WO2019003781A1 - 機能性フィルム - Google Patents

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WO2019003781A1
WO2019003781A1 PCT/JP2018/020803 JP2018020803W WO2019003781A1 WO 2019003781 A1 WO2019003781 A1 WO 2019003781A1 JP 2018020803 W JP2018020803 W JP 2018020803W WO 2019003781 A1 WO2019003781 A1 WO 2019003781A1
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film
functional
functional film
amorphous
support
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PCT/JP2018/020803
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拓己 古屋
達矢 泉
郷 大西
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リンテック株式会社
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Publication date
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    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements

Definitions

  • the present invention relates to a functional film having a support film for amorphous film.
  • a transparent plastic film as an optical film used for members for optical devices, such as a liquid crystal display (LCD) and an electroluminescence (EL) display
  • an amorphous film formed of an amorphous resin is used from the viewpoint of transparency and optical properties such as in-plane retardation.
  • Such amorphous film is fragile and easily scratched, so at least on the surface where the amorphous film comes in contact with a device etc., for protection during use in storage or processing steps or storage. It is used or stored in the form of a laminate provided with a support film.
  • Patent Document 1 includes a carrier film having a pressure-sensitive adhesive layer on at least one surface side of a protective film, and a transparent conductive film laminated so as to be peelable via the pressure-sensitive adhesive layer.
  • a transparent conductive film laminate is disclosed that meets the specific requirements of and curl value.
  • the transparent resin film in the transparent conductive film is made of an amorphous cycloolefin resin
  • the protective film is a resin different from the amorphous cycloolefin resin. It is essential to be formed of an amorphous resin having a glass transition temperature of 130 ° C. or higher.
  • an amorphous film used as a member for an optical device may be mounted in a final product through, for example, a Roll to Roll (hereinafter, also referred to as “RtoR”) process.
  • processings such as heat processing, may be performed with respect to the said laminated body.
  • a transparent conductive film is laminated on the amorphous film and then the transparent conductive film is crystallized. The annealing process etc. which are performed are mentioned.
  • an amorphous film When an amorphous film is used as a member of a gas barrier film, when the gas barrier layer is formed on the amorphous film with an inorganic compound or a silicon-containing polymer compound, the amorphous film is heated to a high temperature. A process of exposure to the environment may be performed. Therefore, the laminate is subjected to high temperature conditions under a predetermined load. In the case where a predetermined load is applied under high temperature, there is a problem that the support film is largely deformed unless an appropriate support film is used to protect the amorphous film. As described above, when the support film itself is deformed, the laminate including the amorphous film may be largely curled.
  • the laminate including the amorphous film is largely curled, transport defects, processing defects and the like occur in the subsequent steps, leading to problems such as production problems and a drop in productivity such as a decrease in yield.
  • the protective film which consists of an amorphous resin described in patent document 1 by the process to which a load is applied under high temperature, such as RtoR process, there exists a possibility that the winding-up defect by blocking may generate
  • the protective film itself is an amorphous resin, there is a possibility that the protective film itself may be broken due to brittleness.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a functional film capable of suppressing curling even when a load is applied under a high temperature environment.
  • the present inventors have found that a functional film having a support film having a thermal expansion coefficient satisfying a specific range as a support film for an amorphous film under a predetermined condition can solve the above-mentioned problems, and the present invention It was completed. That is, the present invention provides the following [1] to [10].
  • the functional film, wherein the support film satisfies the following condition (I): Condition (I): After raising the temperature from 25 ° C. to 150 ° C.
  • the absolute value of the coefficient of thermal expansion measured after cooling is 0.50% or less
  • the glass transition temperature (Tg) of the support film is less than the glass transition temperature (Tg) of the non-crystalline film.
  • Functional film as described in said [1].
  • the lower limit value and the upper limit value described stepwise with respect to a preferable numerical range can be combined independently.
  • a preferable numerical range for example, range such as content
  • the description “preferably 10 to 90, more preferably 30 to 60” “preferred lower limit (10)” and “more preferred upper limit (60)” are combined to obtain “10 to 60”. It can also be done.
  • “preferably 10 or more, more preferably 30 or more” and the description “preferably 90 or less, more preferably 60 or less” for the same matter “preferred lower limit (10)” and “preferred upper limit”
  • the value (60) can be combined to make “10 or more and 60 or less”.
  • the functional film of the present invention is a functional film which is a laminate of an amorphous film and a support film, or a laminate in which an amorphous film, an adhesive layer and a support film are directly laminated in this order.
  • the functional film, wherein the support film satisfies the following condition (I): Condition (I): After raising the temperature from 25 ° C. to 150 ° C. at a heating rate of 5 ° C./min under a tensile load of 50 g / 5 mm, subsequently, from 150 ° C. to 25 ° C. at a temperature decrease rate of 5 ° C./min.
  • the absolute value of the coefficient of thermal expansion measured after cooling is 0.50% or less
  • the present inventors use a functional film having an amorphous film as a laminate having a support film which satisfies the condition (I). It has been found that it is possible to provide a functional film capable of suppressing curling even when a load is applied under a high temperature environment.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a functional film 1 composed of an amorphous film 11 and a support film 12, which is an example of an embodiment according to the functional film of the present invention.
  • a manufacturing method of functional film 1 of the mode concerned a method of applying directly a solution of raw material resin which forms amorphous film 11 on support film 12 directly, and drying it, or forming support film 12 is formed, for example. And the resin that forms the amorphous film 11 are co-extruded to form the functional film 1, and the like.
  • FIG. 2 is an example of the embodiment according to the functional film of the present invention, which is a functional film 2 which is a laminate in which an amorphous film 11, an adhesive layer 13 and a support film 12 are directly laminated in this order.
  • FIG. 2 As shown in FIG. 2, the amorphous film 11 and the support film 12 are laminated via the pressure-sensitive adhesive layer 13.
  • pressure sensitive adhesive layer 13 is provided, for example on support film 12 prepared beforehand, and an amorphous film prepared beforehand to the exposure side of the pressure sensitive adhesive layer 13 concerned. 11 is laminated, and the method of bonding together using a laminator etc. is mentioned.
  • the pressure-sensitive adhesive layer 13 is provided on the amorphous film 11 prepared in advance, and the support film 12 prepared in advance is laminated on the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer 13 and is bonded using a laminator or the like. Can be mentioned.
  • the thickness of the functional film is preferably 10 to 400 ⁇ m, more preferably 50 to 350 ⁇ m, and still more preferably 80 to 300 ⁇ m.
  • the thickness of the functional film can be measured, for example, using the method described in the examples below. Alternatively, it can be calculated as the sum of the thickness of each layer described later.
  • the functional film preferably has a curling amount of 20 mm or less, more preferably 15 mm or less, still more preferably 10 mm or less, still more preferably 5 mm or less, which is measured by the method described in the examples described later.
  • each member which comprises the said functional film is demonstrated in more detail.
  • the non-crystalline film is a film formed of non-crystalline resin and is preferably at least one selected from the group consisting of cycloolefin films and polycarbonate films from the viewpoint of excellent transparency and dimensional stability. Further, from the viewpoint of low water absorption and excellent heat resistance, a cycloolefin-based film is more preferable.
  • the amorphous resin refers to a resin having a crystallinity of less than 25% as measured by X-ray diffraction (XRD).
  • crystalline resin means resin whose said crystallinity degree is 25% or more.
  • the said cycloolefin type film is a film formed from cycloolefin type resin.
  • the cycloolefin resin is a resin obtained by polymerizing cycloolefin which is an alicyclic olefin as a monomer, and is a resin having a structural unit derived from cycloolefin as a repeating unit in the molecule.
  • cycloolefin examples include norbornene and substituted compounds thereof (hereinafter, these may be generically referred to as “norbornene-based monomer”) and the like.
  • Norbornene is a compound in which one carbon-carbon bond of norbornane is a double bond, and according to IUPAC nomenclature, it is named as bicyclo [2,2,1] hept-2-ene is there.
  • substituted norbornenes include 3-substituted ones substituted with a substituent such as methyl, ethyl, butyl and phenyl, wherein the double bond position of norbornene is 1,2-position, 4-substituted And 4-, 4-disubstituted, 5-ethylidene-2-norbornene and the like.
  • dicyclopentadiene dihydrodicyclopentadiene, methyldicyclopentadiene, dimethyldicyclopentadiene, tetracyclododecene, methyltetracyclododecene, dimethylcyclotetradodecene, tricyclopentadiene, tetracyclopentadiene, and dimethanooctamethylene dicyclopentadiene.
  • Polycyclic cyclic olefins such as hydronaphthalene; and monocyclic cyclic olefins such as cyclobutene, cyclopentene, cyclooctene, cyclooctadiene, cyclooctadiene, cyclooctatriene, and cyclododecatriene, etc. are also monomers constituting the cycloolefin resin can do.
  • the cycloolefin resin may or may not have a norbornane ring in its constituent unit.
  • a norbornene-type monomer which forms the cycloolefin type-resin which does not have a norbornane ring in a structural unit the monomer used as a 5-membered ring by ring-opening is mentioned, for example.
  • the monomer that becomes a 5-membered ring by the ring opening include norbornene, dicyclopentadiene, 1- or 4-methyl norbornene, 4-phenyl norbornene and the like.
  • norbornene is a structure having a double bond in the norbornane ring, and, for example, when addition polymerization is performed using a metallocene catalyst, a cycloolefin resin having a norbornane ring in its constituent unit Can also be synthesized.
  • cycloolefin resins include, for example, ring opening polymers of norbornene monomers; ring opening copolymers of norbornene monomers and other monomers; addition of maleic acid thereto and / or addition of cyclopentadiene etc. And modified polymers obtained by hydrogenating these polymers; addition polymers of norbornene monomers; addition copolymers of norbornene monomers and other monomers; and the like.
  • ethylene; ⁇ -olefins such as propylene; cycloalkenes; non-conjugated dienes and the like can be mentioned.
  • the cycloolefin resin may be a copolymer using one or more of a norbornene monomer and another alicyclic olefin.
  • the arrangement state of its molecules is not particularly limited, and may be a random copolymer or a block copolymer. It may be a graft copolymer.
  • the cycloolefin-based resin is also available as a commercial product, and for example, "ZEONEX” and “ZEONOR” (all registered trademarks) sold by Nippon Zeon Co., Ltd. under the trade name; all commercially available from JSR Co. “ARTON (registered trademark)”; “TOPAS (registered trademark)” sold by Polyplastics Co., Ltd .; “APEL (registered trademark)” sold by Mitsui Chemicals, Inc .; and the like.
