CN109070539A - 阻隔膜层叠体及其制造方法、波长转换片、背光单元、以及电致发光单元 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种阻隔膜层叠体，具备：第一阻隔膜，其包含第一基材层和形成于第一基材层上的第一阻隔层；第二阻隔膜，其包含第二基材层和形成于第二基材层上的第二阻隔层；以及粘接层，其中，第一阻隔膜和第二阻隔膜经由粘接层以使得第一阻隔层与第二阻隔层相面对的方式进行贴合。在阻隔膜层叠体的一个面上，粘接层由含有环氧树脂、具有氨基的固化剂、以及具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂的粘结剂形成。
Description
技术领域
本发明涉及阻隔膜层叠体及其制造方法、波长转换片、背光单元、以及电致发光单元。
背景技术
在液晶显示器的背光单元及电致发光单元等发光单元中，由于发光体与氧或水蒸气等接触后经过长时间，有时作为发光体的性能会降低。因此，在这些发光单元中，经常使用将在高分子膜上形成有阻气层的阻气膜经由粘接层进行层叠而得的阻隔膜层叠体作为发光体的保护膜(例如，参照专利文献1)。另外，例如，专利文献2公开了这样的颜色转换部件(波长转换片)，其具有用阻隔膜夹持着两个颜色转换层(荧光体层)的分别两侧的面而得的结构。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2012-76288号公报
专利文献2:日本特开2011-13567号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是，为了大量地生产如上所述的阻隔膜层叠体，可使用大规模的生产线。在生产线上，例如，输送由辊状的阻隔膜解绕而来的阻隔膜，并在所输送的阻隔膜上利用涂布装置涂布粘结剂之后，将其它阻隔膜贴合于粘结剂的涂膜上。在这种生产线上，大多进行长时间连续的运转，与涂布装置长时间运转相对应，在运转前要准备大量的粘结剂，并且在运转过程中被保存。
另一方面，为了提高阻隔膜的密合性，有时在粘结剂中添加硅烷偶联剂或钛偶联剂等。但是，本发明人发现：使用添加有硅烷偶联剂或钛偶联剂的粘结剂来大量生产阻隔膜层叠体时，有时在阻隔膜层叠体中观察到条纹状的不均匀。若将这种阻隔膜层叠体用作发光单元的保护膜，则有可能使发光效率降低、白色平衡发生变化、或者发生发光异常(黑点或来自光源的蓝色光透过)。
本发明是鉴于上述情况而完成的，其第1目的在于，提供一种阻隔膜层叠体及其制造方法、以及使用上述阻隔膜层叠体得到的波长转换片、背光单元及电致发光单元，其中所述阻隔膜层叠体即使在使用添加有硅烷偶联剂的粘结剂来大量生产的情况下，也能够抑制不均匀的产生。
另外，作为用于防止氧或水蒸气侵入的手段，广泛采用具有阻气性的膜(以下称为“阻隔膜”。)。阻隔膜(例如)具有包含聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜等基材以及层叠于该基材的至少一个面上的阻气层的层叠结构。在将阻隔膜用于发光单元的情况下，为了穿过阻隔膜也能有效地传递来自发光体的光，要求阻隔膜除了具有阻气性之外还具有高的透明性。另外，由于阻隔膜持续地暴露于来自发光体层的热，因此期望即使暴露于高温环境下也可以长期地维持透明性。
本发明是鉴于上述情况而完成的，其第2的目的在于，提供一种阻隔膜层叠体、以及使用其得到的波长转换片及背光单元，其中所述阻隔膜层叠体具有优异的阻气性及透明性，即使暴露于高温环境下也能够长期地维持透明性。
本发明的一个方面提供一种阻隔膜层叠体，具备：第一阻隔膜，其包含第一基材层和形成于上述第一基材层上的第一阻隔层；第二阻隔膜，其包含第二基材层和形成于上述第二基材层上的第二阻隔层；及粘接层。在上述阻隔膜层叠体中，上述第一阻隔膜和上述第二阻隔膜经由上述粘接层以使得上述第一阻隔层和上述第二阻隔层相面对的方式进行贴合。上述第一阻隔层含有第一无机薄膜层和第一阻气性被覆层，上述第二阻隔层含有第二无机薄膜层和第二阻气性被覆层。另外，上述粘接层由粘结剂形成，该粘结剂含有环氧树脂、具有氨基的固化剂、以及具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂。
根据上述阻隔膜层叠体，即使在使用添加有硅烷偶联剂的粘结剂来大量生产阻隔膜层叠体的情况，也可以抑制不均匀的产生。另外，由于上述阻隔膜层叠体具有重叠阻隔膜而成的层叠结构，因此，在用于发光单元的情况下，可以抑制外力导致的发光体层的破损，且可以提高阻气性。
本发明的另一方面提供一种阻隔膜层叠体的制造方法，具备：准备包含第一基材层和形成于上述第一基材层上的第一阻隔层的第一阻隔膜、以及包含第二基材层和形成于上述第二基材层上的第二阻隔层的第二阻隔膜的工序；将粘结剂涂布于上述第一阻隔膜的上述第一阻隔层那一侧的面上从而形成涂膜的工序，其中所述粘结剂含有环氧树脂、具有氨基的固化剂、以及具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂；将上述第一阻隔膜和上述第二阻隔膜经由上述涂膜以使得上述第一阻隔层和上述第二阻隔层相面对的方式进行贴合的工序；将上述涂膜进行固化的工序。
本发明的又另一方面提供一种阻隔膜层叠体，具备：第一阻隔膜，其具有第一基材和形成于上述第一基材的一个面上的第一阻隔层；第二阻隔膜，其具有第二基材和形成于上述第二基材的一个面上的第二阻隔层；以及第一粘接层，其含有环氧化合物与胺化合物的反应产物。在上述阻隔膜层叠体中，上述第一阻隔膜和上述第二阻隔膜经由上述第一粘接层以使得上述第一阻隔层和上述第二阻隔层相面对的方式进行贴合，在空气中在温度85℃的环境下暴露1000小时之前和之后，L＊a＊b＊表色系中的色坐标b＊的变化量Δb＊为1.00以下。
在上述阻隔膜层叠体中，使用2张阻隔膜，并且将它们经由含有环氧化合物与胺化合物的反应产物的第一粘接层而进行贴合，因此，可以得到优异的阻气性。另一方面，将环氧化合物与胺化合物的反应产物用作粘接层时，在高温环境下暴露长时间时有时粘接层经常发生黄变，透明性降低。但是，在上述阻隔膜层叠体中，将2张阻隔膜以阻隔层彼此相面对的方式进行贴合，因此，可以进一步减少侵入至第一粘接层中的氧。因此，上述阻隔膜层叠体具有优异的阻气性及透明性，同时，即使暴露于高温环境下也可以长期地维持其透明性。
优选的是，上述阻隔膜层叠体还具备第二粘接层和支撑基材，上述支撑基材经由上述第二粘接层而贴合在上述第二基材的另一面上。根据上述阻隔膜层叠体，具有可以减少在以辊对辊制造时施加的热及张力所导致的皱褶的产生的倾向。另外，具有即使在第一阻隔膜及第二阻隔膜的制造中产生了皱褶、也可以充分地减少最终得到的阻隔膜层叠体的皱褶的倾向。
在上述阻隔膜层叠体中，上述第一阻隔膜及上述第二阻隔膜的水蒸气透过率均优选为100mg/(m2·天)以下。优选的是，上述阻隔膜层叠体还具备涂敷层，上述涂敷层被设置为使得其成为任意一个最外表面。
优选的是，在上述阻隔膜层叠体中，上述第一阻隔层含有第一无机薄膜层和第一阻气性被覆层，上述第二阻隔层含有第二无机薄膜层和第二阻气性被覆层。通过阻隔层具备上述构成，具有阻隔膜层叠体的阻气性进一步提高的倾向。
本发明还提供一种波长转换片，其具备上述阻隔膜层叠体和形成于上述阻隔膜层叠体的上述第一阻隔膜上的荧光体层。本发明还提供一种背光单元，其具备：光源、导光板和上述波长转换片。本发明还提供一种电致发光单元，其具备上述阻隔膜层叠体和形成于上述阻隔膜层叠体的上述第一阻隔膜上的电致发光发光体层。
发明效果
根据本发明，在其一方面中，可以提供一种阻隔膜层叠体及其制造方法、以及使用上述阻隔膜层叠体得到的波长转换片、背光单元及电致发光单元，其中所述阻隔膜层叠体即使在使用添加有硅烷偶联剂的粘结剂来大量生产的情况下，也能够抑制不均匀的产生。
根据本发明，在其它方面中，可以提供一种阻隔膜层叠体、以及使用其得到的波长转换片及背光单元，其中所述阻隔膜层叠体具有优异的阻气性及透明性，即使暴露于高温环境下也能够长期地维持透明性。
附图说明
[图1]是本发明一个方面的阻隔膜层叠体的示意性剖面图。
[图2]是本发明一个方面的波长转换片的示意性剖面图。
[图3]是本发明其它方面的阻隔膜层叠体的示意性剖面图。
[图4]是本发明其它方面的阻隔膜层叠体的示意性剖面图。
[图5]是本发明其它方面的波长转换片的示意性剖面图。
[图6]是本发明一个实施方式的背光单元的示意性剖面图。
[图7]是本发明一个实施方式的电致发光单元的示意性剖面图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式详细地进行说明。予以说明的是，本发明并不限于以下的实施方式。
[第一方面]
(阻隔膜层叠体)
图1是本发明一个方面的阻隔膜层叠体的示意性剖面图。在图1中，阻隔膜层叠体10具备第一阻隔膜16a、第二阻隔膜16b和粘接层15，并且第一阻隔膜16a和第二阻隔膜16b经由粘接层15而贴合。
