JP2016175360A - 積層体パネル、太陽光反射用パネル、量子ドットパネル及び有機エレクトロルミネッセンス素子パネル及び積層体パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明の課題は、金属を含有する層を有する積層体パネルであっても、耐洗浄性及び耐候性の良好な積層体パネルを提供することである。【解決手段】本発明の積層体パネルは、基材上に、少なくとも金属含有層を含む積層体を有する積層体パネルであって、前記積層体パネルの側面部に、被覆用樹脂材料により連続した構造で前記積層体の側面を被覆する封止構造を有し、前記封止構造が、封止材重畳部を有し、前記封止材重畳部における下層が、前記積層体中心側の端部から前記積層体の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加していることを特徴とする。【選択図】図４

Description

本発明は、積層体パネル、太陽光反射用パネル、量子ドットパネル及び有機エレクトロルミネッセンス素子パネル及び積層体パネルの製造方法に関する。より詳しくは、本発明は、金属を含有する層を有する積層体パネルであっても、耐洗浄性及び耐候性の良好な積層体パネル等に関する。

発展途上国の急激な経済成長に伴い、全世界的にエネルギー需要が増大し、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガス等の化石燃料の枯渇が現実味を帯びてきている。

このような状況を踏まえ、化石燃料の代替エネルギーとして、供給が最も安定しており、かつ豊富な自然エネルギーとして、太陽エネルギーが注目されており、現在、その太陽エネルギーを活用するための様々な検討が精力的に進められている。特に、世界のサンベルト地帯といわれている赤道近くには、広大な砂漠が広がっており、ここに降りそそぐ太陽エネルギーは、まさに無尽蔵といえる。また、米国南西部に広がる砂漠の僅か数％の面積における太陽エネルギーを活用すれば、実に７０００ＧＷものエネルギーを得ることが可能であると考えられている。また、アラビア半島、北アフリカの砂漠の僅か数％の面積に照射される太陽エネルギーを活用すれば、全人類が必要とする全エネルギーを賄うことができるとも考えられている。

このように、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを実際に活用する段階では、（１）太陽エネルギー自身のエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であること等が、問題になると考えられる。

上記問題のうち、（１）項に記載の太陽エネルギー自身のエネルギー密度が低いという問題に関しては、巨大な集光装置を用いて太陽光を集めることによって解決することが可能とされている。

この集光装置は、太陽光に含まれる紫外線や、設置する環境における熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、耐久性の観点から、ガラス製ミラーを具備した太陽光反射用パネルが用いられてきた。しかし、ガラス製ミラーは環境に対する耐久性は高いが、集光装置が輸送時に破損しやすいこと、ミラー自身がかなりの荷重を有しているため、設置する架台に対しても強度を持たせる必要があり、建設費がかさむといった問題を抱えている。

上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを、樹脂製ミラーに置き換える方法の検討がなされている（例えば、特許文献１参照。）。また、樹脂製ミラーに高い耐傷性及び耐候性を付与するため、樹脂製ミラーにハードコート層を設ける方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。

しかしながら、樹脂製ミラーの反射層に銀等の金属膜を用いると、（ａ）反射面又は反射面と相対する面の樹脂層を介して、又は（ｂ）端部における反射層と外部との界面を介して、樹脂製ミラー内に酸素、水蒸気又は硫化水素等が透過し、反射層を腐食してしまうといった問題が生じ、樹脂製ミラーの実用化に対する障害となっていた。

上記問題に対し、反射面又は反射面と相対する面の樹脂層を介しての反射層に対する腐食を抑制する方法としては、反射層よりも光源側に、バリアー層として無機酸化物層を設ける方法（例えば、特許文献３参照。）により、ある程度の対応は可能とされている。

一方、端部から反射層への酸素、水蒸気又は硫化水素等の浸入による反射層の腐食に関しては、一般的には、封止テープ等により保護する等の対策が講じられている。しかしながら、太陽光反射パネルは、雨、塵、埃等の影響で表面が汚染され反射率が低下することを防止するため洗浄が実施され、高圧洗浄だけでは落としきれず、強固な汚れについては物理洗浄（ブラシ洗浄）が行われているため、封止テープでは剥離が懸念される。
また、封止部が光源側にある際には、封止テープ厚さによる段差が大きいと塵／埃も堆積し洗浄も困難になり、太陽光反射面積も縮小し、発電効率が多大に減少してしまう懸念がある。
基材の側面部と、上面端部又は下面端部のいずれか一方とを含む領域が、被覆用樹脂材料により被覆されている太陽光反射用パネルとしては、特許文献４に記載があるが、いまだ封止効果としては充分であるとは言い難いのが現状である。

また、本発明者は、太陽光反射用パネルについて、上述のような問題点を発見する過程において、一般的に、金属を含有する層を有する積層体パネル、具体的には、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子や量子ドットを有する積層体パネルなどにおいても、端部から金属を含有する層（金属含有層）への酸素、水蒸気又は硫化水素等の浸入による金属含有層の腐食に関しては、改善の余地があることを発見した。

特開２００５−５９３８２号公報 国際公開第２０１１／０９６３０９号 特許第３３１１１７２号公報 国際公開第２０１０／１２８１２６号

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、金属を含有する層を有する積層体パネルであっても、耐洗浄性及び耐候性の良好な積層体パネルを提供することである。

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、封止構造が封止材重畳部を有する場合であっても、当該封止材重畳部における下層が、前記積層体中心側の端部から前記積層体の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加していれば、端部から反射層への酸素、水蒸気又は硫化水素等の浸入を抑制でき、この結果、パネルの耐久性が向上し、ひいては、金属を含有する層を有する積層体パネルであっても、耐洗浄性及び耐候性の良好な積層体パネルを提供できることを見いだし、本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

１．基材上に、少なくとも金属含有層を含む積層体を有する積層体パネルであって、
前記積層体パネルの側面部に、被覆用樹脂材料により連続した構造で前記積層体の側面を被覆する封止構造を有し、
前記封止構造が、封止材重畳部を有し、
前記封止材重畳部における下層が、前記積層体中心側の端部から前記積層体の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加していることを特徴とする積層体パネル。

２．前記封止材重畳部における下層が、積層体中心側の端部から前記積層体の外側方向に少なくとも０．２５ｍｍにわたって、前記積層体の表面となす角度θの最大値θｍａｘが６０°以下であることを特徴とする第１項に記載の積層体パネル。

３．前記被覆用樹脂材料が、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂及びアクリル樹脂から選ばれる樹脂であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の積層体パネル。

４．第１項から第３項までのいずれか一項に記載の積層体パネルを用いた太陽光反射用パネルであって、
前記金属含有層が、太陽光反射層であることを特徴とする太陽光反射用パネル。

５．少なくとも前記積層体で構成される非ガラス製フィルムミラーを有することを特徴とする第４項に記載の太陽光反射用パネル。

６．第１項から第３項までのいずれか一項に記載の積層体パネルを用いた量子ドットパネルであって、
前記積層体のうち、少なくとも１層が量子ドットを含有していることを特徴とする量子ドットパネル。

７．第１項から第３項までのいずれか一項に記載の積層体パネルを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子パネルであって、
前記積層体が、一対の電極と、当該一対の電極に挟持された発光層と、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子パネル。

