WO2019167908A1 - 高周波モジュール - Google Patents

高周波モジュール Download PDF

Info

Publication number
WO2019167908A1
WO2019167908A1 PCT/JP2019/007173 JP2019007173W WO2019167908A1 WO 2019167908 A1 WO2019167908 A1 WO 2019167908A1 JP 2019007173 W JP2019007173 W JP 2019007173W WO 2019167908 A1 WO2019167908 A1 WO 2019167908A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
component
wiring board
resin layer
frequency module
sealing resin
Prior art date
Application number
PCT/JP2019/007173
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
喜人 大坪
将太 佐藤
Original Assignee
株式会社村田製作所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社村田製作所 filed Critical 株式会社村田製作所
Priority to CN201980015502.2A priority Critical patent/CN111771276B/zh
Priority to JP2020503505A priority patent/JP7067609B2/ja
Publication of WO2019167908A1 publication Critical patent/WO2019167908A1/ja
Priority to US16/999,172 priority patent/US11302606B2/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49822—Multilayer substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3135—Double encapsulation or coating and encapsulation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/315—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed the encapsulation having a cavity
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49827—Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/552—Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64—Impedance arrangements
    • H01L23/66—High-frequency adaptations
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/18—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161—Disposition
    • H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/16227—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bond pad of the item
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/367—Cooling facilitated by shape of device
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L24/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11—Device type
    • H01L2924/14—Integrated circuits
    • H01L2924/141—Analog devices
    • H01L2924/142—HF devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151—Die mounting substrate
    • H01L2924/153—Connection portion
    • H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15313—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a land array, e.g. LGA
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181—Encapsulation
    • H01L2924/1815—Shape
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181—Encapsulation
    • H01L2924/1815—Shape
    • H01L2924/1816—Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body
    • H01L2924/18161—Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body of a flip chip
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191—Disposition
    • H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19105—Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30—Technical effects
    • H01L2924/301—Electrical effects
    • H01L2924/3025—Electromagnetic shielding

