CN114599749A - 无机微粒分散液 - Google Patents

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Abstract

一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含：3个以上的粒径为10nm～60nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒链(A)、平均粒径为1nm～20nm的无机微粒(B)、烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)和液体分散介质(D)，并且无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.01～0.99。在一个方式中，一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含：3个以上的粒径为10nm～60nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒链(A)、平均粒径为1nm～20nm的无机微粒(B)、烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)和液体分散介质(D)，并且无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.50～0.90。

Description

无机微粒分散液
技术领域
本发明涉及无机微粒分散液。
背景技术
一直以来，为了防止显示器的闪光等，在显示器表面上形成有减反射膜。作为减反射膜的材料，例如在专利文献1中记载了包含无机微粒链、无机微粒和液体分散介质的分散液。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2006-327187号公报
发明内容
发明所要解决的问题
近年来，为了提高发电效率，在太阳能电池的保护玻璃的表面上形成有减反射膜，但要求太阳能电池保护玻璃的可见光透射率进一步提高。
本发明的目的在于提供能够形成可见光透射率高的层的分散液。
用于解决问题的手段
本发明涉及以下内容，但不限于此。
[1]
一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含：
3个以上的粒径为10nm～60nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒链(A)、
平均粒径为1nm～20nm的无机微粒(B)、
烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)、和
液体分散介质(D)，并且
无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.01～0.99。
[2]
一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含：
3个以上的粒径为10nm～60nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒链(A)、
平均粒径为1nm～20nm的无机微粒(B)、
烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)、和
液体分散介质(D)，并且
无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.50～0.90。
[3]
如[1]或[2]所述的无机微粒分散液，其中，烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)中的SiO2的重量相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计重量的比例为0.005～0.3。
[4]
一种层叠体的制造方法，其中，所述层叠体的制造方法包含：
将[1]～[3]中任一项所述的无机微粒分散液涂布在基材上的工序；和
从涂布在基材上的分散液中除去液体分散介质(D)而在基材上形成无机微粒层的工序。
[5]
一种层叠体，其中，所述层叠体为通过[4]所述的方法得到的、包含基材和无机微粒层的层叠体。
[6]
一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含无机微粒(A0)、烷氧基硅烷(C1)、烷氧基硅烷的缩合物(C2)和液体分散介质(D)，并且烷氧基硅烷(C1)中的SiO2的重量相对于烷氧基硅烷的缩合物(C2)中的SiO2的重量的比例为0.1～3。
[7]
一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含：
无机微粒(A0)、
烷氧基硅烷(C1)或多个Si-O-Si键线性地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-2)、
多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-3)、和液体分散介质(D)，并且
烷氧基硅烷(C1)或烷氧基硅烷缩合物(C2-2)中的SiO2的重量相对于烷氧基硅烷缩合物(C2-3)中的SiO2的重量的比例为0.1～3。
发明效果
根据本发明，能够提供能够形成可见光透射率高的层的分散液。根据本发明，还能够提供可见光透射率高的层叠体。
具体实施方式
[无机微粒分散液]
在本发明的一个方式中，无机微粒分散液包含：
3个以上的粒径为10nm～60nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒链(A)、平均粒径为1nm～20nm的无机微粒(B)、烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)和液体分散介质(D)，并且无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.01～0.99。
