WO2021053731A1 - 研磨剤、ガラスの研磨方法、及びガラスの製造方法 - Google Patents

研磨剤、ガラスの研磨方法、及びガラスの製造方法 Download PDF

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silica
hydrophobic
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友洋 渋谷
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Ａｇｃ株式会社
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives

Definitions

  • the present invention relates to an abrasive, a glass polishing method, and a glass manufacturing method.
  • Colloidal silica is generally used as the polishing agent for the surface of the glass plate. Further, in recent years, the demand for smoothness of a glass plate has been increasing, and particularly when used for an optical material such as a light guide plate, a higher level of smoothness is required.
  • Patent Document 1 describes that fumed silica is used as an abrasive
  • Patent Document 2 describes that a resin is used as an abrasive
  • Patent Document 3 polishes diamond. It is described that it is used as an agent.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an abrasive capable of improving the smoothness of glass, a method for polishing glass, and a method for producing glass.
  • the abrasive according to the present disclosure contains hydrophobic abrasive grains and water.
  • the glass polishing method according to the present disclosure uses the above-mentioned abrasive to polish the glass.
  • the glass manufacturing method according to the present disclosure is to manufacture glass by using the glass polishing method.
  • the smoothness of glass can be improved.
  • FIG. 1 is a schematic view illustrating a method for producing glass according to the present embodiment.
  • the abrasive A is an abrasive used for polishing the glass 10.
  • Abrasive A contains water and hydrophobic abrasive grains B.
  • the water here is preferably pure water.
  • the value W defined by the following formula (1) is preferably 0.50 or less, more preferably the value W is 0.20 or less, and the value W is 0. It is more preferably 05 or less.
  • the hydrophobicity is appropriately secured and the smoothness of the glass 10 can be improved, and when the value W is 0.20 or less, the hydrophobicity is more appropriately guaranteed. Therefore, the smoothness of the glass 10 can be improved more appropriately, and when the value W is 0.05 or less, the hydrophobicity can be more appropriately ensured, and the smoothness of the glass 10 can be further improved.
  • the mass W 1 (g) is derived as follows. 27.0 g of distilled water is added to 1: 3.0 g of abrasive grains B to form an abrasive A, and the mixture is stirred until uniformly dispersed. 2: The abrasive A is centrifuged at 15,000 rpm for 10 minutes. 3: After centrifugation, remove other than the precipitate of abrasive A. 4: The precipitate is placed in a dryer and dried at 90 ° C. for 2 hours. 5: The mass W 1 (g) of the precipitate after drying is measured.
  • Abrasive grain B can be said to be a material containing a hydrophobic group on its surface, and can be said to be a material whose end is a hydrophobic group.
  • the hydrophobic group include a dimethylsilyl group, a trimethylsilyl group, a dimethylpolysiloxane, an alkylsilyl group, a methacrylsilyl group, a fluorogroup and the like.
  • the abrasive grains B preferably contain 1 or more selected from the group consisting of silica, alumina, titania, resin, and carbon.
  • the abrasive grains B contain one or more selected from the group consisting of silica having a hydrophobic group on the surface, alumina having a hydrophobic group on the surface, and titania having a hydrophobic group on the surface.
  • Abrasive grains B may be produced by subjecting them to a hydrophobizing treatment.
  • a hydrophilic material is used to form abrasive grains B
  • the material of the abrasive grains B is hydrophobized to make the abrasive grains B hydrophobic.
  • the hydrophobizing treatment is a treatment for providing a hydrophobic group on the surface of a material, in other words, a treatment for providing a hydrophobic group at the end.
  • the hydrophobizing treatment method a known method can be used.
  • hydrophobic treatment method for example, a method using a silane coupling agent described in JP-A-2018-141958 and hydrophobization by a fluorination treatment described in JP-A-2018-141958 are known. In addition, a commercially available product after the hydrophobization treatment can be easily obtained.
  • the average primary particle size of the abrasive grains B is preferably in the range of 5 nm to 500 nm, and more preferably in the range of 20 nm to 100 nm.
  • the primary particle size refers to the particle size of one particle, and the average primary particle size refers to the average value of the primary particle size.
  • 5 nm to 500 nm here means that it is 5 nm or more and 500 nm or less, and the same applies thereafter.
  • the method for measuring the average primary particle size of the abrasive grains B in the present embodiment is arbitrary.
  • the BET diameter may be obtained on the assumption that the particles are spherical and there are no pores in the abrasive grains, and the average primary particle size may be calculated from the BET diameter. ..
  • the total content of the abrasive grains B and water in the abrasive A is preferably 90% or more in terms of mass ratio with respect to the entire abrasive A, in other words, 90% or more. It is preferably 100%. Further, in the present embodiment, the content of the abrasive grains B in the abrasive A is preferably 0.0001% to 20% by mass ratio with respect to the entire abrasive A, preferably 0.0005%. More preferably, it is ⁇ 1%. When the total content of the abrasive grains B and water is 90% or more, the glass 10 can be appropriately polished.
  • the glass 10 when the content of the abrasive grains B is 0.0001% or more, the glass 10 can be appropriately polished, and when it is 20% or less, the formation of scratches on the surface of the glass 10 can be suppressed. Further, when the content of the abrasive grains B is 0.0005% or more, the glass 10 can be polished more appropriately, and when it is 1% or less, the formation of scratches on the surface of the glass 10 can be more preferably suppressed.
  • a PH adjuster such as acid or alkali
  • a known additive such as a dispersant
  • the dispersant include a polymer containing a carboxyl group, a sulfone group, a hydroxy group and the like at the terminal, a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant and the like.
  • the hydrophobic abrasive grains B can be appropriately dispersed in water, and the polished surface of the glass 10 can be made uniform.
  • the content of the dispersant in the abrasive A is preferably 0.001% to 10% by mass ratio with respect to the entire abrasive A.
  • the abrasive grains B can be appropriately dispersed in water, and when the content of the dispersant is 10% or less, the excess consumption of the dispersant is consumed. Can be suppressed.
  • the glass 10 is manufactured by polishing the glass 10 with the above-mentioned abrasive A.
  • Abrasive A can polish any glass having any composition.
