭素原子数１１以上２０以下が好ましく、炭素原子数１１以上１４以下がより好ましい。Ｒ^ｃ１がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、及び４－フェニルブチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ１がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α－ナフチルメチル基、β－ナフチルメチル基、２－（α－ナフチル）エチル基、及び２－（β－ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ１が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒ^ｃ１は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。

　Ｒ^ｃ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合環を構成する単環の数を３までとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。Ｒ^ｃ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。

　Ｒ^ｃ１が１、又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒ^ｃ１と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ｎ－ペンチルアミノ基、ｎ－ヘキシルアミノ基、ｎ－ヘプチルアミノ基、ｎ－オクチルアミノ基、ｎ－ノニルアミノ基、ｎ－デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ－ブタノイルアミノ基、ｎ－ペンタノイルアミノ基、ｎ－ヘキサノイルアミノ基、ｎ－ヘプタノイルアミノ基、ｎ－オクタノイルアミノ基、ｎ－デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α－ナフトイルアミノ基、及びβ－ナフトイルアミノ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ^ｃ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１以上４以下が好ましい。Ｒ^ｃ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

　Ｒ^ｃ１の中では、化学的に安定であることや、立体的な障害が少なく、オキシムエステル化合物の合成が容易であること等から、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、及び炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基からなる群より選択される基が好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキルがより好ましく、メチル基が特に好ましい。

　Ｒ^ｃ１がフェニル基に結合する位置は、Ｒ^ｃ１が結合するフェニル基について、フェニル基とオキシムエステル化合物の主骨格との結合手の位置を１位とし、メチル基の位置を２位とする場合に、４位、又は５位が好ましく、５位がよりに好ましい。また、ｎ１は、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０、又は１が特に好ましい。

　Ｒ^ｃ２は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基である。また、Ｒ^ｃ２が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基上の窒素原子は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基で置換されていてもよい。

　Ｒ^ｃ２において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。フェニル基、又はカルバゾリル基が、炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルコキシ基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルコキシ基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン－１－イル基、及びピペラジン－１－イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ２がカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。

　フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び１、又は２の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Ｒ^ｃ１と同様である。

　Ｒ^ｃ２において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基；炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基；炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基；炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基；炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基；フェニル基；ナフチル基；ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基；モルホリン－１－イル基；ピペラジン－１－イル基；ハロゲン；ニトロ基；シアノ基が挙げられる。フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１以上４以下が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

　Ｒ^ｃ２の中では、感度に優れる光重合開始剤を得やすい点から、下記式（ｃ２）、又は（ｃ３）で表される基が好ましく、下記式（ｃ２）で表される基がより好ましく、下記式（ｃ２）で表される基であって、ＡがＳである基が特に好ましい。

（Ｒ^ｃ４は、１価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、ＡはＳ又はＯであり、ｎ３は、０以上４以下の整数である。）

（Ｒ^ｃ５及びＲ^ｃ６は、それぞれ、１価の有機基である。）

　式（ｃ２）におけるＲ^ｃ４が有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式（ｃ２）においてＲ^ｃ４が有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基；炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基；炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基；炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基；炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基；フェニル基；ナフチル基；ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基；モルホリン－１－イル基；ピペラジン－１－イル基；ハロゲン；ニトロ基；シアノ基が挙げられる。

　Ｒ^ｃ４の中では、ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基；ナフトイル基；２－メチルフェニルカルボニル基；４－（ピペラジン－１－イル）フェニルカルボニル基；４－（フェニル）フェニルカルボニル基がより好ましい。

　また、式（ｃ２）において、ｎ３は、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０、又は１であるのが特に好ましい。ｎ３が１である場合、Ｒ^ｃ４の結合する位置は、Ｒ^ｃ４が結合するフェニル基が酸素原子又は硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。

　式（ｃ３）におけるＲ^ｃ５は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Ｒ^ｃ５の好適な例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ５の中では、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。

　式（ｃ３）におけるＲ^ｃ６は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Ｒ^ｃ６として好適な基の具体例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒ^ｃ６として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基がより好ましく、２－メチルフェニル基が特に好ましい。

　Ｒ^ｃ４、Ｒ^ｃ５、又はＲ^ｃ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ^ｃ４、Ｒ^ｃ５、又はＲ^ｃ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１以上４以下が好ましい。Ｒ^ｃ４、Ｒ^ｃ５、又はＲ^ｃ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

　式（ｃ１）におけるＲ^ｃ３は、水素原子、又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基である。Ｒ^ｃ３としては、メチル基、又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。

　式（ｃ１）で表されるオキシムエステル化合物の中でも特に好適な化合物としては、下記のＰＩ－１～ＰＩ－４２が挙げられる。

　また、下記式（ｃ４）で表されるオキシムエステル化合物も、光重合開始剤として好ましい。

（Ｒ^ｃ７は水素原子、ニトロ基又は１価の有機基であり、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とは相互に結合して環を形成してもよく、Ｒ^ｃ１０は１価の有機基であり、Ｒ^ｃ１１は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上１１以下のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、ｎ４は０以上４以下の整数であり、ｎ５は０又は１である。）

　ここで、式（ｃ４）のオキシムエステル化合物を製造するためのオキシム化合物としては、下式（ｃ５）で表される化合物が好適である。

（Ｒ^ｃ７、Ｒ^ｃ８、Ｒ^ｃ９、Ｒ^ｃ１０、ｎ４、及びｎ５は、式（ｃ４）と同様である。）

　式（ｃ４）及び（ｃ５）中、Ｒ^ｃ７は、水素原子、ニトロ基又は１価の有機基である。Ｒ^ｃ７は、式（ｃ４）中のフルオレン環上で、－（ＣＯ）_ｎ５－で表される基に結合する６員芳香環とは、異なる６員芳香環に結合する。式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ７のフルオレン環に対する結合位置は特に限定されない。式（ｃ４）で表される化合物が１以上のＲ^ｃ７を有する場合、式（ｃ４）で表される化合物の合成が容易であること等から、１以上のＲ^ｃ７のうちの１つがフルオレン環中の２位に結合するのが好ましい。Ｒ^ｃ７が複数である場合、複数のＲ^ｃ７は同一であっても異なっていてもよい。

　Ｒ^ｃ７が有機基である場合、Ｒ^ｃ７は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Ｒ^ｃ７が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン－１－イル基、及びピペラジン－１－イル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ７がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ７がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ７がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ７がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ７がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ７がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ７がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ－オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ７がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ７がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上６以下がより好ましい。Ｒ^ｃ７がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ７がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ７が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、２以上２１以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ７が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ－ブタノイル基、２－メチルプロパノイル基、ｎ－ペンタノイル基、２，２－ジメチルプロパノイル基、ｎ－ヘキサノイル基、ｎ－ヘプタノイル基、ｎ－オクタノイル基、ｎ－ノナノイル基、ｎ－デカノイル基、ｎ－ウンデカノイル基、ｎ－ドデカノイル基、ｎ－トリデカノイル基、ｎ－テトラデカノイル基、ｎ－ペンタデカノイル基、及びｎ－ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ７が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ－ブタノイルオキシ基、２－メチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ペンタノイルオキシ基、２，２－ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ－ヘキサノイルオキシ基、ｎ－ヘプタノイルオキシ基、ｎ－オクタノイルオキシ基、ｎ－ノナノイルオキシ基、ｎ－デカノイルオキシ基、ｎ－ウンデカノイルオキシ基、ｎ－ドデカノイルオキシ基、ｎ－トリデカノイルオキシ基、ｎ－テトラデカノイルオキシ基、ｎ－ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ－ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ７がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２以上２０以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ７がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ－ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシカルボニル基、ｎ－ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシカルボニル基、ｎ－ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ－ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ－オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ－オクチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシカルボニル基、ｎ－ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ－デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ７がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、７以上２０以下が好ましく、７以上１０以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ７がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、１１以上２０以下が好ましく、１１以上１４以下がより好ましい。Ｒ^ｃ７がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、及び４－フェニルブチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ７がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α－ナフチルメチル基、β－ナフチルメチル基、２－（α－ナフチル）エチル基、及び２－（β－ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ７が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒ^ｃ７は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。

　Ｒ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合環を構成する単環の数を３までとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Ｒ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。

　Ｒ^ｃ７がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Ｒ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合と同様である。

　Ｒ^ｃ７が１又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２１以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒ^ｃ７と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ｎ－ペンチルアミノ基、ｎ－ヘキシルアミノ基、ｎ－ヘプチルアミノ基、ｎ－オクチルアミノ基、ｎ－ノニルアミノ基、ｎ－デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ－ブタノイルアミノ基、ｎ－ペンタノイルアミノ基、ｎ－ヘキサノイルアミノ基、ｎ－ヘプタノイルアミノ基、ｎ－オクタノイルアミノ基、ｎ－デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α－ナフトイルアミノ基、及びβ－ナフトイルアミノ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ７に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン－１－イル基、ピペラジン－１－イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ^ｃ７に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１以上４以下が好ましい。Ｒ^ｃ７に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

　以上説明した基の中でも、Ｒ^ｃ７としては、ニトロ基、又はＲ^ｃ１２－ＣＯ－で表される基であると、感度が向上する傾向があり好ましい。Ｒ^ｃ１２は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Ｒ^ｃ１２として好適な基の例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒ^ｃ１２として、これらの基の中では、２－メチルフェニル基、チオフェン－２－イル基、及びα－ナフチル基が特に好ましい。
　また、Ｒ^ｃ７が水素原子であると、透明性が良好となる傾向があり好ましい。なお、Ｒ^ｃ７が水素原子であり且つＲ^ｃ１０が後述の式（ｃ４ａ）又は（ｃ４ｂ）で表される基であると透明性はより良好となる傾向がある。

　式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。

　Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（－Ｏ－）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。
　アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^ｃ７がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Ｒ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Ｒ^ｃ７がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。

　鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、１以上２０以下であり、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。

　Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が鎖状アルキル基である場合と同様である。

　Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素－炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、３以下が好ましく、２以下がより好ましく、１が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、３以上２０以下が好ましく、３以上１０以下がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合環を構成する単環の数を３までとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。

　Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とは相互に結合して環を形成してもよい。Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、５員環又は６員環であるのが好ましく、５員環であるのがより好ましい。

　Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、１以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。

　以上説明したＲ^ｃ８及びＲ^ｃ９の中でも好適な基の例としては、式－Ａ^１－Ａ^２で表される基が挙げられる。式中、Ａ^１は直鎖アルキレン基であり、Ａ^２は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である。

　Ａ^１の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ^２がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ^２がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Ａ^２がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ^２が環状有機基である場合、環状有機基の例は、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基として有する環状有機基と同様である。Ａ^２がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。

　Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９の好適な具体例としては、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、及びｎ－オクチル基等のアルキル基；２－メトキシエチル基、３－メトキシ－ｎ－プロピル基、４－メトキシ－ｎ－ブチル基、５－メトキシ－ｎ－ペンチル基、６－メトキシ－ｎ－ヘキシル基、７－メトキシ－ｎ－ヘプチル基、８－メトキシ－ｎ－オクチル基、２－エトキシエチル基、３－エトキシ－ｎ－プロピル基、４－エトキシ－ｎ－ブチル基、５－エトキシ－ｎ－ペンチル基、６－エトキシ－ｎ－ヘキシル基、７－エトキシ－ｎ－ヘプチル基、及び８－エトキシ－ｎ－オクチル基等のアルコキシアルキル基；２－シアノエチル基、３－シアノ－ｎ－プロピル基、４－シアノ－ｎ－ブチル基、５－シアノ－ｎ－ペンチル基、６－シアノ－ｎ－ヘキシル基、７－シアノ－ｎ－ヘプチル基、及び８－シアノ－ｎ－オクチル基等のシアノアルキル基；２－フェニルエチル基、３－フェニル－ｎ－プロピル基、４－フェニル－ｎ－ブチル基、５－フェニル－ｎ－ペンチル基、６－フェニル－ｎ－ヘキシル基、７－フェニル－ｎ－ヘプチル基、及び８－フェニル－ｎ－オクチル基等のフェニルアルキル基；２－シクロヘキシルエチル基、３－シクロヘキシル－ｎ－プロピル基、４－シクロヘキシル－ｎ－ブチル基、５－シクロヘキシル－ｎ－ペンチル基、６－シクロヘキシル－ｎ－ヘキシル基、７－シクロヘキシル－ｎ－ヘプチル基、８－シクロヘキシル－ｎ－オクチル基、２－シクロペンチルエチル基、３－シクロペンチル－ｎ－プロピル基、４－シクロペンチル－ｎ－ブチル基、５－シクロペンチル－ｎ－ペンチル基、６－シクロペンチル－ｎ－ヘキシル基、７－シクロペンチル－ｎ－ヘプチル基、及び８－シクロペンチル－ｎ－オクチル基等のシクロアルキルアルキル基；２－メトキシカルボニルエチル基、３－メトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、４－メトキシカルボニル－ｎ－ブチル基、５－メトキシカルボニル－ｎ－ペンチル基、６－メトキシカルボニル－ｎ－ヘキシル基、７－メトキシカルボニル－ｎ－ヘプチル基、８－メトキシカルボニル－ｎ－オクチル基、２－エトキシカルボニルエチル基、３－エトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、４－エトキシカルボニル－ｎ－ブチル基、５－エトキシカルボニル－ｎ－ペンチル基、６－エトキシカルボニル－ｎ－ヘキシル基、７－エトキシカルボニル－ｎ－ヘプチル基、及び８－エトキシカルボニル－ｎ－オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基；２－クロロエチル基、３－クロロ－ｎ－プロピル基、４－クロロ－ｎ－ブチル基、５－クロロ－ｎ－ペンチル基、６－クロロ－ｎ－ヘキシル基、７－クロロ－ｎ－ヘプチル基、８－クロロ－ｎ－オクチル基、２－ブロモエチル基、３－ブロモ－ｎ－プロピル基、４－ブロモ－ｎ－ブチル基、５－ブロモ－ｎ－ペンチル基、６－ブロモ－ｎ－ヘキシル基、７－ブロモ－ｎ－ヘプチル基、８－ブロモ－ｎ－オクチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロ－ｎ－ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。

　Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９として、上記の中でも好適な基は、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－メトキシエチル基、２－シアノエチル基、２－フェニルエチル基、２－シクロヘキシルエチル基、２－メトキシカルボニルエチル基、２－クロロエチル基、２－ブロモエチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロ－ｎ－ペンチル基である。

　Ｒ^ｃ１０の好適な有機基の例としては、Ｒ^ｃ７と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン－１－イル基、及びピペラジン－１－イル基等が挙げられる。これらの基の具体例は、Ｒ^ｃ７について説明した基と同様である。また、Ｒ^ｃ１０としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Ｒ^ｃ７に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。

　有機基の中でも、Ｒ^ｃ１０としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上８以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１以上４以下のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、２－メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、５以上１０以下が好ましく、５以上８以下がより好ましく、５又は６が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、２－（４－クロロフェニルチオ）エチル基が好ましい。

　また、Ｒ^ｃ１０としては、－Ａ^３－ＣＯ－Ｏ－Ａ^４で表される基も好ましい。Ａ^３は、２価の有機基であり、２価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Ａ^４は、１価の有機基であり、１価の炭化水素基であるのが好ましい。

　Ａ^３がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ^３がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましく、１以上４以下が特に好ましい。

　Ａ^４の好適な例としては、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基、及び炭素原子数６以上２０以下の芳香族炭化水素基が挙げられる。Ａ^４の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α－ナフチルメチル基、及びβ－ナフチルメチル基等が挙げられる。

　－Ａ^３－ＣＯ－Ｏ－Ａ^４で表される基の好適な具体例としては、２－メトキシカルボニルエチル基、２－エトキシカルボニルエチル基、２－ｎ－プロピルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ブチルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ペンチルオキシカルボニルエチル基、２－ｎ－ヘキシルオキシカルボニルエチル基、２－ベンジルオキシカルボニルエチル基、２－フェノキシカルボニルエチル基、３－メトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－エトキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－プロピルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ブチルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ペンチルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ｎ－ヘキシルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、３－ベンジルオキシカルボニル－ｎ－プロピル基、及び３－フェノキシカルボニル－ｎ－プロピル基等が挙げられる。

　以上、Ｒ^ｃ１０について説明したが、Ｒ^ｃ１０としては、下記式（ｃ４ａ）又は（ｃ４ｂ）で表される基が好ましい。

（式（ｃ４ａ）及び（ｃ４ｂ）中、Ｒ^ｃ１３及びＲ^ｃ１４はそれぞれ有機基であり、ｎ６は０以上４以下の整数であり、Ｒ^ｃ１３及びＲ^ｃ１４がベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Ｒ^ｃ１３とＲ^ｃ１４とが互いに結合して環を形成してもよく、ｎ７は１以下８以下の整数であり、ｎ８は１以上５以下の整数であり、ｎ９は０以上（ｎ８＋３）以下の整数であり、Ｒ^ｃ１５は有機基である。）

　式（ｃ４ａ）中のＲ^ｃ１３及びＲ^ｃ１４についての有機基の例は、Ｒ^ｃ７と同様である。Ｒ^ｃ１３としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒ^ｃ１３がアルキル基である場合、その炭素原子数は、１以下１０以上が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上３以下が特に好ましく、１が最も好ましい。つまり、Ｒ^ｃ１３はメチル基であるのが最も好ましい。Ｒ^ｃ１３とＲ^ｃ１４とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式（ｃ４ａ）で表される基であって、Ｒ^ｃ１３とＲ^ｃ１４とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン－１－イル基や、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－５－イル基等が挙げられる。上記式（ｃ４ａ）中、ｎ６は０以上４以下の整数であり、０又は１であるのが好ましく、０であるのがより好ましい。

　上記式（ｃ４ｂ）中、Ｒ^ｃ１５は有機基である。有機基としては、Ｒ^ｃ７について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上３以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ１５としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。

　上記式（ｃ４ｂ）中、ｎ８は１以上５以下の整数であり、１以上３以下の整数が好ましく、１又は２がより好ましい。上記式（ｃ４ｂ）中、ｎ９は０以上（ｎ８＋３）以下であり、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０が特に好ましい。上記式（ｃ４ｂ）中、ｎ７は１以上８以下の整数であり、１以上５以下の整数が好ましく、１以上３以下の整数がより好ましく、１又は２が特に好ましい。

　式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ１１は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上１１以下のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Ｒ^ｃ１１がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Ｒ^ｃ７がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。

　式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ１１としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。

　式（ｃ４）で表される化合物は、前述の式（ｃ５）で表される化合物に含まれるオキシム基（＞Ｃ＝Ｎ－ＯＨ）を、＞Ｃ＝Ｎ－Ｏ－ＣＯＲ^ｃ１１で表されるオキシムエステル基に変換する工程を含む方法により製造される。Ｒ^ｃ１１は、式（ｃ４）中のＲ^ｃ１１と同様である。

　オキシム基（＞Ｃ＝Ｎ－ＯＨ）の、＞Ｃ＝Ｎ－Ｏ－ＣＯＲ^ｃ１１で表されるオキシムエステル基への変換は、前述の式（ｃ５）で表される化合物と、アシル化剤とを反応させることにより行われる。
　－ＣＯＲ^ｃ１１で表されるアシル基を与えるアシル化剤としては、（Ｒ^ｃ１１ＣＯ）_２Ｏで表される酸無水物や、Ｒ^ｃ１１ＣＯＨａｌ（Ｈａｌはハロゲン原子）で表される酸ハライドが挙げられる。

　式（ｃ４）で表される化合物の好適な具体例としては、以下のＰＩ－４３～ＰＩ－８３が挙げられる。

　光重合開始剤の含有量は、第１の態様の感エネルギー性組成物の固形分１００質量部に対して０．５質量部以上２０質量部以下であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができ、また塗膜形成能を向上させ、硬化不良を抑制することができる。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液としての第１の態様の感エネルギー性組成物は、上記の通り、前述の表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子を含有する。このため、第１の態様の感エネルギー性組成物を用いて、金属酸化物微粒子を含有するパターンを形成することができる。

　第１の態様の感エネルギー性組成物は、さらに、着色剤を含有していてもよい。
　着色剤としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｄｙｅｒｓ　ａｎｄ　Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ社発行）においてピグメント（Ｐｉｇｍｅｎｔ）に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されている顔料を用いることが好ましい。

　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。）、３、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、５５、６０、６１、６５、７１、７３、７４、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、９９、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１６、１１７、１１９、１２０、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６６、１６７、１６８、１７５、１８０、１８５；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。）、５、１３、１４、１６、１７、２４、３４、３６、３８、４０、４３、４６、４９、５１、５５、５９、６１、６３、６４、７１、７３；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。）、１９、２３、２９、３０、３２、３６、３７、３８、３９、４０、５０；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。）、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２１、２２、２３、３０、３１、３２、３７、３８、４０、４１、４２、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５３：１、５７、５７：１、５７：２、５８：２、５８：４、６０：１、６３：１、６３：２、６４：１、８１：１、８３、８８、９０：１、９７、１０１、１０２、１０４、１０５、１０６、１０８、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１５１、１５５、１６６、１６８、１７０、１７１、１７２、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８０、１８５、１８７、１８８、１９０、１９２、１９３、１９４、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４２、２４３、２４５、２５４、２５５、２６４、２６５；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。）、２、１５、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、６６；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３７；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２８；
　Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７。

　また、着色剤を遮光剤とする場合、遮光剤としては黒色顔料を用いることが好ましい。黒色顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩、金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。これらの中でも、高い遮光性を有するカーボンブラックを用いることが好ましい。

　カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができるが、遮光性に優れるチャンネルブラックを用いることが好ましい。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。樹脂被覆カーボンブラックは、樹脂被覆のないカーボンブラックに比べて導電性が低い。

　また、カーボンブラックの色調を調整するために、補助顔料として上記の有機顔料を適宜添加してもよい。

　また、着色剤を感光性組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、着色剤としてカーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。

　また、無機顔料及び有機顔料は、それぞれ単独で用いてもよく、併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量１００質量部に対して、有機顔料を１０質量部以上８０質量部以下の範囲で用いることが好ましく、２０質量部以上４０質量部以下の範囲で用いることがより好ましい。

　着色剤の含有量は、第１の態様の感エネルギー性組成物の用途に応じて適宜決定すればよいが、一例として、第１の態様の感エネルギー性組成物の固形分１００質量部に対して、５質量部以上７０質量部以下が好ましく、２５質量部以上６０質量部以下がより好ましい。

　なお、着色剤は、分散剤を用いて適当な濃度で分散させた分散液とした後、感光性組成物に添加することが好ましい。

　第１の態様の感エネルギー性組成物における有機溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、メチルイソアミルケトン等のケトン類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール等の多価アルコール類：２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタンメチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ－プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸エチル、乳酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、前述の式（Ｓ０１）で表される溶剤等のアミド類等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　上記有機溶剤の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、３－メトキシブチルアセテート、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、前述の式（Ｓ０１）で表される溶剤等のアミド類は、上記アルカリ可溶性樹脂、上記光重合性化合物、及び上記光重合開始剤に対して優れた溶解性を示すため好ましい。

　有機溶剤の含有量は、第１の態様の感エネルギー性組成物の固形分濃度が１質量％以上５０質量％以下である量が好ましく、５質量％以上３０質量％以下である量がより好ましい。

（２）第２の態様の感エネルギー性組成物
　第３の態様の感エネルギー性組成物は、ネガ型感光性組成物である。かかるネガ型感光性組成物は、表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子、基材成分（Ｄ）としてのフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、酸架橋性物質、光酸発生剤、及び有機溶剤を含有する。

　第２の態様の感エネルギー性組成物におけるフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、ポリヒドロキシスチレン系樹脂を用いることができる。
　ポリヒドロキシスチレン系樹脂は、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位を少なくとも有する。
　ここで「ヒドロキシスチレン」とは、ヒドロキシスチレン、及びヒドロキシスチレンのα位に結合する水素原子がハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換された化合物、並びにそれらの誘導体のヒドロキシスチレン誘導体（モノマー）を含む概念とする。
　「ヒドロキシスチレン誘導体」は、少なくともベンゼン環とこれに結合する水酸基とが維持されており、例えば、ヒドロキシスチレンのα位に結合する水素原子が、ハロゲン原子、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換された化合物、並びにヒドロキシスチレンの水酸基が結合したベンゼン環に、さらに炭素原子数１以上５以下のアルキル基が結合した化合物や、この水酸基が結合したベンゼン環に、さらに１個以上２個以下の水酸基が結合した化合物（このとき、水酸基の数の合計は２以上３以下である。）等を包含するものとする。
　ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　なお、「ヒドロキシスチレンのα位」とは、特に断りがない限り、ベンゼン環が結合している炭素原子のことをいう。

　このヒドロキシスチレンに由来する構成単位は、例えば下記式（ｂ－１）で表される。

　上記式（ｂ－１）中、Ｒ^ｂ１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、又はハロゲン化アルキル基を示し、Ｒ^ｂ２は炭素原子数１以上５以下のアルキル基を示し、ｐは１以上３以下の整数を示し、ｑは０以上２以下の整数を示す。

　Ｒ^ｂ１のアルキル基は、好ましくは炭素原子数１以上５以下である。また、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、工業的にはメチル基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　ハロゲン化アルキル基としては、上述した炭素原子数１以上５以下のアルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基である。この中でも、水素原子の全部がフッ素原子で置換されたアルキル基が好ましい。また、直鎖状又は分岐鎖状のフッ素化アルキル基が好ましく、トリフルオロメチル基、ヘキサフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等がより好ましく、トリフルオロメチル基（－ＣＦ_３）が最も好ましい。
　Ｒ^ｂ１としては、水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。

　Ｒ^ｂ２の炭素原子数１以上５以下のアルキル基としては、Ｒ^ｂ１の場合と同様の基が挙げられる。
　ｑは０以上２以下の整数である。これらの中でも０又は１であることが好ましく、工業上は特に０であることが好ましい。
　Ｒ^ｂ２の置換位置は、ｑが１である場合にはオルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよく、さらに、ｑが２の場合には任意の置換位置を組み合わせることができる。
　ｐは１以上３以下の整数であり、好ましくは１である。
　水酸基の置換位置は、ｐが１である場合にはオルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよいが、容易に入手可能で低価格であることからパラ位が好ましい。さらに、ｐが２又は３の場合には任意の置換位置を組み合わせることができる。

　上記式（ｂ－１）で表される構成単位は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　ポリヒドロキシスチレン系樹脂中、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位の割合は、ポリヒドロキシスチレン系樹脂を構成する全構成単位に対して６０モル％以上１００モル％以下であることが好ましく、７０モル％以上１００モル％以下であることがより好ましく、８０モル％以上１００モル％以下であることがさらに好ましい。上記の範囲内とすることにより、感光性組成物とした際に適度なアルカリ溶解性が得られる。

　ポリヒドロキシスチレン系樹脂は、スチレンに由来する構成単位をさらに有することが好ましい。
　ここで「スチレンに由来する構成単位」とは、スチレン及びスチレン誘導体（但し、ヒドロキシスチレンは含まない。）のエチレン性二重結合が開裂してなる構成単位を包含すると定義される。
　「スチレン誘導体」は、スチレンのα位に結合する水素原子が、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換された誘導体、並びにスチレンのフェニル基の水素原子が、炭素原子数１以上５以下のアルキル基等の置換基に置換されている誘導体等を包含すると定義される。
　ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　なお、「スチレンのα位」とは、特に断りがない限り、ベンゼン環が結合している炭素原子のことをいう。

　このスチレンに由来する構成単位は、例えば下記式（ｂ－２）で表される。式中、Ｒ^ｂ１、Ｒ^ｂ２、ｑは上記式（ｂ－１）と同義である。

　Ｒ^ｂ１及びＲ^ｂ２としては、上記式（ｂ－１）のＲ^ｂ１及びＲ^ｂ２とそれぞれ同様の基が挙げられる。
　ｑは０以上２以下の整数である。これらの中でも０又は１であることが好ましく、工業上は特に０であることが好ましい。
　Ｒ^ｂ２の置換位置は、ｑが１である場合にはオルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよく、さらに、ｑが２の場合には任意の置換位置を組み合わせることができる。

　上記式（ｂ－２）で表される構成単位は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　ポリヒドロキシスチレン系樹脂中、スチレンに由来する構成単位の割合は、ポリヒドロキシスチレン系樹脂を構成する全構成単位に対して４０モル％以下であることが好ましく、３０モル％以下であることがより好ましく、２０モル％以下であることがさらに好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物とした際に適度なアルカリ溶解性が得られるとともに、他の構成単位とのバランスも良好になる。

　なお、ポリヒドロキシスチレン系樹脂は、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位やスチレンに由来する構成単位以外の他の構成単位を有していてもよい。より好ましくは、上記ポリヒドロキシスチレン系樹脂は、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位のみからなる重合体、あるいはヒドロキシスチレンに由来する構成単位とスチレンに由来する構成単位とからなる共重合体である。

　ポリヒドロキシスチレン系樹脂の質量平均分子量は、特に限定されないが、１５００以上４００００以下が好ましく、２０００以上８０００以下がより好ましい。

　また、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール－キシリレングリコール縮合樹脂、クレゾール－キシリレングリコール縮合樹脂、フェノール－ジシクロペンタジエン縮合樹脂等を用いることもできる。

　フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂の含有量は、第２の態様の感光性組成物の固形分に対して２０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、３５質量％以上６５質量％以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスがとりやすい傾向がある。

　第２の態様の感エネルギー性組成物における酸架橋性物質としては、特に限定されず、従来公知の酸架橋性物質を用いることができる。

　酸架橋性物質として具体的には、ヒドロキシ基又はアルコキシル基を有するアミノ樹脂、例えばメラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、アセトグアナミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、グリコールウリル－ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド－ホルムアルデヒド樹脂、エチレン尿素－ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。これらの酸架橋性物質は、メラミン、尿素、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、グリコールウリル、スクシニルアミド、エチレン尿素を沸騰水中でホルマリンと反応させてメチロール化、あるいはこれにさらに低級アルコールを反応させてアルコキシル化することにより容易に得られる。実用上は、ニカラックＭＸ－７５０、ニカラックＭＷ－３０、ニカラックＭＷ１００ＬＭ等のメラミン樹脂、ニカラックＭＸ－２９０等の尿素樹脂（いずれも三和ケミカル社製）として入手することができる。また、サイメル１１２３、サイメル１１２８（三井サイアナッド社製）等のベンゾグアナミン樹脂も市販品として入手することができる。

　また、１，３，５－トリス（メトキシメトキシ）ベンゼン、１，２，４－トリス（イソプロポキシメトキシ）ベンゼン、１，４－ビス（ｓｅｃ－ブトキシメトキシ）ベンゼン等のアルコキシル基を有するベンゼン化合物、２，６－ジヒドロキシメチル－ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール等のヒドロキシ基又はアルコキシル基を有するフェノール化合物等を用いることもできる。
　これらの酸架橋性物質は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　酸架橋性物質の含有量は、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂１００質量部に対して５質量部以上５０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上３０質量部以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物の硬化性、パターニング特性が良好になる。

　第２の態様の感エネルギー性組成物における光酸発生剤としては、特に限定されず、従来公知の光酸発生剤を用いることができる。

　光酸発生剤の含有量は、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂１００質量部に対し０．０５質量部以上３０質量部以下であることが好ましく、０．１質量部以上１０質量部以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物の硬化性が良好になる。

　第２の態様の感エネルギー性組成物は、上記の通り、前述の表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子を含有する。このため、第２の態様の感エネルギー性組成物を用いて、パターン化された金属酸化物微粒子含有膜を形成することができる。

