WO2019167764A1 - 積層体、太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール - Google Patents

積層体、太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール Download PDF

Info

Publication number
WO2019167764A1
WO2019167764A1 PCT/JP2019/006388 JP2019006388W WO2019167764A1 WO 2019167764 A1 WO2019167764 A1 WO 2019167764A1 JP 2019006388 W JP2019006388 W JP 2019006388W WO 2019167764 A1 WO2019167764 A1 WO 2019167764A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
antireflection layer
hard coat
mass
forming
Prior art date
Application number
PCT/JP2019/006388
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
佑一 早田
佳奈 笹原
威史 濱
Original Assignee
富士フイルム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士フイルム株式会社 filed Critical 富士フイルム株式会社
Priority to JP2020503441A priority Critical patent/JP6840286B2/ja
Publication of WO2019167764A1 publication Critical patent/WO2019167764A1/ja

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048—Encapsulation of modules
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Definitions

  • the present disclosure relates to a laminate, a protective sheet for a solar cell, and a solar cell module.
  • JP-T-2017-500384 discloses that 1) an organic compound A; an emulsion stabilizer C; and an aqueous medium having a pH of 2 to 6 are mixed at a C / A mass ratio of 0.1 to 2, resulting in an emulsion.
  • a process for preparing an oil-in-water emulsion by forming 1 to 50% by mass of emulsified droplets having a particle size of 30 to 300 nm, wherein the Z particle size is measured by DLS.
  • an inorganic oxide shell layer to the emulsified droplets by adding at least one inorganic oxide precursor to the emulsion having the mechanical diameter, 2) step 1), and As a result, an organic-inorganic core / shell nanoparticle having a core / shell mass ratio of 0.2 to 25 is formed, wherein the core is the sum of Compound A and Emulsion Stabilizer C, and Wherein the compound A is a metal oxide equal to the inorganic oxide precursor, wherein the compound A has a water solubility of up to 5 kg / m3 and is nonpolar.
  • the emulsion stabilizer C is an organic compound and has at least one monomer unit having a cationic charge and at least one monomer unit that is neutral or nonionic and has an overall positive zeta potential.
  • An antireflective coated transparent substrate obtained using the process is described which is a cationic addition copolymer comprising.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-103808 discloses an antireflection film comprising a transparent film and an antireflection layer formed on the transparent film, and the average wavelength (S ⁇ a) of the antireflection layer side surface of the antireflection film is 50 to 300 ⁇ m, and the center plane average roughness (SRa) is expressed by the formula (1): 0.1 + 0.00065 ⁇ S ⁇ a ⁇ SRa ⁇ 0.003 ⁇ S ⁇ a, and the unevenness is formed by transfer.
  • An antireflection film characterized in that is described.
  • the refractive index layer is (A) a medium refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 1.64 and a thickness of 55.0 to 65.0 nm at a wavelength of 550 nm
  • the high refractive index layer is A high refractive index layer having a refractive index at 550 nm of 1.70 to 1.74 and a thickness of 105.0 nm to 115.0 nm
  • the low refractive index layer is (C) having a refractive index of 1.32 at a wavelength of 550 nm.
  • An antireflection film is described which is a low refractive index layer having a thickness of ⁇ 1.37 and a thickness of 85.0 nm to 95.0 nm.
  • the antireflection layer containing voids in the siloxane resin and having a porosity of 30% to 75% has a high light transmittance and excellent antireflection performance due to the high proportion of the voids, that is, the porosity. .
  • the antireflection layer has a high porosity and a large shrinkage rate, and since silanol groups remain in the antireflection layer, the stress applied to the void portion is increased when curing shrinkage proceeds due to wet heat. It becomes large and the crack resulting from the distortion of a space
  • a problem to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a solar cell protective sheet having high light transmittance and excellent wet heat resistance, and a solar cell module including the solar cell protective sheet. is there.
  • Means for solving the above problems include the following modes. ⁇ 1> A base material, a hard coat layer having a thickness of 0.5 ⁇ m to 50 ⁇ m provided on the base material, and a siloxane resin provided on the hard coat layer including voids, and a porosity of 30 And an antireflection layer having a thickness of 80 nm to 200 nm, and an indentation hardness in conformity with ISO 14577-1 from the antireflection layer side of 0.5 GPa to 30 GPa. .
  • ⁇ 2> The laminate according to ⁇ 1>, wherein the void diameter is 25 nm to 80 nm.
  • ⁇ 3> The laminate according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the substrate is a resin substrate.
  • ⁇ 4> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the indentation hardness in conformity with ISO 14577-1 from the antireflection layer side is 5 GPa to 25 GPa.
  • ⁇ 5> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the porosity in the antireflection layer is 35% to 65%.
  • ⁇ 6> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the hard coat layer and the antireflection layer are adjacent to each other.
  • the total film thickness of all layers including the hard coat layer and the antireflection layer provided on one surface of the substrate is 0.6 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • ⁇ 8> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the hard coat layer contains an inorganic filler.
  • the inorganic filler includes an inorganic filler having ultraviolet absorbing ability.
  • ⁇ 10> The laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>, wherein the hard coat layer contains a metal complex as a curing agent.
  • the hard coat layer contains a siloxane resin.
  • the siloxane resin is a hydrolysis-condensation product of tetraalkoxysilane and bifunctional or trifunctional alkoxysilane.
  • a solar cell protective sheet comprising the laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>.
  • a solar cell module comprising the solar cell protective sheet according to ⁇ 14>.
  • a laminate having high light transmittance and excellent wet heat resistance.
  • a solar cell protective sheet having high light permeability and excellent wet heat resistance, and a solar cell module including the solar cell protective sheet.
  • the description that does not indicate substitution and non-substitution includes those that have a substituent as well as those that do not have a substituent.
  • the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • the term “process” in this specification is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term is used as long as the intended purpose of the process is achieved. included.
  • a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
  • the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) in the present disclosure use columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (both trade names manufactured by Tosoh Corporation) unless otherwise specified.
  • the molecular weight was detected by a gel permeation chromatography (GPC) analyzer using a solvent THF (tetrahydrofuran) and a differential refractometer and converted using polystyrene as a standard substance.
  • GPC gel permeation chromatography
  • the laminate according to the present disclosure includes a base material, a hard coat layer having a thickness of 0.5 ⁇ m to 50 ⁇ m provided on the base material, and voids in the siloxane resin provided on the hard coat layer. And an antireflection layer having a porosity of 30% to 75% and a film thickness of 80 nm to 200 nm.
  • the phrase “containing voids in the siloxane resin” means that voids exist in the matrix constituted by including the siloxane resin. That is, the antireflection layer in the present disclosure is a layer in which voids exist in a matrix configured to contain a siloxane resin.
  • indentation hardness conforming to ISO14577-1 is also simply referred to as “indentation hardness”.
  • the antireflection layer containing voids in the siloxane resin and having a porosity of 30% to 75% has a high porosity and an excellent antireflection ability.
  • the stress applied to the gap is increased, and cracks due to the distortion of the gap are likely to occur. Therefore, the inventors of the present invention have a laminate in which a hard coat layer is provided between the antireflection layer and the substrate, and the indentation hardness from the antireflection layer side of the laminate is 0.5 GPa to 30 GPa. As a result, the inventors have found that the resistance to wet heat is improved.
  • the stress center applied to the antireflection layer becomes the hard coat layer side when curing shrinkage proceeds due to wet heat. It is presumed that cracking due to the distortion of the material is suppressed.
  • the indentation hardness from the antireflection layer side is set to 30 GPa or less, when curing shrinkage progresses due to wet heat, the difference in thermal shrinkage between the hard coat layer and the antireflection layer is reduced, and the hard coat layer and the reflection The stress generated at the interface with the prevention layer can be suppressed. Therefore, when an impact is applied after wet heat, it is presumed that the antireflection layer can be prevented from cracking due to stress.
  • the film thickness of the hard coat layer is set to 0.5 ⁇ m or more, the strength of the laminate can be increased and the resistance to wet heat can also be increased. Moreover, it can suppress that a hard-coat layer cracks by the hardening shrinkage
  • the film having the antireflection layer described in each of JP-T-2017-500384, JP-A-2009-103808, and JP-A-2008-262187 has an indentation hardness from the antireflection layer side. Is not mentioned, and no consideration is given to cracking of the antireflection layer.
  • the indentation hardness according to ISO145777-1 from the antireflection layer side is 0.5 GPa to 30 GPa, and preferably 5 GPa to 25 GPa.
  • the indentation hardness is 0.5 GPa or more, the antireflection layer can be prevented from cracking due to wet heat.
  • the crack of an antireflection layer resulting from the difference in the thermal contraction rate of a hard-coat layer and an antireflection layer can be suppressed because it is 30 GPa or less.
  • the indentation hardness from the antireflection layer side is measured by a nanoindentation method according to ISO14577-1, and in the present disclosure, a dynamic ultra-small hardness meter (DUH-201S, manufactured by Shimadzu Corporation) is used. Use to measure.
  • the measurement conditions are as follows. ⁇ Indenter type: Vickers ⁇ Test mode: Load-unloading test ⁇ Test force: 40 mN ⁇ Loading speed: 1.3239mN / sec ⁇ Retention time: 5 sec
  • the base material the hard coat layer, the antireflection layer, and other layers constituting the laminate according to the present disclosure will be described.
  • the base material used for this indication should just be determined according to the use of a layered product, and there is no restriction in particular.
  • Specific examples of the base material include a base material or a composite base material of a material described later, a substrate having wirings, a solar cell module, and the like.
  • the material for the substrate for example, glass, resin, metal, ceramics and the like can be preferably used, but resin is preferable. That is, as the substrate, a resin substrate is preferable from the viewpoint of excellent impact resistance.
  • polyester resin examples include polyester resin, polycarbonate resin, polyolefin resin, polyacrylic resin, cellulose, polyvinyl chloride, polyimide resin, polyamide resin, and fluorine-based polymer.
  • polyester resin examples include polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate.
  • polyolefin resin examples include polypropylene, polyethylene, and cycloolefin.
  • acrylic resin examples include polymethyl methacrylate.
  • cellulose examples include triacetyl cellulose.
  • the thickness of the resin base material may be determined from the viewpoint of handleability and the preferable range of the refractive index described later, preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 10 ⁇ m or more. 45 ⁇ m or more is more preferable.
  • As an upper limit of the thickness of a resin base material 500 micrometers or less are preferable, 450 micrometers or less are more preferable, and 500 micrometers or less are still more preferable.
  • the refractive index of the substrate is preferably 1.40 to 1.75, more preferably 1.45 to 1.68, and still more preferably 1.47 to 1.55.
  • the refractive index in the present disclosure represents the refractive index at a wavelength of 550 nm.
  • the hard coat layer in the present disclosure has an indentation hardness in accordance with ISO 14577-1 within a range of 0.5 GPa to 30 GPa.
  • the indentation hardness in conformity with ISO 14577-1 from the antireflection layer side can be achieved from 0.5 GPa to 30 GPa even in the laminated body. That is, the indentation hardness from the antireflection layer side in the laminate according to the present disclosure can be measured under the above-described conditions, but the indentation hardness is less affected by the antireflection layer, and the indentation hardness of the hard coat layer dominates. Measured.
  • the indentation hardness of the hard coat layer can be measured by the same method as the method for measuring the indentation hardness from the antireflection layer side described above.
  • the hard coat layer is not particularly limited as long as it has the indentation hardness described above, and may be an organic layer or an inorganic layer. From the viewpoint of improving transparency and adjusting the indentation hardness, the hard coat layer is preferably an organic layer, and in particular, an organic layer containing one selected from the group consisting of siloxane resins and cross-linked acrylic resins. The organic layer containing a siloxane resin is more preferable.
  • a siloxane resin and a cross-linked acrylic resin suitable for the hard coat layer will be described.
  • siloxane resin The siloxane resin that can be included in the hard coat layer is not particularly limited as long as it is a polymer having a (poly) siloxane structure in the molecular chain, and can achieve the indentation hardness of the hard coat layer described above.
  • the siloxane resin is preferably a hydrolysis-condensation product of monofunctional to tetrafunctional alkoxysilanes.
  • the siloxane resin is a hydrolysis condensate of a trifunctional or lower functional alkoxysilane and a tetrafunctional alkoxysilane. It is preferable to include.
  • the siloxane resin that can be contained in the hard coat layer is a hydrolysis of a tetrafunctional alkoxysilane and a trifunctional or lower alkoxysilane having a mass of 0.1 to 12 times the mass of the tetrafunctional alkoxysilane. More preferably, a condensate is contained, and a hydrolytic condensate of a tetrafunctional alkoxysilane and a trifunctional or lower alkoxysilane having a mass of 0.3 to 10 times the mass of the tetrafunctional alkoxysilane. It is more preferable to include.
  • the tetrafunctional alkoxysilane and the trifunctional or lower functional alkoxysilane may be one kind or two kinds or more, respectively.
  • the “amount of tetrafunctional alkoxysilane” means the total amount of two or more tetrafunctional alkoxysilanes.
  • the “amount of trifunctional or lower alkoxysilane” means the total amount of two or more trifunctional or lower alkoxysilanes.
  • the tetrafunctional alkoxysilane means an alkoxysilane in which the number of alkoxy groups directly bonded to a silicon atom is four in one molecule.
  • the trifunctional or lower functional alkoxysilane means an alkoxysilane in which the number of alkoxy groups directly bonded to silicon atoms is 1 or more and 3 or less in one molecule.
  • alkoxysilane represented with the following general formula (a) is preferable.
  • R S1 each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • Each of the four R S1 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (more preferably 1 to 3, particularly preferably 1 or 2).
  • tetrafunctional alkoxysilane examples include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methoxytriethoxysilane, ethoxytrimethoxysilane, methoxytripropoxysilane, ethoxytripropoxysilane, and propoxytrimethoxysilane. , Propoxytriethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane and the like. Of these, tetramethoxysilane or tetraethoxysilane is preferable.
  • the trifunctional or lower alkoxysilane is not particularly limited, but an alkoxysilane represented by the following general formula (b) is preferable.
  • n represents an integer of 1 to 3.
  • R S2 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. When n is 2 or 3, the plurality of R S2 may be the same or different.
  • R S3 represents an organic group having 1 to 15 carbon atoms. When 4-n is 2 or 3, the plurality of R S3 may be the same or different.
  • R S2 in the general formula (b) is the same as the preferred embodiment of R S1 in the general formula (a).
  • N in the general formula (b) is preferably 2 or 3, and particularly preferably 3.
  • R S3 in the general formula (b) represents an organic group having 1 to 15 carbon atoms.
  • the organic group represented by R S3 may have a heteroatom such as oxygen, nitrogen, or sulfur.
  • the organic group represented by R S3 is preferably a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, more preferably a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. .
  • the organic group represented by R S3 preferably contains an epoxy group.
  • the organic group represented by R S3 is more preferably a hydrocarbon group substituted with a substituent containing an epoxy group, and still more preferably an alkyl group substituted with a substituent containing an epoxy group.
  • the substituent containing an epoxy group include an epoxy group, a glycidyl group, a glycidoxy group, and a 3,4-epoxycyclohexyl group.
  • the organic group represented by R S3 may include an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an amide group, a urethane group, a urea group, an ester group, a hydroxy group, a carboxy group, a (meth) acryloyl group, and the like.
  • the organic group represented by R S3 preferably does not contain an amino group. The reason is that when the organic group represented by R S3 contains an amino group, dehydration condensation is promoted between the silanols produced by mixing and hydrolyzing a tetrafunctional alkoxysilane and a trifunctional or lower alkoxysilane. This is because the reaction solution may become unstable.
  • the trifunctional or lower functional alkoxysilane preferably contains an epoxy group as described above.
  • Specific examples of the trifunctional or lower functional alkoxysilane containing an epoxy group include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy Examples thereof include silane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane.
  • Examples of commercially available trifunctional or lower alkoxysilanes containing epoxy groups include KBE-403 (manufactured by
  • tri- or lower functional alkoxysilanes containing no epoxy group include vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3- Ureidopropyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-ureido Propyltriethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane , Ph
  • the siloxane resin used for the hard coat layer is preferably a hydrolytic condensate of tetraalkoxysilane and bifunctional or trifunctional alkoxysilane from the viewpoint of suppressing cracking of the hard coat layer itself.
  • the hydrolysis-condensation product of tetraalkoxysilane and bifunctional or trifunctional alkoxysilane is based on the total amount of structural units derived from tetraalkoxysilane and structural units derived from bifunctional or trifunctional alkoxysilane. It is preferable that 50% by mass or more of a structural unit derived from a bifunctional or trifunctional alkoxysilane is included.
  • the content of the structural unit derived from the bifunctional or trifunctional alkoxysilane is measured by solid-state 29 Si-NMR (Dipolar Decoupling method), and is determined by the integral ratio of peaks indicating Si atoms belonging to each alkoxysilane. Can be calculated.
  • the hard coat layer is scraped and 10 mg is used therefrom.
  • the content of the siloxane resin that can be contained in the hard coat layer is preferably 20% by mass to 90% by mass, more preferably 30% by mass to 85% by mass, and more preferably 35% by mass to 70% by mass with respect to the solid content of the hard coat layer. % Is particularly preferred.
  • the cross-linked acrylic resin that can be included in the hard coat layer means a cross-linked acrylic resin, and is formed by polymerizing and cross-linking a polymerizable compound such as a monomer or oligomer having a bifunctional or higher (meth) acryloyl group ( And a (meth) acrylic resin (that is, a crosslinked (meth) acrylic resin containing a structural unit derived from a polymerizable compound having a bifunctional or higher functional (meth) acryloyl group).
  • a polymerizable compound such as a monomer or oligomer having a bifunctional or higher (meth) acryloyl group
  • a (meth) acrylic resin that is, a crosslinked (meth) acrylic resin containing a structural unit derived from a polymerizable compound having a bifunctional or higher functional (meth) acryloyl group).
  • the crosslinked acrylic resin is not particularly limited as long as the indentation hardness of the hard coat layer described above can be achieved.
  • Specific examples of the crosslinked acrylic resin include dipropylene glycol di (meth) acrylate (DPGDA) and tripropylene glycol di (meth) from the viewpoints of easily increasing the indentation hardness of the hard coat layer and ensuring transparency.
  • TPGDA trimethylolpropane tri (meth) acrylate
  • TMPTA trimethylolpropane tri (meth) acrylate
  • DPHA dipentaerythritol hexa (meth) acrylate
  • TMMT pentaerythritol tetraacrylate
  • NPGDA neopentyl glycol diacrylate
  • a crosslinked (meth) acrylic resin containing a structural unit derived from is preferable.
  • a crosslinked (meth) acrylic resin containing a structural unit derived from dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (DPHA) is particularly preferable.
  • the content of the crosslinked acrylic resin that can be contained in the hard coat layer is preferably 50% by mass to 80% by mass, more preferably 50% by mass to 75% by mass, and more preferably 55% by mass to 75% by mass with respect to the solid content of the hard coat layer. Mass% is particularly preferred.
  • the resin that can be included in the hard coat layer is not limited to the siloxane resin and the cross-linked acrylic resin described above as long as the indentation hardness of the hard coat layer described above can be achieved.
  • urethane resin, urea Resins, epoxy resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyether resins, fluororesins, and the like can be used.
  • the hard coat layer in the present disclosure preferably contains an inorganic filler in order to adjust the indentation hardness.
  • the inorganic filler is preferably at least one inorganic filler selected from the group consisting of metal oxide fillers and inorganic nitride fillers from the viewpoint of further improving the indentation hardness of the hard coat layer.
  • the metal oxide filler examples include a silica filler, an alumina filler, a zirconia filler, a titania filler, and the like, and an alumina filler is preferable from the viewpoint of excellent light transmittance and easy control of indentation hardness.
  • the inorganic nitride filler examples include boron nitride filler.
  • Examples of the alumina filler include aluminum oxide, which is an amphoteric oxide of aluminum, and alumina hydrate (aluminum hydroxide) containing crystal water.
  • Examples of aluminum oxide include ⁇ -alumina, ⁇ -alumina, ⁇ alumina, and ⁇ alumina depending on the crystal structure.
  • Alumina hydrates include dibsite, bayerite, boehmite, diaspore, pseudoboehmite, and amorphous states depending on the crystal structure.
  • the alumina filler is not particularly limited.
  • the alumina sol series such as alumina sol AS-200 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), the aluminum sol series such as aluminum sol-10C, aluminum sol-F1000, and aluminum sol-F3000 (Kawaken) Fine Chemical Co., Ltd.),
  • the alumina filler When the alumina filler is colloidal, it may be used directly for forming the hard coat layer.
  • the alumina filler When the alumina filler is in powder form, the hard coat layer is dispersed by dispersing it in a solvent such as water using an ultrasonic disperser. Can be used for formation.
  • the shape of the inorganic filler examples include spherical shapes, rod shapes, polyhedron shapes, flat plate shapes, scale shapes, bead shapes, needle shapes, fiber shapes, and the like.
  • the number average primary particle size in the case where the inorganic filler has a particle shape is preferably 300 nm or less, more preferably 200 nm or less, and 100 nm or less. Particularly preferred.
  • the number average primary particle size of the inorganic particles is preferably 1 nm or more, and more preferably 10 nm or more, from the viewpoint of improving the indentation hardness.
  • the aspect ratio is preferably 4 or more, more preferably 9 or more, still more preferably 100 or more, and particularly preferably 500 or more.
  • the aspect ratio means a value obtained by dividing the secondary particle diameter (that is, the bond length of the primary particles) by the primary particle diameter in the case of a bead shape. Means the divided value.
  • the minor axis is preferably 10 nm or less.
  • the number average primary particle size of the inorganic particles is determined by observing a cross section of the hard coat layer with a scanning electron microscope (SEM), selecting 100 particles included in a range corresponding to an actual area of 1 mm 2, and determining the particle size of each particle. Is a value obtained by simply averaging the measured values (particle size of each particle).
  • SEM scanning electron microscope
  • inorganic fillers with UV absorption ability Some inorganic fillers have ultraviolet absorbing ability. It is preferable that an inorganic filler having ultraviolet absorbing ability is included as part or all of the inorganic filler. When the inorganic filler contains an inorganic filler having ultraviolet absorbing ability, the hard coat layer can be given ultraviolet absorbing ability. Examples of the inorganic filler having ultraviolet absorbing ability include titanium oxide, cerium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and the like, among which cerium oxide is preferable. The average primary particle diameter of the inorganic filler having ultraviolet absorbing ability is preferably 1 nm to 50 nm, and more preferably 2 nm to 20 nm.
  • the average secondary particle diameter of the inorganic filler having ultraviolet absorbing ability is preferably 5 nm to 150 nm, and more preferably 10 nm to 100 nm.
  • Examples of the inorganic filler having ultraviolet absorbing ability include cerium oxide sols such as Niedral (registered trademark) B-10.
  • the content of the inorganic filler is preferably 5% by mass to 65% by mass, more preferably 10% by mass to 60% by mass, and more preferably 15% by mass to 55% by mass with respect to the solid content of the hard coat layer. It is particularly preferred that
  • the hard coat layer in the present disclosure preferably contains a metal complex as a siloxane resin curing agent.
  • the metal complex is preferably a metal complex containing at least one metal element selected from the group consisting of aluminum, magnesium, manganese, titanium, copper, cobalt, zinc, hafnium, and zirconium.
  • a metal complex can be easily obtained by reacting a metal alkoxide with a chelating agent.
  • chelating agents that can be used include ⁇ -diketones such as acetylacetone, benzoylacetone, and dibenzoylmethane; ⁇ -ketoacid esters such as ethyl acetoacetate and ethyl benzoylacetate;
  • metal complexes include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), aluminum tris (acetylacetonate)
  • Aluminum chelate complexes such as; Magnesium chelate complexes such as ethyl acetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (ethylacetoacetate), alkyl acetoacetate magnesium monoisopropylate, magnesium bis (acetylacetonate); Zirconium chelate complexes such as zirconium tetraacetylacetonate, zirconium tributoxyacetylacetonate, zirconium acetylacetonate bis (ethylacetoacetate); Manganese chelate complexes such as manganese acetylacetonate; Co
  • the metal complex is particularly preferably aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethylacetoacetate), or aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate).
  • aluminum tris acetylacetonate
  • aluminum tris ethylacetoacetate
  • aluminum monoacetylacetonate bis ethylacetoacetate
  • an aluminum chelate complex is preferable.
  • the metal complex a commercially available product may be used, and examples of the commercially available product of the metal complex solution include aluminum chelate A (W), aluminum chelate D, aluminum chelate M (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) and the like.
  • the content of the metal complex is preferably 3% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 40% by mass, and still more preferably 10% by mass to 40% by mass with respect to the total amount of the siloxane resin.
  • the reaction rate of silanol dehydration condensation can be set to an appropriate rate, and a hard coat layer having excellent thickness uniformity can be obtained.
  • the hard coat layer in the present disclosure may use a curing agent other than the metal complex depending on the type of resin.
  • a curing agent other than the metal complex depending on the type of resin.
  • a crosslinked acrylic resin it is preferable to use a photopolymerization initiator, a thermal polymerization initiator, or the like as the curing agent.
  • a crosslinking agent such as an oxazoline-based crosslinking agent as the curing agent.
  • the thickness of the hard coat layer is 0.5 ⁇ m to 50 ⁇ m, preferably 1 ⁇ m to 30 ⁇ m, and more preferably 2 ⁇ m to 12 ⁇ m.
  • the film thickness of the hard coat layer is 0.5 ⁇ m or more, cracks in the voids in the antireflection layer can be suppressed, and wet heat resistance is increased.
  • the thickness of the hard coat layer is 50 ⁇ m or less, the hard coat layer itself can be prevented from being easily broken.
  • the film thickness of the hard coat layer is determined by cutting the hard coat layer parallel to the direction perpendicular to the hard coat layer surface, and observing the cut surface with a scanning electron microscope (SEM). Measure the thickness. Each minimum film thickness is measured from 10 SEM images, and the obtained 10 measurement values (film thicknesses) are averaged. In the case of a laminated body, the observation may be performed by cutting the whole laminated body in a direction orthogonal to the substrate surface.
  • the refractive index of the hard coat layer is preferably 1.40 to 1.70, more preferably 1.45 to 1.60.
  • the difference in refractive index of the hard coat layer is preferably within 0.2 with respect to the refractive index of the substrate, and more preferably within 0.1 with respect to the refractive index of the substrate.
  • the antireflection layer in the present disclosure includes voids in the siloxane resin and has a void ratio of 30% to 75%.
  • the diameter of the voids in the antireflection layer is preferably 25 nm to 80 nm.
  • the voids contained in the siloxane resin are preferably closed voids.
  • the porosity in the antireflection layer is 30% to 75%, more preferably 35% to 65%.
  • the porosity is 30% or more, excellent light transmittance is obtained, and when the porosity is 75% or less, wet heat resistance can be improved.
