WO2014119592A1 - 抵抗体、誘電体等の電子部品用無機材料ペースト及び該無機材料ペーストの製造方法 - Google Patents

抵抗体、誘電体等の電子部品用無機材料ペースト及び該無機材料ペーストの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2014119592A1
WO2014119592A1 PCT/JP2014/051899 JP2014051899W WO2014119592A1 WO 2014119592 A1 WO2014119592 A1 WO 2014119592A1 JP 2014051899 W JP2014051899 W JP 2014051899W WO 2014119592 A1 WO2014119592 A1 WO 2014119592A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
inorganic material
paste
inorganic
material paste
metal organic
Prior art date
Application number
PCT/JP2014/051899
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
哲男 土屋
健太郎 篠田
智彦 中島
Original Assignee
独立行政法人産業技術総合研究所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 独立行政法人産業技術総合研究所 filed Critical 独立行政法人産業技術総合研究所
Priority to US14/765,015 priority Critical patent/US20150371725A1/en
Priority to KR1020157024085A priority patent/KR101757089B1/ko
Priority to JP2014559704A priority patent/JP6108563B2/ja
Publication of WO2014119592A1 publication Critical patent/WO2014119592A1/ja

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/02Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/06Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/08Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances oxides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/002Inhomogeneous material in general
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/30Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for baking
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/003Thick film resistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/006Thin film resistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M50/00Constructional details or processes of manufacture of the non-active parts of electrochemical cells other than fuel cells, e.g. hybrid cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

Abstract

金属有機化合物及び無機材料粒子並びに溶媒を混合した無機材料ペースト。金属有機化合物を焼成又は光照射して得た無機材料粒子並びに溶媒を混合した上記無機材料ペースト。当該無機材料ペーストは、ガラス材料を低減でき、機能材料の体積密度が高いため薄膜化を可能とし、また製造効率が良く、大量生産に適しており低コスト化が可能となる。例えば、抵抗体薄膜を作製する場合においては、本発明によるペーストを用いた抵抗体は、薄膜でも安定性にも優れ、大電流下でも自己発熱による抵抗値変化の少くできる特徴を備えている。これによって、抵抗体に限らず蛍光体、誘電体、電池材料など各種酸化物材料の厚膜の製作に有用である。

