WO2019031617A1 - 精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法、改質ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法、ポリテトラフルオロエチレン成形体の製造方法、及び、組成物 - Google Patents

精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法、改質ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法、ポリテトラフルオロエチレン成形体の製造方法、及び、組成物 Download PDF

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平良　隆博
和宏 三島
千亜紀 奥井
林　忠雄
裕俊 吉田
田中　勇次
政佳 宮本
拓 山中
丈人 加藤
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ダイキン工業株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a method of producing a purified polytetrafluoroethylene aqueous dispersion, a method of producing a modified polytetrafluoroethylene powder, and a method of producing a polytetrafluoroethylene molded body.
  • Patent Document 1 a method of producing polytetrafluoroethylene using a hydrocarbon surfactant is known (see, for example, Patent Document 1).
  • An object of the present invention is to obtain a polytetrafluoroethylene aqueous dispersion and a polytetrafluoroethylene powder from which the compound containing fluorine is removed or reduced. Moreover, it aims at manufacturing the polytetrafluoroethylene molded object from which the said compound containing the said fluorine was removed or reduced using the polytetrafluoroethylene obtained using hydrocarbon type surfactant. Furthermore, another object of the present invention is to provide a composition comprising polytetrafluoroethylene from which the compound containing fluorine is removed or reduced.
  • the present invention includes a step of removing or reducing a compound represented by the following general formula (1) or (2) from a polytetrafluoroethylene aqueous dispersion obtained using a hydrocarbon surfactant. Method for producing a purified polytetrafluoroethylene aqueous dispersion.
  • the present invention also includes a step of removing or reducing a compound represented by the following general formula (1) or (2) from a polytetrafluoroethylene powder obtained using a hydrocarbon surfactant. It is also a method for producing a modified polytetrafluoroethylene powder.
  • the present invention is further a method for producing a molded article using polytetrafluoroethylene produced using a hydrocarbon surfactant, and removing a compound represented by the following general formula (1) or (2) Or a step of reducing the size of the polytetrafluoroethylene molded body.
  • the present invention is also represented by the following general formula (1) or (2) by contacting a fluorine radical source with a polytetrafluoroethylene obtained using a hydrocarbon surfactant at a temperature of over 100 ° C. It is also a method of producing modified polytetrafluoroethylene, which comprises the step of removing or reducing the compound.
  • Formula (1) ( H- (CF 2 ) m -COO) p M 1 (Wherein, m is 3 to 19, M 1 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), a substituent Imidazolium which may have, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent (p is 1 or 2)
  • General formula (2) (H- (CF 2 ) n -SO 3 ) q M 2 (Wherein, n is 4 to 20.
  • M 2 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), a substituent Imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent, q is 1 or 2.
  • the present invention provides a process for removing or reducing a compound represented by the following general formula (1) or (2) by bringing polytetrafluoroethylene obtained using a hydrocarbon surfactant into contact with a fluorine radical source.
  • the method for producing polytetrafluoroethylene is also characterized in that the addition amount of the fluorine radical source is 0.5 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of polytetrafluoroethylene in terms of fluorine atoms.
  • Formula (1) ( H- (CF 2 ) m -COO) p M 1 (Wherein, m is 3 to 19, M 1 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), a substituent Imidazolium which may have, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent (p is 1 or 2)
  • General formula (2) (H- (CF 2 ) n -SO 3 ) q M 2 (Wherein, n is 4 to 20.
  • M 2 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), a substituent Imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent, q is 1 or 2.
  • the present invention is also a composition characterized by containing polytetrafluoroethylene and substantially containing no compound represented by the following general formula (3).
  • General formula (3) (H- (CF 2 ) 8 -SO 3 ) q M 2 (Wherein M 2 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, and H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), and imidazo optionally having a substituent And pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent, q is 1 or 2.)
  • the content of the compound represented by the above general formula (3) is preferably 1000 ppb or less, more preferably 25 ppb or less, with respect to polytetrafluoroethylene.
  • One aspect of the present invention is a composition containing a compound represented by the following general formula (4) in an amount of 1,000 ppb or less based on polytetrafluoroethylene and containing 1% / polytetrafluoroethylene or more of a nonionic surfactant It is a thing.
  • General formula (4) (H- (CF 2 ) 7 -COO) p M 1 (Wherein, M 1 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, and H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms) may have a substituent And imidazolium, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent, p is 1 or 2.)
  • One aspect of the present invention includes at least one of a compound represented by the above general formula (4) and a compound represented by the following general formula (4 ′), and the content of the compound represented by the above general formula (4) is And the content of the compound represented by the following general formula (4 ′) is 1,000 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene, and the nonionic surfactant is 1000 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene.
  • composition containing 1% / polytetrafluoroethylene or more is a composition containing 1% / polytetrafluoroethylene or more.
  • Formula (4 ') ( H- (CF 2) 8 -COO) p M 1 (Wherein, M 1 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, and H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms) may have a substituent And imidazolium, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent, p is 1 or 2.)
  • One aspect of the present invention is a composition containing a compound represented by the following general formula (5) in an amount of 1000 ppb or less based on polytetrafluoroethylene, and containing 1% / polytetrafluoroethylene or more of a nonionic surfactant It is a thing.
  • General formula (5) (H- (CF 2 ) 13 -COO) p M 1 (Wherein, M 1 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, and H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms) may have a substituent And imidazolium, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent, p is 1 or 2.)
  • One aspect of the present invention includes at least one of a compound represented by the above general formula (5) and a compound represented by the following general formula (5 ′), and the content of the compound represented by the above general formula (5) is And the content of the compound represented by the following general formula (5 ′) is 1,000 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene, and 1000 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene, and a nonionic surfactant , 1% / polytetrafluoroethylene or more.
  • Formula (5 ') ( H- (CF 2) 14 -COO) p M 1 (Wherein, M 1 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, and H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms) may have a substituent And imidazolium, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent, p is 1 or 2.)
  • M 1 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, and H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms
  • One aspect of these inventions is a composition which is an aqueous dispersion.
  • One embodiment of the present invention is a composition containing the compound represented by the above general formula (4) in an amount of 1000 ppb or less based on polytetrafluoroethylene.
  • the content of the compound represented by the general formula (4) including at least one of the compound represented by the general formula (4) and the compound represented by the general formula (4 ′), is polytetrafluoroethylene
  • the content of the compound represented by the above general formula (4 ′) is 1,000 ppb or less based on polytetrafluoroethylene.
  • the composition contains the compound represented by the general formula (5) in an amount of 1000 ppb or less based on polytetrafluoroethylene.
  • One embodiment of the present invention contains at least one of the compound represented by the above general formula (5) and the compound represented by the above general formula (5 ′), and the content of the compound represented by the above general formula (5) is It is a composition which is 1,000 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene, and the content of the compound represented by the above general formula (5 ') is 1000 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene.
  • one aspect of the present invention is a composition comprising the compound represented by the above general formula (4) in an amount of 25 ppb or less based on polytetrafluoroethylene.
  • One embodiment of the present invention contains at least one of the compound represented by the above general formula (4) and the compound represented by the above general formula (4 ′), and the content of the compound represented by the above general formula (4) is
  • the composition is 25 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene
  • the content of the compound represented by the above general formula (4 ′) is 25 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene.
  • One embodiment of the present invention is a composition comprising the compound represented by the above general formula (5) in an amount of 25 ppb or less based on polytetrafluoroethylene.
  • One embodiment of the present invention contains at least one of the compound represented by the above general formula (5) and the compound represented by the above general formula (5 ′), and the content of the compound represented by the above general formula (5) is
  • the composition is 25 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene, and the content of the compound represented by the above general formula (5 ′) is 25 ppb or less with respect to polytetrafluoroethylene.
  • the composition may further contain a compound represented by the following general formula (7) in an amount of 1000 ppb or less based on polytetrafluoroethylene.
  • composition of the present invention is preferably one obtained by polymerizing polytetrafluoroethylene using a hydrocarbon surfactant.
  • the present invention is also a molded body comprising the above composition.
  • the shaped body of the present invention is also preferably a stretched body.
  • the method for producing a purified polytetrafluoroethylene aqueous dispersion of the present invention can remove or reduce the compound represented by the general formula (1) or (2) present in the resulting purified PTFE aqueous dispersion.
  • the method for producing the modified polytetrafluoroethylene powder of the present invention can remove or reduce the compound represented by the general formula (1) or (2) present in the resulting modified polytetrafluoroethylene powder.
  • the method for producing a polytetrafluoroethylene molded article of the present invention can remove or reduce the compound represented by the general formula (1) or (2) present in the obtained polytetrafluoroethylene molded article.
  • the composition of the present invention is one from which the compound represented by the general formula (3) has been removed or reduced.
  • the process for producing the purified PTFE aqueous dispersion of the present invention can be carried out by using a polytetrafluoroethylene (hereinafter sometimes referred to as "PTFE”) aqueous dispersion obtained using a hydrocarbon surfactant and reacting with the general formula (1 And 2.) removing or reducing the compound represented by (2) (hereinafter also referred to as "removal step").
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • R ⁇ 5 > four R ⁇ 5 > may be same or different.
  • R 5 H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable. Further, it is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • m may be 5 to 11.
  • n may be 6 to 12.
  • organic group means a group containing one or more carbon atoms, or a group formed by removing one hydrogen atom from an organic compound.
  • An example of the "organic group” is An alkyl group which may have one or more substituents, An alkenyl group which may have one or more substituents, An alkynyl group which may have one or more substituents, A cycloalkyl group which may have one or more substituents, A cycloalkenyl group which may have one or more substituents, A cycloalkadienyl group which may have one or more substituents, An aryl group which may have one or more substituents, An aralkyl group which may have one or more substituents, A non-aromatic heterocyclic group which may have one or more substituents, A heteroaryl group which may have one or more substituents, Cyano group, Formyl group, RaO-, RaCO-, RaSO 2- , Ra
  • the "substituent” means a group capable of substitution.
  • the "substituent” are aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group, acyl group, acyloxy group, acylamino group, aliphatic oxy group, aromatic oxy group, heterocyclic oxy group, aliphatic oxycarbonyl group Aromatic oxycarbonyl group, heterocyclic oxycarbonyl group, carbamoyl group, aliphatic sulfonyl group, aromatic sulfonyl group, heterocyclic sulfonyl group, aliphatic sulfonyloxy group, aromatic sulfonyloxy group, heterocyclic sulfonyloxy group, sulfamoyl Group, aliphatic sulfonamide group, aromatic sulfon
  • the aliphatic group may be saturated or unsaturated, and may be a hydroxy group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group, an aliphatic amino group , An acylamino group, a carbamoylamino group and the like.
  • Examples of the aliphatic group include alkyl groups having 1 to 8 and preferably 1 to 4 carbon atoms in total, such as methyl, ethyl, vinyl, cyclohexyl and carbamoylmethyl.
  • the above-mentioned aromatic group has, for example, a nitro group, a halogen atom, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group, an aliphatic amino group, an acylamino group, a carbamoylamino group and the like. It may be done.
  • the above aromatic group is an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, preferably 6 to 10 carbon atoms in total, such as phenyl group, 4-nitrophenyl group, 4-acetylaminophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group Etc.
  • the above-mentioned heterocyclic group has a halogen atom, hydroxy group, aliphatic oxy group, carbamoyl group, aliphatic oxycarbonyl group, aliphatic thio group, amino group, aliphatic amino group, acylamino group, carbamoylamino group and the like.
  • the heterocyclic group include 5- to 6-membered heterocyclic rings having 2 to 12 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms in total, such as 2-tetrahydrofuryl and 2-pyrimidyl groups.
  • the above acyl group is an aliphatic carbonyl group, an arylcarbonyl group, a heterocyclic carbonyl group, a hydroxy group, a halogen atom, an aromatic group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group And may have an aliphatic amino group, an acylamino group, a carbamoylamino group and the like.
  • the acyl group include acyl groups having 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 4 carbon atoms in total, such as acetyl, propanoyl, benzoyl and 3-pyridinecarbonyl groups.
  • the above acylamino group may have an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group and the like, and has, for example, an acetylamino group, a benzoylamino group, a 2-pyridinecarbonylamino group, a propanoylamino group and the like. It may be
  • the acylamino group is an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, and an alkylcarbonylamino group having 2 to 8 carbon atoms, for example, an acetylamino group, benzoylamino group, 2-pyridinecarbonylamino Groups and propanoylamino groups.
  • the aliphatic oxycarbonyl group may be saturated or unsaturated, and may be a hydroxy group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group, or an aliphatic group. It may have an amino group, an acylamino group, a carbamoylamino group or the like.
  • Examples of the above-mentioned aliphatic oxycarbonyl group include alkoxycarbonyl groups having 2 to 8, preferably 2 to 4 carbon atoms in total, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, (t) -butoxycarbonyl and the like.
  • the carbamoyl group may have an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or the like.
  • Examples of the carbamoyl group include unsubstituted carbamoyl group, alkylcarbamoyl group having 2 to 9 carbon atoms in total, preferably unsubstituted carbamoyl group, alkylcarbamoyl group having 2 to 5 carbon atoms in total, such as N-methylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group and the like can be mentioned.
  • the aliphatic sulfonyl group may be saturated or unsaturated, and may be a hydroxy group, an aromatic group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group And may have an aliphatic amino group, an acylamino group, a carbamoylamino group and the like.
  • Examples of the aliphatic sulfonyl group include alkylsulfonyl groups having 1 to 6 carbon atoms in total, preferably 1 to 4 carbon atoms in total, such as methanesulfonyl and the like.
  • the above aromatic sulfonyl group has a hydroxy group, aliphatic group, aliphatic oxy group, carbamoyl group, aliphatic oxycarbonyl group, aliphatic thio group, amino group, aliphatic amino group, acylamino group, carbamoylamino group, etc. It may be done.
  • the aromatic sulfonyl group include arylsulfonyl groups having 6 to 10 carbon atoms in total, such as benzene sulfonyl and the like.
  • the amino group may have an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or the like.
  • the acylamino group may have, for example, an acetylamino group, a benzoylamino group, a 2-pyridinecarbonylamino group, a propanoylamino group and the like.
  • the above acylamino group is an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms in total, preferably 2 to 8 carbon atoms in total, more preferably an alkylcarbonylamino group having 2 to 8 carbon atoms in total, such as acetylamino, benzoylamino Group, 2-pyridinecarbonylamino group, propanoylamino group and the like.
  • the aliphatic sulfonamide group, the aromatic sulfonamide group, and the heterocyclic sulfonamide group may be, for example, a methane sulfonamide group, a benzene sulfonamide group, a 2-pyridine sulfonamide group and the like.
  • the sulfamoyl group may have an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group and the like.
  • sulfamoyl group alkylsulfamoyl group having 1 to 9 carbon atoms in total, dialkylsulfamoyl group having 2 to 10 carbon atoms in total, arylsulfamoyl group having 7 to 13 carbon atoms in total Heterocyclic sulfamoyl group having 2 to 12 carbon atoms in total, more preferably sulfamoyl group, alkylsulfamoyl group having 1 to 7 carbon atoms in total, dialkylsulfamoyl group having 3 to 6 carbon atoms in total, total carbon Arylsulfamoyl group having 6 to 11 atoms, heterocyclic sulfamoyl group having 2 to 10 carbon atoms in total, for example, sulfamo
  • the aliphatic oxy group may be saturated or unsaturated, and may have a methoxy group, an ethoxy group, an i-propyloxy group, a cyclohexyloxy group, a methoxyethoxy group or the like.
  • Examples of the aliphatic oxy group include alkoxy groups having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms in total, such as methoxy, ethoxy, i-propyloxy, cyclohexyloxy and methoxyethoxy.
  • the aromatic amino group and the heterocyclic amino group are an aliphatic group, an aliphatic oxy group, a halogen atom, a carbamoyl group, a heterocyclic group fused to the aryl group, an aliphatic oxycarbonyl group, preferably a total carbon atom Aliphatic group having 1 to 4 carbon atoms, aliphatic oxy group having 1 to 4 carbon atoms in total, halogen atom, carbamoyl group having 1 to 4 carbon atoms in total, nitro group, aliphatic oxy carbons having 2 to 4 carbon atoms in total It may have a carbonyl group.
  • the above aliphatic thio group may be saturated or unsaturated, and is preferably an alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms in total, more preferably 1 to 6 carbon atoms in total, such as methylthio and ethylthio groups. , Carbamoylmethylthio group, t-butylthio group and the like.
  • the carbamoylamino group may have an aliphatic group, an aryl group, a heterocyclic group and the like.
  • the carbamoylamino group includes a carbamoylamino group, an alkylcarbamoylamino group having 2 to 9 carbon atoms in total, a dialkylcarbamoylamino group having 3 to 10 carbon atoms in total, and an arylcarbamoylamino group having 7 to 13 carbon atoms in total.
  • Heterocyclic carbamoylamino group having 3 to 12 total carbon atoms preferably carbamoylamino group, alkylcarbamoylamino group having 2 to 7 total carbon atoms, dialkylcarbamoylamino group having 3 to 6 total carbon atoms, the total number of carbon atoms 7-11 arylcarbamoylamino group, heterocyclic ring carbamoylamino group having 3 to 10 carbon atoms in total, for example, carbamoylamino group, methylcarbamoylamino group, N, N-dimethylcarbamoylamino group, phenylcarbamoylamino, 4-pyridine Carbamoylamino group etc It is.
  • the PTFE may be homo PTFE or modified PTFE.
  • the modified PTFE comprises TFE units and modified monomer units based on modified monomers copolymerizable with TFE.
  • the above-mentioned PTFE may be high molecular weight PTFE having non-melt processability and fibrillation property, or low molecular weight PTFE having melt processability and no fibrillation property.
  • the standard specific gravity (SSG) and the melt viscosity (MV) used as an index of the molecular weight of PTFE are not particularly limited.
  • the modifying monomer is not particularly limited as long as it can be copolymerized with TFE.
  • perfluoroolefins such as hexafluoropropylene [HFP]; Chlorofluoroolefins such as chlorotrifluoroethylene [CTFE]; Hydrogen-containing fluoroolefins such as trifluoroethylene and vinylidene fluoride [VDF]; perfluorovinylether; perfluoroalkylethylene; ethylene; fluorine-containing vinylether having a nitrile group and the like.
  • one kind or plural kinds of modifying monomers may be used.
  • Rf represents a perfluoro organic group.
  • the perfluoro unsaturated compound etc. which are represented are mentioned.
  • the above-mentioned "perfluoro organic group” means an organic group in which all hydrogen atoms bonded to carbon atoms are substituted by fluorine atoms.
  • the perfluoro organic group may have ether oxygen.
  • perfluorovinyl ether examples include perfluoro (alkyl vinyl ether) [PAVE] in which Rf represents a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms in the above general formula (X).
  • the carbon number of the perfluoroalkyl group is preferably 1 to 5.
  • Examples of the perfluoroalkyl group in the above PAVE include perfluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, etc.
  • Purple trifluoromethyl vinyl ether [PMVE] in which the group is a perfluoromethyl group and purpleo propyl vinyl ether [PPVE] in which the perfluoroalkyl group is a perfluoropropyl group are preferable.
  • the perfluoroalkylethylene is not particularly restricted but includes, for example, perfluorobutylethylene (PFBE), perfluorohexylethylene (PFHE) and perfluorooctylethylene (PFOE).
  • PFBE perfluorobutylethylene
  • PFHE perfluorohexylethylene
  • PFOE perfluorooctylethylene
  • the modifying monomer in the above-mentioned modified PTFE is preferably at least one selected from the group consisting of HFP, CTFE, VDF, PMVE, PPVE, PFBE, PFHE, CNVE and ethylene.
  • the modified PTFE preferably has a modified monomer unit content of 0.0001 to 2 mol%, more preferably 0.0001 to less than 1 mol%, and 0.0001 to 0.5 mol%. Is more preferably in the range of 0.001 to 0.2 mol%.
  • the average primary particle diameter of the PTFE is preferably 150 nm or more, and more preferably 180 nm or more. As the average primary particle diameter of the PTFE composition is larger, the increase in paste extrusion pressure can be suppressed when paste extrusion molding is performed using the powder, and the film forming property is also excellent.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 500 nm. From the viewpoint of productivity in the polymerization step, 350 nm is preferable.
  • the above average primary particle diameter is obtained by diluting the aqueous PTFE dispersion with water until the solid content becomes 0.15% by mass, and the transmittance of the projection light of 550 nm with respect to the unit length of the obtained diluted latex, and the transmission. Measure the directional diameter by means of a scanning electron micrograph and measure the number-based length average particle diameter to determine a calibration curve, and use this calibration curve to measure the actual transmission of 550 nm projected light of each sample Determined from the rate.
  • the PTFE may have a core-shell structure.
  • PTFE having a core-shell structure includes, for example, modified PTFE including a core of high molecular weight PTFE and a shell of lower molecular weight PTFE or modified PTFE in particles.
  • modified PTFE for example, PTFE described in JP-A-2005-527652 can be mentioned.
  • each monomer constituting PTFE can be calculated by appropriately combining NMR, FT-IR, elemental analysis, and fluorescent X-ray analysis according to the type of monomer.
  • An aqueous PTFE dispersion obtained using a hydrocarbon surfactant contains the compound represented by the above general formula (1) or (2).
  • Examples of the method for removing or reducing the compound represented by the general formula (1) or (2) from the aqueous PTFE dispersion include adsorption treatment, concentration treatment and the like. Also, a method of removing or reducing the compound represented by the general formula (1) or (2) by drying and evaporating the aqueous PTFE dispersion may be employed. As a drying temperature, the temperature of the below-mentioned heat processing is employable, for example. Furthermore, the PTFE aqueous dispersion is gasified to absorb the compound represented by the general formula (1) or (2) in the gas into an aqueous liquid using a droplet absorber and / or a liquid film absorber. There is also a method of The temperature of the aqueous liquid is, for example, preferably 10 to 60.degree.
  • Examples of the adsorption treatment include a method using an adsorbent such as ion exchange resin (IER), activated carbon, or zeolite.
  • adsorbent such as ion exchange resin (IER), activated carbon, or zeolite.
  • the compound represented by the above general formula (1) or (2) is obtained by bringing the compound represented by the above general formula (1) or (2) contained in the aqueous PTFE dispersion into contact with an adsorbent. It can be removed or reduced.
  • the adsorption treatment can be carried out by adding an ion exchange resin to the PTFE aqueous dispersion and stirring as necessary.
  • the ion exchange treatment is preferably to add 1 g or more of ion exchange resin to 100 g of PTFE.
  • the addition amount of ion exchange resin 10 g or more is more preferable, 200 g or less is preferable, and 100 g or less is more preferable.
  • concentration treatment examples include phase separation concentration, electric concentration, filtration treatment using an ultrafiltration membrane, filtration treatment using a reverse osmosis membrane (RO membrane), nanofiltration treatment and the like.
  • concentration treatment for example, a method of adding a nonionic surfactant so as to be 1% / PTFE or more to a PTFE aqueous dispersion and leaving it to stand may be mentioned.
  • the addition amount of the nonionic surfactant is preferably 40% / PTFE or less, more preferably 30% / PTFE or less, and still more preferably 20% / PTFE or less.
  • the temperature for standing is not limited, it may be, for example, 20 ° C. or more, and may be 80 ° C. or less.
  • the standing time is not limited, but may be, for example, 1 minute or more, and 24 hours or less.
  • the removal step preferably includes a step of adsorption treatment and / or concentration treatment of the PTFE aqueous dispersion, and more preferably includes a step of ion exchange treatment and / or concentration treatment of the PTFE aqueous dispersion.
  • the step of ion exchange treatment and / or concentration treatment may be a step of ion exchange treatment, may be a step of concentration treatment, or may be a step of ion exchange treatment and concentration treatment,
  • the processing may be performed multiple times. When the ion exchange treatment and the concentration treatment are performed, the order of the ion exchange treatment and the concentration treatment may be random and may be performed alternately.
  • the step of ion exchange treatment and / or concentration treatment is particularly preferably the step of ion exchange treatment and concentration treatment.
  • the process of carrying out the ion exchange treatment and / or the concentration treatment it is more preferable to carry out the concentration treatment after the ion exchange treatment.
  • the adsorption treatment and the concentration treatment may be performed multiple times each.
  • the adsorption treatment or concentration treatment may be performed twice, three times, four times, five times, six times, seven times, eight times, nine times or ten times.
  • the adsorption treatment and the concentration treatment may be performed in combination.
  • an aqueous PTFE dispersion is obtained using a hydrocarbon surfactant, usually, 1 to 200 ppm of a compound represented by the general formulas (1) and (2) with respect to PTFE is formed.
  • the compound represented by the general formula (1) or (2) in the aqueous PTFE dispersion can be removed or reduced to obtain a purified aqueous PTFE dispersion.
  • the removing step is preferably removing 80% by mass or more of the compounds represented by the general formulas (1) and (2) in the aqueous PTFE dispersion, and may be removing 85% by mass or more It is more preferable to remove 90% by mass or more, still more preferable to remove 95% by mass or more, and even more preferable to remove 97% by mass or more. It is particularly preferable to remove the above, and it is most preferable to remove 99% by mass or more.
  • the content of the compound represented by the general formulas (1) and (2) in the purified PTFE aqueous dispersion obtained is preferably 500 ppb or less with respect to PTFE, preferably 200 ppb or less It is more preferable that It is further preferable to use 100 ppb or less, particularly preferably 50 ppb or less, and most preferably 25 ppb or less.
  • the above-mentioned PTFE aqueous dispersion can be obtained by a production method comprising the step of emulsion-polymerizing tetrafluoroethylene in an aqueous medium in the presence of a hydrocarbon surfactant.
  • the above-mentioned emulsion polymerization can be carried out by a conventionally known method.
  • the aqueous medium is not particularly limited as long as it is a liquid containing water, and may contain, in addition to water, an organic solvent such as alcohol, ether, ketone, paraffin wax and the like.
  • hydrocarbon surfactant for example, those described in JP-A-2013-542308, JP-A-2013-542309, and JP-A-2013-542310 can be used. Details of the hydrocarbon surfactant will be described later.
  • the present invention also includes a step of removing a compound represented by the following general formula (1) or (2) from a PTFE powder obtained using a hydrocarbon surfactant: It is also a manufacturing method.
  • General formula (1) (H- (CF 2 ) m -COO) p M 1 (wherein, m is 3 to 19, M 1 is H, metal atom, NR 5 4 (R 5 is the same or different H, or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), imidazolium optionally having substituent (s), pyridinium optionally having substituent (s), or having substituent (s) Good phosphonium, p is 1 or 2.)
  • Formula (2) ( H- (CF 2 ) n -SO 3) q M 2 ( wherein, n is 4 ⁇ 20 .M 2 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 are the same Or H, or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), imidazolium which may have a substituent, pyridin
  • R ⁇ 5 > four R ⁇ 5 > may be same or different.
  • R 5 H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • m may be 5 to 11.
  • n may be 6 to 12.
  • the PTFE powder obtained using a hydrocarbon surfactant can be obtained, for example, by coagulating the obtained PTFE aqueous dispersion using the above-mentioned hydrocarbon surfactant.
  • PTFE in the above-mentioned PTFE powder PTFE such as homo-PTFE or modified PTFE described in the method for producing a purified aqueous PTFE dispersion can be used.
  • Examples of the method for removing or reducing the compound represented by the general formula (1) or (2) from the above-mentioned PTFE powder include heat treatment, fluorination treatment, washing with water or an organic solvent, and the like.
  • Examples of the organic solvent include ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, pyridine, nitriles, nitrogen-containing polar organic compounds, dimethyl sulfoxide, alcohols and the like.
  • the ether include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like.
  • the alcohol examples include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. You may use combining the said organic solvent.
  • the temperature of the heat treatment is preferably 150 ° C. or more.
  • the temperature of the heat treatment is more preferably 160 ° C. or higher from the viewpoint of removal or reduction of the compound represented by the general formula (1) or (2). That is, the removal step preferably includes a step of heat-treating the PTFE powder obtained using a hydrocarbon surfactant at a temperature of 160 ° C. or higher.
  • the temperature of the heat treatment is preferably 170 ° C. or more, more preferably 180 ° C. or more, still more preferably 200 ° C. or more, particularly preferably 210 ° C. or more, particularly preferably 220 ° C.
  • the heat treatment temperature is preferably 310 ° C. or less, more preferably 300 ° C. or less, still more preferably 290 ° C. or less, still more preferably 280 ° C. or less, and particularly preferably 270 ° C. or less.
  • the heat treatment may involve drying of water. That is, the heat treatment may be to dry the wet PTFE powder containing water obtained by coagulating the PTFE dispersion after polymerization obtained using a hydrocarbon surfactant. During drying, the compound represented by the general formula (1) or (2) and the compound represented by the general formula (7) described later are reduced. Further, it is preferable to heat treat again the PTFE powder which does not contain moisture after drying.
  • the wet PTFE powder may be dried to remove moisture, and then the temperature may be raised continuously to the above temperature range for heat treatment.
  • the above-mentioned drying may be performed below each temperature range mentioned above, for example, may be performed below 150 ° C.
  • the method for producing the modified PTFE powder of the present invention may include the step of coagulating the obtained PTFE dispersion using a hydrocarbon surfactant to obtain a wet PTFE powder containing water.
  • a conventionally known method can be adopted as a method of the above-mentioned fluorination treatment.
  • produces a fluorine radical under fluorination processing conditions is mentioned.
  • a fluorine radical source in addition to fluorine gas, CoF 3 , AgF 2 , UF 6 , OF 2 , N 2 F 2 , CF 3 OF, halogen fluoride (for example IF, IF 3 , IF 5 , IF 7 etc.
  • fluorine gas is most preferable in terms of handleability, cost, high efficiency and ability to remove the compounds represented by the general formulas (1) and (2), and difficulty in providing new impurities such as iodine. Because the reaction with the fluorine radical source is very exothermic, the fluorine radical source may be diluted with an inert gas such as nitrogen.
  • the level of the fluorine radical source in the fluorine radical source / inert gas mixture may be 1 to 100% by volume, but work with pure fluorine is about 5 to about 25% by volume because of the high risk preferable.
  • the fluorine radical source / inert gas mixture may be sufficiently diluted to prevent overheating of the fluorinated polymer and the fire hazard associated therewith. .
  • the temperature of the fluorination treatment is preferably over 100 ° C.
  • the temperature of the fluorination treatment is more preferably 110 ° C. or more, still more preferably 120 ° C. or more, still more preferably 130 ° C. or more, and particularly preferably 150 ° C. or more.
  • 170 ° C. or more is particularly preferable, 180 ° C. or more is more preferable, 200 ° C. or more is further more preferable, 210 ° C. or more is particularly preferable, 220 ° C. or more is particularly preferable, and 230 ° C. or more is most preferable.
  • the temperature of the fluorination treatment is preferably 310 ° C. or less, more preferably 300 ° C. or less, still more preferably 290 ° C. or less, still more preferably 280 ° C. or less, particularly preferably 270 ° C. or less, particularly preferably 250 ° C. or less Is particularly preferred, and 240 ° C. or less is most preferred. If the temperature is too low, the compound represented by the general formula (7) described later may remain over 1000 ppb relative to PTFE. If the temperature is too high, friction between the PTFE powders may easily cause fibrillation even with a small shear force and lose the state of the original particle structure, which may lead to a decrease in paste extrusion performance.
  • the temperature of the fluorination treatment is preferably 110 to 270 ° C., more preferably 120 to 270 ° C., still more preferably 150 to 270 ° C., and particularly preferably 200 to 270 ° C.
  • the amount of addition of the fluorine radical source is preferably 0.5 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the raw material PTFE in terms of fluorine atoms. More preferably, it is 0.8 parts by weight or more, more preferably 1.0 parts by weight or more, more preferably 1.6 parts by weight or more, and still more preferably 2.0 parts by weight or more. More preferably, it is 2.5 parts by weight or more, particularly preferably 3.0 parts by weight or more, and particularly preferably 5.0 parts by weight or more.
  • the addition amount of the fluorine radical source is preferably 35.0 parts by weight or less, more preferably 26.0 parts by weight or less, still more preferably 20.0 parts by weight or less, and 15.
  • the amount is 0 parts by weight or less.
  • the addition amount of the fluorine radical source is too small, removal or reduction of the compound represented by the general formula (1) or (2) may be insufficient. In addition, removal or reduction of unidentifiable compounds may be insufficient. Even if the addition amount of the fluorine radical source is too large, the effect of fluorination does not improve and there is a possibility that it becomes uneconomical.
  • the temperature of the heat treatment is over 100 ° C.
  • the addition amount of the fluorine radical source is 100 parts by weight of raw material PTFE converted to fluorine atoms.
  • 100 ° C. and 1.0 parts by weight or more are preferable, 100 ° C. and 1.6 parts by weight or more are more preferable, 100 ° C. and 2.0 parts by weight or more are more preferable, 100 ° C. and more More preferably, it is 2.5 parts by weight or more, more preferably 100 ° C. and 3.0 parts by weight, and even more preferably 100 ° C. and 5.0 parts by weight.
  • 110 ° C. or more and 0.5 parts by weight or more are preferable, 110 ° C. or more and 1.0 parts by weight or more are more preferable, 110 ° C. or more and 1.6 parts by weight or more are more preferable, 110 ° C. or more Parts by weight or more are more preferable, 110 ° C. or more and 2.5 parts by weight or more are particularly preferable, 110 ° C. or more and 3.0 parts by weight or more are particularly preferable, and 110 ° C. or more and 5.0 parts by weight or more are most preferable .
  • 120 ° C. or more and 0.5 parts by weight or more are preferable, 120 ° C. or more and 1.0 parts by weight or more are more preferable, 120 ° C.
  • 150 ° C. or more and 2.5 parts by weight or more are particularly preferable, 130 ° C. or more and 3.0 parts by weight or more are particularly preferable, and 130 ° C. or more and 5.0 parts by weight or more are most preferable .
  • 150 ° C. or more and 0.5 parts by weight or more are preferable, 150 ° C. or more and 1.0 parts by weight or more are more preferable, 150 ° C. or more and 1.6 parts by weight or more are more preferable, 150 ° C. or more Parts by weight or more are more preferable, 150 ° C. or more and 2.5 parts by weight or more are particularly preferable, 150 ° C. or more and 3.0 parts by weight or more are particularly preferable, and 150 ° C.
  • 170 degreeC or more and 0.5 weight part or more are preferable, 170 degreeC or more and 1.0 weight part or more are more preferable, 170 degreeC or more and 1.6 weight part or more are still more preferable, 170 degreeC or more and 2.0 Parts by weight or more is more preferable, 170 ° C. or more and 2.5 parts by weight or more are particularly preferable, 170 ° C. or more and 3.0 parts by weight or more are particularly preferable, and 170 ° C. or more and 5.0 parts by weight or more are most preferable .
  • 180 ° C. or more and 0.5 parts by weight or more are preferable, 180 ° C.
  • 180 ° C. or more and 1.0 parts by weight or more are more preferable, 180 ° C. or more and 1.6 parts by weight or more are more preferable, 180 ° C. or more Parts by weight or more is more preferable, 180 ° C. or more and 2.5 parts by weight or more are particularly preferable, 180 ° C. or more and 3.0 parts by weight or more are particularly preferable, and 180 ° C. or more and 5.0 parts by weight or more are most preferable .
  • 200 ° C. or more and 0.5 parts by weight or more are preferable, 200 ° C. or more and 1.0 parts by weight or more are more preferable, 200 ° C. or more and 1.6 parts by weight or more are more preferable, 200 ° C.
  • Parts by weight or more are more preferable, 200 ° C. or more and 2.5 parts by weight or more are particularly preferable, 200 ° C. or more and 3.0 parts by weight or more are particularly preferable, and 200 ° C. or more and 5.0 parts by weight or more are most preferable .
  • 210 ° C. or more and 0.5 parts by weight or more are preferable, 210 ° C. or more and 1.0 parts by weight or more are more preferable, 210 ° C. or more and 1.6 parts by weight or more are more preferable, 210 ° C. or more Parts by weight or more is more preferable, 210 ° C. or more and 2.5 parts by weight or more are particularly preferable, 210 ° C.
  • 230 ° C. or more and 0.5 parts by weight or more are preferable, 230 ° C. or more and 1.0 parts by weight or more are more preferable, 230 ° C. or more and 1.6 parts by weight or more are further preferable, 230 ° C. or more Parts by weight or more is more preferable, 230 ° C. or more and 2.5 parts by weight or more are particularly preferable, 230 ° C. or more and 3.0 parts by weight or more are particularly preferable, and 230 ° C. or more and 5.0 parts by weight or more are most preferable .
  • the heat treatment temperature in the above combination is preferably 310 ° C. or less, more preferably 300 ° C. or less, still more preferably 290 ° C.
  • the addition amount of the fluorine radical source in the above combination is preferably 35.0 parts by weight or less, more preferably 26.0 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the raw material PTFE, in terms of fluorine atoms.
  • the content is more preferably 20.0 parts by weight or less, particularly preferably 15.0 parts by weight or less.
  • the combination of the heat treatment temperature and the upper limit of the fluorine radical source is preferably 240 ° C. or less and 35.0 parts by weight or less, more preferably 240 ° C. or less and 26.0 parts by weight or less, and 240 ° C.
  • the content is more preferably 20.0 parts by weight or less, and particularly preferably 240 ° C. or less and 15.0 parts by weight or less.
  • the amount (parts by weight) of fluorine radical source added to 100 parts by weight of PTFE was calculated according to the following equation.
  • C Concentration of fluorine radical source in mixed gas (g / mL)
  • D Mixed gas flow rate (mL / min)
  • E Fluorination treatment time (min)
  • F Sample loading amount (g)
  • G Molecular weight of fluorine radical source (g / mol)
  • H Ratio of fluorine radical source in mixed gas
  • P, R and T use the following.
  • P pressure (atm)
  • R 0.082 (atm ⁇ L / K ⁇ mol)
  • T temperature (K)
  • any apparatus provided with a heating apparatus and capable of sufficiently performing solid-gas contact can be used without any problem.
  • the removing step may be performed multiple times. For example, two, three, four, five, six, seven, eight, nine or ten removal steps may be performed.
  • the heat treatment and the fluorination treatment may be carried out in combination or simultaneously.
  • the method of washing with water or an organic solvent is not particularly limited, and conventionally known methods can be adopted.
  • a hydrocarbon powder When a hydrocarbon powder is used to obtain a PTFE powder, 1 to 200 ppm of the compound represented by the general formulas (1) and (2) may be formed with respect to PTFE.
  • the removal step the compound represented by the general formula (1) or (2) in the aqueous PTFE dispersion can be removed or reduced to obtain a modified PTFE powder.
  • the removal step preferably removes 80% by mass or more of the compounds represented by the general formulas (1) and (2) in the PTFE powder, and more preferably 85% by mass or more. 90% by mass or more is more preferably removed, 95% by mass or more is more preferably removed, 97% by mass or more is particularly preferably removed, and 98% by mass or more is removed It is particularly preferable to be removed, and it is most preferable to remove 99% by mass or more.
  • the content of the compound represented by the general formulas (1) and (2) in the obtained modified PTFE powder is preferably 500 ppb or less to PTFE, and is 200 ppb or less Is more preferably 100 ppb or less, particularly preferably 50 ppb or less, and most preferably 25 ppb or less.
  • the present invention is a method for producing a molded article using PTFE produced using a hydrocarbon surfactant, and removing or reducing a compound represented by the following general formula (1) or (2) It is a manufacturing method of the PTFE fabrication object characterized by including.
  • R ⁇ 5 > four R ⁇ 5 > may be same or different.
  • R 5 H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • m may be 5 to 11.
  • n may be 6 to 12.
  • the PTFE powder obtained using hydrocarbon type surfactant mentioned above can be used.
  • PTFE such as homo-PTFE or modified PTFE described in the method for producing purified PTFE aqueous dispersion.
  • examples of the method for removing or reducing the compound represented by the general formula (1) or (2) include heat treatment, fluorination treatment and the like.
  • the temperature of the heat treatment is preferably 150 ° C. or more.
  • the temperature of the heat treatment is more preferably 160 ° C. or higher. That is, it is preferable that the said removal process includes the process of heat-processing at the temperature of 160 degreeC or more.
  • the temperature of the heat treatment is preferably 170 ° C. or more, more preferably 180 ° C. or more, still more preferably 200 ° C. or more, particularly preferably 210 ° C. or more, particularly preferably 220 ° C. or more, and most preferably 230 ° C. or more.
  • the heat treatment temperature is preferably 310 ° C.
  • the heat treatment may involve drying. During drying, the compound represented by the general formula (1) or (2) and the compound represented by the general formula (7) described later are reduced.
  • a conventionally known method can be adopted as a method of the above-mentioned fluorination treatment.
  • produces a fluorine radical under fluorination processing conditions is mentioned.
  • a fluorine radical source in addition to fluorine gas, CoF 3 , AgF 2 , UF 6 , OF 2 , N 2 F 2 , CF 3 OF, and halogen fluorides such as IF 5 , ClF 3 , BrF 3 etc. are mentioned Be Because the reaction with the fluorine radical source is very exothermic, the fluorine radical source may be diluted with an inert gas such as nitrogen.
  • the level of the fluorine radical source in the fluorine radical source / inert gas mixture may be 1 to 100% by volume, but work with pure fluorine is about 5 to about 25% by volume because of the high risk preferable.
  • the fluorine radical source / inert gas mixture may be sufficiently diluted to prevent overheating of the fluorinated polymer and the fire hazard associated therewith. .
  • the heat treatment and the fluorination treatment may be carried out in combination or simultaneously. The above-mentioned fluorination treatment reduces the compound represented by the general formula (1) or (2) and the compound represented by the general formula (7) described later.
  • the temperature of the fluorination treatment is preferably over 100 ° C.
  • the temperature of the fluorination treatment is more preferably 110 ° C. or more, still more preferably 120 ° C. or more, still more preferably 130 ° C. or more, and particularly preferably 150 ° C. or more.
  • 170 ° C. or more is particularly preferable, 180 ° C. or more is more preferable, 200 ° C. or more is further more preferable, 210 ° C. or more is particularly preferable, 220 ° C. or more is particularly preferable, and 230 ° C. or more is most preferable.
  • the temperature of the fluorination treatment is preferably 310 ° C. or less, more preferably 300 ° C. or less, still more preferably 290 ° C. or less, still more preferably 280 ° C. or less, particularly preferably 270 ° C. or less, particularly preferably 250 ° C. or less Is particularly preferred, and 240 ° C. or less is most preferred.
  • the time of the said fluorination process is not specifically limited, For example, it is 1 minute or more, and is 24 hours or less.
  • the addition amount of the fluorine radical source is preferably 0.5 parts by weight or more, more preferably 0.8 parts by weight or more, in terms of fluorine atoms, with respect to 100 parts by weight of the raw material PTFE. 0 parts by weight or more is more preferable. More preferably, it is at least 1.6 parts by weight, more preferably at least 2.0 parts by weight, still more preferably at least 2.5 parts by weight, and even more preferably 3.0 parts by weight Or more, and particularly preferably 5.0 parts by weight or more.
  • the addition amount of the fluorine radical source is preferably 35.0 parts by weight or less, more preferably 26.0 parts by weight or less, still more preferably 20.0 parts by weight or less, and 15.
  • the amount is 0 parts by weight or less.
  • the addition amount of the fluorine radical source is too small, removal or reduction of the compound represented by the general formula (1) or (2) may be insufficient. In addition, removal or reduction of unidentifiable compounds may be insufficient. Even if the addition amount of the fluorine radical source is too large, the effect of fluorination does not improve and there is a possibility that it becomes uneconomical. Also in the fluorination treatment in the method for producing a molded body, all combinations of the temperature of the fluorination treatment and the content of the fluorine radical source in the method for producing a PTFE powder described above can be adopted.
