JP2005166968A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 下方へ排出された気体に含まれたパーティクルの逆流入を防止することができる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】 装置本体部100a内に上方から下方へのダウンフローが形成されている。装置本体部100aには、基板Wに処理を行う洗浄処理部MPC3が含まれている。装置本体部100aの下部にファンユニットFUが傾斜して備えられ、ファンユニットFUにより上方から下方へのダウンフローが装置本体部100aの外部に向かう方向に変更される。
【選択図】 図2
【解決手段】 装置本体部100a内に上方から下方へのダウンフローが形成されている。装置本体部100aには、基板Wに処理を行う洗浄処理部MPC3が含まれている。装置本体部100aの下部にファンユニットFUが傾斜して備えられ、ファンユニットFUにより上方から下方へのダウンフローが装置本体部100aの外部に向かう方向に変更される。
【選択図】 図2
Description
基板に所定の処理を行う基板処理装置に関する。
半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板の処理工程では、一連の処理を行う複数の処理ユニットを備えた基板処理装置が用いられている。
また、基板処理装置においては、基板を処理する環境として、パーティクル数の少ないクリーンルーム内での稼動が前提とされている。一般的には、クリーンルームは高レベルのクリーン度が要求され、クリーンルーム内には上方から清浄空気流であるダウンフローが供給されている。さらに、浮遊する塵埃等のパーティクルが基板に再付着しないように、基板処理装置内にもダウンフローが供給されている。
図5は従来の基板処理装置の一部の概略構成を示す模式図である(特許文献1参照)。
図5の基板処理装置は、載置台7、下部フレーム8、駆動モータ9、カップ部材10、カップ蓋11、排気ダクト12、シーケンシャルダンパ13、ファン14、センサ21,22、制御部23およびファン回転駆動回路25を備える。
図5の基板処理装置においては、処理対象となる基板Wを支持する載置台7が下部フレーム8上で回転自在に設けられており、この載置台7には駆動モータ9が連結されている。この基板Wおよび載置台7の周囲を覆い、上方に開口部を有するカップ部材10が設けられている。このカップ部材10の開口部には、取り外し可能なカップ蓋11が設けられている。また、カップ部材10の内部に開口するように排気ダクト12の一端が設けられており、基板処理装置の外部に排気ダクト12の他端が設けられている。この排気ダクト12内の途中にはシーケンシャルダンパ13が設けられている。
この基板処理装置においては、ファン14によりダウンフローが供給されている。このファン14により供給されたダウンフローは、カップ部材10および排気ダクト12を介して基板処理装置の外部に排出されるか、または、下部フレーム8およびグレーチィング床18を介して基板処理装置の外部に排出される。
また、センサ21,22がカップ蓋11およびシーケンシャルダンパ13の開閉を検知する。制御部23は、センサ21,22からの検知信号に基づいてカップ蓋11およびシーケンシャルダンパ13が共に開状態の場合と、カップ蓋11またはシーケンシャルダンパ13が閉状態の場合とを判断する。制御部23は、この判断結果に基づいてファン14の回転速度を切り換えて風速および基板処理装置内の圧力のうち少なくともいずれかが所定の値となるようにファン回転駆動回路25を制御する。
これによって、カップ蓋11およびシーケンシャルダンパ13の開閉にかかわらず、基板処理装置内を所定以上の陽圧にし、かつ、カップ部材10の周囲を通過する気体の量を変化させずに、気流の巻き込みが生じないようにすることができる。
特開平9−289144号公報
しかしながら、グレーチィング床18の直下に配管または配線が通っている場合、グレーチィング床18の格子孔を介して排出された気体の一部が、配管または配線に跳ね返って基板処理装置内に逆流したり、あるいは配管または配線に付着していたパーティクルを巻き上げつつ跳ね返って基板処理装置内に逆流することがあった。
また、近年、クリーンルーム内において、グレーチィング床18を採用しない場合が増えている。これはグレーチィング床18を配設するために多大なコストがかかるためである。
しかし、グレーチング床18を採用しない場合、排出された気体のほぼ全部が床で跳ね返って基板処理装置内に逆流したり、床上に付着していたパーティクルを巻き上げつつ跳ね返って基板処理装置内に逆流したりすることとなる。