Description

抵抗体、誘電体等の電子部品用無機材料ペースト及び該無機材料ペーストの製造方法
 本発明は、抵抗体、誘電体等の電子部品製造用の無機材料ペースト及び該無機材料ペーストの製造方法に関する。
 抵抗体や誘電体などの電子部品は、従来、導電体や絶縁体などの無機材料ペーストを基材にスクリーン印刷し、その後、乾燥、焼成することで作製されてきている。
抵抗体の導電性材料としては、金、銀などの貴金属や酸化ルテニウムを主成分に用い、これを分散させるガラスフリット、ビヒクルと適宜の有機溶剤とを混合したものが用いられてきている。
また、近年、高感度で、クリープ現象による抵抗値変化の少ない抵抗体を形成可能な抵抗体ペースト及びその製造方法として、ガラスフリットと、前記ガラスフリット中に分散される導電粒子とを含む抵抗体ペーストを用いること、その導電粒子として、前記ガラスフリットよりも軟化点の高いガラス組成物を用いる方法が報告されている(特許文献1参照)。
また、焼成過程の変動の影響を受けにくい抵抗値の安定した鉛フリーの厚膜抵抗体を、低熱膨張のセラミック基板に形成する方法として、酸化ルテニウムなどの導電粒子とガラスフリットとして、SiO-B-KOガラスを主成分とし、表面にKが付着した酸化ルテニウムで、比表面積が30~80m/gのものを使用する方法が報告されている(特許文献2参照)。
更に、耐電力を向上させて高速印字を可能とする抵抗体をもたらすことのできる抵抗ペーストとして、導電粒子として酸化ルテニウム粉末を用い、これに所定の比率でガラスフリットの配合比率、及びガラスフリットの組成を変える方法が開示されている。
具体的には、PbO:15~25wt%と、B:0.1~5.0wt%と、SiO:15~25wt%と、Al:45~55wt%と、CaO:0.1~5.0wt%と、MgO:0.1~5.0wt%とを組成とするガラス粉末、またはB:1~10wt%と、SiO:60~70wt%と、Al:10~20wt%と、CaO:10~20wt%と、MgO:1~5wt%と、Sb:0.1~2.0wt%とを組成とするガラス粉末を用い、導電粒子は5~50wt%、ガラスフリットは50~95wt%用いる方法が開示されている(特許文献3参照)。
一方、近年、SiCなどのパワーエレクトロニクスの開発に伴い、電子部品材料の従来の使用温度155℃より、高温下における耐熱性が必要となってきている。特に抵抗体は環境下の温度に加えて電流負荷による自己発熱による温度上昇が生ずるため、使用環境温度より高温となる。
多くの材料は高温になるに従い酸化反応や電極材料との反応が起こるため、自己発熱を抑えることが耐熱性向上の重要な課題である。また、従来、抵抗体材料としては酸化ルテニウムが用いられてきたが、ルテニウムなどの希少金属は、資源枯渇問題からその代替材料の開発も急務となってきている。
特開2009-105263号公報 特開2001-196201号公報 特開10-335110号公報
 従来、無機材料ペーストは、無機材料とガラス、及びバインダーを含む材料であり、例えば、抵抗体の作製には、ルテニウム酸化物を含むペーストをスクリーン印刷などにより基材に塗布し焼成することで作製される。このペーストは、希少金属であるルテニウム材料を主成分とし、更にはガラス成分や有機ビヒクルを用いるため、所望の抵抗値を得るには薄膜化が困難である。また、熱伝導性の低いガラスを含むため、電流負荷時の自己発熱による放熱が不十分となるため、ガラス材料の低減や熱伝導度の高い材料を用いることで放熱が可能となる。本発明は、以上のような背景のもとになされたものであり、無機材料ペーストにガラスを用いず、例えば、抵抗体製造用のペーストとしては、希少金属を用いず、高温下においても抵抗値変化の少ない抵抗体を形成可能なペースト材料を提供することを課題とする。
 以上から、本発明は、以下の発明を提供する。
1)金属有機化合物及び無機材料粒子並びに溶媒を混合した無機材料ペースト。
2)金属有機化合物を焼成又は光照射して得た無機材料粒子並びに溶媒を混合した上記1)に記載の無機材料ペースト。
3)金属有機化合物が、アセチルアセトナート又は金属有機酸塩であることを特徴とする上記1)又は2)に記載の無機材料ペースト。
4)無機材料粒子が、金属酸化物及び/又は金属の材料からなる上記1)~3)のいずれか一項に記載の無機材料ペースト
5)無機材料粒子が、SnO又はRuOに、A(Sb,Ta,Nb,Ga,Cu,Ba,Srの少なくとも一つの金属)を含み、A/[A+(Sn又はRu]が2~25%の組成を有することを特徴とする上記1)~4)のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
6)無機材料粒子が、RuOとSnOに、A(Sb,Ta,Nb,Ga,Cu,Ba,Srの少なくとも一つの金属)を含み、A/(A+Sn+Ru)が2~25%の組成を有することを特徴とする上記1)~4)のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
7)無機材料粒子と金属有機化合物との構成比率(重量比)が90/10~80/20であることを特徴とする上記1)~6)のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
8)無機材料粒子が、(1+a)A1-xMn1-yCu(-0.2≦a≦0.2、成分Aは、La,Pr,Sm,Nd,Ho,Yb,Lu,Eu,Ce,Tm,Erから選択した一種以上の金属、成分Bは、Ba,Ca,Srから選択した一種以上の金属、0≦x≦1.0、0≦y≦1.0)であることを特徴とする上記1)~7)のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
