WO2019051968A1 - 彩膜基板的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种彩膜基板的制作方法，包括步骤：提供一基板，所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域；在所述基板表面黑色矩阵区域形成黑色矩阵；在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻；在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱，所述支撑柱采用遮光性材料制备；在所述基板的上方形成保护层；其中，采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面用于防止光线透过RGB色阻发生混色。
Description
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板的制作方法。
有机电致发光二极管（Organic Light-Emitting Diode,
OLED）以其良好的自发光特性、优越的对比度、快速响应以及柔性显示等优势，得到了广泛的应用。
OLED实现全才的方式有以下集中：a、采用红绿蓝三种有机发光材料直接发光；b、白色有机发光器件(white
organic light-emitting diode , WOLED)+彩膜( Colour
filter，CF)；c、光色转换法+蓝色发光层加光色转换层。
目前OLED中彩膜的涉及需要参照液晶显示器（Liquid Crystal Display,
LCD）彩膜设计;LCD中需要采用彩膜实现全彩显示，彩膜基板1一般包括黑色矩阵12(Black
Matrix，BM)，RGB色阻13以及保护层14、支撑柱15(Photo spacer，PS)，具体结构如图1所示。
现有OLED结构中支撑柱15位于保护层14之上，这样容易使得WOLED与彩膜基板1的间距增大，造成混色风险，并且支撑柱15一般为有机光阻，呈现淡黄色，有一定的透光性。
本发明提供一种彩膜基板的制作方法，能够在仅改变支撑柱设置的情况下减小彩膜基板的厚度，同时改善光线透过彩膜基板发生的混色问题，进而提高了显示器件的显示质量。
根据本发明的一个方面，本发明提供了一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板的制程包括如下步骤：
步骤S10、提供一基板，所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域；
步骤S20、在所述基板表面沉积黑色矩阵层，对所述黑色矩阵层进行图形化处理形成黑色矩阵，以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去掉；
步骤S30、在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻；
步骤S40、在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱，所述支撑柱采用遮光性材料制备，所述支撑柱的长度与所述RGB色阻长边长度相同；
步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻。
其中，采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面用于防止光线透过RGB色阻发生混色。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱的制备材料为有机光阻、黑色框胶、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱为有机光阻，采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述支撑柱制备在所述黑色矩阵表面。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱由有机物溶液涂布形成，所述支撑柱是通过在所述黑色矩阵表面涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化来形成的。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱为不透光金属或者金属氧化物，采用热蒸镀技术、磁控溅射技术、化学气相沉积技术和原子层沉淀技术的其中一者将所述支撑柱设置在所述黑色矩阵表面。
根据本发明一优选实施例，覆盖于所述支撑柱的保护层为一层致密的氧化物薄膜，所述氧化物为氧化硅和氧化铝的其中一者或两者。
根据本发明一优选实施例，采用溅射镀膜技术、气相沉积技术或原子层沉积技术制备所述保护层。
根据本发明一优选实施例，所述基板为刚性衬底或者柔性衬底。
根据本发明一优选实施例，所述步骤S20中形成黑色矩阵的步骤包括：
在所述基板表面依次经过涂布、预烘烤、曝光、显影和再烘烤制程形成所述黑色矩阵。
根据本发明的另一个方面，本发明提供了一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板的制程包括如下步骤：
步骤S10、提供一基板，所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域；
步骤S20、在所述基板表面沉积黑色矩阵层，对所述黑色矩阵层进行图形化处理形成黑色矩阵，以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去掉；
步骤S30、在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻；
步骤S40、在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱，所述支撑柱采用遮光性材料制备；
步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻。
