KR101994902B1 - 유기 붕소 화합물 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 유기 합성의 반응제로서 유용한 신규 유기 붕소 화합물을 제공하는 것을 과제로 한다.
하기 일반식(G1)으로 나타내어지는 신규 유기 붕소 화합물을 제공한다. 단, 일반식(G1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 16의 아릴기 중 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기의 어느 하나를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성해도 좋다. 또한, X는 산소 원자 또는 유황 원자이다.
하기 일반식(G1)으로 나타내어지는 신규 유기 붕소 화합물을 제공한다. 단, 일반식(G1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 16의 아릴기 중 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기의 어느 하나를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성해도 좋다. 또한, X는 산소 원자 또는 유황 원자이다.
Description
본 발명은, 유기 붕소 화합물 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
유기 화합물은 무기 화합물에 비해, 다양한 구조를 취할 수 있고, 적절한 분자 설계로 여러 가지 기능을 갖는 재료를 공급할 가능성이 있다. 이러한 이점으로부터, 여러 가지 유기 화합물의 합성 중간체로서 이용할 수 있는 유기 붕소 화합물의 재료 개발이 이루어지고 있다.
예를 들어, 특허문헌 1에서는, 유기 붕소화된 벤조푸란 화합물을 재료로서 합성된 발광 소자용 재료가 개시되어 있다.
최종 생성물로서의 의농약, 생리 활성 물질, 또는 발광 소자용 재료 등에 다양성을 갖게 하기 위해, 그 합성 중간체로서 이용할 수 있는 유기 붕소 화합물도 다양화하는 것이 요망된다. 또한, 유기 화합물의 합성에서, 목적물을 보다 고순도로 간단히 얻는 것은 바람직하고, 여러 가지 연구가 이루어지고 있다. 그 수단으로서, 보다 안전성이 있고 정제하기 쉬운 재료를 이용한 합성 루트의 채용이나, 부생성물이 합성되기 어려운 합성 루트의 채용 등을 들 수 있다.
또한 유기 화합물의 합성은 다종다양하게 할 수 있는 반면, 복수의 합성 단계에 미치는 것이 적지 않다. 그 때문에, 그들에 쓰는 재료나 시간은 그 합성 방법이 복잡해지면 복잡해질수록 많아진다. 따라서, 간편한 합성 방법을 제안하는 것이 요망되고 있다.
본 발명의 일 형태는, 유기 합성의 반응제로서 유용한 신규 유기 붕소 화합물을 제공하는 것을 과제의 하나로 한다.
본 발명의 다른 일 형태는, 위에서 설명한 유기 붕소 화합물의 제조 방법을 제공하는 것을 과제의 하나로 한다.
본 발명의 일 형태는, 하기 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물이다.
[일반식(G1)]
단, 일반식(G1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수(數) 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기의 어느 하나를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성해도 좋다. 또한, X는 산소 원자 또는 유황 원자이다.
또한, 본 발명의 다른 일 형태는, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물 또는 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜 화합물을, 알킬 리튬 시약 및 붕소 시약을 이용하여 유기 붕소화시킴으로써, 하기 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물을 합성하는 유기 붕소 화합물의 제조 방법이다.
[일반식(G1)]
단, 일반식(G1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기의 어느 하나를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성하고 있어도 좋다. 또한, X는 산소 원자 또는 유황 원자이다.
또한, 본 발명의 다른 일 형태는, 하기 일반식(G2)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물이다.
[일반식(G2)]
단, 일반식(G2)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성하고 있어도 좋다.
또한, 본 발명의 다른 일 형태는, 하기 일반식(G3)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물이다.
[일반식(G3)]
단, 일반식(G3)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성하고 있어도 좋다.
본 발명의 일 형태에 따라서, 신규 유기 붕소 화합물 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다. 이 유기 붕소 화합물은 유기 합성의 반응제로서 유용하고, 이 붕소 화합물을 합성 중간체로서 여러 가지 유기 화합물을 합성할 수 있다.
도 1은 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란의 NMR 측정 결과를 도시하는 도면.
도 2는 PBnf(약칭)의 X선 결정 구조 해석 결과를 도시하는 도면.
도 2는 PBnf(약칭)의 X선 결정 구조 해석 결과를 도시하는 도면.
이하, 실시형태에 대해 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 설명에 한정되지 않고, 본 발명의 취지 및 그 범위로부터 벗어나지 않고 그 형태 및 상세한 사항을 여러 가지로 변경할 수 있는 것은, 당업자이면 용이하게 이해된다. 따라서, 본 발명은 이하에 나타낸 실시형태 및 실시예의 기재 내용에 한정하여 해석되는 것은 아니다.
(실시형태 1)
본 실시형태에서는, 본 발명의 일 형태에 관한 유기 붕소 화합물에 대해 설명한다.
본 발명의 일 형태에 관한 유기 붕소 화합물은, 하기 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물이다.
[일반식(G1)]
일반식(G1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기의 어느 하나를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성해도 좋다. 또한, X는 산소 원자 또는 유황 원자이다.
또한, 본 명세서에서, 일반식(G1) 내지 일반식(G3)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물로서는, 보론산도 포함하는 것으로 한다. 보론산의 경우, 일반식(G1) 내지 일반식(G3) 중의 R10 및 R11은 수소를 나타낸다. 또한, 보론산은 알코올 또는 에틸렌 글리콜 등에 의해 보호되어 있어도 좋고, 이 경우, 일반식(G1) 내지 일반식(G3) 중의 R10 및 R11은 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기이다.
