WO2020116388A1 - 化合物及び熱電変換材料 - Google Patents

化合物及び熱電変換材料 Download PDF

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WO2020116388A1
WO2020116388A1 PCT/JP2019/047017 JP2019047017W WO2020116388A1 WO 2020116388 A1 WO2020116388 A1 WO 2020116388A1 JP 2019047017 W JP2019047017 W JP 2019047017W WO 2020116388 A1 WO2020116388 A1 WO 2020116388A1
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thermoelectric conversion
compound
examples
compounds
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PCT/JP2019/047017
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篤典 土居
哲 島野
康二郎 田口
十倉　好紀
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住友化学株式会社
国立研究開発法人理化学研究所
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    • H10N10/817—Structural details of the junction the junction being non-separable, e.g. being cemented, sintered or soldered

Definitions

  • the present invention relates to compounds and thermoelectric conversion materials.
  • the present application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2018-227569 filed on Dec. 4, 2018, and the content thereof is incorporated herein.
  • thermoelectric conversion devices that utilize the exhaust heat of automobiles and factory exhaust heat, which correspond to the heat source in the high temperature range, are being studied.
  • thermoelectric conversion material that constitutes the thermoelectric conversion device is required to have high heat resistance.
  • Non-Patent Document 1 a compound containing Sn, Te, and Mn as constituent elements has been reported.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a compound having thermoelectric conversion characteristics and high heat resistance, and a thermoelectric conversion material containing the compound.
  • the present invention includes the following aspects.
  • [1] A compound containing Sn, Te and Mn and further containing either one or both of Sb and Bi.
  • the compound is further Mg, In, Na, Al, Si, K, Ca, Sr, Ba, Cu, Ag, Au, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Co, Ni, Zn, Ga. , Ge, As, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Cd, Cs, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm. , Yb, Lu, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Hg, Tl, Pb, S, Se, Cl, Br and I containing at least one element [1] Alternatively, the compound according to [2].
  • M is Mg, Na, Al, Si, K, Ca, Sr, Ba, Cu, Ag, Au, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Co, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Cd, Cs, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, It represents at least one element selected from the group consisting of Yb, Lu, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Hg, Tl and Pb.
  • X represents at least one element selected from the group consisting of S, Se, Cl, Br and I.
  • a, b, c1, c2, d, e and f are ⁇ 0.05 ⁇ a ⁇ 0.10, 0 ⁇ b ⁇ 0.15, 0 ⁇ c1 ⁇ 0.10, 0 ⁇ c2 ⁇ 0.10, It is a number that satisfies 0 ⁇ d ⁇ 0.03, 0 ⁇ e ⁇ 0.20 and 0 ⁇ f ⁇ 0.20. However, 0 ⁇ c1+c2. )
  • thermoelectric conversion material containing the compound according to any one of [1] to [5].
  • thermoelectric conversion characteristics and high heat resistance thermoelectric conversion characteristics and high heat resistance
  • thermoelectric conversion material containing the compound thermoelectric conversion material
  • thermoelectric conversion element which has the thermoelectric conversion material of this embodiment as a forming material
  • thermoelectric conversion device which has a thermoelectric conversion element.
  • thermoelectric conversion module which has the thermoelectric conversion device of this embodiment.
  • 1 is a powder X-ray diffraction pattern of the compound of Example 1.
  • 4 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3.
  • 5 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3.
  • 3 is a graph showing the temperature dependence of the thermal conductivity ⁇ of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3.
  • 5 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Examples 2 and 4.
  • 5 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Examples 2 and 4.
  • 3 is a graph showing the temperature dependence of the thermal conductivity ⁇ of the compounds of Examples 2 and 4. It is a graph which shows the temperature dependence of the output factor (PowerFactor) of the compounds of Examples 2 and 4. 3 is a graph showing the temperature dependence of zT of the compounds of Examples 2 and 4. 3 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Examples 4, 8, 9 and Comparative Example 1.
  • 5 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Examples 4, 8, 9 and Comparative Example 1.
  • 5 is a graph showing the temperature dependence of the output factor (Power Factor) of the compounds of Example 2 and Comparative Example 1.
  • 3 is a graph showing the temperature dependence of zT of the compounds of Example 2 and Comparative Example 1.
  • 5 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • 5 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • 3 is a graph showing the temperature dependence of the thermal conductivity ⁇ of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • 4 is a graph showing the temperature dependence of the output factor (Power Factor) of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • 3 is a graph showing the temperature dependence of zT of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • 5 is a graph showing the results of heat resistance evaluation of the compound of Example 4.
  • 5 is a graph showing the results of heat resistance evaluation of the compound of Comparative Example 1.
  • thermoelectric conversion characteristic means the property of converting thermal energy into electric energy by the Seebeck effect, thermomagnetic effect, spin Seebeck effect, or the like.
  • thermoelectric conversion physical properties means physical properties related to thermoelectric conversion performance index and output factor, which are thermoelectric conversion performance of thermoelectric conversion materials. More specifically, “thermoelectric conversion properties” mean Seebeck coefficient, resistivity, and thermal conductivity.
  • thermoelectric conversion performance index and an output factor are used as an index of thermoelectric conversion performance of a thermoelectric conversion material.
  • thermoelectric conversion performance index is an index of thermal efficiency of thermoelectric conversion by the thermoelectric conversion material.
  • the above thermal efficiency is represented by the following formula.
  • the maximum thermal efficiency ⁇ opt obtained is represented by the following formula (1).
  • T H is the temperature of the hot end of an object formed by the thermoelectric conversion material [unit: K]
  • T C is the temperature of the cold end of an object formed by the thermoelectric conversion material [unit: K]
  • T ave is the average [unit: K] of T H and T C
  • Z is the average value [1/K] of the thermoelectric conversion performance index z of the thermoelectric conversion material in the temperature region.
  • the “high-temperature end” refers to a relatively high temperature part of the two parts that give a temperature difference used for thermoelectric conversion in the object formed of the thermoelectric conversion material.
  • the “low temperature end” refers to a relatively low temperature part of the two parts that give a temperature difference used for thermoelectric conversion in the object formed of the thermoelectric conversion material.
  • thermoelectric conversion performance index z[1/K] of the thermoelectric conversion material at a certain temperature T is represented by the following formula (2).
  • ⁇ is the Seebeck coefficient [V/K] of the thermoelectric conversion material at a certain temperature T
  • ⁇ is the resistivity [ ⁇ m] of the thermoelectric conversion material at a certain temperature T
  • ⁇ is the thermoelectric conversion at the certain temperature T.
  • the thermal conductivity [W/(m ⁇ K)] of the material is shown.
  • thermoelectric conversion material is desired to exhibit a high thermoelectric conversion performance index z in a wide temperature range.
  • the output factor is an index of electric power that can be output by thermoelectric conversion when thermoelectric conversion is performed using an object formed of a thermoelectric conversion material.
  • the product of the square of the Seebeck coefficient and the reciprocal of the resistivity expressed by the following formula (3) is an index representing the power that can be output by thermoelectric conversion.
  • the index expressed by the equation (3) is called an output factor [W/(m ⁇ K 2 )].
  • the output factor is sometimes called the Power Factor.
  • the output factor represented by the above formula (3) is an index of the maximum power that can be output when a certain temperature difference is applied to both ends of the object formed of the thermoelectric conversion material.
  • the output factor is a measure of the maximum electric power that can be output when the thermoelectric conversion device configured using the thermoelectric conversion material is operated under constant conditions. It is shown that the larger the power factor is, the larger the maximum electric power output obtained by the thermoelectric conversion device configured by using the thermoelectric conversion material is.
  • the heat resistance of the thermoelectric conversion material is based on the absolute value of the rate of change of the resistivity of the thermoelectric conversion material due to heating and cooling.
  • the resistivity is a property that easily reflects the thermal history due to heating and cooling.
  • the thermoelectric conversion material is required to have a small absolute value of the rate of change in resistivity of the thermoelectric conversion material due to heating and cooling.
  • the “main phase” means a phase having a main peak with the highest intensity when the main peaks of the phases identified from the X-ray diffraction pattern are compared.
  • the X-ray diffraction pattern contains a plurality of peaks, and for each peak, the corresponding phase can be identified by a known method such as the Hanawald method. From the X-ray diffraction pattern, it can be seen that the compound has a single phase or multiple phases. There is a main peak in each of the identified phases.
  • the “main peak” means a peak having the highest intensity in a peak group belonging to one phase.
  • the compound of the present embodiment contains Sn, Te and Mn, and further contains one or both of Sb and Bi.
  • the compound of the present embodiment is a compound having a small absolute value of the rate of change in resistivity upon heating and cooling, and has SnTe as a main phase, contains one or both of Sb and Bi, and further contains Mn. It is preferable to contain Hereinafter, they will be described in order.
  • the crystal structure of the compound of the present embodiment can be evaluated, for example, from a powder X-ray diffraction pattern obtained by using a powder X-ray diffraction measuring device.
  • the compound of the present embodiment preferably has a crystal structure of SnTe as a main phase.
  • the crystal structure of SnTe is a cubic crystal of space group Fm-3m at 25°C.
  • the compound of the present embodiment has a crystal structure of SnTe and is a compound having SnTe as a main phase
  • the cubic of the TeTe space group Fm-3m The intensity of the main peak of the crystal structure of the crystal is the strongest among the main peaks of each phase.
  • the ratio of the peak intensity of the main peak of the main phase of the compound to the total peak intensity of the main peaks of all the phases included in the crystal structure of the compound 50% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 90% or more.
  • the absolute value of the rate of change in resistivity due to heating and cooling is further reduced. Therefore, the thermoelectric conversion material containing the compound of this embodiment has excellent heat resistance.
  • composition distribution of compound The composition of the compound can be evaluated based on the composition distribution map obtained by preparing a composition distribution map of the evaluation sample using a scanning electron microscope equipped with an energy dispersive X-ray spectrometer. Specifically, the composition of the compound is evaluated under the condition that the composition distribution of 0.2 ⁇ m or more can be clearly identified.
  • the energy dispersive X-ray spectrometer may be abbreviated as EDX.
  • the scanning electron microscope may be abbreviated as SEM.
  • the longest diameter of the crystal of each element unevenly distributed in the compound is 20 ⁇ m or less.
  • the “longest diameter of a crystal” can be calculated from an SEM image, and means the longest diameter among the diameters (lengths) of individual portions on the individual two-dimensional cross-sections of crystals of each element unevenly distributed in the compound. To do.
  • the compound of the present embodiment contains Sn, Te and Mn, and further contains one or both of Sb and Bi.
  • the carrier density in the compound can be adjusted appropriately. Therefore, the Seebeck coefficient is improved.
  • Mn adjusts the band structure of the valence band of the compound and improves the Seebeck coefficient of the compound.
  • thermoelectric conversion material containing the compound of this embodiment has excellent heat resistance.
  • the above element is preferably at least one element selected from the group consisting of Cu, In and Se.
  • the element may be contained alone or in combination of two or more.
  • the compound of this embodiment is preferably a compound represented by the following formula (A).
  • the compound represented by the following formula (A) is a compound having a small absolute value of the rate of change in resistivity during heating and cooling. Sn 1 + a-b-c1 -c2-d-e Mn b Bi c1 Sb c2 In d M e Te 1-f X f ...
  • M is Mg, Na, Al, Si, K, Ca, Sr, Ba, Cu, Ag, Au, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Co, Ni, Zn, Ga, Ge, As, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Cd, Cs, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, It represents at least one element selected from the group consisting of Yb, Lu, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Hg, Tl and Pb.
  • X represents at least one element selected from the group consisting of S, Se, Cl, Br and I.
  • a, b, c1, c2, d, e and f are 0 ⁇ a ⁇ 0.10, 0 ⁇ b ⁇ 0.15, 0 ⁇ c1 ⁇ 0.10, 0 ⁇ c2 ⁇ 0.10, 0 ⁇ d It is a number that satisfies ⁇ 0.03, 0 ⁇ e ⁇ 0.20, and 0 ⁇ f ⁇ 0.20. However, 0 ⁇ c1+c2. )
  • a is preferably 0 ⁇ a ⁇ 0.10, more preferably 0.02 ⁇ a ⁇ 0.08, and further preferably 0.03 ⁇ a ⁇ 0.07.
  • a is included in these numerical ranges, either or both of the Seebeck coefficient and the electric conductivity of the compound of the present embodiment are improved. Therefore, the thermoelectric conversion performance index z of the compound represented by the formula (A) is improved.
  • the upper limit value and the lower limit value of a can be arbitrarily combined.
  • the substance amount of Mn in the compound represented by the formula (A) is represented by b in the formula (A).
  • b is preferably 0 ⁇ b ⁇ 0.15, more preferably 0.04 ⁇ b ⁇ 0.13, and further preferably 0.07 ⁇ b ⁇ 0.12.
  • the band structure of the compound is appropriately adjusted and the Seebeck coefficient is increased. Therefore, the thermoelectric conversion performance index z of the compound is improved.
  • the upper limit value and the lower limit value of b can be arbitrarily combined.
  • the substance amount of Bi in the compound represented by the above formula (A) is represented by c1 in the above formula (A).
  • c1 is preferably 0 ⁇ c1 ⁇ 0.10, more preferably 0 ⁇ c1 ⁇ 0.07, further preferably 0.005 ⁇ c1 ⁇ 0.07, and 0.01 ⁇ c1 ⁇ 0. 06 is even more preferable.
  • the substance amount (c1) of Bi when included in these numerical ranges, a compound having a small absolute value of the rate of change in resistivity during heating and cooling can be obtained.
  • the upper limit value and the lower limit value of c1 can be arbitrarily combined.
  • the substance amount of Sb in the compound represented by the formula (A) is represented by c2 in the formula (A).
  • c2 is preferably 0 ⁇ c2 ⁇ 0.10, more preferably 0.005 ⁇ c2 ⁇ 0.07, and further preferably 0.01 ⁇ c2 ⁇ 0.06. Further, in the formula (A), c2 may be 0 ⁇ c2 ⁇ 0.07 or 0 ⁇ c2 ⁇ 0.06.
  • the substance amount (c2) of Sb when the substance amount (c2) of Sb is included in these numerical ranges, a compound having a small absolute value of the rate of change in resistivity during heating and cooling can be obtained.
  • the upper limit value and the lower limit value of c2 can be arbitrarily combined.
  • the substance amount of In in the compound represented by the formula (A) is represented by d in the formula (A).
  • d is preferably 0 ⁇ d ⁇ 0.03, more preferably 0.002 ⁇ d ⁇ 0.02, and further preferably 0.004 ⁇ d ⁇ 0.015. Further, in the formula (A), d may be 0 ⁇ d ⁇ 0.02 or 0 ⁇ d ⁇ 0.015.
  • the upper limit value and the lower limit value of d can be arbitrarily combined.
