WO2015003819A1 - Massenspektrometer, dessen verwendung, sowie verfahren zur massenspektrometrischen untersuchung eines gasgemisches - Google Patents

Massenspektrometer, dessen verwendung, sowie verfahren zur massenspektrometrischen untersuchung eines gasgemisches Download PDF

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gas
mass spectrometer
ion trap
ions
mass
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PCT/EP2014/053361
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Gennady Fedosenko
Michel Aliman
Hin Yiu Anthony Chung
Albrecht Ranck
Leonid Gorkhover
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Carl Zeiss Smt Gmbh
Carl Zeiss Microscopy Gmbh
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Definitions

  • Mass spectrometer its use, as well as methods for
  • the invention relates to a mass spectrometer for the mass spectrometric analysis of gas mixtures, comprising: an ionization device, and an ion trap for storage and mass spectrometric analysis of the gas mixture.
  • the invention also relates to the use of such a mass spectrometer and a method for
  • a mass spectrometer which is used for the analysis of a residual gas in an EUV lithography system and which is an ion trap for
  • mass spectrometry is used in many other areas, such as the characterization of chemical compounds in medical chemistry, the identification of substances in body fluids or organs, forensic investigations, doping controls, military chemical warfare analysis, etc. It becomes also used in Pharmaco kinetics and in vacuum technology for residual gas analysis.
  • the mass, or more precisely the mass-to-charge ratio, of atoms or molecules is determined to be a chemical
  • the substances ionized in this way are fed to an analyzer in conventional mass spectrometers and are typically passed through an electric and / or magnetic field in which the ions describe characteristic trajectories due to different mass-to-charge ratios, and thus
  • mass spectrometers Due to the disadvantages of currently available mass spectrometers such as large dimensions, slow scan measurement, no particularly high sensitivity, etc., mass spectrometers according to the prior art can be used only partially or even not at all for many applications.
  • the stability of a measurement signal of a gas analyzer or mass spectrometer depends strongly on the temporal stability of the ionization.
  • Conventional quadrupole mass spectrometers typically use hot filament ionization and typically have an inaccuracy of about 10% -20%.
  • Alternative types of ionization such as e.g. Plasma ionization, which may also be used in mass spectrometry, typically has an inaccuracy in the range of 5% -10% due to plasma gas control inaccuracies and / or plasma power fluctuations.
  • Dynamic range (dynamic ranks) Conventional mass spectrometers allow a dynamic range (ratio of maximum measurable signal to minimally measurable signal) of generally only about 10 6 to a maximum of 10 7 .
  • the mass spectrometer In order to detect a small amount of analyte in a residual gas, it is necessary that the mass spectrometer be a very small one
  • Detection limit has.
  • Currently available mass spectrometers reach a detection limit of 10 "13 mbar to 10 " 14 mbar.
  • For sensitive detection charge multipliers are often used, which have a large scattering of over 20% and, moreover, at a higher pressure (> 1 fx 4 mbar) are typically not applicable.
  • Mass spectrometers are also used for different applications with different pressure ranges of the analyte and / or the
  • Mass spectrometers designed for one or the other pressure range, but there are no mass spectrometers that cover a very large pressure range, without having to do a complicated pressure-specific conversion for this purpose.
  • the object of the invention is to provide a mass spectrometer and a method which facilitates the investigation of gases or gas mixtures and in particular at least one of the aforementioned
  • ionization device for supplying ions and / or metastable particles of an ionizing gas and / or electrons to the ion trap for the ionization of the gas mixture to be examined, wherein the mass spectrometer (or a control device provided there) is formed or programmed before the Examination of the gas mixture to determine the number of ions present in the ion trap and / or of metastable particles of the ionizing gas and / or the number of ions of a residual gas present in the ion trap.
  • the gas mixture to be examined is typically supplied in the form of a gas stream or a gas pulse in the non-ionized state of the ion trap or the measuring cell and the ionization is preferably carried out directly in the ion trap (in-situ), typically by a Impact ionization or charge exchange ionization of the gas mixture with the ions and / or metastable particles of the
  • the ionization may possibly take place in the measuring chamber outside the ion trap.
  • the Ionization preferably in close proximity to the ion trap and there is an ion transport of the ionized gas mixture in the ion trap instead.
  • an inlet for feeding the gas mixture to be examined into the ion trap can be arranged opposite an inlet for supplying the ions and / or the metastable particles of the ionizing gas or of the electrons, so that a gas flow of the supplied gas mixture and a particle beam of the ions or the like Metastable particles of the ionizing gas and / or the electrons are aligned with each other and meet in the ion trap or possibly in the immediate vicinity of the ion trap.
  • the ionization of the gas mixture to be examined can be effected by electrons, ions of the ionizing gas and / or by metastable particles of the ionizing gas.
  • Metastable particles are atoms or molecules of the ionizing gas which are electrically neutral but are in an excited (high-energy) electronic state.
  • the gas mixture to be examined is understood as meaning mixtures of gaseous substances in which, if appropriate, particles may also be present, i. gaseous substances having an atomic mass unit (amu)> 100 amu, if necessary> 1000 amu or> 10000 amu, even up to 2000000, i. Particles that have a
  • macromolecular structure with particle sizes of about 0.001 ⁇ - may have 10 ⁇ or more.
  • a 3D ion trap such as the Paul's ion trap, is typically used, in which the gaseous constituent to be examined or the gas mixture to be investigated is trapped in all three spatial dimensions, so that this stable oscillations in all three room dimensions and is therefore available for a longer time for the measurement (typically 1 ms or more, preferably less than 1 second or 100 ms).
  • the dimensions of the space in which the ionized gas constituent (s) are trapped are typically less than 50 cm x 50 cm x 50 cm, preferably less than 50 mm x 50 mm x 50 mm.
  • the mass spectrometer has a controllable inlet for pulsed feeding of the gas mixture to be examined to the ion trap and the mass spectrometer is designed or programmed, the
  • Gas mixtures are available, is taken into account in the determination of the particle number of ionized constituents of the gas pulse of the gas mixture to be examined.
  • the consideration of the determined number of ions or metastable particles in the determination of the number of particles can, for example, be such that their number enters a proportionality constant (correction factor) with which the result of the measurement (ie the measured signal height) is multiplied by the measured value Correct the number of particles of ionized constituents of the gas mixture to be investigated.
  • the ion trap is connected via a controllable inlet, for example in the form of a controllable valve, to a chamber, eg to a process chamber, in which the gas mixture to be examined is contained.
  • the controllable inlet is synchronized with the operation of the ion trap, which is usually designed as FTIT ("Fourier Transform Ion Trap") .
  • the ionization device can also have a controllable inlet for the particularly pulsed supply of the ions or metastable particles of the ionization gas and / or or the electrons have.
  • Ionizing gas injected into the ion trap wherein typically occurs an ionization of a residual gas there.
  • Residual gas ions as well as the ions of the ionizing gas (hereinafter collectively referred to as primary ions) are trapped by the ion trap or stored there.
  • the primary ions are now with an electric
  • roller coaster movement induces on the cover electrodes or measuring electrodes of the ion trap a mirror current from whose height the number of primary ions in the ion trap can be determined with an accuracy of less than 5%.
  • the number of primary ions also means a quantity which is proportional to the number of primary ions.
  • the number of (neutral) metastable particles of the ionizing gas in the ion trap can also be determined.
  • the prevailing pressure in the ion trap for example by the time decrease (time constant) of the ion transients, ie Mirror current on the measuring electrodes, is determined, since this is directly dependent on the mean free path and thus the pressure.
  • the pressure in the ion trap is essentially determined by the ionizing gas, for example helium, introduced into the ion trap for ionization, so that the number of metastable particles actually present in the ion trap can be determined therefrom, since the number of ions of the ionizing gas depends on the height the mirror currents can also be determined (see above).
  • the ionizing gas consists predominantly of metastable particles, it may also be possible to dispense with the determination of the number of ions of the ionizing gas (and vice versa).
  • the number of metastable particles of the residual gas is negligible because of the typically much lower pressure (usually about 3-4 orders of magnitude) of the residual gas, eg water.
  • Another way of determining the number of metastable particles is to determine the number of particles ionized by the metastable particles of the ionizing gas of the residual gas (eg, water) in the ion trap to determine (indirectly) the number of metastable particles therefrom. which have led to the ionization of the residual gas.
  • the background noise is virtually determined in the subsequent investigation of the gas mixture in the ion trap.
  • the controllable gas inlet is opened and the gas or gas mixture to be examined is introduced from the chamber in the form of a gas pulse into the measuring chamber (or into the ion trap).
  • the gas pulse penetrates into the ion trap and is ionized there by a charge exchange process or by impact ionization with the electrons and / or primary ions or metastable particles and in the ion trap for the mass spectrometric
  • roller coaster frequency As with the primary ions, these roller-coaster movements generate a mirror current on the cover electrodes or measuring electrodes.
  • This measurement signal associated with the ions can be Fourier-transformed, whereby each Fourier frequency can be assigned a mass-to-charge ratio m / z and the signal height (Hf) associated with each frequency is directly proportional to the ion number or the particle number of the respective ion population of the to be examined ionized constituent at the corresponding mass-to-charge ratio m / z.
  • the particle number or the signal height Hf at each frequency f or each mass-to-charge ratio m / z is determined or corrected by the following equation:
  • H (corrected) K * Hf (uncorrected) * H1 / ⁇ Hf, (1)
  • K is a mass and frequency independent correction factor
  • H1 is the signal level of all ions stably stored and excited in the ion trap
  • Hf (uncorrected) the spectral height or the signal height of the ion of interest or of the ionized constituent to be examined
  • EHf denote the sum of all signal levels of the spectral lines present in the measured spectrum.
  • the correction factor K takes into account the number of ions of the ionizing gas and / or the residual gas and of the metastable particles of the ionizing gas determined in the manner described above
  • ionization gas and is typically recalculated for each gas pulse, to the influence of fluctuations of the ions available for the ionization of the gas mixture to be examined or
  • the spectral lines of the measured spectrum can in this case be limited to mass-to-charge ratios m / z which are outside the spectrum of the ions of the ionizing gas or the residual gas, but this is not absolutely necessary.
  • the mass spectrometer is preferably designed or programmed to generate an excitation of the ions of the gas mixture without determining the ions of the ionization gas and / or of the residual gas for determining the particle number of ionized constituents of the gas mixture to be investigated.
  • an excitation signal electrical
  • Pulse signal of the ion trap is selected so that after ionization of the gas mixture to be examined, all ions except the primary ions are excited. It is possible, for example, to form this excitation signal in such a way that the primary ions in the ion trap become unstable and consequently leave the ion trap, so that only the ions of the ions to
  • the mass spectrometer is configured to determine the number of ions of a constituent to be studied of the ionized gas mixture in the ion trap with an inaccuracy of less than 5%.
  • the measurement sequence described above including the
  • Determination of the primary number of ions can theoretically be repeated as often as desired. Since a normalization to the primary ion number H1 is carried out in advance with each measurement process, and the conversion according to equation (1) is used for the determination of the corrected measurement signal in each measurement sequence, the time fluctuations due to the variation or drift in the ionization can theoretically be completed eliminate.
  • a normalization to the primary ion number H1 is carried out in advance with each measurement process, and the conversion according to equation (1) is used for the determination of the corrected measurement signal in each measurement sequence, the time fluctuations due to the variation or drift in the ionization can theoretically be completed eliminate.
  • the ionizing gas is a metastable noble gas, in particular helium.
  • the ions in order to accelerate the measurement, it is tried in the prior art, the ions as fast as possible in the middle of the ion trap by gas braking
  • Mass resolution in an in-situ measurement i.e., a measurement in the ion trap
  • mass resolution in an in-situ measurement i.e., a measurement in the ion trap
  • metastable particles of a ionizing gas in the form of a metastable noble gas is formed in the ion trap.
  • Metastable noble gas particles are neutral particles in an excited electron state (just before the actual ionization). This gives the metastable particles a particularly large cross-section, which has a greater probability of collision with the components of the gas mixture to be examined in the ion trap.
  • the ions to be investigated are collected faster in the center of the ion trap, without the need for a higher pressure is required by a buffer gas for this purpose, so that much faster than in already known solutions can be measured.
  • a metastable noble gas helium in particular has proven to be favorable.
  • the mass spectrometer is designed to accommodate at least 10 spectra / s with a mass band width of at least 500 amu or 1000 amu each.
  • the use of metastable particles increases the cross section or the impact probability of the ionizing gas with the gas mixture to be investigated or with the gas constituents to be investigated and thus increases the speed of the measurement to the values indicated above.
  • the ionization device has a plasma source for generating ions and / or the metastable particles of the ionization gas in order to supply them to the ion trap.
  • the ionization of the ionizing gas may e.g. be realized by a plasma source, which converts the gas constituents of the ionizing gas in a metastable state or ionizes this ion.
  • a plasma source which converts the gas constituents of the ionizing gas in a metastable state or ionizes this ion.
  • noble gases e.g. Helium atoms are converted into a metastable state or ionized.
  • the ratio between the proportion of the gas molecules of the ionizing gas which is converted into ions to the proportion which is converted into metastable particles can be influenced by a suitably formed plasma source or process, e.g. by the plasma power and gas flow of the ionizing gas.
  • the plasma source may be formed as a high frequency plasma source, medium frequency plasma source, DC plasma source, dielectrically impeded discharge plasma source, atmospheric pressure plasma source, corona discharge plasma source, etc.
  • the plasma source for generating ions and / or metastable particles of the ionizing gas is formed at a temperature of less than 100 ° C, i. the plasma discharge in the plasma source takes place at a low temperature (below 100 ° C).
  • This can e.g. be achieved by applying a high-frequency alternating field (with frequencies from 1 MHz to 30 MHz), since a corresponding RF discharge can be carried out in an advantageous manner at temperatures of 10 ° C to 200 ° C.
  • Noble gas particles can achieve a particularly gentle (cold) ionization with low fragmentation of the analyte.
  • the mass-to-charge ratio m / z to be detected in the ion trap depends on the storage amplitude V rf (web diameter) and the field frequency as follows: m / z ⁇ V rf / (fr f ) 2
  • the ionization device has an electron beam source for generating the electrons.
  • Electron beam source can be designed in particular for the production of electrons with a variable electron energy, for example in the range between 1 eV and 100 eV.
  • the electron beam source e.g. in form of a
  • Electron gun can also be equipped with a focusing device or with a beam guide to align the electrons on the gas flow of the gas mixture to be examined.
  • the electron beam source may alternatively or additionally to the plasma source for the ionization of
  • Gas mixture can be used.
  • Mass spectrometer of the type mentioned, which is designed to selectively remove or suppress ions with a mass-to-charge ratio from the ion trap whose particle number exceeds a predetermined threshold.
  • mass-to-charge ratio a mass-to-charge ratio from the ion trap whose particle number exceeds a predetermined threshold.
  • it is proposed to suppress large ion populations or remove them from the ion trap, so that specific subsets of ion populations can be measured more accurately.
  • Mass spectrometer of the type mentioned is formed selectively ions or to be examined ionized components of the gas mixture in
  • the mass spectrometer has a dynamic range of 10 8 (or 10 8 : 1) or above. Such a dynamic range can be achieved by using one or a combination of the two measuring methods described above.
  • the ion trap is designed for the accumulation of individual ions of the gas mixture and the mass spectrometer has a
  • Ion trap mass spectrometers usually operate discontinuously, ie after a predetermined accumulation time (for example, less than 100 ms), an analysis of the ion number can take place.
  • a predetermined accumulation time for example, less than 100 ms
  • an analysis of the ion number can take place.
  • both an accumulation of the substance to be detected may be possible in an ion trap
  • Mass spectrometer which has a pressure reduction unit with at least one, preferably at least two, in particular three or more switchable in series modular pressure stages for reducing the gas pressure of the gas mixture to be examined.
  • a pressure reduction unit with a modular construction of one, two or three (or possibly more) pressure stages, which is located between a measuring chamber (typically with ion trap, possibly also with a conventional mass spectrometer, eg a quadrupole - Mass spectrometer) and the chamber with the examined
  • Gas mixture can be attached.
  • one, two or three pressure stages can be connected in series in this way in order to reduce the gas pressure so that the gas mixture can be fed to the measuring chamber.
  • the gas pressure in the chamber with the gas mixture to be examined is small enough (eg ⁇ 0 "5 mbar)
  • the pressure reduction unit may, for example, consist of three (or more) matched pressure stages, wherein the vote can be realized by a pressure reduction of about 100-1000 mbar at each pressure stage.
  • a high gas pressure of the gas mixture to be examined 100 bar -10 "2 mbar
  • all three pressure stages at medium pressure (10 " 2 mbar - 10 "5 mbar) of the gas mixture can two and at low gas pressure ( ⁇ 10 " 5 mbar ) only one pressure step can be used.
  • the bar or is 10 "5 below, to dispense with the provision of a pressure stage.
  • the pressure levels are modular and can be connected in series by being attached to each other, In this way, the pressure stages can be degraded very quickly or be rebuilt to each other in order to operate the desired pressure range of the gas mixture to be detected.
  • the mass spectrometer can be used to investigate
  • Mass spectrometer which is designed to excite ionized components of the gas mixture to be examined several times in the ion trap and to record a mass spectrum of the ionized constituents to be examined for each excitation for a predetermined period of time. According to this Aspect is proposed to exploit the possibility of ion trap mass spectrometers to perform a multiple repetition of the ion excitation, without having to use another assembly for this purpose. With each excitation, a detection of the ionized to be examined constituents can be made or a mass spectrum can be recorded.
  • Mass spectrum at about 5 ms or less. Due to the fact that the components of the gas mixture to be examined only have to be excited but not re-ionized, a mass spectrum can be recorded very quickly by displacing the corresponding measurement window for determining the mass spectrum or synchronizing it with the excitation of the ionized components. In this way, analyte molecules can be measured during a chemical reaction before they
  • Intermediate products can be reacted with one another or intermediate products can be detected so that the reaction dynamics can be detected by the displacement of the measuring window and the chemical reaction process can be imaged in real time.
  • the ion trap is selected from the group comprising: Fourier transform ion trap, in particular
  • the ion trap is for detecting the stored in the ion trap or
  • an ion trap for example, an FT ion trap, allows the realization of fast measurements (with measuring times in the
  • ion traps e.g., of the types described above
  • the FT-ICR trap is a variation of the Penning trap in which the ions are injected into alternating electrical fields and a static magnetic field.
  • FT-ICR trap magnetic or electrical ICR trap
  • the Penning trap may be operated with an additional buffer gas, whereby mass selection by spatial separation of the ions may be generated by the buffer gas in combination with magnetron excitation by means of an electric dipole field and cyclotron excitation by means of an electric quarkrupole field the Penning trap can also be used to separate the substance to be detected from other substances. Since the buffer gas in this case type acts on the trapped ions in general to dampen movement and thus "cool", this trap type is also referred to as "cooler trap".
  • the so-called toroidal trap allows a more compact design with substantially identical ion storage capacity over a conventional quadrupole trap.
  • the linear trap is a modification of the quadrupole trap or Paul trap, in which the ions are not in a three-dimensional quadrupole field but by means of an additional edge field in a two-dimensional quadrupole field. Field held to increase the storage capacity of the ion trap.
  • the so-called orbitrap has a central, spindle-shaped electrode, around which the ions are held by the electrical attraction on circular paths, whereby a decentral injection of the ions creates a vibration along the axis of the central electrode, which generates signals in the detector plates, which can be detected similar to the FT-ICR trap (by FT).
  • An EBIT electron beam ion trap
  • RF radio frequency
  • the mass spectrometer based on an ion trap described above can be used for the detection of smallest trace elements in different areas:
  • the mass spectrometer can be used, for example, for the mass spectrometric analysis of a gas mixture in EUV lithography.
  • an EUV lithography system e.g. in an EUV lithography system, contained
  • Residual gas are analyzed, for example, with regard to contaminants contained therein.
  • the use of the mass spectrometer in EUV lithography is made possible or favored by the following features listed above:
  • Connection position in a radiation production system of the EUV lithography system at a distance of less than 1 m, preferably less than 50 cm from a collector (mirror), an EUV light source or an opening for the passage of EUV radiation from the
  • Radiation generating system to be formed in the lighting system.
  • connection position of the optical spectrometer which is defined by an opening on the wall of a vacuum housing, typically the projection system, the illumination system or the radiation generation system, through which the substances to be examined can enter the mass spectrometer, in the vicinity a mirror of the EUV lithography system is formed to targeted contaminating substances to be able to detect, which may possibly accumulate on the optical surface of the mirror.
  • Radiation generation system and the lighting system is convenient to determine how large the proportion of contaminants that passes from the radiation generation system in the lighting system.
  • the arrangement of the mass spectrometer in an attachment position near the EUV light source makes it possible to detect contaminants produced by the EUV light source.
  • the mass spectrometer is one of a
  • Radiation generating system or a surrounding this vacuum housing is not too large.
  • Radiation generating system or a surrounding this vacuum housing is not too large.
  • Hydrogen and / or helium and / or air-containing residual gas atmosphere of the EUV lithography system in the mass spectrometric analysis of at least one of the following contaminants or mixtures thereof measured or detected: oxygen, ozone, water, C x H y O z to 10 Mamu, particles up to 10 Mamu, metal CxH Y Oz compounds up to 10 Mamu, where 1 Mamu 1 000 000 amu.
  • the invention also encompasses an EUV lithography system which is designed like the EUV lithography system described above in connection with the use of the mass spectrometer.
  • Coating process in a coating plant which may contain process gases, for example.
  • the mass spectrometer described above may in particular have a self-cleaning function in order to operate in the
  • Mass spectrometers are used in many coating processes. Another special feature of the one described here
  • Mass spectrometer represents its small space (about 300 mm high x about 300 mm wide and about 200-300 mm deep) This allows the use of the mass spectrometer in many applications in which the installation space plays a role (eg MOCVD, see below) ,
  • the self-cleaning can be done, for example, as shown in WO 02/00962 A1, which is an in-situ cleaning system for removing
  • Adjust sample chamber can be removed if necessary using a cleaning gas.
  • the cleaning gas forms in the production of a plasma in the sample chamber with the deposits, a gaseous cleaning product, which is discharged from the sample chamber.
  • the coating process is selected from the group comprising: chemical vapor deposition (CVD), organometallic chemical
  • MOCVD Metal organic chemical vapor deposition
  • MOVPE metal organic chemical vapor phase epitaxy
  • PECVD plasma enhanced chemical vapor deposition
  • ALD Atomic layer deposition
  • PVD Physical vapor deposition
  • plasma-assisted etching and implantation processes as well as
  • MBE Molecular Beam Epitaxy
  • Gas mixing system or in a gas disposal system, in particular before or after a vacuum pump of the gas disposal system and / or at a distance of less than 1 m, preferably formed by less than 50 cm from a process chamber.
  • the mass spectrometer can be connected directly to the process chamber.
  • the or another mass spectrometer in the gas supply system in particular, in
  • Gas mixing system or in a gas disposal system in particular in a vacuum line between the process chamber and a vacuum pump immediately in front of the vacuum pump or in an exhaust pipe after the
  • Vacuum pump attached.
  • Integration position can be determined by the result of the
  • mass spectrometry to effect the process as desired, i. this can be controlled or regulated in particular.
  • the mass spectrometric analysis can measure at least one of the following substances, their mixtures and / or reaction products, clusters and / or compounds: H 2 , He, N 2 , O 2 , PH 3 , AsH 3 , B, P, As, CH 4 , CO, CO 2 , Ar, SCI 4 , SiHCl 3 , SiH 2 Cl 2 , H 2 O, C x H y , trimethyl Ga, triethyl Ga, trimethyl AI, triethyl AI, trimethylamine, triethyllene, Cp 2 Mg, SiH 4 , Si 2 H 6 ,
  • the at least one substance, the mixture, the reaction product, the cluster and / or the compound at a temperature in the process chamber between 15 ° C and 5000 ° C, preferably between 100 ° C and 2000 ° C and at the pressure in the process chamber between 10 "10 mbar to 5 bar, preferably measured between 10 " 8 mbar and 1 bar.
  • the invention also includes a coating system which is designed like the coating system described above in connection with the use of the mass spectrometer.
  • Mass spectrometer is in the field of analysis, preparation
  • Mass spectrometer can in this case, for example, for gas and / or residual gas monitoring or monitoring, for analysis
  • the device may be, for example, a
  • Multi-beam device act in which, for example, an electron and / or ion beam column, a laser beam, an X-ray (X-Ray),
  • Photon beam, etc. can be used optionally to a
  • Device also act to a device for Oberfizzenabtastanalytik, which may optionally be integrated into the multi-beam device.
  • mass spectrometer Another use of the mass spectrometer described above is in the field of vibration detection or vibration analysis of typically mechanical vibrations.
  • the mass spectrometer can be used in particular for the detection or analysis of vibrations in a range between approximately 1 Hz and approximately 15 KHz.