８．第１項から第３項までのいずれか一項に記載の積層体パネルを製造する積層体パネルの製造方法であって、
前記積層体パネルの側面部に前記被覆用樹脂材料を塗布することで、連続した構造で積層体の側面を被覆する封止構造形成工程を有することを特徴とする積層体パネルの製造方法。

９．前記封止構造形成工程において、塗布される前記被覆用樹脂材料の粘度が、７０〜７０００Ｐａ・ｓの範囲内であることを特徴とする第８項に記載の積層体パネルの製造方法。

本発明の上記手段により金属を含有する層を有する積層体パネルであっても、耐洗浄性及び耐候性の良好な積層体パネルを提供することができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

図１に従来又は本発明の積層体パネルの平面図を示す。図３は、従来の積層体パネルにおけるＢ−Ｂ部の断面拡大図を示す。
本発明者は、図１に示すように、被覆用樹脂材料により連続した構造で前記積層体の側面を被覆する封止構造を有し、封止構造が、封止材重畳部を有する場合、図３に示すような、封止材重畳部Ｄに封止材がない、すなわち空隙部Ｓが存在する状況が発生し、この結果、耐候性が劣位になるおそれがあることを発見した。

上記おそれに対し、本発明者は、後述の図４に示すように、封止材重畳部における下層１３０ａが、前記積層体中心側の端部Ｅから積層体１２０の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加するよう、傾斜をつけることで、封止材重畳部Ｄに封止材がない、すなわち空隙部が存在する状況が発生することを回避できることを見いだした。
このような構成の積層体パネルであれば、上記空隙部が存在しないため、端部から反射層への酸素、水蒸気又は硫化水素等の浸入を抑制できる。この結果、本発明は、金属を含有する層を有する積層体パネルであっても、耐洗浄性及び耐候性を向上させることができたと推察する。

従来又は本発明の積層体パネルの平面図 従来の積層体パネルにおけるＡ−Ａ線断面図 従来の積層体パネルにおけるＢ−Ｂ線断面図 本発明の積層体パネルにおけるＢ−Ｂ線断面図 被覆方法１の被覆用樹脂材料塗工装置が有するノズルの概略外観図 本発明の積層体パネルにおけるＣ−Ｃ線断面図 被覆方法２に用いられる塗布装置の概略外観図 図７に示す塗布装置の８Ａ−８Ａ線概略断面図 太陽光反射用パネルを構成する太陽光反射層ユニットの層構成の一例を示す断面図 本発明に係る量子ドットパネルの一例を示す断面図 本発明に係る有機ＥＬ素子パネルにおける有機ＥＬ素子の一例を示す断面図

本発明の積層体パネルは、基材上に、少なくとも金属含有層を含む積層体を有する積層体パネルであって、前記積層体パネルの側面部に、被覆用樹脂材料により連続した構造で前記積層体の側面を被覆する封止構造を有し、前記封止構造が、封止材重畳部を有し、前記封止材重畳部における下層が、前記積層体中心側の端部から前記積層体の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加していることを特徴とする。この特徴は請求項１から請求項９までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。

本発明の実施態様としては、前記封止材重畳部における下層が、積層体中心側の端部から前記積層体の外側方向に少なくとも０．２５ｍｍにわたって、前記積層体の表面となす角度θの最大値θｍａｘが６０°以下であることが、耐洗浄性及び耐候性をより向上させることができるため好ましい。

前記被覆用樹脂材料が、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂及びアクリル樹脂から選ばれる樹脂であることが、耐洗浄性及び耐候性をより向上させることができるため好ましい。

本発明の積層体パネルは、金属含有層が太陽光反射層である太陽光反射用パネルに好適に採用でき、このような太陽光反射用パネルを太陽熱発電用反射装置に用いれば、耐洗浄性及び耐候性の良好な太陽熱発電用反射装置を提供でき、この結果、発電効率のよい太陽熱発電用反射装置を提供できるため好ましい。
なお、上記太陽光反射用パネルとしては、少なくとも本発明に係る積層体で構成される非ガラス製フィルムミラー（樹脂製ミラー）を有する太陽光反射用パネルであることが、耐洗浄性及び耐候性を向上させつつ、建設費も抑えることができ好ましい。

また、本発明の積層体パネルは、少なくとも１層が量子ドットを含有している積層体を有する量子ドットパネル、一対の電極と、当該一対の電極に挟持された発光層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子パネルに好適に採用できる。

本発明の積層体パネルの製造方法としては、積層体パネルの側面部に前記被覆用樹脂材料を塗布することで、連続した構造で積層体の側面を被覆する封止構造形成工程を有する積層体パネルの製造方法であることが好ましい。
また、前記封止構造形成工程において、塗布される前記被覆用樹脂材料の粘度が、７０〜７０００Ｐａ・ｓの範囲内であることが、耐洗浄性及び耐候性がより向上した積層体パネルを製造する方法を提供でき、好ましい。

以下、本発明とその構成要素及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

《積層体パネルの基本構成》
本発明の積層体パネルは、基材上に、少なくとも金属含有層を含む積層体を有する積層体パネルであって、前記積層体パネルの側面部に、被覆用樹脂材料により連続した構造で前記積層体の側面を被覆する封止構造を有し、前記封止構造が、封止材重畳部を有し、前記封止材重畳部における下層が、前記積層体中心側の端部から前記積層体の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加していることを特徴とする。

《封止構造》
図１は、従来又は本発明の積層体パネルの平面図である。
封止構造１３０ａ及び１３０ｂは、積層体パネルの端部において、積層体１２０が露出する面（側面）を、被覆用樹脂材料により連続した構造で被覆する。封止構造１３０ａ及び１３０ｂは、積層体パネルの耐候性を向上させる。

従来の積層体パネルにおけるＡ−Ａ線部の断面は、図２に示すようになっている。
従来の積層体パネルにおけるＢ−Ｂ線部の断面は、図３に示すようになっている。
上述のように、本発明者は、従来の積層体パネルにおいては、図３に示すように、封止構造が積層した封止重畳部Ｄには封止材がない、すなわち空隙部Ｓが存在する状況が発生し、この結果、耐候性が劣位になることを突き止めた。

このような従来の積層体パネルに対し、本発明の積層体パネルは、Ｂ−Ｂ線部における断面が図４に示すようになっている。
すなわち、封止材重畳部Ｄにおいて下層である封止構造１３０ａが、積層体１２０中心側の端部Ｅから積層体１２０の外側方向に、層厚が連続して増加している。この増加の距離をＷ_２５とする。
本発明においては、このＷ_２５が、少なくとも０．２５ｍｍ以上であることを特徴とする。
このような封止構造１３０ａであれば、封止構造１３０ｂを形成する際に、空隙が発生することなく、封止材重畳部Ｄを形成できると推察する。

さらに、封止材重畳部Ｄにおいて下層である封止構造１３０ａが、積層体１２０中心側の端部Ｅから積層体の外側方向に少なくとも０．２５ｍｍにわたって、積層体１２０の表面となす角度θの最大値θｍａｘが６０°以下であれば、より空隙を発生させることを抑えながら封止材重畳部Ｄを形成できると推察する。なお、このような観点から、θｍａｘは、６０°であることが好ましいが、更に好ましくは４５°以下であり、より好ましくは３０°以下である。

