WO2017179513A1 - バリアフィルム積層体及びその製造方法、波長変換シート、バックライトユニット、並びにエレクトロルミネッセンス発光ユニット - Google Patents

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鈴木　文武
光司 村田
真登 黒川
剣吾 大薗
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    • B32B2571/00—Protective equipment
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336—Illuminating devices
    • G02F1/133614—Illuminating devices using photoluminescence, e.g. phosphors illuminated by UV or blue light

Definitions

  • the present invention relates to a barrier film laminate and a manufacturing method thereof, a wavelength conversion sheet, a backlight unit, and an electroluminescence light emitting unit.
  • Patent Documents disclose a color conversion member (wavelength conversion sheet) having a structure in which the surfaces on both sides of two color conversion layers (phosphor layers) are sandwiched between barrier films.
  • a large-scale production line is used.
  • a barrier film unrolled from a roll-shaped barrier film is transported, and after the adhesive is applied on the transported barrier film by a coating device, another barrier film is coated with an adhesive. Pasted on top.
  • a continuous operation is often performed for a long time, and in preparation for a long time operation, a large amount of adhesive is prepared before operation and stored during operation.
  • a silane coupling agent or a titanium coupling agent may be added to the adhesive.
  • a silane coupling agent or a titanium coupling agent may be added to the adhesive.
  • streaky unevenness may be observed in the barrier film laminate. I discovered that.
  • a barrier film laminate is used as a protective film of a light emitting unit, there is a possibility that the light emission efficiency is lowered, white balance is changed, or light emission abnormality (black spot or blue light transmission from a light source) occurs.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and a barrier film laminate capable of suppressing the occurrence of unevenness even in mass production using an adhesive to which a silane coupling agent is added, and its production It is a first object of the present invention to provide a method and a wavelength conversion sheet, a backlight unit, and an electroluminescence light-emitting unit that are obtained using the barrier film laminate.
  • barrier film As a means for preventing oxygen or water vapor from entering, a film having a gas barrier property (hereinafter referred to as “barrier film”) is widely adopted.
  • the barrier film has a laminated structure including a base material such as a polyethylene terephthalate (PET) film and a gas barrier layer laminated on at least one surface of the base material.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the barrier film is required to have high transparency in addition to gas barrier properties. Further, since the barrier film is continuously exposed to the heat from the light emitting layer, it is desired that the transparency can be maintained for a long time even when exposed to a high temperature environment.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and has an excellent gas barrier property and transparency, and a barrier film laminate capable of maintaining transparency over a long period of time even when exposed to a high temperature environment,
  • a second object is to provide a wavelength conversion sheet and a backlight unit obtained using the same.
  • the first barrier film including the first base material layer and the first barrier layer formed on the first base material layer, the second base material layer, and the second base material
  • a barrier film laminate comprising a second barrier film including a second barrier layer formed on the layer, and an adhesive layer.
  • the first barrier film and the second barrier film are bonded so that the first barrier layer and the second barrier layer face each other with the adhesive layer interposed therebetween.
  • the first barrier layer includes a first inorganic thin film layer and a first gas barrier coating layer
  • the second barrier layer includes a second inorganic thin film layer and a second gas barrier coating layer.
  • the adhesive layer contains an epoxy resin, a curing agent having an amino group, and a silane coupling agent having an epoxy group or a silane coupling agent having an amino group and two hydrolyzable functional groups. Formed from the agent.
  • the barrier film laminate even when the barrier film laminate is mass-produced using an adhesive to which a silane coupling agent is added, the occurrence of unevenness can be suppressed. Moreover, since the said barrier film laminated body has a laminated structure which laminated
  • the first barrier film including the first base layer and the first barrier layer formed on the first base layer, and the second base layer and the second group A step of preparing a second barrier film including a second barrier layer formed on the material layer, an epoxy resin, a curing agent having an amino group, a silane coupling agent having an epoxy group or an amino group, and two A step of applying an adhesive containing a hydrolyzable functional group to the first barrier layer side surface of the first barrier film to form a coating film, and the first A step of bonding the barrier film and the second barrier film through the coating film so that the first barrier layer and the second barrier layer face each other, and a step of curing the coating film.
  • Manufacture of barrier film laminates The law provides.
  • the present invention provides a first barrier film having a first base material and a first barrier layer formed on one surface of the first base material, a second base material, and the second base material.
  • a barrier film laminate comprising a second barrier film having a second barrier layer formed on one surface of a substrate, and a first adhesive layer containing a reaction product of an epoxy compound and an amine compound.
  • the first barrier film and the second barrier film are bonded together so that the first barrier layer and the second barrier layer face each other with the first adhesive layer interposed therebetween.
  • the amount of change ⁇ b * of the color coordinate b * in the L * a * b * color system is 1.00 or less before and after exposure in an environment with an air temperature of 85 ° C. for 1000 hours.
  • the barrier film laminated body since the two barrier films are used and these are bonded together through the 1st contact bonding layer containing the reaction material of an epoxy compound and an amine compound, the outstanding gas barrier property is acquired. Can do.
  • a reaction product of an epoxy compound and an amine compound is used as an adhesive layer, the adhesive layer often turns yellow when exposed to a high temperature environment for a long time, and transparency may be lowered.
  • the barrier film laminated body since two barrier films are bonded together so that barrier layers may oppose, oxygen which penetrate
  • the barrier film laminate further includes a second adhesive layer and a support base material, and the support base material is preferably bonded to the other surface of the second base material via the second adhesive layer.
  • the said barrier film laminated body there exists a tendency which can reduce generation
  • wrinkles of the finally obtained barrier film laminate can be sufficiently reduced.
  • the water vapor permeability of the first barrier film and the second barrier film is preferably 100 mg / (m 2 ⁇ day) or less. It is preferable that the barrier film laminate further includes a coating layer, and the coating layer is provided so as to be one of the outermost surfaces.
  • the first barrier layer includes a first inorganic thin film layer and a first gas barrier coating layer
  • the second barrier layer includes a second inorganic thin film layer and a second gas barrier coating layer. It is preferable.
  • the barrier layer has the above-described configuration, the gas barrier property of the barrier film laminate tends to be further improved.
  • the present invention also provides a wavelength conversion sheet comprising the barrier film laminate and a phosphor layer formed on the first barrier film of the barrier film laminate.
  • the present invention also provides a backlight unit comprising a light source, a light guide plate, and the wavelength conversion sheet.
  • the present invention also provides an electroluminescence light-emitting unit comprising the barrier film laminate and an electroluminescence phosphor layer formed on the first barrier film of the barrier film laminate.
  • a barrier film laminate capable of suppressing the occurrence of unevenness even in mass production using an adhesive to which a silane coupling agent is added, a method for producing the same, and A wavelength conversion sheet, a backlight unit, and an electroluminescence light emitting unit obtained by using the barrier film laminate can be provided.
  • the barrier film laminate has excellent gas barrier properties and transparency, and can maintain transparency over a long period of time even when exposed to a high temperature environment, and A wavelength conversion sheet and a backlight unit obtained by using this can be provided.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a wavelength conversion sheet according to one aspect of the present invention. It is a schematic sectional drawing of the barrier film laminated body which concerns on another side surface of this invention. It is a schematic sectional drawing of the barrier film laminated body which concerns on another side surface of this invention. It is a schematic sectional drawing of the wavelength conversion sheet which concerns on another side surface of this invention. It is a schematic sectional drawing of the backlight unit which concerns on one Embodiment of this invention. It is a schematic sectional drawing of the electroluminescent light emission unit which concerns on one Embodiment of this invention.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a barrier film laminate according to one aspect of the present invention.
  • the barrier film laminate 10 includes a first barrier film 16 a, a second barrier film 16 b, and an adhesive layer 15, and the first barrier film 16 a and the second barrier film 16 b are bonded together via the adhesive layer 15. ing.
  • the oxygen permeability of the adhesive layer 15 is preferably 1000 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less in the thickness direction at a thickness of 5 ⁇ m.
  • the oxygen permeability is more preferably 500 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, further preferably 100 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, and 50 cm 3 / (m 2 ⁇ atm). day ⁇ atm) or less, more preferably 10 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less.
  • the lower limit value of the oxygen permeability is not particularly limited, and is, for example, 0.1 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • the adhesive layer 15 is made of an adhesive containing an epoxy resin, a curing agent having an amino group, and a silane coupling agent having an epoxy group or a silane coupling agent having an amino group and two hydrolyzable functional groups. It is formed. By thermally curing an adhesive containing a thermosetting epoxy resin and a curing agent having an amino group, the barrier film can be firmly adhered.
  • the adhesive contains a silane coupling agent having an epoxy group as a functional group
  • the adhesion of the barrier film becomes stronger.
  • the said adhesive agent is preserved for a long time after preparation, even if it uses the adhesive agent after a preservation
  • the adhesive contains a silane coupling agent having an amino group as a functional group, so that the adhesion of the barrier film becomes stronger, and the barrier film when the adhesive stored for a long time after preparation is used. There is a tendency that the adhesive force tends to be stable.
  • the silane coupling agent having an amino group further has two hydrolyzable functional groups, it is difficult to become clouded even if it is stored for a long time after preparation, and even in the case of using an adhesive after storage, in the barrier film laminate Uneven appearance (poor appearance) is less likely to occur.
  • the silane coupling agent having an epoxy group may have a structure represented by the following formula (1).
  • R 1 and R 2 are each independently a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and preferably having 1 to 4 carbon atoms. An alkyl group is preferred.
  • R 1 and R 2 When the number of carbon atoms of R 1 and R 2 is in the above range, hydrolysis reactivity is high, and better adhesion between the barrier films 16a and 16b tends to be obtained.
  • R 1 tends to have higher hydrolysis reactivity as the number of carbon atoms is smaller within the above range.
  • Ep is an organic group having an epoxy group.
  • the organic group include an alkyl group.
  • the alkyl group may have an epoxy group via an ether group.
  • the organic group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms, and still more preferably 4 to 6 carbon atoms.
  • s represents an integer of 1 to 4-t.
  • t represents 1 or 2, and preferably 1;
  • silane coupling agent having an epoxy group examples include 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyl. And triethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and the like.
  • the silane coupling agent having an amino group and two hydrolyzable functional groups may have a structure represented by the following formula (2).
  • OR 3 represents a hydrolyzable functional group.
  • R 3 and R 4 are each independently a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, it is a group.
  • the hydrolyzable functional group is an alkoxy group.
  • Am may be an organic group R a and a group having an amino group bonded to the organic group R a (—R a NH 2 ), and the amino group bonded to the organic group R a and the organic group R a and the amino group A group having another organic group R b bonded to the group (—R a NHR b ), an amino group bonded to the organic group R a and the organic group R a , and another group bonded to the amino group It may be a group (—R a NR b R c ) having organic groups R b and R c .
  • the organic group Ra include an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms.
  • Examples of the organic groups R b and R c include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and a phenyl group.
  • the organic groups R b and R c may be the same or different, and the organic groups R b and R c may be combined and bonded to the amino group as a double bond.
  • Another amino group may be bonded to the organic groups R a , R b and R c .
  • r represents 1 or 2, preferably 1.
  • silane coupling agents having an amino group and two hydrolyzable functional groups examples include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane and N-2- (aminoethyl) -3-amino.
  • the content ratio of the epoxy resin and the curing agent having an amino group in the adhesive is preferably 1.0 or less, more preferably 0.1 to 0. .5, more preferably 0.1 to 0.35.
  • the adhesive contains the epoxy resin and the curing agent having an amino group within the above range, the adhesion of the barrier film is further easily obtained.
  • the content of the silane coupling agent having an epoxy group or the amino group and two hydrolyzable functional groups in the adhesive is 5 to 20% by mass. It is preferably 7 to 15% by mass.
  • the adhesiveness between the first barrier film 16a and the second barrier film 16b tends to be stably obtained. Moreover, there exists a tendency for a more favorable external appearance to be obtained because content of the silane coupling agent in an adhesive agent is 20 mass% or less.
  • Content ratio of epoxy resin and silane coupling agent having epoxy group or silane coupling agent having amino group and two hydrolyzable functional groups is preferably 1.0 to 20, more preferably 1.2 to 10, still more preferably 1.3 to 5.0, and particularly preferably 1.5 to 3.0. is there.
  • the adhesive contains an epoxy resin and a silane coupling agent having an epoxy group or a silane coupling agent having an amino group and two hydrolyzable functional groups within the above range, the adhesive has excellent adhesion and is uneven. It becomes easy to obtain a barrier film laminated body with little.
  • the thickness of the adhesive layer 15 is preferably 0.5 to 50 ⁇ m, more preferably 1 to 20 ⁇ m, and even more preferably 2 to 6 ⁇ m.
  • the thickness of the adhesive layer 15 is 0.5 ⁇ m or more, adhesion between the first barrier film 16a and the second barrier film 16b is easily obtained, and when the thickness is 50 ⁇ m or less, gas barrier properties are obtained. Becomes easier to obtain.
  • the first barrier film 16a includes a first base layer 11a and a first barrier layer 14a formed on the first base layer 11a
  • the second barrier film 16b includes a second base layer 11b.
  • a second barrier layer 14b formed on the second base material layer 11b.
  • the first base material layer 11a and the second base material layer 11b are layers for suppressing breakage in processing and distribution.
  • the first substrate layer 11a and the second substrate layer 11b include: polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamides such as nylon; polyolefins such as polypropylene and cycloolefin polymers; polycarbonates; Although a film, such as acetylcellulose, is mentioned, it is not limited to these.
  • the first base material layer 11a and the second base material layer 11b are preferably a polyester film, a polyamide film or a polyolefin film, more preferably a polyester film or a polyamide film, and a polyethylene terephthalate film or a polyethylene naphthalate film. More preferably it is. Moreover, it is preferable that the 1st base material layer 11a and the 2nd base material layer 11b are biaxially stretched. The first base material layer 11a and the second base material layer 11b may be the same or different.
  • the thickness of the first base material layer 11a and the second base material layer 11b is not particularly limited, but is preferably 3 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, and more preferably 5 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • a first barrier layer 14a and a second barrier layer 14b are formed on the first substrate layer 11a and the second substrate layer 11b, respectively, via an anchor coat layer (not shown) as necessary.
  • the anchor coat layer include polyester resins, and the thickness of the anchor coat layer is about 0.01 to 1 ⁇ m.
  • the first barrier film 16a and the second barrier film 16b are bonded so that the first barrier layer 14a and the second barrier layer 14b face each other. Thereby, more excellent gas barrier property can be obtained, and the first barrier layer 14a and the second barrier layer 14b can be protected from external force, and more stable gas barrier property can be obtained.
  • the first barrier film 16a may include two or more first barrier layers 14a
  • the second barrier film 16b may include two or more second barrier layers 14b.
  • the configuration of the plurality of first barrier layers 14a may be the same or different.
  • the configuration of the plurality of second barrier layers 14b may be the same or different.
  • the barrier film laminate 10 is a barrier film laminate in which the first barrier film 16a and the second barrier film 16b are overlapped, when used in a light emitting unit, the damage of the light emitter layer due to external force is suppressed, and Gas barrier properties can be improved.
  • the first barrier layer 14a includes a first inorganic thin film layer 12a and a first gas barrier coating layer 13a, and the first inorganic thin film layer 12a and the first gas barrier coating layer 13a are arranged in this order on the first base material layer 11a.
  • the second barrier layer 14b includes a second inorganic thin film layer 12b and a second gas barrier coating layer 13b, and the second inorganic thin film layer 12b and the second gas barrier coating layer 13b are arranged in this order on the second base material layer 11b. Are stacked.
  • the first inorganic thin film layer 12a and the second inorganic thin film layer 12b contain an inorganic compound and preferably contain a metal oxide.
  • the metal oxide include oxides of metals such as aluminum, copper, silver, yttrium, tantalum, silicon, and magnesium.
  • the metal oxide is preferably silicon oxide (SiO x , x is 1.0 to 2.0) because it is inexpensive and has excellent barrier performance. When x is 1.0 or more, good gas barrier properties tend to be obtained.
  • the formation method of the first inorganic thin film layer 12a and the second inorganic thin film layer 12b is preferably vacuum film formation.
  • vacuum film formation include physical vapor deposition and chemical vapor deposition.
  • physical vapor deposition include vapor deposition, sputtering, and ion plating.
  • chemical vapor deposition method include a thermal CVD method, a plasma CVD method, and a photo CVD method.
  • the first inorganic thin film layer 12a or the second inorganic thin film layer 12b is preferably an inorganic vapor deposition film layer formed by a vapor deposition method.
  • the thickness of the first inorganic thin film layer 12a and the second inorganic thin film layer 12b is preferably 10 to 300 nm, more preferably 20 to 100 nm.
  • the thickness of the first inorganic thin film layer 12a and the second inorganic thin film layer 12b is 10 nm or more, there is a tendency that a uniform film is easily obtained and gas barrier properties are easily obtained.
  • the thickness of the first inorganic thin film layer 12a and the second inorganic thin film layer 12b is 300 nm or less, the first inorganic thin film layer 12a and the second inorganic thin film layer 12b can be kept flexible. There is a tendency that cracks and the like are less likely to occur due to external forces such as bending and tension after film formation.
  • the first gas barrier coating layer 13a and the second gas barrier coating layer 13b are formed from a composition containing at least one selected from the group consisting of a metal alkoxide represented by the following formula (3) and a hydrolyzate thereof. Is preferred. M 1 (OR 5 ) m (R 6 ) nm (3)
  • R 5 and R 6 are each independently a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.
  • M 1 represents an n-valent metal atom such as Si, Ti, Al, or Zr.
  • m is an integer of 1 to n.
  • the metal alkoxide include tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ], triisopropoxyaluminum [Al (O-iso-C 3 H 7 ) 3 ] and the like.
  • the metal alkoxide is preferably tetraethoxysilane or triisopropoxyaluminum because it is relatively stable in an aqueous solvent after hydrolysis.
  • Examples of the hydrolyzate of the metal alkoxide include silicic acid (Si (OH) 4 ) that is a hydrolyzate of tetraethoxysilane and aluminum hydroxide (Al (OH) 3 that is a hydrolyzate of tripropoxyaluminum. ) And the like. These can be used in combination of not only one type but also a plurality of types.
