JP5309692B2 - シリコンウェーハの研磨方法 - Google Patents
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Description
(1)所定の固定砥粒を有する研磨パッドの表面に、実質的に砥粒を含まない研磨液を塗布し、シリコンウェーハに対し前記研磨パッドを相対的に摺動させることで、シリコンウェーハ表面を研磨するシリコンウェーハの研磨方法であって、前記シリコンウェーハ表面と前記研磨パッドの表面との間に供給される前記研磨液のハイドロプレーン層を形成し、前記ハイドロプレーン層の厚みを薄くして、前記シリコンウェーハの表面に形成した酸化膜を除去する工程と、前記ハイドロプレーン層の厚みを厚くして、前記シリコンウェーハ表面を仕上げ研磨する工程とを具えることを特徴とするシリコンウェーハの研磨方法。
実施例1は、直径が450mm、表面の結晶方位が(100)であるシリコンウェーハに対して、シリカを含有する固定砥粒を有するポリウレタンからなる研磨パッドの表面に、砥粒を含まないKOH水溶液及び水溶性ヒドロキシエチルセルロースを含有する研磨液(粘度:1.5cps)を塗布し、研磨条件を、前記シリコンウェーハが載置されたステージ及び前記研磨パッドの回転速度を60rpmとし、前記研磨パッドに加える圧力を、300gf/cm2(酸化膜の除去を目的(1分))→150gf/cm2(シリコン表面の研磨を目的(9分))へと変化させて、前記研磨パッドを前記シリコンウェーハに対して相対的に摺動させることにより、シリコンウェーハ表面の研磨を計10分間行った。
なお、研磨状態を確認したところ、前記研磨パッドに加える圧力の調整によって、前記酸化膜(膜厚:約1nm)を除去する間(1分)は前記固定砥粒と前記シリコンウェーハの表面とが接触した状態(ハイドロプレーン層の厚さ:1μm)で研磨が行われ、前記シリコンウェーハ表面の研磨する間(9分)は、ハイドロプレーン層(厚さ:5μm)によって、前記固定砥粒と前記シリコンウェーハの表面とが接触していないことが確認できた。
実施例2は、研磨条件として、前記研磨パッドに加える圧力を150gf/cm2で固定し、前記シリコンウェーハが載置されたステージ及び前記研磨パッドの回転速度を、30rpm(酸化膜の除去を目的(1分))→60rpm(シリコン表面の研磨を目的(9分))と変化させること以外は、実施例1と同様の条件により、シリコンウェーハ表面の研磨を計10分間行った。
なお、研磨状態を確認したところ、前記研磨パッドに加える圧力の調整によって、前記酸化膜(膜厚:約1nm)を除去する間(1分)は前記固定砥粒と前記シリコンウェーハの表面とが接触した状態(ハイドロプレーン層の厚さ:1μm)で研磨が行われ、前記シリコンウェーハ表面の研磨する間(9分)は、ハイドロプレーン層(厚さ:5μm)によって、前記固定砥粒と前記シリコンウェーハの表面とが接触していないことが確認できた。
比較例1は、実施例1と同様の研磨パッドの表面に、シリカを含有する遊離砥粒を含んだKOH水溶液及び水溶性ヒドロキシエチルセルロースを含有する研磨液(粘度:1.5cps)を塗布し、研磨条件として、前記研磨パッドに加える圧力を150gf/cm2で固定したこと以外は、実施例1と同様の条件により、シリコンウェーハ表面の研磨を計10分間行った。
なお、研磨状態を確認したところ、前記研磨パッドに加える圧力及び前記研磨パッドの回転数の調整によって、研磨中(10分間)は、常に、前記研磨液のハイドロプレーン層によって、前記固定砥粒と前記シリコンウェーハの表面とが接触していない状態(ハイドロプレーン層の厚さ:5μm)であることが確認できた。
比較例2は、研磨条件として、前記研磨パッドに加える圧力を150gf/cm2で固定したこと以外は、実施例1と同様の条件により、シリコンウェーハ表面の研磨を計10分間行った。