R1 내지 R9의 구체적 구조로서는, 각각, 수소, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 2-안트릴기, 9-안트릴기, 피렌-1-일기, 피렌-4-일기, 플루오렌-2-일기 등을 들 수 있다. 또한, 아릴기인 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 2-안트릴기, 9-안트릴기, 피렌-1-일기, 피렌-4-일기, 플루오렌-2-일기는, 치환기로서 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기 또는, 탄소수 6 내지 탄소수 13의 아릴기를 갖고 있어도 좋다.
또한, R10 및 R11의 구체적 구조로서는, 각각, 수소, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 또한, R10 및 R11은 예를 들어, 하기 일반식(G1-1) 내지 일반식(G1-3)에 나타낸 것처럼, 서로 결합하여 고리를 형성해도 좋다.
[일반식(G1-1)~일반식(G1-3)]
일반식(G1) 중, X는 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다. 즉, 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물은, 하기 일반식(G2) 또는 일반식(G3)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물이다.
[일반식(G2)]
단, 일반식(G2)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성하고 있어도 좋다.
[일반식(G3)]
단, 일반식(G3)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성하고 있어도 좋다.
일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물의 구체예로서는, 구조식(100) 내지 구조식(143), 구조식(200) 내지 구조식(243)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물을 들 수 있다. 단, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.
[구조식(100)~구조식(143)]
[구조식(200)~구조식(243)]
일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물의 합성 방법으로서는, 여러 가지의 반응을 적용할 수 있다. 예를 들어, 이하에 나타낸 합성 반응을 행함으로써, 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물을 합성할 수 있다. 또한, 본 발명의 일 형태인 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물의 합성 방법은, 이하의 합성 방법에 한정되는 것은 아니다.
본 실시형태의 유기 붕소 화합물은, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물 또는 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜 화합물을, 알킬 리튬 시약 및 붕소 시약을 이용하여 유기 붕소화시킴으로써 제조할 수 있다. 이하에, 반응예를 나타낸다.
합성 스킴(A-1)에 나타낸 것처럼, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물 또는 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜 화합물(a1)을 알킬 리튬 시약과 붕소 시약을 이용하여 유기 붕소화함으로써, 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물을 얻을 수 있다. 또한, 합성 스킴(A-1)에서, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물 또는 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜 화합물(a1)의 6위가 선택적으로 유기 붕소화된다.
[합성 스킴(A-1)]
합성 스킴(A-1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기의 어느 하나를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성해도 좋다. 또한, X는 산소 원자 또는 유황 원자이다.
또한, 본 명세서 등에서, 합성 스킴(A-1)으로 나타낸 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물 또는 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜 화합물(a1)의 유기 붕소화로서는, 보론산화도 포함하는 것으로 한다. 보론산화의 경우, 일반식(G1) 내지 일반식(G3) 중의 R10 및 R11은 수소를 나타낸다. 또한, 보론산은 에틸렌 글리콜 등에 의해 보호되고 있어도 좋고, 이 경우, 일반식(G1) 내지 일반식(G3) 중의 R10 및 R11 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기이다.
합성 스킴(A-1)에서, 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란(THF), 시클로펜틸 메틸 에테르 등의 에테르계 용매 등을 이용할 수 있다. 또한, 알킬 리튬 시약은, n-부틸리튬, sec-부틸 리튬, tert-부틸 리튬 등을 들 수 있다. 또한, 이들의 알킬 리튬 시약에 배위성의 첨가제를 더함으로써, 반응성을 향상시킬 수 있다. 이용할 수 있는 배위성 첨가제로서는, 테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA) 등을 들 수 있다. 또한, 붕소 시약으로서는 붕산 트리메틸이나, 붕산 트리이소프로필 등을 들 수 있다.
이상에 따라, 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물을 합성할 수 있다. 합성 스킴(A-1)에서 나타내는 반응은, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물 또는 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜 화합물(a1)의 6위를 선택적으로 유기 붕소화할 수 있기 때문에, 부생성물이 합성되기 어려운 반응이다. 또한, 합성 스킴(A-1)에서 나타내는 반응은, 반응 단계 수가 적고 간단한 반응이다. 따라서, 목적물인 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물을 고순도로 합성할 수 있다.
일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물은, 유기 합성의 반응제로서 유용하고, 이 붕소 화합물을 합성 중간체로서 여러 가지의 유기 화합물을 합성할 수 있다.
(실시형태 2)
본 실시형태에서는, 실시형태 1에서 나타낸 유기 붕소 화합물의 재료로서 이용할 수 있는 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물의 합성 방법에 대해 설명한다. 또한, 실시형태 1에서 나타낸 유기 붕소 화합물의 재료로서 이용하는 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물의 합성 방법은, 이하의 합성 방법에 한정되는 것은 아니다.
<합성법 1>
합성 스킴(B-1)에서 나타낸 것처럼, β-나프톨 유도체(b1)와, 아릴 유도체의 유기 붕소 화합물(b2)을, 팔라듐 촉매를 이용한 스즈키·미야우라 반응에 의해 커플링(coupling)함으로써, 할로겐기를 갖는 β-나프톨 유도체(b3)를 얻을 수 있다.
