WO2016010170A1 - 고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자 및 반응성 에폭시 스틸렌 유도체를 이용한 이의 제조방법 - Google Patents

고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자 및 반응성 에폭시 스틸렌 유도체를 이용한 이의 제조방법 Download PDF

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WO2016010170A1
WO2016010170A1 PCT/KR2014/006371 KR2014006371W WO2016010170A1 WO 2016010170 A1 WO2016010170 A1 WO 2016010170A1 KR 2014006371 W KR2014006371 W KR 2014006371W WO 2016010170 A1 WO2016010170 A1 WO 2016010170A1
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refractive index
polymer
polymer compound
high refractive
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PCT/KR2014/006371
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김상하
정진권
이종휘
이형종
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(주)켐옵틱스
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    • C08F220/10Esters
    • C08F220/38Esters containing sulfur

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing the same using a high refractive index reactive polystyrene polymer and a reactive epoxy styrene derivative.
  • OLEDs organic light emitting diodes
  • organic EL especially AMOLED
  • the external quantum efficiency of the organic light emitting diode is determined by the internal quantum efficiency and the light extraction efficiency. At present, due to the development of phosphorescent organic materials, the internal quantum efficiency shows a value close to 100%, but the external light efficiency is still low due to the low light extraction efficiency.
  • the high refractive thin film material manufacturing technology can improve the efficiency of OLED panel by extracting the isolated light to the outside by placing a transparent thin film layer having a refractive index similar to that of the ITO layer to the light loss consumed by the refractive index difference between the ITO layer and the glass layer. will be.
  • the optical film In order to have an optical extraction efficiency, the optical film should have a high refractive index of 1.8 to 2.0, similar to that of ITO, and have stable heat resistance at high temperature according to the process used for device fabrication.
  • the refractive index is higher than 2.0, there are inorganic materials such as TiO 2 and ZrO 2 , but the molding process is very difficult and complicated, and in the case of a polymer material, it is difficult to obtain a refractive index of 1.60 or more due to the electronic properties of the internal constituent molecules.
  • the present applicant has completed the present invention to provide a novel polystyrene polymer having a high refractive index characteristic of 1.80 or more, excellent in transparency, thermal stability and chemical resistance, and which can be crosslinked by reaction with an inorganic material or a self reaction. It was.
  • the present invention has been made to solve the above problems, it is a basic matrix compound for developing a high refractive index organic-inorganic hybrid resin applicable to the flat layer for OLED light extraction having a high light transmittance and transparency by dramatically improving the refractive index
  • the purpose is to provide a high refractive index reactive polystyrene polymer.
  • an object of the present invention is to provide a high refractive index reactive polystyrene polymer having a high refractive index is easy to cross-linked by an additional reaction by the reactive epoxy because the epoxy styrene is included compared to the acrylate-based polymer do.
  • the present invention provides a polymer compound represented by the following formula (1).
  • R 1 and R 2 are hydrogen or (C 1 -C 30) alkyl
  • X is a single bond, (C1-C20) alkylene or (C2-C20) alkenylene;
  • Y is S, NH or O
  • Z is (C6-C30) aryl or (C3-C30) heteroaryl
  • A, b and c are each independently an integer of 0 to 10.
  • the polymer compound represented by Chemical Formula 1 may be R 1 and R 2 are hydrogen or (C 1 -C 10) alkyl, and X may be a single bond, (C 1 -C 10) alkylene.
  • the Y of the polymer compound is S or O
  • the Z may be selected from the following structures.
  • the polymer compound may be selected from the following formula.
  • A, b and c are each independently an integer of 0 to 10.
  • the polymer compound represented by Chemical Formula 1 may be one containing 5 to 30 mol% of an epoxy styrene compound represented by Chemical Formula 2 below.
  • the polymer compound represented by Chemical Formula 1 may be a polymer compound having a weight average molecular weight of 500 to 20,000 g / mol.
  • the polymer compound may have a refractive index of 1.6 to 2.0.
  • the present invention comprises the steps of preparing a polymer compound represented by Formula 1 by reacting an epoxy styrene compound represented by Formula 2, an acrylate compound represented by Formula 3 and an acrylate compound represented by Formula 4; It provides a method for producing a polymer compound comprising a.