  • commercially available films of these cycloolefin resin films and stretched films thereof can also be obtained, for example, "ZEONORFILM (registered trademark)” sold by Nippon Zeon Co., Ltd. under the trade names; And “ARTON (registered trademark) film” sold by JSR, and “ESSINA (registered trademark)” sold by Sekisui Chemical Co., Ltd., and the like.
  • the cycloolefin resin can be formed into a film by a casting method from a solution, a melt extrusion method, or the like.
  • the film forming method is not particularly limited.
  • a film is formed by a casting method using a uniform solution obtained by stirring and mixing a resin component with a solvent at a predetermined ratio.
  • the method of producing, the method of melt-mixing the resin component by a predetermined ratio, and the method of producing a film by the melt extrusion method etc. are employ
  • the polycarbonate-based film is a film formed of a polycarbonate-based resin.
  • the polycarbonate resin is a resin having a carbonate group in the main chain. It does not specifically limit as polycarbonate-type resin, A well-known thing can be used.
  • polycarbonates include aromatic polycarbonates, aliphatic polycarbonates, and aromatic-aliphatic polycarbonates. Among these, from the viewpoint of excellent heat resistance, mechanical strength, transparency and the like, one or more selected from the group consisting of aromatic-aliphatic polycarbonates and aromatic polycarbonates is preferable, and aromatic polycarbonates are more preferable.
  • the aromatic polycarbonate can be produced by reacting an aromatic diol with a carbonate precursor by interfacial polycondensation or melt transesterification, polymerizing a carbonate prepolymer by solid phase transesterification, or ring-opening weight of a cyclic carbonate compound. It can be obtained by a method of polymerization by law.
  • aromatic polycarbonates include polycarbonates using bisphenols. Examples of polycarbonates using such bisphenols include bisphenol A polycarbonate, branched bisphenol A polycarbonate, foam polycarbonate, copolycarbonate, block copolycarbonate, polyester carbonate, polyphosphonate carbonate, diethylene glycol bisallyl carbonate (CR-39), etc.
  • the polycarbonate resins also include resin compositions containing polycarbonate blended with other components such as bisphenol A polycarbonate blend, polyester blend, ABS blend, polyolefin blend, and styrene-maleic anhydride copolymer blend.
  • the polycarbonate-based resin is also available as a commercial product, and for example, "Panlite (registered trademark)” sold by Teijin Limited under the trade name; "Iupilon sold by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.” (Registered trademark); and the like.
  • commercially available films can be obtained from films of these polycarbonate resins and stretched films thereof. For example, “Pure Ace (registered trademark)” sold by Teijin Limited under the trade name; Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. "Iupilon (registered trademark) ⁇ sheet” sold by
  • the non-crystalline film may contain other components such as a stabilizer, a plasticizer, an antiaging agent, an antistatic agent, a leveling agent, and an ultraviolet light absorber, as required.
  • surface treatment such as etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet ray irradiation, electron beam irradiation, chemical formation, oxidation or undercoating treatment may be performed on the amorphous film surface in advance, if necessary.
  • the thickness of the non-crystalline film is preferably 1 to 100 ⁇ m, more preferably 10 to 80 ⁇ m, still more preferably 10 to 60 ⁇ m, and still more preferably 10 to 30 ⁇ m.
  • the glass transition temperature (Tg) of the non-crystalline resin forming the non-crystalline film is preferably 130 ° C. or more, more preferably 140 ° C. or more, and still more preferably 150 ° C. or more.
  • the upper limit of the glass transition temperature (Tg) is not particularly limited, but is preferably 250 ° C., more preferably 200 ° C., and still more preferably 180 ° C.
  • the thickness of the non-crystalline film and the value of the glass transition temperature (Tg) can be measured, for example, using the methods described in the examples below.
  • the support film is a support film that satisfies the following condition (I).
  • Condition (I) After raising the temperature from 25 ° C. to 150 ° C. at a heating rate of 5 ° C./min under a tensile load of 50 g / 5 mm, subsequently, from 150 ° C. to 25 ° C. at a temperature decrease rate of 5 ° C./min.
  • the absolute value of the thermal expansion coefficient measured after lowering the temperature is 0.50% or less
  • the thermal expansion coefficient defined under the condition (I) is a value measured using the method described in the examples described later.
  • the absolute value of the thermal expansion coefficient of the support film is preferably 0.30% or less, more preferably 0.10% or less, still more preferably 0.05% or less, and still more preferably 0. .03% or less.
  • a support film in which the glass transition temperature (Tg) of the support film is less than the glass transition temperature (Tg) of the non-crystalline film may be used.
  • the glass transition temperature (Tg) of the support film satisfying the conditions is preferably less than 140 ° C., more preferably less than 130 ° C., and still more preferably 100 ° C. or less.
  • the lower limit value of the glass transition temperature (Tg) is preferably 10 ° C, more preferably 20 ° C, and still more preferably 50 ° C.
  • the difference between the glass transition temperature (Tg) of the support film and the glass transition temperature (Tg) of the non-crystalline film is preferably 30 ° C. or more, more preferably 40 ° C. or more, and further preferably Preferably it is 50 degreeC or more.
  • the support film having a glass transition temperature (Tg) lower than the glass transition temperature (Tg) of the non-crystalline film is not particularly limited, but is preferably a polyester film from the viewpoint of transparency and versatility.
  • the polyester-based film include polyethylene terephthalate (PET) film, polybutylene terephthalate (PBT) film, polyethylene naphthalate (PEN) film, polyarylate film and the like, and from the viewpoint of versatility, polyethylene terephthalate is preferable. (PET) film.
  • the polyester-based film is preferably a polyester-based film that has been subjected to a treatment to eliminate the stretching stress, from the viewpoint of easily satisfying the condition (I) described above.
  • stretching stress is the stress which remains in the film after shaping
  • the polyester-based film subjected to the treatment for releasing the stretching stress is preferably a polyester-based film subjected to a heat treatment for releasing the stretching stress, more preferably a polyester-based film subjected to annealing, more preferably It is a PET film which has been subjected to a heat treatment to eliminate a stretching stress, and more preferably an annealed PET film.
  • the annealing method is not particularly limited, and a known method can be used.
  • the annealing treatment conditions are not particularly limited as long as the polyester-based film after the annealing treatment satisfies the above-mentioned condition (I) and is not adversely affected.
  • the annealed polyester-based film is also available as a commercial product, and examples thereof include an “annealed film” and a “super-annealed film” sold by Aim.
  • the glass transition temperature (Tg) of the support film satisfying the conditions is preferably 140 ° C. or more, more preferably 160 ° C. or more, and still more preferably 180 ° C. or more from the viewpoint of facilitating satisfying the above condition (I). .
  • the upper limit of the glass transition temperature (Tg) is not particularly limited, but is preferably 400 ° C., more preferably 350 ° C., and still more preferably 300 ° C.
  • the difference between the glass transition temperature (Tg) of the support film and the glass transition temperature (Tg) of the non-crystalline film is preferably 50 ° C. or more, more preferably 80 ° C. or more, and further preferably Preferably it is 130 degreeC or more.
  • the support film having a glass transition temperature (Tg) not lower than the glass transition temperature (Tg) of the non-crystalline film is not particularly limited, but is preferably a polyimide film from the viewpoint of heat resistance.
  • the polyimide-based film include a polyimide (PI) film, a polyetherimide film, a polyamideimide film and the like, and from the viewpoint of heat resistance and dimensional stability, a polyimide film is preferable.
  • the polyimide film is also available as a commercial product, and examples thereof include “Kapton (registered trademark)” sold by Toray Dupont.
  • the thickness of the support film is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 30 ⁇ m or more, still more preferably 50 ⁇ m or more, and still more preferably 100 ⁇ m or more from the viewpoint of easily satisfying the condition (I) described above.
  • the thickness of the support film is preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 250 ⁇ m or less, and still more preferably 150 ⁇ m or less.
  • the thickness of the polyester film is preferably 30 ⁇ m or more, more preferably 50 ⁇ m or more, and still more preferably 100 ⁇ m or more from the viewpoint of easily satisfying the condition (I) described above. is there.
  • the thickness of the polyester-based film is preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 250 ⁇ m or less, and still more preferably 150 ⁇ m or less.
  • the thickness of the polyimide-based film is preferably 20 ⁇ m or more, more preferably 30 ⁇ m or more, and still more preferably 50 ⁇ m or more from the viewpoint of easily satisfying the condition (I) described above. is there.
  • the thickness of the polyimide-based film is preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less, and still more preferably 100 ⁇ m or less.
  • etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, formation, oxidation, and undercoating may be performed on the surface of the support film in advance, if necessary.
  • the thickness of the support film and the value of the glass transition temperature (Tg) can be measured, for example, using the methods described in the examples below.
  • the functional film which is the said laminated body is a laminated body which has an adhesive layer between the said amorphous film and the said support film.
  • the term "pressure-sensitive adhesive layer" as used herein means not only layers that can be formed from pressure-sensitive adhesives, but also layers that can be formed from adhesives, and has adhesiveness and / or adhesiveness. Understood as When the functional film of the present invention has a pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive and / or the adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately selected according to the application of the functional film. Moreover, the adhesive layer can select the layer which has removability, permanent adhesiveness, or permanent adhesiveness suitably according to a use.
  • the pressure-sensitive adhesive examples include acrylic pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, silicone-based pressure-sensitive adhesives, rubber-based pressure-sensitive adhesives, polyester-based pressure-sensitive adhesives, and curable pressure-sensitive adhesives which cure with energy rays such as ultraviolet light.
  • acrylic pressure-sensitive adhesives are preferable.
  • the acrylic pressure-sensitive adhesives are not particularly limited, and for example, the alkyl group has 4 to 10 carbon atoms per 100% by mass of the total amount of the raw material monomers )
  • An acrylic pressure-sensitive adhesive containing 50% by mass or more of an acrylic resin polymerized using 50% by mass or more of acrylic acid alkyl ester with respect to 100% by mass of the total amount of resin used can be suitably used.
  • a 2EHA-based adhesive using 2-ethylhexyl ester (2EHA) is preferable.
  • (meth) acryl is used as a term which means one or both of “acryl” or “methacryl.”
  • (meth) acrylate is used as a term that means one or both of “acrylate” or “methacrylate”.
  • Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester having 4 to 10 carbon atoms in the alkyl group include butyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid 2
  • (meth) acrylic acid alkyl ester having 6 to 10 carbon atoms in the alkyl group is preferable, (meth) acrylic acid alkyl ester having 8 carbon atoms in the alkyl group is more preferable, and acrylic acid 2 is preferable.
  • -Ethylhexyl ester (2EHA) is more preferred. You may use these adhesive individually or in combination of 2 or more types.
  • the adhesive examples include active energy ray-curable adhesives and thermosetting adhesives.
  • the active energy ray-curable adhesive has a property of being cured by being irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams.
  • active energy ray-curable adhesive a so-called solventless adhesive containing no organic solvent is preferable.
  • Adhesives utilizing photo radical polymerization reaction such as (meth) acrylate adhesives, ene / thiol adhesives, epoxy adhesives, oxetane adhesives, epoxy / oxetane adhesives, unsaturated polyester adhesives, etc.
  • thermosetting adhesive has the property of being cured by heating.
  • a so-called solventless adhesive containing no organic solvent is preferable.
  • the thermosetting adhesive includes an adhesive that cures at normal temperature or higher, and, for example, an epoxy adhesive, a polyurethane adhesive, a (meth) acrylate adhesive, an ene / thiol adhesive, a silicone adhesive Agents, polyester-based adhesives, unsaturated polyester-based adhesives, cyanoacrylate-based adhesives, nylon-based adhesives, modified olefin-based adhesives and the like.
  • the water-based adhesive etc. which used the polyvinyl alcohol-type resin aqueous solution the water-based two-component urethane type emulsion adhesive, etc. are mentioned, for example.
  • polyvinyl alcohol resin aqueous solution is preferable.
  • a polyvinyl alcohol-based resin includes a vinyl alcohol homopolymer obtained by saponifying polyvinyl acetate which is a homopolymer of vinyl acetate; copolymer of vinyl acetate and other monomers copolymerizable with vinyl acetate Examples thereof include a vinyl alcohol copolymer obtained by saponification treatment of the united body; a modified polyvinyl alcohol polymer in which the hydroxyl group of the vinyl alcohol homopolymer or the vinyl alcohol copolymer is partially modified.
  • a polyvalent aldehyde, a water-soluble epoxy compound, a melamine compound, a zirconia compound, a zinc compound or the like may be added to the water-based adhesive as an additive.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 100 ⁇ m, more preferably 5 to 50 ⁇ m.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be measured, for example, using the method described in the examples below.
  • the functional film of the present invention is a functional film having the above-mentioned amorphous film, and thus is suitable as a functional film used for producing an optical device.
  • a functional film for an optical device it is used to manufacture an optical device member by further laminating one or more other various functional layers on the amorphous film. be able to. That is, it can also be used as a laminate including the functional film and other various functional layers.
  • As said other functional layer 1 or more types chosen from the group which consists of a transparent conductive film, an optical adjustment layer, a gas barrier layer, and a polarizing plate is mentioned, for example.
  • the amorphous film itself can be used as a retardation film, a substrate such as a liquid crystal cell substrate, or a polarizing plate protective film.
  • the support film also functions as a protective film for protecting the amorphous film.
  • the pressure-sensitive adhesive layer preferably has removability.
  • the functional film of this invention can suppress a curl, even when load is applied under high temperature environment. Therefore, in the manufacturing process of the member for optics used for an optical device, it is more suitable as a functional film used by the process to which load is applied at high temperature, such as RtoR process, for example. That is, it is more suitable as a functional film for an optical device manufactured through the said process.
  • a transparent gas barrier layer is mentioned, for example.
  • an inorganic deposited film such as a deposited film of an inorganic compound or a deposited film of a metal; modification such as ion implantation to a layer containing a polymer compound (hereinafter sometimes referred to as "polymer layer") Layers obtained by treatment; and the like.
  • Inorganic oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide and tin oxide; inorganic nitrides such as silicon nitride, aluminum nitride and titanium nitride; Inorganic sulfide; inorganic oxynitride such as silicon oxynitride; inorganic oxide carbide; inorganic nitride carbide; inorganic oxide nitride carbide and the like.
  • As a raw material of a vapor deposition film of metal aluminum, magnesium, zinc, tin, etc. are mentioned. These can be used singly or in combination of two or more.
  • silicon-containing polymer compounds such as polyorganosiloxanes and polysilazane compounds, polyimides, polyamides, polyamide imides, polyphenylene ethers, polyether ketones, polyether ketones, polyether ether ketones, polyolefins, polyesters Etc. These high molecular compounds can be used singly or in combination of two or more. Among these polymer compounds, silicon-containing polymer compounds having more excellent gas barrier properties are preferable. Examples of the silicon-containing polymer compound include polysilazane compounds, polycarbosilane compounds, polysilane compounds, and polyorganosiloxane compounds.
  • polysilazane compounds are preferable from the viewpoint of being able to form a barrier layer having excellent gas barrier properties.
  • an inorganic vapor deposition film using an inorganic oxide, inorganic nitride or metal as a raw material is preferable, and from the viewpoint of transparency, an inorganic oxide or inorganic nitride as a raw material The vapor deposition film is preferable.
  • a silicon oxynitride layer formed of a layer having oxygen, nitrogen, and silicon as main constituent atoms which is formed by subjecting a vapor-deposited film of an inorganic compound or a layer containing a polysilazane compound to a modification treatment It is preferably used from the viewpoint of having resistance and bending resistance.
  • the transparent gas barrier layer can be formed, for example, by subjecting the polysilazane compound-containing layer to plasma ion implantation treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, heat treatment or the like.
  • plasma ion implantation treatment plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, heat treatment or the like.
  • ions implanted by plasma ion implantation include hydrogen, nitrogen, oxygen, argon, helium, neon, xenon, and krypton.
  • Plasma treatment is a method of exposing a polysilazane compound-containing layer to plasma to modify a layer containing a silicon-containing polymer.
  • plasma treatment can be performed according to the method described in JP-A-2012-106421.
  • the ultraviolet irradiation treatment is a method of irradiating the polysilazane compound-containing layer with ultraviolet light to modify the layer containing the silicon-containing polymer.
  • the ultraviolet light modification treatment can be performed according to the method described in JP-A-2013-226757.
  • the ion implantation treatment is preferable because the inside of the polysilazane compound-containing layer can be efficiently reformed without roughening the surface and the gas barrier layer having more excellent gas barrier properties can be formed.
  • the gas barrier layer may be a single layer or two or more layers. When two or more layers are laminated, they may be the same or different.
  • the film thickness of the gas barrier layer is preferably 20 nm to 50 ⁇ m, more preferably 30 nm to 1 ⁇ m, and still more preferably 40 to 500 nm. When the film thickness of the gas barrier layer is in this range, excellent gas barrier properties and adhesion can be obtained, and flexibility and film strength can be achieved, which is preferable.
  • the water vapor transmission rate under high humidity conditions of 40 ° C. ⁇ 90% RH in the gas barrier layer is 0.1 (g / m 2 / day) or less Is more preferably 0.05 (g / m 2 / day) or less, still more preferably 0.01 (g / m 2 / day) or less.
  • the said water vapor transmission rate is a water vapor transmission rate (g of the measurement sample under high temperature and high humidity environment of 40 ° C., relative humidity 90%) using a water vapor transmission rate measuring device (manufactured by MOCON, “AQUATRAN”) Let / m 2 / day) be a measured value.
  • the detection lower limit value of the water vapor transmission rate measuring apparatus is 5 ⁇ 10 ⁇ 4 (g / m 2 / day).
  • a water vapor transmission rate water vapor can be barriered, and for example, water vapor transmission from one side of the gas barrier layer to the opposite side can be suppressed. Therefore, when using the said functional film, for example for the device for optics etc., since permeation
  • the functional film of this invention can suppress a curl, even when load is applied under high temperature environment. Therefore, in the process of forming the said gas barrier layer on the said amorphous film, even when exposed to high temperature environment, it can use suitably.
  • the optical device is not particularly limited as long as it uses the above-mentioned functional film of the present invention in the process of producing the optical device, but, for example, a light emitting diode (LED); liquid crystal display (LCD) Electroluminescence (EL) such as organic electroluminescence (organic EL), inorganic electroluminescence (inorganic EL); plasma display panel (PDP); touch panel; cathode ray tube (CRT); optical devices such as electronic paper, solar cell etc. It can be mentioned.
  • the functional film is preferably EL, more preferably organic EL.
  • each amorphous film and each supporting film used in each example and each comparative example is a constant pressure thickness measuring device manufactured by Tek Co., Ltd. (model number: “PG-02J”, standard standard: JIS K6783: 1994) , JIS Z 1702: 1994, JIS Z 1709: 1995).
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer after drying was measured using the same method as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer-carrying support film obtained in each of the examples and the comparative examples, and the thickness of the support film was measured in advance. The subtracted value was used.
  • Tg Glass transition temperature of amorphous film and support film>
  • TD direction 5 mm in width
  • MD direction 15 mm in length
  • DMA Q800 viscoelasticity measuring apparatus
  • tan ⁇ ratio of loss modulus to storage modulus
  • the temperature at which tan ⁇ shows the maximum value is read, and is taken as the glass transition temperature (Tg) of each amorphous film and support film.
  • Tg glass transition temperature
  • MD of MD direction is an abbreviation of Machine Direction
  • MD direction means a long direction at the time of film formation.
  • TD in the TD direction is an abbreviation of Transverse Direction
  • the TD direction means the width direction at the time of film formation.
  • Thermal expansion coefficient of support film The coefficient of thermal expansion of each support film used in each example and each comparative example was measured by the following method. Using “TMA-4000SE” manufactured by NETZSCH JAPAN, apply a tensile load of 50 g in the MD direction to a test specimen with an effective measurement range of 5 mm in width (TD direction) and 15 mm in length (MD direction). Did. After raising the temperature from 25 ° C to 150 ° C at a heating rate of 5 ° C / min, check the chart when cooling from 150 ° C to 25 ° C at a temperature drop rate of 5 ° C / min to 25 ° C.
  • the coefficient of thermal expansion was calculated based on the following equation from the displacement (in the case of contraction, represented by a negative value) of the test piece after temperature decrease and the value of the initial test piece length in the MD direction.
  • Thermal expansion coefficient [%] (displacement amount [mm] / initial test piece length [mm]) ⁇ 100
  • the functional films 1 to 12 prepared in each of the examples and the comparative examples were cut into a size of 100 mm in width (TD direction) ⁇ 100 mm in length (MD direction) to prepare test pieces.
