WO2019077650A1 - 撮像装置 - Google Patents

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WO2019077650A1
WO2019077650A1 PCT/JP2017/037369 JP2017037369W WO2019077650A1 WO 2019077650 A1 WO2019077650 A1 WO 2019077650A1 JP 2017037369 W JP2017037369 W JP 2017037369W WO 2019077650 A1 WO2019077650 A1 WO 2019077650A1
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feature point
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sample
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未来 前原
川俣 茂
吉延 星野
千葉 寛幸
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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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Definitions

  • the present invention relates to an imaging device.
  • Patent Document 1 discloses a method for obtaining an image to be registered by an image registration device.
  • two images to be aligned are selected using a radiographic image of a stimulable phosphor sheet of a rat brain slice, the outline of the brain slice is extracted, and a point that is relatively noticeable
  • each section When observing a plurality of sample sections, approximately the same position of each section may be observed. For example, when observing the state of the sample at each depth along the depth direction of the sample, a plurality of sample sections are formed by slicing the sample along the horizontal plane, and the same position of each sample section is observed There is.
  • the feature point of each segment In order to specify the corresponding position between each segment, for example, the feature point of each segment may be designated on the observation image, and the feature point may be associated between the segments. This is because corresponding feature points are assumed to be present at approximately the same position.
  • a charged particle beam apparatus such as a scanning electron microscope or an optical microscope is used.
  • a charged particle beam device or an optical microscope can observe a sample at high magnification, but on the other hand, the high magnification makes the field of view narrow. Therefore, when observing a sample at high magnification, when attempting to observe substantially the same position of each section as described above, it may be difficult to identify a corresponding portion between each section.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to easily obtain an image of a corresponding position between sections in an imaging device for obtaining images of a plurality of sample sections. It is a thing.
  • the imaging apparatus calculates the coordinates of the second observation area of the second sample section in accordance with the correspondence between the feature points of the first sample section and the first observation area, and observes the calculated coordinates. Generate an image.
  • the imaging apparatus of the present invention when acquiring images of a plurality of sample sections, it is possible to easily acquire an image of a corresponding position between the sections.
  • FIG. 1 is a block diagram of a charged particle beam device 101 according to a first embodiment.
  • 5 is a flowchart illustrating a procedure for imaging the continuous section sample 105 using the charged particle beam device 101. It is an example of continuous section sample 105 and an observation field. It is a flowchart explaining the detail of step S203. It is an example of the screen interface which the display apparatus 130 displays. It is a specific example of the screen interface in step S404. It is a specific example of the screen interface in step S406. It is a specific example of the screen interface in step S408. It is an example of the screen interface which displays the result of step S410. It is an example of the screen interface which the display apparatus 130 displays in Embodiment 2.
  • FIG. 1 is a block diagram of a charged particle beam device 101 according to a first embodiment.
  • 5 is a flowchart illustrating a procedure for imaging the continuous section sample 105 using the charged particle beam device 101. It is an example of continuous section sample 105 and an observation field. It is a
  • FIG. 15 is a flowchart illustrating details of step S203 in the third embodiment.
  • FIG. 1 is a block diagram of a charged particle beam device 101 according to a first embodiment of the present invention.
  • the charged particle beam device 101 is a scanning electron microscope.
  • the charged particle beam apparatus 101 is configured as a scanning electron microscope capable of capturing an observation image of a sample.
  • the charged particle beam device 101 has a device body 104 and a controller.
  • the apparatus main body 104 is configured by integrating a lens barrel 102 and a sample chamber 103.
  • the device main body 104 operates as an imaging unit that captures an image of the continuous section sample 105.
  • the controller includes an image acquisition unit 117, a position input unit 118, a position storage unit 119, a position calculation unit 120, a stage control unit 121, an optical system control unit 122, and a display device 130 described later.
  • the lens barrel 102 has an electron gun 107 and an electron optical system 108.
  • the electron gun 107 emits an electron beam 106.
  • the electron optical system 108 controls the trajectory of the electron beam 106.
  • the electron optical system 108 includes a condenser lens 109, a deflector 110, and an objective lens 111.
  • the condenser lens 109 focuses the electron beam 106 emitted from the electron gun 107.
  • the deflector 110 scans the electron beam 106.
  • the objective lens 111 focuses the electron beam 106 so that it is focused on the surface of the continuous section sample 105.
  • the electron beam 106 irradiates the continuous section sample 105 to generate a signal 113 (for example, secondary electrons, reflected electrons, etc.).
  • the detector 114 is disposed at an appropriate position in the lens barrel 102 or in the sample chamber 103 to detect the signal 113.
  • the sample chamber 103 has a structure in which the sample table 112 is accommodated via an openable / closable inlet / outlet port (not shown).
  • the continuous section sample 105 is placed on the sample table 112.
  • the sample chamber 103 further includes a sample stage 115 on which the sample table 112 is mounted.
  • the sample stage 115 is provided with a stage controller 116.
  • the stage control device 116 moves or rotates the continuous section sample 105 in, for example, a horizontal plane and a plane perpendicular direction in the sample chamber 103, and displaces the position and orientation of the continuous section sample 105 in the sample chamber 103.
  • the stage control unit 121 controls the stage control device 116, and the optical system control unit 122 controls the electron optical system 108.
  • the image acquisition unit 117 converts the signal 113 detected by the detector 114 into observation image (hereinafter referred to as electron microscope image) data.
  • the image acquisition unit 117 transfers the electron microscopic image data to the position calculation unit 120.
  • the position calculation unit 120 is configured by an information processing device such as a computer.
  • the position calculation unit 120 performs a calculation to be described later using the information input from the position input unit 118 and the information stored in the position storage unit 119.
  • the stage control unit 121 and the optical system control unit 122 respectively control the stage control device 116 and the electron optical system 108 using the calculation result by the position calculation unit 120.
  • the display device 130 is a screen display device such as a display device, for example, and displays the observation image of the continuous section sample 105 acquired by the image acquisition unit 117 on the screen.
  • the display device 130 also displays a screen interface described later with reference to FIG.
  • the position input unit 118 receives the designated input input on the screen interface.
  • FIG. 2 is a flow chart for explaining the procedure for imaging the continuous section sample 105 using the charged particle beam apparatus 101. Each step of FIG. 2 will be described below.
  • FIG. 2 Steps S201 to S202
  • the user places the continuous section sample 105 on the sample table 112, and places the sample table 112 on the sample stage 115 (S201).
  • the user uses the charged particle beam apparatus 101 to image the entire area 301 described later with reference to FIG. 3 (S202).
  • the position calculation unit 120 calculates the coordinates of the observation region (the high magnification region 304 described in FIG. 3 described later) in each sample slice in accordance with the flowchart of FIG. 4 described later.
  • the position storage unit 119 stores the coordinates of each observation area obtained by the position calculation unit 120. When the observation area is rotating between sample pieces, the rotation angle may be obtained together and stored.