  • any apparatus provided with a heating apparatus and capable of sufficiently performing solid-gas contact can be used without any problem.
  • the manufacturing method of the molded object of this invention should just be a thing including the said removal process.
  • the method for producing a molded article according to the present invention further comprises, in addition to the removal step, a step (1a) of mixing a PTFE powder obtained using a hydrocarbon surfactant with an extrusion aid.
  • the method comprises the steps of paste extruding the mixture (1b), drying the extrudate obtained by extrusion (1c), and calcinating the dried extrudate to obtain a formed body (1d). Good.
  • the removal step may be performed before the step (1b) after the step (1a), may be performed before the step (1c) after the step (1b), or may be performed after the step (1d).
  • the temperature of the heat treatment can also be carried out at a temperature exceeding 310 ° C.
  • the heat treatment is preferably carried out at 500 ° C. or less.
  • the removal step may be performed during the step (1b), the step (1c) or the step (1d).
  • the removing step may be performed multiple times. For example, two, three, four, five, six, seven, eight, nine or ten removal steps may be performed.
  • the heat treatment and the fluorination treatment may be carried out in combination or simultaneously.
  • the removing step removes the compound represented by the general formula (1) or (2) from the PTFE powder obtained using a hydrocarbon surfactant or
  • the compound represented by the general formula (1) or (2) may be removed or reduced from a molded article molded using a PTFE powder obtained by using a hydrocarbon surfactant. It may be
  • the paste extrusion molding can be carried out by a conventionally known method, and molding conditions can be selected according to the desired shape and size.
  • the paste extrusion molding can also be performed by adding conventionally known additives such as pigments and fillers to the above-mentioned PTFE powder.
  • the method for producing a molded article of the present invention further comprises the step (2a) of mixing the PTFE powder obtained using a hydrocarbon surfactant with an extrusion aid. Extruding and rolling the extruded mixture (2b), drying the extrudate obtained by extrusion rolling (2c), uniaxially stretching the dried extrudate (2d), biaxially stretching the biaxially stretched material
  • stretching (2e) the process of baking the stretched material after biaxial stretching (2f), and the process (2g) of laminating a baked product with another material may be included.
  • the removal step is a step (2a) and a step (2b) before, a step (2b) and a step (2c), a step (2c) and a step (2d) and a step (2d) and a step (2e). It may be performed before the step (2e) before the step (2f) and before the step (2g) after the step (2f). In addition, the removal step may be performed during the steps (2a), (2b), (2c), (2d), (2e), (2f) or (2g). The removing step may be performed multiple times. The heat treatment and the fluorination treatment may be performed in combination or simultaneously.
  • the extrusion aid is not particularly limited, and generally known ones can be used. For example, hydrocarbon oil etc. are mentioned.
  • the method for producing a molded article of the present invention may include, in addition to the removal step, a step of compression molding a PTFE powder obtained using a hydrocarbon surfactant.
  • the removal step may be performed during or after the compression molding step.
  • the removing step may be performed multiple times.
  • the heat treatment and the fluorination treatment may be performed in combination.
  • the removal step preferably removes 80% by mass or more of the compound represented by the general formulas (1) and (2) before and after the removal step, and 85% by mass It is more preferable to remove the above, more preferable to remove 90% by mass or more, still more preferable to remove 95% by mass or more, and to remove 97% by mass or more Is particularly preferable, 98% by mass or more is particularly preferable to be removed, and 99% by mass or more is most preferable.
  • the content of the compounds represented by the general formulas (1) and (2) in the obtained PTFE molded body is preferably 500 ppb or less with respect to PTFE, and is 200 ppb or less Is more preferably 100 ppb or less, particularly preferably 50 ppb or less, and most preferably 25 ppb or less.
  • the fluorination process performed at specific temperature is one of the preferable forms. That is, according to the present invention, a fluorine radical source is brought into contact with PTFE obtained using a hydrocarbon surfactant at a temperature higher than 100 ° C. to obtain a compound represented by the following general formula (1) or (2) It is also a method of producing modified PTFE, which comprises the step of removing or reducing.
  • Formula (1) ( H- (CF 2 ) m -COO) p M 1 (Wherein, m is 3 to 19, M 1 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), a substituent Imidazolium which may have, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent (p is 1 or 2)
  • General formula (2) (H- (CF 2 ) n -SO 3 ) q M 2 (Wherein, n is 4 to 20.
  • M 2 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), a substituent Imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent, q is 1 or 2.)
  • fluorine radical source By contacting the fluorine radical source at the above specific temperature (fluorination treatment), the compound represented by the general formula (1) or (2) can be efficiently removed.
  • PTFE obtained by using a hydrocarbon surfactant also contains impurities such as decomposition products of substances used in polymerization of PTFE.
  • Such impurities can also be removed by contacting the fluorine radical source at the above specific temperature.
  • the temperature at the time of contacting the said fluorine radical source is over 100 degreeC.
  • the temperature upon contacting the fluorine radical source can be adjusted by a conventionally known method, preferably 110 ° C. or more, more preferably 120 ° C. or more, still more preferably 130 ° C. or more, still more preferably 150 ° C. or more, 170 degreeC or more is especially more preferable, 180 degreeC or more is more preferable, and 200 degreeC or more is especially preferable. Further, 210 ° C. or more is more preferable, 220 ° C. or more is particularly preferable, and 230 ° C. or more is the most preferable.
  • the temperature is preferably 310 ° C. or less, more preferably 300 ° C. or less, still more preferably 290 ° C. or less, still more preferably 280 ° C. or less, particularly preferably 270 ° C. or less, particularly preferably 250 ° C. or less, 240 ° C.
  • the following is most preferred.
  • the addition amount of the fluorine radical source, and the combination of the temperature and the addition amount may all be employed.
  • the fluorine radical source When the fluorine radical source is brought into contact in the method for producing the modified PTFE, various conditions (for example, types of fluorine radical source) of the fluorination treatment described in the method for producing the modified PTFE powder and the method for producing a molded product described above
  • the addition amount of the fluorine radical source, the timing and the number of times of performing the fluorination treatment, and the like can be appropriately adopted.
  • the removal methods described in the removal step such as heat treatment, washing with water or an organic solvent, etc. may be combined.
  • the heat treatment step may be performed after the step of contacting the fluorine radical source to remove or reduce the compound represented by the general formula (1) or (2).
  • the content of the compounds represented by the general formulas (1) and (2) can be further reduced.
  • the content of the compound represented by the general formula (7) can be further reduced.
  • the temperature and time of the heat treatment in the heat treatment step can adopt the ranges described above.
  • the PTFE obtained by using the hydrocarbon surfactant may be a powder or a molded body.
  • fluorination treatment using a specific amount of a fluorine radical source is also one of the preferable modes. That is, the present invention includes the step of contacting PTFE obtained using a hydrocarbon surfactant with a fluorine radical source to remove or reduce the compound represented by the following general formula (1) or (2)
  • the amount of the fluorine radical source added is 0.5 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of PTFE in terms of fluorine atoms.
  • Formula (1) ( H- (CF 2 ) m -COO) p M 1 (Wherein, m is 3 to 19, M 1 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), a substituent Imidazolium which may have, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent (p is 1 or 2)
  • General formula (2) (H- (CF 2 ) n -SO 3 ) q M 2 (Wherein, n is 4 to 20.
  • M 2 is H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 may be the same or different, H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), a substituent Imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent, q is 1 or 2.)
  • the compound represented by the general formula (1) or (2) can be efficiently removed by contacting the fluorine radical source at the specific addition amount (fluorination treatment).
  • PTFE obtained by using a hydrocarbon surfactant also contains impurities such as decomposition products of substances used in polymerization of PTFE.
  • the addition amount of the fluorine radical source is 0.5 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the raw material PTFE in terms of fluorine atoms.
  • it is 0.8 parts by weight or more, more preferably 1.0 parts by weight or more, still more preferably 1.6 parts by weight or more, more preferably 2.0 parts by weight or more, and further preferably Is 2.5 parts by weight or more, still more preferably 3.0 parts by weight or more, and particularly preferably 5.0 parts by weight or more.
  • the addition amount of the fluorine radical source is preferably 35.0 parts by weight or less, more preferably 26.0 parts by weight or less, still more preferably 20.0 parts by weight or less, and 15. It is particularly preferable that the amount is 0 parts by weight or less.
  • the addition amount of the fluorine radical source is too small, removal or reduction of the compound represented by the general formula (1) or (2) may be insufficient. In addition, removal or reduction of unidentifiable compounds may be insufficient.
  • the addition amount of the fluorine radical source is too large, the effect of fluorination does not improve and tends to be uneconomical. In this production method, as the temperature of the fluorination treatment, and the combination of the temperature and the addition amount, any of those described above can be adopted.
  • the fluorine radical source When the fluorine radical source is brought into contact in the method for producing modified PTFE, various conditions (for example, type of fluorine radical source, fluorination treatment) described in the method for producing modified PTFE powder and the method for producing molded body described above Temperature, timing and number of times of fluorination treatment, etc. can be adopted appropriately.
  • the removal methods described in the removal step such as heat treatment, washing with water or an organic solvent, etc. may be combined.
  • the heat treatment step may be performed after the step of contacting the fluorine radical source to remove or reduce the compound represented by the general formula (1) or (2). By performing the heat treatment step, the content of the compounds represented by the general formulas (1) and (2) can be further reduced.
  • the content of the compound represented by the general formula (7) can be further reduced.
  • the temperature and time of the heat treatment in the heat treatment step can adopt the ranges described above.
  • the PTFE obtained by using the hydrocarbon surfactant may be a powder or a molded body.
  • hydrocarbon surfactants are described below.
  • Hydrocarbon surfactants have hydrophilic and hydrophobic portions on the same molecule. These may be cationic, nonionic or anionic.
  • Cationic surfactants usually have a positively charged hydrophilic moiety such as an alkylated ammonium halide such as alkylated ammonium bromide and a hydrophobic moiety such as a long chain fatty acid.
  • Anionic surfactants usually have a hydrophilic moiety such as a carboxylate, sulfonate or sulfate and a hydrophobic moiety which is a long chain hydrocarbon moiety such as alkyl.
  • Nonionic surfactants usually do not contain charged groups and have a hydrophobic moiety that is a long chain hydrocarbon.
  • the hydrophilic portion of the nonionic surfactant comprises a water soluble functional group such as a chain of ethylene ether derived from polymerization with ethylene oxide.
  • nonionic hydrocarbon surfactants polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene alkyl ester, sorbitan alkyl ester, polyoxyethylene sorbitan alkyl ester, glycerol ester, derivatives thereof.
  • polyoxyethylene alkyl ether polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene behenyl ether and the like.
  • polyoxyethylene alkylphenyl ether polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether and the like.
  • polyoxyethylene alkyl esters polyethylene glycol monolaurate, polyethylene glycol monooleate, polyethylene glycol monostearate and the like.
  • sorbitan alkyl esters polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan monooleate and the like.
  • polyoxyethylene sorbitan alkyl ester polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate and the like.
  • glycerol ester glycerol monomyristate, glycerol monostearate, glycerol monooleate and the like.
  • polyoxyethylene alkylamine polyoxyethylene alkylphenyl-formaldehyde condensate, polyoxyethylene alkyl ether phosphate and the like.
  • the ethers and esters may have HLB values of 10-18.
  • nonionic hydrocarbon surfactants include Triton (registered trademark) Triton (registered trademark) X series (X15, X45, X100, etc.), Tergitol (registered trademark) 15-S series, Tergitol (manufactured by Dow Chemical Company) TMN series (TMN-6, TMN-10, TMN-100, etc.), Tergitol (R) L series, BASF Pluronic (R) R series (31R1, 17R2, 10R5, 25R4 (m-22) , N to 23), T-Det series (A138), Iconol (registered trademark) TDA series (TDA-6, TDA-9, TDA-10) and the like.
  • anionic hydrocarbon surfactant examples include Versatic (registered trademark) 10, Resolution Performance Products, and Avanel S series (S-70, S-74, etc.) manufactured by BASF.
  • R—L M 1 As a hydrocarbon surfactant, R—L M 1 (wherein R is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent, or a substituent
  • the cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms which may have a carbon number of 3 or more may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring, and may have a ring.
  • M 1 is, H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 are be the same or different H, or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent there-ArSO.
  • 3 - is an anion, expressed by an aryl sulfonic acid salt). Surface active agents may also be mentioned.
  • R 6 ( ⁇ LM 1 ) 2 As a hydrocarbon surfactant, R 6 ( ⁇ LM 1 ) 2 (wherein R 6 is a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent) Or a cyclic alkylene group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent, and in the case of 3 or more carbon atoms, it may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring, or the ring may be wound.
  • M 1 is, H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 are the same Or H, or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent, or having a substituent -ArSO 3 - is an aryl sulfonate salt).
  • Anionic surfactants are also included.
  • R 7 (-L-M 1 ) 3 As a hydrocarbon surfactant, R 7 (-L-M 1 ) 3 (wherein R 7 is a linear or branched alkylidene group having one or more carbon atoms which may have a substituent) Or a cyclic alkylidine group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent, and in the case of 3 or more carbon atoms, it may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring, or the ring may be wound which may .
  • L is, -ArSO 3 -, -SO 3 - , -SO 4 -, - PO 3 - or -COO - a is, M 1 is, H, a metal atom, NR 5 4 (R 5 are the same Or H, or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent, or having a substituent -ArSO
  • siloxane hydrocarbon surfactants examples include Silicone Surfactants, R.I. M. Hill, Marcel Dekker, Inc. , ISBN: 0-8247-00104.
  • the structure of the siloxane surfactant comprises well-defined hydrophobic and hydrophilic moieties.
  • the hydrophobic moiety comprises one or more dihydrocarbyl siloxane units, wherein the substituents on the silicone atom are completely hydrocarbon.
  • These siloxane surfactants can also be regarded as hydrocarbon surfactants, in the sense that when carbon atoms of hydrocarbyl groups can be substituted by halogen such as fluorine, they are completely substituted by hydrogen atoms, And the monovalent substituent on the carbon atom of the hydrocarbyl group is hydrogen.
  • the hydrophilic part of the siloxane surfactant is sulfate, sulfonate, phosphonate, phosphate ester, carboxylate, carbonate, sulfosuccinate, taurate (as free acid, salt or ester), phosphine oxide, betaine, betaine copolyol, It may also include one or more polar moieties that include ionic groups such as quaternary ammonium salts.
  • the ionic hydrophobic moiety may also comprise an ionically functionalized siloxane graft.
  • siloxane surfactants include, for example, polydimethylsiloxane-graft- (meth) acrylate, polydimethylsiloxane-graft-polyacrylate salt, and polydimethylsiloxane-grafted quaternary amines.
  • the polar part of the hydrophilic part of the siloxane surfactant is polyethylene oxide (PEO), and polyethers such as mixed polyethylene oxide / propylene oxide polyether (PEO / PPO); monosaccharides and disaccharides; and pyrrolidinone etc. It may contain nonionic groups formed by water soluble heterocycles.
  • the ratio of ethylene oxide to propylene oxide (EO / PO) can be varied in mixed polyethylene oxide / propylene oxide polyethers.
  • the hydrophilic portion of the siloxane surfactant may also comprise a combination of ionic and non-ionic moieties.
  • Such moieties include, for example, ionically end-functionalized or randomly functionalized polyethers or polyols.
  • Preferred for the practice of the present invention are siloxanes having non-ionic moieties, ie, non-ionic siloxane surfactants.
  • the arrangement of hydrophobic and hydrophilic portions of the structure of the siloxane surfactant can be diblock polymer (AB), triblock polymer (ABA) (where "B” represents the siloxane portion of the molecule), or multiblock It may be in the form of a polymer.
  • the siloxane surfactant may comprise a graft polymer.
  • Siloxane surfactants are also disclosed in US Pat. No. 6,841,616.
  • siloxane-based anionic hydrocarbon surfactants examples include Lubrizol Advanced Materials, Inc. Of Noveon (registered trademark) Consumer Specialties available from SilSense TM PE-100 silicone include SilSense TM CA-1 silicone and the like.
  • the anionic hydrocarbon surfactant also includes, for example, the sulfosuccinate surfactant Lankropol (registered trademark) K8300 of Akzo Nobel Surface Chemistry LLC.
  • sulfosuccinate hydrocarbon surfactants include sulfosuccinate diisodecyl Na salt (Clariant's Emulsogen® SB 10), sulfosuccinate diisotridecyl Na salt (Polirol® TR / LNA by Cesapinia Chemicals), etc.
  • hydrocarbon surfactants examples include Omnova Solutions, Inc. Of PolyFox (TM) surfactant (PolyFox TM PF-156A, PolyFox TM PF-136A , etc.) may be mentioned.
  • TM PolyFox
  • R 1 to R 5 each represents H or a monovalent substituent, provided that at least one of R 1 and R 3 represents a group represented by the general formula: —Y—R 6 , R 2 And at least one of R 5 represents a group represented by the general formula: -XA, or a group represented by the general formula: -YR 6 .
  • X is the same or different at each occurrence, and is a divalent linking group or a bond;
  • A is the same or different at each occurrence, -COOM, -SO 3 M or -OSO 3 M (M is H, a metal atom, NR 7 4 , imidazolium which may have a substituent, a substituent Pyridinium which may have a substituent or phosphonium which may have a substituent, R 7 is H or an organic group);
  • R 8 is H or an organic group;
  • R 6 is the same or different at each occurrence, and is an alkyl group having 2 or more carbon atoms which may contain at least one member selected from the group consisting of a carbonyl group, an ester group, an
  • the surfactant (1) will be described.
  • R 1 to R 5 each represent H or a monovalent substituent, provided that at least one of R 1 and R 3 represents a group represented by the general formula: —Y—R 6 , R 2 and At least one of R 5 represents a group represented by the general formula: -XA, or a group represented by the general formula: -YR 6 . Any two of R 1 to R 5 may combine with each other to form a ring.
  • the substituent which the above alkyl group as R 1 may have is a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A hydroxy group is preferable, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.
  • the said alkyl group as R ⁇ 1 > does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbons which may have a substituent is preferable
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is more preferable, and a carbon number having no substituent
  • a linear or branched alkyl group of 1 to 10 is more preferable, a linear or branched alkyl group of 1 to 3 carbon atoms having no substituent is still more preferable, and a methyl group (-CH is more preferable 3 ) or ethyl group (-C 2 H 5 ) is particularly preferred, and methyl group (-CH 3 ) is most preferred.
  • a group represented by the general formula: -YR 6 a group represented by the general formula: -XA, -H, and C 1-20 which may have a substituent
  • An alkyl group, -NH 2 , -NHR 9 (R 9 is an organic group), -OH, -COOR 9 (R 9 is an organic group) or -OR 9 (R 9 is an organic group) is preferable.
  • the carbon number of the above alkyl group is preferably 1 to 10.
  • a C 1-10 alkyl group or a C 1-10 alkylcarbonyl group is preferable, and a C 1-4 alkyl group or a C 1-4 alkylcarbonyl group is more preferable.
  • X is the same or different at each occurrence and represents a divalent linking group or a bond.
  • R 6 does not contain any of a carbonyl group, an ester group, an amido group and a sulfonyl group
  • X is a divalent having at least one selected from the group consisting of a carbonyl group, an ester group, an amido group and a sulfonyl group Is preferably a linking group of
  • a divalent linking group containing at least one bond selected from the group consisting of —CONR 8 — and —NR 8 CO—, a C 1-10 alkylene group, or a bond is preferable.
  • R 8 represents H or an organic group.
  • an organic group of H or C 1-10 is preferable, an organic group of H or C 1-4 is more preferable, and H is still more preferable.
  • A is the same or different at each occurrence, -COOM, -SO 3 M or -OSO 3 M (M is H, a metal atom, NR 7 4 , an imidazolium optionally having substituent (s) And pyridinium which may have a substituent or phosphonium which may have a substituent, R 7 is H or an organic group, and four R 7 may be the same or different. .
  • an organic group of H or C 1-10 is preferable, and an organic group of H or C 1-4 is more preferable.
  • the metal atom include a metal atom of 1 and 2 valences, an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) and the like, and Na, K or Li is preferable.
  • H a metal atom or NR 7 4 is preferable, H, an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) or NR 7 4 is more preferable, and H, Na, K, Li or NH 4 Is more preferred, Na, K or NH 4 is even more preferred, Na or NH 4 is particularly preferred and NH 4 is most preferred.
  • a divalent linking group selected from the group consisting of a bond, -O-, -COO-, -OCO-, -CONR 8 -and -NR 8 CO- is preferable, and a bond, -COO- More preferred is a divalent linking group selected from the group consisting of and -OCO-.
  • an organic group of H or C 1-10 is preferable, an organic group of H or C 1-4 is more preferable, and H is still more preferable.
  • R 6 is the same or different at each occurrence, and at least one selected from the group consisting of a carbonyl group, an ester group, an amide group and a sulfonyl group may contain at least 2 carbon atoms between carbon atoms Represents an alkyl group of
  • the number of carbon atoms of the organic group of R 6 is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 10.
  • the alkyl group of R 6 may contain one or more of at least one selected from the group consisting of a carbonyl group, an ester group, an amide group and a sulfonyl group between carbon and carbon atoms, but the terminal of the above alkyl group Does not contain these groups.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogen atoms
  • it may be substituted, it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain halogen atoms, such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 6 A group represented by the general formula: -R 10 -CO-R 11 , A group represented by the general formula: -R 10 -COO-R 11
  • General formula: a group represented by -R 11 A group represented by the general formula: -R 10 -NR 8 CO-R 11 or A group represented by the general formula: -R 10 -CONR 8 -R 11 , (Wherein, R 8 represents H or an organic group, R 10 represents an alkylene group, and R 11 represents a j alkyl group which may have a substituent).
  • R 6 a group represented by the general formula: -R 10 -CO-R 11 is more preferable.
  • an organic group of H or C 1-10 is preferable, an organic group of H or C 1-4 is more preferable, and H is still more preferable.
  • the number of carbon atoms of the alkylene group R 10 is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, preferably 20 or less, more preferably 12 or less, more preferably 10 or less, particularly preferably 8 or less.
  • the carbon number of the alkylene group of R 10 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and still more preferably 3 to 10.
  • the carbon number of the alkyl group of R 11 may be 1 to 20, preferably 1 to 15, more preferably 1 to 12, still more preferably 1 to 10, still more preferably 1 to 8, and 1 to 6 Particularly preferably, 1 to 3 is still more preferred, 1 or 2 is particularly preferred, and 1 is most preferred.
  • the alkyl group of R 11 is preferably composed of only primary carbon, secondary carbon and tertiary carbon, and is particularly preferably composed of only primary carbon and secondary carbon. That is, as R 11 , a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group is preferable, and a methyl group is particularly preferable.
  • the surfactant (1) is preferably a compound represented by the general formula (1-1), a compound represented by the general formula (1-2) or a compound represented by the general formula (1-3).
  • the compound represented by 1-1) or the compound represented by the general formula (1-2) is more preferable.
  • alkylene group of R 12 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogen atoms It is preferable that it is non-halogenated alkylene group which does not contain halogen atoms, such as a fluorine atom and a chlorine atom, although it may be substituted.
  • Examples of the group represented by -Y-R 6, the general formula A group represented by the general formula: -R 10 -CO-R 11 , General formula: a group represented by -OCO-R 10 -CO-R 11 , A group represented by the general formula: -COO-R 10 -CO-R 11 A group represented by the general formula: -OCO-R 10 -COO-R 11 A group represented by a group represented by the general formula: -COO-R 11 A group represented by the general formula: -NR 8 CO-R 10 -CO-R 11 or The group represented by the general formula: -CONR 8 -R 10 -NR 8 CO-R 11 (wherein R 8 , R 10 and R 11 are as described above) is preferred.
  • R 4 and R 5 independently, an H or C 1-4 alkyl group is preferable.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less Is optionally substituted by a halogen atom, but is preferably a non-halogenated alkyl group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.
  • R 3 in the general formula (1-1) H or a C 1-20 alkyl group which may have a substituent is preferable, and H or a C 1-20 alkyl group having no substituent is preferable. Is more preferred, and H is even more preferred.
  • R 3 alkyl group 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogen atoms Although it may be substituted, it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain halogen atoms, such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • H, OH or a C 1-20 alkyl group which may have a substituent is preferable, and H, OH or C 1- having no substituent is preferable. 20 alkyl groups are more preferred, H or OH is even more preferred.
  • R 2 alkyl group 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogen atoms Although it may be substituted, it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain halogen atoms, such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the surfactant (1) is prepared by reacting a carboxylic acid represented by the formula: R 6 -COOH (wherein R 6 is as described above) with a halogenating agent to give a formula: R 6 -COZ (formula In the above, R 6 is as described above, Z is a halogen atom) step (11) to obtain a carboxylic acid halide, and The above carboxylic acid halide and the formula: (Wherein, R 3 to R 5 , X and A are as described above, and Z 11 is —CH 2 O—, —O— or —NH—.) (Wherein, R 3 to R 6 , X, A and Z 11 are as described above.)
  • the compound (12) can be suitably produced by a production method including the step (12) of obtaining the compound (12).
  • R 3 in the above-mentioned acid compound formula a group represented by the general formula: -Z 11 H (wherein, Z 11 is as described above) or -H is preferable.
  • R 3 is a group represented by the general formula: -Z 11 H
  • the above group is reacted with the above-mentioned carboxylic acid halide in step (12) to give a general formula: -Z 11 -CO-R 6 (wherein R is 6 and Z 11 are as described above.
  • halogenating agent used in the step (11) oxalyl chloride, thionyl chloride, diethylaminosulfur trifluoride (DAST), Deoxo-Fluor (deoxofluor), 1,1,2,2-tetrafluoro-N, N-dimethylethylamine (TFEDMA) and the like.
  • the above halogenating agent is 0 per 1 mol of the above carboxylic acid. It is preferably 6 to 5.0 moles, and more preferably 0.8 to 2.0 moles. Also, it is preferably 0.5 to 10 moles, and more preferably 0.6 to 5.0 moles.
  • the reaction in step (11) can be carried out in a solvent.
  • the solvent include esters, ketones, aromatic hydrocarbons, ethers, nitrogen-containing polar organic compounds, halogenated hydrocarbons, nitriles, pyridines, and mixtures thereof.
  • ester examples include ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA; also known as 1-methoxy-2-acetoxypropane), and the like, and among them, ethyl acetate is preferable.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (11) is preferably 0 to 150 ° C., more preferably 20 to 100 ° C. In addition, ⁇ 78 to 150 ° C. is preferable, and 0 to 100 ° C. is more preferable.
  • the pressure of the reaction in the step (11) is preferably 0 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (11) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the acid compound is preferably 0 per 1 mol of the carboxylic acid halide in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes.
  • the amount is preferably 5 to 10 moles, more preferably 0.6 to 5.0 moles, and still more preferably 0.8 to 2.0 moles.
  • the reaction in step (12) is preferably carried out in the presence of an acid.
  • the acid include sulfuric acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and the like, among which sulfuric acid is preferable.
  • the amount of the acid used in step (12) is preferably 0.00001 to 1.0 mol, preferably 0.0001 to 1 mol, per mol of the carboxylic acid halide, in consideration of improvement in yield and reduction of wastes.
  • the amount is more preferably 1.0 to 1.0 mol, still more preferably 0.00005 to 0.1 mol, and particularly preferably 0.001 to 0.1 mol.
  • the temperature of the reaction in the step (12) is preferably 0 to 150 ° C., more preferably 20 to 100 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (12) is preferably 0 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in step (12) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: (Wherein, R 1 to R 5 are as described above, and Z 11 is —CH 2 O—, —O— or —NH—.) And a compound (20) represented by the formula: (Wherein, n is an integer of 1 to 5) is reacted with an acid anhydride to give a compound of the formula: (Wherein R 1 to R 5 , Z 11 , M and n are as described above.)
  • the compound (21) can be suitably produced by a production method including the step (21) of obtaining the compound (21).
  • R 2 in the formula of compound (20) a group represented by the general formula: -Z 11 H (wherein, Z 11 is as described above), or -H is preferable.
  • R 2 is the formula: is a group represented by -Z 11 H, the groups react with the acid anhydride in step (21), the general formula: -Z 11 -CO- (CH 2) n -COOM (Wherein, Z 11 , M and n are as described above) to form a group shown.
  • the compound (20) may be a hydrochloride, a sulfate or the like as long as it contains the structure represented by the above formula.
  • the above acid anhydride per 1 mol of the compound (20) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. Is preferably 0.5 to 10 moles, more preferably 0.6 to 5.0 moles, still more preferably 1.2 to 10 moles, and more preferably 1.6 to 4.0 moles. Being particularly preferred.
  • the reaction in step (21) can be carried out in the presence of a base.
  • Examples of the base include amines, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate and the like.
  • amines examples include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine, pyridine, Heteroaromatic amines such as pyrrole, uracil, collidine, lutidine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3.0] -5- Examples thereof include cyclic amines such as nonene and the like, with preference given to pyridine or triethylamine.
  • tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine
  • the temperature of the reaction in the step (21) is preferably 0 to 150 ° C., more preferably 20 to 80 ° C. In addition, ⁇ 78 to 150 ° C. is preferable, and 0 to 100 ° C. is more preferable.
  • the pressure of the reaction in the step (21) is preferably 0 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (21) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: (Wherein R 4 and R 5 are as described above), and an amine represented by the formula: R 6 R 8 -NH (wherein R 6 and R 8 are as described above)
  • the formula is: (Wherein R 4 to R 6 and R 8 are as described above)
  • Step (31) of obtaining a compound (31) shown by Compound (31) and the formula: (Wherein, M is as described above) is reacted with a chlorosulfonic acid to give a compound of the formula: (Wherein, R 4 to R 6 , R 8 and M are as described above.)
  • the compound (32) can be suitably produced by a production method including the step (32) of obtaining the compound.
  • the reaction ratio of the tartrate ester to the amine is 0.5 to 10 with respect to 1 mole of the tartrate ester in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. It is preferably molar, more preferably 0.6 to 5.0, still more preferably 1.2 to 5 and particularly preferably 1.6 to 5.0.
  • the reaction in step (31) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and more preferably an alcohol, an ether, a halogenated hydrocarbon, a nitrogen-containing polar organic compound or a nitrile.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether examples include tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like.
  • the temperature of the reaction in the step (31) is preferably 0 to 150 ° C., more preferably 20 to 100 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (31) is preferably 0 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (31) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the above-mentioned sulfonic acid is used per 1 mol of the compound (31) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of waste Is preferably 1.0 to 50 mol, and more preferably 1.6 to 20 mol.
  • the reaction in step (32) is preferably carried out in the presence of a base.
  • a base examples include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, amines and the like, among which amines are preferred.
  • Examples of the above amine in the step (32) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine and the like.
  • Aromatic amines such as pyridine, pyrrole, pyrrol, uracil, collidine and lutidine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] 5-nonene and the like cyclic amines and the like.
  • triethylamine is preferred.
  • the amount of the base used in step (32) is preferably 0.1 to 50 mol, more preferably 1.0 to 20 mol, per 1 mol of compound (31), in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. Molar is more preferred.
  • the reaction in step (32) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, more preferably an aprotic polar solvent, still more preferably a nitrile, a halogenated hydrocarbon, dimethyl sulfoxide, sulfolane, a nitrogen-containing polar organic compound or an ether.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether is preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (32) is preferably -78 to 150 ° C, more preferably -78 to 100 ° C, still more preferably -20 to 100 ° C, and particularly preferably 10 to 50 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (32) is preferably 0 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 Pa.
  • the reaction time in the step (32) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: (Wherein R 1 and R 3 to R 5 are as described above) and an alcohol represented by the formula: (Wherein, n is an integer of 1 to 5) is reacted with an acid anhydride to give a compound of the formula: (Wherein, R 1 , R 3 to R 5 , M and n are as described above).
  • the compound (41) can be suitably produced by a production method including the step (41) of obtaining the compound
  • the acid anhydride is 0.5 per 1 mol of the alcohol in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. It is preferably 10 to 10 mol, more preferably 0.6 to 4.0 mol, still more preferably 1.2 to 4.0 mol, and preferably 1.6 to 4.0 mol. Is particularly preferred.
  • the reaction in step (41) can be carried out in the presence of a base.
  • Examples of the base include amines, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate and the like.
  • amines examples include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine, pyridine, Heteroaromatic amines such as pyrrole, uracil, collidine, lutidine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3.0] -5- Examples thereof include cyclic amines such as nonene and the like, with preference given to pyridine or triethylamine.
  • tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine
  • the temperature of the reaction in the step (41) is preferably ⁇ 78 to 150 ° C., more preferably 0 to 150 ° C., still more preferably 0 to 100 ° C., and particularly preferably 20 to 80 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (41) is preferably 0 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (41) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: (Wherein R 4 and R 5 are as described above), and an amine represented by the formula: R 6 R 8 -NH (wherein R 6 and R 8 are as described above)
  • the formula is: (Wherein R 4 to R 6 and R 8 are as described above)
  • Step (31) of obtaining a compound (31) shown by Compound (31) and the formula: (Wherein, n is an integer of 1 to 5) is reacted with an acid anhydride to give a compound of the formula: (Wherein R 4 to R 6 , R 8 , M and n are as described above.)
  • the compound (51) can be suitably produced by a production method including the step (51) of obtaining
  • the above acid anhydride per 1 mol of the compound (31) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. Is preferably 0.5 to 10 moles, more preferably 0.6 to 4.0 moles, still more preferably 1.2 to 4.0 moles, and 1.6 to 4.0 moles. Particularly preferred is molar.
  • the reaction in step (51) can be carried out in the presence of a base.
  • Examples of the base include amines, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate and the like.
  • amines examples include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine, pyridine, Heteroaromatic amines such as pyrrole, uracil, collidine, lutidine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3.0] -5- Examples thereof include cyclic amines such as nonene and the like, with preference given to pyridine or triethylamine.
  • tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine
  • the temperature of the reaction in the step (51) is preferably ⁇ 78 to 150 ° C., more preferably 0 to 150 ° C., still more preferably 0 to 100 ° C., and particularly preferably 20 to 80 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (51) is preferably 0 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (51) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) is also obtained by reacting an alcohol represented by the formula: R 6 —OH (wherein R 6 is as described above) with a fumaric acid halide, (Wherein R 6 is as described above) Step (61) of obtaining a compound (61) Compound (61) is reacted with a sulfonating agent such as sodium bisulfite to give a compound of the formula: (Wherein R 6 and X are as described above.)
  • the compound (62) can be suitably produced by a production method including the step (62) of obtaining the compound (62).
  • fumaric acid halide used in the step (61), fumaryl chloride, fumaryl fluoride, fumaryl bromide and the like can be mentioned.
  • the fumaric acid halide is 0 per 1 mol of the alcohol in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes.
  • 1 to 10 moles Preferably 1 to 10 moles, more preferably 0.1 to 2.0 moles, still more preferably 0.1 to 2.0 moles, and more preferably 0.2 to 0.7 moles. Being particularly preferred.
  • the reaction in step (61) can be carried out in a solvent.
  • the solvent include esters, ketones, aromatic hydrocarbons, ethers, nitrogen-containing polar organic compounds, halogenated hydrocarbons, nitriles, pyridines or mixtures thereof.
  • ester examples include ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA; also known as 1-methoxy-2-acetoxypropane), and the like, and among them, ethyl acetate is preferable.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (61) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -20 to 150 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (61) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (61) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • step (62) compound (62) is formed by the addition reaction of compound (61) having a double bond and a sulfonating agent such as sodium bisulfite.
  • the reaction ratio of the compound (61) to the above sulfonating agent is the above sulfonating agent per 1 mol of the compound (61) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes.
  • Step (62) can be carried out in a solvent.
  • a solvent a water soluble solvent is preferable, and water, alcohol, ether, nitrile and the like can be mentioned.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether examples include tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (62) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -20 to 150 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (62) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in step (62) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: (Wherein, R 10 , R 11 and Y are as defined above), and the compound (70) is sulfated to give a compound of the formula: (Wherein R 10 , R 11 and Y are as described above.
  • a 100 is —OH or —OSO 3 M. M is as described above.)
  • Including the step (71) to obtain a compound (71) represented by It can manufacture suitably by a manufacturing method.
  • the sulfuric acid esterification in step (71) can be carried out by reacting compound (70) with a sulfation reagent.
  • the above-mentioned sulfation reagent includes sulfur trioxide pyridine complex, sulfur trioxide trimethylamine complex, sulfur trioxide amine complex such as sulfur trioxide triethylamine complex, sulfur trioxide amide complex such as sulfur trioxide dimethylformamide complex, sulfuric acid-dicyclohexylcarbodiimide And chlorosulfuric acid, concentrated sulfuric acid, sulfamic acid and the like.
  • the amount of the above-mentioned sulfate reagent to be used is preferably 0.5 to 10 mol, more preferably 0.5 to 5 mol, and still more preferably 0.7 to 4 mol, per 1 mol of compound (70).
  • amount of the above-mentioned sulfate reagent By adjusting the amount of the above-mentioned sulfate reagent, one or both of the two -OH groups possessed by compound (20) can be sulfated.
  • the sulfuric acid esterification in step (71) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, pyridine, dimethyl sulfoxide, sulfolane, nitrile and the like can be mentioned.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the temperature of sulfuric acid esterification in the step (71) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., and more preferably ⁇ 20 to 150 ° C.
  • the pressure for sulfuric acid esterification in the step (71) is preferably 0 to 10 MPa, more preferably 0.1 to 5 MPa.
  • the time of sulfuric acid esterification in the step (71) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the compound (70) also has the formula: (Wherein R 10 and Y are as described above; R 100 is an alkyl group), and the compound (100) represented by the formula is hydroxylated to give a compound of the formula: (Wherein R 10 , R 100 and Y are as described above) Step (101) of obtaining a compound (101) represented by The compound (101) can be oxidized by a process comprising the step (102) to give a compound (70).
  • the alkyl group as R 100 constitutes R 11 as described above as R 100 -CH 2- .
  • the hydroxylation in the step (101) may be carried out, for example, by (1) subjecting the compound (100) to phthalocyanine iron (II) (Fe (Pc)) and sodium borohydride in an oxygen atmosphere, or (2) 100) can be reacted with isopinocampheylborane (IpcBH 2 ), followed by oxidation of the resulting intermediate (dialkylborane).
  • II phthalocyanine iron
  • Pc isopinocampheylborane
  • IpcBH 2 isopinocampheylborane
  • the amount of phthalocyanine iron (II) may be a catalytic amount and can be used in an amount of 0.001 to 1.2 mol with respect to 1 mol of the compound (100).
  • sodium borohydride can be used in an amount of 0.5 to 20 moles relative to 1 mole of the compound (100).
  • the reaction of method (1) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, nitriles, nitrogen-containing polar organic compounds, and the like.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • the temperature of the reaction of the method (1) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably 0 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the method (1) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the method (1) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • isopinocanfailborane can be used in an amount of 0.1 to 10.0 mol with respect to 1 mol of the compound (100).
  • the reaction of compound (100) with isopinocanfailborane can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature of the reaction of the compound (100) with isopinocampheylborane is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., more preferably 0 to 150 ° C.
  • the pressure of the reaction of the compound (100) with isopinocanfailborane is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the compound (100) with isopinocanfailborane is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the oxidation in the method (2) can be carried out by reacting the above intermediate with an oxidizing agent. Hydrogen peroxide etc. are mentioned as said oxidizing agent.
  • the oxidizing agent can be used in an amount of 0.7 to 10 moles relative to 1 mole of the intermediate.
  • the oxidation in method (2) can be carried out in a solvent.
  • the solvent include water, methanol, ethanol and the like, among which water is preferred.
  • the oxidation temperature in the method (2) is preferably ⁇ 78 to 150 ° C., more preferably 0 to 100 ° C., and still more preferably 10 to 80 ° C.
  • the pressure of oxidation in the method (2) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the oxidation time in the method (2) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • a method for oxidizing the compound (101) in the step (102) for example, (a) a method using Jones reagent (CrO 3 / H 2 SO 4 ) (Jones oxidation), (b) Dess-Martin periodinane (b) DMP) (des-Martin oxidation), (c) pyridinium chlorochromate (PCC), (d) bleach in the presence of a nickel compound such as NiCl 2 (about 5 to 6% aqueous solution of NaOCl (E) A method of causing hydrogen acceptors such as aldehydes and ketones to act in the presence of an aluminum catalyst such as (e) Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Openauer oxidation) Can be mentioned.
  • an aluminum catalyst such as (e) Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Openauer oxidation) Can be mentioned.
  • the oxidation in step (102) can be carried out in a solvent.
  • a solvent water and an organic solvent are preferable, and water, ketone, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, nitrile and the like can be mentioned.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (102) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the pressure of oxidation in the step (102) is preferably 0 to 5.0 MPa and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the oxidation time in the step (102) is preferably 0.1 to 72 hours, and can be appropriately selected according to the method employed.
  • the compound (70) also has the formula: (Wherein, R 10 , R 11 and Y are as described above, and R 101 is an organic group.) Step of ozonizing the compound (200) represented by the step (201) to obtain a compound (70) Can be manufactured by a manufacturing method including
  • R 101 an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable.
  • the four R 101 s may be the same or different.
  • the ozonolysis in the step (201) can be carried out by subjecting the compound (200) to ozone and post-treating with a reducing agent.
  • Ozone can be generated by silent discharge in oxygen gas.
  • phosphines are preferable.
  • the ozonolysis in step (201) can be carried out in a solvent.
  • a solvent water and an organic solvent are preferable, and water, alcohol, carboxylic acids, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon and the like can be mentioned.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. Among these, methanol and ethanol are preferable.
  • carboxylic acids examples include acetic acid and propionic acid. Among these, acetic acid is preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature for ozonolysis in the step (201) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably 0 to 150 ° C.
  • the pressure for ozonolysis in the step (201) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the time for ozonolysis in the step (201) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the compound (70) also has the formula: (Wherein R 10 and Y are as described above, and R 100 is an alkyl group), and the compound (300) represented by the formula: (Wherein R 10 , R 100 and Y are as described above)
  • Step (301) of obtaining a compound (301) represented by The compound (301) is reacted with a dialkyl copper lithium represented by R 102 2 CuLi (R 102 is an alkyl group) to give a compound of the formula: (Wherein R 10 , R 100 , R 102 and Y are as described above)
  • Step (302) of obtaining a compound (302) represented by The compound (302) can be oxidized by the production method including the step (303) of obtaining the compound (70).
  • R 100 and R 102 constitute R 11 described above as R 100 R 102 -CH-.
  • Two R 100 may be the same or different.
  • Two R 102 may be the same or different.
  • the epoxidation in step (301) can be carried out by reacting compound (300) with an epoxidizing agent.
  • the epoxidizing agent examples include metachloroperbenzoic acid (m-CPBA), perbenzoic acid, hydrogen peroxide, peroxy acids such as tert-butyl hydroperoxode, dimethyldioxirane, methyl trifluoromethyldioxirane and the like. Among these, peracids are preferable, and metachloroperbenzoic acid is more preferable.
  • the epoxidizing agent can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol per 1 mol of the compound (300).
  • the epoxidation in step (301) can be carried out in a solvent.
  • organic solvents are preferable, and ketones, ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, nitriles, pyridines, nitrogen-containing polar organic compounds, dimethyl sulfoxide and the like can be mentioned, and among them, dichloromethane is preferable.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • the temperature of epoxidation in the step (301) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., and more preferably ⁇ 40 to 150 ° C.
  • the pressure of epoxidation in the step (301) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the epoxidation time in the step (301) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the dialkyl copper lithium can be used in an amount of 0.5 to 10.0 moles relative to 1 mole of the compound (301).
  • the reaction of step (302) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature of the reaction of step (302) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -40 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (302) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of step (302) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • a method of oxidizing the compound (302) in the step (303) for example, (a) a method using Jones reagent (CrO 3 / H 2 SO 4 ) (Jones oxidation), (b) Dess-Martin periodinane (b) DMP) (des-Martin oxidation), (c) pyridinium chlorochromate (PCC), (d) bleach in the presence of a nickel compound such as NiCl 2 (about 5 to 6% aqueous solution of NaOCl (E) A method of causing hydrogen acceptors such as aldehydes and ketones to act in the presence of an aluminum catalyst such as (e) Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Openauer oxidation) Can be mentioned.
  • an aluminum catalyst such as (e) Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Openauer oxidation) Can be mentioned.
  • the oxidation in step (303) can be carried out in a solvent.
  • a solvent water and an organic solvent are preferable, and water, ketone, alcohol, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, nitrile and the like can be mentioned.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. Among these, methanol and ethanol are preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (303) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C. and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the oxidation pressure in the step (303) is preferably 0 to 5.0 MPa and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the oxidation time in the step (303) is preferably 0.1 to 72 hours, and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the compound (70) also has the formula: (Wherein R 10 and Y are as described above, and R 100 is an alkyl group.)
  • a method of production comprising the step (401) of oxidizing the compound (400) represented by the formula (70) It can be manufactured by
  • the oxidation in step (401) can be carried out by reacting compound (400) with an oxidizing agent in the presence of water and a palladium compound.
  • oxidizing agent examples include monovalent or divalent copper salts such as copper chloride, copper acetate, copper cyanide, copper trifluoromethanethiol, iron chloride, iron acetate, iron cyanide, iron trifluoromethanethiol, hexacyanoiron, etc.
  • Benzoquinones such as iron salt, 1,4-benzoquinone, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone, tetrachloro-1,2-benzoquinone, tetrachloro-1,4-benzoquinone H 2 O 2 , MnO 2 , KMnO 4 , RuO 4 , m-chloroperbenzoic acid, oxygen, etc., or a combination thereof.
  • copper salts, iron salts and benzoquinones are preferable, and copper chloride, iron chloride and 1,4-benzoquinone are more preferable.
  • the oxidizing agent can be used in an amount of 0.001 to 10 moles relative to 1 mole of the compound (400).
  • the amount of water can be used in an amount of 0.5 to 1000 mol per 1 mol of compound (400).
  • Examples of the palladium compound include palladium dichloride.
  • the amount of the palladium compound may be a catalytic amount, and can be used in an amount of 0.0001 to 1.0 mol per 1 mol of the compound (400).
  • the oxidation in step (401) can be carried out in a solvent.
  • the solvent include water, esters, aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, alcohols, carboxylic acids, ethers, halogenated hydrocarbons, nitrogen-containing polar organic compounds, nitriles, dimethyl sulfoxide, and sulfolanes.
  • ester examples include ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA; also known as 1-methoxy-2-acetoxypropane), and the like, and among them, ethyl acetate is preferable.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • aliphatic hydrocarbon examples include hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, mineral spirits, etc. Among them, cyclohexane and heptane are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • carboxylic acids examples include acetic acid and propionic acid. Among these, acetic acid is preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (401) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -20 to 150 ° C.
  • the pressure of oxidation in the step (401) is preferably 0 to 10 MPa, more preferably 0.1 to 5.0 MPa.
  • the oxidation time in the step (401) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the compound (100), the compound (300) and the compound (400) have the formula: (Wherein, R 10 and Y are as described above, and R 100 is an alkyl group.)
  • a reducing agent is allowed to act on the aldehyde represented by the formula (100) to obtain a compound (100). It can be manufactured by
  • the aldehyde is dimerized by reductive coupling reaction to form a compound (100), a compound (300) and a compound (400).
  • the reducing agent used in the step (501) samarium diiodide, titanium dichloride, vanadium trichloride, titanium tetrachloride, bis (cyclooctadiene) nickel, copper, magnesium, zinc, sodium, cerium trichloride, oxidized Chromium, triphenyl tin hydride and the like can be mentioned.
  • the above reducing agents may be used in combination.
  • the amount of the reducing agent used is preferably 0.001 to 10 moles, more preferably 0.01 to 5 moles, and still more preferably 0.1 to 2 moles with respect to 1 mole of the aldehyde.
  • the reaction in step (501) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and more preferably an ether, a halogenated hydrocarbon, a pyridine, a nitrile, an aromatic hydrocarbon or the like.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the reaction in step (501) is preferably carried out in the presence of an alcohol.
  • Methanol, ethanol, isopropanol etc. are mentioned as said alcohol.
  • the temperature of the reaction in the step (501) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., and more preferably ⁇ 20 to 100 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (501) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (501) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • M is H
  • these groups can be salted by contacting with an alkali such as sodium carbonate, ammonia or the like.
  • hydrocarbon surfactant which has one or more carbonyl groups (however, except the carbonyl group in a carboxyl group) is also mentioned.
  • hydrocarbon surfactants obtained by subjecting a hydrocarbon surfactant having one or more of the carbonyl groups described above (excluding the carbonyl group in the carboxyl group) to radical treatment or oxidation treatment can also be used.
  • the above radical treatment may be any treatment that causes a hydrocarbon surfactant having one or more carbonyl groups (excluding the carbonyl group in the carboxyl group) to generate radicals, for example, deionization in a reactor.
  • the above-mentioned oxidation treatment is a treatment in which an oxidizing agent is added to a hydrocarbon surfactant having one or more carbonyl groups (excluding the carbonyl group in the carboxyl group).
  • the oxidizing agent include oxygen, ozone, hydrogen peroxide water, manganese (IV) oxide, potassium permanganate, potassium dichromate, nitric acid, sulfur dioxide and the like.
  • the hydrocarbon surfactant having one or more of the above carbonyl groups may be represented by the formula: R—X (wherein R represents a carbonyl group (where the carboxyl group is in the carboxyl group)
  • X 1 is a fluorine-free organic group having 1 to 2000 carbon atoms, which has one or more carbonyl groups, and
  • X is -OSO 3 X 1 , -COOX 1 or -SO 3 X 1
  • X 1 is H, metal atoms, NR 1 4, which may imidazolium substituted, have a substituent a good phosphonium optionally having also good pyridinium or a substituent, R 1 is H or an organic radical And surfactants which may be the same or different))
  • R—X wherein R represents a carbonyl group (where the carboxyl group is in the carboxyl group)
  • X 1 is a fluorine-free organic group having 1 to 2000 carbon atoms, which has one or more carbony
  • R preferably has 500 or less carbon atoms, more preferably 100 or less, still more preferably 50 or less, and still more preferably 30 or less.
  • R 1a is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom is a hydroxy group or an ester bond It may be substituted by a monovalent organic group, and may contain a carbonyl group when the carbon number is 2 or more, and may contain a monovalent or divalent heterocycle when the carbon number is 3 or more.
  • R 2a and R 3a are independently a single bond or a divalent linking group .
  • R 1a, R 2a and R 3a are 6 or more carbon atoms in total .
  • X a And H is a metal atom, NR 4a 4 , imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent or phosphonium which may have a substituent, and R 4a is H or an organic group, which may be the same or different .
  • R 1a, R 2a and R 3a is that attached to any 2 Tsugaotagai, may form a ring surfactant represented by) (a), the following formula (b): (Wherein, R 1b is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 or more carbons which may have a substituent) And when the carbon number is 3 or more, it may contain a monovalent or divalent heterocycle or may form a ring R 2b and R 4b are independently H or a substituent R 3b is And an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, n is an integer of 1 or more, p and q are independently an integer of 0 or more, X b is H A metal atom, NR 5b 4 , imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent or phosphonium which may have
  • R 1c is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to a carbon atom is a hydroxy group or an ester bond It may be substituted by a monovalent organic group, and may contain a carbonyl group when the carbon number is 2 or more, and may contain a monovalent or divalent heterocycle when the carbon number is 3 or more.
  • R 2c and R 3c are independently a single bond or a divalent linking group .
  • R 1c, R 2c and R 3c are 5 or more total carbon atoms .
  • a c Is -COOX c or -SO 3 X c (wherein X c is H, a metal atom, NR 4c 4 , imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent, or a substituent is a good phosphonium also have a, R 4c is Or an organic group and may be the same or different.)
  • Surfactant (c) Surfactant (c), and the following formula (d): (Wherein, R 1d is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 or
  • R 2d, R 3d and R 4d are attached to one or two Tsugaotagai, may form a ring .
  • L is a single bond, -CO 2 -B - *, - OCO -B - *, - CONR 6d -B - *, - NR 6d CO-B- *, or, -CO- (where, -CO 2 -B -, - OCO -B -, - CONR 6d -B-, And R 6d is H or substituted, except for the carbonyl group contained in -NR 6d CO-B-), and B is a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent. It is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a group, * represents a side to be bonded to Ad in the formula, selected from the group consisting of surfactants (d) At least one of the above is more preferred.
  • the surfactant (a) will be described.
  • R 1a is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms.
  • the alkyl group may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring, or may form a ring.
  • the hetero ring is preferably an unsaturated hetero ring, more preferably an oxygen-containing unsaturated hetero ring, and examples thereof include a furan ring and the like.
  • a monovalent heterocycle may be located at the end of the alkyl group.
  • the “carbon number” of the alkyl group includes the number of carbon atoms constituting the carbonyl group and the number of carbon atoms constituting the heterocyclic ring.
  • the group represented by CH 3 -C ( O)-has 2 carbon atoms.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, and for example, it may be substituted by a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond, It is preferred not to be substituted by any functional group.
  • halogen atoms 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain halogen atoms, such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 2a and R 3a are independently a single bond or a divalent linking group.
  • R 2a and R 3a are preferably independently a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkylene group having 3 or more carbon atoms. It is preferable that the said alkylene group which comprises R2a and R3a does not contain a carbonyl group.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, and may be substituted by, for example, a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond, It is preferred not to be substituted by any functional group.
  • halogen atoms 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • it is preferable that it is a non-halogenated alkylene group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.
  • R 1a , R 2a and R 3a have a total carbon number of 6 or more.
  • the total carbon number is preferably 8 or more, more preferably 9 or more, still more preferably 10 or more, preferably 20 or less, more preferably 18 or less, and still more preferably 15 or less. Any two R 1a , R 2a and R 3a may be bonded to each other to form a ring.
  • X a represents H, a metal atom, NR 4a 4 , imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent, or a substituent A good phosphonium, R 4a is H or an organic group.
  • R 4a is H or an organic group.
  • R 4a may be the same or different.
  • R 4a H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • the metal atom include a metal atom of 1 and 2 valences, an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) and the like, and Na, K or Li is preferable.
  • H an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) or NR 4a 4 is preferable, and H, Na, K, Li or NH 4 is more preferable because it is easily soluble in water. Further since the easily soluble in water, Na, K or NH 4 are more preferred, particularly preferably Na or NH 4 is, since removal is easy, NH 4 being the most preferred.
  • X a is NH 4
  • the solubility of the surfactant in an aqueous medium is excellent, and metal components are less likely to remain in PTFE or in the final product.
  • R 1a a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which does not contain a carbonyl group, a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms which does not contain a carbonyl group, 1 to 10 carbonyl groups And a linear or branched alkyl group having 2 to 45 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 45 carbon atoms including a carbonyl group, or a monovalent or divalent complex having 3 to 45 carbon atoms. Alkyl groups containing a ring are preferred.
  • R 1a the following formula: (Wherein, n 11a is an integer of 0 to 10, R 11a is a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, R 12a Is an alkylene group having a carbon number of 0 to 3. When n 11a is an integer of 2 to 10, each of R 12a may be the same or different) is more preferable.
  • n 11a an integer of 0 to 5 is preferable, an integer of 0 to 3 is more preferable, and an integer of 1 to 3 is still more preferable.
  • the above alkyl group as R 11a preferably contains no carbonyl group.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, and for example, it may be substituted by a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond although it is preferable, it is not substituted by any functional group.
  • alkyl group as R 11a 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogens Although it may be substituted by an atom, it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.
  • R 12a is an alkylene group having 0 to 3 carbon atoms.
  • the carbon number is preferably 1 to 3.
  • the above-mentioned alkylene group as R 12a may be linear or branched.
  • the alkylene group represented by R 12a preferably does not contain a carbonyl group.
  • the R 12a, an ethylene group (-C 2 H 4 -) or propylene group (-C 3 H 6 -) is more preferred.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, and for example, it may be substituted by a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond Although it is preferable, it is not substituted by any functional group.
  • alkylene group as R 12a 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogens Although it may be substituted by an atom, a non-halogenated alkylene group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom is preferable.
  • the R 2a and R 3a independently, preferably an alkylene group having 1 or more carbon containing no carbonyl group, more preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms which does not contain a carbonyl group, an ethylene group (-C 2 H 4 -) or propylene group (-C 3 H 6 -) is more preferred.
  • surfactant (a) the following surfactant can be illustrated.
  • X a is as described above.
  • the surfactant (a) is a novel compound and can be produced, for example, by the production method exemplified below.
  • Surfactant (a) has the formula: (Wherein, R 3a is as described above and E a is a leaving group), lithium, and a compound of the formula: R 201a 3 Si—Cl (wherein R 201a is Independently, it is made to react with the chlorosilane compound shown by the alkyl group or the aryl group.
  • Step (12a) of obtaining a compound (12a) represented by The leaving group of compound (12a) is eliminated to give a compound of the formula: (Wherein R 1a , R 21a and R 3a are as described above.)
  • a sulfonic acid represented by the formula:
  • R 1a contains a furan ring
  • the furan ring may be opened by acid and converted to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • step (11a) after lithium and the chlorosilane compound are reacted in advance to obtain a siloxylithium compound, it is preferable to react the siloxylithium compound with the compound (10a) to obtain a compound (11a).
  • E a represents a leaving group.
  • the leaving group include tert-butyldimethylsilyl (TBS), triethylsilyl (TES), triisopropylsilyl (TIPS), tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS), benzyl (Bn) and the like.
  • R 21a a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable.
  • chlorosilane compound for example, Can be mentioned.
  • any of the reactions in step (11a) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction of lithium and the chlorosilane compound in the step (11a) is preferably 10 to 40 ° C., more preferably 20 to 30 ° C.
  • the temperature for the reaction of the siloxylithium compound with the compound (10a) in the step (11a) is preferably -100 to 0 ° C, more preferably -80 to -50 ° C.
  • the pressure of the reaction of lithium and the chlorosilane compound in the step (11a) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the pressure for the reaction of the siloxylithium compound with the compound (10a) in the step (11a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time of lithium and the chlorosilane compound in the step (11a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the reaction time of the siloxylithium compound with the compound (10a) in the step (11a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 1 to 2 hours.
  • the reaction ratio of the compound (11a) to the above-mentioned olefin is preferably 1 to 2 of the above-mentioned olefin per 1 mol of the compound (11a) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. It is preferably molar, and more preferably 1 to 1.1 molar.
  • step (12a) can be carried out in a solvent in the presence of a thiazolium salt and a base.
  • thiazolium salt examples include 3-ethyl-5- (2-hydroxyethyl) -4-methylthiazolium bromide, 3-benzyl-5- (2-hydroxyethyl) -4-methylthiazolium chloride and the like.
  • Examples of the base include 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, triethylamine and the like.
  • an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an alcohol and an ether are more preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (12a) is preferably 40 to 60 ° C., more preferably 50 to 55 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (12a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (12a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (13a) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • a fluoride ion or an acid for example, a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine. NHF or triethylamine. (LiBF 4 ), methods using inorganic salts such as ammonium fluoride, methods using organic salts such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF), and the like.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (13a) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (13a) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (13a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (13a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the above-mentioned sulfonic acid relative to 1 mol of the compound (13a) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of waste. Is preferably 1 to 2 moles, and more preferably 1 to 1.1 moles.
  • the reaction in step (14a) is preferably carried out in the presence of a base.
  • a base include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, amines and the like, among which amines are preferred.
  • Examples of the above amine in the step (14a) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine and the like.
  • Aromatic amines such as pyridine, pyrrole, pyrrol, uracil, collidine and lutidine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] 5-nonene and the like cyclic amines and the like.
  • triethylamine and pyridine are preferable.
  • the amount of the base used in step (14a) is preferably 1 to 2 moles, more preferably 1 to 1.1 moles, per mole of compound (13a), in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. More preferable.
  • the reaction in step (14a) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which diethyl ether is preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (14a) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (14a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (14a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 12 hours.
  • step (14a) When the reaction in step (14a) is carried out in a solvent, a solution containing compound (14a) is obtained after completion of the reaction. After adding water to the above solution, the mixture is allowed to stand to be separated into two phases, the aqueous phase is recovered, and the solvent may be distilled off to recover the high purity compound (14a).
  • the compound (14a) has a group represented by -OSO 3 H (that is, when X is H), it is replaced by water and an alkaline aqueous solution such as an aqueous solution of sodium hydrogencarbonate or aqueous ammonia is used. It is also possible to convert -OSO 3 H to a sulfate base.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • Surfactant (a) also has the formula: Wherein R 3a is as described above, R 22a is a monovalent organic group, and E a is a leaving group, and a ketone represented by the formula: (Wherein, R 1a is as described above, and R 23a is a monovalent organic group), which is reacted with a carboxylic acid ester represented by the formula: (Wherein R 1a , R 3a and E a are as described above and R 24a is a single bond or a divalent linking group) Step (21a) to obtain a compound (21a) represented by The leaving group of compound (21a) is eliminated to give a compound of the formula: (Wherein R 1a , R 24a and R 3a are as described above.) A step (22a) of obtaining a compound (22a) represented by Compound (22a), and the formula: (Wherein, X a is as described above.) By reacting with a sulfonic acid sulfonic acid represented by the formula:
  • R 1a contains a furan ring
  • the furan ring may be opened by acid and converted to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • E a represents a leaving group.
  • the leaving group include tert-butyldimethylsilyl (TBS), triethylsilyl (TES), triisopropylsilyl (TIPS), tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS), benzyl (Bn) and the like.
  • R 22a a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • R 23a a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • R 24a a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methylene group (—CH 2 —) is more preferable.
  • step (21a) can be carried out in a solvent in the presence of a base.
  • Examples of the base include sodium amide, sodium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide and the like.
  • an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an alcohol and an ether are more preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (21a) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (21a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (21a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (22a) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • a fluoride ion or an acid for example, a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine. NHF or triethylamine. (LiBF 4 ), methods using inorganic salts such as ammonium fluoride, methods using organic salts such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF), and the like.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (22a) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (22a) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (22a) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (22a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the above-mentioned sulfonic acid relative to 1 mol of the compound (22a) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of waste. Is preferably 1 to 2 moles, and more preferably 1 to 1.1 moles.
  • the reaction in step (23a) is preferably carried out in the presence of a base.
  • a base examples include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, amines and the like, among which amines are preferred.
  • Examples of the above amine in the step (23a) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine and the like.
  • Aromatic amines such as pyridine, pyrrole, pyrrol, uracil, collidine and lutidine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] 5-nonene and the like cyclic amines and the like.
  • triethylamine and pyridine are preferable.
  • the amount of the base used in step (23a) is preferably 1 to 2 moles, more preferably 1 to 1.1 moles, per mole of compound (22a), in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. More preferable.
  • the reaction in step (23a) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which diethyl ether is preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (23a) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (23a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (23a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 12 hours.
  • step (23a) When the reaction in step (23a) is carried out in a solvent, a solution containing compound (23a) is obtained after completion of the above reaction. After adding water to the above solution, the mixture is allowed to stand to be separated into two phases, the aqueous phase is recovered, and the solvent may be distilled off to recover the high purity compound (23a).
  • the compound (23a) has a group represented by -OSO 3 H (that is, when X is H), it is replaced by water and an alkaline aqueous solution such as aqueous sodium hydrogen carbonate solution or aqueous ammonia is used, It is also possible to convert -OSO 3 H to a sulfate base.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • Surfactant (a) is also of the formula: Y a -R 3a -OE a (Wherein R 3a is as described above, Y a is a halogen atom, and E a is a leaving group), and an alkyl halide represented by the formula: (Wherein, R 1a is as described above), which is reacted with lithium acetylide to give a compound of the formula: (Wherein R 1a , R 3a and E a are as described above) Step (31a) of obtaining a compound (31a) represented by The compound (31a) is oxidized to give (Wherein R 1a , R 3a and E a are as described above) Step (32a) of obtaining a compound (32a) represented by The leaving group of compound (32a) is eliminated to give a compound of the formula: (Wherein R 1a and R 3a are as described above.) A step (33a) of obtaining a compound (33a) represented by Compound (33a) and
  • R 1a contains a furan ring
  • the furan ring may be opened by acid and converted to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • E a represents a leaving group.
  • the leaving group include tert-butyldimethylsilyl (TBS), triethylsilyl (TES), triisopropylsilyl (TIPS), tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS), benzyl (Bn) and the like.
  • the lithium acetylide is 1 per mole of the alkyl halide in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. It is preferably 2 mol, and more preferably 1 to 1.2 mol.
  • the reaction in step (31a) can be carried out in a solvent.
  • a solvent hexane is preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (31a) is preferably -100 to -40 ° C, more preferably -80 to -50 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (31a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (31a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the oxidation in the step (32a) can be carried out by [(Cn * ) Ru III (CF 3 CO 2 ) 3 ] .H 2 O (wherein Cn * is 1,4,7-trimethyl-1,4,7-triazabicyclo) It can be carried out in a nitrile solvent using the complex formed by adding sodium perchlorate after treatment of (nonane representing) with (NH 4 ) 2 Ce (NO 3 ) 6 and trifluoroacetic acid.
  • reaction product may be neutralized with an alkali, and an organic solvent such as ether may be used to extract the compound (32a).
  • the temperature of the reaction in the step (32a) is preferably 30 to 100 ° C., more preferably 40 to 90 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (32a) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (32a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (33a) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • a fluoride ion or an acid for example, a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine. NHF or triethylamine. (LiBF 4 ), methods using inorganic salts such as ammonium fluoride, methods using organic salts such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF), and the like.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (33a) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (33a) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (33a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (33a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the reaction ratio of the compound (33a) to the above-mentioned sulfonic acid the above-mentioned sulfonic acid relative to 1 mol of the compound (33a) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of waste.
  • the reaction in step (34a) is preferably carried out in the presence of a base.
  • a base include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, amines and the like, among which amines are preferred.
  • Examples of the above amine in the step (34a) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine and the like.
  • Aromatic amines such as pyridine, pyrrole, pyrrol, uracil, collidine and lutidine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] 5-nonene and the like cyclic amines and the like.
  • triethylamine and pyridine are preferable.
  • the amount of the base used in the step (34a) is preferably 1 to 2 moles, more preferably 1 to 1.1 moles, per mole of the compound (33a), in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. More preferable.
  • the reaction in step (34a) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which diethyl ether is preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (34a) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (34a) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (34a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 12 hours.
  • step (34a) When the reaction in step (34a) is carried out in a solvent, a solution containing compound (34a) is obtained after the reaction is completed. After adding water to the above solution, the mixture is allowed to stand to be separated into two phases, the aqueous phase is recovered, and the solvent may be distilled off to recover the high purity compound (34a).
  • the compound (34a) has a group represented by -OSO 3 H (that is, when X is H), it is replaced by water and an alkaline aqueous solution such as aqueous sodium hydrogen carbonate solution or aqueous ammonia is used, It is also possible to convert -OSO 3 H to a sulfate base.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • Surfactant (a) also has the formula: (Wherein, R 1a is as described above, R 21a is a single bond or a divalent linking group), and an alkene represented by the formula: ( Wherein , Y 51a is an alkoxyl group) and reacted with an alkyne represented by the formula: (Wherein, R 1a and R 21a are as described above) Obtaining a compound (41a) represented by the formula (41a), and Compound (41a) has the formula: (Wherein, X a is as described above.) By reacting with a sulfonic acid sulfonic acid represented by the formula: (Wherein, R 1a , R 21a and X a are as described above.) The compound (42a) can be produced by a production method including the step (42a).
  • R 1a contains a furan ring
  • the furan ring may be opened by acid and converted to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • R 21a a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable.
  • the reaction ratio of the alkene to the alkyne is 0.5 to 2 moles of the alkene with respect to 1 mole of the alkyne in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. It is preferably present, and more preferably 0.6 to 1.2 mol.
  • the reaction in step (41a) is preferably carried out in the presence of a metal catalyst.
  • a metal catalyst examples include ruthenium and the like.
  • the amount of the metal catalyst used in step (41a) is preferably 0.01 to 0.4 mol, more preferably 0.05 to 0.4 mol, per 1 mol of the alkene, in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. 0.1 mol is more preferable.
  • the reaction in step (41a) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent water, acetonitrile, dimethylacetamide and dimethylformamide are preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (41a) is preferably 20 to 160 ° C., and more preferably 40 to 140 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (41a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (41a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • the reaction ratio of the compound (41a) to the above-mentioned sulfonic acid the above-mentioned sulfonic acid relative to 1 mol of the compound (41a) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of waste.
  • the reaction in step (42a) is preferably carried out in the presence of a base.
  • a base include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, amines and the like, among which amines are preferred.
  • Examples of the above amine in the step (42a) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine and the like.
  • Aromatic amines such as pyridine, pyrrole, pyrrol, uracil, collidine and lutidine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] 5-nonene and the like cyclic amines and the like.
  • triethylamine and pyridine are preferable.
  • the amount of the base used in the step (42a) is preferably 1 to 2 moles, more preferably 1 to 1.1 moles, per mole of the compound (41a), in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. More preferable.
  • the reaction in step (42a) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which diethyl ether is preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (42a) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (42a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (42a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 12 hours.
  • step (42a) When the reaction in step (42a) is carried out in a solvent, a solution containing compound (42a) is obtained after completion of the above reaction. After adding water to the above solution, the mixture is allowed to stand to be separated into two phases, the aqueous phase is recovered, and the solvent may be distilled off to recover the high purity compound (42a).
  • the compound (42a) has a group represented by -OSO 3 H (that is, when X is H), it is replaced by water and an alkaline aqueous solution such as an aqueous solution of sodium hydrogencarbonate or aqueous ammonia is used. It is also possible to convert -OSO 3 H to a sulfate base.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • R 1b is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl having 3 or more carbon atoms which may have a substituent It is a group.
  • the above alkyl group may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring, or may form a ring.
  • the hetero ring is preferably an unsaturated hetero ring, more preferably an oxygen-containing unsaturated hetero ring, and examples thereof include a furan ring and the like.
  • a monovalent heterocycle may be located at the end of the alkyl group.
  • the “carbon number” of the above-mentioned alkyl group also includes the number of carbon atoms constituting the above-mentioned heterocycle.
  • the substituent which the above alkyl group as R 1b may have is a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A hydroxy group is preferable, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.
  • the alkyl group as R 1b is preferably free carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • R 1b is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbons which may have a substituent.
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is more preferable, and a carbon number having no substituent
  • a linear or branched alkyl group of 1 to 10 is more preferable, a linear or branched alkyl group of 1 to 3 carbon atoms having no substituent is still more preferable, and a methyl group (-CH is more preferable 3 ) or ethyl group (-C 2 H 5 ) is particularly preferred, and methyl group (-CH 3 ) is most preferred.
  • R 2b and R 4b are independently H or a substituent.
  • the plurality of R 2b and R 4b may be the same or different.
  • R 2b and R 4b is preferably a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a hydroxy group, and methyl Groups and ethyl groups are particularly preferred.
  • the said alkyl group as R2b and R4b does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group or a cyclic alkyl group which has 3 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group Is preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is more preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms having no substituent is preferable. Is more preferred, and methyl (-CH 3 ) or ethyl (-C 2 H 5 ) is particularly preferred.
  • R 2b and R 4b independently, H or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is preferable, and H or C having 1 to 3 carbon atoms having no substituent is preferable.
  • a linear or branched alkyl group is more preferable, H, a methyl group (-CH 3 ) or an ethyl group (-C 2 H 5 ) is still more preferable, and H is particularly preferable.
  • R 3b is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent. When a plurality of R 3b are present, they may be the same or different.
  • the said alkylene group does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkylene group having 3 to 10 carbon atoms which may have a substituent is preferable.
  • a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group or a cyclic alkylene group having 3 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is preferable, and a carbon number having no substituent is preferable.
  • Two members of R 1b , R 2b , R 3b and R 4b may combine with each other to form a ring, but preferably do not form a ring.
  • n is an integer of 1 or more.
  • an integer of 1 to 40 is preferable, an integer of 1 to 30 is more preferable, an integer of 5 to 25 is more preferable, and an integer of 5 to 9 and 11 to 25 is particularly preferable.
  • p and q are independently integers of 0 or more.
  • p an integer of 0 to 10 is preferable, and 0 or 1 is more preferable.
  • q an integer of 0 to 10 is preferable, and an integer of 0 to 5 is more preferable.
  • n, p and q are integers of 5 or more in total. More preferably, the sum of n, p and q is an integer of 8 or more. The sum of n, p and q is also preferably an integer of 60 or less, more preferably 50 or less, and still more preferably 40 or less.
  • X b is H, a metal atom, NR 5b 4 , imidazolium which may have a substituent, pyridinium which may have a substituent or a substituent Good phosphonium
  • R 5b is H or an organic group.
  • R 5b may be the same or different.
  • R 5b H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • the metal atom include a metal atom of 1 and 2 valences, an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) and the like, and Na, K or Li is preferable.
  • X b may be a metal atom or NR 5b 4 (R 5b is as described above).
  • H an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) or NR 5b 4 is preferable, and H, Na, K, Li or NH 4 is more preferable because it is easily dissolved in water.
  • Na, K or NH 4 are more preferred, particularly preferably Na or NH 4 is, since removal is easy, NH 4 being the most preferred.
  • X b is NH 4
  • the solubility of the surfactant in an aqueous medium is excellent, and metal components hardly remain in PTFE or in the final product.
  • L is a single bond, -CO 2 -B- *, -OCO-B- *, -CONR 6b -B- *, -NR 6b CO -B- *, or -CO- ( With the exception of the carbonyl group contained in -CO 2 -B-, -OCO-B-, -CONR 6b -B-, -NR 6 CO-B-), and B has a single bond or a substituent
  • R 6b is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 6b is H or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent.
  • the alkylene group more preferably has 1 to 5 carbon atoms.
  • R 6 is more preferably H or methyl group. * Indicates the side attached to -OSO 3 X b in the formula.
  • L is preferably a single bond.
  • surfactant (b) the following formula: (Wherein, R 1b , R 2b , L, n and X b are as described above) are preferable.
  • the surfactant (b) preferably has an integral value of 10% or more of all peak intensities observed in the region of a chemical shift of 2.0 to 5.0 ppm in the 1 H-NMR spectrum.
  • the surfactant (b) preferably has an integrated value of all peak intensities observed in the region of a chemical shift of 2.0 to 5.0 ppm in the 1 H-NMR spectrum within the above range.
  • the surfactant preferably has a ketone structure in the molecule.
  • the integral value is more preferably 15 or more, preferably 95 or less, more preferably 80 or less, and still more preferably 70 or less.
  • the integrated value is measured at room temperature with a heavy water solvent. Make heavy water 4.79 ppm.
  • surfactant (b) for example, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, (CH 3 ) 3 CC (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, (CH 3) 2 CHC (O ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, (CH 2 ) 5 CHC (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na
  • the surfactant (b) is a novel compound and can be produced, for example, by the production method exemplified below.
  • R 11b is H, a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent) Or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent, and in the case of 3 or more carbon atoms, it may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring or may form a ring .
  • L represents a single bond, -CO 2 -B - *, - OCO-B - *, - CONR 6b -B - *, - NR 6b CO-B- *, or, -CO- (where, -CO 2 Except for the carbonyl group contained in -B-, -OCO-B-, -CONR 6b -B-, -NR 6b CO-B-), and B is a carbon which may have a single bond or a substituent an alkylene group of 1 to 10, R 6b is, H, or may have a substituent group, an alkyl
  • Step (11 b) to obtain a compound (11 b) represented by The compound (11b) is oxidized to give the following formula: (Wherein L, R 2b to R 4b , R 11b , n, p and q are as described above.)
  • a step of obtaining a compound (12b) represented by (12b) and The compound (12b) is sulfated to give a compound of the following formula: (Wherein, L, R 2b to R 4b , R 11b , n, p, q and X b are as described above.)
  • the alkyl group as R 11b is preferably free carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogens
  • it may be substituted by an atom, it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom. It is preferable that the said alkyl group does not have any substituent.
  • R 11b is H, a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, or a cyclic 3 to 9 carbon atoms which may have a substituent
  • An alkyl group is preferable, H, a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms which does not contain a carbonyl group, or a cyclic alkyl group having a carbon number of 3 to 9 which does not contain a carbonyl group is more preferable.
  • H a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms and more preferably having no substituent, H, from the methyl group (-CH 3) or ethyl (-C 2 H 5) further
  • H or methyl (-CH 3 ) is particularly preferred, H being most preferred.
  • the hydroxylation in the step (11b) may be carried out, for example, by (1) subjecting the compound (10b) to phthalocyanine iron (II) (Fe (Pc)) and sodium borohydride in an oxygen atmosphere, or (2) the compound (2) 10b) can be reacted with isopinocampheylborane (IpcBH 2 ) and then oxidized by the method of oxidizing the resulting intermediate (dialkylborane).
  • II phthalocyanine iron
  • Pc isopinocampheylborane
  • IpcBH 2 isopinocampheylborane
  • the amount of phthalocyanine iron (II) may be a catalytic amount and can be used in an amount of 0.001 to 1.2 mol with respect to 1 mol of the compound (10b).
  • sodium borohydride can be used in an amount of 0.5 to 20 mol per 1 mol of compound (10b).
  • the reaction of method (1) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, nitriles, nitrogen-containing polar organic compounds, and the like.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • the temperature of the reaction of the method (1) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably 0 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the method (1) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the method (1) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • isopinocanfailborane can be used in an amount of 1.0 to 10.0 mol with respect to 1 mol of the compound (10b).
  • the reaction of compound (10b) with isopinocampheylborane can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature of the reaction of the compound (10b) with isopinocampheylborane is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., more preferably 0 to 150 ° C.
  • the pressure of the reaction of the compound (10b) with isopinocanfailborane is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the compound (10b) with isopinocampheylborane is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the oxidation in the method (2) can be carried out by reacting the above intermediate with an oxidizing agent.
  • Hydrogen peroxide is mentioned as said oxidizing agent.
  • the oxidizing agent can be used in an amount of 0.7 to 10 moles relative to 1 mole of the intermediate.
  • the oxidation in method (2) can be carried out in a solvent.
  • the solvent include water, methanol, ethanol and the like, among which water is preferred.
  • the temperature of oxidation in the method (2) is preferably 0 to 100 ° C., more preferably 0 to 80 ° C.
  • the pressure of oxidation in the method (2) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the oxidation time in the method (2) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • a method for oxidizing the compound (11b) in the step (12b) for example, (a) a method using Jones reagent (CrO 3 / H 2 SO 4 ) (Jones oxidation), (b) Dess-Martin periodinane (b) DMP) (des-Martin oxidation), (c) pyridinium chlorochromate (PCC), (d) bleach in the presence of a nickel compound such as NiCl 2 (about 5 to 6% aqueous solution of NaOCl (E) A method of causing hydrogen acceptors such as aldehydes and ketones to act in the presence of an aluminum catalyst such as (e) Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Openauer oxidation) Can be mentioned.
  • an aluminum catalyst such as (e) Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Openauer oxidation) Can be mentioned.
  • the oxidation in step (12b) can be carried out in a solvent.
  • a solvent water and an organic solvent are preferable, and water, ketone, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, nitrile and the like can be mentioned.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (12b) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C. and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the pressure of oxidation in the step (12b) is preferably 0 to 5.0 MPa, and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the oxidation time in the step (12b) is preferably 0.1 to 72 hours, and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the sulfuric acid esterification in step (13b) can be carried out by reacting compound (12b) with a sulfation reagent.
  • the above-mentioned sulfation reagent includes sulfur trioxide pyridine complex, sulfur trioxide trimethylamine complex, sulfur trioxide amine complex such as sulfur trioxide triethylamine complex, sulfur trioxide amide complex such as sulfur trioxide dimethylformamide complex, sulfuric acid-dicyclohexylcarbodiimide And chlorosulfuric acid, concentrated sulfuric acid, sulfamic acid and the like.
  • the amount of the above-mentioned sulfation reagent to be used is preferably 0.5 to 10 mol, more preferably 0.5 to 5 mol, and still more preferably 0.7 to 4 mol, per 1 mol of compound (12b).
  • the sulfuric acid esterification in step (13b) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, pyridine, dimethyl sulfoxide, sulfolane, nitrile and the like can be mentioned.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the temperature of sulfuric acid esterification in the step (13b) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., and more preferably ⁇ 20 to 150 ° C.
  • the pressure for sulfuric acid esterification in the step (13b) is preferably 0 to 10 MPa, more preferably 0.1 to 5 MPa.
  • the time of sulfuric acid esterification in the step (13b) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (b) also has the following formula: (Wherein, L, R 1b to R 4b , n, p and q are as described above.
  • R 101b is an organic group.)
  • the compound (20b) represented by ozonolysis is obtained by the following formula: (Wherein L, R 1b to R 4b , n, p and q are as described above.)
  • a step (21 b) of obtaining a compound (21 b) represented by The compound (21b) is sulfated to give a compound of the following formula: (Wherein, L, R 1b to R 4b , n, p, q and X b are as described above) can be produced by a production method comprising the step (22b) of obtaining a compound (22b) represented by the above.
  • R 101b an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable.
  • Two R 101b may be the same or different.
  • the ozonolysis in step (21b) can be carried out by subjecting compound (20b) to ozone and post-treating with a reducing agent.
  • Ozone can be generated by silent discharge in oxygen gas.
  • phosphines are preferable.
  • the ozonolysis in step (21b) can be carried out in a solvent.
  • a solvent water and an organic solvent are preferable, and water, alcohol, carboxylic acids, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon and the like can be mentioned.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. Among these, methanol and ethanol are preferable.
  • carboxylic acids examples include acetic acid and propionic acid. Among these, acetic acid is preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature for ozonolysis in the step (21b) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., and more preferably 0 to 150 ° C.
  • the pressure for ozonolysis in the step (21b) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the time for ozonolysis in step (21b) is preferably 0.1 to 72 hours, and more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the sulfuric acid esterification in the step (22b) can be carried out by reacting the compound (21b) with a sulfation reagent, and the same conditions as the sulfuric acid esterification in the step (13b) can be adopted.
  • R 21 b is H, a linear or branched chain having 1 or more carbon atoms which may have a substituent) It is an alkyl group or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent, and in the case of 3 or more carbon atoms, it forms a ring even if it contains a monovalent or divalent heterocycle.
  • the compound (30b) represented by the following formula) may be epoxidized to give a compound of the following formula: (31b) obtaining a compound (31b) represented by (wherein L, R 2b to R 4b , R 21b , n, p and q are as described above); Compound (31b) and R 22b 2 CuLi (R 22b is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or a carbon number of 3 which may have a substituent And the ring is a cyclic alkyl group, and when it has 3 or more carbon atoms, it may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring or form a ring), and is reacted with a dialkyl copper lithium.
  • R 22b is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or a carbon number of 3 which may have a substituent
  • the ring is a cyclic
  • Step (32b) of obtaining a compound (32b) represented by The compound (32b) is oxidized to give the following formula: (Wherein L, R 2b to R 4b , R 21b , R 22b , n, p and q are as defined above.)
  • Step (33b) of obtaining a compound (33b) represented by Compound (33b) is sulfated to give a compound of the following formula: (Wherein L, R 2b to R 4b , R 21b , R 22b , n, p, q and X b are as described above.)
  • a production method comprising a step (34 b) of obtaining a compound (34 b) It can be manufactured by
  • the said alkyl group as R21b does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogens
  • it may be substituted by an atom, it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom. It is preferable that the said alkyl group does not have any substituent.
  • R 21 b H, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, or a cyclic 3 to 8 carbon atoms which may have a substituent
  • An alkyl group is preferable, H, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which does not contain a carbonyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is more preferable.
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which has no substituent is more preferable, H or methyl group (—CH 3 ) is particularly preferable, and H is most preferable.
  • the said alkyl group as R22b does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogens
  • it may be substituted by an atom, it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom. It is preferable that the said alkyl group does not have any substituent.
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 to 9 carbon atoms which may have a substituent
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms is more preferable, a methyl group (-CH 3 ) or an ethyl group (-C 2 H 5 ) is particularly preferable, and a methyl group (-CH 3 ) is the most preferable. preferable.
  • Two R 22b may be the same or different.
  • the total number of carbon atoms in R 21b and R 22b is preferably 1 to 7, more preferably 1 to 2, and most preferably 1.
  • the epoxidation in the step (31 b) can be carried out by reacting the compound (30 b) with an epoxidizing agent.
  • epoxidizing agent examples include metachloroperbenzoic acid (m-CPBA), perbenzoic acid, hydrogen peroxide, peroxy acids such as tert-butyl hydroperoxide, dimethyldioxirane, methyl trifluoromethyldioxirane and the like. Among these, peracids are preferable, and metachloroperbenzoic acid is more preferable.
  • the above epoxidizing agent can be used in an amount of 0.5 to 10.0 moles with respect to 1 mole of the compound (30b).
  • the epoxidation in step (31 b) can be carried out in a solvent.
  • organic solvents are preferable, and ketones, ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, nitriles, pyridines, nitrogen-containing polar organic compounds, dimethyl sulfoxide and the like can be mentioned, and among them, dichloromethane is preferable.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • the temperature of epoxidation in the step (31 b) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., and more preferably ⁇ 40 to 150 ° C.
  • the pressure for epoxidation in the step (31b) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the epoxidation time in the step (31b) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the dialkyl copper lithium can be used in an amount of 0.5 to 10.0 moles with respect to 1 mole of the compound (31b).
  • the reaction of step (32b) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature of the reaction of step (32b) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -40 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (32b) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the step (32b) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • a method of oxidizing the compound (32b) in the step (33b) for example, (a) a method using Jones reagent (CrO 3 / H 2 SO 4 ) (Jones oxidation), (b) Dess-Martin periodinane (b) DMP) (des-Martin oxidation), (c) pyridinium chlorochromate (PCC), (d) bleach in the presence of a nickel compound such as NiCl 2 (about 5 to 6% aqueous solution of NaOCl (E) A method of causing hydrogen acceptors such as aldehydes and ketones to act in the presence of an aluminum catalyst such as (e) Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Openauer oxidation) Can be mentioned.
  • an aluminum catalyst such as (e) Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Openauer oxidation) Can be mentioned.
  • the oxidation in step (33b) can be carried out in a solvent.
  • a solvent water and an organic solvent are preferable, and water, ketone, alcohol, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, nitrile and the like can be mentioned.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. Among these, methanol and ethanol are preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (33b) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C. and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the oxidation pressure in the step (33b) is preferably 0 to 5.0 MPa, and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the oxidation time in the step (33b) is preferably 0.1 to 72 hours, and can be appropriately selected according to the method employed.
  • the sulfuric acid esterification in the step (34b) can be carried out by reacting the compound (33b) with a sulfation reagent, and the same conditions as the sulfuric acid esterification in the step (13b) can be adopted.
  • a step of obtaining a compound (41b) represented by (41b) and Compound (41b) is sulfated to give a compound of the following formula: (Wherein, L, R 2b to R 4b , R 11b , n, p, q and X b are as described above.)
  • the oxidation in step (41b) can be carried out by reacting compound (10b) with an oxidizing agent in the presence of water and a palladium compound.
  • oxidizing agent examples include monovalent or divalent copper salts such as copper chloride, copper acetate, copper cyanide, copper trifluoromethanethiol, iron chloride, iron acetate, iron cyanide, iron trifluoromethanethiol, hexacyanoiron, etc.
