WO2016194874A1 - 光透過性フィルムの欠陥検査方法、直線偏光子フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法 - Google Patents

光透過性フィルムの欠陥検査方法、直線偏光子フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法 Download PDF

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    • G01N2021/8845—Multiple wavelengths of illumination or detection

Definitions

  • the present invention relates to a defect inspection method for a light transmissive film, and also relates to a method for manufacturing a linear polarizer film and a method for manufacturing a polarizing plate.
  • Patent Document 1 As a defect detection method for a light transmissive film exemplified by a linear polarizer film and a retardation film, a technique described in Patent Document 1 is known.
  • an optical film (light-transmitting film) is disposed between first and second polarizing plates that are disposed in a state where their absorption axes (or transmission axes) substantially intersect at 90 °.
  • an optical film is image
  • the illumination light transmitted through the first polarizing plate is irradiated to the optical film, the linearly polarized light is irradiated to the optical film.
  • the second polarizing plate is disposed in a state where the absorption axis of the first knitting optical plate intersects the absorption axis of the second knitting optical plate substantially at 90 ° with respect to the first polarizing plate.
  • the linearly polarized light that has passed through the polarizing plate the light that has passed through a normal portion where no defect has occurred in the optical film is absorbed by the second polarizing plate.
  • the polarization state of the linearly polarized light is disturbed in the defect portion where the defect has occurred in the optical film, a part of the linearly polarized light after passing through the defective portion is transmitted through the second polarizing plate. . Therefore, in the image photographed by the imaging device, a difference in luminance occurs between the defective part and the normal part. Thereby, in theory, it is possible to detect a defect.
  • Patent Document 1 the conventional defect inspection method as disclosed in Patent Document 1 sometimes cannot detect the defects reliably.
  • an object of the present invention is to provide a light-transmitting film defect inspection method capable of more reliably detecting defects, a polarizer film manufacturing method and a polarizing plate manufacturing method using the inspection method.
  • a defect inspection method for a light transmissive film according to one aspect of the present invention includes linearly polarized light as illumination light on a film to be inspected having light transmittance. While irradiating light, the imaging device passes through a linear polarizing plate that is arranged between the film to be inspected and the imaging device so that the absorption axis intersects the direction orthogonal to the vibration plane of the linearly polarized light.
  • the difference between the maximum intensity wavelength of incident light that is transmitted and incident on the imaging device and the maximum sensitivity wavelength of the imaging device is 50 nm or less.
  • the linearly polarizing plate is disposed in a state where the absorption axis intersects the direction orthogonal to the vibration plane with respect to the linearly polarized light. Therefore, when the linearly polarizing plate as illumination light is irradiated onto the film to be inspected, which is a light-transmitting film, the light transmitted through the part of the film to be inspected (hereinafter also referred to as “normal part”) Difficult to pass through linear polarizing plate.
  • the polarization state of the linearly polarizing plate is disturbed, so that the light transmitted through the defect portion in the film to be inspected is a normal portion. More light than the light transmitted through the linearly polarizing plate. Since the difference between the maximum intensity wavelength of incident light that passes through the film to be inspected and the linearly polarizing plate and enters the imaging device and the maximum sensitivity wavelength of the imaging device is 50 nm or less, imaging is performed via the linearly polarizing plate.
  • the incident light can be detected with high sensitivity. Thereby, in the image image
  • the absorption axis of the linear polarizing plate is 85 ° to 90 ° or 90 ° to 95 °, preferably 89 ° to 90 ° or 90 ° to the direction perpendicular to the vibration plane of the linearly polarized light.
  • a defect inspection method for a light-transmitting film according to another aspect of the present invention (hereinafter also referred to as “second defect inspection method”) has an absorption axis and is a direction orthogonal to the direction of the absorption axis.
  • a linearly polarizing plate is arranged with respect to the film to be inspected that transmits the linearly polarized light that vibrates in the direction where the absorption axis of the film to be inspected and the absorption axis of the linearly polarizing plate intersect, and the illumination light is
  • a method for inspecting a defect of a light-transmitting film as a film to be inspected by photographing the film to be inspected with an imaging device while irradiating the film to be inspected.
  • the difference between the maximum intensity wavelength of incident light that passes through the film to be inspected and the linearly polarizing plate and enters the imaging device, and the maximum sensitivity wavelength of the imaging device is 50 nm or less.
  • the illumination light incident on the normal part where no defect is generated in the film to be inspected is difficult to enter the imaging device.
  • the linearly polarized light characteristic of the film to be inspected is disturbed, so that the illumination light incident on the defect portion of the film to be inspected is more than the illumination light incident on the normal portion.
  • Many incident on the imaging device Since the difference between the maximum intensity wavelength of incident light that passes through the film to be inspected and the linearly polarizing plate and enters the image pickup device and the maximum sensitivity wavelength of the image pickup device is 50 nm or less, the image pickup device uses the film to be inspected.
  • the incident light can be detected with high sensitivity. Thereby, in the image image
  • the absorption axis of the linear polarizing plate is an angle of 85 ° to 90 ° or 90 ° to 95 °, preferably 89 ° to 90 ° or 90 ° to 91 ° with respect to the absorption axis of the film to be inspected. You may arrange in the state which intersects.
  • the incident light may be green light.
  • the imaging device Since the difference between the maximum intensity wavelength of incident light and the maximum sensitivity wavelength of the imaging device is 50 nm or less, when the incident light is green light, the imaging device also has high sensitivity to green light. And when the said incident light is green light and an object is image
  • the incident light may be red light, yellow light, or blue light.
  • the illumination light may be green light.
  • the illumination light is white light, and the light that has passed through the optical filter that is disposed between the film to be inspected and the imaging device and selectively passes green light is incident on the imaging device as incident light. You may let them.
  • a method of manufacturing a linear polarizer film according to another aspect of the present invention is a method of manufacturing a linear polarizer film using a light-transmitting raw material film, and a polarizing property that imparts a linear polarizing property to the raw material film
  • a defect inspection step, and in the defect inspection step when the defect inspection is performed using at least one of the raw material film before the polarizing property imparting step and the raw material film in the polarizing property imparting step as the film to be inspected, the first defect inspection Defect inspection is performed according to the method, and in the defect inspection process, the raw material film after the polarization property imparting process is missing as the inspection film.
  • a defect inspection is performed according to the method, and in the defect inspection process,
  • a linear polarizer film can be obtained by imparting linear polarization characteristics to the raw material film in the polarization characteristic imparting step. Then, defect inspection is performed using at least one of the raw material film before the polarizing property imparting step, the raw material film in the polarizing property imparting step, and the raw material film after the polarizing property imparting step as a film to be inspected. In this defect inspection step, when performing defect inspection using at least one of the raw material film before the polarizing property imparting step and the raw material film in the polarizing property imparting step as a film to be inspected, the defect is detected by the first defect inspection method described above.
  • the defect inspection is performed by the above-described second defect inspection method. Therefore, it is possible to detect the defect of the inspection film with high sensitivity. As a result, for example, if the position of the defective portion is recorded, using the produced linear polarizer film, for example, a polarizer protective film for protecting the linear polarizer film is bonded to the linear polarizer film, etc. And when manufacturing a polarizing plate, it is easy to manufacture the polarizing plate which does not contain a defective part.
  • the polarizing property imparting step may include a dyeing treatment step for dyeing the raw material film with a dichroic dye and a stretching step for drawing the raw material film dyed in the dyeing treatment step.
  • the defect inspection process may be performed using the raw material film in the dyeing process or the raw material film dyed in the dyeing process as the film to be inspected between the dyeing process and the stretching process.
  • the defect may be stretched in the stretching process to become a streak defect (streaky defect).
  • the streak defect generated in the stretching process can be detected.
  • the defect inspection step since the raw film as the film to be inspected is inspected by the defect inspection method for the light transmissive film according to one aspect of the present invention, the above-mentioned streak defects can be detected more reliably.
  • the protective film bonding process which bonds a protective film to the at least single side
  • the defect inspection process may be performed using the raw material film that has undergone the protective film bonding process as a film to be inspected.
  • the manufacturing method of the polarizing plate which concerns on the further another side surface of this invention is a polarizer film manufacturing process which manufactures a linear polarizer film with the manufacturing method of the linear polarizer film which concerns on the other side surface of this invention, and polarizer film manufacture.
  • a protective film laminating step for obtaining a laminated polarizer film by laminating a protective film on at least one surface of the linear polarizer film produced in the process, and a cutting step for cutting out a polarizing plate as a product from the laminated polarizer film Prepare.
  • the linear polarizer film is manufactured by the method of manufacturing the linear polarizer film according to another aspect of the present invention, the linear polarizer film is subjected to defect inspection in the defect inspection process. Therefore, when a polarizing plate as a product is cut out from a laminated polarizer film obtained by laminating a protective film on a linear polarizer film that has been subjected to defect inspection, for example, it is possible to cut out the polarizing plate except for defective portions It is. Alternatively, after cutting out the polarizing plate, it is possible to sort the polarizing plate having a defective portion. As a result, it is easy to efficiently obtain a polarizing plate as a good product.
  • the defect inspection may be performed by the second defect inspection method using the laminated polarizer film as a film to be inspected before the cutting step.
  • a defect generated in the protective film bonding step or a defect of the protective film itself can be detected, and a polarizing plate can be produced based on the result.
  • the present invention it is possible to provide a defect inspection method for a light-transmitting film that can detect defects more reliably, and a method for manufacturing a polarizer film and a method for manufacturing a polarizing plate using the inspection method.
  • FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a defect inspection method for a light-transmitting film according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a spectral spectrum of illumination light used in the defect inspection method for the light transmissive film illustrated in FIG. 1.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating an example of detection sensitivity characteristics of the imaging apparatus used in the defect inspection method for the light transmissive film illustrated in FIG. 1.
  • FIG. 4 is a diagram showing a defect detection result when the difference between the maximum intensity wavelength of illumination light and the maximum sensitivity wavelength of the imaging device is 50 nm or less.
  • FIG. 5 is a diagram showing a defect detection result when the difference between the maximum intensity wavelength of illumination light and the maximum sensitivity wavelength of the imaging device exceeds 50 nm.
  • FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a defect inspection method for a light-transmitting film according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a spectral spectrum of illumination light used
  • FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a defect inspection method for a light-transmitting film according to the second embodiment.
  • FIG. 7 is a flowchart showing an example of a method for producing a linear polarizer film according to the third embodiment.
  • FIG. 8 is a drawing for explaining a stretching process and a defect inspection process in the method of manufacturing the linear polarizer film shown in FIG.
  • FIG. 9 is a drawing for explaining the process from the swelling process to the drying process in the method of manufacturing the linear polarizer film shown in FIG.
  • FIG. 10 is a view for explaining a modification in the case where a defect inspection process is performed after the dyeing process in the method of manufacturing the linear polarizer film shown in FIG.
  • FIG. 11 is a flow chart showing a modification in the case of further carrying out a protective film bonding step in the method of manufacturing the linear polarizer film shown in FIG.
  • FIG. 12 is a drawing for explaining a protective film bonding step in the modification shown in the flowchart shown in FIG. 11.
  • FIG. 13 is a schematic diagram illustrating the configuration of a polarizing plate manufactured by the polarizing plate manufacturing method according to the fourth embodiment.
  • FIG. 14 is a flowchart illustrating an example of a polarizing plate manufacturing method according to the fourth embodiment.
  • FIG. 15 is a schematic diagram for explaining another example of the defect inspection method for the light transmissive film.
  • FIG. 16 shows defect detection when the difference between the maximum intensity wavelength of light incident on the imaging device and the maximum sensitivity wavelength of the imaging device is 20 nm or less, using the defect inspection method for the light transmissive film shown in FIG. It is drawing which shows a result.
  • FIG. 17 is a diagram showing a spectrum of blue light output from the blue LED used in the experiment.
  • FIG. 18 is a diagram showing a spectral spectrum of red light output from the red LED used in the experiment.
  • FIG. 19 is a diagram showing a defect detection result when the difference between the maximum intensity wavelength of illumination light and the maximum sensitivity wavelength of the imaging device is 50 nm or less.
  • FIG. 20 is a diagram illustrating a defect detection result when the difference between the maximum intensity wavelength of illumination light and the maximum sensitivity wavelength of the imaging apparatus is 50 nm or less.
  • the film S to be inspected is a raw material film used for manufacturing a linear polarizer film having linear polarization characteristics that transmits predetermined linearly polarized light.
  • raw material films are polyvinyl alcohol (hereinafter sometimes referred to as “PVA”) resin films, polyvinyl acetate resin films, ethylene / vinyl acetate (hereinafter sometimes referred to as “EVA”) resin films, polyamide resin films. And a polyester resin film.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • EVA ethylene / vinyl acetate
  • EVA ethylene / vinyl acetate
  • a polyester resin film Usually, from the viewpoint of the adsorptivity and orientation of the dichroic dye, a PVA-based resin film, particularly a PVA film having vinyl alcohol alone as a repeating unit is used.
  • the thickness of the raw material film as the film S to be inspected is usually 1 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • the linear polarizer film is manufactured through a polarization property imparting process that imparts a linear polarization property to the raw material film.
  • the polarization property imparting treatment includes uniaxially stretching the raw material film and dyeing with a dichroic dye.
  • Film material to be tested by the first inspection device 10 1 may also be before those polarization characteristic applying process is performed, or may be in the polarization characteristic applying process.
  • Examples of detected defects include streak defects, dents, and minute foreign matter.
  • a “streaky defect” is a defect that rises slightly in one direction (for example, about 1 ⁇ m).
  • the “dent” is a recess having a diameter of 500 ⁇ m to 700 ⁇ m and a depth of about 0.2 ⁇ m to 0.5 ⁇ m.
  • Examples of the recess are a small and deep recess having a diameter of about 500 ⁇ m and a depth of about 0.5 ⁇ m, a diameter of 700 ⁇ m and A relatively large and shallow recess having a depth of about 0.2 ⁇ m is included.
  • Examples of “fine foreign matter” include foreign matter having a diameter of about 500 ⁇ m.
  • the first inspection apparatus 10 1 comprises a pair of linear polarizer 12A, and 12B, a light source 11, an imaging device 13, and an image processing apparatus 14.
  • a XYZ coordinate system is set as shown in FIG.
  • the Z-axis direction is the thickness direction of the linearly polarizing plates 12A and 12B
  • the Y-axis direction is the left-right direction in FIG.
  • the pair of linearly polarizing plates 12A and 12B are arranged in parallel to each other.
  • the linear polarizing plate 12A and the linear polarizing plate 12B have an absorption axis A 12A of the linear polarizing plate 12A and an absorption axis A 12B of the linear polarizing plate 12B. They are arranged so as to cross each other at a predetermined angle ⁇ 1 of 1.
  • the absorption axis A 12A and the absorption axis A 12B intersect means that they intersect when viewed from the thickness direction (Z-axis direction) of the film S to be inspected.
  • the first predetermined angle ⁇ 1 an angle at which a defect can be easily detected in an image obtained by imaging the film S to be inspected by the imaging device 13 is selected.
  • the first predetermined angle ⁇ 1 is 85 ° to 90 °, preferably 89 ° to 90 °, more preferably 89.4 ° or more.
  • the first predetermined angle ⁇ 1 is 90 ° to 95 °, preferably 90 ° to 91 °, more preferably 90.6 ° or less.
  • the film S to be inspected is disposed in parallel with the linearly polarizing plates 12A and 12B between the pair of linearly polarizing plates 12A and 12B.
  • the length in the X-axis direction of the linearly polarizing plates 12A and 12B can be the same as the length of the film S to be inspected in the X-axis direction, for example.
  • the length in the Y-axis direction of the linearly polarizing plates 12A and 12B is usually equal to or shorter than the length in the Y-axis direction of the imaging region of the imaging device 13, and is usually shorter than the length in the Y-axis direction of the film S to be inspected.
  • the light source 11 is disposed on the opposite side to the linearly polarizing plate 12B as viewed from the linearly polarizing plate 12A (below the linearly polarizing plate 12A in FIG. 1A) and emits illumination light for illuminating the film S to be inspected. Output.
  • the illumination light output from the light source 11 is non-polarized light.
  • An example of the light source 11 is a green LED that outputs green light as illumination light.
  • An example of the wavelength range of the illumination light when the illumination light is green light is 440 nm to 590 nm.
  • the illumination light is green light
  • the illumination light has a light receiving area ⁇ (diameter).
  • the light may be 1850 lux or more per mm.
  • the imaging device 13 photographs the film S to be inspected through the linear polarizing plate 12B.
  • the imaging device 13 is usually a monochrome camera.
  • Examples of the imaging device 13 include a line sensor camera in which photodetectors are arranged in a line and an area sensor camera in which photodetectors are arranged in a two-dimensional manner.
  • the imaging device 13 inputs the imaging result to the image processing device 14.
  • the image processing device 14 includes a computer, and processes a signal indicating a result of photographing by the imaging device 13 to form a photographed image. At this time, in the film S to be inspected, a photographed image is formed so as to distinguish a defective portion where a defect has occurred from other normal portions. In order to distinguish the defective portion and the normal portion on the image, for example, a gray level difference may be given between them.
  • the image processing apparatus 14 may include an image processing function that extracts a defective portion based on the formed captured image. Extraction of the defective portion includes, for example, coloring the defective portion.
  • the image processing apparatus 14 may have a display that displays the formed image. Alternatively, separately from the image processing apparatus 14, the image processing apparatus 14 images the first inspection device 10 1 a display for displaying the formed can may have.
  • the captured image of the imaging device 13 is a black and white (monochrome) image.
  • the maximum intensity wavelength lambda] m s is the wavelength corresponding to the maximum intensity of the illumination light output from the light source 11, the wavelength corresponding to the maximum sensitivity of the imaging device 13 the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d is is a light source 11 and the imaging device 13 satisfy the relationship that is 50nm or less.
  • Maximum intensity wavelength lambda] m s is also a wavelength corresponding to the maximum value of the light intensity in the spectrum of the illumination light.
  • Maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13, specifically, the maximum sensitivity wavelength lambda] m d photodetector imaging apparatus 13 has.
  • the difference between the maximum intensity wavelength lambda] m s and the maximum sensitivity wavelength lambda] m d is preferably 20nm or less.
  • An example of illumination light output from the light source 11 is green light having a maximum intensity wavelength ⁇ m s having a maximum and maximum light intensity in a wavelength range of 515.5 nm to 516.5 nm, and the full width at half maximum of the spectrum of the green light. Is usually 50 nm or less, preferably 40 nm or less, and usually 10 nm or more.
