WO2016031876A1

WO2016031876A1 - ガスバリア性積層フィルム及びその製造方法

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Publication number: WO2016031876A1
Application number: PCT/JP2015/074076
Authority: WO
Inventors: 彰長谷川; 泰雄篠原
Original assignee: 住友化学株式会社
Priority date: 2014-08-29
Filing date: 2015-08-26
Publication date: 2016-03-03
Also published as: TW201625412A

Abstract

　基材層とガスバリア性を有する薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、前記基材層として第一の基材層及び第二の基材層の少なくとも２層を備えており、前記薄膜層として第一の薄膜層及び第二の薄膜層の少なくとも２層を備えており、前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を備えており、かつ、前記ガスバリア性積層フィルムが自重の０．１質量％以上の水を吸収する吸湿性能を有する、ガスバリア性積層フィルム。

Description

ガスバリア性積層フィルム及びその製造方法

　本発明は、ガスバリア性積層フィルム並びにその製造方法に関し、より詳しくは、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を用いたフレキシブル照明、有機薄膜太陽電池、液晶ディスプレイ、医薬品の包装容器等に好適に利用することが可能なガスバリア性積層フィルム並びにその製造方法に関する。

　ガスバリア性フィルムは、飲食品、化粧品、洗剤といった物品の充填包装に適する包装用容器として好適に利用されてきた。そして、このようなガスバリア性フィルムとしては、プラスチックフィルム等の基材の表面上にガスバリア性の無機物の薄膜層を形成したフィルムを２枚を貼り合せてなるガスバリア性積層フィルムの研究も進められている。例えば、特開２００５－２３５７４３号公報（特許文献１）には、第一のポリマー基板層と、第二のポリマー基板層とを備え、ポリマー基板層の各々は１以上の拡散防止障壁で被覆されており、かかる拡散防止障壁で被覆されたポリマー基板層同士を、拡散防止障壁が内部で互いに向かい合うように貼り合わせて得られる積層フィルムが開示されている。しかしながら、このような特許文献１に記載のような積層フィルムは、比較的ガスバリア性が低くても使用上特に問題のない、飲食品、化粧品、洗剤等の用途には十分に利用可能ではあるが、有機ＥＬ素子や有機薄膜太陽電池等の電子デバイス等の用途に利用する場合には水蒸気透過防止性能の点で必ずしも十分なものではなかった。

　また、特開２０１１－０７３４３０号公報（特許文献２）においては、基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備えるガスバリア性フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が特定の条件を満たすガスバリア性フィルムが開示されている。このようなガスバリア性フィルムは、十分に高度なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能なものであった。なお、特許文献２においては、前述のようなガスバリア性フィルム同士を接着剤層により複数接着させてもよいことが開示されている。

特開２００５－２３５７４３号公報特開２０１１－０７３４３０号公報

　上述のように、従来よりガスバリア性フィルムを貼り合せてガスバリア性積層フィルムを製造するといった技術は検討されている。しかしながら、かかるガスバリア性積層フィルムとしては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を用いたフレキシブル照明等といった、より高い水蒸気透過防止性能が要求される用途により好適に利用するといった観点からは、更に高い水準の水蒸気の透過防止性能や、より高い熱劣化防止性能（耐熱性）をより確実に達成することが可能なフィルムの出現が望まれてきた。

　本発明は、前記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、より高度な水準の水蒸気透過防止性能と十分に高い耐熱性能とを有するガスバリア性積層フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。

　本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ね、先ず、上記特許文献２に記載のような十分に高いガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムを貼り合せて、ガスバリア性積層フィルムとして利用することを試みた。しかしながら、上記特許文献２に記載されているようなガスバリア性フィルムを単純に２枚貼り合せても、より高度な水準で水蒸気透過防止性能や耐熱性を発揮させるといった点では十分なものとはならなかった。そこで、本発明者らが前記目的を達成すべく、更に鋭意研究を重ねた結果、ガスバリア性積層フィルムを下記所定の条件を満たすフィルムとすることで、驚くべきことに、上記目的を達成することが可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。

　すなわち、本発明のガスバリア性積層フィルムは、基材層とガスバリア性を有する薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、
　前記基材層として第一の基材層及び第二の基材層の少なくとも２層を備えており、
　前記薄膜層として第一の薄膜層及び第二の薄膜層の少なくとも２層を備えており、
　前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を備えており、かつ、
　前記ガスバリア性積層フィルムが自重の０．１質量％以上の水を吸収する吸湿性能を有するものである。このような吸湿性能を有するガスバリア性積層フィルムによって、フィルム全体の水蒸気透過防止性能をより高度な水準のものとできるばかりか、より高度な耐熱性能を発揮させることも可能となる。

　また、上記本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、前記第一及び第二の薄膜層の間に、少なくとも１層の接着剤層を更に備えることが好ましく、かかる接着剤層が乾燥剤（水の吸収剤等）を含むことがより好ましい。このような接着剤層を有する構成のガスバリア性積層フィルムは、例えば、製造時に、複数のフィルム部材（例えば基材と薄膜層の積層体からなる部材）を準備し、これを接着剤を利用して貼合わせる工程等を利用することで容易に製造でき、生産性等の点から好適に採用し得る。また、接着剤層が乾燥剤を含む構成とした場合には、より高度な吸湿性能等を発揮し得る傾向にある。

　また、上記本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、前記第一の基材層及び前記第一の基材層の少なくとも一方の表面上に形成された前記第一の薄膜層を備える第一の構造部分と、
　前記第二の基材層及び前記第二の基材層の少なくとも一方の表面上に形成された前記第二の薄膜層を備える第二の構造部分と、
を有することが好ましい。このような第一及び第二の構造部分を有するガスバリア性積層フィルムは、例えば、第一及び第二の構造部分を形成し得るフィルム部材（例えば基材と薄膜層の積層体からなる部材）をそれぞれ準備し、これを貼り合せるといった工程を利用する等して容易に製造することが可能であるため、工業性の観点等からより好適に利用し得る。

　さらに、上記本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、前記第一の基材層及び前記第二の基材層のうちの少なくとも１つの基材層の一方の表面上にのみ前記薄膜層が形成され、かつ、該基材層のもう一方の表面上には前記薄膜層が形成されていないことが好ましい。このように、フィルム中において前記第一の基材層及び前記第二の基材層のうちの少なくとも１つの基材層が、片面にのみ薄膜層が形成されているような構成のものとする場合、例えば、製造時にフィルム部材（例えば基材と薄膜層の積層体からなる部材）を利用する場合に、かかる部材を片面にのみ薄膜層が形成されたものとすればよいことから、より効率よく部材を調製することも可能となり、結果として、経済性や生産性に優れたものとなる傾向にある。

　また、上記本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、前記第一及び第二の薄膜層のうちの少なくとも１層が、珪素、酸素及び炭素を含有し、かつ、
　該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線において、下記条件（ｉ）～（ｉｉｉ）：
（ｉ）珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が、該層の膜厚の９０％以上の領域において下記式（１）：
（酸素の原子比）＞（珪素の原子比）＞（炭素の原子比）・・・（１）
で表される条件を満たすこと、
（ｉｉ）前記炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有すること、
（ｉｉｉ）前記炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上であること、
を全て満たす珪素酸化物系の薄膜層であることが好ましく、前記第一及び第二の薄膜層の双方が前記珪素酸化物系の薄膜層であることがより好ましい。このように、前記珪素酸化物系の薄膜からなる層を用いることで、より高度な水蒸気透過防止性能を発揮させることが可能となる。

　また、上記本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、前記ガスバリア性積層フィルムが、薄膜層、基材層、接着剤層、薄膜層、基材層の順に積層された積層構造［膜厚方向に向かって「薄膜層／基材層／接着剤層／薄膜層／基材層」となる構成（ここにおいて「／」は積層されていることを示す。）］を有するか、又は、薄膜層、基材層、接着剤層、基材層、薄膜層の順に積層された積層構造［膜厚方向に向かって「薄膜層／基材層／接着剤層／基材層／薄膜層」となる構成（ここにおいて「／」は積層されていることを示す。）］を有することが好ましい。このような積層構造を有するガスバリア性積層フィルムは、例えば、フィルム部材（例えば基材と薄膜層の積層体からなる部材）をそれぞれ準備し、これを貼り合せるといった工程を利用する等して容易に製造することが可能であり、工業性の観点等から、より好適に利用し得るものである。

　さらに、上記本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層が有機高分子材料からなる層であることが好ましく、前記第一及び第二の基材層の双方が有機高分子材料からなる層であることがより好ましい。このように基材層として有機高分子材料からなる層を利用することで、ガスバリア性積層フィルムに十分なフレキシブル性を付与することも可能となる。

　また、本発明の第一のガスバリア性積層フィルムの製造方法は、第一の基材層及び前記第一の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第一の薄膜層を備える第一のフィルム部材と、
　第二の基材層及び前記第二の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第二の薄膜層を備える第二のフィルム部材と、
を準備して、前記第一及び第二のフィルム部材のうちの少なくとも１つを乾燥する工程と、
　前記乾燥後のフィルム部材が、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に曝される時間が１時間以下となるようにしながら、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記乾燥後のフィルム部材中の基材層が少なくとも１層配置されるようにして、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せることによりガスバリア性積層フィルムを得る工程と、
を含む方法である。

　このような本発明の第一のガスバリア性積層フィルムの製造方法においては、前記乾燥後の第一及び第二のフィルム部材を、接着剤を用いて貼り合せることが好ましく、また、前記接着剤としては、乾燥剤を含むものがより好ましい。

　また、本発明の第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法は、第一の基材層及び前記第一の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第一の薄膜層を備える第一のフィルム部材と、
　第二の基材層及び前記第二の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第二の薄膜層を備える第二のフィルム部材と、
を準備し、前記第一及び第二のフィルム部材を、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層が配置されるように、乾燥剤を含む接着剤を用いて貼り合せることによりガスバリア性積層フィルムを得る工程を含む方法である。

　このような本発明の第一及び第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法によれば、上記本発明のガスバリア性積層フィルムを効率よく製造することが可能である。

　本発明によれば、より高度な水準の水蒸気透過防止性能と十分に高い耐熱性能とを有するガスバリア性積層フィルム及びその製造方法を提供することが可能となる。

本発明のガスバリア性積層フィルムの好適な一実施形態を模式的に示す概略縦断面図である。本発明のガスバリア性積層フィルムの好適な他の実施形態を模式的に示す概略縦断面図である。本発明にかかる薄膜層として好適な珪素酸化物系薄膜からなる層を製造するのに好適に用いることが可能な、薄膜の製造装置の一実施形態を示す模式図である。

　以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明及び図面中、同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。

　［ガスバリア性積層フィルム］
　一般的に、ガスバリア性フィルムは、工業上、ロールツーロールで形成される。このようにしてロールツーロールで形成されたフィルムは、通常、ロール状のまま保管され、その後、各種製品に利用される。一方、このようなフィルムは、基本的に、保管時に空気中の水分を吸収する。上記特許文献２に記載されているようなガスバリア性フィルムについて検討すると、かかるフィルムも該文献の記載にあるように基本的にロールツーロールで形成され、保管時には、やはり水分を吸収していた。そして、このようにフィルムが吸湿して水分がフィルムに保持されると、その水分に起因して、例え上記特許文献２に記載されているような十分に高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムであっても、そのまま２枚以上を単純に組み合わせた場合には、より高度な水準の水蒸気透過防止性能や耐熱性を発揮させることができないことが分かった。このような知見に基づいて、本発明者らは、ガスバリア性積層フィルムの吸湿性能を厳密にコントロールすることによって、より高度な水準で水蒸気透過防止性能を発揮することが可能となるばかりか、より高度な耐熱性能をも発揮することが可能となることを見出した。

　このような知見のもと、本発明のガスバリア性積層フィルムは、基材層とガスバリア性を有する薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、
　前記基材層として第一の基材層及び第二の基材層の少なくとも２層を備えており、
　前記薄膜層として第一の薄膜層及び第二の薄膜層の少なくとも２層を備えており、
　前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を備えており、かつ、
　前記ガスバリア性積層フィルムが自重の０．１質量％以上の水を吸収する吸湿性能を有するものである。以下、本発明のガスバリア性積層フィルムの好適な一実施形態について図面を参照しながら説明する。

　図１は、本発明のガスバリア性積層フィルムの好適な一実施形態を模式的に示す概略縦断面図である。図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは、第一の基材層１（ａ）と、第二の基材層１（ｂ）と、第一の薄膜層２（ａ）と、第二の薄膜層２（ｂ）と、接着剤層３とを備え、かつ、第一の薄膜層２（ａ）及び第二の薄膜層２（ｂ）の間に、２層の基材層（第一の基材層１（ａ）及び第二の基材層１（ｂ））を備えた構成を有する。

　（基材層）
　図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは、第一の基材層１（ａ）と、第二の基材層１（ｂ）とを備える。このように、図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは、第一の基材層１（ａ）及び第二の基材層１（ｂ）の２層の基材層を備えるものである。

　このような基材層１（ａ）及び基材層１（ｂ）を形成する基材は、それぞれ、同一のものであっても異なるものであってもよく、ガスバリア性積層フィルムを形成するために用いることが可能な公知の基材を適宜利用することができる。このような基材としては、フレキシブル性（可撓性）、透明性、低価格の観点から、有機高分子材料からなるものが好ましい。

　また、フレキシブル性（可撓性）、透明性、低価格の観点からは、第一の基材層１（ａ）及び第二の基材層１（ｂ）のうちの少なくとも１層が有機高分子材料からなることが好ましく、より高度なフレキシブル性（可撓性）が得られることから、第一の基材層１（ａ）及び第二の基材層１（ｂ）の双方が有機高分子材料からなることが好ましい。

　このような有機高分子材料としては、無色透明な基材として利用可能であるとの観点からは、例えは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、環状ポリオレフィン等のポリオレフィン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂；エチレン－酢酸ビニル共重合体のケン化物；ポリアクリロニトリル系樹脂；アセタール系樹脂；ポリイミド系樹脂等を好適に利用することができる。