  • the stage control unit 121 moves the sample stage 115 to a position at which an image of each observation area can be acquired according to the coordinates of each observation area stored in the position storage unit 119.
  • the optical system control unit 122 causes the electron optical system 108 to irradiate the position corresponding to each observation area with the electron beam 106 according to the coordinates of each observation area stored in the position storage unit 119.
  • the image acquisition unit 117 acquires images of a medium-magnification area 303 and a high-magnification area 304, which will be described later with reference to FIG. 3, in each observation area. After obtaining these images, each image can be observed using a screen interface described later with reference to FIG.
  • FIG. 3 shows an example of the continuous section sample 105 and the observation area.
  • the continuous section sample 105 is a sample in which a plurality of sections 302 are arranged in series. It is assumed that each section has substantially the same shape. An example where the shape is different will be described later. It is assumed that the user observes substantially the same position of each section at high magnification.
  • the entire area 301 is used by the user to visually recognize the arrangement and the number of the segments 302.
  • step S202 the user visually recognizes these by capturing the image of the entire area 301.
  • the high magnification area 304 is an area that the user is trying to observe.
  • the high magnification area coordinate 305 is that coordinate.
  • the high-magnification region coordinates 305 are, for example, center coordinates of the high-magnification region 304. Other coordinates (for example, the coordinates of each vertex of the rectangular area) may be used as the high-magnification area coordinates 305 if the high-magnification area 304 can be specified.
  • the medium magnification area 303 is an image captured at a magnification between the magnification of the entire area 301 and the magnification of the high magnification area 304.
  • the medium magnification area 303 can be used. Specifically, when the user designates the observation region in step S203, the medium-magnification region 303 can be imaged to assist the designation.
  • FIG. 4 is a flowchart for explaining the details of step S203. Each step of FIG. 4 will be described below.
  • Step S401 The display device 130 displays the image of the entire area 301 on the entire area display unit 501 described later with reference to FIG. 5.
  • Step S402 The user designates any one on the entire area display unit 501 as a first sample slice on the screen of FIG. 5 described later.
  • the image acquisition unit 117 acquires an image of the medium-magnification region 303 of the designated first sample section.
  • the coordinates of the medium-magnification region 303 may be an appropriate location of the first sample slice (e.g., the center of gravity, a rectangular region centered on the position designated on the screen by the user, etc.).
  • the display device 130 displays the image of the medium-size area 303 captured in step S402 on the medium-size area display unit 502 described later with reference to FIG.
  • the position calculation unit 120 obtains the coordinates of the middle-size area frame 601 in the entire area display unit 501 according to the coordinates of the middle-size area 303.
  • the display device 130 displays the medium magnification area frame 601 at the coordinates. An example of the medium-size area frame 601 will be described again in FIG. 6A described later.
  • Step S404 The position calculation unit 120 obtains the coordinates (that is, the high magnification area coordinates 305) of the high magnification area indicator 503 for specifying the high magnification area 304 in the medium magnification area display section 502.
  • the display device 130 displays the high magnification region indicator 503 at the coordinates.
  • the user moves the high magnification area indicator 503 in the medium magnification area display unit 502.
  • the position calculation unit 120 sequentially obtains the coordinates of the high magnification region indicator 503 after movement. A specific example of this step will be described again in FIG. 6A described later.
  • Step S404 Supplement
  • the peripheral area including the area designated by the high magnification area indicator 503 may be enlarged and displayed on the enlarged area display unit 505 described later with reference to FIG.
  • the position storage unit 119 stores the high-magnification region coordinates 305.
  • the central coordinates of the high magnification area indicator 503 are used as the high magnification area coordinates 305.
  • the coordinates of the high magnification area indicator 503 can be designated, any coordinates within the frame, on the frame, or outside the frame May be used.
  • Step S406 The user selects the first feature point of the first sample segment and the second feature point of the first segment on the entire region display unit 501. A specific example of this step will be described later with reference to FIG. 6B. This step may be performed, for example, before step S402.
  • the position calculation unit 120 calculates a positional relationship (for example, relative coordinates of these) between the first feature point / second feature point / high magnification region coordinates 305 specified by the user in step S406.
  • the position storage unit 119 stores the positional relationship.
  • Step S408 The user designates another sample on the entire area display unit 501 as a second sample section. Subsequently, the user selects the first feature point of the second sample section and the second feature point of the second section on the entire area display unit 501. A specific example of this step will be described later with reference to FIG. 7A.
  • the position calculation unit 120 reads, from the position storage unit 119, the positional relationship between the first feature point / second feature point / high magnification region coordinates 305 obtained for the first section sample in step S407.
  • the position calculation unit 120 associates the coordinates of the first feature point of the first sample segment with the coordinates of the first feature point of the second sample segment.
  • the position calculation unit 120 further associates the coordinates of the second feature point of the first sample segment with the coordinates of the second feature point of the second sample segment.
  • the position calculation unit 120 assumes that the correspondence between the first feature point / second feature point / high-magnification region coordinates 305 in the second sample segment is in a similar relationship with those in the first sample segment,
  • the high-magnification region coordinates 305 in the second sample section are calculated using the similarity relation. A specific example of this step will be described later with reference to FIG. 7B.
  • the position calculation unit 120 stores the calculated high-magnification region coordinates 305 of the second sample segment in the position storage unit 119.
  • Step S412 The user repeats the same processing as steps S408 to S411 for the third and subsequent sample sections until the high-magnification region coordinates 305 are determined for all sample sections.
  • FIG. 5 is an example of a screen interface displayed by the display device 130.
  • the user uses this screen interface to input designation inputs in each step of FIG.
  • the screen interface includes an entire area display unit 501, a medium-sized area display unit 502, and an enlarged area display unit 505.
  • the entire area display unit 501 displays an image of the entire area 301.
  • the entire region 301 includes a plurality of sample slices that the continuous slice sample 105 has.
  • the user can designate the first feature point / second feature point of each segment on the entire area display unit 501.
  • the medium magnification area display unit 502 displays an image of the medium magnification area 303.
  • the medium-magnification region 303 has a role of displaying an image around the high-magnification region 304 at a lower magnification, in order for the user to specify the high-magnification region 304 correctly.
  • the medium-magnification area display unit 502 further displays a high-magnification area indicator 503 representing the high-magnification area 304 designated by the user. The user designates the high magnification area 304 by moving the high magnification area indicator 503 on the screen.
  • the enlarged area display unit 505 displays an image obtained by enlarging the periphery of the high magnification area indicator 503 at a higher magnification.
  • the enlarged area display unit 505 changes the image to be displayed accordingly.
  • the high magnification area frame 504 corresponds to the high magnification area indicator 503.
  • FIG. 6A is a specific example of the screen interface in step S404.
  • the image in the enlarged area display unit 505 also changes accordingly.
  • the position of the high magnification area 304 may be displayed also in the entire area display unit 501.
  • the position of the image (+ mark in FIG. 6A) representing the high magnification area coordinate 305 may be moved along with the movement of the high magnification area 304, or the middle magnification area frame 601 may be moved.