无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例优选为0.1～0.95，更优选为0.35～0.90。
在本发明的一个方式中，“无机微粒分散液(以下，也简称为分散液)”包含：3个以上的粒径为10nm～60nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒链(A)、平均粒径为1nm～20nm的无机微粒(B)、烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)和液体分散介质(D)，并且无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.50～0.90。无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例优选为0.60～0.80，更优选为0.65～0.80。
将由“无机微粒链(A)”等表示的各成分分别也简称为“成分A”等。
以下，对各成分进行说明。
＜无机微粒链(A)＞
成分A为3个以上的粒径为10nm～60nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒的链。
作为构成成分A的无机微粒，可以列举：氧化硅(二氧化硅)、氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、碳酸钙、硫酸钡、滑石、高岭土等。从分散性的观点考虑，构成成分A的无机微粒优选为二氧化硅。
作为成分A，可以使用市售品，作为其例子，可以列举：日产化学工业株式会社制造的Snowtex(注册商标)UP、OUP、PS-S、PS-SO、PS-M、PS-MO(这些是以水为分散介质的硅溶胶)和日产化学工业株式会社制造的IPA-ST-UP(这些是以异丙醇为分散介质的硅溶胶)等。形成无机微粒链的粒子的粒径和无机微粒链的形状可以通过利用透射型电子显微镜进行观察来确定。在此，“以链状连接”的表述是相对于“以环状连接”的表述，不仅包含直线状连接的情况，还包括弯曲连接的情况。
从在分散液中的分散性的观点考虑，可以对成分A实施表面处理。
对分散液中的成分A的量没有特别限制，但从所得到的涂膜的透明性和分散液的分散性的观点考虑，将分散液的总重量设为100重量％，分散液中的成分A的量优选为0.1重量％～10重量％，更优选为0.1重量％～5重量％，进一步优选为0.4重量％～2.5重量％。以下，有时将成分A的含量记载为“分散液中的成分A的固体成分浓度”。
＜无机微粒(B)＞
成分B的平均粒径为1nm～20nm。在此，成分B的平均粒径可以通过动态光散射法或西尔斯法(シアーズ法)求出。利用动态光散射法的平均粒径的测定可以使用市售的粒度分布测定装置进行。西尔斯法是指在分析化学,第28卷,第1981-1983页,1956年中记载的方法，是适用于测定二氧化硅粒子的平均粒径的分析方法，是由使pH＝3的胶态二氧化硅分散液达到pH＝9所消耗的NaOH的量求出表面积、并由所求出的表面积计算出当量球直径的方法。将以这样的方式求出的当量球直径作为平均粒径。
作为成分B，可以列举：氧化硅(二氧化硅)、氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、碳酸钙、硫酸钡、滑石、高岭土等。从分散性的观点考虑，成分B优选为二氧化硅。
成分A的化学组成可以与成分B的化学组成相同，也可以不同。
从分散液中的分散性的观点考虑，可以对成分B实施表面处理。
对分散液中的成分B的量没有特别限制，从所得到的涂膜的透明性和分散液的分散性的观点考虑，将分散液的总重量设为100重量％，分散液中的成分B的量优选为0.05重量％～10重量％，更优选为0.05重量％～5重量％，进一步优选为0.15重量％～2.5重量％。以下，有时将成分B的含量记载为“分散液中的成分B的固体成分浓度”。
＜成分A的体积比例＞
在一个方式中，成分A的体积相对于成分A与成分B的合计体积的比例为0.50～0.90。如果成分A和成分B为相同的化学种类，则通常成分A的体积比例与成分A的重量相对于成分A与成分B的合计重量的比例相等。
对成分A和成分B的合成方法没有特别限制，例如可以列举：金属醇盐的水解和/或其缩合、金属盐的加热分解、金属氧化物的粉碎和/或破碎、金属盐水溶液的沉淀、金属盐水溶液的水热处理等。
从分散性的观点考虑，优选二氧化硅通过如下的方法合成：利用离子交换树脂等对硅酸钠水溶液进行离子交换，然后使其粒子生长和浓缩的方法(有时也称为水玻璃法)；将硫酸水溶液添加到硅酸钠水溶液中并进行中和，然后进行粒子生长和浓缩的方法(有时也称为沉降法)；对四氯化硅进行热分解的方法；对烷氧基硅烷进行水解和缩合的方法(有时也称为溶胶-凝胶法)等公知的方法。
在对硅酸钠进行离子交换来合成的方法的情况下，钠离子以对二氧化硅粒子的硅烷醇基进行离子交换的形式部分地残留在二氧化硅粒子的粒子内和粒子表面上，从而使带负电的二氧化硅粒子稳定，因此从改善无机微粒分散液中的粒子的凝聚、进而形成可见光透射率高的无机微粒层的观点考虑是优选的。从分散液的稳定性的观点考虑，硅溶胶中的钠离子含量以Na2O量计优选为0.5重量％以下，更优选为0.03重量％以下。
＜烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)＞
成分C为烷氧基硅烷和/或其缩合物。作为烷氧基硅烷，可以列举四烷氧基硅烷。作为四烷氧基硅烷的一个方式，由下式：Si(OR)4(式中，4个R各自独立地表示碳原子数为1～6的烷基)表示。作为四烷氧基硅烷的缩合物的一个方式，由下式：SinOn-1(OR)2n+2(式中，各R各自独立地表示碳原子数为1～6的烷基。n为2～1000，作为一个方式，n为2～100)表示。作为烷氧基硅烷，可以列举：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等，优选为四甲氧基硅烷和四乙氧基硅烷。以下，有时将烷氧基硅烷记载为“成分C1”。烷氧基硅烷可以使用市售品。
作为烷氧基硅烷的一个方式，可以列举由下式(1)表示的硅化合物。
Si(Ra)q(Rb)4-q (1)
在式(1)中，Ra表示氢原子或非水解性有机基团，Rb表示可水解性基团。q表示0～2的整数。