优选的是，粘接层15的氧透过率在厚度为5μm条件下在厚度方向上为1000cm3/(m2·天·atm)以下。上述氧透过率更优选为500cm3/(m2·天·atm)以下，进一步优选为100cm3/(m2·天·atm)以下，更进一步优选为50cm3/(m2·天·atm)以下，特别优选为10cm3/(m2·天·atm)以下。通过粘接层15的氧透过率为1000cm3/(m2·天·atm)以下，在用于发光单元的情况下，即使阻隔层具有缺陷，也具有能够抑制缺陷周边的黑斑的产生的倾向。上述氧透过率的下限值没有特别限制，例如为0.1cm3/(m2·天·atm)。
粘接层15由含有环氧树脂、具有氨基的固化剂、以及具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂的粘结剂形成。通过将含有热固化性的环氧树脂和具有氨基的固化剂的粘结剂进行加热固化，可以使阻隔膜牢固地粘接。
进而，通过粘结剂含有具有环氧基作为官能团的硅烷偶联剂，阻隔膜的粘接变得更牢固。另外，上述粘结剂即使在制备后长时间地保存也不易白浊，即使使用保存后的粘结剂，也不易产生阻隔膜层叠体中的不均匀。据认为这是因为，若使用具有环氧基的硅烷偶联剂，则与使用不具有环氧基的硅烷偶联剂的情况相比，抑制了粘结剂中的硅烷偶联剂彼此的脱水反应，并且抑制了可成为白浊原因的高分子化。
另外，通过粘结剂含有具有氨基作为官能团的硅烷偶联剂，阻隔膜的粘接变得更牢固，另外，具有使用在制备后长时间保存的粘结剂时阻隔膜的密合力容易变得稳定的倾向。另外，具有氨基的硅烷偶联剂进一步具有2个水解性官能团，因而即使在制备后长时间地保存也不易白浊，即使使用保存后的粘结剂，也不易产生阻隔膜层叠体中的外观不均匀(外观不良)。据认为这是因为，若使用具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂，则与使用具有氨基及3个水解性官能团的硅烷偶联剂的情况相比，抑制了粘结剂中的硅烷偶联剂彼此的脱水反应，并且抑制了可成为白浊原因的高分子化。另外，通过抑制高分子化，具有容易维持阻隔膜的密合力的倾向。予以说明的是，若硅烷偶联剂具有2个水解性官能团，则与仅具有1个水解性官能团的情况相比，容易获得阻隔膜的密合性。
具有环氧基的硅烷偶联剂可以具有下式(1)表示的结构。
Si(OR1)s(Ep)t(R2)4-s-t···(1)
上述式(1)中，R1及R2分别独立地为碳原子数1～8的1价有机基团，优选为碳原子数1～8的烷基，优选为碳原子数1～4的烷基。通过R1及R2的碳原子数在上述范围内，具有水解反应性高、可得到阻隔膜16a、16b之间的更优异的密合性的倾向。另外，特别是关于R1，具有在上述范围内碳原子数越小、水解反应性越高的倾向。另一方面，关于R2，具有在上述范围内碳原子数越大、越容易对粘接层赋予挠性的倾向。Ep为具有环氧基的有机基团。作为上述有机基团，可列举例如烷基。在上述有机基团为烷基的情况下，烷基可以经由醚基而具有环氧基。上述有机基团的碳原子数优选为2～10，更优选为2～8，进一步优选为4～6。s表示1～4-t的整数。t表示1或2，优选表示1。
作为具有环氧基的硅烷偶联剂，例如可列举：3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等。
具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂可以具有下式(2)表示的结构。
Si(OR3)2(Am)r(R4)2-r···(2)
式(2)中，OR3表示水解性官能团。式(2)中，R3及R4分别独立地为碳原子数1～8的1价有机基团，优选为碳原子数1～8的烷基，更优选为碳原子数1～4的烷基。R3为烷基的情况下，水解性官能团为烷氧基。通过R3及R4的碳原子数在上述范围内，具有水解反应性高、可得到阻隔膜16a、16b间的更优异的密合性的倾向。另外，特别是关于R3，具有在上述范围内碳原子数越小水解反应性越高的倾向。另一方面，关于R4，具有在上述范围内碳原子数越大、越容易对粘接层赋予挠性的倾向。Am为具有氨基的有机基团。Am可以为具有有机基团Ra和键合于有机基团Ra的氨基的基团(-RaNH2)，也可以为具有有机基团Ra和键合于有机基团Ra的氨基以及键合于该氨基的其它有机基团Rb的基团(-RaNHRb)，还可以为具有有机基团Ra和键合于有机基团Ra的氨基以及键合于该氨基的其它有机基团Rb及Rc的基团(-RaNRbRc)。作为有机基团Ra，可列举例如碳原子数1～8的亚烷基等。作为有机基团Rb及Rc，可列举碳原子数1～8的烷基及苯基等。有机基团Rb及Rc可以相同或不同，有机基团Rb及Rc也可以合起来作为双键而与氨基键合。也可以在有机基团Ra、Rb及Rc上进一步键合其它氨基。r表示1或2，优选表示1。
作为具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂，例如可列举：N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-氨基丙基二甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基丁基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基己基甲基二甲氧基硅烷、及N-2-(氨乙基)-3-氨基辛基甲基二甲氧基硅烷等。
上述粘结剂中的环氧树脂与具有氨基的固化剂的含量比(环氧树脂/固化剂(不挥发成分的质量比))优选为1.0以下，更优选为0.1～0.5，进一步优选为0.1～0.35。粘结剂含有上述范围内的环氧树脂和具有氨基的固化剂，从而进一步容易获得阻隔膜的密合性。另外，粘结剂(不挥发成分的总量)中，具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂的含量优选为5～20质量％，更优选为7～15质量％。粘结剂中的硅烷偶联剂的含量为5质量％以上，因而具有第一阻隔膜16a和第二阻隔膜16b的密合性稳定地容易获得的倾向。另外，粘结剂中的硅烷偶联剂的含量为20质量％以下，因而具有可得到更良好的外观的倾向。粘结剂中的环氧树脂与具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂的含量比(环氧树脂/硅烷偶联剂(不挥发成分的质量比))优选为1.0～20，更优选为1.2～10，进一步优选为1.3～5.0，特别优选为1.5～3.0。粘结剂含有上述范围内的环氧树脂以及具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂，因而容易获得密合性优异、且不均匀少的阻隔膜层叠体。
粘接层15的厚度优选为0.5～50μm，更优选为1～20μm，进一步优选为2～6μm。通过粘接层15的厚度为0.5μm以上，容易获得第一阻隔膜16a和第二阻隔膜16b的密合性，通过上述厚度为50μm以下，容易获得阻气性。
图1中，第一阻隔膜16a包含第一基材层11a和形成于第一基材层11a上的第一阻隔层14a，第二阻隔膜16b包含第二基材层11b和形成于第二基材层11b上的第二阻隔层14b。
第一基材层11a及第二基材层11b为用于抑制加工及流通等过程中的破损的层。作为第一基材层11a和第二基材层11b，例如可列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；尼龙等聚酰胺；聚丙烯及环烯烃聚合物等聚烯烃；聚碳酸酯；以及三醋酸纤维素等的膜，但并不限于这些。第一基材层11a及第二基材层11b优选为聚酯膜、聚酰胺膜或聚烯烃膜，更优选为聚酯膜或聚酰胺膜，进一步优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或聚萘二甲酸乙二醇酯膜。另外，第一基材层11a及第二基材层11b优选进行双轴拉伸。第一基材层11a与第二基材层11b可以相同或不同。
第一基材层11a及第二基材层11b的厚度没有特别限制，优选为3μm以上100μm以下，更优选为5μm以上50μm以下。
根据需要，在第一基材层11a及第二基材层11b上分别经由锚固涂层(未图示)而形成第一阻隔层14a及第二阻隔层14b。作为锚固涂层，可列举聚酯树脂等，锚固涂层的厚度为0.01～1μm左右。
第一阻隔膜16a和第二阻隔膜16b以第一阻隔层14a与第二阻隔层14b相面对的方式进行贴合。由此，可以得到更优异的阻气性，另外，可以保护第一阻隔层14a及第二阻隔层14b免受外力，从而可以得到更稳定的阻气性。
第一阻隔膜16a也可以含有2个以上的第一阻隔层14a，并且第二阻隔膜16b也可以含有2个以上第二阻隔层14b。在第一阻隔膜16a具备2个以上的第一阻隔层14a的情况下，多个第一阻隔层14a的构成可以相同也可以不同。在上述第二阻隔膜16b具备2个以上的第二阻隔层14b的情况下，多个第二阻隔层14b的构成可以相同也可以不同。在将上述阻隔膜层叠体10用于发光单元的情况下，阻隔膜层叠体10以第一阻隔膜16a与发光体层相接的方式进行配置。通过使阻隔膜层叠体10为层叠有第一阻隔膜16a和第二阻隔膜16b的阻隔膜层叠体，在用于发光单元的情况下，可以抑制外力导致的发光体层的破损，且使阻气性提高。