  • Vibrations may in particular be natural oscillations of a set-up or a device in which the mass spectrometer is installed, ie the vibrations are detected at the place of use of the mass spectrometer and the mass spectrometer is used as a vibration sensor.
  • the mass spectrometer a spectrum within a frequency range in which the analyzed
  • Vibrational frequencies are. This frequency spectrum can be, for example, between about 1 Hz and about 15 kHz. Within this frequency range is typically a plurality of noise frequencies by
  • mechanical vibrations are generated and can be detected and analyzed by the measuring electrodes, for example, an FT ion trap, in particular an FT-ICR trap.
  • an FT ion trap in particular an FT-ICR trap.
  • a frequency spectrum can be recorded as soon as the mass spectrometer is installed in the device. If the device was in order at the time of installation, this frequency spectrum can serve as a reference spectrum. At a later time or at several later times, the measurement of the frequency spectrum can be repeated and the measured frequency spectrum can with the
  • the vibrations may, for example, be undesirable natural vibrations of grinding or ball bearings, e.g. act of (vacuum) pumps, which are arranged in the vicinity of the mass spectrometer, or vibrations that are caused by a power supply (mains hum).
  • Mass spectrometer is not limited to the applications described above, but that this can be used advantageously in other applications.
  • the invention also relates to a method for mass spectrometry
  • a quantitative analysis of the constituents of the gas mixture to be analyzed can be carried out using a continuous high-precision in-situ calibration, so that the Determination of the number of ions (corresponding to a peak in the spectrum), which are detected at a certain mass-to-charge ratio, with high
  • Precision is possible. Typically, this achieves an inaccuracy of less than 5%, i. the measured value deviates from the number of (ionized) particles of the gas constituent actually present in the sample volume of the ion trap by not more than 5% (upwards or downwards).
  • the procedure is typically as follows: first, the primary ions are accumulated in the ion trap. After
  • the number of metastable particles in the ion trap can be determined. If the ionizing gas is essentially in the form of metastable particles, their number is proportional to the total pressure in the ion trap, since the pressure of the residual gas is negligible. The total pressure can be, for example be determined by the temporal decrease (time constant) of the ion transients with high accuracy. The pressure can be used to indicate the number of metastable particles actually present in the ion trap
  • a gas pulse of the gas mixture to be investigated is generated in parallel and moves towards the ion trap.
  • the generation of the gas pulse is typically such with the measurement of the primary ion number and / or the metastable
  • Particle number synchronizes that the gas pulse to the ion trap to the
  • Time (or shortly after) is reached, in which the measurement of the number of primary ions and / or the metastable particles is completed.
  • the gas mixture transported in the gas pulse is in the ion trap or possibly in the measuring chamber shortly before entering the ion trap of the primary ions and / or metastable particles or of the electrons
  • the ions of the gas mixture are excited. Before or during the excitation of the ions of the gas mixture, the primary ions can be removed or suppressed from the ion trap by generating a suitable excitation signal. In a subsequent step, a measurement or detection of the excited ions of the gas mixture takes place. The above process can basically be repeated as often as desired. Since during detection the ions are not converted into neutral particles, it is also possible, after the ionization of the gas mixture, the ions of the
  • FIG. 1 is a schematic representation of a mass spectrometer for mass spectrometric analysis of a gas mixture
  • FIG. 2 is a schematic representation of an embodiment of an ion trap of the mass spectrometer of FIG. 1, FIG.
  • Fig. 3 is a schematic representation of the timing of a
  • 5a, b show two mass spectra which are evaluated by the SWIFT method or by a mass-selective time-division multiplex measurement
  • Fig. 6 is a schematic representation of an EUV lithography system, which has a mass spectrometer
  • Fig. 7 is a schematic representation of an apparatus for
  • Atomic layer deposition on a substrate having a mass spectrometer Atomic layer deposition on a substrate having a mass spectrometer.
  • a mass spectrometer 1 is shown schematically, which communicates with a chamber 8 in connection or is connectable, in which a to
  • examining gas mixture 2 is located.
  • the chamber 8 may alternatively be, for example, a (vacuum) housing of a lithography system or another type of chamber in which the
  • Gas mixture 2 is a gas phase substance 3a (i.e., a gas) having an atomic mass number ⁇ 100 and particles 3b whose mass number is 100 or more.
  • a gas phase substance 3a i.e., a gas having an atomic mass number ⁇ 100 and particles 3b whose mass number is 100 or more.
  • the chamber 8 has an outlet 4, which via a to
  • Mass spectrometer 1 associated controllable valve 5 with an inlet 6 of a measuring chamber 7 is connectable. In the one shown in Fig. 1
  • Mass spectrometer 1 the gas mixture 2 directly, i. without a prior ionization, introduced into serving as a measuring cell ion trap 10.
  • An ionization device 12 is used for ionization of the gas mixture 2 directly in the ion trap 10 by the ion trap 10 ions 13a and / or metastable or excited particles 13b of a Iontechnischsgases 13 are supplied which the gas mixture 2 by a charge exchange or a Stoßionisation typically in the ion trap 10 ionize.
  • Fig. 1 The shown in Fig. 1
  • Ionization device 12 also has an electron beam source 20 in the form an electron beam gun for generating electrons 20a with variable electric energies in the range between, for example, 1 eV to 100 eV, which can be used in addition to or as an alternative to the plasma source 18 and which is shown in dashed lines in Fig. 1.
  • the electrons 20a serve to ionize the gas mixture 2 by electron impact ionization directly in the ion trap 10.
  • the gas mixture to be analyzed 2 directly ionized in the measuring cell (ion trap 10), possibly accumulated and measured, without any transport of the ionized gas mixture in the ion trap 10 is required.
  • an ionization of the gas mixture 2 in the immediate vicinity of the ion trap 10 take place, in the latter case, a transport of the ionized gas mixture to the ion trap 0 is required.
  • the (neutral) ionizing gas 13 is removed via a metering valve 15 and a gas supply line 16 from a gas reservoir 17 and a
  • Plasma source 18 supplied.
  • the ionizing gas 13 is ionized or excited and the ions 13 a or
  • Metastable / excited particles 13b are supplied to the ion trap 10 to effect the charge exchange ionization of the gas mixture 2.
  • the plasma source 18 may be a high frequency plasma source, medium frequency plasma source, DC plasma source, dielectrically impeded discharge plasma source, atmospheric pressure plasma source, corona discharge plasma source, etc.
  • the plasma source 18 is designed to generate ions 13a and / or metastable particles 13b of the ionizing gas 13 at a temperature of less than 100 ° C., ie the plasma discharge in the plasma source takes place at a low temperature (below 100 ° C.).
  • This can be achieved, for example, by the application of a high-frequency alternating field (with frequencies of 1 MHz to 30 MHz), since a corresponding HF discharge advantageously takes place at temperatures of 10 ° C. to 200 ° C. can be done, or by using a specially developed DC plasma source can be realized.
  • a different type of ionization device can be used, which can convert the (neutral) ionizing gas 13 into an excited electron state or ionize to a Stoß′′. Charge exchange ionization of the gas mixture 2 in the ion trap 10 to effect.
  • ionizing gas 13 a plurality of gases and gas mixtures can be used, for example He, H 2 , Ar, N 2 , Xe, Kr, O 2, etc. It has proved to be particularly favorable if a noble gas, in particular helium, is used as the ionizing gas 13. which is converted by the plasma source 18 into a metastable noble gas 13b, ie, noble gas particles (eg, He *) which are in an excited electron state just before ionization.
  • a noble gas in particular helium
  • analyte i. a gas constituent 3a, 3b which is to be examined
  • the metastable noble gas particles 13b a particularly gentle (cold) ionization with low fragmentation of the analyte can be achieved.
  • particles 3b having an atomic mass number between 100 and 20,000, in particular between 20,000 and 20,000,000 can also be ionized as coherent macromolecular structures, since these are no longer fragmented by the cold HF plasma of the noble metal metastable particles 13b.
  • the particles 3b may be, for example, macromolecular conglomerates having a particle size of about 0.001 ⁇ m or more.
  • the ionizing gas eg helium
  • the mass-to-charge ratio m / z to be detected in the ion trap 10 is of the storage amplitude V rf (web diameter). and the field frequency depends on: m / z ⁇ V rf / (f rf ) 2 .
  • Memory amplitude Vr f and / or by lowering the field frequency fr f in the ion trap 10 are measured.
  • metastable noble gas particles 13b i. of neutral particles in an excited electron state
  • they have a particularly large cross section, which has a greater collision probability with the components of the
  • Gas mixture 2 in the ion trap 10 has. Thereby, the ionized particles 3a, 3b to be examined are collected faster in the center of the ion trap 10 without requiring a higher pressure by a buffer gas for this purpose.
  • Noble gas particles 13b for ionizing the gas mixture 2 can thus take place much faster than in already known solutions a measurement in the ion trap 10, so that the mass spectrometer 1 for recording at least 10 spectra / s with a mass bandwidth of at least 500 amu and 1000 amu respectively can be used.
  • the ion mixture of the gas mixture 2 can also serve an electron beam source 20, which in particular can generate electrons 20a with variable electron energies in the range between, for example, 1 eV to 100 eV in order to selectively introduce components 3a, 3b of the gas mixture 2 ionize certain mass-to-charge ratios.
  • the ionization device 12 may have only one plasma source or only one electron beam source 20 in order to ionize the gas mixture 2 to be investigated in the ion trap 10.
  • a residual gas 14 present in the ion trap 10 can also be ionized, ie residual gas ions 4a are generated.
  • the mass spectrometer 1 has a pressure reduction unit 11, which is attached to the inlet 6 of the measuring chamber 7 and which connects the measuring chamber 7 to the outlet 4 of the chamber 8.
  • the pressure reduction unit 11 has three series-connected moduliare pressure stages 1 1 a-c for reducing the gas pressure Po of the gas mixture 2 to be examined in the chamber 8.
  • Mass spectrometer 1 is flanged in the example shown in the region of the outlet 4 of the chamber 8.
  • the three pressure stages 1 1 a-c each have two end flanges, with which they can be attached to the inlet 6 to the measuring chamber 7 and to each other.
  • one, two, three or none of the pressure stages 1 1 ac can be connected in series to the gas pressure of
  • the three pressure levels 1 1a-c are coordinated.
  • the tuning can be realized for example by a pressure reduction by a factor of about 100-1000 mbar at each pressure stage 1 1 ac.
  • all three pressure stages 1 1 1 ac, at average gas pressure p 0 (10 " 2 mbar - 10 "5 mbar) of the gas mixture 2 in the chamber. 8 can two pressure levels 1 1 a, 1 1 b and at low gas pressure ( ⁇ 10 ⁇ 5 mbar) of the gas mixture 2 in the chamber 8 can only one or none Pressure stage 1 1 a are used, through which the gas mixture. 2
  • the pressure stages 1 a-c can be connected in series by these are gas-tight attached to each other, for example by these on
  • the pressure stages 1 1a-c can be degraded or reassembled very quickly in order to operate a predetermined pressure range of the gas pressure p 0 of the gas mixture 2 to be detected and to ensure that the gas pressure p 0 reaches the ion trap 10 up to approx 10 "5 mbar or up to 1 CT 9 mbar, so that the ion trap 10 can be used for gas analysis
  • the mass spectrometer 1 can be interspersed with a gas pressure po for the investigation of gas mixtures 2 10 5 mbar and 10 ⁇ 15 mbar at constant detection limit, the mass spectrometer 1 in a particularly simple manner to the
  • Detection limit can be defined as follows: Approximately 100 ions per second at a pressure in the measuring chamber 7 of 10 "8 mbar can be measured.
  • the ion trap 10 is formed in the example shown in Fig. 1 as a magnetic FT-ICR trap, which is described below in connection with FIG. 2 in more detail.
  • the ions 13a are trapped in a homogeneous magnetic field B along the Z direction of an XYZ coordinate system and the ions 3a injected into the FT-ICR trap 10 in the Z direction on circular paths with a
  • the FT-ICR trap 10 also has an arrangement in which an alternating electric field is applied perpendicular to the magnetic field B and in this way a cyclotron resonance is generated.
  • the arrangement has six electrodes 21. Voices frequency of the radiated alternating field and Cyclic cyclic frequency match, so the resonance case occurs and the cyclotron radius of the relevant ion 13a increases by absorbing energy from the alternating field. These changes result in measurable signals at the electrodes 20 of the FT-ICR trap 10, resulting in a current flow I that passes through an amplifier 22 to an FFT (fast fourier transform)
  • spectrometer 23 is supplied, which is also part of the mass spectrometer 1.
  • the time-dependent current I received in the FFT spectrometer 23 is Fourier-transformed to obtain a frequency-dependent mass spectrum, which is shown at the bottom right in FIG.
  • the FT-ICR trap 10 thus enables a direct detection or the direct recording of a mass spectrum, so that a rapid gas analysis is made possible. It is also possible to selectively remove individual ions or ions having specific mass numbers or mass-to-charge ratios m / z from the FT-ICR trap 10, for example by applying an alternating field to the electrodes 21 in order to select the selected ones To direct the trap 10 to be removed ions on unstable paths.
  • the amplitude of the envelope of the time-dependent mirror current I decreases with time after the excitation, with the time decrease or the transient of the current I coming directly from the mean free path and thus from the pressure in the FT-ICR trap 10 is dependent.
  • the pressure in the FT can be determined, for example, on the basis of the time constant ⁇ , at which a decrease in the amplitude to 1 / e times (ie approximately 37%) of the original value takes place ICR trap 10 are determined with high accuracy, which is particularly useful for determining the number of
  • the FT-ICR ion trap 10 may be formed as a so-called FT-ICR ion trap comprising a ring electrode on which a high-frequency high voltage is applied and two lid electrodes which may serve both as mirror charge detectors and as excitation electrodes.
  • FT-ICR ion trap 10 ions are trapped by a high frequency high voltage. The ions experience impulse excitation, depending on the high vacuum
  • Mass / charge ratio (m / z) characteristic oscillations which are absorbed by mirror charge detection at the cover electrodes.
  • m / z mass / charge ratio
  • Frequency spectrum can then be converted into a mass spectrum in which the number of detected particles is represented as a function of the mass-to-charge ratio m / z.
  • the number of primary ions, ie the ions 3a of the ionizing gas 13 and the ions 14a of the residual gas and the number 13a of the metastable particles of the ionizing gas 13 are determined which are available for the charge or impact ionization of the gas mixture 2 in the ion trap 10 stand, whereby temporal fluctuations due to the Variation or drift of the provided for the ionization primary ions 13a, 14a and metastable particles 13b practically complete
  • Measuring method can be specified.
  • a first step time duration t1 about 1 ms
  • the primary ions 13a, 14a accumulate in the ion trap 10.
  • the control device 19 opens the metering valve 15 and allows ionizing gas 13 to flow into the plasma source 18 in which it ionizes and enters the ion trap 10 in the form of ions 13a.
  • a residual gas 14 present in the ion trap 10 can be (partially) ionized so that residual gas ions 14a are formed.
  • a measurement or detection of the number of primary ions 13a, 14a in the ion trap 10 takes place.
  • a fourth step takes place in parallel (time period t4 ⁇ 1 ms), namely the transport of the (non-ionized) gas mixture 2, more precisely a gas pulse 2a of FIG Gas mixture 2, from the inlet 6 of the measuring chamber 7 in the ion trap 10.
  • the valve 5 is briefly from the
  • Control device 19 is driven and opened, wherein the time duration in which the valve 5 is opened, typically in the range of less than about 1 ⁇ or less than a few ms.
  • Gas mixture 2 is synchronized by the controller 19 with the step of measuring the number of primary ions 13a so that the gas pulse reaches the ion trap 10 when the measurement of the number of primary ions 13a, 14a is completed.
  • the gas mixture 2 can also be ionized in the immediate vicinity of the ion trap 2. In this case, the gas pulse reaches the ion trap 10 offset in time, i. shortly after the completion of the measurement of the number of primary ions. As the gas pulse 2 a moves towards the inlet of the ion trap 10, it may be necessary to provide a
  • Transport device for transporting the ionized gas mixture 2 in the ion trap 10 can be omitted.
  • Measuring chamber 7 and / or in the region between the inlet 6 and the ion trap 10 a transport device, e.g. in the manner of a blower, be provided.
  • a transport device e.g. in the manner of a blower
  • the gas mixture 2 transported in the gas pulse 2a in the ion trap 10 is ionized by the primary ions 13a, 14a or by the metastable particles 13b by impact ionization and / or by charge exchange ionization. It proves to be advantageous if the current of the ionizing gas 13 and the ions 13 a and
  • metastable particles 13b of the ionization gas 13 of the flow direction of the gas pulse 2a is directed counter to, so that the flow of ionizing gas 13 and the gas pulse 2a in the interior of the ion trap 10 meet.
  • Ionleitersgases 13 are arranged opposite each other. The same applies to the electron source 20 or the electron beam 20a, which should likewise be aligned with the gas pulse 2a or should be arranged opposite the inlet 6 for supplying the gas pulse 2a, as shown in FIG.
  • a subsequent sixth step (time duration t6 about 1 ms), the ions of the gas mixture 2 are excited. Before and during the excitation of the ions of the gas mixture 2, the primary ions 13a, 14a can be removed from the ion trap 10 by generating a suitable excitation signal and applying it to the electrodes 20.
  • Ionization provided primary ions 13a, 14a and metastable, respectively
  • Hf (corrected) K * Hf (uncorrected) * H1 / ⁇ Hf, where H1 is the signal height of all ions stably stored and excited in the ion trap, Hf (uncorrected) the spectral height or the signal height of the ion of interest or the ionized constituent 3a, 3b, iHf- the sum of all signal levels of the measured spectrum
  • K denotes a mass and frequency independent correction factor into which the determined number of primary ions 13a, 14a, or metastable particles 3b provided for ionization are received, such that a higher number determined has a smaller correction factor K conditioned and vice versa.
  • an ionizing gas 13 which is present essentially in the form of metastable particles 13b (eg He *)
  • the actual number of ionized ions contained in the ion trap 10 can be determined Components 3a, 3b of the gas mixture 2 at a predetermined mass-to-charge ratio with high precision, ie typically be determined with an inaccuracy of less than 5%.
  • the degree of excitation indicates the ratio of the radius of the roller coaster movement to the core radius of the ion cell.
  • Calibration can be performed at any time, in particular during the actual measurement, at any selected gas types.
  • the above process can basically be repeated several times or as often as desired. However, it may be advantageous if, after the ionization of the gas mixture 2, the ionized constituents 3a, 3b of the gas mixture 2 in the ion trap 10 are excited several times, without causing a re-ionization of the gas mixture 2, as will be described below with reference to FIG. 4.
  • Fig. 4 is an illustration of measurement of ionized components 3a, 3b of the gas mixture 2 in the ion trap 10, at which, after completion of the shock-exchange ionization indicated by "I" in Fig. 4, at a time t 0 a stimulation (as needed, 1 to a few tens of times) of the ionized constituents 3a, 3b of the gas mixture 2 takes place with the aid of a pulsed excitation signal SA During or after each excitation, a mass spectrum MS1 to MSx is determined via a (in the present example 5 ms or less), in other words, a predetermined measurement window (with a constant time duration) is shifted several times in order to record a mass spectrum MS1 to MSx in the case of several consecutive excitations, without another one Ionization must be done.
  • a stimulation as needed, 1 to a few tens of times
  • a mass spectrometer 1 in which the measuring principle described above is used, is particularly suitable for use in chemical process analysis.
  • Ratio between the maximum detectable signal strength to the minimum detectable signal strength of the mass spectrometer 1 can be an evaluation a mass spectrum, as described below with reference to FIG. 5a and FIG. 5b.
  • Fig. 5a shows a mass spectrum in which so-called SWIFT excitation takes place to increase the dynamics, in which larger ion populations, i. Ion populations in which the particle number at a given mass-to-charge ratio m / z is above a predetermined Schweliwert SW (see Fig. 5a), removed from the ion trap 10 or suppressed in the measurement.
  • a comb filter can be realized in which several subsets of
  • ion populations each having different measurement ranges MB1 to MBx, i. multiple intervals of mass-to-charge ratios, are measured simultaneously, as indicated in Fig. 5a.
  • An increase in the dynamics can also be done by a measuring range switching, as shown in Fig. 5b.
  • the mass spectrum is divided into measuring ranges MB1 to MBx, each with different mass-to-charge ratios, each measuring range MB1 to MBx being evaluated at a different measuring time t1 to tx.
  • a dynamic range of the mass spectrometer 1 of 10 8 : 1 or above can optionally be achieved.
  • the possibility of accumulating individual ionized gas constituents of the gas mixture 2 in an ion trap 10 can be used in combination with the above-described dynamic range increasing measurement methods to lower the detection limit of the mass spectrometer.
  • Accumulation capability of the ion trap 10 individual ions can be accumulated until a sufficiently large measurement signal is present. With a known (calibrated) measurement signal and known accumulation time, the ion population to be examined can be determined quantitatively. In this way, the detection limit of the mass spectrometer can be lowered to 0 "15 mbar or below.
  • ion traps In addition to the types of ion traps described above, other types of ion traps can also be used in the mass spectrometer 1, which permit three-dimensional storage or accumulation of ions and evaluation via a Fourier transformation.
  • a Penning Trap for example, a Penning Trap, Toroid Trap, Paul Trap, Linear Trap, Orbitrap, EBIT and RF Buncher.
  • the mass spectrometer 1 described above can be used in various ways.
  • FIG. 6 shows schematically such an EUV lithography system 101.
  • the EUV lithography system 101 comprises a radiation generation system 102, an illumination system 103 and a projection system 104 housed in separate vacuum housings and consecutively generated in an optical path of the EUV light source 105 from an EUV light source 105 of the radiation generation system 102 EUV radiation 106 are arranged.
  • a plasma source or a synchrotron can serve as the EUV light source 105.
  • the radiation emerging from the EUV light source 105 in the wavelength range between approximately 5 nm and approximately 20 nm is initially collimated in a collimator 107.
  • the desired operating wavelength ⁇ ⁇ is filtered out, which in the present example is approximately 13.5 nm.
  • the collimator 107 and the monochromator 108 are reflective optical
  • the EUV radiation treated in the radiation generation system 102 in terms of wavelength and spatial distribution is incorporated into the
  • Lighting system 103 introduced, which has a first and second reflective optical element 109, 1 10 (mirror).
  • the two reflective optical elements 109, 110 conduct the radiation onto a photomask 11 1 as a further reflective optical element, which has a structure which is imaged on a wafer 12 by means of the projection system 104 on a reduced scale.
  • a third and fourth reflective optical element 1 13, 1 14 (mirror) are provided in the projection system 104.
  • the reflective optical elements 109, 1 10, 11 1, 1 13, 1 14 each have an optical surface, that of the EUV radiation 106 of the light source 105 is exposed.
  • the optical elements 109, 1 10, 1 1 1, 1 13, 1 14 are each under vacuum conditions in a residual gas atmosphere 102 a of
  • Radiation generating system 102 Radiation generating system 102, a residual gas atmosphere 103a of the illumination system 103 and a residual gas atmosphere 104a of the
  • Projection system 104 operated in the typical manner, a small proportion of air, hydrogen (Hb) and / or helium (H 2 ) and optionally of other residual gases is present. Since the interior of the EUV lithography system 1 can not heat up, the presence of unwanted gases
  • Vacuum generating unit comprising a vacuum pump 15 in the projection system 104, a residual gas atmosphere 104a with a total pressure of typically more than 10 ⁇ 5 mbar. Accordingly, a vacuum or a residual gas atmosphere 103a, 102a can also be generated in the illumination system 103 or in the radiation generation system 102.
  • a mass spectrometer 1 is formed, which is formed as described above, i.
  • the inlet 6 forms a vacuum connection between the residual gas atmosphere 102a of the projection system 102 and the mass spectrometer 1.
  • the inlet 6, ie the vacuum connection (vacuum tube), has a cross-section A of less than 100 mm, preferably less than 5 mm, in particular less than 1 mm.
  • the mass spectrometer 1 may have one or more apertures to ensure that the
  • Residual gas pressure towards the ion trap 10 down to ⁇ . 10 "5 mbar, so that a conventional residual gas analyzer can be used for residual gas analysis.
  • Mass spectrometer 1 which is formed on the housing of the projection optics 102 in the middle of the vacuum connection or the inlet 6, less than 50 cm. This is favorable to the proportion or the partial pressure of
  • the mass spectrometric examination in particular at least one of the following
  • Illumination system 103 may be provided, which is arranged at a distance D of less than 50 cm from one of the mirrors 109, 110 arranged there, for example, from the first mirror 109.
  • Radiation generating system 102 are arranged, which in a
  • the mass spectrometer 1 can also be attached to a second attachment position PL2, which is arranged at a corresponding distance D of less than 100 cm, preferably less than 50 cm from the collector 107 (typically in the form of a collector mirror), or at a third attachment position Pi_3, which is located at a distance of less than 100 cm, preferably less than 50 cm away from the EUV light source 105.
