WO2020059343A1 - レシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラム - Google Patents

レシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラム Download PDF

Info

Publication number
WO2020059343A1
WO2020059343A1 PCT/JP2019/031002 JP2019031002W WO2020059343A1 WO 2020059343 A1 WO2020059343 A1 WO 2020059343A1 JP 2019031002 W JP2019031002 W JP 2019031002W WO 2020059343 A1 WO2020059343 A1 WO 2020059343A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
recipe
processing
unit
display device
display
Prior art date
Application number
PCT/JP2019/031002
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
達矢 島野
尚樹 澤崎
博司 堀口
友則 小路丸
Original Assignee
株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス filed Critical 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス
Publication of WO2020059343A1 publication Critical patent/WO2020059343A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00—Programme-control systems
    • G05B19/02—Programme-control systems electric
    • G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Definitions

  • the present invention relates to a recipe display device, a recipe display method, and a recipe display program for displaying, on a screen, a processing recipe indicating the contents of a plurality of processes sequentially performed in a substrate processing apparatus.
  • a substrate processing apparatus that performs various processes on a substrate is used.
  • the substrate processing apparatus supplies a processing liquid such as a photoresist liquid, an etching liquid, a cleaning liquid, and pure water to the substrate while holding the substrate inside the chamber.
  • This type of substrate processing apparatus operates according to data referred to as “processing recipe” that indicates the content and order of a plurality of processes to be sequentially performed.
  • a conventional substrate processing apparatus that operates according to a processing recipe is described in, for example, Patent Document 1.
  • a recipe file indicating the contents of a processing recipe is input in advance to a computer that controls the substrate processing apparatus.
  • the user of the substrate processing apparatus can display the recipe file on a computer screen and edit the recipe file as needed.
  • the recipe file is a file in which numbers such as numbers indicating respective units in the substrate processing apparatus, numbers indicating operation modes of the respective units, and parameters related to operations of the respective units are listed in a row. Therefore, even if the recipe file is displayed on the screen as it is, it is difficult to intuitively grasp the contents of the processing recipe. In addition, in editing recipe data, an input error is likely to occur.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a recipe display device, a recipe display method, and a recipe display program capable of easily visually grasping the contents of a processing recipe.
  • a first invention of the present application is a recipe display device that displays a processing recipe indicating the contents of a plurality of processes sequentially performed in a substrate processing apparatus on a screen, wherein the content of the processing recipe is A recipe storage unit for storing the described recipe file, an image display unit for displaying a plurality of images corresponding to a plurality of setting items in the processing recipe on the screen, and the processing recipe described in the recipe file And a content reflecting unit that changes each of the plurality of images in accordance with the content.
  • a second invention of the present application is the recipe display device according to the first invention, wherein the plurality of images schematically represent an appearance of a hardware element corresponding to the setting item among a plurality of hardware elements of the substrate processing apparatus.
  • the content reflecting unit includes a plurality of icons, each of which is schematically indicated, and changes the icon according to the content of the processing recipe described in the recipe file.
  • a third invention of the present application is the recipe display device according to the second invention, wherein the image display unit includes a substrate icon indicating a substrate and a plurality of supply pipes indicating a plurality of liquid supply pipes for supplying a processing liquid to the substrate.
  • a fourth invention of the present application is the recipe display device according to the third invention, wherein the content reflecting unit is capable of executing a simulation display for changing the plurality of icons over time according to the content of the processing recipe. is there.
  • a fifth invention of the present application is the recipe display device of the second invention, wherein the image display unit displays a substrate icon indicating a substrate and a nozzle icon indicating a nozzle for discharging a processing liquid onto the substrate. Displayed above, the content reflecting unit changes the position of the nozzle icon with respect to the substrate icon according to the content of the processing recipe described in the recipe file.
  • a sixth invention of the present application is the recipe display device according to any one of the first invention to the fifth invention, wherein the image includes a graphic corresponding to a plurality of setting items in the processing recipe, and The reflection unit changes the position and length of the figure in the time axis direction according to the numerical value related to the operation timing described in the recipe file.
  • a seventh invention of the present application is the recipe display device according to any one of the first invention to the sixth invention, wherein the content reflecting unit displays a numerical value or a character string relating to the setting item in the recipe file, It is described together with the image corresponding to the setting item.
  • the eighth invention of the present application is the recipe display device according to any one of the first invention to the seventh invention, further comprising: an editing processing unit that edits the recipe file based on a user operation.
  • the user's operation includes, on the screen on which the plurality of images are displayed, an operation of designating the image and an operation of inputting a numerical value, and the editing processing unit corresponds to the image designated in the operation.
  • the numerical value input by the operation is applied to an item in the recipe file relating to the hardware element to be executed.
  • the ninth invention of the present application is the recipe display device of the eighth invention, wherein the content reflecting unit changes the image immediately according to the update of the numerical value by the editing processing unit.
  • a tenth invention of the present application is the recipe display device according to any one of the first invention to the ninth invention, further comprising an input unit for receiving a selection of a plurality of display modes, The plurality of images are displayed on the screen in a mode according to the display mode selected by the unit.
  • An eleventh invention of the present application is the recipe display device according to any one of the first invention to the tenth invention, wherein the image display unit includes a plurality of steps of the processing recipe described in the recipe file. Only the images corresponding to some of the steps specified by the user are displayed on the screen.
  • a twelfth invention of the present application is the recipe display device according to the second invention, wherein the image display unit is configured to display a part of a plurality of hardware elements of the substrate processing apparatus specified by a user. Only corresponding images are displayed on the screen.
  • a thirteenth invention of the present application is a recipe display method for displaying, on a screen, processing recipes indicating the contents of a plurality of processings to be sequentially executed in the substrate processing apparatus, wherein a) a recipe file in which the contents of the processing recipes are described B) displaying a plurality of images corresponding to a plurality of hardware elements of the substrate processing apparatus on the screen; and c) displaying the processing recipe described in the recipe file. Responsively changing each of the plurality of images.
  • a fourteenth invention of the present application is a recipe display program for displaying, on a screen, a processing recipe indicating the contents of a plurality of processings to be sequentially executed in the substrate processing apparatus.
  • a plurality of images corresponding to a plurality of setting items in a processing recipe are individually changed according to the contents of the processing recipe.
  • the contents of the processing recipe can be easily grasped visually.
  • the correspondence between hardware elements and images can be easily grasped by using icons.
  • the icon is changed according to the content of the processing recipe. Thereby, the contents of the processing recipe can be grasped more easily.
  • the liquid supply path and the liquid discharge path specified in the processing recipe can be easily grasped visually.
  • the position of the nozzle specified in the processing recipe can be easily grasped visually.
  • the operation timing of each setting item described in the recipe file can be easily grasped visually.
  • an accurate numerical value or character string described in the recipe file can be easily grasped for each setting item.
  • the eighth and ninth aspects of the present invention it is possible to edit a recipe file while visually grasping the contents of a processing recipe. Therefore, the editing operation of the recipe file can be performed efficiently. In addition, it is possible to reduce mistakes in editing the recipe file.
  • the eleventh invention and the twelfth invention of the present application only the information necessary for the user can be displayed on the screen. Thereby, the amount of information displayed on the screen can be suppressed. As a result, the processing recipe can be grasped more easily.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a liquid supply unit connected to a nozzle head.
  • FIG. 3 is a block diagram illustrating a connection between a computer and each unit in a processing unit.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating an example of description contents of a recipe file.
  • FIG. 3 is a block diagram conceptually showing functions of a computer for displaying and editing a processing recipe. It is the flowchart which showed the flow of the display and edit processing of a processing recipe.
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of a recipe chart display.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a scan position display.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a chamber image display.
  • FIG. 1 is a plan view of a substrate processing apparatus 100 according to one embodiment of the present invention.
  • the substrate processing apparatus 100 is an apparatus for processing a surface of a substrate W by supplying a processing liquid to the surface of a disk-shaped substrate W (silicon wafer) in a semiconductor wafer manufacturing process.
  • the substrate processing apparatus 100 includes an indexer 101, a plurality of processing units 102, and a main transfer robot 103.
  • the indexer 101 is a part for carrying in the unprocessed substrate W from the outside and unloading the processed substrate W to the outside.
  • a plurality of carriers accommodating a plurality of substrates W are arranged.
  • the indexer 101 has a transfer robot not shown.
  • the transfer robot transfers the substrate W between the carrier in the indexer 101 and the processing unit 102 or the main transfer robot 103.
  • the carrier includes, for example, a well-known FOUP (front opening unified pod) or SMIF (Standard Mechanical Inter Face) pod that stores the substrate W in a closed space, or an OC (open cassette) in which the storage substrate W is in contact with the outside air. Used.
  • the processing unit 102 is a so-called sheet-type processing unit that processes the substrates W one by one.
  • the plurality of processing units 102 are arranged around the main transfer robot 103.
  • four processing units 102 arranged around the main transfer robot 103 are stacked in three levels in the height direction. That is, the substrate processing apparatus 100 of the present embodiment has a total of twelve processing units 102.
  • the plurality of substrates W are processed in each processing unit 102 in parallel.
  • the number of processing units 102 included in the substrate processing apparatus 100 is not limited to 12, and may be, for example, 24, 8, 4, 1, or the like.
  • the main transfer robot 103 is a mechanism for transferring the substrate W between the indexer 101 and the plurality of processing units 102.
  • the main transfer robot 103 has, for example, a hand that holds the substrate W and an arm that moves the hand.
  • the main transfer robot 103 takes out the unprocessed substrate W from the indexer 101 and transfers it to the processing unit 102.
  • the main transport robot 103 takes out the processed substrate W from the processing unit 102 and transports it to the indexer 101.
  • FIG. 2 is a plan view of the processing unit 102.
  • FIG. FIG. 3 is a vertical sectional view of the processing unit 102.
  • the processing unit 102 includes a chamber 10, a substrate holding unit 20, a rotating mechanism 30, a processing liquid supply unit 40, a processing liquid collecting unit 50, a blocking plate 60, and a computer 70. I have.
  • the chamber 10 is a housing that includes a processing space 11 for processing the substrate W.
  • the chamber 10 has a side wall 12 surrounding the side of the processing space 11, a top plate 13 covering an upper part of the processing space 11, and a bottom plate 14 covering a lower part of the processing space 11.
  • the substrate holding unit 20, the rotation mechanism 30, the processing liquid supply unit 40, the processing liquid collecting unit 50, and the blocking plate 60 are housed inside the chamber 10.
  • a portion of the side wall 12 is provided with a loading / unloading port for loading / unloading the substrate W into / from the chamber 10 and a shutter for opening / closing the loading / unloading port (both are shown). Omitted).
  • a fan filter unit (FFU) 15 is provided on the top plate 13 of the chamber 10.
  • the fan filter unit 15 includes a dust collection filter such as a HEPA filter and a fan that generates an airflow.
  • a dust collection filter such as a HEPA filter
  • a fan that generates an airflow.
  • the exhaust duct 16 is connected to a part of the lower part of the side wall 12.
  • the air supplied from the fan filter unit 15 forms a downflow inside the chamber 10 and then is discharged to the outside of the chamber 10 through the exhaust duct 16.
  • the substrate holding unit 20 is a mechanism that holds the substrate W horizontally (in a posture in which a normal line is directed vertically) inside the chamber 10. As shown in FIGS. 2 and 3, the substrate holding unit 20 has a disk-shaped spin base 21 and a plurality of chuck pins 22. The plurality of chuck pins 22 are provided at equal angular intervals along the outer periphery of the upper surface of the spin base 21. The substrate W is held by the plurality of chuck pins 22 with the surface on which the pattern is to be formed facing upward. Each of the chuck pins 22 contacts the lower surface and the outer peripheral end surface of the peripheral portion of the substrate W, and supports the substrate W at a position above the upper surface of the spin base 21 via a small gap.