Definitions

  • the present invention relates to a module in which a component that generates heat is mounted on a substrate and has a heat dissipation structure.
  • heat dissipation measures may be taken in order to suppress adverse effects on the components due to heat generation.
  • a module with such a heat dissipation measure for example, there is an electronic component module 100 described in Patent Document 1 shown in FIG.
  • a conventional electronic component module 100 shown in FIG. 19 includes an electronic component 104 in which an integrated circuit 102 mounted on a substrate 101 is sealed with a sealing resin 103, an electromagnetic wave shielding layer 105, and a heat dissipation layer 106. Since the heat dissipation layer 106 serving as a heat dissipation structure is disposed, heat released during the operation of the electronic component 104 is efficiently discharged from the heat dissipation layer 106 to prevent the electronic component 104 from deteriorating in function or the like. Can do.
  • a plurality of built-in components may be mounted on the electronic component module 100.
  • the heat of the heat generating component may be transmitted to the other components, and the other components may change their characteristics due to the heat.
  • the distance between the heat dissipation layer 106 and other components becomes closer, so that when the electronic component module 100 is mounted with components that are easily affected by heat. Measures to suppress the influence of heat are necessary for such parts.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a high-frequency module that suppresses the influence of heat on other components while ensuring a heat dissipation structure for the components that generate heat.
  • a high-frequency module has a wiring board, a first component and a second component mounted on one main surface of the wiring board, and the one main surface of the wiring board.
  • a contact surface that is in contact with the contact surface, a facing surface that faces the contact surface, a side surface that connects edges of the contact surface and the facing surface, and a recess is formed in the facing surface;
  • a sealing resin layer that seals the component and the second component; and a heat dissipating member that is disposed on the facing surface of the sealing resin layer, wherein the recess is formed on the one main surface of the wiring board.
  • the concave portion formed on the facing surface of the sealing resin layer creates a space between the first component, which is a component that is easily affected by heat, and the heat radiating member.
  • the heat generated from the two components is released to the outside of the high-frequency module by the heat radiating member, and the heat of the heat radiating member that is generated can be prevented from being transmitted to the first component, and the influence of the heat on the first component can be suppressed.
  • a first groove deeper than the recess is formed on the facing surface of the sealing resin layer, and the first groove is formed between the first component and the second component, You may connect with the recessed part.
  • the first component that is easily affected by heat and the second component that generates heat are mounted next to each other on the one main surface of the wiring board, the first component and the second component are not separated from each other.
  • the groove in the first part it is possible to suppress the heat generated from the second part from affecting the first part.
  • a second groove deeper than the recess is formed on the facing surface of the sealing resin layer, and the second groove is viewed from a direction perpendicular to the one main surface of the wiring board. Sometimes, it may be formed so as to surround the first component and connected to the recess.
  • the concave portion may be composed of a plurality of small depressions formed at a position overlapping the first component when viewed from a direction perpendicular to the one main surface of the wiring board.
  • the concave portion may be formed in substantially the same shape as the first component when viewed from a direction perpendicular to the one main surface of the wiring board.
  • a through groove reaching the end of the sealing resin layer from the recess is formed in the facing surface of the sealing resin layer. May be.
  • the air in the concave portion may expand due to heat, the high-frequency module can be prevented from being deformed by the air expanded due to heat by forming the escape groove.
  • the second component may be higher than the first component from the one main surface of the wiring board, and the second component may be exposed from the facing surface of the sealing resin layer.
  • the heat dissipation efficiency can be further improved by exposing the second component, which is a component that generates heat, from the facing surface of the sealing resin layer and bringing it into contact with the heat dissipation member.
  • a wiring board a first component and a second component mounted on one main surface of the wiring substrate; a contact surface that contacts the one main surface of the wiring substrate; and a facing surface that faces the corresponding contact surface.
  • a sealing resin layer that seals the first component and the second component, and has a side surface that connects the edges of the abutting surface and the opposing surface, and has a cavity formed therein.
  • a heat radiating member disposed on the facing surface of the sealing resin layer, and the cavity reaches the facing surface of the sealing resin layer from a surface opposite to the mounting surface of the first component. The height may be such that the first component overlaps the first component when viewed from a direction perpendicular to the one main surface of the wiring board.
  • the influence of the heat generated from the second component on the first component can be suppressed by the hollow portion formed inside the sealing resin layer. Moreover, the heat dissipation structure according to the necessity of heat dissipation of the second component can be realized.
  • the hollow portion may be formed in substantially the same shape as the first component when viewed from a direction perpendicular to the one main surface of the wiring board.
  • the cavity formed inside the sealing resin layer is formed in substantially the same shape as the first component when viewed from the direction perpendicular to the one main surface of the wiring board. The influence which the heat generated from two parts exerts on the first part can be further suppressed.
  • a wiring board a first component and a second component mounted on one main surface of the wiring substrate; a contact surface that contacts the one main surface of the wiring substrate; and a facing surface that faces the corresponding contact surface. And a sealing resin layer that seals the first component and the second component, and a surface that faces the sealing resin layer. And a heat radiating member formed with a recess, and the recess may be disposed at a position overlapping the first component when viewed from a direction perpendicular to the one main surface of the wiring board. .
  • the recess is formed at a position overlapping the first component of the heat dissipation member, the heat dissipation member that generates heat due to the heat generated from the second component is prevented from affecting the first component. can do.
  • the recess may be formed in substantially the same shape as the first component when viewed from a direction perpendicular to the one main surface of the wiring board.
  • the recess formed in the heat radiating member has substantially the same shape as the first component, the influence of the heat generated from the second component on the first component can be further suppressed.
  • a heat radiating fin may be provided on a surface opposite to the facing surface of the heat radiating member, and the concave portion may be disposed in the heat radiating fin.
  • a more efficient heat dissipation structure can be formed by providing the heat dissipation fins.
  • it further includes a third groove formed on the facing surface of the sealing resin layer, and the third groove is viewed from a direction perpendicular to the one main surface of the wiring board. It may be formed so as to surround the first part.
  • a shield film that covers at least the facing surface and the side surface of the sealing resin layer may be provided.
  • the sealing resin layer and the heat radiating member do not come into contact with each other due to the concave portion of the sealing resin layer formed at the position of the first component which is a component that is susceptible to heat, the heat to the first component
  • a high-frequency module that secures heat dissipation of the second component, which is a component that generates heat, while suppressing the influence of the above.
  • it is a component that generates heat while suppressing the influence of heat on the first component by a cavity in the sealing resin layer formed at a position corresponding to the first component that is susceptible to heat. It is possible to provide a high-frequency module that ensures heat dissipation of a certain second component.
  • the second component that is a component that generates heat while suppressing the influence of heat on the first component by the recess of the heat radiating member formed at a position corresponding to the first component that is susceptible to heat. It is possible to provide a high-frequency module that ensures heat dissipation.
  • FIG. 2 is a plan view of a state in which a shield film and a heat radiating member of the high frequency module of FIG. 1 are removed. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is sectional drawing of the high frequency module concerning 2nd Embodiment of this invention.
  • FIG. 7 is a plan view of a state in which a shield film and a heat radiating member of the high frequency module of FIG. 6 are removed. It is sectional drawing of the high frequency module concerning 3rd Embodiment of this invention.
  • FIG. 10 is a plan view of a state in which a part of the heat radiating member of the high frequency module of FIG. 9 is removed. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is sectional drawing of the high frequency module concerning 5th Embodiment of this invention. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is a figure which shows the modification of the high frequency module of FIG. It is sectional drawing of the conventional high frequency module.
  • FIGS. 1 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2, and FIG. 2 is a plan view of the high-frequency module 1a with the shield film 5 and the heat dissipation member 6 removed.
  • the high-frequency module 1 a includes a wiring board 2, a first component 3 a, a second component 3 b, and a third component 3 c mounted on the upper surface 20 a of the wiring substrate 2.
  • the shield film 5 to be covered and the heat radiation member 6 laminated on the shield film 5 on the upper surface 4a of the sealing resin layer 4 are provided, and are mounted on, for example, a mother substrate of an electronic device using a high-frequency signal.
  • the wiring board 2 is formed by laminating a plurality of insulating layers 2a to 2c formed of, for example, a low-temperature co-fired ceramic, a high-temperature co-fired ceramic, glass epoxy resin, or the like.
  • Mounting electrodes 7 for mounting the components 3a to 3c are formed on the upper surface 20a of the wiring board 2, and a plurality of external electrodes 8 for external connection are formed on the lower surface 20b of the wiring board 2.