  • a second attachment position PL2 which is arranged at a corresponding distance D of less than 100 cm, preferably less than 50 cm from the collector 107 (typically in the form of a collector mirror), or at a third attachment position Pi_3, which is located at a distance of less than 100 cm, preferably less than 50 cm away from the EUV light source 105.
  • FIG. 7 schematically shows a device 201 for atomic layer deposition on a substrate 202 (here: silicon wafer), which is arranged on a holder 203 in an inner space 204 of a process chamber 205 (reaction chamber). Both the holder 203 and the walls of the process chamber 205 can be heated to (possibly different) temperatures.
  • the holder 203 may be in communication with a motor to cause the substrate 202 to rotate during the coating.
  • the device 201 also includes a container 206 in which a
  • metal organic precursor material is contained, which in the present example is tetrakis (ethylmethylamino) hafnium (TEMAH) or another metalorganic precursor.
  • TEMAH tetrakis (ethylmethylamino) hafnium
  • an inert carrier gas e.g. Argon or hydrogen used, which is the
  • Container 206 can be supplied via a controllable valve 207. Another
  • Reservoir 208 serves to provide ozone gas O 3 or other dopant gas as a reactant at atomic site deposition.
  • the carrier gas with the precursor and the doping gas can each be introduced into the process chamber 205 via a controllable inlet in the form of a controllable valve 209a, 209b.
  • a manifold manifold 210 is arranged to distribute the incoming gas as homogeneously as possible in the direction of the substrate 202.
  • the process chamber 205 can also be supplied with a purge gas, for example argon, in order to purge the process chamber 205 and the respective supply lines.
  • Another controllable valve 21 1 which forms a gas outlet, communicates with a vacuum pump 212 to remove the gases from the process chamber 205.
  • a mass spectrometer 1 is arranged at a connection position E E in a vacuum line of a gas disposal system 213 formed downstream of the outlet valve 21 1, namely immediately before the vacuum pump 212. Also, the attachment of the mass spectrometer 1 a bonding position EQ in an exhaust pipe of the gas disposal system 213 after the vacuum pump 212 is possible.
  • a mass spectrometer 1 may also be formed at an attachment position EA, EB in a gas supply system 216 for supplying the reactants into the process chamber 205, for example in a respective supply line 216a, 216b. Additionally or alternatively, a mass spectrometer 1 can also be connected to an integration position Ec
  • Gas mixing system 215 may be integrated, i. into a supply line formed behind a junction of the two supply lines 216a, 216b. The latter is favorable since, in the coating process described here, the two supply lines 216a, 216b are not used simultaneously for supplying a gas to the process chamber 205. Also one
  • Binding position E D in the manifold diversity 210 is possible, wherein the binding position ED is in this case preferably at a distance D of less than 1 m, in particular less than 50 cm from the process chamber 205 spaced apart. Additionally or alternatively, the binding position ED is in this case preferably at a distance D of less than 1 m, in particular less than 50 cm from the process chamber 205 spaced apart. Additionally or alternatively, the binding position ED is in this case preferably at a distance D of less than 1 m, in particular less than 50 cm from the process chamber 205 spaced apart. Additionally or alternatively, the
  • the mass spectrometer 1 serves to detect or determine the amount or the partial pressure of at least one gaseous constituent which is contained in the residual gas atmosphere of the chamber 205 (integration position E F ) or will be contained in the chamber 205 (integration position E A , E B , Ec, ED in front of the process chamber 205) or was contained (binding position E E , EQ after the process chamber 205). As based on the in the
  • Impact ionization can be ionized.
  • the ionized gas constituents into the ion trap 10 the
  • Mass spectrometer 1 with a (not shown) vacuum pump in
  • the detection of the ions stored in the ion trap 10 can be carried out directly in the ion trap 10.
  • the following procedure is used for applying a coating 214 of hafnium oxide (HfO 2 ) to the substrate 202: First, the process chamber 205 is supplied with the carrier gas with the TEMAH precursor via the first valve 209 a. Thereafter, the first valve 209a is switched over and the process chamber 205 via the first valve 209a, the purge gas is supplied (see arrow) and this is together with the remains of the carrier gas or the precursor via the open outlet valve 21 1 by means of the vacuum Aspirated pump 212. After rinsing, the outlet valve 21 1 is closed and introduced via the second valve 209b ozone or a doping gas into the chamber 205, which forms a chemical reaction on the exposed surface of the substrate 202 with the precursor.
  • HfO 2 hafnium oxide
  • the chamber 205 is flushed by means of the purge gas, which is supplied to the chamber via the second valve 209b (see arrow) and together with the ozone or Doping gas residues or optionally formed reaction products by means of the vacuum pump 212 is sucked off with the outlet valve 21 1 open.
  • the purge gas supplied to the chamber via the second valve 209b (see arrow) and together with the ozone or Doping gas residues or optionally formed reaction products by means of the vacuum pump 212 is sucked off with the outlet valve 21 1 open.
  • a monolayer of hafnium oxide is deposited on the substrate 202. After closing the outlet valve 21 1, this process can be repeated several times, until the HfO 2 - coating 214 has reached a desired thickness d.
  • Rinsing is typically in the range of seconds.
  • Control means 215 serves to control the valves 207, 209a, 209b, 21 1 in order to switch over between the above-described steps of the deposition process. It is understood that the control device 215, the valves 207, 209a, 209b, 21 1 can switch not only between an open position and a closed position, but that possibly also the
  • Mass flow which flows through the respective valves 207, 209a, 209b, 21, can be controlled by means of the electronic control device 215.
  • the total pressure of the residual gas in the process chamber 205 is typically between about 10 -3 mbar and 1000 mbar, whereby comparatively high total pressures of more than 500 mbar or more than 900 mbar are also possible can be monitored by means of a (not shown) pressure sensor and optionally modified by means of the control device 215 by a suitable control of the valves 207a, 209a, 209b, 21 1.
  • the detection of the gaseous constituents more precisely the determination of the amount or the partial pressure of a respective detected gaseous
  • Component can be used to control or regulate the
  • Deposition process can be used. For example, based on the concentration of the organometallic precursor or of process-relevant reactants such as ozone, doping gas or, if appropriate, organometallic compounds and / or H 2 O in the Restgasatmospreheat be recognized when the rinsing step can be completed (eg, as soon as the respective partial pressure below a predetermined
  • control unit 215 which is signal-connected with the process gas analyzer 213 a, can then open the respective inlet valve 209 a, 209 b or the outlet valve 21 1 at suitable times or
  • Detected gas components in the residual gas atmosphere suitably adapted or optimized.
  • the at least one substance, the mixture, the reaction product, the cluster and / or the compound may, in particular at a temperature in the process chamber 205 between 15 ° C and 5000 ° C, preferably between 100 ° C and 2000 ° C and a Pressure in the process chamber 205 between 10 "10 mbar and 5 bar, preferably between 10 ⁇ 8 mbar and 1 bar measured or
  • Cleaning gas may in the mass spectrometer 1 of Fig. 1 in the
  • Plasma source 18 are transferred to a plasma by this in place of the ionizing gas 13, the cleaning gas via a (not shown)
  • Gas supply is supplied.
  • the ionized cleaning gas enters the ion trap 10 in the same way as the ionizing gas 13.
  • the cleaning gas can also enter the measuring chamber 7 via a further gas supply (not shown) and form there with the deposits a gaseous cleaning product which is extracted from the ion trap 10 or from the
  • Measuring chamber 7 can be discharged.
  • the mass spectrometer can. 1 are also used in applications in which the space plays a major role, eg in MOCVD processes or the like.
  • mass spectrometer 1 can also be used in other fields, for example in other coating or etching and implantation processes, in gas analysis, in doping controls, in forensic investigations, etc., due to its properties described above.
  • the mass spectrometer for the mass spectrometric analysis of gases, it is also possible to use the mass spectrometer in the field of vibration detection or vibration analysis of typically mechanical vibrations.
  • the vibrations may be
  • Mass Spectrometer recorded a spectrum within a frequency range in which the frequencies to be analyzed are located.
  • This frequency spectrum can be, for example, between about 1 Hz and about 15 kHz. Within this frequency range is typically a plurality of interference frequencies that are generated by mechanical vibrations and that can be detected and analyzed by the measuring electrodes, for example, an FT ion trap, in particular an FT-ICR trap.
  • a frequency spectrum can be recorded as soon as the mass spectrometer is installed in the device. If the device was in order at the time of installation, this frequency spectrum can serve as a reference spectrum. At a later time or at several later times, the measurement of the frequency spectrum can be repeated and the measured Frequency spectrum can be compared with the reference spectrum. If one or more additional lines or peaks are detected in the measured frequency spectrum, this is an indication that undesirable vibrations occur in the device, for example due to mechanical problems.
  • the vibrations can be
  • Ball bearings that are located near the mass spectrometer, or vibrations caused by a power supply act (power hum).
  • power hum vibrations caused by a power supply act
  • Coating unit 201 the natural frequencies f of near the
  • Mass spectrometer 1 arranged vacuum pump 212, in particular of their grinding or ball bearings, detected or analyzed.

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Massenspektrometer (1) zur massenspektrometrischen Untersuchung von Gasgemischen (2), umfassend: eine lonisierungseinrichtung (12) sowie eine lonenfalle (10) zur Speicherung und zur massenspektrometrischen Untersuchung des Gasgemischs (2). Bei einem Aspekt der Erfindung ist die lonisierungseinrichtung (12) zur Zuführung von Ionen (13a) und/oder von metastabilen Teilchen (13b) eines lonisierungsgases (13) und/oder von Elektronen (20a) zu der lonenfalle (10) für die Ionisierung des zu untersuchenden Gasgemischs (2) ausgebildet und das Massenspektrometer (1) ist ausgebildet, vor der Untersuchung des Gasgemischs (2) die in der lonenfalle (10) vorhandene Anzahl von Ionen (13a) und/oder metastabilen Teilchen (13b) des lonisierungsgases (13) und/oder die Anzahl von Ionen (14a) eines in der lonenfalle (10) vorhandenen Restgases (14) zu ermitteln. Die Erfindung betrifft auch die Verwendung eines solchen Massenspektrometers (1) sowie ein Verfahren zur massenspektrometrischen Untersuchung eines Gasgemischs (2).

Description

Massenspektrometer, dessen Verwendung, sowie Verfahren zur
massenspektrometriscrien Untersuchung eines Gasgemisches
Hintergrund der Erfindung
Die Erfindung betrifft ein Massenspektrometer zur massenspektrometrischen Untersuchung von Gasgemischen, umfassend: eine lonisierungseinrichtung, sowie eine lonenfalle zur Speicherung und zur massenspektrometrischen Untersuchung des Gasgemischs. Die Erfindung betrifft auch die Verwendung eines solchen Massenspektrometers sowie ein Verfahren zur
massenspektrometrischen Untersuchung eines Gasgemischs.
Ein Massenspektrometer, welches zur Analyse eines Restgases in einer EUV- Lithographieanlage eingesetzt wird und welches eine lonenfalle zur
Speicherung mindestens einer kontaminierenden Substanz aufweist, ist aus der WO 2010/022815 A1 bekannt geworden.
Massenspektrometrie wird neben der EUV-Lithographie in vielen weiteren Bereichen angewendet, beispielsweise zur Charakterisierung von chemischen Verbindungen in der medizinischen Chemie, zur Identifizierung von Substanzen in Körperflüssigkeiten oder Organen, in kriminaltechnischen Untersuchungen, Dopingkontrollen, der militärischen Analytik von chemischen Kampfstoffen, etc. Sie wird auch in der Pharmaco-Kinetik und in der Vakuumtechnik für die Restgasanalyse eingesetzt.
Bei der massenspektrometrischen Untersuchung von gasförmigen Stoffen bzw. Gasgemischen, wird die Masse, genauer gesagt das Masse-zu-Ladungs- Verhältnis, von Atomen oder Molekülen bestimmt, um eine chemische
Charakterisierung der gasförmigen Stoffe zu erhalten. Die zu untersuchenden Stoffe bzw. das zu untersuchende Stoffgemisch liegt entweder bereits in der Gasphase vor oder wird in die Gasphase überführt, um mittels einer
lonisierungseinheit ionisiert zu werden. Die auf diese Weise ionisierten Stoffe werden bei herkömmlichen Massenspektrometern einem Analysator zugeführt und typischer Weise durch ein elektrisches und/oder magnetisches Feld geleitet, in dem die Ionen aufgrund unterschiedlicher Masse-zu-Ladungs- Verhältnisse charakteristische Flugbahnen beschreiben und somit
unterschieden werden können.
Aufgrund der Nachteile von aktuell erhältlichen Massenspektrometern wie großen Abmessungen, langsamer Scanmessung, keiner besonders hohen Empfindlichkeit, etc. können Massenspektrometer nach dem Stand der Technik bei vielen Anwendungen nur bedingt oder sogar überhaupt nicht eingesetzt werden.
Beispielsweise hängt die Stabilität eines Messsignals eines Gasanalysators bzw. Massenspektrometers stark von der zeitlichen Stabilität der Ionisierung ab. Herkömmliche Quadrupol-Massenspektrometer arbeiten in der Regel mit Heiß- Filament-Ionisierung und haben typischerweise eine Ungenauigkeit von ca. 10%-20%. Alternative Arten der Ionisierung, wie z.B. Plasmaionisierung, die bei der Massenspektrometrie ebenfalls eingesetzt werden kann, haben aufgrund von Ungenauigkeiten der Plasmagasregelung und/oder Fluktuationen der Plasmaleistung in der Regel eine Ungenauigkeit im Bereich von 5%-10%.
Die zeitliche Fluktuation bei der Ionisierung führt zu einer proportionalen
Variation der Messsignale, was eine entsprechende Ungenauigkeit der
Messung zur Folge hat. Diese Ungenauigkeit ist insbesondere nachteilig, wenn der Gasanalysator bzw. das Massenspektrometer für quantitative Messungen und/oder für die Überwachung bzw. Untersuchung von Gasphasenprozessen in der Halbleiter- bzw. in der chemischen Industrie eingesetzt werden soll. Bei der Messung in vielen herkömmlichen Massenspektrometern, wie z.B. Quadrupol-Massenspektrometern, werden zudem Massen nacheinander gescannt, was zu einer langen Messzeit führt, die bei einer Messung mit hoher Auflösung im Bereich von mehreren Minuten, ja sogar von mehreren Stunden liegen kann.
Um eine geringe Menge von Analyten, d.h. von zu detektierenden
Gasbestandteilen, in einem Rest- bzw. Prozessgas nachweisen zu können, welches unter einem hohem Druck steht, braucht man einen hohen
Dynamikbereich (engl,„dynamic ränge"). Herkömmliche Massenspektrometer ermöglichen einen Dynamikbereich (Verhältnis von maximal messbarem Signal zum minimal messbaren Signal) von in der Regel nur ca. 106 bis max. 107.
Um eine geringe Menge von Analyten in einem Restgas zu nachzuweisen, ist es erforderlich, dass das Massenspektrometer eine sehr geringe
Nachweisgrenze aufweist. Derzeit erhältliche Massenspektrometer erreichen eine Nachweisgrenze von 10"13 mbar bis 10"14 mbar. Für den empfindlichen Nachweis werden häufig Ladungsvervielfacher eingesetzt, welche eine große Streuung von über 20% aufweisen und darüber hinaus bei einem höheren Druck (>1 fX4 mbar) typischer Weise nicht einsetzbar sind.
Massenspektrometer werden zudem für unterschiedliche Anwendungsfälle mit unterschiedlichen Druckbereichen des Analyten und/oder des
Hintergrundgases eingesetzt. Typischer Weise werden kommerzielle
Massenspektrometer für den einen oder den anderen Druckbereich ausgelegt, es gibt aber keine Massenspektrometer, die einen sehr großen Druckbereich abdecken, ohne dass zu diesem Zweck ein komplizierter druckspezifischer Umbau vorgenommen werden muss.
Aufgabe der Erfindung Aufgabe der Erfindung ist es, ein Massenspektrometer sowie ein Verfahren anzugeben, welche die Untersuchung von Gasen bzw. Gasgemischen erleichtert und insbesondere mindestens einen der eingangs erwähnten
Nachteile beseitigt, so dass das Massenspektrometer auch in
Anwendungsgebieten verwendet werden kann, in denen eine solche
Verwendung bislang nicht bzw. nur mit großen Schwierigkeiten möglich war.
Gegenstand der Erfindung
Diese Aufgabe wird gemäß einem ersten Aspekt gelöst durch ein
Massenspektrometer der eingangs genannten Art, bei dem die
lonisierungseinrichtung zur Zuführung von Ionen und/oder von metastabilen Teilchen eines lonisierungsgases und/oder von Elektronen zur der Ionenfalle für die Ionisierung des zu untersuchenden Gasgemischs ausgebildet ist, wobei das Massenspektrometer (bzw. eine dort vorgesehene Steuereinrichtung) ausgebildet bzw. programmiert ist, vor der Untersuchung des Gasgemischs die in der Ionenfalle vorhandene Anzahl von Ionen und/oder von metastabilen Teilchen des lonisierungsgases und/oder die Anzahl von Ionen eines in der Ionenfalle vorhandenen Restgases zu ermitteln.
Gemäß diesem Aspekt der Erfindung wird vorgeschlagen, das Gasgemisch in der Messzelle zu ionisieren, die als Ionenfalle ausgebildet sein kann oder eine Ionenfalle enthalten kann. In diesem Fall wird typischer Weise das zu untersuchende Gasgemisch in Form eines Gasstroms bzw. eines Gaspulses im nicht ionisierten Zustand der Ionenfalle bzw. der Messzelle zugeführt und die Ionisierung erfolgt bevorzugt direkt in der ionenfalle (in-situ), und zwar typischer Weise durch eine Stoßionisierung bzw. Ladungsaustauschionisierung des Gasgemischs mit den Ionen und/oder metastabilen Teilchen des
lonisierungsgases bzw. mit den Elektronen. Die Ionisierung kann ggf. in der Messkammer außerhalb der Ionenfalle erfolgen. In diesem Fall erfolgt die Ionisierung bevorzugt in unmittelbarer Nähe zur lonenfalle und es findet ein lonentransport des ionisierten Gasgemischs in die lonenfalle statt.
Hierbei kann ein Einlass zum Zuführen des zu untersuchenden Gasgemisches in die lonenfalle einem Einlass zum Zuführen der Ionen und/oder der metastabilen Teilchen des lonisierungsgases bzw. der Elektronen gegenüber liegend angeordnet sein, so dass ein Gasstrom des zugeführten Gasgemischs und ein Teilchenstrahl aus den Ionen bzw. metastabilen Teilchen des lonisierungsgases und/oder den Elektronen gegeneinander ausgerichtet sind und in der lonenfalle oder ggf. in unmittelbarer Nähe zur lonenfalle aufeinander treffen.
Wie weiter oben beschrieben, kann die Ionisierung des zu untersuchenden Gasgemischs durch Elektronen, Ionen des lonisierungsgases und/oder durch metastabile Teilchen des lonisierungsgases erfolgen. Unter metastabilen Teilchen werden Atome bzw. Moleküle des lonisierungsgases verstanden, die elektrisch neutral sind, sich aber in einen angeregten (hochenergetischen) Elektronenzustand befinden. Unter dem zu untersuchenden Gasgemisch werden vorliegend Gemische aus gasförmigen Stoffen verstanden, in denen ggf. auch Partikel enthalten sein können, d.h. gasförmige Stoffe mit einer Massenzahl („amu" - engl, für„atomic mass unit") > 100 amu, ggf. >1000 amu oder > 10000 amu, ja sogar bis zu 2000000, d.h. Partikel, die eine
makromolekulare Struktur mit Partikelgrößen von ca. 0,001 μιη - 10 μιη oder darüber aufweisen können.
Als lonenfalle für das Massenspektrometer wird typischer Weise eine 3D- lonenfalle, wie beispielsweise die Paul'sche lonenfalle, verwendet, bei welcher der zu untersuchende gasförmige Bestandteil bzw. das zu untersuchende Gasgemisch in allen drei Raumdimensionen gefangen wird, so dass dieses stabile Oszillationen in allen drei Raumdimensionen ausführt und daher für längere Zeit zur Vermessung zur Verfügung steht (typischer Weise 1 ms oder mehr, bevorzugt weniger als 1 Sekunde oder 100 ms). Die Dimensionen des Raums, in dem der/die ionisierten Gasbestandteil(e) gefangen sind, liegen typischer Weise bei weniger als 50 cm x 50 cm x 50 cm, bevorzugt bei weniger als 50 mm x 50 mm x 50 mm.
Bevorzugt weist das Massenspektrometer einen steuerbaren Einlass zum gepulsten Zuführen des zu untersuchenden Gasgemischs zu der lonenfalle auf und das Massenspektrometer ist ausgebildet bzw. programmiert, die
Teilchenzahl von zu untersuchenden Bestandteilen bzw. lonenpopulationen (bei gegebenem Masse-zu-Ladungs-Verhältnis) des ionisierten Gasgemischs in dem Massenspektrometer unter Berücksichtigung der ermittelten Anzahl von Ionen und/oder metastabilen Teilchen des lonisierungsgases und/oder der Anzahl von Ionen des Restgases zu bestimmen. Die ermittelte Anzahl von primären Ionen (d.h. von Ionen des lonisierungsgases und des Restgases) bzw. der metastabilen Teilchen des lonisierungsgases dient zur Kalibration bei der Messung bzw. Detektion, um den Einfluss von zeitabhängigen
Fluktuationen der Anzahl der für die Ionisierung bereitgestellten primären Ionen bzw. metastabilen Teilchen des lonisierungsgases bzw. der Anzahl der Ionen des Restgases zu minimieren. Zu diesem Zweck kann beim gepulsten Betrieb der lonenfalle vor der Zuführung eines jeweiligen Gaspulses eine Kalibration erfolgen, indem die ermittelte Anzahl von Ionen und/oder metastabilen
Teilchen, welche zur Ionisierung eines jeweiligen Gaspulses des
Gasgemisches zur Verfügung stehen, bei der Bestimmung der Teilchenzahl von zu untersuchenden ionisierten Bestandteilen des Gaspulses des zu untersuchenden Gasgemisches berücksichtigt wird. Die Berücksichtigung der ermittelten Anzahl der Ionen bzw. metastabilen Teilchen bei der Bestimmung der Teilchenzahl kann beispielsweise derart erfolgen, dass deren Anzahl in eine Proportionalitätskonstante (Korrekturfaktor) eingeht, mit der das Ergebnis der Messung (d.h. die gemessene Signalhöhe) multipliziert wird, um die gemessene Teilchenanzahl von zu untersuchenden ionisierten Bestandteilen des Gasgemischs zu korrigieren. Die Ionenfalle steht in der Regel über einen steuerbaren Einlass, beispielsweise in Form eines steuerbaren Ventils, mit einer Kammer, z.B. mit einer Prozesskammer, in Verbindung, in welcher das zu untersuchende Gasgemisch enthalten ist. Der steuerbare Einlass ist mit dem Betrieb der Ionenfalle synchronisiert, die in der Regel als FTIT(„Fourier Transform Ion Trap") ausgebildet ist. Entsprechend kann auch die lonisierungseinrichtung einen steuerbaren Einlass zur insbesondere gepulsten Zuführung der Ionen bzw. metastabilen Teilchen des Ionisierungsgases und/oder der Elektronen aufweisen.
Zur Detektion des zu untersuchenden Gasgemisches werden zunächst die Elektronen bzw. die Ionen und/oder metastabilen Teilchen des
Ionisierungsgases in die Ionenfalle injiziert, wobei typischer Weise eine Ionisierung eines dort vorhandenen Restgases erfolgt. Die erzeugten
Restgasionen sowie die Ionen des Ionisierungsgases (nachfolgend gemeinsam als primäre Ionen bezeichnet) werden durch die Ionenfalle gefangen bzw. dort gespeichert. Die primären Ionen werden nun mit einem elektrischen
Wechselsignal angeregt, so dass die primären Ionen eine geschlossene dreidimensionale Bewegung (Achterbahn-Bewegung) ausführen. Die
Achterbahn-Bewegung induziert auf die Deckelektroden bzw. Messelektroden der Ionenfalle einen Spiegelstrom, aus dessen Höhe die Anzahl von primären Ionen in der Ionenfalle mit einer Genauigkeit von kleiner als 5% bestimmt werden kann. Unter der Anzahl von primären Ionen wird im Sinne dieser Anmeldung auch eine zur Anzahl der primären Ionen proportionale Größe verstanden.