　第２の態様の感エネルギー性組成物は、さらに、フェノール性水酸基４個以上を有する分子量２０００未満の化合物を含有していてもよい。

　このような化合物として具体的には、各種テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、ヘプタヒドロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物の他に、ビス［２－ヒドロキシ－３－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルベンジル）－５－メチルフェニル］メタン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）－３，４－ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）－３，４－ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）－２，４－ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）－２，４－ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（３－シクロヘキシル－４－ヒドロキシ－６‐メチルフェニル）－３，４－ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（３－シクロヘキシル－６－ヒドロキシ－４－メチルフェニル）－３，４－ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４－ヒドロキシ－２，３，５－トリメチルフェニル）－３，４－ジヒドロキシフェニルメタン等のヒドロキシアリール系化合物；２－（２，３，４－トリヒドロキシフェニル）－２－（２’，３’，４’－トリヒドロキシフェニル）プロパン、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－２－（２’，４’－ジヒドロキシフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系化合物；分子量２０００未満のポリ（ｏ－ヒドロキシスチレン）、ポリ（ｍ－ヒドロキシスチレン）、ポリ（ｐ－ヒドロキシスチレン）、ポリ（α－メチル－ｐ－ヒドロキシスチレン）、ポリ（４－ヒドロキシ－３－メチルスチレン）等のポリヒドロキシスチレン系化合物；等が挙げられる。これらのベンゾフェノン系化合物、ヒドロキシアリール系化合物、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系化合物、ポリヒドロキシスチレン系化合物は、水酸基以外の置換基を有していてもよい。
　これらの化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　フェノール性水酸基４個以上を有する分子量２０００未満の化合物の含有量は、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂１００質量部に対し０．５質量部以上５質量部以下であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物をパターニングした際の先細り現象を抑制することができる。

　第２の態様の感エネルギー性組成物における有機溶剤としては、第１の態様の感エネルギー性組成物において例示した有機溶剤が挙げられる。
　有機溶剤の含有量は、第２の態様の感エネルギー性組成物の固形分濃度が１質量％以上５０質量％以下である量が好ましく、５質量％以上３０質量％以下である量がより好ましい。
　第２の態様の感エネルギー性組成物は、第１の態様の感エネルギー性組成物と同様に、必要に応じて、上記の各種添加剤を含有してもよい。

（３）第３の態様の感エネルギー性組成物
　第３の態様の感光性組成物は、前述の表面改質金属酸化物微粒子を含有する金属酸化物微粒子とともに、エポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂、光酸発生剤、及び有機溶剤を含有するネガ型感光性組成物である。

　第３の態様の感光性組成物におけるエポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂としては、例えば、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物と１分子中に１個以上のアルコール性水酸基を有するモノカルボン酸とを反応させて得られる反応物に、さらに多塩基酸無水物を反応させて得られる樹脂を用いることができる。

　一分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物としては、例えば、上述のエポキシ樹脂前駆体として挙げたエポキシ化合物、上述のエポキシ基含有樹脂と同様の樹脂が挙げられる。中でも、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリス（２，３－エポキシプロピル）イソシアヌレート、ビフェニルジグリシジルエーテル、脂環式エポキシ樹脂、共重合型エポキシ樹脂等が挙げられる。

　ノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば、フェノール、クレゾール、ハロゲン化フェノール、アルキルフェノール等のフェノール類とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で反応して得られるノボラック類と、エピクロルヒドリンやメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。市販品としては、ＥＯＣＮ－１０２Ｓ、ＥＯＣＮ－１０３Ｓ、ＥＯＣＮ－１０４Ｓ、ＥＯＣＮ－１０２７、ＥＰＰＮ－２０１、ＢＲＥＮ－Ｓ（いずれも日本化薬社製）；ＤＥＮ－４３１、ＤＥＮ－４３９（いずれもダウ・ケミカル社製）；Ｎ－７３０、Ｎ－７７０、Ｎ－８６５、Ｎ－６６５、Ｎ－６７３、ＶＨ－４１５０（いずれも大日本インキ化学工業社製）等が挙げられる。

　ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、テトラブロムビスフェノールＡ等のビスフェノール類とエピクロルヒドリンやメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるエポキシ樹脂や、ビスフェノールＡやビスフェノールＦのジグリシジルエーテルと上記ビスフェノール類の縮合物とエピクロルヒドリンやメチルエピクロルヒドリンとを反応させ得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。市販品としては、エピコート１００４、エピコート１００２、エピコート４００２、エピコート４００４（いずれも油化シェルエポキシ社製）等が挙げられる。

　トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂としては、例えば、トリスフェノールメタンやトリスクレゾールメタンとエピクロルヒドリンやメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。市販品としては、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（いずれも日本化薬社製）等が挙げられる。

　脂環式エポキシ樹脂としては、上述の脂環式エポキシ化合物と同様の化合物が挙げられる。市販品としてはダイセル化学工業社製のセロキサイド２０２１；三井石油化学工業社製のエポミックＶＧ－３１０１；油化シェルエポキシ社製のＥ－１０３１Ｓ、日本曹達社製のＥＰＢ－１３、ＥＰＢ－２７等が挙げられる。また、共重合型エポキシ樹脂としては、グリシジルメタクリレートとスチレンとα－メチルスチレンとの共重合体である日本油脂社製のＣＰ－５０Ｍ、ＣＰ－５０Ｓ、あるいはグリシジルメタクリレートとシクロヘキシルマレイミド等との共重合体等が挙げられる。

　これらの１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂の特に好ましい例としては、例えばクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。特に、α－ヒドロキシフェニル－ω－ヒドロポリ（ビフェニルジメチレン－ヒドロキシフェニレン）と１－クロロ－２，３－エポキシプロパンとの重縮合物、及びα－２，３－エポキシプロポキシフェニル－ω－ヒドロポリ｛２－（２，３－エポキシプロポキシ）－ベンジリデン－２，３－エポキシプロポキシフェニレン｝が好ましい。

　１分子中に１個以上のアルコール性水酸基を有するモノカルボン酸としては、例えば、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール酢酸、ジメチロール酪酸、ジメチロール吉草酸、ジメチロールカプロン酸、ヒドロキシピバリン酸等のヒドロキシモノカルボン酸類が挙げられる。これらの中でも、１分子中に１個以上５個以下のアルコール性水酸基を有するモノカルボン酸が好ましい。

　多塩基酸無水物としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等が挙げられる。

　上記エポキシ化合物と上記モノカルボン酸との反応は、エポキシ化合物のエポキシ基１当量に対して、モノカルボン酸０．１モル以上０．７モル以下が好ましく、０．２モル以上０．５モル以下がより好ましい。この反応では、エポキシ化合物や多塩基酸無水物と反応しない、水酸基やカルボキシ基を持たない、有機溶剤を使用することが好ましい。さらに、反応を促進させるために触媒（例えば、トリフェニルフォスフィン、ベンジルジメチルアミン、トリアルキルアンモニウムクロライド、トリフェニルスチビン等）が使用できる。触媒を使用した場合、特に反応終了後、有機過酸化物等を使用し触媒を不活性化して得た反応物は、安定で保存性が良好であり好ましい。反応触媒の使用量は、反応混合物に対して０．１質量％以上１０質量％以下が好ましく、反応温度は６０℃以上１５０℃以下が好ましい。これにより、上記エポキシ化合物と上記モノカルボン酸との反応物を得ることができる。

　この反応物と多塩基酸無水物との反応では、最終的に得られるエポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂の酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となる量の多塩基酸無水物を反応させることが好ましい。反応温度は６０℃以上１５０℃以下が好ましい。このようにしてエポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂を得ることができる。

　これらのエポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　エポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂の含有量は、第３の態様の感エネルギー性組成物の固形分に対して３０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以上７０質量％以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、塗膜形成能を向上させることができる。

　第３の態様の感エネルギー性組成物における光酸発生剤としては、特に限定されず、従来公知の光酸発生剤を用いることができる。
　光酸発生剤の含有量は、第３の態様の感エネルギー性組成物の固形分に対して０．５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上２０質量％以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物の硬化性が良好になる。

　第３の態様の感エネルギー性組成物は、さらに、耐湿性、耐熱性、密着性等を調整するための改質成分を含有していてもよい。この改質成分は、それ自身が熱や紫外線等により硬化してもよく、熱や紫外線等によりエポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂の残存水酸基やカルボキシ基等と反応してもよい。具体的には、１分子中に１個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、メラミン誘導体（例えば、ヘキサメトキシメラミン、ヘキサブトキシ化メラミン、縮合ヘキサメトキシメラミン等）、ビスフェノールＡ系化合物（例えば、テトラメチロールビスフェノールＡ等）、オキサゾリン化合物等が挙げられる。

　１分子中に１個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物としては、エピコート１００９、１０３１（いずれも油化シェル社製）、エピクロンＮ－３０５０、Ｎ－７０５０（いずれも大日本インキ化学工業社製）、ＤＥＲ－６４２Ｕ、ＤＥＲ－６７３ＭＦ（いずれもダウケミカル社製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；ＳＴ－２００４、ＳＴ－２００７（いずれも東都化成社製）等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；ＹＤＦ－２００４、ＹＤＦ－２００７（いずれも東都化成社製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；ＳＲ－ＢＢＳ、ＳＲ－ＴＢＡ－４００（いずれも坂本薬品工業社製）、ＹＤＢ－６００、ＹＤＢ－７１５（いずれも東都化成社製）等の臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；ＥＰＰＮ－２０１、ＥＯＣＮ－１０３、ＥＯＣＮ－１０２０、ＢＲＥＮ（いずれも日本化薬社製）等のノボラック型エポキシ樹脂；大日本インキ化学工業社製のエピクロンＮ－８８０等のビスフェノールＡのノボラック型エポキシ樹脂；大日本インキ化学工業社製のエピクロンＴＳＲ－６０１やエー・シー・アール社製のＲ－１４１５－１等のゴム変性エポキシ樹脂；日本化薬社製のＥＢＰＳ－２００や大日本インキ化学工業社製のエピクロンＥＸＡ－１５１４等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂；日本油脂社製のプレンマーＤＧＴ等のジグリシジルテレフタレート；日産化学社製のＴＥＰＩＣ等のトリグリシジルイソシアヌレート；油化シェル社製のＹＸ－４０００等のビキシレノール型エポキシ樹脂；油化シェル社製のＹＬ－６０５６等のビスフェノール型エポキシ樹脂；ダイセル化学工業社製のセロキサイド２０２１等の脂環式エポキシ樹脂；等が挙げられる。

　改質成分の含有量は、第３の態様の感エネルギー性組成物の固形分に対して５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。

　第３の態様の感エネルギー性組成物は、さらに、第１の態様の感エネルギー性組成物と同様に、着色剤を含有してもよい。

　第３の態様の感エネルギー性組成物における有機溶剤としては、第１の態様の感光性組成物において例示した有機溶剤が挙げられる。
　有機溶剤の含有量は、第３の態様の感エネルギー性組成物の固形分濃度が１質量％以上５０質量％以下となる量が好ましく、５質量％以上３０質量％以下となる量がより好ましい。

（４）第４の態様の感エネルギー性組成物
　第４の態様の感エネルギー性組成物は、前述の表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子と、基材成分（Ｄ）としての前述の式（ｂ－０１）で表される硬化性化合物と、硬化剤とを含む硬化性組成物である。
　硬化性化合物は、式（ｂ－０１）で表される化合物であり、芳香環を含む縮合多環式骨格を主骨格として有し、且つ、重合性基を有する。
　感エネルギー性組成物が式（ｂ－０１）で表される化合物のような芳香環を含む化合物を含有する場合、金属酸化物微粒子が感エネルギー性組成物中で良好に分散しにくい場合がある。
　感エネルギー性組成物中で金属酸化物微粒子の凝集等の分散不良が生じる場合、硬化物にクラックが生じる場合がある。しかし、感エネルギー性組成物が、硬化性化合物として式（ｂ－０１）で表される化合物とともに、前述の表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子を含む場合、上記のクラックの問題が生じにくい。

　以下、第４の態様の感エネルギー性組成物としての硬化性組成物が含む、式（ｂ－０１）で表される硬化性化合物以外の、必須、又は任意の成分について説明する。

　硬化性化合物は、前述の式（ｂ－０１）で表される化合物以外のカチオン重合性の化合物を含んでいてもよい。硬化性化合物における、前述の式（ａ１）で表される化合物の量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらにより好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、１００質量％が最も好ましい。

　硬化性化合物は、式（ｂ－０１）で表される化合物以外のカチオン重合性の化合物を含んでいてもよく、例えば、ビニルオキシ基を含むビニルエーテル化合物、エポキシ基を含むエポキシ化合物、エピスルフィド基を含むエピスルフィド化合物、ラジカル重合可能な不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物が挙げられる。また、硬化物の屈折率の調整の目的等で、上記式（ｂ－０１）で表される化合物のＷ^０１とＷ^０２との双方がＲ^０３として水素原子を有する化合物を組み合わせてもよい。当該化合物の式（ｂ－０２）における、環Ｚ^０１、Ｘ^０１、Ｒ^０１、Ｒ^０２、Ｍは式（ｂ－０１）で表される化合物と同様である。
　以下、ビニルエーテル化合物、エポキシ化合物、エピスルフィド化合物、及びラジカル重合性化合物について説明する。

（ビニルエーテル化合物）
　式（ｂ－０１）で表される化合物とともに用いることができるビニルエーテル化合物は、ビニルオキシ基を有し、カチオン重合可能な化合物であれば特に限定されない。
　式（ｂ－０１）で表される化合物と併用されるビニルエーテル化合物は、芳香族基を含んでいてもよく、芳香族基を含んでいなくてもよい。
　硬化物の透明性の点からは、式（ｂ－０１）で表される化合物と併用されるビニルエーテル化合物は、芳香族基を含まない脂肪族ビニルエーテル化合物であるのが好ましい。
　硬化物の耐熱分解性が良好である点からは、式（ｂ－０１）で表される化合物と併用されるビニルエーテル化合物は、芳香族基に結合するビニルオキシ基を有する化合物であるのが好ましい。

　式（ｂ－０１）で表される化合物とともに用いることができるビニルエーテル化合物の好適な具体例としては、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、Ｎ－ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテルオクタデシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、及びシクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテルビニルフェニルエーテル等の脂肪族ビニルエーテル化合物、４－ビニロキシトルエン、３－ビニロキシトルエン、２－ビニロキシトルエン、１－ビニロキシ－４－クロロベンゼン、１－ビニロキシ－３－クロロベンゼン、１－ビニロキシ－２－クロロベンゼン、１－ビニロキシ－２，３－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－２，４－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－２，５－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－２，６－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－３，４－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－３，５－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシナフタレン、２－ビニロキシナフタレン、２－ビニロキシフルオレン、３－ビニロキシフルオレン、４－ビニロキシ－１，１’－ビフェニル、３－ビニロキシ－１，１’－ビフェニル、２－ビニロキシ－１，１’－ビフェニル、６－ビニロキシテトラリン、及び５－ビニロキシテトラリン等の芳香族モノビニルエーテル化合物；１，４－ジビニロキシベンゼン、１，３－ジビニロキシベンゼン、１，２－ジビニロキシベンゼン、１，４－ジビニロキシナフタレン、１，３－ジビニロキシナフタレン、１，２－ジビニロキシナフタレン、１，５－ジビニロキシナフタレン、１，６－ジビニロキシナフタレン、１，７－ジビニロキシナフタレン、１，８－ジビニロキシナフタレン、２，３－ジビニロキシナフタレン、２，６－ジビニロキシナフタレン、２，７－ジビニロキシナフタレン、１，２－ジビニロキシフルオレン、３，４－ジビニロキシフルオレン、２，７－ジビニロキシフルオレン、４，４’－ジビニロキシビフェニル、３，３’－ジビニロキシビフェニル、２，２’－ジビニロキシビフェニル、３，４’－ジビニロキシビフェニル、２，３’－ジビニロキシビフェニル、２，４’－ジビニロキシビフェニル、及びビスフェノールＡジビニルエーテル等の芳香族ジビニルエーテル化合物が挙げられる。
　これらの、ビニルエーテル化合物は、２種以上組み合わせて用いられてもよい。

（エポキシ化合物）
　式（ｂ－０１）で表される化合物とともに用いることができるエポキシ化合物の例としては、基材成分（Ｄ）について前述した、熱硬化性材料としてのエポキシ樹脂前駆体と同様のエポキシ化合物が挙げられる。

（エピスルフィド化合物）
　エピスルフィド化合物の種類は、本発明の目的を阻害しない限り、特に限定されない。好ましいエピスルフィド化合物としては、前述のエポキシ化合物について、エポキシ基中の酸素原子を硫黄原子に置換した化合物が挙げられる。

（ラジカル重合性化合物）
　ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を有する化合物を用いることができる。このエチレン性不飽和基を有する化合物には、単官能化合物と多官能化合物とがある。

　単官能化合物としては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　一方、多官能化合物としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、又はヘキサメチレンジイソシアネート等と２－ビドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物）、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ－メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物等の多官能化合物や、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　これらのエチレン性不飽和基を有する化合物の中でも、硬化物の基材への密着性、硬化性組成物の硬化後の強度を高める傾向にある点から、３官能以上の多官能化合物が好ましく、４官能以上の多官能化合物がより好ましく、５官能以上の多官能化合物がさらに好ましい。

　第４の態様の感エネルギー性組成物における、硬化性化合物の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。第４の態様の感エネルギー性組成物における硬化性化合物の含有量は、溶剤を除く他の成分全体の質量に対して、３質量％以上９５質量％以下が好ましく、５質量％以上９０質量％以下がより好ましく、１０質量％以上８５質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以上８０質量％以下が特に好ましい。

　第４の態様の感エネルギー性組成物における金属酸化物微粒子の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。硬化物についての高屈折率と、良好な屈曲性とを両立させやすい点から、典型的には、硬化性化合物と金属酸化物微粒子の質量比が、１：９９～９５：５であるのが好ましく、５：９５～９０：１０であるのがより好ましく、１０：９０～８５：１５であるのがさらにより好ましく、３０：７０～８０：２０であるのが特に好ましい。また溶剤を除いた硬化性組成物の質量に対して、例えば、５質量％以上９５質量％以下が好ましく、１０質量％以上９３質量％以下がより好ましく、１５質量％以上９０質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以上８０質量％以下が特に好ましい。

（硬化剤）
　硬化性組成物は、硬化促進の観点から硬化剤を含む。硬化剤は単独で用いても複数種を混合して用いてもよい。
　上記硬化剤としては、硬化性組成物がカチオン硬化型又はアニオン硬化型である観点から、カチオン重合開始剤、又はアニオン重合開始剤であることが好ましく、カチオン重合開始剤であることがより好ましい。

・オニウム塩（Ｂ０１）
　好ましいカチオン重合開始剤としては、下記式（ｂｉ）で表されるアニオン部を有する含ガリウムオニウム塩や、下記式（ｂｉｉ）で表されるアニオン部を有する含ホウ素オニウム塩が挙げられる。
　下記式（ｂｉ）で表されるアニオン部を有する含ガリウムオニウム塩と、下記式（ｂｉｉ）で表されるアニオン部を有する含ホウ素オニウム塩との総称として、「オニウム塩（Ｂ０１）」とも記す。
　カチオン重合開始剤は、硬化性の観点から、下記式（ａｉ）で表されるアニオン部を有する含ガリウムオニウム塩及び下記式（ａｉｉ）で表されるアニオン部を有する含ホウ素オニウム塩の両者を含むのも好ましい。

（式（ｂｉ）中、Ｒ^ｂ０１、Ｒ^ｂ０２、Ｒ^ｂ０３及びＲ^ｂ０４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよい複素環基であり、Ｒ^ｂ０１、Ｒ^ｂ０２、Ｒ^ｂ０３、及びＲ^ｂ０４のうちの少なくとも１つが置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。）

（式（ｂｉｉ）中、Ｒ^ｂ０５、Ｒ^ｂ０６、Ｒ^ｂ０７、及びＲ^ｂ０８は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよい複素環基であり、Ｒ^ｂ０５、Ｒ^ｂ０６、Ｒ^ｂ０７、及びＲ^ｂ０８のうちの少なくとも１つが置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。）

　式（ｂｉ）で表されるアニオン部を有する含ガリウムオニウム塩や、式（ｂｉｉ）で表されるアニオン部を有する含ホウ素オニウム塩について、記式（ｂｉ）や式（ｂｉｉ）で表されるアニオンに対する対カチオン（カチオン部）は、硬化性組成物が良好に硬化する限りにおいて特に限定されない。カチオン部としては、下記式（ｂｉｖ）：
（Ｒ^ｂ０９）_Ｔ＋１－Ｒ^{ｂ０１０＋}・・・（ｂｉｖ）
（式（ｂｉｖ）中、Ｒ^ｂ０９は、１価の有機基である。Ｒ^ｂ０１０は、元素周期律表（ＩＵＰＡＣ表記法）の１５族～１７族で原子価Ｔの元素である。Ｔは１以上３以下の整数である。複数のＲ^ｂ０９は同一でも異なっていてもよく、複数のＲ^ｂ０９が結合してＲ^ｂ０１０とともに環を形成してもよい。）

　式（ｂｉ）中のＲ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基又は複素環基の炭素原子数は特に限定されないが、１以上５０以下が好ましく、１以上３０以下がより好ましく、１以上２０以下が特に好まししい。
　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基の具体例としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基、直鎖状又は分岐鎖状のアルキニル基、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及びアラルキル基等が挙げられる。
　前述の通り、Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４のうちの少なくとも１つは置換基を有してもよい芳香族基であり、Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４の３つ以上が置換基を有してもよい芳香族基であることがより好ましく、Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４の全てが置換基を有してもよい芳香族基であることが特に好ましい。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基としては、炭素原子数１以上１８以下のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３以上１８以下のハロゲン化脂肪族環式基、ニトロ基、水酸基、シアノ基、炭素原子数１以上１８以下のアルコキシ基、炭素原子数６以上１４以下のアリールオキシ基、炭素原子数２以上１９以下の脂肪族アシル基、炭素原子数７以上１５以下の芳香族アシル基、炭素原子数２以上１９以下の脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数７以上１５以下の芳香族アシルオキシ基、炭素原子数１以上１８以下のアルキルチオ基、炭素原子数６以上１４以下のアリールチオ基、窒素原子に結合する１又は２の水素原子が炭素原子数１以上１８以下の炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基、及びハロゲン原子が挙げられる。
　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基が芳香族炭化水素基である場合、当該芳香族炭化水素基は、炭素原子数１以上１８以下のアルキル基、炭素原子数２以上１８以下のアルケニル基、及び炭素原子数２以上１８以下のアルキニル基からなる群から選択される１以上の置換基で置換されていてもよい。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されず，１であっても２以上の複数であってもよい。置換基の数が複数である場合、当該複数の置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４がアルキル基である場合の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、及びｎ－イコシル基等の直鎖アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、及び１，１，３，３－テトラメチルブチル基等の分岐鎖アルキル基が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４がアルケニル基、又はアルキニル基である場合の好適な例としては、アルキル基として好適な上記の基に対応するアルケニル基、及びアルキニル基が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４が芳香炭化水素基である場合の好適な例としては、フェニル基、α－ナフチル基、β－ナフチル基、ビフェニル－４－イル基、ビフェニル－３－イル基、ビフェニル－２－イル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４が脂環式炭化水素基である場合の好適な例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、及びシクロデシル基等のシクロアルキル基；ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、及びピナニル基等の架橋式脂肪族環式炭化水素基が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４がアラルキル基である場合の好適な例としては、ベンジル基、フェネチル基、α－ナフチルメチル基、β－ナフチルメチル基、α－ナフチルエチル基、及びβ－ナフチルエチル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４が複素環基である場合の好適な例としては、チエニル基、フラニル基、セレノフェニル基、ピラニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジニル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、アクリジニル基、フェノチアジニル基、フェナジニル基、キサンテニル基、チアントレニル基、フェノキサジニル基、フェノキサチイニル基、クロマニル基、イソクロマニル基、ジベンゾチエニル基、キサントニル基、チオキサントニル基、及びジベンゾフラニル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基の好ましい例としては、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２－トリクロロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１－ジフルオロエチル基、ヘプタフルオロ－ｎ－プロピル基、１，１－ジフルオロ－ｎ－プロピル基、３，３，３－トリフルオロ－ｎ－プロピル基、ノナフルオロ－ｎ－ブチル基、３，３，４，４，４－ペンタフルオロ－ｎ－ブチル基、パーフルオロ－ｎ－ペンチル基、及びパーフルオロ－ｎ－オクチル基等の直鎖ハロゲン化アルキル基；ヘキサフルオロイソプロピル基、ヘキサクロロイソプロピル基、ヘキサフルオロイソブチル基、及びノナフルオロ－ｔｅｒｔ－ブチル基等の分岐鎖ハロゲン化アルキル基が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基がハロゲン化脂肪族環式基である場合、ハロゲン化脂肪族環式基の好ましい例としては、ペンタフルオロシクロプロピル基、ノナフルオロシクロブチル基、パーフルオロシクロペンチル基、パーフルオロシクロヘキシル基、及びパーフルオロアダマンチル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の好ましい例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ウンデシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－トリデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基、ｎ－ペンタデシルオキシ基、ｎ－ヘキサデシルオキシ基、ｎ－ヘプタデシルオキシ基、及びｎ－オクタデシルオキシ基等の直鎖アルコキシ基；イソプロピルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、及び１，１，３，３－テトラメチルブチルオキシ基等の分岐鎖アルコキシ基が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基がアリールオキシ基である場合、アリールオキシ基の好ましい例としては、フェノキシ基、α－ナフチルオキシ基、β－ナフチルオキシ基、ビフェニル－４－イルオキシ基、ビフェニル－３－イルオキシ基、ビフェニル－２－イルオキシ基、アントリルオキシ基、及びフェナントリルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基が脂肪族アシル基である場合、脂肪族アシル基の好ましい例としては、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、及びオクタノイル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基が芳香族アシル基である場合、芳香族アシル基の好ましい例としては、ベンゾイル基、α－ナフトイル基、β－ナフトイル基、ビフェニル－４－イルカルボニル基、ビフェニル－３－イルカルボニル基、ビフェニル－２－イルカルボニル基、アントリルカルボニル基、及びフェナントリルカルボニル基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基が脂肪族アシルオキシ基である場合、脂肪族アシルオキシ基の好ましい例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、及びオクタノイルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基が芳香族アシルオキシ基である場合、芳香族アシルオキシ基の好ましい例としては、ベンゾイルオキシ基、α－ナフトイルオキシ基、β－ナフトイルオキシ基、ビフェニル－４－イルカルボニルオキシ基、ビフェニル－３－イルカルボニルオキシ基、ビフェニル－２－イルカルボニルオキシ基、アントリルカルボニルオキシ基、及びフェナントリルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基がアルキルチオ基、又はアリールチオ基である場合、アルキルチオ基、又はアリールチオ基の好ましい例としては、前述のアルコキシ基、又はアリールオキシ基として好適な基における酸素原子を硫黄原子に置換した基が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基が炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基である場合、炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基の好適な例としては、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、及びピペリジノ基等が挙げられる。

　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基がハロゲン原子である場合、ハロゲン原子の好適な例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられる。

　以上説明した、Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基の中では、式（ｂｉ）で表されるアニオン部を有する含ガリウムオニウム塩のカチオン重合開始剤としての活性が高い点で、炭素原子数１以上８以下のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基が好ましく、炭素原子数１以上８以下のフッ素化アルキル基がより好ましい。

　式（ｂｉｉ）中のＲ^ｂ０５～Ｒ^ｂ０８としては、式（ｂｉ）中のＲ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４について前述した基と同様の基が挙げられる。

　カチオン部である式（ｂｉｖ）中のＲ^ｂ０９はＲ^ｂ０１０に結合している有機基である。Ｒ^ｂ０９が複数存在する場合の複数のＲ^ｂ０９は同一であっても異なってもよい。Ｒ^ｂ０９としては、置換基を有してもよい炭素原子数６以上１４以下の芳香族炭化水素基、置換基を有してもよい炭素原子数１以上１８以下のアルキル基、置換基を有してもよい炭素原子数２以上１８以下のアルケニル基、及び置換基を有してもよい炭素原子数２以上１８以下のアルキニル基が挙げられる。式（ｂｉｖ）で表されるカチオンをカチオン部として有する感光性硬化剤の場合は、Ｒ^ｂ０９としては、炭素原子数６以上１４以下の芳香族炭化水素基、炭素原子数１以上１８以下のアルキル基、炭素原子数２以上１８以下のアルケニル基、及び炭素原子数２以上１８以下のアルキニル基が好ましい。
　Ｒ^ｂ０９としての、芳香族炭化水素基、アラルキル基、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基が有してもよい置換基としては、炭素原子数１以上１８以下のアルキル基、炭素原子数２以上１８以下のアルケニル基、炭素原子数２以上１８以下のアルキニル基、炭素原子数６以上１４以下のアリール基、ニトロ基、水酸基、シアノ基、炭素原子数１以上１８以下のアルコキシ基、炭素原子数６以上１４以下のアリールオキシ基、炭素原子数２以上１９以下の脂肪族アシル基、炭素原子数７以上１５以下の芳香族アシル基、炭素原子数２以上１９以下の脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数７以上１５以下の芳香族アシルオキシ基、炭素原子数１以上１８以下のアルキルチオ基、炭素原子数６以上１４以下のアリールチオ基、窒素原子に結合する１又は２の水素原子が炭素原子数１以上１８以下の炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基、及びハロゲン原子が挙げられる。
　これらの置換基の好適な例は、式（ｂｉ）中のＲ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としての炭化水素基、又は複素環基が有していてもよい置換基の好適な例と同様である。

　式（ｂｉｖ）において、Ｒ^ｂ０９が複数存在する場合、複数のＲ^ｂ０９はＲ^ｂ０１０とともに環を形成してもよい。複数のＲ^ｂ０９と、Ｒ^ｂ０１０とが形成する環は、その間構造中に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、及び－ＣＯＮＨ－からなる群より選択される１以上の結合を含んでいてもよい。

　式（ｂｉｖ）中のＲ^ｂ０１０は、元素周期律表（ＩＵＰＡＣ表記法）の１５族～１７族で原子価Ｔの元素である。Ｔは１以上３以下の整数である。なお、Ｒ^ｂ０１０としての、元素周期律表（ＩＵＰＡＣ表記法）の１５族～１７族の元素は、硬化性組成物の製造条件下、及び保管条件下、金属酸化物微粒子含有膜の形成条件下において、安定に存在し得る元素である。
　Ｒ^ｂ０１０は、有機基Ｒ^ｂ０９と結合してオニウムイオン［Ｒ^{ｂ０１０＋}］を形成する。元素周期律表（ＩＵＰＡＣ表記法）の１５族～１７族の元素のうち、Ｒ^ａ１０として好ましい元素は、Ｏ（酸素）、Ｎ（窒素）、Ｐ（リン）、Ｓ（硫黄）、又はＩ（ヨウ素）である。対応するオニウムイオンとしては、オキソニウムイオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオン、スルホニウムイオン、及びヨードニウムイオンである。中でも、安定で取り扱いが容易な、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオン、スルホニウムイオン、及びヨードニウムイオンが好ましく、カチオン重合性能や架橋反応性能に優れる点で、スルホニウムイオン、及びヨードニウムイオンがより好ましい。

