WO2015002038A1 - 新規なフェニルナフトール誘導体 - Google Patents

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WO2015002038A1
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compound
general formula
atom
formula
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忍 和泉
一浩 寺西
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株式会社トクヤマ
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    • C07C2603/93Spiro compounds
    • C07C2603/94Spiro compounds containing "free" spiro atoms

Definitions

  • the present invention relates to a novel phenylnaphthol derivative useful as an intermediate in the production of functional organic materials such as pharmaceuticals and dyes. More specifically, the present invention relates to an indenonaphthol compound using the phenylnaphthol derivative and The present invention also relates to a method for producing indenonaftpyran.
  • a phenylnaphthol compound which is a kind of phenylnaphthalene compound, is a useful compound as an intermediate in the production of functional organic materials such as pharmaceuticals and dyes.
  • an indenonaphthopyran compound which is a kind of photochromic dye, is synthesized from an indenonaphthol compound.
  • This indenonaphthol compound has been conventionally produced using a benzophenone compound as a starting material.
  • the conventional method requires a large number of steps until the phenyl naphthol compound is synthesized.
  • synthesizing an indenonaphthol compound from a conventional phenylnaphthol compound there is a problem in terms of decomposition of the target product and generation of impurities.
  • an object of the present invention is to provide a novel phenylnaphthol derivative that is useful as an intermediate of a functional organic material and can be produced by a simple process.
  • Another object of the present invention is to use the above phenylnaphthol derivative to produce a simple and high yield indenonaphthol compound, and to produce an indenonaphthopyran compound from the obtained indenonaphthol compound. It is to provide a way to do.
  • the present inventors have intensively studied to solve the above problems. As a result, it succeeded in synthesizing a novel phenylnaphthol derivative having a specific structure by a simple method, and by using this phenylnaphthol derivative, an indenonaphtho compound can be easily synthesized. It has been found that by reacting a compound with a propargyl alcohol compound, an indenonaphthopyran compound useful as a photochromic dye can be easily produced in high yield, and the present invention has been completed.
  • a phenylnaphthol derivative represented by the following general formula (1) is provided.
  • R 1 , R 2 and R 3 are a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and R 2 and R 3 may be bonded to each other to form an aliphatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring
  • a is an integer of 0 to 4
  • b is an integer from 0 to 4
  • R 4 and R 5 are a hydroxyl group, an alkyl group, a haloalkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an amino group, a heterocyclic group having a nitrogen atom as a hetero atom and bonded via the nitrogen atom, Heteroaryl bonded through a cyano group, nitro group, formyl group, hydroxycarbonyl group, alkylcarbonyl group, alkoxycarbonyl group, halogen atom, aralkyl group, aralkoxy
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , a and b have the same meanings as described in the formula (1)
  • R 6 and R 7 are an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • R 6 and R 7 have the same meaning as described in the formula (3).
  • a compound having a structure in which a plurality of groups R 5 are bonded to each other to form a heterocyclic ring specifically, the following general formula
  • the phenylnaphthol derivative represented by (1 ′′) is obtained by reacting a halogenonaphthol derivative represented by the following general formula (1-1a) with a boron-containing phenyl compound represented by the following general formula (1-2). Can be manufactured.
  • R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, It is synonymous with what was demonstrated by the said General formula (1 ''),
  • the group represented by Z has the following formula: Is a boron-containing group selected from
  • the halogenonaphthol derivative represented by the general formula (1-1a) is represented by the following general formula (1-1b): Where R 5C , R 5D , R 10 and R 11 have the same meanings as described in the general formula (1-1a). Is produced by halogenation in a solvent containing acetonitrile and / or toluene.
  • the aforementioned halogenonaphthol derivative represented by the general formula (1-1a) and the naphthol derivative represented by the general formula (1-1b) are both novel compounds.
  • an indenonaphthol compound can be produced using this as a raw material in a simpler and higher yield than conventional methods.
  • an indenonaphthol compound by reacting this indenonaphthol compound with a propargyl alcohol compound, an indenonaphthopyran derivative useful as a photochromic dye can also be produced in a simple and high yield.
  • the phenylnaphthol derivative of the present invention is represented by the following general formula (1).
  • a protecting group can be introduced into the OH group according to a conventional method.
  • a protecting group is represented by Ra
  • —OH in the general formula (1) becomes —ORa, and in various reactions, the reaction with the OH group is prevented and the formation of by-products is suppressed.
  • Such protecting groups Ra for OH groups are known per se, and are typically alkyl protecting groups, acetal protecting groups, benzyl protecting groups, silyl protecting groups and the like. A methyl group is preferred as the alkyl protecting group.
  • acetal protecting group a methoxymethyl group, a methoxyethoxymethyl group, and a tetrahydropyranyl group are preferable.
  • benzyl protecting group a benzyl group and a p-methoxybenzyl group are preferable.
  • silyl protecting group a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a t-butyldimethylsilyl group are preferable.
  • particularly preferred protecting groups are a methyl group, a benzyl group, a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, a tetrahydropyranyl group, and a trimethylsilyl group.
  • a hydroxyl-protecting group Ra is not limited to the phenylnaphthol derivative of the present invention represented by the general formula (1), and can be appropriately introduced in any compound.
  • R 1 , R 2 and R 3 are each a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
  • the alkyl group is preferably one having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, A hexyl group or the like is preferred.
  • aryl group those having 6 to 14 carbon atoms are preferable, and for example, a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group and the like are preferable. Further, the aromatic ring of such an aryl group may have 1 to 4, particularly 1 to 2 substituents (for example, the above-described alkyl group or alkoxy group).
  • R 2 and R 3 may combine to form an aliphatic hydrocarbon or a heterocycle having at least one of an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom as a hetero atom.
  • the number of ring-constituting atoms of such a ring is usually from 4 to 20, in particular from 5 to 12.
  • the indenonaphthopyran compound finally synthesized using this compound is excellent. From the viewpoint of exhibiting photochromic characteristics, those represented by the following formula are preferred.
  • a represents the number of groups R 4 and is an integer of 0 to 4.
  • B represents the number of groups R 5 and is an integer of 0 to 4.
  • R 4 and R 5 are each a hydroxyl group, an alkyl group, a haloalkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an amino group, a heterocyclic group containing a nitrogen atom as a heteroatom and bonded via the nitrogen atom, a cyano group Nitro group, formyl group, hydroxycarbonyl group, alkylcarbonyl group, alkoxycarbonyl group, halogen atom, aralkyl group, aralkoxy group, aryloxy group, aryl group, heteroaryl group bonded via ring carbon atom, alkylthio group , A cycloalkylthio group, an arylthio group, or a heteroarylthio group.
  • alkyl group and aryl group examples include the same groups as those already described for R 1 .
  • the haloalkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom as a substituent, and in particular, a trifluoromethyl group, a tetrafluoroethyl group, a chloromethyl group, 2-chloroethyl group.
  • the group bromomethyl is preferred.
  • cycloalkyl group those having 3 to 8 carbon atoms are preferable, and a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group are particularly preferable.
  • the alkoxy group is preferably one having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, or a tert-butoxy group. It is.
  • the amino group is not limited to a primary amino group (—NH 2 ) and may be a secondary or tertiary amino group in which one or two hydrogen atoms are substituted.
  • substituent of the amino group include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms, and a carbon number.
  • Examples thereof include an aryl group having 6 to 14 carbon atoms and a heteroaryl group having 4 to 14 carbon atoms.
  • particularly suitable amino groups include primary amino groups, methylamino groups, dimethylamino groups, ethylamino groups, diethylamino groups, phenylamino groups, and diphenylamino groups.
  • the above heterocyclic group is not particularly limited as long as it has a nitrogen atom as a hetero atom and is bonded via the nitrogen atom, and may be, for example, an aliphatic group, An aromatic group may be used, and specific examples thereof include a morpholino group, a piperidino group, a pyrrolidinyl group, a piperazino group, and an N-methylpiperazino group.
  • these heterocyclic groups may have a substituent such as an alkyl group.
  • Preferred examples of the heterocyclic group having such a substituent include 2,6-dimethylmorpholino group, 2,6-dimethylpiperidino group and 2,2,6,6-tetramethylpiperidino group. Is mentioned.
  • alkylcarbonyl group those having 2 to 7 carbon atoms are preferable, and acetyl group and ethylcarbonyl group are particularly preferable.
  • alkoxycarbonyl group those having 2 to 7 carbon atoms, for example, a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group are preferable.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • aralkyl group for example, those having 7 to 11 carbon atoms such as benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, phenylbutyl group, naphthylmethyl group and the like are preferable.
  • aralkoxy group those having 7 to 11 carbon atoms, for example, a benzyloxy group, a naphthylmethoxy group, and the like are preferable.
  • the aryloxy group is preferably an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of suitable aryloxy groups include phenyloxy groups and naphthyloxy groups.
  • aryl group for example, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms is preferable.
  • suitable aryl groups include phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group and the like.
  • aralkyl group, aralkoxy group, aryloxy group and aryl group described above 7 or less, particularly 4 or less substituents may be bonded to the aromatic ring.
  • substituents include the above-mentioned hydroxyl group, alkyl group, haloalkyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, amino group, a heterocyclic group containing a nitrogen atom as a hetero atom and bonded via the nitrogen atom, cyano A group, a nitro group and a halogen atom.
  • the heteroaryl group is bonded via a carbon atom in the ring, and the heterocycle of the group is not particularly limited, but includes 1 to 2 heteroatoms (oxygen atom, nitrogen atom or sulfur atom). Preferred are 5 to 7-membered aromatic heterocycles, or a condensed ring of these aromatic heterocycles and benzene rings. Particularly preferred as such heteroaryl groups are thienyl, furyl, pyrrolinyl, pyridyl, benzothienyl, benzofuranyl and benzopyrrolinyl groups.
  • the heteroaryl group may have 1 to 6, particularly 1 to 4 substituents bonded to the aromatic heterocycle.
  • substituents examples include the hydroxyl group, alkyl group, and haloalkyl group described above.
  • alkylthio group those having 1 to 6 carbon atoms, for example, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, isopropylthio group, n-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group and the like are preferable.
  • cycloalkylthio group those having 3 to 8 carbon atoms, for example, cyclopropylthio group, cyclobutylthio group, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group and the like are preferable.
  • arylthio group those having 6 to 10 carbon atoms, for example, phenylthio group, 1-naphthylthio group, 2-naphthylthio group and the like are preferable.
  • heteroarylthio group those having 4 to 12 carbon atoms, for example, thienylthio group, furylthio group, pyrrolylthio group, pyridylthio group, benzothienylthio group, benzofurylthio group, benzopyrrolylthio group and the like are preferable.
  • the above-mentioned arylthio group and heteroarylthio group may have 1 to 5, particularly 1 to 4 substituents on the aromatic ring.
  • substituents include 1 to 5 carbon atoms. And an alkyl group having 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and a halogen atom.
  • R 4 or R 5 when there are a plurality of R 4 or R 5 (that is, when a or b is 1 to 4), two R 4 or R 5 are bonded to form a fat.
  • a heterocyclic ring having an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom as a hetero hydrocarbon atom or a hetero atom may be formed.
  • Such aliphatic hydrocarbon rings and heterocyclic rings usually preferably have 4 to 8, particularly 5 to 6 atoms constituting the ring.
  • the indenonaphthopi compound finally synthesized using this compound is used.
  • those represented by the following formula are preferred.
  • R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
  • R 2 and R 3 are preferably bonded to each other to form an aliphatic hydrocarbon ring.
