WO2014136359A1

WO2014136359A1 - 有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器

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Inventors: 陽一青木
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Abstract

　基板（１０）と、基板上に配置された第１電極層（１１）と、第１電極層上に配置された正孔輸送層（１２）と、正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層（１４）と、バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層（１６）と、基板と対向し、第１電極層、正孔輸送層、バルクへテロ接合有機活性層、および第２電極層からなる積層構造を封止する封止ガラス（４０）と、封止ガラスと基板との間に配置され、積層構造を封止するガラスフリット（３６）とを備える有機薄膜太陽電池１およびその製造方法。安価で耐久性が向上し、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法を提供する。

Description

有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器

　本発明は、有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器に関し、特に安価で耐久性が向上し、また、電極の取り出し構造を改善し、外観の大きな構造変化を伴うこと無く、任意の位置に接続点を形成可能で、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器に関する。

　極薄、軽量、フレキシブルを特徴とする有機薄膜太陽電池は、常温、大気圧下でインクジェット法などの印刷法により製造されるため、形状の自由度が高く、意匠性に優れた太陽電池が実現可能である（例えば、特許文献１参照。）。

　有機薄膜太陽電池においては、有機活性層若しくは電極の表面に微細なパターンを施すことで有機活性層内部に効果的に入射光を閉じ込め、集電効果を高め、光電変換効率の向上が実現されている。

　従来の表面プラズモン共鳴を利用した有機薄膜太陽電池では、ｐ型／ｎ型有機層界面や、有機層／電極界面に、有機合成により粒径制御を行った銀（Ａｇ）若しくは金（Ａｕ）ナノ粒子に、分散を促すためにアルキル基やチオール基で修飾したものを溶液状態で用いて、スピンコート法により、それぞれの界面上で塗布していた（例えば、特許文献２参照。）。

特表２００７－５３４１１９号公報特開２００９－２４６０２５号公報

　有機薄膜太陽電池は、他の方式の太陽電池と比較して、光電変換効率が極端に低いことが課題となっていたが、有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイで用いられている掘り込みガラスとシート乾燥剤を用いた封止を用いると高い耐久性が得られることがわかっている。

　しかし、この掘り込みガラスとシート乾燥剤を用いた封止手法は、掘り込みガラスを厚く形成しなければならず、さらに非常に高価であることが課題となっていた。

　従来、アモルファスシリコン太陽電池などにおいて、意匠性のある太陽電池を作製する際は、セルを任意のパターンで作製した後、背面に配色したバックシートなどを貼り合わせていた。

　通常、屋外向けの薄膜太陽電池は、短冊状に折り重なったセルで構成されたモジュールの端面において電極が取り出される。しかし、屋内向けで主に使用されるモバイル端末などに太陽電池を搭載する場合、モジュール形状や面積の制約から、モジュールの端面において電極を取り出すことが難しい。

　そこで、本発明者は、セル内側にモジュールで発生した電気を取り出すための機構を任意の位置に設けることで、外観の大きな変化を伴うこと無く、自由に接続点を形成可能な構造を見出した。

　本発明の目的は、安価で耐久性が向上し、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法を提供することにある。

　また、本発明の目的は、構造が簡単で作製工程が減少し、意匠性の向上し、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器を提供することにある。

　また、本発明の目的は、電極の取り出し構造を改善し、外観の大きな構造変化を伴うこと無く、任意の位置に接続点を形成可能で、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器を提供することにある。

　上記目的を達成するための本発明の一態様によれば、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記基板と対向し、前記第１電極層、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記第２電極層からなる積層構造を封止する封止ガラスと、前記封止ガラスと前記基板との間に配置され、前記積層構造を封止するガラスフリットとを備える有機薄膜太陽電池が提供される。

　本発明の他の態様によれば、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記第２電極層上に配置されたパッシベーション層と、前記パッシベーション層上に配置されたカラー化バリア層と、前記カラー化バリア層上に配置されたバックシートパッシベーション層とを備える有機薄膜太陽電池が提供される。

　本発明の他の態様によれば、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記第２電極層上に配置されたパッシベーション層と、前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層、前記第２電極層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記正孔輸送層を貫通して、前記第１電極層と接続された第１取り出し端子電極と、前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極とを備える有機薄膜太陽電池が提供される。

　本発明の他の態様によれば、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記基板に対して面直方向に、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層を貫通し、前記第１電極層まで到達する第３貫通孔を介して前記第１電極層に接続されたＶＩＡ電極層と、前記第２電極層および前記ＶＩＡ電極層上に配置されたパッシベーション層と、前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層を貫通して、前記ＶＩＡ電極層と接続された第１取り出し端子電極と、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極とを備える有機薄膜太陽電池が提供される。

　本発明の他の態様によれば、上記の有機薄膜太陽電池を備える電子機器が提供される。

　本発明の他の態様によれば、ディスプレイ領域と、前記ディスプレイ領域の周辺部に配置された有機薄膜太陽電池形成領域および文字形成領域とを備え、前記有機薄膜太陽電池形成領域は、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層と、前記バルクヘテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記第２電極層上に配置されたパッシベーション層と、前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層、前記第２電極層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記正孔輸送層を貫通して、前記第１電極層と接続された第１取り出し端子電極と、前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極とを備え、前記ディスプレイ領域および前記文字形成領域は、前記基板と、前記基板上に配置された前記第１電極層と、前記第１電極層上に配置された前記パッシベーション層とを備える電子機器が提供される。

　本発明の他の態様によれば、ディスプレイ領域と、前記ディスプレイ領域の周辺部に配置された有機薄膜太陽電池形成領域および文字形成領域とを備え、前記有機薄膜太陽電池形成領域は、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記基板に対して面直方向に、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層を貫通し、前記第１電極層まで到達する第３貫通孔を介して前記第１電極層に接続されたＶＩＡ電極層と、前記第２電極層および前記ＶＩＡ電極層上に配置されたパッシベーション層と、前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層を貫通して、前記ＶＩＡ電極層と接続された第１取り出し端子電極と、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極とを備え、前記ディスプレイ領域および前記文字形成領域は、前記基板と、前記基板上に配置された前記第１電極層と、前記第１電極層上に配置された前記パッシベーション層とを備える電子機器が提供される。

　本発明の他の態様によれば、基板上に第１電極を形成する工程と、前記第１電極層上に正孔輸送層を形成する工程と、前記正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を形成する工程と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層を形成する工程と、封止ガラス上にガラスフリットを形成する工程と、前記ガラスフリットの先端部分に樹脂を形成する工程と、前記封止ガラスおよび前記基板を対向させ、前記ガラスフリットと前記樹脂によって、前記第１電極層、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記第２電極層からなる積層構造を封止する工程とを有する有機薄膜太陽電池の製造方法が提供される。

　本発明の他の態様によれば、ディスプレイ領域と、前記ディスプレイ領域の周辺部に配置された有機薄膜太陽電池形成領域および文字形成領域とを備え、前記有機薄膜太陽電池形成領域は、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層と、前記バルクヘテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記第２電極層上に配置されたパッシベーション層と、前記パッシベーション層上に配置されたカラー化バリア層と、前記カラー化バリア層上に配置されたバックシートパッシベーション層とを備え、前記ディスプレイ領域および前記文字形成領域は、前記基板と、前記基板上に配置された前記第１電極層と、前記第１電極層上に配置された前記パッシベーション層と、前記パッシベーション層上に配置された前記カラー化バリア層と、前記カラー化バリア層上に配置された前記バックシートパッシベーション層とを備え、前記有機薄膜太陽電池形成領域に対応した前記カラー化バリア層および前記文字形成領域に対応した前記カラー化バリア層は、着色されている電子機器が提供される。

　本発明の他の態様によれば、基板上に第１電極を形成する工程と、前記第１電極層上に正孔輸送層を形成する工程と、前記正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を形成する工程と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層を形成する工程と、前記第２電極層上にパッシベーション層を形成する工程と、前記パッシベーション層上にカラー化バリア層を形成する工程と、前記カラー化バリア層上にバックシートパッシベーション層を形成する工程とを有する有機薄膜太陽電池の製造方法が提供される。

　本発明の他の態様によれば、基板上に第１電極を形成する工程と、前記第１電極層上に正孔輸送層を形成する工程と、前記正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を形成する工程と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層を形成する工程と、前記第２電極層上にパッシベーション層を形成する工程と、前記基板に対して面直方向に、前記パッシベーション層、前記第２電極層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記正孔輸送層を貫通し、前記第１電極層まで到達する第１貫通孔を形成する工程と、前記基板に対して面直方向に、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層まで到達する第２貫通孔を形成する工程と、前記第１貫通孔内において前記第１電極層と接続された第１取り出し端子電極を形成する工程と、前記第２貫通孔内において前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極を形成する工程とを有する有機薄膜太陽電池の製造方法が提供される。

　本発明の他の態様によれば、基板上に第１電極を形成する工程と、前記第１電極層上に正孔輸送層を形成する工程と、前記正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を形成する工程と、前記基板に対して面直方向に、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層を貫通し、前記第１電極層まで到達する第３貫通孔を形成する工程と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層を形成するとともに、前記第３貫通孔を介して前記第１電極層に接続されたＶＩＡ電極層を形成する工程と、前記第２電極層および前記ＶＩＡ電極層上にパッシベーション層を形成する工程と、前記基板に対して面直方向に、前記パッシベーション層を貫通し、前記ＶＩＡ電極層まで到達する第４貫通孔を形成する工程と、前記基板に対して面直方向に、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層まで到達する第２貫通孔を形成する工程と、前記第４貫通孔内において前記ＶＩＡ電極層と接続された第１取り出し端子電極を形成する工程と、前記第２貫通孔内において前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極を形成する工程とを有する有機薄膜太陽電池の製造方法が提供される。

　本発明によれば、安価で耐久性が向上し、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法を提供することができる。

　本発明によれば、構造が簡単で作製工程が減少し、意匠性の向上し、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器を提供することができる。

　本発明によれば、電極の取り出し構造を改善し、外観の大きな構造変化を伴うこと無く、任意の位置に接続点を形成可能で、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器を提供することができる。

第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の別の模式的断面構造図。比較例に係る有機薄膜太陽電池の模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の原理的な構成および動作を説明する模式図。図４に示された有機薄膜太陽電池の各種材料のエネルギーバンド構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において適用する、（ａ）ＰＥＤＯＴの化学構造式、（ｂ）ＰＳＳの化学構造式。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において適用する、（ａ）ｐ型材料となるＰ３ＨＴの化学構造式、（ｂ）ｎ型材料となるＰＣＢＭの化学構造式。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、真空蒸着で使用する材料の化学構造式であって、（ａ）Ｐｃ：フタロシアニンの例、（ｂ）ＺｎＰｃ：亜鉛フタロシアニンの例、（ｃ）Ｍｅ－Ｐｔｃｄｉの例、（ｄ）Ｃ₆₀：フラーレンの例。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、溶液プロセスで使用する材料の化学構造式であって、（ａ）ＭＤＭＯ－ＰＰＶの例、（ｂ）ＰＦＢの例、（ｃ）ＣＮ－ＭＤＭＯ－ＰＰＶの例、（ｄ）ＰＦＯ－ＤＢＴの例、（ｅ）Ｆ８ＢＴの例、（ｆ）ＰＣＤＴＢＴの例、（ｇ）ＰＣ₆₀ＢＭの例、（ｈ）ＰＣ₇₀ＢＭの例。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の積層構造部分の模式的断面構造図。第１の実施の形態の変形例に係る有機薄膜太陽電池の積層構造部分の模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）基板上に透明電極層を形成したＩＴＯ基板を準備する工程図、（ｂ）透明電極層をパターニング後、透明電極層上に正孔輸送層をパターン形成する工程図、（ｃ）正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層をパターン形成する工程図、（ｄ）バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層をパターン形成する工程図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）封止ガラスを準備する工程図、（ｂ）封止ガラス上にガラスフリットを形成する工程図、（ｃ）ガラスフリットの先端部分にＵＶ硬化樹脂を形成する工程図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）図１２（ｄ）に示された工程後のＩＴＯ基板と、図１３（ｃ）に示された工程後の封止ガラスを対向させる工程図、（ｂ）図１４（ａ）に示された工程後、ガラスフリットとＵＶ硬化樹脂を介して、ＩＴＯ基板と封止ガラスを接着し、封止する工程図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の封止部の構成であって、（ａ）ガラスフリットがＵＶ硬化樹脂で被覆された構成を示す模式的断面構造図、（ｂ）ガラスフリットがＵＶ硬化樹脂で被覆された別の構成を示す模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の封止部の構成であって、多孔質性のガラスフリットがＵＶ硬化樹脂で被覆された構成を示す模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の封止部の構成であって、（ａ）２本形成されるガラスフリットが楔形形状を有する構成を示す模式的断面構造図、（ｂ）２本形成されるガラスフリットがテーパー形状を有する構成を示す模式的断面構造図、（ｃ）２本形成されるガラスフリットの断面形状が、封止ガラスから離れるに従って断面積が小さくなる紡錘形のテーパー形状を有する構成を示す模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の封止部の構成であって、（ａ）２本形成されるガラスフリットが楔形形状を有し、かつＵＶ硬化樹脂で被覆された構成を示す模式的断面構造図、（ｂ）２本形成されるガラスフリットがテーパー形状を有し、かつＵＶ硬化樹脂で被覆された構成を示す模式的断面構造図、（ｃ）２本形成されるガラスフリットの断面形状が、封止ガラスから離れるに従って断面積が小さくなる紡錘形のテーパー形状を有し、かつＵＶ硬化樹脂で被覆された構成を示す模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）基板上に透明電極層を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図１９（ａ）の１９ｂ－１９ｂ線に沿う模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）透明電極層上に正孔輸送層を製膜した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図２０（ａ）の２０ｂ－２ｂ線に沿う模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を製膜した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図２１（ａ）の２１ｂ－２１ｂ線に沿う模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図２２（ａ）の２２ｂ－２２ｂ線に沿う模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）酸素プラズマ処理によって、余分な有機層をエッチングすると共に、第２電極層の表面に酸化被膜を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図２３（ａ）の２３ｂ－２３ｂ線に沿う模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造工程の一工程であって、（ａ）封止ガラス・ガラスフリットおよびＵＶ硬化樹脂で封止した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図２４（ａ）の２４ｂ－２４ｂ線に沿う模式的断面構造図。図２４（ｂ）に示された構造において、封止ガラスが撓んだ状態を示す模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の模式的断面構造図であって、（ａ）封止ガラスの内側に、ガラス支持台を備え、封止ガラスの撓みを抑制可能な構成例１、（ｂ）封止ガラスの内側に、ガラス支持台を備え、封止ガラスの撓みを抑制可能な別の構成例２。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の模式的断面構造図であって、（ａ）封止ガラスの内側に、ガラス支持台を備え、封止ガラスの撓みを抑制可能な構成例３、（ｂ）封止ガラスの内側に、ガラス支持台を備え、封止ガラスの撓みを抑制可能な別の構成例４。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池であって、封止ガラスの内側および封止ガラスとＩＴＯ基板との間のスペースに酸素（Ｏ₂）ゲッタリングシートを配置した模式的断面構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、セルを７個直列接続して配置した例を示す模式的平面パターン図。（ａ）図２９の３０ａ－３０ａ線に沿う模式的断面構造図、（ｂ）図３０（ａ）に対応する等価回路構成図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の作成手順を示すフローチャート。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の量産化製造工程の一工程であって、基板上に透明電極層のストライプパターンを形成した状態を示す模式的鳥瞰構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の量産化製造工程の一工程であって、ストライプ状の透明電極層上に正孔輸送層をスピンコートにより製膜した状態を示す模式的鳥瞰構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の量産化製造工程の一工程であって、正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層をスピンコートにより製膜した状態を示す模式的鳥瞰構造図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の量産化製造工程の一工程であって、バルクへテロ接合有機活性層上にストライプ状の透明電極層と直交させて第２電極層のストライプパターンを形成した状態を示す模式的鳥瞰構成図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、複数のセルＣijをマトリックス状に配置した例を示す模式的平面パターン構成図。第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法において、（ａ）正孔輸送層およびバルクへテロ接合有機活性層を形成する際のスピンコート法を示す概略図、（ｂ）形成された正孔輸送層およびバルクへテロ接合有機活性層の例を示す模式的鳥瞰構成図。（ａ）第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の模式的断面構造図、（ｂ）比較例に係る有機薄膜太陽電池の模式的断面構造図。第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の積層構造部分の模式的断面構造図。第２の実施の形態の変形例に係る有機薄膜太陽電池の積層構造部分の模式的断面構造図。第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）基板上に透明電極層を形成したＩＴＯ基板を準備する工程図、（ｂ）透明電極層をパターニング後、透明電極層上に正孔輸送層をパターン形成する工程図、（ｃ）正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層をパターン形成する工程図、（ｄ）バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層をパターン形成する工程図。第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）第２電極層表面に不動態膜（酸化膜）を形成する工程図、（ｂ）デバイス全面にパッシベーション層を形成する工程図、（ｃ）パッシベーション層上にカラー化バリア層を形成する工程図。第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）酸素プラズマ処理によって、余分な有機層をエッチングすると共に、第２電極層の表面に酸化被膜を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図４３（ａ）の４３ｂ－４３ｂ線に沿う模式的断面構造図。第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造工程の一工程であって、（ａ）デバイス全面にパッシベーション層を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図４４（ａ）の４４ｂ－４４ｂ線に沿う模式的断面構造図。第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造工程の一工程であって、（ａ）パッシベーション層上にカラー化バリア層を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図４５（ａ）の４５ｂ－４５ｂ線に沿う模式的断面構造図。第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造工程の一工程であって、（ａ）カラー化バリア層上にバックシートパッシベーション層を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図４６（ａ）の４６ｂ－４６ｂ線に沿う模式的断面構造図。第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用した電子機器の模式的平面構成図。図４７の４８－４８線に沿う模式的断面構造図。図４７の４９－４９線に沿う模式的断面構造図。図４７の５０－５０線に沿う模式的断面構造図。（ａ）第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したタンデム構造の電子機器の模式的断面構造図、（ｂ）第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したインセル構造の電子機器の模式的断面構造図。（ａ）第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の模式的平面パターン構成図、（ｂ）図５２（ａ）の５２ｂ－５２ｂ線に沿う模式的断面構造図、（ｃ）回路表現。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）基板上に透明電極層をパターン形成したＩＴＯ基板を準備する工程図、（ｂ）透明電極層をパターニング後、透明電極層上に正孔輸送層をパターン形成する工程図、（ｃ）正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層をパターン形成する工程図、（ｄ）バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層をパターン形成する工程図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）第２電極層表面に不動態膜（酸化膜）を形成する工程図、（ｂ）デバイス全面にパッシベーション層を形成する工程図、（ｃ）パッシベーション層上にカラー化バリア層を形成する工程図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）カラー化バリア層上にバックシートパッシベーション層を形成する工程図、（ｂ）基板に対して面直方向に、パッシベーション層、第２電極層、バルクへテロ接合有機活性層、および正孔輸送層を貫通し、第１電極層まで到達する第１貫通孔を形成し、かつ基板に対して面直方向に、パッシベーション層を貫通して、第２電極層まで到達する第２貫通孔を形成する工程図、（ｃ）第１貫通孔内において第１電極層と接続された第１取り出し端子電極を形成し、第２貫通孔内において第２電極層と接続された第２取り出し端子電極を形成する工程図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、（ａ）カラー化バリア層によって、パッシベーション層に形成されるスポットを被覆する様子を説明する模式的断面構造図、（ｂ）パッシベーション層とカラー化バリア層を複数層繰り返し積層化形成した多重積層保護膜の模式的断面構造図。（ａ）複数個（図の例では３個）直列に配置された実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の模式的平面パターン構成図、（ｂ）図５７（ａ）の５７ｂ－５７ｂ線に沿う模式的断面構造図、（ｃ）図５７（ａ）および図５７（ｂ）に対応する回路表現。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層をパターン形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図５８（ａ）の５８ｂ－５８ｂ線に沿う模式的断面構造図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）酸素プラズマ処理によって、余分な有機層をエッチングすると共に、第２電極層の表面に酸化被膜を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図５９（ａ）の５９ｂ－５９ｂ線に沿う模式的断面構造図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造工程の一工程であって、（ａ）デバイス全面にパッシベーション層を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図６０（ａ）の６０ｂ－６０ｂ線に沿う模式的断面構造図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造工程の一工程であって、（ａ）パッシベーション層上にカラー化バリア層を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図６１（ａ）の６１ｂ－６１ｂ線に沿う模式的断面構造図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造工程の一工程であって、（ａ）カラー化バリア層上にバックシートパッシベーション層を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図６２（ａ）の６２ｂ－６２ｂ線に沿う模式的断面構造図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造工程の一工程であって、（ａ）第１貫通孔および第２貫通孔を形成した状態を示す模式的平面パターン構成図、（ｂ）図６３（ａ）の６３ｂ－６３ｂ線に沿う模式的断面構造図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の作成手順を示すフローチャート。（ａ）第３の実施の形態の変形例１に係る有機薄膜太陽電池の模式的平面パターン構成図、（ｂ）図６５（ａ）の６５ｂ－６５ｂ線に沿う模式的断面構造図、（ｃ）回路表現。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）基板上に透明電極層をパターン形成した状態を示す模式的断面構造図、（ｂ）透明電極層上に正孔輸送層を製膜した状態を示す模式的断面構造図、（ｃ）正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を製膜した状態を示す模式的断面構造図、（ｄ）バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層をパターン形成した状態を示す模式的断面構造図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）酸素プラズマ処理によって、第２電極層の表面に酸化被膜を形成した状態を示す模式的断面構造図、（ｂ）デバイス全面にパッシベーション層を形成した状態を示す模式的断面構造図、（ｃ）パッシベーション層上にカラー化バリア層を形成した状態を示す模式的断面構造図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）カラー化バリア層上にバックシートパッシベーション層を形成した状態を示す模式的断面構造図、（ｂ）第１貫通孔および第２貫通孔を形成した状態を示す模式的断面構造図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）第１端子電極および第２端子電極を形成した状態を示す模式的断面構造図、（ｂ）図６９（ａ）のＡ部分の拡大図。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用した電子機器の模式的平面構成図。図７０の７１－７１線に沿う模式的断面構造図。図７０の７２－７２線に沿う模式的断面構造図。図７０の７３－７３線に沿う模式的断面構造図。（ａ）第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したタンデム構造の電子機器の模式的断面構造図、（ｂ）第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したインセル構造の電子機器の模式的断面構造図。（ａ）第３の実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池の模式的平面パターン構成図、（ｂ）図７５（ａ）の７５ｂ－７５ｂ線に沿う模式的断面構造図、（ｃ）図７５（ａ）および図７５（ｂ）に対応する回路表現。第３の実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）基板上に透明電極層をパターン形成した状態を示す模式的断面構造図、（ｂ）透明電極層上に正孔輸送層を製膜した状態を示す模式的断面構造図、（ｃ）正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を製膜した状態を示す模式的断面構造図、（ｄ）基板に対して面直方向に、正孔輸送層、バルクへテロ接合有機活性層を貫通し、第１電極層まで到達する第３貫通孔を形成した状態を示す模式的断面構造図。第３の実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、（ａ）バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層をパターン形成するとともに、第３貫通孔を介して第１電極層に接続されたＶＩＡ電極層を形成した状態を示す模式的断面構造図、（ｂ）酸素プラズマ処理によって、第２電極層およびＶＩＡ電極層の表面に酸化被膜形成後、第２電極層およびＶＩＡ電極層上にパッシベーション層・カラー化バリア層・バックシートパッシベーション層を形成した状態を示す模式的断面構造図。第３の実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、基板に対して面直方向に、バックシートパッシベーション層・カラー化バリア層・パッシベーション層を貫通し、ＶＩＡ電極層まで到達する第４貫通孔・第２電極層まで到達する第２貫通孔を形成した状態を示す模式的断面構造図。

