WO2019215991A1 - インクジェット印刷物の製造方法およびインクジェット印刷物 - Google Patents
インクジェット印刷物の製造方法およびインクジェット印刷物 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2019215991A1 WO2019215991A1 PCT/JP2019/006385 JP2019006385W WO2019215991A1 WO 2019215991 A1 WO2019215991 A1 WO 2019215991A1 JP 2019006385 W JP2019006385 W JP 2019006385W WO 2019215991 A1 WO2019215991 A1 WO 2019215991A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- ink
- printed matter
- producing
- inkjet printed
- inkjet
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 90
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 7
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 47
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 37
- -1 acryl Chemical group 0.000 description 36
- 239000002585 base Substances 0.000 description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 22
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 21
- 238000013461 design Methods 0.000 description 20
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 20
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 12
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 11
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 10
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000004593 Epoxy Chemical class 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 4
- 238000012835 hanging drop method Methods 0.000 description 4
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 4
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 3
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJJDJWUCRAPCOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC=C QJJDJWUCRAPCOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHYOGRKVRMWLT-UHFFFAOYSA-H [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1 Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1 PWHYOGRKVRMWLT-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N silylurea Chemical compound NC(=O)N[SiH3] IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N sulfanylsilane Chemical compound S[SiH3] TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- QGZHYFIQDSBZCB-UHFFFAOYSA-N (2-ethylphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphinic acid Chemical compound CCC1=CC=CC=C1P(O)(=O)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C QGZHYFIQDSBZCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPHWXFINOWXMDN-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(ethenoxy)hexane Chemical compound CCCCCC(OC=C)OC=C GPHWXFINOWXMDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIYIGPVBMDKPCR-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(ethenoxymethyl)cyclohexane Chemical compound C=COCC1(COC=C)CCCCC1 HIYIGPVBMDKPCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXSVCBDMOGLGFA-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)propane Chemical compound C=COC(C)COC=C LXSVCBDMOGLGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenoxy)butane Chemical compound C=COCCCCOC=C MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQJCIXUNHZZFMB-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxypropoxy)propane Chemical compound C=COCC(C)OCC(C)OC=C RQJCIXUNHZZFMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC=C LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- LAADXMBTEALRFH-UHFFFAOYSA-N 1-phenylsulfanylpyridin-1-ium Chemical class C=1C=CC=C[N+]=1SC1=CC=CC=C1 LAADXMBTEALRFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WULAHPYSGCVQHM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethenoxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCOC=C WULAHPYSGCVQHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQWWMKDFZUMMU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethyl)butanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CCOC(=O)C=C IEQWWMKDFZUMMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMPRPYVULIIUDT-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoyloxymethyl)butanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)COC(=O)C=C BMPRPYVULIIUDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNAGVRNJNARVRV-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxolane Chemical compound C1CCOC1COCC1(CC)COC1 SNAGVRNJNARVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVSDTPMZVLDKRT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]butoxy]ethanol Chemical compound OCCOCC(CC)OCC1(CC)COC1 DVSDTPMZVLDKRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNUGVECARVKIPH-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxypropane Chemical compound CC(C)OC=C GNUGVECARVKIPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGCHXPWVBFSUDT-UHFFFAOYSA-N 3-(2-butoxyethoxymethyl)-3-ethyloxetane Chemical compound CCCCOCCOCC1(CC)COC1 HGCHXPWVBFSUDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 3-(ethenoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COC=C DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKXMZIDBVDIVME-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]-2,2-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]propan-1-ol Chemical compound C1OCC1(CC)COCC(CO)(COCC1(CC)COC1)COCC1(CC)COC1 WKXMZIDBVDIVME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNOYISMZFDLQP-UHFFFAOYSA-N 3-[1-[2-(oxetan-3-yl)butoxy]butan-2-yl]oxetane Chemical compound C1OCC1C(CC)COCC(CC)C1COC1 MKNOYISMZFDLQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJIKKNFJBDSHO-UHFFFAOYSA-N 3-[3-aminopropyl(diethoxy)silyl]oxy-3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound NCCC[Si](OCC)(OCC)OC(C)(CCO)CCO PMJIKKNFJBDSHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVGDNYRHKDREFL-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(1-phenoxyethoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(C)OCC1(CC)COC1 FVGDNYRHKDREFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(2-ethylhexoxymethyl)oxetane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1(CC)COC1 BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCC1(CC)COC1 JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILMQZOSIJKYHA-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(2,3,4,5,6-pentabromophenoxy)methyl]oxetane Chemical compound BrC=1C(Br)=C(Br)C(Br)=C(Br)C=1OCC1(CC)COC1 DILMQZOSIJKYHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBXYBVUSKINNJL-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(2,3,4-tribromophenoxy)methyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(Br)C(Br)=C(Br)C=1OCC1(CC)COC1 PBXYBVUSKINNJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNZCVOLEQJDCJG-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(2-methylphenoxy)methyl]oxetane Chemical compound C=1C=CC=C(C)C=1OCC1(CC)COC1 LNZCVOLEQJDCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCBNYALMACLNBI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-fluorophenyl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound FC1=CC(=CC=C1)COCC1(COC1)CC JCBNYALMACLNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PENKVNGNXDMJKV-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(4-methoxyphenyl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(OC)C=CC=1COCC1(CC)COC1 PENKVNGNXDMJKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLNCKLVYLZHRKK-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCOCC1(CC)COC1 SLNCKLVYLZHRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARTCZOWQELAGLQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[2-[2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCOCCOCCOCC1(CC)COC1 ARTCZOWQELAGLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUGFSEWXAWXRTM-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[2-[2-[2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCOCCOCCOCCOCC1(CC)COC1 WUGFSEWXAWXRTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFHYGTWXNRUDH-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]butoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCOCC1(CC)COC1 UWFHYGTWXNRUDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXEOSBGULDWPRJ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[5-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]pentoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCCOCC1(CC)COC1 UXEOSBGULDWPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBDPVIKGIRHANI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[6-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]hexoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCCCCCCOCC1(CC)COC1 GBDPVIKGIRHANI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBZDVVPGOSVKB-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[(3-ethyloxetan-3-yl)-(2,3,4,5,6-pentachlorophenyl)methoxy]-(2,3,4,5,6-pentachlorophenyl)methyl]oxetane Chemical compound ClC=1C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C=1C(C1(CC)COC1)OC(C=1C(=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C=1Cl)Cl)C1(CC)COC1 CEBZDVVPGOSVKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPINXYMPRYQBGF-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]-2,2-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]propoxy]methyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC(COCC1(CC)COC1)(COCC1(CC)COC1)COCC1(CC)COC1 HPINXYMPRYQBGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCOXQQBTTNZJBI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical group C=1C=C(C=2C=CC(COCC3(CC)COC3)=CC=2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 DCOXQQBTTNZJBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRJJOYCFCCGPX-UHFFFAOYSA-N 3-ethyloxetane Chemical compound CCC1COC1 CGRJJOYCFCCGPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)C(O)=O RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXUDFWSZQAEDCP-UHFFFAOYSA-N 4-phenylsulfanylbenzenethiol Chemical compound C1=CC(S)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 FXUDFWSZQAEDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYHIFXGFKVJNBB-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2-[(2-hydroxynaphthalen-1-yl)diazenyl]-4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound C1=C(Cl)C(C)=CC(N=NC=2C3=CC=CC=C3C=CC=2O)=C1S(O)(=O)=O IYHIFXGFKVJNBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJEZBVHHZQAEDB-UHFFFAOYSA-N 6-oxabicyclo[3.1.0]hexane Chemical compound C1CCC2OC21 GJEZBVHHZQAEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- DXEYRGUREJDKKM-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.FC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)[B+2] Chemical compound C1(=CC=CC=C1)[I+]C1=CC=CC=C1.FC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)[B+2] DXEYRGUREJDKKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFFHAKFWTJQGLL-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)[N+]#N.[B+](F)F Chemical compound C1(=CC=CC=C1)[N+]#N.[B+](F)F YFFHAKFWTJQGLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOOIXEMFUKBQLJ-UHFFFAOYSA-N [1-(ethenoxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound C=COCC1(CO)CCCCC1 MOOIXEMFUKBQLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L azure blue Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[S-]S[S-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical compound [Cd]=S CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N fenbutatin oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C[Sn](O[Sn](CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RYZCLUQMCYZBJQ-UHFFFAOYSA-H lead(2+);dicarbonate;dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O RYZCLUQMCYZBJQ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNCCN YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1CCCCC1 DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYUYQYBDJFMFTH-WMMMYUQOSA-N naphthol red Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1NC(=O)C(C1=O)=CC2=CC=CC=C2\C1=N\NC1=CC=C(C(N)=O)C=C1 PYUYQYBDJFMFTH-WMMMYUQOSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STZXUSSPDVUIMK-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCCCCCCCCCO STZXUSSPDVUIMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000005704 oxymethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])O[*:1] 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- ZZSIDSMUTXFKNS-UHFFFAOYSA-N perylene red Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N(C(=O)C=1C2=C3C4=C(OC=5C=CC=CC=5)C=1)C(=O)C2=CC(OC=1C=CC=CC=1)=C3C(C(OC=1C=CC=CC=1)=CC1=C2C(C(N(C=3C(=CC=CC=3C(C)C)C(C)C)C1=O)=O)=C1)=C2C4=C1OC1=CC=CC=C1 ZZSIDSMUTXFKNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- RQAGEUFKLGHJPA-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoylsilicon Chemical compound [Si]C(=O)C=C RQAGEUFKLGHJPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDYFACFOJYNFAX-UHFFFAOYSA-J tetrafluoroantimony Chemical compound F[Sb](F)(F)F IDYFACFOJYNFAX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J11/00—Devices or arrangements of selective printing mechanisms, e.g. ink-jet printers or thermal printers, for supporting or handling copy material in sheet or web form
- B41J11/0015—Devices or arrangements of selective printing mechanisms, e.g. ink-jet printers or thermal printers, for supporting or handling copy material in sheet or web form for treating before, during or after printing or for uniform coating or laminating the copy material before or after printing
- B41J11/002—Curing or drying the ink on the copy materials, e.g. by heating or irradiating
- B41J11/0021—Curing or drying the ink on the copy materials, e.g. by heating or irradiating using irradiation
- B41J11/00214—Curing or drying the ink on the copy materials, e.g. by heating or irradiating using irradiation using UV radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M7/00—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
- B41M7/0081—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using electromagnetic radiation or waves, e.g. ultraviolet radiation, electron beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/21—Ink jet for multi-colour printing
- B41J2/2107—Ink jet for multi-colour printing characterised by the ink properties
- B41J2/2114—Ejecting specialized liquids, e.g. transparent or processing liquids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/0041—Digital printing on surfaces other than ordinary paper
- B41M5/0047—Digital printing on surfaces other than ordinary paper by ink-jet printing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/0041—Digital printing on surfaces other than ordinary paper
- B41M5/0058—Digital printing on surfaces other than ordinary paper on metals and oxidised metal surfaces
Definitions
- the present invention relates to a method for producing an inkjet printed material and an inkjet printed material.
- Patent Document 1 describes a method of screen-printing a metal or glass substrate having a specular gloss of 70% or more using a water-based emulsion transparent ink to form a coating film showing a screen pattern on the screen. ing. Patent Document 1 describes that this method can form a pseudo-etching pattern (a pattern that appears to be etched even though the substrate is not etched).
- Patent Document 2 describes a method of providing a “masking film” on a metal surface by an inkjet method, that is, a method of forming a film on a portion where etching needs to be suppressed when etching (etching) the metal surface. ing. Specifically, Patent Document 2 discloses a step of ejecting an ink composition containing a polymerizable monomer that can be polymerized by active energy rays as an ink droplet from an inkjet head, and a surface tension of the ejected ink droplet.
- a method for producing a masked metal plate which has a step of landing on a metal surface of 55 to 75 mN / m and a step of irradiating the landed droplets with active energy rays to form a masking layer on the metal. ing.
- Patent Document 1 uses a screen printing technique. Therefore, it is inferior in terms of simplicity. In addition, it is not suitable for the production of a small variety of products (if it is intended to produce a substrate with various patterns, various plates are required, which tends to be expensive).
- the technique described in Patent Document 2 relates to an etching “masking layer”. That is, the masking layer of Patent Document 2 is a temporary layer for preventing a part of the metal surface from being etched at the time of etching using a chemical, and is removed after the etching. In other words, the masking layer itself of Patent Document 2 is not provided from the viewpoint of design.
- the present inventors have made a new invention for the purpose of newly providing a method capable of producing a substrate having a low gloss region by printing an ink composition on the surface of a glossy substrate. investigated.
- a method for producing an inkjet printed material wherein a surface of a glossy substrate is provided with a low gloss region in which irregularities due to a cured product of a curable inkjet ink exist.
- the low gloss region includes an ink application step for applying droplets of a curable inkjet ink having a surface tension at 25 ° C. of 20 to 50 mN / m to the surface of the substrate, and a liquid for the ink applied to the surface.
- an ink-jet printed matter in which a low-gloss region in which irregularities due to a cured product of a curable ink-jet ink are present is provided on the surface of a glossy substrate.
- a production method capable of producing a substrate (inkjet print) having a low gloss region by printing an ink composition on the surface of a glossy substrate.
- This production method is suitable, for example, for the production of a small amount of various types of substrates.
- FIG. 10 is an enlarged image of a “low gloss region” of the inkjet printed matter obtained in Example 19.
- FIG. 14 is an enlarged image of a “low gloss region” of the inkjet printed matter obtained in Example 22.
- FIG. 4 is an enlarged image of a “low gloss region” of the ink-jet printed matter obtained in Example 27.
- FIG. 10 is an enlarged image of a “low gloss region” of the inkjet printed matter obtained in Example 19.
- FIG. 14 is an enlarged image of a “low gloss region” of the inkjet printed matter obtained in Example 22.
- FIG. 4 is an enlarged image of a “low gloss region” of the ink-jet printed matter obtained in Example 27.
- the term “substantially” means that it includes a range that takes into account manufacturing tolerances, assembly variations, and the like, unless otherwise specified.
- the notation “a to b” in the description of numerical ranges represents a to b inclusive unless otherwise specified.
- “1-5 mass%” means “1 mass% or more and 5 mass% or less”.
- the notation which does not describe substitution or non-substitution includes both those having no substituent and those having a substituent.
- the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
- the notation “(meth) acryl” in the present specification represents a concept including both acrylic and methacrylic. The same applies to similar notations such as “(meth) acrylate”.
- ⁇ Method for producing inkjet printed matter> it is possible to produce an inkjet printed material in which a low gloss region where unevenness due to a cured product of a curable inkjet ink is present is provided on the surface of a glossy substrate.
- the above-mentioned “low gloss region” is applied to the surface of the base material, an ink application step for applying droplets of a curable inkjet ink having a surface tension at 25 ° C. of 20 to 50 mN / m to the surface of the base material.
- a curing step for curing the ink droplets.
- the manufacturing method of the inkjet printed material of this embodiment does not need to produce a "plate” like the method of patent document 1 (using screen printing technology) by applying inkjet printing technology. That is, a printed matter can be easily manufactured. It is also suitable for the production of printed materials of small quantities and various varieties.
