WO2015016110A1 - 光電変換素子および太陽電池 - Google Patents

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photoelectric conversion
conversion element
group
porous
insulating material
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寛敬 佐藤
小林 克
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富士フイルム株式会社
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    • Y02E10/549Organic PV cells

Definitions

  • the present invention relates to a photoelectric conversion element and a solar cell.
  • Photoelectric conversion elements are used in various optical sensors, copiers, solar cells and the like. Solar cells are expected to be put into full-scale practical use as non-depleting solar energy. Among these, a dye-sensitized solar cell using an organic dye or a Ru bipyridyl complex as a sensitizer has been actively researched and developed, and the photoelectric conversion efficiency has reached about 11%.
  • Patent Document 1 discloses a compound having a perovskite crystal structure represented by CH 3 NH 3 MX 3 (M represents Pb or Sn, and X represents a halogen atom) and a light absorption layer including a semiconductor fine particle layer, A solar cell with an electrolyte layer made of an electrolyte is described.
  • Non-Patent Document 1 describes a solar cell using a compound having an perovskite crystal structure of CH 3 NH 3 PbI 3 and an organic hole transport material.
  • a photoelectric conversion element and a solar cell using a metal halide compound having a perovskite crystal structure have achieved certain results in improving photoelectric conversion efficiency.
  • a solar cell using a metal halide compound having a perovskite crystal structure does not require a complicated manufacturing process, and has a possibility of manufacturing a photoelectric conversion element and a solar cell at low cost.
  • the voltage varies greatly between the obtained solar cells hereinafter referred to as voltage variation between solar cells. It was found that the stability of the battery performance was not sufficient.
  • an object of the present invention is to provide a photoelectric conversion element that exhibits small battery fluctuation and exhibits stable battery performance, and a solar battery including the photoelectric conversion element.
  • the present inventors comprise a light absorber in a solar cell (also called a perovskite sensitized solar cell) using a compound having a perovskite crystal structure (also called a perovskite compound or a perovskite light absorber) as a light absorber.
  • a material for forming a porous layer as a scaffold for providing a photosensitive layer affects the voltage fluctuation between solar cells.
  • the porous layer contains at least one insulating material and a solid material is used as the hole transport material, the voltage fluctuation between the solar cells can be suppressed. .
  • the present invention has been completed based on these findings.
  • a porous layer provided on a conductive support, a first electrode having a photosensitive layer provided with a light absorber on the surface of the porous layer, a second electrode facing the first electrode, A photoelectric conversion element having a solid hole transport layer provided between the first electrode and the second electrode, A compound having a perovskite crystal structure in which the light absorber has a cation of a group 1 element of the periodic table or a cationic organic group A, a cation of a metal atom M other than a group 1 element of the periodic table, and an anion of an anionic atom X Including A photoelectric conversion element in which the porous layer contains at least one insulating material.
  • the porous layer includes at least one porous material different from the insulating material.
  • the insulating material is contained in an amount of 5 to 95% by mass in the porous layer.
  • the porous material contains 5 to 50% by mass of an insulating material.
  • the porous layer includes an insulating material and a porous material different from the insulating material, and has the other material on the surface of one of the insulating material and the porous material.
  • ⁇ 2> The photoelectric conversion element according to any one of ⁇ 4>.
  • ⁇ 6> The photoelectric conversion element according to any one of ⁇ 2> to ⁇ 5>, wherein the porous layer has an insulating material on a surface of a porous material different from the insulating material.
  • ⁇ 7> The photoelectric conversion element according to ⁇ 5> or ⁇ 6>, wherein the other material covers at least a part of the surface of the one material.
  • ⁇ 8> The photoelectric conversion element according to any one of ⁇ 2> to ⁇ 7>, wherein each of the insulating material and the porous material different from the insulating material is included.
  • ⁇ 9> The photoelectric conversion element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein the insulating material is selected from the group consisting of oxides of zirconium, aluminum, and silicon. ⁇ 10> Any one of ⁇ 2> to ⁇ 9>, wherein the porous material different from the insulating material is selected from the group consisting of titanium, zinc, tin, tungsten, zirconium, aluminum and silicon oxides, and carbon nanotubes The photoelectric conversion element as described in any one.
  • ⁇ 11> The photoelectric conversion according to any one of ⁇ 2> to ⁇ 10>, wherein the porous material different from the insulating material has a conduction band of the same or lower energy level as the lowest empty orbit of the perovskite light absorber element.
  • the insulating material is an oxide of zirconium or aluminum
  • A represents a group 1 element of the periodic table or a cationic organic group.
  • M represents a metal atom other than Group 1 elements of the periodic table.
  • X represents an anionic atom.
  • a represents 1 or 2
  • the photoelectric conversion device according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>, wherein the compound having a perovskite crystal structure includes a compound represented by the following formula (I-1).
  • A represents a group 1 element of the periodic table or a cationic organic group.
  • M represents a metal atom other than Group 1 elements of the periodic table.
  • X represents an anionic atom.
  • the photoelectric conversion device according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 14>, wherein the compound having a perovskite crystal structure includes a compound represented by the following formula (I-2).
  • A represents a group 1 element of the periodic table or a cationic organic group.
  • M represents a metal atom other than Group 1 elements of the periodic table.
  • X represents an anionic atom.
  • R 1a is an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group, or a group that can be represented by the following formula (2).
  • Xa represents NR 1c , an oxygen atom or a sulfur atom.
  • R 1b and R 1c each independently represent a hydrogen atom or a substituent. * Represents a bonding position with the N atom in the formula (1).
  • ⁇ 18> The photoelectric conversion device according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 17>, wherein X is a halogen atom.
  • X is a halogen atom.
  • M is a Pb atom or a Sn atom.
  • a solar cell comprising the photoelectric conversion element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 19>.
  • the “porous layer” is a layer that functions as a scaffold carrying a photosensitive layer on the surface.
  • This porous layer refers to a fine particle layer having pores formed by depositing a porous material.
  • the “porous material” refers to a material capable of forming a porous layer, regardless of electrical properties. Therefore, in the present invention, the porous material includes a conductor (conductive material), a semiconductor (semiconductive material), and an insulator (insulating material).
  • the “insulating material” included in the porous material is a material capable of forming a porous layer, and has a conduction band (shallow) having an energy level higher than the lowest unoccupied orbit (LUMO) of the perovskite light absorber (LUMO).
  • the insulating material is an insulating porous material (insulating porous material) in relation to the perovskite light absorber used in combination.
  • the “porous material” includes an insulating material, but a preferable embodiment is a material having the lower end of the conduction band at the same or lower (deep) energy level as the lowest empty orbit of the perovskite light absorber. That is, the “porous material” in a preferred embodiment is a material capable of forming a porous layer, and is a conductive material or a semiconductive material (hereinafter, both are combined in the relationship with the perovskite light absorber used together). Sometimes referred to as a semiconductive porous material).
  • the “porous material different from the insulating material” is not particularly limited in electrical properties, and includes materials that are not the same insulating material.
  • it means another insulating material different from the above “at least one insulating material” and a semiconductive porous material, and a semiconductive porous material is preferable.
  • each of the above formulas in particular, the formula (1), the formula (2), and the formula (A am ) are partly shown as qualitative formulas in order to understand the chemical structure of a compound having a perovskite crystal structure.
  • a partial structure is referred to as a group, a substituent, an atom, or the like.
  • these are element groups or elements constituting a group or a (substitution) group represented by the above formula. Means.
  • the display of a compound is used to mean not only the compound itself but also its salt and its ion.
  • a compound that does not specify substitution or non-substitution is meant to include a compound having an arbitrary substituent as long as a desired effect is achieved.
  • substituents and linking groups hereinafter referred to as substituents and the like).
  • a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • the present invention it is possible to provide a photoelectric conversion element that exhibits small battery fluctuations and exhibits stable battery performance, and a solar battery including the photoelectric conversion element.
  • the photoelectric conversion element of the present invention is provided between a first electrode having a conductive support, a porous layer and a photosensitive layer, a second electrode facing the first electrode, and the first electrode and the second electrode. And a solid hole transport layer.
  • This photosensitive layer has a light absorber on the surface of the porous layer.
  • the porous layer is preferably a fine particle layer formed by depositing a porous material containing at least one insulating material, and the kind of porous material, the combination used together, the deposition state, etc. are not particularly limited. .
  • the porous material only needs to contain one type of insulating material, but in the present invention, it is preferable to include two or more types of porous material containing at least one type of insulating material. Examples of such types and combinations of porous materials include a combination of “at least one insulating material and at least one porous material different from the insulating material”. For example, both combinations of two or more insulating materials and combinations of at least one insulating material and at least one semiconductive porous material are included.
  • a combination of at least one insulating material and at least one semiconductive porous material is preferable.
  • at least one of the preferable insulating materials described later and a preferable semiconductive porous material described later are used.
  • the combination with at least 1 sort (s) of these is mentioned.
  • it is preferable that one type of each of the insulating material and the porous material different from the insulating material is included.
  • the deposition state of the porous material is not particularly limited, and it is preferable that the porous material is deposited so that the porous layer is a layer having pores, as will be described later.
  • the deposited porous material only needs to be in a state where it can be closely packed to form a porous structure.
  • the “state in which a porous layer can be formed” includes a state in which the porous material is compressed or filled, and a state in which the porous materials are closely adhered, fused, or sintered.
  • the porous material containing at least one insulating material may be deposited in any manner.
  • the “deposition state” of the porous material includes a mode in which a plurality of types of porous materials are deposited in a mixed state, an insulating material, and a porous material different from the insulating material.
  • the state having the second porous material on the surface of the first porous material means that one or more second porous materials are in contact with the surface of the first porous material. If it is in, it will not be specifically limited.
  • a state in which the material is covered (for example, attached to a film) is preferable.
  • the surface of the first porous material to which the second porous material adheres or covers may be a part or the entire surface, and the second porous material is a part of the surface having the second porous material.
  • One porous material and the first porous material having the second porous material on the entire surface may be mixed.
  • the amount of the second porous material on the surface of the first porous material, the coverage of the surface of the first porous material, and the like are not particularly limited.
  • the mass ratio with respect to the second porous material is preferably 5 to 95% by mass, for example. More preferably, it is 5 to 50% by mass.
  • the second porous material is preferably an insulating material
  • the first porous material is preferably a porous material different from the insulating material that is the second porous material
  • the semiconductive porous material is particularly preferable. preferable.
  • the light absorber only needs to contain at least one compound having a perovskite crystal structure, which will be described later, and may contain various types.
  • the photosensitive layer can be formed in various forms on the surface of the porous layer depending on the shape of the porous layer, the amount of the light absorber provided, and the like. Therefore, in the present invention, the mode of the photosensitive layer is not limited as long as it is provided on the surface of the porous layer.
  • a mode in which the photosensitive layer is formed on the surface of the porous layer for example, a mode in which the photosensitive layer is provided in the form of a thin film or the like on the surface of the porous layer (see FIG. 1), a thickness provided on the surface of the porous layer (See FIG. 2).
  • the photosensitive layer may be provided in a linear or dispersed form, but is preferably provided in a film form.
  • the photoelectric conversion element of the present invention is not particularly limited in structure other than the structure defined in the present invention, and a known structure relating to the photoelectric conversion element and the solar cell can be adopted.
  • Each layer constituting the photoelectric conversion element of the present invention is designed according to the purpose, and may be formed in a single layer or multiple layers, for example.
  • the photosensitive layer may be a single layer or a laminate of two or more layers.
  • the photosensitive layer is a laminate, it may be a laminate of layers composed of different light absorbers, and may have an intermediate layer containing a hole transport material between the photosensitive layer and the photosensitive layer.
  • FIG. 1 and FIG. 2 show the size of the fine particles forming the porous layer with emphasis. These fine particles are preferably clogged (deposited or adhered) in the horizontal and vertical directions with respect to the conductive support to form a porous structure.
  • photoelectric conversion element 10 means the photoelectric conversion elements 10A and 10B unless otherwise specified. The same applies to “system 100”, “first electrode 1”, “photosensitive layer 13” and “hole transport layer 3”.
  • a photoelectric conversion element 10A shown in FIG. A system 100A shown in FIG. 1 is a system applied to a battery for causing an operation circuit M (for example, an electric motor) to perform work by the external circuit 6 using the photoelectric conversion element 10A.
  • the photoelectric conversion element 10A includes a first electrode 1A, a second electrode 2, and a solid hole transport layer 3A.
  • 1 A of 1st electrodes have the electroconductive support body 11 which consists of the support body 11a and the transparent electrode 11b, the porous layer 12, and 13 A of photosensitive layers.
  • the blocking layer 14 is preferably provided on the transparent electrode 11 b, and the porous layer 12 is formed on the blocking layer 14.
  • the photoelectric conversion element 10B shown in FIG. 2 schematically shows a preferred embodiment in which the photosensitive layer 13A of the photoelectric conversion element 10A shown in FIG. In the photoelectric conversion element 10B, the hole transport layer 3B is thinly provided.
  • the photoelectric conversion element 10B differs from the photoelectric conversion element 10A shown in FIG. 1 in the points of the photosensitive layer 13B and the solid hole transport layer 3B, but is configured in the same manner as the photoelectric conversion element 10A except for these points. .
  • the system 100 to which the photoelectric conversion element 10 is applied functions as a solar cell as follows. That is, in the photoelectric conversion element 10, light that has passed through the conductive support 11 or the second electrode 2 and entered the photosensitive layer 13 excites the light absorber. The excited light absorber has high-energy electrons, and these electrons reach the conductive support 11 from the photosensitive layer 13. At this time, the light absorber that has released electrons with high energy is an oxidant. Electrons reaching the conductive support 11 return to the photosensitive layer 13 via the second electrode 2 and then the hole transport layer 3 while working in the external circuit 6. The light absorber is reduced by the electrons returning to the photosensitive layer 13. By repeating excitation and electron transfer of the light absorber, the system 100 functions as a solar cell.
  • the flow of electrons from the photosensitive layer 13 to the conductive support 11 varies depending on the type of the porous layer 12 and the conductivity. The flow of electrons from the photosensitive layer 13 to the conductive support 11 will be described later.
  • the photoelectric conversion element and the solar cell of the present invention are not limited to the above-described preferred embodiments, and the configuration of each embodiment can be appropriately combined between the respective embodiments without departing from the spirit of the present invention.
  • materials and members used for the photoelectric conversion element or the solar cell are obtained by a conventional method except for the porous layer 12, the perovskite compound as the light absorber (sensitizer), and the solid hole transport layer 3.
  • Patent Document 1 and Non-Patent Document 1 can be referred to.
  • dye-sensitized solar cells for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-291534, US Pat. No. 4,927,721, US Pat. No. 4,684,537, US Pat. No. 5,084, 365, US Pat. No. 5,350,644, US Pat. No. 5,463,057, US Pat. No. 5,525,440, JP-A-7-249790, JP 2004-220974 A and JP 2008-135197 A can be referred to.
  • the first electrode 1 includes a conductive support 11, a porous layer 12, and a photosensitive layer 13, and functions as a working electrode in the photoelectric conversion element 10.
  • the first electrode 1 preferably has a blocking layer 14.
  • the conductive support 11 is not particularly limited as long as it has conductivity and can support the porous layer 12, the photosensitive layer 13, and the like.
  • the conductive support is made of a conductive material, for example, a conductive support made of metal, or a glass or plastic support 11a and a conductive electrode as a transparent electrode 11b formed on the surface of the support 11a.
  • a conductive support 11 having a membrane is preferred.
  • a conductive support 11 in which a transparent metal electrode 11b is formed by coating a conductive metal oxide on the surface of a glass or plastic support 11a is more preferable.
  • the support 11a formed of plastic include a transparent polymer film described in paragraph No. 0153 of JP-A-2001-291534.
  • ceramic Japanese Patent Laid-Open No. 2005-135902
  • conductive resin Japanese Patent Laid-Open No. 2001-160425
  • tin oxide As the metal oxide, tin oxide (TO) is preferable, and fluorine-doped tin oxide such as indium-tin oxide (tin-doped indium oxide; ITO) and fluorine-doped tin oxide (FTO) is particularly preferable.
  • the coating amount of the metal oxide at this time is preferably 0.1 to 100 g per 1 m 2 of the surface area of the support 11a. When the conductive support 11 is used, light is preferably incident from the support 11a side.
  • the conductive support 11 is preferably substantially transparent.
  • “substantially transparent” means that the transmittance of light (wavelength 300 to 1200 nm) is 10% or more, preferably 50% or more, and particularly preferably 80% or more.
  • the thicknesses of the support 11a and the conductive support 11 are not particularly limited, and are set to appropriate thicknesses.
  • the thickness is preferably 0.01 ⁇ m to 10 mm, more preferably 0.1 ⁇ m to 5 mm, and particularly preferably 0.3 ⁇ m to 4 mm.
  • the film thickness of the transparent electrode 11b is not particularly limited, and is preferably 0.01 to 30 ⁇ m, more preferably 0.03 to 25 ⁇ m, and more preferably 0.05 to 20 ⁇ m. It is particularly preferred that
  • the conductive support 11 or the support 11a may have a light management function on the surface.
  • the surface of the conductive support 11 or the support 11a may have an antireflection film in which high refractive films and low refractive index oxide films are alternately stacked as described in JP-A-2003-123859.
  • the light guide function described in JP-A-2002-260746 may be provided.
  • the blocking layer 14 is provided on the surface of the transparent electrode 11b, that is, between the conductive support 11 and the porous layer 12 or the hole transport layer 3 or the like.
  • the blocking layer 14 functions to prevent this reverse current.
  • the blocking layer 14 is also referred to as a short circuit prevention layer.
  • the material for forming the blocking layer 14 is not particularly limited as long as it is a material capable of fulfilling the above function, but is a substance that transmits visible light and is an insulating substance for the conductive support 11 (transparent electrode 11b).
  • the “insulating substance with respect to the conductive support 11 (transparent electrode 11b)” specifically refers to a material whose conduction band energy level forms the conductive support 11 (metal oxide forming the transparent electrode 11b).
  • a compound (n-type semiconductor compound) that is higher than the energy level of the conduction band of the material and lower than the energy level of the conduction band of the material constituting the porous layer 12 and the ground state of the light absorber.
  • Examples of the material for forming the blocking layer 14 include silicon oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, calcium carbonate, polyvinyl alcohol, and polyurethane.
  • the material generally used for the photoelectric conversion material may be used, and examples thereof include titanium oxide, tin oxide, niobium oxide, and tungsten oxide. Of these, titanium oxide, tin oxide, magnesium oxide, aluminum oxide and the like are preferable.
  • the thickness of the blocking layer 14 is preferably 0.001 to 10 ⁇ m, more preferably 0.005 to 1 ⁇ m, and particularly preferably 0.01 to 0.1 ⁇ m.
  • the porous layer 12 is formed on the transparent electrode 11b.
  • the porous layer 12 is formed on the blocking layer 14.
  • the porous layer 12 is a layer containing at least one insulating material, and is preferably a fine particle layer.
  • a fine particle layer in which two or more insulating materials are deposited, or at least one insulating material and at least one porous material different from the insulating material (preferably a semiconductive porous material) A fine particle layer formed by depositing a material) is preferable.
  • the porous layer 12 is more preferably a fine particle layer in which at least one insulating material and at least one porous material are deposited.
  • the porous layer 12 may be deposited in a state in which an insulating material and a porous material different from the insulating material are mixed.
  • the insulating material and the insulating material are excellent in that the effect of suppressing voltage fluctuation is excellent.