  • Benzoquinones such as iron salt, 1,4-benzoquinone, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone, tetrachloro-1,2-benzoquinone, tetrachloro-1,4-benzoquinone H 2 O 2 , MnO 2 , KMnO 4 , RuO 4 , m-chloroperbenzoic acid, oxygen and the like.
  • copper salts, iron salts and benzoquinones are preferable, and copper chloride, iron chloride and 1,4-benzoquinone are more preferable.
  • the oxidizing agent can be used in an amount of 0.001 to 10 moles relative to 1 mole of the compound (10b).
  • the water can be used in an amount of 0.5 to 1000 mol per 1 mol of compound (10b).
  • Examples of the palladium compound include palladium dichloride.
  • the amount of the palladium compound may be a catalytic amount, and can be used in an amount of 0.0001 to 1.0 mol per 1 mol of compound (10b).
  • the oxidation in step (41b) can be carried out in a solvent.
  • the solvent include water, esters, aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, alcohols, carboxylic acids, ethers, halogenated hydrocarbons, nitrogen-containing polar organic compounds, nitriles, dimethyl sulfoxide, and sulfolanes.
  • ester examples include ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA; also known as 1-methoxy-2-acetoxypropane), and the like, and among them, ethyl acetate is preferable.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • aliphatic hydrocarbon examples include hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, mineral spirits, etc. Among them, cyclohexane and heptane are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • carboxylic acids examples include acetic acid and propionic acid. Among these, acetic acid is preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the temperature of oxidation in the step (41b) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -20 to 150 ° C.
  • the pressure of oxidation in the step (41b) is preferably 0 to 10 MPa, more preferably 0.1 to 5.0 MPa.
  • the oxidation time in the step (41b) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the sulfuric acid esterification in the step (42b) can be carried out by reacting the compound (41b) with a sulfation reagent, and the same conditions as the sulfuric acid esterification in the step (13b) can be adopted.
  • Step (52) to obtain a compound (52) represented by The compound (52) is oxidized to give the following formula: (Wherein L, R 2b , R 3b , R 11b and n are as described above.)
  • Step (53) of obtaining a compound (53) represented by Compound (53) is sulfated to give a compound of the following formula: (Wherein, L, R 2b , R 3b , R 11b , n and X b are as described above.)
  • the compound (54) can be produced by
  • halogenating agent used in the step (51) examples include N-bromosuccinimide, N-chlorosuccinimide and the like.
  • the halogenating agent can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol per 1 mol of compound (50).
  • step (51) can be carried out in the presence of phosphines such as triphenylphosphine.
  • phosphines such as triphenylphosphine.
  • the above phosphines can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol per 1 mol of compound (50).
  • the reaction of step (51) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature of the reaction of step (51) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -40 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (51) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of step (51) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the above alkylene glycol can be used in an amount of 0.5 to 10.0 moles with respect to 1 mole of the compound (51).
  • the reaction of step (52) can be carried out in the presence of a base.
  • a base examples include sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like.
  • the above base can be used in an amount of 0.5 to 10.0 moles with respect to 1 mole of the compound (51).
  • the reaction of step (52) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include nitrogen-containing polar organic compounds, ethers, halogenated hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature of the reaction of step (52) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -40 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (52) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of step (52) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the oxidation in step (53) can be carried out by reacting compound (52) with an oxidizing agent in the presence of water and a palladium compound, and the same conditions as the oxidation in step (41) can be adopted.
  • the sulfuric acid esterification in the step (54) can be carried out by reacting the compound (53) with a sulfation reagent, and the same conditions as the sulfuric acid esterification in the step (13) can be adopted.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • -OSO 3 H ie, when X b is H
  • -OSO 3 H is sulfated by contacting with an alkali such as sodium carbonate or ammonia. Can be converted to
  • the production method including the steps (41b) and (42b) is preferable.
  • the surfactant (c) will be described.
  • R 1c is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms.
  • the alkyl group may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring, or may form a ring.
  • the hetero ring is preferably an unsaturated hetero ring, more preferably an oxygen-containing unsaturated hetero ring, and examples thereof include a furan ring and the like.
  • the “carbon number” of the alkyl group includes the number of carbon atoms constituting the carbonyl group and the number of carbon atoms constituting the heterocyclic ring.
  • the group represented by CH 3 -C ( O)-has 2 carbon atoms.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, and for example, it may be substituted by a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond, It is preferred not to be substituted by any functional group.
  • halogen atoms 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain halogen atoms, such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 2c and R 3c are independently a single bond or a divalent linking group.
  • R 2c and R 3c are preferably independently a single bond, a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms, or a cyclic alkylene group having 3 or more carbon atoms. It is preferable that the said alkylene group which comprises R2c and R3c does not contain a carbonyl group.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, and may be substituted by, for example, a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond, It is preferred not to be substituted by any functional group.
  • halogen atoms 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • it is preferable that it is a non-halogenated alkylene group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.
  • R 1c , R 2c and R 3c have a total carbon number of 5 or more.
  • the total carbon number is preferably 7 or more, more preferably 9 or more, preferably 20 or less, more preferably 18 or less, and still more preferably 15 or less. Any two R 1c , R 2c and R 3c may be bonded to each other to form a ring.
  • a c is —COOX c or —SO 3 X c
  • X c is H, a metal atom, NR 4c 4 , imidazolium which may have a substituent, a substituent And R 4c is H or an organic group, which may be the same or different).
  • R 4c H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • the metal atom include a metal atom of 1 and 2 valences, an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) and the like, and Na, K or Li is preferable.
  • H an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) or NR 4c 4 is preferable, and H, Na, K, Li or NH 4 is more preferable because it is easily dissolved in water. Further since the easily soluble in water, Na, K or NH 4 are more preferred, particularly preferably Na or NH 4 is, since removal is easy, NH 4 being the most preferred.
  • X c is NH 4
  • the solubility of the surfactant in an aqueous medium is excellent, and the metal component hardly remains in PTFE or in the final product.
  • R 1c a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which does not contain a carbonyl group, a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms which does not contain a carbonyl group, or 1 to 10 carbonyl groups And a linear or branched alkyl group having 2 to 45 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 45 carbon atoms including a carbonyl group, or a monovalent or divalent complex having 3 to 45 carbon atoms. Alkyl groups containing a ring are preferred.
  • R 1c the following formula: (Wherein, n 11 c is an integer of 0 to 10, and R 11 c is a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, R 12 c Is an alkylene group having a carbon number of 0 to 3. When n 11 c is an integer of 2 to 10, R 12 c may be the same or different and each is more preferably a group represented by R 12 c ).
  • n 11 c an integer of 0 to 5 is preferable, an integer of 0 to 3 is more preferable, and an integer of 1 to 3 is still more preferable.
  • the said alkyl group as R11 c does not contain a carbonyl group.
  • the above-mentioned alkyl group as R 11 c may be a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, for example, a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond although it is preferable, it is not substituted by any functional group.
  • alkyl group as R 11c 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogens Although it may be substituted by an atom, it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.
  • R 12c is an alkylene group having 0 to 3 carbon atoms.
  • the carbon number is preferably 1 to 3.
  • the above-mentioned alkylene group as R 12c may be linear or branched.
  • the above-mentioned alkylene group as R 12c preferably contains no carbonyl group.
  • the R 12c, an ethylene group (-C 2 H 4 -) or propylene group (-C 3 H 6 -) is more preferred.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, and for example, it may be substituted by a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond Although it is preferable, it is not substituted by any functional group.
  • alkylene group as R 12c 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogens Although it may be substituted by an atom, it is preferable that it is a non-halogenated alkylene group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.
  • R 2c and R 3c independently, preferably an alkylene group having 1 or more carbon containing no carbonyl group, more preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms which does not contain a carbonyl group, an ethylene group (-C 2 H 4 -) or propylene group (-C 3 H 6 -) is more preferred.
  • a c is as described above.
  • the surfactant (c) is a novel compound and can be produced, for example, by the production method exemplified below.
  • Surfactant (c) has the formula: (Wherein R 3c is as described above and E c is a leaving group), lithium, and a compound of the formula: R 201c 3 Si—Cl (wherein R 201c is Independently, it is made to react with the chlorosilane compound shown by the alkyl group or the aryl group.
  • R 1c contains a furan ring
  • the furan ring may be opened by acid and converted to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • step (11c) lithium and the chlorosilane compound are reacted in advance to obtain a siloxylithium compound, and then the siloxylithium compound and the compound (10c) are preferably reacted to obtain a compound (11c).
  • E c represents a leaving group.
  • the leaving group include tert-butyldimethylsilyl (TBS), triethylsilyl (TES), triisopropylsilyl (TIPS), tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS), benzyl (Bn) and the like.
  • R 21c a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable.
  • chlorosilane compound for example, Can be mentioned.
  • any reaction in step (11c) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction of lithium and the chlorosilane compound in the step (11c) is preferably ⁇ 78 to 100 ° C., more preferably 10 to 40 ° C.
  • the temperature for the reaction of the siloxylithium compound with the compound (10c) in the step (11c) is preferably -100 to 0 ° C, more preferably -80 to -50 ° C.
  • the pressure of the reaction of lithium and the chlorosilane compound in the step (11c) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the pressure for the reaction of the siloxylithium compound with the compound (10c) in the step (11c) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time of lithium and the chlorosilane compound in the step (11c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the reaction time of the siloxylithium compound with the compound (10c) in the step (11c) is preferably 0.1 to 72 hours, and more preferably 1 to 2 hours.
  • the reaction ratio of the compound (11c) to the above olefin is preferably 1 to 2 of the above olefin per 1 mol of the compound (11c) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes It is preferably molar, and more preferably 1 to 1.1 molar.
  • step (12c) can be carried out in a solvent in the presence of a thiazolium salt and a base.
  • thiazolium salt examples include 3-ethyl-5- (2-hydroxyethyl) -4-methylthiazolium bromide, 3-benzyl-5- (2-hydroxyethyl) -4-methylthiazolium chloride and the like.
  • Examples of the base include 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, triethylamine and the like.
  • an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an alcohol or an ether is more preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (12c) is preferably 40 to 60 ° C., more preferably 50 to 55 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (12c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (12c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (13c) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • a fluoride ion or an acid for example, a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine nHF or triethylamine nHF, cesium fluoride potassium fluoride lithium fluoride lithium (LiBF 4 ), methods using inorganic salts such as ammonium fluoride, methods using organic salts such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF), and the like.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (13c) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (13c) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (13c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (13c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the oxidation in step (14c) can be carried out in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, tert-butyl alcohol and the like, and water can be used.
  • Disodium hydrogen phosphate solution may be used as a buffer solution.
  • the compound (14c) may be brought into contact with an alkali to convert —COOH into a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, ammonia and the like, and an aqueous solution of ammonia is preferably used.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • Surfactant (c) also has the formula: (Wherein R 3c is as described above, R 22c is a monovalent organic group, and E c is a leaving group), and a ketone represented by the formula: (Wherein, R 1c is as described above, and R 23c is a monovalent organic group), which is reacted with a carboxylic acid ester represented by the formula: (Wherein R 1c , R 3c and E c are as described above, and R 24c is a single bond or a divalent linking group) Step (21c) to obtain a compound (21c) represented by The leaving group of compound (21c) is eliminated to give a compound of the formula: (Wherein R 1c , R 24c and R 3c are as described above) Step (22c) of obtaining a compound (22c) represented by The compound (22c) is oxidized to give a compound of the formula: (Wherein R 1c , R 24c and R 3c are as described above) Step (23c) of obtaining
  • R 1c contains a furan ring
  • the furan ring may be opened by acid and converted to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • E c represents a leaving group.
  • the leaving group include tert-butyldimethylsilyl (TBS), triethylsilyl (TES), triisopropylsilyl (TIPS), tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS), benzyl (Bn) and the like.
  • R 22c a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • R 23c a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • R 24c a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methylene group (—CH 2 —) is more preferable.
  • step (21c) can be carried out in a solvent in the presence of a base.
  • Examples of the base include sodium amide, sodium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide and the like.
  • an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an alcohol and an ether are more preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (21c) is preferably 0 to 40 ° C., and more preferably 0 to 20.
  • the pressure of the reaction in the step (21c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (21c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (22c) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • a fluoride ion or an acid for example, a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine. NHF or triethylamine. (LiBF 4 ), methods using inorganic salts such as ammonium fluoride, methods using organic salts such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF), and the like.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (22c) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (22c) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (22c) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (22c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the oxidation in step (23c) can be carried out in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • Alcohol and water can be used as the solvent.
  • Disodium hydrogen phosphate solution may be used as a buffer solution.
  • Compound (23c) may be brought into contact with an alkali to convert —COOH into a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, ammonia and the like, and an aqueous solution of ammonia is preferably used.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • R 1c contains a furan ring
  • the furan ring may be opened by acid and converted to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • E c represents a leaving group.
  • the leaving group include tert-butyldimethylsilyl (TBS), triethylsilyl (TES), triisopropylsilyl (TIPS), tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS), benzyl (Bn) and the like.
  • the lithium acetylide is 1 per mole of the alkyl halide in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. It is preferably 2 mol, and more preferably 1 to 1.2 mol.
  • the reaction in step (31c) can be carried out in a solvent.
  • a solvent hexane is preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (31c) is preferably -100 to -40 ° C, more preferably -80 to -50 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (31c) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (31c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • Oxidation in the step (32c) can be carried out by [(Cn * ) Ru III (CF 3 CO 2 ) 3 ] .H 2 O (wherein Cn * is 1,4,7-trimethyl-1,4,7-triazabicyclo) It can be carried out in a nitrile solvent using the complex formed by adding sodium perchlorate after treatment of (nonane representing) with (NH 4 ) 2 Ce (NO 3 ) 6 and trifluoroacetic acid.
  • the compound (32c) may be extracted by neutralization with an alkali and using an organic solvent such as ether.
  • the temperature of the reaction in the step (32c) is preferably 30 to 100 ° C., and more preferably 40 to 90 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (32c) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (32c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (33c) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • a fluoride ion or an acid for example, a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine. NHF or triethylamine. (LiBF 4 ), methods using inorganic salts such as ammonium fluoride, methods using organic salts such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF), and the like.
  • the elimination reaction of the leaving group in step (33c) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an ether is more preferable.
  • ether ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), crown ether (15-crown And -5, 18-crown-6) etc., among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (33c) is preferably 0 to 40 ° C., more preferably 0 to 20 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (33c) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (33c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the oxidation in step (34c) can be carried out in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • Alcohol and water can be used as the solvent.
  • Disodium hydrogen phosphate solution may be used as a buffer solution.
  • Compound (34c) may be brought into contact with an alkali to convert —COOH into a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, ammonia and the like, and an aqueous solution of ammonia is preferably used.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • Surfactant (c) also has the formula: And a divinyl ketone represented by the formula: Is reacted with 2-methyl furan represented by the formula: Obtaining a compound (51c) represented by: (51c), Compound (51c) and the formula: Is reacted with furan represented by the formula: Obtaining a compound (52c) represented by: (52c), By heating compound (52c) in the presence of acid, the formula: Obtaining a compound (53c) represented by: (53c), and The compound (53c) is oxidized to give a compound of the formula: Obtaining a compound (54c) represented by: (54c), Can be suitably produced by a production method including
  • step (51c) as the reaction ratio between divinyl ketone and 2-methyl furan, in consideration of improvement in yield and reduction of waste, 0.5 of 2-methyl furan is used per 1 mol of divinyl ketone. It is preferably 1 mol, and more preferably 0.6 to 0.9 mol.
  • the reaction in step (51c) is preferably carried out in the presence of an acid.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid and the like, among which acetic acid is preferable.
  • the amount of the acid used in the step (51c) is preferably 0.1 to 2 moles, more preferably 0.1 to 1 moles relative to 1 mole of divinyl ketone in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. More preferable.
  • the reaction in step (51c) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent water and acetonitrile are preferred.
  • the temperature of the reaction in the step (51c) is preferably 20 to 100 ° C., and more preferably 40 to 100 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (51c) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (51c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • the reaction ratio of the compound (51c) to furan is 1 to 2 moles of furan to 1 mole of the compound (51c) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. Is preferable, and 1 to 1.1 mol is more preferable.
  • the reaction in step (52c) is preferably carried out in the presence of an acid.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • the amount of the acid used in step (52c) is preferably 0.1 to 2 moles, relative to 1 mole of compound (51c), in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. Molar is more preferred.
  • the reaction in step (52c) can be carried out in a polar solvent.
  • Water is preferred as the solvent.
  • the temperature of the reaction in the step (52c) is preferably 20 to 100 ° C., and more preferably 40 to 100 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (52c) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (52c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • the furan ring is opened by heating the compound (52c) in the presence of an acid.
  • hydrochloric acid and sulfuric acid are preferable.
  • the reaction in step (53c) can be carried out in a polar solvent.
  • Water is preferred as the solvent.
  • the temperature of the reaction in the step (53c) is preferably 50 to 100 ° C., more preferably 70 to 100 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (53c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (53c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 1 to 12 hours.
  • the oxidation in step (54c) can be carried out in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • tert-butyl alcohol and water can be used as the above solvent.
  • Disodium hydrogen phosphate solution may be used as a buffer solution.
  • Compound (54c) may be brought into contact with alkali to convert —COOH into a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, ammonia and the like, and an aqueous solution of ammonia is preferably used.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • Surfactant (c) also has the formula: (Wherein, R 1c is as described above, R 21c is a single bond or a divalent linking group), and an alkene represented by the formula: ( Wherein , Y 61 c is an alkyl ester group) and reacted with an alkyne represented by the formula: (Wherein R 1c , R 21c and Y 61c are as described above.)
  • a step (61c) of obtaining a compound (61c) represented by An alkali is allowed to act on the compound (61c), and then an acid is allowed to act to give a compound of the formula: (Wherein R 1c and R 21c are as described above)
  • R 1c contains a furan ring
  • the furan ring may be opened by acid and converted to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • R 21c a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable.
  • the reaction ratio of the alkene to the alkyne is 0.5 to 2 moles of the alkene with respect to 1 mole of the alkyne in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes. It is preferably present, and more preferably 0.6 to 1.2 mol.
  • the reaction in step (61c) is preferably carried out in the presence of a metal catalyst.
  • a metal catalyst examples include ruthenium and the like.
  • the amount of the metal catalyst used in step (61c) is preferably 0.01 to 0.4 mol, more preferably 0.05 to 0.4 mol, per 1 mol of the alkene, in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. 0.1 mol is more preferable.
  • the reaction in step (61c) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent water, acetonitrile, dimethylacetamide and dimethylformamide are preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (61c) is preferably 20 to 160 ° C., and more preferably 40 to 140 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (61c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (61c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • the reaction ratio of the compound (61c) to the alkali is 0.6 to 1 of the alkali per mole of the compound (61c) in consideration of the improvement of the yield and the reduction of wastes.
  • the amount is preferably 2 moles, more preferably 0.8 to 1.1 moles.
  • the amount of the acid used in step (62c) is preferably 1.0 to 20.0 mol, more preferably 1.0 to 2 mol, per 1 mol of compound (61c), in consideration of improvement in yield and reduction of wastes. It is more preferable that the amount is up to 10.0 mol.
  • step (62c) can be carried out in a polar solvent.
  • Water is preferred as the solvent.
  • the temperature of the reaction in the step (62c) is preferably 0 to 100 ° C., more preferably 20 to 100 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (62c) is preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (62c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • Compound (62c) may be brought into contact with alkali to convert —COOH into a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, ammonia and the like, and an aqueous solution of ammonia is preferably used.
  • the solvent may be distilled off, distillation, purification or the like may be carried out to increase the purity of the obtained compound.
  • the surfactant (d) will be described.
  • R 1d is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl having 3 or more carbon atoms which may have a substituent It is a group.
  • the above alkyl group may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring, or may form a ring.
  • the hetero ring is preferably an unsaturated hetero ring, more preferably an oxygen-containing unsaturated hetero ring, and examples thereof include a furan ring and the like.
  • a monovalent heterocycle may be located at the end of the alkyl group.
  • the “carbon number” of the above-mentioned alkyl group also includes the number of carbon atoms constituting the above-mentioned heterocycle.
  • the substituent which the above alkyl group as R 1d may have is a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A hydroxy group is preferable, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.
  • the alkyl group as R 1d preferably contains no carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbons which may have a substituent is preferable
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is more preferable, and a carbon number having no substituent
  • a linear or branched alkyl group of 1 to 10 is more preferable, a linear or branched alkyl group of 1 to 3 carbon atoms having no substituent is still more preferable, and a methyl group (-CH is more preferable 3 ) or ethyl group (-C 2 H 5 ) is particularly preferred, and methyl group (-CH 3 ) is most preferred.
  • R 2d and R 4d are independently H or a substituent. Plural R 2d and R 4d may be the same or different.
  • R 2d and R 4d is preferably a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a hydroxy group, and methyl Groups and ethyl groups are particularly preferred.
  • the said alkyl group as R2d and R4d does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group Is preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is more preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms having no substituent is preferable. Is more preferred, and methyl (-CH 3 ) or ethyl (-C 2 H 5 ) is particularly preferred.
  • R 2d and R 4d independently, H or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is preferable, and H or C having 1 to 3 carbon atoms having no substituent is preferable.
  • a linear or branched alkyl group is more preferable, H, a methyl group (-CH 3 ) or an ethyl group (-C 2 H 5 ) is still more preferable, and H is particularly preferable.
  • R 3d is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent. When a plurality of R 3d are present, they may be the same or different.
  • the said alkylene group does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less may be substituted by halogen atoms
  • a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkylene group having 3 to 10 carbon atoms which may have a substituent is preferable.
  • a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group or a cyclic alkylene group having 3 to 10 carbon atoms which does not contain a carbonyl group is preferable, and a carbon number having no substituent is preferable.
  • Two members of R 1d , R 2d , R 3d and R 4d may combine with each other to form a ring.
  • n is an integer of 1 or more. As n, an integer of 1 to 40 is preferable, an integer of 1 to 30 is more preferable, and an integer of 5 to 25 is more preferable.
  • p and q are independently integers of 0 or more.
  • p an integer of 0 to 10 is preferable, and 0 or 1 is more preferable.
  • q an integer of 0 to 10 is preferable, and an integer of 0 to 5 is more preferable.
  • n, p and q are integers of 6 or more in total. More preferably, the sum of n, p and q is an integer of 8 or more. The sum of n, p and q is also preferably an integer of 60 or less, more preferably 50 or less, and still more preferably 40 or less.
  • a d is —SO 3 X d or —COOX d (where X d is H, metal atom, NR 5d 4 , imidazolium which may have a substituent, has a substituent)
  • R 5 d is H or an organic group, which may be the same or different).
  • R 5d H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • the metal atom include a metal atom of 1 and 2 valences, an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) and the like, and Na, K or Li is preferable.
  • X d may be a metal atom or NR 5d 4 (R 5d is as described above).
  • H an alkali metal (group 1), an alkaline earth metal (group 2) or NR 5d 4 is preferable, and H, Na, K, Li or NH 4 is more preferable because it is easily dissolved in water.
  • Na, K or NH 4 are more preferred, particularly preferably Na or NH 4 is, since removal is easy, NH 4 being the most preferred.
  • X d is NH 4
  • the solubility of the surfactant in an aqueous medium is excellent, and the metal component hardly remains in PTFE or in the final product.
  • L is a single bond, -CO 2 -B- *, -OCO-B- *, -CONR 6d -B- *, -NR 6d CO -B- *, or -CO- ( With the exception of the carbonyl group contained in -CO 2 -B-, -OCO-B-, -CONR 6d -B-, -NR 6d CO -B-), and B has a single bond or a substituent R 6 d may be H or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent. The alkylene group more preferably has 1 to 5 carbon atoms. Further, R 6 d is more preferably H or a methyl group. * Indicates the side bound to Ad in the formula.
  • L is preferably a single bond.
  • the surfactant preferably has an integral value of 10 or more in the total peak intensity observed in the region of a chemical shift of 2.0 to 5.0 ppm in the 1 H-NMR spectrum.
  • the surfactant preferably has an integral value of all peak intensities observed in the region of a chemical shift of 2.0 to 5.0 ppm in the 1 H-NMR spectrum within the above range.
  • the surfactant preferably has a ketone structure in the molecule.
  • the integral value is more preferably 15 or more, preferably 95 or less, more preferably 80 or less, and still more preferably 70 or less.
  • the integrated value is measured at room temperature with a heavy water solvent. Make heavy water 4.79 ppm.
  • surfactant (d) examples include CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 COOK, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 COONa, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 COONa, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 COONa, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 COONa, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 COONa, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 COONa, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 COONa, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 COONa, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 COONa, (CH 3 ) 3 CC
  • the surfactant (d) is a novel compound and can be produced, for example, by the production method exemplified below.
  • the surfactant (d) has the following formula: (Wherein, R 1d , R 2d and n are as described above) And a compound (10d) represented by the following formula: (Wherein, R 3d is as described above. L is a single bond, -CO 2 -B- *, -OCO-B- *, -CONR 6d -B- *, -NR 6d CO-B- * or, -CO- (where, -CO 2 -B -, - OCO -B -, - CONR 6d -B -, -.
  • L is a single bond, -CO 2 -B- *, -OCO-B- *, -CONR 6d -B- * , -NR 6d CO-B- *, or -CO- (provided that -CO 2 -B-, -OCO-B-, -CONR 6d -B-, -NR 6d CO -B-)
  • B is a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent
  • R 6d is H or having one or more substituents. It is an alkyl group of to 4. * indicates the side to be bonded to -OSO 3 X d in the formula.) It can manufacture suitably by the manufacturing method including the process (11d) which obtains the compound (11d) shown by these.
  • the reaction in step (11d) can be carried out in the presence of a base.
  • a base examples include sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, triethylamine and the like.
  • the above base can be used in an amount of 0.5 to 20 moles relative to 1 mole of the compound (10d).
  • the reaction in step (11d) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and an aprotic polar solvent is more preferable.
  • the organic solvent include ethers, aromatic compounds, nitriles, halogenated hydrocarbons and the like.
  • the ether include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • the aromatic compound include benzene, toluene, xylene and the like. Among them, benzene is preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (11d) is preferably -78 to 150 ° C, more preferably -20 to 100 ° C.
  • the pressure of the reaction in the step (11d) is preferably 0 to 10 MPa, more preferably 0 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (11d) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (d) also has the following formula: (Wherein, R 1d to R 4d , n, p and q are as described above.
  • L is a single bond, -CO 2 -B- *, -OCO-B- *, -CONR 6d -B- * , -NR 6d CO-B- *, or -CO- (provided that -CO 2 -B-, -OCO-B-, -CONR 6d -B-, -NR 6d CO -B-)
  • B is a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent
  • R 6d is H or having one or more substituents. It is an alkyl group of-4.
  • L is a single bond, -CO 2 -B- *, -OCO-B- *, -CONR 6d- B- *, -NR 6d CO-B- *, or -CO- (provided that -CO 2 -B-, -OCO-B-, -CONR 6d -B-, -NR 6d CO -B-
  • the B is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a single bond or a substituent, and R 6d may have H or a substituent. an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. * denotes the side to be bonded to the -CH 2 -COOX d in the formula.) It can manufacture suitably by the manufacturing method including the process (21d) which obtains the compound (21d) shown by these.
  • step (21d) can be carried out by reacting compound (20d) with a nitrosating agent.
  • nitrosating agent sodium nitrite, nitrosyl sulfuric acid, isoamyl nitrite and the like can be used.
  • the nitrosating agent can be used in an amount of 0.5 to 10 moles relative to 1 mole of the compound (20d).
  • the oxidation in step (21d) can be carried out in a solvent.
  • a solvent trifluoroacetic acid, acetonitrile and the like can be used.
  • the oxidation temperature in the step (21d) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., and more preferably ⁇ 20 to 100 ° C.
  • the oxidation pressure in the step (21d) is preferably 0 to 10 MPa, more preferably 0 to 1.0 MPa.
  • the oxidation time in the step (21d) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 24 hours.
  • R 11d -CH CH-Y 1d -OH
  • R 11 d is H, a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent, or a cyclic having 3 or more carbon atoms which may have a substituent
  • an alkyl group of 3 or more carbon atoms it may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring or may form a ring.
  • Y 1d is — (CR 2d 2 ) n — or — (CR 2d 2 ) n- (OR 3d ) p- (CR 4d 2 ) q -L-CH 2- (R 2d to R 4d , n, L, p and q are as described above.
  • L is a single bond,- CO 2 -B- *, -OCO-B- *, -CONR 6d -B- *, -NR 6d CO-B- *, or -CO- (however, -CO 2 -B-, -OCO-B -, - CONR 6d -B -, -.
  • a step (101 d) of obtaining a compound (101 d) represented by The compound (101d) is oxidized to give the following formula: (Wherein, R 11d and Y 1d are as described above) can be produced by a production method including the step (102d) of obtaining a compound (102d) represented by the above.
  • the said alkyl group as R11d does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted by halogen atoms, 50% or less may be substituted by halogen atoms, and 25% or less are halogens
  • it may be substituted by an atom, it is preferable that it is a non-halogenated alkyl group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom. It is preferable that the said alkyl group does not have any substituent.
  • R 11d is H, a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, or a cyclic 3 to 9 carbon atoms which may have a substituent
  • An alkyl group is preferable, H, a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms which does not contain a carbonyl group, or a cyclic alkyl group having a carbon number of 3 to 9 which does not contain a carbonyl group is more preferable.
  • H a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms and more preferably having no substituent, H, from the methyl group (-CH 3) or ethyl (-C 2 H 5) further
  • H or methyl (-CH 3 ) is particularly preferred, H being most preferred.
  • the hydroxylation in the step (101d) may be carried out, for example, by a method of causing phthalocyanine iron (II) (Fe (Pc)) and sodium borohydride to act on compound (100d) in an oxygen atmosphere, or (2d) compound
  • the reaction can be carried out by a method in which 100 p) is reacted with isopinocampheylborane (IpcBH 2 ) and then the resulting intermediate (dialkylborane) is oxidized.
  • the amount of phthalocyanine iron (II) may be a catalytic amount and can be used in an amount of 0.001 to 1.2 moles relative to 1 mole of the compound (100d).
  • sodium borohydride can be used in an amount of 0.5 to 20 moles relative to 1 mole of the compound (100d).
  • the reaction of method (1d) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, nitriles, nitrogen-containing polar organic compounds, and the like.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compounds examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferable.
  • the temperature of the reaction of the method (1d) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably 0 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the method (1d) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the method (1d) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • isopinocampheylborane in an amount of 1.0 to 10.0 mol per 1 mol of the compound (100d).
  • the reaction of compound (100d) with isopinocanfailborane can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature of the reaction of the compound (100d) with isopinocampheylborane is preferably ⁇ 78 to 200 ° C., more preferably 0 to 150 ° C.
  • the pressure of the reaction of the compound (100d) with isopinocanfailborane is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the compound (100d) with isopinocampheylborane is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the oxidation in the method (2d) can be carried out by reacting the above intermediate with an oxidizing agent.
  • Hydrogen peroxide is mentioned as said oxidizing agent.
  • the oxidizing agent can be used in an amount of 0.7 to 10 moles relative to 1 mole of the intermediate.
  • the oxidation in method (2d) can be carried out in a solvent.
  • the solvent include water, methanol, ethanol and the like, among which water is preferred.
  • the temperature of oxidation in the method (2d) is preferably 0 to 100 ° C., more preferably 0 to 80 ° C.
  • the pressure of oxidation in the method (2d) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the oxidation time in the method (2d) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • a method for oxidizing the compound (101d) in the step (102d) for example, (a) a method using Jones reagent (CrO 3 / H 2 SO 4 ) (Jones oxidation), (d) Dess-Martin periodinane (d) DMP) (des-Martin oxidation), (c) pyridinium chlorochromate (PCC), (d) bleach in the presence of a nickel compound such as NiCl 2 (about 5 to 6% aqueous solution of NaOCl (E)
  • a method of causing hydrogen acceptors such as aldehydes and ketones to act in the presence of an aluminum catalyst such as (e) Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Openauer oxidation) Can be mentioned.
  • the oxidation in step (102d) can be carried out in a solvent.
  • a solvent water and an organic solvent are preferable, and water, ketone, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, nitrile and the like can be mentioned.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like. Among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (102d) is preferably ⁇ 78 to 200 ° C. and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the oxidation pressure in the step (102d) is preferably 0 to 5.0 MPa, and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the oxidation time in the step (102d) is preferably 0.1 to 72 hours, and can be appropriately selected depending on the method to be employed.
  • the compound (10d) and the compound (20d) also have the following formula: (Wherein, R 1d and Y 1d are as described above; R 101d is an organic group), and the compound (200 d ) represented by ozonolysis is carried out to give (Wherein R 1d and Y 1d are as described above) can be produced by a production method including the step (201 d) of obtaining a compound (201 d) represented by the above.
  • R 101d an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable.
  • Two R 101d may be the same or different.
  • the ozonolysis in the step (201d) can be carried out by subjecting the compound (200d) to ozone and post-treating with a reducing agent.
  • Ozone can be generated by silent discharge in oxygen gas.
  • phosphines are preferable.
  • the ozonolysis in step (201d) can be carried out in a solvent.
  • a solvent water and an organic solvent are preferable, and water, alcohol, carboxylic acids, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon and the like can be mentioned.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. Among these, methanol and ethanol are preferable.
  • carboxylic acids examples include acetic acid and propionic acid. Among these, acetic acid is preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, among which diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.