9)無機材料粒子が、BiSr(CaxA1-X)Cu,成分Aは、Y,La,Pr,Sm,Nd,Ho,Yb,Lu,Eu,Ce,Tm,Erから選択した一種以上の金属,0≦x≦1.0であることを特徴とする上記1)~7)のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
10)無機材料粒子が、(1+a)A1-xNiO(-0.2≦a≦0.2、成分Aは、La,Pr,Sm,Nd,Ho,Yb,Lu,Eu,Ce,Tm,Erから選択した一種以上の金属、成分Bは、Ba,Ca,Srから選択した一種以上の金属、0≦x≦1.0、0≦y≦1.0)であることを特徴とする上記1)~7)のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
11)金属有機化合物及び金属有機化合物を焼成又は光照射して得た無機材料粒子に、溶媒を添加して、遊星ミル又はビーズミルにより混合して製造する無機材料ペーストの製造方法。
12)金属有機化合物及び金属有機化合物を焼成又は光照射して得た無機材料粒子に、溶媒を添加し、遊星ミル又はビーズミルにより混合することを特徴とする上記1)~10)のいずれか一項に記載の無機材料ペーストの製造方法。
13)金属有機化合物を200~500℃で焼成するか又は光照射する工程、若しくは更に500~1500℃の温度領域で焼成するか又は光照射する工程、又はこれらの工程を2回以上繰り返すことにより作製した無機材料粒子を用いることを特徴とする上記12)に記載の無機材料ペーストの製造方法。
 本発明に係る無機材料ペーストは、ガラス材料を低減でき、機能材料の体積密度が高いため薄膜化を可能とし、また製造効率が良く、大量生産に適しており低コスト化が可能となる発明である。例えば、抵抗体薄膜を作製する場合においては、本発明によるペーストを用いた抵抗体は、薄膜でも安定性にも優れ、大電流下でも自己発熱による抵抗値変化の少ないものである。また、抵抗体に限らず蛍光体、誘電体、電池材料など各種酸化物材料の厚膜を簡便に製造する発明であるという優れた効果を有する。
本願発明の無機材料ペーストは、金属有機化合物及無機材料粒子並びに溶媒を混合した材料であり、金属有機化合物としては、アセチルアセトナート又は金属有機酸塩を用いるのが粒径サイズや金属組成の均一性の観点からもっとも良い。無機材料粒子は金属酸化物及び/又は金属からなる。双方の材料の組み合わせは任意であり、適宜組み合わせて(混合して)使用することができる。
無機材料ペーストに使用する無機材料粒子としては、SnO又はRuOに、A(Sb,Ta,Nb,Ga,Cu,Ba,Srの少なくとも一つの金属)を含み、A/[A+(Sn又はRu]が2~25%の組成を有する材料を使用することができる。
また、無機材料ペーストに使用する無機材料粒子として、RuOとSnOに、A(Sb,Ta,Nb,Ga,Cu,Ba,Srの少なくとも一つの金属)を含み、A/(A+Sn+Ru)が2~25%の組成を有する材料を使用することも有効である。
上記、無機材料粒子と金属有機化合物との構成比率(重量比)が90/10~80/20であることが望ましい。
また、無機材料ペーストに使用する無機材料粒子として、(1+a)A1-xMn1-yCu(-0.2≦a≦0.2、成分Aは、La,Pr,Sm,Nd,Ho,Yb,Lu,Eu,Ce,Tm,Erから選択した一種以上の金属、成分Bは、Ba,Ca,Srから選択した一種以上の金属、0≦x≦1.0、0≦y≦1.0)である材料を使用することが有効である。
無機材料ペーストの製造に際しては、金属有機化合物及び金属酸化物無機材料粒子とに、溶媒を添加して、遊星ミル又はビーズミルにより混合して製造するのが良い。
また、上記の無機材料ペーストの製造に際しては、金属有機化合物を200~500℃で焼成するか又は光照射する工程、若しくは更に500~1500℃の温度領域で焼成するか又は光照射する工程、又はこれらの工程を2回以上繰り返すことにより作製した無機材料粒子を用いて製造することが有効である。
上記製造の具体例として、粒径の制御された無機材料粒子の構成として、スズにアンチモン、ニオブ、タンタル、銅、バナジウム、鉄、バリウム、ストロンチウム、カルシウム、ビスマスを少なくとも一つ以上含む金属有機化合物を主成分とする溶液法を200~500℃で焼成することで作製した粉体に、スズにアンチモン、ニオブ、タンタル、銅、バナジウム、鉄、バリウム、ストロンチウムを少なくとも一つ以上含む金属有機化合物及び溶媒を加えて遊星ボールミルで混合する方法で無機材料ペーストを製造できる。
本発明者等による無機材料ペーストより形成される抵抗体の導電機構においては、ガラスなどの絶縁性物質が大幅に低減され、或いは、目的に応じてはガラス成分が不要であるため、安定的な導電機構を維持することが可能になり、また、大電流においても自己発熱が少ないため、高温環境下においても安定な抵抗値性能を示すことが可能である。
本願発明は、無機材料性能の感度と安定性の関係に鑑み、ガラス組成物の少量化するか使用せず、導電性粒子を導電性粒子と同じ金属組成あるいは異種組成の金属有機化合物によるバインダーとして用いることで、焼成により金属有機化合物が目的の金属酸化物になるため導電性を有する材料の体積密度が高い高密度焼結体を作製できる。
以下、本発明の好適な実施形態を説明するが、本実施形態では、例えば酸化物厚膜作製の例として抵抗体応用のため、酸化スズ酸化物にアンチモンをドープした材料と、スズ、アンチモンを含む金属有機化合物及び溶媒を用いて、遊星ボールミル法を用いてペーストを製造した。そして導電体膜を製造してその電気伝導性及び抵抗温度係数を評価した。ここで使用した、導電性酸化物、金属有機化合物の種類は以下の通りである。