  • R 4 is preferably an alkyl group, an alkoxy group, or a heterocyclic group having a nitrogen atom as a hetero atom and bonded via the nitrogen atom, and further, two R 4 are bonded to form an aliphatic group.
  • An embodiment in which an aromatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring is formed is also suitable.
  • R 5 represents an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aryl group, an alkylthio group, a cycloalkylthio group, an arylthio group, or a heterocyclic group having a nitrogen atom as a hetero atom and bonded via the nitrogen atom. Further, an embodiment in which two R 5 are bonded to form an aliphatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring is also preferable.
  • a suitable phenylnaphthol derivative as described above is represented by the following formula (1 ′).
  • R 1A corresponds to R 1 in the general formula (1), and is a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 2A and R 3A correspond to R 2 and R 3 in the general formula (1), and are bonded to each other to form an aliphatic hydrocarbon ring
  • R 4A and R 4B correspond to R 4 in the general formula (1), and each has a nitrogen atom as a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a hetero atom, and the nitrogen atom
  • a heterocyclic group bonded via R, 4A and R 4B may be bonded to form an aliphatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring
  • R 5A and R 5B correspond to R 4 in the general formula (1), and are each a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aryl group, an alkylthio
  • R 5A and R 5B are bonded to form an aliphatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring May be formed.
  • the following compounds can be exemplified as examples of particularly suitable phenylnaphthol derivatives.
  • the phenylnaphthol derivative of the present invention represented by the general formula (1) described above has the following general formula (1-1); Where X is a halogen atom, preferably a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, R 5 and b have the same meaning as described in the general formula (1).
  • the following synthesis method (A) to (C) using the Suzuki-Miyaura coupling reaction by introducing the above-described protecting group Ra into the OH group of this compound, if necessary, using a halogenonaphthol compound represented by the following formula: Can be manufactured.
  • Y is a halogen atom, preferably a chlorine atom, bromine atom or iodine atom, and other groups R 1 to R 5 , a And b have the same meaning as described in the general formula (1).
  • Z is a boron-containing group such as the following formula: A boronic acid group or a boronic ester group represented by the formula:
  • the halogeno group X of the halogenonaphthol compound of the general formula (1-1), which is the raw material compound, is converted into a boronic acid or a boronic acid ester after appropriately introducing a protecting group Ra into the hydroxyl group. (Converted to group Z) to synthesize boron-containing naphthol compound (A-1).
  • This boron-containing naphthol compound (A-1) is reacted with a phenyl compound (A-2) by Suzuki-Miyaura coupling using a palladium catalyst or a nickel catalyst to obtain an intermediate phenyl naphthol (A-3).
  • the phenyl naphthol (A-3) is reacted with magnesium or an organolithium compound to perform halogen-metal exchange, and then the carbonyl compound (A-4) is reacted with to produce a tertiary alcohol.
  • the target phenylnaphthol derivative of the general formula (1) is obtained by subjecting it to a dehydration reaction using an acid and removing the hydroxyl-protecting group from the compound obtained as necessary.
  • a compound obtained by converting the halogen atom X of the halogenonaphthol compound of the general formula (1-1) into a boronic acid or a boronic ester can be obtained.
  • a method for converting the halogeno group into a boronic acid or a boronic acid ester a known method may be adopted. For example, after reacting a halogeno group with an organolithium compound, it is reacted with a borate ester compound such as trimethyl borate or triisopropyl borate, and further treated with an acid to obtain the corresponding boronic acid.
  • N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylsulfoxide, benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, 2-propanol, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane and the like are used as the reaction solvent.
  • palladium catalysts such as tetrakistriphenylphosphine palladium, [1,1-bis (diphenylphosphino) ferrocene] dichloropalladium, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, and bis (triphenylphosphine) nickel
  • Nickel catalysts such as dichloride and dichloro [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] nickel are used.
  • sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium acetate, potassium acetate, or the like is used as a base intervening in the reaction.
  • the reaction temperature is preferably 30 to 150 ° C. Purification of the product obtained by this Suzuki-Miyaura coupling can be carried out, for example, by column chromatography using silica gel or recrystallization.
  • the halogen-metal exchange reaction in the above reaction route is performed in a solvent such as benzene, toluene, tetrahydrofuran, diethyl ether, dibutyl ether, t-butyl methyl ether and the like.
  • a solvent such as benzene, toluene, tetrahydrofuran, diethyl ether, dibutyl ether, t-butyl methyl ether and the like.
  • typical examples of the organic lithium compound used in this reaction include n-butyllithium, sec-butyllithium, and t-butyllithium.
  • a protective group Ra is appropriately introduced into the OH group of the above-described raw halogenonaphthol compound, and then the boron-containing phenyl compound (B-1) is reacted by the same Suzuki-Miyaura coupling as described above. Then, phenylnaphthol (B-2) is synthesized. Thereafter, in the same manner as in the synthesis method (A) described above, phenyl-naphthol (B-2) is reacted with magnesium or an organolithium compound to perform halogen-metal exchange, and then the carbonyl compound (B-3) is converted.
  • the tertiary alcohol produced by the reaction is subjected to a dehydration reaction using an acid, and the protective group for the hydroxyl group is eliminated from the obtained compound as necessary, whereby the desired general formula (1) A phenylnaphthol derivative is obtained.
  • a protective group Ra is appropriately introduced into the OH group of the raw halogenonaphthol compound, and then the boron-containing phenyl compound (C-1) is reacted by the same Suzuki-Miyaura coupling.
  • the phenylnaphthol derivative of the present invention can be obtained by removing the hydroxyl-protecting group Ra as necessary.
  • the phenylnaphthol derivative of the present invention can be synthesized using any of the synthesis methods A to C described above, the availability of raw materials and the synthesis In consideration of easiness, any one of the synthesis methods A to C may be selected.
  • the phenylnaphthol derivative of the present invention can be synthesized using the halogenonaphthol compound represented by the general formula (1-1) as a raw material.
  • the halogenonaphthol compounds represented by the general formula (1-1) as a raw material.
  • the halogenonaphthol derivative represented by is a novel compound.
  • this halogenonaphthol derivative as a raw material, it is possible to synthesize a phenylnaphthol derivative in a form in which a heterocyclic ring in which two groups R 5 are bonded in the general formula (1) is formed.
  • Such halogenonaphthol derivatives have the following formula: Where R 5E and R 5F are a hydroxyl group or a thiol group, provided that one is a thiol group, It can synthesize
  • the above naphthol compound is represented by the following formula: Where R 10 and R 11 have the same meaning as the group described in the general formula (1-1a).
  • R 10 and R 11 have the same meaning as the group described in the general formula (1-1a).
  • the naphthol derivative represented by this can be obtained.
  • the halogenonaphthol derivative represented by the general formula (1-1a) can be synthesized.
  • the above-described protecting group may be appropriately introduced into the hydroxyl group bonded to the naphthalene ring.
  • thioacetalization of a naphthol compound using a ketone compound is preferably performed using benzene, toluene, xylene or the like as a reaction solvent while removing generated water from the system, and the reaction temperature is 70 ° C.
  • the above is preferable.
  • halogenation of the naphthol derivative of the general formula (1-1b) is performed in a solvent containing acetonitrile and / or toluene.
  • the halogenating agent N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, or N-iodo is used.
  • a succinimide compound such as succinimide is preferably used.
  • the reaction temperature at the time of halogenation is not particularly limited, but is 30 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or lower.
  • the boron-containing phenyl compound represented by the formula (1-2) is not particularly limited, but can be synthesized using, for example, 2-benzyloxy-1-bromobenzene as a raw material. That is, this raw material compound is subjected to a halogen-metal exchange reaction using magnesium or an organic lithium compound, and the resulting reaction product is represented by the following formula: The benzyl compound in the compound is reacted, the benzyl group in the obtained compound is eliminated by hydrogenation reaction to produce a tertiary alcohol, and the dehydration reaction is performed with an appropriate acid, whereby the following formula: Is synthesized.
  • the phenol compound is triflated with trifluoromethanesulfonic acid, and the corresponding boron compound is reacted in the presence of a palladium catalyst to obtain the boron-containing phenyl compound represented by the formula (1-2). be able to.
  • boron compound a boron compound or a diboron compound is preferably used. 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane, bis (pinacolato) diboron, bis (neopentylglycolate) diboron Etc. are given as specific examples.
  • Such a boron-containing phenyl compound represented by the formula (1-2) is preferably used in the synthesis method C using the halogenonaphthol derivative represented by the general formula (1-1a) described above as a raw material.
  • the following general formula (1 ”) where R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R 10 and R 11 are a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, R 2B and R 3B are groups that are bonded to each other to form an aliphatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring; R 5C and R 5D are oxygen atoms or sulfur atoms, provided that one is a sulfur atom,
  • the phenyl naphthol derivative of the present invention represented by the following can be synthesized.
  • the phenylnaphthol derivative of the present invention represented by the general formula (1) described above has the following general formula (2): Where R 1 to R 5 , a and b have the same meanings as described in formula (1). It is used for the synthesis
  • an indenonaphthol derivative represented by the above general formula (2) is obtained in a high yield while suppressing the formation of impurities. It is done.
  • an acidic substance that acts as a Lewis acid is preferably used.
  • Specific examples include sulfuric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid (monohydrate), camphorsulfonic acid, methanesulfonic acid and the like.
  • the amount of acid used may be appropriately determined in the range of 0.01 to 10 mol per mol of phenylnaphthol derivative, but from the viewpoint of suppressing the formation of by-products, the amount of acid is preferably smaller. A range of 0.1 to 1 mole per mole of phenylnaphthol derivative is desirable.
  • reaction solvent an aprotic organic solvent such as N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, tetrahydrofuran, benzene, toluene and the like is preferably used.
  • the reaction temperature is preferably 40 to 80 ° C. from the viewpoint of securing an appropriate reaction rate and suppressing the formation of by-products.
  • the reaction time varies depending on the amount of acid used and the reaction temperature, but is usually 1 to 5 hours.
  • the phenylnaphthol derivative of the present invention can be subjected to the above cyclization reaction by appropriately introducing the above-described protecting group Ra into the hydroxyl group. ,
  • the protecting group Ra can be removed.
  • a benzyl group or p-methoxybenzyl group is introduced as the protecting group Ra, a by-product due to rearrangement of the protecting group Ra may be generated.
  • the phenylnaphthol derivative of the present invention when used, it is possible to easily obtain a high-purity indenonaphthol compound with a high yield, but when a conventionally known phenylnaphthol compound is used, Such advantages of the present invention are not achieved.
  • p-toluenesulfonic acid is used as the acid and toluene is used as the reaction solvent
  • an amount of p-toluenesulfone exceeding 1 mole per mole of phenylnaphthol compound is used.
  • the reaction temperature needs to be a high temperature of 100 ° C. or higher, by-products are easily generated, and it is difficult to obtain a high yield.
  • the amount of acid used may be 1 mol or less, and the reaction temperature can be lowered to 40 to 80 ° C., Since the reaction can be carried out under fairly mild conditions, the production of by-products can be suppressed, and the indenonaphthol compound can be obtained in a high yield.
  • the method for purifying the indenonaphthol compound obtained as described above is not particularly limited, and for example, silica gel column purification or recrystallization can be employed.
  • the obtained indenonaphthol compound is used for the synthesis of indenonaphthopyran derivatives having good photochromic properties.
  • an indenonaphthopyran compound represented by the following general formula (3) which is useful as a photochromic compound, can be produced using the indenonaphthol compound of the general formula (2) obtained above.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , a and b have the same meanings as described in the formula (1)
  • R 6 and R 7 are each an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.