  • the test piece was heated at 150 ° C. for 5 minutes using an ESPEC “SPHH-202” oven under a load of 1,000 g in the MD direction. After heating for 5 minutes, the test piece is taken out of the oven, naturally cooled, it is confirmed that the temperature of the test piece has dropped to room temperature (25 ° C.), the load on the test piece is removed, and then leveled. The test piece was allowed to stand on the table.
  • the floating height (height from the table surface) of the four corners (four apexes) of the test piece was measured with a ruler, the average value of the four obtained heights was calculated, and the value was used as the curling amount.
  • the case where the value of the said curl amount was 20 mm or less was made into "good", and when it exceeded 20 mm, it was judged that it was "defect" about the inhibitory effect of the curl of each test piece.
  • the obtained results are shown in Table 1 below.
  • Example 1 The film thickness of the pressure-sensitive adhesive layer after drying the 2EHA pressure-sensitive adhesive on the support film, using the annealed polyethylene terephthalate film (1) (manufactured by Aim, product number “SAF 1000 PET 50”, thickness 50 ⁇ m) as the support film It applied so that it might be set to 10 micrometers, and formed the coating film.
  • the coating film on the support film was heated at 100 ° C. for 1 minute to form a pressure-sensitive adhesive layer.
  • Cycloolefin polymer film (1) (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., Zeonoa film (registered trademark), product number “ZF14-023”, thickness 23 ⁇ m) was used as the amorphous film to expose the pressure-sensitive adhesive layer on the support film
  • the surface and the surface of the amorphous film were laminated using a roll type laminating machine “RSH-380SL” manufactured by Japan Office Laminator Co., Ltd. to obtain a functional film 1 which is a laminate.
  • Example 2 Functionality is the same as in Example 1 except that the support film used in Example 1 is changed to annealed polyethylene terephthalate film (2) (made by Im, product number "AF 2000 PET 125", thickness 125 ⁇ m). Film 2 was obtained.
  • Example 3 Functionality is the same as in Example 1 except that the support film used in Example 1 is changed to annealed polyethylene terephthalate film (3) (made by Aim Co., product number "AF 2000 PET 250", thickness 250 ⁇ m). Film 3 was obtained.
  • Example 4 The function is the same as in Example 1 except that the support film used in Example 1 is changed to a polyimide film (Kapton (registered trademark) made by Toray DuPont, product number "200H", thickness 50 ⁇ m). Film 4 was obtained.
  • Kapton registered trademark
  • 200H thickness 50 ⁇ m
  • Example 5 The amorphous film used in Example 2 was changed to cycloolefin polymer film (2) (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., Zeonoa Film (registered trademark), product number “ZF16-040”, thickness 40 ⁇ m), In the same manner as in Example 2, a functional film 5 was obtained.
  • Example 6 A functional film in the same manner as in Example 2 except that the amorphous film used in Example 2 is changed to a cycloolefin copolymer film (manufactured by Gunze, product number "F1-ISO", thickness 80 ⁇ m). I got six.
  • Example 7 The same procedure as in Example 2 is performed except that the amorphous film used in Example 2 is changed to a polycarbonate film (manufactured by Teijin Ltd., Pure Ace (registered trademark), product number "C110", thickness 40 ⁇ m). The functional film 7 was obtained.
  • Example 4 is the same as Example 4, except that the amorphous film used in Example 4 is changed to a polycarbonate film (manufactured by Teijin Ltd., Pure Ace (registered trademark), product number "C110", thickness 40 ⁇ m). The functional film 8 was obtained.
  • a polycarbonate film manufactured by Teijin Ltd., Pure Ace (registered trademark), product number "C110", thickness 40 ⁇ m.
  • Comparative Example 1 A functional film 9 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the support film used in Example 1 was changed to a polyethylene terephthalate film (Mitsubishi Resins Co., product number "PET 25T600E", thickness 25 ⁇ m). .
  • Comparative Example 2 The function is the same as in Example 1 except that the support film used in Example 1 is changed to a polyethylene film (Toray Film Processing Co., Ltd., Tretec (registered trademark), product number "7332", thickness 50 ⁇ m). Film 10 was obtained.
  • a polyethylene film Toray Film Processing Co., Ltd., Tretec (registered trademark), product number "7332", thickness 50 ⁇ m.
  • Comparative Example 3 In the same manner as in Comparative Example 1 except that the amorphous film used in Comparative Example 1 is changed to a polycarbonate film (manufactured by Teijin Limited, Pure Ace (registered trademark), product number "C110", thickness 40 ⁇ m) The functional film 11 was obtained.
  • a polycarbonate film manufactured by Teijin Limited, Pure Ace (registered trademark), product number "C110", thickness 40 ⁇ m
  • Comparative Example 4 The function is the same as in Example 1 except that the support film used in Example 1 is changed to a polyethylene terephthalate film (Cosmo Shine (trade name), product number "125A4300", 125 ⁇ m thickness, manufactured by Toyobo Co., Ltd.). Film 12 was obtained.
  • a polyethylene terephthalate film Cosmo Shine (trade name), product number "125A4300", 125 ⁇ m thickness, manufactured by Toyobo Co., Ltd.
  • the functional films 1 to 8 of Examples 1 to 8 in which the value (absolute value) of the thermal expansion coefficient of the support film is small have a small amount of curl even when a load is applied under a high temperature environment, and the curl is suppressed.
  • the functional films 9 to 12 of Comparative Examples 1 to 4 in which the value (absolute value) of the thermal expansion coefficient of the support film is large the amount of curling becomes large under the condition that a load is applied under high temperature environment, and the curling is suppressed It was found to be difficult to do.