(金属有機化合物原料)
粒子合成の原料は、金属有機化合物であればいずれも使用可能であるが、安価である金属有機酸塩が好ましく、炭素数の多い金属有機化合物は凝集や結晶成長を抑制するためより好ましい。具体的には、金属有機酸塩の有機酸が、ナフテン酸、2-エチルヘキサン酸、カプリル酸、ステアリン酸、ラウリン酸、酪酸、プロピオン酸、シュウ酸、クエン酸、乳酸、安息香酸、サリチル酸、エチレンジアミン四酢酸からなる群から選ばれるものを使用できる。
更には、金属アセチルアセトナートなどのキレートを含む金属有機化合物を用いることができる。更に結晶成長を防ぐ方法としては、有機ナノ粒子やカーボン材料など500℃以上の焼成で炭化、昇華するものを添加して焼成することも有効な方法である。
(無機材料粒子合成)
無機材料粒子合成法は、金属有機化合物原料を200~500℃の温度域で焼成する工程、若しくは更に500~1500℃の温度領域で焼成する工程、又はそれらを2回以上繰り返し用いた温度領域で焼成する工程を用いることができるが、金属有機化合物原料或いは金属を含む溶液をスプレーや気相法により熱分解、レーザー反応、マイクロ波反応、プラズマ反応により作製した無機材料粒子、若しくは、金属酸化物、炭酸塩などを混合し、焼成による固相反応で作製した無機材料粒子を、乳鉢や遊星ミルやビーズミルにより粉砕した無機材料粒子を使うことができる。
(粒径制御)
金属有機化合物を原料として熱分解、レーザー反応、マイクロ波反応、プラズマ反応により作製した無機材料粒子は微粒子の生成が可能であり、粒径は、0.01~10μmを含むが、乳鉢、ボールミル、ビーズミルなどの粉砕方法により、より微細に粉砕し粒度分布を制御することが緻密膜を作製する上で有効である。
また、この粉砕の際には、有機溶媒とバインダーとして金属有機化合物を用いることもできる。具体的には、アルミナ製のボールを無機材料粒子及び金属有機化合物をアルミナ容器に入れ、遊星ボールミルを用いて、500~2000rpmで15分から4時間程度粉砕とインク化を行うことでペースト化ができる。
(バインダー)
バインダーとして用いる金属有機化合物は、金属アセチルアセトナート、金属有機酸塩を用いることができる。具体的には、ナフテン酸、2-エチルヘキサン酸、カプリル酸、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、パルミチン酸、酪酸、プロピオン酸、シュウ酸、クエン酸、乳酸、安息香酸、サリチル酸、エチレンジアミン四酢酸からなる群から選ばれる有機酸の金属有機化合物を使用することができる。特に、粘性の高い溶液を用いることが均一に分散させる観点から有効である。
これらの金属有機化合物の他に、有機溶媒として、トルエン、キシレン、エタノールブタノール、アセチルアセトン、ブタノールを少なくとも一種類以上用い、更にはエチレングリコール、プロピレングリコール、、トリエチレングリコールを用いることができる。
これらの金属有機化合物のほかに、有機バインダーとしては、セルロース系樹脂、アクリル系樹脂等も使用可能である。有機溶剤としては、テルピネオール、ブチルカルビートルアセテート等が使用可能であり、いずれも公知のものが適用できる。
また、通常の抵抗体ペーストでは、ガラス成分を30%から50%含むが、本方法では30%以下、より好ましくはガラス成分を添加せずに基材と密着した薄膜を作製することができる。このようにしてガラス成分を少なくすることで、熱伝導性が向上し、自己発熱を抑制することができる。また、自己発熱を制御するため熱伝導性の高い材料を添加することが有効である。具体的には金属粒子、金属酸化物を添加することも有効である。
(導電性酸化物)
無機材料粒子の中で、導電粒子を構成する酸化物としては、酸化ルテニウム、酸化スズにアンチモンをドープした材料を用いることができる。具体的にはアンチモンドープ量は2~25%より好ましくは、5から15%が最適である。またニオブ、タンタル、銅、バナジウム、鉄、バリウム、ストロンチウム或いは同時に含むものも安定性の向上に有効である。
更には、酸化スズと他の酸化物との複合酸化物の形態のものでもよい。複合酸化物としては、酸化ルテニウム、ペロブスカイト型酸化物(ランタンマンガン酸化物、ランタン鉄酸化物、ランタン銅酸化物、ビスマス銅酸化物、ランタンニッケル酸化物など}を用いることができる。更にはこれらの材料を混合した複数の材料や組成のものを混合した材料を用いることができる。
(その他の無機材料)
無機材料であれば、導電粒子以外の材料ペーストも使用可能である。具体的には、蛍光体、誘電体、光学材料、電池材料などにも適用可能である。酸化物以外に窒化物、硫化物材料、金属などの材料も適用できる。
(無機材料と金属有機化合物の比率)
ペーストの各成分の構成比率(重量比)は、導電粒子を構成する金属酸化物とその金属を含む金属有機化合物を90/10~80/20の比率が好ましく、より好ましくは60/40~80/20とする。尚、上記のように単独で分散する酸化スズ酸化物が存在するペーストにおいては、ガラス組成物と共に導電粒子を構成するルテニウム酸化物の量と、単独で分散するルテニウム酸化物の量との合計が上記範囲内にあることが好ましい。
 以下、実施例および比較例に基づいて説明する。なお、本実施例はあくまで一例であり、この例によって何ら制限されるものではない。すなわち、本発明は特許請求の範囲によってのみ制限されるものであり、本発明に含まれる実施例以外の種々の変形を包含するものである。
(実施例1)
ナーセムスズ、酢酸アンチモンを、ブタノールに溶解し、アンチモン濃度がSb/(Sb+Sn)が10%になるように秤量し均一混合した。この溶液をるつぼに入れ溶媒を100℃で乾燥した。その後、200~300℃で仮焼成し、次いで400℃で焼成しアンチモンドープ酸化スズ粉末を作製した。