　次に、図面を参照して、実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることはもちろんである。

　又、以下に示す実施の形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の実施の形態は、構成部品の材質、形状、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の実施の形態は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。

　以下の第１～第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、「透明」とは、透過率が約５０％以上であるものと定義する。また「透明」とは、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、可視光線に対して、無色透明という意味でも使用する。可視光線は波長約３６０ｎｍ～８３０ｎｍ程度、エネルギー約３．４５ｅＶ～１．４９ｅＶ程度に相当し、この領域で透過率が５０％以上あれば透明である。

［第１の実施の形態］
　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、図１に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層（第２電極層）１６と、基板１０と対向し、第１電極層１１、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４、および第２電極層１６からなる積層構造を封止する封止ガラス４０と、封止ガラス４０と基板１０との間に配置され、上記の積層構造を封止するガラスフリット３６とを備える。

　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、図１に示すように、ＩＴＯ付きガラス基板１０上に発電層となる約数１００ｎｍ程度の厚さを有する有機層（１２・１４）を積層し、第２電極層１６として、アルミニウムなどの金属層を蒸着して作られる。第２電極層１６として形成された純アルミニウムは、酸化され易いため、耐久性を持たせるために、不動態膜を形成したり、ＳｉＮやＳｉＯＮなどのパッシベーション膜を積層したりしても良い。

　ここで、ガラスフリット３６は、封止ガラス４０上に配置される。基板１０上には、正孔輸送層１２・バルクヘテロ接合有機活性層１４などの有機層が配置されるため、ガラスフリットを高温焼結する際に、これらの有機層に損傷を与えないためである。

　実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１においては、スクリーン印刷技術やディスペンサーを用いて塗布可能なガラスフリットペーストを任意のパターンで塗布・高温焼成し、ガラスフリット３６を形成可能である。

　ガラスフリット３６の高さは、例えば、約１μｍ～約１００μｍであり、ガラスフリット３６の幅は、例えば、約０．２ｍｍ～約２．０ｍｍである。ガラスフリット３６を配置することによって、封止ガラス４０と内部の素子との接触を避けることができる。

　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１においては、図１に示すように、封止ガラス４０と素子を形成した基板１０とを貼り合わせるために、ガラスフリット３６表面に接着するための樹脂３６Ｕを備える。

　樹脂３６Ｕとしては、熱硬化性樹脂若しくはＵＶ硬化樹脂を適用可能である。素子へ与える熱ショックを回避するためには、ＵＶ硬化樹脂を使用することが望ましい。また、ＵＶ硬化樹脂を用いる場合は、紫外線を透過する透明ガラスフリットを用いると良い。ＵＶ光に対する全線透過率（例えば、９０％以上）の高いガラスフリット材料としては、例えば、Ｚｎ系のガラスを適用可能である。また、ガラスフリットは、Ｂｉ－Ｂ－Ｓｉ系の酸化物の粉末で構成することもできる。このＢｉ－Ｂ－Ｓｉ系の酸化物からなるガラスフリットは赤外線を吸収して発熱し、融解する性質を備える。そのため、このガラスフリットを含有するペーストの焼成体に赤外線レーザ（例えば、波長１０６４ｎｍ）を照射することにより融着させることが可能である。

　また、第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池は、図２に示すように、封止ガラス４０の内壁面にゲッタリング用シート乾燥剤３８ＧＵを設けることによって、酸素（Ｏ₂）ゲッター作用を高めても良い。ゲッタリング用シート乾燥剤としては、酸素（Ｏ₂）系のゲッター剤として、例えば、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）などを適用可能である。

（比較例）
　比較例に係る有機薄膜太陽電池１Ｂにおいては、図３に示すように、封止用に掘り込みガラス４０Ａを適用する。掘り込みガラス４０Ａの外形の厚さは、例えば、約０．７ｍｍ程度、素子部を内蔵する掘り込み部分の深さは、例えば、約０．３ｍｍ程度である。この掘り込みガラス４０Ａでは、任意のパターンの掘り込みを行う場合、パターン毎に掘り込みを作成するためのマスクの版を作成する必要がある。また、掘り込み部分を形成するために、フッ酸によるエッチングが必要になり、費用と手間が掛かる。また、掘り込みガラス４０Ａを用いた封止は、高価で、モジュールの厚みが厚く、重くなる。

　一方、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池においては、封止用に封止ガラス４０と封止ガラス４０上に焼成した透明ガラスフリット３６とを使用する。封止ガラス４０としては、例えば、厚さ約０．１ｍｍ～０．２ｍｍ程度の無アルカリ強化ガラスを適用可能である。

　また、ガラスフリット３６は、封止ガラス４０に対して、ガラスフリットペースト（有機溶剤＋ガラスフリット）をスクリーン印刷によって塗布し、約１００℃で有機溶剤を乾燥した後、約５００℃～５９０℃で、約３０分焼結して形成する。ガラスフリット３６の厚さは、例えば、約５μｍ～２０μｍ程度である。また、ガラスフリット３６と基板１０とを接着するための樹脂３６Ｕの厚さも、例えば、約５μｍ～２０μｍ程度である。

　ガラスフリット３６は、ディスペンサー塗布を用いることで、自由にパターンを描画可能であり、危険な薬品を使用することなく、封止ガラス４０上に形成可能である。また、掘り込みガラス４０Ａに比べて相対的に薄いカバーガラス（封止ガラス４０）を用いることで、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池のモジュールをより軽量化・薄層化することができる。

（動作原理）
　有機薄膜太陽電池１Ａの動作原理を説明する模式図は、図４に示すように表される。また、図４に示された有機薄膜太陽電池１Ａの各種材料のエネルギーバンド構造は、図５に示すように表される。図４および図５を参照して、第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１Ａの原理的な構成と、その動作について説明する。

　図４の左図に示すように、有機薄膜太陽電池１Ａは、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層１１と、透明電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層１４と、バルクへテロ接合有機活性層１４上に配置された第２電極層１６とを備える。第２電極層１６は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）で形成され、カソード電極層となる。

　ここで、バルクへテロ接合有機活性層１４は、図４の右図に示すように、ｐ型有機活性層領域とｎ型有機活性層領域が混在し、複雑なバルクへテロｐｎ接合を形成している。ここで、ｐ型有機活性層領域は、例えば、Ｐ３ＨＴ（poly(3-hexylthiophene-2,5diyl)）で形成され、ｎ型有機活性層領域は、例えば、ＰＣＢＭ（6,6-phenyl-C61-butyric acid methyl ester）で形成されている。

（ａ）まず、光を吸収すると、バルクへテロ接合有機活性層１４内で、励起子が生成される。

（ｂ）次に、励起子は、バルクへテロ接合有機活性層１４内のｐｎ接合界面において、自発分極によって、電子（ｅ－）と正孔（ｈ＋）の自由キャリアに解離する。

（ｃ）次に、解離した正孔（ｈ＋）は、アノード電極となる透明電極層１１に向けて走行し、解離した電子（ｅ－）は、カソード電極層１６に向けて走行する。

（ｄ）結果として、カソード電極層１６・透明電極層１１間には、逆方向電流が導通して、開放電圧Ｖocが発生し、有機薄膜太陽電池１Ａが得られる。

　有機薄膜太陽電池１Ａにおいて、正孔輸送層１２に適用するＰＥＤＯＴ：ＰＳＳの内、ＰＥＤＯＴの化学構造式は、図６（ａ）に示すように表され、ＰＳＳの化学構造式は、図６（ｂ）に示すように表される。

　有機薄膜太陽電池１Ａにおいて、バルクヘテロ接合有機活性層１４に適用されるＰ３ＨＴの化学構造式は、図７（ａ）に示すように表され、バルクヘテロ接合有機活性層１４に適用されるＰＣＢＭの化学構造式は、図７（ｂ）に示すように表される。

　有機薄膜太陽電池１Ａにおいて、真空蒸着で使用する材料の化学構造式の例は、以下の通りである。すなわち、フタロシアニン(Ｐｃ：Phthalocyanine)の例は、図８（ａ）に示すように表され、亜鉛フタロシアニン(ＺｎＰｃ：Zinc- phthalocyanine)の例は、図８（ｂ）に示すように表され、Ｍｅ－Ｐｔｃｄｉ（N,N’-dimethyl perylene-3,4,9,10-dicarboximide）の例は、図８（ｃ）に示すように表され、フラーレン(Ｃ₆₀：Buckminster fullerene)の例は、図８（ｄ）に示すように表される。

　有機薄膜太陽電池１Ａにおいて、溶液プロセスで使用する材料の化学構造式の例は、以下の通りである。すなわち、ＭＤＭＯ-ＰＰＶ（poly[2-methoxy-5-(3,7-dimethyl octyloxy)]-1,4-phenylene vinylene）の例は、図９（ａ）に示すように表される。ＰＦＢ（poly (9,9’-dioctylfluorene-co-bis-N,N’-(4-butylphenyl)-bis-N,N’-phenyl-1,4-phenylenediamine)の例は、図９（ｂ）に示すように表される。ＣＮ-ＭＤＭＯ-ＰＰＶ (poly-[2-methoxy-5-(2’-ethylhexyloxy)-1,4-(1-cyanovinylene)-phenylene]) の例は、図９（ｃ）に示すように表される。ＰＦＯ-ＤＢＴ (poly[2,7-(9,9-dioctyl-fluorene)-alt-5,5-(4,7’-di-2-thienyl-2’,1’,3’-benzothiadiazole)])の例は、図９（ｄ）に示すように表される。

　また、Ｆ８ＢＴ(poly(9,9’-dioctyl fluoreneco-benzothiadiazole))の例は、図９（ｅ）に示すように表され、ＰＣＤＴＢＴ(poly[N-9’-hepta-decanyl-2,7-carbazole-alt-5,5-(4’,7’-di-thienyl-2’1’,3’-b3nzothiadizaole)])の例は、図９（ｆ）に示すように表される。

　また、ＰＣ_６０ＢＭ（6,6-phenyl-C61-butyric acid methyl ester）の例は、図９（ｇ）に示すように表され、ＰＣ_７０ＢＭ（6,6-phenyl-C71-butyric acid methyl ester）の例は、図９（ｈ）に示すように表される。

　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の積層構造部分は、図１０に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層（第２電極層）１６とを備える。

　また、第１の実施の形態の変形例に係る有機薄膜太陽電池１の積層構造部分は、図１１に示すように、第２電極層１６の表面に配置された不動態膜２４をさらに備える。ここで、不動態膜２４は、第２電極層１６の酸化膜で構成される。また、第２電極層１６の酸化膜は、第２電極層１６の表面を酸素プラズマ処理することによって、形成可能である。不動態膜２４の厚さは、例えば、約１０オングストローム～約１００オングストロームである。なお、図示は省略するが、不動態膜２４上に配置されたパッシベーション膜を備えていても良い。このパッシベーション膜は、例えば、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜で構成可能である。