在本说明书中，“可水解性”是指通过与水的反应而生成硅烷醇基的性质。
作为Ra的非水解性有机基团，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、叔戊基(1,1-二甲基丙基)、1,1-二甲基-3,3-二甲基丁基、庚基、辛基、壬基、癸基等碳原子数为1～10的烷基；环戊基、环己基等碳原子数为3～10的环烷基；乙烯基、烯丙基等碳原子数为2～10的烯基；乙叉基、丙叉基等碳原子数为2～10的烷叉基；苯基、萘基、蒽基等碳原子数为6～15的芳香族基团；等。
这些有机基团所含的氢原子可以被(甲基)丙烯酰氧基、环氧基、氨基、巯基、羟基、卤素原子、烷氧基、氟代烷基、环氧丙氧基等取代。可以取代有机基团中的1个氢原子，也可以取代2个以上的氢原子。
作为Rb的可水解性基团，可以列举：甲氧基、乙氧基、丙氧基等碳原子数为1～5的烷氧基。
q表示0～2的整数，优选为0或1。作为一个方式，q为0。作为一个方式，q为1。
作为由式(1)表示的硅化合物，可以列举：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四异丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷等q为0的硅化合物；甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三异丙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等q为1的硅化合物；二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二乙基二甲氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、甲基苯基二甲氧基硅烷、二乙烯基二甲氧基硅烷、二乙烯基二乙氧基硅烷等q为2的硅化合物；等。
分散液可以仅包含一种由式(1)表示的硅化合物，也可以包含两种以上由式(1)表示的硅化合物。另外，分散液可以与由式(1)表示的硅化合物一起包含三甲基甲氧基硅烷、三乙基甲氧基硅烷、三乙基甲氧基硅烷、三乙基乙氧基硅烷、三乙烯基甲氧基硅烷、三乙烯基乙氧基硅烷等q为3的硅化合物。
烷氧基硅烷的缩合物(以下，有时记载为“成分C2”)可以通过使这些烷氧基硅烷单体发生水解反应和缩合反应而得到。对烷氧基硅烷的缩合物的聚合度没有特别限制。作为烷氧基硅烷的缩合物的聚合度的一个方式为2～1000，作为一个方式为2～100。以下，有时将聚合度为2～1000的烷氧基硅烷的缩合物记载为“成分C2-1”。作为烷氧基硅烷的缩合物的一个方式，可以为二聚体～十聚体的低聚物。作为烷氧基硅烷的缩合物的一个方式，可以列举多个Si-O-Si键线性地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(以下，有时记载为“成分C2-2”)。作为成分C2-2的一个方式，可以列举该烷氧基硅烷缩合物的末端中的多于半数的末端为烷氧基的烷氧基硅烷缩合物。作为烷氧基硅烷的缩合物的一个方式，可以列举多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(以下，有时记载为“成分C2-3”)。作为成分C2-3的一个方式，可以列举该烷氧基硅烷缩合物的末端中的多于半数的末端为羟基的烷氧基硅烷缩合物。烷氧基硅烷的缩合物的平均粒径优选小于1μm。烷氧基硅烷的缩合物可以使用市售品。
作为烷氧基硅烷的二聚体～十聚体的市售品，可以列举：作为四甲氧基硅烷的平均四聚体低聚物的Methyl Silicate 51；作为四甲氧基硅烷的平均七聚体低聚物的MethylSilicate 53A；作为四乙氧基硅烷的平均五聚体低聚物的Ethyl Silicate 40；作为四乙氧基硅烷的平均十聚体低聚物的Ethyl Silicate 48；作为四甲氧基硅烷低聚物与四乙氧基硅烷低聚物的混合物且作为平均十聚体低聚物的EMS-485(以上为Colcoat公司制造)。
作为硅酸甲酯的可水解缩合物的市售品，可以列举MS51、MS-56、MS-57、MS-56S(以上为三菱化学株式会社制造)，它们为多个Si-O-Si键线性地连接而得到的缩合物且为该缩合物的末端中的多于半数的末端为烷氧基的缩合物。
作为硅酸乙酯的可水解缩合物的市售品，可以列举HAS-1、HAS-6、HAS-10(以上为Colcoat公司制造)，它们为多个Si-O-Si键线性地连接而得到的缩合物且为该缩合物的末端中的多于半数的末端为烷氧基的缩合物。
烷氧基硅烷的缩合物的峰顶分子量优选为100～10000，优选为500～5000。作为一个方式，烷氧基硅烷的缩合物的峰顶分子量为500～2000。作为一个方式，烷氧基硅烷的缩合物的峰顶分子量为500～1000。
烷氧基硅烷的缩合物的峰顶分子量通常可以使用通过凝胶渗透色谱法测定的值。
分散液可以单独地包含各个烷氧基硅烷和其缩合物，也可以同时包含两者。分散液可以仅包含一种成分C，也可以包含两种以上的成分C。
对分散液中的成分C的量没有特别限制，将分散液的总重量设为100重量％，成分C的量优选为0.001重量％～2重量％，更优选为0.005重量％～1重量％，进一步优选为0.01重量％～0.2重量％。以下，有时将成分C的含量记载为“分散液中的成分C的固体成分浓度”。
分散液可以仅包含烷氧基硅烷作为成分(C)，也可以仅包含烷氧基硅烷的缩合物作为成分(C)，也可以包含烷氧基硅烷和烷氧基硅烷的缩合物作为成分(C)。在分散液包含烷氧基硅烷和烷氧基硅烷的缩合物的情况下，作为其组合，可以列举：式(1)的q为0的硅化合物与烷氧基硅烷的二聚体～十聚体的组合；式(1)的q为0的硅化合物与缩合物的组合，所述缩聚物为多个Si-O-Si键线性地连接而得到的缩合物且该缩合物的末端中的多于半数的末端为烷氧基；式(1)的q为0的硅化合物与缩聚物的组合，所述缩聚物为多个Si-O-Si键三维地连接而得到的缩合物且该缩合物的末端中的多于半数的末端为羟基；式(1)的q为1的硅化合物与烷氧基硅烷的二聚体～十聚体的组合；式(1)的q为1的硅化合物与缩合物的组合，所述缩聚物为多个Si-O-Si键线性地连接而得到的缩合物且该缩合物的末端的中的多于半数的末端为烷氧基；式(1)的q为1的硅化合物与缩聚物的组合物，所述缩聚物为多个Si-O-Si键三维地连接而得到的缩合物且该缩合物的末端的中的多于半数的末端为羟基。
