CN108138331B - 基材的表面处理方法以及模具的制造方法 - Google Patents

Abstract

对圆柱状或圆筒状的基材(12)的表面进行处理的方法包含：(a)在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式对基材进行了配置的状态下，以基材的长轴为中心使所述基材旋转的工序；以及(b)使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽(51)所收容的第一蚀刻液(E1)接触的工序。

Description

基材的表面处理方法以及模具的制造方法

技术领域

本发明涉及一种基材的表面处理方法以及模具的制造方法。在此所说的“模具”，包含各种加工方法(冲压、浇铸)所使用的模具，也可称作压模。此外，还能够用于印刷(包含纳米印刷)。

背景技术

对于电视、便携式电话等所使用的显示装置、照相机透镜等的光学元件，通常为了降低表面反射提高光的透过量而实施了防反射技术。例如，这是因为像光入射到空气与玻璃的界面时那样，在光穿过折射率不同的介质的界面的情况下，因菲涅尔反射等而光的透过量降低，可见性下降。

近年来，作为防反射技术，将凹凸的周期被控制在可视光(λ＝380nm～780nm)的波长以下的微细的凹凸图案形成于基板表面的方法受到关注(参照专利文献1至3)。构成表现出防反射功能的凹凸图案的凸部的二维的大小为10nm以上且小于500nm。在此，凸部的“二维的大小”是指，从表面的法线方向观察时的凸部的面积当量圆直径，例如在凸部为圆锥形的情况下，凸部的二维的大小相当于圆锥的底面的直径。凹部的“二维的大小”也是相同的。

该方法为，利用了所谓的蛾眼(Moth-eye、蛾的眼睛)构造的原理的方法，通过使相对于入射至基板的光的折射率沿着凹凸的深度方向从入射介质的折射率到基板的折射率连续地发生变化而抑制欲防止反射的波长区域的反射。

蛾眼构造除了能够发挥遍及较广的波长区域而入射角依赖性较小的防反射作用以外，还具有能够应用于较多的材料，能够将凹凸图案直接形成于基板等优点。其结果为，能够以低成本提供高性能的防反射膜(或防反射表面)。

本申请人开发了作为具有蛾眼构造的防反射膜(或防反射表面)的制造方法，使用通过对铝进行阳极氧化而获得的阳极氧化多孔氧化铝层的方法(专利文献2以及3)。

通过利用阳极氧化多孔氧化铝膜，能够容易地制造用于将蛾眼构造形成于表面的模具(以下，称作“蛾眼用模具”。)。特别是，如专利文献2以及3所述，当将铝的阳极氧化膜的表面直接用作模具时，降低制造成本的效果较好。将能够形成蛾眼构造的蛾眼用模具的表面的构造称作“翻转的蛾眼构造”。

此外，如专利文献1至4所述，除蛾眼构造(微细构造)以外，通过设置比蛾眼构造大的凹凸构造(粗大构造)，能够对防反射膜(防反射表面)赋予防眩(antiglare)功能。构成发挥防眩功能的凹凸构造(有时称作“防眩构造”。)的凸部或凹部的二维的大小为200nm以上且小于100μm。此外，将能够形成防眩构造的模具的表面的构造称作“翻转的防眩构造”。为了参照专利文献1至4所公开的全部内容而将其援引到本说明书中。

需要说明的是，在本说明书中，将构成蛾眼构造(或翻转的蛾眼构造)的凹凸称作微细的凹凸，将构成防眩构造(或翻转的防眩构造)的凹凸称作粗大的凹凸。粗大的凹凸的二维的大小的范围与微细的凹凸的二维的大小的范围局部地重叠，但是，在具有防眩功能的防反射膜(防反射表面)中，构成防眩构造的凹凸构造大于构成表现出防反射功能的蛾眼构造的凹凸构造。

现有技术文献

专利文件

专利文献1：日本特表2001-517319号公报

专利文献2：日本特表2003-531962号公报

专利文献3：国际公开第2011/055757号

专利文献4：国际公开第2013/146656号

发明内容

本发明所要解决的技术问题

对于高效地制造用于形成具有适度的防眩功能的防反射膜(或防反射表面)的模具的方法，探索了各种各样的方法。

例如，对于专利文献1所述的喷砂法，再现性良好地形成赋予防眩功能的期望的粗大的凹凸构造较为困难。此外，在专利文献3所述的阴极电解法中，有时无法形成能够充分地发挥防眩功能的粗大的凹凸构造。

而且，通过专利文献4所述的电镀而形成的、反映出没有树脂层的平坦部的连续的粗大的凹凸构造的表面，存在有图像模糊这样的问题。近年，随着显示装置的高清晰化的进展，而谋求具有图像的模糊得到抑制的适度的防眩功能的防反射膜。

本发明者在对通过辊对辊方式制造具有适度的防眩功能和适度和镜面反射性的防反射膜(或防反射表面)的方法进行研究时，发现了在圆筒状的模具基材的表面均匀地形成翻转的防眩构造较为困难这样的问题。该问题在对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理的技术中是共同的问题。

本发明的目的在于，提供一种能够对圆柱状或圆筒状的基材的表面实施消除不匀处理的方法。

解决问题的手段

由本发明的实施方式实施的基材的表面处理方法，对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理，(a)在配置有所述基材的状态下，以所述基材的长轴为中心使所述基材旋转，使得所述基材的长轴方向与水平方向大致平行的工序；以及(b)使所述基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽所收容的第一蚀刻液接触的工序。

在某实施方式中，还包含将与所述第一蚀刻液相同的第二蚀刻液吹送至所述基材的外周面的工序(c)。

在某实施方式中，所述工序(c)与所述工序(b)同时实施，所述第二蚀刻液被吹送至所述基材的外周面中的、与所述第一蚀刻液接触的部位的附近。

在某实施方式中，所述工序(c)与所述工序(a)同时实施，在所述第二蚀刻液被吹送至所述基材的外周面中的、与所述第一蚀刻液接触的部位的附近，且在所述工序(a)中以远离所述第一蚀刻液的方式被吹送至旋转的部位。

在某实施方式中，所述工序(c)中，所述第二蚀刻液被喷出的角度从铅直方向倾斜45°以上且小于90°。

在某实施方式中，所述基材为，由Al-Mg-Si系的铝合金形成并被实施了机械镜面加工的铝基材。

在某实施方式中，所述第一蚀刻液为，包含氟化氢与铵的盐的水溶液。

在某实施方式中，所述氟化氢与铵的盐为氟化铵。

还包含：在所述工序(b)之前，使所述基材的外周面的一部分与不同于所述第一蚀刻液的第三蚀刻液接触的工序(b1)，所述第三蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率低于所述第一蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率。

在某实施方式中，所述第三蚀刻液为将所述第一蚀刻液稀释而得到的蚀刻液。

在某实施方式中，所述第三蚀刻液的温度低于所述第一蚀刻液。

在某实施方式中，所述第三蚀刻液被收容在不同于所述第一蚀刻槽的第二蚀刻槽。

在某实施方式中，所述第三蚀刻液被收容在所述第一蚀刻槽。

在某实施方式中，还包含：在所述工序(b)之后，使所述基材的外周面的一部分与不同于所述第一蚀刻液的第四蚀刻液接触的工序(b2)，所述第四蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率低于所述第一蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率。

在某实施方式中，所述第四蚀刻液为与所述第三蚀刻液相同的蚀刻液。

在某实施方式中，所述工序(a)中，所述基材的圆周速度为超过0m/s且0.03m/s以下。

在某实施方式中，所述工序(a)中，所述基材的旋转速度为超过0rpm且2rpm以下。

由本发明的实施方式实施的模具的制造方法，包含：(A)准备由Al-Mg-Si系的铝合金形成的圆筒状的铝基材且被实施了机械镜面加工的铝基材的工序；(B)利用权利要求1至17中任一项所述的表面处理方法对所述铝基材的表面进行处理的工序；(C)在所述工序(B)之后，通过在所述铝基材的所述表面形成无机材料层，在所述无机材料层之上形成铝膜，制成模具基材的工序；(D)在所述工序(C)之后，通过对所述铝膜的表面进行阳极氧化，形成具有多个微细的凹部的多孔氧化铝层的工序；(E)在所述工序(D)之后，通过使所述多孔氧化铝层与蚀刻液接触，将所述多孔氧化铝层的所述多个微细的凹部扩大的工序；以及(F)在所述工序(E)之后，进一步通过进行阳极氧化，使所述多个微细的凹部成长的工序。

在某实施方式中，还包含：在所述工序(B)之前，使用碱性的蚀刻液，对所述铝基材的所述表面进行蚀刻的工序(G)。

在某实施方式中，所述碱性的蚀刻液的pH为8以上10以下。

在某实施方式中，所述碱性的蚀刻液通过向包含具有氨基的有机化合物的水溶液添加酸性的添加剂来制备而成。

在某实施方式中，所述酸性的添加剂的体积相对于包含具有所述氨基的有机化合物的水溶液的体积为5％以上。

本发明的实施方式的模具为，通过所述的方式中任一项所述的模具的制造方法制造而成的模具。

本发明的其它的实施方式的模具为具有具备如下表面构造的多孔氧化铝层，所述表面构造具有：从表面的法线方向观察时的二维的大小为200nm以上且30μm以下的多个凸部；以及从表面的法线方向观察时的二维的大小为10nm以上且小于500nm的多个微细的凹部。

本发明的实施方式的防反射膜的制造方法包含：准备所述的方式中任一项所述的模具的工序；准备被加工物的工序；在对所述模具与所述被加工物的表面之间赋予了光固化树脂的状态下，通过对所述光固化树脂照射光而使所述光固化树脂固化的工序；以及从由使所述模具固化的光固化树脂形成的防反射膜剥离的工序。

本发明的实施方式的防反射膜为，通过所述的防反射膜的制造方法制造而成的防反射膜。

发明效果

根据本发明的实施方式，能够对圆柱状或圆筒状的基材的表面实施消除不匀处理。

附图说明

图1的(a)～(d)为用于对本发明的实施方式的蛾眼用模具100的制造方法进行说明的示意的剖视图，(a)为蛾眼用模具100的铝基材12的示意的剖视图，(b)为示意地表示具有翻转的防眩构造的铝基材12的表面构造的剖视图，(c)为在铝基材12的表面形成有无机材料层16以及铝膜18的模具基材10的示意的剖视图，(d)为具有翻转的防眩构造和与翻转的防眩构造重叠的翻转的蛾眼构造的蛾眼用模具100的示意的剖视图。

图2的(a)为翻转的防眩构造的示意的俯视图，(b)为翻转的防眩构造的示意的立体图。

图3为用于对使用了蛾眼用模具100的防反射膜的制造方法进行说明的图。

图4的(a)～(c)为具有本发明的实施方式的防眩功能的防反射膜的示意图，(a)为从垂直方向观察防反射膜的表面时的示意图，(b)为从倾斜方向观察防反射膜的表面时的示意图，(c)为防反射膜的剖面的示意图。

图5的(a)以及(b)为用于对本发明的实施方式的基材的表面处理方法进行说明的示意的图。

图6的(a)为用于对比较例的基材的表面处理方法进行说明的示意的图，(b)为从防反射膜32的法线方向观察使用蛾眼用模具100制造而成的防反射膜32时的示意的俯视图，所述蛾眼用模具100为通过使用了比较例的基材的表面处理方法的模具的制造方法制造而成的。

图7的(a)为从防反射膜32的法线方向观察使用蛾眼用模具100制造而成的防反射膜32时的示意的俯视图，所述蛾眼用模具100为通过本发明的实施方式的模具的制造方法制造而成的，(b)为用于说明制造蛾眼用模具100的过程中的、对铝基材12的表面实施梨皮面处理的工序的示意的图，且为从圆筒状的铝基材12的长轴方向观察到的示意图。

