WO2019054793A1 - 발광소자 패키지 - Google Patents

발광소자 패키지 Download PDF

Info

Publication number
WO2019054793A1
WO2019054793A1 PCT/KR2018/010827 KR2018010827W WO2019054793A1 WO 2019054793 A1 WO2019054793 A1 WO 2019054793A1 KR 2018010827 W KR2018010827 W KR 2018010827W WO 2019054793 A1 WO2019054793 A1 WO 2019054793A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light emitting
package body
emitting device
disposed
layer
Prior art date
Application number
PCT/KR2018/010827
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
송준오
김기석
임창만
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to US16/646,623 priority Critical patent/US11373973B2/en
Publication of WO2019054793A1 publication Critical patent/WO2019054793A1/ko
Priority to US17/824,204 priority patent/US11837570B2/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/483—Containers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49861—Lead-frames fixed on or encapsulated in insulating substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/19—Manufacturing methods of high density interconnect preforms
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/20—Structure, shape, material or disposition of high density interconnect preforms
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/23—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L24/24—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/82—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by forming build-up interconnects at chip-level, e.g. for high density interconnects [HDI]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L24/80 - H01L24/90
    • H01L24/92—Specific sequence of method steps
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/483—Containers
    • H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52—Encapsulations
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52—Encapsulations
    • H01L33/54—Encapsulations having a particular shape
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04105—Bonding areas formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bonding areas on chip-scale packages
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/12105—Bump connectors formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bumps on chip-scale packages
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/1301—Shape
    • H01L2224/13012—Shape in top view
    • H01L2224/13013—Shape in top view being rectangular or square
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
    • H01L2224/13109—Indium [In] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
    • H01L2224/13111—Tin [Sn] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/13118—Zinc [Zn] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/13123—Magnesium [Mg] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/13124—Aluminium [Al] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13139—Silver [Ag] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13144—Gold [Au] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13155—Nickel [Ni] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13157—Cobalt [Co] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/13164—Palladium [Pd] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/13166—Titanium [Ti] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/13169—Platinum [Pt] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/13171—Chromium [Cr] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/13173—Rhodium [Rh] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/13176—Ruthenium [Ru] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/13178—Iridium [Ir] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/13181—Tantalum [Ta] as principal constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001—Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099—Material
    • H01L2224/13186—Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161—Disposition
    • H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/16235—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a via metallisation of the item
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/23—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L2224/24—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • H01L2224/241—Disposition
    • H01L2224/24151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/24221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/24245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321—Disposition
    • H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321—Disposition
    • H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/32237—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the layer connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732—Location after the connecting process
    • H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203—Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732—Location after the connecting process
    • H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73217—Layer and HDI connectors
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/831—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
    • H01L2224/83104—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus by applying pressure, e.g. by injection
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8338—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/83385—Shape, e.g. interlocking features
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92—Specific sequence of method steps
    • H01L2224/9202—Forming additional connectors after the connecting process
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92—Specific sequence of method steps
    • H01L2224/921—Connecting a surface with connectors of different types
    • H01L2224/9212—Sequential connecting processes
    • H01L2224/92122—Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector
    • H01L2224/92125—Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector the second connecting process involving a layer connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92—Specific sequence of method steps
    • H01L2224/921—Connecting a surface with connectors of different types
    • H01L2224/9212—Sequential connecting processes
    • H01L2224/92142—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92144—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a build-up interconnect
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49548—Cross section geometry
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L24/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11—Device type
    • H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204—Optical Diode
    • H01L2924/12041—LED
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181—Encapsulation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50—Wavelength conversion elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50—Wavelength conversion elements
    • H01L33/501—Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • H01L33/502—Wavelength conversion materials
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58—Optical field-shaping elements
    • H01L33/60—Reflective elements