分散液可以仅包含一种烷氧基硅烷作为成分(C)，也可以包含两种以上烷氧基硅烷作为成分(C)。
分散液可以仅包含一种烷氧基硅烷的缩合物作为成分(C)，也可以包含两种以上烷氧基硅烷的缩合物作为成分(C)。在分散液包含两种以上烷氧基硅烷的缩合物的情况下，作为其组合，可以列举：烷氧基硅烷的二聚体～十聚体与缩聚物的组合，所述缩聚物为多个Si-O-Si键线性地连接而得到的缩合物且该缩合物的末端中的多于半数的末端为烷氧基；烷氧基硅烷的二聚体～十聚体与缩聚物的组合，所述缩聚物为多个Si-O-Si键三维地连接而得到的缩合物且该缩合物的末端中的多于半数的末端为羟基；多个Si-O-Si键线性地连接而得到的缩合物且该缩合物的末端中的多于半数的末端为烷氧基的缩合物与多个Si-O-Si键三维地连接而得到的缩合物且该缩合物的末端中的多于半数的末端为羟基的缩合物的组合。
＜成分C中的SiO2的重量的比例＞
成分C中的SiO2的重量相对于成分A与成分B的合计重量的比例优选为0.005～0.3，更优选为0.01～0.2。
作为制造分散液时的原料液，可以使用包含成分C和溶剂的液体。在包含成分C的原料液中，为了促进水解和脱水缩合、抑制缩合物的凝聚或控制与基材的粘附性等，可以含有添加剂。作为添加剂的一例，可以列举丙烯酸-氨基甲酸酯树脂。
＜液体分散介质(D)＞
成分D只要是具有使粒子分散的功能的液体即可。作为成分D，可以列举水、醇、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、二甲苯、乙酸乙酯等。作为醇，可以列举甲醇、乙醇、2-丙醇等。在一个方式中，分散液包含醇作为成分D。在一个方式中，分散液包含水和醇作为成分D。在一个方式中，分散液包含乙醇作为成分D。在一个方式中，分散液包含水和乙醇作为成分D。分散液可以仅包含一种成分D，也可以包含两种以上的成分D。
在分散液中，将分散液的总重量设为100重量％，成分D的含量为70重量％以上，优选为85重量％以上。作为更优选的一个方式，可以列举下述方式。
在分散液中，将分散液的总重量设为100重量％，成分D的含量优选为90重量％以上，更优选为95重量％以上，进一步优选为98重量％以上。
在分散液包含乙醇作为成分D的情况下，将分散液的总重量设为100重量％，分散液中的乙醇的含量优选为50重量％以上，更优选为70重量％以上，进一步优选为80重量％以上，进一步优选为90重量％以上。
＜其它的成分＞
分散液可以包含除成分A和成分B以外的二氧化硅。
分散液可以包含分散介质电解质、分散助剂。
分散液可以包含表面活性剂、有机类电解质等添加剂。
此外，根据用途和使用方法等，可以包含增粘剂、触变剂、消泡剂、光稳定剂、颜料、抗霉剂、防尘剂、防冻性能改善剂、耐候剂、紫外线稳定剂等添加剂。
在分散液包含表面活性剂的情况下，相对于100重量份的成分D，其含量通常为0.1重量份以下，优选为0.04重量份～0.08重量份。对所使用的表面活性剂没有特别限制，例如可以列举：阴离子型表面活性剂、阳离子型表面活性剂、非离子型表面活性剂、两性表面活性剂等。
作为阴离子型表面活性剂，可以列举羧酸的碱金属盐，具体而言，可以列举：辛酸钠、辛酸钾、癸酸钠、己酸钠、肉豆蔻酸钠、油酸钾、硬脂酸四甲基铵、硬脂酸钠等。特别优选具有碳原子数为6～10的烷基链的羧酸的碱金属盐。
作为阳离子型表面活性剂，例如可以列举：十六烷基三甲基氯化铵、二(十八烷基)二甲基氯化铵、溴化-N-十八烷基吡啶
Figure BDA0003609778960000131
十六烷基三乙基溴化
Figure BDA0003609778960000132
等。
作为非离子型表面活性剂，例如可以列举聚醚改性硅氧烷等。
作为两性表面活性剂，可以列举2-烷基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑
Figure BDA0003609778960000133
甜菜碱、月桂酰胺基丙基甜菜碱等。
在分散液包含有机类电解质的情况下，相对于100重量份的液体分散介质，其含量通常为0.01重量份以下。本发明中的有机类电解质是指具有电离性离子性基团的有机化合物(但是，除表面活性剂以外)。例如可以列举：对甲苯磺酸钠、苯磺酸钠、丁基磺酸钾、苯基次膦酸钠、二乙基磷酸钠等。该有机类电解质优选为苯磺酸衍生物。
＜分散液的制造方法＞
分散液例如可以通过下述[1]～[5]中的任意方法制备，但不限于这些方法。
[1]将成分A的粉末和成分B的粉末同时添加到共同的液体分散介质中并使其分散的方法。
[2]将成分A分散在第一液体分散介质中而制备第一分散液，另外将成分B分散在第二液体分散介质中而制备第二分散液，接着将第一分散液与第二分散液混合的方法。
[3]将成分A分散在液体分散介质中而制备分散液，接着将成分B的粉末添加到该分散液中并使其分散的方法。
[4]将成分B分散在液体分散介质中而制备分散液，接着将成分A的粉末添加到该分散液并使其分散的方法。
[5]在分散介质中使晶粒生长而制备含有成分A的第一分散液，另外在分散介质中使晶粒生长而制备含有成分B的第二分散液，接着将第一分散液和第二分散液混合的方法。
在上述[1]～[5]的各方法中，在任意工序中添加成分C。
通过应用超声波分散、超高压分散等强分散方法，能够使无机微粒特别均匀地分散在分散液中。
为了实现更均匀的分散，优选在分散液的制备中使用的成分A的分散液、成分B的分散液、最终得到的分散液中，无机微粒为胶体状态。在分散介质中可以使用水、挥发性有机溶剂。
在上述[2]、[3]、[4]或[5]的方法中，在成分A的分散液、成分B的分散液或成分A的分散液与成分B的分散液这两者为胶态氧化铝的情况下，为了使带正电的氧化铝粒子稳定，优选向胶态氧化铝中添加氯离子、硫酸根离子、乙酸根离子等阴离子作为抗衡阴离子。对胶态氧化铝的pH没有特别限制，从分散液的稳定性的观点考虑，优选为pH2～6。
另外，在上述[1]的方法中，在成分A和成分B中的至少一者为氧化铝且分散液为胶体状态的情况下，优选向该分散液中添加氯离子、硫酸根离子、乙酸根离子等阴离子。