  • indenonaphthol compound of the general formula (2) and the following general formula (4) where R 6 and R 7 have the same meaning as described in the formula (4).
  • the above-mentioned indenonaphthol compound can be obtained by reacting with a propargyl alcohol compound represented by the formula:
  • Said reaction can be performed like the well-known reaction using propargyl alcohol.
  • the amount ratio (preparation ratio) between the indenonanaphthol compound and the propargyl alcohol compound is selected from a wide range, but is generally selected from the range of 1:10 to 10: 1 (molar ratio).
  • the reaction is usually performed in the presence of an acid catalyst.
  • the acid catalyst sulfuric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt and the like are used, and 0.001-1 to 1 mol of indenonaphthol derivative.
  • An acid catalyst is used in a molar equivalent amount.
  • a solid acid catalyst such as silica gel or acidic alumina can be used, and the amount used is generally 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the total of the indenonanaphthol compound and the propargyl alcohol compound.
  • the reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C.
  • the reaction solvent is preferably an aprotic organic solvent such as N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, tetrahydrofuran, benzene or toluene.
  • the purification of the reaction product is also not particularly limited.
  • a high-purity indenonaphthopyran compound can be obtained in a high yield by performing silica gel column purification and further recrystallization.
  • the total yield of the phenylnaphthol derivative thus obtained from 4-bromo-1-naphthol was 49%.
  • the calculation values of elemental analysis and C 24 H 24 O of the phenyl naphthol derivative was as follows. Elemental analysis value C: 87.81%, H: 7.30% Calculated value C: 87.76%, H: 7.37% From the above results, it can be seen that the elemental analysis values are in good agreement with the calculated values of C 24 H 24 O.
  • the proton nuclear magnetic resonance spectrum was measured. As a result, a peak of 12H based on an alkyl group and an alkylene group was observed in the vicinity of ⁇ 0.5 to 4.0 ppm, and a peak of 11H based on an aromatic and olefin was observed in the vicinity of ⁇ 5.0 to ⁇ 9.0 ppm. showed that. Further, when the 13 C-nuclear magnetic resonance spectrum was measured, a peak based on carbon of the aromatic ring was observed in the vicinity of ⁇ 110 to 160 ppm, and a peak based on carbon of the alkyl group and alkylene group was observed at ⁇ 20 to 80 ppm.
  • Example 2 As a result of structural analysis of the obtained compound using the same structure confirmation means as in Example 1, it was confirmed that it was a compound represented by the formula (E2).
  • Table 1 shows elemental analysis values and characteristic spectra of 1 H-NMR spectrum.
  • This triflate compound is dissolved in dimethyl sulfoxide 203 ml, 15.4 g (60.8 mmol) of bis (pinacolato) diboron Potassium acetate 13.9 g (141 mmol) Tetrakistriphenylphosphine palladium 3.45 g (3.0 mmol) And reacted at 80 ° C. for 16 hours.
  • Boronate ester represented by the following formula is obtained by adding 203 ml of toluene and 203 ml of water to the reaction solution, washing the organic layer with water, removing the solvent, and purifying by chromatography using silica gel (solvent chloroform). 11.0 g (35.2 mmol) of a white solid of the compound was obtained.
  • This phenylnaphthalene compound was dissolved in 160 ml of tetrahydrofuran, 3.95 g of 5% palladium carbon (50 wt water-containing product) was added, and the reaction was performed in a hydrogen atmosphere. After 2 hours, the solid was removed by filtration, the solvent was removed, and the residue was purified by chromatography using silica gel (solvent chloroform), whereby 6.02 g (16.16 g) of the above-described phenylnaphthol derivative of the formula (E3). 8 mmol) was obtained. The total yield from 7-methoxy-1-naphthol was 73%.
  • Table 1 shows elemental analysis values and characteristic spectra of 1 H-NMR spectrum.
  • Example 4 Synthesis of indenonaphthol derivatives; To 3.87 g (10 mmol) of the phenylnaphthol derivative of the formula (E2) obtained in Example 2, 58 ml of toluene was added and heated to 80 ° C. To this, 0.95 g (5.0 mmol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added and reacted for 2 hours. After the reaction, the organic layer is washed with 30 ml of water, the solvent is removed, and the solid is purified by chromatography using silica gel (solvent chloroform) to obtain an indenonaphthol derivative white solid represented by the following formula (E4). 75 g (9.7 mmol) were obtained. The yield based on the phenylnaphthol derivative was 97%.
  • a phenylnaphthol derivative represented by the above formula (E6) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the above 6,7-methylenedioxy-1-naphthol was used as a raw material (yield 39%).
  • Table 1 shows elemental analysis values and characteristic spectra of 1 H-NMR spectrum.
  • Example 7 Synthesis of phenylnaphthol derivative represented by the following formula (E7);
  • Example 7 18.8 g (100 mmol) of 1,6-dimethoxynaphthalene was dissolved in 370 ml of tetrahydrofuran, cooled to ⁇ 10 ° C., and 78 ml of butyllithium hexane solution (1.6 M) was added over 1 hour.
  • 3.2 g (100 mmol) of sulfur white was added little by little and reacted at ⁇ 5 ° C. for 3 hours.
  • the above dinaphthol compound is decomposed by oxygen, it was used in the next reaction without purification. Further, the water used in the dinaphthol synthesis step is one obtained by previously bubbling with argon gas to remove dissolved oxygen.
  • Elemental analysis values and calculated values for this compound are as follows. Elemental analysis value C: 70.69%, H: 7.10%, S: 11.16% Calculated value C: 70.80%, H: 6.99%, S: 11.12% It can be seen that the elemental analysis values and the calculated values are in good agreement.
  • the naphthol compound obtained above was brominated and benzyl etherified (introducing a protecting group) in the same manner as in Example 2, and 12.3 g (27 mmol) of a white solid of the benzyl protected bromonaphthol compound represented by the following formula: Yield 66%).
  • Elemental analysis values and calculated values for this compound are as follows. Elemental analysis value C: 62.89%, H: 5.47%, S: 7.09% Calculated value C: 63.02%, H: 5.51%, S: 7.01% It can be seen that the elemental analysis values and the calculated values are in good agreement.
  • a boronic acid ester compound represented by the following formula was obtained in the same manner as in Example 3 except that cyclooctanone was replaced with 4,4-diethylcyclohexanone.
  • Elemental analysis values and calculated values for this compound are as follows. Elemental analysis value C: 77.55%, H: 9.59%, B: 3.22% Calculated value C: 77.65%, H: 9.77%, B: 3.18% It can be seen that the elemental analysis values and the calculated values are in good agreement. The total yield of this boronic ester compound from 1-benzyloxy-2-bromobenzene was 53%.
  • This 1-benzyloxy-7-methoxynaphthalene was lithiated in the same manner as in Example 7, and 1,2-dibromoethane was added in place of sulfur white to give 1-benzyloxy- 18.1 g (53 mmol, 57% yield) of a pale yellow solid of 6-bromo-7-methoxynaphthalene was obtained.
  • This compound was dissolved in 360 ml of dimethoxyethane, 36 ml of ethanol and 400 ml of 10% aqueous sodium carbonate solution were added, and argon gas was introduced to remove dissolved oxygen.
  • 4-Methoxyphenylboronic acid 8.86 g (58 mmol) Tetrakistriphenylphosphine palladium 0.67 g (0.58 mmol) And reacted at 75 ° C. for 3 hours.
  • This boronic acid compound was reacted with 3,3,5,5-tetramethylcyclohexanone instead of 4,4-dimethylcyclohexanone in the same manner as in Example 1 to obtain a phenylnaphthol derivative represented by the above formula (E9). It was. The total yield of this phenylnaphthol derivative from 7-methoxy-1-naphthol was 19%. Further, as a result of structural analysis of the obtained compound using the same means as in Example 1, it was confirmed that it was a compound represented by the formula (E9). Table 1 shows elemental analysis values and characteristic spectra of 1 H-NMR spectrum.
  • the indenonaphthol compound of formula (E4) which is also produced in Example 4, is synthesized by a conventionally known method.
  • the hydroxycarboxylic acid compound obtained above was dissolved in 76 ml of N, N-dimethylformamide, 9.0 g (64.8 mmol) of potassium carbonate and 7.2 g (57 mmol) of benzyl chloride were added thereto, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 4 hours. Reacted.
  • 76 ml of toluene and 114 ml of water were added, the aqueous layer was removed, the organic layer was washed with water, and the solvent was removed under reduced pressure.
  • the obtained iodonaphthalene compound was dissolved in 69 ml of tetrahydrofuran, cooled to ⁇ 78 ° C., and 11 ml of butyllithium hexane solution (1.6 M) was added over 1 hour. Thereafter, 2.86 g (18.6 mmol) of 3,3,5,5-tetramethylcyclohexanone was added, and the temperature was raised to 20 ° C. One hour later, 300 ml of 5% aqueous ammonium chloride solution was added, 0.56 g (3.0 mmol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added to the organic layer, and the mixture was reacted at 50 ° C.

