WO2015083560A1 - 新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物 - Google Patents

新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物 Download PDF

Info

Publication number
WO2015083560A1
WO2015083560A1 PCT/JP2014/080846 JP2014080846W WO2015083560A1 WO 2015083560 A1 WO2015083560 A1 WO 2015083560A1 JP 2014080846 W JP2014080846 W JP 2014080846W WO 2015083560 A1 WO2015083560 A1 WO 2015083560A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
hydroxyphenyl
bis
group
reaction
carbon atoms
Prior art date
Application number
PCT/JP2014/080846
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
匡彦 西原
一仁 芦田
水野 卓巳
貴敏 伊藤
正稔 三原
利之 岩井
猛夫 中井
Original Assignee
本州化学工業株式会社
地方独立行政法人大阪市立工業研究所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 本州化学工業株式会社, 地方独立行政法人大阪市立工業研究所 filed Critical 本州化学工業株式会社
Priority to KR1020167017840A priority Critical patent/KR102306696B1/ko
Priority to CN201480064306.1A priority patent/CN105899497B/zh
Publication of WO2015083560A1 publication Critical patent/WO2015083560A1/ja

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D263/00Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
    • C07D263/52Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D263/62Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems having two or more ring systems containing condensed 1,3-oxazole rings
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/72Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with nitrogen atoms and oxygen or sulfur atoms as ring hetero atoms
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/33Heterocyclic compounds
    • A61K31/395Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins
    • A61K31/41Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins having five-membered rings with two or more ring hetero atoms, at least one of which being nitrogen, e.g. tetrazole
    • A61K31/42Oxazoles
    • A61K31/423Oxazoles condensed with carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • C08G59/26Di-epoxy compounds heterocyclic

Definitions

  • the present invention relates to a novel bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound. Specifically, the present invention relates to a resin raw material such as an epoxy resin, and a bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound useful as a pharmaceutical, agricultural chemical, dye, electronic material, or an intermediate or raw material thereof.
  • a resin raw material such as an epoxy resin
  • a bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound useful as a pharmaceutical, agricultural chemical, dye, electronic material, or an intermediate or raw material thereof.
  • Bis (hydroxyphenyl) benzoxazoles are expected as raw materials because they are excellent in tensile strength, bending strength, impact strength, heat resistance, and electrical characteristics when used as resin raw materials such as epoxy resins.
  • As such bis (hydroxyphenyl) benzoxazoles conventionally, 2,2′-di (4-hydroxyphenyl) -6,6′-bibenzoxazole and 2,2-hexafluoropropylidene group-containing 2, 2-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] hexafluoropropane and the like are known (Patent Document 1, Patent Document 2).
  • 2,2′-di (4-hydroxyphenyl) -6,6′-bibenzoxazole has a high melting point and low solubility in a solvent.
  • 2,2-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] hexafluoropropane having a 2,2-hexafluoropropylidene group has heat resistance. Not enough. Accordingly, there is a strong demand for the development of bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compounds having a novel chemical structure that has good workability and operability and excellent heat resistance.
  • the present invention provides a novel bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound useful as a resin raw material such as an epoxy resin or a polybenzoxazole resin, a medicine, an agricultural chemical, a dye, an electronic material, or an intermediate or raw material thereof.
  • the present inventors have found that the central skeleton of the bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound is a cycloalkylidene group, thereby improving solvent solubility And found a novel bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound having an excellent balance of heat resistance, and completed the present invention.
  • a bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound represented by the following general formula (1) is provided.
  • General formula (1) (In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group or a halogen atom, and R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
  • the bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound of the present invention has a cycloalkylidene skeleton in the central skeleton, and since such a central skeleton has an alicyclic structure, it has a relatively low melting point and good solvent solubility.
  • the resin using the bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound of the present invention as a raw material is a resin using 2,2-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] hexafluoropropane as a raw material. It can be expected that the heat resistance is also superior.
  • the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 1 and R 2 is a straight chain A branched or cyclic alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, more preferably a straight chain having 1 to 4 carbon atoms. Or a branched alkyl group.
  • an alkyl group examples include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, an isobutyl group, a cyclohexyl group, and a cyclopentyl group.
  • Such an alkyl group may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group, a phenyl group, or the like as long as the effects of the present invention are not hindered.
  • the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms is a linear, branched or cyclic alkoxy group, preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or 5 to 5 carbon atoms.
  • a cycloalkoxy group is a cycloalkoxy group, more preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
  • an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a cyclopentyloxy group, and a cyclohexyloxy group.
  • Such an alkoxy group may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group, a phenyl group, or the like as long as the effects of the present invention are not hindered.
  • the phenyl group represented by R 1 or R 2 is preferably a phenyl group having no substituent.
  • the phenyl group may be substituted with an alkyl group such as a methyl group, an alkoxy group such as a methoxy group, a halogen atom, or the like as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • specific examples of the halogen atom represented by R 1 and R 2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • R 1 is an alkyl group or a phenyl group
  • preferred R 1 is an alkyl group
  • preferred R 2 is an alkyl group, a phenyl group or a hydrogen atom
  • more preferred R 2 is a hydrogen atom.
  • the substitution number n of the substituent R 1 of the hydroxyphenyl group is 0 or an integer of 1 to 4, preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0. is there.
  • the substitution position of R 1 is preferably ortho or para with respect to the hydroxyl group. When the substitution position of the hydroxyl group is para to the bonding position with the benzoxazole skeleton, the substitution position of R 1 is relative to the hydroxyl group. The ortho position is preferred. With respect to the substitution position of the hydroxyl group of the hydroxyphenyl group, the para position and the meta position are preferred with respect to the position bonded to the benzoxazole skeleton, and the para position is particularly preferred.
  • A represents a cycloalkylidene group having 5 to 10 carbon atoms.
  • cycloalkylidene groups include, for example, cyclopentane-1,1-diyl group, cyclohexane-1,1-diyl group, cycloheptane-1,1-diyl group, 3,3,5- And trimethylcyclohexane-1,1-diyl group. More preferred is a 3,3,5-trimethylcyclohexane-1,1-diyl group from the viewpoint of heat resistance.
  • such a cycloalkane skeleton may be substituted with an alkyl group, preferably a methyl group, and a preferable number of substitution is 1 to 3.
  • a bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound of the present invention specifically, for example, 1,1-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis [2- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1-bis [2- (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] cyclohexane, 1,1-bis [2- (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] cyclohexane, 1,1-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] cyclohe
  • the manufacturing method of the bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound of the present invention as described above is not limited at all.
  • Method 1 A method in which a bisaminophenol of the following general formula (3) and hydroxybenzoic acid corresponding to the target bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound and a hydroxybenzoic acid are used as raw materials and a condensation reaction is carried out in an organic solvent under heating (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-2007). No. 262204, etc.).
  • reaction formula (1) 1,1-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane as bisaminophenols and 4-hydroxybenzoic acid phenyl ester as hydroxybenzoic acids are used as raw materials.
  • the reaction formula is represented by the following formula, for example.
  • Reaction formula (1) Examples of hydroxybenzoic acids used in the above reaction include hydroxybenzoic acid phenyl esters represented by the following general formula (2).
  • General formula (2) (In the formula, R 1 and n are the same as those in the general formula (1).)
  • the raw material molar ratio of the bisaminophenol and the hydroxybenzoic acid phenyl ester is usually in the range of 2 to 5 mol of the hydroxybenzoic acid phenyl ester with respect to 1 mol of the bisaminophenol.
  • the range is preferably 2 to 3 mol.
  • the reaction solvent is preferably used, and examples thereof include N-alkylamide solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, aromatic hydrocarbons such as biphenyl, and mixed solvents thereof.
  • the amount of the solvent used is usually in the range of 1 to 20 parts by weight with respect to 1 part by weight of the bisaminophenol.
  • the reaction temperature may be in the range of 150 to 250 ° C.
  • the reaction pressure may be normal pressure, reduced pressure, or increased pressure, but may be reduced to facilitate removal of by-product water and phenols.
  • raw materials and a reaction solvent are charged all at once into a reaction vessel and replaced with an inert gas, and then heated and stirred to a reaction temperature of about 150 ° C. to 180 ° C. Reacts while distilling raw water and phenols. Thereafter, the temperature in the system is further raised to about 200 to 250 ° C. to complete the ring-closing dehydration reaction.
  • the target product can be obtained as a crude product or purified product from the obtained reaction product using a known purification method.
  • the obtained reaction solution is cooled or water is added to precipitate or reprecipitate solids and crystals, which are further filtered and washed with water and methanol and dried to obtain the desired product. it can.
  • the bisaminophenols are represented by the following general formula (3).