  • a fine particle having a porous material different from the material and having the other fine particle (second porous material) is deposited on the surface of one of the fine particles (first porous material).
  • the porous layer 12 has fine particles having an insulating material as the second porous material deposited on the surface of the porous material (preferably a semiconductive porous material) as the first porous material. It is particularly preferred.
  • the state of “having the second porous material in the first porous material” is as described above.
  • the flow of electrons from the photosensitive layer 13 to the conductive support 11 will be described.
  • the porous layer 12 is made of an insulating material
  • the excited electrons move between the perovskite light absorbers provided on the surface of the porous layer 12 and reach the conductive support 11.
  • there is only one electron conduction path and electrons are not injected into the porous layer 12. Therefore, the reverse electron transfer path from the porous material forming the porous layer 12 to the hole transport material does not occur. Therefore, it is considered that voltage fluctuation between solar cells is suppressed to some extent.
  • the path through which the excited electrons finally reach the conductive support 11 is a perovskite type light provided on the surface of the porous layer 12.
  • the porous layer 12 is a fine particle layer formed by depositing at least one kind of insulating material and at least one kind of porous material (semiconductive porous material) different from the insulating material, excited electrons are
  • the route finally reaching the conductive support 11 includes two routes: a route moving between the perovskite light absorbers and a route moving across the semiconductive porous material and between the semiconductive porous materials. There are two routes.
  • the porous layer 12 contains at least one insulating material, the ratio of the paths passing through the inside of the semiconducting porous material is relatively small as compared with the case where the porous layer 12 is made of only the semiconductive porous material. Accordingly, it is considered that voltage fluctuation due to reverse electron transfer is suppressed to some extent.
  • the porous layer 12 when the porous layer 12 contains at least one insulating material, voltage fluctuation between solar cells can be suppressed.
  • the reason is not yet clear, but is estimated as follows. That is, when the porous layer 12 includes a semiconductive porous material as a porous material, reverse electron transfer occurs from the semiconductive porous material to the hole transport layer. However, in the present invention, it is estimated that this reverse electron transfer is suppressed by the insulating material contained in the porous layer, for example, as described above.
  • the content of the insulating material in the porous layer 12 is preferably 5 to 95% by mass in the total solid content of the porous layer 12 regardless of the aspect of the porous layer 12 and the like, in that voltage fluctuation can be suppressed. 5 to 50% by mass is more preferable. That is, the content of the semiconductive porous material as the porous material is preferably 5 to 95% by mass, and more preferably 50 to 95% by mass.
  • the amount of light absorbent supported can be increased.
  • the surface area of at least a portion that receives light such as sunlight in order to increase the entire surface area of the porous layer 12.
  • the surface area of the porous layer 12 in order to increase the surface area of the porous layer 12, it is preferable to increase the surface area of the individual fine particles constituting the porous layer 12.
  • the surface area of the fine particles in a state where the fine particles forming the porous layer 12 are coated on the conductive support 11 or the like, the surface area of the fine particles is preferably 10 times or more, more than 100 times the projected area. It is more preferable.
  • the surface area of the fine particles is preferably 10 times or more, more than 100 times the projected area. It is more preferable.
  • the thickness of the porous layer 12 is not particularly limited, but is usually in the range of 0.1 to 100 ⁇ m, preferably 0.1 to 50 ⁇ m, more preferably 0.3 to 30 ⁇ m when used as a solar cell.
  • the film thickness of the porous layer 12 is a lower layer surface on which the porous layer 12 is formed along a linear direction intersecting at an angle of 90 ° with the surface of the conductive support 11 in the cross section of the photoelectric conversion element 10. Defined by the average distance from the surface of the porous layer 12 to the surface of the porous layer 12.
  • the “lower surface on which the porous layer 12 is formed” means the interface between the conductive support 11 and the porous layer 12.
  • another layer such as the blocking layer 14 is formed between the conductive support 11 and the porous layer 12, it means the interface between the other layer and the porous layer 12.
  • the “surface of the porous layer 12” is a porous layer located closest to the second electrode 2 from the conductive support 11 on a virtual straight line that intersects the surface of the conductive support 11 at an angle of 90 °. It refers to the point of the layer 12 (intersection of the virtual straight line and the contour line of the porous layer 12).
  • the “average distance” is 10 along an observation range of a specific range in the cross section of the photoelectric conversion element 10 along a horizontal (parallel) direction (left and right direction in FIGS. 1 and 2) with respect to the surface of the conductive support 11. The longest distance from the surface of the lower layer to the surface of the porous layer 12 is obtained for each equally divided section, and the average value of the longest distances of these 10 sections is obtained.
  • the film thickness of the porous layer 12 can be measured by observing the cross section of the photoelectric conversion element 10 with a scanning electron microscope (SEM). Unless otherwise stated, the thickness of other layers such as the blocking layer 14 can be measured in the same manner.
  • the porous layer 12 containing at least one insulating material is provided with a porous material containing at least one insulating material.
  • the “porous material” and the “insulating material” are as described above.
  • porous material examples include metal chalcogenides (eg, oxides, sulfides, selenides, etc.), compounds having a perovskite crystal structure (excluding a light absorber described later), silicon oxides (eg, dioxide dioxide). Silicon, zeolite) or carbon nanotubes (also referred to as CNT, including carbon nanowires and carbon nanorods) can be used.
  • metal chalcogenides eg, oxides, sulfides, selenides, etc.
  • compounds having a perovskite crystal structure excluding a light absorber described later
  • silicon oxides eg, dioxide dioxide
  • Silicon, zeolite silicon, zeolite
  • carbon nanotubes also referred to as CNT, including carbon nanowires and carbon nanorods
  • the metal chalcogenide is not particularly limited, but is preferably titanium, tin, zinc, tungsten, zirconium, hafnium, strontium, indium, cerium, yttrium, lanthanum, vanadium, niobium, aluminum or tantalum oxide, cadmium sulfide. , Cadmium selenide and the like.
  • Examples of the crystal structure of the metal chalcogenide include an anatase type, brookite type and rutile type, and anatase type and brookite type are preferable.
  • the compound having a perovskite crystal structure is not particularly limited, and examples thereof include transition metal oxides.
  • transition metal oxides For example, strontium titanate, calcium titanate, barium titanate, lead titanate, barium zirconate, barium stannate, lead zirconate, strontium zirconate, strontium tantalate, potassium niobate, bismuth ferrate, strontium barium titanate , Barium lanthanum titanate, calcium titanate, sodium titanate, bismuth titanate.
  • strontium titanate, calcium titanate and the like are preferable.
  • the carbon nanotube has a shape obtained by rounding a carbon film (graphene sheet) into a cylindrical shape.
  • Carbon nanotubes are single-walled carbon nanotubes (SWCNT) in which one graphene sheet is wound in a cylindrical shape, double-walled carbon nanotubes (DWCNT) in which two graphene sheets are wound in a concentric shape, and multiple graphene sheets are concentric
  • SWCNT single-walled carbon nanotubes
  • DWCNT double-walled carbon nanotubes
  • MWCNT multi-walled carbon nanotubes
  • any carbon nanotube is not particularly limited and can be used.
  • the insulating material and the semiconductive porous material are each appropriately selected from the above-described porous materials, for example, in relation to the energy rank of the lowest empty orbit of the perovskite type light absorber. That is, the energy level of the lowest orbit is compared with the energy level of the conduction band, and if the energy level of the conduction band is higher than the energy level of the lowest orbit, the insulating material is used. On the other hand, when the energy level of the conduction band is equal to or lower than the energy level of the lowest empty orbit, a semiconductive porous material is used.
  • a known value can be adopted as the energy level of the conduction band of the porous material.
  • the insulating material is preferably at least one selected from the group consisting of zirconium, aluminum, and silicon oxides, and more preferably zirconium or aluminum oxides.
  • the “porous material different from the insulating material” is not particularly limited as described above. Among the above, at least one selected from the group consisting of titanium, zinc, tin, tungsten, zirconium, aluminum and silicon oxides, and carbon nanotubes is preferable.
  • the porous material as the semiconductive porous material an oxide of titanium, zinc, tin or tungsten is preferable, and titanium oxide is more preferable.
  • the porous material is preferably used as fine particles, and more preferably used as a dispersion dispersed in a dispersion medium described later.
  • the particle diameter of the porous material is preferably 0.001 to 1 ⁇ m as the primary particle in terms of the average particle diameter using the diameter when the projected area is converted into a circle.
  • the average particle diameter of the fine particles is preferably 0.01 to 100 ⁇ m as the average particle diameter of the dispersion.
  • the average particle diameter can be measured with an electron microscope or the like.
  • the material forming the porous layer 12 is a metal chalcogenide, a compound having a perovskite crystal structure, and a silicon oxide nanotube, nanowire or nanorod, a metal chalcogenide, a compound having a perovskite crystal structure, a silicon oxide It can also be used with fine particles of carbon nanotubes.
  • the photosensitive layer 13 is provided on the surface of the porous layer 12 (including the surface in the hole when the surface is uneven).
  • the surface of the porous layer 12 on which the light absorber is provided may be a surface of at least one kind of porous material, and may be a surface of a plurality of kinds of porous materials.
  • the surface of the porous layer 12 provided with the light absorber is at least one of the first porous material and the second porous material.
  • the surface may be sufficient, and both the surface of a 1st porous material and a 2nd porous material may be sufficient.
  • the mode in which the photosensitive layer 13 is formed is as described above, and the photosensitive layer 13 is preferably provided on the surface of the porous layer 12 so that excited electrons flow through the conductive support 11. At this time, the photosensitive layer 13 may be provided on the entire surface of the porous layer 12 or may be provided on a part of the surface.
  • the film thickness of the photosensitive layer 13 is appropriately set according to the mode in which the photosensitive layer 13 is formed, and is not particularly limited.
  • the total thickness of the photosensitive layer 13 with the porous layer 12 is preferably 0.1 to 100 ⁇ m, more preferably 0.1 to 50 ⁇ m, and particularly preferably 0.3 to 30 ⁇ m.
  • the thickness of the photosensitive layer 13 is the interface with the porous layer 12 along the direction perpendicular to the surface of the porous layer 12. And the distance between the solid hole transport layer 3 and the interface.
  • the photoelectric conversion element 10B illustrated in FIG. 2 includes a photosensitive layer 13B having a thickness larger than that of the photosensitive layer 13A of the photoelectric conversion element 10A illustrated in FIG.
  • the perovskite compound as the light absorber can be a hole transporting material, similar to the compound having the perovskite crystal structure as the material for forming the porous layer 12 described above.
  • the photosensitive layer 13 contains a perovskite compound as a light absorber.
  • the light absorber only needs to contain at least one perovskite compound.
  • one kind of perovskite compound may be used alone, or two or more kinds of perovskite compounds may be used in combination.
  • the perovskite compound has a periodic table group 1 element or cationic organic group A, a metal atom M other than the periodic table group 1 element, and an anionic atom X.
  • the periodic group first group element or the cationic organic group A, the metal atom M, and the anionic atom X are each a cation (for convenience, the cation A), a metal cation (for convenience, the cation M) and anion (for convenience, it may be referred to as anion X).
  • the cationic organic group means an organic group having a property of becoming a cation in the perovskite crystal structure
  • the anionic atom means an atom having a property of becoming an anion in the perovskite crystal structure
  • the perovskite compound has a perovskite crystal structure having a cation of a group 1 element of the periodic table or a cationic organic group A, a cation of a metal atom M other than the group 1 element of the periodic table, and an anion of an anionic atom X as constituent ions.
  • Any compound that can be used is not particularly limited.
  • the cation A is a cation of a group 1 element of the periodic table or an organic cation composed of a cationic organic group A.
  • the cation A is preferably an organic cation.
  • the cation of the Group 1 element of the periodic table is not particularly limited, and for example, the cation (Li + , Na + , K + of each element of lithium (Li), sodium (Na), potassium (K), or cesium (Cs). Cs + ), and a cesium cation (Cs + ) is particularly preferable.
  • the organic cation is preferably an organic ammonium cation, and is preferably an organic ammonium cation represented by the following formula (1).
  • R 1a represents a substituent.
  • R 1a is not particularly limited as long as it is an organic group, but is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group, or a group that can be represented by the following formula (2). .
  • an alkyl group and a group that can be represented by the following formula (2) are more preferable.
  • Xa represents NR ⁇ 1c> , an oxygen atom, or a sulfur atom.
  • R 1b and R 1c each independently represent a hydrogen atom or a substituent. * Represents a bonding position with the N atom in the formula (1).
  • the organic cation of the cationic organic group A is preferably an organic ammonium cation composed of an ammonium cationic organic group A formed by bonding R 1a and NH 3 in the above formula (1).
  • the organic ammonium cation can have a resonance structure
  • the organic cation includes a cation having a resonance structure in addition to the organic ammonium cation.
  • X a is NH (R 1c is a hydrogen atom)
  • the organic cation is bonded to the group that can be represented by the above formula (2) and NH 3.
  • an organic amidinium cation which is one of the resonance structures of the organic ammonium cation is also included.
  • Examples of the organic amidinium cation comprising an amidinium cationic organic group include a cation represented by the following formula (A am ). Note that in this specification, a cation represented by the following formula (A am ) may be expressed as “R 1b C ( ⁇ NH) —NH 3 ” for convenience.
  • the alkyl group of the substituent R 1a is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl or hexyl.
  • the cycloalkyl group is preferably a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and examples thereof include cyclopropyl, cyclopentyl, and cyclohexyl.
  • the alkenyl group is preferably an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, and examples thereof include vinyl, allyl, butenyl and hexenyl.
  • the alkynyl group is preferably an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, and examples thereof include ethynyl, butynyl and hexynyl.
  • the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, and examples thereof include phenyl.
  • the heteroaryl group includes a group consisting only of an aromatic heterocycle and a group consisting of a condensed heterocycle obtained by condensing an aromatic heterocycle with another ring such as an aromatic ring, an aliphatic ring or a heterocycle.
  • a ring-constituting hetero atom constituting the aromatic hetero ring a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable.
  • the number of ring members of the aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • Examples of the condensed heterocycle including a 5-membered aromatic heterocycle and a 5-membered aromatic heterocycle include a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, a triazole ring, a furan ring, and a thiophene ring. , Benzimidazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, indoline ring, and indazole ring.
  • Examples of the condensed heterocycle including a 6-membered aromatic heterocycle and a 6-membered aromatic heterocycle include, for example, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline ring, and quinazoline ring. Is mentioned.
  • X a represents NR 1c , an oxygen atom or a sulfur atom, and NR 1c is preferable.
  • R 1c is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heteroaryl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • R 1b represents a hydrogen atom or a substituent, and preferably a hydrogen atom.
  • R 1b can take include a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, and a heteroaryl group.
  • any of the alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heteroaryl group and the group that can represent the above formula (2), which can be represented by R 1a , may have a substituent. .
  • the substituent that R 1a may have is not particularly limited, and examples thereof include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxyl group, an alkylthio group, an amino group, Examples include alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acylamino group, sulfonamido group, carbamoyl group, sulfamoyl group, halogen atom, cyano group, hydroxy group or carboxy group. Each substituent that R 1a may have may be further substituted with a substituent.
  • the metal cation M is not particularly limited as long as it is a cation of a metal atom M other than a group 1 element of the periodic table and a cation of a metal atom capable of taking a perovskite crystal structure.
  • metal atoms include calcium (Ca), strontium (Sr), cadmium (Cd), copper (Cu), nickel (Ni), manganese (Mn), iron (Fe), cobalt (Co),
  • Examples include metal atoms of palladium (Pd), germanium (Ge), tin (Sn), lead (Pb), ytterbium (Yb), europium (Eu), and indium (In).
  • the metal atom which forms a metal cation has a Pb atom or Sn atom especially preferable.
  • the metal atom may be one kind of metal atom or two or more kinds of metal atoms. In the case of two or more kinds of metal atoms, two kinds of Pb atoms and Sn atoms are preferable.
  • the ratio of the metal atom at this time is not specifically limited.
  • the anion X represents an anion of the anionic atom X.
  • This anion is preferably an anion of a halogen atom.
  • a halogen atom a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. are mentioned, for example.
  • the anion X may be an anion of one kind of anionic atom or an anion of two or more kinds of anionic atoms.
  • anions of two or more types of anionic atoms two types of anions of halogen atoms, particularly anions of bromine atoms and iodine atoms are preferred.
  • the ratio of the anion of the anionic atom at this time is not particularly limited.
  • the perovskite compound used in the present invention is preferably a perovskite compound having a perovskite crystal structure having the above-described constituent ions and represented by the following formula (I).
  • A represents a group 1 element of the periodic table or a cationic organic group.
  • M represents a metal atom other than Group 1 elements of the periodic table.
  • X represents an anionic atom.
  • a represents 1 or 2
  • the Group 1 element of the periodic table or the cationic organic group A forms the cation A having a perovskite crystal structure. Accordingly, the Group 1 element of the periodic table and the cationic organic group A are not particularly limited as long as they are elements or groups that can form the perovskite crystal structure by becoming the cation A.
  • the Periodic Table Group 1 element or the cationic organic group A has the same meaning as the Periodic Table Group 1 element or the cationic organic group described above for the cation A, and the preferred ones are also the same.
  • the metal atom M is a metal atom that forms the metal cation M having a perovskite crystal structure. Therefore, the metal atom M is not particularly limited as long as it is an atom other than the Group 1 element of the periodic table and can form the perovskite crystal structure by becoming the metal cation M.
  • the metal atom M is synonymous with the metal atom described in the metal cation M, and the preferred ones are also the same.
  • the anionic atom X forms the anion X having a perovskite crystal structure. Therefore, the anionic atom X is not particularly limited as long as it is an atom that can form the perovskite crystal structure by becoming the anion X.
  • the anionic atom X is synonymous with the anionic atom demonstrated by the said anion X, and its preferable thing is also the same.
  • the perovskite compound represented by formula (I) is a perovskite compound represented by the following formula (I-1) when a is 1, and when a is 2, the perovskite compound represented by formula (I-2) It is a perovskite compound represented.
  • A represents a group 1 element of the periodic table or a cationic organic group, and is synonymous with A in the above formula (I), and preferred ones are also the same.
  • M represents a metal atom other than the Group 1 element of the periodic table, and is synonymous with M in the above formula (I), and preferred ones are also the same.
  • X represents an anionic atom, and is synonymous with X of the said formula (I), and its preferable thing is also the same.
  • FIG. 3A is a diagram showing a basic unit lattice of a perovskite crystal structure
  • FIG. 3B is a diagram showing a structure in which the basic unit lattice is three-dimensionally continuous in the perovskite crystal structure
  • FIG. 3C is a diagram showing a layered structure in which inorganic layers and organic layers are alternately stacked in a perovskite crystal structure.
  • the perovskite compound represented by the formula (I-1) as shown in FIG.
  • a cation A is arranged at each apex, a metal cation M is arranged at the body center, and the metal cation M is the center.
  • the basic unit cell has a continuous structure.
  • the perovskite compound represented by the formula (I-2) has an MX 6 octahedron composed of a metal cation M and an anion X with respect to the perovskite compound represented by the formula (I-1). Same in respect, but different in basic unit cell and its arrangement. That is, the perovskite compound represented by the formula (I-2) is an inorganic layer formed by arranging MX 6 octahedrons in two dimensions (planar) as shown in FIG. 3 (c). And an organic layer formed by alternately inserting a cation A between the inorganic layers.
  • the basic unit cell shares the cation A and the anion X with other adjacent basic unit cells in the plane of the same layer.
