TW201334982A - 噴墨塗布裝置及噴墨塗布方法 - Google Patents

Abstract

本發明之課題在於抑制塗布在基板上的印墨之乾燥斑痕。本發明解決手段之一形態之噴墨塗布裝置具備有具有第1噴頭群12A與第2噴頭群12B的噴墨頭模組12。第1噴頭群12A係當將基板S之表面全區域劃分為沿著前述X軸方向排列之複數列區域R1~R6時，使印墨的液滴塗布於指定的第1區域群(R1、R3、R5)。第2噴頭群12B係配置於對第1噴頭群12A於Y軸方向離開指定距離(H)之位置，並且使印墨的液滴塗布於上述複數列的區域中之剩餘的第2區域群(R2、R4、R6)。此時，係將支持基板S的平台11之移動控制為使得出自前述第1噴頭群12A的液滴噴抵前述基板S上時開始至出自第2噴頭群12B的液滴噴抵基板上為止的時間在指定時間以內。

Description

噴墨塗布裝置及噴墨塗布方法

本發明係關於噴墨塗布裝置及噴墨塗布方法，其係例如用以將包含用以形成有機電致發光元件的有機電致發光材料吐出到基板上者。

由於噴墨法可以高精確度將印墨滴下到基板上的指定位置，故用含有間隔物粒子與有機電致發光材料之印墨來製造液晶顯示器或有機電致發光顯示器的步驟被廣泛地採用。例如，在下述專利文獻1中記載有藉由噴墨法之間隔物的形成方法；在下述專利文獻2中記載有藉由噴墨法形成R(紅)、G(綠)、B(藍)之各種有機發光材料層的方法。

噴墨塗布裝置其代表性者為：具有將用以吐出的噴嘴以指定間距形成之單數或複數個噴墨頭，一邊使基板相對於該噴墨頭於一軸方向水平的進行相對移動，一邊自噴墨頭將印墨的液滴塗布到基板上的複數處所。

另一方面，在使用噴墨法於比較大型的基板的情形，係藉由使基板沿一軸方向移動後，再使基板沿著和上述一軸方向垂直的水平方向移動來改變與噴墨頭的相對位置，再朝上述一軸方向移動。重複此操作必要的次數，以使液滴塗布在基板全面(參照專利文獻1)。

〔先前技術文獻〕

〔專利文獻〕

專利文獻1：日本特開2011-147861號公報

專利文獻2：日本特開2003-77678號公報

然而，於上述重複使基板進行相對於噴墨頭之來回移動的方法中，於液滴先塗布的區域和液滴較後塗布的區域之間會產生液滴的乾燥斑痕。此類問題，於例如含有有機電致發光材料的印墨之比較容易乾燥的印墨的情形會更顯著發生。乾燥斑痕會引起有機電致發光層的厚度與形狀的偏差而導致畫質降低。

鑑於上述情形，本發明之目的在於提供可抑制塗布在基板上的印墨之乾燥斑痕的噴墨塗布裝置及噴墨塗布方法。

為了達成上述目的，本發明的一形態之噴墨塗布裝置具備有平台、第1噴墨頭模組、移動機構與控制器。

上述平台係構成為具有分別平行於第1軸方向、及與上述軸方向垂直的第2軸方向之支持面，且可支持基板於前述支持面上。

上述第1噴墨頭模組具有第1噴頭群與第2噴頭群。上述第1噴頭群係構成為當將前述支持面上的基板之表面全區域劃分為沿著上述第1軸方向排列之複數列區域時，使印墨的液滴塗布於上述複數列的區域中之指定的第1區域群。上述第2噴頭群係構成為配置於對上述第1噴頭群於前述第2軸方向離開指定的距離之位置，並使印墨的液滴塗布於上述複數列的區域中之剩餘的第2區域群。

