CN110349904B - 用于浮起基板的工作台、基板处理装置及基板处理方法 - Google Patents

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Abstract

基板处理装置可包括具有第一工作台区段及第二工作台区段的用于浮起基板的工作台、用于移送基板的移送部件、用于向基板上供应药液的药液供应部件及用于控制移送部件与药液供应部件的控制部件。控制部件可控制移送部件使得移送部件将基板沿着移送方向向前方移送到第一工作台区段的前端上部，将基板向后方移动到第一工作台区段的后端上部，再将基板沿着移送方向向前方移动。控制部件可控制药液供应部件使得药液供应部件在位于第一工作台区段的前端上部的基板上预涂覆药液，药液供应部件移动配置在第一工作台的后端上部，在沿着移送方向向前方移送的基板上供应药液。本发明能够防止基板在空气喷射工程及/或真空吸入工程时发生变形及/或损伤。

Description

用于浮起基板的工作台、基板处理装置及基板处理方法
本申请享有2018年4月2日向韩国特许厅申请的韩国专利申请第10-2018-0038261号的优先权。
技术领域
本发明的例示性实施例涉及用于浮起基板的工作台、包括其的基板处理装置及基板处理方法。更详细来讲，本发明的例示性实施例涉及能够防止将基板浮在用于浮起基板的工作台上部期间基板发生变形及/或损伤的用于浮起基板的工作台、包括所述用于浮起基板的工作台的基板处理装置及利用所述基板处理装置的基板处理方法。
背景技术
为了制造液晶显示装置、有机发光显示装置之类的显示装置而执行在基板上涂覆用于形成配向膜、滤色片、有机发光层等的药液的工程。这种在基板上涂覆药液的工程大体在将所述基板浮在工作台上部的状态下执行。例如，向浮在所述工作台上部移送的所述基板上供应所述药液。
可通过向所述基板供应空气及进行真空吸入将所述基板浮在所述工作台上部，可以在所述工作台上部移送所述基板的同时向所述基板上提供所述药液。该情况下，所述基板进入向所述基板上供应所述药液的区域时及所述基板离开供应所述药液的区域时，所述空气的供应及所述真空吸入能够导致所述基板的侧部发生变形。
所述基板进入向所述基板上供应所述药液的区域时空气的供应引起的压力增大而所述真空吸入引起的压力减小，这些都能够造成这种基板的变形。并且，所述基板离开向所述基板上供应所述药液的区域时空气的供应引起的压力减小而所述真空吸入引起的压力增大，这些都能够造成这种基板的变形。如上，基板由于所述空气的供应及真空吸入而变形的情况下可能会发生所述药液无法准确、均匀地涂覆到所述基板上的工程不良。尤其，近来的尺寸相对大且厚度相对薄的基板容易发生如上所述的变形，因此这种基板可能会发生严重的工程不良。
发明内容
技术问题
本发明的一个目的是提供一种能够防止将基板浮在工作台上部期间对所述基板执行的空气喷射工程及/或真空吸入工程引起所述基板变形及/或损伤的用于浮起基板的工作台。
本发明的另一目的是提供一种包括能够防止所述基板变形及/或损伤的用于浮起基板的工作台，从而能够向被处理的所述基板上供应预定的药液的基板处理装置。
本发明的又一目的是提供一种可利用能够防止所述基板变形及/或损伤的用于浮起基板的工作台向被处理的所述基板上供应预定的药液的基板处理方法。
技术方案
根据用于达成上述目的的本发明的例示性的实施例，提供一种包括具有用于向基板提供空气的多个气孔及用于向所述基板提供真空的多个真空孔的第一工作台区段的用于浮起基板的工作台。所述第一工作台区段可包括中心区域及所述中心区域的两侧的周边区域。所述中心区域的所述气孔及所述真空孔可以隔着第一间隔配置，所述周边区域的所述气孔及所述真空孔可隔着实质上比所述第一间隔大的第二间隔配置。
根据例示性的实施例，所述第一间隔与所述第二间隔之间的比例可以大约在1.0:1.3至1.0:1.8范围以内。
根据部分例示性实施例，所述用于浮起基板的工作台还可以包括：配置在所述第一工作台区段的所述中心区域与所述周边区域之间的边界处的实质上具有线形状的沟槽结构；以及从所述沟槽结构的底面贯通至所述第一工作台区段的底面的实质上具有线结构的贯通孔。
根据例示性的实施例，所述用于浮起基板的工作台还可以包括配置在与所述第一工作台区段相邻的位置的第二工作台区段。所述第二工作台区段可包括用于向所述基板提供空气的多个气孔。