图8的(a)以及(b)为用于对本发明的实施方式的基材的表面处理方法进行说明的示意的图。

图9的(a)以及(b)为用于对本发明的实施方式的基材的表面处理方法进行说明的示意的图。

图10的(a)为用于对本发明的实施方式的基材的表面处理方法进行说明的示意的图，(b)为用于对铝基材12的外周面所产生的、在与铝基材12的长轴方向大致正交的方向上延伸的多个条纹状的不匀进行说明的示意的图，(c)以及(d)为用于对吹送用蚀刻液被喷出的角度进行说明的示意的图。

图11的(a)以及(b)为表示铝基材12的光学图像的图，(a)为通过不包含将吹送用蚀刻液吹送至铝基材12的外周面的工序的表面处理方法实施了梨皮面处理的铝基材12，(b)为通过包含将吹送用蚀刻液吹送至铝基材12的外周面的工序的表面处理方法实施了梨皮面处理的铝基材12。

图12的(a)～(d)为表示从垂直方向观察具有通过实验例1-1、实验例2-1、实验例3-1以及4-1的梨皮面处理工序形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)的图，(e)～(h)为表示从垂直方向观察由实验例1-1、实验例2-1、实验例3-1以及4-1的铝基材形成的防眩膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)的图。

图13的(a)～(e)为表示从垂直方向观察具有通过实验例1-2、实验例1-3、实验例2-2、实验例3-2以及实验例4-2的梨皮面处理工序形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)的图。

图14的(a)～(d)为表示从垂直方向观察具有通过实验例5-1～5-4的梨皮面处理工序形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)的图，(e)以及(f)为从垂直方向观察由实验例5-3以及5-4的铝基材形成的防眩膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)的图。

图15的(a)以及(b)为表示从垂直方向观察具有通过实验例6-1以及6-2的梨皮面处理工序形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)的图。

图16的(a)为表示从垂直方向观察实施了实验例7-1的碱清洁工序的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)的图，(b)以及(c)为表示从垂直方向观察由实验例7-1以及7-2的铝基材形成的高分子膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)的图。

图17的(a)～(d)为从垂直方向观察具有通过实验例8-1～8-4的梨皮面处理工序形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)的图，(e)～(h)为表示从垂直方向观察由实验例8-1～8-4的铝基材形成的高分子膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)的图。

图18的(a)～(d)为表示从垂直方向观察具有通过实验例9-1～9-4的梨皮面处理工序形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)的图。

图19的(a)～(d)为表示从垂直方向观察通过实验例10-1～10-4的梨皮面处理工序形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)的图，(e)～(h)为表示从垂直方向观察由实验例10-1～10-4的铝基材形成的高分子膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)的图。

图20的(a)为表示碱清洁工序的时间与铝基材的质量变化率的关系的图，(b)为表示碱清洁工序的时间与以铝基材为模具而获得的防眩膜的雾度值的关系的图。

图21的(a)以及(b)为表示从垂直方向观察具有通过实验例11-1以及11-2的梨皮面处理工序形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)的图，(c)以及(d)为表示从垂直方向观察由实验例11-1以及11-2的铝基材形成的高分子膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)的图。

图22的(a)以及(b)为示意地表示用于形成以往的防眩构造的粗大的凹凸构造与行方向的点间距Px的大小的关系的图。

图23的(a)为示意地表示用于形成以往的防眩构造的粗大的凹凸的构造的剖视图，(b)为表示与粗大的凹凸重叠的翻转的蛾眼构造的示意的剖视图，(c)为将翻转的蛾眼构造扩大了的示意的剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式的基材的表面处理方法、模具的制造方法以及模具进行说明。

首先，参照图22对构成以往的防眩构造的粗大的凹凸构造与行方向的点间距Px的大小的关系进行说明。图22的(a)以及(b)为示意地表示构成以往的防眩构造的粗大的凹凸构造与行方向的点间距Px的大小的关系的图，图22的(a)表示粗大的凹凸构造大于点间距Px的情况，图22的(b)表示粗大的凹凸构造小于点间距Px的情况。在此，点是指，典型的构成彩色液晶显示面板中的像素的R、G、B的各点。即，彩色液晶显示面板中的像素在由配置于行方向的3个点(R点、G点以及B点)构成的情况下，行方向的像素间距成为行方向的点间距Px的3倍。需要说明的是，列方向的像素间距与列方向的点间距Py相等。

如图22的(a)以及(b)示意地所示，具有构成以往的防眩构造的粗大的凹凸构造的表面28s，具有没有平坦部的连续的波形的表面形状。这样的具有连续的波形的表面形状的粗大的凹凸构造的特征在于，相邻的粗大的凹部间距离的平均值(平均相邻间距离AD_int)或凹部的二维的大小AD_p。在此，虽着眼于粗大的凹部，但是，即使着眼于凸部也能够相同地具有特征。

如图22的(a)所示，当凹部的平均相邻间距离AD_int(可认为与凹部的二维的大小AD_p相等)例如大于行方向的点间距Px(在像素由3个点(R、G、B)构成的情况下，行方向的像素间距为点间距的3倍)时，无法获得充分的防眩功能。为了充分地发挥防眩功能，如图22的(b)所示，优选凹部的平均相邻间距离AD_int(凹部的二维的大小AD_p)彼此大致相等且小于点间距。需要说明的是，凹部的二维的大小是指，从表面的法线方向观察时的二维的宽度，凹部典型为圆锥形，从表面的法线方向观察时的形状大致为圆形。此时，二维的大小相当于圆的直径。此外，如果凸部充分地以较高的密度形成，相互相邻的两个凹部的平均相邻间距离AD_int与凹部的二维的大小AD_p大致相等。优选像素间距在分辨率比较低的显示面板中、例如100ppi的显示面板中为254μm。该显示面板所使用的防反射膜时的平均相邻间距离AD_int约为85μm(254/3)以下。

对于这样的具有平坦部的连续的波形的表面28s的防眩构造，将蛾眼构造重叠的防反射膜的制造方法例如如专利文献4所述。参照图23对用于形成具有专利文献4所述的防眩功能的防反射膜的蛾眼用模具的制造方法进行说明。

图23的(a)为示意地表示用于形成防眩构造的翻转的防眩构造的剖视图，图23的(b)为表示与翻转的防眩构造重叠的翻转的蛾眼构造的示意的剖视图，图23的(c)为将翻转的蛾眼构造扩大了的示意的剖视图。

图23的(a)所示的、用于形成具有上述的平坦部的连续的波形的表面28s的防眩构造的、具有翻转的防眩构造的表面18cs为，在圆筒状的金属基材的外周面上，通过包含消光剂的电镀树脂形成绝缘层，从而能够在绝缘层上形成铝膜18c。即，通过包含消光剂的电镀树脂形成的绝缘层的表面具有平坦部的连续的波形的表面形状，形成在绝缘层之上的铝膜18c的表面18cs通过反映绝缘层的表面的形状而具有平坦部的连续的波形的表面形状。需要说明的是，铝膜18c的表面18cs的形状构成翻转的防眩构造，因此，铝膜18c的表面18cs的粗大的凹凸具有与构成防眩构造的表面28s的粗大的凹凸相反的关系。

接着，如图23的(b)所示，相对于具有翻转的防眩构造的铝膜18c的表面，交替地重复阳极氧化和蚀刻，从而形成具有微细的凹部14p的阳极氧化多孔氧化铝层14c。如此，获得在翻转的防眩构造中具有重叠有翻转的蛾眼构造的表面的蛾眼用模具200。

如图23的(c)示意地所示，多孔氧化铝层14c紧密地填充有微细的凹部14p。微细的凹部14p大概为圆锥状，且也可以具有阶梯状的侧面。优选微细的凹部14p的二维的大小(开口部径：D_p)为10nm以上且小于500nm，深度(D_depth)为10nm以上且小于1000nm(1μm)程度。此外，优选微细的凹部14p的底部是尖的(最底部为点)。而且，优选微细的凹部14p紧密地被填充，当将从多孔氧化铝层14c的法线方向观察时的微细的凹部14p的形状假定为圆时，优选相邻的圆相互重合，在相邻的微细的凹部14p之间形成有鞍部。需要说明的是，在大致圆锥状的微细的凹部14p以形成鞍部的方式相邻时，微细的凹部14p的二维的大小D_p与平均相邻间距离D_int相等。因而，优选用于制造防反射膜的蛾眼用模具的多孔氧化铝层14c具有D_p＝D_int为10nm以上且小于500nm、D_depth为10nm以上且小于1000nm(1μm)程度的微细的凹部14p紧密且不规则地配置的构造。微细的凹部的配置无需完全地随机，只要以实质上不引起光的干扰、衍射的程度不规则配置即可。需要说明的是，微细的凹部14p的开口部的形状并不是严格意义上的圆，因此，优选D_p根据表面的SEM图像求得。多孔氧化铝层14c的厚度t_p约为1μm以下。针对多孔氧化铝层14c所具有的翻转的蛾眼构造的所述的说明，对于本发明的实施方式的蛾眼用模具而言也是妥当的。

使用通过专利文献4所述的模具的制造方法制造而成的模具而形成的防反射膜存在有图像模糊这样的问题。这是因为，通过专利文献4所述的方法制造而成的模具所具有的翻转的防眩构造具有比较大的AD_int以及AD_p。因而，在专利文献4所述的制造方法中，例如，难以形成适宜用于超过300ppi的高清晰的显示面板用的防眩构造。

根据以下所说明的本发明的实施方式能够提供具有具备适度的防眩功能(例如雾度值约10以上且约50以下)和适度的镜面反射性的防眩构造、发挥优异的防反射效果的蛾眼构造的防反射膜(或防反射表面)。此外，根据本发明的实施方式，能够提供用于形成那样的防反射膜的模具，而且，能够提供高效地制造那样的模具的方法。需要说明的是，通过本发明的实施方式的模具的制造方法制造而成的模具并不限于例示，能够用于形成具有较小的雾度值(例如约2以上约10以下)的扩散反射性能的防反射膜。

首先，参照图1～图4对通过本发明的实施方式的模具的制造方法以及那样的制造方法制造而成的模具的构造进行说明。

图1的(a)～(d)为用于对本发明的实施方式的蛾眼用模具100的制造方法进行说明的示意的剖视图。

本发明的实施方式的蛾眼用模具100的制造方法包含下述的工序(i)～工序(vi)。

工序(i)：准备由Al-Mg-Si系的铝合金形成的圆筒状的铝基材且被实施了机械镜面加工的铝基材的工序。

工序(ii)：通过包含氟化氢与铵的盐的水溶液对铝基材的表面进行梨皮面处理的工序(有时称作梨皮面处理工序)。

工序(iii)：在工序(ii)之后，通过在铝基材的表面形成无机材料层、在无机材料层之上形成铝膜，从而形成模具基材的工序。

工序(iv)：在工序(iii)之后，通过对铝膜的表面进行阳极氧化，从而形成具有多个微细的凹部的多孔氧化铝层的工序。

工序(v)：在工序(iv)之后，通过使多孔氧化铝层与蚀刻液接触，从而将多孔氧化铝层的多个微细的凹部扩大的工序。

工序(vi)：在工序(v)之后，通过进一步进行阳极氧化，从而使多个微细的凹部成长的工序。

在本说明书中，模具基材是指，在模具的制造工序中，被实施阳极氧化以及蚀刻的对象。此外，铝基材是指，能够自支撑的块体状的铝。

参照图1的(a)～(d)。图1的(a)为蛾眼用模具100的铝基材12的示意的剖视图，图1的(b)为示意地表示具有翻转的防眩构造的铝基材12的表面构造的剖视图，图1的(c)为在铝基材12的表面形成有无机材料层16以及铝膜18的模具基材10的示意的剖视图，图1的(d)为具有翻转的防眩构造和重叠于翻转的防眩构造的翻转的蛾眼构造的蛾眼用模具100的示意的剖视图。

图1中放大地示出了蛾眼用模具100的一部分，但是，本发明的实施方式的蛾眼用模具100为圆筒状(辊状)。如本申请人的国际公开第2011/105206号所公开那样，当使用圆筒状的蛾眼用模具时，能够利用辊对辊方式高效地制造防反射膜。为了参考，将国际公开第2011/105206号的全部公开内容援引到本说明书中。