上述移動機構係構成為可使上述平台往上述第2軸方向移動。

上述控制器係用來控制上述移動機構，以使出自前述第1噴頭群的前述液滴噴抵前述基板上時開始至出自前述第2噴頭群的前述液滴噴抵前述基板上為止的時間在指定時間以內。

本發明之一形態之噴墨塗布方法，包含：將基板配置於分別平行於第1軸方向、及與上述第1軸方向垂直的第2軸方向之支持面上；調整上述複數列的噴頭部之各噴嘴間距，以使得當將上述支持面上的基板之表面全區域劃分為沿著上述第1軸方向排列的複數列之區域時，自對應於上述複數列之區域而配置的複數列的各噴頭部吐出的印墨液滴可於上述第1軸方向以指定間距噴抵上述基板上；使上述支持面相對於上述複數列的噴頭部往上述第2軸方向進行相對移動；使上述液滴吐出到由上述複數列的區域中隔列選擇而成之第1區域群；在印墨液滴吐出至上述第1區域群起算的指定時間內，使上述液滴吐出至上述複數列的區域中之剩餘的第2區域群。

本發明之一實施形態之噴墨塗布裝置具備平台、第1噴墨頭模組、移動機構與控制器。

上述平台係構成為具有分別平行於第1軸方向、及與上述第1軸方向垂直的第2軸方向之支持面，且可支持基板於上述支持面上。因而，配置於支持面上的基板的表面係屬於分別平行於上述第1軸方向及第2軸方向的平面。

上述第1噴墨頭模組具有第1噴頭群與第2噴頭群。上述第1噴頭群係構成為當將前述支持面上的基板之表面全區域劃分為沿著上述第1軸方向排列之複數列區域時，可使印墨的液滴塗布於上述複數列的區域中之指定的第1區域群。上述第2噴頭群係配置於對上述第1噴頭群於前述第2軸方向離開指定的距離之位置，並構成為可使印墨的液滴塗布於上述複數列的區域中之剩餘的第2區域群。

上述移動機構係構成為可使上述平台往上述第2軸方向移動。上述控制器係用來控制上述移動機構，以使出自前述第1噴頭群的前述液滴噴抵前述基板上時開始至出自前述第2噴頭群的前述液滴噴抵前述基板上為止的時間在指定時間以內。

依據上述噴墨塗布裝置，藉由基板相對於第1噴頭模組移動一次之操作，可將印墨的液滴塗布於基板表面全區域。藉此，可提高生產性。又，藉由使出自前述第1噴頭群的前述液滴噴抵前述基板上時開始至出自前述第2噴頭群的前述液滴噴抵前述基板上為止的時間在指定時間以內，可抑制塗布於基板上的印墨的乾燥斑痕。藉此，可抑制印墨層的厚度與形狀的偏差，而可達成高品質的印刷製程。

為了調整上述之指定時間，可採用調整平台的移動速度、或調整第1噴頭群與第2噴頭群之間的上述離開距離的大小等之適當的方法。又，上述指定時間可設定為不致發生印墨的乾燥斑痕之適當的時間，代表性的做法為依據印墨的乾燥速度而設定。做為上述指定時間，可設定為例如10秒以下。

上述平台亦可進一步具有冷卻機構，其構成為可使上述支持面上的基板冷卻至指定溫度以下。藉此，可調整塗布於基板上的液滴之乾燥速度，故可更容易抑制塗布於基板上的液滴的乾燥斑痕。上述冷卻機構，代表性地可採用使冷卻水在平台內部循環的機構。

基板的冷卻溫度並無特別限定，可依照印墨的乾燥速度而適當設定。基板溫度若過高會促進印墨的乾燥，而基板溫度若過低，會有在基板上發生結露的顧慮。代表性地，基板溫度可設定為例如20℃以下。

將支持面上的基板表面予以虛擬劃分而成之複數列的區域，可分為利用第1噴頭群處理之第1區域群、與利用第2噴頭群處理之第2區域群。第1區域群及第2區域群可任意選定，例如，以隔列選擇的複數個區域分別來構成。藉此，可減小構成第1及第2噴頭群的各噴墨頭的大小之限制，而可提高各噴墨頭的設置排列方式之自由度。

構成第1噴頭群及第2噴頭群之各噴墨頭可用任何方式配置，可沿著上述第1軸方向配置，也可沿著對上述第1軸方向斜向交叉之水平方向配置。

分別構成第1噴頭群及第2噴頭群之複數個噴墨頭分別具有複數個液滴吐出噴嘴。此情形下，亦可具有用以調整上述複數個噴墨頭對基板之相對位置的調整機構，以使自上述複數個液滴吐出噴嘴吐出的液滴沿著上述第1軸方向以指定間距噴抵基板上。做為上述調整機構，代表性者為由使噴墨頭可分別以基板的法線方向為軸而旋轉的機構來構成。藉此，可使液滴沿著第1軸方向以指定間距塗布到基板上。

上述印墨亦可包含用以形成有機電致發光(Electro-Luninescence)元件的有機電致發光材料。藉此，可抑制有機電致發光層的厚度與形狀之偏差，而可穩定地製造高畫質的有機電致發光顯示器。

上述噴墨塗布裝置亦可更進一步具有第2噴頭模組與第3噴頭模組。

上述第2噴頭模組係沿著第2軸方向與第1噴頭模組縱列配置，且具有與第1噴頭模組相同的構成。上述第3噴頭模組係於第2軸方向與第1及第2噴頭模組縱列配置，且具有與第1噴頭模組相同的構成。

此情形下，第2噴頭模組係構成為用來吐出包含和自前述第1噴頭模組吐出的第1有機電致發光材料不同色之第2有機電致發光材料。第3噴頭模組係構成為用來吐出包含和自前述第1及第2噴頭模組吐出的第1及第2有機電致發光材料不同色之第3有機電致發光材料。

藉此，僅只使基板往上述第2軸方向進行一次移動操作，例如，可在基板上連續形成R(紅)、G(綠)、B(藍)的有機電致發光層，故可提高有機電致發光顯示器的生產性。

本發明之一實施形態之噴墨塗布方法包含：將基板配置於分別平行於第1軸方向、及與上述第1軸方向垂直的第2軸方向之支持面上；以使得當將上述支持面上的基板之表面全區域劃分為沿著上述第1軸方向排列的複數列之區域時，自對應於上述複數列之區域而配置的複數列的各噴頭部吐出的印墨液滴可於上述第1軸方向以指定間距噴抵上述基板上的方式，來調整上述複數列的噴頭部之各噴嘴間距； 使上述支持面相對於上述複數列的噴頭部往上述第2軸方向進行相對移動；使上述液滴吐出到由上述複數列的區域中隔列選擇而成之第1區域群；在印墨液滴吐出至上述第1區域群起算的指定時間內，使上述液滴吐出至上述複數列的區域中之剩餘的第2區域群。

依據上述塗布方法，僅只使基板對第1噴頭模組進行一次移動操作，可將印墨的液滴塗布於基板的表面全區域。藉此可提高生產性。又，藉由在印墨的液滴吐出至第1區域群算起之指定時間內使液滴吐出至第2區域群，可抑制塗布於基板上的印墨之乾燥斑痕。藉此，可達成抑制印墨的厚度與形狀之偏差的高品質印刷製程。

以下，一邊參照圖式來說明本發明之實施形態。

<第1實施形態>

圖1係表示本發明之一實施形態之噴墨塗布裝置的概略俯視圖，圖2係其概略側視圖。於各圖中，X軸及Y軸表示互相垂直的水平方向，Z軸表示分別與X軸及Y軸垂直的垂直方向。

本實施形態之噴墨塗布裝置1具有用來支持基板S之平台11、用來將印墨的液滴塗布於平台11上的基板S之噴頭模組12、用來使平台11於一軸方向移動之移動機構13。

基板S係由大致矩形的玻璃基板構成。基板S的大小並無特別限定，例如為寬1850mm、長1500mm。做為基板S，於上述之外，也可由金屬、塑膠、紙等之板狀、片狀或薄膜狀的基材構成。又，基板S不限定於以單層構成者， 也可為在表面積層有絕緣膜、導電膜等的未圖案化的膜(beta film)或經圖案化成為指定形狀的機能性膜所成之多層構造。

平台11係設置成可在基座部10上於Y軸方向移動。平台11具有用來支持基板S的支持面11a。支持面11a屬於分別平行於X軸方向及Y軸方向的平面(XY平面)，本實施形態中係由大致矩形的平坦面構成。平台11，亦可具備有用來使基板S保持於支持面11a上之各種夾具機構。

噴墨塗布裝置1具有用以使平台11的支持面11a冷卻至指定溫度以下的冷卻機構14。冷卻機構14包含例如：形成在平台11的內部之冷卻水循環通路、用以使冷卻水循環於該循環通路之泵單元。冷卻機構14係藉由使支持面11a維持在20℃以下、較佳為18℃以下，而具有使支持於支持面11a上的基板S冷卻至該溫度的作用。上述泵單元可與平台11安裝成一體，亦可透過用以通過冷卻水的軟式管材而設置於基座部10或其外的部位。

移動機構13包含：鋪設於基座部10上的一對導軌13a、13b、與用以使平台11沿著導軌13a、13b移動的線性馬達等之驅動源、與用以控制上述驅動源之控制部等。一對導軌13a、13b於Y軸方向平行地延伸，平台11設置於導軌13a、13b上。上述驅動源配置於平台11的內部，藉由上述控制部可進行使平台11沿著導軌高精確度地移動之控制。

噴頭模組12具有複數個噴墨頭121、122、123、124、125、126。噴墨頭121~126係構成為可使指定的印墨液滴D塗布到沿著導軌13a、13b於Y軸方向移動的平台11上的 基板S之表面全區域。

噴墨頭121~126，於當將平台11上的基板S之表面全區域想像地劃分為沿著X軸方向排列之複數列區域R1、R2、R3、R4、R5、R6時，係配置為分別對應於上述複數列區域R1~R6。於基板S的表面劃分的區域R1~R6分別形成為具有平行於Y軸方向的長方向、平行於X軸方向的寬方向之矩形，噴墨頭121~126係用來將印墨液滴D分別於X軸方向及Y軸方向以指定間距塗布到此等各區域R1~R6。

上述複數列的區域R1~R6分為第1區域群RA與第2區域群RB。本實施形態中之第1區域群RA，係由複數列的區域R1~R6中隔列選出之複數個區域R1、R3、R5構成；第2區域群RB，係由複數列的區域R1~R6中之殘餘的複數區域R2、R4、R6構成。

第1區域群RA係藉由噴墨頭121、123、125處理。亦即，噴墨頭121、123、125用來將液滴D分別塗布到構成第1區域群RA的區域R1、R3、R5。另一方面，第2區域群RB係藉由噴墨頭122、124、126處理。亦即，噴墨頭122、124、126用來將液滴D分別塗布到構成第2區域群RB的區域R2、R4、R6。

噴墨頭121、123、125構成第1噴頭群12A。第1噴頭群12A係透過支持框架120A而設置於基座部10的正上方位置，噴墨頭121、123、125係分別與基板S上的第1區域群RA(R1、R3、R5)相向的位置而定位配置。另一方面，噴墨頭122、124、126構成第2噴頭群12B。第2噴頭群12B係透過支持框架120B而設置於基座部10的正上方位置，噴墨頭122、124、126係分別與基板S上的第2區域 群RB(R2、R4、R6)相向的位置而定位配置。

噴頭模組12具有可用來使噴墨頭121~126分別在Z軸周圍旋轉的複數個旋轉機構部M(調整機構)。此等旋轉機構部M分別設置於支持框架120A、120B，係構成為可使噴墨頭121~126分別各自於Z軸周圍於指定角度範圍旋轉。此等旋轉機構部M係藉由控制器15來控制。

控制器15代表性地係以包含CPU、各種記憶記憶體的電腦構成。控制器15用來控制噴頭模組12、移動機構13、冷卻機構14等之各種機構部的驅動。控制器15可設置於基座部10，亦可設置於異於基座部10的位置。

各噴墨頭121~126具有由複數個液滴吐出噴嘴形成的印墨吐出面。圖3為表示噴墨頭121的印墨吐出面121s之重要部位的放大圖。印墨吐出面121s為大致長方形，沿著其長方向以指定間距p0形成有複數個液滴吐出噴嘴N。各液滴吐出噴嘴N係連接於未圖示的印墨槽，並配置有用來使得在各液滴吐出噴嘴N吐出指定量的印墨之壓電驅動部V。印墨吐出面121s係對於通過其正下方的基板S的表面隔著指定距離相向而配置。

旋轉機構部M，藉由使噴墨頭121於Z軸周圍旋轉來調整沿著X軸之液滴吐出間距。例如，圖3(A)係表示噴墨頭121相對於X軸於Z軸周圍傾斜角度θ1時，沿著X軸方向之液滴吐出間距由p0改變成p1的情形；圖3(B)係表示噴墨頭121相對於X軸於Z軸周圍傾斜角度θ2(θ2>θ1)時，沿著X軸方向之液滴吐出間距由p0改變成p2(p2<p1)的情形。如此般，藉由噴墨頭121的旋動角度，可連續地改變沿著X軸方向的液滴吐出間距。

噴墨頭122~126亦與噴墨頭121同樣地構成。各噴墨頭121~126之沿著X軸方向的液滴吐出間距係設定為相同。沿著X軸方向的液滴吐出間距可依塗布到基板S上的液滴之種類與步驟而適當地調整。

構成第1噴頭群12A之噴墨頭121、123、125係沿著此等之長方向排列於同一直線上。同樣地，構成第2噴頭群12B之噴墨頭122、124、126係沿著此等之長方向排列於同一直線上。此外，構成第1噴頭群及第2噴頭群12A、12B的各噴墨頭亦可沿著X軸方向排列。

第2噴頭群12B係配置於相較於第1噴頭群12A之相關於基板S的移動方向(Y軸方向)較遠離的位置。藉由如上述般使噴墨頭121~126對應於基板S上的全區域R1~R6而配置，以朝Y軸方向進行一次使基板S移動操作，可使印墨液滴塗布到基板S表面的全區域。藉此，可提高對基板S的液滴塗布步驟的效率而提高生產性。

圖4係表示藉由噴頭模組12使液滴塗布到基板S的表面之概略俯視圖。基板S係於噴頭模組12的正下方沿Y軸方向依箭頭A所示的方向以指定速度移動。由噴頭模組12吐出的液滴D自基板S表面的起端S1往終端S2塗布到基板S表面。

液滴D係於X軸方向及Y軸方向以指定間距px、py塗布。間距px係藉由旋轉機構部M調整噴墨頭121~126的旋轉角度而調整；間距py係藉由調整液滴D之自噴墨頭121~126的吐出時間點而調整。形成於基板S上的液滴層可藉由一次的液滴D之吐出來形成，亦可藉由複數次的液滴D之吐出來形成。

本實施形態中，如上述般噴頭模組12係由第1噴頭群12A與第2噴頭群12B構成，第1噴頭群12A係配置於較第2噴頭群12B更上游側。因而，如圖4所示般，首先是經由第1噴頭群12A(噴墨頭121、123、125)往第1區域群RA(R1、R3、R5)開始吐出液滴D到基板S，然後，經由第2噴頭群12B(噴墨頭122、124、126)往第2區域群RB(R2、R4、R6)開始吐出液滴D。

於此，於以單一的噴墨頭將複數個液滴群以指定間距塗布到基板上的一區域的情形，在液滴群的中央側與液滴群的邊端側容易發生液滴的乾燥速度之差異。其理由在於自液滴群揮發的溶劑之溶劑成分之蒸汽密度會因液滴群所在處而異之故，通常，液滴群的外方側較液滴群的內方側有較快乾燥的傾向。因而，當位於液滴群的外方側的液滴開始乾燥時，尚未開始乾燥的液滴群的內方側的液滴會一邊被拉引往外方外方側而改變形狀並一邊開始乾燥。由於此種乾燥斑痕會導致液滴層的形狀與高度之偏差，故要達成高品質的液滴塗布處理會有困難。