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Abstract

本発明は、フッ素を含む化合物が除去又は低減されたポリテトラフルオロエチレン水性分散液を得ることを目的とする。 本発明は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレン水性分散液から下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とする精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法である。 一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１ 一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２

Description

精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法、改質ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法、ポリテトラフルオロエチレン成形体の製造方法、及び、組成物
本発明は、精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法、改質ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法、及び、ポリテトラフルオロエチレン成形体の製造方法に関する。
従来、炭化水素系界面活性剤を用いてポリテトラフルオロエチレンを製造する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
特表２０１３－５４２３０９号公報
炭化水素系界面活性剤を用いてポリテトラフルオロエチレンを製造すると、フッ素を含む特定の化合物が生成されることが見出された。
本発明は、上記フッ素を含む化合物が除去又は低減されたポリテトラフルオロエチレン水性分散液及びポリテトラフルオロエチレン粉末を得ることを目的とする。また、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレンを用いて、上記フッ素を含む化合物が除去又は低減されたポリテトラフルオロエチレン成形体を製造することを目的とする。更に、上記フッ素を含む化合物が除去又は低減されたポリテトラフルオロエチレンを含む組成物を提供することを目的とする。
本発明は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレン水性分散液から下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とする精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法である。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程は、上記ポリテトラフルオロエチレン水性分散液をイオン交換処理及び／又は濃縮処理する工程を含むことが好ましい。
本発明はまた、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレン粉末から下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とする改質ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法でもある。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレン粉末を１６０℃以上の温度で熱処理する工程を含むことが好ましい。
本発明は更に、炭化水素系界面活性剤を用いて製造されたポリテトラフルオロエチレンを用いて成形体を製造する方法であって、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とするポリテトラフルオロエチレン成形体の製造方法。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程は、１６０℃以上の温度で熱処理する工程を含むことが好ましい。
本発明はまた、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレンに、１００℃超の温度でフッ素ラジカル源を接触させて、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とする改質ポリテトラフルオロエチレンの製造方法でもある。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
本発明は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレンをフッ素ラジカル源と接触させて、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含み、前記フッ素ラジカル源の添加量は、フッ素原子に換算してポリテトラフルオロエチレン１００重量部に対して０．５重量部以上であることを特徴とするポリテトラフルオロエチレンの製造方法でもある。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
本発明はまた、ポリテトラフルオロエチレンを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物でもある。
一般式（３）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記一般式（３）で示される化合物の含有量は、ポリテトラフルオロエチレンに対して、１０００ｐｐｂ以下であることが好ましく、２５ｐｐｂ以下であることがより好ましい。
本発明の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ポリテトラフルオロエチレン以上含む組成物である。
一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、上記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、かつ、非イオン性界面活性剤を１％／ポリテトラフルオロエチレン以上含む組成物である。
一般式（４’）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ポリテトラフルオロエチレン以上含む組成物である。
一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、上記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ポリテトラフルオロエチレン以上含む組成物である。
一般式（５’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１４－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
これらの本発明の一態様は水性分散液である組成物である。
本発明の一態様は、上記一般式（４）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含む組成物である。また、上記一般式（４）で示される化合物及び上記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、上記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下である組成物である。また、上記一般式（５）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含む組成物である。本発明の一態様は、上記一般式（５）で示される化合物及び上記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、上記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下である組成物である。
また、本発明の一態様は、上記一般式（４）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下含む組成物である。本発明の一態様は、上記一般式（４）で示される化合物及び上記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、上記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である組成物である。本発明の一態様は、上記一般式（５）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下含む組成物である。本発明の一態様は、上記一般式（５）で示される化合物及び上記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、上記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、上記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である組成物である。
上記組成物は、更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含むものであってもよい。
一般式（７）：（Ｆ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
これらの本発明の一態様は、粉末である組成物である。
また、本発明の組成物は、ポリテトラフルオロエチレンが、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたものであることが好ましい。
本発明は、上記組成物からなる成形体でもある。本発明の成形体は延伸体であることも好ましい。
本発明の精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法は、得られる精製ＰＴＦＥ水性分散液中に存在する一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減することができる。
本発明の改質ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法は、得られる改質ポリテトラフルオロエチレン粉末中に存在する一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減することができる。
本発明のポリテトラフルオロエチレン成形体の製造方法は、得られるポリテトラフルオロエチレン成形体中に存在する一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減することができる。
本発明の組成物は、一般式（３）で示される化合物が除去又は低減されたものである。
本発明の精製ＰＴＦＥ水性分散液の製造方法は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレン（以下、「ＰＴＦＥ」と表記することがある）水性分散液から一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程（以下「除去工程」ともいう）を含む。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）又はアルカリ土類金属（２族）が挙げられ、具体的には、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ等が例示される。
上記Ｒ５としては、４つのＲ５は、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５としては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。また、好ましくは炭素数１～１０のアルキル基、さらに好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。以下で記載する全てのＲ５に上記規定は適用できる。
一般式（１）において、ｍは５～１１であってもよい。
一般式（２）において、ｎは６～１２であってもよい。
なお、本明細書中、特に断りのない限り、「有機基」は、１個以上の炭素原子を含有する基、又は有機化合物から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。
当該「有機基」の例は、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
ホルミル基、
ＲａＯ－、
ＲａＣＯ－、
ＲａＳＯ２－、
ＲａＣＯＯ－、
ＲａＮＲａＣＯ－、
ＲａＣＯＮＲａ－、
ＲａＯＣＯ－、及び
ＲａＯＳＯ２－
（これらの式中、Ｒａは、独立して、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である）
を包含する。
上記有機基としては、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。
また、上記有機基としては、上記下記置換基の例として挙げたものも含まれる。
本明細書中、特に断りのない限り、「置換基」は、置換可能な基を意味する。当該「置換基」の例は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、芳香族スルホニルオキシ基、ヘテロ環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基、アミノ基、脂肪族アミノ基、芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、芳香族オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、芳香族スルフィニル基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、脂肪族オキシアミノ基、芳香族オキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ジ脂肪族オキシホスフィニル基、又は、ジ芳香族オキシホスフィニル基を包含する。
上記脂肪族基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族基としては、総炭素原子数１～８、好ましくは１～４のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、シクロヘキシル基、カルバモイルメチル基等が挙げられる。
上記芳香族基は、例えば、ニトロ基、ハロゲン原子、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族基としては、炭素数６～１２、好ましくは総炭素原子数６～１０のアリール基、例えば、フェニル基、４－ニトロフェニル基、４－アセチルアミノフェニル基、４－メタンスルホニルフェニル基等が挙げられる。
上記ヘテロ環基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記ヘテロ環基としては、総炭素原子数２～１２、好ましくは２～１０の５～６員へテロ環、例えば２－テトラヒドロフリル基、２－ピリミジル基等が挙げられる。
上記アシル基は、脂肪族カルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシル基としては、総炭素原子数２～８、好ましくは２～４のアシル基、例えばアセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、３－ピリジンカルボニル基等が挙げられる。
上記アシルアミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよく、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数２～１２、好ましくは２～８のアシルアミノ基、総炭素原子数２～８のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
上記脂肪族オキシカルボニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシカルボニル基としては、総炭素原子数２～８、好ましくは２～４のアルコキシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、（ｔ）－ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
上記カルバモイル基は、脂肪族基、芳香族基、へテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイル基としては、無置換のカルバモイル基、総炭素数２～９のアルキルカルバモイル基、好ましくは無置換のカルバモイル基、総炭素原子数２～５のアルキルカルバモイル基、例えばＮ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基等が挙げられる。
上記脂肪族スルホニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族スルホニル基としては、総炭素原子数１～６、好ましくは総炭素原子数１～４のアルキルスルホニル基、例えばメタンスルホニル等が挙げられる。
上記芳香族スルホニル基は、ヒドロキシ基、脂肪族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族スルホニル基としては、総炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、例えばベンゼンスルホニル等が挙げられる。
上記アミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。
上記アシルアミノ基は、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数２～１２、好ましくは総炭素原子数２～８のアシルアミノ基、より好ましくは総炭素原子数２～８のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
上記脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基は、例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、２－ピリジンスルホンアミド基等であってもよい。
上記スルファモイル基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記スルファモイル基としては、スルファモイル基、総炭素原子数１～９のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数２～１０のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数７～１３のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２～１２のヘテロ環スルファモイル基、より好ましくはスルファモイル基、総炭素原子数１～７のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数３～６のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数６～１１のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２～１０のヘテロ環スルファモイル基、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、４－ピリジンスルファモイル基等が挙げられる。
上記脂肪族オキシ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、メトキシ基、エトキシ基、ｉ－プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシ基としては、総炭素原子数１～８、好ましくは１～６のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｉ－プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等が挙げられる。
上記芳香族アミノ基、へテロ環アミノ基は、脂肪族基、脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、カルバモイル基、該アリール基と縮環したヘテロ環基、脂肪族オキシカルボニル基、好ましくは総炭素原子数１～４の脂肪族基、総炭素原子数１～４の脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、総炭素原子数１～４のカルバモイル基、ニトロ基、総炭素原子数２～４の脂肪族オキシカルボニル基を有していてもよい。
上記脂肪族チオ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、総炭素原子数１～８、より好ましくは総炭素原子数１～６のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、カルバモイルメチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基等が挙げられる。
上記カルバモイルアミノ基は、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイルアミノ基としては、カルバモイルアミノ基、総炭素原子数２～９のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～１０のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７～１３のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～１２のヘテロ環カルバモイルアミノ基、好ましくはカルバモイルアミノ基、総炭素原子数２～７のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～６のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７～１１のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～１０のヘテロ環カルバモイルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、メチルカルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ、４－ピリジンカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
上記ＰＴＦＥとしては、ホモＰＴＦＥであっても、変性ＰＴＦＥであってもよい。変性ＰＴＦＥは、ＴＦＥ単位とＴＦＥと共重合可能な変性モノマーに基づく変性モノマー単位とを含む。
また、上記ＰＴＦＥは、非溶融加工性及びフィブリル化性を有する高分子量ＰＴＦＥであってもよいし、溶融加工性を有し、フィブリル化性を有しない低分子量ＰＴＦＥであってもよい。
ＰＴＦＥの分子量の指標として用いられる標準比重（ＳＳＧ）及び溶融粘度（ＭＶ）は特に限定されない。
上記変性モノマーとしては、ＴＦＥとの共重合が可能なものであれば特に限定されず、例えば、ヘキサフルオロプロピレン〔ＨＦＰ〕等のパーフルオロオレフィン；クロロトリフルオロエチレン〔ＣＴＦＥ〕等のクロロフルオロオレフィン；トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン〔ＶＤＦ〕等の水素含有フルオロオレフィン；パーフルオロビニルエーテル；パーフルオロアルキルエチレン；エチレン；ニトリル基を有するフッ素含有ビニルエーテル等が挙げられる。また、用いる変性モノマーは１種であってもよいし、複数種であってもよい。
上記パーフルオロビニルエーテルとしては特に限定されず、例えば、下記一般式（Ｘ）　
ＣＦ２＝ＣＦ－ＯＲｆ　　　　　　（Ｘ）　
（式中、Ｒｆは、パーフルオロ有機基を表す。）で表されるパーフルオロ不飽和化合物等が挙げられる。本明細書において、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基は、エーテル酸素を有していてもよい。
上記パーフルオロビニルエーテルとしては、例えば、上記一般式（Ｘ）において、Ｒｆが炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基を表すものであるパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）〔ＰＡＶＥ〕が挙げられる。上記パーフルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは１～５である。
上記ＰＡＶＥにおけるパーフルオロアルキル基としては、例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等が挙げられるが、パーフルオロアルキル基がパーフルオロメチル基であるパープルオロメチルビニルエーテル〔ＰＭＶＥ〕、パーフルオロアルキル基がパーフルオロプロピル基であるパープルオロプロピルビニルエーテル〔ＰＰＶＥ〕が好ましい。
パーフルオロアルキルエチレンとしては特に限定されず、例えば、パーフルオロブチルエチレン（ＰＦＢＥ）、パーフルオロヘキシルエチレン（ＰＦＨＥ）、パーフルオロオクチルエチレン（ＰＦＯＥ）等が挙げられる。　
上記変性ＰＴＦＥにおける変性モノマーとしては、ＨＦＰ、ＣＴＦＥ、ＶＤＦ、ＰＭＶＥ、ＰＰＶＥ、ＰＦＢＥ、ＰＦＨＥ、ＣＮＶＥ及びエチレンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記変性ＰＴＦＥは、変性モノマー単位が０．０００１～２モル％の範囲であることが好ましく、０．０００１～１モル％未満の範囲であることがより好ましく、０．０００１～０．５モル％の範囲であることが更に好ましく、０．００１～０．２モル％の範囲であることが特に好ましい。
上記ＰＴＦＥの平均一次粒子径が１５０ｎｍ以上であることが好ましく、１８０ｎｍ以上であることがより好ましい。ＰＴＦＥ組成物の平均一次粒子径が大きいほど、その粉末を用いてペースト押出成形をする際に、ペースト押出圧力の上昇を抑えられ、造膜性にも優れる。上限は特に限定されないが５００ｎｍであってよい。重合工程における生産性の観点からは、３５０ｎｍであることが好ましい。上記平均一次粒子径は、ＰＴＦＥ水性分散液を水で固形分含有量が０．１５質量％になるまで希釈し、得られた希釈ラテックスの単位長さに対する５５０ｎｍの投射光の透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して決定した数基準長さ平均粒子径とを測定して、検量線を作成し、この検量線を用いて、各試料の５５０ｎｍの投射光の実測透過率から決定する。
上記ＰＴＦＥは、コアシェル構造を有していてもよい。コアシェル構造を有するＰＴＦＥとしては、例えば、粒子中に高分子量のＰＴＦＥのコアと、より低分子量のＰＴＦＥ又は変性ＰＴＦＥのシェルとを含む変性ＰＴＦＥが挙げられる。
このような変性ＰＴＦＥとしては、例えば、特表２００５－５２７６５２号公報に記載されるＰＴＦＥが挙げられる。
本明細書において、ＰＴＦＥを構成する各単量体の含有量は、ＮＭＲ、ＦＴ－ＩＲ、元素分析、蛍光Ｘ線分析を単量体の種類によって適宜組み合わせることで算出できる。
炭化水素系界面活性剤を用いてＰＴＦＥ水性分散液を得る方法については後述する。炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥ水性分散液は、上記一般式（１）又は（２）で示される化合物を含む。
上記ＰＴＦＥ水性分散液から一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する方法としては、吸着処理、濃縮処理等が挙げられる。
また、ＰＴＦＥ水性分散液を乾燥し、気化させることで、一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する方法も採用し得る。乾燥温度としては、例えば、後述の熱処理の温度を採用できる。
更に、ＰＴＦＥ水性分散液をガス化して、ガス中の一般式（１）又は（２）で示される化合物を、液滴式吸収装置及び／又は液膜式吸収装置を用いて水性液中に吸収させる方法も挙げられる。水性液の温度としては、例えば１０～６０℃が好ましい。
上記吸着処理としては、イオン交換樹脂（ＩＥＲ）、活性炭、ゼオライト等の吸着剤を用いる方法が挙げられる。具体的には、ＰＴＦＥ水性分散液に含まれる上記一般式（１）又は（２）で示される化合物を吸着剤と接触させることによって、上記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減することができる。上記吸着処理は、ＰＴＦＥ水性分散液にイオン交換樹脂を添加し、必要に応じて攪拌して実施することができる。イオン交換処理は、ＰＴＦＥ１００ｇに対して１ｇ以上のイオン交換樹脂を添加するものであることが好ましい。イオン交換樹脂の添加量は、１０ｇ以上がより好ましく、また、２００ｇ以下が好ましく、１００ｇ以下がより好ましい。
上記濃縮処理としては、相分離濃縮、電気濃縮、限外濾過膜を用いた濾過処理、逆浸透膜（ＲＯ膜）を用いた濾過処理、ナノ濾過処理等が挙げられる。上記濃縮処理としては、例えば、ＰＴＦＥ水性分散液に対して非イオン性界面活性剤を１％／ＰＴＦＥ以上となるように添加し、放置する方法が挙げられる。
非イオン性界面活性剤の添加量は、４０％／ＰＴＦＥ以下が好ましく、３０％／ＰＴＦＥ以下がより好ましく、２０％／ＰＴＦＥ以下が更に好ましい。
上記放置する温度は限定されないが、例えば２０℃以上であってよく、８０℃以下であってよい。放置時間は限定されないが、例えば１分以上であってよく、また、２４時間以下であってよい。
上記除去工程は、上記ＰＴＦＥ水性分散液を吸着処理及び／又は濃縮処理する工程を含むことが好ましく、上記ＰＴＦＥ水性分散液をイオン交換処理及び／又は濃縮処理する工程を含むことがより好ましい。
イオン交換処理及び／又は濃縮処理する工程は、イオン交換処理する工程であってもよいし、濃縮処理する工程であってもよいし、イオン交換処理及び濃縮処理する工程であってもよく、各処理を複数回行ってもよい。イオン交換処理及び濃縮処理を行う場合は、イオン交換処理と濃縮処理の順番は順不同でよく、交互に行ってもよい。
イオン交換処理及び／又は濃縮処理する工程は、イオン交換処理及び濃縮処理する工程が特に好ましい。上記イオン交換処理及び／又は濃縮処理する工程は、イオン交換処理したのち、濃縮処理を行うことがより好ましい。
上記吸着処理及び濃縮処理は、各々複数回行ってもよい。例えば、２回、３回、４回、５回、６回、７回、８回、９回又は１０回の吸着処理又は濃縮処理を行ってもよい。また、吸着処理と濃縮処理を組み合わせて行ってもよい。
炭化水素系界面活性剤を用いてＰＴＦＥ水性分散液を得た場合、通常、ＰＴＦＥに対して１～２００ｐｐｍの一般式（１）及び（２）で示される化合物が生成する。
上記除去工程により、ＰＴＦＥ水性分散液中の一般式（１）又は（２）で示される化合物が除去又は低減され、精製されたＰＴＦＥ水性分散液を得ることができる。
上記除去工程は、上記ＰＴＦＥ水性分散液中の一般式（１）及び（２）で示される化合物を８０質量％以上除去するものであることが好ましく、８５質量％以上除去するものであることがより好ましく、９０質量％以上除去するものであることが更に好ましく、９５質量％以上除去するものであることが更により好ましく、９７質量％以上除去するものであることが殊更に好ましく、９８質量％以上除去するものであることが特に好ましく、９９質量％以上除去するものであることが最も好ましい。
上記除去工程は、得られる精製ＰＴＦＥ水性分散液中の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を、ＰＴＦＥに対して５００ｐｐｂ以下にするものであることが好ましく、２００ｐｐｂ以下にするものであることがより好ましい。１００ｐｐｂ以下にすることが更に好ましく、５０ｐｐｂ以下にすることが特に好ましく、２５ｐｐｂ以下にすることが最も好ましい。
上記ＰＴＦＥ水性分散液は、炭化水素系界面活性剤の存在下にテトラフルオロエチレンを水性媒体中で乳化重合する工程を含む製造方法により得ることができる。上記乳化重合は、従来公知の方法で実施することができる。上記水性媒体は、水を含む液体であれば特に限定されず、水に加え、例えば、アルコール、エーテル、ケトン、パラフィンワックス等の有機溶媒を含むものであってもよい。
上記炭化水素系界面活性剤としては、例えば、特表２０１３－５４２３０８号公報、特表２０１３－５４２３０９号公報、特表２０１３－５４２３１０号公報に記載されているもの等を使用することができる。炭化水素系界面活性剤の詳細は後述する。
本発明はまた、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥ粉末から下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去する工程を含むことを特徴とする改質ＰＴＦＥ粉末の製造方法でもある。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）又はアルカリ土類金属（２族）が挙げられ、具体的には、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ等が例示される。
上記Ｒ５としては、４つのＲ５は、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５としては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。
一般式（１）において、ｍは５～１１であってもよい。
一般式（２）において、ｎは６～１２であってもよい。
炭化水素系界面活性剤を用いて得られるＰＴＦＥ粉末は、例えば、上述した炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥ水性分散液を凝析すること等により得ることができる。上記ＰＴＦＥ粉末におけるＰＴＦＥとしては、精製ＰＴＦＥ水性分散液の製造方法において記載したホモＰＴＦＥ、変性ＰＴＦＥ等のＰＴＦＥを使用できる。
上記ＰＴＦＥ粉末から一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する方法としては、熱処理、フッ素化処理、水又は有機溶媒による洗浄等が挙げられる。
上記有機溶媒としては、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ピリジン、ニトリル、含窒素極性有機化合物、ジメチルスルホキシド、アルコール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられる。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられる。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられる。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３―ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記有機溶媒を組み合わせて使用してもよい。
上記熱処理の方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。熱処理の温度は、１５０℃以上であることが好ましい。また、一般式（１）又は（２）で示される化合物の除去又は低減の観点から、熱処理の温度は、１６０℃以上がより好ましい。すなわち、上記除去工程は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥ粉末を１６０℃以上の温度で熱処理する工程を含むことが好ましい。
熱処理の温度は、１７０℃以上がより好ましく、１８０℃以上が更に好ましく、２００℃以上が更により好ましく、２１０℃以上が殊更に好ましく、２２０℃以上が特に好ましく、２３０℃以上が最も好ましい。
また、熱処理の温度は、３１０℃以下が好ましく、３００℃以下がより好ましく、２９０℃以下が更に好ましく、２８０℃以下が更により好ましく、２７０℃以下が殊更に好ましい。上記熱処理は、水分の乾燥を伴うものであってもよい。
すなわち、上記熱処理は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られた重合上がりのＰＴＦＥ分散液を凝析することによって得られた水分を含む湿潤ＰＴＦＥ粉末を乾燥するものであってもよい。乾燥時に一般式（１）又は（２）で示される化合物や、後述する一般式（７）で示される化合物が低減される。
また、乾燥後の水分を含まないＰＴＦＥ粉末を、再度熱処理することが好ましい。具体的には、上記湿潤ＰＴＦＥ粉末を乾燥して水分除去し、その後、連続的にさらに上記温度領域まで温度を上げて、熱処理を行ってもよい。この場合、上記乾燥は、上記した各温度範囲未満で行ってよく、例えば、１５０℃未満で行ってもよい。
本発明の改質ＰＴＦＥ粉末の製造方法は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥ分散液を凝析し、水分を含む湿潤ＰＴＦＥ粉末を得る工程を含んでもよい。
上記フッ素化処理の方法としては従来公知の方法を採用することができる。例えば、上記ＰＴＦＥ粉末をフッ素化処理条件下にてフッ素ラジカルを発生するフッ素ラジカル源にさらす方法が挙げられる。フッ素ラジカル源としてはフッ素ガスの他に、ＣｏＦ３、ＡｇＦ２、ＵＦ６、ＯＦ２、Ｎ２Ｆ２、ＣＦ３ＯＦ、フッ化ハロゲン（例えばＩＦ、ＩＦ３、ＩＦ５、ＩＦ７等のＩＦｎ（ｎは１～７）；ＣｌＦ、ＣｌＦ３、ＢｒＦ３等）、希ガスのフッ化物（ＸｅＦ２、ＸｅＦ４　、ＫｒＦ２　等）、及び、含窒素フッ素化合物（例えばＮＦ３、ＮＦ２等）などが挙げられる。なかでも、取扱い性、価格の点や、高効率で一般式（１）及び（２）で示される化合物を除去できる点、ヨウ素等の新たな不純物を与えにくい点から、フッ素ガスが最も好ましい。
フッ素ラジカル源との反応はきわめて発熱性であるため、フッ素ラジカル源を窒素などの不活性ガスで希釈してもよい。
フッ素ラジカル源／不活性ガス混合物中のフッ素ラジカル源のレベルは１～１００体積％であり得るが、純粋なフッ素を伴う作業は危険性が高いために約５～約２５体積％であることが好ましい。熱誘起変色が激しいフッ素化ポリマー樹脂については、フッ素化ポリマーの過熱、及び、これに付随する火災の危険性を予防するために、フッ素ラジカル源／不活性ガス混合物は十分に希釈してもよい。
上記フッ素化処理の方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。フッ素化処理の温度は、１００℃超が好ましい。フッ素化処理の温度は１１０℃以上がより好ましく、１２０℃以上が更に好ましく、１３０℃以上が更により好ましく、１５０℃以上が殊更に好ましい。また、１７０℃以上が特に好ましく、１８０℃以上が更に好ましく、２００℃以上が更により好ましく、２１０℃以上が殊更に好ましく、２２０℃以上が特に好ましく、２３０℃以上が最も好ましい。また、フッ素化処理の温度は３１０℃以下であることが好ましく、３００℃以下がより好ましく、２９０℃以下が更に好ましく、２８０℃以下が更により好ましく、２７０℃以下が殊更に好ましく、２５０℃以下が特に好ましく、２４０℃以下が最も好ましい。温度が低過ぎると、後述する一般式（７）で示される化合物が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂを超えて残存するおそれがある。温度が高過ぎると、ＰＴＦＥ粉末同士の摩擦により、小さな剪断力でも簡単にフィブリル化して元の粒子構造の状態を失いやすく、ペースト押出性能の低下をもたらすおそれがある。
フッ素化処理の温度は、１１０～２７０℃が好ましく、１２０～２７０℃がより好ましく、１５０～２７０℃が更に好ましく、２００～２７０℃が特に好ましい。
上記フッ素化処理において、フッ素ラジカル源の添加量は、フッ素原子に換算して、原料のＰＴＦＥ１００重量部に対し、０．５重量部以上が好ましい。より好ましくは、０．８重量部以上であり、更に好ましくは１．０重量部以上であり、より好ましくは１．６重量部以上であり、更に好ましくは２．０重量部以上であり、更により好ましくは、２．５重量部以上であり、殊更に好ましくは、３．０重量部以上であり、特に好ましくは５．０重量部以上である。また、フッ素ラジカル源の添加量は、３５．０重量部以下であることが好ましく、２６．０重量部以下であることがより好ましく、２０．０重量部以下であることが更に好ましく、１５．０重量部以下であることが特に好ましい。フッ素ラジカル源の添加量が少な過ぎると、一般式（１）又は（２）で示される化合物の除去又は低減が不十分になるおそれがある。また、同定できない化合物の除去又は低減が不十分になるおそれがある。フッ素ラジカル源の添加量が多過ぎてもフッ素化の効果は向上せず、不経済となるおそれがある。
フッ素化処理の温度と、フッ素ラジカル源の添加量の好適な組合せとしては、熱処理の温度が１００℃超、かつ、フッ素ラジカル源の添加量が、フッ素原子に換算して、原料のＰＴＦＥ１００重量部に対し０．５重量部以上である。
上記組合せとしては、１００℃超かつ１．０重量部以上が好ましく、１００℃超かつ１．６重量部以上がより好ましく、１００℃超かつ２．０重量部以上が更に好ましく、１００℃超かつ２．５重量部以上が更により好ましく、１００℃超かつ３．０重量部以上が殊更に好ましく、１００℃超かつ５．０重量部以上が特に好ましい。
また、１１０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１１０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１１０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１１０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１１０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１１０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１１０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１２０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１２０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１２０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１２０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１２０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１２０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１２０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１３０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１３０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１３０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１３０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１３０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１３０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１３０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１５０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１５０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１５０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１５０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１５０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１５０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１５０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１７０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１７０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１７０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１７０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１７０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１７０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１７０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、１８０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、１８０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、１８０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、１８０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、１８０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、１８０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、１８０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、２００℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、２００℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、２００℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、２００℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、２００℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、２００℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、２００℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、２１０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、２１０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、２１０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、２１０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、２１０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、２１０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、２１０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、２２０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、２２０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、２２０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、２２０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、２２０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、２２０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、２２０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
また、２３０℃以上かつ０．５重量部以上が好ましく、２３０℃以上かつ１．０重量部以上がより好ましく、２３０℃以上かつ１．６重量部以上が更に好ましく、２３０℃以上かつ２．０重量部以上が更により好ましく、２３０℃以上かつ２．５重量部以上が殊更に好ましく、２３０℃以上かつ３．０重量部以上が特に好ましく、２３０℃以上かつ５．０重量部以上が最も好ましい。
上記組合せにおける熱処理温度は、３１０℃以下であることが好ましく、３００℃以下がより好ましく、２９０℃以下が更に好ましく、２８０℃以下が更により好ましく、２７０℃以下が殊更に好ましく、２５０℃以下が特に好ましく、２４０℃以下が最も好ましい。
上記組合せにおけるフッ素ラジカル源の添加量は、フッ素原子に換算して、原料のＰＴＦＥ１００重量部に対し、３５．０重量部以下であることが好ましく、２６．０重量部以下であることがより好ましく、２０．０重量部以下であることが更に好ましく、１５．０重量部以下であることが特に好ましい。
また、熱処理温度とフッ素ラジカル源の上限の組合せとしては、２４０℃以下かつ３５．０重量部以下であることが好ましく、２４０℃以下かつ２６．０重量部以下であることがより好ましく、２４０℃以下かつ２０．０重量部以下であることが更に好ましく、２４０℃以下かつ１５．０重量部以下であることが特に好ましい。
ＰＴＦＥ１００重量部に対するフッ素ラジカル源添加量（重量部）は次式に従い算出した。
Ａ＝（Ｂ／Ｆ）×１００
Ｂ＝Ｃ×Ｄ×Ｅ
Ｃ＝{Ｐ／（ＲＴ×１０００）}×Ｇ×Ｈ
Ａ：ＰＴＦＥ１００重量部に対するフッ素ラジカル源添加量（重量部）
Ｂ：全フッ素ラジカル源添加量（ｇ）
Ｃ：混合ガス中のフッ素ラジカル源濃度（ｇ／ｍＬ）
Ｄ：混合ガス流通速度（ｍＬ／ｍｉｎ）
Ｅ：フッ素化処理時間（ｍｉｎ）
Ｆ：サンプル充填量（ｇ）
Ｇ：フッ素ラジカル源の分子量（ｇ／ｍｏｌ）
Ｈ：混合ガス中のフッ素ラジカル源の比率
上記式中、Ｐ、Ｒ、Ｔは以下を使用する。
　　Ｐ＝圧力（ａｔｍ）
　　Ｒ＝０．０８２（ａｔｍ・Ｌ／Ｋ・ｍｏｌ）
　　Ｔ＝温度（Ｋ）
フッ素化処理に使用する反応装置としては、加熱装置を備え、固―気接触を充分に行なうことができる装置であれば問題なく使用できる。具体的には流動床型、棚段型の固―気接触反応装置があげられる。
改質ＰＴＦＥ粉末の製造方法において、上記除去工程は、複数回行ってもよい。例えば、２回、３回、４回、５回、６回、７回、８回、９回又は１０回の除去工程を行ってもよい。上記熱処理及びフッ素化処理は、組み合わせて実施してよく、同時に行ってもよい。
水又は有機溶媒による洗浄の方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。
炭化水素系界面活性剤を用いてＰＴＦＥ粉末を得た場合、ＰＴＦＥに対して１～２００ｐｐｍの一般式（１）及び（２）で示される化合物が生成する場合がある。
上記除去工程により、ＰＴＦＥ水性分散液中の一般式（１）又は（２）で示される化合物が除去又は低減され、改質ＰＴＦＥ粉末を得ることができる。
上記除去工程は、上記ＰＴＦＥ粉末中の一般式（１）及び（２）で示される化合物を８０質量％以上除去するものであることが好ましく、８５質量％以上除去するものであることがより好ましく、９０質量％以上除去するものであることが更に好ましく、９５質量％以上除去するものであることが更により好ましく、９７質量％以上除去するものであることが殊更に好ましく、９８質量％以上除去するものであることが特に好ましく、９９質量％以上除去するものであることが最も好ましい。
上記除去工程は、得られる改質ＰＴＦＥ粉末中の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を、ＰＴＦＥに対して５００ｐｐｂ以下にするものであることが好ましく、２００ｐｐｂ以下にするものであることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下にすることが更に好ましく、５０ｐｐｂ以下にすることが特に好ましく、２５ｐｐｂ以下にすることが最も好ましい。
本発明は、炭化水素系界面活性剤を用いて製造されたＰＴＦＥを用いて成形体を製造する方法であって、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とするＰＴＦＥ成形体の製造方法である。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）又はアルカリ土類金属（２族）が挙げられ、具体的には、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ等が例示される。
上記Ｒ５としては、４つのＲ５は、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５としては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。
一般式（１）において、ｍは５～１１であってもよい。
一般式（２）において、ｎは６～１２であってもよい。
炭化水素系界面活性剤を用いて製造されたＰＴＦＥとしては、上述した炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥ粉末を使用することができる。
上記ＰＴＦＥとしては、精製ＰＴＦＥ水性分散液の製造方法において記載したホモＰＴＦＥ、変性ＰＴＦＥ等のＰＴＦＥを使用できる。
本発明の成形体の製造方法において、一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する方法としては、熱処理、フッ素化処理等が挙げられる。
上記熱処理の方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。熱処理の温度は、１５０℃以上であることが好ましい。熱処理の温度は、１６０℃以上がより好ましい。すなわち、上記除去工程は、１６０℃以上の温度で熱処理する工程を含むことが好ましい。
熱処理の温度は、１７０℃以上がより好ましく、１８０℃以上が更に好ましく、２００℃以上が更により好ましく、２１０℃以上が殊更に好ましく、２２０℃以上が特に好ましく、２３０℃以上が最も好ましい。
また、熱処理の温度は、３１０℃以下が好ましく、３００℃以下がより好ましく、２９０℃以下が更に好ましく、２８０℃以下が更により好ましく、２７０℃以下が殊更に好ましい。
上記熱処理の時間は特に限定されるものではないが、例えば、１分以上であり、また、２４時間以下である。
上記熱処理は、乾燥を伴うものであってもよい。乾燥時に一般式（１）又は（２）で示される化合物や、後述する一般式（７）で示される化合物が低減される。
上記フッ素化処理の方法としては従来公知の方法を採用することができる。例えば、上記ＰＴＦＥ粉末をフッ素化処理条件下にてフッ素ラジカルを発生するフッ素ラジカル源にさらす方法が挙げられる。フッ素ラジカル源としてはフッ素ガスの他に、ＣｏＦ３、ＡｇＦ２、ＵＦ６、ＯＦ２、Ｎ２Ｆ２、ＣＦ３ＯＦ、及び、フッ化ハロゲン、例えばＩＦ５、ＣｌＦ３、ＢｒＦ３などが挙げられる。
フッ素ラジカル源との反応はきわめて発熱性であるため、フッ素ラジカル源を窒素などの不活性ガスで希釈してもよい。
フッ素ラジカル源／不活性ガス混合物中のフッ素ラジカル源のレベルは１～１００体積％であり得るが、純粋なフッ素を伴う作業は危険性が高いために約５～約２５体積％であることが好ましい。熱誘起変色が激しいフッ素化ポリマー樹脂については、フッ素化ポリマーの過熱、及び、これに付随する火災の危険性を予防するために、フッ素ラジカル源／不活性ガス混合物は十分に希釈してもよい。
上記熱処理及びフッ素化処理は、組み合わせて実施してよく、同時に行ってもよい。
上記フッ素化処理により、一般式（１）又は（２）で示される化合物や、後述する一般式（７）で示される化合物が低減される。
上記フッ素化処理の方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。フッ素化処理の温度は、１００℃超が好ましい。フッ素化処理の温度は１１０℃以上がより好ましく、１２０℃以上が更に好ましく、１３０℃以上が更により好ましく、１５０℃以上が殊更に好ましい。また、１７０℃以上が特に好ましく、１８０℃以上が更に好ましく、２００℃以上が更により好ましく、２１０℃以上が殊更に好ましく、２２０℃以上が特に好ましく、２３０℃以上が最も好ましい。また、フッ素化処理の温度は３１０℃以下であることが好ましく、３００℃以下がより好ましく、２９０℃以下が更に好ましく、２８０℃以下が更により好ましく、２７０℃以下が殊更に好ましく、２５０℃以下が特に好ましく、２４０℃以下が最も好ましい。
上記フッ素化処理の時間は特に限定されるものではないが、例えば、１分以上であり、また、２４時間以下である。
上記フッ素化処理において、フッ素ラジカル源の添加量は、フッ素原子に換算して、原料のＰＴＦＥ１００重量部に対し、０．５重量部以上が好ましく、０．８重量部以上がより好ましく、１．０重量部以上が更に好ましい。また、より好ましくは、１．６重量部以上であり、更に好ましくは２．０重量部以上であり、更により好ましくは、２．５重量部以上であり、殊更に好ましくは、３．０重量部以上であり、特に好ましくは５．０重量部以上である。また、フッ素ラジカル源の添加量は、３５．０重量部以下であることが好ましく、２６．０重量部以下であることがより好ましく、２０．０重量部以下であることが更に好ましく、１５．０重量部以下であることが特に好ましい。フッ素ラジカル源の添加量が少な過ぎると、一般式（１）又は（２）で示される化合物の除去又は低減が不十分になるおそれがある。また、同定できない化合物の除去又は低減が不十分になるおそれがある。フッ素ラジカル源の添加量が多過ぎてもフッ素化の効果は向上せず、不経済となるおそれがある。
成形体の製造方法におけるフッ素化処理においても、上述したＰＴＦＥ粉末の製造方法におけるフッ素化処理の温度とフッ素ラジカル源の含有量との組合せを全て採用できる。
フッ素化処理に使用する反応装置としては、加熱装置を備え、固―気接触を充分に行なうことができる装置であれば問題なく使用できる。具体的には流動床型、棚段型の固―気接触反応装置があげられる。
本発明の成形体の製造方法は、上記除去工程を含むものであればよい。
本発明の成形体の製造方法は、上記除去工程に加えて、更に、炭化水素系界面活性剤を使用して得られたＰＴＦＥ粉末と押出助剤とを混合する工程（１ａ）、得られた混合物をペースト押出成形する工程（１ｂ）、押出成形で得られた押出物を乾燥する工程（１ｃ）、乾燥後の押出物を焼成して成形体を得る工程（１ｄ）を含むものであってよい。上記除去工程は、工程（１ａ）後工程（１ｂ）前に行ってもよいし、工程（１ｂ）後工程（１ｃ）前に行ってもよいし、工程（１ｄ）の後に行ってもよい。工程（１ｄ）の後に除去工程として熱処理を実施する場合、熱処理の温度は３１０℃を超える温度で行うこともでき、その場合、５００℃以下で熱処理することが好ましい。
また、上記除去工程は、工程（１ｂ）、工程（１ｃ）又は工程（１ｄ）の際中に行ってもよい。上記除去工程は、複数回行ってもよい。例えば、２回、３回、４回、５回、６回、７回、８回、９回又は１０回の除去工程を行ってもよい。上記熱処理及びフッ素化処理は、組み合わせて実施してよく、同時に行ってもよい。
このように、本発明の成形体の製造方法において、除去工程は、炭化水素系界面活性剤を使用して得られたＰＴＦＥ粉末から一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減するものであってもよいし、炭化水素系界面活性剤を使用して得られたＰＴＦＥ粉末を用いて成形した成形体から一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減するものであってもよい。
上記ペースト押出成形は、従来公知の方法で行うことができ、所望の形状やサイズに応じて成形条件を選択することができる。上記ペースト押出成形は、上記ＰＴＦＥ粉末に顔料や充填剤等の従来公知の添加剤を加えて行うこともできる。
本発明の成形体の製造方法はまた、上記除去工程に加えて、更に、炭化水素系界面活性剤を使用して得られたＰＴＦＥ粉末と押出助剤とを混合する工程（２ａ）、得られた混合物を押出圧延する工程（２ｂ）、押出圧延で得られた押出物を乾燥する工程（２ｃ）、乾燥後の押出物を一軸延伸する工程（２ｄ）、一軸延伸された延伸物を二軸延伸する工程（２ｅ）、二軸延伸後の延伸物を焼成する工程（２ｆ）、焼成物を他材と積層する工程（２ｇ）を含むものであってもよい。この場合、上記除去工程は、工程（２ａ）後工程（２ｂ）前、工程（２ｂ）後工程（２ｃ）前、工程（２ｃ）後工程（２ｄ）前、工程（２ｄ）後工程（２ｅ）前、工程（２ｅ）後工程（２ｆ）前、工程（２ｆ）後工程（２ｇ）前、に行ってもよい。
また、除去工程は、工程（２ａ）、（２ｂ）、（２ｃ）、（２ｄ）、（２ｅ）、（２ｆ）又は（２ｇ）の際中に行ってもよい。上記除去工程は、複数回行ってもよい。熱処理及びフッ素化処理を組み合わせて実施してもよく、同時に行ってもよい。
上記押出助剤としては特に限定されず、一般に公知のものを使用できる。例えば、炭化水素油等が挙げられる。
本発明の成形体の製造方法は、上記除去工程に加えて、炭化水素系界面活性剤を使用して得られたＰＴＦＥ粉末を圧縮成形する工程を含むものであってよい。その場合、上記除去工程は、圧縮成形する工程の際中、又は、圧縮成形後に行ってよい。上記除去工程は、複数回行ってもよい。熱処理、フッ素化処理を組み合わせて実施してもよい。
本発明の成形体の製造方法において、上記除去工程は、除去工程の前後で一般式（１）及び（２）で示される化合物を８０質量％以上除去するものであることが好ましく、８５質量％以上除去するものであることがより好ましく、９０質量％以上除去するものであることが更に好ましく、９５質量％以上除去するものであることが更により好ましく、９７質量％以上除去するものであることが殊更に好ましく、９８質量％以上除去するものであることが特に好ましく、９９質量％以上除去するものであることが最も好ましい。
上記除去工程は、得られるＰＴＦＥ成形体中の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を、ＰＴＦＥに対して５００ｐｐｂ以下にするものであることが好ましく、２００ｐｐｂ以下にするものであることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下にすることが更に好ましく、５０ｐｐｂ以下にすることが特に好ましく、２５ｐｐｂ以下にすることが最も好ましい。
上述したように、一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する方法としては、特定の温度で行うフッ素化処理が好ましい形態の一つである。
すなわち、本発明は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥに、１００℃超の温度でフッ素ラジカル源を接触させて、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とする改質ＰＴＦＥの製造方法でもある。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記特定の温度でフッ素ラジカル源を接触させること（フッ素化処理）によって、一般式（１）又は（２）で示される化合物を効率よく除去することができる。
また、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥは、一般式（１）又は（２）で示される化合物以外にも、ＰＴＦＥの重合で使用した物質の分解物等の不純物を含む場合があるが、上記特定の温度でフッ素ラジカル源を接触させることによってそのような不純物も除去することができる。
上記フッ素ラジカル源を接触させる際の温度は１００℃超である。フッ素ラジカル源を接触させる際の温度は、従来公知の方法で調整することができ、１１０℃以上が好ましく、１２０℃以上がより好ましく、１３０℃以上が更に好ましく、１５０℃以上が更により好ましく、１７０℃以上が殊更により好ましく、１８０℃以上がより好ましく、２００℃以上が特に好ましい。また、２１０℃以上が更に好ましく、２２０℃以上が特に好ましく、２３０℃以上が最も好ましい。また、３１０℃以下であることが好ましく、３００℃以下がより好ましく、２９０℃以下が更に好ましく、２８０℃以下が更により好ましく、２７０℃以下が殊更に好ましく、２５０℃以下が特に好ましく、２４０℃以下が最も好ましい。
この製造方法において、フッ素ラジカル源の添加量、及び、温度と添加量の組合せとしては上述したものを全て採用できる。
上記改質ＰＴＦＥの製造方法においてフッ素ラジカル源を接触させる場合、上述した改質ＰＴＦＥ粉末の製造方法、成形体の製造方法で説明したフッ素化処理の種々の条件（例えば、フッ素ラジカル源の種類、フッ素ラジカル源の添加量、フッ素化処理を行うタイミングや回数等）を適宜採用することができる。また、フッ素ラジカル源を接触させる方法に加えて、熱処理、水又は有機溶媒による洗浄等の除去工程で説明した除去方法を組み合わせてもよい。特に、フッ素ラジカル源を接触させて、一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程の後に、熱処理工程を行ってもよい。熱処理工程を行うことで、一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量をより低減することができる。また、一般式（７）で示される化合物の含有量もより低減することができる。熱処理工程における、熱処理の温度、時間は上述した範囲を採用できる。
上記改質ＰＴＦＥの製造方法において、上記炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥは、粉末であってもよいし、成形体であってもよい。
また、上述したように、一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する方法としては、特定量のフッ素ラジカル源を用いたフッ素化処理も好ましい形態の一つである。
すなわち、本発明は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥをフッ素ラジカル源と接触させて、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含み、前記フッ素ラジカル源の添加量は、フッ素原子に換算して、ＰＴＦＥ１００重量部に対して０．５重量部以上であることを特徴とするＰＴＦＥの製造方法でもある。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記特定の添加量でフッ素ラジカル源を接触させること（フッ素化処理）によって、一般式（１）又は（２）で示される化合物を効率よく除去することができる。
また、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥは、一般式（１）又は（２）で示される化合物以外にも、ＰＴＦＥの重合で使用した物質の分解物等の不純物を含む場合があるが、上記特定の添加量でフッ素ラジカル源と接触させることによってそのような不純物も除去することができる。
上記フッ素ラジカル源の添加量は、フッ素原子に換算して、原料ＰＴＦＥ１００重量部に対し、０．５重量部以上である。好ましくは、０．８重量部以上であり、より好ましくは１．０重量部以上であり、更に好ましくは１．６重量部以上であり、より好ましくは２．０重量部以上であり、更に好ましくは、２．５重量部以上であり、更により好ましくは、３．０重量部以上であり、特に好ましくは５．０重量部以上である。また、フッ素ラジカル源の添加量は、３５．０重量部以下であることが好ましく、２６．０重量部以下であることがより好ましく、２０．０重量部以下であることが更に好ましく、１５．０重量部以下であることが特に好ましい。フッ素ラジカル源の添加量が少な過ぎると、一般式（１）又は（２）で示される化合物の除去又は低減が不十分になるおそれがある。また、同定できない化合物の除去又は低減が不十分になるおそれがある。フッ素ラジカル源の添加量が多過ぎると、フッ素化の効果は向上せず、不経済となる傾向にある。
この製造方法において、フッ素化処理の温度、及び、温度と添加量の組合せとしては、上述したものを全て採用できる。
上記改質ＰＴＦＥの製造方法においてフッ素ラジカル源を接触させる場合、上述した改質ＰＴＦＥ粉末の製造方法、成形体の製造方法で説明した種々の条件（例えば、フッ素ラジカル源の種類、フッ素化処理の温度、フッ素化処理を行うタイミングや回数等）を適宜採用することができる。
また、フッ素ラジカル源を接触させる方法に加えて、熱処理、水又は有機溶媒による洗浄等の除去工程で説明した除去方法を組み合わせてもよい。特に、フッ素ラジカル源を接触させて、一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程の後に、熱処理工程を行ってもよい。熱処理工程を行うことで、一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量をより低減することができる。また、一般式（７）で示される化合物の含有量もより低減することができる。熱処理工程における、熱処理の温度、時間は上述した範囲を採用できる。
上記改質ＰＴＦＥの製造方法において、上記炭化水素系界面活性剤を用いて得られたＰＴＦＥは、粉末であってもよいし、成形体であってもよい。
以下に、具体的な炭化水素系界面活性剤について記載する。
炭化水素系界面活性剤は、同じ分子上に親水性部分及び疎水性部分を有する。これらは、カチオン性、非イオン性又はアニオン性であってよい。
カチオン性界面活性剤は、通常、アルキル化臭化アンモニウムなどのアルキル化ハロゲン化アンモニウムなどの正に帯電した親水性部分と、長鎖脂肪酸などの疎水性部分を有する。
アニオン性界面活性剤は、通常、カルボン酸塩、スルホン酸塩又は硫酸塩などの親水性部分と、アルキルなどの長鎖炭化水素部分である疎水性部分とを有する。
非イオン性界面活性剤は、通常、帯電した基を含まず、長鎖炭化水素である疎水性部分を有する。非イオン性界面活性剤の親水性部分は、エチレンオキシドとの重合から誘導されるエチレンエーテルの鎖などの水溶性官能基を含む。
非イオン性炭化水素系界面活性剤の例
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ソルビタンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル、グリセロールエステル、それらの誘導体。
ポリオキシエチレンアルキルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル等。
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等。
ポリオキシエチレンアルキルエステルの具体例：ポリエチレングリコールモノラウリレート、ポリエチレングリコールモノオレエート、ポリエチレングリコールモノステアレート等。
ソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート等。
ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート等。
グリセロールエステルの具体例：モノミリスチン酸グリセロール、モノステアリン酸グリセロール、モノオレイン酸グリセロール等。
上記誘導体の具体例：ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニル－ホルムアルデヒド凝縮物、ポリオキシエチレンアルキルエーテルホスフェート等。
上記エーテル及びエステルは、１０～１８のＨＬＢ値を有してよい。
非イオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ｄｏｗ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｍｐａｎｙ製のＴｒｉｔｏｎ（登録商標）Ｔｒｉｔｏｎ（登録商標）Ｘシリーズ（Ｘ１５、Ｘ４５、Ｘ１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）１５－Ｓシリーズ、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）ＴＭＮシリーズ（ＴＭＮ－６、ＴＭＮ－１０、ＴＭＮ－１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）Ｌシリーズ、ＢＡＳＦ製のＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｒシリーズ（３１Ｒ１、１７Ｒ２、１０Ｒ５、２５Ｒ４（ｍ～２２、ｎ～２３）、Ｔ－Ｄｅｔシリーズ（Ａ１３８）、Ｉｃｏｎｏｌ（登録商標）ＴＤＡシリーズ（ＴＤＡ－６、ＴＤＡ－９、ＴＤＡ－１０）等が挙げられる。
アニオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ　Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ　ＰｒｏｄｕｃｔｓのＶｅｒｓａｔｉｃ（登録商標）１０、ＢＡＳＦ製のＡｖａｎｅｌ　Ｓシリーズ（Ｓ－７０、Ｓ－７４等）等が挙げられる。
炭化水素系界面活性剤としては、Ｒ－Ｌ－Ｍ１（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を巻いていてもよい。Ｌが、－ＡｒＳＯ３ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－であり、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
具体的には、ＣＨ３－（ＣＨ２）ｎ－Ｌ－Ｍ１（式中、ｎが、６～１７の整数である。Ｌ及びＭが、上記と同じ）によって表されるものが挙げられる。
Ｒが、１２～１６個の炭素原子を有するアルキル基であり、Ｌが、硫酸塩又はドデシル硫酸ナトリウム（ＳＤＳ）であるものの混合物も使用できる。
炭化水素系界面活性剤としては、Ｒ６（－Ｌ－Ｍ１）２（式中、Ｒ６が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキレン基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を巻いていてもよい。Ｌが、－ＡｒＳＯ３ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－であり、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
炭化水素系界面活性剤としては、Ｒ７（－Ｌ－Ｍ１）３（式中、Ｒ７が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキリジン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキリジン基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を巻いていてもよい。Ｌが、－ＡｒＳＯ３ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－であり、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
シロキサン炭化水素系界面活性剤としては、Ｓｉｌｉｃｏｎｅ　Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｒ．Ｍ．Ｈｉｌｌ，Ｍａｒｃｅｌ　Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎｃ．，ＩＳＢＮ：０－８２４７－００１０４に記載されているものが挙げられる。シロキサン界面活性剤の構造は、明確な疎水性部分及び親水性部分を含む。疎水性部分は、１つ以上のジヒドロカルビルシロキサン単位を含み、ここで、シリコーン原子上の置換基が、完全に炭化水素である。
ヒドロカルビル基の炭素原子が、フッ素などのハロゲンによって置換され得る場合に、水素原子によって完全に置換されるという意味では、これらのシロキサン界面活性剤は、炭化水素界面活性剤とみなすこともでき、すなわち、ヒドロカルビル基の炭素原子上の一価置換基は水素である。
シロキサン界面活性剤の親水性部分は、スルフェート、スルホネート、ホスホネート、リン酸エステル、カルボキシレート、カーボネート、スルホサクシネート、タウレート（遊離酸、塩又はエステルとしての）、ホスフィンオキシド、ベタイン、ベタインコポリオール、第４級アンモニウム塩などのイオン性基を含む１つ以上の極性部分を含んでもよい。イオン性疎水性部分は、イオン的に官能化されたシロキサングラフトも含み得る。
このようなシロキサン界面活性剤としては、例えば、ポリジメチルシロキサン－グラフト－（メタ）アクリル酸塩、ポリジメチルシロキサン－グラフト－ポリアクリレート塩及びポリジメチルシロキサングラフト化第４級アミンが挙げられる。
シロキサン界面活性剤の親水性部分の極性部分は、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、及び混合されたポリエチレンオキシド／プロピレンオキシドポリエーテル（ＰＥＯ／ＰＰＯ）などのポリエーテル；単糖類及び二糖類；及びピロリジノンなどの水溶性複素環によって形成される非イオン性基を含み得る。エチレンオキシド対プロピレンオキシド（ＥＯ／ＰＯ）の比率は、混合されたポリエチレンオキシド／プロピレンオキシドポリエーテルにおいて変化され得る。
シロキサン界面活性剤の親水性部分は、イオン性部分と非イオン性部分との組合せも含み得る。このような部分としては、例えば、イオン的に末端官能化された又はランダムに官能化されたポリエーテル又はポリオールが挙げられる。本発明の実施に好ましいのは、非イオン性部分を有するシロキサン、すなわち、非イオン性シロキサン界面活性剤である。
シロキサン界面活性剤の構造の疎水性及び親水性部分の配置は、ジブロックポリマー（ＡＢ）、トリブロックポリマー（ＡＢＡ）（ここで、「Ｂ」は、分子のシロキサン部分を表す）、又はマルチブロックポリマーの形態をとってもよい。あるいは、シロキサン界面活性剤は、グラフトポリマーを含んでいてもよい。
シロキサン界面活性剤については、米国特許第６，８４１，６１６号明細書にも開示されている。
シロキサンベースのアニオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ　Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．のＮｏｖｅｏｎ（登録商標）Ｃｏｎｓｕｍｅｒ　Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓから入手可能なＳｉｌＳｅｎｓｅＴＭＰＥ－１００シリコーン、ＳｉｌＳｅｎｓｅＴＭＣＡ－１シリコーン等が挙げられる。
アニオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ａｋｚｏ　Ｎｏｂｅｌ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ＬＬＣのスルホサクシネート界面活性剤Ｌａｎｋｒｏｐｏｌ（登録商標）Ｋ８３００等も挙げられる。
スルホサクシネート炭化水素系界面活性剤としては、スルホコハク酸ジイソデシルＮａ塩、（ＣｌａｒｉａｎｔのＥｍｕｌｓｏｇｅｎ（登録商標）ＳＢ１０）、スルホコハク酸ジイソトリデシルＮａ塩（Ｃｅｓａｐｉｎｉａ　ＣｈｅｍｉｃａｌｓのＰｏｌｉｒｏｌ（登録商標）ＴＲ／ＬＮＡ）等が挙げられる。
炭化水素系界面活性剤としては、Ｏｍｎｏｖａ　Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ，Ｉｎｃ．のＰｏｌｙＦｏｘ（登録商標）界面活性剤（ＰｏｌｙＦｏｘＴＭＰＦ－１５６Ａ、ＰｏｌｙＦｏｘＴＭＰＦ－１３６Ａ等）も挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、下記一般式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 （式中、Ｒ１～Ｒ５はＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ１及びＲ３のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｘ－Ａで示される基、又は、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基を表す。
また、Ｘは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手；
Ａは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯＭ、－ＳＯ３Ｍ又は－ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基）；
Ｙは、各出現において同一又は異なって、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ８はＨ又は有機基；
Ｒ６は、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素－炭素原子間に含んでもよい炭素数２以上のアルキル基；
を表す。
Ｒ１～Ｒ５のうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（以下、界面活性剤（１）ともいう）も挙げられる。
界面活性剤（１）について説明する。
式中、Ｒ１～Ｒ５はＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ１及びＲ３のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｘ－Ａで示される基、又は、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基を表す。Ｒ１～Ｒ５のうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
Ｒ１としての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ１としての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
一価の置換基としては、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基、一般式：－Ｘ－Ａで示される基、－Ｈ、置換基を有していてもよいＣ１－２０のアルキル基、－ＮＨ２、－ＮＨＲ９（Ｒ９は有機基）、－ＯＨ、－ＣＯＯＲ９（Ｒ９は有機基）又は－ＯＲ９（Ｒ９は有機基）が好ましい。上記アルキル基の炭素数は１～１０が好ましい。
Ｒ９としては、Ｃ１－１０のアルキル基又はＣ１－１０のアルキルカルボニル基が好ましく、Ｃ１－４のアルキル基又はＣ１－４のアルキルカルボニル基がより好ましい。
式中、Ｘは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手を表す。
Ｒ６がカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基のいずれをも含まない場合は、Ｘはカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を含む２価の連結基であることが好ましい。
Ｘとしては、－ＣＯ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－、－Ｏ－Ｓ（＝Ｏ）２－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む２価の連結基、Ｃ１－１０のアルキレン基、又は、結合手が好ましい。Ｒ８はＨ又は有機基を表す。
Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈが更に好ましい。