また、基板処理装置が複数の基板処理ユニットからなり、一の基板処理ユニットの下方に設けられた排気口から気体が排出された場合においても、排出された気体が床で跳ね返って他の隣接する基板処理ユニットに逆流したりするので、他の基板処理ユニットの基板処理に対して弊害をもたらすこともある。
本発明の目的は、下方へ排出された気体に含まれたパーティクルの逆流入を防止することができる基板処理装置を提供することである。
第1の発明に係る基板処理装置は、上方から下方への気体の流れを有する空間に配置される基板処理装置であって、基板に処理を行う処理部を含む装置本体部と、装置本体部の下部に設けられ、上方から下方への気体の流れを装置本体部の外部に向かう方向に変更する方向変更手段とを備えたものである。
第1の発明に係る基板処理装置においては、装置本体部内に上方から下方への気体の流れが形成されている。装置本体部には、基板に処理を行う処理部が含まれている。装置本体部の下部に方向変更手段が備えられ、方向変更手段により上方から下方への気体の流れが装置本体部の外部に向かう方向に変更される。
この場合、装置本体部の下方から排出される気体の方向を外部に向かう方向に変更することができる。その結果、塵埃等のパーティクルを含んだ気体が装置本体部内の処理部に逆流入することを防止できる。したがって、装置本体部および処理部内のパーティクル数の増加を抑制することができるので、処理対象となる基板の不良率の低下および歩留まり向上を実現することができる。
装置本体部は、発塵源を含み、方向変更手段は、発塵源の下方に設けられてもよい。
この場合、上方から下方への気体の流れにより発塵源から発生したパーティクルが下方へ移動される。そして、発塵源の下方に設けられた方向変更手段により下方へ移動されたパーティクルが、気体とともに効率よく装置本体部の外部に排出される。
装置本体部は、可動部と、その可動部を駆動する駆動部とを含み、方向変更手段は、可動部および駆動部のうち少なくとも一方の下方に設けられてもよい。
この場合、可動部または駆動部によりパーティクルが発生した場合、上方から下方への気体の流れにより可動部または駆動部から発生したパーティクルが下方へ移動される。そして、可動部および駆動部うち少なくとも一方の下方に設けられた方向変更手段により下方へ移動されたパーティクルが、気体とともに効率よく装置本体部の外部に排出される。
方向変更手段は、上方から下方への気体の流れを装置本体部の外部に向かう方向に変更する送風手段を含んでもよい。
この場合、送風手段により装置本体部内で発生したパーティクルを気体とともに効率よく装置本体部の外部に排出することができる。
方向変更手段は、上方から下方への気体の流れを装置本体部の外部に向かう方向に変更する気流案内板を含んでもよい。
この場合、簡単な構成で、パーティクルを気体とともに効率よく装置本体部の外部に排出することができる。
方向変更手段は、外部に向かう方向に変更された気体を装置本体部の外部へ案内する案内通路をさらに含んでもよい。
この場合、気体が案内通路により装置本体部の外部へ確実に案内されるので、パーティクルを気体とともに効率よく装置本体部の外部に排出することができる。
方向変更手段は、上方から下方への気体の流れを装置本体部の中央部から外部に向かう放射状の方向に変更してもよい。
この場合、上方から下方への気体の流れは、装置本体部の中央部から外部に向かう放射状の方向に変更されるので、気体がほぼ最短の経路を通って装置本体部の外に排出される。
装置本体部は、外壁面を有し、方向変更手段は、上方から下方への気体の流れを近接する外壁面に向かう方向に変更してもよい。
この場合、上方から下方への気体の流れは、近接する装置本体部の外壁面に向かう方向に変更されるので、気体がほぼ最短の経路を通して装置本体部の外に排出される。
本発明によれば、装置本体部および処理部内のパーティクル数の増加を抑制することができるので、処理対象となる基板の不良率の低下および歩留まり向上を実現することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
以下の説明において、基板とは、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレイパネル)用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等をいう。
図1は本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置の平面図であり、図2は図1の基板処理装置の一部の模式的縦断面図である。
図1に示すように、基板処理装置100は、装置本体部100aを備える。装置本体部100aは、処理領域A,Bを有し、処理領域A,B間に搬送領域Cを有する。