为了达成上述本发明的另一目的，根据本发明的例示性的实施例，提供一种基板处理装置，包括：用于浮起基板的工作台，其具有第一工作台区段及第二工作台区段，并且第一工作台区段包括用于向所述基板提供空气的多个气孔及用于向所述基板提供真空的多个真空孔，第二工作台区段配置在与所述第一工作台区段相邻的位置且包括用于向所述基板提供空气的多个气孔；移送部件，其在将所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台的上部期间移送所述基板；药液供应部件，其用于将所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台上部期间向所述基板上供应药液；以及控制部件，其用于控制所述移送部件及所述药液供应部件。该情况下，所述控制部件可控制所述移送部件使得所述移送部件将所述基板沿着移送方向向前方移送到所述第一工作台区段的前端上部，将所述基板向后方移送到所述第一工作台区段的后端上部，再沿着所述移送方向向前方移送所述基板。并且，所述控制部件可控制所述药液供应部件使得所述药液供应部件在位于所述第一工作台区段的前端上部的所述基板上预涂覆所述药液，所述药液供应部件移动到所述第一工作台区段的后端上部，所述药液供应部件位于所述第一工作台区段的后端上部，向沿着所述移送方向向前方移送的所述基板上供应所述药液。
根据例示性的实施例，所述第一工作台区段可包括中心区域及所述中心区域的两侧的周边区域，所述中心区域的所述气孔及所述真空孔可隔着第一间隔配置，所述周边区域的所述气孔及所述真空孔可隔着大于所述第一间隔的第二间隔配置。该情况下，所述控制部件可控制所述移送部件使得所述移送部件将所述基板向前方移送到所述第一工作台区段的中心区域的前端上部，将所述基板向后方移送到所述第一工作台区段的中心区域的后端上部，再沿着所述移送方向向前方移送所述基板。并且，所述控制部件可控制所述药液供应部件使得所述药液供应部件在位于所述第一工作台区段的中心区域的前端上部的所述基板上预涂覆所述药液，所述药液供应部件移动到所述第一工作台区段的中心区域的后端上部，所述药液供应部件位于所述第一工作台区段的中心区域的后端上部，所述药液供应部件在沿着所述移送方向向前方移送的所述基板上涂覆所述药液。
根据例示性的实施例，所述第一间隔与所述第二间隔之间的比例可以在大约1.0:1.3至1.0:1.8范围以内。
根据部分例示性的实施例，所述基板处理装置还可以包括：沟槽结构，其配置在所述第一工作台区段的所述中心区域与所述周边区域之间的边界处且实质上具有线形状；以及贯通孔，其具有从所述沟槽结构的底面贯通至所述第一工作台区段的底面且实质上具有线结构。
根据部分例示性实施例，所述控制部件可控制所述移送部件及所述药液供应部件使得所述基板及所述药液供应部件同时向后方移动。
根据例示性实施例，将所述药液预涂覆到所述基板上时所述药液供应部件可位于从所述基板相隔第一高度的位置，将所述药液提供给沿着所述移送方向向前方移送的所述基板上时所述药液供应部件可位于从所述基板相隔比所述第一高度小的第二高度的位置。
用于达成上述本发明的又一目的的本发明的例示性实施例，可提供一种基板处理方法，其利用包括用于浮起基板的工作台、移送部件、药液供应部件及控制部件，所述用于浮起基板的工作台具有包括用于向所述基板提供空气的多个气孔及用于向所述基板提供真空的多个真空孔的第一工作台区段及与所述第一工作台区段相邻地配置且包括用于向所述基板提供空气的多个气孔的第二工作台区段，所述移送部件在所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台上部期间移送所述基板，所述药液供应部件在所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台上部期间向所述基板上供应药液，所述控制部件用于控制所述移送部件及所述药液供应部件。根据所述基板处理方法，可沿着移送方向将所述基板向前方移送到所述第一工作台区段的前端上部。可在位于所述第一工作台区段的前端上部的所述基板上预涂覆所述药液。可将所述基板向后方移送到所述第一工作台区段的后端上部。可将所述药液供应部件移动到所述第一工作台区段的后端上部。可沿着所述移送方向向前方移送所述基板的同时向所述基板上提供所述药液。