第一阻隔层14a包含第一无机薄膜层12a和第一阻气性被覆层13a，并且在第一基材层11a上依次层叠有第一无机薄膜层12a和第一阻气性被覆层13a。第二阻隔层14b包含第二无机薄膜层12b和第二阻气性被覆层13b，并且在第二基材层11b上依次层叠有第二无机薄膜层12b和第二阻气性被覆层13b。
第一无机薄膜层12a及第二无机薄膜层12b含有无机化合物，优选含有金属氧化物。作为上述金属氧化物，例如可列举：铝、铜、银、钇、钽、硅、镁等金属的氧化物。由于金属氧化物廉价且阻隔性能优异，因此，优选为氧化硅(SiOx，x为1.0～2.0)。x为1.0以上时，具有容易得到良好的阻气性的倾向。
第一无机薄膜层12a及第二无机薄膜层12b的形成方法优选为真空成膜。作为真空成膜，可列举物理气相沉积法及化学气相沉积法。作为物理气相沉积法，例如可列举：蒸镀法、溅射法、离子镀法等。另外，作为化学气相沉积法，例如可列举：热CVD法、等离子体CVD法、光CVD法等。从制造成本的观点出发，第一无机薄膜层12a或第二无机薄膜层12b优选为由蒸镀法形成的无机蒸镀膜层。
第一无机薄膜层12a及第二无机薄膜层12b的厚度优选为10～300nm，更优选为20～100nm。通过第一无机薄膜层12a及第二无机薄膜层12b的厚度为10nm以上，具有容易得到均匀的膜、并且容易获得阻气性的倾向。另一方面，通过第一无机薄膜层12a及第二无机薄膜层12b的厚度为300nm以下，可以在第一无机薄膜层12a及第二无机薄膜层12b中保持柔软性，具有在成膜后不容易因弯曲、拉伸等外力而产生龟裂等的倾向。
第一阻气性被覆层13a及第二阻气性被覆层13b优选由含有选自由下式(3)表示的金属醇盐及其水解物所构成的组中的至少1种的组合物形成。
M1(OR5)m(R6)n-m···(3)
上式(3)中，R5及R6分别独立地为碳原子数1～8的1价有机基团，优选为甲基、乙基等烷基。M1表示Si、Ti、Al、Zr等n价金属原子。m为1～n的整数。作为金属醇盐，例如可列举：四乙氧基硅烷[Si(OC2H5)4]、三异丙氧基铝[Al(O-iso-C3H7)3]等。关于金属醇盐，由于在水解后在水系溶剂中比较稳定，因此优选为四乙氧基硅烷或三异丙氧基铝。作为金属醇盐的水解物，例如可列举作为四乙氧基硅烷的水解产物的硅酸(Si(OH)4)、以及作为三丙氧基铝的水解产物的氢氧化铝(Al(OH)3)等。这些物质不仅可以使用1种，而且也可以组合多种使用。上述组合物中的金属醇盐及其水解物的含量例如为10～90质量％。
上述组合物可以进一步含有含羟基的高分子化合物。作为含羟基的高分子化合物，例如可列举：聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮及淀粉等水溶性高分子。从阻隔性的观点出发，含羟基的高分子化合物优选为聚乙烯醇。这些物质不仅可以使用1种，而且也可以组合多种使用。上述组合物中的含羟基的高分子化合物的含量例如为10～90质量％。
第一阻气性被覆层13a及第二阻气性被覆层13b的厚度优选为50～1000nm，更优选为100～500nm。第一阻气性被覆层13a及第二阻气性被覆层13b的厚度为50nm以上时，具有可以得到更充分的阻气性的倾向，上述厚度为1000nm以下时，具有可以保持充分的柔软性的倾向。
为了发挥光散射功能，阻隔膜层叠体10可以在第二阻隔膜16b一侧的表面上进一步具备涂敷层(未图示)。阻隔膜层叠体10具备涂敷层，从而除了光散射功能以外，还可以得到防止干涉条纹(莫尔条纹)的功能及防止反射的功能等。
阻隔膜层叠体10可以优选用作由于与氧或水蒸气等接触而可能劣化的发光体的保护膜(发光体保护膜)。作为上述发光体，可列举量子点等荧光体、电致发光发光体等。
对本实施方式的阻隔膜层叠体的制造方法进行说明。首先，准备第一阻隔膜16a及第二阻隔膜16b。第一阻隔膜16a及第二阻隔膜16b的制作方法如上所述。接着，将上述粘结剂涂布于第一阻隔膜16a的第一阻隔层14a一侧(或第二阻隔膜16b的第二阻隔层14b一侧)的面上，形成涂膜。作为粘结剂的涂布方法，可列举反向凹版涂敷方法等。采用这些涂布方法涂布发生白浊了的粘结剂时，容易产生刮刀条纹，有可能产生条纹状的涂布遗漏，在阻隔膜间产生部分的浮起，有可能成为外观不良(条纹状的不均匀)。根据需要，上述涂膜可以进行干燥。干燥温度为70～130℃、或80～130℃左右，干燥时间为10～60秒左右。其后，将第一阻隔膜16a和第二阻隔膜16b经由上述涂膜以使得第一阻隔层14a和第二阻隔层14b相面对的方式进行贴合。贴合后，通过使上述涂膜加热固化，上述涂膜成为粘接层15，从而可以制造阻隔膜层叠体10。用于使上述涂膜固化的加热(老化)温度例如为40～60℃，加热时间例如为1～4天。
在本实施方式中，由于粘结剂含有具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂，因此，可以不依赖于粘结剂的干燥温度而抑制白浊，另外，可以得到阻隔膜的稳定密合性。
(波长转换片)
图2是本发明一个方面的波长转换片的示意性剖面图。波长转换片为能够转换来自液晶显示器用背光单元的光源的光的一部分波长的片材。如图2所示，波长转换片20通常构成为具备第一保护膜、形成于上述第一保护膜上的荧光体层21、以及设置于上述荧光体层21上的第二保护膜22。波长转换片20在第一保护膜及第二保护膜22之间具有包入有(即密封有)荧光体层21的结构。图2中，第一保护膜使用了上述的阻隔膜层叠体10。另一方面，第二保护膜22可以使用上述的阻隔膜层叠体10，也可以使用其它的保护膜。另外，波长转换片20也可以不必具备第二保护膜22。即，波长转换片20具备：阻隔膜层叠体10、和形成于上述阻隔膜层叠体10的上述第一阻隔膜16a上的荧光体层21。
荧光体层21含有树脂及荧光体。荧光体层21的厚度为数十至数百μm。作为上述树脂，例如可以使用光固化性树脂或热固化性树脂。荧光体层21优选含有由量子点构成的2种荧光体。另外，荧光体层21可以为含有1种荧光体的荧光体层与含有其它种的荧光体的荧光体层层叠2层以上而得的层。2种荧光体可选择激发波长相同的荧光体。激发波长基于背光单元的光源所照射的光的波长来选择。2种荧光体的荧光颜色相互不同。在光源使用蓝色发光二极管(蓝色LED)的情况下，各荧光颜色为红色及绿色。各荧光的波长、以及光源所照射的光的波长基于彩色滤光片的分光特性来选择。关于荧光的峰波长，例如，在红色中为610nm，在绿色中为550nm。
接着，对荧光体的粒子结构进行说明。作为荧光体，特别优选使用发光效率优良的芯/壳型量子点。芯/壳型量子点是作为发光部的半导体结晶芯被作为保护膜的壳被覆而成的。例如，芯可以使用硒化镉(CdSe)，壳可以使用硫化锌(ZnS)。CdSe粒子的表面缺陷通过被带隙大的ZnS被覆从而量子收率提高。另外，荧光体中，芯也可以被第一壳及第二壳双重地被覆。该情况下，芯可以使用CdSe，第一壳可以使用硒化锌(ZnSe)，第二壳可以使用ZnS。
荧光体层21可以具有使荧光体全部分散于单一层中而成的单层构成，也可以具有使各荧光体分别分散于多个层中、并使这些层层叠而成的多层构成。
下面，一边参照图2，一边对本实施方式的波长转换片20的制造方法进行说明。作为荧光体层21的形成方法，没有特别限定，例如可列举日本特表2013-544018号说明书中所记载的方法。使荧光体分散于粘合剂树脂中，将所制备的荧光体分散液涂布于第一保护膜(阻隔膜层叠体10)的第一阻隔膜16a那一侧的面上之后，将第二保护膜22贴合于涂布面上，并将荧光体层21固化，由此可以制造波长转换片20。另外，相反地，在第二保护膜22的一个面上涂布上述荧光体分散液，在涂布面上以第一阻隔膜16a与荧光体层21相面对的方式贴合阻隔膜层叠体10，并将荧光体层21固化，由此也可以制造波长转换片20。
[第二方面]
(发光体保护膜)
图3是本发明另一方面的阻隔膜层叠体的示意性剖面图。阻隔膜层叠体可以优选用作由于与氧或水蒸气等接触而可能劣化的发光体的保护膜(发光体保护膜)。以下，有时将阻隔膜层叠体称为发光体保护膜。图3中，发光体保护膜10具备第一阻隔膜1、第二阻隔膜2和第一粘接层5，第一阻隔膜1和第二阻隔膜2经由第一粘接层5而贴合。在第二阻隔膜2的与第一阻隔膜1相反一侧的面上，根据需要设置有涂敷层7。由于发光体保护膜10具备2张阻隔膜，因此可得到高的阻气性。另外，本实施方式中，第一粘接层5含有环氧化合物与胺化合物的反应产物。第一粘接层5不仅可以得到阻隔膜彼此的粘接性，而且与使用其它材料得到的粘接层相比可以得到更优异的阻气性。
第一阻隔膜1具有第一基材1a和形成于第一基材1a的一个面上的第一阻隔层1b，第二阻隔膜2具有第二基材2a和形成于第二基材2a的一个面上的第二阻隔层2b，第一阻隔层1b和第二阻隔层2b相面对。换句话说，第一粘接层5以与第一阻隔层1b及第二阻隔层2b这两者邻接的方式而配置，并且被这些阻隔层夹持。在第一阻隔层1b及第二阻隔层2b与第一粘接层5之间配置有其它层的情况下，可能有少量氧从该其它层的端部侵入，并供给至粘接层。但是，在具备上述层构成的发光体保护膜10中也可以抑制这种少量的氧的侵入，结果，即使在长时间地暴露于高温环境下的情况下，也可以抑制第一粘接层5的黄变、进而抑制作为发光体保护膜10整体的黄变，作为发光体保护膜，可以维持足够高的透明性。将具备这种构成的发光体保护膜10在空气(1atm)中温度85℃的环境下暴露1000小时之前和之后，发光体保护膜的L＊a＊b＊表色系中的色坐标b＊的变化量Δb＊可以为1.00以下。变化量Δb＊优选为0.50以下，更优选为0.30以下，进一步优选为0.10以下。通过该变化量Δb＊在上述范围内，即使发光体保护膜10暴露于高温环境下，也可以长期地维持透明性。予以说明的是，L＊a＊b＊表色系为利用CIE进行了规格化的表色系。