  • R 1 and R 2 are hydrogen or (C 1 -C 30) alkyl
  • X is a single bond, (C1-C20) alkylene or (C2-C20) alkenylene;
  • Y is S, NH or O
  • Z is (C6-C30) aryl or (C3-C30) heteroaryl
  • A, b and c are each independently an integer of 0 to 10.
  • the high refractive index reactive polystyrene polymer according to the present invention can maximize the refractive index compared to the general acrylate type, and when the polymer according to the present invention is used as a basic matrix compound of the organic-inorganic hybrid composition, it exhibits high refractive index and high light transmittance and transparency of 1.80 or more.
  • the present invention can be applied to a buffer layer such as a light extraction flat layer used to extract light attenuated by the difference in refractive index to the outside.
  • the high refractive-reactive polystyrene polymer is easy to form a thin film using a thermosetting reaction, and because the high refractive index of the polymer itself has a high refractive index even if less additional inorganic sol, it is easy to improve the coating property, yellowing Less, there is an advantage that can improve the transmittance to express excellent optical properties such as lighting or display field.
  • the present invention uses epoxy styrene as a monomer to synthesize a high refractive-reactive polystyrene polymer.
  • Scheme 1 is a chemical structural formula and synthetic route of epoxy styrene (A).
  • R 1 and R 2 are hydrogen or (C 1 -C 30) alkyl
  • X is a single bond, (C1-C20) alkylene or (C2-C20) alkenylene;
  • Y is S, NH or O
  • Z is (C6-C30) aryl or (C3-C30) heteroaryl
  • A, b and c are each independently an integer of 0 to 10.
  • R1 and R2 are hydrogen or (C1-C10) alkyl
  • X is a single bond
  • (C1-C10) alkylene number have.
  • Y is S or O
  • Z is preferably selected from the following structures.
  • the polymer is more preferably selected from the following chemical formula in view of having a high refractive index, but is not limited thereto.
  • A, b and c are each independently an integer of 0 to 10.
  • A, b, and c indicate the constituent ratios of the polymer compound of the present invention.
  • the polymer compound according to an embodiment of the present invention may include 5 to 30 mol% of the styrene compound represented by the following Chemical Formula 2 in the monomer.
  • the polymer compound represented by Chemical Formula 1 which is a curable polymer having a high refractive index according to an embodiment of the present invention, may have a weight average molecular weight of 500 to 20,000 g / mol, and the polymer compound has a high refractive index of 1.8 to 2.0.
  • the present invention is to react with the epoxy styrene compound represented by the formula (2), the acrylate compound represented by the formula (3) and the acrylate compound represented by the formula (4) to produce a polymer compound having a high refractive index to Preparing a polymer compound to be displayed; It may include, but is not limited thereto.
  • R 1 and R 2 are hydrogen or (C 1 -C 30) alkyl
  • X is a single bond, (C1-C20) alkylene or (C2-C20) alkenylene;
  • Y is S, NH or O
  • Z is (C6-C30) aryl or (C3-C30) heteroaryl
  • A, b and c are each independently an integer of 0 to 10.
  • a polymer compound including an acrylic monomer having a high refractive index and a reactive epoxy styrene derivative may be prepared by the following scheme.
  • the polymer compound which is a curable polymer, is a polymer compound that can be thermally cured.
  • the polymer compound includes epoxy styrene, and has a carboxylic acid functional group to enable chemical reaction with a metal nanosol.
  • the curable polymer preferably has a weight average molecular weight of 500 to 20,000, and more preferably 1,000 to 10,000 in order to improve the compatibility of the reaction solvent or coating and the property of easily dissolving during development in the patterning process. .
  • the unit of the curable polymer in the above formula may include an epoxy group at the terminal by radical polymerization of an acrylic or methacrylic monomer including a high refractive aromatic aromatic structure and an styrene monomer including an epoxy.
  • the high refractive aromatic compound has naphthyl, benzene, and heterocyclic structure.
  • the a, b and c is a constituent of the polymer compound a is 0 to 90%, b is 5 to 100% and c may be synthesized in the ratio of 0 to 20%, preferably a is 60 to 90% , b may be synthesized at a ratio of 5 to 30% and c at 5 to 20%.
  • Polymer 1 synthesis is as follows.
  • the obtained polymer was found to have a weight average molecular weight of 7,800 by GPC (solvent: 1% THF, 10uL injection) measurement, and the refractive index was confirmed through a prism coupler (thin film thickness of 7.65 um), showing 1.6302 @ 830nm. It was.
  • Polymer 2 synthesis is as follows.
  • the obtained polymer was found to have a weight average molecular weight of 7,500 through GPC (solvent: 1% THF, 10uL injection) measurement, and the refractive index was confirmed through a prism coupler (thin film thickness of 7.65 um), showing 1.6152 @ 830nm. It was.
  • the polymer resins according to the present invention prepared in Examples 1 and 2 had a refractive index of 1.645@550nm and 1.630@550nm, respectively, in the visible region, and showed 91% and 92% of UV spectrometer results, respectively. It was confirmed that the expression of high refractive index and excellent transmittance, which can be applied to the flat layer for light extraction has the advantage that can increase the application potential in the field of lighting or display.

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Abstract

본 발명은 에폭시 스틸렌을 포함하는 경화성 고분자 합성을 통하여 굴절률을 획기적으로 향상시켜 높은 광투과성 및 투명성을 갖는 OLED 광추출용 평탄층에 적용 가능하며, 열 또는 광 경화 반응을 이용하여 박막 가공 및 패턴 형성이 용이하며, 황변이 적어 투과도를 높일 수 있어 OLED 조명 또는 디스플레이 분야 등에 응용가능성이 뛰어나다.

Description

고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자 및 반응성 에폭시 스틸렌 유도체를 이용한 이의 제조방법
본 발명은 고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자 및 반응성 에폭시 스틸렌 유도체를 이용한 이의 제조방법에 관한 것이다.
디스플레이 또는 조명 등의 효율을 높이기 위하여 사용되는 고굴절 박막 소재로 차세대 유기발광다이오드(OLED, 유기EL(특히 AMOLED))가 유용하며, 핵심적인 소재로 인정받으면서 전자재료 시장에서 많은 연구가 진행되고 있다.
유기발광다이오드(OLED)의 외부양자효율은 내부양자효율과 광추출효율에 의해 결정된다. 현재 인광 유기소재의 개발로 내부양자효율은 100 %에 가까운 값을 나타내고 있으나 광추출효율이 낮아 외광효율은 아직 낮은 수준에 머물고 있다.
즉, OLED의 내부양자효율이 100%에 가까운 값을 나타내더라도 약 20 %만이 외부로 방출되고, 나머지 80 % 정도의 빛이 유기 기판과 ITO 및 유기물질의 굴절률 차이에 의한 wave guiding 효과와 유리 기판과 공기의 굴절률 차이에 의해 전반사 효과로 손실되게 된다.
고굴절 박막 소재 제조기술은 ITO층 및 유리층의 굴절율 차이에 의해 소모되는 광손실을 ITO층과 유사한 굴절율을 갖는 투명박막층을 위치하여 고립광을 외부로 추출하게 하여 OLED패널의 효율을 향상시킬 수 있는 것이다.
최근 OLED 소재의 성능이 급속히 발전함에 따라 유기 발광 소재 개발에 의한 OLED 전력효율의 향상은 한계점에 도달해 있어, 각 구조물의 굴절률 또는 계면의 평활도, 특히 고굴절 평탄층을 연구 개발하는 것이 필요하다.
광학필름이 광추출 효율을 갖기 위해서는 ITO의 굴절율과 유사한 1.8 내지 2.0의 높은 굴절율을 가져야 하며, 소자제작에 사용되는 공정에 따라 높은 온도에서 안정적인 내열성을 가져야 한다.
굴절율이 2.0 이상의 높은 소재로 TiO2, ZrO2 등의 무기물이 있지만, 성형과정이 매우 어렵고 복잡하며, 고분자 소재의 경우는 내부 구성 분자들의 전자 특성에 기인하여 1.60 이상의 굴절율을 얻기 어렵다.
따라서 고분자의 고유 특성에 의한 굴절율의 한계를 극복하고 고굴절율을 갖는 금속 나노입자의 필름 성형, 공정 온도 및 패턴 형성의 어려움을 해결하기위한, 성형 가공이 용이하고 고내열성 및 내화학성이 우수한 고굴절 유무기 하이브리드 소재를 개발이 절실하다.