Abstract

 本発明のフェニルナフトール誘導体は、下記一般式(1)で表される。 式中、R~Rは、水素原子、アルキル基またはアリール基であり、RとRとは、互いに結合して脂肪族炭化水素環または複素環を形成してもよく、a及びbは、それぞれ、0~4の整数であり、RおよびRは、ヒドロキシル基、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロ原子として窒素原子を有しており且つ該窒素原子を介して結合する複素環基、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、ヒドロキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、アラルキル基、アラルコキシ基、アリールオキシ基、アリール基、環内炭素原子を介して結合するヘテロアリール基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロアリールチオ基である。

Description

新規なフェニルナフトール誘導体
 本発明は、医薬、染料などの機能性有機材を製造する際の中間体として有用な新規なフェニルナフトール誘導体に関するものであり、より詳細には、該フェニルナフトール誘導体を使用したインデノナフトール化合物及びインデノナフトピランの製造方法にも関する。
 フェニルナフタレン化合物の一種であるフェニルナフトール化合物は、医薬、染料などの機能性有機材料を製造する際の中間体として有用な化合物である。例えば、フォトクロミック色素の一種であるインデノナフトピラン化合物は、インデノナフトール化合物から合成されている。そして、このインデノナフトール化合物は、従来、ベンゾフェノン化合物を出発原料として製造されていた。
 ベンゾフェノン化合物からインデノナフトール化合物を製造する従来の方法では、インデノ基に変換される置換基をナフタレン環に有するフェニルナフトール化合物を製造する必要があった。このような従来公知のフェニルナフトール化合物は、ベンゾフェノン化合物から多段階の反応を経由して合成されている。そのため、工程が煩雑になったり、収率が低下し、結果として製造コストが高いという問題があり、その改善が必要である。特に、非対称の分子構造を有するベンゾフェノン化合物を出発原料とする場合には、構造異性体が生成するため、得られるフェニルナフトール化合物の収率が大きく低下する傾向にあり、その改善が求められている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
 また、下記式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
に示すようなベンゾフェノン化合物をFriedel-Craftsアシル化反応により合成しようとすると、アシル化される位置の選択性が低く、目的物を高い収率で得ることが難しい。このため、このようなベンゾフェノン化合物は、Friedel-Craftsアシル化反応を用いずに、多段階を経て合成しなければならなかった。
 さらに、従来公知のフェニルナフトール化合物を用いてインデノナフトール化合物を合成する場合には、ナフタレン環にインデン環を縮環させるに際して、過酷な酸性条件が必要となる場合があり、このため、目的物が分解したり、不純物が副生することが多い。
 以下に、従来のフェニルナフトール化合物を使用してインデノナフトール化合物を合成する例を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 上記の例から理解されるように、従来の方法では、フェニルナフトール化合物を合成するまでに非常に多くの工程が必要であった。また、従来のフェニルナフトール化合物からインデノナフトール化合物を合成する場合も、目的物の分解や不純物の生成という点で問題がある。
米国特許第6296785号 WO2011/016582号
 したがって、本発明の目的は、機能性有機材料の中間体として有用であり、簡便な工程で製造できる、新規なフェニルナフトール誘導体を提供することにある。
 また、本発明の他の目的は、上記のフェニルナフトール誘導体を用いて、簡便かつ高収率でインデノナフトール化合物を製造する方法、および得られたインデノナフトール化合物からインデノナフトピラン化合物を製造する方法を提供することにある。
 本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、特定の構造を有する新規なフェニルナフトール誘導体を簡便な方法により合成することに成功し、このフェニルナフトール誘導体を使用することにより、容易にインデノナフトー化合物を合成でき、さらには、このインデノナフトール化合物とプロパルギルアルコール化合物とを反応させることにより、フォトクロミック色素として有用なインデノナフトピラン化合物を、簡便かつ高収率で製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
 即ち、本発明によれば、下記一般式(1)で表されるフェニルナフトール誘導体が提供される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 式中、
  R、RおよびRは、水素原子、アルキル基またはアリール基であ
 り、RとRとは、互いに結合して脂肪族炭化水素環または複素環を形
 成してもよく、
  aは、0~4の整数であり、
  bは、0~4の整数であり、
  RおよびRは、ヒドロキシル基、アルキル基、ハロアルキル基、シ
 クロアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロ原子として窒素原子を
 有しており且つ該窒素原子を介して結合する複素環基、シアノ基、ニトロ
 基、ホルミル基、ヒドロキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アル
 コキシカルボニル基、ハロゲン原子、アラルキル基、アラルコキシ基、ア
 リールオキシ基、アリール基、環内炭素原子を介して結合するヘテロアリ
 ール基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基または
 ヘテロアリールチオ基であり、
  R或いはRが複数存在する場合には、複数のR或いは複数のR
 は互いに同一でも異なっていてもよく、また、2個のR或いは2個のR
 が、互いに結合して脂肪族炭化水素環または複素環を形成してもよい。
 また、本発明によれば、下記一般式(2):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 式中、
  R、R、R、R、R、aおよびbは、式(1)で説明したも
 のと同義である、
で示されるインデノナフトール化合物を製造する方法であって、上記のフェニルナフトール誘導体を酸触媒の存在下で環化することを特徴とする方法が提供される。
 本発明によれば、さらに、下記一般式(3):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 式中、
  R、R、R、R、R、aおよびbは、前記式(1)で説明し
 たものと同義であり、
  RおよびRは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
 ヘテロアリール基である、
で表されるインデノナフトピラン化合物を製造する方法であって、前述した方法により製造されたインデノナフトール化合物と下記一般式(4):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 式中、RおよびRは、前記式(3)で説明したものと同義である、
で示されるプロパルギルアルコール化合物とを反応させることを特徴とする方法が提供される。
 また、本発明において、前述した一般式(1)のフェニルナフトール誘導体の中でも、複数の基Rが互いに結合して複素環を形成している構造を有する化合物、具体的には、下記一般式(1”)で表されるフェニルナフトール誘導体は、下記一般式(1-1a)で表されるハロゲノナフトール誘導体と下記一般式(1-2)で表されるホウ素含有フェニル化合物とを反応させることにより製造することができる。
一般式(1”):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 式中、
  Rは、水素原子、アルキル基またはアリール基であり、
  R10およびR11は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基また
 はアリール基である、
  R2BおよびR3Bは、互いに結合して、脂肪族炭化水素環または複素
 環を形成する基であり、
  R5CおよびR5Dは、一方が硫黄原子であることを条件として、酸素
 原子または硫黄原子である。
一般式(1-1a):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 式中、
  Xは、ハロゲン原子であり、
  R10、R11、R5CおよびR5Dは、前記一般式(1”)で説明し
 たものと同義である。
一般式(1-2):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 式中、
  Rは、水素原子、アルキル基またはアリール基であり、
  前記一般式(1”)で説明したものと同義であり、
  Zで示される基は、下記式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
から選ばれるホウ素含有基である。
 本発明において、前記一般式(1-1a)で表されるハロゲノナフトール誘導体は、下記一般式(1-1b):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 式中、
  R5C、R5D、R10およびR11は、前記一般式(1-1a)で説
 明したものと同義である。
で表されるナフトール誘導体を、アセトニトリル及び/またはトルエンを含む溶媒中でハロゲン化することにより製造される。
 さらに、本発明において、前述した一般式(1-1a)で表されるハロゲノナフトール誘導体及び一般式(1-1b)で表されるナフトール誘導体は、何れも新規化合物である。
 本発明のフェニルナフトール誘導体によれば、これを原料として、従来の方法に比べて簡便かつ高収率でインデノナフトール化合物を製造することができる。
 また、このインデノナフトール化合物とプロパルギルアルコール化合物とを反応させることにより、フォトクロミック色素として有用なインデノナフトピラン誘導体をも、簡便でかつ高収率で製造することができる。
<フェニルナフトール誘導体>
 本発明のフェニルナフトール誘導体は、下記一般式(1)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 尚、かかるフェニルナフトール誘導体において、この化合物を後述するインデノナフトール誘導体の製造等に使用する場合には、常法にしたがって、OH基に保護基を導入することができる。
 このような保護基をRaで示すと、一般式(1)中の-OHは、-ORaとなり、各種の反応に際して、OH基での反応を防止し、副生物の生成を抑制するわけである。
 このようなOH基の保護基Raは、それ自体公知であり、アルキル保護基、アセタール保護基、ベンジル保護基、シリル保護基などが代表的である。
 アルキル保護基としては、メチル基が好適である。
 アセタール保護基としては、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基が好ましい。
 ベンジル保護基としては、ベンジル基及びp-メトキシベンジル基が好ましい。
 シリル保護基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基が好ましい。
 本発明のフェニルナフトール誘導体において、特に好適な保護基は、メチル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基及びトリメチルシリル基である。
 このような水酸基の保護基Raは、一般式(1)で表される本発明のフェニルナフトール誘導体に限らず、何れの化合物においても、適宜、導入することができる。
(基R、RおよびR
 前記一般式(1)において、R、RおよびRは、それぞれ、水素原子、アルキル基、またはアリール基である。
 前記アルキル基としては、炭素数1~6のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が好適である。
 前記アリール基としては、炭素数6~14のものが好ましく、例えば、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等が好適である。
 また、このようなアリール基が有する芳香族環は、1~4個、特に1~2個の置換基(例えば、前記のアルキル基またはアルコキシ基)を有していてもよい。
 また、RとRは結合して、脂肪族炭化水素、或いはヘテロ原子として、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子の少なくとも1種を有する複素環を形成してもよい。このような環の環構成原子数は、通常、4~20で、特に5~12の範囲にある。また、前述したアルキル基またはアリール基を置換基として有していてもよい。
 尚、RとRとが結合して脂肪族炭化水素環或いは複素環を形成しているフェニルナフトール誘導体の中では、この化合物を用いて最終的に合成されるインデノナフトピラン化合物が優れたフォトクロミック特性を発揮するという観点から、下記式で表されるものが好適である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
(a,b,基RおよびR
 前記一般式(1)において、aは、基Rの数を示し、0~4の整数である。また、bは、基Rの数を示し、0~4の整数である。
 RおよびRは、それぞれ、ヒドロキシル基、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロ原子として窒素原子を含み且つ該窒素原子を介して結合する複素環基、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、ヒドロキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、アラルキル基、アラルコキシ基、アリールオキシ基、アリール基、環内炭素原子を介して結合するヘテロアリール基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、またはヘテロアリールチオ基である。
 R或いはRが複数存在する場合(a或いはbが2~4の整数である場合)、これら複数の基(R或いはR)は、互いに同一であっても異なってもよい。
 上記のアルキル基およびアリール基としては、Rについて既に説明した基と同じ基が挙げられる。
 上記のハロアルキル基としては、フッ素原子、塩素原子または臭素原子を置換基として有する炭素数1~6のアルキル基が好ましく、特に、トリフルオロメチル基、テトラフルオロエチル基、クロロメチル基、2-クロロエチル基、ブロモメチル基が好適である。
 上記のシクロアルキル基としては、炭素数3~8のものが好ましく、特にシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が好適である。
 上記のアルコキシ基としては、炭素数1~6のものが好ましく、特に、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基が好適である。
 上記のアミノ基は、1級アミノ基(-NH)に限定されるものではなく、1つまたは2つの水素原子が置換されている2級或いは3級のアミノ基であってもよい。かかるアミノ基が有する置換基としては、例えば炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のハロアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数3~7のシクロアルキル基、炭素数6~14のアリール基、炭素数4~14のヘテロアリール基等が挙げられる。
 特に好適なアミノ基の例としては、1級アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基を挙げることができる。
 上記の複素環基は、ヘテロ原子として窒素原子を有しており且つ該窒素原子を介して結合するものであれば、特に制限されず、例えば、脂肪族系のものであってもよいし、芳香族系のものであってもよく、その具体例としては、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジニル基、ピペラジノ基、N-メチルピペラジノ基等を挙げることができる。また、これらの複素環基は、アルキル基等の置換基を有していてもよい。このような置換基を有する複素環基の好適な例としては、2,6-ジメチルモルホリノ基、2,6-ジメチルピペリジノ基および2,2,6,6-テトラメチルピペリジノ基等が挙げられる。
 上記のアルキルカルボニル基としては、炭素数2~7のものが好ましく、特に、アセチル基、エチルカルボニル基が好適である。
 上記のアルコキシカルボニル基としては、炭素数2~7のもの、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基が好適である。
 上記のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。
 上記のアラルキル基としては、例えば炭素数7~11のもの、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、ナフチルメチル基等が好適である。
 上記のアラルコキシ基としては、炭素数7~11のもの、例えば、ベンジロキシ基、ナフチルメトキシ基等が好適である。
 前記アリールオキシ基としては、炭素数6~12のアリールオキシ基が好ましい。好適なアリールオキシ基の例としては、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基等を挙げることができる。
 上記のアリール基としては、例えば炭素数6~14のアリール基が好ましい。好適なアリール基の具体例としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等を挙げることができる。
 上述したアラルキル基、アラルコキシ基、アリールオキシ基およびアリール基は、芳香族環に、7個以下、特に4個以下の置換基が結合していてもよい。このような置換基としては、上述のヒドロキシル基、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロ原子として窒素原子を含み且つ該窒素原子を介して結合する複素環基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子を挙げることができる。
 上記のヘテロアリール基は、環内炭素原子を介して結合するものであり、該基が有する複素環としては、特に制限されないが、ヘテロ原子(酸素原子、窒素原子または硫黄原子)を1~2個含む5~7員環の芳香族複素環、またはこれら芳香族複素環とベンゼン環との縮合環が好適である。このようなヘテロアリール基として、特に好適なものは、チエニル基、フリル基、ピロリニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾピロリニル基である。
 また、かかるヘテロアリール基は、芳香族複素環に1~6個、特に1~4個の置換基が結合していてもよく、かかる置換基としては、前述したヒドロキシル基、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロ原子として窒素原子を含み且つ該窒素原子を介して結合している複素環基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子を挙げることができる。
 上記のアルキルチオ基としては、炭素数1~6のもの、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、n-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基等が好ましい。
 上記のシクロアルキルチオ基としては、炭素数3~8のもの、例えば、シクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等が好ましい。
 上記のアリールチオ基としては、炭素数6~10のもの、例えば、フェニルチオ基、1-ナフチルチオ基、2-ナフチルチオ基等が好ましい。
 上記のヘテロアリールチオ基としては、炭素数4~12のもの、例えば、チエニルチオ基、フリルチオ基、ピロリルチオ基、ピリジルチオ基、ベンゾチエニルチオ基、ベンゾフリルチオ基、ベンゾピロリルチオ基等が好適である。
 また、上述したアリールチオ基およびヘテロアリールチオ基は、芳香族環に1~5個、特に1~4個の置換基を有していてもよく、このような置換基としては、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数3~8のシクロアルキル基またはハロゲン原子を挙げることができる。
 また、上述した一般式(1)において、R或いはRが複数存在する場合(即ち、aまたはbが1~4の場合)には、2個のRまたはRが結合して脂肪族炭化水素環またはヘテロ原子として酸素原子、硫黄原子あるいは窒素原子を有する複素環を形成してもよい。このような脂肪族炭化水素環及び複素環は、通常、環を構成する原子数が4~8、特に5~6の範囲にあるものが好ましい。
 本発明において、2個のRまたはRが結合して脂肪族炭化水素環或いは複素環を形成しているフェニルナフトール誘導体の中では、この化合物を用いて最終的に合成されるインデノナフトピラン化合物が優れたフォトクロミック特性を発揮するという観点から、下記式で表されるものが好ましい。
2個のRが結合して環を形成している態様;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
2個のRが結合して環を形成している態様;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
(好適なフェニルナフトール誘導体)
 上述した一般式(1)で表される本発明のフェニルナフトール誘導体において、この誘導体から合成されるインデノナフトピラン化合物が優れたフォトクロミック特性を示すという点で、特に好適な一般式(1)中の各基は、以下のとおりである。
 例えば、Rは、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。
 また、RとRは互いに結合して脂肪族炭化水素環を形成していることが好ましい。
 Rは、アルキル基、アルコキシ基或いはヘテロ原子として窒素原子を有し且つ該窒素原子を介して結合している複素環基であることが好ましく、さらに、2個のRが結合して脂肪族炭化水素環もしくは複素環を形成する態様も好適である。
 Rは、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリール基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基或いはヘテロ原子として窒素原子を有し且つ該窒素原子を介して結合している複素環基が好ましく、さらに、2個のRが結合して脂肪族炭化水素環もしくは複素環を形成している態様も好適である。
 上記のような好適なフェニルナフトール誘導体は、下記式(1’)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 上記の一般式(1’)において、
  R1Aは、一般式(1)のRに対応するものであり、水素原子または
 アルキル基であり、
  R2A及びR3Aは、一般式(1)のR及びRに対応するものであ
 り、互いに結合して脂肪族炭化水素環を形成しており、
  R4AおよびR4Bは、一般式(1)のRに対応するものであり、そ
 れぞれ、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、またはヘテロ原子として
 窒素原子を有し且つ該窒素原子を介して結合している複素環基であり、R
 4AとR4Bとは結合して脂肪族炭化水素環または複素環を形成していて
 もよく、
  R5AおよびR5Bは、一般式(1)のRに対応するものであり、そ
 れぞれ、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリ
 ール基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、また
 はヘテロ原子として窒素原子を有し且つ該窒素原子を介して結合している
 複素環基であり、R5AとR5Bとは結合して脂肪族炭化水素環または複素
 環を形成していてもよい。
 本発明において、特に好適なフェニルナフトール誘導体の例として、以下の化合物を例示することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
<フェニルナフトール誘導体の製造>
 前述した一般式(1)で表される本発明のフェニルナフトール誘導体は、下記一般式(1-1);
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 式中、
  Xは、ハロゲン原子であり、好ましくは、塩素原子、臭素原子またはヨ
 ウ素原子であり、
  Rおよびbは、前記一般式(1)で説明したものと同義である、
で表されるハロゲノナフトール化合物を原料とし、必要に応じて、この化合物のOH基に前述した保護基Raを導入し、鈴木-宮浦カップリング反応を利用した下記合成法(A)~(C)を採用して製造することができる。
(合成法A)
 この合成法Aでは、下記の反応経路を経て目的とするフェニルナフトール誘導体が製造される。
 尚、以下の反応経路は、原料化合物に保護基Raを導入した態様で示されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 尚、上記の反応経路及び後述する合成法B、(C)の反応経路において、Yは、ハロゲン原子、好ましくは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、その他の基R~R、a及びbは、一般式(1)で説明したものと同義である。
 さらに、Zは、ホウ素含有基、例えば、下記式;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
で表されるボロン酸基またはボロン酸エステル基である。
 即ち、この合成法Aでは、前述した原料化合物である一般式(1-1)のハロゲノナフトール化合物のハロゲノ基Xを、水酸基に適宜保護基Raを導入した後、ボロン酸もしくはボロン酸エステルに変換し(基Zに変換)、ホウ素含有ナフトール化合物(A-1)を合成する。
 このホウ素含有ナフトール化合物(A-1)に、パラジウム触媒やニッケル触媒を用いた鈴木―宮浦カップリングにより、フェニル化合物(A-2)を反応させて中間体のフェニルナフトール(A-3)を得る。
 この後、このフェニルナフトール(A-3)に、マグネシウムまたは有機リチウム化合物を反応させてハロゲン-金属交換を行った後、カルボニル化合物(A-4)を反応させ、生成する第3級アルコールを、酸を用いての脱水反応に供し、必要に応じて得られた化合物から水酸基の保護基を脱離することにより、目的とする一般式(1)のフェニルナフトール誘導体が得られる。
 尚、上記の反応経路において、一般式(1-1)のハロゲノナフトール化合物のハロゲン原子Xを、ボロン酸もしくはボロン酸エステルに変換した化合物)を得ることができる。ハロゲノ基を、ボロン酸もしくはボロン酸エステルに変換する方法は、公知の方法を採用すればよい。例えば、ハロゲノ基を有機リチウム化合物と反応させた後に、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリイソプロピル等のホウ酸エステル化合物と反応させ、さらに酸で処理することにより対応するボロン酸を得ることができる。
 また、鈴木―宮浦カップリングについても、公知の方法を採用すればよい。
 例えば、反応溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタンなどが用いられる。
 また、パラジウム触媒としては、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム等のパラジウム触媒や、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド、ジクロロ[1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ニッケル等のニッケル触媒が用いられる。
 さらに、反応に介在させる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等が用いられる。
 反応温度は30~150℃が好ましい。
 この鈴木―宮浦カップリングにより得られた生成物の精製は、例えば、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーや再結晶により行うことができる。
 さらに、上記反応経路でのハロゲン-金属交換反応は、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル等の溶媒中で行われる。また、この反応に用いる有機リチウム化合物としては、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウムが代表的である。
(合成法B)
 この合成法Bでは、下記の反応経路を経て目的とするフェニルナフトール誘導体が製造される。
 以下の反応経路は、原料化合物に保護基Raを導入した態様で示されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 この合成法Bでは、前述した原料のハロゲノナフトール化合物のOH基に、適宜保護基Raを導入した後、前記と同様の鈴木―宮浦カップリングにより、ホウ素含有フェニル化合物(B-1)を反応させ、フェニルナフトール(B-2)を合成する。
 この後は、前述した合成法(A)と同様に、フェニルナフトール(B-2)に、マグネシウムまたは有機リチウム化合物を反応させてハロゲン-金属交換を行った後、カルボニル化合物(B-3)を反応させ、生成する第3級アルコールを、酸を用いての脱水反応に供し、必要に応じて得られた化合物から水酸基の保護基を脱離することにより、目的とする一般式(1)のフェニルナフトール誘導体が得られる。
(合成法C)
 この合成法Cでは、下記の反応経路を経て目的とするフェニルナフトールが製造される。
 以下の反応経路でも、原料化合物は保護基Raを導入した態様で示されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 即ち、この合成法Cでは、原料のハロゲノナフトール化合物のOH基に、適宜保護基Raを導入した後、前記と同様の鈴木―宮浦カップリングにより、ホウ素含有フェニル化合物(C-1)を反応させ、必要に応じて水酸基の保護基Raを脱離することで、本発明のフェニルナフトール誘導体が得られる。
 このように、本発明のフェニルナフトール誘導体は、上述した合成法A~Cの何れを用いても合成することができるため、工業的に実施する際には、原料の入手のし易さや合成の容易さを考慮し、上記合成法A~Cの何れかを選択すればよい。
<原料化合物及びその製造>
 上述したように、本発明のフェニルナフトール誘導体は、一般式(1-1)で表されるハロゲノナフトール化合物を原料として合成することができるが、このようなハロゲノナフトール化合物の内、下記一般式(1-1a):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 式中、
  Xは、ハロゲン原子であり
  R5CおよびR5Dは、一方が硫黄原子であることを条件として、酸素
 原子または硫黄原子であり、
  R10およびR11は、それぞれ、水素原子、アルキル基、シクロアル
 キル基またはアリール基である、
で示されるハロゲノナフトール誘導体は、新規化合物である。即ち、このハロゲノナフトール誘導体を原料として用いることにより、前記一般式(1)において、2つの基Rが結合した複素環を形成している態様のフェニルナフトール誘導体を合成することができる。
 このようなハロゲノナフト-ル誘導体は、下記式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 式中、
  R5EおよびR5Fは、一方がチオール基であることを条件として、ヒ