  • the element M is at least selected from the group consisting of Mg, Cu and Ag from the viewpoint of improving the thermoelectric conversion performance index z of the compound represented by the formula (A).
  • One element is preferable, and Cu is more preferable.
  • the compound of the present embodiment preferably has SnTe as the main phase and contains Bi, Mn and Cu.
  • the absolute value of the rate of change in resistivity due to heating and cooling is small. Therefore, the thermoelectric conversion material containing the compound of this embodiment has excellent heat resistance.
  • e is preferably 0 ⁇ e ⁇ 0.10 in the formula (A) from the viewpoint of appropriate control of physical properties, and 0. 005 ⁇ e ⁇ 0.07 is more preferable, and 0.005 ⁇ e ⁇ 0.05 is further preferable. Further, in the above formula (A), e may be 0 ⁇ d ⁇ 0.07 or 0 ⁇ d ⁇ 0.05. The upper limit value and the lower limit value of e can be arbitrarily combined.
  • the amount of Mg in the compound is less than or equal to the amount of Mn in the compound.
  • e is preferably 0 ⁇ e ⁇ 0.10 in the formula (A) from the viewpoint of improving the thermoelectric conversion performance index z, and 0. 005 ⁇ e ⁇ 0.07 is more preferable, and 0.005 ⁇ e ⁇ 0.05 is further preferable.
  • the upper limit value and the lower limit value of e can be arbitrarily combined.
  • the element M may be contained alone or in combination of two or more.
  • the element X includes at least one element selected from the group consisting of S, Se, Cl, Br and I.
  • f is preferably 0 ⁇ f ⁇ 0.20, more preferably 0.02 ⁇ f ⁇ 0.15, and further preferably 0.04 ⁇ f ⁇ 0.10.
  • the carrier density described later can be controlled in an appropriate range, so that the thermoelectric conversion performance index z is improved.
  • the upper limit value and the lower limit value of f can be arbitrarily combined.
  • the compound represented by the formula (A) preferably contains, as the element X, one or both of Se and S.
  • the compound represented by the formula (A) contains Se or S as the element X, it has an effect of lowering the thermal conductivity of the compound, and can improve the thermoelectric conversion performance index z of the compound. Become.
  • the element X may be contained alone or in combination of two or more.
  • examples of preferable combinations of the numerical ranges of a, b, c1, c2, d, e and f are 0.02 ⁇ a ⁇ 0.08 and 0.04 ⁇ b. ⁇ 0.13, 0 ⁇ c1 ⁇ 0.07, 0 ⁇ c2 ⁇ 0.10, 0 ⁇ d ⁇ 0.03, 0 ⁇ e ⁇ 0.10, 0 ⁇ f ⁇ 0.20.
  • a carrier is an electron or a hole.
  • the carrier density indicates the amount of electrons or holes (holes) present in a compound per unit volume.
  • the carrier density of the compound of the present embodiment increases the Seebeck coefficient within the range where the resistivity of the thermoelectric conversion material containing the compound does not increase too much, and improves the output factor of the compound and the thermoelectric conversion performance index z. It is preferably not more than 0.0 ⁇ 10 20 cm ⁇ 3 . Since the thermoelectric conversion performance index z is improved, the carrier density of the compound represented by the formula (A) is more preferably 0.5 ⁇ 10 20 cm ⁇ 3 or more and 4.0 ⁇ 10 20 cm ⁇ 3 or less, and 0 or less. It is more preferably 0.8 ⁇ 10 20 cm ⁇ 3 or more and 2.5 ⁇ 10 20 cm ⁇ 3 or less.
  • the carrier density of a compound can be controlled by changing the composition ratio of the elements contained in the compound. Further, the carrier density of the compound can be controlled by replacing the element contained in the compound with another element. In controlling the carrier density of the compound, changing the composition ratio of the element contained in the compound and replacing the element contained in the compound with another element may be combined.
  • the carrier density can be further reduced, for example, by substituting a part of Sn in the compound with Bi or Sb.
  • the carrier density can be further reduced.
  • a physical property measuring device PPMS manufactured by Quantum Design
  • a 5-terminal hole measurement using a dedicated DC resistance sample pack can be used.
  • the hole measurement can be performed by stabilizing the temperature of the sample to be measured and applying a magnetic field perpendicular to one surface of the sample to measure the hole resistance.
  • the Hall coefficient can be calculated from the slope of the Hall resistance with respect to the magnetic field, and the carrier density can be calculated from the Hall coefficient.
  • the Seebeck coefficient at each temperature of the compound of this embodiment is preferably in the following range from the viewpoint of improving the thermoelectric conversion performance index z and the output factor, which are the values represented by the formula (2).
  • the Seebeck coefficient [ ⁇ V/K] at 100°C is preferably 60 or more. It is more preferably 70 or more.
  • the Seebeck coefficient [ ⁇ V/K] at 200°C is preferably 90 or more. It is more preferably 100 or more, still more preferably 110 or more.
  • the Seebeck coefficient [ ⁇ V/K] at 300°C is preferably 120 or more. It is more preferably 130 or more, still more preferably 140 or more.
  • the Seebeck coefficient [ ⁇ V/K] at 400°C is preferably 150 or more. It is more preferably 170 or more, still more preferably 180 or more.
  • the Seebeck coefficient [ ⁇ V/K] at 500°C is preferably 180 or more. It is more preferably 190 or more, still more preferably 200 or more.
  • the Seebeck coefficient can be controlled by replacing the element contained in the compound of the present embodiment with another element.
  • the band structure of the valence band of SnTe can be adjusted by replacing a part of Sn in the compound of the present embodiment with Mn. At that time, by replacing a part of Sn with Mn in an appropriate amount, the band structure of the valence band is adjusted, the density of states near the Fermi level is increased, and the Seebeck coefficient of the compound of this embodiment is improved.
  • the “appropriate amount” is, for example, 10% of the substance amount of Sn.
  • the resonance level of the compound of this embodiment can be formed in the vicinity of the Fermi level. Thereby, the density of states near the Fermi level is increased, and the Seebeck coefficient of the compound of this embodiment is improved.
  • the amount replaced by In is, for example, 1% of the amount of Sn substance.
  • the carrier density can be controlled and the Seebeck coefficient of the compound can be improved.
  • a part of Sn in the compound is replaced with one or both of Sb and Bi, and a part of Sn in the compound of the present embodiment is further replaced. Is preferably replaced by either one or both of Mn and In.
  • the raw materials containing Sn, Mn and Te, and either or both elements of Sb and Bi are mixed and heated at 780° C. or higher to be melted to form a melt.
  • the step of obtaining a melt is referred to as “melting step”
  • the step of quenching is referred to as “quenching step”.
  • Examples of raw materials used in the melting step include metals, metal salts, and nonmetals.
  • Examples of the shape of the raw material include powder, particles, and ingots.
  • the metal examples include Sn, Mg, Bi, Sb, Mn, In, Na, Al, Si, K, Ca, Sr, Ba, Cu, Ag, Au, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Co and Ni. , Zn, Ga, Ge, As, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Cd, Cs, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho. , Er, Tm, Yb, Lu, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Hg, Tl and Pb. These metals may be used alone or in combination of two or more.
  • the metal salt examples include metal salts having the metal as a metal cation.
  • the counter anion of the metal salt is not particularly limited, but examples thereof include a halide ion of Br ⁇ , Cl ⁇ , I ⁇ or F ⁇ and an anion of Group 16 of S 2 ⁇ , Se 2 ⁇ or Te 2 ⁇ .
  • nonmetal simple substance of S, Se or Te can be mentioned.
  • composition ratio (molar ratio) of each element contained in the raw materials according to the composition ratio of the final product compound.
  • the maximum temperature during heating in the melting process is 780°C or higher.
  • the maximum temperature during heating is preferably 900° C. or higher because the composition distribution of the obtained melt tends to approach uniform.
  • the melting method is not particularly limited, and examples thereof include heating by a resistance heating element, heating by a high frequency induction furnace, arc melting, electron beam melting and the like.
  • the raw materials In order to prevent the above raw materials and the melt obtained in the melting step from being altered, it is preferable to heat the raw materials in an inert atmosphere such as argon, nitrogen or vacuum in the melting step.
  • the raw material In the melting step, the raw material may be filled in an ampoule tube whose inside is replaced with an inert atmosphere and heated.
  • the inner wall of the ampoule tube may be coated with carbon in order to prevent the raw material from reacting with the ampoule tube.
  • the quenching step of the present embodiment it is preferable to rapidly cool the melt obtained in the melting step to 100°C or lower. Specifically, in the cooling step, the melt is preferably cooled to 100° C. or lower within 10 minutes, more preferably within 5 minutes, and further preferably within 1 minute.
  • a liquid having a boiling point of 100° C. or less such as water, liquid air or liquid nitrogen, can be used.
  • Water is preferable because it is inexpensive and highly safe.
  • Mn, Bi, and Sb can be solid-dissolved in the crystal lattice of the main phase SnTe in a supersaturated state.
  • the output factor of the thermoelectric conversion material containing the compound is improved.
  • the method for producing the compound in the second embodiment cools the melt obtained in the above-mentioned melting step without quenching, and contains at least one of Sn, Mn and Te, and/or Sb and Bi.
  • the method includes a step of obtaining a material, a step of pulverizing the obtained material to obtain a material powder, and a step of sintering the material powder at 400° C. or higher using a plasma sintering method.
  • the step of obtaining a material is called a “material manufacturing step”
  • the step of obtaining a material powder is called a “powdering step”
  • the step of sintering the material powder is called a “plasma sintering step”.
  • melt obtained in the melting process is cooled to 100° C. or lower over 10 minutes without using the liquid.
  • the material obtained in the material manufacturing step is crushed into powder by a ball mill or the like.
  • the particle size of the powdered fine particles is not particularly limited, but is preferably 150 ⁇ m or less.
  • Pulsma sintering process In the plasma sintering step, a pulsed current is passed through the material powder while pressing the material powder obtained in the powderizing step. As a result, electric discharge occurs between the material powders, and the material powders can be heated and sintered.
  • the plasma sintering step is preferably performed in an inert atmosphere such as argon, nitrogen, or vacuum in order to prevent the resulting compound from deteriorating due to contact with air.
  • the pressure applied in the plasma sintering process is preferably in the range of more than 0 MPa and 100 MPa or less.
  • the pressure applied in the plasma sintering step is preferably 10 MPa or higher, more preferably 30 MPa or higher.
  • the heating temperature in the plasma sintering step is preferably sufficiently lower than the melting point of the target compound, and is preferably 700° C. or lower.
  • the heating temperature in the plasma sintering step is more preferably 650°C or lower.
  • the heating temperature in the plasma sintering step is preferably 400° C. or higher, and more preferably 500° C. or higher in order to promote sintering.
  • the upper limit value and the lower limit value of the heating temperature in the plasma sintering step can be arbitrarily combined.
  • the plasma sintering step in the obtained compound, in order to suppress uneven distribution of elements contained in the obtained compound, it is preferable to stop the energization and cool after heating at the heating temperature.
  • the material is rapidly cooled by including the plasma sintering step, and Mn, Bi, and Sb are solid-solved in the crystal lattice of SnTe, which is the main phase, in a supersaturated state.
  • the raw materials containing Sn, Mn and Te, and either or both elements of Sb and Bi are mixed and heated at 780° C. or higher to be melted to form a melt.
  • a step of sintering the material powder at a temperature of 400° C. or higher using a binding method plasma sintering step.
  • the melting step, the quenching step, the powdering step, and the plasma sintering step in the present embodiment the melting step, the quenching step, and the second step of the compound manufacturing method in the first embodiment of the compound manufacturing method are described. This is the same as the description in the powdering step and the plasma sintering step in the embodiment.
  • the method for producing the compound the method for producing the compound of the third embodiment is preferable. Since the manufacturing method of the third embodiment uses the quenching step and the plasma sintering step in combination, Mn, Bi and Sb are sufficiently supersaturated in the crystal lattice of SnTe which is the main phase of the obtained compound. Can be dissolved. As a result, the electrical conductivity of the compound obtained by the method for producing the compound is improved, and the output factor of the obtained compound is improved.
  • the above compounds will be compounds that have a high power factor in the high temperature range.
  • thermoelectric conversion material in the present embodiment is a material having the thermoelectric conversion characteristics, including the compound of the present embodiment described above.
  • the thermoelectric conversion material in the present embodiment may contain one kind of the compound of the present embodiment described above, or may contain two or more kinds.
  • the content of the compound of the present embodiment in the thermoelectric conversion material is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 70% by mass or more and 100% by mass or less, and 80% by mass or more and 100% by mass or less. Is more preferable, and 90% by mass or more and 100% by mass or less is even more preferable.
  • the thermoelectric conversion material if the content ratio of the compound of the present embodiment described above is within the above range, the thermoelectric conversion material has a high thermoelectric conversion performance index z.
  • thermoelectric conversion material may include, for example, a polymer compound, glass, ceramics and the like in addition to the compound of the present embodiment described above.
  • the polymer compound that can be contained in the thermoelectric conversion material is not particularly limited, but acrylic resin, terephthalate resin, engineering plastic, fluororesin, polyethylene, polypropylene, epoxy resin, diallyl phthalate resin, silicone resin, phenol resin, polyester resin. , Polyimide resin, polyurethane resin and melamine resin.
  • thermoelectric conversion material is not particularly limited, and examples thereof include quartz glass, borosilicate glass, and alkali-free glass.
  • thermoelectric conversion material can include are not particularly limited, but include alumina, titania, zirconia, silicon nitride, silicon carbide, cordierite, ferrite, barium titanate, lead zirconate titanate, forsterite, zircon, and mullite. , Aluminum nitride, mica, boron nitride, titanium carbide and zinc oxide.
  • thermoelectric conversion material as described above uses a compound whose resistivity changes little before and after heating and cooling, it becomes a thermoelectric conversion material with excellent thermal efficiency in the high temperature region.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a thermoelectric conversion element including the thermoelectric conversion material described above as a forming material and a thermoelectric conversion device including the thermoelectric conversion element.
  • thermoelectric conversion element is an element that converts thermal energy into electric energy by utilizing Seebeck effect, thermomagnetic effect, spin Seebeck effect, and the like.
  • thermoelectric conversion device 10 shown in FIG. 1 has a p-type thermoelectric conversion element 11, an n-type thermoelectric conversion element 12, a high temperature side electrode 15 and a low temperature side electrode 16.
  • the low temperature side electrode 16 includes an electrode 161 and an electrode 162.
  • thermoelectric conversion element the side where the high temperature side electrode 15 is arranged in the thermoelectric conversion device 10 is "upper” and the side where the low temperature side electrode 16 is arranged is “lower”, and the relative position of each member may be explained. ..
  • “upper” of “upper” and “lower” of “lower end” have the same meaning.
