WO2018159308A1

WO2018159308A1 - 電線、コイルおよび電線の製造方法

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Publication number: WO2018159308A1
Application number: PCT/JP2018/005275
Authority: WO
Inventors: 雅博大倉; 杉山　徳英
Original assignee: Ａｇｃ株式会社
Priority date: 2017-03-02
Filing date: 2018-02-15
Publication date: 2018-09-07
Also published as: JP6950736B2; JPWO2018159308A1; US20190315896A1; US10759887B2; DE112018001087T5

Abstract

熱または光硬化が可能な含フッ素重合体の硬化物により被覆された、絶縁性が高く、生産性の高い電線およびコイルの提供。導線と、前記導線の外周を被覆する被覆層を有し、前記被覆層は、下式（Ｆ）で表される官能基を３つ以上含む含フッ素重合体を含む硬化性組成物の硬化物からなる電線。　－Ｒｆ１ＣＯＺ１　…（Ｆ）（式（Ｆ）中、Ｒｆ１は、単結合、フルオロアルキレン基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基であり、Ｚ１は、ＮＲ１ＮＲ２Ｈ、ＮＲ３ＯＲ４またはＯＲ５であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。）

Description

電線、コイルおよび電線の製造方法

　本発明は、電線およびそれを用いたコイルならびに該電線の製造方法に関する。

　モバイル機器や自動車等の小型化、軽量化を進めるために、これらの用途に用いられる電線には、細径化が求められる。これに伴い、芯線（内部導体）を被覆する絶縁材からなる被覆層を薄肉形成する必要が生じている。

　従来から、巻線に用いられるエナメル線の製造には熱硬化性樹脂を溶剤に溶解した液状絶縁ワニスが用いられる。該液状絶縁ワニスを用いてエナメル線を製造するには、芯線を液状絶縁ワニス中に浸漬し塗布した後、焼付し熱硬化させて被覆層を形成する。この場合、液状絶縁ワニスにおける熱硬化性樹脂濃度の調整などにより被覆層の薄肉化が可能である。近年、生産性を上げるために、特許文献１では液状絶縁ワニスとして光硬化性のポリイミドを含有するポリイミド組成物が提案されている。

　一方、巻線以外の電線では、一般に、熱可塑性樹脂を押し出し成形して芯線が被覆される。特許文献２では伝送損失を抑えるために、比誘電率が低く薄肉化可能な含フッ素樹脂であるテトラフルオロエチレン／ペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体が提案されている。

国際公開第２０１５／１２９９１３号特許第４５９１３５２号

　しかし、特許文献１に記載の液状絶縁ワニスに用いられる熱硬化性樹脂は含フッ素樹脂、特にペルフルオロ樹脂に比べて絶縁性が低くかった。一方、特許文献２に記載の含フッ素樹脂の押出成形には、成形時に発生する酸成分に耐性のある高価な成形機を必要とした。

　本発明は、熱または光硬化が可能な含フッ素重合体の硬化物により被覆された、絶縁性が高く、生産性の高い電線およびコイルの提供を目的とする。本発明は、簡易な装置を用いて高絶縁性の電線が製造可能な電線の製造方法の提供を目的とする。

　本発明は、以下［１］～［９］の構成を有する電線、その製造方法、コイルを提供する。
　［１］導線と、前記導線の外周を被覆する被覆層を有し、前記被覆層は、下式（Ｆ）で表される官能基を３つ以上含む含フッ素重合体を含む硬化性組成物の硬化物からなる電線。
　－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１　　…（Ｆ）
（式（Ｆ）中、Ｒ^ｆ１は、単結合、フルオロアルキレン基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基であり、Ｚ^１は、ＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ、ＮＲ^３ＯＲ^４またはＯＲ^５であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。）
　［２］前記含フッ素重合体は、前記式（Ｆ）で示される官能基の少なくとも１つを下式（Ｕ１）で表される単位中に含む、［１］に記載の電線。

（式（Ｕ１）中、Ｘ^１およびＸ^２は、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子であり、Ｑ^１は、単結合またはエーテル性酸素原子である。Ｒ^ｆ１は、単結合、フルオロアルキレン基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基であり、Ｚ^１は、ＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ、ＮＲ^３ＯＲ^４またはＯＲ^５であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。）
　［３］前記含フッ素重合体が前記式（Ｕ１）で表される単位を３つ以上含む、［２］に記載の電線。
　［４］前記含フッ素重合体が下式（Ｆ１）で表される基を３つ以上含む、［１］に記載の電線。
－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１　　…（Ｆ１）
（式（Ｆ１）中、Ｒ^ｆ２は、炭素数が１～４のペルフルオロアルキレン基である。ｋは１～２００の整数を示す。Ｒ^ｆ１は、単結合、フルオロアルキレン基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基であり、Ｚ^１は、ＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ、ＮＲ^３ＯＲ^４またはＯＲ^５であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。）
　［５］前記含フッ素重合体が、１つの炭素原子に前記式（Ｆ１）で表される基が３個または４個結合した化合物である、［４］に記載の電線。
　［６］前記含フッ素重合体に含まれるフッ素原子の量が５０～７６質量％である、［１］～［５］のいずれかに記載の電線。
　［７］前記導線が銅導体またはアルミニウム導体からなる、［１］～［６］のいずれかに記載の電線。
　［８］［１］～［７］のいずれかに記載の電線を製造する方法であって、前記導線の外周を前記硬化性組成物により被覆して前記被覆層の前駆層を形成し、前記前駆層に熱を加えて、および／または、活性エネルギー線を照射して、前記硬化性組成物の硬化物からなる被覆層を得ることを特徴とする電線の製造方法。
　［９］前記前駆層が、前記硬化性組成物と沸点が２５０℃以下の液体を含むコーティング組成物を前記導線の外周に塗布し、前記塗布された前記コーティング組成物から前記液体を揮発させることにより形成される、［８］に記載の電線の製造方法。
　［１０］［１］～［７］のいずれかに記載の電線をコイル状に成形してなるコイル。

　本発明によれば、熱または光硬化が可能な含フッ素重合体の硬化物により被覆された、絶縁性が高く、生産性の高い電線およびコイルが提供できる。
　また、本発明によれば、簡易な装置を用いて高絶縁性の電線が製造可能な電線の製造方法が提供できる。

　以下に、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は下記説明に限定して解釈されない。

［本明細書における用語の意味］
　式（ａ）で表される化合物を化合物（ａ）と記す場合がある。他の式で表される化合物も同様に記す。式（ｂ）で表される単位を単位（ｂ）と記す場合がある。他の式で表される単位も同様に記す。式（ｃ）で表される基を基（ｃ）と記す場合がある。他の式で表される基も同様に記す。

　重合体における「単位」とは、単量体が重合することによって形成する該単量体に由来する部分を意味する。単量体に由来する単位を、単に、単量体単位とも記す。例えば、フルオロエチレンに由来する単位を「フルオロエチレン単位」と記す。

　「フルオロエチレン」とは、テトラフルオロエチレン（ＣＦ_２＝ＣＦ_２）の０～３個のフッ素原子が水素原子またはフッ素以外のハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、ヨウ素）に置換された化合物を意味する。

　アルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルキレン基、フルオロアルコキシ基、フルオロアルケニル基等の炭素原子鎖を有する基は、直鎖状でもよく、分岐状でもよい。

　「フルオロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された基をいう。フルオロアルキル基中のフッ素原子の割合は、（フルオロアルキル基中のフッ素原子数）／（フルオロアルキル基に対応する同一炭素原子数のアルキル基中の水素原子数）×１００（％）で表現した場合に５０％以上が好ましく、１００％すなわちペルフルオロアルキル基が特に好ましい。フルオロアルキレン基、フルオロアルコキシ基、フルオロアルケニル基についても同様であり、ペルフルオロアルキレン基、ペルフルオロアルコキシ基、ペルフルオロアルケニル基が特に好ましい。
　「硬化」とは、特に言及しない限り、架橋により硬化することを意味する。
　「前駆層」とは、硬化することにより被覆層を形成する層を意味し、本明細書では、硬化性組成物の層をいう。
　本明細書において、数値範囲を表す「～」では、上下限を含む。

［電線］
　本発明の電線は、導線と、前記導線の外周を被覆する被覆層を有し、前記被覆層は、下式（Ｆ）で表される官能基を３つ以上含む含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体（Ａ）ともいう。）を含む硬化性組成物の硬化物からなる。
　－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１　　…（Ｆ）
（式（Ｆ）中、Ｒ^ｆ１は、単結合、フルオロアルキレン基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基であり、Ｚ^１は、ＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ、ＮＲ^３ＯＲ^４またはＯＲ^５であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。）

（導線）
　導線（「芯線」ともいう。）は、通常、電線に用いられる導線が特に制限なく使用できる。導線の構成材料としては、銅導体、アルミニウム導体等が挙げられる。なお、銅導体は、銅が主成分である導体を意味し、主に無酸素銅や低酸素銅などが使用される。アルミニウム導体も同様である。また、導体はこれに限定されるものではなく、例えば銅線の外周にニッケル、クロム、銀、スズなどの金属メッキを施した導体も使用可能である。

　導線の長さ方向に直交する断面における最長径は、０．００２～２０ｍｍが好ましい。導線の長さ方向に直交する断面形状としては、丸形状、箔状、あるいは四角形状等の多角形状が挙げられる。なお、多角形状の場合、角の部分が尖っていない、所定の曲率を有する形状も含むものとする。

　導線（芯線）は、一本の導体で構成される単線として用いても、複数の導体をより合わせて構成された撚り線として用いてもよい。

（被覆層）
　導線の外周を被覆する被覆層は、含フッ素重合体（Ａ）を含む硬化性組成物の硬化物からなる。導線の外周を被覆する被覆層を有するとは、導線の長さ方向に直交するいずれの断面においても、導線の外周に沿って被覆層が形成されていることをいう。本発明の電線において、導線と上記被覆層の間、または上記被覆層の外側にさらなる被覆層を有してもよい。被覆層の厚さは、電線の用途や種類により適宜調整される。被覆層は、例えば、１～１０００μｍの厚さが好ましく、１０～１０００μｍの厚さがより好ましい。

　硬化性組成物は、含フッ素重合体（Ａ）を硬化性成分として含有し、溶媒等の揮発性成分を含まない組成物である。

　含フッ素重合体（Ａ）の架橋反応は、基（Ｆ）に基づき生起する。
　基（Ｆ）中の、Ｚ^１がＯＲ^５の場合、活性エネルギー線の照射による脱ＣＯＺ^１反応により、基（Ｆ）から－Ｒ^ｆ１ラジカルが生じ、－Ｒ^ｆ１ラジカル同士がカップリングにより結合すると想定される。

　Ｚ^１がＮＲ^１ＮＲ^２Ｈの場合、活性エネルギー線の照射および／または加熱により、基（Ｆ）同士がカップリングしてジアシルヒドラジンまたはテトラジン構造の架橋部位が形成されると想定される。