　また、このような有機高分子材料としては、炭素、水素以外のヘテロ原子（酸素、窒素など）を含むポリマーからなる高分子材料が好ましい。炭素と水素のみからなる炭化水素ポリマーからなる高分子材料（ポリオレフィン等）は非極性の高分子であり、分子内において分極がほとんどないことから一般的に親水性を十分に発揮させることが困難であるのに対して、ヘテロ原子（酸素、窒素など）を含むポリマーからなる高分子材料は、そのヘテロ原子に起因して分極が現れ易く、一般的に親水性が十分に高いものとなる。ここで、親水性の高い高分子材料は、使用環境下（通常、室温（２５℃程度）でかつ通常の湿度のある条件下）での含水量が高く、乾燥により内部の水分を十分に除去すると効率よく吸湿性を付与することができる。そのため、このような炭素、水素以外のヘテロ原子を含むポリマーからなる高分子材料を基材の材料として用いることにより、より効率よく高度な吸湿性能を有するガスバリア性積層フィルムを製造することが可能となる。なお、このような炭素、水素以外のヘテロ原子を含むポリマー中のヘテロ原子としては、基材をガスバリア性積層フィルムに用いた場合に該フィルムに更に高度な吸湿性能を発揮させることが可能となることから、酸素原子が好ましい。

　さらに、このような有機高分子材料としては、無色透明な基材が得られるとともに、水素以外のヘテロ原子を含むポリマーであってより高度な吸湿性能を発揮させることが可能となるといった観点からは、エステル結合を有するポリエステルが好ましい。また、このようなポリエステルの中でも、基材の透明性やフィルムへの加工性がより高度なものとなるばかりか、強度や耐熱性もより向上するといった観点から、ベンゼン環を有するポリエステル（例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）やＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート））を利用することが特に好ましい。

　また、このような基材の厚みとしては特に制限されないが、基材上に直接薄膜層を形成する場合、形成する薄膜層の種類に応じて、その成膜に適した厚みに適宜設定することが好ましい。例えば、このような基材の厚みとしては、基材の表面上に薄膜層を形成する際に、真空中においても基材の搬送が可能であり、真空条件下において、その基材の表面上に薄膜を形成することが可能となることから、５～５００μｍであることが好ましい。また、プラズマＣＶＤ法を採用して薄膜層を形成する場合に、前記基材を通して放電しつつ薄膜層を形成する方法を採用することも可能となるとの観点から、前記基材の厚みは５０～２００μｍであることがより好ましく、５０～１００μｍであることが特に好ましい。

　また、このような基材の厚みは、例えば、基材上に薄膜層を形成した部材同士を貼り合せてガスバリア性積層フィルムを製造する場合においても、その基材の厚みによって貼り合せに特に影響がでるといった性質のものではないため、ガスバリア性積層フィルムの製造方法によらず、薄膜層の成膜が可能な厚みを有するものであれば特に制限なく利用できる。すなわち、このような基材の厚みは、その基材の表面上に薄膜層を十分に支持することが可能な厚みを有しているものであればよく、その厚みは特に制限されず、適宜設計を変更することができる。

　また、このような基材の厚みは、最終的に得られるガスバリア性積層フィルムの用途に応じて適宜設定することが好ましい。例えば、有機ＥＬなどのデバイスを製造するための基板としてガスバリア性積層フィルムを利用する場合には、基材の厚みを１５～５００μｍとすることが好ましい。このような基材の厚さが前記下限未満では、基材上に薄膜層を形成した部材（積層体）同士を貼り合せてガスバリア性積層フィルムを製造する場合に、前記デバイスの基板としての最低限の厚みを有するものとするために、前記部材同士の貼合を繰り返さねばならず、生産性が低下する傾向にある。

　さらに、このような基材の厚みとしては、得られるガスバリア性積層フィルムの吸湿性能の観点からは、第一及び第二の薄膜層間に存在する基材の厚みを１５μｍ以上（より好ましくは５０μｍ以上）とすることが好ましい。このような基材の厚みが前記下限未満では、十分な吸湿性能を得ることが困難となる傾向にある。なお、前記下限以上の厚みを有する基材であれば、基本的に十分な吸湿性能が得られる傾向にあり、また、吸湿性能の観点からは厚みの上限値は特に制限されず、厚みの上限値は用途や薄膜層の成膜条件等に応じて適宜設定すればよいが、実用上（例えば、より高い透明性が要求される用途等にも好適に利用できる等の観点から）、５００μｍ以下とすることが好ましい。

　（薄膜層）
　図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムにおいては、第一の薄膜層２（ａ）と、第二の薄膜層２（ｂ）とを備える。このように、図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは、薄膜層として第一の薄膜層２（ａ）及び第二の薄膜層２（ｂ）の２層を備えるものである。

　また、このような第一の薄膜層２（ａ）及び第二の薄膜層２（ｂ）はいずれもガスバリア性を有する薄膜からなる層（薄膜層）である必要がある。ここにいう「ガスバリア性」とは、下記条件（Ａ）～（Ｃ）：
［条件（Ａ）］
　ＪＩＳ　Ｋ　７１２６（２００６年発行）に準拠した方法で測定された「基材のガス透過度（単位：ｍｏｌ／（ｍ^２・ｓ・Ｐａ））」と「薄膜層を成膜した基材のガス透過度（単位：ｍｏｌ／（ｍ^２・ｓ・Ｐａ））」を比較して、「基材のガス透過度」に対して「薄膜層を成膜した基材のガス透過度」の方が２桁以上小さい値（１００分の１以下の値）を示すこと。
［条件（Ｂ）］
　ＪＩＳ　Ｋ　７１２９（２００８年発行）に記載される方法に準拠した方法で測定された「基材の水蒸気透過度（単位：ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）」と「薄膜層を成膜した基材の水蒸気透過度（単位：ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）」を比較して、「基材の水蒸気透過度」に対して「薄膜層を成膜した基材の水蒸気透過度」の方が２桁以上小さい値（１００分の１以下の値）を示すこと。
［条件（Ｃ）］
　特開２００５－２８３５６１号公報に記載される方法に準拠した方法で測定された「基材の水蒸気透過度（単位：ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）」と「薄膜層を成膜した基材の水蒸気透過度（単位：ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）」を比較して、「基材の水蒸気透過度」に対して「薄膜層を成膜した基材の水蒸気透過度」の方が２桁以上小さい値（１００分の１以下の値）を示すこと。
のうちの少なくとも１つの条件を満たすものであればよい。なお、一般的に、ガスバリア性を有する薄膜層を成膜した基材の水蒸気透過度は１０^－２ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下の値を示すことから、上記条件（Ｂ）及び（Ｃ）を検討する場合に、「薄膜層を成膜した基材の水蒸気透過度」が１０^－２ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下の値となっていることが好ましい。また、このようなガスバリア性を有する薄膜層としては、上記条件（Ｃ）を満たすものがより好ましい。

　また、このようなガスバリア性を有する薄膜層の１層の厚みは、５～３０００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０～２０００ｎｍの範囲であることより好ましく、１００～１０００ｎｍの範囲であることが特に好ましい。前記薄膜層の厚みが前記下限未満では、酸素ガスバリア性、水蒸気バリア性等のガスバリア性が劣る傾向にあり、他方、前記上限を超えると、屈曲によりガスバリア性が低下し易くなる傾向にある。

　このようなガスバリア性を有する薄膜層の種類は特に制限されず、公知のガスバリア性を有する薄膜を適宜利用することができる。なお、第一の薄膜層２（ａ）及び第二の薄膜層２（ｂ）の種類はそれぞれ同一のものであっても異なるものであってよい。

　また、このような薄膜層としては、より高度な水蒸気透過防止性能を発揮できるといった観点や、透明性、耐屈曲性（フレキシブル性（可撓性））、製造の容易性、低製造コストといった観点から、少なくとも珪素と酸素とを含む薄膜からなる層であることが好ましく、中でも、珪素、酸素及び炭素を含有する層であり、かつ、
　該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線において、下記条件（ｉ）～（ｉｉｉ）：
（ｉ）珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が、該層の膜厚の９０％以上の領域において下記式（１）：
（酸素の原子比）＞（珪素の原子比）＞（炭素の原子比）・・・（１）
で表される条件を満たすこと、
（ｉｉ）前記炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有すること、
（ｉｉｉ）前記炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上であること、
を全て満たす珪素酸化物系の薄膜層であることが好ましい。以下、このような本発明にかかる薄膜層に好適に利用される珪素酸化物系の薄膜層について説明する。

　このような珪素酸化物系の薄膜層は、先ず、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線において、（i）珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が、該層の膜厚の９０％以上（より好ましくは９５％以上、特に好ましくは１００％）の領域において下記式（１）：
（酸素の原子比）＞（珪素の原子比）＞（炭素の原子比）・・・（１）
で表される条件を満たすことが必要である。珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が前記条件を満たさない場合には、得られるガスバリア性積層フィルムのガスバリア性が不十分となる。

　また、このような珪素酸化物系の薄膜層は、（ii）前記炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有することが必要である。このような珪素酸化物系の薄膜層においては、前記炭素分布曲線が少なくとも２つの極値を有することがより好ましく、少なくとも３つの極値を有することが特に好ましい。前記炭素分布曲線が極値を有さない場合には、得られるガスバリア性積層フィルムのフィルムを屈曲させた場合におけるガスバリア性が不十分となる。また、このように少なくとも３つの極値を有する場合においては、前記炭素分布曲線の有する一つの極値及び該極値に隣接する極値における前記薄膜層の膜厚方向における前記薄膜層の表面からの距離の差の絶対値がいずれも２００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。なお、ここにいう「極値」とは、珪素酸化物系の薄膜層の膜厚方向における薄膜層の表面からの距離に対する元素の原子比の極大値又は極小値のことをいう。また、本発明において極大値とは、珪素酸化物系の薄膜層の表面からの距離を変化させた場合に元素の原子比の値が増加から減少に変わる点であって且つその点の元素の原子比の値よりも、該点から薄膜層の膜厚方向における薄膜層の表面からの距離を更に２０ｎｍ変化させた位置の元素の原子比の値が３ａｔ％以上減少する点のことをいう。さらに、本発明において極小値とは、珪素酸化物系の薄膜層の表面からの距離を変化させた場合に元素の原子比の値が減少から増加に変わる点であり、且つその点の元素の原子比の値よりも、該点から薄膜層の膜厚方向における薄膜層の表面からの距離を更に２０ｎｍ変化させた位置の元素の原子比の値が３ａｔ％以上増加する点のことをいう。

　また、このような珪素酸化物系の薄膜層は、（iii）前記炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上であることが必要である。また、このような薄膜層においては、炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が６ａｔ％以上であることがより好ましく、７ａｔ％以上であることが特に好ましい。前記絶対値が５ａｔ％未満では、得られるガスバリア性積層フィルムのフィルムを屈曲させた場合におけるガスバリア性が不十分となる。

　また、前記珪素酸化物系の薄膜層においては、前記酸素分布曲線が少なくとも１つの極値を有することが好ましく、少なくとも２つの極値を有することがより好ましく、少なくとも３つの極値を有することが特に好ましい。前記酸素分布曲線が極値を有さない場合には、得られるガスバリア性積層フィルムのフィルムを屈曲させた場合におけるガスバリア性が低下する傾向にある。また、このように少なくとも３つの極値を有する場合においては、前記酸素分布曲線の有する一つの極値及び該極値に隣接する極値における前記薄膜層の膜厚方向における前記薄膜層の表面からの距離の差の絶対値がいずれも２００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。

　また、前記珪素酸化物系の薄膜層においては、該層の前記酸素分布曲線における酸素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上であることが好ましく、６ａｔ％以上であることがより好ましく、７ａｔ％以上であることが特に好ましい。前記絶対値が前記下限未満では、得られるガスバリア性積層フィルムのフィルムを屈曲させた場合におけるガスバリア性が低下する傾向にある。

　前記珪素酸化物系の薄膜層においては、該層の前記珪素分布曲線における珪素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％未満であることが好ましく、４ａｔ％未満であることがより好ましく、３ａｔ％未満であることが特に好ましい。前記絶対値が前記上限を超えると、得られるガスバリア性積層フィルムのガスバリア性が低下する傾向にある。

　また、前記珪素酸化物系の薄膜層においては、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する酸素原子及び炭素原子の合計量の比率（酸素及び炭素の原子比）との関係を示す酸素炭素分布曲線において、前記酸素炭素分布曲線における酸素及び炭素の原子比の合計の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％未満であることが好ましく、４ａｔ％未満であることがより好ましく、３ａｔ％未満であることが特に好ましい。前記絶対値が前記上限を超えると、得られるガスバリア性積層フィルムのガスバリア性が低下する傾向にある。

　前記珪素分布曲線、前記酸素分布曲線、前記炭素分布曲線及び前記酸素炭素分布曲線は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ：Ｘｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）の測定とアルゴン等の希ガスイオンスパッタとを併用することにより、試料内部を露出させつつ順次表面組成分析を行う、いわゆるＸＰＳデプスプロファイル測定により作成することができる。このようなＸＰＳデプスプロファイル測定により得られる分布曲線は、例えば、縦軸を各元素の原子比（単位：ａｔ％）とし、横軸をエッチング時間（スパッタ時間）として作成することができる。なお、このように横軸をエッチング時間とする元素の分布曲線においては、エッチング時間は膜厚方向における前記薄膜層の膜厚方向における前記薄膜層の表面からの距離に概ね相関することから、「薄膜層の膜厚方向における薄膜層の表面からの距離」として、ＸＰＳデプスプロファイル測定の際に採用したエッチング速度とエッチング時間との関係から算出される薄膜層の表面からの距離を採用することができる。また、このようなＸＰＳデプスプロファイル測定に際して採用するスパッタ法としては、エッチングイオン種としてアルゴン（Ａｒ^＋）を用いた希ガスイオンスパッタ法を採用し、そのエッチング速度（エッチングレート）を０．０５ｎｍ／ｓｅｃ（ＳｉＯ_２熱酸化膜換算値）とすることが好ましい。