Ｗ_２５の測定方法について説明する。
まず、キーエンス社製の超高速インラインプロファイル測定器ＬＪ−Ｖを用い、積層体パネルの側面（端部）の位置検出と、積層体パネルの表面の高さ検出とを同時に測定し、積層体表面からの高さ（封止材重畳部Ｄにおいて下層となる、封止構造の厚さ）が０．０１ｍｍとなったところを封止材重畳部の中心側端部ｘ_１（図４に示すＥ）とみなす。次に、中心側端部ｘ_１から積層体の外側方向に向けて０．０１ｍｍごとにｘ_２、ｘ_３・・・ｘ_ｋ・・・とする。『ｘ_ｋ』から『ｘ_ｋ＋０．０５ｍｍ』あたりの膜厚増加をΔｔ_ｘとして、Δｔ_ｘ／０．０５が０．１７以下になったｘ_ｋをもう一方の端部ｘ_ｎとする。
次に、封止材重畳部Ｄにおいて下層となる封止構造の全長にわたって５ｍｍの間隔で、『ｘ_ｎ−ｘ_１』を計算し、その平均を距離Ｗ_２５とする。

また、θｍａｘの測定方法は、キーエンス社製の超高速インラインプロファイル測定器ＬＪ−Ｖを用い積層体パネルの側面（端部）の位置検出と、積層体パネルの表面の高さ検出とを同時に測定し、積層体表面からの高さ（封止材重畳部Ｄにおいて下層となる、封止構造の厚さ）を０．０５ｍｍピッチで上記距離Ｗ_２５となるまで測定した値の微分値より、傾きを算出し、当該傾きからθ及びその最大値θｍが算出できる。
このようなθｍを封止材重畳部Ｄにおいて下層となる封止構造の全長にわたって５ｍｍの間隔で算出し、その平均値をθｍａｘとする。

［被覆用樹脂材料］
本発明に係る被覆用樹脂材料としては、特に制限はないが、形成の容易性、ガス遮断性、耐久性などの観点から、硬化性樹脂、例えば、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、などから適宜選択して用いることができる。

熱硬化性樹脂としては、例えば、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂などが挙げられる。

活性エネルギー線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂などが挙げられる。

熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂などが挙げられる。

より具体的には、被覆用樹脂材料として、ペースト状のシリコーンシーラント（信越化学工業株式会社製 信越シリコーン ＫＥ−４５−Ｇ）、粘度が１０Ｐａ・ｓのエポキシ樹脂（スリーボンド社製２０８１Ｄ）、２５℃で粘度が３００〜６００Ｐａ・ｓの範囲内のウレタン樹脂（エムシー工業社製ハイブレン ＸＬＬ−６０５１Ａ）などを用いることができる。

［封止構造の形成方法］
上述のような被覆用樹脂材料からなる封止構造１３０は、積層体パネルの側面部に被覆用樹脂材料を塗布することで、連続した構造で積層体の側面を被覆する封止構造形成工程によって、形成されることが好ましい。
被覆用樹脂材料により被覆する方法としては、具体的な例を以下に説明する。なお、以下の説明においては、積層体１２０と基材１１０とは、長尺方向の長さが同じものであり、さらに、積層体１２０及び基材１１０は長尺方向の側面が面一になっているものとする。また、積層体１２０の短尺方向の長さは、基材１１０の短尺方向の長さよりも短く、短尺方向における積層体１２０の両端は、基材１１０よりも内側にあるものとする。
また、本発明に係る被覆用樹脂材料の被覆方法は、これに限定されず、本発明の効果を阻害しないものであれば公知のものを好適に採用できる。

［被覆方法１］
図５は、被覆用樹脂材料塗工装置が有するノズルの概略外観図である。被覆用樹脂材料塗工装置は、被覆用樹脂材料を基材１１０及び積層体１２０の表面に直接塗布する押出塗布装置である。したがって、被覆用樹脂材料塗工装置２２０は、被覆用樹脂材料を噴射するノズル２２１を有している。そして、塗布対象（積層体１２０が貼合された状態の基材１１０）をコンベアなどによってノズル２２１直下で搬送させることによって、図１、図６（本発明の積層体パネルにおけるＣ−Ｃ線断面図）に示すように被覆用樹脂材料を塗布することで、連続した構造で積層体の側面を被覆する封止構造１３０ｂを形成できる。ノズル２２１としては、図５に示すような、先端が平坦形状のノズルを用いることができる。

［被覆方法２］
被覆方法１は、基材１１０の上面端部周辺と、積層体１２０の側面とに被覆用樹脂材料を塗布する方法であったが、以下に説明する塗布装置２００を用いた、基材１１０と積層体１２０との側面に被覆用樹脂材料を塗布するような、被覆方法２であってもよい。

基材１１０と積層体１２０との端部（側面）に対し、被覆用樹脂材料を塗布する塗布装置２００について説明する。

図７（ａ）は、塗布装置の概略外観図であり、図７（ｂ）は、塗布装置の概略外観図における要部Ｉの拡大図である。

図７に示す塗布装置２００は、基材１１０及び積層体１２０の側面から、積層体１２０の露出している表面上にわたって、同時かつ直接的に被覆用樹脂材料を塗布するエクストルージョン方式（押し出し方式）の塗布装置である。

塗布装置２００は、図７に示すように、上ブロック２１０と、プレート２１１と、中ブロック２１２と、下ブロック２１３とを有する。下ブロック２１３、プレート２１１、中ブロック２１２、上ブロック２１０の順に重ねられる。プレート２１１及び中ブロック２１２が、上ブロック２１０と下ブロック２１３により挟み込まれて、不図示のネジによって締結されている。

上ブロック２１０は、被覆用樹脂材料を注入するための注入口２１４を有する。

プレート２１１及び中ブロック２１２は、図７に示すように重ねて配置されて、ノズル２１５を形成する。ノズル２１５は、注入口２１４から注入された被覆用樹脂材料を、塗布対象（基材１１０及び積層体１２０）に向けて吐出するための吐出口を有する。被覆用樹脂材料を塗布対象に塗布する際には、ノズル２１５から被覆用樹脂材料を吐き出しつつ、ノズル２１５の直下において塗布対象を搬送させればよい。これにより、図７に示すように、塗布対象の縁部が封止構造１３０によって被覆される。なお、塗布対象の搬送は、不図示の駆動装置によって制御される。

また、図８に示すように、ノズル２１５を、図７の８Ａ−８Ａ線に沿ってみると、積層体１２０の上面に当接する部分がお椀状に切り抜かれたような凹部２１８を有する。凹部２１８の幅は、被覆用樹脂材料の塗布幅に略等しくして、被覆用樹脂材料の塗布幅が安定化するようにしていることが好ましい。

また、ノズル２１５においては、積層体１２０上の空間（すなわち、凹部２１８）と、基材１１０及び積層体１２０側面の空間（すなわち、間隙部２１９）とが連結している。そのため、図８に示すようなＬ字型に被覆用樹脂材料を塗布でき、これにより、Ｌ字型の封止構造１３０ａを形成できる。

［封止材重畳部における下層の形状の形成方法］
封止材重畳部における下層を、積層体中心側の端部から積層体の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加するよう形成する方法は、特に限定されず、公知の方法であってよい。
例えば、被覆用樹脂材料塗布用のノズルの形状を規定する方法、被覆後成型用ノズルで形状を規定する方法又は被覆後機械的に研削する等公知の手段で達成できるが、被覆用樹脂材料の形状を安定して長時間成型できるよう、ノズルの形状を規定する方法が好ましく用いられる。
具体的には、上記被覆方法２における、塗布装置２００の凹部２１８の形状を、積層体中心側の端部から積層体の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加するよう形成することで、実現できる。このような方法によれば、例えば、付着した被覆用樹脂が次の積層体パネルに付着して故障の要因になることや、研削により飛散した材料で故障の要因となる可能性を回避できる。

［積層体］
本発明に係る積層体としては、基材上に、少なくとも金属含有層を含む積層体であれば特に限定されず、例えば、金属含有層が太陽光反射層である積層体であってもよく、また、少なくとも１層が量子ドットを含有している積層体や、一対の電極と当該一対の電極に挟持された発光層とを有するような積層体であってもよい。

以下、本発明の積層体パネルを用いた太陽光反射用パネルを具体例として、本発明について、詳細に説明する。

《太陽光反射用パネルの基本構成》
本発明の積層体パネルを用いた太陽光反射用パネルは、基材上に、少なくとも金属含有層として、太陽光反射層を有する。

太陽光反射用パネルは、基材１１０上に、積層体１２０として、図９に示すような太陽光反射ユニット３を有する構成である。

太陽光反射用パネルに使用される基材１１０としては、樹脂基材が好ましく適用されているが、太陽光反射用パネルに剛性を付与する目的からは、粘着層や接着層を介して、ガラス基材又は金属基材と貼り合わせて適用することもできる。

太陽光反射用パネルの端部においては、太陽光反射層ユニット３の断面部（側面）が露出した状態にあり、外部環境からの酸素、水蒸気又は硫化水素等の有害ガスにより、太陽光反射層ユニット３を構成している金属、例えば、銀膜等が腐食する恐れがある。

本発明に係る太陽光反射用パネルは、本発明の積層体パネルを用いているため、上述のような封止構造１３０を有する。
これにより、上述したような、外部環境からの酸素、水蒸気又は硫化水素等の有害ガスにより、太陽光反射層ユニット３を構成している金属、例えば、銀膜等が腐食する恐れを回避できる。

《太陽光反射層ユニットの基本構成》
本発明に係る太陽光反射層ユニット３は、基材としてガラス板、金属板等が用いられた板状ミラーであることもできるが、後述するような、基材として樹脂フィルムが用いられた非ガラス製フィルムミラーであることが好ましい。非ガラス製フィルムミラーは、可撓性が高いため、太陽熱発電装置に用いる際に、太陽光を集光する位置に合わせて曲面状等に変形させることができる。
なお、非ガラス製フィルムミラーとは、一般的なガラスを含有しないフィルムミラーのことである。
ここで、一般的なガラスとは、一般的に鏡に使用される公知のガラスであり、特に限定されないが、材質としては、例えば、アモルファスガラス、ガラスセラミクス（結晶化ガラス）や化学強化ガラスであり、材料としては、例えば、ホウケイ酸ガラスや、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス等を使用したものが挙げられる。
図９に、本発明に係る積層体１２０で構成される、非ガラス製フィルムミラーである太陽光反射層ユニット３の層構成の一例を示す。

本発明に係る太陽光反射層ユニット３の好ましい基本構成としては、金属含有層である太陽光反射層６の上に、各機能層として、当該太陽光反射層６に含有される金属の腐食防止を目的とした腐食防止層７、接着層８及び紫外線吸収層（ＵＶ吸収層）９が積層されている。紫外線吸収層９は、紫外線による太陽光反射層６や基材１１０へのダメージを抑制するため、紫外線吸収剤を含有するほか、ＨＡＬＳ剤を含有するアクリル樹脂フィルムや紫外線反射多層膜等が適用される。

また、太陽光反射層６の裏面側には、アンダーコート層１０を設けることができる。

上記のような構成において、本発明では、少なくとも基材１１０及び太陽光反射層ユニット３（積層体）から構成され、封止構造１３０を設ける前のものを、「ミラーパネルユニット」と定義し、この「ミラーパネルユニット」に封止構造１３０を形成したもの、又は「ミラーパネルユニット」を、接着層を介して金属基板上に貼合した後、封止構造１３０を形成したものを「太陽光反射用パネル（積層体パネル）」と定義する。

〔基材〕
本発明に係る太陽光反射用パネルに適用可能な基材１１０としては、太陽光反射層等を含む太陽光反射層ユニット３（積層体１２０）を保持することができる材料であれば特に制限はなく、例えば、ガラス基材、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。好ましく用いられる透明な基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい基板は、可撓性を与えることが可能な樹脂フィルムである。

本発明に係る基材として好適な樹脂フィルムとしては、従来公地の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。

特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、これらのフィルムは、溶融流延製膜法で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜法で製造されたフィルムであってもよい。

樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内であり、好ましくは２０〜２００μｍ、更に好ましくは３０〜１００μｍの範囲内である。

〔太陽光反射層ユニット３〕
本発明に係る太陽光反射層ユニット３としては、図９に示すような、ミラーとしての役割を果たす太陽光反射層６を有し、そのほかに様々な特性を備えた機能層により構成されている。

（太陽光反射層６）
本発明に係る太陽光反射層６（以下、単に「反射層」ともいう。）は、太陽光を反射する機能を有する金属からなる反射層である。太陽光反射層の表面反射率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。太陽光反射層は太陽光入射側（表面側）にあっても、その反対側（裏面側）にあってもよいが、基材、特に樹脂基材が、太陽光線により劣化してしまうことを防止する目的から、光入射側に配置することが好ましい。

太陽光反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍの範囲内が好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍの範囲内である。反射層の厚さが１０ｎｍ以上であれば、光を透過してしまうことがなく、フィルムミラーの可視光領域での反射率を十分確保できるため好ましい。また、２００ｎｍ以下であれば、厚さに比例して反射率も大きくなる。ただし、厚さが２００ｎｍ以上になると、反射率は厚さに依存しない。

太陽光反射層の表面粗さＲａは、０．０１〜０．１μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．０２〜０．０７μｍの範囲内である。太陽光反射層の表面粗さＲａが０．０１μｍ以上であるため、その粗さに起因してフィルムミラー表面も粗くなり、フィルムミラーの生産段階において、連続的に製膜するロール・ｔｏ・ロール方式を用いた場合でも、フィルムミラーの太陽光反射層とその入射光側の隣接層におけるブロッキングなどの貼りつきを防止することができる。また、表面が粗くなると反射光が散乱する恐れがあるが、太陽光反射層を有するフィルムミラーは凹面状の形状を有しているので、表面粗さＲａが０．１μｍ以下であればフィルムミラーを凹面状の形状にすることによって反射効率の低下を防止することができる。

太陽光反射層は、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタン、マグネシウム、ロジウム、プラチナ、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、ビスマス及び金から選ばれる元素を含む材料で形成されることが好ましい。中でも、反射率及び耐食性の観点からアルミニウム又は銀を主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を２層以上形成するようにしてもよい。そうすることにより、フィルムミラーの可視光領域から赤外域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。可視光領域から赤外域とは、４００〜２５００ｎｍの波長領域を意味する。ここでいう入射角とは、膜面に対して垂直な線（法線）に対する角度を意味する。

本発明においては、太陽光反射層としては、特に、銀を主成分とする銀反射層とすることが好ましい。

本発明に係る太陽光反射層の形成方法としては、湿式法及び乾式法のどちらも適用することができる。

本発明でいう太陽光反射層の形成に用いる湿式法とは、一般的にいわれているめっき法であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例としては、銀鏡反応等が挙げられる。

一方、本発明でいう太陽光反射層の形成に用いる乾式法とは、その代表例が真空成膜法であり、具体的な方法としては、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等が挙げられる。特には、連続的に成膜するロール・ｔｏ・ロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明においては、太陽光反射層、例えば、銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する製造方法が好ましい態様である。

（腐食防止層７）
本発明に係る太陽光反射層ユニットには、太陽光反射層の腐食を防止する目的から、図９に示すような腐食防止層７を設けることが好ましい。

図９に示すように、腐食防止層７は、太陽光反射層６に隣接して設けられることが好ましい。特に、太陽光反射層６が銀反射層である場合に腐食防止層７を設けることが好ましい。さらには、腐食防止層７が太陽光反射層６に対し光入射側に隣接して設けられている構成であることがより好ましい。また、太陽光反射層の両側に腐食防止層を設けてもよい。

腐食防止層は、腐食防止剤を含有している。腐食防止剤としては、大別して、金属、特に銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と、酸化防止機能を有する腐食防止剤（酸化防止剤ともいう）が好ましく用いられる。腐食防止層は、金属、特に銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤の少なくとも一方を含有していることが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ Ｚ０１０３−２００４参照）。

腐食防止層には、腐食防止剤を保持するバインダーとして樹脂を用いることができる。例えば、以下の樹脂を用いることができる。ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、セロファン系、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル系、ポリ塩化ビニリデン系、ポリビニルアルコール系、エチレンビニルアルコール系、シンジオタクティックポリスチレン系、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン系、ポリエーテルケトン系、ポリエーテルケトンイミド系、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂、ナイロン系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル系樹脂が好ましい。腐食防止層は、厚さが３０ｎｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。

なお、腐食防止層における腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ^２の範囲内であることが好ましい。

次に、腐食防止剤の詳細について説明する。

〈腐食防止剤〉
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系化合物の少なくとも１種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。

これらの化合物については、特開２０１３−２４５８４９号公報段落（０１０８）〜（０１１８）に記載の化合物を好ましく用いることができる。

（接着層８）
図９に例示した接着層８は、腐食防止層７と紫外線吸収層９との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。

接着層８の層厚は、密着性、平滑性、太陽光反射層の反射率等の観点から、０．０１〜１０．０μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは０．１〜６．０μｍの範囲内である。

接着層が樹脂により形成される場合、樹脂材料（バインダー）としては、上記の密着性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましい。一方、イソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂もより好ましい接着剤の一つである。本発明における接着層の形成方法としては、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のウェットコーティング方式が適用できる。

接着層が金属酸化物により構成される場合、例えば、酸化シリコーン、酸化アルミニウム、窒化シリコーン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等により構成される層を、各種真空製膜法により製膜することができ、更に詳しくは、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などによって形成できる。

（紫外線吸収層９）
紫外線吸収層には、太陽光や紫外線による太陽光反射用ミラーの劣化を防止する目的で紫外線吸収剤を含有している。紫外線吸収層は、基材よりも光入射側に設けることが好ましく、図９に示すように、腐食防止層を有する場合はその腐食防止層よりも光入射側に設けることが好ましい。

紫外線吸収層には、紫外線吸収剤を保持するバインダーとして樹脂を用いることができる。例えば、以下の樹脂を用いることができる。ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、セロファン系、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル系、ポリ塩化ビニリデン系、ポリビニルアルコール系、エチレンビニルアルコール系、シンジオタクティックポリスチレン系、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン系、ポリエーテルケトン系、ポリエーテルケトンイミド系、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂、ナイロン系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル系樹脂が好ましい。なお、紫外線吸収層の層厚は、１〜２００μｍの範囲内であることが好ましい。

また、太陽光反射層ユニット３に紫外線吸収層９を設ける以外に、基材１１０よりも光入射側に設けられた構成層のうちのいずれか１層に上記紫外線吸収剤を更に添加し、紫外線吸収能を付与する構成であってもよい。また、後述する最表層側に配置されるハードコート層中に紫外線吸収剤を添加する方法も好ましい。

紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられ、また無機系紫外線吸収剤として、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。

サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、例えば、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。

トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。

また、紫外線吸収剤としては、上記以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギーとして放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤又は着色剤等との併用により効果を発現するもの、又はクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。ただし、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。

通常の紫外線吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収層９又は紫外線吸収剤を添加する層の全質量に対し、０．１〜２０質量％の範囲内、好ましくは１〜１５質量％の範囲内、より好ましくは３〜１０質量％の範囲内である。使用量をこれらの範囲内にすることで、他の構成層との密着性を良好に保ちつつ、耐候性を向上させることが可能となる。

（アンダーコート層１０）
図９に示すようなアンダーコート層１０は、バインダーとしての樹脂を有し、基材１１０と太陽光反射層６とを密着させるために設けられる層である。したがって、アンダーコート層１０は、基材１１０と太陽光反射層６とを密着させるための密着性、太陽光反射層を真空蒸着法等で形成する時の処理温度にも耐え得る耐熱性及び太陽光反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性等の機能を有していることが要求される。

アンダーコート層の形成に使用される樹脂は、上記の密着性、耐熱性及び平滑性の要求される品質を達成することができるものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂又はポリエステル系樹脂とアクリル系樹脂の混合樹脂が好ましい。また、イソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすることも好ましい仕様の一つである。

アンダーコート層の層厚は、０．０１〜３．０μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは０．１〜２．０μｍの範囲内である。この層厚条件を満たすことにより、密着性を保ちつつ、例えば、樹脂フィルム基材表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好に保つことができ、アンダーコート層の硬化も十分に行えるため、結果としてフィルムミラーとしての反射率を高めることが可能となる。

また、アンダーコート層には、上記腐食防止層で用いる腐食防止剤を含有させることが好ましい。

なお、アンダーコート層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のウェットコーティング方法が使用できる。

（その他の構成層）
上記説明した各機能層のほかに、例えば、ガスバリアー層、防汚層や帯電防止層等を、本発明の目的効果を損なわない範囲で、設けても良い。

本発明において、ガスバリアー層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のガスバリアー層を設けることができる。本発明においては、太陽光反射層６の上側に、ガスバリアー層を設ける構成が好ましい。

〔ハードコート層〕
本発明に係る太陽光反射層においては、屋外に設置されるフィルムミラー表面の汚れや傷を防止する目的で、フィルムミラーの最表面に、金属−酸素−金属結合を骨格として有するメタロキサン骨格を有するポリマーを含有するハードコート層を設けることが好ましい態様である。当該メタロキサン骨格を有するポリマーは、耐光性及び耐候性に優れた効果を発現する。

従来の太陽光反射用パネルにおいては、ハードコート層の構成材料と封止構造との間の密着性が低い場合があり、被覆用樹脂材料を均一に付与することは難しかった。

メタロキサン骨格を有する材料を含有するハードコート層は、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミ等のポリメタロキサン、又はポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、下記一般式（１）で表される構造を有するポリシロキサン等を塗布乾燥して形成することができる。

式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ｐは、１以上の整数である。

ハードコート層としては、太陽光反射層よりも光源側の最外側に配置され、水に対する接触角が８０〜１７０°の範囲内であり、動摩擦係数が０．１０〜０．３５の範囲内であることが好ましい。

フッ素化合物及びケイ素化合物の混合ガス、またフッ素及びケイ素を有する化合物を用いた蒸着により、表面エネルギーを低くし、ハードコート層の水に対する接触角を上記で規定する範囲内とすることができる。

また、最表層においては、耐傷性を向上する観点から、動摩擦係数としては０．１０〜０．３５の範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．１５〜０．２５の範囲である。

上記ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミ等のポリメトキサン、ポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、ポリシロキサン等を用いることで、フィルム表面同士の動摩擦係数を上記で規定する範囲内に制御することができる。

上記水に対する接触角は、協和界面科学製接触角ＣＡ−Ｗを用い、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、３μＬの水滴をミラーパネルユニット表面に滴下して測定できる。また、上記動摩擦係数は、新東科学社製表面性測定機（ＨＥＩＤＯＮ−１４Ｄ）を用い、試料台に最表層を上にして１枚のミラーパネルユニットを貼り付け、圧子に他の１枚の同じミラーパネルユニットを取付け、２枚のミラーパネルユニットの最表面同士が接触するように重ね合わせ、その上に約１６０ｇ／ｃｍ^２の荷重を加えて、３ｍ／ｍｉｎの速度で１０回往復摺動させ、１０往復の平均動摩擦係数として算出することができる。

（ミラーパネルユニットの厚さ）
ミラーパネルユニット全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取扱い性等の観点から、７５〜２５０μｍの範囲内であることが好ましく、更に好ましくは９０〜２３０μｍの範囲内であり、特に好ましくは１００〜２２０μｍの範囲内である。

《太陽光反射用パネル》
本発明に係る太陽光反射用パネルは、主には、太陽光を集光する目的で使用することができる。太陽光反射用パネルとしては、好ましくは太陽光反射用パネルの光入射側から見て最下層に粘着層を形成し、他の基材上、特に金属基材上に、封止した太陽光反射用パネルを貼り付けたのち、封止構造を付与して太陽光反射用パネルとして用いることである。

太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められるため、本発明に係る太陽光反射用パネルが特に好適に用いられる。

〈粘着層〉
粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。

例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。

ラミネート方法は特に制限されず、例えば、ローラー式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。

粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。

〈金属基材〉
本発明に係る太陽光反射用パネルを、接着層を介して貼り付けて太陽光反射用ミラーを保持する際に用いることのできる金属基材としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、スズめっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。

本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板等にすることが好ましい。

［太陽熱発電用パネル以外の積層体パネルの用途］
本発明に係る封止構造は、量子ドットフィルム（以下量子ドット）や有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」ともいう。）にも好ましく適用できる。

＜量子ドットパネル＞
本発明の積層体パネル１は、量子ドットパネルに好適に採用できる。
本発明に係る量子ドットパネルにおいては、積層体のうち、少なくとも１層が量子ドットを含有している。

このような量子ドットパネルは、特に限定されず、公知のものを使用でき、例えば、特表２０１３−５４４０１８号公報に記載の量子ドットフィルムを積層体とする量子ドットパネルに好適に使用できる。

図１０に、本発明の積層体パネル１を採用した量子ドットパネルにおける量子ドットフィルム７００の一例を示す。
量子ドットフィルム７００は、上述のように、少なくとも１層が量子ドットを含有している。
図１０に示す例では、底部反射バリアーフィルム７０８に、導光パネル７０６（ＬＧＰ）が積層され、その上に、底部バリアー７２２と上部バリアー７２０に挟持された量子ドット含有層を有する。
このような量子ドットパネルについては、例えば、特表２０１３−５４４０１８号公報に記載のものを使用できる。なお、図１０に示す例では、量子ドット含有層が、本発明に係る金属含有層となりうる。

以下に、本発明に係る量子ドットフィルムの主要な構成要素である量子ドットについて、説明する。

（量子ドット）
一般に、ナノ・メートルサイズの半導体物質で量子閉じ込め（ｑｕａｎｔｕｍ ｃｏｎｆｉｎｅｍｅｎｔ）効果を示す半導体ナノ粒子は、「量子ドット」とも称されている。このような量子ドットは、半導体原子が数百個から数千個集まった１０数ｎｍ程度以内の小さな塊であるが、励起源から光を吸収してエネルギー励起状態に達すると、量子ドットのエネルギーバンドギャップに相当するエネルギーを放出する。

したがって、量子ドットは、量子サイズ効果によりユニークな光学特性を有することが知られている。具体的には、（１）粒子のサイズを制御することにより、様々な波長、色を発光させることができる。（２）吸収帯が広く、単一波長の励起光で様々なサイズの微粒子を発光させることができる。（３）蛍光スペクトルが良好な対称形である。（４）有機色素に比べて耐久性、耐退色性に優れる、といった特徴を有する。

本発明に係る量子ドット含有層が含有する量子ドット（以下、「ＱＤ」ともいう。）は公知のものであってもよく、当業者に既知の任意の方法を使用して生成することができる。例えば、好適なＱＤ及び好適なＱＤを形成するための方法には、米国特許第６２２５１９８号、２００１年１０月４日に出願された米国特許出願公開第２００２／００６６４０１号、米国特許第６２０７２２９号、同第６３２２９０１号、同第６９４９２０６号、同第７５７２３９３号、同第７２６７８６５号、同第７３７４８０７号、２００５年１２月９日に出願された米国特許出願第１１／２９９２９９号、及び米国特許第６８６１１５５号に記載のものが挙げられる。

本発明に係るＱＤは、任意の好適な材料、好適には無機材料、及びより好適には無機導体又は半導体材料から生成される。好適な半導体材料には、II−VI族、III−Ｖ族、IV−VI族、及びIV族の半導体を含む、任意の種類の半導体が含まれる。好適な半導体材料には、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｂ、Ｃ（ダイアモンドを含む）、Ｐ、ＢＮ、ＢＰ、ＢＡｓ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＳｅＺｎ、ＣｄＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＢｅＳ、ＢｅＳｅ、ＢｅＴｅ、ＭｇＳ、ＭｇＳｅ、ＧｅＳ、ＧｅＳｅ、ＧｅＴｅ、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＯ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、ＣｕＦ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｇｅ_３Ｎ_４、Ａｌ_２Ｏ_３、（Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ）_２（Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ）_３、Ａｌ_２ＣＯ、及び二つ以上のこのような半導体の適切な組合せが含まれるが、これらに限定されない。

＜有機エレクトロルミネッセンス素子パネル＞
本発明の積層体パネル１は、有機エレクトロルミネッセンス素子パネル（以下、「有機ＥＬパネル」ともいう。）に好適に採用できる。
本発明に係る有機ＥＬパネルにおいては、積層体１２０が、一対の電極と、当該一対の電極に挟持された発光層と、を有する。

本発明の積層体パネル１を採用した有機エレクトロルミネッセンス素子パネルにおける有機ＥＬ素子３００（積層体１２０）の一例を図１１に示す。
有機ＥＬ素子３００は、図１１に示すように、有機ＥＬ層３０２が陽極３０１及び陰極３０３に挟持されてなる。なお、図１１に示す例では、陽極３０１及び陰極３０３が、本発明に係る金属含有層となる。

このような有機ＥＬ素子としては、特に限定されず、公知のものを使用でき、例えば、特開２００７−３１７６７１号公報の段落０１２５〜０１５０に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子などを好適に使用できる。

以下に、本発明に係る有機ＥＬ素子の主要な構成要素について、説明する。

（陽極）
有機ＥＬ表示素子における陽極３０１は、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはＡｕなどの金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ_２、ＺｎＯなどの導電性透明材料が挙げられる。

上記陽極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、又はパターン精度を余り必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、また、陽極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。

（陰極）
有機ＥＬ表示素子の陰極としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する）、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属などが挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化などに対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えばマグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）混合物、リチウム／アルミニウム混合物などが好適である。上記陰極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法により、薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。なお、発光を透過させるため、有機ＥＬ表示素子の陽極又は陰極のいずれか一方が、透明又は半透明であれば発光効率が向上し好都合である。

（発光層）
発光層に用いられる発光材料の種類については特に制限はなく、従来有機ＥＬ表示素子における発光材料として公知のものを用いることができる。このような発光材料は主に有機化合物であり、所望の色調により、例えば、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．１２５巻１７頁から２６頁に記載の化合物が挙げられる。

発光材料は発光性能のほかに、正孔注入機能や電子注入機能を併せ持っていても良く、正孔注入材料や電子注入材料のほとんどが発光材料としても使用できる。

発光材料はｐ−ポリフェニレンビニレンやポリフルオレンのような高分子材料でも良く、更に前記発光材料を高分子鎖に導入した、又は前記発光材料を高分子の主鎖とした高分子材料を使用しても良い。

また、発光層にはドーパント（ゲスト物質）を併用してもよく、有機ＥＬ表示素子のドーパントとして使用される公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。

ドーパントの具体例としては、例えばキナクリドン、ＤＣＭ、クマリン誘導体、ローダミン、ルブレン、デカシクレン、ピラゾリン誘導体、スクアリリウム誘導体、ユーロピウム錯体等がその代表例として挙げられる。また、イリジウム錯体（例えば特開２００１−２４７８５９号公報明細書に挙げられるもの、又はＷＯ００／０７０６５５号１６〜１８ページに挙げられるような式で表される例えばトリス（２−フェニルピリジン）イリジウム等）やオスミウム錯体又は２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィリン白金錯体のような白金錯体もドーパントとして挙げられる。

その他、有機ＥＬ素子を構成する層は、特に限定されず、公知のものを使用でき、例えば、特開２００７−３１７６７１号公報に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子を構成する層を有していてもよい。

なお、本発明を適用可能な実施形態は、上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。

例えば、上述の実施の形態では、基材１１０上に、積層体１２０を有する構成の積層体パネル１の周辺部の側面部及び上面端部の全領域に対し封止構造１３０を形成した例を示したが、さらに、積層体パネル１を、例えば、粘着層を介して金属基材上に貼り付けた後に、その周辺部に封止構造１３０を形成する構成であってもよい。

また、上述の被覆方法２では、積層体１２０及び基材１１０の側面部の全領域、積層体１２０の上面端部に対し、Ｌ字型の封止構造１３０を形成する態様を例として説明したが、本発明に係る封止構造１３０はこのような態様に限定されず、全ての側面部と、上面端部及び下面端部に対し、コ字型の封止構造１３０を形成する態様であってもよい。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。

本実施例では、本発明の積層体パネルを、太陽光反射層パネルに用いた。
当該実施例では、太陽光反射ミラーを設置し表１に記載の条件で、耐候性、耐洗浄性評価を行った。なお、各実施例及び比較例における被覆用樹脂材料については表１に記載のとおりである。
太陽光反射ミラーの構成は、下記のとおりである。

［ミラーパネルユニットの製造］
２軸延伸により得られた厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムという。）の片面に、厚さ０．１μｍのアンカー層を形成した。アンカー層は、ポリエステル系樹脂であるエスペル９９４０Ａ（日立化成株式会社製）、メラミン樹脂、ジイソシアネート架橋剤であるトリレンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシアネート（三井化学ファイン株式会社製）を、それぞれ２０：１：１：２の質量比で混合した樹脂を、グラビアコート法により塗布して形成した。
次に、銀を用いて真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの太陽光反射層（金属含有層）を形成した。

上記太陽光反射層上に、腐食防止層の塗布液をグラビアコート法により塗布して、厚さ０．１μｍの腐食防止層を形成した。塗布液は、エスペル９９４０Ａ及びトリレンジイソシアネートをそれぞれ１０：２の樹脂固形分比率（質量比）で混合した樹脂中に、樹脂固形分に対して１０質量％のＴｉｎｕｖｉｎ２３４（ＢＡＳＦジャパン社製）を、腐食防止剤として添加して調製した。

次に、腐食防止層上に、ビニロール９２Ｔ（アクリル樹脂接着剤、昭和高分子社製）を厚さ０．１μｍの厚さで塗布して、アンカー層を形成した。当該アンカー層上に溶液流延法により成膜したアクリル樹脂フィルムを積層し、紫外線吸収層とした。紫外線吸収層の表面の算術平均粗さＲａは０．１μｍであり、層厚は５０μｍであった。

次に、エタノール、イソプロピルアルコール及びメタノールをそれぞれ１０：６０：３０の質量混合比で混合した溶媒中に、テトラエトキシシランを１質量％で添加して混合し、更に１質量％の酢酸水溶液を０．３質量％添加して、無機コート層の塗布液を調製した。調製した塗布液を、ダイコート法により乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように上記紫外線吸収層上に塗布し、無機コート層を形成した。さらに、当該無機コート層と同じ塗布液に平均粒径５０ｎｍのシリカ（ＳｉＯ_２）粒子を１質量％分散させた分散液を無機コート層上に塗布し、親水性層を形成した。塗布時、乾燥後の膜厚が８０ｎｍとなるようにダイコート法により塗布し、各実施例で使用されるミラーパネルユニットを製造した。厚さ０．４ｍｍのアルミ板に前記ミラーパネルユニットを貼合し、ペーパーハニカム１２ｍｍとアルミ板０．４ｍｍとを接着剤を用いて接合した。ミラーパネルユニットのサイズは幅１７００ｍｍ×長さ１５００ｍｍとし、前記ミラーパネルユニットを幅手７枚×長手４枚に並べたものを一体とした。

［実施例１］
［被覆用樹脂材料による封止］
一体となった、上記ミラーパネルユニットに、被覆用樹脂材料を塗布することで、連続した構造で積層体の側面を被覆する封止構造を形成し、実施例１の太陽光反射用パネルとした。
なお、封止構造の形成は、所望のＷ_２５及びθｍａｘとなるような封止用ノズルを用いて封止を行った。具体的には短辺方向に傾斜形成用ノズルで被覆用樹脂塗布を行った後、一般的なノズルで長辺方向に被覆用樹脂塗布を行った。塗布を行った結果の上面図は図１、封止材重畳部にける断面図は図４のようになった。

Ｗ_２５の測定方法について説明する。まず、キーエンス社製の超高速インラインプロファイル測定器ＬＪ−Ｖを用い、積層体パネルの側面（端部）の位置検出と、積層体パネルの表面の高さ検出とを同時に測定し、積層体表面からの高さ（封止材重畳部Ｄにおいて下層となる、封止構造１３０ａの厚さ）が０．０１ｍｍとなったところを封止材重畳部の中心側端部ｘ_１（図４に示すＥ）とみなした。次に、中心側端部ｘ_１から積層体の外側方向に向けて０．０１ｍｍごとにｘ_２、ｘ_３・・・ｘ_ｋ・・・とする。『ｘ_ｋ』から『ｘ_ｋ＋０．０５ｍｍ』あたりの膜厚増加をΔｔ_ｘとして、Δｔ_ｘ／０．０５が０．１７以下になったｘ_ｋをもう一方の端部ｘ_ｎとした。本実施例においては、封止材重畳部Ｄにおいて下層となる封止構造１３０ａの全長にわたって５ｍｍの間隔で、『ｘ_ｎ−ｘ_１』を計算し、その平均を距離Ｗ_２５とした。

また、θｍａｘの測定方法について説明する。
まず、キーエンス社製の超高速インラインプロファイル測定器ＬＪ−Ｖを用い積層体パネルの側面（端部）の位置検出と、積層体パネルの表面の高さ検出とを同時に測定し、積層体表面からの高さ（封止材重畳部Ｄにおいて下層となる、封止構造１３０ａの厚さ）を０．０５ｍｍピッチで上記距離Ｗ_２５となるまで測定した値の微分値より、傾きを算出した。当該傾きからθ及びその最大値θｍを算出した。このようなθｍを封止材重畳部Ｄにおいて下層となる封止構造１３０ａの全長にわたって５ｍｍの間隔で算出し、その平均値をθｍａｘとした。

なお、θｍａｘ及びＷ_２５については、表１に示すとおりであった。

［耐候性の評価：塩水浸漬試験］
上記のように作製した太陽光反射用パネルについて、３本のローラーを用いて、１．７ｍｍ／１００ｍｍで湾曲させた。その後、３．５％の塩水に、湾曲した太陽光反射用パネルを４８時間浸漬した後、太陽光反射用パネルの太陽光反射層端部における銀腐食の状態を目視観察し、下記の基準に従って耐候性を評価した。

５：浸漬前後で、太陽光反射層端部における色味の変化は全く観察されない
４：浸漬前後で、太陽光反射層端部における色味の変化が僅かに認められるが、問題のない品質である
３：浸漬前後で、太陽光反射層端部における色味の変化がやや観察されるが、実用上許容される品質である
２：浸漬前に対し、太陽光反射層端部で明らかな色味の変化が認められ、実用上問題となる品質である
１：浸漬前に対し、太陽光反射層端部で激しい色味の変化が認められ、実用に耐えない品質である

［耐洗浄性の評価：ブラシ洗浄試験］
上記のように作製した太陽光反射用パネルの表面に、汚染水１０ｍＬを霧吹きによって噴霧した後、回転ブラシ（ポリプロピレン線径φ３ｍｍ、長さ６０ｍｍ）を回転数６００ｒｐｍで回転させながら押し当て、封止構造１３０上を１００回往復運動させた。その後、封止構造１３０の状態を目視観察し、下記の基準に従って耐洗浄性を評価した。

５：全く封止構造に影響なし
４：表面に僅かな傷が認められる
３：表面の傷の発生は認められるが、実用上は許容される品質である
２：封止構造に剥がれが認められ、実用上懸念される品質である
１：封止構造に剥がれが認められ、実用に耐えない品質である
以上により得られた結果を表１に示す。

［実施例２〜８］
実施例２〜８までについては、表１に記載のような、Ｗ_２５及びθｍａｘとなるよう傾斜形成用ノズルを変更し、さらに、被覆用樹脂材料とその粘度とを表１に記載のものに変更したほかは実施例１の太陽光反射用パネルと同様にして、実施例２〜８の太陽光反射用パネルを製造した。これらの太陽光反射用パネルに対し、実施例１と同様の評価をした。結果は、表１に示すとおりである。

なお、表１に記載の被覆用樹脂材料は、下記のとおりである。
ＫＥ−４４は、信越化学工業株式会社製 信越シリコーンＫＥ−４４である。
ＫＥ−３４７は、信越化学工業株式会社製 信越シリコーンＫＥ−３４７である。
ＫＥ−４５は、信越化学工業株式会社製 信越シリコーンＫＥ−４５である。
ＡＳ−７０は、日本シーカ社製 ＡＳ−７０である。

（まとめ）
実施例１及び３と、実施例２とを比較すると、封止材重畳部における下層が、積層体中心側の端部から積層体の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加していれば耐洗浄性が優れていることがわかる。
実施例１及び４と、実施例５とを比較すると、θｍａｘは６０°以下であれば耐候性に優れることがわかる。

実施例１及び７と、実施例６及び８とを比較すると、被覆用樹脂材料の粘度が７０〜７０００Ｐａ・ｓの範囲内であれば、耐候性及び耐洗浄性に優れていることがわかる。

１ 積層体パネル
３ 太陽光反射層ユニット
３００ 有機ＥＬ素子
１１０ 基材
１２０ 積層体
１３０ 封止構造
１３０ａ 封止構造
１３０ｂ 封止構造
２００ 塗布装置
２１０ 上ブロック
２１１ プレート
２１２ 中ブロック
２１３ 下ブロック
２１４ 注入口
２１５ ノズル
Ｄ 封止材重畳部
Ｅ 封止材重畳部における下層の積層体中心側の端部

Claims (9)

1. 基材上に、少なくとも金属含有層を含む積層体を有する積層体パネルであって、
   前記積層体パネルの側面部に、被覆用樹脂材料により連続した構造で前記積層体の側面を被覆する封止構造を有し、
   前記封止構造が、封止材重畳部を有し、
   前記封止材重畳部における下層が、前記積層体中心側の端部から前記積層体の外側方向に、少なくとも０．２５ｍｍにわたって層厚が連続して増加していることを特徴とする積層体パネル。
2. 前記封止材重畳部における下層が、積層体中心側の端部から前記積層体の外側方向に少なくとも０．２５ｍｍにわたって、前記積層体の表面となす角度θの最大値θｍａｘが６０°以下であることを特徴とする請求項１に記載の積層体パネル。
3. 前記被覆用樹脂材料が、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂及びアクリル樹脂から選ばれる樹脂であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の積層体パネル。
4. 請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の積層体パネルを用いた太陽光反射用パネルであって、
   前記金属含有層が、太陽光反射層であることを特徴とする太陽光反射用パネル。
5. 少なくとも前記積層体で構成される非ガラス製フィルムミラーを有することを特徴とする請求項４に記載の太陽光反射用パネル。
6. 請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の積層体パネルを用いた量子ドットパネルであって、
   前記積層体のうち、少なくとも１層が量子ドットを含有していることを特徴とする量子ドットパネル。
7. 請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の積層体パネルを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子パネルであって、
   前記積層体が、一対の電極と、当該一対の電極に挟持された発光層と、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子パネル。
8. 請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の積層体パネルを製造する積層体パネルの製造方法であって、
   前記積層体パネルの側面部に前記被覆用樹脂材料を塗布することで、連続した構造で積層体の側面を被覆する封止構造形成工程を有することを特徴とする積層体パネルの製造方法。
9. 前記封止構造形成工程において、塗布される前記被覆用樹脂材料の粘度が、７０〜７０００Ｐａ・ｓの範囲内であることを特徴とする請求項８に記載の積層体パネルの製造方法。

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