なお、研磨状態を確認したところ、前記研磨パッドに加える圧力及び前記研磨パッドの回転数の調整によって、研磨中(10分間)は、常に、前記研磨液のハイドロプレーン層によって、前記固定砥粒と前記シリコンウェーハの表面とが接触していない状態(ハイドロプレーン層の厚さ:5μm)であることが確認できた。
比較例3は、研磨条件として、前記研磨パッドに加える圧力を300gf/cm2で固定したこと以外は、実施例1と同様の条件により、シリコンウェーハ表面の研磨を計10分間行った。
なお、研磨状態を確認したところ、研磨中(10分間)は、常に、前記固定砥粒と前記シリコンウェーハの表面とが接触した状態(ハイドロプレーン層の厚さ:1μm)であることが確認できた。
比較例4は、研磨条件として、前記研磨パッドに加える圧力を150gf/cm2で固定し、前記研磨パッドの回転速度を30rpmで固定したこと以外は、実施例1と同様の条件により、シリコンウェーハ表面の研磨を計10分間行った。
なお、研磨状態を確認したところ、研磨中(10分間)は、常に、前記固定砥粒と前記シリコンウェーハの表面とが接触した状態(ハイドロプレーン層の厚さ:1μm)であることが確認できた。
上記で作製した各評価用サンプルについて、(1)研磨量及び(2)スクラッチの状態について評価を行った。
(1)研磨量については、研磨によって減少したウェーハ厚(μm)を計測した。また、(2)スクラッチの状態については、研磨によってシリコンウェーハ表面に形成されたスクラッチ(加工による歪みも含む)の状態を、PSL換算0.1μm以上のLPDの数を計測することで、○:10個以下、△:11〜100個、×:101個以上という基準に従って評価を行った。評価の結果を表1に示す。
一方、比較例1については、前記ハイドロプレーン層によって、前記固定砥粒と前記シリコンウェーハの表面とを接触させずに研磨が行えたものの、研磨液中に含有する遊離砥粒によってウェーハの表面にスクラッチがいくつか見られた。また、比較例2については、砥粒が、前記研磨パッド及び前記研磨液のいずれにも含まれていないことから、前記シリコンウェーハの表面に形成された酸化膜を除去できず、研磨の効果が発揮されていないことがわかった。さらに、比較例3及び4については、前記研磨パッドに加える圧力及び前記研磨パッドの回転数による研磨状態の制御がうまくできていないため、前記ハイドロプレーン層を形成することができず、研磨量が多くなり、シリコンウェーハ表面のスクラッチも多く発生したことがわかる。
Claims (4)
- 所定の固定砥粒を有する研磨パッドの表面に、実質的に砥粒を含まない研磨液を塗布し、シリコンウェーハに対し前記研磨パッドを相対的に摺動させることで、シリコンウェーハ表面を研磨するシリコンウェーハの研磨方法であって、
前記シリコンウェーハ表面と前記研磨パッドの表面との間に供給される前記研磨液のハイドロプレーン層を形成し、前記ハイドロプレーン層の厚みを薄くして、前記シリコンウェーハの表面に形成した酸化膜を除去する工程と、前記ハイドロプレーン層の厚みを厚くして、前記シリコンウェーハ表面を仕上げ研磨する工程とを具えることを特徴とするシリコンウェーハの研磨方法。 - 前記ハイドロプレーン層の厚み制御は、前記シリコンウェーハの表面に対して垂直方向の前記研磨パッドに加える圧力、前記研磨パッドの相対摺動速度、及び/又は前記研磨液の粘性により制御する請求項1に記載のシリコンウェーハの研磨方法。
- 前記ハイドロプレーン層の厚みは、10nm〜10μmの範囲である請求項1又は2に記載のシリコンウェーハの研磨方法。
- 前記シリコンウェーハは、直径450mm以上の大口径シリコンウェーハである請求項1〜3のいずれか1項に記載のシリコンウェーハの研磨方法。
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