WO2015022935A1

WO2015022935A1 - 円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法、およびナノインプリント用再生モールドの製造方法

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Publication number: WO2015022935A1
Application number: PCT/JP2014/071193
Authority: WO
Inventors: 真矢釋▲迦▼郡; 真大川; 一哉高梨; 勝己原
Original assignee: Mitsubishi Rayon Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 2013-08-14
Filing date: 2014-08-11
Publication date: 2015-02-19
Anticipated expiration: 2016-02-14
Also published as: KR20160032148A; CN105451966B; JP6265127B2; TW201515816A; US9457493B2; CN105451966A; JPWO2015022935A1; US20160200006A1; KR101879797B1; TWI569946B

Abstract

　円柱状のアルミニウム基材の外周面が均一に研磨され、該外周面を有効に活用できる円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法を提供する。円柱状のアルミニウム基材１０の外周面１４全体を研磨体２６で研磨した後に、アルミニウム基材１０の外周面１４に酸化皮膜を形成する方法であって、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側と第２の端部１０ｂ側で、研磨体２６の少なくとも一部がはみ出すように研磨体２６を軸方向に移動させて研磨し、かつ、研磨体２６におけるアルミニウム基材１０からはみ出した部分を円柱状の第１の支持部材１８および第２の支持部材２０上に配置し、それらによって支持する。

Description

円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法、およびナノインプリント用再生モールドの製造方法

　本発明は、円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法、およびナノインプリント用再生モールドの製造方法に関する。
　本願は、２０１３年８月１４日に日本に出願された特願２０１３－１６８５３８号、特願２０１３－１６８５３７号、特願２０１３－１６８５４０号、および２０１４年１月３０日に日本に出願された特願２０１４－０１５８６４号、特願２０１４－０１６０４２号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　近年、微細加工技術の進歩によって、物品の表面にナノスケールの微細凹凸構造を付与することが可能となった。ナノスケールの微細凹凸構造は、例えばモスアイ効果と呼ばれる反射防止機能や、ロータス効果と呼ばれる撥水機能のように、構造由来の機能が発現する。そのため、ナノスケールの微細凹凸構造の産業上の利用（有機ＥＬ素子の光取り出し効率の向上、画像表示装置の反射防止、画像表示装置の画像鮮明性の向上、種々の部材の撥水材等）が盛んに図られている。

　物品の表面に微細凹凸構造を付与する方法としては、例えば、以下の方法が知られている。
　円柱状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜（陽極酸化ポーラスアルミナ）を形成した円柱状ナノインプリント用モールドを用いて、物品の表面に微細凹凸構造を転写する方法。
　該方法は、少ない工程で簡便に物品の表面に微細凹凸構造を付与できるため、工業生産に適している。

　また、アルミニウム基材の表面に、複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する方法としては、例えば、以下の方法が知られている。
　アルミニウム基材の表面を研磨した後に、該アルミニウム基材の表面を陽極酸化する方法（特許文献１）。
　陽極酸化を行う前にアルミニウム基材の表面を研磨し、鏡面状態になるまで表面粗さを低く均一化することで、酸化皮膜にムラが生じることを抑制できる。その結果、より精度の高い微細凹凸構造を物品に付与することが可能となる。

特開２００７－３０１４６号公報

　円柱状のアルミニウム基材の外周面全体を研磨する方法としては、例えば、以下に示す方法が考えられる。
　図１１に示すように、回転軸１１０に設置した円柱状のアルミニウム基材１１２を軸周りに回転させ、そのアルミニウム基材１１２の外周面１１４に研磨体１１６を押し当てて擦りつつ、アルミニウム基材１１２における軸方向の第１の端部１１２ａから第２の端部１１２ｂまでの範囲で研磨体１１６を往復させる方法。

　該方法では、アルミニウム基材１１２の第１の端部１１２ａの近傍と第２の端部１１２ｂの近傍は、アルミニウム基材１１２の軸方向の中央部分に比べて研磨体１１６が接している時間が短くなる。これにより、端部近傍では研磨が不充分となって表面粗さにムラが生じ、その上に形成する酸化皮膜にもムラが発生しやすくなる。そのため、この場合は、酸化皮膜を形成して微細凹凸構造の付与に使用する外周面１１４を、アルミニウム基材１１２における第１の端部１１２ａと第２の端部１１２ｂの近傍を除く範囲に限定する。
　しかし、このようにアルミニウム基材１１２の外周面１１４を部分的に利用する方法は、生産効率の面で不利である。

　また、研磨を行う前の円柱状のアルミニウム基材は、切削加工等の機械加工によりアルミニウム塊から所定の形状に加工されており、研磨にて外周面を鏡面まで仕上げる必要がある。機械加工された外周面を鏡面まで仕上げる研磨方法としては、機械加工により形成された表面形状の粗い部分を除去する必要があることから、比較的研磨レートの高い研磨方法を用いることが好ましく、アルミニウム基材の表面を溶解しながら機械的研磨を行う、化学機械研磨（ＣＭＰ）を用いることが好ましい。特に、機械加工面の除去に酸性のＣＭＰスラリーを用いた１次ＣＭＰ研磨、その後鏡面に仕上げるアルカリ性のＣＭＰスラリーを用いた最終ＣＭＰ研磨、と段階を分けて研磨を行うことが好ましい。

　しかし、前記方法では、特に機械加工面の除去に用いる酸性のＣＭＰスラリーを用いた１次ＣＭＰ研磨において、円柱状のアルミニウム基材の外周面に停滞した研磨液により、研磨後のアルミニウム基材の外周面に非常に厚い酸化膜が発生し、外周面が白化したような変質が見られることがある。この場合、厚い酸化膜が発生して白化の程度が強いほど、最終ＣＭＰ研磨にて白化した部分を研磨して鏡面状態のアルミニウム基材を得るまでに非常に多くの研磨時間を要するため、生産性が大きく低下する。

　また、モールドを繰り返し使用すると、モールド表面に樹脂が堆積したり、モールド表面に傷がついたり、微細凹凸構造が変形したりする。その結果、所定の微細凹凸構造が転写されなくなったり、モールド表面の傷が模様となって転写されたりし、転写物の反射防止性などの性能が低下するという問題点があった。樹脂の堆積は、樹脂中に離型剤を配合したり、モールド表面を離型処理したりすることで改善できる。一方、傷の付着や微細凹凸構造の変形は、モールド自体の耐擦傷性を向上させることで改善できる。しかし、これらの方法で改善するには限界がある。そのため、モールドが寿命を迎えた場合には、新品のモールドに交換する必要があり、コストが嵩みやすい。

　本発明は、円柱状のアルミニウム基材の外周面が均一に研磨され、該外周面をより有効に活用できる円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法を提供する。また、本発明は、研磨後に白化等のアルミニウム基材の外周面の変質を抑制でき、高い生産性が得られる、円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法を提供する。また、本発明は、使用済みのモールドを再利用して、低コストでナノインプリント用再生モールドを製造する方法を提供する。

　本発明の第１実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法は、円柱状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成された円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、中心軸回りに回転する前記アルミニウム基材とを相対的に移動させながら、前記研磨体で前記アルミニウム基材の外周面を擦って、前記アルミニウム基材の外周面全体を研磨する工程（Ｉ）と、前記工程（Ｉ）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（II）と、を有し、前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の中心軸方向の両端部に支持部材を配置し、前記研磨体の少なくとも一部が前記アルミニウム基材の軸方向の端部からはみ出すように、軸周りに回転する前記アルミニウム基材の外周面に対して前記研磨体を軸方向に相対的に移動させて研磨し、前記アルミニウム基材からはみ出した前記研磨体の少なくとも一部は、前記支持部材上に配置され、前記支持部材の前記研磨体が配置される部分の表面を前記アルミニウム基材の軸方向に対して垂直方向に切断した形状は、前記アルミニウム基材の外径と略同一またはそれ以下の直径の円周の少なくとも一部を構成する円弧状である方法である。

　本発明の第１実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、前記支持部材の前記研磨体が配置される部分の外形は、前記アルミニウム基材の外径の０．９７倍以上１倍以下の外径の円柱状の少なくとも一部を構成する形状であることが好ましい。また、前記支持部材は、外形が円柱状であることが好ましい。
　また、本発明の第１実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、前記支持部材の前記研磨体が配置される部分が、前記アルミニウム基材と同じ材質からなることが好ましい。
　また、本発明の第１実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、前記工程（Ｉ）と前記工程（II）との間に、前記研磨体が前記アルミニウム基材からはみ出さないように前記研磨体を軸方向に相対的に移動させて研磨する工程（Ｉ’）をさらに有することが好ましい。
　また、本発明の第１実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の外周面に砥粒を供給しつつ前記研磨体で研磨し、かつ前記支持部材の表面上に残留した残留砥粒を除去することが好ましい。
　また、本発明の第１実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、化学機械研磨用の研磨液を供給し、かつ軸方向に移動する前記研磨体の後方で、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去することが好ましい。
　また、本発明の第１実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、前記研磨体を、前記アルミニウム基材の軸方向の第１の端部から第２の端部まで一方向に移動させることが好ましい。
　また、本発明の第１実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、さらに、軸方向に移動する前記研磨体の前方でも前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去することが好ましい。
　また、本発明の第１実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、前記研磨体の軸方向の両側で前記アルミニウム基材の外周面にガスを吹き付けることが好ましい。

　本発明の第２実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法は、円柱状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成された円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、軸回りに回転する前記アルミニウム基材とを相対的に移動させながら、前記研磨体で前記アルミニウム基材の外周面を擦って、前記アルミニウム基材の外周面全体を研磨する工程（Ｉ）と、前記工程（Ｉ）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（II）と、を有し、前記工程（Ｉ）では、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、化学機械研磨用の研磨液を供給し、かつ軸方向に移動する前記研磨体の後方で、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去する方法である。

　本発明の第２実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、前記研磨体を、前記アルミニウム基材の軸方向の第１の端部から第２の端部まで一方向に移動させることが好ましい。
　また、本発明の第２実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、さらに、軸方向に移動する前記研磨体の前方でも前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去することが好ましい。
　また、本発明の第２実施態様に基づく円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法では、前記研磨体の軸方向の両側で前記アルミニウム基材の外周面にガスを吹き付けることが好ましい。

　ところで、金属などの表面を切削加工などの刃物を用いた機械加工により鏡面化すると、加工表面に加工変質層が形成されることが知られている。本発明者らがさらに検討を重ねた結果、使用済みのモールドの酸化皮膜や傷を機械加工により除去した後に陽極酸化すると、細孔が不均一に分布した酸化皮膜が形成されやすいことが分かった。細孔が不均一に分布した状態のモールドを用いて微細凹凸構造を物品本体の表面に転写した場合、ヘイズが上昇しやすく、結果、反射率も高くなる。そのため、加工変質層を除去する必要があるが、陽極酸化するまでに手間や時間がかかり、コストの増加につながる。また、使用済みのモールドの酸化皮膜や傷を機械加工により除去した場合、切削スジ等の機械加工の痕跡が加工表面に残ってしまうため、機械加工の痕跡も陽極酸化する前に除去する必要がある。
　そこで、機械加工の痕跡や加工変質層が形成されないように使用済みモールドの酸化皮膜や傷を除去すれば、機械加工の痕跡や加工変質層を除去する手間が省け、しかも陽極酸化することで細孔が均一に分布した酸化皮膜が再形成されるとの着想に基づき、本発明を完成するに至った。

　すなわち、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法は、アルミニウム基材の表面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたナノインプリント用モールドの表面を研磨する研磨工程と、研磨された表面を陽極酸化して、アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜を再形成する酸化皮膜形成工程とを有する方法である。

　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、前記研磨工程は、複数の細孔を有するナノインプリント用モールドの表面の酸化皮膜を化学的に除去する処理を含むことが好ましい。
　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、クロム酸およびリン酸の混合溶液を用いて前記酸化皮膜を化学的に除去することが好ましい。
　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、前記研磨工程の前に、複数の細孔を表面に有するナノインプリント用モールドの表面に付着した樹脂を除去する樹脂除去工程を有することが好ましい。
　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、前記研磨工程において、酸化皮膜を化学的に除去した後に、前記アルミニウム基材を化学機械研磨することが好ましい。

　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、前記アルミニウム基材は、外形が円柱状であり、前記研磨工程は、前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、中心軸回りに回転する前記アルミニウム基材とを相対的に移動させながら、前記研磨体で前記アルミニウム基材の外周面を擦って、前記アルミニウム基材の外周面全体を研磨する工程（Ｉ）を有し、前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の中心軸方向の両端部に支持部材を配置し、前記研磨体の少なくとも一部が前記アルミニウム基材の軸方向の端部からはみ出すように、軸周りに回転する前記アルミニウム基材の外周面に対して前記研磨体を軸方向に相対的に移動させて研磨し、前記アルミニウム基材からはみ出した前記研磨体の少なくとも一部は、前記支持部材上に配置され、前記支持部材の前記研磨体が配置される部分の表面を前記アルミニウム基材の軸方向に対して垂直方向に切断した形状は、前記アルミニウム基材の外径と略同一またはそれ以下の直径の円周の少なくとも一部を構成する円弧状であることが好ましい。
　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、前記支持部材の前記研磨体が配置される部分の外形は、前記アルミニウム基材の外径の０．９７倍以上１倍以下の外径の円柱状の少なくとも一部を構成する形状であることが好ましい。
　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、前記研磨工程は、前記工程（Ｉ）の後に、前記研磨体が前記アルミニウム基材からはみ出さないように前記研磨体を軸方向に相対的に移動させて研磨する工程（Ｉ’）をさらに有することが好ましい。
　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、化学機械研磨用の研磨液を供給し、かつ軸方向に移動する前記研磨体の後方で、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去することが好ましい。
　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、前記研磨体を、前記アルミニウム基材の軸方向の第１の端部から第２の端部まで一方向に移動させることが好ましい。
　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、さらに、軸方向に移動する前記研磨体の前方でも前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去することが好ましい。
　また、本発明に基づくナノインプリント用再生モールドの製造方法では、前記研磨体の軸方向の両側で前記アルミニウム基材の外周面にガスを吹き付けることが好ましい。

　本発明の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法によれば、円柱状のアルミニウム基材の外周面が均一に研磨されており、該外周面をより有効に活用できる円柱状ナノインプリント用モールドを製造できる。
　また、本発明の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法によれば、酸性のＣＭＰスラリーを用いた１次ＣＭＰ研磨後における白化等のアルミニウム基材の外周面の変質を抑制でき、高い生産性でナノインプリント用モールドを製造できる。
　また、本発明のナノインプリント用再生モールドの製造方法によれば、使用済みのモールドを再利用して、低コストでナノインプリント用再生モールドを製造できる。