　第２電極層１６は、Ａｌ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇの何れかの金属で構成されていても良い。第２電極層１６をＡｌで形成する場合には、不動態膜２４は、アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）膜となる。

　図１１に示すように、第２電極層１６の表面に不動態膜２４を備える有機薄膜太陽電池１は、バルクヘテロ接合有機活性層１４内に水分や酸素が侵入した場合であっても、第２電極層１６がその水分・酸素によって酸化する事態を防止することができる。これにより、有機太陽電池の劣化を抑制することができ、耐久性を高めることができる。

（製造方法）
　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、基板１０上に透明電極層１１を形成したＩＴＯ基板を準備する工程は、図１２（ａ）に示すように表され、透明電極層１１をパターニング後、透明電極層１１上に正孔輸送層１２をパターン形成する工程は、図１２（ｂ）に示すように表され、正孔輸送層１２上にバルクへテロ接合有機活性層１４をパターン形成する工程は、図１２（ｃ）に示すように表され、バルクへテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６をパターン形成する工程は、図１２（ｄ）に示すように表される。

　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、封止ガラス４０を準備する工程は、図１３（ａ）に示すように表され、封止ガラス４０上にガラスフリット３６を形成する工程は、図１３（ｂ）に示すように表され、ガラスフリット３６の先端部分に樹脂３６Ｕを形成する工程は、図１３（ｃ）に示すように表される。

　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、図１２（ｄ）に示された工程後のＩＴＯ基板１０と、図１３（ｃ）に示された工程後の封止ガラス４０を対向させる工程は、図１４（ａ）に示すように表され、図１４（ａ）に示された工程後、ガラスフリット３６とＵＶ硬化樹脂３６Ｕを介して、ＩＴＯ基板１０と封止ガラス４０を接着し、封止する工程は、図１４（ｂ）に示すように表される。

　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の製造方法は、図１２～図１４に示すように、基板１０を準備する工程と、基板１０上に第１電極層１１を形成する工程と、第１電極層１１上に正孔輸送層１２を形成する工程と、正孔輸送層１２上にバルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する工程と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６を形成する工程と、封止ガラス４０上にガラスフリット３６を形成する工程と、ガラスフリット３６の先端部分に樹脂３６Ｕを形成する工程と、封止ガラス４０および基板１０を対向させ、ガラスフリット３６と樹脂３６Ｕによって、第１電極層１１、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４、および第２電極層１６からなる積層構造を封止する工程とを有する。

　図１２～図１４を参照して、第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法について説明する。

（ａ）まず、図１２（ａ）に示すように、基板１０上に、例えば、ＩＴＯからなる透明電極層１１を形成する。

（ｂ）次に、図１２（ｂ）に示すように、透明電極層１１をパターニング後、透明電極層１１上に正孔輸送層１２をパターン形成する。透明電極層１１のパターニングには、ウエットエッチング技術、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用可能である。正孔輸送層１２の形成には、スピンコート技術、スプレー技術、スクリーン印刷技術などを適用可能である。ここで、正孔輸送層１２の形成工程では、例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをスピンコートによって形成し、水分除去のために、アニ－ルを１２０℃で約１０分間行うと良い。

（ｃ）次に、図１２（ｃ）に示すように、正孔輸送層１２上に、発電層となるバルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４の形成工程においては、例えば、Ｐ３ＨＴをスピンコートによって形成する。また、バルクへテロ接合有機活性層１４の形成においては、インクジェット法を用いてフィルム状に形成した後、有機溶剤を乾燥させるために、約１００℃～１２０℃で約１０分～３０分加熱する。

（ｄ）次に、図１２（ｄ）に示すように、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に、カソード電極層１６を形成する。カソード電極層１６の形成には、例えばＡｌ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇなどの金属層を真空加熱蒸着法により形成可能である。また、スクリーン印刷技術を適用しても良い。

（ｅ）次に、図１３（ａ）に示すように、封止ガラス４０を準備する。封止ガラス４０としては、例えば、厚さ約０．１ｍｍ～０．２ｍｍ程度の無アルカリ強化ガラスを適用可能である。

（ｆ）次に、図１３（ｂ）に示すように、封止ガラス４０上にガラスフリット３６を形成する。ガラスフリット３６は、封止ガラス４０に対して、ガラスフリットペースト（有機溶剤＋ガラスフリット）をスクリーン印刷によって塗布し、約１００℃で有機溶剤を乾燥した後、約５００℃～５９０℃で、約３０分焼結して形成する。ガラスフリット３６の厚さは、例えば、約５μｍ～２０μｍ程度である。ガラスフリット３６は、ディスペンサー塗布を用いることで、自由にパターンを描画可能であり、危険な薬品を使用することなく、封止ガラス４０上に形成可能である。

（ｇ）次に、図１３（ｃ）に示すように、ガラスフリット３６と基板１０とを接着するための樹脂３６Ｕをガラスフリット３６の先端部分に形成する。樹脂３６Ｕの厚さも、例えば、約５μｍ～２０μｍ程度である。また、樹脂３６Ｕは、紫外線硬化樹脂で形成されていても良い。また、樹脂３６Ｕは、熱硬化樹脂で形成されていても良い。但し、熱硬化の温度は、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４を損傷しない程度の温度、例えば、約１００℃～約１２０℃以下であることが望ましい。

（ｈ）次に、図１４（ａ）に示すように、図１２（ｄ）に示された工程後のＩＴＯ基板１０と、図１３（ｃ）に示された工程後の封止ガラス４０を対向させる。

（ｉ）次に、図１４（ｂ）に示すように、封止ガラス（カバーガラス）４０およびガラスフリット３６・樹脂３６Ｕによって素子全体を封止する。樹脂３６Ｕによって、ガラスフリット３６と透明電極層（ＩＴＯ）１１とを接着する。なお、封止工程は、大気中の水分や酸素による劣化を防ぐために、窒素雰囲気中で行うと良い。

　以上の工程により、第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を得ることができる。

　なお、第２電極層１６の表面に酸化膜（不動態膜）２４を形成しても良い。また、不動態膜２４は、第２電極層１６を酸素プラズマ処理することによって形成することができる。酸素プラズマにより、余分な有機層を除去するとともに、アルミニウムの再表面に対して酸化被膜処理を行う。なお、アルミニウム表面上に、パッシベーション膜として、シリコン窒化膜などを化学的気相堆積法（ＣＶＤ：Chemical Vapor Deposition）で形成しても良い。シリコン窒化膜の厚さ、例えば、約０．５μｍ～１．５μｍ程度である。内部の素子をシリコン窒化膜で被服保護することで、さらに耐久性を向上可能である。

　また、封止ガラス４０の内壁面にゲッタリング用シート乾燥剤３８ＧＵを設け、水分や酸素による影響をより一層排除するようにしても良い。封止部周辺に樹脂乾燥剤や酸素ゲッターを塗布・形成することで、さらに高い耐久性を確保することができる。

　真空蒸着法によって、アルミニウムを形成した後、内部Ｎ₂若しくは真空減圧化で、ＵＶ照射によって、ＵＶ硬化樹脂３６Ｕを硬化させる場合、ＵＶ照射は、封止ガラス４０側から実施すると良い。ＵＶ照射に対して、アルミニウムは反射層となるため、素子部を保護可能となるためである。

（封止部の構成例）
　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池における封止部は、図１５（ａ）に示すように、ガラスフリット３６がＵＶ硬化樹脂３６Ｕで被覆された構成を備えていても良い。さらに、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池における封止部は、図１５（ｂ）に示すように、ガラスフリット３６がＵＶ硬化樹脂３６Ｕで被覆され、かつＵＶ硬化樹脂３６Ｕと基板１０との接触面積を、図１５（ａ）の構成に比べ、増大させた構成を備えていても良い。

　また、第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池における封止部は、図１６に示すように、多孔質性のガラスフリット３６ＰがＵＶ硬化樹脂３６Ｕで被覆された構成を備えていても良い。すなわち、ガラスフリットには、多孔質のものを用いても良い。多孔質性のガラスフリット３６Ｐを適用する場合には、ガラスフリット３６Ｐ内部に樹脂３６Ｕが浸み込み、“アンカー効果”が働くため、より強固な接着を実現可能である。

　また、第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池におけるガラスフリット３６は、楔形形状、テーパー形状、もしくは封止ガラス４０から離れるに従って断面積が小さくなる紡錘形のテーパー形状を有していても良い。

　また、ガラスフリット３６は、複数本形成されていても良い。

　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の封止部であって、２本形成されるガラスフリット３６が楔形形状を有する構成例は、図１７（ａ）に示すように表される。また、２本形成されるガラスフリット３６がテーパー形状を有する構成例は、図１７（ｂ）に示すように表される。また、２本形成されるガラスフリット３６の断面形状が、封止ガラス４０から離れるに従って断面積が小さくなる紡錘形のテーパー形状を有する構成例は、図１７（ｃ）に示すように表される。

　また、第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の封止部であって、２本形成されるガラスフリット３６が楔形形状を有し、かつＵＶ硬化樹脂３６Ｕで被覆された構成例は、図１８（ａ）に示すように表される。また、２本形成されるガラスフリット３６がテーパー形状を有し、かつＵＶ硬化樹脂３６Ｕで被覆された構成例は、図１８（ｂ）に示すように表される。また、２本形成されるガラスフリット３６の断面形状が、封止ガラス４０から離れるに従って断面積が小さくなる紡錘形のテーパー形状を有し、かつＵＶ硬化樹脂３６で被覆された構成例は、図１８（ｃ）に示すように表される。

（製造方法）
　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、基板１０上に透明電極層１１を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図１９（ａ）に示すように表され、図１９（ａ）の１９ｂ－１９ｂ線に沿う模式的断面構造は、図１９（ｂ）に示すように表される。

　また、透明電極層１１上に正孔輸送層１２を製膜した状態を示す模式的平面パターン構成は、図２０（ａ）に示すように表され、図２０（ａ）の２０ｂ－２０ｂ線に沿う模式的断面構造は、図２０（ｂ）に示すように表される。

　また、正孔輸送層１２上にバルクへテロ接合有機活性層１４を製膜した状態を示す模式的平面パターン構成は、図２１（ａ）に示すように表され、図２１（ａ）の２１ｂ－２１ｂ線に沿う模式的断面構造は、図２１（ｂ）に示すように表される。

　また、バルクへテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図２２（ａ）に示すように表され、図２２（ａ）の２２ｂ－２２ｂ線に沿う模式的断面構造は、図２２（ｂ）に示すように表される。

　また、酸素プラズマ処理によって、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４の内、パターン上において、余分な有機層をエッチングすると共に、第２電極層１６の表面に不動態膜（酸化膜）２４を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図２３（ａ）に示すように表され、図２３（ａ）の２３ｂ－２３ｂ線に沿う模式的断面構造は、図２３（ｂ）に示すように表される。

　また、封止ガラス４０・ガラスフリット３６およびＵＶ硬化樹脂３６Ｕで封止した状態を示す模式的平面パターン構成は、図２４（ａ）に示すように表され、図２４（ａ）の２４ｂ－２４ｂ線に沿う模式的断面構造は、図２４（ｂ）に示すように表される。

　図１９～図２４を参照して、複数個（図の例では３個）直列に配置された実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法について説明する。

（ａ）まず、純水、アセトン、エタノールで洗浄したガラス基板１０（例えば、長さ約５０ｍｍ×幅約５０ｍｍ×厚さ約１０.４ｍｍ）をＩＣＰエッチャ－に入れ、Ｏ_２プラズマにより、表面の付着物を取り除く（ガラス基板表面処理）。なお、基板１０をガラス基板で形成し、有機活性層へ光を効率的に誘導するために、ガラス表面に反射防止処理を実施しても良い。

（ｂ）次に、図１９に示すように、ガラス基板１０上に、例えば、ＩＴＯからなる透明電極層１１を形成する。図１９に示すように、透明電極層１１は溝部を挟んだストライプパターンで複数形成される。溝部の形成には、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用することができる。

（ｃ）次に、図２０に示すように、各透明電極層１１上に、正孔輸送層１２を形成する。正孔輸送層１２の形成には、スピンコート技術、スプレー技術、スクリーン印刷技術などを適用することができる。ここで、正孔輸送層１２の形成工程では、例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをスピンコートによって製膜を行い、水分除去のために、アニ－ルを１２０℃で約１０分間行う。溝部の形成には、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用することができる。

（ｄ）次に、図２１に示すように、各正孔輸送層１２上に、バルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４の形成工程においては、例えば、Ｐ３ＨＴをスピンコートによって製膜を行う。

（ｅ）次に、図２２に示すように、各バルクヘテロ接合有機活性層１４上に、カソード電極層１６を形成する。カソード電極層１６の形成には、例えばＡｌ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇなどの金属層を真空加熱蒸着法により堆積することによって行われる。真空加熱蒸着法の代わりに、スクリーン印刷技術を適用しても良い。

（ｆ）次に、図２３に示すように、バルクヘテロ接合有機活性層１４および正孔輸送層１２をエッチング処理した後、カソード電極層１６の表面に酸化膜（不動態膜）２４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４および正孔輸送層１２をエッチング処理することによって、各セルを分離することができる。また、不動態膜２４は、第２電極層１６を酸素プラズマ処理することによって形成することができる。不動態膜２４の形成は、例えば、高密度プラズマエッチング装置を用いて行うことができる。なお、第２電極層１６を酸素プラズマ処理することによって不動態膜２４を形成すると同時に、バルクヘテロ接合有機活性層１４および正孔輸送層１２をエッチング処理することも可能である。

（ｇ）次に、図２４に示すように、封止ガラス（カバーガラス）４０およびガラスフリット３６・ＵＶ硬化樹脂３６Ｕによって素子全体を封止する。ＵＶ硬化樹脂３６Ｕによって、ガラスフリット３６と透明電極層（ＩＴＯ）１１とを接着する。なお、封止工程は、大気中の水分や酸素による劣化を防ぐために、窒素雰囲気中で行うと良い。また、封止ガラス４０の内壁面にゲッタリング用シート乾燥剤３８ＧＵを設け、水分や酸素による影響をより一層排除するようにしても良い。

　以上の工程により、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を得ることができる。

（封止ガラスが撓んだ状態）
　図２４に示された構造において、封止ガラス４０が撓んだ状態を示す模式的断面構造例は、図２５に示すように表される。封止ガラス４０に撓みが発生した場合、有機薄膜太陽電池を構成するセルが押しつぶされ、アノード電極層１１・カソード電極層１６間に短絡状態が発生する可能性がある。

（ガラス支持台）
　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池のモジュールを作製後に外部からの圧力でカバーガラス４０若しくは基板１０が撓み、カバーガラス４０が内部の素子に接触し、破損することがないように、ガラス支持台１８を設けても良い。ガラス支持台１８は、ガラスフリット３６と同様に形成可能である。

　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池であって、封止ガラス４０の内側に、ガラス支持台１８を備え、封止ガラス４０の撓みを抑制可能な構成例１は、図２６（ａ）に示すように表される。また、別の構成例２は、図２６（ｂ）に示すように表される。

　さらに、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池であって、封止ガラス４０の内側に、ガラス支持台１８を備え、封止ガラス４０の撓みを抑制可能な構成例３は、図２７（ａ）に示すように表され、別の構成例４は、図２７（ｂ）に示すように表される。

　ガラス支持台１８は、図２６（ａ）に示すように、第２電極層１６に接して配置されていても良い。

　また、ガラス支持台１８は、図２６（ｂ）、図２７（ａ）および図２７（ｂ）に示すように、隣接するセル間の第１電極層１１Ｂに接して配置されていても良い。第１電極層１１Ａは、隣接するセルの左側のセルの透明電極層を表し、第１電極層１１Ｂは、隣接するセルの右側のセルの透明電極層を表す。

　このように、ガラス支持台１８は、複数個配置されたセル間に配置されていても良い。

　また、ガラス支持台１８は、基板１０の表面上にドットパターン、若しくはストライプパターンなどを有するように形成可能である。

（ゲッタリングシート）
　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池であって、封止ガラス４０の内側および封止ガラス４０とＩＴＯ基板１０との間のスペースに酸素（Ｏ₂）のゲッタリング用シート乾燥剤３８ＧＵ・３８ＧＳを配置した模式的断面構造は、図２８に示すように表される。

　ゲッタリング用シート乾燥剤３８ＧＵ・３８ＧＳは、基板１０と封止ガラス４０で封止された内部に配置される。

　また、ゲッタリング用シート乾燥剤３８ＧＵは、封止ガラス４０の基板１０と対向する内壁面に配置可能である。

　また、ゲッタリング用シート乾燥剤３８ＧＳは、基板１０と封止ガラス４０で封止された内部の基板１０上に配置可能である。

（直列配置構成）
　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１において、セルを７個直列接続した模式的平面パターン構成は、図２９に示すように表される。また、図２９のＶＩＩ－ＶＩＩ線に沿う模式的断面構造は、図３０（ａ）に示すように表され、図３０（ａ）に対応する等価回路構成は、図３０（ｂ）に示すように表される。

　各セルは、基板１０と、基板１０上に配置されたアノード電極層１１と、アノード電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層１６とを備える。さらに７個のセル全体が、封止ガラス４０・ガラスフリット３６・ＵＶ硬化樹脂３６Ｕによって、中空封止されている。封止ガラス４０の内壁面には、ゲッタリング用シート乾燥剤３８ＧＵが配置されている。なお、図示は省略するが、カソード電極層１６の表面には、不動態膜が形成されている。

