WO2016051896A1 - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents

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WO2016051896A1
WO2016051896A1 PCT/JP2015/069373 JP2015069373W WO2016051896A1 WO 2016051896 A1 WO2016051896 A1 WO 2016051896A1 JP 2015069373 W JP2015069373 W JP 2015069373W WO 2016051896 A1 WO2016051896 A1 WO 2016051896A1
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WO
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substrate
coating apparatus
plate member
plate
holding
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PCT/JP2015/069373
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English (en)
French (fr)
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明仁 塩田
高村 幸宏
隆介 伊藤
秀一 相良
雅敏 上野
宗明 大宅
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株式会社Screenホールディングス
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Publication date
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201Manufacture or treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/32Processes for applying liquids or other fluent materials using means for protecting parts of a surface not to be coated, e.g. using stencils, resists
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources

Definitions

  • This invention relates to a technique for applying a treatment liquid to a substrate.
  • organic EL display devices using organic EL Electro Luminescence
  • a TFT Thin-Film-Transistor
  • ITO Indium Tin Oxide
  • partition walls an anode Forming an ITO (Indium Tin Oxide) electrode
  • hole transport liquid a fluid material containing a hole transport material
  • organic EL liquid a fluid material containing an organic EL material
  • Patent Document 1 In manufacturing an organic EL display device, a device disclosed in Patent Document 1 is known as a device for applying a hole transport liquid or an organic EL liquid to a substrate.
  • a plurality of nozzles that continuously discharge a flowable material are moved relative to the substrate in the main scanning direction and the sub-scanning direction to apply the flowable material on the substrate in stripes. To do.
  • a driver circuit is incorporated around a coating region (that is, a light emitting region) where a fluid material such as a hole transport liquid or an organic EL liquid is to be applied.
  • a region necessary for sealing with a region or an insulating film is provided.
  • non-application region a region around these application regions
  • the post-process is performed in a state where the fluid material is attached, there is a possibility that the electrode characteristic deterioration or sealing failure may occur. Therefore, several techniques for preventing the flowable material from adhering to the non-application area on the substrate have been proposed.
  • Patent Document 2 discloses a technique for forming a non-application region on a substrate by applying a flowable material after applying a masking tape to a portion corresponding to the non-application region of the substrate and then peeling off the masking tape. It is disclosed.
  • Patent Document 3 discloses a technique in which a fluid material is directly removed from a portion corresponding to a non-application region by plasma treatment after the fluid material is applied to the entire surface of the substrate.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a technique for efficiently forming a non-coated region on a substrate.
  • a first aspect is a coating apparatus that forms a non-coating region where a flowable material is not applied to a substrate, and is held by the holding unit that holds the substrate and the holding unit.
  • a discharge unit that discharges the flowable material toward the main surface of the substrate, a moving mechanism that moves the discharge unit relative to the substrate held by the holding unit, and a recess that extends in the longitudinal direction.
  • One or more plate members having a plate holding portion for holding the plate member at a position between the substrate and the discharge portion, and a suction port for sucking the fluid material discharged to the surface of the plate member A suction mechanism.
  • the second aspect is a coating apparatus according to the first aspect, wherein the concave portion is formed on a surface of the plate member and includes a plurality of grooves extending along a longitudinal direction of the plate portion.
  • a third aspect is a coating apparatus according to the second aspect, wherein a water repellent treatment is performed on the surface of the convex bank portion interposed between two adjacent grooves among the plurality of grooves. Has been.
  • a 4th aspect is a coating device which concerns on any one aspect of a 1st-3rd aspect, Comprising:
  • the said plate member is the lower plate part in which the several groove
  • the suction port of the suction mechanism is arranged at a portion of the lower plate portion that protrudes from one end portion in the longitudinal direction of the upper plate portion.
  • a fifth aspect is a coating apparatus according to the fourth aspect, wherein a plurality of grooves extending along a longitudinal direction is formed in the upper plate portion, and the plurality of grooves are formed inside the plurality of grooves. A plurality of through holes are formed.
  • a sixth aspect is a coating apparatus according to any one of the first to fifth aspects, and the plate holding part holds the plate member in a state of being floated from the substrate.
  • the seventh aspect is a coating apparatus according to any one of the first to sixth aspects, and further includes a blower mechanism that blows air to the concave portion of the plate member.
  • the eighth aspect is a coating apparatus according to any one of the first to seventh aspects, further comprising a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid to the concave portion of the plate member.
  • the ninth aspect is a coating apparatus according to any one of the first to eighth aspects, wherein the fluid material is an organic EL liquid, a hole transport material, or a hole injection material.
  • a tenth aspect is an application method for forming a non-application region where a flowable material is not applied to a substrate, wherein (a) a holding step for holding the substrate, and (b) a recess extending in the longitudinal direction.
  • a plate member disposing step of disposing one or more plate members on the upper side of the substrate; and (c) discharging the flowable material from the discharge portion toward the main surface of the substrate held in the holding step.
  • a moving step of moving the discharge portion relative to the substrate and the plate member held by the holding portion; and (d) suction for sucking the fluid material discharged to the surface of the plate member.
  • the non-application region can be easily formed on the substrate by disposing the plate portion in the portion to be the non-application region in the substrate. Further, since the fluid material is spread in the longitudinal direction through the concave portion of the plate member and sucked by the suction mechanism, it is possible to effectively suppress the fluid material from spilling out from the plate member.
  • the flowable material easily spreads in the longitudinal direction along the groove. For this reason, it can suppress that a fluid material overflows from a plate member and falls to a board
  • the coating apparatus it is easy to collect the fluid material in the plurality of grooves by performing the water repellent treatment on the convex bank portion. Therefore, the fluid material can be efficiently sucked through the plurality of grooves.
  • the fluid material discharged to the plate member can be collected in the lower plate portion through the through hole of the upper plate portion. Further, the fluid material can be sucked in the portion of the lower plate portion that protrudes from the upper plate portion.
  • the flowable material can be spread along the groove by providing the groove in the upper plate portion. Further, by forming the through hole inside the groove, the fluid material can be collected in the lower plate portion through the through hole.
  • the coating apparatus it is possible to suppress the interference between the plate member and the substrate when the substrate is moved. As a result, the substrate surface can be prevented from being damaged.
  • the fluid material discharged to the plate member can be fed into the suction mechanism by blowing air into the concave portion. Therefore, the fluid material can be efficiently removed from the plate member.
  • the concave portion can be cleaned with the cleaning liquid, the fluid material can be effectively removed.
  • an organic EL panel can be manufactured by applying an organic EL liquid or a hole transport liquid to a substrate.
  • FIG. 1 It is a schematic plan view which expands and shows a part of upper surface of the plate member which concerns on the modification of 1st Embodiment. It is a figure which shows the flow of the coating process in the coating device which concerns on 1st Embodiment. It is a schematic perspective view which shows the plate member which concerns on 2nd Embodiment. It is a schematic plan view which expands and shows a part of upper plate part which concerns on 2nd Embodiment. It is a schematic side view which shows the plate member which concerns on 2nd Embodiment. It is a schematic plan view which expands and shows a part of upper surface of the upper plate part which concerns on the modification of 2nd Embodiment. FIG.
  • FIG. 10 is a schematic plan view showing an ⁇ X side end portion of an upper plate portion according to another modification of the second embodiment.
  • FIG. 10 is a schematic plan view showing an ⁇ X side end portion of an upper plate portion according to another modification of the second embodiment. It is a schematic plan view which shows a part of lower plate part which concerns on the other modification of 2nd Embodiment. It is a schematic front view which shows the edge part of the lower plate part which concerns on the other modification of 2nd Embodiment.
  • FIG. 1 an XYZ orthogonal coordinate system is shown in which the X direction and the Y direction perpendicular thereto are defined as the horizontal direction and the vertical direction is defined as the Z direction.
  • the liquid receiving part 53L side in the coating apparatus 1 is set to the ⁇ X side
  • the liquid receiving part 53R side is set to the + X side.
  • the plate holding unit 62 side in the coating apparatus 1 is the + Y side
  • the plate holding unit 63 side is the -Y side
  • the upper side of the coating apparatus 1 is the + Z side
  • the lower side is the -Z side.
  • these directions are not intended to limit the arrangement relationship of the elements.
  • FIG. 1 is a schematic plan view showing a coating apparatus 1 according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic front view showing the coating apparatus 1 according to the first embodiment. In FIG. 2, the mask mechanism 6 is not shown.
  • FIG. 3 is a schematic side view showing the coating apparatus 1 according to the first embodiment.
  • the coating apparatus 1 is configured as an apparatus for manufacturing an organic EL display device that uses a fluid material such as an organic EL liquid, a hole transport material, or a hole injection material as a coating liquid.
  • the coating apparatus 1 can use a plurality of coating liquids such as a resist material and a metal paste in addition to the organic EL liquid, the hole transport material, and the hole injection material.
  • a coating liquid such as a resist material and a metal paste
  • the coating apparatus 1 includes a substrate holding device 2, an organic EL coating mechanism 5, a mask mechanism 6, and a control unit 10.