其中，采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面用于防止光线透过RGB色阻发生混色。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱的制备材料为有机光阻、黑色框胶、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱为有机光阻，采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述支撑柱制备在所述黑色矩阵表面。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱由有机物溶液涂布形成，所述支撑柱是通过在所述黑色矩阵表面涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化来形成的。
根据本发明一优选实施例，所述支撑柱为不透光金属或者金属氧化物，采用热蒸镀技术、磁控溅射技术、化学气相沉积技术和原子层沉淀技术的其中一者将所述支撑柱设置在所述黑色矩阵表面。
根据本发明一优选实施例，覆盖于所述支撑柱的保护层为一层致密的氧化物薄膜，所述氧化物为氧化硅和氧化铝的其中一者或两者。
根据本发明一优选实施例，采用溅射镀膜技术、气相沉积技术或原子层沉积技术制备所述保护层。
根据本发明一优选实施例，所述基板为刚性衬底或者柔性衬底。
根据本发明一优选实施例，所述步骤S20中形成黑色矩阵的步骤包括：
在所述基板表面依次经过涂布、预烘烤、曝光、显影和再烘烤制程形成所述黑色矩阵。
本发明提供一种彩膜基板的制作方法，通过将不透光的支撑柱设置在黑色矩阵的上面，能够减小彩膜基板的厚度，同时改善光线透过彩膜基板发生的混色问题，进而提高了显示器件的显示质量。
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中彩膜基板的结构示意图；
图2为本发明实施例的彩膜基板的制作流程图；
图3为本发明实施例的彩膜基板的结构示意图；
图4a-4d为本发明实施例的彩膜基板的制作流程结构示意图；
图5为本发明实施例的彩膜基板的俯视结构示意图。
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步的说明：
如图2所示为本发明实施例中彩膜基板的制作流程图，如图3所示为本发明实施例中彩膜基板的结构示意图。
如图2所示，本发明提供了一种彩膜基板2的制作方法，所述彩膜基板2的制作方法包括如下步骤：
如图4a所示，步骤S10、提供一基板21，所述基板21包括彩膜区域和黑色矩阵区域；
其中在所述步骤S10中提供的基板21可以为刚性衬底，如玻璃基板；也可以为柔性衬底，如聚酰亚胺膜。
所述彩膜区域和所述黑色矩阵区域交替分布。
步骤S20、在所述基板21表面沉积黑色矩阵层，对所述黑色矩阵层进行图形化处理形成黑色矩阵22，以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去掉.
所述步骤S20为在所述基板21上依次经过涂布、预烘烤、曝光、显影和再烘烤等制程形成黑色矩阵22。
黑色矩阵层可以是通过采用狭缝涂布或旋涂技术来形成的。
如图4b所示，步骤S30、在所述基板21的所述彩膜区域涂布RGB色阻23；
所述RGB色阻23可以是将RGB颜料分散于有机溶剂中形成，也可以为RGB量子点材料。
一般情况下，RGB色阻23包括多个色阻区域，每个色阻区域包括一个红色色阻、一个绿色色阻和一个蓝色色阻。
RGB色阻23可以是通过采用狭缝涂布或旋涂的方式来形成的。
步骤S30可以为：在黑色矩阵22上整面涂布红色光阻，经过曝光显影的在黑色矩阵之间的空白区形成红色色阻，随后采用相同的方式在黑色矩阵22表面形成绿色色阻和蓝色色阻，进而形成RGB色阻23。
RGB色阻23的形状与所配套OLED中的像素形状相同。
如图4c所示，步骤S40、在所述黑色矩阵22表面对应形成支撑柱25，所述支撑柱25采用遮光性材料制备；
支撑柱25的制备材料为黑色光阻、黑色框胶、玻璃胶、不透光金属、金属氧化物、氮化物和透明OLED封装框胶中的其中一者。
当支撑柱25为有机光阻时，支撑柱25是通过采用点胶机、丝网印刷术、喷嘴印刷、墨水喷射印刷等技术涂布来形成的；支撑柱25由有机溶液涂布形成，在涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化。
所述步骤S40可以为：在黑色矩阵22的表面涂布黑色框胶，所述黑色框胶的主要成分是树脂，在涂布黑色框胶的同时对黑色框胶进行固化，通过调节涂布的压力以及针头孔径的大小等参数来控制涂胶的高度以形成高度合适的支撑柱25。
当支撑柱25为金属或者金属氧化物时，支撑柱25是通过采用热蒸镀、磁控溅射、气相沉积技术等制程来形成的。
如图5所示，支撑柱25的长度与RGB色阻23的最长边相同，这样的设置是因为光线透过RGB色阻23产生的混色问题通常发生在RGB色阻的长边区域，通过设置不透光的支撑柱25就能够完全隔离不同的光线，避免不同颜色光线之间产生相互影响。
如图4d所示，步骤S50、在所述基板21的上方形成保护层24，所述保护层24整面覆盖所述黑色矩阵22、所述支撑柱25和所述RGB色阻23。
保护层25同时起到缓冲层的作用，所以又可称为缓冲层；保护层25为一层致密的氧化物薄膜，优选为氧化硅、氮化硅和氧化铝的一者或至少两者。
可以通过溅射镀膜、气相沉积技术或者原子层沉积技术等制程形成保护层25。
保护层25具有隔绝封装高透过率有机填充材与RGB色阻23相接触的作用；同时还具有隔绝有机光阻气体的作用。
其中，采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面用于防止光线透过RGB色阻发生混色。
本发明通过将不透光的支撑柱设置在黑色矩阵的上面，能够减小彩膜基板的厚度，同时改善光线透过彩膜基板发生的混色问题，进而提高了显示器件的显示质量。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (18)
