WO2015173186A1 - Verfahren zur beschichtung von oberflächen mit nanostrukturen, nach dem verfahren hergestelltes bauteil und verwendung des bauteils - Google Patents

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WO2015173186A1
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Patrick Daubinger
Jochen Kieninger
Gerald Urban
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Albert-Ludwigs-Universität Freiburg
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Definitions

  • the present invention relates to a method for coating surfaces with nanostructures and to a coated component produced by means of this method and to the use thereof.
  • the present invention has for its object to provide a method and a component which is produced by the method according to the invention, with a
  • first deposition as microstructuring of at least one first substance
  • rhenium selected from a group comprising rhenium, ruthenium, rhodium, palladium,
  • the carrier part itself may comprise an electrically conductive carrier or else a carrier with an electrically conductive coating.
  • this coating may consist of a material selected from a group comprising platinum, gold, palladium, carbon, copper, nickel, iridium, silver, rhodium, ruthenium, osmium, rhenium, niobium, beryllium, copper, tin and alloys, containing the aforementioned elements, also with other elements.
  • Particularly preferred are selected from platinum, gold, palladium, carbon, iridium and / or osmium, even more preferably platinum, palladium and / or gold, in each case also their alloys, with other elements.
  • the carrier part is preferably coated, in particular if it is not itself conductive, preferably with an electrically conductive coating, more preferably with such a material comprising the abovementioned materials or alloys, particularly preferably platinum, palladium and / or gold.
  • the carrier part preferably has a coating of polycrystalline conductive material, preferably of platinum, palladium and / or gold.
  • the carrier part comprises a carrier which consists of a material selected from a group comprising glass, in particular borosilicate glass, metals, polymers, semiconductors and / or PEM (polymer electrolyte membrane). As PEM can preferably Nafion
  • the carrier part comprises in addition to the carrier at least one electrically conductive coating, in particular of a material as mentioned above.
  • this coating is preferably by means of CVD (chemical vapor deposition), preferably PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) and / or PVD (physical vapor deposition) performed.
  • CVD chemical vapor deposition
  • PECVD plasma enhanced chemical vapor deposition
  • PVD physical vapor deposition
  • a silicon-containing substance preferably silicon nitride
  • electrically conductive material comprising one of the above-mentioned electrically conductive materials, preferably platinum, palladium and / or gold, deposited on this silicon-containing layer. It can be proceeded in such a way that initially a
  • the support part Before the first and second deposition, the support part is conditioned, in particular when it is a coated support part as described above,
  • the component is preferably introduced into an ionic, especially saline, aqueous solution and conditioned until stable values are reached.
  • electrochemical conditioning using cyclic voltammetry or current ramps, the carrier part is conditioned, for example, until stable, ie uniform cyclic voltammograms or current ramps are always obtained.
  • This support member optionally comprising a support having a coating as set forth above, is subjected to the first deposition (microstructuring).
  • the first deposition is carried out by at least one first substance selected from a group comprising rhenium, ruthenium, rhodium, palladium, silver, osmium, iridium, Platinum, gold, tin, zinc, copper, cobalt, lead, nickel and / or alloys with these.
  • alloys with these is used, hereby meant alloys of said elements, not only of these elements with each other, but optionally also with other elements of the Periodic Table. It is essential that the at least one first substance in the
  • Microstructuring is deposited on the support member, is electrically conductive.
  • the at least one first substance need not necessarily be catalytically active or have further properties.
  • the at least one first substance serves primarily as a basic structure in order to carry out a nanostructuring in the context of the second deposition according to the method according to the invention.
  • the at least one first substance is made available from at least one first compound. This at least one first connection is advantageous
  • the first compounds mentioned by way of example are CuSO 4 , salts of the anion Cu (P 2 O) 2- , NiCl 2 , NiSO 4 , Ni (S0 3 NH 2 ) 2 , ZnCl 2 , salts of the anion [Zn (CN) 4 ] 2 " , salts of the anion [Zn (OH) 4 ] 2" , SnS0 4 , SnO x , CoCl 2 and CoSO 4 ,
  • the platinum-containing first compound can advantageously be selected from a group comprising H 2 PtCl 6 (hexachloroplatinic acid), K 2 PtCl 6 (potassium hexachloroplatinate) and / or K 2 PtCl 4 (potassium tetrachloroplatinate). Preference is given to using an aqueous solution of the first and / or second compound, in particular the abovementioned one.
  • the concentration of the at least one first substance before the beginning of the deposition process in the first deposition step in solution is at least 0.1 g / l, preferably at least 1 g / l, more preferably at least 3 g / l, and is preferably in a range of about 0, 1 g / l to about 100 g / l, more preferably in a range of about 3 g / l to about 10 g / l, even more preferably in a range of about 4 g / l to about 8 g / l.
  • the concentration is preferably in a range of about 0.1 mM to about 1 M, more preferably in a range of about 0.2 mM to about 0.8 M, more preferably in a range of about 0.9 mM to about 0.5 M.
  • the first and / or second compound provides the at least one first or second substance
  • At least one metal ion-containing compound is used, preferably a lead-containing compound .
  • the metal-ion-containing substance is preferably selected from a group comprising acetates, sulfides and / or sulfates of metals of groups IVb, Vb, Vlb, IVa and Va of the Periodic Table.
  • the use of the at least one compound containing metal ions advantageously improves the deposition of the at least one first substance.
  • the metal from the metal-ion-containing compound deposits on the at least one support part, which is then exchanged for the at least one first substance, for example platinum.
  • the metal ion-containing compound comprises cations selected from a group comprising Pb 2+ , Pb 4+ , Co 2+ , Ti + , Zn 2+ , Bi 3+ , Cd 2+ , Ag + , Sn 2+ , Hg + , Se 4+ , Te 4+ and / or Sb 3+ .
  • Alloy is deposited, that is, a first substance is deposited, which comprises tin, zinc, copper, cobalt, lead, nickel and / or alloys with these, the addition of the above-mentioned additional metal ion-containing compound is not necessary, but may optionally take place.
  • the first deposition is carried out according to the invention by electrochemical methods.
  • cyclic voltammetry or current ramps can be used, for example, but also other direct current and alternating current methods.
  • Advantageous results are achieved with current ramps.
  • the second deposition (nanostructuring) of the method according to the invention follows the first deposition or else the first and the second deposition are carried out simultaneously.
  • first the first deposition
  • the at least one second compound used in this case preferably corresponds to the at least one first compound used in the first deposition, insofar as it is an element from the group of noble metals, ie rhenium, ruthenium, rhodium, palladium, silver, osmium, iridium, platinum, gold and / or alloys with these.
  • noble metals ie rhenium, ruthenium, rhodium, palladium, silver, osmium, iridium, platinum, gold and / or alloys with these.
  • noble metals ie rhenium, ruthenium, rhodium, palladium, silver, osmium, iridium, platinum, gold and / or alloys with these.
  • the second deposition only those which have noble metal group elements are used as second compound and thus ultimately second substance.
  • an element of a non-noble metal group may have been deposited on the support part on which a second substance selected from the group of noble metals as mentioned above is then deposited in the second deposition as part of the nanostructuring ,
  • the first and the second substance therefore need not be identical for the purposes of the present invention, they are particularly preferred.