  • a chuck pin switching mechanism 23 for switching the positions of the plurality of chuck pins 22 is provided inside the spin base 21.
  • the chuck pin switching mechanism 23 switches the plurality of chuck pins 22 between a holding position for holding the substrate W and a release position for releasing the holding of the substrate W.
  • the rotation mechanism 30 is a mechanism for rotating the substrate holding unit 20.
  • the rotation mechanism 30 is housed inside a motor cover 31 provided below the spin base 21. As shown by a broken line in FIG. 3, the rotation mechanism 30 has a spin motor 32 and a support shaft 33.
  • the support shaft 33 extends vertically and has a lower end connected to the spin motor 32 and an upper end fixed to the center of the lower surface of the spin base 21.
  • the spin motor 32 is driven, the support shaft 33 rotates around its axis 330. Then, together with the support shaft 33, the substrate holding unit 20 and the substrate W held by the substrate holding unit 20 also rotate about the axis 330.
  • the processing liquid supply unit 40 is a mechanism for supplying a processing liquid to the upper surface of the substrate W held by the substrate holding unit 20. As shown in FIGS. 2 and 3, the processing liquid supply unit 40 has three upper nozzles 41 and one lower nozzle 42.
  • the three top nozzles 41 each include a nozzle arm 411, a nozzle head 412 provided at the tip of the nozzle arm 411, and a nozzle motor 413.
  • Each nozzle arm 411 is individually rotated in the horizontal direction around the base end of each nozzle arm 411 as shown by an arrow in FIG. Thereby, each nozzle head 412 can be moved between the processing position above the substrate W held by the substrate holding unit 20 and the retreat position outside the processing liquid collecting unit 50.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating an example of the liquid supply unit 43 connected to the nozzle head 412.
  • the liquid supply section 43 has a liquid supply pipe 431.
  • the upstream end of the liquid supply pipe 431 is connected to the flow path of the processing liquid supply source 432.
  • the downstream end of the liquid supply pipe 431 is connected to the nozzle head 412 in a flow path.
  • a valve 433 is inserted in the middle of the path of the liquid supply pipe 431.
  • the processing liquid is supplied from the processing liquid supply source 432 to the nozzle head 412 through the liquid supply pipe 431. Then, the processing liquid is discharged from the nozzle head 412 toward the upper surface of the substrate W held by the substrate holding unit 20.
  • #A plurality of liquid supply units 43 are connected to the three nozzle heads 412, respectively.
  • Each liquid supply unit supplies a different type of processing liquid.
  • the treatment liquid include ozone water, DHF treatment liquid (dilute hydrofluoric acid), SC-1 treatment liquid (a mixture of ammonia water, hydrogen peroxide water and pure water), and SC-2 treatment liquid (hydrochloric acid, peroxide).
  • Chemical solutions such as a mixed solution of hydrogen water and pure water) and an SPM treatment solution (a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution) and pure water (deionized water) can be given.
  • Some of the three nozzle heads 412 mix the processing liquid and the pressurized gas to generate droplets, and eject a mixed fluid of the droplets and the gas to the substrate W.
  • the number of upper surface nozzles 41 provided in the processing unit 102 is not limited to three, but may be one, two, or four or more.
  • the lower surface nozzle 42 is arranged inside a through hole provided at the center of the spin base 21.
  • the discharge port of the lower surface nozzle 42 faces the lower surface of the substrate W held by the substrate holding unit 20.
  • the lower nozzle 42 is also connected to a liquid supply unit for supplying the processing liquid. When the processing liquid is supplied from the liquid supply unit to the lower nozzle 42, the processing liquid is discharged from the lower nozzle 42 toward the lower surface of the substrate W.
  • the processing liquid collecting unit 50 is a part that collects the used processing liquid. As shown in FIG. 3, the processing liquid collecting unit 50 has an inner cup 51, a middle cup 52, and an outer cup 53. The inner cup 51, the middle cup 52, and the outer cup 53 can move up and down independently of each other by a lifting mechanism (not shown).
  • the inner cup 51 has an annular first guide plate 510 surrounding the periphery of the substrate holding unit 20.
  • the middle cup 52 has an annular second guide plate 520 located outside and above the first guide plate 510.
  • the outer cup 53 has an annular third guide plate 530 located outside and above the second guide plate 520.
  • the bottom of the inner cup 51 extends to below the middle cup 52 and the outer cup 53.
  • a first drain groove 511, a second drain groove 512, and a third drain groove 513 are provided on the upper surface of the bottom in this order from the inside.
  • a drain pipe 54 is connected to each drain groove 511, 512, 513. The downstream ends of the three drainage pipes 54 are connected to different tanks.
  • the processing liquid discharged from each of the nozzles 41 and 42 of the processing liquid supply unit 40 is supplied to the substrate W, and then scatters outward by centrifugal force generated by the rotation of the substrate W. Then, the processing liquid scattered from the substrate W is collected on any of the first guide plate 510, the second guide plate 520, and the third guide plate 530.
  • the processing liquid collected by the first guide plate 510 is discharged to the outside of the processing unit 102 through the first drain groove 511 and the drain pipe 54 connected to the first drain groove 511.
  • the processing liquid collected by the second guide plate 520 is discharged to the outside of the processing unit 102 through the second drain groove 512 and the drain pipe 54 connected to the second drain groove 512.
  • the processing liquid collected by the third guide plate 530 is discharged to the outside of the processing unit 102 through the third drain groove 513 and the drain pipe 54 connected to the third drain groove 513.
  • the processing unit 102 has a plurality of processing liquid discharge paths. For this reason, the processing liquid supplied to the substrate W can be separated and collected for each type. Therefore, disposal and regeneration of the collected processing liquids can be performed separately according to the properties of each processing liquid.
  • the blocking plate 60 is a member for suppressing gas diffusion near the surface of the substrate W when performing some processing such as drying processing.
  • the blocking plate 60 has a disk-shaped outer shape, and is disposed horizontally above the substrate holding unit 20. As shown in FIG. 3, the blocking plate 60 is connected to an elevating mechanism 61. When the elevating mechanism 61 is operated, the blocking plate 60 is moved between an upper position farther away from the upper surface of the substrate W held by the substrate holding unit 20 and a lower position closer to the upper surface of the substrate W than the upper position. And move up and down.
  • the elevating mechanism 61 for example, a mechanism that converts a rotational motion of a motor into a linear motion using a ball screw is used.
  • an outlet 62 for blowing out a drying gas (hereinafter referred to as “dry gas”) is provided.
  • the outlet 62 is connected to an air supply unit (not shown) for supplying a dry gas.
  • the dry gas for example, heated nitrogen gas is used.
  • the blocking plate 60 retreats to the upper position.
  • the elevating mechanism 61 lowers the blocking plate 60 to the lower position. Then, dry gas is blown from the outlet 62 toward the upper surface of the substrate W. At this time, the space near the upper surface of the substrate W is protected by the dry gas by the blocking plate 60. As a result, the drying performance on the upper surface of the substrate W is improved, and the occurrence of processing defects can be suppressed.
  • the computer 70 has a function as a control unit that controls the operation of each unit in the processing unit 102, and a function as a recipe display device that displays a processing recipe described later.
  • FIG. 5 is a block diagram showing a connection between the computer 70 and each unit in the processing unit 102.
  • the computer 70 includes a processor 701 such as a CPU, a memory 702 such as a RAM, and a storage unit 703 such as a hard disk drive.
  • a control program P1, a recipe display program P2, and a recipe file R are stored.
  • the control program P1 is a computer program for controlling the operation of each unit in the processing unit 102.
  • the recipe display program P2 is a computer program for displaying and editing a processing recipe described later.
  • the control program P1 and the recipe display program P2 are, for example, read from the storage medium M in which these programs P1 and P2 are stored, and stored in the storage unit 703 of the computer 70. Examples of the storage medium M include a CD-ROM, a DVD-ROM, and a flash memory.
  • the control program P1 and the recipe display program P2 may be input to the computer 70 via a network.
  • the recipe file R is a data file in which processing recipes indicating the contents and order of a plurality of processes sequentially executed in the processing unit 102 are described in a predetermined format.
  • FIG. 6 is a diagram showing an example of the description contents of the recipe file R. As shown in FIG. 6, in the recipe file R, numbers (function numbers) indicating respective units in the processing unit 102 are described in the order of operation, and parameters relating to operation of each unit are described for each processing step. Have been.
  • the recipe file R is created and edited according to the specifications of the substrate W to be processed, and stored in the storage unit 703. The creation and editing of the recipe file R may be performed by the computer 70 or may be performed by another computer.
  • the computer 70 includes the fan filter unit 15, the chuck pin switching mechanism 23, the spin motor 32, the nozzle motor 413, the valve 433, the lifting / lowering mechanism of the processing liquid collection unit 50, and the The lifting mechanism 61 is communicably connected by wire or wirelessly.
  • the computer 70 temporarily reads out the control program P1 and the recipe file R stored in the storage unit 703 to the memory 702, and controls the operations of the above-described units based on the control program P1 and the recipe file R. As a result, a series of processing on the substrate W proceeds.
  • the computer 70 has a display 704 and an input unit 705.
  • the display 704 is a device for displaying various information related to processing of the substrate W on a screen.
  • the contents of the processing recipe described in the recipe file R can be displayed on the screen of the display 704 in a manner that is easy to grasp visually.
  • the display 704 for example, a liquid crystal display or an organic EL display is used.
  • the input unit 705 is a device for receiving a user's operation input.
  • a keyboard or a mouse is used. The user of the substrate processing apparatus 100 can input various information to the computer 70 by operating the input unit 705 while checking the screen of the display 704.
  • the function of the display 704 and the function of the input unit 705 may be realized by a single device such as a touch panel display.
  • FIG. 7 is a block diagram conceptually showing the functions of the computer 70 for displaying and editing the processing recipe.
  • the computer 70 has a recipe storage unit 71, an image display unit 72, a content reflection unit 73, and an edit processing unit 74. The functions of these units are realized by the operation of the computer 70 according to the recipe display program P2.
  • the recipe storage unit 71 stores the recipe file R input to the computer 70.
  • the function of the recipe storage unit 71 is realized by, for example, the storage unit 703 described above.
  • the image display unit 72 displays a plurality of images corresponding to a plurality of setting items in the processing recipe on a screen of the display 704.
  • the content reflecting unit 73 changes a plurality of images displayed on the display 704 according to the content of the processing recipe described in the recipe file R.
  • the edit processing unit 74 changes the description in the recipe file R based on information input from the input unit 705 by a user operation.
  • FIG. 8 is a flowchart showing the flow of processing when displaying and editing a processing recipe.
  • a recipe file R indicating the contents of the processing recipe is input to the computer 70.
  • the recipe file R is stored in the recipe storage unit 71 of the computer 70 (Step S1).
  • the user operates the input unit 705 to select a desired display mode (step S2).
  • step S2 for example, one of the following recipe chart display, scan position display, and chamber image display can be selected.
  • the image display unit 72 displays a plurality of images corresponding to a plurality of setting items in the processing recipe on the screen of the display 704 according to the selected display mode.
  • the image display unit 72 displays, on the screen of the display 704, a plurality of images corresponding to the hardware elements that are the setting items in the processing recipe among the plurality of hardware elements included in the processing unit 102. It is displayed (step S3).
  • the content reflecting unit 73 reads the recipe file R from the recipe storage unit 71.
  • the content reflecting unit 73 individually changes the plurality of images according to the content of the processing recipe described in the recipe file R (Step S4). Specific display modes of steps S3 and S4 will be described later.
  • step S5 if the recipe file R needs to be edited (step S5: yes), the user operates the input unit 705 to perform the editing process (step S6).
  • the edit processing unit 74 changes a numerical value in the recipe file R based on information input from the input unit 705 by a user operation.
  • the content reflecting unit 73 changes the image displayed on the screen according to the numerical value in the edited recipe file R (Step S4).
  • the user can switch the display mode by operating the input unit 705 as necessary.
  • step S7: yes the process returns to step S2, and the display mode is selected again.
  • FIG. 9 is a diagram showing an example of “recipe chart display” which is one of the display modes of the processing recipe.
  • the recipe chart display shows the operation of each hardware element along the time axis, with the horizontal axis as the time axis.
  • the recipe chart display may have the vertical axis as the time axis.
  • the recipe chart display of FIG. 9 includes a rotation number display section 81, a nozzle display section 82, and a liquid supply display section 83.
  • the rotation number display section 81 is a part that indicates the rotation number of the substrate W by the rotation mechanism 30 along the time axis.
  • the rotation speed display section 81 includes a polygonal figure 811 indicating a change in the rotation speed of the substrate W.
  • the image display unit 72 of the computer 70 displays the polygonal line figure 811 on the rotation number display unit 81 as an image corresponding to the rotation mechanism 30 which is a hardware element included in the processing unit 102.
  • the content reflection unit 73 of the computer 70 changes the shape of the polygonal line figure 811 according to the content of the processing recipe described in the recipe file R. Specifically, the height position of the polygonal line figure 811 at each time is changed according to the numerical value described in the recipe file R.