  • the diameter of the voids in the antireflection layer (hereinafter also referred to as “gap diameter”) is preferably 25 nm or more, and preferably 30 nm or more, from the viewpoint of strength, light transmittance, and haze of the antireflection layer. More preferred.
  • the upper limit of the void diameter is preferably 80 nm or less, and more preferably 70 nm or less, from the viewpoint of increasing the wet heat resistance of the antireflection layer. When the void diameter is 80 nm or less, it is possible to suppress the occurrence of cracks due to the distortion of the void portion when curing shrinkage proceeds due to wet heat.
  • the variation coefficient of the void diameter in the antireflection layer is preferably 100% or less, more preferably 90% or less, and more preferably 60% or less from the viewpoint of light transmittance and haze of the antireflection layer. It is particularly preferred.
  • the method for measuring the void diameter, void ratio, and variation coefficient of the void diameter of the antireflection layer is as follows.
  • the laminate with the antireflection layer is cut in the direction perpendicular to the substrate surface, and the cut surface is observed with a scanning electron microscope (SEM) to measure the pore diameter, the variation coefficient of the pore diameter, and the porosity.
  • SEM scanning electron microscope
  • the equivalent circle diameter is calculated for each of 200 arbitrarily selected voids, and the average value is taken as the void diameter.
  • the porosity is obtained by image processing of a void portion and a matrix portion (that is, a portion other than a void containing a siloxane resin) using an image processing software (ImageJ) for a SEM image (magnification 50000 times) of a cut surface ( (Binarization) is performed, and the ratio of the void portion is calculated to obtain the void ratio.
  • ImageJ image processing software
  • a porosity is calculated
  • the variation coefficient of the void diameter of the antireflection layer is calculated by dividing the standard deviation in the distribution of the void diameter measured in the above measurement by the void diameter.
  • the film thickness of the antireflection layer in the present disclosure is from 80 nm to 200 nm, and preferably from 100 nm to 150 nm, from the viewpoint of light transmittance and haze.
  • the film thickness of the antireflection layer can be measured by the same method as the method for measuring the film thickness of the hard coat layer described above.
  • the refractive index of the antireflection layer is preferably from 1.15 to 1.40, more preferably from 1.18 to 1.38, and even more preferably from 1.20 to 1.35.
  • the formation method of the antireflection layer having voids is not limited, but it is preferable to use a method of forming voids in a matrix composed of a siloxane resin using hollow particles or core-shell particles.
  • a method for forming an antireflection layer by applying a composition containing hollow particles include the method described in [0026] to [0040] of JP2009-103808A, or JP2008-262187A. The methods described in [0129] to [0158] of the publication can be applied.
  • Examples of a method for forming an antireflection layer by applying a composition containing core-shell particles include a method for forming a porous layer described in [0018] to [0087] of JP-T-2017-500384, or The method for forming a silica-based porous film described in [0018] to [0069] of JP-A-2016-1199 can be applied. You may apply the method of using the coating liquid for antireflection layer formation which contains the organic solvent mentioned later as a core material. In particular, a method of forming an antireflection layer using core-shell particles is preferable from the viewpoint of easy adjustment of the void diameter and void ratio.
  • antireflection layer-forming coating liquid a coating liquid containing core-shell particles and a siloxane compound
  • the coating liquid for forming an antireflection layer contains, for example, core-shell particles.
  • the core-shell particles preferably contain an organic solvent as a core material from the viewpoint of easy formation of voids. Particularly, 20% by mass or more of the organic solvent is a nonpolar solvent having a boiling point of 90 ° C. or higher and 350 ° C. or lower. It is preferable.
  • the “boiling point” in the present disclosure is a boiling point at 1 atm (101,325 Pa).
  • the “nonpolar solvent” in the present disclosure refers to a solvent having a solubility in water of 0.1% by mass or less at 20 ° C. and a relative dielectric constant of 10 or less.
  • nonpolar solvent having a boiling point of 90 ° C. or higher and 350 ° C. or lower examples include hydrocarbon compounds, fluorinated hydrocarbon compounds, silicone compounds, and the like, and are hydrocarbon compounds from the viewpoint of light transmittance and haze of the antireflection layer. It is preferable.
  • the hydrocarbon compound may be an aliphatic hydrocarbon compound or an aromatic hydrocarbon compound, but is an aliphatic hydrocarbon compound from the viewpoint of the light transmittance and haze of the antireflection layer. Are preferred, and alkanes are more preferred.
  • the hydrocarbon compound may be linear, branched, ring structure, or unsaturated bond, but the light transmittance of the antireflection layer and From the viewpoint of haze, a linear hydrocarbon compound or a branched hydrocarbon compound is preferable, and a linear hydrocarbon compound is more preferable. Moreover, it is preferable that the said hydrocarbon compound is a compound which does not have an unsaturated bond.
  • the said hydrocarbon compound is a compound which consists only of a carbon atom and a hydrogen atom from a viewpoint of the light transmittance and haze of an antireflection layer.
  • the number of carbon atoms of the hydrocarbon compound is preferably 7 or more, more preferably 8 or more and 20 or less, and further preferably 10 or more and 19 or less, from the viewpoint of light transmittance and haze of the antireflection layer. Preferably, it is 12 or more and 17 or less.
  • the boiling point of the nonpolar solvent is preferably 100 ° C. or higher and 340 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or higher and 320 ° C. or lower, and 200 ° C. or higher, from the viewpoint of light transmittance and haze of the antireflection layer. It is particularly preferable that the temperature is 310 ° C or lower.
  • nonpolar solvents having a boiling point of 90 ° C. or higher and 350 ° C. or lower include, for example, n-heptane (boiling point: 98 ° C.), n-octane (boiling point: 125 ° C.), n-decane (boiling point: 174 ° C.), n -Dodecane (boiling point: 216 ° C), n-tetradecane (boiling point: 254 ° C), n-hexadecane (boiling point: 287 ° C), n-heptadecane (boiling point: 302 ° C), n-octadecane (boiling point: 317 ° C), n -Icosan (boiling point: 343 ° C), cyclooctane (boiling point: 149 ° C), toluene (bo
  • the said organic solvent may be used only by 1 type, and the mixed solvent of 2 or more types of organic solvents may be sufficient as it.
  • the nonpolar solvent having a boiling point of 90 ° C. or higher and 350 ° C. or lower may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the nonpolar solvent having a boiling point of 90 ° C. or higher and 350 ° C. or lower in the organic solvent contained as the core material of the core-shell particles may be 20% by mass or more with respect to the total mass of the organic solvent. From the viewpoint of light transmittance and haze, it is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more, and 99% by mass or more and 100% by mass or less. It is particularly preferred that
  • the material of the shell of the core-shell particles is not particularly limited, but it is preferable that a polysiloxane compound is included from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the antireflection layer.
  • the material of the shell of the core-shell particle includes a hydrolysis condensate of a siloxane compound represented by formula 1 described later, and a hydrolysis condensate of a siloxane compound represented by formula 1 described later. Is more preferably contained in an amount of 50% by mass or more based on the total mass of the shell, and particularly preferably a hydrolysis condensate of a siloxane compound represented by Formula 1 described later.
  • the surface of the core-shell particles may be hydrophobic or hydrophilic, but is preferably hydrophilic from the viewpoint of storage stability and haze of the antireflection layer.
  • the volume average particle diameter of the core-shell particles is preferably 0.04 ⁇ m to 1.5 ⁇ m, and more preferably 0.05 ⁇ m to 1.0 ⁇ m, from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the antireflection layer. 0.06 ⁇ m to 0.9 ⁇ m is more preferable, and 0.07 ⁇ m to 0.6 ⁇ m is particularly preferable.
  • the coefficient of variation of the particle diameter of the core-shell particles is preferably 100% or less, more preferably 90% or less, and more preferably 60% or less from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the antireflection layer. More preferably, it is 0% or more and 50% or less.
  • the volume average particle size of the particles in the present disclosure is measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring device (model number: Microtrack MT3300EXII, manufactured by Microtrack Bell Co., Ltd.).
  • the average particle diameter means a median diameter.
  • the coefficient of variation of the particle diameter of the core-shell particles in the present disclosure is calculated by dividing the standard deviation in the volume distribution of the particle diameter measured in the above measurement by the median diameter.
  • the core size (that is, the maximum diameter) in the core-shell particles is preferably 40 nm or more, more preferably 40 nm to 1,000 nm, from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the antireflection layer. 60 nm to 600 nm is particularly preferable.
  • the core size (that is, the maximum diameter) in the core-shell particles can be measured by the same method as the method for measuring the void diameter of the antireflection layer described above.
  • the core shell particles may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the core-shell particles is preferably 0.05% by mass to 40% by mass with respect to the total mass of the coating liquid for forming the antireflection layer, from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the antireflection layer.
  • the content is more preferably 0.1% by mass to 20% by mass, and particularly preferably 0.5% by mass to 10% by mass.
  • the coating solution for forming the antireflection layer preferably contains a siloxane compound.
  • the siloxane compound includes a siloxane compound represented by the following formula 1, a hydrolyzate of the siloxane compound represented by the following formula 1, and a hydrolyzed condensate of the siloxane compound represented by the following formula 1.
  • At least one compound selected from hereinafter also referred to as a specific siloxane compound) is preferred.
  • R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group having 1 to 6 carbon atoms
  • R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group, a vinyl group, an epoxy group, a styryl group
  • n represents an integer of 1 to 20.
  • the hydrolyzate of the siloxane compound represented by Formula 1 refers to a compound in which at least a part of the substituents on the silicon atom in the siloxane compound represented by Formula 1 is hydrolyzed to form a silanol group.
  • the hydrolyzed condensate of the siloxane compound represented by Formula 1 is two or more selected from the group consisting of the siloxane compound represented by Formula 1 and the hydrolyzate of the siloxane compound represented by Formula 1. The compound which the compound condensed.
  • the organic group having 1 to 6 carbon atoms in R 1 and R 2 in Formula 1 may be linear, branched, or have a ring structure.
  • Examples of the organic group having 1 to 6 carbon atoms include an alkyl group and an alkenyl group, and an alkyl group is preferable.
  • Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, tert-butyl, n-pentyl, n-hexyl, and cyclohexyl groups. It is done.
  • R 1 and R 2 in Formula 1 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms from the viewpoint of strength, light transmittance and haze of the antireflection layer, and alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. It is more preferably a group, more preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.
  • R 3 in Formula 1 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, from the viewpoint of strength, light transmittance and haze of the antireflection layer. More preferably, it is more preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.
  • R 4 in Formula 1 is each independently an alkyl group, a vinyl group, a vinyl group, an epoxy group, a styryl group (vinylphenyl group), (meta) from the viewpoint of strength, light transmittance and haze of the antireflection layer. ) At least one selected from the group consisting of acryloxy group, (meth) acrylamide group, amino group, isocyanurate group, ureido group, mercapto group, sulfide group, polyoxyalkylene group, carboxy group and quaternary ammonium group.
  • An alkyl group having a group is preferable, an alkyl group is more preferable, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is particularly preferable.
  • M in Formula 1 is preferably 1 or 2 and more preferably 2 from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the antireflection layer.
  • N in Formula 1 is preferably an integer of 2 to 20 from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the antireflection layer.
  • Examples of the specific siloxane compound include KBE-04, KBE-13, KBE-22, KBE-1003, KBM-303, KBE-403, KBM-1403, KBE-503, KBM- manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 5103, KBE-903, KBE-9103P, KBE-585, KBE-803, KBE-846, KR-500, KR-515, KR-516, KR-517, KR-518, X-12-1135, X- 12-1126, X-12-1131; Dynasylan 4150 manufactured by Evonik Japan Co., Ltd .; MKC silicate MS51, MS56, MS57, MS56S manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd .; Ethyl silicate 28 manufactured by Colcoat Co., Ltd., N-propyl silicate , N-butyl silicate, SS-101; .
  • the coating solution for forming the antireflection layer may contain only one kind of specific siloxane compound, or may contain two or more kinds.
  • the content of the specific siloxane compound is preferably 30% by mass to 99% by mass with respect to the total solid content of the coating liquid for forming the antireflection layer, from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the antireflection layer. 50 mass% to 99 mass% is more preferable, and 70 mass% to 95 mass% is particularly preferable.
  • the “solid content” of the coating solution for forming an antireflection layer in the present disclosure means a component excluding water and a hydrophilic organic solvent described later.
  • the coating solution for forming the antireflection layer preferably contains a surfactant.
  • the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants that are ionic surfactants, cationic surfactants, and amphoteric surfactants, and any of them can be suitably used in the present disclosure.
  • the storage stability of the coating liquid for forming the antireflection layer, and the light transmittance and haze of the antireflection layer Therefore, at least one surfactant selected from the group consisting of a nonionic surfactant and a cationic surfactant is preferred, and a cationic surfactant is more preferred.
  • the molecular weight of the surfactant is preferably 10,000 or less, and preferably 5,000 or less from the viewpoints of storage stability of the coating solution for forming the antireflection layer and light transmittance and haze of the antireflection layer. More preferably, it is more preferably 1,000 or less, and particularly preferably 300 or more and 800 or less.
  • Examples of the cationic surfactant include a quaternary ammonium salt type, a pyridinium salt type, an amine salt type, and a polyamine type surfactant.
  • Specific examples of the cationic surfactant include alkyltrimethylammonium salts, dialkyldimethylammonium salts, alkylpyridinium salts, benzalkonium salts, and alkylamine salts. More specifically, examples of the cationic surfactant include hexadecyltrimethylammonium bromide, hexadecylpyridinium chloride, benzalkonium chloride, monomethylamine hydrochloride, polyethyleneimine, and the like.
  • the cationic surfactant is preferably a quaternary ammonium salt type, a pyridinium salt type, or a polyamine type surfactant, and a quaternary ammonium salt type.
  • a pyridinium salt type surfactant is more preferable.
  • nonionic surfactants include polyalkylene glycol monoalkyl ether, polyalkylene glycol monoalkyl ester, polyalkylene glycol monoalkyl ester / monoalkyl ether, and the like. More specifically, polyethylene glycol monolauryl ether, polyethylene glycol monostearyl ether, polyethylene glycol monocetyl ether, polyethylene glycol monolauryl ester, polyethylene glycol monostearyl ester and the like can be mentioned.
  • ionic surfactants examples include anionic surfactants such as alkyl sulfates, alkyl benzene sulfonates, and alkyl phosphates; amphoteric surfactants such as alkyl carboxybetaines.
  • the coating liquid for forming an antireflection layer may contain only one type of surfactant or two or more types.
  • the coating solution for forming the antireflection layer may contain a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant, an acetylene-based surfactant, and the like from the viewpoint of improving the wettability to the lower layer and the coating property.
  • Fluorosurfactants include Megafac (registered trademark) F-444 and other DIC Corporation Megafac (registered trademark) series, Surflon (registered trademark) S-221 and other AGC Seimi Chemical Co., Surflon. (Registered Trademark) series, Footage 100 manufactured by Neos Co., Ltd., etc.
  • silicone surfactant examples include leveling material KP series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. such as KP-124.
  • acetylene surfactants include Surfinol series and Olphine series manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd. such as Surfinol 420 and Olphine E1004.
  • the content of the surfactant in the coating solution for forming the antireflection layer is from the viewpoints of storage stability, light transmittance and haze of the antireflection layer, and is 0. It is preferably 005% by mass to 10% by mass, more preferably 0.01% by mass to 5% by mass, and particularly preferably 0.01% by mass to 1% by mass.
  • the content of the surfactant is 0.5% by mass or more from the viewpoint of storage stability and light transmittance and haze of the antireflection layer with respect to the total mass of the organic solvent that is the core material in the core-shell particles. It is preferably 70% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 35% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or more and 25% by mass or less.
  • the coating solution for forming the antireflection layer preferably contains water.
  • the coating solution for forming the antireflection layer may further contain a hydrophilic organic solvent having excellent affinity with water.
  • the content of water in the coating solution for forming the antireflection layer is 30% by mass or more with respect to the total content of water and the hydrophilic organic solvent (not including the organic solvent of the core material in the core-shell particles). Is more preferable, 50% by mass or more is more preferable, and 80% by mass or more and 100% by mass or less is particularly preferable.
  • hydrophilic organic solvent examples include hydrophilic compounds such as alcohol compounds, glycol compounds, ether compounds, and ketone compounds.
  • the hydrophilic organic solvent that can be used in the present disclosure is not particularly limited, and examples thereof include methanol, ethanol, isopropanol, butanol, acetone, ethylene glycol, and ethyl cellosolve.
  • the hydrophilic organic solvent is preferably an alcohol compound, and more preferably at least one alcohol selected from the group consisting of ethanol and isopropanol.
  • the solid content with respect to the total mass of the coating solution for forming the antireflection layer is preferably 0.1% by mass to 50% by mass from the viewpoint of light transmittance and haze of the antireflection layer, and 0.2% by mass. % To 40% by mass is more preferable, and 0.5% to 30% by mass is particularly preferable.
  • the water content in the antireflection layer-forming coating solution is preferably 30% by mass or more, and 40% by mass to 99.9% by mass with respect to the total mass of the antireflection layer-forming coating solution. More preferably, it is more preferably 50% by mass to 99.8% by mass, and particularly preferably 70% by mass to 99.5% by mass.
  • the coating liquid for forming an antireflection layer can contain other components depending on the purpose in addition to the components described above.
  • known additives can be used, and examples thereof include an antistatic agent, a condensation catalyst for a siloxane compound, and an antiseptic.
  • the coating liquid for antireflection layer formation may contain an antistatic agent.
  • Antistatic agents are used for the purpose of suppressing the adhesion of contaminants by imparting antistatic properties to the antireflection layer. There are no particular restrictions on the antistatic agent for imparting antistatic properties.
  • As the antistatic agent used in the present disclosure at least one selected from the group consisting of metal oxide particles, metal nanoparticles, conductive polymers, and ionic liquids can be preferably used. Two or more antistatic agents may be used in combination. Metal oxide particles need to be added in a relatively large amount in order to provide antistatic properties. However, since they are inorganic particles, the antifouling property of the antireflection layer is further enhanced by containing metal oxide particles. be able to.
  • the metal oxide particles have a large refractive index, and if the particle size is large, there is concern about a decrease in light transmittance due to scattering of transmitted light. Therefore, the average primary particle size of the metal oxide particles is preferably 100 nm or less, and 50 nm. More preferably, it is more preferably 30 nm or less. Moreover, it is preferable that a lower limit is 2 nm or more.
  • the shape of the particles is not particularly limited, and may be spherical, plate-shaped, or needle-shaped.
  • the average primary particle diameter of the metal oxide particles can be obtained from a photograph obtained by observing the dispersed particles with a transmission electron microscope. From the image of the photograph, the projected area of the particle is obtained, and the equivalent circle diameter is obtained therefrom, which is taken as the average particle size (average primary particle size).
  • the average primary particle diameter in the present specification, a value calculated by measuring a projected area of 300 or more particles and obtaining an equivalent circle diameter is used.
  • the shape of the metal oxide particles is not spherical, it may be obtained using other methods, for example, a dynamic light scattering method.
  • One type of antistatic agent may be contained in the coating solution for forming the antireflection layer, or two or more types may be contained. When two or more types of metal oxide particles are contained, two or more types having different average primary particle diameters, shapes, and materials may be used.
  • the content of the antistatic agent is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, based on the total solid content of the coating solution for forming the antireflection layer. It is preferably 20% by mass or less.
  • the content when metal oxide particles are used as the antistatic agent is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, with respect to the total mass of the coating solution for forming the antireflection layer. It is preferably 10% by mass or less.
  • the coating liquid for antireflection layer formation contains the condensation catalyst which accelerates
  • the coating liquid for forming an antireflection layer contains a condensation catalyst, an antireflection layer having superior durability can be formed.
  • at least one of the hydroxy groups of the hydrolyzate of the siloxane compound represented by formula 1 is accompanied by drying the coating liquid for forming the antireflection layer and reducing the moisture in the antireflection layer. The parts are condensed with each other to form a condensate, whereby a stable film is formed.
  • the coating solution for forming the antireflection layer contains the siloxane compound represented by Formula 1 and a hydrolyzate thereof, and a catalyst that promotes the condensation of the hydrolyzed condensate.
  • the prevention layer can be formed more quickly.
  • condensation catalyst which can be used for this indication is not specifically limited, An acid catalyst, an alkali catalyst, an organometallic catalyst, etc. are mentioned.
  • the acid catalyst include phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, chloroacetic acid, formic acid, oxalic acid, p-toluenesulfonic acid and the like.
  • the alkali catalyst include sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide and the like.
  • organometallic catalysts include aluminum bis (ethyl acetoacetate) mono (acetylacetonate), aluminum tris (acetylacetonate), aluminum chelate compounds such as aluminum ethylacetoacetate diisopropylate, zirconium tetrakis (acetylacetonate) Zirconium chelate compounds such as zirconium bis (butoxy) bis (acetylacetonate), titanium chelate compounds such as titanium tetrakis (acetylacetonate), titanium bis (butoxy) bis (acetylacetonate), and dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, And organotin compounds such as dibutyltin dioctiate.
  • the kind of condensation catalyst is not particularly limited, an organometallic catalyst is preferable, and an aluminum chelate compound or a zirconium chelate compound is more preferable.
  • the content of the condensation catalyst is preferably 0.001% by mass to 20% by mass with respect to the total solid content of the coating liquid for forming the antireflection layer, from the viewpoint of the strength, light transmittance and haze of the antireflection layer. 0.005% by mass to 15% by mass is more preferable, and 0.01% by mass to 10% by mass is particularly preferable.
  • the condensation catalyst for promoting the condensation of the siloxane compound is also useful for promoting the hydrolysis reaction of the siloxane compound represented by the above formula 1.
  • the hydrolysis reaction and condensation reaction of the silicon-bonded alkoxy group of the siloxane compound represented by Formula 1 are in an equilibrium relationship. If the amount of water contained in the coating solution for forming the antireflection layer is large, the hydrolysis reaction will occur. In the direction, if the water content is low, the condensation proceeds. Since the condensation catalyst that promotes the condensation reaction of the alkoxy group has an effect of promoting the reaction in both directions, the hydrolysis reaction can be promoted in a state where the content of water in the coating solution for forming the antireflection layer is large. Due to the presence of the condensation catalyst, the siloxane compound represented by Formula 1 can be hydrolyzed under milder conditions.
  • the coating solution for forming the antireflection layer is cured by condensation of the specific siloxane compound by reducing the amount of water, which is a solvent, as described above, thereby forming an antireflection layer. Further, at the time of drying, at least a part of the organic solvent that is the core material of the core-shell particles is volatilized to form voids. Therefore, the formation of the antireflection layer does not require light irradiation and high-temperature heat treatment, which are required for polymerization reaction, crosslinking reaction and the like. Further, the coating solution for forming an antireflection layer does not need to contain a photopolymerization initiator, a thermal polymerization initiator, etc.
  • a coating solution for forming an antireflection layer that does not contain a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator that affects storage stability has good storage stability. According to the coating liquid for forming an antireflection layer, it is possible to form an antireflection layer having excellent light transmittance by a simple method.
  • the method for preparing the coating solution for forming the antireflection layer is not particularly limited, and examples thereof include the following two methods.
  • an organic solvent, a surfactant, and water are mixed, and the (ie, the core material) is dispersed in water, and a specific siloxane compound is added thereto and partially hydrolyzed and dispersed.
  • a shell layer is formed on the surface of the organic solvent to prepare core-shell particles, and if necessary, other components are added to prepare a coating solution for forming an antireflection layer.
  • the second method is to form an antireflection layer by mixing core-shell particles containing an organic solvent as a core material, a specific siloxane compound, a surfactant, and water, and adding other components as necessary.
  • This is a method for preparing a coating liquid for use.
  • the first method is preferable.
  • the specific siloxane compound may be added together with an organic solvent, a surfactant and water, or may be added after the organic solvent is dispersed in water.
  • the core-shell particles are preferably prepared by dispersing an organic solvent as a core material in water to form an emulsion and forming a shell layer on the surface of the dispersed organic solvent.
  • an interactive attractive force is generated between the material forming the shell layer and the core material, and the core-shell formation efficiently proceeds.
  • a method for emulsifying the core material a method using a rotor (rotating blade) or a stator (fixed blade), a method using ultrasonic cavitation, a method using a grinding medium such as a ball or a bead, and high-speed collision between raw materials.
  • a method of applying a shearing force to the core material such as a method of passing a dispersion solvent through a porous membrane and a solvent.
  • a hydrolyzate solution of the siloxane compound represented by the formula 1 obtained by bringing the siloxane compound represented by the formula 1 into contact with at least water may be used.
  • the hydrolyzate solution may contain a condensation catalyst that promotes the condensation of the siloxane compound represented by Formula 1.
  • the coating solution for forming the antireflection layer may be obtained by adding a surfactant and an organic solvent to the hydrolyzate solution.
  • the coating liquid for forming the antireflection layer may be prepared by mixing an organic solvent, a surfactant, and water, and then mixing a liquid in which the organic solvent is dispersed in water and the hydrolyzate solution.
  • the coating liquid for forming the antireflection layer is prepared by mixing an organic solvent, a surfactant, and water and then mixing a liquid in which the organic solvent is dispersed in water with a siloxane compound represented by Formula 1. Decomposition and shell formation may be performed simultaneously.
  • the antireflection layer-forming coating solution described above is applied on the lower layer of the antireflection layer and dried to form the antireflection layer.
  • the method for applying the coating liquid for forming the antireflection layer is not particularly limited, and any known coating method such as spray coating, brush coating, roller coating, bar coating, dip coating, etc. can be applied.
  • the lower layer to which the antireflection layer forming coating solution is applied such as corona discharge treatment, glow treatment, atmospheric pressure plasma treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, etc.