  • Examples of the illumination light in the visible light range normally 75nm or more from the maximum intensity wavelength lambda] m s, preferably usually 75nm or more wavelength ranges and lambda] m s below than 60 nm, preferably the light intensity in the wavelength range above or 60 nm, the maximum intensity The light is usually 25% or less, preferably 10% or less.
  • Maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13, more specifically, examples of the maximum sensitivity wavelength lambda] m d photodetector imaging apparatus 13 has is 500 nm.
  • the film S to be inspected is disposed between the pair of linearly polarizing plates 12A and 12B.
  • the film to be inspected S is photographed by the imaging device 13 via the linearly polarizing plate 12B while outputting the illumination light from the light source 11.
  • Illumination light from the light source 11 passes through the linear polarizing plate 12A and is applied to the film S to be inspected as linearly polarized light. Therefore, the linearly polarized light that has passed through the linearly polarizing plate 12A is irradiated as illumination light on the film S to be inspected. And the light which permeate
  • the linearly polarizing plate 12B is arranged with respect to the linearly polarizing plate 12A in a state where the absorption axes A 12A and A 12B intersect at a first predetermined angle ⁇ 1.
  • linear polarizer 12B the absorption axis A 12B is disposed so as to intersect at a first predetermined angle ⁇ 1 with respect to the plane of vibration of linearly polarized light is an illumination light irradiating the object to be inspected film S . Therefore, in a normal part where no defect is generated in the film S to be inspected, the light transmitted through the film S to be inspected is hardly transmitted through the linearly polarizing plate 12B. On the other hand, if the film S to be inspected has a defect, the polarization of the linearly polarized light transmitted through the defective part is disturbed. Thereby, the light that has passed through the defective portion is likely to pass through the linearly polarizing plate 12B. Therefore, more light that has passed through the defective portion is incident on the imaging device 13 than light that has passed through the normal portion.
  • the image processing apparatus 14 can confirm the defective portion by forming a captured image in which the normal portion and the defective portion are represented by shading according to the luminance.
  • the difference between the maximum intensity wavelength lambda] m s with the illumination light irradiated to the inspected film S, a maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13 is 50nm or less.
  • the defect inspection method using the first inspection apparatus 10 can detect defects with high sensitivity is there.
  • the maximum intensity wavelength lambda] m s of the illumination light the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13 is greater than 50 nm, of the defect, for example, a defect slightly raised extends in one direction muscle The defect cannot be detected.
  • the maximum intensity wavelength lambda] m s of the illumination light, the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13 is equal to 50nm or less, it is possible to detect a line defect.
  • the imaging device 13 when green light is taken as illumination light, it is easy to obtain a high contrast image (particularly a grayscale image). And when green light is used for illumination light, the imaging device 13 also has high sensitivity to green light. Therefore, since the light output from the light source 11 is green light, the defective portion and the normal portion can be more clearly distinguished. As a result, the defective portion, in particular, the streak defect that could not be detected in the related art is obtained. It can be detected more reliably.
  • the linearly polarizing plates 12A and 12B tend to absorb green light. Therefore, in the form in which green light is output from the light source 11, if the illuminance of the illumination light output from the light source 11 is high, for example, if the illuminance is 1850 lux or more per light receiving area ⁇ 1 mm, it is easy to detect a defect.
  • the first predetermined angle ⁇ 1 is 85 ° to 90 °, preferably 89 ° to 90 °, more preferably 89.4 ° or more, or 90 ° to 95 °, preferably 90 ° to 91 °, and further In the form of preferably 90.6 ° or less, the absorption axis A 12A and the absorption axis A 12B substantially intersect at 90 °. For this reason, the light that has passed through the defective portion is incident on the imaging device 13, while the light that has passed through the normal portion is not substantially incident. Therefore, it is easier to distinguish a normal part and a defective part.
  • the first inspection device 10 1 Using the experimental results, the first inspection device 10 1 will be described that can be more reliably detect defects.
  • Experiments E1 and E2 were performed as experiments. In the description of the experiment E1, E2, for convenience of description, components corresponding to the first inspection apparatus 10 1 constituent components are denoted by the same reference numerals.
  • E2 also was adopted a first inspection device 10 1 having the structure shown in Figure 1 (a).
  • a green LED that outputs green light was used as the light source 11.
  • the spectrum of the illumination light output from the green LED used in Experiment E1 is as shown in FIG.
  • the horizontal axis in FIG. 2 indicates the wavelength (nm), and the vertical axis indicates the relative light intensity (arbitrary unit).
  • the maximum intensity wavelength lambda] m s of the illumination light in the experiment E1 is 516 nm
  • the full width at half maximum of the spectrum is green light is 39.5 nm.
  • a white LED that outputs white light was used as the light source 11.
  • Maximum intensity wavelength lambda] m s of the illumination light outputted from the light source 11 of the experiment E2 is 425 nm.
  • the same imaging device 13 was used in the experiments E1 and E2.
  • the detection sensitivity characteristics of the imaging device 13 are as shown in FIG. In FIG. 3, the horizontal axis indicates the wavelength (nm), and the vertical axis indicates the relative value normalized by the maximum sensitivity. As shown in FIG. 3, the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the imaging device 13 is 500 nm.
  • the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13 at 16nm is there. That is, in the experiment E1, the difference between the maximum intensity wavelength lambda] m s and the maximum sensitivity wavelength lambda] m d, and a 50nm or less, more particularly, to 20nm or less. Meanwhile, in Experiment E2, the difference between the maximum intensity wavelength lambda] m s of the illumination light, the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13 is 75 nm. That is, in experimental E2, the difference between the maximum intensity wavelength lambda] m s and the maximum sensitivity wavelength lambda] m d is over 50nm.
  • the film S to be inspected is a uniaxially stretched polyvinyl alcohol (PVA) film. Since the PVA film absorbs moisture and wrinkles easily occur, PVA films manufactured under the same conditions were prepared in Experiments E1 and E2. The thickness of the PVA film as the film S to be inspected was 8 ⁇ m in both Experiment E1 and Experiment E2.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • each of the inspected films S was placed between the linearly polarizing plates 12A and 12B, and then the illumination light was output from the light source 11. And the defect was test
  • the linearly polarizing plates 12A and 12B were arranged so that the first predetermined angle ⁇ 1 was 90 °.
  • the maximum intensity wavelength lambda] m s of the illumination light is set to lower than or equal to 50nm the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13 is capable of detecting defects more reliably, in particular, a line defect It is understood that it can be detected properly.
  • the linear polarization characteristic i.e., a light transmissive film having an absorption axis A S.
  • the linear polarizer film which transmits linearly polarized light polarized in the direction orthogonal to the direction of the absorption axis A S, and a protective film on at least one side of the linear polarizer film is laminated Laminated polarizer film.
  • the protective film is a transparent light-transmitting film, and examples of the protective film include triacetyl cellulose (hereinafter sometimes referred to as “TAC”) film, polyethylene terephthalate film, nylon film, polycarbonate film, polyethylene film, and the like. Including. Usually, a TAC film having a small optical anisotropy, particularly a TAC film made of a homopolymer of triacetyl cellulose is used.
  • TAC triacetyl cellulose
  • the thickness of the laminated polarizer film as the inspected film S is usually 5 ⁇ m to 300 ⁇ m (0.3 mm).
  • the second inspection device 10 2 in that it does not comprise a linear polarizer 12A, mainly different first inspection apparatus 10 1. Focusing on this difference the second inspection device 10 2 will be described.
  • the inspected film S and the linear polarization plate 12B as shown schematically in FIG. 6 (b), the absorption the absorption axis A 12B linear polarizer 12B is inspected film S placement against the axis a S while intersecting at a second predetermined angle .theta.2.
  • the second predetermined angle ⁇ 2 an angle at which a defect can be easily detected in an image obtained by imaging the film S to be inspected by the imaging device 13 can be selected.
  • the second predetermined angle ⁇ 2 may be the same as the first predetermined angle ⁇ 1.
  • the second predetermined angle ⁇ 2 may be 85 ° to 90 °, preferably 89 ° to 90 °, more preferably 89.4 ° or more.
  • the second predetermined angle ⁇ 2 may be 90 ° to 95 °, preferably 90 ° to 91 °, more preferably 90.6 ° or less.
  • the light to be inspected is irradiated with illumination light from the light source 11. Since the film S to be inspected has linear polarization characteristics, the light that has passed through the normal part in the film S to be inspected where no defect has occurred is linearly polarized light.
  • the linearly polarizing plate 12B is arranged so as to intersect the film S to be inspected at the second predetermined angle ⁇ 2, most of the linearly polarized light transmitted through the normal part of the film S to be inspected The light is absorbed by the linearly polarizing plate 12B and does not pass through it. That is, the linearly polarized light transmitted through the normal part is difficult to transmit through the linearly polarizing plate 12B.
  • the linear polarization characteristic of the inspected film S is disturbed in the defective part.
  • the light transmitted through the defective portion includes light having a polarization component different from the linearly polarized light generated in the inspected film S.
  • the light transmitted through the defective portion of the film S to be inspected easily passes through the linearly polarizing plate 12B.
  • more light that has passed through the defective portion than light that has passed through the normal portion passes through the linearly polarizing plate 12B and is incident on the imaging device 13 as incident light.
  • the imaging apparatus the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d 13 is 50nm or less. Therefore, when the film to be inspected S has a defect, the brightness difference is more clearly generated between the normal part and the defective part. As a result, defects can be detected in the same manner as in the first embodiment.
  • the second inspection device 10 2 In the second inspection device 10 2, the inspection film S and the linear polarization plate 12B, the absorption axis A S, A 12B are arranged in a state that intersect at a second predetermined angle .theta.2, to be inspected film S and the maximum intensity wavelength lambda] m s of illumination light irradiated has, since the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13 is 50nm or less, the second inspection device 10 2, in the case of the first inspection apparatus 10 1 In the same manner, the defect of the film S to be inspected can be inspected. Therefore, a defect inspection method using the second inspection device 10 2 has at least same effect as a defect inspection method in the case of using the first inspection apparatus 10 1 in the first embodiment.
  • the linear polarizer film is produced by subjecting an unstretched and undyed raw film to a polarization property imparting treatment that imparts a linear polarization property.
  • the example of the raw material film for manufacturing a linear polarizer film is the same as the film illustrated in 1st Embodiment.
  • a PVA film particularly a PVA film is usually used.
  • a raw material film is strip
  • the manufacturing method of the linear polarizer film includes a stretching step S10 for uniaxially stretching a raw material film, a defect inspection step S11 for inspecting a defect of the uniaxially stretched raw material film, and a uniaxially stretched raw material. And a dyeing process S13 for dyeing the film with a dichroic dye.
  • a stretching step S10 for uniaxially stretching a raw material film a defect inspection step S11 for inspecting a defect of the uniaxially stretched raw material film, and a uniaxially stretched raw material.
  • a dyeing process S13 for dyeing the film with a dichroic dye.
  • FIG. 7 it has a swelling treatment step S12 before the dyeing treatment step S13, and after the dyeing treatment step S13, a boric acid treatment step S14, a water washing treatment step S15 and a drying step S16. You may have.
  • Each step illustrated in FIG. 7 will be described with reference to FIGS. 8 and 9. Below, the form containing swelling process process S12, boric-acid process process S14, water washing process process S17, and drying process S16 is illustrated and demonstrated.
  • the raw material film 1 is fed out from the first raw material film roll 2 in which the belt-shaped raw material film 1 is wound in a roll shape, and the raw material is drawn by the conveying roller.
  • the film 1 is conveyed to the stretching device 20.
  • the uniaxially stretched raw material film 1 is unloaded from the stretching device 20.
  • the stretching device 20 includes a heat roll 21 and transport rollers 22A and 22B disposed before and after the heat roll 21 in the transport direction of the raw material film 1.
  • the positions of the transport rollers 22 ⁇ / b> A and 22 ⁇ / b> B and the position of the heat roll 21 are different.
  • the raw material film 1 is passed over the heat roll 21, and is tensioned in the conveyance direction (longitudinal direction) of the raw material film 1 by the conveyance rollers 22 ⁇ / b> A and 22 ⁇ / b> B before and after the heat roll 21 in the conveyance direction of the raw material film 1.
  • the raw material film 1 is uniaxially stretched. Examples of the draw ratio are 3 to 8 times.
  • the raw film 1 is uniaxially stretched using the heat roll 21.
  • the raw film 1. May be uniaxially stretched.
  • (3-2) Defect Inspection Step In the defect inspection step S11, as shown in FIG. 8, the raw film 1 carried out from the stretching apparatus 20 is used as the inspection film S, and the raw film 1 is inspected for defects. As shown in FIG. 7, when performing defect inspection between the stretching step S ⁇ b> 10 and the dyeing treatment step S ⁇ b> 13, the raw film 1 is not imparted with linear polarization characteristics. Therefore, the stretching step S10, with the dyeing step S13, when performing defect inspection by the defect inspection method using the first inspection apparatus 10 1 described in the first embodiment, inspection of defects.
  • the first inspecting apparatus 10 in the downstream of the stretching device 20 is arranged on the transport path of the film material 1. Specifically, the raw material film 1 is passed between the linearly polarizing plates 12A and 12B arranged in a state where the absorption axes A 12A and A 12B intersect at the first predetermined angle ⁇ 1. At that time, illumination light is output from the light source 11, and the raw material film 1 is photographed by the imaging device 13 via the linear polarizing plate 12 ⁇ / b> B. A captured image is formed in the image processing device 14 on the basis of the photographing result of the imaging device 13. The presence or absence of a defect can be determined by looking at this captured image.
  • the two linearly polarizing plates 12A and 12B are arranged so as to intersect at the first predetermined angle ⁇ 1, the normal part having no defect is transmitted through the inspected film S.
  • the incident light is difficult to enter the imaging device 13.
  • the linearly polarized light transmitted through the linearly polarizing plate 12A is disturbed in the defective portion, so that the light transmitted through the raw material film 1 as the film S to be inspected is linearly polarized light. It is easy to enter the imaging device 13 through the plate 12B. That is, when the raw material film 1 has a defective portion, the light transmitted through the defective portion is incident on the imaging device 13 more than the light transmitted through the normal portion.
  • the difference between the maximum intensity wavelength lambda] m s with the illumination light irradiated to the inspected film S, a maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13 is 50nm or less.
  • the defect position may be recorded electronically on a recording medium, for example, or may be recorded by marking a defective portion of the raw material film 1 with a marker or the like.
  • the recording medium may be, for example, a storage unit in the image processing apparatus 14, a storage unit of another computer, or a removable external recording medium such as a USB memory and a DVD.
  • Film material 1 which has passed through the first inspection apparatus 10 1 is wound into a roll.
  • the roll on which the stretched raw film 1 is wound is referred to as a second raw film roll 3.
  • the uniaxially stretched raw material film 1 fed out from the second raw material film roll 3 is immersed in a treatment bath in the swelling tank 30.
  • the raw material film 1 is subjected to a swelling treatment.
  • This swelling treatment is performed for the purpose of removing foreign matter on the film surface, removing the plasticizer in the film, imparting easy dyeability in a subsequent process, and plasticizing the raw film 1.
  • the conditions for the swelling treatment can be determined within a range in which these objects can be achieved, and in a range in which problems such as extreme dissolution and devitrification of the raw material film 1 do not occur.
  • the swelling treatment is performed by immersing the raw material film 1 in a treatment bath at a temperature of 10 to 50 ° C., preferably 20 to 50 ° C., for example.
  • the swelling treatment time is about 5 to 300 seconds, preferably about 20 to 240 seconds.
  • the treatment bath used in the swelling tank 30 is pure water, boric acid as described in JP-A-10-153709, chloride as described in JP-A-6-281816, and others.
  • An aqueous solution to which an inorganic acid, other inorganic salt, a water-soluble organic solvent, alcohols and the like are added in an amount of 0.01 to 10% by weight can be used.
  • pure water substantially free from dissolved components is preferably used.
  • the raw material film 1 that has undergone the swelling process step S12 is immersed in an aqueous solution of the dichroic dye in the dyeing tank 31, thereby making the raw material film 1 with the dichroic dye. Stain.
  • a normal dyeing process with a dichroic dye is performed for the purpose of adsorbing the dichroic dye on the raw film 1.
  • the processing conditions are determined within a range in which such an object can be achieved and in a range in which problems such as extreme dissolution and devitrification of the raw material film 1 do not occur.
  • Examples of dichroic dyes used for dyeing are iodine and dichroic dyes.
  • iodine is 0.003 to 0.2 parts by weight and iodine at a temperature of 10 to 50 ° C., preferably 20 to 40 ° C., and 100 parts by weight of water.
  • the dyeing treatment is performed by immersing the raw material film in an aqueous solution containing 0.1 to 10 parts by weight of potassium halide for 10 to 600 seconds, preferably 30 to 200 seconds.
  • potassium iodide other iodides such as zinc iodide may be used.
  • Other iodides may be used in combination with potassium iodide.
  • iodide compounds other than iodide, such as boric acid, zinc chloride, cobalt chloride, etc. may coexist. Even when boric acid is added, it is distinguished from the subsequent boric acid treatment in that it contains iodine. Any bath containing 0.003 parts by weight or more of iodine with respect to 100 parts by weight of water can be regarded as a dyeing bath.
  • the dichroic dye When a water-soluble dichroic dye is used as the dichroic dye, the dichroic dye is added at a temperature of, for example, 20 to 80 ° C., preferably 30 to 60 ° C., and 100 parts by weight of water.
  • the dyeing process is performed by immersing the raw material film 1 in an aqueous solution containing 0.1 part by weight for 10 to 600 seconds, preferably 20 to 300 seconds.
  • the aqueous solution of the dichroic dye to be used may contain a dyeing assistant or the like, and may contain, for example, an inorganic salt such as sodium sulfate or a surfactant. Only one type of dichroic dye may be used, or two or more types of dichroic dyes may be used in combination according to the desired hue.
  • the dichroic dye is adsorbed and oriented on the raw film 1 in the stretching direction of the uniaxial stretching through the dyeing process S13.
  • the linear polarization property is imparted to the raw material film 1. Therefore, in the manufacturing method according to the flowchart shown in FIG. 7, the raw material film 1 after the dyeing process step S ⁇ b> 13 is the linear polarizer film 4.
  • the film processed at each process after dyeing process S13 is also explained as raw material film 1.
  • the raw film 1 that has undergone the dyeing treatment step S13 is immersed in an aqueous solution in the boric acid bath 32 to perform boric acid treatment.