  • Various internal wiring electrodes 9 and ground electrodes (not shown) are formed between the adjacent insulating layers 2a to 2c.
  • a plurality of via conductors 10 for connecting the internal wiring electrodes 9 formed in the different insulating layers 2a to 2c are formed inside the wiring board 2.
  • the mounting electrode 7, the external electrode 8, and the internal wiring electrode 9 are all formed of a metal generally employed as a wiring electrode such as Cu, Ag, or Al.
  • Each via conductor 10 is made of a metal such as Ag or Cu.
  • Each mounting electrode 7 and each external electrode 8 may be plated with Ni / Au.
  • the first part 3a is a part that easily changes its characteristics due to the influence of heat, and examples thereof include parts such as an inductor and a capacitor.
  • the second component 3b is a component that generates heat, and examples thereof include components such as an IC and a power amplifier.
  • the third component 3c is a component other than the first component 3a and the second component 3b.
  • the components 3a to 3c are mounted on the upper surface 20a of the wiring board 2 by a general surface mounting technique such as solder bonding. Note that the upper surface 30 b of the second component 3 b is exposed from the upper surface 4 a of the sealing resin layer 4 and connected to the shield film 5.
  • the sealing resin layer 4 is formed of a resin generally employed as a sealing resin such as an epoxy resin, and seals the components 3a to 3c.
  • the sealing resin layer 4 includes a lower surface 4b (corresponding to the “contact surface of the sealing resin layer” of the present invention) that contacts the wiring board 2 and an upper surface 4a (corresponding to the “sealing surface of the present invention”). And a side surface 4c.
  • a recess 11 is formed on the upper surface 4 a of the sealing resin layer 4. As shown in FIG. 2, when viewed from a direction perpendicular to the upper surface 20a of the wiring substrate 2, the recess 11 is formed in a position substantially overlapping with the first component 3a in the same shape as the first component 3a. . In addition, the recessed part 11 may be larger than the 1st component 3a.
  • the shield film 5 covers the surface (the upper surface 4 a and the side surface 4 c) of the sealing resin layer 4 and the side surface 20 c of the wiring substrate 2.
  • the shield film 5 is connected to a ground electrode (not shown) exposed on the side surface 20 c of the wiring board 2.
  • the shield film 5 is formed in a multilayer structure having an adhesion film laminated on the upper surface 4a and the side surface 4c of the sealing resin layer 4, a conductive film laminated on the adhesion film, and a protective film laminated on the conductive film.
  • the adhesion film is provided to increase the adhesion strength between the conductive film and the sealing resin layer 4 and can be formed of a metal such as SUS, for example.
  • the conductive film is a layer that bears the substantial shielding function of the shield film 5 and can be formed of, for example, any one of Cu, Ag, and Al.
  • the protective film is provided to prevent the conductive film from being corroded or scratched, and can be formed of, for example, SUS.
  • the heat dissipation member 6 is a plate-like metal placed on the upper surface 4 a of the sealing resin layer 4. By disposing the heat dissipating member 6 in this way, heat generated from the second component 3b can be released to the outside of the high frequency module 1a.
  • the shield film 5 is formed so as to cover the upper surface 4 a and the side surface 4 c of the sealing resin layer 4, the heat dissipation member 6 is placed on the shield film 5.
  • a hollow portion 12 is formed between the heat radiating member 6 and the first component 3a by the concave portion 11 formed on the upper surface 4a of the sealing resin layer 4.
  • the recess 11 is formed between the first component 3 a and the heat radiating member 6, the heat generated from the second component 3 b is transferred to the first component via the heat radiating member 6. It is possible to prevent the influence on 3a. In this case, since the heat radiating member 6 covers the entire upper surface 4a of the sealing resin layer 4, the influence of heat on the first component 3a can be suppressed without reducing the heat radiating efficiency of the second component 3b. .
  • the first groove 13 that is a groove continuously formed in the recess 11 may be formed on the upper surface 4 a of the sealing resin layer 4. Since the cavity 12 extends between the first component 3a and the second component 3b by forming the first groove 13, the first component 3a is prevented from being affected by heat from the side surface. Can do.
  • channel 14 may be formed so that the circumference
  • the recess 11 may be formed by a plurality of small recesses 15 (corresponding to “small recesses” of the present invention). In this case, since the contact area between the heat radiating member 6 and the sealing resin layer 4 is increased, the heat radiating efficiency can be further improved.
  • FIGS. 6 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 7, and FIG. 7 is a plan view of the high-frequency module 1e with the shield film 5 and the heat dissipation member 6 removed.
  • the high-frequency module 1e according to this embodiment differs from the high-frequency module 1a according to the first embodiment described with reference to FIGS. 1 and 2 in that, as shown in FIGS. The point is that a through groove 16 is formed toward the side surface 4 c of the layer 4. Since other configurations are the same as those of the high-frequency module 1a of the first embodiment, description thereof is omitted by attaching the same reference numerals.
  • a through groove 16 is formed from the recess 11a, which is one of the recesses formed on the upper surface 4a of the sealing resin layer 4, toward the side surface 4c of the sealing resin layer 4.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of the high-frequency module 1f.
  • the high-frequency module 1f according to this embodiment differs from the high-frequency module 1a of the first embodiment described with reference to FIGS. 1 and 2 in that a cavity is formed inside the sealing resin layer 4 as shown in FIG. The point is that the portion 17 is formed. Since other configurations are the same as those of the high-frequency module 1a of the first embodiment, description thereof is omitted by attaching the same reference numerals.
  • the cavity portion 17 is formed at a position overlapping the first component 3a when viewed from a direction perpendicular to the upper surface 20a of the wiring board 2.
  • the hollow portion 17 is formed, for example, by laminating the sealing resin layer 4 after applying wax on the upper surface 30a of the first component 3a (corresponding to the “opposite surface of the first component” of the present invention). Can do. This is because the wax is melted by the heat generated when the sealing resin layer 4 is cured to form the cavity portion 17.
  • FIGS. 9 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 10, and FIG. 10 is a plan view of the high-frequency module 1g with a part of the heat radiating member 6 removed.
  • the high-frequency module 1g according to this embodiment differs from the high-frequency module 1a of the first embodiment described with reference to FIGS. 1 and 2 in the sealing resin layer 4 as shown in FIGS. Is that a recess is not formed and a recess is formed in the heat dissipating member 6. Since other configurations are the same as those of the high-frequency module 1a of the first embodiment, description thereof is omitted by attaching the same reference numerals.
  • the heat dissipating member 6 has a two-layer structure of a lower layer 6a and an upper layer 6b, and the lower layer 6a of the heat dissipating member 6 has an upper surface 20a of the wiring board 2 as shown in FIG.
  • a hole 18 having substantially the same shape as that of the first component 3a is formed at a position overlapping the first component 3a.
  • the heat dissipation member 6 has a two-layer structure, so that the heat dissipation efficiency can be further improved.
  • the air hole 21 may be formed in the upper layer 6b of the heat radiating member 6 like the high frequency module 1h shown in FIG.
  • the air hole 21 is provided at a position overlapping the hole 18 formed in the lower layer 6 a of the heat dissipation member 6 when viewed from the direction perpendicular to the upper surface 20 a of the wiring board 2.
  • the upper layer of the heat radiating member 6 may be the heat radiating fins 6c.
  • the heat dissipation efficiency can be further improved.
  • the recessed part 22 may be formed in the radiation fin 6c like the high frequency module 1j shown in FIG.
  • the concave portion 22 is formed at a position overlapping the first component 3a when viewed from a direction perpendicular to the upper surface 20a of the wiring board 2.
  • the heat radiating member 6 may be formed of only the heat radiating fins 6c.
  • a recess 19 may be formed in the heat radiating member 6, and a third groove 23 may be formed around the first component 3 a of the sealing resin layer 4.
  • a fourth groove 24 may be further formed around the second component 3b as in the module 11 shown in FIG. By surrounding the second component 3b, which is a component that generates heat, with the fourth groove 24, it is possible to prevent other components from being affected by the heat generated from the second component 3b.
  • FIG. 16 is a cross-sectional view of the high-frequency module 1m.
  • the high-frequency module 1m according to this embodiment differs from the high-frequency module 1g of the fourth embodiment described with reference to FIGS. 9 to 10 in that the heat dissipating member 6 is one layer of the lower layer 6a as shown in FIG. It is a point formed only by. Since other configurations are the same as those of the high-frequency module 1a of the first embodiment, description thereof is omitted by attaching the same reference numerals.
  • the heat dissipating member 6 is formed only of the lower layer 6a, and a hole 18 is provided at a position overlapping the first component 3a when viewed from a direction perpendicular to the upper surface 20a of the wiring board 2.
  • the heat radiating member 6 is disposed on the upper surface 4 a of the sealing resin layer 4.
  • the first component 3a from being affected by the heat generated from the second component 3b by forming the hole 18 only at a position overlapping the first component 3a. Since the heat dissipating member 6 is disposed at a position other than the position overlapping the first component 3a, the influence on the first component 3a can be suppressed without reducing the heat dissipating efficiency.
  • the heat radiating member 6 is provided with a notch 25 and includes the first component 3a when viewed from a direction perpendicular to the upper surface 20a of the wiring board 2.
  • a configuration in which the heat dissipation member 6 is not disposed in the area may be employed.
  • the second component 3 b may not be exposed from the upper surface 4 a of the sealing resin layer 4. Further, the shield film 5 may not be formed.
  • the present invention can be applied to various high-frequency modules having a shield.
  • High-frequency module 2 Wiring board (wiring board) 20a Upper surface (one main surface) 3a 1st part 3b 2nd part 4 Sealing resin layer 4a Upper surface (opposing surface) 6 heat radiating member 6c heat radiating fin 11 concave portion 13 first groove 14 second groove