  • the functional film of the present invention can suppress curling even when a load is applied under a high temperature environment. Therefore, in the manufacturing process of the member for optics used for an optical device, it is more suitable as a functional film used by the process to which load is applied at high temperature, such as RtoR process, for example. That is, it is more suitable as a functional film for an optical device manufactured through the said process.

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Abstract

非晶性フィルムと支持フィルムとの積層体である機能性フィルム、又は非晶性フィルムと粘着剤層と支持フィルムとをこの順で直接積層した積層体である機能性フィルムであって、前記支持フィルムが下記条件（Ｉ） 条件（Ｉ）：引張荷重５０ｇ／５ｍｍ条件下、２５℃から１５０℃まで５℃／分の昇温速度で昇温した後、続けて、１５０℃から２５℃まで５℃／分の降温速度で降温させた後に測定される熱膨張率の絶対値が０．５０％以下 を満たす、機能性フィルムに関する。

Description

機能性フィルム
　本発明は、非晶性フィルム用支持フィルムを有する機能性フィルムに関する。
　近年、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等の光学用デバイス用部材に用いる光学用フィルムとして、透明プラスチックフィルムを用いることが検討されている。このようなプラスチックフィルムとしては、透明性や、面内位相差等の光学特性の観点から非晶性樹脂から形成された非晶性フィルムが使用されている。
　このような非晶性フィルムは、脆く、傷がつきやすいため、搬送工程や加工工程での使用、又は保管時における保護のため、通常、少なくとも当該非晶性フィルムが装置等と接触する面に支持フィルムを設けた積層体の態様で使用又は保管される。
　例えば、特許文献１には、保護フィルムの少なくとも一方の面側に粘着剤層を有するキャリアフィルムと、前記粘着剤層を介して剥離可能に積層した透明導電性フィルムと、を含み、特定の構成とカール値に係る特定の要件を満たす透明導電性フィルム積層体が開示されている。そして、当該特許文献１に記載のキャリアフィルムは、前記透明導電性フィルム中の透明樹脂フィルムが非晶性シクロオレフィン系樹脂からなり、前記保護フィルムが当該非晶性シクロオレフィン系樹脂とは異なる樹脂であり、かつガラス転移温度が１３０℃以上である非晶性樹脂で形成されていることを必須としている。
特開２０１６－１０７５０３号公報
　前述のとおり、光学用デバイス用部材として用いられる非晶性フィルムは、例えば、Ｒｏｌｌ　ｔｏ　Ｒｏｌｌ（以下、「ＲｔｏＲ」ともいう。）プロセスを経て、最終製品中に搭載される場合がある。また、前記非晶性フィルム上に、更に各種の機能性を有する層を形成した積層体を製造する際に、当該積層体に対して、加熱処理等の処理を行う場合がある。具体的には、例えば、非晶性フィルムを透明導電性フィルム等の一部材として使用する場合、当該非晶性フィルム上に透明導電膜を積層した後、当該透明導電膜を結晶化させるために行なうアニール処理等が挙げられる。また、非晶性フィルムをガスバリアフィルムの一部材として使用する場合、当該非晶性フィルム上に無機化合物や珪素含有高分子化合物によりガスバリア層を形成する際に、当該非晶性フィルムが加熱され高温環境下に曝される工程が行われることがある。
　したがって、前記積層体は、所定の荷重がかかった状態で高温条件下に曝される。高温下で所定の荷重がかかる工程を経る場合、非晶性フィルムを保護するために適切な支持フィルムを用いないと、当該支持フィルムが大きく変形してしまうという問題がある。このように、支持フィルム自体が変形すると、前記非晶性フィルムを含む積層体が大きくカールするといった不具合に繋がる。非晶性フィルムを含む積層体が大きくカールすると、その後の工程で、搬送不良や加工不良等が発生するため、生産時のトラブル、歩留まりの低下といった生産性の低下等の問題に繋がる。
　ここで、特許文献１に記載されている非晶質樹脂からなる保護フィルムは、ＲｔｏＲプロセス等の高温下で荷重がかかるプロセスで用いる場合、ブロッキングによる巻取り不良が発生する虞がある。また、保護フィルム自体が非晶質樹脂のため、脆性により保護フィルム自体が破断する虞がある。加えて、非晶質樹脂からなる保護フィルムの価格が非常に高いといった経済的なデメリットも存在する。
　本発明は上記事情に鑑みなされたもので、高温環境下で荷重がかかる場合でも、カールを抑制できる機能性フィルムを提供することを目的とする。
　本発明者らは、所定の条件下における熱膨張率が特定の範囲を満たす支持フィルムを非晶性フィルム用支持フィルムとして有する機能性フィルムが、前記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明は、下記［１］～［１０］を提供する。
［１］　非晶性フィルムと支持フィルムとの積層体である機能性フィルム、又は非晶性フィルムと粘着剤層と支持フィルムとをこの順で直接積層した積層体である機能性フィルムであって、前記支持フィルムが下記条件（Ｉ）を満たす、機能性フィルム。
条件（Ｉ）：引張荷重５０ｇ／５ｍｍ条件下、２５℃から１５０℃まで５℃／分の昇温速度で昇温した後、続けて、１５０℃から２５℃まで５℃／分の降温速度で降温させた後に測定される熱膨張率の絶対値が０．５０％以下
［２］　前記支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）未満である、前記［１］に記載の機能性フィルム。
［３］　前記支持フィルムがポリエステル系フィルムである、前記［１］又は［２］に記載の機能性フィルム。
［４］　前記ポリエステル系フィルムが、延伸応力を解消する処理を施されたポリエステル系フィルムである、前記［３］に記載の機能性フィルム。
［５］　前記支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）以上である、前記［１］に記載の機能性フィルム。
［６］　前記支持フィルムがポリイミド系フィルムである、前記［５］に記載の機能性フィルム。
［７］　前記支持フィルムの厚さが１０μｍ以上３００μｍ以下である、前記［１］～［６］のいずれかに記載の機能性フィルム。
［８］　前記非晶性フィルムが、シクロオレフィン系フィルム及びポリカーボネート系フィルムからなる群より選ばれる１種以上である、前記［１］～［７］のいずれかに記載の機能性フィルム。
［９］　前記非晶性フィルムの厚さが１μｍ以上１００μｍ以下である、前記［１］～［８］のいずれかに記載の機能性フィルム。
［１０］　光学用デバイスに用いる前記［１］～［９］のいずれかに記載の機能性フィルム。
　本発明によれば、高温環境下で荷重がかかる場合でも、カールを抑制できる機能性フィルムを提供し得る。
本発明の機能性フィルムの一例である機能性フィルム１の断面図である。 本発明の機能性フィルムの一例である機能性フィルム２の断面図である。
　以下、本発明について実施形態を用いて詳細に説明する。
　本明細書において、好ましい数値範囲（例えば、含有量等の範囲）について、段階的に記載された下限値及び上限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。例えば、「好ましくは１０～９０、より好ましくは３０～６０」という記載から、「好ましい下限値（１０）」と「より好ましい上限値（６０）」とを組み合わせて、「１０～６０」とすることもできる。同様に、同一事項に対する「好ましくは１０以上、より好ましくは３０以上」の記載と「好ましくは９０以下、より好ましくは６０以下」という記載から、「好ましい下限値（１０）」と「より好ましい上限値（６０）」とを組み合わせて、「１０以上６０以下」とすることもできる。
［機能性フィルム］
　本発明の機能性フィルムは、非晶性フィルムと支持フィルムとの積層体である機能性フィルム、又は非晶性フィルムと粘着剤層と支持フィルムとをこの順で直接積層した積層体である機能性フィルムであって、前記支持フィルムが下記条件（Ｉ）を満たす、機能性フィルムである。
条件（Ｉ）：引張荷重５０ｇ／５ｍｍ条件下、２５℃から１５０℃まで５℃／分の昇温速度で昇温した後、続けて、１５０℃から２５℃まで５℃／分の降温速度で降温させた後に測定される熱膨張率の絶対値が０．５０％以下
　本発明者らは、非晶性フィルムを有する機能性フィルムを、条件（Ｉ）を満たす支持フィルムを有する積層体とすることで、高温環境下で荷重がかかる場合でも、カールを抑制できる機能性フィルムを提供し得ることを見出した。
＜機能性フィルムの構成＞
　前記機能性フィルムの構成としては、例えば、図１及び２に示す構成が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　図１は、本発明の機能性フィルムに係る実施態様の一例である、非晶性フィルム１１と支持フィルム１２とからなる機能性フィルム１の断面図である。
　当該態様の機能性フィルム１の製造方法としては、例えば、支持フィルム１２上に非晶性フィルム１１を形成する原材料樹脂の溶液を直接塗布し、乾燥して形成する方法、又は支持フィルム１２を形成する樹脂と非晶性フィルム１１を形成する樹脂とを共押出して機能性フィルム１を成形する方法等が挙げられる。
　図２は、本発明の機能性フィルムに係る実施態様の一例である、非晶性フィルム１１と粘着剤層１３と支持フィルム１２とをこの順で直接積層した積層体である機能性フィルム２の断面図である。図２に示すように、粘着剤層１３を介して、非晶性フィルム１１と支持フィルム１２とが積層されている。
　当該態様の機能性フィルム２の製造方法としては、例えば、予め用意した支持フィルム１２上に粘着剤層１３を設けて、当該粘着剤層１３の露出面に対して、予め用意した非晶性フィルム１１を積層し、ラミネーター等を用いて貼り合せる方法が挙げられる。
　または、予め用意した非晶性フィルム１１上に粘着剤層１３を設けて、当該粘着剤層１３の露出面に対して、予め用意した支持フィルム１２を積層し、ラミネーター等を用いて貼り合せる方法が挙げられる。
　前記機能性フィルムの厚さは、好ましくは１０～４００μｍ、より好ましくは５０～３５０μｍ、更に好ましくは８０～３００μｍである。
　当該機能性フィルムの厚さは、例えば、後述する実施例に記載の方法を用いて測定することができる。または、後述する各層の厚さの合計として算出することもできる。
　また、前記機能性フィルムは、後述する実施例に記載の方法で測定されるカール量が、好ましくは２０ｍｍ以下、より好ましくは１５ｍｍ以下、更に好ましくは１０ｍｍ以下、より更に好ましくは５ｍｍ以下である。
　以下、前記機能性フィルムを構成する各部材について更に詳細に説明する。
＜非晶性フィルム＞
　前記非晶性フィルムは、非晶性樹脂から形成されたフィルムであって、透明性及び寸法安定性に優れる観点から、好ましくはシクロオレフィン系フィルム及びポリカーボネート系フィルムからなる群より選ばれる１種以上であり、更に、吸水率が低く耐熱性にも優れる観点から、より好ましくはシクロオレフィン系フィルムである。
　ここで、非晶性樹脂とは、Ｘ線回折法（ＸＲＤ）で測定される結晶化度が２５％未満である樹脂をいう。一方、結晶性樹脂とは、当該結晶化度が２５％以上である樹脂をいう。
　前記シクロオレフィン系フィルムとは、シクロオレフィン系樹脂から形成されたフィルムである。シクロオレフィン系樹脂は、脂環式オレフィンであるシクロオレフィンをモノマーとして重合された樹脂であって、分子内にシクロオレフィン由来の構成単位を繰り返し単位として有する樹脂である。
　前記シクロオレフィンとしては、例えば、ノルボルネンやその置換体（以下、これらを総称して、「ノルボルネン系モノマー」ともいう。）等を挙げることができる。ノルボルネンとは、ノルボルナンの１つの炭素－炭素結合が二重結合となった化合物であって、ＩＵＰＡＣ命名法によれば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト－２－エンと命名されるものである。ノルボルネンの置換体の例としては、ノルボルネンの二重結合位置を１，２－位として、メチル基、エチル基、ブチル基、フェニル基等の置換基で置換された３－置換体、４－置換体、及び４，５－ジ置換体、並びに５－エチリデン－２－ノルボルネン等を挙げることができる。