- the method for producing an ink-jet printed material includes an ink application process (hereinafter simply referred to as “ink application”) in which droplets of a curable ink-jet ink having a surface tension at 25 ° C. of 20 to 50 mN / m are applied to the surface of a substrate. Process ”).
- FIG. 1A is a diagram schematically showing an ink application process.
- a droplet 5 also simply referred to as “droplet 5”
- the ink application area 7A is formed.
- the curable inkjet ink used is typically photocurable or thermosetting.
- the curable inkjet ink is preferably one in which there is almost no volatilization of a solvent or the like and the ink soaks into the substrate at the stage where the ink is fixed to the substrate.
- the curable inkjet ink is preferably a photocurable type in terms of the simplicity of the process and apparatus, the selectivity of the substrate 1 (the substrate 1 that is weak against heat) can be used, and the like. The specific composition and physical properties of the curable inkjet ink will be described later.
- the droplets 5 are applied to the base material 1 at a density of, for example, 1000 to 100,000 / cm 2 .
- the density is more preferably 3000 to 80000 / cm 2 , and still more preferably 7000 to 60000 / cm 2 .
- the density (number / cm 2 ) of the droplets 5 can be adjusted by appropriately changing the printing density in the ink application process.
- the volume of the droplet 5 in the ink application step (volume of the droplet 5 per particle) is preferably 2 to 50 pL, more preferably 2 to 42 pL, and further preferably 3 to 30 pL.
- the volume of the droplet 5 is preferably 3 to 25 pL, more preferably 3 to 20 pL.
- the volume of the droplet 5 can be changed by changing the setting of the inkjet head 3 or replacing the inkjet head 3 itself.
- volume of the droplets 5 and the density of the droplets 5 from the viewpoint of further improving the design of the finally obtained inkjet printed matter.
- the design properties required in the market are various, and the “volume of the droplet 5” and the “density of the droplet 5” corresponding to the required design properties are various. As an example to the last, it is preferable to adjust as follows.
- volume of the droplet 5 When the volume of the droplet 5 is 2 pL or more and less than 10 pL: 5,000 to 80,000 pieces / cm 2 When the volume of the droplet 5 is 10 pL or more and less than 27 pL: 8,000 to 45,000 / cm 2 When the volume of the droplet 5 is 27 pL or more and less than 50 pL: 1,500 to 35,000 / cm 2
- the substrate 1 is not particularly limited as long as the surface thereof has a certain level of gloss.
- the material of the surface of the substrate 1 is preferably at least one selected from the group consisting of metal, synthetic resin, glass and glossy paper. Among these, metal or glass is particularly preferable.
- the material of the surface of the substrate 1 is a metal
- specific examples of the metal include iron, aluminum, stainless steel, and copper.
- the material of the surface of the base material 1 is not limited to these.
- the synthetic resin may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin. More specifically, polyolefin, polyester, polyamide, polyvinyl chloride, polystyrene, polyurethane, ABS resin, acrylic resin, polycarbonate, phenol resin, epoxy resin, melamine resin, urea resin, and the like can be given.
- the synthetic resin may contain filler particles and the like.
- the material of the surface of the base material 1 is not limited to these.
- any known glass can be applied as the glass.
- gloss paper examples include those known as so-called print paper (also referred to as print sheet, decorative board paper, base paper for decorative sheet, etc.).
- print paper also referred to as print sheet, decorative board paper, base paper for decorative sheet, etc.
- glossy paper one that consists essentially of paper pulp, one that has a resin added to the base paper, one that has been impregnated with resin during or after papermaking, titanium oxide or other materials to increase opacity.
- glossy paper it is more preferable that glossy paper has less ink penetration.
- the glossy paper is preferably one obtained by adding a resin to a base paper, or one obtained by impregnating a resin during or after papermaking.
- glossy paper and printed paper include those described in JP-A-2003-027392, those described in JP-A-2006-183218, those described in JP-A-2014-159650, and JP-A-2015. Although the thing etc. which are described in -059292 gazette are mentioned, it is not limited to these.
- the surface of the substrate 1 may be subjected to surface treatment or cleaning treatment for improving the adhesion of the droplets 5.
- surface treatment or cleaning treatment for improving the adhesion of the droplets 5.
- an alkali degreasing treatment may be performed.
- the thickness and size of the substrate 1 are not particularly limited. What is necessary is just to select suitably by the use of the inkjet printed matter finally obtained, the specification of an inkjet apparatus, etc.
- the substrate 1 is preferably substantially planar.
- the substrate 1 may have a three-dimensional shape as long as ink jet printing is possible.
- the base material 1 may be a three-dimensional container.
- Any ink jet head 3 can be used as long as it can eject a curable ink jet ink.
- a piezo type is preferable in terms of suppressing ink deterioration.
- Examples of commercially available inkjet heads 3 that can be used include KM1024 series manufactured by Konica Minolta.
- the method of moving the inkjet head 3 is not particularly limited as long as ink is appropriately applied to the substrate 1.
- the droplets 5 can be applied to the substrate 1 by any method in general ink jet printing, such as a single pass method, a multi-pass method, and a scan method.
- the ink droplets 5 applied to the surface of the substrate 1 in the ink application step are cured.
- the specific method for curing is appropriately selected depending on the properties of the ink applied to the substrate 1.
- the curing process is performed by performing light irradiation on the ink application region 7A.
- the applied ink is of a thermosetting type
- the ink application region 7A is heated to be cured.
- the curing process (specifically, light irradiation or heating) can be started even during the ink application process.
- the integrated light amount of the irradiated light is not particularly limited, and may be appropriately set depending on the photocurability (sensitivity) of the ink. In terms of both shortening of time and sufficient curing, the integrated light amount of the irradiated light is preferably 50 to 10000 mJ / cm 2 , more preferably 100 to 8000 mJ / cm 2 , and further preferably 300 to 5000 mJ. / Cm 2 .
- the wavelength of light and the light source are not particularly limited, and can be appropriately selected according to the sensitivity of the ink.
- light irradiation can be performed using an ultraviolet lamp or the like known in the field of curable inkjet ink.
- the time from when the droplet 5 is applied to the surface of the substrate 1 to the start of the light irradiation step is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 3.0 seconds, more preferably Is 0.1 to 1.0 seconds. By setting this time, the manufacturing time can be shortened. Further, although details are unknown, it is considered that the droplet 5 applied to the substrate 1 is cured in a shape suitable for light scattering by setting this time.
- the droplet 5 can be cured by heating the substrate to which the droplet 5 has been applied by any means such as hot air, an oven, a hot plate, or the like. it can.
- Heat treatment may be performed after light irradiation for the purpose of further improving the adhesion of the applied ink (droplet 5).
- the base material 1 has sufficient heat resistance (when the base material 1 is a metal base material)
- it is preferable to perform this treatment (the heat treatment is optional, the heat resistance of the base material 1 and the like).
- the substrate after light irradiation may be heat-treated at 40 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes.
- the heat treatment can be performed by any method such as hot air, an oven, or a hot plate.
- a low gloss region 7 (also simply referred to as “low gloss region 7”) is provided on a part of the surface of the substrate 1.
- the low gloss region 7 there are irregularities due to the cured product 6 (also simply referred to as “cured product 6”) of the curable inkjet ink.
- the cured product 6 also simply referred to as “cured product 6”
- the droplet 5 applied to the substrate 1 is usually shaped like a bowl upside down (or dome-shaped,
- the cured product 6 is obtained by curing with a hemispherical shape.
- the low gloss region 7 is distributed in a band shape, characters and geometric patterns by the low gloss region 7 can be formed by appropriately controlling the region to which the droplet 5 is applied.
- the unevenness is not particularly limited as long as it scatters light, but by appropriately controlling the unevenness, the design of the finally obtained inkjet printed matter can be further improved. For example, it is possible to provide not only a low gloss but also a pseudo etching pattern.
- the arithmetic average height Sa defined by ISO 25178 of the low gloss region 7 is preferably 0.05 to 5.0 ⁇ m, more preferably 0.2 to 3.0 ⁇ m, still more preferably 0.00. 25-2.0 ⁇ m.
- the maximum height Sz defined by ISO 25178 of the low gloss region 7 is preferably 0.5 to 40 ⁇ m, more preferably 0.5 to 30 ⁇ m, still more preferably 0.5 to 10 ⁇ m, Particularly preferred is 1.0 to 6.0 ⁇ m, and particularly preferred is 1.5 to 5.0 ⁇ m.
- Sz is preferably 10 to 25 ⁇ m.
- the shape of the cured product 6 when using the radical polymerizable ink may be slightly different from the case using other ink. It is presumed that this is related to the fact that the design property can be further improved by setting Sz to 10 to 25 ⁇ m.
- Sa and Sz can be measured using, for example, a commercially available 3D measurement laser microscope. Specifically, it can be measured using a laser microscope OLS4100 manufactured by Shimadzu Corporation.
- the cured product of the ink droplet 5 does not completely cover the substrate surface in the low gloss region 7.
- the surface of the substrate 1 is exposed to some extent even in the low gloss region 7.
- design nature can be raised further (for example, it is easy to obtain the appearance of pseudo etching tone with higher design nature).
- the low-gloss area 7 is magnified and observed from directly above the substrate 1, 5 to 99% of the substrate 1 is covered with a cured product of the droplet 5 in the magnified portion.
- the above numerical values can be obtained by, for example, enlarging and photographing an arbitrary portion (square area) in the low gloss region 7 with a microscope or the like and analyzing the photographed image.
- the cured product of the ink droplet 5 may completely cover the substrate surface. As long as there is moderate unevenness due to the cured product of the droplet 5, a low gloss appearance is realized.
- the low gloss region 7 exhibits a pseudo-etched appearance.
- a pseudo-etching pattern (a pattern that appears to be etched even though the substrate is not etched) on the glossy substrate surface. is there.
- a pseudo-etching pattern can be provided on the substrate surface without creating a plate.
- the ink is typically photocurable or thermosetting, preferably photocurable.
- the ink polymerization mode is not particularly limited.
- a cationic polymerization type or a radical polymerization type is preferable, and a cationic polymerization type is more preferable.
- the cationic polymerization type ink tends to have higher adhesion of the cured ink to the substrate 1 than the radical polymerization type ink. This is preferable in terms of durability.
- the cationic polymerization type ink typically contains a cationic polymerizable compound and a photo cationic polymerization initiator. In addition, other components may be included as appropriate. Hereinafter, composition components of the cationic polymerization type ink will be described.
- cationic polymerizable compound examples include oxetane compounds, epoxy compounds, vinyl ether compounds, and the like. Two or more of these may be used in combination.
- the cationic polymerization type ink may contain both an oxetane compound and an epoxy compound.
- Examples of the epoxy compound include aromatic epoxides, alicyclic epoxides, and aliphatic epoxides.
- aromatic epoxide di- or polyglycidyl ether obtained by reaction with a polyhydric phenol having at least one aromatic ring, an alkylene oxide adduct thereof, or epichlorohydrin is used.
- examples thereof include di- or polyglycidyl ethers of bisphenol A or alkylene oxide adducts thereof, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or alkylene oxide adducts thereof, and novolak type epoxy resins.
- examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.
- the epoxy compound a compound having two or more epoxy groups in one molecule is preferable, and a compound having 2 to 6 epoxy groups in one molecule is more preferable.
- Cyclohexene oxide or cyclopentene oxide obtained by epoxidizing a compound having at least one cyclohexene ring, cyclopentene ring or the like with an oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid as the alicyclic epoxide A compound is used.
- an aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct di- or polyglycidyl ether thereof is used.
- Examples thereof include polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, diglycidyl ethers of polyethylene glycol or alkylene oxide adducts thereof, and diglycidyl ethers of polyalkylene glycols such as diglycidyl ethers of polypropylene glycol or alkylene oxide adducts thereof.
- examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.
- aromatic epoxides or alicyclic epoxides are preferable from the viewpoint of curability, and alicyclic epoxides are more preferable.
- alicyclic epoxides are more preferable.
- an epoxy compound 1 type (s) or 2 or more types can be selected suitably, and can be used.
- oxetane compound those having 1 to 4 oxetane rings in one molecule are preferable, and those having 2 to 4 oxetane rings in one molecule are more preferable.
- oxetane compound examples include 3-ethyl-3-[[((3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl] oxetane, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 4,4′-bis [( 3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, 3- (meth) allyloxymethyl-3-ethyloxetane, (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methylbenzene, (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) Benzene, 4-fluoro- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 4-methoxy- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, [1- (3- Ethyl-3-oxetanylmethoxy
- the vinyl ether compound is preferably a di- or trivinyl ether compound, more preferably a divinyl ether compound, from the viewpoint of curability and adhesion.
- vinyl ether compound examples include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, Mention may be made of di- or trivinyl ether compounds such as methylolpropane trivinyl ether.
- monovinyl ether compounds such as dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and octadecyl vinyl ether.
- a vinyl ether compound 1 type (s) or 2 or more types can be selected suitably, and can be used.
- the amount of the cationic polymerizable compound in the cationic polymerization type ink is not particularly limited.
- the amount thereof is usually from 85 to 99.5% by mass, preferably from 90 to 99% by mass, based on 100% by mass of all components other than the volatile organic solvent in the ink.
- any photocationic polymerization initiator can be used as long as it can generate cations by light irradiation and polymerize the cationically polymerizable compound.
- known photocationic polymerization initiators such as onium salts, more specifically sulfonium salt derivatives and iodonium salt derivatives can be used.
- the cationic photopolymerization initiator include diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts and the like.
- the cation part is aromatic diazonium, aromatic iodonium or aromatic sulfonium, respectively, and the anion part is BF 4 ⁇ , PF 6 ⁇ , SbF 6 ⁇ , [BX 4 ] ⁇ (where X is at least two or more fluorine atoms). Or a phenyl group substituted with a trifluoromethyl group) or the like.
- Specific compounds include boron difluoride phenyldiazonium salt, phosphorus hexafluoride diphenyliodonium salt, antimony hexafluoride diphenyliodonium salt, arsenic hexafluoride tri-4-methylphenylsulfonium salt, tetrafluoride Antimony tri-4-methylphenylsulfonium salt, tetrakis (pentafluorophenyl) boron diphenyliodonium salt, acetylacetone aluminum salt and orthonitrobenzylsilyl ether mixture, phenylthiopyridinium salt, hexafluorophosphorane allene-iron complex, etc. Can be mentioned.
- photocationic polymerization initiators examples include CPI-100P, CPI-200K (manufactured by Sakai San Apro), WPI-113, and WPI-124 (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
- the amount of the cationic photopolymerization initiator in the cationic polymerization type ink is not particularly limited.
- the amount thereof is usually 0.5 to 15 parts by mass, preferably 1.0 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cationically polymerizable compound.
- the cationic polymerization type ink may contain an optional component in addition to the cationic polymerizable compound and the photo cationic polymerization initiator.
- radical polymerizable compounds such as (meth) acrylate monomers or oligomers, photo radical initiators, antifoaming agents, leveling agents, polymerization inhibitors, waxes, antioxidants, non-reactive polymers, particulate inorganic fillers, silanes
- One or two or more of coupling agents, light stabilizers, ultraviolet absorbers, antistatic agents, slip agents, solvents and the like may be included.
- the cationic polymerization type ink preferably contains a silane coupling agent from the viewpoint of improving adhesion.
- the silane coupling agent include amino silane, epoxy silane, (meth) acryl silane, mercapto silane, vinyl silane, ureido silane, and sulfide silane.