根据例示性的实施例，所述第一工作台区段可包括中心区域及所述中心区域的两侧的周边区域，所述中心区域的所述气孔及所述真空孔可隔着第一间隔配置，所述周边区域的所述气孔及所述真空孔可隔着大于所述第一间隔的第二间隔配置。该情况下，可以将所述基板向前方移送到所述第一工作台区段的中心区域的前端上部。可以在位于所述第一工作台区段的中心区域的前端上部的所述基板上预涂覆所述药液。可以将所述基板向后方移送到所述第一工作台区段的中心区域的后端上部。可以将所述药液供应部件向后方移动到所述第一工作台区段的中心区域的后端上部。可以沿着所述移送方向向前方移送所述基板的同时向所述基板上提供所述药液的步骤。
根据部分例示性的实施例，可以同时执行向后方移送所述基板的步骤及向后方移动所述药液供应部件的步骤。
根据例示性的实施例，在所述基板上预涂覆所述药液的过程中，可以将所述药液供应部件配置在从所述基板相隔第一高度的位置。向所述基板上提供所述药液的过程中，可以将所述药液供应部件配置在从所述基板相隔实质上比所述第一高度低的第二高度的位置。
技术效果
本发明的例示性实施例的用于浮起基板的工作台可包括具有所述中心区域的气孔及真空孔比所述周边区域的气孔及真空孔相对稠密地配置的构成的第一工作台区段。因此，在将所述基板浮在所述第一工作台区段上部期间利用从所述气孔提供的空气及从所述真空孔提供的真空准确地支撑整个所述基板，从而能够防止所述基板变形或所述基板损伤。这种用于浮起基板的工作台能够有效地适用于移送、处理近来尺寸相对大且厚度相对薄的基板的装置。在例示性实施例的基板处理装置中，在所述气孔及所述真空孔配置得相对近的第一工作台区段的中心区域上部向所述基板上供应所述药液，从而能够大幅降低可能会随着所述基板覆盖所述用于浮起基板的工作台的程度发生的压力差。因此，能够有效防止所述基板位于所述用于浮起基板的工作台上部期间基板的变形，能够向这种基板上更均匀地供应所述药液。在例示性实施例的基板处理方法中，可通过在所述第一工作台区段的中心区域上部向所述基板上供应所述药液，从而大幅降低随着所述基板覆盖所述第一工作台区段的程度发生的压力差。因此，能够防止所述浮起的基板发生变形，能够防止由于所述基板的变形引起的工程不良。
但本发明的效果不限于上述效果，可在不超出本发明的思想领域的范围内进行多种扩张。
附图说明
图1是用于说明本发明的例示性实施例的用于浮起基板的工作台的简要平面图；
图2是用于说明本发明的部分例示性实施例的用于浮起基板的工作台的工作台区段的构成的简要剖面图；
图3至图5是用于说明本发明的例示性实施例的基板处理装置及基板处理方法的简要示意图。
具体实施方式
以下说明本发明的例示性实施例，但本发明可实施多种变更，可以具有多种形态，说明书对例示的实施例进行详细说明。但这并非旨在将本发明限定于特定的公开形态，应该理解为包括本发明的思想及技术范围内的所有变更、等同物及替代物。在说明各附图时对类似的构成要素使用类似的附图标记。第一、第二等用语可用于说明多种构成要素，但所述构成要素不得受限于所述用语。所述用语只是用于使一个构成要素与其他构成要素相区分。本申请中使用的用语只是用于说明特定实施例，而并非限定本发明。单数的表现形式在文中无其他明确说明的情况下还包括复数的表现形式。应该将本申请中所述的“包括”或“具有”等用语理解为存在说明书上记载的特征、数字、步骤、动作、构成要素、部件或其组合，而不应理解为预先排除存在或附加一个或多个其他特征或数字、步骤、动作、构成要素、部件或其组合的可能性。
若无另行定义，包括技术用语或科学用语在内的此处使用的所有用语均表示与本发明所属技术领域的普通技术人员通常理解相同的意思。通常使用的词典中定义过的用语应解释为与相关技术的文章脉络的意思相一致的意思，本申请中没有明确定义的情况下不得解释为理想或过度形式性的意思。
以下参见附图对本发明的例示性实施例的用于浮起基板的工作台、基板处理装置及基板处理方法进行说明。用相同或类似的附图标记标注附图中相同或类似的构成要素。
图1是用于说明例示性实施例的用于浮起基板的工作台的简要平面图。
参见图1，例示性实施例的用于浮起基板的工作台100可适用于能够在将基板浮在所述用于浮起基板的工作台100的上部的状态下对所述基板进行处理并且能够向所需方向移送所述基板的装置。例如，所述用于浮起基板的工作台100可用于能够在将所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台100上部的状态下向所述基板上供应药液且能够沿着移送方向移送所述基板的基板处理装置。
所述用于浮起基板的工作台100可包括多个工作台区段。在例示性实施例中，所述用于浮起基板的工作台100可具有第一工作台区段10及第二工作台区段15。在此，第二工作台区段15可配置在邻近所述第一工作台区段10的位置。例如，所述用于浮起基板的工作台100可具有多个第一工作台区段及多个第二工作台区段沿着所述移送方向实质上对齐配置的构成。
在所述用于浮起基板的工作台100的第一工作台区段10，所述药液可在所述基板浮在第一工作台区段10上部的状态下供应到所述基板上。即，可执行从第一工作台区段10向所述基板上涂覆所述药液的工程。在所述用于浮起基板的工作台100的第二工作台区段15，所述基板可在所述基板浮在所述第二工作台区段15上部的状态下沿着所述移送方向移送。
根据例示性实施例，向所述基板上提供所述药液期间需要精密地控制所述第一工作台区段10与浮在所述第一工作台区段10上的所述基板之间的距离。为此，可通过所述用于浮起基板的工作台100的第一工作台区段10对所述基板执行空气喷射工程及真空吸入工程。因此，所述用于浮起基板的工作台100的第一工作台区段10可形成有能够向所述基板喷射空气的多个气孔17及能够真空吸入所述基板的多个真空孔19。图1的所述第一工作台区段10包括对齐且相邻地配置的多个气孔17及多个真空孔19，而所述第一工作台区段10可选择性地包括实质上交替配置的多个气孔17及多个真空孔19。
再次参见图1，可在所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台100的第二工作台区段15上部的状态下沿着所述移送方向移送所述基板。该情况下，将所述基板从所述第二工作台区段15浮起预定距离便足矣，因此所述第二工作台区段15可以向所述基板只供应空气。因此，所述用于浮起基板的工作台100的第二工作台区段15可包括能够对所述基板喷射空气的多个气孔17。例如，所述第二工作台区段15的多个气孔17可彼此相邻地对齐配置。在此，所述第二工作台区段15的相邻的气孔17之间的距离实质上可以与所述第一工作台区段10的相邻的气孔17之间的距离相同或更小。
在部分例示性实施例中，所述第一工作台区段10及第二工作台区段15的气孔17可连接于空气源(未示出)，所述第一工作台区段10的真空孔19可连接于真空源(未示出)。
如图1例示，所述第一工作台区段10可包括中心区域11及所述中心区域11的两侧的周边区域13。该情况下，所述中心区域11的相邻的气孔17及/或相邻的真空孔19之间的间隔与所述周边区域13的相邻的气孔17及/或真空孔19之间的间隔实质上可互异。例如，所述第一工作台区段10的中心区域11的相邻的气孔17及相邻的真空孔19可以隔着第一间隔L1配置，所述第一工作台区段10的周边区域13的相邻的气孔17及相邻的真空孔19可隔着第二间隔L2配置。
在例示性实施例中，所述周边区域13的第二间隔L2实质上可大于所述中心区域11的第一间隔L1。换而言之，位于所述中心区域11的气孔17及真空孔19实质上可以比位于所述周边区域13的气孔17及真空孔19离得更近。在此，所述第一间隔L1与所述第二间隔L2之间的比例范围可以是约1.0:1.3至约1.0:1.8。例如，所述第一间隔L1可以是大致8mm左右，所述第二间隔L2可以是大致12mm左右。然而，所述第一间隔L1及所述第二间隔L2可随所述基板的尺寸、所述用于浮起基板的工作台100的尺寸等变化。
如上所述，例示性实施例的用于浮起基板的工作台100可包括具有所述中心区域11的气孔17及真空孔19比所述周边区域13的气孔17及真空孔19相对稠密地配置的构成的第一工作台区段10。因此，在将所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台100的第一工作台区段11上部期间利用从所述气孔17提供的空气及从所述真空孔19提供的真空准确地支撑整个所述基板，从而能够防止所述基板变形或所述基板损伤。这种用于浮起基板的工作台100能够有效地适用于移送、处理近来尺寸相对大且厚度相对薄的基板的装置。