  • the basic unit cell does not share the cation A and the anion X in different layers.
  • This layered structure has a two-dimensional layer structure in which the inorganic layer is divided by the organic group of the cation A. As shown in FIG. 3C, the organic group in the cation A functions as a spacer organic group between the inorganic layers.
  • perovskite compounds having a layered structure see, for example, New. J. et al. Chem. , 2008, 32, 1736.
  • a possible crystal structure is determined by the cation A (group 1 element of the periodic table or cationic organic group A).
  • the cation A is a cation of a group 1 element of the periodic table or an organic cation of a cationic organic group A having a substituent R 1a having 1 carbon atom
  • the perovskite compound is represented by the formula (I-1) It is easy to take a cubic crystal structure.
  • the cation A include CH 3 —NH 3 and HC ( ⁇ NH) —NH 3 (R 1b and R 1c are among organic cations having a group that can be represented by the formula (2). And cations such as when both are hydrogen atoms.
  • the perovskite compound is represented by the formula (I-2) and easily takes a layered crystal structure.
  • a cation A for example, an alkyl group having 2 or more carbon atoms, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group, and the above formula (2) described as the substituent R 1a are represented.
  • an organic cation of the cationic organic group A having a group capable of being substituted provided that R 1b and R 1c are substituents).
  • the perovskite compound used in the present invention may be either a compound represented by formula (I-1) or a compound represented by formula (I-2), or a mixture thereof. Therefore, in the present invention, at least one perovskite compound only needs to be present as a light absorber, and it is not necessary to clearly distinguish which compound is strictly based on the composition formula, molecular formula, crystal structure, and the like. .
  • the compound represented by the formula (I-1) and the compound represented by the formula (I-2) are described separately.
  • the compounds exemplified as the compound represented by the formula (I-1) may be a compound represented by the formula (I-2) depending on the synthesis conditions and the like.
  • the mixture is a mixture of the compound represented by -1) and the compound represented by formula (I-2).
  • the compounds exemplified as the compound represented by the formula (I-2) may be a compound represented by the formula (I-1), and may be represented by the formula (I-1).
  • the mixture is a mixture of the compound represented by formula (I-2).
  • Specific examples of the compound represented by the formula (I-2) include, for example, (C 2 H 5 NH 3 ) 2 PbI 4 , (CH 2 ⁇ CHNH 3 ) 2 PbI 4 , (CH ⁇ CNH 3 ) 2 PbI 4 , (N-C 3 H 7 NH 3 ) 2 PbI 4 , (n-C 4 H 9 NH 3 ) 2 PbI 4 , (C 6 H 5 NH 3 ) 2 PbI 4 , (C 6 H 3 F 2 NH 3 ) 2 PbI 4 , (C 6 F 5 NH 3 ) 2 PbI 4 , (C 4 H 3 SNH 3 ) 2 PbI 4 .
  • C 4 H 3 SNH 3 in (C 4 H 3 SNH 3) 2 PbI 4 is aminothiophene.
  • the perovskite compound can be synthesized from MX 2 and AX.
  • the said nonpatent literature 1 is mentioned.
  • Akihiro Kojima, Kenjiro Teshima, Yasuo Shirai, and Tsutomu Miyasaka “Organometric Halide Perovskits as Visible Slight-Lights. Am. Chem. Soc. , 2009, 131 (17), 6050-6051.
  • the amount of the light absorber used may be at least a part of the surface of the porous layer 12 or the blocking layer 14 on which light is incident, and is preferably an amount covering the entire surface.
  • the solid hole transport layer (also simply referred to as a hole transport layer) 3 is a solid layer having a function of replenishing electrons to the oxidized light absorber.
  • the hole transport layer 3 is preferably provided between the photosensitive layer 13 of the first electrode 1 and the second electrode 2.
  • the hole transport material for forming the hole transport layer 3 is not particularly limited, but inorganic materials such as CuI and CuNCS, and organic hole transport materials described in Paragraph Nos. 0209 to 0212 of JP-A-2001-291534 Etc.
  • the organic hole transport material is preferably a conductive polymer such as polythiophene, polyaniline, polypyrrole and polysilane, a spiro compound in which two rings share a tetrahedral structure such as C and Si, and triarylamine.
  • aromatic amine compounds such as triphenylene compounds, nitrogen-containing heterocyclic compounds, and liquid crystalline cyano compounds.
  • the hole transporting material is preferably an organic hole transporting material that can be applied by solution and becomes a solid, and specifically, 2,2 ′, 7,7′-tetrakis- (N, N-di-p-methoxyphenyl) Amine) -9,9-spirobifluorene (also referred to as Spiro-OMeTAD), poly (3-hexylthiophene-2,5-diyl), 4- (diethylamino) benzaldehyde diphenylhydrazone, polyethylenedioxythiophene (PEDOT), etc. Is mentioned.
  • 2,2 ′, 7,7′-tetrakis- (N, N-di-p-methoxyphenyl) Amine) -9,9-spirobifluorene also referred to as Spiro-OMeTAD
  • the thickness of the hole transport layer 3 is not particularly limited, but is preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 1 nm to 10 ⁇ m, still more preferably 5 nm to 5 ⁇ m, and particularly preferably 10 nm to 1 ⁇ m.
  • the film thickness of the hole transport layer 3 corresponds to the average distance between the second electrode 2 and the surface of the porous layer 12 or the surface of the photosensitive layer 13. The film thickness is determined by observing the cross section of the photoelectric conversion element 10 using a scanning electron microscope (SEM) or the like, and taking the average value of the longest distances of the 10 sections in the same manner as the film thickness of the porous layer 12.
  • the total film thickness of the porous layer 12, the photosensitive layer 13, and the hole transport layer 3 is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 200 ⁇ m, more preferably 0.5 to 50 ⁇ m, and 0 More preferably, the thickness is 5 to 5 ⁇ m.
  • the total film thickness of the porous layer 12, the photosensitive layer 13, and the hole transport layer 3 can be measured in the same manner as the film thickness of the porous layer 12, respectively.
  • the second electrode 2 functions as a positive electrode in the solar cell.
  • the 2nd electrode 2 will not be specifically limited if it has electroconductivity, Usually, it can be set as the same structure as the electroconductive support body 11. FIG. If the strength is sufficiently maintained, the support 11a is not necessarily required.
  • the structure of the second electrode 2 is preferably a structure having a high current collecting effect. In order for light to reach the photosensitive layer 13, at least one of the conductive support 11 and the second electrode 2 must be substantially transparent. In the solar cell of this invention, it is preferable that the electroconductive support body 11 is transparent and sunlight is entered from the support body 11a side. In this case, it is more preferable that the second electrode 2 has a property of reflecting light.
  • Examples of the material for forming the second electrode 2 include platinum (Pt), gold (Au), nickel (Ni), copper (Cu), silver (Ag), indium (In), ruthenium (Ru), palladium ( Examples thereof include metals such as Pd), rhodium (Rh), iridium (Ir), and osnium (Os), the above-described conductive metal oxides, and carbon materials.
  • the carbon material may be a conductive material formed by bonding carbon atoms to each other, and examples thereof include fullerene, carbon nanotube, graphite, and graphene.
  • the second electrode 2 is preferably a glass or plastic having a metal or conductive metal oxide thin film (including a thin film formed by vapor deposition), a glass having a gold or platinum thin film, or a glass vapor deposited with platinum. Is particularly preferred.
  • the film thickness of the second electrode 2 is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 100 ⁇ m, more preferably 0.01 to 10 ⁇ m, and particularly preferably 0.01 to 1 ⁇ m.
  • a spacer or a separator can be used instead of the blocking layer 14 or together with the blocking layer 14.
  • a hole blocking layer may be provided between the second electrode 2 and the hole transport layer 3.
  • the solar cell of this invention is comprised so that the photoelectric conversion element of this invention may work with respect to the external circuit 6, as FIG. 1 and FIG. 2 shows, for example.
  • the external circuit connected to the first electrode 1 (conductive support 11) and the second electrode 2 can be used without particular limitation.
  • the solar cell to which the photoelectric conversion element of the present invention is applied is not particularly limited, and examples thereof include solar cells described in Patent Document 1 and Non-Patent Document 1.
  • the photoelectric conversion element and the perovskite sensitized solar cell of the present invention have a porous layer containing at least one insulating material, exhibit small voltage fluctuation between solar cells, and exhibit stable battery performance. To do.
  • the photoelectric conversion element and solar cell of the present invention can be produced according to known production methods, for example, the methods described in Patent Literature 1, Non-Patent Literature 1, and the like. Below, the manufacturing method of the photoelectric conversion element and solar cell of this invention is demonstrated easily.
  • a blocking layer 14 and a porous layer 12 are formed on the surface of the conductive support 11.
  • the blocking layer 14 can be formed by, for example, a method of applying a dispersion containing the insulating material or a precursor compound thereof on the surface of the conductive support 11 and baking it, or a spray pyrolysis method.
  • a method for forming the porous layer 12 is not particularly limited, and examples thereof include a wet method, a dry method, and other methods (for example, a method described in Chemical Review, Vol. 110, page 6595 (2010)). Can be mentioned.
  • a dispersion in which a porous material is dispersed is applied to the surface of the conductive support 11 and then baked at a temperature of 100 to 800 ° C. for 10 minutes to 10 hours. Is preferred. Thereby, microparticles
  • the firing temperature other than the last firing is preferably performed at a temperature lower than the last firing temperature (the last firing temperature).
  • the firing temperature other than the last can be set within a range of 50 to 300 ° C. Further, the final firing temperature can be set to be higher than the firing temperature other than the last within the range of 100 to 600 ° C.
  • the firing temperature is preferably 60 to 500 ° C.
  • the porous layer 12 is composed of a fine particle layer formed by depositing two or more kinds of porous materials
  • a dispersion containing two or more kinds of porous materials or a plurality of dispersions containing porous materials Can be formed by the above-described method.
  • the porous layer 12 is formed by depositing fine particles having the second porous material on the surface of the first porous material
  • the second porous material is formed on the surface of the first porous material. It is also possible to prepare a porous material having the above in advance and form a film by the above-described method.
  • the second porous material is deposited on the surface of the layer on which the first porous material is deposited, that is, porous.
  • a layer in which the first porous material is deposited can be formed by the above-described method, and then the second porous material can be deposited by a solution dipping method, an electrical deposition method, or the like.
  • the solution dipping method includes the first porous material in a dispersion obtained by dissolving the second porous material or a precursor compound thereof (eg, alkoxide, inorganic compound, salt, complex, etc.) in a solvent.
  • the conductive support 11 on which a layer formed by depositing a film is immersed or coated washed and dried as necessary, and then fired in air at a temperature of 600 ° C. or lower.
  • the coating amount per 1 m 2 of the surface area of the support 11 of the porous material or the first porous material when forming the porous layer 12 is not particularly limited as long as the above-mentioned content rate is reached. It is preferably 5 to 500 g, more preferably 5 to 100 g.
  • the content of the insulating material in the porous layer 12 can be adjusted by changing the concentration of the dispersion, the coating amount or the number of coatings.
  • the photosensitive layer 13 is provided.
  • a light absorber solution for forming a photosensitive layer is prepared.
  • the light absorber solution contains MX 2 and AX, which are raw materials for the perovskite compound.
  • A, M and X have the same meanings as A, M and X in the above formula (I).
  • the prepared light absorber solution is applied to the surface of the porous layer 12 and dried. Thereby, a perovskite compound is formed on the surface of the porous layer 12. In this manner, the photosensitive layer 13 containing at least one perovskite compound is provided on the surface of the porous layer 12.
  • a hole transport material solution containing a hole transport material is applied onto the photosensitive layer 13 thus provided, and dried to form the hole transport layer 3.
  • the concentration of the hole transport material is 0.1 to 1.0 M (mol / L) because the hole transport material solution is excellent in applicability and easily penetrates into the pores of the porous layer 12. Is preferred.
  • the second electrode 2 is formed, and a photoelectric conversion element and a solar cell are manufactured.
  • the film thickness of each layer can be adjusted by appropriately changing the concentration of each dispersion or solution and the number of coatings. For example, when the thick photosensitive layer 13B shown in FIG. 2 is provided, the dispersion may be applied and dried several times.
  • Each of the above-mentioned dispersions and solutions may contain additives such as a dispersion aid and a surfactant as necessary.
  • Examples of the solvent or dispersion medium used in the photoelectric conversion element and solar cell manufacturing method include, but are not limited to, the solvents described in JP-A No. 2001-291534.
  • an organic solvent is preferable, and an alcohol solvent, an amide solvent, a nitrile solvent, a hydrocarbon solvent, a lactone solvent, and a mixed solvent of two or more of these are more preferable.
  • the mixed solvent a mixed solvent of an alcohol solvent and a solvent selected from an amide solvent, a nitrile solvent, or a hydrocarbon solvent is preferable.
  • methanol, ethanol, ⁇ -butyrolactone, chlorobenzene, acetonitrile, dimethylformamide (DMF) or dimethylacetamide, or a mixed solvent thereof is preferable.
  • the application method of the solution or dispersant forming each layer is not particularly limited, and spin coating, extrusion die coating, blade coating, bar coating, screen printing, stencil printing, roll coating, curtain coating, spray coating, dip coating, inkjet
  • a known coating method such as a printing method or a dipping method can be used. Of these, spin coating, screen printing, dipping, and the like are preferable.
  • a solar cell is manufactured by connecting an external circuit to the first electrode 1 and the second electrode 2 of the photoelectric conversion element manufactured as described above.
  • Example 1 The photoelectric conversion element 10A and the solar cell shown in FIG. 1 were manufactured by the following procedure. In addition, when the film thickness of the photosensitive layer 13 is large, it corresponds to the photoelectric conversion element 10B and the solar cell shown in FIG.
  • the porous material used in each example was used as an insulating material or a semiconductive porous material as compared with the energy level of the lowest unoccupied orbit (LUMO) of the perovskite compound.
  • the energy level (-3.9 eV) of the lowest unoccupied orbital (LUMO) of the perovskite compound: CH 3 NH 3 PbI 3 was calculated by the method described in Nanoscale Research Letters 2012, 7: 353.
  • the LUMO energy level of the perovskite compound calculated in the same manner is shown.
  • Insulating material zirconium dioxide (conduction band energy level: -3.1 to -3.2 eV), aluminum oxide (conduction band energy level: -1.0 to 0.0 eV), and silicon dioxide (conduction) Band energy level: -1.0 to 0.0 eV)
  • Semiconductive porous material titanium oxide (conduction band energy level: -4.0 to -4.2 eV), zinc oxide (conduction band energy level: -3.9 to -4.1 eV), and Tin oxide (conduction band energy level: -4.3 to -4.5 eV). These values are values (vs. NHE) converted to a standard hydrogen electrode (NHE).
  • porous layer 12 (porous layer aspect B) formed by mixing two kinds of porous materials (insulating material and semiconductive porous material) and a light absorber A: CH 3 NH 3 Photoelectric conversion elements and solar cells (sample Nos. 101 to 106) each having PbBr 3 and a solid electrolyte were produced.
  • ZrO 2 zirconium dioxide
  • TiO 2 titanium oxide
  • the prepared mixed paste A was applied on the blocking layer 14 by a screen printing method and baked at 500 ° C. for 1 hour.
  • This mixed paste A was applied and baked a plurality of times to form a porous layer 12 (film thickness 0.6 ⁇ m).
  • the firing was performed at a firing temperature other than the last at 130 ° C., and the last firing was performed at 500 ° C. for 1 hour.
  • the prepared light absorber solution A was applied onto the porous layer 12 by a spin coating method (2000 rpm for 60 seconds, followed by 3000 rpm for 60 seconds).
  • the applied light absorbent solution A was dried by a hot plate at 100 ° C. for 20 minutes to form a photosensitive layer 13A having a perovskite compound.
  • the perovskite compound contained in the photosensitive layer 13A was CH 3 NH 3 PbBr 3 having the AMX 3 structure. In this way, the first electrode 1A was produced.
  • the prepared hole transport material solution is applied onto the photosensitive layer 13A of the first electrode 1A by a spin coating method, and the applied hole transport material solution is dried to form a hole transport layer 3 (film thickness 0). .1 ⁇ m) was deposited.
  • ⁇ Mixed paste B> In the preparation of the mixed paste A, a mixed paste B was prepared in the same manner as the mixed paste A, except that an ethanol dispersion containing zirconium dioxide and titanium oxide at a mass ratio of 5/95 was used.
  • ⁇ Mixed paste C> In the preparation of the mixed paste A, a mixed paste C was prepared in the same manner as the mixed paste A, except that an ethanol dispersion containing zirconium dioxide and titanium oxide at a mass ratio of 25/75 was used.
  • ⁇ Mixed paste D> In the preparation of the mixed paste A, a mixed paste D was prepared in the same manner as the mixed paste A, except that an ethanol dispersion containing zirconium dioxide and titanium oxide at a mass ratio of 50/50 was used.
  • ⁇ Mixed paste E> In the preparation of the mixed paste A, a mixed paste E was prepared in the same manner as the mixed paste A except that an ethanol dispersion containing zirconium dioxide and titanium oxide at a mass ratio of 75/25 was used.
  • ⁇ Mixed paste F> In the preparation of the mixed paste A, a mixed paste F was prepared in the same manner as the mixed paste A, except that an ethanol dispersion containing zirconium dioxide and titanium oxide at a mass ratio of 95/5 was used.
  • Porous layer embodiment the porous layer 12 and the light absorbing agent B B was prepared photoelectric conversion elements and a solar cell (sample No.107), and a CH 3 NH 3 PbI 3 and the solid electrolyte.
  • the photoelectric conversion element and solar cell were used except that the following light absorbent solution B was used instead of the light absorbent solution A.
  • the photoelectric conversion element and solar cell were produced.
  • porous layer 12 porous layer embodiment C formed by depositing the second porous material in a film-like state (coated) on the surface of the fine particles of the first porous material, and a light absorber A photoelectric conversion element and a solar cell (sample Nos. 108 to 111) each having A and a solid electrolyte were produced.
  • a titanium oxide paste was prepared by adding ethyl cellulose, lauric acid and terpineol to an ethanol dispersion of titanium oxide (TiO 2 , anatase, average particle size 20 nm, spherical) as the first porous material.
  • the prepared titanium oxide paste was applied by a screen printing method on the blocking layer 14 of the conductive support 11 prepared in the same manner as the photoelectric conversion element and the solar cell (sample No. 101), and baked.
  • the titanium oxide paste was applied and fired multiple times. In addition, baking except the last was performed at 130 degreeC, and the last baking was baked at 500 degreeC for 1 hour.
  • the obtained titanium oxide fired body was immersed in a 40 mM TiCl 4 aqueous solution, and then heated at 60 ° C. for 1 hour and then at 500 ° C. for 30 minutes, and the first porous material (TiO 2 ) was deposited. A fine particle layer was formed.
  • the fine particle layer was immersed in a 40 mM Zr (OC 4 H 9 ) 4 propanol solution, washed with an ethanol solution, and baked at 450 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere. In this manner, the surface of the particulate layer (TiO 2) coated with an insulating material as a second porous material (ZrO 2), and the porous layer 12 was formed.
  • a zirconium dioxide paste was prepared by adding ethyl cellulose, lauric acid and terpineol to an ethanol dispersion of zirconium dioxide (ZrO 2 , average particle size 30 nm, spherical shape) as the first porous material.