- epoxy silane (a compound having an epoxy group and a hydrolyzable silyl group) is preferable in terms of improving adhesion and compatibility with the above-described cationic polymerizable compound.
- aminosilanes include bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, ⁇ -aminopropyltriethoxysilane, ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ -aminopropylmethyldiethoxysilane, and ⁇ -amino.
- Examples of the epoxy silane include ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and ⁇ -glycidylpropyltrimethoxy. Silane etc. are mentioned.
- Examples of the acrylic silane include ⁇ - (methacryloxypropyl) trimethoxysilane, ⁇ - (methacryloxypropyl) methyldimethoxysilane, and ⁇ - (methacryloxypropyl) methyldiethoxysilane.
- Examples of mercaptosilane include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.
- Examples of vinyl silane include vinyl tris ( ⁇ -methoxyethoxy) silane, vinyl triethoxy silane, and vinyl trimethoxy silane.
- Examples of ureidosilane include 3-ureidopropyltriethoxysilane.
- Examples of the sulfide silane include bis (3- (triethoxysilyl) propyl) disulfide, bis (3- (triethoxysilyl) propyl) tetrasulfide, and the like.
- the cation polymerization type ink contains a silane coupling agent, it may contain only one kind or two or more kinds.
- the amount of the silane coupling agent in the cationic polymerization type ink is not particularly limited. The amount is usually 0.1 to 30% by mass, preferably 1 to 20% by mass, based on 100% by mass of all components other than the volatile organic solvent in the ink.
- the radical polymerization type ink typically contains a radical polymerizable monomer and a photo radical polymerization initiator.
- radical polymerizable monomer examples include compounds having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds in one molecule.
- the radical polymerizable monomer is preferably a compound having one or more (meth) acrylic structures in one molecule.
- Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meta ) Acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n-lauryl (meth) acrylate, n-stearyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) ) Acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dimethyl (meth) acrylamide, diethyl (meth) acrylamide, di-n-propyl (meth) acrylamide, dibutyl (meth) acrylamide and the like.
- polyfunctional monomers examples include triethylene glycol di (meth) acrylate and tetraethylene glycol di (meth).
- Acrylate polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dimethylol-tricyclodecane di (meth) acrylate, PO adduct of bisphenol A di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopenty It can be exemplified difunctional monomers such as glycol di (meth) acrylate,
- polyfunctional monomer examples include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, EO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and EO-modified pentaerythritol tetra ( (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, glycerin propoxytri (meth) acrylate, caprolactone-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxytetra (meth) acrylate, Examples also include caprolactam-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.
- a monomer having a polar group for example, a phosphate group or a carboxy group
- Monomers having a phosphoric acid group include 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate, di (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate, caprolactone-modified-2-acryloyloxyethyl acid phosphate, diphenyl-2-acryloyl Examples thereof include oxyethyl phosphate.
- Monomers having a carboxy group include (meth) acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, 2- (meth) acryloyloxymethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid And so on.
- the radical polymerization type ink may contain only one kind of radical polymerizable monomer or two or more kinds. From the viewpoint of appropriate polymerizability, crosslinking density, adhesion, etc., it is preferable to use a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer, for example. Moreover, it is preferable to use together the monomer which has a polar group, and the monomer which is not so from points, such as adjustment of adhesiveness and the dispersibility of an ink.
- the radical photopolymerization initiator contained in the radical polymerization type ink is not particularly limited as long as it can generate radicals by light irradiation and polymerize the above radical polymerizable monomer.
- Specific examples of the photo radical polymerization initiator include ⁇ -hydroxyketone photoinitiator, ⁇ -aminoketone photoinitiator, bisacylphosphine photoinitiator, monoacylphosphine oxide, bisacylphosphine oxide, such as 2,4,6 Trimethylbenzoylbiphenylphosphine oxide, ethyl-2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphinate, mono- and bis-acylphosphine photoinitiator, benzyldimethyl-ketal photoinitiator, oligo [2-hydroxy-2-methyl- 1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone] and the like.
- photo radical polymerization initiators examples include IRGACURE (registered trademark) series sold by BASF. Of course, other radical photopolymerization initiators can be used.
- the radical polymerization type ink may contain only one type of radical photopolymerization initiator or two or more types.
- the amount of the photo radical polymerizable compound in the radical polymerization type ink is not particularly limited. The amount thereof is usually 0.5 to 15 parts by mass, preferably 1.0 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radical polymerizable monomer.
- the radical polymerization type ink may contain an optional component in addition to the radical polymerizable monomer and the photo radical polymerization initiator.
- an optional component in addition to the radical polymerizable monomer and the photo radical polymerization initiator.
- antifoaming agent As optional components, as with the cationic polymerization type ink, antifoaming agent, leveling agent, polymerization inhibitor, waxes, antioxidant, non-reactive polymer, fine particle inorganic filler, silane coupling agent, light stabilizer, UV absorber Agents, antistatic agents, slip agents, solvents and the like.
- the ink (which may be a cationic polymerization type or an anion polymerization type) may contain an arbitrary colorant. Thereby, design nature can be raised further and / or design variation can be made abundant. From the viewpoint of weather resistance and the like, a pigment is preferably used as the colorant. As the pigment, known organic pigments and / or inorganic pigments can be used.
- Organic pigments include soluble azo pigments such as lake red C and permanent red 2B, insoluble azo pigments such as first yellow and naphthol red, condensed azo pigments such as chromophthal yellow and chromophthal red, and phthalocyanines such as phthalocyanine blue and phthalocyanine green. Examples thereof include condensed polycyclic pigments such as pigments, thioindigo and perylene red.
- Inorganic pigments include oxide pigments such as cobalt blue, zinc white, and light red, hydroxide pigments such as viridan and alumina white, sulfide pigments such as cadmium yellow and cadmium red, ultramarine, talc, and white carbon. Examples thereof include silicate pigments, silver white, carbonate pigments such as calcium carbonate, and carbon black.
- the ink does not contain a colorant (that is, the ink is a clear ink).
- the surface tension of the ink (which may be a cationic polymerization type or an anion polymerization type) is 20 to 50 mN / m at 25 ° C. This value is preferably 25 to 45 mN / m, more preferably 25 to 40 mN / m, and still more preferably 25 to 35 mN / m.
- the hanging drop method pendant drop method
- the drip / de method and the Young-Laplace method are known as the hanging drop method. Of these, the Young-Laplace method is preferred.
- the viscosity of the ink (which may be a cationic polymerization type or an anion polymerization type) is not particularly limited as long as irregularities can be formed on the surface of the substrate 1, but is preferably 5 to 40 mPa ⁇ s, more preferably 10 to 30 mPa ⁇ s.
- the viscosity can be measured under the condition of 25 ° C. using, for example, a cone plate viscometer. For details of the measurement conditions, see the examples.
- the inkjet printed material of the present embodiment has a glossy base material provided with a low gloss region where unevenness due to the cured product of the curable inkjet ink is present.
- This ink-jet printed matter can usually be produced by the method described in ⁇ Method for producing ink-jet printed matter> above. This inkjet printed matter has already been described with reference to FIG. 1C, but will be described again for the sake of safety.
- the inkjet printed material illustrated in FIG. 1C includes a substrate 1 and a low gloss region 7 (low gloss region 7) where unevenness due to the cured product of the curable inkjet ink is present on a part of the surface thereof.
- the material of the surface of the substrate 1 is preferably at least one selected from the group consisting of metal, synthetic resin, glass and glossy paper.
- the arithmetic average height Sa defined by ISO 25178 of the low gloss region 7 is preferably 0.05 to 5.0 ⁇ m, more preferably 0.2 to 3.0 ⁇ m, and further preferably 0.25 to 2.0 ⁇ m. It is.
- the maximum height Sz defined by ISO 25178 of the low gloss region 7 is 0.5 to 40 ⁇ m, more preferably 0.5 to 30 ⁇ m, still more preferably 0.5 to 10 ⁇ m, and particularly preferably 1.0 to 6 0.0 ⁇ m, particularly preferably 1.5 to 5.0 ⁇ m.
- the dots of the cured ink droplets of the ink-jet ink are preferably 1000 to 100,000 / cm 2 , more preferably 3000 to 80000 / cm 2 , and still more preferably 7000 to 60000 / cm 2.
- the cured product of ink droplets preferably does not completely cover the substrate surface. Even in the low-gloss region 7, the design surface can be further improved by exposing the substrate surface to some extent.
- the 60 ° specular gloss ⁇ 1 of the low gloss region 7 is, for example, 30 to 600, preferably 40 to 500, and more preferably 100 to 400. By making the 60 ° specular gloss ⁇ 1 an appropriate value, the design can be further improved.
- the 60-degree specular gloss ⁇ 2 of the surface of the inkjet printed material where the low-gloss area 7 is not provided is larger than that of the low-gloss area 7, and is, for example, 50 to 1000, preferably 90 to 1000. More preferably, it is 100 to 1000.
- the 60-degree specular gloss of the substrate 1 itself does not have to be within the above numerical range, and it is only necessary that the glossiness is different between the low gloss region 7 and the other regions.
- the 60-degree specular gloss can vary greatly depending on the material and surface properties of the substrate.
- the 60-degree specular gloss change rate (%) obtained by ⁇ ( ⁇ 2 ⁇ 1 ) / ⁇ 2 ⁇ ⁇ 100 from the above ⁇ 1 and ⁇ 2 is, for example, 1 to 99%, preferably 10 to 90%, more preferably 20 to 85%.
- the low-gloss area 7 (and the cured product 6 constituting the low-gloss area 7) in the inkjet printed material of the present embodiment is usually provided semi-permanently on the surface of the substrate 1. is there. And the inkjet printed matter of this embodiment can distribute
- Example using cationic polymerizable ink ⁇ Preparation of cationic polymerizable ink> Components shown in Table 1 below were mixed and stirred with a disper to obtain a cationic polymerizable ink.
- OXT-221 3-ethyl-3 ⁇ [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl ⁇ oxetane
- OXT-101 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (oxetane alcohol) •
- Celoxide 2021P 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate •
- GLYMO 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane •
- CPI-100P [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophos Fart's 50% by weight propylene carbonate solution
- the surface tension of the inkjet ink was 30 mN / m.
- the surface tension is determined by using a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., model number PCA-11) under the condition of 25 ° C., and the hanging drop method (pendant drop method, more specifically, Young- (Laplace method).
- the viscosity of the inkjet ink was 18 mPa ⁇ s.
- the viscosity was measured using a cone plate viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., model number RE-85H) at 25 ° C. Measurement conditions were a cone rotor of 1 ° 34 ′ ⁇ R24 and a rotational speed of 100 rpm.
- a stainless steel plate (SUS304 # 800) having a thickness of 1.5 mm subjected to alkali degreasing treatment was prepared as a base material.
- the surface of the base material itself had a 60-degree specular gloss of 610 (a method for measuring the 60-degree specular gloss will be described later).
- An ink jet printer equipped with a piezo ink jet head manufactured by Konica Minolta (part numbers are listed in Tables 2 to 7 below) was prepared.
- Inkjet printer reads image data called “NATOCO” (alphabet notation of the applicant's trade name of the present patent application), ejects the ink prepared above at a head temperature of 40 ° C., and produces ink droplets. Applied to the substrate.
- the ink droplet application was performed by multi-pass printing divided into eight, and the resolution was 720 ⁇ 720 dpi.
- Print density represents how many droplets have been ejected (discharged) with respect to the maximum number of droplets ejected per unit area (ie, resolution) of the inkjet head.
- the ink droplets applied to the substrate surface were cured by irradiating with ultraviolet rays.
- a UV irradiation apparatus CoolArc CA150 manufactured by Nippon Baldwin Co., Ltd.
- a metal halide lamp 0.2 seconds after ejecting the ink, an irradiation dose of 500 mJ / cm 2 (UV ⁇ ) per pass. (A conversion) was performed by irradiating with ultraviolet rays.
- FIGS. 1 and 2 For reference, an example (photograph) of the manufactured inkjet printed matter is shown in FIGS.
- FIG. 2 and FIG. 3 three “NATOCO” character images are lined up. These are the examples 25, in order from the top when the base material is viewed with the NATOCO characters oriented in the correct direction. (This is a character image printed under the conditions corresponding to Example 22 and Example 19.)
- Laser microscope objective lens MPLAPON20XLENT
- Measurement area Four-screen connection range (1200 ⁇ m ⁇ 1200 ⁇ m) of one field of view 644 ⁇ m ⁇ 644 ⁇ m in the low gloss region
- Cutoff wavelength ⁇ c by Gaussian filter 80 ⁇ m
- a metal substrate that was actually etched was prepared as a reference substrate.
- a 1.5 mm-thick stainless steel plate (SUS304 # 800) subjected to alkali degreasing treatment was prepared, and this was put in a spray etching apparatus.
- a ferric chloride aqueous solution with a liquid specific gravity of 46 baume and a liquid temperature of 60 ° C. was sprayed on the surface at a spray pressure of 2.5 kgf / cm 2 to etch about 50 ⁇ m of the steel sheet surface.
- an etched steel plate was prepared.
- the etched steel sheet prepared above and the ink-jet printed matter produced in Examples 1 to 45 are presented to 20 consumers unrelated to the applicant, and the ink-jet printed matter produced in Examples 1 to 45 is etched.
- a questionnaire survey was conducted on how to feel it in comparison with steel sheets according to the following criteria. The scores given by 20 consumers are totaled for each example, and the results are shown in Tables 1 to 3. The higher the total score, the higher the evaluation. ⁇ Etching feeling is felt .... 2 points. ⁇ Slight etching feeling is felt 7-8 1 point. ⁇ Etching feeling is not felt 7-8 0 points.
- Tables 2 to 7 summarize the printing conditions and the evaluation results of the ink-jet printed material. For reference, enlarged images of “low-gloss regions” of the ink-jet printed materials obtained in Examples 19, 22 and 27 are shown in FIGS.
- an ink application step for applying droplets of a curable inkjet ink having a surface tension at 25 ° C. of 20 to 50 mN / m on the surface of a glossy substrate, and the substrate By the curing step of curing the ink droplets applied to the surface, it was possible to obtain an inkjet printed material having a low-gloss area (there is unevenness due to the cured ink) on the substrate surface.
- the change in the specular gloss level is generally correlated with the print density and the dot density. From this, it can be seen that the glossiness can be freely changed to some extent by appropriately changing the ink discharge conditions.
- Omnirad 184 is IGM Resins B.I. V. 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (active ingredient 100%).
- the surface tension of the inkjet ink was 35 mN / m.
- the measurement is performed using a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., model number PCA-11) under the condition of 25 ° C., and the hanging drop method (pendant drop method, more specifically, Young-Laplace). Method).
- the viscosity of the inkjet ink was 25 mPa ⁇ s.
- the measurement was performed using a cone plate viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., model number RE-85H) at 25 ° C. Measurement conditions were a cone rotor of 1 ° 34 ′ ⁇ R24 and a rotational speed of 100 rpm.
- Inkjet printer reads image data called “NATOCO” (alphabet notation of the applicant's trade name of the present patent application), ejects the ink prepared above at a head temperature of 40 ° C., and produces ink droplets. Applied to the substrate.
- the ink droplet application was performed by multi-pass printing divided into eight, and the resolution was 720 ⁇ 720 dpi.