 ドロキシル基またはチオール基である、
で示されるナフトール化合物を用いて合成することができる。
 即ち、上記のナフトール化合物を、下記式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 式中、
  R10およびR11は、前記一般式(1-1a)で説明した基と同義で
 ある、
で示されるケトン化合物を用いてチオアセタール化することにより、下記一般式(1-1b):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 式中、
  R5C、R5D、R10およびR11は、前記一般式(1-1a)で説 明したものと同義である。
で表されるナフトール誘導体を得ることができる。
 このナフトール誘導体をハロゲン化することにより、一般式(1-1a)で表されるハロゲノナフトール誘導体を合成することができる。
 上記のようにしてハロゲノナフトール誘導体を合成するに際して、ナフタレン環に結合している水酸基には、適宜、前述した保護基が導入されていてよい。
 また、ケトン化合物を用いてのナフトール化合物のチオアセタール化は、反応溶媒としてベンゼン、トルエン、キシレン等を使用し、生成する水分を系外に除去しながら反応することが好ましく、反応温度は70℃以上とすることが好ましい。
 また、一般式(1-1b)のナフトール誘導体のハロゲン化は、アセトニトリル及び/またはトルエンを含む溶媒中で行われ、ハロゲン化剤としては、N-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミド、またはN-ヨードスクシンイミド等のスクシンイミド化合物が好適に使用される。ハロゲン化に際しての反応温度は、特に制限されるものではないが、30℃以下、より好ましくは10℃以下である。
 尚、上記のハロゲノナフトール誘導体を合成する際、中間体として得られる一般式(1-1b)のナフトール誘導体も新規化合物である。
<フェニルナフトール誘導体の合成に用いるホウ素含有フェニル化合物及びその製造>
 本発明のフェニルナフトール誘導体を合成するに際して、合成法Cで使用されるホウ素含有フェニル化合物(C-1)の中で、下記式(1-2):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
  式中、
   Rは、水素原子、アルキル基またはアリール基であり、
   R2BおよびR3Bは、前記一般式(1’)で説明したものと同義であり、互いに結合して、脂肪族炭化水素環または複素環を形成する基であり、
   Zで示される基は、下記式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
   から選ばれるホウ素含有基である、
で表される化合物は、特に、一般式(1)中の基R及びRが互いに結合して脂肪族炭化水素環或いは複素環を形成している態様のフェニルナフトール誘導体の合成に使用される。
 このような式(1-2)で表されるホウ素含有フェニル化合物は、特に制限はないが、例えば、2-ベンジルオキシ-1-ブロモベンゼンを原料として合成することができる。
 即ち、この原料化合物に、マグネシウムまたは有機リチウム化合物を用いてハロゲン-金属交換反応を行い、得られた反応物に、下記式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
で示されるカルボニル化合物を反応させ、得られた化合物中のベンジル基を水添反応によって脱離して3級アルコールを生成せしめ、適当な酸によって脱水反応を行うことで、下記式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
で表されるフェノール化合物を合成する。
 次いで、このフェノール化合物を、トリフルオロメタンスルホン酸を用いてトリフラート化し、パラジウム触媒の存在下で、対応するホウ素化合物を反応させることで、前記式(1-2)で示されるホウ素含有フェニル化合物を得ることができる。
 上記反応に用いるパラジウム触媒としては、上述した鈴木―宮浦カップリング反応に使用されるものが使用できる。また、ホウ素化合物としてはボロン化合物もしくはジボロン化合物を用いることが好ましく、4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン、ビス(ピナコラート)ジボロン、ビス(ネオペンチルグリコラート)ジボロン等が具体的な例として挙げられる。
 このような式(1-2)で示されるホウ素含有フェニル化合物は、前述した一般式(1-1a)で表されるハロゲノナフトール誘導体を原料としての合成法Cに好適に使用され、これにより、特に下記一般式(1”):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 式中、
  Rは、水素原子、アルキル基またはアリール基であり、
  R10およびR11は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基また
 はアリール基である、
  R2BおよびR3Bは、互いに結合して、脂肪族炭化水素環または複素
 環を形成する基であり、
  R5CおよびR5Dは、一方が硫黄原子であることを条件として、酸素
 原子または硫黄原子である、
で表される本発明のフェニルナフトール誘導体を合成することができる。
<インデノナフトール化合物の製造>
 前述した一般式(1)で表される本発明のフェニルナフトール誘導体は、下記一般式(2):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 式中、
  R~R、aおよびbは、式(1)で説明したものと同義である、
で表されるインデノナフトール化合物の合成に使用される。
 即ち、本発明のフェニルナフトール誘導体を酸触媒の存在下で環化することにより、不純物の生成を抑制しかつ高収率で、上記の一般式(2)で表されるインデノナフトール誘導体が得られる。
 反応に用いる酸触媒としては、ルイス酸として作用する酸性物質が好適に用いられる。具体的には、硫酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸(一水和物)、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸等を挙げることができる。酸の使用量は、フェニルナフトール誘導体1モルに対して0.01~10モルの範囲で適宜決定すればよいが、副生物の生成を抑制するという観点から、酸量は少ない方が好ましく、例えばフェニルナフトール誘導体1モル当り0.1~1モルの範囲とすることが望ましい。
 また、反応溶媒としては、非プロトン性有機溶媒、例えば、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン等が好ましく使用される。
 反応温度は、40~80℃とすることが、適度な反応速度を確保し且つ副生物の生成を抑えるという点で好ましい。
 反応時間は、酸の使用量や反応温度により異なるが、通常、1~5時間である。
 既に述べたように、本発明のフェニルナフトール誘導体は、適宜、水酸基に前述した保護基Raを導入することにより、上記の環化反応に供することができるが、上記の方法では、環化と同時に、保護基Raを脱離することができる。但し、収率をより高め、さらに純度も高めるためには、保護基Raは導入しない方が望ましく、従って、本発明のフェニルナフトール誘導体が保護基Raが導入された状態で製造されている場合には、この保護基Raを脱離した後に、上記の環化反応に供することが望ましい。特に、保護基Raとしてベンジル基やp-メトキシベンジル基が導入されている場合には、保護基Raの転位による副生成物が生成する恐れがあるため、このような副生物を抑制するため、先ず、酸、アルカリ、水素を用いての還元などにより、脱保護反応を行うことが好ましい。
 このように、本発明のフェニルナフトール誘導体を用いた場合には、高収率で高純度のインデノナフトール化合物を容易に得ることができるが、従来公知のフェニルナフトール化合物を用いた場合には、このような本発明の利点は達成されない。
 例えば、酸としてp-トルエンスルホン酸を用い、反応溶媒にトルエンを用いた場合、従来公知のフェニルナフトール化合物を用いた場合には、フェニルナフトール化合物1モル当り1モルを超える量のp-トルエンスルホン酸が必要となり、反応温度は100℃以上の高温とする必要があるため、副生物が生成しやすく、高い収率を得ることが困難である。しかるに、本発明の新規なフェニルナフトール誘導体を使用した場合には、上記でも述べたように、酸の使用量は1モル以下でよく、反応温度も40~80℃の低温とすることができ、かなり温和な条件で反応を行うことができるため、副生物の生成を抑制することができ、高収率でインデノナフトール化合物を得ることができることとなる。
 上記のようにして得られるインデノナフトール化合物の精製方法としては特に限定されず、例えば、シリカゲルカラム精製や再結晶を採用することができる。
 得られたインデノナフトール化合物は、フォトクロミック特性の良好なインデノナフトピラン誘導体の合成に使用される。
<インデノナフトピラン誘導体の製造>
 本発明においては、上記で得られた一般式(2)のインデノナフトール化合物を用いて、フォトクロミック化合物として有用な下記一般式(3)で表されるインデノナフトピラン化合物を製造することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 式中、
  R、R、R、R、R、aおよびbは、前記式(1)で説明し
 たものと同義であり、
  RおよびRは、それぞれ、アルキル基、シクロアルキル基、アリー
 ル基またはヘテロアリール基である。
 即ち、一般式(2)のインデノナフトール化合物と、下記一般式(4):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 式中、
  RおよびRは、前記式(4)で説明したものと同義である、
で示されるプロパルギルアルコール化合物とを反応させることにより、上記のインデノナフトール化合物を得ることができる。
 上記の反応は、プロパルギルアルコールを用いた公知の反応と同様に行うことができる。
 例えば、インデノナフトール化合物とプロパルギルアルコール化合物との量比(仕込み比)は、広い範囲から採用されるが、一般には1:10~10:1(モル比)の範囲から選択される。
 また、反応は、通常、酸触媒の存在下で行われる。酸触媒としては硫酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸ピリジニウム塩等が用いられ、インデノナフトール誘導体1モルに対して0.001~1モル当量の量で酸触媒が用いられる。
 さらに、シリカゲル、酸性アルミナ等の固体酸触媒を使用することもでき、その使用量は、一般に、インデノナフトール化合物とプロパルギルアルコール化合物との総和100重量部当り0.1~10重量部である。
 反応温度は、0~200℃が好ましく、反応溶媒としては、非プロトン性有機溶媒、例えば、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン等が好ましく使用される。
 反応生成物の精製も、特に限定されず、例えば、シリカゲルカラム精製を行い、さらに再結晶を行うことにより、高純度のインデノナフトピラン化合物を高収率で得ることができる。
 以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
<実施例1>
下記式(E1)で表されるフェニルナフトール誘導体の合成;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 4-ブロモ-1-ナフトール22.3g(100mmol)をジメチルホルムアミド440mlに溶解させ、炭酸カリウム20.7g(150mmol)と塩化ベンジル13.9g(110mmol)を加えて50℃で反応させた。
 3時間後に,トルエン440mlと水880mlを加え、有機層を水で洗浄し、溶媒を除去した後、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で示される1-ベンジルオキシ-4-ブロモナフタレンの白色固体29.4g(94mmol、収率94%)を得た。
 尚、下記式中、Bnは、保護基であるベンジル基を示す(以下、同じ)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 上記で得られた1-ベンジルオキシ-4-ブロモナフタレンの白色固体29.4gをテトラヒドロフラン500mlに溶解させ、-78℃に冷却し、この後に、70mlのブチルリチウムヘキサン溶液(1.6M)を1時間かけて添加した。
 次いで、ホウ酸トリイソプロピル23.0g(122mmol)を加え、10℃まで温度を上げた。1時間後に、10%塩酸200mlを加え、10%塩水300mlで有機層を洗浄し、溶媒を除去した後、ヘキサン300mlを加えて、下記式で示されるボロン酸化合物の白色固体23.0g(83mmol、収率88%)として得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 上記のボロン酸化合物23.0gに、
   トルエン200ml
   エタノール200ml
   1-ブロモ-2-ヨードベンゼン25.7g(91mmol)
   10%炭酸ナトリウム水溶液100ml
を加え、この反応液にアルゴンガスを導入して溶存酸素を除去した。
 次いで、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム4.8g(4.1mmol)を加え、還流温度で8時間反応させた。その後、溶媒を減圧で除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で示されるブロモフェニルナフトール化合物の淡黄色固体26.1g(67mmol、収率81%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 このブロモフェニルナフトール化合物26.1gをテトラヒドロフラン500mlに溶解させ、-78℃に冷却し、46mlのブチルリチウムヘキサン溶液(1.6M)を1時間かけて添加した。その後、4,4-ジメチルシクロヘキサノン10.1g(80mmol)を加え、20℃まで温度を上げた。1時間後に、5%塩化アンモニウム水溶液300mlを加え、有機層にp-トルエンスルホン酸一水和物2.54g(13.4mmol)を加え、50℃で反応させた。5時間後、10%塩水を加え、有機層を洗浄した。
 この有機層から溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒ヘキサン/酢酸エチル=4/1v/v)によって精製することで、下記式で示されるベンジル保護フェニルナフトール誘導体21.0g(50.4mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 ベンジル基で水酸基が保護されているこのフェニルナフトール誘導体の元素分析値及びC3130Oの計算値は以下のとおりであった。
  元素分析値 C:87.91%、H:7.27%
  計算値   C:88.95%、H:7.22%
 上記の結果から、元素分析値は、C3130Oの計算値と良く一致していることが判る。
 上記のフェニルナフトール化合物21.0gをテトラヒドロフラン210mlに溶解させ、5%パラジウムカーボン(50wt含水品)を5.2g添加し、水素雰囲気下で反応させた。2時間後、固体を濾別し、溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒ヘキサン/酢酸エチル=2/1v/v)により精製することで、保護基であるベンジル基が脱離され、前述した式(E1)で示される本発明のフェニルナフトール誘導体16.0g(48.9mmol)を得た。
 このようにして得られたフェニルナフトール誘導体の4-ブロモ-1-ナフトールからのトータル収率は49%だった。
 また、このフェニルナフトール誘導体の元素分析値及びC2424Oの計算値は以下のとおりであった。
  元素分析値 C:87.81%、H:7.30%
  計算値   C:87.76%、H:7.37%
 上記の結果から、元素分析値は、C2424Oの計算値と良く一致していることが判る。