[铝基材]

首先，如图1的(a)所示，准备由Al-Mg-Si系的铝合金形成的圆筒状的铝基材12且被实施了机械镜面加工的铝基材12。

作为机械镜面加工，优选工具切削。当在铝基材12的表面例如残留有磨粒时，在存在有磨粒的部分铝膜18与铝基材12之间易于导通。除磨粒以外，在存在有凹凸的部位，铝膜18与铝基材12之间易于局部地导通。当铝膜18与铝基材12之间局部地导通时，存在有铝基材12内的杂质与铝膜18之间局部地引起电池反应的可能性。

作为铝基材12，使用由Al-Mg-Si系的铝合金(例如，JIS A6063)形成的铝基材12。

圆筒状的铝基材12典型地通过热挤压法形成。对于热挤压法，存在有芯轴法和孔道法(porthole method)，但是，优选使用通过芯轴法形成的铝基材12。对于通过孔道法形成的圆筒状的铝基材12，在外周面形成有接缝(焊接缝)，接缝反映在蛾眼用模具100中。因而，优选根据蛾眼用模具100所谋求的精度，而使用通过芯轴法形成的铝基材12。

需要说明的是，通过相对于通过孔道法形成的铝基材12实施冷拔加工，从而能够解除接缝的问题。当然，相对于通过芯轴法形成的铝基材12也可以实施冷拔加工。

[由包含氟化氢与铵的盐的水溶液实施的梨皮面处理工序]接着，通过使用包含氟化氢与铵的盐的水溶液对铝基材12的表面进行梨皮面处理，如图1的(b)所示，从而在铝基材12的表面12s形成有翻转的防眩构造。通过梨皮面处理形成的翻转的防眩构造具有多个粗大的凸部12p和多个粗大的凹部12g。粗大的凸部12p实质上被粗大的凹部12g包围，粗大的凹部12g以对粗大的凸部12p的外周进行限定的槽的方式存在。

包含氟化氢与铵的盐的水溶液会引起点蚀腐蚀(点蚀)。与氟化氢的水溶液相比，包含氟化氢与铵的盐的水溶液具有对人体、环境造成的恶劣影响较少这样的优点。作为氟化氢与铵的盐，存在有氟化铵(正盐或中性盐)和氟化氢铵(氢盐或酸性盐)。相比包含氟化氢铵的水溶液，包含氟化铵的水溶液的铝的蚀刻力较弱，因此，能够得到增大梨皮面处理的时间的余量这样的优点。此外，与氟化氢铵相比，氟化铵具有安全性优异这样的优点。

作为氟化氢与铵的盐，在使用氟化铵的情况下，氟化铵的浓度例如为4mass％～8mass％。除氟化铵以外,也可以添加硫酸铵和/或磷酸二氢铵。在此，包含以下的实验例在内，作为用于对铝进行梨皮面处理的蚀刻液，使用对氟化铵添加了硫酸铵以及磷酸二氢铵的溶液。例如，能够使用对氟化铵(浓度：4mass％～8mass％)添加了硫酸铵(浓度：1mass％～3mass％)以及磷酸二氢铵(浓度：1mass％～3mass％)的溶液。例如，优选氟化铵的浓度为5mass％，硫酸铵的浓度为2mass％，磷酸二氢铵的浓度为2mass％。

需要说明的是，可认为在作为氟化氢与铵的盐而使用包含氟化氢铵的水溶液的情况下，通过对浓度、处理温度、时间进行适当调节，从而能够获得与使用了包含氟化铵的水溶液的情况同等效果。相比包含氟化铵的水溶液，包含氟化氢铵的水溶液的铝的蚀刻力较强。包含氟化氢铵的水溶液例如能够使用日本Cee-Bee Chemical公司的化学清洁剂进行制备。本申请人在国际公开第2015/159797号中公开了作为氟化氢与铵的盐而使用氟化氢铵来实施梨皮面处理的实验例。为了参考，将国际公开第2015/159797号的全部公开内容援引在本说明书中。

[碱清洁工序]

在通过包含氟化氢与铵的盐的水溶液对铝基材的表面进行梨皮面处理的工序(工序(ii))之前，也可以进一步实施如下工序，即，使用碱性的蚀刻液，对铝基材12的表面进行蚀刻的工序(vii)(以下，有时称作“碱清洁工序”。)。通过使用了碱性的蚀刻液的碱清洁工序，能够去除因切削痕的原因而得到的铝基材12的加工变性层的至少一部分。

根据本发明者的研究，当对通过工具切削而进行了镜面加工的铝基材12实施梨皮面处理时，有时会在铝基材12的表面形成有切削痕。形成于铝基材12的表面的切削痕还会反映在形成于铝基材12之上的铝膜18中。在本说明书中，不仅将形成在铝基材12的表面的痕迹、还将因形成于形成在铝基材12之上的铝膜18的切削而产生的痕迹也称作“切削痕”。

需要说明的是，可认为所述的切削痕是，因由工具切削实施的镜面加工，而由形成于铝基材12的表面的加工变性层引起的蚀刻的不匀。因而，因梨皮面处理而形成有切削痕这样的问题并不限于工具切削，在使用实施了伴随加工变性层的形成的镜面加工的铝基材12的情况下也存在有共同的问题，能够通过实施碱清洁工序来解决。在镜面加工中的、切削加工、磨削加工等机械研磨(Mechanical Polishing：MP)、并用化学研磨和机械研磨的化学机械研磨(Chemical Mechanical Polishing：CMP)伴随着加工变性层的形成。在本说明书中，“机械镜面加工”包含MP以及CMP。

用于碱清洁工序的碱性的蚀刻液例如包含无机盐基(无机碱)或有机盐基(有机碱)。无机盐基例如包含氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化钙以及氢氧化镁等。有机盐基例如包含具有氨基的化合物。有机盐基例如包含2-氨基乙醇(乙醇胺)、伯烷醇胺、二甲基双(2-羟基)乙基等。碱性的蚀刻液的pH例如超过7且12以下，优选8以上且10以下。碱性的蚀刻液并不限于所述液体，例如也可以使用公知的碱性的清洁液。除了对碱性的清洁液添加少量酸性的添加剂(例如化学研磨剂、腐蚀抑制剂)以外,也可以通过制备碱性的蚀刻液，来调节碱性的蚀刻液的pH。对于碱性的蚀刻液的组成、pH，将在下文中示出实验例来进行说明。碱清洁工序使用碱性的蚀刻液，因此，能够兼顾铝基材的脱脂工序。

在碱清洁工序之后，在由含有氟化氢与铵的盐的水溶液实施的梨皮面处理工序之前，根据需要实施水洗工序。此外，并不限于此，优选在使用不同的处理液的工序的期间，根据需要实施水洗。

也可以替代碱清洁工序，而在梨皮面处理工序之前实施用于前处理的阳极氧化工序以及蚀刻工序。通过实施用于前处理的阳极氧化工序以及蚀刻工序，从而能够减少切削痕。即，暂时对铝基材12的表面进行阳极氧化，通过蚀刻将所形成的阳极氧化膜去除，从而能够减少切削痕。在用于前处理的阳极氧化工序中，优选作为电解液而使用硫酸水溶液，在用于前处理的蚀刻工序中优选作为蚀刻液而使用磷酸水溶液。

也可以在梨皮面处理工序之前实施碱清洁工序和用于前处理的阳极氧化工序以及蚀刻工序这双方。例如，也可以在用于前处理的阳极氧化工序以及蚀刻工序之前实施碱清洁工序。

[无机材料层]

接着，如图1的(c)所示，在铝基材12的表面形成无机材料层16，在无机材料层16之上形成铝膜18，从而制成模具基材10。

在铝膜18的表面形成有反映通过对铝基材12的表面进行梨皮面处理而形成的翻转的防眩构造的构造。在此，形成于铝膜18的构造也称作翻转的防眩构造。形成于铝膜18的表面的翻转的防眩构造具有与形成于铝基材12的表面的翻转的防眩构造实质上相同的构造。因而，形成于铝膜18的表面的翻转的防眩构造具有多个粗大的凸部18p和多个粗大的凹部18g。粗大的凸部18p实质上被粗大的凹部18g包围，粗大的凹部18g以对粗大的凸部18p的外周进行限定的槽的的方式存在。

作为无机材料层16的材料，例如能够使用氧化钽(Ta₂O₅)或二氧化硅(SiO₂)。无机材料层16例如能够通过溅射法来形成。在作为无机材料层16而使用氧化钽层的情况下，氧化钽层的厚度例如为200nm。

优选无机材料层16的厚度为100nm以上且小于500nm。当无机材料层16的厚度小于100nm时，有时会在铝膜18产生缺陷(主要是孔，即晶粒间的间隙)。此外，当无机材料层16的厚度为500nm以上时，根据铝基材12的表面状态而铝基材12与铝膜18之间易于被绝缘。为了从铝基材12侧向铝膜18供给电流来实施铝膜18的阳极氧化，需要在铝基材12与铝膜18之间流通有电流。当采用从圆筒状的铝基材12的内表面供给电流的构成时，无需在铝膜18设置电极，因此，能够遍及整个面地对铝膜18进行阳极氧化，并且，不会引起伴随着阳极氧化的进行而难以供给电流这样的问题，从而能够遍及整个面地对铝膜18均匀地进行阳极氧化。

此外，为了形成较厚的无机材料层16，通常需要延长成膜时间。当成膜时间延长时，铝基材12的表面温度会不必要地上升，其结果为，有时铝膜18的膜质会变差，并产生缺陷(主要是孔)。如果无机材料层16的厚度小于500nm，则能够抑制这样的不良情况的产生。

[铝膜]

铝膜18例如如专利文献3所述那样，是由纯度为99.99mass％以上的铝形成的膜(以下，有时称作“高纯度铝膜”。)。铝膜18例如使用真空蒸镀法或溅射法来形成。优选铝膜18的厚度处于约500nm以上约1500nm以下的范围，例如约1μm。

此外，作为铝膜18，也可以使用国际公开第2013/0183576号所述的铝合金膜，以替代高纯度铝膜。国际公开第2013/0183576号所述的铝合金膜包含铝、铝以外的金属元素以及氮。在本说明书中，“铝膜”不仅包含高纯度铝膜，还包含国际公开第2013/0183576号所述的铝合金膜。为了参考，将国际公开第2013/0183576号的全部公开内容援引在本说明书中。

当使用所述铝合金膜时，能够获得反射率为80％以上的镜面。构成铝合金膜的晶粒的、从铝合金膜的法线方向观察时的平均粒径例如为100nm以下，铝合金膜的最大表面粗糙度Rmax为60nm以下。铝合金膜所含有的氮的含有率例如为0.5mass％以上5.7mass％以下。优选铝合金膜所包含的铝以外的金属元素的标准电极电位与铝的标准电极电位之差的绝对值为0.64V以下，铝合金膜中的金属元素的含有率为1.0mass％以上1.9mass％以下。金属元素例如为Ti或Nd。不过，金属元素并不限于此，金属元素的标准电极电位与铝的标准电极电位之差的绝对值也可以是0.64V以下的其它的金属元素(例如，Mn、Mg、Zr、V以及Pb)。而且，金属元素也可以是Mo、Nb或Hf。铝合金膜也可以包含两种以上上述的金属元素。铝合金膜例如由DC磁控溅射法形成。优选铝合金膜的厚度也处于约500nm以上约1500nm以下的范围，例如约1μm。

在此，参照图2的(a)以及(b)，对翻转的防眩构造详细地进行说明。图2的(a)为翻转的防眩构造的示意的俯视图，图2的(b)为翻转的防眩构造的示意的立体图。

如图2的(a)以及(b)所示，通过梨皮面处理而形成的翻转的防眩构造具有多个粗大的凸部18p和多个粗大的凹部18g。粗大的凸部18p实质上被粗大的凹部18g包围，粗大的凹部18g以对粗大的凸部18p的外周进行限定的槽的方式存在。