  • the nozzle display unit 82 is a portion indicating along the time axis which of the three upper nozzles 41 of the processing liquid supply unit 40 is to be used.
  • the nozzle display unit 82 includes a band-shaped figure 821 indicating that each upper surface nozzle 41 is arranged at the processing position.
  • the image display section 72 of the computer 70 displays the band-shaped figure 821 on the nozzle display section 82 as an element corresponding to the upper surface nozzle 41 which is a hardware element of the processing unit 102.
  • the content reflection unit 73 of the computer 70 changes the position and length of the band-shaped figure 821 according to the content of the processing recipe described in the recipe file R. Specifically, the position of the band-shaped figure 821 in the time axis direction and the length of the band-shaped figure 821 in the time axis direction are changed according to the numerical value described in the recipe file R.
  • the liquid supply display section 83 is a portion showing the supply timing of each processing liquid along the time axis.
  • the liquid supply display section 83 includes a band-shaped figure 831 indicating that each processing liquid is supplied.
  • the image display section 72 of the computer 70 displays the band-shaped figure 831 on the liquid supply display section 83 as an element corresponding to the liquid supply section 43 which is a hardware element of the processing unit 102.
  • the content reflecting unit 73 of the computer 70 changes the position and length of the band-shaped figure 831 according to the content of the processing recipe described in the recipe file R. Specifically, the position of the band-shaped figure 831 in the time axis direction and the length of the band-shaped figure 831 in the time axis direction are changed according to the numerical value described in the recipe file R.
  • a plurality of images (a polygonal line figure 811, a plurality of band-shaped figures 821, and a plurality of band-shaped figures 831) corresponding to a plurality of hardware elements of the processing unit 102 are added to the contents of the processing recipe. It changes individually according to. Thereby, the user can easily grasp the contents of the processing recipe visually. In particular, according to the recipe chart display, the user can easily and visually grasp the operation timing of each hardware element along the time axis. Further, in the recipe chart display of the present embodiment, a common time axis is used for the rotation speed display section 81, the nozzle display section 82, and the liquid supply display section 83. For this reason, the user can easily grasp the mutual timing of the rotation speed of the substrate W, the position of each upper surface nozzle 41, and the supply of each processing liquid.
  • the polygonal line figure 811, the band-shaped figure 821, and the band-shaped figure 831 also include a numerical value or a character string in the recipe file R relating to the hardware element corresponding to the figure.
  • This numerical value or character string is displayed by the content reflecting unit 73 of the computer 70.
  • the numerical value or character string is displayed so as to overlap each figure or around the figure. In this way, the user can easily grasp the exact numerical value or character string described in the recipe file R for each hardware element.
  • the recipe file R can be edited on the recipe chart display screen.
  • the user operates the input unit 705 to specify the polygonal figure 811, the band-shaped figure 821, or the band-shaped figure 831.
  • a desired numerical value is input by operating the input unit 705.
  • the editing processing unit 74 of the computer 70 applies the input numerical value to the setting items in the recipe file R relating to the hardware element corresponding to the designated graphic.
  • the content reflecting unit 73 immediately changes each of the figures 811, 821, and 831 in accordance with the update of the numerical value.
  • the recipe chart display of the present embodiment includes three display units: a rotation speed display unit 81, a nozzle display unit 82, and a liquid supply display unit 83.
  • the display section included in the recipe chart display may be a part of these.
  • the recipe chart display may include another display unit that indicates the operation of another hardware element.
  • a display unit indicating the position of each of the cups 51 to 53 of the processing liquid collecting unit 50 may be included in the recipe chart display.
  • FIG. 10 is a diagram showing an example of “scan position display” which is another one of the display modes of the processing recipe.
  • the position of the upper surface nozzle 41 with respect to the substrate W held by the substrate holding unit 20 is displayed as a dynamic image.
  • the scan position display in FIG. 10 includes a spin base icon 21i, a substrate icon Wi, and a nozzle icon 41i.
  • the image display unit 72 of the computer 70 displays a spin base icon 21i and a nozzle icon 41i on the screen of the display 704 as images corresponding to the spin base 21 and the upper nozzle 41, which are hardware elements of the processing unit 102. Further, the image display unit 72 of the computer 70 displays the board icon Wi on the screen of the display 704 as an image corresponding to the board W. Further, the content reflecting unit 73 of the computer 70 changes the position of the nozzle icon 41i with respect to the substrate icon Wi according to the content of the processing recipe described in the recipe file R.
  • the upper surface nozzle 41 may be disposed above the central portion of the substrate W, or may be disposed above the peripheral portion of the substrate W.
  • the upper surface nozzle 41 may be stationary above the substrate W, or may swing along the upper surface of the substrate W.
  • the content reflecting unit 73 of the computer 70 changes the position and movement of the nozzle icon 41i with respect to the board icon Wi according to the numerical value described in the recipe file R.
  • the image (nozzle icon 41i) corresponding to the hardware element of the processing unit 102 is changed according to the content of the processing recipe.
  • the user can easily grasp the contents of the processing recipe visually.
  • the user can easily and visually grasp the position of the upper surface nozzle 41 specified in the processing recipe.
  • the nozzle icon 41i is also dynamically displayed so as to swing right and left. Thereby, the user can easily grasp not only the position of the upper surface nozzle 41 but also the presence or absence of the swing of the upper surface nozzle 41.
  • numerical values relating to the position and movement of the upper nozzle 41 are also written near the nozzle icon 41i.
  • This numerical value is displayed by the content reflecting unit 73 of the computer 70.
  • the numerical value may be displayed so as to overlap with the nozzle icon 41i, or may be displayed around the nozzle icon 41i. In this way, the user can easily grasp an accurate numerical value related to the position and the movement of the upper surface nozzle 41.
  • the recipe file R can be edited on the scan position display screen.
  • the user operates the input unit 705 to specify the nozzle icon 41i.
  • a desired numerical value is input by operating the input unit 705.
  • the editing processing unit 74 of the computer 70 applies the input numerical value to the setting items in the recipe file R regarding the position and movement of the upper surface nozzle 41.
  • the content reflecting unit 73 immediately changes the position and the movement of the nozzle icon 41i according to the update of the numerical value.
  • FIG. 11 is a diagram showing an example of “chamber image display” which is another one of the display modes of the processing recipe.
  • the supply of the processing liquid to the substrate W and the discharge of the processing liquid are displayed as dynamic images.
  • the chamber image display of FIG. 11 includes a spin base icon 21i, a substrate icon Wi, an inner cup icon 51i, a middle cup icon 52i, an outer cup icon 53i, a plurality of liquid supply icons 431i, and a plurality of drainage icons 54i.
  • the image display unit 72 of the computer 70 includes the spin base 21, the inner cup 51, the middle cup 52, the outer cup 53, the plurality of liquid supply pipes 431, and the plurality of drain pipes 54, which are hardware elements of the processing unit 102.
  • These icons 21i, 51i, 52i, 53i, 431i, and 54i are displayed on the screen of the display 704 as corresponding images.
  • the image display unit 72 of the computer 70 displays the board icon Wi on the screen of the display 704 as an image corresponding to the board W.
  • the content reflection unit 73 of the computer 70 for each processing step, according to the content of the processing recipe described in the recipe file R, the inner cup icon 51i, the middle cup icon 52i, the outer cup icon 53i, a plurality of liquid supply The icon 431i and the plurality of drainage icons 54i are individually changed.
  • the liquid supply icon 431i corresponding to the liquid supply pipe 431 to which the processing liquid is supplied in the process is highlighted by coloring, bolding, blinking, and the like.
  • the icon corresponding to the cup for collecting the processing liquid in the process is highlighted by coloring, bolding, blinking, and the like.
  • the drainage icon 54i corresponding to the drainage pipe 54 from which the processing liquid is discharged in the process among the plurality of drainage pipes 54 is highlighted by coloring, bolding, blinking, and the like.
  • a plurality of images (the inner cup icon 51i, the middle cup icon 52i, the outer cup icon 53i, the plurality of liquid supply icons 431i, and the plurality of images corresponding to the plurality of hardware elements of the processing unit 102) are displayed.
  • the user can easily grasp the contents of the processing recipe visually.
  • the liquid supply path and the liquid discharge path of each process specified in the processing recipe can be easily grasped visually.
  • an image corresponding to each hardware element is displayed as an icon that schematically shows the appearance of the hardware element. Therefore, the user can easily grasp the correspondence between the hardware element and the image.
  • a simulation display in which a plurality of icons are dynamically changed according to the contents of the processing recipe described in the recipe file R can be executed.
  • the above-described displays in a plurality of processes are sequentially displayed in the order of the processes over time.
  • the user can easily determine in what order the plurality of processing liquids are supplied and in what steps the processing liquid is discharged in each process as a change with time. You can figure out.
  • the spin base icon 21i, the liquid supply icon 431i, and the drainage icon 54i are accompanied by a numerical value or a character string in the recipe file R regarding the hardware element corresponding to the icon.
  • This numerical value or character string is displayed by the content reflecting unit 73 of the computer 70.
  • the numerical value or character string is displayed so as to overlap each icon or around the icon. In this way, the user can easily grasp the exact numerical value or character string described in the recipe file R for each hardware element.
  • the recipe file R can be edited on the screen for displaying the chamber image.
  • the user operates the input unit 705 so that the spin base icon 21i, the inner cup icon 51i, the middle cup icon 52i, the outer cup icon 53i, the liquid supply icon 431i, or The drain icon 54i is designated.
  • a desired numerical value is input by operating the input unit 705.
  • the editing processing unit 74 of the computer 70 applies the input numerical value to the setting items in the recipe file R relating to the hardware element corresponding to the specified icon.
  • the content reflecting unit 73 immediately changes the icons 21i, 431i, and 54i according to the update of the numerical value.
  • the chamber image display of the present embodiment includes a spin base icon 21i, a substrate icon Wi, an inner cup icon 51i, a middle cup icon 52i, an outer cup icon 53i, a plurality of liquid supply icons 431i, and a plurality of drainage icons 54i. Included.
  • the icons included in the chamber image display may be some of them.
  • the chamber image display may include other icons corresponding to other hardware elements. For example, an icon corresponding to the blocking plate 60 may be included in the chamber image display.
  • the graphic or icon corresponding to the hardware element of the processing unit 102 is changed according to the content of the processing recipe.
  • a decoration graphic for example, a border graphic for highlighting
  • the “change of image” in the present invention includes the case of changing such a modification graphic.
  • the image display unit 72 may display, on the screen of the display 704, only an image corresponding to a part of the processes specified by the user among the plurality of processes of the processing recipe described in the recipe file R. .
  • the user may operate the input unit 705 to specify a process to be displayed among a plurality of processes of the processing recipe. In this way, only the information necessary for the user can be displayed on the screen of the display 704. Thereby, the amount of information displayed on the screen can be suppressed. As a result, the processing recipe can be grasped more easily.
  • the image display unit 72 may display, on the screen of the display 704, only an image corresponding to some of the hardware elements specified by the user among the plurality of hardware elements included in the processing unit 102.
  • the user may operate the input unit 705 to input a hardware element to be displayed as an image to the computer 70.
  • the input unit 705 may input a hardware element to be displayed as an image to the computer 70.
  • the amount of information displayed on the screen can be suppressed.
  • the processing recipe can be grasped more easily.
  • the computer 70 alternatively displays a plurality of display modes on the screen of the display 704.
  • the computer 70 may simultaneously display two or more display modes on the screen of the display 704.
  • the computer 70 may have another display mode in addition to the above-described recipe chart display, scan position display, and chamber image display. Further, the computer 70 may further have a display mode for displaying the description content of the recipe file R as shown in FIG. 6 on the screen of the display 704 as it is.
  • the computer 70 of the substrate processing apparatus 100 functions as a recipe display device that displays a processing recipe on a screen.
  • the creation and editing of the recipe file R may be performed on a computer different from the substrate processing apparatus 100 in some cases.
  • a computer different from the substrate processing apparatus 100 may display the processing recipe on the screen as in the above-described embodiment.
  • the substrate W to be processed is a silicon wafer for semiconductor.
  • the substrate to be processed in the substrate processing apparatus is not limited to a silicon wafer, but a glass substrate for a flat panel display such as a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a solar cell, and the like.
  • the substrate for other precision electronic devices may be used.
  • the shape of the details of the substrate processing apparatus may be different from the shape shown in each drawing of the present application.
  • the elements appearing in the above-described embodiments and the modified examples may be appropriately combined as long as no contradiction occurs.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • General Factory Administration (AREA)