  • Examples of the glass 10 to be polished by the abrasive A include soda lime glass, borosilicate glass, crystallized glass, and quartz glass.
  • the glass 10 is a plate-shaped glass plate, which may be flat or curved. However, the shape of the glass 10 may be arbitrary.
  • FIG. 1 is a schematic view illustrating a method for producing glass according to the present embodiment.
  • the glass 10 before polishing is prepared (step S10).
  • the glass 10 before polishing is prepared by cutting the glass produced by an arbitrary method such as a melt casting method into a predetermined size and thinning (wrapping) the cut glass. Examples of the thinning method include dry polishing the cut glass with a grindstone.
  • the method of preparing the glass 10 before polishing is not limited to the above description and is arbitrary.
  • the cerium oxide polishing step is executed on the glass 10 before polishing (step S12).
  • the glass 10 is polished using the cerium oxide polishing agent A1 as the polishing agent.
  • the cerium oxide abrasive A1 is an abrasive containing cerium oxide as abrasive grains and water.
  • the cerium oxide contained in the cerium oxide abrasive A1 is a non-hydrophobic cerium oxide, and more specifically, a hydrophilic cerium oxide having a hydrophilic group on the surface.
  • the glass 10 is polished using a polishing device D provided with a polishing pad Da on the surface.
  • the polishing pad Da is rotated while the liquid cerium oxide polishing agent A1 is supplied to the surface of the glass 10 and the polishing pad Da is pressed against the surface of the glass 10. Polish the surface.
  • the surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of the surface of the polished glass 10 is, for example, within the range of 0.2 nm to 0.6 nm.
  • the cerium oxide polishing step at least one of the one surface 10a of the glass 10 and the surface 10b on the opposite side of the surface 10a is polished.
  • the glass 10 may be washed by the same method as in step S16 described later.
  • the cerium oxide polishing step is not limited to polishing the glass 10 using the polishing device D having the structure shown in FIG. 1, and any method can be used as long as the cerium oxide polishing agent A1 is used. May be polished.
  • a silica polishing step is executed on the glass 10 polished with the cerium oxide abrasive A1 (step S14).
  • the glass 10 is polished using the silica polishing agent A2 as the polishing agent.
  • the silica abrasive A2 is an abrasive containing silica as abrasive grains and water.
  • the silica contained in the silica abrasive A2 is non-hydrophobic silica, and more specifically, hydrophilic silica having a hydrophilic group on the surface. Colloidal silica may be used as the silica contained in the silica abrasive A2.
  • the glass 10 is polished using the polishing device D.
  • the surface of the glass 10 is ground by rotating the polishing pad Da while supplying the liquid silica polishing agent A2 to the surface of the glass 10 and pressing the polishing pad Da against the surface of the glass 10. Grind.
  • the surface roughness Ra of the surface of the polished glass 10 is set to, for example, in the range of 0.1 nm to 0.3 nm.
  • the silica polishing step at least one of the one surface 10a and the surface 10b of the glass 10 is polished.
  • the silica polishing step is not limited to polishing the glass 10 using the polishing device D, and the glass 10 may be polished by any method as long as the silica polishing agent A2 is used.
  • step S16 After polishing the glass 10 with the silica abrasive A2, the glass 10 is washed (step S16).
  • step S16 the glass 10 polished with the silica abrasive A2 is placed in the cleaning container E for cleaning.
  • the cleaning container E is filled with a liquid such as water, and the liquid is aerated by an aeration device.
  • the glass 10 is washed by being immersed in the liquid in the washing container E and aerated by the aeration device.
  • the cleaning method of the glass 10 is not limited to this, and may be arbitrary. Also, cleaning the glass 10 is not essential.
  • a polishing step is executed on the cleaned glass 10 (step S18).
  • the glass 10 is polished using the polishing agent A, but a dummy polishing step may be provided in advance under the same conditions as the polishing step.
  • the polishing step the glass 10 is polished using the polishing device D1.
  • the polishing device D1 is provided with, for example, a cylindrical polishing pad D1a, and the side surface of the polishing pad D1a is pressed against the surface of the glass 10 to push the polishing pad D1a against the glass 10 in the direction along the surface of the glass 10.
  • the surface of the glass 10 is polished by the relative movement.
  • the surface of the glass 10 is polished by supplying the liquid abrasive A to the surface of the glass 10 and relatively moving the polishing pad D1a while pressing the polishing pad D1a against the surface of the glass 10.
  • the surface roughness Ra of the surface of the polished glass 10 is set to, for example, 0.03 nm or more and less than 0.07 nm.
  • the polishing step at least one of the one surface 10a and the surface 10b of the glass 10 is polished.
  • the polishing step is not limited to polishing the glass using the columnar polishing pad D1a, and may be polished using, for example, the polishing device D. That is, in the polishing step, the glass 10 may be polished by any method as long as the polishing agent A is used.
  • the amount of the polishing agent A supplied to the surface of the glass 10 per unit time is preferably 1 mL / min to 30 mL / min.
  • the supply amount of the abrasive A is 1 mL / min or more, a sufficient amount of abrasive grains are supplied to the polishing pad D1a, the surface smoothness is improved, and when the supply amount is 30 mL / min or less, the excess abrasive grains are consumed. Can be suppressed.
  • the pressing pressure which is the pressure for pressing the polishing pad against the surface of the glass 10, is preferably 40 g / cm 2 to 200 g / cm 2 .
  • the glass 10 When the pressing pressure is 40 g / cm 2 or more, the glass 10 can be appropriately polished, and when it is 200 g / cm 2 or less, the formation of scratches on the surface of the glass 10 can be suppressed.
  • the pressing force of the polishing pad in the polishing step may be set smaller than the pressing force of the polishing pad in the cerium oxide polishing step and the silica polishing step. Further, in the polishing step, it is preferable that the polishing time by the polishing pad is 1 minute or more and 10 minutes or less. By setting the polishing time to 1 minute or more, the glass 10 can be appropriately polished, and by setting the polishing time to 10 minutes or less, the formation of scratches on the surface of the glass 10 can be suppressed.
  • the polishing time in the polishing step may be set shorter than the polishing time in the cerium oxide polishing step and the silica polishing step.
  • step S20 After polishing the glass 10 with the abrasive A, the glass 10 is washed (step S20).