　また、膜面全体において均一で且つ優れたガスバリア性を有する前記珪素酸化物系の薄膜層を形成するという観点から、該層が膜面方向（薄膜層の表面に平行な方向）において実質的に一様であることが好ましい。本明細書において、前記珪素酸化物系の薄膜層が膜面方向において実質的に一様とは、ＸＰＳデプスプロファイル測定により薄膜層の膜面の任意の２箇所の測定箇所について前記酸素分布曲線、前記炭素分布曲線及び前記酸素炭素分布曲線を作成した場合に、その任意の２箇所の測定箇所において得られる炭素分布曲線が持つ極値の数が同じであり、それぞれの炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が、互いに同じであるかもしくは５ａｔ％以内の差であることをいう。

　さらに、前記珪素酸化物系の薄膜層においては、該層の前記炭素分布曲線は実質的に連続であることが好ましい。本明細書において、炭素分布曲線が実質的に連続とは、炭素分布曲線における炭素の原子比が不連続に変化する部分を含まないことを意味し、具体的には、エッチング速度とエッチング時間とから算出される前記薄膜層のうちの少なくとも１層の膜厚方向における該層の表面からの距離（ｘ、単位：ｎｍ）と、炭素の原子比（Ｃ、単位：ａｔ％）との関係において、下記数式（Ｆ１）：
（ｄＣ／ｄｘ）≦　０．５　・・・（Ｆ１）
で表される条件を満たすことをいう。

　また、前記珪素分布曲線、前記酸素分布曲線及び前記炭素分布曲線において、珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が、該層の膜厚の９０％以上の領域において前記式（１）で表される条件を満たす場合には、該層中における珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の含有量の原子比率は、２５～４５ａｔ％であることが好ましく、３０～４０ａｔ％であることがより好ましい。また、前記珪素酸化物系の薄膜層中における珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する酸素原子の含有量の原子比率は、３３～６７ａｔ％であることが好ましく、４５～６７ａｔ％であることがより好ましい。さらに、前記珪素酸化物系の薄膜層中における珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する炭素原子の含有量の原子比率は、３～３３ａｔ％であることが好ましく、３～２５ａｔ％であることがより好ましい。

　さらに、前記珪素分布曲線、前記酸素分布曲線及び前記炭素分布曲線において、珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が、該層の膜厚の９０％以上の領域において前記式（２）で表される条件を満たす場合には、該層中における珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の含有量の原子比率は、２５～４５ａｔ％であることが好ましく、３０～４０ａｔ％であることがより好ましい。また、前記珪素酸化物系の薄膜層中における珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する酸素原子の含有量の原子比率は、１～３３ａｔ％であることが好ましく、１０～２７ａｔ％であることがより好ましい。さらに、前記珪素酸化物系の薄膜層中における珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する炭素原子の含有量の原子比率は、３３～６６ａｔ％であることが好ましく、４０～５７ａｔ％であることがより好ましい。

　また、前記珪素酸化物系の薄膜層は、プラズマ化学気相成長法により形成される層であることが好ましい。このようなプラズマ化学気相成長法により形成される薄膜層としては、前記基材を一対の成膜ロール上に配置し、前記一対の成膜ロール間に放電してプラズマを発生させるプラズマ化学気相成長法により形成される層であることがより好ましい。また、このようにして一対の成膜ロール間に放電する際には、前記一対の成膜ロールの極性を交互に反転させることが好ましい。更に、このようなプラズマ化学気相成長法に用いる成膜ガスとしては有機ケイ素化合物と酸素とを含むものが好ましく、その成膜ガス中の酸素の含有量は、前記成膜ガス中の前記有機ケイ素化合物の全量を完全酸化するのに必要な理論酸素量以下であることが好ましい。また、前記薄膜層が連続的な成膜プロセスにより形成された層であることが好ましい。

　また、第一の薄膜層２（ａ）及び第二の薄膜層２（ｂ）としては、より高度な水蒸気透過防止性能を発揮することが可能となることから、少なくとも一方が前記珪素酸化物系の薄膜層であることが好ましく、それらのいずれもが前記珪素酸化物系の薄膜層であることがより好ましい。

　ここで、前記薄膜層を基材上に形成する方法として好適な方法について簡単に説明する。このような方法としては、ガスバリア性の観点から、プラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ）を採用することが好ましい。なお、前記プラズマ化学気相成長法はペニング放電プラズマ方式のプラズマ化学気相成長法であっても良い。

　また、前記プラズマ化学気相成長法においてプラズマを発生させる際には、複数の成膜ロールの間の空間にプラズマ放電を発生させることが好ましく、一対の成膜ロールを用い、その一対の成膜ロールのそれぞれに前記基材を配置して、一対の成膜ロール間に放電してプラズマを発生させることがより好ましい。このようにして、一対の成膜ロールを用い、その一対の成膜ロール上に基材を配置して、かかる一対の成膜ロール間に放電することにより、成膜時に一方の成膜ロール上に存在する基材の表面部分を成膜しつつ、もう一方の成膜ロール上に存在する基材の表面部分も同時に成膜することが可能となって効率よく薄膜を製造できるばかりか、成膜レートを倍にでき、なおかつ、同じ構造の膜を成膜できるので前記炭素分布曲線における極値を少なくとも倍増させることが可能となり、効率よく上記条件（i）～（iii）を全て満たす層を形成することが可能となる。

　また、前記薄膜層は、生産性の観点から、ロールツーロール方式で前記基材の表面上に形成させることが好ましい。また、このようなプラズマ化学気相成長法によりガスバリア性積層フィルムを製造する際に用いることが可能な装置としては、特に制限されないが、少なくとも一対の成膜ロールと、プラズマ電源とを備え且つ前記一対の成膜ロール間において放電することが可能な構成となっている装置であることが好ましく、例えば、後述の図３に示すような製造装置を用いた場合には、プラズマ化学気相成長法を利用しながらロールツーロール方式で製造することも可能となる。なお、図３に示すような製造装置を用いて、前記珪素酸化物系の薄膜層を形成する場合の薄膜層の製造方法としては後述の本発明の第一のガスバリア性積層フィルムの製造方法で説明する方法と同様の方法を採用することができる。

　（接着剤層）
　図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは、接着剤層３を備える。本発明のガスバリア性積層フィルムとしては、このような接着剤層３を備えるものが好ましい。

　このような接着剤層３を形成するために用いることが可能な接着剤としては、揮発成分を含まないこと、硬化収縮が小さいこと等といった観点から、熱硬化性接着剤及び光硬化性接着剤等の硬化性接着剤が好ましい。

　このような熱硬化性接着剤としては特に制限されず、公知の熱硬化性樹脂接着剤を適宜利用できる。このような熱硬化性樹脂接着剤としては、エポキシ系接着剤及びアクリレート系接着剤等を挙げることができる。このようなエポキシ系接着剤としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂及びフェノキシ樹脂から選ばれるエポキシ化合物を含む接着剤を挙げることができる。また、前記アクリレート系接着剤としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２－ヘキシルアクリレート、アクリルアミド、アクリロニトリル及びヒドロキシルアクリレートなどから選ばれる主成分としてのモノマーと、該主成分と共重合可能なモノマーとを含む接着剤を挙げることができる。

　また、前記光硬化性接着剤としては、特に制限されず、公知の光硬化性接着剤を適宜利用でき、例えば、ラジカル系接着剤や、カチオン系接着剤等を挙げることができる。このようなラジカル系接着剤としては、例えば、エポキシアクリレート、エステルアクリレート、及びエステルアクリレート等を含む接着剤を挙げることができる。また、前記カチオン系接着剤としては、エポキシ系樹脂、ビニルエーテル系樹脂等を含む接着剤を挙げることができる。

　また、このような接着剤層３の中には、さらに、乾燥剤（いわゆる水分吸収剤や吸湿剤）、ブルーイング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等が含有されていてもよい。また、積層フィルムが照明用有機ＥＬの基板として使用されるときは、有機ＥＬの発光色と同じ色の染料や顔料を含んでいてもよく、また、混色効果を狙って有機ＥＬの発光色と違う色の染料や顔料を含んでいてもよい。さらに、光の散乱効果や光取り出し効果を持たせるために、接着剤層と屈折率の異なる無機粒子などを含んでいてもよい。

　また、このような接着剤層３としては、接着剤が水分を含む場合に、接着剤層中の水分を低減して、接着剤層から発生する水分に基いて性能が低下することを十分に抑制できるとともに、ガスバリア性積層フィルムにより高度な吸湿性能を発揮させることが可能となって、ガスバリア性積層フィルムにより高度な水蒸気透過防止性能を発揮させることが可能となることから、乾燥剤（いわゆる水分吸着剤や水分吸収剤等を含む。）を含有させることが好ましい。このような乾燥剤としては特に限定されず、例えば、シリカゲル、ゼオライト（モレキュラーシーブ）、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化ストロンチウム等の金属酸化物等や、乾燥した水酸化アルミニウム等の金属水酸化物等が挙げられる。このような乾燥剤の中でも、粒子形状に丸味があること、粒径を十分に小さなものにできること、粒度分布が十分に狭い均一な粒子を利用できること、光透過性が十分に高いこと、等といった観点から、乾燥した水酸化アルミニウムが特に好ましい。

　また、このような乾燥剤としては、粒子状のものが好ましい。このような粒子状の乾燥剤としては、平均粒径が０．０１～１０μｍ（より好ましくは０．０１～５μｍ、更に好ましくは０．１～５μｍ）の範囲にあることが好ましい。このような平均粒径が０．０１μｍ未満では、一次粒子が凝集し易くなる傾向にあり、大きな凝集粒子（２次粒子）が形成されてしまう傾向にあるばかりか、吸湿力が強すぎて、接着剤層に入ったときには、既に吸湿が終わって吸湿能力を示さなくなってしまう傾向にある。他方、前記平均粒子径が１０μｍを超えると、フィルム状にした際に平滑な層とすることが困難となるとともに、十分な吸湿能力が得られなくなる傾向にある。

　さらに、このような乾燥剤の含有量は特に制限されるものではないが、接着剤中に５～５０質量％（より好ましくは１０～３０質量％）の割合で含有することが好ましい。このような吸収剤（乾燥剤）の含有量が前記範囲にある場合には、乾燥剤を添加することにより得られる効果を十分に発揮することが可能となるばかりか、乾燥剤を含有させた後の接着剤の粘度もより適切なものとなるため、接着剤使用時にその塗布工程などにおいて作業性が低下することもなく、貼り合わせ作業をより効率よく進行せしめることが可能であり、更には、フィルム中の粒子の分布に偏りが生じることもなく（不均一な模様等が形成されることもなく）、製造後に得られるフィルム中における粒子の分布がより均一な状態となる傾向にある。

　また、このような接着剤層３においては、ガスバリア性積層フィルムの用途に応じて、例えば、有機ＥＬ素子のような発光素子用のガスバリア性積層フィルムとして用いる場合等には、ブルーイング剤を含有させることが好ましい。このようなブルーイング剤としては特に制限されず、公知のブルーイング剤を適宜利用することができ、例えば、バイエル社のマクロレックスバイオレットＢおよびマクロレックスブルーＲＲや、サンド社のテラゾールブルーＲＬＳおよびトリアゾールブルーＲＬＳ等を好適に利用することができる。また、例えば、カラーインデックス分類によるソルベントバイオレット－３、ソルベントブルー－９４、ソルベントブルー－７８、ソルベントブルー－９５、ソルベントバイオレット－１３等を用いることもできる。

　また、このような接着剤層３の厚さは特に制限されるものではないが、接着剤に粉末などの固形分（例えば、前述の乾燥剤やブルーイング剤等）を入れる場合であって、該粉末を構成する粒子（粉末粒子）に凝集が生じないような場合には、その粉末粒子の１次粒子径の最大径程度の厚みとすることが好ましく、この場合には、通常、１～２０μｍの厚みとすることがより好ましい。他方、粉末粒子に凝集が生じるような場合には、その粉末粒子の２次粒子径の最大径程度の厚みとすることが好ましく、この場合には、通常、５～５０μｍの厚みとすることがより好ましい。また、接着剤に粉末等の固形分を入れない場合であって、接着剤を塗布及び乾燥して接着剤層３を形成する場合、接着剤層３の厚さは、接着強度や加工性の観点から、０．２～３０μｍであることが好ましく、０．５～１０μｍであることがより好ましい。また、フィルム状の接着剤（接着性フィルム）を使用して、これを接着剤層３とする場合は、加工性の観点から、接着剤層３の厚さは１～１００μｍであることが好ましく、５～５０μｍであることがより好ましい。

　（積層フィルムの積層構造等）
　図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは、薄膜層２（ａ）、基材層１（ａ）、接着剤層３、基材層１（ｂ）、薄膜層２（ｂ）の順に積層された積層構造を有する。このような積層構造により、２層の基材をガスバリア性の薄膜層間に配置することができ、フィルムの使用の際に、基材の吸水性に基づくガスバリア性積層フィルムの吸湿性能をより高度なものとすることが可能である。なお、接着剤層３に乾燥剤を含有させた場合には、更に高度な吸湿性能を発揮させることも可能となる。

　また、図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは、第一の薄膜層２（ａ）と、第二の薄膜層２（ｂ）との間に、第一の基材層１（ａ）と第二の基材層１（ｂ）とを備える。このように、図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは、前記第一及び第二の薄膜層の間に基材層を２層備える。本発明においては、前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を備える必要があり、かかる構成により、前記第一及び第二の薄膜層の間に存在する基材層により、十分に高度な吸湿性能を発揮させることを可能とする。なお、前記第一及び第二の薄膜層の間に１層も基材層を配置しなかった場合には、ガスバリア性の膜にはさまれた基材が存在せず、外気に含まれる水分（通常の湿度条件において外気（大気）中に含まれる水蒸気）が容易に基材に接触するため、吸湿性能に基づいて、十分なガスバリア性を発揮することができなくなる。

　また、図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは、第一の基材層１（ａ）及び該層１（ａ）の一方の表面上に形成された第一の薄膜層２（ａ）を備える第一の構造部分と、第二の基材層１（ｂ）及び該層１（ｂ）の一方の表面上に形成された第二の薄膜層２（ｂ）を備える第二の構造部分とが、接着層３を介して積層された構成を有するものである。

　このように、図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムは前記第一の構造部分と前記第二の構造部分とを有するものである。また、このような構造のガスバリア性積層フィルムは、後述の本発明の第一及び第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法で説明するような、第一のフィルム部材と第二のフィルム部材とを利用することで、効率よく製造することが可能である。

　また、図１に示す実施形態のガスバリア性積層フィルムにおいては、第一の基材層１（ａ）及び第二の基材層１（ｂ）は、それぞれ一方の表面上にのみ薄膜層が形成され、かつ、もう一方の表面上には薄膜層が形成されていない構成をとる。このように、基材層の片面にのみ薄膜層が形成されている構造単位を有する場合、後述の本発明の第一及び第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法で説明するような、第一のフィルム部材と第二のフィルム部材とを利用する場合に、第一のフィルム部材、第二のフィルム部材として、それぞれ片面にのみ薄膜層が形成されたものを用いればよく、その部材の調製が容易となって生産性がより向上する。

　また、このようなガスバリア性積層フィルムは、自重の０．１質量％以上の水を吸収する吸湿性能を有する必要がある。すなわち、このようなガスバリア性積層フィルムは、そのガスバリア性積層フィルム自体の質量の０．１質量％以上の重さの水を吸収して保持することが可能である。このような吸湿性能が前記下限未満では、ガスバリア性積層フィルムに十分に高度な透湿防止性能を発揮させることができなくなるだけではなく、十分に高度な耐熱性を発揮させることができなくなり、使用時の熱による劣化をより高度に抑制することが困難となる。また、このようなガスバリア性積層フィルムとしては、透湿防止性能や耐熱性の点でより高度な性能を発揮させることが可能となることから、自重の０．２質量％以上の水を吸収する吸湿性能を有するものがより好ましく、自重の０．３質量％以上の水を吸収する吸湿性能を有するものが更に好ましい。ガスバリア性積層フィルムの吸湿性能は、乾燥時に基材にかかる負荷、乾燥にかかる時間、吸湿剤増量に伴う接着層の接着性の低下などの観点から、自重の５質量％以下であることが好ましい。この吸湿性能は、より好ましくは自重の３質量％以下であり、さらに好ましくは自重の２質量％以下である。

　なお、このようなガスバリア性積層フィルムの吸湿性能は以下のようにして測定する。すなわち、先ず、ガスバリア性積層フィルムの吸湿性能の測定用に、縦、横の長さがともに５０ｍｍ（５０ｍｍ角）のガスバリア性積層フィルム（５０ｍｍ角のフィルム）を準備する。次に、５０ｍｍ角のフィルムを１ｍｍごとに短冊状にカットして、縦５０ｍｍ、横１ｍｍの短冊状の試料（５０個）を準備する。次いで、恒温室内において、大気中、室温（２５℃）で、縦５０ｍｍ、横１ｍｍの大きさの短冊状の試料（５０個）の質量（単位：ｇ）を小数点４桁まで正確に秤量する。このときの質量を前述のフィルムの自重（Ｗ１：使用前の初期質量）とする。次いで、恒温恒湿雰囲気（２５℃、相対湿度５０％、重量絶対湿度１０ｇ／ｋｇ）下に該試料（５０個）を静置し、２４時間ごとに、その試料の質量を小数点４桁まで正確に秤量する。このような秤量を試料（５０個）の質量が一定になるまで行い、一定の値となった時の質量をＷｎとする。このようにして求められたＷｎとＷ１との値に基づいて、下記式：
　　［吸湿量の割合Ｂｎ］＝｛（Ｗｎ－Ｗ１）／Ｗ１｝×１００
を計算することにより求められる値を、本発明においては、ガスバリア性積層フィルムの吸湿性能として採用する。

　なお、このような吸湿性能は、基本的に、ガスバリア性を有する第一及び第二の薄膜層の間に配置されている基材層の吸湿性に基づいて発揮される性能であるため、第一及び第二の薄膜層の間に配置されている基材層により十分な吸湿が可能となるように、基材層を、水素以外のヘテロ原子を含むポリマー（より好ましくはエステル結合を有するポリエステル、更に好ましくはＰＥＴ、ＰＥＮ）からなる基材からなる層とし、且つ、ガスバリア性積層フィルムの製造時に十分に乾燥状態の基材が第一及び第二の薄膜層の間に配置されるようにしてガスバリア性積層フィルムを製造することが好ましい。そのため、このようなガスバリア性積層フィルムの製造方法としては、より確実に、乾燥状態の基材層を第一及び第二の薄膜層の間に配置することが可能となることから、後述の本発明の第一及び第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法を採用することが好ましい。

　また、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、その全体の厚みが３０～１０００μｍであることが好ましく、５０～５００μｍであることがより好ましい。このようなフィルムの厚みが前記範囲内であれば、その厚みによって、より高い強度が得られるため、製造時の破損等（例えば基材層部分の破損等）もより効率よく抑制でき、より効率よくガスバリア性積層フィルムを製造することが可能であるとともに、得られるガスバリア性積層フィルムに、十分なフレキシブル性や十分な光学特性を発揮させることも可能である。更に、フィルムの厚みが前記範囲内であれば、フィルム部材を貼り合せる回数を過度なものとする必要もないため、生産効率もより高くなる傾向にある。

　また、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、該フィルムの全体の厚さに対する、フィルム中に存在する全基材層の厚さの合計値の割合（｛［全基材層の厚さの合計値］／［ガスバリア性積層フィルムの全体の厚さ］｝×１００）は９０％以上あることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。このような割合が範囲内にある場合には、より高いフレキシブル性（可撓性）が得られる傾向にあり、更には、十分な透明性が得られる傾向にある。

　さらに、本発明のガスバリア性積層フィルム中に存在する全基材層の厚さに対する、第一の薄膜層と第二の薄膜層との間に存在する全基材層の厚みの合計値の割合（｛［第一の薄膜層と第二の薄膜層との間に存在する全基材層の厚さの合計値］／［ガスバリア性積層フィルム中に存在する全基材層の厚さ］｝×１００）は、５０％以上であることが好ましく、特に９０％以上あることがより好ましい。このような薄膜層間の基材層の厚みの割合が前記範囲内にある場合には、より高度な吸湿性能を発揮させることができる傾向にある。

　また、本発明のガスバリア性積層フィルムの全体の厚さに対する、第一の薄膜層と第二の薄膜層との間に存在する全基材層の厚みの合計値の割合（｛［第一の薄膜層と第二の薄膜層との間に存在する全基材層の厚さの合計値］／［ガスバリア性積層フィルムの全体の厚さ］｝×１００）は、５０％以上であることが好ましく、特に９０％以上あることがより好ましい。このような薄膜層間の基材層の厚みの割合が範囲内にある場合には、より高度な吸湿性能を発揮させることが可能となる。

　また、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、有機ＥＬデバイスとしての照明やディスプレイ等の光学的な用途に利用する場合においては、黄色度ＹＩがより低い値となることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることが更に好ましい。このような黄色度ＹＩは、測定装置として３刺激値ＸＹＺを算出できる分光光度計を用いて、ＪＩＳ　Ｋ　７３７３：２００６に準拠することにより測定することができる。

　また、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、有機ＥＬデバイスとしての照明やディスプレイ等の光学的な用途および有機薄膜太陽電池のような光電変換的な用途に利用する場合、全光線透過率がより高いものが好ましい。このような観点からは、本発明のガスバリア性積層フィルムの全光線透過率が８０％以上であることがより好ましく、８５％以上が更に好ましい。なお、このような全光線透過率は、測定装置として積分球を有する透過光測定装置を用いて、ＪＩＳ　Ｋ　７３７５：２００８に準拠することにより測定することができる。

　さらに、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、これを画像表示装置の基板に用いて、ガスバリア性積層フィルムを介して画像を確認する場合、ヘイズがより低いものが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、５％以下であることが更に好ましい。一方、照明用の有機ＥＬ素子用の基板に使用する場合においては、その用途からヘイズはあまり気にならないばかりか、有機ＥＬの発光面が濃淡や斑が生じるような状態で不均一に発光するような場合にヘイズが高い方が却って不均一な発光をぼかしてくれるため、かかる観点からは、ヘイズが高いものを好適に利用することもできる。このように、本発明のガスバリア性積層フィルムは、用途に応じて、その特性を好適な設計となるように適宜変更しながら使用することができる。

　以上、本発明のガスバリア性積層フィルムの好適な実施形態について図１を参照しながら説明したが、本発明のガスバリア性積層フィルムは上記実施形態に限定されるものではない。例えば、図１に示す実施形態においては、薄膜層２（ａ）、基材層１（ａ）、接着剤層３、基材層１（ｂ）、薄膜層２（ｂ）の順に積層された積層構造を有するガスバリア性積層フィルムであったが、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、前記基材層として第一の基材層及び第二の基材層の少なくとも２層を備えており、前記薄膜層として第一の薄膜層及び第二の薄膜層の少なくとも２層を備えており、前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を備えていればよく、その積層構成は特に制限されず、例えば、図２に示すような、薄膜層２（ａ）、基材層１（ａ）、接着剤層３、薄膜層２（ｂ）、基材層１（ｂ）の順に積層された積層構造を採用してもよい。このような図２に示すような他の実施形態に示すガスバリア性積層フィルムにおいては、２層の薄膜層の間に基材層を１層備える層構成となり、かかる構成を採用した場合においても、基本的に、薄膜層２（ａ）及び薄膜層２（ｂ）の間に配置された基材層１（ａ）の吸湿性に基づいてガスバリア性積層フィルムに吸湿性能を発揮させることが可能である。なお、かかる積層構成において接着剤層に更に乾燥剤を含有させた場合には、そのような乾燥剤によっても併せて吸湿性能を発揮させることが可能となり、より高度な性能を発揮させることも可能となる。なお、このような図２に示すような積層構造のガスバリア性積層フィルムも、後述の本発明の第一及び第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法により好適に製造でき、工業性等の観点から好適な構造である。

　また、図１に示す実施形態は接着剤層３を備えるものであったが、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、接着剤層を備えていないような構成としてもよい。例えば、基材上に薄膜層を備える部材を２つ以上準備し、薄膜層間に基材が少なくとも１層含まれるようにして熱圧着して積層する方法等を採用すれば、そのような接着剤層を特に備えていないようなガスバリア性積層フィルムであっても容易に製造することができる。なお、接着剤層に機能性を持たせるために添加物を混合できるという観点や、製造が容易であるという観点からは接着剤層を備えることが好ましい。また、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、前記接着剤層以外にも、基材層及び／又は薄膜層の表面上に、必要に応じて、更にハードコート層、保護膜層、光散乱層、光取出層、易接着層、易滑層、ブロッキング防止層、プライマーコート層、ヒートシール性樹脂層等を備えていてもよい。

　さらに、図１に示す実施形態は、第一の基材層及び第二の基材層の２層のみを基材層として備えるものであったが、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、基材層として第一の基材層及び第二の基材層の少なくとも２層を備えていればよく、基材層の数は特に制限されず、用途等に応じて、その設計を適宜変更し、例えば、他に１以上の基材層（例えば第三の基材層等）を有するようなものとしてもよい。なお、本明細書にいう「第一」、「第二」、「第三」等の表現は、２つ以上の同一又は相当する要素（例えば基材層や薄膜層、フィルム部材等）を説明する上で便宜上利用するものであり、その番号や説明の順序には特別な意味はなく（番号による優劣はなく）、これらの要素はそれぞれ同一のものであっても、あるいは、異なるものであってもよい。

　また、図１に示す実施形態においては、第一の薄膜層及び第二の薄膜層の２層のみを薄膜層として備えるものであったが、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、薄膜層として第一の薄膜層及び第二の薄膜層の少なくとも２層を備えていればよく、薄膜層の数は特に制限されず、用途等に応じて設計を適宜変更して、例えば、他に１以上の薄膜層（例えば第三の薄膜層等）を有するようなものとしてもよい。この場合、例えば、図１に示す実施形態では、各基材層は一方の表面にのみ薄膜層を備え、もう一方の表面には薄膜層は形成されていない構成（本実施形態ではもう一方の表面には接着剤層が積層されている）となっているが、少なくとも１つの基材層をその両面に薄膜層が形成されていているような構成を有するもの（例えば、薄膜層、基材層、接着剤層、薄膜層、基材層、薄膜層の順に積層された積層構造を有するものなど）としてもよい。また、本発明のガスバリア性積層フィルムとしては、第一の薄膜層及び第二の薄膜層の２層以外に１以上の薄膜層（例えば第三の薄膜層等）を有するような構成のものとする場合、より高度なガスバリア性が発揮できるとの観点や、後述のガスバリア性積層フィルムの製造方法においてフィルム部材の一つを基材の両面に薄膜層が形成されたものとすることで簡便に製造することが可能であり、工業化に適したものであるとの観点等から、第一の薄膜層、第一の基材層、接着剤層、第二の薄膜層、第二の基材層、第三の薄膜層の順に積層された積層構造を有するガスバリア性積層フィルムがより好ましい。また、このような第三の薄膜層を備える積層構造を有するガスバリア性積層フィルムにおいては、更に高度なガスバリア性が発揮できるとの観点から、前記第一～第三の薄膜層がいずれも前記珪素酸化物系の薄膜層であることが特に好ましい。