　また、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン、メチルジシクロペンタジエン、ジメチルジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、メチルテトラシクロドデセン、ジメチルシクロテトラドデセン、トリシクロペンタジエン、テトラシクロペンタジエン、及びジメタノオクタヒドロナフタレン等の多環式の環状オレフィン；並びにシクロブテン、シクロペンテン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、シクロオクタトリエン、及びシクロドデカトリエン等の単環式の環状オレフィン等もシクロオレフィン系樹脂を構成するモノマーとすることができる。
　シクロオレフィン系樹脂は、その構成単位にノルボルナン環を有していてもよいし、有していなくてもよい。構成単位にノルボルナン環を有さないシクロオレフィン系樹脂を形成するノルボルネン系モノマーとしては、例えば、開環により５員環となるモノマーが挙げられる。当該開環により５員環となるモノマーとしては、例えば、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、１－又は４－メチルノルボルネン、４－フェニルノルボルネン等が挙げられる。ここで、例えば、ノルボルネンを開環して５員環構造を有する樹脂とする方法としては、グラブス触媒等を利用した開環メタセシス重合が挙げられる。なお、ノルボルネンは、前述のとおり、ノルボルナン環中に二重結合を有する構造であり、例えば、メタロセン触媒を利用して付加重合させた場合には、その構成単位にノルボルナン環を有するシクロオレフィン系樹脂を合成することもできる。
　シクロオレフィン系樹脂のより具体的な例としては、例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体；ノルボルネン系モノマーとその他モノマーとの開環共重合体；それらにマレイン酸付加及び／又はシクロペンタジエン付加等がなされたポリマー変性物；並びにこれらの重合体を水素添加した重合体又は共重合体；ノルボルネン系モノマーの付加重合体；ノルボルネン系モノマーとその他モノマーとの付加共重合体；等が挙げられる。共重合体とする場合におけるその他モノマーとしては、エチレン；プロピレン等のα－オレフィン類；シクロアルケン類；非共役ジエン類等が挙げられる。また、シクロオレフィン系樹脂は、ノルボルネン系モノマー及びその他脂環式オレフィンの１種又は２種以上を用いた共重合体であってもよい。
　また、シクロオレフィン系樹脂が共重合体である場合、その分子の配列状態は特に限定されるものではなく、ランダム共重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよいし、グラフト共重合体であってもよい。
　前記シクロオレフィン系樹脂は、市販品としても入手可能であり、例えば、いずれも商品名で、日本ゼオン社から販売されている「ＺＥＯＮＥＸ」、「ＺＥＯＮＯＲ」（いずれも登録商標）；ＪＳＲ社から販売されている「ＡＲＴＯＮ（登録商標）」；ポリプラスチック社から販売されている「ＴＯＰＡＳ（登録商標）」；三井化学社から販売されている「ＡＰＥＬ（登録商標）」；等が挙げられる。
　また、これらのシクロオレフィン系樹脂のフィルムやその延伸フィルムも市販品を入手することができ、例えば、いずれも商品名で、日本ゼオン社から販売されている「ＺＥＯＮＯＲＦＩＬＭ（登録商標）」；グンゼ社から販売されている「Ｆフィルム」；ＪＳＲ社から販売されている「ＡＲＴＯＮ（登録商標）フィルム」；積水化学工業社から販売されている「エスシーナ（登録商標）」等が挙げられる。
　前記シクロオレフィン系樹脂は、溶液からのキャスティング法や溶融押出法等により製膜することができる。２種以上の混合樹脂から製膜する場合、その製膜方法については特に限定されず、例えば、樹脂成分を所定の割合で溶媒とともに撹拌混合して得られる均一溶液を用いてキャスティング法によりフィルムを作製する方法、樹脂成分を所定の割合で溶融混合し、溶融押出法によりフィルムを作製する方法等が採用される。
　前記ポリカーボネート系フィルムとは、ポリカーボネート系樹脂から形成されたフィルムである。
　ポリカーボネート系樹脂は、主鎖中にカーボネート基を有する樹脂である。ポリカーボネート系樹脂としては、特に限定されず、公知のものが使用できる。ポリカーボネートとしては、芳香族ポリカーボネート、脂肪族ポリカーボネート、又は芳香族－脂肪族ポリカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度、透明性等に優れる観点から、好ましくは芳香族－脂肪族ポリカーボネート及び芳香族ポリカーボネートからなる群より選ばれる１種以上、より好ましくは芳香族ポリカーボネートである。
　芳香族ポリカーボネートは、芳香族ジオールとカーボネート前駆体とを界面重縮合法や溶融エステル交換法で反応させる方法、カーボネートプレポリマーを固相エステル交換法により重合させる方法、又は環状カーボネート化合物の開環重合法により重合させる方法によって得ることができる。
　芳香族ポリカーボネートとしては、例えば、ビスフェノール類を用いたポリカーボネートが挙げられる。当該ビスフェノール類を用いたポリカーボネートとしては、例えば、ビスフェノールＡポリカーボネート、分岐ビスフェノールＡポリカーボネート、発砲ポリカーボネート、コポリカーボネート、ブロックコポリカーボネート、ポリエステルカーボネート、ポリホスホネートカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ－３９）等が挙げられる。また、ポリカーボネート系樹脂には、ビスフェノールＡポリカーボネートブレンド、ポリエステルブレンド、ＡＢＳブレンド、ポリオレフィンブレンド、スチレン－無水マレイン酸共重合体ブレンドのようなその他成分とブレンドしたポリカーボネートを含有する樹脂組成物も含まれる。
　前記ポリカーボネート系樹脂は、市販品としても入手可能であり、例えば、いずれも商品名で、帝人社から販売されている「パンライト（登録商標）」；三菱瓦斯化学社から販売されている「ユーピロン（登録商標）」；等が挙げられる。
　また、これらのポリカーボネート系樹脂のフィルムやその延伸フィルムも市販品を入手することができ、例えば、いずれも商品名で、帝人社から販売されている「ピュアエース（登録商標）」；三菱瓦斯化学社から販売されている「ユーピロン（登録商標）・シート」；等が挙げられる。
　前記非晶性フィルムは、安定剤、可塑剤、老化防止剤、帯電防止剤、レべリング剤及び紫外線吸収剤等、その他成分を必要に応じて含有していてもよい。
　また、非晶性フィルム表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理や下塗り処理等の表面処理を必要に応じて施してもよい。
　前記非晶性フィルムの厚さは、好ましくは１～１００μｍ、より好ましくは１０～８０μｍ、更に好ましくは１０～６０μｍ、より更に好ましくは１０～３０μｍである。
　また、前記非晶性フィルムを形成する非晶性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１３０℃以上、より好ましくは１４０℃以上、更に好ましくは１５０℃以上である。また、当該ガラス転移温度（Ｔｇ）の上限値としては、特に制限はないが、好ましくは２５０℃、より好ましくは２００℃、更に好ましくは１８０℃である。
　当該非晶性フィルムの厚さ及びガラス転移温度（Ｔｇ）の値は、それぞれ、例えば、後述する実施例に記載の方法を用いて測定することができる。
＜支持フィルム＞
　前記支持フィルムは、下記条件（Ｉ）を満たす、支持フィルムである。
条件（Ｉ）：引張荷重５０ｇ／５ｍｍ条件下、２５℃から１５０℃まで５℃／分の昇温速度で昇温した後、続けて、１５０℃から２５℃まで５℃／分の降温速度で降温させた後に測定される熱膨張率の絶対値が０．５０％以下
　当該条件（Ｉ）で規定する熱膨張率は、後述する実施例に記載の方法を用いて測定される値である。
　前記機能性フィルムの支持フィルムとして条件（Ｉ）を満たさないフィルムを用いた場合、高温環境下で荷重がかかるＲｔｏＲプロセスのような工程で用いた場合に、カール量が増大して、その後の工程で加工する上で不具合が発生する虞がある。このような観点から、前記支持フィルムの前記熱膨張率の絶対値は、好ましくは０．３０％以下、より好ましくは０．１０％以下、更に好ましくは０．０５％以下、より更に好ましくは０．０３％以下である。
　前記支持フィルムとしては、前記支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）未満である支持フィルムを用いてもよい。
　当該条件を満たす支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）としては、好ましくは１４０℃未満、より好ましくは１３０℃未満、更に好ましくは１００℃以下である。また、当該ガラス転移温度（Ｔｇ）の下限値としては、好ましくは１０℃、より好ましくは２０℃、更に好ましくは５０℃である。
　当該支持フィルムを用いる場合、前記支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）と、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）との差は、好ましくは３０℃以上、より好ましくは４０℃以上、更に好ましくは５０℃以上である。
　ガラス転移温度（Ｔｇ）が、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）未満である支持フィルムとしては、特に制限はないが、透明性及び汎用性の観点から、好ましくはポリエステル系フィルムである。
　前記ポリエステル系フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリアリレートフィルム等が挙げられ、汎用性の観点から、好ましくはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである。
　前記ポリエステル系フィルムは、前述の条件（Ｉ）を満たし易くする観点から、より好ましくは延伸応力を解消する処理を施されたポリエステル系フィルムである。当該延伸応力とは、ポリエステル系フィルムを成形する際の延伸時にかけられた応力のうち、成形後のフィルム内に残存する応力であり、当該延伸応力を解消する処理としては、例えば、アニール処理等の加熱による処理が挙げられる。
　前記延伸応力を解消する処理を施されたポリエステル系フィルムとしては、好ましくは延伸応力を解消する加熱処理を施されたポリエステル系フィルム、より好ましくはアニール処理されたポリエステル系フィルムであり、更に好ましくは延伸応力を解消する加熱処理を施されたＰＥＴフィルム、より更に好ましくはアニール処理されたＰＥＴフィルムである。
　なお、アニール処理方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。アニール処理条件は、アニール処理後のポリエステル系フィルムが前述の条件（Ｉ）を満たし、悪影響を及ぼさない範囲で行うのであれば、特に制限されない。
　前記アニール処理されたポリエステル系フィルムは、市販品としても入手可能であり、例えば、アイム社から販売されている「アニールフィルム」、「スーパーアニールフィルム」等が挙げられる。
　また、前記支持フィルムとしては、前記支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）以上である支持フィルムを用いてもよい。
　当該条件を満たす支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）としては、前述の条件（Ｉ）を満たし易くする観点から、好ましくは１４０℃以上、より好ましくは１６０℃以上、更に好ましくは１８０℃以上である。また、当該ガラス転移温度（Ｔｇ）の上限値としては、特に制限はないが、好ましくは４００℃、より好ましくは３５０℃、更に好ましくは３００℃である。
　当該支持フィルムを用いる場合、前記支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）と、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）との差は、好ましくは５０℃以上、より好ましくは８０℃以上、更に好ましくは１３０℃以上である。
　ガラス転移温度（Ｔｇ）が、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）以上である支持フィルムとしては、特に制限はないが、耐熱性の観点から、好ましくはポリイミド系フィルムである。
　前記ポリイミド系フィルムとしては、例えば、ポリイミド（ＰＩ）フィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等が挙げられ、耐熱性及び寸法安定性の観点から、好ましくはポリイミドフィルムである。
　前記ポリイミドフィルムは、市販品としても入手可能であり、例えば、東レ・デュポン社から販売されている「カプトン（登録商標）」等が挙げられる。
　前記支持フィルムの厚さは、前述の条件（Ｉ）を満たし易くする観点から、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、更に好ましくは５０μｍ以上、より更に好ましくは１００μｍ以上である。また、取扱性及び経済性の観点から、前記支持フィルムの厚さは、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２５０μｍ以下、更に好ましくは１５０μｍ以下である。