[합성 스킴(B-1)]
합성 스킴(B-1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기의 어느 하나를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성해도 좋다. X1은, 할로겐 또는 트리플레이트기를 나타낸다. X1이 할로겐의 경우는 특히 브롬 또는 요오드인 것이 바람직하다. 또한, X2는 할로겐을 나타내고, 염소, 요오드 또는 브롬인 것이 바람직하고, 불소인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 합성 스킴(B-1)에서, 아릴 유도체의 유기 붕소 화합물(b2)로서는, 보론산도 포함하는 것으로 한다. 보론산의 경우, 아릴 유도체의 유기 붕소 화합물(b2) 중의 R10 및 R11은 수소를 나타낸다. 또한, 보론산은 에틸렌 글리콜 등에 의해 보호되고 있어도 좋다. 이 경우, 아릴 유도체의 유기 붕소 화합물(b2) 중의 R10 및 R11은 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기이다.
합성 스킴(B-1)에서, 이용할 수 있는 팔라듐 촉매로서는, 초산 팔라듐(II), 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(0) 등을 들 수 있다. 또한, 합성 스킴(B-1)에서, 이용할 수 있는 팔라듐 촉매의 배위자로서는, 트리(오르토-톨릴)포스핀이나, 트리페닐포스핀이나, 트리시클로헥실포스핀 등을 들 수 있다. 또한, 이용할 수 있는 염기로서는, 나트륨 tert-부톡시드 등의 유기 염기나, 탄산 칼륨, 탄산 나트륨 등의 무기 염기 등을 들 수 있다. 또한, 이용할 수 있는 용매로서는, 톨루엔, 크실렌, 에탄올 등의 알코올, 톨루엔과 에탄올 등의 알코올과의 혼합 용매, 크실렌과 에탄올 등의 알코올과의 혼합 용매, 톨루엔과 물의 혼합 용매, 톨루엔과 에탄올 등의 알코올과 물의 혼합 용매, 크실렌과 물의 혼합 용매, 크실렌과 에탄올 등의 알코올과 물의 혼합 용매, 벤젠과 물의 혼합 용매, 벤젠과 에탄올 등의 알코올과 물의 혼합 용매, 1,2-디메톡시에탄 등의 에테르류와 물의 혼합 용매 등을 들 수 있다. 또한, 톨루엔과 물, 또는 톨루엔과 에탄올과 물의 혼합 용매가 보다 바람직하다.
또한, 합성 스킴(B-1)에서는, β-나프톨 유도체(b1)의 할로겐기 X1과, 아릴 유도체의 유기 붕소 화합물(b2)의 붕소 화합물기를 반응시키는 경우를 나타냈지만, β-나프톨 유도체(b1)를 붕소 화합물, 아릴 유도체의 유기 붕소 화합물(b2)을 할로겐화물로서 스즈키·미야우라 반응에 의해 커플링시켜도, 할로겐기를 갖는 β-나프톨 유도체(b3)를 얻을 수 있다.
이어서, 할로겐기를 갖는 β-나프톨 유도체(b3)를 Williamson 에테르 합성에 의해 에테르 결합을 만듦으로써 분자내 고리화하고, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 고리를 형성함으로써, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물(b4)을 얻을 수 있다.
[합성 스킴(B-2)]
합성 스킴(B-2)에서, 이용할 수 있는 염기로서는, 수소화나트륨, 탄산 칼륨, 수산화칼륨 등의 무기 염기 등을 들 수 있다. 또는, 요오드화나트륨 등의 염(鹽)을 더해도 좋다. 또한, 이용할 수 있는 용매로서는, 아세토니트릴, N,N-디메틸포름아미드(DMF), 디메틸 술폭시드(DMSO), N-메틸-피롤리돈(NMP) 등의 비프로톤성 극성 용매나, 시클로헥사논이나 2―부탄온, 아세톤 등의 케톤류 등을 이용할 수 있다.
또한, 합성법 1과 다른 본 실시형태의 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물의 합성법에 대해 이하에 합성법 2를 나타낸다.
<합성법 2>
합성 스킴(C-1)에서 나타낸 것처럼, 알콕시드기를 갖는 나프탈렌 유도체(c1)와, 아릴 유도체의 유기 붕소 화합물(c2)을, 팔라듐 촉매를 이용한 스즈키·미야우라 반응에 의해 커플링함으로써, 나프탈렌 유도체의 알콕시드 화합물(c3)을 얻을 수 있다.
[합성 스킴(C-1)]
합성 스킴(C-1)에서, R12는 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기를 나타낸다. 또한, R13 내지 R17은 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 탄소수 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 탄소수 16의 아릴기의 어느 하나를 나타낸다. 또한, X3는 할로겐, 또는, 트리플레이트기를 나타내고, X3이 할로겐의 경우는 특별히 염소, 브롬 또는 요오드인 것이 바람직하다.
합성 스킴(C-1)에서, 이용할 수 있는 팔라듐 촉매로서는, 초산 팔라듐(II), 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(0) 등을 들 수 있다. 또한, 합성 스킴(C-1)에서, 이용할 수 있는 팔라듐 촉매의 배위자로서는, 트리(오르토-톨릴)포스핀이나, 트리페닐포스핀이나, 트리시클로헥실포스핀 등을 들 수 있다. 또한, 이용할 수 있는 염기로서는, 나트륨 tert-부톡시드 등의 유기 염기나, 탄산 칼륨, 탄산 나트륨 등의 무기 염기 등을 들 수 있다. 또한, 이용할 수 있는 용매로서는, 톨루엔, 크실렌, 에탄올 등의 알코올, 톨루엔과 에탄올 등의 알코올과의 혼합 용매, 크실렌과 에탄올 등의 알코올과의 혼합 용매, 톨루엔과 물의 혼합 용매, 톨루엔과 에탄올 등의 알코올과 물의 혼합 용매, 크실렌과 물의 혼합 용매, 크실렌과 에탄올 등의 알코올과 물의 혼합 용매, 벤젠과 물의 혼합 용매, 벤젠과 에탄올 등의 알코올과 물의 혼합 용매, 1,2-디메톡시에탄 등의 에테르류와 물의 혼합 용매 등을 들 수 있다. 또한, 톨루엔과 물, 또는 톨루엔과 에탄올과 물의 혼합 용매가 보다 바람직하다.
또한, 합성 스킴(C-1)에서는, 나프탈렌 유도체(c1)의 할로겐기 X3과, 아릴 유도체의 유기 붕소 화합물(c2)의 붕소 화합물기를 반응시키는 경우를 나타냈지만, 나프탈렌 유도체(c1)를 붕소 화합물, 아릴 유도체의 유기 붕소 화합물(c2)을 할로겐화물로서 스즈키·미야우라 반응에 의해 커플링시켜도, 나프탈렌 유도체의 알콕시드 화합물(c3)을 얻을 수 있다.
합성 스킴(C-1)에 나타낸 반응은, 위에서 설명한 합성 스킴(B-1)에서 β-나프톨 유도체(b1)를 대신해, 알콕시드기를 갖는 나프탈렌 유도체(c1)를 이용한 반응이다. 알콕시드기를 갖는 나프탈렌 유도체(c1)를 이용함으로써, β-나프톨 유도체(b1)에서 히드록시기를 보호할 수 있기 때문에, 할로겐기를 갖는 β-나프톨 유도체(b3)로의 치환기의 도입을 보다 용이하게 행할 수 있게 된다.
이어서, 합성 스킴(C-2)에 나타낸 것처럼, 나프탈렌 유도체의 알콕시드 화합물(c3)을, 루이스산으로 탈보호함으로써, 할로겐기를 갖는 β-나프톨 유도체(c4)를 얻을 수 있다.
[합성 스킴(C-2)]
합성 스킴(C-2)에서, 이용할 수 있는 루이스산으로서는, R12가 메틸기인 경우, 삼브롬화붕소, 트리메틸요오드실란 등이 바람직하다. 또한 R12가 tert-부틸기인 경우, 트리플루오로초산, 4mol/L 염산·초산 에틸 용액 등이 바람직하다. 또한, 이용할 수 있는 용매로서는, 디클로로메탄, 클로로폼, 사염화탄소 등의 할로겐계 용매나, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소계 용매를 들 수 있다.
합성 스킴(C-2)의 그 후 단계는, 위에서 설명한 합성 스킴(B-2)과 마찬가지로 행할 수 있기 때문에 상세한 설명은 생략한다.
이상에 따라, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물(b4)을 합성할 수 있다. 본 실시형태에서 나타내는 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물(b4)은, 실시형태 1에서 나타낸 유기 붕소 화합물의 합성의 재료로서 이용할 수 있다.
본 실시예에서는, 실시형태 1에서 구조식(100)으로 나타낸 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산을 제조하는 합성예 1 및 합성예 2를 나타낸다.
[구조식(100)]
<합성예 1>
<단계 1 : 1-(2-플루오로페닐)-2-나프톨의 합성>
1.4g(10mmol)의 2-플루오로벤젠보론산과, 2.2g(10mmol)의 1-브로모-2-나프톨과, 153mg(0.5mmol)의 트리(o-트릴)포스핀과, 25mL의 톨루엔과, 25mL의 에탄올과, 5mL의 2Ｍ 탄산 칼륨 수용액을 200mL 삼구 플라스크에 넣었다. 이 혼합물을 감압 탈기하고, 계 내를 질소 치환했다. 이 혼합물을 80℃에서 교반하고, 23mg(0.1mmol)의 초산 팔라듐(II)을 더하여, 약 100℃에서 6.5시간 환류했다. 환류 후, 이 혼합물을 물로 세정하고, 수층을 초산 에틸로 추출하였다. 얻어진 추출용액과 유기층을 합하여, 포화 식염수로 세정했다. 얻어진 유기층을 황산 마그네슘으로 건조했다. 이 혼합물을 자연 여과하고, 얻어진 여과액을 농축한 결과, 갈색 유상물(油狀物)을 얻었다. 이 유상물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(전개 용매 ： 톨루엔)에 의해 정제한 결과, 목적물의 갈색 유상물을 1.6g, 수율(收率) 69％로 얻었다. 단계 1의 반응 스킴을 하기(E1-1)에 나타낸다.
[반응 스킴(E1-1)]
<단계 2 : 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란의 합성>
1L의 삼구 플라스크에 15g(63mmol)의 1-(2-플루오로페닐)-2-나프톨과, 300mL의 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)과, 18g(130mmol)의 탄산 칼륨을 넣었다. 이 플라스크를 질소 기류하, 150℃에서 6시간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물을 실온까지 방냉(放冷)하고, 약 500mL의 물에 더하였다. 이 혼합물의 수층을 초산 에틸로 추출하고, 추출 용액과 유기층을 합하여 물과 포화 식염수로 세정했다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고, 건조 후, 이 혼합물을 자연 여과했다. 얻어진 여과액을 농축한 결과, 유상물을 얻었다. 얻어진 유상물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(전개 용매 : 헥산)로 정제한 결과, 유상물을 얻었다. 얻어진 유상물을 감압 건조하고, 목적물의 무색 투명 유상물을 11.8g, 수율 86％로 얻었다. 단계 2의 반응 스킴을 하기(E1-2)에 나타낸다.