本発明の第１実施態様の製造方法における工程（Ｉ）の一例を示した斜視図である。図１に示した工程（Ｉ）の平面図である。図２におけるアルミニウム基材の第１の端部近傍の拡大図である。図２におけるアルミニウム基材の第２の端部近傍の拡大図である。第１の支持部材の外径がアルミニウム基材の外径よりも小さいときのアルミニウム基材の第１の端部近傍の拡大図である。アルミニウム基材の外径が第１の支持部材の外径よりも小さいときのアルミニウム基材の第１の端部近傍の拡大図である。本発明の第１実施態様の製造方法における工程（II）の一例を示した断面図である。本発明の第１実施態様の製造方法における工程（Ｉ）の他の態様を示した平面図である。本発明の第１実施態様の製造方法における工程（Ｉ）の他の態様を示した平面図である。本発明の第１実施態様の製造方法における工程（Ｉ）の他の態様を示した平面図である。円柱状のアルミニウム基材の外周面を研磨する様子を説明した平面図である。実施例１および比較例１における表面粗さの測定結果を示したグラフである。本発明の第１実施態様の製造方法における工程（Ｉ’）の一例を示した平面図である。本発明の第１実施態様の製造方法における工程（Ｉ）の他の態様を示した平面図である。本発明の第１実施態様の製造方法における工程（Ｉ）の他の態様を示した斜視図である。本発明の第１実施態様の製造方法における工程（Ｉ）の他の態様を示した平面図である。本発明の第２実施態様の製造方法における工程（Ｉ）の一例を示した斜視図である。図１７に示した工程（Ｉ）の平面図である。本発明の第２実施態様の製造方法における工程（Ｉ）の他の態様を示した平面図である。

　本明細書において、「細孔」とは、アルミニウム基材の表面の酸化皮膜に形成された微細凹凸構造の凹部のことをいう。
　「細孔の間隔」とは、隣接する細孔同士の中心間距離を意味する。
　「円柱状」とは、全体として円柱形状であることを意味し、円筒形状などの中空円柱形状や、複数の貫通孔が形成されているような形状も円柱状に含むものとする。
　「突起」とは、成形体の表面に形成された微細凹凸構造の凸部のことをいう。
　「微細凹凸構造」は、凸部または凹部の平均間隔が１０～４００ｎｍである構造を意味する。
　「機械研磨」とは物理的に加工表面を研磨して鏡面化することである。本発明において、物理的な研磨には「テープ研磨」「化学機械研磨（ＣＭＰ研磨）」も含まれる。
　「研磨レート」とは、単位時間当たりの研磨量のことである。
　「表面を仕上げる」とは、アルミニウム基材の表面の算術平均粗さが１５ｎｍ以下となるまで、鏡面化することである。

［円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法］
（第１実施態様）
　本発明の第１実施態様の円柱状ナノインプリント用モールド（以下、単に「モールド」という。）の製造方法は、円柱状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたモールドの製造方法である。
　以下、本発明の第１実施態様のモールドの製造方法の一例を示して説明する。本実施形態のモールドの製造方法は、下記の工程（Ｉ）および工程（II）を有する。
　（Ｉ）図１および図２に示すように、円柱状のアルミニウム基材１０の軸方向の長さＬ１よりも該軸方向に沿った長さＬ２が短い研磨体２６と、中心軸回りに回転するアルミニウム基材１０とを相対的に移動させながら、研磨体２６でアルミニウム基材１０の外周面１４を擦って、アルミニウム基材１０の外周面１４の全体を研磨する。
　（II）工程（Ｉ）の後に、陽極酸化によってアルミニウム基材１０の外周面１４に、複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する。

　また、本発明の第１実施態様の製造方法は、必要に応じて、下記の工程（Ｉ’）をさらに有していてもよい。
　（Ｉ’）工程（Ｉ）と工程（II）との間に、研磨体２６がアルミニウム基材１０からはみ出さないように研磨体２６を軸方向に相対的に移動させて研磨する。

＜工程（Ｉ）＞
　この例の工程（Ｉ）では、円柱状のアルミニウム基材１０を回転軸１６に設置する。また、回転軸１６におけるアルミニウム基材１０の軸方向の第１の端部１０ａ側に第１の支持部材１８を設置し、さらに回転軸１６におけるアルミニウム基材１０の軸方向の第２の端部１０ｂ側に第２の支持部材２０を設置する。第１の支持部材１８は、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａに隣接させる。第２の支持部材２０は、アルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂに隣接させる。
　また、回転軸１６における第１の支持部材１８と第２の支持部材２０のさらに外側には、それぞれ円盤状のストッパー２２，２４が設置される。

　この例の第１の支持部材１８および第２の支持部材２０は、外形が円柱状である。第１の支持部材１８および第２の支持部材２０は、回転軸１６によってアルミニウム基材１０が軸周りに回転されたときに、同時に回転するようになっている。
　また、第１の支持部材１８の外径ｄ１（図２）および第２の支持部材２０の外径ｄ２（図２）は、アルミニウム基材１０の外径Ｄ（図２）と同じになっている。これにより、後述のように第１の端部１０ａ側と第２の端部１０ｂ側で研磨体２６をはみ出させた際に、研磨体２６におけるそのはみ出した部分の少なくとも一部が、第１の支持部材１８および第２の支持部材２０上に配置され、それらによって支持される。
　このように、この例の第１の支持部材１８における研磨体２６が配置される部分の表面である外周面１８ａを軸方向に対して垂直方向に切断した形状は、アルミニウム基材１０の外径Ｄと同一の直径の円周の全部を構成する円状になっている。同様に、この例の第２の支持部材２０における研磨体２６が配置される部分の表面である外周面２０ａを軸方向に対して垂直方向に切断した形状は、アルミニウム基材１０の外径Ｄと同一の直径の円周の全部を構成する円状になっている。

　研磨手段１２は、帯状の研磨体２６と、研磨体２６をその長手方向に搬送する搬送ロール２８と、研磨液を供給する研磨液供給手段３０と、を有している。
　研磨体２６は、アルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＬ２（図２）が、アルミニウム基材１０の軸方向の長さＬ１（図２）よりも短くなっている。
　研磨体２６は、アルミニウム基材の表面を所望の状態まで研磨できるものであればよく、例えば、不織布タイプ、スウェードタイプの研磨パッド等が挙げられる。また、研磨体２６としては、ＳｉＣ粉末を耐久紙に埋め込んだ研磨紙、ダイヤモンド粉末を金属に埋め込んだ研磨盤等を用いてもよい。

　搬送ロール２８は、研磨体２６をアルミニウム基材１０の外周面１４に押し当てつつ、研磨体２６をその長手方向に搬送するようになっている。
　この例では、アルミニウム基材１０の外周面１４と研磨体２６とが接触する部分において、アルミニウム基材１０の回転方向と、研磨体２６が搬送される方向とが逆方向となるように、研磨体２６が搬送ロール２８によって搬送されるようになっている。

　研磨液供給手段３０は、研磨液を送液する配管３０ａと、配管３０ａの先端に設けられたノズル３０ｂと、を有している。研磨液供給手段３０は、アルミニウム基材１０の外周面１４と研磨体２６の間に研磨液を供給するように配置されている。

　研磨に用いる研磨液としては、アルミニウム基材１０の外周面１４を鏡面化する等の各種の目的に応じて適宜選択すればよく、アルミニウムの表面を研磨する際に用いられる公知の研磨液を用いることができる。
　研磨液としては、例えば、ＳｉＣ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２等の砥粒を含むスラリー、アルミニウムを腐食させる効果を有する酸性またはアルカリ性の溶液に砥粒が分散された化学機械研磨（ＣＭＰ）用の研磨液（ＣＭＰスラリー）等が挙げられる。なかでも、アルミニウム基材１０の外周面１４が機械加工によって粗い表面状態の場合には酸性のＣＭＰスラリー、鏡面に仕上げる場合にはアルカリ性のＣＭＰスラリーがそれぞれ研磨効率の点で好ましい。

　研磨手段１２は、アルミニウム基材１０の軸方向に移動できるようになっている。すなわち、アルミニウム基材１０の外周面１４に押し当てている研磨体２６を、アルミニウム基材１０の軸方向に移動させることで、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂにわたって外周面１４の全体を研磨できるようになっている。

　工程（Ｉ）では、アルミニウム基材１０を軸周りに回転させ、そのアルミニウム基材１０の外周面１４に研磨体２６を押し当てて擦りながら、研磨体２６を軸方向に移動させて、アルミニウム基材１０の外周面１４全体を研磨する。このとき、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側と第２の端部１０ｂ側において、研磨体２６の少なくとも一部がアルミニウム基材１０からはみ出すように、研磨体２６を移動させる。

　具体的には、図３に示すように、アルミニウム基材１０の外周面１４上を軸方向に第１の端部１０ａに向かって移動させてきた研磨体２６を、第２の端部１０ｂ側に引き返させる際に、研磨体２６の少なくとも一部をアルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから一旦はみ出させる。すなわち、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側で研磨体２６を引き返させる際に、研磨体２６がアルミニウム基材１０の第１の端部１０ａをオーバーランするようにする。
　ここで、研磨体２６におけるアルミニウム基材１０の第１の端部１０ａからはみ出した部分は、第１の支持部材１８の外周面１８ａ上に配置されることで、第１の支持部材１８の外周面１８ａに接する。この例では、第１の支持部材１８はアルミニウム基材１０と共に軸周りに回転する。そのため、研磨体２６におけるアルミニウム基材１０からはみ出した部分が押し当てられて擦られることで、第１の支持部材１８の外周面１８ａもアルミニウム基材１０の外周面１４と共に研磨される。

　同様に、図４に示すように、アルミニウム基材１０の外周面１４上を軸方向に第２の端部１０ｂに向かって移動させてきた研磨体２６を、第１の端部１０ａ側に引き返させる際に、研磨体２６の少なくとも一部をアルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂから一旦はみ出させる。すなわち、アルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂ側で研磨体２６を引き返させる際に、研磨体２６がアルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂをオーバーランするようにする。
　ここで、研磨体２６におけるアルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂからはみ出した部分は、第２の支持部材２０の外周面２０ａ上に配置されることで、第２の支持部材２０の外周面２０ａに接する。この例では、第２の支持部材２０もアルミニウム基材１０と共に軸周りに回転しているため、第２の支持部材２０の外周面２０ａも研磨体２６によって研磨される。

　本実施形態の工程（Ｉ）では、このように研磨体２６をアルミニウム基材１０の軸方向に移動させる際に、第１の端部１０ａ側と第２の端部１０ｂ側のそれぞれにおいて、研磨体２６の少なくとも一部をはみ出させるようにして往復させる。これにより、アルミニウム基材１０における第１の端部１０ａ近傍および第２の端部１０ｂ近傍の研磨時間と、中央部分の研磨時間との差が小さくなる。そのため、第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂまで、外周面１４の表面粗さの均一性が良好なアルミニウム基材１０が得られる。

　研磨体２６のアルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＬ２（図３）に対する、研磨体２６の第１の端部１０ａ側ではみ出させる部分のアルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＬ３（図３）の比（Ｌ３／Ｌ２）は、０．４以上が好ましく、０．５以上がより好ましい。Ｌ３／Ｌ２が下限以上であれば、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ近傍と中央部分とで研磨時間の差がより小さくなり、外周面１４の表面粗さがより均一になる。
　Ｌ３／Ｌ２の上限値は１である。Ｌ３／Ｌ２が１であるとは、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側において、研磨体２６が完全に第１の支持部材１８側にはみ出すことを意味する。Ｌ３／Ｌ２が１であれば、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ近傍と中央部分とで研磨時間の差をなくすことができるため、外周面１４の表面粗さがより均一になる。

　また、複数のアルミニウム基材１０の外周面１４を研磨する際に、第１の支持部材１８を取り換えずに継続使用する場合、第１の支持部材１８の外周面１８ａは継続的に研磨されるため、第１の支持部材１８の外径ｄ１がアルミニウム基材１０の外径Ｄよりも小さくなる可能性がある。この場合、第１の支持部材１８の外周面１８ａがアルミニウム基材１０の外周面１４よりも低くなって段差ができる。この状態において、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側で研磨体２６を完全にはみ出させると、研磨体２６をアルミニウム基材１０上に引き返させる際に、第１の支持部材１８とアルミニウム基材１０の段差部分で研磨体２６が引っ掛かるおそれがある。
　このことから、第１の支持部材１８を継続使用する場合では、Ｌ３／Ｌ２は、０．９以下が好ましく、０．８以下がより好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側で一部をはみ出させた研磨体２６を、よりスムーズに安定して引き返させることができるようになる。

　アルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂ側において研磨体２６をはみ出させる割合の好ましい態様も、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側と同様である。すなわち、研磨体２６のアルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＬ２（図４）に対する、研磨体２６の第２の端部１０ｂ側ではみ出させる部分のアルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＬ４（図４）の比（Ｌ４／Ｌ２）は、０．４以上が好ましく、０．５以上がより好ましい。Ｌ４／Ｌ２が下限以上であれば、アルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂ近傍と中央部分とで研磨時間の差がより小さくなり、外周面１４の表面粗さがより均一になる。
　Ｌ４／Ｌ２の上限値は１である。Ｌ４／Ｌ２が１であるとは、アルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂ側において、研磨体２６が完全に第２の支持部材２０側にはみ出すことを意味する。Ｌ４／Ｌ２が１であれば、アルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂ近傍と中央部分とで研磨時間の差をなくすことができるため、外周面１４の表面粗さがより均一になる。

　また、第２の支持部材２０を継続使用する場合、第１の支持部材１８の場合と同様に、第２の支持部材２０の外径ｄ２がアルミニウム基材１０の外径Ｄよりも小さくなる可能性がある。この場合は、Ｌ４／Ｌ２は、０．９以下が好ましく、０．８以下がより好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂ側で一部をはみ出させた研磨体２６を引き返させる際に、研磨体２６が第２の支持部材２０とアルミニウム基材１０の境界の段差部分に引っ掛かることを抑制できる。そのため、よりスムーズに安定して研磨体２６を引き返させることができるようになる。

　アルミニウム基材１０のアルミニウムの純度は、９９．５質量％以上が好ましく、９９．９質量％以上がより好ましい。アルミニウムの純度が下限値以上であれば、工程（II）において、規則性の高い細孔をより高い精度で形成することができる。