処理領域Aには、メイン制御部4、洗浄処理部MPC1,MPC2および流体ボックス部2a,2bが配置されている。また、処理領域Bには、洗浄処理部MPC3,MPC4および流体ボックス部2c,2dが配置されている。以下、複数の流体ボックス部2a,2b,2c,2dと複数の洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4を処理ユニットと総称する。
本実施の形態においては、洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4は、洗浄液(薬液および純水)を用いて処理対象の基板Wに洗浄処理(薬液処理および水洗処理を含む。)を行うものである。
図1の洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4の薬液処理では、薬液としてアンモニア−過酸化水素混合液(APM)または過酸化水素水等が用いられる。また、水洗処理では、薬液処理後の基板上に残留する薬液が純水により洗い流される。
図2に示すように、洗浄処理部MPC3は、主に基板Wを支持するとともに基板Wの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Wを回転させるためのスピンチャック59と、スピンチャック59を収容する処理カップ60と、スピンチャック59に支持された基板Wに純水等の洗浄液を塗布できるノズル61とからなる。洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC4の構成は、洗浄処理部MPC3の構成と同様である。
流体ボックス部2a,2bは、それぞれ洗浄処理部MPC1,MPC2への洗浄液の供給および洗浄処理部MPC1,MPC2からの使用済洗浄液の排液等に関する配管、継ぎ手、バルブ、流量計、レギュレータ、ポンプ、温度調節器および薬液貯留タンク等の流体関連機器を収納する。同様に、流体ボックス部2c,2dは、それぞれ洗浄処理部MPC3,MPC4への洗浄液の供給および洗浄処理部MPC3,MPC4からの使用済洗浄液の排液等に関する配管、継ぎ手、バルブ、流量計、レギュレータ、ポンプ、温度調節器および薬液貯留タンク等の流体関連機器を収納する。
一方、搬送領域Cには、基板搬送ロボットCRが移動自在に設けられている。処理領域A,Bの一端部側には、基板の搬入および搬出を行うインデクサIDが配置されている。図2に示すように、インデクサIDには、インデクサロボットIRが設けられる。インデクサIDにはキャリアが搬入されるインターフェースとなるロードポート40が備えられており、このロードポート40には、複数のキャリア1を載置可能な載置台41が設けられている。載置台41には、キャリア1の蓋を開閉することができる蓋開閉機構1aが設けられている。
図1に示すように、インデクサロボットIRは、一対の搬送アームIRH1,IRH2を備え、基板搬送ロボットCRは一対の搬送アームCRH1,CRH2を備える。インデクサロボットIRの搬送アームIRH1は搬送アームIRH2より上方に設けられ、基板搬送ロボットCRの搬送アームCRH1は搬送アームCRH2より上方に設けられている。また、インデクサロボットIRは、基板搬送ロボットCRと同様にそれぞれ基板Wを保持するための搬送アームを有する多関節アーム型である。さらに、図2に示すように、インデクサロボットIRの内部には、インデクサロボットIRの駆動源であるモータMが内蔵されている。
図1に示す装置本体部100aのインデクサIDおよび各処理ユニットは、閉塞空間にそれぞれ配置されている。例えば、図2に示すインデクサID、処理領域Bの流体ボックス部2cおよび洗浄処理部MPC3は、閉塞空間にそれぞれ配置されている。
また、インデクサIDおよび洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4の上部には、ファンフィルタユニットFFUが設けられる。例えば、図2のインデクサIDの上部および処理領域Bの洗浄処理部MPC3の上部には、ファンフィルタユニットFFUが設けられている。このファンフィルタユニットFFUにより、インデクサID、処理領域Bの洗浄処理部MPC3内の上方から下方へ一様な空気の層流(以下、単にダウンフローと呼ぶ。)が形成される。
一方、インデクサロボットIRの下方には、ファンユニットFUが傾斜して設けられる。このファンユニットFUの働きおよび設置姿勢については後述する。洗浄処理部MPC1,MP2,MPC3,MPC4の下部には、ファンユニットFUが設けられず、パンチングメタル等の貫通孔を有する底板が設けられている。
また、インデクサIDを収納した閉塞空間、流体ボックス部2cを収納した閉塞空間および洗浄処理部MPC3を収納した閉塞空間の内圧は、この順に高くなるように設定される。
制御部4は、CPU(中央演算処理装置)を含むコンピュータ等からなり、処理領域A,Bの各処理ユニットの動作、ファンユニットFUの動作、搬送領域Cの基板搬送ロボットCRのモータMの動作およびインデクサIDのインデクサロボットIRのモータMの動作を制御する。
次に、インデクサロボットIRおよび基板搬送ロボットCRの動作について簡単に説明する。
まず、キャリア1が、外部の搬送機構(図示せず)により装置本体部100aのロードポート40の載置台41に載置される。載置台41に載置されたキャリア1には、複数の未処理の基板Wが収納されている。載置台41に載置されたキャリア1の蓋が、載置台41に備えられた蓋開閉機構1aにより開閉される。それにより、キャリア1に収納された未処理の基板Wが、インデクサロボットIRの搬送アームIRHにより取り出される。
続いて、インデクサロボットIRは、搬送アームIRH2により基板Wを保持して図1の矢印Uの方向に移動し、センターロボットCRの搬送アームCRH2との間で基板Wの受け渡しを行う。基板搬送ロボットCRは、インデクサロボットIRから渡された基板Wを各処理ユニットに搬送する。
また、基板搬送ロボットCRは、各処理ユニットで所定の処理を施された基板Wを搬送アームCRH1により処理ユニットから取り出し、インデクサロボットIRの搬送アームIRH1に渡す。インデクサロボットIRは、基板搬送ロボットCRから渡された基板Wをキャリア1に戻す。
上記のように、インデクサIDにおいて、モータMが回転することにより搬送アームIRHを駆動した場合、モータM自身または搬送アームIRHからパーティクルが発生する可能性が高い。
このモータMまたは搬送アームIRHから発生したパーティクルは、インデクサIDの上方に設けられたファンフィルタユニットFFUの働きにより、ダウンフローとともにインデクサIDの下方に移動される。
ここで、ファンユニットFUの働きおよび設置姿勢について説明する。
本実施の形態において、ファンユニットFUは、上方から下方へ流れるダウンフローを近接する装置本体部100aの外壁面50aに向かう方向、または装置本体部100aの中央部から外部に向かう放射状の方向に排出可能なように傾斜させて設けられる。それにより、ダウンフローが、ほぼ最短の経路を通って装置本体部100aの外部に排出される。
具体的に、図2のインデクサIDの下方に設けられたファンユニットFUは、インデクサIDの上方から下方に流れるダウンフローをロードポート40側に向けて排出可能なように傾斜して設けられている。
以上のことにより、装置本体部100aのインデクサIDの下方から排出される気体の方向を外部に向かう方向に変更することができる。その結果、塵埃等のパーティクルを含んだ気体が装置本体部100a内の洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4に逆流入することを防止できる。したがって、装置本体部100aおよび洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4内のパーティクル数の増加を抑制することができるので、処理対象となる基板Wの不良率の低下および歩留まり向上を実現することができる。
また、ファンユニットFUを動作させることにより、インデクサIDの下方が、インデクサIDの上方と比較して負圧となるため、発生したパーティクルを下方へ移動させ、気体とともに効率よく装置本体部100aの外部に排出することができる。
なお、本実施の形態においては、装置本体部100aのインデクサID、処理領域Bの上方にファンフィルタユニットFFUを設けてダウンフローを形成することとしたが、これに限定されず、装置本体部100aのインデクサID、処理領域Bの上方を開口し、基板処理装置100が設置される室内のクリーンルームにおいて形成されたダウンフローを取り入れることとしてもよい。
さらに、本実施の形態においては、インデクサIDの下方にファンユニットFUを設けているが、各処理ユニットの下方、基板搬送ロボットCRの下方、または装置本体部100aの下方にもファンユニットFUを設けてもよい。
本実施の形態においては、ファンユニットFUが方向変更手段に相当し、インデクサロボットIRのモータMまたは搬送アームIRHが発塵源に相当し、搬送アームIRHが可動部に相当し、インデクサロボットIRのモータMが駆動部に相当し、ファンユニットFUが送風手段に相当する。
(第2の実施の形態)
次に、本発明に係る第2の実施の形態について説明する。第2の実施の形態が第1の実施の形態と異なるのは、以下の点である。
次に、本発明に係る第2の実施の形態について説明する。第2の実施の形態が第1の実施の形態と異なるのは、以下の点である。
図3は、装置本体部100bのファンユニットFU2および整流板FP2の断面を示す模式的拡大図である。