　前記支持フィルムが前記ポリエステル系フィルムの場合、当該ポリエステル系フィルムの厚さは、前述の条件（Ｉ）を満たし易くする観点から、好ましくは３０μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上、更に好ましくは１００μｍ以上である。また、取扱性及び経済性の観点から、前記ポリエステル系フィルムの厚さは、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２５０μｍ以下、更に好ましくは１５０μｍ以下である。
　前記支持フィルムが前記ポリイミド系フィルムの場合、当該ポリイミド系フィルムの厚さは、前述の条件（Ｉ）を満たし易くする観点から、好ましくは２０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、更に好ましくは５０μｍ以上である。また、取扱性及び経済性の観点から、前記ポリイミド系フィルムの厚さは、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。
　また、支持フィルム表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理や下塗り処理等の表面処理を必要に応じて施してもよい。
　前記支持フィルムの厚さ及びガラス転移温度（Ｔｇ）の値は、それぞれ、例えば、後述する実施例に記載の方法を用いて測定することができる。
＜粘着剤層＞
　前記積層体である機能性フィルムは、前記非晶性フィルムと前記支持フィルムとの間に粘着剤層を有する積層体であることが好ましい。
　本明細書における「粘着剤層」とは、粘着剤から形成され得る層だけでなく、接着剤から形成され得る層をも包含して意味するものであり、粘着性及び／又は接着性を有するものとして理解される。
　本発明の機能性フィルムが粘着剤層を有する場合、当該粘着剤層を構成する粘着剤及び／又は接着剤としては、機能性フィルムの用途に応じて適宜選択することができる。
　また、粘着剤層は、用途に応じて、再剥離性、永久粘着性又は永久接着性を有する層を適宜選択することができる。
　前記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、紫外線等のエネルギー線により硬化する硬化型粘着剤等が挙げられる。これらの中では、アクリル系粘着剤が好ましく、アクリル系粘着剤としては、特に制限はないが、例えば、原料モノマーの全量１００質量％に対し、アルキル基の炭素数が４～１０である（メタ）アクリル酸アルキルエステルを５０質量％以上用いて重合されたアクリル樹脂を、用いる樹脂全量１００質量％に対して５０質量％以上含有するアクリル系粘着剤を好適に用いることができ、後述するアクリル酸２－エチルヘキシルエステル（２ＥＨＡ）を用いた２ＥＨＡ系粘着剤が好ましい。
　また、本明細書において、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」又は「メタクリル」の一方若しくは双方を意味する用語として使用する。また、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」又は「メタクリレート」の一方もしくは双方を意味する用語として使用する。
　アルキル基の炭素数が４～１０である（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル等が挙げられ、アルキル基の炭素数が６～１０である（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、アルキル基の炭素数が８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルがより好ましく、アクリル酸２－エチルヘキシルエステル（２ＥＨＡ）が更に好ましい。
　これらの粘着剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　前記接着剤としては、例えば、活性エネルギー線硬化型の接着剤や熱硬化型の接着剤が挙げられる。
　活性エネルギー線硬化型の接着剤は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有している。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、有機溶剤を含まない、いわゆる無溶剤型の接着剤が好ましい。（メタ）アクリレート系接着剤、エン／チオール系接着剤、エポキシ系接着剤、オキセタン系接着剤、エポキシ／オキセタン系接着剤、不飽和ポリエステル系接着剤等の光ラジカル重合反応を利用する接着剤；エポキシ系、ビニルエーテル系、オキセタン系等の光カチオン重合反応を利用する接着剤；等が挙げられる。
　熱硬化型の接着剤は、加熱により硬化する性質を有している。熱硬化型接着剤としては、有機溶剤を含まない、いわゆる無溶剤型の接着剤が好ましい。熱硬化型の接着剤としては、常温以上で硬化する接着剤が含まれ、例えば、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、（メタ）アクリレート系接着剤、エン／チオール系接着剤、シリコーン系接着剤、ポリエステル系接着剤、不飽和ポリエステル系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、ナイロン系接着剤、変性オレフィン系接着剤等が挙げられる。
　また、その他の接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を用いた水系接着剤等が挙げられる。これらの中でもポリビニルアルコール系樹脂水溶液が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂には、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルをケン化処理して得られるビニルアルコールホモポリマー；酢酸ビニル及び酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体をケン化処理して得られるビニルアルコール系共重合体；当該ビニルアルコールホモポリマー又は当該ビニルアルコール系共重合体の水酸基を部分的に変性した変性ポリビニルアルコール系重合体；等が挙げられる。前記水系接着剤には、多価アルデヒド、水溶性エポキシ化合物、メラミン系化合物、ジルコニア化合物、亜鉛化合物等が添加剤として添加されてもよい。
　粘着剤層の厚さは、特に制限はないが、好ましくは１～１００μｍ、より好ましくは５～５０μｍである。
　当該粘着剤層の厚さは、例えば、後述する実施例に記載の方法を用いて測定することができる。
［機能性フィルムの用途］
　本発明の機能性フィルムは、前記非晶性フィルムを有する機能性フィルムであるため、光学用デバイスの製造に用いられる機能性フィルムとして好適である。例えば、光学用デバイス用の機能性フィルムとして用いる場合、前記非晶性フィルム上に、更に、その他の各種機能層を１層又は２層以上積層して光学用デバイス部材を製造するために使用することができる。すなわち、前記機能性フィルムとその他の各種機能層とを含む積層体としても用いることができる。前記その他の機能層としては、例えば、透明導電性膜、光学調整層、ガスバリア層及び偏光板からなる群より選ばれる１種以上が挙げられる。また、例えば、前記非晶性フィルム自体を位相差フィルム、液晶セル基盤等の基盤、又は偏光板保護フィルムとして用いることもできる。このような製造過程では前記支持フィルムが、非晶性フィルムを保護するためのプロテクトフィルムとしても機能する。前記支持フィルムをプロテクトフィルムとして使用する場合、前記粘着剤層は再剥離性を有していることが好ましい。
　そして、本発明の機能性フィルムは、高温環境下で荷重がかかる場合でもカールを抑制できる。そのため、光学用デバイスに用いられる光学用部材の製造過程で、例えば、ＲｔｏＲプロセス等の高温で荷重がかかるようなプロセスで使用される機能性フィルムとしてより好適である。すなわち、当該プロセスを経て製造される光学用デバイス用の機能性フィルムとして、より好適である。
　前記ガスバリア層としては、例えば、透明ガスバリア層が挙げられる。当該透明ガスバリア層としては、無機化合物の蒸着膜や金属の蒸着膜等の無機蒸着膜；高分子化合物を含む層（以下、「高分子層」ということがある。）にイオン注入等の改質処理を施して得られる層；等が挙げられる。
　無機化合物の蒸着膜の原料としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物；窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化チタン等の無機窒化物；無機炭化物；無機硫化物；酸化窒化珪素等の無機酸化窒化物；無機酸化炭化物；無機窒化炭化物；無機酸化窒化炭化物等が挙げられる。
　金属の蒸着膜の原料としては、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、及びスズ等が挙げられる。これらは１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　高分子層に用いる高分子化合物としては、ポリオルガノシロキサン、ポリシラザン系化合物等の珪素含有高分子化合物、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフエニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル等が挙げられる。これらの高分子化合物は１種単独で、あるいは２種以上を組合せて用いることができる。これら高分子化合物の中でも、より優れたガスバリア性を有する珪素含有高分子化合物が好ましい。珪素含有高分子化合物としては、ポリシラザン系化合物、ポリカルボシラン系化合物、ポリシラン系化合物、及びポリオルガノシロキサン系化合物等が挙げられる。これらの中で、優れたガスバリア性を有するバリア層を形成できる観点から、ポリシラザン系化合物が好ましい。
　上述した中では、ガスバリア性の観点から、無機酸化物、無機窒化物又は金属を原料とする無機蒸着膜が好ましく、更に、透明性の観点から、無機酸化物又は無機窒化物を原料とする無機蒸着膜が好ましい。また、無機化合物の蒸着膜、またはポリシラザン系化合物を含む層に改質処理を施して形成された酸素、窒素、珪素を主構成原子として有する層からなる酸窒化珪素層が、層間密着性、ガスバリア性、及び耐折り曲げ性を有する観点から、好ましく用いられる。
　透明ガスバリア層は、例えば、ポリシラザン化合物含有層に、プラズマイオン注入処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、熱処理等を施すことにより形成できる。プラズマイオン注入処理により注入されるイオンとしては、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、及びクリプトン等が挙げられる。
　プラズマイオン注入処理の具体的な処理方法としては、外部電界を用いて発生させたプラズマ中に存在するイオンを、ポリシラザン化合物含有層に対して注入する方法、又は、外部電界を用いることなく、ガスバリア層形成用材料からなる層に印加する負の高電圧パルスによる電界のみで発生させたプラズマ中に存在するイオンを、ポリシラザン化合物含有層に注入する方法が挙げられる。
　プラズマ処理は、ポリシラザン化合物含有層をプラズマ中に晒して、含珪素ポリマーを含有する層を改質する方法である。例えば、特開２０１２－１０６４２１号公報に記載の方法に従って、プラズマ処理を行うことができる。紫外線照射処理は、ポリシラザン化合物含有層に紫外線を照射して含珪素ポリマーを含有する層を改質する方法である。例えば、特開２０１３－２２６７５７号公報に記載の方法に従って、紫外線改質処理を行うことができる。これらの中でも、ポリシラザン化合物含有層の表面を荒らすことなく、その内部まで効率よく改質し、よりガスバリア性に優れるガスバリア層を形成できることから、イオン注入処理が好ましい。
　前記機能性フィルムが、前記非晶性フィルム上に、更に、ガスバリア層を有する場合、当該ガスバリア層は、１層であっても２層以上積層されていてもよい。また、２層以上積層される場合は、それらが同じであっても異なっていてもよい。
　当該ガスバリア層の膜厚は、２０ｎｍ～５０μｍであることが好ましく、より好ましくは３０ｎｍ～１μｍ、更に好ましくは４０～５００ｎｍである。ガスバリア層の膜厚がこの範囲にあると、優れたガスバリア性や密着性が得られるとともに、柔軟性と、被膜強度とを両立させることができるため好ましい。
　また、ガスバリア層（ガスバリア層が複数層である場合を含む）での４０℃×９０％ＲＨの高湿条件下における水蒸気透過度は、０．１（ｇ／ｍ２／ｄａｙ）以下であることが好ましく、より好ましくは０．０５（ｇ／ｍ２／ｄａｙ）以下、更に好ましくは０．０１（ｇ／ｍ２／ｄａｙ）以下である。なお、当該水蒸気透過度は、水蒸気透過度測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、「ＡＱＵＡＴＲＡＮ」）を用いて、４０℃、相対湿度９０％の高温高湿環境下における、測定用試料の水蒸気透過度（ｇ／ｍ２／ｄａｙ）を測定した値とする。なお、水蒸気透過度測定装置の検出下限値は、５×１０－４（ｇ／ｍ２／ｄａｙ）である。このような水蒸気透過度であると、水蒸気をバリアし、例えば、当該ガスバリア層の一方の側から反対側への水蒸気透過を抑制することができる。そのため、前記機能性フィルムを、例えば、光学用デバイス等に用いる際、デバイス内部への水蒸気等のガスの透過を抑制できるため、好ましい。