 また、プロトン核磁気共鳴スペクトルを測定したところ、δ0.5~4.0ppm付近にアルキル基およびアルキレン基に基づく12Hのピーク、δ5.0~δ9.0ppm付近にアロマティックおよびオレフィンに基づく11Hのピークを示した。
 さらに、13C-核磁気共鳴スペクトルを測定したところ、δ110~160ppm付近に芳香環の炭素に基づくピーク、δ20~80ppmにアルキル基およびアルキレン基の炭素に基づくピークを示した。
 上記の分析結果から、得られたフェニルナフトール誘導体の構造が式(E1)で表されることを確認した。
<実施例2>
下記式(E2)で表されるフェニルナフトール誘導体の合成;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 7-メトキシ-1-ナフトール17.4g(100mmol)をアセトニトリル340mlに溶解させ、0℃でN-ブロモスクシンイミド17.8g(10mmol)を加えて反応させた。2時間後に水と酢酸エチルをそれぞれ340ml加え、有機層を10%塩水で洗浄し、溶媒を除去してシリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で表されるブロモナフトールの淡黄色オイル23.3g(92mmol、収率92%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 このブロモナフトールをジメチホルムアミド460mlに溶解させ、炭酸カリウム19.1g(138mmol)と塩化ベンジル12.8g(101mmol)を加えて50℃で反応させた。3時間後にトルエン460mlと水920mlを加え、有機層を水で洗浄し、溶媒を除去してシリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、水酸基がベンジル基(Bn)で保護された下記式で表されるベンジル保護ブロモナフトールの白色固体29.8g(87mmol、収率95%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 上記のベンジル保護ブロモナフトール10.3g(30mmol)に、
   ジメチルホルムアミド150ml
   10%炭酸カリウム水溶液150ml
   2-ブロモフェニルボロン酸9.0g(45mmol)
を加え、この反応液にアルゴンガスを導入して溶存酸素を除去した。これにテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム3.45g(3.0mmol)を加え、80℃で24時間反応させた。その後、トルエン300mlと水300mlを加え、有機層を水で洗浄して、溶媒を減圧で除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で表されるベンジル保護ブロモフェニルナフトール誘導体の白色固体7.10g(17mmol、収率57%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 上記のベンジル保護ブロモフェニルナフトール誘導体を使用し、4,4-ジメチルシクロヘキサノンの代わりに3,3,5,5-テトラメチルシクロヘキサノンを使用した以外は、実施例1と同様の手法でカップリング及び脱保護を行うことで、前述した式(E2)で表されるフェニルナフトール誘導体の白色固体5.45g(14.1mmol)を得た。
 7-メトキシ-1-ナフトールからのトータル収率は41%だった。
 得られた化合物について、実施例1と同様な構造確認の手段を用いて構造解析した結果、前記式(E2)で示される化合物であることを確認した。表1に元素分析値および1H-NMRスペクトルの特徴的なスペクトルを示した。
<実施例3>
下記式(E3)で表されるフェニルナフトール誘導体の合成;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 1-ベンジルオキシ-2-ブロモベンゼン26.3g(100mmol)にトルエン526mlを加え、-10℃に冷却し、75mlのブチルリチウムヘキサン溶液(1.6M)を1時間かけて添加した。その後、シクロオクタノン15.1g(120mmol)を加え、1時間反応させた。
 この反応液に水263mlを加え、有機層を水洗した。溶媒を除去し、酢酸エチル465mlとメタノール62mlを加え、5%パラジウムカーボン(50wt含水品)を5.2g添加し、水素雰囲気下で反応させた。
 2時間後、固体を濾別し、溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒ヘキサン/酢酸エチル=5/1v/v)により精製することで、下記式で示されるフェノール化合物9.91g(45mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 このフェノール化合物にトルエン200mlと、カンファースルホン酸2.1g(9.0mmol)を加え、80℃で反応させた。2時間後、水200mlを加え、有機層を水で洗浄し、溶媒を除去した。
 溶媒が除去された釜残の透明オイルに、ジクロロメタン137mlとピリジン10.9mlを加え、-10℃に冷却し、トリフルオロメタンスルホン酸無水物19.0g(67.5mmol)を1時間かけて滴下した。その後0℃で1時間反応熟成後、水137mlを加え、ジクロロメタン相を分離し、10%塩酸45mlを加えて、水層を除去することによりピリジンを除去した。
 次いでジクロロメタン相を水で洗浄し、溶媒を除去して、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で表されるトリフラート化合物の白色固体13.5g(40.5mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 このトリフラート化合物をジメチルスルホキシド203mlに溶解させ、さらに、
   ビス(ピナコラート)ジボロン15.4g(60.8mmol)
   酢酸カリウム13.9g(141mmol)
   テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
                    3.45g(3.0mmol)
を加え、80℃で16時間反応させた。反応液にトルエン203ml、水203mlを加え、有機層を水で洗浄し、溶媒を除去して、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で表されるボロン酸エステル化合物の白色固体11.0g(35.2mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 尚、上記の白色固体の元素分析値及び上記式での計算値は以下のとおりであった。
  元素分析値 C:76.88%、H:9.40%、B:3.51%
  計算値   C:76.93%、H:9.36%、B:3.46%
 元素分析値と計算値とがよく一致していることが判る。
  上記で得られたボロン酸エステル9.37g(30mmol)
  実施例2で得られたベンジル保護ブロモフェニルナフトール誘導体
                    6.87g(20mmol)
  1,2-ジメトキシエタン200ml
  エタノール20ml
  10%炭酸ナトリウム水溶液200ml
を混合し、アルゴンガスを導入して溶存酸素を除去した。これにテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム3.45g(3.0mmol)を加え、75℃で24時間反応させた。
 その後、トルエン200mlと水200mlを加え、有機層を水で洗浄して、溶媒を減圧で除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で示されるベンジル保護フェニルナフトール誘導体の白色固体7.90g(17.6mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 このフェニルナフタレン化合物をテトラヒドロフラン160mlに溶解させ、5%パラジウムカーボン(50wt含水品)を3.95g添加し、水素雰囲気下で反応させた。2時間後、固体を濾別し、溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、前述した式(E3)のフェニルナフトール誘導体の白色固体6.02g(16.8mmol)を得た。
 7-メトキシ-1-ナフトールからのトータル収率は73%だった。
 得られた化合物について、実施例1と同様な構造確認の手段を用いて構造解析した結果、上記構造式で示される化合物であることを確認した。表1に元素分析値および1H-NMRスペクトルの特徴的なスペクトルを示した。
<実施例4>
インデノナフトール誘導体の合成;
 実施例2で得られた式(E2)のフェニルナフトール誘導体3.87g(10mmol)にトルエン58mlを加え、80℃に加熱した。これにp-トルエンスルホン酸一水和物0.95g(5.0mmol)を加え、2時間反応させた。反応後、水30mlで有機層を洗浄し、溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式(E4)で示されるインデノナフトール誘導体の白色固体3.75g(9.7mmol)を得た。
 フェニルナフトール誘導体からの収率は97%だった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
<実施例5>
インデノナフトピランの合成;
 下記式で表されるプロパルギルアルコール化合物を用意した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
 実施例4で得られたインデノナフトール化合物1.55g(4.0mmol)と上記のプロパルギルアルコール化合物1.40g(5.2mmol)をトルエン47mlに溶解し、さらにカンファースルホン酸を0.03g加えて100℃で1時間反応させた。
 反応後、溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製し、さらにアセトニトリルで再結晶することにより、下記式(E5)で示されるインデノナフトピランの白色固体1.86g(2.9mmol)得た。収率は73%であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
<実施例6>
下記式(E6)で示されるフェニルナフトール誘導体の合成;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
 下記式で示される6,7-メチレンジオキシ-1-ナフトールを用意した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 上記の6,7-メチレンジオキシ-1-ナフトールを原料とした以外は実施例2と同様の手法で、上記式(E6)で示されるフェニルナフトール誘導体を得た(収率39%)。
 得られた化合物について、実施例1と同様な構造確認の手段を用いて構造解析した結果、上記式(E6)で示される化合物であることを確認した。表1に元素分析値および1H-NMRスペクトルの特徴的なスペクトルを示した。
<実施例7>
下記式(E7)で示されるフェニルナフトール誘導体の合成;
 実施例7
 1,6-ジメトキシナフタレン18.8g(100mmol)をテトラヒドロフラン370mlに溶解させ、-10℃に冷却し、78mlのブチルリチウムヘキサン溶液(1.6M)を1時間かけて添加した。この溶液に、硫黄華3.2g(100mmol)を少量ずつ添加し、-5℃で3時間反応させた。この溶液にトルエン370mlを加え、10%塩酸190mlでクエンチし、有機層を10%塩水で洗浄した。溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒ヘキサン/酢酸エチル=3/1v/v)により精製することで、下記式で示されるナフトール誘導体の淡黄色オイル15.4g(70mmol)得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
 上記で得られたナフトール誘導体15.4gに、154mlのジクロロメタンを加え、0℃に冷却し、217gの三臭化ホウ素ジクロロメタン溶液(17wt%)を1時間かけて添加し、3時間反応させた。
 この溶液に154mlの水を加えてクエンチし、308mlの酢酸エチルを加え、水層を除去し、有機層を水で洗浄し、溶媒を除去することで、下記式で示されるジナフトール化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 上記のジナフトール化合物は酸素により分解するため、精製せずに次の反応に用いた。また、ジナフトール合成工程で用いた水は、予めアルゴンガスでバブリングして溶存酸素を除去したものである。
 上記のジナフトール化合物に、トルエン412mlを加え、ジイソプロピルケトン8.00g(77mmol)とp-トルエンスルホン酸一水和物1.33g(5.0mmol)を加え、生成する水を除去しながら還流温度で16時間反応させた。反応後、有機層を水で洗浄して、溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒ヘキサン/酢酸エチル=2/1v/v)により精製することで、下記式で示されるナフトール化合物の淡黄色粘稠オイルとして11.7g(41mmol)得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 この化合物についての元素分析値及び計算値は、以下のとおりである。
  元素分析値 C:70.69%、H:7.10%、S:11.16%
  計算値   C:70.80%、H:6.99%、S:11.12%
 元素分析値と計算値とがよく一致していることが判る。
 上記で得られたナフトール化合物を、実施例2と同様の手法でブロモ化およびベンジルエーテル化(保護基の導入)を行い、下記式で示されるベンジル保護ブロモナフトール化合物の白色固体12.3g(27mmol、収率66%)得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 この化合物についての元素分析値及び計算値は、以下のとおりである。
  元素分析値 C:62.89%、H:5.47%、S:7.09%
  計算値   C:63.02%、H:5.51%、S:7.01%
 元素分析値と計算値とがよく一致していることが判る。
 一方、シクロオクタノンを4,4-ジエチルシクロヘキサノンに替えた以外は実施例3と同様にして、下記式で示されるボロン酸エステル化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
 この化合物についての元素分析値及び計算値は、以下のとおりである。
  元素分析値 C:77.55%、H:9.59%、B:3.22%
  計算値   C:77.65%、H:9.77%、B:3.18%
 元素分析値と計算値とがよく一致していることが判る。
 また、このボロン酸エステル化合物の1-ベンジルオキシ-2-ブロモベンゼンからのトータル収率は53%だった。
 上記で得られたベンジル保護ブロモナフトール化合物とボロン酸エステル化合物を、実施例3と同様の手法で反応させることにより、前記式(E7)で示されるフェニルナフトール誘導体を得た。このフェニルナフトール誘導体のナフトール化合物からのトータル収率は68%だった。
 また、得られた化合物について、実施例1と同様な手段を用いて構造解析した結果、前記式(E7)で示される化合物であることを確認した。表1に元素分析値および1H-NMRスペクトルの特徴的なスペクトルを示した。
<実施例8>
下記式(E8)で示されるフェニルナフトール誘導体の合成;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 1,7-ジメトキシナフタレンを原料とし、ジイソプロピルケトンをジシクロヘキシルケトンに替え、さらに4,4-ジエチルシクロヘキサノンを4,4-ジメチルシクロヘキサノンに替えた以外は、実施例7と同様にして、上記式(E8)で示されるフェニルナフトール誘導体を得た。このフェニルナフトール誘導体のナフトール化合物からのトータル収率は70%だった。
 また、得られた化合物について、実施例1と同様な手段を用いて構造解析した結果、前記式(E8)で示される化合物であることを確認した。表1に元素分析値および1H-NMRスペクトルの特徴的なスペクトルを示した。
<実施例9>