- the volume, print density and dot density of ink droplets (density of ink droplets applied to the substrate) were as shown in Tables 9 and 10 below. For the definitions of “print density” and “dot density”, see I.1. It is the same.
- the ink droplets applied to the substrate surface were cured by irradiating with ultraviolet rays.
- a UV irradiation apparatus CoolArc CA150 manufactured by Nippon Baldwin Co., Ltd.
- a metal halide lamp 0.2 seconds after ejecting the ink, an irradiation dose of 500 mJ / cm 2 (UV ⁇ ) per pass. (A conversion) was performed by irradiating with ultraviolet rays.
- Tables 9 and 10 collectively show the printing conditions and the evaluation results of the inkjet printed matter.
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物の製造方法。ここで、低光沢領域は、25℃での表面張力が20~50mN/mである硬化型インクジェットインクの液滴を基材の表面に付与するインク付与工程と、表面に付与されたインクの液滴を硬化させる硬化工程とにより形成される。また、光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物。
Description
本発明は、インクジェット印刷物の製造方法およびインクジェット印刷物に関する。
光沢がある基材表面(例えば金属基材表面)に、各種のインキ組成物を印刷または塗布する方法については、様々な公知技術が知られている。
例えば、特許文献1には、鏡面光沢度70%以上の金属またはガラス基材に、水系エマルジョンの透明インキを用いてスクリーン印刷し、スクリーン版の網目模様を示す塗膜を形成する方法が記載されている。特許文献1には、この方法により、疑似エッチング模様(基材を食刻していないにもかかわらず、あたかも食刻しているように見える模様)を形成できると記載されている。
また、特許文献2には、インクジェット方式で金属表面に「マスキング皮膜」を設ける方法、すなわち、金属表面の食刻(エッチング)に際し、エッチングを抑える必要がある部分に被膜を形成する方法が記載されている。
具体的には、特許文献2には、活性エネルギー線により重合可能な重合性モノマーを含むインキ組成物を、インクジェットヘッドからインキ液滴として吐出する工程と、吐出されたインキ液滴を、表面張力55~75mN/mの金属表面に着弾させる工程と、着弾した液滴に活性エネルギー線を照射して、金属にマスキング層を形成する工程とを有する、マスクされた金属板の製造方法が記載されている。
具体的には、特許文献2には、活性エネルギー線により重合可能な重合性モノマーを含むインキ組成物を、インクジェットヘッドからインキ液滴として吐出する工程と、吐出されたインキ液滴を、表面張力55~75mN/mの金属表面に着弾させる工程と、着弾した液滴に活性エネルギー線を照射して、金属にマスキング層を形成する工程とを有する、マスクされた金属板の製造方法が記載されている。
光沢がある基材表面に、インキ組成物の印刷により設けられた低光沢領域を備える、意匠性の高い基材が市場で求められている。例えば、先行技術1で言及されているような、光沢がある基材表面に、光沢の低い「疑似エッチング模様」を備える基材のニーズがある。
また、そのような意匠性の高い基材を、比較的簡便に製造できれば好ましい。
また、そのような意匠性の高い基材を、比較的簡便に製造できれば好ましい。
しかし、特許文献1に記載された技術は、スクリーン印刷技術を用いるものである。よって、簡便性という点では劣る。また、少量多品種の製造には不向きである(種々の模様の基材を製造しようとすると、多種の版が必要となり、高コストとなりやすい)。
また、特許文献2に記載された技術は、食刻の「マスキング層」に関するものである。つまり、特許文献2のマスキング層は、薬品を使った食刻の際に、金属表面の一部の食刻を防ぐための一時的なものであり、食刻後に除去される。換言すると、特許文献2のマスキング層それ自身は、意匠性の観点から設けられているものではない。
本発明者らは、今回、光沢がある基材の表面にインキ組成物を印刷して、低光沢領域を備える基材を製造可能な方法を新たに提供することを目的として、新たな発明を検討した。
本発明者らは、鋭意検討の結果、以下に提供される発明を完成させた。
本発明によれば、
光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記低光沢領域は、25℃での表面張力が20~50mN/mである硬化型インクジェットインクの液滴を前記基材の表面に付与するインク付与工程と、前記表面に付与されたインクの液滴を硬化させる硬化工程とにより形成される、インクジェット印刷物の製造方法
が提供される。
光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記低光沢領域は、25℃での表面張力が20~50mN/mである硬化型インクジェットインクの液滴を前記基材の表面に付与するインク付与工程と、前記表面に付与されたインクの液滴を硬化させる硬化工程とにより形成される、インクジェット印刷物の製造方法
が提供される。
また、本発明によれば、
光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物
が提供される。
光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物
が提供される。
本発明により、光沢がある基材の表面にインキ組成物を印刷して、低光沢領域を備える基材(インクジェット印刷物)を製造可能な製造方法が新たに提供される。この製造方法は、例えば、少量多品種の基材の製造に好適である。
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
煩雑さを避けるため、同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その1つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合がある。
すべての図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
煩雑さを避けるため、同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その1つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合がある。
すべての図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
本明細書中、「略」という用語は、特に明示的な説明の無い限りは、製造上の公差や組立て上のばらつき等を考慮した範囲を含むことを表す。
本明細書中、数値範囲の説明における「a~b」との表記は、特に断らない限り、a以上b以下のことを表す。例えば、「1~5質量%」とは「1質量%以上5質量%以下」の意である。
本明細書中、数値範囲の説明における「a~b」との表記は、特に断らない限り、a以上b以下のことを表す。例えば、「1~5質量%」とは「1質量%以上5質量%以下」の意である。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換か無置換かを記していない表記は、置換基を有しないものと置換基を有するものの両方を包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有しないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書における「(メタ)アクリル」との表記は、アクリルとメタクリルの両方を包含する概念を表す。「(メタ)アクリレート」等の類似の表記についても同様である。
本明細書における「(メタ)アクリル」との表記は、アクリルとメタクリルの両方を包含する概念を表す。「(メタ)アクリレート」等の類似の表記についても同様である。
<インクジェット印刷物の製造方法>
本実施形態のインクジェット印刷物の製造方法によれば、光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物を製造することができる。
上記の「低光沢領域」は、25℃での表面張力が20~50mN/mである硬化型インクジェットインクの液滴を基材の表面に付与するインク付与工程と、その基材表面に付与されたインクの液滴を硬化させる硬化工程とにより形成される。
本実施形態のインクジェット印刷物の製造方法によれば、光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物を製造することができる。
上記の「低光沢領域」は、25℃での表面張力が20~50mN/mである硬化型インクジェットインクの液滴を基材の表面に付与するインク付与工程と、その基材表面に付与されたインクの液滴を硬化させる硬化工程とにより形成される。
光沢のある基材の表面に硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸を設けると、その凹凸により光が散乱されることとなる。よって、光沢のある基材の表面に、その基材そのものが持つ光沢よりも低光沢の領域を設けることができる。
また、本実施形態のインクジェット印刷物の製造方法は、インクジェット印刷技術を適用することで、特許文献1に記載の方法(スクリーン印刷技術を使用)のように「版」を作成する必要が無い。つまり、簡便に印刷物を製造できる。また、少量多品種の印刷物の製造に向いている。
また、本実施形態のインクジェット印刷物の製造方法は、インクジェット印刷技術を適用することで、特許文献1に記載の方法(スクリーン印刷技術を使用)のように「版」を作成する必要が無い。つまり、簡便に印刷物を製造できる。また、少量多品種の印刷物の製造に向いている。
以下、本実施形態のインクジェット印刷物の製造方法について、より詳細に説明する。
(インク付与工程:図1A)
本実施形態のインクジェット印刷物の製造方法は、25℃での表面張力が20~50mN/mである硬化型インクジェットインクの液滴を基材の表面に付与するインク付与工程(以下、単に「インク付与工程」とも表記する)を含む。
本実施形態のインクジェット印刷物の製造方法は、25℃での表面張力が20~50mN/mである硬化型インクジェットインクの液滴を基材の表面に付与するインク付与工程(以下、単に「インク付与工程」とも表記する)を含む。
図1Aは、インク付与工程を模式的に示す図である。ここでは、インクジェットヘッド3から、光沢のある基材1(単に「基材1」とも表記する)の表面に、硬化型インクジェットインクの液滴5(単に「液滴5」とも表記する)を付与して、インク付与領域7Aを形成している。
用いられる硬化型インクジェットインクは、典型的には光硬化型または熱硬化型である。また、硬化型インクジェットインクは、好ましくは、インキが基材に定着する段階で、溶剤等の揮発や基材へのインクのしみ込みがほとんど無いものである。
硬化型インクジェットインクは、特に、光硬化型であることが、プロセスや装置の簡便さ、基材1の選択性(熱に弱い基材1も用いることができる)などの点で好ましい。
硬化型インクジェットインクの具体的組成や物性などについては、後述する。
硬化型インクジェットインクは、特に、光硬化型であることが、プロセスや装置の簡便さ、基材1の選択性(熱に弱い基材1も用いることができる)などの点で好ましい。
硬化型インクジェットインクの具体的組成や物性などについては、後述する。
インク付与工程では、基材1に対して、例えば1000~100000個/cm2の密度で液滴5を付与する。この密度は、より好ましくは3000~80000個/cm2、さらに好ましくは7000~60000個/cm2である。適当な密度で液滴5を基材1に付与することで、最終的に得られるインクジェット印刷物における光の散乱性を適切に調整することができ、意匠性を一層高めうる。
液滴5の密度(個/cm2)は、インク付与工程における印刷濃度を適宜変更すること等により調整することができる。
液滴5の密度(個/cm2)は、インク付与工程における印刷濃度を適宜変更すること等により調整することができる。
インク付与工程における液滴5の体積(一粒一粒の液滴5の体積)は、好ましくは2~50pL、より好ましくは2~42pL、さらに好ましくは3~30pLである。適当な体積の液滴5を基材1に付与することで、最終的に得られるインクジェット印刷物における光の散乱性を適切に調整することができ、好ましい。特に、意匠性が高い疑似エッチング調の印刷物を得ようとする場合、液滴5の体積は、好ましくは3~25pL、より好ましくは3~20pLである。
液滴5の体積は、インクジェットヘッド3の設定を変更したり、インクジェットヘッド3自体を交換したりすることで変えることができる。
液滴5の体積は、インクジェットヘッド3の設定を変更したり、インクジェットヘッド3自体を交換したりすることで変えることができる。
最終的に得られるインクジェット印刷物の意匠性を一層高める点からは、液滴5の体積と、液滴5の密度との両方を適切に調整することが好ましい。
市場で求められる意匠性は様々であり、求められる意匠性に対応する「液滴5の体積」および「液滴5の密度」は様々である。あくまで一例として、以下のように調整することが好ましい。
・液滴5の体積が2pL以上10pL未満の場合:5,000~80,000個/cm2
・液滴5の体積が10pL以上27pL未満の場合:8,000~45,000個/cm2
・液滴5の体積が27pL以上50pL未満の場合:1,500~35,000個/cm2
市場で求められる意匠性は様々であり、求められる意匠性に対応する「液滴5の体積」および「液滴5の密度」は様々である。あくまで一例として、以下のように調整することが好ましい。
・液滴5の体積が2pL以上10pL未満の場合:5,000~80,000個/cm2
・液滴5の体積が10pL以上27pL未満の場合:8,000~45,000個/cm2
・液滴5の体積が27pL以上50pL未満の場合:1,500~35,000個/cm2
基材1については、その表面がある程度の光沢を備えるものである限り、特に限定されない。
基材1の表面の材質は、好ましくは、金属、合成樹脂、ガラスおよび光沢紙からなる群より選ばれる少なくともいずれかである。これらの中でも、金属またはガラスが特に好ましい。
基材1の表面の材質は、好ましくは、金属、合成樹脂、ガラスおよび光沢紙からなる群より選ばれる少なくともいずれかである。これらの中でも、金属またはガラスが特に好ましい。
基材1の表面の材質が金属である場合、その金属として具体的には、鉄、アルミニウム、ステンレス、銅などを挙げることができる。もちろん、基材1の表面の材質はこれらのみに限定されない。
基材1の表面の材質が合成樹脂である場合、その合成樹脂としては、熱可塑性樹脂であっても熱硬化性樹脂であってもよい。より具体的には、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリウレタン、ABS樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂などを挙げることができる。また、合成樹脂は、フィラー粒子などを含んでいてもよい。もちろん、基材1の表面の材質はこれらのみに限定されない。
基材1の表面の材質がガラスである場合、そのガラスとしては、公知の任意のガラスを適用することができる。
基材1の「光沢紙」としては、例えば、いわゆるプリント紙(プリントシート、化粧板用紙、化粧シート用原紙などともいう)として知られているものが挙げられる。
光沢紙には様々な種類があり、実質的に紙パルプのみからなるもの、原紙に樹脂が添加されたもの、抄造時または抄造後に樹脂を含浸させたもの、不透明度を高めるために酸化チタンや焼成クレー等が添加されたもの等、様々である。基本的にはこれらのいずれを用いてもよい。なお、光沢紙については、インクのしみ込みが少ないものであることがより好ましい。この点で、光沢紙としては、原紙に樹脂が添加されたもの、もしくは、抄造時または抄造後に樹脂を含浸させたものが好ましい。
光沢紙やプリント紙の具体例としては、特開2003-027392号公報に記載のもの、特開2006-183218号公報に記載のもの、特開2014-159650号公報に記載のもの、特開2015-059292号公報に記載のもの等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
光沢紙には様々な種類があり、実質的に紙パルプのみからなるもの、原紙に樹脂が添加されたもの、抄造時または抄造後に樹脂を含浸させたもの、不透明度を高めるために酸化チタンや焼成クレー等が添加されたもの等、様々である。基本的にはこれらのいずれを用いてもよい。なお、光沢紙については、インクのしみ込みが少ないものであることがより好ましい。この点で、光沢紙としては、原紙に樹脂が添加されたもの、もしくは、抄造時または抄造後に樹脂を含浸させたものが好ましい。
光沢紙やプリント紙の具体例としては、特開2003-027392号公報に記載のもの、特開2006-183218号公報に記載のもの、特開2014-159650号公報に記載のもの、特開2015-059292号公報に記載のもの等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
基材1の表面には、液滴5の密着性向上などのための表面処理や清浄化処理がされていてもよい。例えば、アルカリ脱脂処理などがされていてもよい。
基材1の厚みや大きさは、特に限定されない。最終的に得られるインクジェット印刷物の用途や、インクジェット装置の仕様などにより適宜選択すればよい。
インクジェット印刷の都合上、基材1は略平面状であることが好ましい。しかし、インクジェット印刷が可能である限り、基材1は立体的な形状であってもよい。例えば、基材1は、三次元形状の容器などであってもよい。
基材1の厚みや大きさは、特に限定されない。最終的に得られるインクジェット印刷物の用途や、インクジェット装置の仕様などにより適宜選択すればよい。
インクジェット印刷の都合上、基材1は略平面状であることが好ましい。しかし、インクジェット印刷が可能である限り、基材1は立体的な形状であってもよい。例えば、基材1は、三次元形状の容器などであってもよい。
インクジェットヘッド3としては、硬化型インクジェットインクを吐出可能なものである限り、任意のものを用いることができる。インクの劣化を抑える点では、ピエゾ方式のものが好ましい。
使用可能なインクジェットヘッド3の市販品としては、例えば、コニカミノルタ社のKM1024シリーズなどを挙げることができる。
インクジェットヘッド3の動かし方については、基材1へのインクの付与が適切に行われる限り特に限定されない。シングルパス方式、マルチパス方式、スキャン方式など、一般的なインクジェット印刷における任意の方式で液滴5を基材1に付与することができる。
使用可能なインクジェットヘッド3の市販品としては、例えば、コニカミノルタ社のKM1024シリーズなどを挙げることができる。
インクジェットヘッド3の動かし方については、基材1へのインクの付与が適切に行われる限り特に限定されない。シングルパス方式、マルチパス方式、スキャン方式など、一般的なインクジェット印刷における任意の方式で液滴5を基材1に付与することができる。
(硬化工程:図1B)
硬化工程では、インク付与工程で基材1の表面に付与されたインクの液滴5を硬化させる。
硬化工程では、インク付与工程で基材1の表面に付与されたインクの液滴5を硬化させる。
硬化の具体的方法は、基材1に付与されたインクの性質により、適宜選択される。付与されたインクが光硬化型である場合には、インク付与領域7Aに対し光照射が行われることで硬化工程が行われる。また、付与されたインクが熱硬化型である場合には、インク付与領域7Aが加熱されることで硬化が行われる。
なお、図1Bに示されるように、硬化工程(具体的には光照射または加熱)は、インク付与工程の途中であっても開始することができる。
なお、図1Bに示されるように、硬化工程(具体的には光照射または加熱)は、インク付与工程の途中であっても開始することができる。