於此，控制器15用來控制移動機構13，以使得自第1噴頭群12A吐出的液滴噴抵基板S上時開始至自第2噴頭群12B吐出的液滴噴抵基板S上為止的時間在指定時間以內。做為上述指定時間係設定為塗布於第1區域群RA的液滴D不致發生乾燥斑痕的適當時間。

於本實施形態中，由於第1區域群RA係由隔一列選出之複數個區域R1、R3、R5構成，故液滴塗布到此等各區域後，可在上述指定時間以內塗布液滴到和此等鄰接的第2區域群RB(R2、R4、R6)。藉此，可延遲位於先塗布的液 滴群的外方側之液滴的乾燥，故在基板S的表面全區域不會產生乾燥斑痕，而能以相同的形態形成液滴層。

上述既定時間係依第1噴頭群12A與第2噴頭群12B之間的離開量(離開距離)H、平台11的移動速度等而調整。本實施形態中，係控制平台11的移動使上述指定時間為10秒以內，較佳為7秒以內。此情形下，藉由使離開量H為600mm以下、平台11的移動速度為70mm/秒，可確保成上述指定時間。

上述指定時間並且須依構成液滴D的印墨之種類與塗布間距等而適當選定。藉由使上述指定時間為10秒以下，即使以構成有機電致發光層的印墨材料適用於本發明的情形，亦可控制印墨層的厚度與形狀之偏差。尤其是有機電致發光層會因厚度而改變亮度，故藉由上述構成可形成在基板S的面內全區域有相同的亮度之有機電致發光層。

又，於本發明之實施形態中，由於具備可將平台11的支持面11a冷卻到指定溫度以下的冷卻機構14，故塗布於基板S上的液滴之乾燥速度可因基板溫度而調整。藉此，可更容易地抑制塗布於基板上之液滴的乾燥斑痕。

再者，於本實施形態中，基板S的表面全區域係劃分為由相間隔一列所選出的複數個區域構成之第1區域群與其餘的第2區域群。藉此，構成對應於此等各區域群配置的噴頭群12A、12B之各噴墨頭121~126的大小之限制可減小，並且可提高此等之設置排列的自由度。

<第2實施形態>

圖5係表示本發明之第2實施形態之噴墨塗布裝置的概略俯視圖。以下主要就與第1實施形態不同的部份做說 明，有關與上述實施形態相同的構成係賦予相同的符號，並省略或簡化其說明。

本實施形態之噴墨塗布裝置2係用來將由R(紅)、G(綠)、B(藍)的有機發光材料所構成的液滴層塗布到基板S上的裝置，具有第1噴頭模組21、第2噴頭模組22與第3噴頭模組23。

第1噴頭模組21係構成為用來以指定間距塗布R(紅)發光層，具有對應於基板S表面劃分成的複數列的區域(R1~R6，參圖4)之複數個噴墨頭。第1噴頭模組21具有第1噴頭群21A與第2噴頭群21B。第1噴頭模組21係透過支持框架221設置於基台20的正上方位置。

第1噴頭群21A及第2噴頭群21B，係配置於相關於Y軸方向離開指定距離(H)的位置，由於其詳情係與上述第1實施形態中的噴頭模組12之第1噴頭群12A及第2噴頭群12B具有相同的構成，故於此省略詳細的說明。

第2噴頭模組22係構成為用來以指定間距塗布G(綠)發光層，具有對應於基板S表面劃分成的複數列的區域(R1~R6)之複數個噴墨頭。第2噴頭模組22具有第1噴頭群22A與第2噴頭群22B。第1噴頭群22A與第2噴頭群22B具有與第1噴頭模組21的第1噴頭群21A及第2噴頭群21B相同的構成。第2噴頭模組22係透過支持框架222設置於基台20的正上方位置。