  • the prepared zirconium dioxide paste was applied by a screen printing method on the blocking layer 14 of the conductive support 11 prepared in the same manner as the photoelectric conversion element and the solar cell (sample No. 101) and baked. About baking, baking other than the last was performed at 130 degreeC, and the last baking was performed at 500 degreeC for 1 hour.
  • the fine particle layer formed by depositing the first porous material (ZrO 2 ) was formed by changing the number of times of applying and firing the zirconium dioxide paste.
  • the fine particle layer was immersed in an aqueous TiCl 4 solution having a concentration of 40 mM for 30 minutes, washed with pure water, and further fired at 500 ° C. for 30 minutes. In this manner, the surface of the particulate layer (ZrO 2) coated with a porous material as the second porous material (TiO 2), and the porous layer 12 was formed.
  • photoelectric conversion element and solar cell (Production of photoelectric conversion element and solar cell (sample No. 112))
  • the photoelectric conversion element and solar cell (sample No. 112) which have the porous layer 12 of the porous layer aspect C, the light absorber B, and a solid electrolyte were manufactured.
  • the photoelectric conversion element and the solar cell (sample No. 110) were used except that the light absorbent solution B was used instead of the light absorbent solution A.
  • the photoelectric conversion element of this invention and the solar cell (sample No. 112) were manufactured.
  • the following mixed paste G was used instead of the mixed paste A
  • the light absorbent solution B was used instead of the light absorbent solution A.
  • the photoelectric conversion element and solar cell (sample No. 113) of the present invention were produced in the same manner as in the photoelectric conversion element and solar cell (sample No. 101).
  • ⁇ Mixed paste G > Ethanol containing zirconium dioxide (ZrO 2 , average particle size 30 nm) and aluminum oxide (Al 2 O 3 , average particle size 30 nm, spherical) in a mass ratio (ZrO 2 / Al 2 O 3 ) 50/50 Ethyl cellulose, lauric acid and terpineol were added to the dispersion to prepare a mixed paste G.
  • a photoelectric conversion element and a solar cell (sample Nos. 114 to 116) having the porous layer 12 of the porous layer mode C, the light absorber B, and a solid electrolyte were produced.
  • a photoelectric conversion element and a solar cell (sample Nos. 117 to 119) having the porous layer 12 of the porous layer aspect B, the light absorber B, and a solid electrolyte were produced.
  • ⁇ Mixed paste I> Contains silicon dioxide (SiO 2 , average particle size 30 nm, spherical) and titanium oxide (TiO 2 , anatase, average particle size 25 nm, spherical) in a mass ratio (SiO 2 / TiO 2 ) in a ratio of 5/95. Ethyl cellulose, lauric acid and terpineol were added to the ethanol dispersion to prepare a mixed paste I.
  • a photoelectric conversion element and a solar cell (sample Nos. 120 to 123) having the porous layer 12 of the porous layer aspect C, the light absorber B, and a solid electrolyte were produced.
  • ⁇ Aluminum oxide paste> The aluminum oxide paste was prepared by adding ethyl cellulose, lauric acid and terpineol to an ethanol dispersion of aluminum oxide (Al 2 O 3 , average particle size 30 nm, spherical).
  • ⁇ Zinc oxide paste> The zinc oxide paste was prepared by adding ethyl cellulose, lauric acid and terpineol to an ethanol dispersion of zinc oxide (ZnO, average particle size 30 nm, spherical).
  • tin dioxide paste was prepared by adding ethyl cellulose, lauric acid and terpineol to an ethanol dispersion of tin dioxide (SnO 2 , average particle size 30 nm, spherical).
  • the silicon dioxide paste was prepared by adding ethyl cellulose, lauric acid and terpineol to an ethanol dispersion of silicon dioxide (SiO 2 , average particle size 30 nm, spherical).
  • the following light absorbent solution C was used instead of the light absorbent solution A, and 160 of the light absorbent solution C coated on the porous layer 12 was used.
  • a photoelectric conversion element and a solar cell (sample No. 124) of the present invention were produced in the same manner as the photoelectric conversion element and solar cell (sample No.
  • ⁇ Light absorber solution C> Formamidine acetate and an aqueous solution of 57% by mass hydrogen iodide containing 2 equivalents of hydrogen iodide with respect to formamidine acetate were stirred in a flask at 0 ° C. for 1 hour and then raised to 50 ° C. Warmed and stirred for an additional hour and mixed. The obtained solution was concentrated to obtain a crude formamidine hydrogen iodide.
  • the obtained crude product was recrystallized with diethyl ether, and the precipitated crystals were collected by filtration and dried under reduced pressure at 50 ° C. for 10 hours to obtain purified formamidine hydrogen iodide salt.
  • purified formamidine hydrogen iodide and PbI 2 were mixed at a molar ratio of 2: 1 and mixed in dimethylformamide (DMF) with stirring at 60 ° C. for 3 hours, and then a polytetrafluoroethylene (PTFE) syringe. It filtered with the filter and 40 mass% light absorber solution C was prepared.
  • DMF dimethylformamide
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • Porous layer 12 and the light absorbing agent D of the porous layer aspects B was prepared photoelectric conversion elements and a solar cell (sample No.125), and a (CH 3 CH 2 NH 3) 2 PbI 4 and the solid electrolyte.
  • the following light absorbent solution D was used in place of the light absorbent solution A, and the light absorbent solution D prepared on the porous layer 12 was 140.
  • a photoelectric conversion element and a solar cell (sample No. 125) of the present invention were produced in the same manner as the photoelectric conversion element and solar cell (sample No.
  • the perovskite compound contained in the photosensitive layer of the photoelectric conversion element and the solar cell was (CH 3 CH 2 NH 3 ) 2 PbI 4 having the structure of A 2 MX 4 .
  • ⁇ Light absorber solution D> In the preparation of the light absorber solution B, ethylamine was used instead of the 40% methanol solution of methylamine, and the obtained purified CH 3 CH 2 NH 3 I and PbI 2 molar ratio was changed to 3: 1. Except for the above, a light absorbent solution D was prepared in the same manner as the light absorbent solution B.
  • a photoelectric conversion element and a solar cell (sample No. c101) having a porous layer (porous layer embodiment A) formed by depositing one kind of semiconductive porous material, a light absorber A, and a solid electrolyte were produced. .
  • a porous layer using the titanium oxide paste prepared in the production of a photoelectric conversion element and a solar cell (sample No. 108) instead of the mixed paste A
  • a photoelectric conversion element and a solar cell (sample No.
  • c101 for comparison were manufactured in the same manner as the photoelectric conversion element and solar cell (sample No. 101) except that the film was formed.
  • the titanium oxide paste was applied on the blocking layer 14 by screen printing and baked.
  • the titanium oxide paste was applied and fired multiple times.
  • baking except the last was performed at 130 degreeC, and the last baking was baked at 500 degreeC for 1 hour.
  • the obtained titanium oxide fired body was immersed in a 40 mM TiCl 4 aqueous solution, then heated at 60 ° C. for 1 hour, and subsequently heated at 500 ° C. for 30 minutes to form a porous material made of a porous material (TiO 2 ). Layers were deposited.
  • a photoelectric conversion element and a solar cell (sample No. c103) having a porous layer (porous layer aspect A) formed by depositing one kind of insulating material, a light absorber B, and a liquid electrolyte were produced.
  • a porous layer using the zirconium dioxide paste prepared in the production of a photoelectric conversion element and a solar cell (sample No. 101).
  • the content of the insulating material (the mass of the insulating material) in each paste or dispersion forming the porous layer / (Mass of insulating material + mass of semiconductive porous material) ) And calculated as the content (mass%) of the insulating material of the porous layer.
  • the first porous material is deposited by the same method separately from the manufacture of the photoelectric conversion elements and the solar cells.
  • the evaluation was performed on 10 solar cell samples in which the obtained voltage (relative value) was an average value “1” or more (referred to as “high side”) and a group in which the average value was less than “1” (“low side”). ”)).
  • the difference (absolute value) between the voltage (relative value) of each specimen belonging to each group and the average value “1” was calculated, and voltage variations were evaluated based on the following evaluation criteria.
  • the evaluation was made based on which of the following evaluation criteria the sample having the maximum difference in each group was included.
  • it is a target achievement level that the voltage variation evaluation is C or more. In practice, it is preferably C + or more, and more preferably A or B.
  • the content of the insulating material in the porous layer is 5 to 95% by mass, particularly 5 to 50% by mass in any porous layer, and the effect of suppressing voltage fluctuation is obtained. It turned out to be high.
  • the solar cell (sample No. c101) having a porous layer made of one type of semiconductive porous material had a large voltage variation. It was also found that when the liquid electrolyte was included (Sample Nos. C102 and c103), the voltage fluctuation suppressing effect was not exhibited even when the porous layer contained an insulating material.

Abstract

 光電変換素子は、導電性支持体上に設けられた多孔質層、および該多孔質層の表面に光吸収剤を設けてなる感光層を有する第一電極と、該第一電極に対向する第二電極と、該第一電極および該第二電極の間に設けられた固体正孔輸送層とを有する光電変換素子であって、光吸収剤が、周期表第一族元素もしくはカチオン性有機基Aのカチオン、周期表第一族元素以外の金属原子Mのカチオンおよびアニオン性原子Xのアニオンを有するペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物を含み、多孔質層が少なくとも1種の絶縁材料を含む。太陽電池は、この光電変換素子を備える。

Description

光電変換素子および太陽電池
 本発明は、光電変換素子および太陽電池に関する。
 光電変換素子は、各種の光センサー、複写機、太陽電池等に用いられている。太陽電池は、非枯渇性の太陽エネルギーを利用するものとして、その本格的な実用化が期待されている。この中でも、増感剤として有機色素またはRuビピリジル錯体等を用いた色素増感太陽電池は、研究開発が盛んに進められ、光電変換効率が11%程度に到達している。
 その一方で、近年、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物として金属ハロゲン化物を用いた太陽電池が、比較的高い光電変換効率を達成できるとの研究成果が報告され(非特許文献1参照)、また特許出願され(特許文献1参照)、注目を集めている。
 特許文献1には、CHNHMX(MはPbまたはSnを表し、Xはハロゲン原子を表す。)で表されるペロブスカイト型結晶構造を有する化合物および半導体微粒子層を含む光吸収層と電解液からなる電解質層とを備えた太陽電池が、記載されている。また、非特許文献1には、CHNHPbIのペロブスカイト型結晶構造を有する化合物および有機正孔輸送材料を用いた太陽電池が、記載されている。
韓国登録特許第10-1172374号公報
J.Phys.Chem.Lett.,2013,4,1532-1536
 上述のように、金属ハロゲン化物の、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物を用いた光電変換素子および太陽電池は、光電変換効率の向上に一定の成果が得られている。しかも、金属ハロゲン化物の、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物を用いた太陽電池は、複雑な製造プロセスを必要とせず、光電変換素子および太陽電池を低コストで製造できる可能性を有している。
 しかし、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物を用いた上記の太陽電池を同一の製造方法で繰り返して製造したところ、得られた太陽電池間で電圧が大きく変動(以下、太陽電池間の電圧変動ということがある)して、電池性能の安定性が十分ではないことが、分かった。
 したがって、本発明は、電圧の変動が小さく、安定した電池性能を発揮する光電変換素子およびこれを備えた太陽電池を提供することを、課題とする。
 本発明者らは、ペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物(ペロブスカイト化合物またはペロブスカイト型光吸収剤ともいう)を光吸収剤として用いた太陽電池(ペロブスカイト増感太陽電池ともいう)において、光吸収剤からなる感光層を設ける足場としての多孔質層を形成する材料、特にその電気的特性が太陽電池間の電圧変動に影響を及ぼすことを見出した。さらに詳細な検討を行った結果、多孔質層に絶縁材料を少なくとも1種含有させ、しかも、特に正孔輸送材料として固体材料を用いた場合に、太陽電池間の電圧変動を抑制できることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成された。
 すなわち、上記の課題は以下の手段により解決された。