  • a surface treatment may be applied.
  • the coating solution for forming the antireflection layer may be dried at room temperature (25 ° C.) or may be heated.
  • the organic solvent contained in the coating solution for forming the antireflection layer is sufficiently volatilized to form voids, and the coating solution for forming the antireflection layer is dried from the viewpoint of light transmittance and coloring suppression of the antireflection layer. It is preferable to carry out the heating at a temperature of from 700 to 700 ° C.
  • a resin base material is used as the base material, it is necessary to heat at a temperature not higher than the decomposition temperature of the base material. Specifically, it is preferably performed by heating to 40 ° C. to 200 ° C.
  • the coating solution for forming the antireflection layer by heating to 40 ° C. to 120 ° C.
  • the heating time is not particularly limited, but is preferably 1 minute to 30 minutes.
  • the coating solution for forming the antireflection layer containing the core-shell particles and the formation of the antireflection layer using the coating solution for forming the antireflection layer have been described.
  • the coating for forming the antireflection layer containing hollow particles instead of the core-shell particles.
  • An antireflection layer may be formed using a liquid.
  • a hollow particle it is preferable to use the hollow silica particle which has a silica as a main component from a viewpoint of affinity with the siloxane resin which comprises a matrix.
  • the hollow silica particles include hollow particles described in JP2013-237593A, International Publication No. 2007/060884, and the like.
  • the hollow silica particles may be hollow silica particles with an unmodified surface, or hollow silica particles with a modified surface.
  • the hollow particles are physically dispersed in the coating solution for forming the antireflection layer, such as plasma discharge treatment, corona discharge treatment, etc., in order to stabilize dispersion, or to increase the affinity and bondability with the siloxane resin.
  • At least one of surface treatment and chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed.
  • the laminate according to the present disclosure may further include other layers.
  • it can have a well-known various layer. Specific examples include an adhesive layer, an ultraviolet absorbing layer, an undercoat layer, and an intermediate layer.
  • the laminated body which concerns on this indication has an contact bonding layer.
  • the laminate according to the present disclosure may include an adhesive layer between the base material and the hard coat layer.
  • the adhesive layer By providing the adhesive layer, the adhesion between the substrate and the hard coat layer is improved, and a laminate having excellent durability can be obtained.
  • the adhesive layer examples include a known pressure-sensitive adhesive, a layer containing a known adhesive, or a layer containing a cured product thereof.
  • the adhesive layer is preferably a layer obtained by applying a coating solution for forming an adhesive layer containing a resin and a crosslinking agent and then drying or curing.
  • resin A polyolefin resin, a urethane resin, a polyester resin, an acrylic resin, polyvinyl alcohol, a polyamide resin, a silicone resin etc. are mentioned, A polyolefin resin is preferable from an adhesive viewpoint.
  • the coating liquid for forming the adhesive layer may further contain known components such as a surfactant and a solvent.
  • the thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 0.05 ⁇ m to 3 ⁇ m, more preferably 0.1 ⁇ m to 1.5 ⁇ m, from the viewpoint that the hard coat layer is difficult to break.
  • the adhesive layer is formed, for example, by applying an adhesive layer forming coating solution to a base material or a hard coat layer and drying it.
  • the laminate according to the present disclosure may have an ultraviolet absorbing layer between the base material and the hard coat layer.
  • the ultraviolet absorbing layer is preferably a layer containing an ultraviolet absorber, and is preferably a layer containing an ultraviolet absorber and a sol-gel cured product, or a layer containing an ultraviolet absorber and a binder polymer.
  • the ultraviolet absorber a known ultraviolet absorber can be used without particular limitation, and it may be an organic compound or an inorganic compound. Examples of the ultraviolet absorber include triazine compounds, benzotriazole compounds, benzophenone compounds, salicylic acid compounds, metal oxide particles, and the like.
  • the ultraviolet absorber may be a polymer having an ultraviolet absorbing structure
  • the polymer having an ultraviolet absorbing structure includes at least a part of a structure such as a triazine compound, a benzotriazole compound, a benzophenone compound, and a salicylic acid compound.
  • An acrylic resin containing a monomer unit derived from an acrylate compound is exemplified.
  • a metal oxide particle the thing similar to the inorganic filler which has the ultraviolet absorptivity contained in a hard-coat layer is mentioned.
  • the sol-gel cured product include a cured product obtained by hydrolysis and polycondensation of an alkoxide compound of at least one element selected from the group consisting of Si, Ti, Zr and Al.
  • the binder polymer examples include polyolefin, acrylic resin, polyester, and polyurethane.
  • the ultraviolet absorbing layer is formed by applying an ultraviolet absorbing layer forming coating solution containing each component contained in the ultraviolet absorbing layer and, if necessary, a solvent onto a substrate and drying it as necessary.
  • an intermediate layer may be provided between the hard coat layer and the antireflection layer.
  • the intermediate layer is preferably a layer having a refractive index different from that of the antireflection layer, and by providing the intermediate layer, the antireflection ability of the laminate can be further enhanced or the color can be adjusted.
  • the refractive index of the intermediate layer is, for example, preferably 1.50 to 2.70, and more preferably 1.55 to 2.00.
  • the thickness of the intermediate layer is preferably close to the distance between the hard coat layer and the antireflection layer from the viewpoint of improving wet heat resistance. Therefore, the thickness is preferably 20 nm to 180 nm, and more preferably 30 nm to 150 nm.
  • the laminated body which concerns on this indication may be equipped with the back layer on the opposite side to the side in which the hard-coat layer and antireflection layer of the base material were provided.
  • the back layer functions as, for example, a layer for adhesion to a sealing material (for example, a sealing material containing an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA)) in a solar cell module.
  • a sealing material for example, a sealing material containing an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA)
  • EVA ethylene-vinyl acetate copolymer
  • the back layer preferably contains a binder polymer.
  • the back layer may be a single layer or two or more layers.
  • the laminate can include a layer A, a layer B, and a layer C in this order as the back layer on the side opposite to the side on which the hard coat layer and the antireflection layer are provided.
  • the A layer, the B layer, and the C layer, which are provided in the laminated body as necessary, will be described.
  • the layer A preferably contains a binder polymer.
  • the binder polymer that can be contained in the layer A is not particularly limited.
  • a polyolefin resin, a urethane resin, a polyester resin, an acrylic resin examples thereof include a silicone resin, and a polyolefin resin, a polyurethane resin, and an acrylic resin are preferable from the viewpoint of further adhesion.
  • polyolefin resin examples include Arrow Base (registered trademark) SE-1013N, SD-1010, TC-4010, TD-4010, DA-1010 (all are Unitika Co., Ltd.), Hitech S3148, S3121, and S8512 (all Toho Chemical Co., Ltd.), Chemipearl (registered trademark) S-120, S-75N, V100, EV210H (all of which are Mitsui Chemicals).
  • acrylic resins examples include Julimer (registered trademark) AS-563A (Daicel Finechem Co., Ltd.), Bonlon PS-001, PS-002 (all of which are Mitsui Chemicals Co., Ltd.), SIFCLEARS-101, F-101, F102 (any of them) And JSR (trademark)), Ceranate (registered trademark) WSA1070 (DIC Corporation), and the like.
  • Examples of the polyurethane resin include Takelac (registered trademark) WS-6021, WS-5000, WS-5100, WS-4000 (all of which are Mitsui Chemicals).
  • the crosslinking agent is not particularly limited, and examples thereof include an oxazoline-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, a carbodiimide-based crosslinking material, and a block isocyanate-based crosslinking agent, and an oxazoline-based crosslinking agent is preferable.
  • the coating solution for forming the A layer may further contain known components such as a crosslinking agent, a surfactant, an antistatic agent, a preservative, inorganic particles, and a solvent.
  • the coating solution for forming the A layer may further contain known components such as a crosslinking agent, an ultraviolet absorber, a surfactant, an antistatic agent, an antiseptic, inorganic particles, and a solvent in addition to the above-mentioned various resins. .
  • a crosslinking agent An oxazoline type crosslinking agent, an epoxy-type crosslinking agent, a carbodiimide type crosslinking agent, a block isocyanate type crosslinking agent etc. are mentioned, An oxazoline type crosslinking agent is preferable.
  • the UV absorber include known UV absorbers, and specifically, the same UV absorber as that of the UV absorbing layer can be used.
  • the thickness of the A layer is preferably 0.2 ⁇ m or more, and more preferably 0.4 ⁇ m or more. Further, the thickness of the A layer is preferably 7.0 ⁇ m or less.
  • the method for forming the A layer is not particularly limited.
  • Examples of the formation method of the A layer include a method in which a coating solution for forming an A layer containing a solvent and the above-described component (solid content) of the A layer is applied on the back surface of the substrate and dried. It is done.
  • the back surface layer may include a Bth layer on the Ath layer.
  • the B layer preferably contains a binder polymer.
  • the binder polymer in the B layer is preferably at least one polymer selected from the group consisting of a polyolefin resin, an acrylic resin, a polyester resin, and a polyurethane resin from the viewpoint of adhesion with the sealing material.
  • the binder polymer in the B layer is preferably a polyolefin resin or an acrylic resin from the viewpoints of adhesion to the sealing material and cohesive strength of the coating film.
  • the B layer may contain a crosslinking agent, a surfactant, an antistatic agent, a preservative, inorganic particles and the like in addition to the various resins described above.
  • the method for forming the B layer is not particularly limited.
  • Examples of the method for forming the B layer include a method in which a coating solution for forming a B layer containing a solvent and the above-described component (solid content) of the B layer is applied on the A layer and dried. .
  • the back surface layer may include a Cth layer on the Bth layer.
  • the C layer is a layer that is in direct contact with the sealing material of the solar cell module, that is, a layer that functions as an easy adhesion layer for the sealing material of the solar cell module.
  • the C layer preferably contains a binder polymer.
  • the binder polymer that can be contained in the C layer is not particularly limited.
  • polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, acrylic resin, silicone examples of the resin include polyolefin resin, polyurethane resin, and acrylic resin from the viewpoint of adhesion.
  • the coating liquid for forming the C layer may further contain known components such as a crosslinking agent, a surfactant, an antistatic agent, an antiseptic, inorganic particles, and a solvent in addition to the various resins described above.
  • the crosslinking agent is not particularly limited, and examples thereof include an oxazoline-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, a carbodiimide-based crosslinking material, and a block isocyanate-based crosslinking agent, and an oxazoline-based crosslinking agent is preferable.
  • the laminate according to the present disclosure may have an undercoat layer on at least one surface of the substrate.
  • the undercoat layer preferably contains a binder polymer.
  • the binder polymer that can be contained in the undercoat layer is not particularly limited. Examples of the binder polymer that can be contained in the undercoat layer include acrylic resins, polyester resins, polyolefin resins, polyurethane resins, and silicone resins.
  • the undercoat layer preferably contains an acrylic resin. As an acrylic resin, the thing similar to the acrylic resin which may be contained in the A layer mentioned above is mentioned.
  • the acrylic resin content ratio in the binder polymer contained in the undercoat layer is more preferably 50% by mass or more.
  • the acrylic resin is 50% by mass or more of the binder polymer, it is easy to adjust the elastic modulus of the undercoat layer to 0.7 GPa or more and the cohesive failure resistance when the laminate according to the present disclosure is a solar cell front sheet is further improved. To do.
  • the undercoat layer may contain a surfactant, an antioxidant, a preservative, and the like in addition to the various resins described above.
  • the thickness of the undercoat layer is preferably 0.01 ⁇ m or more, more preferably 0.03 ⁇ m or more, and further preferably 0.05 ⁇ m or more. Further, the thickness of the undercoat layer is preferably 1 ⁇ m or less, more preferably 0.8 ⁇ m or less, and even more preferably 0.7 ⁇ m or less.
  • the undercoat layer can be formed by applying a coating solution for forming an undercoat layer containing a solvent and a solid content of the undercoat layer on a substrate and drying it.
  • the undercoat layer may be formed by an in-line coating method using the above undercoat layer forming coating solution.
  • the in-line coating method is a method in which a coating liquid for forming an undercoat layer is applied at a stage before winding up the manufactured base material. Differentiated.
  • a film in which an undercoat layer-forming coating solution is applied to one surface of a film stretched in the first direction, A mode in which a substrate with an undercoat layer is produced by stretching in a second direction perpendicular to the first direction along the surface is preferable.
  • the laminated body which concerns on this indication may be provided with other layers other than the layer mentioned above.
  • the antireflection layer and the hard coat layer are preferably adjacent from the viewpoint of effectively suppressing cracking of the antireflection layer.
  • the laminate according to the present disclosure is provided on one surface of the base material, and the total film thickness of all layers including the hard coat layer and the antireflection layer Is preferably 0.6 ⁇ m to 50 ⁇ m, more preferably 1.2 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the total film thickness of the hard coat layer and the antireflection layer is preferably 50% to 100%, more preferably 80% to 100%.
  • the laminated body which concerns on this indication shows the outstanding antireflection ability, it can be used conveniently for the surface protection member of building materials, such as a window glass, the surface protection member of a display. Especially, it can use especially suitably as a protection sheet for solar cells.
  • the solar cell protective sheet according to the present disclosure includes the laminate according to the present disclosure. Therefore, the solar cell protective sheet according to the present disclosure has high light transmittance and excellent wet heat resistance.
  • the solar cell protective sheet include a solar cell front sheet and a solar cell backsheet. Particularly, the solar cell protective sheet is preferably a solar cell front sheet because of its high light transmittance and excellent wet heat resistance.
  • the solar cell module according to the present disclosure includes the solar cell protective sheet according to the present disclosure.
  • the solar cell module is typified by a solar cell protective sheet and a polyester film according to the present disclosure, which are provided on the side on which sunlight is incident, and the solar cell element that converts the light energy of sunlight into electrical energy. More preferably, it is arranged between the solar cell backsheet.
  • the laminate and the polyester film according to the present disclosure are sealed with a sealant typified by a resin such as an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), for example.
  • EVA ethylene-vinyl acetate copolymer
  • a solar cell element in a solar cell module for example, “Solar power generation system constituent material” (supervised by Eiichi Sugimoto, Industrial Research Co., Ltd., issued in 2008) are described in detail.
  • the solar cell element used in the solar cell module is not particularly limited, and silicon-based materials such as single crystal silicon, polycrystalline silicon, and amorphous silicon, copper-indium-gallium-selenium, copper-indium-selenium, cadmium-tellurium
  • Various known solar cell elements such as III-V and II-VI compound semiconductors such as gallium-arsenic can be applied.
  • % and part mean “% by mass” and “part by mass”, respectively, unless otherwise specified.
  • Example 1 ⁇ Preparation of antireflection layer forming coating solution 1> -composition- MS51 (compound represented by formula 1, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): 3.0 parts Hexadecane (n-hexadecane, manufactured by FUJIFILM Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0.6 parts Ca-1 ( hexadecyl pyridinium chloride, cationic surfactant, manufactured by Fuji Film Wako pure Chemical Co.): remaining amount of 0.01 parts water ... 100 parts in total should be noted, MS51 is, R 1 in the above formula 1, R 2 And R 3 is a methyl group, m is 2, and n is 5 on average.
  • the coating liquid 1 for forming an antireflection layer was prepared in the following procedure. Hexadecane, Ca-1, and water were mixed, and an ultrasonic wave of 20 kHz was applied for 60 minutes to obtain a dispersion in which an emulsion of hexadecane was present in water. Next, this dispersion is heated to 30 ° C. with stirring, MS51 is gradually added, and after the addition, the mixture is further stirred for 24 hours at 25 ° C., thereby forming core-shell particles containing a nonpolar solvent as a core material, Formula 1 The coating liquid 1 for anti-reflective layer formation containing the compound represented by these, surfactant, and water was obtained.
  • An antireflection layer-forming coating solution 2 was obtained in the same manner as the preparation of the antireflection layer-forming coating solution 1 except that the ultrasonic wave application time was changed to 30 minutes.
  • ⁇ Preparation of coating solution 3 for forming an antireflection layer> Hexadecane is replaced with dodecane (n-dodecane, manufactured by FUJIFILM Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), the addition amount is changed from 0.6 part to 0.39 part, and the addition amount of MS51 is 3.0 parts.
  • the antireflection layer-forming coating solution 3 was obtained in the same manner as the preparation of the antireflection layer-forming coating solution 1, except that the ultrasonic wave application time was changed to 30 minutes. It was.
  • the coating solution 4 for forming an antireflection layer was obtained in the same manner as the coating solution 1 for forming an antireflection layer, except that the application time of ultrasonic waves was changed to 30 minutes. It was.
  • dodecane n-dodecane, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • the antireflection layer-forming coating solution 7 was obtained in the same manner as the preparation of the antireflection layer-forming coating solution 1, except that the ultrasonic wave application time was changed to 30 minutes. It was.
  • IPA isopropanol
  • ⁇ Preparation of hard coat layer coating solution 1> Components of the following composition were mixed to obtain a coating liquid 1 for hard coat layer.
  • metal complex solution (abbreviated as AlCH, aluminum chelate D, Kawaken) Made by Fine Chemical Co., Ltd., 76 mass% isopropyl alcohol (IPA) solution) 3.0 parts ⁇
  • AlCH aluminum chelate D, Kawaken
  • IPA isopropyl alcohol
  • Alumina fiber aqueous dispersion inorganic filler, 4 nm diameter ⁇ 3000 nm fiber length, Aluminum Sol-F3000, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.
  • Solid content 5.0% by mass
  • cerium oxide inorganic filler having ultraviolet absorbing ability, average particle diameter 8 nm, B 10, manufactured by Taki Chemical Co., Ltd., solid content 15.0% by mass
  • Surfactant water dilution (Lapisol (registered trademark) A-90, manufactured by NOF Corporation, solid content 1% by mass, anionic surfactant) ... 3.3 parts surfactant in water (Naroacty (registered trademark) CL-95, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., solid content 1% by mass, nonionic) (Surfactant)... 2.3 parts ⁇ Water... The remaining amount is 100 parts in total
  • ⁇ Polyurethane aqueous dilution (Takelac (registered trademark) WS4000, Mitsui Chemicals) 1.0.5 parts nonionic surfactant water dilution (EMALEX (registered trademark) 110, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd., solid content 10% by mass). 3 parts, water ... remaining amount of 100 parts in total
  • Example 1 Production of laminate 1> A coating solution for forming an adhesive layer A was applied to a polypropylene substrate (OPP, Trefan BO 60-2500, manufactured by Toray Industries, Inc., substrate thickness 60 ⁇ m), and dried at 110 ° C. for 2 minutes to obtain a thickness of 0. A 3 ⁇ m adhesive layer A was formed. Subsequently, a hard coat layer-forming coating solution 1 was applied on the adhesive layer A and dried at 110 ° C. for 2 minutes to form a hard coat layer having a thickness of 3.0 ⁇ m. Then, an antireflection layer-forming coating solution 1 is applied on the hard coat layer and dried at 110 ° C. for 2 minutes to form an antireflection layer having an average thickness of 0.12 ⁇ m, thereby obtaining a laminate 1. It was.
  • OPP Polypropylene substrate
  • Trefan BO 60-2500 manufactured by Toray Industries, Inc., substrate thickness 60 ⁇ m
  • the obtained laminate was cut in a direction perpendicular to the substrate surface, and an SEM image (magnification of 50000 times) of the cut surface was obtained. The diameter was calculated, and the average value was taken as the void diameter.
  • the obtained laminate was cut in a direction perpendicular to the substrate surface, and an SEM image (magnification of 50000 times) of the cut surface was used with image processing software (ImageJ) to form a void portion and a matrix portion (that is, And a portion other than the void containing the siloxane resin) were separated by image processing (binarization), and the ratio of the void portion was calculated to obtain the void ratio.
  • image processing software image processing software
  • indentation hardness The indentation hardness from the antireflection layer side was measured using a dynamic ultra-micro hardness meter (DUH-201S, manufactured by Shimadzu Corporation). Further, when the hard coat layer was formed during the production of the laminate, the indentation hardness of the hard coat layer was also measured in the same manner. The measurement conditions were as follows. ⁇ Indenter type: Vickers ⁇ Test mode: Load-unloading test ⁇ Test force: 40 mN ⁇ Loading speed: 1.3239mN / sec ⁇ Retention time: 5 sec
  • the effective transmittance is based on the following formula T, using the transmittance of the laminate at a wavelength of 300 nm to 1,100 nm, the spectral distribution of sunlight (AM1.5), and the spectral sensitivity of the crystalline silicon solar battery cell. Calculated.
  • the spectral sensitivity was defined as the spectral irradiance of the crystalline silicon-type reference solar cell.
  • E ( ⁇ ) represents the spectral distribution of sunlight at wavelength ⁇
  • S ( ⁇ ) represents the spectral sensitivity of the crystalline silicon solar cell at wavelength ⁇
  • T ( ⁇ ) is at wavelength ⁇ . It represents the transmittance of the laminate.
  • -Standard- A The decrease rate of the effective transmittance is less than 0.2%
  • B The decrease rate of the effective transmittance is 0.2% or more and less than 0.5%
  • C The decrease rate of the effective transmittance is 0.5%
  • D The decrease rate of the effective transmittance is 1.0% or more and less than 2.0%
  • E The decrease rate of the effective transmittance is 2.0% or more
  • Fractal sand (sand) having an average particle diameter of 150 ⁇ m is sprayed on the antireflection layer side of the laminate at a rate of 25 m / s, 5 g / m 2 for 30 hours at 25 ° C.
  • the effective transmittance was measured by the same method as the transmittance measurement.
  • a dust tester for IEC dust test manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. was used.
  • the reduction rate of the effective transmittance of the laminate before and after the sand was sprayed was determined and used as an index for evaluating sand resistance. Based on the obtained results, evaluation was performed according to the following criteria.
  • Example 2 to 10 Production of laminates 2 to 10> Laminates 2 to 10 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the antireflection layer forming coating solution 1 was replaced with the antireflection layer forming coating solutions 2 to 10 in Example 1, respectively. The obtained laminates 2 to 10 were measured and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.
  • Example 11 to 24 Production of laminates 11 to 24> Laminates 11 to 24 were obtained in the same manner as in Example 5 except that the hard coat layer forming coating solution 1 was replaced with the hard coat layer forming coating solutions 2 to 15 in Example 5. The obtained laminates 11 to 24 were measured and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
  • Example 5 Production of laminates 25 to 31>
  • the hard coat layer forming coating solution 1 was replaced with the hard coat layer forming coating solutions 13 and 16 to 19, respectively, and the film thickness of the hard coat layer was changed to the values shown in Table 3 below.
  • laminates 25 to 31 were obtained.
  • the obtained laminates 25 to 31 were measured and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
  • Example 32 to 34 Production of laminates 32 to 34> Laminates 32 to 34 were obtained in the same manner as in Example 5, except that the polypropylene base material was replaced with a polyethylene terephthalate (PET) base material, an acrylic resin base material, and a glass base material. The obtained laminates 32 to 34 were measured and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
  • PET polyethylene terephthalate
  • Example 35 to 36 Production of laminates 35 to 36> Laminates 35 to 36 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the hard coat layer forming coating solution 1 was replaced with the hard coat layer forming coating solution 20 or 21 in Example 5. The obtained laminates 35 to 36 were measured and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
  • Example 37 Production of laminate 37>
  • the hard coat layer forming coating solution 1 is further prepared.
  • the laminate was applied in the same manner as in Example 5 except that a hard coat layer having a thickness of 3.0 ⁇ m was formed by drying at 110 ° C. for 2 minutes to form a two-layer hard coat layer. 37 was obtained. About the obtained laminated body 37, it carried out similarly to Example 1, and measured and evaluated. The results are shown in Table 3.
  • Laminates 38 to 41 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 1 for forming an antireflection layer was replaced with coating solutions 11 to 14 for forming an antireflection layer in Example 1. The obtained laminates 38 to 41 were measured and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.
  • Example 5 Production of laminates 42 to 44>
  • laminates 42 to 44 were obtained in the same manner as in Example 5 except that the hard coat layer forming coating solution 1 was replaced with hard coat layer forming coating solutions 22 to 24, respectively.
  • the obtained laminates 42 to 44 were measured and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.
  • Example 5 Production of laminate 45>
  • a laminated body 45 was obtained in the same manner as in Example 5 except that the thickness of the hard coat layer was 0.3 ⁇ m.
  • the obtained laminated body 45 it carried out similarly to Example 1, and measured and evaluated. The results are shown in Table 4.
  • TPGDA tripropylene glycol diacrylate
  • NVC N-vinyl- ⁇ - Caprolactam
  • Takelac WS4000 urethane resin
  • SE1013N olefin resin
  • Arrow Base registered trademark
  • Alumina fiber Aluminum sol-F3000, manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd. (4 nm diameter ⁇ 3000 nm fiber length, solid content 5.0 mass%)
  • ⁇ Cerium oxide inorganic filler having ultraviolet absorbing ability
  • B-10 manufactured by Taki Chemical Co., Ltd. (average particle size 8 nm, solid content 15.0 mass%)
  • -AlCH aluminum chelate complex, curing agent: Aluminum chelate D, manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.
  • Irg184 photopolymerization initiator, curing agent
  • IRGACURE 184 manufactured by BASFOxazoline (oxazoline-based crosslinking agent, curing agent): Epocross (registered trademark) WS-700, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. (solid content 25% by mass) Aqueous solution)
  • the laminates of Examples 1 to 37 are excellent in light transmittance and excellent in wet heat resistance.
  • the dump heat test for evaluating wet heat resistance is a test under severe conditions, and the laminates of Examples 1 to 37, which have a low rate of reduction in effective transmittance even when subjected to this test, are used for a long time. It is thought that it can endure use.
  • the laminates of Comparative Examples 1 to 8 are inferior to the laminates of Examples 1 to 37 in either light transmittance or wet heat resistance.
  • a coating liquid for adhesive layer B was applied to a polypropylene base material (OPP, Trefan BO 60-2500, manufactured by Toray Industries, Inc., base material thickness 60 ⁇ m), and dried at 170 ° C. for 2 minutes to obtain a thickness of 4 ⁇ m.
  • An adhesive layer B was formed. Adhesion with a thickness of 0.3 ⁇ m is obtained by applying the above-mentioned coating solution for forming the adhesive layer A on the surface opposite to the surface on which the adhesive layer B of the polypropylene substrate is formed, and drying at 110 ° C. for 2 minutes. Layer A was formed. Subsequently, a hard coat layer-forming coating solution 1 was applied on the adhesive layer A and dried at 110 ° C.
  • the antireflection layer-forming coating solution 5 is applied on the hard coat layer, and dried at 110 ° C. for 2 minutes to form an antireflection layer having an average thickness of 0.12 ⁇ m. It was.
  • Laminate 46 as a front sheet for solar cell EVA sheet (F806P: made by Hangzhou first PV material), crystalline solar cell, EVA sheet (F806P: made by Hangzhou first PV material), and solar cell
  • a solar cell module was produced by hot pressing with the laminate 46 as a back sheet.
  • the adhesion conditions for the EVA sheet were as follows. Using a vacuum laminator, vacuuming was performed at 145 ° C. for 5 minutes, followed by pressure heating at 0.1 MPa for 10 minutes for adhesion. When the power generation operation was performed using the produced solar cell module, it showed good power generation performance as a solar cell.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