  • the content of the metal alkoxide and the hydrolyzate thereof in the composition is, for example, 10 to 90% by mass.
  • the above composition may further contain a hydroxyl group-containing polymer compound.
  • the hydroxyl group-containing polymer compound include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone and starch.
  • the hydroxyl group-containing polymer compound is preferably polyvinyl alcohol from the viewpoint of barrier properties. These can be used in combination of not only one type but also a plurality of types.
  • the content of the hydroxyl group-containing polymer compound in the composition is, for example, 10 to 90% by mass.
  • the thickness of the first gas barrier coating layer 13a and the second gas barrier coating layer 13b is preferably 50 to 1000 nm, and more preferably 100 to 500 nm.
  • the thickness of the first gas barrier coating layer 13a and the second gas barrier coating layer 13b is 50 nm or more, there is a tendency that a sufficient gas barrier property can be obtained, and when the thickness is 1000 nm or less, sufficient flexibility is obtained. There is a tendency to hold.
  • the barrier film laminate 10 may further include a coating layer (not shown) on the surface on the second barrier film 16b side in order to exhibit the light scattering function.
  • a coating layer (not shown) on the surface on the second barrier film 16b side in order to exhibit the light scattering function.
  • an interference fringe (moire) prevention function and an antireflection function can be obtained in addition to the light scattering function.
  • the barrier film laminate 10 can be suitably used as a light-emitting protective film (light-emitting protective film) that can be deteriorated by contact with oxygen, water vapor, or the like.
  • a light-emitting protective film light-emitting protective film
  • fluorescent substance such as a quantum dot, an electroluminescent light-emitting body, etc. are mentioned.
  • a method for producing a barrier film laminate according to this embodiment will be described.
  • the first barrier film 16a and the second barrier film 16b are prepared.
  • the method for producing the first barrier film 16a and the second barrier film 16b is as described above.
  • the said adhesive agent is apply
  • the method for applying the adhesive include a reverse gravure coating method. If a white turbid adhesive is applied by these application methods, doctor streaks are likely to occur, and streaky application omission may occur, resulting in partial lifting between barrier films, resulting in poor appearance (streaks) ).
  • the coating film may be dried as necessary.
  • the drying temperature is about 70 to 130 ° C. or 80 to 130 ° C., and the drying time is about 10 to 60 seconds.
  • the first barrier film 16a and the second barrier film 16b are bonded so that the first barrier layer 14a and the second barrier layer 14b are opposed to each other through the coating film.
  • the coating film is heated and cured, whereby the coating film becomes the adhesive layer 15 and the barrier film laminate 10 can be manufactured.
  • the heating (aging) temperature for curing the coating film is, for example, 40 to 60 ° C., and the heating time is, for example, 1 to 4 days.
  • the adhesive since the adhesive has a silane coupling agent having an epoxy group or a silane coupling agent having an amino group and two hydrolyzable functional groups, white turbidity is suppressed regardless of the drying temperature of the adhesive. And stable adhesion of the barrier film can be obtained.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a wavelength conversion sheet according to one aspect of the present invention.
  • the wavelength conversion sheet is a sheet that can convert some wavelengths of light from the light source of the backlight unit for liquid crystal display.
  • the wavelength conversion sheet 20 includes a first protective film, a phosphor layer 21 formed on the first protective film, and a second protective film 22 provided on the phosphor layer 21. And is schematically configured.
  • the wavelength conversion sheet 20 has a structure in which the phosphor layer 21 is encapsulated (that is, sealed) between the first protective film and the second protective film 22.
  • the barrier film laminated body 10 mentioned above is used for a 1st protective film.
  • the barrier film laminated body 10 mentioned above may be used for the 2nd protective film 22, and another protective film may be used.
  • the wavelength conversion sheet 20 does not necessarily have to include the second protective film 22. That is, the wavelength conversion sheet 20 includes the barrier film laminate 10 and the phosphor layer 21 formed on the first barrier film 16 a of the barrier film laminate 10.
  • the phosphor layer 21 contains a resin and a phosphor.
  • the thickness of the phosphor layer 21 is several tens to several hundreds ⁇ m.
  • the resin for example, a photocurable resin or a thermosetting resin can be used.
  • the phosphor layer 21 preferably includes two types of phosphors composed of quantum dots. Further, the phosphor layer 21 may be a laminate in which two or more phosphor layers containing one kind of phosphor and another kind of phosphor are laminated. Two types of phosphors having the same excitation wavelength are selected. The excitation wavelength is selected based on the wavelength of light emitted from the light source of the backlight unit. The fluorescent colors of the two types of phosphors are different from each other.
  • the fluorescent colors are red and green.
  • the wavelength of each fluorescence and the wavelength of light emitted from the light source are selected based on the spectral characteristics of the color filter.
  • the peak wavelength of fluorescence is, for example, 610 nm for red and 550 nm for green.
  • a core-shell type quantum dot having particularly good luminous efficiency is preferably used.
  • the core-shell type quantum dot is obtained by covering a semiconductor crystal core as a light emitting portion with a shell as a protective film.
  • cadmium selenide (CdSe) can be used for the core and zinc sulfide (ZnS) can be used for the shell.
  • ZnS zinc sulfide
  • the surface yield of CdSe particles is covered with ZnS having a large band gap, so that the quantum yield is improved.
  • the phosphor may be one in which the core is doubly covered with the first shell and the second shell. In this case, CdSe can be used for the core, zinc selenide (ZnSe) can be used for the first shell, and ZnS can be used for the second shell.
  • the phosphor layer 21 may have a single layer configuration in which all phosphors are dispersed in a single layer, and each phosphor is separately dispersed in a plurality of layers, and a multilayer configuration in which these are laminated is formed. You may have.
  • a method for manufacturing the wavelength conversion sheet 20 of this embodiment will be described with reference to FIG.
  • a method for forming the phosphor layer 21 is not particularly limited, and examples thereof include a method described in JP-T-2013-544018. After the phosphor is dispersed in the binder resin, the prepared phosphor dispersion is applied on the surface of the first protective film (barrier film laminate 10) on the first barrier film 16a side, and then the second protective film 22 is applied to the coated surface.
  • the wavelength conversion sheet 20 can be manufactured by bonding together and curing the phosphor layer 21.
  • the phosphor dispersion liquid is applied on one surface of the second protective film 22, and the barrier film laminate 10 is bonded to the application surface so that the first barrier film 16 a faces the phosphor layer 21.
  • the wavelength conversion sheet 20 can also be manufactured by curing the phosphor layer 21.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a barrier film laminate according to another aspect of the present invention.
  • the barrier film laminate can be suitably used as a protective film for a light emitter (light emitter protective film) that can be deteriorated by contact with oxygen, water vapor, or the like.
  • a barrier film laminated body may be called a light-emitting body protective film.
  • the light emitter protection film 10 includes a first barrier film 1, a second barrier film 2, and a first adhesive layer 5, and the first barrier film 1 and the second barrier film 2 are the first adhesive layer 5. It is pasted through.
  • a coating layer 7 is provided on the surface of the second barrier film 2 opposite to the first barrier film 1 as necessary. Since the light emitter protection film 10 includes two barrier films, high gas barrier properties can be obtained. Moreover, in this embodiment, the 1st contact bonding layer 5 contains the reaction material of an epoxy compound and an amine compound. The first adhesive layer 5 can obtain not only the adhesiveness between the barrier films but also an excellent gas barrier property as compared with adhesive layers obtained using other materials.
  • the first barrier film 1 has a first substrate 1a and a first barrier layer 1b formed on one surface of the first substrate 1a
  • the second barrier film 2 includes a second substrate 2a and a second substrate 2a.
  • the first adhesive layer 5 is disposed adjacent to both the first barrier layer 1b and the second barrier layer 2b, and is sandwiched between these barrier layers.
  • oxygen slightly enters from the end of the other layer and is supplied to the adhesive layer. There is a possibility.
  • the light emitter protective film 10 having the above-described layer structure can suppress such slight invasion of oxygen, and as a result, even when exposed to a high temperature environment for a long time, the first adhesive layer 5 Yellowing, and thus yellowing of the light emitter protective film 10 as a whole can be suppressed, and sufficiently high transparency can be maintained as the light emitter protective film.
  • color coordinates b * in the L * a * b * color system of the light emitter protective film Before and after the light emitter protective film 10 having such a configuration was exposed to an environment of 85 ° C. in air (1 atm) for 1000 hours, color coordinates b * in the L * a * b * color system of the light emitter protective film .
  • the amount of change ⁇ b * can be 1.00 or less.
  • the change amount ⁇ b * is preferably 0.50 or less, more preferably 0.30 or less, and even more preferably 0.10 or less.
  • the light emitter protection film 10 can maintain transparency over a long period of time even when exposed to a high temperature environment.
  • the L * a * b * color system is a color system standardized by the CIE.
  • the 1st base material 1a and the 2nd base material 2a are base materials which form the 1st barrier layer 1b and the 2nd barrier layer 2b, respectively, and can also control breakage in processing, distribution, etc. From the viewpoint of transparency of the light emitter protection film 10, the total light transmittance of the first base material 1a and the second base material 2a is preferably 85% or more.
  • a substrate include, but are not limited to, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamides such as nylon; polyolefins such as polypropylene and cycloolefin; polycarbonates; Not.
  • the 1st base material 1a and the 2nd base material 2a are biaxially stretched.
  • the thickness of the first base material 1a and the second base material 2a is preferably 9 to 100 ⁇ m, and more preferably 12 to 50 ⁇ m.
  • the thickness of each of the base materials 1a and 2a is 9 ⁇ m or more, the strength of the base materials 1a and 2a can be sufficiently ensured. It can be manufactured efficiently and economically.
  • the thickness of the first base material 1a and the thickness of the second base material 2a may be the same or different. From the viewpoint of further reducing the thickness of the wavelength conversion sheet, the thickness of the first base material 1a closer to the light emitter layer may be made thinner than the second base material 2a farther from the light emitter layer. Since moisture and gas are mainly transmitted from the surface of the wavelength conversion sheet, the thickness of the second substrate 2a is relatively increased to prevent moisture and oxygen from being transmitted from the surface, while the first substrate 1a The thickness of the entire wavelength conversion sheet can be reduced by reducing the thickness relatively. Since the permeation of moisture and oxygen occurs not only from the surfaces of the barrier films 1 and 2 but also from the end face, the thinner the first substrate 1a can suppress the penetration of moisture and oxygen from the end face. it can. It is preferable that the thickness of the 1st base material 1a is 40 micrometers or less.
  • a first barrier layer 1b and a second barrier layer 2b are formed on the first substrate 1a and the second substrate 2a, respectively, via an anchor coat layer (not shown) as necessary.
  • the anchor coat layer include polyester resins, and the thickness of the anchor coat layer is about 0.01 to 1 ⁇ m.
  • the first barrier layer 1b preferably includes a first inorganic thin film layer 1v and a first gas barrier coating layer 1c. That is, in the first barrier layer 1b, the first inorganic thin film layer 1v is provided on one surface of the first substrate 1a, and the first gas barrier coating layer 1c is provided on the first inorganic thin film layer 1v. It is a configuration.
  • the second barrier layer 2b preferably includes a second inorganic thin film layer 2v and a second gas barrier coating layer 2c. That is, the second barrier layer 2b is provided with the second inorganic thin film layer 2v on one surface of the second substrate 2a, and the second gas barrier coating layer 2c is provided on the second inorganic thin film layer 2v. It is a configuration.
  • the inorganic thin film layers 1v and 2v are not particularly limited.
  • aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof can be used.
  • the inorganic thin film layers 1v and 2v contain an inorganic compound and preferably contain a metal oxide.
  • the metal oxide include oxides of metals such as aluminum, copper, silver, yttrium, tantalum, silicon, and magnesium.
  • the metal oxide is preferably silicon oxide (SiO x , x is 1.0 to 2.0) because it is inexpensive and has excellent gas barrier properties. When x is 1.0 or more, good gas barrier properties tend to be obtained.
  • the inorganic thin film layers 1v and 2v are preferably inorganic vapor deposition film layers formed by a vapor deposition method from the viewpoint of manufacturing cost.
  • the inorganic thin film layers 1v and 2v are inorganic vapor deposition film layers, holes may be formed in the inorganic thin film layers 1v and 2v due to splashing of the vapor deposition material.
  • the frequency of occurrence of splash is small, the holes generated by the splash are relatively large defects, and can be holes that penetrate through the base materials 1a and 2a. Therefore, in the protective film in which the holes due to the splash are generated, it can be an oxygen intrusion route.
  • the first inorganic thin film layer 1v is an inorganic vapor deposition film layer, and the oxygen permeability of the first adhesive layer 5 is 1000 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, thereby reducing the manufacturing cost. However, it becomes easy to suppress the occurrence of dark spots.
  • the thickness (film thickness) of each of the inorganic thin film layers 1v and 2v is preferably 5 to 500 nm, and more preferably 10 to 100 nm. If the film thickness is 5 nm or more, it is easy to form a uniform film, and the gas barrier function tends to be more sufficiently achieved. On the other hand, when the film thickness is 500 nm or less, the inorganic thin film layer can maintain sufficient flexibility, and more reliably prevent the thin film from being cracked by external factors such as bending and pulling after the film formation. Tend to be able to.
  • the thickness of the first inorganic thin film layer 1v and the thickness of the second inorganic thin film layer 2v may be the same or different.
  • Each of the first gas barrier coating layer 1c and the second gas barrier coating layer 2c is provided to prevent various secondary damages in a subsequent process and to provide high barrier properties.
  • These gas barrier coating layers 1c and 2c are made of at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group-containing polymer compound, a metal alkoxide, a metal alkoxide hydrolyzate, and a metal alkoxide polymer from the viewpoint of obtaining excellent barrier properties. It is preferable to contain as a component.
  • hydroxyl group-containing polymer compound examples include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone and starch.
  • the hydroxyl group-containing polymer compound is preferably polyvinyl alcohol from the viewpoint of barrier properties. These can be used in combination of not only one type but also a plurality of types.
  • R 7 and R 8 are each independently a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.
  • M 2 represents a q-valent metal atom such as Si, Ti, Al, or Zr.
  • p is an integer of 1 to q.
  • the metal alkoxide include tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ], triisopropoxyaluminum [Al (O-iso-C 3 H 7 ) 3 ] and the like.
  • the metal alkoxide is preferably tetraethoxysilane or triisopropoxyaluminum because it is relatively stable in an aqueous solvent after hydrolysis.
  • Examples of the hydrolyzate of the metal alkoxide include silicic acid (Si (OH) 4 ) that is a hydrolyzate of tetraethoxysilane and aluminum hydroxide (Al (OH) 3 that is a hydrolyzate of tripropoxyaluminum. ) And the like. These can be used in combination of not only one type but also a plurality of types.
  • the thickness (film thickness) of each of the gas barrier coating layers 1c and 2c is preferably 50 to 1000 nm, and more preferably 100 to 500 nm. When the film thickness is 50 nm or more, there is a tendency that a sufficient gas barrier property can be obtained, and when it is 1000 nm or less, there is a tendency that a sufficient flexibility can be maintained.
  • the thickness of the first gas barrier coating layer 1c and the thickness of the second gas barrier coating layer 2c may be the same or different.
  • the water vapor permeability of the barrier films 1 and 2 is preferably 100 mg / (m 2 ⁇ day) or less, and more preferably 50 mg / (m 2 ⁇ day) or less.
  • a further excellent gas barrier property tends to be obtained.
  • the first adhesive layer 5 is obtained by curing a thermosetting adhesive containing an epoxy compound and an amine compound, and includes a reaction product of the epoxy compound and the amine compound.
  • the oxygen permeability of the first adhesive layer 5 is preferably 1000 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less in the thickness direction at a thickness of 5 ⁇ m.
  • the oxygen permeability is more preferably 500 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, further preferably 100 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, and 50 cm 3 / (m 2 ⁇ atm).
  • the oxygen permeability of the first adhesive layer 5 is 1000 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, so that when the barrier film has a defect when used in the light emitting unit, the defect There is a tendency that generation of dark spots in the peripheral light emitting layer can be suppressed.
  • the lower limit value of the oxygen permeability is not particularly limited, and is, for example, 0.1 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • the thickness of the first adhesive layer 5 is preferably 0.5 to 50 ⁇ m, more preferably 1 to 20 ⁇ m, and further preferably 2 to 6 ⁇ m.
  • the thickness of the first adhesive layer 5 is 0.5 ⁇ m or more, the adhesion between the first barrier film 1 and the second barrier film 2 is easily obtained, and when the thickness is 50 ⁇ m or less, More excellent gas barrier properties and transparency are easily obtained.
  • the coating layer (matte layer) 7 is provided on the other surface of the second substrate 2a in order to exhibit one or more optical functions, antistatic functions or scratch prevention functions. It is the surface.
  • the optical function is not particularly limited, and examples thereof include an interference fringe (moire) prevention function, an antireflection function, and a diffusion function.
  • the coating layer 7 preferably has at least an interference fringe preventing function as an optical function. In the present embodiment, a case where the coating layer 7 has at least an interference fringe preventing function will be described.
  • the coating layer 7 includes, for example, a binder resin and fine particles. Fine irregularities may be formed on the surface of the coating layer 7 by embedding the fine particles in the binder resin so that some of the fine particles protrude from the surface of the coating layer 7. Thus, by providing the coating layer 7 on the surface opposite to the light emitting layer, the generation of interference fringes such as Newton rings can be more sufficiently prevented.
  • the binder resin is not particularly limited, but a resin excellent in optical transparency can be used. More specifically, for example, polyester resins, acrylic resins, acrylic urethane resins, polyester acrylate resins, polyurethane acrylate resins, urethane resins, epoxy resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins. A melamine resin, a phenol resin, or the like can be used.
  • the binder resin may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a radiation curable resin. Among these, it is desirable to use an acrylic resin excellent in light resistance and optical characteristics. These can be used not only in one kind but also in combination of plural kinds.
  • the fine particles are not particularly limited.
  • inorganic fine particles such as silica, clay, talc, calcium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate, titanium oxide, and alumina
  • styrene resin urethane resin
  • silicone resin organic fine particles such as acrylic resin can be used. These can be used not only in one kind but also in combination of plural kinds.