  • step S20 the glass 10 is placed in the cleaning container E using the abrasive A, and the glass 10 is washed in the same manner as in step S16.
  • the method for cleaning the glass 10 in step S20 is also arbitrary, and step S20 is not an indispensable step.
  • the glass 10 is polished with the cerium oxide abrasive A1, the glass 10 after being polished with the cerium oxide abrasive A1 is polished with the silica abrasive A2, and the glass 10 is polished with the silica abrasive A2.
  • the polished glass 10 is polished with the abrasive A.
  • the glass 10 is polished with the cerium oxide abrasive A1, and the glass 10 after being polished with the cerium oxide abrasive A1 is polished with the abrasive A. Further, polishing with the cerium oxide abrasive A1 is not essential, and in the present embodiment, at least the glass 10 may be polished with the abrasive A.
  • the abrasive A according to the present embodiment contains hydrophobic abrasive grains B and water.
  • the hydrophobic abrasive grains B as the abrasive A, the surface roughness of the glass 10 can be reduced and the smoothness of the glass 10 can be improved.
  • the abrasive grain B preferably contains 1 or more selected from the group consisting of silica, alumina, titania, resin, and carbon.
  • the abrasive grains B preferably contain 1 or more selected from the group consisting of silica having a hydrophobic group on the surface, alumina having a hydrophobic group on the surface, and titania having a hydrophobic group on the surface.
  • the value W defined below is 0.50 or less for the abrasive grains B.
  • the hydrophobicity is appropriately ensured and the smoothness of the glass 10 can be improved.
  • W (mass of precipitate after drying (g) /3.0 (g))
  • the content of the abrasive grains B is preferably in the range of 0.0001% to 20% by mass ratio with respect to the entire abrasive A.
  • the glass 10 can be appropriately polished, and when the content of the abrasive grains B is 20% or less, the formation of scratches on the surface of the glass 10 can be suppressed. ..
  • the abrasive A further contains a dispersant.
  • a dispersant By adding a dispersant to the abrasive A, the hydrophobic abrasive grains B can be appropriately dispersed in water, and the polished surface of the glass 10 can be made uniform.
  • the abrasive A is used for glass polishing. By polishing the glass 10 with the abrasive A, the smoothness of the glass 10 can be improved.
  • the glass 10 is polished using the abrasive A.
  • the smoothness of the glass 10 can be improved.
  • the method for polishing the glass 10 according to the present embodiment includes a cerium oxide polishing step and a polishing step executed after the cerium oxide step.
  • the cerium oxide polishing step the glass 10 is polished with the cerium oxide abrasive A1 containing cerium oxide.
  • the polishing step after the cerium oxide polishing step, the glass 10 is polished with the abrasive A.
  • the surface roughness Ra of the glass 10 can be reduced and the smoothness of the glass 10 can be improved by polishing the glass 10 with the cerium oxide abrasive A1 and then polishing the glass with the abrasive A.
  • the method for polishing the glass 10 according to the present embodiment further includes a silica polishing step of polishing the glass 10 with a silica polishing agent A2 containing silica after the cerium oxide polishing step.
  • the polishing step after the silica polishing step, the glass 10 is polished with the abrasive A.
  • the surface roughness Ra of the glass 10 is reduced by polishing the glass 10 polished with the cerium oxide abrasive A1 and the silica abrasive A2 with the abrasive A, and the smoothness of the glass 10 is more preferable. Can be improved.
  • the glass 10 is manufactured by using the method for polishing the glass 10 according to the present embodiment.
  • the smoothness of the glass 10 can be improved by polishing the glass 10 with the abrasive A to manufacture the glass 10.
  • the glass 10 polished with the abrasive A has high smoothness, and therefore can be suitably used as an optical element such as a light guide plate.
  • Example 2 Next, an embodiment will be described. The embodiment may be changed as long as the effect of the invention is exhibited.
  • different abrasives were prepared, the glass was polished with each abrasive, the surface roughness Ra of the polished glass was measured, and the measurement result of the surface roughness Ra was measured. The abrasive was evaluated based on.
  • a more detailed description will be given.
  • the length of the first side is 50 mm
  • the length of the second side intersecting the first side is 50 mm
  • the thickness is 1.0 mm
  • the surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) is used.
  • a glass having a roughness of 0.150 nm was prepared.
  • non-alkali borosilicate glass more specifically AN100 manufactured by AGC Inc.
  • aluminosilicate glass more specifically, Rolland ⁇ 'manufactured by AGC Inc. were prepared. In Example 6, Rolland ⁇ 'was used.
  • the prepared glass was prepared with an abrasive having the composition shown in Examples and Comparative Examples shown in Table 1 below.
  • the abrasive grains of the abrasives of Examples 1 and 6 are hydrophobic silica using AEROSIL RX200 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
  • the abrasive grains of the abrasive of Example 2 are hydrophobic silica using AEROSIL RY200 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
  • the abrasive grains of the abrasive of Example 3 are hydrophobic alumina using AEROXIDE Alu C805 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
  • the abrasive grains of the abrasive of Example 4 are hydrophobic resins using XC99 A8808 manufactured by Momentive Performance Materials Japan.
  • the abrasive grains of the abrasive of Example 5 are hydrophobic titania using AEROXIDE TiO2 T805 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
  • the abrasive grains of the abrasive of Comparative Example 1 are hydrophilic silica using AEROSIL 200 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
  • the abrasive grains of the abrasive of Comparative Example 2 are hydrophilic alumina using AEROXIDE Alu C manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
  • the abrasive grains of the abrasive of Comparative Example 3 are hydrophilic titania using AEROXIDE TiO2 P25 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
  • the value W specified in the above-described embodiment was calculated.
  • the hydrophobicity of abrasive grains with a value W of 0.05 or less was evaluated as A.
  • the hydrophobicity of the abrasive grains having a value W greater than 0.05 and 0.20 or less was evaluated as B.
  • the hydrophobicity of the abrasive grains having a value W greater than 0.20 and 0.50 or less was evaluated as C. From A evaluation to C evaluation, it was evaluated as having hydrophobicity, Abrasive grains having a value W greater than 0.50 were evaluated as hydrophilic rather than hydrophobic.