Definitions

  • the embodiments relate to a semiconductor device package, a method of manufacturing a semiconductor device package, and a light source device.
  • Semiconductor devices including compounds such as GaN and AlGaN have many merits such as wide and easy bandgap energy, and can be used variously as light emitting devices, light receiving devices, and various diodes.
  • a light emitting device such as a light emitting diode or a laser diode using a Group III-V or Group II-VI compound semiconductor material can be used for a variety of applications such as red, Blue and ultraviolet rays can be realized.
  • a light emitting device such as a light emitting diode or a laser diode using a Group III-V or Group-VI-VI compound semiconductor material can realize a white light source having high efficiency by using a fluorescent material or combining colors.
  • Such a light emitting device has advantages of low power consumption, semi-permanent lifetime, fast response speed, safety, and environment friendliness compared with conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps.
  • a light-receiving element such as a photodetector or a solar cell
  • a Group III-V or Group-VI-VI compound semiconducting material development of a device material absorbs light of various wavelength regions to generate a photocurrent , It is possible to use light in various wavelength ranges from the gamma ray to the radio wave region. Further, such a light receiving element has advantages of fast response speed, safety, environmental friendliness and easy control of element materials, and can be easily used for power control or microwave circuit or communication module.
  • the semiconductor device can be replaced with a transmission module of an optical communication means, a light emitting diode backlight replacing a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) constituting a backlight of an LCD (Liquid Crystal Display) display device, White light emitting diode (LED) lighting devices, automotive headlights, traffic lights, and gas and fire sensors.
  • CCFL cold cathode fluorescent lamp
  • LED White light emitting diode
  • semiconductor devices can be applied to high frequency application circuits, other power control devices, and communication modules.
  • the light emitting device can be provided as a pn junction diode having a characteristic in which electric energy is converted into light energy by using a group III-V element or a group II-VI element in the periodic table, Various wavelengths can be realized by adjusting the composition ratio.
  • nitride semiconductors have received great interest in the development of optical devices and high power electronic devices due to their high thermal stability and wide bandgap energy.
  • a blue light emitting element, a green light emitting element, an ultraviolet (UV) light emitting element, and a red (RED) light emitting element using a nitride semiconductor are commercially available and widely used.
  • an ultraviolet light emitting device it is a light emitting diode that generates light distributed in a wavelength range of 200 nm to 400 nm. It is used for sterilizing and purifying in the wavelength band, short wavelength, Can be used.
  • UV-A 315nm ⁇ 400nm
  • UV-B 280nm ⁇ 315nm
  • UV-C 200nm ⁇ 280nm
  • UV-A 315nm ⁇ 400nm
  • UV-B 280nm ⁇ 315nm
  • UV-C 200nm ⁇ 280nm
  • studies are being made on a method for improving the light extraction efficiency of a semiconductor device and improving the light intensity at a package end in a semiconductor device package.
  • studies have been made on a method for improving the bonding strength between a package electrode and a semiconductor device in a semiconductor device package.
  • Embodiments can provide a semiconductor device package, a method of manufacturing a semiconductor device package, and a light source device capable of improving light extraction efficiency and electrical characteristics.
  • Embodiments can provide a semiconductor device package, a method of manufacturing a semiconductor device package, and a light source device, which can improve the process efficiency and provide a new package structure to reduce the manufacturing cost and improve the manufacturing yield.
  • Embodiments can provide a semiconductor device package and a method of manufacturing a semiconductor device package that can prevent a re-melting phenomenon from occurring in a bonding region of a semiconductor device package in a process of re-bonding the semiconductor device package to a substrate or the like have.
  • a light emitting device package includes: a first package body including first and second openings; A second package body disposed on the first package body, the second package body including a third opening; A light emitting element disposed in the third opening; A first resin disposed between the upper surface of the first package body and the light emitting element; And a second resin disposed in the third opening; Wherein the upper surface of the first package body is coupled to the lower surface of the second package body, the first package body includes a recess recessed from the upper surface thereof, and the first resin is disposed in the recess And the first resin and the second resin include different materials, and the first resin may be in contact with the light emitting element and the second resin.
  • At least one of the first package body and the second package body may include a wavelength conversion material.
  • At least one of the first package body and the second package body may be made of a transparent resin.
  • At least one of the first package body and the second package body may be made of a reflective resin.
  • the first package body and the second package body may include different materials.
  • the first package body and the second package body include different materials selected from PPA, PCT, EMC, SMC and PI, the first package body includes a reflective material, The body may comprise a wavelength converting material.
  • the first package body and the second package body include different materials selected from PPA, PCT, EMC, SMC and PI, the first package body includes a wavelength conversion material, The package body may include a reflective material.
  • the first package body and the second package body include different materials selected from PPA, PCT, EMC, SMC and PI, the first package body is made of a transparent resin,
  • the package body may comprise at least one of a wavelength conversion material or a reflective material.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include an adhesive layer disposed between the first package body and the second package body.
  • the light emitting device includes a first bonding portion disposed on the first opening portion and a second bonding portion disposed on the second opening portion, and the recess is formed around the first and second openings Is provided in a closed loop shape, and when viewed from the upper direction of the light emitting element, the size of the light emitting element can be provided larger than the closed loop area provided by the recess.
  • the light extraction efficiency, electrical characteristics and reliability can be improved.
  • the process efficiency is improved and a new package structure is presented, which is advantageous in that the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing yield can be improved.
  • the semiconductor device package according to the embodiment has an advantage that the reflector can be prevented from being discolored by providing the body with high reflectance, thereby improving the reliability of the semiconductor device package.
  • the semiconductor device package and the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiments it is possible to prevent the re-melting phenomenon from occurring in the bonding region of the semiconductor device package in the process of re-bonding or heat- There are advantages to be able to.
  • FIG. 1 is a view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a view for explaining the arrangement of the package body, the recess, and the openings of the light emitting device package according to the embodiment of the present invention.
  • FIGS. 4 to 8 are views illustrating a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a view showing another example of the light emitting device package according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a view showing another example of the light emitting device package according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a plan view illustrating an example of a light emitting device applied to a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view taken along line G-G of the light emitting device shown in Fig.
  • FIGS. 13A and 13B are diagrams illustrating a step of forming a semiconductor layer according to a method of manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIGS. 14A and 14B are views illustrating a step of forming a light-transmitting electrode layer according to a method of manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIGS. 15A and 15B are views illustrating a step of performing an isolation process according to a method of manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • 16A and 16B are views illustrating a step of forming a reflective layer by a method of manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIGS. 17A and 17B are views illustrating a step of forming a first electrode, a second electrode, and a connection electrode according to a method of manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIGS. 18A and 18B are views for explaining a step of forming a protective layer according to a method of manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIGS. 19A and 19B are views for explaining steps of forming a first bonding pad and a second bonding pad according to a method of manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • 20 is a view illustrating another example of a light emitting device applied to a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • each layer (film), area, pattern or structure may be referred to as being “on” or “under” the substrate, each layer Quot; on “ and “ under “ are intended to include both “directly” or “indirectly” do.
  • the criteria for the top, bottom, or bottom of each layer will be described with reference to drawings, but the embodiment is not limited thereto.
  • FIG. 1 is an exploded perspective view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention. The recesses, and the openings of the package.
  • the light emitting device package 100 may include a package body 110 and a light emitting device 120, as shown in FIGS.
  • the package body 110 may include a first package body 113 and a second package body 117.
  • the second package body 117 may be disposed on the first package body 113.
  • the second package body 117 may be disposed around the upper surface of the first package body 113.
  • the second package body 117 may provide a cavity C on the upper surface of the first package body 113.
  • the second package body 117 may include openings penetrating the top and bottom surfaces.
  • the first package body 113 may be referred to as a lower body, and the second package body 117 may be referred to as an upper body.
  • the package body 110 may not include the second package body 117 providing the cavity, but may include only the first package body 113 providing a flat upper surface .
  • the second package body 117 may reflect upward the light emitted from the light emitting device 120.
  • the second package body 117 may be inclined with respect to the upper surface of the first package body 113.
  • the package body 110 may include the cavity C.
  • the cavity may include a bottom surface and a side surface inclined to the top surface of the package body 110 from the bottom surface.
  • the package body 110 may be provided with a cavity C, or may be provided with a flat upper surface without a cavity C.
  • the package body 110 may be formed of a material selected from the group consisting of polyphthalamide (PPA), polychloro tri phenyl (PCT), liquid crystal polymer (LCP), polyamide 9T, silicone, epoxy molding compound (EMC) , Silicon molding compound (SMC), ceramics, polyimide (PI), photo sensitive glass (PSG), sapphire (Al 2 O 3 ), and the like.
  • the package body 110 may include a reflective material of high refractive index fillers such as TiO 2 and SiO 2 .
  • the package body 110 may include a wavelength converting material such as a quantum dot or a fluorescent material.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may include different materials.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may be formed of different materials in different processes and then joined together.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may be coupled to each other through the adhesive layer 160.
  • the adhesive layer 160 may be disposed between the first package body 113 and the second package body 117.
  • the adhesive layer 160 may be disposed on the upper surface of the first package body 113.
  • the adhesive layer 160 may be disposed on the lower surface of the second package body 117.
  • the adhesive layer 160 may be disposed around the light emitting device 120 to provide the cavity.
  • the adhesive layer 160 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material.
  • the adhesive layer 160 may reflect light emitted from the light emitting device 120.
  • the adhesive layer 160 may include white silicone.
  • Each of the first package body 113 and the second package body 117 may be formed of polyphthalamide (PPA), polychloro tri phenyl (PCT), liquid crystal polymer (LCP), polyamide 9T , An epoxy molding compound (EMC), a silicone molding compound (SMC), a polyimide (PI), or the like, as a base material.
  • PPA polyphthalamide
  • PCT polychloro tri phenyl
  • LCP liquid crystal polymer
  • EMC epoxy molding compound
  • SMC silicone molding compound
  • PI polyimide
  • each of the first package body 113 and the second package body 117 may include at least one of a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may not include a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may be made of transparent resin.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may include different base materials.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may include different resins.
  • the first package body 113 may include a reflective material
  • the second package body 117 may include a wavelength conversion material
  • the first package body 113 may include a wavelength conversion material
  • the second package body 117 may include a reflective material.
  • the first package body 113 may include a reflective material
  • the second package body 117 may include a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first package body 113 may include a reflective material and a wavelength conversion material
  • the second package body 117 may include a wavelength conversion material.
  • the light emitting device package 100 may include a first package body 113 including a different base material and a second package body 117 formed separately from each other, And can be manufactured in a modular fashion through an optional combination that can be met.
  • a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment will be described in further detail.
  • the light emitting device 120 may include a first bonding portion 121, a second bonding portion 122, a light emitting structure 123, and a substrate 124.
  • the light emitting device 120 may include the light emitting structure 123 disposed under the substrate 124.
  • the light emitting structure 123 may include a first conductive semiconductor layer, a second conductive semiconductor layer, and an active layer disposed between the first conductive semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer.
  • the first bonding portion 121 may be electrically connected to the first conductive semiconductor layer.
  • the second bonding portion 122 may be electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer.
  • the light emitting device 120 may be disposed on the package body 110.
  • the light emitting device 120 may be disposed on the first package body 113.
  • the light emitting device 120 may be disposed in the cavity C provided by the second package body 117.
  • the first bonding portion 121 may be disposed on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the second bonding portion 122 may be disposed on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first bonding part 121 and the second bonding part 122 may be spaced apart from each other on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first bonding part 121 may be disposed between the light emitting structure 123 and the first package body 113.
  • the second bonding portion 122 may be disposed between the light emitting structure 123 and the first package body 113.
  • the first bonding portion 121 and the second bonding portion 122 may be formed of any one selected from the group consisting of Ti, Al, Sn, In, Ir, Ta, Pd, Co, Cr, Mg, Zn, Ni, Si, At least one material or alloy selected from the group consisting of Au, Hf, Pt, Ru, Rh, ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx / ITO, Ni / IrOx / Au, Ni / IrOx / Or may be formed as a single layer or multiple layers.
  • the light emitting device package 100 may include a first opening portion TH1 and a second opening portion TH2, as shown in FIGS.
  • the package body 110 may include the first opening TH1 passing through a bottom surface of the package body 110 on the bottom surface of the cavity C.
  • the package body 110 may include the second opening TH2 through the lower surface of the package body 110 on the bottom surface of the cavity C.
  • the first package body 113 may include a flat bottom surface and an upper surface parallel to the bottom surface.
  • the first and second openings TH1 and TH2 may pass through the upper surface and the lower surface of the first package body 113, respectively.
  • the first opening TH1 may be provided in the first package body 113. [ The first opening TH1 may be provided through the first package body 113. [ The first opening TH1 may be provided through the upper surface and the lower surface of the first package body 113 in a first direction.
  • the first opening TH1 may be disposed below the first bonding portion 121 of the light emitting device 120. [ The first opening TH1 may be provided to overlap with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120. [ The first opening TH1 may be provided in a manner overlapping with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the first package body 113. [
  • the second opening TH2 may be provided in the first package body 113. [ The second opening TH2 may be provided through the first package body 113. [ The second opening TH2 may be provided through the upper surface and the lower surface of the first package body 113 in a first direction.
  • the second opening TH2 may be disposed below the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening portion TH2 may be provided so as to overlap with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening TH2 may be provided in a manner overlapping with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the first package body 113.
  • the first opening TH1 and the second opening TH2 may be spaced apart from each other.
  • the first opening portion TH1 and the second opening portion TH2 may be spaced apart from each other below the lower surface of the light emitting device 120.
  • the width W1 of the upper region of the first opening TH1 may be less than or equal to the width of the first bonding portion 121.
  • the width of the upper region of the second opening portion TH2 may be less than or equal to the width of the second bonding portion 122.
  • the width W1 of the upper region of the first opening TH1 may be less than or equal to the width W2 of the lower region of the first opening TH1.
  • the width of the upper area of the second opening TH2 may be smaller than or equal to the width of the lower area of the second opening TH2.
  • the first opening TH1 may be provided in an inclined shape in which the width gradually decreases from the lower region to the upper region.
  • the second opening portion TH2 may be provided in an inclined shape in which the width gradually decreases from the lower region to the upper region.
  • the inclined surfaces between the upper and lower regions of the first and second openings TH1 and TH2 may have a plurality of inclined surfaces having different slopes and the inclined surfaces may be arranged with a curvature .
  • the width between the first opening TH1 and the second opening TH2 in the bottom area of the first package body 113 may be several hundred micrometers.
  • a width between the first opening TH1 and the second opening TH2 in the lower surface region of the first package body 113 may be 100 to 150 micrometers.
  • the width between the first opening portion TH1 and the second opening portion TH2 in the lower surface region of the first package body 113 can be set to be shorter than the width of the light emitting device package 100 in the circuit board, It may be selected so as to be provided over a certain distance in order to prevent an electrical short between the bonding portions.
  • the light emitting device package 100 may include a recess R, as shown in FIGS.
  • the recess R may be recessed from the bottom surface of the cavity C to the lower surface of the package body 110.
  • the recess R may be provided in the first package body 113.
  • the recess R may be recessed in a downward direction from an upper surface of the first package body 113.
  • the recess R may be disposed below the light emitting device 120.
  • the recess R may be provided between the first opening TH1 and the second package body 117. [ Also, the recess R may be provided between the second opening TH2 and the second package body 117. For example, the recess R may be provided in the form of a closed loop below the light emitting device 120.
  • the recess R is formed between the first bonding portion 121 and the second package body 117 disposed adjacent to the first opening TH1 when seen from the upper direction of the light emitting device 120. [ As shown in FIG.
  • the recess R may be formed in the second package body 117 disposed adjacent to the second bonding portion 122 and the second opening portion TH2 when viewed from above the light emitting device 120. [ As shown in FIG.
  • the recess R may be provided in the form of a closed loop around the first and second openings TH1 and TH2.
  • the size of the light emitting device 120 may be larger than the closed loop area provided by the recess R when seen from the upper direction of the light emitting device 120.
  • a closed loop formed by the recess R may be provided in an outline connecting the four sides of the light emitting device 120 when viewed from above the light emitting device 120.
  • the light emitting device package 100 may include a first resin 130, as shown in FIG.
  • the first resin 130 may be disposed in the recess R. [ The first resin 130 may be disposed between the light emitting device 120 and the first package body 113. The first resin 130 may be disposed between the first bonding part 121 and the second bonding part 122. For example, the first resin 130 may be disposed in contact with a side surface of the first bonding portion 121 and a side surface of the second bonding portion 122.
  • the first resin 130 may be disposed around the first bonding portion 121 to seal the upper region of the first opening TH1.
  • the first resin 130 may be disposed around the second bonding portion 122 to seal the upper region of the second opening TH1.
  • the first resin 130 may provide a stable fixing force between the light emitting device 120 and the first package body 113.
  • the first resin 130 may be disposed in direct contact with the upper surface of the first package body 113, for example.
  • the first resin 130 may be disposed in direct contact with the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material .
  • the first resin 130 may reflect light emitted from the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may include white silicone.
  • the first resin 130 may be formed of a material including TiO 2 , SiO 2 , and the like.
  • the first resin 130 may be referred to as an adhesive.
  • the depth of the recess R may be smaller than the depth of the first opening TH1 or the depth of the second opening TH2.
  • the depth of the recess R may be determined in consideration of the adhesive force of the first resin 130.
  • the depth T1 of the recess R may be determined by considering the stable strength of the first package body 113 and / or by the heat emitted from the light emitting device 120 It can be determined that a crack does not occur.
  • the recess R may provide a suitable space under which a kind of underfill process may be performed under the light emitting device 120.
  • the recess R may be provided at a first depth or more so as to sufficiently provide the first resin 130 between the lower surface of the light emitting device 120 and the upper surface of the first package body 113 .
  • the recess R may be provided at a second depth or less to provide a stable strength of the first package body 113.
  • the depth and width W3 of the recess R may affect the forming position and the fixing force of the first resin 130. [ The depth and width W3 of the recess R are determined so that a sufficient fixing force can be provided by the first resin 130 disposed between the first package body 113 and the light emitting device 120 .
  • the depth of the recess R may be provided by a few tens of micrometers.
  • the depth of the recess (R) may be from 40 micrometers to 60 micrometers.
  • the width W3 of the recess R may be provided to several hundred micrometers.
  • the width W3 of the recess R may be provided in the range of 140 micrometers to 160 micrometers.
  • the width W3 of the recess may be provided at 150 micrometers.
  • the first and second bonding portions 121 and 122 of the light emitting device 120 can be sealed from the outside by the first resin 130 provided in the recess R.
  • the first resin 130 may be provided in the form of a closed loop below the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may be provided in a closed loop shape along the shape of the recess R, as shown in FIGS.
  • the recess R may be provided in a rectangular closed loop, or may be provided in a circular or elliptical closed loop.
  • the depth of the first opening TH1 may be provided corresponding to the thickness of the first package body 113. [ The depth of the first opening TH1 may be such that the first package body 113 can maintain a stable strength.
  • the depth of the first opening TH1 may be several hundred micrometers.
  • the depth of the first opening TH1 may be 180 to 220 micrometers.
  • the depth of the first opening TH1 may be 200 micrometers.
  • the thickness of the first opening TH1 minus the depth of the recess R may be selected to be at least 100 micrometers or more. This is because the thickness of the injection process capable of providing crack free of the first package body 113 is considered.
  • the depth of the first opening TH1 may be provided by 2 to 10 times the depth of the recess R. [ For example, when the depth of the first opening TH1 is 200 micrometers, the depth of the recess R may be 20 micrometers to 100 micrometers.
  • the light emitting device package 100 may include a second resin 140, as shown in FIG.
  • the second resin 140 may be provided on the light emitting device 120.
  • the second resin 140 may be disposed on the first package body 113.
  • the second resin 140 may be disposed in the cavity C provided by the second package body 117.
  • the second resin 140 may include an insulating material.
  • the second resin 140 may include a wavelength conversion material that receives light emitted from the light emitting device 120 and provides wavelength-converted light.
  • the second resin 140 may include a phosphor, a quantum dot, and the like.
  • the light emitting structure 123 may be provided as a compound semiconductor.
  • the light emitting structure 123 may be formed of, for example, a Group 2-VI-VI or Group III-V compound semiconductor.
  • the light emitting structure 123 may include at least two elements selected from aluminum (Al), gallium (Ga), indium (In), phosphorus (P), arsenic (As) .
  • the light emitting structure 123 may include a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer.
  • the first and second conductivity type semiconductor layers may be formed of at least one of Group III-V-Vs or Group V-VIs compound semiconductors.
  • the first and second conductivity type semiconductor layers are formed of a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1-xy N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? .
  • the first and second conductive semiconductor layers may include at least one selected from the group consisting of GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, .
  • the first conductive semiconductor layer may be an n-type semiconductor layer doped with an n-type dopant such as Si, Ge, Sn, Se or Te.
  • the second conductive semiconductor layer may be a p-type semiconductor layer doped with a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr or Ba.
  • the active layer may be formed of a compound semiconductor.
  • the active layer may be implemented, for example, in at least one of Group 3-Group-5 or Group-6-Group compound semiconductors.
  • the active layer may include a plurality of alternately arranged well layers and a plurality of barrier layers, and may be In x Al y Ga 1 -x- y N , 0? Y? 1, 0? X + y? 1).
  • the active layer may be selected from the group consisting of InGaN / GaN, GaN / AlGaN, AlGaN / AlGaN, InGaN / InGaN, InGaN / InGaN, AlGaAs / GaAs, InGaAs / GaAs, InGaP / GaP, AlInGaP / InGaP, And may include at least one.
  • the light emitting device package 100 may include a first conductive layer 321 and a second conductive layer 322, as shown in FIG.
  • the first conductive layer 321 may be spaced apart from the second conductive layer 322.
  • the first conductive layer 321 may be provided in the first opening TH1.
  • the first conductive layer 321 may be disposed below the first bonding portion 121.
  • the width of the first conductive layer 321 may be smaller than the width of the first bonding portion 121.
  • the first bonding portion 121 may have a width in a second direction perpendicular to the first direction in which the first opening portion TH1 is formed.
  • the width of the first bonding portion 121 may be greater than the width of the first opening TH1 in the second direction.
  • the first conductive layer 321 may be disposed in direct contact with the lower surface of the first bonding portion 121.
  • the first conductive layer 321 may be electrically connected to the first bonding portion 121.
  • the first conductive layer 321 may be surrounded by the first package body 113.
  • the second conductive layer 322 may be provided in the second opening TH2.
  • the second conductive layer 322 may be disposed under the second bonding portion 122.
  • the width of the second conductive layer 322 may be smaller than the width of the second bonding portion 122.
  • the second bonding portion 122 may have a width in a second direction perpendicular to the first direction in which the second opening portion TH2 is formed.
  • the width of the second bonding portion 122 may be greater than the width of the second opening TH2 in the second direction.
  • the second conductive layer 322 may be disposed in direct contact with the lower surface of the second bonding portion 122.
  • the second conductive layer 322 may be electrically connected to the second bonding portion 122.
  • the second conductive layer 322 may be surrounded by the first package body 113.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may include at least one material selected from the group consisting of Ag, Au, Pt, Sn, Cu, and the like, or an alloy thereof. However, the present invention is not limited thereto, and the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may be formed of a material capable of ensuring a conductive function.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may be formed using a conductive paste.
  • the conductive paste may include a solder paste, a silver paste, or the like, and may be composed of a multi-layer or an alloy composed of different materials or a single layer.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may include a SAC (Sn-Ag-Cu) material.
  • the first conductive layer 321 may be electrically connected to the first bonding portion 121 and the second conductive layer 322 may be electrically connected to the second bonding portion 122 .
  • external power may be supplied to the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322, so that the light emitting device 120 may be driven.
  • the first resin 130 provided in the recess R may be formed in a shape corresponding to that of the light emitting device 120.
  • And may be provided between the lower surface and the upper surface of the package body 110.
  • the first resin 130 may be provided in the form of a closed loop around the first and second bonding portions 121 and 122 when viewed from the upper direction of the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may be provided in the form of a closed loop around the first and second openings TH1 and TH2 when viewed from above the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may function to stably fix the light emitting device 120 to the package body 110.
  • the first resin 130 may be disposed around the first and second bonding portions 121 and 122 in contact with the side surfaces of the first and second bonding portions 121 and 122.
  • the first resin 130 is disposed such that the first and second openings TH1 and TH2 are isolated from the outer region provided with the second resin 140 when viewed from the upper direction of the light emitting device 120 .
  • the first and second conductive layers 321 and 322 provided in the first and second openings TH1 and TH2 are separated from the closed loop of the recess R by the first resin 130, It can be prevented from flowing outwardly of the light emitting element 120.
  • first and second conductive layers 321 and 322 When the first and second conductive layers 321 and 322 are moved in the outer direction of the light emitting device 120 when viewed from above the light emitting device 120, 321, and 322 may be diffused on the side surface of the light emitting device 120. When the first and second conductive layers 321 and 322 are moved to the side of the light emitting device 120, the first conductive semiconductor layer of the light emitting device 120 and the second conductive semiconductor layer May be electrically short-circuited. In addition, when the first and second conductive layers 321 and 322 are moved to the side of the light emitting device 120, the light extraction efficiency of the light emitting device 120 may be lowered.
  • the peripheral region of the first and second bonding portions 121 and 122 can be sealed by the first resin 130, the first and second conductive layers 321 and 322 Can be prevented from moving outward beyond the first and second openings TH1 and TH2.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 can be prevented from moving to the side of the light emitting device 120, 120 can be prevented from being electrically short-circuited and the light extraction efficiency can be improved.
  • FIGS. 4 to 8 a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
  • FIG. 4 to 8 a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
  • FIG. 4 to 8 a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
  • a plurality of first body arrays A1 and A2 arranged in the support frame B and a plurality of second body arrays A1 and A2 arranged in the support frame B, , A3, A4) may be provided.
  • the support frame B can stably support the plurality of first body arrays A1, A2, A3, and A4.
  • the support frame B may be provided as an insulating frame or as a conductive frame.
  • the plurality of first body arrays A1, A2, A3, and A4 may be formed through an injection process or the like.
  • first body arrays A1, A2, A3, and A4 are disposed on the support frame B, but the plurality of first body arrays may be three or less And may be provided in more than five. Further, the plurality of first body arrays may be arranged in a shape having a plurality of rows and a plurality of rows, or may be arranged in a shape having a row and a plurality of rows.
  • Each of the plurality of first body arrays A1, A2, A3, and A4 may include a plurality of sub body arrays A11, A12, ....
  • Each of the sub-body arrays A11, A12, ... includes a first package body 113, first and second openings TH1 and TH2, a recess R, . ≪ / RTI > Further, each of the sub body arrays A11, A12, ... may be formed in a similar structure to each other.
  • the first opening TH1 may be provided in the first package body 113. [ The first opening TH1 may be provided through the first package body 113. [ The first opening TH1 may be provided through the upper surface and the lower surface of the first package body 113 in a first direction.
  • the second opening TH2 may be provided in the first package body 113. [ The second opening TH2 may be provided through the first package body 113. [ The second opening TH2 may be provided through the upper surface and the lower surface of the first package body 113 in a first direction.
  • the first opening TH1 and the second opening TH2 may be spaced apart from each other.
  • the recess R may be provided in the first package body 113.
  • the recess R may be recessed in a downward direction from an upper surface of the first package body 113.
  • the light emitting devices 120 may be disposed on the sub-body arrays A11, A12, ..., respectively. Referring to FIG.
  • the first resin 130 may be provided in the recess R, and the light emitting device 120 may be mounted.
  • the first resin 130 may be provided to the recess region through a dotting method or the like.
  • the first resin 130 may be provided in a region where the recess R is formed, and may be provided to overflow the recess R.
  • the light emitting device 120 may be provided on the first package body 113.
  • the recess R may be used as an align key in the process of disposing the light emitting device 120 on the first package body 113.
  • the light emitting device 120 may be fixed to the first package body 113 by the first resin 130.
  • a part of the first resin 130 provided in the recess R may be moved in the direction of the first bonding part 121 and the second bonding part 122 to be cured. Accordingly, the first resin 130 may be provided in a wide area between the lower surface of the light emitting device 120 and the upper surface of the first package body 113, and the light emitting device 120 and the first The fixing force between the package bodies 113 can be improved.
  • the first opening TH1 may be disposed under the first bonding portion 121 of the light emitting device 120.
  • the first opening TH1 may be provided to overlap with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120.
  • the first opening TH1 may be provided in a manner overlapping with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the first package body 113.
  • the second opening TH2 may be disposed below the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening portion TH2 may be provided so as to overlap with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening TH2 may be provided in a manner overlapping with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the first package body 113.
  • the first resin 130 may function to stably fix the light emitting device 120 to the package body 110.
  • the first resin 130 may be disposed around the first and second bonding portions 121 and 122 in contact with the side surfaces of the first and second bonding portions 121 and 122.
  • the first and second openings TH1 and TH2 of the sub-body arrays A11, A12, The first and second conductive layers 321 and 322 may be formed, respectively.
  • the first conductive layer 321 may be provided in the first opening TH1.
  • the first conductive layer 321 may be disposed below the first bonding portion 121.
  • the width of the first conductive layer 321 may be smaller than the width of the first bonding portion 121.
  • the first bonding portion 121 may have a width in a second direction perpendicular to the first direction in which the first opening portion TH1 is formed.
  • the width of the first bonding portion 121 may be greater than the width of the first opening TH1 in the second direction.
  • the first conductive layer 321 may be disposed in direct contact with the lower surface of the first bonding portion 121.
  • the first conductive layer 321 may be electrically connected to the first bonding portion 121.
  • the first conductive layer 321 may be surrounded by the first package body 113.
  • the second conductive layer 322 may be provided in the second opening TH2.
  • the second conductive layer 322 may be disposed under the second bonding portion 122.
  • the width of the second conductive layer 322 may be smaller than the width of the second bonding portion 122.
  • the second bonding portion 122 may have a width in a second direction perpendicular to the first direction in which the second opening portion TH2 is formed.
  • the width of the second bonding portion 122 may be greater than the width of the second opening TH2 in the second direction.
  • the second conductive layer 322 may be disposed in direct contact with the lower surface of the second bonding portion 122.
  • the second conductive layer 322 may be electrically connected to the second bonding portion 122.
  • the second conductive layer 322 may be surrounded by the first package body 113.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may include one selected from the group consisting of Ag, Au, Pt, Sn, Cu, and the like, or an alloy thereof. However, the present invention is not limited thereto, and the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may be formed of a material capable of ensuring a conductive function.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may be formed using a conductive paste.
  • the conductive paste may include a solder paste, a silver paste, or the like, and may be composed of a multi-layer or an alloy composed of different materials or a single layer.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may include a SAC (Sn-Ag-Cu) material.
  • first and second openings TH1 and TH2 can be sealed by the first resin 130, the first and second openings TH1 and TH2 provided in the first and second openings TH1 and TH2, The conductive layers 321 and 322 can be prevented from diffusing and moving below the lower surface of the light emitting device 120.
  • first and second openings TH1 and TH2 can be sealed by the first resin 130 as described above, the first and second openings TH1 and TH2 provided in the first and second openings TH1 and TH2, The conductive layers 321 and 322 can be prevented from moving onto the upper surface of the first package body 113.
  • a second body array D can be provided.
  • the second body array D may include a plurality of sub body arrays E11, E12, ....
  • the second body array D may include a plurality of sub body arrays E11, E12, ... arranged in one direction as shown in FIG.
  • the second body array D may include a plurality of sub-body arrays E11, E12, ... having a matrix shape arranged in a plurality of rows and a plurality of rows.
  • Each of the plurality of sub body arrays E11, E12, ... may include an opening penetrating from the upper surface to the lower surface as shown in FIG.
  • the second body array D may be provided on the first body arrays A1, A2, A3, and A4. In this case, have.
  • the first body arrays A1, A2, A3, and A4 and the second body array D may be coupled through the adhesive layer 160, as described with reference to FIGS.
  • the sub-body array E11 may be disposed on the sub-body array A11
  • the sub-body array E12 may be disposed on the sub-body array A12.
  • the first body arrays A1, A2, A3, and A4 and the second body array D may include different materials.
  • the first body arrays A1, A2, A3, and A4 and the second body array D may be formed of different materials in different processes and then coupled to each other through the adhesive layer 160 .
  • the adhesive layer 160 may be disposed between the first body arrays A1, A2, A3, and A4 and the second body array D. [ The adhesive layer 160 may be disposed on the upper surfaces of the first body arrays A1, A2, A3, and A4. The adhesive layer 160 may be disposed on the lower surface of the second body array D.
  • the adhesive layer 160 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material. In addition, the adhesive layer 160 may reflect light emitted from the light emitting device 120. If the adhesive layer 160 includes a reflective function, the adhesive layer 160 may include white silicone.
  • Each of the first body arrays A1, A2, A3, and A4 and the second body arrays D may be formed of polyphthalamide (PPA), polychloro tri phenyl (PCT), liquid crystal polymer (LCP)
  • PPA polyphthalamide
  • PCT polychloro tri phenyl
  • LCP liquid crystal polymer
  • PA9T Polyamide9T
  • silicon silicon
  • EMC epoxy molding compound
  • SMC silicon molding compound
  • PI polyimide
  • Each of the first body arrays A1, A2, A3, and A4 and the second body array D may include at least one of a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first body arrays A1, A2, A3, and A4 and the second body array D may not include a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first body arrays A1, A2, A3, and A4 and the second body array D may include different base materials.
  • first body arrays A1, A2, A3, and A4 may include a reflective material and the second body array D may include a wavelength conversion material.
  • first body arrays A1, A2, A3, and A4 may include a wavelength conversion material, and the second body array D may include a reflective material.
  • the first body arrays A1, A2, A3, and A4 may include a reflective material and the second body array D may include a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first body arrays A1, A2, A3, and A4 may include a reflective material and a wavelength conversion material
  • the second body array D may include a wavelength conversion material.
  • the light emitting device package according to the embodiment is formed by separately forming the first body arrays A1, A2, A3, and A4 including the different base materials and the second body array D in different processes, And can be fabricated in a modular fashion through an optional combination that can meet the requirements of a < Desc / Clms Page number 2 >
  • a second resin 140 may be formed on the cavity provided by the opening of the second body array D, as described with reference to FIGS.
  • the second resin 140 may be provided on the light emitting device 120.
  • the second resin 140 may be disposed on the first body arrays A1, A2, A3, and A4.
  • the second resin 140 may be disposed in the cavity C provided by the second body array D.
  • the second resin 140 may include an insulating material.
  • the second resin 140 may include a wavelength conversion material that receives light emitted from the light emitting device 120 and provides wavelength-converted light.
  • the second resin 140 may include a phosphor, a quantum dot, and the like.
  • the first body arrays A1, A2, A3, and A4 and the second body arrays D are combined with each other to form dicing or scribing
  • the individual light emitting device package as shown in FIG. 8 can be manufactured.
  • the light emitting device package 100 includes a first package body 113 and a second package body 117 manufactured and coupled through a modular method, 110).
  • the conventional lead frame is not applied to the package body 110.
  • a process of forming a lead frame is further required.
  • a process of forming a lead frame is not required.
  • the method of manufacturing a light emitting device package according to the embodiment of the present invention not only the process time is shortened but also the material is also reduced.
  • a plating process such as silver should be added to prevent deterioration of the lead frame.
  • additional processes such as silver plating may be omitted.
  • manufacturing costs can be reduced and manufacturing yield can be improved.
  • power is connected to the first bonding portion 121 through the first conductive layer 321 provided in the first opening TH1, and power is supplied to the second opening portion TH2
  • the second bonding portion 122 may be connected to the power supply via the second conductive layer 322.
  • the light emitting device 120 can be driven by the driving power supplied through the first bonding part 121 and the second bonding part 122.
  • the light emitted from the light emitting device 120 may be provided in an upward direction of the package body 110.
  • the light emitting device package 100 may be mounted on a submount, a circuit board, or the like.
  • a high temperature process such as a reflow process or a heat treatment process can be applied.
  • a reflow process or the heat treatment process re-melting phenomenon occurs in the bonding region between the lead frame and the light emitting device provided in the light emitting device package, so that the stability of electrical connection and physical coupling can be weakened.
  • the first bonding portion 121 and the second bonding portion 122 of the light emitting device 120 according to the embodiment are formed by the first bonding portion 121 and the second bonding portion 122, And the second conductive layers 321 and 322, respectively.
  • the melting point of the first and second conductive layers 321 and 322 may be selected to have a higher value than the melting point of the common bonding material.
  • the light emitting device 120 is mounted on the first body arrays A1, A2, A3, and A4 using conductive paste ,
  • the package body 110 does not need to be exposed to high temperatures in the process of manufacturing the light emitting device package. Therefore, according to the embodiment, it is possible to prevent the package body 110 from being exposed to high temperature and being damaged or discolored.
  • the package body 110 may include a group including a PPA (polyphthalamide) resin, a PCC (PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) resin, an EMC (Epoxy Molding Compound) resin, a SMC (Silicone Molding Compound) , ≪ / RTI >
  • PPA polyphthalamide
  • PCC PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate
  • EMC Epoxy Molding Compound
  • SMC Silicone Molding Compound
  • FIG. 9 is a view showing another example of the light emitting device package according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 shows an example in which the light emitting device package 100 described with reference to FIGS. 1 to 8 is mounted on the circuit board 310 and supplied.
  • the light emitting device package may include a circuit board 310, a package body 110, and a light emitting device 120, as shown in FIG.
  • the circuit board 310 may include a first pad 311, a second pad 312, and a support substrate 313.
  • a power supply circuit for controlling driving of the light emitting device 120 may be provided on the support substrate 313.
  • the package body 110 may be disposed on the circuit board 310.
  • the first pad 311 and the first bonding portion 121 may be electrically connected to each other.
  • the second pad 312 and the second bonding portion 122 may be electrically connected to each other.
  • the first pad 311 and the second pad 312 may include a conductive material.
  • the first pad 311 and the second pad 312 may be formed of a material selected from the group consisting of Ti, Cu, Ni, Au, Cr, Ta, Pt, Sn, Ag, P, Fe, At least one selected material or alloy thereof.
  • the first pad 311 and the second pad 312 may be provided as a single layer or a multilayer.
  • the package body 110 may include a first package body 113 and a second package body 117.
  • the package body 110 may include a first opening TH1 and a second opening TH2 extending from the upper surface to the lower surface in a first direction.
  • the first opening TH1 and the second opening TH2 may be provided through the first package body 113 in a first direction from an upper surface to a lower surface.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may include different materials.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may be formed of different materials in different processes and then bonded to each other through the adhesive layer 160.
  • the adhesive layer 160 may be disposed between the first package body 113 and the second package body 117.
  • the adhesive layer 160 may be disposed on the upper surface of the first package body 113.
  • the adhesive layer 160 may be disposed on the lower surface of the second package body 117.
  • the adhesive layer 160 may be disposed around the light emitting device 120 to provide the cavity.
  • the adhesive layer 160 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material.
  • the adhesive layer 160 may reflect light emitted from the light emitting device 120.
  • the adhesive layer 160 may include white silicone.
  • Each of the first package body 113 and the second package body 117 may be formed of polyphthalamide (PPA), polychloro tri phenyl (PCT), liquid crystal polymer (LCP), polyamide 9T , An epoxy molding compound (EMC), a silicone molding compound (SMC), a polyimide (PI), or the like, as a base material.
  • PPA polyphthalamide
  • PCT polychloro tri phenyl
  • LCP liquid crystal polymer
  • EMC epoxy molding compound
  • SMC silicone molding compound
  • PI polyimide
  • each of the first package body 113 and the second package body 117 may include at least one of a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may not include a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may include different base materials.
  • the first package body 113 may include a reflective material
  • the second package body 117 may include a wavelength conversion material
  • the first package body 113 may include a wavelength conversion material
  • the second package body 117 may include a reflective material.
  • the first package body 113 may include a reflective material
  • the second package body 117 may include a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first package body 113 may include a reflective material and a wavelength conversion material
  • the second package body 117 may include a wavelength conversion material.
  • the light emitting device package 100 may include a first package body 113 including a different base material and a second package body 117 formed separately from each other, And can be manufactured in a modular fashion through an optional combination that can be met.
  • the light emitting device 120 may include a first bonding part 121, a second bonding part 122, a light emitting structure 123, and a substrate 124.
  • the light emitting device 120 may be disposed on the package body 110.
  • the light emitting device 120 may be disposed on the first package body 113.
  • the light emitting device 120 may be disposed in the cavity C provided by the second package body 117.
  • the first bonding portion 121 may be disposed on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the second bonding portion 122 may be disposed on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first bonding part 121 and the second bonding part 122 may be spaced apart from each other on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first bonding part 121 may be disposed between the light emitting structure 123 and the first package body 113.
  • the second bonding portion 122 may be disposed between the light emitting structure 123 and the first package body 113.
  • the first opening TH1 may be disposed below the first bonding portion 121 of the light emitting device 120. [ The first opening TH1 may be provided to overlap with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120. [ The first opening TH1 may be provided in a manner overlapping with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the first package body 113. [
  • the second opening TH2 may be disposed below the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening portion TH2 may be provided so as to overlap with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening TH2 may be provided in a manner overlapping with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the first package body 113.
  • the first opening TH1 and the second opening TH2 may be spaced apart from each other.
  • the first opening portion TH1 and the second opening portion TH2 may be spaced apart from each other below the lower surface of the light emitting device 120.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include a first conductive layer 321 and a second conductive layer 322, as shown in FIG.
  • the first conductive layer 321 may be disposed in the first opening TH1.
  • the first conductive layer 321 may be disposed in direct contact with the lower surface of the first bonding portion 121.
  • the first conductive layer 321 may be provided so as to overlap with the first bonding portion 121 in the vertical direction.
  • the upper surface of the first conductive layer 321 may be flush with the upper surface of the first package body 113.
  • the lower surface of the first conductive layer 321 may be provided on the same plane as the lower surface of the first package body 113.
  • the second conductive layer 322 may be disposed in the second opening TH2.
  • the second conductive layer 322 may be disposed in direct contact with the lower surface of the second bonding portion 122.
  • the second conductive layer 322 may be provided so as to overlap with the second bonding portion 122 in the vertical direction.
  • the upper surface of the second conductive layer 322 may be flush with the upper surface of the first package body 113.
  • the lower surface of the second conductive layer 322 may be provided on the same plane as the lower surface of the first package body 113.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may include at least one material selected from the group consisting of Ag, Au, Pt, Sn, Cu, and the like, or an alloy thereof.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include a metal layer 430, as shown in FIG.
  • the metal layer 430 may be disposed below the first and second conductive layers 321 and 322.
  • the metal layer 430 may be disposed on the lower surfaces of the first and second conductive layers 321 and 322.
  • the metal layer 430 may be provided on the lower surface of the first package body 113 adjacent to the first and second openings TH1 and TH2.
  • the metal layer 430 may be formed of one selected from the group consisting of Ti, Cu, Ni, Au, Cr, Ta, Pt, Sn, Ag ), Phosphorus (P), or the like, or a selective alloy.
  • the first pad 311 of the circuit board 310 and the first conductive layer 321 may be electrically connected by the metal layer 430.
  • the second pad 312 of the circuit board 310 and the second conductive layer 322 may be electrically connected by the metal layer 430.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include a recess R as shown in FIG.
  • the recess R may be recessed from the bottom surface of the cavity C to the lower surface of the package body 110.
  • the recess R may be provided in the first package body 113.
  • the recess R may be recessed in a downward direction from an upper surface of the first package body 113.
  • the recess R may be disposed below the light emitting device 120.
  • the recess R may be provided under the light emitting device 120 and may be provided between the first bonding part 121 and the second bonding part 122. [ The recess R may be disposed around the first and second bonding portions 121 and 122 below the light emitting device 120.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include the first resin 130, as shown in FIG.
  • the first resin 130 may be disposed in the recess R. [ The first resin 130 may be disposed between the light emitting device 120 and the first package body 113. The first resin 130 may be disposed between the first bonding part 121 and the second bonding part 122. For example, the first resin 130 may be disposed in contact with a side surface of the first bonding portion 121 and a side surface of the second bonding portion 122.
  • the first resin 130 may be disposed around the first bonding portion 121 to seal the upper region of the first opening TH1.
  • the first resin 130 may be disposed around the second bonding portion 122 to seal the upper region of the second opening TH1.
  • the first resin 130 may provide a stable fixing force between the light emitting device 120 and the first package body 113.
  • the first resin 130 may be disposed in direct contact with the upper surface of the first package body 113, for example.
  • the first resin 130 may be disposed in direct contact with the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material .
  • the first resin 130 may reflect light emitted from the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may include white silicone.
  • the first resin 130 may be formed of a material including TiO 2 , SiO 2 , and the like.
  • the first resin 130 may be referred to as an adhesive.
  • the depth of the recess R may be smaller than the depth of the first opening TH1 or the depth of the second opening TH2.
  • the depth of the recess R may be determined in consideration of the adhesive force of the first resin 130.
  • the depth T1 of the recess R may be determined by considering the stable strength of the first package body 113 and / or by the heat emitted from the light emitting device 120 It can be determined that a crack does not occur.
  • the recess R may provide a suitable space under which a kind of underfill process may be performed under the light emitting device 120.
  • the recess R may be provided at a first depth or more so as to sufficiently provide the first resin 130 between the lower surface of the light emitting device 120 and the upper surface of the first package body 113 .
  • the recess R may be provided at a second depth or less to provide a stable strength of the first package body 113.
  • the depth and width of the recess R may affect the forming position and the fixing force of the first resin 130.
  • the depth and width of the recess R may be determined to provide sufficient fixing force by the first resin 130 disposed between the first package body 113 and the light emitting device 120.
  • the depth of the recess R may be provided by a few tens of micrometers.
  • the depth of the recess (R) may be from 40 micrometers to 60 micrometers.
  • the width W3 of the recess R may be provided to several hundred micrometers.
  • the width W3 of the recess R may be provided in the range of 140 micrometers to 160 micrometers.
  • the width W3 of the recess R may be provided at 150 micrometers.