  • This boric acid treatment is performed by immersing the raw material film 1 dyed with a dichroic dye in an aqueous solution containing about 1 to 10 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water.
  • the boric acid treatment bath preferably contains about 0.1 to 30 parts by weight of iodide with respect to 100 parts by weight of water in addition to boric acid.
  • iodide include potassium iodide and zinc iodide.
  • This boric acid treatment is performed for water resistance and hue adjustment (to prevent bluish tint) by crosslinking.
  • a cross-linking agent such as glyoxal or glutaraldehyde can be used together with boric acid as necessary.
  • the boric acid treatment for water resistance is sometimes referred to as water resistance treatment, crosslinking treatment, immobilization treatment, or the like.
  • boric acid treatment is regarded as hue adjustment, and is sometimes referred to as complementary color processing, toning processing, or the like.
  • This boric acid treatment is performed by appropriately changing the concentration of boric acid and iodide and the temperature of the treatment bath according to the purpose.
  • the boric acid treatment for water resistance and the boric acid treatment for hue adjustment are not particularly distinguished, but are preferably carried out under the following conditions.
  • boric acid is about 3 to 10 weights per 100 weight parts of water.
  • An aqueous solution containing about 1 to 20 parts by weight of iodide and iodide is used as a boric acid treatment bath, usually at a temperature of 50 to 70 ° C., preferably 53 to 65 ° C.
  • the treatment time is usually about 10 to 600 seconds, preferably 20 to 300 seconds, more preferably 20 to 100 seconds.
  • boric acid treatment for hue adjustment may be further performed.
  • the dichroic dye is iodine
  • an aqueous solution containing about 1 to 5 parts by weight of boric acid and about 3 to 30 parts by weight of iodide for 100 parts by weight of water is used for this purpose.
  • An acid treatment bath is usually used at a temperature of about 10 to 45 ° C.
  • the immersion time is usually about 1 to 300 seconds, preferably 2 to 100 seconds.
  • the boric acid treatment for hue adjustment is usually performed at a lower temperature than the boric acid treatment for water resistance.
  • this boric acid treatment may be performed in a plurality of tanks, and usually 1 to 5 tanks are often arranged.
  • the raw material film 1 sequentially passes through each tank, and the raw film 1 is subjected to boric acid treatment.
  • positioning a some tank the aqueous solution composition and temperature of each boric-acid processing tank to be used may be the same within the said range, or may differ.
  • the boric acid treatment for water resistance and the boric acid treatment for hue adjustment may be performed in a plurality of tanks, respectively.
  • water-washing process S15 the raw material film 1 which passed through the boric-acid treatment process S14 is immersed in the water in the water-washing tank 33, and the raw material film 1 after the boric-acid treatment process S14 is washed with water.
  • the water washing treatment may be performed by a method of spraying water as a shower or a method of using immersion and spraying together.
  • the water temperature in the water washing treatment is usually about 2 to 40 ° C., and the treatment time is usually about 2 to 120 seconds.
  • the drying step S16 the raw material film 1 that has undergone the water washing treatment step S15 is conveyed to the drying device 34, and the raw material film 1 is dried in the drying device 34.
  • This drying is performed for about 30 to 600 seconds in the drying apparatus 34 maintained at a temperature of about 40 to 100 ° C.
  • FIG. 9 schematically shows the drying device 34.
  • the drying device 34 is not particularly limited as long as the moisture attached to the raw material film 1 can be dried by the drying step S16, and may be a known device that is usually used in the production of a linear polarizer film.
  • the defect inspection step S11 is performed after the stretching step S10. Therefore, it is possible after fed from the first raw material film roll 2, to inspect the defects generated in the raw material film 1 to reach the first inspection device 10 1.
  • defect inspection is performed by the inspection method described in the first embodiment. Therefore, when the raw material film 1 has a defect, the defective portion can be detected more reliably.
  • defects for example, point-like defects
  • a streak defect may occur.
  • Such a streak defect could not be detected by a conventional inspection method.
  • using the illumination light and the image pickup device 13 to satisfy the relationship that the difference between the maximum intensity wavelength lambda] m s and the maximum sensitivity wavelength lambda] m d is 50nm or less By performing the defect inspection, the streak defect can also be detected in the defect inspection step S11. In the form in which the illumination light is green light, it is easier to detect the streak defect.
  • the defect inspection process S11 is provided after extending process S10 as shown in FIG. 7, the said streak defect can be detected reliably.
  • a defect When a defect is detected by defect inspection, it is possible to record the defect position electronically or mark the defect portion of the raw film 1 as described above.
  • a polarizing plate is manufactured using the linear polarizer film 4 by performing the recording process (recording process) as described above while performing the defect inspection process S11 or after the defect inspection process S11, the defect portion It is possible to manufacture a polarizing plate while avoiding the above, or to easily sort a polarizing plate including a defective portion from the manufactured polarizing plate. As a result, it is easy to obtain a polarizing plate as a good product.
  • the defect state for example, the number or size of a defective part
  • production of linear polarizer film 4 is interrupted and the first raw material film roll 2 is made. It may be replaced.
  • the post-process can be omitted for the raw material film 1 whose defect state exceeds the allowable range, the linear polarizer film 4 as a non-defective product can be efficiently manufactured.
  • the determination as to whether or not to stop the production of the linear polarizer film 4 may be made, for example, while viewing the photographed image formed by the image processing device 14 in the defect inspection step S11, or the second raw film roll After forming 3, the defect state over the entire length of the raw material film 1 wound around the second raw material film roll 3 may be taken into consideration.
  • the defect inspection step S11 may not be provided between the stretching step S10 and the swelling treatment step S12, and may be performed while the polarization property imparting step for imparting linear polarization properties to the raw film 1 is being performed.
  • the defect inspection process S11 may be performed between the swelling process step S12 and the dyeing process step S13.
  • the first inspection apparatus 10 1 is provided in the transport path of the film material 1 from swelling bath 30 to dyeing tank 31.
  • the defect inspection step S11 is provided between the swelling treatment step S12 and the dyeing treatment step S13, it is possible to inspect the defects generated up to the swelling treatment step S12, and a linear polarizer according to the inspection result. Whether or not the film 4 can be manufactured can be determined.
  • the defect inspection step S11 may be provided before the stretching step S10, that is, before the polarization property imparting step for imparting linear polarization properties to the raw material film 1.
  • the raw material film 1 itself wound around the first raw material film roll 2 is inspected. Thereby, it is possible to inspect the defect when the raw material film 1 is manufactured with high sensitivity.
  • defect inspection process S11 of the modification 2 when the raw material film 1 has a defect exceeding an allowable range, for example, if the first raw material film roll 2 is replaced, the process after the stretching process S10 exceeds the allowable range.
  • a more appropriate raw material film 1 can be used. As a result, the production efficiency of the linear polarizer film 4 is improved.
  • the defect inspection step S11 may be provided after the dyeing treatment step S13, that is, after the polarization property imparting step for imparting the linear polarization property to the raw material film 1.
  • the linear polarizer film 4 since it passes through extending process S10 and dyeing process S13, the linear polarizer film 4 by which the linearly polarized light characteristic was provided to the raw material film 1 will be test
  • the raw material film 1 is uniaxially stretched in the conveying direction of the raw material film 1, that is, in the longitudinal direction of the raw material film 1. Since the direction of the absorption axis A S corresponds to the stretching direction, the direction of the absorption axis A S given to the film material 1 by the raw material film 1 is subjected to the stretching step S10 and dyeing process S13., Substantially It can be assumed that the material film 1 (or the linear polarizer film 4) is conveyed.
  • the absorption axis A 12B linear polarizer 12B intersect at a second predetermined angle ⁇ 2 with respect to the transport direction them if, linear polarizer 12B is with respect to the linear polarizer film 4 being conveyed, at a second predetermined angle ⁇ 2 absorption axis a 12B linear polarizer 12B is with respect to the absorption axis a S of the linear polarizer film 4 It will be arranged in a crossing state.
  • the conveying direction of the film material 1 exemplifies a case it is assumed that the direction of the absorption axis A S, for example, prior to the defect inspection step S11 in the modified example 3, detects the direction of the absorption axis A S, the The arrangement of the linearly polarizing plate 12B may be adjusted using the detection result.
  • the second inspection device 10 2 uses the second inspection device 10 2, the method of defect inspection of the inspected film S which is a linear polarizer film 4, because it is as described in the second embodiment, the description thereof is omitted.
  • the difference between the maximum intensity wavelength lambda] m s and the maximum sensitivity wavelength lambda] m d is using illumination light and the imaging device 13 is 50nm or less, the detection sensitivity of the defect Is good. Therefore, it is possible to detect the defect more reliably, and in particular, it is possible to detect a streak defect that may occur in the stretching step S10. In the form in which the illumination light is green light, it is easier to detect the streak defect.
  • Modification 3 it is possible to detect with high sensitivity defects generated in the process until the linear polarizer film 4 is manufactured. As a result, whether or not the raw material film 1 to which the linearly polarized light property is imparted is appropriate as the linear polarizer film 4 as a product, or the linear polarizer film 4 is produced following the production of the linear polarizer film 4. It can be judged more appropriately whether it can be used for manufacture of a polarizing plate.
  • the second inspection device 10 2 is arranged downstream of the drying device 34, and by using the second inspection device 10 2 carried a defect inspection step S11.
  • the raw film 1 is given a linear polarization characteristic, and therefore the defect inspection step S11 described in the modified example 3 may be performed after the dyeing treatment step S13.
  • the defect inspection step S11 and the second inspection device 10 2 is provided in the transport path of the film material 1 from dyeing tank 31 to the washing tank 33.
  • the protective film 5 is a transparent film for protecting the linear polarizer film 4.
  • the example of the protective film 5 is the same as the film illustrated about the protective film in 2nd Embodiment.
  • a TAC film particularly a TAC film is used.
  • An example of the thickness of the protective film 5 is 10 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the adhesive surface with the linear polarizer film 4 may be subjected to a hydrophilic treatment such as a saponification treatment.
  • the linear polarizer film 4 is fed by a roll-to-roll method by feeding the protective film 5 out of a protective film roll 6 in which the protective film 5 is wound in a roll shape.
  • a protective film 5 is laminated on the substrate.
  • the protective film 5 is laminated on both sides of the linear polarizer film 4, but the protective film 5 may be laminated only on one side.
  • a water-soluble adhesive for bonding them is usually applied to the interface. Therefore, usually, after the protective film 5 is laminated on the linear polarizer film 4, the protective film 5 is carried into the drying device 40 to dry the adhesive, and the protective film 5 and the linear polarizer film 4 are bonded together.
  • FIG. 12 schematically shows the drying device 40.
  • the drying device 40 is not particularly limited as long as the laminated polarizer film 7 can be dried, and may be a known device used for manufacturing a linear polarizer film.
  • Modification 5 As described in the modified example 4, when a protective film laminating step S17, as illustrated in FIG. 12, downstream of the drying device 40, and the second inspection unit 10 2 is disposed, the defect inspection step S11 may be performed. Method of inspecting a laminated polarizer film 7 by the second inspection device 10 2 may be the same as in the case described in the second embodiment and the third modification.
  • the laminated polarizer film 7 is inspected by the defect inspection method described in the second embodiment using the film to be inspected S, it occurs in the process until the laminated polarizer film 7 is manufactured including the defects of the protective film 5 itself.
  • the detected defect can be detected with high sensitivity.
  • whether the laminated polarizer film 7 as the linear polarizer film 4 on which the protective film 5 is laminated is appropriate as a linear polarizer film as a product, or manufacture of a polarizing plate using the laminated polarizer film 7 It is possible to more appropriately determine whether or not it can be used.
  • defect inspection process S11 When performing defect inspection process S11 after protective film bonding process S17, defect inspection process S11 may be implemented separately by protective film bonding process S17, or does not need to be implemented.
  • the dyeing process S13 is performed after the stretching process S10.
  • the stretching step S10 may be performed after the dyeing step S13.
  • the dyeing process S13 is performed before the stretching process S10, the swelling process S12, the boric acid process S14, the water washing process S15 and the drying process S16 are also performed before the stretching process S10.
  • the defect inspection step S11 may be performed after the stretching step S10.
  • the stretching process S10 is performed after the dyeing process S13, in FIG. 8, instead of the raw material film 1 fed out from the first raw film roll 24, the raw material film 1 that has been dyed and dried is stretched by the stretching device 20. Just bring it in. Then, the first place of the inspection apparatus 10 1 shown in FIG. 8, may be used a second inspection device 10 2.
  • the stretching process S10 may be performed during the dyeing process S13.
  • the raw film 1 in the conveyance direction of the raw material film 1, the raw film 1 is immersed in the aqueous solution of the dichroic dye in the dyeing tank 31 by setting the peripheral speeds of the conveying rollers before and after the dyeing tank 31 to different peripheral speeds.
  • the raw material film 1 can be uniaxially stretched in the longitudinal direction (conveyance direction) while performing the dyeing treatment.
  • the stretching step S10 may be performed during the boric acid treatment step S14, or may be performed over the dyeing treatment step S13 and the boric acid treatment step S14.
  • the polarizing plate 50 includes a laminated polarizer film 7 composed of a linear polarizer film 4 and protective films 5 bonded to both surfaces thereof, and a protect provided on one protective film 5. It has a film 51, an adhesive layer 52 provided on the other protective film 5, and a separate film 53 provided on the adhesive layer 52.
  • the planar view shape (the shape seen from the thickness direction) of the polarizing plate 50 may be any one according to the device to which the polarizing plate 50 is applied.
  • the example of the planar view shape of the polarizing plate 50 is a rectangle or a square.
  • the linear polarizer film 4 is manufactured through a process before the protective film 5 is bonded as described in the third embodiment. Since the protective film 5 is the same as the protective film described in Modification 4 of the third embodiment, the description thereof is omitted.
  • the protect film 51 is a surface protective film for protecting the surface of the laminated polarizer film 7.
  • An example of the thickness of the protect film 51 is 30 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • Examples of the material of the protective film 51 include polyethylene, polypropylene, and polyester.
  • the adhesive layer 52 is for attaching the polarizing plate 50 as a product to another member such as a liquid crystal cell.
  • An example of the thickness of the adhesive layer 52 is 5 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the example of the adhesive which comprises the adhesion layer 52 contains an acrylic adhesive, a urethane adhesive, and a silicone adhesive.
  • the separate film 53 is a film for preventing dust and the like from adhering to the adhesive layer 52 until the polarizing plate 50 as a product is used.
  • An example of the thickness of the separate film 53 is 30 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the surface of the separation film 53 on which the adhesive layer 52 is formed is bonded to the protective film 5. Therefore, a member in which the adhesive layer 52 is formed on one surface of the separate film 53 is also referred to as a separate film 54 with an adhesive layer.
  • the manufacturing method of the polarizing plate 50 includes a linear polarizer film manufacturing process S ⁇ b> 20 that manufactures the linear polarizer film 4, and a first method in which the protective film 5 is bonded to both surfaces of the linear polarizer film 4.
  • the protective film 51 is bonded to one surface of the laminated polarizer film 7 that has undergone the bonding step (protective film bonding step) S21 and the first bonding step S21, and a separate film 54 with an adhesive layer is bonded to the other surface.
  • the 2nd bonding process S22 which bonds, and the cutting process S23 which cuts out the polarizing plate 50 as a product from the laminated polarizer film 7 which passed 2nd bonding process S22.
  • Each step will be described.
  • the protective film 51 is laminated on one surface of the laminated polarizer film 7 by the same method as when the protective film 5 described with reference to FIG. A separate film 54 with an adhesive layer is laminated on the other surface.
  • the protective film 51 is laminated on the laminated polarizer film 7 and the roll-to-roll method. Laminate by. At this time, an adhesive may be applied to the surface of the protect film 51 facing the laminated polarizer film 7.
  • a separate film 54 with an adhesive layer is laminated on the laminated polarizer film 7 by a roll-to-roll method.
  • the adhesive layer-attached separate film 54 may be laminated on the laminated polarizer film 7 so that the adhesive layer 52 is in contact with the laminated polarizer film 7 in the separate film 54 with the adhesive layer.
  • the laminated polarizer film 7 that has undergone the second bonding step S22 is cut into the size of the polarizing plate 50 as a product to obtain the polarizing plate 50.
  • the polarizing plate 50 may be cut out from the laminated polarizer film 7 so as not to include a defective portion according to the inspection result of the defect inspection step S11 (see FIG. 7) in the manufacturing process of the linear polarizer film 4. .
  • the linear polarizer film 4 included in the laminated polarizer film 7 is manufactured by the manufacturing method illustrated in FIG. Therefore, the linear polarizer film 4 is manufactured through defect inspection process S11 (refer FIG. 7).
  • the cutting step S23 based on the defect detection result in the defect inspection step S11, it is possible to select the portion where no defect has occurred and cut out the polarizing plate 50. As a result, it is easy to manufacture a polarizing plate 50 that does not include defects.
  • a defect is detected in the defect inspection step S11, if the defect position is recorded, it is easy to select the portion where no defect has occurred and cut out the polarizing plate 50.
  • the polarizing plate 50 that does not include a defective portion may be sorted. For example, if the inspection result of the defect inspection step S11 is marked on the film S to be inspected, it is easy to sort the polarizing plates 50 that do not include a defective portion, and it is easy to obtain a non-defective polarizing plate 50.
  • the linear polarizer film manufacturing step S20 the linear polarizer film 4 is manufactured by the manufacturing method illustrated in FIG. 7.
  • a defect inspection of the laminated polarizer film 7 may be performed in the same manner as the defect inspection described in Modification 6 of the third embodiment.
  • the polarizing plate 50 can be cut out using the defect inspection result of the laminated polarizer film 7.
  • the manufacturing method shown in FIG. 14 has 2nd bonding process S22
  • the manufacturing method of a polarizing plate does not need to include 2nd bonding process S22.
  • the polarizing plate as a product is cut out directly from the laminated polarizer film 7.
  • the polarizing plate manufactured in this manner has a configuration that does not include the protect film 51, the adhesive layer 52, and the separate film 53 in the polarizing plate 50 shown in FIG.
  • the inspected film S is a raw material film for producing a linear polarizer film, but is not limited thereto.
  • a retardation film may be used, and an optical film having optical transparency without birefringence may be used.
  • non-polarized light is output from the light source 11, and the linearly polarized light is irradiated as illumination light onto the inspected film S through the linear polarizing plate 12 ⁇ / b> A.
  • a light source that outputs linearly polarized light may be used.
  • the direction of the absorption axis A 12B linear polarizer 12B with respect to the vibration direction of the linearly polarized light is irradiated to the inspected film S has only to become parallel.