第3噴頭模組23係構成為用來以指定間距塗布B(藍)發光層，具有對應於基板S表面劃分成的複數列的區域(R1~R6)之複數個噴墨頭。第3噴頭模組23具有第1噴頭群23A與第2噴頭群23B。第1噴頭群23A與第2噴頭群 23B具有與第1噴頭模組21的第1噴頭群21A及第2噴頭群21B相同的構成。第3噴頭模組23係透過支持框架223設置於基台20的正上方位置。

第1~第3噴頭模組21~23係各沿著Y軸方向縱列配置。藉此，平台11上的基板S自圖5所示的位置一邊往箭頭A所示的方向移動，一邊依序藉由第1噴頭模組21塗布R(紅)發光層、藉由第2噴頭模組22塗布G(綠)發光層、藉由第3噴頭模組23塗布B(藍)發光層。

如上述般，依據本發明之實施形態，由於藉由基板S往Y軸方向只移動一次的操作，可在基板S的表面全區域連續地形成R(紅)、G(綠)、B(藍)發光層，故可提高有機電致發光顯示器的可提高有機電致發光顯示器的生產性。而且，於本實施形態中可形成各色的有機電致發光層而不發生乾燥斑痕，故可穩定地製造高畫質的有機電致發光顯示器。

以上係就本發明之實施形態做說明，但本發明並非僅限定於上述之實施形態，在不脫離本發明的精神之範圍內可做各種改變是不言而喻的。

例如，於上述實施形態中係在將基板S的表面全區域劃分的複數列的區域各配置一噴墨頭而構成噴頭模組，但也可在基板上的各區域各配置複數個噴墨頭。

又，於上述的實施形態中，基板S的表面全區域係劃分為6列的區域(R1~R6)，但區域數當然並非限定於此，其可依基板的大小與噴墨頭的形態而適當的改變。

再者，於上述的實施形態中係以二噴頭群構成一噴頭模組，但也可由三以上的噴頭群來構成。例如，將基板S 的表面全區域劃分的複數列的區域中，分為隔2列選出的第1區域群、與另一隔2列選出的第2區域群、與殘餘的第3區域群，對應於此等各區域群來配置三噴頭群。此情形下，藉由使各噴頭群沿Y軸方向的離開量設定在上述H以內，可不發生乾燥斑痕之下在基板上形成指定的液滴層。

1、2‧‧‧噴墨塗布裝置

10‧‧‧基座部

11‧‧‧平台

11a‧‧‧支持面

12‧‧‧噴頭模組

12A‧‧‧第1噴頭群12A

12B‧‧‧第2噴頭群12B

13‧‧‧移動機構

13a、13b‧‧‧導軌

14‧‧‧冷卻機構

15‧‧‧控制器

20‧‧‧基台

21‧‧‧第1噴頭模組

22‧‧‧第2噴頭模組

23‧‧‧第3噴頭模組

120A、120B‧‧‧支持框架

121、122、123、124、125、126‧‧‧噴墨頭

221、222、223‧‧‧支持框架

A‧‧‧箭頭方向

D‧‧‧液滴

H‧‧‧指定距離

M‧‧‧旋轉機構部

N‧‧‧液滴吐出噴嘴

RA‧‧‧第1區域群

RB‧‧‧第2區域群

R1、R2、R3、R4、R5、R6‧‧‧列區域

S‧‧‧基板

S1‧‧‧基板S表面的起端

S2‧‧‧基板S表面的終端

px、py、p0、p1‧‧‧間距

V‧‧‧壓電驅動部

X、Y、Z‧‧‧軸方向

θ1、θ2‧‧‧傾斜角度

圖1係表示本發明之一實施形態之噴墨塗布裝置的概略俯視圖。

圖2係表示上述噴墨塗布裝置之概略側視圖。

圖3(A)及圖3(B)係表示上述噴墨塗布裝置中之噴墨頭的印墨吐出面的重要部份的放大圖。

圖4係說明上述噴墨塗布裝置的作用之概略俯視圖。

圖5係表示本發明之其他實施形態之噴墨塗布裝置的概略俯視圖。

12‧‧‧噴頭模組

12A‧‧‧第1噴頭群

12B‧‧‧第2噴頭群

121、122、123、124、125、126‧‧‧噴墨頭

A‧‧‧箭頭方向

H‧‧‧指定距離

R1、R2、R3、R4、R5、R6‧‧‧區域

S‧‧‧基板

S1‧‧‧基板S表面的起端

S2‧‧‧基板S表面的終端

px、py‧‧‧間距

X、Y、Z‧‧‧軸方向

Claims (9)

