WO2016129035A1 - X線計測装置の画像再構成方法、構造物の製造方法、x線計測装置の画像再構成プログラムおよびx線計測装置 - Google Patents
X線計測装置の画像再構成方法、構造物の製造方法、x線計測装置の画像再構成プログラムおよびx線計測装置 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2016129035A1 WO2016129035A1 PCT/JP2015/053518 JP2015053518W WO2016129035A1 WO 2016129035 A1 WO2016129035 A1 WO 2016129035A1 JP 2015053518 W JP2015053518 W JP 2015053518W WO 2016129035 A1 WO2016129035 A1 WO 2016129035A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- ray
- measured
- data
- image
- estimated
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
- G01N23/044—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material using laminography or tomosynthesis
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/40—Imaging
- G01N2223/401—Imaging image processing
Abstract
Description
本発明の態様では、検査精度の低下を抑制できるX線計測装置の画像再構成方法、構造物の製造方法、X線計測装置の画像再構成プログラムおよびX線計測装置を提供することを目的とする。
本発明の第2の態様によると、X線計測装置の画像再構成方法は、被測定物の回転および/またはX線の照射方向の変更により、被測定物に対して複数の異なる照射方向にX線を照射し、複数の異なる照射方向ごとに被測定物を透過したX線を検出して、被測定物の透過X線強度に関する複数の検出データを生成することと、被測定物の形状情報に基づいて形状を推定した推定構造物に複数の異なる照射方向からX線を照射する場合の、複数の異なる照射方向ごとの透過X線の強度を推定して、複数の推定データを生成することと、複数の検出データのそれぞれに対して、X線の照射方向に関して互いに対応する検出データと推定データとを用いて、推定データと検出データとの間の差異を示す差異データを検出データから抽出することと、抽出された差異データの示す差異が所定値を超えない場合には、被測定物を良品と判定することと、を有する。
本発明の第3の態様によると、構造物の製造方法は、構造物の形状に関する設計情報を作成し、設計情報に基づいて構造物を作成し、作成された構造物の形状を、上記の何れかの態様のX線計測装置の画像再構成方法を用いて計測して形状情報を取得し、取得された形状情報と設計情報とを比較する。
本発明の第4の態様によると、X線計測装置の画像再構成プログラムは、被測定物の回転および/またはX線の照射方向の変更により、被測定物に対して複数の異なる照射方向にX線を照射し、複数の異なる照射方向ごとに被測定物を透過したX線を検出して、被測定物の透過X線強度に関する複数の検出データをそれぞれ生成する検出データ生成処理と、被測定物の形状情報に基づいて形状を推定した推定構造物に複数の異なる照射方向からX線を照射する場合の、複数の異なる照射方向ごとの透過X線の強度を推定して複数の推定データをそれぞれ生成する推定データ生成処理と、複数の検出データのそれぞれに対して、X線の照射方向に関して互いに対応する検出データと推定データとを用いて、推定データと検出データとの間の差異を示す差異データを検出データから抽出する抽出処理と、をコンピュータに実行させる。
本発明の第5の態様によると、X線計測装置は、被測定物の回転および/またはX線の照射方向の変更により、被測定物に対して複数の異なる照射方向にX線を照射し、複数の異なる照射方向ごとに被測定物を透過したX線を検出することによって生成された、被測定物の透過X線強度に関する複数の検出データを取得する取得部と、被測定物の形状情報に基づいて形状を推定した推定構造物に複数の異なる照射方向からX線を照射する場合の複数の異なる照射方向ごとに透過X線の強度を推定して複数の推定データを生成し、複数の検出データのそれぞれに対して、X線の照射方向に関して互いに対応する取得部により取得された検出データと推定データとの間の差異を示す差異データを抽出する画像生成部と、を有する。
図面を参照しながら、第1の実施の形態によるX線装置について説明する。X線装置は、被測定物にX線を照射して、被測定物を透過した透過X線を検出することにより、被測定物の内部情報(たとえば内部構造)等を非破壊で取得する。被測定物が、たとえば機械部品や電子部品等の産業用部品が対象である場合には、X線装置は産業用部品を検査する産業用X線CT(Computed Tomography)検査装置と呼ばれる。なお、被測定物の検査対象として、人体、動物、植物などの生物を対象としても構わない。また、その生物の一部の組織を対象としても構わない。また、生物と産業用部品のような非生物とを組み合わせても構わない。
本実施の形態は、発明の趣旨の理解のために具体的に説明するためのものであり、特に指定の無い限り、本発明を限定するものではない。
X線装置100は、筐体1、X線源2、載置部3、検出器4、制御装置5、表示モニタ6およびフレーム8を備えている。筐体1は、工場等の床面上にXZ平面と実質的に平行(水平)となるように配置され、内部にX線源2と、載置部3と、検出器4と、フレーム8とが収容される。筐体1はX線が外部に漏洩しないようにするために、材料として鉛を含む。
--3次元画像を生成する概念--