이에 본 출원인은 1.80 이상의 고굴절 특성을 가지며, 투명성, 열안정성 및 내화학성이 우수하고, 무기물과의 반응 또는 자체 반응으로 크로스링킹될 수 있는 신규한 폴리스틸렌 고분자 및 이의 제조방법을 제공하고자 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 굴절률을 획기적으로 향상시켜 높은 광투과성 및 투명성을 갖는 OLED 광추출용 평탄층에 적용 가능한 고굴절률 유무기 하이브리드 수지 개발을 위한 기본 메트릭스 화합물인 고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자를 제공하는 데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 아크릴레이트 기반의 고분자에 비하여 에폭시 스틸렌을 포함하고 있어 고굴절율이 용의하고, 반응성 에폭시에 의하여 추가 반응에 의하여 크로스링킹되어 열적 안정성이 우수한 고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 하기 화학식1로 표시되는 고분자 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000001
[상기 화학식 1에 있어서,
상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C30)알킬이고;
상기 X는 단일결합, (C1-C20)알킬렌 또는 (C2-C20)알케닐렌이고;
상기 Y는 S, NH 또는 O이고;
상기 Z는 (C6-C30)아릴 또는 (C3-C30)헤테로아릴이고,
상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.]
본 발명의 일실시예에 따른, 상기 화학식1로 표시되는 고분자 화합물은 상기 R1 및 R2가 수소 또는 (C1-C10)알킬이고, 상기 X는 단일결합, (C1-C10)알킬렌일 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른, 상기 고분자 화합물의 상기 Y는 S 또는 O이고, 상기 Z는 하기 구조에서 선택되는 것일 수 있다.
Figure PCTKR2014006371-appb-I000002
본 발명의 일실시예에 따른, 상기 고분자 화합물은 하기 화학식에서 선택되는 것일 수 있다.
Figure PCTKR2014006371-appb-I000003
[상기 화학식에 있어서,
상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.]
본 발명의 일실시예에 따른, 상기 화학식1로 표시되는 고분자 화합물은 하기 화학식2로 표시되는 에폭시 스틸렌 화합물을 단량체 중 5 내지 30 mol%로 포함되는 것일 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른, 상기 화학식1로 표시되는 고분자 화합물은 중량평균분자량이 500 내지 20,000 g/mol인 고분자 화합물일 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른, 상기 고분자 화합물은 굴절률이 1.6 내지 2.0일 수 있다.
본 발명은 하기 화학식2로 표시되는 에폭시 스틸렌 화합물, 하기 화학식3으로 표시되는 아크릴레이트계 화합물 및 하기 화학식4로 표시되는 아크릴레이트계 화합물을 반응하여 화학식1로 표시되는 고분자 화합물을 제조하는 단계; 를 포함하는 고분자 화합물의 제조방법을 제공한다.
[화학식2]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000004
[화학식3]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000005
[화학식4]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000006
[화학식1]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000007
[상기 화학식 1 내지 화학식4에 있어서,
상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C30)알킬이고;
상기 X는 단일결합, (C1-C20)알킬렌 또는 (C2-C20)알케닐렌이고;
상기 Y는 S, NH 또는 O이고;
상기 Z는 (C6-C30)아릴 또는 (C3-C30)헤테로아릴이고,
상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.]
본 발명에 따른 고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자는 일반적인 아크릴레이트계에 비하여 굴절률을 극대화시킬 수 있으며, 본 발명에 따른 고분자를 유무기 하이브리드 조성물의 기본 메트릭스 화합물로 사용할 경우 1.80 이상의 고굴절 및 높은 광투과성 및 투명성을 나타내어 굴절률 차이에 의해 감쇄되는 빛을 외부로 추출하는데 사용하는 광추출용 평탄층과 같은 버퍼층에 적용이 가능하다.
또한, 상기 고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자는 열경화 반응을 이용하여 박막의 성형이 용의하며, 고분자 자체 굴절율이 높기 때문에 추가 무기졸 등을 적게 넣어도 고굴절율을 갖기 때문에 코팅성의 개선이 용의하며, 황변이 적어 투과도를 높일 수 있어 조명 또는 디스플레이 분야 등에 우수한 광학 특성을 발현할 수 있는 이점이 있다.
본 발명에 따른 고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자 및 반응성 스틸렌 유도체를 이용한 이의 제조방법에 대하여 이하 상술하나, 이때 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다.
상기와 같은 기술적 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자를 합성하기 위하여 에폭시 스틸렌을 단량체로 사용한다. 반응식1은 에폭시 스틸렌 (A)의 화학 구조식 및 합성 경로이다.