光照射により硬化工程が行われる場合、照射される光の積算光量は特に限定されず、インクの光硬化性(感度)などにより適宜設定すればよい。時間の短縮化と十分な硬化との両立などの点では、照射される光の積算光量は、好ましくは50~10000mJ/cm2、より好ましくは100~8000mJ/cm2、さらに好ましくは300~5000mJ/cm2である。
光の波長や光源等は特に限定されず、インクの感光性などに応じて適宜選択することができる。典型的には、硬化型インクジェットインクの分野で知られている紫外線ランプ等を用いて光照射することができる。
前述のインク付与工程において、液滴5が基材1の表面に付与されてから、光照射工程の開始までの時間は、特に限定されないが、好ましくは0.1~3.0秒、より好ましくは0.1~1.0秒である。この時間とすることで、製造時間の短縮化を図ることができる。また、詳細は不明だが、この時間とすることで、基材1に付与された液滴5が、光の散乱に好適な形状で硬化されるとも考えられる。
付与されたインクが熱硬化型である場合には、液滴5が付与された基材を、熱風、オーブン、ホットプレート等の任意の手段で加熱することで、液滴5を硬化させることができる。
付与されたインク(液滴5)の密着性を一層高めること等を目的に、光照射の後に熱処理を行ってもよい。特に、基材1の耐熱性が十分にある場合(基材1が金属製基材である場合)には、この処理を行うことが好ましい(熱処理は任意であり、基材1の耐熱性などによっては熱処理を行わずとも問題ない)。
例えば、光照射の後の基材を、40~200℃で1~60分間熱処理してもよい。熱処理は、熱風、オーブン、ホットプレートなど任意の方法で行うことができる。
例えば、光照射の後の基材を、40~200℃で1~60分間熱処理してもよい。熱処理は、熱風、オーブン、ホットプレートなど任意の方法で行うことができる。
(インクジェット印刷物:図1C)
上記のインク付与工程および硬化工程(場合により追加的な熱処理などの追加工程を含みうる)を経ることで、図1Cに模式的に示されるようなインクジェット印刷物を製造することができる。
上記のインク付与工程および硬化工程(場合により追加的な熱処理などの追加工程を含みうる)を経ることで、図1Cに模式的に示されるようなインクジェット印刷物を製造することができる。
図1Cにおいては、基材1の表面の一部に、低光沢領域7(単に「低光沢領域7」とも表記する)が設けられている。
低光沢領域7には、硬化型インクジェットインクの硬化物6(単に「硬化物6」とも表記する)による凹凸が存在する。硬化物6については、図1Cの吹き出し中に拡大して示している。硬化型インクジェットインクの25℃での表面張力が20~50mN/mであることにより、基材1に付与された液滴5は、通常、お椀を逆さまにしたような形状(あるいは、ドーム状、半球状などと言ってもよい)で硬化して、硬化物6となる。
低光沢領域7には、硬化型インクジェットインクの硬化物6(単に「硬化物6」とも表記する)による凹凸が存在する。硬化物6については、図1Cの吹き出し中に拡大して示している。硬化型インクジェットインクの25℃での表面張力が20~50mN/mであることにより、基材1に付与された液滴5は、通常、お椀を逆さまにしたような形状(あるいは、ドーム状、半球状などと言ってもよい)で硬化して、硬化物6となる。
図1Cでは、低光沢領域7は帯状に分布しているが、液滴5を付与する領域を適切に制御することで、低光沢領域7による文字や幾何学模様を形成することもできる。
低光沢領域7の凹凸について説明を加える。
凹凸は、光を散乱するものであれば特に限定されないが、凹凸を適切に制御することで、最終的に得られるインクジェット印刷物の意匠性をより高めることができる。例えば、単に低光沢とするだけでなく、疑似エッチング調の模様を設けることができる。
凹凸は、光を散乱するものであれば特に限定されないが、凹凸を適切に制御することで、最終的に得られるインクジェット印刷物の意匠性をより高めることができる。例えば、単に低光沢とするだけでなく、疑似エッチング調の模様を設けることができる。
具体的には、低光沢領域7の、ISO 25178で規定される算術平均高さSaは、好ましくは0.05~5.0μm、より好ましくは0.2~3.0μm、さらに好ましくは0.25~2.0μmである。このような凹凸を設けることで、最終的に得られるインクジェット印刷物の意匠性をより高めることができる。
また、別観点として、低光沢領域7の、ISO 25178で規定される最大高さSzは、好ましくは0.5~40μm、より好ましくは0.5~30μm、さらに好ましくは0.5~10μm、特に好ましくは1.0~6.0μm、とりわけ好ましくは1.5~5.0μmである。このような凹凸を設けることで、最終的に得られるインクジェット印刷物の意匠性をより高めることができる。これら数値範囲は、特に、インクとして後述のカチオン重合性インクを用いたときに好適な値である。
さらに別観点として、インクとして後述のラジカル重合型インクを用いる場合、Szは、10~25μmが好ましい。詳細は不明な点もあるが、本発明者らの知見として、ラジカル重合性インクを用いた場合の硬化物6の形状は、他のインクを用いた場合と少し異なる場合がある。このことが、Szを10~25μmとすることで意匠性をより高められることと関係していると推測される。
SaやSzは、例えば、市販の3D測定レーザ顕微鏡を用いて測定することができる。具体的には、株式会社島津製作所製のレーザ顕微鏡OLS4100などを用いて測定することができる。
また、別観点として、低光沢領域7の、ISO 25178で規定される最大高さSzは、好ましくは0.5~40μm、より好ましくは0.5~30μm、さらに好ましくは0.5~10μm、特に好ましくは1.0~6.0μm、とりわけ好ましくは1.5~5.0μmである。このような凹凸を設けることで、最終的に得られるインクジェット印刷物の意匠性をより高めることができる。これら数値範囲は、特に、インクとして後述のカチオン重合性インクを用いたときに好適な値である。
さらに別観点として、インクとして後述のラジカル重合型インクを用いる場合、Szは、10~25μmが好ましい。詳細は不明な点もあるが、本発明者らの知見として、ラジカル重合性インクを用いた場合の硬化物6の形状は、他のインクを用いた場合と少し異なる場合がある。このことが、Szを10~25μmとすることで意匠性をより高められることと関係していると推測される。
SaやSzは、例えば、市販の3D測定レーザ顕微鏡を用いて測定することができる。具体的には、株式会社島津製作所製のレーザ顕微鏡OLS4100などを用いて測定することができる。
一態様として、低光沢領域7において、インクの液滴5の硬化物は、基材表面を完全には被覆していないことが好ましい。換言すると、低光沢領域7においても基材1の表面はある程度露出していることが好ましい。このようにすることで、意匠性を一層高めうる(例えば、より意匠性の高い疑似エッチング調の外観を得やすい)。
具体的には、低光沢領域7を基材1の真上から拡大観察したとき、その拡大観察した部分において、基材1の5~99%が液滴5の硬化物により被覆されていることが好ましい。また、より好ましくは基材1の20~90%が、さらに好ましくは30~80%が、液滴5の硬化物により被覆されている。
上記の数値は、例えば、低光沢領域7中の任意の部分(正方形状の領域)を、顕微鏡などで拡大撮影し、撮影した画像を解析することで求めることができる。
具体的には、低光沢領域7を基材1の真上から拡大観察したとき、その拡大観察した部分において、基材1の5~99%が液滴5の硬化物により被覆されていることが好ましい。また、より好ましくは基材1の20~90%が、さらに好ましくは30~80%が、液滴5の硬化物により被覆されている。
上記の数値は、例えば、低光沢領域7中の任意の部分(正方形状の領域)を、顕微鏡などで拡大撮影し、撮影した画像を解析することで求めることができる。
念のため述べておくと、低光沢領域7においては、インクの液滴5の硬化物が基材表面を完全に隠ぺいしていてもよい。液滴5の硬化物による適度な凹凸がありさえすれば、低光沢の外観が実現される。
一態様として、低光沢領域7は、疑似エッチング調の外観を示す。
背景技術でも説明したように、光沢がある基材表面に対して、疑似エッチング模様(基材を食刻していないにもかかわらず、あたかも食刻しているように見える模様)を設けるニーズがある。本実施形態のインクジェット印刷物の製造方法により、版を作成せずとも、基材表面に疑似エッチング模様を設けることができる。
背景技術でも説明したように、光沢がある基材表面に対して、疑似エッチング模様(基材を食刻していないにもかかわらず、あたかも食刻しているように見える模様)を設けるニーズがある。本実施形態のインクジェット印刷物の製造方法により、版を作成せずとも、基材表面に疑似エッチング模様を設けることができる。
(硬化型インクジェットインク)
上述した硬化型インクジェットインク(以下、単に「インク」とも表記する)の詳細について説明する。
上述したように、インクは、典型的には光硬化型または熱硬化型であり、好ましくは光硬化型である。
上述した硬化型インクジェットインク(以下、単に「インク」とも表記する)の詳細について説明する。
上述したように、インクは、典型的には光硬化型または熱硬化型であり、好ましくは光硬化型である。
インクの重合様式は特に限定されない。好ましくはカチオン重合型またはラジカル重合型であり、より好ましくはカチオン重合型である。本発明者らの知見によると、カチオン重合型インクのほうが、ラジカル重合型インクよりも、インク硬化物の基材1への密着性が高い傾向にある。これは耐久性などの点で好ましい。
カチオン重合型インクは、典型的には、カチオン重合性化合物と、光カチオン重合開始剤とを含む。また、その他の成分を適宜含みうる。以下、カチオン重合型のインクの組成成分について説明する。
・カチオン重合性化合物
カチオン重合性化合物としては、典型的には、オキセタン化合物、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。これらのうち2種以上を併用してもよい。例えば、カチオン重合型のインクは、オキセタン化合物とエポキシ化合物の両方を含んでもよい。
カチオン重合性化合物としては、典型的には、オキセタン化合物、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。これらのうち2種以上を併用してもよい。例えば、カチオン重合型のインクは、オキセタン化合物とエポキシ化合物の両方を含んでもよい。
エポキシ化合物としては、芳香族エポキシド、脂環族エポキシド、脂肪族エポキシド等が挙げられる。芳香族エポキシドとしては、少なくとも1個の芳香族環を有する多価フェノール又はそのアルキレンオキシド付加体、エピクロルヒドリンとの反応により得られるジ又はポリグリシジルエーテルが用いられる。例えば、ビスフェノールA又はそのアルキレンオキシド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールA又はそのアルキレンオキシド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、及びノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここで、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド等が挙げられる。
エポキシ化合物としては、一分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物が好ましく、一分子中に2~6個のエポキシ基を有する化合物がより好ましい。
エポキシ化合物としては、一分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物が好ましく、一分子中に2~6個のエポキシ基を有する化合物がより好ましい。
脂環族エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロヘキセン環、シクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の酸化剤でエポキシ化することにより得られるシクロヘキセンオキシド又はシクロペンテンオキシド含有化合物が用いられる。
脂肪族エポキシドとしては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキシド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等が用いられる。例えば、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリン又はそのアルキレン付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール又はそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール又はそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここで、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド等が挙げられる。
これらのエポキシドのうち、硬化性の点から、芳香族エポキシド又は脂環族エポキシドが好ましく、脂環族エポキシドがさらに好ましい。
エポキシ化合物については、1種又は2種以上を適宜選択して使用することができる。
エポキシ化合物については、1種又は2種以上を適宜選択して使用することができる。
オキセタン化合物としては、一分子中にオキセタン環を1~4個有するものが好ましく、一分子中にオキセタン環を2~4個有するものがより好ましい。
オキセタン化合物として具体的には、3-エチル-3-[〔(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ〕メチル]オキセタン、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、4,4'-ビス〔(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシメチル〕ビフェニル、3-(メタ)アリルオキシメチル-3-エチルオキセタン、(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチルベンゼン、(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)ベンゼン、4-フルオロ-〔1-(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、4-メトキシ-〔1-(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、〔1-(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)エチル〕フェニルエーテル、イソブトキシメチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニルオキシエチル-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、2-エチルヘキシル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、エチルジエチレングリコール(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンタジエン-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、テトラヒドロフルフリル-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、2-テトラブロモフェノキシエチル-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、2-トリブロモフェノキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ブトキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ペンタクロロフェニル-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロモフェニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ボルニル-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、3,7-ビス(3-オキセタニル)-5-オキサノナン、3,3'-〔1,3-(2-メチレニル)-プロパンジイルビス(オキシメチレン)〕-ビス(3-エチルオキセタン)、1,4-ビス〔(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、1,2-ビス〔(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル〕エタン、1,3-ビス〔(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル〕プロパン、エチレングリコールビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコールビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプロパントリス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、1,4-ビス(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)ブタン、1,6-ビス(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリコールビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、エチレンオキシド変性ビスフェノールA-ビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、プロピレンオキシド変性ビスフェノールA-ビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、エチレンオキシド変性水素化ビスフェノールA-ビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、プロピレンオキシド変性水素化ビスフェノールA-ビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、エチレンオキシド変性ビスフェノールF-(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられる。
オキセタン化合物については、1種又は2種以上を適宜選択して使用することができる。
オキセタン化合物については、1種又は2種以上を適宜選択して使用することができる。
ビニルエーテル化合物については、硬化性や密着性の観点から、ジ又はトリビニルエーテル化合物が好ましく、ジビニルエーテル化合物がさらに好ましい。
ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物を挙げることができる。
また、エチルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n-プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル-o-プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物を挙げることもできる。
ビニルエーテル化合物については、1種又は2種以上を適宜選択して使用することができる。
ビニルエーテル化合物については、1種又は2種以上を適宜選択して使用することができる。
カチオン重合型インク中のカチオン重合性化合物の量は、特に限定されない。その量は、インク中の揮発性の有機溶剤以外の成分全体を100質量%としたときに、通常85~99.5質量%、好ましくは90~99質量%である。
・光カチオン重合開始剤
光カチオン重合開始剤としては、光照射によりカチオンを発生して上記のカチオン重合性化合物を重合させることが可能なものであれば任意のものを用いることができる。例えばオニウム塩、より具体的にはスルホニウム塩誘導体やヨードニウム塩誘導体などの公知の光カチオン重合開始剤を用いることができる。
光カチオン重合開始剤としては、光照射によりカチオンを発生して上記のカチオン重合性化合物を重合させることが可能なものであれば任意のものを用いることができる。例えばオニウム塩、より具体的にはスルホニウム塩誘導体やヨードニウム塩誘導体などの公知の光カチオン重合開始剤を用いることができる。