<1>導電性支持体上に設けられた多孔質層、および多孔質層の表面に光吸収剤を設けてなる感光層を有する第一電極と、第一電極に対向する第二電極と、第一電極および第二電極の間に設けられた固体正孔輸送層とを有する光電変換素子であって、
 光吸収剤が、周期表第一族元素もしくはカチオン性有機基Aのカチオン、周期表第一族元素以外の金属原子Mのカチオンおよびアニオン性原子Xのアニオンを有するペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物を含み、
 多孔質層が少なくとも1種の絶縁材料を含む光電変換素子。
<2>多孔質層が、上記絶縁材料と異なる、少なくとも1種の多孔質材料を含む<1>に記載の光電変換素子。
<3>絶縁材料が、多孔質層中に5~95質量%含まれている<1>または<2>に記載の光電変換素子。
<4>絶縁材料が、多孔質層中に5~50質量%含まれている<1>~<3>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<5>多孔質層が、絶縁材料と、この絶縁材料と異なる多孔質材料とを含み、絶縁材料および多孔質材料のいずれか一方の材料の表面に他方の材料を有してなる<2>~<4>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<6>多孔質層が、絶縁材料と異なる多孔質材料の表面に絶縁材料を有してなる<2>~<5>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<7>上記他方の材料が、上記一方の材料の表面の少なくとも一部を被覆する<5>または<6>に記載の光電変換素子。
<8>絶縁材料およびこの絶縁材料と異なる多孔質材料が、それぞれ、1種ずつ含まれる<2>~<7>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<9>絶縁材料が、ジルコニウム、アルミニウムおよびケイ素の各酸化物からなる群より選択される<1>~<8>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<10>絶縁材料と異なる多孔質材料が、チタン、亜鉛、スズ、タングステン、ジルコニウム、アルミニウムおよびケイ素の各酸化物、ならびに、カーボンナノチューブからなる群より選択される<2>~<9>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<11>絶縁材料と異なる多孔質材料が、ペロブスカイト型光吸収剤の最低空軌道と同じまたは低いエネルギー準位の伝導帯を有する<2>~<10>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<12>絶縁材料がジルコニウムまたはアルミニウムの各酸化物であり、
 絶縁材料と異なる多孔質材料がチタン、亜鉛、スズまたはタングステンの各酸化物である<2>~<11>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<13>ペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物が、下記式(I)で表される化合物である<1>~<12>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
式(I):A
 式中、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表す。Mは周期表第一族元素以外の金属原子を表す。Xはアニオン性原子を表す。aは1または2を表し、mは1を表し、a、mおよびxはa+2m=xを満たす。
<14>ペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物が、下記式(I-1)で表される化合物を含む<1>~<13>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
式(I-1):AMX
 式中、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表す。Mは周期表第一族元素以外の金属原子を表す。Xはアニオン性原子を表す。
<15>ペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物が、下記式(I-2)で表される化合物を含む<1>~<14>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
式(I-2):AMX
 式中、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表す。Mは周期表第一族元素以外の金属原子を表す。Xはアニオン性原子を表す。
<16>Aが、下記式(1)で表されるカチオン性有機基である<1>~<15>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
式(1):R1a-NH
 式中、R1aは置換基を表す。
<17>R1aが、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基または下記式(2)で表すことができる基である<16>に記載の光電変換素子。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 式中、XaはNR1c、酸素原子または硫黄原子を表す。R1bおよびR1cは各々独立に水素原子または置換基を表す。*は式(1)のN原子との結合位置を表す。
<18>Xが、ハロゲン原子である<1>~<17>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<19>Mが、Pb原子またはSn原子である<1>~<18>のいずれか1つに記載の光電変換素子。
<20>上記<1>~<19>のいずれか1つに記載の光電変換素子を有する太陽電池。
 本発明において、「多孔質層」とは、表面に感光層を担持する足場として機能する層である。この多孔質層は、多孔質材料が堆積してなる、細孔を有する微粒子層をいう。
 また、「多孔質材料」とは、多孔質層を形成可能な材料をいい、電気的性質を問わない。したがって、本発明において、多孔質材料は、導体(導電性材料)、半導体(半導電性材料)および絶縁体(絶縁材料)を包含する。
 多孔質材料に包含される「絶縁材料」は、多孔質層を形成可能な材料であって、ペロブスカイト型光吸収剤の最低空軌道(LUMO)よりもエネルギー準位が高い(浅い)伝導帯(Conduction Band:CB)を有する材料である。すなわち、絶縁材料は、併用されるペロブスカイト型光吸収剤との関係において、絶縁性の多孔質材料(絶縁性多孔質材料)である。
 「多孔質材料」は、絶縁材料を包含するが、好ましい態様は、ペロブスカイト型光吸収剤の最低空軌道と同じまたは低い(深い)エネルギー準位の、伝導帯の下端を有する材料である。すなわち、好ましい態様の「多孔質材料」は、多孔質層を形成可能な材料であって、併用されるペロブスカイト型光吸収剤との関係において導電性材料または半導電性材料(以下、両者を併せて半導電性多孔質材料ということがある)である。
 したがって、本発明において、「絶縁材料と異なる多孔質材料」とは、電気的性質は特に限定されず、同一の絶縁材料ではない材料が挙げられる。例えば、上記「少なくとも1種の絶縁材料」と異なる他の絶縁材料、および、半導体性多孔質材料を意味し、半導体性多孔質材料が好ましい。
 本明細書において、上記各式、特に式(1)、式(2)および式(Aam)は、ペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物の化学構造の理解のために、一部を示性式として表記することもある。これに伴い、各式において、部分構造を基、置換基または原子等と称するが、本明細書において、これらは、上記式で表される基もしくは(置換)基を構成する元素団、または元素を意味する。
 本明細書において、化合物(錯体、色素を含む)の表示については、化合物そのもののほか、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、目的の効果を奏する範囲で、構造の一部を変化させたものを含む意味である。さらに、置換または無置換を明記していない化合物については、所望の効果を奏する範囲で、任意の置換基を有する化合物を含む意味である。このことは、置換基および連結基等(以下、置換基等という)についても同様である。
 本明細書において、特定の符号で表示された置換基等が複数あるとき、または複数の置換基等を同時に規定するときには、特段の断りがない限り、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。このことは、置換基等の数の規定についても同様である。また、複数の置換基等が近接するとき(特に、隣接するとき)には、特段の断りがない限り、それらが互いに連結して環を形成してもよい。また、環、例えば脂環、芳香族環、ヘテロ環はさらに縮環して縮合環を形成していてもよい。
 また、本明細書において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
 本発明により、電圧の変動が小さく、安定した電池性能を発揮する光電変換素子およびこれを備えた太陽電池を提供することができる。
本発明の光電変換素子の好ましい態様について模式的に示した断面図である。 本発明の光電変換素子の厚い感光層を有する好ましい態様について模式的に示した断面図である。 ペロブスカイト化合物の結晶構造を説明する図である。
<<光電変換素子>>
 本発明の光電変換素子は、導電性支持体、多孔質層および感光層を有する第一電極と、第一電極に対向する第二電極と、第一電極および第二電極の間に設けられた固体正孔輸送層とを有する。この感光層は多孔質層の表面に光吸収剤を有する。
 本発明において、多孔質層は、少なくとも1種の絶縁材料を含む多孔質材料が堆積してなる微粒子層であることが好ましく、多孔質材料の種類、併用する組み合わせ、堆積状態等は特に限定されない。
 多孔質材料は、1種の絶縁材料を含んでいればよいが、本発明においては、絶縁材料を少なくとも1種含有する、2種以上の多孔質材料を含むことが好ましい。このような多孔質材料の種類および組み合わせとしては、「少なくとも1種の絶縁材料と、この絶縁材料と異なる少なくとも1種の多孔質材料」との組み合わせが挙げられる。例えば、2種以上の絶縁材料の組み合わせ、および、少なくとも1種の絶縁材料と少なくとも1種の半導電性多孔質材料との組み合わせ、の両態様が包含される。本発明においては、少なくとも1種の絶縁材料と少なくとも1種の半導電性多孔質材料との組み合わせが好ましく、例えば、後述する好ましい絶縁材料の少なくとも1種と、後述する好ましい半導電性多孔質材料の少なくとも1種との組み合わせが挙げられる。また、絶縁材料およびこの絶縁材料と異なる多孔質材料は、それぞれ、1種ずつ含まれることが好ましい。
 多孔質材料の堆積状態としては、特に限定されるものではなく、後述するように、多孔質層が細孔を有する層となるように、多孔質材料が堆積することが好ましい。本発明において、堆積した多孔質材料は、密に詰まって多孔質構造を形成できる状態にあればよい。「多孔質層を形成できる状態」は、多孔質材料が圧縮または充填された状態、さらに、多孔質材料同士が密着、融着または焼結等した状態を包含する。
 本発明において、少なくとも1種の絶縁材料を含む多孔質材料は、どのような態様で堆積していてもよい。多孔質材料の「堆積状態」としては、複数種の多孔質材料が混在した状態で堆積している態様、絶縁材料およびこの絶縁材料と異なる多孔質材料を含み、この絶縁材料と多孔質材料のうちの一方の材料(第一多孔質材料ともいう)の表面に他方の材料(すなわち、絶縁材料と多孔質材料のうちのもう一方の材料;第二多孔質材料ともいう)を有する状態で堆積している態様等が挙げられる。ここで、「第一多孔質材料の表面に第二多孔質材料を有する状態」とは、第一多孔質材料の表面に1つまたは複数の第二多孔質材料が接した状態にあれば特に限定されない。例えば、第一多孔質材料の表面に1つまたは複数の第二多孔質材料が分散状に付着している状態、第一多孔質材料の表面を1つまたは複数の第二多孔質材料が被覆(例えば膜状に付着)にしている状態等が好適に挙げられる。
 第二多孔質材料が付着または被覆する第一多孔質材料の表面は、一部であっても全面であってもよく、また、第二多孔質材料を表面の一部に有する第一多孔質材料と、第二多孔質材料を表面の全面に有する第一多孔質材料とが混在していてもよい。
 本発明において、第一多孔質材料の表面に有する第二多孔質材料の量および第一多孔質材料の表面の被覆率等は、特に限定されない。一例を挙げると、例えば、第二多孔質材料との質量比率(第二多孔質材料/(第一多孔質材料+第二多孔質材料))が、好ましくは5~95質量%であり、より好ましくは5~50質量%である。
 本発明においては、第二多孔質材料は絶縁材料が好ましく、第一多孔質材料は第二多孔質材料である絶縁材料と異なる多孔質材料が好ましく、半導電性多孔質材料が特に好ましい。
 本発明において、光吸収剤は、後述するペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物を少なくとも1種含んでいればよく、多種を含有してもよい。
 本発明において、感光層は、多孔質層の形状、設ける光吸収剤の量等によって、多孔質層の表面に種々の形態で成膜されうる。したがって、本発明において、感光層は、多孔質層の表面に設けられていれば、その態様は問わない。感光層が多孔質層の表面に形成される態様としては、例えば、感光層が、多孔質層の表面に薄い膜状等に設けられる態様(図1参照)、多孔質層の表面に厚く設けられる態様(図2参照)が挙げられる。感光層は、線状または分散状に設けられてもよいが、好ましくは膜状に設けられる。
 本発明の光電変換素子は、本発明で規定する構成以外の構成は特に限定されず、光電変換素子および太陽電池に関する公知の構成を採用できる。本発明の光電変換素子を構成する各層は、目的に応じて設計され、例えば、単層に形成されても、複層に形成されてもよい。
 例えば、本発明において、感光層は、単層であっても2層以上の積層であってもよい。感光層が積層の場合、互いに異なる光吸収剤からなる層の積層であってもよく、また、感光層と感光層の間に正孔輸送材料を含む中間層を有していてもよい。
 以下、本発明の光電変換素子の好ましい態様について説明する。
 図1および図2において、同じ符号は同じ構成要素(部材)を意味する。
 なお、図1および図2は、多孔質層を形成する微粒子の大きさを強調して示してある。これら微粒子は、好ましくは、導電性支持体に対して水平方向および垂直方向に詰まり(堆積または密着して)、多孔質構造を形成している。
 本明細書において、単に「光電変換素子10」という場合は、特に断らない限り、光電変換素子10Aおよび10Bを意味する。このことは、「システム100」、「第一電極1」、「感光層13」および「正孔輸送層3」についても同様である。
 本発明の光電変換素子の好ましい態様として、例えば、図1に示す光電変換素子10Aが挙げられる。図1に示されるシステム100Aは、光電変換素子10Aを外部回路6で動作手段M(例えば電動モーター)に仕事をさせる電池用途に応用したシステムである。
 この光電変換素子10Aは、第一電極1Aと第二電極2と固体正孔輸送層3Aとを有している。第一電極1Aは、支持体11aおよび透明電極11bからなる導電性支持体11と、多孔質層12と、感光層13Aとを有している。また、好ましくは透明電極11b上にブロッキング層14を有し、ブロッキング層14上に多孔質層12が形成される。
 図2に示す光電変換素子10Bは、図1に示す光電変換素子10Aの感光層13Aを厚く設けた好ましい態様を模式的に示したものである。この光電変換素子10Bにおいて、正孔輸送層3Bは薄く設けられている。光電変換素子10Bは、図1で示した光電変換素子10Aに対して感光層13Bおよび固体正孔輸送層3Bの点で異なるが、これらの点以外は光電変換素子10Aと同様に構成されている。
 本発明において、光電変換素子10を応用したシステム100は、以下のようにして、太陽電池として、機能する。
 すなわち、光電変換素子10において、導電性支持体11または第二電極2を透過して感光層13に入射した光は光吸収剤を励起する。励起された光吸収剤はエネルギーの高い電子を有しており、この電子が感光層13から導電性支持体11に到達する。このとき、エネルギーの高い電子を放出した光吸収剤は酸化体となっている。導電性支持体11に到達した電子が外部回路6で仕事をしながら第二電極2、次いで正孔輸送層3を経由して、感光層13に戻る。感光層13に戻った電子により光吸収剤が還元される。上記光吸収剤の励起および電子移動を繰り返すことにより、システム100が太陽電池として機能する。
 感光層13から導電性支持体11への電子の流れは、多孔質層12の種類および導電性等により、異なる。感光層13から導電性支持体11までの電子の流れは後述する。
 本発明の光電変換素子および太陽電池は、上記の好ましい態様に限定されず、各態様の構成等は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、各態様間で適宜組み合わせることができる。
 本発明において、光電変換素子または太陽電池に用いられる材料および各部材は、多孔質層12、光吸収剤(増感剤)としてのペロブスカイト化合物および固体正孔輸送層3を除いて、常法により調製することができる。ペロブスカイト化合物を用いた光電変換素子または太陽電池について、例えば、特許文献1および非特許文献1を参照することができる。また、色素増感太陽電池について、例えば、特開2001-291534号公報、米国特許第4,927,721号明細書、米国特許第4,684,537号明細書、米国特許第5,084,365号明細書、米国特許第5,350,644号明細書、米国特許第5,463,057号明細書、米国特許第5,525,440号明細書、特開平7-249790号公報、特開2004-220974号公報、特開2008-135197号公報を参照することができる。
 以下、本発明の光電変換素子および太陽電池の主たる部材および化合物の好ましい態様について、説明する。
<第一電極1>
 第一電極1は、導電性支持体11と多孔質層12と感光層13とを有し、光電変換素子10において作用電極として機能する。
 第一電極1は、ブロッキング層14を有することが好ましい。
 - 導電性支持体11 -
 導電性支持体11は、導電性を有し、多孔質層12、感光層13等を支持できるものであれば特に限定されない。導電性支持体は、導電性を有する材料、例えば金属で形成された導電性支持体、または、ガラスもしくはプラスチックの支持体11aとこの支持体11aの表面に成膜された透明電極11bとしての導電膜とを有する導電性支持体11が好ましい。
 なかでも、図1および図2に示されるように、ガラスまたはプラスチックの支持体11aの表面に導電性の金属酸化物を塗設して透明電極11bを成膜した導電性支持体11がさらに好ましい。プラスチックで形成された支持体11aとしては、例えば、特開2001-291534号公報の段落番号0153に記載の透明ポリマーフィルムが挙げられる。支持体11aを形成する材料としては、ガラスおよびプラスチックの他にも、セラミック(特開2005-135902号公報)、導電性樹脂(特開2001-160425号公報)を用いることができる。金属酸化物としては、スズ酸化物(TO)が好ましく、インジウム-スズ酸化物(スズドープ酸化インジウム;ITO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)等のフッ素ドープスズ酸化物が特に好ましい。このときの金属酸化物の塗布量は、支持体11aの表面積1m当たり0.1~100gが好ましい。導電性支持体11を用いる場合、光は支持体11a側から入射させることが好ましい。
 導電性支持体11は、実質的に透明であることが好ましい。本発明において、「実質的に透明である」とは、光(波長300~1200nm)の透過率が10%以上であることを意味し、50%以上が好ましく、80%以上が特に好ましい。
 支持体11aおよび導電性支持体11の厚みは、特に限定されず、適宜の厚みに設定される。例えば、0.01μm~10mmであることが好ましく、0.1μm~5mmであることがさらに好ましく、0.3μm~4mmであることが特に好ましい。
 透明電極11bを設ける場合、透明電極11bの膜厚は、特に限定されず、例えば、0.01~30μmであることが好ましく、0.03~25μmであることがさらに好ましく、0.05~20μmであることが特に好ましい。
 導電性支持体11または支持体11aは、表面に光マネージメント機能を有してもよい。例えば、導電性支持体11または支持体11aの表面に、特開2003-123859号公報に記載の、高屈折膜および低屈折率の酸化物膜を交互に積層した反射防止膜を有してもよく、特開2002-260746号公報に記載のライトガイド機能を有してもよい。
 - ブロッキング層14 -
 本発明においては、好ましくは、透明電極11bの表面に、すなわち導電性支持体11と多孔質層12または正孔輸送層3等との間に、ブロッキング層14を有する。
 光電変換素子および太陽電池において、固体正孔輸送層3と透明電極11bとが直接接触すると逆電流を生じる。ブロッキング層14は、この逆電流を防止する機能を果たす。ブロッキング層14は短絡防止層ともいう。
 ブロッキング層14を形成する材料は、上記機能を果たすことのできる材料であれば特に限定されないが、可視光を透過する物質であって、導電性支持体11(透明電極11b)に対する絶縁性物質であることが好ましい。「導電性支持体11(透明電極11b)に対する絶縁性物質」とは、具体的には、伝導帯のエネルギー準位が、導電性支持体11を形成する材料(透明電極11bを形成する金属酸化物)の伝導帯のエネルギー準位以上であり、かつ、多孔質層12を構成する材料の伝導帯や光吸収剤の基底状態のエネルギー準位より低い化合物(n型半導体化合物)をいう。
 ブロッキング層14を形成する材料は、例えば、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、ポリビニルアルコール、ポリウレタン等が挙げられる。また、一般的に光電変換材料に用いられる材料でもよく、例えば、酸化チタン、酸化スズ、酸化ニオブ、酸化タングステン等も挙げられる。なかでも、酸化チタン、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等が好ましい。
 ブロッキング層14の膜厚は、0.001~10μmが好ましく、0.005~1μmがさらに好ましく、0.01~0.1μmが特に好ましい。
 - 多孔質層12 -
 本発明において、多孔質層12は透明電極11b上に成膜される。ブロッキング層14を有している場合、多孔質層12はブロッキング層14上に形成される。
 多孔質層12は、上記の通り、多孔質層が少なくとも1種の絶縁材料を含む層であり、微粒子層であることが好ましい。多孔質層12としては、2種以上の絶縁材料が堆積してなる微粒子層、または、少なくとも1種の絶縁材料およびこの絶縁材料とは異なる少なくとも1種の多孔質材料(好ましくは半導電性多孔質材料)が堆積してなる微粒子層が好ましい。本発明において、多孔質層12は、少なくとも1種の絶縁材料と少なくとも1種の多孔質材料とが堆積してなる微粒子層であることがより好ましい。
 この場合、多孔質層12は、絶縁材料とこの絶縁材料とは異なる多孔質材料とが混在した状態で堆積していてもよいが、電圧変動の抑制効果が優れる点で、絶縁材料およびこの絶縁材料とは異なる多孔質材料を含み、いずれか一方の微粒子(第一多孔質材料)表面に他方の微粒子(第二多孔質材料)を有する微粒子が堆積していることがさらに好ましい。なかでも、多孔質層12は、第一多孔質材料としての上記多孔質材料(好ましくは半導電性多孔質材料)の表面に第二多孔質材料としての絶縁材料を有する微粒子が堆積しているのが特に好ましい。「第一多孔質材料に第二多孔質材料を有する」状態については上記の通りである。
 ここで、感光層13から導電性支持体11までの電子の流れ等について、説明する。
 多孔質層12が絶縁材料からなる場合、励起された電子は、多孔質層12の表面に設けられたペロブスカイト型光吸収剤間を移動して、導電性支持体11に到達する。この場合、電子の伝導経路は1つしか存在せず、電子が多孔質層12に注入されない。そのため、多孔質層12を形成している多孔質材料から正孔輸送材料への逆電子移動経路も起こらない。したがって、太陽電池間の電圧変動はある程度抑制されていると、考えられる。
 一方、多孔質層12が半導電性多孔質材料のみからなる場合、励起された電子が最終的に導電性支持体11に到達する経路は、多孔質層12の表面に設けられたペロブスカイト型光吸収剤間を移動する経路と、半導電性多孔質材料内部や半導電性多孔質材料間を横切って移動する経路との2つの経路がある。
 また、多孔質層12が少なくとも1種の絶縁材料とこの絶縁材料と異なる少なくとも1種の多孔質材料(半導電性多孔質材料)が堆積してなる微粒子層である場合、励起された電子が最終的に導電性支持体11に到達する経路は、ペロブスカイト型光吸収剤間を移動する経路と、半導電性多孔質材料内部や半導電性多孔質材料間を横切って移動する経路との2つの経路がある。
 しかし、多孔質層12が少なくとも1種の絶縁材料を含んでいると、半導電性多孔質材料のみからなる場合に比べて、半導体性多孔質材料内部を通る経路の比率が相対的に小さくなり、それに伴い逆電子移動による電圧変動もある程度抑制されると考えられる。
 本発明において、多孔質層12が少なくとも1種の絶縁材料を含有していると、太陽電池間の電圧変動を抑制できる。その理由は、まだ定かではないが次のように推定される。すなわち、多孔質層12が多孔質材料として半導電性多孔質材料を含んでいると、この半導電性多孔質材料から正孔輸送層に逆電子移動が起こる。しかし、本発明においては、この逆電子移動が、多孔質層に含まれる絶縁材料により、例えば上記のように、抑制されるため等と、推定している。