　オキソニウムイオンの具体例としては、トリメチルオキソニウム、ジエチルメチルオキソニウム、トリエチルオキソニウム、テトラメチレンメチルオキソニウム等のオキソニウム；４－メチルピリリニウム、２，４，６－トリメチルピリリニウム、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルピリリニウム、２，６－ジフェニルピリリニウム等のピリリニウム；２，４－ジメチルクロメニウム、１，３－ジメチルイソクロメニウム等のクロメニウム、及びイソクロメニウムが挙げられる。

　アンモニウムイオンの具体例としては、テトラメチルアンモニウム、エチルトリメチルアンモニウム、ジエチルジメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、及びテトラエチルアンモニウム等テトラアルキルアンモニウム；Ｎ，Ｎ－ジメチルピロリジニウム、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルピロリジニウム、及びＮ，Ｎ－ジエチルピロリジニウム等のピロリジニウム；Ｎ，Ｎ’－ジメチルイミダゾリニウム、Ｎ，Ｎ’－ジエチルイミダゾリニウム、Ｎ－エチル－Ｎ’－メチルイミダゾリニウム、１，３，４－トリメチルイミダゾリニウム、及び１，２，３，４－テトラメチルイミダゾリニウム等のイミダゾリニウム；Ｎ，Ｎ’－ジメチルテトラヒドロピリミジニウム等のテトラヒドロピリミジニウム；Ｎ，Ｎ’－ジメチルモルホリニウム等のモルホリニウム；Ｎ，Ｎ’－ジエチルピペリジニウム等のピペリジニウム；Ｎ－メチルピリジニウム、Ｎ－ベンジルピリジニウム、及びＮ－フェナシルピリジウム等のピリジニウム；Ｎ，Ｎ’－ジメチルイミダゾリウム等のイミダゾリウム；Ｎ－メチルキノリウム、Ｎ－ベンジルキノリウム、及びＮ－フェナシルキノリウム等のキノリウム；Ｎ－メチルイソキノリウム等のイソキノリウム；ベンジルベンゾチアゾニウム、及びフェナシルベンゾチアゾニウム等のチアゾニウム；ベンジルアクリジウム、及びフェナシルアクリジウム等のアクリジウムが挙げられる。

　ホスホニウムイオンの具体例としては、テトラフェニルホスホニウム、テトラ－ｐ－トリルホスホニウム、テトラキス（２－メトキシフェニル）ホスホニウム、テトラキス（３－メトキシフェニル）ホスホニウム、及びテトラキス（４－メトキシフェニル）ホスホニウム等のテトラアリールホスホニウム；トリフェニルベンジルホスホニウム、トリフェニルフェナシルホスホニウム、トリフェニルメチルホスホニウム、及びトリフェニルブチルホスホニウム等のトリアリールホスホニウム；トリエチルベンジルホスホニウム、トリブチルベンジルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、テトラヘキシルホスホニウム、トリエチルフェナシルホスホニウム、及びトリブチルフェナシルホスホニウム等のテトラアルキルホスホニウム等が挙げられる。

　スルホニウムイオンの具体例としては、トリフェニルスルホニウム、トリ－ｐ－トリルスルホニウム、トリ－ｏ－トリルスルホニウム、トリス（４－メトキシフェニル）スルホニウム、１－ナフチルジフェニルスルホニウム、２－ナフチルジフェニルスルホニウム、トリス（４－フルオロフェニル）スルホニウム、トリ－１－ナフチルスルホニウム、トリ－２－ナフチルスルホニウム、トリス（４－ヒドロキシフェニル）スルホニウム、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、４－（ｐ－トリルチオ）フェニルジ－ｐ－トリルスルホニウム、４－（４－メトキシフェニルチオ）フェニルビス（４－メトキシフェニル）スルホニウム、４－（フェニルチオ）フェニルビス（４－フルオロフェニル）スルホニウム、４－（フェニルチオ）フェニルビス（４－メトキシフェニル）スルホニウム、４－（フェニルチオ）フェニルジ－ｐ－トリルスルホニウム、［４－（４－ビフェニリルチオ）フェニル］－４－ビフェニリルフェニルスルホニウム、［４－（２－チオキサントニルチオ）フェニル］ジフェニルスルホニウム、ビス［４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド、ビス〔４－｛ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］スルホニオ｝フェニル〕スルフィド、ビス｛４－［ビス（４－フルオロフェニル）スルホニオ］フェニル｝スルフィド、ビス｛４－［ビス（４－メチルフェニル）スルホニオ］フェニル｝スルフィド、ビス｛４－［ビス（４－メトキシフェニル）スルホニオ］フェニル｝スルフィド、４－（４－ベンゾイル－２－クロロフェニルチオ）フェニルビス（４－フルオロフェニル）スルホニウム、４－（４－ベンゾイル－２－クロロフェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、４－（４－ベンゾイルフェニルチオ）フェニルビス（４－フルオロフェニル）スルホニウム、４－（４－ベンゾイルフェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、７－イソプロピル－９－オキソ－１０－チア－９，１０－ジヒドロアントラセン－２－イルジ－ｐ－トリルスルホニウム、７－イソプロピル－９－オキソ－１０－チア－９，１０－ジヒドロアントラセン－２－イルジフェニルスルホニウム、２－［（ジ－ｐ－トリル）スルホニオ］チオキサントン、２－［（ジフェニル）スルホニオ］チオキサントン、４－（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－２－イル）チオフェニル－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－２－イルフェニルスルホニウム、４－［４－（４－ｔｅｒｔ－ブチルベンゾイル）フェニルチオ］フェニルジ－ｐ－トリルスルホニウム、４－［４－（４－ｔｅｒｔ－ブチルベンゾイル）フェニルチオ］フェニルジフェニルスルホニウム、４－［４－（ベンゾイルフェニルチオ）］フェニルジ－ｐ－トリルスルホニウム、４－［４－（ベンゾイルフェニルチオ）］フェニルジフェニルスルホニウム、５－（４－メトキシフェニル）チアアンスレニウム、５－フェニルチアアンスレニウム、５－トリルチアアンスレニウム、５－（４－エトキシフェニル）チアアンスレニウム、及び５－（２，４，６－トリメチルフェニル）チアアンスレニウム等のトリアリールスルホニウム；ジフェニルフェナシルスルホニウム、ジフェニル４－ニトロフェナシルスルホニウム、ジフェニルベンジルスルホニウム、及びジフェニルメチルスルホニウム等のジアリールスルホニウム；フェニルメチルベンジルスルホニウム、４－ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、４－メトキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、４－アセトカルボニルオキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、４－ヒドロキシフェニル（２－ナフチルメチル）メチルスルホニウム、２－ナフチルメチルベンジルスルホニウム、２－ナフチルメチル（１－エトキシカルボニル）エチルスルホニウム、フェニルメチルフェナシルスルホニウム、４－ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、４－メトキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、４－アセトカルボニルオキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、２－ナフチルメチルフェナシルスルホニウム、２－ナフチルオクタデシルフェナシルスルホニウム、及び９－アントラセニルメチルフェナシルスルホニウム等のモノアリールスルホニウム；ジメチルフェナシルスルホニウム、フェナシルテトラヒドロチオフェニウム、ジメチルベンジルスルホニウム、ベンジルテトラヒドロチオフェニウム、及びオクタデシルメチルフェナシルスルホニウム等のトリアルキルスルホニウム等が挙げられる。

　また、オニウム塩（Ｂ０１）は、上記式（ｂｉ）又は式（ｂｉｉ）で表されるアニオンであるアニオン部と、後述する式（ｃ１）で表されるスルホニウムイオンであるカチオン部とからなるスルホニウム塩を含むことも好ましい。

　ヨードニウムイオンの具体例としては、ジフェニルヨードニウム、ジ－ｐ－トリルヨードニウム、ビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（４－メトキシフェニル）ヨードニウム、（４－オクチルオキシフェニル）フェニルヨードニウム、ビス（４－デシルオキシ）フェニルヨードニウム、４－（２－ヒドロキシテトラデシルオキシ）フェニルフェニルヨードニウム、４－イソプロピルフェニル（ｐ－トリル）ヨードニウム、及び４－イソブチルフェニル（ｐ－トリル）ヨードニウム等のヨードニウムイオンが挙げられる

　以上説明した式（ｂ０ｉ）で表されるアニオンの好適な具体例としては、
テトラキス（４－ノナフルオロビフェニル）ガリウムアニオン、
テトラキス（１－ヘプタフルオロナフチル）ガリウムアニオン、
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ガリウムアニオン、
テトラキス（３，４，５－トリフルオロフェニル）ガリウムアニオン、
テトラキス（２－ノナフェニルビフェニル）ガリウムアニオン、
テトラキス（２－ヘプタフルオロナフチル）ガリウムアニオン、
テトラキス（７－ノナフルオロアントリル）ガリウムアニオン、
テトラキス（４’－（メトキシ）オクタフルオロビフェニル）ガリウムアニオン、
テトラキス（２，４，６－トリス（トリフルオロメチル）フェニル）ガリウムアニオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ガリウムアニオン、
テトラキス（２，３－ビス（ペンタフルオロエチル）ナフチル）ガリウムアニオン、
テトラキス（２－イソプロポキシ－ヘキサフルオロナフチル）ガリウムアニオン、
テトラキス（９，１０－ビス（ヘプタフルオロプロピル）ヘプタフルオロアントリル）ガリウムアニオン、
テトラキス（９－ノナフルオロフェナントリル）ガリウムアニオン、
テトラキス（４－［トリ（イソプロピル）シリル］－テトラフルオロフェニル）ガリウムアニオン、
テトラキス（９，１０－ビス（ｐ－トリル）－ヘプタフルオロフェナントリル）ガリウムアニオン、
テトラキス（４－［ジメチル（ｔｅｒｔ－ブチル）シリル］－テトラフルオロフェニル）ガリウムアニオン、
モノフェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ガリウムアニオン、及び
モノパーフルオロブチルトリス（ペンタフルオロフェニル）ガリウムアニオン等が挙げられ、より好ましくは、以下のアニオンが挙げられる。

　また、式（ｂｉｉ）で表されるアニオン部の好適な具体例としては、
テトラキス（４－ノナフルオロビフェニル）ホウ素アニオン、
テトラキス（１－ヘプタフルオロナフチル）ホウ素アニオン、
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素アニオン、
テトラキス（３，４，５－トリフルオロフェニル）ホウ素アニオン、
テトラキス（２－ノナフェニルビフェニル）ホウ素アニオン、
テトラキス（２－ヘプタフルオロナフチル）ホウ素アニオン、
テトラキス（７－ノナフルオロアントリル）ホウ素アニオン、
テトラキス（４’－（メトキシ）オクタフルオロビフェニル）ホウ素アニオン、
テトラキス（２，４，６－トリス（トリフルオロメチル）フェニル）ホウ素アニオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ホウ素アニオン、
テトラキス（２，３－ビス（ペンタフルオロエチル）ナフチル）ホウ素アニオン、
テトラキス（２－イソプロポキシ－ヘキサフルオロナフチル）ホウ素アニオン、
テトラキス（９，１０－ビス（ヘプタフルオロプロピル）ヘプタフルオロアントリル）ホウ素アニオン、
テトラキス（９－ノナフルオロフェナントリル）ホウ素アニオン、
テトラキス（４－［トリ（イソプロピル）シリル］－テトラフルオロフェニル）ホウ素アニオン、
テトラキス（９，１０－ビス（ｐ－トリル）－ヘプタフルオロフェナントリル）ホウ素アニオン、
テトラキス（４－［ジメチル（ｔｅｒｔ－ブチル）シリル］－テトラフルオロフェニル）ホウ素アニオン、
モノフェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素アニオン、及び
モノパーフルオロブチルトリス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素アニオン等が挙げられ、より好ましくは、以下のアニオンが挙げられる。

　以上説明した式（ｂｉｖ）で表されるカチオン部の好適な具体例としては、
４－イソプロピルフェニル（ｐ－トリル）ヨードニウム、
４－イソブチルフェニル（ｐ－トリル）ヨードニウム等のヨードニウムイオン；
［４－（２－チオキサントニルチオ）フェニル］ジフェニルスルホニウム、
２－［（ジ－ｐ－トリル）スルホニオ］チオキサントン、
２－［（ジフェニル）スルホニオ］チオキサントン、
４－（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－２－イル）チオフェニル－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－２－イルフェニルスルホニウム等のチオキサントン骨格含有スルホニウムイオン；
後述の式（ｂｉｉｉ）で表されるカチオン部；
後述の式（ｃ０１）で表されるカチオン部；
その他、以下に示すスルホニウムイオン；が挙げられる。

　上述したように、カチオン部が下記式（ｂｉｉｉ）で表されるカチオン部を有する態様も好ましい。カチオン重合開始剤としてのオニウム塩が、式（ｂｉｉｉ）で表されるカチオン部を有すると、オニウム塩が、感熱性硬化剤として機能し得る。

（式（ｂｉｉｉ）中、Ｒ^Ｂ０１は、１価の有機基であり、Ｄ^Ｂは、元素周期律表（ＩＵＰＡＣ表記法）の１５族～１７族で原子価がｕの元素であり、Ｒ^Ｂ０２は、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアラルキル基である。ただし、Ｒ^Ｂ０２が置換基を有していてもよいアルキル基の場合、Ｒ^Ｂ０１の少なくとも１つは置換基を有していてもよいアルキル基である。ｕは１以上３以下の整数であり、複数のＲ^Ｂ０１は同一でも異なっていてもよく、複数のＲ^Ｂ０１が結合してＤ^Ｂとともに環を形成していてもよい。）

　式（ｂｉｉｉ）中のＤ^Ｂは、元素周期律表（ＩＵＰＡＣ表記法）の１５族～１７族で原子価ｕの元素である。なお、Ｄ^Ｂは、式（ｂｉｖ）中のＲ^ｂ０１０と同様である。
　Ｄは、有機基Ｒ^Ｂ０１、及びＲ^Ｂ０２で置換されてもよいベンジル基と結合してオニウムイオンを形成する。元素周期律表（ＩＵＰＡＣ表記法）の１５族～１７族の元素のうち好ましいのは、Ｓ（硫黄）、Ｎ（窒素）、Ｉ（ヨウ素）、Ｐ（リン）である。対応するオニウムイオンとしては、スルホニウムイオン、アンモニウムイオン、ヨードニウムイオン、及びホスホニウムイオンであり、これらは、安定で取り扱いが容易なため好ましい。カチオン重合性能や架橋反応性能に優れる点で、スルホニウムイオン、及びヨードニウムイオンがより好ましい。

　式（ｂｉｉｉ）中、Ｒ^Ｂ０１はＤ^Ｂに結合している有機基を表し、Ｒ^Ｂ０１が複数存在する場合の複数のＲ^Ｂ０１は同一であっても異なってもよい。Ｒ^Ｂ０１としては、炭素原子数６以上１４以下の芳香族炭化水素基、炭素原子数１以上１８以下のアルキル基、炭素原子数２以上１８以下のアルケニル基、及び炭素原子数２以上１８以下のアルキニル基が挙げられる。

　Ｒ^Ｂ０１としての芳香族炭化水素基、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基としては、式（ｂｉｖ）中のＲ^ｂ０９について前述した基と同様の基が挙げられる。Ｒ^Ｂ０１が芳香族炭化水素基の場合、置換基を有していてもよく、当該置換基としては、水酸基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、複素環式炭化水素基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、置換されていてもよいシリル基、置換されていてもよいアミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。

　また、式（ｂｉｉｉ）において、Ｒ^Ｂ０１が複数存在する場合、複数のＲ^Ｂ０１はＤ^Ｂとともに環を形成してもよい。複数のＲ^Ｂ０１と、Ｄ^Ｂとが形成する環は、その間構造中に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、及び－ＣＯＮＨ－からなる群より選択される以上の結合を含んでいてもよい。

　式（ｂｉｉｉ）中、Ｒ^Ｂ０２としてのアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ヘキサデシル基及びｎ－オクタデシル基等の炭素原子数１以上１８以下の直鎖アルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、イソヘキシル基及びイソオクタデシル基等の炭素原子数３以上１８以下の分枝鎖アルキル基、及び、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及び４－デシルシクロヘキシル基等の炭素原子数３以上１８以下のシクロアルキル基等が挙げられる。式（ｂｉｉｉ）中、Ｒ^Ｂ０２が置換基を有していてもよいアルキル基である場合は、前記Ｒ^Ｂ０１の少なくとも１つは置換基を有していてもよいアルキル基である。

　式（ｂｉｉｉ）中、Ｒ^Ｂ０２としてのアラルキル基の具体例としては、ベンジル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基等の、炭素原子数６以上１０以下のアリール基で置換されている炭素原子数１以上４以下のアルキル基等が挙げられる。

　式（ｂｉｉｉ）中、Ｒ^Ｂ０２としての置換基を有するアラルキル基の具体例としては、２－メチルベンジル基等の、置換基を有していてもよい炭素原子数６以上１０以下のアリール基で置換されている炭素原子数１以上４以下のアルキル基等が挙げられる。

　式（ｂｉｉｉ）中、Ｒ^Ｂ０２は置換基を有していてもよいアラルキル基であることが好ましく、下記式（ｂｉｉｉ－１）で表されるカチオン部であることがより好ましい。

（式（ｂｉｉｉ－１）中、Ｒ^Ｂ０１、Ｄ^Ｂ、ｕは、前記式（ｂｉｉｉ）と同様である。Ｒ^Ｂ０３は、１価の有機基であり、ｖは０以上５以下の整数であり、複数のＲ^Ｂ０３は同一でも異なっていてもよい。）

　式（ｂｉｉｉ－１）中、Ｒ^Ｂ０３としての１価の有機基としては、アルキル基が好ましく、式（ｂｉｉｉ）のＲ^Ｂ０２で挙げたアルキル基と同様の基が挙げられる。ｖは０又は１であることが好ましい。

　式（ｂｉｉｉ）又は式（ｂｉｉｉ－１）で表されるカチオン部の具体例を挙げる。下記具体例におけるＤ’は、Ｓ原子又はＳｅ原子であり、好ましくはＳ原子である。

　式（ｂｉｉｉ）又は式（ｂｉｉｉ－１）で表されるカチオン部の対アニオンとしては、後述の式（ｃ０１）で表されるカチオン部の対アニオンと同様のアニオンが挙げられるが、好ましくは、式（ｂｉ）で表されるアニオン部又は式（ｂｉｉ）で表されるアニオン部であり、式（ｂｉ）で表されるアニオン部がより好ましい。

　オニウム塩（Ｂ０１）としては、式（ｂｉ）又は式（ｂＩＩ）で表されるアニオンの好適な具体例として示された上記のアニオンと、式（ｂｉｖ）で表される対カチオンの好適な具体例として示された上記のカチオンとからなる塩が好ましい。式（ｂ０ｉｖ）で表される対カチオンの好適な具体例は２種以上組み合わせてもよい。

　オニウム塩（Ｂ０１）の含有量は、オニウム塩（Ｂ０１）、及び後述する他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）の総量に対して１０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上がさらにより好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、１００質量％が最も好ましい。
　かかる範囲内の量のカチオン重合開始剤を用いることにより、屈折率及び黄変耐性に優れ、耐熱性（耐熱分解性）及び基板への密着性も良好である金属酸化物微粒子含有膜を形成しやすい。

・オニウム塩（Ｂ０１）とは異なる他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）
　カチオン重合開始剤は、オニウム塩（Ｂ０１）とは異なる他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）（以下、単に「他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）」ともいう。）を、オニウム塩（Ｂ０１）とともに、又は単独で含んでいてもいなくてもよい。
　硬化性組成物は、オニウム塩（Ｂ０１）とともに、他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）を含むことにより、屈折率及び黄変耐性に優れ、耐熱性（耐熱分解性）及び基板への密着性も良好である金属酸化物微粒子含有膜を形成しやすい。

　他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）は、熱カチオン重合開始剤（Ｂ０２－１）であっても、光カチオン重合開始剤（Ｂ０２－２）であってもよく、光カチオン重合開始剤（Ｂ０２－２）であることが好ましい。以下、熱カチオン重合開始剤（Ｂ０２－１）及び光カチオン重合開始剤（Ｂ０２－２）について説明する。

・熱カチオン重合開始剤（Ｂ０２－１）
　熱カチオン重合開始剤（Ｂ０２－１）としては、例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート、トリ－ｐ－トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、トリ－ｐ－トリルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔｅｒｔ－ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ－トルエンスルホニル）ジアゾメタン、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニル－４－メチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニル－２，４，６－トリメチルフェニルスルホニウム－ｐ－トルエンスルホナート、及びジフェニル－ｐ－フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスファート等が挙げられる。これらは２種以上組み合わせて使用されてもよい。

　市販の熱カチオン重合開始剤としては、例えば、ＡＭＥＲＩＣＵＲＥシリーズ（アメリカン・キャン社製）、ＵＬＴＲＡＳＥＴシリーズ（アデカ社製）、ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）等のジアゾニウム塩型の開始剤；ＵＶＥシリーズ（ゼネラル・エレクトリック社製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ社製）、ＵＶ９３１０Ｃ（ＧＥ東芝シリコーン社製）、及びＷＰＩシリーズ（和光純薬社製）等のヨードニウム塩型の開始剤；ＣＹＲＡＣＵＲＥシリーズ（ユニオンカーバイド社製）、ＵＶＩシリーズ（ゼネラル・エレクトリック社製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ社製）、ＣＤシリーズ（サートマー社製）、オプトマーＳＰシリーズ（アデカ社製）、オプトマーＣＰシリーズ（アデカ社製）、サンエイドＳＩシリーズ（三新化学工業社製）、ＣＩシリーズ（日本曹達社製）、ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）、ＣＰＩシリーズ（サンアプロ社製）等のスルホニウム塩型の開始剤等が挙げられる。

　熱カチオン重合開始剤（Ｂ０２－１）は、カチオン部とアニオン部とからなり、上記カチオン部が下記式（ｃ０－Ｉ）で表されるカチオンである化合物を含むことが好ましい。かかる熱カチオン重合開始剤（Ｂ０２－１）を用いることにより、前述の（Ａ）硬化性化合物が良好に硬化し屈折率及び黄変耐性に優れる硬化物を形成でき、また、耐熱性（耐熱分解性）及び基板への密着性も良好である硬化性組成物を得やすい。

（式（ｃ０－Ｉ）中、Ｒ^ｃ０１、Ｒ^ｃ０２、及びＲ^ｃ０３は、それぞれ独立に炭素原子数が１以上６以下であるアルキル基である。）

　式（ｃ０－Ｉ）において、Ｒ^ｃ０１、Ｒ^ｃ０２、及びＲ^ｃ０３としてのアルキル基の好適な例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、及びｎ－ヘキシル基が挙げられる。アルキル基としては、メチル基、又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。Ｒ^ｃ０１、Ｒ^ｃ０２、及びＲ^ｃ０３が全てメチル基であるのが特に好ましい。

　つまり、式（ｃ０－Ｉ）で表されるカチオンとしては、下記式（ｃ０－ＩＩ）で表されるカチオンが好ましい。

　式（ｃ０－Ｉ）で表されるカチオンへの対アニオンとしては、例えば、ＡｓＦ_６ ^－、ＳｂＦ_６ ^－、ＰＦ_６ ^－、及び（（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ）^－等が挙げられる。これらの中では、（（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ）^－が好ましい。なお、「Ｃ_６Ｆ_５」は、ペンタフルオロフェニル基を表す。

　上記式（ｃ０－Ｉ）で表されるカチオン部とアニオン部とからなる化合物として、市販品として入手可能な化合物を用いることができる。市販品としては、例えば、ＣＸＣ－１８２１（Ｋｉｎｇ　Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ社製）等が挙げられる。

　式（ｃ０－Ｉ）で表されるカチオンからなるカチオン部と、アニオン部とからなる化合物の好適な具体例としては、式（ｃ０－ＩＩ）で表されるカチオンと、ＡｓＦ_６ ^－とからなる四級アンモニウム塩、式（ｃ０－ＩＩ）で表されるカチオンと、ＳｂＦ_６ ^－とからなる四級アンモニウム塩、式（ｃ０－ＩＩ）で表されるカチオンと、ＰＦ_６ ^－とからなる四級アンモニウム塩、及び式（ｃ０－ＩＩ）で表されるカチオンと、（（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ）^－とからなる四級アンモニウム塩が挙げられる。これらの中では、式（ｃ０－ＩＩ）で表されるカチオンと、（（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ）^－とからなる四級アンモニウム塩がより好ましい。

　式（ｃ０－Ｉ）で表されるカチオンからなるカチオン部と、アニオン部とからなる化合物は、１種を単独で使用されてもよく、２種以上を組み合わせて使用されてもよい。

　熱カチオン重合開始剤（Ｂ０２－１）における、上記式（ｃ０－Ｉ）で表されるカチオン部とアニオン部とからなる化合物の量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらにより好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、１００質量％が最も好ましい。

　第４の態様の感エネルギー性組成物としての硬化性組成物における熱カチオン重合開始剤の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。硬化性組成物における熱カチオン重合開始剤の含有量は、硬化性化合物を１００質量部として０．０１質量部以上３０質量部以下が好ましく、０．１質量部以上１０質量部以下がより好ましく、０．３質量部以上５質量部以下が特に好ましい。
　かかる範囲内の量の熱カチオン重合開始剤を用いることにより、耐熱性（耐熱分解性）と、基板等への密着性とが良好である金属酸化物微粒子含有膜を形成でき、硬化性が良好である硬化性組成物を得やすい。

・光カチオン重合開始剤（Ｂ０２－２）
　光カチオン重合開始剤（Ｂ０２－２）としては、カチオン重合性の硬化性組成物を光硬化させるために使用されているオニウム塩（Ｂ０１）以外の重合開始剤を特に制限なく用いることができる。光カチオン重合開始剤（Ｂ０２－２）の好適な例としては、ヨードニウム塩と、スルホニウム塩とが挙げられる。

　ヨードニウム塩の具体例としては、例えばジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４－ノニルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。

　光カチオン重合開始剤（Ｂ０２－２）としては、スルホニウム塩が好ましい。スルホニウム塩の中では、下記式（ｃ０１）で表されるカチオンからなるカチオン部と、アニオン部とからなるスルホニウム塩（以下、「スルホニウム塩（Ｑ）」とも記す。また、オニウム塩（Ｂ０１）が下記式（ｃ０１）で表されるカチオンからなるカチオン部を有するスルホニウム塩である場合は、当該スルホニウム塩はオニウム塩（Ｂ０１）として分類する。）が好ましい。
　硬化性組成物が、スルホニウム塩（Ｑ）を含む場合、硬化性組成物の硬化を特に良好に進行させやすい。

（式（ｃ０１）中、Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２は独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基又は下記式（ｃ０２）で表される基を示し、Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２は相互に結合して式中の硫黄原子とともに環を形成してもよく、Ｒ^ｃ１３は下記式（ｃ０３）で表される基又は下記式（ｃ０４）で表される基を示し、Ａ^ｃ１はＳ、Ｏ、又はＳｅを示し、但し、Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２は、同時に、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基ではない。）

（式（ｃ０２）中、環Ｚ^ｃ１は芳香族炭化水素環を示し、Ｒ^ｃ１４はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシロキシ基、アルキルチオ基、チエニル基、チエニルカルボニル基、フラニル基、フラニルカルボニル基、セレノフェニル基、セレノフェニルカルボニル基、脂肪族複素環基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、ニトロ基、又はハロゲン原子を示し、ｍ１は０以上の整数を示す。）

（式（ｃ０３）中、Ｒ^ｃ１５はヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、複素環基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、ニトロ基、若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいアルキレン基又は下記式（ｃ０５）で表される基を示し、Ｒ^ｃ１６はヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、複素環基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、ニトロ基、若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基又は下記式（ｃ０６）で表される基を示し、Ａ^ｃ２は単結合、Ｓ、Ｏ、スルフィニル基、又はカルボニル基を示し、ｍ２は０又は１を示す。）

（式（ｃ０４）中、Ｒ^ｃ１７及びＲ^ｃ１８は独立に、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、複素環基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、ニトロ基、若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいアルキレン基又は下記式（ｃ０５）で表される基を示し、Ｒ^ｃ１９及びＲ^ｃ２０は独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基又は上記式（ｃ０２）で表される基を示し、Ｒ^ｃ１９及びＲ^ｃ２０は相互に結合して式中の硫黄原子とともに環を形成してもよく、Ａ^ｃ３は単結合、Ｓ、Ｏ、スルフィニル基、又はカルボニル基を示し、ｍ３は０又は１を示し、但し、Ｒ^ｃ１９及びＲ^ｃ２０は、同時に、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基ではない。）

（式（ｃ０５）中、環Ｚ^ｃ２は芳香族炭化水素環を示し、Ｒ^ｃ２１はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、複素環基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、ニトロ基、又はハロゲン原子を示し、ｍ４は０以上の整数を示す。）

（式（ｃ０６）中、環Ｚ^ｃ３は芳香族炭化水素環を示し、Ｒ^ｃ２２はハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、チエニルカルボニル基、フラニルカルボニル基、セレノフェニルカルボニル基、アリール基、複素環基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、ニトロ基、又はハロゲン原子を示し、ｍ５は０以上の整数を示す。）

（スルホニウム塩（Ｑ））
　以下、スルホニウム塩（Ｑ）について説明する。スルホニウム塩（Ｑ）は、上記式（ｃ０１）中のベンゼン環において、Ａ^ｃ１が結合する炭素原子に対してオルト位の炭素原子にメチル基が結合していることを特徴とする。スルホニウム塩（Ｑ）は、上記の位置にメチル基を有するため、従来のスルホニウム塩と比較して、プロトンを発生しやすく、紫外線等の活性エネルギー線に対する感度が高い。

　上記式（ｃ０１）において、Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２のいずれもが上記式（ｃ０２）で表される基であることが好ましい。Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２は互いに同一でも異なっていてもよい。
　上記式（ｃ０１）において、Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２が相互に結合して式中の硫黄原子とともに環を形成する場合、形成される環の環構成原子数は、硫黄原子を含めて３以上１０以下が好ましく、５以上７以下がより好ましい。形成される環は多環でもよく、５～７員環が縮合した縮合環が好ましい。
　上記式（ｃ０１）において、Ｒ^ｃ１１及びＲ^ｃ１２が、ともにフェニル基であるのが好ましい。
　上記式（ｃ０１）において、Ｒ^ｃ１３は上記式（ｃ０３）で表される基であることが好ましい。
　上記式（ｃ０１）において、Ａ^ｃ１は、Ｓ又はＯであることが好ましく、Ｓであることがより好ましい。

　上記式（ｃ０２）において、Ｒ^ｃ１４は、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ヒドロキシ基、アルキルカルボニル基、チエニルカルボニル基、フラニルカルボニル基、セレノフェニルカルボニル基、置換されていてもよいアミノ基、又はニトロ基であることが好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、アルキルカルボニル基、又はチエニルカルボニル基であることがより好ましい。
　上記式（ｃ０２）において、ｍ１は、環Ｚ^ｃ１の種類に応じて選択でき、例えば、０以上４以下の整数、好ましくは０以上３以下の整数、より好ましくは０以上２以下の整数であってもよい。