　以上、本発明のガスバリア性積層フィルムについて説明したが、次に、本発明の第一のガスバリア性積層フィルムの製造方法について説明する。

　［第一のガスバリア性積層フィルムの製造方法］
　本発明の第一のガスバリア性積層フィルムの製造方法は第一の基材層及び前記第一の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第一の薄膜層を備える第一のフィルム部材と、
　第二の基材層及び前記第二の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第二の薄膜層を備える第二のフィルム部材と、
を準備して、前記第一及び第二のフィルム部材のうちの少なくとも１つを乾燥する工程（Ａ）と、
　前記乾燥後のフィルム部材が、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に曝される時間が１時間以下となるようにしながら、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記乾燥後のフィルム部材中の基材層が少なくとも１層配置されるようにして、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せることによりガスバリア性積層フィルムを得る工程（Ｂ）と、
を含む方法である。以下、工程（Ａ）及び（Ｂ）を分けて説明する。

　（工程（Ａ））
　工程（Ａ）は、前記第一のフィルム部材と、前記第二のフィルム部材とを準備して、前記第一及び第二のフィルム部材のうちの少なくとも１つを乾燥する工程である。

　なお、前記第一のフィルム部材及び前記第二のフィルム部材中の基材層（第一及び第二の基材層）や薄膜層（第一及び第二の薄膜層）は上記本発明のガスバリア性積層フィルムにおいて説明したものと同様のものである。このような第一及び第二のフィルム部材を準備する工程は特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができる。例えば、基材上の少なくとも一方の表面上にガスバリア性を有する薄膜層を形成して、基材層と薄膜層とを備えるフィルム部材（第一及び第二のフィルム部材）を製造することが可能な方法を適宜採用して製造することにより準備してもよく、また、市販の基材層とガスバリア性を有する薄膜層とを備えるフィルム部材（積層体）により、フィルム部材（第一及び第二のフィルム部材）を準備してもよい。なお、薄膜層を本発明に好適に利用することが可能な前記珪素酸化物系の薄膜層とする場合には、以下に記載の方法を採用することが好ましい。

　ここで、図３を参照しながら、基材上に前記珪素酸化物系薄膜からなる層（前記珪素酸化物系の薄膜層）を形成して、基材層と該基材層の少なくとも一方の表面上に形成された前記珪素酸化物系の薄膜層とを備えるフィルム部材を製造する方法に好適に利用することが可能な方法について説明する。なお、図３は、前記珪素酸化物系の薄膜層を基材上に形成するために好適に利用することが可能な製造装置の一例を示す模式図である。以下の説明及び図面中、同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。

　図３に示す製造装置は、送り出しロール１１と、搬送ロール２１、２２、２３、２４と、成膜ロール３１、３２と、ガス供給管４１と、プラズマ発生用電源５１と、成膜ロール３１及び３２の内部に設置された磁場発生装置６１、６２と、巻取りロール７１とを備えている。また、このような製造装置においては、少なくとも成膜ロール３１、３２と、ガス供給管４１と、プラズマ発生用電源５１と、磁場発生装置６１、６２とが図示を省略した真空チャンバー内に配置されている。更に、このような製造装置において前記真空チャンバーは図示を省略した真空ポンプに接続されており、かかる真空ポンプにより真空チャンバー内の圧力を適宜調整することが可能となっている。

　このような製造装置においては、一対の成膜ロール（成膜ロール３１と成膜ロール３２）を一対の対向電極として機能させることが可能となるように、各成膜ロールがそれぞれプラズマ発生用電源５１に接続されている。そのため、このような製造装置においては、プラズマ発生用電源５１により電力を供給することにより、成膜ロール３１と成膜ロール３２との間の空間に放電することが可能であり、これにより成膜ロール３１と成膜ロール３２との間の空間にプラズマを発生させることができる。なお、このように、成膜ロール３１と成膜ロール３２を電極としても利用する場合には、電極としても利用可能なようにその材質や設計を適宜変更すればよい。また、このような製造装置においては、一対の成膜ロール（成膜ロール３１及び３２）は、その中心軸が同一平面上において略平行となるようにして配置することが好ましい。このようにして、一対の成膜ロール（成膜ロール３１及び３２）を配置することにより、成膜レートを倍にでき、なおかつ、同じ構造の膜を成膜できるので前記炭素分布曲線における極値を少なくとも倍増させることが可能となる。そして、このような製造装置によれば、ＣＶＤ法によりフィルム１００の表面上に薄膜層を形成することが可能であり、成膜ロール３１上においてフィルム１００の表面上に膜成分を堆積させつつ、更に成膜ロール３２上においてもフィルム１００の表面上に膜成分を堆積させることもできるため、フィルム１００の表面上に前記薄膜層を効率よく形成することができる。

　また、成膜ロール３１及び成膜ロール３２の内部には、成膜ロールが回転しても回転しないようにして固定された磁場発生装置６１及び６２がそれぞれ設けられている。

　さらに、成膜ロール３１及び成膜ロール３２としては適宜公知のロールを用いることができる。このような成膜ロール３１及び３２としては、より効率よく薄膜を形成せしめるという観点から、直径が同一のものを使うことが好ましい。また、このような成膜ロール３１及び３２の直径としては、放電条件、チャンバーのスペース等の観点から、５～１００ｃｍの範囲とすることが好ましい。

　また、このような製造装置においては、フィルム１００の表面がそれぞれ対向するように、一対の成膜ロール（成膜ロール３１と成膜ロール３２）上に、フィルム１００が配置されている。このようにしてフィルム１００を配置することにより、成膜ロール３１と成膜ロール３２との間に放電を行ってプラズマを発生させる際に、一対の成膜ロール間に存在するフィルム１００のそれぞれの表面を同時に成膜することが可能となる。すなわち、このような製造装置によれば、ＣＶＤ法により、成膜ロール３１上にてフィルム１００の表面上に膜成分を堆積させ、更に成膜ロール３２上にて膜成分を堆積させることができるため、フィルム１００の表面上に前記薄膜層を効率よく形成することが可能となる。

　また、このような製造装置に用いる送り出しロール１１及び搬送ロール２１、２２、２３、２４としては適宜公知のロールを用いることができる。また、巻取りロール７１としても、薄膜層を形成したフィルム１００を巻き取ることが可能なものであればよく、特に制限されず、適宜公知のロールを用いることができる。

　また、ガス供給管４１としては原料ガス等を所定の速度で供給又は排出することが可能なものを適宜用いることができる。さらに、プラズマ発生用電源５１としては、適宜公知のプラズマ発生装置の電源を用いることができる。このようなプラズマ発生用電源５１は、これに接続された成膜ロール３１と成膜ロール３２に電力を供給して、これらを放電のための対向電極として利用することを可能とする。このようなプラズマ発生用電源５１としては、より効率よくプラズマＣＶＤを実施することが可能となることから、前記一対の成膜ロールの極性を交互に反転させることが可能なもの（交流電源など）を利用することが好ましい。また、このようなプラズマ発生用電源５１としては、より効率よくプラズマＣＶＤを実施することが可能となることから、印加電力を１００Ｗ～１０ｋＷとすることができ且つ交流の周波数を５０Ｈｚ～５００ｋＨｚとすることが可能なものであることがより好ましい。また、磁場発生装置６１、６２としては適宜公知の磁場発生装置を用いることができる。さらに、フィルム１００としては、前記本発明に用いる基材の他に、前記薄膜層を予め形成させたものを用いることができる。このように、フィルム１００として前記薄膜層を予め形成させたものを用いることにより、前記薄膜層の厚みを厚くすることも可能である。

　このような図３に示す製造装置を用いて、例えば、原料ガスの種類、プラズマ発生装置の電極ドラムの電力、真空チャンバー内の圧力、成膜ロールの直径、並びに、フィルムの搬送速度を適宜調整することにより、基材１００の表面上に前記珪素酸化物系の薄膜からなる層（薄膜層）を形成することができる。すなわち、図３に示す製造装置を用いて、成膜ガス（原料ガス等）を真空チャンバー内に供給しつつ、一対の成膜ロール（成膜ロール３１及び３２）間に放電を発生させることにより、前記成膜ガス（原料ガス等）がプラズマによって分解され、成膜ロール３１上のフィルム１００の表面上並びに成膜ロール３２上のフィルム１００の表面上に、前記薄膜層がプラズマＣＶＤ法により形成される。なお、このような成膜に際しては、フィルム１００が送り出しロール１１や成膜ロール３１等により、それぞれ搬送されることにより、ロールツーロール方式の連続的な成膜プロセスによりフィルム１００の表面上に前記珪素酸化物系の薄膜層が形成される。

　このような前記珪素酸化物系の薄膜層の形成に用いる前記成膜ガス中の原料ガスとしては、形成する薄膜層の材質に応じて適宜選択して使用することができる。このような原料ガスとしては、例えばケイ素を含有する有機ケイ素化合物を用いることができる。このような有機ケイ素化合物としては、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、１．１．３．３－テトラメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。これらの有機ケイ素化合物の中でも、化合物の取り扱い性及び得られる薄膜層のガスバリア性等の特性の観点から、ヘキサメチルジシロキサン、１．１．３．３－テトラメチルジシロキサンが好ましい。また、これらの有機ケイ素化合物は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

　また、前記成膜ガスとしては、前記原料ガスの他に反応ガスを用いてもよい。このような反応ガスとしては、前記原料ガスと反応して酸化物、窒化物等の無機化合物となるガスを適宜選択して使用することができる。酸化物を形成するための反応ガスとしては、例えば、酸素、オゾンを用いることができる。また、窒化物を形成するための反応ガスとしては、例えば、窒素、アンモニアを用いることができる。これらの反応ガスは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができ、例えば酸窒化物を形成する場合には、酸化物を形成するための反応ガスと窒化物を形成するための反応ガスとを組み合わせて使用することができる。

　前記成膜ガスとしては、前記原料ガスを真空チャンバー内に供給するために、必要に応じて、キャリアガスを用いてもよい。さらに、前記成膜ガスとしては、プラズマ放電を発生させるために、必要に応じて、放電用ガスを用いてもよい。このようなキャリアガス及び放電用ガスとしては、適宜公知のものを使用することができ、例えば、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン等の希ガス；水素を用いることができる。

　このような成膜ガスが原料ガスと反応ガスを含有する場合には、原料ガスと反応ガスの比率としては、原料ガスと反応ガスとを完全に反応させるために理論上必要となる反応ガスの量の比率よりも、反応ガスの比率を過剰にし過ぎないことが好ましい。反応ガスの比率を過剰にし過ぎてしまうと、上記条件（i）～（iii）を全て満たす薄膜が得られなくなってしまう。この場合には、形成される薄膜層によって、優れたバリア性や耐屈曲性を得ることができなくなる。また、前記成膜ガスが前記有機ケイ素化合物と酸素とを含有するものである場合には、前記成膜ガス中の前記有機ケイ素化合物の全量を完全酸化するのに必要な理論酸素量以下であることが好ましい。

　以下、前記成膜ガスとして、原料ガスとしてのヘキサメチルジシロキサン（有機ケイ素化合物：ＨＭＤＳＯ：（ＣＨ_３）_６Ｓｉ_２Ｏ：）と反応ガスとしての酸素（Ｏ_２）を含有するものを用い、ケイ素－酸素系の薄膜を製造する場合を例に挙げて、成膜ガス中の原料ガスと反応ガスの好適な比率等についてより詳細に説明する。

　原料ガスとしてのヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ、（ＣＨ_３）_６Ｓｉ_２Ｏ）と、反応ガスとしての酸素（Ｏ_２）とを含有する成膜ガスをプラズマＣＶＤにより反応させてケイ素－酸素系の薄膜を作製する場合、その成膜ガスにより下記反応式（１）：
　（ＣＨ_３）_６Ｓｉ_２Ｏ＋１２Ｏ_２→６ＣＯ_２＋９Ｈ_２Ｏ＋２ＳｉＯ_２　　　（１）
に記載のような反応が起こり、二酸化ケイ素が製造される。このような反応においては、ヘキサメチルジシロキサン１モルを完全酸化するのに必要な酸素量は１２モルである。そのため、成膜ガス中に、ヘキサメチルジシロキサン１モルに対して酸素を１２モル以上含有させて完全に反応させた場合には、均一な二酸化ケイ素膜が形成されてしまうため、上記条件（i）～（iii）を全て満たす薄膜層を形成することができなくなってしまう。そのため、前記珪素酸化物系の薄膜層を形成する際には、上記（１）式の反応が完全に進行してしまわないように、ヘキサメチルジシロキサン１モルに対して酸素量を化学量論比の１２モルより少なくする必要がある。なお、実際のプラズマＣＶＤチャンバー内の反応では、原料のヘキサメチルジシロキサンと反応ガスの酸素は、ガス供給部から成膜領域へ供給されて成膜されるので、反応ガスの酸素のモル量（流量）が原料のヘキサメチルジシロキサンのモル量（流量）の１２倍のモル量（流量）であったとしても、現実には完全に反応を進行させることはできず、酸素の含有量を化学量論比に比して大過剰に供給して初めて反応が完結すると考えられる（例えば、ＣＶＤにより完全酸化させて酸化ケイ素を得るために、酸素のモル量（流量）を原料のヘキサメチルジシロキサンのモル量（流量）の２０倍以上程度とする場合もある。）。そのため、原料のヘキサメチルジシロキサンのモル量（流量）に対する酸素のモル量（流量）は、化学量論比である１２倍量以下（より好ましくは、１０倍以下）の量であることが好ましい。このような比でヘキサメチルジシロキサン及び酸素を含有させることにより、完全に酸化されなかったヘキサメチルジシロキサン中の炭素原子や水素原子が薄膜層中に取り込まれ、上記条件（i）～（iii）を全て満たす薄膜層を形成することが可能となって、得られるガスバリア性積層フィルムに優れたバリア性及び耐屈曲性を発揮させることが可能となる。なお、成膜ガス中のヘキサメチルジシロキサンのモル量（流量）に対する酸素のモル量（流量）が少なすぎると、酸化されなかった炭素原子や水素原子が薄膜層中に過剰に取り込まれるため、この場合はバリア膜の透明性が低下して、バリアフィルムは有機ＥＬデバイスや有機薄膜太陽電池などのような透明性を必要とするデバイス用のフレキシブル基板には利用できなくなってしまう。このような観点から、成膜ガス中のヘキサメチルジシロキサンのモル量（流量）に対する酸素のモル量（流量）の下限は、ヘキサメチルジシロキサンのモル量（流量）の０．１倍より多い量とすることが好ましく、０．５倍より多い量とすることがより好ましい。