Alternativ oder zusätzlich kann auch die Anzahl von (neutralen) metastabilen Teilchen des Ionisierungsgases in der Ionenfalle ermittelt werden,
beispielsweise indem der herrschende Druck in der Ionenfalle z.B. durch die zeitliche Abnahme (Zeitkonstante) der lonentransienten, d.h. des Spiegelstroms auf den Messelektroden, ermittelt wird, da dieser unmittelbar von der mittleren freien Weglänge und damit vom Druck abhängig ist. Der Druck in der lonenfalle wird im Wesentlichen von dem zur Ionisierung in die lonenfalle eingelassenen lonisierungsgas, z.B. Helium, bestimmt, so dass daraus die tatsächlich in der lonenfalle vorhandene Anzahl der metastabilen Teilchen ermittelt werden kann, da die Anzahl der Ionen des lonisierungsgases anhand der Höhe der Spiegelströme ebenfalls bestimmt werden kann (s.o.). Falls das lonisierungsgas überwiegend aus metastabilen Teilchen besteht, kann ggf. auch auf die Bestimmung der Anzahl der Ionen des lonisierungsgases verzichtet werden (und umgekehrt). Die Anzahl von metastabilen Teilchen des Restgases ist aufgrund des typischer Weise deutlich geringeren Drucks (in der Regel ca. 3-4 Größenordnungen) des Restgases, z.B. Wasser, hierbei vernachlässigbar. Eine weitere Möglichkeit zur Bestimmung der Anzahl an metastabilen Teilchen besteht darin, die Anzahl der durch die metastabilen Teilchen des lonisierungsgases ionisierten Teilchen des in der lonenfalle befindlichen Restgases (z.B. Wasser) zu bestimmen, um daraus (indirekt) die Anzahl der metastabilen Teilchen zu bestimmen, welche zur Ionisierung des Restgases geführt haben.
Auf die oben beschriebene Weise wird quasi das Grundrauschen bei der nachfolgenden Untersuchung des Gasgemischs in der lonenfalle ermittelt. Nach der Messung des Grundrauschens wird der steuerbare Gaseinlass geöffnet und das zu untersuchende Gas bzw. Gasgemisch wird aus der Kammer in Form eines Gaspulses in die Messkammer (bzw. in die lonenfalle) eingeleitet. Über eine Öffnung der lonenfalle dringt der Gaspuls in die lonenfalle ein und wird dort über einen Ladungsaustauschprozess bzw. durch Stoßionisation mit den Elektronen und/oder primären Ionen bzw. metastabilen Teilchen ionisiert und in der lonenfalle für die massenspektrometrische
Untersuchung gefangen gehalten. Nach der Ionisierung des zu untersuchenden Gasgemischs werden die Ionen bzw. die zu untersuchenden ionisierten Bestandteile des Gasgemischs mit einem elektrischen Impulssignal (Anregungssignal) angeregt. Hierbei werden die Ionen des zu untersuchenden Gasgemischs in eine Achterbahn-Bewegung gebracht, wobei jedes Masse-zu-Ladungs-Verhältnis (m/z) eine andere
Achterbahn-Frequenz aufweist. Diese Achterbahn-Bewegungen erzeugen wie bei den primären Ionen einen Spiegelstrom auf den Deckelelektroden bzw. Messelektroden. Dieses den Ionen zugeordnete Messsignal lässt sich Fouriertransformieren, wobei jede Fourier-Frequenz einem Masse-zu-Ladungs- Verhältnis m/z zugeordnet werden kann und die jeder Frequenz zugeordnete Signalhöhe (Hf) direkt proportional zu der lonenzahl bzw. der Teilchenzahl der jeweiligen lonenpopulation des zu untersuchenden ionisierten Bestandteils bei dem entsprechenden Masse-zu-Ladungs-Verhältnis m/z ist.
Um den Einfluss der zeitlichen Fluktuationen bei der Ionisierung durch die primären Ionen bzw. metastabilen Teilchen zu minimieren, kann wie folgt vorgegangen werden: Die Teilchenzahl bzw. die Signalhöhe Hf zu jeder Frequenz f bzw. jedem Masse-zu-Ladungs- Verhältnis m/z wird durch die folgende Gleichung bestimmt bzw. korrigiert:
H (korrigiert) =K * Hf (unkorrigiert)*H1/ Σ Hf, (1 ) wobei K einen von der Masse und der Frequenz unabhängigen Korrekturfaktor darstellt, H1 die Signalhöhe aller in der lonenfalle stabil gespeicherten und angeregten Ionen, Hf (unkorrigiert) die Spektralhöhe bzw. die Signalhöhe des interessierenden Ions bzw. des zu untersuchenden ionisierten Bestandteils und EHf die Summe aller Signalhöhen der im gemessenen Spektrum vorhandenen Spektrallinien bezeichnen. Der Korrekturfaktor K berücksichtigt die auf die oben beschriebene Weise ermittelte Anzahl von Ionen des lonisierungsgases und/oder des Restgases sowie der metastabilen Teilchen des
lonisierungsgases und wird typischer Weise für jeden Gaspuls neu berechnet, um den Einfluss von Fluktuationen der für die Ionisierung des zu untersuchenden Gasgemischs zur Verfügung stehenden Ionen bzw.
metastabilen Teilchen auf die Messung mehrerer Gaspulse zu eliminieren bzw. zu reduzieren. Die Spektrallinien des gemessenen Spektrums können hierbei auf Masse-zu-Ladungs-Verhältnisse m/z beschränkt werden, die außerhalb des Spektrums der Ionen des lonisierungsgases bzw. des Restgases liegen, dies ist aber nicht zwingend erforderlich.
Bevorzugt ist das Massenspektrometer ausgebildet bzw. programmiert, zum Bestimmen der Teilchenzahl von zu untersuchenden ionisierten Bestandteilen des Gasgemischs eine Anregung der Ionen des Gasgemischs ohne eine Anregung der Ionen des lonisierungsgases und/oder des Restgases zu erzeugen. Zu diesem Zweck wird ein Anregungssignal (elektrisches
Impulssignal) der lonenfalle so gewählt, dass nach der Ionisierung des zu untersuchenden Gasgemischs alle Ionen außer den primären Ionen angeregt werden. Es ist möglich, dieses Anregungssignal beispielsweise derart auszubilden, dass die primären Ionen in der lonenfalle instabil werden und folglich die lonenfalle verlassen, so dass nur noch die Ionen des zu
untersuchenden Gasgemischs angeregt werden und in der Falle bleiben.
Bei einer weiteren Ausführungsform ist das Massenspektrometer ausgebildet, die Anzahl der Ionen eines zu untersuchenden Bestandteils des ionisierten Gasgemischs in der lonenfalle mit einer Ungenauigkeit von weniger als 5% zu bestimmen. Die weiter oben beschriebene Messfolge einschließlich der
Bestimmung der primären lonenanzahl kann theoretisch beliebig oft wiederholt werden. Da bei jedem Messvorgang eine Normierung auf die primäre lonenzahl H1 vorweg durchgeführt wird, und die Umrechnung gemäß Gleichung (1 ) für die Bestimmung des korrigierten Messsignais bei jeder Messfolge verwendet wird, lassen sich die zeitlichen Fluktuationen aufgrund der Variation oder Drift in der Ionisierung theoretisch vollständig eliminieren. Bei einem weiteren Aspekt der Erfindung, der insbesondere auch in
Kombination mit dem oben dargestellten Aspekt verwirklicht sein kann, ist das lonisierungsgas ein metastabiles Edelgas, insbesondere Helium. Um die Messung zu beschleunigen, wird in Stand der Technik versucht, die Ionen möglichst schnell in der Mitte der lonenfalle durch Gasbremsung
einzusammeln. Beispielsweise ist in der US 2010/0084549 A1 beschrieben, dass während des Betriebs ein Puffergas in die lonenfalle eingeführt werden kann, um die Ionen zu kühlen und im Zentrum der lonenfalle zu fokussieren. Dadurch ergibt sich jedoch eine deutliche Verschlechterung der
Massenauflösung bei einer In-Situ Messung (d.h. bei einer Messung in der lonenfalle), weshalb im Stand der Technik die lonendetektion typischer Weise außerhalb der lonenfalle durchgeführt wird.
Um eine gleichbleibende hohe Massenauflösung zu erreichen ohne dabei eine zu lange Zeit aufgrund des gezielten niedrigen Arbeitsdruckes in der lonenfalle abzuwarten, wird gemäß dem vorliegenden Aspekt der Erfindung
vorgeschlagen, dass das Massenspektrometer für die Zuführung von
metastabilen Teilchen eines lonisierungsgases in Form eines metastabilen Edelgases in die lonenfalle ausgebildet ist. Metastabile Edelgasteilchen sind neutrale Teilchen in einem angeregten Elektronenzustand (kurz vor der eigentlichen Ionisierung). Dadurch bekommen die metastabilen Teilchen einen besonders großen Wirkungsquerschnitt, welcher eine größere Stoß- Wahrscheinlichkeit mit den zu untersuchenden Bestandteilen des Gasgemischs in der lonenfalle zufolge hat. Dadurch werden die zu untersuchenden Ionen schneller im Zentrum der lonenfalle gesammelt, ohne dass zu diesem Zweck ein höherer Druck durch ein Puffergas benötigt wird, so dass deutlich schneller als bei bereits bekannten Lösungen gemessen werden kann. Als metastabiles Edelgas hat sich insbesondere Helium als günstig erwiesen. Es ist aber auch möglich, neben Edelgasen wie He, Ar, Kr, und Xe beispielsweise Wasserstoff (H2), Stickstoff (N2) bzw. Mischungen derselben als lonisierungsgas zu nutzen. Auch diese Gase können als metastabile Teilchen in die lonenfalle eingeleitet werden, um das zu untersuchende Gasgemisch im Zentrum der Falle zu sammeln
Bei einer Weiterbildung ist das Massenspektrometer zur Aufnahme von mindestens 10 Spektren/s mit einer Massen band breite von jeweils mindestens 500 amu bzw. 1000 amu ausgebildet. Wie weiter oben dargestellt wurde, kann durch die Verwendung von metastabilen Teilchen der Wirkungsquerschnitt bzw. die Stoßwahrscheinlichkeit des lonisierungsgases mit dem zu untersuchenden Gasgemisch bzw. mit den zu untersuchenden Gasbestandteilen erhöht und somit die Geschwindigkeit der Messung auf die oben angegebenen Werte gesteigert werden.
Bei einer weiteren Ausführungsform weist die lonisierungseinrichtung eine Plasmaquelle zur Erzeugung von Ionen und/oder der metastabilen Teilchen des lonisierungsgases auf, um diese der lonenfalle zuzuführen. Die Ionisierung des lonisierungsgases kann z.B. durch eine Plasmaquelie realisiert werden, welches die Gasbestandteile des lonisierungsgases in einen metastabilen Elektronenzustand überführt oder diese ionisiert. Beispielsweise können hierbei Edelgase, z.B. Helium-Atome, in einen metastabilen Zustand überführt oder ionisiert werden. Das Verhältnis zwischen dem Anteil der Gasmoleküle des lonisierungsgases, der in Ionen umgewandelt wird, zu dem Anteil, der in metastabile Teilchen umgewandelt wird, kann durch eine geeignet ausgebildete Plasmaquelle bzw. eine geeignete Prozessführung beeinflusst werden, z.B. durch die Plasmaleistung und den Gasfluss des lonisierungsgases.
Es hat sich als günstig erwiesen, wenn das Plasma und damit die Ionen bzw. die metastabilen Teilchen des lonisierungsgases in einer Plasmaquelle außerhalb der lonenfalle generiert werden, d.h. wenn die Plasmaerzeugung in der Plasmaquelle und die Ionisierung des zu untersuchenden Gasgemischs (durch Stoßionisierung bzw. Ladungsaustauschionisierung) in der lonenfalle örtlich getrennt erfolgen, da auf diese Weise die durch das Plasma bedingte Temperaturerhöhung in der lonenfalle deutlich reduziert werden kann.
Die Plasmaquelle kann als Hochfrequenz-Plasmaquelle, Mittelfrequenz- Plasmaquelle, Gleichspannungs-Plasmaquelle, dielektrisch behinderte Entladungs-Plasmaquelle, Atmosphärendruck-Plasmaquelle, Korona- Entladungs-Plasmaquelle, etc. ausgebildet sein.
Bei einer vorteilhaften Weiterbildung ist die Plasmaquelle zur Erzeugung von Ionen und/oder metastabilen Teilchen des lonisierungsgases bei einer Temperatur von weniger als 100°C ausgebildet, d.h. die Plasmaentladung in der Plasmaquelle erfolgt bei einer niedrigen Temperatur (unter 100°C). Dies kann z.B. durch das Anlegen eines hochfrequenten Wechselfeldes (mit Frequenzen von 1 MHz bis 30 MHz) erreicht werden, da eine entsprechende HF-Entladung in vorteilhafter Weise bei Temperaturen von 10°C bis 200°C erfolgen kann. Es versteht sich, dass an Stelle einer Plasmaquelle auch eine andere Art von lonisierungseinrichtung eingesetzt werden kann, welche das (neutrale) lonisierungsgas in einen angeregten Elektronenzustand überführen bzw. ionisieren kann, um eine Stoß- bzw. Ladungsaustauschionisierung des Gasgemisches in der lonenfalle zu bewirken. Insbesondere durch einen Ladungsaustausch zwischen dem Analyten und den metastabilen
Edelgasteilchen lässt sich eine besonders sanfte (kalte) Ionisierung mit geringer Fragmentierung des Analyten erreichen.
Durch die geringe Fragmentierung des Analyten kann auch eine
Partikelmessung und Charakterisierung von großen Partikeln mit
Massenzahlen bis zu 2000000 amu in der lonenfalle erfolgen. Zu diesem Zweck kann ausgenutzt werden, dass das zu detektierende Masse-zu- Ladungs-Verhältnis m/z in der lonenfalle von der Speicheramplitude Vrf (Bahndurchmesser) und der Feldfrequenz wie folgt abhängt: m / z ~ Vrf / (frf)2
Somit können Partikel mit sehr großer Masse durch Erhöhung der
Speicheramplitude Vrf und/oder durch Absenkung der Feldfrequenz frf in der lonenfalle vermessen werden.
In einer weiteren Ausführungsform weist die lonisierungseinrichtung zur Erzeugung der Elektronen eine Elektronenstrahlquelle auf. Die
Elektronenstrahlquelle kann insbesondere zur Erzeugung von Elektronen mit einer variablen Elektronenenergie beispielsweise im Bereich zwischen 1 eV und 100 eV ausgebildet sein. Die Elektronenstrahlquelle, z.B. in Form einer
Elektronenkanone, kann auch mit einer Fokussiereinrichtung bzw. mit einer Strahlführung ausgestattet sein, um die Elektronen auf den Gasstrom des zu untersuchenden Gasgemischs auszurichten. Die Elektronenstrahlquelle kann alternativ oder zusätzlich zur Plasmaquelle für die Ionisierung des
Gasgemischs eingesetzt werden.
Ein weiterer Aspekt der Erfindung, der insbesondere auch mit einem der vorhergehenden Aspekte kombiniert werden kann, ist realisiert in einem
Massenspektrometer der eingangs genannten Art, welches ausgebildet ist, selektiv Ionen mit einem Masse-zu-Ladungsverhältnis aus der lonenfalle zu entfernen oder zu unterdrücken, deren Teilchenzahl einen vorgegebenen Schwellwert überschreitet. Um den Dynamikbereich des Massenspektrometers zu erhöhen, wird vorgeschlagen, große lonenpopulationen zu unterdrücken oder aus der lonenfalle zu entfernen, so dass bestimmte Untermengen von lonenpopulationen genauer gemessen werden können.
Das Entfernen bzw. Unterdrücken der lonenpopulationen kann beispielsweise bei einer„Fourier Transform Ion Cyclotron Resonance" (FTICR)-Falle durch die so genannte SWIFT (Storage Wave-Form Inverse Fourier Transform)
Anregung erfolgen, wie beispielsweise in dem Artikel„Extension of Dynamic Range in Fourier Transform Ion Cyclotron Resonance Mass Spectrometry via Strored Waveform Inverse Fourier Transform Excitation" von Tan-Chin Lin Wang et al., Anal. Chem. 1986, 58, 2935-2938 beschrieben ist. Hierbei kann insbesondere in mehreren Messbereichen mit unterschiedlichen Masse-zu- Ladungs-Verhältnissen eine simultane Messung erfolgen.
Eine Erhöhung des Dynamikbereichs kann auch bei einem weiteren Aspekt der Erfindung erreicht werden, der insbesondere mit einem oder mehreren der oben beschriebenen Aspekte kombiniert werden kann und bei dem ein
Massenspektrometer der eingangs genannten Art ausgebildet ist, selektiv Ionen bzw. zu untersuchende ionisierte Bestandteile des Gasgemischs in
vorgegebenen Messbereichen des Masse-zu-Ladungsverhältnisses zu detektieren. Auf diese Weise kann eine massenselektive zeitmultiplexe
Messung realisiert werden, welche es ebenfalls ermöglicht, den
Dynamikbereich zu erhöhen.
Es ist auch möglich, weitere, komplexere Mess-modi (z.B. eine beliebige Kombination aus den beiden oben beschriebenen Methoden (SWIFT bzw. Zeitmultiplexing)) zu verwenden, um die Dynamik zu erhöhen. Dabei ist stets darauf zu achten, dass die Messeinrichtung nicht übersteuert wird.
Bei einer Weiterbildung weist das Massenspektrometer einen Dynamikbereich von 108 (bzw. 108 : 1 ) oder darüber auf. Ein solcher Dynamikbereich lässt sich durch die Verwendung eines bzw. einer Kombination der beiden oben beschriebenen Messverfahren erreichen.
Bei einer Weiterbildung ist die lonenfalle zur Akkumulation von einzelnen Ionen des Gasgemischs ausgebildet und das Massenspektrometer weist eine
Nachweisgrenze von 10"15 mbar oder weniger (d.h. < 10"15 mbar) auf.
lonenfallen-Massenspektrometer arbeiten in der Regel diskontinuierlich, d.h. nach einer vorgegebenen Akkumulationszeit (beispielsweise weniger als 100 ms) kann eine Analyse der lonenzahl stattfinden. Insbesondere lassen sich in einer lonenfalle ggf. sowohl eine Akkumulation des zu detektierenden
Gasbestandteils als auch eine Separation des zu detektierenden
Gasbestandteils von weiteren gasförmigen Bestandteilen vornehmen.
Durch Kombination der oben beschriebenen Methoden zur Erhöhung der Dynamik (SWIFT bzw. Zeitmultiplex-Messung) mit der Akkumulationsfähigkeit der lonenfalle können besonders geringe/schwache lonenpopulationen nachgewiesen werden. Hierbei können einzelne Ionen akkumuliert werden, bis ein ausreichend großes Messsignal vorhanden ist. Bei bekanntem Messsignal und bekannter Akkumulationszeit kann die zu untersuchende lonenpopulation quantitativ bestimmt werden. Auf diese Weise kann die Nachweisgrenze des Massenspektrometers bis auf 10"15 mbar oder darunter gesenkt werden.
Ein weiterer Aspekt der Erfindung, der insbesondere mit einem der
vorhergehenden Aspekte kombinierbar ist, ist verwirklicht in einem
Massenspektrometer, welches eine Druckreduzierungseinheit mit mindestens einer, bevorzugt mindestens zwei, insbesondere drei oder mehr in Serie schaltbaren modularen Druckstufen zur Reduzierung des Gasdrucks des zu untersuchenden Gasgemischs aufweist. Gemäß diesem Aspekt wird vorgeschlagen, eine Druckreduzierungseinheit mit einem modularen Aufbau von einer, zwei bzw. drei (oder ggf. mehr) Druckstufen zu realisieren, die zwischen einer Messkammer (typischer Weise mit lonenfalle, ggf. auch mit einem herkömmlichen Massenspektrometer, z.B. einem Quadrupol- Massenspektrometer) und der Kammer mit dem zu untersuchenden
Gasgemisch angebracht werden können. Je nach Anwendung können auf diese Weise eine, zwei oder drei Druckstufen in Serie geschaltet werden, um den Gasdruck so weit zu verringern, dass das Gasgemisch der Messkammer zugeführt werden kann. Für den Fall, dass der Gasdruck in der Kammer mit dem zu untersuchenden Gasgemisch klein genug ist (z.B. < 0"5 mbar), kann ggf. auf eine Druckreduzierungseinheit verzichtet werden, d.h. es wird keine Druckstufe zwischen der Kammer mit dem zu untersuchenden Gasgemisch und der Messkammer benötigt bzw. eingebracht.
Die Druckreduzierungseinheit kann z.B. aus drei (oder mehr) aufeinander abgestimmten Druckstufen bestehen, wobei die Abstimmung durch eine Druckreduzierung um ca. 100-1000 mbar bei jeder Druckstufe realisiert werden kann. Bei einem hohen Gasdruck des zu untersuchenden Gasgemischs (100 bar -10"2 mbar) können alle drei Druckstufen, bei mittlerem Druck (10"2 mbar - 10"5 mbar) des Gasgemischs können zwei und bei niedrigem Gasdruck (<10"5 mbar) kann nur eine Druckstufe eingesetzt werden. Gegebenenfalls kann bei einem Druck in der Kammer mit dem zu untersuchenden Gasgemisch, der bei 10"5 bar oder darunter liegt, auf das Vorsehen einer Druckstufe verzichtet werden. Die Druckstufen sind modular aufgebaut und können in Serie geschaltet werden, indem diese aneinander befestigt werden, beispielsweise indem diese an Flanschen gasdicht miteinander verschraubt werden. Auf diese Weise können die Druckstufen sehr schnell abgebaut bzw. wieder aneinander angebaut werden, um den gewünschten Druckbereich des zu detektierenden Gasgemischs zu bedienen.
Durch die Verwendung von einer oder mehr Druckstufen bzw. von keiner Druckstufe lässt sich das Massenspektrometer zur Untersuchung von
Gasgemischen mit einem Gasdruck zwischen 105 mbar und 10"15 mbar einsetzen und kann insbesondere auf besonders einfache Weise an den gewünschten Druckbereich angepasst werden.
Ein weiterer Aspekt der Erfindung, welcher insbesondere mit einem der vorhergehenden Aspekte kombinierbar ist, ist verwirklicht in einem
Massenspektrometer, welches ausgebildet ist, ionisierte zu untersuchende Bestandteile des Gasgemischs in der lonenfalle mehrmals anzuregen und bei jeder Anregung während einer vorgegebenen Zeitdauer ein Massenspektrum der ionisierten zu untersuchenden Bestandteile aufzunehmen. Gemäß diesem Aspekt wird vorgeschlagen, die Möglichkeit von lonenfallen- Massenspektrometern auszunutzen, eine mehrfache Wiederholung der Ionen- Anregung durchzuführen, ohne zu diesem Zweck eine weitere Baugruppe einsetzen zu müssen. Bei jeder Anregung kann eine Detektion der ionisierten zu untersuchenden Bestandteile vorgenommen bzw. ein Massenspektrum aufgenommen werden.
Bei einer Weiterbildung liegt die Zeitdauer zur Aufnahme des
Massenspektrums bei ca. 5 ms oder weniger. Aufgrund der Tatsache, dass die zu untersuchenden Bestandteile des Gasgemischs nur angeregt aber nicht erneut ionisiert werden müssen, kann sehr schnell ein Massenspektrum aufgenommen werden, indem das entsprechende Messfenster zur Bestimmung des Massenspektrums verschoben bzw. mit der Anregung der ionisierten Bestandteile synchronisiert wird. Auf diese Weise können Analyten-Moleküle während einer chemischen Reaktion vermessen werden, bevor sie
untereinander reagieren bzw. es können Zwischenprodukte detektiert werden, so dass durch die Verschiebung des Messfensters die Reaktionsdynamik erfasst und der chemische Reaktionsvorgang in Echtzeit abgebildet werden kann.
Bei einer weiteren Ausführungsform ist die lonenfalle ausgewählt aus der Gruppe umfassend: Fouriertransformations-Ionenfalle, insbesondere
Fouriertransformation-Ionenzyklotronresonanz-Falle, Penning-Falle, Toroid- Falle, Paul-Falle, lineare Falle, Orbitrap, EBIT und RF-Buncher. Bevorzugt ist die lonenfalle zur Detektion der in der lonenfalle gespeicherten bzw.
akkumulierten Ionen insbesondere unter Verwendung einer Fourier- Transformation ausgebildet.