  • Preferably identical first and second compounds are used in the first and in the second deposition. But it can also, for example hexachloro salts are used as the first compound and tetrachloro salts, for example platinum, as the second compound.
  • the second takes place
  • Deposition electrochemically or by colloid synthesis may be identical to those provided in the first deposition.
  • the second deposition by means of colloid synthesis this can be carried out, for example, in the sol-gel process or in the hydrothermal process or by means of colloidal deposition.
  • Formic acid borohydride, hydrogen, hydrazine, citric acid and its derivatives, ascorbic acid, ethanol, vitamin B2 and / or potassium bitartrate. Particular preference is given to using formic acid.
  • the solution used in the second deposition is
  • the support part is at least partially, preferably completely immersed therein.
  • Deposition in the solution in the second deposition step is at least 0.01 g / l, preferably at least 0.1 g / l, more preferably at least 0.3 g / l, even more preferably at least 0.5 g / l, and is in one Range from about 0.01 g / l to about 10 g / l, preferably in a range from about 0.1 g / l to about 1.5 g / l, more preferably in a range of about 0.2 g / l to about 1 g / l, even more preferably in a range of about 0.4 g / l to about 0.8 g / l. Based on the first and / or second compound used is the
  • Concentration of the at least one first substance in the first deposition in solution is at least about 10-fold, preferably at least about 1 2-fold higher than that of the at least one second substance in the second deposition, and is preferably about 30 1 2-fold to about 150 times higher.
  • concentration of the at least one reducing agent is in a range of about 0.05 mM to about 5 M, more preferably in a range of about 0.5 mM to about 3 M, even more preferably in a range of 5 mM to 2, 5 M.
  • the concentration of the reducing agent in the second deposition is at least 10 times, more preferably at least 200 times higher than that of the at least one second substance in the second deposition.
  • the second deposition is carried out over a period of at least one hour, preferably over a period of at least one hour to one month, more preferably over a period of at least 5 hours to at least 2 weeks.
  • the first deposition is advantageously carried out over a period of about one minute to about 60 minutes, more preferably over a period of about 1.5 minutes to about 10 minutes.
  • the invention further relates to both a coated component prepared according to the inventive method as set forth above, and a use of the coated component as a sensor, in fuel cells, as PEM, as a glucose detector, in neuronal stimulation, in tumor diagnostics, in clinical monitoring and / or in biofuel cells.
  • a coated component prepared according to the inventive method as set forth above
  • PEM fuel cells
  • glucose detector glucose detector
  • neuronal stimulation in tumor diagnostics, in clinical monitoring and / or in biofuel cells.
  • DSSC dye-sensitized solar cells
  • the method according to the invention is preferably used in the coating of electrodes, in particular for fuel cells.
  • a catalytically active surface of the nano-coated device according to the invention can be determined via the surface roughness R f, the surface roughness R f being measured on the basis of the necessary charge for a monolayer of absorbed protons (T. Biegler, DA Rand, and RJ Woods, J. Electroanal. , 1971, 29, pp. 269-277). Due to working in aqueous solution must in the determination of the
  • the surface roughness factor Rf the platinum-hydrogen absorption peaks are used.
  • the total charge Q can be determined by integrating the current density over time.
  • the surface roughness factor Rf is then obtained by dividing the total charge Q by the charge density of oxygen at platinum surfaces, which is 210 ⁇ C / cM 2 (JM Rodriguez, J. Meliän, JA Herrera, and JP Pena, Journal of Chemical Education, 2000, 77, p 1 1 95-1 197).
  • the surface roughness factor Rf for the inventively coated component is at least 2,000, more preferably at least 3,500 and even more preferably at least 4,000, and is preferably in a range of about 2,000 to about 15,000, more preferably in a range of about 3,500 to about 10,000.
  • the inventively coated component due to the first deposition, has a surface immediately adjacent to the surface thereof, which may also be provided by a surface of a coating layer on the component
  • the nanostructuring that takes place in the second deposition can be represented in such a way that wire, stick or tube-shaped nanostructures are applied to the structures obtained in the first deposition, which can also be addressed as tree-like or leaf-like in a two-dimensional view.
  • FIG. 2a scanning electron micrographs of the surface of a coated component
  • FIG. 2b scanning electron micrographs of the surface of a further coated component
  • FIG. FIG. 3 graphical representation of the impedance for the neuronal stimulation
  • Fig. 4 graphical representation of the phase angle for the neuronal stimulation
  • Fig. 5 representation of the current density versus time in the glucose oxidation
  • FIG. 7 plot of the current density against the potential E vs RHE for the methanol and ethanol oxidation with a polycrystalline platinum coated.
  • Fig. 8 Plotting the current density against the potential E RH for the methanol
  • Fig. 1 shows a schematic representation of the inventive method.
  • a support member designated by the reference numeral 10, which comprises a support and a coating deposited thereon (not shown in detail), is coated with a platinum-containing substance in a first deposition step. The coating takes place ⁇ thereby electrochemically in two-electrode setup by ramp methods or
  • Carrier part 10 hemispherical deposits 14 in the form of a first coating 16.
  • further platinum-containing material is deposited by colloid synthesis, initially on the hemispheres 14 cubic or spherical deposits 18 of platinum form, on which, as the Kolloidsynthese advancing nanotubes or wires 20 deposit to form a three-dimensional
  • FIG. 2a and b are scanning electron micrographs of the coating of two coated according to the scheme of FIG. 1 components according to FIG. 1 in different resolutions. Both the hemispherical basic structures 14 and the nanotubes or wires 20, as shown schematically in FIG. 1, can be clearly seen here.
  • the coated component 30 according to FIG. 2a was produced as follows: First, an uncoated carrier part 10 was produced by providing a carrier 11 on its surface 12 with a coating which is electrically conductive. For this purpose, 1 1 borosilicate glass wafer with a length of 100 mm and a thickness of 500 m (PYREX BOROFLOAT, SCHOTT AG Germany) were prepared with a polycrystalline platinum layer in a thin-film process as a carrier. For this purpose, a layer of 200 nm silicon nitride was first deposited by PECVD on this and then a 20 nm thick layer of titanium, deposited on this one 100 nm thick layer of platinum and then a 50 nm thick layer of titanium on this by PVD.
  • the coated component 10 may be formed, for example, in the form of an electrode. However, it may also have any other suitable and desired shape, depending on the later intended use of the coated component 30. This was followed by a conditioning of the thus prepared electrically conductive support members 10 by means of cyclic voltammetry in aqueous
  • the first deposition was carried out according to the invention by using electrochemical platinum electrochemically as the first substance hemispherical on
  • the second deposition was carried out by colloidal deposition (colloid synthesis).
  • colloidal deposition colloid synthesis
  • FIG. 2 b which shows a scanning electron micrograph of the same, was produced identically to the component 30 according to FIG. 2 a with the only difference that instead of a borosilicate glass wafer as carrier 1 1 with a
  • the impedance is plotted against the frequency and, apart from the component 30 according to the invention, the impedance characteristics of the carrier part 10 are compared only with a polycrystalline platinum coating or the carrier part 10 with the coating 16.