[반응식1]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000008
본 발명에서는 상기 A 단량체를 포함하는 하기 화학식1로 표시되는 고분자를 합성하는데 목적이 있다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000009
[상기 화학식 1에 있어서,
상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C30)알킬이고;
상기 X는 단일결합, (C1-C20)알킬렌 또는 (C2-C20)알케닐렌이고;
상기 Y는 S, NH 또는 O이고;
상기 Z는 (C6-C30)아릴 또는 (C3-C30)헤테로아릴이고,
상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.]
상기 화학식1로 표시되는 고분자에 있어, 우수한 광투과성 및 투명성을 가지기 위한 측면에서, 상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C10)알킬이고, 상기 X는 단일결합, (C1-C10)알킬렌일 수 있다.
또한 상기 화학식1로 표시되는 고분자에 있어, 우수한 내열성을 가지기 위한 측면에서, 상기 Y는 S 또는 O이고, 상기 Z는 하기 구조에서 선택되는 것이 바람직하다.
Figure PCTKR2014006371-appb-I000010
상기 고분자는 고굴절율을 가지기 위한 측면에서 보다 바람직하게는 하기 화학식에서 선택되는 것이 좋으나 이에 한정되는 것은 아니다.
Figure PCTKR2014006371-appb-I000011
[상기 화학식에 있어서,
상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.]
상기 a, b 및 c는 본 발명의 고분자 화합물의 구성 비율을 표시한다. 본 발명의 일실시예에 따른 상기 고분자 화합물은 하기 화학식2로 표시되는 스틸렌 화합물을 단량체 중 5 내지 30 mol%로 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명의 일실시예에 따른 고굴절률을 갖는 경화성 고분자인 상기 화학식1로 표시되는 고분자 화합물은 중량평균분자량이 500 내지 20,000 g/mol일 수 있으며, 상기 고분자 화합물은 1.8 내지 2.0 수준의 고굴절률을 가질 수 있다.
본 발명은 고굴절률 갖는 고분자 화합물을 제조하기 위해, 하기 화학식2로 표시되는 에폭시 스틸렌 화합물, 하기 화학식3으로 표시되는 아크릴레이트계 화합물 및 하기 화학식4로 표시되는 아크릴레이트계 화합물을 반응하여 화학식1로 표시되는 고분자 화합물을 제조하는 단계; 를 포함할 수 있으나 이에 한정이 되는 것은 아니다.
[화학식2]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000012
[화학식3]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000013
[화학식4]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000014
[화학식1]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000015
[상기 화학식 1 내지 화학식4에 있어서,
상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C30)알킬이고;
상기 X는 단일결합, (C1-C20)알킬렌 또는 (C2-C20)알케닐렌이고;
상기 Y는 S, NH 또는 O이고;
상기 Z는 (C6-C30)아릴 또는 (C3-C30)헤테로아릴이고,
상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.]
이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명은 고굴절률을 갖는 아크릴계 단량체 및 반응성 에폭시 스틸렌 유도체를 포함하는 고분자 화합물은 하기의 반응식으로 제조가 가능하다.
[반응식2]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000016
[반응식3]
Figure PCTKR2014006371-appb-I000017
경화성 고분자인 상기 고분자 화합물은 열 경화가 가능한 고분자 화합물로서, 에폭시 스틸렌을 포함하며, 카복실산 작용기를 갖고 있어 금속 나노졸 등과의 화학적 반응이 가능하며, 박막의 성형 및 패턴 형성에 유리하다.
상기 경화성 고분자는 반응 용매 또는 코팅 시 상용성 및 패터닝 공정상 현상시 쉽게 녹아나는 특성을 향상시키기 위하여 중량평균분자량이 500 내지 20,000인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 1,000 내지 10,000인 것을 사용하는 것이 좋다.
상기 화학식에서 경화성 고분자의 단위체는 고굴절 아로마틸 구조를 포함하는 아크릴 또는 메타아크릴 단량체와 에폭시를 포함하는 스틸렌 단량체를 라디칼 중합으로 하여 말단에 에폭시기를 포함할 수 있다. 또한, 고굴절의 아로마틱 화합물은 나프틸, 벤젠, 헤테로 환형 구조를 갖는 것이 바람직하다.
상기 a, b 및 c는 고분자 화합물의 구성 비율로서 a는 0 ~ 90 %, b는 5 ~ 100 % 및 c는 0 ~ 20 %의 비율로 합성될 수 있으며, 바람직하게는 a는 60 ~ 90 %, b는 5 ~ 30 % 및 c는 5 ~ 20 %의 비율로 합성될 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예 및 실험예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
고분자 1 합성은 아래와 같다.