図2および図3を用いて、3次元画像を生成する概念について説明する。図2は、本実施の形態による3次元画像を生成するための過程を模式的に示す概念図である。図2(a)は、検出器4から出力された電気信号に基づいて生成された検出データに基づく被測定物Sの立体像を模式的に示す。被測定物Sの立体像は、載置台30を回転させることにより、被測定物Sに対して異なる複数の照射方向から照射されたX線が被測定物Sを透過するごとに得られた検出データを複数用いることにより得られる。被測定物Sの立体像は被測定物Sを実際に透過したX線の透過強度に基づいているので、被測定物Sの立体像には、被測定物Sの内部に巣等の欠陥が含まれる場合には、被測定物Sの内部の巣等の欠陥による情報が含まれる。これにより、被測定物Sには所定の設計情報に対して差が生じることとなるため、被測定物Sの立体像には誤差が含まれることとなる。図2(a)では、誤差の一例として被測定物Sの内部の欠陥S1の立体像を示している。図3(a)は、被測定物Sの立体像を生成するために用いるX線の透過強度、すなわち複数の検出データのうちのある1つの検出データD1を模式的に示す。図3(a)は、載置台30がある検出移動位置および検出回転位置にあるときに被測定物S内部の欠陥S1を通る断面(図2(a)の破線で示す面P)におけるX線の透過強度を示している。なお、説明を簡単にするため、縦軸の強度はX線の透過強度をX線の透過長さ(距離)で除した値として示している。図3(b)、(c)についても同様である。欠陥S1と被測定物Sとの間ではX線の吸収係数が異なるため、欠陥S1を透過したX線の透過強度と欠陥S1を透過していないX線の透過強度との間で差異が生じる。図3(a)は、欠陥S1がその周囲で吸収されるX線の割合に対して、吸収される割合が小さいために、被測定物Sを透過したX線の透過強度と比べて、欠陥S1を透過したX線の透過強度が高くなった場合を例として示す。
なお、推定データD2は、検出データD1が得られた場合と同一の条件にて生成される。すなわち、推定データD2は、検出データD1が生成されるときの載置台30の検出移動位置および検出回転位置と同一の検出移動位置および検出回転位置にて推定構造物S2にX線を照射する場合を推定して生成される。また、推定データD2は、検出データD1が生成されるときにX線源2から出力されるX線の出力と同一の出力にてX線を推定構造物S2に照射した場合を推定して生成される。したがって、異なるX線の照射方向ごとに検出された複数の検出データD1のそれぞれに対応する推定データD2が生成される。
この場合、算出された複数の差異データD3を逆投影して、被測定物Sと推定構造物S2との差異に関する逆投影画像Im1を生成する。次に、逆投影画像Im1と推定構造物S2に相当する画像Im2とを組み合わせて、画像Im3を生成する。すなわち、画像Im3は、被測定物Sとほぼ同一の形状を有するが偽像の発生が抑制された推定構造物S2の画像Im2に実際の被測定物Sの内部に存在する欠陥等が再現された3次元画像となる。したがって、画像Im3では、ビームハードニングによる偽像の発生が抑制される。
なお、検出器4としてラインセンサを用いる場合には、被測定物SのY方向における異なる位置に対応する複数の透過X線強度データ群を用いて逆投影を行うことで、被測定物S全体の内部構造を示す3次元画像が生成される。
画像生成部53が、上述した3次元画像Im3を生成する際に実行する処理について説明する。画像生成部53は、以下の式(1)、(1)’を用いて、推定データD2を生成し、また、検出器4からの出力に基づく検出データD1から差異データD3を抽出する。
…(1)
…(1)’
μ(X,Y,Z,ε)=μ0(X,Y,Z,ε)+δμ(X,Y,Z) …(2)
ここで、δμ(X,Y,Z)は、両者の誤差である。
μ(X,Y,Z,ε)Δl=μ0(X,Y,Z,ε)Δl+δμ(X,Y,Z)Δl
…(3)
(即ち、式(1)’)とおくことにより、式(1)が得られる。上述したように減弱係数μ0(X,Y,Z,ε)は、推定構造物S2の内部の位置(X,Y,Z)におけるX線の減弱係数であり、被測定物Sの設計情報により決まる。設計情報は、例えば、被測定物Sを構成している材料に関する材料情報を用いる。被測定物Sの材料情報とは、例えば、被測定物Sに含まれる物質情報の割合でも構わない。また、被測定物Sの材料情報とは、例えば、被測定物Sに含まれる物質が、金属もしくは非金属かの情報でも構わない。また、被測定物Sの材料情報とは、例えば、被測定物Sを構成する部材ごとに含まれる元素情報でも構わないし、化合物情報でも構わない。また、設計情報は、例えば、被測定物Sの外部形状情報及び/又は内部形状情報に関する形状情報を用いる。強度Ii(ε)は、測定装置の測定条件である、被測定物Sに照射するX線強度とスペクトルにより決まる。したがって、式(1)’で表されるBiは、設計情報、材料情報、測定条件に基づいて算出される検出器4のi番目の検出画素により検出される検出強度に相当する。即ち、Biは、推定構造物S2に対して測定条件に従ってX線を照射した場合に推定構造物S2を通過したX線の透過強度に相当し、このBiを検出器4の検出画素の個数分配列すると、上述した推定データD2に相当するものとなる。したがって、画像生成部53は、設計情報、材料情報、測定条件を式(1)’に適用して推定データD2を生成する。
ステップS1において、被測定物Sの設計情報である形状情報および材料情報と、測定装置情報である被測定物Sの測定条件とを取得してテップS2へ進む。ステップS2では、形状情報、材料情報および測定情報に基づいて、上記の式(1)’を用いて各画素毎にBiを算出(すなわち推定データD2を生成)してステップS3へ進む。
(1)画像生成部53は、被測定物Sを透過したX線の透過強度に関する複数の検出データD1と、設計情報に基づいて構成された架空の推定構造物S2に対して、被測定物Sを透過させたのと同じX線の照射条件で照射したと仮定した場合に推定されるX線の透過強度に関する複数の推定データD2とを生成する。画像生成部53は、X線の照射方向に関して互いに対応する検出データD1と推定データD2とを用いて、検出データD1と推定データD2との差異を示す差異データD3を抽出する。したがって、被測定物Sの検出データD1から、設計情報に基づいて推定された推定構造物S2には含まれない被測定物Sの内部の巣等の欠陥S1、および、被測定物Sと推定構造物S2との形状誤差に関する情報を取得することができる。
図面を参照して、本発明の第2の実施の形態について説明する。以下の説明では、第1の実施の形態と同じ構成要素には同じ符号を付して相違点を主に説明する。特に説明しない点については、第1の実施の形態と同じである。