第一基材1a及第二基材2a分别为形成第一阻隔层1b及第二阻隔层2b的基材，也可以抑制加工及流通等过程中的破损。从发光体保护膜10的透明性的观点出发，第一基材1a及第二基材2a的总光线透过率优选为85％以上。作为这种基材，可列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；尼龙等聚酰胺；聚丙烯及环烯烃等聚烯烃；聚碳酸酯；以及三醋酸纤维素等，但并不限于这些。另外，优选将第一基材1a及第二基材2a进行双轴拉伸。第一基材1a及第二基材2a的厚度优选为9～100μm，更优选为12～50μm。基材1a、2a的厚度分别为9μm以上时，可以充分地确保基材1a、2a的强度，该厚度为100μm以下时，可以有效且经济地制造长的辊(阻隔膜1，2的辊)。
第一基材1a的厚度和第二基材2a的厚度可以相同，也可以不同。从使波长转换片的厚度更薄的观点出发，可以使接近于发光体层那一侧的第一基材1a的厚度比远离发光体层那一侧的第二基材2a更薄。由于水分及气体主要从波长转换片的表面透过，因此，可以将第二基材2a的厚度相对地变厚以防止水分或氧从表面透过，同时使第一基材1a的厚度相对地变薄从而使波长转换片整体的厚度变薄。水分及氧的透过不仅从阻隔膜1、2的表面发生，而且也从端面处发生，因此，第一基材1a的厚度较薄时，可以抑制水分或氧从端面侵入。第一基材1a的厚度优选为40μm以下。
在第一基材1a及第二基材2a上，分别根据需要经由锚固涂层(未图示)而形成第一阻隔层1b及第二阻隔层2b。作为锚固涂层，可列举聚酯树脂等，锚固涂层的厚度为0.01～1μm左右。
第一阻隔层1b优选包含第一无机薄膜层1v和第一阻气性被覆层1c。即，第一阻隔层1b为这样的构成：在第一基材1a的一个面上设置有第一无机薄膜层1v、在该第一无机薄膜层1v上设置有第一阻气性被覆层1c。第二阻隔层2b优选包含第二无机薄膜层2v和第二阻气性被覆层2c。即，第二阻隔层2b为这样的构成：在第二基材2a的一个面上设置有第二无机薄膜层2v、在该第二无机薄膜层2v上设置有第二阻气性被覆层2c。
作为无机薄膜层1v、2v，没有特别限定，例如可以使用氧化铝、氧化硅、氧化镁或它们的混合物。这些当中，从阻隔性、生产率的观点出发，优选使用氧化铝或氧化硅。
无机薄膜层1v、2v含有无机化合物，优选含有金属氧化物。作为上述金属氧化物，例如可列举：铝、铜、银、钇、钽、硅、镁等金属的氧化物。由于金属氧化物廉价且阻气性优异，因此优选为氧化硅(SiOx、x为1.0～2.0)。x为1.0以上时，具有容易得到良好的阻气性的倾向。
从制造成本的观点出发，无机薄膜层1v、2v优选为由蒸镀法形成的无机蒸镀膜层。在无机薄膜层1v、2v为无机蒸镀膜层的情况下，有时由于蒸镀材料的飞散(飞溅)而在无机薄膜层1v、2v中产生孔。虽然产生飞溅的频率少，但是，由飞溅产生的孔为比较大的缺陷，可成为贯通基材1a、2a的孔。因此，产生了由飞溅引起的孔的保护膜可成为氧的侵入路径。特别是，在配置于接近于发光体层那一侧的第一基材1a及第一无机薄膜层1v中产生孔的情况下，在该孔的周边的发光体层中更容易产生黑斑。但是，若后述的第一粘接层5的氧透过率为1000cm3/(m2·天·atm)以下，则即使存在如上所述比较大的缺陷，也与没有缺陷时同样地容易抑制黑斑的产生。因此，通过第一无机薄膜层1v为无机蒸镀膜层、且第一粘接层5的氧透过率为1000cm3/(m2·天·atm)以下，可减少制造成本，并且可容易地抑制黑斑的产生。
无机薄膜层1v、2v的厚度(膜厚)各自优选为5～500nm，更优选为10～100nm。膜厚为5nm以上时，具有容易形成均匀的膜、可以更充分地发挥阻气性的功能的倾向。另一方面，膜厚为500nm以下时，可以在无机薄膜层中保持更充分的挠性，具有可以更可靠地防止在成膜后因弯曲、拉伸等外部原因而在薄膜中产生龟裂的倾向。予以说明的是，第一无机薄膜层1v的厚度和第二无机薄膜层2v的厚度可以相同，也可以不同。
第一阻气性被覆层1c及第二阻气性被覆层2c分别是为了防止后续工序中的二次性各种损伤、同时赋予高的阻隔性而设置的。从得到优异的阻隔性的观点出发，这些阻气性被覆层1c、2c优选含有选自由含羟基的高分子化合物、金属醇盐、金属醇盐水解物及金属醇盐聚合物构成的组中的至少1种作为成分。
作为含羟基的高分子化合物，例如可列举：聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮及淀粉等水溶性高分子。从阻隔性的观点出发，含羟基的高分子化合物优选为聚乙烯醇。这些物质不仅可以使用1种，而且也可以组合多种使用。
作为金属醇盐，例如可列举下式(4)表示的化合物。
M2(OR7)p(R8)q-p···(4)
上式(4)中，R7及R8分别独立地为碳原子数1～8的1价有机基团，优选为甲基、乙基等烷基。M2表示Si、Ti、Al、Zr等q价金属原子。p为1～q的整数。作为金属醇盐，例如可列举：四乙氧基硅烷[Si(OC2H5)4]、三异丙氧基铝[Al(O-iso-C3H7)3]等。关于金属醇盐，由于在水解后在水系溶剂中比较稳定，因此优选为四乙氧基硅烷或三异丙氧基铝。作为金属醇盐的水解物，例如可列举：作为四乙氧基硅烷的水解产物的硅酸(Si(OH)4)、以及作为三丙氧基铝的水解产物的氢氧化铝(Al(OH)3)等。这些物质不仅可以使用1种，而且也可以组合多种使用。
阻气性被覆层1c、2c的厚度(膜厚)各自优选为50～1000nm，更优选为100～500nm。膜厚为50nm以上时，具有可以得到更充分的阻气性的倾向，膜厚为1000nm以下时，具有可以保持更充分的挠性的倾向。予以说明的是，第一阻气性被覆层1c的厚度和第二阻气性被覆层2c的厚度可以相同，也可以不同。
阻隔膜1、2的水蒸气透过率优选为100mg/(m2·天)以下，更优选为50mg/(m2·天)以下。通过阻隔膜1、2的水蒸气透过率为100mg/(m2·天)以下，具有可得到更优异的阻气性的倾向。
第一粘接层5是通过将含有环氧化合物和胺化合物的热固化性的粘结剂进行固化而得到的，含有上述环氧化合物与胺化合物的反应产物。具备如上述那样得到的第一粘接层5的发光体保护膜10可得到更高的阻气性。第一粘接层5的氧透过率在厚度为5μm条件下在厚度方向上优选为1000cm3/(m2·天·atm)以下。上述氧透过率更优选为500cm3/(m2·天·atm)以下，进一步优选为100cm3/(m2·天·atm)以下，更进一步优选为50cm3/(m2·天·atm)以下，特别优选为10cm3/(m2·天·atm)以下。通过第一粘接层5的氧透过率为1000cm3/(m2·天·atm)以下，在用于发光单元的情况下，具有即使阻隔膜具有缺陷也可以抑制该缺陷周围的发光体层中的黑斑的产生的倾向。上述氧透过率的下限值没有特别限制，例如为0.1cm3/(m2·天·atm)。
第一粘接层5的厚度优选为0.5～50μm，更优选为1～20μm，进一步优选为2～6μm。通过第一粘接层5的厚度为0.5μm以上，容易得到第一阻隔膜1与第二阻隔膜2的密合性，通过上述厚度为50μm以下，容易获得更优异的阻气性及透明性。
涂敷层(消光层)7是为了发挥一种以上的光学功能、防静电功能或防损伤功能而设置于第二基材2a的另一面上的，其成为发光体保护膜10的最外表面。作为光学功能，没有特别限定，可列举防止干涉条纹(莫尔条纹)功能、防止反射功能、扩散功能等。这些当中，优选的是涂敷层7至少具有防止干涉条纹功能作为光学功能。在本实施方式中，对涂敷层7至少具有防止干涉条纹功能的情况进行说明。
涂敷层7例如含有粘合剂树脂和微粒而构成。通过以微粒的一部分从涂敷层7的表面突出的方式将微粒埋入于粘合剂树脂中，可以在涂敷层7的表面上产生微细的凹凸。这样，通过将涂敷层7设置在与发光体层相反一侧的表面上，可以更充分地防止牛顿环等干涉条纹的产生。
作为粘合剂树脂，没有特别限定，可以使用光学透明性优异的树脂。更具体而言，例如可以使用：聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、丙烯酸氨基甲酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨酯丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂、环氧系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、三聚氰胺系树脂、苯酚系树脂等。粘合剂树脂可以为热塑性树脂、热固化性树脂及放射线固化性树脂中的任一种。这些当中，优选使用耐光性或光学特性优异的丙烯酸系树脂。这些树脂不仅可以使用一种，而且也可以组合多种使用。
