JPWO2018003426A1 - 塗布処理装置、塗布処理方法及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 224
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 217
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 213
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 96
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 45
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 10
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 170
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 142
- 230000008569 process Effects 0.000 description 31
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 29
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 26
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 22
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical group 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004976 Lyotropic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 239000004974 Thermotropic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
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- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
- B05D1/265—Extrusion coatings
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/36—Successively applying liquids or other fluent materials, e.g. without intermediate treatment
- B05D1/38—Successively applying liquids or other fluent materials, e.g. without intermediate treatment with intermediate treatment
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
- B05D3/0254—After-treatment
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/04—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
- B05D3/0466—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases the gas being a non-reacting gas
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/50—Multilayers
- B05D7/56—Three layers or more
- B05D7/58—No clear coat specified
- B05D7/586—No clear coat specified each layer being cured, at least partially, separately
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
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- C03C2218/328—Partly or completely removing a coating
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Abstract
Description
本願は、2016年6月30日に日本国に出願された特願2016−129710号に基づき、優先権を主張し、その内容をここに援用する。
先ず、本実施の形態に係る光学膜形成装置の構成について説明する。本実施の形態では、OLEDに用いられる円偏光板を作製する場合において、光学膜として、直線偏光膜(直線偏光板)とλ/4波長膜(λ/4波長板)をガラス基板に形成する場合を例にとって説明する。なお、直線偏光膜とλ/4波長膜が形成される前のガラス基板上には、例えば複数の有機膜(図示せず)などが積層して形成されている。
図1は、塗布処理装置の構成の概略を示す横断面図である。図2は、塗布処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。塗布処理装置10では、ガラス基板Gの全面に塗布液を塗布する。
図4は、減圧乾燥装置の構成の概略を示す縦断面図である。減圧乾燥装置100では、ガラス基板Gに形成された光学膜(直線偏光膜とλ/4波長膜)を減圧乾燥する。
図5は、塗布処理装置、乾燥処理装置及び搬送領域の配置を示す平面図である。
図6は、加熱処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。加熱処理装置300では、ガラス基板Gに形成された光学膜(直線偏光膜とλ/4波長膜)を加熱する。
図7は、膜定着装置の構成の概略を示す縦断面図である。膜定着装置400では、インクジェット方式で定着材を所定領域、本実施の形態ではガラス基板Gの画素エリアに選択的に塗布する。