…(7)
…(7)’
本実施の形態においては、光子エネルギー量εのX線が被測定物Sを通過する際の位置(X,Y,Z)でのX線の減弱係数μ(X,Y,Z,ε)を以下の式(8)のように仮定する。
…(8)
α1(X,Y,Z)は被測定物Sにおいて光電吸収により減弱するX線の空間分布を示し、α2(X,Y,Z)は被測定物Sにおいてコンプトン効果により減弱するX線の空間分布を示す。α1(X,Y,Z)およびα2(X,Y,Z)は共に被測定物Sの材料により決まる既知の値であり、予めメモリ(不図示)に記憶されている。fPE(ε)およびfKN(ε)は共に光子エネルギー量εに依存する関数として次の式(9)~(11)のように表される。
…(9)
…(10)
…(11)
なお、式(11)における510.975keVは電子の静止エネルギーに対応し、ε0は電子の静止エネルギーで規格化したX線の光子エネルギーを表す。
…(12)
この式(12)に対して、第1の実施の形態において、式(4)を導いた場合と同様に検出器4の画素に入射するX線のスペクトルIi(ε)を用いて表し、式(5)を導いた場合と同様にして、本実施の形態における検出器4に入射するX線の強度yiを式(13)のようになる。
…(13)
をAiとおくことにより、式(7)’が導かれる。上述したようにα1(X,Y,Z)、α2(X,Y,Z)は被測定物Sの設計情報により決まる値である。強度Ii(ε)は、測定装置の測定条件である、被測定物Sに照射するX線強度とスペクトルにより決まる。したがって、式(7)’で表されるAiは、設計情報、測定条件に基づいて算出される検出器4のi番目の検出画素により検出される検出強度に相当する。即ち、Aiは、第1の実施の形態におけるBiと同様に、推定構造物S2に対して測定条件に従ってX線を照射した場合に推定構造物S2を通過したX線の透過強度、すなわち推定データD2に相当するものとなる。したがって、画像生成部53は、設計情報、測定条件を式(7)’に適用して推定データD2を生成する。
画像生成部53は、被測定物Sに入射するX線のスペクトル情報と、被測定物Sを透過する際のX線の光電吸収に関する情報であるα1(X,Y,Z)と、被測定物Sを透過する際のX線のコンプトン効果に関する情報であるα2(X,Y,Z)の少なくとも1つの情報に基づいて、推定データD2を生成する。すなわち、画像生成部53は、上記の式(7)’を用いてAiを算出する。したがって、大きな処理負荷を必要とすることなく推定データD2を生成することができる。
図面を参照して、本発明の第3の実施の形態について説明する。以下の説明では、第1の実施の形態と同じ構成要素には同じ符号を付して相違点を主に説明する。特に説明しない点については、第1の実施の形態と同じである。本実施の形態では、抽出した差異データを用いて被測定物に対する良品判定を行う点が第1の実施の形態と異なる。
なお、上述の説明では、画像生成部53は第1の実施の形態と同様にしてδμ(X,Y,Z)を算出するものとしたが、第2の実施の形態と同様にしてδμ(X,Y,Z)を算出しても良い。
ステップS11(設計情報、測定条件取得)からステップS14(差異データ抽出)までの各処理は、図5のステップS1(設計情報、測定条件取得)からステップS4(差異データ抽出)までの各処理と同様の処理を行う。
(1)画像生成部53は、差異データD3に対応するδμ(X,Y,Z)が第2所定値を超えない場合には、被測定物Sを良品として判定する。したがって、δμ(X,Y,Z)を画像の生成以外に用いることが可能となり、利便性を向上できる。
図面を参照して、本発明の実施の形態による構造物製造システムを説明する。本実施の形態の構造物製造システムは、たとえば自動車のドア部分、エンジン部分、ギア部分および回路基板を備える電子部品等の成型品を作成する。
ステップS111では、設計装置610はユーザによって構造物の設計を行う際に用いられ、設計処理により構造物の形状に関する設計情報を作成し記憶してステップS112へ進む。なお、設計装置610で作成された設計情報のみに限定されず、既に設計情報がある場合には、その設計情報を入力することで、設計情報を取得するものについても本発明の一態様に含まれる。ステップS112では、成形装置620は成形処理により、設計情報に基づいて構造物を作成、成形してステップS113へ進む。ステップS113においては、画像測定装置100は測定処理を行って、構造物の形状を計測し、形状情報を出力してステップS114へ進む。
(1)構造物製造システム600のX線装置100は、設計装置610の設計処理に基づいて成形装置620により作成された構造物の形状情報を取得する測定処理を行い、制御システム630の検査部632は、測定処理にて取得された形状情報と設計処理にて作成された設計情報とを比較する検査処理を行う。従って、構造物の欠陥の検査や構造物の内部の情報を非破壊検査によって取得し、構造物が設計情報の通りに作成された良品であるか否かを判定できるので、構造物の品質管理に寄与する。
また、次のような変形も本発明の範囲内であり、変形例の一つ、もしくは複数を上述の実施形態と組み合わせることも可能である。
(1)第1~第4の実施の形態におけるX線装置100では、画像生成部53は、設計情報に含まれる形状情報を用いて推定構造物S2の形状を推定するものとして説明したが、被測定物Sの検出データD1に基づいて推定データD2を生成しても良い。この場合、画像生成部53は、被測定物Sの検出データD1を、たとえばフィルタ補正逆投影(FBP)等を用いて逆投影して画像を生成する。この画像は被測定物Sを透過したX線の強度に応じて濃淡により表されるので、画像生成部53は、この濃淡に基づいて被測定物Sを構成する物質、すなわち材料を推定する。たとえば、画像生成部53は、画像の濃度と材料とが関連付けられたデータを予め有し、生成した画像の濃度、すなわち透過したX線の強度から材料を推定する。画像生成部53は、この推定した材料を材料情報として使用して、式(1)’に基づいてBiを算出することにより、推定データD2を生成すれば良い。この場合、図5のステップS1または図6のステップS11にて被測定物Sの投影画像から被測定物Sの材料情報を取得する。したがって、被測定物Sの設計情報として材料情報が得られない場合であっても推定データD2を生成することができる。