　また、真空チャンバー内の圧力（真空度）は、原料ガスの種類等に応じて適宜調整することができるが、０．５Ｐａ～５０Ｐａの範囲とすることが好ましい。

　また、このようなプラズマＣＶＤ法において、成膜ロール３１及び３２間に放電するために、プラズマ発生用電源５１に接続された電極ドラム（本実施形態においては成膜ロール３１及び３２に設置されている。）に印加する電力は、原料ガスの種類や真空チャンバー内の圧力等に応じて適宜調整することができるものであり一概に言えるものでないが、０．１～１０ｋＷの範囲とすることが好ましい。このような印加電力が前記下限未満ではパーティクルが発生し易くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると成膜時に発生する熱量が多くなり、成膜時の基材表面の温度が上昇してしまい、基材が熱負けして成膜時に皺が発生してしまったり、ひどい場合には熱でフィルムが溶けて、裸の成膜ロール間に大電流の放電が発生して成膜ロール自体を傷めてしまう可能性が生じる。

　フィルム１００の搬送速度（ライン速度）は、原料ガスの種類や真空チャンバー内の圧力等に応じて適宜調整することができるが、０．２５～１００ｍ／ｍｉｎの範囲とすることが好ましく、０．５～２０ｍ／ｍｉｎの範囲とすることがより好ましい。ライン速度が前記下限未満では、フィルムに熱に起因する皺の発生しやすくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、形成される薄膜層の厚みが薄くなる傾向にある。

　このようにして、フィルム１００上に珪素酸化物系の薄膜からなる層（薄膜層）を形成することで、基材層及び前記基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する薄膜層（炭素を含有する珪素酸化物系の薄膜層）を備えるフィルム部材を好適に製造することができる。なお、本発明においては、前記第一及び第二のフィルム部材は同一のものであっても異なるものであってもよく、前記第一及び第二のフィルム部材を、ともに上述のようにして形成することが可能なフィルム部材としてもよい。この場合には、第一および第二の薄膜層がいずれも珪素酸化物系の薄膜層であるガスバリア性積層体を製造することが可能となり、より高度な水蒸気透過防止性能を有するガスバリア性積層フィルムを製造することが可能となる。

　また、工程（Ａ）においては、上述のようにして前記第一及び第二のフィルム部材を準備した後、その第一及び第二のフィルム部材のうちの少なくとも１つを乾燥する。このように、第一及び／又は第二のフィルム部材を乾燥する方法としては特に制限されず、このようなフィルム部材を乾燥させることが可能な公知の方法を適宜採用することができ、例えば、真空乾燥、加熱乾燥、真空加熱乾燥等を適宜採用することができる。このような乾燥方法としては、中でも、乾燥効率の観点から、真空乾燥と加熱乾燥を組み合わせた真空加熱乾燥を採用することが最も好ましい。また、このような真空乾燥、加熱乾燥又は真空加熱乾燥により乾燥する場合の条件（加熱条件や圧力条件等）はフィルム部材を乾燥させることが可能な条件に適宜設定すればよく、特に制限されるものではない。なお、このような乾燥方法が加熱工程を含む場合には、より効率よくフィルム部材を乾燥することが可能となることから、加熱温度を５０℃以上とすることが好ましく、１００℃以上とすることが特に好ましい。また、このような乾燥方法が加熱しながら乾燥する工程である場合（例えば加熱乾燥又は真空加熱乾燥を採用する場合）において、加熱温度の上限は、基材の種類等に応じて適宜設定すればよく、特に制限されるものではないが、高温による基材の変形をより十分に防止するといった観点から、２００℃以下とすることが好ましく、１５０℃以下とすることがより好ましい。

　また、このような乾燥方法が真空条件下で乾燥する方法である場合（例えば真空乾燥や真空加熱乾燥を採用する場合）においては、その圧力条件は大気圧の７６０ｍｍＨｇ（１０１３２５Ｐａ）より低い圧力にすればよく、特に制限されるものではないが、７６ｍｍＨｇ（１０１３２．５Ｐａ）より低い圧力とすることが好ましく、７．６ｍｍＨｇ（１０１３．２５Ｐａ）より低い圧力とすることがより好ましい。このように、本発明にいう「真空乾燥」は、大気圧の７６０ｍｍＨｇ（１０１３２５Ｐａ）より低い圧力に減圧して行う乾燥であればよい。

　また、このような乾燥方法を採用する場合に、第一及び／又は第二のフィルム部材の乾燥時間は特に制限されず、乾燥のために採用する条件に応じて、フィルム部材が十分に乾燥するように、その実施時間（乾燥時間）を適宜採用すればよく、例えば、前述の加熱温度の条件及び圧力条件（真空条件）を採用して乾燥する場合（真空加熱乾燥する場合）には、より十分に乾燥状態とするといった観点から、乾燥時間を３時間（１８０分）以上とすることが好ましく、６時間（３６０分）以上とすることがより好ましい。なお、このような乾燥時間は、基材の厚みや種類等におうじて適宜設定すればよい。

　（工程（Ｂ））
　工程（Ｂ）は、前記乾燥後のフィルム部材が、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に曝される時間（該雰囲気に晒される合計の時間）が１時間以下となるようにしながら、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記乾燥後のフィルム部材中の基材層が少なくとも１層配置されるようにして、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せることによりガスバリア性積層フィルムを得る工程である。

　このように、工程（Ｂ）においては、工程（Ａ）により乾燥した後の第一及び／又は第二のフィルム部材（乾燥処理を施したフィルム部材）が、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に曝される時間が１時間（より好ましくは０．５時間（３０分）、更に好ましくは２０分、特に好ましくは１０分）以下となるようにして利用する。重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となるような雰囲気下に１時間を超えて曝すと、乾燥後のフィルム部材（特に該部材中の基材層）が吸湿してしまい、十分な吸湿性能（好ましくは自重の０．１質量％以上の重さの水を吸収する吸湿性能）を有するガスバリア性積層フィルムを得ることができなくなる。そのため、例えば、乾燥条件下から通常の大気雰囲気下（例えば、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上の条件等になり得る。）にフィルム部材を取り出して、大気雰囲気下において第一及び第二のフィルム部材（乾燥後のフィルム部材を少なくとも１つ含む。）を貼り合せるような場合には、前記乾燥後のフィルム部材を大気雰囲気下に取り出した後に１時間（より好ましくは０．５時間（３０分）、更に好ましくは２０分、特に好ましくは１０分）以内にフィルム部材を貼り合せることが好ましい。なお、フィルム部材の種類によっても異なるものではあるが、通常の湿度がある外気（大気雰囲気下）に、１０時間以上フィルム部材を曝してしまうと、外気から吸湿して乾燥による効果が得られなくなってしまう傾向にある。

　このように、本発明においては、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に曝される時間を１時間以下とすることで、より効率よく十分に吸湿性能を有するガスバリア性積層フィルムを得ることを可能とする。なお、乾燥処理を施したフィルム部材が晒される雰囲気が、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ未満の雰囲気である場合には、その雰囲気に晒される時間は１時間を超えてもよいが、乾燥状態をより高い水準で保持したフィルム部材を利用するといった観点からは、そのような雰囲気であっても晒す時間はなるべく短い時間（より好ましくは１時間以下、更に好ましくは０．５時間（３０分）、特に好ましくは２０分、最も好ましくは１０分）とすることが好ましい。

　なお、乾燥工程を施した乾燥条件下から、乾燥後の第一及び／又は第二のフィルム部材を取り出す場合であっても、その乾燥後のフィルム部材を、重量絶対湿度が０．１ｇ／ｋｇ以下（より好ましくは重量絶対湿度が０．０１ｇ／ｋｇ以下）となるような条件下で保管する場合（例えば、乾燥剤などが入っているデシケータ内で保管する場合）には、乾燥後のフィルム部材の乾燥状態を十分に保持することができるため、長期保管後においても、工程（Ａ）により乾燥した後のフィルム部材（乾燥後の第一及び／又は第二のフィルム部材）を使用することもできる。このように、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せる際に、前記乾燥後のフィルム部材（前記第一及び第二のフィルム部材のうちの少なくとも１つ）が、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に存在する時間（合計の時間）が１時間以下となるようにして、前記乾燥後のフィルム部材を利用することで、乾燥後のフィルム部材の吸湿を十分に防止して、前記第一及び第二の薄膜層の間に配置する基材層の乾燥状態を十分に維持しながら、第一及び第二のフィルム部材を貼り合せることが可能となる。

　また、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に曝される時間が１時間以下となるようにするとの条件を満たしながら、より効率よくガスバリア性積層フィルムを製造するといった観点からは、ドライルーム等の低湿度環境下（例えば、重量絶対湿度が１ｇ／ｋｇ以下（より好ましくは０．１ｇ／ｋｇ以下）となる雰囲気下）で、乾燥工程（工程（Ａ））を施し、そのまま前記低湿度環境下で前記乾燥後のフィルム部材を用いて貼合工程（工程（Ｂ））を行うこと（例えば、真空オーブンと貼合装置をドライルームなど低湿度環境下に設置して、低湿度環境下で乾燥工程と貼合工程を行うこと）が好ましい。

　また、工程（Ｂ）においては、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記乾燥後のフィルム部材中の基材層が少なくとも１層配置されるようにして、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せる。このようにして貼り合せることで、積層後のフィルムの構成が、基材層として第一の基材層及び第二の基材層の少なくとも２層を備え、前記薄膜層として第一の薄膜層及び第二の薄膜層の少なくとも２層を備え、かつ、前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を備える構成となる。そして、本発明においては、このような第一及び第二の薄膜層の間に存在する基材層が、工程（Ａ）において乾燥された後、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に曝される時間が１時間以下となるようにしてその乾燥状態が十分に維持された状態でガスバリア性の高い薄膜層に挟まれたものとなることから、ガスバリア性積層フィルムに十分に高度な吸湿性を付与できるばかりか、積層フィルムの耐熱性を十分に向上させることも可能となる。

　さらに、このようにして第一及び第二のフィルム部材を貼り合せる方法は特に制限されず、フィルム部材を貼り合せることが可能な公知の方法を適宜採用することができ、例えば、第一及び第二のフィルム部材中の基材層同士を熱溶着させて貼り合せる方法、第一及び第二のフィルム部材の間に融点の低い高分子シートを挟んで積層し、該シートを熱で溶かして貼り合せる方法、接着剤を利用して接着面に接着剤と塗布して第一及び第二のフィルム部材を貼り合せる方法等を適宜利用することができる。なお、これらの方法において採用することが可能な温度条件等についても特に制限されず、第一及び第二のフィルム部材の種類等に応じて適宜最適な条件を採用すればよい。また、接着剤としては、前述の本発明のガスバリア性積層フィルムにおいて説明した接着剤を適宜利用することができる。また、このような接着剤には、より高度な吸湿性能を発揮させることが可能となることから、乾燥剤を更に含有させることが好ましい。なお、接着剤の塗布方法や塗布厚み等も特に制限されず、前述の本発明のガスバリア性積層フィルムにおいて説明したような接着剤層を製造することが可能となるように、公知の塗布方法（例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等の方式の塗布方法）の中から、最適な方法やその条件を適宜採用すればよい。なお、第一及び第二のフィルム部材を貼り合せる方法としては、例えば、少なくとも１本のゴムロールを有する貼合装置を利用する方法を採用することが可能であり、更に用途に応じて接着剤層に各種成分を別途含有させることも可能であることなどから、接着剤を利用して貼り合せる方法を採用することが好ましい。

　なお、このような前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せる工程においては、１８～８０℃の温度条件下において、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せることが好ましい。このような温度を前記範囲内とすることで、接着剤の粘着力をより適度なものに調整することが容易となり、貼り合せ工程において、気泡が入り込む（かみ込む）ことをより効率よく抑制することが可能となる。

　このようにして、前記乾燥後の第一及び／又は第二のフィルム部材の乾燥状態を維持するようにしながら（重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に曝される時間が１時間以下となるようにしながら）、第一及び第二のフィルム部材中の前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記乾燥後のフィルム部材（第一及び／又は第二のフィルム部材）中の基材層が少なくとも１層配置されるようにして、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せることで、十分に乾燥状態が維持された基材層が前記第一及び第二の薄膜層の間に存在する積層体が得られ、これにより、基材層とガスバリア性を有する薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、前記基材層として第一の基材層及び第二の基材層の少なくとも２層を備えており、前記薄膜層として第一の薄膜層及び第二の薄膜層の少なくとも２層を備えており、前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を備えており、かつ、前記ガスバリア性積層フィルムが十分な吸湿性能（好ましくは自重の０．１質量％以上の水を吸収する吸湿性能）を有するガスバリア性積層フィルムを得ることが可能となる。