作为微粒，没有特别限定，例如除了二氧化硅、粘土、滑石、碳酸钙、硫酸钙、硫酸钡、氧化钛、氧化铝等无机微粒之外，还可以使用苯乙烯树脂、氨基甲酸酯树脂、硅酮树脂、丙烯酸树脂等有机微粒。这些微粒不仅可以使用一种，而且也可以组合多种使用。
微粒的平均粒径优选为0.1～30μm，更优选为0.5～10μm。微粒的平均粒径为0.1μm以上时，具有可得到优异的防止干涉条纹功能的倾向，微粒的平均粒径为30μm以下时，具有透明性进一步提高的倾向。涂敷层7中的微粒的含量以涂敷层7总量为基准优选为0.5～30质量％，更优选为3～10质量％。微粒的含量为0.5质量％以上时，具有防止光扩散功能和干涉条纹产生的效果进一步提高的倾向，微粒的含量为30质量％以下时，具有可以充分地抑制亮度降低的倾向。
如图4所示，发光体保护膜10可以进一步具备第二粘接层6和支撑基材3。在图4中，支撑基材3在第二基材2a的另一个面上经由第二粘接层6而贴合，并且涂敷层7形成于支撑基材3上而成为最外表面。通过发光体保护膜10具备支撑基材3，具有可以减少在以辊对辊制造发光体保护膜10时施加的热及张力导致的皱褶的产生的倾向。另外，具有即使在第一阻隔膜及第二阻隔膜的制造中产生皱褶，最终也可以充分减少皱褶的倾向。
作为支撑基材3，没有特别限定，优选总光线透过率为85％以上的基材。例如，作为透明性高、耐热性优异的基材，可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜等。支撑基材3的厚度优选为10～250μm，更优选为25～240μm，进一步优选为40～210μm，特别优选为55～200μm。通过支撑基材3的厚度为10μm以上，容易充分地确保用于得到发光体保护膜10的皱褶改善效果的支撑基材3的强度，通过支撑基材3的厚度为250μm以下，容易抑制波长转换片的总厚度过厚。
如图4所示，为了将阻隔膜2和支撑基材3贴合并层叠，将第二粘接层6设置于阻隔膜2和支撑基材3之间。作为构成第二粘接层6的粘结剂，可列举丙烯酸系粘结剂、环氧系粘结剂、氨基甲酸酯系粘结剂等。作为构成第二粘接层6的粘合剂，可列举：丙烯酸系粘合剂、聚乙烯基醚系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、硅酮系粘合剂、淀粉糊系粘结剂等。粘合剂优选为丙烯酸系粘合剂。通过使用丙烯酸系粘合剂，容易长期间地维持第二粘接层6的透明性。第二粘接层6的厚度优选为0.5～50μm，更优选为1～20μm，进一步优选为2～6μm。通过第二粘接层6的厚度为0.5μm以上，容易得到阻隔膜2和支撑基材3的密合性，通过第二粘接层6的厚度为50μm以下，容易获得更优异的阻气性。
下面，对发光体保护膜10的制造方法进行说明。首先，例如利用辊对辊方式分别制造阻隔膜1、2。具体而言，在第一基材1a的一个面上利用(例如)蒸镀法等层叠无机薄膜层1v。接着，将以含有选自由含羟基的高分子化合物、金属醇盐、金属醇盐水解物及金属醇盐聚合物构成的组中的至少1种成分等的水溶液或者水/醇混合溶液为主剂的涂敷剂涂布于无机薄膜层1v的表面上，并且(例如)在80～250℃下进行干燥，由此形成阻气性被覆层1c。由此，可得到在第一基材1a的一个面上设置有阻隔层1b(无机薄膜层1v及阻气性被覆层1c)的第一阻隔膜1。通过进行与此同样的操作，可得到在第二基材2a的一个面上设置有阻隔层2b(无机薄膜层2v及阻气性被覆层2c)的第二阻隔膜2。
予以说明的是，为了提高基材与层叠于其表面的无机薄膜层的密合性，可以在基材和无机薄膜层之间设置锚固涂层。锚固涂层可以通过将含有上述树脂的溶液涂布于基材上、在(例如)50～200℃下进行干燥固化而形成。锚固涂层的厚度优选设为5～500nm的范围内，更优选设为10～100nm的范围内。
分别制造第一阻隔膜1及第二阻隔膜2之后，通过将它们用第一粘接层5进行贴合从而制造层叠膜。具体而言，使用层压装置，利用辊对辊方式使第一阻隔膜1的阻隔层1b和第二阻隔膜2的阻隔层2b相面对，用构成第一粘接层5的粘结剂(或粘合剂)来贴合阻隔膜1、2，并且将粘结剂干燥，由此得到层叠膜。
进而，可以将层叠膜和支撑基材3贴合在一起。具体而言，使用层压装置，利用辊对辊方式使层叠膜的第二基材2a和支撑基材3相面对，并且用构成第二粘接层6的粘结剂(或粘合剂)将层叠膜与支撑基材3贴合。通过将粘结剂干燥，可得到保护膜。
接着，利用辊对辊方式在保护膜的一个表面(例如，支撑基材3表面)上根据需要形成涂敷层7。具体而言，在保护膜的一个面(例如支撑基材3表面)上涂布将粘合剂树脂、微粒和根据需要的溶剂混合而成的涂敷液并进行干燥，从而形成涂敷层7。由此，可得到带涂敷层的保护膜。如以上那样，可得到发光体保护膜10。
(波长转换片)
图5是本发明一个实施方式的波长转换片的示意性剖面图。波长转换片是能够转换来自液晶显示器用背光单元的光源的光的一部分波长的片材。图5中，波长转换片100具备：荧光体层50、以及在荧光体层50的一个面及另一个面上作为第一保护膜及第二保护膜而分别设置的发光体保护膜10、10。即，依次层叠发光体保护膜10、荧光体层50及发光体保护膜10。波长转换片100成为在一对发光体保护膜10、10之间包入有(即密封有)荧光体层50而成的结构。一对发光体保护膜10、10以各自的第一阻隔膜朝向荧光体层50的方式进行配置。
荧光体层50为厚度数十至数百μm的薄膜，如图5所示，包含密封树脂51和荧光体52。在密封树脂51的内部，荧光体52以混合有一种以上的状态而被密封。在将荧光体层50和一对发光体保护膜10、10进行层叠时，密封树脂51发挥出将它们接合、同时填埋它们的空隙的作用。荧光体层50可以是仅密封有一种荧光体52的荧光体层层叠两层以上而得到的。用于这些一层或两层以上的荧光体层中的两种以上的荧光体52可选择激发波长相同的荧光体。该激发波长基于光源L所照射的光的波长来进行选择。两种以上的荧光体52的荧光颜色相互不同。在光源中使用蓝色发光二极管(蓝色LED)的情况下，各荧光颜色为红色和绿色。各荧光的波长、及光源所照射的光的波长基于彩色滤光片的分光特性来进行选择。关于荧光的峰波长，例如，红色为610nm，绿色为550nm。
作为密封树脂51，可以使用(例如)热塑性树脂、热固化性树脂、及紫外线固化型树脂等。这些树脂可以单独使用一种，或者可以组合两种以上使用。
作为热塑性树脂，例如可以使用：乙酰纤维素、硝基纤维素、乙酰丁基纤维素、乙基纤维素及甲基纤维素等纤维素衍生物；醋酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、及偏二氯乙烯及其共聚物等乙烯基系树脂；聚乙烯基缩甲醛及聚乙烯基缩丁醛等缩醛树脂；丙烯酸树脂及其共聚物、甲基丙烯酸树脂及其共聚物等丙烯酸系树脂；聚苯乙烯树脂；聚酰胺树脂；线状聚酯树脂；氟树脂；以及聚碳酸酯树脂等。作为热固化性树脂，可列举：酚醛树脂、尿素三聚氰胺树脂、聚酯树脂、及硅酮树脂等。作为紫外线固化型树脂，可列举：环氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、及聚酯丙烯酸酯等光聚合性预聚物。另外，也可以以这些光聚合性预聚物为主成分，使用单官能或多官能的单体作为稀释剂。
作为荧光体52，优选使用量子点。作为量子点，例如，可列举作为发光部的芯被作为保护膜的壳被覆而成的量子点。作为芯，例如可列举硒化镉(CdSe)等，作为壳，例如可列举硫化锌(ZnS)等。由于CdSe粒子的表面缺陷被带隙大的ZnS被覆从而量子效率提高。另外，荧光体52可以为芯被第一壳及第二壳双重被覆而成的荧光体。该情况下，芯可以使用CdSe，第一壳可以使用硒化锌(ZnSe)，第二壳可以使用ZnS。另外，作为除了量子点以外的荧光体52，也可以使用YAG：Ce等。
荧光体52的平均粒径优选为1～20nm。荧光体层50的厚度优选为1～500μm。关于荧光体层50中的荧光体52的含量，以荧光体层50总量为基准，优选为1～20质量％，更优选为3～10质量％。
予以说明的是，在波长转换片100的上述实施方式中，发光体保护膜10设置在荧光体层50的两面，但是也可以仅设置于荧光体层50的一个面上。即，可以在荧光体层50的一个面上设置发光体保护膜10作为第一保护膜，并且在另一个面上设置其它保护膜作为第二保护膜。
作为波长转换片100的制造方法，没有特别限定，可列举以下的方法。例如，使荧光体52分散于密封树脂51中，将所制备的荧光体分散液涂布于发光体保护膜10的第一阻隔膜1那一侧的面上之后，将其它发光体保护膜10贴合于涂布面上，将荧光体层50固化，由此可以制造波长转换片100。
[背光单元]
通过使用上述波长转换片20、100，可得到背光单元。图6是使用上述波长转换片100得到的背光单元的示意性剖面图。图6中，背光单元200具备光源L和上述波长转换片100，并且夹持着上述荧光体层50而在与上述光源L相反侧配置上述阻隔膜层叠体10。详细而言，背光单元200依次配置有波长转换片100、导光板G及反射板R，光源L配置于上述导光板G的侧面(导光板G的面方向)。导光板G的厚度例如为100～1000μm。