多个粗大的凸部18p在从表面的法线方向观察时具有大概多边形的外形，但是，对于配置则看不出规则性。从粗大的凸部18p的表面的法线方向观察时的二维的大小(面积当量圆直径)约200nm以上30μm以下。粗大的凸部18p的上表面实质上是平坦的。

实质上对粗大的凸部18p进行包围的粗大的凹部(槽)18g的宽度为，粗大的凸部18p的二维的大小的10分之1～5分之1程度的大小。能够认为相邻的粗大的凹部18g间距离的平均值(平均相邻间距离AD_int)，与从粗大的凸部18p的表面的法线方向观察时的二维的大小的平均值大致相等。在此，粗大的凹部18g形成为实质上包围粗大的凸部18p，因此，相邻的粗大的凹部18g是指，在对粗大的凸部18p的二维的大小进行限定的方向上的剖面中，相邻的粗大的凹部18g。因而，平均相邻间距离AD_int与粗大的凸部18p的二维的大小的平均值和粗大的凹部18g的宽度的平均值之和大致相等。需要说明的是，粗大的凹部18g的深度AD_depth例如为20nm以上500nm以下，但是，只要是20nm以上小于5μm即可。

在形成翻转的防眩构造之后，通过交替地重复阳极氧化和蚀刻，形成翻转的蛾眼构造，从而获得图1的(d)所示的蛾眼用模具100。即，形成翻转的蛾眼构造的工艺包含如下工序：通过对铝膜18的表面进行阳极氧化从而形成具有多个微细的凹部14p的多孔氧化铝层14的工序；之后通过使多孔氧化铝层14与蚀刻液接触从而将多孔氧化铝层14的多个微细的凹部14p扩大的工序；之后通过进一步进行阳极氧化从而使多个微细的凹部14p成长的工序。阳极氧化所使用的电解液例如为包含从由草酸、酒石酸、磷酸、硫酸、铬酸、柠檬酸、苹果酸构成的组中选择出的酸的水溶液。作为蚀刻液，能够使用蚁酸，乙酸，柠檬酸等有机酸、硫酸的水溶液、铬酸磷酸混合水溶液、或氢氧化钠、氢氧化钾等碱的水溶液。

优选重复阳极氧化和蚀刻的一系列的工序并以阳极氧化工序结束。通过以阳极氧化工序结束(不实施之后的蚀刻工序)，而能够缩小微细的凹部14p的底部。这样的形成翻转的蛾眼构造的方法例如在本申请人的国际公开第2006/059686号中被公开。为了参考，将国际公开第2006/059686号的全部公开内容援引在本说明书中。

例如，通过交替重复多次(例如5次：重复五次阳极氧化和四次蚀刻)阳极氧化工序(电解液：草酸水溶液(浓度0.3mass％，液温10℃)、施加电压：80V、施加时间：55秒间)和蚀刻工序(蚀刻液：磷酸水溶液(10mass％，30℃)，蚀刻时间：20分钟)，如图1的(d)所示，能够获得具有具备微细的凹部14p的多孔氧化铝层14的蛾眼用模具100。在此，如参照图23的(c)所说明那样，以例示的条件形成的多孔氧化铝层14具有D_p＝D_int为10nm以上且小于500nm、D_depth为10nm以上小于1000nm(1μm)程度的微细的凹部14p紧密且不规则地配置的构造。微细的凹部14p大致为圆锥状，并以形成鞍部的方式相邻。

由微细的凹部14p构成的翻转的蛾眼构造以与防眩构造重叠的方式形成。因而，如图1的(d)示意地所示，存在有形成于构成防眩构造的粗大的凸部18p的微细的凹部14p和形成于粗大的凹部18g的微细的凹部14p。形成于粗大的凹部18g的微细的凹部14p深于形成于粗大的凸部18p的微细的凹部14p。

需要说明的是，在微细的凹部14p之下形成有阻挡层，多孔氧化铝层14由具有微细的凹部14p的多孔层和存在于多孔层之下(铝膜侧)的阻挡层(凹部14p的底部)构成。已知有相邻的微细的凹部14p的间隔(中心之间距离)相当于阻挡层的厚度的大致2倍，阳极氧化时的电压大致成比例。此外，在多孔氧化铝层14之下存在有铝膜18中的、未被实施阳极氧化的铝残存层18r。

如此，根据本发明的实施方式的蛾眼用模具100的制造方法，能够制造能够形成具有防眩功能的防反射膜的蛾眼用模具100。对于使用蛾眼用模具100而形成的防反射膜所具有的防眩功能，通过示出实验例而在下文中详细叙述。

接下来，参照图3，对使用了蛾眼用模具100的防反射膜的制造方法进行说明。图3为用于对通过辊对辊方式制造防反射膜的方法进行说明的示意的剖视图。

首先，准备圆筒状的蛾眼用模具100。需要说明的是，圆筒状的蛾眼用模具100通过上述的制造方法来制造。

如图3所示，在将表面被赋予了紫外线固化树脂32'的被加工物42按压于蛾眼用模具100的状态下，通过对紫外线固化树脂32'照射紫外线(UV)从而使紫外线固化树脂32'固化。作为紫外线固化树脂32'，例如能够使用丙烯酸系树脂。被加工物42例如为TAC(三醋酸纤维素)膜。被加工物42从未图示的放出辊放出，之后，在表面例如通过狭缝式涂布机等而被赋予紫外线固化树脂32'。如图3所示，被加工物42被支承辊46以及48支承。支承辊46以及48具有旋转机构，对被加工物42进行输送。此外，圆筒状的蛾眼用模具100以与被加工物42的输送速度对应的旋转速度，在图3中箭头所示的方向上旋转。

之后，通过使蛾眼用模具100与被加工物42分离，从而转印了蛾眼用模具100的凹凸构造(翻转的蛾眼构造)的固化物层32被形成在被加工物42的表面。表面形成有固化物层32的被加工物42通过未图示的卷取辊被卷取。

参照图4的(a)～(c)，对具有本发明的实施方式的防眩功能的防反射膜32的构造进行说明。图4的(a)～(c)为具有本发明的实施方式的防眩功能的防反射膜32的示意图，图4的(a)为从垂直方向观察防反射膜32的表面时的示意图，图4的(b)为从倾斜方向观察防反射膜32的表面时的示意图，图4的(c)为防反射膜32的剖面的示意图。

图4的(a)～(c)中，构成蛾眼构造的多个微细的凸部含有微细的凸部32p以及32g。微细的凸部32p形成于构成防眩构造的粗大的凹部，微细的凸部32g形成于构成防眩构造的粗大的凸部。因而，微细的凸部32g配置为，高于微细的凸部32p，且实质上包围形成于粗大的凹部的微细的凸部32p。这是为了应对，在对蛾眼用模具100进行制造的过程中，在通过梨皮面处理而形成的翻转的防眩构造中，粗大的凸部18p实质上被粗大的凹部18g包围的情况。

[基材的表面处理方法]

根据本发明者的研究，在对圆筒状的蛾眼用模具100进行制造的过程中，有时会因通过梨皮面处理而形成的翻转的防眩构造未均匀地形成在铝基材12的表面，而在铝基材12的表面产生粗大的不匀。根据本发明者的研究，产生粗大的不匀的原因存在有多种情况。该问题在对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理的技术中是共同的问题。本发明者对能够抑制粗大的不匀的产生的基材的表面处理方法进行了研究。

参照图5的(a)以及(b)，对本发明的实施方式的基材的表面处理方法进行说明。图5的(a)以及(b)为用于对本发明的实施方式的基材的表面处理方法进行说明的示意的图。

本发明的实施方式的基材的表面处理方法为对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理的方法，且包含以下的工序(I)以及工序(II)。

工序(I)：在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式配置了基材的状态下，以基材的长轴为中心使基材旋转的工序。

工序(II)：使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽所收容的第一蚀刻液接触的工序。

在此，在本发明的实施方式的模具的制造方法所包含的、通过包含氟化氢与铵的盐的水溶液对铝基材的表面进行梨皮面处理的工序(梨皮面处理工序)中，对使用所述基材的表面处理方法的示例进行说明。但是，本发明的实施方式的基材的表面处理方法并不限定于此。例如，既可以用于通过对铝膜的表面进行阳极氧化从而形成具有多个微细的凹部的多孔氧化铝层的工序，也可以用于通过使多孔氧化铝层与蚀刻液接触从而将多孔氧化铝层的多个微细的凹部扩大的工序。而且，并不限于本发明的实施方式的模具的制造方法，而能够广泛地使用作为对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理的方法。基材的表面处理例如包含蚀刻工序、清洁工序、覆膜形成工序、镀工序等各种化学处理工序。既可以是对圆柱状的基材的表面(侧面)或圆筒状的基材的表面(外周面)进行处理的方法，也可以是对设置于圆柱状的基材的表面(侧面)或圆筒状的基材的表面(外周面)的金属膜或氧化物膜进行处理的方法。基材的表面既可以是金属，也可以是氧化物。

如图5的(a)所示，准备圆筒状的铝基材12和第一蚀刻槽51。在第一蚀刻槽51内收容有第一蚀刻液E1。第一蚀刻液E1例如为用于梨皮面处理的蚀刻液，例如是含有氟化氢与铵的盐的水溶液。将铝基材12的长轴方向的长度设为H，将与长轴方向正交的剖面中的外周面的直径设为D。如图5的(b)所示，通过使铝基材12的外周面的一部分与第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1接触，从而对铝基材12的外周面实施梨皮面处理。此外，在以铝基材12的长轴方向与水平方向平行的方式配置了铝基材12的状态下，使铝基材12以铝基材12的长轴为中心旋转。也可以在使铝基材12旋转的同时，使铝基材12的外周面的一部分与第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1接触。即，也可以同时实施所述工序(I)以及工序(II)。

本发明的实施方式的基材的表面处理方法为，通过使铝基材12旋转，从而能够对基材的表面实施消除不匀处理。在本发明的实施方式的基材的表面处理方法中，通过使铝基材12旋转，从而不会使铝基材12的全部浸渍于第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液，而能够对铝基材12的外周面实施消除不匀梨皮面处理。因此，能够抑制蚀刻液所花费的成本以及蚀刻槽的设置场所的增大。此外，使铝基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1接触，因此，与将铝基材12的全部浸渍于第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液的情况下相比，能够容易地使第一蚀刻槽51内的第一蚀刻液E1循环。

所述工序(I)中，铝基材12的圆周速度例如超过0m/s且0.03m/s以下。铝基材12的旋转速度例如超过0rpm且2rpm以下。当铝基材12的旋转速度超过2rpm时，有时基材的表面处理未被均匀地实施。在此，rpm为表示每分钟的转速的单位，因此，旋转速度1rpm相当于圆周速度(π×D)/60(m/s)。(本说明书中“×”表示相乘。)例如，在与长轴方向正交的剖面的直径D为0.3m的铝基材12以旋转速度2rpm进行旋转时，圆周速度为2×π×D/60＝0.03(m/s)。在所述工序(I)中，优选铝基材12的圆周速度为恒定。

参照图6对比较例的基材的表面处理方法进行说明。在比较例的基材的表面处理方法中，如图6的(a)所示，以铝基材12的长轴方向与铅直方向大致平行的方式进行配置，使铝基材12的外周面与蚀刻槽91内所收容的蚀刻液接触。此时，铝基材12的全部浸渍于蚀刻槽91内的蚀刻液。因此，蚀刻液所花费的成本以及蚀刻槽91的设置场所增大。例如，蚀刻槽91的深度大于铝基材12的长轴方向的长度H。而且，例如当考虑从上方悬吊铝基材12，而出入于蚀刻槽91时，对蚀刻槽91进行设置的场所的顶部的高度需要大于铝基材12的长轴方向的长度H的2倍。

[基材的圆周方向的不匀]