  • the prepared glass was polished under the following conditions. That is, FAM12BS manufactured by Speedfam Co., Ltd. is used as the polishing device, and Suede pad NP787 manufactured by FILWEL is used as the polishing pad, the rotation speed of the surface plate is set to 40 rpm, the pressing force of the polishing pad is set to 44 g / cm 2, and polishing is performed. The time was set to 1 minute, and the amount of abrasive supplied was set to 5 ml / min.
  • the surface roughness Ra (arithmetic surface roughness) was measured by CypherS AFM manufactured by Asylum Research.
  • the surface roughness Ra is smaller than 0.050 nm, it is rounded.
  • the case where the surface roughness Ra is 0.050 nm or more and less than 0.070 nm is defined as a triangle.
  • the case where the surface roughness Ra was 0.070 nm or more was regarded as a cross. Circles and triangles were evaluated as acceptable.
  • the evaluation result of the surface roughness Ra is acceptable in the examples, while the evaluation result of the surface roughness Ra is unacceptable in the comparative example. That is, it can be seen that by using hydrophobic abrasive grains as an abrasive, the surface roughness of the glass can be reduced and the smoothing of the glass can be improved. It can also be seen that the higher the hydrophobicity, that is, the smaller the value of W, the smaller the value of the surface roughness Ra. Further, as shown in Example 6, it can be seen that when hydrophobic abrasive grains are used as an abrasive, the smoothing of the glass can be improved even if the type of glass is changed.
  • the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments are not limited by the contents of the embodiments. Further, the above-mentioned components include those that can be easily assumed by those skilled in the art, those that are substantially the same, that is, those having a so-called equal range. Furthermore, the components described above can be combined as appropriate. Further, various omissions, replacements or changes of the components can be made without departing from the gist of the above-described embodiment.

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Abstract

ガラスの平滑性を向上させる。研磨剤（Ａ）は、疎水性の砥粒と水とを含有する。

Description

研磨剤、ガラスの研磨方法、及びガラスの製造方法
　本発明は、研磨剤、ガラスの研磨方法、及びガラスの製造方法に関する。
　ガラス板の表面の研磨剤としては、一般的に、コロイダルシリカが用いられる。さらに近年、ガラス板の平滑性の要求が高くなっており、特に導光板などの光学材料に使用される場合にはよりハイレベルな平滑性が求められている。例えば特許文献１には、ヒュームドシリカを研磨剤として用いる旨が記載されており、特許文献２には、樹脂を研磨剤として用いる旨が記載されており、特許文献３には、ダイヤモンドを研磨剤として用いる旨が記載されている。
特開２００９－５０９２０号公報 国際公開第２０１５／０４６５４２号公報 特開２０１６－２１６７０３号公報
　しかし、ガラスの平滑性を向上させるための研磨剤については、改善の余地がある。そのため、ガラスの平滑性を向上可能な研磨剤を提供することが求められている。
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ガラスの平滑性を向上可能な研磨剤、ガラスの研磨方法、及びガラスの製造方法を提供することを目的とする。
　上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示に係る研磨剤は、疎水性の砥粒と水とを含有する。