　上記式（ｃ０３）において、Ｒ^ｃ１５は、アルキレン基；ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基、若しくはニトロ基で置換されたアルキレン基；又は上記式（ｃ０５）で表される基であることが好ましく、上記式（ｃ０５）で表される基であることがより好ましい。
　上記式（ｃ０３）において、Ｒ^ｃ１６は、アルキル基；ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基、若しくはニトロ基で置換されたアルキル基；又は上記式（ｃ０６）で表される基であることが好ましく、上記式（ｃ０６）で表される基であることがより好ましい。
　上記式（ｃ０３）において、Ａ^ｃ２はＳ又はＯであることが好ましく、Ｓであることがより好ましい。
　上記式（ｃ０３）において、ｍ２は０であることが好ましい。

　上記式（ｃ０４）において、Ｒ^ｃ１７及びＲ^ｃ１８は独立に、アルキレン基；ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基、若しくはニトロ基で置換されたアルキレン基；又は上記式（ｃ０５）で表される基であることが好ましく、上記式（ｃ０５）で表される基であることがより好ましい。Ｒ^ｃ１７及びＲ^ｃ１８は互いに同一でも異なっていてもよい。
　上記式（ｃ０４）において、Ｒ^ｃ１９及びＲ^ｃ２０のいずれもが上記式（ｃ０２）で表される基であることが好ましい。Ｒ^ｃ１９及びＲ^ｃ２０は互いに同一でも異なっていてもよい。
　上記式（ｃ０４）において、Ｒ^ｃ１９及びＲ^ｃ２０が相互に結合して式中の硫黄原子とともに環を形成する場合、形成される環の環構成原子数は、硫黄原子を含めて３以上１０以下が好ましく、５以上７以下がより好ましい。形成される環は多環でもよく、５～７員環が縮合した縮合環が好ましい。
　上記式（ｃ０４）において、Ａ^ｃ３は、Ｓ又はＯであることが好ましく、Ｓであることがより好ましい。
　上記式（ｃ０４）において、ｍ３は０であることが好ましい。

　上記式（ｃ０５）において、Ｒ^ｃ２１は、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基、又はニトロ基であることが好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基であることがより好ましい。
　上記式（ｃ０５）において、ｍ４は、環Ｚ^ｃ２の種類に応じて選択でき、例えば、０以上４以下の整数、好ましくは０以上３以下の整数、より好ましくは０以上２以下の整数であってもよい。

　上記式（ｃ０６）において、Ｒ^ｃ２２は、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、ヒドロキシ基、アルキルカルボニル基、チエニルカルボニル基、フラニルカルボニル基、セレノフェニルカルボニル基、置換されていてもよいアミノ基、又はニトロ基であることが好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、アルキルカルボニル基、又はチエニルカルボニル基であることがより好ましい。
　上記式（ｃ０６）において、ｍ５は、環Ｚ^ｃ３の種類に応じて選択でき、例えば、０以上４以下の整数、好ましくは０以上３以下の整数、より好ましくは０以上２以下の整数であってもよい。

　上記式（ｃ０１）で表されるカチオンは、通常、１価のアニオンＸ^－とともに塩を形成する。Ｘ^－は、スルホニウム塩（Ｑ）に活性エネルギー（熱、可視光、紫外線、電子線、及びＸ線等）を照射することにより発生する酸（ＨＸ）に対応する１価のアニオンである。Ｘ^－としては、１価の多原子アニオンが好適に挙げられ、Ｍ^１Ｙ_ａ０ ^－、（Ｒｆ）_ｂ０ＰＦ_{（６－ｂ０）} ^－、Ｒ^ｘ１ＳＯ_３ ^－、（Ｒ^ｘ１ＳＯ_２）_３Ｃ^－、又は（Ｒ^ｘ１ＳＯ_２）_２Ｎ^－で表されるアニオンがより好ましい。また、Ｘ^－は、ハロゲンアニオンでもよく、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等が挙げられる。

　Ｍ^１は、リン原子、ホウ素原子、又はアンチモン原子を表す。
　Ｙはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。

　Ｒｆは、水素原子の８０モル％以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。フッ素原子で置換されたアルキル基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましい。フッ素置換によりＲｆとするアルキル基としては、直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基及びシクロアルキル基等が挙げられる。直鎖アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びオクチル基等が挙げられる。分岐鎖アルキル基の具体例としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基及びｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。Ｒｆにおいてこれらのアルキル基の水素原子がフッ素原子に置換されている割合は、もとのアルキル基が有していた水素原子のモル数に基づいて、８０モル％以上が好ましく、さらに好ましくは９０モル％以上、特に好ましくは１００モル％である。フッ素原子による置換割合がこれら好ましい範囲にあると、スルホニウム塩（Ｑ）の光感応性がさらに良好となる。特に好ましいＲｆとしては、ＣＦ_３－、ＣＦ_３ＣＦ_２ ^－、（ＣＦ_３）_２ＣＦ^－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ ^－、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ ^－、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２ ^－、ＣＦ_３ＣＦ_２（ＣＦ_３）ＣＦ^－及び（ＣＦ_３）_３Ｃ^－が挙げられる。ｂ個のＲｆは、相互に独立であり、従って、互いに同一でも異なっていてもよい。

　Ｐはリン原子、Ｆはフッ素原子を表す。

　Ｒ^ｘ１は、炭素原子数が１以上２０以下であるアルキル基、炭素原子数が１以上２０以下であるフルオロアルキル基、又は炭素原子数が６以上２０以下であるアリール基を表し、アルキル基及びフルオロアルキル基は直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれでもよく、アルキル基、フルオロアルキル基、又はアリール基は無置換であっても、置換基を有していてもよい。上記置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基、ニトロ基等が挙げられる。置換されていてもよいアミノ基としては、例えば、上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）に関する後述の説明中で例示する基が挙げられる。
　また、Ｒ^ｘ１で表されるアルキル基、フルオロアルキル基又はアリール基における炭素鎖は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有していてもよい。特に、Ｒ^ｘ２で表されるアルキル基又はフルオロアルキル基における炭素鎖は、２価の官能基を有していてもよい。２価の官能基としては、例えば、エーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、アミノ結合、アミド結合、イミド結合、スルホニル結合、スルホニルアミド結合、スルホニルイミド結合、及びウレタン結合等が挙げられる。
　Ｒ^ｘ１で表されるアルキル基、フルオロアルキル基又はアリール基が上記置換基、ヘテロ原子、又は官能基を有する場合、上記置換基、ヘテロ原子、又は官能基の個数は、１個であっても２個以上であってもよい。

　Ｓは硫黄原子、Ｏは酸素原子、Ｃは炭素原子、Ｎは窒素原子を表す。
　ａ０は４以上６以下の整数を表す。
　ｂ０は、１以上５以下の整数が好ましく、さらに好ましくは２以上４以下の整数、特に好ましくは２又は３である。

　Ｍ^１Ｙ_ａ ^－で表されるアニオンとしては、ＳｂＦ_６ ^－、ＰＦ_６ ^－又はＢＦ_４ ^－で表されるアニオン等が挙げられる。

　（Ｒｆ）_ｂＰＦ_６－ｂ ^－で表されるアニオンとしては、（ＣＦ_３ＣＦ_２）_２ＰＦ_４ ^－、（ＣＦ_３ＣＦ_２）_３ＰＦ_３ ^－、（（ＣＦ_３）_２ＣＦ）_２ＰＦ_４ ^－、（（ＣＦ_３）_２ＣＦ）_３ＰＦ_３ ^－、（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２）_２ＰＦ_４ ^－、（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２）_３ＰＦ_３ ^－、（（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２）_２ＰＦ_４ ^－、（（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２）_３ＰＦ_３ ^－、（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_２ＰＦ_４ ^－又は（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_３ＰＦ_３ ^－で表されるアニオン等が挙げられる。これらのうち、（ＣＦ_３ＣＦ_２）_３ＰＦ_３ ^－、（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２）_３ＰＦ_３ ^－、（（ＣＦ_３）_２ＣＦ）_３ＰＦ_３ ^－、（（ＣＦ_３）_２ＣＦ）_２ＰＦ_４ ^－、（（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２）_３ＰＦ_３ ^－又は（（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２）_２ＰＦ_４ ^－で表されるアニオンが好ましい。

　Ｒ^ｘ１ＳＯ_３ ^－で表されるアニオンとしては、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロエタンスルホン酸アニオン、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸アニオン、ノナフルオロブタンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロフェニルスルホン酸アニオン、ｐ－トルエンスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、カンファースルホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン、エタンスルホン酸アニオン、プロパンスルホン酸アニオン及びブタンスルホン酸アニオン等が挙げられる。これらのうち、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ノナフルオロブタンスルホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン、ブタンスルホン酸アニオン、カンファースルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン又はｐ－トルエンスルホン酸アニオンが好ましい。

　（Ｒ^ｘ１ＳＯ_２）_３Ｃ^－で表されるアニオンとしては、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ^－、（Ｃ_２Ｆ_５ＳＯ_２）_３Ｃ^－、（Ｃ_３Ｆ_７ＳＯ_２）_３Ｃ^－又は（Ｃ_４Ｆ_９ＳＯ_２）_３Ｃ^－で表されるアニオン等が挙げられる。

　（Ｒ^ｘ１ＳＯ_２）_２Ｎ^－で表されるアニオンとしては、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ^－、（Ｃ_２Ｆ_５ＳＯ_２）_２Ｎ^－、（Ｃ_３Ｆ_７ＳＯ_２）_２Ｎ^－又は（Ｃ_４Ｆ_９ＳＯ_２）_２Ｎ^－で表されるアニオン等が挙げられる。

　１価の多原子アニオンとしては、ＭＹ_ａ ^－、（Ｒｆ）_ｂＰＦ_６－ｂ ^－、Ｒ^ｘ１ＳＯ_３ ^－、（Ｒ^ｘ１ＳＯ_２）_３Ｃ^－又は（Ｒ^ｘ２ＳＯ_２）_２Ｎ^－で表されるアニオン以外に、過ハロゲン酸イオン、ハロゲン化スルホン酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオン、アルミン酸イオン、ヘキサフルオロビスマス酸イオン（ＢｉＦ_６ ^－）、カルボン酸イオン、アリールホウ酸イオン、チオシアン酸イオン（ＳＣＮ^－）及び硝酸イオン（ＮＯ_３ ^－）等が使用できる。過ハロゲン酸イオンとしては、ＣｌＯ_４ ^－、及びＢｒＯ_４ ^－等が挙げられる。ハロゲン化スルホン酸イオンとしては、ＦＳＯ_３ ^－、及びＣｌＳＯ_３ ^－等が挙げられる。硫酸イオンとしては、ＣＨ_３ＳＯ_４ ^－、ＣＦ_３ＳＯ_４ ^－、及びＨＳＯ_４ ^－等が挙げられる。炭酸イオンとしては、ＨＣＯ_３ ^－、及びＣＨ_３ＣＯ_３ ^－等が挙げられる。アルミン酸イオンとしては、ＡｌＣｌ_４ ^－、及びＡｌＦ_４ ^－等が挙げられる。アルミン酸イオンとしては、ＡｌＣｌ_４ ^－、及びＡｌＦ_４ ^－等が挙げられる。カルボン酸イオンとしては、ＣＨ_３ＣＯＯ^－、ＣＦ_３ＣＯＯ^－、Ｃ_６Ｈ_５ＣＯＯ^－、ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４ＣＯＯ^－、Ｃ_６Ｆ_５ＣＯＯ^－、及びＣＦ_３Ｃ_６Ｈ_４ＣＯＯ^－等が挙げられる。アリールホウ酸イオンとしては、Ｂ（Ｃ_６Ｈ_５）_４ ^－、及びＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｂ（Ｃ_６Ｈ_５）_３ ^－等が挙げられる。

　これらのＸ^－のうち、カチオン重合性能の点では、ＭＹ_ａ ^－、（Ｒｆ）_ｂＰＦ_６－ｂ ^－、及び（Ｒ^ｘ１ＳＯ_２）_３Ｃ^－で表されるアニオンが好ましく、ＳｂＦ_６ ^－、ＰＦ_６ ^－、（ＣＦ_３ＣＦ_２）_３ＰＦ_３ ^－、及び（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ^－がより好ましい。

　上記式（ｃ０２）、（ｃ０５）、及び（ｃ０６）において、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環等が挙げられる。芳香族炭化水素環は、ベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。縮合多環式芳香族炭化水素環としては、例えば、縮合二環式炭化水素環、及び縮合三環式芳香族炭化水素環等の縮合２乃至４環式芳香族炭化水素環等が挙げられる。縮合二環式炭化水素環としては、例えば、ナフタレン環等のＣ_８－２０縮合二環式炭化水素環が好ましく、Ｃ_{１０－１６}縮合二環式炭化水素環がより好ましい。縮合三環式芳香族炭化水素環としては、例えば、アントラセン環、及びフェナントレン環等が挙げられる。

　上記式（ｃ０１）～（ｃ０６）において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられる。

　上記式（ｃ０１）～（ｃ０６）において、アルキル基としては、炭素原子数が１以上１８以下である直鎖アルキル基、炭素原子数が３以上１８以下である分岐鎖アルキル基、並びに炭素原子数が３以上１８以下であるシクロアルキル基等が挙げられる。特に、上記式（ｃ０１）、（ｃ０２）、及び（ｃ０４）～（ｃ０６）において、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基とは、アルキル基及びハロゲン原子で置換されたアルキル基を意味する。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、上記の直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、又はシクロアルキル基における少なくとも１個の水素原子をハロゲン原子で置換した基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基のうち、Ｒ^ｃ１１、Ｒ^ｃ１２、Ｒ^ｃ１９、又はＲ^ｃ２０については、トリフルオロメチル基が特に好ましく、Ｒ^ｃ１４、Ｒ^ｃ１６、Ｒ^ｃ２１、又はＲ^ｃ２２については、メチル基が特に好ましい。直鎖アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、及びｎ－オクタデシル基等が挙げられる。分岐鎖アルキル基の具体例としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、イソヘキシル基、及びイソオクタデシル基等が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及び４－デシルシクロヘキシル基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、及びトリフルオロメチル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）において、アルコキシ基としては、炭素原子数が１以上１８以下である直鎖又は分岐鎖アルコキシ基等が挙げられる。直鎖又は分岐鎖アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、及びオクタデシルオキシ基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）において、アルキルカルボニル基におけるアルキル基としては、上述の炭素原子数が１以上１８以下である直鎖アルキル基、炭素原子数が３以上１８以下である分岐鎖アルキル基、又は炭素原子数が３以上１８以下であるシクロアルキル基が挙げられ、アルキルカルボニル基としては、炭素原子数が２以上１８以下である直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキルカルボニル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、２－メチルプロピオニル基、ヘプタノイル基、２－メチルブタノイル基、３－メチルブタノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、シクロペンタノイル基、及びシクロヘキサノイル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）～（ｃ０６）において、アリールカルボニル基としては、炭素原子数が７以上１１以下であるアリールカルボニル基等が挙げられる。アリールカルボニル基の具体例としては、ベンゾイル基及びナフトイル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）において、アルコキシカルボニル基としては、炭素原子数が２以上１９以下である直鎖又は分岐鎖アルコキシカルボニル基等が挙げられる。アルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ－ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、オクチロキシカルボニル基、テトラデシルオキシカルボニル基、及びオクタデシロキシカルボニル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）～（ｃ０６）において、アリールオキシカルボニル基としては、炭素原子数が７以上１１以下であるアリールオキシカルボニル基等が挙げられる。アリールオキシカルボニル基の具体例としては、フェノキシカルボニル基及びナフトキシカルボニル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）～（ｃ０６）において、アリールチオカルボニル基としては、炭素原子数が７以上１１以下であるアリールチオカルボニル基等が挙げられる。アリールチオカルボニル基の具体例としては、フェニルチオカルボニル基及びナフトキシチオカルボニル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）において、アシロキシ基としては、炭素原子数が２以上１９以下である直鎖又は分岐鎖アシロキシ基等が挙げられる。アシロキシ基の具体例としては、アセトキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、テトラデシルカルボニルオキシ基、及びオクタデシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）～（ｃ０６）において、アリールチオ基としては、炭素原子数が６以上２０以下であるアリールチオ基等が挙げられる。アリールチオ基の具体例としては、フェニルチオ基、２－メチルフェニルチオ基、３－メチルフェニルチオ基、４－メチルフェニルチオ基、２－クロロフェニルチオ基、３－クロロフェニルチオ基、４－クロロフェニルチオ基、２－ブロモフェニルチオ基、３－ブロモフェニルチオ基、４－ブロモフェニルチオ基、２－フルオロフェニルチオ基、３－フルオロフェニルチオ基、４－フルオロフェニルチオ基、２－ヒドロキシフェニルチオ基、４－ヒドロキシフェニルチオ基、２－メトキシフェニルチオ基、４－メトキシフェニルチオ基、１－ナフチルチオ基、２－ナフチルチオ基、４－［４－（フェニルチオ）ベンゾイル］フェニルチオ基、４－［４－（フェニルチオ）フェノキシ］フェニルチオ、４－［４－（フェニルチオ）フェニル］フェニルチオ基、４－（フェニルチオ）フェニルチオ基、４－ベンゾイルフェニルチオ基、４－ベンゾイル－２－クロロフェニルチオ基、４－ベンゾイル－３－クロロフェニルチオ基、４－ベンゾイル－３－メチルチオフェニルチオ基、４－ベンゾイル－２－メチルチオフェニルチオ基、４－（４－メチルチオベンゾイル）フェニルチオ基、４－（２－メチルチオベンゾイル）フェニルチオ基、４－（ｐ－メチルベンゾイル）フェニルチオ基、４－（ｐ－エチルベンゾイル）フェニルチオ４－（ｐ－イソプロピルベンゾイル）フェニルチオ基、及び４－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルベンゾイル）フェニルチオ基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）において、アルキルチオ基としては、炭素原子数が１以上１８以下である直鎖又は分岐鎖アルキルチオ基等が挙げられる。アルキルチオ基の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ－ブチルチオ基、ｔｅｒｔ－ブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、ｔｅｒｔ－ペンチルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、及びイソオクタデシルチオ基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）～（ｃ０６）において、アリール基としては、炭素原子数が６以上１０以下であるアリール基等が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、及びナフチル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０２）において、脂肪族複素環基としては、炭素原子数２以上２０以下の脂肪族複素環基が好ましく、炭素原子数４以上２０以下の脂肪族複素環基がより好ましい。脂肪族環式基の具体例としては、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチエニル基、ピペリジニル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、モルホリニル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）～（ｃ０６）において、複素環基としては、炭素原子数が４以上２０以下である複素環基等が挙げられる。複素環基の好適な例としては、チエニル基、フラニル基、セレノフェニル基、ピラニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジニル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、アクリジニル基、フェノチアジニル基、フェナジニル基、キサンテニル基、チアントレニル基、フェノキサジニル基、フェノキサチイニル基、クロマニル基、イソクロマニル基、ジベンゾチエニル基、キサントニル基、チオキサントニル基、及びジベンゾフラニル等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）～（ｃ０６）において、アリールオキシ基としては、炭素原子数が６以上１０以下であるアリールオキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基及びナフチルオキシ基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）において、アルキルスルフィニル基としては、炭素原子数が１以上１８以下である直鎖又は分岐鎖スルフィニル基等が挙げられる。スルフィニル基の具体例としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ－ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ－ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、イソペンチルスルフィニル基、ネオペンチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ－ペンチルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、及びイソオクタデシルスルフィニル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）～（ｃ０６）において、アリールスルフィニル基としては、炭素原子数が６以上１０以下であるアリールスルフィニル基等が挙げられる。アリールスルフィニル基の具体例としては、フェニルスルフィニル基、トリルスルフィニル基、及びナフチルスルフィニル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）において、アルキルスルホニル基としては、炭素原子数が１以上１８以下である直鎖又は分岐鎖アルキルスルホニル基等が挙げられる。アルキルスルホニル基の具体例としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ－ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ－ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、イソペンチルスルホニル基、ネオペンチルスルホニル基、ｔｅｒｔ－ペンチルスルホニル基、オクチルスルホニル基、及びオクタデシルスルホニル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）～（ｃ０６）において、アリールスルホニル基としては、炭素原子数が６以上１０以下であるアリールスルホニル基等が挙げられる。アリールスルホニル基の具体例としては、フェニルスルホニル基、トリルスルホニル基（トシル基）、及びナフチルスルホニル基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）において、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基としては、ＨＯ（ＡＯ）_ｑ０－で表されるヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基等が挙げられる。式中、ＡＯは独立にエチレンオキシ基及び／又はプロピレンオキシ基を表す。ｑ０は１以上５以下の整数を表す。

　上記式（ｃ０２）～（ｃ０６）において、置換されていてもよいアミノ基としては、アミノ基（－ＮＨ_２）及び炭素原子数が１以上１５以下である置換アミノ基等が挙げられる。置換アミノ基の好適な例としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、メチル－ｎ－プロピルアミノ基、エチル－ｎ－プロピルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、イソプロピルメチルアミノ基、イソプロピルエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、エチルフェニルアミノ基、ｎ－プロピルフェニルアミノ基、及びイソプロピルフェニルアミノ基等が挙げられる。

　上記式（ｃ０３）及び（ｃ０４）において、アルキレン基としては、炭素原子数が１以上１８以下である直鎖又は分岐鎖アルキレン基等が挙げられる。アルキレン基の具体例としては、メチレン基、１，２－エチレン基、１，１－エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，２－ジイル基、ブタン－１，１－ジイル基、ブタン－２，２－ジイル基、ブタン－２，３－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、２－エチルヘキサン－１，６－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基、トリデカン－１，１３－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基、ペンタデカン－１，１５－ジイル基、及びヘキサデカン－１，１６－ジイル基等が挙げられる。

　スルホニウム塩（Ｑ）は、例えば、下記スキームに従って合成することができる。具体的には、下記式（ｃ１－１）で表される１－フルオロ－２－メチル－４－ニトロベンゼンに、水酸化カリウム等の塩基の存在下で、下記式（ｃ１－２）で表される化合物を反応させて、下記式（ｃ１－３）で表されるニトロ化合物を得、次いで、還元鉄の存在下で還元を行って、下記式（ｃ１－４）で表されるアミン化合物を得る。このアミン化合物とＭａＮＯ_２で表される亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩とを反応させてジアゾ化合物を得る。前述の式中、Ｍａは金属原子、例えば、ナトリウム原子等のアルカリ金属原子を示す。次いで、このジアゾ化合物とＣｕＸ’で表されるハロゲン化第一銅とＨＸ’で表されるハロゲン化水素とを混合し、反応を進行させて、下記式（ｃ１－５）で表されるハロゲン化物を得る。前述の式中、Ｘ’は臭素原子等のハロゲン原子を示す。以下、Ｘ’はハロゲン原子を示す。このハロゲン化物及びマグネシウムからグリニャール試薬を調製し、次いで、クロロトリメチルシランの存在下で、このグリニャール試薬と下記式（ｃ１－６）で表されるスルホキシド化合物とを反応させて、下記式（ｃ１－７）で表されるスルホニウム塩を得ることができる。さらに、このスルホニウム塩をＭｂ^＋Ｘ”^－で表される塩と反応させて塩交換を行うことにより、下記式（ｃ１－８）で表されるスルホニウム塩を得ることができる。前述の式中、Ｍｂ^＋は金属カチオン、例えば、カリウムイオン等のアルカリ金属カチオンを示す。Ｘ”^－はＸ^－で表される、ハロゲンアニオンを除く１価のアニオンを示す。なお、下記式（ｃ１－２）～（ｃ－８）において、Ｒ^ｃ１１～Ｒ^ｃ１３及びＡ^ｃ１は、上記式（ｃ０１）と同様である。

＜スキーム＞

　スルホニウム塩（Ｑ）のカチオン部である、式（ｃ０１）で表されるカチオンの具体例としては、以下のカチオンが挙げられる。スルホニウム塩（Ｑ）のアニオン部の具体例としては、上記Ｘ^－の説明で挙げたアニオン等、従来公知のアニオンを挙げることができる。上記式（ｃ０１）で表されるカチオン部を含むスルホニウム塩（Ｑ）は上記スキームに従って合成することができ、必要に応じさらに塩交換することにより、カチオン部を所望のアニオン部と組み合わせることができる。

　上記の好ましいカチオン部の群の中では、下記式で表されるカチオン部がより好ましい。

　他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）は、上記のスルホニウム塩（Ｑ）とともに、スルホニウム塩（Ｑ）以外のその他の光カチオン重合開始剤を含んでいてもよい。
　他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）におけるスルホニウム塩（Ｑ）の含有量は特に限定されないが、典型的には、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、１００質量％が最も好ましい。

　光カチオン重合開始剤（Ｂ０２－２）は、上記のスルホニウム塩（Ｑ）とともに、前述のオニウム塩（Ｂ０１）及びスルホニウム塩（Ｑ）以外の光カチオン重合開始剤をさらに含んでいてもよい。
　前述のオニウム塩（Ｂ０１）及びスルホニウム塩（Ｑ）以外の光カチオン重合開始剤としては、従来からカチオン重合用に使用されている種々のカチオン重合開始剤を特に制限なく使用することができる。
　前述のオニウム塩（Ｂ０１）及びスルホニウム塩（Ｑ）以外の光カチオン重合開始剤としては、前述の通り、ヨードニウム塩やスルホニウム塩等のオニウム塩が好ましく、スルホニウム塩（Ｑ）以外のその他のスルホニウム塩がより好ましい。

　硬化性組成物における光カチオン重合開始剤の含有量の総量は、硬化性組成物の硬化が良好に進行する限り特に限定されない。硬化性組成物を良好に硬化させやすい点から、典型的には、硬化性化合物を１００質量部として、０．００１質量部以上３０質量部以下が好ましく、０．０１質量部以上１０質量部以下がより好ましく、０．１質量部以上５質量部以下が特に好ましい。

・ラジカル重合開始剤
　第４の態様の感エネルギー性組成物において、硬化性化合物が不飽和二重結合を含むラジカル重合性化合物を含む場合、ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、不飽和二重結合を含むラジカル重合性化合物を重合させるために、従来から用いられている、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。かかるラジカル重合開始剤としては、第１の態様の感エネルギー組成物について説明した光重合開始剤を好適に用いることができる。

　ラジカル重合開始剤の含有量は、硬化性化合物１００質量部に対して０．０１質量部以上５０質量部以下が好ましく、０．１質量部以上３０質量部以下がより好ましく、０．３質量部以上１０質量部以下が特に好ましい。ラジカル重合開始剤の含有量を上記の範囲内とすることにより、硬化性組成物を良好に硬化させやすい。

　また、ラジカル重合開始剤に、光開始助剤を組み合わせてもよい。光開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ－ジメチルパラトルイジン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、９，１０－ジメトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプト－５－メトキシベンゾチアゾール、３－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸メチル、ペンタエリスリトールテトラメルカプトアセテート、３－メルカプトプロピオネート等のチオール化合物等が挙げられる。これらの光開始助剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　第４の態様の感エネルギー性組成物としての硬化性組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。硬化性組成物が硬化促進剤を含む場合、硬化性組成物の硬化性や硬化後の特性が良好である。

　硬化促進剤としては、例えば、ウレア化合物、第三級アミンとその塩、イミダゾール類とその塩、ホスフィン系化合物とその誘導体、カルボン酸金属塩やルイス酸、ブレンステッド酸類とその塩類、テトラフェニルボロン塩等が挙げられる。

　硬化促進剤の好ましい具体例としては、１，８－ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン－７、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、及びトリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等の三級アミン類；２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、及び２－ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール類；トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、及びフェニルホスフィン等のホスフィン系化合物；テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、２－エチル－４－メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、及びＮ－メチルモルホリンテトラフェニルボレートのテトラフェニルボロン塩等が挙げられる。

　以上説明した硬化促進剤の中では、ホスフィン系化合物とその誘導体、及びテトラフェニルボロン塩が好ましい。上記の具体例の中では、トリフェニルホスフィンと、トリフェニルホスフィントリフェニルボランとが好ましい。

　硬化促進剤の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。硬化促進剤の使用量は、硬化剤の質量を１質量部として、０．５質量部以上８質量部以下が好ましく、１．５質量部以上６質量部以下がより好ましく、３質量部以上４．５質量部以下が特に好ましい。

　第４の態様の感エネルギー性組成物としての硬化性組成物は、増感剤を含んでいてもよい。硬化性組成物が、光カチオン重合開始剤を含む場合、硬化性組成物が増感剤を含むのが好ましい。増感剤としては、従来より種々のカチオン重合開始剤と併用されている公知の増感剤を特に制限なく用いることができる。

　増感剤の具体例としては、アントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、及び９，１０－ジプロポキシアントラセン等のアントラセン化合物；ピレン；１，２－ベンズアントラセン；ペリレン；テトラセン；コロネン；チオキサントン、２－メチルチオキサントン、２－エチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン及び２，４－ジエチルチオキサントン等のチオキサントン化合物；フェノチアジン、Ｎ－メチルフェノチアジン、Ｎ－エチルフェノチアジン、及びＮ－フェニルフェノチアジン等のフェノチアジン化合物；キサントン；１－ナフトール、２－ナフトール、１－メトキシナフタレン、２－メトキシナフタレン、１，４－ジヒドロキシナフタレン、及び４－メトキシ－１－ナフトール等のナフタレン化合物；ジメトキシアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、４’－イソプロピル－２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、及び４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルスルフィド等のケトン；Ｎ－フェニルカルバゾール、Ｎ－エチルカルバゾール、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、及びＮ－グリシジルカルバゾール等のカルバゾール化合物；１，４－ジメトキシクリセン及び１，４－ジ－α－メチルベンジルオキシクリセン等のクリセン化合物；９－ヒドロキシフェナントレン、９－メトキシフェナントレン、９－ヒドロキシ－１０－メトキシフェナントレン、及び９－ヒドロキシ－１０－エトキシフェナントレン等のフェナントレン化合物が挙げられる。
　これらの増感剤は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　増感剤の使用量は特に限定されないが、光カチオン重合開始剤の質量に対して、１質量％以上３００質量％以下が好ましく、５質量％以上２００質量％以下がより好ましい。かかる範囲内の量の増感剤を用いることにより、所望する増感作用を得やすい。

　第４の態様の感エネルギー性組成物としての硬化性組成物には、必要に応じて、界面活性剤、熱重合禁止剤、消泡剤、シランカップリング剤、着色剤（顔料、染料）、樹脂（熱可塑性樹脂、アルカリ可溶性樹脂等）、金属酸化物微粒子以外の無機フィラー、有機フィラー等の添加剤を含有させることができる。いずれの種類の添加剤も、従来公知の添加剤を用いることができる。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の化合物が挙げられ、熱重合禁止剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられ、消泡剤としては、シリコーン系、フッ素系化合物等が挙げられる。

　第４の態様の感エネルギー性組成物としての硬化性組成物は、塗布性や粘度の調整の目的で、溶剤を含むのが好ましい。溶剤としては、典型的には有機溶剤が用いられる。有機溶剤の種類は、硬化性組成物に含まれる成分を、均一に溶解又は分散させることができれば特に限定されない。

　溶剤として使用し得る有機溶剤の好適な例としては、第１の態様の感エネルギー性組成物における有機溶剤の好適な例と同様である。

　第４の態様の感エネルギー性組成物としての硬化性組成物における、溶剤の使用量は特に限定されない。硬化性組成物の塗布性の点等から、溶剤の使用量は、硬化性組成物全体に対して、例えば３０質量％以上９９．９質量％以下であり、好ましくは５０質量％以上９８質量％以下である。また、硬化性組成物の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以下の範囲で調整することが好ましい。硬化性組成物の粘度は、６０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。下限は特にないが、０．１ｍＰａ・ｓ以上である。
　なお、上記の粘度は、Ｅ型粘度計を用いて２５℃で測定される粘度である。