基材と、基材上に設けられた、膜厚が０．５μｍ～５０μｍのハードコート層と、ハードコート層上に設けられた、シロキサン樹脂中に空隙を含み、空隙が３０％～７５％であり、且つ、膜厚が８０ｎｍ～２００ｎｍの反射防止層と、を有し、反射防止層側からのＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さが０．５ＧＰａ～３０ＧＰａである、積層体及びその応用。

Description

積層体、太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール
　本開示は、積層体、太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュールに関する。
　近年、反射防止層を有するフィルムは、種々の用途で用いられている。
　例えば、特表２０１７－５００３８４号公報には、１）有機化合物Ａ；エマルジョン安定剤Ｃ；及びｐＨ２～６の水性媒体をＣ／Ａ質量比０．１～２にて混合し、その結果、エマルジョンに対して、粒径３０～３００ｎｍの乳化液滴１～５０質量％が形成されることによって、水中油型エマルジョンを調製する工程であって、上記粒径が、ＤＬＳによって測定されるＺ平均流体力学的径である工程と、２）工程１）で得られたエマルジョンに、少なくとも１種類の無機酸化物前駆物質を添加することによって、上記乳化液滴に無機酸化物シェル層を提供し、その結果、コア／シェル質量比０．２～２５を有する有機－無機コア・シェルナノ粒子が形成される工程であって、上記コアが、化合物Ａとエマルジョン安定剤Ｃの合計であり、かつシェルが、無機酸化物前駆物質に等しい金属酸化物である工程と、を含む、反射防止コーティング組成物を製造するプロセスであって、化合物Ａが、最大で５ｋｇ／ｍ３の水溶性を有する無極性有機化合物であり、かつ上記エマルジョン安定剤Ｃが、カチオン電荷を有する少なくとも１種類のモノマー単位及び中性又は非イオン性であり、かつ全体的な正のゼータ電位を有する少なくとも１種類のモノマー単位を含むカチオン性付加共重合体である、プロセスを用いて得られる、反射防止コーティングされた透明基材が記載されている。
　また、特開２００９－１０３８０８号公報には、透明フィルムと透明フィルム上に形成される反射防止層からなる反射防止フィルムであり、該反射防止フィルムの反射防止層側表面の平均波長（Ｓλａ）が５０～３００μｍであり、中心面平均粗さ（ＳＲａ）が式（１）：０．１＋０．０００６５×Ｓλａ＜ＳＲａ＜０．００３×Ｓλａで表される凹凸を有し、凹凸が転写により形成されたことを特徴とする反射防止フィルムが記載されている。
　更に、特開２００８－２６２１８７号公報には、透明基材フィルム上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順に透明基材フィルム側から積層されており、上記中屈折率層が、（Ａ）波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０～１．６４、厚さ５５．０ｎｍ～６５．０ｎｍを有する中屈折率層であり、上記高屈折率層が、（Ｂ）波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０～１．７４、厚さ１０５．０ｎｍ～１１５．０ｎｍを有する高屈折率層であり、上記低屈折率層が、（Ｃ）波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３２～１．３７、厚さ８５．０ｎｍ～９５．０ｎｍを有する低屈折率層である反射防止フィルムが記載されている。
　シロキサン樹脂中に空隙を含み、空隙率が３０％～７５％である反射防止層は、空隙の占める割合、即ち、空隙率が高いことで、光透過性が高く、優れた反射防止能を有する。
　しかしながら、上記の反射防止層は、空隙率が大きく、収縮率も大きいため、また、反射防止層中にシラノール基が残存した状態となるため、湿熱によって硬化収縮が進むと空隙部に掛かる応力が大きくなり、空隙部の歪みに起因する割れが生じ易い。反射防止層中に割れが生じると、目的とする反射防止能、即ち、高い光透過性が得られず、問題となることがある。
　そこで、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光透過性が高く且つ湿熱耐性に優れた積層体を提供することである。
　本発明の他の一実施形態が解決しようとする課題は、光透過性が高く且つ湿熱耐性に優れた太陽電池用保護シート及びその太陽電池用保護シートを備えた太陽電池モジュールを提供することである。
　上記課題を解決するための手段には、以下の形態が含まれる。
＜１＞　基材と、基材上に設けられた、膜厚が０．５μｍ～５０μｍのハードコート層と、ハードコート層上に設けられた、シロキサン樹脂中に空隙を含み、空隙率が３０％～７５％であり、且つ、膜厚が８０ｎｍ～２００ｎｍの反射防止層と、を有し、反射防止層側からのＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さが０．５ＧＰａ～３０ＧＰａである、積層体。
＜２＞　空隙の径が２５ｎｍ～８０ｎｍである＜１＞に記載の積層体。
＜３＞　基材が樹脂基材である、＜１＞又は＜２＞に記載の積層体。
＜４＞　反射防止層側からのＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さが５ＧＰａ～２５ＧＰａである、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜５＞　反射防止層中の空隙率が３５％～６５％である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜６＞　ハードコート層と反射防止層とが隣接する、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜７＞　基材の一方の面に設けられた、ハードコート層及び反射防止層を含む全層の総膜厚が０．６μｍ～５０μｍである、＜１＞～＜６＞のいずれか１に記載の層体。
＜８＞　ハードコート層が無機フィラーを含む、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜９＞　無機フィラーが紫外線吸収能を有する無機フィラーを含む、＜８＞に記載の積層体。
＜１０＞　ハードコート層が硬化剤として金属錯体を含む、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１１＞　ハードコート層がシロキサン樹脂を含む、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１２＞　シロキサン樹脂が、テトラアルコキシシランと２官能又は３官能のアルコキシシランとの加水分解縮合物である、＜１１＞に記載の積層体。
＜１３＞　加水分解縮合物が、テトラアルコキシシランに由来する構成単位と２官能又は３官能のアルコキシシランに由来する構成単位との総量に対して、２官能又は３官能のアルコキシシランに由来する構成単位を５０質量％以上含む、＜１２＞に記載の積層体。
＜１４＞　＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の積層体を有する、太陽電池用保護シート。
＜１５＞　＜１４＞に記載の太陽電池用保護シートを備える、太陽電池モジュール。
　本発明の一実施形態によれば、光透過性が高く且つ湿熱耐性に優れた積層体を提供することができる。
　本発明の他の一実施形態によれば、光透過性が高く且つ湿熱耐性に優れた太陽電池用保護シート及びその太陽電池用保護シートを備えた太陽電池モジュールを提供することができる。
　以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施形態に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
　更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
＜積層体＞
　本開示に係る積層体は、基材と、基材上に設けられた、膜厚が０．５μｍ～５０μｍのハードコート層と、ハードコート層上に設けられた、シロキサン樹脂中に空隙を含み、空隙率が３０％～７５％であり、且つ、膜厚が８０ｎｍ～２００ｎｍの反射防止層と、を有し、反射防止層側からのＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さが０．５ＧＰａ～３０ＧＰａである。
　ここで、シロキサン樹脂中に空隙を含むとは、シロキサン樹脂を含んで構成されるマトリックス中に空隙が存在することを意味する。即ち、本開示における反射防止層は、シロキサン樹脂を含んで構成されるマトリックス中に空隙が存在する層である。
　以下、本開示において、「ＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さ」を単に「押し込み硬さ」ともいう。
　既述のように、シロキサン樹脂中に空隙を含み、空隙率が３０％～７５％である反射防止層は、空隙率が高く、優れた反射防止能を有する一方、湿熱によって硬化収縮が進むと空隙部に掛かる応力が大きくなり、空隙部の歪みに起因する割れが生じ易い。
　そこで、本発明者らは、上記の反射防止層と基材との間にハードコート層を設けた積層体とし、且つ、積層体の反射防止層側からの押し込み硬さを０．５ＧＰａ～３０ＧＰａとすることで、湿熱耐性が良好となることを見出した。
　反射防止層側からの押し込み硬さを０．５ＧＰａ以上にすることにより、湿熱により硬化収縮が進む際に、反射防止層にかかる応力中心がハードコート層側になるため、反射防止層における空隙部の歪みに起因する割れが抑制されるものと推測される。また、反射防止層側からの押し込み硬さを３０ＧＰａ以下にすることにより、湿熱により硬化収縮が進む際、ハードコート層と反射防止層との熱収縮率の差が小さくなり、ハードコート層と反射防止層との界面に生じる応力を抑制することができる。そのため、湿熱後に衝撃がかかった際に、応力に起因する反射防止層の割れを抑制することができるものと推測される。
　更に、ハードコート層の膜厚を０．５μｍ以上とすることで、積層体の強度を高めることができ、湿熱耐性も高めることができる。また、ハードコート層の膜厚を５０μｍ以下とすることで、湿熱による硬化収縮によってハードコート層が割れることを抑制することができる。
　特表２０１７－５００３８４号公報、特開２００９－１０３８０８号公報、及び特開２００８－２６２１８７号公報のそれぞれに記載の反射防止層を有するフィルムは、いずれも、反射防止層側からの押し込み硬さについては言及されておらず、反射防止層の割れについても何ら検討されていない。
　本開示に係る積層体において、反射防止層側からのＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さは、０．５ＧＰａ～３０ＧＰａであり、５ＧＰａ～２５ＧＰａであることが好ましい。
　押し込み硬さが０．５ＧＰａ以上であることで湿熱による反射防止層の割れを抑制することができる。また、３０ＧＰａ以下であることでハードコート層と反射防止層との熱収縮率の差に起因する反射防止層の割れを抑制することができる。
　ここで、反射防止層側からの押し込み硬さの測定は、ＩＳＯ１４５７７－１に準拠したナノインデンテーション法により行い、本開示においては、ダイナミック超微小硬度計（ＤＵＨ－２０１Ｓ、島津製作所社製）を用いて測定する。
　測定の条件は、以下の通りである。
・圧子の種類：Ｖｉｃｋｅｒｓ
・試験モード：負荷－除荷試験
・試験力：４０ｍＮ
・負荷速度：１．３２３９ｍＮ／ｓｅｃ
・保持時間：５ｓｅｃ
　以下、本開示に係る積層体を構成する、基材、ハードコート層、反射防止層、及びその他の層について、説明する。
〔基材〕
　本開示に用いられる基材は、積層体の用途に応じて決定されればよく、特に制限はない。基材として具体的には、例えば、後述する材質の基材又は複合基材、配線等を有する基板、太陽電池モジュール等が挙げられる。
　また、基材として、仮支持体を使用してもよい。
　基材の材質としては、例えば、ガラス、樹脂、金属、セラミックス等をいずれも好適に用いることができるが、樹脂が好適である。
　即ち、基材としては、耐衝撃性に優れる観点から、樹脂基材が好ましい。
　樹脂基材に含まれる樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアクリル樹脂、セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、又はフッ素系ポリマー等が挙げられる。中でも、コスト、機械強度、透過率、及び、透明性の観点から、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、又は、セルロースが好ましい。
　ポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
　ポリオレフィン樹脂としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、シクロオレフィン等が挙げられる。
　アクリル樹脂としては、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。
　セルロースとしては、トリアセチルセルロース等が挙げられる。
　基材に樹脂基材を用いる場合、樹脂基材の厚さは、取扱い性の観点、また、後述する屈折率の好ましい範囲から、決定されればよく、１μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、４５μｍ以上が更に好ましい。樹脂基材の厚さの上限としては、５００μｍ以下が好ましく、４５０μｍ以下がより好ましく、５００μｍ以下が更に好ましい。
－屈折率－
　基材の屈折率は、１．４０～１．７５が好ましく、１．４５～１．６８がより好ましく、１．４７～１．５５が更に好ましい。
　本開示における屈折率は、波長５５０ｎｍにおける屈折率を表す。
〔ハードコート層〕
　本開示におけるハードコート層は、ＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さが０．５ＧＰａ～３０ＧＰａの範囲内である。
　ハードコート層が、上記の押し込み硬さを有することで、積層体としても、反射防止層側からのＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さが０．５ＧＰａ～３０ＧＰａを達成し得る。
　つまり、上述の条件により本開示に係る積層体における反射防止層側からの押し込み硬さが測定できるが、その押し込み硬さは、反射防止層の影響が少なく、ハードコート層の押し込み硬さが支配的となり測定される。
　ここで、ハードコート層の押し込み硬さは、既述の反射防止層側からの押し込み硬さの測定方法と同様の方法により測定することができる。
　ハードコート層は、上記の押し込み硬さを有していれば特に制限はなく、有機層であってもよいし、無機層であってもよい。
　透明性の向上及び押し込み硬さの調整が容易な観点から、ハードコート層は、有機層であることが好ましく、特に、シロキサン樹脂及び架橋アクリル樹脂からなる群より選択される１種を含む有機層であることが好ましく、シロキサン樹脂を含む有機層であることがより好ましい。
　以下、ハードコート層に好適なシロキサン樹脂及び架橋アクリル樹脂について説明する。
（シロキサン樹脂）
　ハードコート層に含まれうるシロキサン樹脂は、分子鎖中に（ポリ）シロキサン構造を有するポリマーであって、既述のハードコート層の押し込み硬さが達成しうるものであれば特に制限はない。
　シロキサン樹脂として具体的には、１官能～４官能のアルコキシシランの加水分解縮合物であることが好ましい。
　特に、シロキサン樹脂の架橋度合いをより調整しやすく、ハードコート層の押し込み硬さを調整しやすい観点から、シロキサン樹脂は、３官能以下のアルコキシシランと４官能のアルコキシシランとの加水分解縮合物を含むことが好ましい。
　ハードコート層に含まれうるシロキサン樹脂は、４官能のアルコキシシランと、この４官能のアルコキシシランの質量に対して０．１倍～１２倍の質量の３官能以下のアルコキシシランと、の加水分解縮合物を含むことがより好ましく、４官能のアルコキシシランと、４官能のアルコキシシランの質量に対して０．３倍～１０倍の質量の３官能以下のアルコキシシランと、の加水分解縮合物を含むことが更に好ましい。
　この態様において、４官能のアルコキシシラン及び３官能以下のアルコキシシランは、それぞれ、１種のみであっても２種以上であってもよい。
　４官能のアルコキシシランが２種以上である場合には、「４官能のアルコキシシランの量」は、２種以上の４官能のアルコキシシランの合計量を意味する。
　３官能以下のアルコキシシランが２種以上である場合には、「３官能以下のアルコキシシランの量」は、２種以上の３官能以下のアルコキシシランの合計量を意味する。
　本明細書において、４官能のアルコキシシランとは、一分子中において、ケイ素原子に直接結合するアルコキシ基の数が４個であるアルコキシシランを意味する。
　本明細書において、３官能以下のアルコキシシランとは、一分子中において、ケイ素原子に直接結合するアルコキシ基の数が１個以上３個以下であるアルコキシシランを意味する。
－４官能のアルコキシシラン－
　４官能のアルコキシシランとしては特に制限はないが、下記一般式（ａ）で表されるアルコキシシランが好ましい。
　一般式（ａ）　：　Ｓｉ（ＯＲＳ１）４
　一般式（ａ）において、４つのＲＳ１は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基を表す。
　４つのＲＳ１は、それぞれ独立に、炭素数１～４（より好ましくは１～３、特に好ましくは１又は２）のアルキル基が好ましい。
　４官能アルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシラン、メトキシトリエトキシシラン、エトキシトリメトキシシラン、メトキシトリプロポキシシラン、エトキシトリプロポキシシラン、プロポキシトリメトキシシラン、プロポキシトリエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等が挙げられる。
　中でも、テトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランが好ましい。
－３官能以下のアルコキシシラン－
　３官能以下のアルコキシシランとしては特に制限はないが、下記一般式（ｂ）で表されるアルコキシシランが好ましい。
　一般式（ｂ）　：　ＲＳ３ ４－ｎＳｉ（ＯＲＳ２）ｎ
　一般式（ｂ）において、ｎは、１～３の整数を表す。
　ＲＳ２は、炭素数１～６のアルキル基を表す。
　ｎが２又は３である場合、複数のＲＳ２は、同一であっても異なっていてもよい。
　ＲＳ３は、炭素数１～１５の有機基を表す。
　４－ｎが２又は３である場合、複数のＲＳ３は、同一であっても異なっていてもよい。
　一般式（ｂ）中のＲＳ２の好ましい態様は、一般式（ａ）中のＲＳ１の好ましい態様と同様である。
　一般式（ｂ）中のｎは、２又は３であることが好ましく、３であることが特に好ましい。
　一般式（ｂ）中のＲＳ３は、炭素数１～１５の有機基を表す。
　ＲＳ３の炭素数が１～１５であることにより、ハードコート層の押し込み硬さが向上する。
　ＲＳ３で表される有機基は、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を有してもよい。
　ＲＳ３で表される有機基としては、置換又は無置換の炭化水素基が好ましく、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は、置換若しくは無置換のアリール基がより好ましい。
　ＲＳ３で表される有機基は、エポキシ基を含むことが好ましい。
　ＲＳ３で表される有機基は、エポキシ基を含む置換基によって置換された炭化水素基であることがより好ましく、エポキシ基を含む置換基によって置換されたアルキル基であることが更に好ましい。
　エポキシ基を含む置換基としては、エポキシ基、グリシジル基、グリシドキシ基、３，４－エポキシシクロヘキシル基等が挙げられる。
　ＲＳ３で表される有機基は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アミド基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、（メタ）アクリロイル基などを含んでいてもよい。
　ＲＳ３で表される有機基は、アミノ基を含まないことが好ましい。
　その理由は、ＲＳ３で表される有機基がアミノ基を含む場合において、４官能のアルコキシシランと３官能以下のアルコキシシランとを混合して加水分解すると、生成するシラノール同士で脱水縮合が促進され、反応液が不安定となる場合があるためである。
　３官能以下のアルコキシシランは、上述の通り、エポキシ基を含むことが好ましい。
　エポキシ基を含む３官能以下のアルコキシシランの具体例としては、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
　エポキシ基を含む３官能以下のアルコキシシランの市販品としては、ＫＢＥ－４０３（信越化学工業（株）製）等が挙げられる。
　エポキシ基を含まない３官能以下のアルコキシシランの具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリエトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等が挙げられる。
　エポキシ基を含まない３官能以下のアルコキシシランの市販品としては、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２（信越化学工業（株）製）等が挙げられる。
　ハードコート層に用いられるシロキサン樹脂は、ハードコート層自体の割れを抑制する観点から、テトラアルコキシシランと２官能又は３官能のアルコキシシランとの加水分解縮合物である、ことが好ましい。
　特に、テトラアルコキシシランと２官能又は３官能のアルコキシシランとの加水分解縮合物が、テトラアルコキシシランに由来する構成単位と２官能又は３官能のアルコキシシランに由来する構成単位との総量に対して、２官能又は３官能のアルコキシシランに由来する構成単位を５０質量％以上含む、ことが好ましい。２官能又は３官能のアルコキシシランに由来する構成単位を１００質量％含んでもよい。
　２官能又は３官能のアルコキシシランに由来する構成単位の含有量は、固体２９Ｓｉ－ＮＭＲ（Ｄｉｐｏｌａｒ　Ｄｅｃｏｕｐｌｉｎｇ法）での測定を行い、各アルコキシシランに帰属されるＳｉ原子を示すピークの積分比によって算出することができる。
　なお、上記固体２９Ｓｉ－ＮＭＲの測定サンプルには、ハードコート層を削り取り、そこから１０ｍｇを使用する。
　ハードコート層に含まれうるシロキサン樹脂の含有量は、ハードコート層の固形分量に対し、２０質量％～９０質量％が好ましく、３０質量％～８５質量％がより好ましく、３５質量％～７０質量％が特に好ましい。
（架橋アクリル樹脂）
　ハードコート層に含まれうる架橋アクリル樹脂は、架橋されたアクリル樹脂を意味し、例えば、２官能以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマー、オリゴマー等の重合性化合物を重合及び架橋してなる（メタ）アクリル樹脂（即ち、２官能以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物に由来する構造単位を含む架橋（メタ）アクリル樹脂）が挙げられる。
　架橋アクリル樹脂としては、既述のハードコート層の押し込み硬さが達成しうるものであれば特に制限はない。
　架橋アクリル樹脂として具体的には、ハードコート層の押し込み硬さを高めやすい観点、透明性を確保し易い観点等から、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＴＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＴＭＭＴ）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（ＮＰＧＤＡ）等の重合性化合物に由来する構造単位を含む架橋（メタ）アクリル樹脂が好ましい。
　中でも、特に、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）に由来する構造単位を含む架橋（メタ）アクリル樹脂が好ましい。
　ハードコート層に含まれうる架橋アクリル樹脂の含有量は、ハードコート層の固形分量に対し、５０質量％～８０質量％が好ましく、５０質量％～７５質量％がより好ましく、５５質量％～７５質量％が特に好ましい。
（その他の樹脂）
　ハードコート層に含まれうる樹脂としては、既述のハードコート層の押し込み硬さが達成しうるものであれば、既述のシロキサン樹脂及び架橋アクリル樹脂に限定されず、例えば、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、フッ素樹脂等を用いることができる。
　また、既述のシロキサン樹脂及び架橋アクリル樹脂と、上記の各種樹脂とを併用してもよい。
（無機フィラー）
　本開示におけるハードコート層は、押し込み硬さの調整のため、無機フィラーを含むことが好ましい。
　無機フィラーとしては、ハードコート層の押し込み硬さをより向上させる観点から、金属酸化物フィラー及び無機窒化物フィラーよりなる群から選択される少なくとも１種の無機フィラーが好ましい。
　金属酸化物フィラーとしては、シリカフィラー、アルミナフィラー、ジルコニアフィラー、チタニアフィラー等が挙げられ、光透過性に優れる観点、及び、押し込み硬さの制御が容易である観点から、アルミナフィラーが好ましい。
　無機窒化物フィラーとしては、窒化ホウ素フィラー等が挙げられる。
　アルミナフィラーとしては、アルミニウムの両性酸化物である酸化アルミニウム、結晶水を含むアルミナ水和物（水酸化アルミニウム）等がある。
　酸化アルミニウムは、結晶構造によりα－アルミナ、γ－アルミナ、δアルミナ、θアルミナなどがある。
　アルミナ水和物としては、結晶構造によりジブサイト、バイヤライト、ベーマイト、ダイアスポア、擬ベーマイト、非晶質状態のものがある。
　アルミナフィラーは特に限定されないが、具体的には、アルミナゾルＡＳ－２００などのアルミナゾルシリーズ（日産化学工業（株）製）、アルミゾル－１０Ｃ、アルミゾル－Ｆ１０００、アルミゾル－Ｆ３０００などのアルミゾルシリーズ（川研ファインケミカル（株）製）、ハイジライトＨ－４３などのハイジライトシリーズ、アルミナＡＳ１０などのアルミナＡＳシリーズ（昭和電工（株）製）等が挙げられる。
　アルミナフィラーがコロイド状の場合はハードコート層の形成に直接用いてもよく、アルミナフィラーが粉末状の場合は、超音波分散機等を用いて水などの溶媒に分散させることでハードコート層の形成に用いることができる。
　無機フィラーの形状としては、球状、棒状、多面体状、平板状、鱗片状等の粒子形状、数珠形状、針形状、繊維形状等が挙げられる。
　無機フィラーが粒子形状（即ち、無機粒子）である場合の数平均一次粒径は、透明性の確保の観点から、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下が特に好ましい。一方、無機粒子の数平均一次粒径は、押し込み硬さの向上の観点から、１ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましい。
　無機フィラーが、数珠形状、針形状、又は繊維形状の場合、アスペクト比は４以上であることが好ましく、９以上であることがより好ましく、１００以上が更に好ましく、５００以上が特に好ましい。アスペクト比が高い粒子（特に繊維形状の無機フィラー）を用いることにより、ハードコート層の硬度と柔軟性とを両立することができる。
　なお、アスペクト比とは、数珠形状の場合、二次粒子径（即ち、一次粒子の結合長）を一次粒子径で除算した値を意味し、針形状及び繊維形状の場合、長径を短径で除算した値を意味する。
　無機フィラーが、針形状、繊維形状の場合、短径は１０ｎｍ以下が好ましい。
　無機粒子の数平均一次粒径は、ハードコート層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって観察し、実面積１ｍｍ２に相当する範囲に含まれる粒子を１００個選び出し、各々の粒子の粒径を測定し、測定値（各々の粒子の粒径）を単純平均することによって求められた値を指す。
－紫外線吸収能を有する無機フィラー－
　無機フィラーの中には、紫外線吸収能を有するものがある。
　無機フィラーの一部又は全部として、紫外線吸収能を有する無機フィラーを含むことが好ましい。無機フィラーが紫外線吸収能を有する無機フィラーを含むことで、ハードコート層に紫外線吸収能を付与することができる。
　紫外線吸収能を有する無機フィラーとしては、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が挙げられ、中でも、酸化セリウムが好ましい。
　紫外線吸収能を有する無機フィラーとしては、平均一次粒子径としては、１ｎｍ～５０ｎｍが好ましく、２ｎｍ～２０ｎｍがより好ましい。また、紫外線吸収能を有する無機フィラーの平均二次粒子径は、５ｎｍ～１５０ｎｍが好ましく、１０ｎｍ～１００ｎｍがより好ましい。
　紫外線吸収能を有する無機フィラーとしては、例えば、ニードラール（登録商標）Ｂ－１０等の酸化セリウムゾル等が挙げられる。
　無機フィラーの含有量は、ハードコート層の固形分量に対し、５質量％～６５質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、１５質量％～５５質量％であることが特に好ましい。
（金属錯体）
　本開示におけるハードコート層は、シロキサン樹脂の硬化剤として金属錯体を含むことが好ましい。
　金属錯体としては、アルミニウム、マグネシウム、マンガン、チタン、銅、コバルト、亜鉛、ハフニウム、及びジルコニウムよりなる群から選択される少なくとも１種の金属元素を含む金属錯体が好ましい。
　金属錯体は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。
　キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ－ジケトン；アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ－ケト酸エステル；などを用いることができる。
　金属錯体の例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）等のアルミニウムキレート錯体；
　エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）等のマグネシウムキレート錯体；
　ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビス（エチルアセトアセテート）等のジルコニウムキレート錯体；
　マンガンアセチルアセトナート等のマンガンキレート錯体；
　コバルトアセチルアセトナート等のコバルトキレート錯体；
　銅アセチルアセトナート等の銅キレート錯体；
　チタンアセチルアセトナート、チタンオキシアセチルアセトナート等のチタンキレート錯体；等が挙げられる。
　これらのうち、金属錯体として好ましくは、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、又はジルコニウムテトラアセチルアセトナートである。また、保存安定性、入手容易さを考慮すると、金属錯体としては、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、又はアルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）が特に好ましい。
　上記の金属錯体の中でも、アルミニウムキレート錯体が好ましい。
　金属錯体は、市販品を用いてもよく、金属錯体の溶液の市販品としては、アルミキレートＡ（Ｗ）、アルミキレートＤ、アルミキレートＭ（川研ファインケミカル（株）製）等が挙げられる。
　金属錯体の含有量は、シロキサン樹脂の全量に対して３質量％～５０質量％が好ましく、５質量％～４０質量％がより好ましく、１０質量％～４０質量％が更に好ましい。
　金属錯体を上記下限値以上用いることにより、シラノールの脱水縮合の反応速度を適切な速度とすることができ、厚さの均一性に優れたハードコート層とすることができる。
（その他の硬化剤）
　本開示におけるハードコート層は、樹脂の種類に応じて、金属錯体以外の硬化剤を用いてもよい。
　例えば、架橋アクリル樹脂の場合、硬化剤としては、光重合開始剤、熱重合開始剤等を用いることが好ましい。
　また、ウレタン樹脂の場合、硬化剤としては、オキサゾリン系架橋剤等の架橋剤を用いることが好ましい。
－膜厚－
　ハードコート層の膜厚は、０．５μｍ～５０μｍであり、１μｍ～３０μｍが好ましく、２μｍ～１２μｍがより好ましい。
　ハードコート層の膜厚が０．５μｍ以上であると、反射防止層における空隙部の割れを抑制でき、湿熱耐性が高まる。
　ハードコート層の膜厚が５０μｍ以下であると、ハードコート層自体が割れやすくなることを抑制できる。
　ここで、ハードコート層の膜厚は、ハードコート層を、ハードコート層表面と垂直な方向に平行に切断し、切断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、その範囲での最小膜厚を計測する。１０枚のＳＥＭ画像から各々の最小膜厚を計測し、得られた１０個の計測値（膜厚）を平均することにより求められる。積層体の場合は、積層体ごと基材表面と直交する方向に切断し、上記観察を行えばよい。
－屈折率－
　ハードコート層の屈折率は、１．４０～１．７０が好ましく、１．４５～１．６０がより好ましい。
　ハードコート層の屈折率は、基材の屈折率に対して差異が０．２以内であることが好ましく、基材の屈折率に対して差異が０．１以内であることがより好ましい。
〔反射防止層〕
　本開示における反射防止層は、シロキサン樹脂中に空隙を含み、空隙率が３０％～７５％である。反射防止層における空隙の径は、２５ｎｍ～８０ｎｍであることが好ましい。
　シロキサン樹脂中に含まれる空隙は、閉鎖空隙であることが好ましい。
－空隙率－
　反射防止層における空隙率は、３０％～７５％であり、３５％～６５％がより好ましい。
　空隙率が３０％以上であることで優れた光透過性が得られ、空隙率が７５％以下であることで湿熱耐性を向上させることができる。
－空隙の径（空隙径）－
　反射防止層における空隙の径（以下、「空隙径」ともいう）は、反射防止層の、強度、光透過性、及びヘーズの観点から、２５ｎｍ以上であることが好ましく、３０ｎｍ以上であることがより好ましい。空隙径の上限は、反射防止層の湿熱耐性を高める観点から、８０ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましい。空隙径が８０ｎｍ以下であることで、湿熱により硬化収縮が進む際に、空隙部の歪みに起因する割れが生じることを抑制できる。
　また、反射防止層における空隙径の変動係数は、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、１００％以下であることが好ましく、９０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが特に好ましい。
　反射防止層の空隙径、空隙率、及び空隙径の変動係数の測定方法は、以下の通りである。
　反射防止層が設けられた積層体を基材表面と直交する方向に切断し、切断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより、空隙径、空隙径の変動係数、空隙率を測定する。