[반응 스킴(E1-2)]
핵자기 공명법(NMR)에 의해, 이 화합물이 목적물인 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란이 얻어지는 것을 확인했다.
얻어진 화합물의 1H-NMR의 측정 데이터를 이하에 나타낸다.
1H-NMR(CDCl3, 300MHz):δ=7.44-7.57(m, 3H), 7.68-7.78(m, 3H), 7.93(d, J=9.3Hz, 1H), 8.03(d, J=7.8Hz, 1H), 8.37-8.43(m, 1H), 8.62(d, J=8.4Hz, 1H)
또한, 1H-NMR 차트를 도 1(A), 도 1(B)에 도시한다. 또한, 도 1(B)은, 도 1(A)에서 7.2ppm부터 8.7ppm의 범위를 확대하여 나타낸 차트이다.
<단계 3 : 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산의 합성>
500mL 삼구 플라스크를 질소 치환하고 나서, 5.8g(50mmol)의 테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA)과, 180mL의 테트라하이드로푸란(THF)을 더하고, 이 용액을 -80℃로 냉각했다. 이 용액에 50mL(50mmol)의 sec-부틸 리튬(1.0 mol/L 시클로헥산, n-헥산 용액)을, 주사기로 적하하여 더했다. 적하 후, 이 용액을 같은 온도에서 30분간 교반했다. 교반 후, 이 용액에 70mL의 THF에 용해된 10g(45mmol)의 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란을 적하 깔때기로 적하하여 더했다. 적하 후, 이 용액을 같은 온도에서 2시간 교반했다. 적하 후, 이 용액에 11mL(100mmol)의 붕산 트리메틸을 더하고, 실온으로 되돌리면서 2일간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물의 수층을 초산 에틸로 추출하고, 추출 용액과 유기층을 합하여, 포화 탄산수소나트륨 수용액과 포화 식염수로 세정했다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고, 건조 후, 이 혼합물을 자연 여과했다. 얻어진 여과액을 농축한 결과, 백색 고체를 얻었다. 얻어진 고체에 톨루엔과 헥산의 혼합 용매를 더하고 초음파를 조사(照射)하여, 고체를 흡인 여과에 의해 회수한 결과, 목적물인 백색 분말을 9.2g, 수율 78％로 얻었다. 단계 3의 반응 스킴을 하기(E1-3)에 나타낸다.
[반응 스킴(E1-3)]
이상에 따라, 구조식(100)으로 나타낸 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산을 합성할 수 있다.
<합성예 2>
본 합성예는, 상기 합성예 1과는 다른 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산의 합성예를 나타낸다.
<단계 1 : 1-(2-플루오로페닐)-2-메톡시나프탈렌의 합성>
500mL 삼구 플라스크에 8.7g(35mmol)의 1-브로모-2-메톡시나프탈렌과, 5.0g(35mmol)의 2-플루오로페닐보론산을 넣고, 플라스크 안을 질소 치환했다. 이 혼합물에, 120mL의 톨루엔과, 60mL의 에탄올과, 40mL의 탄산 나트륨 수용액(2.0mol/L)을 더했다. 이 혼합물을 감압하면서 교반함으로써 탈기했다. 이 혼합물에 2.0g(1.7mmol)의 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(0)을 더하고, 질소 기류하, 80℃에서 8시간 교반했다. 얻어진 혼합물의 수층을 톨루엔으로 추출하고, 추출 용액과 유기층을 합하여, 포화 식염수로 세정했다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고, 이 혼합물을 자연 여과했다. 얻어진 여과액을 농축하여 얻은 유상물을 약 30mL의 톨루엔에 용해하고, 이 용액을 셀라이트(와코 순약 공업 주식회사(Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 카탈로그 번호 : 531-16855), 알루미나, 플로리실(와코 순약 공업 주식회사, 카탈로그 번호 : 540-00135)을 통하여 흡인 여과했다. 얻어진 여과액을 농축하여 얻은 유상물을 감압 건조한 결과, 목적물인 담황색 유상물을 5.3g, 수율 60％로 얻었다. 단계 1의 반응 스킴을 하기(E2-1)에 나타낸다.
[반응 스킴(E2-1)]
<단계 2 : 1-(2-플루오로페닐)-2-나프톨의 합성>
500mL 삼구 플라스크에 5.3g(21mmol)의 1-(2-플루오로페닐)-2-메톡시나프탈렌과, 150mL의 디클로로메탄을 넣었다. 이 용액에 질소 기류하, 0℃에서 45mL(45mmol)의 삼브롬화 붕소(1M 디클로로메탄 용액)를, 적하 깔때기를 이용하여 적하했다. 적하 후, 같은 온도에서 6시간 교반했다. 교반 후, 이 용액을 실온에서 2일간 교반했다. 교반 후, 이 용액에 약 100mL의 물을 넣고 1시간 교반했다. 교반 후, 약 100mL의 포화 탄산수소나트륨 수용액을 더하여 1시간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물의 수층을 디클로로메탄으로 추출하고, 추출 용액과 유기층을 합하여, 물과 포화 탄산수소나트륨 수용액으로 세정했다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고, 건조 후 이 혼합물을 자연 여과했다. 얻어진 여과액을 농축한 결과, 유상물을 얻었다. 얻어진 유상물을 감압 건조한 결과, 목적물인 갈색 고체를 4.8g, 수율 97％로 얻었다. 단계 2의 반응 스킴을 하기(E2-2)에 나타낸다.