  • the average particle diameter of the fine particles is preferably from 0.1 to 30 ⁇ m, and more preferably from 0.5 to 10 ⁇ m.
  • the content of the fine particles in the coating layer 7 is preferably 0.5 to 30% by mass, more preferably 3 to 10% by mass based on the total amount of the coating layer 7.
  • the content of the fine particles is 0.5% by mass or more, the light diffusion function and the effect of preventing the generation of interference fringes tend to be further improved, and when the content is 30% by mass or less, luminance reduction is sufficiently suppressed. There is a tendency to be able to.
  • the light emitter protective film 10 may further include a second adhesive layer 6 and a support substrate 3.
  • the support base material 3 is bonded on the other surface of the second base material 2a via the second adhesive layer 6, and the coating layer 7 is formed on the support base material 3 to become the outermost surface.
  • the light emitter protection film 10 includes the support base 3, there is a tendency that generation of wrinkles due to heat and tension applied when the light emitter protection film 10 is manufactured by a roll-to-roll process can be reduced. Moreover, even if wrinkles are generated in the production of the first barrier film and the second barrier film, the wrinkles tend to be sufficiently reduced in the end.
  • the support substrate 3 is not particularly limited, but a substrate having a total light transmittance of 85% or more is desirable.
  • a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, or the like can be used as a substrate having high transparency and excellent heat resistance.
  • the thickness of the supporting substrate 3 is preferably 10 to 250 ⁇ m, more preferably 25 to 240 ⁇ m, still more preferably 40 to 210 ⁇ m, and particularly preferably 55 to 200 ⁇ m.
  • the thickness of the support base material 3 is 10 ⁇ m or more, it becomes easy to sufficiently secure the strength of the support base material 3 for obtaining the effect of improving wrinkles of the light emitter protection film 10, and by being 250 ⁇ m or less. It becomes easy to suppress that the total thickness of the wavelength conversion sheet becomes excessively thick.
  • the second adhesive layer 6 is provided between the barrier film 2 and the support substrate 3 in order to bond and laminate the barrier film 2 and the support substrate 3.
  • the adhesive constituting the second adhesive layer 6 include acrylic adhesives, epoxy adhesives, urethane adhesives, and the like.
  • the pressure-sensitive adhesive constituting the second adhesive layer 6 include an acrylic pressure-sensitive adhesive, a polyvinyl ether-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, and a starch paste-based adhesive.
  • the pressure-sensitive adhesive is preferably an acrylic pressure-sensitive adhesive. By using the acrylic pressure-sensitive adhesive, it becomes easy to maintain the transparency of the second adhesive layer 6 for a long period of time.
  • the thickness of the second adhesive layer 6 is preferably 0.5 to 50 ⁇ m, more preferably 1 to 20 ⁇ m, and even more preferably 2 to 6 ⁇ m.
  • the thickness of the second adhesive layer 6 is 0.5 ⁇ m or more, adhesion between the barrier film 2 and the support substrate 3 is easily obtained, and when it is 50 ⁇ m or less, more excellent gas barrier properties are obtained. It becomes easy to be done.
  • the barrier films 1 and 2 are manufactured by a roll-to-roll method. Specifically, the inorganic thin film layer 1v is laminated on one surface of the first substrate 1a by, for example, a vapor deposition method.
  • a coating agent mainly comprising an aqueous solution or a water / alcohol mixed solution containing at least one component selected from the group consisting of a hydroxyl group-containing polymer compound, a metal alkoxide, a metal alkoxide hydrolyzate, and a metal alkoxide polymer.
  • the gas barrier coating layer 1c is formed by applying on the surface of the inorganic thin film layer 1v and drying at 80 to 250 ° C., for example. Thereby, the 1st barrier film 1 in which the barrier layer 1b (the inorganic thin film layer 1v and the gas-barrier coating layer 1c) was provided on one surface of the 1st base material 1a is obtained. By performing the same operation as this, the second barrier film 2 in which the barrier layer 2b (the inorganic thin film layer 2v and the gas barrier coating layer 2c) is provided on one surface of the second substrate 2a is obtained.
  • An anchor coat layer may be provided between the base material and the inorganic thin film layer in order to improve adhesion between the base material and the inorganic thin film layer laminated on the surface thereof.
  • the anchor coat layer can be formed by applying a solution containing the above-described resin onto a substrate and drying and curing the solution at, for example, 50 to 200 ° C.
  • the thickness of the anchor coat layer is preferably in the range of 5 to 500 nm, more preferably in the range of 10 to 100 nm.
  • the first adhesive layer 5 is configured by using a laminating apparatus so that the barrier layer 1b of the first barrier film 1 and the barrier layer 2b of the second barrier film 2 are opposed to each other by a roll-to-roll method.
  • an adhesive or pressure-sensitive adhesive
  • the laminated film and the support base material 3 may be bonded together.
  • the second base material 2a of the laminated film and the support base material 3 are opposed to each other by a roll-to-roll method, and an adhesive (or an adhesive) constituting the second adhesive layer 6 is used.
  • the laminated film and the supporting substrate 3 are bonded together with the agent.
  • a protective film is obtained by drying the adhesive.
  • the coating layer 7 is formed on one surface of the protective film (for example, the surface of the support substrate 3) as required by a roll-to-roll method. Specifically, a coating layer in which a binder resin, fine particles and, if necessary, a solvent are mixed is applied onto one surface of the protective film (for example, the surface of the support base 3) and dried to form a coating layer. 7 is formed. Thereby, the protective film with a coating layer is obtained. As described above, the light emitter protective film 10 is obtained.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a wavelength conversion sheet according to an embodiment of the present invention.
  • the wavelength conversion sheet is a sheet that can convert some wavelengths of light from the light source of the backlight unit for liquid crystal display.
  • the wavelength conversion sheet 100 is a phosphor layer 50 and a phosphor protection provided as a first protective film and a second protective film on one surface side and the other surface side of the phosphor layer 50, respectively.
  • Films 10 and 10 are provided. That is, the light emitter protective film 10, the phosphor layer 50, and the light emitter protective film 10 are laminated in this order.
  • the wavelength conversion sheet 100 has a structure in which the phosphor layer 50 is encapsulated (that is, sealed) between the pair of light emitter protective films 10 and 10.
  • the pair of light emitter protection films 10 and 10 are arranged such that each first barrier film faces the phosphor layer 50 side.
  • the phosphor layer 50 is a thin film having a thickness of several tens to several hundreds of ⁇ m, and includes a sealing resin 51 and a phosphor 52 as shown in FIG. Inside the sealing resin 51, one or more phosphors 52 are mixed and sealed.
  • the sealing resin 51 plays a role of joining the phosphor layer 50 and the pair of light emitter protection films 10 and 10 and filling these gaps together.
  • the phosphor layer 50 may be formed by stacking two or more phosphor layers in which only one kind of phosphor 52 is sealed. As the two or more kinds of phosphors 52 used in the one or more phosphor layers, those having the same excitation wavelength are selected. This excitation wavelength is selected based on the wavelength of light emitted by the light source L.
  • the fluorescent colors of the two or more types of phosphors 52 are different from each other.
  • a blue light emitting diode blue LED
  • the fluorescent colors are red and green.
  • the wavelength of each fluorescence and the wavelength of light emitted from the light source are selected based on the spectral characteristics of the color filter.
  • the peak wavelengths of fluorescence are, for example, 610 nm for red and 550 nm for green.
  • sealing resin 51 for example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, or the like can be used. These resins can be used singly or in combination of two or more.
  • thermoplastic resin examples include cellulose derivatives such as acetylcellulose, nitrocellulose, acetylbutylcellulose, ethylcellulose, and methylcellulose; vinyl acetate and copolymers thereof, vinyl chloride and copolymers thereof, and vinylidene chloride and copolymers thereof.
  • Acetal resins such as polyvinyl formal and polyvinyl butyral; Acrylic resins and copolymers thereof, Acrylic resins such as methacrylic resins and copolymers; Polystyrene resins; Polyamide resins; Linear polyester resins; Fluorine Resin; and polycarbonate resin etc.
  • thermosetting resin examples include phenol resin, urea melamine resin, polyester resin, and silicone resin.
  • the ultraviolet curable resin examples include photopolymerizable prepolymers such as epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate. Further, these photopolymerizable prepolymers can be the main components, and monofunctional or polyfunctional monomers can be used as diluents.
  • Quantum dots are preferably used as the phosphor 52.
  • the quantum dots include those in which a core as a light emitting portion is coated with a shell as a protective film.
  • the core include cadmium selenide (CdSe), and examples of the shell include zinc sulfide (ZnS). Quantum efficiency is improved by covering surface defects of CdSe particles with ZnS having a large band gap.
  • the phosphor 52 may be one in which a core is doubly covered with a first shell and a second shell. In this case, CdSe can be used for the core, zinc selenide (ZnSe) can be used for the first shell, and ZnS can be used for the second shell.
  • YAG: Ce etc. can also be used as fluorescent substance 52 other than a quantum dot.
  • the average particle diameter of the phosphor 52 is preferably 1 to 20 nm.
  • the thickness of the phosphor layer 50 is preferably 1 to 500 ⁇ m.
  • the content of the phosphor 52 in the phosphor layer 50 is preferably 1 to 20% by mass, and more preferably 3 to 10% by mass based on the total amount of the phosphor layer 50.
  • the light-emitting-body protective film 10 was provided in both surfaces of the fluorescent substance layer 50, you may be provided only in one side of the fluorescent substance layer 50.
  • the phosphor protective film 10 may be provided on one surface of the phosphor layer 50 as a first protective film, and another protective film may be provided on the other surface as a second protective film.
  • the method for producing the wavelength conversion sheet 100 is not particularly limited, and examples include the following method. For example, after the phosphor 52 is dispersed in the sealing resin 51 and the prepared phosphor dispersion is applied on the surface of the light emitter protective film 10 on the first barrier film 1 side, another light emitter protective film is applied to the coated surface.
  • the wavelength conversion sheet 100 can be manufactured by bonding 10 and curing the phosphor layer 50.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a backlight unit obtained using the wavelength conversion sheet 100.
  • the backlight unit 200 includes a light source L and the wavelength conversion sheet 100, and the barrier film laminate 10 is disposed on the opposite side of the light source L with the phosphor layer 50 interposed therebetween.
  • the wavelength conversion sheet 100, the light guide plate G, and the reflection plate R are arranged in this order, and the light source L is arranged on the side of the light guide plate G (surface direction of the light guide plate G).
  • the thickness of the light guide plate G is, for example, 100 to 1000 ⁇ m.
  • the light guide plate G and the reflection plate R efficiently reflect and guide the light emitted from the light source L, and a known material is used.
  • a known material is used as the light guide plate G.
  • the light guide plate G for example, acrylic, polycarbonate, cycloolefin film, or the like is used.
  • the light source L is provided with a plurality of blue light emitting diode elements, for example.
  • the light emitting diode element may be a violet light emitting diode or a light emitting diode having a lower wavelength.
  • the light emitted from the light source L enters the light guide plate G (D1 direction), and then enters the phosphor layer 50 (D2 direction) with reflection and refraction.
  • the light that has passed through the phosphor layer 50 becomes white light by mixing the yellow light generated in the phosphor layer 50 with the light before passing through the phosphor layer 50.
  • FIG. 7 is a schematic sectional view of an electroluminescence light emitting unit according to an embodiment of the present invention.
  • the electroluminescence light emitting unit 300 includes an electroluminescence light emitter layer 256 and the barrier film laminate 10.
  • the electroluminescence light emitting unit 300 includes, for example, a transparent electrode layer 254, an electroluminescence light emitter layer 256 provided on the transparent electrode layer 254, and a dielectric layer 258 provided on the electroluminescence light emitter layer 256.
  • the electrode element including the back electrode layer 260 provided on the dielectric layer 258 is obtained by sandwiching and sealing between the first protective film and the second protective film 262.
  • the barrier film laminate 10 described above is used for the first protective film.
  • the electroluminescence light emitter layer 256 is formed on the first barrier films 1 and 16 a of the barrier film laminate 10.
  • the barrier film laminate 10 is used by using the barrier film laminate 10 as a protective film provided on the electrode element including the electroluminescence emitter layer 256. Even if the barrier layer has a defect, generation of dark spots can be suppressed.
  • Each electrode layer, electroluminescent light emitting layer, and dielectric layer can be formed using a known material by, for example, vapor deposition or sputtering.
  • Example 1-1 Acrylic polyol and tolylene diisocyanate are mixed so that the number of NCO groups of tolylene diisocyanate is equal to the number of OH groups of acrylic polyol, and ethyl acetate is added so that the total solid content becomes 5% by mass. Diluted. To the diluted liquid mixture, ⁇ - (3,4 epoxy cyclohexyl) trimethoxysilane was further added so as to be 5% by mass with respect to the total solid content, and these were mixed to obtain the anchor coat layer composition. Produced.
  • the anchor coat layer composition On one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (first base material layer, thickness: 25 ⁇ m), the anchor coat layer composition is applied by a bar coating method, and dried and cured at 100 ° C. for 1 minute to obtain a thickness. An anchor coat layer having a thickness of 50 nm was formed.
  • a silicon oxide material (SiO, manufactured by Canon Optron Co., Ltd.) was evaporated by electron beam heating under a pressure of 1.5 ⁇ 10 ⁇ 2 Pa, on the anchor coat layer. A 30 nm thick SiO x film (first inorganic thin film layer) was formed.
  • the acceleration voltage in vapor deposition was 40 kV, and the emission current was 0.2 A.
  • the first gas barrier coating layer having a thickness of 300 nm was formed on the first inorganic thin film layer by applying and drying the gas barrier coating layer composition. Furthermore, another first inorganic thin film layer having a thickness of 30 nm is formed on the first gas barrier coating layer in the same manner as described above, and another 300 nm thick film is formed on the other first inorganic thin film layer. A first gas barrier coating layer was formed. As described above, the first base material layer, the anchor coat layer, the first inorganic thin film layer, the first gas barrier coating layer, the first inorganic thin film layer, and the first gas barrier coating layer are laminated in this order. One barrier film was obtained.
  • the anchor coat layer composition On one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (second base material layer, thickness: 25 ⁇ m), the anchor coat layer composition is applied by a bar coating method, and dried and cured at 100 ° C. for 1 minute to obtain a thickness. An anchor coat layer having a thickness of 50 nm was formed.
  • a silicon oxide material (SiO, manufactured by Canon Optron Co., Ltd.) was evaporated by electron beam heating under a pressure of 1.5 ⁇ 10 ⁇ 2 Pa, on the anchor coat layer. A 30 nm thick SiO x film (second inorganic thin film layer) was formed.
  • the acceleration voltage in vapor deposition was 40 kV, and the emission current was 0.2 A.
  • the gas barrier coating layer composition was applied and dried to form a second gas barrier coating layer having a thickness of 300 nm.
  • a second barrier film in which the second base material layer, the anchor coat layer, the second inorganic thin film layer, and the second gas barrier coating layer were laminated in this order was obtained.
  • Epoxy resin main agent (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name: M-100) 5 parts by mass, amine-based curing agent (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name: C-93, nonvolatile content: 65% by mass) 23 2 parts by mass of methanol and silane coupling agent having an epoxy group (3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM-402), 23 parts by mass of methanol and 47 ethyl acetate It melt
  • Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • the adhesive that has been prepared for 6 hours has been applied and dried using a reverse gravure device, and the adhesive A application surface and the second adhesive film are then dried.
  • the second barrier film was bonded so as to face the gas barrier coating layer, and aging was performed at 50 ° C. for 2 days.
  • the first barrier film and the second barrier film were bonded together through an adhesive layer having a thickness of 5 ⁇ m to produce a barrier film laminate.
  • Example 1-2 A barrier film laminate was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the amount of the silane coupling agent added was changed from 2 parts by mass to 3 parts by mass in the preparation of the adhesive.
  • Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Example 1-3 In the preparation of the adhesive, instead of the silane coupling agent (3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM-402), the silane coupling agent (3-glycidoxypropyl) A barrier film laminate was produced in the same manner as in Example 1-1 except that methyldiethoxysilane (trade name: KBE-402) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used. Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • the silane coupling agent 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM-402
  • Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Example 1-4 A barrier film laminate was produced in the same manner as in Example 1-3, except that the amount of the silane coupling agent added was changed from 2 parts by mass to 3 parts by mass in the preparation of the adhesive.
  • Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Example 1-5 In the preparation of the adhesive, instead of the silane coupling agent (3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM-402), the silane coupling agent (3-glycidoxypropyl) A barrier film laminate was produced in the same manner as in Example 1-1 except that trimethoxysilane (trade name: KBM-403) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.
  • Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Example 1-6 A barrier film laminate was produced in the same manner as in Example 1-5, except that, in the preparation of the adhesive, the addition amount of the silane coupling agent was changed from 2 parts by mass to 3 parts by mass.
  • Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Example 1--7 In the preparation of the adhesive, instead of the silane coupling agent (3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM-402), the silane coupling agent (3-glycidoxypropyl) A barrier film laminate was produced in the same manner as in Example 1-1 except that triethoxysilane (trade name: KBE-403) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used. Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Example 1-8 A barrier film laminate was produced in the same manner as in Example 1-7, except that the addition amount of the silane coupling agent was changed from 2 parts by mass to 3 parts by mass in the preparation of the adhesive.
  • Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Example 1-1 In the preparation of the adhesive, instead of the silane coupling agent (3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM-402), the silane coupling agent (N-2- (amino A barrier film laminate was produced in the same manner as in Example 1-1 except that ethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane (trade name: KBM-603) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.
  • Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Comparative Example 1-2 A barrier film laminate was produced in the same manner as in Comparative Example 1-1 except that in the preparation of the adhesive, the amount of the silane coupling agent added was changed from 2 parts by mass to 3 parts by mass.
  • Table 1 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Acrylic polyol and tolylene diisocyanate are mixed so that the number of NCO groups of tolylene diisocyanate is equal to the number of OH groups of acrylic polyol, and ethyl acetate is added so that the total solid content becomes 5% by mass. Diluted. To the diluted liquid mixture, ⁇ - (3,4 epoxy cyclohexyl) trimethoxysilane was further added so as to be 5% by mass with respect to the total solid content, and these were mixed to obtain the anchor coat layer composition. Produced.