  • An example of a light source that outputs linearly polarized light may be a light source that includes the light source 11 illustrated in FIG. 1A and the linearly polarizing plate 12A as one illumination unit.
  • the maximum intensity wavelength lambda] m s of the illumination light but the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup apparatus 13 has been described as 50nm or less, the imaging apparatus and transmitted through the test film S the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the maximum intensity wavelength lambda] m s and the imaging device 13 of the light incident to the 13 may be any 50nm or less.
  • green light was illustrated as an example of illumination light.
  • the incident light incident on the imaging device 13 may be green light.
  • defect inspection of the light transmissive film may be performed using a third inspection device 10 3 shown in FIG. 15.
  • the absorption axis A 12A linear polarizer 12A are oriented in the Y-axis direction shown in FIG. 1 (a), the absorption axis A 12B linear polarizer 12B It is oriented in the X-axis direction shown in FIG.
  • the absorption axis A 12B linear polarizer 12B shows since it is facing the X-axis direction, in FIG. 15, the direction of the absorption axis A 12A linear polarizer 12B in schematically black dots.
  • the illumination light output from the light source 11 is white light
  • green light is incident on the imaging device 13. Since white light includes green light, the film S to be inspected is substantially irradiated with green light. Therefore, the defect can be detected more clearly for the same reason as when green light is used as illumination light in the first embodiment or the like.
  • the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13 used in the experiment E1, E2, and the maximum intensity wavelength lambda] m s of the incident light to the imaging device 13 is a 32 nm, is 50nm or less.
  • a PVA film having a thickness of 8 ⁇ m manufactured under the same conditions as those in Experiments E1 and E2 was used.
  • the experiment method is the same as in Experiments E1 and E2.
  • the experiment E3 as shown in FIG. 16 which is a captured image of the imaging device 13, the streak defect is shown and the streak defect can be detected as in the case of the experiment E1.
  • the illumination light from the light source 11 is preferably a illumination light with high illuminance.
  • the illumination light can be 1850 lux or more per light receiving area ⁇ 1 mm.
  • the green filter 15 may be disposed between the linearly polarizing plate 12 ⁇ / b> B and the imaging device 13.
  • the second inspection device 10 2 as described with reference to the third inspection unit 103 may be disposed green filter 15 selectively passes the green light.
  • the inspection apparatus 10 2 shown in FIG. 6 (a) to it are arranged linearly polarizing plate 12B between the inspected film S and the imaging device 13, without providing the linear polarizer 12B, the A linearly polarizing plate 12 ⁇ / b> A may be disposed between the inspection film S and the light source 11. In this case, the inspected film S is irradiated with linearly polarized light.
  • linear polarizer 12A may be arranged in addition to the linear polarizer 12B, between the inspected film S and the light source 11, as in the first inspection apparatus 10 1 shown in FIG. 1 (a).
  • the direction of the absorption axis A 12A linear polarizer 12A, or in parallel to the direction of the absorption axis A S of the test film S, or the direction of the absorption axis A 12A linear polarizer 12B, the inspection the direction of the absorption axis a S of the film S may be in parallel.
  • the manufacturing process of the linear polarizer film 4 basically includes one defect inspection step S11.
  • the method for manufacturing the linear polarizer film 4 may include a plurality of defect inspection steps S11.
  • the defect inspection process S11 before the stretching process S10 as illustrated in FIG. 7, the defect inspection process S11 after the stretching process S10, and the fourth modification.
  • the defect inspection process S ⁇ b> 11 after the dyeing process S ⁇ b> 13 may be included.
  • a cumulative defect state (the number and size of defects) can be grasped by performing the defect inspection step S11 on the post-process side. Therefore, when the defect state exceeds the allowable range, for example, the production of the linear polarizer film 4 is interrupted, the first raw film roll 2 is replaced, and the linear polarizer film 4 is produced with a more appropriate raw material film 1. Can do.
  • the defect between one defect inspection step S11 and the next defect inspection step S11 can be grasped, so that the cause of the defect can be grasped more reliably. Is also possible.
  • the first to third inspection apparatuses 10 1 to 10 3 have the image processing apparatus 14, for example, a change in signal intensity from the imaging apparatus 13 and a detection position on the inspection film S are associated with each other. If the defective portion can be specified, the image processing device 14 may not be provided.
  • the raw material film 1 after uniaxial stretching is wound up to form a second raw material film roll 3.
  • the second raw material film roll 3 may not be formed, and the uniaxially stretched raw material film 1 may be conveyed and immersed in the treatment bath in the swelling tank 30.
  • the green light is exemplified as the incident light incident on the imaging device 13.
  • the relationship between the maximum intensity wavelength that is the wavelength corresponding to the maximum intensity of the incident light and the maximum sensitivity wavelength that is the wavelength corresponding to the maximum sensitivity of the imaging device 13 is 50 nm or less, the above incident light May be red light or blue light.
  • an experimental example when the incident light is blue light or red light will be described.
  • An experiment when the incident light is blue light is referred to as an experiment E4
  • an experiment when the incident light is red light is referred to as an experiment E5.
  • Maximum intensity wavelength lambda] m s of the illumination light in experimental E4 is 470 nm, the full width at half maximum of the spectrum was 26.7Nm.
  • the maximum sensitivity wavelength lambda] m d is using an image pickup device 13 is 445 nm.
  • the difference between the maximum sensitivity wavelength lambda] m d of the image pickup device 13, be 25nm 50 nm or less. Also in Experiment E4, as shown in FIG. 19 which is a captured image of the imaging device 13, a streak defect is shown and the streak defect can be detected.
  • Device configuration in experiments E5 is similar to the experiment E1, i.e., employing a first inspection device 10 1 having the structure shown in Figure 1 (a).
  • a first inspection device 10 1 having the structure shown in Figure 1 (a).
  • a PVA film having a thickness of 8 ⁇ m manufactured under the same conditions as those in Experiments E1 and E2 was used.
  • a red LED that outputs red light was used as the light source 11.
  • the spectrum of the illumination light output from the red LED used in Experiment E5 is as shown in FIG.
  • the horizontal axis in FIG. 18 indicates the wavelength (nm).
  • the vertical axis in FIG. 18 indicates the relative light output (%) when the maximum light output of the red LED is 100%.
  • Maximum intensity wavelength lambda] m s of the illumination light in experimental E5 is 633.3Nm, full width at half maximum of the spectrum was 16.7 nm.
  • the maximum sensitivity wavelength lambda] m d is using an image pickup device 13 is 650 nm.
  • the incident light incident on the imaging device 13 may be blue light or red light. If the relationship between the maximum intensity wavelength that is the wavelength corresponding to the maximum intensity of the incident light and the maximum sensitivity wavelength that is the wavelength corresponding to the maximum sensitivity of the imaging device 13 is 50 nm or less, the incident light May be yellow light.
  • SYMBOLS 1 Raw material film (light transmissive film), 4 ... Linear polarizer film (light transmissive film), 5 ... Protective film, 7 ... Laminated polarizer film, 12A, 12B ... Linear polarizing plate, 13 ... Imaging apparatus, 15 ... green filter (optical filter), 50 ... polarizing plate, S ... film to be inspected.

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Abstract

一実施形態に係る光透過性フィルムの欠陥検査方法は、光透過性を有する被検査フィルムＳに、照明光としての直線偏光光を照射しながら、直線偏光光の振動面に対して直交する方向に対して吸収軸Ａ１２Ｂが交差する状態で被検査フィルムと撮像装置１３の間に配置された直線偏光板１２Ｂを介して、撮像装置によって被検査フィルムを撮影することによって、被検査フィルムである光透過性フィルムの欠陥を検査する方法であって、被検査フィルムに直線偏光光が照射された際に、被検査フィルム及び直線偏光板を透過して撮像装置に入射する入射光の最大強度波長と、撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下である。

Description

光透過性フィルムの欠陥検査方法、直線偏光子フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