　図３０（ａ）から明らかなように、アノード電極層１１（Ａ１）は、アノード端子Ａに接続され、カソード電極層１６（Ｋ１）は、アノード電極層１１（Ａ２）とセル周辺部において接続され、同様に、カソード電極層１６（Ｋ２）は、アノード電極層１１（Ａ３）とセル周辺部において接続され、…、カソード電極層１６（Ｋ６）は、アノード電極層１１（Ａ７）とセル周辺部において接続され、カソード電極層１６（Ｋ７）は、第１電極層１１（Ｋ１）とセル周辺部において接続され、第１電極層１１（Ｋ１）はカソード端子Ｋに接続されている。

　結果として、有機薄膜太陽電池のセルを７個直列接続した構造が得られる。

　このようにセルを複数個直列接続することによって、各セルに発生する起電力の総和としての高い開放電圧Ｖocを得ることができる。

　また、封止ガラス４０の基板１０と対向する内壁面に撓み防止用のガラス支持台を備えていても良い。ガラス支持台は、第２電極層に接して配置されていても良く、第１電極層に接して配置されていても良い。ガラス支持台は、複数個配置されたセル間に配置されていても良い。

（有機薄膜太陽電池の作成手順）
　図２９に示すフローチャートに基づいて、第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の作成手順について説明する。

（ａ）ステップＳ１では、基板１０上に、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳを塗布する。例えば、０．４５μｍＰＴＦＥメンブレンフィルターでＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液を濾過し、溶け残りや不純物を取り除き、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液をＩＴＯ基板１０上に塗布し、スピンコート（例えば、４０００ｒｐｍ，３０ｓｅｃ）する。

（ｂ）ステップＳ２では、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳを焼結する。即ち、製膜後、水分除去のために１２０℃、１０分間加熱処理をする。なお、基板１０全体に熱が伝わるように予めホットプレートで温めておいたシャーレを被せると良い。

（ｃ）ステップＳ３では、Ｐ３ＨＴ：ＰＣＢＭを塗布する。具体的には、例えば、ジクロロベンゼン（o-dichlorobenzen）にＰ３ＨＴ１６ｍｇとＰＣＢＭ１６ｍｇを溶解させる。溶液は、窒素雰囲気中の５０℃で一晩攪拌を行った後に、５０℃で１分間超音波処理を行う。溶液は窒素置換されたグローブボックス（＜１ｐｐｍＯ_２、Ｈ_２Ｏ）内で洗浄処理したＩＴＯ基板１０上にスピンコートを行う。回転数は例えば５５０ｒｐｍ・６０ｓｅｃの後に２０００ｒｐｍ・１ｓｅｃである。

（ｄ）ステップＳ４では、プレアニールを行う。即ち、ステップＳ３の塗布の後、１２０℃で１０分間加熱を行う。なお、基板１０全体に熱が伝わるように予めホットプレートで温めておいたシャーレを被せると良い。

（ｅ）ステップＳ５では、ＬｉＦ真空蒸着を行う。具体的には、ＬｉＦ（純度：９９．９８％）は、真空度：１．１×１０^－６ｔｏｒｒ・蒸着レートが０．１Å／ｓｅｃで真空加熱蒸着を行う。

（ｆ）ステップＳ６では、Ａｌ真空蒸着を行って第２電極層１６を形成する。具体的には、Ａｌ（純度：９９．９９９％）は、真空度：１．１×１０^－６ｔｏｒｒで蒸着レートが～２Å／ｓｅｃで真空加熱蒸着を行う。

（ｇ）ステップＳ７では、第２電極層１６について、電極酸化被膜処理を行う。具体的には、高密度プラズマエッチング装置を用いて酸素プラズマにより第２電極層１６表面を酸化し、酸化膜２４を形成する。

（ｈ）ステップＳ８では、封止を行う。具体的には、ガラスフリットを形成した封止ガラスを用い、ガラスフリットの先端部分にＵＶ硬化樹脂を形成し、基板と対向させて、ＵＶオーブンで例えば、約１０分間露光を行い素子を完全に封止する。

（量産化工程）
　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池は、図３２～図３６に示すように、複数のセルをマトリックス状に配置し、量産化工程によって製造することもできる。

　以下、図３２～図３６を参照して説明する。

（ａ）まず、純水、アセトン、エタノールで洗浄したガラス基板１０をＩＣＰエッチャ－に入れ、Ｏ_２プラズマにより、表面の付着物を取り除く（ガラス基板表面処理）。なお、有機活性層へ光を効率的に誘導するために、ガラス基板１０の表面に反射防止処理を実施しても良い。

（ｂ）次に、図３２に示すように、基板１０上に、例えば、ＩＴＯからなる透明電極層１１を形成する。図３２に示す例では、透明電極層１１は隙間を挟んだ２本のストライプパターンで形成される。隙間の形成には、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用することができる。

（ｃ）次に、図３３に示すように、基板１０および透明電極層１１上に、正孔輸送層１２を形成する。正孔輸送層１２の形成には、スピンコート技術、スプレー技術、スクリーン印刷技術などを適用することができる。ここで、正孔輸送層１２の形成工程では、例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをスピンコートによって製膜を行い、水分除去のために、アニ－ルを１２０℃で約１０分間行う。

（ｄ）次に、図３４に示すように、正孔輸送層１２上に、バルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４の形成工程においては、例えば、Ｐ３ＨＴ：ＰＣＢＭをスピンコートによって製膜を行う。バルクヘテロ接合有機活性層１４の厚さは、例えば、約１００ｎｍ～約２００ｎｍである。

（ｅ）次に、図３５に示すように、バルクへテロ接合有機活性層１４上に、２本のストライプパターンのカソード電極層１６を透明電極層１１と直交させて形成する。

　カソード電極層１６の形成には、例えばＡｌ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇなどを真空加熱蒸着法により堆積することによって行われる。真空加熱蒸着法の代わりに、スクリーン印刷技術を適用しても良い。

（ｆ）次に、図示は省略するが、カソード電極層１６の表面に酸化膜（不動態膜）を形成する。不動態膜は、カソード電極層１６を酸素プラズマに暴露させて形成することができる。酸素プラズマによる酸化膜の形成は、例えば、プラズマエッチング装置を用いて行うことができる。

（ｇ）次に、封止ガラス（カバーガラス）およびガラスフリットによって素子全体を封止する。なお、封止工程は、大気中の水分や酸素による劣化を防ぐために、窒素雰囲気中若しくは真空減圧下で行うと良い。

　以上の工程により、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を量産化することができる。

　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、複数のセルＣ_ijをマトリックス状に配置した模式的平面パターン構成例は、図３６に示すように表される。アノード電極層１１で形成されるアノード電極パターン…,Ａ_j, Ａ_j+1,…と、アノード電極パターン…, Ａ_j, Ａ_j+1,…と直交し、カソード電極層１６で形成されるカソード電極パターン…,Ｋ_i-1, Ｋ_i, Ｋ_i+1,…の交差部にセル…Ｃ_ij…が配置されている。アノード電極パターン…, Ａ_j, Ａ_j+1,…と、カソード電極パターン…, Ｋ_i-1, Ｋ_i, Ｋ_i+1,…を選択することによって、交差部に配置されたセル…Ｃ_ij…の特性をそれぞれ別個に測定することもできる。

（スピンコート法）
　第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法において、正孔輸送層１２およびバルクへテロ接合有機活性層１４を形成する際のスピンコート法を示す概略は図３７（ａ）に示すように表され、形成された正孔輸送層１２およびバルクへテロ接合有機活性層１４の例を示す模式的鳥瞰構成は、図３７（ｂ）に示すように表される。

　例えば、第１の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１において、比較的小面積の素子を作成する場合には、図３７（ａ）に示すようなスピンコート法を適用することができる。

　即ち、図３７（ａ）に示すように、モータ等の駆動源に接続される高速回転可能なスピンドル６２と、スピンドル６２に固設され基板１０を載置するテーブル６３とを備えるスピンコーターが用いられる。

　そして、テーブル６３上に基板１０を載置し、モータ等の駆動源を稼働させてテーブル６３を例えば２０００～４０００ｒｐｍで矢印Ａ、Ｂ方向に高速回転させる。次いで、スポイト６０を用いて、正孔輸送層１２やバルクへテロ接合有機活性層１４を形成する溶液の液滴６４を落下させる。これにより、液滴６４は遠心力により基板１０上に均一な厚さの正孔輸送層１２およびバルクへテロ接合有機活性層１４（図３７（ｂ）参照）を形成することができる。

　以上説明したように、第１の実施の形態によれば、安価で耐久性が向上し、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法を提供することができる。

［第２の実施の形態］
　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、図３８（ａ）に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層（第２電極層）１６と、第２電極層１６上に配置されたパッシベーション層２６と、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０とを備える。

（比較例）
　比較例に係る有機薄膜太陽電池１Ｂは、図３８（ｂ）に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層（第２電極層）１６と、第２電極層１６上に配置されたパッシベーション層２６と、パッシベーション層２６上に配置されたバリア層２９と、バリア層２９上に配置されたパッシベーション層３１と、パッシベーション層３１上に配置されたバックシート層３３とを備える。バリア層２９は、化学的気相堆積（ＣＶＤ：Chemical Vapor Deposition）法によるＳｉＮやＳｉＯＮなどの無機パッシベーション膜と樹脂保護膜を多層に積層して形成する。樹脂保護膜として用いていた透明樹脂素材では、セル部分以外は透明であったため、使用用途に応じてモジュールを着色する場合、バックシート層３３としてカラーフィルムを貼り付けるなど余分な素材を追加する必要がある。

　太陽電池は、組み込む筐体の色や作業環境に応じてモジュール全体が着色されている必要があるため、モジュール背面に白色や黒色のバックシートを接着する。

　しかし、バックシート層３３を用いることでモジュールの厚みが厚くなり、コストも高くなる。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、図３８（ａ）に示すように、着色剤を添加した保護膜（カラー化バリア層２８）を用いることで、比較例よりも薄層化された素子構造で、モジュールに任意の着色を可能にしている。すなわち、セルの保護層にＵＶ照射により任意のパターニングが可能なカラーフィルタを用いることで、保護層に意匠性を持たせ、比較例に比べ、作製工程の減少と意匠性の向上を可能にしている。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、図３８（ａ）に示すように、ＩＴＯ付きガラス基板１０上に発電層となる約数１００ｎｍ程度の厚さを有する有機層（１２・１４）を積層し、第２電極層１６として、アルミニウムなどの金属層を蒸着して作られる。

　第２電極層１６として形成された純アルミニウムは、酸化され易いため、耐久性を持たせるために、図３８（ａ）に示すように、不動態膜２４を形成しても良い。

　基板１０上には、正孔輸送層１２・バルクヘテロ接合有機活性層１４などの有機層が配置されるため、不動態膜２４の形成によって、パッシベーション層２６を形成する際に、これらの有機層に損傷を与えることを防止可能である。

　パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８は、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１のセルの保護層としての役割を有する。

　カラー化バリア層２８は、紫外線（ＵＶ）照射により任意のパターニングが可能なカラーフィルタで形成可能である。このようなパターニングが可能なカラーフィルタを保護層として用いることによって、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、保護層に意匠性を持たせることができ、比較例（図３８（ｂ））よりも、作製工程の減少と意匠性の向上を可能にする。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１において、パッシベーション層２６、カラー化バリア層２８は、ＣＶＤ法によるＳｉＮやＳｉＯＮなどの無機パッシベーション膜と樹脂保護膜を多層に積層して形成可能である。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１においては、モジュールのプロセスを変更することなく、着色を可能にするため、樹脂保護膜の素材に色素を添加することで、モジュールのセル以外の部位を任意の色に着色できるようにした。この樹脂素材は、塗布形成後にＵＶ照射した部分のみパターンを残すことができることから、背面の配色を任意のパターンで行うことが可能である。

　着色剤としては、黒色では、例えば、カーボンブラック、青色では、例えば、フタロシアニン系塗料、赤色では、例えば、アリザリン系塗料などを適用可能である。

　任意のパターンを配色し、文字を埋め込んだ有機薄膜太陽電池モジュールの例については後述する（図４７～図５０を参照）。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池においても、動作原理および各部の構成材料は、第１の実施の形態と同様であるため、重複説明は省略する。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の積層構造部分は、図３９に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層（第２電極層）１６とを備える。

　また、第２の実施の形態の変形例に係る有機薄膜太陽電池１の積層構造部分は、図４０に示すように、第２電極層１６の表面に配置された不動態膜２４をさらに備える。ここで、不動態膜２４は、第２電極層１６の酸化膜で構成される。また、第２電極層１６の酸化膜は、第２電極層１６の表面を酸素プラズマ処理することによって、形成可能である。不動態膜２４の厚さは、例えば、約１０オングストローム～約１００オングストロームである。なお、図示は省略するが、不動態膜２４上に配置されたパッシベーション膜を備えていても良い。このパッシベーション膜は、例えば、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜で構成可能である。

　図４０に示すように、第２電極層１６の表面に不動態膜２４を備える有機薄膜太陽電池１は、バルクヘテロ接合有機活性層１４内に水分や酸素が侵入した場合であっても、第２電極層１６がその水分・酸素によって酸化する事態を防止することができる。これにより、有機太陽電池の劣化を抑制することができ、耐久性を高めることができる。

（製造方法）
　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、基板１０上に透明電極層１１を形成したＩＴＯ基板を準備する工程は、図４１（ａ）に示すように表され、透明電極層１１をパターニング後、透明電極層１１上に正孔輸送層１２をパターン形成する工程は、図４１（ｂ）に示すように表され、正孔輸送層１２上にバルクへテロ接合有機活性層１４をパターン形成する工程は、図４１（ｃ）に示すように表され、バルクへテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６をパターン形成する工程は、図４１（ｄ）に示すように表される。

　また、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、第２電極層１６表面に不動態膜（酸化膜）２４を形成する工程は、図４２（ａ）に示すように表され、デバイス全面にパッシベーション層２６を形成する工程は、図４２（ｂ）に示すように表され、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する工程は、図４２（ｃ）に示すように表される。

　実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の製造方法は、図４１～図４２および図１（ａ）に示すように、基板１０を準備する工程と、基板１０上に第１電極層１１を形成する工程と、第１電極層１１上に正孔輸送層１２を形成する工程と、正孔輸送層１２上にバルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する工程と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６を形成する工程と、第２電極層１６上にパッシベーション層２６を形成する工程と、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する工程と、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成する工程とを有する。

　図４１～図４２および図３８（ａ）を参照して、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法について説明する。

（ａ）まず、図４１（ａ）に示すように、基板１０上に、例えば、ＩＴＯからなる透明電極層１１を形成する。

（ｂ）次に、図４１（ｂ）に示すように、透明電極層１１をパターニング後、透明電極層１１上に正孔輸送層１２をパターン形成する。透明電極層１１のパターニングには、ウエットエッチング技術、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用可能である。正孔輸送層１２の形成には、スピンコート技術、スプレー技術、スクリーン印刷技術などを適用可能である。ここで、正孔輸送層１２の形成工程では、例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをスピンコートによって形成し、水分除去のために、アニ－ルを１２０℃で約１０分間行うと良い。

（ｃ）次に、図４１（ｃ）に示すように、正孔輸送層１２上に、発電層となるバルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４の形成工程においては、例えば、Ｐ３ＨＴをスピンコートによって形成する。また、バルクへテロ接合有機活性層１４の形成においては、インクジェット法を用いてフィルム状に形成した後、有機溶剤を乾燥させるために、約１００℃～１２０℃で約１０分～３０分加熱する。

（ｄ）次に、図４１（ｄ）に示すように、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に、カソード電極層１６をパターン形成する。カソード電極層１６の形成には、例えばＡｌ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇなどの金属層を真空加熱蒸着法により形成可能である。また、スクリーン印刷技術を適用しても良い。

（ｅ）次に、図４２（ａ）に示すように、第２電極層１６の表面に酸化膜（不動態膜）２４を形成する。この不動態膜２４は、第２電極層１６を酸素プラズマ処理することによって形成することができる。酸素プラズマにより、余分な有機層を除去するとともに、アルミニウムの再表面に対して酸化被膜処理を行う。

（ｆ）次に、図４２（ｂ）に示すように、第２電極層１６上にパッシベーション層２６を形成する。ここで、パッシベーション層２６は、シリコン窒化膜などをＣＶＤ法で形成しても良い。シリコン窒化膜の厚さは、例えば、約０．５μｍ～１．５μｍ程度である。大気中の水分と酸素による劣化を抑えるため、ＣＶＤにより形成したＳｉＮ膜による封止を行うことで、さらに耐久性を向上可能である。

（ｇ）次に、図４２（ｃ）に示すように、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する。ここでは、ＳｉＮ膜で形成されたパッシベーション層２６のスポットなどの不良を無くし、モジュールの背面を平滑化するために、ＵＶ硬化樹脂素材をスピンコート法などで塗布し、ＵＶ照射により硬化させる。なお、ここで、カラー化バリア層２８には着色剤を添加した保護膜を用いることで、薄層化された素子構造で、モジュールに任意の着色を可能にしている。