　そして、本発明の機能性フィルムは、高温環境下で荷重がかかる場合でもカールを抑制できる。そのため、前記非晶性フィルム上に、前記ガスバリア層を形成する過程で、高温環境下に曝される場合でも好適に用いることができる。
　前記光学用デバイスとしては、光学用デバイスを製造する過程で、前述の本発明の機能性フィルムを用いるものであれば、特に制限はないが、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）；液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）；有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）等のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）；プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）；タッチパネル；ブラウン管（ＣＲＴ）；電子ペーパー、太陽電池等の光学用デバイス等が挙げられる。これらの中でも、前記機能性フィルムは、好ましくはＥＬ、より好ましくは有機ＥＬに好適である。
　次に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。
　各実施例及び各比較例で用いた各非晶性フィルム、各支持フィルム、及び粘着剤層、並びに得られた機能性フィルムの特性について、以下の方法に基づき評価した。その結果を表１に示す。
＜非晶性フィルム、支持フィルム及び粘着材層の厚さ＞
　各実施例及び各比較例で用いた各非晶性フィルム、及び各支持フィルムの厚さは、テクロック社製の定圧厚さ測定器（型番：「ＰＧ－０２Ｊ」、標準規格：ＪＩＳ　Ｋ６７８３：１９９４、ＪＩＳ　Ｚ１７０２：１９９４、ＪＩＳ　Ｚ１７０９：１９９５に準拠）を用いて測定した。
　乾燥後の粘着剤層の厚さは、各実施例及び各比較例で得られた粘着剤層付き支持フィルムの厚さを同様の方法を用いて測定し、予め測定した支持フィルムの厚さを差し引いた値を用いた。
＜非晶性フィルム及び支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）＞
　各実施例及び各比較例で用いた各非晶性フィルム及び各支持フィルムを横（ＴＤ方向）５ｍｍ×縦（ＭＤ方向）１５ｍｍの短冊状に切断して試験片を作製した。その後、粘弾性測定装置（ＴＡｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製「ＤＭＡ　Ｑ８００」）を用いて、引張モードにて、試験片のｔａｎδ（損失弾性率と貯蔵弾性率との比）を、周波数１０Ｈｚ、昇温速度５℃／分、大気雰囲気下で０～３５０℃にて測定した。なお、ポリエチレンフィルムの測定時には、液体窒素を利用して、－１５０～１００℃にて測定した。この温度範囲において、ｔａｎδが最大値を示す温度を読み取り、各非晶性フィルム及び支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）とした。
　なお、ＭＤ方向のＭＤとは、Ｍａｃｈｉｎｅ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎの略記であり、ＭＤ方向はフィルム成形時の長尺方向を意味する。また、ＴＤ方向のＴＤとは、Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎの略記で、ＴＤ方向はフィルム成形時の幅方向を意味する。
＜支持フィルムの熱膨張率＞
　各実施例及び各比較例で用いた各支持フィルムの熱膨張率は、次の方法にて測定した。
　ＮＥＴＺＳＣＨ　ＪＡＰＡＮ社製「ＴＭＡ－４０００ＳＥ」を用い、有効測定範囲：横（ＴＤ方向）５ｍｍ×縦（ＭＤ方向）１５ｍｍの試験片に対し、ＭＤ方向に５０ｇの引張荷重をかけ、一定荷重モードで測定を行った。２５℃から１５０℃まで５℃／分の昇温速度で昇温した後、続けて、１５０℃から２５℃まで５℃／分の降温速度で降温させた際のチャートを確認し、２５℃まで降温した後の試験片のＭＤ方向における変位量（収縮の場合は負の値で表す。）及びＭＤ方向における初期試験片長の値から、下記式に基づいて熱膨張率を算出した。
 
熱膨張率［％］＝（変位量［ｍｍ］／初期試験片長［ｍｍ］）×１００
 
＜機能性フィルムのカール評価＞
　各実施例及び各比較例で作製した機能性フィルム１～１２を、横（ＴＤ方向）１００ｍｍ×縦（ＭＤ方向）１００ｍｍのサイズに裁断して試験片を作製した。
　当該試験片を、ＭＤ方向に１，０００ｇの荷重をかけた状態で、エスペック社製オーブン「ＳＰＨＨ－２０２」を用いて、１５０℃５分間加熱した。
　５分間の加熱後、当該試験片をオーブン中から取り出して、自然冷却し、当該試験片の温度が室温（２５℃）まで降温したことを確認し、試験片の荷重を取り除いてから、水平なテーブル上に試験片を静置させた。試験片の４つの角（４頂点）の浮高さ（テーブル面からの高さ）を定規で測定し、得られた４つの高さの平均値を算出し、その値をカール量とした。
　当該カール量の値が２０ｍｍ以下の場合を「良好」とし、２０ｍｍを超える場合は「不良」であるとして、各試験片のカールの抑制効果について、その良否判断を行なった。
　得られた結果を下記表１に示す。
　なお、前記カール量の値は、非晶性フィルム側が浮き上がる場合を正の値で、支持フィルム側が浮き上がる場合を負の値で記載した。
［実施例１］
　支持フィルムとして、アニール処理済みポリエチレンテレフタレートフィルム（１）（アイム社製、品番「ＳＡＦ１０００ＰＥＴ５０」、厚さ５０μｍ）を用い、当該支持フィルム上に、２ＥＨＡ系粘着剤を乾燥後の粘着剤層の膜厚が１０μｍとなるように塗布し塗膜を形成した。当該支持フィルム上の塗膜を、１００℃で１分間加熱して粘着剤層を形成した。
　非晶性フィルムとして、シクロオレフィンポリマーフィルム（１）（日本ゼオン社製、ゼオノアフィルム（登録商標）、品番「ＺＦ１４－０２３」、厚さ２３μｍ）を用い、前記支持フィルム上の粘着剤層の露出面と当該非晶性フィルムの表面とを、日本オフィスラミネーター社製のロール式ラミネート機「ＲＳＨ－３８０ＳＬ」を用いて貼合わせ、積層体である機能性フィルム１を得た。
［実施例２］
　実施例１で用いた支持フィルムを、アニール処理済みポリエチレンテレフタレートフィルム（２）（アイム社製、品番「ＡＦ２０００ＰＥＴ１２５」、厚さ１２５μｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、機能性フィルム２を得た。
［実施例３］
　実施例１で用いた支持フィルムを、アニール処理済みポリエチレンテレフタレートフィルム（３）（アイム社製、品番「ＡＦ２０００ＰＥＴ２５０」、厚さ２５０μｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、機能性フィルム３を得た。
［実施例４］
　実施例１で用いた支持フィルムを、ポリイミドフィルム（東レ・デュポン社製、カプトン（登録商標）、品番「２００Ｈ」、厚さ５０μｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、機能性フィルム４を得た。
［実施例５］
　実施例２で用いた非晶性フィルムを、シクロオレフィンポリマーフィルム（２）（日本ゼオン社製、ゼオノアフィルム（登録商標）、品番「ＺＦ１６－０４０」、厚さ４０μｍ）に変更したこと以外は、実施例２と同様にして、機能性フィルム５を得た。
［実施例６］
　実施例２で用いた非晶性フィルムを、シクロオレフィンコポリマーフィルム（グンゼ社製、品番「Ｆ１－ＩＳＯ」、厚さ８０μｍ）に変更したこと以外は、実施例２と同様にして、機能性フィルム６を得た。
［実施例７］
　実施例２で用いた非晶性フィルムを、ポリカーボネートフィルム（帝人社製、ピュアエース（登録商標）、品番「Ｃ１１０」、厚さ４０μｍ）に変更したこと以外は、実施例２と同様にして、機能性フィルム７を得た。
［実施例８］
　実施例４で用いた非晶性フィルムを、ポリカーボネートフィルム（帝人社製、ピュアエース（登録商標）、品番「Ｃ１１０」、厚さ４０μｍ）に変更したこと以外は、実施例４と同様にして、機能性フィルム８を得た。
［比較例１］
　実施例１で用いた支持フィルムを、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製、品番「ＰＥＴ２５Ｔ６００Ｅ」、厚さ２５μｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、機能性フィルム９を得た。
［比較例２］
　実施例１で用いた支持フィルムを、ポリエチレンフィルム（東レフィルム加工社製、トレテック（登録商標）、品番「７３３２」、厚さ５０μｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、機能性フィルム１０を得た。
［比較例３］
　比較例１で用いた非晶性フィルムを、ポリカーボネートフィルム（帝人社製、ピュアエース（登録商標）、品番「Ｃ１１０」、厚さ４０μｍ）に変更したこと以外は、比較例１と同様にして、機能性フィルム１１を得た。
［比較例４］
　実施例１で用いた支持フィルムを、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製、コスモシャイン（登録商標）、品番「１２５Ａ４３００」、厚さ１２５μｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、機能性フィルム１２を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１より、支持フィルムの熱膨張率の値（絶対値）が小さい実施例１～８の機能性フィルム１～８は、高温環境下で荷重がかかる場合でもカール量が小さく、カールが抑制されていることが確認された。
　一方、支持フィルムの熱膨張率の値（絶対値）が大きい比較例１～４の機能性フィルム９～１２は、高温環境下で荷重がかかる条件下では、カール量が大きくなり、カールを抑制することが困難であることが確認された。
　本発明の機能性フィルムは、高温環境下で荷重がかかる場合でもカールを抑制できる。そのため、光学用デバイスに用いられる光学用部材の製造過程で、例えば、ＲｔｏＲプロセス等の高温で荷重がかかるようなプロセスで使用される機能性フィルムとしてより好適である。すなわち、当該プロセスを経て製造される光学用デバイス用の機能性フィルムとして、より好適である。
１、２　　機能性フィルム
１１　　　非晶性フィルム
１２　　　支持フィルム
１３　　　粘着剤層

Claims (10)

  1. 　非晶性フィルムと支持フィルムとの積層体である機能性フィルム、又は非晶性フィルムと粘着剤層と支持フィルムとをこの順で直接積層した積層体である機能性フィルムであって、前記支持フィルムが下記条件（Ｉ）を満たす、機能性フィルム。
    条件（Ｉ）：引張荷重５０ｇ／５ｍｍ条件下、２５℃から１５０℃まで５℃／分の昇温速度で昇温した後、続けて、１５０℃から２５℃まで５℃／分の降温速度で降温させた後に測定される熱膨張率の絶対値が０．５０％以下
  2. 　前記支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）未満である、請求項１に記載の機能性フィルム。
  3. 　前記支持フィルムがポリエステル系フィルムである、請求項１又は２に記載の機能性フィルム。
  4. 　前記ポリエステル系フィルムが、延伸応力を解消する処理を施されたポリエステル系フィルムである、請求項３に記載の機能性フィルム。
  5. 　前記支持フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、前記非晶性フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）以上である、請求項１に記載の機能性フィルム。
  6. 　前記支持フィルムがポリイミド系フィルムである、請求項５に記載の機能性フィルム。
  7. 　前記支持フィルムの厚さが１０μｍ以上３００μｍ以下である、請求項１～６のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
  8. 　前記非晶性フィルムが、シクロオレフィン系フィルム及びポリカーボネート系フィルムからなる群より選ばれる１種以上である、請求項１～７のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
  9. 　前記非晶性フィルムの厚さが１μｍ以上１００μｍ以下である、請求項１～８のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
  10. 　光学用デバイスに用いる請求項１～９のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
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