　本発明は、光透過性フィルムの欠陥検査方法に関し、直線偏光子フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法にも関する。
　直線偏光子フィルム及び位相差フィルム等に例示される光透過性フィルムの欠陥検出方法として、特許文献１記載の技術が知られている。特許文献１では、互いの吸収軸（又は透過軸）が実質的に９０°で交差する状態で配置された第１及び第２偏光板の間に光学フィルム（光透過性フィルム）を配置している。そして、第１偏光板を通して照明光を光学フィルムに照射しながら、第２偏光板を介して光学フィルムを撮像装置で撮影する。この場合、光学フィルムには、第１偏光板を透過した照明光が照射されるので、直線偏光光が光学フィルムに照射される。一方、第２偏光板は第１偏光板に対して第１編光板の吸収軸が第２編光板の吸収軸に対して実質的に９０°で交差する状態で配置されているので、第１偏光板を透過した後の直線偏光光のうち、光学フィルムにおいて欠陥が生じていない正常部分を透過した光は、第２偏光板に吸収される。これに対して、光学フィルムにおいて欠陥が生じている欠陥部分では、直線偏光光の偏光状態が擾乱されるので、欠陥部分を透過した後の直線偏光光の一部が第２偏光板を透過する。よって、撮像装置で撮影された画像では、欠陥部分と正常部分とで輝度に差が生じる。これにより、理論的には、欠陥を検出可能である。
特開２００８－２９８５５７号公報
　しかしながら、特許文献１に開示されているような従来の欠陥検査方法では、欠陥を確実に検出できない場合があった。
　そこで、本発明は、欠陥をより確実に検出可能な光透過性フィルムの欠陥検査方法及びその検査方法を利用した偏光子フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明の一側面に係る光透過性フィルムの欠陥検査方法（以下、「第１の欠陥検査方法」とも称する場合がある）は、光透過性を有する被検査フィルムに、照明光としての直線偏光光を照射しながら、被検査フィルムと撮像装置の間に直線偏光光の振動面に対して直交する方向に対して吸収軸が交差する状態で配置された直線偏光板を介して、撮像装置によって被検査フィルムを撮影することによって、被検査フィルムである光透過性フィルムの欠陥を検査する方法であって、被検査フィルムに直線偏光光が照射された際に、被検査フィルム及び直線偏光板を透過して撮像装置に入射する入射光の最大強度波長と、撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下である。
　上記第１の欠陥検査方法では、直線偏光板が直線偏光光に対しての振動面に対して直交する方向に対して吸収軸が交差する状態で配置されている。そのため、照明光としての直線偏光板が光透過性フィルムである被検査フィルムに照射されると、被検査フィルムにおいて欠陥が生じていない部分（以下、「正常部分」とも称す）を透過した光は直線偏光板を透過しにくい。一方、被検査フィルムにおいて欠陥が生じている部分（以下、「欠陥部分」とも称す）では、直線偏光板の偏光状態が擾乱されるので、被検査フィルムにおいて欠陥部分を透過した光は、正常部分を透過した光より多く、直線偏光板を透過する。そして、被検査フィルム及び直線偏光板を透過して撮像装置に入射する入射光の最大強度波長と、撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下であることから、直線偏光板を介して撮像装置によって被検査フィルムを撮影すると、上記入射光を感度良く検出可能である。これにより、撮像装置で撮影した画像において、正常部分と欠陥部分との区別がし易く、結果として、被検査フィルムに欠陥が生じている場合に、その欠陥をより確実に検出可能である。
　上記直線偏光板は、直線偏光板の吸収軸が直線偏光光の振動面に直交する方向に対して８５°～９０°または９０°～９５°、好ましくは、８９°～９０°または９０°～９１°の角度で交差する状態で配置されていてもよい。この場合、正常部分を透過した光は直線偏光板を更に透過し難いことから、正常部分と欠陥部分とをより区別し易い。
　本発明の他の側面に係る光透過性フィルムの欠陥検査方法（以下、「第２の欠陥検査方法」とも称する場合がある）は、吸収軸を有しており吸収軸の方向と直交する方向に振動する直線偏光光を透過する光透過性を有する被検査フィルムに対して直線偏光板を、被検査フィルムの吸収軸と直線偏光板の吸収軸とが交差する状態で配置し、照明光を被検査フィルムに照射しながら、被検査フィルムを撮像装置で撮影することによって、被検査フィルムである光透過性フィルムの欠陥を検査する方法であって、被検査フィルムに照明光が照射された際に、被検査フィルム及び直線偏光板を透過して撮像装置に入射する入射光の最大強度波長と、前記撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下である。
　上記構成では、被検査フィルムにおいて欠陥が生じていない正常部分に入射した照明光は、撮像装置に入射し難い。一方、被検査フィルムにおいて欠陥が生じている欠陥部分では、被検査フィルムの直線偏光特性が乱されているため、被検査フィルムの欠陥部分に入射した照明光は、正常部分に入射した照明光より多く撮像装置に入射する。そして、被検査フィルム及び直線偏光板を透過して撮像装置に入射する入射光の最大強度波長と、撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下であることから、撮像装置で、被検査フィルムを撮影すると、上記入射光を感度良く検出可能である。これにより、撮像装置で撮影した画像において、正常部分と欠陥部分との区別がし易く、結果として、被検査フィルムに欠陥が生じている場合に、その欠陥をより確実に検出可能である。
　上記直線偏光板を、直線偏光板の吸収軸が被検査フィルムの吸収軸に対して８５°～９０°または９０°～９５°、好ましくは、８９°～９０°または９０°～９１°の角度で交差する状態で配置してもよい。
　上記入射光は緑色光であってもよい。
　入射光の最大強度波長と、撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下であることから、入射光が緑色光である場合、撮像装置も緑色光に対して高い感度を有する。そして、上記入射光が緑色光で、緑色光に感度を有する撮像装置で物体を撮影すると、画像においてコントラストが高くなる傾向にある。そのため、入射光が緑色光である上記形態では、欠陥をより明瞭に認識し易い。なお、入射光は、赤色光、黄色光又は青色光であってもよい。
　入射光が緑色光である形態では、照明光が緑色光であってもよい。或いは、照明光は白色光であり、被検査フィルムと撮像装置との間に配置される光学フィルタであって緑色光を選択的に通過させる光学フィルタを通過した光を入射光として撮像装置に入射させてもよい。
　本発明の他の側面に係る直線偏光子フィルムの製造方法は、光透過性を有する原料フィルムを用いて直線偏光子フィルムを製造する方法であって、原料フィルムに直線偏光特性を付与する偏光特性付与工程と、偏光特性付与工程前の原料フィルム、偏光特性付与工程中の原料フィルム、及び偏光特性付与工程後の原料フィルムのうち少なくとも一つを、被検査フィルムとして欠陥検査をする、少なくとも一つの欠陥検査工程と、を備え、欠陥検査工程において、偏光特性付与工程前の原料フィルム及び偏光特性付与工程中の原料フィルムの少なくとも一方を被検査フィルムとして欠陥検査を行う場合、上記第１の欠陥査方法によって、欠陥検査を行い、欠陥検査工程において、偏光特性付与工程後の原料フィルムを被検査フィルムとして欠陥検査を行う場合、上記第２の欠陥検査方法によって、欠陥検査を行う。
　上記直線偏光子フィルムの製造方法では、偏光特性付与工程において、原料フィルムに直線偏光特性を付与することで、直線偏光子フィルムとすることができる。そして、偏光特性付与工程前の原料フィルム、偏光特性付与工程中の原料フィルム、及び偏光特性付与工程後の原料フィルムのうち少なくとも一つを、被検査フィルムとして欠陥検査を行う。この欠陥検査工程において、偏光特性付与工程前の原料フィルム及び偏光特性付与工程中の原料フィルムの少なくとも一方を被検査フィルムとして欠陥検査を行う場合には、上述した第１の欠陥検査方法によって、欠陥検査を行い、欠陥検査工程において、偏光特性付与工程後の原料フィルムを被検査フィルムとして欠陥検査を行う場合には、上述した第２の欠陥検査方法によって、欠陥検査を行う。そのため、被検査フィルムの欠陥を感度良く検出できる。その結果、例えば、欠陥部分の位置を記録しておけば、製造した直線偏光子フィルムを用いて、例えば直線偏光子フィルムに直線偏光子フィルムを保護するための偏光子保護フィルムを貼合するなどして、偏光板を製造する際に、欠陥部分を含まない偏光板を製造し易い。
　上記偏光特性付与工程は、原料フィルムを二色性色素によって染色する染色処理工程と、染色処理工程で染色された原料フィルムを延伸する延伸工程と、を有してもよい。この場合、上記欠陥検査工程は、染色処理工程と延伸工程との間において、染色処理工程中の原料フィルム又は染色処理工程で染色された原料フィルムを被検査フィルムとして実施されてもよい。
　延伸工程前の原料フィルムの一部に、例えば、点状の欠陥があった場合、延伸工程でその欠陥も延伸され筋状の欠陥（筋状欠陥）になる場合があり得る。延伸工程後に欠陥検査工程を実施する形態では、延伸工程で生じる上記筋状欠陥を検出可能である。欠陥検査工程では、本発明の一側面に係る光透過性フィルムの欠陥検査方法で、被検査フィルムとしての原料フィルムを検査しているので、上記筋状欠陥もより確実に検出し得る。
　一実施形態における直線偏光子フィルムの製造方法では、直線偏光特性が付与された原料フィルムの少なくとも片面に保護フィルムを貼合する保護フィルム貼合工程を更に備えてもよい。この場合、欠陥検査工程は、保護フィルム貼合工程を経た原料フィルムを被検査フィルムとして、実施されてもよい。
　この場合、保護フィルム自体の欠陥も検出可能である。
　本発明の更に他の側面に係る偏光板の製造方法は、本発明の他の側面に係る直線偏光子フィルムの製造方法で直線偏光子フィルムを製造する偏光子フィルム製造工程と、偏光子フィルム製造工程で製造された直線偏光子フィルムの少なくとも片面に保護フィルムを貼合して積層偏光子フィルムを得る保護フィルム貼合工程と、積層偏光子フィルムから製品としての偏光板を切り出す切出工程とを備える。
　この方法では、本発明の他の側面に係る直線偏光子フィルムの製造方法で直線偏光子フィルムを製造しているので、直線偏光子フィルムは、欠陥検査工程で欠陥検査が行われている。そのため、欠陥検査が行われた直線偏光子フィルムに保護フィルムを貼合して得られる積層偏光子フィルムから製品としての偏光板を切り出す際、例えば、欠陥部分を除いて偏光板を切り出すことが可能である。或いは、偏光板を切り出した後に、欠陥部分を有する偏光板を仕分けることが可能である。その結果、良品としての偏光板を効率的に得やすい。
　一実施形態において、切出工程の前に、積層偏光子フィルムを被検査フィルムとして、上記第２の欠陥検査方法によって、欠陥検査を行ってもよい。
　この場合、保護フィルム貼合工程において生じる欠陥又は保護フィルム自体の欠陥も検出可能であり、その結果に基づいて、偏光板を製造可能である。
　本発明によれば、欠陥をより確実に検出可能な光透過性フィルムの欠陥検査方法及びその検査方法を利用した偏光子フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法を提供できる。
図１は、第１の実施形態に係る光透過性フィルムの欠陥検査方法を説明するための模式図である。 図２は、図１に示した光透過性フィルムの欠陥検査方法で使用する照明光の分光スペクトルの一例を示す図面である。 図３は、図１に示した光透過性フィルムの欠陥検査方法で使用する撮像装置の検出感度特性の一例を示す図面である。 図４は、照明光の最大強度波長と撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下である場合の欠陥検出結果を示す図面である。 図５は、照明光の最大強度波長と撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍを超えている場合の欠陥検出結果を示す図面である。 図６は、第２の実施形態に係る光透過性フィルムの欠陥検査方法を説明するための模式図である。 図７は、第３の実施形態に係る直線偏光子フィルムの製造方法の一例を示すフローチャートである。 図８は、図７に示した直線偏光子フィルムの製造方法における延伸工程と欠陥検査工程とを説明するための図面である。 図９は、図７に示した直線偏光子フィルムの製造方法における膨潤処理工程から乾燥工程までを説明するための図面である。 図１０は、図７に示した直線偏光子フィルムの製造方法において、染色処理工程後に欠陥検査工程を実施する場合の変形例を説明するための図面である。 図１１は、図７に示した直線偏光子フィルムの製造方法において、保護フィルム貼合工程を更に実施する場合の変形例を示すフローローチャートである。 図１２は、図１１に示したフローチャートで示す変形例での保護フィルム貼合工程を説明するための図面である。 図１３は、第４の実施形態における偏光板の製造方法で製造される偏光板の構成を示す模式図である。 図１４は、第４の実施形態における偏光板の製造方法の一例を示すフローチャートである。 図１５は、光透過性フィルムの欠陥検査方法の他の例を説明するための模式図である。 図１６は、図１５に示した光透過性フィルムの欠陥検査方法を利用した、撮像装置への入射光の最大強度波長と撮像装置の最大感度波長との差が２０ｎｍ以下である場合の欠陥検出結果を示す図面である。 図１７は、実験で使用した青色ＬＥＤから出力される青色光の分光スペクトルを示す図面である。 図１８は、実験で使用した赤色ＬＥＤから出力される赤色光の分光スペクトルを示す図面である。 図１９は、照明光の最大強度波長と撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下である場合の欠陥検出結果を示す図面である。 図２０は、照明光の最大強度波長と撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下である場合の欠陥検出結果を示す図面である。
　以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。同一の要素には同一符号を付する。重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。説明中、「上」、「下」等の方向を示す語は、図面に示された状態に基づいた便宜的な語である。
　（１）第１の実施形態
　第１の実施形態では、図１の（ａ）に模式的に示す第１検査装置１０１を用いて、光透過性フィルムである被検査フィルムＳの欠陥を検査する方法（第１の欠陥検査方法）について説明する。
　第１の実施形態において、被検査フィルムＳは、所定の直線偏光光を透過する直線偏光特性を有する直線偏光子フィルムの製造に用いられる原料フィルムである。原料フィルムの例は、ポリビニルアルコール（以下「ＰＶＡ」と称す場合もある）系樹脂フィルム、ポリ酢酸ビニル樹脂フィルム、エチレン／酢酸ビニル（以下「ＥＶＡ」と称する場合がある）樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム及びポリエステル樹脂フィルムを含む。通常、二色性染料の吸着性及び配向性の観点からＰＶＡ系樹脂フィルム、特にビニルアルコール単独を繰り返し単位とするＰＶＡフィルムが用いられる。被検査フィルムＳとしての原料フィルムの厚みは通常１μｍ以上５０μｍ以下である。
　直線偏光子フィルムは、原料フィルムに直線偏光特性を付与する偏光特性付与処理を経て製造される。偏光特性付与処理は、原料フィルムを一軸延伸することと共に、二色性色素で染色することを含む。第１検査装置１０１で検査される原料フィルムは、偏光特性付与処理が施される前のものであってもよいし、偏光特性付与処理中のものであってもよい。
　検出する欠陥の例は、筋状欠陥、凹み及び微小な異物を含む。「筋状欠陥」は、一方向に僅か（例えば、１μｍ程度）に盛り上がった欠陥である。「凹み」は、直径５００μｍ～７００μｍ及び深さが０．２μｍ～０．５μｍ程度の凹部であり、凹みの例は、直径５００μｍ且つ深さが０．５μｍ程度の小さく且つ深い凹部及び直径７００μｍ且つ深さが０．２μｍ程度の比較的大きく且つ浅い凹部を含む。「微小な異物」の例は、直径５００μｍ程度の異物を含む。
　図１の（ａ）に示したように、第１検査装置１０１は、一対の直線偏光板１２Ａ，１２Ｂと、光源１１と、撮像装置１３と、画像処理装置１４とを備える。説明の便宜のため、図１に示したように、ＸＹＺ座標系を設定する。Ｚ軸方向は、直線偏光板１２Ａ，１２Ｂの厚み方向であり、Ｙ軸方向は、図１の（ａ）において左右方向である。
　一対の直線偏光板１２Ａ，１２Ｂは、互いに平行に配置される。直線偏光板１２Ａと直線偏光板１２Ｂとは、図１の（ｂ）に模式的に示したように、直線偏光板１２Ａの吸収軸Ａ１２Ａと、直線偏光板１２Ｂの吸収軸Ａ１２Ｂとが第１の所定角度θ１で互いに交差するように配置される。吸収軸Ａ１２Ａと吸収軸Ａ１２Ｂとが交差するとは、被検査フィルムＳの厚さ方向（Ｚ軸方向）から見た場合にそれらが交差していることを意味しており、図１の（ｂ）は、被検査フィルムＳの厚さ方向（Ｚ軸方向）から見た場合の吸収軸Ａ１２Ａと吸収軸Ａ１２Ｂの交差状態を示している。第１の所定角度θ１は、被検査フィルムＳを撮像装置１３で撮像して得た画像において欠陥を容易に検出しうる角度が選択される。一実施形態において、第１の所定角度θ１は、８５°～９０°、好ましくは、８９°～９０°、より好ましくは８９．４°以上である。或いは、一実施形態において、第１の所定角度θ１は、９０°～９５°、好ましくは９０°～９１°、より好ましくは９０．６°以下である。
　被検査フィルムＳの検査時には、一対の直線偏光板１２Ａ，１２Ｂの間に、被検査フィルムＳが、直線偏光板１２Ａ，１２Ｂに平行に配置される。直線偏光板１２Ａ，１２ＢのＸ軸方向の長さは、例えば、被検査フィルムＳのＸ軸方向の長さと同様とし得る。直線偏光板１２Ａ，１２ＢのＹ軸方向の長さは、通常、撮像装置１３の撮影領域のＹ軸方向の長さ以下であり、通常、被検査フィルムＳのＹ軸方向の長さより短い。
　光源１１は、直線偏光板１２Ａからみて直線偏光板１２Ｂと反対側（図１の（ａ）において直線偏光板１２Ａの下方）に配置されており、被検査フィルムＳを照明するための照明光を出力する。光源１１から出力される照明光は無偏光光である。光源１１の例は、照明光として緑色光を出力する緑色ＬＥＤである。照明光が緑色光である場合の照明光の波長範囲の例は、４４０ｎｍ～５９０ｎｍである。照明光が緑色光である形態では、一例として、光源１１からの出力光を照度計で直接的に（集光光学系を介さずに）検出した場合、照明光は、受光面積φ（直径）１ｍｍ当たり１８５０ルクス以上の光としてもよい。
　撮像装置１３は、直線偏光板１２Ｂを介して被検査フィルムＳを撮影する。撮像装置１３は、通常、白黒カメラである。撮像装置１３の例は、光検出器がライン状に配置されたラインセンサカメラ及び光検出器が二次元状に配置されたエリアセンサカメラを含む。撮像装置１３は、撮影結果を画像処理装置１４に入力する。
　画像処理装置１４は、コンピュータを有しており、撮像装置１３での撮影結果を示す信号を処理して、撮影画像を形成する。この際、被検査フィルムＳにおいて、欠陥が生じている欠陥部分と、それ以外の正常部分とを区別するように撮影画像を形成する。欠陥部分と正常部分とを画像上で区別するために、例えば、それらの間に濃淡差を付与してもよい。画像処理装置１４は、形成した撮影画像に基づいて欠陥部分を抽出する画像処理機能を備えてもよい。欠陥部分の抽出は、例えば、欠陥部分を着色することを含む。画像処理装置１４は、形成した画像を表示するディスプレイを有し得る。或いは、画像処理装置１４とは別に、画像処理装置１４が形成した画像を表示するディスプレイを第１検査装置１０１は有してもよい。通常、撮像装置１３の撮影画像は、白黒（モノクロ）画像である。