  • the control unit 10 includes a general computer having a CPU, a ROM, a RAM, and the like. As the CPU operates according to the program, the control unit 10 controls the operation of the coating apparatus 1.
  • the substrate holding device 2 includes a stage 21, a turning unit 22, a parallel movement table 23, a guide receiving unit 24, and a guide member 25.
  • the stage 21 is a horizontal thick plate-like rigid material that holds a substrate P such as a glass substrate to be coated on its upper surface.
  • the lower part of the stage 21 is supported by the turning unit 22, and the stage 21 is configured to be able to turn in a horizontal plane in the illustrated ⁇ direction by the turning operation of the turning unit 22.
  • the stage 21 has a heating mechanism for preheating the substrate P coated with the organic EL liquid on the surface of the stage 21, and an adsorption for adsorbing and holding the substrate P from below.
  • a mechanism, a delivery pin mechanism used when delivering the substrate P to and from the transport mechanism, and the like are provided.
  • the substrate P is held by the stage 21.
  • the stage 21 is an example of a holding unit.
  • the guide member 25 is arranged so as to extend in the Y-axis direction so as to pass under the organic EL coating mechanism 5, and is fixed horizontally on the floor surface.
  • a guide receiving portion 24 that is in contact with the guide member 25 and slides on the guide member 25 is fixed to the lower surface of the parallel movement table 23.
  • the swivel unit 22 is fixed to the upper surface of the parallel movement table 23.
  • the parallel movement table 23 can be moved in the Y-axis direction along the guide member 25 by receiving a driving force from, for example, a linear motor, and the stage 21 supported by the swivel unit 22 can also move in a straight line.
  • a stage moving mechanism 26 is configured by a driving mechanism including a parallel moving table 23, a guide receiving portion 24, a guide member 25, and a linear motor.
  • the organic EL coating mechanism 5 has a nozzle unit 50 and a nozzle moving mechanism 51.
  • the nozzle unit 50 includes a plurality of application nozzles (three application nozzles 52a, 52b, and 52c in FIG. 1) that discharge organic EL liquids of any one color of red, green, and blue.
  • the coating nozzles 52a to 52c ”) are held in parallel.
  • the nozzle unit 50 is an example of a discharge unit that discharges the organic EL liquid onto the main surface of the substrate P held on the stage 21.
  • the “main surface of the substrate” refers to a surface parallel to the longitudinal direction and the width direction of the substrate P when the substrate P is rectangular.
  • the shape of the substrate P is not limited to a rectangle, and various shapes are assumed, but the substrate P according to the present embodiment is a thin plate-like material having a flat surface as a main surface.
  • the substrate P according to the present embodiment is a thin plate-like material having a flat surface as a main surface.
  • Each of the coating nozzles 52a, 52b, and 52c is supplied with an organic EL liquid of any one of red, green, and blue from a supply unit (not shown). In addition, you may make it discharge the organic EL liquid of the same color from the some application nozzle 52.
  • a supply unit not shown
  • the tips of the coating nozzles 52a to 52c have the same height (position with respect to the Z-axis direction), and are arranged in a straight line at regular intervals in an oblique direction inclined from the X-axis direction in the horizontal plane.
  • the nozzle pitch (interval in the Y direction between the nozzles) can be set as appropriate, but in the embodiment, it matches the interval of three rows of stripe-shaped grooves formed in the substrate P. Is set to
  • the nozzle moving mechanism 51 includes a pair of shaft guides 511 and 511 extending in the X-axis direction, and a ball screw and a motor (not shown).
  • the nozzle unit 50 is configured such that a ball screw is screwed and the shaft guides 511 and 511 pass therethrough. Therefore, when the ball screw is rotated by a motor (not shown), the nozzle unit 50 screwed to the ball screw moves in the X direction along the shaft guide 511.
  • various mechanisms such as a mechanism using an air slider and a mechanism using a linear motor can be employed.
  • the controller 10 is held on the stage 21 by controlling the nozzle moving mechanism 51 so as to move the nozzle unit 50 along the X-axis direction while applying the organic EL liquid from the application nozzles 52a to 52c.
  • a predetermined flow rate of organic EL liquid is discharged from the coating nozzles 52 a to 52 c into the grooves of the substrate P.
  • the pitch of the coating nozzles 52a to 52c coincides with the three rows of grooves on the substrate P, the coating is performed on the three rows of grooves spaced by two rows from each other. That is, the X-axis direction is the main scanning direction.
  • liquid receiving portions 53L and 53R that receive the organic EL liquid discharged from the substrate P are disposed in both side spaces deviating from the substrate P held by the stage 21.
  • the nozzle moving mechanism 51 is disposed on the other outer side of the substrate P across the substrate P from the upper space of the liquid receiving portion (for example, the liquid receiving portion 53L) disposed on the one side outer side of the substrate P.
  • the organic EL liquid is applied onto the substrate P by reciprocating the nozzle unit 50 to the upper space of the liquid receiving part (for example, the liquid receiving part 53R).
  • the parallel movement table 23 has a sub-scanning direction (here, in the main scanning direction) that intersects the nozzle reciprocation direction when the nozzle unit 50 is disposed in the upper space of the liquid receiving portion 53L or the liquid receiving portion 53R.
  • the stage 21 is moved by a required pitch (for example, three times the nozzle pitch) in the + Y direction orthogonal to each other.
  • the red organic EL liquid is formed on the substrate P by performing the operations of the nozzle moving mechanism 51 and the parallel movement table 23 and the discharge operation of discharging the organic EL liquid from the coating nozzles 52a to 52c in a liquid column state.
  • a so-called stripe arrangement arranged for each of the stripe-shaped grooves formed is formed on the substrate P.
  • the mask mechanism 6 includes one or more (four in this case) plate members 61, a pair of plate holding parts 62 and 63, a suction mechanism 64, a blower mechanism 65, and a cleaning liquid supply part 66.
  • the plate member 61 is made of stainless steel (SUS), for example, and is a substantially sheet-like member having a substantially rectangular shape in plan view.
  • the plate member 61 is arranged so that its rectangular lower surface approaches and faces the upper surface, which is the main surface of the substrate P.
  • the plate member 61 is arranged so that the longitudinal direction thereof is the Y-axis direction. In the example shown in FIG. 1, four plate members 61 are arranged at a required interval in the X-axis direction.
  • the plate member 61 is disposed between the coating nozzles 52a to 52c of the nozzle unit 50 and the substrate P.
  • FIG. 4 is a schematic perspective view showing the plate member 61 according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is an enlarged schematic plan view showing a part of the upper surface of the plate member 61 according to the first embodiment.
  • a plurality of grooves 611 which are concave portions recessed downward, are formed in the inner portion excluding the peripheral portion.
  • the grooves 611 are formed at a constant interval in the X-axis direction and extend in parallel to the Y-axis direction.
  • the groove 611 is formed by etching, for example, a sheet-like SUS to a depth that is about half of its thickness.
  • Each plate member 61 is held by a pair of plate holding portions 62 and 63. More specifically, the plate holding portion 62 is fixed to the lower side of the nozzle moving mechanism 51, and the + Y side end portion of each plate member 61 is fixed to the lower portion thereof.
  • the plate holding portion 63 is fixed at a position away from the plate holding portion 62 in the ⁇ Y direction, and the ⁇ Y side end portion of the plate member 61 is fixed to the lower portion thereof. In this way, both end portions of each plate member 61 in the longitudinal direction are supported by the pair of plate holding portions 62 and 63.
  • each plate member 61 may be fixed using a bolt, or if the plate member 61 has magnetism, it may be fixed using a magnet, or may be fixed via an adhesive.
  • the pair of plate holding parts 62 and 63 hold each plate member 61 in a state where the plate member 61 is arranged at a height position between the tips (discharge ports) of the coating nozzles 52a to 52c (discharge parts) and the surface of the substrate P. To do. Further, the pair of plate holding portions 62 and 63 hold the plate members 61 in a state where they are floated from the surface of the substrate P. In the present embodiment, the substrate P is moved in the + Y direction during sub-scanning. At this time, by floating each plate member 61 from the substrate P, it is possible to suppress interference between the lower end portion of each plate member 61 and the substrate P.
  • the height dimension (length in the Z-axis direction) of the plate member 61 is set to be shorter than the distance between the substrate P and the tips of the coating nozzles 52a to 52c. For example, when the distance between the substrate P and the tips of the application nozzles 52a to 52c is 0.5 mm, the height dimension of the plate member 61 is shorter than 0.5 mm (for example, 0.2 mm to 0.3 mm). ) Is set.
  • the plate holder 62 is provided with a suction mechanism 64.
  • the suction mechanism 64 includes a plurality of (here, three) suction ports 641.
  • Each suction port 641 is arranged so as to approach the upper surface of the plate member 61. More preferably, each suction port 641 is disposed above the + Y side ends of the plurality of grooves 611.
  • the plate holding part 63 is provided with a blower mechanism 65.
  • the blower mechanism 65 has a plurality of blower openings 651, and blows air from the blower openings 651 to the concave portions of the plate member, that is, the plurality of grooves 611.
  • the air outlet 651 is disposed, for example, above the ⁇ Y side end portions of the plurality of grooves 611. By making the air outlet 651 also face in the + Y direction, the blown air can be easily moved in the + Y direction.