Die Verwendung einer solchen lonenfalle, beispielsweise einer FT-Ionenfalle, ermöglicht die Realisierung schneller Messungen (mit Messzeiten im
Sekundenbereich oder darunter, z.B. im Millisekunden-Bereich). Bei diesem Fallentyp wird der durch die gefangenen Ionen auf den Messelektroden generierte Induktionsstrom zeitabhängig detektiert und verstärkt. Anschließend wird diese Zeitabhängigkeit über eine Frequenztransformation wie z.B. über eine Fast-Fourier-Transformation in den Frequenzraum überführt und die Massenabhängigkeit der Resonanzfrequenzen der Ionen genutzt, um das Frequenzspektrum in ein Massenspektrum umzuwandeln. Massen- spektrometrie mittels einer Fourier-Transformation kann zur Durchführung schneller Messungen grundsätzlich mit unterschiedlichen Typen von
lonenfallen (z.B. mit den oben beschriebenen Typen) durchgeführt werden, wobei die Kombination mit der so genannten lonenzyklotronresonanz-Falle am gebräuchlichsten ist. Die FT-ICR-Falle stellt eine Abwandlung der Penning- Falle dar, bei der die Ionen in elektrische Wechselfelder und ein statisches Magnetfeld eingeschossen werden. In der FT-ICR-Falle (magnetische oder elektrische ICR-Falle) kann mittels Zyklotronresonanzanregung
Massenspektrometrie betrieben werden. In einer Abwandlung hiervon kann die Penning-Falle auch mit einem zusätzlichen Puffergas betrieben werden, wobei durch das Puffergas in Kombination mit einer Magnetronanregung mittels eines elektrischen Dipolfeldes und einer Zyklotronanregung mittels eines elektrischen Quardrupolfeldes eine Massenselektion durch räumliche Separation der Ionen erzeugt werden kann, so dass die Penning-Falle auch zur Separation des zu detektierenden Stoffes von anderen Stoffen eingesetzt werden kann. Da das Puffergas bei diesem Fallentyp auf die eingeschlossenen Ionen im Allgemeinen bewegungsdämpfend und somit„kühlend" wirkt, wird dieser Fallentyp auch als „Kühlerfalle" bezeichnet.
Die so genannte Toroid-Falle ermöglicht gegenüber einer herkömmlichen Quadrupolfalle eine kompaktere Bauweise bei im Wesentlichen identischer Ionen-Speicherkapazität. Bei der linearen Falle (engl,„linear trap") handelt es sich um eine Abwandlung der Quadrupol-Falle bzw. Paul-Falle, bei der die Ionen nicht in einem dreidimensionalen Quadrupol-Feld, sondern mittels eines zusätzlichen Randfeldes in einem zweidimensionalen Quadrupol-Feld gehalten werden, um die Speicherkapazität der Ionenfalle zu erhöhen. Die sog. Orbitrap weist eine zentrale, spindelförmige Elektrode auf, um die herum die Ionen durch die elektrische Anziehung auf Kreisbahnen gehalten werden, wobei durch eine dezentrale Injektion der Ionen eine Schwingung entlang der Achse der Zentralelektrode erzeugt wird, die in den Detektorplatten Signale erzeugt, die ähnlich wie bei der FT-ICR-Falle (durch FT) nachgewiesen werden können. Eine EBIT (Electron Beam Ion Trap - Elektronenstrahl-Ionenfalle) ist eine Ionenfalle, bei der die Ionen durch Stoßionisation mittels einer lonenkanone erzeugt werden, wobei die auf diese Weise erzeugten Ionen durch das elektromagnetische Feld der Falle angezogen werden und von diesem eingefangen werden. Die Ionen können auch in einem RF(„radio frequency" - Hochfrequenz)-Buncher, z.B. einem sog. RFQ(Quadrupol)-Buncher gespeichert werden. Es versteht sich, dass neben den oben aufgeführten Fallentypen auch andere Typen von lonenfallen zur Gasanalyse verwendet werden können, die ggf. mit einer Auswertung unter Verwendung einer Fourier-Transformation kombiniert werden können.
Das oben beschriebene Massenspektrometer auf der Basis einer Ionenfalle (insbesondere mit Plasmaionisierung) kann für den Nachweis von kleinsten Spurenelementen in unterschiedlichen Bereichen eingesetzt werden:
Das Massenspektrometer kann beispielsweise zur massenspektrometrischen Untersuchung eines Gasgemischs in der EUV-Lithographie verwendet werden. Bei dieser Verwendung kann insbesondere ein in einem EUV- Lithographiesystem, z.B. in einer EUV-Lithographieanlage, enthaltenes
Restgas analysiert werden, beispielsweise im Hinblick auf darin enthaltene kontaminierende Stoffe. Der Einsatz des Massenspektrometers in der EUV- Lithographie wird durch folgende der weiter oben aufgeführten Merkmale ermöglicht bzw. begünstigt:
• Quantitative Messung mit kontinuierlicher hoch genauer Online-In- Situ Kalibrierung (Ungenauigkeit kleiner 5%) zur Bestimmung, wie viele Ionen bei einem Bestimmten Peak (Masse-zu-Ladungs- Verhältnis) in der lonenfalle vorhanden sind,
• Hoher Dynamikbereich: bis 108 oder mehr (Verhältnis zwischen intensivstem und schwächstem Signal),
• Niedrige Nachweisgrenze: bis 10~15 mbar,
• Druckbereich des zu untersuchenden Mediums: 10~15 mbar - 103 mbar bei gleichbleibender Nachweisgrenze,
• Eine Elektronenstoß-Ionisierung, kalte Ionisierung mittels Plasmaionisierung oder Ionisierung mittels metastabiler Teilchen mit geringer Fragmentierung, einfacher Ionisierung bei niedriger Temperatur (<100°C)
Bei der Verwendung des Ivlassenspektrometers in einer EUV- Lithographieanlage kann beispielsweise eine Anbindungsposition des
Ivlassenspektrometers in einer Projektionssystem der EUV-Lithographieanlage in einem Abstand von weniger als 50 cm von mindestens einem Spiegel des Projektionssystems, eine Anbindungsposition in einem Beleuchtungssystem der EUV-Lithographieanlage in einem Abstand von weniger als 50 cm von mindestens einem Spiegel des Beleuchtungssystems oder eine
Anbindungsposition in einer Strahlungserzeugungssystem der EUV- Lithographieanlage in einem Abstand von weniger als 1 m, bevorzugt von weniger als 50 cm von einem Kollektor(-Spiegel), einer EUV-Lichtquelle oder einer Öffnung zum Durchtritt von EUV-Strahlung von der
Strahlungserzeugungssystem in das Beleuchtungssystem gebildet sein.
Es ist günstig, wenn die Anbindungsposition des Ivlassenspektrometers, welche definiert ist durch eine Öffnung an der Wandung eines Vakuum-Gehäuses, typischer Weise des Projektionssystems, des Beleuchtungssystems oder des Strahlungserzeugungssystems, durch welche die zu untersuchenden Stoffe in das Massenspektrometer eintreten können, in der Nähe eines Spiegels der EUV-Lithographieanlage gebildet ist, um gezielt kontaminierende Stoffe detektieren zu können, die sich ggf. auf der optischen Oberfläche des Spiegels anlagern können. Die Anordnung des Massenspektrometers in einer
Anbindungsposition in der Nähe einer Öffnung zwischen dem
Strahlungserzeugungssystem und dem Beleuchtungssystem ist günstig, um bestimmen zu können, wie groß der Anteil an kontaminierenden Stoffen ist, der von dem Strahlungserzeugungssystem in das Beleuchtungssystem übertritt. Die Anordnung des Massenspektrometers in einer Anbindungsposition in der Nähe der EUV-Lichtquelle ermöglicht es, von der EUV-Lichtquelle erzeugte kontaminierenden Stoffe zu detektieren bzw. zu messen.
Bei einer Weiterbildung ist das Massenspektrometer von einem eine
Restgasatmosphäre aufweisenden Gehäuse der EUV-Lithographieanlage, in dem die EUV-Strahlung geführt wird, durch eine Vakuumverbindung getrennt, wobei die Vakuumverbindung einen Querschnitt von weniger als 100 mm, bevorzugt von weniger als 5mm, insbesondere von weniger als 1 mm bzw. von weniger als 500 pm und typischer Weise von mehr als 50 pm aufweist. Für die massenspektrometrische Untersuchung ist es günstig, wenn der Querschnitt der Vakuumverbindung zwischen dem Massenspektrometer und einem
Gehäuse des Projektionssystems, des Beleuchtungssystems, des
Strahlungserzeugungssystems oder eines diese umschließenden Vakuum- Gehäuses nicht zu groß gewählt wird. Insbesondere kann durch eine solche Vakuumverbindung der Innenraum des Massenspektrometers mittels einer Vakuum-Pumpe bzw. einer Vakuumerzeugungseinrichtung evakuiert werden, die nur bzw. hauptsächlich den Innenraum des Massenspektrometers evakuiert.
Bei einer weiteren Weiterbildung wird/werden in einer insbesondere
Wasserstoff und/oder Helium und/oder Luft enthaltenden Restgasatmosphäre der EUV-Lithographieanlage bei der massenspektrometrischen Untersuchung mindestens einer der folgenden kontaminierenden Stoffe oder deren Gemische gemessen bzw. nachgewiesen: Sauerstoff, Ozon, Wasser, CxHyOz bis 10 Mamu, Partikel bis 10 Mamu, Metall-CxHYOz-Verbindungen bis 10 Mamu, wobei 1 Mamu = 1 000 000 amu.
Die Erfindung umfasst auch eine EUV-Lithographieanlage, welche wie die weiter oben im Zusammenhang mit der Verwendung des Massenspektrometers beschriebenen EUV-Lithographieanlage ausgebildet ist.
Eine weitere Verwendung des Massenspektrometers betrifft die
massenspektrometrische Untersuchung eines Gasgemischs bei einem
Beschichtungsprozess in einer Beschichtungsanlage, das beispielsweise Prozessgase enthalten kann. Das oben beschriebene Massenspektrometer kann insbesondere eine Selbstreinigungsfunktion aufweisen, um in der
Messkammer bzw. in der lonenfalle gebildete Ablagerungen zu entfernen, die durch die zu untersuchenden Gasgemische, insbesondere die Prozessgase, entstehen. Durch die Möglichkeit der Selbstreinigung kann das
Massenspektrometer in vielen beschichtenden Prozessen eingesetzt werden. Ein weiteres besonderes Merkmal des hier beschriebenen
Massenspektrometers stellt sein geringer Bauraum dar (ca. 300 mm hoch x ca. 300 mm breit und ca. 200-300 mm tief) Dies ermöglicht den Einsatz des Massenspektrometers in vielen Anwendungen, bei denen der Bauraum eine Rolle spielt (z.B. MOCVD, s.u.).
Die Selbstreinigung kann beispielsweise wie in der WO 02/00962 A1 dargestellt erfolgen, welche ein in-situ Reinigungssystem zum Entfernen von
Ablagerungen beschreibt, die von Prozessgasen in einer Probenkammer eines Prozessmonitors einer Wafer-Herstellungsanlage erzeugt werden.
Ablagerungen, die sich im Laufe einer oder mehrerer Analysen in der
Probenkammer einstellen, können bei Bedarf mittels eines Reinigungsgases entfernt werden. Das Reinigungsgas bildet bei der Erzeugung eines Plasmas in der Probenkammer mit den Ablagerungen ein gasförmiges Reinigungsprodukt, welches aus der Probenkammer ausgetragen wird. Bei einer Weiterbildung der obigen Verwendung ist der Beschichtungsprozess ausgewählt aus der Gruppe umfassend: chemische Gasphasenabscheidung („chemical vapor deposition", CVD), metallorganische chemische
Gasphasenabscheidung („metal organic chemical vapor deposition", MOCVD), metallorganische Gasphasenepitaxie („metal organic chemical vapor phase epitaxy", MOVPE), plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung („plasma enhanced chemical vapor deposition", PECVD),
Atomlagenabscheidung („atomic layer deposition", ALD), physikalische
Gasphasenabscheidung („physical vapor deposition", PVD), (insbesondere plasmaunterstützte) Ätz- und Implantationsprozesse, sowie
Molekularstrahlepitaxie(„molecular beam epitaxy", MBE)-Prozesse.
Der Einsatz des Massenspektrometers in diesem Anwendungsgebiet ist durch folgende der oben beschriebenen Merkmale möglich bzw. wird durch diese begünstigt:
• Hoher Dynamikbereich bis 108 oder mehr (Verhältnis max./min. Signal),
• Hohe Scangeschwindigkeit: bis 10 Spektren/s oder darüber mit
einem Massenbandbreite von bis zu ca. 1000 amu,
• Niedrige Nachweisgrenze: bis 10~15 mbar,
• Druckbereich des zu untersuchenden Mediums: 10"15 mbar - 103 mbar bei gleichbleibender Nachweisgrenze,
• Elektronenstoß-Ionisierung oder kalte Ionisierung mittels
Plasmaionisierung oder Ionisierung mittels metastabilen Teilchen mit geringer Fragmentierung, einfacher Ionisierung bei niedriger Temperatur (<100°C),
• durch eine geeignete schnelle Messmethode (im Millisekunden-Bereich) ist es möglich, den realitätstreuen chemischen Vorgang in Echtzeit abzubilden
• Partikelmessung und Charakterisierung in der Prozesskammer • Selbstreinigung des Massenspektrometers durch eine
geeignete Reinigungsmethode
Bei einer Weiterbildung ist eine Einbindungsposition des Massenspektrometers in der Beschichtungsanlage in einem Gasversorgungssystem, in einem
Gasmischsystem, oder in einem Gasentsorgungssystem, insbesondere vor oder nach einer Vakuumpumpe des Gasentsorgungssystems und/oder in einem Abstand von weniger als 1 m, bevorzugt von weniger als 50 cm von einer Prozess-Kammer gebildet. Das Massenspektrometer kann insbesondere direkt an die Prozess-Kammer angebunden werden. Weiterhin kann das bzw. ein weiteres Massenspektrometer im Gasversorgungssystem, im
Gasmischsystem oder in einem Gasentsorgungssystem, insbesondere in einer Vakuumleitung zwischen der Prozess-Kammer und einer Vakuumpumpe unmittelbar vor der Vakuumpumpe oder in einer Abgasleitung nach der
Vakuumpumpe angebracht werden. Durch die geeignete Wahl einer
Einbindungsposition kann anhand des Ergebnisses der
massenspektrometrischen Untersuchung auf den Prozess in gewünschter Weise eingewirkt werden, d.h. dieser kann insbesondere gesteuert oder geregelt werden.
Bei der Verwendung des Massenspektrometers in einer Beschichtungsanlage kann bei der massenspektrometrischen Untersuchung mindestens einer der folgenden Stoffe, deren Gemische und/oder Reaktionsprodukte, Cluster und/oder Verbindungen gemessen werden: H2, He, N2, 02, PH3, AsH3, B, P, As, CH4, CO, C02, Ar, SCI4, SiHCI3, SiH2CI2, H20, CxHy, TrimethylGa, TriethylGa, TrimethylAI, TriethylAI, Trimethylln, Triethylln, Cp2Mg, SiH4, Si2H6,
Tetrabutylammonium, TetrabutylSilan, Xe Isotrope, Kr Isotrope,
Hexamethyldisiloxan, Tert-Butylarsin, Trimethylarsin, Diethyl-tert-Butylarsin, Diethyl-tert-Butylphosphin, Di-tert-Butylphosphin, Tert-Butylhydrazin,
Dimethylhydrazin, Indium, Aluminium, Gallium, Bor, Silizium, Gold, Antimon, Bismut. Bei einer Weiterbildung wird der mindestens eine Stoff, das Gemisch, das Reaktionsprodukt, der Cluster und/oder die Verbindung bei einer Temperatur in der Prozess-Kammer zwischen 15°C und 5000°C, bevorzugt zwischen 100°C und 2000°C und bei dem Druck in der Prozess-Kammer zwischen 10"10 mbar bis 5 bar, vorzugsweise zwischen 10"8 mbar und 1 bar gemessen.
Die Erfindung umfasst auch eine Beschichtungsanlage, welche wie die weiter oben im Zusammenhang mit der Verwendung des Massenspektrometers beschriebene Beschichtungsanlage ausgebildet ist.
Eine weitere Verwendung des oben beschriebenen
Massenspektrometers liegt auf dem Gebiet der Analyse, Präparation,
Bearbeitung, Modifikation und/oder Manipulation von Proben. Das
Massenspektrometer kann in diesem Fall beispielsweise zum Gas- und/oder Restgas-Monitoring bzw. zur Überwachung, zur Analyse
und/oder zur Regelung einer Vorrichtung dienen, welche der Analyse,
Präparation, Bearbeitung, Modifikation und/oder Manipulation von
Proben dient. Bei der Vorrichtung kann es sich beispielsweise um ein
Mehrstrahlgerät handeln, bei der beispielsweise eine Elektronen- und/oder lonenstrahlsäule, ein Laserstrahl, ein Röntgenstrahl (X-Ray),
Photonenstrahl etc. wahlweise eingesetzt werden können, um eine
Probe zu präparieren, bearbeiten, modifizieren und/oder zu
manipulieren sowie ggf. zu analysieren. Es kann sich bei der
Vorrichtung auch um eine Vorrichtung zur Oberfiächenabtastanalytik handeln, die ggf. auch in das Mehrstrahlgerät integriert sein kann.
Eine weitere Verwendung des oben beschriebenen Massenspektrometers liegt auf dem Gebiet der Gasanalyse im Bereich der Chemie, genauer gesagt der chemischen Prozessanalyse. Der Einsatz eines Massenspektrometers in diesem
Anwendungsbereich ist durch folgende Merkmale möglich bzw. wird
durch diese begünstigt:
• Quantitative Messung mit kontinuierlicher hoch genaue Online-Insitu
Kalibrierung (Ungenauigkeit kleiner 5%) zur Bestimmung, wie viele Ionen bei einem bestimmten Peak (Masse-zu-Ladungs-Verhältnis) in der lonenfalle vorhanden sind,
• Hohe Scangeschwindigkeit: bis 10 Spektren/s oder mehr mit einer
Massenbandbreite von bis zu mindestens ca. 1000 amu,
• Hoher Dynamikbereich bis 108 oder mehr (Verhältnis max./min.),
• Niedrige Nachweisgrenze: bis 10~15 mbar,
• Druckbereich des zu untersuchenden Mediums: 10"15 mbar - 103 mbar bei gleichbleibender Nachweisgrenze,
• Elektronenstoß-Ionisierung oder kalte Ionisierung mittels Plasmaionisierung oder Ionisierung mittels metastabilen Teilchen mit geringer Fragmentierung, einfacher Ionisierung bei niedriger Temperatur (<100°C),
• Durch eine geeignete schnelle Messmethode (in Millisekunden-Bereich) ist es möglich, den realitätstreuen chemischen Vorgang in Echtzeit abzubilden.
Eine weitere Verwendung des oben beschriebenen Massenspektrometers liegt auf dem Gebiet der Schwingungsdetektion bzw. der Schwingungsanalyse von typischer Weise mechanischen Schwingungen. Das Massenspektrometer kann insbesondere zur Detektion bzw. zur Analyse von Schwingungen in einem Bereich zwischen ca. 1 Hz und ca. 15 KHz verwendet werden. Bei den
Schwingungen kann es sich insbesondere um Eigenschwingungen eines Set- Ups bzw. einer Vorrichtung handeln, in die das Massenspektrometer verbaut ist, d.h. die Schwingungen werden am Einsatzort des Massenspektrometers detektiert und das Massenspektrometer wird als Schwingungssensor genutzt. Zu diesem Zweck wird mit dem Massenspektrometer ein Spektrum innerhalb eines Frequenzbereichs aufgenommen, in dem die zu analysierenden
Schwingungsfrequenzen liegen. Dieses Frequenzspektrum kann beispielsweise zwischen ca. 1 Hz und ca. 15 KHz liegen. Innerhalb dieses Frequenzbereichs liegt typischer Weise eine Mehrzahl von Störfrequenzen, die durch
mechanische Schwingungen erzeugt werden und die durch die Messelektroden beispielsweise einer FT-Ionenfalle, insbesondere einer FT-ICR-Falle, erfasst und analysiert werden können. Zur Analyse der Schwingungen kann
beispielsweise ein Frequenzspektrum aufgenommen werden, sobald das Massenspektrometer in die Vorrichtung eingebaut wird. Wenn die Vorrichtung zum Zeitpunkt des Einbaus in Ordnung war, kann dieses Frequenzspektrum als Referenzspektrum dienen. Zu einem späteren Zeitpunkt bzw. zu mehreren späteren Zeitpunkten kann die Messung des Frequenzspektrums wiederholt werden und das gemessene Frequenzspektrum kann mit dem
Referenzspektrum verglichen werden. Wird in dem gemessenen
Frequenzspektrum eine bzw. werden mehrere zusätzliche Linien bzw. Peaks detektiert, ist dies ein Hinweis darauf, dass irgendwo in der Vorrichtung unerwünschte Schwingungen auftreten, die z.B. auf mechanische Probleme zurückzuführen sind. Bei den Schwingungen kann es sich beispielsweise um unerwünschte Eigenschwingungen von Schleif- bzw. Kugellagern z.B. von (Vakuum-)Pumpen handeln, die in der Nähe des Massenspektrometers angeordnet sind, oder um Schwingungen, die von einem Netzteil verursacht werden (Netzbrummen).
Es versteht sich, dass die Verwendung des oben beschriebenen
Massenspektrometers nicht auf die oben beschriebenen Anwendungsgebiete beschränkt ist, sondern dass dieses auch in anderen Anwendungsgebieten vorteilhaft eingesetzt werden kann.
Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur massenspektrometrischen
Untersuchung eines Gasgemischs umfassend folgende Verfahrensschritte: Zuführen von Ionen und/oder von metastabilen Teilchen eines lonisierungsgases und/oder von Elektronen zu einer lonenfalle, Ermitteln der in der lonenfalle vorhandenen Anzahl der Ionen und/oder metastabilen Teilchen des lonisierungsgases und/oder der Anzahl von Ionen eines in der lonenfalle vorhandenen Restgases, insbesondere gepulstes Zuführen des zu
untersuchenden Gasgemischs zu der lonenfalle, sowie Bestimmen der
Teilchenzahl (bzw. eines zur Teilchenzahl proportionalen Signals) von zu untersuchenden ionisierten Bestandteilen des Gasgemischs unter
Berücksichtigung der ermittelten Anzahl von Ionen und/oder metastabilen Teilchen des lonisierungsgases und/oder der Anzahl von Ionen des Restgases.
Wie weiter oben im Zusammenhang mit dem ersten Aspekt der Erfindung beschrieben wurde, kann durch die Ermittlung der Anzahl der in der lonenfalle vorhandenen primären Ionen eine quantitative Analyse der zu untersuchenden Bestandteile des Gasgemischs unter Verwendung einer kontinuierlichen hochgenauen in-situ Kalibrierung erfolgen, so dass die Bestimmung der Anzahl der Ionen (entsprechend einem Peak im Spektrum), welche bei einem bestimmten Masse-zu-Ladungs-Verhältnis detektiert werden, mit hoher
Präzision möglich ist. Typischer Weise wird hierbei eine Ungenauigkeit von weniger als 5% erreicht, d.h. der gemessene Wert weicht von der tatsächlich in dem Probenvolumen der lonenfalle vorhandenen Anzahl von (ionisierten) Teilchen des Gasbestandteils um nicht mehr als 5 % (nach oben oder nach unten) ab.
Bei dem Verfahren wird typischer Weise wie folgt vorgegangen: zunächst werden die primären Ionen in der lonenfalle akkumuliert. Nach der
Akkumulation erfolgt die Anregung der primären Ionen, an die sich die Messung der Anzahl an primären Ionen anschließt. Zusätzlich oder alternativ kann die Anzahl der metastabilen Teilchen in der lonenfalle ermittelt werden. Sofern das lonisierungsgas im Wesentlichen in Form von metastabilen Teilchen vorliegt, ist deren Anzahl proportional zum Gesamtdruck in der lonenfalle, da der Druck des Restgases vernachlässigbar ist. Der Gesamtdruck kann beispielsweise durch die zeitliche Abnahme (Zeitkonstante) der lonentransienten mit hoher Genauigkeit ermittelt werden. Anhand des Drucks kann auf die tatsächlich in der lonenfalle vorhandene Anzahl der metastabilen Teilchen des
lonisierungsgases geschlossen werden.
Während der Anregung der primären Ionen und der Messung der Anzahl der primären Ionen und/oder der metastabilen Teilchen wird parallel ein Gaspuls des zu untersuchenden Gasgemischs erzeugt und bewegt sich auf die lonenfalle zu. Die Erzeugung des Gaspulses ist hierbei typischer Weise derart mit der Messung der primären lonenanzahl und/oder der metastabilen
Teilchenanzahl synchronisiert, dass der Gaspuls die lonenfalle zu dem
Zeitpunkt (oder kurz danach) erreicht, bei dem die Messung der Anzahl der primären Ionen und/oder der metastabilen Teilchen abgeschlossen ist.
Das in dem Gaspuls transportierte Gasgemisch wird in der lonenfalle oder ggf. in der Messkammer kurz vor dem Eintritt in die lonenfalle von den primären Ionen und/oder metastabilen Teilchen bzw. von den Elektronen durch
Stoßionisation und/oder durch Ladungsaustauschionisation ionisiert. In einem nachfolgenden Schritt werden die Ionen des Gasgemischs angeregt. Vor bzw. während der Anregung der Ionen des Gasgemischs können die primären Ionen aus der lonenfalle entfernt bzw. unterdrückt werden, indem ein geeignetes Anregungssignal erzeugt wird. In einem nachfolgenden Schritt erfolgt eine Messung bzw. Detektion der angeregten Ionen des Gasgemischs. Der oben angegebene Vorgang kann grundsätzlich beliebig oft wiederholt werden. Da bei der Detektion die Ionen nicht in neutrale Teilchen umgewandelt werden, ist es auch möglich, nach der Ionisation des Gasgemischs die Ionen des
Gasgemischs in der lonenfalle mehrfach anzuregen, ohne dass zu diesem Zweck eine erneute Ionisierung des Gasgemischs erfolgen muss.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der
nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung, anhand der Figuren der Zeichnung, die erfindungswesentliche Einzelheiten zeigen, und aus den Ansprüchen. Die einzelnen Merkmale können je einzeln für sich oder zu mehreren in beliebiger Kombination bei einer Variante der Erfindung verwirklicht sein.