250 ml의 3구 유리 반응기에 20 ml의 PGMEA를 가하고 질소로 내부 공기를 치환하면서 온도를 65 ℃로 가열하였다. 상기 반응기에 나프탈렌싸이오에틸 아크릴레이트(NTEA, 70 mol %) 19 g과 메타아크릴산(Methacrylic acid, 10 mol %) 1.2 g, 개시제 V-65 1.60 g 및 에폭시 스틸렌(ES, 20 mol%) 2.92 g을 40 ml의 PGMEA에 녹인 용액을 65 ℃를 유지하면서 1시간동안 천천히 적가하였다. 적가가 완료된 후 반응물을 65 ℃를 유지하며 24 시간동안 교반하였다. 반응이 완료된 후 반응물을 과량의 메탄올 용액에 천천히 적하하여 흰색 고체의 고분자가 생성된다. 생성된 고분자를 필터하고 나서 진공 오븐에서 24 시간 진공 건조한다.
얻어진 고분자는 GPC(용매:1% THF,10uL injection) 측정을 통해 중량평균분자량이 7,800인 것을 확인하였으며, 프리즘 커플러(Prism coupler; 박막두께 7.65 um)를 통해 굴절률을 확인한 결과, 1.6302 @ 830nm을 나타내었다.
(실시예 2)
고분자 2 합성은 아래와 같다.
250 ml의 3구 유리 반응기에 20 ml의 PGMEA를 가하고 질소로 내부 공기를 치환하면서 온도를 65 ℃로 가열하였다. 상기 반응기에 o-phenylphenoxy ethyl acrylate(OPPEA, 70 mol %) 18.76 g과 메타아크릴산(Methacrylic acid, 10 mol %) 1.2g, 개시제 V-65 1.60 g, 에폭시 스틸렌(ES, 20 mol%) 2.92 g을 40ml의 PGMEA에 녹인 용액을 65 ℃를 유지하면서 1 시간동안 천천히 적가하였다. 적가가 완료된 후 반응물을 65 ℃를 유지하며 24 시간동안 교반하였다. 반응이 완료된 후 반응물을 과량의 메탄올 용액에 천천히 적하하여 흰색 고체의 고분자가 생성된다. 생성된 고분자를 필터하고 나서 진공 오븐에서 24 시간 진공 건조한다.
얻어진 고분자는 GPC(용매:1% THF,10uL injection) 측정을 통해 중량평균분자량이 7,500인 것을 확인하였으며, 프리즘 커플러(Prism coupler; 박막두께 7.65 um)를 통해 굴절률을 확인한 결과, 1.6152 @ 830nm을 나타내었다.
상기 실시예 1 및 2에서 제조된 본 발명에 따른 고분자 수지는 가시광 영역에서의 각각 굴절율이 1.645@550nm, 1.630@550nm가 나왔으며, 투과도(UV spectrometer) 측정결과 각각 91% 및 92%를 나타내어, 높은 굴절률 및 우수한 투과성을 발현하는 것을 확인할 수 있었으며, 이는 광추출용 평탄층에 적용 가능하여 조명 또는 디스플레이 분야에 그 응용 가능성을 높일 수 있는 이점이 있다.
이상과 같이 본 발명에서는 특정된 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.
따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.

Claims (8)

  1. 하기 화학식1로 표시되는 고분자 화합물.
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2014006371-appb-I000018
    [상기 화학식 1에 있어서,
    상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C30)알킬이고;
    상기 X는 단일결합, (C1-C20)알킬렌 또는 (C2-C20)알케닐렌이고;
    상기 Y는 S, NH 또는 O이고;
    상기 Z는 (C6-C30)아릴 또는 (C3-C30)헤테로아릴이고,
    상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.]
  2. 제1항에 있어서,
    상기 화학식1로 표시되는 고분자 화합물의 상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C10)알킬이고, 상기 X는 단일결합, (C1-C10)알킬렌인 고분자 화합물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 고분자 화합물의 상기 Y는 S 또는 O이고, 상기 Z는 하기 구조에서 선택되는 것인 고분자 화합물.
    Figure PCTKR2014006371-appb-I000019
  4. 제3항에 있어서,
    상기 고분자 화합물은 하기 화학식에서 선택되는 것인 고분자 화합물.