　第１検査装置１０１において、光源１１及び撮像装置１３は、光源１１から出力される照明光の最大強度に対応する波長である最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度に対応する波長である最大感度波長λｍｄとの差が５０ｎｍ以下であるという関係を満たす光源１１及び撮像装置１３である。最大強度波長λｍｓは、照明光の分光スペクトルにおいて光強度の極大値に対応する波長でもある。撮像装置１３の最大感度波長λｍｄは、具体的には、撮像装置１３が有する光検出器の最大感度波長λｍｄである。上記最大強度波長λｍｓと最大感度波長λｍｄとの差は、２０ｎｍ以下であることが好ましい。
　光源１１から出力される照明光の例は、光強度が極大且つ最大である最大強度波長λｍｓが波長範囲５１５．５ｎｍ～５１６．５ｎｍにある緑色光であって、緑色光のスペクトルの半値全幅が通常５０ｎｍ以下、好ましくは４０ｎｍ以下であり、通常は１０ｎｍ以上である光である。照明光の例は、可視光領域において、最大強度波長λｍｓから通常７５ｎｍ以上、好ましくは６０ｎｍ以上下回る波長範囲とλｍｓから通常７５ｎｍ以上、好ましくは６０ｎｍ以上上回る波長範囲における光強度が、最大強度の通常２５％以下、好ましくは１０％以下である光である。撮像装置１３の最大感度波長λｍｄ、より具体的には、撮像装置１３が有する光検出器の最大感度波長λｍｄの例は、５００ｎｍである。
　次に、第１検査装置１０１で被検査フィルムＳの欠陥を検査する方法について説明する。被検査フィルムＳの欠陥を検査する場合、一対の直線偏光板１２Ａ，１２Ｂの間に被検査フィルムＳを配置する。そして、光源１１から照明光を出力しながら、撮像装置１３で、直線偏光板１２Ｂを介して被検査フィルムＳを撮影する。
　光源１１からの照明光は、直線偏光板１２Ａを通って直線偏光光として被検査フィルムＳに照射される。そのため、被検査フィルムＳには、直線偏光板１２Ａを透過した直線偏光光が照明光として照射される。そして、被検査フィルムＳを透過した光が、直線偏光板１２Ｂに入射される。直線偏光板１２Ｂは直線偏光板１２Ａに対して、吸収軸Ａ１２Ａ，Ａ１２Ｂが第１の所定角度θ１で交差する状態で配置されている。すなわち、直線偏光板１２Ｂは、吸収軸Ａ１２Ｂが、被検査フィルムＳに照射される照明光である直線偏光光の振動面に対して第１の所定角度θ１で交差するように配置されている。よって、被検査フィルムＳにおいて欠陥が生じていない正常部分では、被検査フィルムＳを透過した光は、直線偏光板１２Ｂを透過し難い。一方、被検査フィルムＳに欠陥があると、欠陥部分を透過する直線偏光光の偏光が擾乱される。これにより、欠陥部分を透過した光は直線偏光板１２Ｂを透過し易い。そのため、正常部分を透過した光に対して欠陥部分を透過した光の方がより多く撮像装置１３に入射される。
　従って、被検査フィルムＳに欠陥がある場合、正常部分と欠陥部分とにおいて輝度差が生じるので、欠陥を検出できる。例えば、所定の閾値以上の輝度信号は欠陥部分に対応していると設定しておくことで、欠陥部分と正常部分とを判別し得る。よって、画像処理装置１４が、例えば、正常部分と欠陥部分とを輝度に応じた濃淡によって表した撮影画像を形成することで、欠陥部分を確認できる。
　第１の実施形態において、被検査フィルムＳに照射される照明光が有する最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差は５０ｎｍ以下である。
　このように、照明光の最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとが近いため、第１検査装置１０１を利用した欠陥検査方法では、欠陥を高感度で検出可能である。
　照明光の最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差が５０ｎｍを超えていると、欠陥のうち、例えば、一方向に延びており僅かに隆起した欠陥である筋状欠陥を検出できない。これに対して、照明光の最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差が５０ｎｍ以下であれば、筋状欠陥を検出可能である。
　更に、緑色光を照明光として撮影するとコントラストの高い画像（特に濃淡画像）を得やすい。そして、照明光に緑色光を使用している場合、撮像装置１３も緑色光に高い感度を有する。そのため、光源１１から出力される光が緑色光であることにより、欠陥部分と正常部分とをより明瞭に区別し得るので、結果として、欠陥部分、特に、従来では検出できなかった筋状欠陥をより確実に検出できる。
　直線偏光板１２Ａ，１２Ｂは、緑色光を吸収し易い傾向にある。そのため、光源１１から緑色光を出力する形態では、光源１１から出力される照明光の照度が高いと、例えば、照度が受光面積φ１ｍｍ当たり１８５０ルクス以上であると、欠陥を検出し易い。
　第１の所定角度θ１が８５°～９０°、好ましくは８９°～９０°、更に好ましくは８９．４°以上である形態、或いは、９０°～９５°、好ましくは９０°～９１°、更に好ましくは９０．６°以下である形態では、吸収軸Ａ１２Ａと吸収軸Ａ１２Ｂとは、実質的に９０°で交差している。そのため、撮像装置１３には、欠陥部分を透過した光が入射する一方、正常部分を透過した光は実質的に入射しない。よって、正常部分と欠陥部分とをより区別し易い。
　実験結果を利用して、第１検査装置１０１によって、欠陥をより確実に検出できる点について説明する。実験として実験Ｅ１と実験Ｅ２とを行った。実験Ｅ１，Ｅ２の説明では、説明の便宜のため、第１検査装置１０１の構成要素に対応する構成要素には同じ符号を付す。
　実験Ｅ１，Ｅ２のいずれにおいても、図１の（ａ）に示した構成の第１検査装置１０１を採用した。実験Ｅ１では、光源１１として、緑色光を出力する緑色ＬＥＤを用いた。実験Ｅ１で用いた緑色ＬＥＤから出力される照明光の分光スペクトルは図２に示す通りである。図２の横軸は波長（ｎｍ）を示しており、縦軸は、相対光強度（任意単位）を示している。図２より、実験Ｅ１での照明光の最大強度波長λｍｓは、５１６ｎｍであり、スペクトルの半値全幅が３９．５ｎｍである緑色光である。実験Ｅ２では、光源１１として、白色光を出力する白色ＬＥＤを用いた。実験Ｅ２の光源１１からの出力される照明光の最大強度波長λｍｓは、４２５ｎｍである。
　実験Ｅ１，Ｅ２における撮像装置１３は同じものを使用した。撮像装置１３の検出感度特性は、図３に示す通りである。図３において、横軸は波長（ｎｍ）を示しており、縦軸は、最大感度で規格化した相対値を示している。図３に示したように、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄは５００ｎｍである。
　上記実験Ｅ１，Ｅ２の第１検査装置１０１の条件から理解されるように、実験Ｅ１では、照明光の最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差は１６ｎｍである。すなわち、実験Ｅ１では、最大強度波長λｍｓと最大感度波長λｍｄとの差は、５０ｎｍ以下であり、より具体的には、２０ｎｍ以下である。一方、実験Ｅ２では、照明光の最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差は７５ｎｍである。すなわち、実験Ｅ２では、最大強度波長λｍｓと最大感度波長λｍｄとの差は５０ｎｍを超えている。
　実験Ｅ１，Ｅ２において、被検査フィルムＳは、一軸延伸されたポリビニールアルコール(ＰＶＡ)フィルムである。ＰＶＡフィルムは、水分を吸収して皺などが生じ易いため、実験Ｅ１，Ｅ２では、同じ条件で製造したＰＶＡフィルムをそれぞれ準備した。被検査フィルムＳとしてのＰＶＡフィルムの厚さは、実験Ｅ１及び実験Ｅ２のいずれにおいても８μｍであった。
　実験Ｅ１，Ｅ２では、それぞれの被検査フィルムＳを直線偏光板１２Ａ，１２Ｂの間に配置した後、光源１１から照明光を出力した。そして、直線偏光板１２Ｂを介して撮像装置１３で被検査フィルムＳを撮像することによって、欠陥を検査した。実験Ｅ１，Ｅ２では、直線偏光板１２Ａ，１２Ｂを、第１の所定角度θ１が９０°であるように配置した。
　実験Ｅ１では、撮像装置１３の撮像画像である図４に示すように、筋状欠陥が明瞭に写っており、筋状欠陥を検出できることがわかる。一方、実験Ｅ２では、撮像装置１３の撮像画像である図５に示すように、図４と比較して、筋状欠陥を著しく検出し難いことがわかる。
　このように、照明光の最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差を５０ｎｍ以下とすることで、欠陥をより確実に検出可能であり、特に、筋状欠陥を適切に検出できることが理解される。
　（２）第２の実施形態
　第２の実施形態では、図６の（ａ）に模式的に示す第２検査装置１０２を用いて、光透過性フィルムである被検査フィルムＳの欠陥を検査する方法（第２の欠陥検査方法）について説明する。第２の実施形態でも、説明の便宜のため、図１の（ａ）に示したＸＹＺ座標系と同様のＸＹＺ座標系を用いて説明する場合もある。
　第２の実施形態で検査する被検査フィルムＳは、直線偏光特性、すなわち、吸収軸ＡＳを有する光透過性フィルムである。このような光透過性フィルムの例は、吸収軸ＡＳの方向と直交する方向に偏光した直線偏光光を透過する直線偏光子フィルム、及び、直線偏光子フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが積層された積層偏光子フィルムを含む。
　保護フィルムは透明な光透過性フィルムであり、保護フィルムの例は、トリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」とも称す場合がある）系フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ナイロンフィルム、ポリカーボネートフィルム及びポリエチレンフィルム等を含む。通常、光学異方性が小さいＴＡＣ系フィルム、特に、トリアセチルセルロースのホモポリマーからなるＴＡＣフィルムが用いられる。
　被検査フィルムＳとしての積層偏光子フィルムの厚みは通常５μｍ～３００μｍ（０．３ｍｍ）である。
　第２検査装置１０２は、直線偏光板１２Ａを備えない点で、第１検査装置１０１と主に相違する。この相違点を中心にして第２検査装置１０２について説明する。第２検査装置１０２では、被検査フィルムＳと直線偏光板１２Ｂとを、図６の（ｂ）に模式的に示すように、直線偏光板１２Ｂの吸収軸Ａ１２Ｂが被検査フィルムＳの吸収軸ＡＳに対して第２の所定角度θ２で交差する状態で配置する。吸収軸ＡＳと吸収軸Ａ１２Ｂとが交差するとは、被検査フィルムＳの厚さ方向（Ｚ軸方向）から見た場合にそれらが交差していることを意味しており、図６の（ｂ）は、被検査フィルムＳの厚さ方向（Ｚ軸方向）から見た場合の吸収軸ＡＳと吸収軸Ａ１２Ｂの交差状態を示している。第２の所定角度θ２は、被検査フィルムＳを撮像装置１３で撮像して得た画像において欠陥を容易に検出しうる角度が選択され得る。一実施形態において、第２の所定角度θ２は、第１の所定角度θ１と同じであってもよい。例えば、第２の所定角度θ２は、８５°～９０°、好ましくは、８９°～９０°、より好ましくは８９．４°以上とし得る。或いは、第２の所定角度θ２は、９０°～９５°、好ましくは９０°～９１°、より好ましくは９０．６°以下とし得る。
　第２検査装置１０２を用いた被検査フィルムＳの検査方法について説明する。被検査フィルムＳの欠陥を検査する場合、光源１１から照明光を被検査フィルムＳに照射する。被検査フィルムＳは、直線偏光特性を有するため、被検査フィルムＳにおいて欠陥が生じていない正常部分を透過した光は直線偏光光である。この場合、直線偏光板１２Ｂは被検査フィルムＳに対して、第２の所定角度θ２で交差する状態で配置されているので、被検査フィルムＳの正常部分を透過してきた直線偏光光の多くは、直線偏光板１２Ｂに吸収され、これを透過しない。すなわち、正常部分を透過してきた直線偏光光は直線偏光板１２Ｂを透過し難い。
　一方、被検査フィルムＳにおいて欠陥が生じている欠陥部分があると、欠陥部分において、被検査フィルムＳの直線偏光特性が乱されている。その結果、欠陥部分を透過した光には、被検査フィルムＳにおいて生成される直線偏光と異なる偏光成分の光も含まれる。この場合、被検査フィルムＳの欠陥部分を透過してきた光は、直線偏光板１２Ｂを透過し易い。これにより、正常部分を透過した光より欠陥部分を透過した光の方が多く直線偏光板１２Ｂを透過して撮像装置１３に入射光として入射される。
　このように、正常部分と欠陥部分とにおいて、撮像装置１３に入射する光の量の差が生じていると共に、被検査フィルムＳに照射される照明光が有する最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差は５０ｎｍ以下である。従って、被検査フィルムＳに欠陥がある場合、正常部分と欠陥部分とにおいて輝度差がより明確に生じる。その結果、第１の実施形態の場合と同様にして、欠陥を検出できる。
　第２検査装置１０２においても、被検査フィルムＳと直線偏光板１２Ｂとは、吸収軸ＡＳ，Ａ１２Ｂが第２の所定角度θ２で交差する状態で配置されており、被検査フィルムＳに照射される照明光が有する最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差は５０ｎｍ以下であることから、第２検査装置１０２によって、第１検査装置１０１の場合と同様にして、被検査フィルムＳの欠陥を検査できる。そのため、第２検査装置１０２を利用した欠陥検査方法は、第１の実施形態における第１検査装置１０１を利用した場合の欠陥検査方法と少なくとも同様の作用効果を有する。
　（３）第３の実施形態
　第３の実施形態として、第１及び第２の実施形態で説明した欠陥検査方法の少なくとも一つを利用した直線偏光子フィルムの製造方法について説明する。
　直線偏光子フィルムは、未延伸及び未染色の原料フィルムに直線偏光特性を付与する偏光特性付与処理を施して製造される。直線偏光子フィルムを製造するための原料フィルムの例は、第１の実施形態で例示したフィルムと同様である。原料フィルムとしては、通常、例えば、ＰＶＡ系フィルム、特に、ＰＶＡフィルムが用いられる。直線偏光子フィルムを製造する場合、原料フィルムは、帯状であって、ロール状に巻かれた状態で準備される傾向にある。そのため、原料フィルム１は、原反フィルムでもある。
　図７に示したように、直線偏光子フィルムの製造方法は、原料フィルムを一軸延伸する延伸工程Ｓ１０と、一軸延伸された原料フィルムの欠陥を検査する欠陥検査工程Ｓ１１と、一軸延伸された原料フィルムを二色性色素で染色する染色処理工程Ｓ１３とを有する。原料フィルムを延伸すると共に、原料フィルムを二色性色素で染色することによって、原料フィルムに直線偏光特性が付与されるので、延伸工程Ｓ１０と染色処理工程Ｓ１３とが、原料フィルムに偏光特性付与処理を実施する偏光特性付与工程を構成している。
　一実施形態において、図７に示したように、染色処理工程Ｓ１３の前に、膨潤処理工程Ｓ１２を有し、染色処理工程Ｓ１３の後に、ホウ酸処理工程Ｓ１４、水洗処理工程Ｓ１５及び乾燥工程Ｓ１６を有してもよい。図８及び図９を参照しながら、図７に例示した各工程について説明する。以下では、膨潤処理工程Ｓ１２、ホウ酸処理工程Ｓ１４及び水洗処理工程Ｓ１７及び乾燥工程Ｓ１６を含む形態を例示して説明する。
　（３－１）延伸工程
　延伸工程Ｓ１０では、図８に示したように、帯状の原料フィルム１がロール状に巻かれた第１原料フィルムロール２から原料フィルム１を繰り出し、搬送ローラにより、原料フィルム１を延伸装置２０に搬送する。延伸装置２０内で、乾式の延伸方法によって、原料フィルム１を一軸延伸した後、延伸装置２０から、一軸延伸された原料フィルム１を搬出する。
　具体的には、延伸装置２０は、熱ロール２１と、原料フィルム１の搬送方向において、熱ロール２１の前後に配置された搬送ローラ２２Ａ，２２Ｂとを有する。原料フィルム１の厚み方向において、搬送ローラ２２Ａ，２２Ｂの位置と、熱ロール２１の位置とは、異なっている。延伸装置２０内では、原料フィルム１を、熱ロール２１に掛け渡し、原料フィルム１の搬送方向において熱ロール２１の前後の搬送ローラ２２Ａ，２２Ｂによって、原料フィルム１の搬送方向（長手方向）にテンションをかけて原料フィルム１を一軸延伸する。延伸倍率の例は、３倍～８倍である。
　延伸装置２０では、熱ロール２１を用いて原料フィルム１を一軸延伸しているが、例えば、搬送ローラ２２Ａの周速と、搬送ローラ２２Ｂの周速とを異なる値とすることによって、原料フィルム１を一軸延伸してもよい。
　（３－２）欠陥検査工程
　欠陥検査工程Ｓ１１では、図８に示したように、延伸装置２０から搬出された原料フィルム１を被検査フィルムＳとして、原料フィルム１の欠陥検査を行う。図７に示したように、延伸工程Ｓ１０と、染色処理工程Ｓ１３との間で、欠陥検査を行う場合、原料フィルム１には、直線偏光特性が付与されていない。そのため、延伸工程Ｓ１０と、染色処理工程Ｓ１３との間で、欠陥検査を行う場合、第１の実施形態で説明した第１検査装置１０１を利用した欠陥検査方法によって、欠陥の検査を行う。
　第１検査装置１０１は、図８に示したように、延伸装置２０の下流において、原料フィルム１の搬送路上に配置される。具体的には、吸収軸Ａ１２Ａ，Ａ１２Ｂが第１の所定角度θ１で交差する状態で配置された直線偏光板１２Ａ，１２Ｂの間に原料フィルム１を搬送しながら通す。その際、光源１１から照明光を出力しておき、撮像装置１３で、直線偏光板１２Ｂを介して原料フィルム１を撮影する。撮像装置１３での撮影結果に基づいて画像処理装置１４において撮像画像を形成する。この撮影画像を見て、欠陥の有無を判断し得る。
　第１の実施形態で説明したように、２つの直線偏光板１２Ａ，１２Ｂは第１の所定角度θ１で交差する状態で配置されているので、被検査フィルムＳにおいて、欠陥がない正常部分を透過した光は、撮像装置１３に入射し難い。一方、原料フィルム１に欠陥部分がある場合、その欠陥部分において、直線偏光板１２Ａを透過した直線偏光光が擾乱されるので、被検査フィルムＳとしての原料フィルム１を透過した光は、直線偏光板１２Ｂを透過して撮像装置１３に入射し易い。すなわち、原料フィルム１に欠陥部分がある場合、欠陥部分を透過した光の方が正常部分を透過した光より多く撮像装置１３に入射する。そして、被検査フィルムＳに照射される照明光が有する最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差は５０ｎｍ以下である。その結果、原料フィルム１に欠陥がある場合、欠陥部分と他の正常部分との間の輝度差をより明確に検出でき、結果として、欠陥が更に確実に検出され得る。
　欠陥検査工程Ｓ１１で、欠陥が検出された場合、例えば、欠陥の位置を記録しておく。欠陥位置は、例えば、電子的に記録媒体に記録してもよいし、原料フィルム１の欠陥部分にマーカーなどによってマークを施すことによって記録してもよい。記録媒体としては、例えば、画像処理装置１４における記憶部でもよいし、他のコンピュータの記憶部、又は、ＵＳＢメモリ及びＤＶＤ等の着脱可能な外部記録媒体でもよい。
　第１検査装置１０１を通過した原料フィルム１は、ロール状に巻き取られる。延伸済みの原料フィルム１が巻き取られたロールを第２原料フィルムロール３と称す。
　（３－３）膨潤処理工程
　膨潤処理工程Ｓ１２では、図９に示したように、第２原料フィルムロール３から繰り出された一軸延伸済みの原料フィルム１を膨潤槽３０内の処理浴に浸漬することによって、原料フィルム１に膨潤処理を行う。この膨潤処理は、フィルム表面の異物除去、フィルム中の可塑剤除去、後工程での易染色性の付与、原料フィルム１の可塑化などの目的で行われる。膨潤処理の条件は、これらの目的が達成できる範囲で、かつ原料フィルム１の極端な溶解、失透などの不具合が生じない範囲で決定され得る。膨潤処理工程Ｓ１２では、原料フィルム１を、例えば、温度１０～５０℃、好ましくは２０～５０℃の処理浴に浸漬することにより、膨潤処理が行われる。膨潤処理の時間は、５～３００秒程度であり、好ましくは２０～２４０秒程度である。
　膨潤槽３０で使用する処理浴は、純水の他、特開平１０－１５３７０９号公報に記載されるようなホウ酸、特開平６－２８１８１６号公報に記載されるような塩化物、また、その他の無機酸、その他の無機塩、水溶性有機溶媒、アルコール類などを０.０１～１０重量％の範囲で添加した水溶液であることができる。ただし、この膨潤槽３０では、実質的に溶解成分のない純水が好ましく用いられる。
　（３－４）染色処理工程