　上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示に係るガラスの研磨方法は、前記研磨剤を用いてガラスを研磨する。
　上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示に係るガラスの製造方法は、前記ガラスの研磨方法を用いてガラスを製造する。
　本発明によれば、ガラスの平滑性を向上できる。
図１は、本実施形態に係るガラスの製造方法を説明する模式図である。
　以下に添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。また、数値については四捨五入の範囲が含まれる。
　本実施形態に係る研磨剤Ａは、ガラス１０の研磨に用いられる研磨剤である。研磨剤Ａは、水と疎水性の砥粒Ｂとを含む。ここでの水は、純水であることが好ましい。本実施形態における砥粒Ｂは、以下の式（１）で規定する値Ｗが０．５０以下であることが好ましく、値Ｗが０．２０以下であることがより好ましく、値Ｗが０．０５以下であることがさらに好ましい。値Ｗが０．５０以下であることで、適切に疎水性が担保されて、ガラス１０の平滑度を向上でき、値Ｗが０．２０以下であることで、より適切に疎水性が担保されて、ガラス１０の平滑度をより適切に向上でき、値Ｗが０．０５以下であることで、さらに適切に疎水性が担保されて、ガラス１０の平滑度をさらに適切に向上できる。
　Ｗ＝Ｗ１（ｇ）／３．０（ｇ）　・・・（１）
　なお、質量Ｗ１（ｇ）は、次のように導出される。
　１：３．０ｇの砥粒Ｂに２７．０ｇの蒸留水を加えて研磨剤Ａを生成して、均一に分散するまで攪拌する。
　２：研磨剤Ａを、１５０００ｒｐｍで１０分間、遠心分離を行う。
　３：遠心分離後、研磨剤Ａの沈殿物以外を取り除く。
　４：沈殿物を乾燥機に入れ、９０℃で２時間乾燥させる。
　５：乾燥後の沈殿物の質量Ｗ１（ｇ）を測定する。
　砥粒Ｂは、表面に疎水基を含む材料であるということもでき、疎水基が終端となる材料であるともいえる。疎水基としては、例えばジメチルシリル基、トリメチルシリル基、ジメチルポリシロキサン、アルキルシリル基、メタクリルシリル基、フルオロ基などが挙げられる。また、砥粒Ｂは、シリカ、アルミナ、チタニア、樹脂、及びカーボンからなる群より選択される１以上を含有するものであることが好ましい。砥粒Ｂは、表面に疎水基を含むシリカ、表面に疎水基を含むアルミナ、表面に疎水基を含むチタニアからなる群より選択される１以上を含有するものであることがより好ましい。
　砥粒Ｂは、疎水化処理を施すことにより製造されてもよい。特に、親水性の材料を用いて砥粒Ｂとする場合には、砥粒Ｂの材料に疎水化処理を施して、砥粒Ｂを疎水性とすることが好ましい。疎水化処理とは、材料の表面に疎水基を設ける処理であり、言い換えれば、終端に疎水基を設ける処理である。疎水化処理法としては、公知の手法を用いることができる。疎水化処理法としては、例えば特開２０１８－１４１９５８に記載のシランカップリング剤を用いた方法や、特開２０１８－１４１９５８に記載のフッ素化処理による疎水化が知られている。また、疎水化処理後の市販品を容易に入手することもできる。
　砥粒Ｂの平均一次粒径は、５ｎｍ～５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、２０ｎｍ～１００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。なお、一次粒径とは、１つの粒子の粒径を指し、平均一次粒径とは、一次粒径の平均値を指す。また、ここでの５ｎｍ～５００ｎｍとは、５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることを指し、以降でも同様である。平均一次粒径を５ｎｍ以上とすることで、ガラス１０の表面粗さを小さくすることができ、平均一次粒径を５００ｎｍ以下とすることで、ガラス１０の表面の傷の形成を抑制できる。
　なお、本実施形態における砥粒Ｂの平均一次粒径の測定方法は任意であるが、例えば、ＢＥＴ法で測定された比表面積（ｍ２／ｇ）と、砥粒Ｂの密度（カーボンだと、例えば７．２１５ｇ・ｃｍ３）とから、粒子が球形でかつ砥粒の中に細孔がないものと仮定してＢＥＴ径を求め、そのＢＥＴ径から平均一次粒径を算出してもよい。
　本実施形態においては、研磨剤Ａにおける砥粒Ｂと水との合計含有量が、研磨剤Ａの全体に対して、質量比で、９０％以上であることが好ましく、言い換えれば、９０％～１００％であることが好ましい。また、本実施形態においては、研磨剤Ａにおける砥粒Ｂの含有量が、研磨剤Ａの全体に対して、質量比で、０．０００１％～２０％であることが好ましく、０．０００５％～１％であることがより好ましい。砥粒Ｂと水との合計含有量が９０％以上であることで、ガラス１０を適切に研磨できる。また、砥粒Ｂの含有量が０．０００１％以上であることでガラス１０を適切に研磨でき、２０％以下であることでガラス１０の表面の傷の形成を抑制できる。また、砥粒Ｂの含有量が０．０００５％以上であることでガラス１０をより適切に研磨でき、１％以下であることでガラス１０の表面の傷の形成をより好適に抑制できる。
［その他の成分］
　また、研磨剤Ａは、砥粒Ｂ及び水に加えて、その他の成分として、酸、アルカリ等のＰＨ調整材及び分散剤等の公知の添加剤を、研磨剤Ａの全体に対して、質量比で１０％まで含んでもよい。分散剤としては、末端にカルボキシル基、スルホン基、ヒドロキシ基などを含むポリマー、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、等が挙げられる。砥粒Ｂに分散剤を添加することで、疎水性の砥粒Ｂを、水中で適切に分散させて、ガラス１０の研磨面を均一にできる。例えば、研磨剤Ａにおける分散剤の含有量は、研磨剤Ａの全体に対して、質量比で、０．００１％～１０％であることが好ましい。分散剤の含有量が０．００１％以上であることで、砥粒Ｂを水中で適切に分散させることができ、分散剤の含有量が１０％以下であることで、分散剤の余分な消費を抑制できる。
　本実施形態においては、以上のような研磨剤Ａを用いてガラス１０を研磨して、ガラス１０を製造する。研磨剤Ａは、どのような組成のガラスであっても研磨可能である。研磨剤Ａによって研磨するガラス１０としては、例えば、ソーダライムガラス、ほうけい酸ガラス、結晶化ガラス、石英ガラスなどが挙げられる。ガラス１０は、本実施形態では、板状のガラス板であり、平板状であってもよいし、湾曲していてもよい。ただし、ガラス１０の形状は任意であってよい。