  • the depth of the first opening TH1 may be provided corresponding to the thickness of the first package body 113. [ The depth of the first opening TH1 may be such that the first package body 113 can maintain a stable strength.
  • the depth of the first opening TH1 may be several hundred micrometers.
  • the depth of the first opening TH1 may be 180 to 220 micrometers.
  • the depth of the first opening TH1 may be 200 micrometers.
  • the thickness of the first opening TH1 minus the depth of the recess R may be selected to be at least 100 micrometers or more. This is because the thickness of the injection process capable of providing crack free of the first package body 113 is considered.
  • the depth of the first opening TH1 may be provided by 2 to 10 times the depth of the recess R. [ For example, when the depth of the first opening TH1 is 200 micrometers, the depth of the recess R may be 20 micrometers to 100 micrometers.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include the second resin 140 as shown in FIG.
  • the second resin 140 may be provided on the light emitting device 120.
  • the second resin 140 may be disposed on the first package body 113.
  • the second resin 140 may be disposed in the cavity C provided by the second package body 117.
  • the conventional lead frame is not applied in forming the package body 110.
  • a process of forming a lead frame is further required.
  • a process of forming a lead frame is not required.
  • the method of manufacturing a light emitting device package according to the embodiment of the present invention not only the process time is shortened but also the material is also reduced.
  • the embodiments of the light emitting device package can solve the problem of discoloration of materials such as silver plating, and the manufacturing cost can be reduced by omitting the process. Therefore, according to the method of manufacturing a light emitting device package according to the embodiment of the present invention, it is possible to reduce the manufacturing cost and improve the manufacturing yield and the reliability of the product.
  • power is connected to the first bonding portion 121 through the first conductive layer 321 provided in the first opening TH1, and power is supplied to the second opening portion TH2
  • the second bonding portion 122 may be connected to the power supply via the second conductive layer 322.
  • the light emitting device 120 can be driven by the driving power supplied through the first bonding part 121 and the second bonding part 122.
  • the light emitted from the light emitting device 120 may be provided in an upward direction of the package body 110.
  • the light emitting device package 100 may be mounted on a submount, a circuit board, or the like.
  • a high temperature process such as a reflow process can be applied.
  • a re-melting phenomenon occurs in the bonding region between the lead frame and the light emitting device provided in the light emitting device package, so that the stability of electrical connection and physical coupling can be weakened.
  • the first bonding portion 121 and the second bonding portion 122 of the light emitting device 120 according to the embodiment are formed by the first bonding portion 121 and the second bonding portion 122, And the second conductive layers 321 and 322, respectively.
  • the melting point of the first and second conductive layers 321 and 322 may be selected to have a higher value than the melting point of the common bonding material.
  • the light emitting device 120 is mounted on the first body arrays A1, A2, A3, and A4 using conductive paste ,
  • the package body 110 does not need to be exposed to high temperatures in the process of manufacturing the light emitting device package. Therefore, according to the embodiment, it is possible to prevent the package body 110 from being exposed to high temperature and being damaged or discolored.
  • the package body 110 may be formed from a group including a PPA (polyphthalamide) resin, a PCC (PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) resin, an EMC (Epoxy Molding Compound) resin, a SMC (Silicone Molding Compound) At least one selected material.
  • a PPA polyphthalamide
  • PCC PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate
  • EMC Epoxy Molding Compound
  • SMC Silicone Molding Compound
  • FIG. 10 is a view showing another example of the light emitting device package according to the embodiment of the present invention. Referring to FIG. 10, a light emitting device package according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 9. FIG.
  • the light emitting device package may include a package body 110 and a light emitting device 120, as shown in FIG.
  • the package body 110 may include a first package body 113 and a second package body 117.
  • the second package body 117 may be disposed on the first package body 113.
  • the second package body 117 may be disposed around the upper surface of the first package body 113.
  • the second package body 117 may provide a cavity C on the upper surface of the first package body 113.
  • the second package body 117 may include openings penetrating the top and bottom surfaces.
  • the first package body 113 may be referred to as a lower body, and the second package body 117 may be referred to as an upper body.
  • the package body 110 may not include the second package body 117 providing the cavity, but may include only the first package body 113 providing a flat upper surface .
  • the second package body 117 may reflect upward the light emitted from the light emitting device 120.
  • the second package body 117 may be inclined with respect to the upper surface of the first package body 113.
  • the package body 110 may include the cavity C.
  • the cavity may include a bottom surface and a side surface inclined to the top surface of the package body 110 from the bottom surface.
  • the package body 110 may be provided with a cavity C, or may be provided with a flat upper surface without a cavity C.
  • the first package body 113 may include a first frame 111 and a second frame 112.
  • the first frame 111 and the second frame 112 may be spaced apart from each other.
  • the first package body 113 may include a first body 115.
  • the first body 115 may be disposed between the first frame 111 and the second frame 112.
  • the first body 115 may function as an electrode separation line.
  • the first body 115 may be referred to as an insulating member.
  • the first body 115 may be disposed on the first frame 111. In addition, the first body 115 may be disposed on the second frame 112.
  • the first frame 111 and the second frame 112 may be provided as an insulating frame.
  • the first frame 111 and the second frame 112 can stably provide the structural strength of the package body 110.
  • first frame 111 and the second frame 112 may be provided as a conductive frame.
  • the first frame 111 and the second frame 112 can stably provide the structural strength of the package body 110 and can be electrically connected to the light emitting device 120.
  • the package body 110 may be formed of a material selected from the group consisting of polyphthalamide (PPA), polychloro tri phenyl (PCT), liquid crystal polymer (LCP), polyamide 9T, silicone, epoxy molding compound (EMC) , Silicon molding compound (SMC), ceramics, polyimide (PI), photo sensitive glass (PSG), sapphire (Al 2 O 3 ), and the like.
  • the package body 110 may include a reflective material of high refractive index fillers such as TiO 2 and SiO 2 .
  • the package body 110 may include a wavelength converting material such as a quantum dot or a fluorescent material.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may include different materials.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may be formed of different materials in different processes and then joined together.
  • the first package body 113 and the second package body 117 may be coupled to each other through the adhesive layer 160.
  • the adhesive layer 160 may be disposed between the first package body 113 and the second package body 117.
  • the adhesive layer 160 may be disposed on the upper surface of the first package body 113.
  • the adhesive layer 160 may be disposed on the lower surface of the second package body 117.
  • the adhesive layer 160 may be disposed around the light emitting device 120 to provide the cavity.
  • the adhesive layer 160 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material.
  • the adhesive layer 160 may reflect light emitted from the light emitting device 120.
  • the adhesive layer 160 may include white silicone.
  • Each of the first body 115 and the second package body 117 may be formed of polyphthalamide (PPA), polychloro tri phenyl (PCT), liquid crystal polymer (LCP), polyamide 9T, A resin material including an epoxy molding compound (EMC), a silicone molding compound (SMC), a polyimide (PI), a polyimide (PI) have.
  • PPA polyphthalamide
  • PCT polychloro tri phenyl
  • LCP liquid crystal polymer
  • EMC epoxy molding compound
  • SMC silicone molding compound
  • PI polyimide
  • PI polyimide
  • each of the first body 115 and the second package body 117 may include at least one of a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first body 115 and the second package body 117 may not include a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first body 115 and the second package body 117 may be made of transparent resin.
  • the first body 115 and the second package body 117 may include different base materials.
  • the first body 115 and the second package body 117 may include different resins.
  • the first body 115 may comprise a reflective material and the second package body 117 may comprise a wavelength converting material.
  • the first body 115 may include a wavelength conversion material
  • the second package body 117 may include a reflective material.
  • the first body 115 may include a reflective material
  • the second package body 117 may include a reflective material and a wavelength conversion material.
  • the first body 115 may include a reflective material and a wavelength conversion material
  • the second package body 117 may include a wavelength conversion material.
  • the light emitting device 120 may include a first bonding portion 121, a second bonding portion 122, a light emitting structure 123, and a substrate 124.
  • the light emitting device 120 may be disposed on the package body 110.
  • the light emitting device 120 may be disposed on the first frame 111 and the second frame 112.
  • the light emitting device 120 may be disposed in the cavity C provided by the package body 110.
  • the first bonding portion 121 may be disposed on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the second bonding portion 122 may be disposed on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first bonding part 121 and the second bonding part 122 may be spaced apart from each other on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first bonding part 121 may be disposed on the first frame 111.
  • the second bonding portion 122 may be disposed on the second frame 112.
  • the first bonding portion 121 may be disposed between the light emitting structure 123 and the first frame 111.
  • the second bonding portion 122 may be disposed between the light emitting structure 123 and the second frame 112.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include a first opening portion TH1 and a second opening portion TH2, as shown in FIG.
  • the first frame 111 may include the first opening TH1.
  • the second frame 112 may include the second opening TH2.
  • the first package body 113 may include a flat bottom surface and an upper surface parallel to the bottom surface.
  • the first and second openings TH1 and TH2 may pass through the upper surface and the lower surface of the first package body 113, respectively.
  • the first opening (TH1) may be provided in the first frame (111).
  • the first opening (TH1) may be provided through the first frame (111).
  • the first opening TH1 may be provided through the upper surface and the lower surface of the first frame 111 in a first direction.
  • the first opening TH1 may be disposed below the first bonding portion 121 of the light emitting device 120. [ The first opening TH1 may be provided to overlap with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120. [ The first opening TH1 may be provided in a manner overlapping with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the first frame 111. [
  • the second opening (TH2) may be provided in the second frame (112).
  • the second opening (TH2) may be provided through the second frame (112).
  • the second opening portion TH2 may be provided through the upper surface and the lower surface of the second frame 112 in a first direction.
  • the second opening TH2 may be disposed below the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening portion TH2 may be provided so as to overlap with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening portion TH2 may be provided in a manner overlapping with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the second frame 112.
  • the first opening TH1 and the second opening TH2 may be spaced apart from each other.
  • the first opening portion TH1 and the second opening portion TH2 may be spaced apart from each other below the lower surface of the light emitting device 120.
  • the width of the upper region of the first opening TH1 may be larger than the width of the first bonding portion 121.
  • the width of the upper region of the second opening portion TH2 may be larger than the width of the second bonding portion 122.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include a first conductor 221 and a second conductor 222, as shown in FIG.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include a first conductive layer 321 and a second conductive layer 322.
  • the first conductive layer 321 may be spaced apart from the second conductive layer 322.
  • the first conductor 221 may be disposed under the first bonding portion 121.
  • the first conductor 221 may be electrically connected to the first bonding portion 121.
  • the first conductor 221 may be overlapped with the first bonding portion 121 in the first direction.
  • the first conductor 221 may be provided in the first opening TH1.
  • the first conductor 221 may be disposed between the first bonding portion 121 and the first conductive layer 321.
  • the first conductor 221 may be electrically connected to the first bonding portion 121 and the first conductive layer 321.
  • the lower surface of the first conductor 221 may be disposed lower than the upper surface of the first opening TH1.
  • the lower surface of the first conductor 221 may be disposed lower than the upper surface of the first conductive layer 321.
  • the first conductor 221 may be disposed on the first opening TH1. In addition, the first conductor 221 may extend from the first bonding portion 121 to the inside of the first opening TH1.
  • the second conductor 222 may be disposed under the second bonding portion 122.
  • the second conductor 222 may be electrically connected to the second bonding portion 122.
  • the second conductor 222 may be disposed to overlap with the second bonding portion 122 in the first direction.
  • the second conductor 222 may be provided in the second opening TH2.
  • the second conductive material 222 may be disposed between the second bonding portion 122 and the second conductive layer 322.
  • the second conductor 222 may be electrically connected to the second bonding portion 122 and the second conductive layer 322.
  • the lower surface of the second conductor 222 may be disposed lower than the upper surface of the second opening TH2.
  • the lower surface of the second conductor 222 may be disposed lower than the upper surface of the second conductive layer 322.
  • the second conductor 222 may be disposed on the second opening TH2.
  • the second conductor 222 may extend from the second bonding portion 122 to the inside of the second opening TH2.
  • the first conductive layer 321 may be disposed on the lower surface and the side surface of the first conductor 221.
  • the first conductive layer 321 may be disposed in direct contact with the lower surface and the side surface of the first conductor 221.
  • the first conductive layer 321 may be provided in the first opening TH1.
  • the first conductive layer 321 may be disposed below the first bonding portion 121.
  • the width of the first conductive layer 321 may be greater than the width of the first bonding portion 121.
  • the electrical connection between the first conductive layer 321 and the first bonding portion 121 can be more stably provided by the first conductor 221 .
  • the second conductive layer 322 may be disposed on a lower surface and a side surface of the second conductor 222.
  • the second conductive layer 322 may be disposed in direct contact with the lower surface and the side surface of the second conductive body 222.
  • the second conductive layer 322 may be provided in the second opening TH2.
  • the second conductive layer 322 may be disposed under the second bonding portion 122.
  • the width of the second conductive layer 322 may be greater than the width of the second bonding portion 122.
  • the electrical connection between the second conductive layer 322 and the second bonding portion 122 can be stably provided by the second conductor 222 .
  • the first and second conductors 221 and 222 may be stably bonded to the first and second bonding portions 121 and 122 through separate bonding materials, respectively.
  • the side surfaces and the bottom surfaces of the first and second conductors 221 and 222 may be in contact with the first and second conductive layers 321 and 322, respectively.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 And 322 may be greater in contact with the first and second conductors 221 and 222, respectively. Accordingly, power is supplied from the first and second conductive layers 321 and 322 to the first and second bonding portions 121 and 122 through the first and second conductors 221 and 222, As shown in FIG.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may include at least one material selected from the group consisting of Ag, Au, Pt, Sn, Cu, and the like, or an alloy thereof. However, the present invention is not limited thereto, and the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may be formed of a material capable of ensuring a conductive function.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may be formed using a conductive paste.
  • the conductive paste may include a solder paste, a silver paste, or the like, and may be composed of a multi-layer or an alloy composed of different materials or a single layer.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may include a SAC (Sn-Ag-Cu) material.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include the first resin 130.
  • the first resin 130 may be disposed between the first package body 113 and the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may be disposed between the upper surface of the first package body 113 and the lower surface of the light emitting device 120.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include a recess R as shown in FIG.
  • the recess R may be recessed from the bottom surface of the cavity C to the lower surface of the package body 110.
  • the recess R may be provided in the first package body 113.
  • the recess R may be recessed in a downward direction from an upper surface of the first package body 113.
  • the recess R may be disposed below the light emitting device 120.
  • the recess R may be provided between the first opening TH1 and the second package body 117. [ Also, the recess R may be provided between the second opening TH2 and the second package body 117. For example, the recess R may be provided in the form of a closed loop below the light emitting device 120.
  • the recess R is formed between the first bonding portion 121 and the second package body 117 disposed adjacent to the first opening TH1 when seen from the upper direction of the light emitting device 120. [ As shown in FIG. The recess R may be formed in the second package body 117 disposed adjacent to the second bonding portion 122 and the second opening portion TH2 when viewed from above the light emitting device 120. [ As shown in FIG.
  • the recess R may be provided in the form of a closed loop around the first and second openings TH1 and TH2.
  • the size of the light emitting device 120 may be larger than the closed loop area provided by the recess R when seen from the upper direction of the light emitting device 120.
  • a closed loop formed by the recess R may be provided in an outline connecting the four sides of the light emitting device 120 when viewed from above the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may be disposed in the recess R. [ The first resin 130 may be disposed between the light emitting device 120 and the first package body 113. The first resin 130 may be disposed between the first bonding part 121 and the second package body 117. The first resin 130 may be disposed between the second bonding portion 122 and the second package body 117. For example, the first resin 130 may be disposed in contact with a side surface of the first bonding portion 121 and a side surface of the second bonding portion 122.
  • the first resin 130 may provide a stable fixing force between the light emitting device 120 and the first package body 113.
  • the first resin 130 may be disposed in direct contact with the upper surface of the first package body 113, for example.
  • the first resin 130 may be disposed in direct contact with the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material .
  • the first resin 130 may reflect light emitted from the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may include white silicone.
  • the first resin 130 may be formed of a material including TiO 2 , Silicone, and the like.
  • the first resin 130 may be referred to as an adhesive.
  • the first and second bonding portions 121 and 122 of the light emitting device 120 can be sealed from the outside by the first resin 130 provided in the recess R.
  • the first resin 130 may be provided in the form of a closed loop below the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may be provided in a closed loop shape along the shape of the recess R.
  • the recess R may be provided in a rectangular closed loop, or may be provided in a circular or elliptical closed loop.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include a second resin 140, as shown in FIG.
  • the second resin 140 may be provided on the light emitting device 120.
  • the second resin 140 may be disposed on the first package body 113.
  • the second resin 140 may be disposed in the cavity C provided by the second package body 117.
  • the second resin 140 may include an insulating material.
  • the second resin 140 may include wavelength conversion means for receiving light emitted from the light emitting device 120 and providing wavelength-converted light.
  • the second resin 140 may include a phosphor, a quantum dot, and the like.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include a first lower recess R11 and a second lower recess R12, as shown in FIG.
  • the first lower recess R11 and the second lower recess R12 may be spaced apart from each other.
  • the first lower recess R11 may be provided on a lower surface of the first frame 111. [ The first lower recess R11 may be concave in the upper surface direction of the lower surface of the first frame 111. [ The first lower recess R11 may be spaced apart from the first opening TH1.
  • the first lower recess R11 may be provided with a width of several micrometers to several tens of micrometers.
  • a resin part may be provided in the first lower recess R11.
  • the resin portion filled in the first lower recess R11 may be provided with the same material as the first package body 113, for example.
  • the present invention is not limited thereto, and the resin part may be selected from materials having poor adhesive force and wettability with the first and second conductive layers 321 and 322.
  • the resin portion may be selected and provided from a material having a low surface tension with respect to the first and second conductive layers 321 and 322.
  • a resin part filled in the first lower recess R11 is formed in a process of forming the first frame 111, the second frame 112, and the first body 115 through an injection process or the like Can be provided.
  • the resin portion filled in the first lower recess R11 may be disposed around the lower surface region of the first frame 111 providing the first opening TH1.
  • the lower surface of the first frame 111 providing the first opening TH1 may be disposed in a shape of an island in a state separated from a lower surface of the first frame 111 surrounding the first frame 111.
  • the resin part may be formed of a material having poor adhesion to the first and second conductive layers 321 and 322, a poor wettability, or a material having a low surface tension between the resin part and the first and second conductive layers 321 and 322
  • the first conductive layer 321 provided in the first opening TH1 is displaced from the first opening TH1 and the resin portion filled in the first lower recess R11, 115). ≪ / RTI >
  • the first conductive layer 321 may flow over the first opening TH1 in the direction of the area provided with the resin part or the first body 115 to prevent the resin part or the first body 115, And the first conductive layer 321 can be stably disposed in the region provided with the first opening TH1. Therefore, when the first conductive layer 321 disposed in the first opening TH1 overflows, the first conductive layer 321 is exposed to the outside region of the first lower recess R11 provided with the resin portion or the first body 115 The first conductive layer 321 can be prevented from expanding. Also, the first conductive layer 321 can be stably connected to the lower surface of the first bonding portion 121 in the first opening TH1.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 can be prevented from being in contact with each other and electrically short-circuited, It is very easy to control the amounts of the first and second conductive layers 321 and 322 in the step of disposing the layers 321 and 322.
  • the second lower recess R12 may be provided on the lower surface of the second frame 112.
  • the second lower recess R12 may be concave in the upper surface direction on the lower surface of the second frame 112.
  • the second lower recess R12 may be spaced apart from the second opening TH2.
  • the second lower recess R12 may be provided with a width of several micrometers to tens of micrometers.
  • a resin part may be provided in the second lower recess R12.
  • the resin part filled in the second lower recess R12 may be provided with the same material as the first body 115, for example.
  • the present invention is not limited thereto, and the resin part may be selected from materials having poor adhesive force and wettability with the first and second conductive layers 321 and 322.
  • the resin portion may be selected and provided from a material having a low surface tension with respect to the first and second conductive layers 321 and 322.
  • a resin portion filled in the second lower recess R12 is formed in a process of forming the first frame 111, the second frame 112, and the first body 115 through an injection process or the like Can be provided.
  • a resin portion filled in the second lower recess R12 may be disposed around a lower surface region of the second frame 112 providing the second opening TH2.
  • the lower surface of the second frame 112 providing the second opening TH2 may be disposed in a form of an island in a shape separated from the lower surface of the second frame 112 surrounding the second frame 112.
  • the resin part may be formed of a material having poor adhesion to the first and second conductive layers 321 and 322, a poor wettability, or a material having a low surface tension between the resin part and the first and second conductive layers 321 and 322
  • the second conductive layer 322 provided in the second opening portion TH2 is displaced from the second opening portion TH2 and the resin portion filled in the second lower recess R12, 115). ≪ / RTI >
  • the second conductive layer 322 overflows from the second opening portion TH2 in the direction of the region where the resin portion or the first body 115 is provided so that the resin portion or the first body 115, And the second conductive layer 322 can be stably disposed in the region where the second opening portion TH2 is provided. Therefore, when the second conductive layer 322 disposed in the second opening portion TH2 overflows, the resin or the first body 115 is exposed to the outside region of the second lower recess R12 provided with the resin body The second conductive layer 322 can be prevented from expanding. In addition, the second conductive layer 322 can be stably connected to the lower surface of the second bonding portion 122 in the second opening portion TH2.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 can be prevented from being in contact with each other and electrically short-circuited, It is very easy to control the amounts of the first and second conductive layers 321 and 322 in the step of disposing the layers 321 and 322.
  • the first and second openings TH1 and TH2 have different widths from each other as the etching progresses in the top and bottom directions of the first and second lead frames 111 and 112, And can be arranged in a spherical shape.
  • the first and second openings TH1 and TH2 may have a first point between the upper and lower portions, and the width may gradually increase and then decrease again toward the first point in the lower portion. In addition, the width gradually increases from the width-reduced intermediate region to the upper region, and then decreases again.
  • the first point of the first and second openings TH1 and TH2 described above may refer to a boundary region where the size of the opening decreases from the lower region to the upper region and then increases again.
  • the first point may be a point where the width of the first direction is the smallest between the upper surface and the lower surface of the first and second openings TH1 and TH2.
  • the first and second openings TH1 and TH2 may include a first region disposed on an upper surface of each of the first and second frames 111 and 112 with reference to the first point, And a second region disposed on the lower surface of each of the first and second regions 111 and 112.
  • the width of the upper surface of the first region may be smaller than the width of the lower surface of the second region.
  • first and second openings TH1 and TH2 comprise a first point between an upper surface and a lower surface and a curvature between the first point and the lower surface
  • adhesion between the first and second conductors 221 and 222 and the first and second conductive layers 321 can be improved.
  • the plating process for the first and second frames 111 and 112 may be performed. Accordingly, first and second plating layers 111a and 112a may be formed on the surfaces of the first and second frames 111 and 112, respectively.
  • the first and second plating layers 111a and 112a may be provided on upper and lower surfaces of the first and second frames 111 and 112, respectively.
  • the first and second plating layers 111a and 112a may be provided in a boundary region in contact with the first and second openings TH1 and TH2.
  • the first and second frames 111 and 112 may be provided as a Cu layer as a basic supporting member.
  • the first and second plating layers 111a and 112a may include at least one of a Ni layer, an Ag layer, and the like.
  • the Ni layer has a small change in thermal expansion, so that even when the size or placement of the package body is changed due to thermal expansion, The position of the light emitting element disposed on the upper portion can be stably fixed by the Ni layer.
  • the first and second plating layers 111a and 112a include an Ag layer, the Ag layer can efficiently reflect light emitted from the light emitting device disposed on the upper side and improve the brightness.
  • the first and second metal layers 111a and 112a provided in the boundary region in contact with the first and second openings TH1 and TH2 are formed in the first and second openings TH1 and TH2, And the second conductive layers 321 and 322 to form the first and second alloy layers.
  • An intermetallic compound (IMC) layer may be formed between the first and second layers 111 and 112 and the layers 321 and 322.
  • the material of the first and second conductive layers 321 and 322 and the first and second metal layers 111a and 112a of the first and second frames 111 and 112, And a second alloy layer may be formed.
  • the first conductive layer 321 and the first frame 111 can be physically and electrically coupled with each other in a stable manner.
  • the first conductive layer 321, the first alloy layer, and the first frame 111 can be physically and electrically coupled to each other in a stable manner.
  • the second conductive layer 322 and the second frame 112 can be physically and electrically coupled to each other in a stable manner.
  • the second conductive layer 322, the second alloy layer, and the second frame 112 can be physically and electrically coupled to each other in a stable manner.
  • the first and second alloy layers may include at least one intermetallic compound layer selected from the group including AgSn, CuSn, AuSn, and the like.
  • the intermetallic compound layer may be formed by a combination of a first material and a second material, and a first material may be provided from the first and second conductive layers 321 and 322, And the second metal layers 111a and 112a or the supporting members of the first and second frames 111 and 112.
  • the intermetallic compound layer may be provided to a thickness of several micrometers.
  • the intermetallic compound layer may be formed to a thickness of 1 micrometer to 3 micrometers.
  • an intermetallic compound layer of AgSn may be formed by a combination of a Sn material and an Ag material.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 include a Sn material and the first and second metal layers 111a and 112a include an Au material
  • the intermetallic compound layer of AuSn may be formed by the combination of the Sn material and the Au material in the process of providing the electrode material 321 or 322 or in the heat treatment process after being provided.
  • the intermetallic compound layer of CuSn can be formed by the combination of the Sn material and the Cu material in the process of providing the conductive layers 321 and 322 or in the heat treatment process after being provided.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 include Ag material and the first and second metal layers 111a and 111b or the supporting members of the first and second frames 111 and 112 Sn material, the intermetallic compound layer of AgSn may be formed by the bonding of the Ag material and the Sn material in the process of providing the first and second conductive layers 321 and 322 or in the heat treatment process after being provided.
  • the intermetallic compound layer described above can have a higher melting point than a general bonding material.
  • the heat treatment process in which the metal compound layer is formed can be performed at a lower temperature than the melting point of a general bonding material.
  • the package body 110 does not need to be exposed to high temperatures in the process of manufacturing the light emitting device package. Therefore, according to the embodiment, it is possible to prevent the package body 110 from being exposed to high temperatures to be damaged or discolored.
  • the selection range for the material constituting the first body 115 can be widened.
  • the first body 115 may be provided using not only expensive materials such as ceramics but also relatively inexpensive resin materials.
  • the first body 115 may include a resin such as PPA (Polyphthalamide) resin, PCC (PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) resin, EMC (Epoxy Molding Compound) resin, SMC (Silicone Molding Compound) And at least one material selected from the group.
  • a resin such as PPA (Polyphthalamide) resin, PCC (PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) resin, EMC (Epoxy Molding Compound) resin, SMC (Silicone Molding Compound) And at least one material selected from the group.
  • an intermetallic compound layer may also be formed between the first and second conductors 221 and 222 and the first and second conductive layers 321 and 322.
  • An intermetallic compound (IMC) layer may be formed between the first and second conductive layers 321 and 322 and the first and second conductors 221 and 222.
  • an alloy layer may be formed by bonding between the material of the first and second conductive layers 321 and 322 and the first and second conductors 221 and 222.
  • the first conductive layer 321 and the first conductor 221 can be physically and electrically coupled more stably.
  • the first conductive layer 321, the alloy layer, and the first conductor 221 can be physically and electrically coupled to each other in a stable manner.
  • the second conductive layer 322 and the second conductive body 222 can be physically and electrically coupled more stably.
  • the second conductive layer 322, the alloy layer, and the second conductive material 222 can be physically and electrically coupled to each other in a stable manner.
  • the alloy layer may include at least one intermetallic compound layer selected from the group including AgSn, CuSn, AuSn, and the like.
  • the intermetallic compound layer may be formed by a combination of a first material and a second material, and a first material may be provided from the first and second conductive layers 321 and 322, And second conductors 221 and 222, respectively.
  • the intermetallic compound layer may be provided to a thickness of several micrometers.
  • the intermetallic compound layer may be formed to a thickness of 1 micrometer to 3 micrometers.
  • the first and second bonding portions 121 and 122 of the light emitting device 120 in order to improve the light extraction efficiency, when the first and second bonding portions 121 and 122 of the light emitting device 120 are arranged to be small in size, May be greater than or equal to the width of the first bonding portion 121.
  • the width of the upper region of the second opening portion TH2 may be greater than or equal to the width of the second bonding portion 122.
  • the width of the upper region of the first opening TH1 may be less than or equal to the width of the lower region of the first opening TH1.
  • the width of the upper area of the second opening TH2 may be smaller than or equal to the width of the lower area of the second opening TH2.
  • the width of the upper region of the first opening TH1 may be from several tens of micrometers to several hundreds of micrometers.
  • the width of the lower region of the first opening TH1 may be several tens of micrometers to several hundreds of micrometers larger than the width of the upper region of the first opening TH1.
  • the width of the upper region of the second opening portion TH2 may be several tens of micrometers to several hundreds of micrometers.
  • the width of the lower region of the second opening TH2 may be several tens of micrometers to several hundreds of micrometers larger than the width of the upper region of the second opening TH2.
  • the width of the lower region of the first opening TH1 may be wider than the width of the upper region of the first opening TH1.
  • the first opening TH1 may be provided at a predetermined width in the upper region by a predetermined depth and may be provided in a shape inclined to the lower region.
  • the width of the lower region of the second opening portion TH2 may be wider than the width of the upper region of the second opening portion TH2.
  • the second opening portion TH2 may be provided at a predetermined width in the upper region by a predetermined depth and may be provided in an inclined shape toward the lower region.
  • the first opening TH1 may be provided in an inclined shape in which the width gradually decreases from the lower region to the upper region.
  • the second opening portion TH2 may be provided in an inclined shape in which the width gradually decreases from the lower region to the upper region.
  • the inclined surfaces between the upper and lower regions of the first and second openings TH1 and TH2 may have a plurality of inclined surfaces having different slopes and the inclined surfaces may be arranged with a curvature .
  • the first and second bonding parts 121 and 122 may be formed to have the same shape as the first and second bonding parts 121 and 122, And may be disposed in the first and second openings TH1 and TH2.
  • the light emitting device package according to the embodiment may include the first conductor 221 and the second conductor 221 to further secure the contact area between the first and second conductive layers 321 and 322 and the first and second bonding parts 121 and 122, And a second conductor 222.
  • first conductor 221 and the second conductor 221 to further secure the contact area between the first and second conductive layers 321 and 322 and the first and second bonding parts 121 and 122.
  • the first conductive layer 321 may be electrically connected to the first bonding portion 121 and the second conductive layer 322 may be electrically connected to the second bonding portion 122 .
  • external power may be supplied to the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322, so that the light emitting device 120 may be driven.
  • the first resin 130 provided in the recess R may be disposed between the lower surface of the light emitting device 120 and the upper surface of the package body 110, Can be provided.
  • the first resin 130 may be provided in the form of a closed loop around the first and second bonding portions 121 and 122 when viewed from the upper direction of the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may be provided in the form of a closed loop around the first and second openings TH1 and TH2 when viewed from above the light emitting device 120.
  • the first resin 130 may function to stably fix the light emitting device 120 to the package body 110.
  • the first resin 130 may be disposed around the first and second bonding portions 121 and 122 in contact with the side surfaces of the first and second bonding portions 121 and 122.
  • the first resin 130 is disposed such that the first and second openings TH1 and TH2 are isolated from the outer region provided with the second resin 140 when viewed from the upper direction of the light emitting device 120 .
  • the first and second conductive layers 321 and 322 provided in the first and second openings TRH1 and TH2 are separated from the closed loop of the recess R by the first resin 130, It can be prevented from flowing outwardly of the light emitting element 120.
  • first and second conductive layers 321 and 322 When the first and second conductive layers 321 and 322 are moved in the outer direction of the light emitting device 120 when viewed from above the light emitting device 120, 321, and 322 may be diffused on the side surface of the light emitting device 120. When the first and second conductive layers 321 and 322 are moved to the side of the light emitting device 120, the first conductive semiconductor layer of the light emitting device 120 and the second conductive semiconductor layer May be electrically short-circuited. In addition, when the first and second conductive layers 321 and 322 are moved to the side of the light emitting device 120, the light extraction efficiency of the light emitting device 120 may be lowered.
  • the first resin 130 can isolate the inside and the outside from the region provided with the recess R, the first and second conductive layers 321 and 322 May be prevented from moving outward beyond the region provided with the recess R.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 can be prevented from moving to the side of the light emitting device 120, Electrical shorting can be prevented and the light extraction efficiency can be improved.
  • the first resin 130 provided in the recess R may include a first region A1 positioned below the light emitting device 120 along the lower surface of the light emitting device 120, And may be disposed in contact with the four side surfaces of the first and second bonding portions 121 and 122. Accordingly, the first and second bonding portions 121 and 122 can be disposed to be surrounded by the first resin 130, and the first and second openings TH1 and TH2 can be disposed in the first Can be sealed by the resin (130).
  • first and second openings TH1 and TH2 can be sealed by the first resin 130 as described above, the first and second openings TH1 and TH2 provided in the first and second openings TH1 and TH2, The conductive layers 321 and 322 can be prevented from moving onto the upper surface of the first package body 113.
  • the sum of the areas of the first and second bonding portions 121 and 122 may be 10% or less based on the area of the top surface of the substrate 124.
  • the sum of the areas of the first and second bonding portions 121 and 122 may be greater than the sum of the areas of the first and second bonding portions 121 and 122.
  • the sum of the areas of the first and second bonding portions 121 and 122 may be 0.7% or more based on the area of the top surface of the substrate 124.
  • the sum of the areas of the first and second bonding parts 121 and 122 is set to be larger than the area of the top surface of the substrate 124 To 0.7% or more.
  • the area of the first and second bonding portions 121 and 122 is set so that the first conductor 221 and the second conductor 222 can be stably arranged. May be set to 0.7% or more based on the area of the top surface of the substrate 124.
  • the area of the first and second bonding portions 121 and 122 is reduced, the amount of light transmitted to the lower surface of the light emitting device 120 can be increased. Further, under the light emitting device 120, the first resin 130 having a good reflection characteristic may be provided. Accordingly, the light emitted in the lower direction of the light emitting device 120 is reflected by the first resin 130, and is efficiently emitted toward the upper direction of the light emitting device package, and the light extraction efficiency can be improved.
  • the light emitting device package according to the embodiment described above may be mounted on a submount, a circuit board, or the like.
  • a high temperature process such as a reflow process can be applied.
  • a re-melting phenomenon occurs in the bonding region between the lead frame and the light emitting device provided in the light emitting device package, so that the stability of electrical connection and physical coupling can be weakened.
  • the bonding portion of the light emitting device according to the embodiment can receive the driving power through the conductive layer disposed in the opening portion.
  • the melting point of the conductive layer disposed in the opening may be selected to have a higher value than the melting point of the common bonding material.
  • the light emitting device package according to the embodiment has advantages such that the electrical connection and the physical bonding force are not deteriorated because the re-melting phenomenon does not occur even when the light emitting device package according to the embodiment is bonded to the main substrate through a reflow process have.
  • the package body 110 does not need to be exposed to high temperatures in the process of manufacturing the light emitting device package. Therefore, according to the embodiment, it is possible to prevent the package body 110 from being exposed to high temperatures to be damaged or discolored.
  • the selection range for the material constituting the first body 115 can be widened.
  • the first body 115 may be provided using not only expensive materials such as ceramics but also relatively inexpensive resin materials.
  • the first body 115 may include a resin such as PPA (Polyphthalamide) resin, PCC (PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) resin, EMC (Epoxy Molding Compound) resin, SMC (Silicone Molding Compound) And at least one material selected from the group.
  • a resin such as PPA (Polyphthalamide) resin, PCC (PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) resin, EMC (Epoxy Molding Compound) resin, SMC (Silicone Molding Compound) And at least one material selected from the group.
  • FIG. 11 is a plan view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 12 is a cross-sectional view taken along line G-G of the light emitting device shown in FIG.
  • FIGS. 11 and 12 a description of elements overlapping with those described with reference to FIGS. 1 to 10 may be omitted in describing the light emitting device according to the embodiment.
  • a first electrode (not shown) electrically connected to the first bonding portion 2171 is disposed under the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172.
  • 2141 and the second electrode 2142 electrically connected to the second bonding portion 2172 can be seen.
  • the light emitting device 2100 may include a first light emitting structure 2110 and a second light emitting structure 2120 disposed on a substrate 2105 as shown in FIGS.
  • the substrate 2105 may be selected from the group including a sapphire substrate (Al 2 O 3 ), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP and Ge.
  • the substrate 2105 may be provided as a patterned sapphire substrate (PSS) having a concavo-convex pattern formed on its upper surface.
  • PSS patterned sapphire substrate
  • the first light emitting structure 2110 may include a first semiconductor layer 2111 of a first conductivity type, a first active layer 2112, and a second semiconductor layer 2113 of a second conductivity type.
  • the first active layer 2112 may be disposed between the first semiconductor layer 2111 and the second semiconductor layer 2113.
  • the first active layer 2112 may be disposed on the first semiconductor layer 2111
  • the second semiconductor layer 2113 may be disposed on the first active layer 2112.
  • the second light emitting structure 2120 may include a third semiconductor layer 2121 of a first conductivity type, a second active layer 2122, and a fourth semiconductor layer 2123 of a second conductivity type.
  • the second active layer 2122 may be disposed between the third semiconductor layer 2121 and the fourth semiconductor layer 2123.
  • the second active layer 2122 may be disposed on the third semiconductor layer 2121, and the fourth semiconductor layer 2123 may be disposed on the second active layer 2122.
  • the first semiconductor layer 2111 and the third semiconductor layer 2121 are provided as an n-type semiconductor layer, and the second semiconductor layer 2113 and the fourth semiconductor layer 2123 are formed of p Type semiconductor layer.
  • the first semiconductor layer 2111 and the third semiconductor layer 2121 are provided as a p-type semiconductor layer, and the second semiconductor layer 2113 and the fourth semiconductor layer 2123 ) May be provided as an n-type semiconductor layer.
  • the first semiconductor layer 2111 and the third semiconductor layer 2121 are provided as an n-type semiconductor layer, and the second semiconductor layer 2113 and the fourth semiconductor layer 2123 type semiconductor layer is provided as a p-type semiconductor layer.
  • a buffer layer may be further disposed between the first semiconductor layer 2111 and the substrate 2105 and / or between the third semiconductor layer 2121 and the substrate 2105.
  • the buffer layer may reduce the difference in lattice constant between the substrate 2105 and the first and second light emitting structures 2110 and 2120 and improve crystallinity.
  • the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be formed of a compound semiconductor.
  • the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be formed of, for example, Group 2-VI-VI or Group III-V compound semiconductors.
  • the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may include at least two selected from aluminum (Al), gallium (Ga), indium (In), phosphorus (P), arsenic More than two elements may be provided.
  • the first and third semiconductor layers 2111 and 2121 may be formed of, for example, a Group 2-VI compound semiconductor or a Group 3B-5 compound semiconductor.
  • the first and third semiconductor layers 2111 and 2121 may be formed of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + It may be provided in a semiconductor material having a composition formula y P (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1) - having a composition formula of a semiconductor material, or (Al x Ga 1 -x) y in 1.
  • the first and third semiconductor layers 2111 and 2121 may be formed of a group including GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, And an n-type dopant selected from the group including Si, Ge, Sn, Se, Te and the like can be doped.
  • the first and second active layers 2112 and 2122 may be formed of, for example, a Group 2-VI compound semiconductor or a Group 3B-5 compound semiconductor.
  • the first and second active layers 2112 and 2122 may be formed of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + having the formula or a semiconductor material (Al x Ga 1 -x) y in 1 - having a composition formula y P (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1) may be provided in the semiconductor material.
  • the first and second active layers 2112 and 2122 may be selected from the group including GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, .
  • the first and second active layers 2112 and 2122 may be provided in a multi-well structure, and may include a plurality of barrier layers and a plurality of well layers.
  • the second and fourth semiconductor layers 2113 and 2123 may be provided, for example, as a Group 2-VI compound semiconductor or a Group 3B-5 compound semiconductor.
  • the second and fourth semiconductor layers 2113 and 2123 may be made of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + It may be provided in a semiconductor material having a composition formula y P (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1) - having a composition formula of a semiconductor material, or (Al x Ga 1 -x) y in 1.
  • the second and fourth semiconductor layers 2113 and 2123 may be formed of a group including GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, And may be doped with a p-type dopant selected from the group including Mg, Zn, Ca, Sr, Ba, and the like.
  • the light emitting device 2100 may include a light transmitting electrode layer 2230, as shown in FIG.
  • the transmissive electrode layer 2230 can improve current injection efficiency between the second and fourth semiconductor layers 2113 and 2123 and the transmissive electrode layer 2230 and thus increase the light output of the light emitting element 2100 .
  • the light transmitting electrode layer 2230 can transmit light emitted from the active layer 2122. The effect of this will be described later, and the arrangement position and shape of the transparent electrode layer 2230 will be further described with reference to the method of manufacturing the light emitting device according to the embodiment.
  • the light transmitting electrode layer 2230 may include at least one selected from the group consisting of a metal, a metal oxide, and a metal nitride.
  • the transmissive electrode layer 2230 may be formed of a material such as ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), IZON (indium zinc oxide), IZTO (indium zinc tin oxide), IAZO gallium zinc oxide (IGTO), aluminum zinc oxide (AZO), antimony tin oxide (ATO), gallium zinc oxide (GZO), IrOx, RuOx, RuOx / ITO, Ni / IrOx / IrOx / Au / ITO, Pt, Ni, Au, Rh, and Pd.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • IZON indium zinc oxide
  • IZTO indium zinc tin oxide
  • AZO aluminum zinc oxide
  • ATO antimony tin oxide
  • GZO gallium zinc oxide
  • the light emitting device 2100 may include a reflective layer 2160, as shown in FIGS. 11 and 12.
  • the reflective layer 2160 may include a first reflective layer 2161, a second reflective layer 2162, and a third reflective layer 2163.
  • the reflective layer 2160 may be disposed on the transmissive electrode layer 2230.
  • the reflective layer 2160 is disposed on the transmissive electrode layer 2230 so that light emitted from the active layer 2123 can be reflected by the reflective layer 2160. Accordingly, since the light emitted from the active layer 2123 can be prevented from being absorbed by the first electrode 2141, the second electrode 2142, and the connection electrode 2143 to be described later, the light emitted from the light emitting device 2100 Can be improved.
  • the transparent electrode layer 2230 and the reflective layer 2160 are provided to secure electrical characteristics.
  • the present invention is not limited thereto.
  • the reflective layer 2160 may be provided only to the transparent electrode layer 2230 so as to secure both the electrical and optical characteristics.
  • the first reflective layer 2161 may be disposed on the first light emitting structure 2110.
  • the second reflective layer 2162 may be disposed on the second light emitting structure 2120.
  • the third reflective layer 2163 may be disposed between the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162.
  • the third reflective layer 2163 may be disposed on the first light emitting structure 2110 and the second light emitting structure 2120.
  • the third reflective layer 2163 may be connected to the first reflective layer 2161.
  • the third reflective layer 2163 may be connected to the second reflective layer 2162.
  • the third reflective layer 2163 may be physically in direct contact with the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162.
  • the first to third reflective layers 2161, 2162, and 2163 may be formed of one reflective layer connected to each other.
  • the first reflective layer 2161 may include a plurality of openings.
  • the first reflective layer 2161 may include a plurality of first openings h1 provided through the substrate 2105 in a first direction perpendicular to the upper surface of the substrate 2105.
  • the first reflective layer 2161 may include a plurality of second openings h2 provided through the first reflective layer 2161 in the first direction.
  • the second reflective layer 2162 may include a plurality of openings.
  • the second reflective layer 2162 may include a plurality of third openings h3 provided in a first direction perpendicular to the upper surface of the substrate 2105.
  • the second reflective layer 2162 may include a plurality of fourth openings h4 provided in the first direction.
  • the third reflective layer 2163 may include a plurality of openings.
  • the third reflective layer 2163 may include a plurality of fifth and fifth aperture portions h5a and h5b provided in a first direction perpendicular to the upper surface of the substrate 2105.
  • the third reflective layer 2163 may include a plurality of sixth and sixth opening portions h6a and h6b provided through the first reflective layer 2163 in the first direction.
  • the third reflective layer 2163 may include a line opening TH1 provided through the first reflective layer 2163 in the first direction.
  • the line opening TH1 may extend in a second direction perpendicular to the first direction.
  • the line opening TH1 is disposed between the first light emitting structure 2110 and the second light emitting structure 2120 so that the first and second light emitting structures 2110 and 2120 are electrically connected in series.
  • the first electrode of the second light emitting structure 2120 and the second electrode of the second light emitting structure 2120 are connected to each other.
  • the line opening TH1 is connected to the first electrode of the first light emitting structure 2110 and is disposed at a position adjacent to the second light emitting structure 2120, and the fifth opening 214 facing the line opening TH1 h5b. < / RTI >
  • the third reflective layer 2163 may include a line opening TH1 and a fifth opening h5b, as shown in FIG.
  • the line opening TH1 may expose the top surface of the first semiconductor layer 2111.
  • the fifth opening h5b may expose the upper surface of the transparent electrode layer 2230 disposed on the fourth semiconductor layer 2123.
  • the current diffusion layer 2220 may be further disposed under the fifth opening h5b.
  • the current diffusion layer 2220 may be disposed between the fourth semiconductor layer 2123 and the transparent electrode layer 2230.
  • the arrangement position and shape of the reflective layer 2160, the transparent electrode layer 2230, and the current diffusion layer 2220 according to the embodiment will be further described with reference to the method of manufacturing the light emitting device according to the embodiment.
  • the reflective layer 2160 may be provided as an insulating reflective layer.
  • the reflective layer 2160 may be provided as a DBR (Distributed Bragg Reflector) layer.
  • the reflective layer 2160 may be provided as an ODR (Omni Directional Reflector) layer.
  • the reflective layer 2160 may be provided by stacking a DBR layer and an ODR layer.
  • the light emitting device 2100 may include a first electrode 2141, a second electrode 2142, and a connection electrode 2143 as shown in FIGS. 11 and 12.
  • the first electrode 2141 and the second electrode 2142 may be spaced apart from each other.
  • the connection electrode 2143 may be disposed between the first electrode 2141 and the second electrode 2142.
  • the first electrode 2141 may be disposed on the first reflective layer 2161. A portion of the first electrode 2141 may be disposed on the third reflective layer 2163.
  • the first electrode 2141 may be electrically connected to the second semiconductor layer 2113.
  • the first electrode 2141 may be electrically connected to the second semiconductor layer 2113 through the plurality of first openings h1.
  • the first electrode 2141 may be disposed in direct contact with the transparent electrode layer 2230 disposed below the plurality of first openings h1 in the region where the first light emitting structure 2110 is provided.
  • the first electrode 2141 may be disposed in direct contact with the upper surface of the transparent electrode layer 2230 exposed by the plurality of first openings h1 in the region where the first light emitting structure 2110 is provided.
  • the second electrode 2142 may be disposed on the second reflective layer 2162. A portion of the second electrode 2142 may be disposed on the third reflective layer 2163.
  • the second electrode 2142 may be electrically connected to the third semiconductor layer 2121.
  • the second electrode 2142 may be electrically connected to the third semiconductor layer 2121 through the fourth openings h4.