  • thermoelectric conversion element 11 and the n-type thermoelectric conversion element 12 when collectively referred to, they may be simply referred to as “thermoelectric conversion element”.
  • the p-type thermoelectric conversion element 11 has a thermoelectric conversion layer 111. Further, as shown in the figure, the p-type thermoelectric conversion element 11 may have a bonding layer 112 and a diffusion prevention layer 113.
  • the thermoelectric conversion layer 111 is an element that generates a thermoelectromotive force when positively charged holes (h + ) move from a high temperature portion to a low temperature portion when a temperature difference occurs in the element.
  • the thermoelectric conversion layer 111 has a p-type electronic physical property and is formed using a thermoelectric conversion material having a positive Seebeck coefficient.
  • the thermoelectric conversion layer 111 is obtained by machining the thermoelectric conversion material of the present embodiment described above into a desired shape.
  • the thermoelectric conversion layer 111 has a columnar shape.
  • the bonding layer 112 is provided between the thermoelectric conversion layer 111 and the high temperature side electrode 15.
  • the bonding layer 112 satisfactorily electrically and mechanically bonds the thermoelectric conversion layer 111 and the high temperature side electrode 15. Thereby, the bonding layer 112 reduces the contact resistance between the thermoelectric conversion layer 111 and the high temperature side electrode 15.
  • the bonding layer 112 is provided between the thermoelectric conversion layer 111 and the electrode 161 (low temperature side electrode 16).
  • the bonding layer 112 bonds the thermoelectric conversion layer 111 and the electrode 161 favorably electrically and mechanically. Thereby, the bonding layer 112 reduces the contact resistance between the thermoelectric conversion layer 111 and the electrode 161.
  • thermoelectric conversion element As the material for forming the bonding layer 112, an element that increases the carrier density of the thermoelectric conversion element can be mentioned, and silver, gold and platinum are preferable.
  • the thickness of the bonding layer 112 is not particularly limited, but is preferably 0.001 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less, more preferably 0.005 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • the upper limit value and the lower limit value of the thickness of the diffusion prevention layer 113 can be arbitrarily combined.
  • the diffusion prevention layer 113 is provided between the thermoelectric conversion layer 111 and the bonding layer 112.
  • the thermoelectric conversion layer 111 comes into contact with a member containing another metal material such as the bonding layer 112, the high temperature side electrode 15, the electrode 161 (low temperature side electrode 16 ), the element forming the thermoelectric conversion material is changed to the bonding layer 112 or the electrode ( The high temperature side electrode 15 and the low temperature side electrode 16) may diffuse, or the elements forming the bonding layer 112 and the electrode may diffuse into the thermoelectric conversion layer 111.
  • the diffusion prevention layer 113 suppresses the above diffusion and suppresses the deterioration of the thermoelectric conversion layer 111 due to the above diffusion.
  • the diffusion prevention layer 113 for example, at least one element selected from the group consisting of aluminum, titanium, chromium, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, molybdenum, silver and tantalum is preferable, and aluminum, titanium, More preferred is at least one element selected from the group consisting of chromium, iron, cobalt, nickel, zinc, molybdenum and tantalum.
  • a composite material in which two or more kinds of the above-mentioned forming materials are combined is preferable, and among the forming materials, a group consisting of aluminum, titanium, chromium, iron, cobalt, nickel, zinc, molybdenum and tantalum. A composite material in which two or more selected from the above are combined is more preferable.
  • the thickness of the diffusion prevention layer 113 is not particularly limited, but is preferably 0.5 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, more preferably 0.1 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • the upper limit value and the lower limit value of the thickness of the diffusion prevention layer 113 can be arbitrarily combined.
  • the n-type thermoelectric conversion element 12 has a thermoelectric conversion layer 121. Further, as shown in the drawing, the n-type thermoelectric conversion element 12 may have a bonding layer 122 and a diffusion prevention layer 123.
  • the thermoelectric conversion layer 121 is an element that generates a thermoelectromotive force by moving a negatively charged electron (e ⁇ ) from a high temperature portion to a low temperature portion when a temperature difference occurs in the element.
  • the thermoelectric conversion layer 121 has an n-type electronic physical property and is formed using a thermoelectric conversion material having a negative Seebeck coefficient.
  • the thermoelectric conversion layer 121 is obtained by machining the thermoelectric conversion material of the present embodiment described above into a desired shape.
  • the thermoelectric conversion layer 121 has a columnar shape.
  • the compound of this embodiment can be a compound having p-type electronic properties or a compound having n-type electronic properties by changing the content of Sb or Bi contained in the compound to control the carrier density. ..
  • the electronic properties of the thermoelectric conversion material can be controlled by using the electronic properties of a compound having a desired electronic property as the material of the thermoelectric conversion material.
  • the bonding layer 122 is provided between the thermoelectric conversion layer 121 and the high temperature side electrode 15.
  • the joining layer 122 favorably joins the thermoelectric conversion layer 121 and the high temperature side electrode 15 electrically and mechanically. Thereby, the bonding layer 122 reduces the contact resistance between the thermoelectric conversion layer 121 and the high temperature side electrode 15.
  • the bonding layer 122 is provided between the thermoelectric conversion layer 121 and the electrode 162 (low temperature side electrode 16).
  • the joining layer 122 favorably joins the thermoelectric conversion layer 121 and the electrode 162 electrically and mechanically. Thereby, the bonding layer 122 reduces the contact resistance between the thermoelectric conversion layer 121 and the electrode 162.
  • the material for forming the bonding layer 122 and the thickness of the bonding layer 122 may be the same as those of the bonding layer 112 described above.
  • the diffusion prevention layer 123 is provided between the thermoelectric conversion layer 121 and the bonding layer 122.
  • the element constituting the thermoelectric conversion material diffuses into the bonding layer 122 or the electrodes (high temperature side electrode 15, low temperature side electrode 16), or the element constituting the bonding layer 122 or the electrode diffuses into the thermoelectric conversion layer 121. This suppresses deterioration of the thermoelectric conversion layer 121 due to diffusion.
  • the material for forming the diffusion prevention layer 123 and the thickness of the diffusion prevention layer 123 may be the same as those of the diffusion prevention layer 113 described above.
  • the p-type thermoelectric conversion element 11 and the n-type thermoelectric conversion element 12 may have a protective film on the surface of the thermoelectric conversion element, which may come into contact with the gas in the environment where the thermoelectric conversion element is placed.
  • the thermoelectric conversion element by having the protective film, suppresses the reaction between the thermoelectric conversion material that the thermoelectric conversion element has, and the gas in the environment where the thermoelectric conversion element is placed, of the substance that can be generated from the thermoelectric conversion material. Diffusion can be suppressed.
  • the element contained in the protective film include silicon and oxygen.
  • the thickness of the protective film is not particularly limited, but is preferably 0.5 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • the high temperature side electrode 15 and the low temperature side electrode 16 are made of, for example, copper having high electrical conductivity and thermal conductivity.
  • the thermoelectric conversion device 10 has an insulating plate 17 that covers the high temperature side electrode 15.
  • the insulating plate 17 has a function of reinforcing the thermoelectric conversion device 10.
  • a ceramic plate such as alumina or aluminum nitride can be used.
  • the thermoelectric conversion device 10 has a heat dissipation plate 18 that covers the low temperature side electrode 16.
  • the heat dissipation plate 18 has a function of reinforcing the thermoelectric conversion device 10 and promoting heat dissipation from the thermoelectric conversion element. Since the thermoelectric conversion device 10 includes the heat dissipation plate 18, it is easy to form a temperature difference (temperature gradient) in the thermoelectric conversion element and to easily generate thermoelectromotive force.
  • an insulating ceramic plate such as alumina or aluminum nitride can be used.
  • thermoelectric conversion device 10 First, heat H is transmitted to the thermoelectric conversion device 10 from a heat source (not shown) arranged above the thermoelectric conversion device 10. Inside the thermoelectric conversion device 10, the heat H transferred from the insulating plate 17 to the high temperature side electrode 15 is further transferred to the upper part of the thermoelectric conversion element via the high temperature side electrode 15.
  • thermoelectric conversion device 10 the heat H of the thermoelectric conversion element is transmitted to the heat dissipation plate 18 via the low temperature side electrode 16.
  • the p-type thermoelectric conversion element 11 and the n-type thermoelectric conversion element 12 have a temperature gradient between the upper end and the lower end.
  • thermoelectric conversion element 11 In the p-type thermoelectric conversion element 11, holes (h + ) move from the high temperature upper end to the low temperature lower end to generate thermoelectromotive force. On the other hand, in the n-type thermoelectric conversion element 12, electrons (e ⁇ ) move from the upper end having a higher temperature to the lower end having a lower temperature to generate thermoelectromotive force.
  • the potential difference in the p-type thermoelectric conversion element 11 and the potential difference in the n-type thermoelectric conversion element 12 are opposite in the vertical direction.
  • thermoelectric conversion element 11 and the n-type thermoelectric conversion element 12 are directly connected. It can be a connected thermoelectric conversion device.
  • thermoelectric conversion device 10 the electromotive force between the electrodes 161 and 162 is the sum of the thermoelectromotive force of the p-type thermoelectric conversion element 11 and the thermoelectromotive force of the n-type thermoelectric conversion element 12.
  • a current I is generated from the electrode 162 toward the electrode 161.
  • thermoelectric conversion device 10 as described above can be used as a power source of the external load 50 by connecting the electrode 161 and the electrode 162 to the external load 50.
  • the external load 50 include a battery, a capacitor, a motor, etc. that are a part of an electric device.
  • thermoelectric conversion device 10 since the thermoelectric conversion element of the present embodiment is used as the material of the thermoelectric conversion element, the thermoelectric conversion device has excellent thermal efficiency in the high temperature region.
  • FIG. 2 is a schematic perspective view of a thermoelectric conversion module including the thermoelectric conversion device described above.
  • the thermoelectric conversion module 100 is a structure in which a plurality of thermoelectric conversion devices 10 are unitized.
  • the thermoelectric conversion module 100 has a plurality of thermoelectric conversion devices 10.
  • the plurality of thermoelectric conversion devices 10 are arranged in a grid pattern between the insulating plate 17 and the heat dissipation plate 18.
  • thermoelectric conversion module 100 a plurality of p-type thermoelectric conversion elements 11 and a plurality of n-type thermoelectric conversion elements 12 are alternately arranged in the directions A and B shown in the figure.
  • thermoelectric conversion elements 11 and the n-type thermoelectric conversion elements 12 are electrically connected in series using the high temperature side electrode 15 and the low temperature side electrode 16.
  • the thermoelectric conversion modules shown in the figure are connected in series as indicated by the chain double-dashed line ⁇ .
  • connection indicated by the chain double-dashed line in the figure is an example, and there are no particular restrictions on the connection method. It is preferable that all the p-type thermoelectric conversion elements 11 and the n-type thermoelectric conversion elements 12 are connected to each other alternately and in series via metal electrodes.
  • the output of the thermoelectric conversion module 100 is a value obtained by multiplying the output of the p-type thermoelectric conversion element 11 by the number of used p-type thermoelectric conversion elements 11, and the output of the n-type thermoelectric conversion element 12 is the number of used n-type thermoelectric conversion elements 12.
  • the value multiplied by is almost equal to the sum of. In order to increase the output of the thermoelectric conversion module 100, it is effective to increase the output of the thermoelectric conversion element or increase the number of thermoelectric conversion elements used.
  • the sum of the number of p-type thermoelectric conversion elements 11 and the number of n-type thermoelectric conversion elements 12 in the thermoelectric conversion module 100 can be appropriately changed according to conditions such as the size of the thermoelectric conversion module 100 and the electromotive force to be obtained.
  • the sum of the number of p-type thermoelectric conversion elements 11 and the number of n-type thermoelectric conversion elements 12 in the thermoelectric conversion module 100 is preferably 50 or more and 1000 or less, more preferably 50 or more and 500 or less, and 50 or more. More preferably, the number is 250 or more and 250 or less.
  • An external connection electrode 31 is connected to the lower end of the p-type thermoelectric conversion element 11 arranged at one end of the chain double-dashed line ⁇ .
  • An external connection electrode 32 is connected to the lower end of the n-type thermoelectric conversion element 12 arranged on the other end side of the chain double-dashed line ⁇ .
  • thermoelectric conversion module 100 the space between adjacent thermoelectric conversion elements may be filled with an insulating material.
  • an insulating material can reinforce the thermoelectric conversion module 100 and improve the durability of the thermoelectric conversion module 100.
  • the adjacent thermoelectric conversion elements may be separated from each other without filling the space between the adjacent thermoelectric conversion elements with an insulating material.
  • the heat transfer path when the heat H input to the thermoelectric conversion module 100 is transmitted from the insulating plate 17 to the heat dissipation plate 18 is a p-type thermoelectric conversion element 11 and an n-type thermoelectric conversion element. Limited to 12. Therefore, the heat H that is radiated without being input to the thermoelectric conversion element is unlikely to occur, and as a result, high thermoelectromotive force can be obtained.
  • thermoelectric conversion module 100 When heat H is input from above the thermoelectric conversion module 100, a current I is generated from the external connection electrode 31 to the external connection electrode 32.
  • thermoelectric conversion module 100 as described above uses the thermoelectric conversion device 10 described above, the thermoelectric conversion module has excellent thermal efficiency in a high temperature region.
  • Seebeck coefficient ⁇ [V/K] was calculated from the measured value by a thermoelectric property evaluation device ZEM-3 (manufactured by Advance Riko Co., Ltd.) according to JIS R1650-1.
  • the sample of the compound used for measurement was cut out using a diamond cutter.
  • the dimensions of the sample for measuring the Seebeck coefficient were 4 mm ⁇ 2 mm ⁇ 2 mm.
  • the R-type thermoelectric conversion pair used for temperature measurement and voltage measurement was fixed in contact with the long axis direction of the sample at an interval of 2.7 mm or 1.3 mm.
  • the sample was heated to a predetermined temperature in a helium gas atmosphere (0.01 MPa). Further, by heating one end of the sample, a temperature difference was made in the height direction of the sample. At this time, the temperature difference ( ⁇ T) and the voltage difference ( ⁇ V) between the R-type thermoelectric conversion pairs were measured. The temperature difference ( ⁇ T) was adjusted within the range of 0.5°C or higher and 10°C or lower.
  • the voltage difference ( ⁇ V) was measured when three different temperature differences ( ⁇ T) were given.
  • the Seebeck coefficient ⁇ was calculated from the slope of the voltage difference ( ⁇ V) with respect to the temperature difference ( ⁇ T).
  • the Seebeck coefficient was measured when it was determined that the temperature of the sample was stable according to the following criteria. (Evaluation criteria) The temperature of the sample was measured every 10 seconds in the thermoelectric property evaluation apparatus, and a moving average of 5 points was calculated for the latest 5 measurements. At that time, when the value of the 5-point moving average at a certain time is smaller than 0.5° C. as compared with the 5-point moving average of the latest 5 measurements 10 seconds before the time, the temperature of the sample is It was judged to be stable.
  • Resistivity The resistivity ⁇ [ ⁇ m] was measured by a DC four-terminal method using a thermoelectric property evaluation device (model number ZEM-3, manufactured by Advance Riko Co., Ltd.).
  • Thermal conductivity is calculated from the following equation from thermal diffusivity ⁇ [m 2 /s], heat capacity C p [J/g], and density d [g/m 3 ]. It was calculated using (4).
  • a sample of the compound used for measuring the thermal diffusivity ⁇ was cut out using a diamond cutter.
  • the dimensions of the sample for measuring the thermal diffusivity were 4 mm x 4 mm x 0.5 mm.
  • thermal diffusivity The thermal diffusivity ⁇ was measured using a laser flash analyzer LFA457 MicroFlac (manufactured by NETZSCH). At the time of measurement, the surface of the sample was coated in black with carbon spray Graphite 33 (manufactured by CRC industries Europe).
  • Capacity capacity C p was measured using EXSTAR DSC 7020 (manufactured by SII Nano Technology Inc.). The dimensions of the sample for measuring the heat capacity were 4 mm ⁇ 4 mm ⁇ 0.5 mm.
  • Density The density d was measured at room temperature using a density measurement kit (manufactured by METTLER TOLEDO) with the Archimedes method using water as the measurement principle. The size of the sample for measuring the density was 7 mm ⁇ 4 mm ⁇ 4 mm.
  • thermoelectric conversion performance index z Thermoelectric conversion performance index z[1/K] is expressed as zT by the Seebeck coefficient ⁇ [V/K] at the absolute temperature T, the resistivity ⁇ [ ⁇ m], and the thermal conductivity ⁇ [W/(m ⁇ K)]. was calculated using the following formula (2).
  • Crystal Structure Analysis The crystal structure of the compound was measured by powder X-ray diffraction under the following conditions using a powder X-ray diffraction measurement device X'Pert PRO MPD (manufactured by Spectris Co., Ltd.), and the obtained powder X-ray diffraction pattern was obtained. It was obtained by analysis.
  • Measuring device powder X-ray diffraction measuring device X'Pert PRO MPD (manufactured by Spectris Co., Ltd.)
  • X-ray generator CuK ⁇ ray source, voltage 45 kV, current 40 mA
  • Slit slit width 10mm
  • Sample preparation Powdering by mortar crushing
  • Sample stage Dedicated glass substrate Depth 0.2 mm
  • composition distribution of the compound was measured under the following conditions using a scanning electron microscope JEOL JSM-5500 (manufactured by JEOL) equipped with an energy dispersive X-ray spectrometer JED-2300 (manufactured by JEOL Ltd.). Sought by doing.
  • SEM JEOL JSM-5500 (made by JEOL) Acceleration voltage 20kV, current 65 ⁇ A EDX: JED-2300 (made by JEOL Ltd.)
  • Analysis software Analysis station
  • Carrier Density The carrier density p [cm ⁇ 3 ] was determined by 5-terminal hole measurement using a physical property measuring device PPMS (manufactured by Quantum Desig) and a dedicated DC resistance sample pack. The dimensions of the sample for measuring the Seebeck coefficient were 6 mm ⁇ 2 mm ⁇ 0.4 mm.
  • the rate of change in resistivity of the compound before and after heating and cooling was measured by the above-described method for measuring resistivity and evaluated by the following procedure.
  • (1) The resistivity of the compound was measured at 100° C. as the resistivity ⁇ (Before) before the heating test.
  • the resistivity was measured at 100° C. as the resistivity ⁇ (After) after the heating test.
  • the typical rate of temperature increase/decrease was ⁇ 50°C/min.
  • the typical time required for measurement in the temperature rising process from 100° C. to 500° C. was 3 hours, and the typical time required for measurement in the temperature decreasing process from 500° C. to 100° C. was 2 hours.
  • Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 The compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 were produced by the production method of the third embodiment described above.
  • Each raw material was weighed and mixed at the composition ratio (molar ratio) shown in Table 1 below to obtain a mixture. Then, 3.0 g of the mixture was put into a quartz ampoule (hemispherical bottom type, inner diameter 6 mm, outer diameter 8 mm) and sealed under a reduced pressure of 1 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less. The quartz ampoule was heated to 950° C. in an electric furnace to melt the mixture.
  • the quartz ampoule was taken out of the electric furnace at 950°C and immediately put in water at room temperature. By this operation, the melt in the quartz ampoule was rapidly cooled and solidified. In the quenching step, the melt at 950° C. was cooled to 100° C. or lower within 1 minute. The solidified material in which the melt solidified was recovered from the quartz ampoule.
  • the obtained solidified material was crushed into a mortar to obtain a material powder.
  • the material powder was packed in a dedicated carbon die and spark plasma sintered under the following conditions.
  • the sintered material powder was quenched by stopping the plasma discharge, and the target compound was obtained.
  • Table 1 shows the compositions of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3.
  • FIG. 3 is a powder X-ray diffraction pattern of the compound of Example 1.
  • the crystal structures of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 were all assigned to Fm-3m and found to be cubic, and the main phase was SnTe.
  • FIG. 4 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3.
  • FIG. 5 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Examples 1-10 and Comparative Examples 1-3.
  • FIG. 6 is a graph showing the temperature dependence of the thermal conductivity ⁇ of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3.
  • FIG. 7 is a graph showing the temperature dependence of the output factor (Power Factor) of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3.
  • FIG. 8 is a graph showing the temperature dependence of zT of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3.
  • FIG. 9 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Examples 1 and 2.
  • FIG. 10 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Examples 1 and 2.
  • FIG. 11 is a graph showing the temperature dependence of the thermal conductivity ⁇ of the compounds of Examples 1 and 2.
  • FIG. 12 is a graph showing the temperature dependence of the output factor (Power Factor) of the compounds of Examples 1 and 2.
  • FIG. 13 is a graph showing the temperature dependence of zT of the compounds of Examples 1 and 2.
  • Example 1 Comparing Example 1 and Example 2, it can be seen that the Seebeck coefficient is improved by replacing Sn with In. In particular, the improvement of the Seebeck coefficient at 400° C. or lower is remarkable. Further, it can be seen that the thermal conductivity is reduced by replacing Sn with In.
  • FIG. 14 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Examples 2 and 4.
  • FIG. 15 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Examples 2 and 4.
  • FIG. 16 is a graph showing the temperature dependence of the thermal conductivity ⁇ of the compounds of Examples 2 and 4.
  • FIG. 17 is a graph showing the temperature dependence of the output factor (Power Factor) of the compounds of Examples 2 and 4.
  • FIG. 18 is a graph showing the temperature dependence of zT of the compounds of Examples 2 and 4.
  • Example 2 Comparing Example 2 and Example 4, it can be seen that the thermal conductivity is lowered by replacing Sn with Cu.
  • FIG. 19 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Examples 4, 8, 9 and Comparative Example 1.
  • FIG. 20 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Examples 4, 8, 9 and Comparative Example 1.
  • FIG. 21 is a graph showing the temperature dependence of the thermal conductivity ⁇ of the compounds of Examples 4, 8, 9 and Comparative Example 1.
  • FIG. 22 is a graph showing the temperature dependence of the output factor (Power Factor) of the compounds of Examples 4, 8, 9 and Comparative Example 1.
  • FIG. 23 is a graph showing the temperature dependence of zT of the compounds of Examples 4, 8, 9 and Comparative Example 1.
  • FIG. 24 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Example 2 and Comparative Example 1.
  • FIG. 25 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Example 2 and Comparative Example 1.
  • FIG. 26 is a graph showing the temperature dependence of the thermal conductivity ⁇ of the compounds of Example 2 and Comparative Example 1.
  • FIG. 27 is a graph showing the temperature dependence of the output factor (Power Factor) of the compounds of Example 2 and Comparative Example 1.
  • FIG. 28 is a graph showing the temperature dependence of zT of the compounds of Example 2 and Comparative Example 1.
  • FIG. 29 is a graph showing the temperature dependence of the Seebeck coefficient ⁇ of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • FIG. 30 is a graph showing the temperature dependence of the resistivity ⁇ of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • FIG. 31 is a graph showing the temperature dependence of the thermal conductivity ⁇ of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • FIG. 32 is a graph showing the temperature dependence of the output factor (Power Factor) of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • FIG. 33 is a graph showing the temperature dependence of zT of the compounds of Examples 1, 5 to 7 and Comparative Examples 1 and 3.
  • Table 2 shows the resistivity of the compounds of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 before heating, the resistivity after heating at 500° C., and the rate of change of the resistivity.
  • Table 3 shows the carrier densities of the compounds of Examples 1, 2, 5 to 7.
  • Example 2 Comparing Example 1 and Example 2, the compound in which Sn of SnTe is replaced by Mn, Bi and Cu (Example 2) is further replaced by In by replacing Sn (Example 1). It can be seen that the absolute value of the rate of change of the rate decreases.
  • Example 4 a graph showing a change in resistivity during heating and cooling is shown.
  • FIG. 34 is a graph showing the results of evaluation of thermal history of resistivity of the compound of Example 4.
  • FIG. 35 is a graph showing the results of evaluation of the thermal history of resistivity of the compound of Comparative Example 1.
  • the compound of the present invention has a small absolute value of the rate of change in resistivity before and after heating and cooling, it can be applied to various fields such as in-vehicle use.
  • thermoelectric conversion device 11... P-type thermoelectric conversion element, 12... N-type thermoelectric conversion element, 15... High temperature side electrode, 16... Low temperature side electrode, 17... Insulating plate, 18... Radiating plate, 31... External connection electrode, 32... External connection electrode, 50... External load, 100... Thermoelectric conversion module, 111, 121... Thermoelectric conversion layer, 112, 122... Bonding layer, 113, 123... Diffusion prevention layer, 161... Electrode (low temperature side electrode), 162 ... Electrode (low temperature side electrode)

Abstract

Ｓｎ、Ｔｅ及びＭｎを含有し、ＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方を更に含有する化合物。

Description

化合物及び熱電変換材料
　本発明は、化合物及び熱電変換材料に関する。
　本願は、２０１８年１２月４日に出願された日本国特願２０１８－２２７５６９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　近年、エネルギー資源の消費量を抑制する観点から、高い温度領域の熱源に相当する自動車の排熱や工場の排熱を利用する熱電変換デバイスの検討が行われている。
　このような排熱を利用するため、熱電変換デバイスを構成する熱電変換材料は高い耐熱性が求められている。
　熱電変換材料に含まれる化合物として、例えば、構成元素として、Ｓｎ、Ｔｅ及びＭｎを含有する化合物が報告されている（非特許文献１）。
Ｅｎｅｒｇｙ　＆　Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ　Ｓｃｉｅｎｃｅ，　ｖｏｌｕｍｅ　８，　Ｉｓｓｕｅ　１１，　ｐａｇｅ　３２９８－３３１２（２０１５）
　しかしながら、非特許文献１で開示された化合物の耐熱性は十分ではなかった。
　本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、熱電変換特性を有し、耐熱性の高い化合物、及びこれを含有する熱電変換材料を提供することを目的とする。
　上記の課題を解決するため、本発明は下記の態様を包含する。
［１］Ｓｎ、Ｔｅ及びＭｎを含有し、ＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方を更に含有する化合物。
［２］ＳｎＴｅを主相とし、ＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方、及びＭｎを含有する［１］に記載の化合物。
［３］前記化合物が、更に、Ｍｇ、Ｉｎ、Ｎａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｓ、Ｓｅ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含有する［１］または［２］に記載の化合物。
［４］前記元素が、Ｃｕ、Ｉｎ及びＳｅからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素である［３］に記載の化合物。
［５］下記式（Ａ）で表される［１］から［４］のいずれか１項に記載の化合物。
Ｓｎ１＋ａ－ｂ－ｃ１－ｃ２－ｄ－ｅＭｎｂＢｉｃ１Ｓｂｃ２ＩｎｄＭｅＴｅ１－ｆＸｆ…（Ａ）
（式（Ａ）中、Ｍは、Ｍｇ、Ｎａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｔｌ及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を表す。
　Ｘは、Ｓ、Ｓｅ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を表す。
　ａ、ｂ、ｃ１、ｃ２、ｄ、ｅ及びｆは、－０．０５≦ａ≦０．１０、０＜ｂ≦０．１５、０≦ｃ１≦０．１０、０≦ｃ２≦０．１０、０≦ｄ≦０．０３、０≦ｅ≦０．２０及び０≦ｆ≦０．２０を満たす数である。但し、０＜ｃ１＋ｃ２である。）
［６］［１］から［５］のいずれか１項に記載の化合物を含有する熱電変換材料。
　本発明によれば、熱電変換特性を有し、耐熱性の高い化合物、及びこれを含有する熱電変換材料を提供することができる。
本実施形態の熱電変換材料を形成材料とする熱電変換素子、熱電変換素子を有する熱電変換デバイスの概略断面図である。 本実施形態の熱電変換デバイスを有する熱電変換モジュールの概略斜視図である。 実施例１の化合物の粉末Ｘ線回折図形である。 実施例１～１０、比較例１～３の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。 実施例１～１０、比較例１～３の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。 実施例１～１０、比較例１～３の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。 実施例１～１０、比較例１～３の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。 実施例１～１０、比較例１～３の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。 実施例１，２の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。 実施例１，２の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。 実施例１，２の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。 実施例１，２の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。 実施例１，２の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。 実施例２，４の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。 実施例２，４の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。 実施例２，４の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。 実施例２，４の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。 実施例２，４の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。 実施例４，８，９、比較例１の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。 実施例４，８，９、比較例１の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。 実施例４，８，９、比較例１の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。 実施例４，８，９、比較例１の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。 実施例４，８，９、比較例１の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。 実施例２、比較例１の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。 実施例２、比較例１の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。 実施例２、比較例１の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。 実施例２、比較例１の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。 実施例２、比較例１の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。 実施例１，５～７、比較例１，３の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。 実施例１，５～７、比較例１，３の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。 実施例１，５～７、比較例１，３の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。 実施例１，５～７、比較例１，３の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。 実施例１，５～７、比較例１，３の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。 実施例４の化合物の耐熱性評価の結果を示すグラフである。 比較例１の化合物の耐熱性評価の結果を示すグラフである。
　本明細書において「熱電変換特性」とは、ゼーベック効果、熱磁気効果、又はスピンゼーベック効果などにより、熱エネルギーを電気エネルギーに変換する性質を意味する。
　本明細書において「熱電変換物性」とは、熱電変換材料の熱電変換性能である熱電変換性能指数と出力因子に関わる物性を意味する。より具体的には、「熱電変換物性」とは、ゼーベック係数、抵抗率、熱伝導率を意味する。
　本明細書では、熱電変換材料の熱電変換性能の指標として、熱電変換性能指数と出力因子とを用いる。
　熱電変換性能指数は、熱電変換材料による熱電変換の熱効率の指標である。上記熱効率は下記式で表される。詳細には、熱電変換材料で形成された物体を用いた熱電変換において、得られる最大の熱効率ηｏｐｔは下記式（１）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　式（１）中、ＴＨは熱電変換材料で形成された物体の高温端の温度［単位：Ｋ］、ＴＣは熱電変換材料で形成された物体の低温端の温度［単位：Ｋ］、ＴａｖｅはＴＨとＴＣの平均［単位：Ｋ］、Ｚは温度領域における熱電変換材料の熱電変換性能指数ｚの平均値［１／Ｋ］である。
　「高温端」とは、熱電変換材料で形成された物体において、熱電変換に用いる温度差を付与する２箇所のうち、相対的に高温の箇所を指す。
　「低温端」とは、熱電変換材料で形成された物体において、熱電変換に用いる温度差を付与する２箇所のうち、相対的に低温の箇所を指す。
　ある温度Ｔにおける熱電変換材料の熱電変換性能指数ｚ［１／Ｋ］は、下記式（２）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
　式（２）中、αはある温度Ｔにおける熱電変換材料のゼーベック係数［Ｖ／Ｋ］、ρはある温度Ｔにおける熱電変換材料の抵抗率［Ω・ｍ］、κはある温度Ｔにおける熱電変換材料の熱伝導率［Ｗ／（ｍ・Ｋ）］を示す。
　式（１）及び式（２）より、式（２）で表す値ｚＴが大きいほど、利用する温度領域におけるＺＴａｖｅが大きくなり、熱電変換の熱効率ηｏｐｔが大きくなることが分かる。すなわち、熱電変換の熱効率ηｏｐｔを高めるため、熱電変換材料は、広い温度領域で高い熱電変換性能指数ｚを示すことが望まれる。
　出力因子は、熱電変換材料で形成された物体を用いて熱電変換するときに、熱電変換で出力できる電力の指標である。上記式（２）のうち、下記式（３）で表すゼーベック係数の二乗と抵抗率の逆数との積は、熱電変換で出力できる電力を表す指標である。式（３）で表す指標を出力因子［Ｗ／（ｍ・Ｋ２）］と称する。出力因子は、Power Factorと呼ぶことがある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
　上記式（３）で表される出力因子は、熱電変換材料で形成された物体の両端に一定の温度差を付与したときに出力できる最大の電力の指標である。出力因子は、熱電変換材料を用いて構成される熱電変換デバイスを一定条件で作動させたときに出力できる最大の電力の目安となる。出力因子が大きいほど、熱電変換材料を用いて構成される熱電変換デバイスで得られる最大の電力出力が大きいことを示す。
　本明細書において、熱電変換材料の耐熱性は、加熱冷却による熱電変換材料の抵抗率の変化率の絶対値を指標とする。熱電変換物性の中でも抵抗率は、加熱冷却による熱履歴を反映しやすい物性である。熱電変換材料は、加熱冷却による熱電変換材料の抵抗率の変化率の絶対値が小さいことが求められる。
　本明細書において、「主相」とは、Ｘ線回折図形から同定される各相のメインピーク同士を比較したとき、最も強度の大きいメインピークを持つ相を意味する。