（ｈ）次に、図３８（ａ）に示すように、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成する。バックシートパッシベーション層３０は、例えば、シリコン窒化膜などをＣＶＤ法で形成しても良い。シリコン窒化膜の厚さは、例えば、約０．５μｍ～１．５μｍ程度である。大気中の水分と酸素による劣化を抑えるため、ＣＶＤにより形成したＳｉＮ膜による封止を行うことで、さらに耐久性を向上可能である。

　以上の工程により、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を完成することができる。

　尚、要求するモジュール耐久性に応じて、シリコン窒化膜などのパッシベーション層２６を形成する工程（図４２（ｂ））・パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する工程（図４２（ｃ））を繰り返し、多重積層保護膜を形成しても良い。

　また、セルの開口部分は、インクジェット法などによって、任意にパターニングされる。また、色素を添加したカラー化バリア層２８（樹脂保護膜）もインクジェット法などを用いることで任意のパターニングを実現可能である。ここで、セルの開口部分とは、例えば、ディスプレイ領域２や文字の形成領域６（図４７～図５０参照）に対応する。

（製造方法）
　複数個（図の例では３個）直列に配置された第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法について説明する。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、基板１０上に透明電極層１１を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図１９（ａ）と同様に表され、図１９（ａ）の１９ｂ－１９ｂ線に沿う模式的断面構造は、図１９（ｂ）と同様に表される。

　また、透明電極層１１上に正孔輸送層１２を製膜した状態を示す模式的平面パターン構成は、図２０（ａ）と同様に表され、図２０（ａ）の２０ｂ－２０ｂ線に沿う模式的断面構造は、図２０（ｂ）と同様に表される。

　また、正孔輸送層１２上にバルクへテロ接合有機活性層１４を製膜した状態を示す模式的平面パターン構成は、図２１（ａ）と同様に表され、図２１（ａ）の２１ｂ－２１ｂ線に沿う模式的断面構造は、図２１（ｂ）と同様に表される。

　また、バルクへテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図２２（ａ）と同様に表され、図２２（ａ）の２２ｂ－２２ｂ線に沿う模式的断面構造は、図２２（ｂ）と同様に表される。

　また、酸素プラズマ処理によって、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４の内、パターン上において、余分な有機層をエッチングすると共に、第２電極層１６の表面に不動態膜（酸化膜）２４を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図４３（ａ）に示すように表され、図４３（ａ）の４３ｂ－４３ｂ線に沿う模式的断面構造は、図４３（ｂ）に示すように表される。

　また、デバイス全面にパッシベーション層２６を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図４４（ａ）に示すように表され、図４４（ａ）の４４ｂ－４４ｂ線に沿う模式的断面構造は、図４４（ｂ）に示すように表される。

　また、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図４５（ａ）に示すように表され、図４５（ａ）の４５ｂ－４５ｂ線に沿う模式的断面構造は、図４５（ｂ）に示すように表される。

　また、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図４６（ａ）に示すように表され、図４６（ａ）の４６ｂ－４６ｂ線に沿う模式的断面構造は、図４６（ｂ）に示すように表される。

　図１９～図２２および図４３～図４６を参照して、複数個（図の例では３個）直列に配置された実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法について説明する。

（ｂ）次に、図１９と同様に、ガラス基板１０上に、例えば、ＩＴＯからなる透明電極層１１を形成する。図１９と同様に、透明電極層１１は溝部を挟んだストライプパターンで複数形成される。溝部の形成には、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用することができる。

（ｃ）次に、図２０と同様に、各透明電極層１１上に、正孔輸送層１２を形成する。正孔輸送層１２の形成には、スピンコート技術、スプレー技術、スクリーン印刷技術などを適用することができる。ここで、正孔輸送層１２の形成工程では、例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをスピンコートによって製膜を行い、水分除去のために、アニ－ルを１２０℃で約１０分間行う。溝部の形成には、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用することができる。

（ｄ）次に、図２１と同様に、各正孔輸送層１２上に、バルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４の形成工程においては、例えば、Ｐ３ＨＴをスピンコートによって製膜を行う。

（ｅ）次に、図２２と同様に、各バルクヘテロ接合有機活性層１４上に、カソード電極層１６を形成する。カソード電極層１６の形成には、例えばＡｌ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇなどの金属層を真空加熱蒸着法により堆積することによって行われる。真空加熱蒸着法の代わりに、スクリーン印刷技術を適用しても良い。

（ｆ）次に、図４３に示すように、バルクヘテロ接合有機活性層１４および正孔輸送層１２をエッチング処理した後、カソード電極層１６の表面に酸化膜（不動態膜）２４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４および正孔輸送層１２をエッチング処理することによって、各セルを分離することができる。また、不動態膜２４は、第２電極層１６を酸素プラズマ処理することによって形成することができる。不動態膜２４の形成は、例えば、高密度プラズマエッチング装置を用いて行うことができる。なお、第２電極層１６を酸素プラズマ処理することによって不動態膜２４を形成すると同時に、バルクヘテロ接合有機活性層１４および正孔輸送層１２をエッチング処理することも可能である。

（ｇ）次に、図４４に示すように、デバイス全面にパッシベーション層２６を形成する。ここで、パッシベーション層２６は、シリコン窒化膜などをＣＶＤ法で形成しても良い。シリコン窒化膜の厚さは、例えば、約０．５μｍ～１．５μｍ程度である。大気中の水分と酸素による劣化を抑えるため、ＣＶＤにより形成したＳｉＮ膜による封止を行うことで、さらに耐久性を向上可能である。

（ｈ）次に、図４５に示すように、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する。ここでは、ＳｉＮ膜で形成されたパッシベーション層２６のスポットなどの不良を無くし、モジュールの背面を平滑化するために、ＵＶ硬化樹脂素材をスピンコート法などで塗布し、ＵＶ照射により硬化させる。なお、ここで、カラー化バリア層２８には着色剤を添加した保護膜を用いることで、薄層化された素子構造で、モジュールに任意の着色を可能にしている。

（ｉ）次に、図４６に示すように、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成する。バックシートパッシベーション層３０は、例えば、シリコン窒化膜などをＣＶＤ法で形成しても良い。シリコン窒化膜の厚さは、例えば、約０．５μｍ～１．５μｍ程度である。大気中の水分と酸素による劣化を抑えるため、ＣＶＤにより形成したＳｉＮ膜による封止を行うことで、さらに耐久性を向上可能である。

　尚、要求するモジュール耐久性に応じて、シリコン窒化膜などのパッシベーション層２６を形成する工程（図４４）・パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する工程（図４５）を繰り返し、多重積層保護膜を形成しても良い。

　また、セルの開口部分は、インクジェット法などによって、任意にパターニングされる。また、色素を添加したカラー化バリア層２８（樹脂保護膜）もインクジェット法などを用いることで任意のパターニングを実現可能である。

（有機薄膜太陽電池の作成手順）
　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の作成手順を示すフローチャートは、第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の作成手順を示すフローチャート（図３１）と同様である。

（ｈ）ステップＳ８では、封止を行う。具体的には、デバイス全体に、パッシベーション層２６・カラー化バリア層２８・バックシートパッシベーション層３０を順次積層化形成して、素子を封止する。

（量産化工程）
　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池は、第１の実施の形態（図３２～図３６）と同様に、複数のセルをマトリックス状に配置し、量産化工程によって製造することもできる。

（ｂ）次に、図３２と同様に、基板１０上に、例えば、ＩＴＯからなる透明電極層１１を形成する。図３２に示す例では、透明電極層１１は隙間を挟んだ２本のストライプパターンで形成される。隙間の形成には、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用することができる。

（ｃ）次に、図３３と同様に、基板１０および透明電極層１１上に、正孔輸送層１２を形成する。正孔輸送層１２の形成には、スピンコート技術、スプレー技術、スクリーン印刷技術などを適用することができる。ここで、正孔輸送層１２の形成工程では、例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをスピンコートによって製膜を行い、水分除去のために、アニ－ルを１２０℃で約１０分間行う。

（ｄ）次に、図３４と同様に、正孔輸送層１２上に、バルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４の形成工程においては、例えば、Ｐ３ＨＴ：ＰＣＢＭをスピンコートによって製膜を行う。バルクヘテロ接合有機活性層１４の厚さは、例えば、約１００ｎｍ～約２００ｎｍである。

（ｅ）次に、図３５と同様に、バルクへテロ接合有機活性層１４上に、２本のストライプパターンのカソード電極層１６を透明電極層１１と直交させて形成する。

（ｇ）次に、図示は省略するが、デバイス全体に、パッシベーション層２６・カラー化バリア層２８・バックシートパッシベーション層３０を順次積層化形成して、封止する。

　以上の工程により、第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を量産化することができる。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、複数のセルＣ_ijをマトリックス状に配置した模式的平面パターン構成例は、図３６と同様に表される。アノード電極層１１で形成されるアノード電極パターン…,Ａ_j, Ａ_j+1,…と、アノード電極パターン…, Ａ_j, Ａ_j+1,…と直交し、カソード電極層１６で形成されるカソード電極パターン…,Ｋ_i-1, Ｋ_i, Ｋ_i+1,…の交差部にセル…Ｃ_ij…が配置されている。アノード電極パターン…, Ａ_j, Ａ_j+1,…と、カソード電極パターン…, Ｋ_i-1, Ｋ_i, Ｋ_i+1,…を選択することによって、交差部に配置されたセル…Ｃ_ij…の特性をそれぞれ別個に測定することもできる。

（スピンコート法）
　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法において、正孔輸送層１２およびバルクへテロ接合有機活性層１４を形成する際のスピンコート法を示す概略は図３７（ａ）と同様に表され、形成された正孔輸送層１２およびバルクへテロ接合有機活性層１４の例を示す模式的鳥瞰構成は、図３７（ｂ）と同様に表される。

　例えば、第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１において、比較的小面積の素子を作成する場合には、図３７（ａ）に示すようなスピンコート法を適用することができる。

（電子機器）
　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を適用した電子機器２００の模式的平面構成は、図４７に示すように表される。実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を適用した電子機器２００は、図４７に示すように、ディスプレイ領域２の周辺部に有機薄膜太陽電池形成領域４および文字形成領域６を備える。

　また、図４７の４８－４８線に沿う模式的断面構造は、図４８に示すように表され、図４７の４９－４９線に沿う模式的断面構造は、図４９に示すように表され、図４７の５０－５０線に沿う模式的断面構造は、図５０に示すように表される。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を適用した電子機器２００において、有機薄膜太陽電池形成領域４は、図４８～図５０に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層（第２電極層）１６と、第２電極層１６上に配置されたパッシベーション層２６と、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０とを備える。カソード電極層（第２電極層）１６表面には、図４８～図５０に示すように、不動態膜２４が形成されていても良い。

　一方、ディスプレイ領域２および文字形成領域６は、図４８～図５０に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置されたパッシベーション層２６と、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０とを備える。

　有機薄膜太陽電池形成領域４のカラー化バリア層２８は、例えば、ブラックＤｙｅによって、黒色に着色され、文字形成領域６のカラー化バリア層２８は、文字を配置するため、黒色とは異なる色、例えば、赤色に着色される。

　尚、図示は省略するが、ディスプレイ領域２に対応した基板１０には、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、若しくは有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイなどを形成可能である。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したタンデム構造の電子機器３００は、図５１（ａ）に示すように、基板１０と、基板１０上に接着層１５０を介して配置された有機薄膜太陽電池形成領域４を備える。ディスプレイ領域２は、基板１０内に形成されている。すなわち、第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したタンデム構造の電子機器３００は、基板１０と、有機薄膜太陽電池形成領域４とが別々に形成され、それらを接着層１５０を介してタンデム構造の縦型に配置している。

　また、第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したインセル構造の電子機器３００は、図５１（ｂ）に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された有機薄膜太陽電池形成領域４とを備える。すなわち、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したインセル構造の電子機器３００は、基板１０上に有機薄膜太陽電池形成領域４がインセル構造に形成され、基板１０には、例えば、ＬＣＤ、若しくは有機ＥＬディスプレイなどを形成可能である。

　第２の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を適用した電子機器２００は、図４７～図５０、および図５１（ｂ）に示すように、インセル構造の電子機器３００に対応している。

　以上説明したように、第２の実施の形態によれば、構造が簡単で作製工程が減少し、意匠性の向上し、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器を提供することができる。

［第３の実施の形態］
　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の模式的平面パターン構成は、図５２（ａ）に示すように表され、図５２（ａ）の５２ｂ－５２ｂ線に沿う模式的断面構造図は、図５２（ｂ）に示すように表され、回路表現は、図５２（ｃ）に示すように表される。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、図５２（ａ）に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層（第２電極層）１６と、第２電極層１６上に配置されたパッシベーション層２６と、基板１０に対して面直方向に配置され、パッシベーション層２６・バルクへテロ接合有機活性層１４・正孔輸送層１２を貫通して、第１電極層１１と接続された第１取り出し端子電極３８₁と、基板１０に対して面直方向に配置され、パッシベーション層２６を貫通して、第２電極層１６と接続された第２取り出し端子電極３８₂とを備える。

　第１取り出し端子電極３８₁は、第１電極層１１の任意の位置に接続可能である。

　第２取り出し端子電極３８₂は、第２電極層１６の任意の位置に接続可能である。

　また、第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、図５２（ａ）および図５２（ｂ）に示すように、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０と、バックシートパッシベーション層３０上に配置され、第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂を封止する樹脂層４０Ｒとを備えていても良い。

　また、カラー化バリア層２８は、例えば、紫外線硬化樹脂で形成可能である。

　また、カラー化バリア層２８には、着色剤を添加しても良い。着色剤としては、黒色では、例えば、カーボンブラック、青色では、例えば、フタロシアニン塗料、赤色では、例えば、アリザリン塗料などを適用可能である。

　また、パッシベーション層２６は、例えば、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜で形成可能である。

　カラー化バリア層２８は、パッシベーション層２６に形成されるスポットを被覆可能である。

また、パッシベーション層２６とカラー化バリア層２８は、複数層繰り返し積層化されて、多重積層保護膜を形成しても良い。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、図５２（ａ）に示すように、着色剤を添加した保護膜（カラー化バリア層２８）を用いることで、薄層化された素子構造で、モジュールに任意の着色を可能にした。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、図５２（ａ）に示すように、ＩＴＯ付きガラス基板１０上に発電層となる約数１００ｎｍ程度の厚さを有する有機層（１２・１４）を積層し、第２電極層１６として、アルミニウムなどの金属層を蒸着して作られる。

　第２電極層１６として形成された純アルミニウムは、酸化され易いため、耐久性を持たせるために、図５２（ａ）に示すように、不動態膜２４を形成しても良い。

　カラー化バリア層２８は、紫外線（ＵＶ）照射により任意のパターニングが可能なカラーフィルタで形成可能である。このようなパターニングが可能なカラーフィルタを保護層として用いることによって、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１は、保護層に意匠性を持たせることができ、作製工程の減少と意匠性の向上を可能にする。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１において、パッシベーション層２６、カラー化バリア層２８は、ＣＶＤ法によるＳｉＮやＳｉＯＮなどの無機パッシベーション膜と樹脂保護膜を多層に積層して形成可能である。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１においては、モジュールのプロセスを変更することなく、着色を可能にするため、樹脂保護膜の素材に色素を添加することで、モジュールのセル以外の部位を任意の色に着色できるようにした。この樹脂素材は、塗布形成後にＵＶ照射した部分のみパターンを残すことができることから、背面の配色を任意のパターンで行うことが可能である。

　着色剤としては、黒色では、例えば、カーボンブラック、青色では、例えば、フタロシアニン塗料、赤色では、例えば、アリザリン塗料などを適用可能である。

　実施の形態によれば、電極の取り出し構造を改善し、外観の大きな構造変化を伴うこと無く、任意の位置に接続点を形成可能で、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池を提供することができる。

　任意のパターンを配色し、文字を埋め込んだ有機薄膜太陽電池モジュールの例については後述する（図７０～図７３を参照）。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池においても、動作原理および各部の構成材料は、第１の実施の形態と同様であるため、重複説明は省略する。

（製造方法）
　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、基板１０上に透明電極層１１をパターン形成したＩＴＯ基板を準備する工程は、図５３（ａ）に示すように表され、透明電極層１１をパターニング後、透明電極層１１上に正孔輸送層１２をパターン形成する工程は、図５３（ｂ）に示すように表され、正孔輸送層１２上にバルクへテロ接合有機活性層１４をパターン形成する工程は、図５３（ｃ）に示すように表され、バルクへテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６をパターン形成する工程は、図５３（ｄ）に示すように表される。

　また、第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、第２電極層１６表面に不動態膜（酸化膜）２４を形成する工程は、図５４（ａ）に示すように表され、デバイス全面にパッシベーション層２６を形成する工程は、図５４（ｂ）に示すように表され、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する工程は、図５４（ｃ）に示すように表される。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成する工程は、図５５（ａ）に示すように表され、基板１０に対して面直方向に、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６・バルクへテロ接合有機活性層１４・正孔輸送層１２を貫通し、第１電極層１１まで到達する第１貫通孔３７₁を形成し、かつ基板１０に対して面直方向に、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６を貫通して、第２電極層１６まで到達する第２貫通孔３７₂を形成する工程は、図５５（ｂ）に示すように表され、第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂を介して、第１電極層１１・第２電極層１６と接続された第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂を形成する工程は、図５５（ｃ）に示すように表される。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の製造方法は、図５３～図５５および図１（ａ）に示すように、基板１０上に第１電極層１１をパターン形成する工程と、第１電極層１１上に正孔輸送層１２をパターン形成する工程と、正孔輸送層１２上にバルクヘテロ接合有機活性層１４をパターン形成する工程と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６をパターン形成する工程と、第２電極層１６上にパッシベーション層２６を形成する工程と、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する工程と、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成する工程とを有する。