光カチオン重合開始剤としてより具体的には、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等が挙げられる。これらは、カチオン部分がそれぞれ芳香族ジアゾニウム、芳香族ヨードニウムまたは芳香族スルホニウムであり、アニオン部分がBF4
-、PF6
-、SbF6
-、[BX4]-(Xは少なくとも2つ以上のフッ素又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基) 等により構成されたオニウム塩である。
具体的化合物としては、四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のトリ-4-メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アンチモンのトリ-4-メチルフェニルスルホニウム塩、テトラキス( ペンタフルオロフェニル) ホウ素のジフェニルヨードニウム塩、アセチルアセトンアルミニウム塩とオルトニトロベンジルシリルエーテル混合体、フェニルチオピリジウム塩、六フッ化リンアレン-鉄錯体等を挙げることができる。
具体的化合物としては、四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のトリ-4-メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アンチモンのトリ-4-メチルフェニルスルホニウム塩、テトラキス( ペンタフルオロフェニル) ホウ素のジフェニルヨードニウム塩、アセチルアセトンアルミニウム塩とオルトニトロベンジルシリルエーテル混合体、フェニルチオピリジウム塩、六フッ化リンアレン-鉄錯体等を挙げることができる。
光カチオン重合開始剤の市販品としては、CPI-100P、CPI-200K( サンアプロ社製)、WPI-113、WPI-124(富士フィルム和光純薬株式会社製)等を挙げることができる。
カチオン重合型インク中の光カチオン重合開始剤の量は、特に限定されない。その量は、カチオン重合性化合物100質量部に対して、通常0.5~15質量部、好ましくは1.0~10質量部である。
カチオン重合型インクは、カチオン重合性化合物および光カチオン重合開始剤のほか、任意の成分を含んでもよい。例えば、(メタ)アクリレートモノマーまたはやオリゴマー等のラジカル重合性化合物、光ラジカル開始剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤、ワックス類、酸化防止剤、非反応性ポリマー、微粒子無機フィラー、シランカップリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、スリップ剤、溶剤等のうち、一種または二種以上含んでもよい。
上記の中でも、密着性良化の点から、カチオン重合型インクはシランカップリング剤を含むことが好ましい。
シランカップリング剤としては、アミノシラン、エポキシシラン、(メタ)アクリルシラン、メルカプトシラン、ビニルシラン、ウレイドシラン、スルフィドシラン等を挙げることができる。特に、エポキシシラン(エポキシ基と、加水分解性シリル基とを有する化合物)が、密着性向上や上述のカチオン重合性化合物との相性などの点で好ましい。
シランカップリング剤としては、アミノシラン、エポキシシラン、(メタ)アクリルシラン、メルカプトシラン、ビニルシラン、ウレイドシラン、スルフィドシラン等を挙げることができる。特に、エポキシシラン(エポキシ基と、加水分解性シリル基とを有する化合物)が、密着性向上や上述のカチオン重合性化合物との相性などの点で好ましい。
アミノシランとしては、例えば、ビス(2-ヒドロキシエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、またはN-フェニル-γ-アミノ-プロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
エポキシシランとしては、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、またはβ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシジルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
アクリルシランとしては、例えば、γ-(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ-(メタクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、またはγ-(メタクリロキシプロピル)メチルジエトキシシラン等が挙げられる。
メルカプトシランとしては、例えば、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ビニルシランとしては、例えば、ビニルトリス(β-メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、またはビニルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ウレイドシランとしては、例えば、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
スルフィドシランとしては、例えば、ビス(3-(トリエトキシシリル)プロピル)ジスルフィド、またはビス(3-(トリエトキシシリル)プロピル)テトラスルフィド等が挙げられる。
エポキシシランとしては、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、またはβ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシジルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
アクリルシランとしては、例えば、γ-(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ-(メタクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、またはγ-(メタクリロキシプロピル)メチルジエトキシシラン等が挙げられる。
メルカプトシランとしては、例えば、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ビニルシランとしては、例えば、ビニルトリス(β-メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、またはビニルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ウレイドシランとしては、例えば、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
スルフィドシランとしては、例えば、ビス(3-(トリエトキシシリル)プロピル)ジスルフィド、またはビス(3-(トリエトキシシリル)プロピル)テトラスルフィド等が挙げられる。
カチオン重合型インクは、シランカップリング剤を含む場合、1種のみ含んでもよいし、2種以上含んでもよい。
カチオン重合型インク中のシランカップリング剤の量は、特に限定されない。その量は、インク中の揮発性の有機溶剤以外の成分全体を100質量%としたときに、通常0.1~30質量%、好ましくは1~20質量%である。
カチオン重合型インク中のシランカップリング剤の量は、特に限定されない。その量は、インク中の揮発性の有機溶剤以外の成分全体を100質量%としたときに、通常0.1~30質量%、好ましくは1~20質量%である。
次に、ラジカル重合型インクについて説明する。
ラジカル重合型インクは、典型的には、ラジカル重合性モノマーと、光ラジカル重合開始剤とを含む。
ラジカル重合型インクは、典型的には、ラジカル重合性モノマーと、光ラジカル重合開始剤とを含む。
・ラジカル重合性モノマー
ラジカル重合性モノマーとしては、一分子中に重合性の炭素-炭素二重結合を1つまたは2つ以上有する化合物を挙げることができる。ラジカル重合性モノマーは、好ましくは、一分子中に(メタ)アクリル構造を1つまたは2つ以上有する化合物である。
ラジカル重合性モノマーとしては、一分子中に重合性の炭素-炭素二重結合を1つまたは2つ以上有する化合物を挙げることができる。ラジカル重合性モノマーは、好ましくは、一分子中に(メタ)アクリル構造を1つまたは2つ以上有する化合物である。
単官能モノマー(一分子中に重合性の炭素-炭素二重結合を1つのみ有する化合物)としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、n-ラウリル(メタ)アクリレート、n-ステアリル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジメチル(メタ)アクリルアミド、ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジ-n-プロピル(メタ)アクリルアミド、ジブチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
多官能モノマー(一分子中に重合性の炭素-炭素二重結合を2つ以上、好ましくは2~6個有する化合物)としては、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジメチロール-トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのPO付加物ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの2官能モノマーを挙げることができる。
また、多官能モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、EO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、カプロラクタム変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなども挙げることができる。
重合性官能基の数とは別の観点として、ラジカル重合性モノマーとして、極性基(例えばリン酸基やカルボキシ基)を有するモノマーを用いてもよい。
リン酸基を有するモノマーとしては、2-(メタ)アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ(2-メタアクリロイロキシエチル)アシッドホスフェート、カプロラクトン変性-2-アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、ジフェニル-2-アクリロイルオキシエチルホスフェートなどを挙げることができる。
カルボキシ基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、2-(メタ)アクリロイルオキシメチルコハク酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸などを挙げることができる。
リン酸基を有するモノマーとしては、2-(メタ)アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ(2-メタアクリロイロキシエチル)アシッドホスフェート、カプロラクトン変性-2-アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、ジフェニル-2-アクリロイルオキシエチルホスフェートなどを挙げることができる。
カルボキシ基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、2-(メタ)アクリロイルオキシメチルコハク酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸などを挙げることができる。
ラジカル重合型インクは、ラジカル重合性モノマーを一種のみ含んでもよいし、二種以上含んでもよい。適度な重合性、架橋密度、密着性などの観点からは、例えば単官能モノマーと多官能モノマーを与わせて用いることが好ましい。また、密着性の調整やインクの分散性などの点で、極性基を有するモノマーと、そうでないモノマーとを併用することが好ましい。
・光ラジカル重合開始剤
ラジカル重合型インクが含む光ラジカル重合開始剤は、光照射によりラジカルを発生し、上記のラジカル重合性モノマーを重合させることが可能なものであれば、特に限定されない。
光ラジカル重合開始剤の具体例としては、α-ヒドロキシケトン光開始剤、α-アミノケトン光開始剤、ビスアシルホスフィン光開始剤、モノアシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、例えば、2,4,6-トリメチルベンゾイルビフェニルホスフィンオキシド、エチル-2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート、モノ-およびビス-アシルホスフィン光開始剤、ベンジルジメチル-ケタール光開始剤、オリゴ[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェニル]プロパノン]等が挙げられる。
ラジカル重合型インクが含む光ラジカル重合開始剤は、光照射によりラジカルを発生し、上記のラジカル重合性モノマーを重合させることが可能なものであれば、特に限定されない。
光ラジカル重合開始剤の具体例としては、α-ヒドロキシケトン光開始剤、α-アミノケトン光開始剤、ビスアシルホスフィン光開始剤、モノアシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、例えば、2,4,6-トリメチルベンゾイルビフェニルホスフィンオキシド、エチル-2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート、モノ-およびビス-アシルホスフィン光開始剤、ベンジルジメチル-ケタール光開始剤、オリゴ[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェニル]プロパノン]等が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、BASF社にて販売されているIRGACURE(登録商標)シリーズ等を挙げることができる。もちろん、これ以外の光ラジカル重合開始剤も使用可能である。
ラジカル重合型インクは、光ラジカル重合開始剤を1種のみ含んでもよいし、2種以上含んでもよい。
ラジカル重合型インク中の光ラジカル重合性化合物の量は、特に限定されない。その量は、ラジカル重合性モノマー100質量部に対して、通常0.5~15質量部、好ましくは1.0~10質量部である。
ラジカル重合型インク中の光ラジカル重合性化合物の量は、特に限定されない。その量は、ラジカル重合性モノマー100質量部に対して、通常0.5~15質量部、好ましくは1.0~10質量部である。
ラジカル重合型インクは、ラジカル重合性モノマーおよび光ラジカル重合開始剤に加え、任意の成分を含んでもよい。任意成分としては、カチオン重合型インクと同様、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤、ワックス類、酸化防止剤、非反応性ポリマー、微粒子無機フィラー、シランカップリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、スリップ剤、溶剤等を挙げることができる。
インク(カチオン重合型であっても、アニオン重合型であってもよい)は、任意の着色剤を含んでもよい。これにより、意匠性を更に高める、かつ/または、デザインバリエーションを豊富にすることができる。
耐候性などの観点から、着色剤としては顔料が好ましく用いられる。顔料としては、公知の有機顔料および/または無機顔料を用いることができる。
耐候性などの観点から、着色剤としては顔料が好ましく用いられる。顔料としては、公知の有機顔料および/または無機顔料を用いることができる。
有機顔料としては、レーキレッドC、パーマネントレッド2B等の溶性アゾ顔料、ファーストイエロー、ナフトールレッド等の不溶性アゾ顔料、クロモフタルイエロー、クロモフタルレッド等の縮合アゾ顔料、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン顔料、チオインジゴ、ペリレンレッド等の縮合多環顔料などを挙げることができる。
無機顔料としては、コバルトブルー、ジンクホワイト、ライトレッド等の酸化物顔料、ビリジャン、アルミナホワイト等の水酸化物顔料、カドミウムイエロー、カドミウムレッド等の硫化物顔料、ウルトラマリーン、タルク、ホワイトカーボン等の珪酸塩顔料、シルバーホワイト、炭酸カルシウム等の炭酸塩顔料、カーボンブラックなどを挙げることができる。
なお、最終的に得られるインクジェット印刷物が「疑似エッチング調」を示すことを重視する場合には、インクは着色剤を含まないこと(つまり、インクはクリヤーインクであること)が好ましい。
インク(カチオン重合型であっても、アニオン重合型であってもよい)の表面張力は、前述のとおり、25℃において20~50mN/mである。この値は、好ましくは25~45mN/m、より好ましくは25~40mN/m、さらに好ましくは25~35mN/mである。
なお、表面張力の測定方法にはいくつかの方法が知られているが、懸滴法(ペンダント・ドロップ法)による測定が好ましい。より具体的には、懸滴法にはds/de法とYoung-Laplace法の2つが知られているが、このうちYoung-Laplace法が好ましい。
なお、表面張力の測定方法にはいくつかの方法が知られているが、懸滴法(ペンダント・ドロップ法)による測定が好ましい。より具体的には、懸滴法にはds/de法とYoung-Laplace法の2つが知られているが、このうちYoung-Laplace法が好ましい。
インク(カチオン重合型であっても、アニオン重合型であってもよい)の粘度は、基材1の表面に凹凸を形成できる限り特に限定されないが、好ましくは5~40mPa・s、より好ましくは10~30mPa・sである。インクの粘度を適切に調整することで、低光沢領域における凹凸をより適切に制御することができ、より意匠性の高い低光沢領域を設けうる。
なお、粘度は、25℃の条件下、例えば、コーンプレート型粘度計を用いて測定することができる。測定条件の詳細は実施例を参照されたい。
なお、粘度は、25℃の条件下、例えば、コーンプレート型粘度計を用いて測定することができる。測定条件の詳細は実施例を参照されたい。
<インクジェット印刷物>
本実施形態のインクジェット印刷物は、光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたものである。
このインクジェット印刷物は、通常、上記<インクジェット印刷物の製造方法>で述べた方法により製造することができる。
このインクジェット印刷物については、既に図1Cに言及しつつ説明しているが、念のため改めて説明しておく。
本実施形態のインクジェット印刷物は、光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたものである。
このインクジェット印刷物は、通常、上記<インクジェット印刷物の製造方法>で述べた方法により製造することができる。
このインクジェット印刷物については、既に図1Cに言及しつつ説明しているが、念のため改めて説明しておく。
図1Cに例示されるインクジェット印刷物は、基材1と、その表面の一部に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域7(低光沢領域7)とを備える。
基材1の表面の材質は、好ましくは、金属、合成樹脂、ガラスおよび光沢紙からなる群より選ばれる少なくともいずれかである。
低光沢領域7の、ISO 25178で規定される算術平均高さSaは、好ましくは0.05~5.0μm、より好ましくは0.2~3.0μm、さらに好ましくは0.25~2.0μmである。
低光沢領域7の、ISO 25178で規定される最大高さSzは、0.5~40μm、より好ましくは0.5~30μm、さらに好ましくは0.5~10μm、特に好ましくは1.0~6.0μm、とりわけ好ましくは1.5~5.0μmである。
基材1の表面の材質は、好ましくは、金属、合成樹脂、ガラスおよび光沢紙からなる群より選ばれる少なくともいずれかである。
低光沢領域7の、ISO 25178で規定される算術平均高さSaは、好ましくは0.05~5.0μm、より好ましくは0.2~3.0μm、さらに好ましくは0.25~2.0μmである。