下記式(E9)で示されるフェニルナフトール誘導体の合成;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 7-メトキシ-1-ナフトール17.4g(100mmol)を、実施例1と同様の手法でベンジル保護し、下記式で示される1-ベンジルオキシ-7-メトキシナフタレンの白色固体24.6g(93mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 この1-ベンジルオキシ-7-メトキシナフタレンを、実施例7と同様の手法でリチウム化し、硫黄華の替わりに1,2-ジブロモエタンを添加することで、下記式で示される1-ベンジルオキシ-6-ブロモ-7-メトキシナフタレンの淡黄色固体18.1g(53mmol、収率57%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
 この化合物を、ジメトキシエタン360mlに溶解させ、エタノール36ml、10%炭酸ナトリウム水溶液400mlを加え、アルゴンガスを導入して溶存酸素を除去した。
 この溶液に、
  4-メトキシフェニルボロン酸8.86g(58mmol)
  テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
                0.67g(0.58mmol)
を加え、75℃で3時間反応させた。その後、トルエン360mlと水360mlを加え、有機層を水で洗浄して、溶媒を減圧で除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で示される1-ベンジルオキシ-6-(4-メトキシフェニル)-7-メトキシナフタレンの白色固体18.8g(51mmol、収率96%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 この化合物を、実施例2と同様の手法でブロモ化し、下記式で示されるベンジル保護ブロモナフトール化合物の淡黄色固体14.3g(32mmol、収率63%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 上記のベンジル保護ブロモナフトール化合物を、実施例1と同様の方法でホウ酸トリイソプロピルと反応させることで、下記式で示されるボロン酸化合物の白色固体12.1g(29mmol、収率91%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 このボロン酸化合物に、4,4-ジメチルシクロヘキサノンに替えて3,3,5,5-テトラメチルシクロヘキサノンを実施例1と同様にして反応させ、前記式(E9)で示されるフェニルナフトール誘導体を得た。このフェニルナフトール誘導体の7-メトキシ-1-ナフトールからのトータル収率は19%だった。
 また、得られた化合物について、実施例1と同様な手段を用いて構造解析した結果、前記式(E9)で示される化合物であることを確認した。表1に元素分析値および1H-NMRスペクトルの特徴的なスペクトルを示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000077
<参考例1>
 この例では、従来公知の方法により、実施例4でも製造されている式(E4)のインデノナフトール化合物を合成する。
 4-メトキシベンゾフェノン 21.2g(100mmol)に、コハク酸ジエチル20.0g(115mmol)とテトラヒドロフラン100mlを加え、均一に溶解させた。
 この溶液に、カリウム-t-ブトキシド12.9g(115mmol)をテトラヒドロフラン125mlに分散させた液を50℃で滴下し、60℃で3時間反応させた。反応後、水170mlとトルエン125mlを加えて分液し、有機層を10%塩水で洗浄し、溶媒を減圧で除去して、下記式で示されるカルボン酸化合物及びその構造異性体を含む釜残を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 上記の釜残に、
  無水酢酸51.0g(500mmol)
  酢酸ナトリウム8.2g(100mmol)、
  トルエン100ml
を加え、還流温度で3時間反応させた。反応液を20℃に冷却し、水100mlを加えて3時間撹拌し、水層を除去した。溶媒を減圧で除去し、150mlのメタノールで再結晶を行うことで、下記式で示されるアセトキシナフタレン化合物の淡黄色固体9.84g(27mmol)を得た。
 尚、式中、Acはアセチル基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 上記で得られたアセトキシナフタレン化合物の淡黄色固体に、メタノール45mlと20%水酸化ナトリウム水溶液54gを加え、還流温度で2時間反応させた。その後、トルエン150mlと水50mlを加え、36%塩酸を30g加えて中和し、テトラヒドロフランを50ml加えて水層を除去した。
 次いで有機層を10%塩水で洗浄し、溶媒を減圧で除去し、40mlのトルエンで再結晶を行うことで、下記式で示されるヒドロキシカルボン酸化合物の白色固体7.63g(25.9mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 上記で得られたヒドロキシカルボン酸化合物をN,N-ジメチルホルムアミド76mlに溶解し、これに炭酸カリウム9.0g(64.8mmol)と塩化ベンジル7.2g(57mmol)を加え、60℃で4時間反応させた。この反応液に、トルエン76mlと水114mlを加え、水層を除去し、有機層を水で洗浄し、溶媒を減圧で除去した。
 溶媒が除去された釜残に、2-プロパノール53mlと10%水酸化ナトリウム水溶液104gを加え、固体が均一に溶解するまで還流温度で5時間反応させた。
 反応後、溶媒を除去し、トルエン55mlを加え、36%塩酸28.9gで中和し、テトラヒドロフラン105mlを加えて水層を除去し、有機層を10%塩水で洗浄し、溶媒を除去した。200mlのトルエンで再結晶を行うことで、水酸基がベンジル基で保護され且つ下記式で示されるカルボン酸化合物の白色固体9.27g(24.1mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 上記で得られたカルボン酸化合物にトルエン93ml、トリエチルアミン2.68g(26.5mmol)、ジフェニルホスホリルアジド8.62g(31.3mmol)を加え、20℃で3時間反応させた。その後、エタノールを4.0g加え、70℃で1時間反応させてウレタン化し、さらにエタノール37.7gと水酸化カリウム13.5gを加え、還流温度で3時間反応させた。その後、溶媒を除去して、トルエン93mlと水62mlを加え、水層を除去し、さらに有機層を水で洗浄して溶媒を減圧で除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で示されるアミン化合物の淡黄色固体7.54g(21.2mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 得られたアミン化合物に、アセトニトリル150mlと6%塩酸42.6gを加え、5℃で20%亜硝酸ナトリウム水溶液を添加してジアゾ化した。この溶液に、50%ヨウ化カリウム水溶液35.2gを1時間かけて滴下し、20℃で3時間反応させた。
 反応後、トルエンを115ml加え、水層を除去し、有機層を水で洗浄して、溶媒を減圧で除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で示されるヨードナフタレン化合物の淡黄色固体6.92g(14.8mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
 得られたヨードナフタレン化合物をテトラヒドロフラン69mlに溶解させ、-78℃に冷却し、11mlのブチルリチウムヘキサン溶液(1.6M)を1時間かけて添加した。その後、3,3,5,5-テトラメチルシクロヘキサノン2.86g(18.6mmol)を加え、20℃まで温度を上げた。
 1時間後に、5%塩化アンモニウム水溶液300mlを加え、有機層にp-トルエンスルホン酸一水和物0.56g(3.0mmol)を加え、50℃で反応させた。5時間後、10%塩水を加え、有機層を洗浄した。
 この有機層に5%パラジウムカーボン(50wt含水品)を1.5g添加し、水素雰囲気下で反応させた。2時間後、固体を濾別し、溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒ヘキサン/酢酸エチル=2/1v/v)により精製することで、下記式で示されるフェニルナフトール化合物の白色固体4.17g(10.8mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 上記のフェニルナフトール化合物をトルエン62mlに溶解させ、p-トルエンスルホン酸一水和物3.09g(16.3mmol)を加え、還流温度で1時間反応させた。反応後、水を60ml加え、水層を除去し、有機層を水で洗浄して、溶媒を除去し、シリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶媒クロロホルム)により精製することで、下記式で示されるインデノナフトール化合物の白色固体4.07g(9.1mmol)を得た。
 このインデノナフトール化合物は、実施例4で合成されたものと同じである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
 このインデノナフト-ル化合物のフェニルナフトール化合物からの収率は84%だった。また、4-メトキシベンゾフェノンからのトータル収率は、僅か9.1%だった。

Claims (7)

  1.  下記一般式(1)で表されるフェニルナフトール誘導体;
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     式中、
      R、RおよびRは、水素原子、アルキル基またはアリール
     基であり、RとRとは、互いに結合して脂肪族炭化水素環また
     は複素環を形成してもよく、
      aは、0~4の整数であり、
      bは、0~4の整数であり、
      RおよびRは、ヒドロキシル基、アルキル基、ハロアルキル
     基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロ原子とし
     て窒素原子を有しており且つ該窒素原子を介して結合する複素環基
     、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、ヒドロキシカルボニル基、ア
     ルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ア
     ラルキル基、アラルコキシ基、アリールオキシ基、アリール基、環
     内炭素原子を介して結合するヘテロアリール基、アルキルチオ基、
     シクロアルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロアリールチオ
     基であり、
      R或いはRが複数存在する場合には、複数のR或いは複数
     のRは互いに同一でも異なっていてもよく、また、2個のR
     いは2個のRが、互いに結合して脂肪族炭化水素環または複素環
     を形成してもよい。
  2.  下記一般式(2):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     式中、
      R、R、R、R、R、aおよびbは、式(1)で説明
     したものと同義である、
    で示されるインデノナフトール化合物を製造する方法であって、請求項1に記載のフェニルナフトール誘導体を酸触媒の存在下で環化することを特徴とする方法。
  3.  下記一般式(3):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     式中、
      R、R、R、R、R、aおよびbは、前記式(1)で
     説明したものと同義であり、
      RおよびRは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基
     またはヘテロアリール基である、
    で表されるインデノナフトピラン化合物を製造する方法であって、請求項2に記載の方法により製造されたインデノナフトール化合物と下記一般式(4):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     式中、RおよびRは、前記式(3)で説明したものと同義である、
    で示されるプロパルギルアルコール化合物とを反応させることを特徴とする方法。
  4.  下記一般式(1”):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     式中、
      Rは、水素原子、アルキル基またはアリール基であり、
      R10およびR11は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
     基またはアリール基である、
      R2BおよびR3Bは、互いに結合して、脂肪族炭化水素環また
     は複素環を形成する基であり、
      R5CおよびR5Dは、一方が硫黄原子であることを条件として
     、酸素原子または硫黄原子である、
    で表されるフェニルナフトール誘導体の製造方法であって、下記一般式(1-1a)で表されるハロゲノナフトール誘導体と下記一般式(1-2)で表されるホウ素含有フェニル化合物とを反応させることを特徴とする方法;
    一般式(1-1a):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     式中、
      Xは、ハロゲン原子であり、
      R10、R11、R5CおよびR5Dは、前記一般式(1”)で
     説明したものと同義である、
    一般式(1-2):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     式中、
      Rは、水素原子、アルキル基またはアリール基であり、
      前記一般式(1a)で説明したものと同義であり、
      Zで示される基は、下記式:
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
    から選ばれるホウ素含有基である。
  5.  前記一般式(1-1a)で表されるハロゲノナフトール誘導体の製造方法であって、下記一般式(1-1b);
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     式中、
      R5C、R5D、R10およびR11は、前記一般式(1-1a
     )で説明したものと同義である。
    で表されるナフトール誘導体を、アセトニトリル及び/またはトルエンを含む溶媒中でハロゲン化することを特徴とする方法。
  6.  下記一般式(1-1a);
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     式中、
      Xは、ハロゲン原子であり、
      R10およびR11は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
     基またはアリール基である、
      R5CおよびR5Dは、一方が硫黄原子であることを条件として
     、酸素原子または硫黄原子である、
    で表されるハロゲノナフトール誘導体。
  7.  下記一般式(1-1b);
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     式中、
      R10およびR11は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
     基またはアリール基である、
      R5CおよびR5Dは、一方が硫黄原子であることを条件として
     、酸素原子または硫黄原子である、
    で表されるナフトール誘導体。
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