　以上説明した必須又は任意の成分を含む硬化性組成物を用いると、高屈折率の硬化物を形成できるため、硬化性組成物は、従来から種々の用途で使用されている、高屈折材料、高屈折率膜の形成に好ましく使用できる。
　例えば、上記の硬化性組成物を用いる場合、屈折率が１．７０以上、好ましくは１．７２以上、さらに好ましく１．７５以上、さらにより好ましくは１．８０以上、最も好ましくは１．８０以上の硬化物を形成することができる。
　硬化性組成物は、タッチパネル等の表示素子における、金属配線等を被覆する透明被膜の形成用に特に好ましく使用される。
　上記の硬化性組成物を用いて、透明被膜を形成すると、透明被膜が高屈折率であることによって、金属配線を視認しにくくできる。

　また、上記の硬化性組成物を用いて形成される硬化膜は耐屈曲性に優れ、折り曲げても割れにくいため、フレキシブル表示パネルにおいて好適に用いられる。
　例えば、上記の硬化性組成物の硬化物からなる厚さ５０ｎｍのフィルムを、半径６ｍｍ、好ましくは半径２ｍｍの円柱状のステンレス棒に巻き付けた場合に、割れが生じにくい。

（５）第５の態様の感エネルギー性組成物
　第５の態様の感エネルギー性組成物は、前述の表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子及び基材成分（Ｄ）とともに融点１４０℃以下のイオン液体を含むカチオン硬化型又はアニオン硬化型の硬化性組成物である。
　硬化性組成物が上記のイオン液体を含むことにより、硬化性組成物中において、カチオン重合であるかアニオン重合であるかの依存性低く、均一に硬化反応を促進することができ、その結果、屈折率及び黄変耐性（特に黄変耐性）に優れ、また、耐熱性及び基板への密着性も良好である金属酸化物微粒子含有膜を形成することができる。
　以下、硬化性組成物が含む、必須、又は任意の成分について説明する。

（硬化性化合物）
　硬化性組成物は、屈折率及び黄変耐性の観点、また、耐熱性及び基板への密着性の観点から、Ｎ、Ｏ、Ｓ及びＳｉよりなる群から選択される少なくとも１種の元素を含む官能基を有する硬化性化合物を含むことが好ましい。

　Ｎ、Ｏ、Ｓ及びＳｉよりなる群から選択される少なくとも１種の元素を含む官能基を有する硬化性化合物は屈折率が比較的高い傾向にある。
　硬化性化合物は、高屈折率の観点から、Ｎ、Ｓ及びＯよりなる群から選択される少なくとも１種の元素を含む官能基を有することが好ましく、Ｎ及びＳよりなる群から選択される少なくとも１種の元素を含む官能基を有することがより好ましい。

　Ｎを含む官能基としては、トリアジン環構造、イソシアヌル環構造、カルバゾール基、イミド基、ニトリル基等が挙げられる。Ｎを含む官能基を有する（Ａ）硬化性化合物としては、トリアジン環を有する重合体、エポキシ樹脂前駆体として前述の式（ａ１－Ｉ）で表される化合物、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリイミド等が挙げられる。トリアジン環を有する重合体は、その構造から、屈折率が比較的高い（１．７０以上である）ため、特に好ましい。

　Ｏを含む官能基としては、エポキシ基、イソシアヌル環構造、カルボキシ基、エステル基、ケトン基、ヒドロキシ基等が挙げられる。
　Ｏを含む官能基を有する硬化性化合物としては、前述の式（ｂ－０１）で表される化合物、エポキシ樹脂前駆体として前述のエポキシ化合物等が挙げられる。

　Ｓを含む官能基としては、チイラン基、スルホニル基（－ＳＯ_２－）、チオール基、チオエステル基等が挙げられる。
　Ｓを含む官能基を有する硬化性化合物としては、前述の式（ｂ－０１）で表される化合物、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスルホン、ポリフェニルスルホン等が挙げられる。
　Ｓｉを含む官能基を有する硬化性化合物としては、シロキサン結合（Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ）により構成されたシロキサン骨格を有するシロキサン化合物等が挙げられる。シロキサン化合物におけるシロキサン骨格としては、例えば、環状シロキサン骨格やかご型やラダー型のポリシルセスキオキサン骨格を挙げることができる。

　硬化性化合物は、金属酸化物微粒子含有膜の屈折率及び黄変耐性の観点、また、耐熱性及び基板への密着性の観点から、芳香族基、トリアジン環構造、イソシアヌル環構造及び環状シロキサン構造よりなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
　上記芳香族基としては、屈折率及び黄変耐性の観点、また、耐熱性及び基板への密着性の観点から、カルド構造を形成する芳香族基であることが好ましい。

　硬化性化合物は、屈折率及び黄変耐性の観点、また、耐熱性及び基板への密着性の観点から、前述の式（ｂ－０１）、トリアジン環構造を有する重合体、エポキシ樹脂前駆体として前述の式（ａ１－Ｉ）で表される化合物、及びエポキシ樹脂前駆体として前述の式（（ａ１－ＩＩＩ）で表されるシロキサンエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。

　硬化性化合物が、前述の式（ｂ－０１）で表される化合物を含む場合、硬化性化合物における、前述の式（ｂ－０１）で表される化合物の量は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらにより好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、１００質量％が最も好ましい。

　硬化性化合物としてのエポキシ化合物としては、エポキシ樹脂前駆体として前述のエポキシ化合物を用いることができる。

・エピスルフィド化合物
　エピスルフィド化合物の種類は、本発明の目的を阻害しない限り、特に限定されない。好ましいエピスルフィド化合物としては、前述のエポキシ化合物について、エポキシ基中の酸素原子を硫黄原子に置換した化合物が挙げられる。

・ビニルエーテル化合物
　硬化性化合物は、ビニルオキシ基を含むビニルエーテル化合物を含んでいても含んでいなくてもよい。
　ビニルエーテル化合物は、ビニルオキシ基を有し、カチオン重合可能な化合物であれば特に限定されない。
　ビニルエーテル化合物は、芳香族基を含んでいてもよく、芳香族基を含んでいなくてもよい。
　硬化物の耐熱分解性が良好である点からは、ビニルエーテル化合物は、芳香族基に結合するビニルオキシ基を有する化合物であるのが好ましい。

　ビニルエーテル化合物の好適な具体例としては、ビニルフェニルエーテル、４－ビニロキシトルエン、３－ビニロキシトルエン、２－ビニロキシトルエン、１－ビニロキシ－４－クロロベンゼン、１－ビニロキシ－３－クロロベンゼン、１－ビニロキシ－２－クロロベンゼン、１－ビニロキシ－２，３－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－２，４－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－２，５－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－２，６－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－３，４－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシ－３，５－ジメチルベンゼン、１－ビニロキシナフタレン、２－ビニロキシナフタレン、２－ビニロキシフルオレン、３－ビニロキシフルオレン、４－ビニロキシ－１，１’－ビフェニル、３－ビニロキシ－１，１’－ビフェニル、２－ビニロキシ－１，１’－ビフェニル、６－ビニロキシテトラリン、及び５－ビニロキシテトラリン等の芳香族モノビニルエーテル化合物；１，４－ジビニロキシベンゼン、１，３－ジビニロキシベンゼン、１，２－ジビニロキシベンゼン、１，４－ジビニロキシナフタレン、１，３－ジビニロキシナフタレン、１，２－ジビニロキシナフタレン、１，５－ジビニロキシナフタレン、１，６－ジビニロキシナフタレン、１，７－ジビニロキシナフタレン、１，８－ジビニロキシナフタレン、２，３－ジビニロキシナフタレン、２，６－ジビニロキシナフタレン、２，７－ジビニロキシナフタレン、１，２－ジビニロキシフルオレン、３，４－ジビニロキシフルオレン、２，７－ジビニロキシフルオレン、４，４’－ジビニロキシビフェニル、３，３’－ジビニロキシビフェニル、２，２’－ジビニロキシビフェニル、３，４’－ジビニロキシビフェニル、２，３’－ジビニロキシビフェニル、２，４’－ジビニロキシビフェニル、及びビスフェノールＡジビニルエーテル等の芳香族ジビニルエーテル化合物が挙げられる。
　これらの、ビニルエーテル化合物は、２種以上組み合わせて用いられてもよい。

・トリアジン環構造を有する重合体
　トリアジン環構造を有する重合体は、以上説明した他の硬化性化合物と混合して用いることが好ましい。
　上記したトリアジン環構造を有する重合体（以下単に「トリアジン環含有重合体」ともいう。）の例としては、下記式（ｔ１）～（ｔ１６）で示される単位からなる重合体が挙げられる。

　上記式中、Ｒ^ｔ０及びＲ^ｔ１は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又はアラルキル基を表し、屈折率をより高めるという観点から、ともに水素原子であることが好ましい。Ｒ^ｔ２～Ｒ^ｔ４、及びＲ^ｔ６～Ｒ^ｔ９は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素原子数１以上１０以下の分岐構造を有していてもよいアルキル基、又は炭素原子数１以上１０以下の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｒ^１０２及びＲ^１０３は、互いに独立して炭素原子数１以上５以下のアルキル基を表す。）

（式中、Ｒ^ｔ０～Ｒ^ｔ４、Ｒ^ｔ６～Ｒ^ｔ９、Ｒ^１０２及びＲ^１０３は、上記と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^ｔ０～Ｒ^ｔ４、及びＲ^ｔ６～Ｒ^ｔ９は、上記と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^ｔ０～Ｒ^ｔ４、及びＲ^ｔ６～Ｒ^ｔ９は上記と同じ意味を表し、Ｒ^ｔ５は水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素原子数１以上１０以下の分岐構造を有していてもよいアルキル基、又は炭素原子数１以上１０以下の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｒ^１０２及びＲ^１０３は、互いに独立して炭素原子数１以上５以下のアルキル基を表す。）

（式中、Ｒ^ｔ０～Ｒ^ｔ９、Ｒ^１０２及びＲ^１０３は、上記と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^ｔ０～Ｒ^ｔ９は、上記と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^ｔ０～Ｒ^ｔ４、Ｒ^ｔ６～Ｒ^ｔ９は上記と同じ意味を表し、Ｒ^１０２及びＲ^１０３は、互いに独立して炭素原子数１以上５以下のアルキル基を表す。）

（式中、Ｒ^ｔ０～Ｒ^ｔ４、Ｒ^ｔ６～Ｒ^ｔ９は、上記と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^ｔ０～Ｒ^ｔ９は上記と同じ意味を表し、Ｒ^１０２及びＲ^１０３は、互いに独立して炭素原子数１以上５以下のアルキル基を表す。）

（式中、Ｒ^ｔ０～Ｒ^ｔ９は、上記と同じ意味を表す。）

　トリアジン環含有重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されない。トリアジン環含有重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５００以上５００，０００以下が好ましく、５００以上１００，０００以下がより好ましい。本発明の効果の達成が容易である点から、２，０００以上が好ましく、より溶解性を高め、得られた溶液の粘度を低下させるという点から、５０，０００以下が好ましく、３０，０００以下がより好ましく、１０，０００以下がさらに好ましい。
　重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣという）分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。

　トリアジン環含有重合体は、例えば、国際公開第２０１０／１２８６６１号に開示された手法によって製造することができる。

　トリアジン環含有重合体は、少なくとも１つのジアミン末端を有し、このジアミン末端の少なくとも１つが、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基等のカルボニル含有基で封止されていることが好ましい。このように、カルボニル含有基で末端を封止することで、トリアジン環含有重合体の着色を抑制することができる。

　アシル基の具体例としては、アセチル基、エチルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
　アルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
　アラルキルオキシカルボニル基の具体例としては、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。
　アリールオキシカルボニル基の具体例としては、フェノキシカルボニル基等が挙げられる。
　これらの中でも、末端封止基としてはアシル基が好ましく、試薬の入手容易性等を考慮するとアクリロイル基、メタクリロイル基、アセチル基がより好ましい。

　末端封止方法としては、公知の方法を採用すればよく、例えば、酸ハロゲン化物、酸無水物等で処理すればよい。
　この場合、末端封止剤の使用量は、重合反応に使われなかった余剰のジアミノ化合物由来のアミノ基１当量に対し、０．０５当量以上１０当量以下程度が好ましく、０．１当量以上５当量以下がより好ましく、０．５当量以上２当量以下がより一層好ましい。

　上記の硬化性化合物は単独で用いても複数種を混合して用いてもよい。
　硬化性組成物における硬化性化合物の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。硬化性組成物における硬化性化合物の含有量は、硬化性組成物の固形分全体を１００質量部としたときに、６０質量部以上９９．９質量部以下が好ましく、７５質量部以上９９．５質量部以下がより好ましく、９０質量部以上９９質量部以下が特に好ましい。

（硬化剤）
　硬化性組成物は、硬化剤を含むのが好ましい。硬化剤としては、第４の態様の感エネルギー性組成物について説明した硬化剤と同様の硬化剤を用いることができる。

　硬化性組成物における硬化剤としてのカチオン重合開始剤の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。硬化性組成物におけるカチオン重合開始剤の含有量は、前述のオニウム塩（Ｂ０１）、及び前述の他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）の総量として、硬化性化合物１００質量部に対して、０．０１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下がより好ましく、０．１質量部以上２質量部以下が特に好ましい。
　また、オニウム塩（Ｂ０１）の含有量は、スルホニウム塩（Ｂ０１）、及び後述する他のカチオン重合開始剤（Ｂ０２）の総量に対して１０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上がさらにより好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、１００質量％が最も好ましい。
　かかる範囲内の量のカチオン重合開始剤を用いることにより、屈折率及び黄変耐性に優れ、耐熱性（耐熱分解性）及び基板への密着性も良好である金属酸化物微粒子含有膜を形成しやすい。

　硬化性組成物がアニオン重合し得る場合、硬化剤としてアニオン重合開始剤を用いることもできる。アニオン重合開始剤としては光によるアニオン重合開始剤であっても熱によるアニオン重合開始剤であってもよい。
　例えば、前述のエポキシ化合物を、アニオン重合開始剤とともに硬化性組成物に配合する場合、アニオン硬化型の硬化性組成物が得られる。
　光によるアニオン重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、トリフェニルメタノール、ベンジルカルバメート及びベンゾインカルバメート等の光活性なカルバメート；Ｏ－カルバモイルヒドロキシアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、アロマティックスルホンアミド、アルファーラクタム及びＮ－（２－アリルエチニル）アミド等のアミド並びにその他のアミド；オキシムエステル化合物、α－アミノアセトフェノン、コバルト錯体等を挙げることができる。これらのうち、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン等が好ましいアニオン重合開始剤として挙げられる。
　上記以外の好適な例としては、式（ｄ２）又は（ｄ３）で表される化合物等の、光（及び／又は熱）の作用により分解してイミダゾール化合物を発生する化合物が挙げられる。
　熱によるアニオン重合開始剤としては、従来から使用されている化合物を特に限定なく用いることができ、例えば、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オンその他、アミン－エポキシアダクト系熱アニオン重合開始剤、アミン－イソシアネート系化合物からなる熱塩基発生剤、又はジシアンジアミド類、ヒドラジン類、若しくは芳香族ジアミン類等のアニオン重合型硬化剤、又は異なる種類の硬化剤からなる複合系のアニオン重合型硬化剤等が挙げられる。アミン－エポキシアダクト系熱アニオン重合開始剤としては、例えば、「アミキュアＰＮ－２３」、「アミキュアＰＮ－４０」、アミキュアＰＮ－５０」、「アミキュアＰＮ－Ｈ」（いずれも味の素ファインテクノ社の商品名）、「ハードナーＸ－３６６１Ｓ」（エー・シー・アール社の商品名）、「ハードナーＸ－３６７０Ｓ」（エー・シー・アール社の商品名）、「ノバキュアＨＸ－３７４２」（旭化成社の商品名）、「ノバキュアＨＸ－３７２１」（旭化成社の商品名）等が挙げられ、また、アミン－イソシアネート系化合物からなる熱塩基発生剤としては、例えば、「フジキュアＦＸＥ－１０００」（富士化成社の商品名）、「フジキュアＦＸＲ－１０３０」（富士化成社の商品名）等が挙げられる。なお、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オンは光の作用によってもアニオン重合開始剤として機能し得る。

　硬化性組成物におけるアニオン重合開始剤の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。硬化性組成物におけるアニオン重合開始剤の含有量は、硬化性化合物１００質量部に対して、０．０１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下がより好ましく、０．１質量部以上２質量部以下が特に好ましい。

（融点１４０℃以下のイオン液体（以下、単に「イオン液体」ともいう。））
　イオン液体は、１４０℃以下の温度領域で融解しうる塩であり、１４０℃以下で液体となる安定な塩であることが好ましい。
　イオン液体の融点としては、本発明の効果をより確実に達成する観点及び塗工性の観点等から、１２０℃以下であることが好ましく、１００℃以下であることがより好ましく、８０℃以下であることがさらに好ましい。
　硬化性組成物が溶剤を含む場合、本発明の効果をより確実に達成する観点、塗工性及び異物抑制の観点等から、室温（２５℃）での当該硬化性組成物中に含まれている溶剤に対するイオン液体の溶解性が、７０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは８０質量％以上であり、特に好ましくは９０質量％以上である。

　また、上記溶解性とは、当該硬化性組成物中に含まれている溶剤１００質量部に対し、イオン液体を７０質量部、８０質量部又は９０質量部等混合し、振とう機で５分間処理したときに、目視による沈殿の有無確認により、沈殿が見られない質量をいう。
　イオン液体は塩であることによりイオン導電性がよく、融点１４０℃以下で液体であることにより硬化性組成物中に均一に拡散し得る。また、熱分解温度も比較的高い。よって、硬化性組成物中において、カチオン重合であるかアニオン重合であるかの依存性低く、均一に硬化反応を促進することができ、その結果、屈折率及び黄変耐性（特に黄変耐性）に優れ、また、耐熱性及び基板への密着性も良好である金属酸化物微粒子含有膜を形成することができる。

　イオン液体は、有機カチオンと、アニオンとから構成されることが好ましい。
　イオン液体は、窒素含有有機カチオン、リン含有有機カチオン、又は硫黄含有有機カチオンと、対アニオンとからなるのが好ましく、窒素含有有機カチオン、又はリン含有有機カチオンと、対アニオンとからなるのがより好ましい。

　イオン液体を構成する有機カチオンとしては、後述する溶剤との親和性が良好であること等から、アルキル鎖四級アンモニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ピリミジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、グアニジニウムカチオン、モルホリニウムカチオン、ホスホニウムカチオン及びスルホニウムカチオンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、アルキル鎖四級アンモニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、モルホリニウムカチオン、又はホスホニウムカチオンであることがより好ましく、本発明の効果の点で、ピロリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、又はホスホニウムカチオンであることがさらに好ましい。

　上記アルキル鎖四級アンモニウムカチオンの具体例としては下記式（Ｌ１）で表される四級アンモニウムカチオンが挙げられる。具体的には、例えば、テトラメチルアンモニウムカチオン、エチルトリメチルアンモニウムカチオン、ジエチルジメチルアンモニウムカチオン、トリエチルメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオン、オクチルトリメチルアンモニウムカチオン、ヘキシルトリメチルアンモニウムカチオン、メチルトリオクチルアンモニウムカチオン等が挙げられる。
　上記ピペリジニウムカチオンの具体例としては下記式（Ｌ２）で表されるピペリジニウムカチオンが挙げられる。具体的には、例えば、１－プロピルピペリジニウムカチオン、１－ペンチルピペリジニウムカチオン、１，１－ジメチルピペリジニウムカチオン、１－メチル－１－エチルピペリジニウムカチオン、１－メチル－１－プロピルピペリジニウムカチオン、１－メチル－１－ブチルピペリジニウムカチオン、１－メチル－１－ペンチルピペリジニウムカチオン、１－メチル－１－ヘキシルピペリジニウムカチオン、１－メチル－１－ヘプチルピペリジニウムカチオン、１－エチル－１－プロピルピペリジニウムカチオン、１－エチル－１－ブチルピペリジニウムカチオン、１－エチル－１－ペンチルピペリジニウムカチオン、１－エチル－１－ヘキシルピペリジニウムカチオン、１－エチル－１－ヘプチルピペリジニウムカチオン、１，１－ジプロピルピペリジニウムカチオン、１－プロピル－１－ブチルピペリジニウムカチオン、１，１－ジブチルピペリジニウムカチオン等が挙げられる。
　上記ピリミジニウムカチオンの具体例としては、例えば、１，３－ジメチル－１，４，５，６－テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３－トリメチル－１，４，５，６－テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４－テトラメチル－１，４，５，６－テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，５－テトラメチル－１，４，５，６－テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，３－ジメチル－１，４－ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，３－ジメチル－１，６－ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３－トリメチル－１，４－ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３－トリメチル－１，６－ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４－テトラメチル－１，４－ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４－テトラメチル－１，６－ジヒドロピリミジニウムカチオン等が挙げられる。

　上記ピロリジニウムカチオンの具体例としては下記式（Ｌ３）で表されるピロリジニウムカチオンが挙げられ、より具体的には、例えば、１，１－ジメチルピロリジニウムカチオン、１－エチル－１－メチルピロリジニウムカチオン、１－メチル－１－プロピルピロリジニウムカチオン、１－メチル－１－ブチルピロリジニウムカチオン、１－メチル－１－ペンチルピロリジニウムカチオン、１－メチル－１－ヘキシルピロリジニウムカチオン、１－メチル－１－ヘプチルピロリジニウムカチオン、１－エチル－１－プロピルピロリジニウムカチオン、１－エチル－１－ブチルピロリジニウムカチオン、１－エチル－１－ペンチルピロリジニウムカチオン、１－エチル－１－ヘキシルピロリジニウムカチオン、１－エチル－１－ヘプチルピロリジニウムカチオン、１，１－ジプロピルピロリジニウムカチオン、１－プロピル－１－ブチルピロリジニウムカチオン、１，１－ジブチルピロリジニウムカチオン等が挙げられる。
　上記イミダゾリウムカチオンの具体例としては下記式（Ｌ５）で表されるイミダゾリウムカチオンが挙げられ、より具体的には、例えば、１，３－ジメチルイミダゾリウムカチオン、１，３－ジエチルイミダゾリウムカチオン、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムカチオン、１－プロピル－３－メチルイミダゾリウムカチオン、１－ブチル－３－メチルイミダゾリウムカチオン、１－ヘキシル－３－メチルイミダゾリウムカチオン、１－オクチル－３－メチルイミダゾリウムカチオン、１－デシル－３－メチルイミダゾリウムカチオン、１－ドデシル－３－メチルイミダゾリウムカチオン、１－テトラデシル－３－メチルイミダゾリウムカチオン、１，２－ジメチル－３－プロピルイミダゾリウムカチオン、１－エチル－２，３－ジメチルイミダゾリウムカチオン、１－ブチル－２，３－ジメチルイミダゾリウムカチオン、１－ヘキシル－２，３－ジメチルイミダゾリウムカチオン等が挙げられる。
　上記ピリジニウムカチオンの具体例としては下記式（Ｌ６）で表されるピリジニウムカチオンが挙げられ、より具体的には、例えば、１－エチルピリジニウムカチオン、１－ブチルピリジニウムカチオン、１－ヘキシルピリジニウムカチオン、１－ブチル－３－メチルピリジニウムカチオン、１－ブチル－４－メチルピリジニウムカチオン、１－ヘキシル－３－メチルピリジニウムカチオン、１－ブチル－３，４－ジメチルピリジニウムカチオン等が挙げられる。

　上記ピラゾリウムカチオンの具体例としては、例えば、１－メチルピラゾリウムカチオン、３－メチルピラゾリウムカチオン、１－エチル－２－メチルピラゾリニウムカチオン、１－エチル－２，３，５－トリメチルピラゾリウムカチオン、１－プロピル－２，３，５－トリメチルピラゾリウムカチオン、１－ブチル－２，３，５－トリメチルピラゾリウムカチオン等が挙げられる。

　上記ホスホニウムカチオンの具体例としては下記式（Ｌ４）で表されるホスホニウムカチオンが挙げられる。具体的には、テトラブチルホスホニウムカチオン、トリブチルメチルホスホニウムカチオン、トリブチルヘキシルホスホニウムカチオン等のテトラアルキルホスホニウムカチオンや、トリエチル（メトキシメチル）ホスホニウムカチオン等が挙げられる。
　上記スルホニウムカチオンの具体例としては、トリエチルスルホニウムカチオン、ジメチルエチルスルホニウムカチオン、トリエチルスルホニウムカチオン、エチルメチルプロピルスルホニウムカチオン、ブチルジメチルスルホニウムカチオン、１－メチルテトラヒドロチオフェニウムカチオン、１－エチルテトラヒドロチオフェニウムカチオン、１－プロピルテトラヒドロチオフェニウムカチオン、１－ブチルテトラヒドロチオフェニウムカチオン、又は１－メチル－［１，４］－チオキソニウムカチオン等が挙げられる。中でも、上記スルホニウムカチオンとしては、テトラヒドロチオフェニウム系又はヘキサヒドロチオピリリウム系の５員環又は６員環等の環状構造を有しているスルホニウムカチオンが好ましく、環状構造中に酸素原子等のヘテロ原子を有していてもよい。

　式（Ｌ１）～（Ｌ４）中、Ｒ^Ｌ１～Ｒ^Ｌ４は、それぞれ独立に、炭素原子数が１以上２０以下のアルキル基、又はＲ^Ｌ７－Ｏ－（ＣＨ_２）_Ｌｎ－で表わされるアルコキシアルキル基である。Ｒ^Ｌ７は、メチル基、又はエチル基を示す。Ｌｎは１以上４以下の整数を表す。
　式（Ｌ５）中、Ｒ^Ｌ１～Ｒ^Ｌ４は、各々独立に、炭素原子数が１以上２０以下のアルキル基、Ｒ^Ｌ７－Ｏ－（ＣＨ_２）_Ｌｎ－で表わされるアルコキシアルキル基、又は水素原子である。Ｒ^Ｌ７は、メチル基、又はエチル基を示す。Ｌｎは１以上４以下の整数を表す。
　式（Ｌ６）中、Ｒ^Ｌ１～Ｒ^Ｌ６は、各々独立に、炭素原子数が１以上２０以下のアルキル基、Ｒ^Ｌ７－Ｏ－（ＣＨ_２）_Ｌｎ－で表わされるアルコキシアルキル基、水素原子である。Ｒ^Ｌ７は、メチル基、又はエチル基を示す。Ｌｎは１以上４以下の整数を表す。

　イオン液体を構成するアニオンとしては、有機アニオンであっても、無機アニオンであってもよい。イオン液体の後述する溶剤（Ｓ）との親和性が良好であることから、有機アニオンが好ましい。
　有機アニオンとして、カルボン酸系アニオン、Ｎ－アシルアミノ酸イオン、酸性アミノ酸アニオン、中性アミノ酸アニオン、アルキル硫酸系アニオン、含フッ素化合物系アニオン及びフェノール系アニオンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、カルボン酸系アニオン又はＮ－アシルアミノ酸イオンであることがより好ましい。

　上記カルボン酸系アニオンの具体例としては、酢酸イオン、デカン酸イオン、２－ピロリドン－５－カルボン酸イオン、ギ酸イオン、α－リポ酸イオン、乳酸イオン、酒石酸イオン、馬尿酸イオン、Ｎ－メチル馬尿酸イオン等が挙げられ、中でも、酢酸イオン、２－ピロリドン－５－カルボン酸イオン、ギ酸イオン、乳酸イオン、酒石酸イオン、馬尿酸イオン、Ｎ－メチル馬尿酸イオンが好ましく、酢酸イオン、Ｎ－メチル馬尿酸イオン、ギ酸イオンがより好ましい。
　上記Ｎ－アシルアミノ酸イオンの具体例としては、Ｎ－ベンゾイルアラニンイオン、Ｎ－アセチルフェニルアラニンイオン、アスパラギン酸イオン、グリシンイオン、Ｎ－アセチルグリシンイオン等が挙げられ、中でも、Ｎ－ベンゾイルアラニンイオン、Ｎ－アセチルフェニルアラニンイオン、Ｎ－アセチルグリシンイオンが好ましく、Ｎ－アセチルグリシンイオンがより好ましい。

　上記酸性アミノ酸アニオンの具体例としては、アスパラギン酸イオン、グルタミン酸イオン等が挙げられ、上記中性アミノ酸アニオンの具体例としては、グリシンイオン、アラニンイオン、フェニルアラニンイオン等が挙げられる。
　上記アルキル硫酸系アニオンの具体例としては、メタンスルホン酸イオン等が挙げられ、上記含フッ素化合物系アニオンの具体例としては、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロホスホン酸イオン、トリフルオロトリス（ペンタフルオロエチル）ホスホン酸イオン、ビス（フルオロアルキルスルホニル）イミドイオン（例えば、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドイオン）、トリフルオロ酢酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン等が挙げられ、上記フェノール系アニオンの具体例としては、フェノールイオン、２－メトキシフェノールイオン、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノールイオン等が挙げられる。

　上記無機アニオンとして、本発明の効果をより確実に達成する観点から、Ｆ^－、Ｃｌ^－、Ｂｒ^－、Ｉ^－、ＢＦ_４ ^－、ＰＦ_６ ^－及びＮ（ＳＯ_２Ｆ）_２ ^－からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、ＢＦ_４ ^－、ＰＦ_６ ^－又はＮ（ＳＯ_２Ｆ）_２ ^－であることがより好ましく、ＢＦ_４ ^－又はＰＦ_６ ^－であることがさらに好ましい。

　イオン液体は、例えば、国際公開第２０１４／１７８２５４号の段落００４５に開示された手法等によって製造することができる。
　イオン液体は単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
　イオン液体の含有量としては、本発明の効果を達成し得る限り特に制限はないが、硬化性化合物１００質量部に対して、０．０００１質量部以上１質量部以下であることが好ましく、０．００１質量部以上１質量部以下であることがより好ましく、０．００２質量部以上０．１質量部以下であることがさらに好ましく、０．００３質量部以上０．０７質量部以下であることが特に好ましい。

（硬化促進剤）
　硬化性組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。硬化性組成物が硬化促進剤を含む場合、屈折率及び黄変耐性の両立とともに、硬化性組成物の硬化性を向上させ、耐熱性（耐熱分解性）と、基板への密着性とが特に良好である金属酸化物微粒子含有膜を形成できる。

　硬化促進剤の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。硬化促進剤の使用量は、硬化性化合物１００質量部に対して、０．０１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下がより好ましく、０．１質量部以上２質量部以下が特に好ましい。

（増感剤）
　硬化性組成物は、増感剤を含んでいてもよい。硬化性組成物がカチオン重合開始剤を含み、カチオン重合開始剤がスルホニウムカチオン及び／又はヨードニウムカチオンを含む場合、硬化性組成物が増感剤を含むのが好ましい。増感剤としては、従来より種々のカチオン重合開始剤と併用されている公知の増感剤を特に制限なく用いることができる。
　増感剤の好適な例は、第４の態様の感エネルギー性組成物について説明した増感剤と同様である。増感剤は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　増感剤の使用量は特に限定されないが、カチオン重合開始剤の質量に対して、１質量％以上３００質量％以下が好ましく、５質量％以上２００質量％以下がより好ましい。かかる範囲内の量の増感剤を用いることにより、所望する増感作用を得やすい。