図3に示す装置本体部100bは、図2に示す第1の実施の形態におけるファンユニットFUの代わりに、ファンユニットFU2を備え、さらに装置本体部100bのインデクサIDの下方で、かつファンユニットFU2により排出される気体に接触可能な整流板FP2を備える。
ここで、ファンユニットFU2および整流板FP2の働きと設置姿勢とについて説明する。
第2の実施の形態において、ファンユニットFU2は、インデクサIDの上方から下方へ流れるダウンフローを装置本体部100bの外部の鉛直下方向に排出可能なように設けられる。さらに、整流板FP2は、ファンユニットFU2により排出された鉛直下向きのダウンフローを近接する装置本体部100bの外壁面50aに向かう方向、または装置本体部100bの中央部から外部に向かう放射状の方向に変更可能なように設けられる。それにより、ダウンフローが、ほぼ最短の経路を通って装置本体部100bの外部に排出される。
具体的に、図3のインデクサIDの下方に水平に設けられたファンユニットFU2は、インデクサIDの上方から下方に流れるダウンフローを鉛直下向きに排出し、整流板FP2が鉛直下向きに排出されたダウンフローの方向をロードポート40(図2参照)側に変更させている。
以上のことにより、装置本体部100bのインデクサIDの下方から垂直下向きに排出されるダウンフローの方向をファンユニットFU2および整流板FP2の働きにより外部に向かう方向に変更することができる。その結果、塵埃等のパーティクルを含んだ気体が装置本体部100b内の洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4に逆流入することを防止できる。したがって、容易な構成で装置本体部100bおよび洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4内のパーティクル数の増加を抑制することができるので、処理対象となる基板Wの不良率の低下および歩留まり向上を実現することができる。
また、ファンユニットFU2を動作させることにより、インデクサIDの下方が、インデクサIDの上方と比較して負圧となるため、発生したパーティクルを下方へ移動させ、気体とともに効率よく装置本体部100bの外部に排出することができる。
なお、第2の実施の形態においては、インデクサIDの下方にファンユニットFU2および整流板FP2を設けているが、各処理ユニットの下方、基板搬送ロボットCRの下方、または装置本体部100bの下方にもファンユニットFU2および整流板FP2を設けてもよい。また、第2の実施の形態においては、インデクサIDの下方にファンユニットFU2と整流板FP2とを設けているが、インデクサIDの下方に十分なダウンフローが供給されている場合には、整流板FP2のみを設けてもよい。
第2の実施の形態においては、インデクサロボットIRのモータMまたは搬送アームIRHが発塵源に相当し、搬送アームIRHが可動部に相当し、インデクサロボットIRのモータMが駆動部に相当し、ファンユニットFU2が送風手段に相当し、整流板FP2が気流案内板および方向変更手段に相当する。
(第3の実施の形態)
次に、本発明に係る第3の実施の形態について説明する。第3の実施の形態が第1の実施の形態と異なるのは、以下の点である。
次に、本発明に係る第3の実施の形態について説明する。第3の実施の形態が第1の実施の形態と異なるのは、以下の点である。
図4は、装置本体部100cのファンユニットFUおよび排気ダクトFP3の断面を示す模式的拡大図である。
図4に示す装置本体部100cにおいては、図2に示す第1の実施の形態におけるファンユニットFUに、さらに排気ダクトFP3を備える。この排気ダクトFP3は、ファンユニットFUの噴出側に排気ダクトFP3の一端を接続し、装置本体部100cの外側まで排気ダクトFP3の他端を伸ばしたものである。
ここで、ファンユニットFUおよび排気ダクトFP3の働きと設置姿勢とについて説明する。
第3の実施の形態において、ファンユニットFUは、ダウンフローを近接する装置本体部100cの外壁面50aに向かう方向、または装置本体部100cの中央部から外部に向かう放射状の方向に排出可能なように傾斜させて設けられる。さらに、排気ダクトFP3の他端が、装置本体部100cの外部へ通じているため、確実にダウンフローを装置本体部100cの外部に排出することができる。
具体的に、図4のインデクサIDの下方に設けられたファンユニットFUは、インデクサIDの上方から下方に流れるダウンフローをロードポート40(図2参照)側に向けて排出可能なように傾斜して設けられ、さらに、排気ダクトFP3が、排出されたダウンフローを確実に装置本体部100cの外側へ排出させている。