式中、Ａは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯＭ、－ＳＯ３Ｍ又は－ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７はＨ又は有機基である。４つのＲ７は、同一でも異なっていてもよい。）を表す。
Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましい。
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｍとしては、Ｈ、金属原子又はＮＲ７ ４が好ましく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ７ ４がより好ましく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更により好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、ＮＨ４が最も好ましい。
式中、Ｙは、各出現において同一又は異なって、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ８はＨ又は有機基を表す。
Ｙとしては、結合手、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基が好ましく、結合手、－ＣＯＯ－及び－ＯＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基がより好ましい。
Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈが更に好ましい。
式中、Ｒ６は、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素－炭素原子間に含んでもよい炭素数２以上のアルキル基を表す。上記Ｒ６の有機基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましい。
Ｒ６のアルキル基は、炭素－炭素原子間にカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を１又は２以上含むことができるが、上記アルキル基の末端にこれらの基を含まない。上記Ｒ６のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
Ｒ６としては、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－Ｒ１１で示される基、
一般式：－Ｒ１０－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１１で示される基、又は、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯＮＲ８－Ｒ１１で示される基、
（式中、Ｒ８はＨ又は有機基を表す。Ｒ１０はアルキレン基、Ｒ１１は置換基を有してもよいｊアルキル基）が好ましい。
Ｒ６としては、一般式：－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基がより好ましい。
Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈが更に好ましい。
Ｒ１０のアルキレン基の炭素数は、１以上が好ましく、３以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましく、８以下が特に好ましい。また、Ｒ１０のアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、３～１０が更に好ましい。
Ｒ１１のアルキル基の炭素数は、１～２０であってよく、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～８が更により好ましく、１～６が殊更好ましく、１～３が尚更に好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。また、上記Ｒ１１のアルキル基は、１級炭素、２級炭素、３級炭素のみで構成されていることが好ましく、１級炭素、２級炭素のみで構成されるのが特に好ましい。すなわち、Ｒ１１としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基が好ましく、特にメチル基が最も好ましい。
界面活性剤（１）としては、一般式（１－１）で示される化合物、一般式（１－２）で示される化合物又は一般式（１－３）で示される化合物が好ましく、一般式（１－１）で示される化合物又は一般式（１－２）で示される化合物がより好ましい。
一般式（１－１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （式中、Ｒ３～Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＹは、上記のとおり。）
一般式（１－２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 （式中、Ｒ４～Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＹは、上記のとおり。）
一般式（１－３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 （式中、Ｒ２、Ｒ４～Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＹは、上記のとおり。）
一般式：－Ｘ－Ａで示される基としては、
－ＣＯＯＭ、
－Ｒ１２ＣＯＯＭ、
－ＳＯ３Ｍ、
－ＯＳＯ３Ｍ、
－Ｒ１２ＳＯ３Ｍ、
－Ｒ１２ＯＳＯ３Ｍ、
－ＯＣＯ－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＯＣＯ－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、
－ＯＣＯ－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ
－ＣＯＯ－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＣＯＯ－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、
－ＣＯＯ－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ、
－ＣＯＮＲ８－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＣＯＮＲ８－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、
－ＣＯＮＲ８－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ、
－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、
－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ、
－ＯＳ（＝Ｏ）２－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＯＳ（＝Ｏ）２－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、又は
－ＯＳ（＝Ｏ）２－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ
（式中、Ｒ８及びＭは、上記のとおり。Ｒ１２はＣ１－１０のアルキレン基。）が好ましい。
上記Ｒ１２のアルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基としては、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－ＯＣＯ－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－ＣＯＯ－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－ＯＣＯ－Ｒ１０－ＣＯＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－ＣＯＯ－Ｒ１１で示される基で示される基、
一般式：－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、又は、
一般式：－ＣＯＮＲ８－Ｒ１０－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１１で示される基
（式中、Ｒ８、Ｒ１０及びＲ１１は上記のとおり。）が好ましい。
式中、Ｒ４及びＲ５としては、独立に、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が好ましい。
上記Ｒ４及びＲ５のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
一般式（１－１）におけるＲ３としては、Ｈ又は置換基を有していてもよいＣ１－２０のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有していないＣ１－２０のアルキル基がより好ましく、Ｈが更に好ましい。
上記Ｒ３のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
一般式（１－３）におけるＲ２としては、Ｈ、ＯＨ又は置換基を有していてもよいＣ１－２０のアルキル基が好ましく、Ｈ、ＯＨ又は置換基を有していないＣ１－２０のアルキル基がより好ましく、Ｈ又はＯＨが更に好ましい。
上記Ｒ２のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
界面活性剤（１）は、式：Ｒ６－ＣＯＯＨ（式中、Ｒ６は上述のとおり。）で示されるカルボン酸と、ハロゲン化剤とを反応させて、式：Ｒ６－ＣＯＺ（式中、Ｒ６は上述のとおり。Ｚはハロゲン原子。）で示されるカルボン酸ハライドを得る工程（１１）、及び、
上記カルボン酸ハライドと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 （式中、Ｒ３～Ｒ５、Ｘ及びＡは、上記のとおり。Ｚ１１は―ＣＨ２Ｏ－、－Ｏ－又は－ＮＨ－。）で示される化合物を反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 （式中、Ｒ３～Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＺ１１は、上記のとおり。）で示される化合物（１２）を得る工程（１２）を含む製造方法により、好適に製造できる。
上記酸化合物の式におけるＲ３としては、一般式：－Ｚ１１Ｈ（式中、Ｚ１１は上記のとおり。）で示される基、又は、－Ｈが好ましい。Ｒ３が一般式：－Ｚ１１Ｈで示される基である場合、工程（１２）において上記基が上記カルボン酸ハライドと反応し、一般式：－Ｚ１１－ＣＯ－Ｒ６（式中、Ｒ６及びＺ１１は上記のとおり。）で示される基が生成する。
工程（１１）で使用するハロゲン化剤としては、塩化オキサリル、塩化チオニル、三フッ化ジエチルアミノ硫黄（ＤＡＳＴ）、Ｄｅｏｘｏ－Ｆｌｕｏｒ（デオキソフルオル）、１，１，２，２－ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏ－Ｎ，Ｎ－ｄｉｍｅｔｈｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ（ＴＦＥＤＭＡ）等が挙げられる。
Ｚとしては、Ｆ又はＣｌが好ましく、Ｃｌがより好ましい。
工程（１１）において、上記カルボン酸と上記ハロゲン化剤との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記カルボン酸１モルに対して、上記ハロゲン化剤が０．６～５．０モルであることが好ましく、０．８～２．０モルであることがより好ましい。また、０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましい。
工程（１１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、エステル、ケトン、芳香族炭化水素、エーテル、含窒素極性有機化合物、ハロゲン化炭化水素、ニトリル、ピリジン、又はこれらの混合物が挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１１）における反応の温度としては、０～１５０℃が好ましく、２０～１００℃がより好ましい。また、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましい。
工程（１１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（１１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（１２）において、上記カルボン酸ハライドと上記酸化合物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記カルボン酸ハライド１モルに対して、上記酸化合物が０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、０．８～２．０モルであることが更に好ましい。
工程（１２）における反応は、酸の存在下に実施することが好ましい。上記酸としては、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等が挙げられ、なかでも、硫酸が好ましい。
工程（１２）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記カルボン酸ハライド１モルに対して、０．００００１～１．０モルが好ましく、０．０００１～１．０モルがより好ましく、０．００００５～０．１モルが更に好ましく、０．００１～０．１モルが特に好ましい。
工程（１２）における反応の温度としては、０～１５０℃が好ましく、２０～１００℃がより好ましい。
工程（１２）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（１２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 （式中、Ｒ１～Ｒ５は上記のとおり。Ｚ１１は－ＣＨ２Ｏ－、－Ｏ－又は－ＮＨ－。）で示される化合物（２０）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 （式中、ｎは１～５の整数。）で示される酸無水物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 （式中、Ｒ１～Ｒ５、Ｚ１１、Ｍ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（２１）を得る工程（２１）を含む製造方法により、好適に製造できる。
化合物（２０）の式におけるＲ２としては、一般式：－Ｚ１１Ｈ（式中、Ｚ１１は上記のとおり。）で示される基、又は、－Ｈが好ましい。Ｒ２が一般式：－Ｚ１１Ｈで示される基である場合、工程（２１）において上記基が上記酸無水物と反応し、一般式：－Ｚ１１－ＣＯ－（ＣＨ２）ｎ－ＣＯＯＭ（式中、Ｚ１１、Ｍ及びｎは上記のとおり。）で示される基が生成する。化合物（２０）は、上記式で示される構造を含むものであれば、塩酸塩、硫酸塩等であってもよい。
工程（２１）において、化合物（２０）と上記酸無水物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２０）１モルに対して、上記酸無水物が０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、１．２～１０モルであることが更に好ましく、１．６～４．０モルであることが特に好ましい。
工程（２１）における反応は、塩基の存在下で実施できる。
上記塩基としては、アミン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられ、ピリジン又はトリエチルアミンが好ましい。
工程（２１）における反応の温度としては、０～１５０℃が好ましく、２０～８０℃がより好ましい。また、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましい。
工程（２１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 （式中、Ｒ４及びＲ５は上記のとおり。）で示される酒石酸エステルと、式：Ｒ６Ｒ８－ＮＨ（式中、Ｒ６及びＲ８は上記のとおり。）で示されるアミンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 （式中、Ｒ４～Ｒ６及びＲ８は上記のとおり。）で示される化合物（３１）を得る工程（３１）、及び、
化合物（３１）と式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 （式中、Ｍは、上記のとおり。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 （式中、Ｒ４～Ｒ６、Ｒ８及びＭは上記のとおり。）で示される化合物（３２）を得る工程（３２）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（３１）において、上記酒石酸エステルと上記アミンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記酒石酸エステル１モルに対して、上記アミンが０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、１．２～５モルであることが更に好ましく、１．６～５．０モルであることが特に好ましい。
工程（３１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、含窒素極性有機化合物又はニトリルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられる。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられる。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられる。
工程（３１）における反応の温度としては、０～１５０℃が好ましく、２０～１００℃がより好ましい。
工程（３１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３２）において、化合物（３１）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３１）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１．０～５０モルであることが好ましく、１．６～２０モルがより好ましい。
工程（３２）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等が挙げられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（３２）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミンが好ましい。
工程（３２）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３１）１モルに対して、０．１～５０モルが好ましく、１．０～２０モルがより好ましい。
工程（３２）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、ニトリル、ハロゲン化炭化水素、ジメチルスルホキシド、スルホラン、含窒素極性有機化合物又はエーテルが更に好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（３２）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、－７８～１００℃がより好ましく、－２０～１００℃が更に好ましく、１０～５０℃が特に好ましい。
工程（３２）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１．０Ｐａがより好ましい。
工程（３２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 （式中、Ｒ１及びＲ３～Ｒ５は上記のとおり。）で示されるアルコールと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 （式中、ｎは１～５の整数。）で示される酸無水物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、Ｒ１、Ｒ３～Ｒ５、Ｍ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（４１）を得る工程（４１）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（４１）において、上記アルコールと上記酸無水物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルコール１モルに対して、上記酸無水物が０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～４．０モルであることがより好ましく、１．２～４．０モルであることが更に好ましく、１．６～４．０モルであることが特に好ましい。
工程（４１）における反応は、塩基の存在下で実施できる。
上記塩基としては、アミン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられ、ピリジン又はトリエチルアミンが好ましい。
工程（４１）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましく、０～１００℃が更に好ましく、２０～８０℃が特に好ましい。
工程（４１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（４１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 （式中、Ｒ４及びＲ５は上記のとおり。）で示される酒石酸エステルと、式：Ｒ６Ｒ８－ＮＨ（式中、Ｒ６及びＲ８は上記のとおり。）で示されるアミンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 （式中、Ｒ４～Ｒ６及びＲ８は上記のとおり。）で示される化合物（３１）を得る工程（３１）、及び、
化合物（３１）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 （式中、ｎは１～５の整数。）で示される酸無水物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、Ｒ４～Ｒ６、Ｒ８、Ｍ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５１）を得る工程（５１）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（５１）において、化合物（３１）と上記酸無水物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３１）１モルに対して、上記酸無水物が０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～４．０モルであることがより好ましく、１．２～４．０モルであることが更に好ましく、１．６～４．０モルであることが特に好ましい。
工程（５１）における反応は、塩基の存在下で実施できる。
上記塩基としては、アミン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられ、ピリジン又はトリエチルアミンが好ましい。
工程（５１）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましく、０～１００℃が更に好ましく、２０～８０℃が特に好ましい。
工程（５１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：Ｒ６－ＯＨ（式中、Ｒ６は上述のとおり。）で示されるアルコールと、フマル酸ハロゲン化物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 （式中、Ｒ６は上述のとおり。）で示される化合物（６１）を得る工程（６１）、及び、
化合物（６１）と、亜硫酸水素ナトリウム等のスルホン酸化剤とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 （式中、Ｒ６及びＸは上述のとおり。）で示される化合物（６２）を得る工程（６２）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（６１）で使用するフマル酸ハロゲン化物としては、フマリルクロリド、フマリルフルオリド、フマリルブロミド等が挙げられる。
工程（６１）において、上記アルコールと上記フマル酸ハロゲン化物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルコール１モルに対して、上記フマル酸ハロゲン化物が０．１～１０モルであることが好ましく、０．１～２．０モルであることがより好ましく、０．１～２．０モルであることが更に好ましく、０．２～０．７モルであることが特に好ましい。
工程（６１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、エステル、ケトン、芳香族炭化水素、エーテル、含窒素極性有機化合物、ハロゲン化炭化水素、ニトリル、ピリジン又はこれらの混合物が挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（６１）における反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（６１）における反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（６１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（６２）では、二重結合を有する化合物（６１）と亜硫酸水素ナトリウム等のスルホン化剤との付加反応によって、化合物（６２）が生成する。
工程（６２）において、化合物（６１）と上記スルホン化剤との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１）１モルに対して、上記スルホン化剤が０．５～２０．０モルであることが好ましく、０．６～１０．０モルであることがより好ましく、０．８～１０．０モルであることが更に好ましく、１．２～１０．０モルであることが特に好ましい。
工程（６２）は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水溶性溶媒が好ましく、水、アルコール、エーテル、ニトリル等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられる。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（６２）における反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（６２）における反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（６２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１１及びＹは、上記のとおり。）で示される化合物（７０）を硫酸エステル化して、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１１及びＹは、上記のとおり。Ａ１００は－ＯＨ又は－ＯＳＯ３Ｍ。Ｍは上記のとおり。）で示される化合物（７１）を得る工程（７１）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（７１）における硫酸エステル化は、化合物（７０）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施できる。上記硫酸化試薬としては、三酸化硫黄ピリジン錯体、三酸化硫黄トリメチルアミン錯体、三酸化硫黄トリエチルアミン錯体等の三酸化硫黄アミン錯体、三酸化硫黄ジメチルホルムアミド錯体等の三酸化硫黄アミド錯体、硫酸－ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロ硫酸、濃硫酸、スルファミン酸等が挙げられる。上記硫酸化試薬の使用量としては、化合物（７０）１モルに対して、０．５～１０モルが好ましく、０．５～５モルがより好ましく、０．７～４モルが更に好ましい。上記硫酸化試薬の使用量を調整することにより、化合物（２０）が有する２つの－ＯＨ基の一方又は両方を硫酸エステル化させられる。
工程（７１）における硫酸エステル化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ピリジン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ニトリル等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（７１）における硫酸エステル化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（７１）における硫酸エステル化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５ＭＰａがより好ましい。
工程（７１）における硫酸エステル化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
化合物（７０）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 （式中、Ｒ１０及びＹは、上記のとおり。Ｒ１００は、アルキル基である。）で示される化合物（１００）をヒドロキシ化して、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１００及びＹは、上記のとおり。）で示される化合物（１０１）を得る工程（１０１）、及び、
化合物（１０１）を酸化して、化合物（７０）を得る工程（１０２）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１００としてのアルキル基は、Ｒ１００－ＣＨ２－として、上述したＲ１１を構成する。
工程（１０１）におけるヒドロキシ化は、例えば、（１）酸素雰囲気中で化合物（１００）にフタロシアニン鉄（ＩＩ）（Ｆｅ（Ｐｃ））及び水素化ホウ素ナトリウムを作用させる方法や、（２）化合物（１００）にイソピノカンフェイルボラン（ＩｐｃＢＨ２）を作用させた後、得られる中間体（ジアルキルボラン）を酸化する方法により実施できる。
方法（１）において、フタロシアニン鉄（ＩＩ）の量は、触媒量であってよく、化合物（１００）１モルに対して、０．００１～１．２モルの量で使用できる。
方法（１）において、水素化ホウ素ナトリウムは、化合物（１００）１モルに対して、０．５～２０モルの量で使用できる。
方法（１）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、含窒素極性有機化合物等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
方法（１）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
方法（１）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（１）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２）において、イソピノカンフェイルボランは、化合物（１００）１モルに対して、０．１～１０．０モルの量で使用できる。
化合物（１００）とイソピノカンフェイルボランとの反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
化合物（１００）とイソピノカンフェイルボランとの反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
化合物（１００）とイソピノカンフェイルボランとの反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
化合物（１００）とイソピノカンフェイルボランとの反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２）における酸化は、上記中間体に酸化剤を作用させることにより実施できる。上記酸化剤としては、過酸化水素等が挙げられる。上記酸化剤は、上記中間体１モルに対して、０．７～１０モルの量で使用できる。
方法（２）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、メタノール、エタノール等が挙げられ、なかでも水が好ましい。
方法（２）における酸化の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、１０～８０℃が更に好ましい。
方法（２）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（２）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（１０２）において、化合物（１０１）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（１０２）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１０２）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１０２）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１０２）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
化合物（７０）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１１及びＹは、上記のとおり。Ｒ１０１は、有機基である。）で示される化合物（２００）をオゾン分解して、化合物（７０）を得る工程（２０１）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１０１としては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましい。４個のＲ１０１は、同一でも異なっていてもよい。
工程（２０１）におけるオゾン分解は、化合物（２００）にオゾンを作用させた後、還元剤で後処理することにより実施できる。
オゾンは、酸素ガス中の無声放電によって発生させることができる。
上記後処理に用いる還元剤としては、亜鉛、ジメチルスルフィド、チオウレア、ホスフィン類等が挙げられ、なかでもホスフィン類が好ましい。
工程（２０１）におけるオゾン分解は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（２０１）におけるオゾン分解の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
工程（２０１）におけるオゾン分解の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（２０１）におけるオゾン分解の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
化合物（７０）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 （式中、Ｒ１０及びＹは、上記のとおり。Ｒ１００は、アルキル基である。）で示される化合物（３００）をエポキシ化して、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１００及びＹは、上記のとおり。）で示される化合物（３０１）を得る工程（３０１）、
化合物（３０１）と、Ｒ１０２ ２ＣｕＬｉ（Ｒ１０２は、アルキル基）で示されるジアルキル銅リチウムとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１００、Ｒ１０２及びＹは、上記のとおり。）で示される化合物（３０２）を得る工程（３０２）、及び、
化合物（３０２）を酸化して、化合物（７０）を得る工程（３０３）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１００及びＲ１０２としての上記アルキル基は、Ｒ１００Ｒ１０２－ＣＨ－として、上述したＲ１１を構成する。
２個のＲ１００は、同一でも異なっていてもよい。２個のＲ１０２は、同一でも異なっていてもよい。
工程（３０１）におけるエポキシ化は、化合物（３００）にエポキシ化剤を作用させることにより実施できる。
上記エポキシ化剤としては、メタクロロ過安息香酸（ｍ－ＣＰＢＡ）、過安息香酸、過酸化水素、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキソド等の過酸、ジメチルジオキシラン、メチルトリフルオロメチルジオキシラン等が挙げられ、なかでも過酸が好ましく、メタクロロ過安息香酸がより好ましい。
上記エポキシ化剤は、化合物（３００）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３０１）におけるエポキシ化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、ピリジン、含窒素極性有機化合物、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、なかでもジクロロメタンが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
工程（３０１）におけるエポキシ化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３０１）におけるエポキシ化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３０１）におけるエポキシ化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３０２）において、上記ジアルキル銅リチウムは、化合物（３０１）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３０２）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（３０２）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３０２）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３０２）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３０３）において、化合物（３０２）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（３０３）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（３０３）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３０３）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３０３）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
化合物（７０）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 （式中、Ｒ１０及びＹは、上記のとおり。Ｒ１００は、アルキル基である。）で示される化合物（４００）を酸化して、化合物（７０）を得る工程（４０１）を含む製造方法により製造できる。
工程（４０１）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（４００）に酸化剤を作用させることにより実施できる。
上記酸化剤としては、塩化銅、酢酸銅、シアン化銅、トリフルオロメタンチオール銅等の一価又は二価の銅塩、塩化鉄、酢酸鉄、シアン化鉄、トリフルオロメタンチオール鉄、ヘキサシアノ鉄等の鉄塩、１，４－ベンゾキノン、２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－１，４－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，２－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，４－ベンゾキノン等のベンゾキノン類、Ｈ２Ｏ２、ＭｎＯ２、ＫＭｎＯ４、ＲｕＯ４、ｍ－クロロ過安息香酸、酸素等、又はそれらの組み合わせが挙げられる。なかでも、銅塩、鉄塩、ベンゾキノン類が好ましく、塩化銅、塩化鉄、１，４－ベンゾキノンがより好ましい。
上記酸化剤は、化合物（４００）１モルに対して、０．００１～１０モルの量で使用できる。
上記水の量は、化合物（４００）１モルに対して、０．５～１０００モルの量で使用できる。
上記パラジウム化合物としては、二塩化パラジウムが挙げられる。上記パラジウム化合物の量は、触媒量であってよく、化合物（４００）１モルに対して、０．０００１～１．０モルの量で使用できる。
工程（４０１）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、エステル、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、含窒素極性有機化合物、ニトリル、ジメチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等が挙げられ、なかでも、シクロヘキサン、ヘプタンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（４０１）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（４０１）における酸化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５．０ＭＰａがより好ましい。
工程（４０１）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
化合物（１００）、化合物（３００）及び化合物（４００）は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 （式中、Ｒ１０及びＹは、上記のとおり。Ｒ１００は、アルキル基である。）で示されるアルデヒドに還元剤を作用させて、化合物（１００）を得る工程（５０１）を含む製造方法により製造できる。
工程（５０１）では、還元的カップリング反応により、上記アルデヒトが二量化して、化合物（１００）、化合物（３００）及び化合物（４００）が生成する。工程（５０１）で使用する還元剤としては、二ヨウ化サマリウム、二塩化チタン、三塩化バナジウム、四塩化チタン、ビス（シクロオクタジエン）ニッケル、銅、マグネシウム、亜鉛、ナトリウム、三塩化セリウム、酸化クロム、水素化トリフェニルスズ等が挙げられる。上記還元剤は組み合わせで用いてもよい。上記還元剤の使用量としては、上記アルデヒト１モルに対して、０．００１～１０モルが好ましく、０．０１～５モルがより好ましく、０．１～２モルが更に好ましい。
工程（５０１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、ピリジン、ニトリル、芳香族炭化水素等がより好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（５０１）における反応は、アルコールの存在下で実施することが好ましい。上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等が挙げられる。
工程（５０１）における反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１００℃がより好ましい。
工程（５０１）における反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（５０１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
上述したいずれの製造方法においても、各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。また、得られる化合物が－ＣＯＯＨ、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＳＯ３Ｈ等のＭがＨである化合物である場合は、炭酸ナトリウム、アンモニア等のアルカリと接触させることにより、これらの基を塩型に変換できる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、また、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤も挙げられる。
また、上記カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤にラジカル処理又は酸化処理を行った炭化水素系界面活性剤も使用できる。
上記ラジカル処理とは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤にラジカルを発生させる処理であればよく、例えば、反応器に、脱イオン水、炭化水素系界面活性剤を加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換し、反応器を昇温・昇圧した後、重合開始剤を仕込み、一定時間撹拌した後、反応器を大気圧になるまで脱圧を行い、冷却を行う処理である。上記酸化処理とは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤に酸化剤を添加させる処理である。酸化剤としては、例えば、酸素、オゾン、過酸化水素水、酸化マンガン（ＩＶ）、過マンガン酸カリウム、二クロム酸カリウム、硝酸、二酸化硫黄などが挙げられる。
上記カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤としては、式：Ｒ－Ｘ（式中、Ｒは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭素数１～２０００のフッ素非含有有機基であり、Ｘは、－ＯＳＯ３Ｘ１、－ＣＯＯＸ１又は－ＳＯ３Ｘ１（Ｘ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ１ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ１はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。））で示される界面活性剤が好ましい。Ｒは、炭素数が５００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましく、５０以下であることが更に好ましく、３０以下であることが更により好ましい。
上記特定の炭化水素系界面活性剤としては、下記式（ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 （式中、Ｒ１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、炭素数が合計で６以上である。Ｘａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ａ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ａはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ａ）、下記式（ｂ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 （式中、Ｒ１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｂ及びＲ４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ｘｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｂ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｂはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－、－ＮＲ６ＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＯＳＯ３Ｘｂに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｂ）、下記式（ｃ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 （式中、Ｒ１ｃは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、炭素数が合計で５以上である。Ａｃは、－ＣＯＯＸｃ又は－ＳＯ３Ｘｃ（Ｘｃは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ｃ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ｃはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ｃ）、及び、下記式（ｄ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 （式中、Ｒ１ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｄ及びＲ４ｄは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ３ｄは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ａｄは、－ＳＯ３Ｘｄ又は－ＣＯＯＸｄ（Ｘｄは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｄ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｄはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ及びＲ４ｄは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中のＡｄに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｄ）からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましい。
界面活性剤（ａ）について説明する。
式（ａ）中、Ｒ１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ａにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ２－で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示される基は炭素数が２である。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０１ａ（式中、Ｒ１０１ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
式中、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ａ及びＲ３ａを構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０２ａ（式中、Ｒ１０２ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、炭素数が合計で６以上である。合計の炭素数としては、８以上が好ましく、９以上がより好ましく、１０以上が更に好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式（ａ）中、Ｘａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ａ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ａはＨ又は有機基である。４つのＲ４ａは、同一でも異なっていてもよい。Ｒ４ａとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｘａとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４ａ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸａがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
Ｒ１ａとしては、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基、１～１０個のカルボニル基を含む炭素数２～４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３～４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３～４５の１価又は２価の複素環を含むアルキル基が好ましい。
また、Ｒ１ａとしては、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 （式中、ｎ１１ａは０～１０の整数であり、Ｒ１１ａは炭素数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２ａは炭素数０～３のアルキレン基である。ｎ１１ａが２～１０の整数である場合、Ｒ１２ａは各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基がより好ましい。
ｎ１１ａとしては、０～５の整数が好ましく、０～３の整数がより好ましく、１～３の整数が更に好ましい。
Ｒ１１ａとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ａとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０３ａ（式中、Ｒ１０３ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１１ａとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
Ｒ１２ａは炭素数０～３のアルキレン基である。上記炭素数は１～３が好ましい。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。Ｒ１２ａとしては、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）がより好ましい。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０４ａ（式中、Ｒ１０４ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ａ及びＲ３ａとしては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～３のアルキレン基がより好ましく、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
界面活性剤（ａ）としては、次の界面活性剤が例示できる。各式中、Ｘａは上述のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
界面活性剤（ａ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。
界面活性剤（ａ）は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 （式中、Ｒ３ａは上述のとおり、Ｅａは脱離基である。）で示される化合物（１０ａ）と、リチウム、及び、式：Ｒ２０１ａ ３Ｓｉ－Ｃｌ（式中、Ｒ２０１ａは、独立に、アルキル基又はアリール基である。）で示されるクロロシラン化合物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 （式中、Ｒ３ａ、Ｒ２０１ａ及びＥａは上述のとおりである。）で示される化合物（１１ａ）を得る工程（１１ａ）、
化合物（１１ａ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 （式中、Ｒ１ａは上述のとおり、Ｒ２１ａは単結合又は２価の連結基である。）で示されるオレフィンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２１ａ、Ｒ３ａ及びＥａは上述のとおりである。）で示される化合物（１２ａ）を得る工程（１２ａ）、
化合物（１２ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２１ａ及びＲ３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１３ａ）を得る工程（１３ａ）、及び、
化合物（１３ａ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 （式中、Ｘａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２１ａ、Ｒ３ａ及びＸａは上述のとおりである。）で示される化合物（１４ａ）を得る工程（１４ａ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１ａにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
工程（１１ａ）では、リチウム及び上記クロロシラン化合物を予め反応させて、シロキシリチウム化合物を得た後、上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ａ）とを反応させて、化合物（１１ａ）を得ることが好ましい。
Ｅａは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２１ａとしては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
上記クロロシラン化合物としては、例えば、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 が挙げられる。
工程（１１ａ）におけるいずれの反応も、溶媒中で実施することができる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１１ａ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の温度としては、１０～４０℃が好ましく、２０～３０℃がより好ましい。
工程（１１ａ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ａ）との反応の温度としては、－１００～０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。
工程（１１ａ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ａ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ａ）との反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ａ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（１１ａ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ａ）との反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～２時間がより好ましい。
工程（１２ａ）において、化合物（１１ａ）と上記オレフィンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１１ａ）１モルに対して、上記オレフィンが１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（１２ａ）における反応は、チアゾリウム塩及び塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記チアゾリウム塩としては、３－エチル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムブロミド、３－ベンジル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムクロリド等が挙げられる。
上記塩基としては、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、トリエチルアミン等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１２ａ）における反応の温度としては、４０～６０℃が好ましく、５０～５５℃がより好ましい。
工程（１２ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１２ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（１３ａ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（１３ａ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１３ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（１３ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１３ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（１４ａ）において、化合物（１３ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１３ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（１４ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（１４ａ）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程（１４ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１３ａ）１モルに対して、１～２モルが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（１４ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１４ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（１４ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１４ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～１２時間がより好ましい。
工程（１４ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（１４ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（１４ａ）を回収してもよい。化合物（１４ａ）が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ａ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 （式中、Ｒ３ａは上述のとおり、Ｒ２２ａは１価の有機基、Ｅａは脱離基である。）で示されるケトンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 （式中、Ｒ１ａは上述のとおり、Ｒ２３ａは１価の有機基である。）で示されるカルボン酸エステルとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ３ａ及びＥａは上述のとおり、Ｒ２４ａは単結合又は２価の連結基である。）で示される化合物（２１ａ）を得る工程（２１ａ）、
化合物（２１ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２４ａ及びＲ３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（２２ａ）を得る工程（２２ａ）、及び、
化合物（２２ａ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 （式中、Ｘａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２４ａ、Ｒ３ａ及びＸａは上述のとおりである。）で示される化合物（２３ａ）を得る工程（２３ａ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１ａにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅａは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２２ａとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２３ａとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２４ａとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）がより好ましい。
工程（２１ａ）における反応は、塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記塩基としては、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２１ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（２１ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２１ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（２２ａ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（２２ａ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２２ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（２２ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２２ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（２３ａ）において、化合物（２２ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２２ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（２３ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（２３ａ）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程（２３ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２２ａ）１モルに対して、１～２モルが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（２３ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２３ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（２３ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２３ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～１２時間がより好ましい。
工程（２３ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（２３ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（２３ａ）を回収してもよい。化合物（２３ａ）が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ａ）は、また、式：Ｙａ－Ｒ３ａ－ＯＥａ
（式中、Ｒ３ａは上述のとおり、Ｙａはハロゲン原子、Ｅａは脱離基である。）で示されるハロゲン化アルキルと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 （式中、Ｒ１ａは上述のとおりである。）で示されるリチウムアセチリドとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ３ａ及びＥａは上述のとおりである。）で示される化合物（３１ａ）を得る工程（３１ａ）、
化合物（３１ａ）を酸化して、式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ３ａ及びＥａは上述のとおりである。）で示される化合物（３２ａ）を得る工程（３２ａ）、
化合物（３２ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
 （式中、Ｒ１ａ及びＲ３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３３ａ）を得る工程（３３ａ）、及び、
化合物（３３ａ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 （式中、Ｘａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ３ａ及びＸａは上述のとおりである。）で示される化合物（３４ａ）を得る工程（３４ａ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１ａにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅａは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
工程（３１ａ）において、上記ハロゲン化アルキルと上記リチウムアセチリドとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記ハロゲン化アルキル１モルに対して、上記リチウムアセチリドが１～２モルであることが好ましく、１～１．２モルがより好ましい。
工程（３１ａ）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、ヘキサンが好ましい。
工程（３１ａ）における反応の温度としては、－１００～－４０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。
工程（３１ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３１ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（３２ａ）における酸化は、［（Ｃｎ＊）ＲｕＩＩＩ（ＣＦ３ＣＯ２）３］・Ｈ２Ｏ（式中、Ｃｎ＊は１，４，７－トリメチルー１，４，７－トリアザビシクロノナンを表す）を、（ＮＨ４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６及びトリフルオロ酢酸で処理した後、過塩素酸ナトリウムを添加することにより生じる錯体を使用して、ニトリル系溶媒中で実施できる。
酸化終了後に、アルカリにより中和し、エーテル等の有機溶媒を使用して化合物（３２ａ）を抽出してもよい。
工程（３２ａ）における反応の温度としては、３０～１００℃が好ましく、４０～９０℃がより好ましい。
工程（３２ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３２ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（３３ａ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（３３ａ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（３３ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（３３ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３３ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（３４ａ）において、化合物（３３ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３３ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（３４ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（３４ａ）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程（３４ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３３ａ）１モルに対して、１～２モルが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（３４ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（３４ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（３４ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３４ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～１２時間がより好ましい。
工程（３４ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（３４ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（３４ａ）を回収してもよい。化合物（３４ａ）が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ａ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 （式中、Ｒ１ａは上述のとおり、Ｒ２１ａは単結合又は２価の連結基である。）で示されるアルケンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 （式中、Ｙ５１ａはアルコキシル基である。）で示されるアルキンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 （式中、Ｒ１ａ及びＲ２１ａは上述のとおりである。）
で示される化合物（４１ａ）を得る工程（４１ａ）、及び、
化合物（４１ａ）に、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
 （式中、Ｘａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２１ａ及びＸａは上述のとおりである。）で示される化合物（４２ａ）を得る工程（４２ａ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１ａにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｒ２１ａとしては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
工程（４１ａ）において、上記アルケンと上記アルキンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルキン１モルに対して、上記アルケンが０．５～２モルであることが好ましく、０．６～１．２モルがより好ましい。
工程（４１ａ）における反応は、金属触媒存在下に実施することが好ましい。上記金属としては、ルテニウム等があげられる。
工程（４１ａ）における上記金属触媒の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルケン１モルに対して、０．０１～０．４モルが好ましく、０．０５～０．１モルがより好ましい。
工程（４１ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドが好ましい。
工程（４１ａ）における反応の温度としては、２０～１６０℃が好ましく、４０～１４０℃がより好ましい。
工程（４１ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（４１ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
工程（４２ａ）において、化合物（４１ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（４１ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（４２ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（４２ａ）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程（４２ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（４１ａ）１モルに対して、１～２モルが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（４２ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（４２ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（４２ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（４２ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～１２時間がより好ましい。
工程（４２ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（４２ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（４２ａ）を回収してもよい。化合物（４２ａ）が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
次に界面活性剤（ｂ）について説明する。
式（ｂ）中、Ｒ１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｂにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。
Ｒ１ｂとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１ｂとしては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
式（ｂ）中、Ｒ２ｂ及びＲ４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。複数個のＲ２ｂ及びＲ４ｂは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記アルキル基としては、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしては、独立に、Ｈ又はカルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈが特に好ましい。
式（ｂ）中、Ｒ３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。Ｒ３ｂは、複数個存在する場合、同一でも異なっていてもよい。
上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキレン基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
上記アルキレン基としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）、イソプロピレン基（－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよいが、環を形成していないことが好ましい。
式（ｂ）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１～４０の整数が好ましく、１～３０の整数がより好ましく、５～２５の整数が更に好ましく、５～９、１１～２５の整数が特に好ましい。
式（ｂ）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０～１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０～１０の整数が好ましく、０～５の整数がより好ましい。
ｎ、ｐ及びｑは、合計が５以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。
式（ｂ）中、Ｘｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｂ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｂはＨ又は有機基である。４つのＲ５ｂは、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５ｂとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘｂは金属原子又はＮＲ５ｂ ４（Ｒ５ｂは上記のとおり）であってよい。
Ｘｂとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ５ｂ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｂがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
式（ｂ）中、Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－、－ＮＲ６ＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１～５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６は、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中の－ＯＳＯ３Ｘｂに結合する側を指す。
Ｌは単結合であることが好ましい。
界面活性剤（ｂ）としては、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 （式中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｌ、ｎ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物が好ましい。
上記界面活性剤（ｂ）は、１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０～５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が１０％以上であることが好ましい。