  • the second electrode 2142 may be disposed in direct contact with the third semiconductor layer 2121 disposed under the plurality of fourth openings h4 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided.
  • the second electrode 2142 may be disposed in direct contact with the upper surface of the third semiconductor layer 2121 exposed by the plurality of fourth openings h4 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided have.
  • connection electrode 2143 may be disposed on the third reflective layer 2163. A portion of the connection electrode 2143 may be disposed on the first reflective layer 2161. A portion of the connection electrode 2143 may be disposed on the second reflective layer 2162.
  • connection electrode 2143 may be electrically connected to the first semiconductor layer 2111 and the fourth semiconductor layer 2123.
  • connection electrode 2143 includes a first portion 2143a disposed on the first semiconductor layer 2111, a second portion 2143b disposed on the fourth semiconductor layer 2123, And a third portion 2143c connecting the second portion 2143a and the second portion 2143b.
  • the connection electrode 2143 may include the first portion 2143a disposed above the region where the first light emitting structure 2110 is provided.
  • the connection electrode 2143 may include a second portion 2143b disposed over an area where the second light emitting structure 2120 is provided.
  • the connection electrode 2143 may include the third portion 2143c disposed on the boundary region between the first light emitting structure 2110 and the second light emitting structure 2120.
  • the first portion 2143a may include a first electrode portion 2143aa and a second electrode portion 2143ab.
  • the first portion 2143a may be electrically connected to the first semiconductor layer 2111 through the plurality of second openings h2, the plurality of sixth aperture h6a, and the line aperture TH1 .
  • the second electrode portion 2143ab of the first portion 2143a is electrically connected to the first semiconductor layer 2111 through the plurality of second openings h2 in the region where the first light emitting structure 2110 is provided, And may be provided in direct contact with the upper surface.
  • the first electrode portion 2143aa of the first portion 2143a is electrically connected to the first semiconductor layer 2111 through the plurality of sixth opening portions h6a in the region where the first light emitting structure 2110 is provided, And may be provided in direct contact with the upper surface.
  • the first electrode portion 2143aa of the first portion 2143a is electrically connected to the upper surface of the first semiconductor layer 2111 through the line opening TH1 in the region where the first light emitting structure 2110 is provided, As shown in FIG.
  • the second portion 2143b may include a third electrode portion 2143ba and a fourth electrode portion 2143bb.
  • the second portion 2143b may be electrically connected to the fourth semiconductor layer 2123 through the plurality of third openings h3 and the plurality of fifth openings h5b.
  • the fourth electrode portion 2143bb of the second portion 2143b is electrically connected to the fourth semiconductor layer 2123 through the third openings h3 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided, May be provided in contact with the upper surface.
  • the fourth electrode portion 2143bb of the second portion 2143b is formed on the transparent electrode layer 2230 disposed below the plurality of third openings h3 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided They can be placed in direct contact.
  • the fourth electrode portion 2143bb of the second portion 2143b is electrically connected to the transparent electrode layer 2230 exposed by the plurality of third openings h3 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided And can be disposed in direct contact with the upper surface.
  • the third electrode portion 2143ba of the second portion 2143b is electrically connected to the fourth semiconductor layer 2123 through the plurality of fifth opening portions h5b in the region where the second light emitting structure 2120 is provided, May be provided in contact with the upper surface.
  • the third electrode portion 2143ba of the second portion 2143b is formed on the translucent electrode layer 2230 disposed below the plurality of fifth opening portions h5b in the region where the second light emitting structure 2120 is provided They can be placed in direct contact.
  • the third electrode portion 2143ba of the second portion 2143b is formed in a region of the transparent electrode layer 2230 exposed by the plurality of fifth opening portions h5b in the region where the second light emitting structure 2120 is provided And can be disposed in direct contact with the upper surface.
  • the third portion 2143c of the connection electrode 2143 may be disposed on a boundary region between the first light emitting structure 2110 and the second light emitting structure 2120. [ The third portion 2143c of the connection electrode 2143 may be electrically connected to the first portion 2143a and the second portion 2143b.
  • the first electrode 2141 may be electrically connected to the second semiconductor layer 2113 according to an embodiment.
  • the second electrode 2142 may be electrically connected to the third semiconductor layer 2121.
  • the connection electrode 2143 may be electrically connected to the first semiconductor layer 2111 and the fourth semiconductor layer 2123.
  • the first electrode 2141, the second semiconductor layer 2113, the first electrode 2141, The semiconductor layer 2111, the connection electrode 2143, the fourth semiconductor layer 2123, the third semiconductor layer 2121 and the second electrode 2142 can be electrically connected in series.
  • the area of the first electrode portion 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is larger than the area of the third electrode portion 2143ba contacting the fourth semiconductor layer 2123 Can be provided.
  • the area of the first electrode part 2143ab in contact with the first semiconductor layer 2111 is larger than the area of the first electrode part 2143ab in the area where the first light emitting structure 2110 is provided, the first electrode portion 2143ab is in direct contact with the upper surface of the first semiconductor layer 2111 through the line opening TH1 through the contact hole h6a, The area can be matched to the sum of areas.
  • the area of the third electrode part 2143ba which is in contact with the fourth semiconductor layer 2123 is set such that the third electrode part 2143ba is formed in a region where the second light emitting structure 2120 is provided, 5b may correspond to the area of the region directly contacting the transparent electrode layer 2230 disposed below the opening h5b.
  • the third electrode part 2143ba is in contact with the fourth semiconductor layer 2123 in a region where the second light emitting structure 2120 is provided, may correspond to the area of an area directly in contact with the upper surface of the transparent electrode layer 2230 exposed by the h5b.
  • the area of the first electrode part 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 may be 1.4% or more and 3.3% or less of the bottom area of the substrate 2105.
  • An area of the third electrode part 2143ba in contact with the fourth semiconductor layer 2123 may be 0.7% or more and 3.0% or less of the bottom area of the substrate 2105.
  • the area of the first electrode part 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is larger than the area of the third electrode part 2143ba contacting the fourth semiconductor layer 2123, May be provided in the range of 1.1 times to 2 times.
  • the area of the first electrode part 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is larger than the area of the third electrode part 2143ba contacting the fourth semiconductor layer 2123, , The carrier can be smoothly diffused, and the operating voltage can be prevented from rising.
  • the first electrode 2141, the second electrode 2142, and the connection electrode 2143 may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
  • the first electrode 2141, the second electrode 2142, and the connection electrode 2143 may be ohmic electrodes.
  • the first electrode 2141, the second electrode 2142, and the connection electrode 2143 may be formed of a metal such as ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx / ITO, Ni / IrOx / Au, Or an alloy of at least one of Au, ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au and Hf.
  • the light emitting device 2100 may include a protective layer 2150 as shown in FIG.
  • the protective layer 2150 is not shown so that the arrangement of the protective layer 2150 can be well shown.
  • the protective layer 2150 may be disposed on the first electrode 2141, the second electrode 2142, and the connection electrode 2143.
  • the protective layer 2150 may be disposed on the reflective layer 2160.
  • the protective layer 2150 may be disposed on the first reflective layer 2161, the second reflective layer 2162, and the third reflective layer 2163.
  • the position and shape of the protective layer 2150 will be further described with reference to a method of manufacturing a light emitting device according to an embodiment.
  • the protective layer 2150 may be provided as an insulating material.
  • the passivation layer 2150 may include at least one of Si x O y , SiO x N y , Si x N y , Al x O y And at least one material selected from the group consisting of:
  • the light emitting device 2100 may include a first bonding portion 2171 and a second bonding portion 2172 disposed on the protective layer 2150 as shown in FIG.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the first reflective layer 2161.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the second reflective layer 2162.
  • the second bonding portion 2172 may be spaced apart from the first bonding portion 2171.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the first electrode 2141.
  • the first bonding portion 2171 may be electrically connected to the first electrode 2141.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the first light emitting structure 2110.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the second semiconductor layer 2113.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the connection electrode 2143.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the first portion 2143a of the connection electrode 2143.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the second electrode portion 2143ab of the connection electrode 2143.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the second electrode 2142.
  • the second bonding portion 2172 may be electrically connected to the second electrode 2142.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the second light emitting structure 2120.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the fourth semiconductor layer 2123.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the connection electrode 2143.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the second portion 2143b of the connection electrode 2143.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the fourth electrode portion 2143bb of the connection electrode 2143.
  • connection electrode 2143 may include a first portion 2143a disposed on the first semiconductor layer 2111, a second portion 2143b disposed on the fourth semiconductor layer 2123, And a third portion 2143c connecting the first portion 2143a and the second portion 2143b to each other.
  • the first portion 2143a of the connection electrode 2143 includes a first electrode portion 2143aa that does not overlap the first bonding portion 2171 in a first direction perpendicular to the upper surface of the substrate 2105, And a second electrode portion 2143ab overlapping the first bonding portion 2171.
  • the second portion 2143b of the connection electrode 2143 may include a third electrode portion 2143ba that does not overlap the second bonding portion 2172 in the first direction and a second electrode portion 2143ba that overlaps the second bonding portion 2172 And a fourth electrode portion 2143bb.
  • the area of the first electrode portion 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is larger than the area of the third electrode portion 2143ba contacting the fourth semiconductor layer 2123 Can be provided.
  • the area of the first electrode part 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 may be 1.4% or more and 3.3% or less of the bottom area of the substrate 2105.
  • An area of the third electrode part 2143ba in contact with the fourth semiconductor layer 2123 may be 0.7% or more and 3.0% or less of the bottom area of the substrate 2105.
  • the area of the first electrode part 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is larger than the area of the third electrode part 2143ba contacting the fourth semiconductor layer 2123, May be provided in the range of 1.1 times to 2 times.
  • an area where the first electrode part 2143ab and the first semiconductor layer 2111 are in contact with each other is wider than an area where the third electrode part 2143ba and the fourth semiconductor layer 2123 are in contact with each other, 1 semiconductor layer 2111 and the fourth semiconductor layer 2123 are connected in series, it is advantageous in terms of current diffusion and current injection characteristics.
  • the area of the first electrode part 2143ab and the first semiconductor layer 2111 which are in contact with each other is 1.4% or more of the area of the bottom surface of the substrate 2105, Can be efficiently performed.
  • the area of the first electrode part 2143ab and the first semiconductor layer 2111 which contact each other is less than 3.3% of the bottom area of the substrate 2105,
  • the light extraction efficiency of the first light emitting structure 2110 can be improved by adjusting the area of the first active layer 2112 to be etched.
  • the area of the third electrode part 2143ba and the fourth semiconductor layer 2123 in contact with each other is 0.7% or more of the area of the bottom surface of the substrate 2105, Diffusion can be efficiently performed.
  • the area of the third electrode part 2143ba and the fourth semiconductor layer 2123 which are in contact with each other is less than 3.0% of the bottom area of the substrate 2105, And the light extraction efficiency of the second light emitting structure 2120 can be improved.
  • the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may emit light when power is applied to the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172.
  • the first bonding portion 2171, the first electrode 2141, the second semiconductor layer 2113, and the third semiconductor layer 2113 are electrically connected to the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172,
  • the connection electrode 2143, the fourth semiconductor layer 2123, the third semiconductor layer 2121, the second electrode 2142, the second bonding portion 2172, the first semiconductor layer 2111, the connection electrode 2143, Can be electrically connected in series.
  • a high voltage may be applied between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 and the applied high voltage may be applied to the first electrode 2141, the connection electrode 2143, And can be dispersed and supplied to the first and second light emitting structures 2110 and 2120 through the second electrode 2142.
  • the first bonding portion 2171 and the first electrode 2141 can be contacted in a plurality of regions.
  • the second bonding portion 2172 and the second electrode 2142 may be in contact with each other in a plurality of regions.
  • power can be supplied through a plurality of regions, so that current dispersion effect is generated according to increase of the contact area and dispersion of the contact region, and operation voltage can be reduced.
  • an area of the first electrode portion 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is smaller than that of the third Since the electrode portion 2143ba is provided larger than the area in contact with the fourth semiconductor layer 2123, the carrier can be smoothly diffused, and the operating voltage can be prevented from rising.
  • the light emitting device according to the embodiment may be connected to an external power source through a flip chip bonding method.
  • the upper surface of the first bonding portion 2171 and the upper surface of the second bonding portion 2172 may be arranged to be attached to a submount, a lead frame, have.
  • the light provided by the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be emitted through the substrate 2105 when the light emitting device according to the embodiment is mounted by a flip chip bonding method to be implemented as a light emitting device package have. Light emitted from the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be reflected by the first to third reflective layers 2161 and 2162 and emitted toward the substrate 2105.
  • the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 having a large area can be directly bonded to the circuit board providing power, The chip bonding process can be performed easily and stably.
  • the size of the first reflective layer 2161 may be several micrometers larger than the size of the first bonding portion 2171.
  • the area of the first reflective layer 2161 may be sufficiently large to cover the area of the first bonding portion 2171.
  • the length of one side of the first reflective layer 2161 may be greater than the length of one side of the first bonding portion 2171 by about 4 micrometers to 10 micrometers, for example.
  • the size of the second reflective layer 2162 may be several micrometers larger than the size of the second bonding portion 2172.
  • the area of the second reflective layer 2162 may be sufficiently large to cover the area of the second bonding portion 2172.
  • the length of one side of the second reflective layer 2162 may be greater than the length of one side of the second bonding portion 2172 by about 4 micrometers to 10 micrometers, for example.
  • the light emitted from the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be transmitted through the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2171 by the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162. [ And can be reflected without being incident on the second bonding portion 2172. Accordingly, according to the embodiment, light generated and emitted from the first and second light emitting structures 2110 and 2120 is incident on the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 and is lost Can be minimized.
  • the third reflective layer 2163 is disposed between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172, 2171 and the second bonding portion 2172.
  • the minimum distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be equal to or greater than 125 micrometers.
  • the minimum distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 is selected in consideration of the interval between the first electrode pad and the second electrode pad of the package body in which the light emitting device 2100 is mounted .
  • the minimum spacing between the first and second electrode pads of the package body may be provided at a minimum of 125 micrometers and may be provided at a maximum of 200 micrometers.
  • the interval between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be 125 micrometers or more and 300 micrometers or less, for example.
  • the gap between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 should be greater than 125 micrometers so that the distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 A minimum space can be ensured so that a short circuit does not occur in the light emitting device 2100, and a light emitting area for improving light extraction efficiency can be secured, so that the light intensity Po of the light emitting device 2100 can be increased.
  • the distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 should be 300 micrometers or less so that the distance between the first electrode pad and the second electrode pad of the light emitting device package, The first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 can be bonded with a sufficient bonding force and the electrical characteristics of the light emitting device 2100 can be secured.
  • the minimum distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 is set to be larger than 125 micrometers in order to secure the optical characteristics.
  • the distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 is 125 micrometers or more and 300 micrometers or less.
  • the present invention is not limited thereto, and the interval between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be less than 125 micrometers in order to improve the electrical characteristics or reliability of the light emitting device package , And may be arranged larger than 300 micrometers to improve the optical characteristics.
  • the first reflective layer 2161 is disposed under the first electrode 2141 and the second reflective layer 2162 is disposed under the second electrode 2142. In addition, .
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 reflect light emitted from the first and second active layers 2112 and 2122 of the first and second light emitting structures 2110 and 2120, So that light absorption can be minimized in the first electrode 2141 and the second electrode 2142, and the light intensity Po can be improved.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may be made of an insulating material, and may have a high reflectivity, for example, a DBR structure for reflecting light emitted from the active layer.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may have a DBR structure in which materials having different refractive indexes are repeatedly arranged.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may be formed of TiO 2 , SiO 2 , Ta 2 O 5 , HfO 2 Or a laminated structure including at least one of them.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 are formed on the first and second active layers 2112 and 2122 according to the wavelength of the light emitted from the first and second active layers 2112 and 2122,
  • the first and second active layers 2112 and 2122 can be freely selected so as to control the reflectivity of the light emitted from the first and second active layers 2112 and 2122.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may be provided as an ODR layer. According to another embodiment, the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may be provided as a hybrid type in which a DBR layer and an ODR layer are stacked.
  • the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 are formed of Au, AuTi, or the like, so that the packaging factory can be stably operated.
  • the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be formed of a metal such as Ti, Al, In, Ir, Ta, Pd, Co, Cr, Mg, Zn, Ni, Si, Layer or multilayer structure using at least one material or alloy selected from Au, Hf, Pt, Ru, Rh, ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx / ITO, Ni / IrOx / Au, and Ni / IrOx / .
  • the light emitting device 2100 may be mounted, for example, in a flip chip bonding manner to provide a light emitting device package.
  • the package body on which the light emitting device 2100 is mounted is provided by resin or the like, strong light of a short wavelength emitted from the light emitting device 2100 in the lower region of the light emitting device 2100 causes discoloration Or cracks may occur.
  • the light emitting device 2100 it is possible to reduce the emission of light between the areas where the first bonding part 2171 and the second bonding part 2172 are disposed, Can be prevented from being discolored or cracked.
  • a light emitting structure may be formed on a substrate 2105. Referring to FIG. 13A and 13B, a light emitting structure may be formed on a substrate 2105. Referring to FIG. 13A and 13B, a light emitting structure may be formed on a substrate 2105.
  • FIG. 13A is a plan view showing the shape of a light emitting structure formed according to the method of manufacturing a light emitting device according to the embodiment
  • FIG. 13B is a plan view showing a result of performing the unit process shown in FIG. 13A.
  • a light emitting structure may be formed on the substrate 2105.
  • a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer may be formed on the substrate 2105.
  • the current diffusion layer 2220 may be formed on the light emitting structure.
  • the current diffusion layer 2220 may be formed on the second conductive semiconductor layer.
  • the current diffusion layers 2220 may be provided in a plurality and may be provided separately from each other.
  • the current diffusion layer 2220 may be provided as an oxide or a nitride.
  • a transparent electrode layer 2230 can be formed.
  • FIG. 14A is a plan view showing the shape of the light transmitting electrode layer formed according to the method of manufacturing a light emitting device according to the embodiment
  • FIG. 14B is a plan view showing a result of performing the unit process shown in FIG. 14A.
  • the light transmitting electrode layer 2230 may be formed on the light emitting structure and a mesa etching may be performed.
  • the transmissive electrode layer 2230 may be formed on the second conductive semiconductor layer 103 and a mesa etching process may be performed to expose the first conductive semiconductor layer.
  • a part of the first conductivity type semiconductor layer may be exposed through a mesa etching process.
  • a plurality of mesa recesses M exposing a part of the first conductivity type semiconductor layer may be formed by the mesa etching process.
  • a mesa recess line ML may be formed in which the light emitting structure is divided into a first light emitting structure 2110 and a second light emitting structure 2120 by the mesa etching process.
  • the first light emitting structure 2110 may include a first semiconductor layer 2111 of a first conductivity type, a first active layer 2112, and a second semiconductor layer 2113 of a second conductivity type.
  • the second light emitting structure 2120 may include a third semiconductor layer 2121 of a first conductivity type, a second active layer 2122, and a fourth semiconductor layer 2123 of a second conductivity type.
  • the upper surface of the first semiconductor layer 2111 or the upper surface of the third semiconductor layer 2121 may be exposed in the plurality of mesa recesses (M).
  • the boundary region between the first semiconductor layer 2111 and the third semiconductor layer 2121 may be exposed in the mesa recess line ML.
  • the mesas (M) may be provided in a plurality of circular shapes.
  • the mesa recesses M may be provided in various shapes such as an elliptical shape or a polygonal shape as well as a circular shape.
  • the mesa recess line ML may be formed in a line shape having a predetermined width.
  • the mesa recess lines ML may be formed to have different widths depending on regions.
  • the transmissive electrode layer 2230 may be formed on the second conductive semiconductor layer.
  • the transmissive electrode layer 2230 may include a plurality of openings provided in a region corresponding to the mesa recesses M.
  • the transparent electrode layer 2230 may include a line-shaped opening provided in a region corresponding to the mesa recess line ML.
  • an isolation process can be performed.
  • FIG. 15A is a plan view showing a shape of a mask in which an isolation process is performed according to the method of manufacturing a light emitting device according to the embodiment
  • FIG. 15B is a plan view showing a result of performing the unit process shown in FIG. 15A.
  • an isolation process for separating the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be performed.
  • An isolation line IL may be formed to isolate the first and second light emitting structures 2110 and 2120 from each other by the isolation process.
  • An upper surface of the substrate 2105 may be exposed in an area where the isolation line IL is formed.
  • the first light emitting structure 2110 and the second light emitting structure 2120 may be electrically separated from each other.
  • the first semiconductor layer 2111 and the third semiconductor layer 2121 may be provided separately from each other.
  • the first semiconductor layer 2111 and the third semiconductor layer 2121 may be electrically isolated from each other.
  • a reflection layer 2160 may be formed.
  • FIG. 16A is a plan view showing the shape of a reflective layer formed according to the method of manufacturing a light emitting device according to the embodiment
  • FIG. 16B is a plan view showing a result of performing the unit process shown in FIG. 16A.
  • the reflective layer 2160 may include a first reflective layer 2161, a second reflective layer 2162, and a third reflective layer 2163.
  • the reflective layer 2160 may be disposed on the transmissive electrode layer 2230.
  • the reflective layer 2160 may be disposed on the first light emitting structure 2110 and the second light emitting structure 2120.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may be spaced apart from each other.
  • the third reflective layer 2163 may be disposed between the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162.
  • the first to third reflective layers 2161, 2162, and 2163 may be formed as one layer connected to each other.
  • the first reflective layer 2161 may include a plurality of openings.
  • the first reflective layer 2161 may include a plurality of first openings h1 overlapping the current diffusion layer 2220 in a first direction perpendicular to the upper surface of the substrate 2105.
  • the first reflective layer 2161 may include a plurality of second openings h2 overlapping the mesa recesses M in the first direction.
  • the transparent electrode layer 2230 disposed on the current diffusion layer 2220 may be exposed through the plurality of first openings h1.
  • the upper surface of the first semiconductor layer 2111 of the first light emitting structure 2110 may be exposed through the plurality of second openings h2.
  • the plurality of first openings h1 may be arranged in a plurality of line shapes along the major axis direction of the substrate 2105.
  • the plurality of second openings h2 may be arranged in a plurality of line shapes along the major axis direction of the substrate 2105.
  • the plurality of first openings h1 and the plurality of second openings h2 may be sequentially arranged in the direction of the minor axis of the substrate 2105.
  • the second reflective layer 2162 may include a plurality of openings.
  • the second reflective layer 2162 may include a plurality of third openings h3 overlapping the current diffusion layer 2220 in a first direction perpendicular to the upper surface of the substrate 2105.
  • the second reflective layer 2162 may include a plurality of fourth openings h4 overlapping the mesa recesses M in the first direction.
  • the transparent electrode layer 2230 disposed on the current diffusion layer 2220 may be exposed through the plurality of third openings h3.
  • the upper surface of the third semiconductor layer 2121 of the second light emitting structure 2120 may be exposed through the plurality of fourth openings h4.
  • the plurality of third openings h3 may be arranged in a plurality of line shapes along the major axis direction of the substrate 2105.
  • the plurality of fourth openings h4 may be provided in a plurality of line shapes along the major axis direction of the substrate 2105.
  • the plurality of third openings h3 and the plurality of fourth openings h4 may be sequentially arranged in the minor axis direction of the substrate 2105.
  • the third reflective layer 2163 may include a plurality of openings.
  • the third reflective layer 2163 may include a plurality of fifth openings h5 overlapping the current diffusion layer 2220 in a first direction perpendicular to the upper surface of the substrate 2105.
  • the plurality of fifth openings h5 may include a plurality of fifth opening portions h5a exposing the transparent electrode layer 2230 disposed on the current diffusion layer 2220 in a region where the first light emitting structure 2110 is provided .
  • the plurality of fifth openings h5 may include a plurality of fifth openings h5b exposing the transparent electrode layer 2230 disposed on the current diffusion layer 2220 in a region where the second light emitting structure 2120 is provided .
  • the third reflective layer 2163 may include a plurality of sixth openings h6 overlapping the mesa recesses M in the first direction.
  • the third reflective layer 2163 may include a line opening TH1 that overlaps the mesa recess line ML in the first direction.
  • the plurality of sixth openings h6 may include a plurality of sixth opening portions h6a exposing the upper surface of the first semiconductor layer 2111 of the first light emitting structure 2110.
  • the plurality of sixth openings h6 may include a plurality of sixth openings h6b exposing the upper surface of the third semiconductor layer 2121 of the second light emitting structure 2120.
  • the line opening TH1 may expose the upper surface of the first semiconductor layer 2111 of the first light emitting structure 2110.
  • the plurality of fifth openings h5 may be arranged in a plurality of line shapes along the minor axis direction of the substrate 2105.
  • the plurality of sixth openings h6 may be provided in a plurality of line shapes along the minor axis direction of the substrate 2105.
  • the plurality of fifth openings h5 and the plurality of sixth openings h6 may be sequentially arranged in the longitudinal direction of the substrate 2105.
  • the line opening TH1 may be provided in a line shape along the minor axis direction of the substrate 2105. [ The area of the line opening TH1 may be larger than the area of one opening constituting the plurality of fifth openings h5.
  • the area of the line opening TH1 may be 5 times or more larger than the area of one opening forming the fifth openings h5.
  • the area of the line opening TH1 may be 9 times or more larger than the area of one opening constituting the plurality of fifth openings h5.
  • a first electrode 2141, a second electrode 2142, and a connection electrode 2143 may be formed.
  • FIG. 17A is a plan view showing shapes of a first electrode, a second electrode, and a connection electrode formed according to the method of manufacturing a light emitting device according to the embodiment
  • FIG. 17B is a plan view showing a result of performing the unit process shown in FIG.
  • the first electrode 2141 and the second electrode 2142 may be spaced apart from each other.
  • the connection electrode 2143 may be disposed between the first electrode 2141 and the second electrode 2142.
  • the first electrode 2141 may be disposed on the first reflective layer 2161. A portion of the first electrode 2141 may be disposed on the third reflective layer 2163.
  • the first electrode 2141 may be electrically connected to the second semiconductor layer 2113.
  • the first electrode 2141 may be electrically connected to the second semiconductor layer 2113 through the plurality of first openings h1.
  • the first electrode 2141 may be disposed in direct contact with the transparent electrode layer 2230 disposed below the plurality of first openings h1 in the region where the first light emitting structure 2110 is provided.
  • the first electrode 2141 may be disposed in direct contact with the upper surface of the transparent electrode layer 2230 exposed by the plurality of first openings h1 in the region where the first light emitting structure 2110 is provided.
  • the second electrode 2142 may be disposed on the second reflective layer 2162. A portion of the second electrode 2142 may be disposed on the third reflective layer 2163.
  • the second electrode 2142 may be electrically connected to the third semiconductor layer 2121.
  • the second electrode 2142 may be electrically connected to the third semiconductor layer 2121 through the fourth openings h4.
  • the second electrode 2142 may be disposed in direct contact with the third semiconductor layer 2121 disposed under the plurality of fourth openings h4 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided.
  • the second electrode 2142 may be disposed in direct contact with the upper surface of the third semiconductor layer 2121 exposed by the plurality of fourth openings h4 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided have.
  • connection electrode 2143 may be disposed on the third reflective layer 2163. A portion of the connection electrode 2143 may be disposed on the first reflective layer 2161. A portion of the connection electrode 2143 may be disposed on the second reflective layer 2162.
  • connection electrode 2143 may be electrically connected to the first semiconductor layer 2111 and the fourth semiconductor layer 2123.
  • connection electrode 2143 includes a first portion 2143a disposed on the first semiconductor layer 2111, a second portion 2143b disposed on the fourth semiconductor layer 2123, And a third portion 2143c connecting the second portion 2143a and the second portion 2143b.
  • the connection electrode 2143 may include the first portion 2143a disposed above the region where the first light emitting structure 2110 is provided.
  • the connection electrode 2143 may include a second portion 2143b disposed over an area where the second light emitting structure 2120 is provided.
  • the connection electrode 2143 may include the third portion 2143c partially disposed on the region provided with the first light emitting structure 2110 and partially disposed on the region provided with the second light emitting structure 2120 have. A portion of the third portion 2143c may be disposed on a boundary region between the first light emitting structure 2110 and the second light emitting structure 2120.
  • the first portion 2143a may include a first electrode portion 2143aa and a second electrode portion 2143ab.
  • the first portion 2143a may be electrically connected to the first semiconductor layer 2111 through the plurality of second openings h2, the plurality of sixth aperture h6a, and the line aperture TH1 .
  • the second electrode portion 2143ab of the first portion 2143a is electrically connected to the first semiconductor layer 2111 through the plurality of second openings h2 in the region where the first light emitting structure 2110 is provided, And may be provided in direct contact with the upper surface.
  • the first electrode portion 2143aa of the first portion 2143a is electrically connected to the first semiconductor layer 2111 through the plurality of sixth opening portions h6a in the region where the first light emitting structure 2110 is provided, And may be provided in direct contact with the upper surface.
  • the first electrode portion 2143aa of the first portion 2143a is electrically connected to the upper surface of the first semiconductor layer 2111 through the line opening TH1 in the region where the first light emitting structure 2110 is provided, As shown in FIG.
  • the second portion 2143b may include a third electrode portion 2143ba and a fourth electrode portion 2143bb.
  • the second portion 2143b may be electrically connected to the fourth semiconductor layer 2123 through the plurality of third openings h3 and the plurality of fifth openings h5b.
  • the fourth electrode portion 2143bb of the second portion 2143b is electrically connected to the fourth semiconductor layer 2123 through the third openings h3 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided, May be provided in contact with the upper surface.
  • the fourth electrode portion 2143bb of the second portion 2143b is formed on the transparent electrode layer 2230 disposed below the plurality of third openings h3 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided They can be placed in direct contact.
  • the fourth electrode portion 2143bb of the second portion 2143b is electrically connected to the transparent electrode layer 2230 exposed by the plurality of third openings h3 in the region where the second light emitting structure 2120 is provided And can be disposed in direct contact with the upper surface.
  • the third electrode portion 2143ba of the second portion 2143b is electrically connected to the fourth semiconductor layer 2123 through the plurality of fifth opening portions h5b in the region where the second light emitting structure 2120 is provided, May be provided in contact with the upper surface.
  • the third electrode portion 2143ba of the second portion 2143b is formed on the translucent electrode layer 2230 disposed below the plurality of fifth opening portions h5b in the region where the second light emitting structure 2120 is provided They can be placed in direct contact.
  • the third electrode portion 2143ba of the second portion 2143b is formed in a region of the transparent electrode layer 2230 exposed by the plurality of fifth opening portions h5b in the region where the second light emitting structure 2120 is provided And can be disposed in direct contact with the upper surface.
  • the third portion 2143c of the connection electrode 2143 may be disposed on a boundary region between the first light emitting structure 2110 and the second light emitting structure 2120. [ The third portion 2143c of the connection electrode 2143 may be electrically connected to the first portion 2143a and the second portion 2143b.
  • the first electrode 2141 may be electrically connected to the second semiconductor layer 2113 according to an embodiment.
  • the second electrode 2142 may be electrically connected to the third semiconductor layer 2121.
  • the connection electrode 2143 may be electrically connected to the first semiconductor layer 2111 and the fourth semiconductor layer 2123.
  • the first electrode 2141, the second semiconductor layer 2113, the first electrode 2141, The semiconductor layer 2111, the connection electrode 2143, the fourth semiconductor layer 2123, the third semiconductor layer 2121 and the second electrode 2142 can be electrically connected in series.
  • a protective layer 2150 may be formed.
  • FIG. 18A is a plan view showing the shape of a protective layer formed according to the method of manufacturing a light emitting device according to the embodiment
  • FIG. 18B is a plan view showing a result of performing the unit process shown in FIG.
  • the protective layer 2150 may be disposed on the first electrode 2141 and the second electrode 2142.
  • the protective layer 2150 may be disposed on the connection electrode 2143.
  • the protective layer 2150 may be disposed on the reflective layer 2160.
  • the protective layer 2150 may include a first contact portion c1 exposing an upper surface of the first electrode 2141.
  • the protective layer 2150 may include a plurality of first contact portions c1 exposing the upper surface of the first electrode 2141.
  • the plurality of first contact portions c1 may be provided on a region where the first reflective layer 2161 is disposed.
  • the passivation layer 2150 may include a second contact portion c2 exposing the upper surface of the second electrode 2142.
  • the protective layer 2150 may include a plurality of second contact portions c2 exposing a plurality of upper surfaces of the second electrode 2142.
  • the second contact portion c2 may be provided on a region where the second reflective layer 2162 is disposed.
  • a first bonding portion 2171 and a second bonding portion 2172 may be formed.
  • FIG. 19A is a plan view showing the shapes of the first and second bonding portions formed according to the method of manufacturing a light emitting device according to the embodiment
  • FIG. 19B is a plan view showing the result of performing the unit process shown in FIG. 19A.
  • the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be formed in the shape shown in FIG. 19A.
  • the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be disposed on the protective layer 2150.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the first reflective layer 2161.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the second reflective layer 2162.
  • the second bonding portion 2172 may be spaced apart from the first bonding portion 2171.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the first electrode 2141.
  • the first bonding portion 2171 may be electrically connected to the first electrode 2141.
  • the first bonding portion 2171 may be electrically connected to the first electrode 2141 through the first contact portion c1 provided on the protective layer 2150. [ The first bonding portion 2171 may be disposed in direct contact with the upper surface of the first electrode 2141 through the first contact portion c1 provided in the protective layer 2150. [
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the first light emitting structure 2110.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the second semiconductor layer 2113.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the connection electrode 2143.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the first portion 2143a of the connection electrode 2143.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the second electrode portion 2143ab of the connection electrode 2143.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the second electrode 2142.
  • the second bonding portion 2172 may be electrically connected to the second electrode 2142.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the second light emitting structure 2120.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the fourth semiconductor layer 2123.
  • the second bonding portion 2172 may be electrically connected to the second electrode 2142 through the second contact portion c2 provided in the protective layer 2150. [ The second bonding portion 2172 may be disposed in direct contact with the upper surface of the second electrode 2142 through the second contact portion c2 provided in the protective layer 2150. [
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the connection electrode 2143.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the second portion 2143b of the connection electrode 2143.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the fourth electrode portion 2143bb of the connection electrode 2143.
  • the connection electrode 2143 may include a first portion 2143a disposed on the first semiconductor layer 2111, a second portion 2143b disposed on the fourth semiconductor layer 2123, And a third portion 2143c connecting the first portion 2143a and the second portion 2143b.
  • the first portion 2143a of the connection electrode 2143 includes a first electrode portion 2143aa that does not overlap the first bonding portion 2171 in a first direction perpendicular to the upper surface of the substrate 2105, And a second electrode portion 2143ab overlapping the first bonding portion 2171.
  • the second portion 2143b of the connection electrode 2143 may include a third electrode portion 2143ba that does not overlap the second bonding portion 2172 in the first direction and a second electrode portion 2143ba that overlaps the second bonding portion 2172 And a fourth electrode portion 2143bb.
  • the area of the first electrode portion 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is larger than the area of the third electrode portion 2143ba contacting the fourth semiconductor layer 2123 Can be provided.
  • the area of the first electrode part 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 may be 1.4% or more and 3.3% or less of the bottom area of the substrate 2105.
  • An area of the third electrode part 2143ba in contact with the fourth semiconductor layer 2123 may be 0.7% or more and 3.0% or less of the bottom area of the substrate 2105.
  • the area of the first electrode part 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is larger than the area of the third electrode part 2143ba contacting the fourth semiconductor layer 2123, May be provided in the range of 1.1 times to 2 times.
  • the area of the first electrode part 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is larger than the area of the third electrode part 2143ba contacting the fourth semiconductor layer 2123, , The carrier can be smoothly diffused, and the operating voltage can be prevented from rising.
  • the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may emit light when power is applied to the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172.
  • the first bonding portion 2171, the first electrode 2141, the second semiconductor layer 2113, and the third semiconductor layer 2113 are electrically connected to the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172,
  • the connection electrode 2143, the fourth semiconductor layer 2123, the third semiconductor layer 2121, the second electrode 2142, the second bonding portion 2172, the first semiconductor layer 2111, the connection electrode 2143, Can be electrically connected in series.
  • a high voltage may be applied between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 and the applied high voltage may be applied to the first electrode 2141, the connection electrode 2143, And can be dispersed and supplied to the first and second light emitting structures 2110 and 2120 through the second electrode 2142.
  • the first bonding portion 2171 and the first electrode 2141 can be contacted in a plurality of regions.
  • the second bonding portion 2172 and the second electrode 2142 may be in contact with each other in a plurality of regions.
  • power can be supplied through a plurality of regions, so that current dispersion effect is generated according to increase of the contact area and dispersion of the contact region, and operation voltage can be reduced.
  • an area of the first electrode portion 2143ab contacting the first semiconductor layer 2111 is smaller than that of the third Since the electrode portion 2143ba is provided larger than the area in contact with the fourth semiconductor layer 2123, the carrier can be smoothly diffused, and the operating voltage can be prevented from rising.
  • the light emitting device according to the embodiment may be connected to an external power source through a flip chip bonding method.
  • the upper surface of the first bonding portion 2171 and the upper surface of the second bonding portion 2172 may be arranged to be attached to a submount, a lead frame, have.
  • the light provided by the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be emitted through the substrate 2105 when the light emitting device according to the embodiment is mounted by a flip chip bonding method to be implemented as a light emitting device package have. Light emitted from the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be reflected by the first to third reflective layers 2161 and 2162 and emitted toward the substrate 2105.
  • the light emitted from the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be emitted in the lateral direction of the first and second light emitting structures 2110 and 2120.
  • the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 having a large area can be directly bonded to the circuit board providing power, The chip bonding process can be performed easily and stably.
  • the size of the first reflective layer 2161 may be several micrometers larger than the size of the first bonding portion 2171.
  • the area of the first reflective layer 2161 may be sufficiently large to cover the area of the first bonding portion 2171.
  • the length of one side of the first reflective layer 2161 may be greater than the length of one side of the first bonding portion 2171 by about 4 micrometers to 10 micrometers, for example.
  • the size of the second reflective layer 2162 may be several micrometers larger than the size of the second bonding portion 2172.
  • the area of the second reflective layer 2162 may be sufficiently large to cover the area of the second bonding portion 2172.
  • the length of one side of the second reflective layer 2162 may be greater than the length of one side of the second bonding portion 2172 by about 4 micrometers to 10 micrometers, for example.
  • the light emitted from the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be transmitted through the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2171 by the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162. [ And can be reflected without being incident on the second bonding portion 2172. Accordingly, according to the embodiment, light generated and emitted from the first and second light emitting structures 2110 and 2120 is incident on the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 and is lost Can be minimized.
  • the third reflective layer 2163 is disposed between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172, 2171 and the second bonding portion 2172.
  • the minimum distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be equal to or greater than 125 micrometers.
  • the minimum distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 is selected in consideration of the interval between the first electrode pad and the second electrode pad of the package body in which the light emitting device 2100 is mounted .
  • the minimum spacing between the first and second electrode pads of the package body may be provided at a minimum of 125 micrometers and may be provided at a maximum of 200 micrometers.
  • the interval between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be 125 micrometers or more and 300 micrometers or less, for example.
  • the gap between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 should be greater than 125 micrometers so that the distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 A minimum space can be ensured so that a short circuit does not occur in the light emitting device 2100, and a light emitting area for improving light extraction efficiency can be secured, so that the light intensity Po of the light emitting device 2100 can be increased.
  • the distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 should be 300 micrometers or less so that the distance between the first electrode pad and the second electrode pad of the light emitting device package, The first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 can be bonded with a sufficient bonding force and the electrical characteristics of the light emitting device 2100 can be secured.
  • the minimum distance between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 is set to be larger than 125 micrometers in order to secure the optical characteristics.
  • the gap between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 is set to be not less than 125 micrometers and not more than 300 micrometers in order to secure the optical characteristics, the electrical characteristics, and the reliability by the bonding force .
  • the present invention is not limited thereto, and the interval between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be set to be more than 125 micrometers in order to further improve the electrical characteristics or reliability of the light emitting device package Or may be arranged larger than 300 micrometers in order to further improve the optical characteristics than the present embodiment.
  • the light emitted from the first and second light emitting structures 2110 and 2120 may be transmitted through the first electrode 2141 and the second electrode 2141 by the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162, It can be reflected without being incident on the second electrode 2142. Accordingly, according to the embodiment, light generated and emitted from the first and second light emitting structures 2110 and 2120 is minimized by being incident on the first electrode 2141 and the second electrode 2142 to be lost can do.
  • the light emitting device according to the embodiment described above has been described based on a structure in which two light emitting structures are connected in series on one substrate.
  • the light emitting device according to another embodiment may be provided in a structure in which three or more light emitting structures are connected in series to one substrate.
  • the light emitting device shown in Fig. 20 shows an example in which three light emitting structures are connected in series on one substrate.
  • 20 is a view illustrating another example of a light emitting device applied to a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • the light emitting device may include a first light emitting structure 3110, a second light emitting structure 3120, and a third light emitting structure 3130, as shown in FIG.
  • the first light emitting structure 3110 and the second light emitting structure 3120 may be spaced apart from each other by a first isolation line IL11.
  • the second light emitting structure 3120 and the third light emitting structure 3130 may be spaced apart from each other by the second isolation line IL12.
  • a first line opening TH11 may be provided between the first light emitting structure 3110 and the second light emitting structure 3120. [ The lower semiconductor layer of the first light emitting structure 3110 may be exposed through the first line opening TH11.
  • the lower semiconductor layer of the first light emitting structure 3110 and the upper semiconductor layer of the second light emitting structure 3120 may be electrically connected through the first connection electrode provided in the first line opening TH11.
  • a second line opening TH12 may be provided between the second light emitting structure 3120 and the third light emitting structure 3130. [ The lower semiconductor layer of the second light emitting structure 3120 may be exposed through the second line opening TH12.
  • the lower semiconductor layer of the second light emitting structure 3120 and the upper semiconductor layer of the third light emitting structure 3130 may be electrically connected through the second connection electrode provided in the second line opening TH12.
  • the first bonding portion 3171 may be disposed on the first light emitting structure 3110 and the second bonding portion 3172 may be disposed on the third light emitting structure 3130. [ The first bonding portion 3171 may be electrically connected to the upper semiconductor layer of the first light emitting structure 3110. The second bonding portion 3172 may be electrically connected to the lower semiconductor layer of the third light emitting structure 3130.
  • the first bonding portion 3171, the upper portion of the first light emitting structure 3110, A lower semiconductor layer of the first light emitting structure 3110, an upper semiconductor layer of the second light emitting structure 3120, a lower semiconductor layer of the second light emitting structure 3120, A second semiconductor layer of the third light emitting structure 3130, a lower semiconductor layer of the third light emitting structure 3130, and the second bonding portion 3172 may be electrically connected in series.
  • a plurality of light emitting structures spaced apart from each other may be disposed between the first bonding portion and the second bonding portion of the light emitting device.
  • the present embodiment includes two and three light emitting structures, the present invention is not limited thereto, and a larger number of light emitting structures may be arranged as needed, and a structure disposed on the light emitting structure may be applied can do.
  • the light emitting device has an advantage that the light output can be improved and the operation voltage can be reduced by supplying a high voltage.
  • the light emitting device package according to the embodiment described above can be applied to the light source device.
  • the light source device may include a display device, a lighting device, a head lamp, and the like depending on an industrial field.
  • An example of the light source device includes a bottom cover, a reflector disposed on the bottom cover, a light emitting module that emits light and includes a light emitting element, a light emitting module disposed in front of the reflector,
  • An optical sheet including a light guide plate, prism sheets disposed in front of the light guide plate, a display panel disposed in front of the optical sheet, an image signal output circuit connected to the display panel and supplying an image signal to the display panel, And may include a color filter disposed in front thereof.
  • the bottom cover, the reflection plate, the light emitting module, the light guide plate, and the optical sheet may form a backlight unit.
  • the display device may have a structure in which light emitting elements emitting red, green, and blue light are disposed, respectively, without including a color filter.
  • the head lamp includes a light emitting module including a light emitting device package disposed on a substrate, a reflector that reflects light emitted from the light emitting module in a predetermined direction, for example, forward, A lens that refracts light forward, and a shade that reflects off a portion of the light that is reflected by the reflector and that is directed to the lens to provide the designer with a desired light distribution pattern.
  • a light emitting module including a light emitting device package disposed on a substrate, a reflector that reflects light emitted from the light emitting module in a predetermined direction, for example, forward, A lens that refracts light forward, and a shade that reflects off a portion of the light that is reflected by the reflector and that is directed to the lens to provide the designer with a desired light distribution pattern.
  • the lighting device which is another example of the light source device, may include a cover, a light source module, a heat sink, a power supply, an inner case, and a socket. Further, the light source device according to the embodiment may further include at least one of a member and a holder.
  • the light source module may include the light emitting device package according to the embodiment.
  • the light extraction efficiency, electrical characteristics and reliability can be improved.
  • the process efficiency is improved and a new package structure is presented, which is advantageous in that the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing yield can be improved.
  • the semiconductor device package according to the embodiment has an advantage that the reflector can be prevented from being discolored by providing the body with high reflectance, thereby improving the reliability of the semiconductor device package.
  • the semiconductor device package and the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiments it is possible to prevent the re-melting phenomenon from occurring in the bonding region of the semiconductor device package in the process of re-bonding or heat- There are advantages to be able to.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 상면과 하면을 관통하는 제1 및 제2 개구부를 포함하는 제1 패키지 몸체; 제1 패키지 몸체 상에 배치되고, 상면과 하면을 관통하는 제3 개구부를 포함하는 제2 패키지 몸체; 제3 개구부 내에 배치되는 발광소자; 제1 패키지 몸체의 상면과 발광소자 사이에 배치된 제1 수지; 및 제3 개구부 내에 배치되는 제2 수지; 를 포함할 수 있다. 실시 예에 의하면, 제1 패키지 몸체의 상면은 제2 패키지 몸체의 하면과 결합되고, 제1 패키지 몸체는 제1 패키지 몸체의 상면에서 제1 패키지 몸체의 하면으로 오목한 리세스를 포함하고, 제1 수지는 리세스에 배치되고, 제1 수지와 제2 수지는 서로 다른 물질을 포함하고, 제1 수지는 발광소자 및 제2 수지와 접촉될 수 있다.