  • each plate member 61 partially covers the substrate P. For this reason, it moves in the X-axis direction while discharging the organic EL liquid from the coating nozzles 52a to 52c. Then, a non-application area
  • the organic EL liquid When the organic EL liquid is discharged from the coating nozzles 52a to 52c, the organic EL liquid is also discharged to each plate member 61. However, the organic EL liquid is caused in the Y-axis direction along the groove 611 by capillary action. Can be spread. Preferably, the surface of the convex bank portion 612 interposed between two grooves 611 adjacent in the X-axis direction is subjected to water repellency treatment. Thereby, the organic EL liquid can be easily collected in the groove 611.
  • the air blowing mechanism 65 since the air is blown to the ⁇ Y side end portions of the plurality of grooves 611 by the air blowing mechanism 65, the organic EL liquid passing through the grooves 611 is biased in the + Y direction and moves toward the suction mechanism 64. To do. Then, the organic EL liquid that has moved to the + Y side end is sucked by the suction mechanism 64.
  • the suction mechanism 64 the organic EL liquid can be removed from each plate member 61. For this reason, it can suppress that organic EL liquid accumulates on the plate member 61. Therefore, it is possible to reduce the overflow of the organic EL liquid from the plate member 61 and dropping onto the substrate P. Moreover, the organic EL liquid on the plate member 61 can be efficiently removed by sending air to the groove 611 by the blower mechanism 65.
  • the cleaning liquid supply unit 66 supplies the cleaning liquid to each plate member 61 at an appropriate timing based on the control signal transmitted from the control unit 10.
  • the cleaning liquid supply unit 66 is connected to the air outlet 651 and supplies the cleaning liquid to the plate member 61 from the air outlet 651. Note that the cleaning liquid may be supplied to the plate member 61 via another route other than the air blowing port 651.
  • blower mechanism 65 and the cleaning liquid supply unit 66 may be omitted. Further, a suction mechanism may be further disposed instead of the blower mechanism 65. In this case, the organic EL liquid on the plate member 61 is sucked from both end portions of the plate member 61.
  • FIG. 6 is an enlarged schematic plan view showing a part of the upper surface of the plate member 61a according to the modification of the first embodiment.
  • a plurality of grooves 613 extending in the X-axis direction so as to be orthogonal to these grooves 611 are formed along with a plurality of grooves 611 extending in the Y-axis direction.
  • FIG. 7 is an enlarged plan view showing a part of the upper surface of the plate member 61b according to the modification of the first embodiment.
  • the ⁇ X side end of the plate member 61b is shown.
  • a schematic side view of the end portion on the ⁇ X side of the plate member 61b viewed from the ⁇ Y side is shown in the lower part of FIG.
  • each of the grooves 611 and the edge grooves 614 may extend to the end portion in the Y-axis direction. Although illustration is omitted, an edge groove 614 may also be formed at the + X side end of the plate member 61b.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating a flow of a coating process in the coating apparatus 1 according to the first embodiment. Note that the operation of the coating apparatus 1 is controlled by the control unit 10 unless otherwise specified.
  • step S1 a step of preparing a substrate is executed.
  • the substrate P is carried into the coating apparatus 1 from the outside, and the substrate P is fixed to the stage 21. Further, the position of the substrate P including the angle adjustment may be appropriately adjusted.
  • step S2 a step of placing the plate member 61 at a predetermined position for applying the organic EL liquid is executed.
  • Each plate member 61 is fixed so as to match the interval between the non-application areas to be formed on the substrate P.
  • substrate P is moved below each plate member 61 so that each plate member 61 may overlap with the part which forms the non-application
  • step S3 When the placement of the substrate P is completed, the blowing mechanism 65 and the suction mechanism 64 are driven to start blowing and sucking (step S3).
  • the cleaning liquid from the cleaning liquid supply unit 66 may be appropriately discharged from some or all of the plurality of air outlets 651 of the air blowing mechanism 65. Further, this step S3 may be executed prior to or in parallel with step S2.
  • step S4 discharge of the organic EL liquid is started from each of the application nozzles 52a to 52c of the nozzle unit 50 (step S4).
  • each of the coating nozzles 52a to 52c is performed in a state where it is disposed in the upper space of the liquid receiving portion 53L or the liquid receiving portion 53R. At this time, it may be tested whether or not the ejection from each of the coating nozzles 52a to 52c is performed correctly.
  • the nozzle unit 50 starts moving along the X-axis direction (main scanning direction) by driving the nozzle moving mechanism 51 (step S5).
  • the organic EL liquid is applied to the region of the substrate P that does not overlap the four plate members 61. Further, the organic EL liquid discharged on the plate member 61 is appropriately removed by the suction mechanism 64.
  • each coating nozzle 52a to 52c crosses the substrate P and reaches the opposite liquid receiving portion, the substrate P is moved in the + Y direction (or -Y direction) by the required pitch. Then, the nozzle unit 50 moves along the X-axis direction opposite to the previous one. In this way, the organic EL liquid is applied to the region excluding the non-application region on the substrate P by reciprocating the nozzle unit 50.
  • the plate member 61 is disposed above the portion of the substrate P where the non-coating region is to be formed, and the coating process is performed in that state. For this reason, compared with the conventional apparatus, the operation
  • FIG. 9 is a schematic perspective view showing a plate member 61c according to the second embodiment.
  • the plate member 61 c is composed of an upper plate portion 71 and a lower plate portion 81. By placing the upper plate portion 71 on the upper side of the lower plate portion 81, a plate member 61c is configured.
  • FIG. 10 is an enlarged schematic plan view showing a part of the upper plate portion 71 according to the second embodiment.
  • the lower plate portion 81 has substantially the same configuration as the plate member 61 shown in FIG. That is, the lower plate portion 81 is formed of, for example, a sheet-like SUS, and a plurality of concave grooves 811 extending along the Y-axis direction that is the longitudinal direction of the lower plate portion 81 are formed on the surface thereof. Yes.
  • the groove 811 is formed by, for example, half etching.
  • the upper plate portion 71 is formed of sheet-like SUS. As shown in FIG. 10, the upper plate portion 71 is formed with a plurality of through holes 711 penetrating vertically. Each through-hole 711 of the upper plate portion 71 is provided at a position corresponding to each groove 811 of the lower plate portion 81 stacked below (a position overlapping in the vertical direction). For this reason, the organic EL liquid discharged to the plate member 61 c is collected in each groove 811 of the lower plate portion 81 through the plurality of through holes 711.
  • the opening width of the through-hole 711 and the groove width of the groove 811 are substantially the same. However, even if one of the opening widths is made larger than the other, Good.
  • the upper surface of the upper plate portion 71 is subjected to water repellency treatment.
  • the organic EL liquid discharged to the upper plate portion 71 can be easily guided to the through hole 711. Therefore, the organic EL liquid can be efficiently collected in the lower plate portion 81.
  • FIG. 11 is a schematic side view showing a plate member 61c according to the second embodiment.
  • a suction mechanism 64 and a blower mechanism 65 are provided at both ends in the longitudinal direction of the plate member 61c.
  • the length of the upper plate portion 71 in the longitudinal direction is shorter than the length of the lower plate portion 81 in the longitudinal direction.
  • a suction port 641 of the suction mechanism 64 is disposed in a portion 810 a (one end portion in the longitudinal direction) of the lower plate portion 81 that protrudes to the + Y side from the upper plate portion 71.
  • a blowing port 651 of the blowing mechanism 65 is disposed in a portion 810b (the other side end portion in the longitudinal direction) of the lower plate portion 81 that protrudes to the ⁇ Y side from the upper plate portion 71.
  • the organic EL liquid discharged to the plate member 61 c is collected in each groove 811 of the lower plate portion 81 through the through hole 711 of the upper plate portion 71. Thereafter, the organic EL liquid spreads in each groove 811 and is sucked through the suction port 641 to be removed from the lower plate portion 81. Further, when air is sent out from the air blowing port 651 disposed on the side opposite to the suction port 641, the organic EL liquid collected in each groove 811 of the lower plate portion 81 is directed toward the suction port 641 on the + Y side. Can send.
  • both end portions of the lower plate portion 81 are fixed to the plate holding portions 62 and 63 without a substantial gap.
  • both end portions of the upper plate portion 71 in the longitudinal direction extend to the lower side of the plate holding portions 62 and 63 and overlap therewith.
  • the length of the upper plate portion 71 in the longitudinal direction equal to or shorter than the distance between the plate holding portions 62 and 63, the upper plate portion 71 is different from the plate holding portions 62 and 63. You may make it not overlap.
  • both end portions of the lower plate portion 81 in the longitudinal direction are fixed to the bottom surfaces of the plate holding portions 62 and 63 without the upper plate portion 71 interposed therebetween. That is, as in the plate member 61 shown in FIG. 3, both end portions in the longitudinal direction of the lower plate portion 81 are fixed substantially without gaps along the bottom surfaces of the plate holding portions 62 and 63.
  • FIG. 12 is a schematic plan view showing an enlarged part of the upper surface of the upper plate portion 71a according to the modification of the second embodiment.