Zeichnung
Ausführungsbeispiele sind in der schematischen Zeichnung dargestellt und werden in der nachfolgenden Beschreibung erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Massenspektrometers zur massenspektrometrischen Untersuchung eines Gasgemischs,
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels einer lonenfalle des Massenspektrometers von Fig. 1 ,
Fig. 3 eine schematische Darstellung des zeitlichen Ablaufs eines
Messvorgangs in der lonenfalle,
Fig. 4 eine Messmethode zur Auswertung eines Massenspektrums, bei der zur Realisierung einer schnellen Messung ein Messfenster verschoben wird, und
Fig. 5a, b zwei Massenspektren, die mit der SWIFT-Methode bzw. durch eine massenselektive Zeitmultiplex-Messung ausgewertet werden,
Fig. 6 eine schematische Darstellung einer EUV-Lithographieanlage, welche ein Massenspektrometer aufweist, und Fig. 7 eine eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur
Atomlagenabscheidung auf einem Substrat, welche ein Massenspektrometer aufweist.
In der folgenden Beschreibung der Zeichnungen werden für gleiche bzw.
funktionsgleiche Bauteile identische Bezugszeichen verwendet.
In Fig. 1 ist schematisch ein Massenspektrometer 1 gezeigt, welches mit einer Kammer 8 in Verbindung steht bzw. verbindbar ist, in der sich ein zu
untersuchendes Gasgemisch 2 befindet. Bei der Kammer 8, von der in Fig. 1 nur ein Ausschnitt dargestellt ist, kann es sich beispielsweise um eine
Prozesskammer handeln, welche einen Teil einer Industrieanlage bildet, in der ein industrieller Prozess durchgeführt wird. Bei der Kammer 8 kann es sich alternativ beispielsweise um ein (Vakuum-)Gehäuse einer Lithographieanlage oder um eine andere Art von Kammer handeln, in der sich das zu
untersuchende Gasgemisch 2 befindet. Im gezeigten Beispiel weist das
Gasgemisch 2 einen in der Gasphase vorliegenden Stoff 3a (d.h. ein Gas) mit atomarer Massenzahl < 100 und Partikel 3b auf, deren Massenzahl bei 100 oder darüber liegt.
Die Kammer 8 weist einen Auslass 4 auf, der über ein zum
Massenspektrometer 1 gehöriges steuerbares Ventil 5 mit einem Einlass 6 einer Messkammer 7 verbindbar ist. Bei dem in Fig. 1 gezeigten
Massenspektrometer 1 wird das Gasgemisch 2 direkt, d.h. ohne eine vorherige Ionisierung, in eine als Messzelle dienende lonenfalle 10 eingebracht. Eine lonisierungseinrichtung 12 dient zur Ionisierung des Gasgemischs 2 direkt in der lonenfalle 10, indem der lonenfalle 10 Ionen 13a und/oder metastabile bzw. angeregte Teilchen 13b eines lonisierungsgases 13 zugeführt werden, welche das Gasgemisch 2 durch einen Ladungsaustausch bzw. eine Stoßionisation typischer Weise in der lonenfalle 10 ionisieren. Die in Fig. 1 gezeigte
lonisierungseinrichtung 12 weist auch eine Elektronenstrahlquelle 20 in Form einer Elektronenstrahl-Kanone zur Erzeugung von Elektronen 20a mit variablen Elektroenergien im Bereich zwischen z.B. 1 eV bis 100 eV auf, die zusätzlich oder alternativ zur Plasmaquelle 18 eingesetzt werden kann und die in Fig. 1 gestrichelt dargestellt ist. Die Elektronen 20a dienen zur Ionisierung des Gasgemischs 2 durch Elektronenstoßionisation direkt in der lonenfalle 10. Auf diese Weise kann das zu analysierende Gasgemisch 2 direkt in der Messzelle (lonenfalle 10) ionisiert, ggf. akkumuliert und vermessen werden, ohne dass ein Transport des ionisierten Gasgemischs in die lonenfalle 10 erforderlich ist. Alternativ kann auch eine Ionisierung des Gasgemischs 2 in unmittelbarer Nähe zur lonenfalle 10 erfolgen, wobei im letzteren Fall ein Transport des ionisierten Gasgemischs zur lonenfalle 0 erforderlich ist.
Um die primären Ionen 13a bzw. die angeregten Teilchen 13b zu erzeugen, wird das (neutrale) lonisierungsgas 13 über ein Dosierventil 15 und eine Gaszuleitung 16 aus einem Gasreservoir 17 entnommen und einer
Plasmaquelle 18 zugeführt. In der Plasmaquelle 18 wird das lonisierungsgas 13 ionisiert bzw. angeregt und die hierbei erzeugten Ionen 13a bzw.
metastabilen/angeregten Teilchen 13b werden der lonenfalle 10 zugeführt, um die Ladungsaustauschionisierung bzw. Stoßionisierung des Gasgemischs 2 zu bewirken. Bei der Plasmaquelle 18 kann es sich um eine Hochfrequenz- Plasmaquelle, Mittelfrequenz-Plasmaquelle, Gleichspannungs-Plasmaquelle, dielektrisch behinderte Entladungs-Plasmaquelle, Atmosphärendruck- Plasmaquelle, Korona-Entladungs-Plasmaquelle, etc. handeln.
Im vorliegenden Beispiel ist die Plasmaquelle 18 zur Erzeugung von Ionen 13a und/oder metastabilen Teilchen 13b des lonisierungsgases 13 bei einer Temperatur von weniger als 100°C ausgebildet, d.h. die Plasmaentladung in der Plasmaquelle erfolgt bei einer niedrigen Temperatur (unter 100°C). Dies kann z.B. durch das Anlegen eines hochfrequenten Wechselfeldes (mit Frequenzen von 1 MHz bis 30 MHz) erreicht werden, da eine entsprechende HF-Entladung in vorteilhafter Weise bei Temperaturen von 10°C bis 200°C erfolgen kann, oder durch den Einsatz einer speziell hierfür entwickelten Gleichspannungs-Plasmaquelle realisiert werden. Es versteht sich, dass an Stelle einer Plasmaquelle 18 auch eine andere Art von lonisierungseinrichtung eingesetzt werden kann, welche das (neutrale) lonisierungsgas 13 in einen angeregten Elektronenzustand überführen bzw. ionisieren kann, um eine Stoßbzw. Ladungsaustauschionisierung des Gasgemischs 2 in der Ionenfalle 10 zu bewirken.
Als lonisierungsgas 13 kann eine Mehrzahl von Gasen und Gasgemischen verwendet werden, z.B. He, H2, Ar, N2, Xe, Kr, 02 etc. Als besonders günstig hat es sich erwiesen, wenn als lonisierungsgas 13 ein Edelgas, insbesondere Helium, verwendet wird, weiches durch die Plasmaquelle 18 in ein metastabiles Edelgas 13b umgewandelt wird, d.h. in Edelgas-Teilchen (z.B. He*), welche in einem angeregten Elektronenzustand kurz vor der Ionisierung stehen.
Insbesondere durch einen Ladungsaustausch zwischen dem Analyten, d.h. einem zu untersuchenden Gasbestandteil 3a, 3b, und den metastabilen Edelgasteilchen 13b lässt sich eine besonders sanfte (kalte) Ionisierung mit geringer Fragmentierung des Analyten erreichen.
Auf diese Weise können auch Partikel 3b mit einer atomaren Massenzahl zwischen 100 und 20000, insbesondere zwischen 20000 und 2000000 als zusammenhängende makromolekulare Strukturen ionisiert werden, da diese durch das kalte HF-Plasma der metastabilen Edelgasteilchen 13b nicht weiter fragmentiert werden. Bei den Partikeln 3b kann es sich beispielsweise um makromolekulare Konglomerate mit einer Partikelgröße von ca. 0,001- 0 μιη oder darüber handein. Es versteht sich, dass alternativ das lonisierungsgas, z.B. Helium, im Wesentlichen vollständig ionisiert (d.h. als He+) vorliegen kann und dass auch Mischformen möglich sind, beispielsweise die Verwendung eines lonisierungsgases mit nicht zu vernachlässigenden Anteilen sowohl an He+ als auch an He*. Für die Partikelmessung bzw. Charakterisierung von großen Partikeln 3b mit Massenzahlen bis zu 2000000 amu in der lonenfalle 10 kann ausgenutzt werden, dass das zu detektierende Masse-zu-Ladungs-Verhältnis m/z in der lonenfalle 10 von der Speicheramplitude Vrf (Bahndurchmesser) und der Feldfrequenz wie folgt abhängt: m / z ~ Vrf / (frf)2 .
Somit können Partikel 3b mit sehr großer Masse durch Erhöhung der
Speicheramplitude Vrf und/oder durch Absenkung der Feldfrequenz frf in der lonenfalle 10 vermessen werden.
Ein weiterer Vorteil bei der Verwendung von metastabilen Edelgasteilchen 13b, d.h. von neutralen Teilchen in einem angeregten Elektronenzustand, für die Ionisierung des Gasgemischs 2 in der lonenfalle 10 besteht darin, dass diese einen besonders großen Wirkungsquerschnitt aufweisen, welcher eine größere Stoß-Wahrscheinlichkeit mit den zu untersuchenden Bestandteilen des
Gasgemischs 2 in der lonenfalle 10 zufolge hat. Dadurch werden die zu untersuchenden ionisierten Teilchen 3a, 3b schneller im Zentrum der lonenfalle 10 gesammelt, ohne dass zu diesem Zweck ein höherer Druck durch ein Puffergas benötigt wird. Durch die Verwendung von metastabilen
Edelgasteilchen 13b zur Ionisierung des Gasgemischs 2 kann somit deutlich schneller als bei bereits bekannten Lösungen eine Messung in der lonenfalle 10 erfolgen, so dass das Massenspektrometer 1 für die Aufnahme von mindestens 10 Spektren/s mit einer Massenbandbreite von jeweils mindestens 500 amu bzw. 1000 amu genutzt werden kann.
Wie weiter oben beschrieben wurde, kann zur Ionisierung des Gasgemischs 2 auch eine Elektronenstrahlquelle 20 dienen, die insbesondere Elektronen 20a mit variablen Elektronenenergien im Bereich zwischen z.B. 1 eV bis 100 eV erzeugen kann, um gezielt Bestandteile 3a, 3b des Gasgemischs 2 mit bestimmten Masse-zu-Ladungs-Verhältnissen zu ionisieren. Es versteht sich, dass alternativ zu dem in Fig. 1 gezeigten Beispiel die lonisierungseinrichtung 12 nur eine Plasmaquelle oder nur eine Elektronenstrahlquelle 20 aufweisen kann, um das zu untersuchende Gasgemisch 2 in der lonenfalle 10 zu ionisieren. Durch die Elektronen 20a und/oder durch die metastabilen Teilchen 13b des lonisierungsgases 13 kann auch ein in der lonenfalle 10 vorhandenes Restgas 14 ionisiert werden, d.h. es werden Restgas-Ionen 4a erzeugt.
Wie in Fig. 1 ebenfalls zu erkennen ist, weist das Massenspektrometer 1 eine Druckreduzierungseinheit 11 auf, welche am Einlass 6 der Messkammer 7 angebracht ist und welche die Messkammer 7 mit dem Auslass 4 der Kammer 8 verbindet. Im gezeigten Beispiel weist die Druckreduzierungseinheit 11 drei in Serie geschaltete moduiare Druckstufen 1 1 a-c zur Reduzierung des Gasdrucks Po des zu untersuchenden Gasgemischs 2 in der Kammer 8 auf. Das
Massenspektrometer 1 ist im gezeigten Beispiel im Bereich des Auslasses 4 der Kammer 8 angeflanscht. Die drei Druckstufen 1 1 a-c weisen jeweils zwei endseitige Flansche auf, mit denen sie an dem Einlass 6 zur Messkammer 7 bzw. aneinander befestigt werden können.
In Abhängigkeit vom Anwendungsfall, d.h. in Abhängigkeit vom Gasdruck p0 des Gasgemischs 2 in der Kammer 8 können eine, zwei, drei oder keine der Druckstufen 1 1 a-c in Serie geschaltet werden, um den Gasdruck des
Gasgemischs so weit zu verringern, dass das Gasgemisch 2 der Messkammer 7 zur Analyse zugeführt werden kann. Die drei Druckstufen 1 1a-c sind aufeinander abgestimmt. Die Abstimmung kann beispielsweise durch eine Druckreduzierung um ein Faktor von ca. 100-1000 mbar bei jeder Druckstufe 1 1 a-c realisiert werden. Bei einem hohen Gasdruck p0 des zu untersuchenden Gasgemischs (100 bar -10"2 mbar) können alle drei Druckstufen 1 1 a-c, bei mittlerem Gasdruck p0 (10"2 mbar - 10"5 mbar) des Gasgemischs 2 in der Kammer 8 können zwei Druckstufen 1 1 a, 1 1 b und bei niedrigem Gasdruck (<10~5 mbar) des Gasgemischs 2 in der Kammer 8 kann nur eine oder keine Druckstufe 1 1 a eingesetzt werden, durch welche das Gasgemisch 2
transportiert wird.
Die Druckstufen 1 a-c können in Serie geschaltet werden, indem diese gasdicht aneinander befestigt werden, beispielsweise indem diese an
Flanschen miteinander verschraubt werden. Auf diese Weise können die Druckstufen 1 1a-c sehr schnell abgebaut bzw. wieder angebaut werden, um einen vorgegebenen Druckbereich des Gasdrucks p0 des zu detektierenden Gasgemischs 2 zu bedienen und um sicherzustellen, dass der Gasdruck p0 hin zur lonenfalle 10 bis auf ca. 10"5 mbar oder bis zu 1 CT9 mbar abnimmt, damit die lonenfalle 10 zur Gasanalyse verwendet werden kann. Durch die Verwendung von einer oder mehr Druckstufen 1 1 a-c lässt sich das Massenspektrometer 1 zur Untersuchung von Gasgemischen 2 mit einem Gasdruck po zwischen 105 mbar und 10~15 mbar bei gleichbleibender Nachweisgrenze einsetzen, wobei das Massenspektrometer 1 auf besonders einfache Weise an den
gewünschten Druckbereich angepasst werden kann. Die (untere)
Nachweisgrenze kann hierbei wie folgt definiert werden: Es können ca. 100 Ionen pro Sekunde bei einem Druck in der Messkammer 7 von 10"8 mbar gemessen werden.
Die lonenfalle 10 ist bei dem in Fig. 1 gezeigten Beispiel als magnetische FT- ICR-Falle ausgebildet, welche nachfolgend im Zusammenhang mit Fig. 2 näher beschrieben wird. Bei der magnetischen FT-ICR-Falle 10 werden die Ionen 13a in einem homogenen Magnetfeld B gefangen, welches entlang der Z-Richtung eines XYZ-Koordinatensystems verläuft und die in Z-Richtung in die FT-ICR- Falle 10 eingeschossenen Ionen 3a auf Kreisbahnen mit einer
massenabhängigen Umlauffrequenz zwingt. Die FT-ICR-Falle 10 weist weiterhin eine Anordnung auf, an denen ein elektrisches Wechselfeld senkrecht zum Magnetfeld B angelegt und auf diese Weise eine Zyklotron- Resonanz erzeugt wird. Im gezeigten Beispiel weist die Anordnung sechs Elektroden 21 auf. Stimmen Frequenz des eingestrahlten Wechselfeldes und Zyklotron-Kreisfrequenz überein, so tritt der Resonanzfall ein und der Zyklotron- Radius des betreffenden Ions 13a vergrößert sich durch Aufnahme von Energie aus dem Wechselfeld. Diese Änderungen führen zu messbaren Signalen an den Elektroden 20 der FT-ICR-Falle 10, die zu einem Stromfluss I führen, der über einen Verstärker 22 einem FFT („fast fourier transform" - schnelle
Fouriertransformation)-Spektrometer 23 zugeführt wird, welches ebenfalls Bestandteil des Massenspektrometers 1 ist.
Der in dem FFT-Spektrometer 23 empfangene, zeitabhängige Strom I wird fouriertransformiert, um ein von der Frequenz f abhängiges Massenspektrum zu erhalten, das in Fig. 2 rechts unten dargestellt ist. Die FT-ICR-Falle 10 ermöglicht somit eine direkte Detektion bzw. die direkte Aufnahme eines Massenspektrums, so dass eine schnelle Gasanalyse ermöglicht wird. Auch können aus der FT-ICR-Falle 10 selektiv einzelne Ionen bzw. Ionen mit bestimmten Massenzahlen bzw. Masse-zu-Ladungs-Verhältnissen m/z entfernt werden, beispielsweise indem an die Elektroden 21 ein Wechselfeld angelegt wird, um die selektierten, aus der Falle 10 zu entfernenden Ionen auf instabile Bahnen zu lenken.
Wie in Fig. 2 ebenfalls zu erkennen ist, nimmt die Amplitude der Einhüllenden des zeitabhängigen Spiegelstroms I nach der Anregung mit der Zeit ab, wobei die zeitliche Abnahme bzw. die Transiente des Stroms I unmittelbar von der mittleren freien Weglänge und somit vom Druck in der FT-ICR-Falle 10 abhängig ist. Geht man von einer exponentiellen Abnahme der Amplitude des Stroms I aus, kann beispielsweise anhand der Zeitkonstante τ, bei welcher eine Abnahme der Amplitude auf das 1/e-fache (d.h. ca. 37%) des ursprünglichen Werts erfolgt, der Druck in der FT-ICR-Falle 10 mit hoher Genauigkeit bestimmt werden, was sich insbesondere für die Bestimmung der Anzahl der
metastabilen Teilchen (s.u.) ausnutzen lässt, da diese mit dem Druck korreliert ist. Die schnelle Aufnahme eines Massenspektrums mit Hilfe der Fourier- Spektrometrie kann nicht nur bei der oben beschriebenen FT-ICR-Falle 10 sondern auch bei Abwandlungen des in Fig. 2 gezeigten Fallentyps erfolgen. Beispielsweise kann die FT-ICR-Ionenfalle 10 als so genannte elektrische FT- ICR-Ionenfalle ausgebildet werden, welche eine Ringelektrode, an der eine hochfrequente Hochspannung anliegt und zwei Deckelelektroden umfasst, die sowohl als Spiegelladungsdetektoren als auch als Anregungselektroden dienen können. In der kompakten elektrischen Variante einer FT-ICR-Falle 10 werden Ionen durch eine hochfrequente Hochspannung gefangen gehalten. Erfahren die Ionen eine Impuls-Anregung, führen sie im Hochvakuum je nach
Masse/Ladungs-Verhältnis (m/z) charakteristische Schwingungen aus, die durch Spiegelladungsdetektion an den Deckelelektroden aufgenommen werden. Durch Differenzbildung aus den Spiegeiladungssignalen an den beiden Deckelelektroden wird ein verzerrungsarmes lonensignal gewonnen. Durch den rauscharmen Verstärker 22 und das Spektrometer 23 zur schnellen Fourier- Analyse (FFT) des lonenausgangssignals können die charakteristischen lonenfrequenzen und deren Intensität dargestellt werden. Das
Frequenzspektrum kann anschließend in ein Massenspektrum umgerechnet werden, in dem die Anzahl der detektierten Teilchen in Abhängigkeit vom Masse-zu-Ladungs-Verhältnis m/z dargestellt wird.
Um eine möglichst genaue quantitative Analyse des zu untersuchenden Gasgemischs 2 bzw. von dessen Bestandteilen 3a, 3b zu erhalten, d.h. um möglichst präzise festzustellen, wie viele Ionen 3a bei einem bestimmten Masse-zu-Ladungs-Verhältnis m/z in der lonenfalle 10 vorhanden sind, kann eine kontinuierliche Online-ln-situ Kalibrierung des Massenspektrometers 1 vorgenommen werden. Hierbei wird die Anzahl der primären Ionen, d.h. der Ionen 3a des lonisierungsgases 13 und der Ionen 14a des Restgases sowie die Anzahl 13a der metastabilen Teilchen des lonisierungsgases 13 ermittelt, die für die Ladungs- bzw. Stoßionisation des Gasgemischs 2 in der lonenfalle 10 zur Verfügung stehen, wodurch sich zeitliche Fluktuationen aufgrund der Variation bzw. Drift der für die Ionisierung zur Verfügung gestellten primären Ionen 13a, 14a bzw. metastabilen Teilchen 13b praktisch vollständig
eliminieren lassen.
Das oben beschriebene Ergebnis ist durch einen besonderen Messablauf und einer geeignete Steuerung der Elektronik des Massenspektrometers 1 möglich, die von einer Steuereinrichtung 19 (vgl. Fig. 1 ) vorgenommen wird. Die zeitliche Abfolge des Messvorgangs wird nachfolgend anhand von Fig. 3 näher erläutert, wobei beispielhaft Zeitdauern t1 bis t7 für die einzelnen Schritte des
Messverfahrens angegeben werden.
In einem ersten Schritt (Zeitdauer t1 ca. 1 ms) erfolgt eine Akkumulation der primären Ionen 13a, 14a in der lonenfalle 10. Für die Akkumulation öffnet die Steuereinrichtung 19 das Dosierventil 15 und lässt lonisierungsgas 13 in die Plasmaquelle 18 einströmen, in der dieses ionisiert wird und in Form von Ionen 13a in die lonenfalle 10 eintritt. Zusätzlich kann durch die metastabilen Teilchen 13b des lonisierungsgases 13 und/oder durch die der lonenfalle 10 zugeführten Elektronen 20a ein in der lonenfalle 10 vorhandenes Restgas 14 (teilweise) ionisiert werden, so dass sich Restgas-Ionen 14a bilden.
Sobald eine ausreichende Anzahl von primären Ionen 13a, 14a in der lonenfalle 10 akkumuliert wurden, werden in einem zweiten Schritt (Zeitdauer t2 ca. 0,01 ms) die primären Ionen 13a, 14a angeregt, indem an die
entsprechenden Elektroden 21 der lonenfalle 10 ein Anregungssignal angelegt wird, welches ebenfalls von der Steuereinrichtung 19 erzeugt wird. In einem dritten Schritt (Zeitdauer t.3 ca. 0,1 ms) erfolgt eine Messung bzw. Detektion der Anzahl der primären Ionen 13a, 14a in der lonenfalle 10.
Kurz vor dem Ende des zweiten Schritts und während des dritten Schritts erfolgt parallel ein vierter Schritt (Zeitdauer t4 < 1 ms), und zwar der Transport des (nicht ionisierten) Gasgemischs 2, genauer gesagt eines Gaspulses 2a des Gasgemischs 2, vom Einlass 6 der Messkammer 7 in die lonenfalle 10. Zur Erzeugung des Gaspulses 2a wird das Ventil 5 kurzzeitig von der
Steuereinrichtung 19 angesteuert und geöffnet, wobei die Zeitdauer, in der das Ventil 5 geöffnet wird, typischer Weise im Bereich von weniger als ca. 1 με bzw. weniger als einige ms liegt. Die Erzeugung des Gaspulses 2a des
Gasgemischs 2 wird von der Steuereinrichtung 19 so mit dem Schritt der Messung der Anzahl der primären Ionen 13a synchronisiert, dass der Gaspuls die lonenfalle 10 erreicht, wenn die Messung der Anzahl der primären Ionen 13a, 14a abgeschlossen ist. Gegebenenfalls kann das Gasgemisch 2 auch in unmittelbarer Nähe zur lonenfalle 2 ionisiert werden. In diesem Fall erreicht der Gaspuls die lonenfalle 10 zeitlich versetzt, d.h. kurz nach dem Abschluss der Messung der Anzahl der primären Ionen. Da der Gaspuls 2a sich auf den Einlass der lonenfalle 10 zu bewegt, kann ggf. auf das Vorsehen einer
Transporteinrichtung zum Transport des ionisierten Gasgemischs 2 in die lonenfalle 10 verzichtet werden.
Um den Zufluss des Gasgemisches 2 bzw. des Gaspulses aus der Kammer 8 in die lonenfalle 10 zu erleichtern, kann im Bereich des Ventils 5, im Bereich des Auslasses 4 aus der Kammer 8, im Bereich des Einlasses 6 in die
Messkammer 7 und/oder im Bereich zwischen dem Einlass 6 und der lonenfalle 10 eine Transporteinrichtung, z.B. in der Art eines Gebläses, vorgesehen sein. Für den Transport des Gasgemisches 2 bzw. eines
Gaspulses zur lonenfalle 10 kann die Messkammer 7 auch mit einer (in Fig. 1 nicht gezeigten) Pumpeinrichtung in Verbindung stehen.