上記界面活性剤（ｂ）は、１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０～５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が上記範囲内にあることが好ましい。この場合、上記界面活性剤は分子中にケトン構造を有することが好ましい。
上記界面活性剤（ｂ）において、上記積分値は、１５以上がより好ましく、９５以下が好ましく、８０以下がより好ましく、７０以下が更に好ましい
上記積分値は、重水溶媒にて室温下に測定する。重水を４．７９ｐｐｍとする。
界面活性剤（ｂ）としては、例えば、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ等が挙げられる。
界面活性剤（ｂ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。
界面活性剤（ｂ）は、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－（ＯＲ３ｂ）ｐ－（ＣＲ４ｂ ２）ｑ－Ｌ－ＯＨ
（式中、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｒ１１ｂは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＯＨに結合する側を指す。）で示される化合物（１０ｂ）をヒドロキシ化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（１１ｂ）を得る工程（１１ｂ）、
化合物（１１ｂ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（１２ｂ）を得る工程（１２ｂ）、及び、
化合物（１２ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（１３ｂ）を得る工程（１３ｂ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ｂとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１１ｂとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～９の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～９の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈ又はメチル基（－ＣＨ３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。
工程（１１ｂ）におけるヒドロキシ化は、例えば、（１）酸素雰囲気中で化合物（１０ｂ）にフタロシアニン鉄（ＩＩ）（Ｆｅ（Ｐｃ））及び水素化ホウ素ナトリウムを作用させる方法や、（２）化合物（１０ｂ）にイソピノカンフェイルボラン（ＩｐｃＢＨ２）を作用させた後、得られる中間体（ジアルキルボラン）を酸化する方法により実施できる。
方法（１）において、フタロシアニン鉄（ＩＩ）の量は、触媒量であってよく、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．００１～１．２モルの量で使用できる。
方法（１）において、水素化ホウ素ナトリウムは、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．５～２０モルの量で使用できる。
方法（１）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、含窒素極性有機化合物等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
方法（１）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
方法（１）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（１）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２）において、イソピノカンフェイルボランは、化合物（１０ｂ）１モルに対して、１．０～１０．０モルの量で使用できる。
化合物（１０ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
化合物（１０ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
化合物（１０ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
化合物（１０ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２）における酸化は、上記中間体に酸化剤を作用させることにより実施できる。上記酸化剤としては、過酸化水素が挙げられる。上記酸化剤は、上記中間体１モルに対して、０．７～１０モルの量で使用できる。
方法（２）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、メタノール、エタノール等が挙げられ、なかでも水が好ましい。
方法（２）における酸化の温度としては、０～１００℃が好ましく、０～８０℃がより好ましい。
方法（２）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（２）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（１２ｂ）において、化合物（１１ｂ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（１２ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１２ｂ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１２ｂ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１２ｂ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（１２ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施できる。上記硫酸化試薬としては、三酸化硫黄ピリジン錯体、三酸化硫黄トリメチルアミン錯体、三酸化硫黄トリエチルアミン錯体等の三酸化硫黄アミン錯体、三酸化硫黄ジメチルホルムアミド錯体等の三酸化硫黄アミド錯体、硫酸－ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロ硫酸、濃硫酸、スルファミン酸等が挙げられる。上記硫酸化試薬の使用量としては、化合物（１２ｂ）１モルに対して、０．５～１０モルが好ましく、０．５～５モルがより好ましく、０．７～４モルが更に好ましい。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ピリジン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ニトリル等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５ＭＰａがより好ましい。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 （式中、Ｌ、Ｒ１ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｒ１０１ｂは、有機基である。）で示される化合物（２０ｂ）をオゾン分解して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 （式中、Ｌ、Ｒ１ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（２１ｂ）を得る工程（２１ｂ）、及び、
化合物（２１ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
 （式中、Ｌ、Ｒ１ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（２２ｂ）を得る工程（２２ｂ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１０１ｂとしては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましい。２個のＲ１０１ｂは、同一でも異なっていてもよい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解は、化合物（２０ｂ）にオゾンを作用させた後、還元剤で後処理することにより実施できる。
オゾンは、酸素ガス中の無声放電によって発生させることができる。
上記後処理に用いる還元剤としては、亜鉛、ジメチルスルフィド、チオウレア、ホスフィン類等が挙げられ、なかでもホスフィン類が好ましい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（２２ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（２１ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３ｂ）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。
界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：
Ｒ２１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－（ＯＲ３ｂ）ｐ－（ＣＲ４ｂ ２）ｑ－Ｌ－ＯＨ
（式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｒ２１ｂは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。）で示される化合物（３０ｂ）をエポキシ化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ２１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（３１ｂ）を得る工程（３１ｂ）、
化合物（３１ｂ）と、Ｒ２２ｂ ２ＣｕＬｉ（Ｒ２２ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。）で示されるジアルキル銅リチウムとを反応させて、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（３２ｂ）を得る工程（３２ｂ）、
化合物（３２ｂ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（３３ｂ）を得る工程（３３ｂ）、及び、
化合物（３３ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（３４ｂ）を得る工程（３４ｂ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ２１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ２１ｂとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２１ｂとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～８の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ又はメチル基（－ＣＨ３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。
Ｒ２２ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ２２ｂとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２２ｂとしては、置換基を有してもよい炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～９の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～９の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
２個のＲ２２ｂは、同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２１ｂ及びＲ２２ｂは、炭素数が合計で１～７であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが最も好ましい。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化は、化合物（３０ｂ）にエポキシ化剤を作用させることにより実施できる。
上記エポキシ化剤としては、メタクロロ過安息香酸（ｍ－ＣＰＢＡ）、過安息香酸、過酸化水素、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシド等の過酸、ジメチルジオキシラン、メチルトリフルオロメチルジオキシラン等が挙げられ、なかでも過酸が好ましく、メタクロロ過安息香酸がより好ましい。
上記エポキシ化剤は、化合物（３０ｂ）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、ピリジン、含窒素極性有機化合物、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、なかでもジクロロメタンが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３２ｂ）において、上記ジアルキル銅リチウムは、化合物（３１ｂ）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３２ｂ）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（３２ｂ）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３２ｂ）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３２ｂ）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３３ｂ）において、化合物（３２ｂ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（３３ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（３３ｂ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３３ｂ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３３ｂ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３４ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（３３ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３ｂ）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。
界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－（ＯＲ３ｂ）ｐ－（ＣＲ４ｂ ２）ｑ－Ｌ－ＯＨ
（式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（１０ｂ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（４１ｂ）を得る工程（４１ｂ）、及び、
化合物（４１ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（４２ｂ）を得る工程（４２ｂ）を含む製造方法により製造できる。
工程（４１ｂ）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（１０ｂ）に酸化剤を作用させることにより実施できる。
上記酸化剤としては、塩化銅、酢酸銅、シアン化銅、トリフルオロメタンチオール銅等の一価又は二価の銅塩、塩化鉄、酢酸鉄、シアン化鉄、トリフルオロメタンチオール鉄、ヘキサシアノ鉄等の鉄塩、１，４－ベンゾキノン、２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－１，４－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，２－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，４－ベンゾキノン等のベンゾキノン類、Ｈ２Ｏ２、ＭｎＯ２、ＫＭｎＯ４、ＲｕＯ４、ｍ－クロロ過安息香酸、酸素等が挙げられる。なかでも、銅塩、鉄塩、ベンゾキノン類が好ましく、塩化銅、塩化鉄、１，４－ベンゾキノンがより好ましい。
上記酸化剤は、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．００１～１０モルの量で使用できる。
上記水は、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．５～１０００モルの量で使用できる。
上記パラジウム化合物としては、二塩化パラジウムが挙げられる。上記パラジウム化合物の量は、触媒量であってよく、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．０００１～１．０モルの量で使用できる。
工程（４１ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、エステル、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、含窒素極性有機化合物、ニトリル、ジメチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等が挙げられ、なかでも、シクロヘキサン、ヘプタンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（４１ｂ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（４１ｂ）における酸化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５．０ＭＰａがより好ましい。
工程（４１ｂ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（４２ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（４１ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３ｂ）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。
界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－ＯＨ
（式中、Ｒ２ｂ、Ｒ１１ｂ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５０）とハロゲン化剤とを反応させて、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－Ｚ５１ｂ
（式中、Ｒ２ｂ、Ｒ１１ｂ及びｎは、上記のとおり。Ｚ５１ｂは、ハロゲン原子である。）で示される化合物（５１）を得る工程（５１）、
化合物（５１）と、ＨＯ－Ｒ３ｂ－Ｌ－ＯＨ（Ｌ、Ｒ３ｂは、上記のとおり。）で示されるアルキレングリコールとを反応させて、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－Ｏ－Ｒ３ｂ－Ｌ－ＯＨ
（式中、Ｌ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ１１ｂ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５２）を得る工程（５２）、
化合物（５２）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ１１ｂ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５３）を得る工程（５３）、及び、
化合物（５３）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（５４）を得る工程（５４）を含む製造方法により製造できる。
Ｚ５１ｂとしては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩが好ましく、Ｂｒがより好ましい。
工程（５１）で使用するハロゲン化剤としては、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－クロロスクシンイミド等が挙げられる。
上記ハロゲン化剤は、化合物（５０）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（５１）の反応は、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類の存在下に実施できる。
上記ホスフィン類は、化合物（５０）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（５１）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（５１）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（５１）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（５１）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（５２）において、上記アルキレングリコールは、化合物（５１）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（５２）の反応は、塩基の存在下に実施できる。上記塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。
上記塩基は、化合物（５１）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（５２）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、含窒素極性有機化合物、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（５２）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（５２）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（５２）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（５３）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（５２）に酸化剤を作用させることにより実施でき、工程（４１）における酸化と同様の条件が採用できる。
工程（５４）における硫酸エステル化は、化合物（５３）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。
上述したいずれの製造方法においても、各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。また、得られる化合物が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸｂがＨである場合は）、炭酸ナトリウム、アンモニア等のアルカリと接触させることにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換できる。
界面活性剤（ｂ）の製造方法のなかでも、上記工程（４１ｂ）及び（４２ｂ）を含む製造方法が好ましい。
界面活性剤（ｃ）について説明する。
式（ｃ）中、Ｒ１ｃは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｃにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ２－で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示される基は炭素数が２である。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０１ｃ（式中、Ｒ１０１ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
式（ｃ）中、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃを構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０２ｃ（式中、Ｒ１０２ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、炭素数が合計で５以上である。合計の炭素数としては、７以上が好ましく、９以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式（ｃ）中、式中、Ａｃは、－ＣＯＯＸｃ又は－ＳＯ３Ｘｃ（Ｘｃは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ｃ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ｃはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ４ｃとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｘｃとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４ｃ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｃがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
Ｒ１ｃとしては、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基、１～１０個のカルボニル基を含む炭素数２～４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３～４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３～４５の１価又は２価の複素環を含むアルキル基が好ましい。
また、Ｒ１ｃとしては、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 （式中、ｎ１１ｃは０～１０の整数であり、Ｒ１１ｃは炭素数１～５の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２ｃは炭素数０～３のアルキレン基である。ｎ１１ｃが２～１０の整数である場合、Ｒ１２ｃは各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基がより好ましい。
ｎ１１ｃとしては、０～５の整数が好ましく、０～３の整数がより好ましく、１～３の整数が更に好ましい。
Ｒ１１ｃとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ｃとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０３ｃ（式中、Ｒ１０３ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１１ｃとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
Ｒ１２ｃは炭素数０～３のアルキレン基である。上記炭素数は１～３が好ましい。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。Ｒ１２ｃとしては、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）がより好ましい。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０４ｃ（式中、Ｒ１０４ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃとしては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～３のアルキレン基がより好ましく、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
上記界面活性剤（ｃ）としては、次の界面活性剤が例示できる。各式中、Ａｃは上述のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
界面活性剤（ｃ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。
界面活性剤（ｃ）は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
 （式中、Ｒ３ｃは上述のとおり、Ｅｃは脱離基である。）で示される化合物（１０ｃ）と、リチウム、及び、式：Ｒ２０１ｃ ３Ｓｉ－Ｃｌ（式中、Ｒ２０１ｃは、独立に、アルキル基又はアリール基である。）で示されるクロロシラン化合物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
 （式中、Ｒ３ｃ、Ｒ２０１ｃ及びＥｃは上述のとおりである。）で示される化合物（１１ｃ）を得る工程（１１ｃ）、
化合物（１１ｃ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
 （式中、Ｒ１ｃは上述のとおり、Ｒ２１ｃは単結合又は２価の連結基である。）で示されるオレフィンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２１ｃ、Ｒ３ｃ及びＥｃは上述のとおりである。）で示される化合物（１２ｃ）を得る工程（１２ｃ）、
化合物（１２ｃ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２１ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（１３ｃ）を得る工程（１３ｃ）、及び、
化合物（１３ｃ）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２１ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（１４ｃ）を得る工程（１４ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１ｃにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
工程（１１ｃ）では、リチウム及び上記クロロシラン化合物を予め反応させて、シロキシリチウム化合物を得た後、上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ｃ）とを反応させて、化合物（１１ｃ）を得ることが好ましい。
Ｅｃは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２１ｃとしては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
上記クロロシラン化合物としては、例えば、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
 が挙げられる。
工程（１１ｃ）におけるいずれの反応も、溶媒中で実施することができる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１１ｃ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の温度としては、－７８～１００℃が好ましく、１０～４０℃がより好ましい。
工程（１１ｃ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ｃ）との反応の温度としては、－１００～０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。
工程（１１ｃ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ｃ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ｃ）との反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ｃ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（１１ｃ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ｃ）との反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～２時間がより好ましい。
工程（１２ｃ）において、化合物（１１ｃ）と上記オレフィンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１１ｃ）１モルに対して、上記オレフィンが１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（１２ｃ）における反応は、チアゾリウム塩及び塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記チアゾリウム塩としては、３－エチル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムブロミド、３－ベンジル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムクロリド等が挙げられる。
上記塩基としては、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、トリエチルアミン等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール又はエーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１２ｃ）における反応の温度としては、４０～６０℃が好ましく、５０～５５℃がより好ましい。
工程（１２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（１３ｃ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基を脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（１３ｃ）における脱離基の脱離反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１３ｃ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（１３ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１３ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（１４ｃ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール、１－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール等のアルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
化合物（１４ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｃ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
 （式中、Ｒ３ｃは上述のとおり、Ｒ２２ｃは１価の有機基、Ｅｃは脱離基である。）で示されるケトンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
 （式中、Ｒ１ｃは上述のとおり、Ｒ２３ｃは１価の有機基である。）で示されるカルボン酸エステルとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ３ｃ及びＥｃは上述のとおり、Ｒ２４ｃは単結合又は２価の連結基である。）で示される化合物（２１ｃ）を得る工程（２１ｃ）、
化合物（２１ｃ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２４ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（２２ｃ）を得る工程（２２ｃ）、及び、
化合物（２２ｃ）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２４ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（２３ｃ）を得る工程（２３ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１ｃにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅｃは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２２ｃとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２３ｃとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２４ｃとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）がより好ましい。
工程（２１ｃ）における反応は、塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記塩基としては、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２１ｃ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０がより好ましい。
工程（２１ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２１ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（２２ｃ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（２２ｃ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２２ｃ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（２２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（２３ｃ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、アルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
化合物（２３ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｃ）は、また、式：Ｙｃ－Ｒ３ｃ－ＣＨ２－ＯＥｃ
（式中、Ｒ３ｃは上述のとおり、Ｙｃはハロゲン原子、Ｅｃは脱離基である。）で示されるハロゲン化アルキルと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
 （式中、Ｒ１ｃは上述のとおりである。）で示されるリチウムアセチリドとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ３ｃ及びＥｃは上述のとおりである。）で示される化合物（３１ｃ）を得る工程（３１ｃ）、
化合物（３１ｃ）を酸化して、式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ３ｃ及びＥｃは上述のとおりである。）で示される化合物（３２ｃ）を得る工程（３２ｃ）、
化合物（３２ｃ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
 （式中、Ｒ１ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（３３ｃ）を得る工程（３３ｃ）、及び、
化合物（３３ｃ）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
 （式中、Ｒ１ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（３４ｃ）を得る工程（３４ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１ｃにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅｃは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
工程（３１ｃ）において、上記ハロゲン化アルキルと上記リチウムアセチリドとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記ハロゲン化アルキル１モルに対して、上記リチウムアセチリドが１～２モルであることが好ましく、１～１．２モルがより好ましい。
工程（３１ｃ）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、ヘキサンが好ましい。
工程（３１ｃ）における反応の温度としては、－１００～－４０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。
工程（３１ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３１ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（３２ｃ）における酸化は、［（Ｃｎ＊）ＲｕＩＩＩ（ＣＦ３ＣＯ２）３］・Ｈ２Ｏ（式中、Ｃｎ＊は１，４，７－トリメチルー１，４，７－トリアザビシクロノナンを表す）を、（ＮＨ４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６及びトリフルオロ酢酸で処理した後、過塩素酸ナトリウムを添加することにより生じる錯体を使用して、ニトリル系溶媒中で実施できる。
酸化終了後に、アルカリにより中和し、エーテル等の有機溶媒を使用して化合物（３２ｃ）を抽出してもよい。
工程（３２ｃ）における反応の温度としては、３０～１００℃が好ましく、４０～９０℃がより好ましい。
工程（３２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（３３ｃ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（３３ｃ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（３３ｃ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（３３ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３３ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（３４ｃ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、アルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
化合物（３４ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｃ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
 で示されるジビニルケトンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
 で示される２－メチルフランとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
 で示される化合物（５１ｃ）を得る工程（５１ｃ）、
化合物（５１ｃ）と式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
 で示されるフランとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
 で示される化合物（５２ｃ）を得る工程（５２ｃ）、
化合物（５２ｃ）を酸の存在下で加熱することにより、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
 で示される化合物（５３ｃ）を得る工程（５３ｃ）、及び、
化合物（５３ｃ）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
 で示される化合物（５４ｃ）を得る工程（５４ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（５１ｃ）において、ジビニルケトンと２－メチルフランとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、ジビニルケトン１モルに対して、２－メチルフランが０．５～１モルであることが好ましく、０．６～０．９モルがより好ましい。
工程（５１ｃ）における反応は、酸の存在下に実施することが好ましい。上記酸としては、酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン酸等があげられ、なかでも、酢酸が好ましい。
工程（５１ｃ）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、ジビニルケトン１モルに対して、０．１～２モルが好ましく、０．１～１モルがより好ましい。
工程（５１ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリルが好ましい。
工程（５１ｃ）における反応の温度としては、２０～１００℃が好ましく、４０～１００℃がより好ましい。
工程（５１ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５１ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
工程（５２ｃ）において、化合物（５１ｃ）とフランとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（５１ｃ）１モルに対してフランが１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（５２ｃ）における反応は、酸の存在下に実施することが好ましい。上記酸としては、酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、なかでも、酢酸が好ましい。
工程（５２ｃ）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（５１ｃ）１モルに対して、０．１～２モルが好ましく、０．１～１モルがより好ましい。
工程（５２ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が好ましい。
工程（５２ｃ）における反応の温度としては、２０～１００℃が好ましく、４０～１００℃がより好ましい。
工程（５２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
工程（５３ｃ）では、化合物（５２ｃ）を酸の存在下で加熱することにより、フラン環を開環させる。
上記酸としては、塩酸、硫酸が好ましい。
工程（５３ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が好ましい。
工程（５３ｃ）における反応の温度としては、５０～１００℃が好ましく、７０～１００℃がより好ましい。
工程（５３ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５３ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～１２時間がより好ましい。
工程（５４ｃ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
化合物（５４ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｃ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
 （式中、Ｒ１ｃは上述のとおり、Ｒ２１ｃは単結合又は２価の連結基である。）で示されるアルケンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
 （式中、Ｙ６１ｃはアルキルエステル基である。）で示されるアルキンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２１ｃ及びＹ６１ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（６１ｃ）を得る工程（６１ｃ）、及び、
化合物（６１ｃ）に、アルカリを作用させたのちに酸を作用させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
 （式中、Ｒ１ｃ及びＲ２１ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（６２ｃ）を得る工程（６２ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１ｃにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｒ２１ｃとしては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
工程（６１ｃ）において、上記アルケンと上記アルキンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルキン１モルに対して、上記アルケンが０．５～２モルであることが好ましく、０．６～１．２モルがより好ましい。
工程（６１ｃ）における反応は、金属触媒存在下に実施することが好ましい。上記金属としては、ルテニウム等があげられる。
工程（６１ｃ）における上記金属触媒の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルケン１モルに対して、０．０１～０．４モルが好ましく、０．０５～０．１モルがより好ましい。
工程（６１ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドが好ましい。
工程（６１ｃ）における反応の温度としては、２０～１６０℃が好ましく、４０～１４０℃がより好ましい。
工程（６１ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（６１ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
工程（６２ｃ）において、化合物（６１ｃ）と上記アルカリとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１ｃ）１モルに対して上記アルカリが０．６～２モルであることが好ましく、０．８～１．１モルがより好ましい。
工程（６２ｃ）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１ｃ）１モルに対して、１．０～２０．０モルが好ましく、１．０～１０．０モルがより好ましい。
工程（６２ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が好ましい。
工程（６２ｃ）における反応の温度としては、０～１００℃が好ましく、２０～１００℃がより好ましい。
工程（６２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（６２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
化合物（６２ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｄ）について説明する。
式（ｄ）中、Ｒ１ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｄにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。
Ｒ１ｄとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ１ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１ｄとしては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
式（ｄ）中、Ｒ２ｄ及びＲ４ｄは、独立に、Ｈ又は置換基である。複数個のＲ２ｄ及びＲ４ｄは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記アルキル基としては、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしては、独立に、Ｈ又はカルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈが特に好ましい。
式（ｄ）中、Ｒ３ｄは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。Ｒ３ｄは、複数個存在する場合、同一でも異なっていてもよい。
上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキレン基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
上記アルキレン基としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）、イソプロピレン基（－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ及びＲ４ｄは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式（ｄ）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１～４０の整数が好ましく、１～３０の整数がより好ましく、５～２５の整数が更に好ましい。
式（ｄ）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０～１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０～１０の整数が好ましく、０～５の整数がより好ましい。
ｎ、ｐ及びｑは、合計が６以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。
式（ｄ）中、Ａｄは、－ＳＯ３Ｘｄ又は－ＣＯＯＸｄ（Ｘｄは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｄ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｄはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ５ｄとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘｄは金属原子又はＮＲ５ｄ ４（Ｒ５ｄは上記のとおり）であってよい。
Ｘｄとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ５ｄ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｄがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
式（ｄ）中、Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１～５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６ｄは、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中のＡｄに結合する側を指す。
Ｌは単結合であることが好ましい。
上記界面活性剤は、１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０～５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が１０以上であることが好ましい。
上記界面活性剤は、１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０～５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が上記範囲内にあることが好ましい。この場合、上記界面活性剤は分子中にケトン構造を有することが好ましい。
上記界面活性剤において、上記積分値は、１５以上がより好ましく、９５以下が好ましく、８０以下がより好ましく、７０以下が更に好ましい。
上記積分値は、重水溶媒にて室温下に測定する。重水を４．７９ｐｐｍとする。
上記界面活性剤（ｄ）としては、例えば、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＨ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＬｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮａ、ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＳＯ３Ｎａ
等が挙げられる。
界面活性剤（ｄ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。
界面活性剤（ｄ）は、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
 （式中、Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ及びｎは、上記のとおりである。）
で示される化合物（１０ｄ）と、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
 （式中、Ｒ３ｄは、上記のとおりである。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－Ｓ（＝Ｏ）２－に結合する側を指す。）で示されるサルトンとを反応させて、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
 （式中、Ｒ１ｄ～Ｒ３ｄ、ｎ及びＸｄは、上記のとおりである。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＯＳＯ３Ｘｄに結合する側を指す。）
で示される化合物（１１ｄ）を得る工程（１１ｄ）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（１１ｄ）における反応は、塩基の存在下に実施できる。
上記塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン等が挙げられる。上記塩基は、化合物（１０ｄ）１モルに対して、０．５～２０モルの量で使用できる。
工程（１１ｄ）における反応は、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましい。上記有機溶媒としては、エーテル、芳香族化合物、ニトリル、ハロゲン化炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
工程（１１ｄ）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、－２０～１００℃がより好ましい。
工程（１１ｄ）における反応の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ｄ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（ｄ）は、また、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
 （式中、Ｒ１ｄ～Ｒ４ｄ、ｎ、ｐ及びｑは上記のとおりである。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＣＨ２－ＯＨに結合する側を指す。）
で示される化合物（２０ｄ）を酸化させて、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
 （式中、Ｒ１ｄ～Ｒ４ｄ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｄは上記のとおりである。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＣＨ２－ＣＯＯＸｄに結合する側を指す。）
で示される化合物（２１ｄ）を得る工程（２１ｄ）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（２１ｄ）における酸化は、化合物（２０ｄ）にニトロソ化剤を作用させることにより実施できる。
上記ニトロソ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、ニトロシル硫酸及び亜硝酸イソアミル等が使用できる。
上記ニトロソ化剤は、化合物（２０ｄ）１モルに対して、０．５～１０モルの量で使用できる。
工程（２１ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、トリフルオロ酢酸、アセトニトリル等が使用できる。
工程（２１ｄ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１００℃がより好ましい。
工程（２１ｄ）における酸化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（２１ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～２４時間がより好ましい。
化合物（１０ｄ）及び化合物（２０ｄ）は、下記式：
Ｒ１１ｄ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ１ｄ－ＯＨ
（式中、Ｒ１１ｄは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｙ１ｄは、－（ＣＲ２ｄ ２）ｎ－又は－（ＣＲ２ｄ ２）ｎ－（ＯＲ３ｄ）ｐ－（ＣＲ４ｄ ２）ｑ－Ｌ－ＣＨ２－（Ｒ２ｄ～Ｒ４ｄ、ｎ、Ｌ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＣＨ２－に結合する側を指す。）である。）で示される化合物（１００ｄ）をヒドロキシ化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
 （式中、Ｒ１１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（１０１ｄ）を得る工程（１０１ｄ）、及び、
化合物（１０１ｄ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
 （式中、Ｒ１１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（１０２ｄ）を得る工程（１０２ｄ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１１ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ｄとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１１ｄとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～９の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～９の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈ又はメチル基（－ＣＨ３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。
工程（１０１ｄ）におけるヒドロキシ化は、例えば、（１ｄ）酸素雰囲気中で化合物（１００ｄ）にフタロシアニン鉄（ＩＩ）（Ｆｅ（Ｐｃ））及び水素化ホウ素ナトリウムを作用させる方法や、（２ｄ）化合物（１００ｄ）にイソピノカンフェイルボラン（ＩｐｃＢＨ２）を作用させた後、得られる中間体（ジアルキルボラン）を酸化する方法により実施できる。
方法（１ｄ）において、フタロシアニン鉄（ＩＩ）の量は、触媒量であってよく、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．００１～１．２モルの量で使用できる。
方法（１ｄ）において、水素化ホウ素ナトリウムは、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．５～２０モルの量で使用できる。
方法（１ｄ）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、含窒素極性有機化合物等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
方法（１ｄ）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
方法（１ｄ）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（１ｄ）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２ｄ）において、イソピノカンフェイルボランは、化合物（１００ｄ）１モルに対して、１．０～１０．０モルの量で使用できる。
化合物（１００ｄ）とイソピノカンフェイルボランとの反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
化合物（１００ｄ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
化合物（１００ｄ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
化合物（１００ｄ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２ｄ）における酸化は、上記中間体に酸化剤を作用させることにより実施できる。上記酸化剤としては、過酸化水素が挙げられる。上記酸化剤は、上記中間体１モルに対して、０．７～１０モルの量で使用できる。
方法（２ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、メタノール、エタノール等が挙げられ、なかでも水が好ましい。
方法（２ｄ）における酸化の温度としては、０～１００℃が好ましく、０～８０℃がより好ましい。
方法（２ｄ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（２ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（１０２ｄ）において、化合物（１０１ｄ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｄ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（１０２ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１０２ｄ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１０２ｄ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１０２ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
化合物（１０ｄ）及び化合物（２０ｄ）は、また、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
 （式中、Ｒ１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。Ｒ１０１ｄは、有機基である。）で示される化合物（２００ｄ）をオゾン分解して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
 （式中、Ｒ１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（２０１ｄ）を得る工程（２０１ｄ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１０１ｄとしては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましい。２個のＲ１０１ｄは、同一でも異なっていてもよい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解は、化合物（２００ｄ）にオゾンを作用させた後、還元剤で後処理することにより実施できる。
オゾンは、酸素ガス中の無声放電によって発生させることができる。
上記後処理に用いる還元剤としては、亜鉛、ジメチルスルフィド、チオウレア、ホスフィン類等が挙げられ、なかでもホスフィン類が好ましい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
化合物（１０ｄ）及び化合物（２０ｄ）は、また、下記式：
Ｒ２１ｄ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ１ｄ－ＯＨ
（式中、Ｙ１ｄは、上記のとおり。Ｒ２１ｄは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。）で示される化合物（３００ｄ）をエポキシ化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
 （式中、Ｒ２１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（３０１ｄ）を得る工程（３０１ｄ）、
化合物（３０１ｄ）と、Ｒ２２ｄ ２ＣｕＬｉ（Ｒ２２ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。）で示されるジアルキル銅リチウムとを反応させて、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
 （式中、Ｒ２１ｄ、Ｒ２２ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（３０２ｄ）を得る工程（３０２ｄ）、及び、
化合物（３０２ｄ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
 （式中、Ｒ２１ｄ、Ｒ２２ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（３０３ｄ）を得る工程（３０３ｄ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ２１ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ２１ｄとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２１ｄとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～８の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ又はメチル基（－ＣＨ３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。
Ｒ２２ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ２２ｄとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２２ｄとしては、置換基を有してもよい炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～９の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～９の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
２個のＲ２２ｄは、同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２１ｄ及びＲ２２ｄは、炭素数が合計で１～７であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが最も好ましい。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化は、化合物（３００ｄ）にエポキシ化剤を作用させることにより実施できる。
上記エポキシ化剤としては、メタクロロ過安息香酸（ｍ－ＣＰＢＡ）、過安息香酸、過酸化水素、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシド等の過酸、ジメチルジオキシラン、メチルトリフルオロメチルジオキシラン等が挙げられ、なかでも過酸が好ましく、メタクロロ過安息香酸がより好ましい。
上記エポキシ化剤は、化合物（３００ｄ）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、ピリジン、含窒素極性有機化合物、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、なかでもジクロロメタンが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３０２ｄ）において、上記ジアルキル銅リチウムは、化合物（３０１ｄ）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３０２ｄ）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（３０２ｄ）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３０２ｄ）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３０２ｄ）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３０３ｄ）において、化合物（３０２ｄ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｄ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（３０３ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（３０３ｄ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３０３ｄ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３０３ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
化合物（１０ｄ）及び化合物（２０ｄ）は、また、下記式：
Ｒ１１ｄ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ１ｄ－ＯＨ
（式中、Ｒ１１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（１００ｄ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
 （式中、Ｒ１１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（４０１ｄ）を得る工程（４０１ｄ）を含む製造方法により製造できる。
工程（４０１ｄ）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（１００ｄ）に酸化剤を作用させることにより実施できる。
上記酸化剤としては、塩化銅、酢酸銅、シアン化銅、トリフルオロメタンチオール銅等の一価又は二価の銅塩、塩化鉄、酢酸鉄、シアン化鉄、トリフルオロメタンチオール鉄、ヘキサシアノ鉄等の鉄塩、１，４－ベンゾキノン、２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－１，４－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，２－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，４－ベンゾキノン等のベンゾキノン類、Ｈ２Ｏ２、ＭｎＯ２、ＫＭｎＯ４、ＲｕＯ４、ｍ－クロロ過安息香酸、酸素等が挙げられる。なかでも、銅塩、鉄塩、ベンゾキノン類が好ましく、塩化銅、塩化鉄、１，４－ベンゾキノンがより好ましい。
上記酸化剤は、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．００１～１０モルの量で使用できる。
上記水は、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．５～１０００モルの量で使用できる。
上記パラジウム化合物としては、二塩化パラジウムが挙げられる。上記パラジウム化合物の量は、触媒量であってよく、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．０００１～１．０モルの量で使用できる。
工程（４０１ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、エステル、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、含窒素極性有機化合物、ニトリル、ジメチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等が挙げられ、なかでも、シクロヘキサン、ヘプタンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（４０１ｄ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（４０１ｄ）における酸化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５．０ＭＰａがより好ましい。
工程（４０１ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（ｄ）は、また、下記式：
Ｒ１１ｄ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｄ ２）ｎ－（ＯＲ３ｄ）ｐ－（ＣＲ４ｄ ２）ｑ－Ｌ－ＣＯＯＸｄ
（式中、Ｒ２ｄ～Ｒ４ｄ、Ｒ１１ｄ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｄは、上記のとおり。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１～５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６ｄは、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中の－ＣＯＯＸｄに結合する側を指す。）で示される化合物（３０ｄ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
 （Ｒ２ｄ～Ｒ４ｄ、Ｌ、Ｒ１１ｄ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｄは、上記のとおり。）で示される化合物（３１ｄ）を得る工程（３１ｄ）を含む製造方法により製造できる。
工程（３１ｄ）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（３０ｄ）に酸化剤を作用させることにより実施でき、工程（４０１ｄ）における酸化と同様の条件が採用できる。
上述したいずれの製造方法においても、各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。また、得られる化合物が－ＳＯ３Ｈ、－ＣＯＯＨ等のＸｄがＨである化合物である場合は、炭酸ナトリウム、アンモニア等のアルカリと接触させることにより、これらの基を塩型に変換できる。
本発明の製造方法においては、上記炭化水素系界面活性剤を２種以上同時に用いてもよい。
本発明は、ＰＴＦＥを含み、下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物でもある。
一般式（３）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記ＰＴＦＥとしては、精製ＰＴＦＥ水性分散液の製造方法において記載したホモＰＴＦＥ、変性ＰＴＦＥ等のＰＴＦＥが挙げられる。
上記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まない組成物、また、後述する一般式（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）、（６’）又は（７）で示される化合物を特定の量で含む組成物は、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたＰＴＦＥを、フッ素化処理することにより得られたものであることが好ましい。フッ素化処理の時間、添加量が多いほど、一般式（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）、（６’）又は（７）で示される化合物を低減できる。フッ素化処理は高温で行うことが好ましく、また、フッ素ラジカル源の添加量を多くすることが好ましい。例えば、１００℃超でフッ素化処理することが好ましく、フッ素ラジカル源の添加量は、フッ素原子に換算して、ＰＴＦＥ１００重量部に対して０．５重量部以上であることが好ましい。
本発明の組成物は、一般式（３）で示される化合物を実質的に含まない。
一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないとは、例えば、一般式（３）で示される化合物の含有量がＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であればよい。一般式（３）で示される化合物の含有量は、ＰＴＦＥに対して５００ｐｐｂ以下であることが好ましく、１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
なお、本発明の組成物が水性分散液である場合、後述する方法により一般式（３）で示される化合物の含有量を測定すると定量限界は１０～１００ｐｐｂ程度であるが、濃縮を行うことにより定量限界を下げることができる。濃縮は複数回繰り返して行ってもよい。
本発明の一態様は、水性分散液である組成物であってもよいし、粉末である組成物であってもよい。水性分散液は重合上がりの水性分散液であってもよいし、重合上がりの水性分散液を加工したものであってもよい。例えば、機械的安定性や貯蔵安定性のために非イオン性界面活性剤などを添加したものであってもよい。
水性分散液とは、水性媒体を分散媒とし、上記ＰＴＦＥを分散質とする分散系である。上記水性媒体は、水を含む液体であれば特に限定されず、水に加え、例えば、アルコール、エーテル、ケトン、パラフィンワックス等の有機溶媒を含むものであってもよい。