（酸化防止剤）
　硬化性組成物は、酸化防止剤を含んでいても含んでいなくてもよいが、黄変耐性の観点から、酸化防止剤を含んでいることが好ましい。
　酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物等が挙げられ、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物又は分子量５００以上のチオエーテル化合物がより好ましい。また、酸化防止剤は、フェノール化合物が好ましく、分子量５００以上のフェノール化合物がより好ましい。

　フェノール化合物としては、フェノール系着色防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性水酸基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素原子数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルへキシル基がより好ましい。また、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。

　亜リン酸エステル化合物としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、及び亜りん酸エチルビス（２，４－ジｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。

　酸化防止剤は、市販品として容易に入手可能であり、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０、アデカスタブ　ＰＥＰ－３６Ａ、アデカスタブ　ＡＯ－４１２Ｓ（（株）ＡＤＥＫＡ）等が挙げられる。

　酸化防止剤の含有量は、硬化性組成物の溶剤を除く成分のうち、０．０１質量％以上２０質量％以下が好ましく、０．３質量％以上１５質量％以下がより好ましい。着色防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

（その他の成分）
　硬化性組成物には、必要に応じて、界面活性剤、熱重合禁止剤、消泡剤、シランカップリング剤、着色剤（顔料、染料）、樹脂（熱可塑性樹脂、アルカリ可溶性樹脂等）、有機フィラー等の添加剤を含有させることができる。いずれの種類の添加剤も、従来公知の添加剤を用いることができる。

（溶剤）
　硬化性組成物は、塗布性や粘度の調整の目的で、溶剤を含むことが好ましい。溶剤としては、典型的には有機溶剤が用いられる。有機溶剤の種類は、硬化性組成物に含まれる成分を、均一に溶解又は分散させることができれば特に限定されない。

　溶剤として使用し得る有機溶剤の好適な例は、第１の態様の感エネルギー性組成物における有機溶剤の好適な例と同様である。

　硬化性組成物における、溶剤の使用量は特に限定されない。硬化性組成物の塗布性の点等から、溶剤の使用量は、硬化性組成物全体に対して、例えば３０質量％以上９９．９質量％以下であり、好ましくは５０質量％以上９８質量％以下である。

（金属酸化物微粒子含有膜）
　以上説明した第５の態様の感エネルギー性組成物としての硬化性組成物を硬化してなる金属酸化物微粒子含有膜は、屈折率及び黄変耐性に優れ、また、耐熱性及び基板への密着性も良好である。
　硬化膜の厚さとしては、特に制限はないが、１０ｎｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以上１０μｍ以下であることがさらに好ましく、３００ｎｍ以上５μｍ以下であることが特に好ましい。
　該硬化膜は、例えば、ＯＬＥＤ表示素子用封止材、ＯＬＥＤ照明、ハードコート、絶縁膜、反射防止膜、層間絶縁膜、カーボンハードマスク、ディスプレイパネル材料（平坦化膜、カラーフィルタの画素、有機ＥＬ用隔壁、スペーサ）、光学部材（レンズ、マイクロレンズ、ウェハレベルレンズ、光ファイバー、光導波路、プリズムシート、ホログラム、高屈折フィルム、再帰反射フィルム）等の種々の用途に好適である。また、硬化膜は柔軟性に優れ割れにくいため、フレキシブル表示パネルやフレキシブル照明において好適に用いられる。
　また、硬化膜は、タッチパネル等の表示素子において、金属配線等を被覆する透明被膜として特に好ましく使用される。

（７）ケイ素含有樹脂組成物
　前述の通り、焼成により硬化膜を生成させる樹脂も、基材成分（Ｄ）としての前駆体樹脂として好ましい。焼成により硬化膜を生成させる樹脂としては、例えば、ケイ素含有樹脂が挙げられる。ケイ素含有樹脂の好ましい例としては、シロキサン樹脂、及びポリシランから選択される１種以上が挙げられる。これらのケイ素含有樹脂を含む金属酸化物微粒子分散液を塗布することでケイ素含有樹脂を含む金属酸化物微粒子含有膜が得られる。当該金属酸化物微粒子含有膜が焼成されることでシリカ系の金属酸化物微粒子含有膜が得られる。
　以下、シロキサン樹脂、及びポリシランとについて説明する。

（シロキサン樹脂）
　シロキサン樹脂について、後述する溶剤に可溶である樹脂であれば、特に制限はない。
　シロキサン樹脂としては、例えば下式（Ｃ－ａ）で表されるシラン化合物から選択される少なくとも１種を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂が好適に使用される。
　　Ｒ^Ｙ０ _{（４－ｎ０）}Ｓｉ（ＯＲ’）_ｎ０・・・（Ｃ－ａ）

　式（Ｃ－ａ）において、Ｒ^Ｙ０は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表し、Ｒ’はアルキル基又はフェニル基を表し、ｎ０は２以上４以下の整数を表す。Ｓｉに複数のＲ^Ｙ０が結合している場合、該複数のＲ^Ｙ０は同じであっても異なっていてもよい。またＳｉに結合している複数の（ＯＲ’）基は同じであっても異なっていてもよい。

　また、Ｒ^Ｙ０としてのアルキル基は、好ましくは炭素原子数１以上２０以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数１以上４以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。

　Ｒ^Ｙ０がアリール基、又はアラルキル基である場合、これらの基に含まれるアリール基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。アリール基の好適な例としては、下記の基が挙げられる。

　上記式の基の中では、下式の基が好ましい。

　上記式中、Ｒ^ａ１は、水素原子；水酸基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基；メチル基、エチル基、ブチル基、プロピル基等の炭化水素基である。上記式中Ｒ^ａ２は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基である。

　Ｒ^Ｙ０がアリール基又はアラルキル基である場合の好適な具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ビフェニリル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。

　アリール基又はアラルキル基に含まれるベンゼン環の数は１個以上３個以下が好ましい。ベンゼン環の数が１個以上３個以下であると、シロキサン樹脂の製造性が良好であり、シロキサン樹脂の重合度の上昇により焼成時の揮発が抑制され、シリカフィルムの形成が容易である。アリール基又はアラルキル基は、置換基として水酸基を有していてもよい。

　また、Ｒ’としてのアルキル基は好ましくは炭素原子数１以上５以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。Ｒ’としてのアルキル基の炭素原子数は、特に加水分解速度の点から１又は２が好ましい。
　式（Ｃ－ａ）におけるｎ０が４の場合のシラン化合物（ｉ）は下式（Ｃ－ｂ）で表される。
　　Ｓｉ（ＯＲ^Ｙ１）_ａ１（ＯＲ^Ｙ２）_ｂ１（ＯＲ^Ｙ３）_ｃ１（ＯＲ^Ｙ４）_ｄ１・・・（Ｃ－ｂ）

　式（Ｃ－ｂ）中、Ｒ^Ｙ１、Ｒ^Ｙ２、Ｒ^Ｙ３及びＲ^Ｙ４は、それぞれ独立に上記Ｒ’と同じアルキル基又はフェニル基を表す。

　ａ１、ｂ１、ｃ１及びｄ１は、０≦ａ１≦４、０≦ｂ１≦４、０≦ｃ１≦４、０≦ｄ１≦４であって、且つａ１＋ｂ１＋ｃ１＋ｄ１＝４の条件を満たす整数である。

　式（Ｃ－ａ）におけるｎ０が３の場合のシラン化合物（ｉｉ）は下記式（Ｃ－ｃ）で表される。
　　Ｒ^Ｙ５Ｓｉ（ＯＲ^Ｙ６）_ｅ１（ＯＲ^Ｙ７）_ｆ１（ＯＲ^Ｙ８）_ｇ１・・・（Ｃ－ｃ）

　式（Ｃ－ｃ）中、Ｒ^Ｙ５は水素原子、上記Ｒと同じアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｒ^Ｙ６、Ｒ^Ｙ７、及びＲ^Ｙ８は、それぞれ独立に上記Ｒ’と同じアルキル基又はフェニル基を表す。

　ｅ１、ｆ１、及びｇ１は、０≦ｅ１≦３、０≦ｆ１≦３、０≦ｇ１≦３であって、且つｅ１＋ｆ１＋ｇ１＝３の条件を満たす整数である。

　式（Ｃ－ａ）におけるｎ０が２の場合のシラン化合物（ｉｉｉ）は下記式（Ｃ－ｄ）で表される。
　　Ｒ^Ｙ９Ｒ^Ｙ１０Ｓｉ（ＯＲ^Ｙ１１）_ｈ１（ＯＲ^Ｙ１２）_ｉ１・・・（Ｃ－ｄ）

　式（Ｃ－ｄ）中、Ｒ^Ｙ９及びＲ^Ｙ１０は水素原子、上記Ｒと同じアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｒ^Ｙ１１、及びＲ^Ｙ１２は、それぞれ独立に上記Ｒ’と同じアルキル基又はフェニル基を表す。

　ｈ１及びｉ１は、０≦ｈ１≦２、０≦ｉ１≦２であって、且つｈ１＋ｉ１＝２の条件を満たす整数である。

　シラン化合物（ｉ）の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラペンチルオキシシラン、テトラフェニルオキシシラン、トリメトキシモノエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリエトキシモノメトキシシラン、トリメトキシモノプロポキシシラン、モノメトキシトリブトキシシラン、モノメトキシトリペンチルオキシシラン、モノメトキシトリフェニルオキシシラン、ジメトキシジプロポキシシラン、トリプロポキシモノメトキシシラン、トリメトキシモノブトキシシラン、ジメトキシジブトキシシラン、トリエトキシモノプロポキシシラン、ジエトキシジプロポキシシラン、トリブトキシモノプロポキシシラン、ジメトキシモノエトキシモノブトキシシラン、ジエトキシモノメトキシモノブトキシシラン、ジエトキシモノプロポキシモノブトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシモノエトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシモノブトキシシラン、ジプロポキシモノエトキシモノブトキシシラン、ジブトキシモノメトキシモノエトキシシラン、ジブトキシモノエトキシモノプロポキシシラン、モノメトキシモノエトキシモノプロポキシモノブトキシシラン等のテトラアルコキシシランが挙げられ、中でもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましい。

　シラン化合物（ｉｉ）の具体例としては、
トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリペンチルオキシシラン、トリフェニルオキシシラン、ジメトキシモノエトキシシラン、ジエトキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシルモノメトキシシラン、ジペンチルオキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシモノプロポキシシラン、ジフェニルオキシルモノメトキシシラン、ジフェニルオキシモノエトキシシラン、ジフェニルオキシモノプロポキシシラン、メトキシエトキシプロポキシシラン、モノプロポキシジメトキシシラン、モノプロポキシジエトキシシラン、モノブトキシジメトキシシラン、モノペンチルオキシジエトキシシラン、及びモノフェニルオキシジエトキシシラン等のヒドロシラン化合物；
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリペンチルオキシシラン、メチルトリフェニルオキシシラン、メチルモノメトキシジエトキシシラン、メチルモノメトキシジプロポキシシラン、メチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、メチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、メチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びメチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のメチルシラン化合物；
エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリペンチルオキシシラン、エチルトリフェニルオキシシラン、エチルモノメトキシジエトキシシラン、エチルモノメトキシジプロポキシシラン、エチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、エチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、エチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びエチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のエチルシラン化合物；
プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、プロピルトリペンチルオキシシラン、及びプロピルトリフェニルオキシシラン、プロピルモノメトキシジエトキシシラン、プロピルモノメトキシジプロポキシシラン、プロピルモノメトキシジペンチルオキシシラン、プロピルモノメトキシジフェニルオキシシラン、プロピルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びプロピルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン、等のプロピルシラン化合物；
ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシラン、ブチルトリペンチルオキシシラン、ブチルトリフェニルオキシシラン、ブチルモノメトキシジエトキシシラン、ブチルモノメトキシジブロポキシシラン、ブチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ブチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ブチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びブチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のブチルシラン化合物；
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリペンチルオキシシラン、フェニルトリフェニルオキシシラン、フェニルモノメトキシジエトキシシラン、フェニルモノメトキシジプロポキシシラン、フェニルモノメトキシジペンチルオキシシラン、フェニルモノメトキシジフェニルオキシシラン、フェニルメトキシエトキシプロポキシシラン、トリメトキシ（２－フェニルエチル）シラン及びフェニルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のフェニルシラン化合物；
ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、ヒドロキシフェニルトリエトキシシラン、ヒドロキシフェニルトリプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルトリペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルトリフェニルオキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジエトキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びヒドロキシフェニルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のヒドロキシフェニルシラン化合物；
ナフチルトリメトキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン、ナフチルトリプロポキシシラン、ナフチルトリペンチルオキシシラン、ナフチルトリフェニルオキシシラン、ナフチルモノメトキシジエトキシシラン、ナフチルモノメトキシジプロポキシシラン、ナフチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ナフチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ナフチルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びナフチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のナフチルシラン化合物；
ベンジルトリメトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、ベンジルトリプロポキシシラン、ベンジルトリペンチルオキシシラン、ベンジルトリフェニルオキシシラン、ベンジルモノメトキシジエトキシシラン、ベンジルモノメトキシジプロポキシシラン、ベンジルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ベンジルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ベンジルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びベンジルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のベンジルシラン化合物；
ヒドロキシベンジルトリメトキシシラン、ヒドロキシベンジルトリエトキシシラン、ヒドロキシベンジルトリプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルトリペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルトリフェニルオキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジエトキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシエトキシプロポキシシラン、及びヒドロキシベンジルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のヒドロキシベンジルシラン化合物；
が挙げられる。

　シラン化合物（ｉｉｉ）の具体例としては、
ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、ジプロポキシシラン、ジペンチルオキシシラン、ジフェニルオキシシラン、メトキシエトキシシラン、メトキシプロポキシシラン、メトキシペンチルオキシシラン、メトキシフェニルオキシシラン、エトキシプロポキシシラン、エトキシペンチルオキシシラン、及びエトキシフェニルオキシシラン等のヒドロシラン化合物；
メチルジメトキシシラン、メチルメトキシエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルメトキシプロポキシシラン、メチルメトキシペンチルオキシシラン、メチルエトキシプロポキシシラン、メチルジプロポキシシラン、メチルジペンチルオキシシラン、メチルジフェニルオキシシラン、メチルメトキシフェニルオキシシラン等のメチルヒドロシラン化合物；
エチルジメトキシシラン、エチルメトキシエトキシシラン、エチルジエトキシシラン、エチルメトキシプロポキシシラン、エチルメトキシペンチルオキシシラン、エチルエトキシプロポキシシラン、エチルジプロポキシシラン、エチルジペンチルオキシシラン、エチルジフェニルオキシシラン、エチルメトキシフェニルオキシシラン等のエチルヒドロシラン化合物；
プロピルジメトキシシラン、プロピルメトキシエトキシシラン、プロピルジエトキシシラン、プロピルメトキシプロポキシシラン、プロピルメトキシペンチルオキシシラン、プロピルエトキシプロポキシシラン、プロピルジプロポキシシラン、プロピルジペンチルオキシシラン、プロピルジフェニルオキシシラン、プロピルメトキシフェニルオキシシラン等のプロピルヒドロシラン化合物；
ブチルジメトキシシラン、ブチルメトキシエトキシシラン、ブチルジエトキシシラン、ブチルメトキシプロポキシシラン、ブチルメトキシペンチルオキシシラン、ブチルエトキシプロポキシシラン、ブチルジプロポキシシラン、ブチルジペンチルオキシシラン、ブチルジフェニルオキシシラン、ブチルメトキシフェニルオキシシラン等のブチルヒドロシラン化合物；
フェニルジメトキシシラン、フェニルメトキシエトキシシラン、フェニルジエトキシシラン、フェニルメトキシプロポキシシラン、フェニルメトキシペンチルオキシシラン、フェニルエトキシプロポキシシラン、フェニルジプロポキシシラン、フェニルジペンチルオキシシラン、フェニルジフェニルオキシシラン、フェニルメトキシフェニルオキシシラン等のフェニルヒドロシラン化合物；
ヒドロキシフェニルジメトキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシエトキシシラン、ヒドロキシフェニルジエトキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルエトキシプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルジプロポキシシラン、ヒドロキシフェニルジペンチルオキシシラン、ヒドロキシフェニルジフェニルオキシシラン、ヒドロキシフェニルメトキシフェニルオキシシラン等のヒドロキシフェニルヒドロシラン化合物；
ナフチルジメトキシシラン、ナフチルメトキシエトキシシラン、ナフチルジエトキシシラン、ナフチルメトキシプロポキシシラン、ナフチルメトキシペンチルオキシシラン、ナフチルエトキシプロポキシシラン、ナフチルジプロポキシシラン、ナフチルジペンチルオキシシラン、ナフチルジフェニルオキシシラン、ナフチルメトキシフェニルオキシシラン等のナフチルヒドロシラン化合物；
ベンジルジメトキシシラン、ベンジルメトキシエトキシシラン、ベンジルジエトキシシラン、ベンジルメトキシプロポキシシラン、ベンジルメトキシペンチルオキシシラン、ベンジルエトキシプロポキシシラン、ベンジルジプロポキシシラン、ベンジルジペンチルオキシシラン、ベンジルジフェニルオキシシラン、ベンジルメトキシフェニルオキシシラン等のベンジルヒドロシラン化合物；
ヒドロキシベンジルジメトキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシエトキシシラン、ヒドロキシベンジルジエトキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルエトキシプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルジプロポキシシラン、ヒドロキシベンジルジペンチルオキシシラン、ヒドロキシベンジルジフェニルオキシシラン、ヒドロキシベンジルメトキシフェニルオキシシラン等のヒドロキシベンジルヒドロシラン化合物；
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシエトキシシラン、ジメチルメトキシプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジペンチルオキシシラン、ジメチルジフェニルオキシシラン、ジメチルエトキシプロポキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン等のジメチルシラン化合物；
ジエチルジメトキシシラン、ジエチルメトキシエトキシシラン、ジエチルメトキシプロポキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジペンチルオキシシラン、ジエチルジフェニルオキシシラン、ジエチルエトキシプロポキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン等のジエチルシラン化合物；
ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルメトキシエトキシシラン、ジプロピルメトキシプロポキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジプロピルジペンチルオキシシラン、ジプロピルジフェニルオキシシラン、ジプロピルエトキシプロポキシシラン、ジプロピルジプロポキシシラン等のジプロポキシシラン化合物；
ジブチルジメトキシシラン、ジブチルメトキシエトキシシラン、ジブチルメトキシプロポキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジブチルジペンチルオキシシラン、ジブチルジフェニルオキシシラン、ジブチルエトキシプロポキシシラン、ジブチルジプロポキシシラン等のジブチルシラン化合物；
ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルメトキシエトキシシラン、ジフェニルメトキシプロポキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジペンチルオキシシラン、ジフェニルジフェニルオキシシラン、ジフェニルエトキシプロポキシシラン、ジフェニルジプロポキシシラン等のジフェニルシラン化合物；
ジ（ヒドロキシフェニル）ジメトキシシラン、ジ（ヒドロキシフェニル）メトキシエトキシシラン、ジ（ヒドロキシフェニル）メトキシプロポキシシラン、ジ（ヒドロキシフェニル）ジエトキシシラン、ジ（ヒドロキシフェニル）ジペンチルオキシシラン、ジ（ヒドロキシフェニル）ジフェニルオキシシラン、ジ（ヒドロキシフェニル）エトキシプロポキシシラン、ジ（ヒドロキシフェニル）ジプロポキシシラン等のジ（ヒドロキシフェニル）シラン化合物；
ジナフチルジメトキシシラン、ジナフチルメトキシエトキシシラン、ジナフチルメトキシプロポキシシラン、ジナフチルジエトキシシラン、ジナフチルジペンチルオキシシラン、ジナフチルジフェニルオキシシラン、ジナフチルエトキシプロポキシシラン、ジナフチルジプロポキシシラン等のジナフチルシラン化合物；
ジベンジルジメトキシシラン、ジベンジルメトキシエトキシシラン、ジベンジルメトキシプロポキシシラン、ジベンジルジエトキシシラン、ジベンジルジペンチルオキシシラン、ジベンジルジフェニルオキシシラン、ジベンジルエトキシプロポキシシラン、ジベンジルジプロポキシシラン等のジベンジルシラン化合物；
ジ（ヒドロキシベンジル）ジメトキシシラン、ジ（ヒドロキシベンジル）メトキシエトキシシラン、ジ（ヒドロキシベンジル）メトキシプロポキシシラン、ジ（ヒドロキシベンジル）ジエトキシシラン、ジ（ヒドロキシベンジル）ジペンチルオキシシラン、ジ（ヒドロキシベンジル）ジフェニルオキシシラン、ジ（ヒドロキシベンジル）エトキシプロポキシシラン、ジ（ヒドロキシベンジル）ジプロポキシシラン等のジ（ヒドロキシベンジル）シラン化合物；
メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルメトキシエトキシシラン、メチルエチルメトキシプロポキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルエチルジペンチルオキシシラン、メチルエチルジフェニルオキシシラン、メチルエチルエトキシプロポキシシラン、メチルエチルジプロポキシシラン等のメチルエチルシラン化合物；
メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルメトキシエトキシシラン、メチルプロピルメトキシプロポキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルプロピルジペンチルオキシシラン、メチルプロピルジフェニルオキシシラン、メチルプロピルエトキシプロポキシシラン、メチルプロピルジプロポキシシラン等のメチルプロピルシラン化合物；
メチルブチルジメトキシシラン、メチルブチルメトキシエトキシシラン、メチルブチルメトキシプロポキシシラン、メチルブチルジエトキシシラン、メチルブチルジペンチルオキシシラン、メチルブチルジフェニルオキシシラン、メチルブチルエトキシプロポキシシラン、メチルブチルジプロポキシシラン等のメチルブチルシラン化合物；
メチル（フェニル）ジメトキシシラン、メチル（フェニル）メトキシエトキシシラン、メチル（フェニル）メトキシプロポキシシラン、メチル（フェニル）ジエトキシシラン、メチル（フェニル）ジペンチルオキシシラン、メチル（フェニル）ジフェニルオキシシラン、メチル（フェニル）エトキシプロポキシシラン、メチル（フェニル）ジプロポキシシラン等のメチル（フェニル）シラン化合物；
メチル（ヒドロキシフェニル）ジメトキシシラン、メチル（ヒドロキシフェニル）メトキシエトキシシラン、メチル（ヒドロキシフェニル）メトキシプロポキシシラン、メチル（ヒドロキシフェニル）ジエトキシシラン、メチル（ヒドロキシフェニル）ジペンチルオキシシラン、メチル（ヒドロキシフェニル）ジフェニルオキシシラン、メチル（ヒドロキシフェニル）エトキシプロポキシシラン、メチル（ヒドロキシフェニル）ジプロポキシシラン等のメチル（ヒドロキシフェニル）シラン化合物；
メチル（ナフチル）ジメトキシシラン、メチル（ナフチル）メトキシエトキシシラン、メチル（ナフチル）メトキシプロポキシシラン、メチル（ナフチル）ジエトキシシラン、メチル（ナフチル）ジペンチルオキシシラン、メチル（ナフチル）ジフェニルオキシシラン、メチル（ナフチル）エトキシプロポキシシラン、メチル（ナフチル）ジプロポキシシラン等のメチル（ナフチル）シラン化合物；
メチル（ベンジル）ジメトキシシラン、メチル（ベンジル）メトキシエトキシシラン、メチル（ベンジル）メトキシプロポキシシラン、メチル（ベンジル）ジエトキシシラン、メチル（ベンジル）ジペンチルオキシシラン、メチル（ベンジル）ジフェニルオキシシラン、メチル（ベンジル）エトキシプロポキシシラン、メチル（ベンジル）ジプロポキシシラン等のメチル（ベンジル）シラン化合物；
メチル（ヒドロキシベンジル）ジメトキシシラン、メチル（ヒドロキシベンジル）メトキシエトキシシラン、メチル（ヒドロキシベンジル）メトキシプロポキシシラン、メチル（ヒドロキシベンジル）ジエトキシシラン、メチル（ヒドロキシベンジル）ジペンチルオキシシラン、メチル（ヒドロキシベンジル）ジフェニルオキシシラン、メチル（ヒドロキシベンジル）エトキシプロポキシシラン、メチル（ヒドロキシベンジル）ジプロポキシシラン等のメチル（ヒドロキシベンジル）シラン化合物；
エチルプロピルジメトキシシラン、エチルプロピルメトキシエトキシシラン、エチルプロピルメトキシプロポキシシラン、エチルプロピルジエトキシシラン、エチルプロピルジペンチルオキシシラン、エチルプロピルジフェニルオキシシラン、エチルプロピルエトキシプロポキシシラン、エチルプロピルジプロポキシシラン等のエチルプロピルシラン化合物；
エチルブチルジメトキシシラン、エチルブチルメトキシエトキシシラン、エチルブチルメトキシプロポキシシラン、エチルブチルジエトキシシラン、エチルブチルジペンチルオキシシラン、エチルブチルジフェニルオキシシラン、エチルブチルエトキシプロポキシシラン、エチルブチルジプロポキシシラン等のエチルブチルシラン化合物；
エチル（フェニル）ジメトキシシラン、エチル（フェニル）メトキシエトキシシラン、エチル（フェニル）メトキシプロポキシシラン、エチル（フェニル）ジエトキシシラン、エチル（フェニル）ジペンチルオキシシラン、エチル（フェニル）ジフェニルオキシシラン、エチル（フェニル）エトキシプロポキシシラン、エチル（フェニル）ジプロポキシシラン等のエチル（フェニル）シラン化合物；
エチル（ヒドロキシフェニル）ジメトキシシラン、エチル（ヒドロキシフェニル）メトキシエトキシシラン、エチル（ヒドロキシフェニル）メトキシプロポキシシラン、エチル（ヒドロキシフェニル）ジエトキシシラン、エチル（ヒドロキシフェニル）ジペンチルオキシシラン、エチル（ヒドロキシフェニル）ジフェニルオキシシラン、エチル（ヒドロキシフェニル）エトキシプロポキシシラン、エチル（ヒドロキシフェニル）ジプロポキシシラン等のエチル（ヒドロキシフェニル）シラン化合物；
エチル（ナフチル）ジメトキシシラン、エチル（ナフチル）メトキシエトキシシラン、エチル（ナフチル）メトキシプロポキシシラン、エチル（ナフチル）ジエトキシシラン、エチル（ナフチル）ジペンチルオキシシラン、エチル（ナフチル）ジフェニルオキシシラン、エチル（ナフチル）エトキシプロポキシシラン、エチル（ナフチル）ジプロポキシシラン等のエチル（ナフチル）シラン化合物；
エチル（ベンジル）ジメトキシシラン、エチル（ベンジル）メトキシエトキシシラン、エチル（ベンジル）メトキシプロポキシシラン、エチル（ベンジル）ジエトキシシラン、エチル（ベンジル）ジペンチルオキシシラン、エチル（ベンジル）ジフェニルオキシシラン、エチル（ベンジル）エトキシプロポキシシラン、エチル（ベンジル）ジプロポキシシラン等のエチル（ベンジル）シラン化合物；
エチル（ヒドロキシベンジル）ジメトキシシラン、エチル（ヒドロキシベンジル）メトキシエトキシシラン、エチル（ヒドロキシベンジル）メトキシプロポキシシラン、エチル（ヒドロキシベンジル）ジエトキシシラン、エチル（ヒドロキシベンジル）ジペンチルオキシシラン、エチル（ヒドロキシベンジル）ジフェニルオキシシラン、エチル（ヒドロキシベンジル）エトキシプロポキシシラン、エチル（ヒドロキシベンジル）ジプロポキシシラン等のエチル（ヒドロキシベンジル）シラン化合物；
プロピルブチルジメトキシシラン、プロピルブチルメトキシエトキシシラン、プロピルブチルメトキシプロポキシシラン、プロピルブチルジエトキシシラン、プロピルブチルジペンチルオキシシラン、プロピルブチルジフェニルオキシシラン、プロピルブチルエトキシプロポキシシラン、プロピルブチルジプロポキシシラン等のプロピルブチルシラン化合物；
プロピル（フェニル）ジメトキシシラン、プロピル（フェニル）メトキシエトキシシラン、プロピル（フェニル）メトキシプロポキシシラン、プロピル（フェニル）ジエトキシシラン、プロピル（フェニル）ジペンチルオキシシラン、プロピル（フェニル）ジフェニルオキシシラン、プロピル（フェニル）エトキシプロポキシシラン、プロピル（フェニル）ジプロポキシシラン等のプロピル（フェニル）シラン化合物；
プロピル（ヒドロキシフェニル）ジメトキシシラン、プロピル（ヒドロキシフェニル）メトキシエトキシシラン、プロピル（ヒドロキシフェニル）メトキシプロポキシシラン、プロピル（ヒドロキシフェニル）ジエトキシシラン、プロピル（ヒドロキシフェニル）ジペンチルオキシシラン、プロピル（ヒドロキシフェニル）ジフェニルオキシシラン、プロピル（ヒドロキシフェニル）エトキシプロポキシシラン、プロピル（ヒドロキシフェニル）ジプロポキシシラン等のプロピル（ヒドロキシフェニル）シラン化合物；
プロピル（ナフチル）ジメトキシシラン、プロピル（ナフチル）メトキシエトキシシラン、プロピル（ナフチル）メトキシプロポキシシラン、プロピル（ナフチル）ジエトキシシラン、プロピル（ナフチル）ジペンチルオキシシラン、プロピル（ナフチル）ジフェニルオキシシラン、プロピル（ナフチル）エトキシプロポキシシラン、プロピル（ナフチル）ジプロポキシシラン等のプロピル（ナフチル）シラン化合物；
プロピル（ベンジル）ジメトキシシラン、プロピル（ベンジル）メトキシエトキシシラン、プロピル（ベンジル）メトキシプロポキシシラン、プロピル（ベンジル）ジエトキシシラン、プロピル（ベンジル）ジペンチルオキシシラン、プロピル（ベンジル）ジフェニルオキシシラン、プロピル（ベンジル）エトキシプロポキシシラン、プロピル（ベンジル）ジプロポキシシラン等のプロピル（ベンジル）シラン化合物；
プロピル（ヒドロキシベンジル）ジメトキシシラン、プロピル（ヒドロキシベンジル）メトキシエトキシシラン、プロピル（ヒドロキシベンジル）メトキシプロポキシシラン、プロピル（ヒドロキシベンジル）ジエトキシシラン、プロピル（ヒドロキシベンジル）ジペンチルオキシシラン、プロピル（ヒドロキシベンジル）ジフェニルオキシシラン、プロピル（ヒドロキシベンジル）エトキシプロポキシシラン、プロピル（ヒドロキシベンジル）ジプロポキシシラン等のプロピル（ヒドロキシベンジル）シラン化合物；
が挙げられる。

　以上説明したシラン化合物を、常法に従って加水分解縮合することによりシロキサン樹脂が得られる。
　シロキサン樹脂の質量平均分子量は、３００以上３０，０００以下が好ましく、５００以上１０，０００以下がより好ましい。異なる質量平均分子量のシロキサン樹脂を２種以上混合してもよい。シロキサン樹脂の質量平均分子量がかかる範囲内である場合、製膜性に優れ、平坦な金属酸化物微粒子含有膜を形成できる表面改質金属酸化物微粒子分散液を得やすい。