  • FIG. 6B is a specific example of the screen interface in step S406.
  • the user specifies the first feature point 602 and the second feature point 603 of the first sample slice in the entire area display unit 501.
  • the position calculation unit 120 calculates the positional relationship between the first feature point 602 / second feature point 603 / high magnification area coordinate 305 as the positional relationship 604, and stores this in the position storage unit 119.
  • FIG. 7A is a specific example of the screen interface in step S408.
  • the user designates the first feature point 701 and the second feature point 702 of the second section sample in the entire area display unit 501.
  • FIG. 7B is an example of a screen interface displaying the result of step S410.
  • the position calculation unit 120 sets the coordinates of the first feature point 701 / the coordinates of the second feature point 702 / the high magnification region coordinates 305 in the second sample section as a set, and stores the set in the position storage unit 119 as the registration history 704.
  • the charged particle beam device 101 uses the positional relationship between the first feature point / the second feature point / the high magnification area coordinate 305 in the first sample section to obtain the high magnification area coordinate 305 in another sample section. Calculate This simplifies the task of designating the high-magnification region 304 for each sample section, so that the user can efficiently observe the continuous section sample 105 without spending much time in searching the high-magnification region 304. Can.
  • the charged particle beam apparatus 101 can designate the high magnification region coordinates 305 without irradiating the electron beam 106 for the second sample section and thereafter. Therefore, it is possible to suppress sample damage caused by irradiating the sample with the electron beam 106 in order to search the high magnification region 304 as in the prior art.
  • FIG. 8A is an example of a screen interface displayed by the display device 130 according to the second embodiment of the present invention. Since the configuration of the charged particle beam device 101 is the same as that of the first embodiment, the differences with regard to the screen interface shown in FIG. 8 will be mainly described below.
  • the position calculator 120 calculates the distance between the first feature point 602 and the second feature point 603 of the first sample segment.
  • the position calculation unit 120 obtains a circle 705 whose radius is the previously calculated distance with the first feature point 701 as the center, and the display device 130 obtains the circle 705.
  • a circle 705 is displayed.
  • the first sample section and the second sample section have substantially the same shape and size, it can be estimated that the second feature point 702 exists on the circle 705. Therefore, even when the portion on the second sample section corresponding to the second feature point 702 is missing as shown on the right side of FIG. 8, the user can specify the second feature point 702 with high accuracy.
  • the second feature point 702 can be designated on the intersection of a straight line extending from the first feature point 701 and the circle 705.
  • FIG. 8B is another example of the screen interface displayed by the display device 130 in the second embodiment.
  • the position calculation unit 120 calculates a first line segment between the first feature point 602 and the second feature point 603 of the first sample segment.
  • the position calculation unit 120 starts with the first feature point 701 and has the same length as the first segment and is parallel to the first segment.
  • the second line segment 706 is obtained, and the second line segment 706 is displayed on the display device 130.
  • the end of the second line segment 706 can be used as a candidate for the second feature point 702. Even when the user rotates the second line segment 706 about the first feature point 701, as shown in FIG. 8B, the portion on the second sample section corresponding to the second feature point 702 is missing. , And the second feature point 702 can be specified with high accuracy.
  • FIG. 9 is another example of the screen interface displayed by the display device 130 in the second embodiment.
  • the position calculation unit 120 may display the sample segment number 706 on the entire area display unit 501 each time step S411 is completed. As a result, it is possible to easily visually recognize the sample section which has stored the high-magnification area coordinates 305.
  • FIG. 10A is an example of a screen interface displayed by the display device 130 in the third embodiment of the present invention. Since the configuration of the charged particle beam device 101 is the same as that of the first embodiment, the differences with regard to the screen interface shown in FIG. 10A will be mainly described below.
  • the corresponding feature points of each section are considered to be regularly arranged.
  • the first feature point 901 and the high magnification region coordinate 305 are designated for the first sample section
  • the second feature point 903 is designated for the second sample section.
  • the observation area of the second sample section was automatically determined in accordance with the correspondence relationship.
  • the coordinates of each feature point can be input by the user specifying the coordinates of each point in the entire area display unit 501.
  • the position calculation unit 120 calculates a vector quantity 904 between the first feature point 901 and the second feature point 903.
  • the position calculation unit 120 further calculates the positional relationship 902 between the first feature point 901 and the high magnification region coordinate 305 in the first sample segment, and applies the positional relationship 902 to the second feature point 903 to thereby The high magnification region coordinates 305 in the sample section can be calculated.
  • the position calculation unit 120 stores the positional relationship 902 in the position storage unit 119.
  • FIG. 10B is a view for explaining the process for the third sample section.
  • the positional relationship between the first feature point 901 and the second feature point 903 is the same as the second feature point 903 of the second sample segment and the third feature point of the third sample segment. It is considered that the same holds with the feature point 905.
  • the position calculation unit 120 uses this to apply the vector amount 904 to the second feature point 903 to calculate the coordinates of the third feature point 905. Therefore, the user does not have to specify the coordinates of the third feature point 905.
  • the position calculation unit 120 can further calculate the high-magnification region coordinates 305 in the third sample segment by applying the positional relationship 902 to the third feature point 905. Therefore, the user does not have to specify the high-magnification region coordinates 305. Similarly, for the fourth sample section and thereafter, these coordinates can be calculated without specifying the feature point and the high magnification region coordinate 305. The case where the alignment is slightly deviated as in the sample section at the right end of FIGS. 10A and 10B will be described later.
  • FIG. 11 is a flowchart for explaining the details of step S203 in the third embodiment. Each step of FIG. 11 will be described below.
  • Step S1101 to S1107 These steps are similar to steps S401 to S407. However, in step S1106, the user designates the first feature point 901 of the first sample slice as described in FIG. 10A. In step S1107, the position calculation unit 120 obtains the positional relationship 902, and stores the positional relationship 902 in the position storage unit 119.
  • FIG. 11 Steps S1108 to S1111
  • the user designates the second feature point 903 of the second sample section as described in FIG. 10A (S1108).
  • the position calculation unit 120 reads the positional relationship 902 from the position storage unit 119 (S1109).
  • the position calculation unit 120 calculates the vector quantity 904 described with reference to FIG. 10A and calculates the high-magnification region coordinates 305 of the second sample segment (S1110).
  • the position calculation unit 120 stores the vector amount 904 and the high-magnification region coordinates 305 of the second sample segment in the position storage unit 119 (S1111).
  • the position calculation unit 120 can also repeatedly use the positional relationship between the first feature point 901 and the high magnification region coordinate 305 in the first sample section for the third sample section and subsequent sections, or the feature point in the previous sample section.
  • the positional relationship between the and the high-magnification region coordinates 305 can also be applied sequentially to the next sample segment. It is assumed that the latter is used in this flowchart. In this case, the position calculation unit 120 acquires the positional relationship between the second feature point 903 and the high magnification region coordinate 305 in the second sample slice.
  • the position calculation unit 120 applies the vector amount 904 to the second feature point 903 to obtain the coordinates of the third feature point 905 in the third sample segment.