　アルミニウム基材１０は、純度の高いアルミニウムを用いた場合、円柱状に加工する際に、アルミニウム基材が柔らかすぎて加工しにくい場合がある。この場合は、アルミニウムにマグネシウムを添加して円柱状に加工したものを、アルミニウム基材１０として用いてもよい。マグネシウムを添加することで、アルミニウムの強度が高まるため加工しやすくなる。
　アルミニウムにマグネシウムを添加する場合、マグネシウムの添加量は、アルミニウム基材１０の総質量に対して０．０５～３質量％が好ましい。

　この例のように、第１の支持部材１８を円柱状として、第１の支持部材１８の外周面１８ａがアルミニウム基材１０の外周面１４と共に研磨されるようにする場合は、第１の支持部材１８の材質はアルミニウム基材１０の材質と同じにすることが好ましい。すなわち、第１の支持部材１８における研磨体２６が配置される部分の材質をアルミニウム基材の材質と同じにすることが好ましい。第１の支持部材１８において研磨体２６が配置されない部分がある場合は、その部分の材質はアルミニウム基材１０の材質と同じであってもよく、異なっていてもよい。
　これにより、第１の支持部材１８からアルミニウム基材１０よりも硬い削り屑が生じることを抑制できる。そのため、アルミニウム基材１０よりも硬い削り屑が研磨体２６とアルミニウム基材１０の外周面１４との間に入り込んで、外周面１４に傷が付くことを容易に抑制できる。
　また、第１の支持部材１８の材質がアルミニウム基材１０の材質と同じであれば、化学機械研磨（ＣＭＰ）を行う場合でも第１の支持部材１８とアルミニウム基材１０の腐食性が同程度になる。これにより、化学機械研磨の際に第１の支持部材１８とアルミニウム基材１０が同程度に研磨され、段差が生じ難くなる。そのため、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ近傍を軸方向の中央部分と同程度に研磨することが容易になる。

　第２の支持部材２０を円柱状として、第２の支持部材２０の外周面２０ａがアルミニウム基材１０の外周面１４と共に研磨されるようにする場合も、第１の支持部材１８の場合と同様の理由から、第２の支持部材２０の材質はアルミニウム基材１０の材質と同じにすることが好ましい。すなわち、第２の支持部材２０における研磨体２６が配置される部分の材質をアルミニウム基材の材質と同じにすることが好ましい。第２の支持部材２０において研磨体２６が配置されない部分がある場合は、その部分の材質はアルミニウム基材１０の材質と同じであってもよく、異なっていてもよい。
　なお、第１の支持部材１８および第２の支持部材２０における研磨体２６が配置される部分と、アルミニウム基材１０との材質は、完全に同一である必要はなく、硬さや研磨のされ具合が極端に異ならない程度に同じであればよい。第１の支持部材１８と第２の支持部材２０とは、少なくともその表面の純度が９９．５質量％以上のアルミニウムで形成されることが好ましく、純度が９９．９質量％以上のアルミニウムで形成されることがより好ましい。また、０．０５質量％～３質量％のマグネシウムが添加されていてもよい。

　この例では第１の支持部材１８の外径ｄ１とアルミニウム基材１０の外径Ｄが同じであるが、本発明では、第１の支持部材１８の外径ｄ１とアルミニウム基材１０の外径Ｄは異なる態様であってもよい。同様に、本発明では、第２の支持部材２０の外径ｄ２とアルミニウム基材１０の外径Ｄが異なる態様であってもよい。この場合も、第１の支持部材１８の外径ｄ１および第２の支持部材２０の外径ｄ２は、アルミニウム基材１０の外径Ｄと略同一またはそれ以下であることが好ましい。

　第１の支持部材１８の外径ｄ１がアルミニウム基材１０の外径Ｄよりも小さい場合、図５に示すように、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａにおいて、研磨体２６が第１の側端面１３に覆い被さるようにアルミニウム基材１０の中心軸に向かって変形する。このとき、研磨体２６によって、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａに局所的に大きな研磨圧力がかかりやすくなる。このように、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａに、軸方向の中央部分と比較して大きな研磨圧力が加わると、第１の端部１０ａが過度に研磨されて表面粗さが不均一になるおそれがある。
　このことから、第１の支持部材１８の外径ｄ１がアルミニウム基材１０の外径Ｄよりも小さい場合、第１の支持部材１８の外径ｄ１はアルミニウム基材１０の外径Ｄにできるだけ近いことが好ましい。また、第１の支持部材１８の外径ｄ１は、アルミニウム基材１０の外径Ｄと同等以下であることがより好ましい。

　また、第１の支持部材１８の外径ｄ１がアルミニウム基材１０の外径Ｄに比べて大きすぎると、図６に示すように、研磨体２６が第１の支持部材１８に乗り上がったときに、研磨体２６がアルミニウム基材１０の第１の端部１０ａに接触し難くなるおそれがある。また、研磨体２６が第１の支持部材１８上に乗り上がる際に研磨体２６自体に傷やよれが発生したり、研磨手段１２に過負荷が生じてしまうおそれがある。このことから、第１の支持部材１８の外径ｄ１がアルミニウム基材１０の外径Ｄよりも小さいことが好ましいが、大きい場合はアルミニウム基材１０の外周面１４と第１の支持部材１８の外周面１８ａの段差量（｛ｄ１－Ｄ｝÷２）を研磨体２６の厚み以下にすることが好ましい。

　アルミニウム基材１０の外径Ｄに対する第１の支持部材１８の外径ｄ１の比（ｄ１／Ｄ）は、前記した理由から、０．９７～１が好ましく、０．９９～１がより好ましい。ｄ１／Ｄが前記範囲内であれば、研磨によって表面粗さが均一な外周面１４を形成し易くなる。

　第１の支持部材１８の軸方向の長さＬ５（図３）は、研磨体２６の軸方向の長さＬ２（図３）と同等以上であることが好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側で研磨体２６を完全にアルミニウム基材１０からはみ出させても、研磨体２６の全体が第１の支持部材１８で支持されるため、研磨体２６が傷み難くなる。

　また、第２の支持部材２０の外径ｄ２の好ましい態様も、第１の支持部材１８の外径ｄ１の好ましい態様と同様である。
　具体的には、第２の支持部材２０の外径ｄ２がアルミニウム基材１０の外径Ｄよりも小さい場合、第２の支持部材２０の外径ｄ２はアルミニウム基材１０の外径Ｄにできるだけ近いことが好ましい。また、第２の支持部材２０の外径ｄ２は、アルミニウム基材１０の外径Ｄと同等以下であることがより好ましい。また、第２の支持部材２０の外径ｄ２がアルミニウム基材１０の外径Ｄよりも大きい場合も、第２の支持部材２０の外径ｄ２はアルミニウム基材１０の外径Ｄにできるだけ近いことが好ましい。
　また、アルミニウム基材１０の外径Ｄに対する第２の支持部材２０の外径ｄ２の比（ｄ２／Ｄ）は、０．９７～１が好ましく、０．９９～１がより好ましい。

　また、第２の支持部材２０の軸方向の長さＬ６（図４）は、研磨体２６の軸方向の長さＬ２（図３）と同等以上であることが好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂ側で研磨体２６を完全にアルミニウム基材１０からはみ出させても、研磨体２６の全体が第２の支持部材２０で支持されるため、研磨体２６が傷み難くなる。

　ストッパー２２，２４の形状は、円盤状には限定されず、アルミニウム基材１０の両側に第１の支持部材１８と第２の支持部材２０を設置した状態を保持できるものであればよい。
　また、ストッパー２２，２４の大きさも、アルミニウム基材１０、第１の支持部材１８および第２の支持部材２０よりも大きいものには限定されず、アルミニウム基材１０の両側に第１の支持部材１８と第２の支持部材２０を設置した状態を保持できる範囲であればよい。
　また、ストッパー２２，２４の材質は、腐食性のある研磨液に耐食性を持つものが好ましく、例えば、ステンレス；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等の樹脂等が挙げられる。

　アルミニウム基材１０の軸方向に沿った研磨体２６の移動速度は、一定にすることが好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４における軸方向の研磨時間を、第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂにわたって一定にしやすくなり、アルミニウム基材１０の外周面１４の表面粗さを均一にしやすくなる。なお、本発明の効果を損なわない範囲であれば、軸方向に沿った研磨体２６の移動速度を変化させてもよい。

　アルミニウム基材１０の外周面１４上で研磨体２６を軸方向に往復させる回数は、目的とする表面粗さ等の条件によって適宜設定すればよく、１回でもよく、２回以上でもよい。
　また、工程（Ｉ）では、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６が通過した部分において、付着した研磨液を洗浄除去しつつ研磨を行ってもよい。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨した部分で、研磨液によって腐食が生じる等の不具合が生じることを容易に抑制できる。
　工程（Ｉ）で研磨した後のアルミニウム基材１０の外周面１４は、鏡面化されていることが好ましい。

　工程（Ｉ）では、研磨後に、アルミニウム基材１０の外周面１４上に微細な研磨傷（スクラッチ）が残ることがある。該研磨傷が発生することがある要因は、以下のとおりである。
　図５に示すように、アルミニウム基材１０の外径Ｄが第１の支持部材１８の外径ｄ１より大きいと、研磨体２６が第１の端部１０ａまたは第２の端部１０ｂをオーバーランした際に、第１の支持部材１８とアルミニウム基材１０の段差部分で第１の支持部材１８と研磨体２６が離間して隙間４０が発生する。隙間４０では、研磨中に研磨液の砥粒分が残留し続け、残留砥粒同士が凝集して通常の砥粒より遥かに大きい凝集砥粒となる場合がある。また、該凝集砥粒は、オーバーランして第１の支持部材１８と接触した研磨体２６がアルミニウム基材１０上に戻る際に、研磨体２６に巻き込まれてアルミニウム基材１０上に持ち込まれることがある。凝集砥粒がアルミニウム基材１０上に持ち込まれると、該凝集砥粒によってアルミニウム基材１０の外周面１４に研磨傷が発生してしまう場合がある。

　図６に示すように、アルミニウム基材１０の外径Ｄが第１の支持部材１８の外径ｄ１よりも小さい場合も、研磨体２６が第１の端部１０ａまたは第２の端部１０ｂをオーバーランした際に、アルミニウム基材１０と研磨体２６が離間して隙間４２が発生する。そのため、この場合も同様に隙間４２に凝集砥粒が発生し、該凝集砥粒によりアルミニウム基材１０の外周面１４に研磨傷が発生してしまう場合がある。

　そのため、工程（１）では、図１４に示すように、第１の支持部材１８までオーバーランした研磨体２６がアルミニウム基材１０上に戻った際に、残留砥粒除去手段５０を用いて第１の支持部材１８の表面上に残留した凝集砥粒を除去するようにしてもよい。これにより、隙間４０、４２において残留砥粒が凝集することを抑制でき、その結果、研磨傷の発生を低減できる。

　残留砥粒除去手段５０としては、特に限定せず、例えば、水、洗剤、エア等の流体を用いた洗浄または吸引により残留砥粒を除去する手段、スポンジ等の接触式の除去手段、これらを組み合わせた手段等が挙げられる。
　水による洗浄については、使用する研磨液によっては第１の支持部材１８表面の研磨液の濃度変化により砥粒分の凝集が促進される可能性もあるため、使用する研磨液によって最適な手段を選定することが好ましい。

　アルミニウム基材１０の第２の端部１０ｂ側についても同様であり、第２の支持部材２０までオーバーランした研磨体２６がアルミニウム基材１０上に戻った際に、残留砥粒除去手段５０を用いて第２の支持部材２０の表面上に残留した凝集砥粒を除去するようにしてもよい。

＜工程（Ｉ’）＞
　工程（Ｉ）にてアルミニウム基材１０の外周面１４の全面を均一に研磨した後に、外周面１４に微細な研磨傷（スクラッチ）が残っている場合には、該研磨傷を無くして良好な外周面にするための追加研磨を行う必要がある。この場合は、工程（Ｉ）から、アルミニウム基材１０からはみ出さないように研磨体２６を軸方向に移動させて研磨を行う工程（Ｉ’）に切り替えることが好ましい。
　なお、工程（Ｉ）でアルミニウム基材１０の外周面１４の全面を鏡面に研磨した状態で、外周面１４に微細な研磨傷が発生してなければ工程（Ｉ’）を行う必要はない。

　工程（Ｉ’）では、図１３に示すように、研磨体２６の軸方向の往復移動はアルミニウム基材１０の長さＬ１の範囲内とし、第１の端部１０ａおよび第２の端部１０ｂから研磨体２６がはみ出さないように、すなわちオーバーランしないように研磨を行う。研磨体２６をオーバーランさせずに研磨を行うことで、アルミニウム基材１０と第１の支持部材１８との段差部分で前記した隙間４０、４２が発生しない。これにより、凝集砥粒が発生しなくなるため、工程（Ｉ’）で追加研磨を行うときに、新たな研磨傷を発生させずに良好な鏡面状態に研磨することができる。
　工程（Ｉ’）では、研磨体２６の、アルミニウム基材１０の軸方向に沿った往復移動の範囲が変わった以外は、工程（Ｉ）と同様の条件で研磨を行える。

　また、研磨傷の発生をより効率的に抑制する観点から、工程（Ｉ）および工程（Ｉ’）では、研磨液を供給する配管３０ａの途中に異物濾過用のフィルターを設けることが好ましい。フィルターの種類は、研磨液の砥粒径、腐食性のある研磨液に対する耐性、許容可能な研磨傷の大きさから最適なものを選定すればよい。

＜研磨液の洗浄＞
　工程（Ｉ）において、研磨液として酸性やアルカリ性のＣＭＰスラリーを用いる場合、該ＣＭＰスラリーがアルミニウム基材１０の外周面１４に長時間滞在すると、アルミニウム基材１０の外周面１４が変質して白化してしまい、研磨が進みにくくなってしまう現象が発生する場合がある。このような場合は、アルミニウム基材１０の外周面１４のうち、研磨が行われていない部分に存在する研磨液を除去することが好ましい。工程（Ｉ’）においても、ＣＭＰスラリーを用いる場合は同様に研磨液を除去することが好ましい。具体的には、軸方向に移動する研磨体の後方、または該研磨体の後方および前方の両方で洗浄により研磨液を除去することが好ましい。

　例えば、図１５に示すように、軸方向に移動する研磨体２６の後方において、第１の洗浄手段３１から洗浄液を供給してアルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄し、研磨液を除去する。第１の洗浄手段３１は、洗浄液を送液する配管３１ａと、配管３１ａの先端に設けられたノズル３１ｂと、を有している。第１の洗浄手段３１は、アルミニウム基材１０と研磨体２６の相対移動に追従して、アルミニウム基材１０の軸方向に相対移動するようになっている。
　アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨が終了した部分に付着している研磨液が、洗浄液によって洗浄されて除去されることで、アルミニウム基材１０の外周面１４には研磨後に研磨液が長時間にわたって残存しなくなる。そのため、アルミニウム基材１０の外周面１４が研磨液によって変質されることが抑制される。

　研磨体２６の後方でのアルミニウム基材１０の外周面１４の洗浄は、研磨体２６が通過してから直ぐに行うことが好ましい。すなわち、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６によって研磨した部分を直ぐに洗浄して、該部分から研磨液を除去することが好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨した部分が研磨液によって変質することを、より安定して抑制できる。

　また、研磨体２６の後方で、アルミニウム基材１０の外周面１４を連続的に洗浄しながら、研磨体２６を軸方向に移動させていくことがより好ましい。この例では、第１の洗浄手段３１が研磨体２６の直ぐ後ろを追従するようにして、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６が通過した部分に連続的に洗浄液を供給して洗浄を行うことが好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨した部分が研磨液によって変質することを、より安定して抑制できる。

　また、軸方向に移動する研磨体２６の後方の洗浄に加えて、軸方向に移動する研磨体２６の前方でも、第２の洗浄手段３３から洗浄液を供給してアルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄し、研磨液を除去することが好ましい。第２の洗浄手段３３は、洗浄液を送液する配管３３ａと、配管３３ａの先端に設けられたノズル３３ｂと、を有している。第２の洗浄手段３３は、研磨体２６の前方を、アルミニウム基材１０と研磨体２６の相対移動に応じて、アルミニウム基材１０の軸方向に相対移動するようになっている。
　研磨体２６の前方でもアルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄することで、研磨体２６による研磨の前に誤って付着した研磨液によってアルミニウム基材１０の外周面１４が変質することが抑制される。

　研磨体２６の前方でのアルミニウム基材１０の外周面１４の洗浄は、アルミニウム基材１０と研磨体２６の接触部分２７にできるだけ近い位置で行うことが好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨する前の部分が研磨液によって変質することを、より安定して抑制できる。

　また、研磨体２６の前方で、アルミニウム基材１０の外周面１４を連続的に洗浄しながら、研磨体２６を軸方向に移動させていくことがより好ましい。この例では、第２の洗浄手段３３が研磨体２６の前方を軸方向に移動するようにして、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６の前方の部分に連続的に洗浄液を供給して洗浄を行うことが好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨する前の部分が研磨液によって変質することを、より安定して抑制できる。

　洗浄液としては、アルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄することで、該外周面１４に付着した研磨液を除去できるものであればよく、例えば、水、アルコール、研磨液を中和する酸性またはアルカリ性溶液等が挙げられる。なかでも、洗浄液としては、アルミニウム基材の腐食等を防ぐ観点から、水が好ましい。

　また、第１のガス噴出手段３５および第２のガス噴出手段３７によって、研磨体２６の両側でアルミニウム基材１０の外周面１４にガスを吹き付ける。これにより、アルミニウム基材１０と研磨体２６の接触部分２７に供給した研磨液が、接触部分２７以外の部分に流れ出すことが抑制される。このように、ガスの吹き付けによって、アルミニウム基材１０の外周面１４における接触部分２７以外の部分に研磨液が付着することが抑制されることで、該研磨液によってアルミニウム基材１０の外周面１４が変質されることがより安定して抑制される。

　また、第１のガス噴出手段３５および第２のガス噴出手段３７から、アルミニウム基材１０の外周面１４における接触部分２７とそれ以外の部分とを分断するようにカーテン状にガスを吹き付けることで、洗浄液が接触部分２７に入り込むことも抑制できる。これにより、研磨時に洗浄液によって研磨液の組成が変化することを、より安定して抑制できる。

　アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６の両側に吹き付けるガスとしては、特に限定されず、例えば、窒素、二酸化炭素、空気等が挙げられる。なかでも、吹き付けるガスとしては、簡便に利用できる点から、空気が好ましい。

　このように、アルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄して研磨液を除去することは、アルミニウム基材１０における第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂまで、研磨体２６を軸方向に一方向に移動させる態様で特に有効である。
　具体的には、研磨体を一方向に移動させてアルミニウム基材の外周面全体を研磨する態様は、研磨体を軸方向に往復させて研磨を行う態様に比べて、同程度の研磨を行うには研磨体の軸方向の移動速度を遅くする必要がある。そのため、研磨体を一方向に移動させる態様では、アルミニウム基材における研磨を開始した側の端部に近い部分は、研磨体が通過してから研磨が終了するまでの時間が非常に長くなる。本発明では、アルミニウム基材の外周面における研磨体が通過した部分を洗浄して研磨液を除去するため、研磨体が通過してから研磨が終了するまでの時間が長くなっても、研磨液による変質を安定して抑制できる。

　なお、アルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄して研磨液を除去する場合でも、アルミニウム基材１０の外周面１４上で、研磨体２６を軸方向に往復させてもよい。この場合、研磨体２６を往復させる回数は、目的とする表面粗さ等の条件によって適宜設定すればよく、１回でもよく、２回以上でもよい。

　また、アルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄して研磨液を除去する場合の研磨の種類は、特に限定されない。例えば、アルミニウム基材１０の外周面１４に付いた傷を除去するための、比較的大きな粒子径の砥粒を含む研磨液を用いる粗研磨であってもよく、アルミニウム基材１０の外周面１４を鏡面化するための、比較的小さな粒子径の砥粒を含む研磨液を用いる仕上げ研磨であってもよく、その両方であってもよい。
　前記粗研磨では、酸性の研磨液が用いられることが多い。酸性の研磨液はアルミニウム基材を変質させやすいことから、本発明の製造方法は、酸性の研磨液が用いられる粗研磨を行う場合に特に有効である。

　なお、例えば、酸性の研磨液で粗研磨した後に、アルカリ性の研磨液で仕上げ研磨を行う場合、本発明の効果を損なわない範囲であれば、前記粗研磨において前記したように洗浄しつつ研磨を行い、仕上げ研磨においては洗浄を行わずに研磨を行ってもよい。

＜工程（II）＞
　工程（Ｉ）でアルミニウム基材１０の外周面１４を研磨した後に、陽極酸化によって外周面１４に、複数の細孔を有する酸化皮膜（陽極酸化ポーラスアルミナ）を形成する。前記酸化皮膜を形成する方法としては、例えば、下記工程（ａ）～（ｆ）を有する方法が挙げられる。
　（ａ）アルミニウム基材１０を電解液中において定電圧下で陽極酸化して、図７に示すように、アルミニウム基材１０の外周面１４に酸化皮膜３２を形成する。
　（ｂ）酸化皮膜３２の一部または全てを除去し、アルミニウム基材１０の外周面１４に陽極酸化の細孔発生点３４を形成する。
　（ｃ）アルミニウム基材１０を電解液中で再度陽極酸化し、細孔発生点３４に細孔３６を有する酸化皮膜３２を形成する。
　（ｄ）酸化皮膜３２の一部を除去し、細孔３６の径を拡大させる。
　（ｅ）工程（ｄ）の後、アルミニウム基材１０を電解液中で再度陽極酸化する。
　（ｆ）工程（ｄ）と工程（ｅ）を繰り返し行い、外周面１４に複数の細孔３６を有する酸化皮膜３２が形成された円柱状ナノインプリント用モールド１（以下、「モールド１」という。）を得る。

≪工程（ａ）≫
　アルミニウム基材１０を電解液中で、定電圧下で陽極酸化すると、外周面１４に、細孔３６を有する酸化皮膜３２が形成される。
　電解液としては、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等が挙げられる。

　電解液としてシュウ酸水溶液を用いる場合、シュウ酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．７Ｍ以下であれば、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜３２の表面が粗くなることを抑制しやすい。
　また、この場合、印加電圧は、３０～６０Ｖが好ましい。印加電圧が前記範囲内であれば、規則性の高い細孔３６を形成しやすい。
　また、電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」といわれる現象が起こることを抑制しやすくなるため、規則性の高い細孔３６を形成しやすい。

　電解液として硫酸水溶液を用いる場合、硫酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍ以下であれば、電流値が高くなりすぎることを抑制しやすくなるため、定電圧を維持しやすくなる。
　また、この場合、印加電圧は、２５～３０Ｖが好ましい。印加電圧が前記範囲内であれば、規則性の高い細孔３６を形成しやすい。
　また、電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がより好ましい。電解液の温度が３０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」といわれる現象が起こることを抑制しやすくなるため、規則性の高い細孔３６を形成しやすい。

≪工程（ｂ）≫
　酸化皮膜３２の一部または全てを一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点３４にする。これにより、細孔の規則性を高めることができる。酸化皮膜３２の全てを除去せずに一部を残した状態としても、酸化皮膜３２の残存した部分において規則性が充分に高くなっていれば、酸化皮膜除去による効果が得られる。
　酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸とリン酸の混合液等が挙げられる。

≪工程（ｃ）≫
　酸化皮膜３２の少なくとも一部を除去したアルミニウム基材１０を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３６を有する酸化皮膜３２が形成される。
　陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔３６を形成できる。工程（ｂ）の効果が失われない範囲であれば、工程（ｃ）での陽極酸化の電圧、電解液の種類、温度等は適宜調整できる。

≪工程（ｄ）≫
　細孔３６の径を拡大させる処理（以下、「細孔径拡大処理」という。）を行う。
　細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に、酸化皮膜を浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。酸化皮膜を溶解する溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
　細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。

≪工程（ｅ）≫
　工程（ｄ）の後に、アルミニウム基材１０を、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３６の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔３６がさらに形成される。
　陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔３６を形成できる。

≪工程（ｆ）≫
　工程（ｄ）の細孔径拡大処理と、工程（ｅ）の陽極酸化を繰り返すと、アルミニウム基材１０の外周面１４に、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔３６を有する酸化皮膜３２が形成されたモールド１が得られる。
　最後は工程（ｄ）で終わることが好ましい。

　工程（ｄ）と工程（ｅ）の繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が３回以上であれば、充分な直径の細孔３６を有する酸化皮膜３２が形成されたモールド１が得られやすい。そのため、モールド１によってモスアイ構造を転写した物品において、反射率低減効果等が得られやすい。

　細孔３６の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられる。なかでも、細孔３６の形状としては、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。

　細孔３６間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましい。細孔３６間の平均間隔は、２０ｎｍ以上が好ましい。
　細孔３６間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔３６間の間隔（細孔３６の中心から隣接する細孔３６の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。

　細孔３６の深さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０～５００ｎｍが好ましく、１２０～４００ｎｍがより好ましく、１５０～３００ｎｍが特に好ましい。
　細孔３６の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で観察したときにおける、細孔３６の最底部と、細孔３６間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。
　細孔３６のアスペクト比（細孔の深さ／細孔間の平均間隔）は、０．８～５．０が好ましく、１．２～４．０がより好ましく、１．５～３．０が特に好ましい。

　例えば、樹脂成形体の表面に、モールド１の外周面に形成した酸化皮膜３２を押し付けることにより、酸化皮膜３２に形成された細孔３６の形状と相補的な形状の突起からなる微細凹凸構造を表面に有する物品が得られる。

＜作用効果＞
　円柱状のアルミニウム基材の外周面全体を研磨する場合に、該アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが長い研磨体を用いることは、研磨体の入手容易性、研磨体の交換の作業性等を勘案すると現実的ではない。そのため、円柱状のアルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向の長さが短い研磨体を、軸方向に移動させつつアルミニウム基材の外周面全体を研磨することが現実的である。
　一方、一般に、基材の表面全体を研磨する際には、基材表面の端部近傍が過度に研磨されないようにすること、研磨体を傷み難くすること等の目的で、該研磨体が基材の表面からはみ出さないようにして研磨が行われる。しかし、円柱状のアルミニウム基材の外周面全体を研磨する際に、該外周面から研磨体をはみ出させないように研磨を行えば、前述したように該外周面における軸方向の端部近傍の研磨時間が中央部分の研磨時間に比べて短くなり、表面粗さが不均一になる。

　これに対して、前記した第１実施態様のモールド１の製造方法では、円柱状のアルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側と第２の端部１０ｂ側において、研磨体２６の少なくとも一部がアルミニウム基材１０からはみ出すように、研磨体２６を軸方向に移動させる。そのため、アルミニウム基材１０の外周面１４において、第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂにわたって研磨時間の差を小さくすることができる。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４が、第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂまで同程度に研磨されることになるため、外周面１４の表面粗さの均一性が良好になる。
　また、第１実施態様のモールド１の製造方法では、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側と第２の端部１０ｂ側において、研磨体２６の少なくとも一部をはみ出させた際に、その研磨体２６のはみ出した部分が第１の支持部材１８および第２の支持部材２０に接して支持されるようになっている。これにより、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａや第２の端部１０ｂに、研磨体２６によって局所的に過度な研磨圧力が加わることが抑制される。そのため、アルミニウム基材１０の外周面１４における第１の端部１０ａ近傍および第２の端部１０ｂ近傍が、軸方向の中央部分と同程度に研磨されることとなり、表面粗さの均一性が良好になる。

　以上のように、前記した第１実施態様のモールド１の製造方法によれば、円柱状のアルミニウム基材１０の外周面１４が均一に研磨され、該外周面１４をより有効に活用できるモールド１が得られる。
　また、本発明の第１実施態様の製造方法は、アルミニウム基材の軸方向の端部側で研磨体の接触時間が長くなるように研磨体の移動速度を制御して、アルミニウム基材の軸方向の研磨時間を均一にしようとする方法に比べて、制御が簡便であるうえ、より表面粗さの均一性が良好な研磨が可能である。

　また、円柱状のアルミニウム基材の外周面を、該アルミニウム基材よりも軸方向の長さが短い研磨体により、該研磨体を軸方向に移動させつつ研磨する場合、研磨を先に終えた部分でアルミニウム基材が変質して白化現象が生じることがある。これは、特に酸性の研磨液による粗研磨を行う場合に特に顕著である。このような白化現象は、研磨液によって、アルミニウム基材の外周面に酸化層（酸化アルミニウム層）が形成されることが要因であると推定される。
　また、アルミニウム基材における白化した部分は、それ以外の部分に比べて研磨によって削られ難い。そのため、アルミニウム基材の外周面に一旦白化が生じると、その白化部分を取り除いて鏡面化するには非常に長時間を要する。