　このように、工程（Ａ）及び（Ｂ）を実施することで、十分な吸湿性能（好ましくは自重の０．１質量％以上の水を吸収する吸湿性能）を有するガスバリア性積層フィルムを得ることができ、効率よく上記本発明のガスバリア性積層フィルムを製造することが可能となる。なお、このような本発明の第一のガスバリア性積層フィルムの製造方法において、接着剤を利用して貼り合せる場合には、接着剤層を含むものとなるため、ガスバリア性積層フィルムを、薄膜層２（ａ）、基材層１（ａ）、接着剤層３、基材層１（ｂ）、薄膜層２（ｂ）の順に積層された積層構造を有するものとしたり、薄膜層２（ａ）、基材層１（ａ）、接着剤層３、薄膜層２（ｂ）、基材層１（ｂ）の順に積層された積層構造を有するものとすることも可能であり、更に、接着剤に乾燥剤を含有させた場合には、薄膜層間に存在する乾燥した基材と乾燥剤とにより、より高度な吸湿性能を発揮させることも可能である。このように、本発明により得られ、且つ、薄膜層間に十分に乾燥された状態の基材が積層されているガスバリア性積層フィルムは、十分に高度な耐熱性を発揮することも可能なものとなる。また、ガスバリア性積層フィルムの構成を、前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層の双方が配置されるような構成とする場合においては、より高度な吸湿性能を発揮させることが可能となることから、工程（Ａ）において、第一及び第二のフィルム部材の双方を乾燥することが好ましく、このようにして乾燥後の第一及び第二のフィルム部材を用いて工程（Ｂ）を施すことが好ましい。例えば、第一及び第二のフィルム部材の双方を乾燥して、その乾燥後の第一及び第二のフィルム部材を、乾燥状態を十分に維持しながら、基材層が向き合うようにして貼り合せることで、前記第一及び第二の薄膜層の間に十分に乾燥した状態の前記第一及び第二の基材層が存在するものとなり、得られるガスバリア性積層フィルムに、より高度な吸湿性能を発揮させることが可能となる。一方、薄膜層２（ａ）、基材層１（ａ）、接着剤層３、薄膜層２（ｂ）、基材層１（ｂ）の順に積層された積層構造を有するものである場合には、基材層１（ａ）が十分に乾燥した状態のものとなるようにして、ガスバリア性積層フィルムを製造すればよいため、第一及び第二のフィルム部材のうちの少なくとも一方を乾燥したのち、その乾燥後のフィルム部材の基材が薄膜層の間に配置されるように第一及び第二のフィルム部材を貼り合せればよい。

　以上、本発明の第一のガスバリア性積層フィルムの製造方法について説明したが、次に、本発明の第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法について説明する。

　［第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法］
　本発明の第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法は、第一の基材層及び前記第一の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第一の薄膜層を備える第一のフィルム部材と、
　第二の基材層及び前記第二の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第二の薄膜層を備える第二のフィルム部材と、
を準備し、前記第一及び第二のフィルム部材を、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層が配置されるように、乾燥剤を含む接着剤を用いて貼り合せることによりガスバリア性積層フィルムを得る工程を含む方法である。

　このような製造方法に用いる第一のフィルム部材及び第二のフィルム部材はそれぞれ、前述の本発明の第一のガスバリア性積層フィルムの製造方法において説明したものと同様のものである。また、接着剤、乾燥剤は、前述の本発明のガスバリア性積層フィルムにおいて説明したものと同様のものである。

　本発明においては、前記第一及び第二のフィルム部材を、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層が配置されるように、乾燥剤を含む接着剤を用いて貼り合せる。このような貼り合せの際には、前記第一及び第二のフィルム部材の少なくとも一方、または双方のいずれかの表面に接着剤を塗布することが好ましい。なお、接着剤の塗布方法等も特に制限されず、前述の本発明のガスバリア性積層フィルムにおいて説明したような接着剤層を製造することが可能となるように、公知の塗布方法（例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等の方式の塗布方法）の中から、最適な方法やその条件を適宜採用すればよい。このように、接着剤層を形成する際の接着剤の塗布量や塗布厚み等も特に制限されず、例えば、接着剤の種類に応じて前述の接着剤層の厚みと同様になるように、その塗布量や塗布厚みを適宜選択してもよい。なお、接着剤の薄膜状のシートを作成して、前記第一及び第二のフィルム部材の間に該シートを配置し、加熱する等することにより前記第一及び第二の薄膜層の間に前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層が配置されるように、乾燥剤を含む接着剤を用いて貼り合せてもよい。

　また、本発明の第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法においては、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せる前に、前記第一及び第二のフィルム部材のうちの少なくとも一方を乾燥する必要は必ずしもない（乾燥工程を含んでいてもよく、あるいは、含んでいなくてもよい）。本発明においては、前記第一及び第二のフィルム部材を、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層が配置されるようにして、乾燥剤を含む接着剤を用いて貼り合せるため、基本的に、薄膜層間に、少なくとも１層の基材層が配置されるとともに接着剤層も配置される構成の積層フィルムが得られることとなる。このように薄膜層間に乾燥剤を含む接着剤層が積層されると、その接着剤層中の乾燥剤により、第一及び第二の薄膜層の間に配置された前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を乾燥させることが可能となる。そのため、本発明の第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法により製造されるガスバリア性積層フィルムにおいては、薄膜層間に存在する基材層を、接着工程後に乾燥させることができるため、かかる基材層に吸湿性能を発揮させることが可能となる。また、本発明の第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法においては、薄膜層間に、乾燥剤を含む接着剤層を含むことから、該接着剤層中の乾燥剤自体によっても吸湿性能を発揮させることが可能となる。

　このように、本発明においては、乾燥剤を含む接着剤を用いて前記第一及び第二の薄膜層の間に前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層が配置されるようにして、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せることから、十分に乾燥された状態の基材層が前記第一及び第二の薄膜層の間に存在する積層体を形成することが可能となり、これにより、基材層とガスバリア性を有する薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、前記基材層として第一の基材層及び第二の基材層の少なくとも２層を備えており、前記薄膜層として第一の薄膜層及び第二の薄膜層の少なくとも２層を備えており、前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を備えており、かつ、十分な吸湿性能（好ましくは自重の０．１質量％以上の水を吸収する吸湿性能）を有するガスバリア性積層フィルムを得ることが可能となる。なお、このような本発明の第二のガスバリア性積層フィルムの製造方法によれば、接着剤層を含むものとなるため、ガスバリア性積層フィルムを、薄膜層２（ａ）、基材層１（ａ）、接着剤層３、基材層１（ｂ）、薄膜層２（ｂ）の順に積層された積層構造を有するものとしたり、薄膜層２（ａ）、基材層１（ａ）、接着剤層３、薄膜層２（ｂ）、基材層１（ｂ）の順に積層された積層構造を有するものとすることも可能である。このように、本発明により得られ、且つ、薄膜層間に十分に乾燥された基材が積層されている構成のガスバリア性積層フィルムは、十分に高度な耐熱性を発揮することも可能なものとなる。

　以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

　（調製例１：フィルム部材の調製）
　前述の図３に示す製造装置を用いてフィルム部材を製造した。すなわち、２軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮフィルム、厚み：１００μｍ、幅：３５０ｍｍ、帝人デュポンフィルム（株）製、商品名「テオネックスＱ６５ＦＡ」）を基材（フィルム１００）として用い、これを送り出しロ－ル１１に装着した。そして、成膜ロール３１と成膜ロール３２との間に磁場を印加すると共に、成膜ロール３１と成膜ロール３２にそれぞれ電力を供給して、成膜ロール３１と成膜ロール３２との間に放電してプラズマを発生させ、このような放電領域に、成膜ガス（原料ガスとしてのヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）と反応ガスとしての酸素ガス（放電ガスとしても機能する）の混合ガス）を供給して、下記条件にてプラズマ化学気相堆積法（プラズマＣＶＤ法：ＰＥＣＶＤ）による薄膜形成を行い、厚みが０．３μｍの薄膜層が形成された基材からなる積層体（Ａ）を得た。

　〈成膜条件〉
原料ガスの供給量：５０ｓｃｃｍ（Ｓｔａｎｄａｒｄ　Ｃｕｂｉｃ　Ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ　ｐｅｒ　Ｍｉｎｕｔｅ）
酸素ガスの供給量：５００ｓｃｃｍ
真空チャンバー内の真空度：３Ｐａ
プラズマ発生用電源からの印加電力：０．８ｋＷ
プラズマ発生用電源の周波数：７０ｋＨｚ
フィルムの搬送速度；０．５ｍ／ｍｉｎ。

　次いで、得られた積層体（Ａ）を基材（フィルム１００）として用いて送り出しロ－ル１１に装着し、積層体（Ａ）の薄膜層の表面上に、上述の成膜条件と同様の条件を採用して新たに薄膜層を形成して、厚みが０．６μｍの薄膜層が形成された基材からなる積層体（Ｂ）を得た。次に、得られた積層体（Ｂ）を基材（フィルム１００）として用いて送り出しロ－ル１１に装着し、積層体（Ｂ）の薄膜層の表面上に、上述の成膜条件と同様の条件を採用して新たに薄膜層を形成して、厚みが０．９μｍの薄膜層が形成された基材からなる積層体（Ｃ）を得た。次いで、得られた積層体（Ｃ）を基材（フィルム１００）として用いて送り出しロ－ル１１に装着し、積層体（Ｃ）の薄膜層の表面上に、上述の成膜条件と同様の条件を採用して新たに薄膜層を形成して、厚みが１．２μｍの薄膜層が形成された基材からなる積層体（Ｄ）を得た。そして、再度、得られた積層体（Ｄ）を基材（フィルム１００）として用いて送り出しロ－ル１１に装着し、積層体（Ｄ）の薄膜層の表面上に、上述の成膜条件と同様の条件を採用して新たに薄膜層を形成して、厚みが１．５μｍの薄膜層が形成された基材からなる積層体（Ｅ）からなるフィルム部材（基材層と、基材層の一方の表面に形成された厚みが１．５μｍの薄膜層とを備える積層体からなる部材）を得た。このように、フィルム部材は、図３に示す製造装置を用いて、積層体（Ａ）の製造時に採用した薄膜層の形成工程を基材の一方の表面側に５回繰り返して形成されたものとした。

　なお、このような積層体（Ｅ）の薄膜層に対して、下記条件にてＸＰＳデプスプロファイル測定を行い、珪素分布曲線、酸素分布曲線、炭素分布曲線及び酸素炭素分布曲線を得た。
エッチングイオン種：アルゴン（Ａｒ^＋）
エッチングレート（ＳｉＯ_２熱酸化膜換算値）：０．０５ｎｍ／ｓｅｃ
エッチング間隔（ＳｉＯ_２換算値）：１０ｎｍ
Ｘ線光電子分光装置：Ｔｈｅｒｍｏ　Ｆｉｓｈｅｒ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、機種名「ＶＧ　Ｔｈｅｔａ　Ｐｒｏｂｅ」
照射Ｘ線：単結晶分光ＡｌＫα
Ｘ線のスポット及びそのサイズ：８００×４００μｍの楕円形。

　このようにして得られた炭素分布曲線は、複数の明確な極値を有しており、炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上であり、かつ、珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が、式（１）：
　　（酸素の原子比）＞（珪素の原子比）＞（炭素の原子比）・・・（１）
で示された条件を満たしていることが確認された。

　また、このようなフィルム部材のガスバリア性をカルシウム腐食法（特開２００５－２８３５６１号公報に記載される方法）に準拠した方法で測定した。すなわち、フィルム部材に対して、乾燥処理後、金属カルシウムを蒸着し、その上から金属アルミニウムで封止し、ガラスに固定後、樹脂で封止したサンプルを温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件での腐食点の経時変化による増加を画像解析で調べて水蒸気透過度を算出した。なお、このような水蒸気透過度の算出に際しては、腐食点をマイクロスコープで撮影し、その画像をパーソナルコンピューターに取り込んで、腐食点の画像を２値化し、腐食面積を算出して求めることにより、水蒸気透過度を算出した。その結果、フィルム部材（表面上に薄膜層を成膜した基材）の水蒸気透過度は、７×１０^－３ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。なお、基材（ＰＥＮフィルム）のみからなる試料を用いて、同様にカルシウム腐食法（特開２００５－２８３５６１号公報に記載される方法）に準拠した方法でガスバリア性を測定したところ、基材のガスバリア性は１．３ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。このような結果から、「基材の水蒸気透過度」に対して「薄膜層を成膜した基材の水蒸気透過度」の方が２桁以上小さい値を示すことが確認され、フィルム部材中の薄膜層はガスバリア性を有するものであることが確認された。

　（実施例１）
　先ず、調製例１で採用した方法と同様の方法を採用してフィルム部材を２枚準備した。次いで、前記２枚のフィルム部材を共に真空オーブン中に導入し、ゲージ圧力－０．１ＭＰａ（絶対圧力１．３ｋＰａ）、１００℃の条件で３６０分間加熱して、前記２枚のフィルム部材を乾燥させた（乾燥工程）。その後、前記２枚のフィルム部材を真空オーブンから大気中（気温：２５℃、相対湿度：５０％、重量絶対湿度：１０ｇ／ｋｇ（乾燥空気））に取り出し、接着剤としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂からなる主剤と変性ポリアミドからなる硬化剤との混合により室温（２５℃）で硬化する２液型エポキシ接着剤を用いて、一方のフィルム部材の基材の表面上に接着剤を塗布した後に、乾燥工程後の２枚のフィルム部材の基材側の面同士が向き合うようにして、ゴム硬度６０のシリコンゴムロールの貼合装置（大成ラミネーター株式会社製の商品名「ＶＡ－４２０ＩＶラミネーター」）で貼り合わせて、図１に示すような構造のガスバリア性積層フィルム（「薄膜層／基材／接着剤層／基材／薄膜層」の積層構造を有するガスバリア性積層フィルム）を得た。ここにおいて、前記２枚のフィルム部材を真空オーブンから取り出して、これらを貼り合せる工程を開始するまでに要した時間は１０分であり、貼り合せに要した時間は１５分であった。このように、乾燥工程後の前記２枚のフィルム部材を真空オーブンから取り出してガスバリア性積層フィルムを形成するまでに合計２５分の時間を要した。なお、得られたガスバリア性積層フィルムの厚みを測定し、２枚のフィルム部材の厚みを引いた値を接着剤層の厚みとした。このようにして求められた接着剤層の厚みは１２μｍであった。このようにして得られたガスバリア性積層フィルムは、上述のようにしてガスバリア性積層フィルムの吸湿性能（前述の吸湿量の割合Ｂｎ）を測定したところ、自重の０．２９質量％の重さの水を吸収して保持することが可能なものであることが確認された。