Abstract

処理レシピの内容を視覚的に容易に把握できるレシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラムを提供する。レシピ表示装置は、レシピ記憶部（７１）と、画像表示部（７２）と、内容反映部（７３）とを備える。レシピ記憶部（７１）は、処理レシピの内容が記述されたレシピファイル（Ｒ）を記憶する。画像表示部（７２）は、処理レシピ中の複数の設定項目に対応する複数の画像を、ディスプレイ（７０４）の画面に表示する。内容反映部（７３）は、レシピファイル（Ｒ）に記述された処理レシピの内容に応じて、複数の画像のそれぞれを変化させる。これにより、処理レシピの内容を、視覚的に容易に把握できる。

Description

レシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラム
　本発明は、基板処理装置において順次に実行される複数の処理の内容を示す処理レシピを画面に表示するレシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラムに関する。
　従来、半導体ウェハの製造工程においては、基板に対して種々の処理を行う基板処理装置が用いられる。基板処理装置は、チャンバの内部において基板を保持しつつ、当該基板に対して、フォトレジスト液、エッチング液、洗浄液、純水等の処理液を供給する。この種の基板処理装置は、順次に実行される複数の処理の内容および順序を示す「処理レシピ」と称されるデータに従って動作する。処理レシピに従って動作する従来の基板処理装置については、例えば、特許文献１に記載されている。
特開２００２－２３６５１４号公報
　基板処理装置の制御を行うコンピュータには、処理レシピの内容を示すレシピファイルが、予め入力される。基板処理装置のユーザは、コンピュータの画面にレシピファイルを表示し、必要に応じて、レシピファイルを編集することができる。しかしながら、レシピファイルは、基板処理装置内の各部を示す番号、各部の動作態様を示す番号、各部の動作に関するパラメータなどの数字が、羅列的に記述されたものである。このため、レシピファイルをそのまま画面に表示しても、処理レシピの内容を感覚的に把握することは難しい。また、レシピデータの編集作業において、入力ミスが発生しやすい。
　特に、近年では、基板処理装置の処理レシピが、ますます複雑化している。このため、レシピファイルに記述された処理レシピの内容を、容易に把握できる技術が求められている。
　本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、処理レシピの内容を視覚的に容易に把握できるレシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラムを提供することを目的とする。
　上記課題を解決するため、本願の第１発明は、基板処理装置において順次に実行される複数の処理の内容を示す処理レシピを画面に表示するレシピ表示装置であって、前記処理レシピの内容が記述されたレシピファイルを記憶するレシピ記憶部と、前記処理レシピ中の複数の設定項目に対応する複数の画像を、前記画面に表示する画像表示部と、前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記複数の画像のそれぞれを変化させる内容反映部と、を備える。
　本願の第２発明は、第１発明のレシピ表示装置であって、前記複数の画像は、前記基板処理装置の複数のハードウェア要素のうち、前記設定項目に対応するハードウェア要素の外観を模式的に示した複数のアイコンを含み、前記内容反映部は、前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記アイコンを変化させる。
　本願の第３発明は、第２発明のレシピ表示装置であって、前記画像表示部は、基板を示す基板アイコンと、基板に対して処理液を供給する複数の給液配管を示す複数の給液アイコンと、基板の周囲から処理液を排出する複数の排液配管を示す複数の排液アイコンと、を画面上に表示し、前記内容反映部は、前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記複数の給液アイコンの少なくとも１つと、前記複数の排液アイコンの少なくとも１つとを、強調表示する。
　本願の第４発明は、第３発明のレシピ表示装置であって、前記内容反映部は、前記処理レシピの内容に応じて、前記複数のアイコンを時間の経過とともに変化させるシミュレーション表示を実行可能である。
　本願の第５発明は、第２発明のレシピ表示装置であって、前記画像表示部は、基板を示す基板アイコンと、前記基板に対して処理液を吐出するノズルを示すノズルアイコンと、を画面上に表示し、前記内容反映部は、前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記基板アイコンに対する前記ノズルアイコンの位置を変化させる。
　本願の第６発明は、第１発明から第５発明までのいずれか１発明のレシピ表示装置であって、前記画像は、前記処理レシピ中の複数の設定項目に対応する図形を含み、前記内容反映部は、前記レシピファイルに記述された動作タイミングに関する数値に応じて、前記図形の時間軸方向の位置および長さを変化させる。
　本願の第７発明は、第１発明から第６発明までのいずれか１発明のレシピ表示装置であって、前記内容反映部は、前記レシピファイル中の前記設定項目に関する数値または文字列を、前記設定項目に対応する前記画像に併記する。
　本願の第８発明は、第１発明から第７発明までのいずれか１発明のレシピ表示装置であって、ユーザの操作に基づいて前記レシピファイルを編集する編集処理部と、をさらに備え、前記ユーザの操作は、前記複数の画像が表示された前記画面において、前記画像を指定する操作と、数値を入力する操作とを含み、前記編集処理部は、前記操作において指定された前記画像に対応する前記ハードウェア要素に関する前記レシピファイル中の項目に対して、前記操作により入力された数値を適用する。
　本願の第９発明は、第８発明のレシピ表示装置であって、前記内容反映部は、前記編集処理部による前記数値の更新に応じて、前記画像を即時に変化させる。
　本願の第１０発明は、第１発明から第９発明までのいずれか１発明のレシピ表示装置であって、複数の表示モードの選択を受け付ける入力部をさらに備え、前記画像表示部は、前記入力部において選択された表示モードに応じた態様で、前記複数の画像を、前記画面に表示する。
　本願の第１１発明は、第１発明から第１０発明までのいずれか１発明のレシピ表示装置であって、前記画像表示部は、前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの複数の工程のうち、ユーザにより指定された一部の工程に対応する画像のみを、前記画面に表示する。
　本願の第１２発明は、第２発明のレシピ表示装置であって、前記画像表示部は、前記基板処理装置が有する複数のハードウェア要素のうち、ユーザにより指定された一部のハードウェア要素に対応する画像のみを、前記画面に表示する。
　本願の第１３発明は、基板処理装置において順次に実行される複数の処理の内容を示す処理レシピを画面に表示するレシピ表示方法であって、ａ）前記処理レシピの内容が記述されたレシピファイルを記憶する工程と、ｂ）前記基板処理装置が有する複数のハードウェア要素に対応する複数の画像を、前記画面に表示する工程と、ｃ）前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記複数の画像のそれぞれを変化させる工程と、を有する。
　本願の第１４発明は、基板処理装置において順次に実行される複数の処理の内容を示す処理レシピを画面に表示するためのレシピ表示プログラムであって、コンピュータに、ａ）前記処理レシピの内容が記述されたレシピファイルを記憶する処理と、ｂ）前記基板処理装置が有する複数のハードウェア要素に対応する複数の画像を、前記画面に表示する処理と、ｃ）前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記複数の画像のそれぞれを変化させる処理と、を実行させる。
　本願の第１発明～第１４発明によれば、処理レシピ中の複数の設定項目に対応する複数の画像を、処理レシピの内容に応じて個別に変化させる。これにより、処理レシピの内容を、視覚的に容易に把握できる。
　特に、本願の第２発明によれば、アイコンを用いることにより、ハードウェア要素と画像との対応関係を容易に把握できる。また、処理レシピの内容に応じて、アイコンを変化させる。これにより、処理レシピの内容を、より容易に把握できる。
　特に、本願の第３発明によれば、処理レシピにおいて指定される給液経路および排液経路を、視覚的に容易に把握できる。
　特に、本願の第４発明によれば、複数の処理の経時変化を、視覚的に容易に把握できる。
　特に、本願の第５発明によれば、処理レシピにおいて指定されるノズルの位置を、視覚的に容易に把握できる。
　特に、本願の第６発明によれば、レシピファイルに記述された各設定項目の動作タイミングを、視覚的に容易に把握できる。
　特に、本願の第７発明によれば、レシピファイルに記述された正確な数値または文字列を、設定項目ごとに容易に把握できる。
　特に、本願の第８発明および第９発明によれば、処理レシピの内容を視覚的に把握しながら、レシピファイルの編集作業を行うことができる。したがって、レシピファイルの編集作業を、効率よく行うことができる。また、レシピファイルの編集ミスを低減させることができる。
　特に、本願の第１１発明および第１２発明によれば、ユーザにとって必要な情報のみを、画面に表示することができる。これにより、画面に表示される情報量を抑えることができる。その結果、処理レシピをより容易に把握できる。
基板処理装置の平面図である。 処理ユニットの平面図である。 処理ユニットの縦断面図である。 ノズルヘッドに接続される給液部の一例を示した図である。 コンピュータと処理ユニット内の各部との接続を示したブロック図である。 レシピファイルの記述内容の例を示した図である。 処理レシピの表示および編集のためのコンピュータの機能を概念的に示したブロック図である。 処理レシピの表示および編集の処理の流れを示したフローチャートである。 レシピチャート表示の例を示した図である。 スキャンポジション表示の例を示した図である。 チャンバイメージ表示の例を示した図である。
　以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態について詳細に説明する。
　＜１．基板処理装置の全体構成＞
　図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置１００の平面図である。この基板処理装置１００は、半導体ウェハの製造工程において、円板状の基板Ｗ（シリコンウェハ）の表面に処理液を供給して、基板Ｗの表面を処理する装置である。図１に示すように、基板処理装置１００は、インデクサ１０１と、複数の処理ユニット１０２と、主搬送ロボット１０３とを備えている。
　インデクサ１０１は、処理前の基板Ｗを外部から搬入するとともに、処理後の基板Ｗを外部へ搬出するための部位である。インデクサ１０１には、複数の基板Ｗを収容するキャリアが、複数配置される。また、インデクサ１０１は、図示を省略した移送ロボットを有する。移送ロボットは、インデクサ１０１内のキャリアと、処理ユニット１０２または主搬送ロボット１０３との間で、基板Ｗを移送する。なお、キャリアには、例えば、基板Ｗを密閉空間に収納する公知のＦＯＵＰ(front opening unified pod)またはＳＭＩＦ(Standard Mechanical Inter Face)ポッド、或いは、収納基板Ｗが外気と接するＯＣ(open cassette)が用いられる。
　処理ユニット１０２は、基板Ｗを１枚ずつ処理する、いわゆる枚様式の処理部である。複数の処理ユニット１０２は、主搬送ロボット１０３の周囲に配置されている。本実施形態では、主搬送ロボット１０３の周囲に配置された４つの処理ユニット１０２が、高さ方向に３段に積層されている。すなわち、本実施形態の基板処理装置１００は、全部で１２台の処理ユニット１０２を有する。複数の基板Ｗは、各処理ユニット１０２において、並列に処理される。ただし、基板処理装置１００が備える処理ユニット１０２の数は、１２台に限定されるものではなく、例えば、２４第、８台、４台、１台などであってもよい。
