WO2019054547A1 - 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 조명장치 - Google Patents

발광소자 패키지 및 이를 포함하는 조명장치 Download PDF

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light
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김기석
김원중
송준오
임창만
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엘지이노텍 주식회사
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Definitions

  • the present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a light emitting device, a light emitting device package and a lighting device including the same.
  • Semiconductor devices including compounds such as GaN and AlGaN have many merits such as wide and easy bandgap energy, and can be used variously as light emitting devices, light receiving devices, and various diodes.
  • a light emitting device such as a light emitting diode or a laser diode using a Group III-V or Group II-VI compound semiconductor material can be used for a variety of applications such as red, Blue and ultraviolet rays can be realized.
  • a light emitting device such as a light emitting diode or a laser diode using a Group III-V or Group-VI-VI compound semiconductor material can realize a white light source having high efficiency by using a fluorescent material or combining colors.
  • Such a light emitting device has advantages of low power consumption, semi-permanent lifetime, fast response speed, safety, and environment friendliness compared with conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps.
  • a light-receiving element such as a photodetector or a solar cell
  • a Group III-V or Group-VI-VI compound semiconducting material development of a device material absorbs light of various wavelength regions to generate a photocurrent , It is possible to use light in various wavelength ranges from the gamma ray to the radio wave region. Further, such a light receiving element has advantages of fast response speed, safety, environmental friendliness and easy control of element materials, and can be easily used for power control or microwave circuit or communication module.
  • the semiconductor device can be replaced with a transmission module of an optical communication means, a light emitting diode backlight replacing a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) constituting a backlight of an LCD (Liquid Crystal Display) display device, White light emitting diode (LED) lighting devices, automotive headlights, traffic lights, and gas and fire sensors.
  • CCFL cold cathode fluorescent lamp
  • LED White light emitting diode
  • semiconductor devices can be applied to high frequency application circuits, other power control devices, and communication modules.
  • the light emitting device can be provided as a pn junction diode having a characteristic in which electric energy is converted into light energy by using a group III-V element or a group II-VI element in the periodic table, Various wavelengths can be realized by adjusting the composition ratio.
  • nitride semiconductors have received great interest in the development of optical devices and high power electronic devices due to their high thermal stability and wide bandgap energy.
  • a blue light emitting element, a green light emitting element, an ultraviolet (UV) light emitting element, and a red (RED) light emitting element using a nitride semiconductor are commercially available and widely used.
  • an ultraviolet light emitting device it is a light emitting diode that generates light distributed in a wavelength range of 200 nm to 400 nm. It is used for sterilizing and purifying in the wavelength band, short wavelength, Can be used.
  • UV-A 315nm ⁇ 400nm
  • UV-B 280nm ⁇ 315nm
  • UV-C 200nm ⁇ 280nm
  • UV-A 315nm ⁇ 400nm
  • UV-B 280nm ⁇ 315nm
  • UV-C 200nm ⁇ 280nm
  • various colors can be realized by providing a light conversion layer, for example, a phosphor layer in the light emitting device package.
  • Embodiments of the present invention provide a light emitting device package, a method of manufacturing a light emitting device package, and a light source device capable of significantly improving brightness in a light emitting device package.
  • Embodiments provide a light emitting device package, a light emitting device package manufacturing method, and a light source device capable of improving light extraction efficiency and electrical characteristics.
  • Embodiments provide a light emitting device package, a method of manufacturing a light emitting device package, and a light source device that can improve manufacturing efficiency and process efficiency by reducing the manufacturing cost by providing a new package structure.
  • Embodiments provide a light emitting device package and a method of manufacturing a light emitting device package that can prevent a re-melting phenomenon in a bonding region of a light emitting device package in a process of re-bonding the light emitting device package to a substrate or the like .
  • a light emitting device package includes: a first frame including a first through hole; A second frame spaced apart from the first frame and including a second through-hole; A body supporting the first and second frames and including a cavity; A light emitting element disposed in the cavity; An adhesive layer disposed between the body and the light emitting element; A reflective layer disposed on a side surface of the cavity; A light-transmitting layer disposed on the reflective layer and surrounding the light-emitting element; And a phosphor layer disposed on the light-transmitting layer.
  • the first and second through holes overlap each other with the light emitting element, and the body includes a recess between the first and second through holes, and the adhesive layer can be disposed in the recess.
  • the light-transmitting layer may be a light-transmitting resin layer.
  • the reflective layer may be a reflective resin layer.
  • the light emitting device package includes a package body 110 including frames 111 and 112 and a body 113; A light emitting device 120 including the first and second bonding portions 121 and 122 and disposed on the body 113;
  • the body 113 includes a reflective resin layer 170 having a cavity C and disposed between the light emitting device 120 and a side surface of the cavity C;
  • a phosphor layer 180 spaced apart from the light emitting device 120 and disposed on the translucent resin layer 160.
  • the lighting device according to the embodiment may include the light emitting device package.
  • Embodiments can provide a light emitting device package, a method of manufacturing a light emitting device package, and a light source device that can significantly improve brightness by arranging a reflective layer uniformly in a light emitting device package in a light emitting device package.
  • the process efficiency is improved and a new package structure is presented, which is advantageous in that the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing yield can be improved.
  • the embodiment has an advantage that the reflector can be prevented from being discolored by providing the body having high reflectance, thereby improving the reliability of the light emitting device package.
  • FIG. 1 is a plan view of a light emitting device package according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a bottom view of the light emitting device package shown in FIG.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line D-D of the light emitting device package shown in FIG.
  • FIGS. 4 to 11 are views illustrating a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view of a light emitting device package according to an embodiment of the present invention disposed on a circuit board.
  • FIG. 13 is a view showing another example of the light emitting device package according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a plan view illustrating a light emitting device applied to a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view taken along line A-A of the light emitting device shown in Fig.
  • 16 is a plan view illustrating another example of a light emitting device applied to a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 17 is a cross-sectional view taken along the line F-F of the light emitting device shown in Fig.
  • the semiconductor device may include various electronic devices such as a light emitting device and a light receiving device.
  • the light emitting device and the light receiving device may include the first conductivity type semiconductor layer, the active layer, and the second conductivity type semiconductor layer.
  • the semiconductor device according to this embodiment may be a light emitting device.
  • the light emitting device emits light by recombination of electrons and holes, and the wavelength of the light is determined by the energy band gap inherent to the material. Thus, the light emitted may vary depending on the composition of the material.
  • FIG. 1 is a plan view of a light emitting device package 100 according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a bottom view of the light emitting device package shown in FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line D-D of the light emitting device package shown in FIG.
  • a light emitting device package 100 may include a package body 110 and a light emitting device 120.
  • the package body 110 may include a first frame 111 and a second frame 112.
  • the package body 110 may include a body 113.
  • the body 113 may be disposed between the first frame 111 and the second frame 112.
  • the body 113 may function as an electrode separation line.
  • the body 113 may be referred to as an insulating member.
  • the light emitting device package 100 may include a first lower recess R11 and a second lower recess R12.
  • the first lower recess R11 and the second lower recess R12 may be spaced apart from each other.
  • the first lower recess R11 may be provided on a lower surface of the first frame 111. [ The first lower recess R11 may be concave in the upper surface direction of the lower surface of the first frame 111. [ The first lower recess R11 may be spaced apart from the first opening TH1.
  • the second lower recess R12 may be provided on the lower surface of the second frame 112.
  • the second lower recess R12 may be concave in the upper surface direction on the lower surface of the second frame 112.
  • the second lower recess R12 may be spaced apart from the second opening TH2.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 may be disposed in the first opening TH1 and the second opening TH2, respectively.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line D-D of the light emitting device package shown in FIG. 1, and FIGS. 4 to 11 are views illustrating a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
  • the light emitting device package 100 may include a package body 110 and a light emitting device 120, as shown in FIG.
  • the package body 110 may include a first frame 111 and a second frame 112.
  • the first frame 111 and the second frame 112 may be spaced apart from each other.
  • the package body 110 may include a body 113.
  • the body 113 may be disposed between the first frame 111 and the second frame 112.
  • the body 113 may function as an electrode separation line.
  • the body 113 may be referred to as an insulating member.
  • the body 113 may be disposed on the first frame 111. In addition, the body 113 may be disposed on the second frame 112.
  • the body 113 may provide an inclined surface disposed on the first frame 111 and the second frame 112.
  • a cavity C may be provided on the first frame 111 and the second frame 112 by an inclined surface of the body 113.
  • the package body 110 may be provided with a cavity C, or may be provided with a flat upper surface without a cavity C.
  • the body 113 may be formed of a material selected from the group consisting of polyphthalamide (PPA), polychloro tri phenyl (PCT), liquid crystal polymer (LCP), polyamide 9T, silicone, epoxy molding compound, And may be formed of at least one selected from the group including silicon molding compound (SMC), ceramic, photo sensitive glass (PSG), sapphire (Al 2 O 3 ), and the like.
  • the body 113 may include a high refractive index filler such as TiO 2 and SiO 2 .
  • first frame 111 and the second frame 112 may be provided as a conductive frame.
  • the first frame 111 and the second frame 112 can stably provide the structural strength of the package body 110 and can be electrically connected to the light emitting device 120.
  • the light emitting device 120 may include a first bonding portion 121, a second bonding portion 122, a light emitting structure 123, and a substrate 124 .
  • the light emitting structure 123 may include a first conductive semiconductor layer, a second conductive semiconductor layer, and an active layer disposed between the first conductive semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer.
  • the first bonding portion 121 may be electrically connected to the first conductive semiconductor layer.
  • the second bonding portion 122 may be electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer.
  • the light emitting device 120 may be disposed on the package body 110.
  • the light emitting device 120 may be disposed on the first frame 111 and the second frame 112.
  • the light emitting device 120 may be disposed in the cavity C provided by the package body 110.
  • the first bonding portion 121 may be disposed on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the second bonding portion 122 may be disposed on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first bonding part 121 and the second bonding part 122 may be spaced apart from each other on the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first bonding part 121 may be disposed on the first frame 111.
  • the second bonding portion 122 may be disposed on the second frame 112.
  • the first bonding portion 121 may be disposed between the light emitting structure 123 and the first frame 111.
  • the second bonding portion 122 may be disposed between the light emitting structure 123 and the second frame 112.
  • the first bonding portion 121 and the second bonding portion 122 may be formed of any one selected from the group consisting of Ti, Al, Sn, In, Ir, Ta, Pd, Co, Cr, Mg, Zn, Ni, Si, At least one material or alloy selected from the group consisting of Au, Hf, Pt, Ru, Rh, ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx / ITO, Ni / IrOx / Au, Ni / IrOx / Or may be formed as a single layer or multiple layers.
  • the light emitting device package 100 may include a first opening portion TH1 and a second opening portion TH2, as shown in FIGS.
  • the first frame 111 may include the first opening TH1.
  • the second frame 112 may include the second opening TH2.
  • the first opening (TH1) may be provided in the first frame (111).
  • the first opening (TH1) may be provided through the first frame (111).
  • the first opening TH1 may be provided through the upper surface and the lower surface of the first frame 111 in a first direction.
  • the first opening TH1 may be disposed below the first bonding portion 121 of the light emitting device 120. Referring to FIG. The first opening TH1 may be provided to overlap with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120. [ The first opening TH1 may be provided in a manner overlapping with the first bonding portion 121 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the first frame 111. [ The first bonding portion 121 may be disposed on the first opening TH1.
  • the second opening (TH2) may be provided in the second frame (112).
  • the second opening (TH2) may be provided through the second frame (112).
  • the second opening portion TH2 may be provided through the upper surface and the lower surface of the second frame 112 in a first direction.
  • the second opening TH2 may be disposed below the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening portion TH2 may be provided so as to overlap with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120.
  • the second opening portion TH2 may be provided in a manner overlapping with the second bonding portion 122 of the light emitting device 120 in a first direction toward the lower surface from the upper surface of the second frame 112.
  • the second bonding portion 122 may be disposed on the second opening portion TH2.
  • the first opening TH1 and the second opening TH2 may be spaced apart from each other.
  • the first opening portion TH1 and the second opening portion TH2 may be spaced apart from each other below the lower surface of the light emitting device 120.
  • the width W1 of the upper region of the first opening TH1 may be less than or equal to the width of the first bonding portion 121.
  • the width of the upper region of the second opening portion TH2 may be less than or equal to the width of the second bonding portion 122.
  • first bonding portion 121 of the light emitting device 120 and the first frame 111 can be more firmly attached.
  • second bonding portion 122 of the light emitting device 120 and the second frame 112 can be more firmly attached.
  • the width W1 of the upper region of the first opening TH1 may be less than or equal to the width W2 of the lower region of the first opening TH1.
  • the width of the upper area of the second opening TH2 may be smaller than or equal to the width of the lower area of the second opening TH2.
  • the first opening TH1 may include an upper region disposed adjacent to an upper surface of the first frame 111 and a lower region disposed adjacent to a lower surface of the first frame 111.
  • the periphery of the upper region of the first opening TH1 may be smaller than the periphery of the lower region of the first opening TH1.
  • the first opening (TH1) includes a first point having a smallest circumference in a first direction, and the first point is located at a position closer to the lower region of the first opening (TH1) with respect to a direction perpendicular to the first direction And may be disposed closer to the upper region of the first opening TH1.
  • the second opening portion TH2 may include an upper region disposed adjacent to an upper surface of the second frame 112 and a lower region disposed adjacent to a lower surface of the second frame 112. [
  • the upper area of the second opening TH2 may be smaller than the lower area of the second opening TH2.
  • the second opening (TH2) includes a first point having a smallest circumference in a first direction, and the first point is positioned at a position lower than the lower area of the second opening (TH2) with respect to a direction perpendicular to the first direction And may be disposed closer to the upper region of the second opening TH2.
  • the first and second lead frames 111 and 112 are etched in the top surface direction and the bottom surface direction Respectively.
  • the first and second openings TH1 and TH2 may be provided in the form of a snowman as the etching proceeds in the top and bottom directions of the first and second lead frames 111 and 112 .
  • the widths of the first and second openings TH1 and TH2 may gradually increase from the lower region to the middle region and then decrease again.
  • the width may gradually increase from the reduced width intermediate region to the upper region, and then decrease again.
  • the first point of the first and second openings TH1 and TH2 described above may refer to a boundary region in which the size of the opening in the snowman shape decreases from the lower region to the upper region and then increases again.
  • the first and second openings TH1 and TH2 are formed in a first region disposed on the upper surface of each of the first and second frames 111 and 112 and a second region disposed on the lower surface of the first and second frames 111 and 112, And a second region disposed in the second region.
  • the width of the upper surface of the first region may be smaller than the width of the lower surface of the second region.
  • the first and second frames 111 and 112 may include a supporting member and first and second metal layers 111a and 112a surrounding the supporting member.
  • a plating process or the like for the supporting members constituting the first and second frames 111 and 112 may be formed. Accordingly, the first and second metal layers 111a and 112a may be formed on the surfaces of the support members constituting the first and second frames 111 and 112.
  • the first and second metal layers 111a and 112a may be provided on the upper and lower surfaces of the first and second frames 111 and 112, respectively. Also, the first and second metal layers 111a and 112a may be provided in a boundary region in contact with the first and second openings TH1 and TH2.
  • the first and second metal layers 111a and 112a provided in the boundary region in contact with the first and second openings TH1 and TH2 are formed in the first and second openings TH1 and TH2, And the first and second alloy layers 111b and 112b may be combined with the first and second conductive layers 321 and 322, respectively.
  • the formation of the first and second alloy layers 111b and 112b will be described later.
  • first and second frames 111 and 112 may be provided as a Cu layer as a basic supporting member.
  • first and second metal layers 111a and 112a may include at least one of a Ni layer, an Ag layer, and the like.
  • the Ni layer has a small change in thermal expansion, so that even when the size or placement of the package body is changed due to thermal expansion, The position of the light emitting element disposed on the upper portion can be stably fixed by the Ni layer.
  • the first and second metal layers 111a and 112a include an Ag layer, the Ag layer can efficiently reflect light emitted from the light emitting device disposed on the upper side and improve the brightness.
  • the width of the first bonding portion 121 may be greater than or equal to the width of the first bonding portion 121.
  • the width of the upper region of the second opening portion TH2 may be greater than or equal to the width of the second bonding portion 122.
  • the width of the upper region of the first opening TH1 may be less than or equal to the width of the lower region of the first opening TH1.
  • the width of the upper area of the second opening TH2 may be smaller than or equal to the width of the lower area of the second opening TH2.
  • the width of the upper region of the first opening TH1 may be from several tens of micrometers to several hundreds of micrometers.
  • the width of the lower region of the first opening TH1 may be several tens of micrometers to several hundreds of micrometers larger than the width of the upper region of the first opening TH1.
  • the width of the upper region of the second opening portion TH2 may be several tens of micrometers to several hundreds of micrometers.
  • the width of the lower region of the second opening TH2 may be several tens of micrometers to several hundreds of micrometers larger than the width of the upper region of the second opening TH2.
  • the width W3 between the first opening TH1 and the second opening TH2 in the lower surface region of the first frame 111 and the second frame 112 may be several hundred micrometers.
  • the width W3 between the first opening portion TH1 and the second opening portion TH2 in the lower surface region of the first frame 111 and the second frame portion 112 is set to be, for example, 100 micrometers to 150 micrometers Lt; / RTI >
  • the width W3 between the first opening portion TH1 and the second opening portion TH2 in the lower surface region of the first frame 111 and the second frame 112 is set to be larger than the width W3 of the light emitting device package 100 may be selected to be provided over a certain distance in order to prevent electric short between the pads when they are mounted on a circuit board, a submount, or the like.
  • the light emitting device package 100 may include a first resin layer 130.
  • the first resin layer 130 may be disposed between the body 113 and the light emitting device 120.
  • the first resin layer 130 may be disposed between the upper surface of the body 113 and the lower surface of the light emitting device 120.
  • the light emitting device package 100 may include a recess R as shown in FIGS. 3 and 4.
  • the recesses R may be provided in the body 113.
  • the recess R may be provided between the first opening TH1 and the second opening TH2.
  • the recess (R) may be recessed in a downward direction from an upper surface of the body (113).
  • the recess R may be disposed below the light emitting device 120.
  • the recess R may be provided to overlap with the light emitting device 120 in the first direction.
  • the first resin layer 130 may be disposed in the recess R.
  • the first resin layer 130 may be disposed between the light emitting device 120 and the body 113.
  • the first resin layer 130 may be disposed between the first bonding part 121 and the second bonding part 122.
  • the first resin layer 130 may be disposed in contact with a side surface of the first bonding portion 121 and a side surface of the second bonding portion 122.
  • the first resin layer 130 may provide a stable fixing force between the light emitting device 120 and the package body 110.
  • the first resin layer 130 may provide a stable fixing force between the light emitting device 120 and the body 113.
  • the first resin layer 130 may be disposed in direct contact with the upper surface of the body 113, for example.
  • the first resin layer 130 may be disposed in direct contact with the lower surface of the light emitting device 120.
  • the first resin layer 130 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material can do.
  • the adhesive may include white silicone.
  • the first resin layer 130 may provide a stable clamping force between the body 113 and the light emitting device 120 and may prevent the light emitting device 120 ) And the body 113. In this case, When the light is emitted from the light emitting device 120 to the lower surface of the light emitting device 120, the first resin layer 130 provides a light diffusion function to improve the light extraction efficiency of the light emitting device package 100 . In addition, the first resin layer 130 may reflect light emitted from the light emitting device 120. When the first resin layer 130 includes a reflection function, the first resin layer 130 may be formed of a material including TiO 2 , SiO 2 , and the like.
  • the depth T1 of the recess R may be smaller than the depth T2 of the first opening TH1 or the depth T2 of the second opening TH2.
  • the depth T1 of the recess R may be determined in consideration of the adhesion of the first resin layer 130.
  • the depth T1 of the recess R may be determined by taking into consideration the stable strength of the body 113 and / or by applying heat to the light emitting device package 100 by heat emitted from the light emitting device 120. [ Can be determined not to occur.
  • the recess R may provide a suitable space under which an under-fill process may be performed under the light emitting device 120.
  • the underfilling process may be a process of mounting the light emitting device 120 on the package body 110 and then disposing the first resin layer 130 under the light emitting device 120,
  • the first resin layer 130 may be disposed in the recess R for mounting through the first resin layer 130 in the process of mounting the light emitting device 120 on the package body 110, (120).
  • the recess R may be provided at a depth greater than the first depth so that the first resin layer 130 may be sufficiently provided between the lower surface of the light emitting device 120 and the upper surface of the body 113.
  • the recesses R may be provided at a second depth or less to provide stable strength of the body 113.
  • the depth (T1) and the width (W4) of the recess (R) may affect the forming position and fixing force of the first resin layer (130).
  • the depth T1 and the width W4 of the recess R are set so that sufficient fixing force can be provided by the first resin layer 130 disposed between the body 113 and the light emitting device 120 Can be determined.
  • the depth (T1) of the recess (R) may be provided by several tens of micrometers.
  • the depth (T1) of the recess (R) may be provided from 40 micrometers to 60 micrometers.
  • the width W4 of the recess R may be several tens of micrometers to several hundreds of micrometers.
  • the width W4 of the recess R may be provided in the major axis direction of the light emitting device 120.
  • the width W4 of the recess R may be narrower than the gap between the first bonding portion 121 and the second bonding portion 122.
  • the width W4 of the recess R may be provided in the range of 140 micrometers to 160 micrometers.
  • the width W4 of the recess R may be provided at 150 micrometers.