　以上説明したシラン化合物を加水分解縮合させて得られるシロキサン樹脂の好適な例としては、下記式（Ｃ－１－１）で示される構造単位を有するシロキサン樹脂が挙げられる。当該シロキサン樹脂において、ケイ素原子１個に対する炭素原子の数は２個以上である。

（式（Ｃ－１－ａ）中、Ｒ^Ｚ１はアルキル基、アリール基、又はアラルキル基であり、Ｒ^Ｚ２は水素又はアルキル基、アリール基、又はアラルキル基であり、ｍ０は０又は１である。）

　Ｒ^Ｚ１及びＲ^Ｚ２におけるアルキル基、アリール基、又はアラルキル基は、前述の式（Ｃ－ａ）におけるアルキル基、アリール基、又はアラルキル基と同様である。
　上記のように、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を有するシロキサン樹脂を用いることにより、耐久性に優れるシリカ系の金属酸化物微粒子含有膜を形成でき、微小な空間への充填が容易な表面改質金属酸化物微粒子分散液を得やすい。

　アルキル基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。このように炭素原子数１以上５以下のアルキル基を有することにより、耐熱性が良好なシリカフィルムを形成しやすい。
　アリール基及びアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ビフェニル基、フルオレニル基、及びピレニル基等が挙げられる。

　アリール基及びアラルキル基としては、具体的には下記の構造を有するものが好ましく挙げられる。

　上記式中、Ｒ^Ｚ３は、水素原子；水酸基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基；メチル基、エチル基、ブチル基、プロピル基等の炭化水素基であり、Ｒ^Ｚ４は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基である。なお、上記芳香族炭化水素基は、該芳香族炭化水素基における少なくとも１つの芳香環に、上記Ｒ^Ｚ３を有していればよく、複数有していてもよい。複数のＲ^Ｚ３を有する場合には、これらのＲ^Ｚ３は同一でもよく、異なっていてもよい。

　特に好ましいＲ^Ｚ１としては、下記の構造（Ｒ^１－ａ）、又は構造（Ｒ^１－ｂ）を有する基が好ましく、特に（Ｒ^１－ｂ）が好ましい。

　式（Ｃ－１－ａ）において、ｍ０は０であることが好ましく、その場合にはシロキサン樹脂は、シルセスキオキサン骨格を有する。さらに、シロキサン樹脂は、ラダー型のシルセスキオキサンであることがより好ましい。

　さらに、式（Ｃ－１－ａ）で示される構造単位（単位骨格）において、ケイ素原子１個に対して、炭素原子が２個以上１５個以下となる原子数比を有していることが好ましい。

　シロキサン樹脂は、式（Ｃ－１－ａ）で示される構造単位を２種類以上有していてもよい。また、シロキサン樹脂は、異なる構造単位からなるシロキサン樹脂を混合した混合物であってもよい。
　式（Ｃ－１－ａ）で示される構造単位を２種類以上有するシロキサン樹脂としては、具体的には下記の構造式（Ｃ－１－１）～（Ｃ－１－３）で表されるシロキサン樹脂が挙げられる。

　シロキサン樹脂としては、例えば、下式（Ｃ－１－４）で示される構成単位を含有する樹脂であってもよい。

　式（Ｃ－１－４）中、Ｒ^Ｙ１３は、その構造中に（メタ）アクリル基、ビニル基及びエポキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有する有機基である。（メタ）アクリル基、ビニル基及びエポキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基は、Ｓｉ原子に直接結合していてもよく、連結基を介していてもよい。連結基は、例えば、炭素原子数１以上１０以下の直鎖でも分岐鎖であってもよいアルキレン基若しくはアリーレン基、又はこれらを組み合わせた２価の基である。連結基は、エーテル結合、アミノ結合、又はアミド結合を有していてもよい。

　式（Ｃ－１－４）で表される構成単位は、例えば以下の単位が挙げられるが、これらに限定されない。

　また、Ｒ^Ｙ１３がエポキシ基を有する場合、Ｒ^Ｙ１３として２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル基、及び２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）プロピル基が好適な例として挙げられる。

　シロキサン樹脂としては、例えば、下式（Ｃ－１－５）で示される構成単位を含有する樹脂であってもよい。

　式（Ｃ－１－５）中、Ｒ^Ｙ１４は、その構造中にカルボキシ基を少なくとも１つ有する有機基である。カルボキシ基は連結基を介してＳｉ原子に結合していることが好ましく、連結基は、例えば、炭素原子数１以上１０以下の直鎖でも分岐鎖であってもよいアルキレン基、シクロアルキレン基、若しくはアリーレン基、又はこれらを組み合わせた２価の基である。
　連結基は、エーテル結合、アミノ結合、アミド結合、又はビニル結合を有していてもよく、アミド結合を有していることが好ましい。Ｒ^Ｙ１４としては、例えば以下の基が挙げられるが、これらに限定されない。なお、下式中＊は、式（Ｃ－１－５）中のＳｉと結合する、Ｒ^Ｙ１４の結合手の末端を意味する。

　ケイ素含有樹脂を基材成分（Ｄ）として含む表面改質金属酸化物微粒子分散液は後述する硬化剤を含み得る。硬化剤を含む表面改質金属酸化物微粒子分散液において、
（ｉ）硬化剤が光又は熱により塩基成分を発生する硬化剤を含む場合、
（ｉｉ）表面改質金属酸化物微粒子分散液が後述の光重合開始剤や塩基発生剤等を含む場合、又は、
（ｉｉｉ）後述する金属酸化物微粒子含有膜の製造方法において露光工程を有する場合、
シロキサン樹脂は式（Ｃ－１－４）で示される構成単位を含有することが好ましい。
　同様にまた、（ｉｖ）後述のその他の成分である光重合開始剤、酸発生剤、若しくは塩基発生剤からなる群の少なくとも１つ（硬化剤に該当する成分を除く）を含む場合、シロキサン樹脂は式（Ｃ－１－４）で示される構成単位を含有することが好ましい。シロキサン樹脂中の式（Ｃ－１－４）で示される構成単位の含有割合は、例えば、１０モル％以上８０モル％以下である。他の構成単位として、さらに式（Ｃ－１－ａ）で示される構造単位及び／又は（Ｃ－１－５）で示される構成単位を含んでいてもよい。また、各式に該当する構成単位を２種以上含んでいてもよい。

　後述する金属酸化物微粒子含有膜の製造方法において、現像工程を有する場合、シロキサン樹脂は式（Ｃ－１－５）で示される構成単位、式（Ｒ^１－ａ）で表される構造を有する構成単位、及び式（Ｒ^１－ｂ）で表される構造を有する構成単位からなる群より選択される１種以上の構成単位を含有することが好ましい。シロキサン樹脂中の式（Ｃ－１－５）で示される構成単位、式（Ｒ^１－ａ）で表される構造を有する構成単位、及び式（Ｒ^１－ｂ）で表される構造を有する構成単位からなる群より選択される構成単位の含有割合は、例えば、２０モル％以上９０モル％以下である。この場合、他の構成単位として、さらに式（Ｃ－１－ａ）で示される構造単位及び／又は式（Ｃ－１－４）で示される構成単位を含んでいてもよく、（Ｃ－１－４）で示される構成単位及び（Ｃ－１－５）で示される構成単位を含むシロキサン樹脂であることが好ましい。また、各式に該当する構成単位を２種以上含んでいてもよい。

（ポリシラン）
　ポリシランの構造は特に限定されない。ポリシランは直鎖状であっても、分岐鎖状であっても、網目状であっても、環状であってもよいが、直鎖状又は分岐鎖状の鎖状構造が好ましい。
　ポリシランは、シラノール基及び／又はアルコキシ基を含有していてもよい。
　好適なポリシランとしては、例えば、下式（Ａ５）及び（Ａ６）で表される単位の少なくとも１つを必須に含み、下式（Ａ７）、（Ａ８）及び（Ａ９）で表される単位から選択される少なくとも１つの単位を任意に含有するポリシランが挙げられる。かかるポリシランは、シラノール基、又はケイ素原子に結合するアルコキシ基を含有していてもよい。

（式（Ａ５）、（Ａ７）、及び（Ａ８）中、Ｒ^ａ３及びＲ^ａ４は、水素原子、有機基又はシリル基を表す。Ｒ^ａ５は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^ａ５がアルキル基である場合、炭素原子数１以上４以下のアルキル基が好ましく、メチル基及びエチル基がより好ましい。）

　Ｒ^ａ３及びＲ^ａ４について、有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素基や、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基等が挙げられる。
　これらの基の中では、アルキル基、アリール基、及びアラルキル基が好ましい。アルキル基、アリール基、及びアラルキル基の好適な例は、前述の式（Ｃ－ａ）中のＲ^Ｙ０がアルキル基、アリール基、又はアラルキル基である場合の例と同様である。

　Ｒ^ａ３及びＲ^ａ４がシリル基である場合、シリル基としては、シリル基、ジシラニル基、トリシラニル基等のＳｉ_１－１０シラニル基（Ｓｉ_１－６シラニル基等）が挙げられる。
　ポリシランは、下記（Ａ１０）から（Ａ１３）のユニットを含むのが好ましい。

（Ａ１０）から（Ａ１３）中、Ｒ^ａ３及びＲ^ａ４は、式（Ａ５）、（Ａ７）、及び（Ａ８）中におけるＲ^ａ３及びＲ^ａ４と同様である。ａ０、ｂ０、及びｃ０は、それぞれ、２以上１，０００以下の整数である。
　ａ０、ｂ０、及びｃ０は、それぞれ、１０以上５００以下が好ましく、１０以上１００以下がより好ましい。各ユニット中の構成単位は、ユニット中に、ランダムに含まれていても、ブロック化された状態で含まれていてもよい。

　以上説明したポリシランの中では、それぞれケイ素原子に結合している、アルキル基と、アリール基又はアラルキル基とを組み合わせて含むポリシラン又はアルキル基のみケイ素原子に結合しているポリシランが好ましい。より具体的には、それぞれケイ素原子に結合している、メチル基と、ベンジル基とを組み合わせて含むポリシランや、それぞれケイ素原子に結合している、メチル基と、フェニル基とを組み合わせて含むポリシラン、又はメチル基のみケイ素原子に結合しているポリシランが好ましく使用される。

　ポリシランの質量平均分子量は、３００以上１００，０００以下が好ましく、５００以上７０，０００以下がより好ましく、８００以上３０，０００以下がさらに好ましい。異なる質量平均分子量のポリシランを２種以上混合してもよい。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液としてのケイ素含有樹脂組成物中の、ケイ素含有樹脂の含有量は特に限定されず、所望の膜厚に応じて設定すればよい。製膜性の点からは、ケイ素含有樹脂組成物中のケイ素含有樹脂の含有量は、１質量％以上５０質量％以下が好ましく、５質量％以上４０質量％以下がより好ましく、１０質量％以上３５質量％以下が特に好ましい。

（硬化剤）
　ケイ素含有樹脂を基材成分（Ｄ）として含む表面改質金属酸化物微粒子分散液は、ケイ素含有樹脂用の硬化剤を含んでいてもよい。表面改質金属酸化物微粒子分散液としてのケイ素含有樹脂組成物が硬化剤を含む場合、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等の有機溶剤により、溶解、膨潤、変形したりしにくい、有機溶剤耐性に優れる金属酸化物微粒子含有膜を形成しやすい。

　ケイ素含有樹脂用の硬化剤の好適な例としては、塩酸、硫酸、硝酸、ベンゼンスルホン酸、及びｐ－トルエンスルホ酸等のブレンステッド酸；２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール等のイミダゾール類；２，４，６－トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ベンジルメチルアミン、ＤＢＵ（１，８－ジアザビシクロ〔５．４．０〕－７－ウンデセン）、ＤＣＭＵ（３－（３，４－ジクロロフェニル）－１，１－ジメチル尿素）等の有機アミン類；三塩化リン、三臭化リン、亜リン酸、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリプロピル等のＰＸ^１ _３（式中、Ｘ^１はハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基である。）で表されるリン化合物；オキシ三塩化リン、オキシ三臭化リン、リン酸、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリプロピル等のＰＯＸ^１ _３（式中、Ｘ^１はハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基である。）で表されるリン化合物；五酸化二リン；ポリリン酸やポリリン酸エステル等の、Ｈ（ＨＰＯ_３）_ｘＯＨ（式中、ｘは１以上の整数である。）で表されるリン化合物；メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、メトキシジクロロホスフィン等のＲ^Ｄ０ＰＸ^１ _２（式中、Ｒ^Ｄ０は水素原子又は炭素原子数１以上３０以下の有機基であり、該有機基中の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ^１はハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基である。）で表されるリン化合物；亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、メチルホスホン酸、メチルホスホン酸ジメチル、メチルホスホン酸ジクロリド、フェニルホスホン酸、フェニルホスホン酸ジクロリド、ベンジルホスホン酸ジエチル等のＲ^Ｄ０ＰＯＸ^１ _２（式中、Ｒ^Ｄ０は水素原子又は炭素原子数１以上３０以下の有機基であり、該有機基中の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ^１はハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基である。）で表されるリン化合物；トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ｐ－トリル）ホスフィン、トリス（ｍ－トリル）ホスフィン、トリス（ｏ－トリル）ホスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド、１，４－ビスジフェニルホスフィノブタン等の有機リン化合物；三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、ホウ酸、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリプロピル、ホウ酸トリブチル、ホウ酸トリアミル、ホウ酸トリヘキシル、ホウ酸トリシクロペンチル、ホウ酸トリシクロヘキシル、ホウ酸トリアリル、ホウ酸トリフェニル、ホウ酸エチルジメチル等のＢＸ^１ _３（式中、Ｘ^１はハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基である。）で表されるホウ素化合物；酸化ホウ素（Ｂ_２Ｏ_３）；フェニルボロン酸、ジイソプロポキシ（メチル）ボラン、メチルボロン酸、シクロヘキシルボロン酸等のＲ^Ｄ０ＢＸ^１ _２（式中、Ｒ^Ｄ０は水素原子又は炭素原子数１以上３０以下の有機基であり、該有機基中の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｘ^１はハロゲン原子、水酸基、又は炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基である。）で表されるホウ素化合物；トリフェニルホスフィントリフェニルボラン、テトラフェニルホスホニウムテトラ－ｐ－トリルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムチオシアネート、テトラフェニルホスホニウムジシアナミド、ｎ－ブチルトリフェニルホスホニウムジシアナミド等の有機リン化合物の複合体；三フッ化ホウ素等のルイス酸の有機アミン錯体（有機アミンとしては例えばピペリジン）；アザビシクロウンデセン、ジアザビシクロウンデセントルエンスルホン酸塩、又はジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩等のアミジン類；が挙げられる。

　また、基材成分（Ｄ）として上記ポリシランを用いる場合、上記硬化剤に加えて又は単独で、光又は熱により塩基成分を発生する硬化剤を用いることが好ましい。

・熱により塩基成分を発生する硬化剤
　熱により塩基成分を発生する硬化剤としては、従来から熱塩基発生剤として使用されている化合物を特に限定なく用いることができる。
　例えば、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オンを、熱により塩基成分を発生する硬化剤として用いることができる。なお、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オンは光の作用によっても塩基を発生させる。

　また、加熱により下式（ｄ１）で表されるイミダゾール化合物を発生させる化合物（以下、熱イミダゾール発生剤とも記す）も、硬化剤として好ましく使用される。

（式（ｄ１）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、ホスフィノ基、スルホナト基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。）

　Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３における有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。この有機基は、通常は１価であるが、環状構造を形成する場合等には、２価以上の有機基となり得る。

　Ｒ^ｄ１及びＲ^ｄ２は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合をさらに含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。

　Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の有機基に含まれる結合は、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、有機基は、酸素原子、窒素原子、珪素原子等のヘテロ原子を含む結合を含んでいてもよい。ヘテロ原子を含む結合の具体例としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合（－Ｎ＝Ｃ（－Ｒ^ｄ０）－、－Ｃ（＝ＮＲ^ｄ０）－：Ｒ^ｄ０は水素原子又は有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合、アゾ結合等が挙げられる。

　Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の有機基が有してもよいヘテロ原子を含む結合としては、イミダゾール化合物の耐熱性の観点から、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合（－Ｎ＝Ｃ（－Ｒ^ｄ０）－、－Ｃ（＝ＮＲ^ｄ０）－：Ｒ^ｄ０は水素原子又は有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合が好ましい。

　Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の有機基が炭化水素基以外の置換基である場合、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は本発明の効果が損なわれない限り特に限定されない。Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の具体例としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。

　Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３としては、水素原子、炭素原子数１以上１２以下のアルキル基、炭素原子数６以上１２以下のアリール基、炭素原子数１以上１２以下のアルコキシ基、及びハロゲン原子が好ましく、水素原子がより好ましい。

　熱イミダゾール発生剤は、加熱により上記式（ｄ１）で表されるイミダゾール化合物を発生させることができる化合物であれば特に限定されない。従来から種々の組成物に配合されている、熱の作用によりアミンを発生する化合物（熱塩基発生剤）について、加熱時に発生するアミンに由来する骨格を、上記式（ｄ１）で表されるイミダゾール化合物に由来する骨格に置換することにより、熱イミダゾール発生剤として使用される化合物が得られる。

　好適な熱イミダゾール発生剤としては、下記式（ｄ２）：

（式（ｄ２）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。）
で表される化合物が挙げられる。

　式（ｄ２）において、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、式（ｄ１）について説明した基と同様である。

　式（ｄ２）において、Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。

　Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５における有機基としては、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３について例示した基が挙げられる。この有機基は、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

　以上の中でも、Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５としては、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数４以上１３以下のシクロアルキル基、炭素原子数４以上１３以下のシクロアルケニル基、炭素原子数７以上１６以下のアリールオキシアルキル基、炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基、シアノ基を有する炭素原子数２以上１１以下のアルキル基、水酸基を有する炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数１以上１０以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上１１以下のアミド基、炭素原子数１以上１０以下のアルキルチオ基、炭素原子数１以上１０以下のアシル基、炭素原子数２以上１１以下のエステル基（－ＣＯＯＲ^ｄ、－ＯＣＯＲ^ｄ：Ｒ^ｄは炭化水素基を示す）、炭素原子数６以上２０以下のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換した炭素原子数６以上２０以下のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基であることが好ましい。より好ましくは、Ｒ^ｄ４及びＲ^ｄ５の両方が水素原子であるか、又はＲ^ｄ４がメチル基であり、Ｒ^ｄ５が水素原子である。

　式（ｄ２）において、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。

　Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０における有機基としては、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３において例示した基が挙げられる。この有機基は、Ｒ^ｄ１及びＲ^ｄ２の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

　Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。例えば、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０は、それらの２つ以上が結合して、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成してもよい。

　以上の中でも、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０としては、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数４以上１３以下のシクロアルキル基、炭素原子数４以上１３以下のシクロアルケニル基、炭素原子数７以上１６以下のアリールオキシアルキル基、炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基、シアノ基を有する炭素原子数２以上１１以下のアルキル基、水酸基を有する炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数１以上１０以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上１１以下のアミド基、炭素原子数１以上１０以下のアルキルチオ基、炭素原子数１以上１０以下のアシル基、炭素原子数２以上１１以下のエステル基、炭素原子数６以上２０以下のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換した炭素原子数６以上２０以下のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基、ニトロ基であることが好ましい。

　また、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０としては、それらの２つ以上が結合して、Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、及びＲ^ｄ１０が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成している場合も好ましい。

　上記式（ｄ２）で表される化合物の中では、下記式（ｄ３）：

（式（ｄ３）中、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３は、式（ｄ１）及び（ｄ２）と同義である。Ｒ^ｄ４～Ｒ^ｄ９は式（ｄ２）と同義である。Ｒ^ｄ１１は、水素原子又は有機基を示す。Ｒ^ｄ６及びＲ^ｄ７が水酸基となることはない。Ｒ^ｄ６、Ｒ^ｄ７、Ｒ^ｄ８、及びＲ^ｄ９は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。）
で表される化合物が好ましい。

　式（ｄ３）で表される化合物は、置換基－Ｏ－Ｒ^ｄ１１を有するため、有機溶媒に対する溶解性に優れる。

　式（ｄ３）において、Ｒ^ｄ１１は、水素原子又は有機基である。Ｒ^ｄ１１が有機基である場合、有機基としては、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、及びＲ^ｄ３において例示した基が挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。Ｒ^ｄ１１としては、水素原子、炭素原子数１以上１２以下のアルキル基若しくはアルコキシアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基がより好ましい。

　熱イミダゾール発生剤として特に好適な化合物の具体例を以下に示す。

　なお、式（ｄ２）又は（ｄ３）で表される化合物は加熱の他光の作用によっても分解してイミダゾール化合物を発生し得る。

・オキシムエステル化合物
　オキシムエステル化合物は、光の作用により分解して塩基を発生する。オキシムエステル化合物の好適な例は、第１の態様の感エネルギー性組成物について説明したオキシムエステル化合物の好適な例と同様である。

　ケイ素含有樹脂組成物は、異なる分類又は種類の硬化剤を２種以上含んでいてもよい。
　ケイ素含有樹脂組成物の、硬化剤の含有量は、典型的には、ケイ素含有樹脂組成物の固形分の質量に対して、０．０１質量％以上４０質量％以下が好ましく、０．１質量％以上２０質量％以下がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。

（イオン液体）
　ケイ素含有樹脂組成物は、イオン液体を含んでいてもよい。ケイ素含有樹脂組成物がイオン液体を含むことにより、ケイ素含有樹脂組成物中での金属酸化物微粒子の分散安定性がさらに向上し得る。
　イオン液体としては、第５の態様の感エネルギー性組成物について説明したイオン液体を好適に用いることができる。イオン液体は単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
　イオン液体の含有量としては、本発明の効果を達成し得る限り特に制限はない。
　イオン液体の含有量は、ケイ素含有樹脂組成物において金属酸化物微粒子１００質量部に対して、１０質量部以上５００質量部以下が好ましく、９０質量部以上４００質量部以下がより好ましく、１００質量部以上３００質量部以下がさらに好ましい。

（溶剤）
　ケイ素含有樹脂組成物は、通常、溶剤を含む。溶剤は、環式骨格を有し、且つ水素原子及び炭素原子以外のヘテロ原子を含む化合物である溶剤（Ｓ１）を含むのが好ましい。つまり、溶剤（Ｓ１）は、非炭化水素溶媒である。溶剤（Ｓ１）が含んでいてもよいヘテロ原子としては、Ｎ、Ｏ、Ｓ、及びＰ等が挙げられる。

　溶剤が、溶剤（Ｓ１）を含むことによって、金属酸化物微粒子の分散安定性をさらに向上し得る。
　例えば、溶剤（Ｓ１）が有する環式骨格が、金属酸化物微粒子に対する凝集阻害の効果を奏していると推測される。

　溶剤（Ｓ１）が有する環式骨格としては、脂環式骨格が好ましい。ここで、芳香族性を示さない環式骨格を脂環式骨格とする。また、溶剤（Ｓ１）が、テトラリン環のように芳香族環骨格と脂環式骨格との双方を有する場合、溶剤（Ｓ１）が脂環式骨格を有するとする。
　理由は定かではないが、平面的な立体構造を有する芳香族環骨格よりも、脂環式骨格がある程度かさ高いことが、金属酸化物微粒子の分散安定化に良好に寄与すると推測される。

　溶剤（Ｓ１）は、エステル結合（－ＣＯ－Ｏ－）、アミド結合（－ＣＯ－ＮＨ－）、カーボネート結合（－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－）、ウレイド結合（－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－）、及びウレタン結合（－Ｏ－ＣＯ－ＮＨ－）からなる群より選択される１種以上の結合を有するのが好ましい。
　本願明細書において、単にエステル結合、及びアミド結合と記載する場合、それぞれ「カルボン酸エステル結合」、及び「カルボン酸アミド結合」を意味する。
　アミド結合、ウレイド結合、及びウレタン結合において、窒素原子には有機基が結合していてもよい。有機基の種類は特に限定されない。有機基としては、アルキル基が好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキル基がより好ましく、メチル基及びエチル基がさらに好ましい。
　溶剤（Ｓ１）がこれらの結合を含む場合、ケイ素含有樹脂をケイ素含有樹脂組成物中に良好に溶解させやすい。

　溶剤（Ｓ１）の好ましい例としては、アニソール、フェネトール、プロピルフェニルエーテル、ブチルフェニルエーテル、クレジルメチルエーテル、エチルベンジルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、及びピリダジン等の芳香族溶媒；シクロペンタノール、シクロヘキサノール、１，４－シクロヘキサンジオール、１，３－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、及び１，３－シクロヘキサンジメタノール等の脂環式アルコール；シクロヘキシルメチルエーテル、シクロヘキシルエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、及びジオキサン等の脂環式エーテル類；シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、２－メチルシクロヘキサノン、１，４－シクロペンタンジオン、及び１，３－シクロペンタンジオン等の脂環式ケトン類；β－プロピオラクトン、γ－ブチロラクトン、β－メチル－γ－ブチロラクトン、δ－バレロラクトン、ε－バレロラクトン、ε－カプロラクトン、α－メチル－ε－カプロラクトン、及びε－メチル－ε－カプロラクトン等のラクトン類；Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、及びＮ，Ｎ－ジメチルプロピレン尿素等の環状アミド類又は環状尿素類；炭酸エチレン、及び炭酸プロピレン等の環状カーボネート類等が挙げられる。

　また、溶剤（Ｓ１）としては、カルボン酸のシクロアルキルエステルが好ましい。カルボン酸のシクロアルキルエステルとしては、下式（ｓ１）：

（式（ｓ１）中、Ｒ^ｓ１は、炭素原子数１以上３以下のアルキル基であり、Ｒ^ｓ２は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基であり、ｐは１以上６以下の整数であり、ｑは０以上（ｐ＋１）以下の整数である。）
で表される、カルボン酸のシクロアルキルエステルが好ましい。

　式（ｓ１）中のＲ^ｓ１としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、及びイソプロピル基が挙げられ、メチル基が好ましい。
　式（ｓ１）中のＲ^ｓ２としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、及びｎ－ヘキシル基が挙げられる。Ｒ^ｓ２としてのアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、及びｎ－ブチル基が好ましく、メチル基、及びエチル基がより好ましい。

　式（ｓ１）で表されるカルボン酸シクロアルキルエステルの好適な例としては、シクロプロピルアセテート、シクロブチルアセテート、シクロペンチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、シクロヘプチルアセテート、シクロオクチルアセテート、シクロプロピルプロピオネート、シクロブチルプロピオネート、シクロペンチルプロピオネート、シクロヘキシルプロピオネート、シクロヘプチルプロピオネート、及びシクロオクチルプロピオネートが挙げられる。これらの中では、入手が容易であり、好ましい沸点を有することから、シクロペンチルアセテート、及びシクロヘキシルアセテートが好ましい。

　以上説明した溶剤（Ｓ１）の中では、式（ｓ１）で表されるカルボン酸シクロアルキルエステルが好ましく、シクロペンチルアセテート、及びシクロヘキシルアセテートが特に好ましい。

　溶剤についての、溶剤（Ｓ１）以外の好適な例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ－ブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール等の多価アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチル－ｎ－アミルケトン、メチルイソアミルケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、又はジプロピレングリコールモノアセテート等のエステル結合を有する化合物；前記多価アルコール類又は前記エステル結合を有する化合物のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル、又はモノフェニルエーテル等のエーテル誘導体；乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類；エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、アミルベンゼン、イソプロピルベンゼン、トルエン、キシレン、シメン、メシチレン等の芳香族系有機溶剤；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレア、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ－エチルピロリドン等の窒素含有有機溶媒；が挙げられる。これらの溶剤は、２種以上組み合わせて使用してもよい。

　溶剤（Ｓ１）以外の他の溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレア、及びブタノールが好ましい。

　溶剤が、溶剤（Ｓ１）を含む場合、溶剤中の溶剤（Ｓ１）の含有量は３０質量％以上が好ましく、４５質量％以上９９．９９質量％以下がより好ましく、５０質量％以上９９質量％以下がさらに好ましい。

　ケイ素含有樹脂組成物が基材成分（Ｄ）としてポリシランを含む場合、金属酸化物微粒子含有膜のクラックを抑制する点で、ケイ素含有樹脂組成物の水分量は、１．０質量％以下が好ましく、０．５質量％以下がより好ましく、０．３質量％以下がさらに好ましく、０．３質量％未満が特に好ましい。なお、ケイ素含有樹脂組成物の水分量はカールフィッシャー測定法により、測定することができる。
　ケイ素含有樹脂組成物の水分は、溶剤に由来する場合が多い。このため、ケイ素含有樹脂組成物の水分量が上記の量となるように、溶剤が脱水されているのが好ましい。

　溶剤の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。製膜性の点から、溶剤は、ケイ素含有樹脂組成物の固形分濃度が、好ましくは１質量％以上５０質量％以下、より好ましくは１０質量％以上４０質量％以下であるように用いられる。

（その他の成分）
　ケイ素含有樹脂組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、シリカ系の膜形成用のケイ素含有樹脂組成物に従来から添加されている種々の添加剤を含んでいてもよい。
　かかる添加剤の例としては、塩基発生剤、触媒、増感剤、シランカップリング剤、密着増強剤、分散剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、消泡剤、粘度調整剤、樹脂、ゴム粒子、及び着色剤等が挙げられる。
　なお、ケイ素含有樹脂組成物が樹脂としてアルカリ可溶性樹脂を含む場合、ケイ素含有樹脂組成物にアルカリ現像性が付与される。
　また、ケイ素含有樹脂組成物がゴム粒子を含む場合、形成される金属酸化物微粒子含有膜に弾性が付与され、金属酸化物微粒子含有膜の脆さを解消しやすい。

　また、ケイ素含有樹脂組成物は、ニトロキシドラジカルとして安定に存在し得る化合物であるニトロキシ化合物を含むのが好ましい。
　ケイ素含有樹脂組成物がニトロキシ化合物を含むと、シリカ系の金属酸化物微粒子含有膜を形成する際の焼成温度が、例えば２５０℃以下（例えば２００℃以上２５０℃以下の範囲）の低い温度であっても、金属酸化物微粒子含有膜の残渣（焼成により生成するシリカ由来の不純物）を低減できるので好ましい。金属酸化物微粒子含有膜中の残渣が少ないと、金属酸化物微粒子含有膜が高温雰囲気や減圧雰囲気におかれる場合でも、金属酸化物微粒子含有膜からの、残渣そのものや残渣の分解物に由来するガス発生が抑制される。

　ニトロキシ化合物の好適な具体例としては、例えば、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルニトロキシド、ジ－１，１－ジメチルプロピルニトロキシド、ジ－１，２－ジメチルプロピルニトロキシド、ジ－２，２－ジメチルプロピルニトロキシド、及び下記式の化合物が挙げられる。
　下記式においてＲ^Ｎ１は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、置換基を有してもよい芳香族基、又は置換基を有してもよい脂環式基を表す。