　主搬送ロボット１０３は、インデクサ１０１と複数の処理ユニット１０２との間で、基板Ｗを搬送するための機構である。主搬送ロボット１０３は、例えば、基板Ｗを保持するハンドと、ハンドを移動させるアームとを有する。主搬送ロボット１０３は、インデクサ１０１から処理前の基板Ｗを取り出して、処理ユニット１０２へ搬送する。また、処理ユニット１０２における基板Ｗの処理が完了すると、主搬送ロボット１０３は、当該処理ユニット１０２から処理後の基板Ｗを取り出して、インデクサ１０１へ搬送する。
　＜２．処理ユニットの構成＞
　続いて、処理ユニット１０２の構成について説明する。以下では、基板処理装置１００が有する複数の処理ユニット１０２のうちの１つについて説明するが、他の処理ユニット１０２も同等の構成を有する。
　図２は、処理ユニット１０２の平面図である。図３は、処理ユニット１０２の縦断面図である。図２および図３に示すように、処理ユニット１０２は、チャンバ１０、基板保持部２０、回転機構３０、処理液供給部４０、処理液捕集部５０、遮断板６０、およびコンピュータ７０を備えている。
　チャンバ１０は、基板Ｗを処理するための処理空間１１を内包する筐体である。チャンバ１０は、処理空間１１の側部を取り囲む側壁１２と、処理空間１１の上部を覆う天板部１３と、処理空間１１の下部を覆う底板部１４と、を有する。基板保持部２０、回転機構３０、処理液供給部４０、処理液捕集部５０、および遮断板６０は、チャンバ１０の内部に収容される。側壁１２の一部には、チャンバ１０内への基板Ｗの搬入およびチャンバ１０から基板Ｗの搬出を行うための搬入出口と、搬入出口を開閉するシャッタとが、設けられている（いずれも図示省略）。
　図３に示すように、チャンバ１０の天板部１３には、ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）１５が設けられている。ファンフィルタユニット１５は、ＨＥＰＡフィルタ等の集塵フィルタと、気流を発生させるファンとを有する。ファンフィルタユニット１５を動作させると、基板処理装置１００が設置されるクリーンルーム内の空気が、ファンフィルタユニット１５に取り込まれ、集塵フィルタにより清浄化されて、チャンバ１０内の処理空間１１へ供給される。これにより、チャンバ１０内の処理空間１１に、清浄な空気のダウンフローが形成される。
　また、側壁１２の下部の一部には、排気ダクト１６が接続されている。ファンフィルタユニット１５から供給された空気は、チャンバ１０の内部においてダウンフローを形成した後、排気ダクト１６を通ってチャンバ１０の外部へ排出される。
　基板保持部２０は、チャンバ１０の内部において、基板Ｗを水平に（法線が鉛直方向を向く姿勢で）保持する機構である。図２および図３に示すように、基板保持部２０は、円板状のスピンベース２１と、複数のチャックピン２２とを有する。複数のチャックピン２２は、スピンベース２１の上面の外周部に沿って、等角度間隔で設けられている。基板Ｗは、パターンが形成される被処理面を上側に向けた状態で、複数のチャックピン２２に保持される。各チャックピン２２は、基板Ｗの周縁部の下面および外周端面に接触し、スピンベース２１の上面から僅かな空隙を介して上方の位置に、基板Ｗを支持する。
　スピンベース２１の内部には、複数のチャックピン２２の位置を切り替えるためのチャックピン切替機構２３が設けられている。チャックピン切替機構２３は、複数のチャックピン２２を、基板Ｗを保持する保持位置と、基板Ｗの保持を解除する解除位置と、の間で切り替える。
　回転機構３０は、基板保持部２０を回転させるための機構である。回転機構３０は、スピンベース２１の下方に設けられたモータカバー３１の内部に収容されている。図３中に破線で示したように、回転機構３０は、スピンモータ３２と支持軸３３とを有する。支持軸３３は、鉛直方向に延び、その下端部がスピンモータ３２に接続されるとともに、上端部がスピンベース２１の下面の中央に固定される。スピンモータ３２を駆動させると、支持軸３３がその軸芯３３０を中心として回転する。そして、支持軸３３とともに、基板保持部２０および基板保持部２０に保持された基板Ｗも、軸芯３３０を中心として回転する。
　処理液供給部４０は、基板保持部２０に保持された基板Ｗの上面に、処理液を供給する機構である。図２および図３に示すように、処理液供給部４０は、３つの上面ノズル４１と、１つの下面ノズル４２とを有する。
　３つの上面ノズル４１は、それぞれ、ノズルアーム４１１と、ノズルアーム４１１の先端に設けられたノズルヘッド４１２と、ノズルモータ４１３とを有する。各ノズルアーム４１１は、ノズルモータ４１３の駆動により、図２中の矢印のように、各ノズルアーム４１１の基端部を中心として、水平方向に個別に回動する。これにより、各ノズルヘッド４１２を、基板保持部２０に保持された基板Ｗの上方の処理位置と、処理液捕集部５０よりも外側の退避位置との間で、移動させることができる。
　ノズルヘッド４１２には、処理液を供給するための給液部４３が接続されている。図４は、ノズルヘッド４１２に接続される給液部４３の一例を示した図である。図４に示すように、給液部４３は、給液配管４３１を有する。給液配管４３１の上流側の端部は、処理液供給源４３２に流路接続されている。給液配管４３１の下流側の端部は、ノズルヘッド４１２に流路接続されている。また、給液配管４３１の経路途中には、バルブ４３３が介挿されている。
　ノズルヘッド４１２を処理位置に配置した状態で、バルブ４３３を開放すると、処理液供給源４３２から給液配管４３１を通ってノズルヘッド４１２へ、処理液が供給される。そして、ノズルヘッド４１２から、基板保持部２０に保持された基板Ｗの上面へ向けて、処理液が吐出される。
　３つのノズルヘッド４１２には、それぞれ複数の給液部４３が接続されている。各給液部は、互いに異なる種類の処理液を供給する。処理液の例としては、オゾン水、ＤＨＦ処理液（希フッ酸）、ＳＣ－１処理液（アンモニア水、過酸化水素水、純水の混合液）、ＳＣ－２処理液（塩酸、過酸化水素水、純水の混合液）、ＳＰＭ処理液（硫酸，過酸化水素水の混合液）等の薬液や、純水（脱イオン水）を挙げることができる。
　なお、３つのノズルヘッド４１２のうちの一部のノズルヘッド４１２は、処理液と加圧した気体とを混合して液滴を生成し、その液滴と気体との混合流体を基板Ｗに噴射する、いわゆる二流体ノズルであってもよい。また、処理ユニット１０２に設けられる上面ノズル４１の数は、３本に限定されるものではなく、１本、２本、または４本以上であってもよい。
　下面ノズル４２は、スピンベース２１の中央に設けられた貫通孔の内側に配置されている。下面ノズル４２の吐出口は、基板保持部２０に保持された基板Ｗの下面に対向する。下面ノズル４２も、処理液を供給するための給液部に接続されている。給液部から下面ノズル４２に処理液が供給されると、当該処理液が、下面ノズル４２から基板Ｗの下面に向けて吐出される。
　処理液捕集部５０は、使用後の処理液を捕集する部位である。図３に示すように、処理液捕集部５０は、内カップ５１、中カップ５２、および外カップ５３を有する。内カップ５１、中カップ５２、および外カップ５３は、図示を省略した昇降機構により、互いに独立して昇降移動することが可能である。
　内カップ５１は、基板保持部２０の周囲を包囲する円環状の第１案内板５１０を有する。中カップ５２は、第１案内板５１０の外側かつ上側に位置する円環状の第２案内板５２０を有する。外カップ５３は、第２案内板５２０の外側かつ上側に位置する円環状の第３案内板５３０を有する。また、内カップ５１の底部は、中カップ５２および外カップ５３の下方まで広がっている。そして、当該底部の上面には、内側から順に、第１排液溝５１１、第２排液溝５１２、および第３排液溝５１３が設けられている。各排液溝５１１，５１２，５１３には、排液配管５４が接続されている。３つの排液配管５４の下流側の端部は、互いに異なるタンクに接続されている。
　処理液供給部４０の各ノズル４１，４２から吐出された処理液は、基板Ｗに供給された後、基板Ｗの回転による遠心力で、外側へ飛散する。そして、基板Ｗから飛散した処理液は、第１案内板５１０、第２案内板５２０、および第３案内板５３０のいずれかに捕集される。第１案内板５１０に捕集された処理液は、第１排液溝５１１および第１排液溝５１１に接続された排液配管５４を通って、処理ユニット１０２の外部へ排出される。第２案内板５２０に捕集された処理液は、第２排液溝５１２および第２排液溝５１２に接続された排液配管５４を通って、処理ユニット１０２の外部へ排出される。第３案内板５３０に捕集された処理液は、第３排液溝５１３および第３排液溝５１３に接続された排液配管５４を通って、処理ユニット１０２の外部へ排出される。
　このように、この処理ユニット１０２は、処理液の排出経路を複数有する。このため、基板Ｗに供給された処理液を、種類毎に分別して回収できる。したがって、回収された処理液の廃棄や再生処理も、各処理液の性質に応じて別々に行うことができる。
　遮断板６０は、乾燥処理などの一部の処理を行うときに、基板Ｗの表面付近における気体の拡散を抑制するための部材である。遮断板６０は、円板状の外形を有し、基板保持部２０の上方に、水平に配置される。図３に示すように、遮断板６０は、昇降機構６１に接続されている。昇降機構６１を動作させると、遮断板６０は、基板保持部２０に保持される基板Ｗの上面から上方へ離れた上位置と、上位置よりも基板Ｗの上面に接近した下位置との間で、昇降移動する。昇降機構６１には、例えば、モータの回転運動をボールねじにより直進運動に変換する機構が用いられる。
　また、遮断板６０の下面の中央には、乾燥用の気体（以下「乾燥気体」と称する）を吹き出す吹出口６２が設けられている。吹出口６２は、乾燥気体を供給する給気部（図示省略）と接続されている。乾燥気体には、例えば、加熱された窒素ガスが用いられる。
　上面ノズル４１から、基板Ｗに対して処理液を供給するときには、遮断板６０は、上位置に退避する。処理液の供給後、基板Ｗの乾燥処理を行うときには、昇降機構６１により、遮断板６０が下位置に降下する。そして、吹出口６２から基板Ｗの上面に向けて、乾燥気体が吹き付けられる。このとき、遮断板６０により、基板Ｗの上面付近の空間が、乾燥気体に保護される。その結果、基板Ｗの上面における乾燥性能が向上し、処理不良の発生を抑制できる。
　コンピュータ７０は、処理ユニット１０２内の各部を動作制御する制御部としての機能と、後述する処理レシピを表示するレシピ表示装置としての機能と、を有する。図５は、コンピュータ７０と、処理ユニット１０２内の各部との接続を示したブロック図である。図５中に概念的に示したように、コンピュータ７０は、ＣＰＵ等のプロセッサ７０１、ＲＡＭ等のメモリ７０２、およびハードディスクドライブ等の記憶部７０３を有する。記憶部７０３内には、制御プログラムＰ１と、レシピ表示プログラムＰ２と、レシピファイルＲとが、記憶されている。
　制御プログラムＰ１は、処理ユニット１０２内の各部を動作制御するためのコンピュータプログラムである。レシピ表示プログラムＰ２は、後述する処理レシピの表示および編集を行うためのコンピュータプログラムである。制御プログラムＰ１およびレシピ表示プログラムＰ２は、例えば、これらのプログラムＰ１，Ｐ２が記憶された記憶媒体Ｍから読み出されて、コンピュータ７０の記憶部７０３に記憶される。記憶媒体Ｍの例としては、ＣＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ－ＲＯＭ、フラッシュメモリなどを挙げることができる。ただし、制御プログラムＰ１およびレシピ表示プログラムＰ２は、ネットワークを介してコンピュータ７０に入力されてもよい。