得られた粉末を遊星ミル用のアルミナ容器にいれ、次いで、スズアセチルアセトナート(日本化学産業)、及びアンチモンEMOD溶液(高純度化学製)、溶媒としてブタノール、エチレングリコールを遊星ミル用のアルミナ容器にいれ、回転数800rpmで30分間混合した。
この溶液をアルミナ基板に2000rpmでスピンコートし、200℃乾燥、300℃、10分、500℃、10分焼成した。次いで900℃、10分焼成しところ、室温のシート抵抗は、20Ω/□の電気伝導性を示した。
(比較例1)
本実施形態に係る抵抗ペーストに対する比較のため、実施例1と同様にアンチモンドープ酸化スズ粉末からなる導電粒子、ビヒクルとしてエチルセルロースを用いてペーストを製造し、アルミナ基材にコートして焼成したところ、膜の導電性は低く容易に剥離した。
(比較例2)
本実施形態に係る抵抗ペーストに対する比較のため、実施例1と同様にアンチモンドープ酸化スズ粉末からなる導電粒子、ビヒクルとしてエチルセルロース及びガラスを用いてペーストを製造し、アルミナ基材にコートして焼成したところ、膜の導電性は低くシート抵抗は、800Ω/□となった。
(実施例2)
ナフテン酸ランタン、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸ストロンチウムを所定比に混合し、溶液をるつぼに入れ溶媒を100℃で乾燥した。その後、200~300℃で仮焼成し、次いで600℃で焼成し粉末を作製した。
得られた粉末を遊星ミル用のアルミナ容器にいれ、次いで、ナフテン酸ランタン、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸ストロンチウムを所定比に混合し、溶液を溶媒としてトルエンを遊星ミル用のアルミナ容器にいれ、回転数800rpmで30分間混合した。この溶液をアルミナ基板に2000rpmでスピンコートし、200℃乾燥、300℃~500℃で10分焼成した。次いで、1200℃で焼成を行った結果、アルミナ基板上の膜のシート抵抗は115Ω/□となった。
(実施例3)
ナフテン酸ランタン、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸ストロンチウムをLa:SrMn=0.8:0.2:1.0溶液A, La:SrMn=0.40:0.60:1.0溶液Bについて、それぞれ紛体を合成した。
これらの粉末を遊星ミル用のアルミナ容器にいれ、次いで、ナフテン酸ランタン、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸ストロンチウムをLa:Sr:Mn=0.40:0.60:1.0所定比に混合し、溶液を溶媒としてトルエンを遊星ミル用のアルミナ容器にいれ、回転数800rpmで30分間混合した。この溶液をアルミナ基板に2000rpmでスピンコートし、200℃乾燥、300℃~500℃で10分焼成した。
本溶液をアルミナ基材にコートし1100℃で焼成した結果、シート抵抗:100Ω/□の電気伝導性を示した。
(比較例3)
ナフテン酸ランタン、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸ストロンチウムをLa:SrMn=0.40:0.60:1.0の所定比に混合し、溶液をトルエン溶媒で均一に混合し、アルミナ基板にコートした。
このコート膜を500℃で仮焼し、次いで、800℃~1100℃で焼成したところ酸化物膜は生成せず、電気伝導性は示さなかった。
(比較例4)
ナフテン酸ランタン、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸ストロンチウムを所定比に混合し、溶液をるつぼに入れ溶媒を100℃で乾燥した。その後、200~300℃で仮焼成し、次いで600℃で焼成し粉末を作製した。
得られた粉末及びエチルセルロースをエタノール、トルエンに分散させてアルミナ基板にコートした。この基板を焼成した結果、基板に密着せず、また高抵抗を示した。
(実施例4)
BiSr2CaCu(Bi2212)粉末1gを、次いで、高純度化学製のビスマス、ストロンチウム、カルシウム、銅のEMOD(0.5mol/lトルエン溶液)を所定比(2:2:1:2)に混合した溶液:3ml、トルエン:3ml及びブタノール0.5mlを遊星ミル用のアルミナ容器にいれ、回転数500rpmで15分間混合した。
この溶液をアルミナ基板に1000rpmでスピンコートし、200℃乾燥、500℃、5分焼成した。このコーティング工程を、10回繰り返し、800℃まで1hで昇温し、その後、800℃、3時間焼成した。次いで900℃、10分焼成しところ、BiSrCaCu膜(Bi2212膜)が得られ、室温のシート抵抗は、20Ω/□の電気伝導性を示した。
(比較例5)
高純度化学製のビスマス、ストロンチウム、カルシウム、銅のEMOD(0.5mol/lトルエン溶液)を所定比(2:2:1:2)に混合した溶液をアルミナ基板にコートして、同様の条件で焼成したところBi2212膜は生成せず、導電性は示さなかった。
本発明に係る無機材料ペーストは、ガラス材料を低減でき、機能材料の体積密度が高いため薄膜化を可能とし、また製造効率が良く、大量生産に適しており低コスト化が可能となる。例えば、抵抗体薄膜を作製する場合においては、本発明によるペーストを用いた抵抗体は、薄膜でも安定性にも優れ、大電流下でも自己発熱による抵抗値変化の少くできる特徴を備えている。これによって、抵抗体に限らず蛍光体、誘電体、電池材料など各種酸化物材料の厚膜の製作に有用である。