Description

발광소자 패키지
실시 예는 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 패키지 제조방법, 광원 장치에 관한 것이다.
GaN, AlGaN 등의 화합물을 포함하는 반도체 소자는 넓고 조정이 용이한 밴드 갭 에너지를 가지는 등의 많은 장점을 가져서 발광 소자, 수광 소자 및 각종 다이오드 등으로 다양하게 사용될 수 있다.
특히, 3족-5족 또는 2족-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Light Emitting Diode)나 레이저 다이오드(Laser Diode)와 같은 발광소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 파장 대역의 빛을 구현할 수 있는 장점이 있다. 또한, 3족-5족 또는 2족-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드나 레이저 다이오드와 같은 발광소자는, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광원도 구현이 가능하다. 이러한 발광소자는, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저 소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경 친화성의 장점을 가진다.
뿐만 아니라, 광검출기나 태양 전지와 같은 수광 소자도 3족-5족 또는 2족-6족 화합물 반도체 물질을 이용하여 제작하는 경우 소자 재료의 개발로 다양한 파장 영역의 빛을 흡수하여 광 전류를 생성함으로써 감마선부터 라디오 파장 영역까지 다양한 파장 영역의 빛을 이용할 수 있다. 또한, 이와 같은 수광 소자는 빠른 응답속도, 안전성, 환경 친화성 및 소자 재료의 용이한 조절의 장점을 가져 전력 제어 또는 초고주파 회로나 통신용 모듈에도 용이하게 이용될 수 있다.
따라서, 반도체 소자는 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등 및 가스(Gas)나 화재를 감지하는 센서 등에까지 응용이 확대되고 있다. 또한, 반도체 소자는 고주파 응용 회로나 기타 전력 제어 장치, 통신용 모듈에까지 응용이 확대될 수 있다.
발광소자(Light Emitting Device)는 예로서 주기율표상에서 3족-5족 원소 또는 2족-6족 원소를 이용하여 전기에너지가 빛 에너지로 변환되는 특성의 p-n 접합 다이오드로 제공될 수 있고, 화합물 반도체의 조성비를 조절함으로써 다양한 파장 구현이 가능하다.
예를 들어, 질화물 반도체는 높은 열적 안정성과 폭 넓은 밴드갭 에너지에 의해 광소자 및 고출력 전자소자 개발 분야에서 큰 관심을 받고 있다. 특히, 질화물 반도체를 이용한 청색(Blue) 발광소자, 녹색(Green) 발광소자, 자외선(UV) 발광소자, 적색(RED) 발광소자 등은 상용화되어 널리 사용되고 있다.
예를 들어, 자외선 발광소자의 경우, 200nm~400nm의 파장대에 분포되어 있는 빛을 발생하는 발광 다이오드로서, 상기 파장대역에서, 단파장의 경우, 살균, 정화 등에 사용되며, 장파장의 경우 노광기 또는 경화기 등에 사용될 수 있다.
자외선은 파장이 긴 순서대로 UV-A(315nm~400nm), UV-B(280nm~315nm), UV-C (200nm~280nm) 세 가지로 나뉠 수 있다. UV-A(315nm~400nm) 영역은 산업용 UV 경화, 인쇄 잉크 경화, 노광기, 위폐 감별, 광촉매 살균, 특수조명(수족관/농업용 등) 등의 다양한 분야에 응용되고 있고, UV-B(280nm~315nm) 영역은 의료용으로 사용되며, UV-C(200nm~280nm) 영역은 공기 정화, 정수, 살균 제품 등에 적용되고 있다.
한편, 고 출력을 제공할 수 있는 반도체 소자가 요청됨에 따라 고 전원을 인가하여 출력을 높일 수 있는 반도체 소자에 대한 연구가 진행되고 있다.
또한, 반도체 소자 패키지에 있어, 반도체 소자의 광 추출 효율을 향상시키고, 패키지 단에서의 광도를 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다. 또한, 반도체 소자 패키지에 있어, 패키지 전극과 반도체 소자 간의 본딩 결합력을 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
또한, 반도체 소자 패키지에 있어, 공정 효율 향상 및 구조 변경을 통하여 제조 단가를 줄이고 제조 수율을 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
실시 예는 광 추출 효율 및 전기적 특성을 향상시킬 수 있는 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 패키지 제조방법, 광원 장치를 제공할 수 있다.
실시 예는 공정 효율을 향상시키고 새로운 패키지 구조를 제시하여 제조 단가를 줄이고 제조 수율을 향상시킬 수 있는 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 패키지 제조방법, 광원 장치를 제공할 수 있다.
실시 예는 반도체 소자 패키지가 기판 등에 재 본딩되는 과정에서 반도체 소자 패키지의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되는 것을 방지할 수 있는 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 패키지 제조방법을 제공할 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 제1 및 제2 개구부를 포함하는 제1 패키지 몸체; 상기 제1 패키지 몸체 상에 배치되고, 제3 개구부를 포함하는 제2 패키지 몸체; 상기 제3 개구부 내에 배치되는 발광소자; 상기 제1 패키지 몸체의 상면과 상기 발광소자 사이에 배치된 제1 수지; 및 상기 제3 개구부 내에 배치되는 제2 수지; 를 포함하고, 상기 제1 패키지 몸체의 상면은 상기 제2 패키지 몸체의 하면과 결합되고, 상기 제1 패키지 몸체는 상면에서 하면으로 오목한 리세스를 포함하고, 상기 제1 수지는 상기 리세스에 배치되고, 상기 제1 수지와 상기 제2 수지는 서로 다른 물질을 포함하고, 상기 제1 수지는 상기 발광소자 및 상기 제2 수지와 접촉될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체 중에서 적어도 하나는 파장 변환 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체 중에서 적어도 하나는 투명 수지로 구성될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체 중에서 적어도 하나는 반사성 수지로 구성될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체는 서로 다른 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체는 PPA, PCT, EMC, SMC, PI 중에서 선택된 서로 다른 물질을 포함하고, 상기 제1 패키지 몸체는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체는 파장 변환 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체는 PPA, PCT, EMC, SMC, PI 중에서 선택된 서로 다른 물질을 포함하고, 상기 제1 패키지 몸체는 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체는 반사 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체는 PPA, PCT, EMC, SMC, PI 중에서 선택된 서로 다른 물질을 포함하고, 상기 제1 패키지 몸체는 투명 수지로 구성되고, 상기 제2 패키지 몸체는 파장 변환 물질 또는 반사 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체 사이에 배치된 접착층을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 발광소자는 상기 제1 개구부 상에 배치된 제1 본딩부와 상기 제2 개구부 상에 배치된 제2 본딩부를 포함하고, 상기 리세스는 상기 제1 및 제2 개구부 둘레에 폐루프 형상으로 제공되고, 상기 발광소자의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 발광소자의 크기가 상기 리세스에 의하여 제공된 폐루프 면적에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
실시 예에 따른 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 패키지 제조방법에 의하면, 광 추출 효율 및 전기적 특성과 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
실시 예에 따른 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 패키지 제조방법에 의하면, 공정 효율을 향상시키고 새로운 패키지 구조를 제시하여 제조 단가를 줄이고 제조 수율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
실시 예에 따른 반도체 소자 패키지는 반사율이 높은 몸체를 제공함으로써, 반사체가 변색되지 않도록 방지할 수 있어 반도체 소자 패키지의 신뢰성을 개선할 수 있는 장점이 있다.
실시 예에 따른 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 제조방법에 의하면, 반도체 소자 패키지가 기판 등에 재 본딩되거나 열 처리 되는 과정에서 반도체 소자 패키지의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되는 것을 방지할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 설명하는 분해 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지의 패키지 몸체, 리세스, 개구부의 배치 관계를 설명하는 도면이다.
도 4 내지 도 8은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법을 설명하는 도면이다.
도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지의 다른 예를 나타낸 도면이다.
도 10은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지의 또 다른 예를 나타낸 도면이다.
도 11은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 적용된 발광소자의 예를 설명하는 평면도이다.
도 12는 도 11에 도시된 발광소자의 G-G 선에 따른 단면도이다.
도 13a 및 도 13b는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 의하여 반도체층이 형성된 단계를 설명하는 도면이다.
도 14a 및 도 14b는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 의하여 투광성 전극층이 형성된 단계를 설명하는 도면이다.
도 15a 및 도 15b는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 의하여 아이솔레이션 공정이 수행된 단계를 설명하는 도면이다.
도 16a 및 도 16b는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 의하여 반사층이 형성된 단계를 설명하는 도면이다.
도 17a 및 도 17b는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 의하여 제1 전극, 제2 전극, 연결전극이 형성된 단계를 설명하는 도면이다.
도 18a 및 도 18b는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 의하여 보호층이 형성된 단계를 설명하는 도면이다.
도 19a 및 도 19b는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 의하여 제1 본딩패드와 제2 본딩패드가 형성된 단계를 설명하는 도면이다.
도 20은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 적용된 발광소자의 또 다른 예를 나타낸 도면이다.
이하 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 실시 예의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "상/위(on/over)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상/위(on/over)"와 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 상/위 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명하나 실시 예가 이에 한정되는 것은 아니다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 패키지 제조방법에 대해 상세히 설명하도록 한다. 이하에서는 반도체 소자의 예로서 발광소자가 적용된 경우를 기반으로 설명한다.
먼저, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 설명하기로 한다. 도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 설명하는 분해 사시도이고, 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지의 패키지 몸체, 리세스, 개구부의 배치 관계를 설명하는 도면이다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 패키지 몸체(110), 발광소자(120)를 포함할 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 제1 패키지 몸체(113)와 제2 패키지 몸체(117)를 포함할 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 제1 패키지 몸체(113) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상부 면 둘레에 배치될 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상부 면 위에 캐비티(C)를 제공할 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상면과 하면을 관통하는 개구부를 포함할 수 있다.
다른 표현으로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 하부 몸체, 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상부 몸체로 지칭될 수도 있다. 또한, 실시 예에 의하면, 상기 패키지 몸체(110)는 상기 캐비티를 제공하는 제2 패키지 몸체(117)를 포함하지 않고, 평탄한 상부면을 제공하는 상기 제1 패키지 몸체(113)만을 포함할 수도 있다.
상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 발광소자(120)로부터 방출되는 빛을 상부 방향으로 반사시킬 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에 대하여 경사지게 배치될 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 상기 캐비티(C)를 포함할 수 있다. 상기 캐비티는 바닥면과, 상기 바닥면에서 상기 패키지 몸체(110)의 상면으로 경사진 측면을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 패키지 몸체(110)는 캐비티(C)가 있는 구조로 제공될 수도 있으며, 캐비티(C) 없이 상면이 평탄한 구조로 제공될 수도 있다.
예로서, 상기 패키지 몸체(110)는 폴리프탈아미드(PPA: Polyphthalamide), PCT(Polychloro Tri phenyl), LCP(Liquid Crystal Polymer), PA9T(Polyamide9T), 실리콘, 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC: Epoxy molding compound), 실리콘 몰딩 컴파운드(SMC), 세라믹, PI(Poly Imide), PSG(photo sensitive glass), 사파이어(Al2O3) 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나로 형성될 수 있다. 또한, 상기 패키지 몸체(110)는 TiO2와 SiO2와 같은 고굴절 필러의 반사 물질을 포함할 수 있다. 상기 패키지 몸체(110)는 양자점, 형광체 등의 파장 변환 물질을 포함할 수 있다.
한편, 실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 공정에서 서로 다른 물질로 형성된 후 결합될 수 있다. 예로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 접착층(160)을 통하여 서로 결합될 수 있다.
상기 접착층(160)은 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 제2 패키지 몸체(117)의 하면에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 발광소자(120)의 둘레에 배치되어 상기 캐비티를 제공할 수 있다.
상기 접착층(160)은 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 접착층(160)은 상기 발광소자(120)에서 방출하는 광을 반사할 수 있다. 상기 접착층(160)이 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 접착층(160)이 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수도 있다.
한편, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 각각은 폴리프탈아미드(PPA: Polyphthalamide), PCT(Polychloro Tri phenyl), LCP(Liquid Crystal Polymer), PA9T(Polyamide9T), 실리콘, 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC: Epoxy molding compound), 실리콘 몰딩 컴파운드(SMC), PI(Poly Imide) 등을 포함하는 수지 물질 중에서 선택된 적어도 하나를 베이스 물질로 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 각각은 반사 물질과 파장 변환 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함하지 않을 수도 있다. 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 투명 수지로 구성될 수도 있다.
상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 베이스 물질을 포함할 수 있다. 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 수지를 포함할 수 있다.
예로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 파장 변환 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 반사 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 파장 변환 물질을 포함할 수도 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는 서로 다른 베이스 물질을 포함하는 제1 패키지 몸체(113)와 제2 패키지 몸체(117)가 서로 다른 공정에서 별도로 형성되고, 응용 제품에서 필요로 하는 특성을 충족시킬 수 있는 선택적인 조합을 통하여 모듈라(modular) 방식으로 제조될 수 있다. 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법은 뒤에서 더 살펴 보기로 한다.
실시 예에 의하면, 상기 발광소자(120)는 제1 본딩부(121), 제2 본딩부(122), 발광 구조물(123), 기판(124)을 포함할 수 있다.
상기 발광소자(120)는, 상기 기판(124) 아래에 배치된 상기 발광 구조물(123)을 포함할 수 있다. 상기 발광 구조물(123)은 제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 제1 도전형 반도체층과 제2 도전형 반도체층 사이에 배치된 활성층을 포함할 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)는 상기 제1 도전형 반도체층과 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 제2 본딩부(122)는 상기 제2 도전형 반도체층과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 발광소자(120)는 상기 패키지 몸체(110) 위에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)는 상기 제1 패키지 몸체(113) 위에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)는 상기 제2 패키지 몸체(117)에 의해 제공되는 상기 캐비티(C) 내에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에서 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 발광 구조물(123)과 상기 제1 패키지 몸체(113) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광 구조물(123)과 상기 제1 패키지 몸체(113) 사이에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)는 Ti, Al, Sn, In, Ir, Ta, Pd, Co, Cr, Mg, Zn, Ni, Si, Ge, Ag, Ag alloy, Au, Hf, Pt, Ru, Rh, ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, Ni/IrOx/Au/ITO를 포함하는 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 물질 또는 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다.
한편, 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 개구부(TH1)와 제2 개구부(TH2)를 포함할 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 상기 캐비티(C)의 바닥면에서 상기 패키지 몸체(110)의 하면을 관통하는 상기 제1 개구부(TH1)를 포함할 수 있다. 상기 패키지 몸체(110)는 상기 캐비티(C)의 바닥면에서 상기 패키지 몸체(110)의 하면을 관통하는 상기 제2 개구부(TH2)를 포함할 수 있다.
예로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 평평한 하면을 포함할 수 있으며, 상기 하면과 평행한 상면을 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면과 하면을 관통할 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)에 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)를 관통하여 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면과 하면을 제1 방향으로 관통하여 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)에 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)를 관통하여 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면과 하면을 제1 방향으로 관통하여 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 하부 면 아래에서 서로 이격되어 배치될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭(W1)이 상기 제1 본딩부(121)의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭이 상기 제2 본딩부(122)의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭(W1)이 상기 제1 개구부(TH1)의 하부 영역의 폭(W2)에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭이 상기 제2 개구부(TH2)의 하부 영역의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 하부 영역에서 상부 영역으로 가면서 폭이 점차적으로 작아지는 경사진 형태로 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 하부 영역에서 상부 영역으로 가면서 폭이 점차적으로 작아지는 경사진 형태로 제공될 수 있다.
다만 이에 한정하지 않고, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)의 상부 영역과 하부 영역 사이의 경사면은 기울기가 서로 다른 복수의 경사면을 가질 수 있고, 상기 경사면은 곡률을 가지며 배치될 수 있다. 상기 제1 패키지 몸체(113)의 하면 영역에서 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2) 사이의 폭은 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 제1 패키지 몸체(113)의 하면 영역에서 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2) 사이의 폭은 100 마이크로 미터 내지 150 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
상기 제1 패키지 몸체(113)의 하면 영역에서 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2) 사이의 폭은, 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)가 추후 회로기판, 서브 마운트 등에 실장되는 경우에, 본딩부 간의 전기적인 단락(short)이 발생되는 것을 방지하기 위하여 일정 거리 이상으로 제공되도록 선택될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 리세스(R)를 포함할 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 캐비티(C)의 바닥면에서 상기 패키지 몸체(110)의 하면으로 오목하게 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)에 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 아래에 배치될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 제공될 수 있다. 또한, 상기 리세스(R)는 상기 제2 개구부(TH2)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 제공될 수 있다. 예로서, 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 아래에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다.
상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 리세스(R)는 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제1 개구부(TH1)에 인접하게 배치된 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 배치될 수 있다.
또한, 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 리세스(R)는 상기 제2 본딩부(122)와 상기 제2 개구부(TH2)에 인접하게 배치된 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 배치될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2) 둘레에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다.
상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 발광소자(120)의 크기가 상기 리세스(R)에 의하여 제공된 폐루프 면적에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 발광소자(120)의 네 측면을 연결하는 외곽선 내에 상기 리세스(R)에 의하여 형성된 폐루프가 제공될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 수지(130)를 포함할 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 리세스(R)에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)와 상기 제1 패키지 몸체(113) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 본딩부(121)의 측면과 상기 제2 본딩부(122)의 측면에 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 제1 본딩부(121)의 둘레에 배치되어 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역을 밀봉시킬 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 제2 본딩부(122)의 둘레에 배치되어 상기 제2 개구부(TH1)의 상부 영역을 밀봉시킬 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)와 상기 제1 패키지 몸체(113) 간의 안정적인 고정력을 제공할 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 예로서 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 또한, 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
예로서, 상기 제1 수지(130)는 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)에서 방출하는 광을 반사할 수 있다. 상기 제1 수지(130)가 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 제1 수지(130)는 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수 있다. 상기 제1 수지(130)가 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 제1 수지(130)는 예로서 TiO2, SiO2 등을 포함하는 물질로 구성될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 접착제로 지칭될 수도 있다.
실시 예에 의하면, 상기 리세스(R)의 깊이는 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이 또는 상기 제2 개구부(TH2)의 깊이에 비해 작게 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)의 깊이는 상기 제1 수지(130)의 접착력을 고려하여 결정될 수 있다. 또한, 상기 리세스(R)이 깊이(T1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 안정적인 강도를 고려하거나 및/또는 상기 발광소자(120)에서 방출되는 열에 의해 상기 발광소자 패키지(100)에 크랙이 발생하지 않도록 결정될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 하부에 일종의 언더필 공정이 수행될 수 있는 적정 공간을 제공할 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120)의 하면과 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면 사이에 상기 제1 수지(130)가 충분히 제공될 수 있도록 제1 깊이 이상으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 안정적인 강도를 제공하기 위하여 제2 깊이 이하로 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)의 깊이와 폭(W3)은 상기 제1 수지(130)의 형성 위치 및 고정력에 영향을 미칠 수 있다. 상기 리세스(R)의 깊이와 폭(W3)은 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 발광소자(120) 사이에 배치되는 상기 제1 수지(130)에 의하여 충분한 고정력이 제공될 수 있도록 결정될 수 있다.
예로서, 상기 리세스(R)의 깊이는 수십 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)의 깊이는 40 마이크로 미터 내지 60 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
또한, 상기 리세스(R)의 폭(W3)은 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)의 폭(W3)은 140 마이크로 미터 내지 160 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 리세스의 폭(W3)은 150 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)에 제공된 상기 제1 수지(130)에 의하여 상기 발광소자(120)의 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)가 외부로부터 밀봉될 수 있게 된다. 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120) 아래에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 리세스(R)의 형상을 따라 폐루프 형상으로 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 사각 형상의 폐루프로 제공될 수도 있으며, 원형 또는 타원 형상의 폐루프로 제공될 수도 있다.
상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 두께에 대응되어 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 안정적인 강도를 유지할 수 있는 두께로 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 180 마이크로 미터 내지 220 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 200 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이에서 상기 리세스(R)의 깊이를 뺀 두께는 적어도 100 마이크로 미터 이상으로 선택될 수 있다. 이는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 크랙 프리(crack free)를 제공할 수 있는 사출 공정 두께가 고려된 것이다.
실시 예에 의하면, 제1 개구부(TH1)의 깊이는 상기 리세스(R)의 깊이에 대해 2 배 내지 10 배로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이가 200 마이크로 미터로 제공되는 경우, 상기 리세스(R)의 깊이는 20 마이크로 미터 내지 100 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제2 수지(140)를 포함할 수 있다.
상기 제2 수지(140)는 상기 발광소자(120) 위에 제공될 수 있다. 상기 제2 수지(140)는 상기 제1 패키지 몸체(113) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 수지(140)는 상기 제2 패키지 몸체(117)에 의하여 제공된 캐비티(C)에 배치될 수 있다.
상기 제2 수지(140)는 절연물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 수지(140)는 상기 발광소자(120)로부터 방출되는 빛을 입사 받고, 파장 변환된 빛을 제공하는 파장변환 물질을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제2 수지(140)는 형광체, 양자점 등을 포함할 수 있다.
또한, 실시 예에 의하면, 상기 발광 구조물(123)은 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 상기 발광 구조물(123)은 예로서 2족-6족 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 발광 구조물(123)은 알루미늄(Al), 갈륨(Ga), 인듐(In), 인(P), 비소(As), 질소(N)로부터 선택된 적어도 두 개 이상의 원소를 포함하여 제공될 수 있다.
상기 발광 구조물(123)은 제1 도전형 반도체층, 활성층, 제2 도전형 반도체층을 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 도전형 반도체층은 3족-5족 또는 2족-6족의 화합물 반도체 중에서 적어도 하나로 구현될 수 있다. 상기 제1 및 제2 도전형 반도체층은 예컨대 InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 예컨대, 상기 제1 및 제2 도전형 반도체층은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층은 Si, Ge, Sn, Se, Te 등의 n형 도펀트가 도핑된 n형 반도체층일 수 있다. 상기 제2 도전형 반도체층은 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등의 p형 도펀트가 도핑된 p형 반도체층일 수 있다.
상기 활성층은 화합물 반도체로 구현될 수 있다. 상기 활성층은 예로서 3족-5족 또는 2족-6족의 화합물 반도체 중에서 적어도 하나로 구현될 수 있다. 상기 활성층이 다중 우물 구조로 구현된 경우, 상기 활성층은 교대로 배치된 복수의 우물층과 복수의 장벽층을 포함할 수 있고, InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 배치될 수 있다. 예컨대, 상기 활성층은 InGaN/GaN, GaN/AlGaN, AlGaN/AlGaN, InGaN/AlGaN, InGaN/InGaN, AlGaAs/GaAs, InGaAs/GaAs, InGaP/GaP, AlInGaP/InGaP, InP/GaAs을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 도전층(321)과 제2 도전층(322)을 포함할 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제2 도전층(322)과 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 개구부(TH1)에 제공될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)의 폭은 상기 제1 본딩부(121)의 폭에 비해 더 작게 제공될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 제1 개구부(TH1)가 형성된 제1 방향과 수직한 제2 방향의 폭을 가질 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)의 폭은 상기 제1 개구부(TH1)의 상기 제2 방향의 폭보다 더 크게 제공될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121)의 하면과 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 패키지 몸체(113)에 의하여 둘러 싸이게 배치될 수 있다.
상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 개구부(TH2)에 제공될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)의 폭은 상기 제2 본딩부(122)의 폭에 비해 더 작게 제공될 수 있다.
상기 제2 본딩부(122)는 상기 제2 개구부(TH2)가 형성된 제1 방향과 수직한 제2 방향의 폭을 가질 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)의 폭은 상기 제2 개구부(TH2)의 상기 제2 방향의 폭보다 더 크게 제공될 수 있다.
상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122)의 하면과 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제1 패키지 몸체(113)에 의하여 둘러 싸이게 배치될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 Ag, Au, Pt, Sn, Cu 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질 또는 그 합금을 포함할 수 있다. 다만 이에 한정하지 않고, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)으로 전도성 기능을 확보할 수 있는 물질이 사용될 수 있다.
예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 도전성 페이스트를 이용하여 형성될 수 있다. 상기 도전성 페이스트는 솔더 페이스트(solder paste), 실버 페이스트(silver paste) 등을 포함할 수 있고, 서로 다른 물질로 구성되는 다층 또는 합금으로 구성된 다층 또는 단층으로 구성될 수 있다. 예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 SAC(Sn-Ag-Cu) 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 본딩부(121)에 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 본딩부(122)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)에 외부 전원이 공급될 수 있고, 이에 따라 상기 발광소자(120)가 구동될 수 있다.
한편, 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)에 의하면, 상기 리세스(R)에 제공된 상기 제1 수지(130)가, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 발광소자(120)의 하부면과 상기 패키지 몸체(110)의 상부면 사이에 제공될 수 있다. 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 주변에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2) 주변에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)를 상기 패키지 몸체(110)에 안정적으로 고정시키는 기능을 수행할 수 있다. 또한, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 측면에 접촉되어 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 둘레에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)가 상기 제2 수지(140)가 제공된 외측 영역으로부터 아이솔레이션 되도록 배치될 수 있다.
상기 제1 수지(130)에 의하여, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)에 제공된 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 리세스(R)의 폐루프를 벗어나 상기 발광소자(120)의 외측 방향으로 흐르는 것이 방지될 수 있다.
상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 외측 방향으로 이동되는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 측면을 타고 확산될 수도 있다. 이와 같이, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 측면으로 이동되는 경우, 상기 발광소자(120)의 제1 도전형 반도체층과 제2 도전형 반도체층이 전기적으로 단락될 수도 있다. 또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 측면으로 이동되는 경우, 상기 발광소자(120)의 광 추출 효율이 저하될 수도 있다.
그러나, 실시 예에 의하면, 상기 제1 수지(130)에 의하여 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 둘레 영역이 밀봉될 수 있으므로, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2) 영역을 벗어나 외부 방향으로 이동되는 것이 방지될 수 있다.
따라서, 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)에 의하면, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 측면으로 이동되는 것이 방지될 수 있으며, 상기 발광소자(120)가 전기적으로 단락되는 것이 방지되고 광 추출 효율이 향상될 수 있다.
그러면, 도 4 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법을 설명하기로 한다.
도 4 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법을 설명함에 있어, 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 내용과 중복되는 사항에 대해서는 설명이 생략될 수 있다.
먼저, 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 도 4에 도시된 바와 같이, 지지 프레임(B)과 상기 지지 프레임(B) 내에 배치된 복수의 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)가 제공될 수 있다.
상기 지지 프레임(B)은 상기 복수의 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)를 안정적으로 지지할 수 있다. 상기 지지 프레임(B)은 절연성 프레임으로 제공될 수도 있으며, 도전성 프레임으로 제공될 수도 있다.
예로서, 상기 복수의 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)는 사출 공정 등을 통하여 형성될 수 있다.
도 4는 상기 지지 프레임(B)에 4개의 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)가 배치된 경우를 기준으로 도시되었으나, 상기 복수의 제1 몸체 어레이는 3개 이하로 제공될 수도 있으며, 5개 이상으로 제공될 수도 있다. 또한, 상기 복수의 제1 몸체 어레이는 복수의 행과 복수의 열을 갖는 형상으로 배치될 수도 있으며, 하나의 행과 복수의 열을 갖는 형상으로 배치될 수도 있다.
복수의 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4) 각각은 복수의 서브 몸체 어레이(A11, A12, …)를 포함할 수 있다.
각각의 서브 몸체 어레이(A11, A12, …)는 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 바와 같이 제1 패키지 몸체(113), 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2), 리세스(R)를 포함할 수 있다. 또한, 각각의 서브 몸체 어레이(A11, A12, …)는 서로 유사한 구조로 형성될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)에 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)를 관통하여 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면과 하면을 제1 방향으로 관통하여 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)에 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)를 관통하여 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면과 하면을 제1 방향으로 관통하여 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)에 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다.
다음으로, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 도 5에 도시된 바와 같이, 각각의 서브 몸체 어레이(A11, A12, …)에 발광소자(120)가 각각 배치될 수 있다.
도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 바와 같이, 상기 리세스(R)에 제1 수지(130)가 제공되고 상기 발광소자(120)가 실장될 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 리세스(R) 영역에 도팅(doting) 방식 등을 통하여 제공될 수 있다. 예로서, 상기 제1 수지(130)는 상기 리세스(R)가 형성된 영역에 일정량 제공될 수 있으며, 상기 리세스(R)를 넘치도록 제공될 수 있다.
그리고, 상기 제1 패키지 몸체(113) 위에 상기 발광소자(120)가 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 발광소자(120)가 상기 제1 패키지 몸체(113) 위에 배치되는 과정에서 상기 리세스(R)는 일종의 정렬키(align key) 역할을 하도록 활용될 수도 있다.
상기 발광소자(120)는 상기 제1 수지(130)에 의하여 상기 제1 패키지 몸체(113)에 고정될 수 있다. 상기 리세스(R)에 제공된 상기 제1 수지(130)의 일부는 상기 제1 본딩부(121)와 제2 본딩부(122) 방향으로 이동되어 경화될 수 있다. 이에 따라, 상기 발광소자(120)의 하면과 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면 사이의 넓은 영역에 상기 제1 수지(130)가 제공될 수 있으며, 상기 발광소자(120)와 상기 제1 패키지 몸체(113) 간의 고정력이 향상될 수 있게 된다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)를 상기 패키지 몸체(110)에 안정적으로 고정시키는 기능을 수행할 수 있다. 또한, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 측면에 접촉되어 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 둘레에 배치될 수 있다.
다음으로, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 각각의 서브 몸체 어레이(A11, A12, …)의 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)에, 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 바와 같이, 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 각각 형성될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 개구부(TH1)에 제공될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)의 폭은 상기 제1 본딩부(121)의 폭에 비해 더 작게 제공될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 제1 개구부(TH1)가 형성된 제1 방향과 수직한 제2 방향의 폭을 가질 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)의 폭은 상기 제1 개구부(TH1)의 상기 제2 방향의 폭보다 더 크게 제공될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121)의 하면과 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 패키지 몸체(113)에 의하여 둘러 싸이게 배치될 수 있다.
상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 개구부(TH2)에 제공될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)의 폭은 상기 제2 본딩부(122)의 폭에 비해 더 작게 제공될 수 있다.
상기 제2 본딩부(122)는 상기 제2 개구부(TH2)가 형성된 제1 방향과 수직한 제2 방향의 폭을 가질 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)의 폭은 상기 제2 개구부(TH2)의 상기 제2 방향의 폭보다 더 크게 제공될 수 있다.
상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122)의 하면과 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제1 패키지 몸체(113)에 의하여 둘러 싸이게 배치될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 Ag, Au, Pt, Sn, Cu 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 하나의 물질 또는 그 합금을 포함할 수 있다. 다만 이에 한정하지 않고, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)으로 전도성 기능을 확보할 수 있는 물질이 사용될 수 있다.
예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 도전성 페이스트를 이용하여 형성될 수 있다. 상기 도전성 페이스트는 솔더 페이스트(solder paste), 실버 페이스트(silver paste) 등을 포함할 수 있고, 서로 다른 물질로 구성되는 다층 또는 합금으로 구성된 다층 또는 단층으로 구성될 수 있다. 예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 SAC(Sn-Ag-Cu) 물질을 포함할 수 있다.
상기 제1 수지(130)에 의하여 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)의 상부 영역이 밀봉될 수 있으므로, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)에 제공된 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 하면 아래에서 확산되어 이동되는 것이 방지될 수 있다.
이와 같이, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)가 상기 제1 수지(130)에 의하여 밀봉될 수 있으므로, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)에 제공된 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상부면 위로 이동되는 것이 방지될 수 있다.
한편, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 도 6에 도시된 바와 같이, 제2 몸체 어레이(D)가 제공될 수 있다.
상기 제2 몸체 어레이(D)는 복수의 서브 몸체 어레이(E11, E12, …)를 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제2 몸체 어레이(D)는 도 6에 도시된 바와 같이 일 방향으로 배치된 복수의 서브 몸체 어레이(E11, E12, …)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 몸체 어레이(D)는 복수의 열과 복수의 행으로 배열된 매트릭스 형상을 갖는 복수의 서브 몸체 어레이(E11, E12, …)를 포함할 수도 있다.
상기 복수의 서브 몸체 어레이(E11, E12, …) 각각은, 도 6에 도시된 바와 같이, 상면에서 하면 방향으로 관통하는 개구부를 포함할 수 있다.
다음으로, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4) 위에 상기 제2 몸체 어레이(D)가 제공될 수 있다.
상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 상기 제2 몸체 어레이(D)는, 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 바와 같이, 접착층(160)을 통하여 결합될 수 있다.
예로서, 서브 몸체 어레이 A11 위에 서브 몸체 어레이 E11이 배치될 수 있으며, 서브 몸체 어레이 A12 위에 서브 몸체 어레이 E12가 배치될 수 있다.
한편, 실시 예에 의하면, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 상기 제2 몸체 어레이(D)는 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 상기 제2 몸체 어레이(D)는 서로 다른 공정에서 서로 다른 물질로 형성된 후, 상기 접착층(160)을 통하여 서로 결합될 수 있다.
상기 접착층(160)은 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 상기 제2 몸체 어레이(D) 사이에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)의 상면에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 제2 몸체 어레이(D)의 하면에 배치될 수 있다.
상기 접착층(160)은 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 접착층(160)은 상기 발광소자(120)에서 방출하는 광을 반사할 수 있다. 상기 접착층(160)이 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 접착층(160)은 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수도 있다.
한편, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 상기 제2 몸체 어레이(D) 각각은 폴리프탈아미드(PPA: Polyphthalamide), PCT(Polychloro Tri phenyl), LCP(Liquid Crystal Polymer), PA9T(Polyamide9T), 실리콘, 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC: Epoxy molding compound), 실리콘 몰딩 컴파운드(SMC), PI(Poly Imide) 등을 포함하는 수지 물질 중에서 선택된 적어도 하나를 베이스 물질로 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 상기 제2 몸체 어레이(D) 각각은 반사 물질과 파장 변환 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 상기 제2 몸체 어레이(D)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함하지 않을 수도 있다.
상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 상기 제2 몸체 어레이(D)는 서로 다른 베이스 물질을 포함할 수 있다.
예로서, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 몸체 어레이(D)는 파장 변환 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)는 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 몸체 어레이(D)는 반사 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 몸체 어레이(D)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 몸체 어레이(D)는 파장 변환 물질을 포함할 수도 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는 서로 다른 베이스 물질을 포함하는 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 제2 몸체 어레이(D)가 서로 다른 공정에서 별도로 형성되고, 응용 제품에서 필요로 하는 특성을 충족시킬 수 있는 선택적인 조합을 통하여 모듈라(modular) 방식으로 제조될 수 있다.
다음으로, 상기 제2 몸체 어레이(D)의 개구부에 의하여 제공된 캐비티에, 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 바와 같이, 제2 수지(140)가 형성될 수 있다.
상기 제2 수지(140)는 상기 발광소자(120) 위에 제공될 수 있다. 상기 제2 수지(140)는 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 수지(140)는 상기 제2 몸체 어레이(D)에 의하여 제공된 캐비티(C)에 배치될 수 있다.
상기 제2 수지(140)는 절연물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 수지(140)는 상기 발광소자(120)로부터 방출되는 빛을 입사 받고, 파장 변환된 빛을 제공하는 파장변환 물질을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제2 수지(140)는 형광체, 양자점 등을 포함할 수 있다.
다음으로, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)와 상기 제2 몸체 어레이(D)가 결합된 상태에서, 다이싱 또는 스크라이빙 등의 분리 공정을 통하여 도 8에 도시된 바와 같은 개별 발광소자 패키지를 제조할 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 모듈라(modular) 방식을 통하여 제1 패키지 몸체(113)와 제2 패키지 몸체(117)가 제조되고 결합된 패키지 몸체(110)를 포함할 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 1 내지 도 8을 참조하여 설명된 바와 같이, 상기 패키지 몸체(110)가 형성됨에 있어, 종래 리드 프레임이 적용되지 않는다.
종래 리드 프레임이 적용되는 발광소자 패키지의 경우, 리드 프레임을 형성하는 공정이 추가로 필요하지만, 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면 리드 프레임을 형성하는 공정을 필요로 하지 않는다. 이에 따라, 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면 공정 시간이 단축될 뿐만 아니라 재료도 절감될 수 있는 장점이 있다.
또한, 종래 리드 프레임이 적용되는 발광소자 패키지의 경우, 리드 프레임의 열화 방지를 위해 은 등의 도금 공정이 추가되어야 하지만, 본 발명의 실시 예에 다른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면 리드 프레임이 필요하지 않으므로, 은 도금 등의 추가 공정이 없어도 된다. 이와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면 제조 원가를 절감하고 제조 수율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
또한, 종래 리드 프레임이 적용되는 발광소자 패키지에 비해 소형화가 가능한 장점이 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는 상기 제1 개구부(TH1)에 제공된 상기 제1 도전층(321)을 통해 상기 제1 본딩부(121)에 전원이 연결되고, 상기 제2 개구부(TH2)에 제공된 상기 제2 도전층(322)을 통해 상기 제2 본딩부(122)에 전원이 연결될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1 본딩부(121) 및 상기 제2 본딩부(122)를 통하여 공급되는 구동 전원에 의하여 상기 발광소자(120)가 구동될 수 있게 된다. 그리고, 상기 발광소자(120)에서 발광된 빛은 상기 패키지 몸체(110)의 상부 방향으로 제공될 수 있게 된다.
한편, 이상에서 설명된 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는 서브 마운트 또는 회로기판 등에 실장되어 공급될 수도 있다.
그런데, 종래 발광소자 패키지가 서브 마운트 또는 회로기판 등에 실장됨에 있어 리플로우(reflow) 또는 열처리 공정 등의 고온 공정이 적용될 수 있다. 이때, 리플로우 또는 열처리 공정에서, 발광소자 패키지에 제공된 리드 프레임과 발광소자 간의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되어 전기적 연결 및 물리적 결합의 안정성이 약화될 수 있게 된다.
그러나, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 실시 예에 따른 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)을 통하여 구동 전원을 제공 받을 수 있다. 그리고, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)의 용융점이 일반적인 본딩 물질의 용융점에 비해 더 높은 값을 갖도록 선택될 수 있다.
따라서, 실시 예에 따른 발광소자 소자 패키지(100)는 메인 기판 등에 리플로우(reflow) 공정을 통해 본딩되는 경우에도 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되지 않으므로 전기적 연결 및 물리적 본딩력이 열화되지 않는 장점이 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100) 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 도전성 페이스트를 이용하여 상기 발광소자(120)를 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)에 실장하므로, 발광소자 패키지를 제조하는 공정에서 상기 패키지 몸체(110)가 고온에 노출될 필요가 없게 된다. 따라서, 실시 예에 의하면, 상기 패키지 몸체(110)가 고온에 노출되어 손상되거나 변색이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
예를 들어, 상기 패키지 몸체(110)는 PPA(PolyPhtalAmide) 수지, PCT(PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) 수지, EMC(Epoxy Molding Compound) 수지, SMC(Silicone Molding Compound) 수지, PI(Poly Imide) 수지를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.
그러면, 도 9를 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지의 다른 예를 설명하도록 한다. 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지의 다른 예를 나타낸 도면이다.
도 9에 도시된 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지는 도 1 내지 도 8을 참조하여 설명된 발광소자 패키지(100)가 회로기판(310)에 실장되어 공급되는 예를 나타낸 것이다.
도 9를 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 설명함에 있어, 도 1 내지 도 8을 참조하여 설명된 내용과 중복되는 사항에 대해서는 설명이 생략될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 9에 도시된 바와 같이, 회로기판(310), 패키지 몸체(110), 발광소자(120)를 포함할 수 있다.
상기 회로기판(310)은 제1 패드(311), 제2 패드(312), 지지기판(313)을 포함할 수 있다. 상기 지지기판(313)에 상기 발광소자(120)의 구동을 제어하는 전원 공급 회로가 제공될 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 상기 회로기판(310) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 패드(311)와 상기 제1 본딩부(121)가 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 패드(312)와 상기 제2 본딩부(122)가 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 패드(311)와 상기 제2 패드(312)는 도전성 물질을 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 제1 패드(311)와 상기 제2 패드(312)는 Ti, Cu, Ni, Au, Cr, Ta, Pt, Sn, Ag, P, Fe, Sn, Zn, Al를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질 또는 그 합금을 포함할 수 있다. 상기 제1 패드(311)와 상기 제2 패드(312)는 단층 또는 다층으로 제공될 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 제1 패키지 몸체(113)와 제2 패키지 몸체(117)를 포함할 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 상면으로부터 하면까지 제1 방향으로 관통하는 제1 개구부(TH1)와 제2 개구부(TH2)를 포함할 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면으로부터 하면까지 제1 방향으로 관통되어 제공될 수 있다.
한편, 실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 공정에서 서로 다른 물질로 형성된 후, 접착층(160)을 통하여 서로 결합될 수 있다.
상기 접착층(160)은 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 제2 패키지 몸체(117)의 하면에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 발광소자(120)의 둘레에 배치되어 상기 캐비티를 제공할 수 있다.
상기 접착층(160)은 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
또한, 상기 접착층(160)은 상기 발광소자(120)에서 방출하는 광을 반사할 수 있다. 상기 접착층(160)이 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 접착제는 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수도 있다.
한편, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 각각은 폴리프탈아미드(PPA: Polyphthalamide), PCT(Polychloro Tri phenyl), LCP(Liquid Crystal Polymer), PA9T(Polyamide9T), 실리콘, 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC: Epoxy molding compound), 실리콘 몰딩 컴파운드(SMC), PI(Poly Imide) 등을 포함하는 수지 물질 중에서 선택된 적어도 하나를 베이스 물질로 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 각각은 반사 물질과 파장 변환 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함하지 않을 수도 있다.
상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 베이스 물질을 포함할 수 있다.
예로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 파장 변환 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 반사 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 파장 변환 물질을 포함할 수도 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는 서로 다른 베이스 물질을 포함하는 제1 패키지 몸체(113)와 제2 패키지 몸체(117)가 서로 다른 공정에서 별도로 형성되고, 응용 제품에서 필요로 하는 특성을 충족시킬 수 있는 선택적인 조합을 통하여 모듈라(modular) 방식으로 제조될 수 있다.
상기 발광소자(120)는 제1 본딩부(121), 제2 본딩부(122), 발광 구조물(123), 기판(124)을 포함할 수 있다.
상기 발광소자(120)는 상기 패키지 몸체(110) 위에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)는 상기 제1 패키지 몸체(113) 위에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)는 상기 제2 패키지 몸체(117)에 의해 제공되는 캐비티(C) 내에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에서 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 발광 구조물(123)과 상기 제1 패키지 몸체(113) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광 구조물(123)과 상기 제1 패키지 몸체(113) 사이에 배치될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 하부 면 아래에서 서로 이격되어 배치될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 9에 도시된 바와 같이, 제1 도전층(321)과 제2 도전층(322)을 포함할 수 있다.
상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 개구부(TH1)에 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121)의 하부 면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121)와 수직 방향에서 서로 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)의 상면은 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면과 동일 평면에 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)의 하면은 상기 제1 패키지 몸체(113)의 하면과 동일 평면에 제공될 수 있다.
상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 개구부(TH2)에 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122)의 하부 면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122)와 수직 방향에서 서로 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제2 도전층(322)의 상면은 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면과 동일 평면에 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)의 하면은 상기 제1 패키지 몸체(113)의 하면과 동일 평면에 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 Ag, Au, Pt, Sn, Cu 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질 또는 그 합금을 포함할 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 9에 도시된 바와 같이, 금속층(430)을 포함할 수 있다.
상기 금속층(430)은 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322) 아래에 배치될 수 있다. 상기 금속층(430)은 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)의 하면에 배치될 수 있다. 또한, 실시 예에 의하면, 상기 금속층(430)은 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)와 인접한 상기 제1 패키지 몸체(113)의 하면에도 제공될 수 있다.
상기 금속층(430)은티타늄(Ti), 구리(Cu), 니켈(Ni), 금(Au), 크롬(Cr), 탄탈늄(Ta), 백금(Pt), 주석(Sn), 은(Ag), 인(P)을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질 또는 선택적 합금으로 형성될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 금속층(430)에 의하여 상기 회로기판(310)의 상기 제1 패드(311)와 상기 제1 도전층(321)이 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 금속층(430)에 의하여 상기 회로기판(310)의 상기 제2 패드(312)와 상기 제2 도전층(322)이 전기적으로 연결될 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 9에 도시된 바와 같이, 리세스(R)를 포함할 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 캐비티(C)의 바닥면에서 상기 패키지 몸체(110)의 하면으로 오목하게 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)에 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 아래에 배치될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 아래에 제공될 수 있으며 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122) 사이에 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120)에 아래에 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 둘레에 배치될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 9에 도시된 바와 같이, 제1 수지(130)를 포함할 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 리세스(R)에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)와 상기 제1 패키지 몸체(113) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 본딩부(121)의 측면과 상기 제2 본딩부(122)의 측면에 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 제1 본딩부(121)의 둘레에 배치되어 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역을 밀봉시킬 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 제2 본딩부(122)의 둘레에 배치되어 상기 제2 개구부(TH1)의 상부 영역을 밀봉시킬 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)와 상기 제1 패키지 몸체(113) 간의 안정적인 고정력을 제공할 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 예로서 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 또한, 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
예로서, 상기 제1 수지(130)는 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)에서 방출하는 광을 반사할 수 있다. 상기 제1 수지(130)가 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 제1 수지(130)는 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수 있다.
상기 제1 수지(130)가 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 제1 수지(130)는 예로서 TiO2, SiO2 등을 포함하는 물질로 구성될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 접착제로 지칭될 수도 있다.
실시 예에 의하면, 상기 리세스(R)의 깊이는 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이 또는 상기 제2 개구부(TH2)의 깊이에 비해 작게 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)의 깊이는 상기 제1 수지(130)의 접착력을 고려하여 결정될 수 있다. 또한, 상기 리세스(R)이 깊이(T1)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 안정적인 강도를 고려하거나 및/또는 상기 발광소자(120)에서 방출되는 열에 의해 상기 발광소자 패키지(100)에 크랙이 발생하지 않도록 결정될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 하부에 일종의 언더필 공정이 수행될 수 있는 적정 공간을 제공할 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120)의 하면과 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면 사이에 상기 제1 수지(130)가 충분히 제공될 수 있도록 제1 깊이 이상으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 안정적인 강도를 제공하기 위하여 제2 깊이 이하로 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)의 깊이와 폭은 상기 제1 수지(130)의 형성 위치 및 고정력에 영향을 미칠 수 있다. 상기 리세스(R)의 깊이와 폭은 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 발광소자(120) 사이에 배치되는 상기 제1 수지(130)에 의하여 충분한 고정력이 제공될 수 있도록 결정될 수 있다.