在上述[2]、[3]、[4]或[5]的方法中，在成分A的分散液、成分B的分散液或成分A的分散液与成分B的分散液这两者为胶态二氧化硅的情况下，为了使带负电的二氧化硅粒子稳定，优选向胶态二氧化硅中添加铵离子、碱金属离子、碱土金属离子等阳离子作为抗衡阳离子。对胶态二氧化硅的pH没有特别限制。
另外，在上述[1]的方法中，在成分A和成分B中的至少一者为二氧化硅且分散液为胶体状态的情况下，优选向该分散液中添加铵离子、碱金属离子、碱土金属离子等阳离子。
[层叠体的制造方法]
通过如下方法能够得到包含基材和无机微粒层的层叠体，所述方法包含：将分散液涂布在基材上的工序，然后通过适当的方法从涂布在基材上的分散液中除去成分D而在基材上形成无机微粒层(以下，有时记载为“涂膜”)的工序。
＜涂布在基材上的方法＞
对将分散液涂布在基材上的方法没有特别限制，例如可以列举：凹版涂布法、反向涂布法、刷毛辊涂布法、喷涂法、吻合涂布法、口模式涂布法、浸涂法、棒涂法等。
作为基材，可以列举塑料膜或片、玻璃板。作为塑料膜或片的具体例，可以列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、玻璃纸、三乙酰纤维素、二乙酰纤维素、乙酰纤维素丁酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等的膜或片。从透明性优异、无光学各向异性的观点考虑，优选为包含三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二醇酯的膜或片、玻璃板。另外，可以使用偏振板、扩散板、导光板、亮度提高膜、反射偏振板等光学用构件作为基材。基材可以具有包含紫外线固化性树脂等的硬涂层、含有导电性微粒等的防静电层作为表面层。
在玻璃为基材的情况下，对可以使用的玻璃的组成、制造方法等没有特别限制。可以使用钠玻璃、水晶玻璃、硼硅酸(硼硅酸盐)玻璃、石英玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼酸盐玻璃、磷酸盐玻璃、无碱玻璃、与陶瓷的复合玻璃等。
在将分散液涂布在基材上之前，可以对基材的表面进行电晕处理、臭氧处理、等离子体处理、火焰处理、电子射线处理、锚固涂布处理、清洗处理等预处理。
通过从涂布在基材表面上的分散液中除去成分D，能够在基材表面上形成无机微粒层。成分D的除去例如可以通过在常压下或减压下进行加热来进行。除去液体分散介质时的压力、加热温度可以根据所使用的材料(即，成分A、成分B和成分D)适当选择。例如，通常可以在50℃～120℃、优选在约60℃～110℃下进行干燥。在一个方式中，可以在50℃～80℃下进行干燥，在一个方式中，可以在20℃～50℃下进行干燥。
在通过上述干燥除去成分D之后进一步对在表面上形成有无机微粒层的基材进行热处理，能够提高基材与无机微粒层的粘附性。对热处理方法没有特别限制。可以列举利用烘箱的加热、利用电磁波照射等的无机微粒层的局部加热等。
在上述干燥之后进一步进行热处理的情况下，对其加热温度、气氛和加热时间没有特别限制。热处理温度优选为500℃～800℃。加热时的气氛优选为空气。加热时间优选为10分钟以下。
在本发明的无机微粒分散液的一个实施方式中，分散液的涂布可以在该玻璃基材的制造中的淬火工序之前对玻璃基材进行，也可以对涂布有无机微粒分散液的玻璃基材原样进行淬火。
[层叠体]
在一个方式中，通过上述方法得到的包含基材和无机微粒层的层叠体的无机微粒层具有减反射功能。对无机微粒层的厚度没有特别限制。在一个方式中，无机微粒层的厚度为40nm～300nm，在另一个方式中，无机微粒层的厚度为50nm～240nm，另外，在另一个方式中，无机微粒层的厚度为50nm～220nm，另外，在另一个方式中，无机微粒层的厚度为80nm～200nm，在另一个方式中，无机微粒层的厚度为50nm～150nm，在另一个方式中，无机微粒层的厚度为80nm～130nm。
无机微粒层的厚度优选为50nm～240nm，更优选为50nm～220nm，进一步优选为80nm～200nm。
无机微粒层的厚度可以通过改变分散液中的成分A和成分B的量和分散液的涂布量来调节。
在通过涂布分散液而形成的无机微粒层上还可以形成包含含氟类化合物等的防污层。作为防污层的形成方法，可以列举浸涂法。
通过涂布本发明的分散液而形成的无机微粒层与基材的粘附性优异。
基材与无机微粒层的粘附性例如可以通过以下的方法进行评价。
(1)摩擦试验
利用擦拭纸(日本制纸Crecia公司制造，Kimwipe S-200)对层叠体的无机微粒层表面进行40次往复刮擦，并测定刮擦之后的层叠体的雾度值。当无机微粒层与玻璃基材的粘附性低时，通过利用擦拭纸对无机微粒层进行刮擦而削去无机微粒层。当无机微粒层的磨削多时，层叠体的雾度值变大。因此可以说，利用擦拭纸刮擦之后的层叠体的雾度值越小，则无机微粒层与玻璃基材的粘附性越高。
(2)划格试验
根据JIS K5600-5-6在无机微粒层上切出棋盘状切缝，并进行划格试验。通过每100个棋盘格中的剥离的棋盘格的数量评价粘附性。
关于本发明，作为另一个方式，可以列举以下的无机微粒分散液。
[5]一种无机微粒分散液，其包含无机微粒(A0)、烷氧基硅烷(C1)、烷氧基硅烷的缩合物(C2)和液体分散介质(D)，并且烷氧基硅烷(C1)中的SiO2的重量相对于烷氧基硅烷的缩合物(C2)中的SiO2的重量的比例为0.1～3。
在此，烷氧基硅烷(C1)与上述的成分C1相同，烷氧基硅烷的缩合物(C2)与上述的成分C2相同，液体分散介质(D)与上述的成分D相同。
分散液可以仅包含一种成分C1，也可以包含两种以上的成分C1。分散液可以仅包含一种成分C2，也可以包含两种以上的成分C2。
无机微粒(A0)(以下，有时记载为“成分A0”)为成分A和成分B的上位概念。作为成分A0，可以列举成分A、成分B、平均粒径为20nm以上的无机微粒。成分A0的平均粒径优选为1nm～500nm，更优选为1nm～200nm。成分A0的平均粒径可以通过动态光散射法或西尔斯法求出。
成分A0可以仅包含一种，也可以包含两种以上。
无机微粒分散液可以包含成分A和成分B。在此情况下，优选无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.01～0.99的无机微粒分散液。
无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例更优选为0.1～0.95，进一步优选为0.35～0.90。