有时使用蛾眼用模具100制造而成的防反射膜32会产生周期性不匀，蛾眼用模具100为通过本发明的实施方式的模具的制造方法制造而成的。

参照图7进行说明。图7为用于对周期性不匀的产生原因进行说明的示意的图。图7的(a)为从防反射膜32的法线方向观察使用由本发明的实施方式的模具的制造方法制造而成的蛾眼用模具100制造而成的防反射膜32时的示意的俯视图。图7的(b)为用于对制造蛾眼用模具100的过程中的、对铝基材12的表面实施梨皮面处理的工序进行说明的示意的图，且是从圆筒状的铝基材12的长轴方向观察时的示意图。

如图7的(a)所示，形成于防反射膜32的防眩构造沿着圆筒状的铝基材12的圆周方向(即蛾眼用模具100的圆周方向)周期性地发生变化。该周期性不匀以形成于蛾眼用模具100的表面的翻转的防眩构造的不匀为起因，以在参照图3所说明的方法中(即辊对辊方式中)使用蛾眼用模具100形成防反射膜32为起因。在使铝基材12的外周面的一部分与第一蚀刻液E1接触之际，因铝基材12的外周面中的位置不同，而接触的时间、时刻不一样，因此，梨皮面处理无法均匀地实施，翻转的防眩构造存在有不匀。形成于防反射膜32的防眩构造存在有具有铝基材12的底面的圆周π×D的周期的周期性不匀，并通过可视光的散射而不同程度可见。需要说明的是，图7的(a)中，为了易于观察周期，按照周期π×D对防反射膜32进行划分来显示，但是，防反射膜32并不是按照周期π×D来划分。

特别是，如图5的(b)所示，在使铝基材12的外周面的一部分与第一蚀刻液E1接触之际，最初与第一蚀刻液E1接触的位置为，在铝基材12的外周面内沿铝基材12的长轴方向延伸的线L1上。在铝基材12的外周面内线L1上最初与第一蚀刻液E1接触，因此，由第一蚀刻液E1实施的梨皮面处理最早进行。即，与第一蚀刻液E1接触的时间最长，因此，梨皮面处理的进行程度最大。此外，在铝基材12的外周面内线L1上最初与第一蚀刻液E1接触之时，是在第一蚀刻液E1中以及铝基材12的表面杂质较少的状态，因此，存在有在线L1上梨皮面处理的进行速度最大的趋势。如图7的(a)中的虚线所示那样，与铝基材的线L1相对应地，有时会在防反射膜32中周期性地出现线状的不匀。在铝基材12的外周面，沿铝基材12的长轴方向延伸的线状的不匀在后述的图11的(a)的光学图像中也能够确认到。

为了抑制周期性不匀的产生，本发明者想到了在梨皮面处理工序的前后利用蚀刻率较小的蚀刻液实施表面处理的方法。参照图8以及图9进行说明。图8以及图9为用于以本发明的实施方式的基材的表面处理方法进行说明的示意的图。

本发明的实施方式的基材的表面处理方法为，在某实施方式中，在所述工序(II)(使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽所收容的第一蚀刻液接触的工序)之前，还包含使基材的外周面的一部分与不同于第一蚀刻液的第二蚀刻液(有时称作“前处理用蚀刻液”。)接触的工序(II-1)。第二蚀刻液相对于基材的外周面的蚀刻率低于第一蚀刻液相对于基材的外周面的蚀刻率。

本发明的实施方式的基材的表面处理方法为，在某实施方式中，在所述工序(II)(使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽所收容的第一蚀刻液接触的工序)之后，还包含使基材的外周面的一部分与不同于第一蚀刻液的第三蚀刻液(有时称作“后处理用蚀刻液”。)接触的工序(II-2)。第三蚀刻液相对于基材的外周面的蚀刻率低于第一蚀刻液相对于基材的外周面的蚀刻率。

如图8的(a)所示，在使铝基材12的外周面的一部分与第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1接触的工序之前，实施使铝基材12的外周面的一部分与蚀刻槽52所收容的前处理用蚀刻液E2接触的工序。在使铝基材12的外周面的一部分与第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1接触的工序之后，也可以实施使铝基材12的外周面的一部分与蚀刻槽52所收容的后处理用蚀刻液E2接触的工序。前处理用蚀刻液和/或后处理蚀刻液例如通过对第一蚀刻液进行稀释来获得。即，前处理用蚀刻液和/或后处理蚀刻液例如浓度低于第一蚀刻液。前处理用蚀刻液和后处理用蚀刻液例如为相同的蚀刻液，但是，也可以是不同的蚀刻液。

参照图9，对通过进行由前处理蚀刻液实施的表面处理而使周期性不匀的产生得到抑制的情况进行说明。在未通过前处理用蚀刻液E2实施表面处理的情况下，如图7的(b)所示，第一蚀刻液E1直接作用于铝基材12的外周面。与此相对，当预先通过蚀刻率较低的前处理用蚀刻液E2实施表面处理时，如图9的(a)所示，前处理用蚀刻液E2直接作用于铝基材12的外周面。优选对前处理用蚀刻液E2的浓度、温度进行适当调节，通过前处理用蚀刻液E2而几乎不会形成翻转的防眩构造。例如，前处理用蚀刻液和/或后处理用蚀刻液例如能够通过将第一蚀刻液稀释5倍来获得。对于前处理用蚀刻液E2中的适宜的蚀刻液将在下文中示出在实验例中。其后，当进行由第一蚀刻液E1实施的梨皮面处理工序时，如图9的(b)所示，第一蚀刻液E1经由附着于铝基材12的外周面的前处理用蚀刻液E2而作用于铝基材12的外周面。由此，在使铝基材12的外周面的一部分与第一蚀刻液E1接触之际，在最初与第一蚀刻液E1接触的位置，由第一蚀刻液E1实施的梨皮面处理的反应速度尤其变快的现象得到缓和。需要说明的是，在图9的(a)以及(b)和后述的图10的(a)中，为了易于理解，示意地表示附着于铝基材12的外周面的蚀刻液，但是，在其它的图中有时进行省略。

此外，在不进行由后处理用蚀刻液E2实施的表面处理的情况下，在由第一蚀刻液E1实施的梨皮面处理工序之后，例如进行由纯水实施的清洁工序。第一蚀刻液与纯水的浓度大不相同。即，相对于铝基材12的外周面的蚀刻率大不相同，因此，它们直接接触铝基材12的外周面，所以成为翻转的防眩构造的不匀的原因。与此相对，当在由第一蚀刻液E1实施的梨皮面处理工序之后，进行由后处理用蚀刻液实施的表面处理时，第一蚀刻液E1与后处理用蚀刻液的浓度之差较小，因此，翻转的防眩构造的不匀的产生得到抑制。

优选在所述工序(II-1)(在梨皮面处理工序之前，使基材的外周面的一部分与前处理用蚀刻液接触的工序)以及工序(II-2)(在梨皮面处理工序之后，使基材的外周面的一部分与后处理用蚀刻液接触的工序)中，也与工序(I)相同地以铝基材12的长轴为中心使铝基材12旋转。所述工序(II-1)以及工序(II-2)中的铝基材12的旋转速度例如与工序(I)中的旋转速度大致相同。

通过前处理用蚀刻液进行表面处理的工序也可以是多个。如图8的(a)所示，本发明的实施方式的基材的表面处理方法为，也可以在使铝基材12的外周面的一部分与前处理用蚀刻液E2接触的工序之前，还包含使铝基材12的外周面的一部分与蚀刻槽53所收容的前处理用蚀刻液E3接触的工序。前处理用蚀刻液E3相对于铝基材12的外周面的蚀刻率低于前处理用蚀刻液E2相对于铝基材12的外周面的蚀刻率。

对于通过后处理用蚀刻液进行表面处理的工序相同地也可以为多个。在使铝基材12的外周面的一部分与后处理用蚀刻液E2接触的工序之后，也可以包含使铝基材12的外周面的一部分与蚀刻槽53所收容的后处理用蚀刻液E3接触的工序。后处理用蚀刻液E3相对于铝基材12的外周面的蚀刻率低于后处理用蚀刻液E2相对于铝基材12的外周面的蚀刻率。

如图8的(b)所示，前处理用蚀刻液和/或后处理用蚀刻液也可以被收容在供第一蚀刻液E1收容的第一蚀刻槽51中。在该情况下，典型地前处理用蚀刻液和/或后处理用蚀刻液通过使第一蚀刻液E1的温度下降来获得。

如此，通过缓和与铝基材12的外周面接触的蚀刻液中的、相对于外周面的蚀刻率的变化，从而能够对形成于铝基材12的翻转的防眩构造的圆周方向上的不匀进行抑制。例如，通过缓和与铝基材12的外周面接触的蚀刻液的浓度的变化，从而能够对形成于铝基材12的翻转的防眩构造的圆周方向上的不匀进行抑制。

相同地，通过缓和铝基材12的外周面的温度变化，从而能够对形成于铝基材12的翻转的防眩构造的圆周方向上的不匀进行抑制。例如，有时第一蚀刻液和/或前处理蚀刻液，为了增大梨皮面处理的时间的余量而将处理温度设定得较低。此时，当被处理的铝基材12的外周面的温度高于蚀刻液的温度时，有时会在形成于铝基材12的翻转的防眩构造中产生粗大的不匀。相对于该问题，在使铝基材12的外周面的一部分与第一蚀刻液或前处理蚀刻液接触的工序之前，通过设置向铝基材12的外周面吹送低温(例如约10℃)的纯水的工序，从而能够使铝基材12的外周面的温度下降，因此，能够抑制不匀的产生。吹送低温的纯水的工序例如通过使用了喷嘴的喷洒方式来实施。

需要说明的是，在参照图6的(a)所说明的比较例的基材的表面处理方法中，难以产生在上述的基材的圆周方向上产生不匀这样的问题。如图6的(a)所示，在使用比较例的基材的表面处理方法制造蛾眼用模具的情况下，在使铝基材12的外周面与第一蚀刻液E1接触之际，最初与第一蚀刻液E1接触的位置为铝基材12的底面。当使用蛾眼用模具对防反射膜32进行制造时，线状的不匀出现在防反射膜32的端部(图6的(b)中的虚线)。因此，除该部分以外易于用作防反射膜。此外，在防反射膜32未出现周期性不匀。有时还会在与蛾眼用模具的长轴方向(铝基材12的长轴方向)对应的方向上产生不匀，但是，该不匀例如如果能够将铝基材12在3秒以内全部浸渍于蚀刻槽91所收容的蚀刻液，则能够得到抑制。然而，如上所述，比较例的基材的表面处理方法在蚀刻液所花费的成本以及蚀刻槽的设置场所增大这一点上，逊色于本发明的实施方式的基材的表面处理方法。特别是，在基材的长轴方向的长度H和/或直径D较大的情况下，比较例的基材的表面处理方法中的蚀刻液所花费的成本以及蚀刻槽的设置场所增大这样的问题较为显著。

[基材的长轴方向的不匀]

如图10的(b)所示，有时在通过本发明的实施方式的基材的表面处理方法实施了梨皮面处理的铝基材12，在铝基材12的外周面产生了沿与铝基材12的长轴方向大致正交的方向延伸的多个条纹状的不匀。条纹状的不匀在使用蛾眼用模具制成而成的防反射膜32中也可见。本发明者为了对条纹状的不匀的产生进行抑制，而想到了将用于梨皮面处理的蚀刻液吹送至铝基材12的外周面的方法。

参照图10的(a)～(d)进行说明。图10的(a)为用于对本发明的实施方式的基材的表面处理方法进行说明的示意的图。图10的(b)为用于对铝基材12的外周面所产生的、沿与铝基材12的长轴方向大致正交的方向延伸的多个条纹状的不匀进行说明的示意的图。图10的(c)以及(d)为用于对吹送用蚀刻液被喷出的角度θ进行说明的示意的图。

如图10的(a)所示，本发明的实施方式的基材的表面处理方法为，在某实施方式中，还包含将作为与第一蚀刻液E1相同的第四蚀刻液(有时称作吹送用蚀刻液。)E4吹送至铝基材12的外周面的工序(III)。