　切断面のＳＥＭ画像（倍率５００００倍）において、任意に選択した２００個の空隙に対して、それぞれ円相当径を算出し、その平均値を空隙径とする。
　また、空隙率は、切断面のＳＥＭ画像（倍率５００００倍）について、画像処理ソフト（ＩｍａｇｅＪ）を用いて、空隙部分とマトリックス部分（即ち、シロキサン樹脂を含む空隙以外の部分）とを画像処理（二値化）を行い分離し、空隙部分の割合を算出して空隙率とする。
　なお、空隙の径に異方性がない場合、空隙率はシロキサン樹脂中における空隙の体積分率として求められる。
　また、反射防止層の空隙径の変動係数は、上記測定において測定した空隙径の分布における標準偏差を、空隙径で除算することにより算出する。
　本開示における反射防止層の膜厚は、光透過性及びヘーズの観点から、８０ｎｍ～２００ｎｍであり、１００ｎｍ～１５０ｎｍであることが好ましい。
　また、反射防止層の膜厚は、既述のハードコート層の膜厚の測定方法と同様の方法により測定することができる。
－屈折率－
　反射防止層の屈折率は、１．１５～１．４０が好ましく、１．１８～１．３８がより好ましく、１．２０～１．３５が更に好ましい。
（反射防止層の形成）
　上述の空隙を有する反射防止層は、その形成方法に制限はないが、中空粒子又はコアシェル粒子を用いて、シロキサン樹脂を含んで構成されるマトリックス中に空隙を形成する方法を用いることが好ましい。中空粒子を含む組成物を塗布して反射防止層を形成する方法としては、例えば、特開２００９－１０３８０８号公報の〔００２６〕～〔００４０〕に記載の方法、又は、特開２００８－２６２１８７号公報の〔０１２９〕～〔０１５８〕に記載の方法を適用できる。コアシェル粒子を含む組成物を塗布して反射防止層を形成する方法としては、例えば、特表２０１７－５００３８４号公報の〔００１８〕～〔００８７〕に記載の多孔質層を形成する方法、又は、特開２０１６－１１９９号公報の〔００１８〕～〔００６９〕に記載のシリカ系多孔質膜を形成する方法を適用できる。後述する有機溶剤をコア材として含んだ反射防止層形成用塗布液を用いる方法を適用してもよい。特に、空隙の径及び空隙率の調整が容易である観点から、コアシェル粒子を用いて反射防止層を形成する方法が好ましい。
　以下に、コアシェル粒子を用いた反射防止層の形成方法について好ましい一態様を説明するが、本開示における反射防止層は、この形成方法にて形成されたものに限定されない。
　コアシェル粒子を用いた反射防止層の形成方法には、コアシェル粒子及びシロキサン化合物を含む塗布液（以下、「反射防止層形成用塗布液」ともいう）が用いられる。
－コアシェル粒子－
　反射防止層形成用塗布液は、例えば、コアシェル粒子を含む。
　コアシェル粒子としては、空隙の形成し易さの観点から、有機溶剤をコア材として含むことが好ましく、特に、有機溶剤の２０質量％以上が、沸点９０℃以上３５０℃以下の非極性溶剤であることが好ましい。
　なお、本開示における「沸点」は、１気圧（１０１，３２５Ｐａ）における沸点である。また、本開示における「非極性溶剤」とは、水への溶解度が２０℃において０．１質量％以下であり、比誘電率の値が１０以下である溶剤をいう。
　沸点９０℃以上３５０℃以下の非極性溶剤としては、炭化水素化合物、フッ化炭化水素化合物、シリコーン化合物等が挙げられるが、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、炭化水素化合物であることが好ましい。
　上記炭化水素化合物としては、脂肪族炭化水素化合物であっても、芳香族炭化水素化合物であってもよいが、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、脂肪族炭化水素化合物であることが好ましく、アルカンであることがより好ましい。
　上記炭化水素化合物は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していても、不飽和結合を有していてもよいが、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、直鎖状の炭化水素化合物、又は、分岐を有する炭化水素化合物であることが好ましく、直鎖状の炭化水素化合物であることがより好ましい。
　また、上記炭化水素化合物は、不飽和結合を有さない化合物であることが好ましい。
　更に、上記炭化水素化合物は、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、炭素原子及び水素原子のみからなる化合物であることが好ましい。
　上記炭化水素化合物の炭素数は、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、７以上であることが好ましく、８以上２０以下であることがより好ましく、１０以上１９以下であることが更に好ましく、１２以上１７以下であることが特に好ましい。
　上記非極性溶剤の沸点としては、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、１００℃以上３４０℃以下であることが好ましく、１２０℃以上３２０℃以下であることがより好ましく、２００℃以上３１０℃以下であることが特に好ましい。
　沸点９０℃以上３５０℃以下の非極性溶剤として、具体的には例えば、ｎ－ヘプタン（沸点：９８℃）、ｎ－オクタン（沸点：１２５℃）、ｎ－デカン（沸点：１７４℃）、ｎ－ドデカン（沸点：２１６℃）、ｎ－テトラデカン（沸点：２５４℃）、ｎ－ヘキサデカン（沸点：２８７℃）、ｎ－ヘプタデカン（沸点：３０２℃）、ｎ－オクタデカン（沸点：３１７℃）、ｎ－イコサン（沸点：３４３℃）、シクロオクタン（沸点：１４９℃）、トルエン（沸点：１１１℃）、ｐ－キシレン（沸点：１３８℃）、ｍ－キシレン（沸点：１３９℃）、ｏ－キシレン（沸点：１４４℃）等が好ましく挙げられる。
　上記有機溶剤は、１種類のみで用いてもよいし、２種以上の有機溶剤の混合溶剤であってもよい。
　また、沸点９０℃以上３５０℃以下の非極性溶剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　コアシェル粒子のコア材として含まれる上記有機溶剤における沸点９０℃以上３５０℃以下の非極性溶剤の含有量は、上記有機溶剤の全質量に対し、２０質量％以上であればよいが、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが更に好ましく、９９質量％以上１００質量％以下であることが特に好ましい。
　コアシェル粒子のシェルの材質は、特に制限はないが、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、ポリシロキサン化合物を含むことが好ましい。同様の理由から、コアシェル粒子のシェルの材質は、後述する式１で表されるシロキサン化合物の加水分解縮合物を含むことがより好ましく、後述する式１で表されるシロキサン化合物の加水分解縮合物を、シェルの全質量に対し、５０質量％以上含むことが更に好ましく、後述する式１で表されるシロキサン化合物の加水分解縮合物からなることが特に好ましい。
　また、コアシェル粒子の表面は、疎水性であっても、親水性であってもよいが、保存安定性、及び、反射防止層のヘーズの観点から、親水性であることが好ましい。
　コアシェル粒子の体積平均粒子径は、反射防止層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、０．０４μｍ～１．５μｍであることが好ましく、０．０５μｍ～１．０μｍであることがより好ましく、０．０６μｍ～０．９μｍであることが更に好ましく、０．０７μｍ～０．６μｍであることが特に好ましい。
　また、コアシェル粒子の粒子径の変動係数は、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、１００％以下であることが好ましく、９０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましく、０％以上５０％以下であることが特に好ましい。
　本開示における粒子の体積平均粒子径は、レーザー回折・散乱式粒子径分布測定装置（型番：マイクロトラックＭＴ３３００ＥＸII、マイクロトラックベル（株）製）を用いて測定するものとする。なお、本開示において平均粒子径は、メジアン径を意味する。
　また、本開示におけるコアシェル粒子の粒子径の変動係数は、上記測定において測定した粒子径の体積分布における標準偏差を、メジアン径で除算することにより算出する。
　コアシェル粒子におけるコアとシェルとの質量比は、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、コア：シェル＝１：９９～９９：１であることが好ましく、５：９５～９５：５であることがより好ましく、１０：９０～９０：１０であることが特に好ましい。
　コアシェル粒子におけるコアの大きさ（即ち、最大径）は、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、４０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ～１，０００ｎｍであることがより好ましく、６０ｎｍ～６００ｎｍであることが特に好ましい。
　コアシェル粒子におけるコアの大きさ（即ち、最大径）は、既述の反射防止層の空隙の径の測定方法と同様の方法により測定することができる。
　コアシェル粒子は、１種単独で使用しても、２種以上を使用してもよい。
　コアシェル粒子の含有量は、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、反射防止層形成用塗布液の全質量に対し、０．０５質量％～４０質量％であることが好ましく、０．１質量％～２０質量％であることがより好ましく、０．５質量％～１０質量％であることが特に好ましい。
－シロキサン化合物－
　反射防止層形成用塗布液は、シロキサン化合物を含むことが好ましい。
　特に、シロキサン化合物としては、下記式１で表されるシロキサン化合物、下記式１で表されるシロキサン化合物の加水分解物、及び、下記式１で表されるシロキサン化合物の加水分解縮合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物（以下、特定シロキサン化合物ともいう）が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式１中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、炭素数１～６の１価の有機基を表し、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、アルキル基、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、（メタ）アクリル基、アミノ基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシ基及び第四級アンモニウム基よりなる群から選ばれる基を有する有機基を表し、ｍはそれぞれ独立に、０～２の整数を表し、ｎは１～２０の整数を表す。
　式１で表されるシロキサン化合物の加水分解物とは、式１で表されるシロキサン化合物におけるケイ素原子上の置換基の少なくとも一部が加水分解し、シラノール基となっている化合物をいう。また、式１で表されるシロキサン化合物の加水分解縮合物とは、式１で表されるシロキサン化合物、及び、式１で表されるシロキサン化合物の加水分解物よりなる群から選ばれる２以上の化合物が縮合した化合物をいう。
　式１におけるＲ１及びＲ２における炭素数１～６の有機基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。炭素数１～６の有機基としては、アルキル基、アルケニル基等が挙げられ、アルキル基であることが好ましい。
　炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
　式１におけるＲ１及びＲ２はそれぞれ独立に、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、炭素数１～６のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
　式１におけるＲ３はそれぞれ独立に、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、炭素数１～６のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
　式１におけるＲ４はそれぞれ独立に、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、アルキル基、ビニル基、又は、ビニル基、エポキシ基、スチリル基（ビニルフェニル基）、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、アミノ基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシ基及び第四級アンモニウム基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基を有するアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、炭素数１～８のアルキル基であることが特に好ましい。
　式１におけるｍは、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、１又は２であることが好ましく、２であることがより好ましい。
　式１におけるｎは、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、２～２０の整数であることが好ましい。
　特定シロキサン化合物の例としては、信越化学工業（株）製のＫＢＥ－０４、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３Ｐ、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＥ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＲ－５００、ＫＲ－５１５、ＫＲ－５１６、ＫＲ－５１７、ＫＲ－５１８、Ｘ－１２－１１３５、Ｘ－１２－１１２６、Ｘ－１２－１１３１；エボニックジャパン（株）製のＤｙｎａｓｙｌａｎ４１５０；三菱ケミカル（株）製のＭＫＣシリケートＭＳ５１、ＭＳ５６、ＭＳ５７、ＭＳ５６Ｓ；コルコート（株）製のエチルシリケート２８、Ｎ－プロピルシリケート、Ｎ－ブチルシリケート、ＳＳ－１０１；等が挙げられる。
　反射防止層形成用塗布液は、特定シロキサン化合物を１種のみ含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
　特定シロキサン化合物の含有量は、反射防止層の、強度、光透過性及びヘーズの観点から、反射防止層形成用塗布液の全固形分に対し、３０質量％～９９質量％であることが好ましく、５０質量％～９９質量％であることがより好ましく、７０質量％～９５質量％であることが特に好ましい。
　なお、本開示における反射防止層形成用塗布液の「固形分」とは、水及び後述する親水性有機溶剤を除いた成分を意味する。
－界面活性剤－
　反射防止層形成用塗布液は、界面活性剤を含むことが好ましい。
　界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、イオン性界面活性剤であるアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられ、いずれも本開示に好適に用いることができる。
　中でも、上述の特定シロキサン化合物と相互作用的な引力によりコアシェル粒子が効率的に形成される観点、反射防止層形成用塗布液の保存安定性、並びに、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、ノニオン界面活性剤、及び、カチオン界面活性剤よりなる群から選ばれた少なくとも１種の界面活性剤が好ましく、カチオン界面活性剤がより好ましい。
　界面活性剤の分子量は、反射防止層形成用塗布液の保存安定性、並びに、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、１０，０００以下であることが好ましく、５，０００以下であることがより好ましく、１，０００以下であることが更に好ましく、３００以上８００以下であることが特に好ましい。
　カチオン界面活性剤としては、第四級アンモニウム塩型、ピリジニウム塩型、アミン塩型、ポリアミン型界面活性剤等が挙げられる。カチオン界面活性剤として具体的には、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩、ベンザルコニウム塩、アルキルアミン塩等が挙げられる。カチオン界面活性剤としてより具体的には、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルピリジニウムクロリド、ベンザルコニウムクロリド、モノメチルアミン塩酸塩、ポリエチレンイミン等が挙げられる。
　有機溶剤（好ましくは非極性溶剤）のエマルジョン粒子安定性の観点から、カチオン界面活性剤としては、第四級アンモニウム塩型、ピリジニウム塩型、ポリアミン型界面活性剤が好ましく、第四級アンモニウム塩型、ピリジニウム塩型界面活性剤がより好ましい。
　ノニオン界面活性剤の例としては、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル、ポリアルキレングリコールモノアルキルエステル、ポリアルキレングリコールモノアルキルエステル・モノアルキルエーテル等が挙げられる。より具体的には、ポリエチレングリコールモノラウリルエーテル、ポリエチレングリコールモノステアリルエーテル、ポリエチレングリコールモノセチルエーテル、ポリエチレングリコールモノラウリルエステル、ポリエチレングリコールモノステアリルエステル等が挙げられる。
　その他のイオン性界面活性剤の例としては、アルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等のアニオン界面活性剤；アルキルカルボキシベタイン等の両性界面活性剤を挙げることができる。
　反射防止層形成用塗布液は、界面活性剤を１種のみ含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
　反射防止層形成用塗布液は、下層への濡れ性、塗布性を高める観点からは、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、アセチレン系界面活性剤等を含んでいてもよい。
　フッ素系界面活性剤としては、メガファック（登録商標）Ｆ－４４４などのＤＩＣ（株）製メガファック（登録商標）シリーズ、サーフロン（登録商標）Ｓ－２２１などのＡＧＣセイミケミカル（株）製サーフロン（登録商標）シリーズ、フタージェント１００などの（株）ネオス製フタージェントシリーズなどが挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、ＫＰ－１２４などの信越化学工業（株）製レベリング材ＫＰシリーズなどが挙げられる。アセチレン系界面活性剤としては、サーフィノール４２０、オルフィンＥ１００４などの日信化学工業（株）製サーフィノールシリーズ、オルフィンシリーズなどが挙げられる。
　反射防止層形成用塗布液における界面活性剤の含有量は、保存安定性、並びに、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、反射防止層形成用塗布液の全質量に対し、０．００５質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～５質量％であることがより好ましく、０．０１質量％～１質量％であることが特に好ましい。
　また、界面活性剤の含有量は、コアシェル粒子におけるコア材である有機溶剤の全質量に対し、保存安定性、並びに、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、０．５質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上３５質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上２５質量％以下であることが特に好ましい。
－水及び有機溶剤－
　反射防止層形成用塗布液は、水を含むことが好ましい。
　反射防止層形成用塗布液は、水との親和性に優れる親水性有機溶剤等を更に含んでいてもよい。
　反射防止層形成用塗布液中の水の含有量は、水及び親水性有機溶剤の総含有量（上記コアシェル粒子におけるコア材の有機溶剤は含まない。）に対し、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上１００質量％以下であることが特に好ましい。
　反射防止層形成用塗布液が含むことができる親水性有機溶剤としては、例えば、アルコール化合物、グリコール化合物、エーテル化合物、ケトン化合物などの親水性化合物等が挙げられる。
　本開示に使用しうる親水性有機溶剤には特に制限はないが、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、アセトン、エチレングリコール、エチルセロソルブ等が挙げられる。入手容易性、環境負荷の低減の観点から、親水性有機溶剤としては、アルコール化合物が好ましく、エタノール、及び、イソプロパノールよりなる群から選ばれた少なくとも１種のアルコールがより好ましい。
　反射防止層形成用塗布液の全質量に対する固形分の含有量は、反射防止層の光透過性及びヘーズの観点から、０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．２質量％～４０質量％であることがより好ましく、０．５質量％～３０質量％であることが特に好ましい。
　また、反射防止層形成用塗布液における水の含有量は、反射防止層形成用塗布液の全質量に対し、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％～９９．９質量％であることがより好ましく、５０質量％～９９．８質量％であることが更に好ましく、７０質量％～９９．５質量％であることが特に好ましい。
－その他の成分－
　反射防止層形成用塗布液は、既述の成分に加え、目的に応じて他の成分を含有することができる。
　他の成分としては、公知の添加剤を用いることができ、例えば、帯電防止剤、シロキサン化合物の縮合触媒、防腐剤等が挙げられる。
・帯電防止剤
　反射防止層形成用塗布液は、帯電防止剤を含有してもよい。
　帯電防止剤は、反射防止層に帯電防止性を付与することで、汚染物質の付着を抑制する目的で用いられる。
　帯電防止性を付与するための帯電防止剤としては、特に制限はない。
　本開示に用いられる帯電防止剤としては、金属酸化物粒子、金属ナノ粒子、導電性高分子、及び、イオン液体よりなる群から選ばれる少なくとも１種を好ましく用いることができる。帯電防止剤は２種以上を併用してもよい。
　金属酸化物粒子は帯電防止性を与えるために比較的多量の添加が必要であるが、無機粒子であるために、金属酸化物粒子を含有することで、反射防止層の防汚性をより高めることができる。
　金属酸化物粒子には、特に制限はないが、酸化スズ粒子、アンチモンドープ酸化スズ粒子、スズドープ酸化インジウム粒子、酸化亜鉛粒子、シリカ粒子等が挙げられる。
　金属酸化物粒子は屈折率が大きく、粒子径が大きいと透過光の散乱による光透過性の低下が懸念されるため、金属酸化物粒子の平均一次粒子径は１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２ｎｍ以上であることが好ましい。
　また、粒子の形状は特に限定されず、球状であっても、板状であっても、針状であってもよい。
　金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。写真の画像より、粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒子径（平均一次粒子径）とする。本明細書における平均一次粒子径は、３００個以上の粒子について投影面積を測定して、円相当径を求めて算出した値を用いている。
　なお、金属酸化物粒子の形状が球状ではない場合にはその他の方法、例えば動的光散乱法を用いて求めてもよい。
　帯電防止剤は、反射防止層形成用塗布液に１種のみ含有してもよく、２種以上含有してもよい。金属酸化物粒子を２種以上含有する場合、平均一次粒子径、形状、素材が互いに異なるものを２種以上使用してもよい。
　反射防止層形成用塗布液においては、帯電防止剤の含有量は反射防止層形成用塗布液の全固形分に対し、４０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることが特に好ましい。
　帯電防止剤の含有量を上記範囲とすることにより、反射防止層形成用塗布液の製膜性を低下させることなく、反射防止層に効果的に帯電防止性を付与することができる。
　また、帯電防止剤として金属酸化物粒子を用いる場合の含有量は、反射防止層形成用塗布液の全質量に対し、３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが特に好ましい。
　金属酸化物粒子の含有量を上記範囲とすることで、反射防止層形成用塗布液における金属酸化物粒子の分散性が良好となり、凝集の発生が抑制され、必要な帯電防止性を反射防止層に付与することができる。
・縮合触媒
　反射防止層形成用塗布液は、シロキサン化合物の縮合を促進する縮合触媒を含有することが好ましい。
　反射防止層形成用塗布液が縮合触媒を含有することにより、より耐久性に優れた反射防止層を形成することができる。本開示においては、反射防止層形成用塗布液を塗布後に乾燥させて反射防止層中の水分を減少させることに伴い、式１で表されるシロキサン化合物の加水分解物が有するヒドロキシ基の少なくとも一部が互いに縮合して、縮合物を形成することで、安定な膜が形成される。反射防止層の形成時に、式１で表されるシロキサン化合物及びその加水分解物、並びに、それらの加水分解縮合物の縮合を促進する触媒を反射防止層形成用塗布液が含有することで、反射防止層の形成をより速やかに進めることができる。
　本開示に用いることができる縮合触媒は、特に限定されないが、酸触媒、アルカリ触媒、有機金属触媒等が挙げられる。
　酸触媒の例としては、リン酸、硝酸、塩酸、硫酸、酢酸、クロロ酢酸、蟻酸、シュウ酸、ｐ－トルエンスルホン酸等が挙げられる。
　アルカリ触媒の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられる。
　有機金属触媒の例としては、アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノ（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート等のアルミキレート化合物、ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のジルコニウムキレート化合物、チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）等のチタンキレート化合物及びジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジオクチエート等の有機スズ化合物等が挙げられる。
　縮合触媒の種類は特に限定されないが、有機金属触媒が好ましく、中でも、アルミキレート化合物、又は、ジルコニウムキレート化合物がより好ましい。
　縮合触媒の含有量は、反射防止層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、反射防止層形成用塗布液の全固形分に対し、０．００１質量％～２０質量％であることが好ましく、０．００５質量％～１５質量％であることがより好ましく、０．０１質量％～１０質量％であることが特に好ましい。
　なお、シロキサン化合物の縮合を促進する縮合触媒は、上記式１で表されるシロキサン化合物の加水分解反応の促進に対しても有用である。
　式１で表されるシロキサン化合物のケイ素に結合したアルコキシ基の加水分解反応と縮合反応は平衡の関係にあり、反射防止層形成用塗布液中に含まれる水の含有量が多いと加水分解の方向に、水の含有量が少ないと縮合の方向に進む。アルコキシ基の縮合反応を促進する縮合触媒は、上記反応の両方向への促進効果を有するため、反射防止層形成用塗布液における水の含有量が多い状態では加水分解反応を促進することができる。縮合触媒の存在により、式１で表されるシロキサン化合物の加水分解をより穏やかな条件で行うことが可能となる。
　反射防止層形成用塗布液は、塗布後、既述のように、溶剤である水等が減少することで特定シロキサン化合物が縮合して硬化し、反射防止層が形成される。また、乾燥時にコアシェル粒子のコア材である有機溶剤の少なくとも一部が揮発し、空隙を形成する。したがって、反射防止層の形成に、重合反応、架橋反応等に必要とされる、光照射及び高温熱処理を必要としない。また、反射防止層形成用塗布液は、重合反応、架橋反応等に必要とされる光重合開始剤、熱重合開始剤等を含有することは必要としない。
　このため、貯蔵安定性に影響を与える光重合開始剤、熱重合開始剤等を含有しない反射防止層形成用塗布液は、保存安定性が良好である。
　反射防止層形成用塗布液によれば、簡便な方法で、光透過性に優れる反射防止層を形成することができる。
－反射防止層形成用塗布液の調製－
　反射防止層形成用塗布液の調製方法は、特に制限はなく、例えば、以下の２つの方法等が挙げられる。１つ目の方法は、有機溶剤、界面活性剤、及び、水を混合して、（即ちコア材）を水中に分散し、そこへ特定シロキサン化合物を添加して一部加水分解縮合して分散した有機溶剤の表面にシェル層を形成してコアシェル粒子を作製し、必要に応じて、その他の成分を添加して、反射防止層形成用塗布液を調製する方法である。２つ目の方法は、有機溶剤をコア材として含むコアシェル粒子、特定シロキサン化合物、界面活性剤、及び、水を混合して、必要に応じて、その他の成分を添加して、反射防止層形成用塗布液を調製する方法である。
　中でも、上記の１つ目の方法が好ましい。また、上記の１つ目の方法の場合、特定シロキサン化合物は、有機溶剤、界面活性剤、及び、水とともに添加してもよいし、有機溶剤を水中に分散した後、添加してもよい。
　コアシェル粒子は、水中でコア材となる有機溶剤を分散してエマルジョン化し、分散した有機溶剤の表面にシェル層を形成して作製されることが好ましい。シェル層を形成する前にコア材となる有機溶剤をエマルジョン化することにより、シェル層を形成する材料とコア材との間で相互作用的な引力が生じ、効率的にコアシェル化が進む。
　コア材をエマルジョン化する方法としては、ローター（回転刃）又はステーター（固定刃）を用いる方法、超音波キャビテーションを利用する方法、ボール又はビーズのような粉砕媒体を用いる方法、原料同士を高速衝突させる方法、分散溶媒を多孔質膜を介して溶媒に通過させる方法の、コア材に対しせん断力を与える方法が挙げられる。
　コア材をエマルジョン化する方法に用いられる装置としては、プライミクス（株）製のオートミクサー２０型、日本エマソン（株）製の超音波ホモジナイザーＳｏｎｉｆｉｅｒ（登録商標）ＳＦＸ２５０、アシザワ・ファインテック（株）製のＯＭＥＧＡ　ＬＡＢ、（株）スギノマシン製のスターバースト１０、ＳＰＧテクノ（株）製のＫＨ－１２５等がある。
　反射防止層形成用塗布液は、式１で表されるシロキサン化合物と少なくとも水とを接触させて得られる、式１で表されるシロキサン化合物の加水分解物溶液を用いてもよい。なお、加水分解物溶液には、式１で表されるシロキサン化合物の縮合を促進する縮合触媒が含まれていてもよい。
　反射防止層形成用塗布液は、上記加水分解物溶液に、界面活性剤及び有機溶剤を添加して得られてもよい。
　また、反射防止層形成用塗布液は、有機溶剤、界面活性剤、及び水を混合した後に、有機溶剤を水中に分散した液と、上記加水分解物溶液と、を混合してもよい。
　更に、反射防止層形成用塗布液は、有機溶剤、界面活性剤、及び水を混合した後に、有機溶剤を水中に分散した液と、式１で表されるシロキサン化合物とを混合して、加水分解とシェル形成を同時に行ってもよい。
－反射防止層の形成－
　以上説明した反射防止層形成用塗布液は、反射防止層の下層上に塗布し、乾燥させることで、反射防止層が形成される。
　反射防止層形成用塗布液を塗布する方法としては、特に限定されず、例えば、スプレー塗布、刷毛塗布、ローラー塗布、バー塗布、ディップ塗布等の公知の塗布法をいずれも適用することができる。
　また、反射防止層形成用塗布液を塗布する前に、反射防止層形成用塗布液が塗布される下層に対し、コロナ放電処理、グロー処理、大気圧プラズマ処理、火炎処理、紫外線照射処理等の表面処理を施してもよい。
　反射防止層形成用塗布液の乾燥は、室温（２５℃）で行ってもよく、加熱して行ってもよい。反射防止層形成用塗布液に含まれる有機溶剤を十分揮発させ、空隙を形成し、また、反射防止層の光透過性及び着色抑制の観点から、反射防止層形成用塗布液の乾燥は、４０℃～７００℃に加熱して行うことが好ましい。
　なお、基材として樹脂基材を用いる場合、基材の分解温度以下の温度で加熱する必要があり、具体的には、４０℃～２００℃に加熱して行うことが好ましい。また、基材の熱変形を抑制する観点では、反射防止層形成用塗布液の乾燥は、４０℃～１２０℃に加熱して行うことがより好ましい。
　また、加熱を行う場合には、加熱時間は、特に制限はないが、１分～３０分であることが好ましい。
　以上、コアシェル粒子を含む反射防止層形成用塗布液、及び、この反射防止層形成用塗布液による反射防止層の形成について説明したが、コアシェル粒子の代わりに中空粒子を含む反射防止層形成用塗布液を用いて、反射防止層を形成してもよい。
　ここで、中空粒子としては、マトリックスを構成するシロキサン樹脂との親和性の観点から、シリカを主成分とする中空シリカ粒子を用いることが好ましい。
　中空シリカ粒子としては、特開２０１３－２３７５９３号公報、国際公開第２００７／０６０８８４号などに記載される中空粒子などが挙げられる。
　また、中空シリカ粒子としては、表面が未修飾の中空シリカ粒子であってもよいし、表面が変性されている中空シリカ粒子であってもよい。
　また、中空粒子は、反射防止層形成用塗布液中で、分散安定化を図るために、又はシロキサン樹脂との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理、コロナ放電処理等の物理的表面処理、及び、界面活性剤、カップリング剤等による化学的表面処理の少なくとも一方がなされていてもよい。
〔その他の層〕
　本開示に係る積層体は、他の層を更に有していてもよい。
　他の層としては、公知の種々の層を有することができる。具体的には、例えば、接着層、紫外線吸収層、下塗り層、中間層等が挙げられる。
　また、本開示に係る積層体を後述する太陽電池モジュールに用いる場合、本開示に係る積層体は、接着層を有することが好ましい。
（接着層）
　本開示に係る積層体は、基材とハードコート層との間に、接着層を備えていてもよい。
　接着層を備えることにより、基材とハードコート層との密着性が向上し、耐久性に優れた積層体が得られる。
　接着層としては、公知の粘着剤又は公知の接着剤を含む層、又は、これらの硬化物を含む層が挙げられる。
　接着層は、樹脂及び架橋剤を含む接着層形成用塗布液を塗布し、乾燥又は硬化した層であることが好ましい。
　樹脂としては、特に限定されないが、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、密着性の観点から、ポリオレフィン樹脂が好ましい。