[반응 스킴(E2-2)]
얻어진 1-(2-플루오로페닐)-2-나프톨을 이용하여, 합성예 1로 나타낸 반응 스킴(E1-2) 및 반응 스킴(E1-3)과 마찬가지의 반응을 행함으로써, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산을 합성할 수 있다. 상세한 사항은, 합성예 1을 참작할 수 있다.
(참고예 1)
본 참고예에서는, 합성예 1 및 합성예 2에서 중간 물질로서 합성된 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란이, 위에서 설명한 반응 스킴(E1-3)에서 보론산화된 위치를 특정했다. 구체적으로는, 반응 스킴(E1-3)에서 합성된 화합물을 이용하여 6-페닐벤조[b]나프토[1,2-d]푸란(약칭：PBnf)을 합성하고, 그 X선 결정 구조 해석을 행하였다.
<6-페닐벤조[b]나프토[1,2-d]푸란(약칭：PBnf)의 합성>
200mL 삼구 플라스크에 0.90g(5.7mmol)의 브로모벤젠과, 1.5g(5.7mol)의 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산을 넣고, 플라스크 안을 질소 치환했다. 이 혼합물에 20mL의 톨루엔과, 10mL의 에탄올과, 6.0mL의 탄산 나트륨 수용액(2.0mol/L)을 더했다. 이 혼합물을 감압하면서 교반함으로써 탈기했다. 이 혼합물에 0.33g(0.28mmol)의 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(0)을 더하고, 질소 기류하, 80℃에서 2시간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물의 수층을 톨루엔으로 추출하고, 추출 용액과 유기층을 합하여, 포화 식염수로 세정했다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고, 이 혼합물을 자연 여과했다. 얻어진 여과액을 농축하여 얻은 유상물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(전개 용매 헥산：톨루엔 = 19：1)으로 정제한 결과, 백색 고체를 얻었다. 얻어진 고체를 톨루엔과 헥산의 혼합 용매로 재결정한 결과, 목적물의 백색 침상(針狀) 결정을 0.95g, 수율 56％로 얻었다. 반응 스킴을 하기(R-1)에 나타낸다.
[반응 스킴(R-1)]
얻어진 백색 침상 결정을 X선 결정 구조 해석한 결과를 도 2에 나타낸다. 도 2는 분자 투영도(Oak Ridge Thermal Ellipsoid Plot(ORTEP도))이다. 도 2로부터, 목적물인 PBnf가 얻어진 것이 확인되었다. 따라서, 반응 스킴(E1-3)에서, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란의 6위가 선택적으로 보론산화되고, 목적물인 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산이 합성된 것이 나타내어졌다.
(참고예 2)
본 참고예에서는, 실시예 1에서 합성한 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산을 재료로서 하기 구조식(300)으로 나타내어지는 6-[3-(9,10-디페닐-2-안트릴)페닐]-벤조[b]나프토[1,2-d]푸란(약칭：2mBnfPPA)을 합성하는 예를 나타낸다.
[구조식(300)]
<6-[3-(9,10-디페닐-2-안트릴)페닐]-벤조[b]나프토[1,2-d]푸란(약칭：2mBnfPPA)의 합성>
50mL 삼구 플라스크에 1.1g(2.4mmol)의 2-(3-브로모페닐)-9,10-디페닐안트라센과, 0.63g(2.4mmol)의 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산을 넣고, 플라스크 안을 질소 치환했다. 이 혼합물에 10mL의 톨루엔과, 4.0mL의 에탄올과, 3.0mL의 탄산 나트륨 수용액(2.0mol/L)을 더했다. 이 혼합물을 감압하면서 교반함으로써 탈기했다. 이 혼합물에 0.14g(0.12mmol)의 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(0)을 더하고, 질소 기류하, 80℃에서 3시간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물의 수층을 톨루엔으로 추출하고, 추출 용액과 유기층을 합하여, 포화 식염수로 세정했다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고, 이 혼합물을 자연 여과했다. 얻어진 여과액을 농축하여 얻은 유상물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(전개 용매 헥산 : 톨루엔 = 5：1)에 의해 정제한 결과, 유상물을 얻었다. 얻어진 유상물을 톨루엔과 헥산의 혼합 용매로 재결정한 결과, 목적물인 담황색 분말을 1.0g, 수율 66％로 얻었다.
얻어진 담황색 분말상(狀) 고체 1.0g를 트레인 승화법에 의해 승화 정제했다. 승화 정제 조건은, 압력 2.2Pa, 아르곤 가스를 유량 5.0mL/min로 흐르게 하면서, 290℃에서 담황색 분말상 고체를 가열했다. 승화 정제 후, 2mBnfPPA의 담황색 고체를 0.91g, 회수율 91％에서 얻었다. 위에서 설명한 합성 스킴을 하기(R-2)에 나타낸다.
[합성 스킴(R-2)]
핵자기 공명법(NMR)에 의해, 이 화합물이 목적물인 6-[3-(9,10-디페닐-2-안트릴)페닐]-벤조[b]나프토[1,2-d]푸란(약칭：2mBnfPPA)인 것을 확인했다.
얻어진 화합물의 1H-NMR의 측정 데이터를 이하에 나타낸다.