导光板G及反射板R有效地反射从光源L照射的光并导入，可使用公知的材料。作为导光板G，例如可使用亚克力、聚碳酸酯、及环烯烃膜等。在光源L上设置有多个(例如)蓝色发光二极管元件。该发光二极管元件可以为紫色发光二极管、或更低波长的发光二极管。从光源L照射的光入射于导光板G(D1方向)之后，伴随着反射及折射等而入射于荧光体层50(D2方向)。对于通过了荧光体层50的光而言，由于在通过荧光体层50之前的光中混合了在荧光体层50中所产生的黄色光，从而变成了白色光。
[电致发光单元]
图7是本发明一个实施方式的电致发光单元的示意性剖面图。本实施方式的电致发光单元300具备电致发光发光体层256和阻隔膜层叠体10。电致发光单元300(例如)通过用第一保护膜及第二保护膜262夹持电极元件同时进行密封而得到，其中所述电极元件包括透明电极层254、设置于该透明电极层254上的电致发光发光体层256、设置于该电致发光发光体层256上的电介体层258、和设置于该电介体层258上的背面电极层260。上述电致发光单元中，第一保护膜可使用上述的阻隔膜层叠体10。电致发光发光体层256形成于上述阻隔膜层叠体10的第一阻隔膜1、16a上。
在电致发光单元中，据认为可以产生与对波长转换片进行了说明的机制同样的机制所导致的黑斑。根据本实施方式的电致发光单元300，作为设置于含有电致发光发光体层256的电极元件上的保护膜，通过使用上述阻隔膜层叠体10，即使该阻隔膜层叠体10在阻隔层中具有缺陷，也可以抑制黑斑的产生。
各电极层、电致发光发光体层及电介体层(例如)可以通过蒸镀及溅射法等，使用公知的材料来形成。
实施例
以下，列举实施例具体地说明本发明，但本发明的范围并不限于这些实施例。
[阻隔膜层叠体的制作]
(实施例1-1)
以甲苯二异氰酸酯的NCO基的数量相对于丙烯酸多元醇的OH基的数量为等量的方式，将丙烯酸多元醇和甲苯二异氰酸酯进行混合，并且用醋酸乙酯进行稀释使得总固体成分成为5质量％。在稀释后的混合液中，以相对于总固体成分成为5质量％的方式进一步添加β-(3,4环氧环己基)三甲氧基硅烷，并且将这些物质进行混合从而制作锚固涂层组合物。
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第一基材层，厚度：25μm)的一个面上利用棒涂法涂布上述锚固涂层组合物，在100℃下干燥固化1分钟，由此形成厚度50nm的锚固涂层。
使用电子束加热式的真空蒸镀装置，将氧化硅材料(SiO，Canon Optron株式会社制)在1.5×10-2Pa的压力下通过电子束加热使其蒸发，从而在上述锚固涂层上形成厚度30nm的SiOx膜(第一无机薄膜层)。予以说明的是，蒸镀时的加速电压为40kV，发射电流为0.2A。
接着，将四乙氧基硅烷10.4质量份和盐酸(浓度：0.1N)89.6质量份进行混合，将混合液搅拌30分钟，得到了四乙氧基硅烷的水解溶液。另一方面，使聚乙烯醇溶解于水/异丙醇的混合溶剂(水/异丙醇(质量比)＝90：10)中，得到了3质量％的聚乙烯醇溶液。将四乙氧基硅烷的水解溶液60质量份和聚乙烯醇溶液40质量份进行混合，得到了阻气性被覆层组合物。
通过在第一无机薄膜层上涂布上述阻气性被覆层组合物并进行干燥，形成了具有300nm厚度的第一阻气性被覆层。进而，在上述第一阻气性被覆层上，与上述同样地操作，形成了厚度30nm的其它第一无机薄膜层，并且在上述其它第一无机薄膜层上形成了厚度300nm的其它第一阻气性被覆层。如上述那样，得到了依次层叠第一基材层、锚固涂层、第一无机薄膜层、第一阻气性被覆层、第一无机薄膜层、及第一阻气性被覆层而成的第一阻隔膜。
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第二基材层，厚度：25μm)的一个面上利用棒涂法涂布上述锚固涂层组合物，在100℃下干燥固化1分钟，由此形成了厚度50nm的锚固涂层。
使用电子束加热式的真空蒸镀装置，将氧化硅材料(SiO、Canon Optron株式会社制)在1.5×10-2Pa的压力下通过电子束加热使其蒸发，从而在上述锚固涂层上形成厚度30nm的SiOx膜(第二无机薄膜层)。予以说明的是，蒸镀时的加速电压为40kV，发射电流为0.2A。
通过在第二无机薄膜层上涂布上述阻气性被覆层组合物并进行干燥，形成了具有300nm厚度的第二阻气性被覆层。如上述那样操作，得到了依次层叠第二基材层、锚固涂层、第二无机薄膜层、及第二阻气性被覆层而成的第二阻隔膜。
将环氧树脂系主剂(三菱气体化学株式会社制、商品名：M-100)5质量份、胺系固化剂(三菱气体化学株式会社制、商品名：C-93、不挥发成分：65质量％)23质量份、以及具有环氧基的硅烷偶联剂(3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-402)2质量份溶解于由甲醇23质量份及醋酸乙酯47质量份构成的溶剂中，从而制备了粘结剂。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
在得到的第一阻隔膜的第一阻气性被覆层的表面上，将在制备后经过了6小时的粘结剂使用反向凹版装置涂布后进行干燥，以粘结剂A的涂布面与第二阻气性被覆层相面对的方式贴合第二阻隔膜，并且在50℃下进行2天老化。如上述那样，将第一阻隔膜和第二阻隔膜经由具有5μm厚度的粘接层而贴合，制作了阻隔膜层叠体。
(实施例1-2)
在粘结剂的制备中，将硅烷偶联剂的添加量从2质量份变更为3质量份，除此之外，与实施例1-1同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(实施例1-3)
在粘结剂的制备中，使用硅烷偶联剂(3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBE-402)替代硅烷偶联剂(3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-402)，除此之外，与实施例1-1同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(实施例1-4)
在粘结剂的制备中，将硅烷偶联剂的添加量从2质量份变更为3质量份，除此之外，与实施例1-3同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(实施例1-5)
在粘结剂的制备中，使用硅烷偶联剂(3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-403)替代硅烷偶联剂(3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-402)，除此之外，与实施例1-1同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(实施例1-6)
在粘结剂的制备中，将硅烷偶联剂的添加量从2质量份变更为3质量份，除此之外，与实施例1-5同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(实施例1-7)
在粘结剂的制备中，使用硅烷偶联剂(3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBE-403)替代硅烷偶联剂(3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-402)，除此之外，与实施例1-1同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(实施例1-8)
在粘结剂的制备中，将硅烷偶联剂的添加量从2质量份变更为3质量份，除此之外，与实施例1-7同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(比较例1-1)
在粘结剂的制备中，使用硅烷偶联剂(N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-603)替代硅烷偶联剂(3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-402)，除此之外，与实施例1-1同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(比较例1-2)
在粘结剂的制备中，将硅烷偶联剂的添加量从2质量份变更为3质量份，除此之外，与比较例1-1同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(比较例1-3)
在粘结剂的制备中，使用硅烷偶联剂(3-氨基丙基三乙氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBE-903)替代硅烷偶联剂(3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-402)，除此之外，与实施例1-1同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表1中。
(实施例1-9)
以甲苯二异氰酸酯的NCO基的数量相对于丙烯酸多元醇的OH基的数量为等量的方式，将丙烯酸多元醇和甲苯二异氰酸酯进行混合，并且用醋酸乙酯进行稀释使得总固体成分成为5质量％。在稀释后的混合液中，以相对于总固体成分成为5质量％的方式进一步添加β-(3,4环氧环己基)三甲氧基硅烷，通过将这些物质混合而制作了锚固涂层组合物。
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第一基材层，厚度：25μm)的一个面上，利用棒涂法涂布上述锚固涂层组合物，在100℃下干燥固化1分钟，由此形成厚度50nm的锚固涂层。
使用电子束加热式的真空蒸镀装置，将氧化硅材料(SiO、Canon Optron株式会社制)在1.5×10-2Pa的压力下通过电子束加热使其蒸发，从而在上述锚固涂层上形成了厚度30nm的SiOx膜(第一无机薄膜层)。予以说明的是，蒸镀时的加速电压为40kV，发射电流为0.2A。
接着，将四乙氧基硅烷10.4质量份和盐酸(浓度：0.1N)89.6质量份进行混合，将混合液搅拌30分钟，得到了四乙氧基硅烷的水解溶液。另一方面，使聚乙烯醇溶解于水/异丙醇的混合溶剂(水/异丙醇(质量比)＝90：10)中，得到了3质量％的聚乙烯醇溶液。将四乙氧基硅烷的水解溶液60质量份和聚乙烯醇溶液40质量份进行混合，得到了阻气性被覆层组合物。
通过在第一无机薄膜层上涂布上述阻气性被覆层组合物并进行干燥，形成了具有300nm厚度的第一阻气性被覆层。进而，在上述第一阻气性被覆层上，与上述同样地形成了厚度30nm的其它第一无机薄膜层，并且在上述其它第一无机薄膜层上形成了厚度300nm的其它第一阻气性被覆层。如上述那样操作，得到了依次层叠第一基材层、锚固涂层、第一无机薄膜层、第一阻气性被覆层、第一无机薄膜层、及第一阻气性被覆层而成的第一阻隔膜。
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第二基材层，厚度：25μm)的一个面上利用棒涂法涂布上述锚固涂层组合物，在100℃下干燥固化1分钟，由此形成厚度50nm的锚固涂层。
使用电子束加热式的真空蒸镀装置，将氧化硅材料(SiO、Canon Optron株式会社制)在1.5×10-2Pa的压力下通过电子束加热使其蒸发，从而在上述锚固涂层上形成了厚度30nm的SiOx膜(第二无机薄膜层)。予以说明的是，蒸镀时的加速电压为40kV，发射电流为0.2A。
通过在第二无机薄膜层上涂布上述阻气性被覆层组合物并进行干燥，形成具有300nm厚度的第二阻气性被覆层。如上述那样操作，得到了依次层叠第二基材层、锚固涂层、第二无机薄膜层、及第二阻气性被覆层而成的第二阻隔膜。
将环氧树脂系主剂(三菱气体化学株式会社制、商品名：M-100)5质量份、胺系固化剂(三菱气体化学株式会社制、商品名：C-93、不挥发成分：65质量％)23质量份、以及具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂(N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-602)2质量份溶解于由甲醇23质量份及醋酸乙酯47质量份构成的溶剂中，制备了粘结剂。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、水解性官能团数、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表2。
在所得到的第一阻隔膜的第一阻气性被覆层的表面上，将制备后经过了6小时的粘结剂使用反向凹版装置涂布后在82℃下干燥1分钟，以粘结剂的涂布面与第二阻气性被覆层相面对的方式贴合第二阻隔膜，并在50℃下进行2天老化。如上述那样，将第一阻隔膜和第二阻隔膜经由具有5μm厚度的粘接层而贴合，制作了阻隔膜层叠体。
(实施例1-10)
在粘结剂的制备中，将硅烷偶联剂的添加量从2质量份变更为3质量份，除此之外，与实施例1-9同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、水解性官能团数、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表2。
(比较例1-4)
在粘结剂的制备中，使用硅烷偶联剂(N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-603)替代硅烷偶联剂(N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-602)，除此之外，与实施例1-9同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、水解性官能团数、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表2。
(比较例1-5)
在粘结剂的制备中，将硅烷偶联剂的添加量从2质量份变更为3质量份，除此之外，与比较例1-4同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、水解性官能团数、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表2。
(比较例1-6)
在粘结剂的制备中，使用硅烷偶联剂(3-氨基丙基三乙氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBE-903)替代硅烷偶联剂(N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、信越化学工业株式会社制、商品名：KBM-602)，除此之外，与实施例1-9同样地制作了阻隔膜层叠体。将用于粘结剂的制备的硅烷偶联剂的官能团种类、水解性官能团数、及粘结剂(不挥发成分的总量)中的含量示于表2。
[粘结剂的外观]
将实施例1-1至1-10及比较例1-1至1-6中制备的粘结剂在室温下保存，通过目视按照下述基准来评价伴随着粘结剂经过时间的外观变化。将粘结剂的外观的评价结果示于表1及2。
A：在制备后经过了6小时的粘结剂中没有观察到白浊。
B：在制备后经过了2小时的粘结剂中没有观察到白浊，但是在制备后经过了6小时的粘结剂中观察到了白浊。
C：在制备后经过了30分钟的粘结剂中没有观察到白浊，但是在制备后经过了2小时的粘结剂中观察到了白浊。
D：在制备刚完成后的粘结剂中没有观察到白浊，但是在制备后经过了30分钟的粘结剂中观察到了白浊。
[阻隔膜层叠体的外观]
通过目视按照下述基准来评价实施例及比较例中制作的阻隔膜层叠体的外观。将阻隔膜层叠体的外观的评价结果示于表1。
A：在阻隔膜层叠体中没有观察到不均匀。
B：在阻隔膜间产生条纹状的浮起，并且在阻隔膜层叠体中观察到了条纹状的不均匀。
[表1]
[表2]
在实施例1-1至1-8制备的粘结剂中，即使在制备后经过了6小时也没有观察到白浊，在使用它们得到的阻隔膜层叠体中也没有观察到外观上的不良。另一方面，在比较例1-1至1-3制备的粘结剂中，在制备后经过6小时内都观察到了白浊，在使用它们得到的阻隔膜层叠体中也都观察到了条纹状的不均匀。
在实施例1-9至1-10制备的粘结剂中，即使在制备后经过6小时也没有观察到白浊，在使用它们得到的阻隔膜层叠体中也没有观察到外观上的不良。另一方面，在比较例1-4至1-6制备的粘结剂中，在制备后经过6小时内都观察到了白浊，在使用它们得到的阻隔膜层叠体中也观察到了条纹状的不均匀。
[密合性]
将实施例1-1、实施例1-9、比较例1-1、及比较例1-4中得到的阻隔膜层叠体切成宽1cm的条状，并将阻隔膜层叠体的第一阻隔膜一侧固定于玻璃板上。使用TENSILON拉伸试验机(ORIENTEC公司制)，将所固定的条状的阻隔膜层叠体的第二阻隔膜在相对于玻璃板为垂直的方向上以300mm/分钟的速度从第一阻隔膜上剥离，测定剥离所需要的强度。在温度23℃湿度65％RH的环境下测定上述强度。
实施例1-1中得到的阻隔膜层叠体的剥离强度为7N/cm以上，基材发生断裂，与此相对，比较例1-1中得到的阻隔膜层叠体的剥离强度为5N/cm。在实施例1-9得到的阻隔膜层叠体中，阻隔膜的密合性高，阻隔膜在剥离之前发生断裂，与此相对，在比较例1-4得到的阻隔膜层叠体中，阻隔膜可以剥离，剥离强度为5N/cm。
[发光体保护膜的制作]
(实施例2-1)
利用辊对辊方式如以下那样制作阻隔膜。首先，在作为基材的厚度30μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜的单面上，利用真空蒸镀法以30nm厚度设置作为无机薄膜层的氧化硅，进而，在无机薄膜层上形成厚度300nm的阻气性被覆层。该阻气性被覆层是通过利用湿涂敷法来涂敷含有四乙氧基硅烷和聚乙烯醇的涂液而形成的。由此，得到了在基材的一个面上设置有由无机薄膜层及阻气性被覆层构成的阻隔层的阻隔膜的辊。另行制作与该阻隔膜相同构成的阻隔膜的辊。对于得到的阻隔膜的水蒸气透过率，采用依据JISK7129的红外线传感器法的方法来测定水蒸气透过率，结果为50mg/(m2·天)。在水蒸气透过率的测定中，使用了水蒸气透过率测定装置(商品名：Permatran、MOCON公司制)。透过槽的温度设为40℃，高湿度腔室的相对湿度设为90％RH，将低湿度腔室的相对湿度设为0％RH。