作为一个方式，成分A的体积相对于成分A与成分B的合计体积的比例优选为0.50～0.90。
无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例进一步优选为0.60～0.80，进一步优选为0.65～0.80。
成分C1中的SiO2的重量相对于成分C2中的SiO2的重量的比例(成分C1中的SiO2的重量/成分C2中的SiO2的重量)优选为0.3以上，更优选为0.5以上。成分C1中的SiO2的重量相对于成分C2中的SiO2的重量的比例优选为2.5以下，更优选为2以下。
成分C1中的SiO2与成分C2中的SiO2的合计重量相对于成分A0的重量的比例优选为0.005～0.3，更优选为0.01～0.2。
将分散液的总重量设为100重量％，成分C1中的SiO2与成分C2中的SiO2的合计重量优选为0.001重量％～2重量％，更优选为0.005重量％～1重量％，进一步优选为0.01重量％～0.2重量％。
分散液的制造方法、使用该分散液制造层叠体的方法和所得到的层叠体与上述相同。
作为另一个方式，可以列举以下的无机微粒分散液。
[6]一种无机微粒分散液，其包含：
无机微粒(A0)、
烷氧基硅烷(C1)或多个Si-O-Si键线性地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-2)、
多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-3)、和液体分散介质(D)，并且
烷氧基硅烷(C1)或多个Si-O-Si键线性地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-2)中的SiO2的重量相对于烷氧基硅烷缩合物(C2-3)中的SiO2的重量的比例为0.1～3。
具体而言，可以列举以下的分散液。
一种无机微粒分散液，其包含：无机微粒(A0)、烷氧基硅烷(C1)、多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-3)和液体分散介质(D)，并且烷氧基硅烷(C1)中的SiO2的重量相对于多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-3)中的SiO2的重量的比例为0.1～3。
一种无机微粒分散液，其包含：无机微粒(A0)、多个Si-O-Si键线性地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-2)、多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-3)和液体分散介质(D)，并且多个Si-O-Si键线性地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-2)中的SiO2的重量相对于多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-3)中的SiO2的重量的比例为0.1～3。
在此，烷氧基硅烷(C1)与上述的成分C1相同，烷氧基硅烷缩合物(C2-2)与上述的成分C2-2相同，烷氧基硅烷缩合物(C2-3)与上述的成分C2-3相同，液体分散介质(D)与上述的成分D相同。
分散液可以仅包含一种成分C1，也可以包含两种以上。分散液可以仅包含一种成分C2-2，也可以包含两种以上的成分C2-2。分散液可以仅包含一种成分C2-3，也可以包含两种以上的成分C2-3。
无机微粒(A0)(以下，有时记载为“成分A0”)为成分A和成分B的上位概念。作为成分A0，可以列举成分A、成分B、平均粒径为20nm以上的无机微粒。成分A0的平均粒径优选为1nm～500nm，更优选为1nm～200nm。成分A0的平均粒径可以通过动态光散射法或西尔斯法求出。
成分A0可以仅包含一种，也可以包含两种以上。
无机微粒分散液可以包含成分A和成分B。在此情况下，优选无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.01～0.99的无机微粒分散液。
无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例更优选为0.1～0.95，进一步优选为0.35～0.90。
作为一个方式，成分A的体积相对于成分A与成分B的合计体积的比例优选为0.50～0.90。
无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例进一步优选为0.60～0.80，进一步优选为0.65～0.80。
成分C1或成分C2-2中的SiO2的重量相对于成分C2-3中的SiO2的重量的比例(成分C1或成分C2-2中的SiO2的重量/成分C2-3中的SiO2的重量)优选为0.3以上，更优选为0.5以上。成分C1或成分C2-2中的SiO2的重量相对于成分C2-3中的SiO2的重量的比例优选为2.5以下，更优选为2以下。
成分C1中的SiO2的重量相对于成分C2-3中的SiO2的重量的比例(成分C1中的SiO2的重量/成分C2-3中的SiO2的重量)优选为0.3以上，更优选为0.5以上。成分C1中的SiO2的重量相对于成分C2-3中的SiO2的重量的比例优选为2.5以下，更优选为2以下。
成分C2-2中的SiO2的重量相对于成分C2-3中的SiO2的重量的比例(成分C2-2中的SiO2的重量/成分C2-3中的SiO2的重量)优选为0.3以上，更优选为0.5以上。成分C2-2中的SiO2的重量相对于成分C2-3中的SiO2的重量的比例优选为2.5以下，更优选为2以下。
成分C1或成分C2-2中的SiO2与成分C2-3中的SiO2的合计重量相对于成分A0的重量的比例优选为0.005～0.3，更优选为0.01～0.2。
成分C1中的SiO2与成分C2-3中的SiO2的合计重量相对于成分A0的重量的比例优选为0.005～0.3，更优选为0.01～0.2。
成分C2-2中的SiO2与成分C2-3中的SiO2的合计重量相对于成分A0的重量的比例优选为0.005～0.3，更优选为0.01～0.2。