在部分例示性实施例中，可以将所述用于浮起基板的工作台100的第一工作台区段10调整为所述中心区域11的气孔17之间的间隔及/或所述真空孔19的间隔不同于所述周边区域13的气孔17之间的间隔及/或真空孔19的间隔，以使得具有所述中心区域11与所述周边区域13之间的边界处的所述气孔17及/或所述真空孔19实质上重叠的构成。
图2是用于说明本发明的部分例示性实施例的用于浮起基板的工作台的工作台区段的构成的简要剖面图。
参见图1及图2，部分例示性实施例的用于浮起基板的工作台100可包括配置于第一工作台区段10的中心区域11与周边区域13之间的边界处的沟槽结构(groovestructure)21。所述沟槽结构21实质上可具有线形状，可沿着所述第一工作台区段10的中心区域11与周边区域13之间的边界处配置。
如图2例示，所述用于浮起基板的工作台100还可以包括从所述沟槽结构21的底面贯通至第一工作台区段10的底面的贯通孔23。在此，所述贯通孔23可以实质上和所述沟槽结构21的形状相似地具有线形状，可沿着所述沟槽结构21的底面配置。换而言之，所述用于浮起基板的工作台100还可以包括配置在所述中心区域11与所述周边区域13之间的边界处以防止所述第一工作台区段10的中心区域11与周边区域13之间的边界处的所述气孔17及/或所述真空孔19重叠的所述沟槽结构21及所述贯通孔23。例如，所述贯通孔23的尺寸可小于所述沟槽结构21的尺寸。
根据部分例示性实施例，将所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台100的第一工作台区段10的上部期间，所述沟槽结构21及所述贯通孔23可捕获及去除可从所述用于浮起基板的工作台100发生的颗粒，而且能够缓解对所述基板进行的空气喷射工程及/或所述真空吸入工程中可能发生的所述中心区域11与所述周边区域13之间的压力变化。因此，能够防止所述基板位于包括所述中心区域11及所述周边区域13的所述第一工作台区段10上部期间可能因所述颗粒及/或所述压力变化而发生的所述基板的变形及/或所述基板的损伤。
以下参见附图说明例示性实施例的包括浮起基板的工作台的基板处理装置。
图3至图5是用于说明例示性实施例的基板处理装置的简要示意图。
参见图3至图5，例示性实施例的基板处理装置可包括用于浮起基板的工作台100、移送部件33、药液供应部件31、控制部件35等。在此，所述用于浮起基板的工作台100可具有实质上与参见图1图2说明的用于浮起基板的工作台100相同或相似的构成。
所述移送部件33可沿着移送方向移送浮在所述用于浮起基板的工作台100上部的基板30。例如，所述移送部件33可把持所述基板30的侧面，可在所述用于浮起基板的工作台100上部沿着所述移送方向移送所述基板。
在例示性实施例中，所述移送部件33可具有把持部件(未示出)及导轨(未示出)。所述把持部件可把持所述基板30的侧面，所述导轨可沿着所述移送方向移送被所述把持部件保持的所述基板30。所述把持部件及所述导轨可配置在所述用于浮起基板的工作台100的一侧或一侧上部。选择性地，所述把持部件及所述导轨可配置在所述用于浮起基板的工作台100的两侧或两侧上部。因此，所述基板处理装置可在所述基板30浮在所述用于浮起基板的工作台100上部的状态下利用所述移送部件33沿着所述移送方向移送所述基板30。
所述药液供应部件31可在用于制造液晶显示元件、有机发光显示元件等之类的平板型显示装置的工程向所述基板30上提供药液。例如，为了在所述基板30上形成滤光片、配向膜、有机发光层等，所述药液供应部件31可在所述基板30上涂覆所述药液。所述药液供应部件31可配置成实质上相对于所述移送方向垂直。在例示性实施例中，所述药液供应部件31可包括配置成长度实质上对应于所述基板30的宽度的喷嘴。例如，所述药液供应部件31可以通过扫描方式向所述基板30上供应所述药液。
在部分例示性实施例中，所述基板处理装置可具有能够沿着所述移送方向向前方或后方移动所述药液供应部件31的驱动部件(未示出)。