将如上述那样得到的两个阻隔膜进行贴合。在贴合中使用由环氧树脂主剂以及胺系固化剂构成的二液型环氧系粘结剂，形成了固化后的膜厚成为5μm的粘接层(氧透过率：5cm3/(m2·天·atm))，从而制作了以两张阻隔膜的阻气性被覆层彼此相面对的方式层叠而成的膜。予以说明的是，粘接层的氧透过率如下进行测定。在厚度20μm的拉伸聚丙烯(OPP)膜(氧透过率：3000cm3/(m2·天·atm)(测定限度)以上)上，以固化后的膜厚成为5μm的方式形成前述的二液型环氧系粘结剂膜，以制作评价用样品，使用差压式气体测定装置(GTRTec公司制、GTR-10X)，按照JISK7126-1(附件1)中记载的方法来测定30℃70％RH环境下的样品的氧透过率。
将如上述那样得到的层叠膜与厚度30μm的PET膜(支撑基材)进行贴合。在贴合中使用丙烯酸系粘合剂，以层压后的厚度成为2μm的方式形成粘接层。由此，得到了粘接层介于层叠膜(基材侧)和支撑基材之间的保护膜(涂敷层形成前)的辊。
在如上述那样得到的保护膜的支撑基材的表面上形成厚度3μm的涂敷层(消光层)。该涂敷层是通过利用湿涂敷法来涂敷含有丙烯酸树脂和二氧化硅微粒(平均粒径3μm)的涂液而形成的。由此，得到了带涂敷层的保护膜的辊。
[波长转换片的制作]
准备2张所得到的带涂敷层的保护膜作为第一保护膜及第二保护膜。将作为量子点的CdSe/ZnS 530(商品名、SIGMA-ALDRICH公司制)与环氧系感光性树脂混合后，将混合液涂布于第一保护膜的基材一侧，在其上层叠第二保护膜，通过UV固化层压得到了波长转换片。
(比较例2-1)
将两个阻隔膜以基材彼此相面对的方式进行层叠从而制作层叠膜，将支撑基材贴合于层叠膜(阻气性被覆层一侧)上，除此之外，与实施例2-1同样地得到了带涂敷层的保护膜的辊、以及波长转换片。
[发光体保护膜的评价]
将实施例2-1及比较例2-1中得到的带涂敷层的膜暴露于85℃的空气中1000小时，分别准备暴露之前和之后的带涂敷层的膜。
(L＊a＊b＊表色系中的色坐标b＊的变化量Δb＊)
使用分光色差计(日本电色工业株式会社制、NF333)来测定实施例2-1及比较例2-1中得到的在高温环境暴露之前和之后的带涂敷层的膜在L＊a＊b＊表色系中的色坐标b＊，求出色坐标b＊的变化量Δb＊。将在高温环境暴露之前和之后的色坐标b＊的测定结果及其变化量Δb＊的计算结果示于表3。
(分光透过率)
使用分光光度计(株式会社島津制作所制、UV3600)来测定实施例2-1及比较例2-1中得到的在高温环境暴露之前和之后的带涂敷层的膜在波长435nm下的分光透过率。将在高温环境暴露之前和之后的分光透过率的测定结果及其差示于表3。
(水蒸气透过率)
对于水蒸气透过率，采用依据JISK7129的红外线传感器法的方法来测定实施例2-1及比较例2-1中得到的在高温环境暴露之前和之后的带涂敷层的保护膜的水蒸气透过率。将在高温环境暴露之前和之后的水蒸气透过率的测定结果示于表3。水蒸气透过率的测定中使用了水蒸气透过率测定装置(商品名：Permatran、MOCON公司制)。透过槽的温度设为40℃，高湿度腔室的相对湿度设为90％RH，低湿度腔室的相对湿度设为0％RH。
[表3]
可以确认：在实施例2-1及比较例2-1中，发光体保护膜的分光透过率都高，水蒸气透过率都小。在实施例2-1中，在高温环境暴露前后的变化量Δb＊小，分光透过率的降低小，与此相对，在比较例2-1中，变化量Δb＊大，与实施例1相比分光透过率大大降低。另外，实施例2-1中，高温环境暴露前后的水蒸气透过率没有变化，与此相对，在比较例2-1中，水蒸气透过率降低。据认为这是因为，通过高温环境暴露而由环氧系粘结剂形成的粘接层发生氧化，粘接层的阻气性效果降低。
符号的说明
1…第一阻隔膜、1a…第一基材、1b…第一阻隔层、1c…第一阻气性被覆层、1v…第一无机薄膜层、2…第二阻隔膜、2a…第二基材、2b…第二阻隔层、2c…第二阻气性被覆层、2v…第二无机薄膜层、3…支撑基材、5…第一粘接层、6…第二粘接层、7…涂敷层、10…阻隔膜层叠体(发光体保护膜)、11a…第一基材层、11b…第二基材层、12a…第一无机薄膜层、12b…第二无机薄膜层、13a…第一阻气性被覆层、13b…第二阻气性被覆层、14a…第一阻隔层、14b…第二阻隔层、15…粘接层、16a…第一阻隔膜、16b…第二阻隔膜、20…波长转换片、21…荧光体层、22…第二保护膜、50…荧光体层、51…密封树脂、52…荧光体、100…波长转换片、200…背光单元、G…导光板、L…光源、R…反射板、300…电致发光单元。
Claims (10)
1.一种阻隔膜层叠体，具备：
第一阻隔膜，其包含第一基材层和形成于所述第一基材层上的第一阻隔层；
第二阻隔膜，其包含第二基材层和形成于所述第二基材层上的第二阻隔层；以及
粘接层，
所述第一阻隔膜和所述第二阻隔膜经由所述粘接层以使得所述第一阻隔层与所述第二阻隔层相面对的方式进行贴合，
所述第一阻隔层包含第一无机薄膜层和第一阻气性被覆层，
所述第二阻隔层包含第二无机薄膜层和第二阻气性被覆层，
所述粘接层由粘结剂形成，该粘结剂含有环氧树脂、具有氨基的固化剂、以及具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂。
2.一种阻隔膜层叠体，具备：
第一阻隔膜，其具有第一基材和形成于所述第一基材的一个面上的第一阻隔层；
第二阻隔膜，其具有第二基材和形成于所述第二基材的一个面上的第二阻隔层；以及
第一粘接层，其含有环氧化合物与胺化合物的反应产物，
所述第一阻隔膜和所述第二阻隔膜经由所述第一粘接层以使得所述第一阻隔层与所述第二阻隔层相面对的方式进行贴合，
在空气中在温度85℃的环境下暴露1000小时之前和之后，L＊a＊b＊表色系中的色坐标b＊的变化量Δb＊为1.00以下。
3.根据权利要求2所述的阻隔膜层叠体，还具备第二粘接层和支撑基材，
所述支撑基材经由所述第二粘接层而贴合于所述第二基材的另一面上。
4.根据权利要求2或3所述的阻隔膜层叠体，其中，
所述第一阻隔膜及所述第二阻隔膜的水蒸气透过率均为100mg/(m2·天)以下。
5.根据权利要求2～4中任一项所述的阻隔膜层叠体，还具备涂敷层，
所述涂敷层被设置为使得其成为任意一个最外表面。
6.根据权利要求2～5中任一项所述的阻隔膜层叠体，其中，
所述第一阻隔层包含第一无机薄膜层和第一阻气性被覆层，
所述第二阻隔层包含第二无机薄膜层和第二阻气性被覆层。
7.一种阻隔膜层叠体的制造方法，具备以下工序：
准备包含第一基材层和形成于所述第一基材层上的第一阻隔层的第一阻隔膜、以及包含第二基材层和形成于所述第二基材层上的第二阻隔层的第二阻隔膜的工序；
将粘结剂涂布于所述第一阻隔膜的所述第一阻隔层那一侧的面上从而形成涂膜的工序，其中所述粘结剂含有环氧树脂、具有氨基的固化剂、以及具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂；
将所述第一阻隔膜和所述第二阻隔膜经由所述涂膜以使得所述第一阻隔层和所述第二阻隔层相面对的方式进行贴合的工序；
将所述涂膜进行固化的工序。
8.一种波长转换片，具备：
权利要求1～6中任一项所述的阻隔膜层叠体、以及形成于所述阻隔膜层叠体的所述第一阻隔膜上的荧光体层。
9.一种背光单元，具备：
光源、导光板、以及权利要求8所述的波长转换片。
10.一种电致发光单元，具备：
权利要求1～6中任一项所述的阻隔膜层叠体、以及形成于所述阻隔膜层叠体的所述第一阻隔膜上的电致发光发光体层。
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| CN114930203A (zh) * | 2020-08-19 | 2022-08-19 | 大日本印刷株式会社 | 阻隔膜、以及使用了该阻隔膜的波长转换片、背光源和液晶显示装置 |
| CN114930203B (zh) * | 2020-08-19 | 2023-04-28 | 大日本印刷株式会社 | 阻隔膜、及使用其的波长转换片、背光源和液晶显示装置 |
| CN116324267A (zh) * | 2020-08-19 | 2023-06-23 | 大日本印刷株式会社 | 阻隔膜、以及使用了该阻隔膜的波长转换片、背光源和液晶显示装置、以及阻隔膜的选定方法 |
| CN116324267B (zh) * | 2020-08-19 | 2024-05-14 | 大日本印刷株式会社 | 阻隔膜、以及使用了该阻隔膜的波长转换片、背光源和液晶显示装置、以及阻隔膜的选定方法 |
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