将吹送用蚀刻液E4吹送至铝基材12的外周面的工序(III)例如与使铝基材12的外周面的一部分与第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1接触的工序(所述工序(II))同时实施，吹送用蚀刻液E4被吹送至铝基材12的外周面中的、与第一蚀刻液E1接触的部位的附近。“铝基材12的外周面中的、与第一蚀刻液E1接触的部位的附近”包含铝基材12的外周面中的、与第一蚀刻液E1接触的部位。

铝基材12的光学图像如图11的(a)以及(b)所示。图11的(a)为通过不含有所述工序(III)(将吹送用蚀刻液吹送至铝基材12的外周面的工序)的表面处理方法实施了梨皮面处理的铝基材12，图11的(b)为通过包含所述工序(III)(将吹送用蚀刻液吹送至铝基材12的外周面的工序)的表面处理方法实施了梨皮面处理的铝基材12。可知图11的(a)的铝基材12的表面出现了条纹状的不匀，但是，图11的(b)的铝基材12中未出现。

可认为条纹状的不匀以铝基材12的外周面中的蚀刻液的液膜的厚度不一样为起因。根据本发明者的研究，确认到了在铝基材12的外周面中的、存在有蚀刻液的液膜的厚度较薄的部位粗大的凸部12p的密度较高，蚀刻液的液膜的厚度较厚的部位粗大的凸部12p的密度较低的趋势。即，想到了蚀刻液的液膜的厚度较薄的部位梨皮面处理的反应速度较快，蚀刻液的液膜的厚度较厚的部位梨皮面处理的反应速度较慢。当将吹送用蚀刻液E4吹送至铝基材12的外周面中的、与第一蚀刻液E1接触的部位的附近时，通过使铝基材12的外周面中的液膜的厚度均匀，从而能够对条纹状的不匀的产生进行抑制。

将吹送用蚀刻液E4吹送至铝基材12的外周面的工序(III)例如与在以使基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式配置了基材的状态下，以基材的长轴为中心使基材旋转的工序(所述工序(I))同时实施，吹送用蚀刻液E4被吹送至铝基材12的外周面中的、与第一蚀刻液E1接触的部位的附近且以远离所述工序(I)中第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1的方式而旋转的部位。

将吹送用蚀刻液E4吹送至铝基材12的外周面的工序(III)例如使用喷射嘴来实施。作为喷射嘴，例如能够使用扇形1流体喷嘴(例如喷雾系统制的HB1/4VV-SS11004)。也可以将多个喷射嘴沿着铝基材12的长轴方向排列配置。能够通过使用多个喷射嘴，将吹送用蚀刻液E4均匀地吹送至铝基材12的外周面中的、与第一蚀刻液E1接触的部位。例如，在长轴方向的长度H为1.6m的铝基材12的表面处理中，也可以使用16个喷射嘴对吹送用蚀刻液E4进行吹送。

从各个喷射嘴吹送的吹送用蚀刻液E4的流量例如为1.0L/min，优选为0.6L/min～1.2L/min。泵能够根据吹送用蚀刻液E4的流量以及压力等，而从公知的泵中适当选择来使用。例如，能够使用grundfos制的CHI2-30AWGBUBV。

在将吹送用蚀刻液E4吹送至铝基材12的外周面的工序(III)中，吹送用蚀刻液E4被喷出的角度θ例如从铅直方向倾斜45°以上且小于90°。如图10的(c)所示，相对于水平方向的倾斜角度，即，相对于第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1的表面的倾斜角度为90°-θ。当角度θ小于45°时，相对于第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1的表面的倾斜角度(90°-θ)较大，因此，有时吹送用蚀刻液E4会从第一蚀刻槽51所收容的第一蚀刻液E1的表面(液面)跳起而附着于铝基材12的表面。如图10的(d)所示，当角度θ为90°以上时，有时吹送用蚀刻液E4从铝基材12的表面跳起而飞溅。此外，当角度θ为90°以上时，有时无法获得使铝基材12的外周面中的液膜的厚度均匀的效果。

以下，示出实验例，对本发明的实施方式的蛾眼用模具以及蛾眼用模具的制造方法进一步详细地进行说明。

[用于梨皮面处理的蚀刻液的组成]

改变用于梨皮面处理的蚀刻液的组成来实施梨皮面处理工序。

如下述表1所示，实验例1-1、实验例2-1、实验例3-1以及4-1为，以保持将用于梨皮面处理的蚀刻液中的氟化铵、硫酸铵以及磷酸二氢铵的比率固定为5：2：2的状态，改变它们的浓度而相对于铝基材的小片(5cm×2cm)实施了梨皮面处理工序。如表1所示，实验例1-1中使用的用于梨皮面处理的蚀刻液为，将氟化铵、硫酸铵以及磷酸二氢铵分别含有5mass％、2mass％以及2mass％。实验例2-1～实验例4-1中使用的用于梨皮面处理的蚀刻液分别为，将实验例1-1中使用的蚀刻液稀释2倍、3倍、5倍而得到的液体。

铝基材为，作为Al-Mg-Si系的铝合金而使用由JIS A6063形成的基材。JIS A6063具有下述的组成(mass％)。

Si：0.20～0.60％、Fe：0.35％以下、Cu：0.10％以下、Mn：0.10％以下、Mg：0.45～0.9％、Cr：0.10％以下、Zn：0.10％以下、Ti：0.10％以下、其他：各为0.05％以下、整体为0.15％以下、剩余部分：Al。

铝基材(JIS A6063)使用通过由间接挤出加工(芯轴法)实施的热挤压法而形成，并在实施了冷拔加工之后，进行了由工具切削实施的镜面加工的基材。在梨皮面处理工序之前，相对于铝基材实施碱清洁工序。作为碱性的蚀刻液，使用以浓度8mass％含有有机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液。横浜油脂工业公司制的横滨油脂LC-2为，包含以下的组成：2-氨基乙醇(12mass％)、螯合剂(2mass％～6mass％)以及界面活性剂(2mass％～6mass％)。使铝基材在40℃的碱性的蚀刻液浸渍30分钟(碱清洁工序)。之后，通过将铝基材浸渍于纯水中进行水洗，水洗后不干燥而在用于梨皮面处理工序的蚀刻液(温度：10℃)中浸渍规定的时间(梨皮面处理工序)。之后，通过将铝基材浸渍于纯水中进行水洗，并通过送风进行干燥。

对于实验例1-1～实验例4-1，将各个铝基材用作模具而形成防眩膜。防眩膜以如下方式形成，即，在向铝基材的表面涂布了脱模剂(大金工业公司制的Optool DSX)之后，涂布聚氨酯丙烯酸酯系的紫外线固化树脂，以转印于TAC膜上的状态照射紫外线而使其固化。如在此所使用的试样膜那样，如此有时将不具有蛾眼构造而只具有防眩构造的膜称作防眩膜。

使用由实验例1-1～4-1的铝基材以及铝基材而获得的防眩膜(试样膜)，对防眩功能进行了评价的结果如表1所示。在图12的(a)～(d)中示出从垂直方向观察具有通过实验例1-1～4-1的梨皮面处理工序而形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)，在图12的(e)～(h)中示出从垂直方向观察由实验例1-1～4-1的铝基材形成的防眩膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)。光学显微镜图像使用光学显微镜(奥林巴斯公司制，制品名：BH2-UCB(BX-16))来取得。以下的光学显微镜图像也是相同的。SEM图像使用场发射型扫描电子显微镜(公司Hitachi High Technology制，制品名：S-4700)来取得。以下的SEM图像也是相同的。

[表1]

表1中的“粗大的凸部12p”为，根据光学显微镜图像对从形成于铝基材12的粗大的凸部12p的表面的法线方向观察时的二维的大小(面积当量圆直径)进行估计而得到的值。

表1中的“雾度值”表示对防眩膜的雾度值进行了测量的结果。雾度值为使用日本电色工业公司制的雾度计NDH2000，根据(漫射透过率/总光线透过率)×100而求得。

表1中的“防眩性”为，将防眩膜贴合于液晶电视(AQUOS LC-UD1，60型，夏普公司制，行方向的点间距：约115μm，列方向的点间距：约345μm)的显示面板面板的表面，目视观察荧光灯的眩光，从而对防眩性的有无进行了判断的结果。对于表1的“防眩性”，“○”表示判断为有防眩性，“×”表示判断为没有防眩性。通常，对于雾度值较大的防眩膜而言，防眩功能优异，防眩性优异。

表1中的“晃眼”为，将防眩膜贴合于液晶电视(AQUOS LC-UD1，60型，夏普公司制，行方向的点间距：约115μm，列方向的点间距：约345μm)的显示面板面板的表面，对整个面实施绿色显示，并对于隔着膜的图像，是否看上去晃眼而实施了听取的结果。听取相对于5人来实施，表1的“晃眼”中的“○”表示回答“看上去晃眼”的人数为5人中的0人，“△”表示1人以上3人以下，“×”表示4人以上。

晃眼为，显示面板面板整体看上去闪耀的现象，特别是在整个面实施了绿色显示时存在有看上去较为显著的趋势。可认为晃眼为，根据粗大的凸部12p的平均相邻间距离(参照图1的(c)中的AD_int)与显示面板面板的行方向点间距Px(图22参照)和/或列方向点间距Py的关系，而因形成于防眩膜的防眩构造与显示面板面板的点相互干扰而产生的。晃眼有时在粗大的凸部12p的平均相邻间距离小于点间距的情况下也会产生。晃眼存在有粗大的凸部12p的平均相邻间距离以及粗大的凸部12p的二维的大小，能够相比点间距而被抑制得充分小的趋势。

根据表1以及图12可知，根据用于梨皮面处理的蚀刻液的浓度，而形成于铝基材12的粗大的凸部12p的大小发生改变。对于实验例1-1中获得的防眩膜，防眩性优异，并能够对晃眼进行抑制。在使用了将实验例1-1的蚀刻液稀释2倍的蚀刻液的实验例2-1中，粗大的凸部12p的二维的大小(约15μm)大于实验例1-1(约10μm)，在使用了将实验例1-1的蚀刻液稀释3倍的蚀刻液的实验例3-1中，粗大的凸部12p的二维的大小进一步变大(约20μm)。从抑制晃眼的观点出发，实验例2-1的防眩膜逊色于实验例1-1的防眩膜，实验例3-1的防眩膜无法抑制晃眼。

另一方面，在使用了将实验例1-1的蚀刻液稀释5倍的蚀刻液的实验例4-1中，在铝基材12的表面未形成有粗大的凸部12p(图12的(d))。其结果为，实验例4-1的防眩膜不具有防眩性。图12的(d)的光学显微镜图像中的黑点为，因碱清洁工序而产生的电蚀。对于碱清洁工序中所产生的电蚀将在下文中叙述。

对于实验例4-1中所使用的蚀刻液，由于未在铝基材12的表面形成粗大的凸部12p，因此，适宜用作前处理用蚀刻液和/或后处理用蚀刻液。

表2所示的实验例1-2、实验例1-3、实验例2-2、实验例3-2以及实验例4-2的梨皮面处理的时间不同于表1的实验例。其它的实验条件以及评价过程与表1所说明的情况相同。

使用由实验例1-2、实验例1-3、实验例2-2、实验例3-2以及实验例4-2的铝基材以及铝基材获得的防眩膜(试样膜)，对防眩功能进行了评价的结果如表2所示。图13的(a)～(e)中示出了从垂直方向观察具有通过实验例1-2、实验例1-3、实验例2-2、实验例3-2以及实验例4-2的梨皮面处理工序而形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)。

[表2]

当对表1与表2进行对比时可知，防眩膜的晃眼以及防眩性的评价结果为，根据梨皮面处理的时间而未发生变化。对于防眩膜的晃眼以及防眩性，用于梨皮面处理的蚀刻液的浓度越大越有帮助。此外，实验例4-2中使用的蚀刻液与实验例4-1中使用的蚀刻液相同地，未在铝基材12的表面形成粗大的凸部12p，因此，适宜用作前处理用蚀刻液和/或后处理用蚀刻液。