In einem fünften Schritt (Zeitdauer t5 ca. 0,1 ms) wird das in dem Gaspuls 2a transportierte Gasgemisch 2 in der lonenfalle 10 von den primären Ionen 13a, 14a bzw. von den metastabilen Teilchen 13b durch Stoßionisation und/oder durch Ladungsaustauschionisation ionisiert. Hierbei erweist es sich als günstig, wenn der Strom des lonisierungsgases 13 bzw. der Ionen 13a und
metastabilen Teilchen 13b des lonisierungsgases 13 der Strömungsrichtung des Gaspulses 2a entgegen gerichtet ist, so dass der Strom des lonisierungsgases 13 und der Gaspuls 2a im Inneren der lonenfalle 10 aufeinander treffen. Um dies zu erreichen, ist es günstig, wenn wie in Fig. 1 gezeigt der Einlass 6 zum Zuführen des Gaspulses 2a und der Einlass der lonisierungseinrichtung 12 zum Zuführen des Gasstroms des
lonisierungsgases 13 einander gegenüber liegend angeordnet sind. Gleiches gilt für die Elektronenquelle 20 bzw. den Elektronenstrahl 20a, der ebenfalls auf den Gaspuls 2a ausgerichtet werden sollte bzw. dem Einlass 6 zum Zuführen des Gaspulses 2a gegenüber liegend angeordnet werden sollte, wie in Fig. 1 dargestellt ist.
In einem nachfolgenden sechsten Schritt (Zeitdauer t6 ca. 1 ms) werden die Ionen des Gasgemischs 2 angeregt. Vor bzw. während der Anregung der Ionen des Gasgemischs 2 können die primären Ionen 13a, 14a aus der lonenfalle 10 entfernt bzw. unterdrückt werden, indem ein geeignetes Anregungssignal erzeugt und an die Elektroden 20 angelegt wird. In einem anschließenden siebten Schritt (Zeitdauer t7 = bis zu 100 ms) erfolgt eine Messung bzw.
Detektion der angeregten Ionen bzw. der ionisierten Bestandteile 3a, 3b des Gasgemischs 2, wobei die gemessene Signalhöhe Hf direkt proportional zur lonenzahl der jeweiligen lonenpopulation bei dem entsprechenden Masse-zu- Ladungs-Verhältnis m/z ist.
Um den Einfluss von zeitabhängigen Fluktuationen der Zahl der für die
Ionisierung bereitgestellten primären Ionen 13a, 14a bzw. metastabilen
Teilchen 13b auf die Bestimmung der lonenzahl H zu minimieren, wird wie folgt vorgegangen: Die Signalhöhe Hf zu jeder Frequenz f bzw. jedem Masse-zu- Ladungs-Verhältnis m/z wird durch den folgenden Ausdruck bestimmt:
Hf (korrigiert) =K * Hf (unkorrigiert)*H1/ Σ Hf, wobei H1 die Signalhöhe aller in der lonenfalle stabil gespeicherten und angeregten Ionen, Hf (unkorrigiert) die Spektralhöhe bzw. die Signalhöhe des interessierenden Ions bzw. des zu untersuchenden ionisierten Bestandteils 3a, 3b, iHf- die Summe aller Signalhöhen der im gemessenen Spektrum
vorhandenen Spektrallinien und K einen von der Masse und der Frequenz unabhängigen Korrekturfaktor bezeichnet, in den die ermittelte Anzahl der zur Ionisierung bereitgestellten primären Ionen 13a, 14a, bzw. der metastabilen Teilchen 3b eingeht, und zwar derart, dass eine höhere ermittelte Anzahl einen kleineren Korrekturfaktor K bedingt und umgekehrt. Es versteht sich, dass bei einem lonisierungsgas 13, welches im Wesentlichen in Form von metastabilen Teilchen 13b (z.B. He*) vorliegt, in der Regel ausreichend ist, die Anzahl der metastabilen Teilchen 13b zu bestimmen und dass es bei einem lonisierungsgas 13, welches im Wesentlichen in Form von primären Ionen 13a (z.B. He+) vorliegt, in der Regel ausreichend ist, für die Kalibrierung deren Anzahl zu bestimmen.
Durch Erfassung der Höhe Hf des induzierten Signals auf den Messelektroden 21 multipliziert mit dem Anregungsgrad bzw. der Anzahl H1 aller in der lonenfalle stabil gespeicherten und angeregten Ionen 13a, 14a und unter Berücksichtigung des Korrekturfaktors K kann die tatsächliche Anzahl der in der lonenfalle 10 befindlichen ionisierten Bestandteile 3a, 3b des Gasgemischs 2 bei einem vorgegebenen Masse-zu-Ladungs-Verhältnis mit hoher Präzision, d.h. typischer Weise mit einer Ungenauigkeit von weniger als 5 % bestimmt werden. Der Anregungsgrad gibt das Verhältnis des Radius der Achterbahn- Bewegung zum Kernradius der lonenzelle an. Die oben beschriebene
Kalibrierung ist jederzeit, insbesondere während der eigentlichen Messung, bei beliebig ausgewählten Gassorten durchführbar.
Der oben dargestellte Vorgang kann grundsätzlich mehrmals bzw. beliebig oft wiederholt werden. Es kann jedoch vorteilhaft sein, wenn nach der Ionisation des Gasgemischs 2 die ionisierten Bestandteile 3a, 3b des Gasgemischs 2 in der lonenfalle 10 mehrfach angeregt werden, ohne dass hierbei eine erneute Ionisierung des Gasgemischs 2 erfolgt, wie nachfolgend anhand von Fig. 4 beschrieben wird.
Fig. 4 zeigt eine Darstellung einer Messung von ionisierten Bestandteilen 3a, 3b des Gasgemischs 2 in der lonenfalle 10, bei welcher nach dem Abschluss der Stoß- bzw. Ladungsaustauschionisation, die in Fig. 4 mit„I" bezeichnet ist, zu einem Zeitpunkt t0 eine Anregung (je nach Bedarf, 1 Mal bis einige Zehn Mal) der ionisierten Bestandteile 3a, 3b des Gasgemischs 2 mit Hilfe eines gepulsten Anregungssignals SA erfolgt. Während bzw. nach jeder Anregung wird ein Massenspektrum MS1 bis MSx über einen (im vorliegenden Beispiel) konstanten Zeitraum ATm1 bis ATmx (ca. 5 ms oder weniger), aufgenommen. Mit anderen Worten wird ein vorgegebenes Messfenster (mit konstanter Zeitdauer) mehrmals verschoben, um bei mehreren aufeinander folgenden Anregungen jeweils ein Massenspektrum MS1 bis MSx aufzunehmen, ohne dass erneut eine Ionisierung erfolgen muss.
Auf diese Weise kann eine sehr schnelle massenspektrometrische Analyse der in der lonenfalle 10 befindlichen gasförmigen Bestandteile 3a, 3b
vorgenommen werden, wodurch ein während der Messung ablaufender chemischer Prozess in Echtzeit beobachtet werden kann. Insbesondere können Analyten-Moleküle vermessen werden, bevor diese miteinander reagieren und es können Zwischenprodukte detektiert werden, die sich während einer chemischen Reaktion bilden. Ein Massenspektrometer 1 , bei dem das oben beschriebene Messprinzip angewendet wird, eignet sich insbesondere zur Verwendung für die chemische Prozessanalyse.
Zur Erhöhung des Dynamikbereichs (engl,„dynamic ränge"), d.h. des
Verhältnisses zwischen der maximal detektierbaren Signalstärke zur minimal detektierbaren Signalstärke des Massenspektrometers 1 kann eine Auswertung eines Massenspektrums erfolgen, wie sie nachfolgend anhand von Fig. 5a und Fig. 5b beschrieben wird.
Fig. 5a zeigt ein Massenspektrum, bei dem zur Erhöhung der Dynamik eine so genannte SWIFT-Anregung erfolgt, bei welcher größere lonenpopulationen, d.h. lonenpopulationen, bei denen die Teilchenzahl bei einem gegebenen Masse-zu-Ladungs-Verhältnis m/z über einem vorgegebenen Schweliwert SW (vgl. Fig. 5a) liegt, aus der lonenfalle 10 entfernt bzw. bei der Messung unterdrückt werden. Insbesondere kann mit Hilfe der SWIFT-Anregung ein Kammfilter realisiert werden, bei dem mehrere Untermengen von
lonenpopulationen, die jeweils unterschiedlichen Messbereichen MB1 bis MBx, d.h. mehreren Intervallen von Masse-zu-Ladungs-Verhältnissen, entsprechen, gleichzeitig vermessen werden, wie dies in Fig. 5a angedeutet ist.
Eine Erhöhung der Dynamik kann auch durch eine Messbereich-Umschaltung erfolgen, wie sie in Fig. 5b dargestellt ist. Dort wird das Massenspektrum in Messbereiche MB1 bis MBx mit jeweils unterschiedlichen Masse-zu-Ladungs- Verhältnissen unterteilt, wobei jeder Messbereich MB1 bis MBx zu einem unterschiedlichen Messzeitpunkt t1 bis tx ausgewertet wird. Durch eine solche zeitliche Umschaltung zwischen den Messbereichen MB1 bis MBx bzw. die auf diese Weise realisierte massenselektive zeitmultiplexe Messung kann ebenfalls der Dynamikbereich erhöht werden.
Es versteht sich, dass die in Zusammenhang mit Fig. 5a und Fig. 5b
beschriebenen Messmodi auch kombiniert werden können, um den
Dynamikbereich zu erhöhen. Auch komplexere Arten von Messverfahren als die hier beschriebenen können eingesetzt werden, um den Dynamikbereich weiter zu steigern. Bereits bei der Verwendung eines der beiden in
Zusammenhang mit Fig. 5a und Fig. 5b beschriebenen Messprinzipien kann ggf. ein Dynamikbereich des Massenspektrometers 1 von 108 : 1 oder darüber erreicht werden. Die Möglichkeit einer Akkumulation von einzelnen ionisierten Gasbestandteilen des Gasgemischs 2 in einer lonenfalle 10 kann in Kombination mit den oben beschriebenen Messverfahren zur Erhöhung des Dynamikbereichs genutzt werden, um die Nachweisgrenze des Massenspektrometers zu senken. Hierbei wird ausgenutzt, dass lonenfallen-Massenspektrometer diskontinuierlich arbeiten und erst nach einer vorgegebenen Akkumulationszeit (beispielsweise weniger als ca. 5 ms) eine Analyse der lonenzahl stattfindet. Durch
Kombination der oben beschriebenen Methoden zur Erhöhung der Dynamik (SWIFT bzw. zeitmultiplexte Messung, vgl. Fig. 5a und Fig. 5b) mit der
Akkumulationsfähigkeit der lonenfalle 10 können einzelne Ionen akkumuliert werden, bis ein ausreichend großes Messsignal vorhanden ist. Bei bekanntem (kalibriertem) Messsignal und bekannter Akkumulationszeit kann die zu untersuchende lonenpopulation quantitativ bestimmt werden. Auf diese Weise kann die Nachweisgrenze des Massenspektrometers bis auf 0"15 mbar oder darunter gesenkt werden.
Neben den weiter oben beschriebenen Typen von lonenfallen können auch andere Typen von lonenfallen in dem Massenspektrometer 1 zum Einsatz kommen, die eine dreidimensionale Speicherung bzw. Akkumulation von Ionen sowie eine Auswertung über eine Fouriertransformation erlauben,
beispielsweise eine Penning-Falle, Toroid-Falle, Paul-Falle, lineare Falle, Orbitrap, EBIT und RF-Buncher.
Das oben beschriebene Massenspektrometer 1 kann in verschiedenen
Anwendungsgebieten Verwendung finden. Neben der chemischen
Prozessanalyse, die bereits im Zusammenhang mit Fig. 4 als mögliche
Anwendung beschrieben wurde, kann das Massenspektrometer 1
beispielsweise in der EUV-Lithographie zur Analyse des in einem EUV-System, beispielsweise einer E=UV-Lithographieanlage, befindlichen Restgases, verwendet werden, um die Konzentration bzw. die Menge von kontaminierenden Stoffen in der dort vorhandenen Restgasatmosphäre zu bestimmen.
In Fig. 6 ist schematisch eine solche EUV-Lithographieanlage 101 gezeigt. Die EUV-Lithographieanlage 101 weist ein Strahlungserzeugungssystem 102, ein Beleuchtungssystem 103 und einem Projektionssystem 104 auf, die in separaten Vakuum-Gehäusen untergebracht und aufeinander folgend in einem von einer EUV-Lichtquelle 105 des Strahlungserzeugungssystems 102 ausgehenden Strahlengang der von der EUV-Lichtquelle 105 erzeugten EUV- Strahlung 106 angeordnet sind. Als EUV-Lichtquelle 105 kann beispielsweise eine Plasmaquelle oder ein Synchrotron dienen. Die aus der EUV-Lichtquelle 105 austretende Strahlung im Wellenlängenbereich zwischen ca. 5 nm und ca. 20 nm wird zunächst in einem Kollimator 107 gebündelt. Mit Hilfe eines nachfolgenden Monochromators 108 wird durch Variation des Einfallswinkels, wie durch einen Doppelpfeil angedeutet, die gewünschte Betriebswellenlänge λΒ herausgefiltert, die im vorliegenden Beispiel bei ca. 13,5 nm liegt. Der Kollimator 107 und der Monochromator 108 sind als reflektive optische
Elemente ausgebildet.
Die im Strahlungserzeugungssystem 102 im Hinblick auf Wellenlänge und räumliche Verteilung behandelte EUV-Strahlung wird in das
Beleuchtungssystem 103 eingeführt, welches ein erstes und zweites reflektives optisches Element 109, 1 10 (Spiegel) aufweist. Die beiden reflektiven optischen Elemente 109, 1 10 leiten die Strahlung auf eine Photomaske 1 1 1 als weiterem reflektiven optischen Element, welches eine Struktur aufweist, die mittels des Projektionssystems 104 in verkleinertem Maßstab auf einen Wafer 1 12 abgebildet wird. Hierzu sind im Projektionssystem 104 ein drittes und viertes reflektives optisches Element 1 13, 1 14 (Spiegel) vorgesehen.
Die reflektiven optischen Elemente 109, 1 10, 11 1 , 1 13, 1 14 weisen jeweils eine optische Oberfläche auf, die der EUV-Strahlung 106 der Lichtquelle 105 ausgesetzt ist. Die optischen Elemente 109, 1 10, 1 1 1 , 1 13, 1 14 werden jeweils unter Vakuum-Bedingungen in einer Restgasatmosphäre 102a des
Strahlungserzeugungssystems 102, einer Restgasatmosphäre 103a des Beleuchtungssystems 103 sowie einer Restgasatmosphäre 104a des
Projektionssystems 104 betrieben, in der typischer Weise ein geringer Anteil an Luft, Wasserstoff (Hb) und/oder Helium (H2) sowie ggf. von weiteren Restgasen vorhanden ist. Da sich der Innenraum der EUV-Lithographieanlage 1 nicht ausheizen lässt, kann das Vorhandensein von unerwünschten
kontaminierenden Bestrandteilen in der jeweiligen Restgasatmosphäre 102a, 103a, 104a nicht vollständig vermieden werden.
Im Betrieb der EUV-Lithographieanlage 1 erzeugt eine
Vakuumerzeugungseinheit, die eine Vakuum-Pumpe 1 15 umfasst, in dem Projektionssystem 104 ein Restgasatmosphäre 104a mit einem Gesamtdruck von typischer Weise mehr als 10~5 mbar. Entsprechend kann auch ein Vakuum bzw. eine Restgasatmosphäre 103a, 102a im Beleuchtungssystem 103 bzw. im Strahlungserzeugungssystem 102 erzeugt werden.
Um den Anteil von kontaminierenden Stoffen in der Restgasatmosphäre 04a des Projektionssystems 104, insbesondere in der Nähe des zweiten Spiegels 1 14 insgesamt und/oder für jeden kontaminierenden Stoff einzeln zu
bestimmen, ist an dem Projektionssystem 104 ein Massenspektrometer 1 angeflanscht, welches wie weiter oben beschrieben ausgebildet ist, d.h.
welches einen Einlass 6 aufweist, um das in dem Projektionssystem 102 befindliche Restgasgemisch direkt, d.h. ohne eine vorherige Ionisierung, in eine als Messzelle dienende, in einer Messkammer 7 angeordnete lonenfalle 10 einzubringen, um dieses dort beispielsweise durch einen Ladungsaustausch oder eine Stoßionisation zu ionisieren.
Der Einlass 6 bildet eine Vakuumverbindung zwischen der Restgasatmosphäre 102a des Projektionssystems 102 und dem Massenspektrometer 1 . Der Einlass 6, d.h. die Vakuumverbindung (Vakuumrohr), weist einen Querschnitt A von weniger als 100 mm, bevorzugt von weniger als 5 mm, insbesondere von weniger als 1 mm auf. Wie in Fig. 1 gezeigt ist, kann das Massenspektrometer 1 eine bzw. mehrere Blenden aufweisen, um sicherzustellen, dass der
Restgasdruck hin zur lonenfalle 10 bis auf <. 10"5 mbar abnimmt, damit ein herkömmlicher Restgasanalysator zur Restgasanalyse verwendet werden kann.
Wie in Fig. 6 ebenfalls zu erkennen ist, beträgt ein Abstand D zwischen dem zweiten Spiegel 1 14 und einer Anbindungsposition Ps des
Massenspektrometers 1 , welche an dem Gehäuse der Projektionsoptik 102 in der Mitte der Vakuumverbindung bzw. des Einlasses 6 gebildet ist, weniger als 50 cm. Dies ist günstig, um den Anteil bzw. den Partialdruck von
kontaminierenden Stoffen, die in der Nähe des zweiten Spiegels 1 14, genauer gesagt in der Nähe von dessen optischer Oberfläche, vorhanden sind, möglichst präzise detektieren zu können. Bei der massenspektrometrischen Untersuchung kann insbesondere mindestens einer der folgenden
kontaminierenden Stoffe bzw. deren Gemische gemessen bzw. nachgewiesen werden: Sauerstoff (O2), Ozon (O3), Wasser (H2O), CxHYOz, typischer Weise bis 10 Mamu, und Metall-CxHyOz-Verbindungen, typischer Weise bis 10 Mamu.
Zusätzlich oder alternativ kann ein weiteres Massenspektrometer bzw. das Massenspektrometer 1 an einer Anbindungsposition PB des
Beleuchtungssystems 103 vorgesehen sein, die in einem Abstand D von weniger als 50 cm von einem der dort angeordneten Spiegel 109, 110, beispielsweise vom ersten Spiegel 109 angeordnet ist.
Entsprechend kann das Massenspektrometer 1 bzw. ein weiteres
Massenspektrometer an einer ersten Anbindungsposition PLi in dem
Strahlungserzeugungssystem 102 angeordnet werden, welche in einem
Abstand von weniger als 1 m, bevorzugt von weniger als 50 cm von einer Durchtrittsöffnung 1 16 für den Durchtritt der EUV-Strahlung 106 in das Beleuchtungssystem 103 entfernt angeordnet ist. Das Massenspektrometer 1 kann auch an einer zweiten Anbindungsposition PL2 angebracht sein, welche in einem entsprechenden Abstand D von weniger als 100 cm, bevorzugt von weniger als 50 cm von dem Kollektor 107 (typischer Weise in Form eines Kollektor-Spiegels) angeordnet ist, oder an einer dritten Anbindungsposition Pi_3, welche in einem Abstand von weniger als 100 cm, bevorzugt von weniger als 50 cm von der EUV-Lichtquelle 105 entfernt angeordnet ist. Auf die oben beschriebene Weise ist es möglich, das Kontaminationsniveau in der Nähe der jeweiligen optischen Elemente 1 4, 109, 1 16, 107 bzw. der EUV-Lichtquelle 105 mit hoher Präzision zu bestimmen.
In Fig. 7 ist schematisch eine Vorrichtung 201 zur Atomlagenabscheidung auf einem Substrat 202 (hier: Silizium-Wafer) gezeigt, das auf einem Halter 203 in einem Innenraum 204 einer Prozess-Kammer 205 (Reaktionskammer) angeordnet ist. Sowohl der Halter 203 als auch die Wände der Prozess- Kammer 205 können auf (ggf. unterschiedliche) Temperaturen aufgeheizt werden. Der Halter 203 kann mit einem Motor in Verbindung stehen, um das Substrat 202 bei der Beschichtung in eine Rotationsbewegung zu versetzen. Die Vorrichtung 201 umfasst auch einen Behälter 206, in dem ein
metallorganisches Precursor-Material enthalten ist, bei dem es sich im vorliegenden Beispiel um Tetrakis-(ethylmethylamino)Hafnium (TEMAH) oder einen anderen Metalorganischen Precursor handelt. Um das Precursor-Material aus dem Behälter 206 in die Prozess-Kammer 205 zu verbringen wird ein inertes Trägergas, z.B. Argon oder Wasserstoff verwendet, welches dem
Behälter 206 über ein steuerbares Ventil 207 zuführbar ist. Ein weiterer
Behälter 208 dient der Bereitstellung von Ozon-Gas O3 oder einem anderen Dotier-Gas als Reaktand bei der Atomlagendeposition.
Das Trägergas mit dem Precursor und das Dotier-Gas, beispielsweise das Ozon-Gas, können jeweils über einen steuerbaren Einlass in Form eines steuerbaren Ventils 209a, 209b in die Prozess-Kammer 205 eingeleitet werden. In der Kammer 205 ist eine Verteiler-Mannigfaltigkeit 210 angeordnet, um das eintretende Gas möglichst homogen in Richtung auf das Substrat 202 zu verteilen. Über die steuerbaren Ventile 209a, 209b kann der Prozess-Kammer 205 auch ein Spülgas, z.B. Argon, zugeführt werden, um die Prozess-Kammer 205 sowie die jeweiligen Zuleitungen zu spülen. Ein weiteres steuerbares Ventil 21 1 , welches einen Gasauslass bildet, steht mit einer Vakuum-Pumpe 212 in Verbindung, um die Gase aus der Prozess-Kammer 205 zu entfernen. Zur Überwachung der Restgasatmosphäre in der Prozess-Kammer 205 ist ein Massenspektrometer 1 an einer Einbindungsposition EE in einer Vakuumleitung eines hinter dem Auslass-Ventil 21 1 gebildeten Gasentsorgungssystems 213 angeordnet, und zwar unmittelbar vor der Vakuumpumpe 212. Auch das Anbringen des Massenspektrometers 1 an einer Einbindungsposition EQ in einer Abgasleitung des Gasentsorgungssystems 213 nach der Vakuumpumpe 212 ist möglich.
Zusätzlich oder alternativ kann ein Massenspektrometer 1 auch an einer Einbindungsposition EA, EB in einem Gasversorgungssystem 216 zur Zuführug der Reaktanden in die Prozess-Kammer 205 gebildet sein, beispielsweise in einer jeweiligen Zuführungsleitung 216a, 216b. Zusätzlich oder alternativ kann ein Massenspektrometer 1 auch an einer Einbindungsposition Ec eines
Gasmischsystems 215 integriert sein, d.h. in eine Zuführungsleitung, die hinter einer Vereinigungsstelle der beiden Zuführungsleitungen 216a, 216b gebildet ist. Letzteres ist günstig, da beim hier beschriebenen Beschichtungsprozess die beiden Zuführungsleitungen 216a, 216b nicht gleichzeitig für die Zuführung eines Gases zu der Prozess-Kammer 205 genutzt werden. Auch eine
Einbindungsposition ED in der Verteiler-Mannigfaltigkeit 210 ist möglich, wobei die Einbindungsposition ED in diesem Fall bevorzugt in einem Abstand D von weniger als 1 m, insbesondere von weniger als 50 cm von der Prozess- Kammer 205 beabstandet ist. Zusätzlich oder alternativ kann das
Massenspektrometer 1 bzw. ein weiteres Massenspektrometer 1 auch wie im Zusammenhang mit Fig. 6 beschrieben an einer Einbindungsposition EF an dem Gehäuse der Prozess-Kammer 205 angebunden werden.
Das Massenspektrometer 1 dient der Detektion bzw. der Bestimmung der Menge bzw. des Partialdrucks mindestens eines gasförmigen Bestandteils, der in der Restgasatmosphäre der Kammer 205 enthalten ist (Einbindungsposition EF) bzw. in der Kammer 205 enthalten sein wird (Einbindungsposition EA, EB, Ec, ED vor der Prozess-Kammer 205) bzw. enthalten war (Einbindungsposition EE , EQ nach der Prozess-Kammer 205). Wie anhand des in dem
Gasentsorgungssystem 215 angeordneten Massenspektrometers 1 gezeigt ist, weist dieses eine lonenfalle 10 auf, in der das zu untersuchende Gas bzw. Gasgemisch beispielsweise durch einen Ladungsaustausch oder eine
Stoßionisation ionisiert werden kann. Um eine Gasströmung der ionisierten Gasbestandteile in die lonenfalle 10 zu bewirken, kann das
Massenspektrometer 1 mit einer (nicht gezeigten) Vakuum-Pumpe in
Verbindung stehen. Die Detektion der in der lonenfalle 10 gespeicherten Ionen kann direkt in der lonenfalle 10 erfolgen.