　レシピファイルＲは、処理ユニット１０２において順次に実行される複数の処理の内容および順序を示す処理レシピを、所定の様式で記述したデータファイルである。図６は、レシピファイルＲの記述内容の例を示した図である。図６のように、レシピファイルＲには、処理ユニット１０２内の各部を示す番号（機能番号）が、動作の順序に沿って記述されているとともに、処理工程毎に各部の動作に関するパラメータが記述されている。レシピファイルＲは、処理対象となる基板Ｗの仕様に応じて、作成・編集され、記憶部７０３に記憶される。レシピファイルＲの作成および編集は、このコンピュータ７０において行われてもよく、他のコンピュータにおいて行われてもよい。
　図５に示すように、コンピュータ７０は、上述したファンフィルタユニット１５、チャックピン切替機構２３、スピンモータ３２、ノズルモータ４１３、バルブ４３３、処理液捕集部５０の昇降機構、および遮断板６０の昇降機構６１と、それぞれ有線または無線により通信可能に接続されている。コンピュータ７０は、記憶部７０３に記憶された制御プログラムＰ１およびレシピファイルＲをメモリ７０２に一時的に読み出し、当該制御プログラムＰ１およびレシピファイルＲに基づいて、上記の各部を動作制御する。これにより、基板Ｗに対する一連の処理が進行する。
　また、図５に示すように、コンピュータ７０は、ディスプレイ７０４と入力部７０５とを有する。ディスプレイ７０４は、基板Ｗの処理に関する種々の情報を画面上に表示するためのデバイスである。特に、この基板処理装置１００では、レシピファイルＲに記述された処理レシピの内容を、ディスプレイ７０４の画面上に、視覚的に把握しやすい態様で、表示することができる。ディスプレイ７０４には、例えば、液晶ディスプレイや、有機ＥＬディスプレイが用いられる。入力部７０５は、ユーザの操作入力を受け付けるためのデバイスである。入力部７０５には、例えば、キーボードやマウスが用いられる。基板処理装置１００のユーザは、ディスプレイ７０４の画面を確認しながら、入力部７０５を操作することにより、コンピュータ７０へ種々の情報を入力することができる。
　なお、ディスプレイ７０４の機能と、入力部７０５の機能とが、タッチパネルディスプレイなどの単一のデバイスにより実現されていてもよい。
　＜３．処理レシピの表示および編集について＞
　続いて、コンピュータ７０における処理レシピの表示および編集について、説明する。
　＜３－１．レシピ表示および編集のための機能について＞
　図７は、処理レシピの表示および編集のためのコンピュータ７０の機能を概念的に示したブロック図である。図７に示すように、コンピュータ７０は、レシピ記憶部７１、画像表示部７２、内容反映部７３、および編集処理部７４を有する。これらの各部の機能は、レシピ表示プログラムＰ２に従って、コンピュータ７０が動作することにより実現される。
　レシピ記憶部７１は、コンピュータ７０に入力されたレシピファイルＲを記憶する。レシピ記憶部７１の機能は、例えば、上述した記憶部７０３により実現される。画像表示部７２は、処理レシピ中の複数の設定項目に対応する複数の画像を、ディスプレイ７０４の画面に表示する。内容反映部７３は、レシピファイルＲに記述された処理レシピの内容に応じて、ディスプレイ７０４に表示された複数の画像を変化させる。編集処理部７４は、ユーザの操作により入力部７０５から入力された情報に基づいて、レシピファイルＲ内の記述を変更する。
　図８は、処理レシピの表示および編集を行うときの処理の流れを示したフローチャートである。図８に示すように、処理レシピの表示および編集を行うときには、まず、処理レシピの内容を示すレシピファイルＲが、コンピュータ７０へ入力される。そして、コンピュータ７０のレシピ記憶部７１に、レシピファイルＲが記憶される（ステップＳ１）。次に、ユーザが、入力部７０５を操作することによって、所望の表示モードを選択する（ステップＳ２）。ステップＳ２では、例えば、後述のレシピチャート表示、スキャンポジション表示、およびチャンバイメージ表示のうちの１つを選択することができる。
　表示モードが選択されると、画像表示部７２が、選択された表示モードに応じて、処理レシピ中の複数の設定項目に対応する複数の画像を、ディスプレイ７０４の画面に表示する。本実施形態では、画像表示部７２が、処理ユニット１０２が有する複数のハードウェア要素のうち、処理レシピ中の設定項目となっているハードウェア要素に対応する複数の画像を、ディスプレイ７０４の画面に表示する（ステップＳ３）。続いて、内容反映部７３が、レシピ記憶部７１からレシピファイルＲを読み出す。そして、内容反映部７３が、レシピファイルＲに記述された処理レシピの内容に応じて、複数の画像を個別に変化させる（ステップＳ４）。ステップＳ３～Ｓ４の具体的な表示態様については、後述する。
　その後、レシピファイルＲの編集が必要な場合は（ステップＳ５：ｙｅｓ）、ユーザが、入力部７０５を操作して、編集処理を行う（ステップＳ６）。編集処理部７４は、ユーザの操作により入力部７０５から入力された情報に基づいて、レシピファイルＲ内の数値を変更する。レシピファイルＲが編集されると、内容反映部７３は、編集後のレシピファイルＲ内の数値に応じて、画面に表示された画像を変化させる（ステップＳ４）。また、ユーザは、必要に応じて、入力部７０５を操作することにより、表示モードの切り替えを行うことができる。表示モードを切り替えるときには（ステップＳ７：ｙｅｓ）、ステップＳ２に戻って、表示モードを再選択する。
　＜３－２．レシピチャート表示＞
　図９は、処理レシピの表示モードの一つである「レシピチャート表示」の例を示した図である。このレシピチャート表示は、横軸を時間軸として、各ハードウェア要素の動作を、時間軸に沿って表したものである。ただし、レシピチャート表示は、縦軸を時間軸とするものであってもよい。図９のレシピチャート表示は、回転数表示部８１、ノズル表示部８２、および給液表示部８３を含んでいる。
　回転数表示部８１は、回転機構３０による基板Ｗの回転数を、時間軸に沿って表した部分である。回転数表示部８１は、基板Ｗの回転数の変化を示す折れ線図形８１１を含む。コンピュータ７０の画像表示部７２は、処理ユニット１０２が有するハードウェア要素である回転機構３０に対応する画像として、この折れ線図形８１１を、回転数表示部８１に表示する。コンピュータ７０の内容反映部７３は、レシピファイルＲに記述された処理レシピの内容に応じて、折れ線図形８１１の形状を変化させる。具体的には、折れ線図形８１１の各時刻における高さ位置を、レシピファイルＲに記述された数値に応じて変化させる。
　ノズル表示部８２は、処理液供給部４０の３つの上面ノズル４１のうちのどの上面ノズル４１を使用するかを、時間軸に沿って表した部分である。ノズル表示部８２は、各上面ノズル４１が処理位置に配置されることを示す帯状図形８２１を含む。コンピュータ７０の画像表示部７２は、処理ユニット１０２が有するハードウェア要素である上面ノズル４１に対応する要素として、この帯状図形８２１を、ノズル表示部８２に表示する。コンピュータ７０の内容反映部７３は、レシピファイルＲに記述された処理レシピの内容に応じて、帯状図形８２１の位置および長さを変更する。具体的には、帯状図形８２１の時間軸方向の位置と、帯状図形８２１の時間軸方向の長さとを、レシピファイルＲに記述された数値に応じて変化させる。
　給液表示部８３は、各処理液の供給タイミングを、時間軸に沿って表した部分である。給液表示部８３は、各処理液が供給されていることを示す帯状図形８３１を含む。コンピュータ７０の画像表示部７２は、処理ユニット１０２が有するハードウェア要素である給液部４３に対応する要素として、この帯状図形８３１を、給液表示部８３に表示する。コンピュータ７０の内容反映部７３は、レシピファイルＲに記述された処理レシピの内容に応じて、帯状図形８３１の位置および長さを変更する。具体的には、帯状図形８３１の時間軸方向の位置と、帯状図形８３１の時間軸方向の長さとを、レシピファイルＲに記述された数値に応じて変化させる。
　このように、レシピチャート表示では、処理ユニット１０２が有する複数のハードウェア要素に対応する複数の画像（折れ線図形８１１、複数の帯状図形８２１、および複数の帯状図形８３１）を、処理レシピの内容に応じて個別に変化させる。これにより、ユーザは、処理レシピの内容を、視覚的に容易に把握できる。特に、このレシピチャート表示によれば、ユーザは、各ハードウェア要素の動作タイミングを、時間軸に沿って、視覚的に容易に把握できる。また、本実施形態のレシピチャート表示では、回転数表示部８１と、ノズル表示部８２と、給液表示部８３とで、共通の時間軸が用いられている。このため、ユーザは、基板Ｗの回転数と、各上面ノズル４１の位置と、各処理液の供給との、相互のタイミングを、容易に把握できる。
　なお、図９の例では、折れ線図形８１１、帯状図形８２１、および帯状図形８３１に、その図形に対応するハードウェア要素に関するレシピファイルＲ中の数値または文字列が、併記されている。この数値または文字列の表示は、コンピュータ７０の内容反映部７３が行う。数値または文字列は、各図形と重なるように、あるいはその図形の周辺に表示される。このようにすれば、ユーザは、レシピファイルＲに記述された正確な数値または文字列を、ハードウェア要素毎に、容易に把握できる。
　また、この基板処理装置１００では、レシピチャート表示の画面において、レシピファイルＲの編集を行うことができる。レシピファイルＲを編集するときには、まず、ユーザが、入力部７０５を操作することにより、上記の折れ線図形８１１、帯状図形８２１、または帯状図形８３１を指定する。そして、入力部７０５を操作することにより、所望の数値を入力する。そうすると、コンピュータ７０の編集処理部７４は、指定された図形に対応するハードウェア要素に関するレシピファイルＲ中の設定項目に、入力された数値を適用する。また、レシピファイルＲ中の数値が更新されると、内容反映部７３は、その数値の更新に応じて、各図形８１１，８２１，８３１を即時に変化させる。
　これにより、ユーザは、処理レシピの内容を視覚的に把握しながら、レシピファイルＲの編集作業を行うことができる。したがって、レシピファイルＲの編集作業を、効率よく行うことができる。また、レシピファイルＲ中に羅列された数値を直接編集する場合と比べて、編集ミスを低減させることができる。
　なお、本実施形態のレシピチャート表示は、回転数表示部８１、ノズル表示部８２、および給液表示部８３の３つの表示部を含んでいた。しかしながら、レシピチャート表示に含まれる表示部は、これらの一部であってもよい。また、レシピチャート表示は、他のハードウェア要素の動作を示す他の表示部を含んでいてもよい。例えば、処理液捕集部５０の各カップ５１～５３の位置を示す表示部が、レシピチャート表示に含まれていてもよい。
　＜３－３．スキャンポジション表示＞
　図１０は、処理レシピの表示モードの他の１つである「スキャンポジション表示」の例を示した図である。このスキャンポジション表示は、基板保持部２０に保持された基板Ｗに対する上面ノズル４１の位置を、動的なイメージとして表示するものである。
　図１０のスキャンポジション表示は、スピンベースアイコン２１ｉ、基板アイコンＷｉ、およびノズルアイコン４１ｉを含む。コンピュータ７０の画像表示部７２は、処理ユニット１０２が有するハードウェア要素であるスピンベース２１および上面ノズル４１に対応する画像として、スピンベースアイコン２１ｉおよびノズルアイコン４１ｉを、ディスプレイ７０４の画面に表示する。また、コンピュータ７０の画像表示部７２は、基板Ｗに対応する画像として、基板アイコンＷｉをディスプレイ７０４の画面に表示する。また、コンピュータ７０の内容反映部７３は、レシピファイルＲに記述された処理レシピの内容に応じて、基板アイコンＷｉに対するノズルアイコン４１ｉの位置を変化させる。
　上面ノズル４１は、基板Ｗの中央部の上部に配置される場合と、基板Ｗの周縁部の上部に配置される場合とがある。また、上面ノズル４１は、基板Ｗの上方において静止する場合と、基板Ｗの上面に沿って揺動する場合とがある。レシピファイルＲには、これらの各場合に対応する数値が、記述されている。コンピュータ７０の内容反映部７３は、レシピファイルＲに記述された当該数値に応じて、基板アイコンＷｉに対するノズルアイコン４１ｉの位置および動きを変化させる。
　このように、スキャンポジション表示では、処理ユニット１０２が有するハードウェア要素に対応する画像（ノズルアイコン４１ｉ）を、処理レシピの内容に応じて変化させる。これにより、ユーザは、処理レシピの内容を、視覚的に容易に把握できる。特に、このスキャンポジション表示によれば、ユーザは、処理レシピにおいて指定される上面ノズル４１の位置を、視覚的に容易に把握できる。また、このスキャンポジション表示では、上面ノズル４１が揺動するときには、ノズルアイコン４１ｉも、左右に揺動するように動的に表示される。これにより、ユーザは、上面ノズル４１の位置だけではなく、上面ノズル４１の揺動の有無も容易に把握できる。
　なお、図１０の例では、ノズルアイコン４１ｉの近傍に、上面ノズル４１の位置および動きに関する数値が、併記されている。この数値の表示は、コンピュータ７０の内容反映部７３が行う。数値は、ノズルアイコン４１ｉと重なるように表示されていてもよく、あるいは、ノズルアイコン４１ｉの周辺に表示されていてもよい。このようにすれば、ユーザは、上面ノズル４１の位置および動きに関する正確な数値を、容易に把握できる。
　また、この基板処理装置１００では、スキャンポジション表示の画面において、レシピファイルＲの編集を行うことができる。レシピファイルＲを編集するときには、まず、ユーザが、入力部７０５を操作することにより、上記のノズルアイコン４１ｉを指定する。そして、入力部７０５を操作することにより、所望の数値を入力する。そうすると、コンピュータ７０の編集処理部７４は、上面ノズル４１の位置および動きに関するレシピファイルＲ中の設定項目に、入力された数値を適用する。また、レシピファイルＲ中の数値が更新されると、内容反映部７３は、その数値の更新に応じて、ノズルアイコン４１ｉの位置および動きを即時に変化させる。
　これにより、ユーザは、処理レシピの内容を視覚的に把握しながら、レシピファイルＲの編集作業を行うことができる。したがって、レシピファイルＲの編集作業を、効率よく行うことができる。また、レシピファイルＲ中に羅列された数値を直接編集する場合と比べて、編集ミスを低減させることができる。
　＜３－４．チャンバイメージ表示＞
　図１１は、処理レシピの表示モードの他の１つである「チャンバイメージ表示」の例を示した図である。このチャンバイメージ表示は、基板Ｗに対する処理液の供給と処理液の排出とを、動的なイメージとして表示するものである。
　図１１のチャンバイメージ表示は、スピンベースアイコン２１ｉ、基板アイコンＷｉ、内カップアイコン５１ｉ、中カップアイコン５２ｉ、外カップアイコン５３ｉ、複数の給液アイコン４３１ｉ、および複数の排液アイコン５４ｉを含む。コンピュータ７０の画像表示部７２は、処理ユニット１０２が有するハードウェア要素であるスピンベース２１、内カップ５１、中カップ５２、外カップ５３、複数の給液配管４３１、および複数の排液配管５４に対応する画像として、これらのアイコン２１ｉ，５１ｉ，５２ｉ，５３ｉ，４３１ｉ，５４ｉを、ディスプレイ７０４の画面に表示する。また、コンピュータ７０の画像表示部７２は、基板Ｗに対応する画像として、基板アイコンＷｉをディスプレイ７０４の画面に表示する。また、コンピュータ７０の内容反映部７３は、レシピファイルＲに記述された処理レシピの内容に応じて、処理工程ごとに、内カップアイコン５１ｉ、中カップアイコン５２ｉ、外カップアイコン５３ｉ、複数の給液アイコン４３１ｉ、および複数の排液アイコン５４ｉを個別に変化させる。
　具体的には、複数の給液アイコン４３１ｉのうち、その工程で処理液が供給される給液配管４３１に対応する給液アイコン４３１ｉが、着色、太線化、点滅等により強調表示される。また、内カップアイコン５１ｉ、中カップアイコン５２ｉ、および外カップアイコン５３ｉのうち、その工程において処理液を捕集するカップに対応するアイコンが、着色、太線化、点滅等により強調表示される。また、複数の排液配管５４のうち、その工程で処理液が排出される排液配管５４に対応する排液アイコン５４ｉが、着色、太線化、点滅等により強調表示される。
　このように、チャンバイメージ表示では、処理ユニット１０２が有する複数のハードウェア要素に対応する複数の画像（内カップアイコン５１ｉ、中カップアイコン５２ｉ、外カップアイコン５３ｉ、複数の給液アイコン４３１ｉ、および複数の排液アイコン５４ｉ）を、処理レシピの内容に応じて個別に変化させる。これにより、ユーザは、処理レシピの内容を、視覚的に容易に把握できる。特に、このチャンバイメージ表示によれば、処理レシピにおいて指定される各工程の給液経路および排液経路を、視覚的に容易に把握できる。また、このチャンバイメージ表示では、各ハードウェア要素に対応する画像を、当該ハードウェア要素の外観を模式的に示したアイコンとして表示する。このため、ユーザは、ハードウェア要素と画像との対応関係を容易に把握できる。
　また、このチャンバイメージ表示では、レシピファイルＲに記述された処理レシピの内容に応じて、複数のアイコンを動的に変化させる、シミュレーション表示を実行可能である。具体的には、ユーザが入力部７０５を操作して、シミュレーション表示の実行を指示すると、複数の工程における上記の表示が、工程の順序に沿って、時間の経過とともに順次に表示される。このようなシミュレーション表示を実行すれば、ユーザは、複数の処理液がどのような順序で供給され、各工程において、処理液がどのような経路で排出されるかを、経時変化として、容易に把握することができる。
　なお、図１１の例では、スピンベースアイコン２１ｉ、給液アイコン４３１ｉ、および排液アイコン５４ｉに、そのアイコンに対応するハードウェア要素に関するレシピファイルＲ中の数値または文字列が、併記されている。この数値または文字列の表示は、コンピュータ７０の内容反映部７３が行う。数値または文字列は、各アイコンと重なるように、あるいはそのアイコンの周辺に表示される。このようにすれば、ユーザは、レシピファイルＲに記述された正確な数値または文字列を、ハードウェア要素毎に、容易に把握できる。
　また、この基板処理装置１００では、チャンバイメージ表示の画面において、レシピファイルＲの編集を行うことができる。レシピファイルＲを編集するときには、まず、ユーザが、入力部７０５を操作することにより、上記のスピンベースアイコン２１ｉ、内カップアイコン５１ｉ、中カップアイコン５２ｉ、外カップアイコン５３ｉ、給液アイコン４３１ｉ、または排液アイコン５４ｉを指定する。そして、入力部７０５を操作することにより、所望の数値を入力する。そうすると、コンピュータ７０の編集処理部７４は、指定されたアイコンに対応するハードウェア要素に関するレシピファイルＲ中の設定項目に、入力された数値を適用する。また、レシピファイルＲ中の数値が更新されると、内容反映部７３は、その数値の更新に応じて、各アイコン２１ｉ，４３１ｉ，５４ｉを即時に変化させる。
　これにより、ユーザは、処理レシピの内容を視覚的に把握しながら、レシピファイルＲの編集作業を行うことができる。したがって、レシピファイルＲの編集作業を、効率よく行うことができる。また、レシピファイルＲ中に羅列された数値を直接編集する場合と比べて、編集ミスを低減させることができる。
　なお、本実施形態のチャンバイメージ表示は、スピンベースアイコン２１ｉ、基板アイコンＷｉ、内カップアイコン５１ｉ、中カップアイコン５２ｉ、外カップアイコン５３ｉ、複数の給液アイコン４３１ｉ、および複数の排液アイコン５４ｉを含んでいた。しかしながら、チャンバイメージ表示に含まれるアイコンは、これらの一部であってもよい。また、チャンバイメージ表示は、他のハードウェア要素に対応する他のアイコンを含んでいてもよい。例えば、遮断板６０に対応するアイコンが、チャンバイメージ表示に含まれていてもよい。
　＜４．変形例＞
　以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。
　上記の実施形態では、処理レシピの内容に応じて、処理ユニット１０２が有するハードウェア要素に対応する図形またはアイコンそのものを変化させていた。しかしながら、処理レシピの内容に応じて、図形またはアイコンの周囲に配置される修飾用の図形（例えば、強調表示のための縁取り図形）を変化させてもよい。本発明における「画像の変化」は、このような修飾用の図形を変化させる場合も含むものとする。
　また、画像表示部７２は、レシピファイルＲに記述された処理レシピの複数の工程のうち、ユーザにより指定された一部の工程に対応する画像のみを、ディスプレイ７０４の画面に表示してもよい。その場合、ユーザは、入力部７０５を操作することにより、処理レシピの複数の工程のうち、表示させたい工程を指定すればよい。このようにすれば、ユーザにとって必要な情報のみを、ディスプレイ７０４の画面に表示することができる。これにより、画面に表示される情報量を抑えることができる。その結果、処理レシピをより容易に把握できる。
　また、画像表示部７２は、処理ユニット１０２が有する複数のハードウェア要素のうち、ユーザにより指定された一部のハードウェア要素に対応する画像のみを、ディスプレイ７０４の画面に表示してもよい。その場合、ユーザは、入力部７０５を操作することにより、画像として表示させたいハードウェア要素を、コンピュータ７０へ入力すればよい。このようにすれば、ユーザにとって必要な情報のみを、ディスプレイ７０４の画面に表示することができる。これにより、画面に表示される情報量を抑えることができる。その結果、処理レシピをより容易に把握できる。
　また、上記の実施形態では、コンピュータ７０は、ディスプレイ７０４の画面に、複数の表示モードを択一的に表示していた。しかしながら、コンピュータ７０は、ディスプレイ７０４の画面に、２つ以上の表示モードを同時に表示してもよい。
　また、コンピュータ７０は、上述したレシピチャート表示、スキャンポジション表示、およびチャンバイメージ表示の他に、他の表示モードを有していてもよい。また、コンピュータ７０は、図６のようなレシピファイルＲの記述内容を、そのままディスプレイ７０４の画面に表示する表示モードを、さらに有していてもよい。
　また、上記の実施形態では、基板処理装置１００が有するコンピュータ７０が、処理レシピを画面に表示するレシピ表示装置として機能していた。しかしながら、基板処理装置１００とは別のコンピュータにおいて、レシピファイルＲの作成や編集が行われる場合もある。その場合、基板処理装置１００とは別のコンピュータが、上記の実施形態と同様に、処理レシピを画面に表示してもよい。
　また、上記の実施形態では、処理対象となる基板Ｗが半導体用のシリコンウェハであった。しかしながら、基板処理装置において処理対象となる基板は、シリコンウェハに限定されるものではなく、液晶表示装置等のフラットパネルディスプレイ用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、太陽電池用のガラス基板などの、他の精密電子装置用の基板であってもよい。
　また、基板処理装置の細部の形状については、本願の各図に示された形状と、相違していてもよい。また、上記の実施形態や変形例に登場した各要素を、矛盾が生じない範囲で、適宜に組み合わせてもよい。
　１０　チャンバ
　２０　基板保持部
　２１　スピンベース
　３０　回転機構
　４０　処理液供給部
　４１　上面ノズル
　４２　下面ノズル
　４３　給液部
　５０　処理液捕集部
　５１　内カップ
　５２　中カップ
　５３　外カップ
　５４　排液配管
　６０　遮断板
　７０　コンピュータ
　７１　レシピ記憶部
　７２　画像表示部
　７３　内容反映部
　７４　編集処理部
　８１　回転数表示部
　８２　ノズル表示部
　８３　給液表示部
　１００　基板処理装置
　１０１　インデクサ
　１０２　処理ユニット
　１０３　主搬送ロボット
　４１１　ノズルアーム
　４１２　ノズルヘッド
　４１３　ノズルモータ
　４３１　給液配管
　４３２　処理液供給源
　４３３　バルブ
　５１０　第１案内板
　５１１　第１排液溝
　５１２　第２排液溝
　５１３　第３排液溝
　５２０　第２案内板
　５３０　第３案内板
　７０４　ディスプレイ
　７０５　入力部
　８１１　折れ線図形
　８２１　帯状図形
　８３１　帯状図形
　Ｍ　記憶媒体
　Ｐ１　制御プログラム
　Ｐ２　レシピ表示プログラム
　Ｒ　レシピファイル
　Ｗ　基板
　２１ｉ　スピンベースアイコン
　４１ｉ　ノズルアイコン
　５１ｉ　内カップアイコン
　５２ｉ　中カップアイコン
　５３ｉ　外カップアイコン
　５４ｉ　排液アイコン
　４３１ｉ　給液アイコン
　Ｗｉ　基板アイコン