　さらに好ましいニトロキシ化合物としては、低い温度での焼成でも特に残渣を低減しやすいことから、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－アミノ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－カルボキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－シアノ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－メタクリル酸－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－アクリル酸－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－オキソ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、３－カルボキシ－２，２，５，５－テトラメチルピロリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－アセトアミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－（２－クロロアセトアミド）－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシルベンゾアート　フリーラジカル、４－イソチオシアナト－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、４－（２－ヨードアセトアミド）－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカル、及び４－メトキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル　フリーラジカルが挙げられる。
　ニトロキシ化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　ケイ素含有樹脂組成物におけるニトロキシ化合物の含有量は微量であってよい。ケイ素含有樹脂組成物中のニトロキシ化合物の含有量は、低い温度での焼成でも残渣を低減しやすいことから、ケイ素含有樹脂組成物の溶剤以外の成分の質量の合計に対して、０．００５質量％以上が好ましく、０．００９質量％以上がより好ましい。
　また、ケイ素含有樹脂組成物中のニトロキシ化合物の含有量は、ケイ素含有樹脂組成物の溶剤以外の成分の質量の合計に対して、２質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。

　ケイ素含有樹脂組成物は、酸化防止剤を含むのが好ましい。ケイ素含有樹脂組成物が酸化防止剤を含むと、金属酸化物微粒子含有膜の金属酸化物微粒子の種類に応じて得られる種々の効果の低下を抑制しやすい。
　酸化防止剤は、リン系、硫黄系及びフェノール系酸化防止剤からなる群から選択される少なくとも１つを含むことが好ましい。

　リン系酸化防止剤の種類は、特別に限定されず、具体的には、３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２’－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－１－フェニルオキシ）（２－エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、６－［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、４，４’－ブチリデン－ビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルジトリデシル）ホスファイト、オクタデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド、１０－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド、１０－デシルオキシ－９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、２，２－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）［１，１－ビフェニル］－４，４’－ジイルビスホスホナイト、ビス［２，４－ビス（１，１－ジメチルエチル）－６－メチルフェニル］エチルエステル及びホスホン酸等を挙げることができる。

　リン系酸化防止剤のうち、金属酸化物微粒子含有膜の耐熱性及び耐熱変色防止の側面で、２，２’－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－１－フェニルオキシ）（２－エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、及び６－［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン等が好ましい。

　リン系酸化防止剤の市販品としては、Ｉｒｇａｆｏｓ　１６８（ＢＡＳＦ社製）、Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ　ＧＰ（住友化学社製）等を挙げることができる。

　硫黄系酸化防止剤の種類は、特に限定されず、具体的には、２，２－ビス（｛［３－（ドデシルチオ）プロピオニル］オキシ｝メチル）－１，３－プロパンジイル－ビス［３－（ドデシルチオ）プロピオネート］、２－メルカプトベンズイミダゾール、ジラウリル－３，３’－チオジプロピオネート、ジミリスチル－３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル－３，３’－チオジプロピオネート、ペンタエリスリチル－テトラキス（３－ラウリルチオプロピオネート）、２－メルカプトベンズイミダゾール等を挙げることができる。

　硫黄系酸化防止剤のうち、金属酸化物微粒子含有膜の耐熱性及び耐熱変色防止の側面で、２，２－ビス（｛３－（ドデシルチオ）プロピオニル｝オキシ）メチル）１，３－プロパンジイル－ビス［３－（ドデシルチオ）プロピオネート］、２－メルカプトベンズイミダゾール等が好ましい。

　硫黄系酸化防止剤の市販品としては、Ｉｒｇａｎｏｘ　１０３５（ＢＡＳＦ社製）等を挙げることができる。

　フェノール系酸化防止剤の種類は、特に限定されず、具体的には、３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエトキシ］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、ペンタエリスリチル・テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリエチレングリコール－ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、４，４’－チオビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－３－メチルフェノール）、トリス－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－イソシアヌレート、１，３，５－トリス（４－ｔｅｒｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－ジメチルベンジル）－イソシアヌレート、１，６－ヘキサンジオール－ビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２－チオ－ジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナムアミド）、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、２，４－ビス［（オクチルチオ）メチル］－Ｏ－クレゾール、１，６－ヘキサンジオール－ビス－［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル－［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデン－ビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ブタン、１，３，５－トリス（４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン及びテトラキス［メチレン－３－（３，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニルプロピオネート）］メタン等を挙げることができる。

　フェノール系酸化防止剤のうち、金属酸化物微粒子含有膜の耐熱性及び耐熱変色防止の側面で、３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエトキシ］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ペンタエリスリチル・テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリエチレングリコール－ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、４，４’－チオビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－３－メチルフェノール）、トリス－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－イソシアヌレート、１，３，５－トリス（４－ｔｅｒｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－ジメチルベンジル）－イソシアヌレート、１，６－ヘキサンジオール－ビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２－チオ－ジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナムアミド）、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン及び２，４－ビス［（オクチルチオ）メチル］－Ｏ－クレゾール等が好ましい。

　フェノール系酸化防止剤の市販品としては、Ｉｒｇａｎｏｘ　１０１０（ＢＡＳＦ社製）、ＡＤＫ　ＳＴＡＢ　ＡＯ－８０（ＡＤＥＫＡ社製）等を挙げることができる。

　酸化防止剤の含有量は、ケイ素含有樹脂組成物の固形分の総質量中、例えば０．０１質量％以上３０質量％以下であり、好ましくは０．１質量％以上１０質量％以下であり、より好ましくは０．５質量％以上８質量％以下であり、さらに好ましくは１質量％以上５質量％以下である。上記範囲内とすることで金属酸化物微粒子含有膜の金属酸化物微粒子の種類に応じて得られる種々の効果の低下を抑制することができる。また、ケイ素含有樹脂組成物を用いて印刷法等によりパターニングする場合に、形成されたパターンの剥離を抑制しやすい。

　上記の第１～第５の態様の感エネルギー性組成物に代表される感光性又は感熱性の表面改質金属酸化物微粒子分散液や、ケイ素含有樹脂組成物は、必要に応じて、各種の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、増感剤、硬化促進剤、充填剤、密着性付与剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、界面活性剤、増粘剤等が挙げられる。

　増感剤としては、第５の態様の感エネルギー性組成物について例示した化合物が挙げられる。増感剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　増感剤の含有量は、各組成物が光酸発生剤を含む場合は、光酸発生剤に対してモル比で０．１以上６以下であることが好ましく、０．２以上４以下であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、各組成物の感度、硬化性が良好になる。

　充填剤としては、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、雲母等の公知の充填剤が挙げられる。
　充填剤の含有量は、各組成物の固形分に対して６０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上４０質量％以下であることがより好ましい。

　界面活性剤としては、ＢＭ－１０００、ＢＭ－１１００（いずれもＢＭケミー社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、メガファックＦ１７２、メガファックＦ１７３、メガファックＦ１８３（いずれも大日本インキ化学工業社製）、フロラードＦＣ－１３５、フロラードＦＣ－１７０Ｃ、フロラードＦＣ－４３０、フロラードＦＣ－４３１（いずれも住友スリーエム社製）、サーフロンＳ－１１２、サーフロンＳ－１１３、サーフロンＳ－１３１、サーフロンＳ－１４１、サーフロンＳ－１４５（いずれも旭硝子社製）、ＳＨ－２８ＰＡ、ＳＨ－１９０、ＳＨ－１９３、ＳＺ－６０３２、ＳＦ－８４２８（いずれも東レシリコーン社製）等の市販のフッ素系界面活性剤が挙げられるが、これらに限定されない。

　増粘剤としては、超微粉シリカ、モンモリロナイト等が挙げられる。

　消泡剤及び／又はレベリング剤としては、シリコーン系高分子、フッ素系高分子等が挙げられる。

　密着性付与剤としては、シランカップリング剤等挙げられる。
　また、第１～第６の態様の感光性組成物、又はケイ素含有樹脂組成物は、任意の添加剤として、１－（Ｎ，Ｎ－ジ（２－エチルヘキシル）アミノ）メチル－１Ｈ－ベンゾトリアゾール、１－（Ｎ，Ｎ－ジ（２－エチルヘキシル）アミノ）メチル－１Ｈ－メチルベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、ベンゾトリアゾール、メチルベンゾトリアゾール、ジハイドロキシプロピルベンゾトリアゾール、ビスアミノメチルベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール誘導体等を単独又は２種以上組み合わせて用いてもよい。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液が含有していてもよい上記各種添加剤の添加量は、特に記載した場合を除き、組成物全体に対して、例えば、０．００１質量％上１０質量％以下の範囲で適宜調整すればよく、好ましくは０．１質量％以上５質量％以下である。

　以上説明した種々の基材成分（Ｄ）を含有する表面改質金属酸化物微粒子分散液を、所望する形状に成形した後、基材成分（Ｄ）の種類に応じて、水分による硬化、乾燥、加熱、及び露光からなる群より１以上の方法により、成形された表面改質金属酸化物微粒子分散液を固化させることにより、良好に分散された金属酸化物微粒子を含む固体物品を製造できる。
　固体物品の形状は特に限定されず、例えば、膜状、レンズ形状、球状、柱状等種々の形状であってよい。固体物品の形状は膜状であるのが好ましい。

≪表面改質金属酸化物微粒子分散液の調製方法＞
　表面改質金属酸化物微粒子分散液は、上記の各成分を撹拌機で混合することにより調製される。
　好ましくは、前述の方法に従って表面改質金属酸化物微粒子を製造することと、
　表面改質金属酸化物微粒子、及び基材成分（Ｄ）を溶媒（Ｓ）中で混合して、表面改質金属酸化物微粒子分散液を得ることと、を含む方法により、基材成分（Ｄ）を含む表面改質金属酸化物微粒子が製造される。
　溶媒（Ｓ）としては、例えば、基材成分（Ｄ）の種類に応じて、第１～第６の態様の感光性組成物、又はケイ素含有樹脂組成物に関して説明した種々の有機溶媒を用いることができる。
　金属酸化物微粒子としての表面改質金属酸化物微粒子は、分散媒に分散された状態で表面改質金属酸化物微粒子分散液に配合されてもよく、分散媒を含まないか殆ど含まない状態で表面改質金属酸化物微粒子分散液に配合されてもよい。
　なお、調製された表面改質金属酸化物微粒子分散液が均一になるよう、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。

≪固体物品の製造方法≫
　前述の通り、上記の方法に従い表面改質金属酸化物微粒子分散液を製造することと、
　表面改質金属酸化物微粒子分散液を、形成される固体物品の形状に応じて成形することと、
　成形された表面改質金属酸化物微粒子分散液を、乾燥、水分による硬化、加熱、及び露光からなる群より選択される１以上の方法により固化させることと、を含む方法により、良好に分散された金属酸化物微粒子を含む固体物品が製造される。
　以下、固体物品製造方法の好適な代表例として、金属酸化物微粒子含有膜の製造方法について説明する。

≪金属酸化物微粒子含有膜の製造方法≫
　以上説明した、表面改質金属酸化物微粒子を含む金属酸化物微粒子を含有する金属酸化物微粒子分散液を用いることにより、金属酸化物微粒子含有膜を形成することができる。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液が、基材成分（Ｄ）として、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂（ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート等）、ＦＲ－ＡＳ樹脂、ＦＲ－ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミドビスマレイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾチアゾール樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、シリコーン樹脂、ＢＴ樹脂、ポリメチルペンテン、超高分子量ポリエチレン、ＦＲ－ポリプロピレン、（メタ）アクリル樹脂（例えば、ポリメチルメタクリレート等）、及びポリスチレン等の樹脂材料を含む場合について、金属酸化物微粒子含有膜の形成方法について前述の通りである。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液が、熱硬化性材料を基材成分（Ｄ）として含む場合には、表面改質金属酸化物微粒子分散液を、塗布等の方法により膜化した後、形成された膜を、硬化性材料の種類に応じた温度に加熱して硬化させることによって、金属酸化物微粒子含有膜を形成することができる。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液が、前述の種々の感光性組成物である場合、典型的には、
　表面改質金属酸化物微粒子分散液を基板上に塗布して塗布膜を形成することと、
　塗布膜を露光することと、を含む方法により金属酸化物微粒子含有膜が製造される。

　より具体的には、まず、適切な塗布方法により、塗膜を形成する。例えば、ロールコータ、リバースコータ、バーコータ等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコータ、インクジェット等の非接触型塗布装置を用いて基板上に表面改質金属酸化物微粒子分散液を塗布し、乾燥させることにより、塗布膜を形成することができる。
　乾燥方法は特に限定されず、例えば、（１）ホットプレートにて８０℃以上１２０℃以下、好ましくは９０℃以上１００℃以下の温度にて６０秒以上１２０秒以下の間、プリベークを行う方法、（２）室温にて数時間以上数日以下の間放置する方法、（３）温風ヒータや赤外線ヒータ中に数十分間以上数時間以下の間入れて溶剤を除去する方法等が挙げられる。

　次いで、塗布膜に対して、位置選択的に電磁波を照射し、露光する。金属酸化物微粒子分散が露光により硬化するネガ型の感光性組成物である場合、塗布膜の全面に対して露光を行ってもよい。
　露光を位置選択的に行う場合、電磁波は、ポジ型又はネガ型のマスクを介して照射してもよく、直接照射してもよい。露光量は、表面改質金属酸化物微粒子分散の組成によっても異なるが、例えば５ｍＪ／ｃｍ^２以上５００ｍＪ／ｃｍ^２以下程度が好ましい。

　露光が塗布膜に対して全面的に行われた場合、露光された塗布膜をそのまま金属酸化物微粒子含有膜として用いることができる。
　露光が位置選択的に行われた場合、露光後の塗布膜を、現像液により現像することによって所望の形状にパターニングされた金属酸化物微粒子含有膜が得られる。
　現像方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系の現像液や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。

　現像後のパターン化された金属酸化物微粒子含有膜に対しては、２００℃以上２５０℃以下程度でポストベークを行うことが好ましい。

　表面改質金属酸化物微粒子分散液が基材成分（Ｄ）としてケイ素含有樹脂を含むケイ素含有樹脂組成物である場合、金属酸化物微粒子含有膜を製造するために、表面改質金属酸化物微粒子分散液としてのケイ素含有樹脂組成物の塗布膜が焼成される。
　この場合、基板の材質は、焼成に耐えられる材質であれば特に限定されない。基板の材質の好適な例としては、金属、シリコン、ガラス等の無機材料や、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の耐熱性の材料が挙げられる。基板の厚さは特に限定されず、基板は、フィルムやシートであってもよい。

　塗布膜を備える基板は、次いで焼成される。焼成方法は特に限定されないが、典型的には電気炉等を用いて焼成が行われる。焼成温度は、典型的には３００℃以上が好ましく、３５０℃以上がより好ましい。上限は特に限定されないが、例えば、１０００℃以下である。ケイ素含有樹脂組成物が前述の硬化剤及び／又はニトロキシ化合物を含む場合、焼成温度の下限値を２００℃に下げてもシリカフィルムである金属酸化物微粒子含有膜中の残渣（シリカフィルム由来の不純物）を低減できる。焼成雰囲気は特に限定されず、窒素雰囲気又はアルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気下、真空下、又は減圧下であってもよい。大気下であってもよいし、酸素濃度を適宜コントロールしてもよい。

　上記の方法により形成される金属酸化物微粒子含有膜は、表面改質金属酸化物微粒子分散液の組成に応じた金属酸化膜物微粒子含有膜の性能に応じて、光学素子等における高屈折率膜や、電子素子におけるパッシベーション膜等の用途において好適に用いられる。

　以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されない。
　なお、平均粒子径は、粒度分布測定装置（Ｍａｌｖｅｒｎ社製ゼータサイザーナノＺＳＰ）で測定した値である。

〔実施例１〕
　金属酸化物微粒子（Ｂ）として、酸化ジルコニウム微粒子の分散液１（平均粒子径１１．１ｎｍ、濃度５０質量％、分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ））を用いた。なお、酸化ジルコニウム微粒子の分散液１は、特開２０１８－１９３４８１号公報の段落０２２３記載のキャッピング剤：３－｛２－メトキシ［トリ（エチレンオキシ）］｝プロピルトリメトキシシランを含む。
　この酸化ジルコニウム微粒子の分散液１０質量部と、下記構造の被覆剤（Ａ）０．５質量部とを混合した。得られた混合液を、室温で１時間撹拌して被覆処理を行った。被覆処理後、混合液のｐＨが３～６の範囲であることを確認した。被覆処理後の混合液について、実施例１の表面改質酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径は１８．７ｎｍであった。このように平均粒子径が増大したため、本実施例で得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子が被覆剤（Ａ）により被覆されていることが分かる。

〔実施例２〕
　被覆処理後、ロータリーエバポレーターにより加熱しながら、混合液からＰＧＭＥＡを留去させて、被覆処理された表面改質酸化ジルコニウム微粒子を得た。得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子は、粘稠な液体であった。
　他方、原料として用いた分散液から回収される未処理の酸化ジルコニウム微粒子は粉末状であった。このような性状の違いから、本実施例で得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子が被覆剤（Ａ）により被覆されていることが分かる。

〔実施例３〕
　被覆剤（Ａ）の使用量を０．５質量部から１質量部に変更することの他は、実施例１と同様にして、表面改質酸化ジルコニウム微粒子を含む混合液を得た。得られた混合液における表面改質酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径は２８．９ｎｍであった。

〔実施例４〕
　実施例３で得た混合液から、実施例２と同様に溶媒を留去して表面改質酸化ジルコニウム微粒子を得た。得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子は、粘稠な液体であった。このことから、実施例３及び実施例４で得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子が、実施例１及び実施例２で得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子と同様に、被覆剤（Ａ）により被覆されていることが分かる。

〔実施例５〕
　被覆剤（Ａ）の使用量を０．５質量部から０．１質量部に変更することの他は、実施例１と同様にして、表面改質酸化ジルコニウム微粒子を含む混合液を得た。得られた混合液における表面改質酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径は１２．９ｎｍであった。

〔実施例６〕
　実施例５で得た混合液から、実施例２と同様に溶媒を留去して表面改質酸化ジルコニウム微粒子を得た。得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子は、粘稠な液体であった。このことから、実施例５及び実施例６で得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子が、実施例１及び実施例２で得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子と同様に、被覆剤（Ａ）により被覆されていることが分かる。

〔比較例１〕
　被覆剤として、２－アクリロイルオキシエチルフタル酸を用いることの他は、実施例１と同様にして、表面改質酸化ジルコニウム微粒子を得た。なお、２－アクリロイルオキシエチルフタル酸０．５質量部をメチルエチルケトン９．５質量部に溶解させた溶液を、酸化ジルコニウム微粒子の分散液と混合して被覆処理を行った。

　実施例２、実施例４、実施例６及び比較例１で得られた、水あめ状の表面改質酸化ジルコニウムを用いて、以下の方法により、分散安定性を評価した。

＜有機溶媒中での分散安定性評価＞
　水あめ状の表面改質された酸化ジルコニウム微粒子５０質量部を、１００質量部のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）中に均一に分散させて、分散安定性評価用の表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。
　得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を常温静置して、凝集が生じるまでの日数を確認したところ実施例２、実施例４及び実施例６で得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子のほうが、比較例１で得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子よりも、長期間凝集せず、分散安定性が良好であった。

〔実施例７〕
　金属酸化物微粒子（Ｂ）として、酸化ジルコニウム微粒子の分散液１（平均粒子径１１．１ｎｍ、濃度５０質量％、分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ））を用いた。
　この酸化ジルコニウム微粒子の分散液１０質量部と、２－アクリロイルオキシエチルフタル酸０．５質量部をＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレア９．５質量部に溶解させた溶液とを混合した。得られた混合液を、室温で１時間撹拌した後、混合液のｐＨが３～６の範囲内であることを確認した。ロータリーエバポレーターにより加熱しながら、撹拌後の混合液から溶媒を除去して、粘稠な水あめ状の２－アクリロイルオキシエチルフタル酸が付着した酸化ジルコニウム微粒子を得た。
　約５．５質量部の粘稠な水あめ状の酸化ジルコニウムと、実施例１で用いた被覆剤（Ａ）０．５５質量部とを固形分濃度５０質量％となるように、プロピレングリコールモノメチルエーテル中で混合した。その後、混合液を室温で１時間撹拌して、表面改質酸化ジルコニウム微粒子を含む分散液を得た。
　得られた分散液中の表面改質酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径を測定したところ、１８ｎｍであった。
　ロータリーエバポレーターにより加熱しながら、得られた分散液から溶媒を除去して、水あめ状の表面改質酸化ジルコニウム微粒子を得た。
　また、得られた水あめ状の表面改質酸化ジルコニウム微粒子５質量部と、４－ヒドロキシフェニルメタクリレート４０質量％及びグリシジルメタクリレート６０質量％の共重合体１．８質量部と、光重合性化合物であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート０．９質量部と、光重合開始剤である下記構造の化合物０．２質量部とを、メチルイソブチルケトンにより固形分濃度２０質量％に希釈して、ネガ型感光性組成物である表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。

　得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液をガラス基板上にスピンコーターを用いて塗布した。塗布膜に対して、９０℃で１２０秒間プリベークを行って、膜厚１．０μｍの塗布膜を形成した。次いで、塗布膜に対して、紫外線硬化機を用いて、ライン幅２０μｍ、スペース幅２０μｍのラインアンドスペースパターン用のマスクを介して、ブロードバンド光を露光した。露光された塗布膜を、２３℃の濃度２．３８質量％のＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）水溶液で現像し、不要部分を除去した。その後、現像された塗布膜に対して、２３０℃にて２０分間ポストベークを行うことにより、パターン化された硬化膜を形成した。
　つまり、上記の方法で得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子を用いて、良好に分散した状態で表面改質酸化ジルコニウム微粒子を含み、良好にパターニング可能なネガ型感光性組成物が得られた。

〔実施例８〕
　実施例１で用いた被覆剤（Ａ）の使用量を２．２質量部に変更した他は、実施例７と同様にして表面改質酸化ジルコニウム微粒子を含む分散液を得た。
　得られた分散液中の表面改質酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径を測定したところ、４５．７ｎｍであった。
　ロータリーエバポレーターにより得られた分散液から溶媒を除去して、水あめ状の表面改質酸化ジルコニウム微粒子を得た。
　また、得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子を用いて、実施例７と同様にして、ネガ型感光性組成物である表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。
　得られたネガ型感光性組成物である表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を用いて、実施例７と同様にしてパターン化された硬化膜を形成したところ、良好にパターン化された硬化膜を形成できた。

〔実施例９〕
　２－アクリロイルオキシエチルフタル酸を下記構造の化合物に変えることの他は、実施例７と同様にして、表面改質酸化ジルコニウム微粒子を含む分散液を得た。

　得られた分散液中の表面改質酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径を測定したところ、１８．６ｎｍであった。
　ロータリーエバポレーターにより加熱しながら、得られた分散液から溶媒を除去して、水あめ状の表面改質酸化ジルコニウム微粒子を得た。

　また、得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子を用いて、実施例７と同様にして、ネガ型感光性組成物である表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。
　得られたネガ型感光性組成物である表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を用いて、実施例７と同様にしてパターン化された硬化膜を形成したところ、良好にパターン化された硬化膜を形成できた。

〔実施例１０〕
　実施例１で用いた被覆剤（Ａ）の使用量を２．２質量部に変更した他は実施例９と同様にして表面改質酸化ジルコニウム微粒子を含む分散液を得た。
また、得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子を用いて、実施例７と同様にして、ネガ型感光性組成物である表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。
　得られた分散液中の表面改質酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径を測定したところ、４３．７ｎｍであった。
　得られたネガ型感光性組成物である表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を用いて、実施例７と同様にしてパターン化された硬化膜を形成したところ、良好にパターン化された硬化膜を形成できた。
　実施例７及び実施例８の結果と、実施例９及び実施例１０の結果とから、本発明の製法によれば、被覆剤の添加量により表面改質金属酸化物微粒子の平均粒子径を変えることができ、また平均粒子径が大きい場合でも良好な分散性を維持できていることがわかる。

〔実施例１１〕
　被覆剤（Ａ）を実施例１で用いた化合物から下記構造の化合物に変更することの他は、実施例８と同様にして、表面改質酸化ジルコニウム微粒子を含む分散液を得た。なお、下記構造の化合物として、特開２０１７－１７１８２７号公報の段落００８６及び段落００８７に記載の方法で得た下記構造の化合物のα晶を用いた。

　得られた分散液中の表面改質酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径を測定したところ、２９．７ｎｍであった。
　ロータリーエバポレーターにより加熱しながら、得られた分散液から溶媒を除去して、水あめ状の表面改質酸化ジルコニウム微粒子を得た。

〔実施例１２〕
　被覆剤（Ａ）を実施例１で用いた化合物から実施例９で用いた化合物に変更することの他は、実施例１０と同様にして、表面改質酸化ジルコニウム微粒子を含む分散液を得た。
　得られた分散液中の表面改質酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径を測定したところ、２８．１ｎｍであった。
　ロータリーエバポレーターにより加熱しながら、得られた分散液から溶媒を除去して、水あめ状の表面改質酸化ジルコニウム微粒子を得た。

　また、得られた表面改質酸化ジルコニウム微粒子を用いて、実施例７と同様にして、ネガ型感光性組成物である表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。
　得られたネガ型感光性組成物である表面改質酸化ジルコニウム微粒子分散液を用いて、実施例と同様にしてパターン化された硬化膜を形成したところ、良好にパターン化された硬化膜を形成できた。

Claims

　被覆剤（Ａ）により金属酸化物微粒子（Ｂ）を被覆することを含み、
　前記被覆剤（Ａ）が、下記式（ａ－Ｉ）で表される化合物を含む、表面改質金属酸化物微粒子の製造方法。

（式（ａ－Ｉ）中、Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、下記式（ａ－ＩＩ）：

で表される基であり、
　式（ａ－ＩＩ）中、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｘは単結合又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^Ａ１は単結合、炭素原子数が１以上４以下であるアルキレン基、又は炭素原子数が１以上４以下であるアルキレンオキシ基を示し、Ｒ^Ａ１がアルキレンオキシ基である場合、アルキレンオキシ基中の酸素原子が環Ｚと結合し、Ｒ^Ａ２は１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基、スルホ基、又は１価炭化水素基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、若しくは－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基、メシルオキシ基、若しくはスルホ基で置換された基を示し、Ｒ^４ａ～Ｒ^４ｄは独立に１価炭化水素基を示し、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ^Ａ３は水素原子、又はグリシジル基であり、
　環Ｙ^１及び環Ｙ^２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示し、Ｒは単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、－Ｏ－で示される基、－ＮＨ－で示される基、又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは独立にシアノ基、ハロゲン原子、又は１価炭化水素基を示し、ｎ１及びｎ２は独立に０以上４以下の整数を示す。）
　有機溶媒の存在下に、前記被覆剤（Ａ）を前記金属酸化物微粒子（Ｂ）と接触させることにより、前記被覆剤（Ａ）により前記金属酸化物微粒子（Ｂ）の被覆を行う、請求項１に記載の被覆された金属酸化物微粒子の製造方法。
　前記Ｗ^１及び前記Ｗ^２における環Ｚが、それぞれナフタレン環である、請求項１又は２に記載の表面改質金属酸化物微粒子の製造方法。
　前記Ｒが単結合であり、前記環Ｙ^１及び前記環Ｙ^２が、それぞれベンゼン環である、請求項１～３のいずれか１項に記載の表面改質金属酸化物微粒子の製造方法。
　前記被覆剤（Ａ）による金属酸化物微粒子（Ｂ）の被覆を行う前に、前記金属酸化物微粒子（Ｂ）と、芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）及び／又は前記芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）に由来するカルボキシレートとを接触させる、請求項１～４のいずれか１項に記載の表面改質金属酸化物微粒子の製造方法。
　前記芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）が、下記式（１）で表される化合物、置換基を有してもよい安息香酸、及び置換基を有してもよいナフトエ酸からなる群より選択される１種以上を含む、請求項５に記載の表面改質金属酸化物微粒子の製造方法。

（式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子、又は１価の有機基であり、Ｒ^１とＲ^２とが互いに結合して環を形成してもよく、前記環は、環構成元素としてＮ、Ｓ、及びＯからなる群より選択される元素を１つ以上含んでいてもよく、Ｒ^３は、置換基を有してもよい芳香族基であり、Ｒ^４は、メチレン基、又は単結合である。）
　前記金属酸化物微粒子（Ｂ）と、前記芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）との接触を含窒素有機溶媒中で行う、請求項５又は６に記載の表面改質金属酸化物微粒子の製造方法。
　表面の少なくとも一部が、下記式（ａ－Ｉ）で表される化合物を含む被覆剤（Ａ）で被覆されている表面改質金属酸化物微粒子。

（式（ａ－Ｉ）中、Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、下記式（ａ－ＩＩ）：

で表される基であり、
　式（ａ－ＩＩ）中、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｘは単結合又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^Ａ１は単結合、炭素原子数が１以上４以下であるアルキレン基、又は炭素原子数が１以上４以下であるアルキレンオキシ基を示し、Ｒ^Ａ１がアルキレンオキシ基である場合、アルキレンオキシ基中の酸素原子が環Ｚと結合し、Ｒ^Ａ２は１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基、スルホ基、又は１価炭化水素基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、若しくは－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が１価炭化水素基、水酸基、－ＯＲ^４ａで示される基、－ＳＲ^４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシ基、アミノ基、カルバモイル基、－ＮＨＲ^４ｃで示される基、－Ｎ（Ｒ^４ｄ）_２で示される基、メシルオキシ基、若しくはスルホ基で置換された基を示し、Ｒ^４ａ～Ｒ^４ｄは独立に１価炭化水素基を示し、ｍは０以上の整数を示し、Ｒ^Ａ３は水素原子、又はグリシジル基であり、
　環Ｙ^１及び環Ｙ^２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示し、Ｒは単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、－Ｏ－で示される基、－ＮＨ－で示される基、又は－Ｓ－で示される基を示し、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは独立にシアノ基、ハロゲン原子、又は１価炭化水素基を示し、ｎ１及びｎ２は独立に０以上４以下の整数を示す。）
　前記表面の少なくとも一部が、前記被覆剤（Ａ）と芳香族基含有カルボン酸化合物（Ｃ）とで被覆され、前記表面改質金属酸化物微粒子の最表面の少なくとも一部に前記式（ａ－Ｉ）で表される化合物が存在する、請求項８に記載の表面改質金属酸化物微粒子。
　請求項８又は９に記載の表面改質金属酸化物微粒子を含む、表面改質金属酸化物微粒子分散液。
　基材成分（Ｄ）を含有する、請求項１０に記載の表面改質金属酸化物微粒子分散液。
　請求項１１に記載の表面改質金属酸化粒子分散液が、乾燥、水分による硬化、加熱、及び露光からなる群より選択される１以上の方法により固化した固体物品。
　請求項１～７のいずれか１項に記載の方法により表面改質金属酸化物微粒子を製造することと、
　前記表面改質金属酸化物微粒子、及び基材成分（Ｄ）を溶媒（Ｓ）中で混合して、表面改質金属酸化物微粒子分散液を得ることと、を含む表面改質金属酸化物微粒子分散液の製造方法。
　請求項１３に記載の方法により表面改質金属酸化物微粒子分散液を製造することと、
　前記表面改質金属酸化物微粒子分散液を、形成される固体物品の形状に応じて成形することと、
　成形された前記表面改質金属酸化物微粒子分散液を、乾燥、水分による硬化、加熱、及び露光からなる群より選択される１以上の方法により固化させることと、を含む固体物品の製造方法。