 そして、この、太陽電池間の電圧変動を抑制する効果は、正孔輸送層が固体状であると、顕著になる。その理由も定かではないが次のように推定される。すなわち、溶液系の正孔輸送層において逆電子移動が起こるためには、電子を受け取る物質が正孔輸送層中を拡散することにより、多孔質材料近くに接近する必要がある。これに対して、固体系の正孔輸送層においては、多孔質材料と正孔輸送材料が常に接している部分が存在している。これにより、固体系における電圧変動の影響は、電子を受け取る物質が多孔質材料に接近する必要がある溶液系に対して、相対的に大きくなる。したがって、逆電子移動の影響を抑える上記推定メカニズムによる電圧変動抑制の効果は、固体系で大きくなると考えられる。
 多孔質層12中の、絶縁材料の含有率は、電圧変動を抑制できる点で、多孔質層12の態様等にかかわらず、多孔質層12の全固形分中、5~95質量%が好ましく、5~50質量%がより好ましい。すなわち、多孔質材料としての半導電性多孔質材料の含有率は、5~95質量%が好ましく、50~95質量%がより好ましい。
 多孔質層12が、細孔を有する微粒子層であると、光吸収剤の担持量(吸着量)を増量できる。太陽電池において、光吸収効率を高めるためには、少なくとも太陽光等の光を受ける部分の表面積を大きくすることが好ましく、多孔質層12の全体としての表面積を大きくすることが好ましい。
 多孔質層12の表面積を大きくするには、多孔質層12を構成する個々の微粒子の表面積を大きくすることが好ましい。本発明では、多孔質層12を形成する微粒子を導電性支持体11等に塗設した状態で、この微粒子の表面積が投影面積に対して10倍以上であることが好ましく、100倍以上であることがより好ましい。この上限には特に制限はないが、通常5000倍程度である。
 多孔質層12の膜厚は、特に限定されないが、通常0.1~100μmの範囲であり、太陽電池として用いる場合には0.1~50μmが好ましく、0.3~30μmがより好ましい。
 多孔質層12の膜厚は、光電変換素子10の断面において、導電性支持体11の表面に対して90°の角度で交わる直線方向に沿う、多孔質層12が成膜されている下層表面から多孔質層12の表面までの平均距離で規定される。ここで、「多孔質層12が成膜されている下層表面」は、導電性支持体11と多孔質層12との界面を意味する。導電性支持体11と多孔質層12との間にブロッキング層14等の他の層が成膜されている場合には、この他の層と多孔質層12との界面を意味する。また、「多孔質層12の表面」は、導電性支持体11の表面に対して90°の角度で交わる仮想直線上における、導電性支持体11から最も第二電極2側に位置する多孔質層12の点(仮想直線と多孔質層12の輪郭線との交点)をいう。「平均距離」は、光電変換素子10の断面における特定範囲の観測域を、導電性支持体11の表面に対して水平(平行)な方向(図1および図2において左右方向)に沿って10等分してなる区分ごとに下層表面から多孔質層12の表面までの最長距離を求め、これらの10区分の最長距離の平均値とする。多孔質層12の膜厚は、光電変換素子10の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察することにより、測定できる。
 なお、特に言及しない限り、ブロッキング層14等の他の層も同様にして膜厚を測定できる。
 少なくとも1種の絶縁材料を含む多孔質層12は、少なくとも1種の絶縁材料を含む多孔質材料で設けられる。ここで、「多孔質材料」および「絶縁材料」は、上述の通りである。
 多孔質材料としては、例えば、金属のカルコゲニド(例えば酸化物、硫化物、セレン化物等)、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物(後述する光吸収剤を除く。)、ケイ素の酸化物(例えば、二酸化ケイ素、ゼオライト)、または、カーボンナノチューブ(CNTともいう。カーボンナノワイヤおよびカーボンナノロッド等を含む)を用いることができる。
 金属のカルコゲニドとしては、特に限定されないが、好ましくは、チタン、スズ、亜鉛、タングステン、ジルコニウム、ハフニウム、ストロンチウム、インジウム、セリウム、イットリウム、ランタン、バナジウム、ニオブ、アルミニウムまたはタンタルの各酸化物、硫化カドミウム、セレン化カドミウム等が挙げられる。金属のカルコゲニドの結晶構造として、アナターゼ型、ブルッカイト型またはルチル型が挙げられ、アナターゼ型、ブルッカイト型が好ましい。
 ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物としては、特に限定されないが、遷移金属酸化物等が挙げられる。例えば、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛、ジルコン酸バリウム、スズ酸バリウム、ジルコン酸鉛、ジルコン酸ストロンチウム、タンタル酸ストロンチウム、ニオブ酸カリウム、鉄酸ビスマス、チタン酸ストロンチウムバリウム、チタン酸バリウムランタン、チタン酸カルシウム、チタン酸ナトリウム、チタン酸ビスマスが挙げられる。なかでも、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム等が好ましい。
 カーボンナノチューブは、炭素膜(グラフェンシート)を筒状に丸めた形状を有する。カーボンナノチューブは、1枚のグラフェンシートが円筒状に巻かれた単層カーボンナノチューブ(SWCNT)、2枚のグラフェンシートが同心円状に巻かれた2層カーボンナノチューブ(DWCNT)、複数のグラフェンシートが同心円状に巻かれた多層カーボンナノチューブ(MWCNT)に分類される。多孔質層12としては、いずれのカーボンナノチューブも特に限定されず、用いることができる。
 本発明において、絶縁材料および半導電性多孔質材料は、それぞれ、例えば上記した多孔質材料の中から、ペロブスカイト型光吸収剤の最低空軌道のエネルギー順位との関係で、適宜に選択される。すなわち、最低空軌道のエネルギー準位と伝導帯のエネルギー準位とを比較し、伝導帯のエネルギー準位が最低空軌道のエネルギー準位よりも高い場合、絶縁材料とする。一方、伝導帯のエネルギー準位が最低空軌道のエネルギー準位以下である場合、半導電性多孔質材料とする。
 ここで、多孔質材料の伝導帯のエネルギー準位は公知の値を採用できる。例えば、ACS Nano,2011,5(6),pp5158-5166、J.Am.Chem.Soc.2003,125,475に記載されている値を用いることができる。
 ペロブスカイト型光吸収剤のエネルギー準位は、Nanoscale Research Letters 2012,7:353公知の方法に基づいて算出することができる。
 本発明において、上記ペロブスカイト化合物を用いる場合、絶縁材料は、ジルコニウム、アルミニウムおよびケイ素の各酸化物からなる群より選択される少なくとも1種が好ましく、ジルコニウムまたはアルミニウムの各酸化物がより好ましい。
 本発明において、「絶縁材料と異なる多孔質材料」としては、上記の通り、特に限定されない。上記した中でも、チタン、亜鉛、スズ、タングステン、ジルコニウム、アルミニウムおよびケイ素の各酸化物、ならびに、カーボンナノチューブからなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。
 半導電性多孔質材料としての多孔質材料としては、チタン、亜鉛、スズまたはタングステンの各酸化物が好ましく、酸化チタンがより好ましい。
 多孔質材料は、微粒子として用いられることが好ましく、さらに好ましくは後述する分散媒に分散した分散物として用いられる。このときの多孔質材料の粒径は、上記の点で、投影面積を円に換算したときの直径を用いた平均粒径において、1次粒子として0.001~1μmが好ましい。微粒子の分散物を用いて多孔質12を形成する場合、微粒子の上記平均粒径は、分散物の平均粒径として0.01~100μmが好ましい。平均粒径は、電子顕微鏡等によって、測定できる。
 多孔質層12を形成する材料は、金属のカルコゲニド、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物およびケイ素の酸化物のナノチューブ、ナノワイヤまたはナノロッドを、金属のカルコゲニド、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物、ケイ素の酸化物およびカーボンナノチューブの微粒子と共に用いることもできる。
 - 感光層(光吸収層)13 -
 感光層13は、図1および図2に示されるように、多孔質層12の表面(この表面が凹凸の場合の孔内表面を含む。)に設けられる。光吸収剤が設けられる(ペロブスカイト型光吸収剤を有する)多孔質層12の表面は、少なくとも1種の多孔質材料の表面であればよく、複数種の多孔質材料の表面でもよい。例えば、第一多孔質材料および第二多孔質材料を用いる場合、光吸収剤が設けられる多孔質層12の表面は、第一多孔質材料および第二多孔質材料の少なくとも一方の表面でもよく、第一多孔質材料および第二多孔質材料の両表面でもよい。
 感光層13が形成される態様は、上述した通りであり、感光層13は、好ましくは、励起した電子が導電性支持体11に流れるように、多孔質層12の表面に設けられる。このとき、感光層13は、多孔質層12の表面全体に設けられていてもよく、表面の一部に設けられていてもよい。
 感光層13の膜厚は、感光層13が形成される態様に応じて適宜に設定され、特に限定されない。例えば、感光層13の膜厚は、多孔質層12の膜厚との合計膜厚で、0.1~100μmが好ましく、0.1~50μmが更に好ましく、0.3~30μmが特に好ましい。
 ここで、図1に示されるように、感光層13が薄い膜状である場合、感光層13の膜厚は、多孔質層12の表面に垂直な方向に沿う、多孔質層12との界面と固体正孔輸送層3との界面との距離とする。
 なお、図2に示す光電変換素子10Bは、図1に示す光電変換素子10Aの感光層13Aよりも厚みが増大した感光層13Bを有している。この場合、光吸収剤としてのペロブスカイト化合物は、上記の、多孔質層12を形成する材料としてのペロブスカイト型結晶構造を有する化合物と同様に、正孔輸送材料となりうるものである。
 (光吸収剤)
 感光層13は、光吸収剤として、ペロブスカイト化合物を含有する。
 本発明において、光吸収剤は少なくとも1種のペロブスカイト化合物を含んでいればよい。この場合、1種のペロブスカイト化合物を単独で使用してもよく、2種以上のペロブスカイト化合物を併用してもよい。
 ペロブスカイト化合物は、周期表第一族元素またはカチオン性有機基A、周期表第一族元素以外の金属原子M、および、アニオン性原子Xを有している。上記周期表第一族元素またはカチオン性有機基A、金属原子Mおよびアニオン性原子Xは、それぞれ、ペロブスカイト型結晶構造において、カチオン(便宜上、カチオンAということがある)、金属カチオン(便宜上、カチオンMということがある)およびアニオン(便宜上、アニオンXということがある)の各構成イオンとして存在する。
 本発明において、カチオン性有機基とは、ペロブスカイト型結晶構造においてカチオンになる性質を有する有機基をいい、アニオン性原子とはペロブスカイト型結晶構造においてアニオンになる性質を有する原子をいう。
 ペロブスカイト化合物は、周期表第一族元素もしくはカチオン性有機基Aのカチオン、周期表第一族元素以外の金属原子Mのカチオンおよびアニオン性原子Xのアニオンを構成イオンとするペロブスカイト型結晶構造をとりうる化合物であれば特に限定されない。
 本発明に用いるペロブスカイト化合物において、カチオンAは、周期表第一族元素のカチオンまたはカチオン性有機基Aからなる有機カチオンである。カチオンAは有機カチオンが好ましい。
 周期表第一族元素のカチオンは、特に限定されず、例えば、リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)またはセシウム(Cs)の各元素のカチオン(Li、Na、K、Cs)が挙げられ、特にセシウムのカチオン(Cs)が好ましい。
 有機カチオンは、有機アンモニウムカチオンであることが好ましく、下記式(1)で表される有機アンモニウムカチオンであることが好ましい。
式(1):R1a-NH
 式中、R1aは置換基を表す。R1aは、有機基であれば特に限定されるものではないが、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基または下記式(2)表すことができる基が好ましい。なかでも、アルキル基、下記式(2)で表すことができる基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 式中、XはNR1c、酸素原子または硫黄原子を表す。R1bおよびR1cは各々独立に水素原子または置換基を表す。*は式(1)のN原子との結合位置を表す。
 本発明において、カチオン性有機基Aの有機カチオンは、上記式(1)中のR1aとNHとが結合してなるアンモニウムカチオン性有機基Aからなる有機アンモニウムカチオンが好ましい。この有機アンモニウムカチオンが共鳴構造をとり得る場合、有機カチオンは有機アンモニウムカチオンに加えて共鳴構造のカチオンを含む。例えば、上記式(2)で表すことができる基においてXがNH(R1cが水素原子)である場合、有機カチオンは、上記式(2)で表すことができる基とNHとが結合してなるアンモニウムカチオン性有機基の有機アンモニウムカチオンに加えて、この有機アンモニウムカチオンの共鳴構造の1つである有機アミジニウムカチオンをも包含する。アミジニウムカチオン性有機基からなる有機アミジニウムカチオンとしては、下記式(Aam)で表されるカチオンが挙げられる。なお、本明細書において、下記式(Aam)で表されるカチオンを便宜上、「R1bC(=NH)-NH」と表記することがある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 置換基R1aのアルキル基は、炭素数が1~18のアルキル基が好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert-ブチル、ペンチルまたはヘキシル等が挙げられる。
 シクロアルキル基は、炭素数が3~8のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシル等が挙げられる。
 アルケニル基は、炭素数が2~18のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル、アリル、ブテニルまたはヘキセニル等が挙げられる。
 アルキニル基は、炭素数が2~18のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、ブチニルまたはヘキシニル等が挙げられる。
 アリール基は、炭素数6~14のアリール基が好ましく、例えば、フェニルが挙げられる。
 ヘテロアリール基は、芳香族ヘテロ環のみからなる基と、芳香族ヘテロ環に他の環、例えば、芳香環、脂肪族環やヘテロ環が縮合した縮合ヘテロ環からなる基とを包含する。
 芳香族ヘテロ環を構成する環構成ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましい。また、芳香族ヘテロ環の環員数としては、5員環または6員環が好ましい。
 5員環の芳香族ヘテロ環および5員環の芳香族ヘテロ環を含む縮合ヘテロ環としては、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、トリアゾール環、フラン環、チオフェン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インドリン環、インダゾール環の各環基が挙げられる。また、6員環の芳香族ヘテロ環および6員環の芳香族ヘテロ環を含む縮合ヘテロ環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キナゾリン環の各環基が挙げられる。
 式(2)で表すことができる基において、XはNR1c、酸素原子または硫黄原子を表し、NR1cが好ましい。ここで、R1cは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
 R1bは、水素原子または置換基を表し、水素原子が好ましい。R1bが取りうる置換基は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基が挙げられる。
 R1bおよびR1cがそれぞれとり得る、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基は、上記R1aの各基と同義であり、好ましいものも同じである。
 式(2)で表すことができる基としては、例えば、ホルムイミドイル(HC(=NH)-)、アセトイミドイル(CHC(=NH)-)、プロピオンイミドイル(CHCHC(=NH)-)等が挙げられる。中でも、ホルムイミドイルが好ましい。
 R1aがとり得る、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基および上記式(2)表すことができる基は、いずれも、置換基を有していてもよい。R1aが有していてもよい置換基としては、特に限定されないが、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アルキルチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシ基が挙げられる。R1aが有していてもよい各置換基は、さらに置換基で置換されていてもよい。
 本発明に用いるペロブスカイト化合物において、金属カチオンMは、周期表第一族元素以外の金属原子Mのカチオンであって、ペロブスカイト型結晶構造を取りうる金属原子のカチオンであれば、特に限定されない。このような金属原子としては、例えば、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、カドミウム(Cd)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、マンガン(Mn)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、パラジウム(Pd)、ゲルマニウム(Ge)、スズ(Sn)、鉛(Pb)、イッテルビウム(Yb)、ユウロピウム(Eu)およびインジウム(In)の各金属原子が挙げられる。なかでも、金属カチオンを形成する金属原子は、Pb原子またはSn原子が特に好ましい。金属原子は1種の金属原子であってもよく、2種以上の金属原子であってもよい。2種以上の金属原子である場合には、Pb原子およびSn原子の2種が好ましい。なお、このときの金属原子の割合は特に限定されない。
 本発明に用いるペロブスカイト化合物において、アニオンXは、アニオン性原子Xのアニオンを表す。このアニオンは、好ましくはハロゲン原子のアニオンである。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子等が挙げられる。アニオンXは、1種のアニオン性原子のアニオンであってもよく、2種以上のアニオン性原子のアニオンであってもよい。2種以上のアニオン性原子のアニオンである場合には、2種のハロゲン原子のアニオン、特に臭素原子のアニオンおよびヨウ素原子のアニオンが好ましい。なお、このときのアニオン性原子のアニオンの割合は特に限定されない。
 本発明に用いるペロブスカイト化合物は、上記の各構成イオンを有するペロブスカイト型結晶構造を有し、下記式(I)で表されるペロブスカイト化合物が好ましい。
式(I):A
 式中、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表す。
 Mは周期表第一族元素以外の金属原子を表す。Xはアニオン性原子を表す。
 aは1または2を表し、mは1を表し、a、mおよびxはa+2m=xを満たす。すなわち、xは、aが1のとき3であり、aが2のとき4である。
 式(I)において、周期表第一族元素またはカチオン性有機基Aは、ペロブスカイト型結晶構造の上記カチオンAを形成する。したがって、周期表第一族元素およびカチオン性有機基Aは、上記カチオンAとなってペロブスカイト型結晶構造を構成できる元素または基であれば、特に限定されない。周期表第一族元素またはカチオン性有機基Aは、上記カチオンAで説明した上記周期表第一族元素またはカチオン性有機基と同義であり、好ましいものも同じである。
 金属原子Mは、ペロブスカイト型結晶構造の上記金属カチオンMを形成する金属原子である。したがって、金属原子Mは、周期表第一族元素以外の原子であって上記金属カチオンMとなってペロブスカイト型結晶構造を構成できる原子であれば、特に限定されない。金属原子Mは、上記金属カチオンMで説明した上記金属原子と同義であり、好ましいものも同じである。
 アニオン性原子Xは、ペロブスカイト型結晶構造の上記アニオンXを形成する。したがって、アニオン性原子Xは、上記アニオンXとなってペロブスカイト型結晶構造を構成できる原子であれば、特に限定されない。アニオン性原子Xは、上記アニオンXで説明した、アニオン性原子と同義であり、好ましいものも同じである。
 式(I)で表されるペロブスカイト化合物は、aが1である場合、下記式(I-1)で表されるペロブスカイト化合物であり、aが2である場合、下記式(I-2)で表されるペロブスカイト化合物である。
式(I-1):AMX式(I-2):AMX
 上記式(I-1)および式(I-2)において、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表し、上記式(I)のAと同義であり、好ましいものも同じである。
 Mは、周期表第一族元素以外の金属原子を表し、上記式(I)のMと同義であり、好ましいものも同じである。
 Xは、アニオン性原子を表し、上記式(I)のXと同義であり、好ましいものも同じである。
 ここで、ペロブスカイト型結晶構造について、説明する。
 ペロブスカイト型結晶構造は、上記のように、上記カチオンA、金属カチオンM、および、上記アニオンXを各構成イオンとして含有する。
 図3(a)は、ペロブスカイト型結晶構造の基本単位格子を示す図であり、図3(b)はペロブスカイト型結晶構造において三次元的に基本単位格子が連続した構造を示す図である。図3(c)はペロブスカイト型結晶構造において無機層と有機層とが交互に積層された層状構造を示す図である。
 式(I-1)で表されるペロブスカイト化合物は、図3(a)に示されるように、各頂点にカチオンAが配置され、体心に金属カチオンMが配置され、金属カチオンMを中心とする立方晶の各面心にアニオンXが配置する立方晶系の基本単位格子を有している。そして、図3(b)に示されるように、1つの基本単位格子は、隣接する(周囲を取り囲む)他の26個の各基本単位格子とカチオンAおよびアニオンXを共有しており、三次元的に基本単位格子が連続した構造をとっている。
 一方、式(I-2)で表されるペロブスカイト化合物は、式(I-1)で表されるペロブスカイト化合物に対して、金属カチオンMとアニオンXとからなるMX八面体を有している点で同じであるが、基本単位格子およびその配列様式において異なる。すなわち、式(I-2)で表されるペロブスカイト化合物は、図3(c)に示されるように、MX八面体が二次元的(平面状)に一層に並ぶことによって形成された無機層と、無機層の間にカチオンAが挿入されることによって形成された有機層とが交互に積層された層状構造を有している。
 このような層状構造において、基本単位格子は、同一層の面内で隣接する他の基本単位格子とカチオンAおよびアニオンXを共有している。一方、基本単位格子は、異なる層ではカチオンAおよびアニオンXを共有していない。この層状構造においては、カチオンAが有する有機基により無機層が分断された2次元的な層構造となっている。図3(c)に示されるように、カチオンA中の有機基が無機層間のスペーサー有機基として機能する。
 層状構造を持つペロブスカイト化合物について、例えば、New.J.Chem.,2008,32,1736を参照することができる。
 ペロブスカイト化合物は、カチオンA(周期表第一族元素またはカチオン性有機基A)によって、とり得る結晶構造が決定される。例えば、カチオンAが周期表第一族元素のカチオンまたは炭素数が1の置換基R1a等を有するカチオン性有機基Aの有機カチオンである場合、ペロブスカイト化合物は式(I-1)で表され、立方晶系の結晶構造を取りやすい。このようなカチオンAとして、例えば、CH-NH、および、式(2)で表すことができる基を有する有機カチオンのうちH-C(=NH)-NH(R1bおよびR1cがともに水素原子である場合)等の各カチオンが挙げられる。
 一方、カチオンAが炭素数2以上の置換基R1a等を有するカチオン性有機基Aのカチオンである場合、ペロブスカイト化合物は式(I-2)で表され、層状の結晶構造を取りやすい。このようなカチオンAとして、例えば、置換基R1aとして説明した、炭素数が2以上のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基および上記式(2)で表すことができる基(ただし、R1bおよびR1cが置換基である場合)を有するカチオン性有機基Aの有機カチオンが挙げられる。
 本発明に用いるペロブスカイト化合物は、式(I-1)で表される化合物および式(I-2)で表される化合物のいずれでもよく、これらの混合物でもよい。したがって、本発明において、ペロブスカイト化合物は、光吸収剤として少なくとも1種が存在していればよく、組成式、分子式および結晶構造等により、厳密にいかなる化合物であるかを明確に区別する必要はない。
 以下に、本発明に用いるペロブスカイト化合物の具体例を例示するが、これによって本発明が制限されるものではない。下記においては、式(I-1)で表される化合物と、式(I-2)で表される化合物とを分けて記載する。ただし、式(I-1)で表される化合物として例示した化合物であっても、合成条件等によっては、式(I-2)で表される化合物となる場合もあり、また、式(I-1)で表される化合物と式(I-2)で表される化合物との混合物となる場合もある。同様に、式(I-2)で表される化合物として例示した化合物であっても、式(I-1)で表される化合物となる場合もあり、また、式(I-1)で表される化合物と式(I-2)で表される化合物との混合物となる場合もある。
 式(I-1)で表される化合物の具体例として、例えば、CHNHPbCl、CHNHPbBr、CHNHPbI、CHNHPbBrI、CHNHPbBrI、CHNHSnBr、CHNHSnI、CH(=NH)NHPbIが挙げられる。