　以下、本実施形態に係るガラス１０の製造方法について説明する。図１は、本実施形態に係るガラスの製造方法を説明する模式図である。図１に示すように、本実施形態に係る製造方法においては、最初に、研磨前のガラス１０を準備する（ステップＳ１０）。例えば、溶融キャスト法など任意の方法で製造したガラスを所定の大きさに切りだして、切り出したガラスを薄肉化（ラッピング）することで、研磨前のガラス１０を準備する。薄肉化の方法としては、例えば切り出したガラスを砥石で乾式研磨することなどが挙げられる。ただし、研磨前のガラス１０の準備方法は、以上の説明に限られず任意である。
　研磨前のガラス１０を準備したら、研磨前のガラス１０に対して、酸化セリウム研磨ステップを実行する（ステップＳ１２）。酸化セリウム研磨ステップにおいては、研磨剤として酸化セリウム研磨剤Ａ１を用いて、ガラス１０を研磨する。酸化セリウム研磨剤Ａ１は、砥粒としての酸化セリウムと、水とを含む研磨剤である。酸化セリウム研磨剤Ａ１に含まれる酸化セリウムは、疎水性でない酸化セリウムであり、さらに言えば表面に親水基を有する親水性の酸化セリウムである。酸化セリウム研磨ステップにおいては、表面に研磨パッドＤａを備える研磨装置Ｄを用いてガラス１０を研磨する。酸化セリウム研磨ステップにおいては、ガラス１０の表面に液状の酸化セリウム研磨剤Ａ１を供給しつつ、研磨パッドＤａをガラス１０の表面に押圧させた状態で研磨パッドＤａを回転させることで、ガラス１０の表面を研磨する。酸化セリウム研磨剤Ａ１を用いてガラス１０の表面を研磨することで、研磨されたガラス１０の表面の表面粗さＲａ（算術平均粗さ）を、例えば、０．２ｎｍ～０．６ｎｍの範囲内とする。なお、酸化セリウム研磨ステップにおいては、ガラス１０の一方の表面１０ａと、表面１０ａと反対側の表面１０ｂとの、少なくとも一方を研磨する。また、酸化セリウム研磨ステップの実行後に、後述のステップＳ１６と同様の方法でガラス１０を洗浄してもよい。また、酸化セリウム研磨ステップにおいては、図１で示した構造の研磨装置Ｄを用いてガラス１０を研磨することに限られず、酸化セリウム研磨剤Ａ１を用いるものであれば、任意の方法でガラス１０を研磨してよい。
　酸化セリウム研磨剤Ａ１を用いてガラス１０を研磨したら、酸化セリウム研磨剤Ａ１を用いて研磨したガラス１０に対して、シリカ研磨ステップを実行する（ステップＳ１４）。シリカ研磨ステップにおいては、研磨剤としてシリカ研磨剤Ａ２を用いて、ガラス１０を研磨する。シリカ研磨剤Ａ２は、砥粒としてのシリカと、水とを含む研磨剤である。シリカ研磨剤Ａ２に含まれるシリカは、疎水性でないシリカであり、さらに言えば表面に親水基を有する親水性のシリカである。シリカ研磨剤Ａ２に含まれるシリカとして、コロイダルシリカを用いてよい。シリカ研磨ステップにおいては、研磨装置Ｄを用いてガラス１０を研磨する。シリカ研磨ステップにおいては、ガラス１０の表面に液状のシリカ研磨剤Ａ２を供給しつつ、研磨パッドＤａをガラス１０の表面に押圧させた状態で研磨パッドＤａを回転させることで、ガラス１０の表面を研磨する。シリカ研磨剤Ａ２を用いてガラス１０の表面を研磨することで、研磨されたガラス１０の表面の表面粗さＲａを、例えば、０．１ｎｍ～０．３ｎｍの範囲内とする。なお、シリカ研磨ステップにおいては、ガラス１０の一方の表面１０ａと表面１０ｂとの、少なくとも一方を研磨する。また、シリカ研磨ステップにおいては、研磨装置Ｄを用いてガラス１０を研磨することに限られず、シリカ研磨剤Ａ２を用いるものであれば、任意の方法でガラス１０を研磨してよい。
　シリカ研磨剤Ａ２を用いてガラス１０を研磨したら、ガラス１０を洗浄する（ステップＳ１６）。ステップＳ１６においては、シリカ研磨剤Ａ２を用いて研磨したガラス１０を洗浄容器Ｅ内に入れて、洗浄する。例えば洗浄容器Ｅは、内部に水等の液体が満たされており、液体を曝気装置で曝気する。ガラス１０は、洗浄容器Ｅ内の液体に浸漬されて、曝気装置で曝気されることで、洗浄される。ただし、ガラス１０の洗浄方法はこれに限られず任意であってよい。また、ガラス１０の洗浄は必須ではない。
　ガラス１０を洗浄したら、洗浄後のガラス１０に対して、研磨ステップを実行する（ステップＳ１８）。研磨ステップにおいては、研磨剤Ａを用いて、ガラス１０を研磨するが、事前に研磨ステップと同じ条件でダミー研磨ステップを設けてもよい。研磨ステップにおいては、研磨装置Ｄ１を用いてガラス１０を研磨する。研磨装置Ｄ１は、例えば円柱状の研磨パッドＤ１ａを備えており、研磨パッドＤ１ａの側面をガラス１０の表面に押し当てて、研磨パッドＤ１ａを、ガラス１０の表面に沿った方向にガラス１０に対して相対移動させることで、ガラス１０の表面を研磨する。研磨ステップにおいては、ガラス１０の表面に液状の研磨剤Ａを供給しつつ、研磨パッドＤ１ａをガラス１０の表面に押圧させた状態で相対移動させることで、ガラス１０の表面を研磨する。研磨剤Ａを用いてガラス１０の表面を研磨することで、研磨されたガラス１０の表面の表面粗さＲａを、例えば、０．０３ｎｍ以上であって０．０７ｎｍより小さい範囲内とする。なお、研磨ステップにおいては、ガラス１０の一方の表面１０ａと表面１０ｂとの、少なくとも一方を研磨する。なお、研磨ステップにおいては、円柱状の研磨パッドＤ１ａを用いてガラスを研磨することに限られず、例えば、研磨装置Ｄを用いて研磨してもよい。すなわち、研磨ステップにおいては、研磨剤Ａを用いるものであれば、任意の方法でガラス１０を研磨してよい。
　研磨ステップにおいては、ガラス１０の表面への研磨剤Ａの単位時間当たりの供給量を、１ｍＬ／ｍｉｎ～３０ｍＬ／ｍｉｎとすることが好ましい。研磨剤Ａの供給量を１ｍＬ／ｍｉｎ以上とすることで研磨パッドＤ１ａに十分な量の砥粒が供給され、表面平滑性が良好となり、３０ｍＬ／ｍｉｎ以下とすることで砥粒の余分な消費を抑制できる。また、研磨ステップにおいては、研磨パッドをガラス１０の表面へ押圧する圧力である押圧力を、４０ｇ／ｃｍ２～２００ｇ／ｃｍ２とすることが好ましい。押圧力を４０ｇ／ｃｍ２以上とすることで、ガラス１０を適切に研磨でき、２００ｇ／ｃｍ２以下とすることで、ガラス１０の表面の傷の形成を抑制できる。なお、研磨ステップにおける研磨パッドの押圧力は、酸化セリウム研磨ステップ及びシリカ研磨ステップにおける研磨パッドの押圧力より、小さく設定されてよい。また、研磨ステップにおいては、研磨パッドによる研磨時間を、１分以上１０分以下とすることが好ましい。研磨時間を１分以上とすることで、ガラス１０を適切に研磨でき、１０分以下とすることで、ガラス１０の表面の傷の形成を抑制できる。なお、研磨ステップにおける研磨時間は、酸化セリウム研磨ステップ及びシリカ研磨ステップにおける研磨時間より、短く設定されてよい。