　架橋剤としては、特に限定されず、オキサゾリン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、ブロックイソシアネート系架橋剤等が挙げられ、オキサゾリン系架橋剤が好ましい。
　接着層形成用塗布液は、界面活性剤、溶媒等の公知の成分を更に含んでいてもよい。
　接着層の厚さは、特に制限はないが、ハードコート層が割れにくくなる観点から、０．０５μｍ～３μｍであることが好ましく、０．１μｍ～１．５μｍであることがより好ましい。
　接着層は、例えば、基材又はハードコート層に接着層形成用塗布液を塗布し、乾燥させることにより形成される。
（紫外線吸収層）
　本開示に係る積層体は、基材とハードコート層との間に紫外線吸収層を有していてもよい。
　紫外線吸収層は、紫外線吸収剤を含む層であることが好ましく、紫外線吸収剤及びゾルゲル硬化物を含む層、又は、紫外線吸収剤及びバインダーポリマーを含む層であることが好ましい。
　紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤を特に制限なく使用することができ、有機化合物であってもよいし、無機化合物であってもよい。
　紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、サリチル酸化合物、金属酸化物粒子などが挙げられる。また、紫外線吸収剤としては、紫外線吸収構造を含むポリマーであってもよく、紫外線吸収構造を含むポリマーとしては、トリアジン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、サリチル酸化合物等の構造の少なくとも一部を含むアクリル酸エステル化合物に由来する単量体単位を含むアクリル樹脂等が挙げられる。
　金属酸化物粒子としては、ハードコート層中に含まれる紫外線吸収能を有する無機フィラーと同様のものが挙げられる。
　ゾルゲル硬化物としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＡｌよりなる群から選ばれた少なくとも１種の元素のアルコキシド化合物を加水分解及び重縮合させた硬化物が挙げられる。
　バインダーポリマーとしては、ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル、及びポリウレタン等が挙げられる。
　紫外線吸収層は、上記紫外線吸収層に含まれる各成分と、必要に応じて溶媒とを含む紫外線吸収層形成用塗布液を、基材上に塗布し、必要に応じて乾燥することにより形成される。
（中間層）
　本開示に係る積層体は、ハードコート層と反射防止層との間に中間層を設けてもよい。
　中間層としては、反射防止層とは屈折率の異なる層であることが好ましく、中間層を設けることで積層体の反射防止能を更に高めたり、色味の調整を行うことができる。
　中間層の屈折率としては、例えば、１．５０～２．７０が好ましく、１．５５～２．００がより好ましい。
　ハードコート層と反射防止層との間に中間層が設けられる場合、中間層の厚さは、湿熱耐性の向上の観点からは、ハードコート層と反射防止層との距離は近い方が好ましことから、２０ｎｍ～１８０ｎｍであることが好ましく、３０ｎｍ～１５０ｎｍであることがより好ましい。
（裏面層）
　本開示に係る積層体は、基材のハードコート層及び反射防止層が設けられた側とは反対側に、裏面層を備えていてもよい。
　裏面層は、例えば、太陽電池モジュールにおける封止材（例えば、エチレン－酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）を含む封止材）との密着用の層として機能する。
　裏面層は、バインダーポリマーを含有することが好ましい。
　裏面層は、１層のみであっても２層以上であってもよい。
　例えば、積層体は、基材のハードコート層及び反射防止層が設けられた側とは反対側に、裏面層として、第Ａ層、第Ｂ層、及び第Ｃ層をこの順に備えることができる。
　以下、積層体に必要に応じて備えられる、第Ａ層、第Ｂ層、及び第Ｃ層について説明する。
－第Ａ層－
　第Ａ層は、バインダーポリマーを含有することが好ましい。
　第Ａ層に含有され得るバインダーポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、太陽電池モジュールに適用した場合における封止材との密着性の観点から、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、更なる密着性の観点から、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂が好ましい。
　ポリオレフィン樹脂としては、例えば、アローベース（登録商標）ＳＥ－１０１３Ｎ、ＳＤ－１０１０、ＴＣ－４０１０、ＴＤ－４０１０、ＤＡ－１０１０（いずれもユニチカ（株））、ハイテックＳ３１４８、Ｓ３１２１、Ｓ８５１２（いずれも東邦化学（株））、ケミパール（登録商標）Ｓ－１２０、Ｓ－７５Ｎ、Ｖ１００、ＥＶ２１０Ｈ（いずれも三井化学（株））等が挙げられる。
　アクリル樹脂としては、ジュリマー（登録商標）ＡＳ－５６３Ａ（ダイセルファインケム（株））、ボンロンＰＳ－００１、ＰＳ－００２（いずれも三井化学（株））、ＳＩＦＣＬＥＡＲＳ－１０１、Ｆ－１０１、Ｆ１０２（いずれもＪＳＲ（株））、セラネート（登録商標）ＷＳＡ１０７０（ＤＩＣ（株））等が挙げられる。
　ポリウレタン樹脂としては、タケラック（登録商標）ＷＳ－６０２１、ＷＳ－５０００、ＷＳ－５１００、ＷＳ－４０００（いずれも三井化学（株））などが挙げられる。
　架橋剤としては、特に限定されず、オキサゾリン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、カルボジイミド系架橋材、ブロックイソシアネート系架橋剤等が挙げられ、オキサゾリン系架橋剤が好ましい。
　第Ａ層形成用塗布液は、架橋剤、界面活性剤、帯電防止剤、防腐剤、無機粒子、溶媒等の公知の成分を更に含んでいてもよい。
　第Ａ層形成用塗布液は、上記の各種樹脂の他、架橋剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、帯電防止剤、防腐剤、無機粒子、溶媒等の公知の成分を更に含んでいてもよい。
　架橋剤としては、特に限定されず、オキサゾリン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、ブロックイソシアネート系架橋剤等が挙げられ、オキサゾリン系架橋剤が好ましい。
　紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤が挙げられ、具体的には、紫外線吸収層の紫外線吸収剤と同様のものが挙げられる。
　また、第Ａ層の厚さは、０．２μｍ以上が好ましく、０．４μｍ以上がより好ましい。また、第Ａ層の厚さは、７．０μｍ以下であることが好ましい。
　第Ａ層の形成方法は、特に制限されない。
　第Ａ層の形成方法としては、例えば、溶媒及び上述した第Ａ層の成分（固形分）を含有する第Ａ層形成用塗布液を、基材の裏面上に塗布し、乾燥させる方法が挙げられる。
－第Ｂ層－
　裏面層は、上記第Ａ層上に、第Ｂ層を備えていてもよい。
　第Ｂ層は、バインダーポリマーを含有することが好ましい。
　第Ｂ層におけるバインダーポリマーとしては、封止材との密着力の観点から、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、及びポリウレタン樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種のポリマーが好ましい。
　第Ｂ層におけるバインダーポリマーは、封止材との密着力、塗膜の凝集力の観点から、ポリオレフィン樹脂、又は、アクリル樹脂が好ましい。
　第Ｂ層は、上記の各種樹脂の他、架橋剤、界面活性剤、帯電防止剤、防腐剤、無機粒子等を含有してもよい。
　第Ｂ層の形成方法は、特に制限されない。
　第Ｂ層の形成方法としては、例えば、溶媒及び上述した第Ｂ層の成分（固形分）を含有する第Ｂ層形成用塗布液を、第Ａ層上に塗布し、乾燥させる方法が挙げられる。
－第Ｃ層－
　裏面層は、上記第Ｂ層上に、第Ｃ層を備えていてもよい。
第Ｃ層は、太陽電池モジュールの封止材と直接接する層、即ち、太陽電池モジュールの封止材に対する易接着層として機能する層である。
　第Ｃ層は、バインダーポリマーを含有することが好ましい。
　第Ｃ層に含有され得るバインダーポリマーとしては、特に限定されないが、例えば太陽電池モジュールに適用した場合における封止材との密着性の観点から、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、密着性の観点から、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、及びアクリル樹脂が好ましい。
　第Ｃ層形成用塗布液は、上記の各種樹脂の他、架橋剤、界面活性剤、帯電防止剤、防腐剤、無機粒子、溶媒等の公知の成分を更に含んでいてもよい。
　架橋剤としては、特に限定されず、オキサゾリン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、カルボジイミド系架橋材、ブロックイソシアネート系架橋剤等が挙げられ、オキサゾリン系架橋剤が好ましい。
（下塗り層）
　本開示に係る積層体は、基材の少なくとも一方の面上には、下塗り層を有していてもよい。
　下塗り層は、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
　下塗り層に含有され得るバインダーポリマーは、特に限定されない。
　下塗り層に含有され得るバインダーポリマーとして、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
　下塗り層は、アクリル樹脂を含むことが好ましい。
　アクリル樹脂としては、上述した第Ａ層に含有され得るアクリル樹脂と同様のものが挙げられる。
　下塗り層に含まれるバインダーポリマー中に占めるアクリル樹脂含有比率が５０質量％以上であることがより好ましい。
　バインダーポリマーの５０質量％以上がアクリル樹脂であると、下塗り層の弾性率を０．７ＧＰａ以上に調整しやすく、本開示に係る積層体を太陽電池フロントシートとした場合の凝集破壊耐性がより向上する。
　下塗り層は、上記の各種樹脂の他、界面活性剤、酸化防止剤、防腐剤などを含んでいてもよい。
　下塗り層の厚さは、０．０１μｍ以上であることが好ましく、０．０３μｍ以上であることがより好ましく、０．０５μｍ以上であることが更に好ましい。
　また、下塗り層の厚さは、１μｍ以下であることが好ましく、０．８μｍ以下であることがより好ましく、０．７μｍ以下であることが更に好ましい。
　下塗り層は、基材上に、溶媒及び下塗り層の固形分を含む下塗り層形成用塗布液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。
　また、下塗り層は、上記下塗り層形成用塗布液を用い、インラインコート法により形成されてもよい。
　インラインコート法は、製造された基材を巻き取る前の段階で下塗り層形成用塗布液を塗布する方法である点で、製造された基材を巻き取ってから別途塗布を行うオフラインコート法と区別される。
　インラインコート法により下塗り層を形成する態様として、第１方向に延伸されたフィルムの一方の面に、下塗り層形成用塗布液を塗布し、下塗り層形成用塗布液が塗布されたフィルムを、フィルム表面に沿って第１方向と直交する第２方向に延伸することにより、下塗り層付き基材を製造する態様が好適である。
　本開示に係る積層体は、上述した層以外のその他の層を備えていてもよい。
　本開示に係る積層体は、反射防止層の割れを効果的に抑制する観点から、反射防止層とハードコート層が隣接することが好ましい。
　また、反射防止層の割れを効果的に抑制する観点から、本開示に係る積層体は、基材の一方の面に設けられた、ハードコート層及び反射防止層を含む全層の総膜厚が、０．６μｍ～５０μｍであることが好ましく、１．２μｍ～３０μｍであることがより好ましい。上記総膜厚のうち、ハードコート層及び反射防止層の膜厚の総計が、５０％～１００％であることが好ましく、８０％～１００％であることがより好ましい。
〔用途〕
　本開示に係る積層体は、優れた反射防止能を示すことから、窓ガラス等の建材の表面保護部材、ディスプレイの表面保護部材等に好適に使用することができる。
　中でも、太陽電池用保護シートとして特に好適に用いることができる。
〔太陽電池用保護シート及び太陽電池モジュール〕
　本開示に係る太陽電池用保護シートは、本開示に係る積層体を有する。
　そのため、本開示に係る太陽電池用保護シートは、光透過性が高く且つ湿熱耐性に優れる。
　太陽電池用保護シートとしては、太陽電池用フロントシート及び太陽電池用バックシートが挙げられ、特に、光透過性が高く且つ湿熱耐性に優れるため、太陽電池用フロントシートであることが好ましい。
　本開示に係る太陽電池モジュールは、本開示に係る太陽電池用保護シートを備える。太陽電池モジュールは、太陽光の光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽電池素子を、太陽光が入射する側に設けられる透明性に優れた本開示に係る太陽電池用保護シートとポリエステルフィルムに代表される太陽電池用バックシートとの間に配置して構成されることがより好ましい。
　本開示に係る積層体とポリエステルフィルムとの間は、例えば、エチレン－酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等の樹脂に代表される封止剤により封止される。
　太陽電池モジュールにおける太陽電池素子等、本開示に係る積層体及びバックシート以外の部材については、例えば、「太陽光発電システム構成材料」（杉本栄一監修、（株）工業調査会、２００８年発行）に詳細に記載されている。
　太陽電池モジュールに使用される太陽電池素子としては、特に制限はなく、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン等のシリコン系、銅－インジウム－ガリウム－セレン、銅－インジウム－セレン、カドミウム－テルル、ガリウム－砒素等のIII-V族、II-VI族化合物半導体系など、各種公知の太陽電池素子をいずれも適用することができる。
　以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。
（実施例１）
＜反射防止層形成用塗布液１の調製＞
－組成－
・ＭＳ５１（式１で表される化合物、三菱ケミカル（株）製）：　３．０部
・ヘキサデカン（ｎ－ヘキサデカン、富士フイルム和光純薬（株）製）：　０．６部
・Ｃａ－１（ヘキサデシルピリジニウムクロリド、カチオン界面活性剤、富士フイルム和光純薬（株）製）：　０．０１部
・水…　合計で１００部となる残量
　なお、ＭＳ５１は、上記式１におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３がメチル基であり、ｍが２であり、ｎが平均５である化合物である。
　反射防止層形成用塗布液１の調製は、詳細には、以下の手順で行った。
　ヘキサデカン、Ｃａ－１、及び水を混合し、超音波２０ｋＨｚを６０分印加することで、水中にヘキサデカンのエマルジョンが存在する分散液を得た。
　次いで、この分散液を、撹拌しながら３０℃に加熱し、ＭＳ５１を徐々に添加し、添加後、更に２５℃で２４時間撹拌することにより、非極性溶剤をコア材として含むコアシェル粒子、式１で表される化合物、界面活性剤、及び水を含む反射防止層形成用塗布液１を得た。
＜反射防止層形成用塗布液２の調製＞
　超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液２を得た。
＜反射防止層形成用塗布液３の調製＞
　ヘキサデカンをドデカン（ｎ－ドデカン、富士フイルム和光純薬（株）製）に代え、且つ、添加量を０．６部から０．３９部に変えて、また、ＭＳ５１の添加量を３．０部から３．８９部に変えて、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液３を得た。
＜反射防止層形成用塗布液４の調製＞
　ヘキサデカンをドデカン（ｎ－ドデカン、富士フイルム和光純薬（株）製）に代え、且つ、添加量を０．６部から０．４６部に変えて、また、ＭＳ５１の添加量を３．０部から３．６１部に変えて、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液４を得た。
＜反射防止層形成用塗布液５の調製＞
　ヘキサデカンをドデカン（ｎ－ドデカン、富士フイルム和光純薬（株）製）に代え、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液５を得た。
＜反射防止層形成用塗布液６の調製＞
　ヘキサデカンをドデカン（ｎ－ドデカン、富士フイルム和光純薬（株）製）に代え、且つ、添加量を０．６部から０．７８部に変えて、また、ＭＳ５１の添加量を３．０部から１．９４部に変えて、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液６を得た。
＜反射防止層形成用塗布液７の調製＞
　ヘキサデカンをドデカン（ｎ－ドデカン、富士フイルム和光純薬（株）製）に代え、且つ、添加量を０．６部から０．９８部に変えて、また、ＭＳ５１の添加量を３．０部から１．３９部に変えて、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液７を得た。
＜反射防止層形成用塗布液８の調製＞
　ヘキサデカンをデカン（ｎ－デカン、富士フイルム和光純薬（株）製）に代え、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液８を得た。
＜反射防止層形成用塗布液９の調製＞
　ヘキサデカンをヘキサデカン／ヘキサン（ｎ－ヘキサン、富士フイルム和光純薬（株）製）＝９２／８（質量比）に代え、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液９を得た。
＜反射防止層形成用塗布液１０の調製＞
　ヘキサデカンをヘキサデカン／ヘキサン（ｎ－ヘキサン、富士フイルム和光純薬（株）製）＝８５／１５（質量比）に代え、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液１０を得た。
＜反射防止層形成用塗布液１１の調製＞
　中空シリカ粒子として触媒化成工業（株）製、平均粒径６０ｎｍ、屈折率１．３０、固形分２０質量％のイソプロパノール（ＩＰＡ）分散液を用い、中空シリカ粒子のＩＰＡ分散液１００部に対し、フッ素系低屈折材料（ＪＳＲ（株）製、オプスターＴＵ２０８５、固形分１０．５質量％）５０部を加えた。そして、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／ｔ－ブタノール＝２５／７５（質量比）２８３質量部で希釈し、固形分３質量％の反射防止層形成用塗布液１１を得た。
＜反射防止層形成用塗布液１２の調製＞
　ヘキサデカンをドデカンに代え、且つ、添加量を０．６部から０．１３部に変えて、また、ＭＳ５１の添加量を３．０部から５．０部に変えて、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液１２を得た。
＜反射防止層形成用塗布液１３の調製＞
　ヘキサデカンをドデカンに代え、且つ、添加量を０．６部から０．２６部に変えて、また、ＭＳ５１の添加量を３．０部から４．４部に変えて、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液１３を得た。
＜反射防止層形成用塗布液１４の調製＞
　ヘキサデカンをドデカンに代え、且つ、添加量を０．６部から１．１０部に変えて、また、ＭＳ５１の添加量を３．０部から８．３部に変えて、更に、超音波の印加時間を３０分に変えた以外は、反射防止層形成用塗布液１の調製と同様にして、反射防止層形成用塗布液１４を得た。
＜ハードコート層用塗布液１の調製＞
　下記組成の各成分を混合して、ハードコート層用塗布液１を得た。
－組成－
・３官能アルコキシシラン（ＧＰＴＭＳ、ＫＢＥ－４０３（３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン）、信越化学工業（株）製）　…　５．７６部
・４官能アルコキシシラン（ＴＥＯＳ、ＫＢＥ－０４（テトラエトキシシラン）、信越化学工業（株）製）　…　２．４７部
・酢酸水溶液（（株）ダイセル製、工業用酢酸）　…　０．２部
・金属錯体溶液（ＡｌＣＨと略記、アルミキレートＤ、川研ファインケミカル（株）製、７６質量％イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液）　…　３．０部
・アルミナ繊維の水分散液（無機フィラー、４ｎｍ径×３０００ｎｍ繊維長、アルミゾル－Ｆ３０００、川研ファインケミカル（株）製、固形分５．０質量％）　…　４５．０部
・酸化セリウム（紫外線吸収能を有する無機フィラー、平均粒子径８ｎｍ、Ｂ－１０、多木化学（株）製、固形分１５．０質量％）　…　１５．０部
・界面活性剤の水希釈液（ラピゾール（登録商標）Ａ－９０、日油（株）製、固形分１質量％、アニオン系界面活性剤）　…　３．３部
・界面活性剤の水希釈液（ナロアクティー（登録商標）ＣＬ－９５、三洋化成工業（株）製、固形分１質量％、ノニオン系界面活性剤）　…　２．３部
・水…　合計で１００部となる残量
＜ハードコート層用塗布液２～２４の調製＞
　樹脂の種類及び量、無機フィラーの量（アルミナ繊維の量及び酸化セリウムの量）、並びに、硬化剤の種類及び量を、下記表１～４に記載のようにそれぞれ変えた以外は、ハードコート層用塗布液１の調製と同様にして、ハードコート層用塗布液２～２４を得た。
　なお、表１～４に記載のハードコート層の各成分の「量」は、樹脂、アルミナ繊維、酸化セリウム、及び硬化剤の４成分の全質量を１００質量％としたときの、各成分の含有割合（質量％）を示す。
＜接着層Ａ用塗布液の調製＞
　下記組成の各成分を混合して、接着層Ａ用塗布液を得た。
・ポリオレフィン樹脂水分散液（アローベース（登録商標）ＳＥ－１０１３Ｎ、ユニチカ（株）製、固形分２０質量％）　…　１０．５部
・ポリウレタンの水希釈液（タケラック（登録商標）ＷＳ４０００、三井化学（株）製、固形分２０質量％）　…１０．５部
・ノニオン系界面活性剤の水希釈液（ＥＭＡＬＥＸ（登録商標）１１０、日本エマルジョン（株）製、固形分１０質量％）　…　４．３部
・水…　合計で１００部となる残量
＜実施例１：積層体１の作製＞
　ポリプロピレン基材（ＯＰＰ、トレファンＢＯ６０－２５００、東レ（株）製、基材厚み６０μｍ）に、接着層Ａ形成用塗布液を塗布し、１１０℃にて２分間乾燥させることにより、厚さ０．３μｍの接着層Ａを形成した。
　続いて、接着層Ａ上に、ハードコート層形成用塗布液１を塗布し、１１０℃にて２分間乾燥させることにより、厚さ３．０μｍのハードコート層を形成した。
　そして、ハードコート層上に、反射防止層形成用塗布液１を塗布し、１１０℃にて２分間乾燥させることにより、平均厚さ０．１２μｍの反射防止層を形成し、積層体１を得た。
〔測定及び評価〕
　上記にて作製した積層体を用いて、以下の測定及び性能評価を行った。評価結果を表１に示す。
１．空隙径の測定
　得られた積層体を基材表面と直交する方向に切断し、切断面のＳＥＭ画像（倍率５００００倍）を取得し、任意に選択した２００個の空隙に対して、それぞれ円相当径を算出し、その平均値を空隙径とした。
２．空隙率の測定
　得られた積層体を基材表面と直交する方向に切断し、切断面のＳＥＭ画像（倍率５００００倍）について、画像処理ソフト（ＩｍａｇｅＪ）を用いて、空隙部分とマトリックス部分（即ち、シロキサン樹脂を含む空隙以外の部分）とを画像処理（二値化）を行い分離し、空隙部分の割合を算出して空隙率とした。
３．押し込み硬さの測定
　ダイナミック超微小硬度計（ＤＵＨ－２０１Ｓ、島津製作所社製）を用いて、反射防止層側からの押し込み硬さを測定した。また、積層体の作製中、ハードコート層が形成された際に、ハードコート層の押し込み硬さも同様に測定した。
　測定の条件は、以下の通りであった。
・圧子の種類：Ｖｉｃｋｅｒｓ
・試験モード：負荷－除荷試験
・試験力：４０ｍＮ
・負荷速度：１．３２３９ｍＮ／ｓｅｃ
・保持時間：５ｓｅｃ
４．透過率の測定
　紫外可視赤外分光光度計（型番：ＵＶ－３１００ＰＣ、（株）島津製作所製）を用いて、積層体の透過率を測定し、積層体の光透過性を評価する指標とした。透過率は、得られた積層体の反射防止層の表面を光源に向けて測定した。
　有効透過率の測定値が高いほど、光透過性に優れる反射防止層であることを意味する。
　透過率は、波長３００ｎｍ～１，１００ｎｍにおいて、波長１ｎｍ刻みで測定し、その透過率の平均値から算出した平均透過率と有効透過率とを用いて評価した。なお、有効透過率は、下記式Ｔに基づき、波長３００ｎｍ～１，１００ｎｍにおける積層体の透過率、太陽光の分光分布（ＡＭ１．５）、及び、結晶シリコン太陽電池セルの分光感度を用いて算出した。なお、分光感度は、結晶シリコン型基準太陽電池セルの分光放射照度を分光感度とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
　式Ｔ中、Ｅ（λ）は、波長λにおける太陽光の分光分布を表し、Ｓ（λ）は、波長λにおける結晶シリコン太陽電池セルの分光感度を表し、Ｔ（λ）は、波長λにおける積層体の透過率を表す。
５．湿熱耐性の評価
　積層体をダンプヒートテスト（装置名：ＥＭＳ－２２１ＭＤ、エスペック（株）製、温度８５℃、相対湿度８５％の環境に２０００時間放置）に供した後、３．透過率の測定と同様の方法で、有効透過率を測定した。
　ダンプヒートテスト前後での積層体の有効透過率の低下率を求め、これを湿熱耐性の評価の指標とした。
　得られた結果をもとに、下記基準で、評価を行った。ダンプヒートテストにより反射防止層にヒビ等の割れが生じると、有効透過率の低下率が大きくなる傾向となる。
－基準－
　Ａ：　有効透過率の低下率が０．２％未満である
　Ｂ：　有効透過率の低下率が０．２％以上０．５％未満である
　Ｃ：　有効透過率の低下率が０．５％以上１．０％未満である
　Ｄ：　有効透過率の低下率が１．０％以上２．０％未満である
　Ｅ：　有効透過率の低下率が２．０％以上である
６．耐砂性の評価
　積層体の反射防止層側に、２５℃において、平均粒子径１５０μｍのフラクタルサンド（砂）を分速２５ｍ／ｓ、５ｇ／ｍ２、３０時間吹き付けた後、３．透過率の測定と同様の方法で、有効透過率を測定した。本評価には、スガ試験機（株）製のＩＥＣ降塵試験用塵埃試験機を使用した。
　砂の吹き付け前後での積層体の有効透過率の低下率を求め、これを耐砂性の評価の指標とした。
　得られた結果をもとに、下記基準で、評価を行った。砂の吹き付けにより反射防止層にヒビ等の割れが生じると、有効透過率の低下率が大きくなる傾向となる。
－基準－
　Ａ：　有効透過率の低下率が１．０％未満である
　Ｂ：　有効透過率の低下率が１．０％以上２．０％未満である
　Ｃ：　有効透過率の低下率が２．０％以上４．０％未満である
　Ｄ：　有効透過率の低下率が４．０％以上８．０％未満である
　Ｅ：　有効透過率の低下率が８．０％以上である
＜実施例２～１０：積層体２～１０の作製＞
　実施例１において、反射防止層形成用塗布液１を反射防止層形成用塗布液２～１０にそれぞれ代えた以外は、実施例１と同様にして、積層体２～１０を得た。
　得られた積層体２～１０について、実施例１と同様にして、測定及び評価を行った。結果を表１に示す。
＜実施例１１～２４：積層体１１～２４の作製＞
　実施例５において、ハードコート層形成用塗布液１をハードコート層形成用塗布液２～１５にそれぞれ代えた以外は、実施例５と同様にして、積層体１１～２４を得た。
　得られた積層体１１～２４について、実施例１と同様にして、測定及び評価を行った。結果を表２に示す。
＜実施例２５～３１：積層体２５～３１の作製＞
　実施例５において、ハードコート層形成用塗布液１をハードコート層形成用塗布液１３、１６～１９にそれぞれ代え、ハードコート層の膜厚を下記表３に記載の値に変えた以外は、実施例５と同様にして、積層体２５～３１を得た。
　得られた積層体２５～３１について、実施例１と同様にして、測定及び評価を行った。結果を表３に示す。
＜実施例３２～３４：積層体３２～３４の作製＞
　実施例５において、ポリプロピレン基材を、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材、アクリル樹脂基材、ガラス基材にそれぞれ代えた以外は、実施例５と同様にして、積層体３２～３４を得た。
　得られた積層体３２～３４について、実施例１と同様にして、測定及び評価を行った。結果を表３に示す。
＜実施例３５～３６：積層体３５～３６の作製＞
　実施例５において、ハードコート層形成用塗布液１をハードコート層形成用塗布液２０又は２１に代えた以外は、実施例１と同様にして、積層体３５～３６を得た。
　得られた積層体３５～３６について、実施例１と同様にして、測定及び評価を行った。結果を表３に示す。
＜実施例３７：積層体３７の作製＞
　実施例５において、ハードコート層形成用塗布液１をハードコート層形成用塗布液１３に代えて厚さ３．０μｍのハードコート層を形成した後、更に、ハードコート層形成用塗布液１を塗布して、１１０℃にて２分間乾燥させることにより、厚さ３．０μｍのハードコート層を形成し、２層のハードコート層を形成した以外は、実施例５と同様にして、積層体３７を得た。
　得られた積層体３７について、実施例１と同様にして、測定及び評価を行った。結果を表３に示す。
＜比較例１～４：積層体３８～４１の作製＞
　実施例１において、反射防止層形成用塗布液１を反射防止層形成用塗布液１１～１４にそれぞれ代えた以外は、実施例１と同様にして、積層体３８～４１を得た。
　得られた積層体３８～４１について、実施例１と同様にして、測定及び評価を行った。結果を表４に示す。
＜比較例５～７：積層体４２～４４の作製＞
　実施例５において、ハードコート層形成用塗布液１をハードコート層形成用塗布液２２～２４にそれぞれ代えた以外は、実施例５と同様にして、積層体４２～４４を得た。
　得られた積層体４２～４４について、実施例１と同様にして、測定及び評価を行った。結果を表４に示す。
＜比較例８：積層体４５の作製＞
　実施例５において、ハードコート層の厚みを０．３μｍにした以外は、実施例５と同様にして、積層体４５を得た。
　得られた積層体４５について、実施例１と同様にして、測定及び評価を行った。結果を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　表１～４中に記載の成分及び基材の詳細は、以下の通りである。
－樹脂及びその組成に記載の成分－
・ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）：４官能アルコキシシラン、ＫＢＥ－０４、信越化学工業（株）製）
・ＧＰＴＭＳ（３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン）：３官能アルコキシシラン、ＫＢＥ－４０３、信越化学工業（株）製）
・ＤＭＤＥＳ（ジメチルジエトキシシラン）：２官能アルコキシシラン、ＫＢＥ－２２、信越化学工業（株）製）
・ＡＤＰＨ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）：Ａ－ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製
・ＴＰＧＤＡ（トリプロピレングリコールジアクリレート）：ＴＰＧＤＡ、ダイセル・オルネクス（株）製
・ＮＶＣ（Ｎ－ビニル－ε－カプロラクタム）：東京化成工業（株）製
・タケラックＷＳ４０００（ウレタン樹脂）：タケラック（登録商標）ＷＳ４０００、三井化学（株）製
・ＳＥ１０１３Ｎ（オレフィン樹脂）：アローベース（登録商標）ＳＥ１０１３Ｎ、ユニチカ（株）製
－その他の成分－
・アルミナ繊維（無機フィラー）：アルミゾル－Ｆ３０００、川研ファインケミカル（株）製（４ｎｍ径×３０００ｎｍ繊維長、固形分５．０質量％）
・酸化セリウム（紫外線吸収能を有する無機フィラー）：Ｂ－１０、多木化学（株）製（平均粒子径８ｎｍ、固形分１５．０質量％）
・ＡｌＣＨ（アルミニウムキレート錯体、硬化剤）：アルミキレートＤ、川研ファインケミカル（株）製（７６質量％イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液）
・Ｉｒｇ１８４（光重合開始剤、硬化剤）：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４、ＢＡＳＦ製
・オキサゾリン（オキサゾリン系架橋剤、硬化剤）：エポクロス（登録商標）ＷＳ－７００、（株）日本触媒製（固形分２５質量％水溶液）
－基材－
・ＰＥＴ：ＰＥＴ基材、コスモシャインＡ４３００、東洋紡（株）製、厚み１００μｍ
・アクリル：アクリル樹脂基材、テクノロイＳ００１Ｇ、住化アクリル販売（株）製、厚み７５μｍ
・ガラス：ガラス基材、フロート板ガラスＦＬ３、セントラル硝子（株）製、厚み３ｍｍ
　表１～表４に示すように、実施例１～３７の積層体は、光透過性に優れ、且つ、湿熱耐性にも優れる。
　特に、湿熱耐性を評価する際のダンプヒートテストは、過酷な条件によるテストであり、このテストに供しても有効透過率の低下率が低い、実施例１～３７の積層体は、長期間の使用に耐えうると考えられる。
　一方、比較例１～８の積層体は、光透過性及び湿熱耐性のいずれかで実施例１～３７の積層体よりも劣ることが分かる。
＜太陽電池モジュールの作製＞
〔接着層Ｂ用塗布液の調製〕
　下記組成の各成分を混合して、接着層Ｂ用塗布液を得た。
・ポリオレフィン樹脂水分散液（アローベース（登録商標）ＳＥ－１０１３Ｎ、ユニチカ（株）製、固形分２０質量％）　…　１７．５部
・オキサゾリン系架橋剤の水希釈液（エポクロス（登録商標）ＷＳ－７００、（株）日本触媒製、固形分２５質量％）　…　３．５部
・ノニオン系界面活性剤の水希釈液（ＥＭＡＬＥＸ（登録商標）１１０、日本エマルジョン（株）製、固形分１０質量％）　…　４．３部
・水…　合計で１００部となる残量
〔積層体４６の作製〕
　ポリプロピレン基材（ＯＰＰ、トレファンＢＯ６０－２５００、東レ（株）製、基材厚み６０μｍ）に、接着層Ｂ用塗布液を塗布し、１７０℃にて２分間乾燥させることにより、厚さ４μｍの接着層Ｂを形成した。
　ポリプロピレン基材の接着層Ｂが形成された面とは反対側の面に、上記接着層Ａ形成用塗布液を塗布し、１１０℃にて２分間乾燥させることにより、厚さ０．３μｍの接着層Ａを形成した。
　続いて、接着層Ａ上に、ハードコート層形成用塗布液１を塗布し、１１０℃にて２分間乾燥させることにより、厚さ３．０μｍのハードコート層を形成した。
　そして、ハードコート層上に、反射防止層形成用塗布液５を塗布し、１１０℃にて２分間乾燥させることにより、平均厚さ０．１２μｍの反射防止層を形成し、積層体４６を得た。
　太陽電池用フロントシートとしての積層体４６と、ＥＶＡシート（Ｆ８０６Ｐ：Ｈａｎｇｚｈｏｕ　ｆｉｒｓｔ　ＰＶ　ｍａｔｅｒｉａｌ社製）と、結晶系太陽電池セルと、ＥＶＡシート（Ｆ８０６Ｐ：Ｈａｎｇｚｈｏｕ　ｆｉｒｓｔ　ＰＶ　ｍａｔｅｒｉａｌ社製）と、太陽電池用バックシートとしての積層体４６と、ホットプレスすることにより、太陽電池モジュールを作製した。
　また、ＥＶＡシートの接着条件は、以下の通り実施した。
　真空ラミネータを用いて、１４５℃で５分間真空引き後、０．１ＭＰａの圧力で１０分間加圧加熱して接着した。
　作製した太陽電池モジュールを用いて発電運転したところ、太陽電池として良好な発電性能を示した。
　２０１８年３月３０日に出願された日本国特許出願２０１８－０６９０１１の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (15)