    Figure PCTKR2014006371-appb-I000020
    [상기 화학식에 있어서,
    상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.]
  5. 제1항에 있어서,
    상기 화학식1로 표시되는 고분자 화합물은 하기 화학식2로 표시되는 에폭시 스틸렌 화합물을 단량체 중 20 내지 70 mol%로 포함되는 것인 고분자 화합물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 화학식1로 표시되는 고분자 화합물은 중량평균분자량이 500 내지 20,000 g/mol인 고분자 화합물.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 고분자 화합물은 굴절률이 1.8 내지 2.0인 고분자 화합물.
  8. 하기 화학식2로 표시되는 에폭시 스틸렌 화합물, 하기 화학식3으로 표시되는 아크릴레이트계 화합물 및 하기 화학식4로 표시되는 아크릴레이트계 화합물을 반응하여 화학식1로 표시되는 고분자 화합물을 제조하는 단계; 를 포함하는 고분자 화합물의 제조방법.
    [화학식2]
    Figure PCTKR2014006371-appb-I000021
    [화학식3]
    Figure PCTKR2014006371-appb-I000022
    [화학식4]
    Figure PCTKR2014006371-appb-I000023
    [화학식1]
    Figure PCTKR2014006371-appb-I000024
    [상기 화학식 1 내지 화학식4에 있어서,
    상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C30)알킬이고;
    상기 X는 단일결합, (C1-C20)알킬렌 또는 (C2-C20)알케닐렌이고;
    상기 Y는 S, NH 또는 O이고;
    상기 Z는 (C6-C30)아릴 또는 (C3-C30)헤테로아릴이고,
    상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이다.]
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240027466A (ko) * 2022-08-23 2024-03-04 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2807599A (en) * 1955-01-28 1957-09-24 Du Pont Polymers of divinyl benzene monoepoxide
KR900000976B1 (ko) * 1984-07-11 1990-02-23 아사히가세이고오교가부시끼가이샤 고에너지선에 고감응성을 갖는 상형성 재료
KR910003964B1 (ko) * 1986-09-29 1991-06-17 아사히 가세이 고오교 가부시끼가이샤 광경화성 적층판
US7491441B2 (en) * 2004-12-30 2009-02-17 3M Innovative Properties Company High refractive index, durable hard coats
KR20130016702A (ko) * 2011-08-08 2013-02-18 박문수 용액중합법에 의한 고분자량 폴리메타크릴산의 제조방법
WO2013062170A1 (ko) * 2011-10-27 2013-05-02 제일모직 주식회사 열가소성 수지 조성물 및 이를 이용한 성형품

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3366938D1 (en) * 1982-11-01 1986-11-20 Hitachi Ltd Transparent resin material containing metal atoms
KR100357685B1 (ko) * 1999-11-03 2002-10-25 한국화학연구원 방향족 아크릴계 또는 메타아크릴계 화합물 및 그의제조방법, 이들 화합물 하나 이상을 포함하는 중합성조성물, 및 이로부터 고굴절 투명 플라스틱 소재를제조하는 방법
KR100557473B1 (ko) * 2003-12-17 2006-03-07 주식회사 피피아이 광도파로 소자용 에폭시 치환기를 가진 불소 스티렌단량체와 이를 이용한 고분자 화합물
JP5275849B2 (ja) 2008-04-21 2013-08-28 帝人株式会社 二軸配向多層積層ポリエステルフィルム
US8349210B2 (en) * 2008-06-27 2013-01-08 Transitions Optical, Inc. Mesogenic stabilizers

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2807599A (en) * 1955-01-28 1957-09-24 Du Pont Polymers of divinyl benzene monoepoxide
KR900000976B1 (ko) * 1984-07-11 1990-02-23 아사히가세이고오교가부시끼가이샤 고에너지선에 고감응성을 갖는 상형성 재료
KR910003964B1 (ko) * 1986-09-29 1991-06-17 아사히 가세이 고오교 가부시끼가이샤 광경화성 적층판
US7491441B2 (en) * 2004-12-30 2009-02-17 3M Innovative Properties Company High refractive index, durable hard coats
KR20130016702A (ko) * 2011-08-08 2013-02-18 박문수 용액중합법에 의한 고분자량 폴리메타크릴산의 제조방법
WO2013062170A1 (ko) * 2011-10-27 2013-05-02 제일모직 주식회사 열가소성 수지 조성물 및 이를 이용한 성형품

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