1H-NMR(CDCl3, 300MHz):δ=7.33(d, J=3.0Hz, 1H), 7.35(d, J=3.0Hz, 1H), 7.49-7.75(m, 20H), 7.83(d, J=9.3z, 1H), 7.94(d, J=7.5Hz, 1H), 8.01-8.07(m, 3H), 8.14(s, 1H), 8.43-8.47(m, 1H), 8.66(d, J1=8.4Hz, 1H)
이상으로부터, 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물(보다 구체적으로는, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산)을 다른 유기 화합물의 합성 중간체로서 적용할 수 있는 것이 확인되었다.
(참고예 3)
본 참고예에서는, 실시예 1에서 합성한 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산을 재료로서, 하기 구조식(301)으로 나타낸 6-[3-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-벤조[b]나프토[1,2-d]푸란(약칭：mBnfPA)을 합성하는 예를 나타낸다.
[구조식(301)]
<6-[3-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-벤조[b]나프토[1,2-d]푸란(약칭：mBnfPA)의 합성>
50mL 삼구 플라스크에 1.5g(3.8mmol)의 9-(3-브로모페닐)-10-페닐안트라센과, 1.0g(3.8mmol)의 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산과, 0.29g(0.95mmol)의 트리(오르토-톨릴)포스핀을 넣고, 플라스크 안을 질소 치환했다. 이 혼합물에 15mL의 톨루엔과, 5.0mL의 에탄올과, 4.0mL의 탄산 칼륨 수용액(2.0mol/L)을 더했다. 이 혼합물을 감압하면서 교반함으로써 탈기했다. 이 혼합물에 43mg(0.19mmol)의 초산 팔라듐(II)을 더하고, 질소 기류하, 80℃에서 4시간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물의 수층을 톨루엔으로 추출하고, 추출 용액과 유기층을 합하여, 포화 식염수로 세정했다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고, 이 혼합물을 자연 여과했다. 얻어진 여과액을 농축하여 얻은 유상물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(전개 용매 헥산 : 톨루엔 = 5：1)로 정제한 결과, 유상물을 얻었다. 얻어진 유상물을 톨루엔과 헥산의 혼합 용매로 재결정한 결과, 목적물의 백색 분말을 1.4g, 수율 67％로 얻었다.
얻어진 백색 분말상 고체 1.1g를 트레인 승화법에 의해 승화 정제했다. 승화 정제 조건은, 압력 2.2Pa, 아르곤 가스를 유량 5.0mL/min로 흐르게 하면서, 270℃에서 mBnfPA를 가열했다. 승화 정제 후, mBnfPA의 담황색 고체를 1.0g, 회수율 90％에서 얻었다. 위에서 설명한 합성 스킴을 하기(R-3)에 나타낸다.
[합성 스킴(R-3)]
핵자기 공명법(NMR)에 의해, 이 화합물이 목적물인 6-[3-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-벤조[b]나프토[1,2-d]푸란(약칭：mBnfPA)인 것을 확인했다.
얻어진 화합물의 1H-NMR의 측정 데이터를 이하에 나타낸다.
1H-NMR(CDCl3, 300MHz):δ=7.34-7.44(m, 4H), 7.48-7.63(m, 9H), 7.69-7.74(m, 4H), 7.83(t, J=7.5Hz, 1H), 7.96(dd, J1=1.8Hz, J2=7.8Hz, 2H), 8.04(d, J=7.8Hz, 1H), 8.13(s, 1H), 8.15(t, J=1.5Hz, 1H), 8.26(d, J=7.8Hz, 1H), 8.43-8.46(m, 1H), 8.66(d, J=7.8Hz, 1H)
이상으로부터, 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물(보다 구체적으로는, 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란-6-보론산)을 다른 유기 화합물의 합성 중간체로서 적용할 수 있는 것이 확인되었다.
본 실시예에서는, 실시형태 1에서 구조식(200)으로 나타낸 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜-6-보론산을 제조하는 합성예를 나타낸다.
[구조식(200)]
100mL 삼구 플라스크에 1.0g(4.2mmol)의 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜을 넣고, 플라스크 안을 질소 치환했다. 이 플라스크에 20mL의 테트라히드로푸란(THF)을 더하고, 이 혼합물을 -80℃로 냉각했다. 이 혼합물에 3.0mL(4.8mmol)의 n-부틸리튬(1.6mol/Ｌ 헥산 용액)을, 주사기로 적하하여 더했다. 적하 종료 후, 이 혼합물을 실온까지 승온(昇溫)하면서, 2시간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물을 다시 -80℃까지 냉각하고, 이 혼합물에 1.1mL(10mmol)의 붕산 트리메틸을 더하고, 실온으로 되돌리면서 18시간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물에 약 50mL의 희(希)염산(1.0mol/L)을 더하고, 1시간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물의 수층을 초산 에틸로 추출하고, 추출 용액과 유기층을 합하여, 포화 탄산수소나트륨 수용액과 포화 식염수로 세정했다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고, 건조 후, 이 혼합물을 자연 여과했다. 얻어진 여과액을 농축한 결과, 고체를 얻었다. 얻어진 고체에 톨루엔을 더하고 초음파를 조사하여, 고체를 흡인 여과에 의해 회수한 결과, 목적물인 백색 분말을 0.57g, 수율 49％로 얻었다. 위에서 설명한 반응 스킴을 하기(E3)에 나타낸다.
[반응 스킴(E3)]
이상에 따라, 구조식(200)으로 나타내어지는 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜-6-보론산을 합성할 수 있다.