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

発熱する部品の放熱効率を維持しつつ、熱により特性変動が起こる部品への影響を抑制することができる高周波モジュールを提供する。　高周波モジュール１ａは、配線基板２と、該配線基板２の上面２０ａに実装された熱により特性変動が起きやすい第１部品３ａと、発熱する部品である第２部品３ｂと、各部品３ａ～３ｃを被覆する封止樹脂層４と、封止樹脂層４の表面を覆うシールド膜５と、封止樹脂層４の上面４ａに配設された放熱部材６とを備える。封止樹脂層４の上面４ａには、配線基板２の上面２０ａに対して垂直な方向から見たときに、凹部１１が形成されている。凹部１１により、第２部品３ｂから発生した熱が、第１部品３ａに対して影響を及ぼすことを防ぐことができる。

Description

高周波モジュール
　本発明は、基板に発熱する部品が実装されており、放熱構造を有するモジュールに関する。
　配線基板の実装面に発熱する部品が実装されたモジュールでは、発熱による部品への悪影響を抑制するために、放熱対策が施される場合がある。このような放熱対策が施されたモジュールとして、例えば、図１９に示す特許文献１に記載の電子部品モジュール１００がある。
　図１９に示される従来の電子部品モジュール１００は、基板１０１に実装された集積回路１０２が封止樹脂１０３により封止された電子部品１０４と、電磁波シールド層１０５と、放熱層１０６とを備える。放熱構造としての放熱層１０６が配置されているため、電子部品１０４の動作時に放出される熱が、放熱層１０６から効率よく外部に排出され、電子部品１０４の機能低下等の発生を防止することができる。
特開２０１７－４５９３２号公報（段落００１９～００３４、段落００４２、図１等参照）
　ところで、電子部品モジュール１００に複数の内蔵部品が搭載される場合がある。たとえば、発熱する部品とその他の部品が電子部品モジュール１００に搭載されたときに、発熱部品の熱が他の部品に伝達され、他の部品がその熱により特性変動を起こしてしまうことがある。また、電子部品モジュール１００の低背化が進むと、放熱層１０６と他の部品との距離がさらに近くなるため、電子部品モジュール１００に熱の影響を受けやすい部品が搭載されている場合には、そのような部品に対して、熱の影響を抑える対策が必要である。
　本発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、発熱する部品の放熱構造は確保しつつ、他の部品への熱の影響を抑えた高周波モジュールを提供することを目的とする。
　上記した目的を達成するために、本発明の高周波モジュールは、配線基板と、前記配線基板の一方主面に実装された第１部品および第２部品と、前記配線基板の前記一方主面に当接する当接面と、該当接面に対向する対向面と、前記当接面と前記対向面の端縁同士をつなぐ側面とを有し、前記対向面に凹部が形成されており、前記第１部品および前記第２部品を封止する封止樹脂層と、前記封止樹脂層の前記対向面に配設された放熱部材とを備え、前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品と重なる位置に配置されていることを特徴としている。
　この構成によれば、封止樹脂層の対向面に形成された凹部により、熱の影響を受けやすい部品である第１部品と放熱部材との間に空間ができるため、発熱する部品である第２部品から発生した熱を放熱部材により高周波モジュールの外部に放出するとともに、発熱した放熱部材の熱が第１部品に伝わることを抑制し、第１部品に対する熱の影響を抑えることができる。
　また、前記封止樹脂層の前記対向面に、前記凹部よりも深い第１の溝が形成され、前記第１の溝は、前記第１部品と前記第２部品との間に形成され、前記凹部とつながっていてもよい。
　この構成によれば、配線基板の一方主面に、熱の影響を受けやすい第１部品と発熱する第２部品が隣り合って実装されている場合に、第１部品と第２部品との間に溝を形成することで、第２部品から発生した熱が第１部品に影響を及ぶのを抑制することができる。
　また、前記封止樹脂層の前記対向面に、前記凹部よりも深い第２の溝が形成され、前記第２の溝は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品を囲むように形成され、前記凹部とつながっていていてもよい。
　この構成によれば、熱の影響を受けやすい第１部品の周囲を溝で囲むことにより、第１部品が第２部品から発生する熱の影響を受けるのを抑制することができる。
　また、前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に垂直な方向から見たときに、前記第１部品と重なる位置に形成された複数の小さい窪みからなっていてもよい。
　この構成によれば、放熱部材と封止樹脂層の対向面との接触面積を増やすことができるため放熱効率を向上させつつ、第１部品に対する熱の影響を抑えることができる。
　また、前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に垂直な方向から見たときに、前記第１部品と略同じ形状で形成されていてもよい。
　この場合、配線基板の一方主面に垂直な方向から見たときに、熱の影響を受けやすい部品である第１部品と略同じ形状の凹部が形成されるため、第２部品から発生した熱が第１部品に対して及ぼす影響をより抑えることができる。
　また、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記封止樹脂層の前記対向面に、前記凹部から前記封止樹脂層の端部に達する抜け溝が形成されていてもよい。
　この構成によれば、封止樹脂層の対向面に形成された凹部は、封止樹脂と放熱部材により囲まれているため、空気が閉じ込められた状態となっており、第２部品から発生した熱により凹部の空気が膨張する恐れがあるが、抜け溝を形成することによって、熱により膨張した空気によって高周波モジュールが変形するのを防止することができる。
　また、前記第２部品は前記第１部品よりも前記配線基板の前記一方主面からの高さが高く、前記第２部品は前記封止樹脂層の前記対向面から露出していてもよい。
　この構成によれば、発熱する部品である第２部品を封止樹脂層の対向面から露出させて放熱部材に接触させることにより、より放熱効率を向上させることができる。
　また、配線基板と、前記配線基板の一方主面に実装された第１部品および第２部品と、前記配線基板の前記一方主面に当接する当接面と、該当接面に対向する対向面と、前記当接面と前記対向面の端縁同士をつなぐ側面とを有し、内部に空洞部が形成されており、前記第１部品および前記第２部品を封止する封止樹脂層と、前記封止樹脂層の前記対向面に配設された放熱部材とを備え、前記空洞部は、前記第１部品の実装面と反対側の面から前記封止樹脂層の前記対向面に達しない高さで形成され、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品と重なる位置に配置されていてもよい。
　この構成によれば、封止樹脂層の内部に形成された空洞部により、第２部品から発生した熱の第１部品への影響を抑制することができる。また、第２部品の放熱の必要性に応じた放熱構造を実現することができる。
　また、前記空洞部は、前記配線基板の前記一方主面に垂直な方向から見たときに、前記第１部品と略同じ形状で形成されていてもよい。
　この場合、封止樹脂層の内部に形成された空洞部が、配線基板の一方主面に対して垂直な方向から見たときに、第１部品と略同じ形状で形成されているため、第２部品から発生した熱が第１部品に対して及ぼす影響をより抑えることができる。
　また、配線基板と、前記配線基板の一方主面に実装された第１部品および第２部品と、前記配線基板の前記一方主面に当接する当接面と、該当接面に対向する対向面と、前記当接面と前記対向面の端縁同士をつなぐ側面とを有し、前記第１部品および前記第２部品を封止する封止樹脂層と、前記封止樹脂層に対向する面に凹部が形成された放熱部材とを備え、前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品に重なる位置に配置されていてもよい。
　この構成によれば、放熱部材の第１部品と重なる位置に凹部が形成されているため、第２部品から発生した熱により発熱した放熱部材が、第１部品に対して影響を与えるのを防止することができる。