　図５３～図５５および図５２（ａ）および図５２（ｂ）を参照して、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法について説明する。

（ａ）まず、図５３（ａ）に示すように、基板１０上に、例えば、ＩＴＯからなる透明電極層１１をパターン形成する。透明電極層１１のパターニングには、ウエットエッチング技術、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用可能である。

（ｂ）次に、図５３（ｂ）に示すように、パターニングされた透明電極層１１上に正孔輸送層１２をパターン形成する。正孔輸送層１２の形成には、スピンコート技術、スプレー技術、スクリーン印刷技術などを適用可能である。ここで、正孔輸送層１２の形成工程では、例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをスピンコートによって形成し、水分除去のために、アニ－ルを１２０℃で約１０分間行うと良い。

（ｃ）次に、図５３（ｃ）に示すように、正孔輸送層１２上に、発電層となるバルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４の形成工程においては、例えば、Ｐ３ＨＴをスピンコートによって形成する。また、バルクへテロ接合有機活性層１４の形成においては、インクジェット法を用いてフィルム状に形成した後、有機溶剤を乾燥させるために、約１００℃～１２０℃で約１０分～３０分加熱する。

（ｄ）次に、図５３（ｄ）に示すように、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に、カソード電極層１６をパターン形成する。カソード電極層１６の形成には、例えばＡｌ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇなどの金属層を真空加熱蒸着法により形成可能である。また、スクリーン印刷技術を適用しても良い。

（ｅ）次に、図５４（ａ）に示すように、第２電極層１６の表面に酸化膜（不動態膜）２４を形成する。この不動態膜２４は、第２電極層１６を酸素プラズマ処理することによって形成することができる。酸素プラズマにより、余分な有機層を除去するとともに、アルミニウムの再表面に対して酸化被膜処理を行う。

（ｆ）次に、図５４（ｂ）に示すように、第２電極層１６上にパッシベーション層２６を形成する。ここで、パッシベーション層２６は、シリコン窒化膜・シリコン酸窒化膜などをＣＶＤ法で形成しても良い。シリコン窒化膜・シリコン酸窒化膜の厚さは、例えば、約０．５μｍ～１．５μｍ程度である。大気中の水分と酸素による劣化を抑えるため、ＣＶＤにより形成したＳｉＮ膜・ＳｉＯＮ膜による封止を行うことで、さらに耐久性を向上可能である。

（ｇ）次に、図５４（ｃ）に示すように、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する。ここでは、ＳｉＮ膜で形成されたパッシベーション層２６のスポットなどの不良を無くし、モジュールの背面を平滑化するために、ＵＶ硬化樹脂素材をスピンコート法などで塗布し、ＵＶ照射により硬化させる。なお、ここで、カラー化バリア層２８には着色剤を添加した保護膜を用いることで、薄層化された素子構造で、モジュールに任意の着色を可能にしている。

（ｈ）次に、図５５（ａ）に示すように、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成する。バックシートパッシベーション層３０は、例えば、シリコン窒化膜などをＣＶＤ法で形成しても良い。シリコン窒化膜の厚さは、例えば、約０．５μｍ～１．５μｍ程度である。大気中の水分と酸素による劣化を抑えるため、ＣＶＤにより形成したＳｉＮ膜による封止を行うことで、さらに耐久性を向上可能である。

（ｉ）次に、図５５（ｂ）に示すように、基板１０に対して面直方向に、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６・バルクへテロ接合有機活性層１４・正孔輸送層１２を貫通し、第１電極層１１まで到達する第１貫通孔３７₁を形成し、かつ基板１０に対して面直方向に、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６を貫通して、第２電極層１６まで到達する第２貫通孔３７₂を形成する。第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂の形成には、レーザビアシング、若しくはレーザアブレーションなどのメカニカルカットを用いて形成する。第１電極層１１と接触させるために必要なバックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６・バルクへテロ接合有機活性層１４・正孔輸送層１２への第１貫通孔３７₁は、直径約５μｍ程度のレーザ光（例えば、波長５３２ｎｍ）を用いて形成可能である。同様に、第２電極層１６と接触させるために必要なバックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６への第２貫通孔３７₂は、直径約５μｍ程度のレーザ光（例えば、波長５３２ｎｍ）を用いて形成可能である。また、これらの第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂は１個に限定されるそれぞれ抵抗値に応じて、複数個形成しても良い。

（ｊ）次に、図５５（ｃ）に示すように、第１貫通孔３７₁内において第１電極層１１と接続された第１取り出し端子電極３８₁を形成し、第２貫通孔３７₂内において第２電極層１６と接続された第２取り出し端子電極３８₂を形成する。第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂と第１電極層１１・第２電極層１６とのボンディング接合には、例えば、カーボンペースト、Ａｇペーストなどを用いる。第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂は、例えば、金ワイヤなどで形成可能である。

（ｋ）最後に、図５５（ｃ）に示すように、水分・酸素などが浸入しないように、ＵＶ硬化樹脂で第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂付近を保護する。

　このように、基板１０に対して面直方向に第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂を形成することで、外観を損なうことなく、接触抵抗を低減化可能であり、良好な接合を形成可能である。

　尚、要求するモジュール耐久性に応じて、シリコン窒化膜などのパッシベーション層２６を形成する工程（図５４（ｂ））・パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する工程（図５４（ｃ））を繰り返し、多重積層保護膜を形成しても良い。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、カラー化バリア層４２₁、４２₂によって、パッシベーション層４１₁、４１₂に形成されるスポット４１Ｈを被覆する様子を説明する模式的断面構造は、図５６（ａ）に示すように表され、パッシベーション層４１₁、４１₂、４１₃、４１₄とカラー化バリア層４２₁、４２₂、４２₃、４２₄を複数層繰り返し積層化形成した多重積層保護膜の模式的断面構造は、図５６（ｂ）に示すように表される。

　また、セルの開口部分は、インクジェット法などによって、任意にパターニングされる。また、色素を添加したカラー化バリア層２８（樹脂保護膜）もインクジェット法などを用いることで任意のパターニングを実現可能である。ここで、セルの開口部分とは、例えば、ディスプレイ領域２や文字形成領域６（図７０～図７３参照）に対応する。

（複数個直列配置構成）
　複数個（図の例では３個）直列に配置された実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の模式的平面パターン構成は、図５７（ａ）に示すように表され、図５７（ａ）の５７ｂ－５７ｂ線に沿う模式的断面構造は、図５７（ｂ）に示すように表され、図５７（ａ）および図５７（ｂ）に対応する回路表現は、図５７（ｃ）に示すように表される。

（製造方法）
　複数個（図の例では３個）直列に配置された実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法について説明する。

　実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、基板１０上に透明電極層１１を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図１９（ａ）と同様に表され、図１９（ａ）の１９ｂ－１９ｂ線に沿う模式的断面構造は、図１９（ｂ）と同様に表される。

　また、バルクへテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図５８（ａ）に示すように表され、図５８（ａ）の５８ｂ－５８ｂ線に沿う模式的断面構造は、図５８（ｂ）に示すように表される。

　また、酸素プラズマ処理によって、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４の内、パターン上において、余分な有機層をエッチングすると共に、第２電極層１６の表面に不動態膜（酸化膜）２４を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図５９（ａ）に示すように表され、図５９（ａ）の５９ｂ－５９ｂ線に沿う模式的断面構造は、図５９（ｂ）に示すように表される。

　また、デバイス全面にパッシベーション層２６を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図６０（ａ）に示すように表され、図６０（ａ）の６０ｂ－６０ｂ線に沿う模式的断面構造は、図６０（ｂ）に示すように表される。

　また、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図６１（ａ）に示すように表され、図６１（ａ）の６１ｂ－６１ｂ線に沿う模式的断面構造は、図６１（ｂ）に示すように表される。

　また、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図６２（ａ）に示すように表され、図６２（ａ）の６２ｂ－６２ｂ線に沿う模式的断面構造は、図６２（ｂ）に示すように表される。

　また、第１貫通孔３７₁および第２貫通孔３７₂を形成した状態を示す模式的平面パターン構成は、図６３（ａ）に示すように表され、図６３（ａ）の６３ｂ－６３ｂ線に沿う模式的断面構造は、図６３（ｂ）に示すように表される。

　図１９～図２１および図５８～図６３を参照して、複数個（図の例では３個）直列に配置された実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法について説明する。

（ｂ）次に、図１９（ａ）および図１９（ｂ）と同様に、ガラス基板１０上に、例えば、ＩＴＯからなる透明電極層１１を形成する。図１９（ａ）および図１９（ｂ）と同様に、透明電極層１１は溝部を挟んだストライプパターンで複数形成される。溝部の形成には、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用することができる。

（ｃ）次に、図２０（ａ）および図２０（ｂ）と同様に、各透明電極層１１上に、正孔輸送層１２を形成する。正孔輸送層１２の形成には、スピンコート技術、スプレー技術、スクリーン印刷技術などを適用することができる。ここで、正孔輸送層１２の形成工程では、例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳをスピンコートによって製膜を行い、水分除去のために、アニ－ルを１２０℃で約１０分間行う。溝部の形成には、酸素プラズマエッチング技術、レーザパターニング技術、ナノインプリント技術などを適用することができる。

（ｄ）次に、図２１（ａ）および図２１（ｂ）と同様に、各正孔輸送層１２上に、バルクヘテロ接合有機活性層１４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４の形成工程においては、例えば、Ｐ３ＨＴをスピンコートによって製膜を行う。

（ｅ）次に、図５８（ａ）および図５８（ｂ）に示すように、各バルクヘテロ接合有機活性層１４上に、カソード電極層１６をパターン形成する。カソード電極層１６の形成には、例えばＡｌ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇなどの金属層を真空加熱蒸着法により堆積することによって行われる。真空加熱蒸着法の代わりに、スクリーン印刷技術を適用しても良い。カソード電極層１６には、図５８（ａ）および図５８（ｂ）に示すように、開口部を設けて、スルーホール３４を形成する。

（ｆ）次に、図５９（ａ）および図５９（ｂ）に示すように、バルクヘテロ接合有機活性層１４および正孔輸送層１２をエッチング処理した後、カソード電極層１６の表面に酸化膜（不動態膜）２４を形成する。バルクヘテロ接合有機活性層１４および正孔輸送層１２をエッチング処理することによって、各セルを分離することができる。また、不動態膜２４は、第２電極層１６を酸素プラズマ処理することによって形成することができる。不動態膜２４の形成は、例えば、高密度プラズマエッチング装置を用いて行うことができる。なお、第２電極層１６を酸素プラズマ処理することによって不動態膜２４を形成すると同時に、バルクヘテロ接合有機活性層１４および正孔輸送層１２をエッチング処理することも可能である。

（ｇ）次に、図６０（ａ）および図６０（ｂ）に示すように、デバイス全面にパッシベーション層２６を形成する。ここで、パッシベーション層２６は、シリコン窒化膜などをＣＶＤ法で形成しても良い。シリコン窒化膜の厚さは、例えば、約０．５μｍ～１．５μｍ程度である。大気中の水分と酸素による劣化を抑えるため、ＣＶＤにより形成したＳｉＮ膜による封止を行うことで、さらに耐久性を向上可能である。

（ｈ）次に、図６１（ａ）および図６１（ｂ）に示すように、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成する。ここでは、ＳｉＮ膜で形成されたパッシベーション層２６のスポットなどの不良を無くし、モジュールの背面を平滑化するために、ＵＶ硬化樹脂素材をスピンコート法などで塗布し、ＵＶ照射により硬化させる。なお、ここで、カラー化バリア層２８には着色剤を添加した保護膜を用いることで、薄層化された素子構造で、モジュールに任意の着色を可能にしている。

（ｉ）次に、図６２（ａ）および図６２（ｂ）に示すように、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成する。バックシートパッシベーション層３０は、例えば、シリコン窒化膜などをＣＶＤ法で形成しても良い。シリコン窒化膜の厚さは、例えば、約０．５μｍ～１．５μｍ程度である。大気中の水分と酸素による劣化を抑えるため、ＣＶＤにより形成したＳｉＮ膜による封止を行うことで、さらに耐久性を向上可能である。

（ｊ）次に、図６３（ａ）および図６３（ｂ）に示すように、基板１０に対して面直方向に、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６・バルクへテロ接合有機活性層１４・正孔輸送層１２を貫通し、第１電極層１１まで到達する第１貫通孔３７₁を形成し、かつ基板１０に対して面直方向に、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６を貫通して、第２電極層１６まで到達する第２貫通孔３７₂を形成する。第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂の形成には、レーザビアシング、若しくはレーザアブレーションなどのメカニカルカットを用いて形成する。第１貫通孔３７₁は、直径約５μｍ程度のレーザ光（例えば、波長５３２ｎｍ）を用いて形成可能である。同様に、第２貫通孔３７₂も、直径約５μｍ程度のレーザ光（例えば、波長５３２ｎｍ）を用いて形成可能である。また、これらの第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂は１個に限定されるそれぞれ抵抗値に応じて、複数個形成しても良い。

（ｋ）次に、図５７（ａ）および図５７（ｂ）に示すように、第１貫通孔３７₁内において第１電極層１１と接続された第１取り出し端子電極３８₁を形成し、第２貫通孔３７₂内において第２電極層１６と接続された第２取り出し端子電極３８₂を形成する。第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂と第１電極層１１・第２電極層１６とのボンディング接合には、例えば、カーボンペースト、Ａｇペーストなどを用いる。第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂は、例えば、金ワイヤなどで形成可能である。

（ｌ）最後に、図５７（ａ）および図５７（ｂ）に示すように、水分・酸素などが浸入しないように、ＵＶ硬化樹脂で第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂付近を保護する。

　以上の工程により、複数個（図の例では３個）直列に配置された実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を完成することができる。

（有機薄膜太陽電池の作成手順）
　図６４に示すフローチャートに基づいて、第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１の作成手順について説明する。

（ｉ）ステップＳ９では、貫通孔を形成する。具体的には、第１電極層１１・第２電極層１６に接触するための第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂のコンタクトホールをレーザビアシング、若しくはレーザアブレーションなどのメカニカルカットを用いて形成する。

（ｊ）ステップＳ１０では、端子電極を形成する。具体的には、第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂を介して、第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂と第１電極層１１・第２電極層１６とをボンディング接合を用いて接続する。第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂は、金ワイヤなどで形成可能である。第１取り出し端子電極３８₁と第１電極層１１とのボンディング接合部および第２取り出し端子電極３８₂と第２電極層１６とのボンディング接合部には、カーボンペースト、Ａｇペーストなどを用いる。

（ｋ）ステップＳ１１では、封止を行う。具体的には、水分・酸素などが浸入しないように、ＵＶ硬化樹脂等の樹脂層４０Ｒで第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂の周辺部を保護する。

（量産化工程）
　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池は、第１の実施の形態（図３２～図３６）と同様に、複数のセルをマトリックス状に配置し、量産化工程によって製造することもできる。

（ｇ）次に、図示は省略するが、デバイス全体に、パッシベーション層２６・カラー化バリア層２８・バックシートパッシベーション層３０を順次積層化形成して、第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂を形成し、第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂を介して、第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂と第１電極層１１・第２電極層１６とをボンディング接合を用いて接続し、最後に、水分・酸素などが浸入しないように、ＵＶ硬化樹脂等の樹脂層４０Ｒで第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂の周辺部を保護する。

　実施の形態に係る有機薄膜太陽電池において、複数のセルＣ_ijをマトリックス状に配置した模式的平面パターン構成例は、図３６と同様に表される。アノード電極層１１で形成されるアノード電極パターン…,Ａ_j, Ａ_j+1,…と、アノード電極パターン…, Ａ_j, Ａ_j+1,…と直交し、カソード電極層１６で形成されるカソード電極パターン…,Ｋ_i-1, Ｋ_i, Ｋ_i+1,…の交差部にセル…Ｃ_ij…が配置されている。アノード電極パターン…, Ａ_j, Ａ_j+1,…と、カソード電極パターン…, Ｋ_i-1, Ｋ_i, Ｋ_i+1,…を選択することによって、交差部に配置されたセル…Ｃ_ij…の特性をそれぞれ別個に測定することもできる。

（スピンコート法）
　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法において、正孔輸送層１２およびバルクへテロ接合有機活性層１４を形成する際のスピンコート法を示す概略は図３７と同様に表され、形成された正孔輸送層１２およびバルクへテロ接合有機活性層１４の例を示す模式的鳥瞰構成は、図３７（ｂ）と同様に表される。

　例えば、第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１において、比較的小面積の素子を作成する場合には、図３７（ａ）と同様のスピンコート法を適用することができる。

　即ち、図３７（ａ）と同様に、モータ等の駆動源に接続される高速回転可能なスピンドル６２と、スピンドル６２に固設され基板１０を載置するテーブル６３とを備えるスピンコーターが用いられる。

（変形例１）
　第３の実施の形態の変形例１に係る有機薄膜太陽電池１の模式的平面パターン構成は、図６５（ａ）に示すように表され、図６５（ａ）の６５ｂ－６５ｂ線に沿う模式的断面構造は、図６５（ｂ）に示すように表され、回路表現は、図６５（ｃ）に示すように表される。