예로서, 상기 리세스(R)의 깊이는 수십 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)의 깊이는 40 마이크로 미터 내지 60 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
또한, 상기 리세스(R)의 폭(W3)은 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)의 폭(W3)은 140 마이크로 미터 내지 160 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 리세스(R)의 폭(W3)은 150 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 두께에 대응되어 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 안정적인 강도를 유지할 수 있는 두께로 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 180 마이크로 미터 내지 220 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이는 200 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이에서 상기 리세스(R)의 깊이를 뺀 두께는 적어도 100 마이크로 미터 이상으로 선택될 수 있다. 이는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 크랙 프리(crack free)를 제공할 수 있는 사출 공정 두께가 고려된 것이다.
실시 예에 의하면, 제1 개구부(TH1)의 깊이는 상기 리세스(R)의 깊이에 대해 2 배 내지 10 배로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이가 200 마이크로 미터로 제공되는 경우, 상기 리세스(R)의 깊이는 20 마이크로 미터 내지 100 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 9에 도시된 바와 같이, 제2 수지(140)를 포함할 수 있다.
상기 제2 수지(140)는 상기 발광소자(120) 위에 제공될 수 있다. 상기 제2 수지(140)는 상기 제1 패키지 몸체(113) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 수지(140)는 상기 제2 패키지 몸체(117)에 의하여 제공된 캐비티(C)에 배치될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 9를 참조하여 설명된 바와 같이, 상기 패키지 몸체(110)가 형성됨에 있어, 종래 리드 프레임이 적용되지 않는다.
종래 리드 프레임이 적용되는 발광소자 패키지의 경우, 리드 프레임을 형성하는 공정이 추가로 필요하지만, 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면 리드 프레임을 형성하는 공정을 필요로 하지 않는다. 이에 따라, 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면 공정 시간이 단축될 뿐만 아니라 재료도 절감될 수 있는 장점이 있다.
또한, 종래 리드 프레임이 적용되는 발광소자 패키지의 경우, 리드 프레임의 열화 방지를 위해 은 등의 도금 공정이 추가되어야 하지만, 본 발명의 실시 예에 다른 발광소자 패키지에 의하면 리드 프레임이 필요하지 않으므로, 은 도금 등의 추가 공정을 생략할 수 있다. 따라서, 상기 발광소자 패키지의 실시 예들은 은 도금 등의 물질이 변색되는 문제점을 해결할 수 있고, 공정을 생략할 수 있다는 장점으로 제조 원가를 절감할 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지 제조방법에 의하면 제조 원가를 절감하고 제조 수율 및 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
또한, 종래 리드 프레임이 적용되는 발광소자 패키지에 비해 소형화가 가능한 장점이 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는 상기 제1 개구부(TH1)에 제공된 상기 제1 도전층(321)을 통해 상기 제1 본딩부(121)에 전원이 연결되고, 상기 제2 개구부(TH2)에 제공된 상기 제2 도전층(322)을 통해 상기 제2 본딩부(122)에 전원이 연결될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1 본딩부(121) 및 상기 제2 본딩부(122)을 통하여 공급되는 구동 전원에 의하여 상기 발광소자(120)가 구동될 수 있게 된다. 그리고, 상기 발광소자(120)에서 발광된 빛은 상기 패키지 몸체(110)의 상부 방향으로 제공될 수 있게 된다.
한편, 이상에서 설명된 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는 서브 마운트 또는 회로기판 등에 실장되어 공급될 수도 있다.
그런데, 종래 발광소자 패키지가 서브 마운트 또는 회로기판 등에 실장됨에 있어 리플로우(reflow) 등의 고온 공정이 적용될 수 있다. 이때, 리플로우 공정에서, 발광소자 패키지에 제공된 리드 프레임과 발광소자 간의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되어 전기적 연결 및 물리적 결합의 안정성이 약화될 수 있게 된다.
그러나, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 실시 예에 따른 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)을 통하여 구동 전원을 제공 받을 수 있다. 그리고, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)의 용융점이 일반적인 본딩 물질의 용융점에 비해 더 높은 값을 갖도록 선택될 수 있다.
따라서, 실시 예에 따른 발광소자 소자 패키지(100)는 메인 기판 등에 리플로우(reflow) 공정을 통해 본딩되는 경우에도 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되지 않으므로 전기적 연결 및 물리적 본딩력이 열화되지 않는 장점이 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100) 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 도전성 페이스트를 이용하여 상기 발광소자(120)를 상기 제1 몸체 어레이(A1, A2, A3, A4)에 실장하므로, 발광소자 패키지를 제조하는 공정에서 상기 패키지 몸체(110)가 고온에 노출될 필요가 없게 된다. 따라서, 실시 예에 의하면, 상기 패키지 몸체(110)가 고온에 노출되어 손상되거나 변색이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
예를 들어, 상기 패키지 몸체(110)는 PPA(PolyPhtalAmide) 수지, PCT(PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) 수지, EMC(Epoxy Molding Compound) 수지, SMC(Silicone Molding Compound), PI(Poly Imide) 수지를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.
다음으로, 도 10을 참조하여 실시 예에 따른 발광소자 패키지의 또 다른 예를 설명하기로 한다.
도 10은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지의 또 다른 예를 나타낸 도면이다. 도 10을 참조하여 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 설명함에 있어, 도 1 내지 도 9를 참조하여 설명된 내용과 중복되는 사항에 대해서는 설명이 생략될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 10에 도시된 바와 같이, 패키지 몸체(110), 발광소자(120)를 포함할 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 제1 패키지 몸체(113)와 제2 패키지 몸체(117)를 포함할 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 제1 패키지 몸체(113) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상부 면 둘레에 배치될 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상부 면 위에 캐비티(C)를 제공할 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상면과 하면을 관통하는 개구부를 포함할 수 있다.
다른 표현으로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 하부 몸체, 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상부 몸체로 지칭될 수도 있다. 또한, 실시 예에 의하면, 상기 패키지 몸체(110)는 상기 캐비티를 제공하는 제2 패키지 몸체(117)를 포함하지 않고, 평탄한 상부면을 제공하는 상기 제1 패키지 몸체(113)만을 포함할 수도 있다.
상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 발광소자(120)로부터 방출되는 빛을 상부 방향으로 반사시킬 수 있다. 상기 제2 패키지 몸체(117)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에 대하여 경사지게 배치될 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 상기 캐비티(C)를 포함할 수 있다. 상기 캐비티는 바닥면과, 상기 바닥면에서 상기 패키지 몸체(110)의 상면으로 경사진 측면을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 패키지 몸체(110)는 캐비티(C)가 있는 구조로 제공될 수도 있으며, 캐비티(C) 없이 상면이 평탄한 구조로 제공될 수도 있다.
상기 제1 패키지 몸체(113)는 제1 프레임(111)과 제2 프레임(112)을 포함할 수 있다. 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 패키지 몸체(113)는 제1 몸체(115)를 포함할 수 있다. 상기 제1 몸체(115)는 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 몸체(115)는 일종의 전극 분리선의 기능을 수행할 수 있다. 상기 제1 몸체(115)는 절연부재로 지칭될 수도 있다.
상기 제1 몸체(115)는 상기 제1 프레임(111) 위에 배치될 수 있다. 또한, 상기 제1 몸체(115)는 상기 제2 프레임(112) 위에 배치될 수 있다.
상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 절연성 프레임으로 제공될 수 있다. 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 상기 패키지 몸체(110)의 구조적인 강도를 안정적으로 제공할 수 있다.
또한, 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 도전성 프레임으로 제공될 수도 있다. 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 상기 패키지 몸체(110)의 구조적인 강도를 안정적으로 제공할 수 있으며, 상기 발광소자(120)에 전기적으로 연결될 수 있다.
예로서, 상기 패키지 몸체(110)는 폴리프탈아미드(PPA: Polyphthalamide), PCT(Polychloro Tri phenyl), LCP(Liquid Crystal Polymer), PA9T(Polyamide9T), 실리콘, 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC: Epoxy molding compound), 실리콘 몰딩 컴파운드(SMC), 세라믹, PI(Poly Imide), PSG(photo sensitive glass), 사파이어(Al2O3) 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나로 형성될 수 있다. 또한, 상기 패키지 몸체(110)는 TiO2와 SiO2와 같은 고굴절 필러의 반사 물질을 포함할 수 있다. 상기 패키지 몸체(110)는 양자점, 형광체 등의 파장 변환 물질을 포함할 수 있다.
한편, 실시 예에 의하면, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 공정에서 서로 다른 물질로 형성된 후 결합될 수 있다. 예로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 접착층(160)을 통하여 서로 결합될 수 있다.
상기 접착층(160)은 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 제2 패키지 몸체(117)의 하면에 배치될 수 있다. 상기 접착층(160)은 상기 발광소자(120)의 둘레에 배치되어 상기 캐비티를 제공할 수 있다.
상기 접착층(160)은 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 접착층(160)은 상기 발광소자(120)에서 방출하는 광을 반사할 수 있다. 상기 접착층(160)이 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 접착층(160)이 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수도 있다.
한편, 상기 제1 몸체(115)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 각각은 폴리프탈아미드(PPA: Polyphthalamide), PCT(Polychloro Tri phenyl), LCP(Liquid Crystal Polymer), PA9T(Polyamide9T), 실리콘, 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC: Epoxy molding compound), 실리콘 몰딩 컴파운드(SMC), PI(Poly Imide), 폴리 이미드(PI: Poly Imide) 등을 포함하는 수지 물질 중에서 선택된 적어도 하나를 베이스 물질로 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1 몸체(115)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 각각은 반사 물질과 파장 변환 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 몸체(115)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함하지 않을 수도 있다. 상기 제1 몸체(115)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 투명 수지로 구성될 수도 있다.
상기 제1 몸체(115)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 베이스 물질을 포함할 수 있다. 상기 제1 몸체(115)와 상기 제2 패키지 몸체(117)는 서로 다른 수지를 포함할 수 있다.
예로서, 상기 제1 몸체(115)는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 파장 변환 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 몸체(115)는 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 반사 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 몸체(115)는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제1 몸체(115)는 반사 물질과 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체(117)는 파장 변환 물질을 포함할 수도 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는 서로 다른 베이스 물질을 포함하는 제1 패키지 몸체(113)와 제2 패키지 몸체(117)가 서로 다른 공정에서 별도로 형성되고, 응용 제품에서 필요로 하는 특성을 충족시킬 수 있는 선택적인 조합을 통하여 모듈라(modular) 방식으로 제조될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 발광소자(120)는 제1 본딩부(121), 제2 본딩부(122), 발광 구조물(123), 기판(124)을 포함할 수 있다.
상기 발광소자(120)는 상기 패키지 몸체(110) 위에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)는 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112) 위에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)는 상기 패키지 몸체(110)에 의해 제공되는 상기 캐비티(C) 내에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에서 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 제1 프레임(111) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 제2 프레임(112) 위에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 발광 구조물(123)과 상기 제1 프레임(111) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광 구조물(123)과 상기 제2 프레임(112) 사이에 배치될 수 있다.
한편, 실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 10에 도시된 바와 같이, 제1 개구부(TH1)와 제2 개구부(TH2)를 포함할 수 있다. 상기 제1 프레임(111)은 상기 제1 개구부(TH1)를 포함할 수 있다. 상기 제2 프레임(112)은 상기 제2 개구부(TH2)를 포함할 수 있다.
예로서, 상기 제1 패키지 몸체(113)는 평평한 하면을 포함할 수 있으며, 상기 하면과 평행한 상면을 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면과 하면을 관통할 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 프레임(111)에 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 프레임(111)을 관통하여 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 프레임(111)의 상면과 하면을 제1 방향으로 관통하여 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 프레임(111)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제2 프레임(112)에 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제2 프레임(112)을 관통하여 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제2 프레임(112)의 상면과 하면을 제1 방향으로 관통하여 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제2 프레임(112)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 하부 면 아래에서 서로 이격되어 배치될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭이 상기 제1 본딩부(121)의 폭에 비해 더 크게 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭이 상기 제2 본딩부(122)의 폭에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 10에 도시된 바와 같이, 제1 도전체(221)와 제2 도전체(222)를 포함할 수 있다. 또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 제1 도전층(321)과 제2 도전층(322)을 포함할 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제2 도전층(322)과 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 도전체(221)는 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 도전체(221)는 상기 제1 본딩부(121)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 도전체(221)는 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제1 방향에서 중첩되어 배치될 수 있다.
상기 제1 도전체(221)는 상기 제1 개구부(TH1)에 제공될 수 있다. 상기 제1 도전체(221)는 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제1 도전층(321) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 도전체(221)는 상기 제1 본딩부(121) 및 상기 제1 도전층(321)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 도전체(221)의 하면은 상기 제1 개구부(TH1)의 상면에 비해 더 낮게 배치될 수 있다. 상기 제1 도전체(221)의 하면은 상기 제1 도전층(321)의 상면에 비해 더 낮게 배치될 수 있다.
상기 제1 도전체(221)는 상기 제1 개구부(TH1) 상에 배치될 수 있다. 또한, 상기 제1 도전체(221)는 상기 제1 본딩부(121)에서 상기 제1 개구부(TH1) 내부까지 연장되어 배치될 수 있다.
또한, 상기 제2 도전체(222)는 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 도전체(222)는 상기 제2 본딩부(122)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 도전체(222)는 상기 제2 본딩부(122)와 상기 제1 방향에서 중첩되어 배치될 수 있다.
상기 제2 도전체(222)는 상기 제2 개구부(TH2)에 제공될 수 있다. 상기 제2 도전체(222)는 상기 제2 본딩부(122)와 상기 제2 도전층(322) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제2 도전체(222)는 상기 제2 본딩부(122) 및 상기 제2 도전층(322)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제2 도전체(222)의 하면은 상기 제2 개구부(TH2)의 상면에 비해 더 낮게 배치될 수 있다. 상기 제2 도전체(222)의 하면은 상기 제2 도전층(322)의 상면에 비해 더 낮게 배치될 수 있다.
상기 제2 도전체(222)는 상기 제2 개구부(TH2) 상에 배치될 수 있다. 또한, 상기 제2 도전체(222)는 상기 제2 본딩부(122)에서 상기 제2 개구부(TH2) 내부까지 연장되어 배치될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 도전체(221)의 하면 및 측면에 상기 제1 도전층(321)이 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 도전체(221)의 하면 및 측면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 개구부(TH1)에 제공될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)의 폭은 상기 제1 본딩부(121)의 폭에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
이와 같이 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 의하면, 상기 제1 도전체(221)에 의하여 상기 제1 도전층(321)과 상기 제1 본딩부(121) 간에 전기적 결합이 더 안정적으로 제공될 수 있다.
또한, 실시 예에 의하면, 상기 제2 도전체(222)의 하면 및 측면에 상기 제2 도전층(322)이 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 도전체(222)의 하면 및 측면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 개구부(TH2)에 제공될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)의 폭은 상기 제2 본딩부(122)의 폭에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
이와 같이 실시 예에 따른 발광소자 패키지(200)에 의하면, 상기 제2 도전체(222)에 의하여 상기 제2 도전층(322)과 상기 제2 본딩부(122) 간에 전기적 결합이 더 안정적으로 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 및 제2 도전체(221, 222)는 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)에 각각 별도의 본딩 물질을 통하여 안정적으로 본딩될 수 있다. 또한, 상기 제1 및 제2 도전체(221, 222)의 측면 및 하면이 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)에 각각 접촉될 수 있다. 따라서, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 하면에 각각 직접적으로 접촉되는 경우에 비하여, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 제1 및 제2 도전체(221, 222)와 각각 접촉되는 면적이 더 커질 수 있게 된다. 이에 따라, 상기 제1 및 제2 도전체(221, 222)를 통하여 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)으로부터 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)에 전원이 각각 안정적으로 공급될 수 있게 된다.
상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 Ag, Au, Pt, Sn, Cu 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질 또는 그 합금을 포함할 수 있다. 다만 이에 한정하지 않고, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)으로 전도성 기능을 확보할 수 있는 물질이 사용될 수 있다.
예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 도전성 페이스트를 이용하여 형성될 수 있다. 상기 도전성 페이스트는 솔더 페이스트(solder paste), 실버 페이스트(silver paste) 등을 포함할 수 있고, 서로 다른 물질로 구성되는 다층 또는 합금으로 구성된 다층 또는 단층으로 구성될 수 있다. 예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 SAC(Sn-Ag-Cu) 물질을 포함할 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는 제1 수지(130)를 포함할 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 제1 패키지 몸체(113)와 상기 발광소자(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면과 상기 발광소자(120)의 하면 사이에 배치될 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 10에 도시된 바와 같이, 리세스(R)를 포함할 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 캐비티(C)의 바닥면에서 상기 패키지 몸체(110)의 하면으로 오목하게 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)에 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에서 하면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 아래에 배치될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 제공될 수 있다. 또한, 상기 리세스(R)는 상기 제2 개구부(TH2)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 제공될 수 있다. 예로서, 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 아래에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다.
상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 리세스(R)는 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제1 개구부(TH1)에 인접하게 배치된 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 배치될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 리세스(R)는 상기 제2 본딩부(122)와 상기 제2 개구부(TH2)에 인접하게 배치된 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 배치될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2) 둘레에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다.
상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 발광소자(120)의 크기가 상기 리세스(R)에 의하여 제공된 폐루프 면적에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 발광소자(120)의 네 측면을 연결하는 외곽선 내에 상기 리세스(R)에 의하여 형성된 폐루프가 제공될 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 리세스(R)에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)와 상기 제1 패키지 몸체(113) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 제2 본딩부(122)와 상기 제2 패키지 몸체(117) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 본딩부(121)의 측면과 상기 제2 본딩부(122)의 측면에 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)와 상기 제1 패키지 몸체(113) 간의 안정적인 고정력을 제공할 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 예로서 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 또한, 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
예로서, 상기 제1 수지(130)는 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)에서 방출하는 광을 반사할 수 있다. 상기 제1 수지(130)가 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 제1 수지(130)는 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수 있다. 상기 제1 수지(130)가 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 제1 수지(130)는 예로서 TiO2, Silicone 등을 포함하는 물질로 구성될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 접착제로 지칭될 수도 있다.
상기 리세스(R)에 제공된 상기 제1 수지(130)에 의하여 상기 발광소자(120)의 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)가 외부로부터 밀봉될 수 있게 된다. 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120) 아래에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다. 상기 제1 수지(130)는 상기 리세스(R)의 형상을 따라 폐루프 형상으로 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 사각 형상의 폐루프로 제공될 수도 있으며, 원형 또는 타원 형상의 폐루프로 제공될 수도 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 10에 도시된 바와 같이, 제2 수지(140)를 포함할 수 있다.
상기 제2 수지(140)는 상기 발광소자(120) 위에 제공될 수 있다. 상기 제2 수지(140)는 상기 제1 패키지 몸체(113) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 수지(140)는 상기 제2 패키지 몸체(117)에 의하여 제공된 캐비티(C)에 배치될 수 있다.
상기 제2 수지(140)는 절연물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 수지(140)는 상기 발광소자(120)로부터 방출되는 빛을 입사 받고, 파장 변환된 빛을 제공하는 파장변환 수단을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제2 수지(140)는 형광체, 양자점 등을 포함할 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 10에 도시된 바와 같이, 제1 하부 리세스(R11)와 제2 하부 리세스(R12)를 포함할 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)와 상기 제2 하부 리세스(R12)는 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 하부 리세스(R11)는 상기 제1 프레임(111)의 하면에 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)는 상기 제1 프레임(111)의 하면에서 상면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)는 상기 제1 개구부(TH1)로부터 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 하부 리세스(R11)는 수 마이크로 미터 내지 수십 마이크로 미터의 폭으로 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)에 수지부가 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)에 채워진 수지부는 예로서 상기 제1 패키지 몸체(113)와 동일 물질로 제공될 수 있다.
다만, 이에 한정하지 않고, 상기 수지부는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 접착력, 젖음성이 좋지 않은 물질 중에서 선택되어 제공될 수 있다. 또는 상기 수지부는 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)과의 표면 장력이 낮은 물질 중에서 선택되어 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 하부 리세스(R11)에 채워진 수지부는 상기 제1 프레임(111), 상기 제2 프레임(112), 상기 제1 몸체(115)가 사출 공정 등을 통하여 형성되는 과정에서 제공될 수 있다.
상기 제1 하부 리세스(R11)에 채워진 수지부는 상기 제1 개구부(TH1)를 제공하는 상기 제1 프레임(111)의 하면 영역 주위에 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)를 제공하는 상기 제1 프레임(111)의 하면 영역은 일종의 아일랜드(island) 형상으로 주위의 상기 제1 프레임(111)을 이루는 하면으로부터 분리되어 배치될 수 있다.
따라서, 상기 수지부가 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 접착력, 젖음성이 좋지 않은 물질 또는 상기 수지부와 상기 제1 및 제2 도전층(321,322) 사이의 표면 장력이 낮은 물질로 배치되는 경우 상기 제1 개구부(TH1)에 제공된 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 개구부(TH1)로부터 벗어나, 상기 제1 하부 리세스(R11)에 채워진 수지부 또는 상기 제1 몸체(115)를 넘어 확산되는 것이 방지될 수 있다.
이는 상기 제1 도전층(321)과 상기 수지부 및 상기 제1 몸체(115)의 접착 관계 또는 상기 수지부와 상기 제1 및 제2 도전층(321,322) 사이의 젖음성, 표면 장력 등이 좋지 않은 점을 이용한 것이다. 즉, 상기 제1 도전층(321)을 이루는 물질이 상기 제1 프레임(111)과 좋은 접착 특성을 갖도록 선택될 수 있다. 그리고, 상기 제1 도전층(321)을 이루는 물질이 상기 수지부 및 상기 제1 몸체(115)와 좋지 않은 접착 특성을 갖도록 선택될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 개구부(TH1)에서 상기 수지부 또는 상기 제1 몸체(115)가 제공된 영역 방향으로 흘러 넘쳐, 상기 수지부 또는 상기 제1 몸체(115)가 제공된 영역 외부로 넘치거나 퍼지는 것이 방지되고, 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 개구부(TH1)가 제공된 영역에 안정적으로 배치될 수 있게 된다. 따라서, 상기 제1 개구부(TH1)에 배치되는 제1 도전층(321)이 흘러 넘치는 경우, 상기 수지부 또는 상기 제1 몸체(115)가 제공된 제1 하부 리세스(R11)의 바깥 영역으로 상기 제1 도전층(321)이 확장되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 개구부(TH1) 내에서 상기 제1 본딩부(121)의 하면에 안정적으로 연결될 수 있게 된다.
따라서, 상기 발광소자 패키지가 회로 기판에 실장되는 경우 제1 도전층(321)과 제2 도전층(322)이 서로 접촉되어 전기적으로 단락되는 문제를 방지할 수 있고, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)을 배치하는 공정에 있어서 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)의 양을 제어하기 매우 수월해질 수 있다.
또한, 상기 제2 하부 리세스(R12)는 상기 제2 프레임(112)의 하면에 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)는 상기 제2 프레임(112)의 하면에서 상면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)는 상기 제2 개구부(TH2)로부터 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제2 하부 리세스(R12)는 수 마이크로 미터 내지 수십 마이크로 미터의 폭으로 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)에 수지부가 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)에 채워진 수지부는 예로서 상기 제1 몸체(115)와 동일 물질로 제공될 수 있다.
다만, 이에 한정하지 않고, 상기 수지부는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 접착력, 젖음성이 좋지 않은 물질 중에서 선택되어 제공될 수 있다. 또는 상기 수지부는 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)과의 표면 장력이 낮은 물질 중에서 선택되어 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제2 하부 리세스(R12)에 채워진 수지부는 상기 제1 프레임(111), 상기 제2 프레임(112), 상기 제1 몸체(115)가 사출 공정 등을 통하여 형성되는 과정에서 제공될 수 있다.
상기 제2 하부 리세스(R12)에 채워진 수지부는 상기 제2 개구부(TH2)를 제공하는 상기 제2 프레임(112)의 하면 영역 주위에 배치될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)를 제공하는 상기 제2 프레임(112)의 하면 영역은 일종의 아일랜드(island) 형상으로 주위의 상기 제2 프레임(112)을 이루는 하면으로부터 분리되어 배치될 수 있다.
따라서, 상기 수지부가 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 접착력, 젖음성이 좋지 않은 물질 또는 상기 수지부와 상기 제1 및 제2 도전층(321,322) 사이의 표면 장력이 낮은 물질로 배치되는 경우 상기 제2 개구부(TH2)에 제공된 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 개구부(TH2)로부터 벗어나, 상기 제2 하부 리세스(R12)에 채워진 수지부 또는 상기 제1 몸체(115)를 넘어 확산되는 것이 방지될 수 있다.
이는 상기 제2 도전층(322)과 상기 수지부 및 상기 제1 몸체(115)의 접착 관계 또는 상기 수지부와 상기 제1 및 제2 도전층(321,322) 사이의 젖음성, 표면 장력 등이 좋지 않은 점을 이용한 것이다. 즉, 상기 제2 도전층(322)을 이루는 물질이 상기 제2 프레임(112)과 좋은 접착 특성을 갖도록 선택될 수 있다. 그리고, 상기 제2 도전층(322)을 이루는 물질이 상기 수지부 및 상기 제1 몸체(115)와 좋지 않은 접착 특성을 갖도록 선택될 수 있다.
이에 따라, 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 개구부(TH2)에서 상기 수지부 또는 상기 제1 몸체(115)가 제공된 영역 방향으로 흘러 넘쳐, 상기 수지부 또는 상기 제1 몸체(115)가 제공된 영역 외부로 넘치거나 퍼지는 것이 방지되고, 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 개구부(TH2)가 제공된 영역에 안정적으로 배치될 수 있게 된다. 따라서, 상기 제2 개구부(TH2)에 배치되는 제2 도전층(322)이 흘러 넘치는 경우, 상기 수지부 또는 상기 제1 몸체(115)가 제공된 제2 하부 리세스(R12)의 바깥 영역으로 상기 제2 도전층(322)이 확장되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 개구부(TH2) 내에서 상기 제2 본딩부(122)의 하면에 안정적으로 연결될 수 있게 된다.
따라서, 상기 발광소자 패키지가 회로 기판에 실장되는 경우 제1 도전층(321)과 제2 도전층(322)이 서로 접촉되어 전기적으로 단락되는 문제를 방지할 수 있고, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)을 배치하는 공정에 있어서 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)의 양을 제어하기 매우 수월해질 수 있다.
한편, 도 10에 도시된 발광소자 패키지는 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)를 형성하는 공정에서, 제1 및 제2 리드 프레임(111, 112)의 상면 방향과 하면 방향에서 식각이 각각 수행된 경우를 나타낸 것이다.
상기 제1 및 제2 리드 프레임(111, 112)의 상면 방향과 하면 방향에서 각각 식각이 진행됨에 따라, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)는 상부와 하부가 각각 서로 다른 폭을 갖는 구형으로 배치될 수 있다.
상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)는 상부와 하부 사이에 제1 지점을 가질 수 있고, 하부 영역에서 제1 지점으로 향할수록 폭이 점차적으로 증가되다가 다시 감소될 수 있다. 또한, 폭이 감소된 중간 영역에서 다시 상부 영역으로 향할수록 폭이 점차적으로 증가되다가 다시 감소될 수 있다.
앞에서 설명된 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)의 제1 지점은 개구부의 크기가 하부 영역에서 상부 영역으로 가면서 작아졌다가 다시 커지는 경계 영역을 지칭할 수 있다. 또한, 상기 제1 지점은 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)의 상면과 하면 사이에서 제1 방향의 폭이 가장 작은 지점일 수 있다.
상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)는 상기 제1 지점을 기준으로, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112) 각각의 상면에 배치된 제1 영역, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112) 각각의 하면에 배치된 제2 영역을 포함할 수 있다. 상기 제1 영역의 상면의 폭은 상기 제2 영역의 하면의 폭 보다 작게 제공될 수 있다.
상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)가 상면과 하면 사이에 제1 지점을 포함하고, 상면과 제1 지점 사이에서 곡률을 갖는 제1 영역, 상기 제1 지점과 하면 사이에서 곡률을 갖는 제2 영역을 포함함으로써 후술될 제1 및 제2 도전체(221, 222)와 제1 및 제2 도전층(321) 간의 접착력을 개선할 수 있다. 또한, 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)를 형성하는 공정 중에 상기 제1 및 제2 프레임이 손상되는 공정 문제를 개선할 수 있다.
또한, 실시 예에 의하면, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)를 형성하는 식각 공정이 완료된 후, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)에 대한 도금 공정이 수행될 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 표면에 제1 및 제2 도금층(111a, 112a)이 형성될 수 있다.
상기 제1 및 제2 도금층(111a, 112a)은 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 상면 및 하면에 제공될 수 있다. 또한, 상기 제1 및 제2 도금층(111a, 112a)은 상기 제1 및 제2 개부부(TH1, TH2)와 접하는 경계 영역에 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)은 기본 지지부재로서 Cu층으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제1 및 제2 도금층(111a, 112a)은 Ni층, Ag층 등에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 도금층(111a, 112a)이 Ni층을 포함하는 경우, Ni층은 열 팽창에 대한 변화가 작으므로, 패키지 몸체가 열 팽창에 의하여 그 크기 또는 배치 위치가 변화되는 경우에도, 상기 Ni층에 의하여 상부에 배치된 발광소자의 위치가 안정적으로 고정될 수 있게 된다. 상기 제1 및 제2 도금층(111a, 112a)이 Ag층을 포함하는 경우, Ag층은 상부에 배치된 발광소자에서 발광되는 빛을 효율적으로 반사시키고 광도를 향상시킬 수 있다.
한편, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)와 접하는 경계 영역에 제공된 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)은 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)에 제공되는 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 결합되어 제1 및 제2 합금층으로 형성될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 및 제 2 도전층(321, 322)이 형성되는 과정 또는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공된 후 열처리 과정에서, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112) 사이에 금속간 화합물(IMC; intermetallic compound)층이 형성될 수 있다.
예로서, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)을 이루는 물질과 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 제1 및 제2 금속층(111a, 112a) 간의 결합에 의해 제1 및 제2 합금층이 형성될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제1 프레임(111)이 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다. 상기 제1 도전층(321), 상기 제1 합금층, 상기 제1 프레임(111)이 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다.
또한, 상기 제2 도전층(322)과 상기 제2 프레임(112)이 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다. 상기 제2 도전층(322), 상기 제2 합금층, 상기 제2 프레임(112)이 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다.
예로서, 상기 제1 및 제2 합금층은 AgSn, CuSn, AuSn 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 금속간 화합물층을 포함할 수 있다. 상기 금속간 화합물층은 제1 물질과 제2 물질의 결합으로 형성될 수 있으며, 제1 물질은 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)으로부터 제공될 수 있고, 제2 물질은 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a) 또는 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 지지부재로부터 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 금속간 화합물층은 수 마이크로 미터의 두께로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 금속간 화합물층은 1 마이크로 미터 내지 3 마이크로 미터의 두께로 형성될 수 있다.
상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Sn 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)이 Ag 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Sn 물질과 Ag 물질의 결합에 의하여 AgSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Sn 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)이 Au 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Sn 물질과 Au 물질의 결합에 의하여 AuSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Sn 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 지지부재가 Cu 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Sn 물질과 Cu 물질의 결합에 의하여 CuSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Ag 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 111b) 또는 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 지지부재가 Sn 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Ag 물질과 Sn 물질의 결합에 의하여 AgSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
이상에서 설명된 금속간 화합물층은 일반적인 본딩 물질에 비해 더 높은 용융점을 가질 수 있다. 또한, 상기 금속한 화합물층이 형성되는 열처리 공정은 일반적인 본딩 물질의 용융점에 비해 더 낮은 온도에서 수행될 수 있다.
따라서, 실시 예에 따른 발광소자 패키지(100)는 회로 기판 등에 리플로우(reflow) 공정을 통해 본딩되는 경우에도 상기 발광 소자(120)와 상기 발광소자 패키지 간의 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되지 않으므로 전기적 연결 및 물리적 본딩력이 열화되지 않는 장점이 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 발광소자 패키지를 제조하는 공정에서 패키지 몸체(110)가 고온에 노출될 필요가 없게 된다. 따라서, 실시 예에 의하면, 패키지 몸체(110)가 고온에 노출되어 손상되거나 변색이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
이에 따라, 제1 몸체(115)를 구성하는 물질에 대한 선택 폭이 넓어질 수 있게 된다. 실시 예에 의하면, 상기 제1 몸체(115)는 세라믹 등의 고가의 물질뿐만 아니라, 상대적으로 저가의 수지 물질을 이용하여 제공될 수도 있다.
예를 들어, 상기 제1 몸체(115)는 PPA(PolyPhtalAmide) 수지, PCT(PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) 수지, EMC(Epoxy Molding Compound) 수지, SMC(Silicone Molding Compound) 수지, PI(Poly Imide) 수지를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.
한편, 실시 예에 의하면, 상기 제1 및 제2 도전체(221, 222)와 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322) 사이에도 금속간 화합물층이 형성될 수도 있다.
이상에서 설명된 바와 유사하게, 실시 예에 의하면, 상기 제1 및 제 2 도전층(321, 322)이 형성되는 과정 또는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공된 후 열처리 과정에서, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 상기 제1 및 제2 도전체(221, 222) 사이에 금속간 화합물(IMC; intermetallic compound)층이 형성될 수 있다.
예로서, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)을 이루는 물질과 상기 제1 및 제2 도전체(221, 222) 간의 결합에 의해 합금층이 형성될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제1 도전체(221)가 물리적으로 또한 전기적으로 더 안정하게 결합될 수 있게 된다. 상기 제1 도전층(321), 합금층, 상기 제1 도전체(221)가 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다.
또한, 상기 제2 도전층(322)과 상기 제2 도전체(222)가 물리적으로 또한 전기적으로 더 안정하게 결합될 수 있게 된다. 상기 제2 도전층(322), 합금층, 상기 제2 도전체(222)가 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다.
예로서, 상기 합금층은 AgSn, CuSn, AuSn 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 금속간 화합물층을 포함할 수 있다. 상기 금속간 화합물층은 제1 물질과 제2 물질의 결합으로 형성될 수 있으며, 제1 물질은 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)으로부터 제공될 수 있고, 제2 물질은 상기 제1 및 제2 도전체(221, 222)로부터 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 금속간 화합물층은 수 마이크로 미터의 두께로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 금속간 화합물층은 1 마이크로 미터 내지 3 마이크로 미터의 두께로 형성될 수 있다.
한편, 실시 예에 따른 발광소자 패키지에서, 광 추출 효율을 개선하기 위해 발광소자(120)의 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 크기를 작게 배치하는 경우, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭이 상기 제1 본딩부(121)의 폭에 비해 더 크거나 같게 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭이 상기 제2 본딩부(122)의 폭에 비해 더 크거나 같게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭이 상기 제1 개구부(TH1)의 하부 영역의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭이 상기 제2 개구부(TH2)의 하부 영역의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭은 수십 마이크로 미터 내지 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제1 개구부(TH1)의 하부 영역의 폭은 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭에 비하여 수십 마이크로 미터 내지 수백 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭은 수십 마이크로 미터 내지 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 하부 영역의 폭은 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭에 비하여 수십 마이크로 미터 내지 수백 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭에 비해 상기 제1 개구부(TH1)의 하부 영역의 폭이 더 넓게 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상부 영역에서 소정 깊이만큼 일정한 폭으로 제공되고, 하부 영역으로 가면서 경사진 형상으로 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭에 비해 상기 제2 개구부(TH2)의 하부 영역의 폭이 더 넓게 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상부 영역에서 소정 깊이만큼 일정한 폭으로 제공되고, 하부 영역으로 가면서 경사진 형상으로 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 개구부(TH1)는 하부 영역에서 상부 영역으로 가면서 폭이 점차적으로 작아지는 경사진 형태로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)는 하부 영역에서 상부 영역으로 가면서 폭이 점차적으로 작아지는 경사진 형태로 제공될 수 있다.
다만 이에 한정하지 않고, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)의 상부 영역과 하부 영역 사이의 경사면은 기울기가 서로 다른 복수의 경사면을 가질 수 있고, 상기 경사면은 곡률을 가지며 배치될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는, 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적이 작을 경우, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)는 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2) 내에 배치될 수 있다.
이 때, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적이 작기 때문에 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 간의 접착력이 확보되기 어려울 수 있다. 따라서, 실시 예에 따른 발광소자 패키지는 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 간의 접촉 면적을 더 확보하기 위해서 제1 도전체(221)와 제2 도전체(222)를 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 본딩부(121)에 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 본딩부(122)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)에 외부 전원이 공급될 수 있고, 이에 따라 상기 발광소자(120)가 구동될 수 있다.
한편, 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 의하면, 상기 리세스(R)에 제공된 상기 제1 수지(130)가, 상기 발광소자(120)의 하부면과 상기 패키지 몸체(110)의 상부면 사이에 제공될 수 있다. 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 주변에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2) 주변에 폐루프 형상으로 제공될 수 있다.
상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)를 상기 패키지 몸체(110)에 안정적으로 고정시키는 기능을 수행할 수 있다. 또한, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 측면에 접촉되어 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 둘레에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 수지(130)는 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)가 상기 제2 수지(140)가 제공된 외측 영역으로부터 아이솔레이션 되도록 배치될 수 있다.
상기 제1 수지(130)에 의하여, 상기 제1 및 제2 개구부(TRH1, TH2)에 제공된 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 리세스(R)의 폐루프를 벗어나 상기 발광소자(120)의 외측 방향으로 흐르는 것이 방지될 수 있다.
상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 외측 방향으로 이동되는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 측면을 타고 확산될 수도 있다. 이와 같이, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 측면으로 이동되는 경우, 상기 발광소자(120)의 제1 도전형 반도체층과 제2 도전형 반도체층이 전기적으로 단락될 수도 있다. 또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 측면으로 이동되는 경우, 상기 발광소자(120)의 광 추출 효율이 저하될 수도 있다.
그러나, 실시 예에 의하면, 상기 제1 수지(130)에 의하여 상기 리세스(R)가 제공된 영역을 기준으로, 내부와 외부가 격리될 수 있으므로, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 리세스(R)가 제공된 영역을 벗어나 외부 방향으로 이동되는 것이 방지될 수 있다.
따라서, 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 의하면, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 측면으로 이동되는 것이 방지될 수 있으며, 상기 발광소자(120)가 전기적으로 단락되는 것이 방지되고 광 추출 효율이 향상될 수 있다.
또한, 실시 예에 의하면, 상기 리세스(R)에 제공된 상기 제1 수지(130)는 상기 발광소자(120)의 하부면을 따라 상기 발광소자(120) 아래에 위치된 제1 영역(A1)으로 이동되어 제공될 수 있으며, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 4개의 측면에 접촉되어 배치될 수도 있다. 이에 따라, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)는 상기 제1 수지(130)에 의하여 둘러 싸이게 배치될 수 있고, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)가 상기 제1 수지(130)에 의하여 밀봉될 수 있다.
이와 같이, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)가 상기 제1 수지(130)에 의하여 밀봉될 수 있으므로, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)에 제공된 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 제1 패키지 몸체(113)의 상부면 위로 이동되는 것이 방지될 수 있다.
또한, 실시 예에 의하면, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적의 합은 상기 기판(124)의 상면 면적을 기준으로 10% 이하로 제공될 수 있다. 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 의하면, 발광소자로부터 방출되는 발광 면적을 확보하여 광추출 효율을 높이기 위해 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적의 합은 상기 기판(124)의 상면 면적을 기준으로 10% 이하로 설정될 수 있다.
또한, 실시 예에 의하면, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적의 합은 상기 기판(124)의 상면 면적을 기준으로 0.7% 이상으로 제공될 수 있다. 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 의하면, 실장되는 발광소자에 안정적인 본딩력을 제공하기 위해 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적의 합은 상기 기판(124)의 상면 면적을 기준으로 0.7% 이상으로 설정될 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 의하면, 상기 제1 도전체(221) 및 제2 도전체(222)가 안정적으로 배치될 수 있도록 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적의 합은 상기 기판(124)의 상면 면적을 기준으로 0.7% 이상으로 설정될 수 있다.
이와 같이, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적이 작게 제공됨에 따라, 상기 발광소자(120)의 하면으로 투과되는 빛의 양이 증대될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(120) 아래에는 반사특성이 좋은 상기 제1 수지(130)가 제공될 수 있다. 따라서, 상기 발광소자(120)의 하부 방향으로 방출된 빛은 상기 제1 수지(130)에서 반사되어 발광소자 패키지의 상부 방향으로 효과적으로 방출되고 광추출효율이 향상될 수 있게 된다.
한편, 이상에서 설명된 실시 예에 따른 발광소자 패키지는 서브 마운트 또는 회로기판 등에 실장되어 공급될 수도 있다.
그런데, 종래 발광소자 패키지가 서브 마운트 또는 회로기판 등에 실장됨에 있어 리플로우(reflow) 등의 고온 공정이 적용될 수 있다. 이때, 리플로우 공정에서, 발광소자 패키지에 제공된 리드 프레임과 발광소자 간의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되어 전기적 연결 및 물리적 결합의 안정성이 약화될 수 있게 된다.
그러나, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 실시 예에 따른 발광소자의 본딩부는 개구부에 배치된 도전층을 통하여 구동 전원을 제공 받을 수 있다. 그리고, 개구부에 배치된 도전층의 용융점이 일반적인 본딩 물질의 용융점에 비해 더 높은 값을 갖도록 선택될 수 있다.
따라서, 실시 예에 따른 발광소자 소자 패키지는 메인 기판 등에 리플로우(reflow) 공정을 통해 본딩되는 경우에도 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되지 않으므로 전기적 연결 및 물리적 본딩력이 열화되지 않는 장점이 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 발광소자 패키지를 제조하는 공정에서 패키지 몸체(110)가 고온에 노출될 필요가 없게 된다. 따라서, 실시 예에 의하면, 패키지 몸체(110)가 고온에 노출되어 손상되거나 변색이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
이에 따라, 제1 몸체(115)를 구성하는 물질에 대한 선택 폭이 넓어질 수 있게 된다. 실시 예에 의하면, 상기 제1 몸체(115)는 세라믹 등의 고가의 물질뿐만 아니라, 상대적으로 저가의 수지 물질을 이용하여 제공될 수도 있다.
예를 들어, 상기 제1 몸체(115)는 PPA(PolyPhtalAmide) 수지, PCT(PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) 수지, EMC(Epoxy Molding Compound) 수지, SMC(Silicone Molding Compound) 수지, PI(Poly Imide) 수지를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.
다음으로, 도 11 및 도 12를 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 적용된 발광소자의 예를 설명하기로 한다. 도 11은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자를 나타낸 평면도이고, 도 12는 도 11에 도시된 발광소자의 G-G 선에 따른 단면도이다.
도 11 및 도 12를 참조하여 실시 예에 따른 발광소자를 설명함에 있어, 도 1 내지 도 10을 참조하여 설명된 내용과 중복되는 사항에 대해서는 설명이 생략될 수 있다.
한편, 이해를 돕기 위해, 도 11을 도시함에 있어, 제1 본딩부(2171)와 제2 본딩부(2172) 아래에 배치되지만, 상기 제1 본딩부(2171)에 전기적으로 연결된 제1 전극(2141)과 상기 제2 본딩부(2172)에 전기적으로 연결된 제2 전극(2142)이 보일 수 있도록 도시되었다.
실시 예에 따른 발광소자(2100)는, 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 기판(2105) 위에 배치된 제1 발광 구조물(2110)과 제2 발광 구조물(2120)을 포함할 수 있다.
상기 기판(2105)은 사파이어 기판(Al2O3), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있다. 예로서, 상기 기판(2105)은 상부 면에 요철 패턴이 형성된 PSS(Patterned Sapphire Substrate)로 제공될 수 있다.
상기 제1 발광 구조물(2110)은 제1 도전형의 제1 반도체층(2111), 제1 활성층(2112), 제2 도전형의 제2 반도체층(2113)을 포함할 수 있다. 상기 제1 활성층(2112)은 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제2 반도체층(2113) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제1 반도체층(2111) 위에 상기 제1 활성층(2112)이 배치되고, 상기 제1 활성층(2112) 위에 상기 제2 반도체층(2113)이 배치될 수 있다.
또한, 상기 제2 발광 구조물(2120)은 제1 도전형의 제3 반도체층(2121), 제2 활성층(2122), 제2 도전형의 제4 반도체층(2123)을 포함할 수 있다. 상기 제2 활성층(2122)은 상기 제3 반도체층(2121)과 상기 제4 반도체층(2123) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제3 반도체층(2121) 위에 상기 제2 활성층(2122)이 배치되고, 상기 제2 활성층(2122) 위에 상기 제4 반도체층(2123)이 배치될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제3 반도체층(2121)은 n형 반도체층으로 제공되고, 상기 제2 반도체층(2113)과 상기 제4 반도체층(2123)은 p형 반도체층으로 제공될 수 있다. 물론, 다른 실시 예에 의하면, 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제3 반도체층(2121)이 p형 반도체층으로 제공되고, 상기 제2 반도체층(2113)과 상기 제4 반도체층(2123)이 n형 반도체층으로 제공될 수도 있다.
이하에서는 설명의 편의를 위해 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제3 반도체층(2121)이 n형 반도체층으로 제공되고 상기 제2 반도체층(2113)과 상기 제4 반도체층(2123)이 p형 반도체층으로 제공된 경우를 기준으로 설명하기로 한다.
또한, 이상의 설명에서는 상기 기판(2105) 위에 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제3 반도체층(2121)이 접촉되어 배치된 경우를 기준으로 설명되었다. 그러나, 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 기판(2105) 사이 및/또는 상기 제3 반도체층(2121)과 상기 기판(2105) 사이에 버퍼층이 더 배치될 수도 있다. 예로서, 버퍼층은 상기 기판(2105)과 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120) 간의 격자 상수 차이를 줄여 주고 결정성을 향상시키는 기능을 제공할 수 있다.
상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)은 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)은 예로서 2족-6족 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)은 알루미늄(Al), 갈륨(Ga), 인듐(In), 인(P), 비소(As), 질소(N)로부터 선택된 적어도 두 개 이상의 원소를 포함하여 제공될 수 있다.
상기 제1 및 제3 반도체층(2111, 2121)은, 예로서 2족-6족 화합물 반도체 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 및 제3 반도체층(2111, 2121)은 InxAlyGa1 -x- yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료 또는 (AlxGa1 -x)yIn1 - yP(0≤x≤1, 0≤y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 제공될 수 있다. 예를 들어 상기 제1 및 제3 반도체층(2111, 2121)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, GaInP 등을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있으며, Si, Ge, Sn, Se, Te 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 n형 도펀트가 도핑될 수 있다.
상기 제1 및 제2 활성층(2112, 2122)은, 예로서 2족-6족 화합물 반도체 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 및 제2 활성층(2112, 2122)은 InxAlyGa1 -x- yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료 또는 (AlxGa1 -x)yIn1 - yP(0≤x≤1, 0≤y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 제1 및 제2 활성층(2112, 2122)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, GaInP 등을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있다. 예로서, 상기 제1 및 제2 활성층(2112, 2122)은 다중 우물 구조로 제공될 수 있으며, 복수의 장벽층과 복수의 우물층을 포함할 수 있다.
상기 제2 및 제4 반도체층(2113, 2123)은, 예로서 2족-6족 화합물 반도체 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 및 제4 반도체층(2113, 2123)은 InxAlyGa1 -x- yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료 또는 (AlxGa1 -x)yIn1 - yP(0≤x≤1, 0≤y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 제공될 수 있다. 예를 들어 상기 제2 및 제4 반도체층(2113, 2123)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, GaInP 등을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있으며, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 p형 도펀트가 도핑될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자(2100)는, 도 12에 도시된 바와 같이, 투광성 전극층(2230)을 포함할 수 있다. 상기 투광성 전극층(2230)은 상기 제2 및 제4 반도체층(2113, 2123)과 상기 투광성 전극층(2230) 사이의 전류 주입 효율을 향상시킬 수 있고, 따라서 발광소자(2100)의 광출력을 증가시킬 수 있다. 또한, 상기 투광성 전극층(2230)은 상기 활성층(2122)에서 방출되는 광을 투과시킬 수 있다. 이에 대한 효과는 후술하도록 하고, 상기 투광성 전극층(2230)의 배치 위치 및 형상에 대해서는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법을 설명하면서 더 살펴 보기로 한다.
예로서, 상기 투광성 전극층(2230)은 금속, 금속 산화물, 금속 질화물을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 투광성 전극층(2230)은, 예를 들어 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZON(IZO nitride), IZTO (indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IrOx, RuOx, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, Ni/IrOx/Au/ITO, Pt, Ni, Au, Rh, Pd를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자(2100)는, 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 반사층(2160)을 포함할 수 있다. 상기 반사층(2160)은 제1 반사층(2161), 제2 반사층(2162), 제3 반사층(2163)을 포함할 수 있다. 상기 반사층(2160)은 상기 투광성 전극층(2230) 위에 배치될 수 있다.
상기 반사층(2160)이 상기 투광성 전극층(2230) 상에 배치됨으로써, 상기 활성층(2123)에서 방출되는 광이 상기 반사층(2160)에서 반사될 수 있다. 이에 따라, 상기 활성층(2123)에서 방출되는 광이 뒤에서 설명될 제1 전극(2141), 제2 전극(2142), 연결전극(2143)에 흡수되어 손실되는 것이 방지될 수 있으므로 상기 발광소자(2100)의 광추출효율이 개선될 수 있다.
즉, 본 실시예에서는 전기적 특성을 확보하기 위해 상기 투광성 전극층(2230)과 상기 반사층(2160)을 구비하였다. 다만, 이에 한정하지 않고, 다른 실시 예에 의하면, 상기 투광성 전극층(2230)을 배치하지 않고 상기 반사층(2160)만을 구비하여 전기적, 광학적 특성을 모두 확보하도록 구성하는 실시예를 포함할 수도 있다.
상기 제1 반사층(2161)은 상기 제1 발광 구조물(2110) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 반사층(2162)은 상기 제2 발광 구조물(2120) 위에 배치될 수 있다. 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 발광 구조물(2110)과 상기 제2 발광 구조물(2120) 위에 배치될 수 있다.
예로서, 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 반사층(2161)과 연결될 수 있다. 또한, 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제2 반사층(2162)과 연결될 수 있다. 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)에 물리적으로 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제1 내지 제3 반사층(2161, 2162, 2163)은 서로 연결된 하나의 반사층으로 형성될 수도 있다.
상기 제1 반사층(2161)은 복수의 개구부를 포함할 수 있다. 상기 제1 반사층(2161)은 상기 기판(2105)의 상면에 수직한 방향인 제1 방향으로 관통하여 제공된 복수의 제1 개구부(h1)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 반사층(2161)은 상기 제1 방향으로 관통하여 제공된 복수의 제2 개구부(h2)를 포함할 수 있다.