  1. 　基材と、
    　基材上に設けられた、膜厚が０．５μｍ～５０μｍのハードコート層と、
    　ハードコート層上に設けられた、シロキサン樹脂中に空隙を含み、空隙率が３０％～７５％であり、且つ、膜厚が８０ｎｍ～２００ｎｍの反射防止層と、
    　を有し、反射防止層側からのＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さが０．５ＧＰａ～３０ＧＰａである、積層体。
  2. 　空隙の径が２５ｎｍ～８０ｎｍである、請求項１に記載の積層体。
  3. 　基材が樹脂基材である、請求項１又は請求項２に記載の積層体。
  4. 　反射防止層側からのＩＳＯ１４５７７－１準拠の押し込み硬さが５ＧＰａ～２５ＧＰａである、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の積層体。
  5. 　反射防止層中の空隙率が３５％～６５％である、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の積層体。
  6. 　ハードコート層と反射防止層とが隣接する、請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の積層体。
  7. 　基材の一方の面に設けられた、ハードコート層及び反射防止層を含む全層の総膜厚が０．６μｍ～５０μｍである、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の積層体。
  8. 　ハードコート層が無機フィラーを含む、請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の積層体。
  9. 　無機フィラーが紫外線吸収能を有する無機フィラーを含む、請求項８に記載の積層体。
  10. 　ハードコート層が硬化剤として金属錯体を含む、請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の積層体。
  11. 　ハードコート層がシロキサン樹脂を含む、請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載の積層体。
  12. 　シロキサン樹脂が、テトラアルコキシシランと２官能又は３官能のアルコキシシランとの加水分解縮合物である、請求項１１に記載の積層体。
  13. 　加水分解縮合物が、テトラアルコキシシランに由来する構成単位と２官能又は３官能のアルコキシシランに由来する構成単位との総量に対して、２官能又は３官能のアルコキシシランに由来する構成単位を５０質量％以上含む、請求項１２に記載の積層体。
  14. 　請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載の積層体を有する、太陽電池用保護シート。
  15. 　請求項１４に記載の太陽電池用保護シートを備える、太陽電池モジュール。
PCT/JP2019/006388 2018-02-28 2019-02-20 積層体、太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール WO2019167764A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020503441A JP6840286B2 (ja) 2018-02-28 2019-02-20 積層体、太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018-035216 2018-02-28
JP2018035216 2018-02-28
JP2018-065491 2018-03-29
JP2018065491 2018-03-29
JP2018069011 2018-03-30
JP2018-069011 2018-03-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019167764A1 true WO2019167764A1 (ja) 2019-09-06