なお、上述の実施の形態では、例えば、図5のステップS3において、複数の照射方向について透過像を取得した後の、その一部のみの透過像を用いて、差異データD3を生成しても構わない。
600…構造物製造システム、610…設計装置、620…成形装置、
630…制御システム、632…検査部、640…リペア装置
Claims (19)
- 被測定物の回転および/またはX線の照射方向の変更により、前記被測定物に対して複数の異なる前記照射方向に前記X線を照射し、前記複数の異なる照射方向ごとに前記被測定物を透過したX線を検出して、前記被測定物の透過X線強度に関する複数の検出データを生成することと、
前記被測定物の形状情報に基づいて形状を推定した推定構造物に前記複数の異なる照射方向から前記X線を照射する場合の、前記複数の異なる照射方向ごとの透過X線の強度を推定して、複数の推定データを生成することと、
前記複数の検出データのそれぞれに対して、前記X線の照射方向に関して互いに対応する前記検出データと前記推定データとを用いて、前記推定データと前記検出データとの間の差異を示す差異データを前記検出データから抽出することと、を有するX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項1に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記抽出された複数の差異データを逆投影して画像を生成し、前記逆投影して生成した画像と前記推定構造物とを組み合わせて、前記被測定物の内部構造の画像を生成するX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項1または2に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記被測定物の材料情報と前記被測定物に入射するX線のスペクトル情報とに基づいて、前記推定構造物に前記X線を照射する場合の前記透過X線の強度を推定して、前記推定データを生成するX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項1または2に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記被測定物に入射するX線のスペクトル情報と、前記被測定物を透過する際のX線の光電吸収に関する情報と、前記被測定物を透過する際のX線のコンプトン効果に関する情報との少なくとも1つの情報に基づいて、前記推定構造物に前記X線を照射する場合の前記透過X線の強度を推定するX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項3または4に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記X線の減弱係数は、前記X線の光子エネルギーに依存する第1要素と前記X線の光子エネルギーに依存しない第2要素とを含むと仮定し、
前記検出データと前記推定データとを用いて前記第2要素の値を算出することにより、前記差異データを抽出するX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項1乃至5の何れか一項に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記形状情報は、前記被測定物の設計情報であるX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項1乃至5の何れか一項に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記形状情報は、前記複数の検出データを逆投影した画像を用いて生成されるX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項1乃至7の何れか一項に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記抽出された差異データの示す差異が第1閾値を超えない場合には、前記複数の差異データを逆投影して、前記差異データの逆投影画像を生成し、前記差異データの逆投影画像と前記推定構造物とを組み合わせて、前記被測定物の内部構造の画像を生成するX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項8に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記抽出された差異データの示す差異が前記第1閾値よりも大きい場合には、前記複数の差異データの示す差異に基づいて、前記推定データを修正して修正後推定データを生成するX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項9に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記検出データと前記修正後推定データとを用いて、前記検出データと前記修正後推定データとの間の差異を示す新たな差異データを前記検出データから抽出し、
前記新たな差異データの示す差異が前記第1閾値を超えない場合には、前記新たな差異データを逆投影して、前記差異データの逆投影画像を生成し、前記差異データの逆投影画像と前記推定構造物とを組み合わせて、前記被測定物の内部構造の画像を生成するX線計測装置の画像再構成方法。 - 被測定物の回転および/またはX線の照射方向の変更により、前記被測定物に対して複数の異なる前記照射方向に前記X線を照射し、前記複数の異なる照射方向ごとに前記被測定物を透過したX線を検出して、前記被測定物の透過X線強度に関する複数の検出データを生成することと、
前記被測定物の形状情報に基づいて形状を推定した推定構造物に前記複数の異なる照射方向から前記X線を照射する場合の、前記複数の異なる照射方向ごとの透過X線の強度を推定して、複数の推定データを生成することと、
前記複数の検出データのそれぞれに対して、前記X線の照射方向に関して互いに対応する前記検出データと前記推定データとを用いて、前記推定データと前記検出データとの間の差異を示す差異データを前記検出データから抽出することと、
前記抽出された差異データの示す差異が所定値を超えない場合には、前記被測定物を良品と判定することと、を有するX線計測装置の画像再構成方法。 - 請求項11に記載のX線計測装置の画像再構成方法において、
前記被測定物が良品と判定された場合には、前記差異データを逆投影して画像を生成し、前記逆投影して生成した画像と前記推定構造物とを組み合わせて、前記被測定物の内部構造の画像を生成するX線計測装置の画像再構成方法。 - 構造物の形状に関する設計情報を作成し、
前記設計情報に基づいて前記構造物を作成し、
作成された前記構造物の形状を、請求項1乃至12の何れか一項に記載のX線計測装置の画像再構成方法を用いて計測して形状情報を取得し、
前記取得された前記形状情報と前記設計情報とを比較する構造物の製造方法。 - 請求項13に記載の構造物の製造方法において、
前記形状情報と前記設計情報との比較結果に基づいて実行され、前記構造物の再加工を行う構造物の製造方法。 - 請求項14に記載の構造物の製造方法において、
前記構造物の再加工は、前記設計情報に基づいて前記構造物の作成を再度行う構造物の製造方法。 - 被測定物の回転および/またはX線の照射方向の変更により、前記被測定物に対して複数の異なる前記照射方向に前記X線を照射し、前記複数の異なる照射方向ごとに前記被測定物を透過したX線を検出して、前記被測定物の透過X線強度に関する複数の検出データをそれぞれ生成する検出データ生成処理と、
前記被測定物の形状情報に基づいて形状を推定した推定構造物に前記複数の異なる照射方向から前記X線を照射する場合の、前記複数の異なる照射方向ごとの透過X線の強度を推定して複数の推定データをそれぞれ生成する推定データ生成処理と、
前記複数の検出データのそれぞれに対して、前記X線の照射方向に関して互いに対応する前記検出データと前記推定データとを用いて、前記推定データと前記検出データとの間の差異を示す差異データを前記検出データから抽出する抽出処理と、をコンピュータに実行させるX線計測装置の画像再構成プログラム。 - 請求項16に記載のX線計測装置の画像再構成プログラムにおいて、
前記抽出された複数の差異データを逆投影して画像を生成し、前記逆投影して生成した画像と前記推定構造物とを組み合わせて、前記被測定物の内部構造の画像を生成する画像生成処理を更にコンピュータに実行させるX線計測装置の画像再構成プログラム。 - 被測定物の回転および/またはX線の照射方向の変更により、前記被測定物に対して複数の異なる前記照射方向に前記X線を照射し、前記複数の異なる照射方向ごとに前記被測定物を透過したX線を検出することによって生成された、前記被測定物の透過X線強度に関する複数の検出データを取得する取得部と、
前記被測定物の形状情報に基づいて形状を推定した推定構造物に前記複数の異なる照射方向から前記X線を照射する場合の前記複数の異なる照射方向ごとに透過X線の強度を推定して複数の推定データを生成し、前記複数の検出データのそれぞれに対して、前記X線の照射方向に関して互いに対応する前記取得部により取得された前記検出データと前記推定データとの間の差異を示す差異データを抽出する画像生成部と、を有するX線計測装置。 - 請求項18に記載のX線計測装置において、
前記画像生成部は、前記抽出した前記差異データを逆投影して画像を生成し、前記逆投影により生成した画像と前記推定構造物とを組み合わせて、前記被測定物の内部構造の画像を生成するX線計測装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201580069160.4A CN107209130B (zh) | 2015-02-09 | 2015-02-09 | X射线测量设备及其图像重建方法、结构物制造方法 |
JP2016574538A JP6658552B2 (ja) | 2015-02-09 | 2015-02-09 | X線計測装置の画像再構成方法、x線計測装置の画像再構成プログラムおよびx線計測装置 |
PCT/JP2015/053518 WO2016129035A1 (ja) | 2015-02-09 | 2015-02-09 | X線計測装置の画像再構成方法、構造物の製造方法、x線計測装置の画像再構成プログラムおよびx線計測装置 |
EP15881910.2A EP3258251B1 (en) | 2015-02-09 | 2015-02-09 | Image reconstruction method for x-ray measurement device, method for manufacturing structure, image reconstruction program for x-ray measurement device, and x-ray measurement device |
US15/549,010 US20180024079A1 (en) | 2015-02-09 | 2015-02-09 | Image reconstruction method for x-ray measuring device, structure manufacturing method, image reconstruction program for x-ray measuring device, and x-ray measuring device |
US16/879,389 US11860111B2 (en) | 2015-02-09 | 2020-05-20 | Image reconstruction method for X-ray measuring device, structure manufacturing method, image reconstruction program for X-ray measuring device, and X-ray measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2015/053518 WO2016129035A1 (ja) | 2015-02-09 | 2015-02-09 | X線計測装置の画像再構成方法、構造物の製造方法、x線計測装置の画像再構成プログラムおよびx線計測装置 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
US15/549,010 A-371-Of-International US20180024079A1 (en) | 2015-02-09 | 2015-02-09 | Image reconstruction method for x-ray measuring device, structure manufacturing method, image reconstruction program for x-ray measuring device, and x-ray measuring device |
US16/879,389 Continuation US11860111B2 (en) | 2015-02-09 | 2020-05-20 | Image reconstruction method for X-ray measuring device, structure manufacturing method, image reconstruction program for X-ray measuring device, and X-ray measuring device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2016129035A1 true WO2016129035A1 (ja) | 2016-08-18 |
Family
ID=56615118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2015/053518 WO2016129035A1 (ja) | 2015-02-09 | 2015-02-09 | X線計測装置の画像再構成方法、構造物の製造方法、x線計測装置の画像再構成プログラムおよびx線計測装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20180024079A1 (ja) |
EP (1) | EP3258251B1 (ja) |
JP (1) | JP6658552B2 (ja) |
CN (1) | CN107209130B (ja) |
WO (1) | WO2016129035A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018198242A1 (ja) * | 2017-04-26 | 2020-03-05 | 株式会社ニコン | 検査装置、検査方法および検査対象物の製造方法 |
JP2020531328A (ja) * | 2017-08-30 | 2020-11-05 | エコール・ポリテクニーク・フェデラル・ドゥ・ローザンヌ (ウ・ペ・エフ・エル)Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | 断層逆投影による三次元造形の方法および装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7186019B2 (ja) * | 2017-06-20 | 2022-12-08 | 株式会社ミツトヨ | 三次元形状計測装置及び三次元形状計測方法 |
WO2022109866A1 (en) * | 2020-11-25 | 2022-06-02 | Shenzhen Xpectvision Technology Co., Ltd. | Apparatus and method for biological analyte studying using x-ray fluorescence |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050123089A1 (en) * | 2003-12-09 | 2005-06-09 | Man Bruno D. | Method and apparatus for reduction of artifacts in computed tomography images |
JP2009122043A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Ihi Corp | 材質識別検査装置および方法 |
JP2013217797A (ja) * | 2012-04-10 | 2013-10-24 | Nikon Corp | 装置、判定方法、及び構造物の製造方法 |
JP2013217775A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Nikon Corp | X線装置、方法、及び構造物の製造方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4852131A (en) * | 1988-05-13 | 1989-07-25 | Advanced Research & Applications Corporation | Computed tomography inspection of electronic devices |
US5436829A (en) | 1992-11-05 | 1995-07-25 | General Electric Company | Method of achieving reduced dose X-ray fluoroscopy by employing transform-based estimation of Poisson noise |
JP2002248344A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-03 | Nikon Corp | 極端紫外光発生装置並びにそれを用いた露光装置及び半導体製造方法 |
US6823044B2 (en) * | 2001-11-21 | 2004-11-23 | Agilent Technologies, Inc. | System for collecting multiple x-ray image exposures of a sample using a sparse configuration |
JP3909048B2 (ja) * | 2003-09-05 | 2007-04-25 | ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー | X線ct装置およびx線管 |
EP1700137B1 (en) * | 2003-12-16 | 2008-09-10 | Philips Intellectual Property & Standards GmbH | Correction of artifacts caused by the heel effect |
CN101095165A (zh) * | 2004-12-29 | 2007-12-26 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于x射线投影的伪像校正的设备和方法 |
US7310403B2 (en) * | 2006-03-20 | 2007-12-18 | Moshe Ein-Gal | Target reconstruction |
EP2126931B1 (en) | 2007-01-26 | 2011-09-21 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Spectrum-preserving heel effect compensation filter made from the same material as anode plate |
CN101266216A (zh) * | 2007-03-14 | 2008-09-17 | 清华大学 | 标定双能ct系统的方法和图像重建方法 |
DE112008002137T5 (de) * | 2007-08-07 | 2010-09-02 | Shimadzu Corp. | Fluoroskop |
CN101726503B (zh) * | 2008-10-17 | 2012-08-29 | 清华大学 | 用于x射线相衬层析成像的系统和方法 |
US8180138B2 (en) * | 2009-03-23 | 2012-05-15 | Morpho Detection, Inc. | Method and system for inspection of containers |
US20120093287A1 (en) * | 2010-10-18 | 2012-04-19 | Satpal Singh | Two unit portable x-ray scanner |
JP5834584B2 (ja) | 2011-07-25 | 2015-12-24 | ソニー株式会社 | 情報処理装置、情報処理方法、プログラム及び蛍光スペクトルの強度補正方法 |
JP2014016239A (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Tokyo Electron Ltd | X線検査方法及びx線検査装置 |
EP3006924B1 (en) * | 2013-05-29 | 2019-09-11 | Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute | Device and method for image reconstruction at different x-ray energies |
CN104240270B (zh) * | 2013-06-14 | 2017-12-05 | 同方威视技术股份有限公司 | Ct成像方法和系统 |
CN103489223A (zh) * | 2013-09-29 | 2014-01-01 | 华南理工大学 | 一种面向3d封装ic的3d断层扫描成像方法 |
-
2015
- 2015-02-09 JP JP2016574538A patent/JP6658552B2/ja active Active
- 2015-02-09 WO PCT/JP2015/053518 patent/WO2016129035A1/ja active Application Filing
- 2015-02-09 US US15/549,010 patent/US20180024079A1/en not_active Abandoned
- 2015-02-09 EP EP15881910.2A patent/EP3258251B1/en active Active
- 2015-02-09 CN CN201580069160.4A patent/CN107209130B/zh active Active
-
2020
- 2020-05-20 US US16/879,389 patent/US11860111B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050123089A1 (en) * | 2003-12-09 | 2005-06-09 | Man Bruno D. | Method and apparatus for reduction of artifacts in computed tomography images |
JP2009122043A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Ihi Corp | 材質識別検査装置および方法 |
JP2013217775A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Nikon Corp | X線装置、方法、及び構造物の製造方法 |
JP2013217797A (ja) * | 2012-04-10 | 2013-10-24 | Nikon Corp | 装置、判定方法、及び構造物の製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
HIROYUKI ISHII ET AL.: "Three-Dimensional Shape Measurement with X-Ray CT-Scan", JOURNAL OF THE JAPAN SOCIETY OF PRECISION ENGINEERING, vol. 69, no. 4, 5 April 2003 (2003-04-05), pages 473 - 476, XP055463541 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018198242A1 (ja) * | 2017-04-26 | 2020-03-05 | 株式会社ニコン | 検査装置、検査方法および検査対象物の製造方法 |
JP2020531328A (ja) * | 2017-08-30 | 2020-11-05 | エコール・ポリテクニーク・フェデラル・ドゥ・ローザンヌ (ウ・ペ・エフ・エル)Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | 断層逆投影による三次元造形の方法および装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6658552B2 (ja) | 2020-03-04 |
CN107209130B (zh) | 2021-07-09 |
US20180024079A1 (en) | 2018-01-25 |
JPWO2016129035A1 (ja) | 2017-11-24 |
US11860111B2 (en) | 2024-01-02 |
US20200284735A1 (en) | 2020-09-10 |
EP3258251A1 (en) | 2017-12-20 |
EP3258251A4 (en) | 2018-10-17 |
CN107209130A (zh) | 2017-09-26 |
EP3258251B1 (en) | 2021-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11860111B2 (en) | Image reconstruction method for X-ray measuring device, structure manufacturing method, image reconstruction program for X-ray measuring device, and X-ray measuring device | |
US20220292646A1 (en) | System and method for image reconstruction | |
JP6631624B2 (ja) | X線検査装置、x線検査方法および構造物の製造方法 | |
JP5384521B2 (ja) | 放射線撮像装置 | |
JP6379785B2 (ja) | 断層画像生成システム | |
US10521936B2 (en) | Device and method for image reconstruction at different X-ray energies, and device and method for X-ray three-dimensional measurement | |
US20170178366A1 (en) | System and method for image reconstruction | |
US20070274581A1 (en) | Methods and apparatus for BIS correction | |
JP2010127810A (ja) | X線検査装置およびx線検査方法 | |
CN107957429A (zh) | 用于生成x射线图像数据的方法 | |
JP2015075336A (ja) | 再構成画像生成装置、形状測定装置、構造物製造システム、再構成画像生成方法及び再構成画像生成プログラム | |
WO2013191220A1 (ja) | 画像診断装置およびその制御方法 | |
CN107809954B (zh) | 计算机断层切片图像相对于要被成像的对象的深度位置的显示 | |
CN113587810A (zh) | 一种生成光源位置的方法和装置 | |
JP2010110374A (ja) | 放射線撮影装置および処理方法 | |
JP2021067456A (ja) | X線画像生成方法、x線装置および構造物の製造方法 | |
JP6281640B2 (ja) | X線装置、画像形成方法、構造物の製造方法、及び構造物製造システム | |
JP7216953B2 (ja) | X線ctにおけるctボリュームの表面抽出方法 | |
JP2013215472A (ja) | 放射線断層画像生成装置、放射線断層撮影装置および放射線断層画像生成プログラム | |
US20240057955A1 (en) | System and method for incorporating lidar-based techniques with a computed tomography system | |
US9478050B2 (en) | Imaging system for imaging an object | |
JP2013205267A (ja) | X線断層撮影方法およびx線断層撮影装置 | |
WO2016056107A1 (ja) | 投影データ生成装置、計測装置および構造物の製造方法 | |
JP2021028575A (ja) | X線装置および構造物の製造方法 | |
JP2000342574A (ja) | X線画像補正方法およびx線ct装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 15881910 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 15549010 Country of ref document: US |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2016574538 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
REEP | Request for entry into the european phase |
Ref document number: 2015881910 Country of ref document: EP |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |