WO2016031888A1 - 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法 - Google Patents

放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法 Download PDF

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heat
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武 藤原
稲垣 順一
雅子 日夏
哲周 岡田
上利 泰幸
寛 平野
門多 丈治
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地方独立行政法人大阪市立工業研究所
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Definitions

  • the present invention relates to a composition for a heat dissipation member.
  • the present invention relates to a heat radiating member composition capable of forming a heat radiating member that can dissipate heat by efficiently conducting and transmitting heat generated in an electronic device and control a coefficient of thermal expansion.
  • thermo conductivity As a method for solving such a heat dissipation problem, there is a method in which a heat-generating part is brought into contact with a highly heat-conductive material (heat-dissipating member) to guide heat to the outside and dissipate heat.
  • materials having high thermal conductivity include inorganic materials such as metals and metal oxides.
  • inorganic materials such as metals and metal oxides.
  • aluminum nitride is close to the thermal expansion coefficient of silicon and is preferably used.
  • such inorganic materials have problems in processability, easiness of cracking, and the like, and cannot be said to have sufficient characteristics as a substrate material in a package. Therefore, development of a heat radiating member in which these inorganic material and resin are combined to increase heat conductivity has been performed.
  • Patent Document 1 discloses a heat dissipating member obtained by polymerizing a liquid crystal composition by controlling the alignment with an alignment control additive or a rubbing treatment method as a method for improving the thermal conductivity of the resin.
  • the heat dissipation member is always required to have higher thermal conductivity and controllability of the thermal expansion coefficient. Then, this invention makes it a subject to provide the composition and heat dissipation member which can form the heat dissipation member which has high thermal conductivity and can control a coefficient of thermal expansion.
  • the present inventors do not add an inorganic material to a resin, but connect the inorganic materials to each other, that is, a coupling agent and a bifunctional or more reactive organic compound.
  • the thermal conductivity is extremely high by directly bonding the inorganic material through the coupling (see FIGS. 1 and 2) or by directly coupling the inorganic materials through the coupling agent (see FIGS. 1 and 3).
  • the present inventors have found that a composite material capable of controlling the coefficient of thermal expansion can be realized, thereby completing the present invention.
  • the composition for a heat radiating member according to the first aspect of the present invention includes a thermally conductive first inorganic filler 1 bonded to one end of a coupling agent 3; A thermally conductive second inorganic filler 2 bonded to one end, the second inorganic filler 2 having a bifunctional or higher functional polymerizable compound 5 bonded to the other end of the combined coupling agent 4; It is a composition for heat radiating members which the other end of the coupling agent 3 couple
  • One end and “the other end” may be edges or ends of the shape of the molecule, and may or may not be both ends of the long side of the molecule. If comprised in this way, an inorganic filler can be directly couple
  • the composition for a heat radiating member according to the second aspect of the present invention includes a thermally conductive first inorganic filler 1 bonded to one end of a coupling agent 3; A thermally conductive second inorganic filler 2 bonded to one end; a coupling agent bonded to the first inorganic filler and a coupling agent bonded to the second inorganic filler include coupling agents The other end of the coupling agent 3 having a functional group to be bonded and bonded to the first inorganic filler 1 is bonded to the other end of the coupling agent 4 bonded to the second inorganic filler 2 by curing.
  • an inorganic filler can be directly couple
  • composition for heat radiating members according to the third aspect of the present invention is the composition for heat radiating members according to the first aspect or the second aspect of the present invention, wherein the first inorganic filler and the second inorganic filler are used.
  • the filler is a nitride or a carbon material. If comprised in this way, the composition for heat radiating members can contain a more preferable compound as an inorganic filler.
  • the composition for heat radiating members according to the fourth aspect of the present invention is the composition for heat radiating member according to the third aspect of the present invention, wherein the first inorganic filler and the second inorganic filler are boron nitride. , Boron carbide, boron nitride carbon, graphite, carbon fiber, and carbon nanotube. If comprised in this way, the thermal conductivity of an inorganic filler is high, and a thermal expansion coefficient is very small or negative, and the target composition for heat radiating members is obtained by compounding with them.
  • the composition for a heat radiating member according to the fifth aspect of the present invention is the composition for a heat radiating member according to any one of the first aspect to the fourth aspect of the present invention.
  • a third inorganic filler having a coefficient of thermal expansion different from that of the second inorganic filler, wherein the heat-conductive third inorganic filler bonded to one end of the coupling agent or a cup bonded with a polymerizable compound is further included.
  • the composition for a heat radiating member according to the sixth aspect of the present invention is the composition for a heat radiating member according to any one of the first to fifth aspects of the present invention. And an organic compound or a polymer compound that is not bonded to the second inorganic filler. If comprised in this way, in the composition for heat radiating members which hardened by connecting the 1st and 2nd inorganic fillers directly, as the particle diameter of the fillers is increased in order to improve the thermal conductivity, the voids are combined. The rate is high. By filling the voids with a compound that is not bonded, thermal conductivity, water vapor blocking performance, and the like can be improved.
  • the composition for a heat radiating member according to a seventh aspect of the present invention is the composition for a heat radiating member according to the first aspect of the present invention, wherein the bifunctional or higher functional polymerizable compound is an oxiranyl group or oxetanyl at both ends. It is a polymerizable compound having a structure containing a group. If comprised in this way, the coupling
  • the composition for a heat radiating member according to the eighth aspect of the present invention is the composition for a heat radiating member according to the seventh aspect of the present invention, wherein the polymerizable compound having two or more functional groups is represented by the following formula (1-1): At least one polymerizable liquid crystal compound represented by the formula: R a1 -Z- (AZ) m1 -R a1 (1-1) [In the above formula (1-1), R a1 is a polymerizable group represented by any of the following formulas (2-1) to (2-2); A is 1,4-cyclohexylene, 1,4-cyclohexenylene, 1,4-phenylene, naphthalene-2,6-diyl, tetrahydronaphthalene-2,6-diyl, fluorene-2,7-diyl, bicyclo [2.2.2] Oct-1,4-diyl, or bicyclo [3.1.0] hex-3,6-diyl, In these rings,
  • the composition for heat radiating members can contain a polymeric liquid crystal compound as a polymeric compound. These compounds are thermosetting, can be cured without being affected by the amount of filler, and are excellent in heat resistance. In addition, the molecular structure has symmetry and linearity, which is considered advantageous for phonon conduction.
  • composition for a heat radiating member according to the ninth aspect of the present invention is the composition for a heat radiating member according to the eighth aspect of the present invention, wherein A is 1,4-cyclohexane in the above formula (1-1). Silene, 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene in which arbitrary hydrogen is replaced with halogen, 1,4-phenylene in which arbitrary hydrogen is replaced with halogen or methyl group, fluorene-2,7-diyl, Or fluorene-2,7-diyl in which any hydrogen is replaced by a halogen or methyl group. If comprised in this way, the composition for heat radiating members can contain a more preferable compound as a polymeric liquid crystal compound. These compounds are considered to be more advantageous for phonon conduction because of higher molecular linearity.
  • composition for a heat radiating member according to the tenth aspect of the present invention is the composition for a heat radiating member according to the eighth aspect or the ninth aspect of the present invention, wherein Z in the formula (1-1) is: Single bond, — (CH 2 ) a —, —O (CH 2 ) a —, — (CH 2 ) a O—, —O (CH 2 ) a O—, —CH ⁇ CH—, —C ⁇ C— , —COO—, —OCO—, —CH ⁇ CH—COO—, —OCO—CH ⁇ CH—, —CH 2 CH 2 —COO—, —OCO—CH 2 CH 2 —, —CH ⁇ N—, — N ⁇ CH—, —N ⁇ N—, —OCF 2 — or —CF 2 O—, and a is an integer of 1-20.
  • the composition for heat radiating members can contain a compound especially preferable as a polymeric liquid crystal compound
  • the heat dissipation member according to the eleventh aspect of the present invention is obtained by curing the composition for heat dissipation member according to any one of the first to tenth aspects of the present invention. If comprised in this way, a thermal radiation member has a coupling
  • An electronic apparatus includes the heat dissipating member according to the eleventh aspect of the present invention; and an electronic device having a heat generating part; the heat dissipating member being in contact with the heat generating part.
  • the manufacturing method of the heat radiating member according to the thirteenth aspect of the present invention includes a step of bonding a thermally conductive first inorganic filler to one end of a coupling agent; a thermally conductive second inorganic filler, and a cup A step of bonding to one end of the ring agent; a step of bonding the other end of the coupling agent bonded to the second inorganic filler to a bifunctional or higher polymerizable compound; and a cup bonded to the first inorganic filler A step of bonding the other end of the ring agent to the bifunctional or higher polymerizable compound of the second inorganic filler. If comprised in this way, an inorganic filler will couple
  • the manufacturing method of the heat radiating member according to the fourteenth aspect of the present invention includes a step of bonding a heat conductive first inorganic filler to one end of a coupling agent; a heat conductive second inorganic filler; A step of bonding to one end of the ring agent; and a step of bonding the other end of the coupling agent bonded to the first inorganic filler to the other end of the coupling agent bonded to the second inorganic filler. If comprised in this way, an inorganic filler will couple
  • the heat dissipating member formed from the composition for heat dissipating member of the present invention has extremely high thermal conductivity and controllability of the thermal expansion coefficient. In addition, it has excellent properties such as chemical stability, heat resistance, hardness and mechanical strength.
  • the heat radiating member is suitable for, for example, a heat radiating substrate, a heat radiating plate (planar heat sink), a heat radiating sheet, a heat radiating coating, and a heat radiating adhesive.
  • Liquid crystal compound and “liquid crystal compound” are compounds that exhibit a liquid crystal phase such as a nematic phase or a smectic phase.
  • any —CH 2 — in alkyl may be replaced by —O—” or “any —CH 2 CH 2 — may be replaced by —CH ⁇ CH—, etc.”
  • the meaning is shown in the following example.
  • a group in which any —CH 2 — in C 4 H 9 — is replaced by —O— or —CH ⁇ CH— includes C 3 H 7 O—, CH 3 —O— (CH 2 ) 2 —, CH 3 —O—CH 2 —O— and the like.
  • groups in which any —CH 2 CH 2 — in C 5 H 11 — is replaced by —CH ⁇ CH— include H 2 C ⁇ CH— (CH 2 ) 3 —, CH 3 —CH ⁇ CH
  • the term “arbitrary” means “at least one selected without distinction”.
  • CH 3 —O—CH 2 —O— in which oxygen and oxygen are not adjacent to each other is more preferable than CH 3 —O—O—CH 2 — in which oxygen and oxygen are adjacent to each other. Is preferred.
  • any hydrogen may be replaced by halogen, alkyl having 1 to 10 carbons, or halogenated alkyl having 1 to 10 carbons” with respect to ring A is, for example, 2 of 1,4-phenylene. , 3, 5 and 6 positions are substituted with a substituent such as fluorine or methyl group, and the substituent is “halogenated alkyl having 1 to 10 carbon atoms” Examples of these include examples such as a 2-fluoroethyl group and a 3-fluoro-5-chlorohexyl group.
  • Compound (1-1) means a liquid crystal compound represented by the following formula (1-1) described later, and also means at least one compound represented by the following formula (1-1). Sometimes.
  • the “heat dissipating member composition” means a composition containing at least one compound selected from the compound (1-1) or other polymerizable compounds. When one compound (1-1) has a plurality of A, any two A may be the same or different. When a plurality of compounds (1-1) have A, any two A may be the same or different. This rule also applies to other symbols and groups such as R a1 and Z.
  • the heat radiating member composition of the present application is a composition that can form a heat radiating member by curing and directly bonding inorganic fillers via a coupling agent and a bifunctional or higher functional polymerizable compound.
  • FIG. 1 shows an example in which boron nitride is used as an inorganic filler.
  • boron nitride h-BN
  • boron nitride there is no reactive group in the plane of the particle, so that the coupling agent binds only around the periphery.
  • Boron nitride treated with a coupling agent can form a bond with the polymerizable compound.
  • the cured heat radiating member has an extremely high thermal conductivity and is inorganic. It becomes possible to produce a composite material that directly reflects the coefficient of thermal expansion of the components.
  • the heat radiating member composition according to the first embodiment of the present invention includes, for example, as shown in FIG. 2, a thermally conductive first inorganic filler 1 bonded to one end of a coupling agent 3, and a coupling agent.
  • a thermally conductive second inorganic filler 2 bonded to one end of the second conductive filler 4 and a second inorganic filler 2 further bonded to the other end of the combined coupling agent 4 with a bifunctional or higher polymerizable compound 5; Including.
  • FIG. 2 when the heat radiating member composition of the present application is cured, the other end of the coupling agent 3 bonded to the first inorganic filler 1 is bonded to the polymerizable compound 5 of the second inorganic filler 2. To do.
  • a bond between inorganic fillers is formed. Note that it is important in the present invention to realize such a bond between inorganic fillers.
  • a silane coupling agent and a polymerizable compound are reacted in advance using an organic synthesis technique. May be.
  • a polymerizable liquid crystal compound is preferably used.
  • a liquid crystal compound represented by the following formula (1-1) is preferable, having a liquid crystal skeleton and a polymerizable group, having high polymerization reactivity, a wide liquid crystal phase temperature range, good miscibility, and the like. Have. This compound (1-1) tends to be uniform easily when mixed with other liquid crystalline compounds or polymerizable compounds.
  • Preferred R a1 is hydrogen, fluorine, chlorine, cyano, —N ⁇ C ⁇ O, —N ⁇ C ⁇ S, alkyl, alkoxy, alkoxyalkyl, alkoxyalkoxy, alkylthio, alkylthioalkoxy, alkenyl, alkenyloxy, alkenyloxy Alkyl, alkoxyalkenyl, alkynyl, alkynyloxy and the like can be mentioned.
  • a group in which at least one hydrogen is replaced with a halogen is also preferable.
  • Preferred halogens are fluorine and chlorine, more preferably fluorine.
  • monofluoroalkyl polyfluoroalkyl, perfluoroalkyl, monofluoroalkoxy, polyfluoroalkoxy, perfluoroalkoxy and the like.
  • These groups are preferably straight chains rather than branched chains from the viewpoint of easy conduction of phonons, that is, ease of heat transfer.
  • R a1 is hydrogen, fluorine, chlorine, cyano, —CF 3 , —CF 2 H, —CFH 2 , —OCF 3 , —OCF 2 H, alkyl having 1 to 10 carbons, or 1 to 10 carbons Or alkoxyalkyl having 2 to 10 carbon atoms.
  • alkyl, alkoxy and alkoxyalkyl examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, methoxy, ethoxy, propyloxy, butyloxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, Examples include octyloxy, nonyloxy, decyloxy, methoxymethyl, methoxyethyl and the like.
  • Particularly preferred R a1 is alkyl having 1 to 10 carbons and alkoxy having 1 to 10 carbons.
  • Preferred examples of A include 1,4-cyclohexylene, 1,4-cyclohexenylene, 2,2-difluoro-1,4-cyclohexylene, 1,3-dioxane-2,5-diyl, 1,4 -Phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2,3-difluoro-1,4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, 2,6-difluoro-1,4-phenylene, 2 , 3,5-trifluoro-1,4-phenylene, pyridine-2,5-diyl, 3-fluoropyridine-2,5-diyl, pyrimidine-2,5-diyl, pyridazine-3,6-diyl, naphthalene -2,6-diyl, tetrahydronaphthalene-2,6-diyl, fluorene-2,7-diyl, 9
  • 1,4-cyclohexylene and 1,3-dioxane-2,5-diyl is preferably trans rather than cis. Since 2-fluoro-1,4-phenylene and 3-fluoro-1,4-phenylene are structurally identical, the latter is not illustrated. This rule also applies to the relationship between 2,5-difluoro-1,4-phenylene and 3,6-difluoro-1,4-phenylene.
  • A is 1,4-cyclohexylene, 1,4-cyclohexenylene, 1,3-dioxane-2,5-diyl, 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2,3-difluoro-1,4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, 2,6-difluoro-1,4-phenylene and the like.
  • Particularly preferred A is 1,4-cyclohexylene and 1,4-phenylene.
  • the bonding group Z of the compound (1-1) is a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —CH ⁇ CH
  • —, —CF ⁇ CF— or — (CH 2 ) 4 — in particular, a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —CH ⁇ CH— or —
  • the viscosity becomes small.
  • the bonding group Z is —CH ⁇ CH—, —CH ⁇ N—, —N ⁇ CH—, —N ⁇ N— or —CF ⁇ CF—
  • the temperature range of the liquid crystal phase is wide.
  • the bonding group Z is alkyl having about 4 to 10 carbon atoms, the melting point is lowered.
  • Preferred Z is a single bond, — (CH 2 ) 2 —, — (CF 2 ) 2 —, —COO—, —OCO—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —CF 2 O—, — OCF 2 —, —CH ⁇ CH—, —CF ⁇ CF—, —C ⁇ C—, — (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 3 O—, —O (CH 2 ) 3 —, — ( CH 2 ) 2 COO—, —OCO (CH 2 ) 2 —, —CH ⁇ CH—COO—, —OCO—CH ⁇ CH— and the like.
  • Z is a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —COO—, —OCO—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —CH ⁇ CH—, —C ⁇ C— and the like can be mentioned.
  • Particularly preferred Z is a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —COO— or —OCO—.
  • a 6-membered ring and a condensed ring containing a 6-membered ring are regarded as a ring, and for example, a 3-membered ring, a 4-membered ring or a 5-membered ring alone is not regarded as a ring.
  • a condensed ring such as a naphthalene ring or a fluorene ring is regarded as one ring.
  • the compound (1-1) may be optically active or optically inactive.
  • the compound (1-1) may have an asymmetric carbon or an axial asymmetry.
  • the configuration of the asymmetric carbon may be R or S.
  • the asymmetric carbon may be located at either R a1 or A.
  • the compatibility of the compound (1-1) is good.
  • the compound (1-1) has axial asymmetry, the twist-inducing force is large.
  • the light application property may be any.
  • a compound having desired physical properties can be obtained by appropriately selecting the terminal group R a1 , the type of the ring structure A and the bonding group Z, and the number of rings.
  • Compound (1-1) can also be represented by the following formula (1-a) or (1-b).
  • A, Z and R a have the same meanings as A, Z and R a1 defined in the above formula (1-1), and P represents the above formula (2- 1) to (2-2) represents a polymerizable group, and Y represents a single bond or alkylene having 1 to 20 carbon atoms, preferably alkylene having 1 to 10 carbon atoms.
  • CH 2 — may be replaced by —O—, —S—, —CO—, —COO—, —OCO— or —CH ⁇ CH—.
  • Particularly preferred Y is alkylene in which —CH 2 — at one or both ends of alkylene having 1 to 10 carbon atoms is replaced by —O—.
  • m is an integer of 1 to 6, preferably an integer of 2 to 6, and more preferably an integer of 2 to 4.
  • Preferred examples of the compound (1-1) include the following compounds (a-1) to (g-20).
  • R a , P and Y are as defined in the above formulas (1-a) and (1-b).
  • Z 1 is each independently a single bond, — (CH 2 ) 2 —, — (CF 2 ) 2 —, — (CH 2 ) 4 —, —CH 2 O—, —OCH 2 —, — (CH 2 ) 3 O—, —O (CH 2 ) 3 —, —COO—, —OCO—, —CH ⁇ CH—, —CF ⁇ CF—, —CH ⁇ CHCOO—, —OCOCH ⁇ CH—, — (CH 2 ) 2 COO—, —OCO (CH 2 ) 2 —, —C ⁇ C—, —C ⁇ C—COO—, —OCO—C ⁇ C—, —C ⁇ C—CH ⁇ CH—, —CH ⁇ CH —C ⁇ C—, —CH ⁇ N—, —N ⁇ CH—,
  • Z 2 is independently — (CH 2 ) 2 —, — (CF 2 ) 2 —, — (CH 2 ) 4 —, —CH 2 O—, —OCH 2 —, — (CH 2 ) 3 O —, —O (CH 2 ) 3 —, —COO—, —OCO—, —CH ⁇ CH—, —CF ⁇ CF—, —CH ⁇ CHCOO—, —OCOCH ⁇ CH—, — (CH 2 ) 2 COO —, —OCO (CH 2 ) 2 —, —C ⁇ C—, —C ⁇ C—COO—, —OCO—C ⁇ C—, —C ⁇ C—CH ⁇ CH—, —CH ⁇ CH—C ⁇ C—, —CH ⁇ N—, —N ⁇ CH—, —N ⁇ N—, —OCF 2 — or —CF 2 O—.
  • Z 3 is each independently a single bond, alkyl having 1 to 10 carbon atoms, — (CH 2 ) a —, —O (CH 2 ) a O—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —O (CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 3 O—, —COO—, —OCO—, —CH ⁇ CH—, —CH ⁇ CHCOO—, —OCOCH ⁇ CH—, — (CH 2 ) 2 COO— , —OCO (CH 2 ) 2 —, —CF ⁇ CF—, —C ⁇ C—, —CH ⁇ N—, —N ⁇ CH—, —N ⁇ N—, —OCF 2 — or —CF 2 O— And the plurality of Z 3 may be the same or different.
  • a is an integer of 1 to 20.
  • X is a substituent of 1,4-phenylene and fluorene-2,7-diyl in which arbitrary hydrogen may be replaced by halogen, alkyl or fluorinated alkyl, and represents halogen, alkyl or fluorinated alkyl.
  • More preferred compound (1-1) can be represented by the following formula (1-c) or (1-d).
  • A, Y, Z, R a and m are as defined above, and P 1 represents a polymerizable group represented by the following formulas (2-1) to (2-2).
  • two P 1 represent the same polymerizable group (2-1) to (2-2)
  • two Y represent the same group
  • two Y are symmetrical. Combine to be.
  • the compound (1-1) can be synthesized by combining known methods in organic synthetic chemistry. Methods for introducing the desired end groups, ring structures and linking groups into the starting materials are described, for example, by Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, Organic Syntheses, John Books such as Wily & Sons, Inc., Organic Reactions, John Wily & Sons Inc., Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press, New Experimental Chemistry Course (Maruzen) It is described in. Reference may also be made to JP-A-2006-265527.
  • a bifunctional or higher polymerizable compound may be a polymerizable compound that does not exhibit liquid crystallinity other than the polymerizable liquid crystal compound represented by the above formula (1-1). Good. For example, among diglycidyl ether of polyether, diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of bisphenol F, diglycidyl ether of biphenol, or a compound of formula (1-1), linearity is insufficient and liquid crystallinity is expressed. Examples of the compound that were not present.
  • the polymerizable compound can be synthesized by combining known methods in organic synthetic chemistry.
  • the polymerizable compound used in the present invention preferably has a bifunctional or higher functional group, including a case of a trifunctional or higher functional group or a tetrafunctional or higher functional group. Furthermore, a compound having a functional group at both ends of the long side of the polymerizable compound is preferable because it can form a linear bond.
  • first inorganic filler, the second inorganic filler, and the third inorganic filler examples include nitrides, carbides, or carbon materials.
  • the first inorganic filler and the second inorganic filler may be the same or different.
  • the first inorganic filler and the second inorganic filler have high thermal conductivity and have a very small or negative thermal expansion coefficient, such as boron nitride, boron carbide, boron nitride carbon, graphite, Examples thereof include carbon fibers and carbon nanotubes.
  • an inorganic filler having the following high thermal conductivity and a positive coefficient of thermal expansion may be used for either one of the first and second inorganic fillers.
  • the structure of the polymerizable compound has a shape and length that can efficiently and directly bond these inorganic fillers.
  • the kind, shape, size, addition amount, and the like of the inorganic filler can be appropriately selected according to the purpose.
  • an inorganic filler having conductivity may be used as long as the desired insulation is maintained.
  • the shape of the inorganic filler include a plate shape, a spherical shape, an amorphous shape, a fiber shape, a rod shape, and a tubular shape.
  • boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, graphite, carbon fiber, and carbon nanotube are used.
  • hexagonal boron nitride (h-BN) and graphite are preferable.
  • Boron nitride and graphite are preferable because they have a very high thermal conductivity in the plane direction, and boron nitride has a low dielectric constant and high insulation.
  • the use of plate-like crystal boron nitride is preferable because the plate-like structure is easily oriented along the mold by the flow and pressure of the raw material during molding and curing.
  • the average particle size of the inorganic filler is preferably 0.1 to 200 ⁇ m. More preferably, it is 1 to 100 ⁇ m. When it is 0.1 ⁇ m or more, the thermal conductivity is good, and when it is 200 ⁇ m or less, the filling rate can be increased.
  • the average particle size is based on particle size distribution measurement by a laser diffraction / scattering method. That is, when the powder is divided into two from a certain particle size by the wet method using the analysis based on the Franhofer diffraction theory and Mie's scattering theory, the larger side and the smaller side are equivalent (volume basis). Was the median diameter.
  • the ratio of the inorganic filler to the coupling agent and the organic compound depends on the amount of the coupling agent combined with the inorganic filler used.
  • the compound used as the first and second inorganic fillers for example, boron nitride
  • the reaction amount of the coupling agent to the inorganic filler varies mainly depending on the size of the inorganic filler and the reactivity of the coupling agent used.
  • the larger the inorganic filler the smaller the amount of modification because the area ratio of the side surface of the inorganic filler decreases.
  • it is preferable to balance the particle size because the thermal conductivity of the product is lowered when the particle size is reduced.
  • the coupling agent to be bonded to the inorganic filler preferably reacts with a functional group (such as an oxiranyl group) of the polymerizable compound, and therefore preferably has an amine-based reactive group at the terminal.
  • a functional group such as an oxiranyl group
  • Silica Ace S310, S320, S330, and S360 are manufactured by JNC Corporation, and KBM903 and KBE903 are manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • the terminal of the polymerizable compound is an amine
  • a coupling agent having an oxiranyl group or the like at the terminal is preferable.
  • Silaace S510, S530 and the like are available from JNC Corporation.
  • bonding increases, the more modification of the inorganic filler by a coupling agent is preferable.
  • the second inorganic filler one that has been treated with a coupling agent and further surface-modified with a polymerizable compound is used.
  • an inorganic filler treated with a silane coupling agent inorganic filler combined with a coupling agent
  • the second inorganic filler whose surface is modified with the polymerizable compound can form a bond with the first inorganic filler via the polymerizable compound and the coupling agent, and this bond can be used for heat conduction.
  • the second inorganic filler whose surface is modified with the polymerizable compound can form a bond with the first inorganic filler via the polymerizable compound and the coupling agent, and this bond can be used for heat conduction.
  • the polymerizable compound is preferably a polymerizable liquid crystal compound represented by the above formula (1-1).
  • other polymerizable liquid crystal compounds may be used, and polymerizable compounds having no liquid crystallinity may be used.
  • the surface modification with a polymerizable compound or the like is more preferable as the number of the surface modification is increased as the number of bonds increases.
  • the heat radiating member composition of the present application further contains an organic compound (for example, a polymerizable compound or a polymer compound) that is not bonded to the first inorganic filler and the second inorganic filler, that is, does not contribute to the bonding. It may also contain a polymerization initiator, a solvent and the like.
  • the composition for a heat radiating member may include a polymerizable compound (in this case, not necessarily bifunctional or higher) that is not bonded to an inorganic filler as a constituent element.
  • a polymerizable compound a compound that does not lower the film formability and the mechanical strength is preferable.
  • This polymerizable compound is classified into a compound having no liquid crystallinity and a compound having liquid crystallinity.
  • the polymerizable compound having no liquid crystallinity include vinyl derivatives, styrene derivatives, (meth) acrylic acid derivatives, sorbic acid derivatives, fumaric acid derivatives, itaconic acid derivatives, and the like.
  • the content is such that a composition for a heat radiating member that does not contain an unbonded polymerizable compound is first prepared, the porosity is measured, and an amount of the polymerizable compound that can fill the porosity is added. .
  • the composition for a heat radiating member may include a polymer compound that is not bonded to an inorganic filler as a constituent element.
  • a polymer compound a compound that does not lower the film formability and the mechanical strength is preferable.
  • the polymer compound may be any polymer compound that does not react with the first, second, third, etc. inorganic fillers and polymerizable compounds.
  • polyolefin resin, polyvinyl resin, polyamide resin, polyitaconic acid resin, etc. Is mentioned. It is desirable that the content is such that a composition for a heat radiating member that does not contain an unbonded polymerizable compound is first prepared, the porosity is measured, and an amount of the polymer compound that can fill the porosity is added. .
  • the composition for a heat radiating member may contain a liquid crystal compound having no polymerizable group as a constituent element.
  • a liquid crystal compound having no polymerizable group examples of such non-polymerizable liquid crystal compounds are described in Licris, a database of liquid crystal compounds (LiqCryst, LCI Publisher GmbH, Hamburg, Germany).
  • a non-polymerizable liquid crystal compound for example, composite materials of a polymer of the compound (1-1) and a liquid crystal compound can be obtained.
  • a non-polymerizable liquid crystal compound is present in a polymer network such as a polymer dispersed liquid crystal.
  • a liquid crystalline compound having characteristics such that it does not have fluidity in the temperature range to be used is desirable.
  • the first, second, third, etc. fillers may be combined by a method of injecting into the voids in a temperature region showing an isotropic phase.
  • the filler may be polymerized by mixing a liquid crystal compound in an amount calculated so as to fill the voids in advance.
  • the composition for heat radiating members may contain a polymerization initiator as a constituent element.
  • a polymerization initiator for example, a radical photopolymerization initiator, a cationic photopolymerization initiator, a thermal radical polymerization initiator, or the like may be used depending on the components of the composition and the polymerization method.
  • Preferred initiators for thermal radical polymerization include, for example, benzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxypivalate, di-t-butylperoxide.
  • DTBPO dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate
  • MAIB dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • ACN azobiscyclohexanecarbonitrile
  • the composition for heat radiating members may contain a solvent.
  • the polymerization may be performed in a solvent or without a solvent.
  • the composition containing a solvent may be applied onto a substrate by, for example, a spin coating method and then photopolymerized after removing the solvent. Further, after photocuring, it may be heated to an appropriate temperature and post-treated by heat curing.
  • Preferred solvents include, for example, benzene, toluene, xylene, mesitylene, hexane, heptane, octane, nonane, decane, tetrahydrofuran, ⁇ -butyrolactone, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, cyclohexane, methylcyclohexane, cyclopentanone , Cyclohexanone, PGMEA and the like.
  • the said solvent may be used individually by 1 type, or may mix and use 2 or more types.
  • there is not much meaning in limiting the use ratio of the solvent at the time of polymerization and it may be determined for each case in consideration of polymerization efficiency, solvent cost, energy cost, and the like.
  • a stabilizer may be added to the heat radiating member composition in order to facilitate handling.
  • a stabilizer known ones can be used without limitation, and examples thereof include hydroquinone, 4-ethoxyphenol and 3,5-di-t-butyl-4-hydroxytoluene (BHT).
  • BHT 3,5-di-t-butyl-4-hydroxytoluene
  • titanium oxide for making white, carbon black for making black, and silica fine powder for adjusting viscosity can be mentioned.
  • an additive may be added to further increase the mechanical strength.
  • fibers or long molecules such as polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyester, polyamide, and polyimide can be used as inorganic fibers and cloth such as glass and carbon fiber, or polymer additives.
  • a coupling treatment is performed on the inorganic filler, and the first inorganic filler is obtained by bonding one end of the coupling agent and the inorganic filler.
  • a known method can be used for the coupling treatment.
  • an inorganic filler and a coupling agent are added to a solvent. After stirring using a stirrer etc., it dries. After drying the solvent, heat treatment is performed under vacuum conditions using a vacuum dryer or the like. A solvent is added to the inorganic filler and pulverized by ultrasonic treatment.
  • the solution is separated and purified using a centrifuge. After discarding the supernatant, a solvent is added and the same operation is repeated several times.
  • the inorganic filler subjected to the coupling treatment after purification is dried using an oven.
  • ⁇ Modify with polymerizable compound> A bifunctional or higher functional polymerizable compound is bonded to the other end of the coupling agent of the inorganic filler subjected to the coupling treatment (which may be the same as the first inorganic filler or may be a different inorganic filler).
  • the inorganic filler modified with the polymerizable compound in this manner is used as the second inorganic filler.
  • the inorganic filler subjected to the coupling treatment and the polymerizable compound are mixed using an agate mortar or the like and then kneaded using a biaxial roll or the like. Thereafter, separation and purification are performed by sonication and centrifugation.
  • ⁇ Mix> For example, the first inorganic filler and the second inorganic filler are weighed out so that the weight of the inorganic filler alone is 1: 1, and mixed in an agate mortar or the like. Then, it mixes using a biaxial roll etc. and obtains the composition for heat radiating members.
  • the mixing ratio of the first inorganic filler and the second inorganic filler is such that when the bonding group forming the bond between the first inorganic filler and the second inorganic filler is amine: epoxy, the weight of the inorganic filler alone is, for example, The ratio is preferably 1: 1 to 1:30, more preferably 1: 3 to 1:20.
  • the mixing ratio is determined by the number of terminal linking groups that form a bond between the first inorganic filler and the second inorganic filler. For example, if it is a secondary amine, it can react with two oxiranyl groups.
  • the method to manufacture the film as a heat radiating member using the composition for heat radiating members is demonstrated.
  • the heat radiating member composition is sandwiched between hot plates using a compression molding machine, and oriented / cured by compression molding. Further, post-curing is performed using an oven or the like to obtain the heat radiating member of the present invention.
  • the pressure at the time of compression molding is preferably 50 ⁇ 200kgf / cm 2, more preferably 70 ⁇ 180kgf / cm 2.
  • the pressure during curing is preferably high. However, it is preferable that the pressure is appropriately changed depending on the fluidity of the mold and the target physical properties (which direction of thermal conductivity is important) and an appropriate pressure is applied.
  • the composition is applied onto a substrate, and the solvent is removed by drying to form a coating layer having a uniform film thickness.
  • the coating method include spin coating, roll coating, caten coating, flow coating, printing, micro gravure coating, gravure coating, wire bar coating, dip coating, spray coating, meniscus coating, and the like.
  • the solvent can be removed by drying, for example, by air drying at room temperature, drying on a hot plate, drying in a drying furnace, blowing hot air or hot air, and the like.
  • the conditions for removing the solvent are not particularly limited, and it may be dried until the solvent is almost removed and the fluidity of the coating layer is lost.
  • the substrate examples include metal substrates such as copper, aluminum, and iron; inorganic semiconductor substrates such as silicon, silicon nitride, gallium nitride, and zinc oxide; glass substrates such as alkali glass, borosilicate glass, and flint glass; alumina; Inorganic insulating substrates such as aluminum nitride; polyimide, polyamideimide, polyamide, polyetherimide, polyetheretherketone, polyetherketone, polyketonesulfide, polyethersulfone, polysulfone, polyphenylenesulfide, polyphenyleneoxide, polyethyleneterephthalate, polybutyleneterephthalate , Polyethylene naphthalate, polyacetal, polycarbonate, polyarylate, acrylic resin, polyvinyl alcohol, polypropylene, cellulose Triacetyl cellulose or partially saponified product thereof, epoxy resins, phenolic resins, and a plastic film substrate such as norbornene resins.
  • metal substrates
  • the film substrate may be a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film.
  • the film substrate may be subjected to surface treatment such as saponification treatment, corona treatment, or plasma treatment in advance.
  • the material used as the protective layer include polyvinyl alcohol.
  • an anchor coat layer may be formed in order to improve the adhesion between the protective layer and the substrate.
  • Such an anchor coat layer may be any inorganic or organic material as long as it improves the adhesion between the protective layer and the substrate.
  • the bonds between the inorganic fillers are composed of the coupling-processed inorganic filler and the coupling-processed inorganic filler modified with the polymerizable compound has been described.
  • the first inorganic filler is subjected to a coupling treatment with a silane coupling agent having an amino group.
  • the second inorganic filler is coupled with a silane coupling agent having an amino group, the amino group is bonded to one end of a polymerizable compound having an epoxy group at both ends.
  • the amino group on the first inorganic filler side is bonded to the other epoxy group of the polymerizable compound on the second inorganic filler side (see FIG. 2).
  • the inorganic filler side may have an epoxy group
  • the polymerizable compound side may have a combination having an epoxy group.
  • a coupling agent modified with a polymerizable compound in advance can be used.
  • the first inorganic filler is coupled with a silane coupling agent having an amino group.
  • a coupling treatment is performed with the silane coupling agent with a modified second inorganic filler.
  • the amino group on the first inorganic filler side is bonded to the epoxy group of the polymerizable compound on the second inorganic filler side (see FIG. 2).
  • inorganic fillers may be bonded to each other through a coupling between coupling agents without using a polymerizable compound.
  • the first inorganic filler is coupled with a silane coupling agent having an amino group.
  • the second inorganic filler is coupled with a silane coupling agent having an epoxy group.
  • the amino group on the first inorganic filler side is bonded to the epoxy group on the second inorganic filler side (see FIG. 3).
  • the coupling agent bonded to the first inorganic filler and the coupling agent bonded to the second inorganic filler each have a functional group for bonding the coupling agents together.
  • the functional group on the first inorganic filler side and the functional group on the second inorganic filler side may be a combination of different ones or a combination of the same ones as long as coupling between the coupling agents becomes possible.
  • Examples of combinations of functional groups that form a bond between coupling agents include oxiranyl group and amino group, vinyl group, methacryloxy group, carboxy group or carboxylic dianhydride and amino group, imidazole group and oxiranyl group, etc.
  • the present invention is not limited to these combinations. A combination with high heat resistance is more preferable.
  • the coupling agent and the polymerizable compound As described above, by appropriately selecting the coupling agent and the polymerizable compound, the first inorganic filler and the second inorganic filler can be connected, and the heat dissipation composition of the present invention has extremely high thermal conductivity.
  • a heat radiating member having controllability of the thermal expansion coefficient can be obtained.
  • said functional group is an illustration and is not restricted to said functional group as long as the effect of this invention is acquired.
  • the heat radiating member according to the second embodiment of the present invention is formed by molding a cured product obtained by curing the composition for heat radiating member according to the first embodiment.
  • This cured product has high thermal conductivity and a negative or very small positive coefficient of thermal expansion, and is excellent in chemical stability, heat resistance, hardness, mechanical strength, and the like.
  • the mechanical strength includes Young's modulus, tensile strength, tear strength, bending strength, bending elastic modulus, impact strength, and the like.
  • the heat radiating member of the present invention is useful for a heat radiating plate, a heat radiating sheet, a heat radiating film, a heat radiating adhesive, a heat radiating molded product, and the like.
  • thermosetting temperature ranges from room temperature to 350 ° C., preferably from room temperature to 250 ° C., more preferably from 50 ° C. to 200 ° C.
  • curing time is 5 ° C.
  • the range is from second to 10 hours, preferably from 1 minute to 5 hours, more preferably from 5 minutes to 1 hour.
  • reheating treatment may be performed to reduce strain and the like.
  • the heat radiating member of the present application is formed from the above composition for a heat radiating member, and is used in the form of a sheet, a film, a thin film, a fiber, a molded body, or the like.
  • Preferred shapes are plates, sheets, films and thin films.
  • the thickness of the sheet is 1 mm or more
  • the thickness of the film is 5 ⁇ m or more, preferably 10 to 500 ⁇ m, more preferably 20 to 300 ⁇ m
  • the thickness of the thin film is less than 5 ⁇ m. What is necessary is just to change a film thickness suitably according to a use.
  • An electronic apparatus includes the heat dissipating member according to the second embodiment and an electronic device having a heat generating portion.
  • a heat radiating member is arrange
  • the shape of the heat dissipation member may be any of a heat dissipation electronic substrate, a heat dissipation plate, a heat dissipation sheet, a heat dissipation film, a heat dissipation adhesive, a heat dissipation molded product, and the like.
  • a semiconductor element can be given as an electronic device.
  • the heat dissipating member of the present application has high heat resistance and high insulation in addition to high thermal conductivity. Therefore, the present invention is particularly effective for an insulated gate bipolar transistor (IGBT) that requires a more efficient heat dissipation mechanism because of high power among semiconductor elements.
  • IGBT is one of semiconductor elements and is a bipolar transistor in which a MOSFET is incorporated in a gate portion, and is used for power control.
  • Electronic devices equipped with IGBTs include high-power inverter main conversion elements, uninterruptible power supply devices, AC motor variable voltage variable frequency control devices, railway vehicle control devices, electric vehicles such as hybrid cars and electric cars, IH A cooker can be mentioned.
  • the first inorganic filler obtained by coupling the present invention and the second inorganic filler further modified with a polymerizable compound after the coupling treatment are bonded to form a bond between the inorganic fillers, thereby achieving high heat conduction.
  • the heat radiating member having the property has been described, the present invention is not limited to this.
  • the first inorganic filler modified with the polymerizable compound after the coupling treatment and the second inorganic filler subjected to the coupling treatment may be bonded to form a bond between the inorganic fillers.
  • the composition for heat radiating members of this application may contain multiple types of inorganic fillers like the 3rd and 4th inorganic filler.
  • a thermal conductive third inorganic filler bonded to one end of the coupling agent to which the active compound is bonded may be further contained.
  • only the inorganic filler modified with the polymerizable compound after the coupling treatment may be used to bond the polymerizable compounds with an appropriate polymerization initiator or the like to form a bond between the inorganic fillers. That is, according to the present invention, when an inorganic material and an organic compound are combined, a bond is formed between the inorganic materials with the organic compound, the thermal conductivity is remarkably improved, and the thermal expansion coefficient is controlled.
  • the component material which comprises the heat radiating member used for the Example of this invention is as follows. ⁇ Polymerizable liquid crystal compound> Liquid crystalline epoxy: Formulas (3-1) to (6-1) below (manufactured by JNC Corporation) It can be synthesized by the method described in Japanese Patent No. 5084148.
  • the BN particles modified with the coupling agent were transferred to a sample tube, 50 mL of THF (manufactured by Nacalai Tesque) was added, and then pulverized by ultrasonic treatment (MODEL 450, manufactured by BRANSON). Further, this solution was separated and purified at 6000 rpm for 10 minutes using a centrifuge (CT6E manufactured by Hitachi Koki Co., Ltd.). After discarding the supernatant, 50 mL of acetone was added and the same operation was performed twice. The modified BN particles after purification were dried in an oven at 60 ° C. for 24 hours. Let the obtained particle
  • the first inorganic filler A and the liquid crystalline epoxy (3-1) were weighed on a medicine wrapping paper of 2 g and 4 g (BN content: 19% by volume), mixed using a mortar, and then biaxial roll (Nitto) The mixture was kneaded at 120 ° C. for 10 minutes using HR-3 manufactured by Reactor Co., Ltd. Thereafter, separation and purification were performed by sonication and centrifugation to obtain coupling agent-modified BN particles from which unreacted components were removed. This particle is referred to as a second inorganic filler B.
  • the amount of the first inorganic filler A and the second inorganic filler B applied to the silane of the silane coupling agent or liquid crystalline epoxy to BN is manufactured by TG-DTA equipment (Seiko Instruments Inc. (currently Hitachi High-Tech)). Using EXSTAR TG / DTA5200), the heat loss at 600 ° C. was calculated.
  • Thermal conductivity is measured in advance with a specific heat of a heat radiating member (DSC type input compensation type differential scanning calorimeter EXSTAR6000 manufactured by Seiko Instruments Inc. (currently Hitachi High-Tech)). ) And specific gravity (measured with a density meter AG204 density measurement kit manufactured by METTLER TOLEDO), and the value is multiplied by the thermal diffusivity determined by the TC7000 thermal diffusivity measuring device manufactured by ULVAC-RIKO. Thus, the thermal conductivity was obtained. The thermal diffusivity in the thickness direction was measured using a standard sample holder after blackening the sample using carbon spray.
  • the thermal diffusivity in the plane direction is determined from the distance from the time when the sample is irradiated with the laser and the infrared ray is emitted, and the distance between the spot that irradiates the laser and the spot that detects the infrared ray. Calculated.
  • Example 2 instead of the polymerizable liquid crystal compound (3-1), a commercially available bisphenol A-type polymerizable compound (jER828) that does not exhibit liquid crystallinity was used as the polymerizable compound, 0.5687 g of the first inorganic filler A, A sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that 1.5084 g of inorganic filler C was used. The result is referred to as Example 2.
  • jER828 bisphenol A-type polymerizable compound that does not exhibit liquid crystallinity
  • Example 1 The same polymerizable liquid crystal compound (3-1) as used in Example 1, the first inorganic filler A, and a curing agent such as an amine curing agent (4,4′-diamino-1,2-diphenylethane) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)) is weighed on a medicine wrapping paper so that the resin component (liquid crystal epoxy component + diamine component) is 15% by volume, mixed using a mortar, The mixture was kneaded at 120 ° C. for 10 minutes using HR-3 manufactured by Nitto Reactor Co., Ltd. The mixture was sandwiched between stainless plates in the same manner as in Example 1, and polymerized and molded by a hot press.
  • a curing agent such as an amine curing agent (4,4′-diamino-1,2-diphenylethane) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • Example 2 The same commercial bisphenol A-type polymerizable compound (jER828) that does not exhibit liquid crystallinity as that used in Example 2, the first inorganic filler A, and a curing agent such as an amine-based curing agent (4,4′-diamino) -1,2-Diphenylethane (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was weighed on a medicine wrapping paper so that the resin component would be 15% by volume, mixed using a mortar, and then biaxial roll (Nitto reaction) The mixture was kneaded at 120 ° C. for 10 minutes using HR-3) manufactured by Kikai Co., Ltd. The mixture was sandwiched between stainless plates in the same manner as in Example 1, and polymerized and molded by a hot press.
  • a curing agent such as an amine-based curing agent (4,4′-diamino) -1,2-Diphenylethane (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was weighed on a medicine wrapping paper so that the resin
  • Table 1 shows the results of measuring the thermal conductivity of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2.
  • thermo conductivity in the planar direction has an effect of improving the thermal conductivity in the thickness direction more than twice as long as the thermal conductivity in the planar direction shows substantially the same performance as compared with the case of using. This is thought to be because the edge portions (reactive portions) of the plate-like BN stacked in parallel are directly bonded with polymerizable molecules, and heat is transmitted through the molecules by phonon vibration.
  • Example 3 Example 1 except that a polymerizable liquid crystal compound and a commercially available bisphenol A-type polymerizable compound that does not exhibit liquid crystal properties were mixed as a polymerizable compound so that the molar ratio was 1: 1. Similarly, a sample was prepared and the thermal expansion coefficient was evaluated. The result is referred to as Example 3.
  • Example 4 A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that commercially available 1,4-butanediol diglycidyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) that does not exhibit liquid crystallinity was used as the polymerizable compound. evaluated. The result is referred to as Example 4.
  • the composite material of the present invention exhibits a negative coefficient of thermal expansion in a temperature region below the heat resistance temperature.
  • This negative coefficient of thermal expansion is considered to be due to the thermal expansion characteristics of the inorganic filler.
  • the use of a liquid crystalline polymerizable compound improves the heat resistant temperature and the repeated stability of the temperature cycle. This is presumably because the liquid crystalline polymerizable compound propagates phonons linearly, so that it not only has good heat conduction but also has a large cyclic structure and high heat resistance of the molecular chain itself.
  • diamine is used as a curing agent, a negative thermal expansion coefficient is observed in the temperature range of 100 ° C.
  • the heat dissipating member of the present invention had a negative coefficient of thermal expansion.
  • the stress due to thermal change is less when the thermal expansion coefficient is closer to that of a semiconductor such as silicon or silicon carbide. Therefore, by combining with a filler having a positive thermal expansion coefficient, the thermal expansion coefficient can be reduced. Tried to adjust.
  • Example 5 As the polymerizable compound, a polymerizable liquid crystal compound (3-1) is used, and spherical alumina (TS-6 (LV) manufactured by Tatsumori Co., Ltd.) is used as a silane coupling agent in the same manner as the first inorganic filler A.
  • the modified powder and the second inorganic filler B (powder obtained by modifying BN with a silane coupling agent and a polymerizable liquid crystal compound) were weighed and mixed in amounts of 0.5954 g and 1.6400 g, respectively.
  • the powder was polymerized and molded in the same manner as in Example 1, and the thermal conductivity and thermal expansion coefficient were evaluated.
  • Example 6 A polymerizable liquid crystal compound (3-1) is used as the polymerizable compound, and a plate-like alumina (Seraph YFA02025 manufactured by Kinsei Matec Co., Ltd.) is modified with a silane coupling agent in the same manner as the first inorganic filler A Then, the second inorganic filler B (powder in which BN was modified with a silane coupling agent and a polymerizable liquid crystal compound) was weighed and mixed in 0.5954 g and 1.6400 g, respectively. The powder was polymerized and molded in the same manner as in Example 1, and the thermal conductivity and thermal expansion coefficient were evaluated.
  • a plate-like alumina Siraph YFA02025 manufactured by Kinsei Matec Co., Ltd.
  • Example 7 As the polymerizable compound, a polymerizable liquid crystal compound (3-1) is used, and a powder obtained by modifying an aluminum nitride powder (H grade made by Tokuyama Co., Ltd.) with a silane coupling agent in the same manner as the first inorganic filler A
  • the second inorganic filler B (powder obtained by modifying BN with a silane coupling agent and a polymerizable liquid crystal compound) was weighed out and mixed in 0.0396 g and 0.4035 g, respectively.
  • the powder was polymerized and molded in the same manner as in Example 1, and the thermal conductivity and thermal expansion coefficient were evaluated.
  • Example 8 As the polymerizable compound, a polymerizable liquid crystal compound (3-1) is used, and a powder obtained by modifying an aluminum nitride powder (H grade made by Tokuyama Co., Ltd.) with a silane coupling agent in the same manner as the first inorganic filler A
  • the second inorganic filler B (powder obtained by modifying BN with a silane coupling agent and a polymerizable liquid crystal compound) was weighed and mixed in 0.1230 g and 0.3510 g, respectively.
  • the powder was polymerized and molded in the same manner as in Example 1, and the thermal conductivity and thermal expansion coefficient were evaluated.
  • Example 1 the liquid crystalline epoxy of the formula (3-1) was used.
  • Example 9 is based on the formula (4-1)
  • Example 10 is based on the formula (5-1)
  • Examples 11 was the same experiment as in Example 1 using the liquid crystalline epoxy of formula (6-1).
  • the curing temperature was increased to 180 ° C. This is because the oxetanyl group is less reactive than the oxiranyl group, and the polymerization does not proceed sufficiently at the same reaction temperature, resulting in a very brittle sample.
  • Example 1 and Example 9 were compared, it was expected that the more benzene rings, the better the heat conduction, but it is thought that the negative due to the ester bond connecting them was larger. Further, in the comparison between Examples 9 and 10, it is considered that if the structure is similar, the phonon conduction is faster and the heat conduction is faster with a rigid and large ring structure. Moreover, in the comparison between Examples 10 and 11, the oxiranyl group has higher reactivity, and the number of bonds between the inorganic fillers is increased, so that it is considered that the thermal conductivity is good.
  • Example 11 the thermal conductivity in the planar direction was higher in Example 11 than in Example 10, but this is because the curing temperature in Example 11 is 20 degrees higher, so the voids during curing are reduced. This is thought to be due to higher heat conduction. Further, a negative coefficient of thermal expansion was also observed in Example 11 using the liquid crystalline epoxy having the structure farthest from Example 1. This is presumably because the negative coefficient of thermal expansion inherits the properties of the inorganic filler rather than the epoxy.
  • the selection of the epoxy compound used in the present invention is preferably highly reactive with the coupling agent and heat resistant, and if it is a liquid crystalline epoxy, the thermal conductivity is further increased. The heat resistance is also high due to its structure, so that it is desirable to select appropriately according to the characteristics required for the device to be used.
  • a heat radiating member having high thermal conductivity, adjustable thermal expansion coefficient from negative to positive, insulative, thermosetting and good workability was realized.
  • this heat dissipating member it becomes possible to manufacture a device having high heat dissipation and high reliability with respect to the heat cycle.
  • Example 12 and 13 ⁇ Preparation of heat dissipation member>
  • BN particles PTX25, manufactured by Momentive
  • S320 N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane
  • Anhydrous was added to 50 mL, stirred at 750 rpm for 1 hour using a stirrer, and left at 40 ° C. for 5 hours and at room temperature for 19 hours. After drying the solvent, it was heat-treated for 5 hours under vacuum using a vacuum dryer set at 125 ° C.
  • the BN particles modified with this coupling agent were transferred to a sample tube, 50 mL of THF (manufactured by Nacalai Tesque) was added, and then pulverized by ultrasonication (MODEL 450, manufactured by BRANSON). Furthermore, this solution was separated and purified by a centrifuge (CT6E manufactured by Hitachi Koki Co., Ltd.) at 6000 rpm for 10 minutes. After discarding the supernatant, 50 mL of acetone was added and the same operation was performed twice. The purified BN particles were left to dry in an oven at 60 ° C. for 24 hours. Let the obtained particle
  • Table 5 shows the thermal conductivity and coefficient of thermal expansion of the samples of Example 12 and Example 13.
  • Example 12 and Example 13 From the results of Example 12 and Example 13, by reacting BN modified with a coupling agent having an amino group and BN modified with a coupling agent having an epoxy group, it has a negative coefficient of thermal expansion and has a thermal conductivity. It turns out that a material with a high rate can be made. This is because inorganic filler B having an epoxy group by reacting BN (inorganic filler A, inorganic filler D) modified with a coupling agent having an amino group as in Example 1 with a bifunctional or higher epoxy later. As compared with the case of obtaining the above, it is not only easy to prepare a sample, but also the loss of raw materials is small because excessive epoxy is not required and drying and purification steps can be reduced. Also, the thermal conductivity is comparable to that of Example 1, and it is considered that it is more efficient to prepare inorganic fillers that are reactive with each other for mass production.

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Abstract

 本願発明は、高熱伝導性を有する放熱部材を形成可能な組成物および放熱部材である。本願の放熱部材用組成物は、カップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第1の無機フィラーと;カップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第2の無機フィラーであって、前記結合したカップリング剤の他端にさらに2官能以上の重合性化合物が結合した第2の無機フィラーとを含み;硬化により、前記第1の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端が、前記第2の無機フィラーの前記重合性化合物と結合する、放熱部材用組成物である。

Description

放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
 本発明は、放熱部材用組成物に関する。特に、電子機器内部に生じた熱を効率よく伝導、伝達することにより放熱し、熱膨張率を制御できる放熱部材を形成可能な放熱部材用組成物に関する。
 近年、ハイブリッド自動車や電気自動車などの電力制御用の半導体素子や、高速コンピューター用のCPUなどにおいて、内部の半導体の温度が高くなり過ぎないように、パッケージ材料の高熱伝導化が望まれている。すなわち半導体チップから発生した熱を効果的に外部に放出させる能力が重要になっている。また、動作温度の上昇により、パッケージ内に使用されている材料間の熱膨張率の差により熱歪が発生し、配線の剥離などによる寿命の低下が問題になっている。
 このような放熱問題を解決する方法としては、発熱部位に高熱伝導性材料(放熱部材)を接触させて熱を外部に導き、放熱する方法が挙げられる。熱伝導性が高い材料として、金属や金属酸化物などの無機材料が挙げられる。特に窒化アルミニウムなどはシリコンの熱膨張率に近く、好んで使用されている。しかしながら、このような無機材料は、加工性や割れ易さなどに問題があり、パッケージ内の基板材料として充分な特性を持っているとはいえない。そのため、これら無機材料と樹脂を複合化し、高熱伝導化した放熱部材の開発が行われている。
 樹脂複合材の高熱伝導化は、一般的に、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などの汎用樹脂に、金属充填材や無機充填材を多量に添加することにより行われてきた。しかしながら、無機充填材の熱伝導率は物質固有の値であり上限が決まっている。そのため、樹脂の熱伝導率を向上させ、複合材の熱伝導率をボトムアップさせる方法が広く試みられている。
 特許文献1には、樹脂の熱伝導率を向上させる方法として、液晶組成物を配向制御添加剤やラビング処理法などにより配向制御して重合することにより得られる放熱部材が開示されている。
特開2006-265527号公報
 上記のとおり、放熱部材は、電子機器の発達に伴い、常により効果の高い熱伝導化と熱膨張率の制御性が望まれる。
 そこで本発明は、高熱伝導性を有し、熱膨張率を制御できる放熱部材を形成可能な組成物および放熱部材を提供することを課題とする。
 本発明者らは、有機材料と無機材料の複合化において、樹脂に無機材料を添加するのではなく、無機材料どうしをつなげるような態様、すなわち、カップリング剤と2官能以上の反応性有機化合物を介して無機材料を直接結合させることにより(図1、2参照)、または、カップリング剤を介して無機材料どうしを直接結合させることにより(図1、3参照)、熱伝導率が極めて高く、熱膨張率の制御が可能な複合材を実現できることを見出し、本発明を完成させた。
 本発明の第1の態様に係る放熱部材用組成物は、例えば図2に示すように、カップリング剤3の一端と結合した熱伝導性の第1の無機フィラー1と;カップリング剤4の一端と結合した熱伝導性の第2の無機フィラー2であって、結合したカップリング剤4の他端にさらに2官能以上の重合性化合物5が結合した第2の無機フィラー2とを含み;硬化により、第1の無機フィラー1に結合したカップリング剤3の他端が、第2の無機フィラー2の重合性化合物5と結合する、放熱部材用組成物である。「一端」および「他端」とは、分子の形状の縁または端であればよく、分子の長辺の両端であってもなくてもよい。
 このように構成すると、無機フィラーどうしをカップリング剤および重合性化合物を介して直接結合させて放熱部材を形成することができる。そのため、直接的に、熱伝導の主な要素であるフォノンを伝播することができ、硬化後の放熱部材は水平方向だけでなく厚み方向にも極めて高い熱伝導性を有することができる。
 本発明の第2の態様に係る放熱部材用組成物は、例えば図3に示すように、カップリング剤3の一端と結合した熱伝導性の第1の無機フィラー1と;カップリング剤4の一端と結合した熱伝導性の第2の無機フィラー2とを含み;前記第1の無機フィラーに結合したカップリング剤と前記第2の無機フィラーに結合したカップリング剤は、カップリング剤どうしを結合させる官能基をそれぞれ有し、硬化により、第1の無機フィラー1に結合したカップリング剤3の他端が、第2の無機フィラー2に結合したカップリング剤4の他端と結合する。
 このように構成すると、無機フィラーどうしをカップリング剤を介して直接結合させて放熱部材を形成することができる。そのため、直接的に、熱伝導の主な要素であるフォノンを伝播することができ、硬化後の放熱部材は水平方向だけでなく厚み方向にも極めて高い熱伝導性を有することができる。
 本発明の第3の態様に係る放熱部材用組成物は、上記本発明の第1の態様または第2の態様に係る放熱部材用組成物において、前記第1の無機フィラーと前記第2の無機フィラーが、窒化物、または炭素材料である。
 このように構成すると、放熱部材用組成物は、無機フィラーとしてより好ましい化合物を含有することができる。
 本発明の第4の態様に係る放熱部材用組成物は、上記本発明の第3の態様に係る放熱部材用組成物において、前記第1の無機フィラーと前記第2の無機フィラーが、窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化ホウ素炭素、黒鉛、炭素繊維、カーボンナノチューブから選ばれる少なくとも一つである。
 このように構成すると、無機フィラーの熱伝導率が高く、熱膨張率が非常に小さいかまたは負であり、それらと複合化することにより目的とする放熱部材用組成物が得られる。
 本発明の第5の態様に係る放熱部材用組成物は、上記本発明の第1の態様~第4の態様のいずれか1の態様に係る放熱部材用組成物において、前記第1の無機フィラーおよび前記第2の無機フィラーと異なる熱膨張率を持つ第3の無機フィラーであって、カップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第3の無機フィラー、または、重合性化合物が結合したカップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第3の無機フィラーをさらに含む。
 このように構成すると、前記第1の無機フィラーと前記第2の無機フィラーが2次元の板状または1次元の線状である場合、それらだけを複合化させると、複合化した放熱部材用組成物の物性も大きな異方性が生じる。第3のフィラーを加えることにより、第1、第2の無機フィラーの配向性が緩和し、異方性が少なくなる利点がある。さらに、第1、第2の無機フィラーの熱膨張率が非常に小さいか負であるとき、熱膨張率が正の第3の無機フィラーを加えることにより、その混合比率によって熱膨張率を負から正により精密に制御することが可能になる。第3の無機フィラーに使用する無機フィラーに制約は無いが、熱伝導率が高い物であることが望ましい。
 本発明の第6の態様に係る放熱部材用組成物は、上記本発明の第1の態様~第5の態様のいずれか1の態様に係る放熱部材用組成物において、前記第1の無機フィラーおよび前記第2の無機フィラーに結合していない、有機化合物または高分子化合物をさらに含む。
 このように構成すると、第1、第2の無機フィラーを直接接続して硬化させた放熱部材用組成物では、熱伝導率を向上させるためにフィラーの粒径を大きくするにつれて、それにあいまって空隙率が高くなる。その空隙を結合していない化合物で満たすことにより、熱伝導率や水蒸気遮断性能などを向上させることができる。
 本発明の第7の態様に係る放熱部材用組成物は、上記本発明の第1の態様に係る放熱部材用組成物において、前記2官能以上の重合性化合物が、両末端にオキシラニル基またはオキセタニル基を含む構造を有する重合性化合物である。
 このように構成すると、耐熱性がよく熱伝導率の高いシランカップリング剤と有機分子間の結合が可能である。さらに、特に耐熱性を重視する場合には、熱伝導率を少し下げてでもイミド結合、アミド結合など耐熱性の高い構造を有するほうが良い場合など、適宜選択できる。
 本発明の第8の態様に係る放熱部材用組成物は、上記本発明の第7の態様に係る放熱部材用組成物において、前記2官能以上の重合性化合物が、下記式(1-1)で表される少なくとも1種の重合性液晶化合物である。
     Ra1-Z-(A-Z)m1-Ra1     ・・・(1-1)
[上記式(1-1)中、
 Ra1は、それぞれ下記式(2-1)~(2-2)のいずれかで表される重合性基であり;
 Aは、1,4-シクロヘキシレン、1,4-シクロヘキセニレン、1,4-フェニレン、ナフタレン-2,6-ジイル、テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル、フルオレン-2,7-ジイル、ビシクロ[2.2.2]オクト-1,4-ジイル、またはビシクロ[3.1.0]ヘキス-3,6-ジイルであり、
 これらの環において、任意の-CH-は、-O-で置き換えられてもよく、任意の-CH=は、-N=で置き換えられてもよく、任意の水素は、ハロゲン、炭素数1~10のアルキル、または炭素数1~10のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく、
 該アルキルにおいて、任意の-CH-は、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-、または-C≡C-で置き換えられてもよく;
 Zは、それぞれ独立して単結合、または炭素数1~20のアルキレンであり、
 該アルキレンにおいて、任意の-CH-は、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-、-CF=CF-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-N(O)=N-、または-C≡C-で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく;
 m1は、1~6の整数である。]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
[式(2-1)~(2-2)中、Rは、水素、ハロゲン、-CF、または炭素数1~5のアルキルであり、qは0または1である。]
 このように構成すると、放熱部材用組成物は、重合性化合物として重合性液晶化合物を含有することができる。これらの化合物は、熱硬化性でありフィラーの量に影響を受けずに硬化させることができ、さらに耐熱性に優れる。また分子構造は、対称性、直線性を有するため、フォノンの伝導に有利であると考えられる。
 本発明の第9の態様に係る放熱部材用組成物は、上記本発明の第8の態様に係る放熱部材用組成物において、上記式(1-1)中、Aが、1,4-シクロヘキシレン、任意の水素がハロゲンで置き換えられた1,4-シクロヘキシレン、1,4-フェニレン、任意の水素がハロゲンもしくはメチル基で置き換えられた1,4-フェニレン、フルオレン-2,7-ジイル、または任意の水素がハロゲンもしくはメチル基で置き換えられたフルオレン-2,7-ジイルである。
 このように構成すると、放熱部材用組成物は、重合性液晶化合物としてより好ましい化合物を含有することができる。これらの化合物は、分子の直線性がより高くなり、フォノンの伝導により有利であると考えられる。
 本発明の第10の態様に係る放熱部材用組成物は、上記本発明の第8の態様または第9の態様に係る放熱部材用組成物において、上記式(1-1)中、Zが、単結合、-(CH-、-O(CH-、-(CHO-、-O(CHO-、-CH=CH-、-C≡C-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、-CHCH-COO-、-OCO-CHCH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-OCF-または-CFO-であり、該aが1~20の整数である。
 このように構成すると、放熱部材用組成物は、重合性液晶化合物として特に好ましい化合物を含有することができる。これらの化合物は、物性、作り易さ、または扱い易さに優れるため好ましい。
 本発明の第11の態様に係る放熱部材は、上記本発明の第1の態様~第10の態様のいずれか1の態様に係る放熱部材用組成物を硬化させて得られる。
 このように構成すると、放熱部材は、無機フィラー間に結合を有し、極めて高い熱伝導性を有することができる。
 本発明の第12の態様に係る電子機器は、上記本発明の第11の態様に係る放熱部材と;発熱部を有する電子デバイスとを備え;前記放熱部材が前記発熱部に接触するように前記電子デバイスに配置された電子機器である。
 このように構成すると、高熱伝導性を有する放熱部材により、電子デバイスに生じた熱を効率よく伝導させることができる。また、面方向の熱膨張率を、放熱部材に取り付けた銅配線やシリコン、窒化ケイ素などの半導体素子の熱膨張率に近づけておくことにより、ヒートサイクルにより剥がれ難いデバイスが作製できる。
 本発明の第13の態様に係る放熱部材の製造方法は、熱伝導性の第1の無機フィラーを、カップリング剤の一端と結合させる工程と;熱伝導性の第2の無機フィラーを、カップリング剤の一端と結合させる工程と;前記第2の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端を、2官能以上の重合性化合物と結合させる工程と;前記第1の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端を、前記第2の無機フィラーの前記2官能以上の重合性化合物と結合させる工程とを備える。
 このように構成すると、無機フィラーどうしがカップリング剤および重合性化合物を介して直接結合し、このような態様のフィラーを含む放熱部材の製造方法となる。
 本発明の第14の態様に係る放熱部材の製造方法は、熱伝導性の第1の無機フィラーを、カップリング剤の一端と結合させる工程と;熱伝導性の第2の無機フィラーを、カップリング剤の一端と結合させる工程と;前記第1の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端を、前記第2の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端と結合させる工程とを備える。
 このように構成すると、無機フィラーどうしがカップリング剤を介して直接結合し、このような態様のフィラーを含む放熱部材の製造方法となる。
 本発明の放熱部材用組成物から形成された放熱部材は、極めて高い熱伝導性と熱膨張率の制御性を有する。さらに、化学的安定性、耐熱性、硬度および機械的強度などの優れた特性をも有する。当該放熱部材は、たとえば、放熱基板、放熱板(面状ヒートシンク)、放熱シート、放熱塗膜、放熱接着剤などに適している。
本願の放熱部材において、無機フィラーどうしの結合を窒化ホウ素を例として示す概念図である。 放熱部材用組成物の硬化により、第1の無機フィラー1に結合したカップリング剤3の他端が、第2の無機フィラー2の重合性化合物5と結合した状態を示す概念図である。 放熱部材用組成物の硬化により、第1の無機フィラー1に結合したカップリング剤3の他端が、第2の無機フィラー2のカップリング剤4と結合した状態を示す概念図である。
 この出願は、日本国で2014年8月27日に出願された特願2014-173316号に基づいており、その内容は本出願の内容として、その一部を形成する。本発明は以下の詳細な説明によりさらに完全に理解できるであろう。本発明のさらなる応用範囲は、以下の詳細な説明により明らかとなろう。しかしながら、詳細な説明および特定の実例は、本発明の望ましい実施の形態であり、説明の目的のためにのみ記載されているものである。この詳細な説明から、種々の変更、改変が、本発明の精神と範囲内で、当業者にとって明らかであるからである。出願人は、記載された実施の形態のいずれをも公衆に献上する意図はなく、改変、代替案のうち、特許請求の範囲内に文言上含まれないかもしれないものも、均等論下での発明の一部とする。
 以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、各図において互いに同一または相当する部分には同一あるいは類似の符号を付し、重複した説明は省略する。また、本発明は、以下の実施の形態に制限されるものではない。
 本明細書における用語の使い方は以下のとおりである。
 「液晶化合物」「液晶性化合物」は、ネマチック相やスメクチック相などの液晶相を発現する化合物である。
 「アルキルにおける任意の-CH-は、-O-などで置き換えられてもよい」あるいは「任意の-CHCH-は-CH=CH-などで置き換えられてもよい」等の句の意味を下記の一例で示す。たとえば、C-における任意の-CH-が、-O-または-CH=CH-で置き換えられた基としては、CO-、CH-O-(CH-、CH-O-CH-O-などである。同様にC11-における任意の-CHCH-が、-CH=CH-で置き換えられた基としては、HC=CH-(CH-、CH-CH=CH-(CH-など、さらに任意の-CH-が-O-で置き換えられた基としては、CH-CH=CH-CH-O-などである。このように「任意の」という語は、「区別なく選択された少なくとも1つの」を意味する。なお、化合物の安定性を考慮して、酸素と酸素とが隣接したCH-O-O-CH-よりも、酸素と酸素とが隣接しないCH-O-CH-O-の方が好ましい。
 また、環Aに関して「任意の水素は、ハロゲン、炭素数1~10のアルキル、または炭素数1~10のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよい」の句は、例えば1,4-フェニレンの2,3,5,6位の水素の少なくとも1つがフッ素やメチル基等の置換基で置き換えられた場合の態様を意味し、また置換基が「炭素数1~10のハロゲン化アルキル」である場合の態様としては、2-フルオロエチル基や3-フルオロ-5-クロロヘキシル基のような例を包含する。
 「化合物(1-1)」は、後述する下記式(1-1)で表される液晶化合物を意味し、また、下記式(1-1)で表される化合物の少なくとも1種を意味することもある。「放熱部材用組成物」は、前記化合物(1-1)または他の重合性化合物から選択される少なくとも1種の化合物を含有する組成物を意味する。1つの化合物(1-1)が複数のAを有するとき、任意の2つのAは同一でも異なっていてもよい。複数の化合物(1-1)がAを有するとき、任意の2つのAは同一でも異なっていてもよい。この規則は、Ra1やZなど他の記号、基などにも適用される。
[放熱部材用組成物]
 本願の放熱部材用組成物は、硬化させることにより、無機フィラーどうしをカップリング剤および2官能以上の重合性化合物を介して直接結合させて放熱部材を形成できる組成物である。図1は無機フィラーとしての窒化ホウ素を用いた場合の例である。窒化ホウ素(h-BN)をカップリング剤で処理すると、窒化ホウ素の場合は粒子の平面に反応基がないため、その周囲のみにカップリング剤が結合する。カップリング剤で処理された窒化ホウ素は、重合性化合物との結合を形成できる。したがって、カップリング処理された窒化ホウ素のカップリング剤の他端と、カップリング処理されさらに重合性化合物で修飾された窒化ホウ素の重合性化合物の他端とを結合させることにより(図2参照)、窒化ホウ素どうしを図1のように互いに結合させる。
 このように、無機フィラーどうしをカップリング剤および重合性化合物を介して結合させることにより、直接的にフォノンを伝播することができるので、硬化後の放熱部材は極めて高い熱伝導を有し、無機成分の熱膨張率を直接反映させた複合材料の作製が可能になる。
 本発明の第1の実施の形態に係る放熱部材用組成物は、例えば図2に示すように、カップリング剤3の一端と結合した熱伝導性の第1の無機フィラー1と;カップリング剤4の一端と結合した熱伝導性の第2の無機フィラー2であって、結合したカップリング剤4の他端にさらに2官能以上の重合性化合物5が結合した第2の無機フィラー2とを含む。
 図2に示すように、本願の放熱部材用組成物を硬化させると、第1の無機フィラー1に結合したカップリング剤3の他端が、第2の無機フィラー2の重合性化合物5と結合する。このようにして、無機フィラー間の結合が形成される。なお、このような無機フィラー間の結合を実現することが本発明では重要であり、無機フィラーに結合させる前に、あらかじめシランカップリング剤と重合性化合物を有機合成技術を用いて反応させておいても良い。
<2官能以上の重合性化合物>
 2官能以上の重合性化合物としては、重合性液晶化合物を用いることが好ましい。
 重合性液晶化合物としては、下記式(1-1)で表される液晶化合物が好ましく、液晶骨格と重合性基を有し、高い重合反応性、広い液晶相温度範囲、良好な混和性などを有する。この化合物(1-1)は他の液晶性の化合物や重合性の化合物などと混合するとき、容易に均一になりやすい。
   Ra1-Z-(A-Z)m1-Ra1     (1-1)
 上記化合物(1-1)の末端基Ra1、環構造Aおよび結合基Zを適宜選択することによって、液晶相発現領域などの物性を任意に調整することができる。末端基Ra1、環構造Aおよび結合基Zの種類が、化合物(1-1)の物性に与える効果、ならびに、これらの好ましい例を以下に説明する。
・末端基Ra1
 上記化合物(1-1)のRa1が直鎖状アルキルである場合、液晶相の温度範囲が広く、かつ粘度が小さい。一方、Ra1が分岐状アルキルである場合、他の液晶性の化合物との相溶性がよい。Ra1がシアノ、ハロゲン、-CF、-OCFである場合においても、良好な液晶相温度範囲を示し、誘電率異方性が高く、適度な相溶性を有する。
 好ましいRa1としては、水素、フッ素、塩素、シアノ、-N=C=O、-N=C=S、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルキルチオ、アルキルチオアルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルケニルオキシアルキル、アルコキシアルケニル、アルキニル、アルキニルオキシなどが挙げられる。これらの基において、少なくとも1つの水素がハロゲンで置き換えられた基も好ましい。好ましいハロゲンはフッ素、塩素であり、さらに好ましくはフッ素である。具体例としては、モノフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ペルフルオロアルキル、モノフルオロアルコキシ、ポリフルオロアルコキシ、ペルフルオロアルコキシなどである。これらの基はフォノンの伝導しやすさ、すなわち熱の伝わり易さの観点から、分岐鎖よりも直鎖の方が好ましい。
 さらに好ましいRa1としては、水素、フッ素、塩素、シアノ、-CF、-CFH、-CFH、-OCF、-OCFH、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のアルコキシ、炭素数2~10のアルコキシアルキルなどが挙げられる。前記アルキル、アルコキシおよびアルコキシアルキルとしては、たとえば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、メトキシメチル、メトキシエチルなどが挙げられる。特に好ましいRa1としては、炭素数1~10のアルキル、炭素数1~10のアルコキシである。
・環構造A
 上記化合物(1-1)の環構造Aにおける少なくとも1つの環が1,4-フェニレンの場合、配向秩序パラメーター(orientationalorder parameter)および磁化異方性が大きい。また、少なくとも2つの環が1,4-フェニレンの場合、液晶相の温度範囲が広く、さらに透明点が高い。1,4-フェニレン環上の少なくとも1つの水素がシアノ、ハロゲン、-CFまたは-OCFに置換された場合、誘電率異方性が高い。また、少なくとも2つの環が1,4-シクロヘキシレンである場合、透明点が高く、かつ粘度が小さい。
 好ましいAとしては、1,4-シクロへキシレン、1,4-シクロヘキセニレン、2,2-ジフルオロ-1,4-シクロへキシレン、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル、1,4-フェニレン、2-フルオロ-1,4-フェニレン、2,3-ジフルオロ-1,4-フェニレン、2,5-ジフルオロ-1,4-フェニレン、2,6-ジフルオロ-1,4-フェニレン、2,3,5-トリフルオロ-1,4-フェニレン、ピリジン-2,5-ジイル、3-フルオロピリジン-2,5-ジイル、ピリミジン-2,5-ジイル、ピリダジン-3,6-ジイル、ナフタレン-2,6-ジイル、テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル、フルオレン-2,7-ジイル、9-メチルフルオレン-2,7-ジイル、9,9-ジメチルフルオレン-2,7-ジイル、9-エチルフルオレン-2,7-ジイル、9-フルオロフルオレン-2,7-ジイル、9,9-ジフルオロフルオレン-2,7-ジイルなどが挙げられる。
 1,4-シクロヘキシレンおよび1,3-ジオキサン-2,5-ジイルの立体配置は、シスよりもトランスが好ましい。2-フルオロ-1,4-フェニレンおよび3-フルオロ-1,4-フェニレンは構造的に同一であるので、後者は例示していない。この規則は、2,5-ジフルオロ-1,4-フェニレンと3,6-ジフルオロ-1,4-フェニレンとの関係などにも適用される。
 さらに好ましいAとしては、1,4-シクロへキシレン、1,4-シクロヘキセニレン、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル、1,4-フェニレン、2-フルオロ-1,4-フェニレン、2,3-ジフルオロ-1,4-フェニレン、2,5-ジフルオロ-1,4-フェニレン、2,6-ジフルオロ-1,4-フェニレンなどである。特に好ましいAは、1,4-シクロへキシレンおよび1,4-フェニレンである。
・結合基Z
 上記化合物(1-1)の結合基Zが、単結合、-(CH-、-CHO-、-OCH-、-CFO-、-OCF-、-CH=CH-、-CF=CF-または-(CH-である場合、特に、単結合、-(CH-、-CFO-、-OCF-、-CH=CH-または-(CH-である場合、粘度が小さくなる。また、結合基Zが、-CH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-または-CF=CF-である場合、液晶相の温度範囲が広い。また、結合基Zが、炭素数4~10程度のアルキルの場合、融点が低下する。
 好ましいZとしては、単結合、-(CH-、-(CF-、-COO-、-OCO-、-CHO-、-OCH-、-CFO-、-OCF-、-CH=CH-、-CF=CF-、-C≡C-、-(CH-、-(CHO-、-O(CH-、-(CHCOO-、-OCO(CH-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-などが挙げられる。
 さらに好ましいZとしては、単結合、-(CH-、-COO-、-OCO-、-CHO-、-OCH-、-CFO-、-OCF-、-CH=CH-、-C≡C-などが挙げられる。特に好ましいZとしては、単結合、-(CH-、-COO-または-OCO-である。
 上記化合物(1-1)が3つ以下の環を有するときは粘度が低く、3つ以上の環を有するときは透明点が高い。なお、本明細書においては、基本的に6員環および6員環を含む縮合環等を環とみなし、たとえば3員環や4員環、5員環単独のものは環とみなさない。また、ナフタレン環やフルオレン環などの縮合環は1つの環とみなす。
 上記化合物(1-1)は、光学活性であってもよいし、光学的に不活性でもよい。化合物(1-1)が光学活性である場合、該化合物(1-1)は不斉炭素を有する場合と軸不斉を有する場合がある。不斉炭素の立体配置はRでもSでもよい。不斉炭素はRa1またはAのいずれに位置していてもよく、不斉炭素を有すると、化合物(1-1)の相溶性がよい。化合物(1-1)が軸不斉を有する場合、ねじれ誘起力が大きい。また、施光性はいずれでも構わない。
 以上のように、末端基Ra1、環構造Aおよび結合基Zの種類、環の数を適宜選択することにより、目的の物性を有する化合物を得ることができる。
・化合物(1-1)
 化合物(1-1)は、下記式(1-a)または(1-b)のように表すこともできる。   P-Y-(A-Z)-R     (1-a)
   P-Y-(A-Z)-Y-P     (1-b)
 上記式(1-a)および(1-b)中、A、Z、Rは上記式(1-1)で定義したA、Z、Ra1と同義であり、Pは上記式(2-1)~(2-2)で表される重合性基を示し、Yは単結合または炭素数1~20のアルキレン、好ましくは炭素数1~10のアルキレンを示し、該アルキレンにおいて、任意の-CH-は、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-または-CH=CH-で置き換えられてもよい。特に好ましいYとしては、炭素数1~10のアルキレンの片末端もしくは両末端の-CH-が-O-で置き換えられたアルキレンである。mは1~6の整数、好ましくは2~6の整数、さらに好ましくは2~4の整数である。
 好ましい化合物(1-1)の例としては、以下に示す化合物(a-1)~(g-20)が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 上記化学式(a-1)~(g-20)において、R、PおよびYは上記式(1-a)および(1-b)で定義したとおりである。
 Zは、それぞれ独立して単結合、-(CH-、-(CF-、-(CH-、-CHO-、-OCH-、-(CHO-、-O(CH-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-、-CF=CF-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-(CHCOO-、-OCO(CH-、-C≡C-、-C≡C-COO-、-OCO-C≡C-、-C≡C-CH=CH-、-CH=CH-C≡C-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-OCF-または-CFO-である。なお、複数のZは同一でも異なっていてもよい。
 Zは、それぞれ独立して-(CH-、-(CF-、-(CH-、-CHO-、-OCH-、-(CHO-、-O(CH-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-、-CF=CF-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-(CHCOO-、-OCO(CH-、-C≡C-、-C≡C-COO-、-OCO-C≡C-、-C≡C-CH=CH-、-CH=CH-C≡C-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-OCF-または-CFO-である。
 Zは、それぞれ独立して単結合、炭素数1~10のアルキル、-(CH-、-O(CHO-、-CHO-、-OCH-、-O(CH-、-(CHO-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-(CHCOO-、-OCO(CH-、-CF=CF-、-C≡C-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-OCF-または-CFO-であり、複数のZは同一でも異なっていてもよい。aは1~20の整数である。
 Xは、任意の水素がハロゲン、アルキル、フッ化アルキルで置き換えられてもよい1,4-フェニレンおよびフルオレン-2,7-ジイルの置換基であり、ハロゲン、アルキルまたはフッ化アルキルを示す。
 上記化合物(1-1)のより好ましい態様について説明する。より好ましい化合物(1-1)は、下記式(1-c)または(1-d)で表すことができる。
   P-Y-(A-Z)-R     (1-c)
   P-Y-(A-Z)-Y-P     (1-d)
 上記式中、A、Y、Z、Rおよびmはすでに定義したとおりであり、Pは下記式(2-1)~(2-2)で表される重合性基を示す。上記式(1-d)の場合、2つのPは同一の重合性基(2-1)~(2-2)を示し、2つのYは同一の基を示し、2つのYは対称となるように結合する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 上記化合物(1-1)のより好ましい具体例を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
・化合物(1-1)の合成方法
 上記化合物(1-1)は、有機合成化学における公知の手法を組合せることにより合成できる。出発物質に目的の末端基、環構造および結合基を導入する方法は、たとえば、ホーベン-ワイル(Houben-Wyle, Methods of Organic Chemistry, Georg Thieme Verlag, Stuttgart)、オーガニック・シンセシーズ(Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.)、オーガニック・リアクションズ(Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.)、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス(Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press)、新実験化学講座(丸善)などの成書に記載されている。また、特開2006-265527号公報を参照してもよい。
 2官能以上の重合性化合物(以下、単に「重合性化合物」ということがある)は、上記式(1-1)で示す重合性液晶化合物以外に液晶性を示さない重合性化合物であってもよい。たとえば、ポリエーテルのジグリシジルエーテル、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、ビスフェノールFのジグリシジルエーテル、ビフェノールのジグリシジルエーテル、または式(1-1)の化合物の中でも直線性が足りず液晶性を発現しなかった化合物などが挙げられる。
 上記重合性化合物は、有機合成化学における公知の手法を組合せることにより合成できる。
 本発明に用いる重合性化合物は、2官能以上の官能基を有することが好ましく、3官能以上、また4官能以上である場合を含む。さらに、重合性化合物の長辺の両端に官能基を有する化合物が直線的な結合を形成できるため好ましい。
<無機フィラー>
 第1の無機フィラー、第2の無機フィラーおよび第3の無機フィラーとしては、窒化物、炭化物、または炭素材料等を挙げることができる。第1の無機フィラーおよび第2の無機フィラーは、同一であってもよく異なったものでもよい。
 具体的には、第1の無機フィラー、第2の無機フィラーには、高熱伝導性で熱膨張率が非常に小さいか負である無機フィラーとして、窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化ホウ素炭素、黒鉛、炭素繊維、カーボンナノチューブを挙げることができる。または、第1または第2の無機フィラーのどちらか一方に下記の熱伝導率が高く熱膨張率が正である無機フィラーを用いてもよい。
 第3のフィラーとしては、熱伝導率が高く熱膨張率が正である、炭化珪素、窒化アルミニウム、窒化珪素、ダイアモンド、珪素、ベリリア、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化珪素、酸化銅、酸化チタン、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化錫、酸化ホルミニウム、酸化ビスマス、酸化コバルト、酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、金、銀、銅、白金、鉄、錫、鉛、ニッケル、アルミニウム、マグネシウム、タングステン、モリブデン、ステンレスなどの無機充填材および金属充填材を挙げることができる。
 重合性化合物の構造はこれら無機フィラーの間を効率よく直接結合できる形状及び長さを持っていることが望ましい。無機フィラーの種類、形状、大きさ、添加量などは、目的に応じて適宜選択できる。得られる放熱部材が絶縁性を必要とする場合、所望の絶縁性が保たれれば導電性を有する無機フィラーであっても構わない。無機フィラーの形状としては、板状、球状、無定形、繊維状、棒状、筒状などが挙げられる。
 好ましくは、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素、黒鉛、炭素繊維、カーボンナノチューブである。特に六方晶系の窒化ホウ素(h-BN)や黒鉛が好ましい。窒化ホウ素、黒鉛は平面方向の熱伝導率が非常に高く、窒化ホウ素は誘電率も低く、絶縁性も高いため好ましい。例えば、板状結晶の窒化ホウ素を用いると、成型および硬化時に、原料のフローや圧力によって、板状構造が金型に沿って配向され易いため好ましい。
 無機フィラーの平均粒径は、0.1~200μmであることが好ましい。より好ましくは、1~100μmである。0.1μm以上であると熱伝導率がよく、200μm以下であると充填率を上げることができる。
 なお、本明細書において平均粒径とは、レーザー回折・散乱法による粒度分布測定に基づく。すなわち、フランホーファー回折理論およびミーの散乱理論による解析を利用して、湿式法により、粉体をある粒子径から2つに分けたとき、大きい側と小さい側が等量(体積基準)となる径をメジアン径とした。
 無機フィラーとカップリング剤および有機化合物の割合は、使用する無機フィラーと結合させるカップリング剤の量に依存する。第1、第2の無機フィラーとして用いられる化合物(例えば窒化ホウ素)は、前述のように表面に反応基がなく、側面にのみ反応基が存在する。その少ない反応基にできるだけ多くのカップリング剤を結合させ、その反応基の数と同数か少し多い有機化合物を結合させることが好ましい。無機フィラーへのカップリング剤の反応量は、主に無機フィラーの大きさや使用するカップリング剤の反応性により変化する。たとえば、無機フィラーが大きくなるほど、無機フィラーの側面の面積比が減少するので修飾量は少ない。できるだけ多くのカップリング剤を反応させたいが、粒子を小さくすると生成物の熱伝導率が低くなるので、バランスを取ることが好ましい。
<カップリング剤>
 無機フィラーに結合させるカップリング剤は、重合性化合物が有する官能基(オキシラニル基等)と反応することが好ましいので、アミン系反応基を末端にもつものが好ましい。たとえば、JNC(株)製では、サイラエースS310、S320、S330、S360、信越化学工業(株)製では、KBM903、KBE903などが挙げられる。
 なお、重合性化合物の末端がアミンであった場合には、オキシラニル基等を末端に持つカップリング剤が好ましい。たとえば、JNC(株)製では、サイラエースS510、S530などが挙げられる。なお、カップリング剤による無機フィラーの修飾は、多ければ多いほど結合が増えるため好ましい。
 第2の無機フィラーは、カップリング剤で処理した後さらに重合性化合物で表面修飾したものを用いる。例えば、シランカップリング剤で処理された無機フィラー(カップリング剤と結合した無機フィラー)の、当該カップリング剤にさらに重合性化合物を結合させることにより、無機フィラーを重合性化合物で表面修飾する。重合性化合物で表面修飾された第2の無機フィラーは、図2に示すように、重合性化合物およびカップリング剤を介して第1の無機フィラーとの結合を形成でき、この結合が熱伝導に著しく寄与する。
 なお、第2の無機フィラーは、あらかじめ重合性化合物と結合させたカップリング剤でカップリング処理したものを用いてもよい。
 重合性化合物は、上記式(1-1)で示す重合性液晶化合物が好ましい。しかし、それ以外の重合性液晶化合物であってもよく、液晶性の無い重合性化合物であってもよい。重合性化合物等による表面修飾は、多ければ多いほど結合が増えるため好ましい。
<その他の構成要素>
 本願の放熱部材用組成物は、さらに第1の無機フィラーおよび第2の無機フィラーに結合していない、すなわち結合に寄与していない有機化合物(例えば重合性化合物または高分子化合物)を含んでいてもよく、重合開始剤や溶媒等を含んでいてもよい。
<結合していない重合性化合物>
 放熱部材用組成物は、無機フィラーに結合していない重合性化合物(この場合、必ずしも2官能以上でなくてもよい)を構成要素としてもよい。このような重合性化合物としては、膜形成性および機械的強度を低下させない化合物が好ましい。この重合性化合物は、液晶性を有しない化合物と液晶性を有する化合物とに分類される。液晶性を有しない重合性化合物としては、ビニル誘導体、スチレン誘導体、(メタ)アクリル酸誘導体、ソルビン酸誘導体、フマル酸誘導体、イタコン酸誘導体、などが挙げられる。含有量は、まず結合していない重合性化合物を含まない、放熱部材用組成物を作製し、その空隙率を測定して、その空隙率を埋められる量の重合性化合物を添加することが望ましい。
<結合していない高分子化合物>
 放熱部材用組成物は、無機フィラーに結合していない高分子化合物を構成要素としてもよい。このような高分子化合物としては、膜形成性および機械的強度を低下させない化合物が好ましい。この高分子化合物は、第1、第2、第3等の無機フィラーおよび重合性化合物と反応しない高分子化合物であれば良く、たとえばポリオレフィン系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイタコン酸系樹脂などが挙げられる。含有量は、まず結合していない重合性化合物を含まない、放熱部材用組成物を作成し、その空隙率を測定して、その空隙率を埋められる量の高分子化合物を添加することが望ましい。
<非重合性の液晶性化合物>
 放熱部材用組成物は、重合性基を有しない液晶性化合物を構成要素としてもよい。このような非重合性の液晶性化合物の例は、液晶性化合物のデータベースであるリクリスト(LiqCryst, LCI Publisher GmbH, Hamburg, Germany)などに記載されている。非重合性の液晶性化合物を含有する該組成物を重合させることによって、例えば、化合物(1-1)の重合体と液晶性化合物との複合材料(composite materials)を得ることができる。このような複合材料では、高分子分散型液晶のような高分子網目中に非重合性の液晶性化合物が存在している。望ましくは、使用する温度領域で流動性が無いような特性を持つ液晶性化合物が望ましい。第1、第2、第3等のフィラーを硬化させた後で、等方相を示す温度領域でその空隙に注入するような手法で複合化させてもよく、第1、第2、第3等のフィラーに予め空隙を埋めるように計算した分量の液晶性化合物を混合しておき、フィラーを重合させても良い。
<重合開始剤>
 放熱部材用組成物は重合開始剤を構成要素としてもよい。重合開始剤は、該組成物の構成要素および重合方法に応じて、たとえば光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤などを用いればよい。
 熱ラジカル重合用の好ましい開始剤としては、たとえば、過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-ブチルパーオキシピバレート、ジ-t-ブチルパーオキシド(DTBPO)、t-ブチルパーオキシジイソブチレート、過酸化ラウロイル、2,2’-アゾビスイソ酪酸ジメチル(MAIB)、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル(ACN)などが挙げられる。
<溶媒>
 放熱部材用組成物は溶媒を含有してもよい。重合させる必要がある構成要素を該組成物中に含む場合、重合は溶媒中で行っても、無溶媒で行ってもよい。溶媒を含有する該組成物を基板上に、たとえばスピンコート法などにより塗布した後、溶媒を除去してから光重合させてもよい。また、光硬化後適当な温度に加温して熱硬化により後処理を行ってもよい。
 好ましい溶媒としては、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、テトラヒドロフラン、γ-ブチロラクトン、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、PGMEAなどが挙げられる。上記溶媒は1種単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
 なお、重合時の溶媒の使用割合を限定することにはあまり意味がなく、重合効率、溶媒コスト、エネルギーコストなどを考慮して、個々のケースごとに決定すればよい。
<その他>
 放熱部材用組成物には、取扱いを容易にするために、安定剤を添加してもよい。このような安定剤としては、公知のものを制限なく使用でき、たとえば、ハイドロキノン、4-エトキシフェノールおよび3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシトルエン(BHT)などが挙げられる。
 さらに、放熱部材用組成物の粘度や色を調整するために添加剤(酸化物等)を添加してもよい。例えば、白色にするための酸化チタン、黒色にするためのカーボンブラック、粘度を調整するためのシリカの微粉末を挙げることができる。また、機械的強度をさらに増すために添加剤を添加してもよい。例えば、ガラス、カーボンファイバーなどの無機繊維やクロス、または高分子添加剤として、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミドなどの繊維または長分子を挙げることができる。
[製造方法]
 以下、放熱部材用組成物を製造する方法、および放熱部材用組成物から放熱部材を製造する方法について具体的に説明する。
<カップリング処理を施す>
 無機フィラーにカップリング処理を施し、カップリング剤の一端と無機フィラーを結合させたものを第1の無機フィラーとする。カップリング処理は、公知の方法を用いることができる。
 一例として、まず無機フィラーとカップリング剤を溶媒に加える。スターラー等を用いて撹拌したのち、乾燥する。溶媒乾燥後に、真空乾燥機等を用いて、真空条件下で加熱処理をする。この無機フィラーに溶媒を加えて、超音波処理により粉砕する。遠心分離機を用いてこの溶液を分離精製する。上澄みを捨てたのち、溶媒を加えて同様の操作を数回行う。オーブンを用いて精製後のカップリング処理を施した無機フィラーを乾燥させる。
<重合性化合物で修飾する>
 カップリング処理を施した無機フィラー(上記第1の無機フィラーと同じであってもよく、異なる無機フィラーでもよい)の、カップリング剤の他端に2官能以上の重合性化合物を結合させる。このように重合性化合物で修飾した無機フィラーを第2の無機フィラーとする。
 一例として、カップリング処理された無機フィラーと重合性化合物を、メノウ乳鉢等を用いて混合したのち、2軸ロール等を用いて混練する。その後、超音波処理および遠心分離によって分離精製する。
<混合する>
 第1の無機フィラーと第2の無機フィラーを、例えば無機フィラーのみの重量が1:1になるように量り取り、メノウ乳鉢等で混合する。その後2軸ロール等を用いて混合し、放熱部材用組成物を得る。
 第1の無機フィラーと第2の無機フィラーの混合割合は、第1の無機フィラーと第2の無機フィラーの結合を形成する結合基がそれぞれアミン:エポキシの場合、無機フィラーのみの重量は例えば、1:1~1:30であることが好ましく、より好ましくは1:3~1:20である。混合割合は、第1の無機フィラーと第2の無機フィラーの結合を形成する末端の結合基の数により決定し、たとえば2級アミンで有れば2個のオキシラニル基と反応できるため、オキシラニル基側に比べて少量で良く、オキシラニル基側は開環してしまっている可能性もありエポキシ当量から計算される量を多めに使用することが好ましい。
<放熱部材を製造する>
 一例として、放熱部材用組成物を用いて、放熱部材としてのフィルムを製造する方法を説明する。放熱部材用組成物を、圧縮成形機を用いて加熱板中にはさみ、圧縮成形により配向・硬化成形する。さらに、オーブン等を用いて後硬化を行い、本発明の放熱部材を得る。なお、圧縮成形時の圧力は、50~200kgf/cmが好ましく、より好ましくは70~180kgf/cmである。硬化時の圧力は基本的には高い方が好ましい。しかし、金型の流動性や、目的とする物性(どちら向きの熱伝導率を重視するかなど)によって適宜変更し、適切な圧力を加えることが好ましい。
 以下、溶媒を含有する放熱部材用組成物を用いて、放熱部材としてのフィルムを製造する方法について具体的に説明する。
 まず、基板上に該組成物を塗布し、溶媒を乾燥除去して膜厚の均一な塗膜層を形成する。塗布方法としては、たとえば、スピンコート、ロールコート、カテンコート、フローコート、プリント、マイクログラビアコート、グラビアコート、ワイヤーバーコート、ディップコート、スプレーコート、メニスカスコート法などが挙げられる。
 溶媒の乾燥除去は、たとえば、室温での風乾、ホットプレートでの乾燥、乾燥炉での乾燥、温風や熱風の吹き付けなどにより行うことができる。溶媒除去の条件は特に限定されず、溶媒がおおむね除去され、塗膜層の流動性がなくなるまで乾燥すればよい。
 上記基板としては、たとえば、銅、アルミニウム、鉄、などの金属基板;シリコン、窒化ケイ素、窒化ガリウム、酸化亜鉛などの無機半導体基板;アルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、フリントガラスなどのガラス基板、アルミナ、窒化アルミニウムなどの無機絶縁基板;ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース、トリアセチルセルロースもしくはその部分鹸化物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノルボルネン樹脂などのプラスティックフィルム基板などが挙げられる。
 上記フィルム基板は、一軸延伸フィルムでも、二軸延伸フィルムであってもよい。上記フィルム基板は、事前に鹸化処理、コロナ処理、プラズマ処理などの表面処理を施してもよい。なお、これらのフィルム基板上には、上記放熱部材用組成物に含まれる溶媒に侵されないような保護層を形成してもよい。保護層として用いられる材料としては、たとえばポリビニルアルコールが挙げられる。さらに、保護層と基板の密着性を高めるためにアンカーコート層を形成させてもよい。このようなアンカーコート層は保護層と基板の密着性を高めるものであれば、無機系および有機系のいずれの材料であってもよい。
 以上、無機フィラーどうしの結合を、カップリング処理された無機フィラーと、カップリング処理されさらに重合性化合物で修飾された無機フィラーで構成する場合を説明した。具体的には、例えば、第1の無機フィラーをアミノ基を有するシランカップリング剤でカップリング処理する。第2の無機フィラーをアミノ基を有するシランカップリング剤でカップリング処理した後、アミノ基と、両末端にエポキシ基を有する重合性化合物の一端と結合させる。最後に第1の無機フィラー側のアミノ基と、第2の無機フィラー側の重合性化合物が有するエポキシ基の他方とを結合させる(図2参照)。なお、無機フィラー側がエポキシ基を有し、重合性化合物側がエポキシ基を有する組合せであってもよい。
 他の方法として、あらかじめ重合性化合物で修飾したカップリング剤を用いることもできる。例えば、第1の無機フィラーをアミノ基を有するシランカップリング剤でカップリング処理する。次に、ビニル基を有するシランカップリング剤を、末端にビニル基とエポキシ基をそれぞれ有する重合性化合物で修飾した後、第2の無機フィラーを修飾したシランカップリング剤でカップリング処理する。最後に第1の無機フィラー側のアミノ基と、第2の無機フィラー側の重合性化合物が有するエポキシ基とを結合させる(図2参照)。
 他の方法として、重合性化合物を用いずに、カップリング剤どうしの結合を介して、無機フィラーどうしを結合してもよい。例えば、第1の無機フィラーをアミノ基を有するシランカップリング剤でカップリング処理する。第2の無機フィラーをエポキシ基を有するシランカップリング剤でカップリング処理する。最後に第1の無機フィラー側のアミノ基と第2の無機フィラー側のエポキシ基とを結合させる(図3参照)。このように、第1の無機フィラーに結合したカップリング剤と第2の無機フィラーに結合したカップリング剤は、カップリング剤どうしを結合させる官能基をそれぞれ有する。第1の無機フィラー側の官能基と第2の無機フィラー側の官能基は、カップリング剤どうしの結合が可能になる限り、異なるものの組合せでもよく、同一のものの組合せでもよい。
 カップリング剤どうしの結合を形成する官能基の組合せとしては、例えば、オキシラニル基とアミノ基、ビニル基どうし、メタクリロキシ基どうし、カルボキシ基またはカルボン酸二無水物とアミノ基、イミダゾール基とオキシラニル基等の組合せを挙げることができるが、これらに限られない。耐熱性の高い組合せがより好ましい。
 このように、カップリング剤および重合性化合物を適宜選択することにより、第1の無機フィラーと第2の無機フィラーを繋ぐことができ、本発明の放熱部材用組成物から極めて高い熱伝導性と熱膨張率の制御性を有する放熱部材を得ることができる。なお、上記の官能基は例示であり、本願発明の効果を得られる限り上記の官能基に限られない。
[放熱部材]
 本発明の第2の実施の形態に係る放熱部材は、上記第1の実施の形態に係る放熱部材用組成物を硬化させた硬化物を用途に応じて成形したものである。この硬化物は、高い熱伝導性を有するとともに、熱膨張率が負かまたは非常に小さい正であり、化学的安定性、耐熱性、硬度および機械的強度などに優れている。なお、前記機械的強度とは、ヤング率、引っ張り強度、引き裂き強度、曲げ強度、曲げ弾性率、衝撃強度などである。
 本発明の放熱部材は、放熱板、放熱シート、放熱フィルム、放熱接着材、放熱成形品などに有用である。
 熱重合により放熱部材用組成物を硬化させる条件としては、熱硬化温度が、室温~350℃、好ましくは室温~250℃、より好ましくは50℃~200℃の範囲であり、硬化時間は、5秒~10時間、好ましくは1分~5時間、より好ましくは5分~1時間の範囲である。重合後は、応力ひずみなど抑制するために徐冷することが好ましい。また、再加熱処理を行い、ひずみなどを緩和させてもよい。
 本願の放熱部材は、上記放熱部材用組成物から形成され、シート、フィルム、薄膜、繊維、成形体などの形状で使用する。好ましい形状は、板、シート、フィルムおよび薄膜である。なお、本明細書におけるシートの膜厚は1mm以上であり、フィルムの膜厚は5μm以上、好ましくは10~500μm、より好ましくは20~300μmであり、薄膜の膜厚は5μm未満である。膜厚は、用途に応じて適宜変更すればよい。
[電子機器]
 本発明の第3の実施の形態に係る電子機器は、上記第2の実施の形態に係る放熱部材と、発熱部を有する電子デバイスとを備える。放熱部材は、前記発熱部に接触するように電子デバイスに配置される。放熱部材の形状は、放熱電子基板、放熱板、放熱シート、放熱フィルム、放熱接着材、放熱成形品などのいずれであってもよい。
 例えば、電子デバイスとして、半導体素子を挙げることができる。本願の放熱部材は、高熱伝導性に加えて、高耐熱性、高絶縁性を有する。そのため、半導体素子の中でも高電力のためより効率的な放熱機構を必要とする絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(Insulated Gate Bipolar Transistor、IGBT)に特に有効である。IGBTは半導体素子のひとつで、MOSFETをゲート部に組み込んだバイポーラトランジスタであり、電力制御の用途で使用される。IGBTを備えた電子機器には、大電力インバータの主変換素子、無停電電源装置、交流電動機の可変電圧可変周波数制御装置、鉄道車両の制御装置、ハイブリッドカー、エレクトリックカーなどの電動輸送機器、IH調理器などを挙げることができる。
 以上、本発明をカップリング処理した第1の無機フィラーと、カップリング処理後さらに重合性化合物で修飾した第2の無機フィラーとを結合させて、無機フィラー間に結合を形成し、高い熱伝導性を有する放熱部材得るとして説明したが、本発明これに限られない。当然に、カップリング処理後さらに重合性化合物で修飾した第1の無機フィラーと、カップリング処理した第2の無機フィラーとを結合させて、無機フィラー間に結合を形成させてもよい。
 また、本願の放熱部材用組成物は、さらに第3、第4の無機フィラーのように、複数種類の無機フィラーを含有していてもよい。例えば、第1の無機フィラーおよび第2の無機フィラーと異なる熱膨張率を持つ第3の無機フィラーであって、カップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第3の無機フィラー、または、重合性化合物が結合したカップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第3の無機フィラーをさらに含有していてもよい。
 さらには、カップリング処理後さらに重合性化合物で修飾した無機フィラーのみを用いて、適切な重合開始剤等により重合性化合物どうしを結合させて、無機フィラー間に結合を形成してもよい。
 すなわち、本発明は、無機材料と有機化合物の複合化において、無機材料間に有機化合物で結合を形成し、熱伝導性を著しく向上させ、さらに熱膨張率を制御したものである。
 以下に、本発明を実施例を用いて詳細に説明する。しかし本発明は、以下の実施例に記載された内容に限定されるものではない。
 本発明の実施例に用いた、放熱部材を構成する成分材料は次のとおりである。
<重合性液晶化合物>
・液晶性エポキシ:下記式(3-1)~(6-1)(JNC(株)製)
 特許第5084148号公報に記載の方法で合成することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
<重合性化合物>
・エポキシ:jER828(商品名、三菱化学(株)製)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
・1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル(東京化成工業(株)製)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
<充填材>
・窒化ホウ素:h-BN粒子(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン(合)製、(商品名)PolarTherm PTX―25)
<シランカップリング剤>
・3-アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製、(商品名)KBM-903)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
・N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン(JNC(株)製、(商品名)S320)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
・3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(JNC(株)製、(商品名)S510)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
・2-(3,4-エポキシシクロへキシル)エチルトリメトキシシラン(JNC(株)製、(商品名)S530)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
[実施例1]
<放熱部材の調製>
 以下に、放熱部材の調製例を示す。
・カップリング剤処理窒化ホウ素粒子の準備
 窒化ホウ素粒子(PTX25、以下BNと略記)5.0gと3-アミノプロピルトリメトキシシラン0.75gをトルエン(無水)50mLに加え、スターラーを用いて750rpmで1時間攪拌し、得られた混合物を40℃で5時間、室温で19時間乾燥した。さらに、溶媒乾燥後に125℃に設定した真空乾燥機を用いて真空条件下で5時間加熱処理した。
 このカップリング剤で修飾したBN粒子をサンプル管に移してTHF(ナカライテスク(株)製)50mLを加えたのち、超音波処理(BRANSON(株)製MODEL450)により粉砕した。さらに、この溶液を遠心分離機(日立工機(株)製CT6E)を用いて6000rpmで10分間分離精製した。上澄み液を捨てたのち、アセトンを50mL加えて同様の操作を二回行った。精製後の修飾BN粒子を60℃のオーブン中で24時間乾燥した。得られた粒子を、第1の無機フィラーAとする。
 第1の無機フィラーAと液晶性エポキシ(3-1)を、それぞれ2gと4g(BNの配合比が19体積%)薬包紙上に量り取り、乳鉢を用いて混合したのち、2軸ロール(日東反応機(株)製HR-3)を用いて120℃で10分混練した。その後、超音波処理および遠心分離によって分離精製し、未反応成分を取り除いたカップリング剤修飾BN粒子を得た。この粒子を、第2の無機フィラーBとする。
 第1の無機フィラーAおよび第2の無機フィラーBのシランカップリング剤または液晶性エポキシのBNに対する被服量は、TG-DTA装置(セイコーインスツル(株)(現・(株)日立ハイテク)製EXSTAR TG/DTA5200)を用いて、その600℃における加熱減量から算出した。
・第1の無機フィラーAと第2の無機フィラーBとの混合
 作製した第1の無機フィラーAを0.5972gと第2の無機フィラーBを1.4812g量り取り、メノウ乳鉢で混合したのち、2軸ロールを用いて55℃で10分間混合した。この重量比は、第1の無機フィラーAのNH(KBM903の反応基はNHなので、NHが2個と換算)と第2の無機フィラーBのエポキシ環の個数が1:1として算出した。
・重合および成形
 得られた混合物をステンレス製板中にはさみ、150℃に設定した圧縮成形機((株)神藤金属工業所製F-37)を用いて9.8MPaまで加圧し、15分間加熱状態を続けることで、配向処理と前硬化を行った。すなわちステンレス板の間を混合物が広がる際に、BNは板状粒子であるため、粒子とステンレス板が平行になるように配向する。また、試料の厚みが約200μmになるように、試料の量を調整した。さらに、オーブンを用いて80℃で1時間、150℃で3時間の後硬化を行い、目的とする本発明の放熱部材とした。なお、この状態でシランカップリング剤と重合性液晶化合物を合算した成分は約15体積%であった。
・熱伝導率および熱拡散率の評価
 熱伝導率は、予め放熱部材の比熱(セイコーインスツル(株)(現・(株)日立ハイテク)製DSC型入力補償型示差走査熱量測定装置EXSTAR6000で測定した。)と比重(メトラー・トレド製比重計AG204密度測定キットにより測定した。)を求めておき、その値をアルバック理工(株)製TC7000熱拡散率測定装置により求めた熱拡散率を掛け合わせることにより熱伝導率を求めた。なお、厚み方向の熱拡散率は、試料をカーボンスプレーを用いて黒化処理し、標準のサンプルホルダーを用いて測定した。また、平面方向の熱拡散率は、レーザーを照射するスポットと、赤外線を検出するスポットの間を5mm離すアダプターを作製し、試料にレーザーが照射されて赤外線が出るまでの時間と、その距離から算出した。
・熱膨張率の評価
 得られた試料から、5×20mmの試験片を切り出し、熱膨張率(現・(株)日立ハイテク製TMA7000型熱機械的分析装置で測定した。)を、室温~250℃の範囲で求めた。温度の範囲は、測定する試料の耐熱性により適宜調整した。
[実施例2]
 重合性液晶化合物(3-1)の代わりに、液晶性を示さない市販のビスフェノールA型重合性化合物(jER828)を重合性化合物として用い、第1の無機フィラーAを0.5687g、第2の無機フィラーCを1.5084g使用し、それ以外は実施例1と同様に試料を作成し、評価した。その結果を実施例2とする。
[比較例1]
 実施例1で用いた物と同じ、重合性液晶化合物(3-1)と、第1の無機フィラーA、および硬化剤にアミン系硬化剤(4,4’-ジアミノ-1,2-ジフェニルエタン(和光純薬工業(株)製))を、樹脂成分(液晶性エポキシ成分+ジアミン成分)が15体積%になるように薬包紙上に量り取り、乳鉢を用いて混合したのち、2軸ロール(日東反応機(株)製HR-3)を用いて120℃で10分混練した。混合物を実施例1と同様にステンレス板に挟み、加熱プレスにより重合及び成形した。
[比較例2]
 実施例2で用いた物と同じ、液晶性を示さない市販のビスフェノールA型重合性化合物(jER828)と、第1の無機フィラーA、および硬化剤にアミン系硬化剤(4,4’-ジアミノ-1,2-ジフェニルエタン(和光純薬工業(株)製))を、樹脂成分が15体積%になるように薬包紙上に量り取り、乳鉢を用いて混合したのち、2軸ロール(日東反応機(株)製HR-3)を用いて120℃で10分混練した。混合物を実施例1と同様にステンレス板に挟み、加熱プレスにより重合及び成形した。
 実施例1、2と、比較例1、2の熱伝導率を測定した結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
 実施例1、2および比較例1、2より、若干の組成の違いはあるが、本発明の方法による、フィラーどうしを直接シランカップリング剤と重合性化合物で結合させる方法では、硬化剤としてジアミンを用いる場合に比べ、平面方向の熱伝導率は、ほぼ同じ性能を示したまま、厚み方向の熱伝導率を2倍以上に向上させる効果があることが判る。これは、並行に積み重なった板状のBNの縁の部分(反応性がある部分)を直接重合性分子で結合し、その分子を通じてフォノン振動により熱が伝わるためと考えられる。
[実施例3]
 重合性液晶化合物と、液晶性を示さない市販のビスフェノールA型重合性化合物の両方を、モル比が1:1になるように混合した物を重合性化合物として用いた以外は、実施例1と同様に試料を作成し、熱膨張率を評価した。その結果を実施例3とする。
[実施例4]
 液晶性を示さない市販の1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル(東京化成工業(株)製)を重合性化合物として用いた以外は、実施例1と同様に試料を作成し、熱膨張率を評価した。その結果を実施例4とする。
 実施例1、2、4、比較例1の試料の熱膨張率を測定した。その結果を表2(a)~(d)に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
 これらの結果より、本発明の複合材料は、耐熱温度以下の温度領域で、負の熱膨張率を示すことがわかる。この負の熱膨張率は、無機フィラーの持つ熱膨張特性に起因していると考えられる。また、液晶性の重合性化合物を用いることによって、耐熱温度や温度サイクルの繰り返し安定性が良くなることがわかる。これは液晶性の重合性化合物は、直線的にフォノンを伝播するので、熱伝導が良いだけでなく、環状構造を多く持ち分子鎖自体の耐熱性が高いことも大きいと考えられる。一方、ジアミンを硬化剤に使用した場合にも、液晶性の重合性化合物であれば100℃以下の温度域では負の熱膨張率が観察されるが、100℃以上では正の熱膨張率を示してしまう。放熱材料は、通常高い温度で使用されるので、100℃付近で熱膨張率が変化するのは好ましくない。
 一部のセラミックやグラファイトの材料では負の熱膨張率を持つ材料は見出されているが、有機・無機ハイブリッド材料でこのような例は無いので、放熱と熱膨張が問題になっているようなデバイスの部位に使用するのに好適であると考えられる。
 実施例4までの検討で、本発明の放熱部材が、負の熱膨張率を持つことが見出された。実際の電子デバイスでは、シリコンや、炭化ケイ素など半導体の熱膨張率に近い方が熱変化によるストレスが少なくなるので、さらに正の熱膨張率を持つフィラーと複合化することにより、熱膨張率の調整を試みた。
[実施例5]
 重合性化合物には、重合性液晶化合物(3-1)を使用し、第1の無機フィラーAと同様に球状アルミナ((株)龍森製TS-6(LV))をシランカップリング剤で修飾した粉末と、第2の無機フィラーB(BNをシランカップリング剤と重合性液晶化合物で修飾した粉末)を、それぞれ0.5954gと1.6400g量り取り混合した。その粉末を実施例1と同様に重合・成形し、その熱伝導率と熱膨張率を評価した。
[実施例6]
 重合性化合物には、重合性液晶化合物(3-1)を使用し、第1の無機フィラーAと同様に板状アルミナ(キンセイマテック(株)製セラフYFA02025)をシランカップリング剤で修飾した粉末と、第2の無機フィラーB(BNをシランカップリング剤と重合性液晶化合物で修飾した粉末)を、それぞれ0.5954gと1.6400g量り取り混合した。その粉末を実施例1と同様に重合・成形し、その熱伝導率と熱膨張率を評価した。
[実施例7]
 重合性化合物には、重合性液晶化合物(3-1)を使用し、第1の無機フィラーAと同様に窒化アルミニウム粉末(トクヤマ(株)製、Hグレード)をシランカップリング剤で修飾した粉末と、第2の無機フィラーB(BNをシランカップリング剤と重合性液晶化合物で修飾した粉末)を、それぞれ0.0396gと0.4035g量り取り混合した。その粉末を実施例1と同様に重合・成形し、その熱伝導率と熱膨張率を評価した。
[実施例8]
 重合性化合物には、重合性液晶化合物(3-1)を使用し、第1の無機フィラーAと同様に窒化アルミニウム粉末(トクヤマ(株)製、Hグレード)をシランカップリング剤で修飾した粉末と、第2の無機フィラーB(BNをシランカップリング剤と重合性液晶化合物で修飾した粉末)を、それぞれ0.1230gと0.3510g量り取り混合した。その粉末を実施例1と同様に重合・成形し、その熱伝導率と熱膨張率を評価した。
 実施例5~8の測定結果を表3に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
 表3より、正の熱膨張率を持つ無機フィラー(アルミナ、AIN等)を適量追加することにより、その添加量に応じて、熱膨張率を負→正に調整できることがわかる。また、無機フィラーとしてはアルミナよりも窒化アルミニウムを加えた方が熱伝導率が高い。これは、無機フィラー自体の熱伝導率に依存しているためと考えられる。また、無機フィラーを追加することによって、面方向の熱伝導率と厚み方向の熱伝導率のバランスが変化することが判る。これは、窒化ホウ素の板状粒子の配向状態が、追加した無機フィラーにより乱されるためと考えられる。熱伝導率と熱膨張率のバランスは、使用するデバイスにより適宜調整することが望ましい。
 実施例1から実施例8までは式(3-1)の液晶性エポキシを使用していたが、実施例9は式(4-1)、実施例10は式(5-1)、実施例11は式(6-1)の液晶性エポキシを使用して、実施例1と同様の実験をおこなった。なお、実施例11のみ硬化温度を180℃まで高くした。これは、オキセタニル基はオキシラニル基と比べて、反応性が低く、同じ反応温度では充分に重合が進行せず非常に脆い試料になってしまったからである。
 実施例9~11の測定結果を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
 実施例1と実施例9を比較すると、ベンゼン環が多いほど熱伝導が良いと期待していたが、それを結合しているエステル結合によるマイナスの方が大きいと考えられる。また、実施例9と10の比較では、やはり同様な構造であれば、剛直で大きな環構造を持っている方がフォノン伝導が速く、熱伝導も速いのではないかと考えられる。また、実施例10と11の比較では、オキシラニル基の方が反応性が高く、無機フィラー間の結合の数が多くなるために熱伝導率が良いものと考えられる。なお表4では、平面方向の熱伝導率は実施例10より実施例11の方が高い数値となったが、これは実施例11の硬化温度が20度高いため、硬化時の空隙が減少し熱伝導が高くなったためと考えられる。
 また、実施例1から最も離れた構造の液晶性エポキシを用いた実施例11でも、負の熱膨張率が観察された。これは負の熱膨張率は、エポキシよりも無機フィラーの特性を引き継いでいるためと考えられる。実施例2の結果も鑑みると、本発明に使用されるエポキシ化合物の選定は、カップリング剤との反応性が高く、耐熱性があるものが望ましく、液晶性エポキシであれば、さらに熱伝導率が高く、その構造ゆえ耐熱性も高くなるので、使用するデバイスに必要とされる特性に合わせて、適宜選択することが望ましい。
 本発明により、熱伝導率が高く、熱膨張率を負~正に調整することができ、絶縁性があり、熱硬化性で加工性の良い、放熱部材が実現できた。この放熱部材を使用することによって、放熱性と熱サイクルに対して信頼性の高いデバイスが作製可能になる。
[実施例12、13]
<放熱部材の調製>
 実施例1と同様に、BN粒子(PTX25、Momentive製)5.0gとN-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン(S320、JNC(株)製)2.00gをトルエン(無水)50mLに加え、スターラーを用いて750rpmで1時間攪拌し、40℃で5時間、室温で19時間放置した。溶媒乾燥後に125℃に設定した真空乾燥機を用いて真空条件下で5時間加熱処理した。
 このカップリング剤で修飾したBN粒子をサンプル管に移してTHF(ナカライテスク(株)製)50mLを加えたのち、超音波処理(BRANSON(株)製MODEL450)により粉砕した。さらに、この溶液を遠心分離機(日立工機(株)製CT6E)によって6000rpmで10分間の条件で分離精製した。上澄み液を捨てたのち、アセトン50mLを加えて同様の操作を二回行った。精製後のBN粒子を60℃のオーブン中で24時間放置して乾燥した。得られた粒子を、第1の無機フィラーDとする。
 さらに、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(S510、JNC(株)製)を用いて同様の操作を行い第2の無機フィラーEを得た。
 さらに、2-(3,4-エポキシシクロへキシル)エチルトリメトキシシラン(S530、JNC(株)製)を用いて同様の操作を行い第2の無機フィラーFを得た。
 上記無機フィラーD~Fのシランカップリング剤に対する被服量はそれぞれ、実施例1と同様に、TG-DTA装置を用いて、600℃における加熱減量から算出した。
<試験片の作製>
 第1の無機フィラーDと、第2の無機フィラーEを所定の配合比で量り取り、メノウ乳鉢で混合したのち、実施例1と同様に10分間混練した。得られた混合物を圧縮成形機を用いて150℃で加熱した金型中に入れ、20分間配向処理し、後硬化を180℃で3時間行い試料とした。この試料のBNの割合は92体積%であった(実施例12)。
 同様に第1の無機フィラーDと第2の無機フィラーFについても配向処理と後硬化を行い試料を得た。この試料のBNの割合は90%であった(実施例13)。
 実施例12と実施例13の試料の、熱伝導率と熱膨張率を表5に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
 実施例12と実施例13の結果より、アミノ基を持つカップリング剤で修飾したBNと、エポキシ基を持つカップリング剤で修飾したBNを反応させることにより負の熱膨張率を持ち、熱伝導率の高い材料が出来ることがわかる。このことは、実施例1のようにアミノ基を持つカップリング剤で修飾したBN(無機フィラーA、無機フィラーD)に、あとから2官能以上のエポキシを反応させてエポキシ基を持つ無機フィラーB等を得る場合に比べ、過剰なエポキシが不要な点、および乾燥や精製工程を減らすことが出来る点で、試料を作成することが簡便になるばかりでなく、原料のロスも少ない。また、熱伝導率も実施例1と比べても遜色なく、大量生産をするためには、お互いが反応性を持つ無機フィラーを準備しておいたほうが効率が良いと考えられる。
 本明細書中で引用する刊行物、特許出願および特許を含むすべての文献を、各文献を個々に具体的に示し、参照して組み込むのと、また、その内容のすべてをここで述べるのと同じ限度で、ここで参照して組み込む。
 本発明の説明に関連して(特に以下の請求項に関連して)用いられる名詞および同様な指示語の使用は、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、単数および複数の両方に及ぶものと解釈される。語句「備える」、「有する」、「含む」および「包含する」は、特に断りのない限り、オープンエンドターム(すなわち「~を含むが限定しない」という意味)として解釈される。本明細書中の数値範囲の具陳は、本明細書中で特に指摘しない限り、単にその範囲内に該当する各値を個々に言及するための略記法としての役割を果たすことだけを意図しており、各値は、本明細書中で個々に列挙されたかのように、明細書に組み込まれる。本明細書中で説明されるすべての方法は、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、あらゆる適切な順番で行うことができる。本明細書中で使用するあらゆる例または例示的な言い回し(例えば「など」)は、特に主張しない限り、単に本発明をよりよく説明することだけを意図し、本発明の範囲に対する制限を設けるものではない。明細書中のいかなる言い回しも、本発明の実施に不可欠である、請求項に記載されていない要素を示すものとは解釈されないものとする。
 本明細書中では、本発明を実施するため本発明者が知っている最良の形態を含め、本発明の好ましい実施の形態について説明している。当業者にとっては、上記説明を読んだ上で、これらの好ましい実施の形態の変形が明らかとなろう。本発明者は、熟練者が適宜このような変形を適用することを予期しており、本明細書中で具体的に説明される以外の方法で本発明が実施されることを予定している。従って本発明は、準拠法で許されているように、本明細書に添付された請求項に記載の内容の変更および均等物をすべて含む。さらに、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、すべての変形における上記要素のいずれの組合せも本発明に包含される。
1   第1の無機フィラー
2   第2の無機フィラー
3、4 カップリング剤
5   重合性化合物

Claims (14)

  1.  カップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第1の無機フィラーと;
     カップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第2の無機フィラーであって、前記結合したカップリング剤の他端にさらに2官能以上の重合性化合物が結合した第2の無機フィラーとを含み;
     硬化により、前記第1の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端が、前記第2の無機フィラーの前記重合性化合物と結合する、
     放熱部材用組成物。
  2.  カップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第1の無機フィラーと;
     カップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第2の無機フィラーとを含み;
     前記第1の無機フィラーに結合したカップリング剤と前記第2の無機フィラーに結合したカップリング剤は、カップリング剤どうしを結合させる官能基をそれぞれ有し、
     硬化により、前記第1の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端が、前記第2の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端と結合する、
     放熱部材用組成物。
  3.  前記第1の無機フィラーと前記第2の無機フィラーは、窒化物、または炭素材料である、
     請求項1または請求項2に記載の放熱部材用組成物。
  4.  前記第1の無機フィラーと前記第2の無機フィラーは、窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化ホウ素炭素、黒鉛、炭素繊維、カーボンナノチューブから選ばれる少なくとも一つである、
     請求項3に記載の放熱部材用組成物。
  5.  前記第1の無機フィラーおよび前記第2の無機フィラーと異なる熱膨張率を持つ第3の無機フィラーであって、カップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第3の無機フィラー、または、重合性化合物が結合したカップリング剤の一端と結合した熱伝導性の第3の無機フィラーをさらに含む、
     請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の放熱部材用組成物。
  6.  前記第1の無機フィラーおよび前記第2の無機フィラーに結合していない、有機化合物または高分子化合物をさらに含む、
     請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の放熱部材用組成物。
  7.  前記2官能以上の重合性化合物は、両末端にオキシラニル基またはオキセタニル基を含む構造を有する重合性化合物である、
     請求項1に記載の放熱部材用組成物。
  8.  前記2官能以上の重合性化合物は、下記式(1-1)で表される少なくとも1種の重合性液晶化合物である、
     請求項7に記載の放熱部材用組成物。
       Ra1-Z-(A-Z)m1-Ra1 ・・・(1-1)
    [上記式(1-1)中、
     Ra1は、それぞれ下記式(2-1)~(2-2)のいずれかで表される重合性基であり;
     Aは、1,4-シクロヘキシレン、1,4-シクロヘキセニレン、1,4-フェニレン、ナフタレン-2,6-ジイル、テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル、フルオレン-2,7-ジイル、ビシクロ[2.2.2]オクト-1,4-ジイル、またはビシクロ[3.1.0]ヘキス-3,6-ジイルであり、
     これらの環において、任意の-CH-は、-O-で置き換えられてもよく、任意の-CH=は、-N=で置き換えられてもよく、任意の水素は、ハロゲン、炭素数1~10のアルキル、または炭素数1~10のハロゲン化アルキルで置き換えられてもよく、
     該アルキルにおいて、任意の-CH-は、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-、または-C≡C-で置き換えられてもよく;
     Zは、それぞれ独立して単結合、または炭素数1~20のアルキレンであり、
     該アルキレンにおいて、任意の-CH-は、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-、-CF=CF-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-N(O)=N-、または-C≡C-で置き換えられてもよく、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく;
     m1は、1~6の整数である。]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    [式(2-1)~(2-2)中、Rは、水素、ハロゲン、-CF、または炭素数1~5のアルキルであり、qは0または1である。]