　Ｚ^１がＮＲ^３ＯＲ^４の場合、活性エネルギー線の照射および／または加熱による脱ＣＯＺ^１反応により、基（Ｆ）から－Ｒ^ｆ１ラジカルが生じ、－Ｒ^ｆ１ラジカル同士がカップリングにより結合すると考えられる。

　基（Ｆ）が、Ｚ^１がＮＲ^１ＮＲ^２Ｈである基とＺ^１がＯＲ^５である基の両方の基を有する場合、加熱により両基が以下の式のとおり反応して両基が結合すると想定される。
　－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ　＋　－Ｒ^ｆ１ＣＯＯＲ^５　→　－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＨＮＨＣＯＲ^ｆ１－
　上記いずれの架橋反応においても、所定の条件下、例えば、窒素等の不活性ガスの存在下に反応を行うことが好ましい。

　硬化性組成物は、含フッ素重合体（Ａ）のみからなってもよく、含フッ素重合体（Ａ）の上記架橋反応を阻害しない範囲で含フッ素重合体（Ａ）以外の反応性成分（以下、「その他の反応性成分」ともいう）を含んでもよい。その他の反応性成分としては、基（Ｆ）を１つまたは２つ有する含フッ素重合体、導線等との密着性向上のためのシランカップリング剤等が挙げられる。硬化性組成物は、さらに非反応性成分を含んでいてもよい。以下、硬化性組成物が含有する各成分について説明する。

（含フッ素重合体（Ａ））
　含フッ素重合体（Ａ）は基（Ｆ）を１分子中に３個以上含有する。
　－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１　　…（Ｆ）
（式（Ｆ）中、Ｒ^ｆ１は、単結合、フルオロアルキレン基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基であり、Ｚ^１は、ＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ、ＮＲ^３ＯＲ^４またはＯＲ^５であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。）

　基（Ｆ）中の、Ｒ^ｆ１がフルオロアルキレン基である場合、炭素数は１～６が好ましく、１～４が特に好ましい。炭素数が３以上の場合には、熱安定性に優れる点から直鎖構造が好ましい。フルオロアルキレン基は、熱安定性に優れる点からペルフルオロアルキレン基が好ましい。すなわち、Ｒ^ｆ１としては、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数１～４のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。

　Ｒ^ｆ１が、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基である場合、炭素数は２～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。炭素数が３以上の場合には、熱安定性に優れる点から直鎖構造が好ましい。フルオロアルキレン基は、熱安定性に優れる点からペルフルオロアルキレン基が好ましい。すなわち、Ｒ^ｆ１としては、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２～１０のペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２～６のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。

　Ｒ^ｆ１として、具体的には、ＣＦ_２、（ＣＦ_２）_２、（ＣＦ_２）_３、（ＣＦ_２）_４、ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_２、ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_３、（ＣＦ_２）_３Ｏ（ＣＦ_２）_２、（ＣＦ_２）_２Ｏ（ＣＦ_２）_２、ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）、ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）等が好ましい。

　Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、水素結合性が高く、含フッ素重合体（Ａ）のアルコールへの溶解性に優れる点から、水素原子または炭素数１～６のアルキル基が好ましく、水素原子または炭素数１もしくは２のアルキル基がより好ましく、メチル基または水素原子がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。

　Ｒ^５は、含フッ素重合体（Ａ）が、加熱時の流動性に優れる点から、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、炭素数１または２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。含フッ素重合体（Ａ）を含む硬化性組成物の硬化物の透明性が高い点からは、Ｒ^５は水素原子またはメチル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。

　－ＣＯＺ^１として、具体的には、－ＣＯＯＨ、－ＣＯＯＣＨ_３、－ＣＯＯＣ_２Ｈ_５、－ＣＯＮＨＮＨ_２、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）ＮＨＣＨ_３、－ＣＯＮＨＯＨ、－ＣＯＮＨＯＣＨ_３等が好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ）中の基（Ｆ）の数は３個以上であり、３～１００個が好ましく、３～３０個がより好ましい。基（Ｆ）の種類は異なってもよく、同一でもよい。上記架橋反応の種類に応じて基（Ｆ）の組み合わせを適宜選択できる。

　また、基（Ｆ）中のＺ^１がＮＲ^１ＮＲ^２ＨまたはＮＲ^３ＯＲ^４である場合、例えば、ペルフルオロポリマーのようにフッ素原子含有量が高くても含フッ素重合体（Ａ）が、アルコールに溶解する利点を有する。

　アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、メトキシエタノール、メトキシプロパノール等が挙げられ、メタノールおよびエタノールが好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ）に対してアルコール溶解性が求められる場合、含フッ素重合体（Ａ）における基（Ｆ）の種類や割合を調整することで、例えば、室温（２５℃）で、アルコール（好ましくは、メタノール）および含フッ素重合体（Ａ）の合計に対する溶解量が２質量％以上の含フッ素重合体（Ａ）が得られる。アルコールおよび含フッ素重合体（Ａ）の合計に対する含フッ素重合体（Ａ）の溶解量は３質量％以上が好ましく、４質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ）中のフッ素原子の含有量は５０～７６質量％が好ましい。フッ素原子の含有量が５０質量％以上であれば絶縁性と難燃性に優れる点で好ましく、７６質量％以下であれば成形性に優れる点で好ましい。フッ素原子の含有量は、５５～６５質量％がより好ましい。フッ素原子の含有量は、^１９Ｆ－ＮＭＲ測定により算出できる。

　含フッ素重合体（Ａ）は、基（Ｆ）の合計数が３個以上であれば、基（Ｆ）を重合単位の側鎖に有してもよく、高分子の主鎖末端に有してもよい。基（Ｆ）を重合単位の側鎖に有する場合、基（Ｆ）は、単結合またはエーテル性酸素原子を介して重合体の主鎖に結合する構造が好ましい。

　基（Ｆ）を側鎖に有する重合単位としては、下式（Ｕ１）で示される単位が好ましい。

（式（Ｕ１）中、Ｘ^１およびＸ^２は、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子であり、Ｑ^１は、単結合またはエーテル性酸素原子である。－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１は、基（Ｆ）に相当する。）

　また、基（Ｆ）を主鎖末端に有する場合、基（Ｆ）としては、下式（Ｆ１）で示される基、下式（Ｆ１１）で示される基、下式（Ｆ１２）で示される基等が好ましい。なお、必要に応じて基（Ｆ１）、基（Ｆ１１）、基（Ｆ１２）等は重合単位の側鎖に存在してもよい。
－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１　　…（Ｆ１）
（式（Ｆ１）中、Ｒ^ｆ２は、炭素数が１～４のペルフルオロアルキレン基である。ｋは１～２００の整数を示す。－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１は、基（Ｆ）に相当する。）
－ＣＦ_２ＣＯＺ^１　　…（Ｆ１１）
－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＺ^１　　…（Ｆ１２）
（式（Ｆ１１）および式（Ｆ１２）中のＺ^１の種類と例示は上記基（Ｆ）で説明したのと同様である。）

　含フッ素重合体（Ａ）は、例えば、単位（Ｕ１）と、基（Ｆ１）を合計で３つ以上有する含フッ素重合体（Ａ）でもよい。具体的には、主鎖末端に２個の基（Ｆ１）を有し、１個以上の単位（Ｕ１）を有する含フッ素重合体（Ａ）、主鎖末端に１個の基（Ｆ１）を有し、２個以上の単位（Ｕ１）を有する含フッ素重合体（Ａ）等が挙げられる。さらに、上記において含フッ素重合体（Ａ）は、基（Ｆ１）に変えて、主鎖末端の基（Ｆ）として、基（Ｆ１１）、基（Ｆ１２）等を有するものでもよい。

　含フッ素重合体（Ａ）として、好ましくは、単位（Ｕ１）を３つ以上有する含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体（Ａ１）ともいう。）、基（Ｆ１）を３つ以上有する含フッ素重合体（以下、含フッ素重合体（Ａ２））等が挙げられる。

＜含フッ素重合体（Ａ１）＞
　含フッ素重合体（Ａ１）は、単位（Ｕ１）のみで構成されてもよく、単位（Ｕ１）と単位（Ｕ１）以外の単位で構成されてもよい。以下、含フッ素重合体（Ａ１）を構成する各単位について説明する。

　単位（Ｕ１）中、Ｑ^１は、エーテル性酸素原子が好ましい。Ｘ^１およびＸ^２は共にフッ素原子であるか、水素原子が好ましく、共にフッ素原子がより好ましい。

　単位（Ｕ１）の具体例としては、以下の単位が挙げられる。
－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＣＦ_２－ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＦ_２－ＣＦ（（ＣＦ_２）_２－ＣＯＺ^１）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_２－ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_３－ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_４－ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_２－ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_３－ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_３Ｏ（ＣＦ_２）_２－ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_２Ｏ（ＣＦ_２）_２－ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＨ_２－ＣＦ（ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＯＺ^１）］－、
－［ＣＨ_２－ＣＦ（ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＯＺ^１）］－。
（Ｚ^１は、－ＯＨ、－ＯＣＨ_３、－ＮＨＮＨ_２、－Ｎ（ＣＨ_３）ＮＨＣＨ_３、－ＮＨＯＨ、または、－ＮＨＯＣＨ_３である。）

　入手容易の点から、単位（Ｕ１）は、－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＣＯＯＣＨ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＣＦ_２－ＣＯＯＣＨ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_３ＣＯＯＣＨ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_３ＣＯＯＣＨ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_３ＣＯＮＨＮＨ_２）］－または－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_３ＣＯＮＨＯＨ）］－が特に好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ１）は、基（Ｆ）を３つ以上有する限り、単位（Ｕ１）の１種を単独で含んでもよく、２種以上の組み合わせで含んでもよい。水素結合性がより高く、導線に対する接着性により優れる点からは、含フッ素重合体（Ａ１）としては、Ｚ^１がＮＲ^１ＮＲ^２Ｈである単位（Ｕ１）を含む含フッ素重合体が好ましい。架橋条件とＺ^１の種類、含フッ素重合体（Ａ１）のアルコール溶解性については、上記含フッ素重合体（Ａ）で説明したのと同様である。

　Ｚ^１がＯＲ^５である単位（Ｕ１）は、下式（１１）で表される化合物を単量体として重合することにより形成できる。また、Ｚ^１が、ＮＲ^１ＮＲ^２ＨおよびＮＲ^３ＯＲ^４である単位（Ｕ１）は、後述する含フッ素重合体（Ａ１）の製造方法により形成できる。
　　　ＣＸ^１Ｘ^２＝ＣＦ－Ｑ^１－Ｒ^ｆ１－ＣＯＯＲ^５　…（１１）
（式（１１）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｑ^１、Ｒ^ｆ１およびＯＲ^５は、式（Ｕ１）で定義されたとおりであり、例示も好ましい範囲も同様である。）