Family

ID=67804902

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2019/006388 WO2019167764A1 (ja) 2018-02-28 2019-02-20 積層体、太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6840286B2 (ja)
WO (1) WO2019167764A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114599749A (zh) * 2019-11-15 2022-06-07 住友化学株式会社 无机微粒分散液

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006215542A (ja) * 2005-01-07 2006-08-17 Pentax Corp 反射防止膜及びこれを有する撮像系光学素子
JP2006337663A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp 反射防止フィルム、偏光板、およびそれを用いた画像表示装置
WO2012022983A1 (en) * 2010-08-20 2012-02-23 Oxford Energy Technologies Limited Optical coating comprising porous silica nanoparticles
WO2012137883A1 (ja) * 2011-04-06 2012-10-11 帝人株式会社 透明導電性積層体及び透明タッチパネル
JP2017039928A (ja) * 2015-08-18 2017-02-23 日本精化株式会社 反射防止膜形成用組成物、反射防止膜およびその形成方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006215542A (ja) * 2005-01-07 2006-08-17 Pentax Corp 反射防止膜及びこれを有する撮像系光学素子
JP2006337663A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp 反射防止フィルム、偏光板、およびそれを用いた画像表示装置
WO2012022983A1 (en) * 2010-08-20 2012-02-23 Oxford Energy Technologies Limited Optical coating comprising porous silica nanoparticles
WO2012137883A1 (ja) * 2011-04-06 2012-10-11 帝人株式会社 透明導電性積層体及び透明タッチパネル
JP2017039928A (ja) * 2015-08-18 2017-02-23 日本精化株式会社 反射防止膜形成用組成物、反射防止膜およびその形成方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114599749A (zh) * 2019-11-15 2022-06-07 住友化学株式会社 无机微粒分散液
CN114599749B (zh) * 2019-11-15 2023-10-20 住友化学株式会社 无机微粒分散液

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2019167764A1 (ja) 2021-01-07
JP6840286B2 (ja) 2021-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5669722B2 (ja) コーティング組成物、塗膜、積層体、及び積層体の製造方法
KR102477728B1 (ko) 실리콘 다공체 및 그 제조 방법
EP2347896A1 (en) Film having low refractive index and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for film having low refractive index, substrate having microparticle-laminated thin film, and method for producing the same, and optical member
JP2017054111A (ja) 低屈折率層、積層フィルム、低屈折率層の製造方法、積層フィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置
WO2004070436A1 (ja) 低反射処理物品の製造方法、低反射層形成用溶液および低反射処理物品
WO2017057332A1 (ja) フレキシブル発光デバイス、照明装置および画像表示装置
JP2008012834A (ja) 光学フィルム
JP2011204649A (ja) 透明導電膜付き基材
JP6027956B2 (ja) 水性組成物およびハードコート層
JP6449735B2 (ja) 熱線反射材料及び窓、並びに熱線反射材料の製造方法
KR20140053198A (ko) 태양 전지용 보호 시트와 그 제조 방법, 태양 전지용 백시트, 태양 전지 모듈
WO2019065803A1 (ja) 空隙層、積層体、空隙層の製造方法、光学部材および光学装置
KR20140055187A (ko) 실록산 화합물을 포함하는 반사 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 표면 에너지가 조절된 반사 방지 필름
WO2015129312A1 (ja) 水性組成物、ハードコートフィルム、積層フィルム、透明導電性フィルム、およびタッチパネル
CN112771413B (zh) 双面带粘合剂层的光学层叠体
JP6071937B2 (ja) 太陽電池用裏面保護シート及び太陽電池モジュール
JP6840286B2 (ja) 積層体、太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール
JP2013042007A (ja) 太陽電池モジュール用バックシートおよび太陽電池モジュール
JPWO2015190536A1 (ja) 光学反射フィルムおよび光学反射体
WO2017033872A1 (ja) 熱線反射材料、窓、及び窓の断熱方法
JP2014196424A (ja) ハードコート層形成用組成物およびハードコート層
JP6204227B2 (ja) 水性組成物とその製造方法、ハードコートフィルム、積層フィルム、透明導電性フィルム、およびタッチパネル
JP6873314B2 (ja) 積層体、太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール
JP2019117906A (ja) 太陽電池用保護シート、及び、太陽電池モジュール
JP7019020B2 (ja) 水性コート材、膜及びその製造方法、積層体及びその製造方法、並びに、水性コート材キット

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 19760324

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2020503441

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 19760324

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1