　（実施例２）
　乾燥工程後の２枚のフィルム部材の基材側の面同士が向き合うようにして貼り合せる代わりに、一方のフィルム部材の基材の表面と、もう一方のフィルム部材の薄膜層とが向き合うようにして２枚のフィルム部材を貼り合せた以外は、実施例１と同様の方法を採用して、図２に示すような構成のガスバリア性積層フィルム（「薄膜層／基材／接着剤層／薄膜層／基材」の積層構造を有するガスバリア性積層フィルム）を得た。このようにして得られたガスバリア性積層フィルムの厚みを測定し、２枚のフィルム部材の厚みを引いた値を接着剤層の厚みとした。このようにして求められた接着剤層の厚みは１２μｍであった。このようにして得られたガスバリア性積層フィルムは、上述のようにしてガスバリア性積層フィルムの吸湿性能（前述の吸湿量の割合Ｂｎ）を測定したところ、自重の０．１５質量％の重さの水を吸収して保持することが可能なものであることが確認された。

　（実施例３）
　前記２液型エポキシ接着剤の主剤をそのまま用いる代わりに、該２液型エポキシ接着剤の主剤に、２液（主剤と硬化剤）の総量に対して１４質量％となるような割合で乾燥剤（住友化学株式会社製の粒径０．５μｍの水酸化アルミニウム粉末を２５０℃、ゲージ圧力－０．１ＭＰａ（絶対圧力１．３ｋＰａ）の条件で３６０分間真空乾燥した後、露点が－５０℃の窒素雰囲気中で室温（２５℃）まで冷却したもの）を添加して脱泡する処理を施した後に、これを該接着剤の主剤として用いた以外は、実施例１と同様の方法を採用して、図１に示すような構造のガスバリア性積層フィルム（「薄膜層／基材／接着剤層（乾燥剤含有）／基材／薄膜層」の積層構造を有するガスバリア性積層フィルム）を得た。すなわち、２液型エポキシ接着剤の主剤に前記乾燥剤を添加して、接着剤層が前記乾燥剤を含む層となるようにした以外は、実施例１と同様にして、ガスバリア性積層フィルムを製造した。このようにして得られたガスバリア性積層フィルムの厚みを測定し、２枚のフィルム部材の厚みを引いた値を接着剤層の厚みとした。このようにして求められた接着剤層の厚みは１５μｍであった。このようにして得られたガスバリア性積層フィルムは、上述のようにしてガスバリア性積層フィルムの吸湿性能（前述の吸湿量の割合Ｂｎ）を測定したところ、自重の０．７８質量％の重さの水を吸収して保持することが可能なものであることが確認された。

　（実施例４）
　乾燥工程後に得られたフィルム部材を貼り合せる代わりに、フィルム部材を２枚準備した後に乾燥工程を実施せずに、その２枚のフィルム部材をそのまま貼り合せた以外は、実施例３と同様の方法を採用して、図１に示すような構造のガスバリア性積層フィルム（「薄膜層／基材／接着剤層（乾燥剤含有）／基材／薄膜層」の積層構造を有するガスバリア性積層フィルム）を得た。このようにして得られたガスバリア性積層フィルムの厚みを測定し、２枚のフィルム部材の厚みを引いた値を接着剤層の厚みとした。このようにして求められた接着剤層の厚みは１５μｍであった。また、このようにして得られたガスバリア性積層フィルムは、上述のようにしてガスバリア性積層フィルムの吸湿性能（前述の吸湿量の割合Ｂｎ）を測定したところ、自重の０．３２質量％の重さの水を吸収して保持することが可能なものであることが確認された。

　（比較例１）
　調製例１で得られたフィルム部材（薄膜層形成基材）を、そのままガスバリア性積層フィルム（「薄膜層／基材」の積層構造を有する比較のためのガスバリア性積層フィルム）とした。このようにして得られたガスバリア性積層フィルムは、上述のようにしてガスバリア性積層フィルムの吸湿性能（前述の吸湿量の割合Ｂｎ）を測定したところ、Ｂｎは０．００質量％となり、吸湿する能力を有していないことが確認された。このような結果は、フィルム部材が製造後、大気雰囲気下において保管され、その後、特に乾燥工程が実施されていないため、大気中に含まれる水蒸気を吸湿していたことに起因するものと推察される。

　（比較例２）
　乾燥工程後に得られた２枚のフィルム部材を貼り合せる代わりに、フィルム部材を２枚準備した後に乾燥工程を実施せずに、その２枚のフィルム部材を２５℃、相対湿度：５０％、重量絶対湿度：１０ｇ／ｋｇの条件の恒温恒湿漕中に２４時間静置した後に貼り合せた以外は、実施例１と同様にして、図１に示すような構造のガスバリア性積層フィルム（「薄膜層／基材／接着剤層／基材／薄膜層」の積層構造を有するガスバリア性積層フィルム）を得た。このようにして得られたガスバリア性積層フィルムの厚みを測定し、２枚のフィルム部材の厚みを引いた値を接着剤層の厚みとした。このようにして求められた接着剤層の厚みは１２μｍであった。また、このようにして得られたガスバリア性積層フィルムは、上述のようにしてガスバリア性積層フィルムの吸湿性能（前述の吸湿量の割合Ｂｎ）を測定したところ、Ｂｎは０．０１質量％となり、十分な吸湿能力を有していないことが確認された。

　［実施例１～４及び比較例１～２で得られたガスバリア性積層フィルムの特性の評価］
　（水蒸気透過度の測定）
　実施例１～４及び比較例１～２で得られたガスバリア性積層フィルムの水蒸気透過度を、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、カルシウム腐食法（特開２００５－２８３５６１号公報に記載される方法）によって測定した。すなわち、各ガスバリア性積層フィルムに対して、乾燥処理後、金属カルシウムを蒸着し、その上から金属アルミニウムで封止し、ガラスに固定後、樹脂で封止したサンプルを温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件での腐食点の経時変化による増加を画像解析で調べて水蒸気透過度を算出した。なお、このような水蒸気透過度の算出に際しては、腐食点をマイクロスコープで撮影し、その画像をパーソナルコンピューターに取り込んで、腐食点の画像を２値化し、腐食面積を求めることにより、水蒸気透過度を算出した。このような測定の結果、各ガスバリア性積層フィルムの水蒸気透過度を表１に示す。

　このような結果からも明らかなように、本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、水蒸気透過度が十分に低い値（１桁以上低い値）となっており、非常に高度な水蒸気透過防止性能が得られることが確認された。特に、実施例１で得られたガスバリア性積層フィルムと、比較例２で得られたガスバリア性フィルムとを比較すると、これらの積層フィルムの積層構造はともに「薄膜層／基材／接着剤層／基材／薄膜層」であるにも関わらず、乾燥後のフィルム部材を用いて得られたガスバリア性フィルム（実施例１）においては、大気暴露条件下（通常の湿度条件下）で長期間保存した後のフィルム部材（通常のフィルム部材の使用条件）を模して２５℃、相対湿度５０％、重量絶対湿度１０ｇ／ｋｇの条件の恒温恒湿漕中に長時間静置した後のフィルム部材を用いて得られたガスバリア性フィルム（比較例２）と比較して、非常に高度なガスバリア性が得られていることが分かる。

　（耐熱性の測定試験）
　実施例１～４及び比較例１～２で得られたガスバリア性積層フィルムの耐熱性を、以下のようにして評価した。すなわち、各ガスバリア性積層フィルムに対して２００℃で３０分間の加熱する処理を施した後に、薄膜層と基材層との間の剥離が生じていないか目視にて確認して、下記基準Ａ及びＢ：
Ａ：剥離が確認されず、十分な耐熱性を有するガスバリア性積層フィルム
Ｂ：剥離が確認され、耐熱性が低いガスバリア性フィルム
に基いて各ガスバリア性積層フィルムの評価を行った。得られた結果を以下に示す。
評価結果がＡの積層フィルム：　実施例１～４（全実施例）、比較例１
評価結果がＢの積層フィルム：　比較例２。

　このような結果からも明らかなように、本発明のガスバリア性積層フィルム（実施例１～４）はいずれも、剥離が確認されず、十分に高度な耐熱性を有することが確認された。これに対して、大気暴露条件下（通常の湿度条件下）で長期間保存した後のフィルム部材（通常のフィルム部材の使用条件）を模して２５℃、相対湿度５０％、重量絶対湿度１０ｇ／ｋｇの条件の恒温恒湿漕中に長時間静置した後のフィルム部材を用いて得られたガスバリア性フィルム（比較例２）では、吸湿能力が０．００質量％の比較例１の積層フィルムよりも耐熱性が劣る結果となっていた。

　これらの結果からも明らかなように、本発明のガスバリア性積層フィルム（実施例１～４）はいずれも、熱による劣化を十分に防止しながら十分に高度な水蒸気透過防止性能を発揮できることが分かった。

　以上説明したように、本発明によれば、より高度な水準の水蒸気透過防止性能と十分に高い耐熱性能とを有するガスバリア性積層フィルム及びその製造方法を提供することが可能となる。

　したがって、本発明のガスバリア性積層フィルムは、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を用いたフレキシブル照明、有機薄膜太陽電池、液晶ディスプレイ、医薬品の包装容器等に好適に用いることができる。

　１（ａ）及び１（ｂ）…基材層、２（ａ）及び２（ｂ）…薄膜層、３…接着剤層、１１…送り出しロール、２１、２２、２３、２４…搬送ロール、３１、３２…成膜ロール、４１…ガス供給管、５１…プラズマ発生用電源、６１、６２…磁場発生装置、７１…巻取りロール、１００…フィルム（基材）。

Claims

　基材層とガスバリア性を有する薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、
　前記基材層として第一の基材層及び第二の基材層の少なくとも２層を備えており、
　前記薄膜層として第一の薄膜層及び第二の薄膜層の少なくとも２層を備えており、
　前記第一及び第二の薄膜層の間に、前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層を備えており、かつ、
　前記ガスバリア性積層フィルムが自重の０．１質量％以上の水を吸収する吸湿性能を有する、ガスバリア性積層フィルム。
　前記第一及び第二の薄膜層の間に、少なくとも１層の接着剤層を更に備える、請求項１に記載のガスバリア性積層フィルム。
　前記接着剤層が乾燥剤を含む、請求項２に記載のガスバリア性積層フィルム。
　前記第一の基材層及び前記第一の基材層の少なくとも一方の表面上に形成された前記第一の薄膜層を備える第一の構造部分と、
　前記第二の基材層及び前記第二の基材層の少なくとも一方の表面上に形成された前記第二の薄膜層を備える第二の構造部分と、
を有する、請求項１～３のうちのいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルム。
　前記第一の基材層及び前記第二の基材層のうちの少なくとも１つの基材層の一方の表面上にのみ前記薄膜層が形成され、かつ、該基材層のもう一方の表面上には前記薄膜層が形成されていない、請求項１～４のうちのいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルム。
　前記第一及び第二の薄膜層のうちの少なくとも１層が、珪素、酸素及び炭素を含有し、かつ、
　該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線において、下記条件（ｉ）～（ｉｉｉ）：
（ｉ）珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比が、該層の膜厚の９０％以上の領域において下記式（１）：
（酸素の原子比）＞（珪素の原子比）＞（炭素の原子比）・・・（１）
で表される条件を満たすこと、
（ｉｉ）前記炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有すること、
（ｉｉｉ）前記炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上であること、
を全て満たす珪素酸化物系の薄膜層である、請求項１～５のうちのいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルム。
　前記第一及び第二の薄膜層の双方が前記珪素酸化物系の薄膜層である、請求項６に記載のガスバリア性積層フィルム。
　前記ガスバリア性積層フィルムが、薄膜層、基材層、接着剤層、薄膜層、基材層の順に積層された積層構造を有する、請求項１～７のうちのいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルム。
　前記ガスバリア性積層フィルムが、薄膜層、基材層、接着剤層、基材層、薄膜層の順に積層された積層構造を有する、請求項１～７のうちのいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルム。
　前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層が有機高分子材料からなる層である、請求項１～９のうちのいずれか一項に記載のガスバリア性積層フィルム。
　第一の基材層及び前記第一の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第一の薄膜層を備える第一のフィルム部材と、
　第二の基材層及び前記第二の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第二の薄膜層を備える第二のフィルム部材と、
を準備して、前記第一及び第二のフィルム部材のうちの少なくとも１つを乾燥する工程と、
　前記乾燥後のフィルム部材が、重量絶対湿度が１０ｇ／ｋｇ以上となる雰囲気下に曝される時間が１時間以下となるようにしながら、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記乾燥後のフィルム部材中の基材層が少なくとも１層配置されるようにして、前記第一及び第二のフィルム部材を貼り合せることによりガスバリア性積層フィルムを得る工程と、
を含む、ガスバリア性積層フィルムの製造方法。
　前記乾燥後の第一及び第二のフィルム部材を、接着剤を用いて貼り合せる、請求項１１に記載のガスバリア性積層フィルムの製造方法。
　前記接着剤が乾燥剤を含むものである、請求項１２に記載のガスバリア性積層フィルムの製造方法。
　第一の基材層及び前記第一の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第一の薄膜層を備える第一のフィルム部材と、
　第二の基材層及び前記第二の基材層の少なくとも一方の表面上に形成されたガスバリア性を有する第二の薄膜層を備える第二のフィルム部材と、
を準備し、前記第一及び第二のフィルム部材を、前記第一及び第二の薄膜層の間に前記第一及び第二の基材層のうちの少なくとも１層が配置されるように、乾燥剤を含む接着剤を用いて貼り合せることによりガスバリア性積層フィルムを得る工程を含む、ガスバリア性積層フィルムの製造方法。