低光沢領域7の、ISO 25178で規定される最大高さSzは、0.5~40μm、より好ましくは0.5~30μm、さらに好ましくは0.5~10μm、特に好ましくは1.0~6.0μm、とりわけ好ましくは1.5~5.0μmである。
低光沢領域7には、インクジェットインクの液滴の硬化物のドットが、好ましくは1000~100000個/cm2、より好ましくは3000~80000個/cm2、さらに好ましくは7000~60000個/cm2の密度で存在する。ドットの密度が適当であることにより、光の散乱性が適切に調整されやすくなり、意匠性を一層高めうる。
低光沢領域7において、好ましくは、インクの液滴の硬化物は基材表面を完全には被覆していない。低光沢領域7においても基材表面がある程度露出していることで、意匠性を一層高めうる。
低光沢領域7の60度鏡面光沢度ρ1は、例えば30~600、好ましくは40~500、より好ましくは100~400である。60度鏡面光沢度ρ1が適切な値となるようにすることで、意匠性を一層高めうる。
なお、インクジェット印刷物における低光沢領域7が設けられていない部分の表面の60度鏡面光沢度ρ2は、低光沢領域7よりも大きな値であり、かつ、例えば50~1000、好ましくは90~1000、より好ましくは100~1000である。
もちろん、基材1そのものの60度鏡面光沢度は上記数値範囲内でなくともよく、低光沢領域7とそうでない領域とで光沢性に差が出ていればよい。基材の材質や表面性状などにより60度鏡面光沢度は大きく変化しうる。
なお、インクジェット印刷物における低光沢領域7が設けられていない部分の表面の60度鏡面光沢度ρ2は、低光沢領域7よりも大きな値であり、かつ、例えば50~1000、好ましくは90~1000、より好ましくは100~1000である。
もちろん、基材1そのものの60度鏡面光沢度は上記数値範囲内でなくともよく、低光沢領域7とそうでない領域とで光沢性に差が出ていればよい。基材の材質や表面性状などにより60度鏡面光沢度は大きく変化しうる。
別観点として、上記ρ1およびρ2から、{(ρ2-ρ1)/ρ2}×100で求められる60度鏡面光沢変化率(%)は、例えば1~99%、好ましくは10~90%、より好ましくは20~85%である。
念のため述べておくと、本実施形態のインクジェット印刷物における低光沢領域7(および低光沢領域7を構成する硬化物6)は、通常、基材1の表面に半永久的に設けられたものである。そして、本実施形態のインクジェット印刷物は、通常、それ自身が意匠性の高い製品として流通し得るものである。
以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
本発明の実施態様を、実施例および比較例に基づき詳細に説明する。なお、本発明は実施例に限定されるものではない。
I.カチオン重合性インクを用いた実施例
<カチオン重合性インクの調製>
以下の表1に記載の各成分を混合し、ディスパーで撹拌して、カチオン重合性のインクジェットインクを得た。
<カチオン重合性インクの調製>
以下の表1に記載の各成分を混合し、ディスパーで撹拌して、カチオン重合性のインクジェットインクを得た。
上表の各成分の詳細は以下の通りである。
・OXT-221:3-エチル-3{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン
・OXT-101:3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン(オキセタンアルコール)
・セロキサイド2021P:3',4'-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
・GLYMO:3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
・CPI-100P:[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロホスファートの50質量%プロピレンカーボネート溶液
・OXT-221:3-エチル-3{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン
・OXT-101:3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン(オキセタンアルコール)
・セロキサイド2021P:3',4'-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
・GLYMO:3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
・CPI-100P:[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロホスファートの50質量%プロピレンカーボネート溶液
上記のインクジェットインクの表面張力は、30mN/mであった。なお、表面張力は、25℃の条件の下、接触角計(協和界面科学株式会社製、型番PCA-11)を使用して、懸滴法(ペンダント・ドロップ法、より具体的にはYoung-Laplace法)により求めた。
上記のインクジェットインクの粘度は、18mPa・sであった。なお、粘度は、25℃の条件下、コーンプレート型粘度計(東機産業株式会社製、型番RE-85H)を使用して測定した。測定条件は、1°34′×R24のコーンロータを用い、回転数100rpmとした。
上記のインクジェットインクの粘度は、18mPa・sであった。なお、粘度は、25℃の条件下、コーンプレート型粘度計(東機産業株式会社製、型番RE-85H)を使用して測定した。測定条件は、1°34′×R24のコーンロータを用い、回転数100rpmとした。
<インク付与工程>
基材として、アルカリ脱脂処理した厚み1.5mmのステンレス鋼板(SUS304 #800)を準備した。この基材そのものの表面の60度鏡面光沢度は610であった(60度鏡面光沢度の測定方法については後述する)。
また、コニカミノルタ社製のピエゾ型インクジェットヘッド(品番は後掲の表2~7に記載)を搭載したインクジェットプリンタを準備した。
基材として、アルカリ脱脂処理した厚み1.5mmのステンレス鋼板(SUS304 #800)を準備した。この基材そのものの表面の60度鏡面光沢度は610であった(60度鏡面光沢度の測定方法については後述する)。
また、コニカミノルタ社製のピエゾ型インクジェットヘッド(品番は後掲の表2~7に記載)を搭載したインクジェットプリンタを準備した。
インクジェットプリンタに「NATOCO」(本特許出願の出願人の商号のアルファベット表記)という画像データを読み込ませ、ヘッド温度40℃の条件で、上記で調製されたインクを吐出して、インクの液滴を基材に付与した。インクの液滴の付与は、8分割したマルチパス印刷により行い、解像度は720×720dpiであった。
インク液滴の体積、印刷濃度およびドット密度(基材に付与したインクの液滴の密度)は、後掲の表2~7に示されるようにした。
「印刷濃度」とは、インクジェットヘッドの単位面積当たりの最大打滴数(すなわち解像度)に対して、どれだけの数の液滴を打滴(吐出)したかを表す。
ドット密度については、解像度と印刷濃度から計算して求められる値である。計算については、例えば実施例5であれば以下のように行った。
解像度(720dpi×720dpi)×印刷濃度10%(0.1)
=51840個/inch2
=8035個/cm2
「印刷濃度」とは、インクジェットヘッドの単位面積当たりの最大打滴数(すなわち解像度)に対して、どれだけの数の液滴を打滴(吐出)したかを表す。
ドット密度については、解像度と印刷濃度から計算して求められる値である。計算については、例えば実施例5であれば以下のように行った。
解像度(720dpi×720dpi)×印刷濃度10%(0.1)
=51840個/inch2
=8035個/cm2
<硬化工程>
基材へのインク付与の後、紫外線を照射することによって、基材表面に付与されたインクの液滴を硬化させた。
具体的には、メタルハライドランプを搭載したUV照射装置CoolArc CA150(日本ボールドウィン株式会社製)を用い、インクを吐出してから0.2秒後、1パス毎に照射線量500mJ/cm2(UV-A換算)の条件で紫外線を照射することによって行った。
基材へのインク付与の後、紫外線を照射することによって、基材表面に付与されたインクの液滴を硬化させた。
具体的には、メタルハライドランプを搭載したUV照射装置CoolArc CA150(日本ボールドウィン株式会社製)を用い、インクを吐出してから0.2秒後、1パス毎に照射線量500mJ/cm2(UV-A換算)の条件で紫外線を照射することによって行った。
インクの液滴の付与と紫外線照射を全て終えた後、さらに130℃で10分間の熱処理を行った。
以上により、低光沢領域として「NATOCO」という文字画像が印刷されたインクジェット印刷物を製造した。
以上により、低光沢領域として「NATOCO」という文字画像が印刷されたインクジェット印刷物を製造した。
参考までに、製造されたインクジェット印刷物の例(写真)を図2および図3に示す。光沢のある基材の表面に「NATOCO」の文字をあたかもエッチングしたような意匠が確認できる。
(図2および図3では、3つの「NATOCO」の文字画像が並んでいる。これらは、NATOCOの文字を正しい方向に向けて基材を見たときに、上から順番に、実施例25、実施例22、実施例19に対応する条件で印刷された文字画像である。)
(図2および図3では、3つの「NATOCO」の文字画像が並んでいる。これらは、NATOCOの文字を正しい方向に向けて基材を見たときに、上から順番に、実施例25、実施例22、実施例19に対応する条件で印刷された文字画像である。)
<インクジェット印刷物の評価>
[算術平均高さSaおよび最大高さSzの測定]
得られたインクジェット印刷物の低光沢領域について、ISO25178に準拠して、算術平均高さSa(μm)および最大高さSz(μm)を測定した。測定には、株式会社島津製作所製のレーザ顕微鏡OLS4100を用いた。
[算術平均高さSaおよび最大高さSzの測定]
得られたインクジェット印刷物の低光沢領域について、ISO25178に準拠して、算術平均高さSa(μm)および最大高さSz(μm)を測定した。測定には、株式会社島津製作所製のレーザ顕微鏡OLS4100を用いた。
なお、測定は以下の条件により行った。また必要に応じて平面補正および孤立点除去を行った。
・レーザ顕微鏡の対物レンズ:MPLAPON20XLENT
・測定面積:低光沢領域の一視野644μm×644μmの四画面連結範囲(1200μm×1200μm)
・ガウシアンフィルターによるカットオフ波長λc:80μm
・レーザ顕微鏡の対物レンズ:MPLAPON20XLENT
・測定面積:低光沢領域の一視野644μm×644μmの四画面連結範囲(1200μm×1200μm)
・ガウシアンフィルターによるカットオフ波長λc:80μm
[60度鏡面光沢度および60度鏡面光沢変化率]
光沢計(micro-TRI-gross BYK社製:入反射角60゜)を用いて、低光沢領域の60度鏡面光沢度を測定した。また、得られた測定値から、基材そのものの表面の60度鏡面光沢度(610)からの変化率を求めた。
60度鏡面光沢変化率(%)={(610-低光沢領域の60度鏡面光沢度)/610}×100
光沢計(micro-TRI-gross BYK社製:入反射角60゜)を用いて、低光沢領域の60度鏡面光沢度を測定した。また、得られた測定値から、基材そのものの表面の60度鏡面光沢度(610)からの変化率を求めた。
60度鏡面光沢変化率(%)={(610-低光沢領域の60度鏡面光沢度)/610}×100
[被覆率]
まず、低光沢領域を上記のレーザ顕微鏡で拡大撮影した。撮影された画像において、インクの液滴の硬化物が写っている部分の面積を求め、画像全体の面積で割り、そして100を掛けることで、被覆率(%)を求めた。
まず、低光沢領域を上記のレーザ顕微鏡で拡大撮影した。撮影された画像において、インクの液滴の硬化物が写っている部分の面積を求め、画像全体の面積で割り、そして100を掛けることで、被覆率(%)を求めた。
[疑似エッチング調の評価]
まず、参照用の基材として、実際に食刻処理した金属基材を準備した。
具体的には、アルカリ脱脂処理した厚み1.5mmのステンレス鋼板(SUS304 #800)を準備し、これを噴霧式エッチング装置に入れた。この鋼板に対し、液比重46ボーメ・液温60℃の塩化第二鉄水溶液を、スプレー圧力2.5kgf/cm2で表面に噴霧して、鋼板表面約50μmをエッチング処理した。以上により、表面がエッチングされた鋼板(以下、エッチング鋼板という)を準備した。
まず、参照用の基材として、実際に食刻処理した金属基材を準備した。
具体的には、アルカリ脱脂処理した厚み1.5mmのステンレス鋼板(SUS304 #800)を準備し、これを噴霧式エッチング装置に入れた。この鋼板に対し、液比重46ボーメ・液温60℃の塩化第二鉄水溶液を、スプレー圧力2.5kgf/cm2で表面に噴霧して、鋼板表面約50μmをエッチング処理した。以上により、表面がエッチングされた鋼板(以下、エッチング鋼板という)を準備した。
上記で準備したエッチング鋼板と、実施例1~45で製造したインクジェット印刷物とを、出願人とは無関係の消費者20人に対して提示し、実施例1~45で製造したインクジェット印刷物を、エッチング鋼板と対比してどのように感じるかについて、以下の基準でアンケート調査を行なった。
消費者20人が付けた点数を実施例毎に合計し、その結果を表1~3に示す。合計点が高いほど評価が高いことを示す。
・エッチング感が感じられる・・・・・・・・2点
・多少エッチング感は感じられる・・・・・・1点
・あまりエッチング感は感じられない・・・・0点
消費者20人が付けた点数を実施例毎に合計し、その結果を表1~3に示す。合計点が高いほど評価が高いことを示す。
・エッチング感が感じられる・・・・・・・・2点
・多少エッチング感は感じられる・・・・・・1点
・あまりエッチング感は感じられない・・・・0点
表2~7に、印刷条件およびインクジェット印刷物の評価結果をまとめて示す。
また、参考として、実施例19、22および27で得られたインクジェット印刷物の「低光沢領域」の拡大画像を、図4~6として示す。
また、参考として、実施例19、22および27で得られたインクジェット印刷物の「低光沢領域」の拡大画像を、図4~6として示す。
表2~7に示されるように、光沢のある基材の表面に、25℃での表面張力が20~50mN/mである硬化型インクジェットインクの液滴を付与するインク付与工程と、基材表面に付与されたインクの液滴を硬化させる硬化工程とにより、基材表面に低光沢領域(インクの硬化物による凹凸が存在する)を備えたインクジェット印刷物を得ることができた。
つまり、光沢がある基材の表面にインキ組成物を印刷して、低光沢領域を備える基材を製造可能な方法を新たに提供することができた。この方法は、版を必要としない。よって、例えば少量多品種の基材の製造に好適である。
また、鏡面光沢度の変化は、印刷濃度およびドット密度と概ね相関している。このことから、インクの吐出条件を適宜変更することで光沢度をある程度自由に変更できることが分かる。
さらに、実施例1~15(液滴体積6pL)、実施例16~30(液滴体積14pL)および実施例31~45(液滴体積42pL)の全体的な対比から、液滴体積がある程度小さいほうが、意匠性の高い疑似エッチング模様を得やすい傾向にあることが読み取れる。
II.ラジカル重合性インクを用いた実施例
<ラジカル重合性インクの調製>
以下の表8に記載の各成分を混合し、ディスパーで撹拌して、ラジカル重合性のインクジェットインクを得た。
<ラジカル重合性インクの調製>
以下の表8に記載の各成分を混合し、ディスパーで撹拌して、ラジカル重合性のインクジェットインクを得た。
上表中、Omnirad184は、IGM Resins B.V.製、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(有効成分100%)である。
上記のインクジェットインクの表面張力は、35mN/mであった。なお、測定は、25℃の条件の下、接触角計(協和界面科学株式会社製、型番PCA-11)を使用して、懸滴法(ペンダント・ドロップ法、より具体的にはYoung-Laplace法)により行った。
上記のインクジェットインクの粘度は、25mPa・sであった。なお、測定は、25℃の条件下、コーンプレート型粘度計(東機産業株式会社製、型番RE-85H)を使用して行った。測定条件は、1°34′×R24のコーンロータを用い、回転数100rpmとした。
上記のインクジェットインクの表面張力は、35mN/mであった。なお、測定は、25℃の条件の下、接触角計(協和界面科学株式会社製、型番PCA-11)を使用して、懸滴法(ペンダント・ドロップ法、より具体的にはYoung-Laplace法)により行った。
上記のインクジェットインクの粘度は、25mPa・sであった。なお、測定は、25℃の条件下、コーンプレート型粘度計(東機産業株式会社製、型番RE-85H)を使用して行った。測定条件は、1°34′×R24のコーンロータを用い、回転数100rpmとした。
<インク付与工程>
上記I.のカチオン重合性インクを用いた実施例と同様のステンレス鋼板を準備した。
また、コニカミノルタ社製のピエゾ型インクジェットヘッド(品番は後掲の表9および10に記載)を搭載したインクジェットプリンタを準備した。
上記I.のカチオン重合性インクを用いた実施例と同様のステンレス鋼板を準備した。
また、コニカミノルタ社製のピエゾ型インクジェットヘッド(品番は後掲の表9および10に記載)を搭載したインクジェットプリンタを準備した。
インクジェットプリンタに「NATOCO」(本特許出願の出願人の商号のアルファベット表記)という画像データを読み込ませ、ヘッド温度40℃の条件で、上記で調製されたインクを吐出して、インクの液滴を基材に付与した。インクの液滴の付与は、8分割したマルチパス印刷により行い、解像度は720×720dpiであった。
インク液滴の体積、印刷濃度およびドット密度(基材に付与したインクの液滴の密度)は、後掲の表9および10示されるようにした。
「印刷濃度」や「ドット密度」の定義については、上記I.と同様である。
インク液滴の体積、印刷濃度およびドット密度(基材に付与したインクの液滴の密度)は、後掲の表9および10示されるようにした。
「印刷濃度」や「ドット密度」の定義については、上記I.と同様である。
<硬化工程>
基材へのインク付与の後、紫外線を照射することによって、基材表面に付与されたインクの液滴を硬化させた。
具体的には、メタルハライドランプを搭載したUV照射装置CoolArc CA150(日本ボールドウィン株式会社製)を用い、インクを吐出してから0.2秒後、1パス毎に照射線量500mJ/cm2(UV-A換算)の条件で紫外線を照射することによって行った。
基材へのインク付与の後、紫外線を照射することによって、基材表面に付与されたインクの液滴を硬化させた。
具体的には、メタルハライドランプを搭載したUV照射装置CoolArc CA150(日本ボールドウィン株式会社製)を用い、インクを吐出してから0.2秒後、1パス毎に照射線量500mJ/cm2(UV-A換算)の条件で紫外線を照射することによって行った。
インクの液滴の付与と紫外線照射を全て終えた後、さらに130℃で10分間の熱処理を行った。
以上により、低光沢領域として「NATOCO」という文字画像が印刷されたインクジェット印刷物を製造した。
以上により、低光沢領域として「NATOCO」という文字画像が印刷されたインクジェット印刷物を製造した。
<インクジェット印刷物の評価>
上記I.と同様にして、Sa(μm)、Sz(μm)、60度鏡面光沢度、60度鏡面光沢変化率、および被覆率を測定した。また、同じく上記I.と同様にして、疑似エッチング調を評価した。
上記I.と同様にして、Sa(μm)、Sz(μm)、60度鏡面光沢度、60度鏡面光沢変化率、および被覆率を測定した。また、同じく上記I.と同様にして、疑似エッチング調を評価した。
表9および10に、印刷条件およびインクジェット印刷物の評価結果をまとめて示す。
表9および10に示されるように、硬化型インクジェットインクとして、カチオン重合性インクではなくラジカル重合性インクを用いた場合も、基材表面に低光沢領域を備えたインクジェット印刷物を得ることができた。
表2~7との対比では、特にSzの値に違いが見られる。表2~7では、Szの最大値は5μm程度であるが、表9および10では、Szが32μm以上のものもある。表面の「ザラザラ感」の低減の点からは、インクジェットインクとしてカチオン重合性インクを用いたほうが好ましい可能性がある。
表9および10でSzが比較的大きいことは、ラジカル重合性インクを用いた場合、液滴が「積みあがった」状態で硬化したことと解釈することができる。
表9および10でSzが比較的大きいことは、ラジカル重合性インクを用いた場合、液滴が「積みあがった」状態で硬化したことと解釈することができる。