　染色処理工程Ｓ１３では、膨潤処理工程Ｓ１２を経た原料フィルム１を染色槽３１内の二色性色素の水溶液に浸漬することによって、原料フィルム１を二色性色素で染色する。通常の二色性色素による染色処理は、原料フィルム１に二色性色素を吸着させるなどの目的で行われる。処理条件はこのような目的が達成できる範囲で、かつ原料フィルム１の極端な溶解、失透などの不具合が生じない範囲で決定される。染色に使用される二色性色素の例は、ヨウ素及び二色性染料である。
　二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、例えば１０～５０℃、好ましくは２０～４０℃の温度で、かつ、水１００重量部に対して、ヨウ素を０.００３～０.２重量部及びヨウ化カリウムを ０.１～１０重量部含む水溶液中に、１０～６００秒間、好ましくは３０～２００秒間、原料フィルムを浸漬することにより、染色処理が行われる。ヨウ化カリウムに代えて他のヨウ化物、例えば、ヨウ化亜鉛などを用いてもよい。また、他のヨウ化物をヨウ化カリウムと併用してもよい。さらに、ヨウ化物以外の化合物、例えば、ホウ酸、塩化亜鉛、塩化コバルトなどを共存させてもよい。ホウ酸を添加する場合でも、ヨウ素を含む点で、この後のホウ酸処理と区別される。水１００重量部に対し、ヨウ素を０.００３重量部以上含んでいる浴であれば、染色浴とみなすことができる。
　二色性色素として水溶性二色性染料を用いる場合は、例えば２０～８０℃、好ましくは３０～６０℃の温度で、かつ、水１００重量部に対して二色性染料を ０.００１～０.１ 重量部含む水溶液中に、１０～６００秒間、好ましくは２０～３００秒間、原料フィルム１を浸漬することにより、染色処理が行われる。使用する二色性染料の水溶液は、染色助剤などを含有していてもよく、例えば、硫酸ナトリウムの如き無機塩、界面活性剤などを含有していてもよい。二色性染料は１種類だけ用いてもよいし、所望される色相に応じて２種類以上の二色性染料を併用することもできる。
　図７に示したように、延伸工程Ｓ１０の後に、染色処理工程Ｓ１３が行われる形態では、染色処理工程Ｓ１３を経ることによって、一軸延伸の延伸方向に二色性色素が原料フィルム１に吸着配向され、原料フィルム１に直線偏光特性が付与される。そのため、図７に示したフローチャートに沿った製造方法では、染色処理工程Ｓ１３後の原料フィルム１が直線偏光子フィルム４である。ただし、染色処理工程Ｓ１３以降の各工程も連続して順次実行されるので、染色処理工程Ｓ１３以降の各工程で処理されるフィルムも原料フィルム１として説明する。
　（３－５）ホウ酸処理
　ホウ酸処理工程Ｓ１４では、図９に示したように、染色処理工程Ｓ１３を経た原料フィルム１を、ホウ酸槽３２内の水溶液に浸漬することでホウ酸処理を施す。このホウ酸処理は、水１００重量部に対してホウ酸を約１～１０重量部含有する水溶液に、二色性色素で染色された原料フィルム１を浸漬することにより行われる。二色性色素としてヨウ素を用いた場合、このホウ酸処理浴は、ホウ酸に加え、水１００重量部に対してヨウ化物を約０.１～３０重量部含有するのが好ましい。ヨウ化物としては、ヨウ化カリウムやヨウ化亜鉛などが挙げられる。
　このホウ酸処理は、架橋による耐水化や色相調整（青味がかるのを防止すること）等のために行われる。架橋による耐水化を目的とする場合には、必要に応じて、ホウ酸とともに、グリオキザールやグルタルアルデヒドなどの架橋剤を使用することができる。なお、耐水化のためのホウ酸処理は、耐水化処理、架橋処理、固定化処理などと呼称されることもある。また、ホウ酸処理を色相調整のためと捉え、補色処理、調色処理などと呼称されることもある。
　このホウ酸処理は、その目的によって、ホウ酸及びヨウ化物の濃度や処理浴の温度を適宜変更して行われる。耐水化のためのホウ酸処理と色相調整のためのホウ酸処理は、特に区別されるものではないが、好ましくは以下のような条件で実施される。
　原料フィルム１に、膨潤、染色、及びホウ酸処理を順次施す場合で、ホウ酸処理が架橋による耐水化を目的とするときは、水１００重量部に対して、ホウ酸を約３～１０重量部及びヨウ化物を約１～２０重量部含有する水溶液をホウ酸処理浴とし、通常５０～７０℃、好ましくは５３～６５℃の温度で行われる。処理時間は、通常１０～６００秒程度、好ましくは２０～３００秒、より好ましくは２０～１００秒である。
　耐水化のためのホウ酸処理を行った後、色相調整のためのホウ酸処理をさらに行ってもよい。例えば、二色性染料がヨウ素の場合、この目的のためには、水１００重量部に対して、ホウ酸を約１～５重量部及びヨウ化物を約３～３０重量部含有する水溶液をホウ酸処理浴とし、通常１０～４５℃程度の温度で行われる。浸漬時間は、通常、１～３００秒程度、好ましくは２～１００秒である。色相調整のためのホウ酸処理は、耐水化のためのホウ酸処理に比べて、通常、低い温度で行われる。
　そこで、このホウ酸処理は複数の槽で行ってもよく、通常は１～５の槽を配置することが多い。複数の槽を配置した場合は、原料フィルム１が順次各槽を通過し、その原料フィルム１にホウ酸処理が施される。複数の槽を配置する場合、使用する各ホウ酸処理槽の水溶液組成や温度は、上記の範囲内で同じであっても、異なっていてもよい。上記耐水化のためのホウ酸処理、色相調整のためのホウ酸処理をそれぞれ複数の槽で行ってもよい。
　（３－６）水洗処理工程
　水洗処理工程Ｓ１５では、ホウ酸処理工程Ｓ１４を経た原料フィルム１を水洗槽３３内の水に浸漬して、ホウ酸処理工程Ｓ１４後の原料フィルム１を水洗いする。ただし、水洗処理は、水をシャワーとして噴霧する方法、或いは、浸漬と噴霧を併用する方法などによって行ってもよい。水洗処理における水の温度は、通常２～４０℃程度であり、処理時間は、通常２～１２０秒程度である。
　（３－７）乾燥工程
　乾燥工程Ｓ１６では、水洗処理工程Ｓ１５を経た原料フィルム１を乾燥装置３４に搬送し、乾燥装置３４内で原料フィルム１を乾燥させる。この乾燥は、約４０～１００℃の温度に保たれた乾燥装置３４の中で、約３０～６００秒程度行われる。図９では、乾燥装置３４を模式的に示している。乾燥装置３４は、乾燥工程Ｓ１６までに原料フィルム１に付着した水分を乾燥できれば特に限定されず、直線偏光子フィルムの製造において、通常、使用される公知のものでよい。
　上記製造方法によれば、延伸工程Ｓ１０の後に、欠陥検査工程Ｓ１１を実施している。そのため、第１原料フィルムロール２から繰り出された後、第１検査装置１０１に到達するまでの原料フィルム１に生じた欠陥を検査することができる。
　欠陥検査工程Ｓ１１では、第１の実施形態で説明した検査方法で欠陥検査を行っている。そのため、原料フィルム１に欠陥が存在する場合、欠陥部分をより確実に検出可能である。
　未延伸の原料フィルム１自体の製造工程において、搬送ロール又は巻取りロールなどの表面に付着していた異物に起因して、未延伸の原料フィルム１に欠陥（例えば、点状の欠陥）が生じている場合がある。このような欠陥を含む原料フィルム１を延伸工程Ｓ１０において一軸延伸すると、筋状欠陥となる場合がある。
　このような筋状欠陥は、従来の検査方法では検出できなかった。これに対して、第１の実施形態で説明したように、最大強度波長λｍｓと最大感度波長λｍｄとの差が５０ｎｍ以下であるという関係を満たす照明光と撮像装置１３とを使用して欠陥検査を行っていることにより、欠陥検査工程Ｓ１１では、上記筋状欠陥も検出可能である。照明光が緑色光である形態では、筋状欠陥をより検出し易い。
　そして、図７に示したように、欠陥検査工程Ｓ１１を延伸工程Ｓ１０の後に設けているので、上記筋状欠陥を確実に検出できる。
　欠陥検査によって、欠陥が検出された場合、前述したように、電子的に欠陥位置を記録するか、又は、原料フィルム１の欠陥部分にマークをすることが可能である。欠陥検査工程Ｓ１１を行いながら或いは欠陥検査工程Ｓ１１の後に、上述したような記録処理（記録工程）を行うことにより、例えば、直線偏光子フィルム４を利用して偏光板を製造する場合、欠陥部分を避けて偏光板を製造すること、或いは、製造した偏光板から欠陥部分を含むものを容易に仕分けることが可能である。その結果、良品としての偏光板を得やすい。
　或いは、原料フィルム１における欠陥状態（例えば、欠陥部分の数又は大きさ等）が許容範囲を超えている場合、例えば、直線偏光子フィルム４の製造を中断して、第１原料フィルムロール２を取り替えてもよい。この場合、欠陥状態が許容範囲を超えている原料フィルム１に対して、後工程を省略できるので、良品としての直線偏光子フィルム４を効率的に製造できる。直線偏光子フィルム４の製造を中断するか否かの判断は、例えば、欠陥検査工程Ｓ１１において画像処理装置１４で形成される撮影画像を見ながら行ってもよいし、或いは、第２原料フィルムロール３を形成した後、第２原料フィルムロール３に巻かれている原料フィルム１の全長に渡る欠陥状態を勘案して行ってもよい。
　[変形例１]
　欠陥検査工程Ｓ１１は、延伸工程Ｓ１０と膨潤処理工程Ｓ１２との間に設けられていなくてもよく、原料フィルム１に直線偏光特性付与する偏光特性付与工程が行われている間であればよい。
　例えば、図７に示したように膨潤処理工程Ｓ１２を備える形態では、欠陥検査工程Ｓ１１は、膨潤処理工程Ｓ１２と染色処理工程Ｓ１３との間に行ってもよい。この場合、第１検査装置１０１は、膨潤槽３０から染色槽３１までの原料フィルム１の搬送路上に設けられる。膨潤処理工程Ｓ１２と染色処理工程Ｓ１３との間に欠陥検査工程Ｓ１１を設けた場合、膨潤処理工程Ｓ１２までに生じた欠陥を検査することが可能であり、その検査結果に応じて、直線偏光子フィルム４の製造の可否を判断できる。
　［変形例２］
　欠陥検査工程Ｓ１１は、延伸工程Ｓ１０の前、すなわち、原料フィルム１に直線偏光特性を付与する偏光特性付与工程前に設けてもよい。この場合、第１原料フィルムロール２に巻かれている原料フィルム１自体を検査することになる。これにより、原料フィルム１が製造された際の欠陥を高感度で検査することが可能である。そして、変形例２の欠陥検査工程Ｓ１１において、原料フィルム１に許容範囲を超える欠陥がある場合、例えば、第１原料フィルムロール２を取り替えれば、延伸工程Ｓ１０以降の工程を、許容範囲を超えた原料フィルム１の代わりに、より適切な原料フィルム１を使用して行うことができる。その結果、直線偏光子フィルム４の製造効率が向上する。
　[変形例３]
　欠陥検査工程Ｓ１１は、染色処理工程Ｓ１３の後、すなわち、原料フィルム１に直線偏光特性を付与する偏光特性付与工程後に設けてもよい。この場合、延伸工程Ｓ１０及び染色処理工程Ｓ１３を経ているので、原料フィルム１に直線偏光特性が付与された直線偏光子フィルム４を検査することになる。そのため、第２の実施形態で説明した第２検査装置１０２を使用した検査方法で、欠陥検査を行う。例えば、図１０に示したように、乾燥装置３４の下流に第２検査装置１０２を配置して、直線偏光子フィルム４を被検査フィルムＳとし、直線偏光子フィルム４の欠陥検査を行う。
　延伸工程Ｓ１０では、図９を利用して説明したように、原料フィルム１の搬送方向、すなわち、原料フィルム１の長手方向に原料フィルム１を一軸延伸している。吸収軸ＡＳの方向は延伸方向に一致するので、原料フィルム１に対して延伸工程Ｓ１０及び染色処理工程Ｓ１３を施すことによって原料フィルム１に付与された吸収軸ＡＳの方向は、実質的に、原料フィルム１（或いは、直線偏光子フィルム４）の搬送方向と想定され得る。
　従って、第２検査装置１０２を、直線偏光子フィルム４の搬送方向に配置する際、直線偏光板１２Ｂの吸収軸Ａ１２Ｂが搬送方向に対して第２の所定角度θ２で交差するように配置すれば、搬送される直線偏光子フィルム４に対して直線偏光板１２Ｂが、直線偏光板１２Ｂの吸収軸Ａ１２Ｂが直線偏光子フィルム４の吸収軸ＡＳに対して第２の所定角度θ２で交差する状態で配置されることになる。
　ここでは、原料フィルム１の搬送方向を吸収軸ＡＳの方向と想定した場合を例示したが、例えば、変形例３における欠陥検査工程Ｓ１１の前に、吸収軸ＡＳの方向を検出し、その検出結果を用いて、直線偏光板１２Ｂの配置を調整してもよい。
　第２検査装置１０２を利用した、直線偏光子フィルム４である被検査フィルムＳの欠陥検査の方法は、第２の実施形態で説明した通りであるので、説明を省略する。
　変形例３においても、欠陥検査工程Ｓ１１においては、最大強度波長λｍｓと最大感度波長λｍｄとの差が５０ｎｍ以下である照明光と撮像装置１３とを使用しているので、欠陥の検出感度がよい。そのため、欠陥をより確実に検出可能であり、特に、延伸工程Ｓ１０で生じる可能性のある筋状欠陥を検出可能である。照明光が緑色光である形態では、より筋状欠陥をより検出し易い。
　変形例３では、直線偏光子フィルム４を製造するまでの工程で生じた欠陥を高感度で検出可能である。その結果、直線偏光特性が付与された原料フィルム１が、製品としての直線偏光子フィルム４として適切か否か、又は、直線偏光子フィルム４を、直線偏光子フィルム４の製造に引き続いて行う直線偏光板の製造に使用可能か否かを、より適切に判断することができる。
　図１０では、乾燥装置３４の後段に第２検査装置１０２を配置し、第２検査装置１０２を利用して欠陥検査工程Ｓ１１を実施している。しかしながら、延伸工程Ｓ１０及び染色処理工程Ｓ１３を経ると、原料フィルム１に直線偏光特性が付されるので、染色処理工程Ｓ１３以降に、変形例３で説明した欠陥検査工程Ｓ１１を実施すればよい。例えば、染色槽３１から水洗槽３３への原料フィルム１の搬送路上に第２検査装置１０２を設けて欠陥検査工程Ｓ１１を実施してもよい。
　［変形例４］
　図１１に示すように、乾燥工程Ｓ１６の後に、直線偏光子フィルムに保護フィルムを貼合する保護フィルム貼合工程Ｓ１７を設けてもよい。
　図１２を参照して、保護フィルム貼合工程Ｓ１７を説明する。保護フィルム５は、直線偏光子フィルム４を保護するための透明フィルムである。保護フィルム５の例は、第２の実施形態において保護フィルムについて例示したフィルムと同様である。保護フィルム５としては、ＴＡＣ系フィルム、特に、ＴＡＣフィルムが用いられる。保護フィルム５の厚さの例は１０μｍ～１００μｍである。保護フィルム５において、直線偏光子フィルム４との接着面は、ケン化処理などで親水化処理されていてもよい。
　図１２に示したように、保護フィルム５がロール状に巻かれた保護フィルムロール６から保護フィルム５を繰り出し、ロールトゥロール（ｒｏｌｌ－ｔｏ―ｒｏｌｌ）法によって搬送されている直線偏光子フィルム４に保護フィルム５を積層する。図１２では、直線偏光子フィルム４の両面に保護フィルム５を積層しているが、片面のみに保護フィルム５を積層してもよい。保護フィルム５を直線偏光子フィルム４に積層する際、その界面には、通常、それらを接着するための水溶性の接着剤を塗布しておく。そのため、通常、保護フィルム５を直線偏光子フィルム４に積層した後、乾燥装置４０に搬入して接着剤を乾かし、保護フィルム５と直線偏光子フィルム４とを貼合わせる。これにより、保護フィルム５が積層された直線偏光子フィルム４としての積層偏光子フィルム７が得られる。図１２では、乾燥装置４０を模式的に示している。乾燥装置４０は、積層偏光子フィルム７を乾燥し得るものであれば特に限定されず、直線偏光子フィルムの製造に使用される公知のものとし得る。
　［変形例５］
　変形例４で説明したように、保護フィルム貼合工程Ｓ１７を設ける場合、図１２に例示しているように、乾燥装置４０の下流に、第２検査装置１０２を配置して、欠陥検査工程Ｓ１１を実施してもよい。積層偏光子フィルム７を第２検査装置１０２で検査する方法は、第２の実施形態及び変形例３で説明した場合と同様とし得る。
　積層偏光子フィルム７を被検査フィルムＳとして、第２の実施形態で説明した欠陥検査方法で検査する場合、保護フィルム５自体の欠陥も含めて積層偏光子フィルム７を製造するまでの工程で生じた欠陥を高感度で検出可能である。その結果、保護フィルム５が積層された直線偏光子フィルム４としての積層偏光子フィルム７が、製品としての直線偏光子フィルムとして適切か否か、又は積層偏光子フィルム７を用いた偏光板の製造に使用可能か否かを、より適切に判断することができる。
　保護フィルム貼合工程Ｓ１７の後に、欠陥検査工程Ｓ１１を行う場合、保護フィルム貼合工程Ｓ１７までに欠陥検査工程Ｓ１１を、別途、実施していてもよいし、或いは、実施しなくてもよい。
　［変形例６］
　図７に示したフローチャートでは、延伸工程Ｓ１０の後に染色処理工程Ｓ１３を行っている。しかしながら、染色処理工程Ｓ１３の後に、延伸工程Ｓ１０を行ってもよい。染色処理工程Ｓ１３を延伸工程Ｓ１０の前に行う場合、通常、膨潤処理工程Ｓ１２、ホウ酸処理工程Ｓ１４、水洗処理工程Ｓ１５及び乾燥工程Ｓ１６も延伸工程Ｓ１０の前に行う。
　変形例６では、延伸工程Ｓ１０の後に、欠陥検査工程Ｓ１１を実施すればよい。染色処理工程Ｓ１３の後に延伸工程Ｓ１０を実施する場合は、図８において、第１原料フィルムロール２４から繰り出される原料フィルム１の代わりに、染色されると共に、乾燥された原料フィルム１を延伸装置２０に搬入すればよい。そして、図８に示した第１検査装置１０１の代わりに、第２検査装置１０２を使用すればよい。
　［変形例７］
　延伸工程Ｓ１０は、染色処理工程Ｓ１３中に実施してもよい。例えば、原料フィルム１の搬送方向において、染色槽３１の前後の搬送ローラの周速を互いに異なる周速とすることで、原料フィルム１を染色槽３１内に二色性色素の水溶液に浸漬して染色処理を施しながら、原料フィルム１をその長手方向（搬送方向）に一軸延伸することが可能である。同様に、延伸工程Ｓ１０は、ホウ酸処理工程Ｓ１４中に実施してもよいし、染色処理工程Ｓ１３とホウ酸処理工程Ｓ１４とに渡って実施してもよい。
　（４）第４の実施形態
　第４の実施形態として、図１３に示すような直線偏光子フィルムを含む偏光板を製造する方法について説明する。
　偏光板５０は、図１３に示したように、直線偏光子フィルム４とその両面に貼合された保護フィルム５とから成る積層偏光子フィルム７と、一方の保護フィルム５上に設けられたプロテクトフィルム５１と、他方の保護フィルム５上に設けられた粘着層５２と、粘着層５２上に設けられたセパレートフィルム５３とを有する。偏光板５０の平面視形状（厚さ方向から見た形状）は、偏光板５０が適用される装置などに応じたものであればよい。偏光板５０の平面視形状の例は、長方形又は正方形である。
　直線偏光子フィルム４は、第３の実施形態で説明したように保護フィルム５を貼合する前の工程を経て製造されたものである。保護フィルム５は、第３の実施形態の変形例４で説明した保護フィルムと同様であるため、説明を省略する。
　プロテクトフィルム５１は、積層偏光子フィルム７の表面を保護するための表面保護フィルムである。プロテクトフィルム５１の厚さの例は、３０μｍ～１００μｍである。プロテクトフィルム５１の材料の例は、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエステルを含む。
　粘着層５２は、製品としての偏光板５０を液晶セル等の他の部材に貼り合わせるためのものである。粘着層５２の厚さの例は５μｍ～３０μｍである。粘着層５２を構成する粘着剤の例はアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤及びシリコーン系粘着剤を含む。
　セパレートフィルム５３は、製品としての偏光板５０が使用されるまで、粘着層５２にゴミなどが付着することを防止するためのフィルムである。セパレートフィルム５３の厚さの例は３０μｍ～１００μｍである。
　通常、偏光板５０を製造する場合、セパレートフィルム５３の一表面に粘着層５２を形成したものを保護フィルム５に貼り合わせる。そのため、セパレートフィルム５３の一表面に粘着層５２を形成した部材を、粘着層付きセパレートフィルム５４とも称す。
　偏光板５０の製造方法は、図１４に示したように、直線偏光子フィルム４を製造する直線偏光子フィルム製造工程Ｓ２０と、直線偏光子フィルム４の両面に保護フィルム５を貼合する第１貼合工程（保護フィルム貼合工程）Ｓ２１と、第１貼合工程Ｓ２１を経た積層偏光子フィルム７の一方の表面にプロテクトフィルム５１を貼合すると共に、他方の表面に粘着層付きセパレートフィルム５４を貼合する第２貼合工程Ｓ２２と、第２貼合工程Ｓ２２を経た積層偏光子フィルム７から製品としての偏光板５０を切り出す切出工程Ｓ２３とを有する。各工程について説明する。
　（４－１）直線偏光子フィルム製造工程
　直線偏光子フィルム製造工程Ｓ２０では、図７に例示した製造方法によって直線偏光子フィルム４を製造する。製造方法は、第３の実施形態で説明したとおりであるので、説明を省略する。
　（４－２）第１貼合工程
