WO2015163044A1 - 太陽光反射用パネル、および太陽光反射用パネルの製造方法 - Google Patents

太陽光反射用パネル、および太陽光反射用パネルの製造方法 Download PDF

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WO2015163044A1
WO2015163044A1 PCT/JP2015/057950 JP2015057950W WO2015163044A1 WO 2015163044 A1 WO2015163044 A1 WO 2015163044A1 JP 2015057950 W JP2015057950 W JP 2015057950W WO 2015163044 A1 WO2015163044 A1 WO 2015163044A1
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sealing material
reflective
solar
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坂井　智彦
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コニカミノルタ株式会社
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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers

Definitions

  • the present invention relates to a solar reflective panel and a method for manufacturing the solar reflective panel.
  • Solar thermal power generation is a technology that converts sunlight, which is solar energy, into thermal energy, and generates power using this thermal energy.
  • the energy density of sunlight is low, and in order to compensate for this, sunlight is collected by a mirror or lens and converted to thermal energy.
  • a device that collects sunlight is referred to as a light collecting device.
  • the light collector is exposed to ultraviolet rays from sunlight, heat, rain, and sandstorms. Therefore, conventionally, a glass mirror in which a colorless and transparent glass material with high environmental durability is used as a base material and a reflective film is formed on the back surface of the base material has been used for the light collecting device.
  • a glass mirror in which a colorless and transparent glass material with high environmental durability is used as a base material and a reflective film is formed on the back surface of the base material has been used for the light collecting device.
  • a glass mirror is easily damaged during transportation, and it is necessary to increase the strength of the gantry.
  • Patent Document 1 a solar reflective panel having a resin reflective film (film mirror) has been developed (for example, Patent Document 1).
  • the solar reflective panel of Patent Document 1 is used with a resin reflective film bonded onto a support substrate.
  • the resin-made reflective film is provided with a plurality of layers having different functions such as a silver reflective layer for reflecting sunlight and an outermost layer made of a material having a metalloxane skeleton on the resin base material. Yes.
  • a reflective film having the same size as the support base (the same area of the main surface) is bonded onto the support base, and the ends of the support base and the reflective film are held together. Fixed to the gantry. In this case, the end portion of the reflective film is covered with a member to be gripped (hereinafter referred to as “grip member”), so that the reflectance of sunlight is significantly reduced.
  • grip member a member to be gripped
  • a sealing material may be disposed at the ends of the support base material and the reflective film, but the gripping member is covered from above the sealing material. There is also a problem that a part of the sealing material is scraped off, such as when covering or sliding into the gripping part.
  • the end face of the reflective film is exposed without being covered by the gripping member or protected by the sealing material. It becomes a state. In this state, the reflective film is easily deteriorated under the influence of oxygen, water vapor, hydrogen sulfide or the like. For example, when the reflective film is peeled off from the support substrate, or when the reflective film contains a metal, the progress of corrosion is accelerated.
  • the size of the reflective film is made slightly smaller than that of the support substrate, the position of the end of the reflection film and the end of the support substrate are different. The reflective film is easily peeled off from the support substrate.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances. That is, even when the size of the reflective film is made smaller than that of the supporting substrate, it is possible to suppress the deterioration of the reflecting film, and to provide a solar reflective panel that is difficult to peel off from the supporting substrate, and a method for manufacturing the same. With the goal.
  • the shape of the support substrate the shape of the support substrate, a reflection film that is bonded to a region inside the outer edge of the support substrate and reflects light from a light source, and light incidence of the reflection film
  • the solar reflective panel which has a sealing material arrange
  • the sealing material has an inclination of 75 ° or less with respect to the surface on the light incident side of the support substrate at the end in contact with the support substrate, and contacts the reflective film.
  • the width (W1) of the portion in contact with the reflective film in the direction from the reflective film to the support base is 0 mm ⁇ W1 ⁇ 10 mm.
  • the solar reflective panel as described in (2) is 0 mm ⁇ W1 ⁇ 10 mm.
  • the said sealing material is 0.1 mm ⁇ W2 ⁇ 300 mm in the width
  • the solar reflective panel as described in any one of (3).
  • the thickness (H) of the sealing material is 0.05 mm ⁇ H ⁇ (thickness of the reflective film (T) +1) mm, according to any one of (1) to (4) above Solar reflective panel.
  • a method for manufacturing a solar reflective panel in which a reflective film that reflects light from a light source is bonded to a support substrate, and (a) the reflective film is shaped according to the shape of the support substrate.
  • a coating step of coating so that the material is disposed.
  • the sealing material has an inclination of 75 ° or less with respect to the surface on the light incident side of the support base at the end where the sealing material is in contact with the support base.
  • the width (W1) of the portion in contact with the reflective film is 0 mm ⁇ W1.
  • the width (W2) of the portion in contact with the support substrate is set to 0.
  • the coating step (b) is performed such that the thickness (H) of the sealing material is 0.05 mm ⁇ H ⁇ (thickness (T) +1) mm of the reflective film.
  • the method for producing a solar reflective panel according to any one of (7) to (10) above.
  • the reflective film having a thickness (T) of the reflective film of 0.01 mm ⁇ T ⁇ 1 mm is pasted on the support substrate.
  • the sealing material is applied while shifting a relative position between a nozzle for injecting the sealing material and a mount on which the solar reflective panel is placed, and the relative The method for producing a solar reflective panel according to any one of (7) to (12), wherein the nozzle or the gantry is moved at a speed of 1 m / min or more in order to shift the position.
  • the reflective film is bonded to a region inside the outer edge of the support base material, and the sealing material is disposed from the light incident side surface of the reflective film to the light incident side surface of the support base material. is doing.
  • the sealing material By such an arrangement of the sealing material, the exposed portion of the end face of the reflective film can be reliably protected, and as a result, deterioration of the reflective film can be suppressed.
  • a sealing material can be arrange
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along line AA in FIG. It is a schematic sectional drawing which shows the layer structure of a reflective film. It is a figure for demonstrating the detailed shape of a sealing material. It is a schematic external view of the nozzle which a sealing material coating apparatus has.
  • (A) to (G) are cross-sectional views of tip portions of first to seventh nozzles.
  • (A) to (G) are views showing the shape of a sealing material molded using first to seventh nozzles.
  • A) It is a figure which shows the example which translates a nozzle in the state which fixed the application object.
  • (B) It is a figure which shows the example which moves a nozzle with machines, such as a robot, in the state which fixed the application
  • (A) It is a figure which shows the example which apply
  • FIG. 1 is a schematic perspective view of a sunlight reflecting panel according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic sectional view taken along line AA in FIG.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure of the reflective film.
  • FIG. 4 is a view for explaining the detailed shape of the sealing material.
  • the solar reflective panel 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.
  • the solar reflective panel 100 includes a support base 110, a reflective film 120, and a sealing material 130.
  • the size of one solar reflective panel 100 is not particularly limited, but is, for example, 2 m long ⁇ 4 m wide.
  • the support substrate 110 is a substrate for supporting the reflective film 120, and is preferably a self-supporting support substrate.
  • the support base 110 for example, aluminum, aluminum plating, aluminum-based alloy plating, steel, copper, copper plating, tin plating, chromium plating, stainless steel, or the like can be used. Among these, it is particularly preferable to use a plated steel plate, a stainless steel plate, an aluminum plate, or the like having good corrosion resistance.
  • examples of the shape of the support substrate 110 include a film shape, a sheet shape, a flat plate shape, a curved plate shape, and a hemispherical shape.
  • the support substrate 110 is not limited to the above-described materials and shapes as long as the support substrate 110 has sufficient rigidity to support the reflection film 120 when the edge portion of the reflection film 120 is supported.
  • a material such as glass, quartz, or resin may be used as the support base 110.
  • the resin acrylic resin, polycarbonate, polyarylate, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate (PET), fluorine resin, and the like can be used.
  • the thickness of the support substrate 110 may be changed according to the type of material used for the support substrate 110. In general, the thickness of the support substrate 110 is preferably in the range of 0.1 mm to 5 mm, and more preferably in the range of 0.3 mm to 2 mm.
  • self-supporting support base material one having a pair of metal flat plates and an intermediate layer interposed between the metal flat plates (type A) or one made of a resin material having a hollow structure (type B) is used. May be.
  • self-supporting substrates A and B described in WO 11/162154 pamphlet or US Patent Application Publication No. 2013/0114155 can be employed.
  • the reflection film 120 is a resin film that reflects light (for example, sunlight) from a light source. As shown in FIGS. 1 and 2, the reflective film 120 is bonded to a region inside the outer edge of the support substrate 110 by X mm (eg, 3 mm) in accordance with the shape of the support substrate 110.
  • the reflection film 120 is composed of a plurality of layers having different functions, and has at least a reflection layer 121 for reflecting light.
  • At least one protective layer is disposed on the light incident side of the reflective layer 121.
  • a corrosion prevention layer 122, an ultraviolet absorption layer 123, a gas barrier layer 124, and a hard coat layer 125 are sequentially laminated on the light incident side of the reflective layer 121.
  • at least one support layer (for example, a resin support layer 127 described later) is disposed on the support base 110 side (the side opposite to the light incident side) of the reflective layer 121.
  • an anchor layer 126, a resin support layer 127, and an adhesive layer 128 are sequentially laminated on the support base 110 side of the reflective layer 121.
  • a release layer (not shown) for covering the adhesive layer 128 may be provided until the reflective film 120 is bonded to the support substrate 110.
  • the reflective layer 121 is a layer made of a metal having a function of reflecting light (for example, sunlight) from a light source.
  • the surface reflectance of the reflective layer 121 is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more.
  • the reflective layer 121 is formed of a material containing any element selected from aluminum, silver, chromium, copper, nickel, titanium, magnesium, rhodium, platinum, palladium, tin, gallium, indium, bismuth, and gold. Is preferred. In particular, it is preferable that aluminum or silver is the main component from the viewpoint of reflectivity, and two or more layers of such metal thin films may be formed. As the reflective layer 121 of this embodiment, a silver reflective layer containing silver as a main component is used.
  • the thickness of the reflective layer 121 is preferably in the range of 10 nm to 200 nm, more preferably 30 nm to 150 nm, from the viewpoint of reflectance and the like. It is preferable that the thickness of the reflective layer 121 be greater than 10 nm because the film thickness is sufficient and light is not transmitted, and the reflectance in the visible light region of the reflective film 120 can be sufficiently secured. Further, the reflectance increases in proportion to the film thickness up to about 200 nm, but it does not depend on the film thickness over 200 nm.
  • the surface roughness of the reflective layer 121 is in the range of 0.01 ⁇ m to 0.1 ⁇ m, and preferably in the range of 0.02 ⁇ m to 0.07 ⁇ m. Since the surface roughness of the reflective layer 121 is 0.01 ⁇ m or more, even when the roll-to-roll method of continuously forming the film in the production stage of the reflective film 120 is used, the reflective layer 121 is adjacent to the incident light side. The sticking of the layer (corrosion prevention layer 122 in this embodiment) can be prevented.
  • a wet method or a dry method can be used as a method for forming the reflective layer.
  • the wet method is a general term for a plating method, and is a method of forming a film by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction.
  • the dry method is a general term for a vacuum film-forming method. Specific examples include a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method. And sputtering method.
  • a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention.
  • it is preferable that it is a manufacturing method which forms a light reflection layer by silver vapor deposition (especially vacuum vapor deposition).
  • the corrosion prevention layer 122 is provided to prevent the reflection layer 121 from being corroded. Therefore, the corrosion prevention layer 122 is preferably provided adjacent to the reflective layer 121. In particular, when the reflective layer 121 contains a metal (for example, silver), it is preferable to provide the corrosion prevention layer 122. In particular, the corrosion prevention layer 122 is more preferably adjacent to the light incident side of the reflective layer 121. Further, the corrosion prevention layer 122 may be adjacent to both sides of the reflective layer 121.
  • the corrosion prevention layer 122 contains a corrosion inhibitor.
  • a corrosion inhibitor having an adsorptive group for metals, particularly silver, and a corrosion inhibitor having an antioxidant ability (also referred to as an antioxidant) are preferably used.
  • the corrosion prevention layer 122 preferably contains at least one of a corrosion inhibitor and an antioxidant having an adsorbing group for metal, particularly silver.
  • corrosion refers to a phenomenon in which a metal (silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by an environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004).
  • Resin for example, acrylic resin
  • the resin and the corrosion inhibitor used for the corrosion prevention layer 122 are not particularly limited, but for example, a WO 2012/165460 pamphlet (particularly, paragraph “0079”- Materials similar to those described in known literature such as “0095”) can be used.
  • the optimum content of the corrosion inhibitor varies depending on the compound used, but generally it is preferably in the range of 0.1 g / m 2 or more and 1.0 g / m 2 or less.