 

Claims (14)

  1. 　基板処理装置において順次に実行される複数の処理の内容を示す処理レシピを画面に表示するレシピ表示装置であって、
    　前記処理レシピの内容が記述されたレシピファイルを記憶するレシピ記憶部と、
    　前記処理レシピ中の複数の設定項目に対応する複数の画像を、前記画面に表示する画像表示部と、
    　前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記複数の画像のそれぞれを変化させる内容反映部と、
    を備える、レシピ表示装置。
  2. 　請求項１に記載のレシピ表示装置であって、
    　前記複数の画像は、前記基板処理装置の複数のハードウェア要素のうち、前記設定項目に対応するハードウェア要素の外観を模式的に示した複数のアイコンを含み、
    　前記内容反映部は、前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記アイコンを変化させる、レシピ表示装置。
  3. 　請求項２に記載のレシピ表示装置であって、
    　前記画像表示部は、
    　　基板を示す基板アイコンと、
    　　前記基板に対して処理液を供給する複数の給液配管を示す複数の給液アイコンと、
    　　前記基板の周囲から処理液を排出する複数の排液配管を示す複数の排液アイコンと、
    を画面上に表示し、
    　前記内容反映部は、前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記複数の給液アイコンの少なくとも１つと、前記複数の排液アイコンの少なくとも１つとを、強調表示する、レシピ表示装置。
  4. 　請求項３に記載のレシピ表示装置であって、
    　前記内容反映部は、前記処理レシピの内容に応じて、前記複数のアイコンを時間の経過とともに変化させるシミュレーション表示を実行可能である、レシピ表示装置。
  5. 　請求項２に記載のレシピ表示装置であって、
    　前記画像表示部は、
    　　基板を示す基板アイコンと、
    　　前記基板に対して処理液を吐出するノズルを示すノズルアイコンと、
    を画面上に表示し、
    　前記内容反映部は、前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記基板アイコンに対する前記ノズルアイコンの位置を変化させる、レシピ表示装置。
  6. 　請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載のレシピ表示装置であって、
    　前記画像は、前記処理レシピ中の複数の設定項目に対応する図形を含み、
    　前記内容反映部は、前記レシピファイルに記述された動作タイミングに関する数値に応じて、前記図形の時間軸方向の位置および長さを変化させる、レシピ表示装置。
  7. 　請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載のレシピ表示装置であって、
    　前記内容反映部は、前記レシピファイル中の前記設定項目に関する数値または文字列を、前記設定項目に対応する前記画像に併記する、レシピ表示装置。
  8. 　請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載のレシピ表示装置であって、
    　ユーザの操作に基づいて前記レシピファイルを編集する編集処理部と、
    をさらに備え、
    　前記ユーザの操作は、前記複数の画像が表示された前記画面において、前記画像を指定する操作と、数値を入力する操作とを含み、
    　前記編集処理部は、前記操作において指定された前記画像に対応する前記レシピファイル中の前記設定項目に対して、前記操作により入力された数値を適用する、レシピ表示装置。
  9. 　請求項８に記載のレシピ表示装置であって、
    　前記内容反映部は、前記編集処理部による前記数値の更新に応じて、前記画像を即時に変化させる、レシピ表示装置。
  10. 　請求項１から請求項９までのいずれか１項に記載のレシピ表示装置であって、
    　複数の表示モードの選択を受け付ける入力部
    をさらに備え、
    　前記画像表示部は、前記入力部において選択された表示モードに応じた態様で、前記複数の画像を、前記画面に表示する、レシピ表示装置。
  11. 　請求項１から請求項１０までのいずれか１項に記載のレシピ表示装置であって、
    　前記画像表示部は、前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの複数の工程のうち、ユーザにより指定された一部の工程に対応する画像のみを、前記画面に表示する、レシピ表示装置。
  12. 　請求項２に記載のレシピ表示装置であって、
    　前記画像表示部は、前記基板処理装置が有する複数のハードウェア要素のうち、ユーザにより指定された一部のハードウェア要素に対応する画像のみを、前記画面に表示する、レシピ表示装置。
  13. 　基板処理装置において順次に実行される複数の処理の内容を示す処理レシピを画面に表示するレシピ表示方法であって、
    　ａ）前記処理レシピの内容が記述されたレシピファイルを記憶する工程と、
    　ｂ）前記処理レシピ中の複数の設定項目に対応する複数の画像を、前記画面に表示する工程と、
    　ｃ）前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記複数の画像のそれぞれを変化させる工程と、
    を有する、レシピ表示方法。
  14. 　基板処理装置において順次に実行される複数の処理の内容を示す処理レシピを画面に表示するためのレシピ表示プログラムであって、
    　コンピュータに、
    　ａ）前記処理レシピの内容が記述されたレシピファイルを記憶する処理と、
    　ｂ）前記処理レシピ中の複数の設定項目に対応する複数の画像を、前記画面に表示する処理と、
    　ｃ）前記レシピファイルに記述された前記処理レシピの内容に応じて、前記複数の画像のそれぞれを変化させる処理と、
    を実行させる、レシピ表示プログラム。
PCT/JP2019/031002 2018-09-20 2019-08-06 レシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラム WO2020059343A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018-176348 2018-09-20
JP2018176348A JP7174581B2 (ja) 2018-09-20 2018-09-20 レシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2020059343A1 true WO2020059343A1 (ja) 2020-03-26

Family

ID=69886965

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2019/031002 WO2020059343A1 (ja) 2018-09-20 2019-08-06 レシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラム

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7174581B2 (ja)
TW (1) TWI743532B (ja)
WO (1) WO2020059343A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7509657B2 (ja) * 2020-10-29 2024-07-02 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003115473A (ja) * 2001-10-03 2003-04-18 Tokyo Electron Ltd 液処理装置及びその設定管理方法
JP2005044845A (ja) * 2003-07-23 2005-02-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法
JP2007335428A (ja) * 2006-06-12 2007-12-27 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2009164633A (ja) * 2009-04-15 2009-07-23 Hitachi Kokusai Electric Inc 被処理体の処理装置
JP2014186746A (ja) * 2007-12-21 2014-10-02 Fisher Rosemount Systems Inc レシピの進渉状況情報を提示するための方法、機器、及び機械アクセス可能媒体

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008135517A (ja) * 2006-11-28 2008-06-12 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置の制御装置、制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体
JP6301083B2 (ja) * 2012-09-12 2018-03-28 株式会社日立国際電気 基板処理装置、半導体装置の製造方法、及びレシピの作成方法
TWM488983U (en) * 2014-07-08 2014-11-01 Chiun Der Enterprise Co Ltd Protective garment for positioning hip bone

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003115473A (ja) * 2001-10-03 2003-04-18 Tokyo Electron Ltd 液処理装置及びその設定管理方法
JP2005044845A (ja) * 2003-07-23 2005-02-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法
JP2007335428A (ja) * 2006-06-12 2007-12-27 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2014186746A (ja) * 2007-12-21 2014-10-02 Fisher Rosemount Systems Inc レシピの進渉状況情報を提示するための方法、機器、及び機械アクセス可能媒体
JP2009164633A (ja) * 2009-04-15 2009-07-23 Hitachi Kokusai Electric Inc 被処理体の処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020047853A (ja) 2020-03-26
JP7174581B2 (ja) 2022-11-17
TW202030774A (zh) 2020-08-16
TWI743532B (zh) 2021-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8133327B2 (en) Substrate processing method, storage medium and substrate processing apparatus
JP2023155279A (ja) 基板処理システム、及び基板処理方法
JP7504269B2 (ja) 基板処理システム、及び基板処理方法
JP5742635B2 (ja) 基板処理装置、基板処理装置のアラーム管理方法および記憶媒体
KR101453189B1 (ko) 반송 장치
US11961744B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP6030393B2 (ja) 基板処理装置
WO2020059343A1 (ja) レシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラム
JP2007257476A (ja) 基板処理装置
JP2006261548A (ja) 基板処理装置
JP7145019B2 (ja) レシピ変換方法、レシピ変換プログラム、レシピ変換装置および基板処理システム
JP4516141B2 (ja) 基板処理方法，記録媒体及び基板処理装置
KR102561489B1 (ko) 화면 제어 프로그램을 기록한 비일시적인 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 및 반도체 제조 장치
JP2012204451A (ja) 基板処理装置
JP2008177585A (ja) 基板処理方法，記録媒体及び基板処理装置
JP2015146413A (ja) 表示制御装置、及び基板処理装置
JP5643688B2 (ja) 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
JP7504421B2 (ja) 基板処理装置
JP5474855B2 (ja) 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
JP4949686B2 (ja) 基板処理装置および半導体集積回路装置の製造方法
JP4522295B2 (ja) 基板処理装置
JP2009252785A (ja) 基板処理装置
JP2022011452A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP2019140307A (ja) 基板処理装置
JP2005166968A (ja) 基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 19861590

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 19861590

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1