所述控制部件35可控制所述移送部件33的动作及所述药液供应部件31的动作。所述控制部件35可以控制所述移送部件33使得所述移送部件33沿着所述移送方向向前方移送所述基板30以将所述基板30移送到所述用于浮起基板的工作台100的第一工作台区段10的前端后，将所述基板向后方移送至所述第一工作台区段10的后端，再沿着所述移送方向向前方移送所述基板30。在例示性实施例中，所述第一工作台区段10包括中心区域11及周边区域13的情况下，所述控制部件35可以控制所述移送部件33使得将所述基板30沿着所述移送方向向前方移动至所述第一工作台区段10的中心区域11的前端后，将所述基板30向后方移动至所述第一工作台区段10的中心区域11的后端，再沿着所述移送方向向前方移动所述基板30。
所述控制部件35可控制所述药液供应部件31使得所述药液供应部件31在位于所述第一工作台区段10的前端上部的所述基板30上预涂覆所述药液后，所述药液供应部件31向后方移动至所述第一工作台区段10的后端上部。并且，所述控制部件35可控制所述药液供应部件31使得所述药液供应部件31位于所述第一工作台区段10的后端上部。之后，所述控制部件35可控制所述药液供应部件31使得所述药液供应部件31向通过所述移送部件33沿着所述移送方向移送的所述基板30上提供所述药液。在例示性实施例中，所述第一工作台区段10具有中心区域11及周边区域13的情况下，所述控制部件35可控制所述药液供应部件31使得所述药液供应部件31在位于所述中心区域11的前端上部的所述基板30上预涂覆所述药液后，向后方移动所述药液供应部件31使得配置在所述中心区域11的后端上部，之后使所述药液供应部件31向沿着所述移送方向移送的所述基板30上提供所述药液。
如上所述，在例示性实施例的基板处理装置中，所述控制部件35可以使所述移送部件33将所述基板30移送到所述第一工作台区段10的前端，尤其移送到所述中心区域11的前端上部，使所述药液供应部件31将所述药液预涂覆在所述基板30上。并且，所述控制部件35可控制所述药液供应部件31使得所述药液供应部件31移动到所述第一工作台区段10的后端，尤其移动到所述中心区域11的后端上部配置。之后，所述药液供应部件31可向通过所述移送部件33向所述移送方向移动的所述基板30上提供所述药液。
在例示性实施例的基板处理装置中，在所述气孔17及所述真空孔19配置得相对近的第一工作台区段10的中心区域11上部向所述基板30上供应所述药液，能够大幅降低可能会随着所述基板30覆盖所述用于浮起基板的工作台100的程度发生的压力差。因此，能够有效防止所述基板30位于所述用于浮起基板的工作台100上部期间基板30的变形，能够向这种基板30上更均匀地供应所述药液。
如图3例示，可以使得所述药液供应部件31在所述基板30上预涂覆所述药液时，所述药液供应部件31位于从所述基板30相隔第一高度H1的位置。并且如图4例示，所述药液供应部件31向沿着所述移送方向移动的所述基板30上提供所述药液时，所述药液供应部件31可位于从所述基板30相隔第二高度H2的位置。例如，所述第二高度H2实质上可低于所述第一高度H1。
在部分例示性实施例中，将所述基板30及所述药液供应部件31从所述第一工作台区段10的前端移动到所述第一工作台区段10的后端上部，尤其如图4例示地从所述第一工作台区段10的中心区域11的前端向后方移动到所述中心区域11的后端上部时，所述控制部件35可控制所述移送部件33及所述药液供应部件31使得所述基板30及所述药液供应部件31同时移动。因此，能够比向后方分别移动所述基板30及所述药液供应部件31的情况节省工程时间。该情况下，所述基板30及所述药液供应部件31可通过所述控制部件35以实质上相同的速度或实质上不同的速度向后方移动。
以下对本发明的例示性实施例的利用基板处理装置的基板处理方法进行说明。
图3至图5是用于说明例示性实施例的基板处理方法的简要示意图。
参见图3，可使用所述移送部件33沿着所述移送方向将所述基板30移送到所述第一工作台区段10的前端，尤其可以移送到所述第一工作台区段10的中心区域11前端上部。所述药液供应部件31也可以通过所述控制部件35向前方移动到所述第一工作台区段10的前端，尤其可以移动到所述第一工作台区段10的中心区域11前端上部。在此，所述药液供应部件31可位于从所述基板30相隔所述第一高度H1的位置。