Claims (13)

  1. 金属有機化合物及び無機材料粒子並びに溶媒を混合した無機材料ペースト。
  2. 金属有機化合物を焼成又は光照射して得た無機材料粒子並びに溶媒を混合した請求項1に記載の無機材料ペースト。
  3. 金属有機化合物が、アセチルアセトナート又は金属有機酸塩であることを特徴とする請求項1又は2に記載の無機材料ペースト。
  4. 無機材料粒子が、金属酸化物及び/又は金属の材料からなる請求項1~3のいずれか一項に記載の無機材料ペースト
  5. 無機材料粒子が、SnO又はRuOに、A(Sb,Ta,Nb,Ga,Cu,Ba,Srの少なくとも一つの金属)を含み、A/[A+(Sn又はRu]が2~25%の組成を有することを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
  6. 無機材料粒子が、RuOとSnOに、A(Sb,Ta,Nb,Ga,Cu,Ba,Srの少なくとも一つの金属)を含み、A/(A+Sn+Ru)が2~25%の組成を有することを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
  7. 無機材料粒子と金属有機化合物との構成比率(重量比)が90/10~80/20であることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
  8. 無機材料粒子が、(1+a)A1-xMn1-yCu(-0.2≦a≦0.2、成分Aは、La,Pr,Sm,Nd,Ho,Yb,Lu,Eu,Ce,Tm,Erから選択した一種以上の金属、成分Bは、Ba,Ca,Srから選択した一種以上の金属、0≦x≦1.0、0≦y≦1.0)であることを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
  9. 無機材料粒子が、BiSr(CaxA1-X)Cu,成分Aは、Y,La,Pr,Sm,Nd,Ho,Yb,Lu,Eu,Ce,Tm,Erから選択した一種以上の金属,0≦x≦1.0であることを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
  10. 無機材料粒子が、(1+a)A1-xNiO(-0.2≦a≦0.2、成分Aは、La,Pr,Sm,Nd,Ho,Yb,Lu,Eu,Ce,Tm,Erから選択した一種以上の金属、成分Bは、Ba,Ca,Srから選択した一種以上の金属、0≦x≦1.0、0≦y≦1.0)であることを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の無機材料ペースト。
  11. 金属有機化合物及び金属有機化合物を焼成又は光照射して得た無機材料粒子に、溶媒を添加して、遊星ミル又はビーズミルにより混合して製造する無機材料ペーストの製造方法。
  12. 金属有機化合物及び金属有機化合物を焼成又は光照射して得た無機材料粒子に、溶媒を添加し、遊星ミル又はビーズミルにより混合することを特徴とする請求項1~10のいずれか一項に記載の無機材料ペーストの製造方法。
  13. 金属有機化合物を200~500℃で焼成するか又は光照射する工程、若しくは更に500~1500℃の温度領域で焼成するか又は光照射する工程、又はこれらの工程を2回以上繰り返すことにより作製した無機材料粒子を用いることを特徴とする請求項12に記載の無機材料ペーストの製造方法。
PCT/JP2014/051899 2013-02-04 2014-01-29 抵抗体、誘電体等の電子部品用無機材料ペースト及び該無機材料ペーストの製造方法 WO2014119592A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/765,015 US20150371725A1 (en) 2013-02-04 2014-01-29 Inorganic material paste for electronic components such as resistors and dielectrics, and method of producing same
KR1020157024085A KR101757089B1 (ko) 2013-02-04 2014-01-29 저항체, 유전체 등의 전자 부품용 무기 재료 페이스트 및 그 무기 재료 페이스트의 제조 방법
JP2014559704A JP6108563B2 (ja) 2013-02-04 2014-01-29 抵抗体、誘電体等の電子部品用無機材料ペースト及び該無機材料ペーストの製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013019285 2013-02-04
JP2013-019285 2013-08-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014119592A1 true WO2014119592A1 (ja) 2014-08-07