以上のことにより、装置本体部100cのインデクサIDの下方から排出されるダウンフローの方向をファンユニットFUおよび排気ダクトFP3の働きにより確実に装置本体部100cの外部に向かう方向に変更することができる。その結果、塵埃等のパーティクルを含んだ気体が装置本体部100c内の洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4に逆流入することを防止できる。したがって、容易な構成で装置本体部100cおよび洗浄処理部MPC1,MPC2,MPC3,MPC4内のパーティクル数の増加を抑制することができるので、処理対象となる基板Wの不良率の低下および歩留まり向上を実現することができる。
また、ファンユニットFUを動作させることにより、インデクサIDの下方が、インデクサIDの上方と比較して負圧となるため、発生したパーティクルを下方へ移動させ、気体とともに効率よく装置本体部100cの外部に排出することができる。
なお、第3の実施の形態においては、インデクサIDの下方にファンユニットFUおよび排気ダクトFP3を設けることとしたが、各処理ユニットの下方、基板搬送ロボットCRの下方、または装置本体部100cの下方にもファンユニットFUおよび排気ダクトFP3を設けてもよい。
第3の実施の形態においては、インデクサロボットIRのモータMまたは搬送アームIRHが発塵源に相当し、搬送アームIRHが可動部に相当し、インデクサロボットIRのモータMが駆動部に相当し、ファンユニットFUが送風手段に相当し、排気ダクトFP3が案内通路および方向変更手段に相当する。
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板、光ディスク用基板等の種々の基板を処理するため等に利用することができる。
100 基板処理装置
100a,100b,100c
W 基板
FU ファンユニット
FFU ファンフィルタユニット
M モータ
IRH 搬送アーム
IR インデクサロボット
50a 外壁面
FP2 整流板
FP3 排気ダクト
100a,100b,100c
W 基板
FU ファンユニット
FFU ファンフィルタユニット
M モータ
IRH 搬送アーム
IR インデクサロボット
50a 外壁面
FP2 整流板
FP3 排気ダクト
Claims (8)
- 上方から下方への気体の流れを有する空間に配置される基板処理装置であって、
基板に処理を行う処理部を含む装置本体部と、
前記装置本体部の下部に設けられ、上方から下方への気体の流れを前記装置本体部の外部に向かう方向に変更する方向変更手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記装置本体部は、発塵源を含み、
前記方向変更手段は、前記発塵源の下方に設けられることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記装置本体部は、可動部と、その可動部を駆動する駆動部とを含み、
前記方向変更手段は、
前記可動部および前記駆動部のうち少なくとも一方の下方に設けられることを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。 - 前記方向変更手段は、
上方から下方への気体の流れを前記装置本体部の外部に向かう方向に変更する送風手段を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記方向変更手段は、
上方から下方への気体の流れを前記装置本体部の外部に向かう方向に変更する気流案内板を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記方向変更手段は、外部に向かう方向に変更された気体を前記装置本体部の外部へ案内する案内通路をさらに含むことを特徴とする請求項4または5記載の基板処理装置。
- 前記方向変更手段は、
上方から下方への気体の流れを前記装置本体部の中央部から外部に向かう放射状の方向に変更することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記装置本体部は、外壁面を有し、
前記方向変更手段は、
上方から下方への気体の流れを近接する前記外壁面に向かう方向に変更することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理装置。
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JP2007266333A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
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