　研磨剤Ａを用いてガラス１０を研磨したら、ガラス１０を洗浄する（ステップＳ２０）。ステップＳ２０においては、研磨剤Ａを用いてガラス１０を洗浄容器Ｅ内に入れて、ステップＳ１６と同様の方法で、ガラス１０を洗浄する。ただし、ステップＳ２０におけるガラス１０の洗浄方法も任意であり、ステップＳ２０は必須の工程ではない。
　以上のように、本実施形態においては、ガラス１０を酸化セリウム研磨剤Ａ１で研磨し、酸化セリウム研磨剤Ａ１で研磨した後のガラス１０を、シリカ研磨剤Ａ２で研磨し、シリカ研磨剤Ａ２で研磨した後のガラス１０を、研磨剤Ａで研磨する。このようにガラス１０を研磨することで、表面粗さが小さく平滑性の高いガラス１０を製造できる。ただし、ガラス１０の研磨工程はこれに限られず、例えば、シリカ研磨剤Ａ２での研磨（ステップＳ１４）を実行しなくてもよい。この場合、ガラス１０を酸化セリウム研磨剤Ａ１で研磨し、酸化セリウム研磨剤Ａ１で研磨した後のガラス１０を、研磨剤Ａで研磨する。また、酸化セリウム研磨剤Ａ１での研磨も必須でなく、本実施形態では、少なくともガラス１０を研磨剤Ａで研磨すればよい。
　以上説明したように、本実施形態に係る研磨剤Ａは、疎水性の砥粒Ｂと水とを含有する。研磨剤Ａとして疎水性の砥粒Ｂを用いることで、ガラス１０の表面粗さを小さくして、ガラス１０の平滑性を向上できる。
　また、砥粒Ｂは、シリカ、アルミナ、チタニア、樹脂、及びカーボンからなる群より選択される１以上を含有することが好ましい。砥粒Ｂとしてこれらの材料を用いることで、ガラス１０の表面粗さを小さくして、ガラス１０の平滑性を向上できる。
　また、砥粒Ｂは、表面に疎水基を含むシリカ、表面に疎水基を含むアルミナ、及び表面に疎水基を含むチタニアからなる群より選択される１以上を含有することが好ましい。砥粒Ｂとしてこれらの材料を用いることで、ガラス１０の表面粗さを小さくして、ガラス１０の平滑性を向上できる。
　また、砥粒Ｂは、以下で規定される値Ｗが０．５０以下であることが好ましい。値Ｗが０．５０以下であることで、適切に疎水性が担保されて、ガラス１０の平滑度を向上できる。
１：砥粒３．０ｇに蒸留水２７．０ｇを加えて研磨剤を生成して、均一に分散するまで攪拌する。
２：研磨剤を、１５０００ｒｐｍで１０分間、遠心分離を行う。
３：遠心分離後、研磨剤の沈殿物以外を取り除く。
４：沈殿物を乾燥機に入れ、９０℃で２時間乾燥させる。
５：乾燥後の沈殿物の質量（ｇ）を測定する。
６：Ｗ＝（乾燥後の沈殿物の質量（ｇ）／３．０（ｇ））
　また、砥粒Ｂの含有量は、研磨剤Ａの全体に対し、質量比で０．０００１％～２０％の範囲内にあることが好ましい。砥粒Ｂの含有量が０．０００１％以上であることでガラス１０を適切に研磨でき、砥粒Ｂの含有量が２０％以下であることで、ガラス１０の表面の傷の形成を抑制できる。
　また、研磨剤Ａは、分散剤をさらに含有することが好ましい。研磨剤Ａに分散剤を添加することで、疎水性の砥粒Ｂを、水中で適切に分散させて、ガラス１０の研磨面を均一にできる。
　また、研磨剤Ａは、ガラス研磨に用いられる。研磨剤Ａを用いてガラス１０を研磨することで、ガラス１０の平滑性を向上できる。
　また、本実施形態に係るガラス１０の研磨方法は、研磨剤Ａを用いてガラス１０を研磨する。研磨剤Ａを用いてガラス１０を研磨することで、ガラス１０の平滑性を向上できる。
　また、本実施形態に係るガラス１０の研磨方法は、酸化セリウム研磨ステップと、酸化セリウムステップの後に実行される研磨ステップとを含む。酸化セリウム研磨ステップでは、酸化セリウムを含む酸化セリウム研磨剤Ａ１でガラス１０を研磨する。研磨ステップでは、酸化セリウム研磨ステップの後に、研磨剤Ａでガラス１０を研磨する。本研磨方法では、酸化セリウム研磨剤Ａ１でガラス１０を研磨した後に研磨剤Ａでガラスを研磨することで、ガラス１０の表面粗さＲａを小さくして、ガラス１０の平滑性を向上できる。
　また、本実施形態に係るガラス１０の研磨方法は、酸化セリウム研磨ステップの後に、シリカを含むシリカ研磨剤Ａ２でガラス１０を研磨するシリカ研磨ステップをさらに含む。研磨ステップにおいては、シリカ研磨ステップの後に、研磨剤Ａでガラス１０を研磨する。本研磨方法では、酸化セリウム研磨剤Ａ１及びシリカ研磨剤Ａ２で研磨したガラス１０を研磨剤Ａで研磨することで、ガラス１０の表面粗さＲａを小さくして、ガラス１０の平滑性をより好適に向上できる。
　また、本実施形態に係るガラス１０の製造方法は、本実施形態に係るガラス１０の研磨方法を用いて、ガラス１０を製造する。本製造方法は、研磨剤Ａでガラス１０を研磨してガラス１０を製造することで、ガラス１０の平滑性を向上できる。特に、研磨剤Ａを用いて研磨したガラス１０は、平滑性が高いため、導光板などの光学素子として好適に用いることができる。
　（実施例）
　次に、実施例について説明する。なお、発明の効果を奏する限りにおいて実施態様を変更しても構わない。実施例及び比較例においては、異なる研磨剤を準備して、それぞれの研磨剤を用いてガラスを研磨して、研磨した後のガラスの表面粗さＲａを測定し、表面粗さＲａの測定結果に基づき研磨剤を評価した。以下、より詳細に説明する。
［評価用ガラス］
　実施例及び比較例においては、第１辺の長さが５０ｍｍで、第１辺に交差する第２辺の長さが５０ｍｍで、厚みが１．０ｍｍであり、表面粗さＲａ（算術平均粗さ）が０．１５０ｎｍのガラスを準備した。ガラスとしては、無アルカリホウケイ酸ガラス、より詳しくはＡＧＣ株式会社製のＡＮ１００と、アルミノシリケートガラス、より詳しくはＡＧＣ株式会社製のＲｏｌｌａｎｄα’とを、準備した。実施例６において、Ｒｏｌｌａｎｄα’を用いた。
［研磨剤］
　そして、準備したガラスを、以下の表１に示す実施例及び比較例に示した組成の研磨剤を準備した。
　実施例１、６の研磨剤の砥粒は、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＳＩＬ　ＲＸ２００を用いた、疎水性のシリカである。実施例２の研磨剤の砥粒は、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＳＩＬ　ＲＹ２００を用いた、疎水性のシリカである。実施例３の研磨剤の砥粒は、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＸＩＤＥ　Ａｌｕ　Ｃ８０５を用いた、疎水性のアルミナである。実施例４の研磨剤の砥粒は、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製のＸＣ９９　Ａ８８０８を用いた、疎水性の樹脂である。実施例５の研磨剤の砥粒は、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＸＩＤＥ　ＴｉＯ２　Ｔ８０５を用いた、疎水性のチタニアである。