　第１貼合工程Ｓ２１は、第３の実施形態における変形例５で説明した直線偏光子フィルム４への保護フィルム５の保護フィルム貼合工程Ｓ１７と同様であるため説明を省略する。
　（４－３）第２貼合工程
　第２貼合工程Ｓ２２では、第１貼合工程Ｓ２１を経た積層偏光子フィルム７に対して、プロテクトフィルム５１と、粘着層付きセパレートフィルム５４とを貼合する。
　具体的には、図１２を利用して説明した保護フィルム５を直線偏光子フィルム４に貼合した場合と同様の方法により、プロテクトフィルム５１を積層偏光子フィルム７の一方の表面に積層し、他方の表面に粘着層付きセパレートフィルム５４を積層する。
　すなわち、図１２において、乾燥装置４０の下流において、直線偏光子フィルム４の一方の表面に保護フィルム５を積層する場合と同様にして、プロテクトフィルム５１を積層偏光子フィルム７に、ロールトゥロール法によって積層する。この際、プロテクトフィルム５１において積層偏光子フィルム７と面する表面には、接着剤を塗布しておけばよい。
　直線偏光子フィルム４の他方の表面に保護フィルム５を積層する場合と同様にして、粘着層付きセパレートフィルム５４を積層偏光子フィルム７に、ロールトゥロール法によって積層する。この場合、粘着層付きセパレートフィルム５４において粘着層５２が積層偏光子フィルム７と接するように、粘着層付きセパレートフィルム５４を積層偏光子フィルム７に積層すればよい。
　（４－４）切出工程
　切出工程Ｓ２３では、第２貼合工程Ｓ２２を経た積層偏光子フィルム７を、製品としての偏光板５０の大きさに切断して、偏光板５０を得る。この際、直線偏光子フィルム４の製造過程における欠陥検査工程Ｓ１１（図７参照）の検査結果に応じて、欠陥部分を含まないように、積層偏光子フィルム７から偏光板５０を切り出してもよい。
　上記偏光板５０の製造方法では、積層偏光子フィルム７が有する直線偏光子フィルム４を、図７に例示した製造方法で製造している。そのため、直線偏光子フィルム４は、欠陥検査工程Ｓ１１（図７参照）を経て製造されている。
　そのため、切出工程Ｓ２３において、欠陥検査工程Ｓ１１での欠陥検出結果に基づき、欠陥が生じていない部分を選択して偏光板５０を切り出すことが可能である。その結果、欠陥を含まない偏光板５０を製造し易い。欠陥検査工程Ｓ１１で欠陥が検出された場合、欠陥位置を記録しておけば、欠陥が生じていない部分を選択して偏光板５０を切り出しやすい。
　或いは、切出工程Ｓ２３において偏光板５０を切り出した後に、欠陥部分を含まない偏光板５０を仕分けしてもよい。例えば、欠陥検査工程Ｓ１１の検査結果を、被検査フィルムＳにマークしておけば、欠陥部分を含まない偏光板５０を仕分けやすく、良品の偏光板５０を得やすい。
　上記偏光板５０の製造方法では、直線偏光子フィルム４を、図７に例示した方法で製造しているので、第３の実施形態で説明した直線偏光子フィルム４の製造方法と同様の作用効果も有する。
　直線偏光子フィルム製造工程Ｓ２０では、図７に例示した製造方法で直線偏光子フィルム４を製造しているとしたが、例えば、第３の実施形態で例示した変形例のうち保護フィルム貼合工程Ｓ１７を含まない変形例の形態で、直線偏光子フィルム４を製造してもよい。
　第２貼合工程Ｓ２２と切出工程Ｓ２３との間において、第３の実施形態の変形例６で説明した欠陥検査と同様にして、積層偏光子フィルム７の欠陥検査を実施してもよい。このように、積層偏光子フィルム７の欠陥検査をした場合、切出工程Ｓ２３では、積層偏光子フィルム７の欠陥検査結果を利用して、偏光板５０を切り出し得る。
　図１４に示した製造方法は、第２貼合工程Ｓ２２を有するが、偏光板の製造方法は、第２貼合工程Ｓ２２を含まなくてもよい。この場合、積層偏光子フィルム７から直接、製品としての偏光板が切り出される。このようにして製造される偏光板は、図１３に示した偏光板５０において、プロテクトフィルム５１、粘着層５２及びセパレートフィルム５３を含まない構成である。
　以上、本発明の種々の実施形態及び変形例を説明したが、例示した種々の実施形態及び変形例に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
　例えば、第１の実施形態において被検査フィルムＳは、直線偏光子フィルムを製造するための原料フィルムとしたが、これに限定されない。例えば、位相差フィルムでもよいし、複屈折性を有しない光透過性を有する光学フィルムでもよい。
　第１の実施形態では、光源１１から無偏光光を出力し、直線偏光板１２Ａを通して、被検査フィルムＳに直線偏光光を照明光として照射している。しかしながら、直線偏光光を出力する光源を用いてもよい。この場合、被検査フィルムＳに照射される直線偏光光の振動方向に対して直線偏光板１２Ｂの吸収軸Ａ１２Ｂの方向が平行になっていればよい。直線偏光光を出力する光源の例は、図１の（ａ）に例示した光源１１と直線偏光板１２Ａとを一つの照明ユニットとする光源であり得る。
　第１及び第２の実施形態では、照明光の最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差が５０ｎｍ以下として説明したが、被検査フィルムＳを透過して撮像装置１３に入射する入射光の最大強度波長λｍｓと撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差が５０ｎｍ以下であればよい。
　第１及び第２の実施形態では、照明光の一例として緑色光を例示した。しかしながら、撮像装置１３に入射する入射光が緑色光であればよい。例えば、光透過性フィルムの欠陥検査は、図１５に示した第３検査装置１０３を用いて行ってもよい。
　第３検査装置１０３では、直線偏光板１２Ｂと被検査フィルムＳとの間に、緑色光を選択的に通す光学フィルタである緑色フィルタ１５を配置している点で、第１検査装置１０１と主に相違する。図１５に例示した第３検査装置１０３では、直線偏光板１２Ａの吸収軸Ａ１２Ａが図１の（ａ）に示したＹ軸方向に向いており、直線偏光板１２Ｂの吸収軸Ａ１２Ｂが図１の（ａ）に示したＸ軸方向に向いている。直線偏光板１２Ｂの吸収軸Ａ１２Ｂは上記Ｘ軸方向を向いていることから、図１５では、直線偏光板１２Ｂの吸収軸Ａ１２Ａの方向を模式的に黒点で示している。この場合、光源１１から出力される照明光は白色光であっても、撮像装置１３には緑色光が入射される。白色光には緑色光も含まれているので、実質的に緑色光で被検査フィルムＳを照射していることになる。従って、第１の実施形態等で緑色光を照明光として使用した場合と同様の理由により、欠陥をより明瞭に検出できる。
　この点を実験結果に基づいて説明する。第３検査装置１０３を使用した実験として実験Ｅ３を行った。実験Ｅ３では、第１の実施形態で説明した実験Ｅ１の場合において、第１検査装置１０１の代わりに、第３検査装置１０３を使用した。また、光源１１としては、実験Ｅ２で使用した白色ＬＥＤを用いた。更に、緑色フィルタ１５によって透過する緑色光、すなわち、撮像装置１３への入射する入射光の最大強度波長λｍｓは、５３２ｎｍであった。この場合、実験Ｅ１，Ｅ２で使用した撮像装置１３の最大感度波長λｍｄと、撮像装置１３への入射光の最大強度波長λｍｓとの差は、３２ｎｍであり、５０ｎｍ以下である。被検査フィルムＳには、実験Ｅ１，Ｅ２の場合と同じ条件で製造された、厚さ８μｍのＰＶＡフィルムを用いた。
　実験方法は、実験Ｅ１，Ｅ２の場合と同様である。実験Ｅ３では、撮像装置１３の撮像画像である図１６に示したように、実験Ｅ１の場合と同様に、筋状欠陥が写っており、筋状欠陥を検出できていた。
　第３検査装置１０３では、白色光のうち緑色以外が緑色フィルタ１５で光がカットされるので、光源１１からの照明光は、高い照度の照明光であることが好ましい。例えば、光源１１からの出力光を照度計で直接的に（すなわち、集光光学系を介さずに）検出した場合、照明光は、受光面積φ１ｍｍ当たり１８５０ルクス以上の光とし得る。
　緑色フィルタ１５は、直線偏光板１２Ｂと撮像装置１３の間に配置されていてもよい。また、第２検査装置１０２において、第３検査装置１０３を用いて説明したように、緑色光を選択的に通す緑色フィルタ１５を配置してもよい。
　図６の（ａ）に示した第２検査装置１０２では、被検査フィルムＳと撮像装置１３との間に直線偏光板１２Ｂを配置しているが、直線偏光板１２Ｂを設けずに、被検査フィルムＳ及び光源１１との間に直線偏光板１２Ａを配置してもよい。この場合、直線偏光光が被検査フィルムＳに照射される。
　第２検査装置１０２において、直線偏光板１２Ｂに加えて、被検査フィルムＳと光源１１との間に、図１の（ａ）に示した第１検査装置１０１のように、直線偏光板１２Ａを配置してもよい。この場合、直線偏光板１２Ａの吸収軸Ａ１２Ａの方向と、被検査フィルムＳの吸収軸ＡＳの方向を平行にするか、又は、直線偏光板１２Ｂの吸収軸Ａ１２Ａの方向と、被検査フィルムＳの吸収軸ＡＳの方向を平行にすればよい。
　第３の実施形態として、変形例を含めて説明した種々の形態では、直線偏光子フィルム４の製造工程において、基本的に一つの欠陥検査工程Ｓ１１を備えている。しかしながら、直線偏光子フィルム４の製造方法は、複数の欠陥検査工程Ｓ１１を備えてもよい。例えば、第３の実施形態における変形例１で例示したように、延伸工程Ｓ１０前の欠陥検査工程Ｓ１１と、図７に例示したように、延伸工程Ｓ１０後の欠陥検査工程Ｓ１１と、変形例４で例示したように、染色処理工程Ｓ１３を経た後の欠陥検査工程Ｓ１１とを有してもよい。
　このように、複数の欠陥検査工程Ｓ１１を備える場合、後工程側の欠陥検査工程Ｓ１１を実施すると、累積的な欠陥状態（欠陥の数及び大きさ等）を把握することができる。そのため、欠陥状態が許容範囲を超えている場合、例えば、直線偏光子フィルム４の製造を中断し、第１原料フィルムロール２を取り替えて、より適切な原料フィルム１で直線偏光子フィルム４を製造し得る。或いは、複数の欠陥検査工程Ｓ１１を備える場合、一つの欠陥検査工程Ｓ１１と、次の欠陥検査工程Ｓ１１との間での欠陥を把握することができるので、欠陥の原因をより確実に把握することも可能である。
　第１～第３検査装置１０１～１０３は、画像処理装置１４を有していたが、例えば、撮像装置１３からの信号強度の変化と、被検査フィルムＳにおける検出位置とが対応付けられており、欠陥部分を特定できれば、画像処理装置１４を有さなくてもよい。
　図８及び図９に例示した製造方法では、一軸延伸後の原料フィルム１を巻き取り、第２原料フィルムロール３としていた。しかしながら、第２原料フィルムロール３を形成せず、一軸延伸された原料フィルム１を搬送して膨潤槽３０内の処理浴に浸漬してもよい。
　これまでの説明では、撮像装置１３に入射する入射光として緑色光を例示した。しかしながら、入射光の最大強度に対応する波長である最大強度波長と、撮像装置１３の最大感度に対応する波長である最大感度波長との差が５０ｎｍ以下であるという関係を満たせば、上記入射光は、赤色光、又は青色光であってもよい。
　ここで、入射光が青色光又は赤色光である場合の実験例について説明する。入射光が青色光である場合の実験を実験Ｅ４と称し、入射光が赤色光である場合の実験を実験Ｅ５と称す。
　実験Ｅ４における装置構成は、実験Ｅ１と同様、すなわち、図１の（ａ）に示した構成の第１検査装置１０１を採用した。被検査フィルムＳには、実験Ｅ１，Ｅ２の場合と同じ条件で製造された厚さ８μｍのＰＶＡフィルムを用いた。実験Ｅ４では、光源１１として、青色光を出力する青色ＬＥＤを用いた。実験Ｅ４で用いた青色ＬＥＤから出力される照明光の分光スペクトルは図１７に示す通りである。図１７の横軸は波長（ｎｍ）を示している。図１７の縦軸は、青色ＬＥＤの最大光出力を１００％とした場合の相対光出力（％）を示している。実験Ｅ４での照明光の最大強度波長λｍｓは、４７０ｎｍであり、スペクトルの半値全幅は、２６．７ｎｍであった。実験Ｅ４では、最大感度波長λｍｄが４４５ｎｍである撮像装置１３を用いた。
　上記実験Ｅ４の第１検査装置１０１の条件から理解されるように、実験Ｅ４では、照明光の最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差は、２５ｎｍであり、５０ｎｍ以下であった。そして、実験Ｅ４においても、撮像装置１３の撮像画像である図１９に示したように、筋状欠陥が写っており、筋状欠陥を検出できていた。
　実験Ｅ５における装置構成は、実験Ｅ１と同様、すなわち、図１の（ａ）に示した構成の第１検査装置１０１を採用した。被検査フィルムＳには、実験Ｅ１，Ｅ２の場合と同じ条件で製造された厚さ８μｍのＰＶＡフィルムを用いた。実験Ｅ５では、光源１１として、赤色光を出力する赤色ＬＥＤを用いた。実験Ｅ５で用いた赤色ＬＥＤから出力される照明光の分光スペクトルは図１８に示す通りである。図１８の横軸は波長（ｎｍ）を示している。図１８の縦軸は、赤色ＬＥＤの最大光出力を１００％とした場合の相対光出力（％）を示している。実験Ｅ５での照明光の最大強度波長λｍｓは、６３３．３ｎｍであり、スペクトルの半値全幅は、１６．７ｎｍであった。実験Ｅ５では、最大感度波長λｍｄが６５０ｎｍである撮像装置１３を用いた。
　上記実験Ｅ５の第１検査装置１０１の条件から理解されるように、実験Ｅ５では、照明光の最大強度波長λｍｓと、撮像装置１３の最大感度波長λｍｄとの差は、１６．７ｎｍであり、５０ｎｍ以下であった。そして、実験Ｅ５においても、撮像装置１３の撮像画像である図２０に示したように、筋状欠陥が写っており、筋状欠陥を検出できていた。
　実験Ｅ４及び実験Ｅ５では、光源１１から青色光又は赤色光が出力されていたが、緑色光の場合と同様に、撮像装置１３に入射する入射光が青色光又は赤色光であればよい。また、入射光の最大強度に対応する波長である最大強度波長と、撮像装置１３の最大感度に対応する波長である最大感度波長との差が５０ｎｍ以下であるという関係を満たせば、上記入射光は、黄色光であってもよい。
　１…原料フィルム（光透過性フィルム）、４…直線偏光子フィルム（光透過性フィルム）、５…保護フィルム、７…積層偏光子フィルム、１２Ａ，１２Ｂ…直線偏光板、１３…撮像装置、１５…緑色フィルタ（光学フィルタ）、５０…偏光板、Ｓ…被検査フィルム。

Claims (16)

  1. 　光透過性を有する被検査フィルムに、照明光としての直線偏光光を照射しながら、前記直線偏光光の振動面に対して直交する方向に対して吸収軸が交差する状態で前記被検査フィルムと撮像装置の間に配置された直線偏光板を介して、撮像装置によって前記被検査フィルムを撮影することによって、前記被検査フィルムである光透過性フィルムの欠陥を検査する方法であって、
    　前記被検査フィルムに前記直線偏光光が照射された際に、前記被検査フィルム及び前記直線偏光板を透過して前記撮像装置に入射する入射光の最大強度波長と、前記撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下である、
    　光透過性フィルムの欠陥検査方法。
  2. 　前記入射光が緑色光である、
    請求項１に記載の光透過性フィルムの欠陥検査方法。
  3. 　前記照明光が緑色光である、
    請求項２に記載の光透過性フィルムの欠陥検査方法。
  4. 　前記照明光は白色光であり、
    　前記撮像装置に、前記被検査フィルムと前記撮像装置との間に配置される光学フィルタであって緑色光を選択的に通過させる前記光学フィルタを通過した光を前記入射光として入射させる、
    　請求項２に記載の光透過性フィルムの欠陥検査方法。
  5. 　前記直線偏光板は、前記直線偏光板の吸収軸が前記直線偏光光の振動面に直交する方向に対して８５°～９０°または９０°～９５°の角度で交差する状態で配置されている、
    請求項１～４の何れか一項に記載の欠陥検査方法。
  6. 　吸収軸を有しており前記吸収軸の方向と直交する方向に振動する直線偏光光を透過する光透過性を有する被検査フィルムに対して直線偏光板を、前記被検査フィルムの吸収軸と前記直線偏光板の吸収軸とが交差する状態で配置し、照明光を前記被検査フィルムに照射しながら、前記被検査フィルムを撮像装置で撮影することによって、前記被検査フィルムである光透過性フィルムの欠陥を検査する方法であって、
    　前記被検査フィルムに前記照明光が照射された際に、前記被検査フィルム及び前記直線偏光板を透過して前記撮像装置に入射する入射光の最大強度波長と、前記撮像装置の最大感度波長との差が５０ｎｍ以下である、
    　光透過性フィルムの欠陥検査方法。
  7. 　前記入射光が緑色光である、
    請求項６に記載の光透過性フィルムの欠陥検査方法。
  8. 　前記照明光が緑色光である、
    請求項７に記載の光透過性フィルムの欠陥検査方法。
  9. 　前記照明光は白色光であり、
    　前記撮像装置に、前記被検査フィルムと前記撮像装置との間に配置される光学フィルタであって緑色光を選択的に通過させる前記光学フィルタを通過した光を前記入射光として入射させる、
    　請求項７に記載の光透過性フィルムの欠陥検査方法。
  10. 　前記直線偏光板は、前記直線偏光板の吸収軸が前記被検査フィルムの吸収軸に対して８５°～９０°または９０°～９５°の角度で交差する状態で配置されている、
    　請求項６～９の何れか一項に記載の欠陥検査方法。
  11. 　光透過性を有する原料フィルムを用いて直線偏光子フィルムを製造する方法であって、
    　前記原料フィルムに直線偏光特性を付与する偏光特性付与工程と、
    　前記偏光特性付与工程前の前記原料フィルム、前記偏光特性付与工程中の前記原料フィルム、及び前記偏光特性付与工程後の前記原料フィルムのうち少なくとも一つを、被検査フィルムとして欠陥検査をする、少なくとも一つの欠陥検査工程と、
    を備え、
    　前記欠陥検査工程において、前記偏光特性付与工程前の前記原料フィルム及び前記偏光特性付与工程中の前記原料フィルムの少なくとも一方を前記被検査フィルムとして欠陥検査を行う場合、請求項１～５の何れか一項に記載の光透過性フィルムの欠陥検査方法である第１の欠陥検査方法によって、欠陥検査を行い、
    　前記欠陥検査工程において、前記偏光特性付与工程後の前記原料フィルムを前記被検査フィルムとして欠陥検査を行う場合、請求項６～１０の何れか一項に記載の光透過性フィルムの欠陥検査方法である第２の欠陥検査方法によって、欠陥検査を行う、
    直線偏光子フィルムの製造方法。
  12. 　前記偏光特性付与工程は、
    　前記原料フィルムを一軸延伸する延伸工程と、
    　前記延伸工程で一軸延伸された前記原料フィルムを二色性色素によって染色する染色処理工程と、を有し、
    　前記欠陥検査工程は、前記延伸工程と前記染色処理工程との間において、前記延伸工程で一軸延伸された前記原料フィルムを前記被検査フィルムとして実施される、
    請求項１１に記載の直線偏光子フィルムの製造方法。
  13. 　前記偏光特性付与工程は、
    　前記原料フィルムを二色性色素によって染色する染色処理工程と、
    　前記染色処理工程で染色された前記原料フィルムを延伸する延伸工程と、を有し、
    　前記欠陥検査工程は、前記染色処理工程と前記延伸工程との間において、前記染色処理工程中の前記原料フィルム又は前記染色処理工程で染色された前記原料フィルムを前記被検査フィルムとして実施される、
    請求項１１に記載の直線偏光子フィルムの製造方法。
  14. 　前記直線偏光特性が付与された前記原料フィルムの少なくとも片面に保護フィルムを貼合する保護フィルム貼合工程を更に備え、
    　前記欠陥検査工程は、前記保護フィルム貼合工程を経た前記原料フィルムを前記被検査フィルムとして、実施される、請求項１１～１３の何れか一項に記載の直線偏光子フィルムの製造方法。
  15. 　請求項１１～１３の何れか一項に記載の直線偏光子フィルムの製造方法で直線偏光子フィルムを製造する偏光子フィルム製造工程と、
    　前記偏光子フィルム製造工程で製造された前記直線偏光子フィルムの少なくとも片面に保護フィルムを貼合して積層偏光子フィルムを得る保護フィルム貼合工程と、
    　前記積層偏光子フィルムから製品としての偏光板を切り出す切出工程と、
    を備える、偏光板の製造方法。
  16. 　前記切出工程の前に、前記積層偏光子フィルムを被検査フィルムとして、前記第２の欠陥検査方法によって、欠陥検査を行う、
    請求項１５に記載の偏光板の製造方法。
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