　第３の実施の形態の変形例１に係る有機薄膜太陽電池１は、図６５（ａ）～図６５（ｃ）に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された第１電極層１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層１４と、バルクへテロ接合有機活性層１４上に配置された第２電極層１６と、第２電極層１６上に配置されたパッシベーション層２６と、基板１０に対して面直方向に配置され、パッシベーション層２６・バルクへテロ接合有機活性層１４・正孔輸送層１２を貫通して、第１電極層１１と接続された第１取り出し端子電極３８₁と、基板１０に対して面直方向に配置され、パッシベーション層２６を貫通して、第２電極層１６と接続された第２取り出し端子電極３８₂とを備える。

　また、第３の実施の形態の変形例１に係る有機薄膜太陽電池１は、図６５（ａ）～図６５（ｃ）に示すように、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０と、バックシートパッシベーション層３０上に配置され、第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂を封止する樹脂層４０Ｒとを備えていても良い。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、基板ぬわ上に透明電極層１１をパターン形成した状態を示す模式的断面構造は、図６６（ａ）に示すように表され、透明電極層１１上に正孔輸送層１２を製膜した状態を示す模式的断面構造は、図６６（ｂ）に示すように表され、正孔輸送層１２上にバルクへテロ接合有機活性層１４を製膜した状態を示す模式的断面構造は、図６６（ｃ）に示すように表され、バルクへテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６をパターン形成した状態を示す模式的断面構造は、図６６（ｄ）に示すように表される。

　また、第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、酸素プラズマ処理によって、第２電極層１６の表面に酸化膜２４を形成した状態を示す模式的断面構造は、図６７（ａ）に示すように表され、デバイス全面にパッシベーション層２６を形成した状態を示す模式的断面構造は、図６７（ｂ）に示すように表され、パッシベーション層２６上にカラー化バリア層２８を形成した状態を示す模式的断面構造は、図６７（ｃ）に示すように表される。

　また、第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、カラー化バリア層２８上にバックシートパッシベーション層３０を形成した状態を示す模式的断面構造は、図６８（ａ）に示すように表され、基板１０に対して面直方向に、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６・バルクへテロ接合有機活性層１４・正孔輸送層１２を貫通して、第１電極層１１まで到達した第１貫通孔３７₁と、基板１０に対して面直方向に配置され、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６を貫通して、第２電極層１６まで到達した第２貫通孔３７₂を形成した状態を示す模式的断面構造は、図６８（ｂ）に示すように表される。

　また、第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池の製造方法の一工程であって、第１貫通孔３７₁を介して、第１電極層１１と接続された第１取り出し端子電極３８₁と、第２貫通孔３７₂を介して、第２電極層１６と接続された第２取り出し端子電極３８₂を形成した状態を示す模式的断面構造は、図６９（ａ）に示すように表され、図６９（ａ）のＡ部分の拡大図は、図６９（ｂ）に示すように表される。

　第１電極層１１・第２電極層１６に接触するための第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂のコンタクトホールは、実施の形態と同様に、レーザビアシング、若しくはレーザアブレーションなどのメカニカルカットを用いて形成可能である。

　また、第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂は、金ワイヤなどで形成可能である。

　第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂と第１電極層１１・第２電極層１６とのボンディング接合には、カーボンペースト、Ａｇペーストなどを用いる。第１取り出し端子電極３８₁と第１電極層１１とのボンディング接合部には、カーボンペースト、Ａｇペーストなどを用いる。第２取り出し端子電極３８₂と第２電極層１６とのボンディング接合部４２には、カーボンペースト、Ａｇペーストなどを用いる。ここで、特に、第２電極層１６をＡｇＭｇで形成する場合には、ボンディング接合部４２には、Ａｇペーストを用いることで良好な接合を得ることができる。また、水分・酸素などが浸入しないように、ＵＶ硬化樹脂等の樹脂層４０Ｒで第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂の周辺部を保護している。

（電子機器）
　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池においては、有機薄膜太陽電池のセルの内側から第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂の取り出しが可能であることから、端面取り出しでは難しかったモバイル端末機器等の電子機器への搭載が容易になる。特にスマートホンやタブレット端末に代表される電子機器は、外観が重要であるため表示パネルのべゼル（ディスプレイの周辺部）や背面に有機薄膜太陽電池のセルを搭載するに当たり、第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂が目立たない方が良い。第１電極層１１（ＴＣＯ）と接触させるために必要な有機層（１２・１４）へのビアホールには、直径約５μｍ程度のレーザ光（例えば、波長５３２ｎｍ）を用いて第１貫通孔３７₁を形成可能である。第１貫通孔３７₁は複数形成しても良い。第２貫通孔３７₂についても同様である。この手法を用いることで、外観を損なうことなく、接触抵抗を低減化可能であり、良好な接合を形成可能である。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を適用した電子機器２００の模式的平面構成は、図７０に示すように表される。第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を適用した電子機器２００は、図７０に示すように、ディスプレイ領域２の周辺部に有機薄膜太陽電池形成領域４および文字形成領域６を備える。

　また、図７０の７１－７１線に沿う模式的断面構造は、図７１に示すように表され、図７０の７２－７２線に沿う模式的断面構造は、図７２に示すように表され、図７０の７３－７３線に沿う模式的断面構造は、図７３に示すように表される。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を適用した電子機器２００において、有機薄膜太陽電池形成領域４は、図７０～図７３に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層（第２電極層）１６と、第２電極層１６上に配置されたパッシベーション層２６と、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０とを備える。カソード電極層（第２電極層）１６表面には、図７１～図７３に示すように、不動態膜２４が形成されていても良い。

　一方、ディスプレイ領域２および文字形成領域６は、図７０～図７２に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置されたパッシベーション層２６と、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０とを備える。

　ここで、図示は省略されているが、例えば、図７３のＣ領域・Ｄ領域には、複数の第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂を介して第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂が目立たないように形成可能である。すなわち、基板１０に対して面直方向に配置され、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６・バルクへテロ接合有機活性層１４・正孔輸送層１２を貫通して、第１電極層と接続された第１取り出し端子電極と、基板１０に対して面直方向に配置され、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６を貫通して、第２電極層１６と接続された第２取り出し端子電極とを備えていても良い。

　同様に、第３の実施の形態の変形例２（後述：図７５）に係る有機薄膜太陽電池１を適用した電子機器２００において、有機薄膜太陽電池形成領域４は、図７０～図７３と同様に、基板１０と、基板１０上に配置された透明電極層（第１電極層）１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層１４と、バルクヘテロ接合有機活性層１４上に配置されたカソード電極層（第２電極層）１６と、基板１０に対して面直方向に、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４を貫通し、第１電極層１１まで到達する第３貫通孔３７₃を介して第１電極層１１に接続されたＶＩＡ電極層１６Ｐと、第２電極層１６ＮおよびＶＩＡ電極層１６Ｐ上に配置されたパッシベーション層２６と、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０とを備える。カソード電極層（第２電極層）１６表面には、図７１～図７３に示すように、不動態膜２４が形成されていても良い。

　また、ディスプレイ領域２および文字形成領域６は、図７０～図７２に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された第１電極層１１と、第１電極層１１上に配置された前記パッシベーション層と、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０とを備える。

　ここで、図示は省略されているが、例えば、複数の第１貫通孔３７₁・第２貫通孔３７₂を介して第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂が目立たないように形成可能である。すなわち、基板１０に対して面直方向に配置され、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６・バルクへテロ接合有機活性層１４・正孔輸送層１２を貫通して、ＶＩＡ電極層１６Ｐと接続された第１取り出し端子電極３８₁と、基板１０に対して面直方向に配置され、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６を貫通して、第２電極層１６Ｎと接続された第２取り出し端子電極３８₂とを備えていても良い。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したタンデム構造の電子機器３００は、図７４（ａ）に示すように、基板１０と、基板１０上に接着層１５０を介して配置された有機薄膜太陽電池形成領域４を備える。ディスプレイ領域２は、基板１０内に形成されている。すなわち、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したタンデム構造の電子機器３００は、基板１０と、有機薄膜太陽電池形成領域４とが別々に形成され、それらを接着層１５０を介してタンデム構造の縦型に配置している。

　また、第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したインセル構造の電子機器３００は、図７４（ｂ）に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された有機薄膜太陽電池形成領域４とを備える。すなわち、実施の形態に係る有機薄膜太陽電池を適用したインセル構造の電子機器３００は、基板１０上に有機薄膜太陽電池形成領域４がインセル構造に形成され、基板１０には、例えば、ＬＣＤ、若しくは有機ＥＬディスプレイなどを形成可能である。

　第３の実施の形態に係る有機薄膜太陽電池１を適用した電子機器２００は、図７０～図７３、および図７４（ｂ）に示すように、インセル構造の電子機器３００に対応している。

（変形例２）
　第３の実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池１の模式的平面パターン構成は、図７５（ａ）に示すように表され、図７５（ａ）の７５ｂ－７５ｂ線に沿う模式的断面構造は、図７５（ｂ）に示すように表され、図７５（ａ）および図７５（ｂ）に対応する回路表現は、図７５（ｃ）に示すように表される。

　第３の実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池１は、図７５（ａ）および図７５（ｂ）に示すように、基板１０と、基板１０上に配置された第１電極層１１と、第１電極層１１上に配置された正孔輸送層１２と、正孔輸送層１２上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層１４と、バルクへテロ接合有機活性層１４上に配置された第２電極層１６Ｎと、基板１０に対して面直方向に、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４を貫通し、第１電極層１１まで到達する第３貫通孔を介して第１電極層１１に接続されたＶＩＡ電極層１６Ｐと、第２電極層１６ＮおよびＶＩＡ電極層１６Ｐ上に配置されたパッシベーション層２６と、基板１０に対して面直方向に配置され、パッシベーション層２６を貫通して、ＶＩＡ電極層１６Ｐと接続された第１取り出し端子電極３８₁と、パッシベーション層２６を貫通して、第２電極層１６Ｎと接続された第２取り出し端子電極３８₂とを備える。

　第２取り出し端子電極３８₂は、第２電極層の１６Ｎの任意の位置に接続可能である。

　実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池１は、図７５（ａ）および図７５（ｂ）に示すように、パッシベーション層２６上に配置されたカラー化バリア層２８と、カラー化バリア層２８上に配置されたバックシートパッシベーション層３０と、バックシートパッシベーション層３０上に配置され、第１取り出し端子電極３８₁・第２取り出し端子電極３８₂を封止する樹脂層４０Ｒとを備えていても良い。

　カラー化バリア層２８は、紫外線硬化樹脂で形成可能である。

　また、カラー化バリア層２８には、着色剤を添加しても良い。

　パッシベーション層２６は、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜で形成可能である。

　ここで、カラー化バリア層２８は、パッシベーション層２６に形成されるスポットを被覆可能である。

　また、第２電極層１６ＮおよびＶＩＡ電極層１６Ｐの表面に不動態膜２４を備えていても良い。ここで、不動態膜２４は、第２電極層１６ＮおよびＶＩＡ電極層１６Ｐの酸化膜で形成可能である。ここで、この酸化膜は、第２電極層１６ＮおよびＶＩＡ電極層１６Ｐの表面を酸素プラズマ処理により形成可能である。

　第３の実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池１の製造方法の一工程であって、基板１０上に透明電極層１１をパターン形成した状態を示す模式的断面構造は、図７６（ａ）に示すように表され、透明電極層１１上に正孔輸送層１２を製膜した状態を示す模式的断面構造は、図７６（ｂ）に示すように表され、正孔輸送層１２上にバルクへテロ接合有機活性層１４を製膜した状態を示す模式的断面構造は、図７６（ｃ）に示すように表され、基板１０に対して面直方向に、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４を貫通し、第１電極層１１まで到達する第３貫通孔３７₃を形成した状態を示す模式的断面構造は、図７６（ｄ）に示すように表される。

　実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池１の製造方法の一工程であって、バルクへテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６Ｎをパターン形成するとともに、第３貫通孔３７₃を介して第１電極層１１に接続されたＶＩＡ電極層１６Ｐを形成した状態を示す模式的断面構造は、図７７（ａ）に示すように表され、酸素プラズマ処理によって、第２電極層１６ＮおよびＶＩＡ電極層１６Ｐの表面に酸化膜２４を形成後、第２電極層１６ＮおよびＶＩＡ電極層１６Ｐ上にパッシベーション層２６・カラー化バリア層２８・バックシートパッシベーション層３０を形成した状態を示す模式的断面構造は、図７７（ｂ）に示すように表される。

　第３の実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池１の製造方法の一工程であって、基板１０に対して面直方向に、バックシートパッシベーション層３０・カラー化バリア層２８・パッシベーション層２６を貫通し、ＶＩＡ電極層１６Ｐまで到達する第４貫通孔３７₄・第２電極層１６Ｎまで到達する第２貫通孔３７₂を形成した状態を示す模式的断面構造は、図７８に示すように表される。

　さらに、第１電極層１１に接続されたＶＩＡ電極層１６Ｐに対して、第４貫通孔３７₄を介して、取り出し端子電極３８₁を接続形成すると共に、第２電極層１６Ｎに対して、第２貫通孔３７₂を介して、取り出し端子電極３８₁を接続形成した状態を示す模式的断面構造は、図７５（ａ）および図７５（ｂ）に示すように表される。

　第３の実施の形態の変形例２に係る有機薄膜太陽電池１の製造方法は、図７６～図７８、および図７５に示すように、基板１９上に第１電極１１を形成する工程と、第１電極層１１上に正孔輸送層１２を形成する工程と、正孔輸送層１２上にバルクへテロ接合有機活性層１４を形成する工程と、基板１０に対して面直方向に、正孔輸送層１２、バルクへテロ接合有機活性層１４を貫通し、第１電極層１１まで到達する第３貫通孔３７₃を形成する工程と、バルクへテロ接合有機活性層１４上に第２電極層１６Ｎをパターン形成するとともに、第３貫通孔３７₃を介して第１電極層１１に接続されたＶＩＡ電極層１６Ｐをパターン形成する工程と、第２電極層１６ＮおよびＶＩＡ電極層１６Ｐ上にパッシベーション層２６・カラー化バリア層２８・バックシートパッシベーション層３０を形成する工程と、基板１０に対して面直方向に、パッシベーション層２６・カラー化バリア層２８・バックシートパッシベーション層３０を貫通し、ＶＩＡ電極層１６Ｐまで到達する第４貫通孔３７₄を形成する工程と、基板１０に対して面直方向に、パッシベーション層２６・カラー化バリア層２８・バックシートパッシベーション層３０を貫通して、第２電極層１６Ｎまで到達する第２貫通孔３７₂を形成する工程と、第４貫通孔３７₄内においてＶＩＡ電極層１６Ｐと接続された第１取り出し端子電極３８₁を形成する工程と、第２貫通孔３７₂内において第２電極層１６Ｎと接続された第２取り出し端子電極３８₂を形成する工程とを有する。

　上記以外の詳細な製造工程の説明は、実施の形態およびその変形例１に係る有機薄膜太陽電池１の製造方法と重複するため、説明が省略する。

　以上説明したように、第３の実施の形態によれば、電極の取り出し構造を改善し、外観の大きな構造変化を伴うこと無く、任意の位置に接続点を形成可能で、かつ軽量化・薄層化可能な有機薄膜太陽電池およびその製造方法、および電子機器を提供することができる。

[その他の実施の形態]
　上記のように、実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述および図面は例示的なものであり、この発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。

　このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態などを含む。

　本発明の有機薄膜太陽電池は、太陽光発電パネル、モバイル機器用充電装置や太陽エネルギーシステムなど幅広い分野に適用可能である。

１、　１Ａ、１Ｂ…有機薄膜太陽電池
２…ディスプレイ領域
４…有機薄膜太陽電池形成領域
６…文字形成領域
１０…基板（ＩＴＯ基板）
１１、１１Ａ、１１Ｂ…第１電極層（アノード電極層、透明電極層）
１２…正孔輸送層
１４…バルクヘテロ接合有機活性層
１６、１６Ｎ…第２電極層（カソード電極層）
１６Ｐ…ＶＩＡ電極層
２４…不動態膜（酸化膜）
２６、３１、４１、４１₁、４１₂、４１₃、４１₄…パッシベーション層
２８、２９、４２₁、４２₂、４２₃、４２₄…（カラー化）バリア層
３０…バックシートパッシベーション層
３３…バックシート層
３４…スルーホール
３６、３６Ｐ…ガラスフリット
３６Ｕ…樹脂（熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化樹脂）
３７、３７₁、３７₂、３７₃、３７₄…貫通孔
３８、３８₁、３８₂…取り出し端子電極
３８ＧＵ、３８ＧＳ…ゲッタリング用シート乾燥剤
４０…封止層（封止ガラス、ガラスプレート、カバーガラス）
４０Ｒ…樹脂層
４１Ｈ…スポット
６０…スポイト
６２…スピンドル
６３…テーブル
６４…液滴
１５０…接着層
２００、３００…電子機器