  • the anchor coat layer composition On one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (first base material layer, thickness: 25 ⁇ m), the anchor coat layer composition is applied by a bar coating method, and dried and cured at 100 ° C. for 1 minute to obtain a thickness. An anchor coat layer having a thickness of 50 nm was formed.
  • a silicon oxide material (SiO, manufactured by Canon Optron Co., Ltd.) was evaporated by electron beam heating under a pressure of 1.5 ⁇ 10 ⁇ 2 Pa, on the anchor coat layer. A 30 nm thick SiO x film (first inorganic thin film layer) was formed.
  • the acceleration voltage in vapor deposition was 40 kV, and the emission current was 0.2 A.
  • the first gas barrier coating layer having a thickness of 300 nm was formed on the first inorganic thin film layer by applying and drying the gas barrier coating layer composition. Furthermore, another first inorganic thin film layer having a thickness of 30 nm is formed on the first gas barrier coating layer in the same manner as described above, and another 300 nm thick film is formed on the other first inorganic thin film layer. A first gas barrier coating layer was formed. As described above, the first base material layer, the anchor coat layer, the first inorganic thin film layer, the first gas barrier coating layer, the first inorganic thin film layer, and the first gas barrier coating layer are laminated in this order. One barrier film was obtained.
  • the anchor coat layer composition On one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (second base material layer, thickness: 25 ⁇ m), the anchor coat layer composition is applied by a bar coating method, and dried and cured at 100 ° C. for 1 minute to obtain a thickness. An anchor coat layer having a thickness of 50 nm was formed.
  • a silicon oxide material (SiO, manufactured by Canon Optron Co., Ltd.) was evaporated by electron beam heating under a pressure of 1.5 ⁇ 10 ⁇ 2 Pa, on the anchor coat layer. A 30 nm thick SiO x film (second inorganic thin film layer) was formed.
  • the acceleration voltage in vapor deposition was 40 kV, and the emission current was 0.2 A.
  • the gas barrier coating layer composition was applied and dried to form a second gas barrier coating layer having a thickness of 300 nm.
  • a second barrier film in which the second base material layer, the anchor coat layer, the second inorganic thin film layer, and the second gas barrier coating layer were laminated in this order was obtained.
  • Epoxy resin main agent (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name: M-100) 5 parts by mass, amine-based curing agent (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name: C-93, nonvolatile content: 65% by mass)
  • 23 Silane coupling agent having a mass part and an amino group and two hydrolyzable functional groups N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM -602) 2 parts by mass was dissolved in a solvent consisting of 23 parts by mass of methanol and 47 parts by mass of ethyl acetate to prepare an adhesive.
  • Table 2 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive, the number of hydrolyzable functional groups, and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • the adhesive that has passed 6 hours after the preparation is applied using a reverse gravure device and then dried at 82 ° C. for 1 minute, and the adhesive is applied.
  • the second barrier film was bonded so that the surface and the second gas barrier coating layer were opposed to each other, and aging was performed at 50 ° C. for 2 days.
  • the first barrier film and the second barrier film were bonded together through an adhesive layer having a thickness of 5 ⁇ m to produce a barrier film laminate.
  • Example 1-10 A barrier film laminate was produced in the same manner as in Example 1-9, except that the amount of the silane coupling agent added was changed from 2 parts by mass to 3 parts by mass in the preparation of the adhesive.
  • Table 2 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive, the number of hydrolyzable functional groups, and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • Comparative Example 1-5 A barrier film laminate was produced in the same manner as Comparative Example 1-4, except that the amount of the silane coupling agent added was changed from 2 parts by mass to 3 parts by mass in the preparation of the adhesive.
  • Table 2 shows the types of functional groups of the silane coupling agent used for the preparation of the adhesive, the number of hydrolyzable functional groups, and the content in the adhesive (total amount of nonvolatile components).
  • the barrier film laminate obtained in Example 1-1 had a peel strength of 7 N / cm or more, and the substrate broke, whereas the barrier film laminate obtained in Comparative Example 1-1 had a peel strength of 5 N / cm. cm.
  • the adhesion of the barrier film was high and the barrier film was broken before peeling, whereas in the barrier film laminate obtained in Comparative Example 1-4 The barrier film can be peeled off, and the peel strength was 5 N / cm.
  • Example 2-1 The barrier film was produced by the roll-to-roll method as follows. First, on one side of a 30 ⁇ m thick polyethylene terephthalate (PET) film as a base material, silicon oxide is provided as an inorganic thin film layer with a thickness of 30 nm by a vacuum deposition method, and further, a gas barrier property with a thickness of 300 nm is formed on the inorganic thin film layer. A coating layer was formed. This gas barrier coating layer was formed by applying a coating solution containing tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol by a wet coating method.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a roll of a barrier film having the same configuration as this barrier film was separately prepared.
  • the water vapor permeability of the obtained barrier film was measured by a method according to the infrared sensor method of JIS K 7129, it was 50 mg / (m 2 ⁇ day).
  • a water vapor transmission rate measurement device (trade name: Permatran, manufactured by MOCON) was used.
  • the temperature of the transmission cell was 40 ° C.
  • the relative humidity of the high humidity chamber was 90% RH
  • the relative humidity of the low humidity chamber was 0% RH.
  • the two barrier films obtained as described above were bonded together.
  • a two-pack type epoxy adhesive composed of an epoxy resin main agent and an amine curing agent is used for bonding, and an adhesive layer (oxygen permeability: 5 cm 3 / (m 2 ⁇ day) having a film thickness after curing of 5 ⁇ m. -Atm)) was formed, and a film laminated so that the gas barrier coating layers of the two barrier films face each other was produced.
  • the oxygen permeability of the adhesive layer was measured as follows.
  • the above-mentioned two-component type so that the film thickness after curing on a stretched polypropylene (OPP) film (oxygen permeability: 3000 cm 3 / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) (measurement limit) or more) having a thickness of 20 ⁇ m is 5 ⁇ m.
  • An epoxy adhesive film is formed to prepare a sample for evaluation, and 30 ° C. according to the method described in JIS K7126-1 (Appendix 1) using a differential pressure type gas measuring device (GTR-10X, manufactured by GTR Tech). The oxygen permeability of the sample in a 70% RH environment was measured.
  • the laminated film obtained as described above was bonded to a PET film (supporting substrate) having a thickness of 30 ⁇ m.
  • An acrylic adhesive was used for bonding, and an adhesive layer was formed so that the thickness after lamination was 2 ⁇ m.
  • the roll of the protective film (before coating layer formation) which an adhesive layer interposes between a laminated film (base material side) and a support base material was obtained.
  • a coating layer (matte layer) having a thickness of 3 ⁇ m was formed on the surface of the support substrate of the protective film obtained as described above.
  • This coating layer was formed by applying a coating liquid containing an acrylic resin and silica fine particles (average particle diameter of 3 ⁇ m) by a wet coating method. Thereby, the roll of the protective film with a coating layer was obtained.
  • Two protective films with a coating layer obtained were prepared as a first protective film and a second protective film. After mixing CdSe / ZnS 530 (trade name, manufactured by SIGMA-ALDRICH) as a quantum dot with an epoxy-based photosensitive resin, the mixture is applied to the base material side of the first protective film, and the second protective film is applied thereto.
  • a wavelength conversion sheet was obtained by lamination and UV curing lamination.
  • Example 2-1 The same as Example 2-1 except that a laminated film was prepared by laminating two barrier films so that the substrates face each other, and a supporting substrate was bonded to the laminated film (gas barrier coating layer side). Thus, a roll of a protective film with a coating layer and a wavelength conversion sheet were obtained.
  • Spectral transmittance The spectral transmittance at a wavelength of 435 nm of the film with a coating layer obtained before and after exposure to a high temperature environment obtained in Example 2-1 and Comparative Example 2-1 was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV3600). did. Table 3 shows the measurement results of spectral transmittance before and after exposure to a high-temperature environment and the differences.
  • Example 2-1 The water vapor transmission rate of the protective film with a coating layer before and after exposure to a high temperature environment obtained in Example 2-1 and Comparative Example 2-1 was measured by a method according to the infrared sensor method of JIS K 7129. Table 3 shows the measurement results of water vapor permeability before and after exposure to a high temperature environment.
  • a water vapor transmission rate measurement device (trade name: Permatran, manufactured by MOCON) was used.
  • the temperature of the transmission cell was 40 ° C.
  • the relative humidity of the high humidity chamber was 90% RH
  • the relative humidity of the low humidity chamber was 0% RH.
  • Example 2-1 In both Example 2-1 and Comparative Example 2-1, it was confirmed that the phosphor protective film had high spectral transmittance and low water vapor permeability.