所述药液供应部件31可在位于所述第一工作台区段10的前端，尤其位于所述中心区域11的前端上部的所述基板30上预涂覆所述药液以在所述基板30的前端上形成珠层。所述珠层可以使得从所述药液供应部件31向所述基板30上供应所述药液时所述药液能够稳定、均匀地涂覆于所述基板30上。
参见图4，可使用所述移送部件33将所述基板30向后方移送到第一工作台区段10的后端，尤其可以移送到所述中心区域11的后端上部。并且，所述药液供应部件31可通过所述控制部件35向后方移动到所述第一工作台区段10的后端，尤其可以移动到所述中心区域11的后端上部。该情况下，所述基板30及所述药液供应部件31可如上同时向后方移动。
所述药液供应部件31可通过所述控制部件35位于所述第一工作台区段10的中心区域11后端上部。在此，所述药液供应部件31可配置在从所述基板30相隔实质上比所述第一高度H1小的所述第二高度H2的位置。
参见图5，可以在通过所述移送部件33将所述基板30从所述第一工作台区段10的后端上部沿着所述移送方向重新向前方移送的同时从所述药液供应部件31向所述基板30上供应所述药液。该情况下，所述药液供应部件31可以不被所述控制部件35移动。因此，所述基板30上可形成能够起到配向膜、滤光片或有机发光层的功能的预定的层40。
在例示性实施例的基板处理方法中，可通过在所述第一工作台区段10的中心区域11上部向所述基板30上供应所述药液，大幅降低随着所述基板30覆盖所述第一工作台区段10的程度发生的压力差。因此，能够防止所述浮起的基板30发生变形，能够防止由于所述基板30的变形引起的工程不良。
以上参见本发明的例示性实施例进行了说明，但本技术领域的普通技术人员应理解可以在不超出技术方案记载的本发明的思想及领域的范围内对本发明进行多种修正及变更。

Claims (13)

1.一种用于浮起基板的工作台，其特征在于，包括：
第一工作台区段，其具有用于向所述基板提供空气的多个气孔及用于向所述基板提供真空的多个真空孔，所述第一工作台区段包括中心区域及所述中心区域的两侧的周边区域，所述中心区域的所述气孔及所述真空孔隔着第一间隔配置，所述周边区域的所述气孔及所述真空孔隔着大于所述第一间隔的第二间隔配置；以及
第二工作台区段，其配置在与所述第一工作台区段相邻的位置，所述第二工作台区段包括用于向所述基板提供空气的多个气孔。
2.根据权利要求1所述的用于浮起基板的工作台，其特征在于：
所述第一间隔与所述第二间隔之间的比例在1.0:1.3至1.0:1.8范围以内。
3.根据权利要求1所述的用于浮起基板的工作台，其特征在于，还包括：
配置在所述第一工作台区段的所述中心区域与所述周边区域之间的边界处的具有线形状的沟槽结构；以及
从所述沟槽结构的底面贯通至所述第一工作台区段的底面的具有线结构的贯通孔。
4.一种基板处理装置，其特征在于，包括：
用于浮起基板的工作台，其具有第一工作台区段及第二工作台区段，并且第一工作台区段包括用于向所述基板提供空气的多个气孔及用于向所述基板提供真空的多个真空孔，第二工作台区段配置在与所述第一工作台区段相邻的位置且包括用于向所述基板提供空气的多个气孔；
移送部件，其用于在将所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台的上部期间移送所述基板；
药液供应部件，其用于在将所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台上部期间向所述基板上供应药液；以及
控制部件，其用于控制所述移送部件及所述药液供应部件，
所述控制部件控制所述移送部件使得所述移送部件将所述基板沿着移送方向向前方移送到所述第一工作台区段的前端上部，将所述基板向后方移送到所述第一工作台区段的后端上部，再沿着所述移送方向向前方移送所述基板，
所述控制部件控制所述药液供应部件使得所述药液供应部件在位于所述第一工作台区段的前端上部的所述基板上预涂覆所述药液，所述药液供应部件移动到所述第一工作台区段的后端上部，所述药液供应部件位于所述第一工作台区段的后端上部，向沿着所述移送方向向前方移送的所述基板上供应所述药液，
所述第一工作台区段包括中心区域及所述中心区域的两侧的周边区域，所述中心区域的所述气孔及所述真空孔隔着第一间隔配置，所述周边区域的所述气孔及所述真空孔隔着大于所述第一间隔的第二间隔配置。
5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于：