　また、前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品と略同じ形状で形成されていてもよい。
　この場合、放熱部材に形成された凹部が、第１部品と略同じ形状であるため、第２部品から発生した熱が第１部品に対して及ぼす影響をより抑えることができる。
　また、前記放熱部材の前記対向する面と反対側の面に放熱フィンを備え、前記放熱フィンに前記凹部が配置されていてもよい。
　この構成によれば、放熱フィンを備えることにより、さらに効率的な放熱構造を形成することができる。
　また、前記封止樹脂層の前記対向面に形成された第３の溝をさらに備え、前記第３の溝は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品を囲むように形成されていてもよい。
　この構成によれば、第１部品を囲むような溝が形成されているため、第１部品への熱の影響をさらに抑えることができる。
　前記封止樹脂層の前記対向面と前記側面とを少なくとも被覆するシールド膜を備えていてもよい。
　この場合、外部からの電磁波の影響を抑制した高周波モジュールを提供することができる。
　本発明によれば、熱の影響を受けやすい部品である第１部品の位置に形成された封止樹脂層の凹部により、封止樹脂層と放熱部材が接触しないため、第１部品への熱の影響を抑制しつつ、発熱する部品である第２部品の放熱性を確保した高周波モジュールを提供することができる。また、熱の影響を受けやすい部品である第１部品に相当する位置に形成された、封止樹脂層内の空洞部により、第１部品への熱の影響を抑制しつつ、発熱する部品である第２部品の放熱性を確保した高周波モジュールを提供することができる。また、熱の影響を受けやすい部品である第１部品に相当する位置に形成された、放熱部材の凹部により、第１部品への熱の影響を抑制しつつ、発熱する部品である第２部品の放熱性を確保した高周波モジュールを提供することができる。
本発明の第１実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。 図１の高周波モジュールのシールド膜および放熱部材を除いた状態の平面図である。 図１の高周波モジュールの変形例を示す図である。 図１の高周波モジュールの変形例を示す図である。 図１の高周波モジュールの変形例を示す図である。 本発明の第２実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。 図６の高周波モジュールのシールド膜および放熱部材を除いた状態の平面図である。 本発明の第３実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。 本発明の第４実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。 図９の高周波モジュールの放熱部材の一部を除いた状態の平面図である。 図９の高周波モジュールの変形例を示す図である。 図９の高周波モジュールの変形例を示す図である。 図９の高周波モジュールの変形例を示す図である。 図９の高周波モジュールの変形例を示す図である。 図９の高周波モジュールの変形例を示す図である。 本発明の第５実施形態にかかる高周波モジュールの断面図である。 図１６の高周波モジュールの変形例を示す図である。 図１６の高周波モジュールの変形例を示す図である。 従来の高周波モジュールの断面図である。
　＜第１実施形態＞
　本発明の第１実施形態にかかる高周波モジュール１ａについて、図１および図２を参照して説明する。なお、図１は図２のＡ－Ａ矢視断面図、図２は高周波モジュール１ａのシールド膜５および放熱部材６を除いた状態の平面図である。
　この実施形態にかかる高周波モジュール１ａは、図１および図２に示すように、配線基板２と、該配線基板２の上面２０ａに実装された第１部品３ａ、第２部品３ｂおよび第３部品３ｃと、配線基板２の上面２０ａに積層された封止樹脂層４と、封止樹脂層４の上面４ａ（本発明の「封止樹脂層の対向面」に相当する）と、側面４ｃとを被覆するシールド膜５と、封止樹脂層４の上面４ａのシールド膜５に積層された放熱部材６とを備え、例えば、高周波信号が用いられる電子機器のマザー基板等に搭載される。
　配線基板２は、例えば、低温同時焼成セラミック、高温同時焼成セラミックやガラスエポキシ樹脂などで形成された複数の絶縁層２ａ～２ｃが積層されて成る。配線基板２の上面２０ａには各部品３ａ～３ｃの実装用の実装電極７が形成されるとともに、配線基板２の下面２０ｂには、外部接続用の複数の外部電極８が形成される。また、隣接する絶縁層２ａ～２ｃ間それぞれに、各種の内部配線電極９やグランド電極（図示省略）が形成される。さらに、配線基板２の内部には、異なる絶縁層２ａ～２ｃに形成された内部配線電極９同士を接続するための複数のビア導体１０が形成される。なお、実装電極７、外部電極８および内部配線電極９は、いずれもＣｕやＡｇ、Ａｌ等の配線電極として一般的に採用される金属で形成されている。また、各ビア導体１０は、ＡｇやＣｕ等の金属で形成されている。なお、各実装電極７、各外部電極８には、Ｎｉ／Ａｕめっきがそれぞれ施されていてもよい。
　第１部品３ａは、熱の影響により特性変動を起こしやすい部品であり、たとえば、インダクタ、コンデンサ等の部品が挙げられる。第２部品３ｂは、発熱する部品であり、たとえば、ＩＣやパワーアンプ等の部品が挙げられる。第３部品３ｃは、第１部品３ａおよび第２部品３ｂ以外の部品である。各部品３ａ～３ｃは、半田接合などの一般的な表面実装技術により配線基板２の上面２０ａに実装される。なお、第２部品３ｂの上面３０ｂは、封止樹脂層４の上面４ａから露出してシールド膜５に接続している。
　封止樹脂層４は、エポキシ樹脂等、封止樹脂として一般的に採用される樹脂で形成され、各部品３ａ～３ｃを封止する。また、封止樹脂層４は、配線基板２に当接する下面４ｂ（本発明の「封止樹脂層の当接面」に相当）と、該下面４ｂに対向する上面４ａ（本発明の「封止樹脂層の対向面」に相当）と、側面４ｃとを有する。封止樹脂層４の上面４ａには、凹部１１が形成されている。図２に示すように、配線基板２の上面２０ａに対して垂直な方向から見たときに、凹部１１は第１部品３ａに重なる位置に、第１部品３ａとほぼ同じ形状で形成されている。なお、凹部１１は、第１部品３ａよりも大きくてもよい。
　シールド膜５は、封止樹脂層４の表面（上面４ａ、側面４ｃ）と配線基板２の側面２０ｃとを被覆する。また、シールド膜５は、配線基板２の側面２０ｃに露出したグランド電極（図示省略）に接続される。
　シールド膜５は、封止樹脂層４の上面４ａおよび側面４ｃに積層された密着膜と、密着膜に積層された導電膜と、導電膜に積層された保護膜とを有する多層構造で形成することができる。ここで、密着膜は、導電膜と封止樹脂層４との密着強度を高めるために設けられたものであり、例えば、ＳＵＳなどの金属で形成することができる。導電膜は、シールド膜５の実質的なシールド機能を担う層であり、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌのうちのいずれかの金属で形成することができる。保護膜は、導電膜が腐食したり、傷が付いたりするのを防止するために設けられたものであり、例えば、ＳＵＳで形成することができる。
　放熱部材６は、封止樹脂層４の上面４ａに載置された板状の金属である。このように放熱部材６を配置することで、第２部品３ｂから発生する熱を高周波モジュール１ａの外部へ放出することができる。なお、本実施形態では、封止樹脂層４の上面４ａおよび側面４ｃを覆うようにシールド膜５が形成されているため、放熱部材６はシールド膜５上に載置されている。
　ここで、本実施形態においては、封止樹脂層４の上面４ａに形成された凹部１１により、放熱部材６と第１部品３ａとの間に空洞部１２ができる。このため、第２部品３ｂから発生した熱により放熱部材６が発熱した場合でも、第１部品３ａへ封止樹脂層の上面４ａ側から熱が伝達するのを防止することができる。
　したがって、上記した実施形態によれば、第１部品３ａと放熱部材６との間に凹部１１が形成されているため、第２部品３ｂから発生した熱が、放熱部材６を介して第１部品３ａに影響を与えるのを防止することができる。この場合、放熱部材６は封止樹脂層４の上面４ａの全体を覆っているため、第２部品３ｂの放熱効率を下げることなく、第１部品３ａへの熱の影響を抑制することができる。
　（凹部の変形例１）