  • a plurality of grooves 712 extending in the Y-axis direction, which is the longitudinal direction of the upper plate portion 71a, are provided on the upper surface of the upper plate portion 71a according to this modification, and the plurality of grooves 712 are vertically arranged inside the plurality of grooves 712.
  • a plurality of through holes 711a are formed at a required pitch.
  • the organic EL liquid discharged to the upper plate portion 71a can be spread in the extending direction of the groove 712 (Y-axis direction) by the groove 712. For this reason, the organic EL liquid can be collected in the lower plate portion 81 through the through hole 711a.
  • the surface of the convex bank portion 713 formed between two adjacent grooves 712 and 712 may be subjected to a water repellency treatment. Thereby, the organic EL liquid adhering to the convex bank portion 713 can be easily guided to the groove 712.
  • FIG. 13 is a schematic plan view showing the ⁇ X side end portion of the upper plate portion 71a according to another modification of the second embodiment.
  • the + X side end portion of the upper plate portion 71a is illustrated.
  • a schematic side view of the upper plate portion 71a viewed from the -Y side is shown in the lower part of FIG.
  • An edge groove 714 extending in the Y-axis direction may be provided at the ⁇ X side end of the upper plate portion 71a. Further, through holes 711a penetrating vertically are formed in the edge groove 714 at a required pitch. Thereby, also in the edge groove 714 at the ⁇ X side end portion, the organic EL liquid can be collected in the lower plate portion 81 through the through hole 711a while spreading in the Y-axis direction. Accordingly, it is possible to suppress the organic EL liquid from accumulating at the ⁇ X side end portion of the upper plate portion 71a, so that the organic EL liquid can be prevented from dropping onto the substrate P. Although illustration is omitted, an edge groove 714 may be similarly formed in the + X side end portion of the upper plate portion 71a.
  • a plurality of grooves crossing in the X-axis direction are provided on the surface of the upper plate portion 71a shown in FIG. 13, and the grooves 712 extending in the Y-axis direction are connected to each other. Good. This makes it easier for the organic EL liquid to reach the grooves 712. Furthermore, a through-hole 711a penetrating in the vertical direction may be provided inside the groove traversing in the X axis direction.
  • FIG. 14 is a schematic plan view showing the ⁇ X side end portion of the upper plate portion 71b according to another modification of the second embodiment.
  • the convex bank portion 713 is also formed with a through hole 711b penetrating vertically.
  • the organic EL liquid discharged to the upper plate portion 71b can easily pass through the upper plate portion 71b, and can be favorably collected in the lower plate portion 81.
  • FIG. 15 is a schematic plan view showing a part of a lower plate portion 81a according to another modification of the second embodiment.
  • the lower plate portion 81a has a plurality of grooves 811 extending in the X-axis direction so as to cross the plurality of grooves 811 together with a plurality of grooves 811 extending in the Y-axis direction. . Since the plurality of grooves 811 can be connected to each other by the plurality of grooves 813, the organic EL liquid can be spread over each groove 811. Accordingly, the organic EL liquid can be easily guided to the suction port 641, and the organic EL liquid can be efficiently sucked from the suction port 641.
  • the through hole 711 of the upper plate portion 71 overlaps with the position of the intersection of each groove 811 and each groove 813.
  • the through hole 711 may be disposed at a position corresponding to either the groove 811 or the groove 813 (that is, a position overlapping in the vertical direction).
  • FIG. 16 is a schematic front view showing an end portion of a lower plate portion 81b according to another modification of the second embodiment.
  • the groove 812 is positioned inside the ⁇ X side end portion. Therefore, a side wall portion 82 is formed along the longitudinal direction (Y-axis direction) at the ⁇ X side end portion of the lower plate portion 81b.
  • a plurality of through holes 821 connected to the groove 812 located on the most ⁇ X side are formed at a required pitch along the Y-axis direction.
  • the nozzle unit 50 is moved in the X-axis direction and the substrate P is moved in the Y-axis direction, whereby the nozzle unit 50 is moved relative to the substrate P in the main scanning direction and the sub-scanning direction. It has been realized.
  • the coating apparatus 1 may be configured to move the nozzle unit 50 in the Y-axis direction or the substrate P in the X-axis direction. Further, the coating apparatus 1 may be configured so that only one of the nozzle unit 50 and the substrate P is moved in both the X-axis direction and the Y-axis direction.
  • maintenance part 62 and 63 floats and hold