 式(I-2)で表される化合物の具体例として、例えば、(CNHPbI、(CH=CHNHPbI、(CH≡CNHPbI、(n-CNHPbI、(n-CNHPbI、(CNHPbI、(CNHPbI、(CNHPbI、(CSNHPbIが挙げられる。
 ここで、(CSNHPbIにおけるCSNHはアミノチオフェンである。
 ペロブスカイト化合物は、MXとAXとから合成することができる。例えば、上記非特許文献1が挙げられる。また、Akihiro Kojima, Kenjiro Teshima, Yasuo Shirai, and Tsutomu Miyasaka, “Organometal Halide Perovskites as Visible-Light Sensitizers for Photovoltaic Cells”, J.Am.Chem.Soc.,2009,131(17),6050-6051も挙げられる。
 光吸収剤の使用量は、多孔質層12またはブロッキング層14の表面のうち光が入射する表面の少なくとも一部であればよく、表面全体を覆う量が好ましい。
<固体正孔輸送層3>
 固体正孔輸送層(単に正孔輸送層ともいう)3は、光吸収剤の酸化体に電子を補充する機能を有する固体状の層である。正孔輸送層3は、好ましくは第一電極1の感光層13および第二電極2の間に設けられる。
 正孔輸送層3を形成する正孔輸送材料は、特に限定されないが、CuI、CuNCS等の無機材料、および、特開2001-291534号公報の段落番号0209~0212に記載の有機正孔輸送材料等が挙げられる。有機正孔輸送材料としては、好ましくは、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロールおよびポリシラン等の導電性高分子、2個の環がC、Siなど四面体構造をとる中心原子を共有するスピロ化合物、トリアリールアミン等の芳香族アミン化合物、トリフェニレン化合物、含窒素複素環化合物または液晶性シアノ化合物が挙げられる。
 正孔輸送材料は、溶液塗布可能で固体状になる有機正孔輸送材料が好ましく、具体的には、2,2’,7,7’-テトラキス-(N,N-ジ-p-メトキシフェニルアミン)-9,9-スピロビフルオレン(Spiro-OMeTADともいう)、ポリ(3-ヘキシルチオフェン-2,5-ジイル)、4-(ジエチルアミノ)ベンゾアルデヒド ジフェニルヒドラゾン、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等が挙げられる。
 正孔輸送層3の膜厚は、特に限定されないが、50μm以下が好ましく、1nm~10μmがより好ましく、5nm~5μmがさらに好ましく、10nm~1μmが特に好ましい。なお、正孔輸送層3の膜厚は、第二電極2と多孔質層12の表面または感光層13の表面との平均距離に相当する。膜厚は、走査型電子顕微鏡(SEM)等を用いて光電変換素子10の断面を観察し、多孔質層12の膜厚と同様にして、10区画それぞれの最長距離の平均値とする。
 本発明において、多孔質層12と感光層13と正孔輸送層3との合計膜厚は、特に限定されないが、例えば、0.1~200μmが好ましく、0.5~50μmがより好ましく、0.5~5μmがさらに好ましい。多孔質層12と感光層13と正孔輸送層3との合計膜厚は、それぞれ、多孔質層12の膜厚と同様にして測定できる。
<第二電極2>
 第二電極2は、太陽電池において正極として機能する。第二電極2は、導電性を有していれば特に限定されず、通常は導電性支持体11と同じ構成とすることができる。強度が十分に保たれる場合は、支持体11aは必ずしも必要ではない。
 第二電極2の構造としては、集電効果が高い構造が好ましい。感光層13に光が到達するためには、導電性支持体11と第二電極2との少なくとも一方は実質的に透明でなければならない。本発明の太陽電池においては、導電性支持体11が透明であって太陽光を支持体11a側から入射させるのが好ましい。この場合、第二電極2は光を反射する性質を有することがさらに好ましい。
 第二電極2を形成する材料としては、例えば、白金(Pt)、金(Au)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銀(Ag)、インジウム(In)、ルテニウム(Ru)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)、オスニウム(Os)等の金属、上述の導電性の金属酸化物、炭素材料等が挙げられる。炭素材料としては、炭素原子同士が結合してなる、導電性を有する材料であればよく、例えば、フラーレン、カーボンナノチューブ、グラファイト、グラフェン等が挙げられる。
 第二電極2としては、金属もしくは導電性の金属酸化物の薄膜(蒸着してなる薄膜を含む)を有するガラスまたはプラスチックが好ましく、金もしくは白金の薄膜を有するガラス、または、白金を蒸着したガラスが特に好ましい。
 第二電極2の膜厚は、特に限定されず、0.01~100μmが好ましく、0.01~10μmがさらに好ましく、0.01~1μmが特に好ましい。
<その他の構成>
 本発明においては、第一電極1と第二電極2との接触を防ぐために、ブロッキング層14に代えて、または、ブロッキング層14とともに、スペーサーやセパレータを用いることもできる。
 また、第二電極2と正孔輸送層3の間に正孔ブロッキング層を設けてもよい。
 <<太陽電池>>
 本発明の太陽電池は、例えば図1および図2に示されるように、本発明の光電変換素子を外部回路6に対して仕事させるように構成したものである。第一電極1(導電性支持体11)および第二電極2に接続される外部回路は、公知のものを特に制限されることなく、用いることができる。
 本発明の太陽電池は、構成物の劣化および蒸散等を防止するために、側面をポリマーや接着剤等で密封することが好ましい。
 本発明の光電変換素子が適用される太陽電池は、特に限定されず、例えば特許文献1、非特許文献1に記載の太陽電池が挙げられる。
 上述したように、本発明の光電変換素子およびペロブスカイト増感太陽電池は、少なくとも一種の絶縁材料を含む多孔質層を有しており、太陽電池間の電圧変動が小さく、安定した電池性能を発揮する。
<<光電変換素子および太陽電池の製造方法>>
 本発明の光電変換素子および太陽電池は、公知の製造方法、例えば特許文献1および非特許文献1等に記載の方法に準拠して、製造できる。
 以下に、本発明の光電変換素子および太陽電池の製造方法を簡単に説明する。
 導電性支持体11の表面に、所望によりブロッキング層14、および、多孔質層12を成膜する。
 ブロッキング層14は、例えば、上記絶縁性物質またはその前駆体化合物等を含有する分散物を導電性支持体11の表面に塗布し、焼成する方法またはスプレー熱分解法等によって、成膜できる。
 多孔質層12を成膜する方法としては、特に限定されず、例えば、湿式法、乾式法、その他の方法(例えば、Chemical Review,第110巻、6595頁(2010年)に記載の方法)が挙げられる。これらの方法において、多孔質材料を分散させた分散物を導電性支持体11の表面の表面に分散物(ペースト)を塗布した後に、100~800℃の温度で10分~10時間焼成することが好ましい。これにより、微粒子同士を密着させることができる。
 焼成を複数回行う場合、最後の焼成以外の焼成の温度(最後以外の焼成温度)を、最後の焼成の温度(最後の焼成温度)よりも低い温度で行うのがよい。例えば、酸化チタンペーストを用いる場合、最後以外の焼成温度を50~300℃の範囲内に設定することができる。また、最後の焼成温度を、100~600℃の範囲内において、最後以外の焼成温度よりも高くなるように、設定することができる。支持体11aとしてガラス支持体を用いる場合、焼成温度は60~500℃が好ましい。
 多孔質層12が2種以上の多孔質材料が堆積してなる微粒子層からなる場合には、2種以上の多孔質材料を含有する分散物、または、多孔質材料を含有する複数の分散物を用いて、上述の方法により、成膜できる。
 特に、多孔質層12が、第一多孔質材料の表面に第二多孔質材料を有する微粒子が堆積してなる場合には、第一多孔質材料の表面に第二多孔質材料を有する多孔質材料を予め調製して上述の方法により成膜することもできるが、第一多孔質材料が堆積してなる層の表面に第二多孔質材料を堆積させて、すなわち多孔質材料を順次堆積させて、成膜することもできる。例えば、上述の方法によって第一多孔質材料が堆積してなる層を成膜し、次いで、溶液浸漬法または電気的析出法等によって第二多孔質材料を堆積させることができる。具体的には、溶液浸漬法は、第二多孔質材料またはその前駆体化合物(例えば、アルコキシド、無機化合物、塩、錯体等)を溶媒に溶解させた分散液に、第一多孔質材料が堆積してなる層を成膜した導電性支持体11を、浸漬または塗布し、必要に応じて洗浄し乾燥した後、空気中600℃以下の温度で焼成する。
 多孔質層12を成膜するときの、多孔質材料または第一多孔質材料の支持体11の表面積1m当たりの塗布量は、上述の含有率になれば特に限定されないが、例えば、0.5~500g、さらには5~100gが好ましい。
 多孔質層12中の、絶縁材料の含有率は、分散物の濃度、塗布量または塗布回数等を、変更することによって、調整できる。
 次いで、感光層13を設ける。
 まず、感光層を形成するための光吸収剤溶液を調製する。光吸収剤溶液は、上記ペロブスカイト化合物の原料であるMXとAXとを含有する。ここで、A、MおよびXは上記式(I)のA、MおよびXと同義である。
 次いで、調製した光吸収剤溶液を、多孔質層12の表面に塗布し、乾燥する。これにより、ペロブスカイト化合物が多孔質層12の表面に形成される。
 このようにして、多孔質層12の表面にペロブスカイト化合物を少なくとも1種含有する感光層13が設けられる。
 このようにして設けられた感光層13上に正孔輸送材料を含有する正孔輸送材料溶液を塗布し、乾燥して正孔輸送層3を成膜する。
 正孔輸送材料溶液は、塗布性に優れる点、および多孔質層12の孔内部まで侵入しやすい点で、正孔輸送材料の濃度が0.1~1.0M(モル/L)であるのが好ましい。
 正孔輸送層3を成膜した後に第二電極2を形成して、光電変換素子および太陽電池が製造される。
 各層の膜厚は、各分散液または溶液の濃度、塗布回数を適宜に変更して、調整できる。例えば、図2に示す膜厚が厚い感光層13Bを設ける場合には、分散液を複数回塗布、乾燥すればよい。
 上述の各分散液および溶液は、それぞれ、必要に応じて、分散助剤、界面活性剤等の添加剤を含有していてもよい。
 光電変換素子および太陽電池の製造方法に使用する溶媒または分散媒としては、特開2001-291534号公報に記載の溶媒が挙げられるが、特にこれに限定されない。本発明においては、有機溶媒が好ましく、さらにアルコール溶媒、アミド溶媒、ニトリル溶媒、炭化水素溶媒、ラクトン溶媒、および、これらの2種以上の混合溶媒がより好ましい。混合溶媒としては、アルコール溶媒と、アミド溶媒、ニトリル溶媒または炭化水素溶媒から選ばれる溶媒との混合溶媒が好ましい。具体的には、メタノール、エタノール、γ-ブチロラクトン、クロロベンゼン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド(DMF)もしくはジメチルアセトアミド、または、これらの混合溶媒が好ましい。
 各層を形成する溶液または分散剤の塗布方法は、特に限定されず、スピンコート、エクストルージョンダイコート、ブレードコート、バーコート、スクリーン印刷、ステンシル印刷、ロールコート、カーテンコート、スプレーコート、ディップコート、インクジェット印刷法、浸漬法等、公知の塗布方法を用いることができる。なかでも、スピンコート、スクリーン印刷、浸漬法等が好ましい。
 太陽電池は、上記のようにして作製した光電変換素子の第一電極1および第二電極2に外部回路を接続して、製造される。
 以下に実施例に基づき本発明について更に詳細に説明するが、本発明がこれに限定されない。
実施例1
 以下に示す手順により、図1に示される光電変換素子10Aおよび太陽電池を製造した。なお、感光層13の膜厚が大きい場合は、図2に示される光電変換素子10Bおよび太陽電池に対応することになる。
 各例に用いた多孔質材料は、ペロブスカイト化合物の最低空軌道(LUMO)のエネルギー準位と比較し、絶縁材料または半導電性多孔質材料として、使用した。
 なお、ペロブスカイト化合物:CHNHPbIの最低空軌道(LUMO)のエネルギー準位(-3.9eV)は、Nanoscale Research Letters 2012,7:353に記載の方法により算出した。同様にして算出したペロブスカイト化合物のLUMOのエネルギー準位を示す。CHNHPbBr(-3.4eV)、[CH(=NH)NH]PbI(-4.0eV)、(CHCHNHPbI(-3.4eV)
 多孔質材料の下記エネルギー準位は上記両文献に記載の値から算出した。具体的には以下の通りである。
 絶縁材料:二酸化ジルコニウム(伝導帯のエネルギー準位:-3.1~-3.2eV)、酸化アルミニウム(伝導帯のエネルギー準位:-1.0~0.0eV)、および、二酸化ケイ素(伝導帯のエネルギー準位:-1.0~0.0eV)
 半導電性多孔質材料:酸化チタン(伝導帯のエネルギー準位:-4.0~-4.2eV)、酸化亜鉛(伝導帯のエネルギー準位:-3.9~-4.1eV)、および、酸化スズ(伝導帯のエネルギー準位:-4.3~-4.5eV)。
 これらの値は、標準水素電極(Normal Hydrogen Electrode:NHE)に換算した値(vs.NHE)である。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.101~106)の製造)
 まず、2種の多孔質材料(絶縁材料および半導電性多孔質材料)が混在した状態で堆積してなる多孔質層12(多孔質層態様B)と、光吸収剤A:CHNHPbBrと、固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.101~106)をそれぞれ製造した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.101)の製造)
<ブロッキング層14の成膜>
 チタニウム ジイソプロポキシド ビス(アセチルアセトナート)の15質量%イソプロパノール溶液(アルドリッチ社製)を1-ブタノールで希釈して、0.02Mのブロッキング層用溶液を調製した。
 ガラス基板(支持体11a、厚さ2.2mm)上にフッ素ドープされたSnO導電膜(透明電極11b)を形成し、導電性支持体11を作製した。調製した0.02Mのブロッキング層用溶液を用いてスプレー熱分解法により、450℃にて、上記SnO導電膜上にブロッキング層14(膜厚50nm)を成膜した。
<多孔質層12の成膜>
 二酸化ジルコニウム(ZrO、平均粒径30nm、球形)および酸化チタン(TiO、アナターゼ、平均粒径25nm、球形)を、質量比(ZrO/TiO)3/97の割合で、含有するエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、混合ペーストAを調製した。
 ブロッキング層14の上に、調製した混合ペーストAをスクリーン印刷法で塗布し、500℃で1時間焼成した。この混合ペーストAの塗布および焼成を複数回行って、多孔質層12(膜厚0.6μm)を成膜した。なお、焼成は、最後以外の焼成温度を130℃で行い、最後の焼成を500℃で1時間行った。
<感光層13Aの形成>
 メチルアミンの40%メタノール溶液(27.86mL)と57質量%の臭化水素の水溶液(臭化水素酸、30mL)を、フラスコ中、0℃で2時間攪拌した後、濃縮して、CHNHBrの粗体を得た。得られたCHNHBrの粗体をエタノールに溶解し、ジエチルエーテルで再結晶した。析出した結晶をろ取し、60℃で24時間減圧乾燥して、精製CHNHBrを得た。
 次いで、精製CHNHBrとPbBrを、モル比で2:1とし、γ-ブチロラクトン中、60℃で12時間攪拌混合した後、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)シリンジフィルターでろ過して、40質量%の光吸収剤溶液Aを調製した。
 調製した光吸収剤溶液Aをスピンコート法(2000rpmで60秒、続けて3000rpmで60秒)により多孔質層12の上に塗布した。塗布した光吸収剤溶液Aをホットプレートにより100℃で20分間乾燥して、ペロブスカイト化合物を有する感光層13Aを形成した。感光層13Aに含まれるペロブスカイト化合物はAMXの構造をとるCHNHPbBrであった。
 このようにして、第一電極1Aを作製した。
<正孔輸送層3の成膜>
 固体正孔輸送材料としてのSpiro-OMeTAD(180mg)をクロロベンゼン(1mL)に溶解させた。得られたクロロベンゼン溶液に、リチウム-ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(170mg)をアセトニトリル(1mL)に溶解させたアセトニトリル溶液(37.5μL)と、t-ブチルピリジン(TBP、17.5μL)とを加えて混合し、正孔輸送材料溶液を調製した。
 次いで、調製した正孔輸送材料溶液を、スピンコート法により、第一電極1Aの感光層13A上に塗布し、塗布した正孔輸送材料溶液を乾燥して、正孔輸送層3(膜厚0.1μm)を成膜した。
<第二電極2の作製>
 蒸着法により金を正孔輸送層3上に蒸着して、第二電極2(膜厚0.2μm)を作製した。
 このようにして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.101)を製造した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.102~106)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.101)の製造において、上記混合ペーストAに代えて下記混合ペーストB~Fそれぞれを用いた以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.101)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.102~106)をそれぞれ製造した。
<混合ペーストB>
 上記混合ペーストAの調製において、二酸化ジルコニウムおよび酸化チタンを質量比5/95の割合で含有するエタノール分散液を用いたこと以外は混合ペーストAと同様にして、混合ペーストBを調製した。
<混合ペーストC>
 上記混合ペーストAの調製において、二酸化ジルコニウムおよび酸化チタンを質量比25/75の割合で含有するエタノール分散液を用いたこと以外は混合ペーストAと同様にして、混合ペーストCを調製した。
<混合ペーストD>
 上記混合ペーストAの調製において、二酸化ジルコニウムおよび酸化チタンを質量比50/50の割合で含有するエタノール分散液を用いたこと以外は混合ペーストAと同様にして、混合ペーストDを調製した。
<混合ペーストE>
 上記混合ペーストAの調製において、二酸化ジルコニウムおよび酸化チタンを質量比75/25の割合で含有するエタノール分散液を用いたこと以外は混合ペーストAと同様にして、混合ペーストEを調製した。
<混合ペーストF>
 上記混合ペーストAの調製において、二酸化ジルコニウムおよび酸化チタンを質量比95/5の割合で含有するエタノール分散液を用いたこと以外は混合ペーストAと同様にして、混合ペーストFを調製した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.107)の製造)
 多孔質層態様Bの多孔質層12と光吸収剤B:CHNHPbIと固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.107)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.103)の製造において、上記光吸収剤溶液Aに代えて下記光吸収剤溶液Bを用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.103)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.107)を製造した。
<光吸収剤溶液B>
 メチルアミンの40%メタノール溶液(27.86mL)と57質量%のヨウ化水素の水溶液(30mL)を、フラスコ中、0℃で2時間攪拌した後、濃縮して、CHNHIの粗体を得た。得られたCHNHIの粗体をエタノールに溶解し、ジエチルエーテルで再結晶した。析出した結晶をろ取し、60℃で24時間減圧乾燥して、精製CHNHIを得た。
 次いで、精製CHNHIとPbIを、モル比で2:1とし、γ-ブチロラクトン中、60℃で12時間攪拌混合した後、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)シリンジフィルターでろ過して、40質量%の光吸収剤溶液Bを調製した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.108~111)の製造)
 次に、第一多孔質材料の微粒子表面に第二多孔質材料が膜状に付着(被覆)した状態で堆積してなる多孔質層12(多孔質層態様C)と、光吸収剤Aと、固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.108~111)をそれぞれ製造した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.108)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.101)の製造において、下記のようにして多孔質層12を成膜したこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.101)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.108)を製造した。
<多孔質層12の形成>
 まず、第一多孔質材料としての酸化チタン(TiO、アナターゼ、平均粒径20nm、球形)のエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、酸化チタンペーストを調製した。
 次いで、光電変換素子および太陽電池(試料No.101)と同様にして準備した導電性支持体11のブロッキング層14の上に、調製した酸化チタンペーストをスクリーン印刷法で塗布し、焼成した。この酸化チタンペーストの塗布および焼成を複数回行った。なお、最後以外の焼成は130℃で行い、最後の焼成を500℃で1時間焼成した。得られた酸化チタンの焼成体を、40mMのTiCl水溶液に浸した後、60℃で1時間、続けて500℃で30分間加熱して、第一多孔質材料(TiO)が堆積してなる微粒子層を成膜した。
 次いで、この微粒子層を、40mM濃度のZr(OCのプロパノール溶液に浸した後、エタノール溶液で洗浄し、大気雰囲気下にて450℃で30分間、焼成を行った。このようにして、微粒子層(TiO)の表面を第二多孔質材料としての絶縁材料(ZrO)で被覆して、多孔質層12を成膜した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.109および110)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.108)の製造において、上記酸化チタンペーストおよびZr(OCのプロパノール溶液を塗布または浸漬および焼成する回数を変更して酸化チタンおよび二酸化ジルコニウムの含有率を調整したこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.108)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.109および110)を製造した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.111)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.101)の製造において、下記のようにして多孔質層12を成膜したこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.101)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.111)を製造した。
<多孔質層12の形成>
 まず、第一多孔質材料としての二酸化ジルコニウム(ZrO、平均粒径30nm、球形)のエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、二酸化ジルコニウムペーストを調製した。
 次いで、光電変換素子および太陽電池(試料No.101)と同様にして準備した導電性支持体11のブロッキング層14の上に、調製した二酸化ジルコニウムペーストをスクリーン印刷法で塗布し、焼成した。焼成については、最後以外の焼成を130℃で行い、最後の焼成を500℃で1時間行った。この二酸化ジルコニウムペーストの塗布回数および焼成回数を変更して、第一多孔質材料(ZrO)が堆積してなる微粒子層を成膜した。
 次いで、この微粒子層を、濃度40mMのTiCl水溶液に30分間浸漬した後、純水で洗浄し、さらに500℃で30分間焼成を行った。このようにして、微粒子層(ZrO)の表面を第二多孔質材料としての多孔質材料(TiO)で被覆して、多孔質層12を成膜した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.112)の製造)
 多孔質層態様Cの多孔質層12と光吸収剤Bと固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.112)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.110)の製造において、上記光吸収剤溶液Aに代えて上記光吸収剤溶液Bを用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.110)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.112)を製造した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.113)の製造)