　図３に示す高周波モジュール１ｂのように、封止樹脂層４の上面４ａに、凹部１１に連続して形成された溝である第１の溝１３が形成されていてもよい。第１の溝１３が形成されることにより、第１部品３ａと第２部品３ｂとの間にも空洞部１２が及ぶため、第１部品３ａが側面から熱の影響を受けるのを防止することができる。
　（凹部の変形例２）
　また、図４に示す高周波モジュール１ｃのように、第２の溝１４が第１部品３ａの周囲を囲むように形成されていてもよい。この場合、第１部品３ａへの熱の影響をさらに抑制することができる。
　（凹部の変形例３）
　また、図５に示す高周波モジュール１ｄのように、凹部１１が複数の小凹部１５（本発明の「小さい窪み」に相当する）により形成されていてもよい。この場合、放熱部材６と封止樹脂層４との接触面積が増えるため、放熱効率をより向上することができる。
　＜第２実施形態＞
　本発明の第２実施形態にかかる高周波モジュール１ｅについて、図６～図７を参照して説明する。なお、図６は図７のＢ－Ｂ矢視断面図、図７は高周波モジュール１ｅのシールド膜５および放熱部材６を除いた状態の平面図である。
　この実施形態にかかる高周波モジュール１ｅが、図１～図２を参照して説明した第１実施形態の高周波モジュール１ａと異なるところは、図６および図７に示すように、凹部１１から封止樹脂層４の側面４ｃに向かって抜け溝１６が形成されている点である。その他の構成は、第１実施形態の高周波モジュール１ａと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
　この実施形態では、封止樹脂層４の上面４ａに形成された凹部のうちの１つである凹部１１ａから、封止樹脂層４の側面４ｃに向かって抜け溝１６が形成されている。抜け溝１６が形成されることにより、凹部１１ａと放熱部材６とで囲まれた空洞部１２から外部へ空気を抜くことができる。
　この構成によれば、第１実施形態の高周波モジュール１ａと同様の効果に加えて、空洞部１２に閉じ込められた空気が熱により膨張して高周波モジュール１ｄが変形することを防止することができる。
　＜第３実施形態＞
　本発明の第３実施形態にかかる高周波モジュール１ｆについて、図８を参照して説明する。なお、図８は高周波モジュール１ｆの断面図である。
　この実施形態にかかる高周波モジュール１ｆが、図１～図２を参照して説明した第１実施形態の高周波モジュール１ａと異なるところは、図８に示すように、封止樹脂層４の内部に空洞部１７が形成されている点である。その他の構成は、第１実施形態の高周波モジュール１ａと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
　この実施形態では、配線基板２の上面２０ａに対して垂直な方向から見たときに、第１部品３ａと重なる位置に空洞部１７が形成されている。空洞部１７は、たとえば、第１部品３ａの上面３０ａ（本発明の「第１部品の反対面」に相当する）にワックスを塗布した後で封止樹脂層４を積層することにより形成することができる。封止樹脂層４を硬化する際の熱でワックスが溶けて空洞部１７となるためである。
　この構成によれば、第１部品３ａの上面３０ａが封止樹脂層４に接触していないため、第１部品３ａに対する熱の影響をさらに抑制することができる。
　＜第４実施形態＞
　本発明の第４実施形態にかかる高周波モジュール１ｇについて、図９～図１０を参照して説明する。なお、図９は図１０のＣ－Ｃ矢視断面図、図１０は高周波モジュール１ｇの放熱部材６の一部を除いた状態の平面図である。
　この実施形態にかかる高周波モジュール１ｇが、図１～図２を参照して説明した第１実施形態の高周波モジュール１ａと異なるところは、図９および図１０に示すように、封止樹脂層４には凹部が形成されず、放熱部材６に凹部が形成されている点である。その他の構成は、第１実施形態の高周波モジュール１ａと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
　この実施形態では、放熱部材６が、下層６ａと上層６ｂとの２層構造となっており、放熱部材６の下層６ａには、図１０に示すように、配線基板２の上面２０ａに対して垂直な方向から見たときに、第１部品３ａと重なる位置に、第１部品３ａと略同じ形状の孔１８が形成されている。孔１８が形成された放熱部材６の下層６ａに放熱部材６の上層６ｂを積層することにより、放熱部材６に凹部１９が設けられた形状となっている。
　この構成によると、第１実施形態の高周波モジュール１ａと同様の効果に加えて、放熱部材６が２層構造となっているため、より放熱効率を向上させることができる。
　（放熱部材の変形例１）
　図１１に示す高周波モジュール１ｈのように、放熱部材６の上層６ｂに空気孔２１が形成されていてもよい。空気孔２１は、配線基板２の上面２０ａに垂直な方向から見たときに、放熱部材６の下層６ａに形成された孔１８と重なる位置に設けられる。このようにすることで、放熱部材６の凹部１９に閉じ込められた空気を外部に逃がすことができるため、熱により空気が膨張して高周波モジュール１ｈが変形することを防止することができる。
　（放熱部材の変形例２）
　また、図１２に示す高周波モジュール１ｉのように、放熱部材６の上層が放熱フィン６ｃであってもよい。この場合、さらに放熱効率を向上させることができる。また、図１３に示す高周波モジュール１ｊのように、放熱フィン６ｃに凹部２２が形成されていてもよい。凹部２２は、配線基板２の上面２０ａに垂直な方向から見たときに、第１部品３ａと重なる位置に形成されている。なお、この場合、放熱部材６が放熱フィン６ｃのみで形成されていてもよい。
　（封止樹脂層の変形例）
　また、図１４に示すモジュール１ｋのように、放熱部材６に凹部１９が形成され、さらに、封止樹脂層４の第１部品３ａの周囲に第３の溝２３が形成されていてもよい。第３の溝２３が形成されることにより、第１部品３ａに対する熱の影響をさらに抑制することができる。また、図１５に示すモジュール１ｌのように、第２部品３ｂの周囲にさらに第４の溝２４が形成されていてもよい。発熱する部品である第２部品３ｂを第４の溝２４で囲むことにより、第２部品３ｂから発生する熱により他の部品が影響を受けることを防止することができる。
　＜第５実施形態＞
　本発明の第５実施形態にかかる高周波モジュール１ｍについて、図１６を参照して説明する。なお、図１６は高周波モジュール１ｍの断面図である。
　この実施形態にかかる高周波モジュール１ｍが、図９～図１０を参照して説明した第４実施形態の高周波モジュール１ｇと異なるところは、図１６に示すように、放熱部材６が下層６ａの１層だけで形成されている点である。その他の構成は、第１実施形態の高周波モジュール１ａと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。
　この実施形態では、放熱部材６が下層６ａのみで形成され、配線基板２の上面２０ａに対して垂直な方向から見たときに、第１部品３ａと重なる位置に形成された孔１８が設けられた放熱部材６が、封止樹脂層４の上面４ａに配置されている。
　この構成によると、第１部品３ａと重なる位置にだけ、孔１８を形成することで、第１部品３ａが第２部品３ｂから発生する熱の影響を受けることを防止することができる。第１部品３ａと重なる位置以外には、放熱部材６が配置されているため、放熱効率を低下させることなく、第１部品３ａへの影響を抑えることができる。
　（放熱部材の変形例）
　図１７および図１８に示す高周波モジュール１ｎのように、放熱部材６に切欠き部２５が設けられ、配線基板２の上面２０ａに対して垂直な方向から見たときに、第１部品３ａを含むエリアには放熱部材６が配置されないような構成であってもよい。
　なお、本発明は上記した各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上記したもの以外に種々の変更を行なうことが可能である。たとえば、上記した各実施形態や変形例の構成を組み合わせてもよい。
　また、第２部品３ｂは、封止樹脂層４の上面４ａから露出していなくてもよい。また、シールド膜５が形成されていなくてもよい。
　本発明は、シールドを備える種々の高周波モジュールに適用することができる。
　１ａ～１ｎ　　高周波モジュール
　２　　配線基板（配線基板）
　２０ａ　上面（一方主面）
　３ａ　第１部品
　３ｂ　第２部品
　４　　封止樹脂層
　４ａ　上面（対向面）
　６　　放熱部材
　６ｃ　放熱フィン
　１１　凹部
　１３　第１の溝
　１４　第２の溝

Claims (14)

  1. 　配線基板と、
    　前記配線基板の一方主面に実装された第１部品および第２部品と、
    　前記配線基板の前記一方主面に当接する当接面と、該当接面に対向する対向面と、前記当接面と前記対向面の端縁同士をつなぐ側面とを有し、前記対向面に凹部が形成されており、前記第１部品および前記第２部品を封止する封止樹脂層と、
    　前記封止樹脂層の前記対向面に配設された放熱部材とを備え、
    　前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品と重なる位置に配置されている
    　ことを特徴とする高周波モジュール。
  2. 　前記封止樹脂層の前記対向面に、前記凹部よりも深い第１の溝が形成され、
    　前記第１の溝は、前記第１部品と前記第２部品との間に形成され、前記凹部とつながっていることを特徴とする請求項１に記載の高周波モジュール。
  3. 　前記封止樹脂層の前記対向面に、前記凹部よりも深い第２の溝が形成され、
    　前記第２の溝は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品を囲むように形成され、前記凹部とつながっていることを特徴とする請求項１に記載の高周波モジュール。
  4. 　前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に垂直な方向から見たときに、前記第１部品と重なる位置に形成された複数の小さい窪みからなることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
  5. 　前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品と略同じ形状で形成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
  6. 　前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記封止樹脂層の前記対向面に、前記凹部から前記封止樹脂層の端部に達する抜け溝が形成されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
  7. 　前記第２部品は前記第１部品よりも前記配線基板の前記一方主面からの高さが高く、前記第２部品は前記封止樹脂層の前記対向面から露出していることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
  8. 　配線基板と、
    　前記配線基板の一方主面に実装された第１部品および第２部品と、
    　前記配線基板の前記一方主面に当接する当接面と、該当接面に対向する対向面と、前記当接面と前記対向面の端縁同士をつなぐ側面とを有し、内部に空洞部が形成されており、前記第１部品および前記第２部品を封止する封止樹脂層と、
    　前記封止樹脂層の前記対向面に配設された放熱部材とを備え、
    　前記空洞部は、前記第１部品の実装面と反対側の面から前記封止樹脂層の前記対向面に達しない高さで形成され、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品と重なる位置に配置されている
    　ことを特徴とする高周波モジュール。
  9. 　前記空洞部は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品と略同じ形状で形成されていることを特徴とする請求項８に記載の高周波モジュール。
  10. 　配線基板と、
    　前記配線基板の一方主面に実装された第１部品および第２部品と、
    　前記配線基板の前記一方主面に当接する当接面と、該当接面に対向する対向面と、前記当接面と前記対向面の端縁同士をつなぐ側面とを有し、前記第１部品および前記第２部品を封止する封止樹脂層と、
    　前記封止樹脂層に対向する面に凹部が形成された放熱部材とを備え、
    　前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品に重なる位置に配置されている
    　ことを特徴とする高周波モジュール。
  11. 　前記凹部は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品と略同じ形状で形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の高周波モジュール。
  12. 　前記放熱部材の前記対向する面と反対側の面に放熱フィンを備え、前記放熱フィンに前記凹部が配置されていることを特徴とする請求項１０または１１に記載の高周波モジュール。
  13. 　前記封止樹脂層の前記対向面に形成された第３の溝をさらに備え、
    　前記第３の溝は、前記配線基板の前記一方主面に対して垂直な方向から見たときに、前記第１部品を囲むように形成されていることを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
  14. 　前記封止樹脂層の前記対向面と前記側面とを少なくとも被覆するシールド膜を備えることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の高周波モジュール。
     