  • the corrosion prevention layer 122 preferably contains an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber is not particularly limited.
  • organic ultraviolet absorbers such as thiazolidone, benzotriazole, acrylonitrile, benzophenone, aminobutadiene, triazine, phenyl salicylate, and benzoate
  • there are fine powder type ultraviolet blocking agents such as cerium oxide and magnesium oxide, and inorganic ultraviolet absorbing agents such as titanium oxide, zinc oxide and iron oxide.
  • organic ultraviolet absorbers and inorganic ultraviolet absorbers are preferred, and triazine ultraviolet absorbers and inorganic ultraviolet absorbers are more preferred. That is, the ultraviolet absorber is preferably a triazine ultraviolet absorber or an inorganic ultraviolet absorber.
  • the thickness of the corrosion prevention layer 122 is preferably 30 nm or more and 1 ⁇ m or less.
  • the corrosion prevention layer can be formed by applying and coating these resin materials (binders) on the light reflection layer or the like.
  • the ultraviolet absorption layer 123 is provided to absorb ultraviolet rays incident on the reflection layer 121 for the purpose of preventing the reflection film 120 from being deteriorated by sunlight or ultraviolet rays.
  • the ultraviolet absorption layer 123 is preferably provided on the light incident side with respect to the corrosion prevention layer 122.
  • the ultraviolet absorbing layer 123 for example, various resins such as polycarbonate and polyethylene terephthalate can be used.
  • various resins such as polycarbonate and polyethylene terephthalate can be used.
  • a polyester film such as polyethylene terephthalate or an acrylic film.
  • an acrylic film highly resistant to ultraviolet rays is particularly preferable.
  • the ultraviolet absorbing layer 123 contains an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorption layer 123 contains a triazine compound as an ultraviolet absorber.
  • benzophenone-based, benzotriazole-based, phenyl salicylate-based as organic types, and titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, iron oxide, and the like may further be included as inorganic types.
  • an acrylic layer (a methacrylic resin or the like is a main component) is used as the ultraviolet absorbing layer 123
  • fine particles of a plasticizer may be included in order to make the layer soft and not easily damaged.
  • the plasticizer fine particles include butyl rubber and butyl acrylate fine particles.
  • the thickness of the ultraviolet absorbing layer 123 is preferably 30 nm or more and 200 ⁇ m or less, and more preferably 50 nm or more and 5 ⁇ m or less.
  • Gas barrier layer 124 is provided in order to prevent deterioration of humidity, in particular, deterioration of the resin base material (resin support layer 127) and each component layer supported by the resin base material due to high humidity.
  • the gas barrier layer 124 is preferably provided on the light incident side from the reflective layer 121.
  • the gas barrier layer 124 may further have functions and applications other than the deterioration prevention function.
  • the water vapor permeability at 40 ° C. and 90% RH is preferably 1 g / m 2 ⁇ day or less, more preferably 0.5 g / m 2 ⁇ day or less, and still more preferably Is 0.2 g / m 2 ⁇ day or less.
  • the oxygen permeability of the gas barrier layer 124 is preferably 0.6 ml / m 2 / day / atm or less under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH.
  • the gas barrier layer 124 is formed by subjecting a coating film such as a silazane compound or a siloxane compound which is an inorganic oxide precursor to a conversion treatment (oxidation treatment).
  • a coating film such as a silazane compound or a siloxane compound which is an inorganic oxide precursor to a conversion treatment (oxidation treatment).
  • the thickness of the gas barrier layer 124 is preferably 30 nm or more and 2000 nm or less, more preferably 40 nm or more and 500 nm or less, and particularly preferably 40 nm or more and 300 nm or less.
  • the material used for the gas barrier layer 124 and the method for forming the gas barrier layer 124 are not particularly limited. For example, it is described in known documents such as WO 2012/165460 pamphlet (particularly, paragraphs “0188” to “0209”). Similar materials and methods as described can be used.
  • Hard coat layer 125 is provided to prevent the surface of the reflective film 120 from being scratched or contaminated. Therefore, the hard coat layer 125 is preferably provided on the outermost layer on the light incident side. However, an antifouling layer (not shown) having water repellency may be provided further outside (light incident side) than the hard coat layer 125.
  • the hard coat layer 125 can be composed of any material as long as transparency, weather resistance, hardness, mechanical strength, and the like are obtained.
  • the hard coat layer 125 is made of an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an epoxy resin, an organic silicate compound, a silicone resin, or the like.
  • silicone resins and acrylic resins are preferable in terms of hardness and durability.
  • an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin is preferable in terms of curability, flexibility, and productivity.
  • metalloxane organic silicate compound, silicone resin
  • the hard coat layer is preferably a metalloxane-based hard coat layer.
  • the thickness of the hard coat layer 125 is preferably 0.05 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less from the viewpoint of preventing the reflection film 120 from being warped while obtaining sufficient scratch resistance. More preferably, it is 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • Anchor layer 126 is made of resin, and is provided to form a favorable reflective layer 121 on the resin support layer 127 (light incident side). Therefore, the anchor layer 126 has an adhesion property that allows the resin support layer 127 and the reflective layer 121 to adhere to each other, heat resistance that can withstand heat when the reflective layer 121 is formed by a vacuum deposition method, and the high reflective performance of the reflective layer 121. It is preferable to have smoothness for drawing out.
  • the resin used for the anchor layer 126 is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesiveness, heat resistance, and smoothness.
  • Polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, polyamide Resin, vinyl chloride resin and the like are particularly limited.
  • a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin, or a mixed resin of a polyester resin and an acrylic resin is preferable, and a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is further mixed is preferable. More preferred.
  • the thickness of the anchor layer 126 is preferably 0.01 ⁇ m or more and 3 ⁇ m or less, and more preferably 0.1 ⁇ m or more and 2 ⁇ m or less. If the thickness is within this range, the unevenness on the surface of the resin support layer 127 can be covered, and good smoothness and adhesion can be obtained. In addition, if the anchor layer 126 has sufficient hardness, as a result, the reflectance of the reflective layer 121 can be increased.
  • the anchor layer 126 preferably contains a corrosion inhibitor used for the corrosion prevention layer 122.
  • the material used for the anchor layer (resin material) and the method for forming the anchor layer are not particularly limited.
  • known materials such as WO 2012/165460 pamphlet (particularly, paragraphs “0209” to “0212”) Materials and methods similar to those described in the literature can be used.
  • Resin support layer 127 is used to form a (reflective) layer.
  • the material of the resin support layer 127 is not particularly limited as long as the (reflection) layer can be formed (film formation), and various resin films can be used.
  • the thickness of the resin support layer 127 is preferably set to an appropriate thickness according to the type and purpose of the resin. For example, it may be in the range of 10 ⁇ m to 300 ⁇ m, preferably 20 ⁇ m to 200 ⁇ m, and more preferably 30 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • Adhesive layer 128 The adhesive layer 128 has adhesiveness so that the reflective film 120 can be bonded to the support substrate 110.
  • the adhesive layer 128 is provided on the surface (back surface) opposite to the surface on which the reflective layer 121 of the resin support layer 127 is formed.
  • the material of the adhesive layer 128 is not particularly limited, and for example, a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat seal agent, a hot melt agent, or the like is used.
  • the thickness of the adhesive layer 128 is preferably in the range of 1 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less from the viewpoint of the adhesive effect, the drying speed, and the like.
  • an ultraviolet absorbing layer 123 may be provided between the layers.
  • a gas barrier layer 124 may be provided between the layers.
  • a release layer, an antifouling layer, or the like may be provided on the light incident side of the hard coat layer 125.
  • the total thickness of the reflective film 120 of this embodiment is not particularly limited, but is preferably 75 to 300 ⁇ m, more preferably 90 to 250 ⁇ m, and still more preferably 100 to 250 ⁇ m from the viewpoints of prevention of bending, regular reflectance, handling properties, and the like. It is.
  • the center line average roughness (Ra) of the outermost surface layer on the light incident side of the reflection film is preferably 3 nm or more and 20 nm or less from the viewpoint of preventing scattering of the reflected light and increasing the light collection efficiency.
  • sealing material 130 is continuously arranged along the outer edge of the reflective film 120 so that the end face of the reflective film 120 is not exposed. As shown in FIGS. 1 and 2, the sealing material 130 extends not only from the end face of the reflective film 120 but also from the light incident side surface of the reflective film 120 to the light incident side surface of the support base 110. Arranged.
  • the material of the sealing material 130 is not particularly limited, but from the viewpoint of ease of formation, gas barrier properties, durability, and the like, a curable resin such as a thermosetting resin, an active energy ray curable resin, a heat It can be suitably selected from plastic resins and the like.
  • thermosetting resin examples include silicone resin, urethane resin, epoxy resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, and phenol resin.
  • Examples of the active energy ray curable resin include epoxy acrylate resin, urethane acrylate resin, and polyester acrylate resin.
  • thermoplastic resin examples include acrylic resin, polyethylene resin, and polypropylene resin.
  • a paste-like silicone sealant (KE45-G manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), an epoxy resin having a viscosity of 10 Pa ⁇ s (2081D manufactured by ThreeBond Co., Ltd.), and an acrylic resin having a viscosity of 13 Pa ⁇ s. (3017D manufactured by Three Bond Co., Ltd.), a urethane resin having a viscosity of 300 Pa ⁇ s or more and 600 Pa ⁇ s or less at 25 ° C. (Hibrene XLL-6051A manufactured by MC Industrial Co., Ltd.) can be used.
  • the material of the liquid contact portion of the sealing material 130 is not limited as long as it has strength, but considering the ease of liquid separation of the sealing material 130, fluororesin and POM are desirable.
  • the sealing material 130 has an inclination ⁇ 1 of 75 ° or less with respect to the surface on the light incident side of the reflective film 120 at the end in contact with the reflective film 120. Thereby, there is no abrupt step between the reflective film 120 and the sealing material 130, and the surfaces of the reflective film 120 and the sealing material 130 are smoothly continued.
  • the sealing material 130 has an inclination ⁇ 2 of 75 ° or less with respect to the surface on the light incident side of the support base 110 at the end in contact with the support base 110. Thereby, there is no abrupt step between the support base material 110 and the sealing material 130, and the surfaces of the support base material 110 and the sealing material 130 are smoothly continued. As a result, durability against external force is improved, the sealing material 130 is hardly peeled off from the support base 110, and the solar reflective panel 100 having excellent weather resistance and washing resistance is obtained.
  • the width W1 of the part which is contacting the reflective film 120 of the sealing material 130 in the direction ranging from the reflective film 120 to the support base material 110 is 0 mm ⁇ W1. It is preferable that ⁇ 10 mm. If the width W1 of the portion of the sealing material 130 that is in contact with the reflective film 120 is large, the area where the surface of the reflective film 120 is covered with the sealing material 130 increases, and the reflective area of sunlight decreases. Therefore, the solar reflective panel 100 which has a large reflective area is obtained by making width W1 of the part which is contacting the reflective film 120 of the sealing material 130 into 10 mm or less.
  • the width W2 of the part which is contacting the support base material 110 of the sealing material 130 in the direction ranging from the reflective film 120 to the support base material 110 is 0.1. It is preferable that 1 mm ⁇ W2 ⁇ 300 mm, and more preferably 0.1 mm ⁇ W2 ⁇ 100 mm. If the width W2 of the portion of the sealing material 130 that is in contact with the support base material 110 is greater than 0.1 mm, sufficient adhesive strength can be obtained between the sealing material 130 and the support base material 110. However, if the width W2 of the portion of the sealing material 130 that is in contact with the support base material 110 is larger than necessary, the sealing material 130 occupies a region on the support base material 110 that does not contribute to the reflection of sunlight.
  • the amount of the installation area occupied by the non-reflective portion or the support base 110 is increased, and the entire reflection area is reduced.
  • the thickness H of the sealing material 130 is preferably Condition A: 0.05 mm ⁇ H.
  • the thickness (HT) of the sealing material 130 on the reflective film 120 is preferably Condition B: 0 mm ⁇ HT ⁇ 1 mm.
  • T is the thickness of the reflective film 120.
  • the thickness H of the sealing material 130 satisfies the condition of at least 0.05 mm ⁇ H ⁇ (T + 1) mm.
  • the thickness H of the encapsulant 130 is within this range, the thickness (HT) of the encapsulant 130 on the reflective film 120 is reduced (1 mm or less), so that friction caused by a cleaning brush or the like can be reduced.
  • the solar reflective panel 100 having excellent weather resistance and washing resistance is obtained.
  • the thickness T of a reflective film is 0.01 mm ⁇ T ⁇ 1 mm.
  • the sealing material 130 is arranged from the light incident side surface of the reflective film 120 to the light incident side surface of the support base 110 and covers the end surface of the reflective film 120. ing. Thereby, the end surface of the reflective film 120 is protected by the sealing material 130, and intrusion into the reflective film 120, such as oxygen, water vapor
  • the sealing material 130 is arrange
  • the sealing material 130 is formed so that the surfaces of the support base material 110 and the sealing material 130 are smoothly continuous.