  • Phase element means in FIGS. 3 and 4 a modeling of the electrode-electrolyte interface.
  • Fig. 4 shows the plot of the phase angle versus frequency.
  • the component 30 according to the invention (again referred to as Pt NW) showed up to frequencies of 100 Hz a phase angle close to -90 °, which at 100 Hz in the coated with a polycrystalline platinum layer
  • Susp NW the component 30 according to the invention
  • FIGS. 3 and 4 thus show in the component 30 according to the invention a significant reduction in impedance compared to other coated components, which ultimately leads to a reduction in tissue damage and a higher sensitivity in neuronal stimulation. In particular, no signs of cytotoxicity could be detected.
  • FIGS. 5 and 6 show the use of the component 30 according to the invention as a glucose sensor or as a biological fuel cell.
  • FIG. 5 shows a comparison of the hydrogen peroxide oxidation and the glucose oxidation at a potential of 1.1 V vs RHE, whereby on the one hand only the carrier part 10 with a polycrystalline one again
  • FIGS. 5 and 6 show that long-term monitoring of the glucose content is possible by means of the component 30 without any biological components being used.
  • the component 30 for the determination the glucose content in the presence of ascorbic acid and / or uric acid, for example in the blood, are used.
  • the present invention provides both a method and a coated component, with which highly reactive surface coatings having a large surface area can be provided, which can be provided to one

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Abstract

Zur Lösung der Aufgabe, ein Verfahren und ein Bauteil zur Verfügung zu stellen, welches mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellt ist, dessen Reaktivität verbessert ist, wird ein Verfahren vorgeschlagen, umfassend die Schritte: - Zurverfügungstellung mindestens eines Trägerteils zur Beschichtung; - erste Abscheidung als Mikrostrukturierung mindestens einer ersten Substanz, ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Rhenium, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold, Zinn, Zink, Kupfer, Cobalt, Blei, Nickel und/oder Legierungen mit diesen, aus mindestens einer ersten Verbindung, die die mindestens eine erste Substanz zur Verfügung stellt, durch elektrochemische Methoden auf dem mindestens einen Trägerteil; - zweite Abscheidung als Nanostrukturierung mindestens einer zweiten Substanz, ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Rhenium, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold und/oder Legierungen mit diesen, aus mindestens einer zweiten Verbindung, die die mindestens eine zweite Substanz zur Verfügung stellt, in Lösung.

Description

Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen mit Nanostrukturen, nach dem Verfahren hergestelltes Bauteil und Verwendung des Bauteils
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen mit Nanostrukturen sowie ein mittels dieses Verfahrens hergestelltes beschichtetes Bauteils als auch dessen Verwendung.
Für eine Vielzahl von technischen und medizinischen Anwendungen ist es notwendig, Bauteile zur Verfügung zu stellen, welche eine Beschichtung mit einer möglichst großen aktiven Oberfläche aufweisen. Diese ist nicht nur erstrebenswert zur Effizienzsteigerung in Katalyse-Prozessen, wie in Brennstoffzellen oder in Sensoren, sondern beispielsweise auch in der neuronalen Stimulation oder aber in der Tumordiagnostik und im klinischen
Monitoring. Die vorliegende Erfindung hat zur Aufgabe ein Verfahren und ein Bauteil zur Verfügung zu stellen, welches mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellt ist, mit einer
Beschichtung, deren Reaktivität verbessert ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen mit Nanostrukturen umfassend die Schritte
- Zurverfügungstellung mindestens eines Trägerteils zur Beschichtung;
- erste Abscheidung als Mikrostrukturierung mindestens einer ersten Substanz,
ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Rhenium, Ruthenium, Rhodium, Palladium,
Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold, Zinn, Zink, Kupfer, Cobalt, Blei, Nickel und/oder Legierungen mit diesen, aus mindestens einer ersten Verbindung, die die mindestens eine erste Substanz zur Verfügung stellt, durch elektrochemische Methoden auf dem mindestens einen Trägerteil; zweite Abscheidung als Nanostrukturierung mindestens einer zweiten Substanz, ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Rhenium, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold und/oder Legierungen mit diesen, aus mindestens einer zweiten Verbindung, die die mindestens eine zweite Substanz zur Verfügung stellt, in Lösung.
Das Trägerteil selbst kann einen elektrisch leitfähig Träger umfassen oder aber einen Träger mit einer elektrisch leitfähigen Beschichtung. Diese Beschichtung kann insbesondere aus einem Material bestehen, welches ausgewählt ist aus einer Gruppe umfassend Platin, Gold, Palladium, Kohlenstoff, Kupfer, Nickel, Iridium, Silber, Rhodium, Ruthenium, Osmium, Rhenium, Niob, Beryllium, Kupfer, Zinn und Legierungen, die die vorgenannten Elemente enthalten, auch mit weiteren Elementen. Besonders bevorzugt sind dabei ausgewählt Platin, Gold, Palladium, Kohlenstoff, Iridium und/oder Osmium, noch weiter bevorzugt Platin, Palladium und/oder Gold, jeweils auch deren Legierungen, auch mit weiteren Elementen. Vorzugsweise ist das Trägerteil beschichtet, insbesondere wenn es nicht selbst leitfähig ist, vorzugsweise mit einer elektrisch leitfähigen Beschichtung, weiter bevorzugt mit einer solchen umfassend die vorgenannten Materialien oder Legierungen, besonders bevorzugt Platin, Palladium und/oder Gold. Vorzugsweise weist das Trägerteil eine Beschichtung aus polykristallinem leitfähigen Material, bevorzugt aus Platin, Palladium und/oder Gold, auf. Das Trägerteil umfasst einen Träger, der aus einem Material besteht, ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Glas, insbesondere Borosilikatglas, Metalle, Polymere, Halbleiter und/oder PEM (Polymer-Elektrolyt-Membran). Als PEM kann bevorzugt Nafion
(eingetragene Marke) eingesetzt werden, bezogen von DuPont. Soweit das Material des Trägerteils elektrisch nicht leitend ist, umfasst das Trägerteil zusätzlich zum Träger mindestens eine elektrische leitfähige Beschichtung, insbesondere aus einem Material wie vorstehend erwähnt.
Soweit das Trägerteil nicht selbst elektrisch leitfähig ist, sondern eine elektrisch leitfähige Beschichtung aufweist, wird diese Beschichtung vorzugsweise mittels CVD (chemical vapor deposition), bevorzugt PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) und/oder PVD (physical vapor deposition) durchgeführt. Für die Herstellung einer solchen Beschichtung für ein Trägerteil, welche der ersten und zweiten Abscheidung erfindungsgemäß unterzogen wird, ist es dabei vorteilhaft, dass zunächst eine siliziumhaltige Substanz, vorzugsweise Siliziumnitrid, auf einem Träger für diese Beschichtung, die dann zusammen das Trägerteil bilden, abgeschieden wird. Nachfolgend wird elektrisch leitfähiges Material, umfassend eines der bereits vorstehend genannten elektrisch leitfähigen Materialien, vorzugsweise Platin, Palladium und/oder Gold, auf dieser siliziumhaltigen Schicht abgeschieden. Dabei kann dergestalt vorgegangen werden, dass zunächst eine
Metallschicht aus einem nicht oder schlecht leitfähigen Metall, wie beispielsweise Titan, nachfolgend eine elektrisch leitfähige Schicht, beispielsweise aus Platin, und nachfolgend noch eine Schicht aus Metall, beispielsweise Titan, abgeschieden wird, wobei dann nachfolgend beispielsweise durch Ätzverfahren in bestimmten Bereichen die oberste Metallschicht, beispielsweise aus Titan, entfernt wird, so dass die besser elektrisch leitfähige Schicht, beispielsweise umfassend Platin oder bestehend aus Platin, freigelegt wird.