- 一种彩膜基板的制作方法，其包括如下步骤：步骤S10、提供一基板，所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域；步骤S20、在所述基板表面沉积黑色矩阵层，对所述黑色矩阵层进行图形化处理形成黑色矩阵，以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去掉；步骤S30、在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻；步骤S40、在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱，所述支撑柱采用遮光性材料制备，所述支撑柱的长度与所述RGB色阻长边长度相同；步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻；其中，采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面以防止光线透过RGB色阻发生混色。
- 根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述支撑柱的制备材料为有机光阻、黑色框胶、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者。
- 根据权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述支撑柱为有机光阻，采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述支撑柱制备在所述黑色矩阵表面。
- 根据权利要求3所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述支撑柱由有机物溶液涂布形成，所述支撑柱是通过在所述黑色矩阵表面涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化来形成的。
- 根据权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述支撑柱为不透光金属或者金属氧化物，采用热蒸镀技术、磁控溅射技术、化学气相沉积技术和原子层沉淀技术的其中一者将所述支撑柱设置在所述黑色矩阵表面。
- 根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其中，覆盖于所述支撑柱的保护层为一层致密的氧化物薄膜，所述氧化物为氧化硅和氧化铝的其中一者或两者。
- 根据权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其中，采用溅射镀膜技术、气相沉积技术或原子层沉积技术制备所述保护层。
- 根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述基板为刚性衬底或者柔性衬底。
- 根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述步骤S20中形成黑色矩阵的步骤包括：在所述基板表面依次经过涂布、预烘烤、曝光、显影和再烘烤制程形成所述黑色矩阵。
- 一种彩膜基板的制作方法，其包括如下步骤：步骤S10、提供一基板，所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域；步骤S20、在所述基板表面沉积黑色矩阵层，对所述黑色矩阵层进行图形化处理形成黑色矩阵，以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去掉；步骤S30、在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻；步骤S40、在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱，所述支撑柱采用遮光性材料制备；步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻；其中，采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面以防止光线透过RGB色阻发生混色。
- 根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述支撑柱的制备材料为有机光阻、黑色框胶、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者。
- 根据权利要求11所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述支撑柱为有机光阻，采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述支撑柱制备在所述黑色矩阵表面。
- 根据权利要求12所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述支撑柱由有机物溶液涂布形成，所述支撑柱是通过在所述黑色矩阵表面涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化来形成的。
- 根据权利要求11所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述支撑柱为不透光金属或者金属氧化物，采用热蒸镀技术、磁控溅射技术、化学气相沉积技术和原子层沉淀技术的其中一者将所述支撑柱设置在所述黑色矩阵表面。
- 根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，覆盖于所述支撑柱的保护层为一层致密的氧化物薄膜，所述氧化物为氧化硅和氧化铝的其中一者或两者。
- 根据权利要求15所述的彩膜基板的制作方法，其中，采用溅射镀膜技术、气相沉积技术或原子层沉积技术制备所述保护层。
- 根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述基板为刚性衬底或者柔性衬底。
- 根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述步骤S20中形成黑色矩阵的步骤包括：在所述基板表面依次经过涂布、预烘烤、曝光、显影和再烘烤制程形成所述黑色矩阵。
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