接下来，如表3所示，使用于梨皮面处理的蚀刻液中的氟化铵、硫酸铵以及磷酸二氢铵的比率从5：2：2变化，来实施实验。实验例5-1～5-4为，根据实验例1-1中使用的用于梨皮面处理的蚀刻液的组成，使氟化铵、硫酸铵以及磷酸二氢铵中的任意一者的比率发生变化的液体。实验例6-1以及6-2为，根据实验例2-1中使用的用于梨皮面处理的蚀刻液的组成，使氟化铵、硫酸铵以及磷酸二氢铵中的任意一者的比率发生变化的液体。实验条件以及评价过程与表1中所说明的情况基本相同。但是，梨皮面处理的时间不同于表1。

使用由实验例5-1～5-4以及实验例6-1～6-2的铝基材以及铝基材获得的防眩膜(试样膜)，对防眩功能进行了评价的结果如表3所示。在图14的(a)～(d)中，示出从垂直方向观察具有通过实验例5-1～5-4的梨皮面处理工序而形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)，在图14的(e)以及(f)中，示出从垂直方向观察由实验例5-3以及5-4的铝基材形成的防眩膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)。在图15的(a)以及(b)中，示出从垂直方向观察具有通过实验例6-1以及6-2的梨皮面处理工序而形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)。

[表3]

通过将实验例5-3的结果(表3以及图14)与实验例1-1的结果进行比较可知，存在有当减少氟化铵的含有量时，防眩膜的雾度值的值变小，形成于铝基材12的粗大的凸部12p的二维的大小变大的趋势。该趋势与将实验例1-1的蚀刻液稀释2倍时(实验例2-1)相同。在实验例5-4中，当将进一步减少氟化铵的含有量时，与将实验例1-1的蚀刻液稀释5倍时(实验例4-1)相同地，未形成有粗大的凸部12p。

如实验例5-2以及实验例6-1所示，通过不含有磷酸二氢铵的蚀刻液，也能够制造具有防眩性并能够抑制晃眼的防眩膜。

实验例5-2与实验例1-1(梨皮面处理时间：2分钟)相比较，梨皮面处理时间变长，此外，实验例6-1与实验例2-1(梨皮面处理时间：2分钟)相比较，梨皮面处理时间变长，因此，当使用不含有磷酸二氢铵的蚀刻液时能够获得能够增大梨皮面处理的时间的余量这样的优点。但是，磷酸二氢铵具有抑制梨皮面处理的不匀的效果，因此，优选蚀刻液含有磷酸二氢铵。此外，在不含有磷酸二氢铵的蚀刻液中，有时在梨皮面处理工序中会产生气泡。有时为了抑制因产生气泡而引起的梨皮面处理的不匀，而优选适当添加消泡剂。

如实验例5-1以及实验例6-2所示那样，当使用不含有硫酸铵的蚀刻液时，与使用了含有硫酸铵的蚀刻液的情况相比，存在有粗大的凸部12p的二维的大小变大的趋势。即，形成于实验例5-1的铝基材的粗大的凸部12p的二维的大小与实验例1-1相比较大，形成于实验例6-2的铝基材的粗大的凸部12p的二维的大小与实验例2-1相比较大。与实验例1-1的防眩膜相比，实验例5-1的防眩膜在抑制晃眼的观点的方面较为逊色。实验例6-2的防眩膜无法抑制晃眼。

[用于碱清洁工序的碱性的蚀刻液的组成]

首先，对由碱性的蚀刻液实施的碱清洁工序的效果进行了调查。

如下述表4那样改变条件，在梨皮面处理工序之前，通过酸性的清洁液、中性的清洁液以及碱性的清洁液(有时也称作碱性的蚀刻液。)实施了清洁工序。作为酸性的清洁液，使用以浓度3mass％包含酸性的清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：Scale Cut P)的水溶液。横浜油脂工业公司制的Scale Cut包含5mass％～15mass％作为酸的柠檬酸。作为中性的清洁液，使用以浓度3mass％包含中性的清洁剂(三和油化工业公司制，制品名：SunClean HS)的水溶液，作为碱性的蚀刻液，使用有以浓度8mass％包含机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液。

作为用于梨皮面处理的蚀刻液，使用与实验例1-1中使用的用于梨皮面处理的蚀刻液相同的液体。即，分别包含5mass％氟化铵、2mass％硫酸铵以及2mass％磷酸二氢铵。所使用的铝基材的小片与表1中说明的小片相同。

[表4]

确认到了通过酸性、中性以及碱性的清洁液进行了清洁之后的铝基材的表面具有亲水性。在通过酸性以及中性的清洁液进行了清洁之后的铝基材的表面，确认到了镜面反射性。在通过碱性的清洁液进行了清洁之后的铝基材的表面，与镜面反射性相匹配地确认到了扩散反射(包含散射)性。对于表4中的“切削痕”，“×”表示形成有切削痕，“○”表示未形成有切削痕。对于表4中的“晶粒”，“×”表示晶粒明显，“○”表示几乎未确认到晶粒。在通过碱性的清洁液实施了清洁工序之后实施了梨皮面处理工序的铝基材的表面未形成有切削痕，也未确认到晶粒。在通过酸性以及中性的清洁液实施了清洁工序之后实施了梨皮面处理工序的铝基材的表面，形成有切削痕。在通过中性的清洁液实施了清洁工序之后实施了梨皮面处理工序的铝基材的表面，几乎未确认到晶粒，但是，在通过酸性的清洁液实施了清洁工序之后实施了梨皮面处理工序的铝基材的表面，晶粒明显。当在铝基材的表面晶粒明显时，将防眩膜贴合于显示面板面板的表面，以从防眩膜的法线方向倾斜的角度观察时，有时隔着膜的图像看上去褪色发白。

根据表4的结果，优选在梨皮面处理工序之前的清洁工序中，使用碱性的蚀刻液。通过在梨皮面处理工序之前进行由碱性的蚀刻液实施的碱清洁工序，从而能够对切削痕的形成进行抑制。当使用中性的清洁液时，无法对切削痕的形成进行抑制。可知当使用酸性的清洁液时，无法对切削痕的形成进行抑制，而且使铝基材的晶粒(晶粒边界)明显。

需要说明的是，在本说明书中的实验例中，碱性的蚀刻液以及用于梨皮面处理的蚀刻液全部使用实施碱清洁工序或梨皮面处理工序的当天制备的液体。根据本发明者的研究，这是因为，有时在通过当天制备的蚀刻液与一周前制备的蚀刻液而获得的翻转的防眩构造中出现了显著的差异。

如表4所示，通过在梨皮面处理工序之前实施使用了碱性的蚀刻液的碱清洁工序，从而能够对切削痕的形成进行抑制。可认为能够通过碱性的蚀刻液，将成为切削痕的原因的铝基材的加工变性层的至少一部分去除。然而，根据本发明者的研究，有时根据碱性的蚀刻液的种类不同，会产生以下的问题。

通常，可认为从铝基材12的表面被去除的加工变性层越厚，则越能够抑制切削痕的形成。例如，通过将铝基材12长时间浸渍于碱性的蚀刻液，从而能够增厚从铝基材12的表面去除的加工变性层。然而，通过碱性的蚀刻液而使铝基材12的表面的氧化被膜被去除，因此，对氧化被膜被去除的表面进行电蚀，其结果为，形成有许多凹部(孔食)。需要说明的是，电蚀在铝基材12所包含的Ti与Al之间产生。

首先，为了对形成有由电蚀而产生的凹部的状况进行调查，以表5所示的条件，相对于铝基材仅实施了碱清洁工序。作为碱性的蚀刻液，使用了以浓度8mass％包含有机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液。所使用的铝基材的小片与表1中说明的相同。将各个铝基材用作模具，与表1中说明的方法相同地制成了高分子膜。雾度值的测量也与表1中说明的方法相同地来实施。在图16的(a)中，示出了从垂直方向观察实施了实验例7-1的碱清洁工序的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)，在图16的(b)以及(c)中，示出了从垂直方向观察由实验例7-1以及7-2的铝基材形成的高分子膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)。

如表5以及图16所示，确认到了当碱清洁工序的时间延长时，与形成于铝基材的由电蚀产生的凹部相对应地，在高分子膜的表面形成有凸部的状况(参照图16的(c))。

[表5]

接着，以表6所示的条件对铝基材实施了碱清洁工序以及梨皮面处理工序。所使用的铝基材的小片与表1中说明的相同。在图17的(a)～(d)中，示出了从垂直方向观察具有通过实验例8-1～8-4的梨皮面处理工序形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)，在图17的(e)～(h)中，示出了从垂直方向观察由实验例8-1～8-4的铝基材形成的高分子膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)。

[表6]

在实验例8-1～8-4中，作为碱性的蚀刻液，使用了以浓度12mass％包含有机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液。作为用于梨皮面处理的蚀刻液，使用了将实验例1-1中使用的用于梨皮面处理的蚀刻液稀释2倍的液体。在以下的表中，对于用于梨皮面处理的蚀刻液，“等倍”或“2倍稀释”以实验例1-1中使用的用于梨皮面处理的蚀刻液为基准。其它的实验条件以及评价过程与表1中说明的相同。对于表6中“切削痕”，“×”表示在铝基材的表面形成有切削痕，“○”表示未形成有切削痕。对于表6中“电蚀”而言，未形成有由电蚀而产生的凹部时为“○”，虽形成有由电蚀产生的凹部但实用上是没有问题的程度时为“△”，形成有由电蚀产生的凹部且实用上是有问题的程度时为“×”，并示出了评价的结果。表6中“质量变化”为，对碱清洁工序的前后的铝基材的质量的变化进行了测量的结果。

如表6以及图17所示，当实施40分钟以上碱清洁工序时(实验例8-2～8-4)，未形成有切削痕。另一方面，确认到了当碱清洁工序的时间延长时，由电蚀产生的凹部形成在铝基材的表面(图17的光学显微镜图像中黑色的部位)，防眩膜中形成有凸部的状况。特别是，当实施60分钟以上碱清洁工序时(实验例8-3以及8-4)，能够确认到它们的密度变高的状况。

当在铝基材12的表面产生由电蚀而产生的凹部时，对应于使用了铝基材12的蛾眼用模具的表面也产生有凹部。当因电蚀而在蛾眼用模具的表面形成有凹部时，会担心树脂堵塞、转印性的变差。此外，在使用蛾眼用模具制造而成的防反射膜中，形成有与由电蚀产生的凹部相对应的凸部。对于这样的防反射膜，有时对于晃眼的抑制、耐擦伤性也会变差。此外，由于难以对铝基材12中产生电蚀的位置进行控制，因此，还会产生难以控制防反射膜的雾度值这样的问题。

本发明者为了解决所述问题而想到了，在对由电蚀产生的凹部的产生进行抑制的同时，将铝基材的加工变性层的至少一部分去除的方法。

以如下的表7所示的条件，对铝基材实施了碱清洁工序以及梨皮面处理工序。在实验例9-1中，作为碱性的蚀刻液，使用了以浓度8mass％包含有机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液。实验例9-2～9-4中的碱性的蚀刻液为，向实验例9-1中的碱性的蚀刻液，作为酸性的添加剂而添加了5vol％腐蚀抑制剂(腐蚀抑制剂AL，Chelest公司制)。由此，实验例9-2～9-4的碱性的蚀刻液的pH小于实验例9-1的碱性的蚀刻液的pH。其它的实验条件与表6相同。

在图18的(a)～(d)中，示出了从垂直方向观察具有通过实验例9-1～9-4的梨皮面处理工序而形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)。

[表7]

当将图18的(b)～(d)与图18的(a)相比较时，可知由电蚀产生的凹部的形成得到有效地抑制。此外，根据表7，由于通过实验例9-1和实验例9-2，而碱清洁工序中的铝基材的质量变化无差异，因此，可认为去除加工变性层的效果也相同。即，通过对碱性的蚀刻液添加酸性的添加剂，从而对切削痕的形成进行抑制，并且，能够对由电蚀产生的凹部的形成进行抑制。

通过对碱性的蚀刻液添加酸性的添加剂，从而碱性的蚀刻液的pH变小。即，在实验例9-2～9-4中，可认为与实验例9-1相比对铝基材的表面进行蚀刻的作用较弱。另一方面，在实验例9-2～9-4中，与实验例9-1相比难以实施离子化(Al(OH)4-)，因此，易于形成氢氧化铝(Al(OH)3)。可认为通过使氢氧化铝形成在铝基材的表面，从而由电蚀实施的凹部的形成得到抑制。

作为酸性的添加剂，并不限于例示，可认为只要溶解于碱性的蚀刻液，并对铝没有腐蚀性就能够使用。实验例中作为酸性的添加剂而使用的腐蚀抑制剂(腐蚀抑制剂AL)添加几％来使用是通常的比例。与此相对，在本申请中，通过添加5mass％～10mass％(参照表8)，从而对切削痕的形成进行抑制，并且，能够获得对由电蚀产生的凹部的形成进行抑制的碱性的蚀刻液。

需要说明的是，在图18的(b)～(d)中，能够在铝基材的表面确认到附着物。这可认为是称作污迹的附着物。可认为污迹是在对铝进行碱蚀刻之际形成的且铝中所包含的Si、Mg、Fe、Cu等杂质、合金成分析出在铝上而形成的。污迹能够通过酸性的水溶液进行去除。

而且，为了对最佳的碱性的蚀刻液的组成进行调查，使用表8的条件，实施了与表7相同的实验。在图19的(a)～(d)中，示出了从垂直方向观察具有通过实验例10-1～10-4的梨皮面处理工序而形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)，在图19的(e)～(h)中，示出了从垂直方向观察由实验例10-1～10-4的铝基材形成的高分子膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)。

[表8]

根据表8以及图19可知，在实验例10-1～实验例10-4中的、实验例10-2中最有效地对切削痕的形成进行抑制，并且，能够对由电蚀产生的凹部的形成进行抑制。

还获得了通过对碱性的蚀刻液添加酸性的添加剂，从而能够增大碱清洁工序的时间的余量这样的优点。在图20的(a)中，示出了碱清洁工序的时间与铝基材的质量变化率的关系。在图20的(b)中，示出了碱清洁工序的时间与将铝基材作为模具而获得的防眩膜的雾度值的关系。

图20的(a)以及(b)的横轴表示碱清洁工序的时间(分钟)。图20的(a)的纵轴表示碱清洁工序前后的铝基材的质量的变化的比率，即，(碱清洁工序前的质量-碱清洁工序后的质量)/碱清洁前的质量×100(％)。图20的(b)的纵轴表示防眩膜的雾度值。在图20的(a)以及图20的(b)中标记了如下结果，即，作为碱性的蚀刻液，而使用了以浓度12mass％包含有机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液的实验例8-1～8-4、使用了向作为碱性的蚀刻液而以浓度16mass％包含有机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液，作为酸性的添加剂而添加了10vol％腐蚀抑制剂(腐蚀抑制剂AL，Chelest公司制)的水溶液的实验例10-1～10-4、作为碱性的蚀刻液而使用了以浓度8mass％包含有机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液的实验例11-1(参照表9)。

根据图20的(a)可知，例如，将铝基材的质量减少至0.04％为止所花费的时间为，相对于使用以浓度12mass％包含有机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液(实验例8-1～8-4)时约为20分钟的情况，当向以浓度16mass％包含有机碱性清洁剂(横浜油脂工业公司制，制品名：横滨油脂LC-2)的水溶液作为酸性的添加剂而添加了10vol％腐蚀抑制剂(腐蚀抑制剂AL，Chelest公司制)的水溶液(实验例10-1～10-4)时，成为其3倍以上。通过对碱性的蚀刻液添加酸性的添加剂，从而能够较长得取得碱清洁工序的时间。

酸性的添加剂也可以添加于用于梨皮面处理的蚀刻液。使用下述表9的条件实施了与表7相同的实验。在实验例11-1中，作为用于梨皮面处理的蚀刻液，使用与实验例1-1中使用的相同的蚀刻液。在实验例11-2中，将向实验例11-1的用于梨皮面处理的蚀刻液作为酸性的添加剂而添加了10vol％腐蚀抑制剂(腐蚀抑制剂AL，Chelest公司制)的液体，用作用于梨皮面处理的蚀刻液。

在图21的(a)以及(b)中，示出了从垂直方向观察具有通过实验例11-1以及11-2的梨皮面处理工序而形成的翻转的防眩构造的铝基材的表面时的光学显微镜图像(50倍)，在图21的(c)以及(d)中，示出了从垂直方向观察由实验例11-1以及11-2的铝基材形成的高分子膜的表面时的SEM图像(SEM图像中的满刻度20μm)。

[表9]

根据表9以及图21可知，当将酸性的添加剂添加于用于梨皮面处理的蚀刻液时，由电蚀而产生的凹部的形成得到抑制。当添加酸性的添加剂时，看上去翻转的防眩构造的肌理稍微粗糙。

需要说明的是，用于上述的梨皮面处理的蚀刻液以及碱性的蚀刻液的效果，并不是仅在本发明的实施方式的圆筒状的蛾眼用模具的制造方法中能够获得。用于上述的梨皮面处理的蚀刻液以及碱性的蚀刻液的效果并不被模具的形状影响，因此，例如，在平板状(板状)的蛾眼用模具的制造方法中，即使使用用于上述的梨皮面处理的蚀刻液以及碱性的蚀刻液也能够获得相同的效果。

使用如此获得的实施了梨皮面处理的圆筒状的铝基材，如上所述，能够形成翻转的蛾眼构造，从而获得能够赋予防反射功能和防眩功能的蛾眼用模具。当使用圆筒状的蛾眼用模具时，如上所述能够通过辊对辊方式形成防反射膜。此时，为了提高形成防反射膜的膜基材(TAC膜或PET膜)与防反射膜的密合性，优选经由以下那样的工序。

在TAC膜上赋予包含溶剂的紫外线固化性树脂(例如丙烯酸树脂)(厚度例如为2μm～20μm)。此时，溶剂选择对TAC膜的表面进行溶解的物质(例如酮系)。通过溶剂对TAC膜的表面进行溶解，从而形成有TAC与紫外线固化性树脂混合的区域。

其后，去除溶剂，在蛾眼用模具的外周面以紫外线固化性树脂紧密接触的方式卷绕TAC膜。

接下来，照射紫外线使紫外线固化性树脂固化。该时，将紫外线固化性树脂的温度保持在30℃至70℃。

之后，将TAC膜从蛾眼用模具剥离，并根据需要再次照射紫外线。

在TAC膜上形成硬涂层的情况下，也可以使形成硬涂层的材料含有对TAC膜的表面进行溶解的溶剂。在该情况下，无需使用于形成防反射膜的紫外线固化性树脂含有溶剂。

此外，在使用PET膜的情况下，优选在赋予紫外线固化性树脂之前，形成水系的底漆(例如，聚酯系树脂、丙烯酸系树脂)的层(厚度2μm～20μm)。在该情况下，也无需使用于形成防反射膜的紫外线固化性树脂含有溶剂。

产业上的可利用性

本发明的基材的表面处理方法能够用于防反射膜(防反射表面)等的形成所使用的模具的制造方法。本发明的模具的制造方法能够用于防反射膜(防反射表面)等的形成适宜使用的模具的制造。使用本发明的模具的制造方法制造而成的模具制造而成的防反射膜具有表现出适度的防眩功能和优异的防反射功能的表面构造，例如，适宜用于高清晰的显示面板。

符号说明

10：模具基材；

12：铝基材；

14：多孔氧化铝层；

14p：微细的凹部；

16：无机材料层；

18：铝膜；

18r：铝残存层；

100：蛾眼用模具。

Claims (20)

1.一种基材的表面处理方法，对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理，其特征在于，所述基材的表面处理方法包含：

(a)在配置有所述基材的状态下，以所述基材的长轴为中心使所述基材旋转，使得所述基材的长轴方向与水平方向大致平行的工序；以及

(b)使所述基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽所收容的第一蚀刻液接触的工序，

所述第一蚀刻液为，包含氟化氢与铵的盐的水溶液，

所述基材的表面处理方法还包含：在所述工序(b)之前，使所述基材的外周面的一部分与不同于所述第一蚀刻液的第二蚀刻液接触的工序(b1)，

所述第二蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率低于所述第一蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率。

2.根据权利要求1所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

还包含将与所述第一蚀刻液相同的第三蚀刻液吹送至所述基材的外周面的工序(c)。

3.根据权利要求2所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述工序(c)包括：与所述工序(b)同时实施，所述第三蚀刻液被吹送至所述基材的外周面中的、与所述第一蚀刻液接触的部位的附近的工序。

4.根据权利要求2或3所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述工序(c)包括：与所述工序(a)同时实施，在所述第三蚀刻液被吹送至所述基材的外周面中的、与所述第一蚀刻液接触的部位的附近，且在所述工序(a)中以远离所述第一蚀刻液的方式被吹送至旋转的部位的工序。

5.根据权利要求2或3所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述工序(c)中，所述第三蚀刻液被喷出的角度从铅直方向倾斜45°以上且小于90°。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述基材为，由Al-Mg-Si系的铝合金形成并被实施了机械镜面加工的铝基材。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述氟化氢与铵的盐为氟化铵。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述第二蚀刻液为将所述第一蚀刻液稀释而得到的蚀刻液。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述第二蚀刻液的温度低于所述第一蚀刻液。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述第二蚀刻液被收容在不同于所述第一蚀刻槽的第三蚀刻槽。

11.根据权利要求1至3中任一项所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述第二蚀刻液被收容在所述第一蚀刻槽。

12.根据权利要求1至3中任一项所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

还包含：在所述工序(b)之后，使所述基材的外周面的一部分与不同于所述第一蚀刻液的第四蚀刻液接触的工序(b2)，

所述第四蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率低于所述第一蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率。

13.根据权利要求12所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述第四蚀刻液为与所述第二蚀刻液相同的蚀刻液。

14.根据权利要求1至3中任一项所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述工序(a)中，所述基材的圆周速度为超过0m/s且0.03m/s以下。

15.根据权利要求1至3中任一项所述的基材的表面处理方法，其特征在于，

所述工序(a)中，所述基材的旋转速度为超过0rpm且2rpm以下。

16.一种模具的制造方法，包含：

(A)准备由Al-Mg-Si系的铝合金形成的圆筒状的铝基材且被实施了机械镜面加工的铝基材的工序；

(B)利用权利要求1至15中任一项所述的表面处理方法对所述铝基材的表面进行处理的工序；

(C)在所述工序(B)之后，通过在所述铝基材的所述表面形成无机材料层，在所述无机材料层之上形成铝膜，制成模具基材的工序；

(D)在所述工序(C)之后，通过对所述铝膜的表面进行阳极氧化，形成具有多个微细的凹部的多孔氧化铝层的工序；

(E)在所述工序(D)之后，通过使所述多孔氧化铝层与蚀刻液接触，将所述多孔氧化铝层的所述多个微细的凹部扩大的工序；以及

(F)在所述工序(E)之后，进一步通过进行阳极氧化，使所述多个微细的凹部成长的工序。

17.根据权利要求16所述的模具的制造方法，其特征在于，

还包含：在所述工序(B)之前，使用碱性的蚀刻液，对所述铝基材的所述表面进行蚀刻的工序(G)。

18.根据权利要求17所述的模具的制造方法，其特征在于，

所述碱性的蚀刻液的pH为8以上10以下。

19.根据权利要求17或18所述的模具的制造方法，其特征在于，

所述碱性的蚀刻液通过向包含具有氨基的有机化合物的水溶液添加酸性的添加剂来制备而成。

20.根据权利要求19所述的模具的制造方法，其特征在于，

所述酸性的添加剂的体积相对于包含具有所述氨基的有机化合物的水溶液的体积为5％以上。

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