Family

ID=51262305

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2014/051899 WO2014119592A1 (ja) 2013-02-04 2014-01-29 抵抗体、誘電体等の電子部品用無機材料ペースト及び該無機材料ペーストの製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20150371725A1 (ja)
JP (1) JP6108563B2 (ja)
KR (1) KR101757089B1 (ja)
WO (1) WO2014119592A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017054623A (ja) * 2015-09-08 2017-03-16 三菱マテリアル電子化成株式会社 アンチモンドープ酸化錫導電膜形成用組成物及びアンチモンドープ酸化錫導電膜

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5861504A (ja) * 1981-10-07 1983-04-12 アルプス電気株式会社 透明導電性被膜形成用ペ−ストの製法
JPS58148493A (ja) * 1982-03-01 1983-09-03 アルプス電気株式会社 透明導電性被膜形成用ペ−スト
JPS61118388A (ja) * 1984-11-14 1986-06-05 Alps Electric Co Ltd インジウムジアセチルアセトナ−トモノイソプロピレ−トおよびその製造方法
JPH05105476A (ja) * 1991-10-11 1993-04-27 Yamamura Glass Co Ltd 透明導電膜とその形成方法
JP2004192853A (ja) * 2002-12-09 2004-07-08 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 酸化物導電性ペースト
JP2008166427A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Nagoya Institute Of Technology 導電材料および抵抗体用ペースト
JP2009256423A (ja) * 2008-04-14 2009-11-05 Osaka Municipal Technical Research Institute プライマー組成物
JP2010212098A (ja) * 2009-03-11 2010-09-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光電変換性二酸化チタン粒子分散体の製造方法
JP2011521018A (ja) * 2008-04-15 2011-07-21 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー アルミニウムペーストおよびシリコン太陽電池の製造におけるその使用

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0423337B1 (en) * 1988-08-24 1995-06-07 CATALYSTS & CHEMICALS INDUSTRIES CO., LTD. Coating fluid for forming transparent conductive ceramic coating, base material coated with transparent conductive ceramic and production thereof, and application of base material coated with transparent conductive ceramic
JPH0488350A (ja) * 1990-08-01 1992-03-23 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体
JP3206496B2 (ja) * 1997-06-02 2001-09-10 昭栄化学工業株式会社 金属粉末及びその製造方法
AU772350C (en) * 1999-10-01 2004-09-23 Sekisui Chemical Co., Ltd. Intermediate film for laminated glass and laminated glass
US7524528B2 (en) * 2001-10-05 2009-04-28 Cabot Corporation Precursor compositions and methods for the deposition of passive electrical components on a substrate
JP2005076002A (ja) * 2003-09-03 2005-03-24 Olympus Corp 有機無機複合材料およびその製造方法
JP5077950B2 (ja) * 2008-03-19 2012-11-21 大日本塗料株式会社 分散液、透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及びディスプレイ
US8257619B2 (en) * 2008-04-18 2012-09-04 E I Du Pont De Nemours And Company Lead-free resistive composition
KR20110066162A (ko) * 2008-09-04 2011-06-16 바스프 에스이 개질된 입자 및 이 입자를 포함하는 분산액
US8858842B2 (en) * 2011-04-05 2014-10-14 E I Du Pont De Nemours And Company Thick film paste containing bismuth-tellurium-oxide and its use in the manufacture of semiconductor devices
US9273073B2 (en) * 2011-06-28 2016-03-01 3M Innovative Properties Company Tin dioxide nanopartcles and method for making the same
US9783874B2 (en) * 2011-06-30 2017-10-10 E I Du Pont De Nemours And Company Thick film paste and use thereof