 2種の多孔質材料(絶縁材料)が混在した状態で堆積してなる多孔質層12(多孔質層態様B)と、光吸収剤Bと、固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.113)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.101)の製造において、上記混合ペーストAに代えて下記混合ペーストGを用い、かつ、上記光吸収剤溶液Aに代えて光吸収剤溶液Bを用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.101)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.113)を製造した。
<混合ペーストG>
 二酸化ジルコニウム(ZrO、平均粒径30nm)および酸化アルミニウム(Al、平均粒径30nm、球形)を、質量比(ZrO/Al)50/50の割合で、含有するエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、混合ペーストGを調製した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.114~116)の製造)
 多孔質層態様Cの多孔質層12と光吸収剤Bと固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.114~116)を製造した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.114)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.109)の製造において、上記Zr(OCのプロパノール溶液に代えてSi(OCのエタノール/水混合溶液を用い、さらに上記光吸収剤溶液Aに代えて上記光吸収剤溶液Bを用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.109)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.114)を製造した。
 なお、Si(OCのエタノール/水混合溶液を塗布または浸漬および焼成する回数、ならびに、酸化チタンペーストを塗布および焼成する回数を変更することにより、二酸化ケイ素および酸化チタンの含有率を調整した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.115)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.114)の製造において、上記Si(OCのエタノール/水混合溶液に代えてAl(OiCのアルコール溶液を用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.114)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.115)を製造した。
 なお、Al(OiCのアルコール溶液を塗布および焼成する回数、ならびに、酸化チタンペーストを塗布および焼成する回数を変更することにより、酸化アルミニウムおよび酸化チタンの含有率を調整した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.116)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.109)の製造において、上記光吸収剤溶液Aに代えて上記光吸収剤溶液Bを用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.109)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.116)を製造した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.117~119)の製造)
 多孔質層態様Bの多孔質層12と光吸収剤Bと固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.117~119)を製造した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.117)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.102)の製造において、上記光吸収剤溶液Aに代えて上記光吸収剤溶液Bを用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.102)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.117)を製造した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.118および119)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.102)の製造において、上記混合ペーストBに代えて下記混合ペーストHまたはIを用い、かつ上記光吸収剤溶液Aに代えて上記光吸収剤溶液Bを用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.102)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.118および119)をそれぞれ製造した。
<混合ペーストH>
 二酸化ジルコニウム(ZrO、平均粒径30nm、球形)および酸化亜鉛(ZnO、平均粒径30nm、球形)を、質量比(ZrO/ZnO)で5/95の割合で、含有するエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、混合ペーストHを調製した。
<混合ペーストI>
 二酸化ケイ素(SiO、平均粒径30nm、球形)および酸化チタン(TiO、アナターゼ、平均粒径25nm、球形)を、質量比(SiO/TiO)で5/95の割合で、含有するエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、混合ペーストIを調製した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.120~123)の製造)
 多孔質層態様Cの多孔質層12と光吸収剤Bと固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.120~123)を製造した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.120および121)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.111)の製造において、上記二酸化ジルコニウムペーストに代えて下記酸化アルミニウムペーストを用い、また上記酸化チタンペーストに代えて下記酸化亜鉛ペーストまたは下記二酸化スズペーストを用い、かつ上記光吸収剤溶液Aに代えて上記光吸収剤溶液Bを用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.111)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.120および121)をそれぞれ製造した。
<酸化アルミニウムペースト>
 酸化アルミニウムペーストは、酸化アルミニウム(Al、平均粒径30nm、球形)のエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、調製した。
<酸化亜鉛ペースト>
 酸化亜鉛ペーストは、酸化亜鉛(ZnO、平均粒径30nm、球形)のエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、調製した。
<二酸化スズペースト>
 二酸化スズペーストは、二酸化スズ(SnO、平均粒径30nm、球形)のエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、調製した。
 (光電変換素子および太陽電池(試料No.122および123)の製造)
 光電変換素子および太陽電池(試料No.111)の製造において、上記二酸化ジルコニウムペーストに代えて上記酸化アルミニウムペースト(試料No.121参照)または下記二酸化ケイ素ペーストを用い、かつ上記光吸収剤溶液Aに代えて上記光吸収剤溶液Bを用いたこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.111)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.122および123)をそれぞれ製造した。
<二酸化ケイ素ペースト>
 二酸化ケイ素ペーストは、二酸化ケイ素(SiO、平均粒径30nm、球形)のエタノール分散液に、エチルセルロース、ラウリン酸およびテルピネオールを加えて、調製した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.124)の製造)
 多孔質層態様Bの多孔質層12と光吸収剤C:[CH(=NH)NH]PbIと固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.124)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.102)の製造において、上記光吸収剤溶液Aに代えて下記光吸収剤溶液Cを用い、かつ多孔質層12上に塗布した光吸収剤溶液Cを160℃で40分間乾燥したこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.102)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.124)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.124)の感光層13Aに含まれるペロブスカイト化合物はAMXの構造をとる[CH(=NH)NH]PbIであった。
<光吸収剤溶液C>
 ホルムアミジン酢酸塩と、ホルムアミジン酢酸塩に対して2当量のヨウ化水素を含む57質量%のヨウ化水素の水溶液とを、フラスコ中、0℃で1時間攪拌し、次いで、50℃に昇温し、さらに1時間攪拌し、混合した。得られた溶液を濃縮して、ホルムアミジン・ヨウ化水素塩の粗体を得た。得られた粗体をジエチルエーテルで再結晶し、析出した結晶をろ取し、50℃で10時間減圧乾燥して、精製ホルムアミジン・ヨウ化水素塩を得た。
 次いで、精製ホルムアミジン・ヨウ化水素塩とPbIを、モル比で2:1とし、ジメチルホルムアミド(DMF)中、60℃で3時間攪拌して混合した後、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)シリンジフィルターでろ過して、40質量%の光吸収剤溶液Cを調製した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.125)の製造)
 多孔質層態様Bの多孔質層12と光吸収剤D:(CHCHNHPbIと固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.125)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.102)の製造において、上記光吸収剤溶液Aに代えて下記光吸収剤溶液Dを用い、かつ多孔質層12上に調製した光吸収剤溶液Dを140℃で40分間乾燥したこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.102)と同様にして、本発明の光電変換素子および太陽電池(試料No.125)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.125)の感光層に含まれるペロブスカイト化合物はAMXの構造をとる(CHCHNHPbIであった。
<光吸収剤溶液D>
 光吸収剤溶液Bの調製において、メチルアミンの40%メタノール溶液の代わりにエチルアミンを用い、さらに得られた精製CHCHNHIとPbIとのモル比を3:1に変更したこと以外は光吸収剤溶液Bの調製と同様にして、光吸収剤溶液Dを調製した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.c101)の製造)
 1種の半導電性多孔質材料が堆積してなる多孔質層(多孔質層態様A)と光吸収剤Aと固体電解質とを有する光電変換素子および太陽電池(試料No.c101)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.101)の製造において、上記混合ペーストAに代えて光電変換素子および太陽電池(試料No.108)の製造で調製した上記酸化チタンペーストを用いて多孔質層を成膜したこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.101)と同様にして、比較のための光電変換素子および太陽電池(試料No.c101)を製造した。
 具体的には、ブロッキング層14の上に、上記酸化チタンペーストをスクリーン印刷法で塗布し、焼成した。この酸化チタンペーストの塗布および焼成を複数回行った。なお、最後以外の焼成は130℃で行い、最後の焼成を500℃で1時間焼成した。得られた酸化チタンの焼成体を、40mMのTiCl水溶液に浸した後、60℃で1時間加熱し、続けて500℃で30分間加熱して、多孔質材料(TiO)からなる多孔質層を成膜した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.c102)の製造)
 多孔質層態様Bの多孔質層と光吸収剤Bと液体電解質を有する光電変換素子および太陽電池(試料No.c102)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.107)の製造において、上記Spiro-OMeTAD(180mg)を含有する正孔輸送材料溶液に代えて電解質溶液としてLiI、I、t-ブチルピリジン(TBP)およびウレアを混合したエチルアセテート溶液(溶媒:エチルアセテート)を用い、第二電極2を白金で形成したこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.107)と同様にして、比較のための光電変換素子および太陽電池(試料No.c102)を製造した。
(光電変換素子および太陽電池(試料No.c103)の製造)
 1種の絶縁材料が堆積してなる多孔質層(多孔質層態様A)と光吸収剤Bと液体電解質を有する光電変換素子および太陽電池(試料No.c103)を製造した。
 光電変換素子および太陽電池(試料No.101)の製造において、上記混合ペーストAに代えて光電変換素子および太陽電池(試料No.111)の製造で調製した上記二酸化ジルコニウムペーストを用いて多孔質層を成膜し、また上記光吸収剤溶液Aに代えて上記光吸収剤溶液Bを用い、さらにSpiro-OMeTAD(180mg)を含有する正孔輸送材料溶液に代えて電解質溶液としてLiI、I、t-ブチルピリジン(TBP)およびウレアを混合したエチルアセテート溶液(溶媒:エチルアセテート)を用い、第二電極2を白金で形成したこと以外は光電変換素子および太陽電池(試料No.101)と同様にして、比較のための光電変換素子および太陽電池(試料No.c103)を製造した。
(多孔質層中の、絶縁材料の含有率)
 製造した各太陽電池(試料No.101~125およびc101~c103)において、多孔質層における絶縁材料の含有率(絶縁材料の質量/(絶縁材料の質量+多孔質材料の質量)×100(%))を以下のようにして算出した。その結果を「含有率(wt%)」として表1に示す。
 太陽電池(試料No.101~107、113、117~119、124および125ならびにc101~c103)については、多孔質層を形成する各ペースト又は分散液中の絶縁材料の含有率(絶縁材料の質量/(絶縁材料の質量+半導電性多孔質材料の質量)
)を算出し、これを多孔質層の絶縁材料の含有率(質量%)とした。
 一方、太陽電池(試料No.108~112、114~116および120~123)については、光電変換素子および太陽電池の製造とは別途、同様の方法で、第一多孔質材料が堆積してなる微粒子層を成膜したものを10検体用意し、成膜前後での質量変化を測定し、その差を第一多孔質材料の質量とした。続いて、微粒子表面に第二多孔質材料の被覆を成膜した後、同様に質量変化を測定し、その差を第二多孔質材料の質量とした。得られた質量から、多孔質層の絶縁材料の含有率(絶縁材料の質量/(絶縁材料の質量+半導電性多孔質材料の質量)(質量%)を求めた。なお、ペーストに用いた有機物は焼成の過程で除去されていると判断した。
(電圧のばらつき評価)
 太陽電池の試料No.ごとに電圧のばらつきを以下のようにして評価した。
 すなわち、各試料No.の太陽電池を上記製造方法と同様にして10検体製造し、10検体それぞれについて電池特性試験を行い、電圧を測定した。電池特性試験は、ソーラーシミュレーター「WXS-85H」(WACOM社製)を用いて、キセノンランプからAM1.5フィルタを通した1000W/mの疑似太陽光を照射することにより行った。電圧はI-Vテスターを用いて測定した。
 このようにして求めた電圧の平均値を算出した。この平均値を「1」に設定して、この平均値「1」に対する太陽電池10検体それぞれの電圧(相対値)を求めた。
 評価は、太陽電池10検体を、求めた電圧(相対値)が平均値「1」以上であった群(「高い側」という)と、平均値「1」未満であった群(「低い側」という)との2群に分類した。評価は、各群に属する検体それぞれの電圧(相対値)と平均値「1」との差分(絶対値)を算出し、下記評価基準に基づいて電圧のばらつきを評価した。具体的には、各群における最大の差分を有する検体が下記評価基準のいずれの範囲に含まれるかで評価した。
 本発明において、電圧のばらつき評価は、C以上であることが目標達成レベルであり、実用上、好ましくはC以上であり、より好ましくはAまたはBである。
(評価基準)
 A:0以上0.07以下
 B:0.07を越え0.10以下
 C:0.10を越え0.13以下
 C:0.13を越え0.16以下
 D:0.16を超える
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 表1に示されるように、少なくとも1種の絶縁材料を含む多孔質層を有する太陽電池(試料No.101~125)はいずれも電圧のばらつきが小さいことがわかった。
 また、多孔質層が半導電性多孔質材料および絶縁材料の2種を含むと、電圧のばらつきがより小さくなることが分かった。さらに多孔質層が第一多孔質材料の微粒子表面に第二多孔質材料の被覆を有していると(多孔質層態様C)、特に第二多孔質材料の被覆が絶縁材料で成膜されていると、電圧変動を抑制する効果が顕著になることが分かった。
 さらに、多孔質層中の絶縁材料の含有率については、いずれの多孔質層の態様においても、5~95質量%であると、特に5~50質量%であると、電圧の変動抑制効果が高くなることが分かった。
 これに対して、半導電性多孔質材料1種からなる多孔質層を有する太陽電池(試料No.c101)は電圧のばらつきが大きかった。また、液体電解質を有していると(試料No.c102およびc103)、多孔質層が絶縁材料を含んでいても、電圧変動抑制効果が発揮されないことが分かった。
1A、1B 第一電極
 11 導電性支持体
  11a 支持体
  11b 透明電極
 12 多孔質層
 13A、13B 感光層
 14 ブロッキング層
2 第二電極
3A、3B 正孔輸送層
6 外部回路(リード)
10A、10B 光電変換素子
100A、100B 光電変換素子を電池用途に応用したシステム
M 電動モーター

Claims (20)

  1.  導電性支持体上に設けられた多孔質層、および該多孔質層の表面に光吸収剤を設けてなる感光層を有する第一電極と、該第一電極に対向する第二電極と、該第一電極および該第二電極の間に設けられた固体正孔輸送層とを有する光電変換素子であって、
     前記光吸収剤が、周期表第一族元素もしくはカチオン性有機基Aのカチオン、周期表第一族元素以外の金属原子Mのカチオンおよびアニオン性原子Xのアニオンを有するペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物を含み、
     前記多孔質層が少なくとも1種の絶縁材料を含む光電変換素子。
  2.  前記多孔質層が、前記絶縁材料と異なる、少なくとも1種の多孔質材料を含む請求項1に記載の光電変換素子。
  3.  前記絶縁材料が、前記多孔質層中に5~95質量%含まれている請求項1または2に記載の光電変換素子。
  4.  前記絶縁材料が、前記多孔質層中に5~50質量%含まれている請求項1~3のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  5.  前記多孔質層が、前記絶縁材料と、前記絶縁材料と異なる多孔質材料とを含み、前記絶縁材料および前記多孔質材料のいずれか一方の材料の表面に他方の材料を有してなる請求項2~4のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  6.  前記多孔質層が、前記絶縁材料と異なる多孔質材料の表面に前記絶縁材料を有してなる請求項2~5のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  7.  前記他方の材料が、前記一方の材料の表面の少なくとも一部を被覆する請求項5または6に記載の光電変換素子。
  8.  前記絶縁材料および前記絶縁材料と異なる多孔質材料が、それぞれ1種ずつ含まれる請求項2~7のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  9.  前記絶縁材料が、ジルコニウム、アルミニウムおよびケイ素の各酸化物からなる群より選択される請求項1~8のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  10.  前記絶縁材料と異なる多孔質材料が、チタン、亜鉛、スズ、タングステン、ジルコニウム、アルミニウムおよびケイ素の各酸化物、ならびに、カーボンナノチューブからなる群より選択される請求項2~9のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  11.  前記絶縁材料と異なる多孔質材料が、前記ペロブスカイト型光吸収剤の最低空軌道と同じまたは低いエネルギー準位の伝導帯を有する請求項2~10のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  12.  前記絶縁材料が、ジルコニウムまたはアルミニウムの各酸化物であり、
     前記絶縁材料と異なる多孔質材料が、チタン、亜鉛、スズまたはタングステンの各酸化物である請求項2~11のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  13.  前記ペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物が、下記式(I)で表される化合物である請求項1~12のいずれか1項に記載の光電変換素子。
    式(I):A
     式中、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表す。Mは周期表第一族元素以外の金属原子を表す。Xはアニオン性原子を表す。aは1または2を表し、mは1を表し、a、mおよびxはa+2m=xを満たす。
  14.  前記ペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物が、下記式(I-1)で表される化合物を含む請求項1~13のいずれか1項に記載の光電変換素子。
    式(I-1):AMX
     式中、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表す。Mは周期表第一族元素以外の金属原子を表す。Xはアニオン性原子を表す。
  15.  前記ペロブスカイト型結晶構造を持つ化合物が、下記式(I-2)で表される化合物を含む請求項1~14のいずれか1項に記載の光電変換素子。
    式(I-2):AMX
     式中、Aは周期表第一族元素またはカチオン性有機基を表す。Mは周期表第一族元素以外の金属原子を表す。Xはアニオン性原子を表す。
  16.  前記Aが、下記式(1)で表されるカチオン性有機基である請求項1~15のいずれか1項に記載の光電変換素子。
    式(1):R1a-NH
     式中、R1aは置換基を表す。
  17.  前記R1aが、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基または下記式(2)で表すことができる基である請求項16に記載の光電変換素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     式中、XはNR1c、酸素原子または硫黄原子を表す。R1bおよびR1cは各々独立に水素原子または置換基を表す。*は式(1)のN原子との結合位置を表す。
  18.  前記Xが、ハロゲン原子である請求項1~17のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  19.  前記Mが、Pb原子またはSn原子である請求項1~18のいずれか1項に記載の光電変換素子。
  20.  請求項1~19のいずれか1項に記載の光電変換素子を有する太陽電池。
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