所述控制部件控制所述移送部件使得所述移送部件将所述基板向前方移送到所述第一工作台区段的中心区域的前端上部，将所述基板向后方移送到所述第一工作台区段的中心区域的后端上部，再沿着所述移送方向向前方移送所述基板，
所述控制部件控制所述药液供应部件使得所述药液供应部件在位于所述第一工作台区段的中心区域的前端上部的所述基板上预涂覆所述药液，所述药液供应部件移动到所述第一工作台区段的中心区域的后端上部，所述药液供应部件位于所述第一工作台区段的中心区域的后端上部，所述药液供应部件在沿着所述移送方向向前方移送的所述基板上涂覆所述药液。
6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于：
所述第一间隔与所述第二间隔之间的比例在1.0:1.3至1.0:1.8范围以内。
7.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，还包括：
沟槽结构，其配置在所述第一工作台区段的所述中心区域与所述周边区域之间的边界处且具有线形状；以及
贯通孔，其具有从所述沟槽结构的底面贯通至所述第一工作台区段的底面的线结构。
8.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于：
所述控制部件控制所述移送部件及所述药液供应部件使得所述基板及所述药液供应部件同时向后方移动。
9.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于：
将所述药液预涂覆到所述基板上时所述药液供应部件位于从所述基板相隔第一高度的位置，将所述药液提供给沿着所述移送方向向前方移送的所述基板上时所述药液供应部件位于从所述基板相隔比所述第一高度小的第二高度的位置。
10.一种基板处理方法，其利用包括用于浮起基板的工作台、移送部件、药液供应部件及控制部件，所述用于浮起基板的工作台具有包括用于向所述基板提供空气的多个气孔及用于向所述基板提供真空的多个真空孔的第一工作台区段及与所述第一工作台区段相邻地配置且包括用于向所述基板提供空气的多个气孔的第二工作台区段，所述移送部件在所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台上部期间移送所述基板，所述药液供应部件在所述基板浮在所述用于浮起基板的工作台上部期间向所述基板上供应药液，所述控制部件用于控制所述移送部件及所述药液供应部件，所述第一工作台区段包括中心区域及所述中心区域的两侧的周边区域，所述中心区域的所述气孔及所述真空孔隔着第一间隔配置，所述周边区域的所述气孔及所述真空孔隔着大于所述第一间隔的第二间隔配置，其特征在于，所述基板处理方法包括：
沿着移送方向将所述基板向前方移送到所述第一工作台区段的前端上部的步骤；
在位于所述第一工作台区段的前端上部的所述基板上预涂覆所述药液的步骤；
将所述基板向后方移送到所述第一工作台区段的后端上部的步骤；
将所述药液供应部件移动到所述第一工作台区段的后端上部的步骤；以及
沿着所述移送方向向前方移送所述基板的同时向所述基板上提供所述药液的步骤。
11.根据权利要求10所述的基板处理方法，其特征在于，包括：
将所述基板向前方移送到所述第一工作台区段的中心区域的前端上部的步骤；
在位于所述第一工作台区段的中心区域的前端上部的所述基板上预涂覆所述药液的步骤；
将所述基板向后方移送到所述第一工作台区段的中心区域的后端上部的步骤；
将所述药液供应部件向后方移动到所述第一工作台区段的中心区域的后端上部的步骤；
沿着所述移送方向向前方移送所述基板的同时向所述基板上提供所述药液的步骤。
12.根据权利要求10所述的基板处理方法，其特征在于：
同时执行向后方移送所述基板的步骤及向后方移动所述药液供应部件的步骤。
13.根据权利要求10所述的基板处理方法，其特征在于：
在所述基板上预涂覆所述药液的步骤包括：
将所述药液供应部件配置在从所述基板相隔第一高度的位置的步骤，
向所述基板上提供所述药液的步骤包括：
将所述药液供应部件配置在从所述基板相隔比所述第一高度低的第二高度的位置的步骤。
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