  • the depth T2 of the first opening TH1 may be provided corresponding to the thickness of the first frame 111. [ The depth T2 of the first opening TH1 may be provided to a thickness sufficient to maintain a stable strength of the first frame 111. [
  • the depth T2 of the second opening portion TH2 may be provided corresponding to the thickness of the second frame 112. [ The depth T2 of the second opening portion TH2 may be provided to a thickness that can maintain stable strength of the second frame 112.
  • the depth T2 of the first opening TH1 and the depth T2 of the second opening TH2 may be provided corresponding to the thickness of the body 113. [ The depth T2 of the first opening portion TH1 and the depth T2 of the second opening portion TH2 may be provided to maintain a stable strength of the body 113. [
  • the depth T2 of the first opening TH1 may be several hundred micrometers.
  • the depth T2 of the first opening TH1 may be 180 to 220 micrometers.
  • the depth T2 of the first opening TH1 may be 200 micrometers.
  • the thickness of (T2-T1) may be selected to be at least 100 micrometers or more. This is in consideration of the thickness of the injection process capable of providing crack free of the body 113.
  • the ratio of the T1 thickness to the T2 thickness may be 2 to 10.
  • the thickness of T2 may be provided from 20 micrometers to 100 micrometers.
  • the light emitting device package 100 may include a light transmitting resin layer 160 and a reflective resin layer 170, as shown in FIGS. 3, 6 and 8.
  • the light transmitting resin layer 160 may include a first light transmitting resin layer 162 disposed between the light emitting element 120 and a phosphor layer 180 formed later Accordingly, the phosphor layer 180 and the light emitting device 120 are spaced apart from each other to prevent deterioration of the phosphor layer.
  • the light transmissive resin layer 160 may include a reflective resin layer 170 to be formed later and a second transmissive resin layer 161 disposed between the light emitting device 120.
  • the second translucent resin layer 161 may be uniformly disposed on a side surface of the light emitting device 120.
  • the light transmitting resin layer 160 may be a light transmitting material and may include light diffusing particles.
  • the light transmitting resin layer 160 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material can do.
  • the light transmitting resin layer 160 may include a clear series silicone or a silicone containing light diffusion particles such as ZrO 2 , ZnO, Al 2 O 3, etc. have.
  • the reflective layer when the reflective layer is disposed on the light emitting device package in the prior art, when the surface of the light emitting device has hydrophilicity, the reflective layer may be widely diffused on the surface of the light emitting device.
  • the efficiency with which the light emitted by the light emitting device is extracted from the light emitting device package may be degraded by the reflective layer widely disposed on the surface of the light emitting device.
  • the light transmitting resin layer 160 may be disposed and cured to cure the reflective resin layer 170, It is possible to prevent the light from diffusing widely on the surface of the device, thereby improving the light extraction efficiency of the light emitting device package.
  • 7A is a process sectional view of forming a light-transmitting resin on a light-emitting element in the embodiment.
  • the light emitting device 120 is disposed on the supporting substrate 190. Then, a light transmitting resin layer 160 is formed on the light emitting device 120.
  • the light transmitting resin layer 160 may be formed by a molding or a dotting process.
  • the translucent resin layer 160 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material.
  • the light transmitting resin layer 160 may include a clear series silicone or a silicone containing light diffusion particles such as ZrO 2 , ZnO, Al 2 O 3, etc. have.
  • 7B is a photograph of the light emitting device 120 having the light transmitting resin layer 160 formed thereon.
  • the light transmitting resin layer 160 can be uniformly formed on the side of the light emitting element,
  • the width of the upper portion of the translucent resin layer 160 can be ensured to be larger than the width of the lower portion and the side surface of the translucent resin layer 160 can be formed flat without the roughness, There is a peculiar effect of forming the optical cavity described later.
  • the embodiment may include a reflective resin layer 170.
  • the reflective resin layer 170 may include the light emitting device 120 and a first reflective resin layer 170 disposed on a side surface of the cavity C.
  • the embodiment may include a second reflective resin (not shown) disposed between the first and second bonding portions of the light emitting device 120 and the body 113, but the present invention is not limited thereto.
  • the reflective resin layer 170 may include a white silicone.
  • the antireflective resin layer 170 may be made of silicon including TiO 2 , ZnO, Al 2 O 3 , BN, and the like, but is not limited thereto.
  • the reflective resin layer 170 may proceed from the upper side of the cavity C to the tapping process. Alternatively, the reflective resin layer 170 may be formed through a lower gap filling process through the first opening TH1 or the second opening TH2 formed in the frame. Alternatively, the reflective resin layer 170 may be formed by simultaneously performing an upper side capping process and a lower side capping process.
  • the reflective resin layer 170 may be formed in a shape of a truncated cone in the light emitting device to diffusely reflect the light, thereby realizing a light cavity, thereby significantly improving the brightness of the light. .
  • the prior art has a difficulty in implementing a technique of separating the light reflecting resin from the light emitting element by a predetermined distance.
  • the light-transmissive resin layer 160 is disposed on the side surface of the light-emitting device so as to have a uniform side surface, so that the light-reflective resin layer 170 is uniformly spaced from the light- have.
  • Fig. 9 is a process diagram showing the formation of the phosphor layer 180 in the embodiment.
  • the phosphor layer 180 may include wavelength conversion means for receiving light emitted from the light emitting device 120 and providing wavelength-converted light.
  • the phosphor layer 180 may include at least one selected from the group including phosphors, quantum dots, and the like.
  • the reflective resin layer 170 is disposed in a shape of a cone cut in the light emitting device, and the diffusing reflection is very effectively realized through the organic bonding with the remote fluorescent layer 180 By implementing a light cavity, the brightness of the light can be significantly improved.
  • the light emitting device package 100 may include a first conductive layer 321 and a second conductive layer 322, as shown in FIGS. 3 and 10.
  • the first conductive layer 321 may be spaced apart from the second conductive layer 322.
  • the first conductive layer 321 may be provided in the first opening TH1.
  • the first conductive layer 321 may be disposed below the first bonding portion 121.
  • the width of the first conductive layer 321 may be smaller than the width of the first bonding portion 121.
  • the first bonding portion 121 may have a width in a second direction perpendicular to the first direction in which the first opening portion TH1 is formed.
  • the width of the first bonding portion 121 may be greater than the width of the first opening TH1 in the second direction.
  • the first conductive layer 321 may be disposed in direct contact with the lower surface of the first bonding portion 121.
  • the first conductive layer 321 may be electrically connected to the first bonding portion 121.
  • the first conductive layer 321 may be surrounded by the first frame 111.
  • the lower surface of the first conductive layer 321 may be arranged in a concave shape from the lower side to the upper side.
  • the second conductive layer 322 may be provided in the second opening TH2.
  • the second conductive layer 322 may be disposed under the second bonding portion 122.
  • the width of the second conductive layer 322 may be smaller than the width of the second bonding portion 122.
  • the second bonding portion 122 may have a width in a second direction perpendicular to the first direction in which the second opening portion TH2 is formed.
  • the width of the second bonding portion 122 may be greater than the width of the second opening TH2 in the second direction.
  • the second conductive layer 322 may be disposed in direct contact with the lower surface of the second bonding portion 122.
  • the second conductive layer 322 may be electrically connected to the second bonding portion 122.
  • the second conductive layer 322 may be disposed so as to be surrounded by the second frame 112.
  • the lower surface of the second conductive layer 322 may be arranged in a concave shape from the lower part to the upper part.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may include one selected from the group consisting of Ag, Au, Pt, Sn, Cu, and the like, or an alloy thereof. However, the present invention is not limited thereto, and the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may be formed of a material capable of ensuring a conductive function.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may be formed using a conductive paste.
  • the conductive paste may include a solder paste, a silver paste, or the like, and may be composed of a multi-layer or an alloy composed of different materials or a single layer.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 may include a SAC (Sn-Ag-Cu) material.
  • An intermetallic compound (IMC) layer may be formed between the first and second layers 111 and 112 and the layers 321 and 322.
  • the material of the first and second conductive layers 321 and 322 and the first and second metal layers 111a and 112a of the first and second frames 111 and 112, And second alloy layers 111b and 112b may be formed.
  • the first conductive layer 321 and the first frame 111 can be physically and electrically coupled with each other in a stable manner.
  • the first conductive layer 321, the first alloy layer 111b, and the first frame 111 can be physically and electrically coupled to each other in a stable manner.
  • the second conductive layer 322 and the second frame 112 can be physically and electrically coupled to each other in a stable manner.
  • the second conductive layer 322, the second alloy layer 212b, and the second frame 112 can be physically and electrically coupled to each other in a stable manner.
  • the first and second alloy layers 111b and 112b may include at least one intermetallic compound layer selected from the group including AgSn, CuSn, AuSn, and the like.
  • the intermetallic compound layer may be formed by a combination of a first material and a second material, and a first material may be provided from the first and second conductive layers 321 and 322, And the second metal layers 111a and 112a or the supporting members of the first and second frames 111 and 112.
  • an intermetallic compound layer of AgSn may be formed by a combination of a Sn material and an Ag material.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 include a Sn material and the first and second metal layers 111a and 112a include an Au material
  • the intermetallic compound layer of AuSn may be formed by the combination of the Sn material and the Au material in the process of providing the electrode material 321 or 322 or in the heat treatment process after being provided.
  • the intermetallic compound layer of CuSn can be formed by the combination of the Sn material and the Cu material in the process of providing the conductive layers 321 and 322 or in the heat treatment process after being provided.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 include Ag material and the first and second metal layers 111a and 111b or the supporting members of the first and second frames 111 and 112 Sn material, the intermetallic compound layer of AgSn may be formed by the bonding of the Ag material and the Sn material in the process of providing the first and second conductive layers 321 and 322 or in the heat treatment process after being provided.
  • the intermetallic compound layer described above can have a higher melting point than a general bonding material.
  • the heat treatment process in which the metal compound layer is formed can be performed at a lower temperature than the melting point of a general bonding material.
  • the package body 110 does not need to be exposed to high temperatures in the process of manufacturing the light emitting device package. Therefore, according to the embodiment, it is possible to prevent the package body 110 from being exposed to high temperatures to be damaged or discolored.
  • the selection range for the material constituting the body 113 can be widened.
  • the body 113 may be provided using not only expensive materials such as ceramics but also relatively inexpensive resin materials.
  • the body 113 may include at least one material selected from the group consisting of PPA (PolyPhtalAmide) resin, PCT (PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) resin, EMC (Epoxy Molding Compound) resin and SMC can do.
  • PPA PolyPhtalAmide
  • PCT PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate
  • EMC Epoxy Molding Compound
  • an intermetallic compound layer may also be formed between the first and second bonding portions 121 and 122 and the first and second conductive layers 321 and 322.
  • An intermetallic compound (IMC) layer may be formed between the first and second conductive layers 321 and 322 and the first and second bonding portions 121 and 122.
  • an alloy layer may be formed by bonding between the first and second conductive layers 321 and 322 and the first and second bonding portions 121 and 122.
  • the first conductive layer 321 and the first bonding portion 121 can be physically and electrically coupled more stably.
  • the first conductive layer 321, the alloy layer, and the first bonding portion 121 can be physically and electrically coupled stably.
  • the second conductive layer 322 and the second bonding portion 122 can be physically and electrically coupled more stably.
  • the second conductive layer 322, the alloy layer, and the second bonding portion 122 can be physically and electrically coupled stably.
  • the alloy layer may include at least one intermetallic compound layer selected from the group including AgSn, CuSn, AuSn, and the like.
  • the intermetallic compound layer may be formed by a combination of a first material and a second material, and a first material may be provided from the first and second conductive layers 321 and 322, And the second bonding portions 121 and 122, respectively.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 include a Sn material and the first and second bonding portions 121 and 122 include an Ag material
  • the first and second conductive layers 321 and 322 , 322 are provided, or an intermetallic compound layer of AgSn can be formed by the bonding of the Sn material and the Ag material in the heat treatment process after being provided.
  • the intermetallic compound layer of AuSn may be formed by the combination of the Sn material and the Au material during the process of providing the first and second electrodes 321 and 322 or after the heat treatment.
  • the intermetallic compound layer of AgSn may be formed by the bonding of the Ag material and the Sn material in the process of providing the first and second conductive layers 321 and 322 or in the heat treatment process after being provided.
  • the intermetallic compound layer described above can have a higher melting point than a general bonding material.
  • the heat treatment process in which the metal compound layer is formed can be performed at a lower temperature than the melting point of a general bonding material.
  • the light emitting device package 100 may include a first lower recess R11 and a second lower recess R12, as shown in FIGS. 3 and 10.
  • the first lower recess R11 and the second lower recess R12 may be spaced apart from each other.
  • the first lower recess R11 may be provided on a lower surface of the first frame 111. [ The first lower recess R11 may be concave in the upper surface direction of the lower surface of the first frame 111. [ The first lower recess R11 may be spaced apart from the first opening TH1.
  • the first lower recess R11 may be provided with a width of several micrometers to several tens of micrometers.
  • a resin part may be provided in the first lower recess R11.
  • the resin part filled in the first lower recess R11 may be provided with the same material as the body 113, for example.
  • the present invention is not limited thereto, and the resin part may be selected from materials having poor adhesive force and wettability with the first and second conductive layers 321 and 322.
  • the resin portion may be selected and provided from a material having a low surface tension with respect to the first and second conductive layers 321 and 322.
  • the resin part filled in the first lower recess R11 may be provided in the process of forming the first frame 111, the second frame 112, and the body 113 through an injection process or the like .
  • the resin portion filled in the first lower recess R11 may be disposed around the lower surface region of the first frame 111 providing the first opening TH1.
  • the lower surface of the first frame 111 providing the first opening TH1 may be disposed in a shape of an island in a state separated from a lower surface of the first frame 111 surrounding the first frame 111.
  • the lower surface of the first frame 111 providing the first opening TH1 is divided into a resin portion filled in the first lower recess R11 and a lower portion of the body 113
  • the second frame 111 may be isolated from the surrounding first frame 111.
  • the resin part may be formed of a material having poor adhesion to the first and second conductive layers 321 and 322, a poor wettability, or a material having a low surface tension between the resin part and the first and second conductive layers 321 and 322
  • the first conductive layer 321 provided in the first opening TH1 is displaced from the first opening TH1 and the resin portion filled in the first lower recess R11 or the body 113, Can be prevented from spreading beyond.
  • the material of the first conductive layer 321 may be selected to have a good adhesion property with the first frame 111.
  • the material of the first conductive layer 321 may be selected to have poor adhesion properties with the resin and the body 113.
  • the first conductive layer 321 may flow over the first opening TH1 in the direction of the region where the resin or the body 113 is provided so that the resin or the body 113 And the first conductive layer 321 can be stably disposed in the region provided with the first opening TH1.
  • the first conductive layer 321 disposed in the first opening TH1 overflows, the first conductive layer 321 is electrically connected to an outer region of the first lower recess R11 provided with the resin or the body 113, The conductive layer 321 can be prevented from expanding. Also, the first conductive layer 321 can be stably connected to the lower surface of the first bonding portion 121 in the first opening TH1.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 can be prevented from being in contact with each other to be short-circuited, and the first and second conductive layers 321 and 322 can be controlled, the amount of the first and second conductive layers 321 and 322 can be very easily controlled.
  • the second lower recess R12 may be provided on the lower surface of the second frame 112.
  • the second lower recess R12 may be concave in the upper surface direction on the lower surface of the second frame 112.
  • the second lower recess R12 may be spaced apart from the second opening TH2.
  • the second lower recess R12 may be provided with a width of several micrometers to tens of micrometers.
  • a resin part may be provided in the second lower recess R12.
  • the resin part filled in the second lower recess R12 may be provided with the same material as the body 113, for example.
  • the present invention is not limited thereto, and the resin part may be selected from materials having poor adhesive force and wettability with the first and second conductive layers 321 and 322.
  • the resin portion may be selected and provided from a material having a low surface tension with respect to the first and second conductive layers 321 and 322.
  • a resin part filled in the second lower recess R12 may be provided in the process of forming the first frame 111, the second frame 112, and the body 113 through an injection process or the like .
  • a resin portion filled in the second lower recess R12 may be disposed around a lower surface region of the second frame 112 providing the second opening TH2.
  • the lower surface of the second frame 112 providing the second opening TH2 may be disposed in a form of an island in a shape separated from the lower surface of the second frame 112 surrounding the second frame 112.
  • the lower surface of the second frame 112, which provides the second opening TH2 has a resin part filled in the second lower recess R12 and a lower surface of the body 113 May be isolated from the second frame 112 in the vicinity.
  • the resin part may be formed of a material having poor adhesion to the first and second conductive layers 321 and 322, a poor wettability, or a material having a low surface tension between the resin part and the first and second conductive layers 321 and 322
  • the second conductive layer 322 provided in the second opening TH2 may be displaced from the second opening TH2 so that the resin portion or the body 113 filled in the second lower recess R12 may be removed, Can be prevented from spreading beyond.
  • the material of the second conductive layer 322 may be selected to have good adhesion properties with the second frame 112.
  • the material constituting the second conductive layer 322 may be selected to have poor adhesion properties with the resin part and the body 113.
  • the second conductive layer 322 overflows from the second opening TH2 in the direction of the region where the resin or the body 113 is provided so that the resin or the body 113 And the second conductive layer 322 can be stably disposed in the region where the second opening portion TH2 is provided.
  • the second conductive layer 322 disposed in the second opening TH2 overflows, the second conductive layer 322 is electrically connected to an outer region of the second lower recess R12 provided with the resin portion or the body 113, The conductive layer 322 can be prevented from expanding. In addition, the second conductive layer 322 can be stably connected to the lower surface of the second bonding portion 122 in the second opening portion TH2.
  • the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 can be prevented from being in contact with each other to be short-circuited, and the first and second conductive layers 321 and 322 can be controlled, the amount of the first and second conductive layers 321 and 322 can be very easily controlled.
  • the first resin layer 130 provided on the recess R may be formed on the lower surface of the light emitting device 120. In this case, And the upper surface of the package body 110. [0035] The first resin layer 130 may be provided around the first and second bonding portions 121 and 122 when viewed from the upper direction of the light emitting device 120. The first resin layer 130 may be provided around the first and second openings TH1 and TH2 when viewed from above the light emitting device 120. [
  • the first resin layer 130 may function to stably fix the light emitting device 120 to the package body 110.
  • the first resin layer 130 may be disposed around the first and second bonding portions 121 and 122 in contact with the side surfaces of the first and second bonding portions 121 and 122.
  • the first resin layer 130 may surround the first bonding part 121 and the second bonding part 122.
  • the first resin layer 130 is formed such that the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 are separated from the first opening TH1 and the second opening TH2, 120 in the outer side direction.
  • the first and second conductive layers 321 and 322 are diffused and moved in the outer surface direction of the light emitting device 120, the first and second conductive layers 321 and 322 are electrically connected to the active layer of the light emitting device 120 Which can lead to failure due to a short circuit. Accordingly, when the first resin layer 130 is disposed, the first and second conductive layers 321 and 322 and the active layer can be prevented from being short-circuited, thereby improving the reliability of the light emitting device package according to the embodiment.
  • the first resin layer 130 may be formed such that the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 are separated from the first opening TH1 and the second opening TH2, Can be prevented from diffusing and moving in the recess (R) direction below the lower surface of the element 120. [ Accordingly, the first conductive layer 321 and the second conductive layer 322 can be prevented from being electrically short-circuited under the light emitting device 120.
  • the light emitting structure 123 may be provided as a compound semiconductor.
  • the light emitting structure 123 may be formed of, for example, a Group 2-VI-VI or Group III-V compound semiconductor.
  • the light emitting structure 123 may include at least two elements selected from aluminum (Al), gallium (Ga), indium (In), phosphorus (P), arsenic (As) .
  • the light emitting structure 123 may include a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer.
  • power is connected to the first bonding portion 121 through the first opening portion TH1, and power is supplied to the second bonding portion 121 through the second opening portion TH2. (Not shown).
  • the light emitting device 120 can be driven by the driving power supplied through the first bonding part 121 and the second bonding part 122.
  • the light emitted from the light emitting device 120 may be provided in an upward direction of the package body 110.
  • the light emitting device package 100 may be mounted on a submount, a circuit board, or the like.
  • a high temperature process such as a reflow process can be applied.
  • a re-melting phenomenon occurs in the bonding region between the lead frame and the light emitting device provided in the light emitting device package, so that the stability of electrical connection and physical coupling can be weakened.
  • the bonding portion of the light emitting device according to the embodiment can receive the driving power through the conductive layer disposed in the opening portion.
  • the melting point of the conductive layer disposed in the opening and the melting point of the intermetallic compound layer may be selected to have a higher value than the melting point of the common bonding material.
  • the package body 110 does not need to be exposed to high temperatures in the process of manufacturing the light emitting device package. Therefore, according to the embodiment, it is possible to prevent the package body 110 from being exposed to high temperatures to be damaged or discolored.
  • the selection range for the material constituting the body 113 can be widened.
  • the body 113 may be provided using not only expensive materials such as ceramics but also relatively inexpensive resin materials.
  • the body 113 may include at least one material selected from the group consisting of PPA (PolyPhtalAmide) resin, PCT (PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) resin, EMC (Epoxy Molding Compound) resin and SMC can do.
  • PPA PolyPhtalAmide
  • PCT PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate
  • EMC Epoxy Molding Compound
  • the embodiment may include a second resin layer 115 disposed in the first and second openings TH1 and TH2.
  • the second resin layer 115 may be disposed under the first and second conductive layers 321 and 322.