상기 제2 반사층(2162)은 복수의 개구부를 포함할 수 있다. 상기 제2 반사층(2162)은 상기 기판(2105)의 상면에 수직한 제1 방향으로 관통하여 제공된 복수의 제3 개구부(h3)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 반사층(2162)은 상기 제1 방향으로 관통하여 제공된 복수의 제4 개구부(h4)를 포함할 수 있다.
상기 제3 반사층(2163)은 복수의 개구부를 포함할 수 있다. 상기 제3 반사층(2163)은 상기 기판(2105)의 상면에 수직한 제1 방향으로 관통하여 제공된 복수의 제5a 및 제5b 개구부(h5a, h5b)를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 방향으로 관통하여 제공된 복수의 제6a 및 제6b 개구부(h6a, h6b)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 방향으로 관통하여 제공된 라인 개구부(TH1)를 포함할 수 있다.
상기 라인 개구부(TH1)는 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향으로 연장되어 배치될 수 있다. 상기 라인 개구부(TH1)는 제1 발광 구조물(2110)과 제2 발광 구조물(2120) 사이에 배치되어 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)을 전기적으로 직렬 연결 되도록 제1 발광 구조물(2110)의 제1 전극과 제2 발광 구조물(2120)의 제2 전극이 연결되도록 배치될 수 있다.
이 때, 상기 제1 전극의 면적이 상기 제2 전극의 면적보다 넓은 것이 직렬 연결되는 구조에서 전류 확산 및 전류 주입 특성 측면에서 유리할 수 있다. 따라서, 상기 라인 개구부(TH1)는 제1 발광 구조물(2110)의 제1 전극과 연결되어 제2 발광 구조물(2120)에 인접한 위치에 배치되고, 상기 라인 개구부(TH1)와 마주보는 제5b 개구부(h5b)의 면적보다 넓게 배치될 수 있다.
예로서, 상기 제3 반사층(2163)은, 도 12에 도시된 바와 같이, 라인 개구부(TH1)와 제5b 개구부(h5b)를 포함할 수 있다. 상기 라인 개구부(TH1)는 상기 제1 반도체층(2111)의 상면을 노출시킬 수 있다. 상기 제5b 개구부(h5b)는 상기 제4 반도체층(2123) 위에 배치된 상기 투광성 전극층(2230)의 상면을 노출시킬 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제5b 개구부(h5b) 아래에 전류확산층(2220)이 더 배치될 수 있다. 상기 전류확산층(2220)은 상기 제4 반도체층(2123)과 상기 투광성 전극층(2230) 사이에 배치될 수 있다.
실시 예에 따른 상기 반사층(2160), 상기 투광성 전극층(2230), 상기 전류확산층(2220)의 배치 위치 및 형상에 대해서는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법을 설명하면서 더 살펴 보기로 한다.
상기 반사층(2160)은 절연성 반사층으로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 반사층(2160)은 DBR(Distributed Bragg Reflector)층으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 반사층(2160)은 ODR(Omni Directional Reflector)층으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 반사층(2160)은 DBR층과 ODR층이 적층되어 제공될 수도 있다.
실시 예에 따른 발광소자(2100)는, 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 제1 전극(2141), 제2 전극(2142), 연결전극(2143)을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 전극(2141)과 상기 제2 전극(2142)은 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 연결전극(2143)은 상기 제1 전극(2141)과 상기 제2 전극(2142) 사이에 배치될 수 있다.
상기 제1 전극(2141)은 상기 제1 반사층(2161) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 전극(2141)의 일부 영역은 상기 제3 반사층(2163) 위에 배치될 수 있다.
상기 제1 전극(2141)은 상기 제2 반도체층(2113)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 전극(2141)은 상기 복수의 제1 개구부(h1)를 통해 상기 제2 반도체층(2113)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 전극(2141)은 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서 상기 복수의 제1 개구부(h1) 아래에 배치된 투광성 전극층(2230)에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제1 전극(2141)은 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서 상기 복수의 제1 개구부(h1)에 의하여 노출된 투광성 전극층(2230)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제2 전극(2142)은 상기 제2 반사층(2162) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)의 일부 영역은 상기 제3 반사층(2163) 위에 배치될 수 있다.
상기 제2 전극(2142)은 상기 제3 반도체층(2121)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)은 상기 복수의 제4 개구부(h4)를 통해 상기 제3 반도체층(2121)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)은 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서 상기 복수의 제4 개구부(h4) 아래에 배치된 상기 제3 반도체층(2121)에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)은 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서 상기 복수의 제4 개구부(h4)에 의하여 노출된 상기 제3 반도체층(2121)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 연결전극(2143)은 상기 제3 반사층(2163) 위에 배치될 수 있다. 상기 연결전극(2143)의 일부 영역은 상기 제1 반사층(2161) 위에 배치될 수 있다. 상기 연결전극(2143)의 일부 영역은 상기 제2 반사층(2162) 위에 배치될 수 있다.
상기 연결전극(2143)은 상기 제1 반도체층(2111) 및 상기 제4 반도체층(2123)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 연결전극(2143)은 상기 제1 반도체층(2111) 상에 배치된 제1 부분(2143a), 상기 제4 반도체층(2123) 상에 배치된 제2 부분(2143b), 및 상기 제1 부분(2143a)과 상기 제2 부분(2143b)을 연결하는 제3 부분(2143c)을 포함할 수 있다.
상기 연결전극(2143)은 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역 위에 배치된 상기 제1 부분(2143a)을 포함할 수 있다. 상기 연결전극(2143)은 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역 위에 배치된 제2 부분(2143b)을 포함할 수 있다. 상기 연결전극(2143)은 상기 제1 발광 구조물(2110)과 상기 제2 발광 구조물(2120)의 경계 영역 위에 배치된 상기 제3 부분(2143c)을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 부분(2143a)은 제1 전극부(2143aa)와 제2 전극부(2143ab)를 포함할 수 있다.
상기 제1 부분(2143a)은 상기 복수의 제2 개구부(h2), 상기 복수의 제6a 개구부(h6a), 상기 라인 개구부(TH1)를 통해 상기 제1 반도체층(2111)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 부분(2143a)의 상기 제2 전극부(2143ab)는, 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제2 개구부(h2)를 통해 상기 제1 반도체층(2111) 상면에 직접 접촉되어 제공될 수 있다.
상기 제1 부분(2143a)의 상기 제1 전극부(2143aa)는, 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제6a 개구부(h6a)를 통해 상기 제1 반도체층(2111) 상면에 직접 접촉되어 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 부분(2143a)의 상기 제1 전극부(2143aa)는, 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서, 상기 라인 개구부(TH1)를 통해 상기 제1 반도체층(2111) 상면에 직접 접촉되어 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제2 부분(2143b)은 제3 전극부(2143ba)와 제4 전극부(2143bb)를 포함할 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)은 상기 복수의 제3 개구부(h3), 상기 복수의 제5b 개구부(h5b)를 통해 상기 제4 반도체층(2123)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)의 상기 제4 전극부(2143bb)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제3 개구부(h3)를 통해 상기 제4 반도체층(2123) 상면에 접하여 제공될 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)의 상기 제4 전극부(2143bb)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제3 개구부(h3) 아래에 배치된 투광성 전극층(2230)에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 부분(2143b)의 상기 제4 전극부(2143bb)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제3 개구부(h3)에 의하여 노출된 투광성 전극층(2230)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)의 상기 제3 전극부(2143ba)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제5b 개구부(h5b)를 통해 상기 제4 반도체층(2123) 상면에 접하여 제공될 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)의 상기 제3 전극부(2143ba)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제5b 개구부(h5b) 아래에 배치된 투광성 전극층(2230)에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 부분(2143b)의 상기 제3 전극부(2143ba)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제5b 개구부(h5b)에 의하여 노출된 투광성 전극층(2230)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 연결전극(2143)의 상기 제3 부분(2143c)은 상기 제1 발광 구조물(2110)과 상기 제2 발광 구조물(2120) 사이의 경계 영역 위에 배치될 수 있다. 상기 연결전극(2143)의 상기 제3 부분(2143c)은 상기 제1 부분(2143a) 및 상기 제2 부분(2143b)과 전기적으로 연결될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자에 의하면, 상기 제1 전극(2141)은 상기 제2 반도체층(2113)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)은 상기 제3 반도체층(2121)에 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 연결전극(2143)은 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제4 반도체층(2123)에 전기적으로 연결될 수 있다.
이에 따라, 실시 예에 의하면, 상기 제1 전극(2141)과 상기 제2 전극(2142)에 전원이 공급됨에 따라, 상기 제1 전극(2141), 상기 제2 반도체층(2113), 상기 제1 반도체층(2111), 상기 연결전극(2143), 상기 제4 반도체층(2123), 상기 제3 반도체층(2121), 상기 제2 전극(2142)이 전기적으로 직렬 연결될 수 있게 된다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적이 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적은, 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 복수의 제6a 개구부(h6a)를 통해 상기 제1 반도체층(2111) 상면에 직접 접촉된 면적과 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 라인 개구부(TH1)를 통해 상기 제1 반도체층(2111) 상면에 직접 접촉된 면적을 합한 면적에 대응될 수 있다.
또한, 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적은, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 복수의 제5b 개구부(h5b) 아래에 배치된 투광성 전극층(2230)에 직접 접촉된 영역의 면적에 대응될 수 있다. 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적은, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 복수의 제5b 개구부(h5b)에 의하여 노출된 투광성 전극층(2230)의 상면에 직접 접촉된 영역의 면적에 대응될 수 있다.
예로서, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적은 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 1.4% 이상이고 3.3% 이하의 크기로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적은 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 0.7% 이상이고 3.0% 이하의 크기로 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적은 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 예로서 1.1 배 내지 2 배 범위에서 제공될 수 있다.
이와 같이, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적이 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 더 크게 제공됨으로써, 캐리어가 원활하게 확산될 수 있으며, 동작 전압이 상승되는 것이 방지될 수 있게 된다.
상기 제1 전극(2141), 상기 제2 전극(2142), 상기 연결전극(2143)은 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 전극(2141), 상기 제2 전극(2142), 상기 연결전극(2143)은 오믹 전극일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 전극(2141), 상기 제2 전극(2142), 상기 연결전극(2143)은 ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나 또는 이들 중 2개 이상의 물질의 합금일 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자(2100)는, 도 12에 도시된 바와 같이, 보호층(2150)을 포함할 수 있다.
한편, 이해를 돕기 위해, 도 11을 도시함에 있어, 상기 보호층(2150) 아래에 배치된 상기 제1 전극(2141), 상기 제2 전극(2142), 상기 연결전극(2143), 상기 반사층(2160)의 배치 관계가 잘 나타날 수 있도록 상기 보호층(2150)은 도시되지 아니 하였다.
상기 보호층(2150)은 상기 제1 전극(2141), 상기 제2 전극(2142), 상기 연결전극(2143) 위에 배치될 수 있다.
상기 보호층(2150)은 상기 반사층(2160) 위에 배치될 수 있다. 상기 보호층(2150)은 상기 제1 반사층(2161), 상기 제2 반사층(2162), 상기 제3 반사층(2163) 위에 배치될 수 있다.
상기 보호층(2150)의 배치 위치 및 형상에 대해서는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법을 설명하면서 더 살펴 보기로 한다.
예로서, 상기 보호층(2150)은 절연물질로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층(2150)은 SixOy, SiOxNy, SixNy, AlxOy 를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질로 형성될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자(2100)는, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 보호층(2150) 위에 배치된 제1 본딩부(2171)와 제2 본딩부(2172)를 포함할 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제1 반사층(2161) 위에 배치될 수 있다. 또한, 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제2 반사층(2162) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제1 본딩부(2171)와 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제1 전극(2141) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제1 전극(2141)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제1 발광 구조물(2110) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제2 반도체층(2113) 위에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 연결전극(2143) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)는 상기 연결전극(2143)의 제1 부분(2143a) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)는 상기 연결전극(2143)의 제2 전극부(2143ab) 위에 배치될 수 있다.
상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제2 전극(2142) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제2 전극(2142)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제2 발광 구조물(2120) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제4 반도체층(2123) 위에 배치될 수 있다.
상기 제2 본딩부(2172)는 상기 연결전극(2143) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 연결전극(2143)의 제2 부분(2143b) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 연결전극(2143)의 제4 전극부(2143bb) 위에 배치될 수 있다.
실시 예에 의하면, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 연결전극(2143)은 상기 제1 반도체층(2111) 상에 배치된 제1 부분(2143a), 상기 제4 반도체층(2123) 상에 배치된 제2 부분(2143b), 및 상기 제1 부분(2143a)과 상기 제2 부분(2143b)을 연결하는 제3 부분(2143c)을 포함할 수 있다.
상기 연결전극(2143)의 상기 제1 부분(2143a)은 상기 기판(2105)의 상면과 수직한 제1 방향으로 상기 제1 본딩부(2171)와 중첩하지 않는 제1 전극부(2143aa)와 상기 제1 본딩부(2171)와 중첩하는 제2 전극부(2143ab)를 포함할 수 있다.
상기 연결전극(2143)의 상기 제2 부분(2143b)은 상기 제1 방향으로 상기 제2 본딩부(2172)와 중첩하지 않는 제3 전극부(2143ba)와 상기 제2 본딩부(2172)와 중첩하는 제4 전극부(2143bb)를 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적이 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적은 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 1.4% 이상이고 3.3% 이하의 크기로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적은 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 0.7% 이상이고 3.0% 이하의 크기로 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적은 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 예로서 1.1 배 내지 2 배 범위에서 제공될 수 있다.
상기 제1 전극부(2143ab)와 상기 제1 반도체층(2111)가 접하는 면적이 상기 제3 전극부(2143ba)와 상기 제4 반도체층(2123)이 접하는 면적에 비해 더 넓게 제공되는 것이 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제4 반도체층(2123)이 직렬 연결되는 구조에서 전류 확산 및 전류 주입 특성 측면에서 유리할 수 있다.
또한, 상기 제1 전극부(2143ab)와 상기 제1 반도체층(2111)이 접하는 면적이 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 1.4% 이상의 크기로 제공됨으로써, 상기 제1 반도체층(2111)에서의 전류 확산이 효율적으로 수행될 수 있다. 상기 제1 전극부(2143ab)와 상기 제1 반도체층(2111)이 접하는 면적이 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 3.3% 이하의 크기로 제공됨으로써, 상기 제1 전극부(2143ab)에 의하여 식각될 상기 제1 활성층(2112)의 면적을 조절하고 상기 제1 발광 구조물(2110)의 광 추출 효율이 향상될 수 있다.
상기 제3 전극부(2143ba)와 상기 제4 반도체층(2123)이 접하는 면적이 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 0.7% 이상의 크기로 제공됨으로써, 상기 제4 반도체층(213)에서의 전류 확산이 효율적으로 수행될 수 있다. 상기 제3 전극부(2143ba)와 상기 제4 반도체층(2123)이 접하는 면적이 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 3.0% 이하의 크기로 제공됨으로써, 상기 제3 전극부(2143ba)에서 흡수되어 손실되는 빛의 양을 줄이고 상기 제2 발광 구조물(2120)의 광 추출 효율이 향상될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 전원이 인가됨에 따라, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)이 발광될 수 있게 된다.
상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 전원이 공급됨에 따라, 상기 제1 본딩부(2171), 상기 제1 전극(2141), 상기 제2 반도체층(2113), 상기 제1 반도체층(2111), 상기 연결전극(2143), 상기 제4 반도체층(2123), 상기 제3 반도체층(2121), 상기 제2 전극(2142), 상기 제2 본딩부(2172)가 전기적으로 직렬 연결될 수 있게 된다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이에 고전압이 인가될 수 있으며, 인가된 고전압이 상기 제1 전극(2141), 상기 연결전극(2143), 상기 제2 전극(2142)을 통하여 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에 분산되어 공급될 수 있게 된다.
이상에서 설명된 바와 같이, 실시 예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제1 전극(2141)이 복수의 영역에서 접촉될 수 있다. 또한, 상기 제2 본딩부(2172)와 상기 제2 전극(2142)이 복수의 영역에서 접촉될 수 있다. 이에 따라, 실시 예에 의하면, 복수의 영역을 통해 전원이 공급될 수 있으므로, 접촉 면적 증가 및 접촉 영역의 분산에 따라 전류 분산 효과가 발생되고 동작전압이 감소될 수 있는 장점이 있다.
또한, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 전원이 인가됨에 있어서, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적이 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 더 크게 제공됨으로써, 캐리어가 원활하게 확산될 수 있으며, 동작 전압이 상승되는 것이 방지될 수 있게 된다.
실시 예에 따른 발광소자는 플립칩 본딩 방식으로 외부 전원에 연결될 수 있다. 예로서, 발광소자 패키지를 제조함에 있어, 상기 제1 본딩부(2171)의 상부 면과 상기 제2 본딩부(2172)의 상부 면이 서브 마운트, 리드 프레임, 또는 회로기판 등에 부착되도록 배치될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자가 플립칩 본딩 방식으로 실장되어 발광소자 패키지로 구현되는 경우, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에서 제공되는 빛은 상기 기판(2105)을 통하여 방출될 수 있다. 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에서 방출되는 빛은 상기 제1 내지 제3 반사층(2161, 2162, 2163)에서 반사되어 상기 기판(2105) 방향으로 방출될 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 및 발광소자 패키지에 의하면, 넓은 면적을 갖는 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 전원을 제공하는 회로기판에 직접 본딩될 수 있으므로 플립칩 본딩 공정이 쉽고 안정적으로 진행될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)의 크기는 상기 제1 본딩부(2171)의 크기에 비하여 수 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 반사층(2161)의 면적은 상기 제1 본딩부(2171)의 면적을 완전히 덮을 수 있을 정도의 크기로 제공될 수 있다. 공정 오차를 고려할 때, 상기 제1 반사층(2161)의 한 변의 길이는 상기 제1 본딩부(2171)의 한 변의 길이에 비해 예로서 4 마이크로 미터 내지 10 마이크로 미터 정도 더 크게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2 반사층(2162)의 크기는 상기 제2 본딩부(2172)의 크기에 비하여 수 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 반사층(2162)의 면적은 상기 제2 본딩부(2172)의 면적을 완전히 덮을 수 있을 정도의 크기로 제공될 수 있다. 공정 오차를 고려할 때, 상기 제2 반사층(2162)의 한 변의 길이는 상기 제2 본딩부(2172)의 한 변의 길이에 비해 예로서 4 마이크로 미터 내지 10 마이크로 미터 정도 더 크게 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)에 의하여, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)로부터 방출되는 빛이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 입사되지 않고 반사될 수 있게 된다. 이에 따라, 실시 예에 의하면, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에서 생성되어 방출되는 빛이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 입사되어 손실되는 것을 최소화할 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 제3 반사층(2163)이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이에 배치되므로, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이로 빛이 방출되는 것을 감소시킬 수 있다.
또한, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 최소 간격은 125 마이크로 미터에 비해 같거나 크게 제공될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 최소 간격은 상기 발광소자(2100)가 실장 되는 패키지 몸체의 제1 전극패드와 제2 전극패드 간의 간격을 고려하여 선택될 수 있다.
예로서, 패키지 몸체의 제1 전극패드와 제2 전극패드 간의 최소 간격이 최소 125 마이크로 미터로 제공될 수 있으며, 최대 200 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 이때, 공정 오차를 고려하면, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격은 예로서 125 마이크로 미터 이상이고 300 마이크로 미터 이하로 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격이 125 마이크로 미터보다 크게 배치되어야, 발광소자의 제1 본딩부(2171)와 제2 본딩부(2172) 사이에서 단락이 발생하지 않을 수 있도록 최소 공간이 확보될 수 있고, 광추출효율을 향상시키기 위한 발광 면적을 확보할 수 있어 상기 발광소자(2100)의 광도(Po)가 증가될 수 있다.
또한, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격이 300 마이크로 미터 이하로 제공되어야 상기 발광소자 패키지의 제1 전극패드 및 제2 전극패드와 상기 발광소자의 제1 본딩부(2171) 및 제2 본딩부(2172)가 충분한 본딩력을 가지며 본딩될 수 있고, 상기 발광소자(2100)의 전기적 특성이 확보될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 최소 간격은 광학적 특성을 확보하기 위해 125 마이크로 미터보다 크게 배치되고, 전기적 특성과 본딩력에 의한 신뢰성을 확보하기 위해 300 마이크로 미터보다 작게 배치될 수 있다.
실시 예에서는 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격으로서, 125 마이크로 미터 이상 300 마이크로 이하를 예시하였다. 그러나, 이에 한정하지 않고, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격은, 발광소자 패키지의 전기적 특성 또는 신뢰성을 향상시키기 위해서 125 마이크로 미터보다 작게 배치될 수도 있고, 광학적 특성을 향상시키기 위해서 300 마이크로 미터보다 크게 배치될 수도 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)이 상기 제1 전극(2141) 아래에 배치되며, 상기 제2 반사층(2162)이 상기 제2 전극(2142) 아래에 배치된다. 이에 따라, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)의 제1 및 제2 활성층(2112, 2122)에서 발광되는 빛을 반사시켜 제1 전극(2141)과 제2 전극(2142)에서 광 흡수가 발생되는 것을 최소화하여 광도(Po)를 향상시킬 수 있다.
예를 들어, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 절연성 재료로 이루어지되, 활성층에서 방출된 빛의 반사를 위하여 반사율이 높은 재료, 예를 들면 DBR 구조를 이룰 수 있다.
상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 굴절률이 다른 물질이 서로 반복하여 배치된 DBR 구조를 이룰 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2 중 적어도 하나 이상을 포함하는 단층 또는 적층 구조로 배치될 수 있다.
또한, 다른 실시 예에 의하면, 이에 한정하지 않고, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 상기 제1 및 제2 활성층(2112, 2122)에서 발광하는 빛의 파장에 따라 상기 제1 및 제2 활성층(2112, 2122)에서 발광하는 빛에 대한 반사도를 조절할 수 있도록 자유롭게 선택될 수 있다.
또한, 다른 실시 예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 ODR층으로 제공될 수도 있다. 또 다른 실시 예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 DBR층과 ODR층이 적층된 일종의 하이브리드(hybrid) 형태로 제공될 수도 있다.
예를 들어, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)는 Au, AuTi 등으로 형성됨으로써 실장공장이 안정적으로 진행될 수 있다. 또한 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)는 Ti, Al, In, Ir, Ta, Pd, Co, Cr, Mg, Zn, Ni, Si, Ge, Ag, Ag alloy, Au, Hf, Pt, Ru, Rh, ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO 등 중에서 하나 이상의 물질 또는 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다.
앞에서 설명된 바와 같이, 실시 예에 따른 발광소자(2100)는 예를 들어 플립칩 본딩 방식으로 실장되어 발광소자 패키지 형태로 제공될 수 있다. 이때, 발광소자(2100)가 실장되는 패키지 몸체가 수지 등으로 제공되는 경우, 상기 발광소자(2100)의 하부 영역에서, 상기 발광소자(2100)로부터 방출되는 단파장의 강한 빛에 의하여 패키지 몸체가 변색되거나 균열이 발생될 수 있다.
그러나, 실시 예에 따른 발광소자(2100)에 의하면 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 배치된 영역 사이로 빛이 방출되는 것을 감소시킬 수 있으므로, 상기 발광소자(2100)의 하부 영역에 배치된 패키지 몸체가 변색되거나 균열되는 것을 방지할 수 있다.
그러면, 첨부된 도면을 참조하여 실시 예에 따른 발광소자 제조방법을 설명하기로 한다. 실시 예에 따른 발광소자 제조방법을 설명함에 있어, 도 11 및 도 12를 참조하여 설명된 내용과 중복되는 사항에 대해서는 설명이 생략될 수 있다.
먼저, 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 의하면, 도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이, 기판(2105) 위에 발광 구조물이 형성될 수 있다.
도 13a는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 따라 형성된 발광 구조물의 형상을 나타낸 평면도이고, 도 13b는 도 13a에 도시된 단위 공정이 수행된 결과물을 나타낸 평면도이다.
실시 예에 의하면, 상기 기판(2105) 위에 발광 구조물이 형성될 수 있다. 예로서, 상기 기판(2105) 위에 제1 도전형 반도체층, 활성층, 제2 도전형 반도체층이 형성될 수 있다.
또한, 실시 예에 의하면, 상기 발광 구조물 위에 전류확산층(2220)이 형성될 수 있다. 상기 전류확산층(2220)은 상기 제2 도전형 반도체층 위에 형성될 수 있다. 상기 전류확산층(2220)은 복수로 제공될 수 있으며 서로 이격되어 제공될 수 있다.
예로서, 상기 전류확산층(2220)은 산화물 또는 질화물 등으로 제공될 수 있다.
다음으로, 도 14a 및 도 14b에 도시된 바와 같이, 투광성 전극층(2230)이 형성될 수 있다.
도 14a는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 따라 형성된 투광성 전극층의 형상을 나타낸 평면도이고, 도 14b는 도 14a에 도시된 단위 공정이 수행된 결과물을 나타낸 평면도이다.
실시 예에 의하면, 상기 발광 구조물 위에 상기 투광성 전극층(2230)이 형성되고 메사 식각이 수행될 수 있다. 상기 제2 도전형 반도체층(103) 위에 상기 투광성 전극층(2230)이 형성될 수 있으며, 상기 제1 도전형 반도체층을 노출시키는 메사 식각 공정이 수행될 수 있다.
실시 예에 의하면, 메사 식각 공정을 통하여 상기 제1 도전형 반도체층의 일부 영역이 노출되도록 형성될 수 있다. 상기 메사 식각 공정에 의하여 상기 제1 도전형 반도체층의 일부 영역을 노출시키는 복수의 메사 리세스(M)가 형성될 수 있다. 또한, 상기 메사 식각 공정에 의하여 상기 발광 구조물이 제1 발광 구조물(2110)과 제2 발광 구조물(2120)로 분리되는 메사 리세스 라인(ML)이 형성될 수 있다.
상기 제1 발광 구조물(2110)은 제1 도전형의 제1 반도체층(2111), 제1 활성층(2112), 제2 도전형의 제2 반도체층(2113)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 발광 구조물(2120)은 제1 도전형의 제3 반도체층(2121), 제2 활성층(2122), 제2 도전형의 제4 반도체층(2123)을 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 복수의 메사 리세스(M) 영역에서 상기 제1 반도체층(2111)의 상면 또는 상기 제3 반도체층(2121)의 상면이 노출될 수 있다. 또한, 상기 메사 리세스 라인(ML) 영역에서 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제3 반도체층(2121)의 경계 영역이 노출될 수 있다.
예로서, 상기 메사 리세스(M)는 복수의 원 형상으로 제공될 수 있다. 상기 메사 리세스(M)는 원 형상뿐만 아니라, 타원형 또는 다각형 등의 다양한 형상으로 제공될 수도 있다.
또한, 상기 메사 리세스 라인(ML)은 소정의 폭을 갖는 라인 형상으로 형성될 수 있다. 예로서, 상기 메사 리세스 라인(ML)은 영역에 따라 서로 다른 폭을 갖도록 형성될 수도 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제2 도전형 반도체층 위에 상기 투광성 전극층(2230)이 형성될 수 있다. 상기 투광성 전극층(2230)은 상기 메사 리세스(M)에 대응되는 영역에 제공된 복수의 개구부를 포함할 수 있다.
또한, 상기 투광성 전극층(2230)은 상기 메사 리세스 라인(ML)에 대응되는 영역에 제공된 라인 형상의 개구부를 포함할 수 있다.
다음으로, 도 15a 및 도 15b에 도시된 바와 같이, 아이솔레이션 공정이 수행될 수 있다.
도 15a는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 따라 아이솔레이션 공정이 수행되는 마스크의 형상을 나타낸 평면도이고, 도 15b는 도 15a에 도시된 단위 공정이 수행된 결과물을 나타낸 평면도이다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 발광 구조물(2110)과 상기 제2 발광 구조물(2120)을 분리시키는 아이솔레이션 공정이 수행될 수 있다.
상기 아이솔레이션 공정에 의하여 상기 제1 발광 구조물(2110)과 상기 제2 발광 구조물(2120)을 분리시키는 아이솔레이션 라인(IL)이 형성될 수 있다. 상기 아이솔레이션 라인(IL)이 형성된 영역에서 상기 기판(2105)의 상면이 노출될 수 있다.
상기 제1 발광 구조물(2110)과 상기 제2 발광 구조물(2120)이 전기적으로 분리될 수 있다. 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제3 반도체층(2121)이 서로 분리되어 제공될 수 있다. 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제3 반도체층(2121)이 서로 전기적으로 분리될 수 있다.
다음으로, 도 16a 및 도 16b에 도시된 바와 같이, 반사층(2160)이 형성될 수 있다.
도 16a는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 따라 형성된 반사층의 형상을 나타낸 평면도이고, 도 16b는 도 16a에 도시된 단위 공정이 수행된 결과물을 나타낸 평면도이다.
상기 반사층(2160)은 제1 반사층(2161), 제2 반사층(2162), 제3 반사층(2163)을 포함할 수 있다. 상기 반사층(2160)은 상기 투광성 전극층(2230) 위에 배치될 수 있다. 상기 반사층(2160)은 상기 제1 발광 구조물(2110)과 상기 제2 발광 구조물(2120) 위에 배치될 수 있다.
상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 내지 제3 반사층(2161, 2162, 2163)은 서로 연결된 하나의 층으로 형성될 수도 있다.
상기 제1 반사층(2161)은 복수의 개구부를 포함할 수 있다. 상기 제1 반사층(2161)은 상기 기판(2105)의 상면에 수직한 제1 방향에서 상기 전류확산층(2220)과 중첩되는 복수의 제1 개구부(h1)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 반사층(2161)은 상기 제1 방향에서 상기 복수의 메사 리세스(M)와 중첩되는 복수의 제2 개구부(h2)를 포함할 수 있다.
상기 복수의 제1 개구부(h1)를 통해 상기 전류확산층(2220) 위에 배치된 투광성 전극층(2230)이 노출될 수 있다. 상기 복수의 제2 개구부(h2)를 통해 상기 제1 발광 구조물(2110)의 상기 제1 반도체층(2111)의 상면이 노출될 수 있다.
예를 들어, 상기 복수의 제1 개구부(h1)는 상기 기판(2105)의 장축 방향을 따라 복수의 라인 형상으로 배열되어 제공될 수 있다. 또한, 상기 복수의 제2 개구부(h2)는 상기 기판(2105)의 장축 방향을 따라 복수의 라인 형상으로 배열되어 제공될 수 있다. 상기 복수의 제1 개구부(h1)와 상기 복수의 제2 개구부(h2)는 상기 기판(2105)의 단축 방향에서 서로 순차적으로 배열되어 제공될 수 있다.
상기 제2 반사층(2162)은 복수의 개구부를 포함할 수 있다. 상기 제2 반사층(2162)은 상기 기판(2105)의 상면에 수직한 제1 방향에서 상기 전류확산층(2220)과 중첩되는 복수의 제3 개구부(h3)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 반사층(2162)은 상기 제1 방향에서 상기 복수의 메사 리세스(M)와 중첩되는 복수의 제4 개구부(h4)를 포함할 수 있다.
상기 복수의 제3 개구부(h3)를 통해 상기 전류확산층(2220) 위에 배치된 투광성 전극층(2230)이 노출될 수 있다. 상기 복수의 제4 개구부(h4)를 통해 상기 제2 발광 구조물(2120)의 상기 제3 반도체층(2121)의 상면이 노출될 수 있다.
예를 들어, 상기 복수의 제3 개구부(h3)는 상기 기판(2105)의 장축 방향을 따라 복수의 라인 형상으로 배열되어 제공될 수 있다. 또한, 상기 복수의 제4 개구부(h4)는 상기 기판(2105)의 장축 방향을 따라 복수의 라인 형상으로 배열되어 제공될 수 있다. 상기 복수의 제3 개구부(h3)와 상기 복수의 제4 개구부(h4)는 상기 기판(2105)의 단축 방향에서 서로 순차적으로 배열되어 제공될 수 있다.
상기 제3 반사층(2163)은 복수의 개구부를 포함할 수 있다. 상기 제3 반사층(2163)은 상기 기판(2105)의 상면에 수직한 제1 방향에서 상기 전류확산층(2220)과 중첩되는 복수의 제5 개구부(h5)를 포함할 수 있다.
상기 복수의 제5 개구부(h5)는 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서 상기 전류확산층(2220) 위에 배치된 투광성 전극층(2230)을 노출시키는 복수의 제5a 개구부(h5a)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 복수의 제5 개구부(h5)는 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서 상기 전류확산층(2220) 위에 배치된 투광성 전극층(2230)을 노출시키는 복수의 제5b 개구부(h5b)를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 방향에서 상기 복수의 메사 리세스(M)와 중첩되는 복수의 제6 개구부(h6)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 방향에서 상기 메사 리세스 라인(ML)과 중첩되는 라인 개구부(TH1)를 포함할 수 있다.
상기 복수의 제6 개구부(h6)는 상기 제1 발광 구조물(2110)의 상기 제1 반도체층(2111)의 상면을 노출시키는 복수의 제6a 개구부(h6a)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 복수의 제6 개구부(h6)는 상기 제2 발광 구조물(2120)의 상기 제3 반도체층(2121)의 상면을 노출시키는 복수의 제6b 개구부(h6b)를 포함할 수 있다. 상기 라인 개구부(TH1)는 상기 제1 발광 구조물(2110)의 상기 제1 반도체층(2111)의 상면을 노출시킬 수 있다.
예를 들어, 상기 복수의 제5 개구부(h5)는 상기 기판(2105)의 단축 방향을 따라 복수의 라인 형상으로 배열되어 제공될 수 있다. 또한, 상기 복수의 제6 개구부(h6)는 상기 기판(2105)의 단축 방향을 따라 복수의 라인 형상으로 배열되어 제공될 수 있다. 상기 복수의 제5 개구부(h5)와 상기 복수의 제6 개구부(h6)는 상기 기판(2105)의 장축 방향에서 서로 순차적으로 배열되어 제공될 수 있다.
또한, 상기 라인 개구부(TH1)는 상기 기판(2105)의 단축 방향을 따라 라인 형상으로 제공될 수 있다. 상기 라인 개구부(TH1)의 면적은 상기 복수의 제5 개구부(h5)를 이루는 하나의 개구부의 면적에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
예를 들어, 상기 라인 개구부(TH1)의 면적은 상기 복수의 제5 개구부(h5)를 이루는 하나의 개구부의 면적에 비해 5 배 이상으로 더 크게 제공될 수 있다. 상기 라인 개구부(TH1)의 면적은 상기 복수의 제5 개구부(h5)를 이루는 하나의 개구부의 면적에 비해 9 배 이상으로 더 크게 제공될 수 있다.
상기 라인 개구부(TH1)의 면적의 크기에 따른 효과는 뒤에서 더 살펴 보기로 한다.
이어서, 도 17a 및 도 17b에 도시된 바와 같이, 제1 전극(2141), 제2 전극(2142), 연결전극(2143)이 형성될 수 있다.
도 17a는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 따라 형성된 제1 전극, 제2 전극, 연결전극의 형상을 나타낸 평면도이고, 도 17b는 도 17a에 도시된 단위 공정이 수행된 결과물을 나타낸 평면도이다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 전극(2141)과 상기 제2 전극(2142)은 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 연결전극(2143)은 상기 제1 전극(2141)과 상기 제2 전극(2142) 사이에 배치될 수 있다.
상기 제1 전극(2141)은 상기 제1 반사층(2161) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 전극(2141)의 일부 영역은 상기 제3 반사층(2163) 위에 배치될 수 있다.
상기 제1 전극(2141)은 상기 제2 반도체층(2113)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 전극(2141)은 상기 복수의 제1 개구부(h1)를 통해 상기 제2 반도체층(2113)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 전극(2141)은 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서 상기 복수의 제1 개구부(h1) 아래에 배치된 투광성 전극층(2230)에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제1 전극(2141)은 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서 상기 복수의 제1 개구부(h1)에 의하여 노출된 투광성 전극층(2230)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제2 전극(2142)은 상기 제2 반사층(2162) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)의 일부 영역은 상기 제3 반사층(2163) 위에 배치될 수 있다.
상기 제2 전극(2142)은 상기 제3 반도체층(2121)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)은 상기 복수의 제4 개구부(h4)를 통해 상기 제3 반도체층(2121)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)은 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서 상기 복수의 제4 개구부(h4) 아래에 배치된 상기 제3 반도체층(2121)에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)은 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서 상기 복수의 제4 개구부(h4)에 의하여 노출된 상기 제3 반도체층(2121)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 연결전극(2143)은 상기 제3 반사층(2163) 위에 배치될 수 있다. 상기 연결전극(2143)의 일부 영역은 상기 제1 반사층(2161) 위에 배치될 수 있다. 상기 연결전극(2143)의 일부 영역은 상기 제2 반사층(2162) 위에 배치될 수 있다.
상기 연결전극(2143)은 상기 제1 반도체층(2111) 및 상기 제4 반도체층(2123)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 연결전극(2143)은 상기 제1 반도체층(2111) 상에 배치된 제1 부분(2143a), 상기 제4 반도체층(2123) 상에 배치된 제2 부분(2143b), 및 상기 제1 부분(2143a)과 상기 제2 부분(2143b)을 연결하는 제3 부분(2143c)을 포함할 수 있다.
상기 연결전극(2143)은 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역 위에 배치된 상기 제1 부분(2143a)을 포함할 수 있다. 상기 연결전극(2143)은 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역 위에 배치된 제2 부분(2143b)을 포함할 수 있다. 상기 연결전극(2143)은 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역 위에 일부가 배치되고 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역 위에 일부가 배치된 상기 제3 부분(2143c)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제3 부분(2143c)의 일부 영역은 상기 제1 발광 구조물(2110)과 상기 제2 발광 구조물(2120)의 경계 영역 위에 배치될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 부분(2143a)은 제1 전극부(2143aa)와 제2 전극부(2143ab)를 포함할 수 있다.
상기 제1 부분(2143a)은 상기 복수의 제2 개구부(h2), 상기 복수의 제6a 개구부(h6a), 상기 라인 개구부(TH1)를 통해 상기 제1 반도체층(2111)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 부분(2143a)의 상기 제2 전극부(2143ab)는, 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제2 개구부(h2)를 통해 상기 제1 반도체층(2111) 상면에 직접 접촉되어 제공될 수 있다.
상기 제1 부분(2143a)의 상기 제1 전극부(2143aa)는, 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제6a 개구부(h6a)를 통해 상기 제1 반도체층(2111) 상면에 직접 접촉되어 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 부분(2143a)의 상기 제1 전극부(2143aa)는, 상기 제1 발광 구조물(2110)이 제공된 영역에서, 상기 라인 개구부(TH1)를 통해 상기 제1 반도체층(2111) 상면에 직접 접촉되어 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제2 부분(2143b)은 제3 전극부(2143ba)와 제4 전극부(2143bb)를 포함할 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)은 상기 복수의 제3 개구부(h3), 상기 복수의 제5b 개구부(h5b)를 통해 상기 제4 반도체층(2123)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)의 상기 제4 전극부(2143bb)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제3 개구부(h3)를 통해 상기 제4 반도체층(2123) 상면에 접하여 제공될 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)의 상기 제4 전극부(2143bb)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제3 개구부(h3) 아래에 배치된 투광성 전극층(2230)에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 부분(2143b)의 상기 제4 전극부(2143bb)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제3 개구부(h3)에 의하여 노출된 투광성 전극층(2230)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)의 상기 제3 전극부(2143ba)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제5b 개구부(h5b)를 통해 상기 제4 반도체층(2123) 상면에 접하여 제공될 수 있다.
상기 제2 부분(2143b)의 상기 제3 전극부(2143ba)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제5b 개구부(h5b) 아래에 배치된 투광성 전극층(2230)에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 부분(2143b)의 상기 제3 전극부(2143ba)는, 상기 제2 발광 구조물(2120)이 제공된 영역에서, 상기 복수의 제5b 개구부(h5b)에 의하여 노출된 투광성 전극층(2230)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 연결전극(2143)의 상기 제3 부분(2143c)은 상기 제1 발광 구조물(2110)과 상기 제2 발광 구조물(2120) 사이의 경계 영역 위에 배치될 수 있다. 상기 연결전극(2143)의 상기 제3 부분(2143c)은 상기 제1 부분(2143a) 및 상기 제2 부분(2143b)과 전기적으로 연결될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자에 의하면, 상기 제1 전극(2141)은 상기 제2 반도체층(2113)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 전극(2142)은 상기 제3 반도체층(2121)에 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 연결전극(2143)은 상기 제1 반도체층(2111)과 상기 제4 반도체층(2123)에 전기적으로 연결될 수 있다.
이에 따라, 실시 예에 의하면, 상기 제1 전극(2141)과 상기 제2 전극(2142)에 전원이 공급됨에 따라, 상기 제1 전극(2141), 상기 제2 반도체층(2113), 상기 제1 반도체층(2111), 상기 연결전극(2143), 상기 제4 반도체층(2123), 상기 제3 반도체층(2121), 상기 제2 전극(2142)이 전기적으로 직렬 연결될 수 있게 된다.
다음으로, 도 18a 및 도 18b에 도시된 바와 같이, 보호층(2150)이 형성될 수 있다.
도 18a는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 따라 형성된 보호층의 형상을 나타낸 평면도이고, 도 18b는 도 18a에 도시된 단위 공정이 수행된 결과물을 나타낸 평면도이다.
상기 보호층(2150)은 상기 제1 전극(2141)과 상기 제2 전극(2142) 위에 배치될 수 있다. 상기 보호층(2150)은 상기 연결전극(2143) 위에 배치될 수 있다. 상기 보호층(2150)은 상기 반사층(2160) 위에 배치될 수 있다.
상기 보호층(2150)은 상기 제1 전극(2141)의 상면을 노출시키는 제1 컨택부(c1)를 포함할 수 있다. 상기 보호층(2150)은 상기 제1 전극(2141)의 상면을 노출시키는 복수의 제1 컨택부(c1)를 포함할 수 있다. 상기 복수의 제1 컨택부(c1)는 상기 제1 반사층(2161)이 배치된 영역 위에 제공될 수 있다.
상기 보호층(2150)은 상기 제2 전극(2142)의 상면을 노출시키는 제2 컨택부(c2)를 포함할 수 있다. 상기 보호층(2150)은 상기 제2 전극(2142)의 복수의 상면을 노출시키는 복수의 제2 컨택부(c2)를 포함할 수 있다. 상기 제2 컨택부(c2)는 상기 제2 반사층(2162)이 배치된 영역 위에 제공될 수 있다.
이어서, 도 19a 및 도 19b에 도시된 바와 같이, 제1 본딩부(2171)와 제2 본딩부(2172)가 형성될 수 있다.
도 19a는 실시 예에 따른 발광소자 제조방법에 따라 형성된 제1 및 제2 본딩부의 형상을 나타낸 평면도이고, 도 19b는 도 19a에 도시된 단위 공정이 수행된 결과물을 나타낸 평면도이다.
실시 예에 의하면, 도 19a에 도시된 형상으로 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 형성될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 보호층(2150) 위에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제1 반사층(2161) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제2 반사층(2162) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제1 본딩부(2171)와 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제1 전극(2141) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제1 전극(2141)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 보호층(2150)에 제공된 상기 제1 컨택부(c1)를 통하여 상기 제1 전극(2141)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)는 상기 보호층(2150)에 제공된 상기 제1 컨택부(c1)를 통하여 상기 제1 전극(2141)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제1 발광 구조물(2110) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제2 반도체층(2113) 위에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 연결전극(2143) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)는 상기 연결전극(2143)의 제1 부분(2143a) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)는 상기 연결전극(2143)의 제2 전극부(2143ab) 위에 배치될 수 있다.
상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제2 전극(2142) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제2 전극(2142)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제2 발광 구조물(2120) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제4 반도체층(2123) 위에 배치될 수 있다.
상기 제2 본딩부(2172)는 상기 보호층(2150)에 제공된 상기 제2 컨택부(c2)를 통하여 상기 제2 전극(2142)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 보호층(2150)에 제공된 상기 제2 컨택부(c2)를 통하여 상기 제2 전극(2142)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제2 본딩부(2172)는 상기 연결전극(2143) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 연결전극(2143)의 제2 부분(2143b) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 연결전극(2143)의 제4 전극부(2143bb) 위에 배치될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 연결전극(2143)은 상기 제1 반도체층(2111) 상에 배치된 제1 부분(2143a), 상기 제4 반도체층(2123) 상에 배치된 제2 부분(2143b), 및 상기 제1 부분(2143a)과 상기 제2 부분(2143b)을 연결하는 제3 부분(2143c)을 포함할 수 있다.
상기 연결전극(2143)의 상기 제1 부분(2143a)은 상기 기판(2105)의 상면과 수직한 제1 방향으로 상기 제1 본딩부(2171)와 중첩하지 않는 제1 전극부(2143aa)와 상기 제1 본딩부(2171)와 중첩하는 제2 전극부(2143ab)를 포함할 수 있다.
상기 연결전극(2143)의 상기 제2 부분(2143b)은 상기 제1 방향으로 상기 제2 본딩부(2172)와 중첩하지 않는 제3 전극부(2143ba)와 상기 제2 본딩부(2172)와 중첩하는 제4 전극부(2143bb)를 포함할 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적이 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 더 크게 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적은 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 1.4% 이상이고 3.3% 이하의 크기로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적은 상기 기판(2105)의 하면 면적에 비하여 0.7% 이상이고 3.0% 이하의 크기로 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적은 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 예로서 1.1 배 내지 2 배 범위에서 제공될 수 있다.
이와 같이, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적이 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 더 크게 제공됨으로써, 캐리어가 원활하게 확산될 수 있으며, 동작 전압이 상승되는 것이 방지될 수 있게 된다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 전원이 인가됨에 따라, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)이 발광될 수 있게 된다.
상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 전원이 공급됨에 따라, 상기 제1 본딩부(2171), 상기 제1 전극(2141), 상기 제2 반도체층(2113), 상기 제1 반도체층(2111), 상기 연결전극(2143), 상기 제4 반도체층(2123), 상기 제3 반도체층(2121), 상기 제2 전극(2142), 상기 제2 본딩부(2172)가 전기적으로 직렬 연결될 수 있게 된다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이에 고전압이 인가될 수 있으며, 인가된 고전압이 상기 제1 전극(2141), 상기 연결전극(2143), 상기 제2 전극(2142)을 통하여 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에 분산되어 공급될 수 있게 된다.
이상에서 설명된 바와 같이, 실시 예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제1 전극(2141)이 복수의 영역에서 접촉될 수 있다. 또한, 상기 제2 본딩부(2172)와 상기 제2 전극(2142)이 복수의 영역에서 접촉될 수 있다. 이에 따라, 실시 예에 의하면, 복수의 영역을 통해 전원이 공급될 수 있으므로, 접촉 면적 증가 및 접촉 영역의 분산에 따라 전류 분산 효과가 발생되고 동작전압이 감소될 수 있는 장점이 있다.
또한, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 전원이 인가됨에 있어서, 상기 제1 전극부(2143ab)가 상기 제1 반도체층(2111)과 접하는 면적이 상기 제3 전극부(2143ba)가 상기 제4 반도체층(2123)과 접하는 면적에 비해 더 크게 제공됨으로써, 캐리어가 원활하게 확산될 수 있으며, 동작 전압이 상승되는 것이 방지될 수 있게 된다.
실시 예에 따른 발광소자는 플립칩 본딩 방식으로 외부 전원에 연결될 수 있다. 예로서, 발광소자 패키지를 제조함에 있어, 상기 제1 본딩부(2171)의 상부 면과 상기 제2 본딩부(2172)의 상부 면이 서브 마운트, 리드 프레임, 또는 회로기판 등에 부착되도록 배치될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자가 플립칩 본딩 방식으로 실장되어 발광소자 패키지로 구현되는 경우, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에서 제공되는 빛은 상기 기판(2105)을 통하여 방출될 수 있다. 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에서 방출되는 빛은 상기 제1 내지 제3 반사층(2161, 2162, 2163)에서 반사되어 상기 기판(2105) 방향으로 방출될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에서 방출되는 빛은 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)의 측면 방향으로도 방출될 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자 및 발광소자 패키지에 의하면, 넓은 면적을 갖는 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 전원을 제공하는 회로기판에 직접 본딩될 수 있으므로 플립칩 본딩 공정이 쉽고 안정적으로 진행될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)의 크기는 상기 제1 본딩부(2171)의 크기에 비하여 수 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 반사층(2161)의 면적은 상기 제1 본딩부(2171)의 면적을 완전히 덮을 수 있을 정도의 크기로 제공될 수 있다. 공정 오차를 고려할 때, 상기 제1 반사층(2161)의 한 변의 길이는 상기 제1 본딩부(2171)의 한 변의 길이에 비해 예로서 4 마이크로 미터 내지 10 마이크로 미터 정도 더 크게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2 반사층(2162)의 크기는 상기 제2 본딩부(2172)의 크기에 비하여 수 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 반사층(2162)의 면적은 상기 제2 본딩부(2172)의 면적을 완전히 덮을 수 있을 정도의 크기로 제공될 수 있다. 공정 오차를 고려할 때, 상기 제2 반사층(2162)의 한 변의 길이는 상기 제2 본딩부(2172)의 한 변의 길이에 비해 예로서 4 마이크로 미터 내지 10 마이크로 미터 정도 더 크게 제공될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)에 의하여, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)로부터 방출되는 빛이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 입사되지 않고 반사될 수 있게 된다. 이에 따라, 실시 예에 의하면, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에서 생성되어 방출되는 빛이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 입사되어 손실되는 것을 최소화할 수 있다.
또한, 실시 예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 제3 반사층(2163)이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이에 배치되므로, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이로 빛이 방출되는 것을 감소시킬 수 있다.
또한, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 최소 간격은 125 마이크로 미터에 비해 같거나 크게 제공될 수 있다. 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 최소 간격은 상기 발광소자(2100)가 실장 되는 패키지 몸체의 제1 전극패드와 제2 전극패드 간의 간격을 고려하여 선택될 수 있다.
예로서, 패키지 몸체의 제1 전극패드와 제2 전극패드 간의 최소 간격이 최소 125 마이크로 미터로 제공될 수 있으며, 최대 200 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 이때, 공정 오차를 고려하면, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격은 예로서 125 마이크로 미터 이상이고 300 마이크로 미터 이하로 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격이 125 마이크로 미터보다 크게 배치되어야, 발광소자의 제1 본딩부(2171)와 제2 본딩부(2172) 사이에서 단락이 발생하지 않을 수 있도록 최소 공간이 확보될 수 있고, 광추출효율을 향상시키기 위한 발광 면적을 확보할 수 있어 상기 발광소자(2100)의 광도(Po)가 증가될 수 있다.
또한, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격이 300 마이크로 미터 이하로 제공되어야 상기 발광소자 패키지의 제1 전극패드 및 제2 전극패드와 상기 발광소자의 제1 본딩부(2171) 및 제2 본딩부(2172)가 충분한 본딩력을 가지며 본딩될 수 있고, 상기 발광소자(2100)의 전기적 특성이 확보될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 최소 간격은 광학적 특성을 확보하기 위해 125 마이크로 미터보다 크게 배치되고, 전기적 특성과 본딩력에 의한 신뢰성을 확보하기 위해 300 마이크로 미터보다 작게 배치될 수 있다.
실시 예에서는 광학적 특성과 전기적 특성 및 본딩력에 의한 신뢰성을 확보하기 위해 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격으로서, 125 마이크로 미터 이상 300 마이크로 이하를 예시하였다. 그러나, 이에 한정하지 않고, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격은, 발광소자 패키지의 전기적 특성 또는 신뢰성을 본 실시 예보다 더 향상시키기 위해서 125 마이크로 미터보다 작게 배치될 수도 있고, 광학적 특성을 본 실시 예보다 더 향상시키기 위해서 300 마이크로 미터보다 크게 배치될 수도 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)에 의하여, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)로부터 방출되는 빛이 상기 제1 전극(2141)과 상기 제2 전극(2142)에 입사되지 않고 반사될 수 있게 된다. 이에 따라, 실시 예에 의하면, 상기 제1 및 제2 발광 구조물(2110, 2120)에서 생성되어 방출되는 빛이 상기 제1 전극(2141)과 상기 제2 전극(2142)에 입사되어 손실되는 것을 최소화할 수 있다.
한편, 이상에서 설명된 실시 예에 따른 발광소자는 하나의 기판에 2 개의 발광 구조물이 직렬 연결된 구조를 기준으로 설명되었다. 그러나, 다른 실시 예에 따른 발광소자는 하나의 기판에 3개 이상의 발광 구조물이 서로 직렬 연결된 구조로 제공될 수도 있다.
예로서, 도 20에 도시된 발광소자는 하나의 기판 위에 3개의 발광 구조물이 직렬 연결된 예를 나타낸 것이다. 도 20은 본 발명의 실시 예에 따른 발광소자 패키지에 적용된 발광소자의 또 다른 예를 나타낸 도면이다.
도 20을 참조하여 실시 예에 따른 발광소자를 설명함에 있어, 이상에서 설명된 내용과 중복되는 사항에 대해서는 설명이 생략될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자는, 도 20에 도시된 바와 같이, 제1 발광 구조물(3110), 제2 발광 구조물(3120), 제3 발광 구조물(3130)을 포함할 수 있다.
상기 제1 발광 구조물(3110)과 상기 제2 발광 구조물(3120)은 제1 아이솔레이션 라인(IL11)에 의하여 서로 이격되어 배치될 수 있다. 또한, 상기 제2 발광 구조물(3120)과 상기 제3 발광 구조물(3130)은 제2 아이솔레이션 라인(IL12)에 의하여 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 발광 구조물(3110)과 상기 제2 발광 구조물(3120) 사이에 제1 라인 개구부(TH11)가 제공될 수 있다. 상기 제1 라인 개구부(TH11)를 통하여 상기 제1 발광 구조물(3110)의 하부 반도체층이 노출될 수 있다.
상기 제1 라인 개구부(TH11)에 제공된 제1 연결전극을 통하여 상기 제1 발광 구조물(3110)의 하부 반도체층과 상기 제2 발광 구조물(3120)의 상부 반도체층이 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제2 발광 구조물(3120)과 상기 제3 발광 구조물(3130) 사이에 제2 라인 개구부(TH12)가 제공될 수 있다. 상기 제2 라인 개구부(TH12)를 통하여 상기 제2 발광 구조물(3120)의 하부 반도체층이 노출될 수 있다.
상기 제2 라인 개구부(TH12)에 제공된 제2 연결전극을 통하여 상기 제2 발광 구조물(3120)의 하부 반도체층과 상기 제3 발광 구조물(3130)의 상부 반도체층이 전기적으로 연결될 수 있다.
실시 예에 의하면, 상기 제1 발광 구조물(3110) 위에 제1 본딩부(3171)가 배치될 수 있고, 상기 제3 발광 구조물(3130) 위에 제2 본딩부(3172)가 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(3171)는 상기 제1 발광 구조물(3110)의 상부 반도체층에 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 제2 본딩부(3172)는 상기 제3 발광 구조물(3130)의 하부 반도체층에 전기적으로 연결될 수 있다.
실시 예에 따른 발광소자의 상기 제1 본딩부(3171)와 상기 제2 본딩부(3172)에 전원이 공급됨에 따라, 상기 제1 본딩부(3171), 상기 제1 발광 구조물(3110)의 상부 반도체층, 상기 제1 발광 구조물(3110)의 하부 반도체층, 상기 제1 연결전극, 상기 제2 발광 구조물(3120)의 상부 반도체층, 상기 제2 발광 구조물(3120)의 하부 반도체층, 상기 제2 연결 전극, 상기 제3 발광 구조물(3130)의 상부 반도체층, 상기 제3 발광 구조물(3130)의 하부 반도체층, 상기 제2 본딩부(3172)가 전기적으로 직렬 연결될 수 있다.
또한, 실시 예에 따르면 발광 소자의 제1 본딩부와 제2 본딩부 사이에는 서로 이격된 복수의 발광 구조물이 배치될 수 있다. 본 실시 예에서는 2개 및 3개의 발광 구조물을 포함하고 있으나, 이에 한정하지 않고 필요에 따라 더 많은 수의 발광 구조물이 배치될 수 있고, 발광 구조물 상에 배치되는 구조는 본 실시 예를 참고하여 적용할 수 있다.
이에 따라, 실시 예에 따른 발광소자에 의하면 고전압을 공급하여 광출력을 향상시키고 동작 전압을 감소시킬 수 있는 장점이 있다.
한편, 이상에서 설명된 실시 예에 따른 발광소자 패키지는 광원 장치에 적용될 수 있다.
또한, 광원 장치는 산업 분야에 따라 표시 장치, 조명 장치, 헤드 램프 등을 포함할 수 있다.
광원 장치의 예로, 표시 장치는 바텀 커버와, 바텀 커버 위에 배치되는 반사판과, 광을 방출하며 발광 소자를 포함하는 발광 모듈과, 반사판의 전방에 배치되며 발광 모듈에서 발산되는 빛을 전방으로 안내하는 도광판과, 도광판의 전방에 배치되는 프리즘 시트들을 포함하는 광학 시트와, 광학 시트 전방에 배치되는 디스플레이 패널과, 디스플레이 패널과 연결되고 디스플레이 패널에 화상 신호를 공급하는 화상 신호 출력 회로와, 디스플레이 패널의 전방에 배치되는 컬러 필터를 포함할 수 있다. 여기서 바텀 커버, 반사판, 발광 모듈, 도광판, 및 광학 시트는 백라이트 유닛(Backlight Unit)을 이룰 수 있다. 또한, 표시 장치는 컬러 필터를 포함하지 않고, 적색(Red), 녹색(Gren), 청색(Blue) 광을 방출하는 발광 소자가 각각 배치되는 구조를 이룰 수도 있다.
광원 장치의 또 다른 예로, 헤드 램프는 기판 상에 배치되는 발광소자 패키지를 포함하는 발광 모듈, 발광 모듈로부터 조사되는 빛을 일정 방향, 예컨대, 전방으로 반사시키는 리플렉터(reflector), 리플렉터에 의하여 반사되는 빛을 전방으로 굴절시키는 렌즈, 및 리플렉터에 의하여 반사되어 렌즈로 향하는 빛의 일부분을 차단 또는 반사하여 설계자가 원하는 배광 패턴을 이루도록 하는 쉐이드(shade)를 포함할 수 있다.
광원 장치의 다른 예인 조명 장치는 커버, 광원 모듈, 방열체, 전원 제공부, 내부 케이스, 소켓을 포함할 수 있다. 또한, 실시 예에 따른 광원 장치는 부재와 홀더 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 상기 광원 모듈은 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 포함할 수 있다.
이상에서 실시 예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시 예에 포함되며, 반드시 하나의 실시 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시 예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시 예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 실시 예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시 예를 한정하는 것이 아니며, 실시 예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시 예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시 예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 특허청구범위에서 설정하는 실시 예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
실시 예에 따른 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 패키지 제조방법에 의하면, 광 추출 효율 및 전기적 특성과 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
실시 예에 따른 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 패키지 제조방법에 의하면, 공정 효율을 향상시키고 새로운 패키지 구조를 제시하여 제조 단가를 줄이고 제조 수율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
실시 예에 따른 반도체 소자 패키지는 반사율이 높은 몸체를 제공함으로써, 반사체가 변색되지 않도록 방지할 수 있어 반도체 소자 패키지의 신뢰성을 개선할 수 있는 장점이 있다.
실시 예에 따른 반도체 소자 패키지 및 반도체 소자 제조방법에 의하면, 반도체 소자 패키지가 기판 등에 재 본딩되거나 열 처리 되는 과정에서 반도체 소자 패키지의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되는 것을 방지할 수 있는 장점이 있다.