  • a mechanism may be provided in which the pair of plate holding portions 62 and 63 also move in the Y-axis direction in synchronization with the movement of the substrate P in the Y-axis direction.
  • the pair of plate holding portions 62 and 63 may hold each plate member 61 so as to be movable in the X-axis direction. Accordingly, the arrangement interval of the plate members 61 can be changed in accordance with the position of the non-application area to be formed on the substrate P.

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Abstract

 基板に対して非塗布領域を効率的に形成する技術を提供する。塗布装置1は、基板Pに非塗布領域を形成する。塗布装置1は、基板Pを保持するステージ21と、ステージ21に保持された基板Pの主面に向けて有機EL液を吐出する塗布ノズル52a~52cと、該塗布ノズル52a~52cをステージ21に保持された基板Pに対して相対的に移動させるノズル移動機構51と、長手方向に延びる溝611を有する複数のプレート部材61と、各プレート部材61を塗布ノズル52a~52cと基板Pとの間に配した状態で保持するプレート保持部62,63と、保持プレート部材61の表面に吐出された有機EL液を吸引する吸引機構64を備える。

Description

塗布装置および塗布方法
 この発明は、基板に処理液を塗布する技術に関する。
 近年、有機EL(Electro Luminescence)材料を利用した有機EL表示装置の開発が行われている。例えば、高分子有機EL材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機EL表示装置の製造では、ガラス基板(以下、単に「基板」という。)に対して、TFT(Thin Film Transistor)回路の形成、陽極となるITO(Indium Tin Oxide)電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料(以下、「正孔輸送液」という。)の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機EL材料を含む流動性材料(以下、「有機EL液」という。)の塗布、加熱処理による有機EL層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。
 有機EL表示装置の製造において、正孔輸送液または有機EL液を基板に塗布する装置として、特許文献1に示されるものが知られている。この種の塗布装置では、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルを、基板に対して主走査方向および副走査方向に相対移動することによって、基板上に流動性材料をストライプ状に塗布する。
 ところで、有機EL表示装置用の基板の表面には、正孔輸送液や有機EL液等の流動性材料が塗布されるべき塗布領域(すなわち、発光領域)の周囲に、ドライバ回路が組み込まれた領域や絶縁膜による封止のために必要な領域が設けられている。有機EL表示装置の製造では、正孔輸送層や有機EL層の形成工程においてこれらの塗布領域の周囲の領域(以下、「非塗布領域」という。)に流動性材料が付着する可能性があり、流動性材料が付着した状態で後工程が行われると電極の特性劣化や封止不良等が発生する可能性がある。したがって、基板上の非塗布領域に、流動性材料が付着することを防止する技術が、これまでにもいくつか提案されている。
 例えば、特許文献2には、基板の非塗布領域に対応する部分にマスキングテープを貼付してから流動性材料を塗布した後、マスキングテープを剥がすことによって、基板に非塗布領域を形成する技術が開示されている。
 また、特許文献3には、基板全面に流動性材料を塗布した後、プラズマ処理によって、非塗布領域に対応する部分から流動性材料を直接除去する技術が開示されている。
特開2004-111073号公報 特開2008-277212号公報 特開2011-210531号公報
 しかしながら、特許文献2に記載の技術の場合、基板にマスキングテープを貼り付ける工程、および、基板からマスキングテープを剥がす工程を、塗布装置外で行うことを要し、非効率であった。また、マスキングテープを剥がしたときに、基板にマスキングテープの粘着剤が付着し、残渣となる虞があった。また、特許文献3に記載の技術の場合、プラズマ処理が、下地となる基板に悪影響を及ぼす可能性があった。このように、従来技術には改善の余地があった。
 本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、基板に対して非塗布領域を効率的に形成する技術を提供することを目的とする。
 上記の課題を解決するため、第1の態様は、基板に流動性材料が塗布されていない非塗布領域を形成する塗布装置であって、基板を保持する保持部と、前記保持部に保持された前記基板の主面に向けて流動性材料を吐出する吐出部と、前記吐出部を、前記保持部に保持された基板に対して相対的に移動させる移動機構と、長手方向に延びる凹部を有する1以上のプレート部材と、前記プレート部材を前記基板と前記吐出部との間の位置に保持するプレート保持部と、前記プレート部材の表面に吐出された前記流動性材料を吸引する吸引口を有する吸引機構とを備える。
 また、第2の態様は、第1の態様に係る塗布装置であって、前記凹部が、前記プレート部材の表面に形成され、該プレート部の長手方向に沿って延びる複数の溝を含む。
 また、第3の態様は、第2の態様に係る塗布装置であって、前記複数の溝のうち、隣り合う2つの前記溝の間に介在する凸バンク部の表面に、撥水性処理が施されている。
 また、第4の態様は、第1から第3の態様のいずれか1態様に係る塗布装置であって、前記プレート部材は、長手方向に沿って延びる複数の溝が形成されている下プレート部と、前記下プレート部の上部に配されており、前記下プレート部に形成されている前記複数の溝に対応する位置に複数の貫通孔が形成されている上プレート部と、を含み、前記下プレート部における、前記上プレート部の長手方向の一方側端部から張り出す部分に、前記吸引機構の前記吸引口が配されている。
 また、第5の態様は、第4の態様に係る塗布装置であって、前記上プレート部に、長手方向に沿って延びる複数の溝が形成されており、前記複数の溝の内部に、前記複数の貫通孔が形成されている。
 また、第6の態様は、第1から第5の態様のいずれか1態様に係る塗布装置であって、前記プレート保持部は、前記基板から浮かせた状態で前記プレート部材を保持する。
 また、第7の態様は、第1から第6の態様のいずれか1態様に係る塗布装置であって、前記プレート部材の前記凹部にエアを吹き送る送風機構、をさらに備える。
 また、第8の態様は、第1から第7の態様のいずれか1態様に係る塗布装置であって、前記プレート部材の前記凹部に、洗浄液を供給する洗浄液供給部、をさらに備える。
 また、第9の態様は、第1から第8の態様のいずれか1態様に係る塗布装置であって、前記流動性材料が、有機EL液、正孔輸送材料または正孔注入材料である。
 また、第10の態様は、基板に流動性材料が塗布されていない非塗布領域を形成する塗布方法であって、(a)基板を保持する保持工程と、(b)長手方向に延びる凹部を有する1以上のプレート部材を、前記基板の上側に配するプレート部材配置工程と、(c)前記保持工程にて保持された前記基板の主面に向けて吐出部から流動性材料を吐出させつつ、該吐出部を、保持部に保持された基板および前記プレート部材に対して、相対的に移動させる移動工程と、(d)前記プレート部材の表面に吐出された前記流動性材料を吸引する吸引工程とを含む。
 第1の態様に係る塗布装置によると、基板における非塗布領域とする部分にプレート部を配することによって、該基板に非塗布領域を容易に形成できる。また、流動性材料を、プレート部材の凹部を通じて長手方向に広げ、吸引機構によって吸引するため、プレート部材から流動性材料がこぼれ落ちることを効果的に抑制できる。
 また、第2の態様に係る塗布装置によると、溝に沿って、流動性材料が長手方向に広がりやすくなる。このため、流動性材料がプレート部材から溢れて基板に落下することを抑制できる。
 また、第3の態様に係る塗布装置によると、凸バンク部に撥水性処理を施すことによって、複数の溝に流動性材料を集めやすくなる。したがって、複数の溝を介して流動性材料を効率的に吸引できる。
 また、第4の態様に係る塗布装置によると、プレート部材に吐出された流動性材料を、上プレート部の貫通孔を通って下プレート部に回収できる。また、下プレート部における、上プレート部から張り出す部分において、流動性材料を吸引できる。
 また、第5の態様に係る塗布装置によると、上プレート部に溝が設けることによって、流動性材料を溝に沿って広げることができる。また、溝の内部に貫通孔が形成されることによって、流動性材料を、該貫通孔を通じて下プレート部に回収できる。
 また、第6の態様に係る塗布装置によると、基板を移動させた際に、プレート部材と基板が干渉することを抑制できる。これによって、基板表面が損傷することを抑制できる。
 また、第7の態様に係る塗布装置によると、凹部にエアを吹き送ることによって、プレート部材に吐出された流動性材料を吸引機構に送り込むことができる。したがって、プレート部材から、効率的に流動性材料を除去できる。
 また、第8の態様に係る塗布装置によると、洗浄液によって凹部を洗浄することができるため、流動性材料を効果的に除去できる。
 また、第9の態様に係る塗布装置によると、有機EL液または正孔輸送液を基板に塗布することによって、有機ELパネルを製造できる。
第1実施形態に係る塗布装置を示す概略平面図である。 第1実施形態に係る塗布装置を示す概略正面図である。 第1実施形態に係る塗布装置を示す概略側面図である。 第1実施形態に係るプレート部材を示す概略斜視図である。 第1実施形態に係るプレート部材の上面の一部を拡大して示す概略平面図である。 第1実施形態の変形例に係るプレート部材の上面の一部を拡大して示す概略平面図である。 第1実施形態の変形例に係るプレート部材の上面の一部を拡大して示す概略平面図である。 第1実施形態に係る塗布装置における塗布処理の流れを示す図である。 第2実施形態に係るプレート部材を示す概略斜視図である。 第2実施形態に係る上プレート部の一部を拡大して示す概略平面図である。 第2実施形態に係るプレート部材を示す概略側面図である。 第2実施形態の変形例に係る上プレート部の上面の一部を拡大して示す概略平面図である。 第2実施形態の他の変形例に係る上プレート部の-X側端部を示す概略平面図である。 第2実施形態の他の変形例に係る上プレート部の-X側端部を示す概略平面図である。 第2実施形態の他の変形例に係る下プレート部の一部を示す概略平面図である。 第2実施形態の他の変形例に係る下プレート部の端部を示す概略正面図である。
 以下、本発明の実施形態に係る塗布装置1について、図面を参照しつつ説明する。なお、図面においては、理解容易のため、各部の寸法や数が必要に応じて誇張または簡略化して図示されている場合がある。また、図1および以降の各図においては、説明の便宜のため、X方向およびこれに直交するY方向を水平方向とし、鉛直方向をZ方向とするXYZ直交座標系が示されている。X軸については、塗布装置1における液受部53L側を-X側とし、液受部53R側を+X側とする。Y軸については、塗布装置1におけるプレート保持部62側を+Y側とし、プレート保持部63側を-Y側とする。Z軸については、塗布装置1の上側を+Z側とし、下側を-Z側とする。ただし、これらの各方向は、各要素の配置関係を限定する趣旨のものではない。
 <1. 第1実施形態>
 <1.1. 構成および機能>
 図1は、第1実施形態に係る塗布装置1を示す概略平面図である。また、図2は、第1実施形態に係る塗布装置1を示す概略正面図である。なお、図2においては、マスク機構6の図示を省略している。図3は、第1実施形態に係る塗布装置1を示す概略側面図である。
 塗布装置1は、有機EL液、正孔輸送材料または正孔注入材料などの流動性材料を塗布液として用いる有機EL表示装置を製造するための装置として構成されている。なお、塗布装置1では、有機EL液、正孔輸送材料、正孔注入材料の他、レジスト材料、金属ペーストなどの複数の塗布液を用いることが可能であるが、以下の説明では、それらの代表として有機EL液を塗布液とした場合について説明を行う。
 塗布装置1は、基板保持装置2、有機EL塗布機構5、マスク機構6および制御部10を備えている。制御部10は、CPU、ROM、RAMなどを備えた一般的なコンピュータなどで構成される。CPUがプログラムにしたがって動作することによって、制御部10が塗布装置1の動作を制御する。
 図2に示すように、基板保持装置2は、ステージ21、旋回部22、平行移動テーブル23、ガイド受け部24、およびガイド部材25を有している。
 ステージ21は、被塗布体となるガラス基板等の基板Pをその上面に保持する水平な厚板状の剛性材である。ステージ21の下部は、旋回部22によって支持されており、旋回部22の回動動作によって図示θ方向にステージ21が水平面内で旋回可能に構成されている。
 また、ステージ21の内部には、図示を省略するが、有機EL液が塗布された基板Pをステージ21面上で予備加熱処理するための加熱機構、基板Pを下方から吸着して保持する吸着機構、および、基板Pを搬送機構との間で受け渡しする際に利用される受け渡しピン機構などが設けられている。ステージ21によって基板Pが保持される。ステージ21は、保持部の一例である。
 ガイド部材25は、有機EL塗布機構5の下方を通るように、Y軸方向に延びるように配され、床面に水平に固定されている。平行移動テーブル23の下面には、ガイド部材25と当接してガイド部材25上を滑動するガイド受け部24が固定されている。
 また、平行移動テーブル23の上面には、旋回部22が固定されている。平行移動テーブル23が、例えばリニアモータからの駆動力を受けて、ガイド部材25に沿ったY軸方向に移動可能になり、旋回部22に支持されたステージ21の水平直進移動も可能になる。平行移動テーブル23、ガイド受け部24、ガイド部材25、および、リニアモータなどで構成される駆動機構によって、ステージ移動機構26が構成されている。
 有機EL塗布機構5は、ノズルユニット50とノズル移動機構51とを有している。
 ノズルユニット50は、赤、緑、および青色の何れか1色の有機EL液を吐出する複数の塗布ノズル(図1では、3本の塗布ノズル52a,52b,52c。以下、これらをまとめて「塗布ノズル52a~52c」と表記する。)を並設した状態で保持する。ノズルユニット50は、ステージ21に保持された基板Pの主面に有機EL液を吐出する吐出部の一例である。なお、「基板の主面」とは、基板Pが矩形状である場合において、基板Pの長手方向および幅方向のそれぞれと平行な面をいう。無論、基板Pの形状は、矩形に限定されるものではなく、様々な形状のものが想定されるが、本実施例に係る基板Pは、平坦な面を主面として有する薄板状材であるとする。
 各塗布ノズル52a,52b,52cへは、それぞれ図示しない供給部から赤、緑、および青色の何れか1色の有機EL液が供給される。なお、複数の塗布ノズル52から同色の有機EL液が吐出されるようにしてもよい。
 塗布ノズル52a~52cの先端は、それらの高さ(Z軸方向に関する位置)が同じであり、水平面内においてはX軸方向から傾いた斜め方向に、等間隔でほぼ直線的に1列に配置されている。また、ノズルピッチ(各ノズル間のY方向の間隔)は、適宜設定することが可能であるが、実施形態においては、基板Pに形成されたストライプ状の溝3列分の間隔と一致するように設定されている。
 ノズル移動機構51は、X軸方向に延びる一対のシャフトガイド511,511と、図示しないボールネジおよびモータとを備えている。ノズルユニット50には、ボールネジが螺合し、シャフトガイド511,511が貫通している構成となっている。そのため、図示しないモータにより、ボールネジが回動されると、それに螺合されているノズルユニット50はシャフトガイド511に沿って、X方向に移動する。なお、このような構成以外にも、エアスライダを用いた機構やリニアモータを用いた機構など各種機構を採用できる。
 制御部10が、塗布ノズル52a~52cから有機EL液を塗布させつつ、ノズルユニット50をX軸方向に沿って移動させるようにノズル移動機構51を制御することで、ステージ21上に保持される基板Pの溝に、塗布ノズル52a~52cから所定流量の有機EL液を吐出させる。このとき、塗布ノズル52a~52cのピッチが基板Pの溝3列分と一致するため、互いに2列ずつ間隔をあけた3列分の溝について塗布が行われる。すなわち、X軸方向が、主走査方向となる。
 また、塗布ノズル52a~52cのX軸方向吐出位置において、ステージ21に保持された基板Pから逸脱した両側空間には、基板Pから外れて吐出された有機EL液を受ける液受部53L,53Rがそれぞれ設けられている。ノズル移動機構51は、基板Pの一方サイド外側に配設されている液受部(例えば、液受部53L)の上部空間から、基板Pを横断して、基板Pの他方外側に配設されている液受部(例えば、液受部53R)の上部空間まで、ノズルユニット50を往復移動させることで、基板P上に有機EL液を塗布する。
 また、平行移動テーブル23は、ノズルユニット50が液受部53Lまたは液受部53Rの上部空間に配置されている際、ノズル往復移動方向とは交差する副走査方向(ここでは、主走査方向に直交する+Y方向)に所要ピッチ(例えば、ノズルピッチの3倍分)だけステージ21を移動させる。このようなノズル移動機構51および平行移動テーブル23の動作と、塗布ノズル52a~52cから有機EL液を液柱状態で吐出する吐出動作とを行うことによって、赤色の有機EL液が基板Pに形成されたストライプ状の溝毎に配列された、いわゆる、ストライプ配列が基板P上に形成される。
 マスク機構6は、1以上(ここでは4つ)のプレート部材61、一対のプレート保持部62,63、吸引機構64、送風機構65、洗浄液供給部66を備えている。
 図1または図3に示すように、プレート部材61は、例えばステンレス鋼(SUS)で形成されており、平面視略長方形状をなす略シート状の部材である。プレート部材61は、その長方形状の下面が基板Pの主面である上面に接近して対向するように配されている。また、プレート部材61は、その長手方向がY軸方向となるように配されている。図1に示す例では、4個のプレート部材61が、X軸方向に所要の間隔をあけて配されている。
 図3に示すように、プレート部材61は、ノズルユニット50の塗布ノズル52a~52cと、基板Pとの間に配されている。
 図4は、第1実施形態に係るプレート部材61を示す概略斜視図である。また、図5は、第1実施形態に係るプレート部材61の上面の一部を拡大して示す概略平面図である。プレート部材61の上面のうち、周縁部分を除く内側部分に、下方に凹む凹部である複数の溝611が形成されている。図5に示すように、各溝611は、X軸方向において一定間隔をあけて形成されており、Y軸方向に平行に延びている。溝611は、例えばシート状のSUSを、その厚みの半分程度の深さだけエッチングすることによって形成される。
 各プレート部材61は、一対のプレート保持部62,63によって保持されている。より詳細には、プレート保持部62は、ノズル移動機構51の下側に固定されており、その下部に各プレート部材61の+Y側端部が固定されている。プレート保持部63は、プレート保持部62から-Y方向に離れた位置に固定されており、その下部にプレート部材61の-Y側端部が固定されている。このようにして、各プレート部材61の長手方向の両端部分が、一対のプレート保持部62,63によって、支持されている。
 各プレート部材61を一対のプレート保持部62,63に固定する手段は、特に限定されない。例えば、各プレート部材61を貫通するボルトを用いて固定したり、プレート部材61が磁性を有する場合は磁石を用いて固定したり、あるいは、接着剤を介して固定してもよい。
 一対のプレート保持部62,63は、各プレート部材61を、塗布ノズル52a~52c(吐出部)の先端(吐出口)と、基板Pの表面との間の高さ位置に配した状態で保持する。また、一対のプレート保持部62,63は、各プレート部材61を、基板Pの表面から浮いた状態で保持する。本実施形態では、副走査の際に、基板Pを+Y方向に移動させる。その際、各プレート部材61を基板Pから浮かせておくことによって、各プレート部材61の下端部と基板Pとが干渉することを抑制できる。
 プレート部材61の高さ寸法(Z軸方向の長さ)は、基板Pと塗布ノズル52a~52cの先端との間の距離よりも短く設定される。例えば、基板Pと塗布ノズル52a~52cの先端との間の距離が0.5mmである場合、プレート部材61の高さ寸法は、0.5mmよりも短く(例えば、0.2mm~0.3mm)設定される。
 プレート保持部62には、吸引機構64が設けられている。図4に示すように、吸引機構64は、複数(ここでは3つ)の吸引口641を備えている。各吸引口641は、プレート部材61の上面に接近するように配されている。より好ましくは、各吸引口641は、複数の溝611の+Y側端部の上方に配される。
 プレート保持部63には、送風機構65が設けられている。送風機構65は、複数の送風口651を有しており、該送風口651から、プレート部材の凹部、すなわち複数の溝611にエアを吹き送る。送風口651は、例えば複数の溝611の-Y側端部の上方に配置されている。送風口651を+Y方向にも向くようにすることで、吹き出したエアを容易に+Y方向へ移動させることができる。
 塗布装置1では、各プレート部材61が基板Pを部分的に覆う。このため、塗布ノズル52a~52cから有機EL液を吐出しながらX軸方向に移動する。すると、基板Pのうち、各プレート部材61が覆う部分に、非塗布領域が形成される。
 塗布ノズル52a~52cから有機EL液を吐出した場合、各プレート部材61にも有機EL液が吐出されることになるが、該有機EL液は、毛細管現象によって溝611に沿ってY軸方向に広げられる。好ましくは、X軸方向に隣り合う2つの溝611の間に介在する凸バンク部612の表面に、撥水性処理が施される。これによって、有機EL液を溝611に容易に集めることができる。
 また、送風機構65によって、複数の溝611の-Y側端部にエアが吹き送られているため、溝611を通る有機EL液は、+Y方向に付勢され、吸引機構64に向けて移動する。そして、+Y側端部へ移動した有機EL液が、吸引機構64によって吸引されることとなる。
 このように、吸引機構64を設けることによって、各プレート部材61上から有機EL液を除去できる。このため、プレート部材61上に有機EL液が溜まることを抑制できる。したがって、有機EL液がプレート部材61から溢れて基板Pに落下することを低減できる。また、送風機構65によって、溝611にエアを送ることによって、プレート部材61上の有機EL液を効率的に除去できる。
 洗浄液供給部66は、制御部10から送信される制御信号に基づき、洗浄液を適宜のタイミングで各プレート部材61に供給する。塗布装置1では、洗浄液供給部66は、送風口651に接続されており、該送風口651から洗浄液をプレート部材61に供給する。なお、洗浄液を、送風口651以外の別の経路を介してプレート部材61に供給するようにしてもよい。
 また、送風機構65および洗浄液供給部66は、省略してもよい。また、送風機構65の代わりに、吸引機構をさらに配置してもよい。この場合、プレート部材61の両端部分から、プレート部材61上の有機EL液が吸引されることとなる。
 図6は、第1実施形態の変形例に係るプレート部材61aの上面の一部を拡大して示す概略平面図である。プレート部材61aの上面には、Y軸方向に延びる複数の溝611とともに、これらの溝611に直交するようにX軸方向に延びる複数の溝613が形成されている。このように格子状に溝611,613を形成することによって、溝611,613に囲まれる各凸バンク部612aに付着した有機EL液を、溝611に容易に移動させることができる。このため、プレート部材61aを用いた場合、プレート部材61よりも有機EL液を除去しやすくなる。
 なお、プレート部材61,61aにおいて、上面のX軸方向の両端部に、上方に起立する側壁を設けてもよい。これによって、プレート部材61,61aに吐出された有機EL液が、プレート部材61,61aから溢れて、基板Pに落下することを低減できる。
 図7は、第1実施形態の変形例に係るプレート部材61bの上面の一部を拡大して示す平面図である。図7では、プレート部材61bの-X側の端部が図示されている。また、図7の下部には、プレート部材61bの-X側の端部を-Y側から観た概略側面図が図示されている。
 図7に示すプレート部材61bの-X側の端部には、長手方向(Y軸方向)に沿って延びるエッジ溝614が形成されている。このため、プレート部材61bの-X側の端部においても、吐出された有機EL液をエッジ溝614に沿って、Y軸方向に広げることが可能となっている。吸引口641によって、エッジ溝614内の有機EL液を吸引すれば、有機EL液がプレート部材61bの端部から基板Pに落下することを低減できる。また、図7に示すように、各溝611およびエッジ溝614のそれぞれは、Y軸方向の終端部まで延びていてもよい。図示を省略するが、プレート部材61bの+X側端部にも、エッジ溝614を形成してもよい。
 <1.2. 塗布処理の説明>
 図8は、第1実施形態に係る塗布装置1における塗布処理の流れを示す図である。なお、特に断らない限り、塗布装置1の動作は、制御部10によって制御されるものとする。
 塗布処理にあたっては、まず、基板を準備する工程が実行される(ステップS1)。この工程では、例えば外部から基板Pが塗布装置1に搬入され、該基板Pがステージ21に固定される。また、該基板Pについて、角度調整を含めたポジションの調整が適宜行われてもよい。
 基板Pの準備が完了すると、有機EL液を塗布するための所定位置に、プレート部材61を配置する工程が実行される(ステップS2)。各プレート部材61は、基板Pに形成すべき非塗布領域の間隔に合うよう、それぞれ固定される。そして、各プレート部材61が、基板Pにおける非塗布領域を形成する部分と重なるように、基板Pを各プレート部材61の下方に移動させる。
 基板Pの配置が完了すると、送風機構65および吸引機構64が駆動されることによって、送風および吸引が開始される(ステップS3)。なお、送風機構65の複数の送風口651のうちの一部または全部から、洗浄液供給部66からの洗浄液を適宜吐出してもよい。また、このステップS3は、ステップS2よりも先に、もしくは、並行に実行されてもよい。
 次に、ノズルユニット50の塗布ノズル52a~52cのそれぞれから、有機EL液の吐出を開始する(ステップS4)。有機EL液を吐出する際は、各塗布ノズル52a~52cが液受部53Lまたは液受部53Rの上部空間に配置された状態で行われる。このとき、各塗布ノズル52a~52cからの吐出が正しく行われているかどうかを試験してもよい。
 有機EL液の吐出が開始されると、ノズル移動機構51の駆動によって、ノズルユニット50がX軸方向(主走査方向)に沿う移動を開始する(ステップS5)。これによって、基板Pのうち、4つのプレート部材61と重ならない領域に、有機EL液が塗布される。また、プレート部材61上に吐出された有機EL液は、吸引機構64によって、適宜除去される。
 なお、各塗布ノズル52a~52cが、基板Pを横断して、反対側の液受部に到達すると、基板Pが、所要ピッチ分だけ+Y方向(または-Y方向)に移動させる。そしてノズルユニット50が先ほどとは反対のX軸方向に沿って移動する。このように、ノズルユニット50を往復移動させることで、基板P上の非塗布領域を除く領域に、有機EL液が塗布される。
 以上のように、塗布装置1では、基板Pにおける非塗布領域を形成すべき部分の上方にプレート部材61を配し、その状態で塗布処理を行う。このため、従来装置と比べると、基板Pにマスキングテープを貼り付けたり、はがしたりする作業が不要である。このため、基板Pに非塗布領域を容易に形成することができる。
 <2. 第2実施形態>
 図9は、第2実施形態に係るプレート部材61cを示す概略斜視図である。プレート部材61cは、上プレート部71と、下プレート部81とで構成されている。上プレート部71が下プレート部81の上側に載置されることによって、プレート部材61cが構成されている。図10は、第2実施形態に係る上プレート部71の一部を拡大して示す概略平面図である。
 下プレート部81は、図4に示すプレート部材61とほぼ同等の構成を備えている。すなわち、下プレート部81は、例えば、シート状のSUSで形成されており、その表面には、下プレート部81の長手方向であるY軸方向に沿って延びる凹状の溝811が複数形成されている。該溝811は、例えば、ハーフエッチングにより形成される。
 上プレート部71は、シート状のSUSで形成されている。図10に示すように、上プレート部71には、上下に貫通する複数の貫通孔711が分散して形成されている。上プレート部71の各貫通孔711は、下に重ねられた下プレート部81の各溝811に対応する位置(上下方向に重なる位置)に設けられている。このため、プレート部材61cに吐出された有機EL液は、複数の貫通孔711を介して、下プレート部81の各溝811に回収される。
 図10に示す例では、貫通孔711の開口幅と溝811の溝幅とが略同一とされているが、該溝幅を該開口幅のうち、どちらか一方を他方よりも大きくしてもよい。
 好ましくは、上プレート部71の上面には、撥水性処理が施される。これによって、上プレート部71に吐出された有機EL液を、貫通孔711に容易に導くことができる。したがって、有機EL液を下プレート部81に効率的に回収できる。
 図11は、第2実施形態に係るプレート部材61cを示す概略側面図である。プレート部材61cの長手方向両端部には、それぞれ、吸引機構64および送風機構65が設けられている。
 図11に示すように、上プレート部71の長手方向の長さは、下プレート部81の長手方向の長さよりも短くなっている。下プレート部81における、上プレート部71よりも+Y側に張り出す部分810a(長手方向の一方側端部)に、吸引機構64の吸引口641が配されている。また、下プレート部81における、上プレート部71よりも-Y側に張り出す部分810b(長手方向の他方側端部)に、送風機構65の送風口651が配されている。
 プレート部材61cに吐出された有機EL液は、上プレート部71の貫通孔711を通じて、下プレート部81の各溝811に回収される。その後、有機EL液は、各溝811中で広がり、吸引口641を介して吸い上げられることによって、下プレート部81から除去される。また、吸引口641とは反対側に配された送風口651からエアが送り出されることによって、下プレート部81の各溝811に回収された有機EL液を、+Y側の吸引口641へ向けて送ることができる。
 なお、図11においては、下プレート部81の長手方向の両端部と、プレート保持部62,63との間に、隙間が形成されているように図示している。しかしながら、上プレート部71および下プレート部81が充分に薄い場合には、下プレート部81の両端部は、略隙間なくプレート保持部62,63に固定される。また、図11に示す例では、上プレート部71の長手方向の両端部分は、プレート保持部62,63の下側まで延びて、これらと重なっている。しかしながら、上プレート部71の長手方向の長さをプレート保持部62,63の間の距離と同一か、あるいはそれよりも短く設定することで、上プレート部71がプレート保持部62,63とは重ならないようにしてもよい。この場合、図11に示す例とは異なり、下プレート部81の長手方向の両端部は、上プレート部71を介さずにプレート保持部62,63の底面に固定される。すなわち、図3に示すプレート部材61と同様に、下プレート部81の長手方向の両端部は、プレート保持部62,63の底面に沿うようにして略隙間なく固定される。
 図12は、第2実施形態の変形例に係る上プレート部71aの上面の一部を拡大して示す概略平面図である。本変形例に係る上プレート部71aの上面には、上プレート部71aの長手方向であるY軸方向に延びる複数の溝712が設けられているとともに、該複数の溝712の内部に、上下に貫通する複数の貫通孔711aが所要ピッチで形成されている。
 上プレート部71aを上プレート部71の代わりに採用した場合、溝712によって、上プレート部71aに吐出された有機EL液を、溝712の延びる方向(Y軸方向)に広げることができる。このため、貫通孔711aを通じて有機EL液を下プレート部81に回収できる。
 隣り合う2つの溝712,712間に形成される凸バンク部713の表面には、撥水性処理を施してもよい。これによって、凸バンク部713に付着した有機EL液を、溝712に容易に導くことができる。
 図13は、第2実施形態の他の変形例に係る上プレート部71aの-X側端部を示す概略平面図である。図13では、上プレート部71aの+X側端部が図示されている。また、図13の下部には、上プレート部71aを-Y側から観た概略側面図が図示されている。
 上プレート部71aの-X側端部には、Y軸方向に延びるエッジ溝714を設けてもよい。また、該エッジ溝714の内部に、上下に貫通する貫通孔711aが所要ピッチで形成されている。これによって、-X側端部のエッジ溝714においても、有機EL液を、Y軸方向に広げつつ、貫通孔711aを通じて下プレート部81に回収できる。したがって、上プレート部71aの-X側端部に有機EL液が溜まることを抑制できるため、有機EL液が基板Pに落下することを低減できる。図示を省略するが、上プレート部71aの+X側端部にも、同様にエッジ溝714が形成されていてもよい。
 また、図示を省略するが、例えば図13に示す上プレート部71aの表面に、X軸方向に横断する複数の溝を設けて、Y軸方向に延びる各溝712を相互に繋げるようにしてもよい。これによって、有機EL液が各溝712に行き渡り易くなる。さらに、X軸方向に横断する溝の内部に、上下に貫通する貫通孔711aを設けてもよい。
 図14は、第2実施形態の他の変形例に係る上プレート部71bの-X側端部を示す概略平面図である。該上プレート部71bにおいては、凸バンク部713にも、上下に貫通する貫通孔711bが形成されている。これによって、上プレート部71bに吐出された有機EL液が、上プレート部71bを通過しやすくなるため、下プレート部81に良好に回収できる。