　以下、下式（Ｕ１ａ）、（Ｕ１ｂ）、（Ｕ１ｃ）に示すように、Ｚ^１がＯＲ^５である単位（Ｕ１）を単位（Ｕ１ａ）、Ｚ^１がＮＲ^１ＮＲ^２Ｈである単位（Ｕ１）を単位（Ｕ１ｂ）、Ｚ^１がＮＲ^３ＯＲ^４である単位（Ｕ１）を単位（Ｕ１ｃ）という。

（式（Ｕ１ａ）、式（Ｕ１ｂ）、式（Ｕ１ｃ）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｑ^１、Ｒ^ｆ１、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、式（Ｕ１）で定義されたとおりであり、例示も好ましい範囲も同様である。）

　含フッ素重合体（Ａ１）は、さらに、フルオロエチレン単位（以下、「単位（Ｕ２）」とも記す。）、後述する式（Ｕ３）で表される単位（以下、「単位（Ｕ３）」とも記す。）、その他の単位（以下、「単位（Ｕ４）」とも記す。）を有してもよい。

＜単位（Ｕ２）＞
　単位（Ｕ２）の具体例としては、テトラフルオロエチレン（ＣＦ_２＝ＣＦ_２）（ＴＦＥ）、トリフルオロエチレン（ＣＦ_２＝ＣＨＦ）（ＴｒＦＥ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＦＣｌ＝ＣＦ_２）、ビニリデンフルオリド（ＣＦ_２＝ＣＨ_２）等に由来する単位が挙げられる。耐光性に優れる点から、ＴＦＥ単位、ＴｒＦＥ単位、クロロトリフルオロエチレン単位が好ましい。極性の高い－ＣＯＺ^１基が界面に存在しやすくなることで基材に対する接着性に優れる点からは、ＴＦＥ単位が特に好ましい。ＴＦＥ単位ほど含フッ素重合体の結晶性が高くなく、光散乱が生じにくく、透明性が高い点からは、ＴｒＦＥ単位、クロロトリフルオロエチレン単位が特に好ましい。アルコールに対する溶解性に優れる点からは、ＴｒＦＥ単位が特に好ましい。

　含フッ素重合体は、単位（Ｕ２）を１種単独で含んでもよく、２種以上の単位（Ｕ２）の組み合わせで含んでもよい。

＜単位（Ｕ３）＞
　単位（Ｕ３）は下式（Ｕ３）で表される単位（ただし、フルオロエチレン単位を除く。）である。
　－［ＣＸ^３Ｘ^４－ＣＹ^１Ｙ^２］－　…（Ｕ３）
（式（Ｕ３）中、Ｘ^３およびＸ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、Ｙ^１は、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、Ｙ^２は、水素原子、フルオロアルキル基、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルコキシ基、フルオロアルケニル基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルケニル基である。）

　Ｙ^２における、フルオロアルキル基としては、炭素数が１～１５が好ましく、１～６が特に好ましい。熱安定性に優れる点から、ペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１～６のペルフルオロアルキル基がより好ましく、－ＣＦ_３が特に好ましい。Ｙ^２における、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキル基としては、炭素数は２～１５が好ましく、２～６が特に好ましい。熱安定性に優れる点から、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２～６のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。

　Ｙ^２における、フルオロアルコキシ基としては、炭素数が１～１５が好ましく、１～６が特に好ましい。熱安定性に優れる点から、炭素数１～６のペルフルオロアルコキシ基が好ましく、－ＯＣＦ_３、－ＯＣＦ_２ＣＦ_３、－Ｏ（ＣＦ_２）_２ＣＦ_３、－Ｏ（ＣＦ_２）_３ＣＦ_３が特に好ましい。Ｙ^２における、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルコキシ基としては、炭素数は２～１５が好ましく、２～６が特に好ましい。熱安定性に優れる点から、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のペルフルオロアルコキシ基が好ましく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２～６のペルフルオロアルコキシ基が特に好ましい。

　Ｙ^２における、フルオロアルケニル基としては、分子内で環化反応が進行せず、合成が容易である点から、炭素数が５～１５が好ましい。熱安定性に優れる点から、ペルフルオロアルケニル基が好ましく、－（ＣＦ_２）_４ＣＦ＝ＣＦ_２、－（ＣＦ_２）_５ＣＦ＝ＣＦ_２および－（ＣＦ_２）_６ＣＦ＝ＣＦ_２が特に好ましい。Ｙ^２における、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルケニル基としては、炭素数は２～１５が好ましく、２～６が特に好ましい。熱安定性に優れる点から、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のペルフルオロアルケニル基が好ましく、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２～６のペルフルオロアルケニル基が特に好ましい。

　単位（Ｕ３）の具体例としては、下記単位が挙げられる。
　－［ＣＨ_２－ＣＨ_２］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＣＦ_３）］－、－［ＣＨ_２－ＣＦ（ＣＦ_３）］－、－［ＣＨ_２－ＣH（ＣＦ_３）］－、－［ＣＨ_２－ＣＦ（（ＣＦ_２）_３ＣＦ_３）］－、－［ＣＨ_２－ＣＦ（（ＣＦ_２）_５ＣＦ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＯＣＦ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_２ＣＦ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_３ＣＦ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_２ＣＦ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（（ＣＦ_２）_４ＣＦ＝ＣＦ_２）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（（ＣＦ_２）_５ＣＦ＝ＣＦ_２）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（（ＣＦ_２）_６ＣＦ＝ＣＦ_２）］－。

　含フッ素重合体（Ａ１）は、ガラス転移温度が低く、流動性に優れ、成形性に優れる点、および含フッ素重合体（Ａ１）を、加熱および活性エネルギー線照射の少なくとも一方により硬化させる際に、運動性が高く分子間の架橋反応が進行しやすい点から、単位（Ｕ３）は、－［ＣＨ_２－ＣＨ_２］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＣＦ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＯＣＦ_３）］－、－［ＣＦ_２－ＣＦ（Ｏ（ＣＦ_２）_２ＣＦ_３）］－または－［ＣＦ_２－ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）Ｏ（ＣＦ_２）_２ＣＦ_３）］－が好ましい。

　含フッ素重合体は、単位（Ｕ３）を１種単独で含んでもよく、２種以上の単位（Ｕ３）の組み合わせで含んでもよい。

　単位（Ｕ３）は、化合物（３１）を単量体として重合することにより形成できる。
　　　ＣＸ^３Ｘ^４＝ＣＹ^１Ｙ^２　　…（３１）
（式（３１）中、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｙ^１およびＹ^２は、式（Ｕ３）で定義されたとおりであり、例示も好ましい範囲も同様である。）

　単位（Ｕ４）としては、例えば、プロピレン、イソブテン、２－トリフルオロメチル－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン等に由来する単位が挙げられる。

（好ましい含フッ素重合体（Ａ１）の態様）
　含フッ素重合体（Ａ１）中の基（Ｆ）の個数は、基（Ｆ）同士の架橋反応性に優れる点から３以上であり、含フッ素重合体（Ａ１）の分子量が大きい場合は少なく、分子量が小さい場合は多いことが好ましい。通常、３～１００個が好ましく、３～３０個がより好ましい。なお、含フッ素重合体（Ａ１）中の基（Ｆ）の個数は、分子当たりの平均の個数である。含フッ素重合体（Ａ１）（ただし、主鎖末端に基（Ｆ）を有しない場合）が有する基（Ｆ）の個数は、含フッ素重合体（Ａ１）が有する単位（Ｕ１）の個数に相当する。含フッ素重合体（Ａ１）が有する基（Ｆ）におけるＺ^１は、単一の基であるか、ＮＲ^１ＮＲ^２ＨとＯＲ^５の２種からなることが好ましい。すなわち、含フッ素重合体（Ａ１）が有する単位（Ｕ１）は、単位（Ｕ１ａ）、単位（Ｕ１ｂ）または単位（Ｕ１ｃ）のいずれか１種からなるか、単位（Ｕ１ａ）と単位（Ｕ１ｂ）の２種からなることが好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ１）が有する単位（Ｕ１）が、単位（Ｕ１ａ）と単位（Ｕ１ｂ）の２種からなる場合、含フッ素重合体（Ａ１）のアルコール溶解性、硬化時の発泡の抑制、得られる硬化物の架橋密度等を考慮すれば、単位（Ｕ１ａ）と単位（Ｕ１ｂ）の合計に対して、単位（Ｕ１ｂ）は、１～９０ｍｏｌ％が好ましく、５～７０ｍｏｌ％がより好ましく、１０～６０ｍｏｌ％が特に好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ１）の質量平均分子量は、１，０００～１，０００，０００が好ましい。質量平均分子量が３，０００以上であれば、揮発成分が少ないためより好ましい。質量平均分子量が１００，０００以下であれば、溶解性に優れるためより好ましい。なお、含フッ素重合体（Ａ１）の質量平均分子量が１，０００～１５，０００の場合には粘度が１～１，０００Ｐａ・ｓで、２５～１００℃加熱により１０Ｐａ・ｓ以下となり、溶剤を用いずに含フッ素重合体（Ａ１）を含有する硬化剤組成物を導線に被覆できる。含フッ素重合体（Ａ１）のフッ素原子含有量は、含フッ素重合体（Ａ）として説明したのと同様である。

　質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）換算分子量として求めることができる。本明細書において、特に断りのない限り、質量平均分子量は上記方法により求めたものをいう。

　粘度は、２５℃、回転型粘度計により求めることができる。本明細書において、特に断りのない限り、粘度は上記方法により求めたものをいう。

　含フッ素重合体（Ａ１）中の単位（Ｕ１）の含有量は、含フッ素重合体（Ａ１）のアルコール溶解性、硬化時の発泡の抑制、得られる硬化物の架橋密度等を考慮すれば、含フッ素重合体（Ａ１）の質量に対して、０．０２～７．１ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～４ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、０．１～３ｍｍｏｌ／ｇがさらに好ましく、０．２～１ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。

　単位（Ｕ１）における、Ｚ^１がＮＲ^１ＮＲ^２Ｈである単位（Ｕ１ｂ）のみからなる場合、含フッ素重合体（Ａ１）のアルコール溶解性、硬化時の発泡の抑制、得られる硬化物の架橋密度等を考慮すれば、含フッ素重合体（Ａ１）の質量に対する単位（Ｕ１ｂ）の含有量は、０．０２～４ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．０２～１ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、０．２～０．５ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。

　Ｚ^１がＮＲ^３ＯＲ^４である単位（Ｕ１ｃ）のみからなる場合、含フッ素重合体（Ａ１）のアルコール溶解性、硬化時の発泡の抑制、得られる硬化物の架橋密度等を考慮すれば、含フッ素重合体（Ａ１）の質量に対する単位（Ｕ１ｃ）の含有量は、０．１～４ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．２～３ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、０．３～１ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。

　Ｚ^１がＯＲ^５である単位（Ｕ１ａ）のみからなる場合、硬化時の発泡の抑制、得られる硬化物の架橋密度等を考慮すれば、含フッ素重合体（Ａ１）の質量に対する単位（Ｕ１ａ）の含有量は、０．１～４ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．１～３ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、０．３～１ｍｍｏｌ／ｇが特に好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ１）中の、単位（Ｕ１ａ）～単位（Ｕ１ｃ）の含有量は、^１９Ｆ－ＮＭＲ測定により算出できる。

　含フッ素重合体（Ａ１）の全単位中、単位（Ｕ１）の割合は、含フッ素重合体（Ａ１）のアルコール溶解性、硬化時の発泡の抑制、得られる硬化物の架橋密度等を考慮すれば、１～１００ｍｏｌ％が好ましく、３～９８ｍｏｌ％がより好ましく、３～５０ｍｏｌ％がさらに好ましく、５～１５ｍｏｌ％が特に好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ１）の好ましい態様は、単位（Ｕ１）、単位（Ｕ２）および単位（Ｕ３）を含む含フッ素重合体であって、含フッ素重合体（Ａ１）の全単位中、単位（Ｕ１）の割合が１～９８ｍｏｌ％であり、単位（Ｕ２）の割合が１～９５ｍｏｌ％であり、単位（Ｕ３）の割合が１～９５ｍｏｌ％である。

　含フッ素重合体（Ａ１）中の単位（Ｕ１）～単位（Ｕ４）の含有量は、^１９Ｆ－ＮＭＲ、^１Ｈ－ＮＭＲ測定により算出できる。

［含フッ素重合体（Ａ１）の製造方法］
　含フッ素重合体（Ａ１）は、例えば、単位（Ｕ１）が単位（Ｕ１ａ）のみからなる場合は、単量体（１１）と、フルオロエチレン、単量体（３１）等の任意の単量体を、得られる含フッ素重合体（Ａ１）において各単量体由来の単位（Ｕ１ａ）、単位（Ｕ２）、単位（Ｕ３）等が所望の割合となるように用いて、公知の方法（例えば、国際公開第２０１５／０９８７７３号に記載の方法）で重合させることで得られる。

　重合方法としては、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、塊状重合等の公知の重合方法が挙げられる。分子量、例えば、質量平均分子量を所定の大きさに制御することが容易な点で、溶液重合が好ましい。溶液重合の溶媒としては後述の含フッ素溶媒が好ましい。

　単位（Ｕ１）が単位（Ｕ１ａ）と単位（Ｕ１ｂ）からなる、または単位（Ｕ１）が単位（Ｕ１ｂ）のみからなる含フッ素重合体（Ａ１）は、例えば、上記のようにして得られる単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）と下式（５）で表されるヒドラジン化合物（以下、単に「ヒドラジン化合物」とも記す。）を反応させ、単位（Ｕ１ａ）の一部または全部を単位（Ｕ１ｂ）に変性する方法により製造できる。
　　　ＨＲ^１Ｎ－ＮＲ^２Ｈ　　…（５）
（式（５）中、Ｒ^１およびＲ^２は、式（Ｕ１）で定義されたとおりであり、例示も好ましい範囲も同様である。）

　ヒドラジン化合物として、ヒドラジン、メチルヒドラジン、１，２－ジメチルヒドラジンが挙げられる。ヒドラジン化合物はヒドラジン・１水和物のような水和物の形態で用いられてもよい。以下、「ヒドラジン化合物」は、ヒドラジン化合物の水和物を含む用語として使用される。安全性および得られる含フッ素重合体（Ａ１）のアルコールへの溶解性がより優れる点から、ヒドラジン化合物としては、ヒドラジン・１水和物が好ましい。反応に供するヒドラジン化合物の形態は、水溶液でもよく塩でもよい。水溶液がより好ましい。ヒドラジン化合物は、市販品を用いることができる。

　単位（Ｕ１ａ）の単位（Ｕ１ｂ）への変性割合は、原料として用いる単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）における単位（Ｕ１ａ）に対するヒドラジン化合物の使用量により調整できる。なお、得られる含フッ素重合体（Ａ１）において、残存する－ＣＯＯＲ^５基を赤外分光（ＩＲ）で定量することにより、Ｚ^１がＮＲ^１ＮＲ^２Ｈである単位の含有量を測定できる。

　単位（Ｕ１ａ）の所望の割合が単位（Ｕ１ｂ）に変性された含フッ素重合体（Ａ１）が得られる限り特に限定されないが、具体的には、ヒドラジン化合物の使用量は、単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）の－ＣＯＯＲ^５で表される基１モルに対して、０．１～２０モルが好ましく、０．３～１５モルがより好ましく、０．５～１０モルが特に好ましい。なお、単位（Ｕ１ａ）の全てを単位（Ｕ１ｂ）に変性する場合には、－ＣＯＯＲ^５で表される基１モルに対して、ヒドラジン化合物を３～２０モル用いることが好ましい。

　反応は、溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、原料成分（単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）、ヒドラジン化合物）を溶解できるものが好ましい。少なくとも単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）が溶解する溶媒が好ましい。溶媒としては、含フッ素溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒が挙げられ、原料成分の極性等に応じて適宜選択できる。溶媒は１種単独を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。さらに、これらの溶媒とアルコールを混合して用いることも好ましい。反応の進行に伴いアルコールを添加することも可能である。ここで、アルコールとしては、含フッ素重合体（Ａ）の項に記したものが使用できる。

　含フッ素溶媒は、フッ素および炭素を含み、さらに塩素、酸素および水素を含んでもよい。例えば、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。

　フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、例えば、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２Ｈ（ＨＦＣ－２４５ｆａ）、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３（ＨＦＣ－３６５ｍｆｃ）、ペルフルオロヘキサン、１Ｈ－ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。

　フッ素化芳香族化合物としては、例えば、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、例えば、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。

　フッ素化アルキルアミンとしては、例えば、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。フルオロアルコールとしては、例えば、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。その他、ジクロロペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ－２２５）、ペルフルオロ（２－ブチルテトラヒドロフラン）等が挙げられる。ジクロロペンタフルオロプロパンは、市販品としてＡＫ－２２５Ｇ等のアサヒクリン（登録商標）ＡＫ－２２５シリーズ（旭硝子社製）が挙げられる。

　エーテル系溶媒としては、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。

　エステル系溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル等が挙げられる。

　反応は、例えば上記溶媒に、単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）を溶解させ、０～３０℃で、ヒドラジン化合物を添加することによって行う。添加後、３０～１００℃に加熱して、１分～１０時間反応させることによって、目的の単位（Ｕ１ｂ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）を得ることができる。

　単位（Ｕ１）が単位（Ｕ１ａ）と単位（Ｕ１ｃ）からなる、または単位（Ｕ１）が単位（Ｕ１ｃ）のみからなる含フッ素重合体（Ａ１）は、例えば、上記のようにして得られる単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）と下式（６）で表されるヒドロキシルアミン化合物（以下、単に「ヒドロキシルアミン化合物」とも記す。）を反応させ、単位（Ｕ１ａ）の一部または全部を単位（Ｕ１ｃ）に変性する方法により製造できる。
　　ＮＨＲ^３ＯＲ^４　　…（６）
（式（６）中、Ｒ^３およびＲ^４は、式（Ｕ１）で定義されたとおりであり、例示も好ましい範囲も同様である。）

　ヒドロキシルアミン化合物として、ヒドロキシルアミン、Ｎ－メチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシルアミン、イソプロピルヒドロキシルアミンが挙げられ、得られる含フッ素重合体（Ａ１）のアルコールへの溶解性がより優れる点から、ヒドロキシルアミンが好ましい。反応に供するヒドロキシルアミン化合物の形態は、水溶液でもよく、塩でもよい。安全性の点から水溶液が好ましい。ヒドロキシルアミン化合物は、市販品を用いることができる。

　単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）とヒドロキシルアミン化合物を反応させて、単位（Ｕ１ａ）の一部または全部を単位（Ｕ１ｃ）に変性して、単位（Ｕ１ｃ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）を製造する方法としては、例えば、上記単位（Ｕ１ｂ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）を製造する方法において、ヒドラジン化合物をヒドロキシルアミン化合物に変更する以外は同様とする方法が挙げられる。この場合においても、残存する－ＣＯＯＲ^５基を赤外分光（ＩＲ）で定量することにより、Ｚ^１がＮＲ^３ＯＲ^４である単位の含有量を測定できる。

　なお、含フッ素重合体（Ａ１）が、単位（Ｕ１ａ）、単位（Ｕ１ｂ）および単位（Ｕ１ｃ）の全てを含む場合、含フッ素重合体（Ａ１）の製造方法は具体的には以下が挙げられる。

　（ａ）単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）とヒドラジン化合物とを反応させて、次いで、ヒドロキシルアミン化合物を反応させる。
　（ｂ）単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）とヒドロキシルアミン化合物とを反応させて、次いで、ヒドラジン化合物を反応させる。
　（ｃ）単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）とヒドロキシルアミン化合物とヒドラジン化合物とを反応させる。
　ただし、上記（ａ）～（ｃ）において、用いるヒドラジン化合物とヒドロキシルアミン化合物の量を、目的とする含フッ素重合体（Ａ１）における単位（Ｕ１ａ）、単位（Ｕ１ｂ）および単位（Ｕ１ｃ）の割合に合わせて調整する。

　また、上記（ａ）～（ｃ）において、ヒドラジン化合物およびヒドロキシルアミン化合物の使用量を調整することで、単位（Ｕ１）として、単位（Ｕ１ｂ）および単位（Ｕ１ｃ）のみを有する含フッ素重合体（Ａ１）を製造できる。

＜含フッ素重合体（Ａ２）＞
　含フッ素重合体（Ａ２）は、基（Ｆ）として、基（Ｆ１）を３個以上有する含フッ素重合体である。
－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１　　…（Ｆ１）
（式（Ｆ１）中、Ｒ^ｆ２は、炭素数が１～４のペルフルオロアルキレン基である。ｋは１～２００の整数を示す。－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１は、基（Ｆ）に相当する。）

　基（Ｆ１）中のＲ^ｆ２が、炭素数１～４のペルフルオロアルキレン基であるとは、具体的には、－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－が、－（Ｃ_ａＦ_２ａＯ）_ｋ－（ａは、１～４の整数であり、ｋは、１～２００の整数であり、各－Ｃ_ａＦ_２ａＯ－単位は、同一でも異なっていてもよい）であることを意味する。

　－Ｃ_ａＦ_２ａＯ－単位は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、例えば、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＦ_２Ｏ－が挙げられる。ｋは、所望の分子量に応じて、適宜、調整することができる。ｋの好ましい範囲は、２～１００である。

　Ｒ^ｆ２は、複数の単位の組み合わせでもよく、その場合、各単位は、ブロック、交互、ランダムのいずれで存在してもよい。

　－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－は、具体的には、－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ２－（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｋ３－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ４－（ＣＦ_２Ｏ）_ｋ５－（ここで、ｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４およびｋ５は、それぞれ独立して、０以上の整数であり、ｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４およびｋ５の合計は１～２００であり、各繰り返し単位は、ブロック、交互、ランダムのいずれで存在してもよい）が挙げられる。

　Ｒ^ｆ２としては、｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１２｝、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１３、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１４、が好ましく、より好ましくは｛（ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１２｝、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１３である。ただし、ｋ１１は１以上の整数であり、ｋ１２は１以上の整数であり、ｋ１１＋ｋ１２は２～２００の整数であり、ｋ１１個のＣＦ_２Ｏおよびｋ１２個のＣＦ_２ＣＦ_２Ｏの結合順序は限定されない。ｋ１３およびｋ１４は、１～２００の整数である。

　基（Ｆ１）として具体的には以下の基が挙げられる。
－（ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１２－ＣＦ_２－ＣＯＺ^１、
－（ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１２－（ＣＦ_２）_２－ＣＯＺ^１、
－（ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１２－（ＣＦ_２）_３－ＣＯＺ^１、
－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１３－ＣＦ_２－ＣＯＺ^１、
－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１３－（ＣＦ_２）_２－ＣＯＺ^１、
－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１４－（ＣＦ_２）_２－ＣＯＺ^１、
－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１４－（ＣＦ_２）_３－ＣＯＺ^１、
（Ｚ^１は、－ＯＨ、－ＯＣＨ_３、－ＯＣ_２Ｈ_５、－ＮＨＮＨ_２、－Ｎ（ＣＨ_３）ＮＨＣＨ_３、－ＮＨＯＨ、または、－ＮＨＯＣＨ_３である。ｋ１１、ｋ１２、ｋ１３、ｋ１４は、上記と同様である。）

　－（ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１１（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１２において、ｋ１１が１～５０であり、ｋ１２が３～１４９であり、ｋ１１＋ｋ１２が５～１５０が好ましく、ｋ１１が１～１０であり、ｋ１２が１０～９９であり、ｋ１１＋ｋ１２が１５～１００がより好ましい。－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１３において、ｋ１３は５～１５０が好ましく、１５～１００がより好ましい。－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１４において、ｋ１４は５～１５０が好ましく、１５～１００がより好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ２）は、基（Ｆ１）を３つ以上有する限り、基（Ｆ１）の１種を単独で含んでもよく、２種以上の組み合わせで含んでもよい。水素結合性がより高く、導線に対する接着性により優れる点からは、含フッ素重合体（Ａ２）としては、Ｚ^１がＮＲ^１ＮＲ^２Ｈである基（Ｆ１）を含む含フッ素重合体が好ましい。架橋条件とＺ^１の種類、含フッ素重合体（Ａ２）のアルコール溶解性については、上記含フッ素重合体（Ａ）で説明したのと同様である。

　以下、下式（Ｆ１ａ）、（Ｆ１ｂ）、（Ｆ１ｃ）に示すように、Ｚ^１がＯＲ^５である基（Ｆ１）を基（Ｆ１ａ）、Ｚ^１がＮＲ^１ＮＲ^２Ｈである基（Ｆ１）を基（Ｆ１ｂ）、Ｚ^１がＮＲ^３ＯＲ^４である基（Ｆ１）を基（Ｆ１ｃ）という。
－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－Ｒ^ｆ１ＣＯＯＲ^５…（Ｆ１ａ）
－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ…（Ｆ１ｂ）
－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＲ^３ＯＲ^４…（Ｆ１ｃ）

　含フッ素重合体（Ａ２）の製造が簡便で、硬化性組成物における硬化反応の均一性に優れる等の点から、含フッ素重合体（Ａ２）が３個以上有する基（Ｆ１）は、１種の基からなることが好ましい。または、互いに反応する２種の基の組み合わせも好ましい。具体的には、含フッ素重合体（Ａ２）における基（Ｆ１）は、全てが基（Ｆ１ａ）、基（Ｆ１ｂ）、または基（Ｆ１ｃ）のいずれか１種からなるか、基（Ｆ１ａ）と基（Ｆ１ｂ）の２種の組み合わせからなることが好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ２）としては、例えば、下式（Ａ２ａ）で示される化合物が挙げられる。
（Ｆ１－）_ｎＹ^３（－Ｆ２）_ｍ　　　…（Ａ２ａ）
　Ｆ１：式（Ｆ１）で示される基である。ｎは３以上の整数である。
　Ｙ^３：（ｎ＋ｍ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｎ＋ｍ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されてもよい（ｎ＋ｍ）価の炭素骨格を示し、該基中には－ＯＣＦ_２Ｏ－構造は存在しない。ｎ＋ｍは、３～２０の整数である。

　Ｆ２：下式（Ｆ２）で示される基である。ｍは０以上の整数である。
Ｒ^ｆ３－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ１－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋ２－（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｋ３－　　…（Ｆ２）
（式（Ｆ２）中、ｋ１、ｋ２、ｋ３は、上記－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－の具体例で説明したのと同様である。Ｒ^ｆ３は、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基、炭素数１～２０のペルフルオロアルコキシ基、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２～２０のペルフルオロアルキル基（ただし、該基中には－ＯＣＦ_２Ｏ－構造は存在しない。）、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２～２０のペルフルオロアルコキシ基（ただし、該基中には－ＯＣＦ_２Ｏ－構造は存在しない。））

　Ｙ^３の炭素数は１～５０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～５がさらに好ましい。Ｙ^３として、例えば、以下の（ａ）～（ｇ）で示される基が挙げられる。Ｙ^３の価数は、（ｎ＋ｍ）価で示され、３～２０の整数である。（ｎ＋ｍ）の値は、３～６が好ましい。

　Ｒ^ｆ３としては、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環構造を有する構造が挙げられ、直鎖構造または分岐構造が好ましく、直鎖構造が特に好ましい。ペルフルオロアルキル基またはペルフルオロアルコキシ基が好ましく、ペルフルオロアルコキシ基がより好ましい。Ｒ^ｆ３の炭素数は１～１０がより好ましく、１～６が特に好ましい。具体的にはトリフルオロメトキシ基、ヘプタフルオロプロピロキシ基、トリデカフルオロヘキシロキシ基等が挙げられる。含フッ素重合体（Ａ２ａ）がＦ２を有することで、硬化時の発泡の抑制、得られる硬化物の架橋密度の調整等が可能である。含フッ素重合体（Ａ２ａ）におけるｎ＋ｍに対するｍの割合は、０～０．５が好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ２ａ）において、基（Ｆ１）の数を示すｎは３以上であれば特に制限されない。Ｙ^３の有する結合手の全てに基（Ｆ１）が結合してもよい。例えば、Ｙ^３が基（ａ）である場合、基（Ｆ１）の数は３でも、４でもよい。含フッ素重合体（Ａ２ａ）は、Ｙ^３が基（ａ）であり、基（Ｆ１）の数ｎが４である化合物が、架橋効率に優れる点から好ましい。

　含フッ素重合体（Ａ２）の質量平均分子量は、１，０００～２０，０００が好ましい。質量平均分子量は３，０００以上が蒸発成分が少ないためより好ましい。質量平均分子量は１０，０００以下が溶解性に優れるためより好ましい。なお、含フッ素重合体（Ａ２）の質量平均分子量が１，０００～５，０００の場合には粘度が１～１００Ｐａ・ｓで、２５～１００℃加熱により１０Ｐａ・ｓ以下となり、溶剤を用いずに含フッ素重合体（Ａ１）を含有する硬化剤組成物を導線に被覆できる。含フッ素重合体（Ａ２）のフッ素原子含有量は、含フッ素重合体（Ａ）として説明したのと同様である。

［含フッ素重合体（Ａ２）の製造方法］
　含フッ素重合体（Ａ２）は、例えば、基（Ｆ１）が基（Ｆ１ａ）である含フッ素重合体（Ａ２ａ）として、公知の方法（例えば、特許第５０２８８０１号に記載の方法）で、Ｙ^３［（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－Ｒ^ｆ１ＣＯＦ］_ｎを合成し、これをエステル化、またはエステル化の後に加水分解することで製造することができる。

　基（Ｆ１）が基（Ｆ１ａ）と基（Ｆ１ｂ）からなる、または基（Ｆ１）が基（Ｆ１ｂ）のみからなる含フッ素重合体（Ａ２ａ）は、例えば、上記のようにして得られる基（Ｆ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ２ａ）とヒドラジン化合物を反応させ、基（Ｆ１ａ）の一部または全部を基（Ｆ１ｂ）に変性する方法により製造できる。

　具体的には、上記において単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）の単位（Ｕ１ａ）の一部または全部をヒドラジン化合物により変性させ、単位（Ｕ１ｂ）とする方法と同様の方法により、基（Ｆ１）が基（Ｆ１ａ）と基（Ｆ１ｂ）からなる、または基（Ｆ１）が基（Ｆ１ｂ）のみからなる含フッ素重合体（Ａ２ａ）を製造できる。ただし、含フッ素重合体（Ａ２ａ）においては、反応温度は、１０～１００℃の範囲が好ましい。

　基（Ｆ１）が基（Ｆ１ａ）と基（Ｆ１ｃ）からなる、または基（Ｆ１）が基（Ｆ１ｃ）のみからなる含フッ素重合体（Ａ２ａ）は、例えば、上記のようにして得られる基（Ｆ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ２ａ）とヒドロキシルアミン化合物を反応させ、基（Ｆ１ａ）の一部または全部を基（Ｆ１ｃ）に変性する方法により製造できる。

　具体的には、上記において単位（Ｕ１ａ）を含む含フッ素重合体（Ａ１）中の単位（Ｕ１ａ）の一部または全部をヒドロキシルアミン化合物により変性させ、単位（Ｕ１ｃ）とする方法と同様の方法により、基（Ｆ１）が基（Ｆ１ａ）と基（Ｆ１ｃ）からなる、または基（Ｆ１）が基（Ｆ１ｃ）のみからなる含フッ素重合体（Ａ２ａ）を製造できる。ただし、含フッ素重合体（Ａ２ａ）においては、反応温度は、１０～１００℃の範囲が好ましい。

［硬化性組成物］
　本発明の電線における被覆層は、含フッ素重合体（Ａ）を含む硬化性組成物の硬化物によりなる。硬化性組成物は、含フッ素重合体（Ａ）のみからなってもよい。含フッ素重合体（Ａ）は１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。２種以上を組み合わせる場合、含フッ素重合体（Ａ１）の２種以上の組み合わせ、含フッ素重合体（Ａ２）の２種以上の組み合わせ、含フッ素重合体（Ａ１）と含フッ素重合体（Ａ２）の組み合わせ等が挙げられる。硬化性組成物における含フッ素重合体（Ａ）の含有量は、硬化性組成物の全量に対して、１０～１００質量％が好ましく、５０～１００質量％がより好ましい。

　硬化性組成物は、含フッ素重合体（Ａ）に加えて、含フッ素重合体（Ａ）の上記架橋反応を阻害しない範囲でその他の反応性成分を含んでもよい。その他の反応性成分としては、基（Ｆ）を１つまたは２つ有する含フッ素重合体、導線等との密着性向上のためのシランカップリング剤等が挙げられる。シランカップリング剤は、例えば、国際公開第２０１５／０９８７７３号に記載されているものが挙げられる。

　硬化性組成物におけるその他の反応成分の含有量は、硬化性組成物の全量に対して、各成分の含有量として０．０１～５０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましい。

　硬化性組成物はさらに非反応性成分を含有してもよい。非反応性成分としては、無機フィラー、フルオロポリエーテル化合物、ポリテトラフルオロエチレン（旭硝子社製、フルオン（登録商標）ＰＴＦＥファインパウダー）などのペルフルオロ樹脂、エチレン－テトラフルオロエチレンコポリマー（旭硝子社製、フルオン（登録商標）ＥＴＦＥパウダー）などの部分フッ素化樹脂、有機顔料等が挙げられる。

　無機フィラーとしては、シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ等の金属酸化物粒子や、ガラス繊維、炭素繊維、各種無機顔料が好ましい。無機フィラーの最長径は、特に限定されないが、被覆層に分散しやすいことから、０．１～１０００μｍが好ましい。無機フィラーの含有量は、含フッ素重合体（Ａ）の１００質量部に対して２０～２００質量部が好ましく、５０～１００質量部が特に好ましい。無機フィラーの含有量が前記範囲の下限値以上であれば、硬度をより高める。前記範囲の上限値以下であれば、成形性に優れる。

　硬化性組成物における無機フィラー以外の非反応性成分の含有量は、硬化性組成物の全量に対して、各成分の含有量として１０～９０質量％が好ましく、３０～７０質量％がより好ましい。

　電線製造において、硬化性組成物をそのまま使用して、導線の外周を被覆して、硬化性組成物からなる前駆層を形成してもよい。作業性の観点からは、硬化性組成物と溶剤を含むコーティング組成物を調製し、該コーティング組成物を使用して前駆層を形成することが好ましい。次いで、前駆層を硬化して被覆層を得ることで電線が製造される。

［コーティング組成物］
　コーティング組成物は、硬化性組成物と硬化性組成物を溶解または分散する溶剤を含有する液状の組成物である。コーティング組成物を用いれば、導線外周への前駆層の形成が容易となり、生産性が向上する。なお、コーティング組成物を用いた場合、導線外周にコーティング組成物からなる塗膜が形成され、次いで、塗膜から溶剤を除去することで、硬化性組成物からなる前駆層が得られる。

　コーティング組成物に用いる溶剤としては、硬化性組成物を十分に溶解または分散する機能を有する溶剤が好ましい。溶剤は、除去の容易さの観点から沸点が２５０℃以下の液体（以下、「液体（Ｌ）」という。）を含むことが好ましい。液体（Ｌ）としては、沸点が２５０℃以下のアルコールおよび含フッ素重合体（Ａ）を製造するための溶媒として例示された化合物のうち沸点が２５０℃以下のもの（ただし、アルコールを除く）が好ましい。溶剤は１種単独を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。沸点の異なる２種以上の液体（Ｌ）を用いると硬化物の発泡が良好に抑えられやすい。

　コーティング組成物中の硬化性組成物の含有量は、０．１～９９質量％が好ましく、１～７０質量％がより好ましく、５～６０質量％が特に好ましい。コーティング組成物中の溶剤の含有量は９９．９～１質量％が好ましく、９９～３０質量％がより好ましく、９５～４０質量％が特に好ましい。溶剤中の液体（Ｌ）の含有量は、５０～１００質量％が好ましく、７０～１００質量％が特に好ましい。

［電線の製造方法］
　本発明における電線の製造方法は、導線と該導線の外周を被覆する被覆層を有する電線の製造方法であって、以下の（１）、（２）の工程を有する。
（１）導線の外周を、基（Ｆ）を３つ以上含む含フッ素重合体を含む硬化性組成物により被覆して前駆層を形成する（以下、「前駆層形成工程」ともいう。）。
（２）上記（１）で得られた前駆層に熱を加えて、および／または、活性エネルギー線を照射して、上記硬化性組成物の硬化物からなる被覆層を得る（以下、「硬化工程」ともいう）。

（１）前駆層形成工程
　導線の外周に被覆層の前駆層を形成する方法としては、導線の外周全体に均一な前駆層が形成される方法であれば特に制限されない。硬化性組成物を加熱することにより流動させて、該硬化性組成物を導線の外周に塗布する方法、導線の外周に該硬化性組成物を被覆させるように押し出す成形方法（電線押出成形）等が挙げられる。

　硬化性組成物の塗布は、上記硬化性組成物と、溶剤、好ましくは液体（Ｌ）を含有する溶剤、を含むコーティング組成物の塗布により行われることが好ましい。コーティング組成物としては上記のコーティング組成物が使用できる。コーティング組成物の導線外周への塗布方法は、硬化性組成物の塗布方法と同様の方法が適用可能である。

　硬化性組成物の塗布方法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。特に、ディップコート法が好ましい。

　なお、コーティング組成物を用いて塗膜を形成した場合、コーティング組成物からなる塗膜から溶剤、好ましくは液体（Ｌ）を含有する溶剤を揮発させる。コーティング組成物から溶剤を揮発させて除去することで、硬化性組成物からなる前駆層が得られる。

　溶剤を揮発させる方法としては、加熱乾燥、減圧乾燥等の公知の乾燥方法が適用できる。乾燥方法としては、例えば、５０～３００℃で１～１２０分間の加熱乾燥、４００～７００℃で１～６０秒間の加熱乾燥、０．１～５００ｍｍＨｇ、１～１２０分間の減圧乾燥等が挙げられる。なお、溶剤の揮発、すなわち乾燥はこれらを組み合せて行ってもよい。

（２）硬化工程
　硬化工程は、上記（１）で得られた前駆層を構成する硬化性組成物を硬化させ、硬化物からなる被覆層とする工程である。硬化の方法は、用いる硬化性組成物の種類、具体的には、含フッ素重合体（Ａ）が有する基（Ｆ）の種類に応じて、加熱、活性エネルギー線の照射、およびこれらを組み合わせる方法から適宜選択される。

　含フッ素重合体（Ａ）が有する基（Ｆ）が、－Ｒ^ｆ１ＣＯＯＲ^５のみで構成される場合、加熱による架橋反応、特に３００℃以下の加熱による架橋反応は進行し難いものと考えられる。したがって、その場合は活性エネルギー線の照射により硬化工程を行うことが好ましい。含フッ素重合体（Ａ）が有する基（Ｆ）が－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ、または－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＲ^３ＯＲ^４を含有する場合は、加熱、活性エネルギー線の照射、これらの組み合わせにより硬化工程を行うことが好ましい。含フッ素重合体（Ａ）が有する基（Ｆ）が－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＲ^１ＮＲ^２Ｈと－Ｒ^ｆ１ＣＯＯＲ^５の組み合わせである場合、加熱により硬化工程を行うことが好ましい。

　活性エネルギー線を照射する硬化方法は、加熱による硬化方法に比べて、より低温で硬化物、すなわち被覆層を得ることができる。被覆層形成方法として、低温処理が求められる場合には、活性エネルギー線の照射による硬化方法が好ましい。なお、加熱および活性エネルギー線の照射の両方が行われる場合、加熱は、活性エネルギー線の照射の前、同時、および／または後に行うことができる。

（加熱硬化条件）
　前駆層を加熱硬化する場合、加熱温度は、硬化性組成物中の硬化性成分、特には含フッ素重合体（Ａ）が有する基（Ｆ）が架橋反応する温度であれば、特に限定されない。加熱温度は、１００～３００℃の範囲が好ましい。なお、以下のいずれの場合においても、反応促進の観点から加熱は窒素などの不活性ガスの雰囲気下に行うことがより好ましい。

　例えば、含フッ素重合体（Ａ）が基（Ｆ）として－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＲ^１ＮＲ^２Ｈと－Ｒ^ｆ１ＣＯＯＲ^５の２種を含む場合、加熱温度は１００～２００℃が好ましく、１２０～１８０℃が特に好ましい。加熱時間は、温度に依存するが、１０分～１０時間が好ましく、３０分～４時間が特に好ましい。段階的に昇温する方法も効果的である。

　含フッ素重合体（Ａ）が基（Ｆ）として－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＲ^１ＮＲ^２Ｈを含有する場合、加熱温度は１５０～３００℃が好ましく、２００～２６０℃がより好ましい。加熱時間は温度に依存するが、１分～１０時間が好ましく、１～５時間がより好まく、２～４時間がさらに好ましい。段階的に昇温する方法も効果的である。

　また、含フッ素重合体（Ａ）が基（Ｆ）として－Ｒ^ｆ１ＣＯＮＲ^３ＯＲ^４を含有する場合、加熱温度は５０～２５０℃が好ましく、７０～１２０℃がより好ましい。加熱時間は温度に依存するが、１分～１０時間が好ましく、１～５時間がより好まく、２～４時間がさらに好ましい。段階的に昇温する方法も効果的である。

（活性エネルギー線照射硬化条件）
　前駆層を活性エネルギー線照射で硬化する場合、活性エネルギー線の波長は、硬化性組成物中の硬化性成分、特には含フッ素重合体（Ａ）が有する基（Ｆ）が架橋反応する波長であれば、特に限定されない。活性エネルギー線の波長は、１５０～３００ｎｍが好ましく、２００～２６０ｎｍが特に好ましい。活性エネルギー線の発生源としては、２５０～３００ｎｍにはメタルハライドランプ、１８５、２５４ｎｍには低圧水銀ランプ、１７２ｎｍ、２２２ｎｍにはエキシマランプ、２４８ｎｍにはＫｒＦエキシマレーザー、１９３ｎｍにはＡｒＦエキシマレーザー、１５７ｎｍにはＦ_２レーザーが挙げられる。

　活性エネルギー線の照射強度に応じて照射時間を調節することにより、含フッ素重合体（Ａ）を含む硬化性組成物を硬化させて、被覆層を形成できる。例えば、架橋は、活性エネルギー線を照射強度が０．１～５００ｍＷ／ｃｍ^２で１分～１０時間程度照射することにより行うことができる。上記特定の波長の活性エネルギー線を照射することにより、光開始剤を用いることなく架橋反応を進行させることができる。なお、反応促進の観点から、活性エネルギー線照射の場合においても、窒素などの不活性ガスの雰囲気下に行うことが好ましい。

　本発明の電線は、含フッ素重合体（Ａ）の硬化物を含む被覆層を有する。含フッ素重合体（Ａ）の硬化は、熱または光硬化により特別な装置を必要とすることなく簡便に行えるため、電線の生産性が高い。

　本発明の電線は、例えば、含フッ素重合体（Ａ）の硬化物の絶縁破壊強さとして、２０ｋＶ／ｍｍ以上であると、被覆層が高い絶縁性を有する。また、含フッ素重合体（Ａ）の硬化物は架橋構造を有することから、被覆層は強度に優れ、耐熱性にも優れる。被覆層が上記特性を有することから、本発明の電線は信頼性に優れる。

　本発明の電線の用途は特に限定されない。本発明の電線は、絶縁性や耐熱性に優れることから、高電圧電線、通信電線や、モーター、発電機、高炉、電気炉、電熱機器、医療機器、電気メス、自動車、鉄道車両、航空機、製鉄所、発電所等で用いられる配線用電線、高周波やミリ波等を用いた無線通信用の基板等、特に高温下で使用される電線として好適である。

［コイル］
　本発明のコイルは、本発明の電線をコイル状に成形して得る。本発明のコイルは、各種電気・電子機器など、高絶縁性や耐熱性を必要とする分野に利用可能である。例えば、本発明のコイルはモーターやトランス、無線給電の送電コイルや受電コイル等に用いられ、高性能の電気・電子機器を構成できる。コイルの芯線は、単線として用いても撚り線として用いてもよい。

　電線をコイル状に成形する方法としては、公知の方法が特に限定なく適用できる。コイル状とは、具体的には、長尺の電線を螺旋状に巻き回したものをいう。このようなコイルにおいて、電線の巻線数、コイルの形状、大きさ等は特に限定されない。コイルが適用される各種電気・電子機器に合わせて適宜調整される。

　以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されない。各例の評価は、以下に記載の方法にしたがった。

［評価方法］
（質量平均分子量）
　含フッ素重合体の質量平均分子量は、含フッ素重合体Ｐ１についてはＣＦ_２ＣｌＣＦ_２ＣＨＣｌＦ（旭硝子社製、商品名：アサヒクリンＡＫ－２２５Ｇ）を、含フッ素重合体Ｑ１、Ｑ３、Ｑ４およびＲ１、Ｒ３、Ｒ４についてはテトラヒドロフランを溶媒として用いて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によりＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）換算分子量として算出した。
（含フッ素重合体中のフッ素原子含有量）
　含フッ素重合体中のフッ素原子含有は、^１９Ｆ－ＮＭＲから求めた。

（比誘電率、誘電正接、および絶縁破壊強さ）
　各例で製造したフィルムを用い、アジレント・テクノロジー社製ＬＣＲメータＨＰ４２８４Ａ、安藤電機社製ＴＯ－１９恒温槽、および安藤電機社製ＳＥ－７０形固体用電極により、１ｋＨｚ、１ＭＨｚの比誘電率、誘電正接を測定した。１２ＧＨｚ、２４ＧＨｚの比誘電率、誘電正接は、ＹＨＰ社製シンセサイズドスイーパー８３４０Ｂ、ＹＨＰ社製ネットワークアナライザー８５１０Ｂ、円筒空洞共振器（材質：銅、内部鏡面仕上げ）、および信号伝送用セミリジットケーブルを用いて測定した。絶縁破壊強さは、山崎産業社製絶縁破壊試験機ＨＡＴ－３００－１００ＲＨＯ型を用いて測定した。測定条件：温度；２３±２℃、湿度；５０±５％ＲＨ、前記温度、湿度での測定前静置時間；４０時間以上。絶縁破壊強さ測定の周辺媒体：絶縁油。

（溶解性判定）
　液体の１ｍＬに、含フッ素重合体の含有量が５質量％となる量の含フッ素重合体を加え、温度４０℃で、１時間撹拌混合した後、室温（２５℃）まで冷却した。得られた混合物１ｍＬが、孔径０．５μｍ、直径２５ｍｍのＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）製フィルタにより、目詰まりせずにろ過可能かどうかで判定した。ろ過可能であれば「溶解した」とし、ろ過不可能であれば「溶解せず」とした。

［単位］
　以下の製造例で言及する単位は以下の通りである。

（製造例１）
　内容積が１Ｌの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブを減圧脱気した後、重合開始剤であるパーブチルＰＶ（日油社製；ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシピバレート）のアサヒクリンＡＫ－２２５Ｇ（旭硝子社製）５０質量％溶液の０．８ｇ、ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３（以下、ＭＰＶＢという）の４８．５ｇ、ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３（ＰＰＶＥ）の７９５ｇ、アサヒクリンＡＣ－２０００（旭硝子社製）の３９．４ｇを仕込んだ。さらにＣＦ_２＝ＣＦ_２の１２０．３ｇを圧入した後、内温を６０℃まで昇温して４時間重合を行った。この間に圧力が１．０１ＭＰａＧに保たれるよう、さらにＣＦ_２＝ＣＦ_２（ＴＦＥ）の４６．４ｇをフィードした。

　オートクレーブを冷却してガスをパージした後、内容物のうち６００ｇをヘキサンの６Ｌを入れたガラスビーカに添加した。上層を除去した後、下層を減圧加熱することにより残留するモノマー成分を留去し、含フッ素重合体Ｐ１の１０３．３ｇを得た。^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲにより算出した含フッ素重合体Ｐ１の単位組成は、単位（Ｕ１ａ－１）：単位（Ｕ２－１）：単位（Ｕ３－１）＝２：７１：２７（モル比）であり、質量平均分子量は３４，０００、フッ素原子含有量は６４質量％であった。

（実施例１）
　製造例１で得られた含フッ素重合体Ｐ１を８０℃で熱プレスし、透明フィルムを得た。この透明フィルムを窒素雰囲気下で、２００Ｗの低圧水銀ランプで２時間照射した後、裏返してさらに２時間照射したところ、発泡のない硬化フィルムＦＰ１ができた。ＩＲ測定により、－ＣＯＯＣＨ_３基のＣ＝Ｏに基づく１，７９４ｃｍ^－１の吸収がほぼ消失した。硬化フィルムＦＰ１の電気特性を表１に記す。ＦＰ１は、従来の押出成形で用いられるフッ素樹脂に匹敵する絶縁性を示した。

　また、含フッ素重合体Ｐ１をアサヒクリンＡＣ－２０００に溶かして１０質量％溶液とし、この溶液に断面が丸形状の銅線（直径１．５ｍｍ）を浸漬後、引き上げることにより、銅線にＰ１溶液を塗布した。次いで銅線を５０℃で１時間、７０℃で１時間乾燥後、窒素雰囲気下で、２００Ｗの低圧水銀ランプで２時間照射、裏返してさらに２時間照射することにより、含フッ素重合体硬化物により被覆された絶縁性に優れる電線が得られる。

（製造例２）
　製造例１で得られた含フッ素重合体Ｐ１の２６．５ｇをアサヒクリンＡＣ－２０００の１２９．１ｇに溶解した後、メタノールの４．０ｇとヒドラジン一水和物７９質量％水溶液の０．４ｇを添加して４０℃で２日間撹拌した。反応液をシャーレに移して大気下で予備乾燥した後、１００℃で１日間真空乾燥して含フッ素重合体Ｑ１を得た。ＩＲ測定により、－ＣＯＯＣＨ_３基のＣ＝Ｏに基づく１，７９４ｃｍ^－１の吸収がほぼ消失し、－ＣＯＮＨ－基のＣ＝Ｏに基づく１，７０５ｃｍ^－１の吸収が新たに生じたことを確認した。

　ＩＲ測定の結果と含フッ素重合体Ｐ１の分析結果から、含フッ素重合体Ｑ１の組成は、単位（Ｕ１ｂ－１）：単位（Ｕ２－１）：単位（Ｕ３－１）＝２：７１：２７（モル比）であり、質量平均分子量は３４，０００、フッ素原子含有量は６４質量％であった。

（実施例２）
　製造例２で得られた含フッ素重合体Ｑ１を１６０℃で熱プレスし、透明フィルムを得た。この透明フィルムを窒素雰囲気下で、２００℃加熱３日間、２６０℃加熱５時間行ったところ、発泡のない硬化フィルムＦＱ１ができた。硬化フィルムＦＱ１の電気特性を表１に記す。ＦＱ１は、従来の押出成形で用いられるフッ素樹脂に匹敵する絶縁性を示した。

　また、含フッ素重合体Ｑ１をアサヒクリンＡＣ－２０００に溶かして１０質量％溶液とし、この溶液に断面が丸形状の銅線（直径１．５ｍｍ）を浸漬後、引き上げることにより、銅線にＱ１溶液を塗布した。次いで銅線を５０℃で１時間、７０℃で１時間乾燥後、窒素雰囲気下で、２００℃加熱１時間、２６０℃加熱５時間行うことにより、含フッ素重合体硬化物により被覆された絶縁性に優れる電線が得られる。

（製造例３）
　国際公開第２０１２／１５７７１５号に記載の方法により、ＭＰＶＢおよびＴＦＥを重合させて、単位（Ｕ１ａ－１）：単位（Ｕ２－１）＝１４：８６（モル比）の含フッ素重合体Ｐ２を合成した。含フッ素重合体Ｐ２のフッ素原子含有量は６９質量％であった。

（実施例３）
　製造例３で得られた含フッ素重合体Ｐ２を３００℃で熱プレスし、透明フィルムを得た。この透明フィルムを窒素雰囲気下で、２００Ｗの低圧水銀ランプで２時間照射した後、裏返してさらに２時間照射したところ、発泡のない硬化フィルムＦＰ２ができた。硬化フィルムＦＰ２の電気特性を表１に記す。これらの値からＦＰ２は、従来の押出成形で用いられるフッ素樹脂に匹敵する絶縁性を示した。

　また、含フッ素重合体Ｐ２の粉体をＦＬＵＴＥＣＰＰ１１（Ｆ２　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、テトラコサフルオロテトラデカヒドロフェナントレン）に分散させてＰ２が膨潤した１０質量％分散液とし、この分散液に断面が丸形状の銅線（直径１．５ｍｍ）を浸漬後、引き上げることにより、銅線にＰ２分散液を塗布した。次いで銅線を２００℃で１時間、２５０℃で１時間乾燥後、窒素雰囲気下で、２００Ｗの低圧水銀ランプで２時間照射、裏返してさらに２時間照射することにより、含フッ素重合体硬化物により被覆された絶縁性に優れる電線が得られる。

（製造例４）
　国際公開第２００４／０６７６５５号に記載の方法により、ＭＰＶＢの単独重合体である含フッ素重合体Ｐ３を合成した。Ｐ３の２．６ｇをアサヒクリンＡＥ－３０００（旭硝子社製）の１１．５ｇに溶解した後、メタノールの４０．５ｇとヒドラジン一水和物７９質量％水溶液の１．６ｇを添加して室温で１日間撹拌した。反応液を窒素気流下で予備乾燥した後、室温で１日間真空乾燥して含フッ素重合体Ｑ３を得た。含フッ素重合体Ｑ３の質量平均分子量は５，０００、フッ素原子含有量は５６質量％であった。Ｑ３はメタノールに可溶だった。