PCT/JP2019/007173 2018-02-28 2019-02-26 高周波モジュール WO2019167908A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201980015502.2A CN111771276B (zh) 2018-02-28 2019-02-26 高频模块
JP2020503505A JP7067609B2 (ja) 2018-02-28 2019-02-26 高周波モジュール
US16/999,172 US11302606B2 (en) 2018-02-28 2020-08-21 High-frequency module

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018035513 2018-02-28
JP2018-035513 2018-02-28

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US16/999,172 Continuation US11302606B2 (en) 2018-02-28 2020-08-21 High-frequency module

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019167908A1 true WO2019167908A1 (ja) 2019-09-06

Family

ID=67804999

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2019/007173 WO2019167908A1 (ja) 2018-02-28 2019-02-26 高周波モジュール

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11302606B2 (ja)
JP (1) JP7067609B2 (ja)
CN (1) CN111771276B (ja)
WO (1) WO2019167908A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021192245A1 (ja) * 2020-03-27 2021-09-30 太陽誘電株式会社 高放熱モジュール構造
WO2021215108A1 (ja) * 2020-04-24 2021-10-28 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
WO2022123882A1 (ja) * 2020-12-07 2022-06-16 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
WO2022145412A1 (ja) * 2020-12-28 2022-07-07 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
WO2022215547A1 (ja) * 2021-04-08 2022-10-13 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
WO2023112577A1 (ja) * 2021-12-14 2023-06-22 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220066036A1 (en) * 2020-08-25 2022-03-03 Lumentum Operations Llc Package for a time of flight device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003124663A (ja) * 2001-10-09 2003-04-25 Fujitsu Ltd 冷却装置
JP2008034778A (ja) * 2006-06-29 2008-02-14 Kyocera Corp 回路モジュール
JP2017028060A (ja) * 2015-07-21 2017-02-02 株式会社デンソー 電子装置
JP2018019057A (ja) * 2017-01-12 2018-02-01 Tdk株式会社 電子回路パッケージ
JP2018026394A (ja) * 2016-08-08 2018-02-15 アルプス電気株式会社 回路モジュール及び回路モジュールの製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1065385A (ja) * 1996-08-21 1998-03-06 Mitsubishi Electric Corp 基板ケース構造体
US6114761A (en) * 1998-01-20 2000-09-05 Lsi Logic Corporation Thermally-enhanced flip chip IC package with extruded heatspreader
TWI255047B (en) * 2005-06-22 2006-05-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd Heat dissipating semiconductor package and fabrication method thereof
CN101401206B (zh) * 2006-03-29 2011-04-13 京瓷株式会社 电路组件和无线通信设备、以及电路组件的制造方法
US8415809B2 (en) * 2008-07-02 2013-04-09 Altera Corporation Flip chip overmold package
CN107535078B (zh) * 2015-05-20 2020-03-31 株式会社村田制作所 高频模块
JP6237732B2 (ja) 2015-08-28 2017-11-29 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 電子部品モジュールの製造方法
CN108029226B (zh) * 2015-09-11 2020-04-17 株式会社村田制作所 高频模块
US9875970B2 (en) * 2016-04-25 2018-01-23 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Fan-out semiconductor package
JP6328698B2 (ja) * 2016-07-26 2018-05-23 Tdk株式会社 電子回路パッケージ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003124663A (ja) * 2001-10-09 2003-04-25 Fujitsu Ltd 冷却装置
JP2008034778A (ja) * 2006-06-29 2008-02-14 Kyocera Corp 回路モジュール
JP2017028060A (ja) * 2015-07-21 2017-02-02 株式会社デンソー 電子装置
JP2018026394A (ja) * 2016-08-08 2018-02-15 アルプス電気株式会社 回路モジュール及び回路モジュールの製造方法
JP2018019057A (ja) * 2017-01-12 2018-02-01 Tdk株式会社 電子回路パッケージ

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021192245A1 (ja) * 2020-03-27 2021-09-30 太陽誘電株式会社 高放熱モジュール構造
WO2021215108A1 (ja) * 2020-04-24 2021-10-28 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
WO2022123882A1 (ja) * 2020-12-07 2022-06-16 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
WO2022145412A1 (ja) * 2020-12-28 2022-07-07 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
WO2022215547A1 (ja) * 2021-04-08 2022-10-13 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置
WO2023112577A1 (ja) * 2021-12-14 2023-06-22 株式会社村田製作所 高周波モジュール及び通信装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20200381336A1 (en) 2020-12-03
JPWO2019167908A1 (ja) 2020-12-17
CN111771276B (zh) 2023-12-26
US11302606B2 (en) 2022-04-12
JP7067609B2 (ja) 2022-05-16
CN111771276A (zh) 2020-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2019167908A1 (ja) 高周波モジュール
JP6962371B2 (ja) 高周波モジュール
JP6760397B2 (ja) モジュール
US9177881B2 (en) High-frequency semiconductor package and high-frequency semiconductor device
JP6911917B2 (ja) モジュール
US6803257B2 (en) Printed circuit board with a heat dissipation element, method for manufacturing the printed circuit board, and package comprising the printed circuit board
US20060043562A1 (en) Circuit device and manufacture method for circuit device
WO2018101382A1 (ja) 高周波モジュール
JPWO2016080333A1 (ja) モジュール
WO2018101381A1 (ja) 高周波モジュール
WO2018168591A1 (ja) モジュール
US20190230781A1 (en) High-frequency module
TWI592073B (zh) 印刷電路板
WO2018159453A1 (ja) モジュール
US11322472B2 (en) Module
JP7320923B2 (ja) モジュール
TWI620356B (zh) 封裝結構及其製作方法
WO2018181871A1 (ja) モジュール
KR102518174B1 (ko) 전자 소자 모듈
WO2018164160A1 (ja) モジュール
JP2016143782A (ja) 電子装置
JP6557481B2 (ja) 電子装置
CN116314071A (zh) 电子封装模块及其制造方法
JP2007324246A (ja) 半導体装置とその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 19761293

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2020503505

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 19761293

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1