　Ｘ線回折図形には、複数のピークが含まれており、各ピークについて、ハナワルト法などの公知の方法により、対応する相を同定することができる。
　Ｘ線回折図形から、化合物が単一の相を有すること、または、複数の相を有することが分かる。同定された相には、それぞれメインピークが存在する。「メインピーク」とは、ある一つの相に帰属されるピーク群の中で最も強度が大きいピークのことを意味する。
＜化合物＞
　本実施形態の化合物は、Ｓｎ、Ｔｅ及びＭｎを含有し、ＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方を更に含有する。
　本実施形態の化合物としては、加熱冷却における抵抗率の変化率の絶対値が小さい化合物となる点で、ＳｎＴｅを主相とし、ＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方を含有し、さらに、Ｍｎを含有することが好ましい。
　以下、順に説明する。
［化合物の結晶構造］
　本実施形態の化合物の結晶構造は、例えば，粉末Ｘ線回折測定装置を用いて得られる粉末Ｘ線回折図形から評価することができる。本実施形態の化合物は、ＳｎＴｅの結晶構造を主相として有することが好ましい。ＳｎＴｅの結晶構造は、２５℃において空間群Ｆｍ－３ｍの立方晶である。
　本実施形態の化合物がＳｎＴｅの結晶構造を有し、ＳｎＴｅを主相とする化合物となる場合、Ｘ線回折図形において、各相におけるメインピーク同士を比較すると、ＳｎＴｅの空間群Ｆｍ－３ｍの立方晶の結晶構造のメインピークの強度が、各相のメインピークの中で最も強くなる。
　本実施形態の化合物としては、Ｘ線回折図形において、化合物の結晶構造に含まれる全ての相のメインピークのピーク強度の総和に対して、前記化合物の主相のメインピークのピーク強度の比が、５０％より大きいことがより好ましく、７０％以上であることが更により好ましく、９０％以上であることがなお更に好ましい。このような化合物は、加熱冷却による抵抗率の変化率の絶対値が更に小さくなる。そのため、本実施形態の化合物を含有する熱電変換材料は耐熱性に優れる。
［化合物の組成分布］
　化合物の組成は、例えばエネルギー分散形Ｘ線分光器を装備した走査型電子顕微鏡を用いて、評価試料の組成分布図を作成し、得られた組成分布図に基づいて評価することができる。詳しくは、化合物の組成の評価は、０．２μｍ以上の組成分布が明確に識別できる条件にて行う。以下、エネルギー分散形Ｘ線分光器は、ＥＤＸと略すことがある。また、走査型電子顕微鏡は、ＳＥＭと略すことがある。
　本実施形態の化合物は、化合物中に偏在する各元素の結晶の最長径が２０μｍ以下であることが好ましい。本明細書において「結晶の最長径」は、ＳＥＭ像から算出でき、化合物中に偏在する各元素の結晶の個々の２次元断面上の各部の径（長さ）のうち、最も長い径を意味する。
［化合物の組成］
　上述のように、本実施形態の化合物は、Ｓｎ、Ｔｅ及びＭｎを含有し、ＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方を更に含有する。
　化合物がＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方を含有することにより、化合物中のキャリア密度を適切に調整することができる。そのため、ゼーベック係数が向上する。
　化合物がＭｎを含有することにより、化合物の価電子帯のバンド構造が調整され、化合物のゼーベック係数が向上する。
　本発明の別の実施形態においては、ＳｎＴｅを主相とし、ＳｂとＢｉとのいずれか一方、及びＭｎを含有する化合物が好ましく、ＳｎＴｅを主相とし、Ｂｉ及びＭｎを含有する化合物がより好ましい。このような化合物は、加熱冷却による抵抗率の変化率の絶対値が小さくなる。そのため、本実施形態の化合物を含有する熱電変換材料は耐熱性に優れる。
　本実施形態の化合物は、更に、Ｍｇ、Ｉｎ、Ｎａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｓ、Ｓｅ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含有してもよい。
　前記元素としては、Ｃｕ、Ｉｎ及びＳｅからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素が好ましい。
　本実施形態の化合物において、前記元素は、１種単独で含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。
　本実施形態の化合物は、下記式（Ａ）で表される化合物が好ましい。下記式（Ａ）で表される化合物は、加熱冷却における抵抗率の変化率の絶対値が小さい化合物となる。
　Ｓｎ１＋ａ－ｂ－ｃ１－ｃ２－ｄ－ｅＭｎｂＢｉｃ１Ｓｂｃ２ＩｎｄＭｅＴｅ１－ｆＸｆ　　　…（Ａ）
（式（Ａ）中、Ｍは、Ｍｇ、Ｎａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｔｌ及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも一つ元素を表す。
　Ｘは、Ｓ、Ｓｅ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を表す。
　ａ、ｂ、ｃ１、ｃ２、ｄ、ｅ及びｆは、０≦ａ≦０．１０、０＜ｂ≦０．１５、０≦ｃ１≦０．１０、０≦ｃ２≦０．１０、０≦ｄ≦０．０３、０≦ｅ≦０．２０及び０≦ｆ≦０．２０を満たす数である。但し、０＜ｃ１＋ｃ２である。）
　前記式（Ａ）で表される化合物において、ａは０≦ａ≦０．１０が好ましく、０．０２≦ａ≦０．０８がより好ましく、０．０３≦ａ≦０．０７がさらに好ましい。前記式（Ａ）で表される化合物において、ａがこれらの数値範囲に含まれることにより、本実施形態の化合物のゼーベック係数及び電気伝導性のいずれか一方又は両方が向上する。そのため、前記式（Ａ）で表される化合物の熱電変換性能指数ｚが向上する。
　ａの上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　前記式（Ａ）で表される化合物におけるＭｎの物質量は、上記式（Ａ）において、ｂで表される。前記式（Ａ）においてｂは０＜ｂ≦０．１５が好ましく、０．０４≦ｂ≦０．１３がより好ましく、０．０７≦ｂ≦０．１２がさらに好ましい。前記式（Ａ）で表される化合物において、Ｍｎの物質量（ｂ）がこれらの数値範囲に含まれることにより、前記化合物のバンド構造が適切に調整されてゼーベック係数が増大する。そのため、前記化合物の熱電変換性能指数ｚが向上する。
　ｂの上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　前記式（Ａ）で表される化合物におけるＢｉの物質量は、上記式（Ａ）においてｃ１で表される。前記式（Ａ）においてｃ１は０≦ｃ１≦０．１０が好ましく、０≦ｃ１≦０．０７がより好ましく、０．００５≦ｃ１≦０．０７がさらに好ましく、０．０１≦ｃ１≦０．０６がよりさらに好ましい。前記式（Ａ）で表される化合物において、Ｂｉの物質量（ｃ１）がこれらの数値範囲に含まれることにより、加熱冷却における抵抗率の変化率の絶対値が小さい化合物を得ることができる。
　ｃ１の上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　前記式（Ａ）で表される化合物におけるＳｂの物質量は、上記式（Ａ）においてｃ２で表される。前記式（Ａ）においてｃ２は０≦ｃ２≦０．１０が好ましく、０．００５≦ｃ２≦０．０７がより好ましく、０．０１≦ｃ２≦０．０６がさらに好ましい。また、前記式（Ａ）においてｃ２は０≦ｃ２≦０．０７であってもよく、０≦ｃ２≦０．０６であってもよい。前記式（Ａ）で表される化合物において、Ｓｂの物質量（ｃ２）がこれらの数値範囲に含まれることにより、加熱冷却における抵抗率の変化率の絶対値が小さい化合物を得ることができる。
　ｃ２の上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　前記式（Ａ）で表される化合物は、Ｉｎを含有することよって、ゼーベック係数が向上するため出力因子が向上する。前記式（Ａ）で表される化合物におけるＩｎの物質量は、上記式（Ａ）においてｄで表される。前記式（Ａ）においてｄは０≦ｄ≦０．０３が好ましく、０．００２≦ｄ≦０．０２がより好ましく、０．００４≦ｄ≦０．０１５がさらに好ましい。また、前記式（Ａ）においてｄは０≦ｄ≦０．０２であってもよく、０≦ｄ≦０．０１５であってもよい。
　ｄの上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　前記式（Ａ）で表される化合物において、元素Ｍは、前記式（Ａ）で表される化合物の熱電変換性能指数zが向上する観点から、Ｍｇ、Ｃｕ及びＡｇからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素であることが好ましく、Ｃｕがより好ましい。
　本実施形態の化合物は、ＳｎＴｅを主相とし、Ｂｉ、Ｍｎ及びＣｕを含有することが好ましい。このような化合物は、加熱冷却による抵抗率の変化率の絶対値が小さくなる。そのため、本実施形態の化合物を含有する熱電変換材料は耐熱性に優れる。
　前記式（Ａ）で表される化合物における元素Ｍの物質量としては、物性制御が適切である範囲という観点から、前記式（Ａ）においてｅは０≦ｅ≦０．１０が好ましく、０．００５≦ｅ≦０．０７がより好ましく、０．００５≦ｅ≦０．０５がさらに好ましい。また、前記式（Ａ）においてｅは０≦ｄ≦０．０７であってもよく、０≦ｄ≦０．０５であってもよい。
　ｅの上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　前記式（Ａ）で表される化合物において、元素ＭとしてＭｇが含まれる場合、化合物中のＭｇの物質量は、化合物中のＭｎの物質量以下である。
　前記式（Ａ）で表される化合物における元素Ｍの物質量としては、熱電変換性能指数ｚが向上する観点から、上記式（Ａ）においてｅは０≦ｅ≦０．１０が好ましく、０．００５≦ｅ≦０．０７がより好ましく、０．００５≦ｅ≦０．０５がさらに好ましい。
　ｅの上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　前記式（Ａ）で表される化合物において、元素Ｍは、１種単独で含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。
　前記式（Ａ）で表される化合物において、元素Ｘとしては、Ｓ、Ｓｅ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素が挙げられる。前記式（Ａ）においてｆは０≦ｆ≦０．２０が好ましく、０．０２≦ｆ≦０．１５がより好ましく、０．０４≦ｆ≦０．１０がさらに好ましい。
　前記式（Ａ）で表される化合物における元素Ｘの物質量が上記範囲であることにより、後述するキャリア密度が適切な範囲に制御することができるため熱電変換性能指数ｚが向上する。
　ｆの上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　前記式（Ａ）で表される化合物は、元素ＸとしてＳｅ及びＳのいずれか一方又は両方を含有することが好ましい。前記式（Ａ）で表される化合物が元素ＸとしてＳｅ又はＳを含有することで、前記化合物の熱伝導率を下げる効果があり、前記化合物の熱電変換性能指数ｚを向上させることが可能となる。
　前記式（Ａ）で表される化合物において、元素Ｘは、１種単独で含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。
　前記式（Ａ）で表される化合物について、ａ，ｂ，ｃ１，ｃ２，ｄ，ｅ，ｆの数値範囲の好ましい組み合わせの一例は、０．０２≦ａ≦０．０８、０．０４≦ｂ≦０．１３、０≦ｃ１≦０．０７、０≦ｃ２≦０．１０、０≦ｄ≦０．０３、０≦ｅ≦０．１０、０≦ｆ≦０．２０である。
　［キャリア密度］
　本明細書においてキャリアとは、電子又は正孔（ホール）である。キャリア密度とは、化合物中の電子又は正孔（ホール）の単位体積当たりの存在量を示す。
　本実施形態の化合物のキャリア密度は、前記化合物を含有する熱電変換材料の抵抗率が増大しすぎない範囲でゼーベック係数を高め、前記化合物の出力因子及び熱電変換性能指数ｚを向上させるため、８．０×１０２０ｃｍ－３以下が好ましい。熱電変換性能指数ｚが向上するため、前記式（Ａ）で表される化合物のキャリア密度は、０．５×１０２０ｃｍ－３以上４．０×１０２０ｃｍ－３以下がより好ましく、０．８×１０２０ｃｍ－３以上２．５×１０２０ｃｍ－３以下がさらに好ましい。
　化合物のキャリア密度は、その化合物に含まれる元素の組成比を変えることによって制御することができる。また、化合物のキャリア密度は、その化合物に含まれる元素をその他の元素によって置き換えることによって制御することができる。
　化合物のキャリア密度制御に際し、化合物に含まれる元素の組成比を変えることと、化合物に含まれる元素をその他の元素に置き換えることとは、組み合わせてもよい。
　本実施形態においては、例えば、化合物中のＳｎの一部をＢｉ又はＳｂで置き換えることによって、キャリア密度を更に下げることができる。他の例として、本実施形態の化合物中のＴｅの一部をＳ、Ｓｅ、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩで置き換えることによってキャリア密度を更に下げることができる。
　本実施形態において、化合物のキャリア密度の測定には、例えば、物理特性測定装置ＰＰＭＳ（Ｑｕａｎｔｕｍ　Ｄｅｓｉｇｎ社製）及び専用のＤＣ抵抗サンプルパックによる５端子ホール測定を用いることができる。ホール測定は、測定対象とする試料の温度を安定させて、試料の1表面に垂直に磁場を印加してホール抵抗を測定することにより行うことができる。磁場に対するホール抵抗の傾きよりホール係数を算出することができ、さらにホール係数よりキャリア密度を算出することができる。
　［ゼーベック係数］
　式（２）で表す値である熱電変換性能指数ｚ及び出力因子が向上する観点から、本実施形態の化合物の各温度におけるゼーベック係数は、以下の範囲であることが好ましい。
　１００℃におけるゼーベック係数［μＶ／Ｋ］は６０以上が好ましい。より好ましくは７０以上である。
　２００℃におけるゼーベック係数［μＶ／Ｋ］は９０以上が好ましい。より好ましくは１００以上、さらに好ましくは１１０以上である。
　３００℃におけるゼーベック係数［μＶ／Ｋ］は１２０以上が好ましい。より好ましくは１３０以上、さらに好ましくは１４０以上である。
　４００℃におけるゼーベック係数［μＶ／Ｋ］は１５０以上が好ましい。より好ましくは１７０以上、さらに好ましくは１８０以上である。
　５００℃におけるゼーベック係数［μＶ／Ｋ］は１８０以上が好ましい。より好ましくは１９０以上、さらに好ましくは２００以上である。
　ゼーベック係数は、本実施形態の化合物に含まれる元素をその他の元素によって置き換えることで制御することができる。
　例えば、本実施形態の化合物中のＳｎの一部をＭｎで置き換えることによって、ＳｎＴｅの価電子帯のバンド構造を調整することができる。その際、Ｓｎの一部を適切な量でＭｎと置き換えることにより、価電子帯のバンド構造が調整され、フェルミ準位近傍の状態密度が高まり、本実施形態の化合物のゼーベック係数が向上する。「適切な量」とは、例えばＳｎの物質量の１０％である。
　また、本実施形態の化合物中のＳｎの一部をＩｎで置き換えることによって、本実施形態の化合物の共鳴準位をフェルミ準位近傍に形成させることができる。これにより、フェルミ準位近傍の状態密度が高まり、本実施形態の化合物のゼーベック係数が向上する。Ｉｎによる置き換え量は、例えばＳｎの物質量の１％である。
　また、本実施形態の化合物中のＳｎの一部をＢｉ又はＳｂで置き換えることによって、キャリア密度を制御し、前記化合物のゼーベック係数を向上させることができる。
　本実施形態の化合物において、ゼーベック係数を向上させるためには、前記化合物中のＳｎの一部をＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方で置き換え、さらに本実施形態の化合物中のＳｎの一部をＭｎとＩｎとのいずれか一方又は両方で置き換えることが好ましい。
＜化合物の製造方法＞
　次に、本実施形態の化合物の製造方法を説明する。
（第１実施形態）
　第１実施形態における化合物の製造方法は、Ｓｎ，Ｍｎ及びＴｅ、並びにＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方の元素を含有する原料を混合し、７８０℃以上で加熱し溶融させ、溶融体を得る工程と、溶融体を５０℃未満の液体を用いて急冷する工程と、を含む。以下の説明では、溶融体を得る工程を「溶融工程」、急冷する工程を「急冷工程」と称する。
［溶融工程］
　溶融工程で用いられる原料としては、金属、金属塩、及び非金属などが挙げられる。原料の形状は、粉末状、粒子状及び鋳塊（インゴット）などが挙げられる。
　前記金属としては、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｉｎ、Ｎａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｔｌ及びＰｂが挙げられる。これらの金属は、１種のみ用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　前記金属塩としては、前記金属を金属カチオンとする金属塩が挙げられる。金属塩のカウンターアニオンは、特に制限はないがＢｒ－、Ｃｌ－、Ｉ－又はＦ－のハロゲン化物イオンや、Ｓ２－、Ｓｅ２－又はＴｅ２－の１６族のアニオンが挙げられる。
　前記非金属としては、Ｓ、Ｓｅ又はＴｅの単体が挙げられる。
　最終生成物である化合物の組成比に応じて、原料に含まれる各元素の組成比（モル比）を制御する。
　溶融工程における加熱時の最高温度は７８０℃以上である。得られる溶融体の組成分布が均一に近づきやすいため、加熱時の最高温度は９００℃以上が好ましい。
　溶融工程において、溶融方法は特に限定されず、例えば、抵抗発熱体による加熱、高周波誘導炉による加熱、アーク溶解、電子ビーム溶解などが挙げられる。
　溶融時に用いる「るつぼ」の材料は、加熱方法に応じて、グラファイト、アルミナ、コールドクルーシブルなどが用いられる。
　上述の原料や、溶融工程で得られる溶融体が変質することを防止するため、溶融工程では、原料をアルゴン、窒素、真空などの不活性雰囲気で加熱することが好ましい。溶融工程では、内部を不活性雰囲気に置き換えたアンプル管に原料を詰めて、加熱してもよい。溶融工程でアンプル管を用いる場合、原料がアンプル管と反応することを防ぐために、アンプル管の内壁をカーボンコートしてもよい。
［急冷工程］
　本実施形態の急冷工程では、溶融工程で得られた溶融体を、急激に１００℃以下に冷却することが好ましい。詳しくは、冷却工程では、溶融体を１００℃以下まで１０分以内に冷却することが好ましく、５分以内に冷却することがより好ましく、１分以内に冷却することがさらに好ましい。
　上記の液体としては、水、液体空気、液体窒素など、沸点が１００℃以下である液体を用いることができる。安価で安全性が高いことから、水が好ましい。
　第１実施形態の化合物の製造方法においては、急冷工程を有することにより、主相であるＳｎＴｅの結晶格子中に、過飽和状態でＭｎ、Ｂｉ、Ｓｂを固溶させることができる。その結果、前記化合物を含有する熱電変換材料の出力因子が向上する。
（第２実施形態）
　第２実施形態における化合物の製造方法は、上述の溶融工程で得られた溶融体を急冷することなく冷却し、少なくともＳｎ，Ｍｎ及びＴｅ、並びにＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方を含有する材料を得る工程と、得られた材料を粉末化し、材料粉末を得る工程と、プラズマ焼結法を用いて４００℃以上で材料粉末を焼結する工程と、を含む。以下の説明では、材料を得る工程を「材料製造工程」、材料粉末を得る工程を「粉末化工程」、材料粉末を焼結する工程を「プラズマ焼結工程」と称する。
［材料製造工程］
　材料製造工程では、溶融工程で得られた溶融体を、上記液体を用いずに、１００℃以下まで１０分よりも長い時間をかけて冷却する。
［粉末化工程］
　粉末化工程では、材料製造工程で得られた材料をボールミルなどで粉砕して粉末化する。粉末化した微粒子の粒径は特に限定されないが、１５０μｍ以下が好ましい。
［プラズマ焼結工程］
　プラズマ焼結工程では、粉末化工程で得られた材料粉末を加圧しながら、材料粉末にパルス状の電流を通電させる。これにより、材料粉末間で放電が生じ、材料粉末を加熱させて焼結させることができる。
　得られる化合物が空気と触れて変質することを防止するために、プラズマ焼結工程は、アルゴン、窒素、真空などの不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
　プラズマ焼結工程における加圧圧力は、０ＭＰａを超え１００ＭＰａ以下の範囲が好ましい。高密度の化合物を得るため、プラズマ焼結工程における加圧圧力は１０ＭＰａ以上とすることが好ましく、３０ＭＰａ以上とすることがより好ましい。
　プラズマ焼結工程の加熱温度は、目的物である化合物の融点よりも十分に低いことが好ましく、７００℃以下が好ましい。プラズマ焼結工程の加熱温度は、６５０℃以下がより好ましい。プラズマ焼結工程の加熱温度は、焼結を促進するため４００℃以上が好ましく、５００℃以上がより好ましい。
　プラズマ焼結工程の加熱温度の上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　プラズマ焼結工程では、通電を止めると加熱が止まり、材料粉末は急激に冷却される。プラズマ焼結工程では、得られる化合物において、得られる化合物に含まれる元素の偏在を抑制するため、上記加熱温度で加熱した後に、通電を止めて冷却することが好ましい。
　第２実施形態の化合物の製造方法においては、プラズマ焼結工程を有することにより、材料が急激に冷却され、主相であるＳｎＴｅの結晶格子中に、過飽和状態でＭｎ、Ｂｉ、Ｓｂを固溶させることができる。
（第３実施形態）
　第３実施形態における化合物の製造方法は、Ｓｎ，Ｍｎ及びＴｅ、並びにＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方の元素を含有する原料を混合し、７８０℃以上で加熱し溶融させ、溶融体を得る工程（溶融工程）と、溶融体を５０℃未満の液体を用いて急冷する工程（急冷工程）と、得られた材料を粉末化し、材料粉末を得る工程（粉末化工程）と、プラズマ焼結法を用いて４００℃以上で材料粉末を焼結する工程（プラズマ焼結工程）と、を含む。
　本実施形態における、溶融工程、急冷工程、粉末化工程、及びプラズマ焼結工程に関する説明は、前記化合物の製造方法の第１実施形態における溶融工程、急冷工程、及び前記化合物の製造方法の第２実施形態における粉末化工程、及びプラズマ焼結工程における説明と同様である。
　化合物の製造方法としては、第３実施形態の化合物の製造方法が好ましい。第３実施形態の製造方法は、急冷工程と、プラズマ焼結工程とを併用しているため、得られる化合物の主相であるＳｎＴｅの結晶格子中に、十分に過飽和状態でＭｎ、Ｂｉ、Ｓｂを固溶させることができる。その結果、化合物の製造方法で得られる化合物の電気伝導率が向上し、得られる化合物の出力因子が向上する。
　以上のような化合物は、高温領域において高い出力因子を有する化合物となる。
＜熱電変換材料＞
　本実施形態における熱電変換材料は、上述した本実施形態の化合物を含み、熱電変換特性を有する材料である。
　本実施形態における熱電変換材料は、上述した本実施形態の化合物を１種単独で含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　熱電変換材料中の、上述した本実施形態の化合物の含有率としては、５０質量％以上１００質量％以下が好ましく、７０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、８０質量％以上１００質量％以下がさらに好ましく、９０質量％以上１００質量％以下がよりさらに好ましい。熱電変換材料において、上述した本実施形態の化合物の含有率が上記範囲内であれば、高い熱電変換性能指数ｚを有する熱電変換材料となる。
　熱電変換材料は、上述した本実施形態の化合物以外に、例えば、高分子化合物、ガラス及びセラミックスなどを含むことができる。
　熱電変換材料が含むことができる高分子化合物としては、特に限定されないが、アクリル樹脂、テレフタレート樹脂、エンジニアリングプラスチック、フッ素樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂及びメラミン樹脂などが挙げられる。
　熱電変換材料が含むことができるガラスとしては、特に限定されないが、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス及び無アルカリガラスなどが挙げられる。
　熱電変換材料が含むことができるセラミックスとしては、特に限定されないが、アルミナ、チタニア、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素、コージェライト、フェライト、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸鉛、フォルステライト、ジルコン、ムライト、窒化アルミニウム、マイカ、窒化ホウ素、炭化チタン及び酸化亜鉛などが挙げられる。
　以上のような熱電変換材料は、加熱冷却の前後における抵抗率の変化が小さい化合物を用いているため、高温領域において熱効率に優れた熱電変換材料となる。
＜熱電変換素子、熱電変換デバイス＞
　図１は、上述した熱電変換材料を形成材料とする熱電変換素子、及び熱電変換素子を有する熱電変換デバイスの概略断面図である。
　本明細書において「熱電変換素子」とは、ゼーベック効果、熱磁気効果、スピンゼーベック効果などを利用して熱エネルギーを電気エネルギーに変換する素子である。
　図１に示す熱電変換デバイス１０は、ｐ型熱電変換素子１１、ｎ型熱電変換素子１２、高温側電極１５及び低温側電極１６を有する。低温側電極１６は、電極１６１及び電極１６２を含む。
　以下の説明では、熱電変換デバイス１０において高温側電極１５が配置された側を「上」、低温側電極１６が配置された側を「下」として、各部材の相対位置を説明することがある。例えば、「上方」の「上」や、「下端」の「下」も同じ意味である。
　また、以下の説明では、ｐ型熱電変換素子１１とｎ型熱電変換素子１２とを総称する際に、単に「熱電変換素子」と称することがある。
　ｐ型熱電変換素子１１は、熱電変換層１１１を有する。また、図に示すように、ｐ型熱電変換素子１１は、接合層１１２、拡散防止層１１３を有していてもよい。
　熱電変換層１１１は、素子内に温度差を生じたとき、温度の高い箇所から温度の低い箇所に正電荷を帯びた正孔（ｈ＋）が移動し、熱起電力を生じる素子である。熱電変換層１１１は、ｐ型の電子物性を有し、ゼーベック係数が正の熱電変換材料を用いて形成される。例えば、熱電変換層１１１は、上述した本実施形態の熱電変換材料を、所望の形状に機械加工することによって得られる。例えば、熱電変換層１１１は柱状である。
　接合層１１２は、熱電変換層１１１と高温側電極１５との間に設けられている。接合層１１２は、熱電変換層１１１と高温側電極１５とを電気的及び機械的に良好に接合する。これにより、接合層１１２は、熱電変換層１１１と高温側電極１５との接触抵抗を低減する。
　また、接合層１１２は、熱電変換層１１１と電極１６１（低温側電極１６）との間に設けられている。接合層１１２は、熱電変換層１１１と電極１６１とを電気的及び機械的に良好に接合する。これにより、接合層１１２は、熱電変換層１１１と電極１６１との接触抵抗を低減する。
　接合層１１２の形成材料としては、熱電変換素子のキャリア密度を高める元素が挙げられ、銀、金及び白金が好ましい。
　接合層１１２の厚みは、特に限定されないが、０．００１μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、０．００５μｍ以上１０μｍ以下がより好ましい。拡散防止層１１３の厚みの上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　拡散防止層１１３は、熱電変換層１１１と接合層１１２との間に設けられている。熱電変換層１１１が接合層１１２、高温側電極１５、電極１６１（低温側電極１６）などの他の金属材料を含有する部材と接触すると、熱電変換材料を構成する元素が接合層１１２や電極（高温側電極１５、低温側電極１６）に拡散、又は接合層１１２や電極を構成する元素が熱電変換層１１１に拡散することがある。拡散防止層１１３は、上述の拡散を抑制し、上述の拡散に起因した熱電変換層１１１の劣化を抑制する。
　拡散防止層１１３の形成材料としては、例えば、アルミニウム、チタン、クロム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、モリブデン、銀及びタンタルからなる群から選ばれる少なくとも一つの元素が好ましく、アルミニウム、チタン、クロム、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、モリブデン及びタンタルからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素がより好ましい。
　拡散防止層１１３の形成材料としては、前記形成材料を２種以上組み合わせた複合材料が好ましく、前記形成材料の中でも、アルミニウム、チタン、クロム、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、モリブデン及びタンタルからなる群より選ばれる２種以上を組み合わせた複合材料がより好ましい。
　拡散防止層１１３の厚みは、特に限定されないが、０．５μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以上５０μｍ以下がさらに好ましい。拡散防止層１１３の厚みの上限値と下限値とは、任意に組み合わせることができる。
　ｎ型熱電変換素子１２は、熱電変換層１２１を有する。また、図に示すように、ｎ型熱電変換素子１２は、接合層１２２、拡散防止層１２３を有していてもよい。
　熱電変換層１２１は、素子内に温度差を生じたとき、温度の高い箇所から温度の低い箇所に負電荷を帯びた電子（ｅ－）が移動し、熱起電力を生じる素子である。熱電変換層１２１は、ｎ型の電子物性を有し、ゼーベック係数が負の熱電変換材料を用いて形成される。例えば、熱電変換層１２１は、上述した本実施形態の熱電変換材料を、所望の形状に機械加工することによって得られる。例えば、熱電変換層１２１は柱状である。
　本実施形態の化合物は、化合物に含まれるＳｂ又はＢｉの含有量を変化させキャリア密度を制御することで、ｐ型の電子物性を有する化合物にもｎ型の電子物性を有する化合物にもなり得る。熱電変換材料の電子物性は、熱電変換材料の材料として、所望の電子物性を有する化合物の電子物性を用いることで制御することができる。
　接合層１２２は、熱電変換層１２１と高温側電極１５との間に設けられている。接合層１２２は、熱電変換層１２１と高温側電極１５とを電気的及び機械的に良好に接合する。これにより、接合層１２２は、熱電変換層１２１と高温側電極１５との接触抵抗を低減する。
　接合層１２２は、熱電変換層１２１と電極１６２（低温側電極１６）との間に設けられている。接合層１２２は、熱電変換層１２１と電極１６２とを電気的及び機械的に良好に接合する。これにより、接合層１２２は、熱電変換層１２１と電極１６２との接触抵抗を低減する。
　接合層１２２の形成材料、及び接合層１２２の厚みは、上述の接合層１１２と同様の構成を採用することができる。
　拡散防止層１２３は、熱電変換層１２１と接合層１２２との間に設けられている。拡散防止層１２３は、熱電変換材料を構成する元素が接合層１２２や電極（高温側電極１５、低温側電極１６）に拡散、又は接合層１２２や電極を構成する元素が熱電変換層１２１に拡散することを抑制し、拡散に起因した熱電変換層１２１の劣化を抑制する。
　拡散防止層１２３の形成材料、及び拡散防止層１２３の厚みは、上述の拡散防止層１１３と同様の構成を採用することができる。
　ｐ型熱電変換素子１１及びｎ型熱電変換素子１２は、熱電変換素子の面であって、熱電変換素子がおかれた環境中の気体と接触しうる面に保護膜を有してもよい。熱電変換素子が、上記保護膜を有することにより、熱電変換素子が有する熱電変換材料と、熱電変換素子がおかれた環境中の気体との反応を抑制し、熱電変換材料から発生しうる物質の拡散を抑制することができる。保護膜に含まれる元素としては、ケイ素及び酸素が挙げられる。保護膜の厚みは、特に限定されないが、０．５μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、１μｍ以上５０μｍ以下がより好ましい。
　高温側電極１５及び低温側電極１６は、例えば、電気伝導性及び熱伝導性の高い銅を形成材料とする。
　熱電変換デバイス１０は、高温側電極１５を覆う絶縁板１７を有する。絶縁板１７は、熱電変換デバイス１０を補強する機能を有する。絶縁板１７の形成材料としては、アルミナや窒化アルミニウムなどのセラミック板を挙げることができる。
　熱電変換デバイス１０は、低温側電極１６を覆う放熱板１８を有する。放熱板１８は、熱電変換デバイス１０を補強するとともに、熱電変換素子からの放熱を促進する機能を有する。熱電変換デバイス１０は、放熱板１８を有することにより、熱電変換素子内の温度差（温度勾配）を形成しやすく、熱起電力を生じやすくなる。
　放熱板１８の形成材料としては、アルミナや窒化アルミニウムなどの絶縁性を有するセラミック板を挙げることができる。
　次に、熱電変換デバイス１０の動作を説明する。
　まず、熱電変換デバイス１０の上方に配置した熱源（不図示）から、熱電変換デバイス１０に熱Ｈが伝わる。熱電変換デバイス１０の内部では、絶縁板１７から高温側電極１５に伝わった熱Ｈが、さらに高温側電極１５を介して、熱電変換素子の上部に熱Ｈが伝わる。
　また、熱電変換デバイス１０の内部では、低温側電極１６を介して、熱電変換素子の熱Ｈが放熱板１８に伝わる。
　その結果、ｐ型熱電変換素子１１及びｎ型熱電変換素子１２は、上端部と下端部との間に温度勾配が生じる。
　ｐ型熱電変換素子１１では、温度の高い上端部から温度の低い下端部に正孔（ｈ＋）が移動することで、熱起電力が発生する。一方、ｎ型熱電変換素子１２では、温度の高い上端部から温度の低い下端部に電子（ｅ－）が移動することで、熱起電力が発生する。ｐ型熱電変換素子１１における電位差と、ｎ型熱電変換素子１２における電位差とは、上下方向で逆になっている。そのため、ｐ型熱電変換素子１１及びｎ型熱電変換素子１２両者の上端部を高温側電極１５で電気的に接続することにより、ｐ型熱電変換素子１１とｎ型熱電変換素子１２とを直接に接続した熱電変換デバイスとすることができる。
　熱電変換デバイス１０において、電極１６１と電極１６２の間の起電力は、ｐ型熱電変換素子１１の熱起電力とｎ型熱電変換素子１２の熱起電力の和となる。熱電変換デバイス１０の上方から熱Ｈを入力すると、電極１６２から電極１６１に向けた電流Ｉが生じる。
　このような熱電変換デバイス１０は、電極１６１と電極１６２とを外部負荷５０に接続することで、外部負荷５０の電源として用いることができる。外部負荷５０の例としては、電気装置の一部であるバッテリー、コンデンサー、モーターなどが挙げられる。
　以上のような熱電変換デバイス１０では、熱電変換素子の材料として本実施形態の熱電変換素子を用いているため、高温領域において熱効率に優れた熱電変換デバイスとなる。
　なお、本実施形態の化合物及び熱電変換材料は、従来型のゼーベック効果を用いた熱電変換デバイスに加えて、ネルンスト効果、リーギ＝ルデュック効果及びマギー＝リーギ＝ルデュック効果などの熱磁気効果を用いた熱電変換デバイス、又は、スピンポンピング効果及び逆スピンホール効果などによるスピンゼーベック効果を用いた熱電変換デバイスに採用することもできる。
＜熱電変換モジュール＞
　図２は、上述した熱電変換デバイスを有する熱電変換モジュールの概略斜視図である。
　熱電変換モジュール１００は、複数の熱電変換デバイス１０をユニット化した構造物である。熱電変換モジュール１００は、複数の熱電変換デバイス１０を有している。複数の熱電変換デバイス１０は、絶縁板１７と放熱板１８との間に格子状に配列している。
　詳しくは、熱電変換モジュール１００では、図に示すＡ方向及びＢ方向に、複数のｐ型熱電変換素子１１と複数のｎ型熱電変換素子１２とが互いに交互に配列している。熱電変換モジュール１００中のｐ型熱電変換素子１１の数（Ｐ）とｎ型熱電変換素子１２の数（Ｎ）との関係は、Ｐ＝Ｎ＋１、Ｐ＝Ｎ、又はＮ＝Ｐ＋１となる。
　全てのｐ型熱電変換素子１１とｎ型熱電変換素子１２とは、高温側電極１５及び低温側電極１６を用いて電気的に直列に接続されている。図に示す熱電変換モジュールは、二点鎖線αで示したように直列に接続されている。
　なお、図において二点鎖線で示した接続は一例であり、接続の仕方に特に制限はない。全てのｐ型熱電変換素子１１とｎ型熱電変換素子１２とが、互いに交互かつ直列に金属電極を介して接続されていることが好ましい。
　熱電変換モジュール１００の出力は、ｐ型熱電変換素子１１の出力にｐ型熱電変換素子１１の使用数を乗じた値と、ｎ型熱電変換素子１２の出力にｎ型熱電変換素子１２の使用数を乗じた値と、の和にほぼ等しくなる。熱電変換モジュール１００の出力を高めるためには、熱電変換素子の出力を高める、又は熱電変換素子の使用数を増やすことが有効である。
　熱電変換モジュール１００中のｐ型熱電変換素子１１の数とｎ型熱電変換素子１２の数の和は、熱電変換モジュール１００の大きさ、求める起電力などの条件によって適宜変更することができる。一例として、熱電変換モジュール１００中のｐ型熱電変換素子１１の数とｎ型熱電変換素子１２の数の和は、５０個以上１０００個以下が好ましく、５０個以上５００個以下がより好ましく、５０個以上２５０個以下がさらに好ましい。
　二点鎖線αの一端側に配置されたｐ型熱電変換素子１１には、下端部に外部接続電極３１が接続されている。また、二点鎖線αの他端側に配置されたｎ型熱電変換素子１２には、下端部に外部接続電極３２が接続されている。
　熱電変換モジュール１００においては、隣り合う熱電変換素子の間の空間を、絶縁材料で充填してもよい。このような絶縁材料は、熱電変換モジュール１００を補強し、熱電変換モジュール１００の耐久性を向上させることができる。補強の効果を高めるため、絶縁材料は、隣り合う熱電変換素子の間の空間全てに充填されていることが好ましい。