  • the second resin layer 115 may protect the first and second conductive layers 321 and 322.
  • the second resin layer 115 may seal the first and second openings TH1 and TH2.
  • the second resin layer 115 may prevent the first and second conductive layers 321 and 322 from diffusing and moving under the first and second openings TH1 and TH2.
  • the second resin layer 115 may include a material similar to the body 113.
  • the second resin layer 115 may include at least one material selected from the group consisting of PPA (PolyPhtalAmide) resin, PCT (PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) resin, EMC (Epoxy Molding Compound) resin and SMC .
  • the second resin layer 115 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material .
  • the light emitting device package according to the embodiment of the present invention is another example in which the light emitting device package described with reference to FIGS. 1 to 11 is mounted on the circuit board 410 and supplied.
  • the light emitting device package may include a circuit board 410, a package body 110, and a light emitting device 120, as shown in FIG.
  • the circuit board 410 may include a first pad 411, a second pad 412, and a substrate 413.
  • the substrate 413 may be provided with a power supply circuit for controlling the driving of the light emitting device 120.
  • the package body 110 may be disposed on the circuit board 410.
  • the first pad 411 and the first bonding portion 121 may be electrically connected to each other.
  • the second pad 412 and the second bonding portion 122 may be electrically connected to each other.
  • the first pad 411 and the second pad 412 may include a conductive material.
  • the first pad 411 and the second pad 412 may be formed of a material selected from the group consisting of Ti, Cu, Ni, Au, Cr, Ta, Pt, Sn, Ag, P, Fe, At least one selected material or alloy thereof.
  • the first pad 411 and the second pad 412 may be provided as a single layer or a multilayer.
  • the package body 110 may include a first frame 111 and a second frame 112.
  • the first frame 111 and the second frame 112 may be spaced apart from each other.
  • the package body 110 may include a body 113.
  • the body 113 may be disposed between the first frame 111 and the second frame 112.
  • the body 113 may function as an electrode separation line.
  • the first frame 111 and the second frame 112 may be provided as a conductive frame.
  • the first frame 111 and the second frame 112 can stably provide the structural strength of the package body 110 and can be electrically connected to the light emitting device 120.
  • FIG. 13 is a view showing another example of the light emitting device package according to the embodiment of the present invention.
  • the light emitting device package according to the embodiment shown in FIG. 13 may further include a heat dissipating member 150 as compared with the light emitting device package according to the embodiment shown in FIG.
  • the heat dissipating member 150 may be disposed in a third portion (not shown) provided in the body 113 and may be disposed below the recess R.
  • the radiation member 230 may be disposed between the first frame 111 and the second frame 112.
  • the heat dissipation member 150 may include at least one of an epoxy-based material, a silicone-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material have. Also, for example, when the heat radiating member 150 includes a reflection function, the heat radiating member 150 may include white silicone.
  • the heat dissipation member 150 may include a material selected from the group consisting of Al 2 O 3 , AlN, and the like having good thermal conductivity.
  • the heat dissipating member 150 when the heat dissipating member 150 includes a material having a good thermal conductivity, heat generated from the light emitting device 120 can be effectively dissipated. Accordingly, since the heat emission of the light emitting device 120 can be effectively performed, the light extraction efficiency of the light emitting device 120 can be improved.
  • the heat dissipating member 150 includes a reflective material
  • a light diffusion function is provided between the light emitting device 120 and the body 113 with respect to light emitted to the lower surface of the light emitting device 120 can do.
  • the heat dissipating member 230 may improve the light extraction efficiency of the light emitting device package by providing a light diffusion function.
  • the radiation member 150 may reflect light emitted from the light emitting device 120.
  • the heat dissipation member 150 includes a reflection function
  • the heat dissipation member 230 may be formed of a material including TiO 2 , SiO 2 , and the like.
  • FIG. 14 is a plan view showing a light emitting device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 15 is a sectional view taken along line A-A of the light emitting device shown in FIG.
  • the first sub-electrode 2171 and the second sub-electrode 2172 are disposed under the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 and are electrically connected to the first bonding portion 2171.
  • a second sub electrode 2142 electrically connected to the second bonding portion 2172 can be seen.
  • the light emitting device 2100 may include the light emitting structure 1110 disposed on the substrate 2105, as shown in FIGS. 14 and 15.
  • FIG. 14 and 15 The light emitting device 2100 according to the embodiment may include the light emitting structure 1110 disposed on the substrate 2105, as shown in FIGS. 14 and 15.
  • FIG. 14 and 15 FIG. 14
  • the substrate 2105 may be selected from the group including a sapphire substrate (Al 2 O 3 ), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP and Ge.
  • the substrate 2105 may be provided as a patterned sapphire substrate (PSS) having a concavo-convex pattern formed on its upper surface.
  • PSS patterned sapphire substrate
  • the light emitting structure 1110 may include a first conductive semiconductor layer 1111, an active layer 1112, and a second conductive semiconductor layer 1113.
  • the active layer 1112 may be disposed between the first conductive semiconductor layer 1111 and the second conductive semiconductor layer 1113.
  • the active layer 1112 may be disposed on the first conductive semiconductor layer 1111, and the second conductive semiconductor layer 1113 may be disposed on the active layer 1112.
  • the first conductivity type semiconductor layer 1111 may be provided as an n-type semiconductor layer, and the second conductivity type semiconductor layer 1113 may be provided as a p-type semiconductor layer.
  • the first conductivity type semiconductor layer 1111 may be provided as a p-type semiconductor layer, and the second conductivity type semiconductor layer 1113 may be provided as an n-type semiconductor layer.
  • the first conductive semiconductor layer 1111 is provided as an n-type semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer 1113 is provided as a p-type semiconductor layer for convenience of description .
  • the light emitting device 2100 may include a light transmitting electrode layer 2130 as shown in FIG.
  • the light transmitting electrode layer 2130 can increase the light output by increasing the current diffusion.
  • the light transmitting electrode layer 2130 may include at least one selected from the group consisting of a metal, a metal oxide, and a metal nitride.
  • the transmissive electrode layer 2130 may include a light-transmitting material.
  • the transmissive electrode layer 2130 may be formed of a material such as ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), IZON (indium zinc oxide), IZTO (indium zinc tin oxide), IAZO gallium zinc oxide (IGTO), aluminum zinc oxide (AZO), antimony tin oxide (ATO), gallium zinc oxide (GZO), IrOx, RuOx, RuOx / ITO, Ni / IrOx / IrOx / Au / ITO, Pt, Ni, Au, Rh, and Pd.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • IZON indium zinc oxide
  • IZTO indium zinc tin oxide
  • AZO aluminum zinc oxide
  • ATO antimony tin oxide
  • GZO gallium zinc oxide
  • the light emitting device 2100 may include a reflective layer 2160, as shown in FIGS.
  • the reflective layer 2160 may include a first reflective layer 2161, a second reflective layer 2162, and a third reflective layer 2163.
  • the reflective layer 2160 may be disposed on the transmissive electrode layer 2130.
  • the second reflective layer 2162 may include a first opening h1 for exposing the transmissive electrode layer 2130.
  • the second reflective layer 2162 may include a plurality of first openings h1 disposed on the transmissive electrode layer 2130.
  • the first reflective layer 2161 may include a plurality of second openings h2 exposing the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 1111.
  • the third reflective layer 2163 may be disposed between the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162.
  • the third reflective layer 2163 may be connected to the first reflective layer 2161.
  • the third reflective layer 2163 may be connected to the second reflective layer 2162.
  • the third reflective layer 2163 may be physically in direct contact with the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162.
  • the reflective layer 2160 may be in contact with the second conductive type semiconductor layer 1113 through a plurality of contact holes provided in the transmissive electrode layer 2130. [ The reflective layer 2160 may be physically contacted to the upper surface of the second conductive type semiconductor layer 1113 through a plurality of contact holes provided in the transmissive electrode layer 2130.
  • the reflective layer 2160 may be provided as an insulating reflective layer.
  • the reflective layer 2160 may be provided as a DBR (Distributed Bragg Reflector) layer.
  • the reflective layer 2160 may be provided as an ODR (Omni Directional Reflector) layer.
  • the reflective layer 2160 may be provided by stacking a DBR layer and an ODR layer.
  • the light emitting device 2100 may include a first sub electrode 2141 and a second sub electrode 2142, as shown in FIGS. 14 and 15.
  • FIG. 14 and 15 The light emitting device 2100 according to the embodiment may include a first sub electrode 2141 and a second sub electrode 2142, as shown in FIGS. 14 and 15.
  • FIG. 14 and 15 FIG. 14
  • the first sub-electrode 2141 may be electrically connected to the first conductive type semiconductor layer 1111 in the second opening h2.
  • the first sub-electrode 2141 may be disposed on the first conductive semiconductor layer 1111.
  • the first sub-electrode 2141 penetrates the second conductive semiconductor layer 1113 and the active layer 1112 to form the first conductive semiconductor layer 1111.
  • the first conductivity type semiconductor layer 1111 may be disposed on the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 1111 in the recess.
  • the first sub electrode 2141 may be electrically connected to the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 1111 through a second opening h2 provided in the first reflective layer 2161. [ 24 and 25, the first sub-electrode 2141 and the second sub-electrode 2141 may overlap each other in the plurality of recessed regions, 1-conductivity type semiconductor layer 1111. [0216]
  • the second sub-electrode 2142 may be electrically connected to the second conductive type semiconductor layer 1113.
  • the second sub-electrode 2142 may be disposed on the second conductive type semiconductor layer 1113.
  • the transparent electrode layer 2130 may be disposed between the second sub-electrode 2142 and the second conductive type semiconductor layer 1113.
  • the second sub electrode 2142 may be electrically connected to the second conductive type semiconductor layer 1113 through a first opening h1 provided in the second reflective layer 2162. [ 14 and 15, the second sub-electrode 2142 is electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer 1113 through the light-transmitting electrode layer 2130 in a plurality of P regions Can be connected.
  • the second sub-electrode 2142 is electrically connected to the transmissive electrode layer 2130 through a plurality of first openings h1 provided in the second reflective layer 2162 in a plurality of P regions ). ≪ / RTI >
  • the first sub-electrode 2141 and the second sub-electrode 2142 may have polarities and may be spaced apart from each other.
  • the first sub-electrode 2141 may be provided in a plurality of line shapes as an example. Also, the second sub-electrodes 2142 may be provided in a plurality of line shapes as an example. The first sub-electrode 2141 may be disposed between a plurality of neighboring second sub-electrodes 2142. The second sub-electrode 2142 may be disposed between a plurality of neighboring first sub-electrodes 2141.
  • first sub-electrode 2141 and the second sub-electrode 2142 may be arranged in different numbers of electrodes. For example, when the first sub-electrode 2141 is an n-electrode and the second sub-electrode 2142 is a p-electrode, the number of the second sub-electrodes 2142 is greater than the number of the second sub- Can be more.
  • the first sub electrode 2141 and the second sub electrode 2142 are electrically connected to each other when the electrical conductivity and / or resistance of the second conductivity type semiconductor layer 1113 and the first conductivity type semiconductor layer 1111 are different from each other,
  • the electrons injected into the light emitting structure 1110 can be balanced with the holes and thus the optical characteristics of the light emitting device can be improved.
  • the polarities of the first sub-electrode 2141 and the second sub-electrode 2142 may be opposite to each other, depending on the characteristics required in the light emitting device package to which the light emitting device according to the embodiment is applied.
  • the width, length, shape, and number of the first sub-electrode 2141 and the second sub-electrode 2142 can be variously modified according to characteristics required in the light emitting device package.
  • the first sub-electrode 2141 and the second sub-electrode 2142 may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
  • the first sub-electrode 2141 and the second sub-electrode 2142 may be ohmic electrodes.
  • the first sub-electrode 2141 and the second sub-electrode 2142 may be formed of a metal such as ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx / ITO, Ni / IrOx / Au, and Ni / IrOx / , At least one of Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au and Hf or an alloy of two or more of them.
  • a metal such as ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx / ITO, Ni / IrOx / Au, and Ni / IrOx / , At least one of Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au and Hf or an alloy of two or more of them.
  • the light emitting device 2100 may include a protective layer 2150, as shown in FIGS.
  • the protective layer 2150 may include a plurality of third openings h3 exposing the second sub-electrodes 2142.
  • the plurality of third openings h3 may be disposed corresponding to a plurality of PB regions provided in the second sub-electrode 2142.
  • the protective layer 2150 may include a plurality of fourth openings h4 for exposing the first sub-electrode 2141.
  • the plurality of fourth openings h4 may be disposed corresponding to a plurality of NB regions provided in the first sub-
  • the protective layer 2150 may be disposed on the reflective layer 2160.
  • the protective layer 2150 may be disposed on the first reflective layer 2161, the second reflective layer 2162, and the third reflective layer 2163.
  • the protective layer 2150 may be provided as an insulating material.
  • the passivation layer 2150 may include at least one of Si x O y , SiO x N y , Si x N y , Al x O y , or the like.
  • the light emitting device 2100 may include a first bonding portion 2171 and a second bonding portion 2172 disposed on the protective layer 2150 as shown in FIGS. have.
  • the first bonding portion 2171 may be disposed on the first reflective layer 2161.
  • the second bonding portion 2172 may be disposed on the second reflective layer 2162.
  • the second bonding portion 2172 may be spaced apart from the first bonding portion 2171.
  • the first bonding portion 2171 may contact the upper surface of the first sub electrode 2141 through a plurality of the fourth openings h4 provided in the protective layer 2150 in a plurality of NB regions.
  • the plurality of NB regions may be arranged to be perpendicular to the second opening h2.
  • the second bonding portion 2172 may be in contact with the upper surface of the second sub-electrode 2142 through a plurality of the third openings h3 provided in the protective layer 2150 in a plurality of PB regions have.
  • the current injected into the second bonding portion 2172 is uniformly distributed in the horizontal direction of the second sub-electrode 2142 So that current can be evenly injected in the plurality of PB regions.
  • the first bonding portion 2171 and the first sub-electrode 2141 can be in contact with each other in the fourth openings h4.
  • the second bonding portion 2172 and the second sub-electrode 2142 may be in contact with each other in a plurality of regions.
  • power can be supplied through a plurality of regions, so that current dispersion effect is generated according to increase of the contact area and dispersion of the contact region, and operation voltage can be reduced.
  • the first reflective layer 2161 is disposed below the first sub-electrode 2141
  • the second reflective layer 2162 is disposed below the first sub-electrode 2141.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 are made of an insulating material, and a material having a high reflectance, for example, a DBR structure may be used to reflect light emitted from the active layer 1112 Can be achieved.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may have a DBR structure in which materials having different refractive indexes are repeatedly arranged.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may be disposed in a single layer or a stacked structure including at least one of TiO 2 , SiO 2 , Ta 2 O 5 , and HfO 2 .
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may emit light in the active layer 1112 according to the wavelength of the light emitted from the active layer 1112. For example, And can be freely selected to adjust the reflectivity to light.
  • the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may be provided as an ODR layer. According to another embodiment, the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 may be provided as a hybrid type in which a DBR layer and an ODR layer are stacked.
  • the light emitting device according to the embodiment When the light emitting device according to the embodiment is mounted by a flip chip bonding method and is implemented as a light emitting device package, the light provided from the light emitting structure 1110 may be emitted through the substrate 2105. Light emitted from the light emitting structure 1110 may be reflected by the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162 and may be emitted toward the substrate 2105.
  • the light emitted from the light emitting structure 1110 may be emitted in the lateral direction of the light emitting structure 1110.
  • the light emitted from the light emitting structure 1110 may be incident on the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2171 from among the surfaces on which the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 are disposed,
  • the portion 2172 can be released to the outside through the region where the portion 2172 is not provided.
  • the light emitted from the light emitting structure 1110 may be incident on the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2161 from among the surfaces on which the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 are disposed.
  • the second reflective layer 2162, and the third reflective layer 2163 are not provided.
  • the light emitting device 2100 can emit light in six directions surrounding the light emitting structure 1110, and the light intensity can be remarkably improved.
  • the sum of the area of the first bonding portion 2171 and the area of the second bonding portion 2172 in the upper direction of the light emitting device 2100 may be smaller than the sum of the areas of the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172, Of the total area of the upper surface of the light emitting device 2100 in which the second bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 are disposed.
  • the total area of the upper surface of the light emitting device 2100 may correspond to an area defined by a lateral length and a longitudinal length of the lower surface of the first conductive semiconductor layer 1111 of the light emitting structure 1110 .
  • the total area of the upper surface of the light emitting device 2100 may correspond to the area of the upper surface or the lower surface of the substrate 2105.
  • the amount of light emitted to the surface where the second bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 are disposed can be increased. Accordingly, according to the embodiment, since the amount of light emitted in the six surface directions of the light emitting device 2100 is increased, the light extraction efficiency can be improved and the light intensity Po can be increased.
  • the sum of the area of the first bonding portion 2171 and the area of the second bonding portion 2172 is preferably equal to or less than 30 times the total area of the light emitting device 2100, %, ≪ / RTI >
  • Stable mounting can be performed through the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 and the electrical characteristics of the light emitting device 2100 can be secured.
  • the sum of the areas of the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 may be larger than the sum of the areas of the light emitting device 2100 ) And not more than 60%.
  • the sum of the areas of the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 is 30% or more to 100% or less of the total area of the light emitting device 2100.
  • the electrical characteristics can be ensured and the bonding force to be mounted on the light emitting device package can be ensured, so that stable mounting can be performed.
  • the first bonding portion 2171 When the sum of the areas of the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 is more than 0% and not more than 60% of the total area of the light emitting device 2100, the first bonding portion 2171 The light extraction efficiency of the light emitting device 2100 may be improved and the light intensity Po may be increased by increasing the amount of light emitted to the surface on which the second bonding portion 2172 is disposed.
  • the area of the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 Is selected to be not less than 30% and not more than 60% of the total area of the light emitting element 2100.
  • the third reflective layer 2163 may be disposed between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172.
  • the length of the third reflective layer 2163 along the major axis of the light emitting device 2100 may be arranged corresponding to the interval between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 have.
  • the area of the third reflective layer 2163 may be 10% or more and 25% or less of the entire upper surface of the light emitting device 2100, for example.
  • the package body disposed under the light emitting device may be discolored or cracked, , It is advantageous to secure the light extraction efficiency to emit light to the six surfaces of the light emitting element.
  • the present invention is not limited to this, and the area of the third reflective layer 2163 may be set to more than 0% and less than 10% of the entire upper surface of the light emitting device 2100 The area of the third reflective layer 2163 may be greater than 25% to 100% of the entire upper surface of the light emitting device 2100 in order to further secure the effect of preventing discoloration or cracking in the package body. . ≪ / RTI >
  • the light emitting structure 1110 may be formed as a second region provided between the first bonding portion 2171 or the second bonding portion 2172 adjacent to the long side of the light emitting device 2100, The light can be transmitted and emitted.
  • light generated in the light emitting structure may be incident on the third region provided between the first bonding portion 2171 or the second bonding portion 2172 adjacent to the short axis of the light emitting device 2100, And can be transmitted and discharged.
  • the size of the first reflective layer 2161 may be several micrometers larger than the size of the first bonding portion 2171.
  • the area of the first reflective layer 2161 may be sufficiently large to cover the area of the first bonding portion 2171.
  • the length of one side of the first reflective layer 2161 may be greater than the length of one side of the first bonding portion 2171 by about 4 micrometers to 10 micrometers, for example.
  • the size of the second reflective layer 2162 may be several micrometers larger than the size of the second bonding portion 2172.
  • the area of the second reflective layer 2162 may be sufficiently large to cover the area of the second bonding portion 2172.
  • the length of one side of the second reflective layer 2162 may be greater than the length of one side of the second bonding portion 2172 by about 4 micrometers to 10 micrometers, for example.
  • the light emitted from the light emitting structure 1110 may be transmitted through the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 by the first reflective layer 2161 and the second reflective layer 2162. [ The light can be reflected without being incident on the light source. Thus, according to the embodiment, light generated and emitted from the light emitting structure 1110 can be minimized by being incident on the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172.
  • the third reflective layer 2163 is disposed between the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172, 2171 and the second bonding portion 2172 of the first bonding portion 2172 and the second bonding portion 2172, respectively.
  • the light emitting device 2100 may be mounted, for example, in a flip chip bonding manner to provide a light emitting device package.
  • the package body on which the light emitting device 2100 is mounted is provided by resin or the like, strong light of a short wavelength emitted from the light emitting device 2100 in the lower region of the light emitting device 2100 causes discoloration Or cracks may occur.
  • the amount of light emitted between the regions where the first bonding portion 2171 and the second bonding portion 2172 are disposed can be adjusted, Can be prevented from being discolored or cracked.
  • the light emitting device 2100 having the first bonding portion 2171, the second bonding portion 2172 and the third reflective layer 2163 may be formed on the upper surface of the upper surface of the light emitting device 2100, Light generated in the structure 1110 can be transmitted and emitted.
  • the light extraction efficiency can be improved and the light intensity Po can be increased.
  • the transparent electrode layer 2130 may be provided with a plurality of contact holes C1, C2, and C3.
  • the second conductivity type semiconductor layer 1113 and the reflective layer 2160 may be bonded to each other through the plurality of contact holes C1, C2, and C3 provided in the transmissive electrode layer 2130.
  • the reflective layer 2160 can be in direct contact with the second conductive type semiconductor layer 1113 so that the adhesive force can be improved as compared with the case where the reflective layer 2160 is in contact with the transparent electrode layer 2130.
  • the bonding force or adhesive force between the reflective layer 2160 and the transmissive electrode layer 2130 may be weakened.