  • Example 2-1 the amount of change ⁇ b * before and after exposure to a high temperature environment was small and the decrease in spectral transmittance was small, whereas in Comparative Example 2-1, the amount of change ⁇ b * was large. Spectral transmittance was greatly reduced. Further, in Example 2-1, there was no change in water vapor permeability before and after exposure to a high temperature environment, whereas in Comparative Example 2-1, the water vapor permeability decreased. This is presumably because the adhesive layer formed by the epoxy adhesive was oxidized by exposure to a high temperature environment, and the gas barrier effect by the adhesive layer was reduced.

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Abstract

本発明は、第一基材層と第一基材層上に形成された第一バリア層とを含む第一バリアフィルムと、第二基材層と第二基材層上に形成された第二バリア層とを含む第二バリアフィルムと、接着層と、を備え、第一バリアフィルムと第二バリアフィルムとが接着層を介して第一バリア層と第二バリア層とが対向するように貼り合わされたバリアフィルム積層体を提供する。バリアフィルム積層体の一側面において、接着層が、エポキシ樹脂と、アミノ基を有する硬化剤と、エポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤と、を含有する接着剤から形成される。

Description

バリアフィルム積層体及びその製造方法、波長変換シート、バックライトユニット、並びにエレクトロルミネッセンス発光ユニット
　本発明は、バリアフィルム積層体及びその製造方法、波長変換シート、バックライトユニット、並びにエレクトロルミネッセンス発光ユニットに関する。
　液晶ディスプレイのバックライトユニット及びエレクトロルミネッセンス発光ユニット等の発光ユニットでは、発光体が酸素又は水蒸気等と接触して長時間が経過することにより、発光体としての性能が低下することがある。このため、これらの発光ユニットではしばしば、高分子フィルムにガスバリア層が形成されたガスバリアフィルムを接着層を介して積層したバリアフィルム積層体が、発光体の保護フィルムとして使用される（例えば、特許文献１参照）。また、例えば、特許文献２は、二つの色変換層（蛍光体層）のそれぞれ両側の面をバリアフィルムで挟んだ構造の色変換部材（波長変換シート）を開示する。
特開２０１２－７６２８８号公報 特開２０１１－１３５６７号公報
　ところで、上述のようなバリアフィルム積層体を大量に生産するためには、大規模な製造ラインが用いられる。製造ラインでは、例えば、ロール状のバリアフィルムから巻き出されたバリアフィルムが搬送され、搬送されたバリアフィルム上に接着剤が塗布装置によって塗布された後、別のバリアフィルムが接着剤の塗膜上に貼り合わされる。このような製造ラインでは、長時間連続での運転が行われることも多く、塗布装置には長時間運転に備えて、運転前に大量の接着剤が準備され、運転中保存されている。
　一方、バリアフィルムの密着性を向上させるために、接着剤にシランカップリング剤やチタンカップリング剤等を添加することがある。ところが、本発明者らは、シランカップリング剤やチタンカップリング剤を添加した接着剤を用いてバリアフィルム積層体を大量生産すると、バリアフィルム積層体にスジ状のムラが観察されることがあることを発見した。このようなバリアフィルム積層体を発光ユニットの保護フィルムとして使用すると、発光効率が低下する、ホワイトバランスが変化する、又は、発光異常（黒点若しくは光源からの青色光透過）が起こる可能性がある。
　本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、シランカップリング剤を添加した接着剤を用いて大量生産する場合にも、ムラの発生を抑制することが可能なバリアフィルム積層体及びその製造方法、並びに、上記バリアフィルム積層体を用いて得られる、波長変換シート、バックライトユニット及びエレクトロルミネッセンス発光ユニットを提供することを第１の目的とする。
　また、酸素又は水蒸気の侵入を防ぐための手段として、ガスバリア性を有するフィルム（以下、「バリアフィルム」という。）が広く採用されている。バリアフィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等の基材と、この基材の少なくとも一方の面に積層されたガスバリア層とを含む積層構造を有する。バリアフィルムを発光ユニットに用いた場合、発光体からの光をバリアフィルム越しにも効率よく伝えるためには、バリアフィルムがガスバリア性に加えて高い透明性を有することが求められる。また、バリアフィルムには発光体層からの熱に継続的に曝されることから、高温環境下に曝露されても透明性を長期間維持できることが望まれている。
　本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、優れたガスバリア性及び透明性を有し、高温環境下に曝露されても透明性を長期間にわたって維持することが可能なバリアフィルム積層体、並びに、これを用いて得られる波長変換シート及びバックライトユニットを提供することを第２の目的とする。
　本発明は、その一側面において、第一基材層と上記第一基材層上に形成された第一バリア層とを含む第一バリアフィルムと、第二基材層と上記第二基材層上に形成された第二バリア層とを含む第二バリアフィルムと、接着層と、を備える、バリアフィルム積層体を提供する。上記バリアフィルム積層体において、上記第一バリアフィルムと上記第二バリアフィルムとが上記接着層を介して上記第一バリア層と上記第二バリア層とが対向するように貼り合わされている。上記第一バリア層が第一無機薄膜層と第一ガスバリア性被覆層とを含み、上記第二バリア層が第二無機薄膜層と第二ガスバリア性被覆層とを含む。また、上記接着層が、エポキシ樹脂と、アミノ基を有する硬化剤と、エポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤と、を含有する接着剤から形成される。
　上記バリアフィルム積層体によれば、シランカップリング剤を添加した接着剤を用いてバリアフィルム積層体を大量生産する場合にも、ムラの発生を抑制することができる。また、上記バリアフィルム積層体はバリアフィルムを重ねた積層構造を有することから、発光ユニットに用いた場合に、外力による発光体層の破損を抑制することができ、且つ、ガスバリア性を向上させることができる。
　本発明はまた、その一側面において、第一基材層と上記第一基材層上に形成された第一バリア層とを含む第一バリアフィルム、及び第二基材層と上記第二基材層上に形成された第二バリア層とを含む第二バリアフィルムを準備する工程と、エポキシ樹脂と、アミノ基を有する硬化剤と、エポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤と、を含有する接着剤を、上記第一バリアフィルムの上記第一バリア層側の面上に塗布して塗膜を形成する工程と、上記第一バリアフィルムと上記第二バリアフィルムとを上記塗膜を介して上記第一バリア層と上記第二バリア層とが対向するように貼り合わせる工程と、上記塗膜を硬化する工程と、を備える、バリアフィルム積層体の製造方法を提供する。
　本発明は、その別の側面において、第一基材と上記第一基材の一方の面上に形成された第一バリア層とを有する第一バリアフィルムと、第二基材と上記第二基材の一方の面上に形成された第二バリア層とを有する第二バリアフィルムと、エポキシ化合物とアミン化合物との反応物を含む第一接着層と、を備えるバリアフィルム積層体を提供する。上記バリアフィルム積層体では、上記第一バリアフィルムと上記第二バリアフィルムとが、上記第一接着層を介して、上記第一バリア層と上記第二バリア層とが対向するように貼り合わされており、空気中温度８５℃の環境下で１０００時間曝露した前後において、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊の変化量Δｂ＊が１．００以下である。
　上記バリアフィルム積層体では、２枚のバリアフィルムを用い、且つ、これらをエポキシ化合物とアミン化合物との反応物を含む第一接着層を介して貼り合わせているため、優れたガスバリア性を得ることができる。一方、エポキシ化合物とアミン化合物との反応物を接着層として用いると、高温環境下に長時間曝露したときにしばしば接着層が黄変し、透明性が低下することがある。しかし上記バリアフィルム積層体では、２枚のバリアフィルムをバリア層同士が対向するように貼り合わせていることから、第一接着層に侵入する酸素を一層低減することができる。したがって、上記バリアフィルム積層体は優れたガスバリア性及び透明性を有するとともに、高温環境下に曝露されても長期間にわたってその透明性を維持することができる。
　上記バリアフィルム積層体は第二接着層と支持基材とをさらに備え、上記支持基材は上記第二基材の他方の面上に上記第二接着層を介して貼り合わされていることが好ましい。上記バリアフィルム積層体によれば、ロールｔｏロールで製造する際に加えられる熱及び張力によるシワの発生を低減できる傾向がある。また、仮に、第一バリアフィルム及び第二バリアフィルムの製造においてシワが発生していても、最終的に得られるバリアフィルム積層体のシワを十分低減することができる傾向がある。
　上記バリアフィルム積層体において、上記第一バリアフィルム及び上記第二バリアフィルムの水蒸気透過度がいずれも１００ｍｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることが好ましい。上記バリアフィルム積層体はコーティング層をさらに備え、上記コーティング層がいずれか一方の最表面となるように設けられていることが好ましい。
　上記バリアフィルム積層体において、上記第一バリア層は第一無機薄膜層と第一ガスバリア性被覆層とを含み、上記第二バリア層は第二無機薄膜層と第二ガスバリア性被覆層とを含むことが好ましい。バリア層が上記構成を備えることにより、バリアフィルム積層体のガスバリア性が一層向上する傾向がある。
　本発明はまた、上記バリアフィルム積層体と、上記バリアフィルム積層体の上記第一バリアフィルム上に形成された蛍光体層と、を備える、波長変換シートを提供する。本発明はまた、光源と、導光板と、上記波長変換シートとを備える、バックライトユニットを提供する。本発明はまた、上記バリアフィルム積層体と、上記バリアフィルム積層体の上記第一バリアフィルム上に形成されたエレクトロルミネッセンス発光体層と、を備える、エレクトロルミネッセンス発光ユニットを提供する。
　本発明によれば、その一側面において、シランカップリング剤を添加した接着剤を用いて大量生産する場合にも、ムラの発生を抑制することが可能なバリアフィルム積層体及びその製造方法、並びに、上記バリアフィルム積層体を用いて得られる、波長変換シート、バックライトユニット及びエレクトロルミネッセンス発光ユニットを提供することができる。
　本発明によれば、その別の側面において、優れたガスバリア性及び透明性を有し、高温環境下に曝露されても透明性を長期間にわたって維持することが可能なバリアフィルム積層体、並びに、これを用いて得られる波長変換シート及びバックライトユニットを提供することができる。
本発明の一側面に係るバリアフィルム積層体の概略断面図である。 本発明の一側面に係る波長変換シートの概略断面図である。 本発明の別の側面に係るバリアフィルム積層体の概略断面図である。 本発明の別の側面に係るバリアフィルム積層体の概略断面図である。 本発明の別の側面に係る波長変換シートの概略断面図である。 本発明の一実施形態に係るバックライトユニットの概略断面図である。 本発明の一実施形態に係るエレクトロルミネッセンス発光ユニットの概略断面図である。
　以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
［第一側面］
（バリアフィルム積層体）
　図１は本発明の一側面に係るバリアフィルム積層体の概略断面図である。図１において、バリアフィルム積層体１０は第一バリアフィルム１６ａと第二バリアフィルム１６ｂと接着層１５とを備え、第一バリアフィルム１６ａと第二バリアフィルム１６ｂとが接着層１５を介して貼り合わされている。
　接着層１５の酸素透過率は、厚さ５μｍにおいて、厚さ方向に、１０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。上記酸素透過率は５００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがさらに好ましく、５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがよりさらに好ましく、１０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが特に好ましい。接着層１５の酸素透過率が、１０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることにより、発光ユニットに用いた場合に、仮にバリア層が欠陥を有していたとしても、欠陥周辺のダークスポットの発生を抑制できる傾向がある。上記酸素透過率の下限値は特に制限されないが、例えば、０．１ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）である。
　接着層１５は、エポキシ樹脂と、アミノ基を有する硬化剤と、エポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤と、を含有する接着剤から形成される。熱硬化性のエポキシ樹脂とアミノ基を有する硬化剤を含有する接着剤を加熱硬化することにより、バリアフィルムを強固に接着させることができる。
　さらに、接着剤が官能基としてエポキシ基を有するシランカップリング剤を含有することにより、バリアフィルムの接着がより強固になる。また、上記接着剤は、調製後長時間保存しても白濁しにくく、保存後の接着剤を用いてもバリアフィルム積層体におけるムラが発生しにくくなる。これは、エポキシ基を有するシランカップリング剤を用いると、エポキシ基を有しないシランカップリング剤を用いた場合と比べて、接着剤中でのシランカップリング剤同士の脱水反応が抑制され、白濁の原因となり得る高分子化が抑制されたためであると考えられる。
　また、接着剤が官能基としてアミノ基を有するシランカップリング剤を含有することにより、バリアフィルムの接着がより強固になり、また、調製後長時間保存した接着剤を用いたときのバリアフィルムの密着力が安定しやすくなる傾向がある。また、アミノ基を有するシランカップリング剤がさらに２つの加水分解性官能基を有することにより、調製後長時間保存しても白濁しにくく、保存後の接着剤を用いてもバリアフィルム積層体における外観ムラ（外観不良）が発生しにくくなる。これは、アミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤を用いると、アミノ基及び３つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤を用いた場合と比べて、接着剤中でのシランカップリング剤同士の脱水反応が抑制され、白濁の原因となり得る高分子化が抑制されたためであると考えられる。また、高分子化が抑制されることで、バリアフィルムの密着力を維持しやすくなる傾向がある。なお、シランカップリング剤が加水分解性官能基を２つ有すると、加水分解性官能基を１つのみ有する場合と比べて、バリアフィルムの密着性が得られやすくなる。
　エポキシ基を有するシランカップリング剤は、以下の式（１）で表される構造を有していてもよい。
　　Ｓｉ（ＯＲ１）ｓ（Ｅｐ）ｔ（Ｒ２）４－ｓ－ｔ　・・・（１）
　上記式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１～８の１価の有機基であり、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが好ましい。Ｒ１及びＲ２の炭素数が上記範囲にあることにより、加水分解反応性が高く、バリアフィルム１６ａ，１６ｂ間のより優れた密着性が得られる傾向がある。また、特にＲ１については、上記範囲内で炭素数が小さいほど加水分解反応性がより高い傾向がある。一方、Ｒ２については、上記範囲内で炭素数が大きいほど接着層に可撓性が付与されやすくなる傾向がある。Ｅｐはエポキシ基を有する有機基である。上記有機基としては例えばアルキル基が挙げられる。上記有機基がアルキル基である場合、アルキル基はエーテル基を介してエポキシ基を有していてもよい。上記有機基の炭素数は２～１０であることが好ましく、２～８であることがより好ましく、４～６であることがさらに好ましい。ｓは１～４－ｔの整数を示す。ｔは１又は２を示し、好ましくは１を示す。
　エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
　アミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤は、以下の式（２）で表される構造を有していてもよい。
　　Ｓｉ（ＯＲ３）２（Ａｍ）ｒ（Ｒ４）２－ｒ　・・・（２）
　式（２）中、ＯＲ３は加水分解性官能基を示す。式（２）中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に炭素数１～８の１価の有機基であり、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることがより好ましい。Ｒ３がアルキル基である場合、加水分解性官能基はアルコキシ基である。Ｒ３及びＲ４の炭素数が上記範囲にあることにより、加水分解反応性が高く、バリアフィルム１６ａ，１６ｂ間のより優れた密着性が得られる傾向がある。また、特にＲ３については、上記範囲内で炭素数が小さいほど加水分解反応性がより高い傾向がある。一方、Ｒ４については、上記範囲内で炭素数が大きいほど接着層に可撓性が付与されやすくなる傾向がある。Ａｍはアミノ基を有する有機基である。Ａｍは、有機基Ｒａと有機基Ｒａに結合するアミノ基を有する基（－ＲａＮＨ２）であってもよく、有機基Ｒａと有機基Ｒａに結合するアミノ基と当該アミノ基に結合する別の有機基Ｒｂとを有する基（－ＲａＮＨＲｂ）であってもよく、有機基Ｒａと有機基Ｒａに結合するアミノ基と当該アミノ基に結合する別の有機基Ｒｂ及びＲｃとを有する基（－ＲａＮＲｂＲｃ）であってもよい。有機基Ｒａとしては、例えば、炭素数１～８のアルキレン基等が挙げられる。有機基Ｒｂ及びＲｃとしては、炭素数１～８のアルキル基及びフェニル基等が挙げられる。有機基Ｒｂ及びＲｃは同一であっても異なっていてもよく、有機基Ｒｂ及びＲｃが合わさって二重結合としてアミノ基と結合していてもよい。有機基Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃにはさらに別のアミノ基が結合していてもよい。ｒは１又は２を示し、好ましくは１を示す。
　アミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤としては、例えば、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３-アミノプロピルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノブチルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノヘキシルメチルジメトキシシラン、及び、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノオクチルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
　上記接着剤におけるエポキシ樹脂とアミノ基を有する硬化剤との含有量比（エポキシ樹脂／硬化剤（不揮発分の質量比））は、好ましく１．０以下であり、より好ましくは０．１～０．５であり、さらに好ましくは０．１～０．３５である。接着剤がエポキシ樹脂とアミノ基を有する硬化剤とを上記範囲内で含有することにより、バリアフィルムの密着性がさらに得られやすくなる。また、接着剤（不揮発分の全量）中のエポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤の含有量は、５～２０質量％であることが好ましく、７～１５質量％であることがより好ましい。接着剤中のシランカップリング剤の含有量が５質量％以上であることにより、第一バリアフィルム１６ａと第二バリアフィルム１６ｂとの密着性が安定して得られやすくなる傾向がある。また、接着剤中のシランカップリング剤の含有量が２０質量％以下であることにより、より良好な外観が得られる傾向がある。接着剤中におけるエポキシ樹脂とエポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤との含有量比（エポキシ樹脂／シランカップリング剤（不揮発分の質量比））は、好ましくは１．０～２０であり、より好ましくは１．２～１０であり、さらに好ましくは１．３～５．０であり、特に好ましくは１．５～３．０である。接着剤がエポキシ樹脂とエポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤とを上記範囲内で含有することにより、密着性に優れ、且つ、ムラの少ないバリアフィルム積層体が得られやすくなる。
　接着層１５の厚さは、０．５～５０μｍであることが好ましく、１～２０μｍであることがより好ましく、２～６μｍあることがさらに好ましい。接着層１５の厚さが０．５μｍ以上であることにより、第一バリアフィルム１６ａと第二バリアフィルム１６ｂとの密着性が得られやすくなり、上記厚さが５０μｍ以下であることにより、ガスバリア性が得られやすくなる。
　図１において、第一バリアフィルム１６ａは第一基材層１１ａと第一基材層１１ａ上に形成された第一バリア層１４ａとを含み、第二バリアフィルム１６ｂは第二基材層１１ｂと第二基材層１１ｂ上に形成された第二バリア層１４ｂとを含む。
　第一基材層１１ａ及び第二基材層１１ｂは加工及び流通等における破損を抑制するための層である。第一基材層１１ａと第二基材層１１ｂとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン等のポリアミド；ポリプロピレン及びシクロオレフィンポリマー等のポリオレフィン；ポリカーボネート；並びにトリアセチルセルロース等のフィルムが挙げられるが、これらに限定されない。第一基材層１１ａ及び第二基材層１１ｂは、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム又はポリオレフィンフィルムであることが好ましく、ポリエステルフィルム又はポリアミドフィルムであることがより好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリエチレンナフタレートフィルムであることがさらに好ましい。また、第一基材層１１ａ及び第二基材層１１ｂは二軸延伸されていることが好ましい。第一基材層１１ａと第二基材層１１ｂは同じであっても異なっていてもよい。
　第一基材層１１ａ及び第二基材層１１ｂの厚さは、特に制限されないが、３μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。
　第一基材層１１ａ及び第二基材層１１ｂ上にそれぞれ第一バリア層１４ａ及び第二バリア層１４ｂが、必要に応じてアンカーコート層（図示しない）を介して、形成されている。アンカーコート層としてはポリエステル樹脂等が挙げられ、アンカーコート層の厚さは０．０１～１μｍ程度である。
　第一バリアフィルム１６ａと第二バリアフィルム１６ｂとは第一バリア層１４ａと第二バリア層１４ｂとが対向するように貼り合わされている。これにより、より優れたガスバリア性を得ることができ、また、第一バリア層１４ａ及び第二バリア層１４ｂを外力から保護することができ、より安定したガスバリア性を得ることができる。
　第一バリアフィルム１６ａは第一バリア層１４ａを２つ以上含んでいてもよく、第二バリアフィルム１６ｂは第二バリア層１４ｂを２つ以上含んでいてもよい。第一バリアフィルム１６ａが第一バリア層１４ａを２つ以上備える場合、複数の第一バリア層１４ａの構成は同じであってもよく、異なっていてもよい。上記第二バリアフィルム１６ｂが第二バリア層１４ｂを２つ以上備える場合、複数の第二バリア層１４ｂの構成は同じであってもよく、異なっていてもよい。上記バリアフィルム積層体１０を発光ユニットに用いる場合、バリアフィルム積層体１０は第一バリアフィルム１６ａが発光体層と接するように配置される。バリアフィルム積層体１０が第一バリアフィルム１６ａと第二バリアフィルム１６ｂとを重ねたバリアフィルム積層体であることにより、発光ユニットに用いた場合に、外力による発光体層の破損を抑制し、且つ、ガスバリア性を向上させることができる。
　第一バリア層１４ａは第一無機薄膜層１２ａと第一ガスバリア性被覆層１３ａとを含み、第一基材層１１ａ上に第一無機薄膜層１２ａと第一ガスバリア性被覆層１３ａとがこの順に積層されている。第二バリア層１４ｂは第二無機薄膜層１２ｂと第二ガスバリア性被覆層１３ｂとを含み、第二基材層１１ｂ上に第二無機薄膜層１２ｂと第二ガスバリア性被覆層１３ｂとがこの順に積層されている。
　第一無機薄膜層１２ａ及び第二無機薄膜層１２ｂは無機化合物を含み、金属酸化物を含むことが好ましい。上記金属酸化物としては、例えば、アルミニウム、銅、銀、イットリウム、タンタル、ケイ素、マグネシウム等の金属の酸化物が挙げられる。金属酸化物は、安価でバリア性能に優れることから、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ、ｘは１．０～２．０）であることが好ましい。ｘが１．０以上であると、良好なガスバリア性が得られやすい傾向がある。
　第一無機薄膜層１２ａ及び第二無機薄膜層１２ｂの形成方法は真空成膜であることが好ましい。真空成膜としては、物理気相成長法及び化学気相成長法が挙げられる。物理気相成長法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。また、化学気相成長法としては、例えば、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等が挙げられる。製造コストの観点から、第一無機薄膜層１２ａ又は第二無機薄膜層１２ｂは蒸着法で形成された無機蒸着膜層であることが好ましい。
　第一無機薄膜層１２ａ及び第二無機薄膜層１２ｂの厚さは、１０～３００ｎｍであることが好ましく、２０～１００ｎｍであることがより好ましい。第一無機薄膜層１２ａ及び第二無機薄膜層１２ｂの厚さが１０ｎｍ以上であることにより、均一な膜が得られやすく、ガスバリア性が得られやすくなる傾向がある。一方、第一無機薄膜層１２ａ及び第二無機薄膜層１２ｂの厚さが３００ｎｍ以下であることにより、第一無機薄膜層１２ａ及び第二無機薄膜層１２ｂに柔軟性を保持させることができ、成膜後に折り曲げ、引張等の外力により、亀裂等が生じにくくなる傾向がある。
　第一ガスバリア性被覆層１３ａ及び第二ガスバリア性被覆層１３ｂは下記式（３）で表わされる金属アルコキシド及びその加水分解物からなる群より選択される少なくとも１種を含む組成物から形成されることが好ましい。
　　Ｍ１（ＯＲ５）ｍ（Ｒ６）ｎ－ｍ　・・・（３）
　上記式（３）中、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に炭素数１～８の１価の有機基であり、メチル基、エチル基等のアルキル基であることが好ましい。Ｍ１はＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等のｎ価の金属原子を示す。ｍは１～ｎの整数である。金属アルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン［Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４］、トリイソプロポキシアルミニウム［Ａｌ（Ｏ－ｉｓｏ－Ｃ３Ｈ７）３］等が挙げられる。金属アルコキシドは、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であることから、テトラエトキシシラン又はトリイソプロポキシアルミニウムであることが好ましい。金属アルコキシドの加水分解物としては、例えば、テトラエトキシシランの加水分解物であるケイ酸（Ｓｉ（ＯＨ）４）、及び、トリプロポキシアルミニウムの加水分解物である水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）等が挙げられる。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。上記組成物における金属アルコキシド及びその加水分解物の含有量は、例えば、１０～９０質量％である。
　上記組成物はさらに水酸基含有高分子化合物を含んでいてもよい。水酸基含有高分子化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン及びデンプン等の水溶性高分子が挙げられる。水酸基含有高分子化合物はバリア性の観点からポリビニルアルコールであることが好ましい。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。上記組成物における水酸基含有高分子化合物の含有量は、例えば、１０～９０質量％である。
　第一ガスバリア性被覆層１３ａ及び第二ガスバリア性被覆層１３ｂの厚さは、５０～１０００ｎｍであることが好ましく、１００～５００ｎｍであることがより好ましい。第一ガスバリア性被覆層１３ａ及び第二ガスバリア性被覆層１３ｂの厚さが５０ｎｍ以上であると、より十分なガスバリア性を得ることができる傾向があり、１０００ｎｍ以下であると、十分な柔軟性を保持できる傾向がある。
　バリアフィルム積層体１０は、光散乱機能を発揮させるために、第二バリアフィルム１６ｂ側の表面にさらにコーティング層（図示しない）を備えていてもよい。バリアフィルム積層体１０がコーティング層を備えることにより、光散乱機能以外にも、干渉縞（モアレ）防止機能及び反射防止機能等を得ることができる。
　バリアフィルム積層体１０は、酸素や水蒸気等と接触することにより劣化し得る発光体の保護フィルム（発光体保護フィルム）として好適に用いることができる。上記発光体としては、量子ドット等の蛍光体、エレクトロルミネッセンス発光体等が挙げられる。
　本実施形態に係るバリアフィルム積層体の製造方法について説明する。まず、第一バリアフィルム１６ａ及び第二バリアフィルム１６ｂが準備される。第一バリアフィルム１６ａ及び第二バリアフィルム１６ｂの作製方法は上述のとおりである。次に、上記接着剤が、第一バリアフィルム１６ａの第一バリア層１４ａ側（又は第二バリアフィルム１６ｂの第二バリア層１４ｂ側）の面上に塗布され、塗膜が形成される。接着剤の塗布方法としては、リバースグラビア塗工方法等が挙げられる。白濁した接着剤をこれらの塗布方法にて塗布すると、ドクタースジができやすく、スジ状の塗布抜けが発生する可能性があり、バリアフィルム間に部分的な浮きが発生し、外観不良（スジ状のムラ）となるおそれがある。上記塗膜は、必要に応じて、乾燥されてもよい。乾燥温度は７０～１３０℃、又は８０～１３０℃程度であり、乾燥時間は１０～６０秒間程度である。その後、第一バリアフィルム１６ａと第二バリアフィルム１６ｂとが上記塗膜を介して第一バリア層１４ａと第二バリア層１４ｂとが対向するように貼り合わせられる。貼り合わせ後、上記塗膜を加熱硬化させることにより、上記塗膜が接着層１５となり、バリアフィルム積層体１０を製造することができる。上記塗膜を硬化させるための加熱（エージング）温度は例えば４０～６０℃であり、加熱時間は例えば１～４日間である。
　本実施形態では、接着剤がエポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤を有することから、接着剤の乾燥温度によらず白濁を抑制することができ、また、バリアフィルムの安定した密着性を得ることができる。
（波長変換シート）
　図２は本発明の一側面に係る波長変換シートの概略断面図である。波長変換シートは液晶ディスプレイ用バックライトユニットの光源からの光の一部の波長を変換可能なシートである。図２に示すように、波長変換シート２０は、第一保護フィルムと、上記第一保護フィルム上に形成された蛍光体層２１と、上記蛍光体層２１上に設けられた第二保護フィルム２２と、を備えて概略構成されている。波長変換シート２０は、第一保護フィルム及び第二保護フィルム２２の間に、蛍光体層２１が包み込まれた（すなわち、封止された）構造を有する。図２において、第一保護フィルムには、上述したバリアフィルム積層体１０が用いられる。一方、第二保護フィルム２２には、上述したバリアフィルム積層体１０が用いられてもよく、別の保護フィルムが用いられてもよい。また、波長変換シート２０は必ずしも第二保護フィルム２２を備えていなくてもよい。すなわち、波長変換シート２０は、バリアフィルム積層体１０と、上記バリアフィルム積層体１０の上記第一バリアフィルム１６ａ上に形成された蛍光体層２１と、を備える。
　蛍光体層２１は樹脂及び蛍光体を含む。蛍光体層２１の厚さは数十～数百μｍである。上記樹脂としては、例えば、光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を使用することができる。蛍光体層２１は、量子ドットからなる２種類の蛍光体を含むことが好ましい。また、蛍光体層２１は、１種類の蛍光体を含む蛍光体層と別の種類の蛍光体を含む蛍光体層が２層以上積層されたものであってもよい。２種類の蛍光体には、励起波長が同一のものが選択される。励起波長は、バックライトユニットの光源が照射する光の波長に基づいて選択される。２種類の蛍光体の蛍光色は相互に異なる。光源に青色発光ダイオード（青色ＬＥＤ）を用いる場合、各蛍光色は、赤色及び緑色である。各蛍光の波長、及び光源が照射する光の波長は、カラーフィルタの分光特性に基づき選択される。蛍光のピーク波長は、例えば、赤色で６１０ｎｍであり、緑色で５５０ｎｍである。
　次に、蛍光体の粒子構造を説明する。蛍光体としては、特に発光効率の良いコア・シェル型量子ドットが好適に用いられる。コア・シェル型量子ドットは、発光部としての半導体結晶コアが保護膜としてのシェルにより被覆されたものである。例えば、コアにはセレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）、シェルには硫化亜鉛（ＺｎＳ）が使用可能である。ＣｄＳｅの粒子の表面欠陥がバンドギャップの大きいＺｎＳにより被覆されることで量子収率が向上する。また、蛍光体は、コアが第一シェル及び第二シェルにより二重に被覆されたものであってもよい。この場合、コアにはＣｄＳｅ、第一シェルにはセレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、第二シェルにはＺｎＳが使用可能である。
　蛍光体層２１は、蛍光体をすべて単一の層に分散させた単層構成を有していてもよく、各蛍光体を複数の層に別々に分散させ、これらを積層させた多層構成を有していてもよい。
　次に、本実施形態の波長変換シート２０の製造方法について図２を参照しながら説明する。蛍光体層２１の形成方法としては、特に限定されず、例えば、特表２０１３－５４４０１８号明細書に記載される方法が挙げられる。バインダー樹脂に蛍光体を分散させ、調製した蛍光体分散液を第一保護フィルム（バリアフィルム積層体１０）の第一バリアフィルム１６ａ側の面上に塗布した後、塗布面に第二保護フィルム２２を貼り合わせ、蛍光体層２１を硬化することにより、波長変換シート２０を製造することができる。また反対に、第二保護フィルム２２の一方の面上に上記蛍光体分散液を塗布し、塗布面にバリアフィルム積層体１０を第一バリアフィルム１６ａが蛍光体層２１と対向するように貼り合わせ、蛍光体層２１を硬化することにより、波長変換シート２０を製造することもできる。
［第二側面］
（発光体保護フィルム）
　図３は本発明の別の側面に係るバリアフィルム積層体の概略断面図である。バリアフィルム積層体は、酸素や水蒸気等と接触することにより劣化し得る発光体の保護フィルム（発光体保護フィルム）として好適に用いることができる。以下では、バリアフィルム積層体を発光体保護フィルムと称することもある。図３において、発光体保護フィルム１０は、第一バリアフィルム１と第二バリアフィルム２と第一接着層５とを備え、第一バリアフィルム１と第二バリアフィルム２とが第一接着層５を介して貼り合わされている。第二バリアフィルム２の第一バリアフィルム１と反対側の面上には、必要に応じてコーティング層７が設けられる。発光体保護フィルム１０は２枚のバリアフィルムを備えることから、高いガスバリア性が得られる。また、本実施形態において、第一接着層５はエポキシ化合物とアミン化合物との反応物を含んでいる。第一接着層５はバリアフィルム同士の接着性のみならず、他の材料を用いて得られた接着層と比べて優れたガスバリア性を得ることができる。
　第一バリアフィルム１は第一基材１ａと第一基材１ａの一方の面上に形成された第一バリア層１ｂとを有し、第二バリアフィルム２は第二基材２ａと第二基材２ａの一方の面上に形成された第二バリア層２ｂとを有し、第一バリア層１ｂと第二バリア層２ｂとが対向している。言い換えると、第一接着層５は第一バリア層１ｂ及び第二バリア層２ｂの両方と隣り合うように配置され、これらのバリア層によって挟み込まれている。第一バリア層１ｂ及び第二バリア層２ｂと第一接着層５との間に別の層が配置された場合、当該別の層の端部から僅かに酸素が浸入し、接着層に供給される可能性がある。しかしながら、上記層構成を備える発光体保護フィルム１０ではこのような僅かな酸素の侵入をも抑制することができ、この結果、高温環境下に長時間曝露された場合にも第一接着層５の黄変、ひいては発光体保護フィルム１０全体としての黄変を抑制することができ、発光体保護フィルムとして十分高い透明性を維持することができる。このような構成を備える発光体保護フィルム１０を空気（１ａｔｍ）中温度８５℃の環境下に１０００時間曝露した前後において、発光体保護フィルムのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊の変化量Δｂ＊は１．００以下であることができる。変化量Δｂ＊は０．５０以下であることが好ましく、０．３０以下であることがより好ましく、０．１０以下であることがさらに好ましい。この変化量Δｂ＊が上記範囲内であることで、発光体保護フィルム１０は高温環境下に曝露されても透明性を長期間にわたって維持することができる。なお、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系はＣＩＥによって規格化された表色系である。
　第一基材１ａ及び第二基材２ａはそれぞれ第一バリア層１ｂ及び第二バリア層２ｂを形成する基材であり、加工及び流通等における破損を抑制することもできる。発光体保護フィルム１０の透明性の観点から、第一基材１ａ及び第二基材２ａの全光線透過率は８５％以上であることが好ましい。このような基材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン等のポリアミド；ポリプロピレン及びシクロオレフィン等のポリオレフィン；ポリカーボネート；並びにトリアセチルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されない。また、第一基材１ａ及び第二基材２ａは二軸延伸されていることが好ましい。第一基材１ａ及び第二基材２ａの厚さは、９～１００μｍであることが好ましく、１２～５０μｍであることがより好ましい。基材１ａ，２ａの厚さがそれぞれ９μｍ以上であると、基材１ａ，２ａの強度を十分に確保することができ、１００μｍ以下であると、長いロール（バリアフィルム１，２のロール）を効率的且つ経済的に製造することができる。
　第一基材１ａの厚さと第二基材２ａの厚さは同一であっても異なっていてもよい。波長変換シートの厚さをより薄くする観点から、発光体層に近い側の第一基材１ａの厚さを、発光体層から遠い側の第二基材２ａよりも薄くしてもよい。水分及び気体は、主に波長変換シートの表面から透過するため、第二基材２ａの厚さを相対的に厚くして表面からの水分や酸素の透過を防ぎつつ、第一基材１ａの厚さを相対的に薄くして波長変換シート全体の厚さを薄くすることができる。水分及び酸素の透過は、バリアフィルム１，２の表面からだけでなく、端面からも生じるため、第一基材１ａの厚さが薄い方が端面からの水分や酸素の侵入を抑制することができる。第一基材１ａの厚さは４０μｍ以下であることが好ましい。
　第一基材１ａ及び第二基材２ａ上には、それぞれ第一バリア層１ｂ及び第二バリア層２ｂが、必要に応じてアンカーコート層（図示しない）を介して、形成されている。アンカーコート層としてはポリエステル樹脂等が挙げられ、アンカーコート層の厚さは０．０１～１μｍ程度である。
　第一バリア層１ｂは、第一無機薄膜層１ｖと第一ガスバリア性被覆層１ｃとを含むことが好ましい。すなわち、第一バリア層１ｂは、第一基材１ａの一方の面上に第一無機薄膜層１ｖが設けられ、この第一無機薄膜層１ｖの上に第一ガスバリア性被覆層１ｃが設けられた構成である。第二バリア層２ｂは、第二無機薄膜層２ｖと第二ガスバリア性被覆層２ｃとを含むことが好ましい。すなわち、第二バリア層２ｂは、第二基材２ａの一方の面上に第二無機薄膜層２ｖが設けられ、この第二無機薄膜層２ｖの上に第二ガスバリア性被覆層２ｃが設けられた構成である。
　無機薄膜層１ｖ，２ｖとしては、特に限定されるものではないが、例えば、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウムあるいはそれらの混合物を用いることができる。これらの中でも、バリア性、生産性の観点から、酸化アルミニウム又は酸化珪素を用いることが望ましい。
　無機薄膜層１ｖ，２ｖは無機化合物を含み、金属酸化物を含むことが好ましい。上記金属酸化物としては、例えば、アルミニウム、銅、銀、イットリウム、タンタル、ケイ素、マグネシウム等の金属の酸化物が挙げられる。金属酸化物は、安価でガスバリア性に優れることから、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ、ｘは１．０～２．０）であることが好ましい。ｘが１．０以上であると、良好なガスバリア性が得られやすい傾向がある。
　無機薄膜層１ｖ，２ｖは、製造コストの観点から、蒸着法で形成された無機蒸着膜層であることが好ましい。無機薄膜層１ｖ，２ｖが無機蒸着膜層である場合、蒸着材料の飛散（スプラッシュ）により無機薄膜層１ｖ，２ｖに孔が生じることがある。スプラッシュが生じる頻度は少ないものの、スプラッシュによって生じる孔は比較的大きな欠陥であり、基材１ａ，２ａをも貫通する孔となり得る。したがって、スプラッシュによる孔が生じた保護フィルムでは、酸素の侵入経路となり得る。特に、発光体層に近い側に配置される第一基材１ａ及び第一無機薄膜層１ｖに孔が生じた場合、当該孔の周辺の発光体層にダークスポットがより発生しやすくなる。しかし、後述する第一接着層５の酸素透過度が１０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であると、仮に、上述のような比較的大きな欠陥があったとしても、欠陥がないときと同様にダークスポットの発生を抑制しやすくなる。したがって、第一無機薄膜層１ｖが無機蒸着膜層であり、且つ、第一接着層５の酸素透過度が１０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることにより、製造コストを低減しつつダークスポットの発生を抑制しやすくなる。
　無機薄膜層１ｖ，２ｖの厚さ（膜厚）はそれぞれ、５～５００ｎｍであることが好ましく、１０～１００ｎｍであることがより好ましい。膜厚が５ｎｍ以上であると、均一な膜を形成しやすく、ガスバリア性の機能をより十分に果たすことができる傾向がある。一方、膜厚が５００ｎｍ以下であると、無機薄膜層により十分なフレキシビリティを保持させることができ、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じることをより確実に防ぐことができる傾向がある。なお、第一無機薄膜層１ｖの厚さと第二無機薄膜層２ｖの厚さは、同一であっても異なっていてもよい。
　第一ガスバリア性被覆層１ｃ及び第二ガスバリア性被覆層２ｃはそれぞれ、後工程での二次的な各種損傷を防止するとともに、高いバリア性を付与するために設けられるものである。これらのガスバリア性被覆層１ｃ，２ｃは、優れたバリア性を得る観点から、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド、金属アルコキシド加水分解物及び金属アルコキシド重合物からなる群より選択される少なくとも１種を成分として含有していることが好ましい。
　水酸基含有高分子化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン及びデンプン等の水溶性高分子が挙げられる。水酸基含有高分子化合物はバリア性の観点からポリビニルアルコールであることが好ましい。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。
　金属アルコキシドとしては、例えば、下記式（４）で表される化合物が挙げられる。
　　Ｍ２（ＯＲ７）ｐ（Ｒ８）ｑ－ｐ　・・・（４）
　上記式（４）中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に炭素数１～８の１価の有機基であり、メチル基、エチル基等のアルキル基であることが好ましい。Ｍ２はＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等のｑ価の金属原子を示す。ｐは１～ｑの整数である。金属アルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン［Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４］、トリイソプロポキシアルミニウム［Ａｌ（Ｏ－ｉｓｏ－Ｃ３Ｈ７）３］等が挙げられる。金属アルコキシドは、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であることから、テトラエトキシシラン又はトリイソプロポキシアルミニウムであることが好ましい。金属アルコキシドの加水分解物としては、例えば、テトラエトキシシランの加水分解物であるケイ酸（Ｓｉ（ＯＨ）４）、及び、トリプロポキシアルミニウムの加水分解物である水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）等が挙げられる。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。
　ガスバリア性被覆層１ｃ，２ｃの厚さ（膜厚）はそれぞれ、５０～１０００ｎｍであることが好ましく、１００～５００ｎｍであることがより好ましい。膜厚が５０ｎｍ以上であると、より十分なガスバリア性を得ることができる傾向があり、１０００ｎｍ以下であると、より十分なフレキシビリティを保持できる傾向がある。なお、第一ガスバリア性被覆層１ｃの厚さと第二ガスバリア性被覆層２ｃの厚さは、同一であっても異なっていてもよい。
　バリアフィルム１，２の水蒸気透過度は１００ｍｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることが好ましく、５０ｍｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることがより好ましい。バリアフィルム１，２の水蒸気透過度が１００ｍｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることにより、一層優れたガスバリア性が得られる傾向がある。
　第一接着層５はエポキシ化合物とアミン化合物とを含む熱硬化性の接着剤を硬化することにより得られ、上記エポキシ化合物とアミン化合物との反応物を含む。上記のように得られた第一接着層５を備える発光体保護フィルム１０では一層高いガスバリア性が得られる。第一接着層５の酸素透過度は、厚さ５μｍにおいて、厚さ方向に、１０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。上記酸素透過度は５００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがさらに好ましく、５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがよりさらに好ましく、１０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが特に好ましい。第一接着層５の酸素透過度が、１０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることにより、発光ユニットに用いた場合に、バリアフィルムが欠陥を有していたとしても、当該欠陥周辺の発光体層におけるダークスポットの発生を抑制できる傾向がある。上記酸素透過度の下限値は特に制限されないが、例えば、０．１ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）である。
　第一接着層５の厚さは、０．５～５０μｍであることが好ましく、１～２０μｍであることがより好ましく、２～６μｍあることがさらに好ましい。第一接着層５の厚さが０．５μｍ以上であることにより、第一バリアフィルム１と第二バリアフィルム２との密着性が得られやすくなり、上記厚さが５０μｍ以下であることにより、より優れたガスバリア性及び透明性が得られやすくなる。
　コーティング層（マット層）７は、一以上の光学的機能、帯電防止機能又は傷付け防止機能を発揮させるために、第二基材２ａの他方の面上に設けられ、発光体保護フィルム１０の最表面となっている。光学的機能としては、特に限定されるものではないが、干渉縞（モアレ）防止機能、反射防止機能、拡散機能等が挙げられる。これらの中でも、コーティング層７は、光学的機能として少なくとも干渉縞防止機能を有することが好ましい。本実施形態では、コーティング層７が少なくとも干渉縞防止機能を有するものである場合について説明する。
　コーティング層７は、例えば、バインダー樹脂と、微粒子とを含んで構成されている。コーティング層７の表面から微粒子の一部が突出するように微粒子がバインダー樹脂に埋め込まれることにより、コーティング層７の表面には微細な凹凸が生じていてもよい。このようにコーティング層７を発光体層と反対側の表面に設けることにより、ニュートンリング等の干渉縞の発生をより十分に防止することができる。
　バインダー樹脂としては、特に限定されるものではないが、光学的透明性に優れた樹脂を用いることができる。より具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂などを用いることができる。バインダー樹脂は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び放射線硬化性樹脂のいずれであってもよい。これらの中でも耐光性や光学特性に優れるアクリル系樹脂を使用することが望ましい。これらは、一種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。
　微粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微粒子の他、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂などの有機微粒子を用いることができる。これらは、一種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。
　微粒子の平均粒径は、０．１～３０μｍであることが好ましく、０．５～１０μｍであることがより好ましい。微粒子の平均粒径が０．１μｍ以上であると、優れた干渉縞防止機能が得られる傾向があり、３０μｍ以下であると、透明性がより向上する傾向がある。コーティング層７における微粒子の含有量は、コーティング層７全量を基準として０．５～３０質量％であることが好ましく、３～１０質量％であることがより好ましい。微粒子の含有量が０．５質量％以上であると、光拡散機能と干渉縞の発生を防止する効果がより向上する傾向があり、３０質量％以下であると、輝度の低減を十分に抑制できる傾向がある。
　図４に示すように、発光体保護フィルム１０はさらに第二接着層６と支持基材３とを備えていてもよい。図４において、支持基材３は第二基材２ａの他方の面上に第二接着層６を介して貼り合わされおり、コーティング層７が支持基材３上に形成されて最表面となっている。発光体保護フィルム１０が支持基材３を備えることにより、発光体保護フィルム１０をロールｔｏロールで製造した際に加えられる熱及び張力によるシワの発生を低減できる傾向がある。また、仮に、第一バリアフィルム及び第二バリアフィルムの製造においてシワが発生していても、最終的にはシワを十分低減することができる傾向がある。
　支持基材３としては、特に限定されるものではないが、全光線透過率が８５％以上の基材が望ましい。例えば透明性が高く、耐熱性に優れた基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムなどを用いることができる。支持基材３の厚さは、好ましくは１０～２５０μｍであり、より好ましくは２５～２４０μｍであり、さらに好ましくは４０～２１０μｍであり、特に好ましくは５５～２００μｍである。支持基材３の厚さが１０μｍ以上であることにより、発光体保護フィルム１０のシワを改善する効果を得るための支持基材３の強度を十分に確保しやすくなり、２５０μｍ以下であることにより、波長変換シートの総厚が過剰に厚くなることを抑制しやすくなる。
　第二接着層６は、図４に示すように、バリアフィルム２と支持基材３とを貼り合わせて積層するために、バリアフィルム２と支持基材３との間に設けられている。第二接着層６を構成する接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤等が挙げられる。第二接着層６を構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、でんぷん糊系接着剤等が挙げられる。粘着剤はアクリル系粘着剤であることが好ましい。アクリル系粘着剤を用いることにより、第二接着層６の透明性を長期間維持しやすくなる。第二接着層６の厚さは、０．５～５０μｍであることが好ましく、１～２０μｍであることがより好ましく、２～６μｍあることがさらに好ましい。第二接着層６の厚さが０．５μｍ以上であることにより、バリアフィルム２と支持基材３との密着性が得られやすくなり、５０μｍ以下であることにより、より優れたガスバリア性が得られやすくなる。
　次に、発光体保護フィルム１０の製造方法について説明する。まず、例えば、ロールｔｏロール方式によって、バリアフィルム１，２をそれぞれ製造する。具体的には、第一基材１ａの一方の面上に無機薄膜層１ｖを例えば蒸着法等によって積層する。次いで、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド、金属アルコキシド加水分解物及び金属アルコキシド重合物からなる群より選択される少なくとも１種の成分等を含む水溶液あるいは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を無機薄膜層１ｖの表面上に塗布し、例えば８０～２５０℃で乾燥することで、ガスバリア性被覆層１ｃを形成する。これにより、第一基材１ａの一方の面上にバリア層１ｂ（無機薄膜層１ｖ及びガスバリア性被覆層１ｃ）が設けられた第一バリアフィルム１が得られる。これと同様の操作をすることで、第二基材２ａの一方の面上にバリア層２ｂ（無機薄膜層２ｖ及びガスバリア性被覆層２ｃ）が設けられた第二バリアフィルム２が得られる。
　なお、基材と、その表面に積層される無機薄膜層と密着性を向上させるため、基材と無機薄膜層との間にアンカーコート層を設けてもよい。アンカーコート層は、上述した樹脂を含む溶液を基材上に塗布し、例えば５０～２００℃で乾燥硬化させることで形成することができる。アンカーコート層の厚さは、５～５００ｎｍの範囲内とすることが好ましく、１０～１００ｎｍの範囲内とすることがより好ましい。
　第一バリアフィルム１及び第二バリアフィルム２をそれぞれ製造した後、これらを第一接着層５で貼り合わせることによって積層フィルムを製造する。具体的には、ラミネート装置を使用し、ロールｔｏロール方式によって第一バリアフィルム１のバリア層１ｂと、第二バリアフィルム２のバリア層２ｂとを対向させて、第一接着層５を構成する接着剤（又は粘着剤）でバリアフィルム１，２を貼り合わせ、接着剤を乾燥することにより、積層フィルムが得られる。
　さらに、積層フィルムと支持基材３とが貼り合わされてもよい。具体的には、ラミネート装置を使用し、ロールｔｏロール方式によって、積層フィルムの第二基材２ａと、支持基材３とを対向させて、第二接着層６を構成する接着剤（又は粘着剤）で積層フィルムと支持基材３とが貼り合される。接着剤を乾燥することにより、保護フィルムが得られる。
　次に、ロールｔｏロール方式によって、保護フィルムの一方の表面（例えば、支持基材３表面）上に、必要に応じて、コーティング層７が形成される。具体的には、保護フィルムの一方の面（例えば、支持基材３表面）上に、バインダー樹脂と微粒子と必要に応じて溶剤とを混合したコーティング液を塗布し、乾燥することで、コーティング層７を形成する。これにより、コーティング層付き保護フィルムが得られる。以上のようにして、発光体保護フィルム１０が得られる。
（波長変換シート）
　図５は、本発明の一実施形態に係る波長変換シートの概略断面図である。波長変換シートは液晶ディスプレイ用バックライトユニットの光源からの光の一部の波長を変換可能なシートである。図５において、波長変換シート１００は、蛍光体層５０と、蛍光体層５０の一方の面側及び他方の面側に、第一保護フィルム及び第二保護フィルムとして、それぞれ設けられた発光体保護フィルム１０，１０とを備える。すなわち、発光体保護フィルム１０、蛍光体層５０及び発光体保護フィルム１０がこの順で積層されている。波長変換シート１００は、一対の発光体保護フィルム１０，１０の間に蛍光体層５０が包み込まれた（すなわち、封止された）構造となっている。一対の発光体保護フィルム１０，１０は、それぞれの第一バリアフィルムが蛍光体層５０側を向くように配置されている。
　蛍光体層５０は、厚さ数十～数百μｍの薄膜であり、図５に示すように封止樹脂５１と蛍光体５２とを含む。封止樹脂５１の内部には、蛍光体５２が一種以上混合された状態で封止されている。封止樹脂５１は、蛍光体層５０と一対の発光体保護フィルム１０，１０とを積層する際に、これらを接合するとともに、これらの空隙を埋める役割を果たす。蛍光体層５０は、一種類の蛍光体５２のみが封止された蛍光体層が二層以上積層されたものであってもよい。それら一層又は二層以上の蛍光体層に用いられる二種類以上の蛍光体５２は、励起波長が同一のものが選択される。この励起波長は、光源Ｌが照射する光の波長に基づいて選択される。二種類以上の蛍光体５２の蛍光色は相互に異なる。光源に青色発光ダイオード（青色ＬＥＤ）を用いる場合、各蛍光色は、赤色、緑色である。各蛍光の波長、及び光源が照射する光の波長は、カラーフィルタの分光特性に基づき選択される。蛍光のピーク波長は、例えば赤色が６１０ｎｍ、緑色が５５０ｎｍである。
　封止樹脂５１としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び紫外線硬化型樹脂等を使用することができる。これらの樹脂は、一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
　熱可塑性樹脂としては、例えば、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース及びメチルセルロース等のセルロース誘導体；酢酸ビニルとその共重合体、塩化ビニルとその共重合体、及び塩化ビニリデンとその共重合体等のビニル系樹脂；ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；アクリル樹脂とその共重合体、メタアクリル樹脂とその共重合体等のアクリル系樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリアミド樹脂；線状ポリエステル樹脂；フッ素樹脂；並びに、ポリカーボネート樹脂等を用いることができる。熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、及びシリコーン樹脂等が挙げられる。紫外線硬化型樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、及びポリエステルアクリレート等の光重合性プレポリマーが挙げられる。また、これら光重合性プレポリマーを主成分とし、希釈剤として単官能や多官能のモノマーを使用することもできる。
　蛍光体５２としては、量子ドットが好ましく用いられる。量子ドットとしては、例えば、発光部としてのコアが保護膜としてのシェルにより被膜されたものが挙げられる。コアとしては、例えば、セレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）等が挙げられ、シェルとしては、例えば、硫化亜鉛（ＺｎＳ）等が挙げられる。ＣｄＳｅの粒子の表面欠陥がバンドギャップの大きいＺｎＳにより被覆されることで量子効率が向上する。また、蛍光体５２は、コアが第一シェル及び第二シェルにより二重に被覆されたものであってもよい。この場合、コアにはＣｄＳｅ、第一シェルにはセレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、第二シェルにはＺｎＳが使用できる。また、量子ドット以外の蛍光体５２として、ＹＡＧ：Ｃｅ等を用いることもできる。
　蛍光体５２の平均粒子径は、好ましくは１～２０ｎｍである。蛍光体層５０の厚さは、好ましくは１～５００μｍである。蛍光体層５０における蛍光体５２の含有量は、蛍光体層５０全量を基準として、１～２０質量％であることが好ましく、３～１０質量％であることがより好ましい。
　なお、波長変換シート１００の上記実施形態において、発光体保護フィルム１０は、蛍光体層５０の両面に設けられていたが、蛍光体層５０の一方の面のみに設けられていてもよい。すなわち、蛍光体層５０の一方の面には第一保護フィルムとして発光体保護フィルム１０が設けられ、他方の面には第二保護フィルムとして別の保護フィルムが設けられていてもよい。
　波長変換シート１００の製造方法としては、特に限定されず、以下の方法が挙げられる。例えば、封止樹脂５１に蛍光体５２を分散させ、調製した蛍光体分散液を発光体保護フィルム１０の第一バリアフィルム１側の面上に塗布した後、塗布面に別の発光体保護フィルム１０を貼り合わせ、蛍光体層５０を硬化することにより、波長変換シート１００を製造することができる。
［バックライトユニット］
　上記波長変換シート２０，１００を用いることにより、バックライトユニットが得られる。図６は、上記波長変換シート１００を用いて得られるバックライトユニットの概略断面図である。図６において、バックライトユニット２００は光源Ｌと上記波長変換シート１００とを備え、上記蛍光体層５０を挟んで上記光源Ｌと反対側に上記バリアフィルム積層体１０が配置される。詳細には、バックライトユニット２００は、波長変換シート１００、導光板Ｇ及び反射板Ｒがこの順で配置され、光源Ｌは上記導光板Ｇの側方（導光板Ｇの面方向）に配置される。導光板Ｇの厚さは、例えば、１００～１０００μｍである。
　導光板Ｇ及び反射板Ｒは、光源Ｌから照射された光を効率的に反射し、導くものであり、公知の材料が使用される。導光板Ｇとしては、例えば、アクリル、ポリカーボネート、及びシクロオレフィンフィルム等が使用される。光源Ｌには、例えば、青色発光ダイオード素子が複数個設けられている。この発光ダイオード素子は、紫色発光ダイオード、又はさらに低波長の発光ダイオードであってもよい。光源Ｌから照射された光は、導光板Ｇ（Ｄ１方向）に入射した後、反射及び屈折等を伴って蛍光体層５０（Ｄ２方向）に入射する。蛍光体層５０を通過した光は、蛍光体層５０を通過する前の光に蛍光体層５０で発生した黄色光が混ざることで、白色光となる。
［エレクトロルミネッセンス発光ユニット］
　図７は本発明の一実施形態に係るエレクトロルミネッセンス発光ユニットの概略断面図である。本実施形態に係るエレクトロルミネッセンス発光ユニット３００は、エレクトロルミネッセンス発光体層２５６と、バリアフィルム積層体１０とを備える。エレクトロルミネッセンス発光ユニット３００は、例えば、透明電極層２５４と、該透明電極層２５４上に設けられたエレクトロルミネッセンス発光体層２５６と、該エレクトロルミネッセンス発光体層２５６上の設けられた誘電体層２５８と、該誘電体層２５８上に設けられた背面電極層２６０を含む電極要素を、第一保護フィルム及び第二保護フィルム２６２で挟持するとともに密封することにより得られる。上記エレクトロルミネッセンス発光ユニットにおいて、第一保護フィルムには、上述したバリアフィルム積層体１０が用いられる。エレクトロルミネッセンス発光体層２５６は上記バリアフィルム積層体１０の第一バリアフィルム１，１６ａ上に形成される。
　エレクトロルミネッセンス発光ユニットにおいても、波長変換シートに対して説明したメカニズムと同様のメカニズムによるダークスポット発生が考えられる。本実施形態に係るエレクトロルミネッセンス発光ユニット３００によれば、エレクトロルミネッセンス発光体層２５６を含む電極要素上に設けられた保護フィルムとして、上記バリアフィルム積層体１０を用いることにより、当該バリアフィルム積層体１０がバリア層に欠陥を有していたとしても、ダークスポットの発生を抑制することができる。
　各電極層、エレクトロルミネッセンス発光体層及び誘電体層は、例えば、蒸着及びスパッタ法等により、公知の材料を用いて、形成することができる。
　以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
［バリアフィルム積層体の作製］
（実施例１－１）
　アクリルポリオールとトリレンジイソシアネートとを、アクリルポリオールのＯＨ基の数に対してトリレンジイソシアネートのＮＣＯ基の数が等量となるように混合し、全固形分が５質量％になるよう酢酸エチルで希釈した。希釈後の混合液に、さらにβ－（３，４エポキシシクロヘキシル）トリメトキシシランを、全固形分に対して５質量％となるように添加し、これらを混合することでアンカーコート層組成物を作製した。
　二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（第一基材層、厚さ：２５μｍ）の一方の面上に、上記アンカーコート層組成物をバーコート法により塗布し、１００℃１分間乾燥硬化させることにより、厚さ５０ｎｍのアンカーコート層を形成した。
　電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料（ＳｉＯ、キヤノンオプトロン株式会社製）を１．５×１０－２Ｐａの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記アンカーコート層上に厚さ３０ｎｍのＳｉＯｘ膜（第一無機薄膜層）を形成した。なお、蒸着における加速電圧は４０ｋＶであり、エミッション電流は０．２Ａであった。
　次に、テトラエトキシシラン１０．４質量部と塩酸（濃度：０．１Ｎ）８９．６質量部とを混合して、混合液を３０分間撹拌し、テトラエトキシシランの加水分解溶液を得た。一方、ポリビニルアルコールを水／イソプロピルアルコールの混合溶媒（水／イソプロピルアルコール（質量比）＝９０：１０）中に溶解させ、３質量％のポリビニルアルコール溶液を得た。テトラエトキシシランの加水分解溶液６０質量部とポリビニルアルコール溶液４０質量部とを混合し、ガスバリア性被覆層組成物を得た。
　第一無機薄膜層上に、上記ガスバリア性被覆層組成物を塗布、乾燥することにより、３００ｎｍの厚さを有する第一ガスバリア性被覆層を形成した。さらに、上記第一ガスバリア性被覆層上に、上記と同様にして、厚さ３０ｎｍの別の第一無機薄膜層を形成し、上記別の第一無機薄膜層上に、厚さ３００ｎｍの別の第一ガスバリア性被覆層を形成した。上記のようにして、第一基材層、アンカーコート層、第一無機薄膜層、第一ガスバリア性被覆層、第一無機薄膜層、及び第一ガスバリア性被覆層がこの順に積層されてなる第一バリアフィルムを得た。
　二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（第二基材層、厚さ：２５μｍ）の一方の面上に、上記アンカーコート層組成物をバーコート法により塗布し、１００℃１分間乾燥硬化させることにより、厚さ５０ｎｍのアンカーコート層を形成した。
　電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料（ＳｉＯ、キヤノンオプトロン株式会社製）を１．５×１０－２Ｐａの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記アンカーコート層上に厚さ３０ｎｍのＳｉＯｘ膜（第二無機薄膜層）を形成した。なお、蒸着における加速電圧は４０ｋＶであり、エミッション電流は０．２Ａであった。
　第二無機薄膜層上に、上記ガスバリア性被覆層組成物を塗布、乾燥することにより、３００ｎｍの厚さを有する第二ガスバリア性被覆層を形成した。上記のようにして、第二基材層、アンカーコート層、第二無機薄膜層、及び第二ガスバリア性被覆層がこの順に積層されてなる第二バリアフィルムを得た。
　エポキシ樹脂系主剤（三菱ガス化学株式会社製、商品名：Ｍ－１００）５質量部、アミン系硬化剤（三菱ガス化学株式会社製、商品名：Ｃ－９３、不揮発分：６５質量％）２３質量部、及び、エポキシ基を有するシランカップリング剤（３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－４０２）２質量部をメタノール２３質量部及び酢酸エチル４７質量部からなる溶媒中に溶解し、接着剤を調製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
　得られた第一バリアフィルムの第一ガスバリア性被覆層の表面上に、調製後６時間が経過した接着剤を、リバースグラビア装置を用いて塗布後乾燥し、接着剤Ａの塗布面と第二ガスバリア性被覆層とが対向するように第二バリアフィルムを貼り合わせ、５０℃２日間エージングを行った。上記のようにして、第一バリアフィルムと第二バリアフィルムとを５μｍの厚さを有する接着層を介して貼り合せ、バリアフィルム積層体を作製した。
（実施例１－２）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤の添加量を２質量部から３質量部に変更したこと以外は、実施例１－１と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（実施例１－３）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤（３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－４０２）に代えて、シランカップリング剤（３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ－４０２）を用いたこと以外は、実施例１－１と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（実施例１－４）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤の添加量を２質量部から３質量部に変更したこと以外は、実施例１－３と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（実施例１－５）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤（３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－４０２）に代えて、シランカップリング剤（３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－４０３）を用いたこと以外は、実施例１－１と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（実施例１－６）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤の添加量を２質量部から３質量部に変更したこと以外は、実施例１－５と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（実施例１－７）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤（３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－４０２）に代えて、シランカップリング剤（３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ－４０３）を用いたこと以外は、実施例１－１と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（実施例１－８）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤の添加量を２質量部から３質量部に変更したこと以外は、実施例１－７と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（比較例１－１）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤（３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－４０２）に代えて、シランカップリング剤（Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－６０３）を用いたこと以外は、実施例１－１と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（比較例１－２）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤の添加量を２質量部から３質量部に変更したこと以外は、比較例１－１と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（比較例１－３）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤（３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－４０２）に代えて、シランカップリング剤（３－アミノプロピルトリエトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ－９０３）を用いたこと以外は、実施例１－１と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、及び接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表１に示す。
（実施例１－９）
　アクリルポリオールとトリレンジイソシアネートとを、アクリルポリオールのＯＨ基の数に対してトリレンジイソシアネートのＮＣＯ基の数が等量となるように混合し、全固形分が５質量％になるよう酢酸エチルで希釈した。希釈後の混合液に、さらにβ－（３，４エポキシシクロヘキシル）トリメトキシシランを、全固形分に対して５質量％となるように添加し、これらを混合することでアンカーコート層組成物を作製した。
　二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（第一基材層、厚さ：２５μｍ）の一方の面上に、上記アンカーコート層組成物をバーコート法により塗布し、１００℃１分間乾燥硬化させることにより、厚さ５０ｎｍのアンカーコート層を形成した。
　電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料（ＳｉＯ、キヤノンオプトロン株式会社製）を１．５×１０－２Ｐａの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記アンカーコート層上に厚さ３０ｎｍのＳｉＯｘ膜（第一無機薄膜層）を形成した。なお、蒸着における加速電圧は４０ｋＶであり、エミッション電流は０．２Ａであった。
　次に、テトラエトキシシラン１０．４質量部と塩酸（濃度：０．１Ｎ）８９．６質量部とを混合して、混合液を３０分間撹拌し、テトラエトキシシランの加水分解溶液を得た。一方、ポリビニルアルコールを水／イソプロピルアルコールの混合溶媒（水／イソプロピルアルコール（質量比）＝９０：１０）中に溶解させ、３質量％のポリビニルアルコール溶液を得た。テトラエトキシシランの加水分解溶液６０質量部とポリビニルアルコール溶液４０質量部とを混合し、ガスバリア性被覆層組成物を得た。
　第一無機薄膜層上に、上記ガスバリア性被覆層組成物を塗布、乾燥することにより、３００ｎｍの厚さを有する第一ガスバリア性被覆層を形成した。さらに、上記第一ガスバリア性被覆層上に、上記と同様にして、厚さ３０ｎｍの別の第一無機薄膜層を形成し、上記別の第一無機薄膜層上に、厚さ３００ｎｍの別の第一ガスバリア性被覆層を形成した。上記のようにして、第一基材層、アンカーコート層、第一無機薄膜層、第一ガスバリア性被覆層、第一無機薄膜層、及び第一ガスバリア性被覆層がこの順に積層されてなる第一バリアフィルムを得た。
　二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（第二基材層、厚さ：２５μｍ）の一方の面上に、上記アンカーコート層組成物をバーコート法により塗布し、１００℃１分間乾燥硬化させることにより、厚さ５０ｎｍのアンカーコート層を形成した。
　電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料（ＳｉＯ、キヤノンオプトロン株式会社製）を１．５×１０－２Ｐａの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記アンカーコート層上に厚さ３０ｎｍのＳｉＯｘ膜（第二無機薄膜層）を形成した。なお、蒸着における加速電圧は４０ｋＶであり、エミッション電流は０．２Ａであった。
　第二無機薄膜層上に、上記ガスバリア性被覆層組成物を塗布、乾燥することにより、３００ｎｍの厚さを有する第二ガスバリア性被覆層を形成した。上記のようにして、第二基材層、アンカーコート層、第二無機薄膜層、及び第二ガスバリア性被覆層がこの順に積層されてなる第二バリアフィルムを得た。
　エポキシ樹脂系主剤（三菱ガス化学株式会社製、商品名：Ｍ－１００）５質量部、アミン系硬化剤（三菱ガス化学株式会社製、商品名：Ｃ－９３、不揮発分：６５質量％）２３質量部、及び、アミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤（Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－６０２）２質量部をメタノール２３質量部及び酢酸エチル４７質量部からなる溶媒中に溶解し、接着剤を調製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、加水分解性官能基数、及び、接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表２に示す。
　得られた第一バリアフィルムの第一ガスバリア性被覆層の表面上に、調製後６時間が経過した接着剤を、リバースグラビア装置を用いて塗布後８２℃で１分間乾燥し、接着剤の塗布面と第二ガスバリア性被覆層とが対向するように第二バリアフィルムを貼り合わせ、５０℃２日間エージングを行った。上記のようにして、第一バリアフィルムと第二バリアフィルムとを５μｍの厚さを有する接着層を介して貼り合せ、バリアフィルム積層体を作製した。
（実施例１－１０）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤の添加量を２質量部から３質量部に変更したこと以外は、実施例１－９と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、加水分解性官能基数、及び、接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表２に示す。
（比較例１－４）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤（Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－６０２）に代えて、シランカップリング剤（Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－６０３）を用いたこと以外は、実施例１－９と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、加水分解性官能基数、及び、接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表２に示す。
（比較例１－５）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤の添加量を２質量部から３質量部に変更したこと以外は、比較例１－４と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、加水分解性官能基数、及び、接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表２に示す。
（比較例１－６）
　接着剤の調製において、シランカップリング剤（Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ－６０２）に代えて、シランカップリング剤（３－アミノプロピルトリエトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ－９０３）を用いたこと以外は、実施例１－９と同様にしてバリアフィルム積層体を作製した。接着剤の調製に用いたシランカップリング剤の官能基の種類、加水分解性官能基数、及び、接着剤（不揮発分の全量）中の含有量を表２に示す。
［接着剤の外観］
　実施例１－１～１－１０及び比較例１－１～１－６で調製した接着剤を室温で保存し、接着剤の経過時間に伴う外観の変化を目視にて下記基準に従って評価した。接着剤の外観の評価結果を表１及び２に示す。
Ａ：調製後６時間が経過した接着剤に白濁が観察されなかった。
Ｂ：調製後２時間が経過した接着剤に白濁が観察されなかったが、調製後６時間が経過した接着剤に白濁が観察された。
Ｃ：調製後３０分が経過した接着剤に白濁が観察されなかったが、調製後２時間が経過した接着剤に白濁が観察された。
Ｄ：調製直後の接着剤に白濁が観察されなかったが、調製後３０分が経過した接着剤に白濁が観察された。
［バリアフィルム積層体の外観］
　実施例及び比較例で作製したバリアフィルム積層体の外観を目視にて下記基準に従って評価した。バリアフィルム積層体の外観の評価結果を表１に示す。
Ａ：バリアフィルム積層体にムラが観察されなかった。
Ｂ：バリアフィルム間にスジ状の浮きが発生し、バリアフィルム積層体にスジ状のムラが観察された。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　実施例１－１～１－８で調製した接着剤では、調製後６時間経過しても白濁が観察されず、これらを用いて得られたバリアフィルム積層体においても外観上の不良は観察されなかった。一方、比較例１－１～１－３で調製した接着剤では、調製後６時間経過までに白濁が観察され、これらを用いて得られたバリアフィルム積層体においてもスジ状のムラが観察された。
　実施例１－９～１－１０で調製した接着剤では、調製後６時間経過しても白濁が観察されず、これらを用いて得られたバリアフィルム積層体においても外観上の不良は観察されなかった。一方、比較例１－４～１－６で調製した接着剤では、調製後６時間経過までに白濁が観察され、これらを用いて得られたバリアフィルム積層体においてもスジ状のムラが観察された。
［密着性］
　実施例１－１、実施例１－９、比較例１－１、及び比較例１－４で得られたバリアフィルム積層体を幅１ｃｍの短冊状にカットし、バリアフィルム積層体の第一バリアフィルム側をガラス板上に固定した。固定された短冊状のバリアフィルム積層体の第二バリアフィルムを、テンシロン引張試験機（オリエンテック社製）を用いて、ガラス板に対して垂直な方向に、３００ｍｍ／分の速度で、第一バリアフィルムから剥離し、剥離に要した強度を測定した。上記強度は温度２３℃湿度６５％ＲＨの環境下で測定した。
　実施例１－１で得られたバリアフィルム積層体の剥離強度は７Ｎ／ｃｍ以上で基材が破断したのに対し、比較例１－１で得られたバリアフィルム積層体の剥離強度は５Ｎ／ｃｍであった。実施例１－９で得られたバリアフィルム積層体では、バリアフィルムの密着性が高く、バリアフィルムが剥離する前に破断したのに対し、比較例１－４で得られたバリアフィルム積層体では、バリアフィルムの剥離が可能であり、剥離強度は５Ｎ／ｃｍであった。
［発光体保護フィルムの作製］
（実施例２－１）
　バリアフィルムをロールｔｏロール方式によって以下のようにして作製した。まず、基材としての厚さ３０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面に、無機薄膜層として酸化珪素を真空蒸着法により厚さ３０ｎｍで設け、さらに、無機薄膜層上に厚さ３００ｎｍのガスバリア性被覆層を形成した。このガスバリア性被覆層は、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウエットコーティング法により塗工することによって形成した。これにより、基材の一方の面上に無機薄膜層及びガスバリア性被覆層からなるバリア層が設けられたバリアフィルムのロールを得た。このバリアフィルムと同じ構成のバリアフィルムのロールを別途作製した。得られたバリアフィルムの水蒸気透過度をＪＩＳ　Ｋ　７１２９の赤外線センサ法に準ずる方法で水蒸気透過度を測定したところ、５０ｍｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であった。水蒸気透過度の測定には水蒸気透過率測定装置（商品名：Ｐｅｒｍａｔｒａｎ、ＭＯＣＯＮ社製）を用いた。透過セルの温度は４０℃とし、高湿度チャンバの相対湿度は９０％ＲＨとし、低湿度チャンバの相対湿度を０％ＲＨとした。
　上記のようにして得た二つのバリアフィルムを貼り合わせた。貼り合わせにはエポキシ樹脂主剤と、アミン系硬化剤からなる二液型エポキシ系接着剤を使用し、硬化後の膜厚が５μｍとなる接着層（酸素透過度：５ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））を形成し、二枚のバリアフィルムのガスバリア性被覆層同士が対向するように積層されたフィルムを作製した。なお、接着層の酸素透過度は以下のように測定した。厚さ２０μｍの延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）フィルム（酸素透過度：３０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）（測定限界）以上）上に硬化後の膜厚が５μｍとなるように前述の二液型エポキシ系接着剤膜を形成し評価用サンプルを作製し、差圧式ガス測定装置（ＧＴＲテック社製、ＧＴＲ－１０Ｘ）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ７１２６－１（附属書１）に記載の方法に従って３０℃７０％ＲＨ環境下におけるサンプルの酸素透過度を測定した。
　上記のようにして得た積層フィルムと、厚さ３０μｍのＰＥＴフィルム（支持基材）とを貼り合わせた。貼り合わせにはアクリル系粘着剤を使用し、ラミネート後の厚みが２μｍとなるように接着層を形成した。これにより、積層フィルム（基材側）と支持基材との間に接着層が介在する保護フィルム（コーティング層形成前）のロールを得た。
　上記のようにして得た保護フィルムの支持基材の表面に、厚さ３μｍのコーティング層（マット層）を形成した。このコーティング層は、アクリル樹脂と、シリカ微粒子（平均粒径３μｍ）とを含む塗液をウエットコーティング法により塗工することによって形成した。これにより、コーティング層付き保護フィルムのロールを得た。
［波長変換シートの作製］
　第一保護フィルム及び第二保護フィルムとして、得られたコーティング層付き保護フィルム２枚を準備した。量子ドットとしてのＣｄＳｅ／ＺｎＳ　５３０（商品名、ＳＩＧＭＡ－ＡＬＤＲＩＣＨ社製）をエポキシ系感光性樹脂と混合後、混合液を第一保護フィルムの基材側に塗布し、そこに第二保護フィルムを積層し、ＵＶ硬化ラミネートにより、波長変換シートを得た。
（比較例２－１）
　二つのバリアフィルムを基材同士が対向するように積層して積層フィルムを作製し、積層フィルム（ガスバリア性被覆層側）に支持基材を貼り合わせたこと以外は、実施例２－１と同様にして、コーティング層付き保護フィルムのロール、及び、波長変換シートを得た。
［発光体保護フィルムの評価］
　実施例２－１及び比較例２－１で得られたコーティング層付きフィルムを８５℃の空気中に１０００時間曝露し、曝露前後のコーティング層付きフィルムをそれぞれ準備した。
（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊の変化量Δｂ＊）
　実施例２－１及び比較例２－１で得られた高温環境曝露前後でのコーティング層付きフィルムのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊を、分光色差計（日本電色工業株式会社製、ＮＦ３３３）を用いて測定し、色座標ｂ＊の変化量Δｂ＊を求めた。高温環境曝露前後での色座標ｂ＊の測定結果とその変化量Δｂ＊の計算結果を表３に示す。
（分光透過率）
　実施例２－１及び比較例２－１で得られた高温環境曝露前後でのコーティング層付きフィルムの波長４３５ｎｍにおける分光透過率を、分光光度計（株式会社島津製作所製、ＵＶ３６００）を用いて測定した。高温環境曝露前後での分光透過率の測定結果とその差を表３に示す。
（水蒸気透過度）
　水蒸気透過度をＪＩＳ　Ｋ　７１２９の赤外線センサ法に準ずる方法で、実施例２－１及び比較例２－１で得られた高温環境曝露前後でのコーティング層付き保護フィルムの水蒸気透過度を測定した。高温環境曝露前後での水蒸気透過度の測定結果を表３に示す。水蒸気透過度の測定には水蒸気透過率測定装置（商品名：Ｐｅｒｍａｔｒａｎ、ＭＯＣＯＮ社製）を用いた。透過セルの温度は４０℃とし、高湿度チャンバの相対湿度は９０％ＲＨとし、低湿度チャンバの相対湿度を０％ＲＨとした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　実施例２－１及び比較例２－１ではともに発光体保護フィルムの分光透過率が高く、水蒸気透過度が小さいことが確認された。実施例２－１では高温環境曝露前後での変化量Δｂ＊が小さく、分光透過率の低下が小さかったのに対し、比較例２－１では変化量Δｂ＊が大きく、実施例１と比べて分光透過率が大きく低下した。また、実施例２－１では高温環境曝露前後での水蒸気透過度の変化がなかったのに対し、比較例２－１では水蒸気透過度が低下した。これは、高温環境曝露によってエポキシ系接着剤によって形成された接着層が酸化し、接着層によるガスバリア性の効果が低下したためであると考えられる。
　１…第一バリアフィルム、１ａ…第一基材、１ｂ…第一バリア層、１ｃ…第一ガスバリア性被覆層、１ｖ…第一無機薄膜層、２…第二バリアフィルム、２ａ…第二基材、２ｂ…第二バリア層、２ｃ…第二ガスバリア性被覆層、２ｖ…第二無機薄膜層、３…支持基材、５…第一接着層、６…第二接着層、７…コーティング層、１０…バリアフィルム積層体（発光体保護フィルム）、１１ａ…第一基材層、１１ｂ…第二基材層、１２ａ…第一無機薄膜層、１２ｂ…第二無機薄膜層、１３ａ…第一ガスバリア性被覆層、１３ｂ…第二ガスバリア性被覆層、１４ａ…第一バリア層、１４ｂ…第二バリア層、１５…接着層、１６ａ…第一バリアフィルム、１６ｂ…第二バリアフィルム、２０…波長変換シート、２１…蛍光体層、２２…第二保護フィルム、５０…蛍光体層、５１…封止樹脂、５２…蛍光体、１００…波長変換シート、２００…バックライトユニット、Ｇ…導光板、Ｌ…光源、Ｒ…反射板、３００…エレクトロルミネッセンス発光ユニット。

Claims (10)

  1. 　第一基材層と前記第一基材層上に形成された第一バリア層とを含む第一バリアフィルムと、
    　第二基材層と前記第二基材層上に形成された第二バリア層とを含む第二バリアフィルムと、
    　接着層と、
    を備え、
    　前記第一バリアフィルムと前記第二バリアフィルムとが前記接着層を介して前記第一バリア層と前記第二バリア層とが対向するように貼り合わされており、
    　前記第一バリア層が第一無機薄膜層と第一ガスバリア性被覆層とを含み、
    　前記第二バリア層が第二無機薄膜層と第二ガスバリア性被覆層とを含み、
    　前記接着層が、エポキシ樹脂と、アミノ基を有する硬化剤と、エポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤と、を含有する接着剤から形成される、バリアフィルム積層体。
  2. 　第一基材と前記第一基材の一方の面上に形成された第一バリア層とを有する第一バリアフィルムと、
    　第二基材と前記第二基材の一方の面上に形成された第二バリア層とを有する第二バリアフィルムと、
    　エポキシ化合物とアミン化合物との反応物を含む第一接着層と、
    を備え、
    　前記第一バリアフィルムと前記第二バリアフィルムとが、前記第一接着層を介して、前記第一バリア層と前記第二バリア層とが対向するように貼り合わされており、
    　空気中温度８５℃の環境下で１０００時間曝露した前後において、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊の変化量Δｂ＊が１．００以下である、バリアフィルム積層体。
  3. 　第二接着層と支持基材とをさらに備え、
    　前記支持基材は前記第二基材の他方の面上に前記第二接着層を介して貼り合わされている、請求項２に記載のバリアフィルム積層体。
  4. 　前記第一バリアフィルム及び前記第二バリアフィルムの水蒸気透過度がいずれも１００ｍｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下である、請求項２又は３に記載のバリアフィルム積層体。
  5. 　コーティング層をさらに備え、
    　前記コーティング層がいずれか一方の最表面となるように設けられている、請求項２～４のいずれか一項に記載のバリアフィルム積層体。
  6. 　前記第一バリア層は第一無機薄膜層と第一ガスバリア性被覆層とを含み、
    　前記第二バリア層は第二無機薄膜層と第二ガスバリア性被覆層とを含む、請求項２～５のいずれか一項に記載のバリアフィルム積層体。
  7. 　第一基材層と前記第一基材層上に形成された第一バリア層とを含む第一バリアフィルム、及び第二基材層と前記第二基材層上に形成された第二バリア層とを含む第二バリアフィルムを準備する工程と、
    　エポキシ樹脂と、アミノ基を有する硬化剤と、エポキシ基を有するシランカップリング剤又はアミノ基及び２つの加水分解性官能基を有するシランカップリング剤と、を含有する接着剤を、前記第一バリアフィルムの前記第一バリア層側の面上に塗布して塗膜を形成する工程と、
    　前記第一バリアフィルムと前記第二バリアフィルムとを前記塗膜を介して前記第一バリア層と前記第二バリア層とが対向するように貼り合わせる工程と、
    　前記塗膜を硬化する工程と、
    を備える、バリアフィルム積層体の製造方法。
  8. 　請求項１～６のいずれか一項に記載のバリアフィルム積層体と、前記バリアフィルム積層体の前記第一バリアフィルム上に形成された蛍光体層と、を備える、波長変換シート。
  9. 　光源と、導光板と、請求項８に記載の波長変換シートと、を備える、バックライトユニット。
  10. 　請求項１～６のいずれか一項に記載のバリアフィルム積層体と、前記バリアフィルム積層体の前記第一バリアフィルム上に形成されたエレクトロルミネッセンス発光体層と、を備える、エレクトロルミネッセンス発光ユニット。
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