 図15は、第2実施形態の他の変形例に係る下プレート部81aの一部を示す概略平面図である。図15に示すように、下プレート部81aには、Y軸方向に延びる複数の溝811と共に、該複数の溝811を横断するように、X軸方向に延びる複数の溝813が形成されている。複数の溝811を複数の溝813によって互いに繋げることができるため、有機EL液を各溝811に行き渡らせることができる。これによって、有機EL液を吸引口641へ誘導しやすくなり、吸引口641から有機EL液を効率的に吸い上げることができる。
 なお、図15に示す例では、各溝811と各溝813の交差部分の位置に、上プレート部71の貫通孔711が重なるようにしている。しかしながら、貫通孔711は、各溝811または各溝813のいずれかに対応する位置(すなわち、上下方向に重なる位置)に配されておればよい。
 図16は、第2実施形態の他の変形例に係る下プレート部81bの端部を示す概略正面図である。下プレート部81bにおいては、溝812が-X側端部よりも内側に位置している。このため、下プレート部81bの-X側端部には、長手方向(Y軸方向)に沿って側壁部82が形成されている。側壁部82には、最も-X側にある溝812に繋がる複数の貫通孔821が、Y軸方向に沿って所要ピッチで形成されている。側壁部82に複数の貫通孔821を設けることによって、側壁部82近傍に有機EL液が滞留することを防ぐことができる。
 また、上記実施形態では、ノズルユニット50をX軸方向に移動させ、基板PをY軸方向に移動させることによって、基板Pに対するノズルユニット50の主走査方向および副走査方向の相対的な移動が実現されている。しかしながら、ノズルユニット50をY軸方向へ、あるいは、基板PをX軸方向に移動させるように、塗布装置1が構成されていてもよい。また、ノズルユニット50および基板Pのいずれか一方のみを、X軸方向およびY軸方向の双方へ移動させるように、塗布装置1が構成されていてもよい。
 また、上記実施形態では、一対のプレート保持部62,63が、プレート部材61,61aを基板Pから浮かせて保持するとしているが、基板Pに載置されて接触した状態で保持してもよい。このとき、基板PがY軸方向に移動に同期して、一対のプレート保持部62,63もY軸方向に移動する機構を設けてもよい。これによって、プレート部材61,61aを基板Pに接触させた状態で保持されていても、基板Pが移動すると共に、プレート部材61,61aを同方向に移動させることができる。このため、プレート部材61,61aとの擦れによって、基板Pが損傷することを抑制できる。
 また、一対のプレート保持部62,63が、各プレート部材61をX軸方向に移動可能に保持してもよい。これによって、基板Pに形成するべき非塗布領域の位置にあわせて、各プレート部材61の配置間隔を変更することが可能となる。
 この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。また、上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。
 1 塗布装置
 5 有機EL塗布機構
 6 マスク機構
 10 制御部
 21 ステージ(保持部)
 23 平行移動テーブル
 26 ステージ移動機構
 50 ノズルユニット
 51 ノズル移動機構
 52a,52b,52c 塗布ノズル
 61,61a,61b,61c プレート部材
 611,613 溝(凹部)
 612,612a 凸バンク部
 614 エッジ溝
 62,63 プレート保持部
 64 吸引機構
 641 吸引口
 65 送風機構
 651 送風口
 66 洗浄液供給部
 71,71a,71b 上プレート部
 711,711a,711b 貫通孔
 712 溝
 713 凸バンク部
 714 エッジ溝
 81,81a,81b 下プレート部
 810a,810b 張り出す部分
 811,812,813 溝(凹部)
 82 側壁部
 821 貫通孔
 P 基板

Claims (10)

  1.  基板に流動性材料が塗布されていない非塗布領域を形成する塗布装置であって、
     基板を保持する保持部と、
     前記保持部に保持された前記基板の主面に向けて流動性材料を吐出する吐出部と、
     前記吐出部を、前記保持部に保持された基板に対して相対的に移動させる移動機構と、
     長手方向に延びる凹部を有する1以上のプレート部材と、
     前記プレート部材を前記基板と前記吐出部との間の位置に保持するプレート保持部と、
     前記プレート部材の表面に吐出された前記流動性材料を吸引する吸引口を有する吸引機構と、
    を備える、塗布装置。
  2.  請求項1に記載の塗布装置であって、
     前記凹部が、前記プレート部材の表面に形成され、該プレート部の長手方向に沿って延びる複数の溝を含む、塗布装置。
  3.  請求項2に記載の塗布装置であって、
     前記複数の溝のうち、隣り合う2つの前記溝の間に介在する凸バンク部の表面に、撥水性処理が施されている、塗布装置。
  4.  請求項1から3のいずれか1項に記載の塗布装置であって、
     前記プレート部材は、
     長手方向に沿って延びる複数の溝が形成されている下プレート部と、
     前記下プレート部の上部に配されており、前記下プレート部に形成されている前記複数の溝に対応する位置に複数の貫通孔が形成されている上プレート部と、
    を含み、
     前記下プレート部における、前記上プレート部の長手方向の一方側端部から張り出す部分に、前記吸引機構の前記吸引口が配されている、塗布装置。
  5.  請求項4に記載の塗布装置であって、
     前記上プレート部に、長手方向に沿って延びる複数の溝が形成されており、前記複数の溝の内部に、前記複数の貫通孔が形成されている、塗布装置。
  6.  請求項1から5のいずれか1項に記載の塗布装置であって、
     前記プレート保持部は、前記基板から浮かせた状態で前記プレート部材を保持する、塗布装置。
  7.  請求項1から6のいずれか1項に記載の塗布装置であって、
     前記プレート部材の前記凹部にエアを吹き送る送風機構、
    をさらに備える、塗布装置。
  8.  請求項1から7のいずれか1項に記載の塗布装置であって、
     前記プレート部材の前記凹部に、洗浄液を供給する洗浄液供給部、
    をさらに備える、塗布装置。
  9.  請求項1から8のいずれか1項に記載の塗布装置であって、
     前記流動性材料が、有機EL液、正孔輸送材料または正孔注入材料である、塗布装置。
  10.  基板に流動性材料が塗布されていない非塗布領域を形成する塗布方法であって、
    (a)基板を保持する保持工程と、
    (b)長手方向に延びる凹部を有する1以上のプレート部材を、前記基板の上側に配するプレート部材配置工程と、
    (c)前記保持工程にて保持された前記基板の主面に向けて吐出部から流動性材料を吐出させつつ、該吐出部を、保持部に保持された基板および前記プレート部材に対して、相対的に移動させる移動工程と、
    (d)前記プレート部材の表面に吐出された前記流動性材料を吸引する吸引工程と、
    を含む、塗布方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018003426A1 (ja) * 2016-06-30 2018-01-04 東京エレクトロン株式会社 塗布処理装置、塗布処理方法及びコンピュータ記憶媒体

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07116579A (ja) * 1993-10-25 1995-05-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板への塗布液塗布装置
JP2001096213A (ja) * 1999-10-01 2001-04-10 Chugai Ro Co Ltd 塗布装置
JP2004050080A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2008293704A (ja) * 2007-05-22 2008-12-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2010214305A (ja) * 2009-03-17 2010-09-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2010240511A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2011210531A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Casio Computer Co Ltd 有機el発光装置の製造方法、プラズマ処理装置及び電子機器

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07116579A (ja) * 1993-10-25 1995-05-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板への塗布液塗布装置
JP2001096213A (ja) * 1999-10-01 2001-04-10 Chugai Ro Co Ltd 塗布装置
JP2004050080A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2008293704A (ja) * 2007-05-22 2008-12-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2010214305A (ja) * 2009-03-17 2010-09-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2010240511A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
JP2011210531A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Casio Computer Co Ltd 有機el発光装置の製造方法、プラズマ処理装置及び電子機器

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018003426A1 (ja) * 2016-06-30 2018-01-04 東京エレクトロン株式会社 塗布処理装置、塗布処理方法及びコンピュータ記憶媒体
CN109416425A (zh) * 2016-06-30 2019-03-01 东京毅力科创株式会社 涂敷处理装置、涂敷处理方法和计算机存储介质
JPWO2018003426A1 (ja) * 2016-06-30 2019-04-18 東京エレクトロン株式会社 塗布処理装置、塗布処理方法及びコンピュータ記憶媒体
TWI737750B (zh) * 2016-06-30 2021-09-01 日商東京威力科創股份有限公司 塗布處理裝置、塗布處理方法及電腦記憶媒體
CN109416425B (zh) * 2016-06-30 2022-06-17 东京毅力科创株式会社 涂敷处理装置、涂敷处理方法和计算机存储介质
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