  • the bonding force or adhesion between the materials may be weakened.
  • peeling may occur between the two layers. If peeling occurs between the reflective layer 2160 and the transparent electrode layer 2130, the characteristics of the light emitting device 2100 may deteriorate and the reliability of the light emitting device 2100 can not be secured.
  • the reflective layer 2160 can directly contact the second conductive type semiconductor layer 1113, the reflective layer 2160, the transparent electrode layer 2130, (1113) can be stably provided.
  • the coupling force between the reflective layer 2160 and the second conductive type semiconductor layer 1113 can be stably provided, it is possible to prevent the reflective layer 2160 from being peeled off from the transparent electrode layer 2130 .
  • the bonding force between the reflective layer 2160 and the second conductive type semiconductor layer 1113 can be stably provided, the reliability of the light emitting device 2100 can be improved.
  • the transparent electrode layer 2130 may be provided with a plurality of contact holes C1, C2, and C3.
  • Light emitted from the active layer 1112 may be incident on the reflective layer 2160 through the plurality of contact holes C1, C2, and C3 provided in the transmissive electrode layer 2130 and may be reflected. Accordingly, the light generated in the active layer 1112 is incident on the light-transmitting electrode layer 2130 to be lost, and the light extraction efficiency can be improved. Accordingly, the luminous intensity of the light emitting device 2100 according to the embodiment can be improved.
  • FIG. 16 is a plan view illustrating electrode arrangement of a light emitting device applied to a light emitting device package according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 17 is a cross-sectional view taken along the line F-F of the light emitting device shown in FIG.
  • the first electrode 127 may include a first bonding portion 121 and a first branched electrode 125.
  • the second electrode 128 may include a second bonding portion 122 and a second branched electrode 126.
  • the light emitting device may include the light emitting structure 123 disposed on the substrate 124, as shown in FIGS.
  • the substrate 124 may be selected from the group consisting of a sapphire substrate (Al 2 O 3 ), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP and Ge.
  • the substrate 124 may be provided as a patterned sapphire substrate (PSS) having a concavo-convex pattern formed on its upper surface.
  • PSS patterned sapphire substrate
  • the light emitting structure 123 may include a first conductive semiconductor layer 123aa, an active layer 123b, and a second conductive semiconductor layer 123c.
  • the active layer 123b may be disposed between the first conductive semiconductor layer 123a and the second conductive semiconductor layer 123c.
  • the active layer 123b may be disposed on the first conductive semiconductor layer 123a
  • the second conductive semiconductor layer 123c may be disposed on the active layer 123b.
  • the first conductive semiconductor layer 123a may be provided as an n-type semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer 123c may be provided as a p-type semiconductor layer.
  • the first conductive semiconductor layer 123a may be provided as a p-type semiconductor layer
  • the second conductive semiconductor layer 123c may be provided as an n-type semiconductor layer.
  • the light emitting device may include a first electrode 127 and a second electrode 128, as shown in FIGS.
  • the first electrode 127 may include a first bonding portion 121 and a first branched electrode 125.
  • the first electrode 127 may be electrically connected to the second conductive semiconductor layer 123c.
  • the first branched electrodes 125 may be branched from the first bonding portion 121.
  • the first branched electrode 125 may include a plurality of branched electrodes branched from the first bonding portion 121.
  • the second electrode 128 may include a second bonding portion 122 and a second branched electrode 126.
  • the second electrode 128 may be electrically connected to the first conductive semiconductor layer 123a.
  • the second branched electrode 126 may be branched from the second bonding portion 122.
  • the second branched electrode 126 may include a plurality of branched electrodes branched from the second bonding portion 122.
  • the first branched electrode 125 and the second branched electrode 126 may be arranged to be shifted from each other in a finger shape.
  • the power supplied through the first bonding portion 121 and the second bonding portion 122 by the first branched electrode 125 and the second branched electrode 126 is supplied to the entire light emitting structure 123 It can be spread and provided.
  • the first electrode 127 and the second electrode 128 may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
  • the first electrode 127 and the second electrode 128 may be ohmic electrodes.
  • the first electrode 127 and the second electrode 128 may be formed of a metal such as ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx / ITO, Ni / IrOx / Au, and Ni / IrOx / , At least one of Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au and Hf or an alloy of two or more of them.
  • the light emitting structure 123 may further include a protective layer.
  • the protective layer may be provided on the upper surface of the light emitting structure 123. Further, the protective layer may be provided on a side surface of the light emitting structure 123. The protective layer may be provided so that the first bonding part 121 and the second bonding part 122 are exposed. In addition, the protective layer may be selectively provided on the periphery and the bottom surface of the substrate 124.
  • the protective layer may be provided as an insulating material.
  • the protective layer can be made of Si x O y , SiO x N y , Si x N y , Al x O y , or the like.
  • light generated in the active layer 123b may be emitted in six directions of the light emitting device.
  • Light generated in the active layer 123b may be emitted in six directions through the upper and lower surfaces of the light emitting device.
  • the vertical direction of the light-emitting device described with reference to Figs. 1 to 13 and the vertical direction of the light-emitting device shown in Figs. 16 and 17 are shown opposite to each other.
  • the sum of the areas of the first and second bonding portions 121 and 122 may be 10% or less based on the area of the top surface of the substrate 124.
  • the sum of the areas of the first and second bonding portions 121 and 122 may be greater than the sum of the areas of the first and second bonding portions 121 and 122.
  • the sum of the areas of the first and second bonding portions 121 and 122 may be 0.7% or more based on the area of the top surface of the substrate 124.
  • the sum of the areas of the first and second bonding parts 121 and 122 is set to be larger than the area of the top surface of the substrate 124 To 0.7% or more.
  • the width of the first bonding portion 121 along the major axis direction of the light emitting device may be several tens of micrometers.
  • the width of the first bonding portion 121 may be, for example, 70 micrometers to 90 micrometers.
  • the area of the first bonding portion 121 may be several thousand square micrometers.
  • the width of the second bonding portion 122 along the major axis direction of the light emitting device may be several tens of micrometers.
  • the width of the second bonding portion 122 may be, for example, 70 micrometers to 90 micrometers.
  • the area of the second bonding portion 122 may be several thousand square micrometers.
  • the amount of light transmitted to the lower surface of the light emitting device 120 can be increased.
  • Embodiments can provide a light emitting device package, a method of manufacturing a light emitting device package, and a light source device that can significantly improve brightness by arranging a reflective layer uniformly in a light emitting device package in a light emitting device package.
  • the process efficiency is improved and a new package structure is presented, which is advantageous in that the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing yield can be improved.
  • the embodiment has an advantage that the reflector can be prevented from being discolored by providing the body having high reflectance, thereby improving the reliability of the light emitting device package.
  • the light emitting device package according to the embodiment can be applied to a light source device.
  • the light source device may include a display device, a lighting device, a head lamp, and the like depending on an industrial field.
  • An example of the light source device includes a bottom cover, a reflector disposed on the bottom cover, a light emitting module that emits light and includes a light emitting element, a light emitting module disposed in front of the reflector,
  • An optical sheet including a light guide plate, prism sheets disposed in front of the light guide plate, a display panel disposed in front of the optical sheet, an image signal output circuit connected to the display panel and supplying an image signal to the display panel, And may include a color filter disposed in front thereof.
  • the bottom cover, the reflection plate, the light emitting module, the light guide plate, and the optical sheet may form a backlight unit.
  • the display device may have a structure in which light emitting elements emitting red, green, and blue light are disposed, respectively, without including a color filter.
  • the head lamp includes a light emitting module including a light emitting device package disposed on a substrate, a reflector that reflects light emitted from the light emitting module in a predetermined direction, for example, forward, A lens that refracts light forward, and a shade that reflects off a portion of the light that is reflected by the reflector and that is directed to the lens to provide the designer with a desired light distribution pattern.
  • a light emitting module including a light emitting device package disposed on a substrate, a reflector that reflects light emitted from the light emitting module in a predetermined direction, for example, forward, A lens that refracts light forward, and a shade that reflects off a portion of the light that is reflected by the reflector and that is directed to the lens to provide the designer with a desired light distribution pattern.
  • the lighting device which is another example of the light source device, may include a cover, a light source module, a heat sink, a power supply, an inner case, and a socket. Further, the light source device according to the embodiment may further include at least one of a member and a holder.
  • the light source module may include the light emitting device package according to the embodiment.

Abstract

실시예는 발광소자, 발광소자의 제조방법, 발광소자 패키지 및 조명장치에 관한 것이다. 실시예에 따른 발광소자 패키지는 프레임(111,112)과 몸체를 포함하는 패키지 몸체(110); 제1, 제2 본딩부(121, 122)를 포함하여 상기 몸체 상에 배치되는 발광소자; 상기 몸체는 캐비티(C)를 구비하고, 상기 발광소자와 상기 캐비티(C)의 측면 사이에 배치되는 반사성 수지층; 상기 발광소자 상에 투광성 수지층; 상기 발광소자와 이격되어 상기 투광성 수지층 상에 배치되는 형광체층;을 포함할 수 있다.

Description

발광소자 패키지 및 이를 포함하는 조명장치
실시예는 반도체 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 발광소자, 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 조명장치에 관한 것이다.
GaN, AlGaN 등의 화합물을 포함하는 반도체 소자는 넓고 조정이 용이한 밴드 갭 에너지를 가지는 등의 많은 장점을 가져서 발광 소자, 수광 소자 및 각종 다이오드 등으로 다양하게 사용될 수 있다.
특히, 3족-5족 또는 2족-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Light Emitting Diode)나 레이저 다이오드(Laser Diode)와 같은 발광소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 파장 대역의 빛을 구현할 수 있는 장점이 있다. 또한, 3족-5족 또는 2족-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드나 레이저 다이오드와 같은 발광소자는, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광원도 구현이 가능하다. 이러한 발광소자는, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저 소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경 친화성의 장점을 가진다.
뿐만 아니라, 광검출기나 태양 전지와 같은 수광 소자도 3족-5족 또는 2족-6족 화합물 반도체 물질을 이용하여 제작하는 경우 소자 재료의 개발로 다양한 파장 영역의 빛을 흡수하여 광 전류를 생성함으로써 감마선부터 라디오 파장 영역까지 다양한 파장 영역의 빛을 이용할 수 있다. 또한, 이와 같은 수광 소자는 빠른 응답속도, 안전성, 환경 친화성 및 소자 재료의 용이한 조절의 장점을 가져 전력 제어 또는 초고주파 회로나 통신용 모듈에도 용이하게 이용될 수 있다.
따라서, 반도체 소자는 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등 및 가스(Gas)나 화재를 감지하는 센서 등에까지 응용이 확대되고 있다. 또한, 반도체 소자는 고주파 응용 회로나 기타 전력 제어 장치, 통신용 모듈에까지 응용이 확대될 수 있다.
발광소자(Light Emitting Device)는 예로서 주기율표상에서 3족-5족 원소 또는 2족-6족 원소를 이용하여 전기에너지가 빛 에너지로 변환되는 특성의 p-n 접합 다이오드로 제공될 수 있고, 화합물 반도체의 조성비를 조절함으로써 다양한 파장 구현이 가능하다.
예를 들어, 질화물 반도체는 높은 열적 안정성과 폭 넓은 밴드갭 에너지에 의해 광소자 및 고출력 전자소자 개발 분야에서 큰 관심을 받고 있다. 특히, 질화물 반도체를 이용한 청색(Blue) 발광소자, 녹색(Green) 발광소자, 자외선(UV) 발광소자, 적색(RED) 발광소자 등은 상용화되어 널리 사용되고 있다.
예를 들어, 자외선 발광소자의 경우, 200nm~400nm의 파장대에 분포되어 있는 빛을 발생하는 발광 다이오드로서, 상기 파장대역에서, 단파장의 경우, 살균, 정화 등에 사용되며, 장파장의 경우 노광기 또는 경화기 등에 사용될 수 있다.
자외선은 파장이 긴 순서대로 UV-A(315nm~400nm), UV-B(280nm~315nm), UV-C (200nm~280nm) 세 가지로 나뉠 수 있다. UV-A(315nm~400nm) 영역은 산업용 UV 경화, 인쇄 잉크 경화, 노광기, 위폐 감별, 광촉매 살균, 특수조명(수족관/농업용 등) 등의 다양한 분야에 응용되고 있고, UV-B(280nm~315nm) 영역은 의료용으로 사용되며, UV-C(200nm~280nm) 영역은 공기 정화, 정수, 살균 제품 등에 적용되고 있다.
한편, 종래기술에서는 발광소자 패키지에서 광변환층, 예를 들어 형광체층을 구비하여 다양한 색의 구현이 가능하다.
한편, 종래기술에서는 형광체층이 발광소자와 인접하는 경우, 형광체층의 열화에 따라 형광체층의 광변환 성능이 저하되는 문제가 있으므로, 형광체층을 발광소자와 이격시켜 배치하는 기술(소위 리모트 형광체 기술)이 연구되고 있다.
아울러, 종래기술에서는 광휘도 향상을 위해 발광소자 패키지의 캐비티 내에 반사층을 배치하는 기술이 연구되고 있는데, 이러한 반사층 기술과 리모드 형광체 기술이 유기적으로 결합되는 경우, 광휘도가 매우 향상되는 연구결과가 있다.
그러나, 종래기술에서 반사층을 발광소자 패키지에서 발광소자 주의에 균일하게 배치하데 기술적 어려움이 있으므로 광휘도 향상에 한계가 있는 실정이다.
또한, 종래기술에서는 고 출력을 제공할 수 있는 반도체 소자가 요청됨에 따라 고 전원을 인가하여 출력을 높일 수 있는 반도체 소자에 대한 연구가 진행되고 있으나 적절한 해결방안이 미비한 상태이다.
또한, 반도체 소자 패키지에 있어, 반도체 소자의 광 추출 효율을 향상시키고, 패키지 단에서의 광도를 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
또한, 반도체 소자 패키지에 있어, 패키지 전극과 반도체 소자 간의 본딩 결합력을 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
또한, 반도체 소자 패키지에 있어, 공정 효율 향상 및 구조 변경을 통하여 제조 단가를 줄이고 제조 수율을 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
실시예는 발광소자 패키지에서 광휘도를 현저히 향상시킬 수 있는 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법, 광원 장치를 제공하고자 한다.
실시예는 광 추출 효율 및 전기적 특성을 향상시킬 수 있는 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법, 광원 장치를 제공하고자 한다.
실시예는 공정 효율을 향상시키고 새로운 패키지 구조를 제시하여 제조 단가를 줄이고 제조 수율을 향상시킬 수 있는 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법, 광원 장치를 제공하고자 한다.
실시예는 발광소자 패키지가 기판 등에 재 본딩되는 과정에서 발광소자 패키지의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되는 것을 방지할 수 있는 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법을 제공하고자 한다.
실시예에 따른 발광소자 패키지는, 제1 관통홀을 포함하는 제1 프레임; 상기 제1 프레임과 이격되고, 제2 관통홀을 포함하는 제2 프레임; 상기 제1 및 제2 프레임을 지지하고, 캐비티를 포함하는 몸체; 상기 캐비티 내에 배치되는 발광소자; 상기 몸체와 상기 발광소자 사이에 배치되는 접착층; 상기 캐비티의 측면에 배치되는 반사층; 상기 반사층 상에 배치되고, 상기 발광소자를 에워싸는 투광층; 상기 투광층 상에 배치되는 형광체층;을 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 관통홀은 상기 발광소자와 서로 중첩되고, 상기 몸체는 상기 제1 및 제2 관통홀 사이에 리세스를 포함하고, 상기 접착층은 상기 리세스에 배치될 수 있다.
상기 투광층은 투광성 수지층일 수 있다. 상기 반사층은 반사성 수지층일 수 있다.
또한 실시예에 따른 발광소자 패키지는, 프레임(111,112)과 몸체(113)를 포함하는 패키지 몸체(110); 제1, 제2 본딩부(121, 122)를 포함하여 상기 몸체(113) 상에 배치되는 발광소자(120); 상기 몸체(113)는 캐비티(C)를 구비하고, 상기 발광소자(120)와 상기 캐비티(C)의 측면 사이에 배치되는 반사성 수지층(170); 상기 발광소자(120) 상에 투광성 수지층(160); 상기 발광소자(120)와 이격되어 상기 투광성 수지층(160) 상에 배치되는 형광체층(180);을 포함할 수 있다.
실시예에 따른 조명장치는 상기 발광소자 패키지를 포함할 수 있다.
실시예는 발광소자 패키지에서 발광소자 주의에 반사층을 균일하게 배치함으로써 광휘도를 현저히 향상시킬 수 있는 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법, 광원 장치를 제공할 수 있다.
실시예에 의하면, 광 추출 효율 및 전기적 특성과 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
실시예에 의하면, 공정 효율을 향상시키고 새로운 패키지 구조를 제시하여 제조 단가를 줄이고 제조 수율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
실시예는 반사율이 높은 몸체를 제공함으로써, 반사체가 변색되지 않도록 방지할 수 있어 발광소자 패키지의 신뢰성을 개선할 수 있는 장점이 있다.
실시예에 의하면, 발광소자 패키지가 기판 등에 재 본딩되는 과정에서 발광소자 패키지의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되는 것을 방지할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지의 평면도이다
도 2는 도 1에 도시된 발광소자 패키지의 저면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 발광소자 패키지의 D-D 선에 따른 단면도이다.
도 4 내지 도 11은 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지 제조방법을 설명하는 도면이다.
도 12는 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지가 회로기판 상에 배치된 단면도이다.
도 13은 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지의 또 다른 예를 나타낸 도면이다.
도 14는 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지에 적용된 발광소자를 설명하는 평면도이다.
도 15는 도 14에 도시된 발광소자의 A-A 선에 따른 단면도이다.
도 16는 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지에 적용된 발광소자의 다른 예를 설명하는 평면도이다.
도 17은 도 16에 도시된 발광소자의 F-F 선에 따른 단면도이다.
이하 상기의 과제를 해결하기 위한 구체적으로 실현할 수 있는 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.
실시예의 설명에 있어서, 각 element의 " 상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두 개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"으로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.
반도체 소자는 발광소자, 수광 소자 등 각종 전자 소자 포함할 수 있으며, 발광소자와 수광소자는 모두 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함할 수 있다.
본 실시예에 따른 반도체 소자는 발광소자일 수 있다.
발광소자는 전자와 정공이 재결합함으로써 빛을 방출하게 되고, 이 빛의 파장은 물질 고유의 에너지 밴드갭에 의해서 결정된다. 따라서, 방출되는 빛은 상기 물질의 조성에 따라 다를 수 있다.
(실시예)
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)의 평면도이며, 도 2는 도 1에 도시된 발광소자 패키지의 저면도이다. 도 3은 도 1에 도시된 발광소자 패키지의 D-D 선에 따른 단면도이다.
도 1을 참조하면, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 패키지 몸체(110)와 발광소자(120)를 포함할 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 제1 프레임(111)과 제2 프레임(112)을 포함할 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 몸체(113)를 포함할 수 있다. 상기 몸체(113)는 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112) 사이에 배치될 수 있다. 상기 몸체(113)는 일종의 전극 분리선의 기능을 수행할 수 있다. 상기 몸체(113)는 절연부재로 지칭될 수도 있다.
도 2를 참조하면, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 제1 하부 리세스(R11)와 제2 하부 리세스(R12)를 포함할 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)와 상기 제2 하부 리세스(R12)는 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 하부 리세스(R11)는 상기 제1 프레임(111)의 하면에 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)는 상기 제1 프레임(111)의 하면에서 상면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)는 상기 제1 개구부(TH1)로부터 이격되어 배치될 수 있다.
또한, 상기 제2 하부 리세스(R12)는 상기 제2 프레임(112)의 하면에 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)는 상기 제2 프레임(112)의 하면에서 상면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)는 상기 제2 개구부(TH2)로부터 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)와 제2 개구부(TH2)에는 각각 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)이 배치될 수 있다.
도 3은 도 1에 도시된 발광소자 패키지의 D-D 선에 따른 단면도이며, 도 4 내지 도 11은 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지 제조방법을 설명하는 도면이다.
이하 도 3을 중심으로 설명하되, 필요시 도 4 내지 도 11도 함께 참조하여 설명하기로 한다.
<패키지 몸체(몸체, 제1 프레임, 제2 프레임), 발광소자>
실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 패키지 몸체(110), 발광소자(120)를 포함할 수 있다.
도 4를 참조하면, 상기 패키지 몸체(110)는 제1 프레임(111)과 제2 프레임(112)을 포함할 수 있다. 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 몸체(113)를 포함할 수 있다. 상기 몸체(113)는 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112) 사이에 배치될 수 있다. 상기 몸체(113)는 일종의 전극 분리선의 기능을 수행할 수 있다. 상기 몸체(113)는 절연부재로 지칭될 수도 있다.
상기 몸체(113)는 상기 제1 프레임(111) 위에 배치될 수 있다. 또한, 상기 몸체(113)는 상기 제2 프레임(112) 위에 배치될 수 있다.
상기 몸체(113)는 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112) 위에 배치된 경사면을 제공할 수 있다. 상기 몸체(113)의 경사면에 의하여 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112) 위에 캐비티(C)가 제공될 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 패키지 몸체(110)는 캐비티(C)가 있는 구조로 제공될 수도 있으며, 캐비티(C) 없이 상면이 평탄한 구조로 제공될 수도 있다.
예로서, 상기 몸체(113)는 폴리프탈아미드(PPA: Polyphthalamide), PCT(Polychloro Tri phenyl), LCP(Liquid Crystal Polymer), PA9T(Polyamide9T), 실리콘, 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC: Epoxy molding compound), 실리콘 몰딩 컴파운드(SMC), 세라믹, PSG(photo sensitive glass), 사파이어(Al2O3) 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나로 형성될 수 있다. 또한, 상기 몸체(113)는 TiO2와 SiO2와 같은 고굴절 필러를 포함할 수 있다.
다음으로, 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 도전성 프레임으로 제공될 수도 있다. 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 상기 패키지 몸체(110)의 구조적인 강도를 안정적으로 제공할 수 있으며, 상기 발광소자(120)에 전기적으로 연결될 수 있다.
다시 도 3을 참조하면, 실시예에 의하면, 상기 발광소자(120)는 제1 본딩부(121), 제2 본딩부(122), 발광 구조물(123), 기판(124)을 포함할 수 있다.
상기 발광 구조물(123)은 제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 제1 도전형 반도체층과 제2 도전형 반도체층 사이에 배치된 활성층을 포함할 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)는 상기 제1 도전형 반도체층과 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 제2 본딩부(122)는 상기 제2 도전형 반도체층과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 발광소자(120)는 상기 패키지 몸체(110) 위에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)는 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112) 위에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(120)는 상기 패키지 몸체(110)에 의해 제공되는 상기 캐비티(C) 내에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에 배치될 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광소자(120)의 하부 면에서 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 제1 프레임(111) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 제2 프레임(112) 위에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 발광 구조물(123)과 상기 제1 프레임(111) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 발광 구조물(123)과 상기 제2 프레임(112) 사이에 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)는 Ti, Al, Sn, In, Ir, Ta, Pd, Co, Cr, Mg, Zn, Ni, Si, Ge, Ag, Ag alloy, Au, Hf, Pt, Ru, Rh, ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, Ni/IrOx/Au/ITO를 포함하는 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 물질 또는 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다.
한편, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 개구부(TH1)와 제2 개구부(TH2)를 포함할 수 있다. 상기 제1 프레임(111)은 상기 제1 개구부(TH1)를 포함할 수 있다. 상기 제2 프레임(112)은 상기 제2 개구부(TH2)를 포함할 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 프레임(111)에 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 프레임(111)을 관통하여 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 프레임(111)의 상면과 하면을 제1 방향으로 관통하여 제공될 수 있다.
도 3을 참조하면, 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 프레임(111)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)는 상기 제1 개구부(TH1) 상에 배치될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제2 프레임(112)에 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제2 프레임(112)을 관통하여 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제2 프레임(112)의 상면과 하면을 제1 방향으로 관통하여 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제2 프레임(112)의 상면에서 하면으로 향하는 제1 방향으로 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 중첩되어 제공될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)는 상기 제2 개구부(TH2) 상에 배치될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 발광소자(120)의 하부 면 아래에서 서로 이격되어 배치될 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭(W1)이 상기 제1 본딩부(121)의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭이 상기 제2 본딩부(122)의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다.
따라서, 상기 발광소자(120)의 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제1 프레임(111)이 더 견고하게 부착될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(120)의 상기 제2 본딩부(122)와 상기 제2 프레임(112)이 더 견고하게 부착될 수 있다.
또한, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭(W1)이 상기 제1 개구부(TH1)의 하부 영역의 폭(W2)에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭이 상기 제2 개구부(TH2)의 하부 영역의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 상기 제1 프레임(111)의 상면에 인접하여 배치된 상부 영역 및 상기 제1 프레임(111)의 하면에 인접하여 배치된 하부 영역을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역 둘레는 상기 제1 개구부(TH1)의 하부 영역 둘레보다 작게 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)는 제1 방향의 둘레가 제일 작은 제1 지점을 포함하고, 상기 제1 지점은 상기 제1 방향과 수직한 방향을 기준으로 상기 제1 개구부(TH1)의 하부 영역 보다 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역에 더 가깝게 배치될 수 있다.
또한, 상기 제2 개구부(TH2)는 상기 제2 프레임(112)의 상면에 인접하여 배치된 상부 영역 및 상기 제2 프레임(112)의 하면에 인접하여 배치된 하부 영역을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역 둘레는 상기 제2 개구부(TH2)의 하부 영역 둘레보다 작게 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)는 제1 방향의 둘레가 제일 작은 제1 지점을 포함하고, 상기 제1 지점은 상기 제1 방향과 수직한 방향을 기준으로 상기 제2 개구부(TH2)의 하부 영역 보다 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역에 더 가깝게 배치될 수 있다.
도 4에 도시된 발광소자 패키지는, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)를 형성하는 공정에서, 상기 제1 및 제2 리드 프레임(111, 112)의 상면 방향과 하면 방향에서 식각이 각각 수행된 경우를 나타낸 것이다.
상기 제1 및 제2 리드 프레임(111, 112)의 상면 방향과 하면 방향에서 각각 식각이 진행됨에 따라, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)의 형상이 일종의 눈사람 형상으로 제공될 수 있다.
상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)는 하부 영역에서 중간 영역으로 가면서 폭이 점차적으로 증가되다가 다시 감소될 수 있다. 또한, 폭이 감소된 중간 영역에서 다시 상부 영역으로 가면서 폭이 점차적으로 증가되다가 다시 감소될 수 있다.
앞에서 설명된 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)의 제1 지점은 눈사람 형상에서 개구부의 크기가 하부 영역에서 상부 영역으로 가면서 작아졌다가 다시 커지는 경계 영역을 지칭할 수 있다.
상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)는 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112) 각각의 상면에 배치된 제1 영역, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112) 각각의 하면에 배치된 제2 영역을 포함할 수 있다. 상기 제1 영역의 상면의 폭은 상기 제2 영역의 하면의 폭 보다 작게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)은 지지부재와 상기 지지부재를 감싸는 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)을 포함할 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)를 형성하는 식각 공정이 완료된 후, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)을 구성하는 상기 지지부재에 대한 도금 공정 등을 통하여 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)이 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)을 구성하는 지지부재의 표면에 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)이 형성될 수 있다.
상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)은 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 상면 및 하면에 제공될 수 있다. 또한, 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)은 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)와 접하는 경계 영역에 제공될 수도 있다.
한편, 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)와 접하는 경계 영역에 제공된 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)은 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)에 제공되는 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 결합되어 제1 및 제2 합금층(111b, 112b)으로 형성될 수 있다. 상기 제1 및 제2 합금층(111b, 112b)의 형성에 대해서는 뒤에서 더 설명하기로 한다.
예로서, 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)은 기본 지지부재로서 Cu층으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)은 Ni층, Ag층 등에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)이 Ni층을 포함하는 경우, Ni층은 열 팽창에 대한 변화가 작으므로, 패키지 몸체가 열 팽창에 의하여 그 크기 또는 배치 위치가 변화되는 경우에도, 상기 Ni층에 의하여 상부에 배치된 발광소자의 위치가 안정적으로 고정될 수 있게 된다. 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)이 Ag층을 포함하는 경우, Ag층은 상부에 배치된 발광소자에서 발광되는 빛을 효율적으로 반사시키고 광도를 향상시킬 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 광 추출 효율을 개선하기 위해 발광소자(120)의 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 크기를 작게 배치하는 경우, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭이 상기 제1 본딩부(121)의 폭에 비해 더 크거나 같게 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭이 상기 제2 본딩부(122)의 폭에 비해 더 크거나 같게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭이 상기 제1 개구부(TH1)의 하부 영역의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭이 상기 제2 개구부(TH2)의 하부 영역의 폭에 비해 작거나 같게 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭은 수십 마이크로 미터 내지 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제1 개구부(TH1)의 하부 영역의 폭은 상기 제1 개구부(TH1)의 상부 영역의 폭에 비하여 수십 마이크로 미터 내지 수백 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭은 수십 마이크로 미터 내지 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 개구부(TH2)의 하부 영역의 폭은 상기 제2 개구부(TH2)의 상부 영역의 폭에 비하여 수십 마이크로 미터 내지 수백 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다.
상기 제1 프레임(111) 및 상기 제2 프레임(112)의 하면 영역에서 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2) 사이의 폭(W3)은 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 제1 프레임(111) 및 상기 제2 프레임(112)의 하면 영역에서 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2) 사이의 폭(W3)은 예로서 100 마이크로 미터 내지 150 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
상기 제1 프레임(111) 및 상기 제2 프레임(112)의 하면 영역에서 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2) 사이의 폭(W3)은, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)가 추후 회로기판, 서브 마운트 등에 실장되는 경우에, 패드 간의 전기적인 단락(short)이 발생되는 것을 방지하기 위하여 일정 거리 이상으로 제공되도록 선택될 수 있다.
도 3 및 도 5와 같이, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는 제1 수지층(130)을 포함할 수 있다.
상기 제1 수지층(130)은 상기 몸체(113)와 상기 발광소자(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지층(130)은 상기 몸체(113)의 상면과 상기 발광소자(120)의 하면 사이에 배치될 수 있다.
또한, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 3, 도 4에 도시된 바와 같이, 리세스(R)를 포함할 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 몸체(113)에 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 제1 개구부(TH1)와 상기 제2 개구부(TH2) 사이에 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 몸체(113)의 상면에서 하면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 아래에 배치될 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120)와 상기 제1 방향에서 중첩되어 제공될 수 있다.
예로서, 도 5 및 도 6과 같이 상기 제1 수지층(130)은 상기 리세스(R)에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지층(130)은 상기 발광소자(120)와 상기 몸체(113) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제1 수지층(130)은 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제1 수지층(130)은 상기 제1 본딩부(121)의 측면과 상기 제2 본딩부(122)의 측면에 접촉되어 배치될 수 있다.
상기 제1 수지층(130)은 상기 발광소자(120)와 상기 패키지 몸체(110) 간의 안정적인 고정력을 제공할 수 있다. 상기 제1 수지층(130)은 상기 발광소자(120)와 상기 몸체(113) 간의 안정적인 고정력을 제공할 수 있다. 상기 제1 수지층(130)은 예로서 상기 몸체(113)의 상면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 또한, 상기 제1 수지층(130)은 상기 발광소자(120)의 하부 면에 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
예로서, 상기 제1 수지층(130)은 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한 예로서, 상기 제1 수지층(130)가 반사 기능을 포함하는 경우 상기 접착제는 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수 있다.
상기 제1 수지층(130)은 상기 몸체(113)와 상기 발광소자(120) 간의 안정적인 고정력을 제공할 수 있고, 상기 발광소자(120)의 하면으로 광이 방출되는 경우, 상기 발광소자(120)와 상기 몸체(113) 사이에서 광 확산 기능을 제공할 수 있다. 상기 발광소자(120)로부터 상기 발광소자(120)의 하면으로 광이 방출될 때 상기 제1 수지층(130)은 광 확산 기능을 제공함으로써 상기 발광소자 패키지(100)의 광 추출 효율을 개선할 수 있다. 또한, 상기 제1 수지층(130)은 상기 발광소자(120)에서 방출하는 광을 반사할 수 있다. 상기 제1 수지층(130)가 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 제1 수지층(130)은 TiO2, SiO2 등을 포함하는 물질로 구성될 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 리세스(R)의 깊이(T1)는 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이(T2) 또는 상기 제2 개구부(TH2)의 깊이(T2)에 비해 작게 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)의 깊이(T1)는 상기 제1 수지층(130)의 접착력을 고려하여 결정될 수 있다. 또한, 상기 리세스(R)이 깊이(T1)는 상기 몸체(113)의 안정적인 강도를 고려하거나 및/또는 상기 발광소자(120)에서 방출되는 열에 의해 상기 발광소자 패키지(100)에 크랙(crack)이 발생하지 않도록 결정될 수 있다.
상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120) 하부에 일종의 언더필(under fill) 공정이 수행될 수 있는 적정 공간을 제공할 수 있다. 여기서, 상기 언더필(Under fill) 공정은 발광소자(120)를 패키지 몸체(110)에 실장한 후 상기 제1 수지층(130)을 상기 발광소자(120) 하부에 배치하는 공정일 수 있고, 상기 발광소자(120)를 패키지 몸체(110)에 실장하는 공정에서 상기 제1 수지층(130)을 통해 실장하기 위해 상기 제1 수지층(130)을 상기 리세스(R)에 배치 후 상기 발광소자(120)를 배치하는 공정일 수 있다. 상기 리세스(R)는 상기 발광소자(120)의 하면과 상기 몸체(113)의 상면 사이에 상기 제1 수지층(130)가 충분히 제공될 수 있도록 제1 깊이 이상으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 리세스(R)는 상기 몸체(113)의 안정적인 강도를 제공하기 위하여 제2 깊이 이하로 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)의 깊이(T1)와 폭(W4)은 상기 제1 수지층(130)의 형성 위치 및 고정력에 영향을 미칠 수 있다. 상기 리세스(R)의 깊이(T1)와 폭(W4)은 상기 몸체(113)와 상기 발광소자(120) 사이에 배치되는 상기 제1 수지층(130)에 의하여 충분한 고정력이 제공될 수 있도록 결정될 수 있다.
예로서, 상기 리세스(R)의 깊이(T1)는 수십 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)의 깊이(T1)는 40 마이크로 미터 내지 60 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
또한, 상기 리세스(R)의 폭(W4)은 수십 마이크로 미터 내지 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 여기서, 상기 리세스(R)의 폭(W4)은 상기 발광소자(120)의 장축 방향으로 제공될 수 있다.
상기 리세스(R)의 폭(W4)은 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122) 간의 간격에 비해 좁게 제공될 수 있다. 상기 리세스(R)의 폭(W4)은 140 마이크로 미터 내지 160 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 리세스(R)의 폭(W4)은 150 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)의 깊이(T2)는 상기 제1 프레임(111)의 두께에 대응되어 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이(T2)는 상기 제1 프레임(111)의 안정적인 강도를 유지할 수 있는 두께로 제공될 수 있다.
상기 제2 개구부(TH2)의 깊이(T2)는 상기 제2 프레임(112)의 두께에 대응되어 제공될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)의 깊이(T2)는 상기 제2 프레임(112)의 안정적인 강도를 유지할 수 있는 두께로 제공될 수 있다.
상기 제1 개구부(TH1)의 깊이(T2) 및 상기 제2 개구부(TH2)의 깊이(T2)는 상기 몸체(113)의 두께에 대응되어 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이(T2) 및 상기 제2 개구부(TH2)의 깊이(T2)는 상기 몸체(113)의 안정적인 강도를 유지할 수 있는 두께로 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이(T2)는 수백 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이(T2)는 180 마이크로 미터 내지 220 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 제1 개구부(TH1)의 깊이(T2)는 200 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
예로서, 상기 (T2-T1)의 두께는 적어도 100 마이크로 미터 이상으로 선택될 수 있다. 이는 상기 몸체(113)의 크랙 프리(crack free)를 제공할 수 있는 사출 공정 두께가 고려된 것이다.
실시예에 의하면, T1 두께와 T2 두께의 비(T2/T1)는 2 내지 10으로 제공될 수 있다. 예로서, T2의 두께가 200 마이크로 미터로 제공되는 경우, T1의 두께는 20 마이크로 미터 내지 100 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
<투광성 수지층, 반사성 수지층, 형광체층>
또한, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 3 및 도 6, 도 8에 도시된 바와 같이, 투광성 수지층(160)과 반사성 수지층(170)을 포함할 수 있다.
앞서 기술한 반와 같이, 종래기술에서는 형광체층이 발광소자와 인접하는 경우, 형광체층의 열화에 따라 형광체층의 광변환 성능이 저하되는 문제가 있으므로, 형광체층을 발광소자와 이격시켜 배치하는 기술(소위 리모트 형광체 기술)이 연구되고 있다.
아울러, 종래기술에서는 광휘도 향상을 위해 발광소자 패키지의 캐비티 내에 반사층을 배치하는 기술이 연구되고 있는데, 이러한 반사층 기술과 리모드 형광체 기술이 유기적으로 결합되는 경우, 광휘도가 매우 향상되는 연구결과가 있다.
그러나, 종래기술에서 반사층을 발광소자 패키지에서 발광소자 주의에 균일하게 배치하데 기술적 어려움이 있으므로 광휘도 향상에 한계가 있는 실정이다.
이에 실시예는 발광소자 패키지에서 발광소자 주의에 균일하게 반사층을 배치함으로써 광휘도를 현저히 향상시킬 수 있는 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법, 광원 장치를 제공하고자 함을 기술적 과제로 한다.
실시예에 의하면, 도 6과 같이, 상기 투광성 수지층(160)는, 상기 발광소자(120)와 이후 형성되는 형광체층(180) 사이에 배치되는 제1 투광성 수지층(162)를 포함할 수 있으며, 이에 따라 형광체층(180)과 발광소자(120)가 이격되어 형광체층의 열화를 방지할 수 있다.
실시예에서 상기 투광성 수지층(160)는 이후 형성되는 반사성 수지층(170)와 상기 발광소자(120) 사이에 배치되는 제2 투광성 수지층(161)를 포함할 수 있다. 상기 제2 투광성 수지층(161)은 상기 발광소자(120)의 측면에 균일하게 배치될 수 있다.
상기 투광성 수지층(160)은 광투광성 물질일 수 있고, 광확산 입자를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 투광성 수지층(160)은 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 투광성 수지층(160)은 클리어(Clear) 계열 실리콘(silicone) 또는 광확산 입자, 예를 들어 ZrO2, ZnO, Al2O3 등이 함유된 실리콘(Silicone)을 포함할 수 있다.
한편 종래기술에서 반사층을 상기 발광 소자 패키지에 배치할 때 상기 발광 소자의 표면이 친수성을 가지고 있을 경우, 반사층이 발광 소자의 표면에 넓게 확산될 수 있다.
따라서, 상기 발광 소자 표면에 넓게 배치된 반사층에 의해 상기 발광 소자가 방출하는 광이 상기 발광소자 패키지에서 추출되는 효율이 저하될 수 있다.
본 실시 예에서는 상기 반사성 수지층(170)이 상기 발광 소자(120)의 표면에 넓게 확산되는 것을 방지하기 위해 상기 투광성 수지층(160)을 배치 후 경화함으로써 상기 반사성 수지층(170)이 상기 발광 소자의 표면에 넓게 확산 것을 방지할 수 있고, 따라서 발광 소자 패키지의 광추출효율을 개선할 수 있다.
도 7a는 실시예에서 발광소자 상에 투광성 수지를 형성하는 공정 단면도이다.
실시예에 의하면 지지기판(190) 상에 발광소자(120)를 배치한다. 이후 상기 발광소자(120) 상에 투광성 수지층(160)을 형성한다. 상기 투광성 수지층(160)은 몰딩 또는 도팅(dotting) 공정으로 형성될 수 있다. 상기 투광성 수지층(160)은 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 투광성 수지층(160)은 클리어(Clear) 계열 실리콘(silicone) 또는 광확산 입자, 예를 들어 ZrO2, ZnO, Al2O3 등이 함유된 실리콘(Silicone)을 포함할 수 있다.
도 7b는 발광소자(120) 상에 투광성 수지층(160)이 형성된 사진이다.
이에 따라 기존 종래기술과 같이, 침강을 이용하는 구조와 달리, 실시예에 의하면, 투광성 수지층(160)이 발광소자 측면에 균일하게 형성될 수 있고, 이에 따라 도 6과 같이 180도 회전하여 플립 칩 형태로 실장되는 경우를 기준으로 할 때, 투광성 수지층(160)의 상부의 폭이 하부의 폭보다 넓게 확보될 수 있고, 그 측면 형상이 경사면이 러프니스 없이 플랫하게 형성됨으로써 광 반사효율이 향상됨으로써, 이후 설명하는 광 캐비티를 형성하는 특유의 효과가 있다.
다음으로, 도 8과 같이, 실시예는 반사성 수지층(170)을 포함할 수 있다.
상기 반사성 수지층(170)은 상기 발광소자(120)와 상기 캐비티(C) 측면에 배치되는 제1 반사성 수지층(170)을 포함할 수 있다. 아울러, 실시예는 상기 발광소자(120)의 제1,제2 본딩부와 상기 몸체(113) 사이에 배치되는 제2 반사성 수지(미도시)를 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 반사성 수지층(170)은 화이트 계열 실리콘(white silicone)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 기 반사성 수지층(170)은 실리콘에 TiO2, ZnO, Al2O3, BN 등을 포함하는 물질로 구성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 반사성 수지층(170)은 캐비티(C) 상측에서 갭필 공정으로 진행될 수 있다. 또는 상기 반사성 수지층(170)은 프레임에 형성된 제1 개구부(TH1) 또는 제2 개구부(TH2)를 통해 하측 갭필 공정을 통해 형성될 수 있다. 또는 상기 반사성 수지층(170)은 상측 갭필 공정과 하측 갭필 공정이 동시 진행되어 형성될 수도 있다.
종래기술은 광반사성 수지를 발광소자의 상면을 제외하고 측면에 끝이 잘린 콘 형상으로 형성의 어려움이 있었다. 이에 따라 광 캐비티(light cavity)의 구현의 어려움이 있었다.
그런데, 실시예에 의하면 반사성 수지층(170)을 발광소자 주의에 끝이 잘린 콘 형상으로 형성되도록 배치하여 확산 반사(diffusing Reflection)이 가능하여 광 캐비티(light cavity)의 구현함으로써 광의 휘도가 현저히 향상될 수 있다.
또한 종래기술은 광반사성 수지를 발광소자와 소정 거리 이격시키는 기술의 구현에 어려움이 있었다.
그런데 실시예는 발광소자 측면에 광투광성 수지층(160)을 균일한 측면을 구비하도록 배치함으로써 광반사성 수지층(170)이 발광소자(120)와 균일하게 이격배치되어 광 반사율을 현저히 향상시킬 수 있다.
다음으로, 도 9는 실시예에서 형광체층(180)이 형성되는 공정도이다. 상기 형광체층(180)은 상기 발광소자(120)로부터 방출되는 빛을 입사 받고, 파장 변환된 빛을 제공하는 파장변환 수단을 포함할 수 있다. 예로서, 상기 형광체층(180)은 형광체, 양자점 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 할 수 있다.
실시예에 의하면 반사성 수지층(170)을 발광소자 주의에 끝이 잘린 콘 형상으로 형성되도록 배치함과 아울러, 리모트 형광체층(180)과 유기적 결합을 통해 확산 반사(diffusing Reflection)가 매우 효과적으로 구현됨으로써 광 캐비티(light cavity)의 구현함으로써 광의 휘도가 현저히 향상될 수 있다.
<제1 도전층, 제2 도전층, 제1 및 제2 합금층>
또한, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 3 및 도 10에 도시된 바와 같이, 제1 도전층(321)과 제2 도전층(322)을 포함할 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제2 도전층(322)과 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 개구부(TH1)에 제공될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)의 폭은 상기 제1 본딩부(121)의 폭에 비해 더 작게 제공될 수 있다.
상기 제1 본딩부(121)는 상기 제1 개구부(TH1)가 형성된 제1 방향과 수직한 제2 방향의 폭을 가질 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)의 폭은 상기 제1 개구부(TH1)의 상기 제2 방향의 폭보다 더 크게 제공될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121)의 하면과 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 본딩부(121)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)은 상기 제1 프레임(111)에 의하여 둘러 싸이게 배치될 수 있다. 상기 제1 도전층(321)의 하면은 하부에서 상부 방향으로 오목한 형상으로 배치될 수 있다.
상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 개구부(TH2)에 제공될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)의 폭은 상기 제2 본딩부(122)의 폭에 비해 더 작게 제공될 수 있다.
상기 제2 본딩부(122)는 상기 제2 개구부(TH2)가 형성된 제1 방향과 수직한 제2 방향의 폭을 가질 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)의 폭은 상기 제2 개구부(TH2)의 상기 제2 방향의 폭보다 더 크게 제공될 수 있다.
상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122)의 하면과 직접 접촉되어 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 본딩부(122)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)은 상기 제2 프레임(112)에 의하여 둘러 싸이게 배치될 수 있다. 상기 제2 도전층(322)의 하면은 하부에서 상부 방향으로 오목한 형상으로 배치될 수 있다.
상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 Ag, Au, Pt, Sn, Cu 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 하나의 물질 또는 그 합금을 포함할 수 있다. 다만 이에 한정하지 않고, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)으로 전도성 기능을 확보할 수 있는 물질이 사용될 수 있다.
예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 도전성 페이스트를 이용하여 형성될 수 있다. 상기 도전성 페이스트는 솔더 페이스트(solder paste), 실버 페이스트(silver paste) 등을 포함할 수 있고, 서로 다른 물질로 구성되는 다층 또는 합금으로 구성된 다층 또는 단층으로 구성될 수 있다. 예로서, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)은 SAC(Sn-Ag-Cu) 물질을 포함할 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 제1 및 제 2 도전층(321, 322)이 형성되는 과정 또는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공된 후 열처리 과정에서, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112) 사이에 금속간 화합물(IMC; intermetallic compound)층이 형성될 수 있다.
예로서, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)을 이루는 물질과 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 제1 및 제2 금속층(111a, 112a) 간의 결합에 의해 제1 및 제2 합금층(111b, 112b)이 형성될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제1 프레임(111)이 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다. 상기 제1 도전층(321), 상기 제1 합금층(111b), 상기 제1 프레임(111)이 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다.
또한, 상기 제2 도전층(322)과 상기 제2 프레임(112)이 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다. 상기 제2 도전층(322), 상기 제2 합금층(212b), 상기 제2 프레임(112)이 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다.
예로서, 상기 제1 및 제2 합금층(111b, 112b)은 AgSn, CuSn, AuSn 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 금속간 화합물층을 포함할 수 있다. 상기 금속간 화합물층은 제1 물질과 제2 물질의 결합으로 형성될 수 있으며, 제1 물질은 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)으로부터 제공될 수 있고, 제2 물질은 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a) 또는 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 지지부재로부터 제공될 수 있다.
상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Sn 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)이 Ag 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Sn 물질과 Ag 물질의 결합에 의하여 AgSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Sn 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 112a)이 Au 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Sn 물질과 Au 물질의 결합에 의하여 AuSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Sn 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 지지부재가 Cu 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Sn 물질과 Cu 물질의 결합에 의하여 CuSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Ag 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 금속층(111a, 111b) 또는 상기 제1 및 제2 프레임(111, 112)의 지지부재가 Sn 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Ag 물질과 Sn 물질의 결합에 의하여 AgSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
이상에서 설명된 금속간 화합물층은 일반적인 본딩 물질에 비해 더 높은 용융점을 가질 수 있다. 또한, 상기 금속한 화합물층이 형성되는 열처리 공정은 일반적인 본딩 물질의 용융점에 비해 더 낮은 온도에서 수행될 수 있다.
따라서, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는 메인 기판 등에 리플로우(reflow) 공정을 통해 본딩되는 경우에도 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되지 않으므로 전기적 연결 및 물리적 본딩력이 열화되지 않는 장점이 있다.
또한, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100) 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 발광소자 패키지를 제조하는 공정에서 패키지 몸체(110)가 고온에 노출될 필요가 없게 된다. 따라서, 실시예에 의하면, 패키지 몸체(110)가 고온에 노출되어 손상되거나 변색이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
이에 따라, 몸체(113)를 구성하는 물질에 대한 선택 폭이 넓어질 수 있게 된다. 실시예에 의하면, 상기 몸체(113)는 세라믹 등의 고가의 물질뿐만 아니라, 상대적으로 저가의 수지 물질을 이용하여 제공될 수도 있다.
예를 들어, 상기 몸체(113)는 PPA(PolyPhtalAmide) 수지, PCT(PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) 수지, EMC(Epoxy Molding Compound) 수지, SMC(Silicone Molding Compound) 수지를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.
한편, 실시예에 의하면, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)와 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322) 사이에도 금속간 화합물층이 형성될 수도 있다.
이상에서 설명된 바와 유사하게, 실시예에 의하면, 상기 제1 및 제 2 도전층(321, 322)이 형성되는 과정 또는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공된 후 열처리 과정에서, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 사이에 금속간 화합물(IMC; intermetallic compound)층이 형성될 수 있다.
예로서, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)을 이루는 물질과 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 간의 결합에 의해 합금층이 형성될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제1 본딩부(121)가 물리적으로 또한 전기적으로 더 안정하게 결합될 수 있게 된다. 상기 제1 도전층(321), 합금층, 상기 제1 본딩부(121)가 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다.
또한, 상기 제2 도전층(322)과 상기 제2 본딩부(122)가 물리적으로 또한 전기적으로 더 안정하게 결합될 수 있게 된다. 상기 제2 도전층(322), 합금층, 상기 제2 본딩부(122)가 물리적으로 또한 전기적으로 안정하게 결합될 수 있게 된다.
예로서, 상기 합금층은 AgSn, CuSn, AuSn 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 금속간 화합물층을 포함할 수 있다. 상기 금속간 화합물층은 제1 물질과 제2 물질의 결합으로 형성될 수 있으며, 제1 물질은 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)으로부터 제공될 수 있고, 제2 물질은 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)로부터 제공될 수 있다.
상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Sn 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)가 Ag 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Sn 물질과 Ag 물질의 결합에 의하여 AgSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Sn 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)가 Au 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Sn 물질과 Au 물질의 결합에 의하여 AuSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 Ag 물질을 포함하고 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 121)가 Sn 물질을 포함하는 경우, 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 제공되는 과정 또는 제공된 후의 열처리 과정에서 Ag 물질과 Sn 물질의 결합에 의하여 AgSn의 금속간 화합물층이 형성될 수 있다.
이상에서 설명된 금속간 화합물층은 일반적인 본딩 물질에 비해 더 높은 용융점을 가질 수 있다. 또한, 상기 금속한 화합물층이 형성되는 열처리 공정은 일반적인 본딩 물질의 용융점에 비해 더 낮은 온도에서 수행될 수 있다.
따라서, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는 메인 기판 등에 리플로우(reflow) 공정을 통해 본딩되는 경우에도 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되지 않으므로 전기적 연결 및 물리적 본딩력이 열화되지 않는 장점이 있다.
또한, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는, 도 3 및 도 10에 도시된 바와 같이, 제1 하부 리세스(R11)와 제2 하부 리세스(R12)를 포함할 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)와 상기 제2 하부 리세스(R12)는 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 하부 리세스(R11)는 상기 제1 프레임(111)의 하면에 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)는 상기 제1 프레임(111)의 하면에서 상면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)는 상기 제1 개구부(TH1)로부터 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 하부 리세스(R11)는 수 마이크로 미터 내지 수십 마이크로 미터의 폭으로 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)에 수지부가 제공될 수 있다. 상기 제1 하부 리세스(R11)에 채워진 수지부는 예로서 상기 몸체(113)와 동일 물질로 제공될 수 있다.
다만, 이에 한정하지 않고, 상기 수지부는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 접착력, 젖음성이 좋지 않은 물질 중에서 선택되어 제공될 수 있다. 또는 상기 수지부는 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)과의 표면 장력이 낮은 물질 중에서 선택되어 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제1 하부 리세스(R11)에 채워진 수지부는 상기 제1 프레임(111), 상기 제2 프레임(112), 상기 몸체(113)가 사출 공정 등을 통하여 형성되는 과정에서 제공될 수 있다.
상기 제1 하부 리세스(R11)에 채워진 수지부는 상기 제1 개구부(TH1)를 제공하는 상기 제1 프레임(111)의 하면 영역 주위에 배치될 수 있다. 상기 제1 개구부(TH1)를 제공하는 상기 제1 프레임(111)의 하면 영역은 일종의 아일랜드(island) 형상으로 주위의 상기 제1 프레임(111)을 이루는 하면으로부터 분리되어 배치될 수 있다.
예로서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제1 개구부(TH1)를 제공하는 상기 제1 프레임(111)의 하면 영역은 상기 제1 하부 리세스(R11)에 채워진 수지부와 상기 몸체(113)에 의하여 주변의 상기 제1 프레임(111)으로부터 아이솔레이션(isolation)될 수 있다.
따라서, 상기 수지부가 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 접착력, 젖음성이 좋지 않은 물질 또는 상기 수지부와 상기 제1 및 제2 도전층(321,322) 사이의 표면 장력이 낮은 물질로 배치되는 경우 상기 제1 개구부(TH1)에 제공된 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 개구부(TH1)로부터 벗어나, 상기 제1 하부 리세스(R11)에 채워진 수지부 또는 상기 몸체(113)를 넘어 확산되는 것이 방지될 수 있다.
이는 상기 제1 도전층(321)과 상기 수지부 및 상기 몸체(113)의 접착 관계 또는 상기 수지부와 상기 제1 및 제2 도전층(321,322) 사이의 젖음성, 표면 장력 등이 좋지 않은 점을 이용한 것이다. 즉, 상기 제1 도전층(321)을 이루는 물질이 상기 제1 프레임(111)과 좋은 접착 특성을 갖도록 선택될 수 있다. 그리고, 상기 제1 도전층(321)을 이루는 물질이 상기 수지부 및 상기 몸체(113)와 좋지 않은 접착 특성을 갖도록 선택될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 개구부(TH1)에서 상기 수지부 또는 상기 몸체(113)가 제공된 영역 방향으로 흘러 넘쳐, 상기 수지부 또는 상기 몸체(113)가 제공된 영역 외부로 넘치거나 퍼지는 것이 방지되고, 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 개구부(TH1)가 제공된 영역에 안정적으로 배치될 수 있게 된다.
따라서, 상기 제1 개구부(TH1)에 배치되는 제1 도전층(321)이 흘러 넘치는 경우, 상기 수지부 또는 상기 몸체(113)가 제공된 제1 하부 리세스(R11)의 바깥 영역으로 상기 제1 도전층(321)이 확장되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 제1 도전층(321)이 상기 제1 개구부(TH1) 내에서 상기 제1 본딩부(121)의 하면에 안정적으로 연결될 수 있게 된다.
따라서, 상기 발광소자 패키지가 회로 기판에 실장되는 경우 제1 도전층(321)과 제2 도전층(322)이 서로 접촉되어 단락되는 문제를 방지할 수 있고, 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)을 배치하는 공정에 있어서 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)의 양을 제어하기 매우 수월해질 수 있다.
또한, 상기 제2 하부 리세스(R12)는 상기 제2 프레임(112)의 하면에 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)는 상기 제2 프레임(112)의 하면에서 상면 방향으로 오목하게 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)는 상기 제2 개구부(TH2)로부터 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제2 하부 리세스(R12)는 수 마이크로 미터 내지 수십 마이크로 미터의 폭으로 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)에 수지부가 제공될 수 있다. 상기 제2 하부 리세스(R12)에 채워진 수지부는 예로서 상기 몸체(113)와 동일 물질로 제공될 수 있다.
다만, 이에 한정하지 않고, 상기 수지부는 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 접착력, 젖음성이 좋지 않은 물질 중에서 선택되어 제공될 수 있다. 또는 상기 수지부는 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)과의 표면 장력이 낮은 물질 중에서 선택되어 제공될 수 있다.
예로서, 상기 제2 하부 리세스(R12)에 채워진 수지부는 상기 제1 프레임(111), 상기 제2 프레임(112), 상기 몸체(113)가 사출 공정 등을 통하여 형성되는 과정에서 제공될 수 있다.
상기 제2 하부 리세스(R12)에 채워진 수지부는 상기 제2 개구부(TH2)를 제공하는 상기 제2 프레임(112)의 하면 영역 주위에 배치될 수 있다. 상기 제2 개구부(TH2)를 제공하는 상기 제2 프레임(112)의 하면 영역은 일종의 아일랜드(island) 형상으로 주위의 상기 제2 프레임(112)을 이루는 하면으로부터 분리되어 배치될 수 있다.
예로서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제2 개구부(TH2)를 제공하는 상기 제2 프레임(112)의 하면 영역은 상기 제2 하부 리세스(R12)에 채워진 수지부와 상기 몸체(113)에 의하여 주변의 상기 제2 프레임(112)으로부터 아이솔레이션(isolation)될 수 있다.
따라서, 상기 수지부가 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)과 접착력, 젖음성이 좋지 않은 물질 또는 상기 수지부와 상기 제1 및 제2 도전층(321,322) 사이의 표면 장력이 낮은 물질로 배치되는 경우 상기 제2 개구부(TH2)에 제공된 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 개구부(TH2)로부터 벗어나, 상기 제2 하부 리세스(R12)에 채워진 수지부 또는 상기 몸체(113)를 넘어 확산되는 것이 방지될 수 있다.
이는 상기 제2 도전층(322)과 상기 수지부 및 상기 몸체(113)의 접착 관계 또는 상기 수지부와 상기 제1 및 제2 도전층(321,322) 사이의 젖음성, 표면 장력 등이 좋지 않은 점을 이용한 것이다. 즉, 상기 제2 도전층(322)을 이루는 물질이 상기 제2 프레임(112)과 좋은 접착 특성을 갖도록 선택될 수 있다. 그리고, 상기 제2 도전층(322)을 이루는 물질이 상기 수지부 및 상기 몸체(113)와 좋지 않은 접착 특성을 갖도록 선택될 수 있다.
이에 따라, 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 개구부(TH2)에서 상기 수지부 또는 상기 몸체(113)가 제공된 영역 방향으로 흘러 넘쳐, 상기 수지부 또는 상기 몸체(113)가 제공된 영역 외부로 넘치거나 퍼지는 것이 방지되고, 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 개구부(TH2)가 제공된 영역에 안정적으로 배치될 수 있게 된다.
따라서, 상기 제2 개구부(TH2)에 배치되는 제2 도전층(322)이 흘러 넘치는 경우, 상기 수지부 또는 상기 몸체(113)가 제공된 제2 하부 리세스(R12)의 바깥 영역으로 상기 제2 도전층(322)이 확장되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 제2 도전층(322)이 상기 제2 개구부(TH2) 내에서 상기 제2 본딩부(122)의 하면에 안정적으로 연결될 수 있게 된다.
따라서, 상기 발광소자 패키지가 회로 기판에 실장되는 경우 제1 도전층(321)과 제2 도전층(322)이 서로 접촉되어 단락되는 문제를 방지할 수 있고, 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)을 배치하는 공정에 있어서 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)의 양을 제어하기 매우 수월해질 수 있다.
한편, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)에 의하면, 상기 리세스(R)에 제공된 상기 제1 수지층(130)가, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 발광소자(120)의 하부면과 상기 패키지 몸체(110)의 상부면 사이에 제공될 수 있다. 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 수지층(130)은 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 둘레에 제공될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(120)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 수지층(130)은 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2) 둘레에 제공될 수 있다.
상기 제1 수지층(130)은 상기 발광소자(120)를 상기 패키지 몸체(110)에 안정적으로 고정시키는 기능을 수행할 수 있다. 또한, 상기 제1 수지층(130)은 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 측면에 접촉되어 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122) 둘레에 배치될 수 있다.
상기 제1 수지층(130)은 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)의 주위를 밀봉시킬 수 있다. 상기 제1 수지층(130)은 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)이 상기 제1 개구부(TH1) 영역과 상기 제2 개구부(TH2) 영역을 벗어나 상기 발광소자(120) 외측면 방향으로 확산되어 이동되는 것을 방지할 수 있다. 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 발광소자(120)의 외측면 방향으로 확산되어 이동할 경우 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)이 상기 발광소자(120)의 활성층과 접할 수 있어 단락에 의한 불량을 유발할 수 있다. 따라서, 상기 제1 수지층(130)가 배치되는 경우 상기 제1 및 제2 도전층(321,322)과 활성층에 의한 단락을 방지할 수 있어 실시예에 따른 발광소자 패키지의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 제1 수지층(130)은 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)이 상기 제1 개구부(TH1) 영역과 상기 제2 개구부(TH2) 영역을 벗어나 상기 발광소자(120)의 하부면 아래에서 상기 리세스(R) 방향으로 확산되어 이동되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 도전층(321)과 상기 제2 도전층(322)이 상기 발광소자(120) 아래에서 전기적으로 단락되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 실시예에 의하면, 상기 발광 구조물(123)은 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 상기 발광 구조물(123)은 예로서 2족-6족 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 발광 구조물(123)은 알루미늄(Al), 갈륨(Ga), 인듐(In), 인(P), 비소(As), 질소(N)로부터 선택된 적어도 두 개 이상의 원소를 포함하여 제공될 수 있다.
상기 발광 구조물(123)은 제1 도전형 반도체층, 활성층, 제2 도전형 반도체층을 포함할 수 있다.
실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는 상기 제1 개구부(TH1) 영역을 통해 상기 제1 본딩부(121)에 전원이 연결되고, 상기 제2 개구부(TH2) 영역을 통해 상기 제2 본딩부(122)에 전원이 연결될 수 있다.
이에 따라, 상기 제1 본딩부(121) 및 상기 제2 본딩부(122)를 통하여 공급되는 구동 전원에 의하여 상기 발광소자(120)가 구동될 수 있게 된다. 그리고, 상기 발광소자(120)에서 발광된 빛은 상기 패키지 몸체(110)의 상부 방향으로 제공될 수 있게 된다.
한편, 이상에서 설명된 실시예에 따른 발광소자 패키지(100)는 서브 마운트 또는 회로기판 등에 실장되어 공급될 수도 있다.
그런데, 종래 발광소자 패키지가 서브 마운트 또는 회로기판 등에 실장됨에 있어 리플로우(reflow) 등의 고온 공정이 적용될 수 있다. 이때, 리플로우 공정에서, 발광소자 패키지에 제공된 리드 프레임과 발광소자 간의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되어 전기적 연결 및 물리적 결합의 안정성이 약화될 수 있게 된다.
그러나, 실시예에 따른 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 실시예에 따른 발광소자의 본딩부는 개구부에 배치된 도전층을 통하여 구동 전원을 제공 받을 수 있다. 그리고, 개구부에 배치된 도전층의 용융점 및 금속간 화합물층의 용융점이 일반적인 본딩 물질의 용융점에 비해 더 높은 값을 갖도록 선택될 수 있다.
따라서, 실시예에 따른 발광소자 소자 패키지(100)는 메인 기판 등에 리플로우(reflow) 공정을 통해 본딩되는 경우에도 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되지 않으므로 전기적 연결 및 물리적 본딩력이 열화되지 않는 장점이 있다.
또한, 실시예에 따른 발광소자 패키지(100) 및 발광소자 패키지 제조방법에 의하면, 발광소자 패키지를 제조하는 공정에서 패키지 몸체(110)가 고온에 노출될 필요가 없게 된다. 따라서, 실시예에 의하면, 패키지 몸체(110)가 고온에 노출되어 손상되거나 변색이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
이에 따라, 몸체(113)를 구성하는 물질에 대한 선택 폭이 넓어질 수 있게 된다. 실시예에 의하면, 상기 몸체(113)는 세라믹 등의 고가의 물질뿐만 아니라, 상대적으로 저가의 수지 물질을 이용하여 제공될 수도 있다.
예를 들어, 상기 몸체(113)는 PPA(PolyPhtalAmide) 수지, PCT(PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) 수지, EMC(Epoxy Molding Compound) 수지, SMC(Silicone Molding Compound) 수지를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.
다음으로, 도 3 및 도 11과 같이, 실시예는 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)에 배치된 제2 수지층(115)을 포함할 수 있다. 상기 제2 수지층(115)은 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322) 아래에 배치될 수 있다.
상기 제2 수지층(115)은 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)을 보호할 수 있다. 상기 제2 수지층(115)은 상기 제1 및 제2 개구부(TH1, TH2)를 밀봉시킬 수 있다. 상기 제2 수지층(115)은 상기 제1 및 제2 도전층(321, 322)이 상기 제1 및 제2 개구부(TH1. TH2) 하부로 확산되어 이동되는 것을 방지할 수 있다.
예로서, 상기 제2 수지층(115)은 상기 몸체(113)와 유사한 물질을 포함할 수 있다. 상기 제2 수지층(115)은 PPA(PolyPhtalAmide) 수지, PCT(PolyCyclohexylenedimethylene Terephthalate) 수지, EMC(Epoxy Molding Compound) 수지, SMC(Silicone Molding Compound) 수지를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다.
또한, 상기 제2 수지층(115)은 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
다음으로, 도 12와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지는 도 1 내지 도 11을 참조하여 설명된 발광소자 패키지가 회로기판(410)에 실장되어 공급되는 다른 예를 나타낸 것이다.
실시예에 따른 발광소자 패키지는, 도 12에 도시된 바와 같이, 회로기판(410), 패키지 몸체(110), 발광소자(120)를 포함할 수 있다.
상기 회로기판(410)은 제1 패드(411), 제2 패드(412), 기판(413)을 포함할 수 있다. 상기 기판(413)에 상기 발광소자(120)의 구동을 제어하는 전원 공급 회로가 제공될 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 상기 회로기판(410) 위에 배치될 수 있다. 상기 제1 패드(411)와 상기 제1 본딩부(121)가 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 패드(412)와 상기 제2 본딩부(122)가 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 패드(411)와 상기 제2 패드(412)는 도전성 물질을 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 제1 패드(411)와 상기 제2 패드(412)는 Ti, Cu, Ni, Au, Cr, Ta, Pt, Sn, Ag, P, Fe, Sn, Zn, Al를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질 또는 그 합금을 포함할 수 있다. 상기 제1 패드(411)와 상기 제2 패드(412)는 단층 또는 다층으로 제공될 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 제1 프레임(111)과 제2 프레임(112)을 포함할 수 있다. 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 패키지 몸체(110)는 몸체(113)를 포함할 수 있다. 상기 몸체(113)는 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112) 사이에 배치될 수 있다. 상기 몸체(113)는 일종의 전극 분리선의 기능을 수행할 수 있다.
상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 도전성 프레임으로 제공될 수 있다. 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112)은 상기 패키지 몸체(110)의 구조적인 강도를 안정적으로 제공할 수 있으며, 상기 발광소자(120)에 전기적으로 연결될 수 있다.
도 13은 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지의 또 다른 예를 나타낸 도면이다.
도 13에 도시된 실시예에 따른 발광소자 패키지는 도 3에 도시된 실시예에 따른 발광소자 패키지에 비하여 방열부재(150)를 더 포함할 수 있다.
상기 방열부재(150)는 상기 몸체(113)에 제공된 제3 개부부(미도시)에 배치될 수 있으며, 상기 리세스(R) 아래에 배치될 수 있다. 상기 방열부재(230)는 상기 제1 프레임(111)과 상기 제2 프레임(112) 사이에 배치될 수 있다.
예로서, 상기 방열부재(150)는 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한 예로서, 상기 방열부재(150)가 반사 기능을 포함하는 경우 상기 방열부재(150)는 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 방열부재(150)는 열 전도성이 좋은 Al2O3, AlN 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 물질을 포함할 수도 있다.
실시예에 의하면, 상기 방열부재(150)는 열 전도성이 좋은 물질을 포함하는 경우, 상기 발광소자(120)에서 생성되는 열을 효과적으로 방출시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 발광소자(120)의 열 방출이 효과적으로 수행될 수 있으므로 상기 발광소자(120)의 광 추출 효율이 향상될 수 있게 된다.
또한, 상기 방열부재(150)가 반사물질을 포함하는 경우, 상기 발광소자(120)의 하면으로 방출되는 광에 대해, 상기 발광소자(120)와 상기 몸체(113) 사이에서 광 확산 기능을 제공할 수 있다. 상기 발광소자(120)로부터 상기 발광소자(120)의 하면으로 광이 방출될 때 상기 방열부재(230)는 광 확산 기능을 제공함으로써 상기 발광소자 패키지의 광 추출 효율을 개선할 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 방열부재(150)는 상기 발광소자(120)에서 방출하는 광을 반사할 수 있다. 상기 방열부재(150)가 반사 기능을 포함하는 경우, 상기 방열부재(230)는 TiO2, SiO2 등을 포함하는 물질로 구성될 수 있다.
도 14는 본 발명의 실시예에 따른 발광소자를 나타낸 평면도이고, 도 15는 도 14에 도시된 발광소자의 A-A 선에 따른 단면도이다.
한편, 이해를 돕기 위해, 도 14를 도시함에 있어, 제1 본딩부(2171)와 제2 본딩부(2172) 아래에 배치되지만, 상기 제1 본딩부(2171)에 전기적으로 연결된 제1 서브전극(2141)과 상기 제2 본딩부(2172)에 전기적으로 연결된 제2 서브전극(2142)이 보일 수 있도록 도시되었다.
실시예에 따른 발광소자(2100)는, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 기판(2105) 위에 배치된 발광 구조물(1110)을 포함할 수 있다.
상기 기판(2105)은 사파이어 기판(Al2O3), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있다. 예로서, 상기 기판(2105)은 상부 면에 요철 패턴이 형성된 PSS(Patterned Sapphire Substrate)로 제공될 수 있다.
상기 발광 구조물(1110)은 제1 도전형 반도체층(1111), 활성층(1112), 제2 도전형 반도체층(1113)을 포함할 수 있다. 상기 활성층(1112)은 상기 제1 도전형 반도체층(1111)과 상기 제2 도전형 반도체층(1113) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제1 도전형 반도체층(1111) 위에 상기 활성층(1112)이 배치되고, 상기 활성층(1112) 위에 상기 제2 도전형 반도체층(1113)이 배치될 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 제1 도전형 반도체층(1111)은 n형 반도체층으로 제공되고, 상기 제2 도전형 반도체층(1113)은 p형 반도체층으로 제공될 수 있다. 물론, 다른 실시예에 의하면, 상기 제1 도전형 반도체층(1111)이 p형 반도체층으로 제공되고, 상기 제2 도전형 반도체층(1113)이 n형 반도체층으로 제공될 수도 있다.
이하에서는 설명의 편의를 위해 상기 제1 도전형 반도체층(1111)이 n형 반도체층으로 제공되고 상기 제2 도전형 반도체층(1113)이 p형 반도체층으로 제공된 경우를 기준으로 설명하기로 한다.
실시예에 따른 발광소자(2100)는, 도 15에 도시된 바와 같이, 투광성 전극층(2130)을 포함할 수 있다. 상기 투광성 전극층(2130)은 전류 확산을 향상시켜 광출력을 증가시킬 수 있다.
예로서, 상기 투광성 전극층(2130)은 금속, 금속 산화물, 금속 질화물을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 투광성 전극층(2130)은 투광성의 물질을 포함할 수 있다.
상기 투광성 전극층(2130)은, 예를 들어 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZON(IZO nitride), IZTO (indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IrOx, RuOx, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, Ni/IrOx/Au/ITO, Pt, Ni, Au, Rh, Pd를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
실시예에 따른 발광소자(2100)는, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 반사층(2160)을 포함할 수 있다. 상기 반사층(2160)은 제1 반사층(2161), 제2 반사층(2162), 제3 반사층(2163)을 포함할 수 있다. 상기 반사층(2160)은 상기 투광성 전극층(2130) 위에 배치될 수 있다.
상기 제2 반사층(2162)은 상기 투광성 전극층(2130)을 노출시키는 제1 개구부(h1)를 포함할 수 있다. 상기 제2 반사층(2162)은 상기 투광성 전극층(2130) 위에 배치된 복수의 제1 개구부(h1)를 포함할 수 있다.
상기 제1 반사층(2161)은 상기 제1 도전형 반도체층(1111)의 상부 면을 노출시키는 복수의 제2 개구부(h2)를 포함할 수 있다.
상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 반사층(2161)과 연결될 수 있다. 또한, 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제2 반사층(2162)과 연결될 수 있다. 상기 제3 반사층(2163)은 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)에 물리적으로 직접 접촉되어 배치될 수 있다.
실시예에 따른 상기 반사층(2160)은 상기 투광성 전극층(2130)에 제공된 복수의 컨택홀을 통하여 상기 제2 도전형 반도체층(1113)에 접촉될 수 있다. 상기 반사층(2160)은 상기 투광성 전극층(2130)에 제공된 복수의 컨택홀을 통하여 상기 제2 도전형 반도체층(1113)의 상부 면에 물리적으로 접촉될 수 있다.
상기 반사층(2160)은 절연성 반사층으로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 반사층(2160)은 DBR(Distributed Bragg Reflector)층으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 반사층(2160)은 ODR(Omni Directional Reflector)층으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 반사층(2160)은 DBR층과 ODR층이 적층되어 제공될 수도 있다.
실시예에 따른 발광소자(2100)는, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 제1 서브전극(2141)과 제2 서브전극(2142)을 포함할 수 있다.
상기 제1 서브전극(2141)은 상기 제2 개구부(h2) 내부에서 상기 제1 도전형 반도체층(1111)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 서브전극(2141)은 상기 제1 도전형 반도체층(1111) 위에 배치될 수 있다. 예로서, 실시예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 제1 서브전극(2141)은 상기 제2 도전형 반도체층(1113), 상기 활성층(1112)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(1111)의 일부 영역까지 배치되는 리세스 내에서 상기 제1 도전형 반도체층(1111)의 상면에 배치될 수 있다.
상기 제1 서브전극(2141)은 상기 제1 반사층(2161)에 제공된 제2 개구부(h2)를 통하여 상기 제1 도전형 반도체층(1111)의 상면에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 개구부(h2)와 상기 리세스는 수직으로 중첩할 수 있고 예로서, 상기 제1 서브전극(2141)은, 도 24 및 도 25에 도시된 바와 같이, 복수의 리세스 영역에서 상기 제1 도전형 반도체층(1111)의 상면에 직접 접촉될 수 있다.
상기 제2 서브전극(2142)은 상기 제2 도전형 반도체층(1113)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 서브전극(2142)은 상기 제2 도전형 반도체층(1113) 위에 배치될 수 있다. 실시예에 의하면, 상기 제2 서브전극(2142)과 상기 제2 도전형 반도체층(1113) 사이에 상기 투광성 전극층(2130)이 배치될 수 있다.
상기 제2 서브전극(2142)은 상기 제2 반사층(2162)에 제공된 제1 개구부(h1)를 통하여 상기 제2 도전형 반도체층(1113)과 전기적으로 연결될 수 있다. 예로서, 상기 제2 서브전극(2142)은, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 복수의 P 영역에서 상기 투광성 전극층(2130)을 통하여 상기 제2 도전형 반도체층(1113)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제2 서브전극(2142)은, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 복수의 P 영역에서 상기 제2 반사층(2162)에 제공된 복수의 제1 개구부(h1)를 통하여 상기 투광성 전극층(2130)의 상면에 직접 접촉될 수 있다.
실시예에 의하면, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 상기 제1 서브전극(2141)과 상기 제2 서브전극(2142)은 서로 극성을 가질 수 있고, 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 서브전극(2141)은 예로서 복수의 라인 형상으로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 서브전극(2142)은 예로서 복수의 라인 형상으로 제공될 수 있다. 상기 제1 서브전극(2141)은 이웃된 복수의 제2 서브전극(2142) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제2 서브전극(2142)은 이웃된 복수의 제1 서브전극(2141) 사이에 배치될 수 있다.
상기 제1 서브전극(2141)과 상기 제2 서브전극(2142)이 서로 다른 극성으로 구성되는 경우, 서로 다른 개수의 전극으로 배치될 수 있다. 예를 들어 상기 제1 서브전극(2141)이 n 전극으로, 상기 제2 서브전극(2142)이 p 전극으로 구성되는 경우 상기 제1 서브전극(2141)보다 상기 제2 서브전극(2142)의 개수가 더 많을 수 있다. 상기 제2 도전형 반도체층(1113)과 상기 제1 도전형 반도체층(1111)의 전기 전도도 및/또는 저항이 서로 다른 경우, 상기 제1 서브전극(2141)과 상기 제2 서브전극(2142)에 의해 상기 발광 구조물(1110)로 주입되는 전자와 정공의 균형을 맞출 수 있고 따라서 상기 발광소자의 광학적 특성이 개선될 수 있다.
한편, 실시예에 따른 발광소자가 적용될 발광소자 패키지에서 요청되는 특성에 따라, 상기 제1 서브전극(2141)과 상기 제2 서브전극(2142)의 극성이 서로 반대로 제공될 수도 있다. 또한, 상기 제1 서브전극(2141)과 상기 제2 서브전극(2142)의 폭/길이/형상 및 개수 등은 발광소자 패키지에서 요청되는 특성에 따라 다양하게 변형되어 적용될 수 있다.
상기 제1 서브전극(2141)과 상기 제2 서브전극(2142)은 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 서브전극(2141)과 상기 제2 서브전극(2142)은 오믹 전극일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 서브전극(2141)과 상기 제2 서브전극(2142)은 ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나 또는 이들 중 2개 이상의 물질의 합금일 수 있다.
실시예에 따른 발광소자(2100)는, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 보호층(2150)을 포함할 수 있다.
상기 보호층(2150)은 상기 제2 서브전극(2142)을 노출시키는 복수의 제3 개구부(h3)를 포함할 수 있다. 상기 복수의 제3 개구부(h3)는 상기 제2 서브전극(2142)에 제공된 복수의 PB 영역에 대응되어 배치될 수 있다.
또한, 상기 보호층(2150)은 상기 제1 서브전극(2141)을 노출시키는 복수의 제4 개구부(h4)를 포함할 수 있다. 상기 복수의 제4 개구부(h4)는 상기 제1 서브전극(2141)에 제공된 복수의 NB 영역에 대응되어 배치될 수 있다.
상기 보호층(2150)은 상기 반사층(2160) 위에 배치될 수 있다. 상기 보호층(2150)은 상기 제1 반사층(2161), 상기 제2 반사층(2162), 상기 제3 반사층(2163) 위에 배치될 수 있다.
예로서, 상기 보호층(2150)은 절연물질로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층(2150)은 SixOy, SiOxNy, SixNy, AlxOy 를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질로 형성될 수 있다.
실시예에 따른 발광소자(2100)는, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 상기 보호층(2150) 위에 배치된 제1 본딩부(2171)와 제2 본딩부(2172)를 포함할 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 상기 제1 반사층(2161) 위에 배치될 수 있다. 또한, 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제2 반사층(2162) 위에 배치될 수 있다. 상기 제2 본딩부(2172)는 상기 제1 본딩부(2171)와 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제1 본딩부(2171)는 복수의 NB 영역에서 상기 보호층(2150)에 제공된 복수의 상기 제4 개구부(h4)를 통하여 상기 제1 서브전극(2141)의 상부 면에 접촉될 수 있다. 상기 복수의 NB 영역은 상기 제2 개구부(h2)와 수직으로 어긋나도록 배치될 수 있다. 상기 복수의 NB 영역과 상기 제2 개구부(h2)가 서로 수직으로 어긋나는 경우, 상기 제1 본딩부(2171)로 주입되는 전류가 상기 제1 서브전극(2141)의 수평 방향으로 골고루 퍼질 수 있고, 따라서 상기 복수의 NB 영역에서 전류가 골고루 주입될 수 있다.
또한, 상기 제2 본딩부(2172)는 복수의 PB 영역에서 상기 보호층(2150)에 제공된 복수의 상기 제3 개구부(h3)를 통하여 상기 제2 서브전극(2142)의 상부 면에 접촉될 수 있다. 상기 복수의 PB 영역과 상기 복수의 제1 개구부(h1)가 수직으로 중첩되지 않도록 하는 경우 상기 제2 본딩부(2172)로 주입되는 전류가 상기 제2 서브전극(2142)의 수평 방향으로 골고루 퍼질 수 있고, 따라서 상기 복수의 PB 영역에서 전류가 골고루 주입될 수 있다.
이와 같이 실시예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제1 서브전극(2141)은 상기 복수의 제4 개구부(h4) 영역에서 접촉될 수 있다. 또한, 상기 제2 본딩부(2172)와 상기 제2 서브전극(2142)이 복수의 영역에서 접촉될 수 있다. 이에 따라, 실시예에 의하면, 복수의 영역을 통해 전원이 공급될 수 있으므로, 접촉 면적 증가 및 접촉 영역의 분산에 따라 전류 분산 효과가 발생되고 동작전압이 감소될 수 있는 장점이 있다.
또한, 실시예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 도 15에 도시된 바와 같이, 상기 제1 반사층(2161)이 상기 제1 서브전극(2141) 아래에 배치되며, 상기 제2 반사층(2162)이 상기 제2 서브전극(2142) 아래에 배치된다. 이에 따라, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 상기 발광 구조물(1110)의 활성층(1112)에서 발광되는 빛을 반사시켜 제1 서브전극(2141)과 제2 서브전극(2142)에서 광 흡수가 발생되는 것을 최소화하여 광도(Po)를 향상시킬 수 있다.
예를 들어, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 절연성 재료로 이루어지되, 상기 활성층(1112)에서 방출된 빛의 반사를 위하여 반사율이 높은 재료, 예를 들면 DBR 구조를 이룰 수 있다.
상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 굴절률이 다른 물질이 서로 반복하여 배치된 DBR 구조를 이룰 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2 중 적어도 하나 이상을 포함하는 단층 또는 적층 구조로 배치될 수 있다.
또한, 다른 실시예에 의하면, 이에 한정하지 않고, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 상기 활성층(1112)에서 발광하는 빛의 파장에 따라 상기 활성층(1112)에서 발광하는 빛에 대한 반사도를 조절할 수 있도록 자유롭게 선택될 수 있다.
또한, 다른 실시예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 ODR층으로 제공될 수도 있다. 또 다른 실시예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)은 DBR층과 ODR층이 적층된 일종의 하이브리드(hybrid) 형태로 제공될 수도 있다.
실시예에 따른 발광소자가 플립칩 본딩 방식으로 실장되어 발광소자 패키지로 구현되는 경우, 상기 발광 구조물(1110)에서 제공되는 빛은 상기 기판(2105)을 통하여 방출될 수 있다. 상기 발광 구조물(1110)에서 방출되는 빛은 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)에서 반사되어 상기 기판(2105) 방향으로 방출될 수 있다.
또한, 상기 발광 구조물(1110)에서 방출되는 빛은 상기 발광 구조물(1110)의 측면 방향으로도 방출될 수 있다. 또한, 상기 발광 구조물(1110)에서 방출되는 빛은, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 배치된 면 중에서, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 제공되지 않은 영역을 통하여 외부로 방출될 수 있다.
구체적으로, 상기 발광 구조물(1110)에서 방출되는 빛은, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 배치된 면 중에서, 상기 제1 반사층(2161), 상기 제2 반사층(2162), 상기 제3 반사층(2163)이 제공되지 않은 영역을 통하여 외부로 방출될 수 있다.
이에 따라, 실시예에 따른 발광소자(2100)는 상기 발광 구조물(1110)을 둘러싼 6면 방향으로 빛을 방출할 수 있게 되며, 광도를 현저하게 향상시킬 수 있다.
한편, 실시예에 따른 발광소자에 의하면, 발광소자(2100)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)의 면적의 합은, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 배치된 상기 발광소자(2100)의 상부 면 전체 면적의 60%에 비해 같거나 작게 제공될 수 있다.
예로서, 상기 발광소자(2100)의 상부 면 전체 면적은 상기 발광 구조물(1110)의 제1 도전형 반도체층(1111)의 하부 면의 가로 길이 및 세로 길이에 의하여 정의되는 면적에 대응될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(2100)의 상부 면 전체 면적은 상기 기판(2105)의 상부 면 또는 하부 면의 면적에 대응될 수 있다.
이와 같이, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)의 면적의 합이 상기 발광소자(2100)의 전체 면적의 60%에 비해 같거나 작게 제공되도록 함으로써, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 배치된 면으로 방출되는 빛의 양이 증가될 수 있게 된다. 이에 따라, 실시예에 의하면, 상기 발광소자(2100)의 6면 방향으로 방출되는 빛의 양이 많아지게 되므로 광 추출 효율이 향상되고 광도(Po)가 증가될 수 있게 된다.
또한, 상기 발광소자(2100)의 상부 방향에서 보았을 때, 상기 제1 본딩부(2171)의 면적과 상기 제2 본딩부(2172)의 면적의 합은 상기 발광소자(2100)의 전체 면적의 30%에 비해 같거나 크게 제공될 수 있다.
이와 같이, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)의 면적의 합이 상기 발광소자(2100)의 전체 면적의 30%에 비해 같거나 크게 제공되도록 함으로써, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)를 통하여 안정적인 실장이 수행될 수 있고, 상기 발광소자(2100)의 전기적인 특성을 확보할 수 있게 된다.
실시예에 따른 발광소자(2100)는, 광 추출 효율 및 본딩의 안정성 확보를 고려하여, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)의 면적의 합이 상기 발광소자(2100)의 전체 면적의 30% 이상이고 60% 이하로 선택될 수 있다.
즉, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)의 면적의 합이 상기 발광소자(2100)의 전체 면적의 30% 이상 내지 100% 이하인 경우, 상기 발광소자(2100)의 전기적 특성을 확보하고, 발광소자 패키지에 실장되는 본딩력을 확보하여 안정적인 실장이 수행될 수 있다.
또한, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)의 면적의 합이 상기 발광소자(2100)의 전체 면적의 0% 초과 내지 60% 이하인 경우, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 배치된 면으로 방출되는 광량이 증가하여 상기 발광소자(2100)의 광추출 효율이 향상되고, 광도(Po)가 증가될 수 있다.
실시예에서는 상기 발광소자(2100)의 전기적 특성과 발광소자 패키지에 실장되는 본딩력을 확보하고, 광도를 증가시키기 위해, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)의 면적의 합이 상기 발광소자(2100)의 전체 면적의 30% 이상 내지 60% 이하로 선택하였다.
또한, 실시예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 제3 반사층(2163)이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제3 반사층(2163)의 상기 발광소자(2100)의 장축 방향에 따른 길이는 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이의 간격에 대응되어 배치될 수 있다. 또한, 상기 제3 반사층(2163)의 면적은 예로서 상기 발광소자(2100)의 상부 면 전체의 10% 이상이고 25% 이하로 제공될 수 있다.
상기 제3 반사층(2163)의 면적이 상기 발광소자(2100)의 상부 면 전체의 10% 이상일 때, 상기 발광소자의 하부에 배치되는 패키지 몸체가 변색되거나 균열의 발생을 방지할 수 있고, 25% 이하일 경우 상기 발광소자의 6면으로 발광하도록 하는 광추출효율을 확보하기에 유리하다.
또한, 다른 실시예에서는 이에 한정하지 않고 상기 광추출효율을 더 크게 확보하기 위해 상기 제3 반사층(2163)의 면적을 상기 발광소자(2100)의 상부 면 전체의 0% 초과 내지 10% 미만으로 배치할 수 있고, 상기 패키지 몸체에 변색 또는 균열의 발생을 방지하는 효과를 더 크게 확보하기 위해 상기 제3 반사층(2163)의 면적을 상기 발광소자(2100)의 상부 면 전체의 25% 초과 내지 100% 미만으로 배치할 수 있다.
또한, 상기 발광소자(2100)의 장축 방향에 배치된 측면과 이웃하는 상기 제1 본딩부(2171) 또는 상기 제2 본딩부(2172) 사이에 제공된 제2 영역으로 상기 발광 구조물(1110)에서 생성된 빛이 투과되어 방출될 수 있다.
또한, 상기 발광소자(2100)의 단축 방향에 배치된 측면과 이웃하는 상기 제1 본딩부(2171) 또는 상기 제2 본딩부(2172) 사이에 제공된 제3 영역으로 상기 발광구조물에서 생성된 빛이 투과되어 방출될 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)의 크기는 상기 제1 본딩부(2171)의 크기에 비하여 수 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 반사층(2161)의 면적은 상기 제1 본딩부(2171)의 면적을 완전히 덮을 수 있을 정도의 크기로 제공될 수 있다. 공정 오차를 고려할 때, 상기 제1 반사층(2161)의 한 변의 길이는 상기 제1 본딩부(2171)의 한 변의 길이에 비해 예로서 4 마이크로 미터 내지 10 마이크로 미터 정도 더 크게 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2 반사층(2162)의 크기는 상기 제2 본딩부(2172)의 크기에 비하여 수 마이크로 미터 더 크게 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 반사층(2162)의 면적은 상기 제2 본딩부(2172)의 면적을 완전히 덮을 수 있을 정도의 크기로 제공될 수 있다. 공정 오차를 고려할 때, 상기 제2 반사층(2162)의 한 변의 길이는 상기 제2 본딩부(2172)의 한 변의 길이에 비해 예로서 4 마이크로 미터 내지 10 마이크로 미터 정도 더 크게 제공될 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 제1 반사층(2161)과 상기 제2 반사층(2162)에 의하여, 상기 발광 구조물(1110)로부터 방출되는 빛이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 입사되지 않고 반사될 수 있게 된다. 이에 따라, 실시예에 의하면, 상기 발광 구조물(1110)에서 생성되어 방출되는 빛이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)에 입사되어 손실되는 것을 최소화할 수 있다.
또한, 실시예에 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 제3 반사층(2163)이 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이에 배치되므로, 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172) 사이로 방출되는 빛의 양을 조절할 수 있게 된다.
앞에서 설명된 바와 같이, 실시예에 따른 발광소자(2100)는 예를 들어 플립칩 본딩 방식으로 실장되어 발광소자 패키지 형태로 제공될 수 있다. 이때, 발광소자(2100)가 실장되는 패키지 몸체가 수지 등으로 제공되는 경우, 상기 발광소자(2100)의 하부 영역에서, 상기 발광소자(2100)로부터 방출되는 단파장의 강한 빛에 의하여 패키지 몸체가 변색되거나 균열이 발생될 수 있다.
그러나, 실시예에 따른 발광소자(2100)에 의하면 상기 제1 본딩부(2171)와 상기 제2 본딩부(2172)가 배치된 영역 사이로 방출되는 빛의 양을 조절할 수 있으므로, 상기 발광소자(2100)의 하부 영역에 배치된 패키지 몸체가 변색되거나 균열되는 것을 방지할 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 제1 본딩부(2171), 상기 제2 본딩부(2172), 상기 제3 반사층(2163)이 배치된 상기 발광소자(2100)의 상부 면의 20% 이상 면적에서 상기 발광 구조물(1110)에서 생성된 빛이 투과되어 방출될 수 있다.
이에 따라, 실시예에 의하면, 상기 발광소자(2100)의 6면 방향으로 방출되는 빛의 양이 많아지게 되므로 광 추출 효율이 향상되고 광도(Po)가 증가될 수 있게 된다. 또한, 상기 발광소자(2100)의 하부 면에 근접하게 배치된 패키지 몸체가 변색되거나 균열되는 것을 방지할 수 있게 된다.
또한, 실시예예 따른 발광소자(2100)에 의하면, 상기 투광성 전극층(2130)에 복수의 컨택홀(C1, C2, C3)이 제공될 수 있다. 상기 투광성 전극층(2130)에 제공된 복수의 컨택홀(C1, C2, C3)을 통하여 상기 제2 도전형 반도체층(1113)과 상기 반사층(2160)이 접착될 수 있다. 상기 반사층(2160)이 상기 제2 도전형 반도체층(1113)에 직접 접촉될 수 있게 됨으로써, 상기 반사층(2160)이 상기 투광성 전극층(2130)에 접촉되는 것에 비하여 접착력이 향상될 수 있게 된다.
상기 반사층(2160)이 상기 투광성 전극층(2130)에만 직접 접촉되는 경우, 상기 반사층(2160)과 상기 투광성 전극층(2130) 간의 결합력 또는 접착력이 약화될 수도 있다. 예를 들어, 절연층과 금속층이 결합되는 경우, 물질 상호 간의 결합력 또는 접착력이 약화될 수도 있다.
예로서, 상기 반사층(2160)과 상기 투광성 전극층(2130) 간의 결합력 또는 접착력이 약한 경우, 두 층 간에 박리가 발생될 수 있다. 이와 같이 상기 반사층(2160)과 상기 투광성 전극층(2130) 사이에 박리가 발생되면 발광소자(2100)의 특성이 열화될 수 있으며, 또한 발광소자(2100)의 신뢰성을 확보할 수 없게 된다.
그러나, 실시예에 의하면, 상기 반사층(2160)이 상기 제2 도전형 반도체층(1113)에 직접 접촉될 수 있으므로, 상기 반사층(2160), 상기 투광성 전극층(2130), 상기 제2 도전형 반도체층(1113) 간의 결합력 및 접착력이 안정적으로 제공될 수 있게 된다.
따라서, 실시예에 의하면, 상기 반사층(2160)과 상기 제2 도전형 반도체층(1113) 간의 결합력이 안정적으로 제공될 수 있으므로, 상기 반사층(2160)이 상기 투광성 전극층(2130)으로부터 박리되는 것을 방지할 수 있게 된다. 또한, 상기 반사층(2160)과 상기 제2 도전형 반도체층(1113) 간의 결합력이 안정적으로 제공될 수 있으므로 발광소자(2100)의 신뢰성을 향상시킬 수 있게 된다.
한편, 이상에서 설명된 바와 같이, 상기 투광성 전극층(2130)에 복수의 컨택홀(C1, C2, C3)이 제공될 수 있다. 상기 활성층(1112)으로부터 발광된 빛은 상기 투광성 전극층(2130)에 제공된 복수의 컨택홀(C1, C2, C3)을 통해 상기 반사층(2160)에 입사되어 반사될 수 있게 된다. 이에 따라, 상기 활성층(1112)에서 생성된 빛이 상기 투광성 전극층(2130)에 입사되어 손실되는 것을 감소시킬 수 있게 되며 광 추출 효율이 향상될 수 있게 된다. 이에 따라, 실시예에 따른 발광소자(2100)에 의하면 광도가 향상될 수 있게 된다.
다음으로, 도 16 및 도 17을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지에 적용된 플립칩 발광소자의 다른 예를 설명하기로 한다.
도 16은 본 발명의 실시예에 따른 발광소자 패키지에 적용된 발광소자의 전극 배치를 설명하는 평면도이고, 도 17은 도 15에 도시된 발광소자의 F-F 선에 따른 단면도이다.
한편, 이해를 돕기 위해, 도 16을 도시함에 있어, 제1 전극(127)과 제2 전극(128)의 상대적인 배치 관계 만을 개념적으로 도시하였다. 상기 제1 전극(127)은 제1 본딩부(121)와 제1 가지전극(125)을 포함할 수 있다. 상기 제2 전극(128)은 제2 본딩부(122)와 제2 가지전극(126)을 포함할 수 있다.
실시예에 따른 발광소자는, 도 16 및 도 17에 도시된 바와 같이, 기판(124) 위에 배치된 발광 구조물(123)을 포함할 수 있다.
상기 기판(124)은 사파이어 기판(Al2O3), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있다. 예로서, 상기 기판(124)은 상부 면에 요철 패턴이 형성된 PSS(Patterned Sapphire Substrate)로 제공될 수 있다.
상기 발광 구조물(123)은 제1 도전형 반도체층(123aa), 활성층(123b), 제2 도전형 반도체층(123c)을 포함할 수 있다. 상기 활성층(123b)은 상기 제1 도전형 반도체층(123a)과 상기 제2 도전형 반도체층(123c) 사이에 배치될 수 있다. 예로서, 상기 제1 도전형 반도체층(123a) 위에 상기 활성층(123b)이 배치되고, 상기 활성층(123b) 위에 상기 제2 도전형 반도체층(123c)이 배치될 수 있다.
실시예에 의하면, 상기 제1 도전형 반도체층(123a)은 n형 반도체층으로 제공되고, 상기 제2 도전형 반도체층(123c)은 p형 반도체층으로 제공될 수 있다. 물론, 다른 실시예에 의하면, 상기 제1 도전형 반도체층(123a)이 p형 반도체층으로 제공되고, 상기 제2 도전형 반도체층(123c)이 n형 반도체층으로 제공될 수도 있다.
실시예에 따른 발광소자는, 도 16 및 도 17에 도시된 바와 같이, 제1 전극(127)과 제2 전극(128)을 포함할 수 있다.
상기 제1 전극(127)은 제1 본딩부(121)와 제1 가지전극(125)을 포함할 수 있다. 상기 제1 전극(127)은 상기 제2 도전형 반도체층(123c)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 가지전극(125)은 상기 제1 본딩부(121)로부터 분기되어 배치될 수 있다. 상기 제1 가지전극(125)은 상기 제1 본딩부(121)로부터 분기된 복수의 가지전극을 포함할 수 있다.
상기 제2 전극(128)은 제2 본딩부(122)와 제2 가지전극(126)을 포함할 수 있다. 상기 제2 전극(128)은 상기 제1 도전형 반도체층(123a)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 가지전극(126)은 상기 제2 본딩부(122)로부터 분기되어 배치될 수 있다. 상기 제2 가지전극(126)은 상기 제2 본딩부(122)로부터 분기된 복수의 가지전극을 포함할 수 있다.
상기 제1 가지전극(125)와 상기 제2 가지전극(126)은 핑거(finger) 형상으로 서로 엇갈리게 배치될 수 있다. 상기 제1 가지전극(125)과 상기 제2 가지전극(126)에 의하여 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)를 통하여 공급되는 전원이 상기 발광 구조물(123) 전체로 확산되어 제공될 수 있게 된다.
상기 제1 전극(127)과 상기 제2 전극(128)은 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 전극(127)과 상기 제2 전극(128)은 오믹 전극일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 전극(127)과 상기 제2 전극(128)은 ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나 또는 이들 중 2개 이상의 물질의 합금일 수 있다.
한편, 상기 발광 구조물(123)에 보호층이 더 제공될 수도 있다. 상기 보호층은 상기 발광 구조물(123)의 상면에 제공될 수 있다. 또한, 상기 보호층은 상기 발광 구조물(123)의 측면에 제공될 수도 있다. 상기 보호층은 상기 제1 본딩부(121)와 상기 제2 본딩부(122)가 노출되도록 제공될 수 있다. 또한, 상기 보호층은 상기 기판(124)의 둘레 및 하면에도 선택적으로 제공될 수 있다.
예로서, 상기 보호층은 절연물질로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층은 SixOy, SiOxNy, SixNy, AlxOy 를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질로 형성될 수 있다.
실시예에 따른 발광소자는, 상기 활성층(123b)에서 생성된 빛이 발광소자의 6면 방향으로 발광될 수 있다. 상기 활성층(123b)에서 생성된 빛이 발광소자의 상면, 하면, 4개의 측면을 통하여 6면 방향으로 방출될 수 있다.
참고로, 도 1 내지 도 13을 참조하여 설명된 발광소자의 상하 배치 방향과 도 16 및 도 17에 도시된 발광소자의 상하 배치 방향은 서로 반대로 도시되어 있다.
실시예에 의하면, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적의 합은 상기 기판(124)의 상면 면적을 기준으로 10% 이하로 제공될 수 있다. 실시예에 따른 발광소자 패키지에 의하면, 발광소자로부터 방출되는 발광 면적을 확보하여 광추출 효율을 높이기 위해 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적의 합은 상기 기판(124)의 상면 면적을 기준으로 10% 이하로 설정될 수 있다.
또한, 실시예에 의하면, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적의 합은 상기 기판(124)의 상면 면적을 기준으로 0.7% 이상으로 제공될 수 있다. 실시예에 따른 발광소자 패키지에 의하면, 실장되는 발광소자에 안정적인 본딩력을 제공하기 위해 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적의 합은 상기 기판(124)의 상면 면적을 기준으로 0.7% 이상으로 설정될 수 있다.
예로서, 상기 제1 본딩부(121)의 상기 발광소자의 장축 방향에 따른 폭은 수십 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 제1 본딩부(121)의 폭은 예로서 70 마이크로 미터 내지 90 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제1 본딩부(121)의 면적은 수천 제곱 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
또한, 상기 제2 본딩부(122)의 상기 발광소자의 장축 방향에 따른 폭은 수십 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 상기 제2 본딩부(122)의 폭은 예로서 70 마이크로 미터 내지 90 마이크로 미터로 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 본딩부(122)의 면적은 수천 제곱 마이크로 미터로 제공될 수 있다.
이와 같이, 상기 제1 및 제2 본딩부(121, 122)의 면적이 작게 제공됨에 따라, 상기 발광소자(120)의 하면으로 투과되는 빛의 양이 증대될 수 있다.
실시예는 발광소자 패키지에서 발광소자 주의에 반사층을 균일하게 배치함으로써 광휘도를 현저히 향상시킬 수 있는 발광소자 패키지 및 발광소자 패키지 제조방법, 광원 장치를 제공할 수 있다.
실시예에 의하면, 광 추출 효율 및 전기적 특성과 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
실시예에 의하면, 공정 효율을 향상시키고 새로운 패키지 구조를 제시하여 제조 단가를 줄이고 제조 수율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
실시예는 반사율이 높은 몸체를 제공함으로써, 반사체가 변색되지 않도록 방지할 수 있어 발광소자 패키지의 신뢰성을 개선할 수 있는 장점이 있다.
실시예에 의하면, 발광소자 패키지가 기판 등에 재 본딩되는 과정에서 발광소자 패키지의 본딩 영역에서 리멜팅(re-melting) 현상이 발생되는 것을 방지할 수 있는 장점이 있다.
실시 예에 따른 발광소자 패키지는 광원 장치에 적용될 수 있다.
또한, 광원 장치는 산업 분야에 따라 표시 장치, 조명 장치, 헤드 램프 등을 포함할 수 있다.
광원 장치의 예로, 표시 장치는 바텀 커버와, 바텀 커버 위에 배치되는 반사판과, 광을 방출하며 발광 소자를 포함하는 발광 모듈과, 반사판의 전방에 배치되며 발광 모듈에서 발산되는 빛을 전방으로 안내하는 도광판과, 도광판의 전방에 배치되는 프리즘 시트들을 포함하는 광학 시트와, 광학 시트 전방에 배치되는 디스플레이 패널과, 디스플레이 패널과 연결되고 디스플레이 패널에 화상 신호를 공급하는 화상 신호 출력 회로와, 디스플레이 패널의 전방에 배치되는 컬러 필터를 포함할 수 있다. 여기서 바텀 커버, 반사판, 발광 모듈, 도광판, 및 광학 시트는 백라이트 유닛(Backlight Unit)을 이룰 수 있다. 또한, 표시 장치는 컬러 필터를 포함하지 않고, 적색(Red), 녹색(Gren), 청색(Blue) 광을 방출하는 발광 소자가 각각 배치되는 구조를 이룰 수도 있다.
광원 장치의 또 다른 예로, 헤드 램프는 기판 상에 배치되는 발광소자 패키지를 포함하는 발광 모듈, 발광 모듈로부터 조사되는 빛을 일정 방향, 예컨대, 전방으로 반사시키는 리플렉터(reflector), 리플렉터에 의하여 반사되는 빛을 전방으로 굴절시키는 렌즈, 및 리플렉터에 의하여 반사되어 렌즈로 향하는 빛의 일부분을 차단 또는 반사하여 설계자가 원하는 배광 패턴을 이루도록 하는 쉐이드(shade)를 포함할 수 있다.
광원 장치의 다른 예인 조명 장치는 커버, 광원 모듈, 방열체, 전원 제공부, 내부 케이스, 소켓을 포함할 수 있다. 또한, 실시 예에 따른 광원 장치는 부재와 홀더 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 상기 광원 모듈은 실시 예에 따른 발광소자 패키지를 포함할 수 있다.
이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시예를 한정하는 것이 아니며, 실시예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 설정하는 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
[부호의 설명]
프레임(111,112), 몸체(113), 패키지 몸체(110),
제1, 제2 본딩부(121, 122), 발광소자(120),
반사성 수지층(170), 투광성 수지층(160), 형광체층(180)

Claims (8)

  1. 제1 관통홀을 포함하는 제1 프레임;
    상기 제1 프레임과 이격되고, 제2 관통홀을 포함하는 제2 프레임;
    상기 제1 및 제2 프레임을 지지하고, 캐비티를 포함하는 몸체;
    상기 캐비티 내에 배치되는 발광소자;
    상기 몸체와 상기 발광소자 사이에 배치되는 접착층;
    상기 캐비티의 측면에 배치되는 반사층;
    상기 반사층 상에 배치되고, 상기 발광소자를 에워싸는 투광층;
    상기 투광층 상에 배치되는 형광체층;을 포함하고,
    상기 제1 및 제2 관통홀은 상기 발광소자와 서로 중첩되고,
    상기 몸체는 상기 제1 및 제2 관통홀 사이에 리세스를 포함하고,
    상기 접착층은 상기 리세스에 배치되는 발광소자 패키지.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 투광층은 투광성 수지층을 포함하는 발광소자 패키지.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 반사층은 반사성 수지층을 포함하는 발광소자 패키지.
  4. 프레임과 몸체를 포함하는 패키지 몸체;
    제1, 제2 본딩부를 포함하여 상기 몸체 상에 배치되는 발광소자;
    상기 몸체는 캐비티를 구비하고,
    상기 발광소자와 상기 캐비티의 측면 사이에 배치되는 반사성 수지층;
    상기 발광소자 상에 투광성 수지층;
    상기 발광소자와 이격되어 상기 투광성 수지층 상에 배치되는 형광체층;을 포함하는 발광소자 패키지.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 투광성 수지층은,
    상기 발광소자와 상기 형광체층 사이에 배치되는 제1 투광성 수지층을 포함하는 발광소자 패키지.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 투광성 수지층은,
    상기 반사성 수지층과 상기 발광소자 사이에 배치되는 제2 투광성 수지층을 포함하는 발광소자 패키지.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 반사성 수지층은,
    상기 발광소자와 상기 캐비티 측면에 배치되는 제1 반사성 수지층; 및
    상기 발광소자의 제1,제2 본딩부와 상기 몸체 사이에 배치되는 제2 반사성 수지층을 포함하는 발광소자 패키지.
  8. 제1 항 내지 제7 항에 기재된 발광소자 패키지를 구비하는 발광유닛을 포함하는 조명장치.
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