Vor der ersten und zweiten Abscheidung wird das Trägerteil, insbesondere wenn es sich um ein beschichtetes Trägerteil wie vorstehend beschrieben handelt, konditioniert,
vorzugsweise durch elektrochemische Methoden, bevorzugt durch potentiostatische Methoden, insbesondere durch Cyclovoltammetrie oder durch Stromrampen. Hierzu wird das Bauteil vorzugsweise in eine ionenhaltige, insbesondere salzhaltige wässrige Lösung eingebracht und so lange konditioniert, bis stabile Werte erreicht werden. Im Falle einer elektrochemischen Konditionierung unter Einsatz der Cyclovoltammetrie oder durch Stromrampen wird dabei beispielsweise so lange das Trägerteil konditioniert, bis stets stabile, dass heißt gleichförmige Cyclovoltammogramme bzw. Stromrampen erhalten werden.
Dieses Trägerteil, gegebenenfalls umfassend einen Träger mit einer Beschichtung wie vorstehend dargelegt, wird der ersten Abscheidung (Mikrostrukturierung) unterzogen. Die erste Abscheidung erfolgt durch mindestens eine erste Substanz, ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Rhenium, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold, Zinn, Zink, Kupfer, Cobalt, Blei, Nickel und/oder Legierungen mit diesen.
Soweit in der vorliegenden Erfindung der Begriff "Legierungen mit diesen" verwendet ist, sind hiermit Legierungen der genannten Elemente gemeint, und zwar nicht nur dieser Elemente untereinander, sondern gegebenenfalls auch mit sonstigen Elementen des Periodensystems. Wesentlich ist, dass die mindestens eine erste Substanz, die in der
Mikrostrukturierung auf dem Trägerteil abgeschieden wird, elektrisch leitfähig ist. Die mindestens eine erste Substanz muss nicht notwendigerweise katalytisch aktiv sein oder weitere Eigenschaften aufweisen. Die mindestens eine erste Substanz dient in erster Linie als Grundstruktur, um auf dieser eine Nanostrukturierung im Rahmen der zweiten Abscheidung gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren vorzunehmen.
Die mindestens eine erste Substanz wird aus mindestens einer ersten Verbindung zur Verfügung gestellt. Diese mindestens eine erste Verbindung ist vorteilhafterweise
ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Hexa- oder Tetrachloroverbindungen, Phosphate, Sulfate, Oxide, Nitrate, Halogene, Carbonyle, Acetate, Cyanide, komplexe Salze und/oder Sauerstoff und/oder chlorhaltige Wasserstoffsäuren. Diese Auswahl gilt auch für die mindestens eine zweite Verbindung, welche die mindestens eine zweite Substanz zur Verfügung stellt. Als Beispiele hierfür sind betreffend die Gruppe der Edelmetalle zu nennen HRe04, RuCI3, RuBr3, Rul3, K2Ru(NO)CI5, Salze des Anions [Ru2N(H20)2Y8p- , Salze des Kations [Ru2N(NH3)8X2]3+, RhCI3, Rh2(S04)3, RhP04, PdCI2, Pd(NH3)4CI2, AgN03, Salze des Anions Ag2S04, [Ag(CN)2], OsCI4, OsOx, lrCI3, Br6IRNa3, HAuCI4, HAuBr4, KAu(CN)2, H2PtCI6, K2PtC und H2[Pt(OH)6]. Soweit die mindestens eine erste Verbindung einer mindestens eine erste Substanz zur Verfügung stellt, die nicht aus der Gruppe der Edelmetalle stammt, seien als erste Verbindungen beispielhaft angeführt CuS04, Salze des Anions Cu(P20 )2-, NiCI2, NiS04, Ni(S03NH2)2, ZnCI2, Salze des Anions [Zn(CN)4]2", Salze des Anions [Zn(OH)4]2", SnS04, SnOx, CoCI2 und CoS04.
Ist beispielsweise die erste Substanz Platin, so kann die dann platinhaltige erste Verbindung vorteilhafterweise ausgewählt aus einer Gruppe umfassend H2PtCI6 (Hexachloroplatinsäure), K2PtCI6 (Kaliumhexachloroplatinat) und/oder K2PtCI4 (Kaliumtetrachloroplatinat). Bevorzugt wird eine wässrige Lösung der ersten und/oder zweiten Verbindung , insbesondere der vorgenannten, eingesetzt. Die Konzentration der mindestens einen ersten Substanz vor Beginn des Abscheidungsprozesses im ersten Abscheidungsschritt in Lösung beträgt mindestens 0,1 g/l, vorzugsweise mindestens 1 g/l, weiter bevorzugt mindestens 3 g/l, und liegt vorzugsweise in einem Bereich von etwa 0,1 g/l bis etwa 100 g/l, weiter vorzugsweise in einem Bereich von etwa 3 g/l bis etwa 10 g/l, noch weiter bevorzugt in einem Bereich von etwa 4 g/l bis etwa 8 g/l. Bezogen auf die mindestens eine erste und/oder zweite Verbindung liegt die Konzentration vorzugsweise in einem Bereich von etwa 0,1 mM bis etwa 1 M, weiter bevorzugt in einem Bereich von etwa 0,2 mM bis etwa 0,8 M, weiter bevorzugt in einem Bereich von etwa 0,9 mM bis etwa 0,5 M.
Soweit im Kontext der vorliegenden Erfindung davon die Rede ist, dass die erste und/oder zweite Verbindung die mindestens eine erste oder zweite Substanz zur Verfügung stellt, ist dies dahin zu verstehen, dass die in aller Regel als Metall oder Legierung vorliegende mindestens eine erste oder zweite Substanz die betreffenden Metalle in der Regel ionischer bzw. salzartiger Form, oder auch kovalent gebundener Form in der ersten und/oder zweiten Verbindung vorhanden sind. Vorteilhafterweise wird bei der ersten Abscheidung mindestens einer ersten Substanz aus der Gruppe umfassend Edelmetalle Rhenium, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold und/oder Legierungen mit diesen, zusätzlich mindestens eine metallionenhaltige Verbindung eingesetzt, bevorzugt eine bleihaltige Verbindung. Die metallionenhaltige Substanz ist vorzugsweise ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Acetate, Sulfide und/oder Sulfate von Metallen der Gruppen IVb, Vb, Vlb, IVa und Va des Periodensystems. Durch den Einsatz der mindestens einen metallionenhaltigen Verbindung wird vorteilhafterweise die Abscheidung der mindestens einer ersten Substanz verbessert. Hierbei geht man davon aus, dass sich wohl zuerst das Metall aus der metallionenhaltigen Verbindung, beispielsweise Blei, auf dem mindestens einen Trägerteil abscheidet, welches dann gegen die mindestens eine erste Substanz, beispielsweise Platin, ausgetauscht wird. Bevorzugt umfasst die metallionenhaltige Verbindung Kationen, ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Pb2+, Pb4+, Co2+, Ti+, Zn2+, Bi3+, Cd2+, Ag+, Sn2+, Hg+, Se4+, Te4+ und/oder Sb3+. Soweit bei der ersten Abscheidung ein nicht-edelmetallhaltiges Element oder
Legierung abgeschieden wird, also eine erste Substanz abgeschieden wird, die Zinn, Zink, Kupfer, Cobalt, Blei, Nickel und/oder Legierungen mit diesen aufweist, so ist der Zusatz der vorstehend erwähnten zusätzlichen metallionenhaltigen Verbindung nicht notwendig, kann jedoch gegebenenfalls erfolgen.