将分散液的总重量设为100重量％，成分C1或成分C2-2中的SiO2与成分C2-3中的SiO2的合计重量优选为0.001重量％～2重量％，更优选为0.005重量％～1重量％，进一步优选为0.01重量％～0.2重量％。
将分散液的总重量设为100重量％，成分C1中的SiO2与成分C2-3中的SiO2的合计重量优选为0.001重量％～2重量％，更优选为0.005重量％～1重量％，进一步优选为0.01重量％～0.2重量％。
将分散液的总重量设为100重量％，成分C2-2中的SiO2与成分C2-3中的SiO2的合计重量优选为0.001重量％～2重量％，更优选为0.005重量％～1重量％，进一步优选为0.01重量％～0.2重量％。
分散液的制造方法、使用该分散液制造层叠体的方法和所得到的层叠体与上述相同。
[实施例]
以下，通过实施例对本发明进一步详细地进行说明，但本发明不限于此。
所使用的主要材料如下所述。
[基材]
亚速旺株式会社制造的钠钙玻璃载片(可见光区域内的全光线透射率：91％；宽度26mm长度76mm厚度1.3mm)
[成分A的分散液]
Snowtex(注册商标)ST-OUP(日产化学工业株式会社制造的链状胶态二氧化硅；3个以上的粒径为5nm～20nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒链的水分散液；基于动态光散射法的平均粒径：40nm～300nm；固体成分浓度：15重量％)，以下，将其记为“ST-OUP”。
[成分B的分散液]
Snowtex(注册商标)ST-OXS(日产化学工业株式会社制造的胶态二氧化硅；平均粒径：4nm～6nm；固体成分浓度：10重量％；水分散液)，以下，将其记为“ST-OXS”。
[成分C的分散液]
分散液C-1：多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物的分散液(烷氧基硅烷缩合物的峰顶分子量：4800；分散液中的烷氧基硅烷缩合物的含量：2重量％(分散液中的SiO2的含量：2重量％)；烷氧基硅烷缩合物的末端中的多于半数的末端为羟基)，以下，有时将分散液C-1中的烷氧基硅烷缩合物称为“成分C-1”。
分散液C-2：多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物的分散液(烷氧基硅烷缩合物的峰顶分子量：1400；分散液中的烷氧基硅烷缩合物的含量：2重量％(分散液中的SiO2的含量：2重量％)；烷氧基硅烷缩合物的末端中的多于半数的末端为羟基)，以下，有时将分散液C-2中的烷氧基硅烷缩合物称为“成分C-2。
分散液C-3：多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物的分散液(烷氧基硅烷缩合物的峰顶分子量：700；分散液中的烷氧基硅烷缩合物的含量：2重量％(分散液中的SiO2的含量：2重量％)；烷氧基硅烷缩合物的末端中的多于半数的末端为羟基；包含丙烯酸-氨基甲酸酯树脂作为添加剂)，以下，有时将分散液C-3中的烷氧基硅烷缩合物称为“成分C-3”。
[成分C]
成分C-4：MKC(注册商标)Silicate MS56S(三菱化学公司制造；多个Si-O-Si键线性地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物；烷氧基硅烷缩合物中的SiO2的含量：60重量％；烷氧基硅烷缩合物的末端中的多于半数的末端为烷氧基)
成分C-5：Silquest(注册商标)A-187J(日本迈图高新材料公司制造，3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷)(C-5中的SiO2的含量：25重量％)
[成分D]
乙醇(纯正化学株式会社制造的乙醇；纯度99.5％)
[表面活性剂]
BYK(注册商标)-349(毕克化学公司制造的聚醚改性硅氧烷)
需要说明的是，实施例的评价通过以下的方法进行。
将结果记载在表1和表2中。需要说明的是，在所有例子中，成分A和成分B均为二氧化硅，因此由成分A和成分B的重量求出成分A的体积分率、即成分A的体积相对于成分A与成分B的合计体积的比例。在表1和表2中，在成分C一栏中，将分散液的总重量设为100重量％，记载了成分C中的SiO2的含量。另外，在各实施例中得到的分散液包含乙醇和水作为成分D。在表1和表2中，将分散液的总重量设为100重量％，记载了分散液中的乙醇和水的含量。
(1)高压炉试验(PCT)：将包含玻璃基材和无机微粒层的层叠体静置在高度加速寿命试验装置(ESPEC公司制造，EMS-221M)内。将高度加速寿命试验装置内设定为温度121℃、湿度100％、压力0.2MPa，并进行48小时的高压炉试验。
(2)透射率：使用岛津制作所制造的分光光度计UV-3150测定包含玻璃基材和无机微粒层的层叠体的可见光区域内的全光线透射率(以下，有时也称为可见光透射率)。对进行PCT之前的层叠体和进行PCT之后的层叠体分别测定全光线透射率。
(3)粘附性：以如下方式评价无机微粒层与玻璃基材的粘附性。
利用擦拭纸(日本制纸Crecia公司制造，Kimwipe S-200)对层叠体的无机微粒层表面进行40次往复刮擦，并测定刮擦之后的层叠体的雾度值。当无机微粒层与玻璃基材的粘附性低时，通过利用擦拭纸对无机微粒层进行刮擦而削去无机微粒层。当无机微粒层的磨削多时，层叠体的雾度值变大。因此可以说，利用擦拭纸刮擦之后的层叠体的雾度值越小，则无机微粒层与玻璃基材的粘附性越优异。雾度值根据JIS K7105，使用直读式雾度计算机(HGM-2DP；C光源；须贺试验机公司制造)进行测定。40次往复刮擦之后的钠钙玻璃载片基材的雾度值为0.1。
(4)峰顶分子量：使用缩合物浓度为2重量％的试样溶液并通过凝胶渗透色谱法进行测定。用于计算峰顶分子量的校准曲线使用TOSOH制造的PStQuick Kit-H作为标准试样来制作。
＜GPC分析条件＞
柱温箱：岛津制作所制造，CTO-20A
柱：安捷伦科技公司制造，苯乙烯二乙烯基共聚物凝胶柱PolyPore7.5mm I.D.×300mm
柱温：35℃
流动相：和光纯药制造，四氢呋喃
流量：1.0mL/分钟
检测器：岛津制作所制造，RI检测器RID-10A
进样量：100μL
[实施例1]