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5861504A (ja) * 1981-10-07 1983-04-12 アルプス電気株式会社 透明導電性被膜形成用ペ−ストの製法
JPS58148493A (ja) * 1982-03-01 1983-09-03 アルプス電気株式会社 透明導電性被膜形成用ペ−スト
JPS61118388A (ja) * 1984-11-14 1986-06-05 Alps Electric Co Ltd インジウムジアセチルアセトナ−トモノイソプロピレ−トおよびその製造方法
JPH05105476A (ja) * 1991-10-11 1993-04-27 Yamamura Glass Co Ltd 透明導電膜とその形成方法
JP2004192853A (ja) * 2002-12-09 2004-07-08 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 酸化物導電性ペースト
JP2008166427A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Nagoya Institute Of Technology 導電材料および抵抗体用ペースト
JP2009256423A (ja) * 2008-04-14 2009-11-05 Osaka Municipal Technical Research Institute プライマー組成物
JP2011521018A (ja) * 2008-04-15 2011-07-21 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー アルミニウムペーストおよびシリコン太陽電池の製造におけるその使用
JP2010212098A (ja) * 2009-03-11 2010-09-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光電変換性二酸化チタン粒子分散体の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017054623A (ja) * 2015-09-08 2017-03-16 三菱マテリアル電子化成株式会社 アンチモンドープ酸化錫導電膜形成用組成物及びアンチモンドープ酸化錫導電膜

Also Published As

Publication number Publication date
US20150371725A1 (en) 2015-12-24
KR101757089B1 (ko) 2017-07-11
JP6108563B2 (ja) 2017-04-05
JPWO2014119592A1 (ja) 2017-01-26
KR20150115899A (ko) 2015-10-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5304757B2 (ja) セラミック積層ptcサーミスタ
Li et al. Self-reducible copper inks composed of copper–amino complexes and preset submicron copper seeds for thick conductive patterns on a flexible substrate
JP3475749B2 (ja) ニッケル粉末及びその製造方法
CN1216388C (zh) 叠层陶瓷电容器及其制造方法
WO2007125879A1 (ja) 太陽電池電極用導電性ペースト
JP5831055B2 (ja) 板状酸化ルテニウム粉末とその製造方法、それを用いた厚膜抵抗組成物
CN1983478B (zh) 电子部件、电介质陶瓷组合物及其制造方法
KR101264964B1 (ko) 내산화성 물질로 표면이 코팅된 도전성 구리 분말 및 그 제조방법
US5871840A (en) Nickel powder containing a composite oxide of La and Ni and process for preparing the same
CN109928746A (zh) 陶瓷电介质、其制造方法、陶瓷电子组件和电子设备
JP2013012418A (ja) 酸化物導電体を用いた酸化物導電体ペースト及びそれを用いた積層電子部品
JP6108563B2 (ja) 抵抗体、誘電体等の電子部品用無機材料ペースト及び該無機材料ペーストの製造方法
JPH07242845A (ja) 電極用導電性塗料およびその製造法
CN106575537A (zh) 具有铜电极的太阳能电池
US5429790A (en) Method for preparing multilayer dielectric powder condensers
TW201814727A (zh) 無鉛厚膜電阻組合物、無鉛厚膜電阻及其製造方法
JP2018140891A (ja) 誘電体組成物および電子部品
JP2005158895A (ja) 粒界絶縁型半導体セラミックス及び積層半導体コンデンサ
WO2020137330A1 (ja) 銀ペースト
JP2002060807A (ja) Ni金属粉末の製造方法、並びに導電性ペーストおよびセラミック電子部品
JP2018532278A (ja) 無鉛厚膜抵抗組成物、無鉛厚膜抵抗体、およびその製造方法
JP4984958B2 (ja) 積層型サーミスタおよびその製造方法
JP6786936B2 (ja) 誘電体組成物及び電子部品
JP2013201183A (ja) 積層セラミックコンデンサ
JP2005158896A (ja) 粒界絶縁型半導体セラミックス及び積層半導体コンデンサ

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14746375

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2014559704

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14765015

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20157024085

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 14746375

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1