Claims

　基板と、
　前記基板上に配置された第１電極層と、
　前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、
　前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、
　前記基板と対向し、前記第１電極層、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記第２電極層からなる積層構造を封止する封止ガラスと、
　前記封止ガラスと前記基板との間に配置され、前記積層構造を封止するガラスフリットと
　を備えることを特徴とする有機薄膜太陽電池。
　前記ガラスフリットは、前記封止ガラス上に配置されることを特徴とする請求項１に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラスフリットは、紫外線に対して透明であることを特徴とする請求項１に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラスフリットは、亜鉛系ガラスを主成分とすることを特徴とする請求項３に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラスフリットは、楔形形状、テーパー形状、もしくは前記封止ガラスから離れるに従って断面積が小さくなる紡錘形のテーパー形状を有することを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラスフリットは、複数本形成されることを特徴とする請求項５に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラスフリットと前記基板とを接続する樹脂を備えることを特徴とする請求項１～６のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラスフリットは、前記樹脂で被覆されることを特徴とする請求項７に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記樹脂は、紫外線硬化樹脂若しくは熱硬化樹脂で形成されたことを特徴とする請求項８に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラスフリットは、多孔質性を有し、前記樹脂は、前記ガラスフリット内に浸み込み可能であることを特徴とする請求項１～９のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記第２電極層の表面に配置された不動態膜を備えることを特徴とする請求項１～１０のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記不動態膜は、前記第２電極層の酸化膜であることを特徴とする請求項１１に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記酸化膜は、前記第２電極層の表面を酸素プラズマ処理により形成されることを特徴とする請求項１２に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記酸化膜上に配置されたパッシベーション膜を備えることを特徴とする請求項１２または１３に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記パッシベーション膜は、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜であることを特徴とする請求項１４に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記基板と前記封止ガラスで封止された内部にゲッタリング用シート乾燥剤を備えることを特徴とする請求項１～１４のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記封止ガラスの前記基板と対向する内壁面にゲッタリング用シート乾燥剤を備えることを特徴とする請求項１～１４のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記基板と前記封止ガラスで封止された内部の前記基板上にゲッタリング用シート乾燥剤を備えることを特徴とする請求項１～１４のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　請求項１～１８のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池からなるセルを複数個直列接続したことを特徴とする有機薄膜太陽電池。
　前記封止ガラスの前記基板と対向する内壁面に撓み防止用のガラス支持台を備えることを特徴とする請求項１～１９のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラス支持台は、前記第２電極層に接して配置されたことを特徴とする請求項２０に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラス支持台は、前記第１電極層に接して配置されたことを特徴とする請求項２０に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記ガラス支持台は、複数個配置されたセル間に配置されたことを特徴とする請求項２０に記載の有機薄膜太陽電池。
　基板と、
　前記基板上に配置された第１電極層と、
　前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、
　前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、
　前記第２電極層上に配置されたパッシベーション層と、
　前記パッシベーション層上に配置されたカラー化バリア層と、
　前記カラー化バリア層上に配置されたバックシートパッシベーション層と
　を備えることを特徴とする有機薄膜太陽電池。
　前記カラー化バリア層は、紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項２４に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記カラー化バリア層には、着色剤を添加したことを特徴とする請求項２５に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記パッシベーション層は、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜であることを特徴とする請求項２４～２６のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記カラー化バリア層は、前記パッシベーション層に形成されるスポットを被覆可能であることを特徴とする請求項２７に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記パッシベーション層と前記カラー化バリア層は、複数層繰り返し積層化されて、多重積層保護膜を形成したことを特徴とする請求項２４～２８のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記第２電極層の表面に不動態膜を備えることを特徴とする請求項２４～２９のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記不動態膜は、前記第２電極層の酸化膜であることを特徴とする請求項３０に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記酸化膜は、前記第２電極層の表面を酸素プラズマ処理により形成されることを特徴とする請求項３１に記載の有機薄膜太陽電池。
　請求項２４～３２のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池からなるセルを複数個直列接続したことを特徴とする有機薄膜太陽電池。
　基板と、
　前記基板上に配置された第１電極層と、
　前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、
　前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、
　前記第２電極層上に配置されたパッシベーション層と、
　前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記正孔輸送層を貫通して、前記第１電極層と接続された第１取り出し端子電極と、
　前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極と
　を備えることを特徴とする有機薄膜太陽電池。
　基板と、
　前記基板上に配置された第１電極層と、
　前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、
　前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、
　前記基板に対して面直方向に、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層を貫通し、前記第１電極層まで到達する第３貫通孔を介して前記第１電極層に接続されたＶＩＡ電極層と、
　前記第２電極層および前記ＶＩＡ電極層上に配置されたパッシベーション層と、
　前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層を貫通して、前記ＶＩＡ電極層と接続された第１取り出し端子電極と、
　前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極と
　を備えることを特徴とする有機薄膜太陽電池。
　前記第１取り出し端子電極は、前記第１電極層の任意の位置に接続可能であることを特徴とする請求項３４または３５に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記第２取り出し端子電極は、前記第２電極層の任意の位置に接続可能であることを特徴とする請求項３４または３５に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記パッシベーション層上に配置されたカラー化バリア層と、
　前記カラー化バリア層上に配置されたバックシートパッシベーション層と
　を備えることを特徴とする請求項３４～３７のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記パッシベーション層は、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜であることを特徴とする請求項３８に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記カラー化バリア層は、紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項３８に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記カラー化バリア層には、着色剤を添加したことを特徴とする請求項３９に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記カラー化バリア層は、前記パッシベーション層に形成されるスポットを被覆可能であることを特徴とする請求項３９に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記パッシベーション層と前記カラー化バリア層は、複数層繰り返し積層化されて、多重積層保護膜を形成したことを特徴とする請求項３８～４２のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記第２電極層の表面に不動態膜を備えることを特徴とする請求項３４～４３のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記不動態膜は、前記第２電極層の酸化膜であることを特徴とする請求項４４に記載の有機薄膜太陽電池。
　前記酸化膜は、前記第２電極層の表面を酸素プラズマ処理により形成されることを特徴とする請求項４５に記載の有機薄膜太陽電池。
　請求項３４～４６のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池からなるセルを複数個直列接続したことを特徴とする有機薄膜太陽電池。
　請求項１～４７のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池を備える電子機器。
　ディスプレイ領域と、
　前記ディスプレイ領域の周辺部に配置された有機薄膜太陽電池形成領域および文字形成領域と
　を備え、
　前記有機薄膜太陽電池形成領域は、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層と、前記バルクヘテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記第２電極層上に配置されたパッシベーション層と、前記パッシベーション層上に配置されたカラー化バリア層と、前記カラー化バリア層上に配置されたバックシートパッシベーション層とを備え、
　前記ディスプレイ領域および前記文字形成領域は、前記基板と、前記基板上に配置された前記第１電極層と、前記第１電極層上に配置された前記パッシベーション層と、前記パッシベーション層上に配置された前記カラー化バリア層と、前記カラー化バリア層上に配置された前記バックシートパッシベーション層とを備え、
　前記有機薄膜太陽電池形成領域に対応した前記カラー化バリア層および前記文字形成領域に対応した前記カラー化バリア層は、着色されていることを特徴とする電子機器。
　前記カラー化バリア層は、紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項４９に記載の電子機器。
　前記カラー化バリア層には、着色剤を添加したことを特徴とする請求項５０に記載の電子機器。
　前記パッシベーション層は、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜であることを特徴とする請求項４９～５１のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記カラー化バリア層は、前記パッシベーション層に形成されるスポットを被覆可能であることを特徴とする請求項５２に記載の電子機器。
　前記パッシベーション層と前記カラー化バリア層は、複数層繰り返し積層化されて、多重積層保護膜を形成したことを特徴とする請求項４９～５３のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記第２電極層の表面に配置された不動態膜を備えることを特徴とする請求項４９～５４のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記前記有機薄膜太陽電池形成領域に対応した前記カラー化バリア層は、黒色に着色されたことを特徴とする請求項４９～５５のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記文字形成領域に対応した前記カラー化バリア層は、赤色に着色されたことを特徴とする請求項４９～５６のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記ディスプレイ領域に対応した前記基板には、液晶ディスプレイ若しくは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイが配置されたことを特徴とする請求項４９～５７のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記電子機器は、前記ディスプレイ領域を配置した前記基板上に接着層を介して配置された前記有機薄膜太陽電池形成領域を備え、タンデム構造を有することを特徴とする請求項４９～５８のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記電子機器は、前記ディスプレイ領域を配置した前記基板上に配置された前記有機薄膜太陽電池形成領域を備え、インセル構造を有することを特徴とする請求項４９～５８のいずれか１項に記載の電子機器。
　ディスプレイ領域と、
　前記ディスプレイ領域の周辺部に配置された有機薄膜太陽電池形成領域および文字形成領域と
　を備え、
　前記有機薄膜太陽電池形成領域は、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクヘテロ接合有機活性層と、前記バルクヘテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記第２電極層上に配置されたパッシベーション層と、前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記正孔輸送層を貫通して、前記第１電極層と接続された第１取り出し端子電極と、前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極とを備え、
　前記ディスプレイ領域および前記文字形成領域は、前記基板と、前記基板上に配置された前記第１電極層と、前記第１電極層上に配置された前記パッシベーション層とを備えることを特徴とする電子機器。
　ディスプレイ領域と、
　前記ディスプレイ領域の周辺部に配置された有機薄膜太陽電池形成領域および文字形成領域と
　を備え、
　前記有機薄膜太陽電池形成領域は、基板と、前記基板上に配置された第１電極層と、前記第１電極層上に配置された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に配置されたバルクへテロ接合有機活性層と、前記バルクへテロ接合有機活性層上に配置された第２電極層と、前記基板に対して面直方向に、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層を貫通し、前記第１電極層まで到達する第３貫通孔を介して前記第１電極層に接続されたＶＩＡ電極層と、前記第２電極層および前記ＶＩＡ電極層上に配置されたパッシベーション層と、前記基板に対して面直方向に配置され、前記パッシベーション層を貫通して、前記ＶＩＡ電極層と接続された第１取り出し端子電極と、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極とを備え、
　前記ディスプレイ領域および前記文字形成領域は、前記基板と、前記基板上に配置された前記第１電極層と、前記第１電極層上に配置された前記パッシベーション層とを備えることを特徴とする電子機器。
　前記第１取り出し端子電極は、前記第１電極層の任意の位置に接続可能であることを特徴とする請求項６１または６２に記載の電子機器。
　前記第２取り出し端子電極は、前記第２電極層の任意の位置に接続可能であることを特徴とする請求項６１または６２に記載の電子機器。
　前記有機薄膜太陽電池形成領域は、
　前記パッシベーション層上に配置されたカラー化バリア層と、前記カラー化バリア層上に配置されたバックシートパッシベーション層とを備え、
　前記ディスプレイ領域および前記文字形成領域は、
　前記パッシベーション層上に配置された前記カラー化バリア層と、前記カラー化バリア層上に配置された前記バックシートパッシベーション層とを備え、
　前記有機薄膜太陽電池形成領域に対応した前記カラー化バリア層および前記文字形成領域に対応した前記カラー化バリア層は、着色されていることを特徴とする請求項６１～６４のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記パッシベーション層は、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜であることを特徴とする請求項６５に記載の電子機器。
　前記カラー化バリア層は、紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項６５に記載の電子機器。
　前記カラー化バリア層には、着色剤を添加したことを特徴とする請求項６７に記載の電子機器。
　前記カラー化バリア層は、前記パッシベーション層に形成されるスポットを被覆可能であることを特徴とする請求項６６に記載の電子機器。
　前記パッシベーション層と前記カラー化バリア層は、複数層繰り返し積層化されて、多重積層保護膜を形成したことを特徴とする請求項６５～６９のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記前記有機薄膜太陽電池形成領域に対応した前記カラー化バリア層は、黒色に着色されたことを特徴とする請求項６５～７０のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記文字形成領域に対応した前記カラー化バリア層は、赤色に着色されたことを特徴とする請求項６６～７１のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記ディスプレイ領域に対応した前記基板には、液晶ディスプレイ若しくは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイが配置されたことを特徴とする請求項６１～７２のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記電子機器は、前記ディスプレイ領域を配置した前記基板上に接着層を介して配置された前記有機薄膜太陽電池形成領域を備え、タンデム構造を有することを特徴とする請求項６１～７３のいずれか１項に記載の電子機器。
　前記電子機器は、前記ディスプレイ領域を配置した前記基板上に配置された前記有機薄膜太陽電池形成領域を備え、インセル構造を有することを特徴とする請求項６１～７３のいずれか１項に記載の電子機器。
　基板上に第１電極を形成する工程と、
　前記第１電極層上に正孔輸送層を形成する工程と、
　前記正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を形成する工程と、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層を形成する工程と、
　封止ガラス上にガラスフリットを形成する工程と、
　前記ガラスフリットの先端部分に樹脂を形成する工程と、
　前記封止ガラスおよび前記基板を対向させ、前記ガラスフリットと前記樹脂によって、前記第１電極層、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記第２電極層からなる積層構造を封止する工程と
　を有することを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記ガラスフリットを形成する工程は、前記封止ガラス上にスクリーン印刷により実施されることを特徴とする請求項７６に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記ガラスフリットは、紫外線に対して透明であることを特徴とする請求項７６または７７に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記ガラスフリットは、亜鉛系ガラスを主成分とすることを特徴とする請求項７８に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記樹脂は、紫外線硬化樹脂で形成されたことを特徴とする請求項７６～７９のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記紫外線硬化樹脂を硬化するための紫外線照射は、前記封止ガラス側から実施されることを特徴とする請求項８０に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記樹脂は、熱硬化樹脂で形成されたことを特徴とする請求項７６～７９のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記第２電極層を形成する工程は、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に金属を蒸着して形成する工程を有することを特徴とする請求項７６～８２のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記第２電極層の表面に不動態膜を形成する工程を更に有することを特徴とする請求項７６～８３のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記不動態膜を形成する工程は、
　前記第２電極層を酸素プラズマ処理する工程を有することを特徴とする請求項８４に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　基板上に第１電極を形成する工程と、
　前記第１電極層上に正孔輸送層を形成する工程と、
　前記正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を形成する工程と、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層を形成する工程と、
　前記第２電極層上にパッシベーション層を形成する工程と、
　前記パッシベーション層上にカラー化バリア層を形成する工程と、
　前記カラー化バリア層上にバックシートパッシベーション層を形成する工程と
　を有することを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記カラー化バリア層は、紫外線硬化樹脂であることを特徴とする請求項８６に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記カラー化バリア層には、着色剤を添加したことを特徴とする請求項８６に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記パッシベーション層は、ＳｉＮ膜若しくはＳｉＯＮ膜であることを特徴とする請求項８６に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記カラー化バリア層は、前記パッシベーション層に形成されるスポットを被覆可能であることを特徴とする請求項８９に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記パッシベーション層を形成する工程と前記カラー化バリア層を形成する工程を繰り返し、多重積層保護膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項８６～９０のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記第２電極層を形成する工程は、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に金属を蒸着して形成する工程を有することを特徴とする請求項８６～９１のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記第２電極層の表面に不動態膜を形成する工程を更に有することを特徴とする請求項８６～９２のいずれか１項に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記不動態膜を形成する工程は、
　前記第２電極層を酸素プラズマ処理する工程を有することを特徴とする請求項９３に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　基板上に第１電極を形成する工程と、
　前記第１電極層上に正孔輸送層を形成する工程と、
　前記正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を形成する工程と、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層を形成する工程と、
　前記第２電極層上にパッシベーション層を形成する工程と、
　前記基板に対して面直方向に、前記パッシベーション層、前記バルクへテロ接合有機活性層、および前記正孔輸送層を貫通し、前記第１電極層まで到達する第１貫通孔を形成する工程と、
　前記基板に対して面直方向に、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層まで到達する第２貫通孔を形成する工程と、
　前記第１貫通孔内において前記第１電極層と接続された第１取り出し端子電極を形成する工程と、
　前記第２貫通孔内において前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極を形成する工程と
　を有することを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法。
　基板上に第１電極を形成する工程と、
　前記第１電極層上に正孔輸送層を形成する工程と、
　前記正孔輸送層上にバルクへテロ接合有機活性層を形成する工程と、
　前記基板に対して面直方向に、前記正孔輸送層、前記バルクへテロ接合有機活性層
を貫通し、前記第１電極層まで到達する第３貫通孔を形成する工程と、
　前記バルクへテロ接合有機活性層上に第２電極層を形成するとともに、前記第３貫通孔を介して前記第１電極層に接続されたＶＩＡ電極層を形成する工程と、
　前記第２電極層および前記ＶＩＡ電極層上にパッシベーション層を形成する工程と、
　前記基板に対して面直方向に、前記パッシベーション層を貫通し、前記ＶＩＡ電極層まで到達する第４貫通孔を形成する工程と、
　前記基板に対して面直方向に、前記パッシベーション層を貫通して、前記第２電極層まで到達する第２貫通孔を形成する工程と、
　前記第４貫通孔内において前記ＶＩＡ電極層と接続された第１取り出し端子電極を形成する工程と、
　前記第２貫通孔内において前記第２電極層と接続された第２取り出し端子電極を形成する工程と
　を有することを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記パッシベーション層上にカラー化バリア層を形成する工程と、
　前記カラー化バリア層上にバックシートパッシベーション層を形成する工程と
　を有することを特徴とする請求項９５または９６に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。
　前記パッシベーション層を形成する工程と前記カラー化バリア層を形成する工程を繰り返し、多重積層保護膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項９７に記載の有機薄膜太陽電池の製造方法。