　比較例１の研磨剤の砥粒は、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＳＩＬ　２００を用いた、親水性のシリカである。比較例２の研磨剤の砥粒は、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＸＩＤＥ　Ａｌｕ　Ｃを用いた、親水性のアルミナである。比較例３の研磨剤の砥粒は、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＸＩＤＥ　ＴｉＯ２　Ｐ２５を用いた、親水性のチタニアである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
［評価条件］
　さらに、実施例及び比較例の各砥粒について、上述の実施形態で規定した値Ｗを算出した。
　値Ｗが０．０５以下の砥粒の疎水性を、Ａ評価とし、
　値Ｗが０．０５より大きく０．２０以下の砥粒の疎水性を、Ｂ評価とし、
　値Ｗが０．２０より大きく０．５０以下の砥粒の疎水性を、Ｃ評価とした。
　Ａ評価からＣ評価までを、疎水性ありと評価し、
　値Ｗが０．５０より大きい砥粒は、疎水性でなく親水性である、と評価した。
　表１に示す砥粒を１ｇと水９９ｇとを混合して、砥粒が水に均一に分散するまで攪拌して、それぞれの研磨剤とした。この研磨剤を用いて、準備したガラスを、次の条件で研磨した。すなわち、研磨装置としてスピードファム株式会社製ＦＡＭ１２ＢＳを用い、研磨パッドとしては、ＦＩＬＷＥＬ社製スエードパッドＮＰ７８７を用い、定盤の回転数を４０ｒｐｍとし、研磨パッドの押圧力を４４ｇ／ｃｍ２とし、研磨時間を１分とし、研磨剤の供給量を、５ｍｌ／ｍｉｎとした。
　このようにして各研磨剤を用いて研磨したガラスについて、表面粗さＲａ（算術表面粗さ）を、Ａｓｙｌｕｍ　Ｒｅｓｅａｒｃｈ社のＣｙｐｈｅｒＳ　ＡＦＭで測定した。
　酸化セリウム研磨後ガラスについては、
　表面粗さＲａが０．０５０ｎｍより小さくなる場合を丸とし、
　表面粗さＲａが０．０５０ｎｍ以上で０．０７０ｎｍ未満となる場合を三角とし、
　表面粗さＲａが０．０７０ｎｍ以上となる場合をバツとした。
　丸及び三角を、合格として評価した。
　表１に示すように、実施例においては、表面粗さＲａの評価結果が合格となっている一方、比較例においては、表面粗さＲａの評価結果が不合格となっていることが分かる。すなわち、疎水性の砥粒を研磨剤として用いることで、ガラスの表面粗さを小さくして、ガラスの平滑化を向上できることが分かる。また、疎水性が高いほど、すなわちＷの値が小さいほど、表面粗さＲａの値が小さくなっていることも分かる。また、実施例６に示すように、疎水性の砥粒を研磨剤として用いた場合に、ガラスの種類を変えても、ガラスの平滑化を向上できることが分かる。
　以上、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態の内容により実施形態が限定されるものではない。また、前述した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、前述した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。さらに、前述した実施形態の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
　１０　ガラス
　Ａ　研磨剤
　Ａ１　酸化セリウム研磨剤
　Ａ２　シリカ研磨剤
　Ｂ　砥粒

Claims (11)

  1. 　疎水性の砥粒と水とを含有する、研磨剤。
  2. 　前記疎水性の砥粒は、シリカ、アルミナ、チタニア、樹脂、及びカーボンからなる群より選択される１以上を含有する、請求項１に記載の研磨剤。
  3. 　前記疎水性の砥粒は、表面に疎水基を含むシリカ、表面に疎水基を含むアルミナ、及び表面に疎水基を含むチタニアからなる群より選択される１以上を含有する、請求項１又は請求項２に記載の研磨剤。
  4. 　前記疎水性の砥粒は、以下で規定されるＷが０．５０以下である、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の研磨剤。
    １：砥粒３．０ｇに蒸留水２７．０ｇを加えて研磨剤を生成して、均一に分散するまで攪拌する。
    ２：研磨剤を、１５０００ｒｐｍで１０分間、遠心分離を行う。
    ３：遠心分離後、研磨剤の沈殿物以外を取り除く。
    ４：沈殿物を乾燥機に入れ、９０℃で２時間乾燥させる。
    ５：乾燥後の沈殿物の質量（ｇ）を測定する。
    ６：Ｗ＝（乾燥後の沈殿物の質量（ｇ）／３．０（ｇ））
  5. 　前記疎水性の砥粒の含有量が、前記研磨剤の全体に対し、質量比で０．０００１％～２０％の範囲内にある、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の研磨剤。
  6. 　分散剤をさらに含有する、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の研磨剤。
  7. 　ガラス研磨に用いられる、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の研磨剤。
  8. 　請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の研磨剤を用いてガラスを研磨する、ガラスの研磨方法。
  9. 　酸化セリウムを含む酸化セリウム研磨剤で前記ガラスを研磨する酸化セリウム研磨ステップと、
    　前記酸化セリウム研磨ステップの後に、前記研磨剤で前記ガラスを研磨する研磨ステップと、
    　を含む、請求項８に記載のガラスの研磨方法。
  10. 　前記酸化セリウム研磨ステップの後に、シリカを含むシリカ研磨剤で前記ガラスを研磨するシリカ研磨ステップをさらに含み、
    　前記シリカ研磨ステップの後に、前記研磨剤で前記ガラスを研磨する、請求項９に記載のガラスの研磨方法。
  11. 　請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載のガラスの研磨方法を用いてガラスを製造する、ガラスの製造方法。
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