  • the position calculation unit 120 applies the positional relationship between the second feature point 903 in the second sample segment and the high magnification area coordinate 305 to the third feature point 905 to obtain the high magnification area coordinate 305 in the third sample segment.
  • Step S1113 Supplement 1
  • the position calculation unit 120 may search for the third feature point 905 by an appropriate method such as pattern matching. For example, when the user designates the second feature point 903, an image around the second feature point 903 is stored in advance in the position storage unit 119 as a reference pattern. The position calculation unit 120 searches for a partial region that matches the reference pattern around the coordinates obtained by applying the vector quantity 904 to the second feature point 903. Thereby, the third feature point 905 can be accurately identified.
  • Step S1113 Supplement 2
  • the position calculation unit 120 compares the image around the coordinates obtained by applying the vector quantity 904 to the second feature point 903 and the reference pattern, and if the coordinates match the reference pattern, the position calculation unit 120 The feature point 905 is adopted as it is. If they do not match, the reference pattern may be further searched in the surrounding area, or a message may be displayed prompting the user to specify the third feature point 905.
  • the position calculation unit 120 stores the calculated high-magnification region coordinates 305 of the third sample slice in the position storage unit 119.
  • Step S1115 The user repeats the same processing as steps S1112 to S1114 for the fourth and subsequent sample sections until the high-magnification region coordinates 305 are determined for all sample sections.
  • the charged particle beam device 101 repeats the correspondence between the first feature point 901 and the high-magnification region coordinates 305 in the first sample section in accordance with the vector quantity 904 after the second sample section. Then, feature points and high magnification region coordinates 305 in each sample section are automatically calculated. As a result, particularly when the sample sections are sufficiently aligned, it is possible to reduce the work load for the user to specify feature points and the like.
  • the present invention is not limited to the embodiments described above, but includes various modifications.
  • the above-described embodiment is described in detail to explain the present invention in an easy-to-understand manner, and is not necessarily limited to one having all the described configurations.
  • part of the configuration of one embodiment can be replaced with the configuration of another embodiment, and the configuration of another embodiment can be added to the configuration of one embodiment.
  • the high-magnification region coordinates 305 in each sample slice are calculated using the positional relationship between the two feature points in the first sample slice and the high-magnification region coordinates 305.
  • the number of feature points is not limited to this as long as the high-magnification region coordinates 305 can be obtained.
  • two or more feature points may be designated for each sample segment, and the positional relationship between the feature points may be repeated from the second sample segment onward according to the vector quantity 904.
  • the charged particle beam device 101 is described as operating as an imaging device by being configured as a scanning electron microscope, the charged particle beam device 101 may be an FIB (Focused Ion Beam) device, a transmission electron microscope, or the like.
  • FIB Fluorescence Beam
  • the present invention can be similarly applied to the case where another charged particle beam device operates as an imaging device.
  • the present invention can be similarly applied to an imaging device such as a confocal laser microscope and a fluorescence microscope.
  • the image of the medium-size area 303 may be displayed in the entire area display area 501 instead of or in combination with the medium-size area display area 502.
  • the image of the medium magnification area 303 may be displayed in a reduced size in the medium magnification area frame 601 of FIG. 6A.
  • a living tissue is exemplified as the continuous section sample 105, but the imaging efficiency is greatly improved by applying the present technology to other samples in which a plurality of samples having similar structures are arranged. be able to.

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Abstract

本発明は、複数の試料切片の画像を取得する撮像装置において、各切片間の対応する位置の画像を容易に取得することを目的とするものである。本発明に係る撮像装置は、第1試料切片における特徴点と第1観察領域との間の対応関係にしたがって、第2試料切片の第2観察領域の座標を算出し、その算出した座標における観察画像を生成する(図7B参照)。

Description

撮像装置
 本発明は、撮像装置に関する。
 複数の組織切片のイメージを重ね合わせる技術が知られている。特許文献1には、画像位置合せ装置により位置合せがなされる画像を得る方法について開示がある。特許文献1には、ラットの脳切片の蓄積性蛍光体シートの放射線画像を用いて、位置合せを行う2つの画像を選択し、脳切片の輪郭を抽出し、さらに比較的目立つ点を特徴点として抽出し、位置合せを行う技術が開示されている。
特開平5-298417号公報
 複数の試料切片を観察する場合、各切片の概ね同じ位置を観察することがある。例えば試料の深さ方向に沿って各深さにおける試料の状態を観察する場合、その試料を水平面に沿ってスライスすることにより複数の試料切片を作成し、各試料切片の同じ位置を観察する場合がある。各切片間の対応する位置を特定するためには、例えば各切片の特徴点を観察画像上でそれぞれ指定し、その特徴点を切片間で対応付ければよい。対応する特徴点は概ね同じ位置に存在していると想定されるからである。各試料切片を観察する際には、例えば走査電子顕微鏡などの荷電粒子線装置や光学顕微鏡を用いる。
 荷電粒子線装置または光学顕微鏡は、試料を高倍率で観察することができるが、他方で高倍率であるため視野が狭くなる。したがって高倍率で試料を観察している場合、上述のように各切片の略同じ位置を観察しようとする際に、各切片間において対応する部位を特定することが困難になることがある。
 本発明は、上記のような課題に鑑みてなされたものであり、複数の試料切片の画像を取得する撮像装置において、各切片間の対応する位置の画像を容易に取得することを目的とするものである。
 本発明に係る撮像装置は、第1試料切片における特徴点と第1観察領域との間の対応関係にしたがって、第2試料切片の第2観察領域の座標を算出し、その算出した座標における観察画像を生成する。
 本発明に係る撮像装置によれば、複数の試料切片の画像を取得する際に、各切片間の対応する位置の画像を容易に取得することができる。
実施形態1に係る荷電粒子線装置101の構成図である。 荷電粒子線装置101を用いて連続切片試料105を撮像する手順を説明するフローチャートである。 連続切片試料105と観察領域の例である。 ステップS203の詳細を説明するフローチャートである。 表示装置130が表示する画面インターフェースの例である。 ステップS404における画面インターフェースの具体例である。 ステップS406における画面インターフェースの具体例である。 ステップS408における画面インターフェースの具体例である。 ステップS410の結果を表示する画面インターフェースの例である。 実施形態2において表示装置130が表示する画面インターフェースの例である。 実施形態2において表示装置130が表示する画面インターフェースの別例である。 実施形態2において表示装置130が表示する画面インターフェースの別例である。 実施形態3において表示装置130が表示する画面インターフェースの例である。 第3試料切片に対する処理を説明する図である。 実施形態3におけるステップS203の詳細を説明するフローチャートである。
<実施の形態1>
 図1は、本発明の実施形態1に係る荷電粒子線装置101の構成図である。本実施形態1において荷電粒子線装置101は走査型電子顕微鏡である。荷電粒子線装置101は、試料の観察画像を撮像することができる走査電子顕微鏡として構成されている。荷電粒子線装置101は、装置本体104とコントローラを有する。装置本体104は、鏡筒102と試料室103が一体化されて構成されている。装置本体104は、連続切片試料105の画像を撮像する撮像部として動作する。コントローラは、後述する画像取得部117、位置入力部118、位置記憶部119、位置演算部120、ステージ制御部121、光学系制御部122、表示装置130を有する。
 鏡筒102は、電子銃107と電子光学系108を有する。電子銃107は、電子ビーム106を放出する。電子光学系108は、電子ビーム106の軌道を制御する。電子光学系108は、コンデンサレンズ109、偏向器110、対物レンズ111を有する。コンデンサレンズ109は、電子銃107から放出された電子ビーム106を集束する。偏向器110は、電子ビーム106を走査する。対物レンズ111は、連続切片試料105の表面上に焦点が合うように電子ビーム106を集束させる。
 電子ビーム106が連続切片試料105に対して照射されることにより、信号113(例えば、2次電子や反射電子等)が発生する。検出器114は、鏡筒102内または試料室103内の適当な位置に配置され、信号113を検出する。
 試料室103は、開閉可能な導入/導出口(図示せず)を介して試料台112が収容される構造を有する。連続切片試料105は試料台112上に載置される。試料室103はさらに、試料台112が載置される試料ステージ115を備えている。
 試料ステージ115は、ステージ制御装置116を備えている。ステージ制御装置116は、試料室103内で、連続切片試料105を例えば水平面内および面直方向へ移動させたり、回転させたりして、試料室103内における連続切片試料105の位置や向きを変位させる。ステージ制御部121はステージ制御装置116を制御し、光学系制御部122は電子光学系108を制御する。連続切片試料105の任意の位置に電子ビーム106を照射し、発生した信号113を検出器114が検出することにより、連続切片試料105の任意の位置と倍率において観察することができる。
 画像取得部117は、検出器114が検出した信号113を観察画像(以下、電顕像と称する)データに変換する。画像取得部117は、電顕像データを位置演算部120に転送する。位置演算部120は、コンピュータなどの情報処理装置によって構成される。位置演算部120は、位置入力部118から入力された情報と、位置記憶部119が格納している情報を用いて、後述する演算を実施する。ステージ制御部121と光学系制御部122は、位置演算部120による演算結果を用いて、ステージ制御装置116と電子光学系108をそれぞれ制御する。
 表示装置130は、例えばディスプレイデバイスなどの画面表示装置であり、画像取得部117が取得した連続切片試料105の観察画像を画面表示する。表示装置130はその他、後述の図5以降で説明する画面インターフェースを表示する。位置入力部118はその画面インターフェース上で入力された指定入力を受け取る。
 図2は、荷電粒子線装置101を用いて連続切片試料105を撮像する手順を説明するフローチャートである。以下図2の各ステップについて説明する。
(図2:ステップS201~S202)
 ユーザは、試料台112に連続切片試料105を載置し、その試料台112を試料ステージ115に載置する(S201)。ユーザは荷電粒子線装置101を用いて、後述の図3で説明する全体領域301を撮像する(S202)。
(図2:ステップS203)
 位置演算部120は、後述する図4のフローチャートにしたがって、各試料切片における観察領域(後述の図3で説明する高倍領域304)の座標を演算する。位置記憶部119は、位置演算部120が求めた各観察領域の座標を記憶する。観察領域が試料切片間で回転している場合は、その回転角度を併せて求め、記憶してもよい。
(図2:ステップS204)
 ステージ制御部121は、位置記憶部119が記憶している各観察領域の座標にしたがって、各観察領域の画像を取得することができる位置まで試料ステージ115を移動させる。光学系制御部122は同様に、位置記憶部119が記憶している各観察領域の座標にしたがって、電子ビーム106が各観察領域に対応する位置に対して照射されるように、電子光学系108を制御する。画像取得部117は、各観察領域において、後述の図3で説明する中倍領域303と高倍領域304の画像を取得する。これら画像を取得した以降は、後述の図5で説明する画面インターフェースを用いて、各画像を観察することができる。
 図3は、連続切片試料105と観察領域の例である。連続切片試料105は、複数の切片302が連続して配列されている試料である。各切片は略同一の形状を有していることを想定する。形状が異なる場合の例については後述する。ユーザは、各切片の略同じ位置を高倍率で観察するものと仮定する。
 全体領域301は、切片302の配列と個数をユーザが視認するために用いられる。ユーザはステップS202において、全体領域301の画像を撮像することにより、これらを視認する。
 高倍領域304は、ユーザが観察しようとしている領域である。高倍領域座標305はその座標である。高倍領域座標305は、例えば高倍領域304の中心座標である。高倍領域304を特定することができれば、その他の座標(例えば矩形領域の各頂点の座標)を高倍領域座標305として用いてもよい。
 中倍領域303は、全体領域301の倍率と高倍領域304の倍率との間の倍率で撮像した画像である。ユーザが高倍領域304を指定する際には、ユーザが観察しようとしている部分がその高倍領域304内に含まれている必要がある。したがって、高倍領域304内に含まれている特徴をある程度把握するために、中倍領域303を用いることができる。具体的には、ユーザがステップS203において観察領域を指定する際に、その指定を補助するために中倍領域303を撮像することができる。
 図4は、ステップS203の詳細を説明するフローチャートである。以下図4の各ステップについて説明する。
(図4:ステップS401)
 表示装置130は、全体領域301の画像を、後述の図5で説明する全体領域表示部501上に表示する。
(図4:ステップS402)
 ユーザは、全体領域表示部501上のいずれか1つを第1試料切片として、後述する図5の画面上で指定する。画像取得部117は、指定された第1試料切片の中倍領域303の画像を取得する。中倍領域303の座標は、第1試料切片の適当な場所(例えば重心、ユーザが画面上で指定した位置を中心とする矩形領域、など)でよい。
(図4:ステップS403)
 表示装置130は、ステップS402において撮像した中倍領域303の画像を、後述の図5で説明する中倍領域表示部502に表示する。位置演算部120は、中倍領域303の座標にしたがって、全体領域表示部501内における中倍領域枠601の座標を求める。表示装置130はその座標において中倍領域枠601を表示する。中倍領域枠601の例については、後述する図6Aにおいて改めて説明する。
(図4:ステップS404)
 位置演算部120は、中倍領域表示部502内において、高倍領域304を指定するための高倍領域インジケータ503の座標(すなわち高倍領域座標305)を求める。表示装置130は、その座標において高倍領域インジケータ503を表示する。ユーザは、中倍領域表示部502のなかで、高倍領域インジケータ503を移動させる。位置演算部120は、移動後の高倍領域インジケータ503の座標を逐次求める。本ステップの具体例については後述の図6Aにおいて改めて説明する。
(図4:ステップS404:補足)
 本ステップにおいて、高倍領域304を視認しやすくするため、高倍領域インジケータ503が指定する領域を含む周辺領域を、後述の図5で説明する拡大領域表示部505に拡大表示してもよい。
(図4:ステップS405)
 位置記憶部119は、高倍領域座標305を記憶する。本実施形態1においては、高倍領域座標305として高倍領域インジケータ503の中心座標を用いることとしたが、高倍領域インジケータ503の座標を指定できるのであれば、枠内、枠上、枠外のいずれの座標を用いてもよい。
(図4:ステップS406)
 ユーザは、全体領域表示部501上で、第1試料切片の第1特徴点と第1切片の第2特徴点を選択する。本ステップの具体例については後述の図6Bで説明する。本ステップは例えばステップS402の前に実施してもよい。
(図4:ステップS407)
 位置演算部120は、ステップS406においてユーザが指定した第1特徴点/第2特徴点/高倍領域座標305の間の位置関係(例えばこれらの相対座標)を算出する。位置記憶部119は、その位置関係を記憶する。
(図4:ステップS408)
 ユーザは、全体領域表示部501上の別の試料を、第2試料切片として指定する。ユーザは続いて、全体領域表示部501上で、第2試料切片の第1特徴点と第2切片の第2特徴点を選択する。本ステップの具体例については後述の図7Aで説明する。
(図4:ステップS409)
 位置演算部120は、ステップS407において第1切片試料について求めた、第1特徴点/第2特徴点/高倍領域座標305の間の位置関係を、位置記憶部119から読み込む。
(図4:ステップS410)
 位置演算部120は、第1試料切片の第1特徴点の座標と第2試料切片の第1特徴点の座標を対応付ける。位置演算部120はさらに、第1試料切片の第2特徴点の座標と第2試料切片の第2特徴点の座標を対応付ける。位置演算部120は、第2試料切片における第1特徴点/第2特徴点/高倍領域座標305の間の対応関係が、第1試料切片におけるこれらの対応関係と相似関係にあると仮定し、その相似関係を用いて、第2試料切片における高倍領域座標305を算出する。本ステップの具体例については後述の図7Bで説明する。
(図4:ステップS411)
 位置演算部120は、算出した第2試料切片の高倍領域座標305を位置記憶部119に記憶する。
(図4:ステップS412)
 ユーザは、すべての試料切片について高倍領域座標305を求めるまで、ステップS408~S411と同様の処理を、第3試料切片以降について繰り返す。
 図5は、表示装置130が表示する画面インターフェースの例である。ユーザはこの画面インターフェースを用いて、図4の各ステップにおける指定入力を入力する。画面インターフェースは、全体領域表示部501、中倍領域表示部502、拡大領域表示部505を有する。
 全体領域表示部501は、全体領域301の画像を表示する。全体領域301は、連続切片試料105が有する複数の試料切片を含んでいる。ユーザはステップS402/S406/S408において、全体領域表示部501上で、各切片の第1特徴点/第2特徴点を指定することができる。
 中倍領域表示部502は、中倍領域303の画像を表示する。中倍領域303は、ユーザが高倍領域304を正確に指定するため、高倍領域304周辺の画像をより低い倍率で表示する役割を有する。中倍領域表示部502はさらに、ユーザが指定した高倍領域304を表す高倍領域インジケータ503を表示する。ユーザは画面上で高倍領域インジケータ503を移動させることにより、高倍領域304を指定する。
 拡大領域表示部505は、高倍領域インジケータ503周辺をより高い倍率で拡大した画像を表示する。ユーザが高倍領域インジケータ503を移動させると、拡大領域表示部505もこれにともなって、表示する画像を変化させる。高倍領域枠504は、高倍領域インジケータ503に対応する。
 図6Aは、ステップS404における画面インターフェースの具体例である。ユーザが中倍領域表示部502内において高倍領域インジケータ503を移動させると、拡大領域表示部505内の画像もこれにともなって変化する。さらに、試料切片上における高倍領域304の相対的位置を把握するため、全体領域表示部501においても、高倍領域304の位置を表示してもよい。例えば高倍領域座標305を表す画像(図6Aにおける+マーク)の位置を、高倍領域304の移動にともなって移動させてもよいし、中倍領域枠601を移動させてもよい。
 図6Bは、ステップS406における画面インターフェースの具体例である。ユーザは全体領域表示部501において、第1試料切片の第1特徴点602と第2特徴点603を指定する。位置演算部120は、第1特徴点602/第2特徴点603/高倍領域座標305の間の位置関係を、位置関係604として算出し、これを位置記憶部119に格納する。
 図7Aは、ステップS408における画面インターフェースの具体例である。ユーザは全体領域表示部501において、第2切片試料の第1特徴点701と第2特徴点702を指定する。
 図7Bは、ステップS410の結果を表示する画面インターフェースの例である。第1試料切片の第1特徴点602/第2特徴点603/高倍領域座標305の位置関係と相似する位置関係を、第2試料切片においても算出することにより、第2試料切片における高倍領域座標305を算出することができる。位置演算部120は、第2試料切片における第1特徴点701の座標/第2特徴点702の座標/高倍領域座標305をセットとし、登録履歴704として位置記憶部119に格納する。
<実施の形態1:まとめ>
 本実施形態1に係る荷電粒子線装置101は、第1試料切片における第1特徴点/第2特徴点/高倍領域座標305の間の位置関係を用いて、他の試料切片における高倍領域座標305を算出する。これにより、試料切片ごとに高倍領域304を指定する作業が簡略化されるので、ユーザは高倍領域304を探索する作業に多くの時間をかけることなく、連続切片試料105を効率的に観察することができる。
 本実施形態1に係る荷電粒子線装置101は、第2試料切片以降については、電子ビーム106を当てることなく高倍領域座標305を指定することができる。したがって、従来のように高倍領域304を探索するため試料に対して電子ビーム106を照射することによる試料ダメージを抑制することができる。
<実施の形態2>
 図8Aは、本発明の実施形態2において表示装置130が表示する画面インターフェースの例である。荷電粒子線装置101の構成は実施形態1と同様であるので、以下では図8に示す画面インターフェースに関する差異点について主に説明する。
 位置演算部120は、第1試料切片の第1特徴点602と第2特徴点603との間の距離を算出する。ユーザが第2試料切片の第1特徴点701を指定すると、位置演算部120は、第1特徴点701を中心とし、先に算出した距離を半径とする円705を求め、表示装置130にその円705を表示させる。第1試料切片と第2試料切片が略同じ形状とサイズを有している場合、円705上に第2特徴点702が存在すると推定することができる。したがって図8右図のように、第2特徴点702に対応する第2試料切片上の部位が欠けている場合であっても、ユーザは第2特徴点702を精度よく指定することができる。例えば第1特徴点701から延伸する直線と円705の交点上に、第2特徴点702を指定することができる。
 図8Bは、本実施形態2において表示装置130が表示する画面インターフェースの別例である。位置演算部120は、第1試料切片の第1特徴点602と第2特徴点603との間の第1線分を算出する。ユーザが第2試料切片の第1特徴点701を指定すると、位置演算部120は、第1特徴点701を始点とし、第1線分と同じ長さを有し第1線分に平行な第2線分706を求め、表示装置130にその第2線分706を表示させる。第2線分706の終端は、第2特徴点702の候補として用いることができる。ユーザは第1特徴点701を中心として第2線分706を回転させることにより、図8Bのように第2特徴点702に対応する第2試料切片上の部位が欠けている場合であっても、第2特徴点702を精度よく指定することができる。
 図9は、本実施形態2において表示装置130が表示する画面インターフェースの別例である。位置演算部120は、ステップS411を完了するごとに、試料切片の番号706を全体領域表示部501上に表示してもよい。これにより、高倍領域座標305を格納し終えた試料切片を容易に視認することができる。
<実施の形態3>
 図10Aは、本発明の実施形態3において表示装置130が表示する画面インターフェースの例である。荷電粒子線装置101の構成は実施形態1と同様であるので、以下では図10Aに示す画面インターフェースに関する差異点について主に説明する。
 連続切片試料105の各試料切片が略同一形状かつ略同じ向きに整列されている場合、各切片の対応する特徴点は規則的に配列されていると考えられる。本実施形態3においてはこのことを利用して、第1特徴点901と高倍領域座標305を第1試料切片について指定するとともに、第2試料切片については第2特徴点903を指定し、これらの対応関係にしたがって第2試料切片の観察領域を自動的に求めることとした。各特徴点の座標はユーザが全体領域表示部501内で各点の座標を指定することにより入力することができる。
 位置演算部120は、第1特徴点901と第2特徴点903との間のベクトル量904を算出する。位置演算部120はさらに、第1試料切片における第1特徴点901と高倍領域座標305の位置関係902を算出するとともに、位置関係902を第2特徴点903に対して適用することにより、第2試料切片における高倍領域座標305を算出することができる。位置演算部120は、位置関係902を位置記憶部119に格納する。
 図10Bは、第3試料切片に対する処理を説明する図である。各試料切片が規則的に配列されている場合、第1特徴点901と第2特徴点903との間の位置関係は、第2試料切片の第2特徴点903と第3試料切片の第3特徴点905との間においても保たれていると考えられる。位置演算部120はこのことを利用して、第2特徴点903に対してベクトル量904を適用することにより、第3特徴点905の座標を算出する。したがってユーザは、第3特徴点905の座標を指定する必要はない。
 位置演算部120はさらに、位置関係902を第3特徴点905に対して適用することにより、第3試料切片における高倍領域座標305を算出することができる。したがってユーザは、高倍領域座標305を指定する必要はない。第4試料切片以降についても同様に、特徴点と高倍領域座標305を指定することなく、これらの座標を計算することができる。図10Aと図10Bの右端の試料切片のように配列がややずれている場合については後述する。
 図11は、本実施形態3におけるステップS203の詳細を説明するフローチャートである。以下図11の各ステップについて説明する。
(図11:ステップS1101~S1107)
 これらステップはステップS401~S407と同様である。ただしステップS1106において、ユーザは図10Aで説明したように、第1試料切片の第1特徴点901を指定する。またステップS1107において、位置演算部120は位置関係902を求め、これを位置記憶部119に格納する。
(図11:ステップS1108~S1111)
 ユーザは図10Aで説明したように、第2試料切片の第2特徴点903を指定する(S1108)。位置演算部120は、位置関係902を位置記憶部119から読み出す(S1109)。位置演算部120は、図10Aで説明したベクトル量904を算出するとともに、第2試料切片の高倍領域座標305を算出する(S1110)。位置演算部120は、ベクトル量904と第2試料切片の高倍領域座標305を、位置記憶部119に格納する(S1111)。
(図11:ステップS1112)
 位置演算部120は、第1試料切片における第1特徴点901と高倍領域座標305との間の位置関係を第3試料切片以降について繰り返し用いることもできるし、1つ前の試料切片における特徴点と高倍領域座標305との間の位置関係を次の試料切片に対して順次適用することもできる。本フローチャートにおいては後者を用いると仮定する。この場合、位置演算部120は、第2試料切片における第2特徴点903と高倍領域座標305との間の位置関係を取得する。
(図11:ステップS1113)
 位置演算部120は、第2特徴点903に対してベクトル量904を適用することにより、第3試料切片における第3特徴点905の座標を求める。位置演算部120は、第2試料切片における第2特徴点903と高倍領域座標305との間の位置関係を第3特徴点905に対して適用することにより、第3試料切片における高倍領域座標305を算出する。
(図11:ステップS1113:補足その1)
 例えば第3試料切片がややずれて配置されている場合、第2特徴点903に対してベクトル量904を適用すると、第3特徴点905からややずれた位置の座標が得られることになる。このような場合であっても第3特徴点905の座標を正確に取得するため、位置演算部120は、パターンマッチングなどの適当な手法により、第3特徴点905を探索してもよい。例えばユーザが第2特徴点903を指定した際に、第2特徴点903周辺の画像を基準パターンとしてあらかじめ位置記憶部119に格納しておく。位置演算部120は、第2特徴点903に対してベクトル量904を適用することにより得られた座標の周辺において、基準パターンと合致する部分領域を探索する。これにより、第3特徴点905を正確に特定することができる。
(図11:ステップS1113:補足その2)
 位置演算部120は、第2特徴点903に対してベクトル量904を適用することにより得られた座標周辺の画像と基準パターンを比較し、同座標が基準パターンと合致する場合はこれを第3特徴点905としてそのまま採用する。合致しない場合は、その周辺領域において基準パターンをさらに探索してもよいし、ユーザが第3特徴点905を指定するよう促すメッセージを表示してもよい。
(図11:ステップS1114)
 位置演算部120は、算出した第3試料切片の高倍領域座標305を位置記憶部119に記憶する。
(図11:ステップS1115)
 ユーザは、すべての試料切片について高倍領域座標305を求めるまで、ステップS1112~S1114と同様の処理を、第4試料切片以降について繰り返す。
<実施の形態3:まとめ>
 本実施形態3に係る荷電粒子線装置101は、第1試料切片における第1特徴点901と高倍領域座標305との間の対応関係を、ベクトル量904にしたがって第2試料切片以降において繰り返すことにより、各試料切片における特徴点と高倍領域座標305を自動的に算出する。これにより、特に各試料切片が充分に整列されている場合は、ユーザが特徴点などを指定する作業負担を軽減することができる。
<本発明の変形例について>
 本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施形態は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加えることも可能である。また、各実施形態の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
 実施形態1においては、第1試料切片における2つの特徴点と高倍領域座標305との間の位置関係を用いて、各試料切片における高倍領域座標305を算出することとした。高倍領域座標305を求めることができるのであれば、特徴点の個数はこれに限られるものではない。同様に実施形態3において、試料切片ごとに2つ以上の特徴点を指定し、ベクトル量904にしたがってそれら特徴点間の位置関係を第2試料切片以降において繰り返してもよい。
 実施形態1および2においては、荷電粒子線装置101は走査型電子顕微鏡として構成されていることにより撮像装置として動作することを説明したが、FIB(Focused Ion Beam)装置、透過型電子顕微鏡などの他の荷電粒子線装置が撮像装置として動作する場合においても、同様に本発明を適用することができる。また、共焦点レーザー顕微鏡、蛍光顕微鏡などの撮像装置においても、同様に本発明を適用することができる。
 以上の実施形態において、中倍領域表示部502に代えて、またはこれと併用して、全体領域表示部501内に中倍領域303の画像を表示してもよい。例えば図6Aの中倍領域枠601内に、中倍領域303の画像を縮小表示してもよい。
 以上の実施形態においては、連続切片試料105として生体組織を例示したが、類似構造を有する複数の試料が並んでいるその他の試料においても、本技術を応用することにより撮影効率を大幅に改善することができる。
101:荷電粒子線装置
102:鏡筒
103:試料室
104:装置本体
105:連続切片試料
106:電子ビーム
107:電子銃
108:電子光学系
109:コンデンサレンズ
110:偏向器
111:対物レンズ
112:試料台
113:信号
114:検出器
115:試料ステージ
116:ステージ制御装置
117:画像取得部
118:位置入力部
119:位置記憶部
120:位置演算部
121:ステージ制御部
122:光学系制御部

Claims (13)

  1.  複数の切片によって構成された試料の画像を撮像する撮像装置であって、
     前記試料の画像を表す画像信号を生成する撮像部、
     前記画像信号を用いて前記試料の画像を生成するコントローラ、
     前記画像のなかの座標を指定する指定入力を受け取るインターフェース、
     を備え、
     前記インターフェースは、前記画像のうち、第1試料切片の第1特徴点の座標、および前記第1試料切片の部分領域である第1観察領域の座標を指定する前記指定入力を受け取り、
     前記インターフェースはさらに、前記画像のうち、第2試料切片の第2特徴点の座標を指定する前記指定入力を受け取り、
     前記コントローラは、前記第1特徴点の座標と前記第1観察領域の間の第1対応関係にしたがって、前記第2特徴点と前記第2試料切片の部分領域である第2観察領域の座標の間の第2対応関係を算出し、
     前記コントローラは、前記第2対応関係にしたがって前記第2観察領域の座標を特定するとともに、その特定した前記第2観察領域の画像を生成する
     ことを特徴とする撮像装置。
  2.  前記インターフェースはさらに、前記画像のうち、前記第1試料切片の第3特徴点の座標、および前記第2試料切片の第4特徴点の座標を指定する前記指定入力を受け取り、
     前記コントローラは、前記第1特徴点の座標、前記第3特徴点の座標、および前記第1観察領域の間の第3対応関係にしたがって、前記第2特徴点の座標、前記第4特徴点の座標、および前記第2観察領域の座標の間の第4対応関係を算出し、
     前記コントローラは、前記第4対応関係にしたがって前記第2観察領域の座標を特定するとともに、その特定した前記第2観察領域の画像を生成する
     ことを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
  3.  前記撮像装置はさらに、前記画像を表示する表示部を備え、
     前記コントローラは、前記第1特徴点の座標と前記第3特徴点の座標との間の対応関係に基づき、前記第2特徴点の座標に対する前記第4特徴点の相対座標を推定し、
     前記表示部は、前記コントローラが推定した前記第4特徴点の相対座標を表す画像を表示する
     ことを特徴とする請求項2記載の撮像装置。
  4.  前記コントローラは、前記第1特徴点の座標と前記第3特徴点の座標との間の距離を求めるとともに、前記第2特徴点の座標を中心とする円弧を求め、
     前記表示部は、前記第4特徴点の相対座標を表す画像として、前記コントローラが求めた前記第2特徴点の座標を中心とする円弧を表示する
     ことを特徴とする請求項3記載の撮像装置。
  5.  前記コントローラは、前記第1特徴点の座標と前記第3特徴点の座標との間の第1線分を求め、
     前記コントローラは、前記第2特徴点の座標から開始し、前記第1線分の長さと等しい長さを有し、前記第1線分に対して平行な第2線分を求め、
     前記表示部は、前記第4特徴点の相対座標を表す画像として、前記コントローラが求めた前記第2線分を表示する
     ことを特徴とする請求項3記載の撮像装置。
  6.  前記コントローラは、前記第1特徴点と前記第2特徴点の間の第5対応関係にしたがって、前記第2特徴点と第3試料切片の第5特徴点の間の第6対応関係を算出し、
     前記コントローラは、前記第6対応関係にしたがって、前記第5特徴点の座標を推定する
     ことを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
  7.  前記コントローラは、前記第1対応関係と前記第6対応関係にしたがって、前記第5特徴点と前記第3試料切片の部分領域である第3観察領域の座標の間の第7対応関係を算出し、
     前記コントローラは、前記第7対応関係にしたがって前記第3観察領域の座標を特定するとともに、その特定した前記第3観察領域の画像を生成する
     ことを特徴とする請求項6記載の撮像装置。
  8.  前記撮像装置はさらに、
      前記試料を載置する試料台、
      前記コントローラによって制御され前記試料台を移動させるステージ、
     を備え、
     前記コントローラは、前記特定した前記第2観察領域の座標にしたがって、前記ステージを移動させる
     ことを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
  9.  前記撮像部は、前記画像信号として、
      前記第1試料切片の画像と前記第2試料切片の画像を包含する第1画像信号、
      前記第1画像信号よりも高い倍率を有し前記第1試料切片の部分領域の画像を表す第2画像信号、
     を生成し、
     前記コントローラは、前記第1画像信号を用いて、前記第1試料切片の画像と前記第2試料切片の画像を包含する第1画像を生成し、
     前記コントローラは、前記第2画像信号を用いて、前記第1試料切片の部分領域の第2画像を生成する
     ことを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
  10.  前記撮像装置はさらに、前記画像を表示する表示部を備え、
     前記表示部は、前記第1試料切片を識別する第1識別子と前記第2試料切片を識別する第2識別子を表示する
     ことを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
  11.  前記コントローラは、前記第1特徴点の座標、前記第3特徴点の座標、および前記第1観察領域の座標の間の第1幾何学的位置関係と相似する第2幾何学的位置関係を、前記第2特徴点の座標、前記第4特徴点の座標、および前記第2観察領域の間において算出することにより、前記第2観察領域の座標を特定する
     ことを特徴とする請求項2記載の撮像装置。
  12.  前記撮像装置はさらに、前記画像を表示する表示部を備え、
     前記表示部は、前記第1特徴点の座標を表す画像、前記第1観察領域の座標を表す画像、前記第2特徴点の座標を表す画像、および前記第2観察領域の座標を表す画像を表示する
     ことを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
  13.  前記撮像部は、
      前記試料に対して荷電粒子線を照射する照射部、
      前記荷電粒子線が前記試料に衝突することにより生じる電子を検出する検出器、
     を有し、
     前記検出器は、検出した前記電子の強度を表す信号を、前記画像信号として出力する
     ことを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
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