図8は、膜除去装置の構成の概略を示す縦断面図である。膜除去装置500では、ガラス基板Gに洗浄液を供給し、膜定着装置400で定着していない光学膜(所定領域以外の光学膜)を選択的に除去する。
次に、以上のように構成された光学膜形成装置を用いて行われる光学膜形成方法について説明する。図9は、かかる光学膜形処理の主な工程の例を示すフローチャートである。本実施の形態では、上述したように光学膜として、直線偏光膜とλ/4波長膜を、その偏光軸が45度で交差するようにガラス基板Gに積層して形成する。工程S1〜S5は直線偏光膜を形成する工程であり、工程S6〜S10はλ/4波長膜を形成する工程である。
先ず、塗布処理装置10において、ガラス基板Gの全面に塗布液を塗布する。この場合の塗布液は、直線偏光膜を形成するための偏光膜用塗布液である。
次に、減圧乾燥装置100において、ガラス基板Gの直線偏光膜P1を減圧乾燥させる。具体的には、載置台110にガラス基板Gを載置し、蓋体102を閉じて、処理容器101の内部に密閉された空間を形成する。その後、ガス供給部120から不活性ガスを供給すると共に、排気部121から処理容器101の内部が排気され、処理容器101の内部を減圧雰囲気にする。そして、直線偏光膜P1が乾燥される。
次に、加熱処理装置300において、ガラス基板Gの直線偏光膜P1を加熱する。具体的には、熱板310にガラス基板Gを載置し、蓋体302を閉じて、処理容器101の内部に密閉された空間を形成する。そして、熱板310のヒータ311によって、直線偏光膜P1が所定の温度、例えば50℃で加熱される。
次に、膜定着装置400において、ガラス基板Gの所定領域、本実施の形態では画素エリアに定着材を塗布する。
次に、膜除去装置500において、ガラス基板Gに洗浄液を供給し、工程S4で定着していない直線偏光膜P1を選択的に除去する。
以上のようにガラス基板Gに直線偏光膜P2が形成されると、次に、ガラス基板Gにλ/4波長膜をさらに形成する。先ず、塗布処理装置10において、ガラス基板Gの全面に塗布液を塗布する。この場合の塗布液は、λ/4波長膜を形成するための波長膜用塗布液である。
次に、減圧乾燥装置100において、ガラス基板Gのλ/4波長膜Q1を減圧乾燥させる。具体的な減圧乾燥処理は、工程S2と同様であるので、説明を省略する。そして、λ/4波長膜Q1の溶媒が除去され、膜中の分子の配向状態が適切に維持される。
次に、加熱処理装置300において、ガラス基板Gのλ/4波長膜Q1を加熱する。具体的な加熱処理は、工程S3と同様であるので、説明を省略する。そして、λ/4波長膜Q1の溶媒が完全に除去される。なお、工程S7において膜中の溶媒を完全に除去できる場合には、工程S8は省略してもよい。
次に、膜定着装置400において、図20に示すようにガラス基板Gの画素エリアに形成されたλ/4波長膜Q1に、塗布ノズル420から定着材Fを選択的に塗布する。具体的な定着材Fの選択手的塗布処理は、工程S4と同様であるので、説明を省略する。
次に、膜除去装置500において、ガラス基板Gに洗浄液を供給し、工程S9で定着していないλ/4波長膜Q1を選択的に除去する。具体的なλ/4波長膜Q1の選択手的除去処理は、工程S5と同様であるので、説明を省略する。そして、図22及び図23に示すようにガラス基板G上には画素エリアにλ/4波長膜Q2のみが形成される。
以上の実施の形態において、塗布処理装置10では、ステージ20に保持されたガラス基板GをX軸方向に移動させ、塗布ノズル30をY軸方向に移動させていたが、ガラス基板Gとステージ20を相対的に直交方向に移動させればよい。
20 ステージ
21 レール
30 塗布ノズル
31 吐出口
32 移動機構
40 回収部
50 制御部
100 減圧乾燥装置
200 搬送領域
300 加熱処理装置
400 膜定着装置
500 膜除去装置
G ガラス基板
P1 直線偏光膜(塗布液)
P2 直線偏光膜
Q1 λ/4波長膜(塗布液)
Q2 λ/4波長膜
Claims (13)
- 基板に光学材料を含む塗布液を塗布する塗布処理装置であって、
基板を保持する保持部と、
前記保持部に保持された基板に前記塗布液を吐出する塗布ノズルと、
前記保持部と前記塗布ノズルを直交方向に相対的に移動させる移動機構と、
を有する、塗布処理装置。 - 請求項1に記載の塗布処理装置において、
前記移動機構を制御する制御部をさらに有し、
前記制御部は、前記保持部と前記塗布ノズルの相対的な移動速度を制御することで、基板に塗布される前記塗布液の塗布方向を制御するように構成されている。 - 請求項1に記載の塗布処理装置において、
前記移動機構は、前記保持部を一の方向に移動させると共に、前記塗布ノズルを前記一の方向と直交方向に移動させる。 - 請求項1に記載の塗布処理装置において、
前記塗布ノズルは一の方向に延伸し固定して設けられ、
前記移動機構は、前記保持部を前記一の方向に移動させると共に、前記塗布ノズルを挟んで前記保持部を前記一の方向と直交方向に移動させる。 - 請求項1に記載の塗布処理装置において、
前記保持部は、平面視において基板より小さい。 - 請求項1に記載の塗布処理装置において、
前記塗布ノズルは、前記塗布液を吐出するスリット状の吐出口を有する。 - 請求項1に記載の塗布処理装置において、
前記保持部及び前記塗布ノズルの下方には、前記塗布液の回収部が設けられている。 - 基板に光学材料を含む塗布液を塗布する塗布処理方法であって、
基板を保持部する保持部と塗布ノズルを直交方向に相対的に移動させながら、前記塗布ノズルから前記塗布液を吐出して、基板に前記塗布液を塗布する、塗布処理方法。 - 請求項8に記載の塗布処理方法において、
前記保持部と前記塗布ノズルの相対的な移動速度を制御することで、基板に塗布される前記塗布液の塗布方向を制御する。 - 請求項8に記載の塗布処理方法において、
前記塗布ノズルは一の方向に延伸し、
前記保持部を前記一の方向に移動させると共に、前記塗布ノズルを前記一の方向と直交方向に移動させて、基板に前記塗布液を塗布する。 - 請求項8に記載の塗布処理方法において、
前記塗布ノズルは一の方向に延伸し固定して設けられ、
前記保持部を前記一の方向に移動させると共に、前記塗布ノズルを挟んで前記保持部を前記一の方向と直交方向に移動させて、基板に前記塗布液を塗布する。 - 請求項8に記載の塗布処理方法において、