  • the surface is also formed to be smoothly continuous.
  • the entire surface of the solar reflective panel 100 becomes smooth (no unevenness as a resistance), and even if the solar reflective panel 100 is subjected to high-pressure cleaning or brush cleaning (physical cleaning), sealing is performed.
  • the material 130 does not easily peel off.
  • the reflective film 120 is difficult to peel off from the support base 110, is resistant to high-pressure cleaning and brush cleaning, and is provided on the reflective film 120 for a long time. Deterioration of the reflective layer 121 can be prevented.
  • the reflective film 120 may be provided with a layer other than the above-described layers 121 to 128 (for example, an antistatic layer) or a part of the layers (for example, the ultraviolet absorbing layer 123, the gas barrier layer 124, etc.). May be omitted. Further, the stacking order of the layers 121 to 128 is not limited to the above example, and the stacking order of some layers may be changed.
  • A-2) Anchor layer 126 On one side of the polyethylene terephthalate film, (1) polyester resin (Polyester SP-181, Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), (2) melamine resin (Super Becamine J-820, manufactured by DIC), (3) TDI isocyanate (2 , 4-tolylene diisocyanate), (4) HDI isocyanate (1,6-hexamethylene diisocyanate) at a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 (mass ratio) so that the solid content concentration becomes 10%. Then, a resin liquid mixed in toluene was coated by a gravure coating method to form an anchor layer 126 having a thickness of 0.1 ⁇ m.
  • A-3) Reflective layer 121 a silver reflective layer having a thickness of 80 nm was formed as a reflective layer 121 on the anchor layer 126 by a vacuum deposition method.
  • A-4) Corrosion prevention layer 122 Further, a polyester resin and a TDI (tolylene diisocyanate) isocyanate resin are mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 on the silver reflective layer (reflective layer 121), and coated by a gravure coating method. A 1 ⁇ m corrosion prevention layer 122 was formed.
  • TDI tolylene diisocyanate
  • (A-5) Hard coat layer 125 Next, on the corrosion prevention layer 122, a 3% perhydropolysilazane solution in dibutyl ether (NL120 manufactured by AZ Electric Materials Co., Ltd.) was bar-coated so that the film thickness after drying was 500 nm, and 3 minutes After natural drying, the hard coat layer 125 was formed by annealing in an oven at 90 ° C. for 30 minutes.
  • (A-6) Antifouling Layer Further, a water repellent (Aquanolan manufactured by AZ Electric Material Co., Ltd.) was bar coated on the hard cord layer 125 to form an antifouling layer.
  • the reflective film 120 was produced by the above procedures (A-1) to (A-6). (B) Bonding of reflective film 120
  • the reflective film 120 produced as described above was cut into a length of 94 mm and a width of 94 mm. And the back surface (surface opposite to the light incident side) of the resin support layer 127 is placed on an aluminum plate (support base material) having a thickness of 0.5 mm and a length of 100 mm ⁇ width 100 mm through an adhesive layer 128 having a thickness of 3 ⁇ m. 110). At this time, the reflective film 120 is bonded to a region inside the outer edge of the support substrate 110 in accordance with the shape of the support substrate 110.
  • the reflective film 120 is bonded to a region 3 mm inward from the edge of the support substrate 110.
  • (C) Coating of sealing material 130 Then, in order to cover the end surface of the reflective film 120 with the sealing material 130, the sealing material 130 was applied using the sealing material coating apparatus.
  • FIG. 5 is a schematic external view of the nozzle of the sealing material coating apparatus.
  • the sealing material coating apparatus is an extrusion coating apparatus that directly applies the sealing material 130 to the surfaces of the support substrate 110 and the reflective film 120. Therefore, the sealing material coating apparatus has the nozzle 210 that injects the sealing material 130. And the sealing material 130 can be apply
  • the nozzle 210 a nozzle having a flat tip as shown in FIG. 5 was used.
  • the sealing material 130 As the sealing material 130, a silicon sealant (KE-45G manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was used. Moreover, the speed which conveys the application
  • the application of the sealing material 130 as described above was continuously performed along the outer edge of the reflective film 120 to produce a solar reflective panel 1-1.
  • Solar reflective panel 1-2 W1 2mm, W2 5mm Solar reflective panel 1-3: W1 2mm, W2 10mm Solar reflective panel 1-4: W1 2mm, W2 100mm Solar reflective panel 1-5: W1 0.1 mm, W2 2 mm Solar reflective panel 1-6: W1 0.1mm, W2 5mm Solar reflective panel 1-7: W1 0.1 mm, W2 10 mm Solar reflective panel 1-8: W1 0.1 mm, W2 100 mm Solar reflective panel 1-9: W1 0.5mm, W2 2mm Solar reflective panel 1-10: W1 0.5mm, W2 5mm Solar reflective panel 1-11: W1 0.5mm, W2 10mm Solar reflective panel 1-12: W1 0.5mm, W2 100mm Solar reflective panel 1-13: W1 10mm, W2 2mm Solar reflective panel 1-14: W1 10mm, W2 5mm Solar reflective panel 1-15: W1 10mm, W2 10mm Solar reflective panel 1-16: W1 10mm, W2 100mm Solar reflective panel 1-17: W1 0.05mm, W2 0.1
  • a solar reflective panel 2-1 was prepared using the first nozzle 210a.
  • FIG. 6A is a cross-sectional view of the tip portion of the first nozzle.
  • the first nozzle 210a moves along the application target in a direction perpendicular to the cross section of FIG. Therefore, the first nozzle 210a can define the application shape of the sealing material 130 by the tip shape shown in FIG. 6A, and can apply the sealing material 130 so that the finished shape matches the tip shape.
  • the first nozzle 210a has a concave shape with a semi-elliptical tip.
  • FIG. 7A is a diagram showing the shape of the sealing material formed using the first nozzle shown in FIG.
  • the sealing material 130 When the sealing material 130 is applied using the first nozzle 210a shown in FIG. 6A, the sealing material 130 has an inclination ⁇ 1 of 45 ° with respect to the light incident side surface of the reflective film 120 and is supported.
  • the substrate 110 has an inclination ⁇ 2 of 45 ° with respect to the light incident side surface of the substrate 110.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the sunlight reflecting panel 2-2 was manufactured by changing the nozzle 210 to the second nozzle 210b.
  • FIG. 6B is a cross-sectional view of the tip portion of the second nozzle.
  • the second nozzle 210b is formed in a shape similar to the first nozzle 210a.
  • the first nozzle 210a has no step at the outer edge of the tip, while the second nozzle 210b has a step at the outer edge of the tip.
  • the level difference of the second nozzle 210b matches the level difference of the support base 110 and the reflective film 120.
  • FIG. 7B is a diagram showing the shape of the sealing material formed using the second nozzle shown in FIG.
  • the sealant 130 When the sealant 130 is coated with a second nozzle 210b shown in FIG. 6 (B), the sealant 130 has a slope theta 1 of 45 ° to the surface of the light incident side of the reflection film 120, the support The substrate 110 has an inclination ⁇ 2 of 45 ° with respect to the light incident side surface of the substrate 110.
  • FIG. 6C is a cross-sectional view of the tip portion of the third nozzle.
  • the third nozzle 210c has a concave shape whose tip is similar to the first nozzle 210a.
  • the third nozzle 210c has a flat concave center.
  • FIG. 7C is a diagram showing the shape of the sealing material formed using the third nozzle shown in FIG.
  • the sealing material 130 When the sealing material 130 is applied using the third nozzle 210c shown in FIG. 6C, the sealing material 130 has an inclination ⁇ 1 of 60 ° with respect to the light incident side surface of the reflective film 120 and is supported.
  • the substrate 110 has an inclination ⁇ 2 of 60 ° with respect to the light incident surface of the substrate 110.
  • FIG. 6D is a cross-sectional view of the tip portion of the fourth nozzle.
  • the fourth nozzle 210d has a concave shape whose tip is similar to the second nozzle 210b.
  • the fourth nozzle 210d has a flat concave center.
  • FIG. 7D is a diagram showing the shape of the sealing material formed using the fourth nozzle shown in FIG.
  • the sealing material 130 When the sealing material 130 is applied using the fourth nozzle 210d shown in FIG. 6D, the sealing material 130 has a tilt ⁇ 1 of 60 ° with respect to the light incident side surface of the reflective film 120 and is supported.
  • the substrate 110 has an inclination ⁇ 2 of 60 ° with respect to the light incident surface of the substrate 110.
  • the sunlight reflecting panel 2-5 was produced by changing the nozzle 210 to the fifth nozzle 210e.
  • FIG. 6E is a cross-sectional view of the tip portion of the fifth nozzle. As shown in FIG. 6E, the fifth nozzle 210e has a concave shape having a trapezoidal tip.
  • FIG. 7E is a diagram showing the shape of the sealing material formed using the fifth nozzle shown in FIG.
  • the sealing material 130 When the sealing material 130 is applied using the fifth nozzle 210e shown in FIG. 6E, the sealing material 130 has a tilt ⁇ 1 of 75 ° with respect to the light incident side surface of the reflective film 120 and is supported.
  • the substrate 110 has an inclination ⁇ 2 of 75 ° with respect to the light incident side surface of the substrate 110.
  • the sunlight reflecting panel 2-6 was produced by changing the nozzle 210 to the sixth nozzle 210f.
  • FIG. 6F is a cross-sectional view of the tip portion of the sixth nozzle. As shown in FIG. 6F, the sixth nozzle 210f has a concave shape with a rectangular tip.
  • FIG. 7F is a diagram showing the shape of the sealing material formed using the sixth nozzle shown in FIG.
  • the sealing material 130 When the sealing material 130 is applied using the sixth nozzle 210f shown in FIG. 6F, the sealing material 130 has a tilt ⁇ 1 of 90 ° with respect to the light incident side surface of the reflective film 120 and is supported.
  • the substrate 110 has an inclination ⁇ 2 of 90 ° with respect to the light incident side surface of the substrate 110.
  • a solar reflective panel 2-7 was prepared by changing the nozzle 210 to a seventh nozzle 210g.
  • FIG. 6G is a cross-sectional view of the tip portion of the seventh nozzle. As shown in FIG. 6G, the seventh nozzle 210g has a flat tip.
  • FIG. 7G is a diagram showing the shape of the sealing material formed using the seventh nozzle shown in FIG.
  • the sealing material 130 When the sealing material 130 is applied using the seventh nozzle 210g shown in FIG. 6G, the sealing material 130 has an inclination ⁇ 1 of 95 ° with respect to the light incident side surface of the reflective film 120 and is supported.
  • the substrate 110 has an inclination ⁇ 2 of 95 ° with respect to the light incident side surface of the substrate 110.
  • the solar reflective panels 3-1 to 3-20 are the same as the solar reflective panels 1-1 to 1-20, except that an epoxy resin (2081D manufactured by ThreeBond Co., Ltd.) is used as the sealing material 130, respectively. The same method was used.
  • the solar reflective panels 4-1 to 4-20 are the same as the solar reflective panels 1-1 to 1-20, respectively, except that acrylic resin (3017D manufactured by ThreeBond Co., Ltd.) is used as the sealing material 130. The same method was used.
  • the solar reflective panels 5-1 to 5-20 are the same as the solar reflective panels 1-1 to 1-1, except that urethane resin (HIBREN XLL-6051A manufactured by MC Industrial Co., Ltd.) is used as the sealing material 130, respectively. It was produced by the same method as 1-20.
  • urethane resin HBREN XLL-6051A manufactured by MC Industrial Co., Ltd.
  • the sealing material 130 was produced in the same manner as the solar reflective panel 1-1 except that an aluminum foil tape (Teraoka No. 833 t0.13 width 12.7 mm) was used.
  • Sunlight reflection panel 7-1 HT 0.1mm Sunlight reflection panel 7-2: HT 0.3mm Solar reflective panel 7-3: HT 0.7mm Solar reflective panel 7-4: HT 1mm Solar reflective panel 7-5: HT 1.5mm Solar reflective panel 7-6: HT 2mm Solar reflective panel 7-7: HT 2.5mm Solar reflective panel 7-8: HT 3mm [Preparation of solar reflective panels 8-1 to 8-16]
  • the solar reflective panels 8-1 to 8-16 were produced in the same manner as the solar reflective panels 1-1 to 1-16, except for the following points.
  • Solar reflective panel 8-1 thickness of resin base material (resin support layer 127) 12 ⁇ m Solar reflective panel 8-2: resin base material (resin support layer 127) thickness 50 ⁇ m Solar reflective panel 8-3: thickness of resin base material (resin support layer 127) 300 ⁇ m Solar reflective panel 8-4: thickness of resin base material (resin support layer 127) 1000 ⁇ m Solar reflective panel 8-5: thickness of resin base material (resin support layer 127) 12 ⁇ m Solar reflective panel 8-6: resin base material (resin support layer 127) thickness 50 ⁇ m Solar reflective panel 8-7: resin base material (resin support layer 127) thickness 300 ⁇ m Solar reflective panel 8-8: Thickness of resin base material (resin support layer 127) 1000 ⁇ m Solar reflective panel 8-9: resin substrate (resin support layer 127) thickness 12 ⁇ m Solar reflective panel 8-10: thickness of resin substrate (resin support layer 127) 50 ⁇ m Solar reflective panel 8-11: resin substrate (resin support layer 127) thickness 300 ⁇ m Solar reflective panel 8-12: resin base
  • Solar reflective panel 9-1 Conveyance speed of application target 5m / min
  • Solar reflective panel 9-2 Conveyance speed of application target 10m / min
  • Solar reflective panel 9-3 Conveyance speed of application target 30m / min
  • Solar reflective panel 9-4 Conveyance speed of application target 50m / min
  • Solar reflective panel 9-5 Conveyance speed of application target 5m / min
  • Solar reflective panel 9-6 Conveyance speed of application target 10m / min
  • Solar reflective panel 9-7 Conveyance speed of application target 30m / min
  • Solar reflective panel 9-8 Conveyance speed of application target 50m / min
  • Solar reflective panel 9-9 Conveyance speed of application target 5m / min
  • Solar reflective panel 9-10 Conveyance speed of application target 10m / min
  • Solar reflective panel 9-11 Conveyance speed of application target 30m / min
  • Solar reflective panel 9-12 Conveyance speed of application target 50m / min
  • Solar reflective panel 9-13 Conveyance speed of application target 5
  • the solar reflective panel 100 of the present embodiment is coated with the sealing material 130 from the light incident side surface of the reflective film 120 to the light incident side surface of the support substrate 110. Yes. Therefore, it can be seen that the end surface of the reflective film 120 is completely sealed by the sealing material 130 and has excellent weather resistance. Moreover, it turns out that it is excellent also in washing
  • the sealing material 130 is applied by transporting the application target (the support substrate 110 with the reflective film 120 bonded) directly under the nozzle 210 by a conveyor or the like.
  • the present invention is not limited to this, and the nozzle 210 may be moved while the application target is fixed. Therefore, in the method for manufacturing the solar reflective panel 100 according to the above embodiment, if the sealing material 130 can be applied while shifting the relative position between the nozzle 210 and the application target, either the nozzle 210 or the application target is moved. You may let them.
  • FIG. 8A is a diagram illustrating an example in which the nozzle 210 is translated while the application target is fixed.
  • FIG. 8B is a diagram illustrating an example in which the nozzle 210 is moved by a machine such as a robot while the application target is fixed. As long as the nozzle 210 can be moved in a state where the application target is fixed as in the example shown in FIGS. 8A and 8B, any type of application method may be employed.
  • the sealing material 130 may be applied using an extrusion coating apparatus having a plurality of nozzles 210.
  • FIG. 9A is a diagram illustrating an example in which a sealing material is applied using four nozzles.
  • the support base 110 and the reflective film 120 are viewed in plan.
  • the nozzle 210 shown in FIG. 9A can be used when the main surface (surface) of the reflective film 120 is a quadrangle.
  • the four nozzles 210 are simultaneously moved along the edge (four sides) of the reflective film 120, respectively. Thereby, compared with the case where it applies with one nozzle 210, time required for application is remarkably shortened.
  • FIG. 9B is a diagram illustrating an example in which a sealing material is applied using two nozzles.
  • a nozzle 210 can be used when the main surface (surface) of the reflective film 120 is a quadrangle (a square or a parallelogram having the same length of all four sides).
  • the two nozzles 210 are simultaneously moved along the edge (two parallel sides) of the reflective film 120.
  • the application target is rotated by 90 °, and the two nozzles 210 are simultaneously moved again along the edges (two parallel sides) of the reflective film 120 again.
  • the time which application requires is shortened.
  • the edge of the sealing material 130 and the edge of the support base 110 are not aligned.
  • the sealing material 130 may be applied so that the edge of the sealing material 130 and the edge of the support base 110 are aligned.
  • FIG. 10 is a view showing the solar reflective panel in a state where the edge of the sealing material and the edge of the support base material are aligned.
  • the reflective surface of the reflective film 120 can be widened by applying the sealing material 130 so that the edge of the sealing material 130 and the edge of the support substrate 110 are aligned.
  • the reflectance of the solar reflective panel 100 can be improved. It also improves the appearance.

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Abstract

【課題】反射フィルムのサイズを支持基材より小さくする場合であっても、反射フィルムの劣化を抑制でき、反射フィルムが支持基材から剥がれにくい太陽光反射用パネル、およびその製造方法を提供する。 【解決手段】本発明の太陽光反射用パネル１００は、支持基材１１０と、支持基材１１０の形状にならって、支持基材１１０の外縁より内側の領域に貼合され、光源からの光を反射する反射フィルム１２０と、反射フィルム１２０の光入射側の表面から、支持基材１１０の光入射側の表面に亘って配置された封止材１３０と、を有する。

Description

太陽光反射用パネル、および太陽光反射用パネルの製造方法
　本発明は、太陽光反射用パネル、および太陽光反射用パネルの製造方法に関する。
　近年、石油、天然ガス等の化石燃料の代替エネルギーとして、太陽エネルギーが注目されている。太陽エネルギーは、枯渇するおそれがなく、環境に対してクリーンなエネルギーとして知られている。
　太陽エネルギーを利用した発電方法としては、たとえば、太陽熱発電がある。太陽熱発電は、太陽エネルギーである太陽光を熱エネルギーに変換し、この熱エネルギーを利用して発電する技術である。一般的には、太陽光のエネルギー密度は低く、これを補うために鏡やレンズで太陽光を集めて熱エネルギーに変換している。以下では、太陽光を集める装置を、集光装置と称する。
　集光装置は、太陽光による紫外線や、熱、風雨、砂嵐等に晒される。そのため、従来から、集光装置には、環境に対する耐久性の高い無色透明のガラス材を基材として、その基材の背面に反射膜を形成したガラス製ミラーが用いられてきた。しかし、このようなガラス製ミラーは、輸送時に破損しやすく、架台に強度を持たせる必要もあるため多大な建設費を要する。
　そこで、ガラス製ミラーの代わりに、樹脂製の反射フィルム（フィルムミラー）を具備した太陽光反射用パネルが開発された（たとえば、特許文献１）。特許文献１の太陽光反射用パネルは、支持基材上に、樹脂製の反射フィルムが貼合されて使用される。そして、樹脂製の反射フィルムは、樹脂基材の上に、太陽光を反射するための銀の反射層、メタロキサン骨格を有する材料からなる最表層など、異なる機能をもつ複数の層が設けられている。
　一般的には、支持基材の上には、支持基材と同一サイズ（主面の面積が同一）の反射フィルムが貼合され、支持基材および反射フィルムの端部がまとめて把持されて架台に固定される。この場合、反射フィルムの端部は、把持する部材（以下、「把持部材」と称する）が覆い被さるため、太陽光の反射率が著しく低下する。
国際公開第２０１１／０９６３０９号
　上記のように、太陽光の反射に寄与しない位置にまで反射フィルムを貼合する必要はない。また、反射フィルムが支持基材から剥がれないようにするために、支持基材および反射フィルムの端部に封止材を配置する場合があるが、封止材の上から上記の把持部材を覆い被せる場合や把持部へスライドインさせる場合など、封止材の一部が削がれてしまうといった問題もある。
　そこで、反射フィルムのサイズを支持基材よりも一回り小さくして、一定以上の反射率を確保できる領域にのみ反射フィルムを貼合するといった方法も検討されるようになった。
　しかし、単に、反射フィルムのサイズを支持基材よりも一回り小さくしただけでは、反射フィルムの端面が、上記の把持部材によって覆われることも、封止材によって保護されることもなく、露出した状態となる。この状態では、反射フィルムは、酸素、水蒸気、あるいは硫化水素等の影響を受け劣化しやすい。たとえば、反射フィルムが支持基材から剥がれたり、また、反射フィルムが金属を含む場合には、腐食の進行が早くなったりしてしまう。
　また、反射フィルムのサイズを支持基材より一回り小さくした場合には、反射フィルムの端部と支持基材の端部の位置が異なるため、反射フィルムの端部の位置に段差が生じて外力に弱くなり、反射フィルムが支持基材から剥がれやすくなってしまう。
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものである。すなわち、反射フィルムのサイズを支持基材より小さくする場合であっても、反射フィルムの劣化を抑制でき、反射フィルムが支持基材から剥がれにくい太陽光反射用パネル、およびその製造方法を提供することを目的とする。
　（１）支持基材と、前記支持基材の形状にならって、前記支持基材の外縁より内側の領域に貼合され、光源からの光を反射する反射フィルムと、前記反射フィルムの光入射側の表面から、前記基材の前記光入射側の表面に亘って配置された封止材と、を有する、太陽光反射用パネル。
　（２）前記封止材は、前記支持基材に接触している端部において、前記支持基材の光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜を有し、前記反射フィルムに接触している端部において、前記反射フィルムの光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜を有している、上記（１）に記載の太陽光反射用パネル。
　（３）前記封止材は、前記反射フィルムから前記支持基材に亘る方向において、前記反射フィルムに接触している部分の幅（Ｗ１）が、０ｍｍ＜Ｗ１≦１０ｍｍである、上記（１）または（２）に記載の太陽光反射用パネル。
　（４）前記封止材は、前記反射フィルムから前記支持基材に亘る方向において、前記支持基材に接触している部分の幅（Ｗ２）が、０．１ｍｍ＜Ｗ２＜３００ｍｍである、上記（１）～（３）のいずれかに記載の太陽光反射用パネル。
　（５）前記封止材の厚さ（Ｈ）は、０．０５ｍｍ＜Ｈ≦（前記反射フィルムの厚さ（Ｔ）＋１）ｍｍである、上記（１）～（４）のいずれかに記載の太陽光反射用パネル。
　（６）前記反射フィルムの厚さ（Ｔ）は、０．０１ｍｍ＜Ｔ＜１ｍｍである、上記（１）～（５）のいずれかに記載の太陽光反射用パネル。
　（７）光源からの光を反射する反射フィルムが支持基材に貼合された太陽光反射用パネルの製造方法であって、（ａ）前記反射フィルムを、前記支持基材の形状にならって、前記支持基材の外縁より内側の領域に貼合する貼合ステップと、（ｂ）前記反射フィルムの光入射側の表面から、前記支持基材の前記光入射側の表面に亘って封止材が配置されるように塗工する塗工ステップと、を有する太陽光反射用パネルの製造方法。
　（８）前記塗工ステップ（ｂ）は、前記封止材が、前記支持基材に接触している端部において、前記支持基材の光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜を有し、前記反射フィルムに接触している端部において、前記反射フィルムの光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜を有するように塗工する、上記（７）に記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
　（９）前記塗工ステップ（ｂ）は、前記封止材を、前記反射フィルムから前記支持基材に亘る方向において、前記反射フィルムに接触している部分の幅（Ｗ１）が、０ｍｍ＜Ｗ１≦１０ｍｍとなるように塗工する、上記（７）または（８）に記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
　（１０）前記塗工ステップ（ｂ）は、前記封止材を、前記反射フィルムから前記支持基材に亘る方向において、前記支持基材に接触している部分の幅（Ｗ２）が、０．１ｍｍ＜Ｗ２＜３００ｍｍとなるように塗工する、上記（７）～（９）のいずれかに記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
　（１１）前記塗工ステップ（ｂ）は、前記封止材の厚さ（Ｈ）が、０．０５ｍｍ＜Ｈ≦（前記反射フィルムの厚さ（Ｔ）＋１）ｍｍとなるように塗工する、上記（７）～（１０）のいずれかに記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
　（１２）前記貼合ステップ（ａ）は、前記反射フィルムの厚さ（Ｔ）が０．０１ｍｍ＜Ｔ＜１ｍｍである前記反射フィルムを前記支持基材に貼合する、上記（７）～（１１）のいずれかに記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
　（１３）前記塗工ステップ（ｂ）は、前記封止材を噴射するノズルと、前記太陽光反射パネルを載置する架台との相対位置をずらしながら前記封止材を塗工し、前記相対位置をずらすために、前記ノズルまたは前記架台を、１ｍ／ｍｉｎ以上の速度で移動させる、上記（７）～（１２）のいずれかに記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
　本発明によれば、支持基材の外縁より内側の領域に反射フィルムを貼合し、反射フィルムの光入射側の表面から、支持基材の光入射側の表面に亘って封止材を配置している。このような封止材の配置によって、反射フィルムの端面の露出部分を確実に保護でき、その結果として、反射フィルムの劣化を抑制できる。また、封止材を支持基材の光入射側の表面に配置できるため、封止材と支持基材の接触面積を大きくすることができ、反射フィルムが支持基材から剥がれにくくなる。
　本発明のさらに他の目的、特徴および特質は、以後の説明および添付図面に例示される好ましい実施の形態を参照することによって、明らかになるであろう。
本実施形態に係る太陽光反射用パネルの概略斜視図である。 図１のＡ－Ａ線に沿う概略断面図である。 反射フィルムの層構成を示す概略断面図である。 封止材の詳細な形状を説明するための図である。 封止材塗工装置が有するノズルの概略外観図である。 （Ａ）～（Ｇ）第１～第７ノズルの先端部分の断面図である。 （Ａ）～（Ｇ）第１～第７ノズルを使用して成形された封止材の形状を示す図である。 （Ａ）塗布対象を固定した状態で、ノズルを平行移動させる例を示す図である。（Ｂ）塗布対象を固定した状態で、ノズルをロボットなどの機械によって移動させる例を示す図である。 （Ａ）４つのノズルを用いて封止材を塗布する例を示す図である。（Ｂ）２つのノズルを用いて封止材を塗布する例を示す図である。 封止材の端縁と支持基材の端縁が揃った状態の太陽光反射用パネルを示す図である。
　以下、添付した図面を参照して、本発明の一実施形態を説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
　＜太陽光反射用パネル１００＞
　図１は、本実施形態に係る太陽光反射用パネルの概略斜視図である。図２は、図１のＡ－Ａ線に沿う概略断面図である。図３は、反射フィルムの層構成を示す概略断面図である。図４は、封止材の詳細な形状を説明するための図である。以下、図１～４を参照して、本実施形態に係る太陽光反射用パネル１００について説明する。
　図１、図２に示すように、太陽光反射用パネル１００は、支持基材１１０と、反射フィルム１２０と、封止材１３０とを有する。なお、太陽光反射用パネル１００の１枚のサイズは、特に限定するものではないが、たとえば、縦２ｍ×横４ｍとする。
　（１）支持基材１１０
　支持基材１１０は、反射フィルム１２０を支持するための基材であり、自己支持性の支持基材であることが好ましい。支持基材１１０としては、たとえば、アルミニウム、アルミニウムめっき、アルミニウム系合金めっき、鋼、銅、銅めっき、錫めっき、クロムめっき、ステンレス鋼などを用いることができる。これらのうち、特に耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。また、支持基材１１０の形状としては、フィルム状、シート状、平板状、曲板状、半球状などが挙げられる。なお、支持基材１１０は、反射フィルム１２０の端縁部分を支持したときに反射フィルム１２０を担持することが可能な程度の剛性を有していれば、上記の材料や形状に限られない。たとえば、支持基材１１０として、ガラス、石英、樹脂などの材料を用いてもよい。このうち、樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびフッ素系樹脂などを用いることができる。または、上記樹脂と、酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルムまたはシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり金属蒸着等の表面加工を施したりした樹脂フィルムまたはシートを、支持基材として使用してもよい。また、支持基材１１０の厚さは、支持基材１１０に用いる材料の種類に応じて変更してよい。一般的には、支持基材１１０の厚さは、０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下の範囲であることが好ましく、０．３ｍｍ以上２ｍｍ以下の範囲であることがより好ましい。
　または、自己支持性の支持基材として、一対の金属平板とその金属平板間に介装された中間層を有するもの（タイプＡ）、中空構造を有する樹脂材料からなるもの（タイプＢ）を使用してもよい。これらの具体的な構成については、ＷＯ　１１／１６２１５４号パンフレットまたは米国特許出願公開第２０１３／０１１４１５５号公報などに記載される自己支持性基材ＡやＢを採用することができる。
　（２）反射フィルム１２０
　反射フィルム１２０は、光源からの光（たとえば、太陽光）を反射する樹脂製のフィルムである。反射フィルム１２０は、図１、図２に示すように、支持基材１１０の形状にならって、支持基材１１０の外縁よりＸｍｍ（例：３ｍｍ）内側の領域に貼合される。
　また、反射フィルム１２０は、図３に示すように、異なる機能をもつ複数の層から構成され、少なくとも光を反射するための反射層１２１を有している。反射層１２１の光入射側には、少なくとも一層の保護層が配設される。本実施形態に係る反射フィルム１２０の好ましい層構成としては、反射層１２１の光入射側に、腐食防止層１２２、紫外線吸収層１２３、ガスバリアー層１２４、ハードコート層１２５が順に積層される。また、反射層１２１の支持基材１１０側（光入射側とは反対側）には、少なくとも一層の支持層（たとえば、後述する樹脂支持層１２７）が配設される。本実施形態に係る反射フィルム１２０の好ましい層構成としては、反射層１２１の支持基材１１０側に、アンカー層１２６、樹脂支持層１２７、粘着層１２８が順に積層される。なお、反射フィルム１２０を支持基材１１０に貼り合わせるまで、粘着層１２８を覆うための剥離層（不図示）が設けられてもよい。
　以下、各層１２１～１２８について詳細に説明する。
　（２－１）反射層１２１
　反射層１２１は、光源からの光（たとえば、太陽光）を反射する機能を有する金属などからなる層である。反射層１２１の表面反射率は、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
　反射層１２１は、アルミニウム、銀、クロム、銅、ニッケル、チタン、マグネシウム、ロジウム、プラチナ、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、ビスマス、および金の中からいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。特に、反射率の観点からアルミニウムまたは銀を主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。本実施形態の反射層１２１としては、銀を主成分とする銀反射層が用いられる。
　反射層１２１の厚さは、反射率等の観点から、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であることが好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。反射層１２１の膜厚が１０ｎｍより大きいと、膜厚が十分であり、光を透過してしまうことがなく、反射フィルム１２０の可視光領域での反射率を十分確保できるため好ましい。また、２００ｎｍ程度までは膜厚に比例して反射率も大きくなるが、２００ｎｍ以上は膜厚に依存しない。
　反射層１２１の表面粗さは、０．０１μｍ以上０．１μｍ以下の範囲内であり、好ましくは０．０２μｍ以上０．０７μｍ以下の範囲内である。反射層１２１の表面粗さが０．０１μｍ以上であるため、反射フィルム１２０の生産段階において、連続的に製膜するロールトゥロール方式を用いた場合でも、反射層１２１とその入射光側の隣接層（本実施形態では腐食防止層１２２）の貼りつきを防止できる。
　反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空製膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。たとえば、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法において、光反射層を銀蒸着（特に真空蒸着）によって形成する製造方法であることが好ましい。
　（２－２）腐食防止層１２２
　腐食防止層１２２は、反射層１２１の腐食を防止するために設けられる。そのため、腐食防止層１２２は、反射層１２１に隣接して設けられることが好ましい。特に、反射層１２１に金属（たとえば、銀）が含まれている場合に、腐食防止層１２２を設けることが好ましい。特に、腐食防止層１２２が反射層１２１の光入射側に隣接していることがより好ましい。また、反射層１２１の両側に腐食防止層１２２を隣接させてもよい。
　腐食防止層１２２は、腐食防止剤を含有している。腐食防止剤としては、大別して、金属、特に銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と、酸化防止能を有する腐食防止剤（酸化防止剤ともいう）が好ましく用いられる。腐食防止層１２２は、金属、特に銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤の少なくとも一方を含有していることが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるかもしくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ　Ｚ０１０３－２００４参照）。
　腐食防止層１２２には、腐食防止剤を保持するバインダーとして樹脂（たとえば、アクリル系樹脂）を用いることができる。より具体的には、腐食防止層１２２に用いる樹脂、腐食防止剤は、特に制限されないが、たとえば、ポリエステル系樹脂やアクリル系樹脂等の、ＷＯ　２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「００７９」～「００９５」）などの公知の文献に記載されるのと同様の材料が使用できる。なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１ｇ／ｍ２以上１．０ｇ／ｍ２以下の範囲内であることが好ましい。
　また、腐食防止層１２２は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。これにより、腐食防止層１２２より下層をより有効に保護することができる。このため、反射フィルム１２０の耐久性をより向上できる。ここで、紫外線吸収剤は、特に制限はないが、たとえば、チアゾリドン系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系、ベンゾフェノン系、アミノブタジエン系、トリアジン系、サリチル酸フェニル系、ベンゾエート系などの有機系の紫外線吸収剤、あるいは酸化セリウム、酸化マグネシウムなどの微粉末系の紫外線遮断剤や酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の無機系の紫外線吸収剤などがある。これらのうち、有機系の紫外線吸収剤や無機系の紫外線吸収剤が好ましく、トリアジン系紫外線吸収剤や無機系紫外線吸収剤がより好ましい。すなわち、紫外線吸収剤は、トリアジン系紫外線吸収剤または無機系紫外線吸収剤であることが好ましい。
　また、腐食防止層１２２の厚さは、３０ｎｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。
　これら樹脂材料（バインダー）を光反射層上などに塗布、塗工するなどして、腐食防止層を形成することができる。
　（２－３）紫外線吸収層１２３
　紫外線吸収層１２３は、太陽光や紫外線による反射フィルム１２０の劣化防止の目的で、反射層１２１に入射する紫外線を吸収するために設けられる。紫外線吸収層１２３は、腐食防止層１２２よりも光入射側に設けることが好ましい。
　紫外線吸収層１２３としては、たとえば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタラートなど各種樹脂を用いることができる。特に、ポリエチレンテレフタラートなどのポリエステル系フィルムまたはアクリルフィルムを用いることが好ましい。その中でも、紫外線に耐性の高いアクリルフィルムが特に好ましい。
　紫外線吸収層１２３は、紫外線吸収剤を含有している。たとえば、紫外線吸収層１２３は、紫外線吸収剤として、トリアジン系化合物を含有している。その他に、有機系として、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系や、無機系として、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄などをさらに含有していてもよい。
　また、紫外線吸収層１２３としてアクリル層（メタクリル樹脂などが主成分）を用いる場合、柔らかく破損しにくい層とするために、可塑剤の微粒子を含有させてもよい。可塑剤の微粒子の好ましい例としては、たとえば、ブチルゴムやブチルアクリレートの微粒子などが挙げられる。
　また、紫外線吸収層１２３の厚さは、３０ｎｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上５μｍ以下であることがより好ましい。
　（２－４）ガスバリアー層１２４
　ガスバリアー層１２４は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材（樹脂支持層１２７）及び樹脂基材で支持される各構成層などの劣化を防止するために設けられる。ガスバリアー層１２４は、反射層１２１より光入射側に設けられることが好ましい。なお、ガスバリアー層１２４には、劣化防止機能以外の機能、用途をさらに持たせてもよい。
　ガスバリアー層１２４の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、さらに好ましくは０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。
　また、ガスバリアー層１２４の酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
　ガスバリアー層１２４は、無機酸化物の前駆体であるシラザン化合物やシロキサン化合物などの塗布膜に転化処理（酸化処理）を施すことにより形成される。
　ガスバリアー層１２４の厚さは、３０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは４０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、特に好ましくは４０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。
　ガスバリアー層１２４に使用される材料、ガスバリアー層１２４の形成方法は、特に制限されないが、たとえば、ＷＯ　２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「０１８８」～「０２０９」）等の公知の文献に記載されるのと同様の材料や方法が使用できる。
　（２－５）ハードコート層１２５
　ハードコート層１２５は、反射フィルム１２０表面への傷つきや汚れの付着を防止するために設けられる。そのため、ハードコート層１２５は、光入射側の最外層に設けられることが好ましい。ただし、ハードコート層１２５よりさらに外側（光入射側）に、撥水性を有する防汚層（不図示）が設けられてもよい。
　ハードコート層１２５は、透明性、耐候性、硬度、機械的強度などが得られるものであれば、任意の材料によって構成可能である。たとえば、ハードコート層１２５は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などにより構成される。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性、および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。または、表面保護性、耐侯性が高いという点で、メタロキサン（有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂）が好ましく使用される。すなわち、ハードコート層は、メタロキサン系のハードコート層であることが好ましい。
　また、ハードコート層１２５の厚さは、十分な耐傷性を得つつ、反射フィルム１２０にそりが発生することを防止するという観点から、０．０５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１μｍ以上１０μｍ以下である。
　（２－６）アンカー層１２６
　アンカー層１２６は、樹脂からなり、樹脂支持層１２７の上（光入射側）に良好な反射層１２１を形成するために設けられる。したがって、アンカー層１２６は、樹脂支持層１２７と反射層１２１を密着させる密着性、反射層１２１を真空蒸着法などで形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、反射層１２１の高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。
　アンカー層１２６に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂などが挙げられる。特に、耐候性の観点からは、ポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂、またはポリエステル系樹脂とアクリル系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネートなどの硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　また、アンカー層１２６の厚さは、０．０１μｍ以上３μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．１μｍ以上２μｍ以下である。この範囲の厚さとすれば、樹脂支持層１２７表面の凹凸を覆い隠すことができ、良好な平滑性と密着性が得られる。また、アンカー層１２６に十分な硬さが得られれば、結果として反射層１２１の反射率を高めることができる。なお、アンカー層１２６には、腐食防止層１２２に用いる腐食防止剤を含有させることが好ましい。
　また、アンカー層に使用される材料（樹脂材料）、アンカー層の形成方法は、特に制限されないが、たとえば、ＷＯ　２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「０２０９」～「０２１２」）等の公知の文献に記載されるのと同様の材料や方法が使用できる。
　（２－７）樹脂支持層１２７
　樹脂支持層１２７は、（反射）層を製膜（造膜）するためのものである。樹脂支持層１２７の材料としては、(反射)層が製膜（造膜）できるものであれば特に制限されず、種々の樹脂フィルムを用いることができる。たとえば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルムまたはアクリルフィルムを用いることが好ましい。
　樹脂支持層１２７の厚さは、樹脂の種類および目的などに応じて適切な厚さにすることが好ましい。たとえば、１０μｍ以上３００μｍ以下の範囲内でよく、好ましくは２０μｍ以上２００μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下である。
　（２－８）粘着層１２８
　粘着層１２８は、反射フィルム１２０を支持基材１１０に貼合可能にするために粘着性を有している。粘着層１２８は、樹脂支持層１２７の反射層１２１を形成した面とは反対側の面（裏面）に設けられる。粘着層１２８の材料としては、特に制限されず、たとえば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などが用いられる。
　また、粘着層１２８の厚さは、粘着効果、乾燥速度などの観点から、１μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。
　なお、必要に応じて、上記各層間に紫外線吸収層１２３、ガスバリアー層１２４、接着層などを設けてもよい。さらに、ハードコート層１２５の光入射側に剥離層や防汚層等を設けてもよい。
　本実施形態の反射フィルム１２０全体の厚さは、特に制限されないが、撓み防止、正反射率、取り扱い性等の観点から７５～３００μｍが好ましく、より好ましくは９０～２５０μｍ、更に好ましくは１００～２５０μｍである。また、反射フィルムの光入射側の最表面層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが、反射光の散乱を防止でき集光効率を高めるという観点から好ましい。
　（３）封止材１３０
　封止材１３０は、反射フィルム１２０の端面が露出しないように、反射フィルム１２０の外縁に沿って連続して配置される。そして、封止材１３０は、図１、図２に示すように、反射フィルム１２０の端面だけでなく、反射フィルム１２０の光入射側の表面から、支持基材１１０の光入射側の表面に亘って配置される。
　封止材１３０の材料としては、特に制限はないが、形成の容易性、ガス遮断性、耐久性などの観点から、硬化性樹脂、たとえば、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、などから適宜選択して用いることができる。
　熱硬化性樹脂としては、たとえば、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂などが挙げられる。
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、たとえば、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂などが挙げられる。
　熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂などが挙げられる。
　より具体的には、封止材１３０として、ペースト状のシリコンシーラント（信越シリコーン社製　ＫＥ４５－Ｇ）、粘度が１０Ｐａ・ｓのエポキシ樹脂（スリーボンド社製２０８１Ｄ）、粘度が１３Ｐａ・ｓのアクリル樹脂（スリーボンド社製３０１７Ｄ）、２５℃で粘度が３００Ｐａ・ｓ以上６００Ｐａ・ｓ以下のウレタン樹脂（エムシー工業社製ハイブレン　ＸＬＬ－６０５１Ａ）などを用いることができる。
　また、封止材１３０の接液部の材質は、強度があるものであれば限定されないが、封止材１３０の液離れのし易さを考慮するとフッ素樹脂、ＰＯＭが望ましい。
　また、封止材１３０は、図４に示すように、反射フィルム１２０に接触している端部において、反射フィルム１２０の光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜θ１を有する。これにより、反射フィルム１２０と封止材１３０の間には急激な段差がなく、反射フィルム１２０と封止材１３０の表面が滑らかに連続する。これとともに、封止材１３０は、支持基材１１０に接触している端部において、支持基材１１０の光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜θ２を有する。これにより、支持基材１１０と封止材１３０の間にも急激な段差がなく、支持基材１１０と封止材１３０の表面が滑らかに連続する。その結果、外力に対する耐久性が向上し、封止材１３０が支持基材１１０から剥がれにくくなり、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネル１００が得られる。
　また、封止材１３０は、図４に示すように、反射フィルム１２０から支持基材１１０に亘る方向において、封止材１３０の反射フィルム１２０に接触している部分の幅Ｗ１が、０ｍｍ＜Ｗ１≦１０ｍｍであることが好ましい。封止材１３０の反射フィルム１２０に接触している部分の幅Ｗ１が大きいと、反射フィルム１２０の表面が封止材１３０によって覆われる面積が大きくなり、太陽光の反射面積が小さくなる。そのため、封止材１３０の反射フィルム１２０に接触している部分の幅Ｗ１を１０ｍｍ以下にすることで、大きな反射面積を有する太陽光反射用パネル１００が得られる。
　また、封止材１３０は、図４に示すように、反射フィルム１２０から支持基材１１０に亘る方向において、封止材１３０の支持基材１１０に接触している部分の幅Ｗ２が、０．１ｍｍ＜Ｗ２＜３００ｍｍであることが好ましく、より好ましくは、０．１ｍｍ＜Ｗ２＜１００ｍｍである。封止材１３０の支持基材１１０に接触している部分の幅Ｗ２が０．１ｍｍより大きければ、封止材１３０と支持基材１１０に十分な接着強度が得られる。ただし、封止材１３０の支持基材１１０に接触している部分の幅Ｗ２が必要以上に大きすぎると、支持基材１１０上の太陽光の反射に寄与しない領域を封止材１３０が占有することになり、無反射部または支持基材１１０が設置面積を占有する量が大きくなり、全体の反射面積を減少させるので好ましくない。封止材１３０の支持基材１１０に接触している部分の幅Ｗ２を３００ｍｍ未満にすることで、反射しない部分の占有面積を抑える効果が得られる。
　また、封止材１３０の厚さＨは、条件Ａ：０．０５ｍｍ＜Ｈであることが好ましい。さらに、封止材１３０の反射フィルム１２０上での厚さ（Ｈ－Ｔ）は、条件Ｂ：０ｍｍ＜Ｈ－Ｔ≦１ｍｍであることが好ましい。ここで、Ｔは反射フィルム１２０の厚さである。封止材１３０が支持基材１１０から反射フィルム１２０に亘って配置されるためにはＴ＜Ｈの関係が成立していなければならず、これを前提条件として上記の条件Ａ、条件Ｂを整理すると、０．０５ｍｍ＜Ｈ≦（Ｔ＋１）ｍｍになる。そのため、封止材１３０の厚さＨは、少なくとも０．０５ｍｍ＜Ｈ≦（Ｔ＋１）ｍｍという条件を満たしていることが好ましい。封止材１３０の厚さＨをこの範囲にすれば、封止材１３０の反射フィルム１２０上での厚さ（Ｈ－Ｔ）が薄くなる（１ｍｍ以下）ため、洗浄ブラシなどによる摩擦を軽減でき、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネル１００が得られる。なお、反射フィルムの厚さＴは、０．０１ｍｍ＜Ｔ＜１ｍｍであることが好ましい。
　以上のように、本実施形態では、封止材１３０は、反射フィルム１２０の光入射側の表面から、支持基材１１０の光入射側の表面に亘って配置され、反射フィルム１２０の端面を覆っている。これにより、反射フィルム１２０の端面は封止材１３０によって保護され、酸素、水蒸気、あるいは硫化水素などの反射フィルム１２０内への侵入が防止される。その結果、反射フィルム１２０の劣化が抑制される。たとえば、反射フィルム１２０が支持基材１１０から剥がれにくくなり、反射層１２１が金属である場合には反射層１２１の腐食を抑制、もしくは防止することができる。また、本実施形態では、封止材１３０は、支持基材１１０の端面ではなく、光入射側の表面に配置される。そのため、封止材１３０を支持基材１１０の端面に配置する場合と比べて、封止材１３０と支持基材１１０の接触面積を大きくできる。これにより、封止材１３０は、支持基材１１０に強く接着し、その結果として、反射フィルム１２０が支持基材１１０から剥がれにくくなる。
　また、本実施形態では、上述したように、封止材１３０は、支持基材１１０と封止材１３０の表面が滑らかに連続するように形成されており、反射フィルム１２０と封止材１３０の表面も滑らかに連続するように形成されている。その結果、太陽光反射用パネル１００の表面全体が滑らかになり（抵抗となる凹凸がなくなり）、太陽光反射用パネル１００に対して高圧洗浄やブラシ洗浄（物理洗浄）がなされても、封止材１３０が容易に剥離することはない。
　したがって、本実施形態の太陽光反射用パネル１００によれば、反射フィルム１２０が支持基材１１０から剥がれにくく、高圧洗浄やブラシ洗浄にも耐性があり、長期に亘って反射フィルム１２０に設けられた反射層１２１の劣化を防止できる。
　なお、反射フィルム１２０は、上記した各層１２１～１２８以外の層（たとえば、帯電防止層など）が追加されてもよいし、一部の層（たとえば、紫外線吸収層１２３、ガスバリアー層１２４など）が省略されてもよい。また、各層１２１～１２８の積層順序は、上記の例に限定されず、一部の層の積層順序が入れ替えられてもよい。
　＜実施例＞
　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。
　［太陽光反射用パネル１－１の作製］
（Ａ）反射フィルム１２０の作製
（Ａ－１）樹脂支持層１２７
　樹脂基材（樹脂支持層１２７）として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。
（Ａ－２）アンカー層１２６
　そのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、（１）ポリエステル樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１　日本合成化学製）、（２）メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ－８２０　ＤＩＣ社製）、（３）ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）、（４）ＨＤＩ系イソシアネート（１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート）を、樹脂固形分比率２０：１：１：２（質量比）で、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂液を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層１２６を形成した。
（Ａ－３）反射層１２１
　次いで、そのアンカー層１２６上に、反射層１２１として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。
（Ａ－４）腐食防止層１２２
　さらに、銀反射層（反射層１２１）上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート樹脂を樹脂固形分比率１０：２で混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの腐食防止層１２２を形成した。
（Ａ－５）ハードコート層１２５
　次に、腐食防止層１２２の上に、ジブチルエーテル中の３％パーヒドロポリシラザン液（ＡＺエレクトリックマテリアル社製　ＮＬ１２０）を用いて、乾燥後の膜厚が５００ｎｍとなるようにバーコーティングし、３分間自然乾燥した後、９０℃のオーブンで３０分間アニールして、ハードコート層１２５を形成した。
（Ａ－６）防汚層
　さらに、ハードコード層１２５上に撥水化剤（ＡＺエレクトリックマテリアル社製アクアノラン）をバーコーティングして防汚層を形成した。
　以上の（Ａ－１）～（Ａ－６）の手順によって反射フィルム１２０を作製した。
（Ｂ）反射フィルム１２０の貼合
　上記のように作製された反射フィルム１２０を、縦９４ｍｍ×横９４ｍｍに切り出した。そして、樹脂支持層１２７の裏面（光入射側とは反対側の面）を、厚さ３μｍの粘着層１２８を介して、厚さ０．５ｍｍで縦１００ｍｍ×横１００ｍｍのアルミニウム板（支持基材１１０）に貼り付けた。このとき、反射フィルム１２０は、支持基材１１０の形状にならって、支持基材１１０の外縁より内側の領域に貼合される。より具体的には、支持基材１１０の端縁から幅３ｍｍだけ内側の領域に反射フィルム１２０が貼合される。
（Ｃ）封止材１３０の塗工
　その後、反射フィルム１２０の端面を封止材１３０で覆うために、封止材塗工装置を用いて封止材１３０を塗工した。
　図５は、封止材塗工装置が有するノズルの概略外観図である。封止材塗工装置は、封止材１３０を支持基材１１０および反射フィルム１２０の表面に直接塗布する押出塗布装置である。したがって、封止材塗工装置は、封止材１３０を噴射するノズル２１０を有している。そして、塗布対象（反射フィルム１２０が貼合された状態の支持基材１１０）をコンベアなどによってノズル２１０直下で搬送させることによって、図１、２に示すように封止材１３０を塗布できる。ノズル２１０としては、図５に示すような、先端が平坦形状のノズルを用いた。
　封止材１３０としては、シリコンシーラント（信越シリコーン社製　ＫＥ－４５Ｇ）を用いた。また、塗布対象を搬送させる速度は１ｍ／ｍｉｎとした。また、封止材１３０の反射フィルム１２０に接触している部分の幅Ｗ１を２ｍｍとし、封止材１３０の支持基材１１０に接触している部分の幅Ｗ２を２ｍｍとした。また、封止材１３０の厚さＨを０．５ｍｍ、反射フィルム１２０の厚さＴを０．０５ｍｍとした。
　以上のような封止材１３０の塗布を、反射フィルム１２０の外縁に沿って連続して行って、太陽光反射用パネル１－１を作製した。
　［太陽光反射用パネル１－２～１－２０の作製］
　太陽光反射用パネル１－２～１－２０については、下記の点以外は上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　太陽光反射用パネル１－２：Ｗ１　２ｍｍ、Ｗ２　５ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－３：Ｗ１　２ｍｍ、Ｗ２　１０ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－４：Ｗ１　２ｍｍ、Ｗ２　１００ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－５：Ｗ１　０．１ｍｍ、Ｗ２　２ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－６：Ｗ１　０．１ｍｍ、Ｗ２　５ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－７：Ｗ１　０．１ｍｍ、Ｗ２　１０ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－８：Ｗ１　０．１ｍｍ、Ｗ２　１００ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－９：Ｗ１　０．５ｍｍ、Ｗ２　２ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１０：Ｗ１　０．５ｍｍ、Ｗ２　５ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１１：Ｗ１　０．５ｍｍ、Ｗ２　１０ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１２：Ｗ１　０．５ｍｍ、Ｗ２　１００ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１３：Ｗ１　１０ｍｍ、Ｗ２　２ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１４：Ｗ１　１０ｍｍ、Ｗ２　５ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１５：Ｗ１　１０ｍｍ、Ｗ２　１０ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１６：Ｗ１　１０ｍｍ、Ｗ２　１００ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１７：Ｗ１　０．０５ｍｍ、Ｗ２　０．１ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１８：Ｗ１　０．０５ｍｍ、Ｗ２　２ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－１９：Ｗ１　６ｍｍ、Ｗ２　０．１ｍｍ
　太陽光反射用パネル１－２０：Ｗ１　１０ｍｍ、Ｗ２　０．１ｍｍ
　ただし、Ｗ１は、上述したとおり、封止材１３０の反射フィルム１２０に接触している部分の幅であり、Ｗ２は、封止材１３０の支持基材１１０に接触している部分の幅である。
　［太陽光反射用パネル２－１の作製］
　第１ノズル２１０ａを用いて太陽光反射用パネル２－１を作製した。
　図６（Ａ）は、第１ノズルの先端部分の断面図である。第１ノズル２１０ａは、封止材１３０を塗布する際、図６（Ａ）の断面に対して垂直な方向（たとえば、紙面の手前方向）に塗布対象に沿って移動する。したがって、第１ノズル２１０ａは、図６（Ａ）に示される先端形状により封止材１３０の塗布形状を規定し、当該先端形状に出来上がり形状が合致するように封止材１３０を塗布できる。図６（Ａ）に示すように、第１ノズル２１０ａは、先端が半楕円の凹形状を有する。図７（Ａ）は、図６（Ａ）に示す第１ノズルを使用して成形された封止材の形状を示す図である。
　図６（Ａ）に示す第１ノズル２１０ａを用いて封止材１３０を塗布すると、封止材１３０は、反射フィルム１２０の光入射側の表面に対して４５°の傾斜θ１を持ち、支持基材１１０の光入射側の表面に対して４５°の傾斜θ２を持つ。
　また、支持基材１１０の材料には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いた。
　第１ノズル２１０ａを用いて封止材１３０を塗布した点、および、支持基材１１０の材料にＰＥＴを用いた点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル２－２の作製］
　ノズル２１０を第２ノズル２１０ｂに変更して太陽光反射用パネル２－２を作製した。
　図６（Ｂ）は、第２ノズルの先端部分の断面図である。図６（Ｂ）に示すように、第２ノズル２１０ｂは第１ノズル２１０ａと類似の形状に形成されている。第１ノズル２１０ａは、先端の外縁に段差がない一方、第２ノズル２１０ｂでは、先端の外縁に段差が設けられている。第２ノズル２１０ｂの段差は、支持基材１１０および反射フィルム１２０の段差と合致する。図７（Ｂ）は、図６（Ｂ）に示す第２ノズルを使用して成形された封止材の形状を示す図である。
　図６（Ｂ）に示す第２ノズル２１０ｂを用いて封止材１３０を塗布すると、封止材１３０は、反射フィルム１２０の光入射側の表面に対して４５°の傾斜θ１を持ち、支持基材１１０の光入射側の表面に対して４５°の傾斜θ２を持つ。
　第２ノズル２１０ｂを用いて封止材１３０を塗布した点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル２－３の作製］
　ノズル２１０を第３ノズル２１０ｃに変更して太陽光反射用パネル２－３を作製した。
　図６（Ｃ）は、第３ノズルの先端部分の断面図である。図６（Ｃ）に示すように、第３ノズル２１０ｃは、先端が第１ノズル２１０ａに類似した凹形状を有する。ここで、第３ノズル２１０ｃは、第１ノズル２１０ａとは異なり、凹形状の中央が平坦である。図７（Ｃ）は、図６（Ｃ）に示す第３ノズルを使用して成形された封止材の形状を示す図である。
　図６（Ｃ）に示す第３ノズル２１０ｃを用いて封止材１３０を塗布すると、封止材１３０は、反射フィルム１２０の光入射側の表面に対して６０°の傾斜θ１を持ち、支持基材１１０の光入射側の表面に対して６０°の傾斜θ２を持つ。
　第３ノズル２１０ｃを用いて封止材１３０を塗布した点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル２－４の作製］
　ノズル２１０を第４ノズル２１０ｄに変更して太陽光反射用パネル２－４を作製した。
　図６（Ｄ）は、第４ノズルの先端部分の断面図である。図６（Ｄ）に示すように、第４ノズル２１０ｄは、先端が第２ノズル２１０ｂに類似した凹形状を有する。ここで、第４ノズル２１０ｄは、第２ノズル２１０ｂとは異なり、凹形状の中央が平坦である。図７（Ｄ）は、図６（Ｄ）に示す第４ノズルを使用して成形された封止材の形状を示す図である。
　図６（Ｄ）に示す第４ノズル２１０ｄを用いて封止材１３０を塗布すると、封止材１３０は、反射フィルム１２０の光入射側の表面に対して６０°の傾斜θ１を持ち、支持基材１１０の光入射側の表面に対して６０°の傾斜θ２を持つ。
　第４ノズル２１０ｄを用いて封止材１３０を塗布した点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル２－５の作製］
　ノズル２１０を第５ノズル２１０ｅに変更して太陽光反射用パネル２－５を作製した。
　図６（Ｅ）は、第５ノズルの先端部分の断面図である。図６（Ｅ）に示すように、第５ノズル２１０ｅは、先端が台形の凹形状を有する。図７（Ｅ）は、図６（Ｅ）に示す第５ノズルを使用して成形された封止材の形状を示す図である。
　図６（Ｅ）に示す第５ノズル２１０ｅを用いて封止材１３０を塗布すると、封止材１３０は、反射フィルム１２０の光入射側の表面に対して７５°の傾斜θ１を持ち、支持基材１１０の光入射側の表面に対して７５°の傾斜θ２を持つ。
　第５ノズル２１０ｅを用いて封止材１３０を塗布した点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル２－６の作製］
　ノズル２１０を第６ノズル２１０ｆに変更して太陽光反射用パネル２－６を作製した。
　図６（Ｆ）は、第６ノズルの先端部分の断面図である。図６（Ｆ）に示すように、第６ノズル２１０ｆは、先端が矩形の凹形状を有する。図７（Ｆ）は、図６（Ｆ）に示す第６ノズルを使用して成形された封止材の形状を示す図である。
　図６（Ｆ）に示す第６ノズル２１０ｆを用いて封止材１３０を塗布すると、封止材１３０は、反射フィルム１２０の光入射側の表面に対して９０°の傾斜θ１を持ち、支持基材１１０の光入射側の表面に対して９０°の傾斜θ２を持つ。
　第６ノズル２１０ｆを用いて封止材１３０を塗布した点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル２－７の作製］
　ノズル２１０を第７ノズル２１０ｇに変更して太陽光反射用パネル２－７を作製した。
　図６（Ｇ）は、第７ノズルの先端部分の断面図である。図６（Ｇ）に示すように、第７ノズル２１０ｇは、先端が平坦形状である。図７（Ｇ）は、図６（Ｇ）に示す第７ノズルを使用して成形された封止材の形状を示す図である。
　図６（Ｇ）に示す第７ノズル２１０ｇを用いて封止材１３０を塗布すると、封止材１３０は、反射フィルム１２０の光入射側の表面に対して９５°の傾斜θ１を持ち、支持基材１１０の光入射側の表面に対して９５°の傾斜θ２を持つ。
　第７ノズル２１０ｇを用いて封止材１３０を塗布した点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル３－１～３－２０の作製］
　太陽光反射用パネル３－１～３－２０は、それぞれ、封止材１３０としてエポキシ樹脂（スリーボンド社製２０８１Ｄ）を用いた点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１～１－２０と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル４－１～４－２０の作製］
　太陽光反射用パネル４－１～４－２０は、それぞれ、封止材１３０としてアクリル樹脂（スリーボンド社製３０１７Ｄ）を用いた点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１～１－２０と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル５－１～５－２０の作製］
　太陽光反射用パネル５－１～５－２０は、それぞれ、封止材１３０としてウレタン樹脂（エムシー工業社製ハイブレン　ＸＬＬ－６０５１Ａ）を用いた点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１～１－２０と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル６の作製］
　封止材１３０として、アルミニウム箔テープ（テラオカ製Ｎｏ．８３３　ｔ０．１３　巾１２．７ｍｍ）を用いた点以外は、上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　［太陽光反射用パネル７－１～７－８の作製］
　太陽光反射用パネル７－１～７－８については、下記の点以外は上記太陽光反射用パネル１－１と同様の方法で作製した。
　太陽光反射用パネル７－１：Ｈ－Ｔ　０．１ｍｍ
　太陽光反射用パネル７－２：Ｈ－Ｔ　０．３ｍｍ
　太陽光反射用パネル７－３：Ｈ－Ｔ　０．７ｍｍ
　太陽光反射用パネル７－４：Ｈ－Ｔ　１ｍｍ
　太陽光反射用パネル７－５：Ｈ－Ｔ　１．５ｍｍ
　太陽光反射用パネル７－６：Ｈ－Ｔ　２ｍｍ
　太陽光反射用パネル７－７：Ｈ－Ｔ　２．５ｍｍ
　太陽光反射用パネル７－８：Ｈ－Ｔ　３ｍｍ
　［太陽光反射用パネル８－１～８－１６の作製］
　太陽光反射用パネル８－１～８－１６は、それぞれ、下記の点以外は上記太陽光反射用パネル１－１～１－１６と同様の方法で作製した。
　太陽光反射用パネル８－１：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　１２μｍ
　太陽光反射用パネル８－２：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　５０μｍ
　太陽光反射用パネル８－３：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　３００μｍ
　太陽光反射用パネル８－４：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　１０００μｍ
　太陽光反射用パネル８－５：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　１２μｍ
　太陽光反射用パネル８－６：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　５０μｍ
　太陽光反射用パネル８－７：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　３００μｍ
　太陽光反射用パネル８－８：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　１０００μｍ
　太陽光反射用パネル８－９：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　１２μｍ
　太陽光反射用パネル８－１０：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　５０μｍ
　太陽光反射用パネル８－１１：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　３００μｍ
　太陽光反射用パネル８－１２：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　１０００μｍ
　太陽光反射用パネル８－１３：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　１２μｍ
　太陽光反射用パネル８－１４：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　５０μｍ
　太陽光反射用パネル８－１５：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　３００μｍ
　太陽光反射用パネル８－１６：樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さ　１０００μｍ
　［太陽光反射用パネル９－１～９－１６の作製］
　太陽光反射用パネル９－１～９－１６は、それぞれ、下記の点以外は上記太陽光反射用パネル１－１～１－１６と同様の方法で作製した。
　太陽光反射用パネル９－１：塗布対象の搬送速度　５ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－２：塗布対象の搬送速度　１０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－３：塗布対象の搬送速度　３０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－４：塗布対象の搬送速度　５０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－５：塗布対象の搬送速度　５ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－６：塗布対象の搬送速度　１０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－７：塗布対象の搬送速度　３０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－８：塗布対象の搬送速度　５０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－９：塗布対象の搬送速度　５ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－１０：塗布対象の搬送速度　１０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－１１：塗布対象の搬送速度　３０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－１２：塗布対象の搬送速度　５０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－１３：塗布対象の搬送速度　５ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－１４：塗布対象の搬送速度　１０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－１５：塗布対象の搬送速度　３０ｍ／ｍｉｎ
　太陽光反射用パネル９－１６：塗布対象の搬送速度　５０ｍ／ｍｉｎ
　＜太陽光反射用パネルの評価＞
　上記のように作製した各太陽光反射用パネルについて、下記の評価を行った。
　［耐候性の評価：塩水浸漬試験］
　上記のように作製した各太陽光反射用パネルについて、３本のローラーを用いて、１．７ｍｍ／１００ｍｍで湾曲させた。その後、３．５％の塩水に、湾曲した太陽光反射用パネルを４８時間浸漬した後、太陽光反射用パネルの反射層端部における銀腐食の状態を目視観察し、下記の基準に従って耐候性を評価した。
　５：浸漬前後で、反射層端部における色味の変化は全く観察されない
　４：浸漬前後で、反射層端部における色味の変化がわずかに認められるが、問題のない品質である
　３：浸漬前後で、反射層端部における色味の変化がやや観察されるが、実用上許容される品質である
　２：浸漬前に対し、反射層端部で明らかな色味の変化が認められ、実用上問題となる品質である
　１：浸漬前に対し、反射層端部で激しい色味の変化が認められ、実用に耐えない品質である
　［耐洗浄性の評価：ブラシ洗浄試験］
　上記のように作製した各太陽光反射用パネルの表面に、汚染水１０ｍｌを霧吹きによって噴霧した後、回転ブラシ（ポリプロピレン線径Φ３ｍｍ、長さ６０ｍｍ）を回転数６００ｒｐｍで回転させながら押し当て、封止材１３０上を１００回往復運動させた。その後、封止材１３０の状態を目視観察し、下記の基準に従って耐洗浄性を評価した。
　５：全く封止材に影響なし
　４：表面にわずかな傷が認められる
　３：表面の傷の発生は認められるが、実用上は許容される品質である
　２：封止材剥がれが認められ、実用上懸念される品質である
　１：封止材剥がれが認められ、実用に耐えない品質である
　以上により得られた結果を表１～表９に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　表１に記載の結果より、封止材１３０は、少なくとも０ｍｍ＜Ｗ１≦１０ｍｍを満たしていれば、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られることが分かる。また、少なくとも０．１ｍｍ＜Ｗ２≦１００ｍｍを満たしていれば、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られることが分かる。
　また、表２に記載の結果より、反射フィルム１２０の光入射側の表面に対する、封止材１３０の光入射側の表面の傾斜θ１を、７５°以下にすれば、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られることが分かる。また、支持基材１１０の光入射側の表面に対する、封止材１３０の光入射側の表面の傾斜θ２を、７５°以下にすれば、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られることが分かる。
　また、表３、表４、表５に記載の結果より、封止材１３０として、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、またはウレタン樹脂の材料を用いたとしても、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られることが分かる。また、その中でも、特に、封止材１３０としてアクリル樹脂を用いた場合には、安定して耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られることが分かる。
　また、表６に記載の結果より、封止材１３０としてアルミニウム箔テープを用いた場合には、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られにくいことが分かる。
　また、表７に記載の結果より、封止材１３０は、少なくとも０ｍｍ＜Ｈ－Ｔ≦１ｍｍを満たしていれば、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られることが分かる。
　また、表８に記載の結果より、樹脂基材（樹脂支持層１２７）の厚さが、少なくとも１２μｍ以上１０００μｍ以下であれば、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られることが分かる。
　また、表９に記載の結果より、塗布対象を搬送させる速度（塗布速度）を、少なくとも５ｍ／ｍｉｎ以上５０ｍ／ｍｉｎ以下とすれば、耐候性および耐洗浄性に優れた太陽光反射用パネルが得られることが分かる。
　以上のことから、本実施形態の太陽光反射用パネル１００は、反射フィルム１２０の光入射側の表面から、支持基材１１０の光入射側の表面に亘って封止材１３０が塗工されている。そのため、反射フィルム１２０の端面が封止材１３０によって完全に封止され、優れた耐候性を有していることが分かる。また、封止材１３０の形状や材料を適切に選定することによって耐洗浄性にも優れていることが分かる。
　＜変形例＞
　上記実施形態は、本発明の要旨を例示することを意図し、本発明を限定するものではない。多くの代替物、修正、変形例は当業者にとって明らかである。変形例としては、以下のようなものがある。
　たとえば、上記実施形態では、塗布対象（反射フィルム１２０が貼合された状態の支持基材１１０）をコンベアなどによりノズル２１０直下で搬送させることによって、封止材１３０を塗布している。しかし、これに限定されず、塗布対象を固定した状態で、ノズル２１０を移動させてもよい。したがって、上記実施形態に係る太陽光反射用パネル１００の製造方法では、ノズル２１０と塗布対象の相対位置をずらしながら封止材１３０を塗工できるのであれば、ノズル２１０と塗布対象のどちらを移動させてもよい。
　たとえば、図８（Ａ）は、塗布対象を固定した状態で、ノズル２１０を平行移動させる例を示す図である。また、図８（Ｂ）は、塗布対象を固定した状態で、ノズル２１０をロボットなどの機械によって移動させる例を示す図である。図８（Ａ）、（Ｂ）に示す例のように、塗布対象を固定した状態でノズル２１０を移動できるのであれば、どのような方式の塗布方法を採用してもよい。
　また、複数のノズル２１０を有する押出塗布装置を用いて封止材１３０を塗布してもよい。
　図９（Ａ）は、４つのノズルを用いて封止材を塗布する例を示す図である。図９（Ａ）では、支持基材１１０および反射フィルム１２０を平面視している。図９（Ａ）に示すノズル２１０は、反射フィルム１２０の主面（表面）が四角形である場合に利用できる。たとえば、図９（Ａ）に示すように、反射フィルム１２０の端縁（４辺）に沿って、４つのノズル２１０をそれぞれ同時に移動させる。これにより、１つのノズル２１０で塗布する場合と比べて、塗布に要する時間が格段に短縮される。
　図９（Ｂ）は、２つのノズルを用いて封止材を塗布する例を示す図である。このようなノズル２１０は、反射フィルム１２０の主面（表面）が四角形（正方形または４辺の長さが全て等しい平行四辺形）である場合に利用できる。たとえば、図９（Ｂ）に示すように、反射フィルム１２０の端縁（平行する２辺）に沿って、２つのノズル２１０をそれぞれ同時に移動させる。２辺の塗布が完了後、塗布対象を９０°回転し、再び反射フィルム１２０の端縁（平行する２辺）に沿って、２つのノズル２１０をそれぞれ同時に移動させる。これにより、１つのノズル２１０で塗布する場合と比べて、塗布に要する時間が短縮される。
　また、上記実施形態では、図１、図２などに示すように、封止材１３０の端縁と支持基材１１０の端縁が揃っていない。しかし、封止材１３０の端縁と支持基材１１０の端縁が揃うように、封止材１３０を塗布してもよい。
　図１０は、封止材の端縁と支持基材の端縁が揃った状態の太陽光反射用パネルを示す図である。図１０に示すように、封止材１３０の端縁と支持基材１１０の端縁が揃うように、封止材１３０を塗布することにより、反射フィルム１２０の反射面を広くでき、結果として、太陽光反射用パネル１００の反射率を向上できる。また、見栄えも向上する。
　本出願は、２０１４年４月２５日に出願された日本特許出願番号２０１４－０９１７３７号に基づいており、それらの開示内容は、参照され、全体として、組み入れられている。
１００　太陽光反射用パネル、
１１０　支持基材、
１２０　反射フィルム、
１２１　反射層、
１２２　腐食防止層、
１２３　紫外線吸収層、
１２４　ガスバリアー層、
１２５　ハードコート層、
１２６　アンカー層、
１２７　樹脂支持層、
１２８　粘着層、
１３０　封止材、
２１０　ノズル。

Claims (13)

  1. 　支持基材と、
    　前記支持基材の形状にならって、前記支持基材の外縁より内側の領域に貼合され、光源からの光を反射する反射フィルムと、
    　前記反射フィルムの光入射側の表面から、前記支持基材の前記光入射側の表面に亘って配置された封止材と、を有する、太陽光反射用パネル。
  2. 　前記封止材は、
    　前記支持基材に接触している端部において、前記支持基材の光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜を有し、
    　前記反射フィルムに接触している端部において、前記反射フィルムの光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜を有している、請求項１に記載の太陽光反射用パネル。
  3. 　前記封止材は、前記反射フィルムから前記支持基材に亘る方向において、前記反射フィルムに接触している部分の幅（Ｗ１）が、０ｍｍ＜Ｗ１≦１０ｍｍである、請求項１または２に記載の太陽光反射用パネル。
  4. 　前記封止材は、前記反射フィルムから前記支持基材に亘る方向において、前記支持基材に接触している部分の幅（Ｗ２）が、０．１ｍｍ＜Ｗ２＜３００ｍｍである、請求項１～３のいずれか一項に記載の太陽光反射用パネル。
  5. 　前記封止材の厚さ（Ｈ）は、０．０５ｍｍ＜Ｈ≦（前記反射フィルムの厚さ（Ｔ）＋１）ｍｍである、請求項１～４のいずれか一項に記載の太陽光反射用パネル。
  6. 　前記反射フィルムの厚さ（Ｔ）は、０．０１ｍｍ＜Ｔ＜１ｍｍである、請求項１～５のいずれか一項に記載の太陽光反射用パネル。
  7. 　（ａ）光源からの光を反射する反射フィルムを、支持基材の形状にならって、前記支持基材の外縁より内側の領域に貼合する貼合ステップと、
    　（ｂ）前記反射フィルムの光入射側の表面から、前記支持基材の前記光入射側の表面に亘って封止材が配置されるように塗工する塗工ステップと、を有する太陽光反射用パネルの製造方法。
  8. 　前記塗工ステップ（ｂ）は、
    　前記封止材が、前記支持基材に接触している端部において、前記支持基材の光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜を有し、前記反射フィルムに接触している端部において、前記反射フィルムの光入射側の表面に対して７５°以下の傾斜を有するように塗工する、請求項７に記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
  9. 　前記塗工ステップ（ｂ）は、
    　前記封止材を、前記反射フィルムから前記支持基材に亘る方向において、前記反射フィルムに接触している部分の幅（Ｗ１）が、０ｍｍ＜Ｗ１≦１０ｍｍとなるように塗工する、請求項７または８に記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
  10. 　前記塗工ステップ（ｂ）は、
    　前記封止材を、前記反射フィルムから前記支持基材に亘る方向において、前記支持基材に接触している部分の幅（Ｗ２）が、０．１ｍｍ＜Ｗ２＜３００ｍｍとなるように塗工する、請求項７～９のいずれか一項に記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
  11. 　前記塗工ステップ（ｂ）は、
    　前記封止材の厚さ（Ｈ）が、０．０５ｍｍ＜Ｈ≦（前記反射フィルムの厚さ（Ｔ）＋１）ｍｍとなるように塗工する、請求項７～１０のいずれか一項に記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
  12. 　前記貼合ステップ（ａ）は、
    　前記反射フィルムの厚さ（Ｔ）が０．０１ｍｍ＜Ｔ＜１ｍｍである前記反射フィルムを前記支持基材に貼合する、請求項７～１１のいずれか一項に記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
  13. 　前記塗工ステップ（ｂ）は、
    　前記封止材を噴射するノズルと、前記反射フィルムが貼合された状態の前記支持基材との相対位置をずらしながら前記封止材を塗工し、
    　前記相対位置をずらすために、前記ノズルまたは前記反射フィルムが貼合された状態の前記支持基材を、１ｍ／ｍｉｎ以上の速度で移動させる、請求項７～１２のいずれか一項に記載の太陽光反射用パネルの製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6081032B1 (ja) * 2015-12-01 2017-02-15 三菱電機株式会社 表示装置
WO2018142471A1 (ja) * 2017-01-31 2018-08-09 マクセル株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5860702A (ja) * 1981-10-07 1983-04-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd 反射鏡及びその製造方法
JP2010192711A (ja) * 2009-02-18 2010-09-02 Nishio Glass & Mirror Co Ltd 板鏡における防水構造
US20110017202A1 (en) * 2007-12-21 2011-01-27 Agc Glass Europe Solar energy reflector

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5860702A (ja) * 1981-10-07 1983-04-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd 反射鏡及びその製造方法
US20110017202A1 (en) * 2007-12-21 2011-01-27 Agc Glass Europe Solar energy reflector
JP2010192711A (ja) * 2009-02-18 2010-09-02 Nishio Glass & Mirror Co Ltd 板鏡における防水構造

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6081032B1 (ja) * 2015-12-01 2017-02-15 三菱電機株式会社 表示装置
WO2017094125A1 (ja) * 2015-12-01 2017-06-08 三菱電機株式会社 表示器用保護シートおよび表示装置
WO2018142471A1 (ja) * 2017-01-31 2018-08-09 マクセル株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置
JPWO2018142471A1 (ja) * 2017-01-31 2019-07-18 マクセル株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置

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