Die erste Abscheidung erfolgt erfindungsgemäß durch elektrochemische Methoden. Dabei kann wiederum beispielsweise die Cyclovoltammetrie oder Stromrampen eingesetzt werden, aber auch sonstige Gleichstrom- und Wechselstrom-Methoden. Vorteilhafte Ergebnisse werden mit Stromrampen erzielt.
Die zweite Abscheidung (Nanostrukturierung) des erfindungsgemäßen Verfahrens folgt auf die ersten Abscheidung, oder aber der erste und der zweite Abscheidung werden gleichzeitig durchgeführt. Vorzugsweise wird zunächst die erste Abscheidung
vorgenommen und anschließend die zweite Abscheidung. Die hierbei eingesetzte mindestens eine zweite Verbindung entspricht bevorzugt der in der ersten Abscheidung eingesetzten mindestens einer ersten Verbindung, soweit diese ein Element aus der Gruppe der Edelmetalle, also Rhenium, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold und/oder Legierungen mit diesen, aufweist. In der zweiten Abscheidung werden als zweite Verbindung und damit letztendlich zweite Substanz nur solche eingesetzt, welche Edelmetallgruppenelemente aufweisen. Daher kann beispielsweise in der ersten Abscheidung ein Element aus einer Nicht-Edelmetallgruppe auf dem Trägerteil abgeschieden worden sein, auf welchem dann im zweiten Abscheidung im Rahmen der Nanostrukturierung eine zweite Substanz abgeschieden wird, die aus der Gruppe der Edelmetalle, wie vorstehend erwähnt, ausgewählt ist. Die erste und die zweite Substanz müssen daher im Sinne der vorliegenden Erfindung nicht identisch sein, besonders bevorzugt sind sie es. Bevorzugt werden in der ersten und in der zweiten Abscheidung identische erste und zweite Verbindungen eingesetzt. Es können aber beispielsweise auch als erste Verbindung Hexachlorosalze und als zweite Verbindung Tetrachlorosalze, beispielsweise des Platins, eingesetzt werden. Vorteilhafterweise erfolgt die zweite
Abscheidung elektrochemisch oder mittels Kolloidsynthese. Betreffend die anwendbaren elektrochemischen Methoden für die zweite Abscheidung können diese identisch zu 5 denjenigen sein, die in der ersten Abscheidung vorgesehen werden. Betreffend die
Durchführung der zweiten Abscheidung im Wege der Kolloidsynthese kann diese beispielsweise im Sol-Gel-Verfahren oder im Hydrothermalverfahren oder mittels kolloidaler Abscheidung durchgeführt werden. Bevorzugt ist das Verfahren der kolloidalen
Abscheidung. Hierfür wird vorteilhafterweise neben der mindestens einen zweiten
10 Verbindung mindestens ein Reduktionsmittel eingesetzt. Das mindestens einen
Reduktionsmittel ist vorteilhafterweise ausgewählt aus einer Gruppe umfassend
Ameisensäure, Borhydrid, Wasserstoff, Hydrazin, Zitronensäure und deren Derivate, Ascorbinsäure, Ethanol, Vitamin B2 und/oder Kaliumbitartrat. Besonders bevorzugt wird Ameisensäure eingesetzt. Die in der zweiten Abscheidung eingesetzte Lösung ist
15 vorteilhafterweise wässrig. Ebenfalls vorteilhafterweise erfolgt die erste Abscheidung
ebenfalls in Lösung, weiter vorteilhafterweise in einer wässrigen Lösung, d.h., das Trägerteil wird in diese zumindest teilweise, bevorzugt vollständig eingetaucht.
Die Konzentration der mindestens einen zweiten Substanz vor Beginn der zweiten
20 Abscheidung in der Lösung beträgt im zweiten Abscheidungsschritt mindestens 0,01 g/l, bevorzugt mindestens 0,1 g/l, weiter bevorzugt mindestens 0,3 g/l, noch weiter bevorzugt mindestens 0,5 g/l und liegt in einem Bereich von etwa 0,01 g/l bis etwa 10 g/l, bevorzugt in einem Bereich von etwa 0,1 g/l bis etwa 1 ,5 g/l, weiter bevorzugt in einem Bereich von etwa 0,2 g/l bis etwa 1 g/l, noch weiter bevorzugt in einem Bereich von etwa 0,4 g/l bis 25 etwa 0,8 g/l. Bezogen auf die eingesetzte erste und/oder zweite Verbindung liegt die
Konzentration derselben in einem Bereich von etwa 0,05 mM bis etwa 50 mM. Die
Konzentration der mindestens einen ersten Substanz in der ersten Abscheidung in Lösung ist mindestens etwa 10-fach, bevorzugt mindestens etwa 1 2-fach höher als diejenige der mindestens einen zweiten Substanz in der zweiten Abscheidung, und liegt bevorzugt etwa 30 1 2-fach bis etwa 150-fach höher. Vorzugsweise liegt die Konzentration des mindestens einen Reduktionsmittels in einem Bereich von etwa 0,05 mM bis etwa 5 M, weiter bevorzugt in einem Bereich von etwa 0,5 mM bis etwa 3 M, noch weiter bevorzugt in einem Bereich von 5 mM bis 2,5 M.
Voreilhafterweise ist die Konzentration des Reduktionsmittels in der zweiten Abscheidung mindestens l OOfach, weiter bevorzugt mindestens 200fach höher als diejenige der mindestens einen zweiten Substanz in der zweiten Abscheidung.
Vorteilhafterweise wird die zweite Abscheidung über einen Zeitraum von mindestens einer Stunde durchgeführt, bevorzugt über einen Zeitraum von mindestens einer Stunde bis einem Monat, weitere bevorzugt über einen Zeitraum von mindestens 5 Stunden bis mindestens 2 Wochen. Die erste Abscheidung wird vorteilhafterweise über einen Zeitraum von etwa einer Minute bis etwa 60 Minuten, weiter bevorzugt über einen Zeitraum von etwa 1 ,5 Minuten bis etwa 10 Minuten durchgeführt.
Die Erfindung betrifft weiterhin sowohl ein beschichtetes Bauteil, hergestellt gemäß den erfindungsgemäßen Verfahren wie vorstehend dargelegt, als auch eine Verwendung des beschichteten Bauteils als Sensor, in Brennstoffzellen, als PEM, als Glukosedetektor, in der neuronalen Stimulation, in der Tumordiagnostik, im klinischen Monitoring und/oder in Biobrennstoffzellen. Aber auch eine Anwendung im Rahmen von Solarzellen (DSSC: dye- sensitized solar cells) wäre möglich. Das erfindungsgemäße Verfahren findet bevorzugt Verwendung bei der Beschichtung von Elektroden, insbesondere für Brennstoffzellen.
Eine katalytisch aktive Oberfläche des nanobeschichteten erfindungsgemäßen Bauteils kann über die Oberflächenrauheit Rf bestimmt werden, wobei die Oberflächenrauheit Rf gemessen wird auf Grundlage der notwendigen Ladung für eine Monoschicht absorbierter Protonen (T. Biegler, D. A. Rand, und R. J. Woods, J. Electroanal. Chem., 1971 , 29, S. 269- 277). Aufgrund des Arbeitens in wässriger Lösung muss bei der Bestimmung der
Oberflächenrauheit Rf insbesondere berücksichtigt werden, dass der Potentialumkehrpunkt im kathodischen Bereich bei Cyclovoltammogrammen bzw. Stromrampen die Platin- Hydrogen-Desorptionsspitzen beeinflusst, sodass für die Bestimmung des
Oberflächenrauheitsfaktors Rf die Platin-Hydrogen-Absorptionsspitzen herangezogen werden. Durch Auftrag der Stromdichte gegen die Zeit in einem Cyclovoltammogramm bzw. Stromrampen kann die Gesamtladung Q durch Integration der Stromdichte über die Zeit ermittelt werden. Der Oberflächenrauheitsfaktor Rf wird dann durch Division der Gesamtladung Q durch die Ladungsdichte von Sauerstoff an Platinoberflächen, die 210 μC/cM2 beträgt (J. M. Rodriguez, J. Meliän, J. A. Herrera, und J. P. Pena, Journal of Chemical Education, 2000, 77, S. 1 1 95-1 197) ermittelt. Der Oberflächenrauheitsfaktor Rf für das erfindungsgemäß beschichtete Bauteil beträgt mindestens 2.000, weiter bevorzugt mindestens 3.500 und noch weiter bevorzugt mindestens 4.000, und liegt vorzugsweise in einem Bereich von etwa 2.000 bis etwa 15.000, weiter bevorzugt in einem Bereich von etwa 3.500 bis etwa 10.000.
Das erfindungsgemäß beschichtete Bauteil weist aufgrund der ersten Abscheidung unmittelbar benachbart der Oberfläche desselben, die auch durch eine Oberfläche einer Beschichtungsschicht auf dem Bauteil zur Verfügung gestellt sein kann, eine
Mikrostrukturierung auf, welche im Wesentlichen in Form von kugel- oder
halbkugelförmigen oder zylindrischen Gebilden angesprochen werden kann. Die in der zweiten Abscheidung erfolgte Nanostrukturierung kann derart dargestellt werden, dass auf den in der ersten Abscheidung erzielten Strukturen draht-, -Stäbchen oder -schlauchförmige Nanostrukturen ansetzen, die bei einer zweidimensionalen Betrachtung auch als bäum- oder blattartig angesprochen werden können.
Die Erfindung wird anhand der nachfolgenden Figuren und Beispiele nähergehend erläutert. Es zeigen:
Fig.1 : einen schematischen Ablauf des erfindungsgemäßen Verfahrens;
Fig. 2a: rasterelektronenmikroskopische Aufnahmen der Oberfläche eines beschichteten Bauteils; Fig. 2b: rasterelektronenmikroskopische Aufnahmen der Oberfläche eines weiteren beschichteten Bauteils; Fig. 3: grafische Darstellung der Impedanz für die neuronale Stimulation;
Fig. 4: grafische Darstellung des Phasenwinkels für die neuronale Stimulation; Fig. 5: Darstellung der Stromdichte gegen die Zeit bei der Glukoseoxidation;
Fig. 6: Darstellung der Stromdichte gegen die Konzentration bei der Glukoseoxidation;
Fig. 7: Auftragung der Stromdichte gegen das Potential E vs RHE für die Methanol- und Ethanoloxidation mit einem mit polykristallinem Platin beschichtetem
Borosilikatglas; und
Fig. 8: Auftragung der Stromdichte gegen das Potential E vs. RH für die Methanol- und
Ethanoloxidation bei einem erfindungsgemäß mit Platin beschichtetem Bauteil mit Rf=6000.
Es sei vorausgeschickt, dass die in den Beispielen und in den Fig. angegebenen Merkmale solche sind, die die spezifischen Ausführungsbeispiele betreffen, gleichwohl aber auch mit sämtlichen einzeln oder miteinander in der allgemeinen Beschreibung beschriebenen Merkmale kombinierbar sind.
Fig. 1 zeigt in einer schematischen Darstellung das erfindungsgemäße Verfahren. Ein mit dem Bezugszeichen 10 bezeichnetes Trägerteil, welches einen Träger und eine darauf abgeschiedene Beschichtung (nicht im Detail gezeigt) umfasst, wird in einem ersten Abscheidungsschritt mit einer platinhaltigen Substanz beschichtet. Die Beschichtung erfolgt Π dabei elektrochemisch im Zwei-Elektrodensetup durch Rampenmethoden bzw.
Gleichstrommethoden. Hierdurch bilden sich auf einer leitfähigen Oberfläche 12 des
Trägerteils 10 hemisphärische Ablagerungen 14 in Form einer ersten Beschichtung 16. In einem zweiten Schritt wird durch Kolloidsynthese weiteres platinhaltiges Material abgeschieden, wobei sich zunächst auf den Hemisphären 14 kubische oder sphärische Ablagerungen 18 aus Platin bilden, auf welchen sich bei fortschreitender Kolloidsynthese Nanoröhren oder -drähte 20 abscheiden zur Ausbildung einer dreidimensionalen
Oberflächenbeschichtung unter Bildung eines beschichteten erfindungsgemäßen Bauteils 30.
In Fig. 2a und b sind rasterelektronenmikroskopische Aufnahmen der Beschichtung zweier gemäß dem Schema nach Fig. 1 beschichteter Bauteile gemäß Fig. 1 in unterschiedlichen Auflösungen zu erkennen. Deutlich sind hier sowohl die hemisphärischen Grundstrukturen 14 zu erkennen als auch die Nanoröhren beziehungsweise -drähte 20, wie in Fig. 1 schematisch gezeigt.
Das beschichtete Bauteil 30 gemäß Fig. 2a wurde wie folgt hergestellt: Zunächst wurde ein un beschichtetes Trägerteil 10 hergestellt, indem ein Träger 1 1 auf seiner Oberfläche 12 mit einer Beschichtung versehen wurde, die elektrisch leitend ist. Hierzu wurden als Träger 1 1 Borosilikatglas-Wafer mit einer Länge von 100 mm und einer Dicke von 500 m (PYREX BOROFLOAT, SCHOTT AG Deutschland) mit einer polykristallinen Platinschicht in einem Dünnschichtverfahren hergestellt. Dazu wurde zunächst durch PECVD eine Schicht von 200 nm Siliziumnitrid auf diesen abgeschieden und anschließend eine 20 nm starke Schicht aus Titan, auf dieser einen 100 nm dicke Schicht Platin und anschließend eine 50 nm dicke Schicht Titan auf dieser durch PVD abgeschieden. Anschließend wurde durch Ätzverfahren (RIE: reactive ion etching) die obere Titanschicht in den gewünschten Teilbereichen entfernt, um einen freiliegende, elektrisch leitfähige Platinschicht zu erhalten. Das beschichtete Bauteil 10 kann dabei beispielsweise in Form einer Elektrode ausgebildet sein. Es kann jedoch auch jede andere geeignete und gewünschte Form aufweisen, je nach späterem Einsatzzweck des beschichteten Bauteils 30. Anschließend erfolgte eine Konditionierung der solchermaßen hergestellten elektrisch leitfähigen Trägerteile 10, indem mittels Cyclovoltammetrie in wässriger
Schwefelsäurelösung so lange Strom dem Trägerteil 10 aufgegeben wurde, bis stabile, das 5 heißt sich überlagernde, mehr oder weniger identische Cyclovoltamogramme erhalten
wurden.
Anschließend wurde die erste Abscheidung im Sinne der Erfindung durchgeführt, indem unter Einsatz von Stromrampen elektrochemisch Platin als erste Substanz hemisphärisch auf
10 der polykristallinen Platinoberfläche 12 des Trägerteils 10 abgeschieden wurde. Hierzu
wurde eine Lösung aus 0,14 M H2PtCI6 (ChemPur Feinchemikalien, Deutschland) als erste Verbindung und 0,066 mM Bleiacetat-Trihydrat (Sigma-Aldrich, Deutschland) als metallionenhaltige Verbindung hergestellt. Als Gegenelektrode wurde ein Platindraht mit einem Durchmesser von beispielsweise 290 μηι eingesetzt. Anschließend wurden die
15 Gegenelektrode und das Bauteil 10 als Elektrode mit einer Stromquelle verbunden und mit einer anfänglichen Stromdichte von 1 bis 4 mA/cm2 und einer End-Stromdichte von -10 bis - 40 mA/cm2 über 180 s bis 720 s Stromrampen gefahren, wobei vorzugsweise eine
Stromrampe in einem Bereich von 400 s bis 720 s gefahren wurde, um möglichst hohe Oberflächenrauheiten zu erhalten. Bei Erreichen der End-Stromdichte wurde dabei diese für
20 30 s gehalten. Durch diese elektrochemische Abscheidung bildete sich eine Beschichtung 1 6 mit Hemisphären 1 6, wie in Fig. 1 zu sehen.
Anschließend wurde die zweite Abscheidung durchgeführt durch kolloidale Ablagerung (Kolloid-Synthese). Hierzu wurde das mit der Beschichtung 1 6 versehene Trägerteil 10 in
25 eine wässrige Lösung aus 2,9 mM H2PtCI6 (ChemPur Feinchemikalien, Deutschland) als zweite Verbindung und 1 ,24 M Ameisensäure (Merk, Deutschland) eingebracht. Zu Beginn der kolloidalen Abscheidung war im Verhältnis die Platinkonzentration noch recht hoch (0,6 g/l Platin), welche im Laufe der Synthese abnahm. Daher bildeten sich in den ersten 30 Stunden in erster Linie kubische oder sphärische Strukturen 18 von Platin als zweite
30 Substanz auf den Hemisphären 14 (s. Fig. 1 ) und nachfolgend im Zeitrahmen zwischen 30 Stunden und 72 Stunden Nanoröhren beziehungsweise -drähte 20, die dann zusammen mit den Hemisphären 14 und den kubischen beziehungsweise sphärischen Strukturen 18 eine Beschichtung 22 bildeten, sodass das erfindungsgemäße Bauteil 30 gebildet war. Das beschichtete Bauteil gemäß Fig. 2b, die eine rasterelektronenmikroskopische Aufnahme derselben zeigt, wurde identisch hergestellt wie das Bauteil 30 gemäß Fig. 2a mit dem einzigen Unterschied, dass statt eines Borosilikatglas-Wafers als Träger 1 1 mit einer
Beschichtung, wie vorstehend beschrieben, ein Platindraht mit einem Durchmesser von 290 μηι als Träger 1 1 eingesetzt wurde. Die linke Abbildung der Fig. 2b zeigt sphärische
Ablagerungen 18 von Platin auf Hemisphären 14, wobei schon in der mittleren und sehr gut in der rechten Abbildung der Fig. 2b ersichtlich ist, dass diese eine weitergehende
Nanostrukturierung aufweisen in Form von Nanodrähten 20.
Fig. 3 zeigt ein Anwendungsbeispiel des beschichteten Bauteils 30 für die neuronale Stimulation. Dabei ist die Impedanz gegen die Frequenz aufgetragen und es wurden außer dem erfindungsgemäßen Bauteil 30 die Impedanzverläufe auch des Trägerteils 10 nur mit einer polykristallinen Platin-Beschichtung beziehungsweise des Trägerteils 10 mit der Beschichtung 1 6 verglichen. Deutlich ist zu erkennen, dass bei dem erfindungsgemäßen Bauteil 30 (bezeichnet mit Pt NW) bereits bei einer Frequenz von etwa 10 Hz eine sehr geringe Impedanz von etwa 5x102 Ω erzielbar war, wohingegen bei dem Trägerteii 10 mit der polykristallinen Beschichtung (bezeichnet mit Pt Polykristallin) bei 10 Hz die Impedanz etwa 4x10S Ω betrug und bei dem Trägerteil 10 mit der Beschichtung 1 6 (Bauteil 30) (bezeichnet mit Pt Black) etwa 3x103 Ω. Kurvenanpassung mit ZPE (konstantes
Phasenelement) bedeutet in den Fig. 3 und 4 eine Modellierung der Elektroden-Elektrolyt- Grenzfläche.
Im gleichen Versuch wurde auch der Phasenwinkel bestimmt. Fig. 4 zeigt die Auftragung des Phasenwinkels gegen die Frequenz. Das erfindungsgemäße Bauteil 30 (wiederum bezeichnet mit Pt NW) zeigte dabei bis zu Frequenzen von 100 Hz einen Phasenwinkel nahe bei -90°, der bei 100 Hz bei dem mit einer polykristallinen Platinschicht beschichteten Trägerteii 10 nahe 0° lag und bei dem Trägerteii 10 mit einer Beschich tung 16 (Bauteil 30) bei etwa -30° .
Die Fig. 3 und 4 zeigen damit bei dem erfindungsgemäßen Bauteil 30 eine erhebliche Impedanzverringerung gegenüber anderen beschichteten Bauteilen, was letztendlich zu einer Verringerung der Gewebeschädigung und einer höheren Sensitivität bei neuronaler Stimulation führt. Insbesondere konnten auch keine Anzeichen einer Zytotoxitität festgestellt werden. Fig. 5 und 6 zeigen den Einsatz des erfindungsgemäßen Bauteils 30 als Glukosesensor beziehungsweise als biologische Brennstoffzelle. Fig. 5 zeigt dabei einen Vergleich der Wasserstoffperoxidoxidation und der Glukoseoxidation bei einem Potential von 1 ,1 V vs RHE, wobei einerseits wiederum nur das Trägerteil 10 mit einer polykristallinen
Platinbeschichtung eingesetzt wurde und andererseits das erfindungsgemäße Bauteil 30 mit zwei Oberflächenrauheiten, nämlich einmal mit Rf=4.000 und einmal mit Rf=6.000. Deutlich ist zu erkennen, dass die Stromdichte im Hinblick auf die Oxidation von Wasserstoffperoxid bei allen drei Teilen mehr oder weniger nicht beeinflusst wurde, wohingegen mit den erfindungsgemäßen Bauteilen erheblich höhere Stromdichten betreffend die
Glukoseoxidation feststellbar waren. Dabei waren die Stromdichten für das
erfindungsgemäße Bauteil 30 mit Rf=6.000 etwa 2,5fach bis 3fach erhöht verglichen mit denjenigen des Bauteils 30 mit Rf=4.000.
Fig. 6 zeigt nun im Sinne einer biologischen Brennstoffzelle einen Auftrag der Stromdichte gegen die Konzentration von Glukose, diesmal in Bezug auf das Bauteil 30 mit Rf=4.000 und Rf=6.000, identisch wie in Fig. 5 eingesetzt. Deutlich ist zu erkennen, dass das Bauteil mit Rf=6.000 erheblich höhere Stromdichten, etwa um den Faktor 3 erhöht, im Gegensatz zu dem Bauteil mit Rf=4.000 im physiologisch interessanten Konzentrationsbereich für Glukose zwischen etwa 2 und 10 mM aufweist. Fig. 5 und 6 zeigen, dass mittels des Bauteils 30 auch eine Langzeitüberwachung des Glukosegehalts möglich ist, ohne dass irgendwelche biologischen Komponenten eingesetzt werden. Ebenso kann das Bauteil 30 zur Bestimmung des Glukosegehaltes bei Vorliegen von Ascorbinsäure und/oder Harnsäure, beispielsweise im Blut, eingesetzt werden.
Fig. 7 und Fig. 8 schließlich zeigen einen Auftrag der Stromdichte gegen das Potential betreffend die Methanol- und Ethanoloxidation bei Raumtemperatur und unter Einsatz eines Bauteils 30 mit Rf=6.000 (Fig. 8) und mit polykristallinem Platin (Fig. 7) als Vergleich.
Deutlich zeigt sich bei einem Potential von etwa 0,5 V an die Steigerung der Stromdichte, die nahe dem Potential von 1 V ihr Maximum erreicht, ab, die bei I V etwa 23000-fach für Methanol bzw. etwa 3500-fach (für Ethanol) gemäß Fig. 8 höher liegt als bei
polykristallinem Platin gemäß Fig. 7.
Mit der vorliegenden Erfindung ist sowohl ein Verfahren als auch ein beschichtetes Bauteil zur Verfügung gestellt, mit welchem hoch reaktive Oberflächenbeschichtungen, die eine große Oberfläche aufweisen, zur Verfügung gestellt werden können, die zu einer
Steigerung messbarer Stromdichten oder anderer Parameter in wirtschaftlich sinnvollen Einsatzgebieten des beschichteten Bauteils führen. Dieses kann in einer Vielzahl von
Anwendungsbereichen eingesetzt werden, die katalytische Reaktionen erfordern, so auch in Solarzellen oder in enzymatischen Biosensoren.

Claims

Patentansprüche
Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen mit Nanostrukturen, umfassend die Schritte
- Zurverfügungstellung mindestens eines Trägerteils zur Beschichtung;
- erste Abscheidung als Mikrostrukturierung mindestens einer ersten Substanz, ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Rhenium, Ruthenium, Rhodium,
Palladium, Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold, Zinn, Zink, Kupfer, Cobalt, Blei, Nickel und/oder Legierungen mit diesen, aus mindestens einer ersten Verbindung, die die mindestens eine erste Substanz zur Verfügung stellt, durch
elektrochemische Methoden auf dem mindestens einen Trägerteil;
- zweite Abscheidung als Nanostrukturierung mindestens einer zweiten Substanz, ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Rhenium, Ruthenium, Rhodium,
Palladium, Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold und/oder Legierungen mit diesen, aus mindestens einer zweiten Verbindung, die die mindestens eine zweite Substanz zur Verfügung stellt, in Lösung.
Verfahren gemäß Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Abscheidung elektrochemisch oder mittels Kolloid-Synthese durchgeführt wird.
Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass für die zweite Abscheidung mindestens ein Reduktionsmittel eingesetzt wird.
Verfahren gemäß Anspruch 3, dass als Reduktionsmittel Ameisensäuren, Borhydrid, Hydrazin, Wasserstoff, Zitronensäure und deren Derivate, Ascorbinsäure, Ethanol, Vitamin B2 und/oder Kaliumbitartrat eingesetzt wird. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass für die zweite Abscheidung eine wässrige Lösung eingesetzt wird.
Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass bei der zweiten Abscheidung die Konzentration der mindestens einen zweiten Substanz in der Lösung mindestens 0,01 g/l beträgt.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass bei der zweiten Abscheidung die Konzentration des mindestens einen Reduktionsmittels in einem Bereich von etwa 0,05 mM bis etwa 5 M liegt.
Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass bei der ersten Abscheidung die Konzentration der mindestens einer ersten Substanz mindestens 0,1 g/l beträgt.
Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine erste und/oder zweite Verbindung ausgewählt ist aus einer Gruppe umfassend Hexa- oder Tetrachloroverbindungen, Phosphate, Sulfate, Oxide, Nitrate, Halogene, Carbonyle, Acetate, Cyanide, komplexe Salze und/oder Sauerstoff- und/oder chlorhaltige Wasserstoffsäuren der mindestens einen ersten und einen zweiten Substanz
Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in der ersten Abscheidung mindestens einer Substanz, aus der Gruppe umfassend Rhenium, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Osmium, Iridium, Platin, Gold und/oder Legierungen mit diesen, eine metallionenhaltige Verbindung eingesetzt wird.
1 1 . Verfahren gemäß Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die metallionenhaltige Verbindung ausgewählt ist aus einer Gruppe umfassend Acetate, Sulfide und/oder Sulfate von Metallen der Gruppen IVb, Vb, Vlb, IVa und Va des Periodensystems. 1 2. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Abscheidung über einen Zeitraum von mindestens einer Stunde durchgeführt wird.
1 3. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Abscheidung in einem Zeitraum von etwa einer Minute bis etwa 60
Minuten durchgeführt wird.
14. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Trägerteil mit der mindestens einen Substanz in polykristallinem Zustand versehen wird.
1 5. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Trägerteil aus einem Material besteht, ausgewählt aus einer Gruppe umfassend Glas, Metalle, Halbleiter, Polymere und/oder PEM.
1 6. Beschichtetes Bauteil, hergestellt gemäß dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 15.
1 7. Verwendung des Bauteils gemäß Anspruch 16 als Sensor, in Brennstoffzellen, als Polymer-Elektrolyt-Membran, zur Bestimmung des Glukosegehaltes in Vivo, zur neuronalen Stimulation, in Solarzellen und/oder in Biobrennstoffzellen.
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