  9.  上記式(1-1)中、Aは、1,4-シクロヘキシレン、任意の水素がハロゲンで置き換えられた1,4-シクロヘキシレン、1,4-フェニレン、任意の水素がハロゲンもしくはメチル基で置き換えられた1,4-フェニレン、フルオレン-2,7-ジイル、または任意の水素がハロゲンもしくはメチル基で置き換えられたフルオレン-2,7-ジイルである、
     請求項8に記載の放熱部材用組成物。
  10.  上記式(1-1)中、Zは、単結合、-(CH-、-O(CH-、-(CHO-、-O(CHO-、-CH=CH-、-C≡C-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、-CHCH-COO-、-OCO-CHCH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-OCF-または-CFO-であり、該aが1~20の整数である、
     請求項8または請求項9に記載の放熱部材用組成物。
  11.  請求項1~請求項10のいずれか1項に記載の放熱部材用組成物を硬化させて得られる、
     放熱部材。
  12.  請求項11に記載の放熱部材と;
     発熱部を有する電子デバイスとを備え;
     前記放熱部材が前記発熱部に接触するように前記電子デバイスに配置された;
     電子機器。
  13.  熱伝導性の第1の無機フィラーを、カップリング剤の一端と結合させる工程と;
     熱伝導性の第2の無機フィラーを、カップリング剤の一端と結合させる工程と;
     前記第2の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端を、2官能以上の重合性化合物と結合させる工程と;
     前記第1の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端を、前記第2の無機フィラーの前記2官能以上の重合性化合物と結合させる工程とを備える;
     放熱部材の製造方法。
  14.  熱伝導性の第1の無機フィラーを、カップリング剤の一端と結合させる工程と;
     熱伝導性の第2の無機フィラーを、カップリング剤の一端と結合させる工程と;
     前記第1の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端を、前記第2の無機フィラーに結合したカップリング剤の他端と結合させる工程とを備える;
     放熱部材の製造方法。
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Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017150586A1 (ja) * 2016-03-02 2017-09-08 Jnc株式会社 積層体、電子機器、積層体の製造方法
WO2017150587A1 (ja) * 2016-03-02 2017-09-08 Jnc株式会社 低熱膨張部材用組成物、低熱膨張部材、電子機器、低熱膨張部材の製造方法
WO2017150589A1 (ja) * 2016-03-02 2017-09-08 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
WO2017150588A1 (ja) * 2016-03-02 2017-09-08 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材用組成物の製造方法、放熱部材の製造方法
WO2018181838A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
WO2018181839A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 Jnc株式会社 積層体、電子機器、積層体の製造方法
JP6458843B1 (ja) * 2017-10-13 2019-01-30 日東紡績株式会社 表面処理ガラス繊維織編物及びそれを用いるガラス繊維強化シリコーン樹脂膜材
WO2019044646A1 (ja) * 2017-08-30 2019-03-07 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
WO2019139057A1 (ja) * 2018-01-12 2019-07-18 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
WO2019189182A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 Jnc株式会社 熱伝導性複合フィラーとこれを含む放熱性樹脂組成物、該放熱性樹脂組成物からなる放熱性グリース及び放熱部材
WO2019188973A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 Jnc株式会社 組成物、放熱部材、電子機器、および組成物の製造方法
JP2019172936A (ja) * 2018-03-29 2019-10-10 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器
WO2019194221A1 (ja) * 2018-04-05 2019-10-10 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、可視光反射性放熱部材、発光デバイス、発光装置
JP2019172937A (ja) * 2018-03-29 2019-10-10 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器
JP2019177688A (ja) * 2018-03-30 2019-10-17 Jnc株式会社 積層シート、放熱部品、発光デバイス、発光装置
JP2019178271A (ja) * 2018-03-30 2019-10-17 Jnc株式会社 電気伝導性熱膨張制御組成物、電気伝導性熱膨張制御部材、電子機器および電気伝導性熱膨張制御組成物の製造方法
JP2019183064A (ja) * 2018-04-16 2019-10-24 有限会社エスティア 樹脂複合材料及びその製造方法
WO2020045560A1 (ja) * 2018-08-31 2020-03-05 Jnc株式会社 組成物、硬化物、積層体および電子機器

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019031398A1 (ja) * 2017-08-10 2019-02-14 シャープ株式会社 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
KR102053416B1 (ko) 2018-11-29 2019-12-06 주식회사 유엔지 테크놀러지 화장수 공급장치
KR20200123687A (ko) 2019-04-22 2020-10-30 삼성전자주식회사 전지 케이스, 및 전지
KR102143024B1 (ko) * 2019-06-17 2020-08-11 한국생산기술연구원 방열 실리콘 탄성체 컴파운드의 제조방법
CN115989248A (zh) * 2020-10-30 2023-04-18 捷恩智株式会社 低介电常数树脂形成用组合物、低介电构件、及使用所述低介电构件的电子设备
KR102449297B1 (ko) * 2020-11-30 2022-09-30 주식회사 신성티씨 유-무기 복합체를 포함하는 전력전자모듈용 기판

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003137627A (ja) * 2001-11-05 2003-05-14 Denki Kagaku Kogyo Kk 高熱伝導性無機粉末および樹脂組成物と表面処理剤組成物
WO2009136508A1 (ja) * 2008-05-08 2009-11-12 富士高分子工業株式会社 熱伝導性樹脂組成物
JP2010116543A (ja) * 2008-10-14 2010-05-27 Panasonic Corp プリプレグ及びその製造方法とこれを用いたプリント配線板
JP2011236376A (ja) * 2010-05-13 2011-11-24 Hitachi Chem Co Ltd 高熱伝導性複合粒子及びそれを用いた放熱材料
JP2012153846A (ja) * 2011-01-28 2012-08-16 Nippon Zeon Co Ltd 塊状重合成形体
JP2012255086A (ja) * 2011-06-09 2012-12-27 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 高熱伝導性複合材料

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004035782A (ja) * 2002-07-04 2004-02-05 Toshiba Corp 高熱伝導性材料及びその製造方法
JP5084148B2 (ja) 2005-02-25 2012-11-28 Jnc株式会社 放熱部材およびその製造方法
JP4495768B2 (ja) * 2008-08-18 2010-07-07 積水化学工業株式会社 絶縁シート及び積層構造体
TWI366421B (en) * 2008-08-22 2012-06-11 Nanya Plastics Corp High thermal conductivity, high glass transition temperature (tg) resin composition and its pre-impregnated and coating materials for printed circuit boards
JP2010229269A (ja) * 2009-03-26 2010-10-14 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱伝導性エポキシ樹脂シート材
EP2479202B1 (en) * 2009-09-16 2019-02-13 Kaneka Corporation Thermally-conductive organic additive, resin composition, and cured product
JP5688409B2 (ja) * 2010-04-07 2015-03-25 電気化学工業株式会社 Led照明筐体用の放熱性樹脂組成物及びそのled照明用放熱性筐体
JP2012238820A (ja) * 2011-05-13 2012-12-06 Nitto Denko Corp 熱伝導性シート、絶縁シートおよび放熱部材
KR101326934B1 (ko) * 2011-08-31 2013-11-11 엘지이노텍 주식회사 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 방열회로기판
TWI616398B (zh) * 2011-11-29 2018-03-01 Mitsubishi Chem Corp 含有氮化硼之組成物、以及具有由該組成物所構成的層之三維積體電路
GB201121128D0 (en) * 2011-12-08 2012-01-18 Dow Corning Treatment of filler with silane
WO2013158741A1 (en) * 2012-04-17 2013-10-24 Momentive Performance Materials Inc Thermally conductive polymer compostions to reduce molding cycle time
KR101984791B1 (ko) * 2012-12-12 2019-09-03 엘지이노텍 주식회사 에폭시 수지 조성물, 이를 이용한 프리프레그 및 인쇄 회로 기판
JP6219624B2 (ja) * 2013-07-04 2017-10-25 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シートの製造方法、熱伝導シートの製造装置、樹脂成型体の切断方法
JP6164130B2 (ja) * 2014-03-25 2017-07-19 トヨタ自動車株式会社 熱伝導材の製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003137627A (ja) * 2001-11-05 2003-05-14 Denki Kagaku Kogyo Kk 高熱伝導性無機粉末および樹脂組成物と表面処理剤組成物
WO2009136508A1 (ja) * 2008-05-08 2009-11-12 富士高分子工業株式会社 熱伝導性樹脂組成物
JP2010116543A (ja) * 2008-10-14 2010-05-27 Panasonic Corp プリプレグ及びその製造方法とこれを用いたプリント配線板
JP2011236376A (ja) * 2010-05-13 2011-11-24 Hitachi Chem Co Ltd 高熱伝導性複合粒子及びそれを用いた放熱材料
JP2012153846A (ja) * 2011-01-28 2012-08-16 Nippon Zeon Co Ltd 塊状重合成形体
JP2012255086A (ja) * 2011-06-09 2012-12-27 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 高熱伝導性複合材料

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20190023900A1 (en) * 2016-03-02 2019-01-24 Jnc Corporation Composition for heat-dissipating member, heat-dissipating member, electronic instrument, method for producing composition for heat-dissipating member, and method for producing heat-dissipating member
US10679922B2 (en) 2016-03-02 2020-06-09 Jnc Corporation Composition for heat-dissipating member, heat-dissipating member, electronic instrument, method for producing composition for heat-dissipating member, and method for producing heat-dissipating member
WO2017150589A1 (ja) * 2016-03-02 2017-09-08 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
WO2017150588A1 (ja) * 2016-03-02 2017-09-08 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材用組成物の製造方法、放熱部材の製造方法
EP3425019A4 (en) * 2016-03-02 2019-08-07 JNC Corporation COMPOSITION FOR HEAT DISSIPATING ELEMENT, HEAT DISSIPATING ELEMENT, ELECTRONIC INSTRUMENT, METHOD FOR PRODUCING COMPOSITION FOR HEAT DISSIPATING ELEMENT, AND PROCESS FOR PRODUCTION OF HEAT DISSIPATING ELEMENT
US10752755B2 (en) 2016-03-02 2020-08-25 Jnc Corporation Composition for heat-dissipating member, heat-dissipating member, electronic instrument, and method for producing heat-dissipating member
WO2017150587A1 (ja) * 2016-03-02 2017-09-08 Jnc株式会社 低熱膨張部材用組成物、低熱膨張部材、電子機器、低熱膨張部材の製造方法
JPWO2017150586A1 (ja) * 2016-03-02 2019-01-31 Jnc株式会社 積層体、電子機器、積層体の製造方法
WO2017150586A1 (ja) * 2016-03-02 2017-09-08 Jnc株式会社 積層体、電子機器、積層体の製造方法
US20190055444A1 (en) * 2016-03-02 2019-02-21 Jnc Corporation Composition for low thermal expansion members, low thermal expansion member, electronic device, and method for producing low thermal expansion member
WO2018181838A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
JPWO2018181838A1 (ja) * 2017-03-31 2020-02-20 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
WO2018181839A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 Jnc株式会社 積層体、電子機器、積層体の製造方法
JPWO2018181839A1 (ja) * 2017-03-31 2020-02-20 Jnc株式会社 積層体、電子機器、積層体の製造方法
JP7070554B2 (ja) 2017-03-31 2022-05-18 Jnc株式会社 積層体、電子機器、積層体の製造方法
WO2019044646A1 (ja) * 2017-08-30 2019-03-07 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
JP7060021B2 (ja) 2017-08-30 2022-04-26 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
JPWO2019044646A1 (ja) * 2017-08-30 2020-08-13 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
JP2019073814A (ja) * 2017-10-13 2019-05-16 日東紡績株式会社 表面処理ガラス繊維織編物及びそれを用いるガラス繊維強化シリコーン樹脂膜材
JP6458843B1 (ja) * 2017-10-13 2019-01-30 日東紡績株式会社 表面処理ガラス繊維織編物及びそれを用いるガラス繊維強化シリコーン樹脂膜材
JPWO2019139057A1 (ja) * 2018-01-12 2021-01-28 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
WO2019139057A1 (ja) * 2018-01-12 2019-07-18 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器、放熱部材の製造方法
JP2019172936A (ja) * 2018-03-29 2019-10-10 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器
JP2019172937A (ja) * 2018-03-29 2019-10-10 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器
WO2019189182A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 Jnc株式会社 熱伝導性複合フィラーとこれを含む放熱性樹脂組成物、該放熱性樹脂組成物からなる放熱性グリース及び放熱部材
JP2019178271A (ja) * 2018-03-30 2019-10-17 Jnc株式会社 電気伝導性熱膨張制御組成物、電気伝導性熱膨張制御部材、電子機器および電気伝導性熱膨張制御組成物の製造方法
JP2019177688A (ja) * 2018-03-30 2019-10-17 Jnc株式会社 積層シート、放熱部品、発光デバイス、発光装置
JP6992654B2 (ja) 2018-03-30 2022-01-13 Jnc株式会社 積層シート、放熱部品、発光デバイス、発光装置
WO2019188973A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 Jnc株式会社 組成物、放熱部材、電子機器、および組成物の製造方法
WO2019194221A1 (ja) * 2018-04-05 2019-10-10 Jnc株式会社 放熱部材用組成物、可視光反射性放熱部材、発光デバイス、発光装置
JP2019183064A (ja) * 2018-04-16 2019-10-24 有限会社エスティア 樹脂複合材料及びその製造方法
WO2020045560A1 (ja) * 2018-08-31 2020-03-05 Jnc株式会社 組成物、硬化物、積層体および電子機器

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