炭化水素系界面活性剤を用いてＰＴＦＥを製造すると、得られる水性分散液が下記一般式（４）、（４’）、（５）又は（５’）で示される化合物を含む場合がある。本発明の一態様は、下記一般式（４）、（４’）、（５）又は（５’）で示される化合物の含有量が下記の範囲である組成物である。
また、水性分散液には、安定性を高めるために非イオン性界面活性剤を添加してよい。非イオン性界面活性剤としては特に限定されず、従来公知の非イオン性界面活性剤を採用できる。
本発明の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物をＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、ＰＴＦＥに対して１％／ＰＴＦＥ以上含む組成物である。非イオン性界面活性剤の含有量の上限値は、例えば、４０％／ＰＴＦＥであることが好ましく、３０％／ＰＴＦＥであることがより好ましく、２０％／ＰＴＦＥであることが更に好ましい。一般式（４）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（４’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ＰＴＦＥ以上含む組成物である。非イオン性界面活性剤の含有量の上限値は、例えば、４０％／ＰＴＦＥであることが好ましく、３０％／ＰＴＦＥであることがより好ましく、２０％／ＰＴＦＥであることが更に好ましい。一般式（４’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（４’）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（４）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ＰＴＦＥ以上含む組成物である。非イオン性界面活性剤の含有量の上限値は、例えば、４０％／ＰＴＦＥであることが好ましく、３０％／ＰＴＦＥであることがより好ましく、２０％／ＰＴＦＥであることが更に好ましい。一般式（４）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（４）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（４’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（４’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ＰＴＦＥ以上含む組成物である。非イオン性界面活性剤の含有量の上限値は、例えば、４０％／ＰＴＦＥであることが好ましく、３０％／ＰＴＦＥであることがより好ましく、２０％／ＰＴＦＥであることが更に好ましい。一般式（５）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（５’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ＰＴＦＥ以上含む組成物である。非イオン性界面活性剤の含有量の上限値は、例えば、４０％／ＰＴＦＥであることが好ましく、３０％／ＰＴＦＥであることがより好ましく、２０％／ＰＴＦＥであることが更に好ましい。一般式（５’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（５’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１４－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（５）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ＰＴＦＥ以上含む組成物である。非イオン性界面活性剤の含有量の上限値は、例えば、４０％／ＰＴＦＥであることが好ましく、３０％／ＰＴＦＥであることがより好ましく、２０％／ＰＴＦＥであることが更に好ましい。一般式（５）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（５）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってもよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（５’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（５’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１４－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（６）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ＰＴＦＥ以上含む組成物である。非イオン性界面活性剤の含有量の上限値は、例えば、４０％／ＰＴＦＥであることが好ましく、３０％／ＰＴＦＥであることがより好ましく、２０％／ＰＴＦＥであることが更に好ましい。一般式（６）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（６）：（Ｈ－（ＣＦ２）１７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（６’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ＰＴＦＥ以上含む組成物である。非イオン性界面活性剤の含有量の上限値は、例えば、、４０％／ＰＴＦＥであることが好ましく、３０％／ＰＴＦＥであることがより好ましく、２０％／ＰＴＦＥであることが更に好ましい。一般式（６’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（６’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１８－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（６）で示される化合物及び下記一般式（６’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（６）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、一般式（６’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ＰＴＦＥ以上含む組成物である。非イオン性界面活性剤の含有量の上限値は、例えば、４０％／ＰＴＦＥであることが好ましく、３０％／ＰＴＦＥであることがより好ましく、２０％／ＰＴＦＥであることが更に好ましい。一般式（６）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（６）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（６’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（６’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（６）：（Ｈ－（ＣＦ２）１７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（６’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１８－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
炭化水素系界面活性剤を使用してＰＴＦＥを製造すると、得られるＰＴＦＥ粉末が、下記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物を含む場合がある。本発明の組成物が粉末である場合、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物の含有量が下記の範囲であることが好ましい。
本発明の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（４）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（４’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（４’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（４’）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（４）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下である組成物である。一般式（４）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（４）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（４’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（４’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（４’）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（５）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（５’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（５’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（５’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１４－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（５）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して２５ｐｐｂ以下である組成物である。一般式（５）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（５）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（５’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（５’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（５’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１４－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（６）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（６）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（６）：（Ｈ－（ＣＦ２）１７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（６’）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含む組成物である。一般式（６’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってよい。
一般式（６’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１８－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（６）で示される化合物及び下記一般式（６’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、一般式（６）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、一般式（６’）で示される化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下である組成物である。一般式（６）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（６）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。一般式（６’）で示される化合物の含有量は５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。一般式（６’）で示される化合物の含有量の下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
一般式（６）：（Ｈ－（ＣＦ２）１７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（６’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１８－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
本発明の一態様は、下記一般式（２）で示される化合物のうち、ｎが４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１０である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１１である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１２である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１３である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが１９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｎが２０である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下である組成物である。
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
ｎが４～２０である化合物の含有量は、それぞれ、５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。本発明の組成物は、一般式（２）で示される化合物のいずれの含有量が０ｐｐｂであってよい。
本発明の一態様は、下記一般式（１）で示される化合物のうち、ｍが３である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１０である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１１である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１２である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１３である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１４である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１５である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１６である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１７である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１８である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下であり、ｍが１９である化合物の含有量が、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下である組成物である。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
ｍが３～１９である化合物の含有量は、それぞれ、５００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、１５ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、１０ｐｐｂ以下であることが更により好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。本発明の一態様は、上記一般式（１）で示される化合物のいずれかを含む組成物である。
本発明の組成物は、更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ＰＴＦＥに対して１０００ｐｐｂ以下含むものであってもよい。
一般式（７）：（Ｆ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（７）で示される化合物を含む組成物は、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたＰＴＦＥを、フッ素化処理することにより得られる。フッ素処理の温度が高いほど、フッ素化処理の時間が長いほど、また、フッ素ラジカル源の添加量が多いほど、一般式（７）で示される化合物の含有量を低下させることができる。また、フッ素化処理後に、加熱処理等の別工程を実施してもよい。一般式（７）で示される化合物は、フッ素化処理後に、加熱処理等を行うことによって低減することもできる。
一般式（７）で示される化合物の含有量は、ＰＴＦＥに対して５００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１００ｐｐｂ以下であることがより好ましく、２５ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、５ｐｐｂ以下であることが更に特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｐｐｂであってよく、０．１ｐｐｂであってよく、１ｐｐｂであってもよい。
上記一般式（７）で示される化合物の含有量の範囲は、上述した一般式（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）及び（６’）で示される化合物について記載した全ての量の範囲と組合せることができる。
本発明の組成物は、ＰＴＦＥに対して、一般式（３）で示される化合物の含有量が１０００ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１０００ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が１０００ｐｐｂ以下であってもよい。好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が５００ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が５００ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が５００ｐｐｂ以下であり、更に好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が１００ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が１００ｐｐｂ以下であり、特に好ましくは、一般式（３）で示される化合物の含有量が２５ｐｐｂ以下であり、一般式（４）又は（４’）で示される化合物の含有量が２５ｐｐｂ以下であり、かつ、一般式（７）で示される化合物が２５ｐｐｂ以下である。
本発明の一態様は、粉末である組成物である。本発明の組成物が粉末である場合、上記粉末は、平均粒径が０．５～２０００μｍであることが好ましい。上記平均粒径のより好ましい下限は１μｍであり、より好ましい上限は１０００μｍであり、更に好ましい上限は８００μｍである。
本明細書において、平均粒径は、低分子量ＰＴＦＥである場合、レーザー回折式粒度分布測定装置（日本レーザー社製）を用い、カスケードは使用せず、圧力０．１ＭＰａ、測定時間３秒で粒度分布を測定し、得られた粒度分布積算の５０％に対応する粒径である。
また、高分子量ＰＴＦＥの場合、上記平均粒径は、ＪＩＳ　Ｋ６８９１に準拠して測定した値である。
上記粉末は、焼成後の色調Ｌ＊が２５以上であることが好ましく、５０以上であることがより好ましく、７０以上であることが更に好ましく、８０以上であることが特に好ましい。
色調Ｌ＊を測定するためのサンプルは、４．０ｇのＰＴＦＥ粉末を、内径２８．６ｍｍ、厚み約４ｍｍの円盤状ＰＴＦＥ成形体に成形して得られる。
上記粉末の色調Ｌ＊は、ＪＩＳ　Ｚ８７８１－４に準拠して、測色色差計（ＣＩＥＬＡＢカラースケール）を用いて測定する。
上記焼成は、３８５℃に加熱した電気炉内で１０分間熱処理することで実施する。
本発明の組成物は、粉末であり、フッ素化処理前後の色調変化率ΔＬ＊が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。
色調変化率ΔＬ＊は、以下の式により定義される。
ΔＬ＊（％）＝（Ｌ＊ｔ－Ｌ＊ｉ）／（Ｌ＊Ｓｔｄ－Ｌ＊ｉ）×１００
Ｌ＊ｉ＝初期の色調であって、フッ素化処理前のＰＴＦＥに係るＣＩＥＬＡＢスケールにおけるＬ＊の計測値。
Ｌ＊ｔ＝処理済の色調であって、フッ素化処理後のＰＴＦＥに係るＣＩＥＬＡＢスケールにおけるＬ＊の計測値。
Ｌ＊Ｓｔｄ＝８７．３
上記フッ素化処理は、１５０℃以上に加熱した反応器内に、フッ素ラジカル源としてフッ素ガス（Ｆ２）を窒素ガスで希釈した混合ガス（フッ素／窒素（容積比）＝２０／８０）を大気圧下で流量約５０ｃｃ／ｍｉｎで４８０分間（８時間）流し続けることで実施する。
上記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）において、４つのＲ５は、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５としては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。
本発明の組成物において、一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物の含有量は、後述する実施例に記載するように、液体クロマトグラフィー質量分析法を用いて測定した値である。
本発明の組成物において、上記ＰＴＦＥは、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたものであることが好ましい。重合方法は、上述したＰＴＦＥ水性分散液を得る方法等により行ってよい。
本発明の組成物は、炭化水素系界面活性剤を含んでよく、炭化水素系界面活性剤としては、上述したものが挙げられる。
上記組成物は、上記ＰＴＦＥ、炭化水素系界面活性剤以外にも、顔料や充填剤等の従来公知の添加剤を添加することができる。上記添加剤は、本発明の効果を妨げない範囲で使用すればよい。
本発明の組成物は、カルボニル基を有する炭化水素系界面活性剤を使用する、若しくは、カルボニル基を有する炭化水素系界面活性剤と特定の重合開始剤との組み合わせにより製造することができる。
カルボニル基を有する炭化水素系界面活性剤としては、上述した炭化水素系界面活性剤の中のカルボン酸塩等が挙げられる。
上記特定の重合開始剤としては、水溶性ラジカル重合開始剤、レドックス開始剤等が挙げられる。
水溶性ラジカル重合開始剤としては、公知の水溶性過酸化物であってよく、たとえば、過硫酸、過炭酸などのアンモニウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、ｔ－ブチルパーマレエート、ｔ－ブチルハイドロパーオキサイドなどがあげられ、その使用量は過酸化物に対して０．１～２０倍であってよい。
また、例えば、３０℃以下の低温で重合を実施する場合等では、重合開始剤として、酸化剤と還元剤を組み合わせるレドックス開始剤を用いるのが好ましい。酸化剤としては、過硫酸塩、有機過酸化物、過マンガン酸カリウム、三酢酸マンガン、セリウム硝酸アンモニウム等が挙げられる。還元剤としては、臭素酸塩、ジイミン、シュウ酸等が挙げられる。過硫酸塩としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムが挙げられる。開始剤の分解速度を上げるため、レドックス開始剤の組み合わせには、銅塩、鉄塩を加えることも好ましい。銅塩としては、硫酸銅（ＩＩ）、鉄塩としては硫酸鉄（ＩＩ）が挙げられる。
上記レドックス開始剤としては、例えば、過マンガン酸カリウム／シュウ酸、三酢酸マンガン／シュウ酸、セリウム硝酸アンモニウム／シュウ酸、臭素酸塩等が挙げられ、過マンガン酸カリウム／シュウ酸が好ましい。レドックス開始剤を用いる場合は、酸化剤又は還元剤のいずれかをあらかじめ重合槽に仕込み、ついでもう一方を連続的又は断続的に加えて重合を開始させてもよい。例えば、過マンガン酸カリウム／シュウ酸を用いる場合、重合槽にシュウ酸を仕込み、そこへ過マンガン酸カリウムを連続的に添加することが好ましい。
また、上述したフッ素化処理を行う場合、カルボニル基を有する炭化水素系界面活性剤と特定の重合開始剤との組み合わせを採用しなくても本発明の組成物を製造することができる。
本発明の組成物は、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたＰＴＦＥを乾燥後、フッ素化処理工程を行うことにより得ることができる
特に一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（４’）、（５）、（５’）、（６）又は（６’）で示される化合物の含有量が２５ｐｐｂ以下の組成物は、この方法で得ることができる。
本発明はまた、上記組成物からなる成形体でもある。また、上記成形体は、延伸体であることが好ましい。本発明の成形体及び延伸体は、上述したＰＴＦＥ成形体の製造方法等により製造することができる。上記延伸体としては、例えば、糸、チューブ、テープ、膜（一軸延伸膜、二軸延伸膜）等が挙げられるが、これらに限定されない。
本発明の成形体及び延伸体は、上記組成物からなる。成形体及び延伸体、特に延伸体とする場合、上記組成物は、下記の組成物（ＰＴＦＥ組成物）であることが好ましい。
本発明はまた、上述のＰＴＦＥ組成物からなる押出体に関する。ＰＴＦＥ押出成形体は、ペースト押出によって得られることが好ましい。ペースト押出成形は、ＰＴＦＥ粉体と押出助剤とを混合し、押出成形することが好ましい。ペースト押出成形によって得られる形状は、特に限定されないが、例えば、ロッド、バー（ビード）、テープ、チューブ、電線被覆などが挙げられる。ペースト成形によって得られたＰＴＦＥ成形体は、乾燥させることによって、押出助剤を除去することができる。押出助剤の乾燥は、使用する押出助剤の沸点によって適宜選択でき、１００～２５０℃の温度範囲で行うことができる。
本発明のＰＴＦＥ組成物は、延伸性及び非溶融加工性を有し、延伸体（多孔体）の原料としても有用である。本発明のＰＴＦＥは、延伸することにより優れた延伸体を得ることができる。例えば押出助剤と混合した本発明のＰＴＦＥ組成物の粉末をペースト押出し、必要に応じて圧延を行い、乾燥により押出助剤を除去した後、少なくとも１方向に延伸して延伸体を得ることができる。延伸することにより、本発明のＰＴＦＥ組成物は容易にフィブリル化し、結節と繊維からなる延伸体となる。この延伸体は、高い空孔率を持つ多孔体でもある。
本発明はまた、上述のＰＴＦＥ組成物からなる延伸体に関する。
本発明の延伸体は、上述のＰＴＦＥ組成物をペースト押出し圧延後、未焼成又は半焼成し、少なくとも１方向に延伸して（好ましくは、圧延方向にロール延伸し次いでテンターにより幅方向に延伸して）、製造することができる。延伸条件としては、５～１０００％／秒の速度、５００％以上の延伸倍率が好ましく採用される。延伸することによりＰＴＦＥは容易にフィブリル化し、結節と繊維からなる延伸体となる。延伸体の空孔率は、特に制限されないが、一般的に５０～９９％の範囲が好ましく、７０～９８％の範囲がより好ましい。本発明の延伸体は、ＰＴＦＥ組成物のみを含むものであってもよいし、ＰＴＦＥ組成物と上記の顔料や充填剤を含むものであってもよいが、ＰＴＦＥ組成物のみを含むものであることが好ましい。
本発明の延伸体は、その形状が膜、チューブ、繊維、ロッドであることも好ましい。
本発明の延伸体が膜（延伸膜又は多孔膜）である場合、公知のＰＴＦＥ延伸方法によって延伸することができる。
好ましくは、シート状又は棒状のペースト押出物を押出方向にロール延伸することで、一軸延伸膜を得ることができる。
更に、テンター等により幅方向に延伸して、二軸延伸膜も得ることができる。
延伸前に半焼成処理を行うことも好ましい。
本発明の延伸体は、高い空孔率を持つ多孔体であり、
エアフィルター、薬液フィルター等の各種精密濾過フィルターの濾材、高分子電解質膜の支持材等として好適に利用できる。
また、繊維分野、医療分野、エレクトロケミカル分野、シール材分野、空気濾過分野、換気／内圧調整分野、液濾過分野、一般消費材分野等で使用する製品の素材としても有用である。
以下に、具体的な用途を例示する。
エレクトロケミカル分野
誘電材料プリプレグ、ＥＭＩ遮蔽材料、伝熱材料等。より詳細には、プリント配線基板、電磁遮蔽シールド材、絶縁伝熱材料、絶縁材料等。
シール材分野
ガスケット、パッキン、ポンプダイアフラム、ポンプチューブ、航空機用シール材等。
空気濾過分野
ＵＬＰＡフィルター（半導体製造用）、ＨＥＰＡフィルター（病院・半導体製造用）、円筒カートリッジフィルター（産業用）、バグフィルター（産業用）、耐熱バグフィルタ－（排ガス処理用）、耐熱プリーツフィルター（排ガス処理用）、ＳＩＮＢＲＡＮフィルター（産業用）、触媒フィルター（排ガス処理用）、吸着剤付フィルター（ＨＤＤ組込み）、吸着剤付ベントフィルター（ＨＤＤ組込み用）、ベントフィルター（ＨＤＤ組込み用他）、掃除機用フィルター（掃除機用）、汎用複層フェルト材、ＧＴ用カートリッジフィルター（ＧＴ向け互換品用）、クーリングフィルター（電子機器筐体用）等。
換気／内圧調整分野
凍結乾燥用の容器等の凍結乾燥用材料、電子回路やランプ向けの自動車用換気材料、容器キャップ向け等の容器用途、タブレット端末や携帯電話端末等の小型端末を含む電子機器向け等の保護換気用途、医療用換気用途等。
液濾過分野
半導体液ろ過フィルター（半導体製造用）、親水性ＰＴＦＥフィルター（半導体製造用）、化学薬品向けフィルター（薬液処理用）、純水製造ライン用フィルター（純水製造用）、逆洗型液ろ過フィルター（産業排水処理用）等。
一般消費材分野
衣類、ケーブルガイド（バイク向け可動ワイヤ）、バイク用衣服、キャストライナー（医療サポーター）、掃除機フィルター、バグパイプ（楽器）、ケーブル（ギター用信号ケーブル等）、弦（弦楽器用）等。
繊維分野
ＰＴＦＥ繊維（繊維材料）、ミシン糸（テキスタイル）、織糸（テキスタイル）、ロープ等。
医療分野
体内埋設物（延伸品）、人工血管、カテーテル、一般手術（組織補強材料）、頭頸部製品（硬膜代替）、口内健康（組織再生医療）、整形外科（包帯）等。
つぎに本発明を実験例をあげて説明するが、本発明はかかる実験例のみに限定されるものではない。
実験例の各数値は以下の方法により測定した。
平均一次粒子径（ｎｍ）
ＰＴＦＥ水性分散液を水で固形分含有量が０．１５質量％になるまで希釈し、得られた希釈ラテックスの単位長さに対する５５０ｎｍの投射光の透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して決定した数基準長さ平均粒子径とを測定して、検量線を作成する。この検量線を用いて、各試料の５５０ｎｍの投射光の実測透過率からＰＴＦＥ水性分散液中のＰＴＦＥ粒子の平均一次粒子径を決定した。
ＰＴＦＥ固形分含有量（質量％）
ＰＴＦＥ水性分散液１ｇを、送風乾燥機中で１５０℃、６０分の条件で乾燥し、水性分散液の質量（１ｇ）に対する、加熱残分の質量の割合を百分率で表した値を採用した。
標準比重（ＳＳＧ）
ＡＳＴＭ　Ｄ４８９５－８９に準拠して成形されたサンプルを用い、ＡＳＴＭ　Ｄ－７９２に準拠した水置換法により測定した。
フッ素を含む特定の化合物の含有量
液体クロマトグラフィー質量分析法を用いて下記条件で測定した。
〔一般式（１）で示される化合物の含有量測定方法〕
粉末からの抽出
粉末１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（１）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
水性分散液からの抽出
水性分散液の固形分を測定し、ＰＴＦＥ固形分０．５ｇに相当する量の水性分散液を１００ｍＬスクリュー管に秤量した。その後、水性分散液中に含まれている水と合わせ、抽出溶媒が４０ｇ（４３．１４ｍＬ）の水／メタノール＝５０／５０ｖｏｌ％となるように水とメタノールを加えた。その後、凝析するまでよく振とうした。固形分を取り除き、液相を４０００ｒｐｍで１時間遠心分離を行い、一般式（１）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
成形体（押出ビード、延伸ビード）からの抽出
成形体０．１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（１）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
抽出液に含まれる一般式（１）で示される化合物の含有量測定
抽出液に含まれる一般式（１）で示される化合物の含有量はパーフルオロオクタン酸に換算することにより求めた。
パーフルオロオクタン酸の検量線
１ｎｇ／ｍＬ～１００ｎｇ／ｍＬの濃度既知のパーフルオロオクタン酸のメタノール標準溶液を５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，　ＬＣ－ＭＳ　ＡＣＱＵＩＴＹ　ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用いて測定を行った。それぞれのサンプル濃度とピークの積分値から一次近似を用い、下記関係式（１）によりａ、ｂを求めた。
Ａ＝ａ×Ｘ＋ｂ　　（１）
Ａ：パーフルオロオクタン酸のピーク面積
Ｘ：パーフルオロオクタン酸の濃度（ｎｇ／ｍＬ）
測定機器構成とＬＣ－ＭＳ測定条件
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000137
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000138
抽出液に含まれる炭素数が４以上、２０以下の一般式（１）で示される化合物の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計を用い、炭素数が４以上２０以下の一般式（１）で示される化合物を測定した。抽出した液相について、ＭＲＭ法を用いて各炭素数の一般式（１）で示される化合物のピーク面積を求めた。
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000139
抽出液中の炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（３）を用いて算出した。式（３）のａ、ｂは式（１）より求めた。
ＸＣｍ＝（（ＡＣｍ－ｂ）／ａ）×（（５０×ｍ＋４５）／４１３）　　（３）
ＸＣｍ：抽出溶液中の炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）
ＡＣｍ：抽出溶液中の炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物のピーク面積
この測定における定量限界は１ｎｇ／ｍＬである。
粉末中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量
粉末中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（４）により求めた。
ＹＣｍ＝ＸＣｍ×１２．６　　（４）
ＹＣｍ：粉末中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
水性分散液中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量
水性分散液中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（５）により求めた。
ＺＣｍ＝ＸＣｍ×８６．３　　（５）
ＺＣｍ：水性分散液中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
成形体（押出ビード、延伸ビード）に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（６）により求めた。
ＷＣｍ＝ＸＣｍ×１２６　　（６）
ＷＣｍ：成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
〔一般式（２）で示される化合物の含有量測定方法〕
粉末からの抽出
粉末１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（２）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
水性分散液からの抽出
水性分散液の固形分を測定し、ＰＴＦＥ固形分０．５ｇに相当する量の水性分散液を１００ｍＬスクリュー管に秤量した。その後、水性分散液中に含まれている水と合わせ、抽出溶媒が４０ｇ（４３．１４ｍＬ）の水／メタノール＝５０／５０ｖｏｌ％となるように水とメタノールを加えた。その後、凝析するまでよく振とうした。固形分を取り除き、液相を４０００ｒｐｍで１時間遠心分離を行い、一般式（２）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
成形体（押出ビード、延伸ビード）からの抽出
成形体０．１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（２）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
抽出液に含まれる一般式（２）で示される化合物の含有量測定
抽出液に含まれる一般式（２）で示される化合物の含有量はパーフルオロオクタンスルホン酸に換算することにより求めた。
パーフルオロオクタンスルホン酸の検量線
１ｎｇ／ｍＬ～１００ｎｇ／ｍＬの濃度既知のパーフルオロオクタンスルホン酸のメタノール標準溶液を５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，　ＬＣ－ＭＳ　ＡＣＱＵＩＴＹ　ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用いて測定を行った。それぞれのサンプル濃度とピークの積分値から一次近似を用い、下記関係式（１）によりａ、ｂを求めた。
Ａ＝ａ×Ｘ＋ｂ　　（１）
Ａ：パーフルオロオクタンスルホン酸のピーク面積
Ｘ：パーフルオロオクタンスルホン酸の濃度（ｎｇ／ｍＬ）
測定機器構成とＬＣ－ＭＳ測定条件
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000140
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000141
抽出液に含まれる炭素数が４以上、２０以下の一般式（２）で示される化合物の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計を用い、炭素数が４以上２０以下の一般式（２）で示される化合物を測定した。抽出した液相について、ＭＲＭ法を用いて各炭素数の一般式（２）で示される化合物のピーク面積を求めた。
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000142
抽出液中の炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（３）を用いて算出した。式（３）のａ、ｂは式（１）より求めた。
ＸＳｎ＝（（ＡＳｎ－ｂ）／ａ）×（（５０×ｎ＋８１）／４９９）　　（３）
ＸＳｎ：抽出溶液中の炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）
ＡＳｎ：抽出溶液中の炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物のピーク面積
この測定における定量限界は１ｎｇ／ｍＬである。
粉末中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量
粉末中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（４）により求めた。
ＹＳｎ＝ＸＳｎ×１２．６　　（４）
ＹＳｎ：粉末中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
水性分散液中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量
水性分散液中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（５）により求めた。
ＺＳｎ＝ＸＳｎ×８６．３　　（５）
ＺＳｎ：水性分散液中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（６）により求めた。
ＷＳｎ＝ＸＳｎ×１２６　　（６）
ＷＳｎ：成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
〔一般式（７）で示される化合物の含有量測定方法〕
抽出液に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量測定
一般式（７）：（Ｆ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）Ｍ
粉末からの抽出
粉末１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（７）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
水性分散液からの抽出
水性分散液の固形分を測定し、ＰＴＦＥ固形分０．５ｇに相当する量の水性分散液を１００ｍＬスクリュー管に秤量した。その後、水性分散液中に含まれている水と合わせ、抽出溶媒が４０ｇ（４３．１４ｍＬ）の水／メタノール＝５０／５０ｖｏｌ％となるように水とメタノールを加えた。その後、凝析するまでよく振とうした。固形分を取り除き、液相を４０００ｒｐｍで１時間遠心分離を行い、一般式（７）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
成形体（押出ビード、延伸ビード）からの抽出
成形体０．１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（７）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
抽出液に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量測定
抽出液に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量はパーフルオロオクタン酸に換算することにより求めた。
パーフルオロオクタン酸の検量線
１ｎｇ／ｍＬ～１００ｎｇ／ｍＬの濃度既知のパーフルオロオクタン酸のメタノール標準溶液を５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，　ＬＣ－ＭＳ　ＡＣＱＵＩＴＹ　ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用いて測定を行った。それぞれのサンプル濃度とピークの積分値から一次近似を用い、下記関係式（１）によりａ、ｂを求めた。
Ａ＝ａ×Ｘ＋ｂ　　（１）
Ａ：パーフルオロオクタン酸のピーク面積
Ｘ：パーフルオロオクタン酸の濃度（ｎｇ／ｍＬ）
測定機器構成とＬＣ－ＭＳ測定条件
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000143
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000144
抽出液に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計を用い、一般式（７）で示される化合物を測定した。抽出した液相について、ＭＲＭ法を用いて一般式（７）で示される化合物のピーク面積を求めた。
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000145
抽出液中の一般式（７）で示される化合物の含有量は下記式（３）を用いて算出した。式（３）のａ、ｂは式（１）より求めた。
ＸＰＦＯ＝（ＡＰＦＯ－ｂ）／ａ　　（３）
ＸＰＦＯ：抽出溶液中の一般式（７）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）
ＡＰＦＯ：抽出溶液中の一般式（７）で示される化合物のピーク面積
この測定における定量限界は１ｎｇ／ｍＬである。
粉末中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量
粉末中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量は下記式（４）により求めた。
ＹＰＦＯ＝ＸＰＦＯ×１２．６　　（４）
ＹＰＦＯ：粉末中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
水性分散液中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量
水性分散液中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量は下記式（５）により求めた。
ＺＰＦＯ＝ＸＰＦＯ×８６．３　　（５）
ＺＰＦＯ：水性分散液中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量
成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量は下記式（６）により求めた。
ＷＰＦＯ＝ＸＰＦＯ×１２６　　（６）
ＷＰＦＯ：成形体（押出ビード、延伸ビード）中に含まれる一般式（７）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
ＰＴＦＥ１００重量部に対するフッ素ラジカル源添加量（Ａ）（重量部）は、次式に従い算出した。
Ａ＝（Ｂ／Ｆ）×１００
Ｂ＝Ｃ×Ｄ×Ｅ
Ｃ＝４．０９２×１０－５×Ｇ×Ｈ
Ａ：ＰＴＦＥ１００重量部に対するフッ素ラジカル源添加量（重量部）
Ｂ：全フッ素ラジカル源添加量（ｇ）
Ｃ：混合ガス中のフッ素ラジカル源濃度（ｇ／ｍＬ）
Ｄ：混合ガス流通速度（ｍＬ／ｍｉｎ）
Ｅ：フッ素化処理時間（ｍｉｎ）
Ｆ：サンプル充填量（ｇ）
Ｇ：フッ素ラジカル源の分子量（ｇ／ｍｏｌ）
Ｈ：混合ガス中のフッ素ラジカル源の比率
Ｃの定数〔４．０９２×１０－５〕は、Ｐ（圧力：ａｔｍ）／｛Ｒ（気体定数）×Ｔ（温度：Ｋ）×１０００｝＝１／｛０．０８２×２９８×１０００｝により算出した。
合成例１
１０－ウンデセン－１－オール（１６ｇ）、１，４－ベンゾキノン（１０．２ｇ）、ＤＭＦ（１６０ｍＬ）、水（１６ｍＬ）及びＰｄＣｌ２（０．３４ｇ）の混合物を９０℃で１２時間加熱撹拌した。
その後減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣を分液及びカラムクロマトグラフィーで精製し、１１－ヒドロキシウンデカン－２－オン（１５．４ｇ）を得た。
得られた１１－ヒドロキシウンデカン－２－オンのスペクトルデータを以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δｐｐｍ：１．２９－１．４９（ｍ，１４Ｈ）、２．０８（ｓ，３Ｈ）、２．４５（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ）、３．５１（Ｊ＝６．５，ｔ，２Ｈ）
１１－ヒドロキシウンデカン－２－オン（１３ｇ）、三酸化硫黄トリエチルアミン錯体（１３．９ｇ）、テトラヒドロフラン（１４０ｍＬ）の混合物を５０℃下１２時間撹拌した。ナトリウムメトキシド（３．８ｇ）／メタノール（１２ｍＬ）溶液を反応液に滴下した。
析出固体を減圧濾過し、酢酸エチルで洗浄し、１０－オキソウンデシル硫酸ナトリウム（１５．５ｇ）（以下、界面活性剤Ａという）を得た。得られた１０－オキソウンデシル硫酸ナトリウムのスペクトルデータを以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δｐｐｍ：１．０８（Ｊ＝６．８，ｍ，１０Ｈ）、１．３２（ｍ，２Ｈ）、１．４５（ｍ，２Ｈ）、１．９８（ｓ，３Ｈ）、２．３３（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ）、３．８３（Ｊ＝６．５，ｔ，２Ｈ）
合成例２
内容積６ＬのＳＵＳ製のオートクレーブに３５００ｇの脱イオン脱気水、１００ｇのパラフィンワックス、０．１２２ｇの界面活性剤Ａを加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換を行ない、酸素を取り除いた。反応器を７０℃に昇温し、ＴＦＥを反応器に充填して、反応器を０．７８ＭＰａにする。重合開始剤として過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）０．０７０ｇを仕込んだ。反応圧が０．７８ＭＰａ一定となるようにＴＦＥを仕込む。反応途中に界面活性剤Ａを９回、トータル１．１０ｇ添加した。ＴＦＥを４２５ｇ仕込んだ時に、撹拌を停止し、反応器が大気圧になるまで脱圧を行なう。水性分散液を反応器より取り出し、冷却後、パラフィンワックスを分離し、ＰＴＦＥ水性分散液Ａを得た。
得られたＰＴＦＥ水性分散液Ａ中のＰＴＦＥ固形分含有量は１０．７質量％であった。
得られたＰＴＦＥ水性分散液Ａに含まれるＰＴＦＥ粒子の平均一次粒子径は１７８ｎｍであった。
得られたＰＴＦＥ水性分散液Ａの一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を測定した。結果を下記表１０に示す。
実験例１
合成例２で得られたＰＴＦＥ水性分散液Ａに脱イオン水を加え、比重（２５℃）を１．０８０に調整した。アンカー型撹拌翼と邪魔板を備えた内容量が６Ｌのガラス製凝析槽に、比重調整したＰＴＦＥ水性分散液２．５Ｌを加え、内温が３４℃になるように温度調節した。調節後直ちに硝酸（１０％）１６ｇを添加すると同時に撹拌速度５００ｒｐｍで撹拌を開始した。撹拌開始後、水性分散液がスラリー状態を経て、湿潤ＰＴＦＥ粉末が形成されたことを確認し、更に１分間撹拌を継続した。
続いて、湿潤ＰＴＦＥ粉末を濾別し、湿潤ＰＴＦＥ粉末と脱イオン水２．５Ｌを凝析槽内に仕込み、２５℃に調整して、撹拌速度５００ｒｐｍでポリマー粉末を洗浄する操作を２回繰り返した。洗浄の後、湿潤ＰＴＦＥ粉末を濾別し、１５０℃の熱風循環式乾燥機内に１８時間静置して乾燥させ、ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られたＰＴＦＥ粉末のＳＳＧは、２．１７５であった。このことより、得られたＰＴＦＥは、高分子量ＰＴＦＥであることが分かった。
得られたＰＴＦＥ粉末の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を測定した。結果を表１０に示す。
実験例２
実験例１で得たＰＴＦＥ粉末３０ｇを反応器に入れた。１５０℃になるように反応器内を昇温し、１時間窒素置換を行い反応器内の空気を除去した。１５０℃に保持したまま、フッ素ラジカル源としてフッ素ガス（Ｆ２）を窒素ガスで希釈した混合ガス（フッ素／窒素（容積比）＝２０／８０）を流量約５０ｍＬ／ｍｉｎで４８０分間（８時間）流し続けたフッ素ラジカル源添加量（すなわち、フッ素ガスの量）７．５ｇ）。反応終了後、直ちに窒素ガスで系内を１時間置換してフッ素ガスを除去した。澱粉／ヨウ化物試験を行い、指示薬の発色の有無により不活性ガス中にフッ素ガスがないことを確認した。反応容器の温度を室温まで冷却し、得られたＰＴＦＥ粉末の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を測定した。結果は表１０に示す。
実験例３
実験例２において、反応温度を２００℃にする以外は、実験例２と同様の操作を行い、得られたＰＴＦＥ粉末の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を測定した。結果は下記表１０に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000146
 ｎが５、７、９、１１、１３、１５、１７及び１９、ｍが４、６、８、１０、１２、１４、１６及び１８のピークについては定量限界以下であった。
定量限界は、水性分散液の場合が８６ｐｐｂであり、粉末の場合が１３ｐｐｂである。
合成例３
１０－オキソウンデカン酸（１．８ｇ）を１．０ＭＫＯＨ水に加えて、水を留去して、１０－オキソウンデカン酸カリウム（２．２ｇ）を得た。
得られた１０－オキソウンデカン酸カリウム（以下、界面活性剤Ｂという）のスペクトルデータを以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δｐｐｍ：１．０４（ｍ，８Ｈ）、１．３０－１．３２（ｍ，４Ｈ）、１．８９－２．０１（ｍ，５Ｈ）、２．２７－２．３３（ｔ，Ｊ＝７．６，４Ｈ）
合成例４
内容積１Ｌのガラス製のオートクレーブに５５０ｇの脱イオン脱気水、３０ｇのパラフィンワックス、０．０１４５ｇの界面活性剤Ｂを加えた。反応器を密閉し、系内を窒素で置換を行ない、酸素を取り除いた。反応器を７０℃に昇温し、ＴＦＥを反応器に充填して、
反応器を０．７８ＭＰａにした。重合開始剤として過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）０．１１０ｇを仕込んだ。反応圧力が０．７８ＭＰａ一定となるように、ＴＦＥを仕込んだ。ＴＦＥを５０ｇ仕込んだ時に、撹拌を停止し、反応器が大気圧になるまで脱圧を行なった。水性分散液を反応器より取り出し、冷却後、パラフィンワックスを分離し、ＰＴＦＥ水性分散液Ｂを得た。得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂに含まれる粒子の平均粒子径は、２１６ｎｍであった。また、得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂの固形分含有量は、８．２質量％であった。
得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂの一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を測定した。結果を下記表１１に示す。
実験例４
合成例４で得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂに脱イオン水を加え、比重（２５℃）を１．０８０に調整した。アンカー型撹拌翼と邪魔板を備えた内容量が６Ｌのガラス製凝析槽に、比重調整したＰＴＦＥ水性分散液２．５Ｌを加え、内温が３４℃になるように温度調節した。調節後直ちに硝酸（１０％）１６ｇを添加すると同時に撹拌速度５００ｒｐｍで撹拌を開始した。撹拌開始後、水性分散液がスラリー状態を経て、湿潤ＰＴＦＥ粉末が形成されたことを確認し、更に１分間撹拌を継続した。
続いて、湿潤ＰＴＦＥ粉末を濾別し、湿潤ＰＴＦＥ粉末と脱イオン水２．５Ｌを凝析槽内に仕込み、２５℃に調整して、撹拌速度５００ｒｐｍでポリマー粉末を洗浄する操作を２回繰り返した。洗浄の後、湿潤ＰＴＦＥ粉末を濾別し、１５０℃の熱風循環式乾燥機内に１８時間静置して乾燥させ、ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られたＰＴＦＥ粉末のＳＳＧは、２．２６１であった。このことより、得られたＰＴＦＥは、高分子量ＰＴＦＥであることが分かった。
得られたＰＴＦＥ粉末の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を測定した。結果を下記表１１に示す。
実験例５
実験例４で得られたＰＴＦＥ粉末３０ｇを反応器に入れたこと以外は、実験例３と同条件でフッ素化処理を行い、得られたＰＴＦＥ粉末の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を測定した。結果は下記表１１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000147
 ｎが５、７、９、１１、１３、１５、１７及び１９、ｍが４、６、８、１０、１２、１４、１６及び１８のピークについては定量限界以下であった。
定量限界は、水性分散液の場合が８６ｐｐｂであり、粉末の場合が１３ｐｐｂである。
実験例６～２０
表１２～１４に示すように、反応器内の温度、フッ素ラジカル源としてフッ素ガス（Ｆ２）の添加量を変更したこと以外は、実験例２と同じ方法で反応を行った。反応終了後、直ちに窒素ガスで系内を１時間置換してフッ素ガスを除去した。澱粉／ヨウ化物試験を行い、指示薬の発色の有無により不活性ガス中にフッ素ガスがないことを確認した。反応容器の温度を室温まで冷却し、得られたＰＴＦＥ粉末の一般式（１）、（２）及び（７）で示される化合物の含有量を測定した。結果は表１２～１４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000148
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000149
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000150
実験例２１
実験例１で得られたＰＴＦＥ粉末を、特開２００２－２０１２１７号公報記載の方法に従い、ペースト押出成形を行い、押出ビードを得た。
すなわち、実験例１で得られたＰＴＦＥ粉末１００ｇを、室温で２時間以上放置した後、押出助剤として潤滑剤（アイソパーＨ、エクソンモービル社製）２１．７ｇを３分間混合してＰＴＦＥ粉末の混合物を得た。
得られたＰＴＦＥ粉末の混合物を、２５℃恒温槽に２時間放置した後に、２５℃にて、リダクションレシオ１００（ＲＲ１００、シリンダー径２５ｍｍ、オリフィスの直径２．５ｍｍ、オリフィスのランド長１．１ｍｍ、導入角３０°）、押出速度５１ｃｍ／分の条件で、ペースト押出成形を行い、潤滑剤を含むＰＴＦＥ押出ビードを得た。
次いで、得られた潤滑剤を含むＰＴＦＥ押出ビードを、２３０℃で３０分間乾燥し、潤滑剤を除去することで、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実験例２２
実験例２１で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビード１０ｇを、フッ素ラジカル源としてフッ素ガス（Ｆ２）を窒素ガスで希釈した混合ガス（フッ素／窒素（容積比）＝２０／８０）を流量約５０ｍＬ／ｍｉｎで１６２分流し続けた以外は、実験例３と同様にしてフッ素化処理を行い、フッ素化処理されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実施例２３
実験例２１で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビードを、特開２００２－２０１２１７号公報記載の方法に従い、延伸することで、ＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
すなわち、実験例２１で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビードを適当な長さに切断し、クランプ間が５．１ｃｍとなるよう、各末端を固定し、空気循環炉中３００℃に加熱した。
次いで、クランプを総ストレッチ（延伸長さ）が２４００％になるよう延伸速度１０００％／秒でビードを延伸することで、ＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
実験例２４
実験例２３で得られた乾燥後のＰＴＦＥ延伸ビード０．５ｇを、フッ素ラジカル源としてフッ素ガス（Ｆ２）を窒素ガスで希釈した混合ガス（フッ素／窒素（容積比）＝２０／８０）を流量約５０ｍＬ／ｍｉｎで７．２分流し続けた以外は、実験例３と同様にしてフッ素化処理を行い、フッ素化処理されたＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
実験例２１で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビード、実験例２２で得られたフッ素化処理されたＰＴＦＥ押出ビード、実験例２３で得られたＰＴＦＥ延伸ビード、及び実験例２４で得られたフッ素化処理されたＰＴＦＥ延伸ビードについて、一般式（１）、（２）及び（７）で示される化合物の含有量を測定した。結果を表１５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000151
 定量限界は、成形体の場合は、１．３×１０２ｐｐｂである。以下も同様である。
実験例２５
実験例３で得られたフッ素化処理されたＰＴＦＥ粉末を、実験例２１と同様にしてペースト押出成形、及び乾燥を行い、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実験例２６
実験例２５で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビード（フッ素化処理された粉末を使用して、ペースト押出成形されたＰＴＦＥ押出ビード）を、実験例２３と同様にして延伸を行い、
ＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
実験例２７
実験例２２で得られたフッ素化処理されたＰＴＦＥ押出ビードを、実験例２３と同様にして延伸を行い、ＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
実験例２８
実験例１で得られたＰＴＦＥ粉末を、２４０℃の熱風循環式乾燥機内に３時間静置して熱処理を行い、再熱処理されたＰＴＦＥ粉末を得た。
実験例２９
実験例２１で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビードを、２４０℃の熱風循環式乾燥機内に３時間静置して熱処理を行い、再熱処理されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実験例３０
実験例２３で得られたＰＴＦＥ延伸ビードを、２４０℃の熱風循環式乾燥機内に３時間静置して熱処理を行い、再熱処理されたＰＴＦＥ延伸ビードを得た。
実験例３１
湿潤ＰＴＦＥ粉末の乾燥温度を２４０℃に変更した以外は実験例１と同様にして、ＰＴＦＥ粉末を得た。
実験例２５で得られた乾燥されたＰＴＦＥ押出ビード、実験例２６で得られたＰＴＦＥ延伸ビード、実験例２７で得られたＰＴＦＥ延伸ビード、実験例２８で得られた再熱処理されたＰＴＦＥ粉末、実験例２９で得られた再熱処理されたＰＴＦＥ押出ビード、実験例３０で得られた再熱処理されたＰＴＦＥ延伸ビード、及び実験例３１で得られたＰＴＦＥ粉末について、一般式（１）、（２）及び（７）で示される化合物の含有量を測定した。結果を表１６に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000152
  
実験例３２
実験例４で得られたＰＴＦＥ粉末を、実験例２１と同様にしてペースト押出成形、及び乾燥を行い、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実験例３３
実験例３２で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビードを、実験例２２と同様にしてフッ素化処理を行い、フッ素化処理されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実験例３４
実験例５で得られたフッ素化処理されたＰＴＦＥ粉末を、実験例２１と同様にしてペースト押出成形、及び乾燥を行い、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実験例３５
実験例４で得られたＰＴＦＥ粉末を、２４０℃の熱風循環式乾燥機内に３時間静置して熱処理を行い、再熱処理されたＰＴＦＥ粉末を得た。
実験例３６
実験例３５で得られた再熱処理されたＰＴＦＥ粉末を、実験例２１と同様にしてペースト押出成形、及び乾燥を行い、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実験例３７
実験例３２で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビードを、２４０℃の熱風循環式乾燥機内に３時間静置して熱処理を行い、再熱処理されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実験例３８
湿潤ＰＴＦＥ粉末の乾燥温度を２４０℃に変更した以外は実験例４と同様にして、ＰＴＦＥ粉末を得た。
実験例３９
実験例３８で得られたＰＴＦＥ粉末を、実験例２１と同様にしてペースト押出成形及び乾燥を行い、乾燥されたＰＴＦＥ押出ビードを得た。
実験例３２で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビード、実験例３３で得られたフッ素化処理されたＰＴＦＥ押出ビード、実験例３４で得られたＰＴＦＥ押出ビード、実験例３５で得られた再熱処理されたＰＴＦＥ粉末、実験例３６で得られたＰＴＦＥ押出ビード、実験例３７で得られた再熱処理されたＰＴＦＥ押出ビード、実験例３８で得られたＰＴＦＥ粉末及び実験例３９で得られた乾燥後のＰＴＦＥ押出ビードについて、一般式（１）、（２）及び（７）の含有量を測定した。結果を表１７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000153
イオン交換処理による一般式（１）又は（２）で示される化合物の低減
非イオン性界面活性剤を含むＰＴＦＥ水性分散液中のＰＴＦＥ含有量（Ｐ）　
試料約１ｇ（Ｘ）を直径５ｃｍのアルミカップにとり、１１０℃、１時間で乾燥し、更に３００℃、１時間乾燥した加熱残分（Ｚ）に基づき、式：Ｐ＝Ｚ／Ｘ×１００（質量％）にて決定した。
非イオン性界面活性剤を含むＰＴＦＥ水性分散液中の、ＰＴＦＥに対する非イオン性界面活性剤の含有量（Ｎ）　
試料約１ｇ（Ｘｇ）を直径５ｃｍのアルミカップにとり、１００℃にて１時間で加熱した加熱残分（Ｙｇ）、更に、得られた加熱残分（Ｙｇ）を３００℃にて１時間加熱した加熱残分（Ｚｇ）より、式：Ｎ＝［（Ｙ－Ｚ）／Ｚ］×１００（％／ＰＴＦＥ）から算出した。
合成例５
内容積１Ｌの攪拌機付きガラス製の反応器に、５８８．６ｇの脱イオン水、７０．０ｇの界面活性剤Ａを加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換を行い、酸素を取り除いた。反応器を９０℃に昇温し、窒素で０．４ＭＰａに昇圧する。４１．４ｇの過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）を仕込み、３時間撹拌した。撹拌を停止し、反応器を大気圧になるまで脱圧を行い、冷却を行い、界面活性剤水溶液Ｃを得た。
合成例６
内容積６Ｌの攪拌機付きＳＵＳ製の反応器に、３６００ｇの脱イオン脱気水、１８０ｇのパラフィンワックス、及び０．５４０ｇの界面活性剤Ａを加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換を行い、酸素を取り除いた。反応器を９０℃に昇温し、ＴＦＥを反応器に充填して、反応器を２．７０ＭＰａにする。重合開始剤として０．０３１ｇの過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）、１．４８８ｇのジコハク酸パーオキサイド（ＤＳＰ）を仕込んだ。反応圧が２．７０ＭＰａ一定となるようにＴＦＥを仕込んだ。ＴＦＥを仕込み始めたと同時に界面活性剤水溶液Ｃを連続的に仕込み始めた。ＴＦＥを１６５０ｇ仕込んだ時に、撹拌を停止し、反応器が大気圧になるまで脱圧を行なった。反応終了までに界面活性剤水溶液Ｃは１３９ｇ仕込んだ。内容物を反応器より取り出して、冷却後、パラフィンワックスを分離し、ＰＴＦＥ水性分散液Ｃを得た。
得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｃの固形分含有量は３１．７質量％であり、平均一次粒子径は、３５７ｎｍであった。
実験例４０　非イオン性界面活性剤を含むＰＴＦＥ水性分散液の調製例　
合成例６で得られたＰＴＦＥ水性分散液に、非イオン性界面活性剤（Ｔ－Ｄｅｔ　Ａ１３８、Ｈａｃｒｏｓ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製）をＰＴＦＥに対し１０％に相当する量を加え、樹脂棒で緩やかに分散し、非イオン性界面活性剤を含むＰＴＦＥ水性分散液Ｄを得た。
実験例４１
実験例４０で得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｄ１００ｇを２００ｍＬのビーカーにとり、陰イオン交換樹脂（アンバージェットＩＲＡ４００２ＯＨ、ローム・アンド・ハース社製）を１８ｇ加え、凝集しない程度の強さでスターラーを用いて３０分間撹拌した。３時間静置後、メッシュを用いてイオン交換樹脂を除去し、精製ＰＴＦＥ水性分散液を得た。
実験例４２
実験例４１で得られた精製ＰＴＦＥ水性分散液に更に陰イオン交換樹脂アンバージェットＩＲＡ４００２ＯＨを実験例４１と同じ割合で加え、同様の操作を行い、精製ＰＴＦＥ水性分散液を得た。
実験例４３
実験例４１で得られた精製ＰＴＦＥ水性分散液に対して、非イオン性界面活性剤（Ｔ－Ｄｅｔ　Ａ１３８、Ｈａｃｒｏｓ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製）が１５％／ＰＴＦＥになるように追加し、４８℃で４時間静置したところ、ＰＴＦＥを実質的に含まない上澄相と濃縮相の２相に分離した。上澄相を除去し、濃縮相（精製ＰＴＦＥ水性分散液）を得た。　
実験例４４
実験例４２で得られた精製ＰＴＦＥ水性分散液に対して、実験例４３と同様の操作を行い、濃縮相（精製ＰＴＦＥ水性分散液）を得た。　
実験例４５
実験例４３で得られた濃縮相（精製ＰＴＦＥ水性分散液）に非イオン性界面活性剤と水とを加え、ＰＴＦＥ含有量が２５質量％、非イオン性界面活性剤の含有量が１５％／ＰＴＦＥとなるように調整した後、４４℃にて４時間静置したところ、ＰＴＦＥを実質的に含まない上澄相と濃縮相の２相に分離した。上澄相を除去し、濃縮相（精製ＰＴＦＥ水性分散液）を得た。
実験例４６
実験例４４で得られた濃縮相（精製ＰＴＦＥ水性分散液）に実験例４５と同じ操作を行い、濃縮相（精製ＰＴＦＥ水性分散液）を得た。
実験例４７
実験例４０で得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｄにアンモニア水でｐＨを１０となるように調整した他は、実験例４３と同様の操作を行い、濃縮相（精製ＰＴＦＥ水性分散液）を得た。
実験例４８
実験例４７で得られた濃縮相（精製ＰＴＦＥ水性分散液）に実験例４５と同様の操作を行い、濃縮相（精製ＰＴＦＥ水性分散液）を得た。
実験例４０で得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｄ、及び実験例４１～４８で得られた精製ＰＴＦＥ水性分散液に対して、非イオン性界面活性剤を含むＰＴＦＥ水性分散液中のＰＴＦＥ含有量（Ｐ）、非イオン性界面活性剤を含むＰＴＦＥ水性分散液中の非イオン性界面活性剤の含有量（Ｎ）、ＰＴＦＥ水性分散液に含まれる一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量について測定を行った。測定結果を表１８に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000154

Claims (29)

  1. 炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレン水性分散液から下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とする精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法。
    一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
    （式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は前記と同じ）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
  2. 前記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程は、前記ポリテトラフルオロエチレン水性分散液をイオン交換処理及び／又は濃縮処理する工程を含む請求項１記載の精製ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法。
  3. 炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレン粉末から下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とする改質ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法。
    一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
    （式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
  4. 前記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程は、炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレン粉末を１６０℃以上の温度で熱処理する工程を含む請求項３記載の改質ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法。
  5. 炭化水素系界面活性剤を用いて製造されたポリテトラフルオロエチレンを用いて成形体を製造する方法であって、
    下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とするポリテトラフルオロエチレン成形体の製造方法。
    一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
    （式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
  6. 前記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程は、１６０℃以上の温度で熱処理する工程を含む請求項５記載の改質ポリテトラフルオロエチレン粉末の製造方法。
  7. 炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレンに、１００℃超の温度でフッ素ラジカル源を接触させて、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含むことを特徴とする改質ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
    一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
    （式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
  8. 炭化水素系界面活性剤を用いて得られたポリテトラフルオロエチレンをフッ素ラジカル源と接触させて、下記一般式（１）又は（２）で示される化合物を除去又は低減する工程を含み、前記フッ素ラジカル源の添加量は、フッ素原子に換算して、ポリテトラフルオロエチレン１００重量部に対して０．５重量部以上であることを特徴とするポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
    一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
    （式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
  9. ポリテトラフルオロエチレンを含み、
    下記一般式（３）で示される化合物を実質的に含まないことを特徴とする組成物。
    一般式（３）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＳＯ３）ｑＭ２
    （式中、Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
  10. 一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、１０００ｐｐｂ以下である請求項９記載の組成物。
  11. 一般式（３）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して、２５ｐｐｂ以下である請求項９又は１０記載の組成物。
  12. 下記一般式（４）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ポリテトラフルオロエチレン以上含む請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  13. 下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
    下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、
    下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ポリテトラフルオロエチレン以上含む請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（４’）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  14. 下記一般式（５）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含み、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ポリテトラフルオロエチレン以上含む請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  15. 下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
    下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、
    下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、かつ、非イオン性界面活性剤を、１％／ポリテトラフルオロエチレン以上含む請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（５’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１４－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  16. 水性分散液である、請求項１２～１５のいずれかに記載の組成物。
  17. 下記一般式（４）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含む請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  18. 下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
    下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、
    下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下である請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（４’）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  19. 下記一般式（５）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含む請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  20. 下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
    下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下であり、
    下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下である請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（５’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１４－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  21. 下記一般式（４）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下含む請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  22. 下記一般式（４）で示される化合物及び下記一般式（４’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
    下記一般式（４）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、
    下記一般式（４’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（４）：（Ｈ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（４’）：（Ｈ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  23. 下記一般式（５）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下含む請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  24. 下記一般式（５）で示される化合物及び下記一般式（５’）で示される化合物の少なくともいずれかを含み、
    下記一般式（５）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下であり、
    下記一般式（５’）で示される化合物の含有量が、ポリテトラフルオロエチレンに対して２５ｐｐｂ以下である請求項９～１１のいずれかに記載の組成物。
    一般式（５）：（Ｈ－（ＣＦ２）１３－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（５’）：（Ｈ－（ＣＦ２）１４－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  25. 更に、下記一般式（７）で示される化合物を、ポリテトラフルオロエチレンに対して１０００ｐｐｂ以下含む請求項１７～２４のいずれかに記載の組成物。
    一般式（７）：（Ｆ－（ＣＦ２）７－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ ４（Ｒ５は、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
  26. ポリテトラフルオロエチレンは、炭化水素系界面活性剤を用いて重合して得られたものである請求項９～２５のいずれかに記載の組成物。
  27. 粉末である請求項１７～２６のいずれかに記載の組成物。
  28. 請求項２７記載の組成物からなる成形体。
  29. 延伸体である請求項２８記載の成形体。
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