　また、熱電変換モジュール１００においては、隣り合う熱電変換素子の間の空間を絶縁材料で充填することなく、隣り合う熱電変換素子が離間していてもよい。隣り合う熱電変換素子が離間することにより、熱電変換モジュール１００に入力された熱Ｈが絶縁板１７から放熱板１８に伝わる際の伝熱経路が、ｐ型熱電変換素子１１及びｎ型熱電変換素子１２に限られる。そのため、熱電変換素子に入力されることなく放熱される熱Ｈが生じにくく、結果として高い熱起電力を得ることができる。
　熱電変換モジュール１００の上方から熱Ｈを入力すると、外部接続電極３１から外部接続電極３２に向けた電流Ｉが生じる。
　以上のような熱電変換モジュール１００では、上述の熱電変換デバイス１０を用いているため、高温領域において熱効率に優れた熱電変換モジュールとなる。
　以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせなどは一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求などに基づき種々変更可能である。
　以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
　化合物の各物性値及び構造の評価は以下に示す方法を用いた。
１．ゼーベック係数
　ゼーベック係数α［Ｖ／Ｋ］は、ＪＩＳ　Ｒ１６５０－１に準拠し、熱電特性評価装置ＺＥＭ－３（アドバンス理工株式会社製）による測定値から算出した。
　測定に用いる化合物の試料は、ダイヤモンドカッターを用いて切り出した。ゼーベック係数を測定する試料の寸法は、４ｍｍ×２ｍｍ×２ｍｍとした。温度測定及び電圧測定に用いるＲ型熱電変換対を、試料の長軸方向に２．７ｍｍ又は１．３ｍｍの間隔で接触させて試料を固定した。
　ヘリウムガス雰囲気（０．０１ＭＰａ）中で、試料を所定の温度に加熱した。さらに試料の片端を加熱することで試料の高さ方向に温度差をつけた。このときのＲ型熱電変換対間の温度差（ΔＴ）と電圧差（ΔＶ）とを測定した。温度差（ΔＴ）は０．５℃以上１０℃以下の範囲に調整した。
　３点の異なる温度差（ΔＴ）を与えたときの電圧差（ΔＶ）を測定した。温度差（ΔＴ）に対する電圧差（ΔＶ）の傾きからゼーベック係数αの値を算出した。
　ゼーベック係数の測定は、下記基準により試料の温度が安定したと判断できた場合に実施した。
（判断基準）
　熱電特性評価装置において１０秒毎に試料の温度測定を行い、直近の５測定について５点の移動平均を算出した。その際に、ある時刻の５点移動平均の値がその時刻の１０秒前における直近の５測定の５点移動平均と比較して０．５℃よりも差が小さい場合に、試料の温度が安定したと判断した。
２．抵抗率
　抵抗率ρ［Ω・ｍ］は、熱電特性評価装置（型番ＺＥＭ－３、アドバンス理工株式会社製）を用い、直流四端子法にて測定した。
　抵抗率の測定は、上記判断基準により試料の温度が安定したと判断できた場合に実施した。
３．出力因子（Power Factor）
　出力因子［Ｗ／（ｍ・Ｋ２）］は、上述の方法で測定されたゼーベック係数α［Ｖ／Ｋ］、及び抵抗率ρ［Ω・ｍ］から、下記式（３）を用いて算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
４．熱伝導率
　熱伝導率κ［Ｗ／（ｍ・Ｋ）］は、熱拡散率λ［ｍ２／ｓ］、熱容量Ｃｐ［Ｊ／ｇ］、密度ｄ［ｇ／ｍ３］から、下記式（４）を用いて算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
　熱拡散率λの測定に用いる化合物の試料は、ダイヤモンドカッターを用いて切り出した。熱拡散率を測定する試料の寸法は、４ｍｍ×４ｍｍ×０．５ｍｍとした。
５．熱拡散率
　熱拡散率λは、レーザーフラッシュアナライザーＬＦＡ４５７ＭｉｃｒｏＦｌａｃｈ（ＮＥＴＺＳＣＨ社製）を用いて測定した。測定時には、試料の表面は、カーボンスプレーＧｒａｐｈｉｔｅ３３（ＣＲＣ　ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ　Ｅｕｒｏｐｅ社製）にて黒色にコーティングした。
６．熱容量
　熱容量Ｃｐは、ＥＸＳＴＡＲ　ＤＳＣ　７０２０（ＳＩＩナノテクノロジー社製）を用いて測定した。熱容量を測定する試料の寸法は、４ｍｍ×４ｍｍ×０．５ｍｍとした。
７．密度
　密度ｄは、水を用いたアルキメデス法を測定原理とし、室温にて密度測定キット（メトラー・トレド社製）を用いて測定した。密度を測定する試料の寸法は、７ｍｍ×４ｍｍ×４ｍｍとした。
８．熱電変換性能指数ｚ
　熱電変換性能指数ｚ［１／Ｋ］は、ｚＴとして絶対温度Ｔにおけるゼーベック係数α［Ｖ／Ｋ］、抵抗率ρ［Ω・ｍ］、熱伝導率κ［Ｗ／（ｍ・Ｋ）］より、下記式（２）を用いて算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
９．結晶構造解析
　化合物の結晶構造は、粉末Ｘ線回折測定装置Ｘ′Ｐｅｒｔ　ＰＲＯ　ＭＰＤ（スペクトリス株式会社製）を用いて、下記の条件で粉末Ｘ線回折測定し、得られた粉末Ｘ線回折図形を解析して求めた。
　測定装置：　　粉末Ｘ線回折測定装置Ｘ′Ｐｅｒｔ　ＰＲＯ　ＭＰＤ（スペクトリス株式会社製）
　Ｘ線発生器：　ＣｕＫα線源　電圧４５ｋＶ、電流４０ｍＡ
　スリット：　　スリット幅１０ｍｍ
　Ｘ線検出器：　Ｘ′Ｃｅｌｅｒａｔｏｒ
　測定範囲：　　回折角２θ＝１０°以上９０°以下
　試料準備：　　乳鉢粉砕による粉末化
　試料台　：　　専用のガラス基板　深さ０．２ｍｍ
１０．組成分布の評価
　化合物の組成分布は、エネルギー分散形Ｘ線分光器　ＪＥＤ－２３００（日本電子社製）を装備した走査型電子顕微鏡　ＪＥＯＬ　ＪＳＭ－５５００（ＪＥＯＬ社製）を用いて下記の条件で測定することで求めた。
　ＳＥＭ：　　　ＪＥＯＬ　ＪＳＭ－５５００（ＪＥＯＬ社製）
　　　　　　　　加速電圧２０ｋＶ、電流６５μＡ
　ＥＤＸ：　　　ＪＥＤ－２３００（日本電子社製）
　解析ソフト：　Ａｎａｌｙｓｉｓ　ｓｔａｔｉｏｎ
１１．キャリア密度
　キャリア密度ｐ［ｃｍ－３］は、物理特性測定装置ＰＰＭＳ（Ｑｕａｎｔｕｍ　Ｄｅｓｉｇ社製）及び専用のＤＣ抵抗サンプルパックを用いた５端子ホール測定により求めた。ゼーベック係数を測定する試料の寸法は、６ｍｍ×２ｍｍ×０．４ｍｍとした。
１２．耐熱性の評価
　化合物の加熱冷却前後における抵抗率の変化率を、上述の抵抗率の測定方法にて測定し、下記の手順により評価した。
（１）加熱試験前の抵抗率ρ（Ｂｅｆｏｒｅ）として、化合物の抵抗率を１００℃で測定した。
（２）（１）の後、化合物を昇温させ、５００℃まで５０℃おきに抵抗率測定を実施した。
（３）（２）の後、化合物を降温させ、１００℃まで１００℃おきに抵抗率測定を実施した。加熱試験後の抵抗率ρ（Ａｆｔｅｒ）として、抵抗率を１００℃で測定した。
（４）加熱試験後の抵抗率ρ（Ａｆｔｅｒ）を加熱試験前の抵抗率ρ（Ｂｅｆｏｒｅ）で除することにより、加熱冷却前後における抵抗率の変化率Δρ（％）を算出した。加熱冷却による抵抗率の変化率Δρの絶対値が小さいほど、熱電変換材料の耐熱性が高いと言える。
　具体的には、加熱冷却の前後における抵抗率の変化率Δρ（％）は、下記計算式により算出した。
Δρ（％）＝１００×（（ρ（Ａｆｔｅｒ）－ρ（Ｂｅｆｏｒｅ））／ρ（Ｂｅｆｏｒｅ））
　抵抗率測定において、典型的な昇温・降温レートは±５０℃／分とした。１００℃から５００℃までの昇温過程での測定に要した典型的な時間は３時間、５００℃から１００℃までの降温過程での測定に要した典型的な時間は２時間であった。
＜実施例１～１０、比較例１～３＞
　実施例１～１０、比較例１～３の化合物は、上述した第３実施形態の製造方法により製造した。
　原料として、以下の金属材料を用いた。
Ｓｎ：フルウチ化学社製、Ｓｈｏｔ　３－５ｍｍ、純度９９．９９９％以上
Ｔｅ：大阪アサヒメタル社製、粒状、６ＮＳ－２　ＧＲＡＤＥ
Ｍｎ：大阪アサヒメタル社製、フレーク状、　５Ｎ　ＧＲＡＤＥ
Ｂｉ：大阪アサヒメタル社製、粒状、６Ｎ　ＧＲＡＤＥ
Ｓｂ：大阪アサヒメタル社製、粒状、６ＮＳ－２　ＧＲＡＤＥ
Ｃｕ：高純度化学研究所社製、粉末８５０μｍパス、純度９９．９９９％以上
Ｉｎ：高純度化学研究所社製、粒状、純度９９．９９９％以上
　下記表１に示す組成比（モル比）で各原料を秤量し、混合して混合物を得た。次いで、３．０ｇの混合物を石英アンプル（半球底型、内径６ｍｍ、外径８ｍｍ）に入れ、１×１０－３Ｐａ以下の減圧下で封入した。石英アンプルを電気炉中にて９５０℃まで加熱し、混合物を溶融させた。
　急冷工程では、９５０℃の電気炉内から石英アンプルを取り出し、直後に室温の水中に投入した。この操作により、石英アンプル中の溶融体は急冷されて固化した。急冷工程では、９５０℃の溶融体を１００℃以下になるまで１分以内で冷却した。石英アンプルから溶融体が固化した固化材料を回収した。
　得られた固化材料を乳鉢粉砕し、材料粉末を得た。材料粉末を専用のカーボン製ダイに詰めて、下記の条件にて放電プラズマ焼結した。焼結した材料粉末は、プラズマ放電を止めることで急冷され、目的とする化合物を得た。
　装置　：　　　ドクターシンターラボＳＰＳ－５１１Ｓ（富士電波工機社製）
　試料　：　　　材料粉末　２．５ｇ
　ダイ　：　　　装置専用のカーボン製ダイ　内径１０ｍｍφ
　雰囲気：　　　アルゴン０．０５ＭＰａ
　圧力　：　　　４０ＭＰａ（３．１ｋＮ）
　加熱　：　　　６００℃、１０分間
　実施例１～１０、比較例１～３の化合物の組成を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
　図３は、実施例１の化合物の粉末Ｘ線回折図形である。測定の結果、実施例１～１０、比較例１～３の化合物の結晶構造は、いずれもＦｍ－３ｍに帰属され、立方晶であることが分かり、主相はＳｎＴｅであった。
　図４は、実施例１～１０、比較例１～３の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。
　図５は、実施例１～１０、比較例１～３の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。
　図６は、実施例１～１０、比較例１～３の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。
　図７は、実施例１～１０、比較例１～３の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。
　図８は、実施例１～１０、比較例１～３の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。
　図９は、実施例１，２の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。
　図１０は、実施例１，２の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。
　図１１は、実施例１，２の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。
　図１２は、実施例１，２の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。
　図１３は、実施例１，２の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。
　実施例１と実施例２と比較すると、ＳｎをＩｎに置き換えることによりゼーベック係数が向上していることが分かる。特に、４００℃以下でのゼーベック係数の向上が顕著である。また、ＳｎをＩｎに置き換えることにより熱伝導率が低減していることが分かる。
　図１４は、実施例２，４の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。
　図１５は、実施例２，４の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。
　図１６は、実施例２，４の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。
　図１７は、実施例２，４の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。
　図１８は、実施例２，４の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。
　実施例２と実施例４とを比較すると、ＳｎをＣｕに置き換えることにより熱伝導率が低下していることが分かる。
　図１９は、実施例４，８，９、比較例１の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。
　図２０は、実施例４，８，９、比較例１の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。
　図２１は、実施例４，８，９、比較例１の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。
　図２２は、実施例４，８，９、比較例１の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。
　図２３は、実施例４，８，９、比較例１の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。
　実施例４，８，９と比較例１とを比較すると、ＳｎをＢｉに置き換えることにより熱伝導率が低下していることが分かる。
　図２４は、実施例２、比較例１の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。
　図２５は、実施例２、比較例１の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。
　図２６は、実施例２、比較例１の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。
　図２７は、実施例２、比較例１の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。
　図２８は、実施例２、比較例１の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。
　実施例２と比較例１とを比較すると、ＳｎをＢｉ及びＣｕに置き換えることにより熱伝導率が低下し、熱電変換性能指数ｚが向上していることが分かる。
　図２９は、実施例１，５～７、比較例１，３の化合物のゼーベック係数αの温度依存性を示すグラフである。
　図３０は、実施例１，５～７、比較例１，３の化合物の抵抗率ρの温度依存性を示すグラフである。
　図３１は、実施例１，５～７、比較例１，３の化合物の熱伝導率κの温度依存性を示すグラフである。
　図３２は、実施例１，５～７、比較例１，３の化合物の出力因子（Power Factor）の温度依存性を示すグラフである。
　図３３は、実施例１，５～７、比較例１，３の化合物のｚＴの温度依存性を示すグラフである。
　実施例１、５、６、７と比較例１、３とを比較すると、ＳｎをＭｎ，Ｉｎ，Ｂｉ及びＣｕに置き換えることにより、顕著に熱伝導率が低下し、熱電変換性能指数ｚが向上していることが分かる。
　実施例１～１０、比較例１～３の化合物の加熱前の抵抗率、５００℃加熱後の抵抗率、抵抗率の変化率を表２に示す。また、実施例１，２，５～７の化合物のキャリア密度を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　表２に示すように、実施例１～１０の化合物は、５００℃に加熱した後の抵抗率の変化率の絶対値が、比較例１～３の化合物よりも小さいことが分かる。
　実施例３、４、８～１０と比較例１とを比較すると、ＳｎＴｅのＳｎをＢｉで置き換える、又はＳｂで置き換えることにより、加熱冷却における抵抗率の変化率の絶対値が低下することが分かる。
　実施例２と比較例２とを比較すると、ＳｎＴｅのＳｎをＭｎ及びＣｕで置き換えた化合物は、さらにＳｎをＢｉで置き換えることにより、加熱冷却における抵抗率の変化率の絶対値が低下することが分かる。
　実施例１、５、６、７と比較例３とを比較すると、ＳｎＴｅのＳｎをＭｎ及びＩｎで置き換えた化合物は、さらにＳｎをＢｉ及びＣｕで置き換えることにより、加熱冷却における抵抗率の変化率の絶対値が低下することが分かる。
　実施例１と実施例２とを比較すると、ＳｎＴｅのＳｎをＭｎ，Ｂｉ及びＣｕで置き換えた化合物（実施例２）は、さらにＳｎをＩｎで置き換える（実施例１）ことにより、加熱冷却における抵抗率の変化率の絶対値が低下することが分かる。
　また、代表例として、実施例４と比較例１については、加熱冷却における抵抗率の変化を示すグラフを示す。図３４は、実施例４の化合物の抵抗率の熱履歴の評価の結果を示すグラフである。図３５は、比較例１の化合物の抵抗率の熱履歴の評価の結果を示すグラフである。
　本発明の化合物は、加熱冷却の前後における抵抗率の変化率の絶対値が小さいため、車載用用途など、種々の分野に応用することができる。
１０…熱電変換デバイス、１１…ｐ型熱電変換素子、１２…ｎ型熱電変換素子、１５…高温側電極、１６…低温側電極、１７…絶縁板、１８…放熱板、３１…外部接続電極、３２…外部接続電極、５０…外部負荷、１００…熱電変換モジュール、１１１，１２１…熱電変換層、１１２，１２２…接合層、１１３，１２３…拡散防止層、１６１…電極（低温側電極）、１６２…電極（低温側電極）

Claims (6)

  1. 　Ｓｎ、Ｔｅ及びＭｎを含有し、ＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方を更に含有する化合物。
  2. 　ＳｎＴｅを主相とし、ＳｂとＢｉとのいずれか一方又は両方、及びＭｎを含有する請求項１に記載の化合物。
  3. 　前記化合物が、更に、Ｍｇ、Ｉｎ、Ｎａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｓ、Ｓｅ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含有する請求項１または２に記載の化合物。
  4. 　前記元素が、Ｃｕ、Ｉｎ及びＳｅからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素である請求項３に記載の化合物。
  5. 　下記式（Ａ）で表される請求項１～４のいずれか１項に記載の化合物。
    　Ｓｎ１＋ａ－ｂ－ｃ１－ｃ２－ｄ－ｅＭｎｂＢｉｃ１Ｓｂｃ２ＩｎｄＭｅＴｅ１－ｆＸｆ　　　…（Ａ）
    （式（Ａ）中、Ｍは、Ｍｇ、Ｎａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｔｌ及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を表す。
    　Ｘは、Ｓ、Ｓｅ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を表す。
    　ａ、ｂ、ｃ１、ｃ２、ｄ、ｅ及びｆは、－０．０５≦ａ≦０．１０、０＜ｂ≦０．１５、０≦ｃ１≦０．１０、０≦ｃ２≦０．１０、０≦ｄ≦０．０３、０≦ｅ≦０．２０及び０≦ｆ≦０．２０を満たす数である。但し、０＜ｃ１＋ｃ２である。）
  6. 請求項１～５のいずれか１項に記載の化合物を含有する熱電変換材料。
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