  • General formula (3) (Wherein R 2 and A are the same as those in the general formula (1)) Accordingly, as such bisaminophenols, specifically, for example, 1,1-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, corresponding to the bis (hydroxyphenylbenzoxazole) compound of the present invention, 1,1-bis (3-amino-5-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- Examples thereof include bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) cyclopentane and 1,1-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) cycloheptane.
  • Such bisaminophenols for example, as shown in reaction formula (2), nitrothe corresponding bisphenol compound in the presence of nitric acid, the nitro group of the resulting bis (nitrophenol) compound, for example, palladium It can be obtained by subjecting to a known reduction reaction (eg, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-12611, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-81925) such as a reaction with hydrogen gas in the presence of a hydrogenation catalyst such as carbon or nickel.
  • Reaction formula (2) (Wherein R 2 and A are the same as those in the general formula (1))
  • reaction formula (3) 1,1-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane as bis (nitrophenol) s, 2,6-di-t-butyl-p as methylphenols -
  • the reaction is represented, for example, by the following reaction formula (3).
  • the bisnitrophenol is represented by the following general formula (4).
  • General formula (4) (Wherein R 2 and A are the same as those in the general formula (1)) Therefore, as such bisnitrophenols, corresponding to the bis (hydroxyphenylbenzoxazole) compound of the present invention, specifically, 1,1-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, , 1-bis (3-nitro-5-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) cycloheptane and the like.
  • Such bisnitrophenols include, for example, bisphenols represented by the following general formula (6) corresponding to the bisnitrophenols represented by the general formula (4), for example, substantially other acids. Obtained by nitration by a known method (WO01 / 81293, JP-A-11-106365, etc.) such as nitration at a temperature of 5 ° C. or less with nitric acid at 50 to 80% in the absence of water. Can do.
  • General formula (6) (Wherein R 2 and A are the same as those in general formula (2))
  • the raw material methylphenols in the above method are represented by the following general formula (5).
  • General formula (5) (In the formula, R 1 and n are the same as those in the general formula (1).) Accordingly, as such methylphenols, specifically, for example, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,4 corresponding to the bis (hydroxyphenylbenzoxazole) compound of the present invention, -Dimethyl-6-t-butylphenol, 2-t-butyl-4-methylphenol, 2,4,6-trimethylphenol, 2-methoxy-4-methylphenol and the like.
  • the raw material molar ratio of bisnitrophenols and methylphenols is usually in the range of 2 to 10 moles, preferably 3 to 5 moles of methylphenols per mole of bisnitrophenols. It is a range.
  • the catalyst is preferably iron (iron powder), sulfur or sodium sulfide, or a mixture thereof.
  • the amount of the catalyst is usually in the range of 0.01 to 3 mol per 1 mol of the raw material bisnitrophenol. In the case of iron, the range of 0.1 to 0.3 mol is preferable, and in the case of sulfur, the range of 1.5 to 2.5 mol is preferable, and 2 mol is more preferable.
  • the reaction solvent is preferably used.
  • halogenated aromatic compounds such as o-dichlorobenzene, aromatic hydrocarbon solvents such as biphenyl, alkylnaphthalenes such as 2,6-dimethylnaphthalene and 2,6-diisobutylnaphthalene
  • alkylnaphthalenes such as 2,6-dimethylnaphthalene and 2,6-diisobutylnaphthalene
  • amide solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone
  • polyalkylene glycol ethers such as tetraethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dibutyl ether
  • the amount of the solvent used is preferably in the range of 1 to 50 parts by weight, more preferably in the range of 10 to 40 parts by weight with respect to 1 part by weight of the bisnitrophenol.
  • the reaction temperature is preferably in the range of 160 ° C. to 200 ° C., more preferably in the range of 170 to 190 ° C.
  • the reaction pressure may be normal pressure, increased pressure, or reduced pressure. When the boiling point of the reaction solvent at normal pressure is lower than the reaction temperature, the reaction solvent may be adjusted by pressurization to increase the temperature.
  • the reaction is carried out by charging a predetermined amount of bisnitrophenols, methylphenols, a catalyst and a reaction solvent in a reaction vessel and stirring the mixture under a nitrogen stream while raising the temperature to a predetermined reaction temperature and maintaining the temperature. Do.
  • the target reaction product bis (hydroxyphenyl) benzoate is appropriately used from the resulting reaction mixture by appropriately using known methods such as catalyst separation, distillative separation of low boiling point components, and crystallization filtration according to conventional methods.
  • a crude product of oxazoles can be obtained, and if this is further purified by a method such as crystallization filtration or column separation, if necessary, a high-purity product can be obtained.
  • the crystal when the crystal is precipitated by cooling the reaction solution as it is or by adding a poor solvent and cooling, the crystal can be filtered to obtain a crude or high-purity target product.
  • the reaction solvent or the like is concentrated under reduced pressure, and the residue is purified by column chromatography or the like, whereby a high-purity product can be obtained.
  • n is 1 or more and at least one substituent R 1 is a tert-butyl group or the like.
  • a bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound is obtained as an intermediate, which is a tertiary alkyl group or / and the substituent R 2 is a tertiary alkyl group such as a t-butyl group.
  • the acid catalyst is preferably a high-boiling acid such as p-toluenesulfonic acid or p-toluenesulfonic anhydride, and the amount of the catalyst is based on the bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound.
  • the range is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 10 to 30 mol%.
  • a solvent is usually used, and preferred solvents include phenols such as phenol and m-cresol.
  • the amount of the solvent is not particularly limited, but is usually preferably about 10 to 500 parts by weight with respect to 1 part by weight of the bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound.
  • the reaction temperature is usually in the range of about 200 to 250 ° C.
  • a predetermined amount of t-butyl-substituted-bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compound, a catalyst and a reaction solvent are charged in a reaction vessel, and the temperature is raised to a predetermined reaction temperature while stirring in a nitrogen atmosphere.
  • the reaction is carried out while maintaining the temperature.
  • known purification methods such as crystallization and concentration can be used. For example, a solvent or water is added to the reaction solution, or the solution is concentrated, or crystallized by a combination thereof, and the precipitated target crystal is separated by filtration.
  • a water-soluble impurity may be removed by adding water to the reaction solution and then washing with water. Further, after removing the catalyst from the reaction solution by neutralization treatment with an aqueous alkali solution or washing with water, or by removing low-boiling substances by concentration, it can be purified by column chromatography.
  • reaction solution was filtered, and 1% sodium hydrogen carbonate aqueous solution and then distilled water were poured into the filtered crystals and washed well. After drying, 6.0 g of 1,1-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane having a purity of 99.9% (high performance liquid chromatography method) was obtained.
  • Example 1 Synthesis of 1,1-bis [2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] -3,3,5-trimethylcyclohexane 1,1 in a 100 ml test tube -Bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane 600.5 mg (1.50 mmol) and 2,6-di-tert-butyl-p-cresol 1322.3 mg (6.00 mmol) ), Sulfur powder 96.2 mg (3.00 mmol), iron powder 16.8 mg (0.30 mmol), and o-dichlorobenzene 8 ml, and the inside of the test tube was purged with argon at room temperature.
  • Example 2 Synthesis of 1,1-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] -3,3,5-trimethylcyclohexane 1,1-bis synthesized in Example 1 in a 10 ml pressure-resistant test tube Bis [2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] -3,3,5-trimethylcyclohexane 154.2 mg (0.20 mmol) and phenol 91 g and 8.4 mg (4.9 ⁇ 10 ⁇ 2 mmol) of p-toluenesulfonic anhydride were charged and sealed, and the temperature was raised to 210 ° C. while stirring in a microwave reactor. Time reaction was performed.
  • the reaction was further carried out for 3 hours after raising the temperature to 230 ° C., and then the reaction was carried out for 5 hours after raising the temperature to 250 ° C.
  • the reaction mixture was cooled to room temperature, and the resulting reaction-terminated liquid was added to water, and an aqueous alkaline solution was further added to neutralize to about pH 6, and the aqueous layer was removed.
  • the obtained oil layer was purified by silica gel column chromatography to obtain 42.0 mg of 1,1-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] -3,3,5-trimethylcyclohexane. It was.
  • the yield based on 1,1-bis [2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -5-benzoxazolyl] -3,3,5-trimethylcyclohexane was 39%.
  • the benzoxazole compound of the present invention is very superior in solubility in methanol, toluene, and MIBK solvents compared to the comparative compound.

Abstract

 エポキシ樹脂やポリベンゾオキサゾール樹脂等の樹脂原料、また医薬、農薬、染料並びに電子材料もしくはこれらの中間体や原料として有用な新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物の提供を課題とする。解決手段として、下記一般式(1)(式中、R1は、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子を表し、R2は、水素原子、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子を表し、Aは炭素原子数5~10のシクロアルキリデン基を表し、nは0又は1~4の整数を示す。)で表されるビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物を提供する。

Description

新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物
 本発明は、新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物に関する。詳しくは、エポキシ樹脂等の樹脂原料、また医薬、農薬、染料並びに電子材料もしくはこれらの中間体や原料として有用なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物に関する。
 ビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール類は、エポキシ樹脂等の樹脂原料として用いた場合、引っ張り強度、曲げ強度、衝撃強さ、耐熱性、電気特性に優れるため原料として期待されている。
 このようなビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール類として、従来、2,2'-ジ(4-ヒドロキシフェニル)-6,6'-ビベンゾオキサゾールや2,2-ヘキサフルオロプロピリデン基を有する2,2-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]ヘキサフルオロプロパン等が知られている(特許文献1、特許文献2)。
 ここで、2,2'-ジ(4-ヒドロキシフェニル)-6,6'-ビベンゾオキサゾールは高融点であり、また、溶剤への溶解性が低いので、工業的に実施する場合において作業性や操作性に問題があり、また、2,2-ヘキサフルオロプロピリデン基を有する2,2-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]ヘキサフルオロプロパンは耐熱性が十分ではない。
 従って、作業性や操作性がよく、しかも耐熱性も優れた新規な化学構造を有するビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物の開発が強く求められている。
米国特許第5270432号公報 特開2007-262204号公報
 本発明はエポキシ樹脂やポリベンゾオキサゾール樹脂等の樹脂原料、また医薬、農薬、染料並びに電子材料もしくはこれらの中間体や原料として有用な新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物を提供する。
 本発明者らは、上記のようなビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物の問題点を鋭意検討した結果、ビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物の中心骨格をシクロアルキリデン基とすることにより、溶剤溶解性や耐熱性のバランスに優れた新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物を見出し、本発明を完成した。
 本発明によると、下記一般式(1)で表されるビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物が提供される。
 一般式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
(式中、R1は、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子を表し、R2は、水素原子、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子を表し、Aは炭素原子数5~10のシクロアルキリデン基を表し、nは、0又は1~4の整数を示す。)
 本発明のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物は、中心骨格にシクロアルキリデン骨格を持ち、このような中心骨格が脂環構造を持つことから、比較的低融点で溶剤溶解性もよい。
 また、本発明のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物を原料とする樹脂は、2,2-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]ヘキサフルオロプロパンを原料とする樹脂よりも耐熱性も優れていることが期待できる。
 以下、本発明のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物について詳細に説明する。
 本発明の、上記一般式(1)で表されるビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物において、式中、R1、R2で示される炭素原子数1~8のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基であり、好ましくは炭素原子数1~4のアルキル基又は、炭素原子数5~8のシクロアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数1~4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基である。
 このようなアルキル基として具体的には例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等を挙げることができる。
 このようなアルキル基には、本発明の効果を妨げない範囲においてハロゲン原子、アルコキシ基、フェニル基等が置換していてもよいが、置換していない方が好ましい。
 また、式中、炭素原子数1~8のアルコキシ基としては、直鎖状、分岐鎖状または環状のアルコキシ基であり、好ましくは炭素原子数1~4のアルコキシ基又は、炭素原子数5~8のシクロアルコキシ基であり、より好ましくは炭素原子数1~4の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基である。このようなアルコキシ基として具体的には例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。このようなアルコキシ基には、本発明の効果を妨げない範囲においてハロゲン原子、アルコキシ基、フェニル基等が置換していてもよいが、置換していない方が好ましい。
 式中、R1、R2で示されるフェニル基としては、置換基がないフェニル基が好ましい。しかしながらフェニル基には本発明の効果を妨げない範囲においてメチル基等のアルキル基、メトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子等が置換していてもよい。
 式中、R1、R2で示されるハロゲン原子としては、具体的にはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
 上記置換基R1、R2において、好ましいR1はアルキル基又はフェニル基であり、より好ましいR1はアルキル基であり、好ましいR2はアルキル基、フェニル基又は水素原子であり、より好ましいR2は水素原子である。
 また、ヒドロキシフェニル基の置換基R1の置換数nは0又は1~4の整数を示し、好ましくは0、1又は2であり、より好ましくは、0又は1であり、特に好ましくは0である。R1の置換位置は水酸基に対してオルソ位またはパラ位が好ましく、水酸基の置換位置がベンゾオキサゾール骨格との結合位置に対してパラ位の場合には、R1の置換位置は、水酸基に対してオルソ位が好ましい。
 ヒドロキシフェニル基の水酸基の置換位置について、ベンゾオキサゾール骨格と結合した位置に対してパラ位、メタ位が好ましく、特にパラ位が好ましい。
 上記一般式(1)において、式中、Aは炭素原子数5~10のシクロアルキリデン基を表す。
 このようなシクロアルキリデン基としては、具体的には例えば、シクロペンタン-1,1-ジイル基、シクロヘキサン-1,1-ジイル基、シクロヘプタン-1,1-ジイル基、3,3,5-トリメチルシクロヘキサン-1,1-ジイル基等が挙げられる。
 より好ましくは、耐熱性の観点から,3,3,5-トリメチルシクロヘキサン-1,1-ジイル基である。
 さらに、このようなシクロアルカン骨格には、アルキル基が置換していてもよく、好ましくはメチル基であり、好ましい置換数は1~3である。
 このような本発明のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物としては、具体的には例えば、
 1,1-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
 1,1-ビス[2-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
 1-ビス[2-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、
 1,1-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]シクロヘキサン、
 1,1-ビス[2-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]シクロヘキサン、
 1,1-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]シクロペンタン、
 1,1-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]シクロヘプタン、
 1,1-ビス[2-(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、
 1,1-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-7-メチル-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、
 1,1-ビス[2-(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]シクロヘキサン、
 1,1-ビス[2-(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]シクロペンタン、
 1,1-ビス[2-(3-フェニル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]シクロヘキサン等が挙げられる。
 上記のような本発明のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物は、その製造方法については何ら制限されるものではない。例えば、以下の方法等が挙げられる。
(方法1)
 目的のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物に対応する下記一般式(3)のビスアミノフェノール類とヒドロキシ安息香酸類を原料とし、有機溶媒中、加温下に縮合反応を行う方法(特開2007-262204号公報等)を挙げることができる。当該製造方法について、例えば、ビスアミノフェノール類として1,1-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、ヒドロキシ安息香酸類として4-ヒドロキシ安息香酸フェニルエステルを原料とした場合について述べる。その反応式は例えば下記式で表される。
 反応式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
 上記反応で用いられるヒドロキシ安息香酸類としては例えば下記一般式(2)で表されるヒドロキシ安息香酸フェニルエステル類が挙げられる。
 一般式(2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000006
(式中、R1及びnは一般式(1)のそれと同じである。)
 また、上記反応に際し、ビスアミノフェノール類とヒドロキシ安息香酸フェニルエステル類の原料モル比としては、通常、ビスアミノフェノール類1モルに対してヒドロキシ安息香酸フェニルエステル類を通常、2~5モルの範囲、好ましくは2~3モルの範囲である。反応溶媒は用いる方が好ましく、例えば、N-メチル-2-ピロリドン等のN-アルキルアミド溶媒、ビフェニル等の芳香族炭化水素類又はこれらの混合溶剤が挙げられる。溶媒の使用量は通常、ビスアミノフェノール類1重量部に対して1~20重量部の範囲である。また、反応温度は150~250℃の範囲、反応圧力は常圧、減圧、加圧のいずれでもよいが、副生する水やフェノール類を除去しやすくするために減圧にしてもよい。
 反応は、例えば、原料、反応溶媒を反応容器に一括で仕込み、不活性ガスで置換し、その後、150℃~180℃程度の反応温度まで昇温・攪拌して、系内を減圧しつつ副生する水やフェノール類を留出させながら反応させる。その後、更に系内を200~250℃程度まで昇温し閉環脱水反応を完結させる。反応終了後、得られた反応生成物から公知の精製方法を用いて、目的物を粗製物乃至精製物として得ることができる。
 例えば、得られた反応液を冷却するか、若しくは水を加えることによって析出または再沈した固体や結晶を濾別し、これを更に水、メタノールで洗浄し、乾燥して目的物を得ることができる。
 上記方法において、ビスアミノフェノール類は下記一般式(3)で表される。
 一般式(3)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000007
(式中、R2、Aは一般式(1)のそれと同じである)
 従って、このようなビスアミノフェノール類としては、本発明のビス(ヒドロキシフェニルベンゾオキサゾール)化合物に対応して、具体的には例えば1,1-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1-ビス(3-アミノ-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘプタン等が挙げられる。
 このようなビスアミノフェノール類は、例えば、反応式(2)で示すように、対応するビスフェノール化合物を硝酸存在下にニトロし、得られたビス(ニトロフェノール)化合物のニトロ基を、例えば、パラジウムカーボンやニッケル等の水素化触媒存在下に水素ガスと反応させる等の公知の還元反応(特開2003-12611公報、特開2003-81925公報等)に付すことで得ることができる。
 反応式(2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000008
(式中、R2、Aは一般式(1)のそれと同じである)
(方法2)
 本発明のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物を得る別の方法としては、目的のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物に対応する下記一般式(4)で表されるビスニトロフェノール類と下記一般式(5)で表されるメチルフェノール類を原料とし、有機溶媒中、好ましくは触媒の存在下に加温下で脱水縮合反応を行う方法が挙げられる。
 例えば、ビス(ニトロフェノール)類として、1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、メチルフェノール類として2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾールを原料とした場合について述べる。その反応は例えば下記反応式(3)で表される。
 反応式(3)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000009
上記方法において、ビスニトロフェノール類は下記一般式(4)で表される。
一般式(4)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000010
(式中、R2、Aは一般式(1)のそれと同じである)
 よって、このようなビスニトロフェノール類としては、本発明のビス(ヒドロキシフェニルベンゾオキサゾール)化合物に対応して、具体的には1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1-ビス(3-ニトロ-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘプタン等が挙げられる。
 このようなビスニトロフェノール類は、例えば、前記一般式(4)で表されるビスニトロフェノール類に対応する下記一般式(6)で表されるビスフェノール類を、例えば、実質的に他の酸が存在しない条件下において50~80%硝酸で5℃以下の温度においてニトロ化する等、公知の方法(WO01/81293号公報、特開平11-106365号公報等)によりニトロ化することにより得ることができる。
 一般式(6)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000011
(式中、R2、Aは一般式(2)のそれと同じである)
 上記方法における原料のメチルフェノール類は下記一般式(5)で表される。
 一般式(5)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000012
(式中、R1、nは一般式(1)のそれと同じである。)
 従って、このようなメチルフェノール類としては、本発明のビス(ヒドロキシフェニルベンゾオキサゾール)化合物に対応して、具体的には例えば2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、2,4-ジメチル-6-t-ブチルフェノール、2-t-ブチル-4-メチルフェノール、2,4,6-トリメチルフェノール、2-メトキシ-4-メチルフェノール等が挙げられる。
 上記反応に際し、ビスニトロフェノール類とメチルフェノール類の原料モル比としては、通常、ビスニトロフェノール類1モルに対してメチルフェノール類を通常、2~10モルの範囲、好ましくは3~5モルの範囲である。
 触媒は用いなくてもよいが、収率向上のためには使用した方が好ましい。触媒を用いる場合、触媒としては、鉄(鉄粉)、硫黄又は硫化ナトリウム又はこれらの混合物が好ましい触媒量は原料のビスニトロフェノール類1モルに対して通常、0.01~3モルの範囲であり、鉄の場合は0.1~0.3モルの範囲が好ましく、硫黄の場合は1.5~2.5モルの範囲が好ましく、2モルが更に好ましい。
 反応溶媒は用いる方が好ましく、例えば、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族化合物、ビフェニル等の芳香族炭化水素溶媒、2,6-ジメチルナフタレン、2,6-ジイソブチルナフタレン等のアルキルナフタレン類、N-メチル-2-ピロリドン等のアミド溶媒、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のポリアルキレングリコールエーテル類又はこれらの混合物が挙げられる。溶媒使用量はビスニトロフェノール類1重量部に対し好ましくは1~50重量部の範囲、より好ましくは10~40重量部の範囲である。
 反応温度としては、好ましくは160℃~200℃の範囲、より好ましくは170~190℃の範囲である。反応圧力は常圧、加圧、減圧のいずれでもよい。反応溶媒の常圧での沸点が反応温度よりも低い場合など、温度を高くするため加圧して調整してもよい。
 反応は、例えば、反応容器に所定量のビスニトロフェノール類、メチルフェノール類、触媒及び反応溶媒を仕込み、窒素気流下に攪拌しながら、所定の反応温度まで昇温しその温度を保ちながら反応を行う。
 反応終了後、得られた反応混合物から、常法に従って、触媒分離、低沸点分の留出分離、晶析濾過等の公知の方法を適宜に用いることにより目的物であるビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール類の粗製品を得ることができ、これを、更に必要に応じて、再度、晶析濾過、カラム分離等の方法にて精製すれば、高純度品を得ることができる。
 例えば、反応液をそのまま冷却もしくは貧溶媒を加えて冷却することにより、結晶が析出する場合にはその結晶を濾別することで、粗製又は高純度の目的物を得ることができる。または、反応終了後、反応溶媒等を減圧下に濃縮し、その残渣をカラムクロマトグラフィー等により精製することで高純度品を得ることもできる。
(方法3)
 本発明のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物を得る今一つの方法としては、上記一般式(1)において、nが1以上であって且つ置換基R1の少なくとも1つが、tert-ブチル基等の3級アルキル基であるか、または/及び置換基R2がt-ブチル基等の3級アルキル基である中間体としてのビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物を得、得られた中間体としての3級アルキル基が置換したビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾールから、酸触媒の存在下に加温下に脱ブチルするなどの公知の方法(特開平2-169530号公報、特開平8-143494号公報等)により、t-ブチル基等の3級アルキル基を脱離させ、水素原子に置換して目的のビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾールを得る方法が挙げられる。
 例えば、ビス(ニトロフェノール)類として、1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、メチルフェノール類として2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾールを原料とし、上記方法2の反応に従い得られた中間体としての1,1-ビス[2-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンからt-ブチル基を脱離して目的の1,1-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンを得る場合について述べる。
 その反応は例えば下記反応式(4)で表される。
 反応式(4)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000013
 上記脱ブチル化反応に際し、酸触媒としてはp-トルエンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸無水物等の高沸点の酸が好ましく、触媒の量としては、ビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物に対して好ましくは1~50モル%の範囲、より好ましくは10~30モル%の範囲である。反応に際し通常、溶媒が用いられるが、好ましい溶媒としてはフェノール、m-クレゾール等のフェノール類が挙げられる。溶媒の量は特に制限はないが、通常、ビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物1重量部に対して10~500重量部程度が好ましい。反応温度は、通常200~250℃程度の範囲である。
 反応は、例えば、反応容器に所定量のt-ブチル置換―ビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物、触媒及び反応溶媒を仕込み、窒素雰囲気下に攪拌しながら、所定の反応温度まで昇温し、その温度を保ちながら反応を行う。
 反応終了後、反応混合物から目的物を得るには、晶析、濃縮等の公知の精製方法を用いることができる。例えば、反応液に溶媒や水を添加するか、若しくは濃縮して、或いはその組合せにより晶析し、析出した目的物の結晶を濾別する。反応液に上記操作を実施する前に水と分離する溶媒を加えた後に水洗することにより水溶性の不純物を除去してもよい。また、アルカリ水溶液による中和処理や水洗等により反応液から触媒を除去したり、濃縮により低沸点物等の除去する処理をした後、カラムクロマトグラフィーにより精製することもできる。
(製造例)
 1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンの合成
 100ml三つ口フラスコに1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン9.32g(0.030mol)とジクロロメタン50mlと撹拌用マグネットを仕込んだ後冷却し、反応温度0~5℃を保ちながら70%硝酸6.10g(0.067mol)を3時間かけて滴下した。さらに、当該温度を保ちながら3時間反応を行った。反応終了後、反応液をろ過し、濾別した結晶に1%炭酸水素ナトリウム水溶液次いで蒸留水を注いでよく洗浄した。乾燥後、純度99.9%(高速液体クロマトグラフィー法)の1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン6.0gを得た。
(実施例1)
 1,1-ビス[2-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンの合成
 100ml試験管に1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン600.5mg(1.50mmol)と2,6-ジ-tert-ブチル-p-クレゾール1322.3mg(6.00mmol)と硫黄粉末96.2mg(3.00mmol)と鉄粉 16.8mg(0.30mmol)とo-ジクロロベンゼン8mlを仕込んだ後、常温で試験管内をアルゴン置換した。
 その後、撹拌しながら180℃に昇温し、当該温度において還流させながら48時間反応を行った。反応終了後、減圧下に低沸点物を留出させて、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、1,1-ビス[2-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン571.5mgを得た。1,1-ビス(3-ニトロ-4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンに対する収率は50%だった。
分子量(HRMS / MALDI-TOF):769.4964(M+H)+
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000014
1H NMR同定結果(300MHz、溶媒:CDCl3、内部標準:テトラメチルシラン)
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
(実施例2)
 1,1-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンの合成
 10mlの耐圧用試験管に実施例1で合成した1,1-ビス[2-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン154.2mg(0.20mmol)と、フェノール 2.91gと、p-トルエンスルホン酸無水物 8.4mg(4.9×10-2mmol)を仕込んで密閉し、マイクロウェーブ反応装置にて撹拌しながら210℃に昇温し、当該温度にて4時間反応を行った。
 さらに230℃に昇温後3時間反応を行った後、250℃に昇温後5時間反応を行った。
 反応後室温まで冷却し、得られた反応終了液を水に加え、さらにアルカリ水溶液を加えてpH6程度に中和し、水層を除去した。得られた油層をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、1,1-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン 42.0mgを得た。1,1-ビス[2-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-5-ベンゾオキサゾリル]-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンに対する収率は39%だった。
融点  344℃(示差走査熱量分析法)
分子量(HRMS / MALDI-TOF):545.2461(M+H)+
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000016
1H NMR同定結果(300MHz、溶媒:THF-d8、内部標準:テトラメチルシラン)
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
(比較例)
 実施例と同様の方法で合成した2,2'-ジ(4-ヒドロキシフェニル)-5,5'-ビベンゾオキサゾール(比較例化合物)と実施例2で得られた化合物をそれぞれメタノール、トルエン、メチルイソブチルケトン(MIBK)に室温で溶解させて飽和溶液を作った。飽和溶液の上澄み液を採取し、高速液体クロマトグラフィーで濃度を測定した。それぞれの測定結果を下記表に示す。なお、比較例化合物の融点は410℃(示差走査熱量分析法)であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000018
 上記の結果からみて明らかなように、本発明のベンゾオキサゾール化合物は、メタノール、トルエン、MIBKの各溶媒に対する溶解性が、比較例化合物に比べて非常に優れている。

Claims (1)

  1.  下記一般式(1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
    (式中、R1は、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子を表し、R2は、水素原子、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子を表し、Aは炭素原子数5~10のシクロアルキリデン基を表し、nは0又は1~4の整数を示す。)
    で表されるビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物。
PCT/JP2014/080846 2013-12-05 2014-11-21 新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物 WO2015083560A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020167017840A KR102306696B1 (ko) 2013-12-05 2014-11-21 신규한 비스(히드록시페닐)벤즈옥사졸 화합물
CN201480064306.1A CN105899497B (zh) 2013-12-05 2014-11-21 新型双(羟苯基)苯并恶唑化合物

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013-251677 2013-12-05
JP2013251677A JP6190256B2 (ja) 2013-12-05 2013-12-05 新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015083560A1 true WO2015083560A1 (ja) 2015-06-11

Family

ID=53273327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2014/080846 WO2015083560A1 (ja) 2013-12-05 2014-11-21 新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6190256B2 (ja)
KR (1) KR102306696B1 (ja)
CN (1) CN105899497B (ja)
TW (1) TWI632136B (ja)
WO (1) WO2015083560A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI694988B (zh) * 2019-04-08 2020-06-01 國家中山科學研究院 製備含五碳環氧氮苯并環己烷聚胺酯阻尼材料
CN112625442B (zh) * 2020-12-18 2023-08-22 广东盈骅新材料科技有限公司 氰酸酯树脂组合物、预浸料、层压板及印刷电路板

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007262204A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Adeka Corp エポキシ樹脂硬化性組成物
CN102250117A (zh) * 2011-05-11 2011-11-23 华东理工大学 一种含噁唑环的双苯并噁嗪及其制备方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH476793A (de) * 1964-09-01 1969-08-15 Ciba Geigy Verwendung von neuen Bis-azolen als optische Aufhellmittel ausserhalb der Textilindustrie
CA1084511A (en) * 1976-07-05 1980-08-26 Leonardo Guglielmetti Process for the manufacture of 2,5-bis-(benzoxazolyl)- thiophene compounds
US5151488A (en) * 1991-11-12 1992-09-29 The Mead Corporation Liquid crystal polymers containing a repeating bisoxazole structure
US5270432A (en) * 1992-04-10 1993-12-14 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Polybenzoxazole via aromatic nucleophilic displacement
JPH11283746A (ja) * 1998-03-27 1999-10-15 Fuji Photo Film Co Ltd ビスベンゾアゾール化合物を用いたエレクトロルミネッセンス素子およびビスベンゾアゾール化合物の製造方法
JP2006206857A (ja) * 2004-03-04 2006-08-10 Sumitomo Bakelite Co Ltd ベンゾオキサゾール樹脂前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、樹脂膜および半導体装置
JP2010196016A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Mitsubishi Electric Corp 樹脂組成物及び樹脂硬化物
JP5270432B2 (ja) 2009-04-09 2013-08-21 新日鐵住金株式会社 温度測定装置および焼結機
CN102977348B (zh) * 2012-12-13 2013-11-13 江苏腾盛纺织科技集团有限公司 含噁唑结构的嵌段共聚酯树脂及其制备方法及高强度共聚酯纤维
JP6294063B2 (ja) * 2013-12-05 2018-03-14 本州化学工業株式会社 2−(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール類の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007262204A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Adeka Corp エポキシ樹脂硬化性組成物
CN102250117A (zh) * 2011-05-11 2011-11-23 华东理工大学 一种含噁唑环的双苯并噁嗪及其制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHANDRAMOHAN,A. ET AL.: "Octakis (dimethylsiloxypropylglycidylether) silsesquioxane (OG-POSS) reinforced 1,1-bis(3- methyl-4-hydroxymethyl)cyclohexane based polybenzoxazine nanocomposites", JOURNAL OF POLYMER RESEARCH, vol. 19, no. 7, 2012, pages 1 - 10, XP035082375, DOI: doi:10.1007/s10965-012-9903-8 *

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160087908A (ko) 2016-07-22
TW201607934A (zh) 2016-03-01
JP2015107935A (ja) 2015-06-11
CN105899497B (zh) 2019-04-09
KR102306696B1 (ko) 2021-09-28
TWI632136B (zh) 2018-08-11
CN105899497A (zh) 2016-08-24
JP6190256B2 (ja) 2017-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20180002261A1 (en) Epoxy compound, method for producing the same, epoxy resin composition, and cured product thereof
US8779162B2 (en) Cyanate ester compounds and cured products thereof
JP6190256B2 (ja) 新規なビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾール化合物
JP2011173827A (ja) ビスイミドフェノール誘導体及びその製造方法並びに高分子化合物
JP6205349B2 (ja) 新規なビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキセン類
JP4181791B2 (ja) ヒドロキシメチル置換多官能フェノール類
JP6068204B2 (ja) 新規なトリスフェノール化合物
JP2009107991A (ja) 新規なヒドロキシメチル置換又はアルコキシメチル置換ビスフェノール化合物
KR101426971B1 (ko) 신규한 비스(포르밀페닐)알칸류 및 그것으로부터 유도되는 신규한 다핵 페놀류
JP6552912B2 (ja) 新規フルオレン化合物及びその製造方法
JP2020083798A (ja) 高純度のフルオレセイン類化合物およびその製造方法
JP2015155385A (ja) フルオレン骨格を有するテトラカルボン酸二無水物、ポリアミック酸、及びポリイミド。
JP3823305B2 (ja) フェノール化合物およびその製造方法
JP4115450B2 (ja) 新規な4,4’−ジヒドロキシフェニル−ビシクロヘキセン類
JP7280262B2 (ja) 新規なポリアシルオキシメチル-4,4’-アシルオキシビフェニル化合物
JP4437929B2 (ja) 橋架け環を有するニトロ又はアミノフェノール化合物
JP2011046623A (ja) 新規なエポキシ化合物
JP5377935B2 (ja) 新規なジヒドロキシクォーターフェニル化合物及びその原料化合物
JP3186433B2 (ja) 芳香族ジアミン化合物
JP5525206B2 (ja) 新規なビスシクロヘキセニルアルカン類
JP2012201603A (ja) ジフェノール化合物の製造方法
WO2010098302A1 (ja) 新規なエポキシ化合物
KR20100108350A (ko) 신규한 비스(포르밀페닐) 화합물 및 그것으로부터 유도되는 신규한 다핵체 폴리페놀 화합물
JP2015003865A (ja) 新規なジシアン酸エステル化合物
JP2015227321A (ja) 新規な芳香族ジアミン化合物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14868221

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20167017840

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 14868221

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1