（実施例４）
　製造例４で得られた含フッ素重合体Ｑ３を窒素雰囲気下で、１００℃加熱３０分、２００℃加熱３０分、２５０℃加熱９０分行い、硬化物ＦＱ３を得た。ＦＱ３をメタノールに浸漬しても不溶だった。

　また、含フッ素重合体Ｑ３をメタノールに溶かして１０質量％溶液とし、この溶液に断面が丸形状の銅線（直径１．５ｍｍ）を浸漬後、引き上げることにより、銅線にＱ３溶液を塗布した。次いで銅線を５０℃で１時間、７０℃で１時間乾燥後、窒素雰囲気下で、２００℃加熱３０分、２５０℃加熱９０分行うことにより、含フッ素重合体硬化物により被覆された電線が得られる。

（製造例５）
　特許第５０２８８０１号に記載の方法により、Ｃ（ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋＣＦ_２ＣＯＦ）_４（ｋ＝平均７）を合成し、エタノールを加えてエステル化した後に真空乾燥して含フッ素重合体Ｐ４［Ｃ（ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋＣＦ_２ＣＯＯＣ_２Ｈ_５）_４］を得た。含フッ素重合体Ｐ４の２．１ｇをアサヒクリンＡＥ－３０００の１６．３ｇに溶解した後、メタノールの２．８ｇとヒドラジン一水和物７９質量％水溶液の０．４ｇを添加して室温で１日間撹拌した。反応液を窒素気流下で予備乾燥した後、室温で１日間真空乾燥して含フッ素重合体Ｑ４を得た。ＩＲ測定により、－ＣＯＯＣ_２Ｈ_５基のＣ＝Ｏに基づく１，８００ｃｍ^－１付近の吸収がほぼ消失し、－ＣＯＮＨ－基のＣ＝Ｏに基づく１，７００ｃｍ^－１付近の吸収が新たに生じたことを確認した。含フッ素重合体Ｑ４の質量平均分子量は４，０００、フッ素原子含有量は６１質量％であった。含フッ素重合体Ｑ４はメタノールに可溶だった。

（実施例５）
　製造例５で得られた含フッ素重合体Ｑ４を窒素雰囲気下で、１００℃加熱３０分、２００℃加熱３０分、２５０℃加熱９０分行い、硬化物ＦＱ４を得た。ＦＱ４をメタノールに浸漬しても不溶だった。

　また、含フッ素重合体Ｑ４をメタノールに溶かして１０質量％溶液とし、この溶液に断面が丸形状の銅線（直径１．５ｍｍ）を浸漬後、引き上げることにより、銅線にＱ４溶液を塗布した。次いで銅線を５０℃で１時間、７０℃で１時間乾燥後、窒素雰囲気下で、２００℃加熱３０分、２５０℃加熱９０分行うことにより、含フッ素重合体硬化物により被覆された電線が得られる。

（製造例６）
　製造例４に記載の含フッ素重合体Ｐ３の２．５ｇをアサヒクリンＡＥ－３０００の１１．５ｇに溶解した後、メタノールの２３．０ｇとヒドロキシルアミン５０質量％水溶液の１．７ｇを添加して室温で１日間撹拌した。反応液を窒素気流下で予備乾燥した後、室温で１日間真空乾燥して含フッ素重合体Ｒ３を得た。含フッ素重合体Ｒ３の質量平均分子量は５，０００、フッ素原子含有量は５６質量％であった。含フッ素重合体Ｒ３はメタノールに可溶だった。

（実施例６）
　製造例６で得られた含フッ素重合体Ｒ３を窒素雰囲気下で、１５０℃加熱３０分、２００℃加熱３０分、２５０℃加熱９０分行い、硬化物ＦＲ３を得た。ＦＲ３をメタノールに浸漬しても不溶だった。

　また、含フッ素重合体Ｒ３をメタノールに溶かして１０質量％溶液とし、この溶液に断面が丸形状の銅線（直径１．５ｍｍ）を浸漬後、引き上げることにより、銅線にＲ３溶液を塗布した。次いで銅線を窒素雰囲気下、５０℃で１時間、７０℃で１時間乾燥後、窒素雰囲気下で、２００℃加熱３０分、２５０℃加熱９０分行うことにより、含フッ素重合体硬化物により被覆された電線が得られる。

（製造例７）
　製造例５に記載の含フッ素重合体Ｐ４の２．１ｇをアサヒクリンＡＥ－３０００の１５．３ｇに溶解した後、メタノールの５．７ｇとヒドロキシルアミン５０質量％水溶液の０．５ｇを添加して室温で４日間撹拌した。反応液を窒素気流下で予備乾燥した後、室温で１日間真空乾燥して含フッ素重合体Ｒ４を得た。ＩＲ測定により、－ＣＯＯＣ_２Ｈ_５基のＣ＝Ｏに基づく１，８００ｃｍ^－１付近の吸収がほぼ消失し、－ＣＯＮＨ－基のＣ＝Ｏに基づく１，７００ｃｍ^－１付近の吸収が新たに生じたことを確認した。含フッ素重合体Ｒ４の質量平均分子量は４，０００、フッ素原子含有量は６１質量％であった。含フッ素重合体Ｒ４はメタノールに可溶だった。

（実施例７）
　製造例７で得られた含フッ素重合体Ｒ４を窒素雰囲気下で、９０℃加熱９５分、１００℃加熱１２０分行い、硬化物ＦＲ４を得た。ＦＲ４をメタノールに浸漬しても不溶だった。

　また、含フッ素重合体Ｒ４をメタノールに溶かして１０質量％溶液とし、この溶液に断面が丸形状の銅線（直径１．５ｍｍ）を浸漬後、引き上げることにより、銅線にＲ４溶液を塗布した。次いで銅線を窒素雰囲気下で、５０℃で１時間、７０℃で１時間乾燥後、窒素雰囲気下で、９０℃加熱９５分、１００℃加熱１２０分行うことにより、含フッ素重合体硬化物により被覆された電線が得られる。

（製造例８）
　製造例１に記載の含フッ素重合体Ｐ１の５．１ｇをアサヒクリンＡＣ－２０００の４２．８ｇに溶解した後、メタノールの２．４ｇとヒドロキシルアミン５０質量％水溶液の０．２ｇを添加して室温で１日間撹拌した。反応液を大気気流下で予備乾燥した後、室温で１日間真空乾燥して含フッ素重合体Ｒ１を得た。ＩＲ測定により、－ＣＯＯＣＨ_３基のＣ＝Ｏに基づく１，８００ｃｍ^－１付近の吸収がほぼ消失し、－ＣＯＮＨ－基のＣ＝Ｏに基づく１，７００ｃｍ^－１付近の吸収が新たに生じたことを確認した。

　ＩＲ測定の結果と含フッ素重合体Ｐ１の分析結果から、含フッ素重合体Ｒ１の組成は、単位（Ｕ１ｃ－１）：単位（Ｕ２－１）：単位（Ｕ３－１）＝２：７１：２７（モル比）であり、質量平均分子量は３４，０００、フッ素原子含有量は６４質量％であった。含フッ素重合体Ｒ１は３質量％のメタノールを含むアサヒクリンＡＣ－２０００に可溶だった。

（実施例８）
　製造例８で得られた含フッ素重合体Ｒ１を窒素雰囲気下で、９０℃加熱９５分、１００℃加熱１２０分行い、硬化物ＦＲ１を得た。ＦＲ１を３質量％のメタノールを含むアサヒクリンＡＣ－２０００に浸漬しても不溶だった。

　また、含フッ素重合体Ｒ１を３質量％のメタノールを含むアサヒクリンＡＣ－２０００に溶かして、Ｒ１の１０質量％溶液とし、この溶液に断面が丸形状の銅線（直径１．５ｍｍ）を浸漬後、引き上げることにより、銅線にＲ４溶液を塗布した。次いで銅線を窒素雰囲気下で、５０℃で１時間、７０℃で１時間乾燥後、窒素雰囲気下で、９０℃加熱９５分、１００℃加熱１２０分行うことにより、含フッ素重合体硬化物により被覆された電線が得られる。

Claims

　導線と、前記導線の外周を被覆する被覆層を有し、
　前記被覆層は、下式（Ｆ）で表される官能基を３つ以上含む含フッ素重合体を含む硬化性組成物の硬化物からなる電線。
　－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１　　…（Ｆ）
（式（Ｆ）中、Ｒ^ｆ１は、単結合、フルオロアルキレン基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基であり、Ｚ^１は、ＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ、ＮＲ^３ＯＲ^４またはＯＲ^５であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。）
　前記含フッ素重合体は、前記式（Ｆ）で示される官能基の少なくとも１つを下式（Ｕ１）で表される単位中に含む、請求項１に記載の電線。

（式（Ｕ１）中、Ｘ^１およびＸ^２は、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子であり、Ｑ^１は、単結合またはエーテル性酸素原子である。Ｒ^ｆ１は、単結合、フルオロアルキレン基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基であり、Ｚ^１は、ＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ、ＮＲ^３ＯＲ^４またはＯＲ^５であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。）
　前記含フッ素重合体が前記式（Ｕ１）で表される単位を３つ以上含む、請求項２に記載の電線。
　前記含フッ素重合体が下式（Ｆ１）で表される基を３つ以上含む、請求項１に記載の電線。
－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ－Ｒ^ｆ１ＣＯＺ^１　　…（Ｆ１）
（式（Ｆ１）中、Ｒ^ｆ２は、炭素数が１～４のペルフルオロアルキレン基である。ｋは１～２００の整数を示す。Ｒ^ｆ１は、単結合、フルオロアルキレン基、または炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２以上のフルオロアルキレン基であり、Ｚ^１は、ＮＲ^１ＮＲ^２Ｈ、ＮＲ^３ＯＲ^４またはＯＲ^５であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基である。）
　前記含フッ素重合体が、１つの炭素原子に前記式（Ｆ１）で表される基が３個または４個結合した化合物である、請求項４に記載の電線。
　前記含フッ素重合体に含まれるフッ素原子の量が５０～７６質量％である、請求項１～５のいずれか１項に記載の電線。
　前記導線が銅導体またはアルミニウム導体からなる、請求項１～６のいずれか１項に記載の電線。
　請求項１～７のいずれか１項に記載の電線を製造する方法であって、
　前記導線の外周を前記硬化性組成物により被覆して前記被覆層の前駆層を形成し、
　前記前駆層に熱を加えて、および／または、活性エネルギー線を照射して、前記硬化性組成物の硬化物からなる被覆層を得ることを特徴とする電線の製造方法。
　前記前駆層が、前記硬化性組成物と沸点が２５０℃以下の液体を含むコーティング組成物を前記導線の外周に塗布し、前記塗布された前記コーティング組成物から前記液体を揮発させることにより形成される、請求項８に記載の電線の製造方法。
　請求項１～７のいずれか１項に記載の電線をコイル状に成形してなるコイル。