　この場合は、前記した第１実施態様の製造方法において、アルミニウム基材１０の外周面１４を研磨する際に、軸方向に移動させる研磨体２６の前方、または前方と後方の両方で、アルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄して研磨液を除去する。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６によって研磨されていない部分は、研磨液と接している時間が短くなり、研磨液によって変質することが抑制される。このように、少なくとも研磨体２６の後方で洗浄によって研磨液を除去することで、研磨後のアルミニウム基材１０の外周面１４に、研磨液による白化現象等の変質が生じることが抑制される。そのため、高い生産性でモールドを製造することができる。

　なお、本発明の第１実施態様のモールドの製造方法は、前記したモールド１の製造方法には限定されない。
　例えば、工程（Ｉ）では、研磨体２６をアルミニウム基材１０の軸方向に沿って往復させなくてもよい。例えば、図８に示すように、研磨体２６の少なくとも一部が第１の支持部材１８側にはみ出している状態から、研磨体２６の少なくとも一部を第２の支持部材２０側にはみ出させるように、研磨体２６をアルミニウム基材１０の軸方向に第２の支持部材２０側に向かって１回だけ移動させる方法であってもよい。図８において、図３と同じ部分には同符号を付して説明を省略する。

　また、本発明の効果を損なわない範囲であれば、アルミニウム基材の軸方向の端部側に設置する支持部材と、アルミニウム基材とは離間していてもよい。例えば、図９に示すように、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側ではみ出させた研磨体２６の少なくとも一部が第１の支持部材１８上に配置され、第１の支持部材１８の外周面１８ａに接して支持される範囲であれば、第１の支持部材１８とアルミニウム基材１０とが離間していてもよい。図９において、図３と同じ部分には同符号を付して説明を省略する。
　本発明では、アルミニウム基材の軸方向の端部側に設置する支持部材と、アルミニウム基材とは隣接していることが好ましい。

　また、本発明では、支持部材を円柱状として、該支持部材の外周面をアルミニウム基材の外周面と共に研磨する態様には限定されない。
　例えば、図１０に例示したように、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側における、回転軸１６よりも研磨体２６側に、回転軸１６とは独立した回転しない第１の支持部材１８Ａを設置する態様であってもよい。図１０において、図３と同じ部分には同符号を付して説明を省略する。

　第１の支持部材１８Ａは、研磨体２６が接する表面１８ｂの形状がアルミニウム基材１０の外周面１４と同様の曲面形状になっており、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａからはみ出した研磨体２６を支持するようになっている。すなわち、第１の支持部材１８Ａの研磨体２６が配置される部分の表面１８ｂをアルミニウム基材１０の軸方向に対して垂直方向に切断した形状が、アルミニウム基材１０の外径と略同一またはそれ以下の直径の円周の一部を構成する円弧状となっている。また、第１の支持部材１８Ａは、回転軸１６によって回転せず、位置が固定されているため、アルミニウム基材１０からはみ出した研磨体２６が接しても研磨されない。

　第１の支持部材１８Ａの研磨体２６が配置される部分の外形は、アルミニウム基材１０の外径の０．９７倍以上１倍以下の外径の円柱状の一部を構成する形状が好ましく、アルミニウム基材１０の外径の０．９９倍以上１倍以下の外径の円柱状の一部を構成する形状がより好ましい。

　また、本発明の第１実施態様のモールドの製造方法は、アルミニウム基材の軸方向の両方の端部側にそれぞれ支持部材を設置し、その両方の端部側で研磨体の少なくとも一部をアルミニウム基材からはみ出させる態様には限定されない。
　例えば、本発明の第１実施態様のモールドの製造方法は、アルミニウム基材の軸方向の一方の端部側のみに支持部材を設置し、その端部側のみで研磨体の少なくとも一部がアルミニウム基材からはみ出すように該研磨体を移動させる方法であってもよい。この場合も、研磨体をはみ出させる端部側では軸方向の中央部分との研磨時間の差が小さくなるため、アルミニウム基材の外周面から研磨体を全くはみ出させない場合に比べて、アルミニウム基材の外周面の表面粗さの均一性が向上する。
　本発明の第１実施態様では、アルミニウム基材の外周面の表面粗さがより均一になり、該外周面をより有効に活用できる点から、アルミニウム基材の軸方向の両方の端部側にそれぞれ支持部材を設置し、その両方の端部側で研磨体の少なくとも一部をアルミニウム基材からはみ出させる方法が好ましい。

　また、本発明の第１実施態様の製造方法では、例えば、研磨体として、ＳｉＣ粉末を耐久紙に埋め込んだ研磨紙、ダイヤモンド粉末を金属に埋め込んだ研磨盤等を用いる場合等では、アルミニウム基材の外周面と研磨体との接触部分に研磨液を供給しない方法であってもよい。

　また、本発明の第１実施態様の製造方法は、アルミニウム基材の外周面に対して、研磨体を軸方向に相対的に移動させるものであればよく、研磨体を軸方向に移動させる態様には限定されない。例えば、研磨体の位置を固定した状態で、アルミニウム基材をその軸方向に移動させることで、アルミニウム基材の外周面に対して研磨体が軸方向に相対的に移動するようにしてもよい。また、アルミニウム基材と研磨体の両方を軸方向に移動させることで、アルミニウム基材の外周面に対して研磨体が軸方向に相対的に移動するようにしてもよい。

　また、本発明の第１実施態様の製造方法は、軸方向に移動させる研磨体の前方と後方の両方でアルミニウム基材の外周面を洗浄する方法としてもよく、研磨体の後方でアルミニウム基材の外周面を洗浄して研磨体の前方ではアルミニウム基材の外周面を洗浄しない方法としてもよい。アルミニウム基材における研磨体の後方の研磨した部分には研磨液が必ず付着しているのに対して、研磨体の前方の研磨前の部分には必ずしも研磨液が付着するとは限らない。また、アルミニウム基材の外周面における研磨体との接触部分に供給しようとした研磨液が、研磨体の前方に誤って付着する場合でも、その研磨液が付着する部分は前記接触部分から大きく離れていないことがほとんどである。そのため、アルミニウム基材の外周面における研磨体の前方に研磨液が付着しても、研磨体がその付着部分まで移動してくるまでの時間が短ければ、該研磨液による変質の影響は小さい。このように、研磨液による白化等の変質は、研磨体の後方において特に影響が大きいため、少なくとも研磨体の後方で洗浄を行えば、アルミニウム基材の変質は充分に抑制することができる。
　また、本発明の第１実施態様の製造方法は、軸方向に移動させる研磨体の前方と後方の両方でアルミニウム基材の外周面を洗浄しない方法としてもよい。

　また、本発明の第１実施態様の製造方法では、図１６に示すように、第１の洗浄手段３１および第２の洗浄手段３３の代わりに、アルミニウム基材１０の軸方向に等間隔に配置された複数の洗浄手段３９を用い、研磨体２６の軸方向への移動に合わせて、それぞれの洗浄手段３９から洗浄液を順次供給して、研磨体２６の後方、または研磨体２６の前方と後方で洗浄を行ってもよい。
　それぞれの洗浄手段３９は、洗浄液を送液する配管３９ａと、配管３９ａの先端に設けられたノズル３９ｂと、を有している。また、それぞれの洗浄手段３９は、位置が固定されている。

　また、本発明の第１実施態様の製造方法は、アルミニウム基材の外周面における研磨体の軸方向の両側に、ガスを吹き付けない方法であってもよい。
　また、本発明の第１実施態様の製造方法では、アルミニウム基材の外周面を洗浄する方法は、洗浄液によって洗浄する方法には限定されない。例えば、アルミニウム基材の外周面を洗浄する方法は、スポンジ等により研磨液をアルミニウム基材の外周面から除去する方法であってもよい。

（第２実施態様）
　本発明の第２実施態様のモールドの製造方法は、円柱状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたモールドの製造方法である。
　以下、本発明の第２実施態様のモールドの製造方法に用いる研磨装置の一例について説明する。

＜研磨装置＞
　本実施形態の研磨装置２は、図１７および図１８に示すように、研磨体２６と、擦動手段１５と、研磨液供給手段３０と、第１の洗浄手段３１と、第２の洗浄手段３３と、第１のガス噴出手段３５と、第２のガス噴出手段３７と、を有している。

　研磨体２６は、第１実施態様で説明したものと同じである。研磨体２６は、アルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＬ２（図１８）が、アルミニウム基材１０の軸方向の長さＬ１（図１８）よりも短くなっている。また、この例の研磨体２６は帯状であるが、研磨体２６は帯状には限定されない。

　擦動手段１５は、アルミニウム基材１０と研磨体２６とを擦動させる手段である。すなわち、アルミニウム基材１０の外周面１４に研磨体２６を当接させた状態で、それらを互いに擦り合わせるように動かす手段である。

　この例の擦動手段１５は、アルミニウム基材１０を設置する回転軸１６と、回転軸１６を軸周りに回転させる軸駆動部（図示せず）と、帯状の研磨体２６を搬送する搬送ロール２８と、搬送ロール２８を駆動するロール駆動部（図示せず）と、を有する。軸駆動部によって回転軸１６を軸周りに回転することで、アルミニウム基材１０が軸周りに回転されるようになっている。また、ロール駆動部によって搬送ロール２８を駆動することで、研磨体２６をアルミニウム基材１０の外周面１４に押し当てつつ、研磨体２６をその長手方向に搬送するようになっている。
　この例の擦動手段１５では、アルミニウム基材１０の外周面１４と研磨体２６とが接触する接触部分２７において、アルミニウム基材１０の回転方向と研磨体２６が搬送される方向とが逆方向となるように動かし、それらが互いに擦れ合うようにする。

　なお、擦動手段１５は、この態様には限定されない。例えば、搬送ロールおよびロール駆動部を設けず、研磨体２６を搬送せずに、アルミニウム基材１０を軸周りに回転させることのみでアルミニウム基材１０と研磨体２６とを擦動させる擦動手段としてもよい。

　また、研磨装置２では、移動手段（図示せず）によって、研磨体２６とアルミニウム基材１０とは、アルミニウム基材１０の軸方向に互いに相対的に移動できるようになっている。移動手段は、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂにわたって、アルミニウム基材１０の外周面１４に研磨体２６を押し当てた状態で、アルミニウム基材１０と研磨体２６とを、アルミニウム基材１０の軸方向に相対的に移動させるものである。
　このように、アルミニウム基材１０に対して研磨体２６を軸方向に移動させることで、アルミニウム基材１０の外周面１４全体を研磨体２６で研磨できるようになっている。

　前記移動手段は、研磨体２６のみを動かして、研磨体２６とアルミニウム基材１０とを軸方向に相対的に移動させる手段でもよく、アルミニウム基材１０のみを動かして、研磨体２６とアルミニウム基材１０とを軸方向に相対的に移動させる手段でもよく、研磨体２６とアルミニウム基材１０の両方を動かして、研磨体２６とアルミニウム基材１０とを軸方向に相対的に移動させるものでもよい。

　研磨液供給手段３０は、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６との接触部分２７、すなわちアルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６が当接される部分に研磨液を供給する手段である。
　研磨液供給手段３０は、例えば、研磨液を送液する配管３０ａと、配管３０ａの先端に設けられたノズル３０ｂと、を有している。研磨液供給手段３０は、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６との接触部分２７に研磨液を供給するように配置されており、アルミニウム基材１０と研磨体２６の相対移動に追従して相対移動するようになっている。
　研磨液供給手段３０は、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６との接触部分２７に研磨液を供給できるものであれば、前記した態様には限定されない。

　第１の洗浄手段３１は、軸方向に移動する研磨体２６の後方において、アルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄して研磨液を除去する手段である。研磨装置２では、第１の洗浄手段３１によって、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６が通過した部分、すなわち研磨が終了した部分が洗浄され、研磨液が除去されるようになっている。
　第１の洗浄手段３１は、研磨液の除去効率が高い点から、この例のように、アルミニウム基材１０の外周面１４に洗浄液を供給して研磨液を除去する手段であることが好ましい。

　具体的には、第１の洗浄手段３１は、洗浄液を送液する配管３１ａと、配管２６ａの先端に設けられたノズル３１ｂと、を有している。第１の洗浄手段３１は、アルミニウム基材１０の外周面１４における、軸方向に移動する研磨体２６の後方に洗浄液を供給するように配置されている。また、第１の洗浄手段３１は、アルミニウム基材１０と研磨体２６の相対移動に追従して、アルミニウム基材１０の軸方向に相対移動するようになっている。

　第２の洗浄手段３３は、軸方向に移動する研磨体２６の前方において、アルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄して研磨液を除去する手段である。研磨装置２では、第２の洗浄手段３３によって、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６により研磨される前の部分が洗浄され、この部分に誤って付着した研磨液が除去されるようになっている。
　第２の洗浄手段３３は、第１の洗浄手段３１と同様の理由から、この例のように、アルミニウム基材１０の外周面１４に洗浄液を供給して研磨液を除去する手段であることが好ましい。

　具体的には、第２の洗浄手段３３は、洗浄液を送液する配管３３ａと、配管３３ａの先端に設けられたノズル３３ｂと、を有している。第２の洗浄手段３３は、アルミニウム基材１０の外周面１４における、軸方向に移動する研磨体２６の前方に洗浄液を供給するように配置されている。また、第２の洗浄手段３３は、研磨体２６の前方を、アルミニウム基材１０と研磨体２６の相対移動に応じて、アルミニウム基材１０の軸方向に相対移動するようになっている。

　第１のガス噴出手段３５は、軸方向に移動する研磨体２６の後方で、アルミニウム基材１０の外周面１４における、研磨体２６との接触部分２７と、第１の洗浄手段３１から洗浄液が供給される部分との間に、ガスを噴出する手段である。研磨装置２では、第１のガス噴出手段３５によって、軸方向に移動する研磨体２６の後方でアルミニウム基材１０の外周面１４にガスを吹き付けることで、アルミニウム基材１０と研磨体２６の接触部分２７に供給した研磨液が、接触部分２７の後方に流れ出すことが抑制されるようになっている。

　また、この例の第１のガス噴出手段３５は、アルミニウム基材１０の外周面１４における、研磨体２６との接触部分２７と、第１の洗浄手段３１から洗浄液が供給される部分との間を分断するようにカーテン状にガスを吹き付けるようになっている。これにより、研磨時に接触部分２７に供給された研磨液に洗浄液が混入することが抑制され、研磨液の組成が変化することをより安定して抑制できる。

　第２のガス噴出手段３７は、軸方向に移動する研磨体２６の前方で、アルミニウム基材１０の外周面１４における、研磨体２６との接触部分２７と、第２の洗浄手段３３から洗浄液が供給される部分との間に、ガスを噴出する手段である。研磨装置２では、第２のガス噴出手段３７によって、軸方向に移動する研磨体２６の前方でアルミニウム基材１０の外周面１４にガスを吹き付けることで、アルミニウム基材１０と研磨体２６の接触部分２７に供給した研磨液が、接触部分２７の前方に流れ出すことが抑制されるようになっている。

　また、この例の第２のガス噴出手段３７は、第１のガス噴出手段３５と同様に、アルミニウム基材１０の外周面１４における、研磨体２６との接触部分２７と、第２の洗浄手段３３から洗浄液が供給される部分との間を分断するようにカーテン状にガスを吹き付けるようになっている。これにより、研磨時に接触部分２７に供給された研磨液に洗浄液が混入することが抑制され、研磨液の組成が変化することをより安定して抑制できる。

　以下、研磨装置２の作用について説明する。
　研磨装置２では、研磨対象であるアルミニウム基材１０を擦動手段１５の回転軸１６に設置し、軸駆動部によって回転軸１６を軸周りに回転させる。これにより、アルミニウム基材１０が軸周りに回転される。また、擦動手段１５のロール駆動部によって搬送ロール２８を駆動し、研磨体２６をその長さ方向に搬送する。このとき、アルミニウム基材１０の外周面１４と研磨体２６との接触部分２７において、アルミニウム基材１０の回転方向と研磨体２６が搬送される方向とが逆方向となるように、研磨体２６を搬送する。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４と研磨体２６とが接触部分２７で互いに擦れ合う。接触部分２７には、研磨液供給手段３０から研磨液が供給される。これにより、研磨液を利用して研磨体２６によってアルミニウム基材１０の外周面１４が研磨される。
　研磨装置２では、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから研磨が開始され、移動手段によって、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂにわたって、研磨体２６がアルミニウム基材１０の軸方向に相対的に移動される。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４全体が研磨体２６によって研磨される。

　また、研磨装置２では、第１の洗浄手段３１によって、アルミニウム基材１０の外周面１４における、研磨が終了した部分が洗浄され、研磨液が除去される。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４に、研磨後に長時間にわたって研磨液が残存しなくなるため、該研磨液によってアルミニウム基材１０が変質することが抑制される。
　また、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６よりも前方には、アルミニウム基材１０と研磨体２６の接触部分２７に供給しようとした研磨液が誤って付着する可能性がある。しかし、研磨装置２では、第２の洗浄手段３３によって、アルミニウム基材１０の外周面１４の研磨体２６よりも前方部分が洗浄されるため、この部分に研磨液が誤って付着したとしても該研磨液が除去される。そのため、研磨液によるアルミニウム基材１０の変質がより安定して抑制される。

　また、研磨装置２では、第１のガス噴出手段３５および第２のガス噴出手段３７によって、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６の前後にガスが吹付けられる。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４における、研磨体２６との接触部分２７以外の部分に研磨液が流れ出ることが抑制されるため、研磨液によるアルミニウム基材１０の変質がより安定して抑制される。また、ガスの吹き付けによって、洗浄液が研磨液に混入することも抑制できるため、研磨液の組成が変化し難く、より安定して研磨を行える。

　以上説明した研磨装置２では、洗浄手段によって、円柱状のアルミニウム基材の外周面における研磨液を洗浄除去することで、アルミニウム基材の外周面に研磨液が長時間にわたって残存しない。そのため、該研磨液によってアルミニウム基材の外周面が変質することを抑制できる。

　なお、本発明の第２実施態様の製造方法に用いる研磨装置は、前記した研磨装置２には限定されない。
　例えば、本発明の第２実施態様の製造方法に用いる研磨装置は、第２の洗浄手段３３を有さず、軸方向に移動させる研磨体の前方で基材の外周面を洗浄しない装置であってもよい。基材における研磨体の前方の研磨前の部分には必ずしも研磨液が付着するとは限らない。また、研磨体の前方に誤って付着する場合でも、その研磨液が付着する部分は前記接触部分から大きく離れていないことがほとんどであり、その部分は比較的短時間で研磨されることになる。そのため、研磨体の前方に誤って付着した研磨液による白化等の変質の悪影響は、研磨体の後方に残存する研磨液による悪影響に比べて生じ難く、第２の洗浄手段３３を有さなくても基材の変質は充分に抑制することができる。

　また、本発明の第２実施態様の製造方法に用いる研磨装置は、第１の洗浄手段３１や第２の洗浄手段３２が研磨体２６と共に軸方向に移動する態様には限定されない。例えば、図１９に例示した研磨装置３であってもよい。図１９における図１８と同じ部分には同符号を付して説明を省略する。
　研磨装置３は、第１の洗浄手段３１および第２の洗浄手段３３の代わりに、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂの範囲内に、軸方向に沿って複数の洗浄手段３９が等間隔に配置されている以外は、研磨装置２と同様の態様である。

　それぞれの洗浄手段３９は、洗浄液を送液する配管３９ａと、配管３９ａの先端に設けられたノズル３９ｂと、を有しており、位置が固定されている。
　研磨装置２では、研磨体２６の軸方向への移動に合わせて、それぞれの洗浄手段３９から洗浄液を順次供給して、研磨体２６の後方、または研磨体２６の前方と後方で洗浄を行って研磨液を除去する。

　また、本発明の第２実施態様の製造方法に用いる研磨装置は、第１のガス噴出手段３５および第２のガス噴出手段３７の一方または両方を有さない装置であってもよい。
　また、本発明の第２実施態様の製造方法に用いる研磨装置は、アルミニウム基材の外周面に洗浄液を供給する洗浄手段を有するものには限定されない。例えば、洗浄手段として、アルミニウム基材の外周面から研磨液を拭き取って除去するスポンジ等を備えた研磨装置であってもよい。
　また、本発明の第２実施態様の製造方法に用いる研磨装置は、研磨体を、円柱状のアルミニウム基材の軸方向に往復運動させて研磨を行う研磨装置であってもよい。

　また、研磨装置２、３において、アルミニウム基材１０の中心軸方向端部に、アルミニウム基材１０と略同一の径を有する支持部材を取り付けることで、前記した第１実施態様の製造方法に用いることができる。この場合、さらに、支持部材の表面上に残留した凝集砥粒を除去する残留砥粒除去手段を設けてもよい。

＜モールドの製造方法＞
　以下、本発明の第２実施態様のモールドの製造方法の一例として、研磨装置２を用いた製造方法について説明する。本実施形態のモールドの製造方法は、下記の工程（Ｉ）および工程（II）を有する。
　（Ｉ）図１および図２に示すように、研磨体２６と、軸周りに回転するアルミニウム基材１０とを軸方向に相対的に移動させながら、研磨体２６でアルミニウム基材１０の外周面１４を研磨する。
　（II）工程（Ｉ）の後に、陽極酸化によってアルミニウム基材１０の外周面１４に、複数の細孔を有する酸化皮膜を形成する。

［工程（Ｉ）］
　この例の工程（Ｉ）では、アルミニウム基材１０を軸周りに回転させ、そのアルミニウム基材１０の外周面１４に研磨体２６を押し当てて擦りながら、第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂまで研磨体２６を軸方向に移動させて、アルミニウム基材１０の外周面１４全体を研磨する。このとき、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６との接触部分２７には、研磨液供給手段３０から化学機械研磨用の研磨液を供給する。
　アルミニウム基材１０の軸方向に沿った研磨体２６の移動速度は、一定にしてもよく、変化させてもよい。

　化学機械研磨用の研磨液としては、アルミニウム基材１０の外周面１４が機械加工によって粗い表面状態の場合には酸性のＣＭＰスラリー、鏡面に仕上げる場合にはアルカリ性のＣＭＰスラリーがそれぞれ研磨効率の点で好ましい。

　軸方向に移動する研磨体２６の後方においては、第１の洗浄手段３１から洗浄液を供給してアルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄し、研磨液を除去する。
　本発明の第２実施態様の製造方法では、第１実施態様における研磨液を洗浄する場合と同様の理由から、研磨体２６の後方でのアルミニウム基材１０の外周面１４の洗浄は、研磨体２６が通過してから直ぐに行うことが好ましい。すなわち、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６によって研磨した部分を直ぐに洗浄して、該部分から研磨液を除去することが好ましい。
　また、研磨体２６の後方で、アルミニウム基材１０の外周面１４を連続的に洗浄しながら、研磨体２６を軸方向に移動させていくことがより好ましい。この例では、第１の洗浄手段３１が研磨体２６の直ぐ後ろを追従するようにして、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６が通過した部分に連続的に洗浄液を供給して洗浄を行うことが好ましい。

　この例では、軸方向に移動する研磨体２６の前方でも、第２の洗浄手段３３から洗浄液を供給してアルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄し、研磨液を除去する。このように、研磨体２６の前方でもアルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄することで、研磨体２６による研磨の前に誤って付着した研磨液によってアルミニウム基材１０の外周面１４が変質することが抑制される。

　本発明の第２実施態様の製造方法では、研磨体２６の前方でのアルミニウム基材１０の外周面１４の洗浄は、アルミニウム基材１０と研磨体２６の接触部分２７にできるだけ近い位置で行うことが好ましい。これにより、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨する前の部分が研磨液によって変質することを、より安定して抑制できる。

　また、第１実施態様における研磨液を洗浄する場合と同様の理由から、研磨体２６の前方で、アルミニウム基材１０の外周面１４を連続的に洗浄しながら、研磨体２６を軸方向に移動させていくことがより好ましい。この例では、第２の洗浄手段３３が研磨体２６の前方を軸方向に移動するようにして、アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６の前方の部分に連続的に洗浄液を供給して洗浄を行うことが好ましい。
　洗浄液としては、第１実施態様で挙げたものと同じものが挙げられ、好ましい態様も同じである。

　また、この例では、第１実施態様における研磨液を洗浄する場合と同様に、第１のガス噴出手段３５および第２のガス噴出手段３７によって、研磨体２６の両側でアルミニウム基材１０の外周面１４にガスを吹き付けて、供給した研磨液が接触部分２７以外の部分に流れ出すことを抑制する。また、第１のガス噴出手段３５および第２のガス噴出手段３７から、アルミニウム基材１０の外周面１４における接触部分２７とそれ以外の部分とを分断するようにカーテン状にガスを吹き付けることで、洗浄液が接触部分２７に入り込むことも抑制できる。
　アルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６の両側に吹き付けるガスとしては、第１実施態様で挙げたものと同じものが挙げられ、好ましい態様も同じである。

　第２実施態様のモールドの製造方法は、第１実施態様における研磨液を洗浄する場合と同様に、アルミニウム基材１０における第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂまで、研磨体２６を軸方向に一方向に移動させる態様で特に有効である。なお、アルミニウム基材１０の外周面１４上で、研磨体２６を軸方向に往復させてもよい。この場合、研磨体２６を往復させる回数は、目的とする表面粗さ等の条件によって適宜設定すればよく、１回でもよく、２回以上でもよい。

　また、工程（Ｉ）における研磨の種類は、特に限定されない。例えば、第１実施態様で挙げた粗研磨であってもよく、仕上げ研磨であってもよく、その両方であってもよい。酸性の研磨液はアルミニウム基材を変質させやすいことから、本発明の第２実施態様の製造方法は、酸性の研磨液が用いられる粗研磨を行う場合に特に有効である。
　本発明の第２実施態様の製造方法では、工程（Ｉ）で研磨した後のアルミニウム基材１０の外周面１４は、鏡面化されていることが好ましい。

　なお、本発明の第２実施態様の製造方法では、例えば、酸性の研磨液で粗研磨した後に、アルカリ性の研磨液で仕上げ研磨を行う場合、本発明の効果を損なわない範囲であれば、前記粗研磨において前記したように洗浄しつつ研磨を行い、仕上げ研磨においては洗浄を行わずに研磨を行ってもよい。

　本発明の第２実施態様の製造方法では、工程（Ｉ）の後に外周面１４に微細な研磨傷（スクラッチ）が残っている場合には、工程（Ｉ）と工程（II）の間に、第１実施態様で説明した工程（Ｉ’）を行うことが好ましい。

＜工程（II）＞
　本発明の第２実施態様の製造方法における工程（II）は、第１実施態様における工程（II）と同様に行える。

＜作用効果＞
　以上説明した本発明の第２実施態様の製造方法では、前記した第１実施態様における研磨液を洗浄する場合と同様に、研磨後のアルミニウム基材１０の外周面１４に、研磨液による白化現象等の変質が生じることが抑制される。そのため、高い生産性でモールドを製造することができる。

　なお、本発明の第２実施態様の製造方法は、前記した製造方法には限定されない。
　例えば、本発明の第２実施態様の製造方法は、軸方向に移動させる研磨体の前方でアルミニウム基材の外周面を洗浄しない方法としてもよい。
　また、本発明の第２実施態様の製造方法は、研磨装置３を用いる方法でもよい。該方法では、研磨体２６の軸方向への移動に合わせて、それぞれの洗浄手段３９から洗浄液を順次供給して、研磨体２６の後方、または研磨体２６の前方と後方で洗浄を行う。

　また、本発明の第２実施態様の製造方法は、アルミニウム基材の外周面における研磨体の軸方向の両側に、ガスを吹き付けない方法であってもよい。
　また、本発明の第２実施態様の製造方法では、アルミニウム基材の外周面を洗浄する方法は、洗浄液によって洗浄する方法には限定されない。例えば、アルミニウム基材の外周面を洗浄する方法は、スポンジ等により研磨液をアルミニウム基材表面から除去する方法であってもよい。

　また、本発明の第２実施態様の製造方法は、固定したアルミニウム基材の外周面に対して研磨体を軸方向に移動させてもよく、研磨体の位置を固定した状態でアルミニウム基材をその軸方向に移動させてもよく、アルミニウム基材と研磨体の両方を軸方向に移動させてもよい。

［ナノインプリント用再生モールドの製造方法］
　以下、本発明の一実施態様に基づいたナノインプリント用再生モールドの製造方法の一例について説明する。本実施形態のナノインプリント用再生モールドの製造方法は、研磨工程と酸化被膜形成工程とを有する。

（研磨工程）
　研磨工程は、使用済みのナノインプリント用モールド（以下、「使用済みのモールド」ともいう。）の表面を研磨する工程である。
　なお、使用済みのモールドとは、モールドを繰り返し使用することで、モールド表面に硬化性樹脂組成物が堆積したり、モールド表面に傷がついたり、微細凹凸構造が変形したりするなどして、所定の微細凹凸構造が転写されなくなったもの、モールド表面の傷が模様となって転写されたり、所望の性能の転写物を得ることができないモールドのことをいう。
　使用済みのモールドは、アルミニウム基材の表面に、複数の細孔を有する酸化皮膜、すなわち可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を有する酸化皮膜が形成されたものである。使用済みのモールドの形状については特に制限されず、円柱状（円管状（円筒状）も含む）、平板状、シート状等が挙げられる。

　研磨工程では、少なくとも酸化皮膜が除去されるまで研磨する。また、使用済みのモールドの表面に傷がついている場合には、この傷が除去されるまで研磨する。研磨により酸化皮膜や傷が除去されると、使用済みモールドの材料として用いたアルミニウム基材の状態に戻る。

　使用済みのモールドの表面を研磨する方法としては、酸化皮膜や傷を除去できれば特に制限されないが、機械研磨が好ましい。特に、研磨レートが段階的に低くなるように、使用済みのモールドの表面を複数回機械研磨することが好ましい。使用済みのモールドの表面を複数回研磨する場合、研磨レートの高い研磨により酸化皮膜や傷を除去し、研磨レートの低い研磨により研磨表面を仕上げていく。

　研磨レートが段階的に低くなるように研磨すれば、研磨レートの高い研磨のみで使用済みのモールドの表面を研磨する場合に比べて、研磨表面がより鏡面化されたアルミニウム基材が得られる。なお、研磨レートの低い研磨のみで使用済みのモールドの表面を研磨しても、研磨表面がより鏡面化されたアルミニウム基材が得られるが、研磨に時間がかかる。研磨レートが段階的に低くなるように研磨すれば、研磨表面がより鏡面化されたアルミニウム基材が短時間で得られる。

　研磨レートの高い研磨方法としては、テープ研磨などの固定砥粒研磨が挙げられる。また、化学機械研磨（ＣＭＰ研磨）などの遊離砥粒研磨で研磨レートの高い研磨を行う場合には、平均粒子径の大きな砥粒を用いればよい。具体的には、平均粒子径が０．５μｍ以上の砥粒を用いることが好ましく、より好ましくは１μｍ以上であり、さらに好ましくは３μｍ以上である。砥粒としては、Ａｌ_２Ｏ_３などが適している。
　砥粒の平均粒子径は、砥粒が水などの溶媒に分散したスラリーを動的光散乱法粒径分布測定装置やレーザー回折式粒径分布測定装置を用いることによって測定することができる。また、ＳＥＭやＴＥＭ等の電子顕微鏡で砥粒を直接観察して測定することもできる。

　研磨レートの低い研磨方法としては、ＣＭＰ研磨などの遊離砥粒研磨が挙げられる。平均粒子径の小さい砥粒を用いるほど、研磨レートが低くなる傾向にある。具体的には、平均粒子径が１μｍ未満の砥粒を用いることが好ましく、より好ましくは０．５μｍ未満であり、さらに好ましくは０．１μｍ以下である。砥粒としては、ＳｉＯ_２などが適している。

　研磨工程では、使用済みのモールドの表面を研磨レートの高い研磨方法で研磨した後に、研磨レートの低い研磨方法で研磨することが好ましい。特に、使用済みのモールドの表面を、研磨レートの高い研磨方法として固定砥粒研磨した後に、研磨レートの低い研磨方法としてＣＭＰ研磨することが好ましい。ここでのＣＭＰ研磨は、砥粒を替えて２回以上行うことが好ましい。
　固定砥粒研磨した後に２回以上のＣＭＰ研磨を行う場合、本発明では、固定砥粒研磨を「前処理研磨」、１回目のＣＭＰ研磨を「粗研磨」、２回目以降のＣＭＰ研磨を「仕上げ研磨」ともいう。

　また、研磨レートの高い研磨方法と研磨レートの低い研磨方法の両方をＣＭＰ研磨で行う場合、研磨工程では少なくとも２回のＣＭＰ研磨を行うことになる。この場合、ＣＭＰ研磨は砥粒を替えて３回以上行うことが好ましい。
　研磨レートの高い研磨方法と研磨レートの低い研磨方法の両方をＣＭＰ研磨で行い、かつ３回以上のＣＭＰ研磨を行う場合、本発明では、１回目のＣＭＰ研磨を「前処理研磨」、２回目のＣＭＰ研磨を「粗研磨」、３回目以降のＣＭＰ研磨を「仕上げ研磨」ともいう。

　ＣＭＰ研磨を２回以上行う場合、回数が増えるにつれて砥粒の平均粒子径が小さくなるように、砥粒を替えることが好ましい。

　固定砥粒研磨やＣＭＰ研磨により使用済みのモールドの表面を研磨する方法については特に制限されず、公知の方法を採用できる。また、公知の研磨装置を用いることもできる。
　ここで、ＣＭＰ研磨により使用済みのモールドの表面を研磨する方法については、円柱状のアルミニウム基材を有する使用済みのモールドの場合、上述の第１実施態様および第２実施態様の工程（Ｉ）や工程（Ｉ’）のような方法を用いることができる。

　使用済みのモールドの表面から酸化皮膜や傷が除去されたことを確認するには、電子顕微鏡を用いて確認すればよい。例えば使用済みのモールドの表面を研磨して得られたアルミニウム基材の縦断面または表面を１分間プラチナ蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡を用いて、断面または表面を観察し、酸化皮膜や傷の有無を確認する。

　なお、研磨工程は、機械研磨以外の方法（他の処理方法）で行ってもよいし、機械研磨と他の処理方法とを併用してもよい。ただし、切削加工や研削加工などの刃物を用いた機械加工の場合、上述したように、表面に加工変質層が形成されたり、切削スジ等の機械加工の痕跡が残ったりする。そのため、加工変質層や機械加工の痕跡を除去する必要があるが、陽極酸化するまでに手間や時間がかかり、コストの増加につながる。よって、本発明では、機械加工は行わない。
　他の処理方法として適している方法は、エッチング、電解研磨、化学研磨などである。
　機械研磨と他の処理方法とを併用する場合、その順序については制限されないが、他の処理方法で使用済みのモールドの表面をある程度処理した後に、機械研磨するのが好ましい。他の処理方法の後で機械研磨を行えば、研磨工程後のアルミニウム基材の表面がより鏡面化した状態で得られる。
　ただし、除去時間や作業性を考慮すると、研磨工程は機械研磨のみで行うことが好ましい。

（酸化皮膜形成工程）
　酸化皮膜形成工程は、第１実施態様の工程（II）と同様に行える。

（作用効果）
　上述したように、モールドを繰り返し使用すると、モールド表面に樹脂が堆積したり、モールド表面に傷がついたり、微細凹凸構造が変形したりして、モールドが寿命を迎える。
　しかし、本発明のナノインプリント用再生モールドの製造方法であれば、研磨工程において使用済みのモールドの表面を研磨して酸化皮膜を除去することで、モールド表面に堆積した樹脂はもちろんのこと、微細凹凸構造そのものを除去できる。また、モールド表面に傷がついている場合には、この傷も研磨により除去できる。このように研磨工程において使用済みのモールドの表面を研磨することで、モールドの材料、すなわち元のアルミニウム基材の状態に戻る。このアルミニウム基材を陽極酸化して、可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を有する酸化皮膜を再形成するので、使用済みのモールドを再利用してナノインプリント用モールドを製造できる。

　加えて、本発明のナノインプリント用再生モールドの製造方法では、酸化皮膜や傷を切削加工などの機械加工により除去するのではなく、研磨により除去するので、ヘイズ上昇の原因となる加工変質層や機械加工の痕跡がアルミニウム基材の表面に形成されるおそれがない。よって、加工変質層や機械加工の痕跡を除去する手間が省けるため、コストを削減できる。しかも、加工変質層がアルミニウム基材の表面に形成されないので、陽極酸化すると細孔が均一に分布した酸化皮膜を再形成できる。
　このように、本発明のナノインプリント用再生モールドの製造方法によれば、使用済みのモールドを再利用して、細孔が均一に分布した酸化皮膜を形成でき、ヘイズが低い物品を得ることができるナノインプリント用再生モールドを低コストで製造できる。

（他の実施形態）
　本発明のナノインプリント用再生モールドの製造方法では、研磨工程が、以下に説明する酸化皮膜除去処理や樹脂除去工程を有していてもよい。

＜酸化皮膜除去処理＞
　酸化皮膜除去処理は、研磨工程において、使用済みのモールドの表面の酸化皮膜を化学的に除去する処理である。
　モールドの表面に形成された酸化皮膜は、モールドの基材に用いられているアルミニウム材料と比較して硬度が高い場合が多い。このような硬質な酸化皮膜を研磨により除去しようとすると、加工時間が長くなってしまう場合がある。そのため、事前に酸化皮膜を化学的に除去しておけば、研磨工程で酸化皮膜を除去する研磨時間を短縮できる。本発明のナノインプリント用再生モールドの製造方法では、研磨工程において、酸化皮膜を化学的に除去した後に、アルミニウム基材を化学機械研磨することが好ましい。

　酸化皮膜を化学的に除去する方法としては、モールドのアルミニウム基材を溶解しにくく、酸化皮膜のみを選択的に溶解する溶液を用いて、酸化皮膜を溶解除去する方法が好ましい。このような溶液としては、クロム酸およびリン酸の混合溶液が好ましい。

　モールドは、通常、鏡面化と切削加工で発生した表面の加工変質層が除去された状態のアルミニウム基材を陽極酸化して製造される。よって、使用済みのモールドの表面の酸化皮膜を除去すれば、除去後の表面を陽極酸化して微細凹凸構造を有する酸化皮膜を再形成することもできる。
　しかし、酸化皮膜を化学的に除去すると、除去後のモールドの表面（すなわち、アルミニウム基材の表面）も僅かに溶解され、表面状態が悪化することとなる。また、使用済みのモールドの表面に傷がついている場合、酸化皮膜除去工程ではこの傷を十分に除去することはできない。
　よって、酸化皮膜除去工程の後には、上述した研磨工程を行う。酸化皮膜除去工程の後に研磨工程を行うことで、酸化皮膜除去工程にて除去しきれなかった酸化皮膜が残存している場合には、その酸化皮膜を研磨工程にて除去できる。また、使用済みのモールドの表面に傷がついている場合は、この傷も除去できる。さらに、酸化皮膜除去工程後のモールドの表面状態が悪化している場合には、その表面を平滑にできる。

　また、酸化皮膜がアルミニウム基材に用いられているアルミニウム材料よりも硬質である。そのため、表面に酸化皮膜が形成された円柱状のアルミニウム基材の外周面を、該アルミニウム基材よりも軸方向の長さが短い研磨体により、該研磨体を軸方向に移動させつつ研磨する場合、より長時間の研磨を要する場合が多い。すなわち、研磨に用いられる酸性またはアルカリ性の研磨液と、モールドとの接触時間が長くなる傾向にある。そのため、酸化皮膜が表面に形成されたモールドから研磨により酸化皮膜を除去しようとすると、アルミニウム基材が変質して白化現象が生じやすい傾向にあることを本願発明者らは見出した。

　アルミニウム基材における白化した部分は、それ以外の部分に比べて研磨によって削られ難い。そのため、アルミニウム基材の外周面に一旦白化が生じると、その白化部分を取り除いて鏡面化するには長時間を要する。その結果、硬質な酸化皮膜を除去するのに時間が必要であるのに加えて、白化部分の除去に長時間を要することから、再生モールドの製造に非常に長時間が必要となってしまう。

　これに対して、酸化皮膜を化学的に除去する方法を行ってから化学機械研磨等により、アルミニウム基材表面を研磨することにより、硬質な酸化皮膜を研磨で除去する時間が短縮される。そのため、研磨後のアルミニウム基材の外周面に、研磨液による白化現象等の変質が生じることが抑制される。その結果、高い生産性でナノインプリント用再生モールドを製造することができる。

＜樹脂除去工程＞
　樹脂除去工程は、酸化皮膜除去工程の前に、使用済みのモールドの表面に付着（堆積）した樹脂（光硬化性樹脂等）を除去する工程である。
　使用済みのモールド表面に樹脂が堆積している場合、酸化皮膜除去工程では樹脂を十分に除去できない。また、樹脂が酸化皮膜除去工程での酸化皮膜の化学的な除去の妨げになることもある。事前に樹脂を除去しておけば、酸化皮膜除去工程で酸化皮膜を容易に、かつ短時間で除去できる。
　樹脂を除去する方法としては、モールドのアルミニウム基材を溶解しにくく、樹脂のみを選択的に溶解する溶液を用いて、樹脂を洗浄除去する方法が好ましい。このような溶液は、樹脂の種類に応じて決定されるが、例えばアセトン、エタノールなどの溶剤が挙げられる。

　なお、本発明のナノインプリント用再生モールドの製造方法が酸化皮膜除去工程を有さない場合でも、研磨工程の前に、使用済みのモールドの表面に付着した樹脂を除去してもよい。
　研磨工程でも樹脂を除去することはできるが、事前に樹脂を除去しておけば、研磨工程で酸化皮膜を除去する研磨時間を短縮できる。

　以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。
［表面粗さ］
　各例におけるアルミニウム基材の外周面において、株式会社東京精密製の表面粗さ形状測定機ＳＵＲＦＣＯＭ１５００ＤＸにてＪＩＳ　Ｂ　０６０１：１９９４の規格に基づき、算術平均粗さＲａを測定した。
　また、各例で得られたレプリカの外周面において、株式会社東京精密製の表面粗さ形状測定機ＳＵＲＦＣＯＭ１５００ＤＸにてＪＩＳ　Ｂ　０６０１：１９９４に規定の方法により、算術平均粗さＲａを測定した。測定位置は、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから１０ｍｍの位置から、１０ｍｍ毎に７０ｍｍまでとした。

［実施例１］
　図１～４に示したように、円柱状のアルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側と第２の端部１０ｂ側にそれぞれ第１の支持部材１８および第２の支持部材２０を設置し、研磨手段１２によってアルミニウム基材１０の外周面１４全体を研磨した。
　アルミニウム基材１０としては、アルミニウムの純度が９９．９９％で、軸方向の長さＬ１が７００ｍｍの円柱状のアルミニウム基材を用いた。また、研磨体２６としては、アルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＬ２が１００ｍｍの研磨パッド（ポリエステル製不織布、発砲ポリウレタン製スウェード）を用いた。第１の支持部材１８および第２の支持部材２０としては、アルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さが１００ｍｍである、アルミニウム基材１０と同じ材質の円柱状のスリーブを用いた。アルミニウム基材１０の外径Ｄ、第１の支持部材１８の外径ｄ１、および第２の支持部材２０の外径ｄ２は同じとした。研磨スラリーとしては、平均粒径０．１μｍのＳｉＯ_２粒子を含むスラリーを用いた。
　研磨体２６を、軸方向に沿った移動速度を２０ｃｍ／分として往復させて、アルミニウム基材１０の外周面１４全体を研磨した。またアルミニウム基材１０の外周面１４における研磨体２６が通過した部分においては、研磨スラリーを純水で洗浄除去しながら研磨を行った。また、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側と第２の端部１０ｂ側において、研磨体２６をはみ出させる部分の軸方向の長さをそれぞれ７０ｍｍ（Ｌ３／Ｌ２＝Ｌ４／Ｌ２＝０．７）とした。

　研磨終了後、アルミニウム基材１０の外周面１４上に、光硬化性樹脂を塗工し、紫外線を照射することで硬化樹脂層を形成し、モールドのレプリカを作製した。光硬化性樹脂組成物としては、下記の表１の組成のものを用いた。

［比較例１］
　第１の支持部材１８および第２の支持部材２０を設置せず、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂの範囲で、研磨体２６がはみ出さないように研磨を行った以外は、実施例１と同様に研磨を行い、モールドのレプリカを作製した。
　実施例１および比較例１における表面粗さの測定結果を図１２に示す。

　図１２に示すように、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａ側と第２の端部１０ｂ側で研磨体２６の一部をはみ出させるようにして研磨した実施例１では、研磨体２６がアルミニウム基材１０からはみ出さないように研磨した比較例１に比べて、端部近傍の表面粗さが均一になっていた。

［参考例１］
　実施例１と同様にアルミニウム基材の研磨を行ったところ、アルミニウム基材の外周面に微細な研磨傷が発生した。この研磨傷を除去するため、実施例１と同様の研磨条件で、アルミニウム基材の研磨を継続した。実施例１と同様の研磨を３回繰り返し行ったところで、外周面に研磨傷もなく、端部近傍の表面粗さも均一となったアルミニウム基材を得ることができた。

［参考例２］
　実施例１と同様にアルミニウム基材の研磨を行ったところ、アルミニウム基材の外周面に微細な研磨傷が発生した。この研磨傷を除去するため、研磨体２６がアルミニウム基材１０からはみ出さないようにしてさらに研磨を行った。研磨体２６をオーバーランさせない以外の研磨条件は実施例１と同様とした。アルミニウム基材の研磨を継続したところ、実施例１と同様の研磨を１回行ったところで、外周面に研磨傷もなく、端部近傍の表面粗さも均一となったアルミニウム基材を得ることができた。

　参考例１と参考例２の比較から、アルミニウム基材１０の外周面全体を研磨した後、研磨傷を除去するために研磨を継続する場合には、研磨体２６がオーバーランしない条件で研磨を継続した方が、より短時間でアルミニウム基材１０の外周面の研磨を完了できることが分かった。

［実施例２］
　図１７および図１８に示したように、円柱状のアルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂまで研磨体２６を軸方向に一方向に移動させて、アルミニウム基材１０の外周面１４全体を、算術平均粗さＲａが２０ｎｍになるまで粗研磨した。
　アルミニウム基材１０としては、アルミニウムの純度が９９．９９％で、軸方向の長さＬ１が７００ｍｍの円柱状のアルミニウム基材を用いた。また、研磨体２６としては、アルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＬ２が１００ｍｍのポリエステル製不織布研磨パッドを用いた。研磨液としては、平均粒径１μｍのＡｌ_２Ｏ_３粒子を含む、ｐＨ２～６の酸性のスラリーを用いた。
　研磨体２６の軸方向に沿った移動速度を２０ｃｍ／分とし、研磨体２６の前方と後方でアルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄液により洗浄した。洗浄液としては、純水を用いた。研磨体２６の軸方向の前後におけるガスの吹き付けは行わなかった。
　粗研磨の後、研磨液として、平均粒径０．１μｍのＳｉＯ_２粒子を含むｐＨ８～１４のスラリーを用いる以外は、前記した粗研磨と同様にして算術平均粗さＲａが５ｎｍの鏡面となるまで仕上げ研磨を行った。
　粗研磨と仕上げ研磨に要した合計時間は１００分であった。

［比較例２］
　研磨体２６の前方と後方でアルミニウム基材１０の外周面１４を洗浄しなかった以外は、実施例２と同様にして粗研磨と仕上げ研磨を行った。
　粗研磨後にアルミニウム基材１０の外周面１４に白化現象が見られ、粗研磨と仕上げ研磨には合計で１７０分を要した。

［実施例３］
　表面に微細な凹凸を有する物品を連続的に生産した後に、アルミニウムの純度が９９．９％であるアルミニウム基材の酸化皮膜が形成されたモールドを、６質量％のリン酸と１．８質量％のクロム酸を混合した７０℃の水溶液中に浸漬して酸化皮膜を溶解除去した。その後、実施例２と同様の方法で、算術表面粗さが３０ｎｍとなるまでアルミニウム基材の表面を粗研磨した。粗研磨に要した時間は３５分であった。

　その後、実施例２と同様の方法でさらに仕上げ研磨を行い、後述する工程（ａ）～（ｅ）を行い、微細凹凸構造を形成した。
　工程（ａ）：
　０．３Ｍのシュウ酸水溶液を１５．７℃に温度調整し、これにアルミニウム基材を浸漬して、４０Ｖで３分間陽極酸化することで、細孔を有する酸化皮膜を形成した。

　工程（ｂ）：
　酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、６質量％のリン酸と１．８質量％のクロム酸を混合した７０℃の水溶液中に浸漬して酸化皮膜の少なくとも一部を溶解除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成した。

　工程（ｃ）：
　細孔発生点を露出させたアルミニウム基材を、再び工程（ａ）と同一条件下において、４０Ｖで６０秒間陽極酸化して、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜をアルミニウム基材の表面に再び形成した。

　工程（ｄ）：
　酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、５質量％リン酸の水溶液（３０℃）中に９分間浸漬して、酸化皮膜の細孔を拡大する孔径拡大処理を施した。

　工程（ｅ）：
　工程（ｄ）の後、酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、再び工程（ａ）と同一条件下において、４０Ｖで６０秒間陽極酸化した。

　工程（ｆ）：
　前記工程（ｄ）と前記工程（ｅ）をさらに交互に３回繰り返した後、最後に工程（ｄ）を行った。すなわち、工程（ｅ）を合計で４回行い、工程（ｄ）を合計で５回行った。

　その後、酸化皮膜を脱イオン水で洗浄し、さらに表面の水分をエアーブローで除去し、平均間隔１００ｎｍ、平均深さ約２００ｎｍの略円錐形状の細孔を有する酸化皮膜が形成された円柱状のナノインプリント用再生モールドを得た。このモールドを用いて、表面に微細な凹凸を有する物品を連続的に生産したところ、再生前と変わらず安定した品質の物品を連続的に得ることができた。

［実施例４］
　表面に微細な凹凸を有する物品を連続的に生産した後に、６質量％のリン酸と１．８質量％のクロム酸を混合した７０℃の水溶液中に浸漬せずに、実施例２と同様の方法で算術平均粗さが３０ｎｍに達するまでアルミニウム基材を粗研磨した。粗研磨に要した時間は７０分であった。

　その後、実施例３と同様にナノインプリント用再生モールドを製造した。このモールドを用いて、表面に微細な凹凸を有する物品を連続的に生産したところ、再生前と変わらず安定した品質の物品を連続的に得ることができた。

　１　円柱状ナノインプリント用モールド
　２、３　研磨装置
　１０　アルミニウム基材
　１０ａ　第１の端部
　１０ｂ　第２の端部
　１２　研磨手段
　１４　外周面
　１５　擦動手段
　１６　回転軸
　１８　第１の支持部材
　２０　第２の支持部材
　２６　研磨体
　２８　搬送ロール
　３０　研磨液供給手段
　３１　第１の洗浄手段
　３３　第２の洗浄手段
　３５　第１のガス噴出手段
　３７　第２のガス噴出手段
　３９　洗浄手段
　５０　残留砥粒除去手段
　３２　酸化皮膜
　３６　細孔
　４０、４２　隙間

Claims

　円柱状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成された円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、
　前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、中心軸回りに回転する前記アルミニウム基材とを相対的に移動させながら、前記研磨体で前記アルミニウム基材の外周面を擦って、前記アルミニウム基材の外周面全体を研磨する工程（Ｉ）と、
　前記工程（Ｉ）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（II）と、を有し、
　前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の中心軸方向の両端部に支持部材を配置し、前記研磨体の少なくとも一部が前記アルミニウム基材の軸方向の端部からはみ出すように、軸周りに回転する前記アルミニウム基材の外周面に対して前記研磨体を軸方向に相対的に移動させて研磨し、
　前記アルミニウム基材からはみ出した前記研磨体の少なくとも一部は、前記支持部材上に配置され、
　前記支持部材の前記研磨体が配置される部分の表面を前記アルミニウム基材の軸方向に対して垂直方向に切断した形状は、前記アルミニウム基材の外径と略同一またはそれ以下の直径の円周の少なくとも一部を構成する円弧状である、円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記支持部材の前記研磨体が配置される部分の外形は、前記アルミニウム基材の外径の０．９７倍以上１倍以下の外径の円柱状の少なくとも一部を構成する形状である、請求項１に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記支持部材は、外形が円柱状である、請求項２に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記支持部材の前記研磨体が配置される部分が、前記アルミニウム基材と同じ材質からなる、請求項１に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記工程（Ｉ）と前記工程（II）との間に、前記研磨体が前記アルミニウム基材からはみ出さないように前記研磨体を軸方向に相対的に移動させて研磨する工程（Ｉ’）をさらに有する、請求項１に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の外周面に砥粒を供給しつつ前記研磨体で研磨し、かつ前記支持部材の表面上に残留した残留砥粒を除去する、請求項１に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、化学機械研磨用の研磨液を供給し、かつ軸方向に移動する前記研磨体の後方で、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去する、請求項１に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記研磨体を、前記アルミニウム基材の軸方向の第１の端部から第２の端部まで一方向に移動させる、請求項７に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　さらに、軸方向に移動する前記研磨体の前方でも前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去する、請求項７に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記研磨体の軸方向の両側で前記アルミニウム基材の外周面にガスを吹き付ける、請求項７に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　円柱状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成された円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、
　前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、軸回りに回転する前記アルミニウム基材とを相対的に移動させながら、前記研磨体で前記アルミニウム基材の外周面を擦って、前記アルミニウム基材の外周面全体を研磨する工程（Ｉ）と、
　前記工程（Ｉ）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（II）と、を有し、
　前記工程（Ｉ）では、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、化学機械研磨用の研磨液を供給し、かつ軸方向に移動する前記研磨体の後方で、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去する、円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記研磨体を、前記アルミニウム基材の軸方向の第１の端部から第２の端部まで一方向に移動させる、請求項１１に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　さらに、軸方向に移動する前記研磨体の前方でも前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去する、請求項１１に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　前記研磨体の軸方向の両側で前記アルミニウム基材の外周面にガスを吹き付ける、請求項１１に記載の円柱状ナノインプリント用モールドの製造方法。
　アルミニウム基材の表面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたナノインプリント用モールドの表面を研磨する研磨工程と、
　研磨された表面を陽極酸化して、アルミニウム基材の表面に複数の細孔を有する酸化皮膜を再形成する酸化皮膜形成工程とを有する、ナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　前記研磨工程は、複数の細孔を有するナノインプリント用モールドの表面の酸化皮膜を化学的に除去する処理を含む、請求項１５に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　クロム酸およびリン酸の混合溶液を用いて前記酸化皮膜を化学的に除去する、請求項１６に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　前記研磨工程の前に、複数の細孔を表面に有するナノインプリント用モールドの表面に付着した樹脂を除去する樹脂除去工程を有する、請求項１６または１７に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　前記研磨工程において、酸化皮膜を化学的に除去した後に、前記アルミニウム基材を化学機械研磨する、請求項１６に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　前記アルミニウム基材は、外形が円柱状であり、
　前記研磨工程は、前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、中心軸回りに回転する前記アルミニウム基材とを相対的に移動させながら、前記研磨体で前記アルミニウム基材の外周面を擦って、前記アルミニウム基材の外周面全体を研磨する工程（Ｉ）を有し、
　前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の中心軸方向の両端部に支持部材を配置し、前記研磨体の少なくとも一部が前記アルミニウム基材の軸方向の端部からはみ出すように、軸周りに回転する前記アルミニウム基材の外周面に対して前記研磨体を軸方向に相対的に移動させて研磨し、
　前記アルミニウム基材からはみ出した前記研磨体の少なくとも一部は、前記支持部材上に配置され、
　前記支持部材の前記研磨体が配置される部分の表面を前記アルミニウム基材の軸方向に対して垂直方向に切断した形状は、前記アルミニウム基材の外径と略同一またはそれ以下の直径の円周の少なくとも一部を構成する円弧状である、請求項１９に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　前記支持部材の前記研磨体が配置される部分の外形は、前記アルミニウム基材の外径の０．９７倍以上１倍以下の外径の円柱状の少なくとも一部を構成する形状である、請求項２０に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　前記研磨工程は、前記工程（Ｉ）の後に、前記研磨体が前記アルミニウム基材からはみ出さないように前記研磨体を軸方向に相対的に移動させて研磨する工程（Ｉ’）をさらに有する、請求項２０または２１に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　前記工程（Ｉ）において、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、化学機械研磨用の研磨液を供給し、かつ軸方向に移動する前記研磨体の後方で、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去する、請求項２０に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　前記研磨体を、前記アルミニウム基材の軸方向の第１の端部から第２の端部まで一方向に移動させる、請求項２３に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　さらに、軸方向に移動する前記研磨体の前方でも前記アルミニウム基材の外周面を洗浄して前記研磨液を除去する、請求項２４に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。
　前記研磨体の軸方向の両側で前記アルミニウム基材の外周面にガスを吹き付ける、請求項２５に記載のナノインプリント用再生モールドの製造方法。