(참고예 4)
본 참고예에서는, 실시예 2에서 합성한 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜-6-보론산을 재료로서 하기 구조식(400)으로 나타내어지는 6-[3-(9,10-디페닐-2-안트릴)페닐]-벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜(약칭：2mBntPPA)을 합성하는 예를 나타낸다.
[구조식(400)]
50mL 삼구 플라스크에 1.0g(2.0mmol)의 2-(3-브로모페닐)-9,10-디페닐안트라센과, 0.57g(2.0mmol)의 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜-6-보론산을 넣고, 플라스크 안을 질소 치환했다. 이 혼합물에 7.0mL의 톨루엔과, 3.0mL의 에탄올과, 2.0mL의 탄산나트륨 수용액(2.0mol/L)을 더했다. 이 혼합물을 감압하면서 교반함으로써 탈기했다. 이 혼합물에 0.11g(0.10mmol)의 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(0)을 더하고, 질소 기류하, 80℃에서 14시간 교반했다. 교반 후, 이 혼합물의 수층을 톨루엔으로 추출하고, 추출 용액과 유기물을 합하여, 포화 식염수로 세정했다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조하고, 이 혼합물을 자연 여과했다. 얻어진 여과액을 농축하여 유상물을 얻었다. 얻어진 유상물을 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피(전개 용매 헥산：톨루엔 = 5：1)로 정제한 결과, 유상물을 얻었다. 얻어진 유상물을 헥산으로 재결정한 결과, 목적물인 황색 분말을 0.83g, 수율 64％로 얻었다.
얻어진 황색 분말상 고체 0.83g을 트레인 승화법에 의해 승화 정제했다. 승화 정제 조건은, 압력 2.8Pa, 아르곤 가스를 유량 5.0mL/min로 흐르게 하면서, 290℃에서 2mBntPPA를 가열했다. 승화 정제 후, 2mBntPPA의 담황색 고체를 0.33g, 수율 40％에서 얻었다. 위에서 설명한 반응 스킴을 하기(R-4)에 나타낸다.
[반응 스킴(R-4)]
핵자기 공명법(NMR)에 의해, 이 화합물이 목적물인 6-[3-(9,10-디페닐-2-안트릴)페닐]-벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜(약칭：2mBntPPA)인 것을 확인했다.
얻어진 화합물의 1H-NMR의 측정 데이터를 이하에 나타낸다.
1H-NMR(CDCl3, 300MHz):δ=7.34(dd, J=7.2, 3.0Hz, 2H), 7.45-8.07(m, 26H), 8.93(d, J=8.1Hz, 1H), 9.08(d, J=8.7Hz, 1H)
이상에 따라, 실시예 2에서 합성된 일반식(G1)으로 나타내어지는 유기 붕소화합물(보다 구체적으로는, 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜-6-보론산)을 다른 유기 화합물의 합성 중간체로서 적용할 수 있는 것이 확인되었다.
본 출원은 전문이 참조로서 본 명세서에 통합되고, 2010년 12월 28일 일본 특허청에 출원된, 일련 번호가 2010-292993인 일본 특허 출원에 기초한다.
Claims (12)
- 하기 식(G1)으로 나타내어지는 화합물:
(단, 식(G1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 및 탄소수 6 내지 16의 아릴기 중 어느 하나를 나타내고, R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, X는 산소 원자 또는 유황 원자이다.) - 하기 식(G1)으로 나타내어지는 화합물:
(단, 식(G1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 및 탄소수 6 내지 16의 아릴기 중 어느 하나를 나타내고, R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성하고, X는 산소 원자 또는 유황 원자이다.) - 제 1 항에 있어서,
R10 및 R11은 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내는, 화합물. - 제 2 항에 있어서,
상기 고리는 5원자 고리 또는 6원자 고리인, 화합물. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
R9는 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내는, 화합물. - 하기 식(G1)으로 나타내어지는 화합물의 합성 방법으로서,
벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물 또는 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜 화합물을, 알킬 리튬 시약 및 붕소 시약으로 유기 붕소화시키는 단계를 포함하고,
상기 식(G1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 및 탄소수 6 내지 16의 아릴기 중 어느 하나를 나타내고,
R10 및 R11은 각각 독립적으로, 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고,
X는 산소 원자 또는 유황 원자인, 합성 방법. - 하기 식(G1)으로 나타내어지는 화합물의 합성 방법으로서,
벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물 또는 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜 화합물을, 알킬 리튬 시약 및 붕소 시약으로 유기 붕소화시키는 단계를 포함하고,
상기 식(G1)에서, R1 내지 R9는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 및 탄소수 6 내지 16의 아릴기 중 어느 하나를 나타내고,
R10 및 R11은 서로 결합하여 고리를 형성하고,
X는 산소 원자 또는 유황 원자인, 합성 방법. - 제 6 항에 있어서,
R10 및 R11은 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내는, 합성 방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 고리는 5원자 고리 또는 6원자 고리인, 합성 방법. - 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
R9는 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내는, 합성 방법. - 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
상기 벤조[b]나프토[1,2-d]푸란 화합물 또는 상기 벤조[b]나프토[1,2-d]티오펜 화합물은, 할로겐기를 갖는 β-나프톨 유도체의 분자내 고리화에 의해 얻어지는, 합성 방법. - 제 11 항에 있어서,
상기 β-나프톨 유도체는 β-나프톨 유도체와 아릴 유도체를 커플링함으로써 얻어지는, 합성 방법.
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