将作为成分A的分散液的ST-OUP(10.3g)和作为成分B的分散液的ST-OXS(5.2g)放入200.0g的乙醇中，接着放入分散液C-1(4.4g)和BYK-349(0.13g)，使用磁力搅拌器进行搅拌，由此制备了分散液。分散液中的固体成分浓度为：来自ST-OUP的固体成分为0.71重量％、来自ST-OXS的固体成分为0.24重量％、来自分散液C-1的SiO2的含量为0.04重量％。使用微速浸涂机(MD-0408-01；株式会社SDI制造)将该分散液涂布在玻璃基材上，在室温下干燥15分钟。将自然干燥的已涂布的玻璃基材设置在烘箱(TFD-20C；株式会社东京技术研究所制造)中，在700℃下加热3分钟而形成无机微粒层，由此得到了包含玻璃基材和无机微粒层的层叠体。将各成分的含量和层叠体的可见光透射率示于表1中。
[实施例2]
除了将分散液C-1改变为分散液C-2以外，与实施例1同样地制作了层叠体。
[实施例3]
除了将分散液C-1改变为分散液C-3以外，与实施例1同样地制作了层叠体。
[实施例4]
除了以使各成分的含量成为表1记载的含量方式改变各原料的配合量以外，与实施例3同样地制作了层叠体。
[实施例5]
将分散液C-1改变为成分C-4，以使各成分的含量成为表1记载的含量方式改变各原料的配合量，除此以外，与实施例1同样地制作了层叠体。
[实施例6]
将分散液C-1改变为成分C-5，并且以使各成分的含量成为表1记载的含量的方式改变各原料的配合量，除此以外，与实施例1同样地制作了层叠体。
[实施例7]
在实施例3中得到的分散液中进一步添加成分C-4，并且使各成分的含量成为表1记载的含量，除此以外，与实施例3同样地制作了层叠体。
[实施例8]
除了以使各成分的含量成为表1记载的含量方式改变成分C-4的配合量以外，与实施例7同样地制作了层叠体。
[实施例9]
在实施例3中得到的分散液中进一步添加成分C-5，并且使各成分的含量成为表2记载的含量，除此以外，与实施例3同样地制作了层叠体。
[实施例10]
除了以使各成分的含量成为表2记载的含量的方式改变成分C-5的配合量以外，与实施例9同样地制作了层叠体。
[实施例11]
除了以使各成分的含量成为表2记载的含量的方式改变成分A和成分B的配合量以外，与实施例5同样地制作了层叠体。
[实施例12]
除了以使各成分的含量成为表2记载的含量的方式改变成分A和成分B的配合量以外，与实施例5同样地制作了层叠体。
[比较例1]
除了不包含成分C以外，与实施例1同样地制作了层叠体。
[比较例2]
除了以使各成分的含量成为表2记载的含量的方式改变成分A和成分B的配合量以外，与实施例5同样地制作了层叠体。
[实施例13]
除了以使各成分的含量成为表2记载的含量的方式改变成分A和成分B的配合量以外，与实施例5同样地制作了层叠体。
[实施例14]
除了以使各成分的含量成为表3记载的含量的方式改变配合量以外，与实施例7同样地制作了层叠体。
[实施例15]
除了以使各成分的含量成为表3记载的含量的方式改变配合量以外，与实施例7同样地制作了层叠体。
Figure BDA0003609778960000291
Figure BDA0003609778960000301
表3
Figure BDA0003609778960000311
产业实用性
通过以上可以理解，本发明能够适用于显示器、太阳能电池的保护玻璃和其它的光学构件以及其它构件中的减反射膜等。

Claims (7)

1.一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含：
3个以上的粒径为10nm～60nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒链(A)、
平均粒径为1nm～20nm的无机微粒(B)、
烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)、和
液体分散介质(D)，并且
无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.01～0.99。
2.一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含：
3个以上的粒径为10nm～60nm的粒子以链状连接而得到的无机微粒链(A)、
平均粒径为1nm～20nm的无机微粒(B)、
烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)、和
液体分散介质(D)，并且
无机微粒链(A)的体积相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计体积的比例为0.50～0.90。
3.如权利要求1或2所述的无机微粒分散液，其中，烷氧基硅烷和/或其缩合物(C)中的SiO2的重量相对于无机微粒链(A)与无机微粒(B)的合计重量的比例为0.005～0.3。
4.一种层叠体的制造方法，其中，所述层叠体的制造方法包含：
将权利要求1～3中任一项所述的无机微粒分散液涂布在基材上的工序；和
从涂布在基材上的分散液中除去液体分散介质(D)而在基材上形成无机微粒层的工序。
5.一种层叠体，其中，所述层叠体为通过权利要求4所述的方法得到的、包含基材和无机微粒层的层叠体。
6.一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含无机微粒(A0)、烷氧基硅烷(C1)、烷氧基硅烷的缩合物(C2)和液体分散介质(D)，并且烷氧基硅烷(C1)中的SiO2的重量相对于烷氧基硅烷的缩合物(C2)中的SiO2的重量的比例为0.1～3。
7.一种无机微粒分散液，其中，所述无机微粒分散液包含：
无机微粒(A0)、
烷氧基硅烷(C1)或多个Si-O-Si键线性地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-2)、
多个Si-O-Si键三维地连接而得到的烷氧基硅烷缩合物(C2-3)、和液体分散介质(D)，并且
烷氧基硅烷(C1)或烷氧基硅烷缩合物(C2-2)中的SiO2的重量相对于烷氧基硅烷缩合物(C2-3)中的SiO2的重量的比例为0.1～3。
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