Für das Aufbringen einer Beschichtung 214 aus Hafniumoxid (Hf02) auf das Substrat 202 wird wie folgt vorgegangen: Zunächst wird der Prozess-Kammer 205 das Trägergas mit dem TEMAH-Precursor über das erste Ventil 209a zugeführt. Danach wird das erste Ventil 209a umgeschaltet und der Prozess- Kammer 205 über das erste Ventil 209a das Spülgas zugeführt (vgl. Pfeil) und dieses wird gemeinsam mit den Resten des Trägergases bzw. des Precursors über das geöffnete Austritts-Ventil 21 1 mittels der Vakuum-Pumpe 212 abgesaugt. Nach dem Spülen wird das Austritts-Ventil 21 1 geschlossen und über das zweite Ventil 209b Ozon bzw. ein Dotier-Gas in die Kammer 205 eingeleitet, welches an der frei liegenden Oberfläche des Substrats 202 mit dem Precursor eine chemische Reaktion eingeht. Anschließend erfolgt ein Spülen der Kammer 205 mittels des Spülgases, welches der Kammer über das zweite Ventil 209b (vgl. Pfeil) zugeführt und gemeinsam mit den Ozon- oder Dotiergas-Resten bzw. ggf. gebildeten Reaktionsprodukten mittels der Vakuum- Pumpe 212 bei geöffnetem Austritts-Ventil 21 1 abgesaugt wird. Bei dem oben beschriebenen Vorgang wird eine Monolage aus Hafniumoxid auf dem Substrat 202 abgeschieden. Nach dem Schließen des Austritts-Ventils 21 1 kann dieser Vorgang mehrmals wiederholt werden, und zwar so lange, bis die HfO2- Beschichtung 214 eine gewünschte Dicke d erreicht hat.
Die Zeitdauer der Zuführung des Trägergases mit dem Precursor, die Zeitdauer der Zuführung des Ozon- oder Dotier-Gases und die Zeitdauer des
Spülvorgangs liegen typischer Weise im Bereich von Sekunden. Eine
Steuereinrichtung 215 dient der Ansteuerung der Ventile 207, 209a, 209b, 21 1 , um zwischen den oben beschriebenen Schritten des Abscheidungs-Prozesses umzuschalten. Es versteht sich, dass die Steuereinrichtung 215 die Ventile 207, 209a, 209b, 21 1 nicht nur zwischen einer geöffneten Stellung und einer geschlossenen Stellung umschalten kann, sondern dass ggf. auch der
Massenstrom, der durch die jeweiligen Ventile 207, 209a, 209b, 21 fließt, mittels der elektronischen Steuereinrichtung 215 gesteuert werden kann.
Der Gesamtdruck des Restgases in der Prozess-Kammer 205 liegt typischer Weise zwischen ca. 10"3 mbar und 1000 mbar, wobei auch vergleichsweise hohe Gesamt-Drücke von mehr als 500 mbar oder mehr als 900 mbar möglich sind. Der Gesamtdruck in der Kammer 205 kann mittels eines (nicht gezeigten) Drucksensors überwacht und ggf. mittels der Steuereinrichtung 215 durch eine geeignete Steuerung der Ventile 207, 209a, 209b, 21 1 modifiziert werden.
Die Detektion der gasförmigen Bestandteile, genauer gesagt die Ermittlung der Menge bzw. des Partialdrucks eines jeweils detektierten gasförmigen
Bestandteils kann zur Steuerung bzw. zur Regelung des
Abscheidungsprozesses genutzt werden. Beispielsweise kann anhand der Konzentration des metallorganischen Precursors oder von prozessrelevanten Reaktanden wie Ozon, Dotiergas oder ggf. Matallorganika und/oder H2O in der Restgasatmosphäre erkannt werden, wann der Spülschritt beendet werden kann (z.B. sobald der jeweilige Partialdruck unter einen vorgegebenen
Grenzwert fällt). Die mit dem Prozessgasanalysator 213a signaltechnisch verbundene Steuereinheit 215 kann dann das jeweilige Einiass-Ventil 209a, 209b bzw. das Auslass-Ventil 21 1 zu geeigneten Zeitpunkten öffnen bzw.
schließen und so die für den Spülschritt verwendete Zeitdauer optimieren. Es versteht sich, dass analog auch eine Optimierung der Zeitdauer der beiden oben beschriebenen Zuführungsschritte möglich ist.
Mit Hilfe des Massenspektrometers 1 kann nicht nur eine Prozessoptimierung bei der Atomlagendeposition erfolgen, vielmehr kann eine Optimierung auch bei anderen Beschichtungsprozessen durchgeführt werden, beispielsweise bei der Durchführung eines (ggf. plasmaunterstützten) CVD-Prozesses, eines metallorganischen CVD-Prozesses, bei der metallorganischen chemischen Gasphasenepitaxie oder bei der Molekularstrahlepitaxie, welche typischer Weise ebenfalls in der (ggf. geringfügig modifizierten) Vorrichtung 1 von Fig. 1 durchgeführt werden können. Gleiches gilt für Beschichtungsprozesse, die auf einer physikalischen Gasphasenabscheidung beruhen. In allen diesen Fällen können die Prozessparameter (Temperatur, Druck, etc.) anhand der
delektierten Gasbestandteile in der Restgasatmosphäre geeignet angepasst bzw. optimiert werden.
Bei der Verwendung des Massenspektrometers 1 in einer Beschichtungsanlage kann bei der massenspektrometrischen Untersuchung insbesondere
mindestens einer der folgenden Stoffe, deren Gemische und/oder
Reaktionsprodukte, Cluster und/oder Verbindungen gemessen bzw.
nachgewiesen werden: H2, He, N2, O2, PH3, AsH3, B, P, As, CH4, CO, CO2, Ar, SCI4, SiHCI3, SiH2CI2, H2O, CxHy, TrimethylGa, TriethylGa, TrimethylAI, TriethylAI, Trimethylln, Triethylln, Cp2Mg, SiH4, Si2H6, Tetrabutylammonium, TetrabutylSilan, Xe isotrope, Kr Isotrope, Hexamethyldisiloxan, Tert-Butylarsin, Trimethylarsin, Diethyl-tert-Butylarsin, Diethyl-tert-Butylphosphin, Di-tert- Butylphosphin, Tert-Butylhydrazin, Dimethylhydrazin, Indium, Aluminium, Gallium, Bor, Silizium, Gold, Antimon, Bismut.
Der mindestens eine Stoff, das Gemisch, das Reaktionsprodukt, der Cluster und/oder die Verbindung kann insbesondere bei einer Temperatur in der Prozess-Kammer 205 zwischen 15°C und 5000°C, bevorzugt zwischen 100°C und 2000°C und bei einem Druck in der Prozess-Kammer 205 zwischen 10"10 mbar und 5 bar, bevorzugt zwischen 10~8 mbar und 1 bar gemessen bzw.
nachgewiesen werden.
Insbesondere bei der Verwendung des Massenspektrometers 1 zur
Untersuchung eines (Prozess-)Gasgemischs bei einem Beschichtungsprozess kann es günstig sein, wenn das Massenspektrometer 1 eine
Selbstreinigungsfunktion aufweist, um Bestandteile des Prozessgases zu entfernen, die sich in der Messkammer 7 bzw. der lonenfalle 10 ablagern. Eine Möglichkeit zur Realisierung einer solchen in-situ Selbstreinigung ist in der WO 02/00962 A1 beschrieben, in der zum Entfernen von Ablagerungen, die von Prozessgasen erzeugt werden, ein Reinigungsgas eingesetzt wird. Das
Reinigungsgas kann bei dem Massenspektrometer 1 von Fig. 1 in der
Plasmaquelle 18 in ein Plasma überführt werden, indem dieser an Stelle des lonisierungsgases 13 das Reinigungsgas über eine (nicht gezeigte)
Gaszuführung zugeführt wird. Das ionisierte bzw. angeregte Reinigungsgas tritt auf demselben Weg wie das lonisierungsgas 13 in die lonenfalle 10. Ggf. kann das Reinigungsgas auch über eine weitere (nicht gezeigte) Gaszuführung in die Messkammer 7 eintreten und dort mit den Ablagerungen ein gasförmiges Reinigungsprodukt bilden, welches aus der lonenfalle 10 bzw. aus der
Messkammer 7 ausgetragen werden kann.
Insbesondere wenn die lonenfalle 10 als elektrische FT-ICR-Falle ausgebildet ist, welche einen geringen Bauraum benötigt, kann das Massenspektrometer 1 auch bei Anwendungen zum Einsatz kommen, bei denen der Bauraum eine große Rolle spielt, z.B. bei MOCVD-Prozessen oder dergleichen.
Es versteht sich, dass das Massenspektrometer 1 aufgrund seiner oben beschriebenen Eigenschaften auch auf anderen Gebieten, beispielsweise bei anderen Beschichtungs- bzw. Ätz- und Implantationsprozessen, bei der Gasanalyse, bei Dopingkontrollen, in kriminaltechnischen Untersuchungen etc. Verwendung finden kann.
Neben der Verwendung des oben beschriebenen Massenspektrometers zur massenspektrometrischen Untersuchung von Gasen ist es auch möglich, das Massenspektrometer auf dem Gebiet der Schwingungsdetektion bzw. der Schwingungsanalyse von typischer Weise mechanischen Schwingungen zu verwenden. Bei den Schwingungen kann es sich insbesondere um
Eigenschwingungen eines Set-Ups bzw. einer Vorrichtung handeln, in die das Massenspektrometer verbaut ist, d.h. die Schwingungen werden am Einsatzort des Massenspektrometers detektiert und das Massenspektrometer wird als Schwingungssensor genutzt. Zu diesem Zweck wird mit dem
Massenspektrometer ein Spektrum innerhalb eines Frequenzbereichs aufgenommen, in dem die zu analysierenden Schwingungsfrequenzen liegen. Dieses Frequenzspektrum kann beispielsweise zwischen ca. 1 Hz und ca. 15 KHz liegen. Innerhalb dieses Frequenzbereichs liegt typischer Weise eine Mehrzahl von Störfrequenzen, die durch mechanische Schwingungen erzeugt werden und die durch die Messelektroden beispielsweise einer FT-Ionenfalle, insbesondere einer FT-ICR-Falle, erfasst und analysiert werden können. Zur Analyse der Schwingungen kann beispielsweise ein Frequenzspektrum aufgenommen werden, sobald das Massenspektrometer in die Vorrichtung eingebaut wird. Wenn die Vorrichtung zum Zeitpunkt des Einbaus in Ordnung war, kann dieses Frequenzspektrum als Referenzspektrum dienen. Zu einem späteren Zeitpunkt bzw. zu mehreren späteren Zeitpunkten kann die Messung des Frequenzspektrums wiederholt werden und das gemessene Frequenzspektrum kann mit dem Referenzspektrum verglichen werden. Wird in dem gemessenen Frequenzspektrum eine bzw. werden mehrere zusätzliche Linien bzw. Peaks detektiert, ist dies ein Hinweis darauf, dass irgendwo in der Vorrichtung unerwünschte Schwingungen auftreten, die z.B. auf mechanische Probleme zurückzuführen sind. Bei den Schwingungen kann es sich
beispielsweise um unerwünschte Eigenschwingungen von Schleif- bzw.
Kugellagern handeln, die in der Nähe des Massenspektrometers angeordnet sind, oder um Schwingungen, die von einem Netzteil verursacht werden (Netzbrummen). Beispielsweise können bei der in Fig. 7 dargestellten
Beschichtungsanlage 201 die Eigenfrequenzen f der in der Nähe des
Massenspektrometers 1 angeordneten Vakuum-Pumpe 212, insbesondere von deren Schleif- bzw. Kugellagern, detektiert bzw. analysiert werden.

Claims

Patentansprüche
1 . Massenspektrometer (1 ) zur massenspektrometrischen Untersuchung von Gasgemischen (2), umfassend:
eine lonisierungseinrichtung (12), sowie
eine lonenfalie ( 0) zur Speicherung und zur massenspektrometrischen Untersuchung des Gasgemischs (2),
dadurch gekennzeichnet,
dass die lonisierungseinrichtung (12) zur Zuführung von Ionen (13a) und/oder von metastabilen Teilchen (13b) eines lonisierungsgases (13) und/oder von Elektronen (20a) zu der lonenfalie (10) für die Ionisierung des zu untersuchenden Gasgemischs (2) ausgebildet ist, und
dass das Massenspektrometer (1 ) ausgebildet ist, vor der Untersuchung des Gasgemischs (2) die in der lonenfalie (10) vorhandene Anzahl von Ionen (13a) und/oder von metastabilen Teilchen (13b) des
lonisierungsgases (13) und/oder die Anzahl von Ionen (14a) eines in der lonenfalie (10) vorhandenen Restgases (14) zu ermitteln.
2. Massenspektrometer nach Anspruch 1 , welches einen steuerbaren Einlass (5, 6) zum gepulsten Zuführen des zu untersuchenden Gasgemischs (2) zu der lonenfalie (10) aufweist und welches ausgebildet ist, die Teilchenzahl von zu untersuchenden ionisierten Bestandteilen (3a, 3b) des der lonenfalie (10) gepulst zugeführten Gasgemischs (2) unter Berücksichtigung der ermittelten Anzahl von Ionen (13a) und/oder von metastabilen Teilchen (13b) des lonisierungsgases (13) und/oder der ermittelten Anzahl von Ionen (14a) des Restgases (14) zu bestimmen.
3. Massenspektrometer nach Anspruch 1 oder 2, welches ausgebildet ist, die Teilchenzahl eines zu untersuchenden ionisierten Bestandteils (3a, 3b) des Gasgemischs (2) in der lonenfalle (10) mit einer Ungenauigkeit von weniger als 5% zu bestimmen.
4. Massenspektrometer nach dem Oberbegriff von Anspruch , insbesondere nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die
lonisierungseinrichtung (12) zur Zuführung von metastabilen Teilchen (13b) eines lonisierungsgases ( 3) in Form eines metastabilen Edelgases ausgebildet ist.
5. Massenspektrometer nach Anspruch 4, welches zur Aufnahme von
mindestens 10 Spektren/s mit einer Massenbandbreite von jeweils mindestens 500 amu, bevorzugt von mindestens 1000 amu ausgebildet ist.
6. Massenspektrometer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die lonisierungseinrichtung (12) eine Plasmaquelle (18) zur Erzeugung der Ionen (13a) und/oder der metastabilen Teilchen (13b) des
lonisierungsgases (13) aufweist.
7. Massenspektrometer nach Anspruch 6, bei dem die Plasmaquelle (18) zur Erzeugung von Ionen (13a) und/oder metastabilen Teilchen (13b) des lonisierungsgases (13) bei einer Temperatur von weniger als 100°C ausgebildet ist.
8. Massenspektrometer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die lonisierungseinrichtung (12) zur Erzeugung der Elektronen (20a) eine Elektronstrahlquelle (20) aufweist.
9. Massenspektrometer nach dem Oberbegriff von Anspruch 1 , insbesondere nach einem der vorhergehenden Ansprüche, welches ausgebildet ist, selektiv ionisierte Bestandteile (3a, 3b) des Gasgemischs (2) aus der lonenfalle (10) zu entfernen oder zu unterdrücken, deren Anzahl in der lonenfalle
(10) einen Schwellwert (SW) überschreitet. l O. IVlassenspektrometer nach dem Oberbegriff von Anspruch 1 , insbesondere nach einem der vorhergehenden Ansprüche, welches ausgebildet ist, selektiv ionisierte zu untersuchende Bestandteile (3a, 3b) des Gasgemischs (2) in vorgegebenen Messbereichen (MB1 , MBx) des Masse-zu- Ladungsverhältnisses (m/z) zu detektieren.
1 1 . Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 9 oder 10, welches einen Dynamikbereich von 108 oder darüber aufweist.
12. Massenspektrometer nach einem der Ansprüche 9 bis 1 1 , bei dem die
lonenfalle (10) zur Akkumulation von einzelnen ionisierten Gasbestandteilen (3a, 3b) des Gasgemischs (2) ausgebildet ist und das Massenspektrometer (1 ) eine Nachweisgrenze von 10~15 mbar oder weniger aufweist.
13. Massenspektrometer (1 ), insbesondere nach einem der vorhergehenden Ansprüche, welches eine Druckreduzierungseinheit (1 1 ) mit mindestens einer, bevorzugt mindestens zwei, insbesondere drei oder mehr in Serie schaltbaren modularen Druckstufen (1 1 a-c) zur Reduzierung des Gasdrucks (Po) des zu untersuchenden Gasgemischs (2) aufweist.
14. Massenspektrometer nach Anspruch 13, welches zur Untersuchung von Gasgemischen (2) mit einem Gasdruck (p0) zwischen 105 mbar und 10"15 mbar ausgebildet ist.
15. Massenspektrometer nach dem Oberbegriff von Anspruch 1 , insbesondere nach einem der vorhergehenden Ansprüche, welches ausgebildet ist, ionisierte zu untersuchende Bestandteile (3a, 3b) des Gasgemischs (2) in der lonenfalle (10) mehrmals anzuregen und bei jeder Anregung während einer vorgegebenen Zeitdauer (ΔΤΙΎΙ-Ι, ... ΔΤιτΐχ) ein Massenspektrum (MS1 ,
MSx) der ionisierten zu untersuchenden Bestandteile (3a, 3b)
aufzunehmen.
16. Massenspektrometer nach Anspruch 15, bei dem die Zeitdauer (ÄTm-i, ...
ΔΤιηχ) zur Aufnahme eines Massenspektrums (MS1 , MSx) bei 5 ms oder weniger liegt.
17. Massenspektrometer nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die lonenfalle (10) ausgewählt ist aus der Gruppe umfassend:
Fouriertransformations-Ionenfalle, insbesondere Fouriertransformation- lonenzyklotronresonanz-Falle, Penning-Falle, Toroid-Falle, Paul-Falle, lineare Falle, Orbitrap, EBIT und RF-Buncher.
18. Verwendung des Massenspektrometers (1 ) nach einem der
vorhergehenden Ansprüche zur massenspektrometrischen Untersuchung eines Gasgemischs (2) in der EUV-Lithographie, insbesondere in einer EUV-Lithographieanlage (101 ).
19. Verwendung nach Anspruch 18, bei dem eine Anbindungsposition (Ps) des Massenspektrometers (1 ) in einer Projektionssystem (102) der EUV- Lithographieanlage (101 ) in einem Abstand (D) von weniger als 50 cm von mindestens einem Spiegel (1 14) des Projektionssystems (102), eine
Anbindungsposition (PB) in einem Beleuchtungssystem (103) der EUV- Lithographieanlage (101 ) in einem Abstand (D) von weniger als 50 cm von mindestens einem Spiegel (109) des Beleuchtungssystems (103) oder eine Anbindungsposition (PLi, PL.2, L3) in einer Strahlungserzeugungssystem (102) der EUV-Lithographieanlage (101 ) in einem Abstand (D) von weniger als 1 m, bevorzugt von weniger als 50 cm von einem Kollektor (107), einer EUV-Lichtquelle (105) oder einer Öffnung (1 16) zum Durchtritt von EUV- Strahlung (106) von der Strahlungserzeugungssystem (102) in das
Beleuchtungssystem (103) gebildet ist.
20. Verwendung nach Anspruch 18 oder 19, bei weicher das
Massenspektrometer (1 ) von einem eine Restgasatmosphäre (102a, 103a, 104a) aufweisenden Gehäuse (102, 103, 104) der EUV-Lithographieaniage (101 ) durch eine Vakuumverbindung (6) getrennt ist, wobei die
Vakuumverbindung (6) einen Querschnitt von weniger als 100 mm, bevorzugt von weniger als 5 mm, insbesondere von weniger als 1 mm aufweist.
21 . Verwendung nach einem der Ansprüche 18 bis 20, bei welcher in einer insbesondere Wasserstoff und/oder Helium und/oder Luft enthaltenden Restgasatmosphäre (102a, 103a, 104a) der EUV-Lithographieanlage (101 ) bei der massenspektrometrischen Untersuchung mindestens einer der folgenden kontaminierenden Stoffe oder deren Gemische gemessen werden: Sauerstoff, Ozon, Wasser, CxHyOz bis 10 Mamu, Partikel bis 10 Mamu, Metall-CxHyOz-Verbindungen bis 10 Mamu.
22. Verwendung des Massenspektrometers (1 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 17 zur massenspektrometrischen Untersuchung eines Gasgemischs (2) bei einem Beschichtungsprozess in einer Beschichtungsanlage (201 ).
23. Verwendung nach Anspruch 19, bei welcher der Beschichtungsprozess ausgewählt ist aus der Gruppe umfassend: CVD, MOCVD, MOVPE, PECVD, ALD, PVD, Ätz- und Implantationsprozesse, sowie MBE-Prozesse.
24. Verwendung nach Anspruch 22 oder 23, bei welcher eine
Einbindungsposition (EA bis EQ) des Massenspektrometers (1 ) in der Beschichtungsanlage (201 ) in einem Gasversorgungssystem (216), in einem Gasmischsystem (215), oder in einem Gasentsorgungssystem (213), insbesondere vor oder nach einer Vakuumpumpe (212) des Gasentsorgungssystems (213), und/oder in einem Abstand (D) von weniger als 1 m, bevorzugt von weniger als 50 cm von einer Prozess-Kammer (205) gebildet ist.
25. Verwendung nach einem der Ansprüche 22 bis 24, dadurch
gekennzeichnet, dass bei der massenspektrometrischen Untersuchung mindestens einer der folgenden Stoffe, deren Gemische und/oder
Reaktionsprodukte, Cluster und/oder Verbindungen gemessen werden: H2, He, N2, 02, PH3, AsH3, B, P, As, CH4, CO, C02) Ar, SCI4, SiHCI3!
SiH2CI2, H20, CxHy, TrimethylGa, TriethylGa, TrimethylAI, TriethylAI,
Trimethylln, Triethylln, Cp2Mg, SiH4, Si2H6, Tetrabutylammonium,
TetrabutylSilan, Xe Isotrope, Kr Isotrope, Hexamethyldisiloxan, Tert- Butylarsin, Trimethylarsin, Diethyl-tert-Butylarsin, Diethyl-tert-Butylphosphin, Di-tert-Butylphosphin, Tert-Butylhydrazin, Dimethylhydrazin, Indium,
Aluminium, Gallium, Bor, Silizium, Gold, Antimon, Bismut.
26. Verwendung nach Anspruch 25, bei welcher der mindestens eine Stoff, das Gemisch, das Reaktionsprodukt, der Cluster und/oder die Verbindung bei einer Temperatur in der Prozess-Kammer (205) zwischen 15°C und 5000°C, bevorzugt zwischen 100°C und 2000°C und bei dem Druck in der Prozess- Kammer (205) zwischen 10"10 mbar bis 5 bar, vorzugsweise zwischen 0"8 mbar und 1 bar gemessen werden.
27. Verwendung des Massenspektrometers (1 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 17 bei der Analyse, Präparation, Bearbeitung, Modifikation und/oder
Manipulation von Proben, bevorzugt in einem Mehrstrahlgerät oder in einer Vorrichtung zu Oberflächenabtastanalytik.
28. Verwendung des Massenspektrometers (1 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 17 zur Gasanalyse.
29. Verwendung des Massenspektrometers (1 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 17 zur chemischen Prozessanalyse.
30. Verwendung des Massenspektrometers (1 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 17 zur Detektion von Schwingungen, insbesondere von mechanischen Schwingungen, bevorzugt mit einer Schwingungsfrequenz zwischen 1 Hz und 15 KHz.
31 .Verfahren zur massenspektrometrischen Untersuchung eines Gasgemischs, (2) umfassend folgende Verfahrensschritte:
Zuführen von Ionen (13a) und/oder von metastabilen Teilchen (13b) eines lonisierungsgases (13) und/oder von Elektronen (20a) zu einer lonenfalle (10),
Ermitteln der Anzahl der in der lonenfalle (10) vorhandenen Ionen (13a) und/oder metastabilen Teilchen (13b) des lonisierungsgases (13) und/oder der Anzahl von Ionen (14a) eines in der lonenfalle (10) vorhandenen
Restgases ( 4),
Zuführen des zu untersuchenden Gasgemischs (2) zu der lonenfalle (10), sowie
Bestimmen der Teilchenzahl von zu untersuchenden ionisierten
Bestandteilen (3a, 3b) des der lonenfalle (10) zugeführten Gasgemischs (2) unter Berücksichtigung der ermittelten Anzahl von Ionen (13a) und/oder von metastabilen Teilchen (13b) des lonisierungsgases (13) und/oder der Anzahl von Ionen (14a) des Restgases (14).
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