前記塗布ノズルから吐出された前記塗布液のうち、基板に塗布されずに落下する前記塗布液は、前記保持部及び前記塗布ノズルの下方に設けられた回収部で回収される。 - 基板に光学材料を含む塗布液を塗布する塗布処理方法を、塗布処理装置によって実行させるように、当該塗布処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体であって、
前記塗布処理方法は、
基板を保持部する保持部と塗布ノズルを直交方向に相対的に移動させながら、前記塗布ノズルから前記塗布液を吐出して、基板に前記塗布液を塗布する。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016129710 | 2016-06-30 | ||
JP2016129710 | 2016-06-30 | ||
PCT/JP2017/020963 WO2018003426A1 (ja) | 2016-06-30 | 2017-06-06 | 塗布処理装置、塗布処理方法及びコンピュータ記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018003426A1 true JPWO2018003426A1 (ja) | 2019-04-18 |
JP6761860B2 JP6761860B2 (ja) | 2020-09-30 |
Family
ID=60786892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018524993A Active JP6761860B2 (ja) | 2016-06-30 | 2017-06-06 | 塗布処理装置、塗布処理方法及びコンピュータ記憶媒体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11378728B2 (ja) |
JP (1) | JP6761860B2 (ja) |
KR (1) | KR102344905B1 (ja) |
CN (2) | CN109416425B (ja) |
TW (1) | TWI737750B (ja) |
WO (1) | WO2018003426A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6731293B2 (ja) * | 2016-06-30 | 2020-07-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 光学膜形成方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び光学膜形成装置 |
JP6983282B2 (ja) * | 2016-06-30 | 2021-12-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 光学膜形成方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び光学膜形成装置 |
KR102492394B1 (ko) * | 2017-04-28 | 2023-01-27 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도포 처리 장치, 도포 처리 방법 및 광학막 형성 장치 |
KR102381762B1 (ko) | 2019-02-21 | 2022-03-31 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 연성 인쇄 회로 기판을 덮는 보호 커버를 포함하는 전지 모듈 |
JP7312603B2 (ja) * | 2019-05-10 | 2023-07-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 |
CN111361301B (zh) * | 2020-04-01 | 2021-06-15 | 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 | 一种lens功能薄膜的喷墨打印制备方法 |
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- 2017-06-06 CN CN201780040038.3A patent/CN109416425B/zh active Active
- 2017-06-06 CN CN202210514480.8A patent/CN114907018A/zh active Pending
- 2017-06-06 KR KR1020187038077A patent/KR102344905B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-06 JP JP2018524993A patent/JP6761860B2/ja active Active
- 2017-06-06 WO PCT/JP2017/020963 patent/WO2018003426A1/ja active Application Filing
- 2017-06-06 US US16/313,524 patent/US11378728B2/en active Active
- 2017-06-16 TW TW106120208A patent/TWI737750B/zh active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200012025A1 (en) | 2020-01-09 |
US11378728B2 (en) | 2022-07-05 |
TWI737750B (zh) | 2021-09-01 |
WO2018003426A1 (ja) | 2018-01-04 |
KR20190020706A (ko) | 2019-03-04 |
CN114907018A (zh) | 2022-08-16 |
TW201811446A (zh) | 2018-04-01 |
CN109416425A (zh) | 2019-03-01 |
CN109416425B (zh) | 2022-06-17 |
KR102344905B1 (ko) | 2021-12-28 |
JP6761860B2 (ja) | 2020-09-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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