Claims (10)

  1. 제1 및 제2 개구부를 포함하는 제1 패키지 몸체;
    상기 제1 패키지 몸체 상에 배치되고, 제3 개구부를 포함하는 제2 패키지 몸체;
    상기 제3 개구부 내에 배치되는 발광소자;
    상기 제1 패키지 몸체의 상면과 상기 발광소자 사이에 배치된 제1 수지; 및
    상기 제3 개구부 내에 배치되는 제2 수지;
    를 포함하고,
    상기 제1 패키지 몸체의 상면은 상기 제2 패키지 몸체의 하면과 결합되고,
    상기 제1 패키지 몸체는 상면에서 하면으로 오목한 리세스를 포함하고,
    상기 제1 수지는 상기 리세스에 배치되고,
    상기 제1 수지와 상기 제2 수지는 서로 다른 물질을 포함하고,
    상기 제1 수지는 상기 발광소자 및 상기 제2 수지와 접촉하는 발광소자 패키지.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체 중에서 적어도 하나는 파장 변환 물질을 포함하는 발광소자 패키지.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체 중에서 적어도 하나는 투명 수지로 구성된 발광소자 패키지.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체 중에서 적어도 하나는 반사성 수지로 구성된 발광소자 패키지.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체는 서로 다른 물질을 포함하는 발광소자 패키지.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체는 PPA, PCT, EMC, SMC, PI 중에서 선택된 서로 다른 물질을 포함하고,
    상기 제1 패키지 몸체는 반사 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체는 파장 변환 물질을 포함하는 발광소자 패키지.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체는 PPA, PCT, EMC, SMC, PI 중에서 선택된 서로 다른 물질을 포함하고,
    상기 제1 패키지 몸체는 파장 변환 물질을 포함하고 상기 제2 패키지 몸체는 반사 물질을 포함하는 발광소자 패키지.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체는 PPA, PCT, EMC, SMC, PI 중에서 선택된 서로 다른 물질을 포함하고,
    상기 제1 패키지 몸체는 투명 수지로 구성되고, 상기 제2 패키지 몸체는 파장 변환 물질 또는 반사 물질 중에서 적어도 하나를 포함하는 발광소자 패키지.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패키지 몸체와 상기 제2 패키지 몸체 사이에 배치된 접착층을 포함하는 발광소자 패키지.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 발광소자는 상기 제1 개구부 상에 배치된 제1 본딩부와 상기 제2 개구부 상에 배치된 제2 본딩부를 포함하고,
    상기 리세스는 상기 제1 및 제2 개구부 둘레에 폐루프 형상으로 제공되고,
    상기 발광소자의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 발광소자의 크기가 상기 리세스에 의하여 제공된 폐루프 면적에 비해 더 크게 제공된 발광소자 패키지.
PCT/KR2018/010827 2017-09-15 2018-09-14 발광소자 패키지 WO2019054793A1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/646,623 US11373973B2 (en) 2017-09-15 2018-09-14 Light emitting device package
US17/824,204 US11837570B2 (en) 2017-09-15 2022-05-25 Light emitting device package

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170118981A KR102392013B1 (ko) 2017-09-15 2017-09-15 발광소자 패키지
KR10-2017-0118981 2017-09-15

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US16/646,623 A-371-Of-International US11373973B2 (en) 2017-09-15 2018-09-14 Light emitting device package
US17/824,204 Division US11837570B2 (en) 2017-09-15 2022-05-25 Light emitting device package

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019054793A1 true WO2019054793A1 (ko) 2019-03-21

Family

ID=65722848

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2018/010827 WO2019054793A1 (ko) 2017-09-15 2018-09-14 발광소자 패키지

Country Status (3)

Country Link
US (2) US11373973B2 (ko)
KR (2) KR102392013B1 (ko)
WO (1) WO2019054793A1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021018964A1 (de) * 2019-08-01 2021-02-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Strahlungsemittierendes bauelement und dessen herstellungsverfahren
CN113363367A (zh) * 2020-03-06 2021-09-07 隆达电子股份有限公司 发光二极管结构

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11101419B2 (en) * 2019-11-04 2021-08-24 Shenzhen Yong Yu Photoelectric Co, Ltd Package structure of light-emitting diode and method for packaging light-emitting diode

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007220852A (ja) * 2006-02-16 2007-08-30 Shinko Electric Ind Co Ltd 発光装置及びその製造方法
US20090078956A1 (en) * 2005-10-21 2009-03-26 Advanced Optoelectronic Technology Inc. Package structure of photoelectronic device and fabricating method thereof
KR20120056164A (ko) * 2010-11-24 2012-06-01 삼성엘이디 주식회사 발광 소자 패키지
KR20130014197A (ko) * 2011-07-29 2013-02-07 엘지이노텍 주식회사 발광소자 패키지 및 조명 장치
KR20150141337A (ko) * 2014-06-10 2015-12-18 주식회사 루멘스 발광 소자 패키지, 백라이트 유닛, 조명 장치 및 발광 소자 패키지의 제조 방법

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7705465B2 (en) * 2005-04-01 2010-04-27 Panasonic Corporation Surface-mount type optical semiconductor device and method for manufacturing the same
US8044412B2 (en) * 2006-01-20 2011-10-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Package for a light emitting element
JP5139347B2 (ja) * 2009-02-18 2013-02-06 新光電気工業株式会社 電子部品装置及びその製造方法
JP5996871B2 (ja) * 2010-02-09 2016-09-21 日亜化学工業株式会社 発光装置および発光装置の製造方法
JP5759790B2 (ja) * 2010-06-07 2015-08-05 株式会社東芝 半導体発光装置の製造方法
US9704793B2 (en) * 2011-01-04 2017-07-11 Napra Co., Ltd. Substrate for electronic device and electronic device
KR101997247B1 (ko) * 2012-11-14 2019-07-08 엘지이노텍 주식회사 발광 소자 및 이를 구비한 조명 장치
KR102031967B1 (ko) * 2013-05-07 2019-10-14 엘지이노텍 주식회사 발광 소자 패키지
EP3043395B1 (en) * 2013-09-05 2018-11-07 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Light-emitting device
CN111223975A (zh) * 2015-09-18 2020-06-02 新世纪光电股份有限公司 发光装置及其制造方法
KR102517779B1 (ko) * 2016-02-18 2023-04-03 삼성전자주식회사 리드 프레임 및 이를 포함하는 반도체 패키지, 반도체 패키지의 제조 방법
KR102473399B1 (ko) * 2017-06-26 2022-12-02 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 발광소자 패키지 및 광원 장치
US10497846B2 (en) * 2017-07-11 2019-12-03 Lg Innotek Co., Ltd. Light emitting device package
TWI790249B (zh) * 2017-07-13 2023-01-21 大陸商蘇州樂琻半導體有限公司 發光裝置及發光裝置封裝
TWI778103B (zh) * 2017-07-21 2022-09-21 大陸商蘇州樂琻半導體有限公司 發光裝置封裝
KR102385940B1 (ko) * 2017-09-01 2022-04-13 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 발광소자 패키지 및 광원 장치
CN109791966B (zh) * 2017-09-12 2023-08-08 苏州立琻半导体有限公司 发光器件封装
KR102401825B1 (ko) * 2017-09-15 2022-05-25 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 발광소자 패키지 및 광원 장치
KR102379733B1 (ko) * 2017-09-15 2022-03-28 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 발광소자 패키지
KR102401826B1 (ko) * 2017-09-15 2022-05-25 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 조명장치
WO2019059703A2 (ko) * 2017-09-22 2019-03-28 엘지이노텍 주식회사 발광소자 패키지 및 조명 모듈
WO2019059690A2 (ko) * 2017-09-22 2019-03-28 엘지이노텍 주식회사 발광소자 패키지
KR102426118B1 (ko) * 2017-10-13 2022-07-27 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 발광소자 패키지 및 광원 장치
US11355679B2 (en) * 2017-11-01 2022-06-07 Suzhou Lekin Semiconductor Co., Ltd. Light-emitting device package and lighting source device
KR102473424B1 (ko) * 2018-01-03 2022-12-02 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 발광소자 패키지
KR102593358B1 (ko) * 2018-08-14 2023-10-25 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 발광소자 패키지 및 광원 장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090078956A1 (en) * 2005-10-21 2009-03-26 Advanced Optoelectronic Technology Inc. Package structure of photoelectronic device and fabricating method thereof
JP2007220852A (ja) * 2006-02-16 2007-08-30 Shinko Electric Ind Co Ltd 発光装置及びその製造方法
KR20120056164A (ko) * 2010-11-24 2012-06-01 삼성엘이디 주식회사 발광 소자 패키지
KR20130014197A (ko) * 2011-07-29 2013-02-07 엘지이노텍 주식회사 발광소자 패키지 및 조명 장치
KR20150141337A (ko) * 2014-06-10 2015-12-18 주식회사 루멘스 발광 소자 패키지, 백라이트 유닛, 조명 장치 및 발광 소자 패키지의 제조 방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021018964A1 (de) * 2019-08-01 2021-02-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Strahlungsemittierendes bauelement und dessen herstellungsverfahren
CN113363367A (zh) * 2020-03-06 2021-09-07 隆达电子股份有限公司 发光二极管结构
US11538970B2 (en) * 2020-03-06 2022-12-27 Lextar Electronics Corporation Light emitting diode device
US11894503B2 (en) 2020-03-06 2024-02-06 Lextar Electronics Corporation Light emitting diode device

Also Published As

Publication number Publication date
KR102537684B1 (ko) 2023-05-30
US11837570B2 (en) 2023-12-05
US20200227373A1 (en) 2020-07-16
KR20220058503A (ko) 2022-05-09
KR102392013B1 (ko) 2022-04-28
KR20190031089A (ko) 2019-03-25
US11373973B2 (en) 2022-06-28
US20220293548A1 (en) 2022-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2019054547A1 (ko) 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 조명장치
WO2019004518A1 (ko) 발광소자 패키지 및 광원 장치
WO2017222279A1 (ko) 반도체 소자
WO2017160119A1 (ko) 반도체 소자 및 이를 포함하는 표시장치
WO2019103566A1 (en) Led unit for display and display apparatus having the same
WO2017191923A1 (ko) 발광 다이오드
WO2019117656A1 (en) Light emitting stacked structure and display device having the same
WO2018164371A1 (ko) 반도체 소자 및 반도체 소자 패키지
WO2016129873A2 (ko) 발광소자 및 발광 다이오드
WO2019074149A1 (ko) 발광소자 패키지 및 광원 장치
WO2017078402A1 (ko) 광학 플레이트, 조명 소자 및 광원 모듈
WO2019045166A1 (ko) 발광소자 패키지
WO2019045167A1 (ko) 발광소자 패키지 및 이를 구비한 광원 장치
WO2013089521A1 (ko) 조명 장치의 방열 구조 및 조명장치
WO2018139877A1 (ko) 반도체 소자
WO2019240538A1 (ko) 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 카메라 장치
WO2018174539A1 (ko) 반도체소자 패키지 및 자동 초점 장치
WO2019045513A1 (ko) 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 조명장치
WO2018048275A1 (ko) 반도체 소자
WO2018139770A1 (ko) 반도체 소자 및 반도체 소자 패키지
WO2019054548A1 (ko) 발광소자 패키지
WO2019054793A1 (ko) 발광소자 패키지
WO2018143751A1 (ko) 반도체 소자 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
WO2018110981A1 (ko) 광 전송 모듈
WO2016144103A1 (ko) 발광 모듈 및 이를 구비한 조명 장치

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18855267

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 18855267

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1