1. 一種噴墨塗布裝置，其係具備：平台，其具有分別平行於第1軸方向、及與前述軸方向垂直的第2軸方向之支持面，且可支持基板於前述支持面上；第1噴墨頭模組，其具有第1噴頭群與第2噴頭群，該第1噴頭群係構成為當將前述支持面上的基板之表面全區域劃分為沿著前述第1軸方向排列之複數列區域時，使印墨的液滴塗布於前述複數列的區域中之指定的第1區域群；該第2噴頭群係構成為配置於對前述第1噴頭群於前述第2軸方向離開指定的距離之位置，並使印墨的液滴塗布於前述複數列的區域中之剩餘的第2區域群；移動機構，其係構成為可使前述平台往前述第2軸方向移動；控制器，其係用來控制前述移動機構，使得出自前述第1噴頭群的前述液滴噴抵前述基板上時開始至出自前述第2噴頭群的前述液滴噴抵前述基板上為止的時間在指定時間以內。
2. 如申請專利範圍第1項之噴墨塗布裝置，其中前述指定時間為10秒以內。
3. 如申請專利範圍第1或2項之噴墨塗布裝置，其中前述平台更進一步具有冷卻機構，其係構成為可使前述支持面上的基板冷卻到指定溫度以下。
4. 如申請專利範圍第3項之噴墨塗布裝置，其中前述指定溫度為20℃以下。
5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之噴墨塗布裝置，其 中前述第1區域群係由前述複數列的區域中隔列選擇而成的複數區域構成。
6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之噴墨塗布裝置，其中前述第1噴頭群及前述第2噴頭群分別具有：具有複數個液滴吐出噴嘴之複數個噴墨頭；與調整機構，係用來調整前述複數個噴墨頭對於前述基板的相對位置，以使自前述複數個液滴吐出噴嘴吐出的液滴沿著前述第1軸方向以指定的間距噴抵前述基板上。
7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之噴墨塗布裝置，其中前述印墨包含用以形成有機電致發光(Electro-Luminescence)元件的有機電致發光材料。
8. 如申請專利範圍第7項之噴墨塗布裝置，其係進一步具備：第2噴頭模組，其係沿著前述第2軸方向與前述第1噴頭模組縱列配置，且具有與前述第1噴頭模組相同的構成；與第3噴頭模組，其係沿著前述第2軸方向與前述第1及第2噴頭模組縱列配置，且具有與前述第1噴頭模組相同的構成；前述第2噴頭模組係構成為用來吐出包含和自前述第1噴頭模組吐出的第1有機電致發光材料不同色之第2有機電致發光材料，前述第3噴頭模組係構成為用來吐出包含和自前述第1及第2噴頭模組吐出的第1及第2有機電致發光材料不同色之第3有機電致發光材料。
9. 一種噴墨塗布方法，其係包括：將基板配置於分別平行於第1軸方向、及與前述第1軸 方向垂直的第2軸方向之支持面上；調整前述複數列的噴頭部之各噴嘴間距，以使得當將前述支持面上的基板之表面全區域劃分為沿著前述第1軸方向排列的複數列之區域時，自對應於前述複數列之區域而配置的複數列的各噴頭部吐出的印墨液滴可於前述第1軸方向以指定間距噴抵前述基板上；使前述支持面相對於前述複數列的噴頭部往前述第2軸方向進行相對移動；使前述液滴吐出到由前述複數列的區域中隔列選擇而成之第1區域群；在印墨液滴吐出至前述第1區域群起算的指定時間內，使前述液滴吐出至前述複數列的區域中之剩餘的第2區域群。