この出願は、2018年5月7日に出願された日本出願特願2018-089342号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
1 基材(光沢のある基材)
3 インクジェットヘッド
5 液滴(硬化型インクジェットインクの液滴)
6 硬化物(硬化型インクジェットインクの硬化物)
7A インク付与領域
7 低光沢領域
3 インクジェットヘッド
5 液滴(硬化型インクジェットインクの液滴)
6 硬化物(硬化型インクジェットインクの硬化物)
7A インク付与領域
7 低光沢領域
Claims (20)
- 光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記低光沢領域は、25℃での表面張力が20~50mN/mである硬化型インクジェットインクの液滴を前記基材の表面に付与するインク付与工程と、前記表面に付与されたインクの液滴を硬化させる硬化工程とにより形成される、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記硬化型インクジェットインクが光硬化型であり、かつ、
前記硬化工程が、前記表面に付与されたインクの液滴に対して光を照射する光照射工程である、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項2に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記インク付与工程において前記液滴が前記基材の表面に付与されてから、前記光照射工程の開始までの時間が0.1~3.0秒である、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項2または3に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
照射される光の積算光量が50~10000mJ/cm2である、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1~4のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記低光沢領域のISO 25178で規定される算術平均高さSaが0.05~5.0μmである、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1~5のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記低光沢領域のISO 25178で規定される最大高さSzが0.5~40μmである、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1~6のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記インク付与工程において、前記基材に1000~100000個/cm2の密度でインクの液滴を付与する、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1~7のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記硬化型インクジェットインクの粘度が、5~40mPa・sである、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1~8のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記硬化型インクジェットインクが、カチオン重合型である、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1~9のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記インク付与工程におけるインクの液滴の体積が2~50pLである、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1~10のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記低光沢領域において、インクの液滴の硬化物は、基材表面を完全には被覆していない、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1~11のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記基材の表面の材質が、金属、合成樹脂、ガラスおよび光沢紙からなる群より選ばれる少なくともいずれかである、インクジェット印刷物の製造方法。 - 請求項1~12のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物の製造方法であって、
前記低光沢領域が、疑似エッチング調の外観を示す、インクジェット印刷物の製造方法。 - 光沢のある基材の表面に、硬化型インクジェットインクの硬化物による凹凸が存在する低光沢領域が設けられたインクジェット印刷物。
- 請求項14に記載のインクジェット印刷物であって、
前記低光沢領域のISO 25178で規定される算術平均高さSaが0.05~5.0μmである、インクジェット印刷物。 - 請求項14または15に記載のインクジェット印刷物であって、
前記低光沢領域のISO 25178で規定される最大高さSzが0.5~30μmである、インクジェット印刷物。 - 請求項14~16のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物であって、
前記低光沢領域には、インクジェットインクの液滴の硬化物のドットが1000~100000個/cm2の密度で存在する、インクジェット印刷物。 - 請求項14~17のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物であって、
前記低光沢領域において、インクの液滴の硬化物は、基材表面を完全には被覆していない、インクジェット印刷物。 - 請求項14~18のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物であって、
前記基材の表面の材質が、金属、合成樹脂、ガラスおよび光沢紙からなる群より選ばれる少なくともいずれかである、インクジェット印刷物。 - 請求項14~19のいずれか1項に記載のインクジェット印刷物であって、
前記低光沢領域の60度鏡面光沢度ρ1と、前記基材における前記低光沢領域が設けられていない表面の60度鏡面光沢度ρ2とから、{(ρ2-ρ1)/ρ2}×100で求められる60度鏡面光沢変化率(%)が、1~99%である、インクジェット印刷物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019527480A JP6647497B1 (ja) | 2018-05-07 | 2019-02-20 | インクジェット印刷物の製造方法 |
US17/052,977 US20210237484A1 (en) | 2018-05-07 | 2019-02-20 | Method for producing inkjet printed material and inkjet printed material |
CN201980029822.3A CN112074415A (zh) | 2018-05-07 | 2019-02-20 | 喷墨印刷物的制造方法及喷墨印刷物 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018-089342 | 2018-05-07 | ||
JP2018089342 | 2018-05-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2019215991A1 true WO2019215991A1 (ja) | 2019-11-14 |
WO2019215991A8 WO2019215991A8 (ja) | 2020-01-09 |
Family
ID=68468311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/006385 WO2019215991A1 (ja) | 2018-05-07 | 2019-02-20 | インクジェット印刷物の製造方法およびインクジェット印刷物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210237484A1 (ja) |
JP (1) | JP6647497B1 (ja) |
CN (1) | CN112074415A (ja) |
WO (1) | WO2019215991A1 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004279491A (ja) * | 2003-03-13 | 2004-10-07 | Konica Minolta Holdings Inc | 防眩性反射防止層の形成方法、防眩性反射防止フィルムとその製造方法、防眩性反射防止フィルムを用いた表示装置及び防眩性反射防止加工装置 |
JP2008213152A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Acton Inc | サンドブラスト調工芸品の製造方法 |
JP2012206367A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Seiko Epson Corp | インクジェット描画方法および記録物 |
JP2016037582A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社Dnpファインケミカル | 活性エネルギー線硬化型インク組成物、このインク組成物を用いた積層体、及び基材上に像を形成する像形成方法 |
JP2018024164A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 印刷装置及び印刷方法 |
JP2018024810A (ja) * | 2016-08-12 | 2018-02-15 | 株式会社Dnpファインケミカル | 活性エネルギー線硬化型インク組成物、このインク組成物を用いた積層体、基材上に像を形成する像形成方法及び印刷物の製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110165387A1 (en) * | 2009-06-25 | 2011-07-07 | Konica Minolta Ij Technologies, Inc. | Actinic energy radiation curable ink-jet ink, image forming method using the same, and printed matter obtained thereby |
EP2423277A3 (en) * | 2010-08-27 | 2012-05-09 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article |
JP5824891B2 (ja) * | 2011-06-10 | 2015-12-02 | セイコーエプソン株式会社 | 印刷装置及び印刷方法 |
JP5874318B2 (ja) * | 2011-10-27 | 2016-03-02 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット用樹脂インク組成物、インクジェット記録方法、記録物 |
JP5955275B2 (ja) * | 2013-06-12 | 2016-07-20 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、加飾シートの製造方法、成形加工方法、加飾シート成形物の製造方法、インモールド成形品の製造方法 |
JP6264076B2 (ja) * | 2014-02-13 | 2018-01-24 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録方法、インクジェット記録装置 |
JP2016007737A (ja) * | 2014-06-23 | 2016-01-18 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 画像形成方法 |
CN104789039B (zh) * | 2015-04-27 | 2017-08-15 | 杭州科望特种油墨有限公司 | 一种内生型蒙砂效果玻璃油墨及利用其生产蒙砂效果产品的方法 |
US10845700B2 (en) * | 2016-03-31 | 2020-11-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Pattern forming method as well as production methods for processed substrate, optical component, circuit board, electronic component and imprint mold |
JP7161286B2 (ja) * | 2017-11-15 | 2022-10-26 | 株式会社Dnpファインケミカル | インク組成物用の分散液、インク組成物、積層体、像形成方法、及び印刷物の製造方法 |
EP3599033B1 (en) * | 2018-07-25 | 2023-02-15 | Mimaki Engineering Co., Ltd. | Multilayered body, producing method for multilayered body, and printing system |
-
2019
- 2019-02-20 JP JP2019527480A patent/JP6647497B1/ja active Active
- 2019-02-20 WO PCT/JP2019/006385 patent/WO2019215991A1/ja active Application Filing
- 2019-02-20 CN CN201980029822.3A patent/CN112074415A/zh active Pending
- 2019-02-20 US US17/052,977 patent/US20210237484A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004279491A (ja) * | 2003-03-13 | 2004-10-07 | Konica Minolta Holdings Inc | 防眩性反射防止層の形成方法、防眩性反射防止フィルムとその製造方法、防眩性反射防止フィルムを用いた表示装置及び防眩性反射防止加工装置 |
JP2008213152A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Acton Inc | サンドブラスト調工芸品の製造方法 |
JP2012206367A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Seiko Epson Corp | インクジェット描画方法および記録物 |
JP2016037582A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社Dnpファインケミカル | 活性エネルギー線硬化型インク組成物、このインク組成物を用いた積層体、及び基材上に像を形成する像形成方法 |
JP2018024164A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 印刷装置及び印刷方法 |
JP2018024810A (ja) * | 2016-08-12 | 2018-02-15 | 株式会社Dnpファインケミカル | 活性エネルギー線硬化型インク組成物、このインク組成物を用いた積層体、基材上に像を形成する像形成方法及び印刷物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112074415A (zh) | 2020-12-11 |
WO2019215991A8 (ja) | 2020-01-09 |
JPWO2019215991A1 (ja) | 2020-05-28 |
US20210237484A1 (en) | 2021-08-05 |
JP6647497B1 (ja) | 2020-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2268750B1 (en) | A jet ink and ink jet printing process | |
JP4595535B2 (ja) | エネルギー線硬化型インクジェット記録用インク組成物を用いた画像形成方法 | |
US9963601B2 (en) | Photocationically curable ink jet ink, method of manufacturing photocationically curable ink jet ink, printed matter, and method of manufacturing printed matter | |
JP5145629B2 (ja) | エネルギー線硬化型インクジェット記録用クリアインク組成物 | |
JP2007112970A (ja) | 紫外線硬化インクセット及び画像記録方法 | |
JP7013033B2 (ja) | インクジェットインク、印刷物の製造方法および印刷物 | |
CN116075433B (zh) | 喷墨油墨、印刷物的制造方法及印刷物 | |
WO2013190913A1 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化物及び用途 | |
JP2010274504A (ja) | 画像形成方法及び活性エネルギー線硬化型インク | |
WO2019215991A1 (ja) | インクジェット印刷物の製造方法およびインクジェット印刷物 | |
JP7089955B2 (ja) | インクジェットインク、インクジェットプリント物およびインクジェットプリント物の製造方法 | |
JP2006225508A (ja) | 光カチオン硬化性組成物およびその硬化物 | |
JP6479326B2 (ja) | 光硬化性インクジェットインク及び画像形成方法 | |
JP2007002131A (ja) | カチオン硬化性組成物および硬化物 | |
JP2013121656A (ja) | インクジェット描画方法および記録物 | |
JP2007002130A (ja) | カチオン硬化性組成物およびその硬化物 | |
JP2004315565A (ja) | 活性光線硬化型インクジェットインク組成物、それを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置 | |
JP7166523B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型インク組成物、液体吐出装置用インク組成物、像形成装置、及び像形成方法 | |
JP4857204B2 (ja) | 感光性インクジェットインク | |
JP2024097097A (ja) | インクジェットインク、印刷物の製造方法、印刷物および金属顔料分散液 | |
WO2024171549A1 (ja) | 積層体及び積層体の製造方法 | |
JP7277690B1 (ja) | 光硬化性コート剤およびそれを用いてなるコート層を備える積層体 | |
JP2011132386A (ja) | インクジェット印刷インク用重合性化合物及びインク組成物 | |
JP2021074977A (ja) | インクジェットプリント物の製造方法および画像形成方法 | |
JP2011207994A (ja) | インクジェット記録用インクセット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2019527480 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 19799493 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 19799493 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |