WO2014027658A1 - １－（２－デオキシ－２－フルオロ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシンの合成中間体およびチオヌクレオシドの合成中間体ならびにそれらの製造法 - Google Patents

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賢 島村
潤一 井本
基将 高橋
渡辺　克之
和田　健二
雄太 藤野
松本　拓也
高橋　真
英希 岡田
健浩 山根
伊藤　孝之
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    • C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H5/00—Compounds containing saccharide radicals in which the hetero bonds to oxygen have been replaced by the same number of hetero bonds to halogen, nitrogen, sulfur, selenium, or tellurium
    • C07H5/08—Compounds containing saccharide radicals in which the hetero bonds to oxygen have been replaced by the same number of hetero bonds to halogen, nitrogen, sulfur, selenium, or tellurium to sulfur, selenium or tellurium
    • C07H5/10—Compounds containing saccharide radicals in which the hetero bonds to oxygen have been replaced by the same number of hetero bonds to halogen, nitrogen, sulfur, selenium, or tellurium to sulfur, selenium or tellurium to sulfur
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H7/00—Compounds containing non-saccharide radicals linked to saccharide radicals by a carbon-to-carbon bond
    • C07H7/04—Carbocyclic radicals
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to a compound useful for the production of a thionucleoside useful as a pharmaceutical, and a production method thereof. Furthermore, the present invention relates to a compound useful for the production of 1- (2-deoxy-2-fluoro-4-thio- ⁇ -D-arabinofuranosyl) cytosine useful as an antitumor agent and a method for producing them. .
  • thionucleosides in which an oxygen atom is replaced by a sulfur atom exhibit antiviral activity and / or antitumor activity.
  • 1- (2-deoxy-2-fluoro-4-thio- ⁇ -D-arabinofuranosyl) cytosine hereinafter sometimes referred to as “Compound A”
  • Compound A has excellent antitumor activity.
  • it is known that it is useful as a tumor therapeutic agent (patent document 1).
  • a method for producing Compound A for example, a method using 1,2: 5,6-di-O-isopropylidene- ⁇ -D-allofuranose is known (Patent Document 1).
  • Patent Document 2 a method using 5-O-benzyl-2,3-O-isopropylidene-L-lyxono-1,4-lactone is known (Patent Document 2). Further, as a method for producing a sulfur-containing 5-membered ring compound, a method of reacting ⁇ -halogenoester with potassium thioacetate (Non-patent Document 1), a method of reacting ⁇ -halogenoketone with sodium hydrogen sulfide (Non-patent Document 2). Etc. are known.
  • Non-Patent Document 1 has problems such as a reaction at an extremely low temperature ( ⁇ 78 ° C.), a reagent that requires attention in handling, and low stereoselectivity.
  • the production method described in Non-Patent Document 2 has a problem that the structure of thionucleoside is limited and the reactivity is low.
  • the production methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2 have problems such as a large number of steps, a need for column chromatography, a low yield, and the use of harmful reagents.
  • An object of the present invention is to provide novel compounds useful for the production of thionucleosides and the like and methods for producing them. Moreover, the subject of this invention is providing the novel compound useful for manufacture of the compound A useful as an antitumor agent, etc., and their manufacturing method.
  • the present inventors have reacted a compound represented by the general formula [1D] with a sulfur compound, whereby a compound represented by the general formula [1E] is obtained. It has been found that it can be obtained in a short time, with a high reaction rate and high stereoselectivity. Furthermore, it discovered that the thionucleoside could be manufactured industrially from the compound represented by general formula [4Aa] through the compound represented by general formula [1Aa]. The present inventors have also found that the compound represented by the general formula [1] is a useful intermediate for the production of compound A.
  • the present inventors have passed the compound represented by the general formula [4] through the compound represented by the general formula [1], for industrial production with a short time, high reaction rate, and high stereoselectivity. It has been found that Compound A can be produced industrially without using unfavorable reaction conditions and reagents, and the present invention has been completed.
  • R 1A and R 1B are the same or different and each represents a hydrogen atom, an optionally protected carboxyl group, an optionally substituted C 1-6 alkyl group, or an optionally substituted C 2-6 alkenyl group.
  • R 2A and R 2B are the same or different and represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, , Halogen atom, cyano group, azide group, amino group which may be protected, carboxyl group which may be protected, general formula [15] (Wherein R 2a represents a hydroxyl protecting group), an optionally substituted C 1-6 alkyl group, an optionally substituted C 2-6 alkenyl group, an optionally substituted C A 2-6 alkynyl group, an optionally substituted C 1-6 alkoxy group, an optionally substituted C 1-6 alkylthio group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aryloxy group, a substituted Represents an optionally substituted arylthio group, an optionally substituted heterocyclic group, an optionally substituted heterocyclic oxy group or an optionally substituted
  • R 2A , R 2B , R 3A and R 3B together with the carbon atom to which they are attached form an aromatic ring that may be substituted.
  • X represents a leaving group.
  • a compound represented by the general formula [1E] (Wherein, R 1A , R 1B , R 2A , R 2B , R 3A and R 3B have the same meanings as described above).
  • the general formula [4Aa] (Wherein R 1A , R 1B , R 2A , R 2B , R 3A and R 3B have the same meaning as described above), a compound represented by the general formula [5] (Wherein R 7 represents a hydrogen atom, an optionally substituted C 1-6 alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted silyl group.
  • a compound of the general formula [7] (Wherein R 9 represents an optionally substituted acyl group, an optionally substituted C 1-6 alkylsulfonyl group or an optionally substituted arylsulfonyl group; X 2 represents a halogen atom.)
  • a compound represented by the general formula [8] (Wherein R 9 has the same meaning as described above) and is reacted with a compound represented by the general formula [9Aa] (In the formula, R 1A , R 1B , R 2A , R 2B , R 3A , R 3B and R 9 have the same meanings as described above.)
  • the compound represented by the general formula [11Aa] is reacted with a protected nucleobase and deprotected as necessary.
  • Base represents a nucleobase which may be protected; R 1A , R 1B , R 2A , R 2B , R 3A and R 3B have the same meaning as described above). Methods for producing nucleoside derivatives are provided.
  • the general formula [1Ba] In the formula, R 1A , R 1B , R 2A , R 2B , R 3A , R 3B , R 7 and R 8 have the same meaning as described above.
  • Formula [1De] (In the formula, R 1A , R 1B , R 2A , R 2B , R 3A , R 3B and R 8 have the same meanings as described above.) After obtaining the compound represented by the general formula [1De] A compound represented by general formula [1Eb] is reacted with a sulfur compound.
  • R 1a represents a hydroxyl protecting group
  • R 2a represents a hydroxyl protecting group
  • R 1a and R 2a together represent an optionally substituted C 1-3 alkylene group.
  • R 3 represents a halogen atom.
  • a compound represented by the general formula [5] (Wherein R 7 has the same meaning as described above) or a salt thereof, and the compound represented by the general formula [1a] (Wherein R 1a , R 2a , R 3 and R 7 have the same meanings as described above), and then the following method (1) or (2): “(1) A method of reacting a compound represented by the general formula [1a] with a halogenating agent in the presence of a base, (2) The compound represented by the general formula [1a] is converted to the general formula [6] in the presence of a base.
  • R 10a represents an optionally substituted acyl group; X 4 represents a halogen atom
  • a compound represented by the general formula [13] wherein R 10a has the same meaning as described above
  • R 10a has the same meaning as described above
  • a compound represented by the general formula [11b] wherein R 1a , R 2a , R 3 and R 10a have the same meaning as described above
  • the compound represented by the general formula [11b] is deprotected.
  • the compound represented by the general formula [9] is halogenated to give the general formula [10] (Wherein X 3 represents a halogen atom; R 1a , R 2a and R 3 have the same meanings as described above), and then represented by the general formula [10].
  • R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group
  • R 2 represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group
  • R 1 and R 2 taken together are optionally substituted C 1-3
  • R 3C may be a hydrogen atom, a halogen atom, a compound represented by the general formula [16] (Wherein R 3a represents a hydroxyl protecting group) or an optionally substituted C 1-6 alkyl group
  • R 3D represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a general formula [16] (Wherein R 3a has the same meaning as described above) or an optionally substituted C 1-6 alkyl group
  • R 4 represents a halogen atom, a hydroxyl group, or a substituted group
  • R 4 and R 5 together represent a sulfur atom;
  • R 6 represents a hydroxyl group.
  • R 5 and R 6 are taken together to form the formula [2a]
  • one of R 3C and R 3D is a halogen atom, the other is a hydrogen atom, and R 4 is a halogen atom, an optionally substituted C 1-6 alkylsulfonyloxy A group or an optionally substituted arylsulfonyloxy group;
  • R 4 and R 5 taken together are a sulfur atom, and one of R 3C and R 3D is a hydrogen atom, the other is a halogen atom Atom, general formula [16] (Wherein R 3a has the same meaning as described above) or an optionally substituted C 1-6 alkyl group; R 4 and R 5 taken together are sulfur An atom, one of R 3C and R 3D is a hydrogen atom, and the other is a compound of the general formula [16] (Wherein R 3a represents a hydroxy
  • R 3a has the same meaning as described above
  • the other is a hydrogen atom
  • R 4 is an iodine atom, a hydroxyl group, or an optionally substituted C 1.
  • R 1 is an optionally substituted acyl group
  • R 2 is an optionally substituted acyl group
  • R 5 And R 6 together are represented by the general formula [3] (Wherein R 7 has the same meaning as described above), R 3C is a hydrogen atom, R 3D is a hydrogen atom, and R 4 is a hydroxyl group.
  • R 1 is an optionally substituted aroyl group and R 2 is an optionally substituted aroyl group.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group
  • R 2 represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group
  • R 1 and R 2 taken together are optionally substituted C 1-3
  • R 3 represents a halogen atom
  • R 4 is a halogen atom, a hydroxyl group, an optionally substituted C 1-6 alkylsulfonyloxy group or an optionally substituted Represents an arylsulfonyloxy group
  • R 5 and R 6 together represent a group represented by the general formula [2]
  • Y is an oxygen atom or a general formula [3] (Wherein R 7 represents a hydrogen atom, an optionally substituted C 1-6 alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted heterocyclic group or an optionally substituted silyl group.
  • R 4 and R 5 together represent a sulfur atom; R 6 represents a hydroxyl group. Provided that R 5 and R 6 are taken together to form the formula [2a] R 4 is a halogen atom, an optionally substituted C 1-6 alkylsulfonyloxy group or an optionally substituted arylsulfonyloxy group. ) Is provided.
  • the general formula [1G] (Wherein R 1C represents a methyl group or an optionally substituted aryl group, R 1D represents a hydrogen atom, R 2C represents a hydrogen atom or an optionally substituted aryl group, and R 3E represents , A hydrogen atom, an optionally substituted C 1-6 alkylthio group, an optionally substituted aryloxy group, an optionally substituted arylthio group or an optionally substituted heterocyclic thio group, or R 2C And R 3E together are represented by the general formula [17] (Wherein Y 1 represents an optionally substituted C 1-6 alkylene group or an optionally substituted siloxane group, and the bond on the left side is bonded to the carbon atom to which R 2C is bonded).
  • R 1C and R 1D are a methyl group, the other is a hydrogen atom, and R 2C is a hydrogen atom, R 3E is optionally substituted C 1 A -6 alkylthio group, an optionally substituted aryloxy group, an optionally substituted arylthio group or an optionally substituted heterocyclic thio group; or R 1C represents a hydrogen atom and R 1D represents hydrogen R 2C represents a hydrogen atom, R 3E represents an optionally substituted aroylamino group; or R 1C represents a hydrogen atom, R 1D represents a hydrogen atom, R 2C and R 3E , they conclude Together with the carbon atoms to form a benzene ring substituted with a protected hydroxyl group; or R 1C represents a carboxyl group that may be protected and R 1D represents a carboxyl group that may be protected R 2C represents a hydrogen atom, and R 3E represents a hydrogen
  • the compound of the present invention is useful as an intermediate for producing a thionucleoside, and the production method of the present invention is useful as a method for producing a thionucleoside.
  • the compound of the present invention is useful as an intermediate for producing Compound A.
  • the production method of the present invention is useful as a production method of Compound A.
  • the halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • the C 1-6 alkyl group is a linear or branched C 1-6 alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl and hexyl groups. Means.
  • the C 2-6 alkenyl group is a linear or branched C 2-6 alkenyl group such as vinyl, allyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, isobutenyl, 1,3-butadienyl, pentenyl and hexenyl groups.
  • the C 2-6 alkynyl group means a linear or branched C 2-6 alkynyl group such as an ethynyl, propynyl, butynyl, pentynyl and hexynyl group.
  • C 3-8 cycloalkyl group means a C 3-8 cycloalkyl group such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl and cyclohexyl groups.
  • An aryl group means a phenyl or naphthyl group.
  • An ar C 1-6 alkyl group means an ar C 1-6 alkyl group such as benzyl, diphenylmethyl, trityl, phenethyl and naphthylmethyl groups.
  • the C 1-3 alkylene group means a methylene, ethylene, propylene group or the like.
  • the C 1-6 alkylidene group means a linear or branched C 1-6 alkylidene group such as methylidene, ethylidene, propylidene, butylidene, pentylidene and hexylden.
  • the C 1-6 alkoxy group means a linear or branched C 1 -1 group such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, pentyloxy and hexyloxy groups.
  • 6 means an alkyloxy group.
  • An aryloxy group means a phenoxy or naphthyloxy group.
  • the C 1-6 alkoxy C 1-6 alkyl group means a C 1-6 alkyloxy C 1-6 alkyl group such as methoxymethyl and 1-ethoxyethyl group.
  • the C 2-6 alkanoyl group means a linear or branched C 2-6 alkanoyl group such as acetyl, propionyl, valeryl, isovaleryl and pivaloyl groups.
  • An aroyl group means a benzoyl or naphthoyl group.
  • the heterocyclic carbonyl group means nicotinoyl, thenoyl, pyrrolidinocarbonyl or furoyl group.
  • the ( ⁇ -substituted) aminoacetyl group is an amino acid (glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine, serine, threonine, cysteine, methionine, aspartic acid, glutamic acid, asparagine, glutamine, arginine, lysine, histidine, hydroxylysine, phenylalanine. , Tyrosine, tryptophan, proline and hydroxyproline, etc.) means the N-terminus derived from ( ⁇ -substituted) aminoacetyl group which may be protected.
  • amino acid glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine, serine, threonine, cysteine, methionine, aspartic acid, glutamic acid, asparagine, glutamine, arginine, lysine, histidine, hydroxylysine, phenylalanine. , Tyrosine, try
  • the acyl group means a formyl group, succinyl group, glutaryl group, maleoyl group, phthaloyl group, C 2-6 alkanoyl group, aroyl group, heterocyclic carbonyl group or ( ⁇ -substituted) aminoacetyl group.
  • the C 2-6 alkanoyloxy group means a linear or branched C 2-6 alkanoyloxy group such as acetyloxy and propionyloxy groups.
  • An aroyloxy group means a benzoyloxy or naphthoyloxy group.
  • the acyloxy group means a C 2-6 alkanoyloxy group or an aroyloxy group.
  • the C 1-6 alkoxycarbonyl group is a linear or branched C 1-6 alkyloxy group such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, and 1,1-dimethylpropoxycarbonyl group. Means a carbonyl group.
  • An aryloxycarbonyl group means a phenyloxycarbonyl or naphthyloxycarbonyl group.
  • the al C 1-6 alkoxycarbonyl group means an al C 1-6 alkyloxycarbonyl group such as benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl and naphthylmethyloxycarbonyl groups.
  • C 1-6 alkoxycarbonyloxy group is a straight chain or branched chain such as methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, isopropoxycarbonyloxy, tert-butoxycarbonyloxy and 1,1-dimethylpropoxycarbonyloxy groups.
  • C 1-6 means an alkyloxycarbonyloxy group.
  • the C 1-6 alkylamino group is a linear or branched chain such as methylamino, ethylamino, propylamino, isopropylamino, butylamino, sec-butylamino, tert-butylamino, pentylamino and hexylamino groups.
  • -Like C 1-6 alkylamino group is a linear or branched chain such as methylamino, ethylamino, propylamino, isopropylamino, butylamino, sec-butylamino, tert-butylamino, pentylamino and hexylamino groups.
  • Di (C 1-6 alkyl) amino group means dimethylamino, diethylamino, dipropylamino, diisopropylamino, dibutylamino, di (tert-butyl) amino, dipentylamino, dihexylamino, (ethyl) (methyl) amino and
  • a linear or branched di (C 1-6 alkyl) amino group such as a (methyl) (propyl) amino group is meant.
  • An aroylamino group means an amino group substituted with an aroyl group such as a benzoylamino group.
  • the C 1-6 alkylthio group means a C 1-6 alkylthio group such as methylthio, ethylthio and propylthio groups.
  • the C 1-6 alkylsulfonyl group means a C 1-6 alkylsulfonyl group such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl and propylsulfonyl groups.
  • the arylsulfonyl group means benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl or naphthalenesulfonyl group.
  • the C 1-6 alkylsulfonyloxy group means a C 1-6 alkylsulfonyloxy group such as methylsulfonyloxy, ethylsulfonyloxy and propylsulfonyloxy groups.
  • the arylsulfonyloxy group means a phenylsulfonyloxy or naphthylsulfomyloxy group.
  • An aromatic ring means a benzene ring or a naphthalene ring.
  • a siloxane group means a disiloxane group or a trisiloxane group.
  • Monocyclic nitrogen-containing heterocyclic groups include azetidinyl, pyrrolidinyl, pyrrolinyl, pyrrolyl, piperidyl, tetrahydropyridyl, pyridyl, homopiperidinyl, octahydroazosinyl, imidazolidinyl, imidazolinyl, imidazolyl, pyrazolidinyl, pyrazolinyl, pyrazolyl, piperazinyl, pyrazylyl It means a monocyclic nitrogen-containing heterocyclic group containing only a nitrogen atom as a hetero atom forming the ring, such as pyridazinyl, pyrimidinyl, homopiperazinyl, triazolyl and tetrazolyl groups.
  • the monocyclic oxygen-containing heterocyclic group means a tetrahydrofuranyl, furanyl, tetrahydropyranyl or pyranyl group.
  • the monocyclic sulfur-containing heterocyclic group means a thienyl group and the like.
  • the monocyclic nitrogen-containing / oxygen heterocyclic group is a monocyclic nitrogen-containing / oxygen heterocyclic ring containing only a nitrogen atom and an oxygen atom as the hetero atoms forming the ring, such as oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl and morpholinyl groups. Means a formula group.
  • a monocyclic nitrogen-containing / sulfur heterocyclic group is a heterocycle that forms the ring such as thiazolyl, isothiazolyl, thiadiazolyl, thiomorpholinyl, 1-oxidethiomorpholinyl and 1,1-dioxidethiomorpholinyl groups.
  • a monocyclic nitrogen-containing / sulfur heterocyclic group containing only nitrogen and sulfur atoms as atoms.
  • Monocyclic heterocyclic group means monocyclic nitrogen-containing heterocyclic group, monocyclic oxygen-containing heterocyclic group, monocyclic sulfur-containing heterocyclic group, monocyclic nitrogen-containing / oxygen heterocyclic group It means a group or a monocyclic nitrogen-containing / sulfur heterocyclic group.
  • Bicyclic nitrogen-containing heterocyclic group includes indolinyl, indolyl, isoindolinyl, isoindolyl, benzimidazolyl, indazolyl, benzotriazolyl, quinolyl, tetrahydroquinolinyl, quinolyl, tetrahydroisoquinolinyl, isoquinolinyl, quinolidinyl, Means a bicyclic nitrogen-containing heterocyclic group containing only a nitrogen atom as a hetero atom forming the ring, such as cinnolinyl, phthalazinyl, quinazolinyl, dihydroquinoxalinyl, quinoxalinyl, naphthyridinyl, purinyl, pteridinyl and quinuclidinyl groups To do.
  • Bicyclic oxygen-containing heterocyclic groups are 2,3-dihydrobenzofuranyl, benzofuranyl, isobenzofuranyl, chromanyl, chromenyl, isochromanyl, 1,3-benzodioxolyl, 1,3-benzodi It means a bicyclic oxygen-containing heterocyclic group containing only an oxygen atom as a hetero atom forming the ring, such as oxanyl and 1,4-benzodioxanyl group.
  • the bicyclic sulfur-containing heterocyclic group is a bicyclic sulfur-containing heterocyclic group containing only a sulfur atom as a hetero atom forming the ring, such as 2,3-dihydrobenzothienyl and benzothienyl groups. Means.
  • Bicyclic nitrogen / oxygen heterocyclic groups include benzoxazolyl, benzisoxazolyl, benzooxadiazolyl, benzomorpholinyl, dihydropyranopyridyl, dihydrodioxynopyridyl and dihydropyridoxoxa It means a bicyclic nitrogen-containing / oxygen heterocyclic group containing only a nitrogen atom and an oxygen atom as the hetero atoms forming the ring, such as a dinyl group.
  • Bicyclic nitrogen-containing / sulfur heterocyclic groups include bicyclic inclusions containing nitrogen and sulfur atoms as the hetero atoms forming the ring, such as benzothiazolyl, benzisothiazolyl and benzothiadiazolyl groups. Nitrogen / sulfur heterocyclic group.
  • a bicyclic heterocyclic group is a bicyclic nitrogen-containing heterocyclic group, a bicyclic oxygen-containing heterocyclic group, a bicyclic sulfur-containing heterocyclic group, or a bicyclic nitrogen-containing group. -An oxygen heterocyclic group or a bicyclic nitrogen-containing / sulfur heterocyclic group.
  • the heterocyclic group means a monocyclic heterocyclic group or a bicyclic heterocyclic group.
  • the heterocyclic oxy group means a group in which a hydrogen atom (—H) bonded to a carbon atom forming a ring of a heterocyclic group is replaced with an oxygen atom (—O—).
  • the heterocyclic thio group means a group in which a hydrogen atom (—H) bonded to a carbon atom forming a ring of a heterocyclic group is replaced with a sulfur atom (—S—).
  • the silyl group means a trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, tributylsilyl, tert-butyldimethylsilyl or tert-butyldiphenylsilyl group.
  • Silylation means substitution of a hydrogen atom such as a hydroxyl group, amino group, carboxyl group, amide group or mercapto group with a silyl group.
  • Protected cytosine is a silyl group such as N 4 , O-bis (trimethylsilyl) -4-amino-2-hydroxypyrimidine and N 4 , O-bis (triethylsilyl) -4-amino-2-hydroxypyrimidine. Means protected cytosine.
  • Protected N 4 -acylcytosine includes 2-trimethylsilyloxy-4-acetylaminopyrimidine, N 4 , O-bis (trimethylsilyl) -4-acetylamino-2-hydroxypyrimidine, 2-triethylsilyloxy-4- Acetylaminopyrimidine, N 4 , O-bis (triethylsilyl) -4-acetylamino-2-hydroxypyrimidine, 2-trimethylsilyloxy-4-benzoylaminopyrimidine and N 4 , O-bis (trimethylsilyl) -4-benzoylamino N 4 -Acylcytosine protected with a silyl group, such as -2-hydroxypyrimidine.
  • Nucleobase means adenine which may be substituted, guanine which may be substituted, cytosine which may be substituted, thymine which may be substituted or uracil which may be substituted.
  • a protected nucleobase means a nucleobase in which the amino group and / or hydroxyl group is protected with a silyl group.
  • the leaving group means a halogen atom, a C 1-6 alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group.
  • the C 1-6 alkylsulfonyloxy group and arylsulfonyloxy group may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • Hydroxyl protecting groups include all groups that can be used as protecting groups for conventional hydroxyl groups. W. Greene et al., Protective Groups in Organic Synthesis, 4th edition, 16-366, 2007, John Wiley & Sons , INC.). Specific examples include a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, an al C 1-6 alkyl group, a C 1-6 alkoxy C 1-6 alkyl group, an acyl group, a C 1-6 alkoxycarbonyl group, Examples thereof include a C 1-6 alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a tetrahydrofuranyl group, a tetrahydropyranyl group, and a silyl group. These groups may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • Amino protecting groups include all groups that can be used as protecting groups for ordinary amino groups. W. Greene et al., Protective Groups in Organic Synthesis, 4th edition, pages 696-926, 2007, John Wiley & Sons , INC.). Specific examples include an al C 1-6 alkyl group, a C 1-6 alkoxy C 1-6 alkyl group, an acyl group, a C 1-6 alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a C 1-6 alkylsulfonyl group, an aryl A sulfonyl group, a silyl group, etc. are mentioned. These groups may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the carboxyl protecting group includes all groups that can be used as protecting groups for ordinary carboxyl groups. W. Greene et al., Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition, pp. 533-646, 2007, John Wiley & Sons , INC.). Specific examples include a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, an aryl group, an al C 1-6 alkyl group, a C 1-6 alkoxy C 1-6 alkyl group, a silyl group, and the like. These groups may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • Substituent group A one or more groups selected from a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an amino group that may be protected, a hydroxyl group that may be protected, a carboxyl group that may be protected, and a substituent group B
  • One or more selected from the group and substituent group B A C 1-6
  • Substituent group B halogen atom, cyano group, nitro group, amino group which may be protected, hydroxyl group which may be protected, carboxyl group which may be protected, C 1-6 alkyl group, aryl group, C 1 -6 alkoxy group, heterocyclic group, oxo group.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbons include pentane, hexane, and cyclohexane.
  • Examples of halogenated hydrocarbons include methylene chloride, chloroform or 1,2-dichloroethane.
  • Examples of alcohols include methanol, ethanol, propanol, 2-propanol, butanol or 2-methyl-2-propanol.
  • Examples of ethers include diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, anisole, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether.
  • esters examples include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate.
  • ketones include acetone, 2-butanone and 4-methyl-2-pentanone.
  • nitriles include acetonitrile.
  • amides include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone.
  • sulfoxides examples include dimethyl sulfoxide.
  • carboxylic acid examples include acetic acid.
  • Aromatic hydrocarbons include benzene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, toluene or xylene.
  • ureas examples include 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone.
  • Examples of the base include organic bases and inorganic bases.
  • Examples of the organic base include triethylamine, pyridine, N-methylimidazole and the like.
  • Examples of the inorganic base include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, and sodium phosphate.
  • the C 1-6 alkyl group, C 2-6 alkenyl group, C 2-6 alkynyl group, aryl group and heterocyclic group of R 1A and R 1B are substituted with one or more groups selected from Substituent Group A May be.
  • the aryl group of R 1C may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the heterocyclic group, heterocyclic oxy group and heterocyclic thio group may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the aryl group of R 2C may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-6 alkylidene group formed by R 2A and R 2B together may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the heterocyclic group, heterocyclic oxy group and heterocyclic thio group may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-6 alkylidene group formed by R 3A and R 3B together may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-6 alkyl group of R 3C and R 3D may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A.
  • the C 1-6 alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, heterocyclic thio group and aroylamino group of R 3E may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A.
  • the aromatic ring formed by R 2A , R 2B , R 3A and R 3B together with the carbon atom to which they are bonded may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the benzene ring formed by R 2A , R 2B , R 3A and R 3B together with the carbon atom to which they are bonded may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-6 alkylene group of Y 1 or the optionally substituted siloxane group may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the nucleobase and the protected nucleobase may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the acyl group and aroyl group of R 1 and R 2 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-3 alkylene group formed by R 1 and R 2 together may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-3 alkylene group formed by R 1a and R 2a taken together may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the benzoyl group of R 1a may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the benzoyl group of R 2a may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-6 alkylsulfonyloxy group of R 4 may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A.
  • the arylsulfonyloxy group of R 4 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-6 alkyl group of R 7 may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A.
  • the aryl group of R 7 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the heterocyclic group for R 7 may be substituted with one or more groups selected from substituent group A.
  • the silyl group of R 7 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-6 alkyl group of R 8 may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A.
  • the aryl group of R 8 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the acyl group of R 9 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 1-6 alkylsulfonyl group for R 9 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the arylsulfonyl group of R 9 may be substituted with one or more groups selected from substituent group A.
  • the acyl group of R 10 and R 10a may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • preferable compounds include the following compounds.
  • R 1 is a hydroxyl protecting group
  • R 2 is a hydroxyl protecting group
  • R 1 and R 2 are both hydroxyl protecting groups are preferred.
  • the hydroxyl protecting group for R 1 or R 2 is a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A, or one or more groups selected from Substituent Group A.
  • An aroyl group which may be substituted with one or more groups selected from 6 alkanoyl groups or substituent group A is more preferred, and is substituted with one or more groups selected from acetyl group, pivaloyl group or substituent group A Good benzoy And more preferably a benzoyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A, a benzoyl group, a 4-chlorobenzoyl group, a 2,4-dichlorobenzoyl group, 4 -Nitrobenzoyl group, 4-methoxybenzoyl group, 4- (trifluoromethyl) benzoyl group, 4-phenylbenzoyl group, 3,5 dimethylbenzoyl group or 4-methylbenzoyl group are particularly preferred, and benzoyl group is most preferred.
  • R 3D is a hydrogen atom or a halogen atom
  • a compound having a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom is more preferred, and a compound having a hydrogen atom or a fluorine atom is more preferred.
  • R 4 is a halogen atom, a hydroxyl group, a C 1-6 alkylsulfonyloxy group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A, or one or more groups selected from substituent group A
  • a compound which is an arylsulfonyloxy group which may be substituted is preferable, and a chlorine atom, a bromine atom, a hydroxyl group, a methylsulfonyl group, a 2-nitrobenzenesulfonyloxy group, a 3-nitrobenzenesulfonyloxy group, a 4-nitrobenzenesulfonyloxy group, 2 , 4,5-trichlorobenzenesulfonyloxy group or pentafluorobenzenesulfonyloxy group is more preferable, and a hydroxyl group, chlorine atom, bromine atom, methylsulfonyl group or 2,4,5-trichlorobenzenesulf
  • R 5 and R 6 together form the formula [2a] In which one of R 3C and R 3D is a halogen atom and the other is a hydrogen atom, one of R 3C and R 3D is a fluorine atom, and the other is The compound which is a hydrogen atom is more preferable.
  • a compound in which R 4 is a halogen atom, an optionally substituted C 1-6 alkylsulfonyloxy group or an optionally substituted arylsulfonyloxy group is preferable.
  • R 4 and R 5 are together a sulfur atom, and one of R 3C and R 3D is a hydrogen atom, a compound in which the other is a halogen atom is preferred, and a compound in which a fluorine atom is more preferred preferable.
  • R 4 and R 5 taken together are a sulfur atom, one of R 3C and R 3D is a hydrogen atom, and the other is a compound represented by the general formula [16]
  • R 3a represents a hydroxyl protecting group
  • R 2 is preferably a hydroxyl protecting group.
  • R 5 and R 6 are taken together to form the general formula [3] (Wherein R 7 has the same meaning as described above), and one of R 3C and R 3D is represented by the general formula [16].
  • R 3a has the same meaning as described above
  • the other is a hydrogen atom
  • R 4 is an iodine atom, a hydroxyl group, and optionally substituted C 1-6.
  • R 1 is an optionally substituted acyl group
  • R 2 is an optionally substituted acyl group is preferred.
  • R 5 and R 6 are taken together to form the general formula [3] (Wherein R 7 has the same meaning as described above), one of R 3C and R 3D is a hydrogen atom, the other is a hydrogen atom, and R 4 is a hydroxyl group.
  • R 1 is an optionally substituted aroyl group and R 2 is an optionally substituted aroyl group.
  • R 7 is a hydrogen atom, an optionally substituted C 1-6 alkyl group, or an optionally substituted group.
  • a compound that is an aryl group is preferable, a compound that is a hydrogen atom, a methyl group, a benzyl group, or a phenyl group is more preferable, and a compound that is a methyl group or a benzyl group is more preferable.
  • R 4 and R 5 taken together are a sulfur atom
  • a compound in which R 6 is a hydroxyl group is preferred.
  • preferable compounds include the following compounds.
  • R 1 is a hydroxyl protecting group
  • R 2 is a hydroxyl protecting group
  • R 1 and R 2 are both hydroxyl protecting groups are preferred.
  • R 1 and R 2 may be the same or different.
  • the hydroxyl protecting group for R 1 or R 2 is a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A, or one or more groups selected from Substituent Group A.
  • An aroyl group which may be substituted with one or more groups selected from 6 alkanoyl groups or substituent group A is more preferred, and is substituted with one or more groups selected from acetyl group, pivaloyl group or substituent group A Good benzoy And more preferably a benzoyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A, a benzoyl group, a 4-chlorobenzoyl group, a 2,4-dichlorobenzoyl group, 4 -Nitrobenzoyl group, 4-methoxybenzoyl group, 4- (trifluoromethyl) benzoyl group, 4-phenylbenzoyl group, 3,5 dimethylbenzoyl group or 4-methylbenzoyl group are particularly preferred, and benzoyl group is most preferred.
  • a benzoyl group as a protecting group is easy to deprotect and has the advantage of withstanding the reaction conditions of the production process of the present invention. Moreover, the compound protected by the benzoyl group obtained by the manufacturing method of this invention is excellent in crystallinity, and is easy to refine
  • a compound in which R 3 is a fluorine atom or a chlorine atom is preferable, and a compound in which R 3 is a fluorine atom is more preferable.
  • R 4 is an arylsulfonyloxy group which may be substituted with one or more groups selected from a halogen atom, a hydroxyl group or a substituent group A is preferable, and includes a chlorine atom, a bromine atom, a hydroxyl group, 2-nitrobenzene More preferred are compounds which are sulfonyloxy group, 3-nitrobenzenesulfonyloxy group, 4-nitrobenzenesulfonyloxy group, 2,4,5-trichlorobenzenesulfonyloxy group or pentafluorobenzenesulfonyloxy group, hydroxyl group, chlorine atom, bromine More preferred are compounds that are atoms or 2,4,5-trichlorobenzenesulfonyloxy groups.
  • R 4 is a halogen atom, a hydroxyl group, an optionally substituted C 1-6 alkylsulfonyloxy group or an optionally substituted arylsulfonyloxy group
  • R 5 and R 6 are Formula [2] (Wherein Y has the same meaning as described above) is preferred. A compound in which Y is an oxygen atom is more preferable.
  • Y represents the general formula [3] (Wherein R 7 has the same meaning as described above), R 7 is a hydrogen atom, an optionally substituted C 1-6 alkyl group, or an optionally substituted group.
  • a compound that is an aryl group is preferable, a compound that is a hydrogen atom, a methyl group, a benzyl group, or a phenyl group is more preferable, and a compound that is a methyl group or a benzyl group is more preferable.
  • R 4 and R 5 taken together are a sulfur atom
  • a compound in which R 6 is a hydroxyl group is preferred.
  • preferable compounds include the following compounds.
  • a compound in which R 1C is a methyl group and R 1D is a hydrogen atom is preferred.
  • R 2C and R 3E are taken together to form the general formula [17] (Wherein Y 1 has the same meaning as described above) and is preferably a group or a bond.
  • Y 1 is preferably an optionally substituted C 1-6 alkylene group.
  • preferable production methods include the following production methods.
  • a production method using a compound which is a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A is more preferred, and a hydrogen atom, a methyl group or a general formula [18 ] (Wherein R 1a has the same meaning as described above), and a production method using a compound represented by the group represented by
  • the ring-closing reaction of the present invention has high reactivity and high stereoselectivity, it is particularly effective when at least one of R 1A and R 1B is a substituent.
  • R 1A and R 1B are hydrogen atom, and the other is a methyl group or a general formula [18] (In the formula, R 1a has the same meaning as described above.)
  • a production method using a compound represented by the group represented by formula ( 1 ) is particularly preferred.
  • R 1a is a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A, or an alkyl C 1 which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A A -6 alkyl group, an acyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A, and a C 1-6 alkoxycarbonyl which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A A group, an ar C 1-6 alkoxycarbonyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A, a silyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A, A production method using a compound which is a cinnamoyl group, a tetrahydrofuranyl group or a tetrahydropyranyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A is preferred, and one or more groups selected from substituent group A are preferred.
  • a production method using a compound which is an aroyl group optionally substituted with one or more groups selected from C 2-6 alkanoyl group or substituent group A is preferably an acetyl group, pivaloyl group or substituent group A Selected from More preferably, the production method using a compound which is a benzoyl group which may be substituted with one or more groups is selected, and a compound which is a benzoyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A
  • the production method used is still more preferred, and the production method using a compound which is a benzoyl group optionally substituted with one or more groups selected from Substituent Group A is more preferred, and includes a benzoyl group, a 4-chlorobenzoyl group, 2,4-dichlorobenzoyl group, 4-nitrobenzoyl group, 4-methoxybenzoyl group, 4- (trifluoromethyl) benzoyl group, 4-phenyl
  • a benzoyl group as a protecting group is easy to deprotect and has the advantage of withstanding the reaction conditions of the production process of the present invention. Moreover, the compound protected by the benzoyl group obtained by the manufacturing method of this invention is excellent in crystallinity, and is easy to refine
  • R 2A and R 2B are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a general formula [15].
  • R 2a has the same meaning as described above
  • a production method using a compound which is an optionally substituted aryl group is preferred, and a hydrogen atom, general formula [15]
  • R 2a has the same meaning as described above
  • a production method using a compound which is an optionally substituted aryl group is more preferred, and a hydrogen atom, general formula [15]
  • One of R 2A and R 2B is a hydrogen atom, and the other is the general formula [15] (In the formula, R 2a has the same meaning as described above.)
  • R 2a is a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A, and an alkyl C 1 which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A A -6 alkyl group, an acyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A, and a C 1-6 alkoxycarbonyl which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A A group, an ar C 1-6 alkoxycarbonyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A, a silyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A, A production method using a compound which is a cinnamoyl group, a tetrahydrofuranyl group or a tetrahydropyranyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A is preferred, and one or more groups selected from substituent group A are preferred.
  • a production method using a compound which is an aroyl group optionally substituted with one or more groups selected from C 2-6 alkanoyl group or substituent group A is preferably an acetyl group, pivaloyl group or substituent group A Selected from More preferably, the production method using a compound which is a benzoyl group which may be substituted with one or more groups is selected, and a compound which is a benzoyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A
  • the production method used is still more preferred, and the production method using a compound which is a benzoyl group optionally substituted with one or more groups selected from Substituent Group A is more preferred, and includes a benzoyl group, a 4-chlorobenzoyl group, 2,4-dichlorobenzoyl group, 4-nitrobenzoyl group, 4-methoxybenzoyl group, 4- (trifluoromethyl) benzoyl group, 4-phenyl
  • a benzoyl group as a protecting group is easy to deprotect and has the advantage of withstanding the reaction conditions of the production process of the present invention. Moreover, the compound protected by the benzoyl group obtained by the manufacturing method of this invention is excellent in crystallinity, and is easy to refine
  • R 1a and R 2a may be the same or different.
  • R 3A and R 3B are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group that may be protected, the general formula [16] (Wherein R 3a has the same meaning as described above), an optionally substituted C 1-6 alkyl group, an optionally substituted C 1-6 alkylthio group,
  • R 3a has the same meaning as described above
  • an optionally substituted C 1-6 alkyl group an optionally substituted C 1-6 alkylthio group
  • the production method using a compound which is an aryloxy group which may be substituted, an arylthio group which may be substituted or a heterocyclic thio group which may be substituted is preferred, and a hydrogen atom, a halogen atom, or a compound represented by the general formula [16] (Wherein R 3a has the same meaning as described above) or production using a compound which is an aryloxy group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A The method is more preferred
  • R 3A and R 3B are hydrogen atom, the other is a halogen atom, and the general formula [16] (Wherein R 3a has the same meaning as described above) or production using a compound which is an aryloxy group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A In which one is a hydrogen atom, the other is a halogen atom, and the general formula [16] (In the formula, R 3a has the same meaning as described above.)
  • R 2A and R 3A taken together are represented by the general formula [17] (Wherein Y 1 has the same meaning as described above), and a production method using a compound which is a group or a bond represented by the bond is preferable.
  • a production method using a compound in which Y 1 is an optionally substituted C 1-6 alkylene group is preferred.
  • a production method using a compound in which R 3 is a fluorine atom or a chlorine atom is preferred, and a production method using a compound in which R 3 is a fluorine atom is more preferred.
  • a production method using a compound in which R 4 is an arylsulfonyloxy group which may be substituted with one or more groups selected from a halogen atom, a hydroxyl group, or a substituent group A is preferred.
  • a production method using a compound which is 2-nitrobenzenesulfonyloxy group, 3-nitrobenzenesulfonyloxy group, 4-nitrobenzenesulfonyloxy group, 2,4,5-trichlorobenzenesulfonyloxy group or pentafluorobenzenesulfonyloxy group is more preferable.
  • R 4 is a halogen atom, a hydroxyl group, an optionally substituted C 1-6 alkylsulfonyloxy group or an optionally substituted arylsulfonyloxy group
  • R 5 and R 6 are Formula [2] (Wherein Y has the same meaning as described above), and the production method using a compound represented by the group represented by A production method using a compound in which Y is an oxygen atom is more preferred.
  • Y represents the general formula [3] (Wherein R 7 has the same meaning as described above), R 7 is a hydrogen atom, an optionally substituted C 1-6 alkyl group, or an optionally substituted group.
  • a production method using a compound which is an aryl group is preferred, a production method using a compound which is a hydrogen atom, a methyl group, a benzyl group or a phenyl group is more preferred, and a production method using a compound which is a methyl group or a benzyl group is more preferred.
  • a production method using a compound wherein R 9 is an optionally substituted acyl group is preferred, a production method using a compound which is an acyl group is more preferred, and a production method using a compound which is an acetyl group is more preferred.
  • a production method using a compound in which X 3 is a bromine atom is preferred.
  • Nucleobase selected from adenine which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A guanine which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A, and substituent group A Substituted with one or more groups selected from Cytosine optionally substituted with one or more groups, thymine optionally substituted with one or more groups selected from Substituent Group A, or Substituent Group A
  • the production method using a compound which is a good uracil is preferable, and the production method using a compound which is a cytosine which may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A is more preferable.
  • a production method using a compound in which the protected cytosine is N 4 , O-bis (trimethylsilyl) -4-amino-2-hydroxypyrimidine is preferred.
  • Preferred is a production method using a compound in which the protected N 4 -acylcytosine is 2-trimethylsilyloxy-4-acetylaminopyrimidine or N 4 , O-bis (trimethylsilyl) -4-acetylamino-2-hydroxypyrimidine
  • a production method using a compound which is N 4 , O-bis (trimethylsilyl) -4-acetylamino-2-hydroxypyrimidine is more preferred.
  • R 10a is, a formyl group, substituted preferably manufactured method using a compound which is also a good C 2-6 alkanoyl or optionally substituted aroyl group, the preparation using the compound is a C 2-6 alkanoyl group More preferred is a production method using a compound which is an acetyl group.
  • a method for producing 1- (2-deoxy-2-halogeno-4-thio- ⁇ -D-arabinofuranosyl) cytosine from a compound represented by the general formula [9] is described in (3) or (4)
  • the method is preferable, and the method (4) is more preferable.
  • the method (3) it is preferable to use protected N 4 -acylcytosine.
  • Manufacturing method 1 (In the formula, R 1A , R 1B , R 2A , R 2B , R 3A , R 3B and X have the same meaning as described above.)
  • the compound represented by the general formula [1E] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [1D] with a sulfur compound.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, ketones , Nitriles, amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles, amides and ureas, with amides being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1D]. Is preferred.
  • Examples of the sulfur compound used in this reaction include hydrogen sulfide or a salt thereof.
  • Examples of the hydrogen sulfide salt include sodium hydrogen sulfide, sodium sulfide, potassium hydrogen sulfide, calcium hydrogen sulfide and magnesium sulfide, and sodium hydrogen sulfide is preferable.
  • the amount of the sulfur compound used may be 0.2 to 10 times mol, preferably 0.5 to 2.0 times mol, and more preferably 0.7 to 1.5 times mol, of the compound represented by the general formula [1D].
  • the reaction temperature may be ⁇ 20 to 100 ° C., preferably ⁇ 10 to 80 ° C., more preferably ⁇ 5 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the sulfur compound is added to the formyl group of the compound represented by the general formula [1D], and then the nucleophilic substitution reaction proceeds and the ring is closed.
  • the compound represented by the general formula [1D] may be a saccharide produced by a ring-opening reaction or may be produced by another method.
  • aliphatic hydrocarbons halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, nitriles Amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include halogenated hydrocarbons, alcohols, nitriles, aromatic hydrocarbons and water.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), or 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [4Aa]. Is preferred.
  • the amount of the compound represented by the general formula [5] or a salt thereof used in this reaction may be 0.5 to 10-fold mol with respect to the compound represented by the general formula [4Aa]. 5.0 times mole is preferable, and 1.0 to 2.0 times mole is more preferable.
  • the base When using the salt of the compound represented by the general formula [5], it is preferable to add a base.
  • the base include organic bases and inorganic bases, and triethylamine and sodium hydrogen carbonate are preferable.
  • the amount of the base used may be 0.1 to 10-fold mol, preferably 0.2 to 2.0-fold mol, and more preferably 0.5 to 1.5-fold mol based on the salt of the compound represented by the general formula [5].
  • the reaction temperature may be -10 to 100 ° C, preferably -5 to 80 ° C, more preferably 0 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • aliphatic hydrocarbons halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides and aromatic hydrocarbons, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include esters, nitriles and aromatic hydrocarbons.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), or 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1Aa]. Is preferred.
  • Examples of the base used in this reaction include organic bases and inorganic bases, and triethylamine and N-methylimidazole are preferable.
  • the amount of the base used may be 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.8 to 4.0-fold mol, more preferably 1.0 to 3.0-fold mol based on the compound represented by the general formula [1Aa].
  • the amount of the compound represented by the general formula [6] used in this reaction may be 0.5 to 10 times mol and 0.8 to 4.0 times mol for the compound represented by the general formula [1Aa]. It is preferably 1.0 to 2.0 times mol.
  • the reaction temperature may be -10 to 100 ° C, preferably -5 to 80 ° C, more preferably 0 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula [1Ca] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [1Ba] with an alkali metal halide.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons and ureas, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles, amides and ureas, with amides and ureas being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1Ba]. Is preferred.
  • the alkali metal halide used in this reaction includes lithium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide, lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, lithium iodide. Sodium iodide and potassium iodide, and lithium bromide is preferred.
  • the amount of the alkali metal halide used may be 0.5 to 20 times mol, preferably 0.8 to 8.0 times mol, more preferably 1.0 to 5.0 times mol, of the compound represented by the general formula [1Ba]. .
  • the reaction temperature may be ⁇ 50 to 150 ° C., preferably ⁇ 10 to 120 ° C., more preferably 0 to 100 ° C., and further preferably 20 to 80 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula [1Ca] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [1Aa] with a halogenating agent in the presence of a base.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles, amides, aromatic hydrocarbons and ureas, with amides being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), or 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1Aa]. Is preferred.
  • halogenating agent in this reaction examples include a chlorinating agent and a brominating agent.
  • chlorinating agents phosphoryl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, Vilsmeier reagent (N, N-dimethylformamide-phosphorus pentachloride, N, N-dimethylformamide-phosphorus oxychloride, etc.), Rydon reagent (Ph 3 PCl) 2 , triphenylphosphine-carbon tetrachloride), thionyl chloride, sulfuryl chloride and the like, and sulfuryl chloride is preferred.
  • brominating agents examples include phosphorus tribromide, N, N-dimethylformamide-phosphorous tribromide, triphenylphosphine-carbon tetrabromide, and triphenylphosphine dibromide.
  • the amount of the halogenating agent used may be 0.1 to 10 times mol, preferably 0.8 to 5.0 times mol, more preferably 1.0 to 2.0 times mol, of the compound represented by the general formula [1Aa].
  • Examples of the base used in this reaction include organic bases and inorganic bases, and triethylamine and pyridine are preferable.
  • the amount of the base used may be 0.5 to 50 times mol, preferably 0.8 to 20 times mol, more preferably 1.0 to 10 times mol, of the compound represented by the general formula [1Aa].
  • a salt examples include lithium chloride, lithium bromide, sodium bromide, calcium bromide and pyridine hydrochloride.
  • the salt include lithium chloride, lithium bromide, sodium bromide, calcium bromide and pyridine hydrochloride.
  • an epimer mixture is usually obtained.
  • sulfuryl chloride and lithium chloride in combination.
  • the amount of the salt used may be 0.5 to 20 times mol, preferably 0.8 to 5.0 times mol, more preferably 1.0 to 3.0 times mol, of the compound represented by the general formula [1Aa].
  • the reaction temperature may be -50 to 80 ° C, preferably -40 to 60 ° C, more preferably -30 to 40 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula [1Dd] can be produced by hydrolyzing the compound represented by the general formula [1Ca] in the presence of an acid.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, ketones , Nitriles, amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles, amides and water, with ethers and water being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1Ca]. Is preferred.
  • Examples of the acid used in this reaction include hydrochloric acid, sulfuric acid, toluenesulfonic acid, acetic acid, glyoxylic acid and phosphoric acid, and glyoxylic acid is preferred.
  • the amount of the acid used may be 0.5 to 100 times mol, preferably 1.0 to 60 times mol, more preferably 1.5 to 40 times mol, of the compound represented by the general formula [1Ca].
  • a carbonyl compound examples include ketones such as acetone and 2-butanone, and aldehydes such as formaldehyde, benzaldehyde, glyoxal and glyoxylic acid, aldehydes are preferable, and glyoxylic acid is more preferable.
  • the amount of the carbonyl compound used may be 0.5 to 100 times mol, preferably 1.0 to 60 times mol, more preferably 1.5 to 40 times mol, of the compound represented by the general formula [1Ca].
  • the reaction temperature may be -10 to 120 ° C, preferably 0 to 100 ° C, more preferably 20 to 80 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula [1Ea] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [1Dd] with a sulfur compound. This reaction may be performed according to the method described in Production Method 1.
  • aliphatic hydrocarbons halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides and aromatic hydrocarbons, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles and amides, with ethers, nitriles and amides being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1Ea]. Is preferred.
  • the amount of the compound represented by the general formula [7] or the compound represented by the general formula [8] used in this reaction is 0.5 to 50 times that of the compound represented by the general formula [1Ea]. It may be a mole, preferably 0.8 to 20 times mole, and more preferably 1.0 to 10 times mole.
  • a base examples include organic bases and inorganic bases, and triethylamine is preferable.
  • the amount of the base used may be 0.5 to 50 times mol, preferably 0.8 to 20 times mol, more preferably 1.0 to 15 times mol, of the compound represented by the general formula [1Ea].
  • the reaction temperature may be -10 to 100 ° C, preferably -5 to 80 ° C, more preferably 0 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the nucleobase or protected nucleobase is not particularly limited as long as it is known that it can be used for glycosylation reaction.
  • the compound represented by the general formula [11Aa] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [9Aa] with a nucleobase or a protected nucleobase in the presence of an acid.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. For example, aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides and aromatic hydrocarbons, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, nitriles and aromatic hydrocarbons, with halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons being preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1.0 to 50 times (v / w) or 1.0 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [9Aa]. Is preferred.
  • the amount of the acid used is not particularly limited, but may be 0.0001 to 10-fold mol, more preferably 0.001 to 1.0-fold mol based on the compound represented by the general formula [9Aa].
  • the nucleobase or protected nucleobase used in this reaction may be 1.0 to 50-fold mol, preferably 1.0 to 10-fold mol, preferably 1.0 to 10-fold mol with respect to the compound represented by the general formula [9Aa]. 5 times mole is more preferable.
  • the reaction temperature may be 20-150 ° C, and preferably 20-100 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 30 minutes to 24 hours, and more preferably 1 hour to 10 hours.
  • a thionucleoside can be produced by deprotection. This method is described in Protective Groups in Organic Synthesis 4th edition, pages 696-926, 2007, John Wiley & Sons, INC. The method described in the above may be performed.
  • the compound represented by the general formula [1De] can be produced by hydrolyzing the compound represented by the general formula [1Ba] in the presence of an acid. This method may be performed according to the method described in Production Method 2 (Step 4).
  • the compound represented by the general formula [1Eb] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [1De] with a sulfur compound. This reaction may be performed according to the method described in Production Method 1.
  • the compound represented by the general formula [9Ab] is obtained by reacting the compound represented by the general formula [1Eb] with the compound represented by the general formula [7] or the compound represented by the general formula [8]. Can be manufactured. This method may be performed according to the method described in Production Method 2 (sixth step).
  • the compound represented by the general formula [11Ab] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [9Ab] with a nucleobase or a protected nucleobase in the presence of an acid. This method may be performed according to the method described in Production Method 2 (seventh step).
  • aliphatic hydrocarbons halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, nitriles Amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include halogenated hydrocarbons, alcohols, nitriles, aromatic hydrocarbons and water.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [4]. Is preferred.
  • the amount of the compound represented by the general formula [5] or a salt thereof used in this reaction may be 0.5 to 10-fold mol with respect to the compound represented by the general formula [4]. 5.0 times mole is preferable, and 1.0 to 2.0 times mole is more preferable.
  • the base When using the salt of the compound represented by the general formula [5], it is preferable to add a base.
  • the base include organic bases and inorganic bases, and triethylamine and sodium hydrogen carbonate are preferable.
  • the amount of the base used may be 0.1 to 10-fold mol, preferably 0.2 to 2.0-fold mol, and more preferably 0.5 to 1.5-fold mol based on the salt of the compound represented by the general formula [5].
  • the reaction temperature may be -10 to 100 ° C, preferably -5 to 80 ° C, more preferably 0 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • aliphatic hydrocarbons halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides and aromatic hydrocarbons, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include esters, nitriles and aromatic hydrocarbons.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1a]. Is preferred.
  • Examples of the base used in this reaction include organic bases and inorganic bases, and triethylamine and N-methylimidazole are preferable.
  • the amount of the base used may be 0.5 to 10 times mol, preferably 0.8 to 4.0 times mol, more preferably 1.0 to 3.0 times mol, of the compound represented by the general formula [1a].
  • the amount of the compound represented by the general formula [6] used in this reaction may be 0.5 to 10 times mol and 0.8 to 4.0 times mol for the compound represented by the general formula [1a]. It is preferably 1.0 to 2.0 times mol.
  • the reaction temperature may be -10 to 100 ° C, preferably -5 to 80 ° C, more preferably 0 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula [1c] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [1b] with an alkali metal halide.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons and ureas, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles, amides and ureas, with amides and ureas being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), and 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1b]. Is preferred.
  • the alkali metal halide used in this reaction includes lithium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide, lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, lithium iodide. Sodium iodide and potassium iodide, and lithium bromide is preferred.
  • the amount of the alkali metal halide used may be 0.5 to 20 times mol, preferably 0.8 to 8.0 times mol, more preferably 1.0 to 5.0 times mol, of the compound represented by the general formula [1b]. .
  • the reaction temperature may be ⁇ 50 to 150 ° C., preferably ⁇ 10 to 120 ° C., more preferably 0 to 100 ° C., and further preferably 20 to 80 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula [1c] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [1a] with a halogenating agent in the presence of a base.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles, amides, aromatic hydrocarbons and ureas, with amides being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1a]. Is preferred.
  • halogenating agent in this reaction examples include a chlorinating agent and a brominating agent.
  • chlorinating agents phosphoryl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, Vilsmeier reagent (N, N-dimethylformamide-phosphorus pentachloride, N, N-dimethylformamide-phosphorus oxychloride, etc.), Rydon reagent (Ph 3 PCl) 2 , triphenylphosphine-carbon tetrachloride), thionyl chloride, sulfuryl chloride and the like, and sulfuryl chloride is preferred.
  • brominating agents examples include phosphorus tribromide, N, N-dimethylformamide-phosphorous tribromide, triphenylphosphine-carbon tetrabromide, and triphenylphosphine dibromide.
  • the amount of the halogenating agent used may be 0.1 to 10 times mol, preferably 0.8 to 5.0 times mol, more preferably 1.0 to 2.0 times mol, of the compound represented by the general formula [1a].
  • Examples of the base used in this reaction include organic bases and inorganic bases, and triethylamine and pyridine are preferable.
  • the amount of the base used may be 0.5 to 50 times mol, preferably 0.8 to 20 times mol, more preferably 1.0 to 10 times mol, of the compound represented by the general formula [1a].
  • a salt examples include lithium chloride, lithium bromide, sodium bromide, calcium bromide and pyridine hydrochloride.
  • the salt include lithium chloride, lithium bromide, sodium bromide, calcium bromide and pyridine hydrochloride.
  • an epimer mixture is usually obtained.
  • sulfuryl chloride and lithium chloride in combination.
  • the amount of salt used may be 0.5 to 20 times mol, preferably 0.8 to 5.0 times mol, more preferably 1.0 to 3.0 times mol, of the compound represented by the general formula [1a].
  • the reaction temperature may be -50 to 80 ° C, preferably -40 to 60 ° C, more preferably -30 to 40 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula [1d] can be produced by hydrolyzing the compound represented by the general formula [1c] in the presence of an acid.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, ketones , Nitriles, amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles, amides and water, with ethers and water being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1c]. Is preferred.
  • Examples of the acid used in this reaction include hydrochloric acid, sulfuric acid, toluenesulfonic acid, acetic acid, glyoxylic acid and phosphoric acid, and glyoxylic acid is preferred.
  • the amount of the acid used may be 0.5 to 100 times mol, preferably 1.0 to 60 times mol, more preferably 1.5 to 40 times mol, of the compound represented by the general formula [1c].
  • a carbonyl compound examples include ketones such as acetone and 2-butanone, and aldehydes such as formaldehyde, benzaldehyde, glyoxal and glyoxylic acid, aldehydes are preferable, and glyoxylic acid is more preferable.
  • the amount of the carbonyl compound used may be 0.5 to 100 times mol, preferably 1.0 to 60 times mol, more preferably 1.5 to 40 times mol, of the compound represented by the general formula [1c].
  • the reaction temperature may be -10 to 120 ° C, preferably 0 to 100 ° C, more preferably 20 to 80 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula [1e] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [1d] with a sulfur compound.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, ketones , Nitriles, amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles, amides and ureas, with amides being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1d]. Is preferred.
  • Examples of the sulfur compound used in this reaction include hydrogen sulfide or a salt thereof.
  • Examples of the hydrogen sulfide salt include sodium hydrogen sulfide, sodium sulfide, potassium hydrogen sulfide, calcium hydrogen sulfide and magnesium sulfide, and sodium hydrogen sulfide is preferable.
  • the amount of hydrogen sulfide or a salt thereof used may be 0.2 to 10-fold mol, preferably 0.5 to 2.0-fold mol, and more preferably 0.7 to 1.5-fold mol based on the compound represented by the general formula [1d]. .
  • the reaction temperature may be ⁇ 20 to 100 ° C., preferably ⁇ 10 to 80 ° C., more preferably ⁇ 5 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • aliphatic hydrocarbons halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides and aromatic hydrocarbons, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, nitriles and amides, with ethers, nitriles and amides being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), or 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [1e]. Is preferred.
  • the amount of the compound represented by the general formula [7] or the compound represented by the general formula [8] used in this reaction is 0.5 to 50 times that of the compound represented by the general formula [1e]. It may be a mole, preferably 0.8 to 20 times mole, and more preferably 1.0 to 10 times mole.
  • a base examples include organic bases and inorganic bases, and triethylamine is preferable.
  • the amount of the base used may be 0.5 to 50 times mol, preferably 0.8 to 20 times mol, more preferably 1.0 to 15 times mol, of the compound represented by the general formula [1e].
  • the reaction temperature may be -10 to 100 ° C, preferably -5 to 80 ° C, more preferably 0 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • Protected cytosine or protected N 4 -acyl cytosine can be prepared by reacting cytosine or N 4 -acyl cytosine with a silylating agent in the presence of a catalyst.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, nitriles and aromatic hydrocarbons These solvents may be used as a mixture.
  • Preferable solvents include aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons are more preferable, and chlorobenzene and toluene are more preferable.
  • the amount of the solvent to be used is not particularly limited, but may be 1.0 to 50 times (v / w), preferably 1.0 to 15 times (v / w) relative to cytosine or N 4 -acylcytosine.
  • silylating agent used in this reaction examples include 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane.
  • the amount of the silylating agent to be used is not particularly limited, but may be 1.0 to 50 times mol, preferably 1.0 to 10 times mol for cytosine or N 4 -acylcytosine.
  • Examples of the catalyst used in this reaction include ammonium salts such as ammonium hydrogen sulfate.
  • the amount of the catalyst used may be 0.001 to 1 mole, and preferably 0.01 to 0.1 mole relative to cytosine or N 4 -acylcytosine.
  • the reaction temperature may be 20 to 150 ° C., preferably 50 to 150 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 10 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • This reaction is preferably performed in an inert gas (for example, nitrogen, argon) atmosphere.
  • the protected cytosine or protected N 4 -acyl cytosine is preferably used as it is in the next reaction without isolation.
  • the compound represented by the general formula [11] is produced by reacting the compound represented by the general formula [9] with protected cytosine or protected N 4 -acylcytosine in the presence of an acid. Can do.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides and aromatic hydrocarbons, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, nitriles and aromatic hydrocarbons, with halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons being preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1.0 to 50 times (v / w), or 1.0 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [9]. Is preferred.
  • the amount of the acid used is not particularly limited, but may be 0.0001 to 10-fold mol, more preferably 0.001 to 1.0-fold mol based on the compound represented by the general formula [9].
  • the amount of the protected cytosine or protected N 4 -acyl cytosine used in this reaction may be 1.0 to 50 times mol with respect to the compound represented by the general formula [9]. A 10-fold mole is preferred, and a 1.0-5-fold mole is more preferred.
  • the reaction temperature may be 20-150 ° C, and preferably 20-100 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 30 minutes to 24 hours, and more preferably 1 hour to 10 hours.
  • the compound represented by the general formula [14] can be produced by deprotecting the compound represented by the general formula [11]. This method is described in Patent Document 1 or Protective Groups in Organic Synthesis 4th edition, pages 696-926, 2007, John Wiley & Sons. , INC.).
  • Preferable deprotection includes a method using a base.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and examples thereof include aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers and water, These solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include alcohols and water, with alcohols being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1.0 to 50 times (v / w), or 1.0 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [11]. Is preferred.
  • Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, ammonia and metal alkoxides such as sodium methoxide and sodium ethoxide.
  • Preferred bases include ammonia and metal alkoxides, with ammonia and sodium methoxide being more preferred.
  • the amount of the base used is not particularly limited, but may be 0.001 to 10 times mol, more preferably 0.01 to 1.0 times mol, of the compound represented by the general formula [11].
  • the reaction temperature may be 0 to 100 ° C., preferably 10 to 70 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 7 days, and preferably 1 to 24 hours.
  • the compound represented by the general formula [11a] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [9] with protected cytosine. This method may be performed according to Method 1 (first step).
  • the compound represented by the general formula [11a] is preferably used as it is in the next reaction without isolation.
  • aliphatic hydrocarbons for example, aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles And aromatic hydrocarbons, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons, with halogenated hydrocarbons and aromatic hydrocarbons being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), or 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula [11a]. Is preferred.
  • the base When using the compound represented by the general formula [12], it is preferable to add a base.
  • the base include an organic base and an inorganic base, and an organic base is preferable.
  • the amount of the base used may be 0.5 to 10 times mol, preferably 1.0 to 5 times mol, of the compound represented by the general formula [11a].
  • a catalyst When using the compound represented by the general formula [13], it is preferable to add a catalyst.
  • the catalyst include organic bases, and dimethylaminopyridine is preferable.
  • the amount of the catalyst used may be 0.001 to 1.0 times mol, preferably 0.01 to 1.0 times mol, of the compound represented by the general formula [11a].
  • the amount of the compound represented by the general formula [12] or the compound represented by the general formula [13] may be 1.0 to 20 moles compared to the compound represented by the general formula [11a] 1.0 to 10 moles are preferred.
  • the reaction temperature may be ⁇ 20 to 100 ° C., preferably ⁇ 10 to 80 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula [14] can be produced by deprotecting the compound represented by the general formula [11b]. This method may be performed according to the method (1) (second step).
  • the compound represented by the general formula [10] can be produced by halogenating the compound represented by the general formula [9].
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, carboxylic acids, ketones , Nitriles, amides and sulfoxides, and these solvents may be used in combination.
  • Preferred solvents include halogenated hydrocarbons, ethers, carboxylic acids and nitriles, with halogenated hydrocarbons being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 100 times (v / w), 1 to 10 times (v / w) the compound represented by the general formula [9]. Is preferred.
  • Reagents used for halogenation include hydrogen halides, alkali metal halides and halogenating agents.
  • the hydrogen halide include hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide, with hydrogen bromide being preferred.
  • Alkali metal halides include lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide, lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, lithium iodide, sodium iodide and potassium iodide.
  • the halogenating agent in this reaction include phosphoryl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, thionyl chloride, sulfuryl chloride, and phosphorus tribromide.
  • Preferred examples of the reagent include hydrogen halide, and hydrogen bromide is more preferable.
  • the amount of the reagent used may be 1 to 100 times mol, preferably 1 to 10 times mol, more preferably 1 to 5 times mol, of the compound represented by the general formula [9].
  • the reaction temperature may be -30 to 40 ° C, more preferably -5 to 10 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 10 hours, preferably 5 minutes to 3 hours, and more preferably 5 minutes to 1 hour.
  • the compound represented by the general formula [11] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [10] with protected cytosine or protected N 4 -acylcytosine. This method may be performed according to Patent Document 1 or Method (1) (first step).
  • the compound represented by the formula [14] can be produced by deprotecting the compound represented by the general formula [11]. This method may be performed according to the method (1) (second step).
  • the compound represented by the general formula [10] can be produced by halogenating the compound represented by the general formula [9]. This method may be performed according to the method (3) (first step).
  • the compound represented by the general formula [11a] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [10] with protected cytosine. This method may be performed according to the method (3) (second step).
  • the compound represented by the general formula [14] can be produced by deprotecting the compound represented by the general formula [11b]. This method may be performed according to the method (1) (second step).
  • the hydroxyl group, amino group or carboxyl protecting group can be appropriately modified.
  • the compound obtained by the above production method can be isolated and purified by a usual method such as extraction, crystallization, distillation or column chromatography.
  • the compound obtained by the above production method may be used in the next reaction as it is without being isolated.
  • the compound having a formyl group obtained by the above production method may contain a hydrate or an alcohol adduct.
  • the present invention encompasses all of them.
  • the compound obtained by the above production method may have a tautomer or an enantiomer.
  • the present invention includes those isomers. Also, when a crystalline polymorph, salt, hydrate or solvate is present, the present invention encompasses all crystalline forms, salts, hydrates or solvates.
  • silica gel column chromatography used Biotage Japan, SNAP KP-Sil Cartridge, YAMAZEN, FR-260 Hi-Flash TM Column, or Wakogel C-200.
  • the mixing ratio in the eluent is a volume ratio.
  • the aqueous layer was removed, and the organic layer was washed sequentially with a mixture of 100 mL of 1 mol / L hydrochloric acid and 100 mL of 10% aqueous sodium chloride solution, and a mixture of 100 mL of 5% aqueous sodium bicarbonate solution and 100 mL of 10% aqueous sodium chloride solution, and anhydrous sodium sulfate After drying, the solvent was distilled off under reduced pressure to give (2R, 3R, 4R) -1- (benzoyloxy) -4-fluoro-5- (methoxyimino) -2-(((4-nitrobenzene)) as a pale yellow solid.
  • the organic layer was washed successively with 250 mL of 1 mol / L hydrochloric acid and 250 mL of 10% aqueous sodium chloride solution and dried over anhydrous sodium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 79.9 g of a brown oil.
  • the organic layer was washed sequentially with a mixture of 700 mL of 1 mol / L hydrochloric acid and 350 mL of 10% sodium chloride aqueous solution, and a mixture of 350 mL of 5% sodium bicarbonate aqueous solution and 350 mL of 10% sodium chloride aqueous solution, dried over anhydrous sodium sulfate, The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 52.1 g of ((2R, 3S, 4S) -3- (benzoyloxy) -4-fluoro-5-hydroxythiolan-2-yl) methyl benzoate as a light brown oil. It was.
  • the aqueous layer was removed, and the organic layer was washed successively with a mixture of 150 mL of 1 mol / L hydrochloric acid and 100 mL of 10% aqueous sodium chloride solution, and a mixture of 50 mL of 5% aqueous sodium bicarbonate solution and 100 mL of 10% aqueous sodium chloride solution. After drying with sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was recrystallized from methanol to give ((2R, 3S, 4S) -5- (acetyloxy) -3- (benzoyloxy) -4-fluorothiolan-2-yl) methyl as a white solid. 29.3 g of benzoate was obtained.
  • the reaction mixture was cooled to room temperature, 75 mL of methylene chloride, 4 mL of water and 5 g of celite were added, and the mixture was stirred at 27 to 28 ° C. for 2 hours.
  • the insoluble material was removed by filtration, and the residue was washed with methylene chloride.
  • the filtrate and the washing solution were combined, washed with a solution of 2.85 g of dipotassium hydrogen phosphate and 0.38 g of potassium dihydrogen phosphate in 14.3 mL of water, and the aqueous layer was extracted with methylene chloride.
  • the organic layer and the extract were combined, the insoluble material was filtered off, and the solvent was replaced with propyl acetate.
  • the resulting oil was a mixture of (2S, 3S, 4S) -1- (benzoyloxy) -2-chloro-4-fluoro-5-oxopentan-3-yl-benzoate and its hydrate. It was.
  • reaction rate was 98% and (2S, 3S, 4R) -1- (benzoyloxy) -2-bromo-4-fluoro-5- (methoxyimino) pentane -3-yl-benzoate was formed.
  • reaction rate was 98% and (2S, 3S, 4R) -1- (benzoyloxy) -2-bromo-4-fluoro-5- (methoxyimino) pentane -3-yl-benzoate was formed.
  • reaction rate was 98% and (2S, 3S, 4R) -1- (benzoyloxy) -2-bromo-4-fluoro-5- (methoxyimino) pentane -3-yl-benzoate was formed.
  • a colorless oily (2S, 3S, 4S) -2-bromo-3-((4) was prepared in the same manner as in Example 1 (4) except that the reaction was carried out at 60 ° C. for 7 hours and then at room temperature for 3 days.
  • a mixture of -chlorophenyl) carbonyloxy) -4-fluoro-5-oxopentyl 4-chlorobenzoate and its hydrate was obtained.
  • a colorless oily (2S, 3S, 4S) -2-bromo-4-fluoro was prepared in the same manner as in Example 1 (4) except that the reaction was carried out at 60 ° C. for 8 hours and then at 70 ° C. for 2 hours.
  • a mixture of -5-oxo-3-((4- (trifluoromethyl) phenyl) carbonyloxy) pentyl 4- (trifluoromethyl) benzoate and its hydrate was obtained.
  • a colorless oily product of ((2R, 3R, 4S) -4-fluoro-5-hydroxy-3- was obtained in the same manner as in Example 10 (2) except that the reaction temperature was 70 ° C. and the reaction time was 4 hours.
  • ((3-Phenyl-2-propenoyl) oxy) oxolan-2-yl) methyl 3-phenyl-2-propenoate was obtained.
  • a colorless oily (2S, 3S, 4S) -2-bromo-4-fluoro was prepared in the same manner as in Example 1 (4) except that the reaction was carried out at 40 ° C. for 2 hours and then at 70 ° C. for 13 hours.
  • a mixture of -5-oxo-1-((3-phenyl-2-propenoyl) oxy) pentan-3-yl 3-phenyl-2-propenoate and its hydrate was obtained.
  • the reaction mixture was cooled to room temperature, 146 mg of 4-dimethylaminopyridine was added, 122 g of acetic anhydride was added dropwise at 60 ° C., and the mixture was stirred at 60 ° C. or higher for 1 hour.
  • the reaction mixture was cooled to room temperature and 2000 mL of methylene chloride and 600 mL of 2 mol / L hydrochloric acid were added.
  • the organic layer was separated and methylene chloride was distilled off on a 45 ° C. outer bath.
  • 1500 mL of propyl acetate was added, and the mixture was heated to 80 ° C. and stirred until distillation of distilled components stopped.
  • the reaction mixture was cooled to 10 ° C.
  • reaction mixture was cooled to room temperature, 15 mg of 4-dimethylaminopyridine was added, 20 mL of isobutyric anhydride was added dropwise at 60 ° C., and the mixture was stirred at 70-80 ° C. for 1 hour.
  • the reaction mixture was cooled to room temperature and 30 mL of methylene chloride and 30 mL of 2 mol / L hydrochloric acid were added.
  • the organic layer was separated, 6 mL of triethylamine was added, and methylene chloride was distilled off.
  • the reaction mixture was cooled to 5 ° C.
  • N-dimethylformamide solution of 727 mg of 2-deoxy-2-fluoro-1-O-methyl-D-arabinofuranoside was added 438 mg of 60% sodium hydride under ice cooling, and the mixture was stirred at the same temperature for 15 minutes. After that, 1.20 mL of benzyl bromide was added and stirred for 5 minutes. The mixture was further stirred at room temperature for 1.5 hours. Ethyl acetate and water were added to the reaction mixture. The organic layer was separated, washed with a saturated aqueous sodium chloride solution and then dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure.
  • cytosine 0.521 mL of N, O-bistrimethylsilylacetamide was added at room temperature, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1.5 hours in a nitrogen atmosphere, and then 1-bromo-2-deoxy-2-fluoro-3,5-bis-O.
  • a dichloromethane solution of -benzyl-4-thio-D-arabinofuranoside was added, the solvent was distilled off, and the mixture was further stirred at 80 ° C. for 2.5 hours. Ethyl acetate and 2 mol / L hydrochloric acid were added to the reaction mixture.
  • the resulting oil was a mixture of (2S, 3S, 4S) -4-bromo-2-fluoro-3,5-bis ((4-methylbenzyl) oxy) pentanal and its hydrate.
  • reaction mixture was (3S, 4S, 5R) -2-bromo-3-fluoro-4-((4-methylbenzyl) oxy) -5-(((4-methylbenzyl) oxy) methyl) thiolane.
  • a methylene chloride solution containing was added and stirred at 60 ° C. for 2.5 hours.
  • Methylene chloride was added to the reaction mixture, washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure.
  • the resulting oil was a mixture of (2S, 3S, 4S) -4-bromo-3,5-bis ((4-chlorobenzyl) oxy) -2-fluoropentanal and its hydrate.
  • Example 29 (6) To a solution of 2.50 g of the pale yellow oil obtained in Example 29 (6) in 25 mL of 1-methyl-2-pyrrolidone, 0.91 g of sodium hydrosulfide x hydrate was added under ice cooling, and 1.5 under ice cooling. Stir for hours. Ethyl acetate was added to the reaction mixture, washed successively with water, 0.5 mol / L hydrochloric acid, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure.
  • Benzyl ((2R, 3R, 4S) -3-(((benzyloxy) carbonyl) oxy) -4-fluoro-5-methoxyoxolan-2-yl) methyl carbonate 2.58 g, acetic acid 21 mL, water 5.2 mL and concentrated sulfuric acid 0.67mL were added, and it stirred at 70 degreeC for 8 hours. To the reaction mixture was added concentrated sulfuric acid (0.30 mL), and the mixture was further stirred at 70 ° C. for 7 hours. Ethyl acetate was added to the reaction mixture, washed successively with water and saturated aqueous sodium chloride solution and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure.
  • Benzyl ((2R, 3R, 4S) -3-(((benzyloxy) carbonyl) oxy) -4-fluoro-5-hydroxyoxolan-2-yl) methyl carbonate to 1.68 g methanol 8.4 mL and O— After adding 0.37 g of methylhydroxylamine hydrochloride, 0.61 mL of triethylamine was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Ethyl acetate was added to the reaction mixture, which was washed successively with water and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure.
  • dibenzyl ((2R, 3R, 4R) -4-fluoro-5- (methoxyimino) -2-(((2,4,5-trichlorobenzene) sulfonyl) oxy) pentane-1,3-
  • diyl dicarbonate were added 24 mL of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and 1.65 g of anhydrous lithium bromide, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 9 hours.
  • Methylene chloride solution was added and stirred at 60 ° C. for 3 hours. Methylene chloride was added to the reaction mixture, washed successively with water and saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure.
  • Benzyl ((2R, 3S, 4S) -5- (4-amino-2-oxopyrimidin-1 (2H) -yl) -3-(((benzyloxy) carbonyl) oxy) -4-fluorothiolane-
  • 2-yl 2-yl methyl carbonate
  • 1.0 mL of a 7 mol / L ammonia / methanol solution was added and stirred at room temperature for 1.5 hours.
  • the resulting oil was a mixture of (2R, 3S, 4S) -4-bromo-3,5-bis ((tert-butyldiphenylsilyl) oxy) -2-fluoropentanal and its hydrate. .
  • Example 32 To the colorless oil obtained in Example 32 (1), 1.3 g of O-methylhydroxylamine hydrochloride and 5.0 mL of methanol were added, and 1.8 mL of triethylamine was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 3 hours. To the reaction mixture were added 10 mL of toluene and 10 mL of a 10% aqueous sodium chloride solution, the aqueous layer was removed, and the solvent was evaporated under reduced pressure.
  • Example 32 (6) To the ethyl acetate solution obtained in Example 32 (6) were added 1.6 mg of dimethylaminopyridine and 0.28 mL of acetic anhydride, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and left at room temperature for 3 days. Water was added to the reaction mixture, the aqueous layer was removed, the organic layer was washed with water, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was recrystallized from methanol to obtain 402 mg of 1-O-acetyl-2,3,5-tri-O-benzoyl-4-thio- ⁇ -D-ribofuranose as a white solid.

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Abstract

　下記一般式［１Ｄ］（式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基などを示す。）で表される化合物は、チオヌクレオシドを製造するための中間体として有用であり、本発明の製造法はチオヌクレオシドの製造法として有用である。

Description

１－（２－デオキシ－２－フルオロ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシンの合成中間体およびチオヌクレオシドの合成中間体ならびにそれらの製造法
　本発明は、医薬として有用なチオヌクレオシドの製造などに有用な化合物およびそれらの製造法に関する。
　さらに、本発明は、抗腫瘍剤として有用な１－（２－デオキシ－２－フルオロ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシンの製造などに有用な化合物およびそれらの製造法に関する。
　酸素原子が硫黄原子に置き換わったチオヌクレオシドが、抗ウイルス活性および／または抗腫瘍活性を示すことが知られている。
　たとえば、１－（２－デオキシ－２－フルオロ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシン（以下、「化合物Ａ」と称することがある。）は、優れた抗腫瘍活性を有し、腫瘍治療剤として有用であることが知られている（特許文献１）。化合物Ａの製造法として、たとえば、１，２：５，６－ジ－Ｏ－イソプロピリデン－α－Ｄ－アロフラノースを用いる方法が知られている（特許文献１）。また、５－Ｏ－ベンジル－２，３－Ｏ－イソプロピリデン－Ｌ－リキソノ－１，４－ラクトンを用いる方法が知られている（特許文献２）。
　また、含硫黄５員環化合物の製造方法として、γ－ハロゲノエステルをチオ酢酸カリウムと反応させる方法（非特許文献１）、γ－ハロゲノケトンを硫化水素ナトリウムと反応させる方法（非特許文献２）などが知られている。
国際公開第１９９７／０３８００１号パンフレット 国際公開第２０１１／０７４４８４号パンフレット
ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(Journal of Medicinal Chemistry)、2003年、第46巻、第389-398頁 ヨーロピアン・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(European Journal of Organic Chemistry)、2012年、第203-210頁
　しかし、非特許文献１に記載された製造法は、極低温下（-78℃）の反応である、取扱いに注意を要する試薬を用いる、立体選択性が低いなどの問題点を有する。非特許文献２に記載された製造法は、チオヌクレオシドの構造が限定される、反応性が低い、という問題点を有する。
　また、特許文献１および特許文献２に記載された製造法は、工程数が多い、カラムクロマトグラフィーを必要とする、収率が低い、有害な試薬を使用する、などの問題点を有する。
　そのため、短時間・高反応率、高立体選択性で、工業的な製造に好ましくない反応条件、試薬を使用しない、チオヌクレオシドおよび化合物Ａの工業的製造法が強く求められている。
　本発明の課題は、チオヌクレオシドの製造などに有用な新規化合物およびそれらの製造法を提供することである。
　また、本発明の課題は、抗腫瘍剤として有用な化合物Ａの製造などに有用な新規化合物およびそれらの製造法を提供することである。
　本発明者らは、上記問題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、一般式［１Ｄ］で表される化合物を硫黄化合物と反応させることにより、一般式［１Ｅ］で表される化合物が短時間・高反応率、高立体選択性で得られることを見出した。更に、一般式［４Ａａ］で表される化合物から、一般式［１Ａａ］で表される化合物を経て、チオヌクレオシドを工業的に製造することができることを見出した。
　また、本発明者らは、一般式［１］で表される化合物が、化合物Ａの製造のための有用な中間体であることを見出した。更に本発明者らは、一般式［４］で表される化合物から、一般式［１］で表される化合物を経て、短時間・高反応率、高立体選択性で、工業的な製造に好ましくない反応条件、試薬を使用せずに化合物Ａを工業的に製造することができることを見出し、本発明を完成させた。
　即ち、本発明によれば、一般式［１Ｄ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000152
 （式中、Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂは、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいアリール基または置換されてもよい複素環式基を示し；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１５］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000153
 （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ２ＡおよびＲ２Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000154
 （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ３ＡおよびＲ３Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａは、一緒になって、一般式［１７］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000155
 （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手を形成してもよく；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよい芳香環を形成してもよく；Ｘは、脱離基を示す。）で表される化合物を、硫黄化合物と反応させることを特徴とする、一般式［１Ｅ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000156
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様の意味を有する。）で表される化合物の製造法が提供される。
　また、本発明によれば、一般式［４Ａａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000157
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様の意味を有する。）で表される化合物を、一般式［５］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000158
 （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される化合物またはその塩と反応させ、一般式［１Ａａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000159
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、次の（１）または（２）の方法、
「（１）
一般式［１Ａａ］で表される化合物を、塩基の存在下、ハロゲン化剤と反応させる方法、
（２）一般式［１Ａａ］で表される化合物を、塩基の存在下、一般式［６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000160
 （式中、Ｒ８は、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基を示し；Ｘ１は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応させ、一般式［１Ｂａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000161
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｂａ］で表される化合物をアルカリ金属のハロゲン化物と反応させる方法」
によって、一般式［１Ｃａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000162
 （式中、Ｒ４ａは、ハロゲン原子を示し；Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｃａ］で表される化合物を、加水分解し、一般式［１Ｄｄ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000163
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ４ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｄｄ］で表される化合物を、硫黄化合物と反応させ、一般式［１Ｅａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000164
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｅａ］で表される化合物を、一般式［７］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000165
 （式中、Ｒ９は、置換されてもよいアシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基を示し；Ｘ２は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［８］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000166
（式中、Ｒ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［９Ａａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000167
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［９Ａａ］で表される化合物を、保護された核酸塩基と反応させ、必要に応じて、脱保護することを特徴とする、一般式［１１Ａａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000168
 （式中、Ｂaseは、保護されてもよい核酸塩基を示し；Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表されるチオヌクレオシド誘導体の製造法が提供される。
　また、本発明によれば、一般式［１Ｂａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000169
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を、加水分解し、一般式［１Ｄｅ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000170
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｄｅ］で表される化合物を、硫黄化合物と反応させ、一般式［１Ｅｂ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000171
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｅｂ］で表される化合物を、一般式［７］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000172
 （式中、Ｒ９およびＸ２は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物、または、一般式［８］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000173
 （式中、Ｒ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［９Ａｂ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000174
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［９Ａｂ］で表される化合物を、保護された核酸塩基と反応させ、必要に応じて、脱保護することを特徴とする、一般式［１１Ａｂ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000175
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＢaseは、前記と同様な意味を有する。）で表されるチオヌクレオシド誘導体の製造法が提供される。
　また、本発明によれば、一般式［４］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000176
 （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物を、一般式［５］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000177
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物またはその塩と反応させ、一般式［１ａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000178
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、次の（１）または（２）の方法、
「（１）一般式［１ａ］で表される化合物を、塩基の存在下、ハロゲン化剤と反応させる方法、
（２）一般式［１ａ］で表される化合物を、塩基の存在下、一般式［６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000179
 （式中、Ｒ８は、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基を示し；Ｘ１は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応させ、一般式［１ｂ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000180
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１ｂ］で表される化合物を、アルカリ金属のハロゲン化物と反応させる方法」
によって、一般式［１ｃ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000181
 （式中、Ｒ４ａは、ハロゲン原子を示し：Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１ｃ］で表される化合物を、加水分解し、一般式［１ｄ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000182
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ４ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１ｄ］で表される化合物を、硫黄化合物と反応させ、一般式［１ｅ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000183
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１ｅ］で表される化合物を、一般式［７］
（式中、Ｒ９は、置換されてもよいアシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基を示し；Ｘ２は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［８］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000185
 （式中、Ｒ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［９］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000186
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、次の（１）～（４）のいずれかの方法、
「（１）
一般式［９］で表される化合物を、保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンと反応させ、一般式［１１］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000187
 （式中、Ｒ１０は、水素原子または置換されてもよいアシル基を示し；Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１］で表される化合物を、脱保護する方法、
（２）
一般式［９］で表される化合物を、保護されたシトシンと反応させ、一般式［１１ａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000188
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ａ］で表される化合物を、一般式［１２］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000189
 （式中、Ｒ１０ａは、置換されてもよいアシル基を示し；Ｘ４は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［１３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000190
 （式中、Ｒ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［１１ｂ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000191
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ｂ］で表される化合物を、脱保護する方法、
（３）
一般式［９］で表される化合物をハロゲン化して一般式［１０］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000192
 （式中、Ｘ３は、ハロゲン原子を示し；Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１０］で表される化合物を、保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンと反応させることにより、一般式［１１］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000193
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１］で表される化合物を、脱保護する方法、
（４）
一般式［９］で表される化合物をハロゲン化して、一般式［１０］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000194
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＸ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１０］で表される化合物を、保護されたシトシンと反応させ、一般式［１１ａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000195
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ａ］で表される化合物を、一般式［１２］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000196
 （式中、Ｒ１０ａおよびＸ４は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物、または、一般式［１３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000197
 （式中、Ｒ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［１１ｂ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000198
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ｂ］で表される化合物を、脱保護する方法」
によって製造することを特徴とする、一般式［１４］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000199
 （式中、Ｒ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される１－（２－デオキシ－２－ハロゲノ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシンの製造法が提供される。
　また、本発明によれば、一般式［１Ｆ］
一般式［１Ｆ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000200
 （式中、Ｒ１は、水素原子またはヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２は、水素原子またはヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１およびＲ２は、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３Ｃは、水素原子、ハロゲン原子、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000201
 （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す。）で表される基または置換されてもよいＣ１－６アルキル基を示し；Ｒ３Ｄは水素原子、ハロゲン原子、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000202
 （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基または置換されてもよいＣ１－６アルキル基を示し；Ｒ４は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基を示し；Ｒ５およびＲ６は、一緒になって、一般式［２］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000203
 （式中、Ｙは、酸素原子または一般式［３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000204
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基を示す前記と同様な意味を有する。）で表される基を示し；または、Ｒ４およびＲ５は、一緒になって、硫黄原子を示し；Ｒ６は、ヒドロキシル基を示す。但し、Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、式［２ａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000205
 で表される基である場合、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方は、ハロゲン原子であり、他方は、水素原子であり、Ｒ４は、ハロゲン原子、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基であり；Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、水素原子である場合、他方は、ハロゲン原子、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000206
 （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基または置換されてもよいＣ１－６アルキル基であり；Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、水素原子であり、他方が、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000207
 （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基である場合、Ｒ２はヒドロキシル保護基であり；Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、一般式［３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000208
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000209
 （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり、他方が、水素原子であり、Ｒ４が、ヨウ原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である場合、Ｒ１は、置換されてもよいアシル基であり、Ｒ２は、置換されてもよいアシル基であり；Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、一般式［３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000210
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり、Ｒ３Ｃが水素原子であり、Ｒ３Ｄが、水素原子であり、Ｒ４が、ヒドロキシル基である場合、Ｒ１は、置換されてもよいアロイル基であり、Ｒ２は、置換されてもよいアロイル基である。）で表される化合物が提供される。
　さらに、本発明によれば、一般式［１］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000211
 （式中、Ｒ１は、水素原子またはヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２は、水素原子またはヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１およびＲ２は、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３は、ハロゲン原子を示し；Ｒ４は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基を示し；Ｒ５およびＲ６は、一緒になって、一般式［２］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000212
 （式中、Ｙは、酸素原子または一般式［３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000213
 （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される基を示す。）で表される基を示し；または、Ｒ４およびＲ５は、一緒になって、硫黄原子を示し；Ｒ６は、ヒドロキシル基を示す。但し、Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、式［２ａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000214
 で表される基である場合、Ｒ４は、ハロゲン原子、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である。）で表される化合物が提供される。
　さらに、本発明によれば
一般式［１Ｇ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000215
 （式中、Ｒ１Ｃは、メチル基または置換されてもよいアリール基を示し、Ｒ１Ｄは、水素原子を示し、Ｒ２Ｃは、水素原子または置換されてもよいアリール基を示し、Ｒ３Ｅは、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し、または、Ｒ２ＣおよびＲ３Ｅは、一緒になって、一般式［１７］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000216
 （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し、左側の結合手が、Ｒ２Ｃが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手を示し、但し、Ｒ１ＣおよびＲ１Ｄの一方がメチル基であり、他方が水素原子であり、Ｒ２Ｃが水素原子の場合、Ｒ３Ｅは、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基または置換されてもよい複素環式チオ基であり；またはＲ１Ｃは、水素原子を示し、Ｒ１Ｄは、水素原子を示し、Ｒ２Ｃは、水素原子を示し、Ｒ３Ｅは、置換されてもよいアロイルアミノ基を示し；またはＲ１Ｃは、水素原子を示し、Ｒ１Ｄは、水素原子を示し、Ｒ２ＣおよびＲ３Ｅは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、保護されたヒドロキシル基で置換されたベンゼン環を形成し；またはＲ１Ｃは、保護されてもよいカルボキシル基を示し、Ｒ１Ｄは、保護されてもよいカルボキシル基を示し、Ｒ２Ｃは、水素原子を示し、Ｒ３Ｅは、水素原子を示す。）で表される化合物が提供される。
　本発明の化合物は、チオヌクレオシドを製造するための中間体として有用であり、本発明の製造法は、チオヌクレオシドの製造法として有用である。
　また、本発明の化合物は、化合物Ａを製造するための中間体として有用である。本発明の製造法は、化合物Ａの製造法として有用である。
　以下、本発明を詳細に説明する。
　本発明において、特にことわらない限り、各用語は、次の意味を有する。
　ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。
　Ｃ１－６アルキル基とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチルおよびヘキシル基などの直鎖状または分枝鎖状のＣ１－６アルキル基を意味する。
　Ｃ２－６アルケニル基とは、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、１，３－ブタジエニル、ペンテニルおよびヘキセニル基などの直鎖状または分枝鎖状のＣ２－６アルケニル基を意味する。
　Ｃ２－６アルキニル基とは、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルおよびヘキシニル基などの直鎖状または分枝鎖状のＣ２－６アルキニル基を意味する。
　Ｃ３－８シクロアルキル基とは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル基などのＣ３－８シクロアルキル基を意味する。
　アリール基とは、フェニルまたはナフチル基などを意味する。
　アルＣ１－６アルキル基とは、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、フェネチルおよびナフチルメチル基などのアルＣ１－６アルキル基を意味する。
　Ｃ１－３アルキレン基とは、メチレン、エチレンまたはプロピレン基などを意味する。
　Ｃ１－６アルキリデン基とは、メチリデン、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、ペンチリデンおよびヘキシルデンなどの直鎖状または分枝鎖状のＣ１－６アルキリデン基を意味する。
　Ｃ１－６アルコキシ基とは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ、ペンチルオキシおよびヘキシルオキシ基などの直鎖状または分枝鎖状のＣ１－６アルキルオキシ基を意味する。
　アリールオキシ基とは、フェノキシまたはナフチルオキシ基などを意味する。
　Ｃ１－６アルコキシＣ１－６アルキル基とは、メトキシメチルおよび１－エトキシエチル基などのＣ１－６アルキルオキシＣ１－６アルキル基を意味する。
　Ｃ２－６アルカノイル基とは、アセチル、プロピオニル、バレリル、イソバレリルおよびピバロイル基などの直鎖状または分枝鎖状のＣ２－６アルカノイル基を意味する。
　アロイル基とは、ベンゾイルまたはナフトイル基などを意味する。
　複素環式カルボニル基とは、ニコチノイル、テノイル、ピロリジノカルボニルまたはフロイル基などを意味する。
　（α－置換）アミノアセチル基とは、アミノ酸（グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、システイン、メチオニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、アスパラギン、グルタミン、アルギニン、リジン、ヒスチジン、ヒドロキシリジン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、プロリンおよびヒドロキシプロリンなどのアミノ酸が挙げられる。）から誘導されるＮ末端が保護されていてもよい（α－置換）アミノアセチル基を意味する。
　アシル基とは、ホルミル基、スクシニル基、グルタリル基、マレオイル基、フタロイル基、Ｃ２－６アルカノイル基、アロイル基、複素環式カルボニル基または（α－置換）アミノアセチル基などを意味する。
　Ｃ２－６アルカノイルオキシ基とは、アセチルオキシおよびプロピオニルオキシ基などの直鎖状または分枝鎖状のＣ２－６アルカノイルオキシ基を意味する。
　アロイルオキシ基とは、ベンゾイルオキシまたはナフトイルオキシ基などを意味する。
　アシルオキシ基とは、Ｃ２－６アルカノイルオキシ基またはアロイルオキシ基を意味する。
　Ｃ１－６アルコキシカルボニル基とは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルおよび１，１－ジメチルプロポキシカルボニル基などの直鎖状または分枝鎖状のＣ１－６アルキルオキシカルボニル基を意味する。
　アリールオキシカルボニル基とは、フェニルオキシカルボニルまたはナフチルオキシカルボニル基などを意味する。
　アルＣ１－６アルコキシカルボニル基とは、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニルおよびナフチルメチルオキシカルボニル基などのアルＣ１－６アルキルオキシカルボニル基を意味する。
　Ｃ１－６アルコキシカルボニルオキシ基とは、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、イソプロポキシカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルオキシおよび１，１－ジメチルプロポキシカルボニルオキシ基などの直鎖状または分枝鎖状のＣ１－６アルキルオキシカルボニルオキシ基を意味する。
　Ｃ１－６アルキルアミノ基とは、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、ｓｅｃ－ブチルアミノ、ｔｅｒｔ－ブチルアミノ、ペンチルアミノおよびヘキシルアミノ基などの直鎖状または分枝鎖状のＣ１－６アルキルアミノ基を意味する。
　ジ（Ｃ１－６アルキル）アミノ基とは、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）アミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、（エチル）（メチル）アミノおよび（メチル）（プロピル）アミノ基などの直鎖状または分枝鎖状のジ（Ｃ１－６アルキル）アミノ基を意味する。
　アロイルアミノ基とは、ベンゾイルアミノ基などのアロイル基で置換されたアミノ基を意味する。
　Ｃ１－６アルキルチオ基とは、メチルチオ、エチルチオおよびプロピルチオ基などのＣ１－６アルキルチオ基を意味する。
　Ｃ１－６アルキルスルホニル基とは、メチルスルホニル、エチルスルホニルおよびプロピルスルホニル基などのＣ１－６アルキルスルホニル基を意味する。
　アリールスルホニル基とは、ベンゼンスルホニル、ｐ－トルエンスルホニルまたはナフタレンスルホニル基などを意味する。
　Ｃ１－６アルキルスルホニルオキシ基とは、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシおよびプロピルスルホニルオキシ基などのＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基を意味する。
　アリールスルホニルオキシ基とは、フェニルスルホニルオキシまたはナフチルスルホミルオキシ基などを意味する。
　芳香環とはベンゼン環またはナフタレン環などを意味する。
　シロキサン基とは、ジシロキサン基またはトリシロキサン基などを意味する。
　単環の含窒素複素環式基とは、アゼチジニル、ピロリジニル、ピロリニル、ピロリル、ピペリジル、テトラヒドロピリジル、ピリジル、ホモピペリジニル、オクタヒドロアゾシニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、イミダゾリル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリル、ピペラジニル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ホモピペラジニル、トリアゾリルおよびテトラゾリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む単環の含窒素複素環式基を意味する。
　単環の含酸素複素環式基とは、テトラヒドロフラニル、フラニル、テトラヒドロピラニルまたはピラニル基などを意味する。
　単環の含硫黄複素環式基とは、チエニル基などを意味する。
　単環の含窒素・酸素複素環式基とは、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリルおよびモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む単環の含窒素・酸素複素環式基を意味する。
　単環の含窒素・硫黄複素環式基とは、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、チオモルホリニル、１－オキシドチオモルホリニルおよび１，１－ジオキシドチオモルホリニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む単環の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
　単環の複素環式基とは、単環の含窒素複素環式基、単環の含酸素複素環式基、単環の含硫黄複素環式基、単環の含窒素・酸素複素環式基または単環の含窒素・硫黄複素環式基などを意味する。
　二環式の含窒素複素環式基とは、インドリニル、インドリル、イソインドリニル、イソインドリル、ベンズイミダゾリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、キノリル、テトラヒドロキノリニル、キノリル、テトラヒドロイソキノリニル、イソキノリニル、キノリジニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ジヒドロキノキサリニル、キノキサリニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリジニルおよびキヌクリジニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む二環式の含窒素複素環式基を意味する。
　二環式の含酸素複素環式基とは、２，３－ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、クロマニル、クロメニル、イソクロマニル、１，３－ベンゾジオキソリル、１，３－ベンゾジオキサニルおよび１，４－ベンゾジオキサニル基などの該環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む二環式の含酸素複素環式基を意味する。
　二環式の含硫黄複素環式基とは、２，３－ジヒドロベンゾチエニルおよびベンゾチエニル基などの該環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む二環式の含硫黄複素環式基を意味する。
　二環式の含窒素・酸素複素環式基とは、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾモルホリニル、ジヒドロピラノピリジル、ジヒドロジオキシノピリジルおよびジヒドロピリドオキサジニル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む二環式の含窒素・酸素複素環式基を意味する。
　二環式の含窒素・硫黄複素環式基とは、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリルおよびベンゾチアジアゾリル基などの該環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子を含む二環式の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
　二環式の複素環式基とは、二環式の含窒素複素環式基、二環式の含酸素複素環式基、二環式の含硫黄複素環式基、二環式の含窒素・酸素複素環式基または二環式の含窒素・硫黄複素環式基などを意味する。
　複素環式基とは、単環の複素環式基または二環式の複素環式基を意味する。
　複素環式オキシ基とは、複素環式基の環を形成する炭素原子に結合する水素原子（－Ｈ）が酸素原子（－Ｏ－）に置換された基を意味する。
　複素環式チオ基とは、複素環式基の環を形成する炭素原子に結合する水素原子（－Ｈ）が硫黄原子（－Ｓ－）に置換された基を意味する。
　シリル基とは、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、トリブチルシリル、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルまたはｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基などを意味する。
　シリル化とは、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アミド基またはメルカプト基などの水素原子をシリル基に置換することを意味する。
　Ｎ４－アシルシトシンとは、Ｎ４－ホルミルシトシン、Ｎ４－アセチルシトシン、Ｎ４－プロピオニルシトシン、Ｎ４－ピバロイルシトシン、Ｎ４－ベンゾイルシトシン、Ｎ４－（４－メチルベンゾイル）シトシン、Ｎ４－（４－ブロモベンゾイル）シトシン、Ｎ４－（４－ニトロベンゾイル）シトシンおよびＮ４－（４－メトキシベンゾイル）シトシンなどのアミノ基が置換されてもよいアシル基で保護されたシトシンを意味する。
　保護されたシトシンとは、Ｎ４，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）－４－アミノ－２－ヒドロキシピリミジンおよびＮ４，Ｏ－ビス（トリエチルシリル）－４－アミノ－２－ヒドロキシピリミジンなどのシリル基で保護されたシトシンを意味する。
　保護されたＮ４－アシルシトシンとは、２－トリメチルシリルオキシ－４－アセチルアミノピリミジン、Ｎ４，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）－４－アセチルアミノ－２－ヒドロキシピリミジン、２－トリエチルシリルオキシ－４－アセチルアミノピリミジン、Ｎ４，Ｏ－ビス（トリエチルシリル）－４－アセチルアミノ－２－ヒドロキシピリミジン、２－トリメチルシリルオキシ－４－ベンゾイルアミノピリミジンおよびＮ４，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）－４－ベンゾイルアミノ－２－ヒドロキシピリミジンなどのシリル基で保護されたＮ４－アシルシトシンを意味する。
　核酸塩基とは、置換されてもよいアデニン、置換されてもよいグアニン、置換されてもよいシトシン、置換されてもよいチミンまたは置換されてもよいウラシルを意味する。
　保護された核酸塩基とは、アミノ基および／またはヒドロキシル基がシリル基で保護された核酸塩基を意味する。
　脱離基とは、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基を意味する。Ｃ１－６アルキルスルホニルオキシ基およびアリールスルホニルオキシ基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　ヒドロキシル保護基としては、通常のヒドロキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、16～366頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載されている基が挙げられる。
　具体例としては、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、アルＣ１－６アルキル基、Ｃ１－６アルコキシＣ１－６アルキル基、アシル基、Ｃ１－６アルコキシカルボニル基、Ｃ１－６アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基またはシリル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　アミノ保護基としては、通常のアミノ基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、696～926頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載されている基が挙げられる。
　具体例としては、アルＣ１－６アルキル基、Ｃ１－６アルコキシＣ１－６アルキル基、アシル基、Ｃ１－６アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、Ｃ１－６アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはシリル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　カルボキシル保護基としては、通常のカルボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、533～646頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載されている基が挙げられる。
　具体例としては、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、アリール基、アルＣ１－６アルキル基、Ｃ１－６アルコキシＣ１－６アルキル基またはシリル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　置換基群Ａ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいヒドロキシル基、保護されてもよいカルボキシル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいカルバモイル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいスルファモイル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ３－８シクロアルキル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールオキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アシルオキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニルオキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキルアミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ（Ｃ１－６アルキル）アミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－１２シリル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい複素環式基、オキソ基。
　置換基群Ｂ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいヒドロキシル基、保護されてもよいカルボキシル基、Ｃ１－６アルキル基、アリール基、Ｃ１－６アルコキシ基、複素環式基、オキソ基。
　脂肪族炭化水素類としては、ペンタン、ヘキサンまたはシクロヘキサンなどが挙げられる。
　ハロゲン化炭化水素類としては、塩化メチレン、クロロホルムまたは１，２－ジクロロエタンなどが挙げられる。
　アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、２－プロパノール、ブタノールまたは２－メチル－２－プロパノールなどが挙げられる。
　エーテル類としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルまたはジエチレングリコールジエチルエーテルなどが挙げられる。
　エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピルまたは酢酸ブチルなどが挙げられる。
　ケトン類としては、アセトン、２－ブタノンまたは４－メチル－２－ペンタノンなどが挙げられる。
　ニトリル類としては、アセトニトリルなどが挙げられる。
　アミド類としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドまたはＮ－メチルピロリドンなどが挙げられる。
　スルホキシド類としては、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
　カルボン酸としては、酢酸などが挙げられる。
　芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエンまたはキシレンなどが挙げられる。
　尿素類としては、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンなどが挙げられる。
　塩基としては有機塩基と無機塩基が挙げられる。
　有機塩基としては、トリエチルアミン、ピリジンまたはＮ－メチルイミダゾールなどが挙げられる。
　無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたはリン酸ナトリウムなどが挙げられる。
　Ｒ１ＡおよびＲ１ＢのＣ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、アリール基および複素環式基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ１Ｃのアリール基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ２ＡおよびＲ２ＢのＣ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ１－６アルコキシ基、Ｃ１－６アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、複素環式基、複素環式オキシ基および複素環式チオ基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ２Ｃのアリール基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂが一緒になって形成するＣ１－６アルキリデン基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ３ＡおよびＲ３ＢのＣ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ１－６アルコキシ基、Ｃ１－６アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、複素環式基、複素環式オキシ基および複素環式チオ基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂが一緒になって形成するＣ１－６アルキリデン基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ３ＣおよびＲ３ＤのＣ１－６アルキル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ３ＥのＣ１－６アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、複素環式チオ基およびアロイルアミノ基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂがそれらが結合する炭素原子と一緒になって形成する芳香環は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂがそれらが結合する炭素原子と一緒になって形成するベンゼン環は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｙ１のＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　核酸塩基および保護された核酸塩基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ１およびＲ２のアシル基およびアロイル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ１およびＲ２が一緒になって形成するＣ１－３アルキレン基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ１ａおよびＲ２ａが一緒になって形成するＣ１－３アルキレン基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ１ａのベンゾイル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ２ａのベンゾイル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ４のＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ４のアリールスルホニルオキシ基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ７のＣ１－６アルキル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ７のアリール基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ７の複素環式基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ７のシリル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ８のＣ１－６アルキル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ８のアリール基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ９のアシル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ９のＣ１－６アルキルスルホニル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ９のアリールスルホニル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ１０およびＲ１０ａのアシル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　一般式［１Ｆ］で表される化合物において、好ましい化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
　Ｒ１が、ヒドロキシル保護基である化合物が好ましい。
　Ｒ２が、ヒドロキシル保護基である化合物が好ましい。
　Ｒ１およびＲ２が、ともにヒドロキシル保護基である化合物が好ましい。
　Ｒ１またはＲ２のヒドロキシル保護基としては、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシンナモイル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロピラニル基が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシンナモイル基がより好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２－６アルカノイル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアロイル基がさらに好ましく、アセチル基、ピバロイル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基がよりさらに好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基がよりさらにより好ましく、ベンゾイル基、４－クロロベンゾイル基、２，４－ジクロロベンゾイル基、４－ニトロベンゾイル基、４－メトキシベンゾイル基、４－（トリフルオロメチル）ベンゾイル基、４－フェニルベンゾイル基、３，５ジメチルベンゾイル基または４－メチルベンゾイル基が特に好ましく、ベンゾイル基が最も好ましい。
　Ｒ３Ｃが、水素原子またはハロゲン原子である化合物が好ましく、水素原子、フッ素原子または塩素原子である化合物がより好ましく、水素原子またはフッ素原子である化合物がさらに好ましい。
　Ｒ３Ｄが、水素原子またはハロゲン原子である化合物が好ましく、水素原子、フッ素原子または塩素原子ある化合物がより好ましく、水素原子またはフッ素原子である化合物がさらに好ましい。
　Ｒ４が、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である化合物が好ましく、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシル基、メチルスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、３－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、４－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルオキシ基またはペンタフルオロベンゼンスルホニルオキシ基である化合物がより好ましく、ヒドロキシル基、塩素原子、臭素原子、メチルスルホニル基または２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルオキシ基である化合物がさらに好ましい。
　Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、式［２ａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000217
 で表される基である場合、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、ハロゲン原子であり、他方が、水素原子である化合物が好ましく、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、フッ素原子であり、他方が、水素原子である化合物がより好ましい。Ｒ４が、ハロゲン原子、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である化合物が好ましい。
　Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、水素原子である場合、他方が、ハロゲン原子である化合物が好ましく、フッ素原子である化合物がより好ましい。
　Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、水素原子であり、他方が、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000218
 （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基である場合、Ｒ２はヒドロキシル保護基である化合物が好ましい。
　Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、一般式［３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000219
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000220
 （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり、他方が水素原子であり、Ｒ４がヨウ原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である場合、Ｒ１が、置換されてもよいアシル基であり、Ｒ２が、置換されてもよいアシル基である化合物が好ましい。
　Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、一般式［３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000221
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が水素原子であり、他方が水素原子であり、Ｒ４がヒドロキシル基である場合、Ｒ１が置換されてもよいアロイル基であり、Ｒ２が置換されてもよいアロイル基である化合物が好ましい。
　Ｙが、一般式［３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000222
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基である場合、Ｒ７が、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基である化合物が好ましく、水素原子、メチル基、ベンジル基またはフェニル基である化合物がより好ましく、メチル基またはベンジル基である化合物がさらに好ましい。
　Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子である場合、Ｒ６がヒドロキシル基である化合物が好ましい。
　一般式［１］で表される化合物において、好ましい化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
　Ｒ１が、ヒドロキシル保護基である化合物が好ましい。
　Ｒ２が、ヒドロキシル保護基である化合物が好ましい。
　Ｒ１およびＲ２が、ともにヒドロキシル保護基である化合物が好ましい。
　Ｒ１およびＲ２は、同一でもよいし、異なってもよい。
　Ｒ１またはＲ２のヒドロキシル保護基としては、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシンナモイル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロピラニル基が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシンナモイル基がより好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２－６アルカノイル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアロイル基がさらに好ましく、アセチル基、ピバロイル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基がよりさらに好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基がよりさらにより好ましく、ベンゾイル基、４－クロロベンゾイル基、２，４－ジクロロベンゾイル基、４－ニトロベンゾイル基、４－メトキシベンゾイル基、４－（トリフルオロメチル）ベンゾイル基、４－フェニルベンゾイル基、３，５ジメチルベンゾイル基または４－メチルベンゾイル基が特に好ましく、ベンゾイル基が最も好ましい。
　保護基としてのベンゾイル基は、脱保護が容易であり、本発明の製造法の反応条件に耐えるという利点を有する。また、本発明の製造法によって得られるベンゾイル基で保護された化合物は、結晶性に優れ、精製が容易である。
　Ｒ３が、フッ素原子または塩素原子である化合物が好ましく、フッ素原子である化合物がより好ましい。
　Ｒ４が、ハロゲン原子、ヒドロキシル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である化合物が好ましく、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシル基、２－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、３－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、４－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルオキシ基またはペンタフルオロベンゼンスルホニルオキシ基である化合物がより好ましく、ヒドロキシル基、塩素原子、臭素原子または２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルオキシ基である化合物がさらに好ましい。
　Ｒ４が、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である場合、Ｒ５およびＲ６は、一緒になって、一般式［２］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000223
 （式中、Ｙは、前記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物が好ましい。
　Ｙが、酸素原子である化合物がより好ましい。
　Ｙが、一般式［３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000224
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基である場合、Ｒ７が、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基である化合物が好ましく、水素原子、メチル基、ベンジル基またはフェニル基である化合物がより好ましく、メチル基またはベンジル基である化合物がさらに好ましい。
　Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子である場合、Ｒ６がヒドロキシル基である化合物が好ましい。
　一般式［１Ｇ］で表される化合物において、好ましい化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
　Ｒ１Ｃがメチル基であり、Ｒ１Ｄが水素原子である化合物が好ましい。
　Ｒ２ＣおよびＲ３Ｅが、一緒になって、一般式［１７］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000225
 （式中、Ｙ１は、前記と同様な意味を有する。）で表される基または結合手であることが好ましい。
Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基であることが好ましい。
　本発明の製造法において、好ましい製造法としては、以下の製造法が挙げられる。
　Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂが、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基である化合物を用いる製造法が好ましく、水素原子または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、水素原子、メチル基または一般式[１８]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000226
 （式中、Ｒ１ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　本発明の閉環反応は、高い反応性および高い立体選択性を有するため、Ｒ１ＡまたはＲ１Ｂの少なくとも一方が置換基である場合に特に効果が大きい。
　Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂの一方が水素原子であり、他方がメチル基または一般式[１８]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000227
 （式中、Ｒ１ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物を用いる製造法が特に好ましい。
　Ｒ１ａが、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシンナモイル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロピラニル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシンナモイル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２－６アルカノイル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアロイル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましく、アセチル基、ピバロイル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基である化合物を用いる製造法がよりさらに好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基である化合物を用いる製造法がよりさらにより好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基である化合物を用いる製造法がよりさらに好ましく、ベンゾイル基、４－クロロベンゾイル基、２，４－ジクロロベンゾイル基、４－ニトロベンゾイル基、４－メトキシベンゾイル基、４－（トリフルオロメチル）ベンゾイル基、４－フェニルベンゾイル基、３，５ジメチルベンゾイル基または４－メチルベンゾイル基である化合物を用いる製造法が特に好ましく、ベンゾイル基である化合物を用いる製造法が最も好ましい。
　保護基としてのベンゾイル基は、脱保護が容易であり、本発明の製造法の反応条件に耐えるという利点を有する。また、本発明の製造法によって得られるベンゾイル基で保護された化合物は、結晶性に優れ、精製が容易である。
　Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂが、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、一般式［１５］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000228
 （式中、Ｒ２ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基または置換されてもよいアリール基である化合物を用いる製造法が好ましく、水素原子、一般式［１５］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000229
 （式中、Ｒ２ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基または置換されてもよいアリール基である化合物を用いる製造法がより好ましく、水素原子、一般式［１５］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000230
 （式中、Ｒ２ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂの一方が水素原子であり、他方が一般式［１５］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000231
 （式中、Ｒ２ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物を用いる製造法が特に好ましい。
　Ｒ２ａが、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシンナモイル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロピラニル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ１－６アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシンナモイル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ２－６アルカノイル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアロイル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましく、アセチル基、ピバロイル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基である化合物を用いる製造法がよりさらに好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基である化合物を用いる製造法がよりさらにより好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいベンゾイル基である化合物を用いる製造法がよりさらに好ましく、ベンゾイル基、４－クロロベンゾイル基、２，４－ジクロロベンゾイル基、４－ニトロベンゾイル基、４－メトキシベンゾイル基、４－（トリフルオロメチル）ベンゾイル基、４－フェニルベンゾイル基、３，５ジメチルベンゾイル基または４－メチルベンゾイル基である化合物を用いる製造法が特に好ましく、ベンゾイル基である化合物を用いる製造法が最も好ましい。
　保護基としてのベンゾイル基は、脱保護が容易であり、本発明の製造法の反応条件に耐えるという利点を有する。また、本発明の製造法によって得られるベンゾイル基で保護された化合物は、結晶性に優れ、精製が容易である。
　Ｒ１ａおよびＲ２ａは、同一でもよいし、異なってもよい。
　Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂが、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、保護されてもよいアミノ基、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000232
 （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基または置換されてもよい複素環式チオ基である化合物を用いる製造法が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000233
 （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールオキシ基である化合物を用いる製造法がより好ましい。
　Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂの一方が水素原子であり、他方がハロゲン原子、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000234
 （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールオキシ基である化合物を用いる製造法が好ましく、一方が水素原子、他方がハロゲン原子、一般式［１６］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000235
 （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物を用いる製造法がより好ましい。
　Ｒ２ＡおよびＲ３Ａが、一緒になって、一般式［１７］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000236
 （式中、Ｙ１は、前記と同様な意味を有する。）で表される基または結合手である化合物を用いる製造法が好ましい。
　Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基である化合物を用いる製造法が好ましい。
　Ｒ３が、フッ素原子または塩素原子である化合物を用いる製造法が好ましく、フッ素原子である化合物を用いる製造法がより好ましい。
　Ｒ４が、ハロゲン原子、ヒドロキシル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である化合物を用いる製造法が好ましく、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシル基、２－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、３－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、４－ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルオキシ基またはペンタフルオロベンゼンスルホニルオキシ基である化合物を用いる製造法がより好ましく、ヒドロキシル基、塩素原子、臭素原子または２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルオキシ基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　Ｒ４が、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である場合、Ｒ５およびＲ６は、一緒になって、一般式［２］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000237
 （式中、Ｙは、前記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物を用いる製造法が好ましい。
　Ｙが、酸素原子である化合物を用いる製造法がより好ましい。
　Ｙが、一般式［３］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000238
 （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基である場合、Ｒ７が、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基である化合物を用いる製造法が好ましく、水素原子、メチル基、ベンジル基またはフェニル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、メチル基またはベンジル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子である場合、Ｒ６がヒドロキシル基である化合物を用いる製造法が好ましい。
　Ｒ９が、置換されてもよいアシル基である化合物を用いる製造法が好ましく、アシル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、アセチル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　Ｘ３が、臭素原子である化合物を用いる製造法が好ましい。
　核酸塩基が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアデニン、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいグアニン、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシトシン、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいチミンまたは置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいウラシルである化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシトシンである化合物を用いる製造法がより好ましい。
　保護されたシトシンが、Ｎ４，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）－４－アミノ－２－ヒドロキシピリミジンである化合物を用いる製造法が好ましい。
　保護されたＮ４－アシルシトシンが、２－トリメチルシリルオキシ－４－アセチルアミノピリミジンまたはＮ４，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）－４－アセチルアミノ－２－ヒドロキシピリミジンである化合物を用いる製造法が好ましく、Ｎ４，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）－４－アセチルアミノ－２－ヒドロキシピリミジンである化合物を用いる製造法がより好ましい。
　Ｒ１０ａが、ホルミル基、置換されてもよいＣ２－６アルカノイル基または置換されてもよいアロイル基である化合物を用いる製造法が好ましく、Ｃ２－６アルカノイル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、アセチル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　一般式［１１ａ］で表される化合物から一般式［１１ｂ］で表される化合物を製造する工程において、一般式［１３］で表される化合物を用いることが好ましい。
　一般式［９］で表される化合物から１－（２－デオキシ－２－ハロゲノ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシンを製造する方法が、（３）または（４）の方法であることが好ましく、（４）の方法であることがより好ましい。
　（３）の方法を用いる場合、保護されたＮ４－アシルシトシンを用いることが好ましい。
　一般式［１１ｂ］で表される化合物を、固体として単離することが好ましい。単離することによって、化合物Ａの純度が向上する。
　次に本発明の製造法について説明する。
製造法１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000239
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＸは、前記と同様な意味を有する。）
　一般式［１Ｅ］で表される化合物は、一般式［１Ｄ］で表される化合物を硫黄化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類および尿素類が挙げられ、アミド類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１Ｄ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される硫黄化合物としては、硫化水素またはその塩が挙げられる。
　硫化水素の塩としては、硫化水素ナトリウム、硫化ナトリウム、硫化水素カリウム、硫化水素カルシウムおよび硫化マグネシウムなどが挙げられ、硫化水素ナトリウムが好ましい。
　硫黄化合物の使用量は、一般式［１Ｄ］で表される化合物に対して、0.2～10倍モルであればよく、0.5～2.0倍モルが好ましく、0.7～1.5倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-20～100℃であればよく、-10～80℃が好ましく、-5～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
　本製造法では、一般式［１Ｄ］で表される化合物のホルミル基に硫黄化合物が付加した後、求核置換反応が進行し、閉環するため、短時間、高反応性、高立体選択性の反応が実現できると推定できるが、本発明は、この反応機構に限定されるものではない。
　なお一般式［１Ｄ］で表される化合物は糖類を開環反応によって製造したものであってもよいし、他の方法で製造したものであってもよい。
製造法２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000240
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘ１、Ｘ２およびＢａｓｅは前記と同様な意味を有する。）
（第１工程）
　一般式［４Ａａ］で表される化合物として、たとえば、（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－ベンゾイルオキシ－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートが知られている。
　一般式［５］で表される化合物またはその塩として、たとえば、Ｏ－メチルヒドロキシルアミンおよびＯ－ベンジルヒドロキシルアミンなどが知られている。
　一般式［１Ａａ］で表される化合物は、一般式［４Ａａ］で表される化合物を一般式［５］で表される化合物またはその塩と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、芳香族炭化水素類および水が挙げられる。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［４Ａａ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される一般式［５］で表される化合物またはその塩の使用量は、一般式［４Ａａ］で表される化合物に対して、0.5～10倍モルであればよく、0.8～5.0倍モルが好ましく、1.0～2.0倍モルがより好ましい。
　一般式［５］で表される化合物の塩を用いる場合、塩基を添加することが好ましい。
　塩基としては、有機塩基および無機塩基が挙げられ、トリエチルアミンおよび炭酸水素ナトリウムが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式［５］で表される化合物の塩に対して、0.1～10倍モルであればよく、0.2～2.0倍モルが好ましく、0.5～1.5倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-10～100℃であればよく、-5～80℃が好ましく、0～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第２工程）
　一般式［６］で表される化合物として、たとえば、４―ニトロベンゼンスルホニルクロリド、２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリドおよびペンタフルオロベンゼンスルホニルクロリドなどが知られている。
　一般式［１Ｂａ］で表される化合物は、塩基の存在下、一般式［１Ａａ］で表される化合物を一般式［６］で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エステル類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられる。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１Ａａ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、有機塩基および無機塩基が挙げられ、トリエチルアミンおよびＮ－メチルイミダゾールが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式［１Ａａ］で表される化合物に対して、0.5～10倍モルであればよく、0.8～4.0倍モルが好ましく、1.0～3.0倍モルがより好ましい。
　この反応に使用される一般式［６］で表される化合物の使用量は、一般式［１Ａａ］で表される化合物に対して、0.5～10倍モルであればよく、0.8～4.0倍モルが好ましく、1.0～2.0倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-10～100℃であればよく、-5～80℃が好ましく、0～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第３工程）
　一般式［１Ｃａ］で表される化合物は、一般式［１Ｂａ］で表される化合物をアルカリ金属のハロゲン化物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類および尿素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類および尿素類が挙げられ、アミド類および尿素類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１Ｂａ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用されるアルカリ金属のハロゲン化物としては、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウムおよびヨウ化カリウムが挙げられ、臭化リチウムが好ましい。
　アルカリ金属のハロゲン化物の使用量は、一般式［１Ｂａ］で表される化合物に対して、0.5～20倍モルであればよく、0.8～8.0倍モルが好ましく、1.0～5.0倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-50～150℃であればよく、-10～120℃が好ましく、0～100℃がより好ましく、20～80℃がさらに好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（別法）
　一般式［１Ｃａ］で表される化合物は、塩基の存在下、一般式［１Ａａ］で表される化合物をハロゲン化剤と反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類、芳香族炭化水素類および尿素類が挙げられ、アミド類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１Ａａ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応におけるハロゲン化剤としては、塩素化剤および臭素化剤が挙げられる。
　塩素化剤としては、塩化ホスホリル、三塩化リン、五塩化リン、Ｖｉｌｓｍｅｉｅｒ試薬（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド－五塩化リン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド－オキシ塩化リン等）、Ｒｙｄｏｎ試薬（Ｐｈ３ＰＣｌ２、トリフェニルホスフィン－四塩化炭素）、塩化チオニルおよび塩化スルフリルなどが挙げられ、塩化スルフリルが好ましい。
　臭素化剤としては、三臭化リン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド－三臭化リン、トリフェニルホスフィン－四臭化炭素およびトリフェニルホスフィンジブロミドなどが挙げられる。
　ハロゲン化剤の使用量は、一般式［１Ａａ］で表される化合物に対して、0.1～10倍モルであればよく、0.8～5.0倍モルが好ましく、1.0～2.0倍モルがより好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、有機塩基および無機塩基が挙げられ、トリエチルアミンおよびピリジンが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式［１Ａａ］で表される化合物に対して、0.5～50倍モルであればよく、0.8～20倍モルが好ましく、1.0～10倍モルがより好ましい。
　この反応では、塩を添加することが好ましい。
　塩としては、塩化リチウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カルシウムおよびピリジン塩酸塩などが挙げられる。
　このハロゲン化反応においては、通常、エピマー混合物が得られる。一般式［１Ｃａ］の化合物の光学純度を向上させるために、塩化スルフリルおよび塩化リチウムを併用することが好ましい。
　塩の使用量は、一般式［１Ａａ］で表される化合物に対して、0.5～20倍モルであればよく、0.8～5.0倍モルが好ましく、1.0～3.0倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-50～80℃であればよく、-40～60℃が好ましく、-30～40℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第４工程）
　一般式［１Ｄｄ］で表される化合物は、酸の存在下、一般式［１Ｃａ］で表される化合物を加水分解することにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類および水が挙げられ、エーテル類および水がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１Ｃａ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される酸としては塩酸、硫酸、トルエンスルホン酸、酢酸、グリオキシル酸およびリン酸が挙げられ、グリオキシル酸が好ましい。
　酸の使用量は、一般式［１Ｃａ］で表される化合物に対して、0.5～100倍モルであればよく、1.0～60倍モルが好ましく、1.5～40倍モルがより好ましい。
　この反応では、カルボニル化合物を添加することが好ましい。
　カルボニル化合物としては、アセトンおよび２－ブタノンなどのケトン類ならびにホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、グリオキサールおよびグリオキシル酸などのアルデヒド類が挙げられ、アルデヒド類が好ましく、グリオキシル酸がより好ましい。
　カルボニル化合物の使用量は、一般式［１Ｃａ］で表される化合物に対して、0.5～100倍モルであればよく、1.0～60倍モルが好ましく、1.5～40倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-10～120℃であればよく、0～100℃が好ましく、20～80℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第５工程）
　一般式［１Ｅａ］で表される化合物は、一般式［１Ｄｄ］で表される化合物を硫黄化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応は、製造法１に記載の方法に準じて行えばよい。
（第６工程）
　一般式［７］で表される化合物として、たとえば、アセチルクロリド、ベンゾイルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリドおよびメタンスルホニルクロリドなどが知られている。
　一般式［８］で表される化合物として、たとえば、無水酢酸および無水プロピオン酸などが知られている。
　一般式［９Ａａ］で表される化合物は、一般式［１Ｅａ］で表される化合物を、一般式［７］で表される化合物または一般式［８］で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、エーテル類、ニトリル類およびアミド類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１Ｅａ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される一般式［７］で表される化合物または一般式［８］で表される化合物の使用量は、一般式［１Ｅａ］で表される化合物に対して、0.5～50倍モルであればよく、0.8～20倍モルが好ましく、1.0～10倍モルがより好ましい。
　この反応は、塩基を添加することが好ましい。塩基としては、有機塩基および無機塩基が挙げられ、トリエチルアミンが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式［１Ｅａ］で表される化合物に対して、0.5～50倍モルであればよく、0.8～20倍モルが好ましく、1.0～15倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-10～100℃であればよく、-5～80℃が好ましく、0～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第７工程）
　核酸塩基または保護された核酸塩基としては、グリコシル化反応に使用できることが知られたものであれば特に限定されない。
　一般式［１１Ａａ］で表される化合物は、酸の存在下、一般式［９Ａａ］で表される化合物を、核酸塩基または保護された核酸塩基と反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類および芳香族炭化水素類が好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［９Ａａ］で表される化合物に対して、1.0～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1.0～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される酸としては、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、四塩化スズ、四塩化チタン、チタニウム（ＩＶ）イソプロポキシド、塩化亜鉛およびトリメチルシリル＝トリフルオロメタンスルホナートなどのルイス酸が挙げられる。
　好ましい酸としては、塩化アルミニウム、四塩化スズおよびトリメチルシリル＝トリフルオロメタンスルホナートが挙げられ、トリメチルシリル＝トリフルオロメタンスルホナートがより好ましい。
　酸の使用量は、特に限定されないが、一般式［９Ａａ］で表される化合物に対して、0.0001～10倍モルであればよく、0.001～1.0倍モルがより好ましい。
　この反応に使用される核酸塩基または保護された核酸塩基は、一般式［９Ａａ］で表される化合物に対して、1.0～50倍モルであればよく、1.0～10倍モルが好ましく、1.0～5倍モルがより好ましい。
　反応温度は、20～150℃であればよく、20～100℃が好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、30分間～24時間が好ましく、1時間～10時間がより好ましい。
　一般式［１１Ａａ］で表される化合物が保護基を有する場合、脱保護することにより、チオヌクレオシドを製造することができる。
　この方法は、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、696～926頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）などに記載された方法に準じて行えばよい。
製造法３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000241
 （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘ２およびＢａｓｅは前記と同様な意味を有する。）
（第１工程）
　一般式［１Ｄｅ］で表される化合物は、酸の存在下、一般式［１Ｂａ］で表される化合物を加水分解することにより、製造することができる。
　この方法は、製造法２（第４工程）に記載の方法に準じて行えばよい。
（第２工程）
　一般式［１Ｅｂ］で表される化合物は、一般式［１Ｄｅ］で表される化合物を硫黄化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応は、製造法１に記載の方法に準じて行えばよい。
（第３工程）
　一般式［９Ａｂ］で表される化合物は、一般式［１Ｅｂ］で表される化合物を、一般式［７］で表される化合物または一般式［８］で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この方法は、製造法２（第６工程）に記載の方法に準じて行えばよい。
（第４工程）
　一般式［１１Ａｂ］で表される化合物は、酸の存在下、一般式［９Ａｂ］で表される化合物を、核酸塩基または保護された核酸塩基と反応させることにより製造することができる。
　この方法は、製造法２（第７工程）に記載の方法に準じて行えばよい。
製造法４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000242
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３、Ｒ４ａ、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘ１およびＸ２は、前記と同様な意味を有する。）
（第１工程）
　一般式［４］で表される化合物として、たとえば、（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－ベンゾイルオキシ－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートが知られている。
　一般式［５］で表される化合物またはその塩として、たとえば、Ｏ－メチルヒドロキシルアミンおよびＯ－ベンジルヒドロキシルアミンなどが知られている。
　一般式［１ａ］で表される化合物は、一般式［４］で表される化合物を一般式［５］で表される化合物またはその塩と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、芳香族炭化水素類および水が挙げられる。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［４］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される一般式［５］で表される化合物またはその塩の使用量は、一般式［４］で表される化合物に対して、0.5～10倍モルであればよく、0.8～5.0倍モルが好ましく、1.0～2.0倍モルがより好ましい。
　一般式［５］で表される化合物の塩を用いる場合、塩基を添加することが好ましい。
　塩基としては、有機塩基および無機塩基が挙げられ、トリエチルアミンおよび炭酸水素ナトリウムが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式［５］で表される化合物の塩に対して、0.1～10倍モルであればよく、0.2～2.0倍モルが好ましく、0.5～1.5倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-10～100℃であればよく、-5～80℃が好ましく、0～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第２工程）
　一般式［６］で表される化合物として、たとえば、４―ニトロベンゼンスルホニルクロリド、２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリドおよびペンタフルオロベンゼンスルホニルクロリドなどが知られている。
　一般式［１ｂ］で表される化合物は、塩基の存在下、一般式［１ａ］で表される化合物を一般式［６］で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エステル類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられる。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１ａ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、有機塩基および無機塩基が挙げられ、トリエチルアミンおよびＮ－メチルイミダゾールが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式［１ａ］で表される化合物に対して、0.5～10倍モルであればよく、0.8～4.0倍モルが好ましく、1.0～3.0倍モルがより好ましい。
　この反応に使用される一般式［６］で表される化合物の使用量は、一般式［１ａ］で表される化合物に対して、0.5～10倍モルであればよく、0.8～4.0倍モルが好ましく、1.0～2.0倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-10～100℃であればよく、-5～80℃が好ましく、0～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第３工程）
　一般式［１ｃ］で表される化合物は、一般式［１ｂ］で表される化合物をアルカリ金属のハロゲン化物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類および尿素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類および尿素類が挙げられ、アミド類および尿素類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１ｂ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用されるアルカリ金属のハロゲン化物としては、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウムおよびヨウ化カリウムが挙げられ、臭化リチウムが好ましい。
　アルカリ金属のハロゲン化物の使用量は、一般式［１ｂ］で表される化合物に対して、0.5～20倍モルであればよく、0.8～8.0倍モルが好ましく、1.0～5.0倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-50～150℃であればよく、-10～120℃が好ましく、0～100℃がより好ましく、20～80℃がさらに好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（別法）
　一般式［１ｃ］で表される化合物は、塩基の存在下、一般式［１ａ］で表される化合物をハロゲン化剤と反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類、芳香族炭化水素類および尿素類が挙げられ、アミド類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１ａ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応におけるハロゲン化剤としては、塩素化剤および臭素化剤が挙げられる。
　塩素化剤としては、塩化ホスホリル、三塩化リン、五塩化リン、Ｖｉｌｓｍｅｉｅｒ試薬（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド－五塩化リン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド－オキシ塩化リン等）、Ｒｙｄｏｎ試薬（Ｐｈ３ＰＣｌ２、トリフェニルホスフィン－四塩化炭素）、塩化チオニルおよび塩化スルフリルなどが挙げられ、塩化スルフリルが好ましい。
　臭素化剤としては、三臭化リン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド－三臭化リン、トリフェニルホスフィン－四臭化炭素およびトリフェニルホスフィンジブロミドなどが挙げられる。
　ハロゲン化剤の使用量は、一般式［１ａ］で表される化合物に対して、0.1～10倍モルであればよく、0.8～5.0倍モルが好ましく、1.0～2.0倍モルがより好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、有機塩基および無機塩基が挙げられ、トリエチルアミンおよびピリジンが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式［１ａ］で表される化合物に対して、0.5～50倍モルであればよく、0.8～20倍モルが好ましく、1.0～10倍モルがより好ましい。
　この反応では、塩を添加することが好ましい。
　塩としては、塩化リチウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カルシウムおよびピリジン塩酸塩などが挙げられる。
　このハロゲン化反応においては、通常、エピマー混合物が得られる。一般式［１ｃ］の化合物の光学純度を向上させるために、塩化スルフリルおよび塩化リチウムを併用することが好ましい。
　塩の使用量は、一般式［１ａ］で表される化合物に対して、0.5～20倍モルであればよく、0.8～5.0倍モルが好ましく、1.0～3.0倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-50～80℃であればよく、-40～60℃が好ましく、-30～40℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第４工程）
　一般式［１ｄ］で表される化合物は、酸の存在下、一般式［１ｃ］で表される化合物を加水分解することにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類および水が挙げられ、エーテル類および水がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１ｃ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される酸としては塩酸、硫酸、トルエンスルホン酸、酢酸、グリオキシル酸およびリン酸が挙げられ、グリオキシル酸が好ましい。
　酸の使用量は、一般式［１ｃ］で表される化合物に対して、0.5～100倍モルであればよく、1.0～60倍モルが好ましく、1.5～40倍モルがより好ましい。
　この反応では、カルボニル化合物を添加することが好ましい。
　カルボニル化合物としては、アセトンおよび２－ブタノンなどのケトン類ならびにホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、グリオキサールおよびグリオキシル酸などのアルデヒド類が挙げられ、アルデヒド類が好ましく、グリオキシル酸がより好ましい。
　カルボニル化合物の使用量は、一般式［１ｃ］で表される化合物に対して、0.5～100倍モルであればよく、1.0～60倍モルが好ましく、1.5～40倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-10～120℃であればよく、0～100℃が好ましく、20～80℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第５工程）
　一般式［１ｅ］で表される化合物は、一般式［１ｄ］で表される化合物を硫黄化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類、アミド類および尿素類が挙げられ、アミド類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１ｄ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される硫黄化合物としては、硫化水素またはその塩が挙げられる。
　硫化水素の塩としては、硫化水素ナトリウム、硫化ナトリウム、硫化水素カリウム、硫化水素カルシウムおよび硫化マグネシウムなどが挙げられ、硫化水素ナトリウムが好ましい。
　硫化水素またはその塩の使用量は、一般式［１ｄ］で表される化合物に対して、0.2～10倍モルであればよく、0.5～2.0倍モルが好ましく、0.7～1.5倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-20～100℃であればよく、-10～80℃が好ましく、-5～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（第６工程）
　一般式［７］で表される化合物として、たとえば、アセチルクロリド、ベンゾイルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリドおよびメタンスルホニルクロリドなどが知られている。
　一般式［８］で表される化合物として、たとえば、無水酢酸および無水プロピオン酸などが知られている。
　一般式［９］で表される化合物は、一般式［１ｅ］で表される化合物を、一般式［７］で表される化合物または一般式［８］で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、エーテル類、ニトリル類およびアミド類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１ｅ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される一般式［７］で表される化合物または一般式［８］で表される化合物の使用量は、一般式［１ｅ］で表される化合物に対して、0.5～50倍モルであればよく、0.8～20倍モルが好ましく、1.0～10倍モルがより好ましい。
　この反応は、塩基を添加することが好ましい。塩基としては、有機塩基および無機塩基が挙げられ、トリエチルアミンが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式［１ｅ］で表される化合物に対して、0.5～50倍モルであればよく、0.8～20倍モルが好ましく、1.0～15倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-10～100℃であればよく、-5～80℃が好ましく、0～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
方法（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000243
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３、Ｒ９およびＲ１０は、前記と同様な意味を有する。）
（第１工程）
　保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンは、触媒の存在下、シトシンまたはＮ４－アシルシトシンを、シリル化剤と反応させることによって製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類および芳香族炭化水素類が挙げられ、芳香族炭化水素類がより好ましく、クロロベンゼンおよびトルエンがさらに好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、シトシンまたはＮ４－アシルシトシンに対して、1.0～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1.0～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用されるシリル化剤としては、たとえば、１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシラザンが挙げられる。
　シリル化剤の使用量は、特に限定されないが、シトシンまたはＮ４－アシルシトシンに対して、1.0～50倍モルであればよく、1.0～10倍モルが好ましい。
　この反応に使用される触媒としては、たとえば、硫酸水素アンモニウムなどのアンモニウム塩が挙げられる。
　触媒の使用量は、シトシンまたはＮ４－アシルシトシンに対して、0.001～1倍モルであればよく、0.01～0.1倍モルが好ましい。
　反応温度は、20～150℃であればよく、50～150℃が好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～10時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
　この反応は、不活性気体（たとえば、窒素、アルゴン）雰囲気下で行うことが好ましい。
　保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンは、単離せずに、そのまま次の反応に用いることが好ましい。
　一般式［１１］で表される化合物は、酸の存在下、一般式［９］で表される化合物を、保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンと反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類および芳香族炭化水素類が好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［９］で表される化合物に対して、1.0～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1.0～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される酸としては、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、四塩化スズ、四塩化チタン、チタニウム（ＩＶ）イソプロポキシド、塩化亜鉛およびトリメチルシリル＝トリフルオロメタンスルホナートなどのルイス酸が挙げられる。
　好ましい酸としては、塩化アルミニウム、四塩化スズおよびトリメチルシリル＝トリフルオロメタンスルホナートが挙げられ、トリメチルシリル＝トリフルオロメタンスルホナートがより好ましい。
　酸の使用量は、特に限定されないが、一般式［９］で表される化合物に対して、0.0001～10倍モルであればよく、0.001～1.0倍モルがより好ましい。
　この反応に使用される保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンの使用量は、一般式［９］で表される化合物に対して、1.0～50倍モルであればよく、1.0～10倍モルが好ましく、1.0～5倍モルがより好ましい。
　反応温度は、20～150℃であればよく、20～100℃が好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、30分間～24時間が好ましく、1時間～10時間がより好ましい。
（第２工程）
　一般式［１４］で表される化合物は、一般式［１１］で表される化合物を脱保護することにより、製造することができる。
　この方法は、特許文献１またはプロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、696～926頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載された方法に準じて行えばよい。
　好ましい脱保護としては、塩基を用いる方法が挙げられる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類および水が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１１］で表される化合物に対して、1.0～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1.0～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなどの無機塩基、アンモニアならびにナトリウムメトキシドおよびナトリウムエトキシドなどの金属アルコキシドが挙げられる。
　好ましい塩基としては、アンモニアおよび金属アルコキシドが挙げられ、アンモニアおよびナトリウムメトキシドがより好ましい。
　塩基の使用量は、特に限定されないが、一般式［１１］で表される化合物に対して、0.001～10倍モルであればよく、0.01～1.0倍モルがより好ましい。
　反応温度は、0～100℃であればよく、10～70℃が好ましい。
　反応時間は、5分間～7日間であればよく、1～24時間が好ましい。
方法（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000244
  （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３、Ｒ９、Ｒ１０ａおよびＸ４は、前記と同様な意味を有する。）
（第１工程）
　一般式［１１ａ］で表される化合物は、一般式［９］で表される化合物を、保護されたシトシンと反応させることにより製造することができる。
　この方法は、方法１（第１工程）に準じて行えばよい。
　一般式［１１ａ］で表される化合物は、単離せずに、そのまま次の反応に用いることが好ましい。
（第２工程）
　一般式［１２］で表される化合物として、たとえば、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ピバロイルクロリドおよびベンゾイルクロリドなどが知られている。
　一般式［１３］で表される化合物として、たとえば、無水酢酸などが知られている。
　一般式［１１ｂ］で表される化合物は、塩基の存在下または不存在下、触媒の存在下または不存在下、一般式［１１ａ］で表される化合物を、一般式［１２］で表される化合物または一般式［１３］で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類および芳香族炭化水素類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類および芳香族炭化水素類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［１１ａ］で表される化合物に対して、1～50倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～15倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　一般式［１２］で表される化合物を用いる場合、塩基を添加することが好ましい。
　塩基としては、たとえば、有機塩基および無機塩基が挙げられ、有機塩基が好ましい。
　塩基の使用量は、一般式［１１ａ］で表される化合物に対して、0.5～10倍モルであればよく、1.0～5倍モルが好ましい。
　一般式［１３］で表される化合物を用いる場合、触媒を添加することが好ましい。
　触媒としては、たとえば、有機塩基が挙げられ、ジメチルアミノピリジンが好ましい。
　触媒の使用量は、一般式［１１ａ］で表される化合物に対して、0.001～1.0倍モルであればよく、0.01～1.0倍モルが好ましい。
　一般式［１２］で表される化合物または一般式［１３］で表される化合物の使用量は、一般式［１１ａ］で表される化合物に対して、1.0～20倍モルであればよく、1.0～10倍モルが好ましい。
　反応温度は、-20～100℃であればよく、-10～80℃が好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
　この反応では、一般式［１１ｂ］で表される化合物を固体として単離することが好ましい。一般式［１１ｂ］で表される化合物を単離することにより、一般式［１４］で表される化合物の純度が向上する。
（第３工程）
　一般式［１４］で表される化合物は、一般式［１１ｂ］で表される化合物を脱保護することにより、製造することができる。
　この方法は、方法（１）（第２工程）に準じて行えばよい。
方法（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000245
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３、Ｒ９、Ｒ１０およびＸ３は、前記と同様な意味を有する。）
（第１工程）
　一般式［１０］で表される化合物は、一般式［９］で表される化合物を、ハロゲン化することにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、カルボン酸類、ケトン類、ニトリル類、アミド類およびスルホキシド類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、カルボン酸およびニトリル類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式［９］で表される化合物に対して、1～100倍量（ｖ／ｗ）であればよく、1～10倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
　ハロゲン化に使用される試薬としては、ハロゲン化水素、アルカリ金属のハロゲン化物およびハロゲン化剤が挙げられる。
　ハロゲン化水素としては、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素が挙げられ、臭化水素が好ましい。
　アルカリ金属のハロゲン化物としては、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウムおよびヨウ化カリウムが挙げられる。
　この反応におけるハロゲン化剤としては、塩化ホスホリル、三塩化リン、五塩化リン、塩化チオニル、塩化スルフリルおよび三臭化リンが挙げられる。
　好ましい試薬としては、ハロゲン化水素が挙げられ、臭化水素がより好ましい。
　試薬の使用量は、一般式［９］で表される化合物に対して、1～100倍モルであればよく、1～10倍モルが好ましく、1～5倍モルがより好ましい。
　反応温度は、-30～40℃であればよく、-5～10℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～10時間であればよく、5分間～3時間が好ましく、5分間～1時間がより好ましい。
（第２工程）
　一般式［１１］で表される化合物は、一般式［１０］で表される化合物を保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンと反応させることにより、製造することができる。
　この方法は、特許文献１または方法（１）（第１工程）に準じて行えばよい。
（第３工程）
　式［１４］で表される化合物は、一般式［１１］で表される化合物を脱保護することにより、製造することができる。
　この方法は、方法（１）（第２工程）に準じて行えばよい。
方法（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000246
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３、Ｒ９、Ｒ１０ａ、Ｘ３およびＸ４は、前記と同様な意味を有する。）
（第１工程）
　一般式［１０］で表される化合物は、一般式［９］で表される化合物を、ハロゲン化することにより、製造することができる。
　この方法は、方法（３）（第１工程）に準じて行えばよい。
（第２工程）
　一般式［１１ａ］で表される化合物は、一般式［１０］で表される化合物を保護されたシトシンと反応させることにより、製造することができる。
　この方法は、方法（３）（第２工程）に準じて行えばよい。
（第３工程）
　一般式［１２］で表される化合物として、たとえば、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ピバロイルクロリドおよびベンゾイルクロリドなどが知られている。
　一般式［１３］で表される化合物として、たとえば、無水酢酸などが知られている。
　一般式［１１ｂ］で表される化合物は、一般式［１１ａ］で表される化合物を、一般式［１２］で表される化合物または一般式［１３］で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
　この方法は、方法（２）（第２工程）に準じて行えばよい。
（第４工程）
　一般式［１４］で表される化合物は、一般式［１１ｂ］で表される化合物を脱保護することにより、製造することができる。
　この方法は、方法（１）（第２工程）に準じて行えばよい。
　上記の製造法において、ヒドロキシル基、アミノ基またはカルボキシル基の保護基は、適宜組み替えることができる。
　上記の製造法によって得られる化合物は、抽出、晶出、蒸留またはカラムクロマトグラフィーなどの通常の方法によって、単離精製することができる。また、上記の製造法によって得られる化合物は、単離せずにそのまま次の反応に使用してもよい。
　上記の製造法によって得られるホルミル基を有する化合物には、水加物またはアルコール付加体が存在する場合がある。本発明は、それらのすべてを包含する。
　上記の製造法によって得られる化合物には、互変異性体または鏡像異性体が存在する場合がある。本発明は、それらの異性体を包含する。
　また、結晶多形、塩、水和物または溶媒和物が存在する場合、本発明は、すべての結晶形、塩、水和物または溶媒和物を包含する。
　次に、本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
　特に記載のない場合、シリカゲルカラムクロマトグラフィーには、バイオタージ・ジャパン社、SNAP KP-Sil Cartridgeまたは、YAMAZEN社、FR-260 Hi-FlashTM Columnまたは、Wakogel C-200を用いた。
　溶離液における混合比は、容量比である。
　たとえば、「ヘキサン/酢酸エチル=90/10～50/50」は、「ヘキサン：酢酸エチル＝90:10」の溶離液を「ヘキサン：酢酸エチル＝50:50」の溶離液へ変化させたことを意味する。
　1H-NMRスペクトルは、内部基準としてテトラメチルシランを用い、Bruker AV400N（Bruker社）またはBruker AV300（Bruker社）を用いて測定し、全δ値をppmで示した。
　19F-NMRスペクトルは、Bruker AV400N（Bruker社）を用いて測定し、全δ値をppmで示した。
　LC/MS分析は、以下の条件で実施した。
測定機器：ウオーターズ社 SQD
カラム：ウオーターズ社 BEHC 18 1.7μm, 2.1x30 mm
溶媒：Ａ液：0.1％ギ酸／水
　　　Ｂ液：0.1％ギ酸／アセトニトリル
グラジエントサイクル:0.00min（Ａ液/Ｂ液＝95/5）、2.00min（Ａ液/Ｂ液＝5/95）、3.00min（Ａ液/Ｂ液＝5/95）、3.01min（Ａ液/Ｂ液＝100/0）、3.80min（Ａ液/Ｂ液＝100/0）
流速：0.5mL/min
カラム温度：室温
イオン化法：電子スプレーイオン化法（Electron Spray Ionization：ESIポジティブおよびネガティブイオンピークを検出）
検出波長:254nm
　各実施例において各略号は、以下の意味を有する。
Ａｃ：アセチル
Ｂｎ：ベンジル
Ｂｚ：ベンゾイル
Ｃｂｚ：ベンジルオキシカルボニル
Ｅｔ：エチル
Ｍｅ：メチル
Ｍｓ：メチルスルホニル
Ｐｈ：フェニル
ＰＭＢ：４－メトキシベンジル
ｉＰｒ：イソプロピル
ＴＢＤＰＳ：ｔｅｒｔ－ブチル（ジフェニル）シリル
ＴＨＰ：テトラヒドロピラニル
ＴＩＰＳ：トリス（プロパン－２－イル）シリル
Ｔｏｌ: （４－メチルフェニル）カルボニル
ＤＭＳＯ-ｄ６：重ジメチルスルホキシド
ＲＴ（ｍｉｎ）：保持時間（分）
実施例１
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000247
　（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート119gにメタノール474mLおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩21.4gを加え、0～10℃で、トリエチルアミン35.7mLを滴下し、室温で5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル400mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液400mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート92.6gを得た。1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は７８：２２であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.05(0.22H,d,J=5.6Hz),3.11(0.78H,d,J=6.0Hz),3.83(2.34H,s),3.92(0.66H,s),4.35-4.49(m,2H),4.55-4.68(m,1H),5.42-5.54(m,0.78H),5.48-5.67(m,0.78H),5.74(0.22H,ddd,J=28.0,8.0,1.6Hz),6.06(0.22H,ddd,J=46.4,4.8,1.6Hz),6.84(0.22H,dd,J=11.2,4.8Hz),7.38-7.48(4.78H,m),7.54-7.63(2H,m),8.00-8.10(4H,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000248
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート87.0gの酢酸エチル300mL溶液に、0～10℃で、４－ニトロベンゼンスルホニルクロリド64.4gを加えた後、15℃以下で、トリエチルアミン40.5mLを30分かけて滴下し、26℃で5時間攪拌した。反応混合物に5％炭酸水素ナトリウム水溶液300mLを加え、同温度で2時間攪拌した。水層を除去し、有機層を1mol/L塩酸100mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液100mLの混液、ならびに、5％炭酸水素ナトリウム水溶液100mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液100mLの混液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、淡黄色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（４－ニトロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート126gを得た。1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は１：２であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.20-8.15(2H,m),8.10-8.05(2H,m),8.03-7.96(2H,m),7.92-7.86(2H,m),7.64-7.54(2H,m),7.48-7.38(4.23H,m),6.82(0.77H,dd,J=11.2,4.4Hz),5.94(0.77H,ddd,J=26.4,6.0,2.4Hz),5.84(0.77H,ddd,J=46.8,4.4,2.4Hz),5.77(0.23H,ddd,J=23.2,5.6,2.8Hz),5.43(0.23H,ddd,J=6.8,5.6,2.8Hz),5.40(0.77H,ddd,J=7.2,6.0,2.8Hz),5.34(0.23H,ddd,J=46.0,6.8,2.8Hz),4.76(0.23H,dd,J=12.4,2.8Hz),4.75(0.77H,dd,J=12.4,2.8Hz),4.52(0.77H,dd,J=12.4,7.2Hz),4.51(0.23H,dd,J=12.4,6.8Hz),3.89(2.31H,s),3.85(0.69H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-204.4--204.7(0.77F,m),-196.4--196.6(0.23F,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000249
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（４－ニトロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート101.5gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド350mL溶液に、50～60℃で、無水臭化リチウム153.4gを6回に分けて加え、57℃で4時間30分攪拌した。反応混合物に酢酸エチル400mLおよび1mol/L塩酸250mLを加え、水層を除去した。有機層を1mol/L塩酸250mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液250mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、褐色油状物79.9gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、褐色油状物は、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアートおよび（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアートの混合物（８７：１３）であり、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアートのシン／アンチ比は、８２：１８であった。
（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.15-8.00(4H,m),7.65-7.55(2H,m),7.51-7.40(4.82H,m),6.87(0.18H,dd,J=11.2,4.8Hz),6.07(0.18H,ddd,J=46.8,4.4,3.2Hz),5.94(0.18H,ddd,J=24.4,6.0,3.2Hz),5.82(0.82H,ddd,J=16.4,6.0,2.8Hz),5.52(0.82H,dt,J=46.8,6.0Hz),4.84-4.71(1H,m),4.64-4.55(2H,m),3.89(2.46H,s),3.85(0.54H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-193.3--193.5(0.82F,m),-203.1--203.4(0.18F,m)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000250
　実施例１（３）で得られた褐色油状物79.9gのテトラヒドロフラン255mL溶液に50％グリオキシル酸水溶液170mLを加え、56℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル255mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液170mLを加え、水層を除去した。有機層を10％塩化ナトリウム水溶液170mL、ならびに、5％炭酸水素ナトリウム水溶液170mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液170mLの混合液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、褐色油状物70.4gを得た。
　得られた油状物は、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－オキソペンタン－３－イル＝ベンゾアートおよびその水加物の混合物であった。
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000251
　実施例１（４）で得られた褐色油状物70.4gのＮ－メチルピロリドン700mL溶液に、0～10℃で、硫化水素ナトリウム・ｘ水和物（和光純薬工業株式会社）26.7gを加え、同温度で2時間攪拌した後、硫化水素ナトリウムｘ水和物13.4gを加え、0～10℃で3時間攪拌をした。反応混合物に酢酸エチル1050mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液700mLを加え、水層を除去した。有機層を1mol/L塩酸700mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液350mLの混合液、ならびに、5％炭酸水素ナトリウム水溶液350mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液350mLの混合液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、淡褐色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート52.1gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08-7.97(4H,m),7.63-7.31(6H,m),6.05(0.61H,ddd,J=12.0,7.2,5.6Hz),5.83(0.39H,ddd,J=12.4,2.8,2.0Hz),5.64(0.39H,ddd,J=9.6,8.4,2.0Hz),5.49(0.61H,m),5.31(0.39H,dt,J=47.6,2.0Hz),5.20(0.61H,ddd,J=51.2,7.2,4.0Hz),4.67(0.61H,dd,J=11.6,6.8Hz),4.60(0.61H,dd,J=11.6,6.8Hz),4.53-4.47(0.78H,m),4.21(0.39H,tdd,J=8.0,2.8,1.2Hz),3.75(0.61H,td,J=6.8,5.6Hz),3.01(0.61H,d,J=4.8Hz,-OH),2.64(0.39H,d,J=8.4Hz,-OH)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-183.6-183.9(0.61F,m),-192.3-192.6(0.39F,m)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000252
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート52.1gのテトラヒドロフラン210mL溶液に、無水酢酸26.0mLを加え、10℃以下でトリエチルアミン58.0mLを滴下し、室温で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル100mL、5％炭酸水素ナトリウム水溶液210mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液100mLを加え、1時間攪拌した。水層を除去し、有機層を1mol/L塩酸150mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液100mLの混合液、ならびに、5％炭酸水素ナトリウム水溶液50mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液100mLの混合液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（アセチルオキシ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート29.3gを得た。
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000253
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（アセチルオキシ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート5.0gの塩化メチレン20mL溶液に、窒素雰囲気下、氷冷下で30％臭化水素／酢酸溶液9.2mLを加え、5～7℃で3時間撹拌した。反応混合物に30％酢酸ナトリウム水溶液10mLを滴下した。有機層を分取し、水層を塩化メチレンで抽出した。有機層と抽出液を併せ、25％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、水層を塩化メチレンで2回抽出した。有機層と抽出液を併せ、3％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、水層を塩化メチレンで抽出した。有機層と抽出液を併せ、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧濃縮し、（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－ブロモ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートの塩化メチレン溶液15mLを得た。
　別途、窒素雰囲気下、アセチルシトシン3.66gのエチルベンゼン15mL懸濁液に、１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシラザン7.7gおよび硫酸アンモニウム15.8mgを加え、110～115℃で2時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去し、白色固体7.5g得た。
　得られた白色固体にＮ－エチルピロリドン1.25mLを加え、70～75℃で、前述の塩化メチレン溶液15mLを滴下し、同温度で1時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、塩化メチレン75mL、水4mLおよびセライト5gを加え、27～28℃で2時間撹拌した。不溶物を濾去し、残渣を塩化メチレンで洗浄した。濾液と洗液を併せ、リン酸水素二カリウム2.85gおよびリン酸二水素カリウム0.38gの水14.3mL溶液で洗浄し、水層を塩化メチレンで抽出した。有機層と抽出液を併せ、不溶物を濾去し、溶媒を酢酸プロピルに置換した。析出した固体を濾取し、酢酸プロピルで洗浄し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝４－ベンゾアート1.53gを得た。
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000254
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝４－ベンゾアート2.03gのメタノール40mL溶液に、25％アンモニア水20mLを加え、室温で12時間撹拌した。溶媒を減圧濃縮し、析出した固体をメタノールで洗浄し、白色固体の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン374mgを得た。
　洗液を減圧濃縮し、析出した固体を酢酸エチル150mLに溶解した。減圧下で溶媒80mLを留去し、析出した固体を濾取し、酢酸エチルで洗浄し、白色固体の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン491mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.99(1H,d,J=7.9Hz),7.28-7.20(2H,brs),6.46(1H,dd,J=14.5,5.3Hz),5.88(1H,d,J=4.6Hz),5.77(1H,d,J=7.9Hz),5.25(1H,t,J=5.3Hz),4.92(1H,dt,J=50.9,5.3Hz),4.30-4.19(1H,m),3.78-3.54(2H,m),3.23(1H,q,J=5.9Hz)
実施例２
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000255
　窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（ベンゾイルオキシ）－５－（（ベンゾイルオキシ）メチル）－３－フルオロオキソラン－２－イル＝ベンゾアート150gの酢酸105mL懸濁液に、室温で30％臭化水素／酢酸76mLを滴下し、25℃で8時間攪拌した。反応混合物にトルエン450mLおよび水450mLを加え、5分間攪拌したのち水層を除去した。得られた有機層を水450mLおよび5％炭酸水素ナトリウム水溶液450mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色の油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－ブロモ－４－フルオロオキソラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート136gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、得られた化合物は全てα体であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.11(2H,dd,J=8.0,0.8Hz),8.07(2H,dd,J=8.0,0.8Hz),7.63(1H,tt,J=8.0,0.8Hz),7.56(1H,tt,J=8.0,0.8Hz),7.49(2H,t,J=8.0Hz),7.43(2H,t,J=8.0Hz),6.64(1H,d,J=12.4Hz),5.60(1H,d,J=50.0Hz),5.54(1H,dd,J=22.0,3.0Hz),4.68-4.86(3H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-165.8--166.1(1F,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000256
　（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－ブロモ－４－フルオロオキソラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート136gにアセトニトリル270mLおよび10％炭酸水素ナトリウム水溶液300mLを加え、50℃で4時間攪拌した。反応混合物にトルエン150mLを加え、水層を除去したのち、25℃まで冷却して（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートのトルエン／アセトニトリル溶液を得た。
　（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートは単離せず、溶液のまま次の反応に使用した。
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000257
　（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートのトルエン／アセトニトリル溶液に水135mLおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩40.2gを加え、25～30℃で、トリエチルアミン58.2mLを滴下し、6時間攪拌した。反応混合物にトルエン150mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液300mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色の油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート122gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は３：１であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.10-8.00(4H,m),7.63-7.54(2H,m),7.48-7.38(4.75H,m),6.84(0.25H,dd,J=11.2,4.8Hz),6.06(0.25H,ddd,J=46.4,4.8,1.6Hz),5.74(0.25H,ddd,J=28.0,8.0,1.6Hz),5.75(0.75H,ddd,J=45.6,6.8,2.4Hz),5.49(0.75H,ddd,J=26.0,8.4,2.4Hz),4.64(0.75H,dd,J=12.0,2.4Hz),4.60(0.25H,dd,J=11.2,2.4Hz),4.50-4.35(2H,m),3.91(0.75H,s),3.82(2.25H,s),3.11(0.75H,d,J=6.0Hz),3.05(0.25H,d,J=5.6Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-199.9--200.2(0.75F,m),-207.3--207.5(0.25F,m)
実施例３
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000258
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート30.0gのＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド150mLおよびピリジン30mLの混合液に、塩化リチウム6.50gを加え、-20～0℃で、塩化スルフリル6.40mLを20分間かけて滴下した後、室温で3時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル300mL、20％塩化ナトリウム水溶液150mLおよび水100mLを加え、水層を除去した。有機層を1mol/L塩酸150mLで2回洗浄した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液150mLで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート34.2gを得た。
　（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアートは単離せず、そのまま次の反応に使用した。
　少量の反応液を重クロロホルムに希釈し、1H-NMRを測定した。その結果、シン／アンチ比は８５：１５であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.84(0.45H,s),3.88(2.55H,s),4.54-4.74(3H,m),5.52(0.85H,dt,J=46.4,6.4Hz),5.85(0.85H,ddd,J=17.2,5.9,3.2Hz),5.88-6.00(0.15H,m),5.95-6.12(0.15H,m),6.88(0.15H,dd,J=11.2,4.8Hz),7.40-7.53(4.85H,m),7.55-7.66(2H,m),8.01-8.15(4H,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000259
　窒素雰囲気下、実施例３（１）で得られた（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート30.6g、テトラヒドロフラン183mLおよびグリオキシル酸133mLの混合物を60℃で10時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル300mL、20％塩化ナトリウム水溶液200mL、水300mLおよび炭酸水素ナトリウム65.1gを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物27.3gを得た。
　得られた油状物は、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロ－５－オキソペンタン－３－イル＝ベンゾアートおよびその水加物の混合物であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：4.69-4.78(3H,m),5.37(1H,dd,J=46.8,4.0Hz),5.85(1H,dt,J=20.8,3.6Hz),7.39-7.53(4H,m),7.54-7.66(2H,m),8.01-8.12(4H,m),9.83(1H,d,J=6.4Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000260
　窒素雰囲気下、実施例３（２）で得られた無色油状物350mgのＮ－メチルピロリドン5.25mL溶液に、一硫化水素ナトリウムｎ水和物96.2mgを添加した後、室温で5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル7.90mL、20％塩化ナトリウム水溶液5.25mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5.25mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート80.0mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.74(0.55H,q,J=6.8Hz),4.17-4.23(0.45H,m),4.44-4.55(0.90H,m),4.56-4.64(0.55H,m),4.64-4.72(0.55H,m),5.20(0.55H,ddd,J=51.5,7.6,4.0Hz),5.32(0.45H,dt,J=47.6,2.4Hz),5.48(0.55H,t,J=4.4Hz),5.64(0.45H,dd,J=8.411.2,1.6Hz),5.82(0.45H,dt,J=12.8,3.2Hz),6.04-6.12(0.55H,m),7.28-7.65(6H,m),7.94-8.16(4H,m)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000261
　窒素雰囲気下、（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート10.3gの酢酸エチル20mL溶液に、トリエチルアミン39.5mLおよび無水酢酸17.9mLを滴下した後、室温で4時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル50mL、20％塩化ナトリウム水溶液20mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mLを加え、水層を除去した。有機層に飽和塩化アンモニウム水30mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、褐色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（アセチルオキシ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート8.35gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.12(1.29H,s),2.13(1.71H,s),3.74(0.57H,q,J=6.8Hz),4.11(0.43H,q,J=6.8Hz),4.43-4.59(1.43H,m),4.69(0.57H,dd,J=11.1,6.0Hz),5.31(0.57H,ddd,J=50.8,9.1,4.8Hz),5.39(0.43H,dt,J=47.6,3.2Hz),5.85(0.43H,dt,J=12.0,4.0Hz),6.08(0.57H,dt,J=11.6,8.4Hz),6.18(0.57H,d,J=4.8Hz),6.24(0.43H,dd,J=13.6,2.0Hz),7.28-7.36(1.14H,m),7.37-7.65(4.86H,m),7.92-7.98(1.14H,m),8.00-8.09(2.86H,m)
実施例４
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000262
　Ｏ－ベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩17.2gの酢酸エチル86mL懸濁液に、5％炭酸水素ナトリウム水溶液200mLを加え、水層を除去した後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残留物に塩化メチレン130mL、（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート19.4g、炭酸水素ナトリウム13.6gおよびｐ－トルエンスルホン酸ピリジニウム1.36gを加え、50℃で1時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却後、酢酸エチル100mL、20％塩化ナトリウム水溶液100mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）イミノ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシペンチル＝ベンゾアート36.4gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.88(0.31H,s),2.91(0.69H,s),4.33-4.46(2H,m),4.55-4.64(1H,m),5.06(1.38H,s),5.16(0.62H,dd,J=6.8,5.5Hz),5.49(0.69H,ddd,J=25.9,7.6,1.6Hz),5.58(0.69H,ddd,J=46.7,6.4,2.4Hz),5.79(0.31H,dd,J=27.5,7.9Hz),6.10(0.31H,ddd,J=46.7,4.8,2.0Hz),6.90(0.31H,dd,J=11.2,4.8Hz),7.24(5H,m),7.38-7.53(4.69H,m),7.54-7.64(2H,m),7.99-8.10(4H,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000263
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）イミノ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシペンチル＝ベンゾアート1.00g、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド5.00mLおよびピリジン1.00mLの混合物を-20℃まで冷却した。内温を0℃以下に保ちながら、塩化スルフリル0.210mLを20分かけて滴下した後、室温で3時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル10mL、20％塩化ナトリウム水溶液5mLおよび水5mLを加え、水層を除去した。有機層に1mol/L塩酸5mLを加え、水層を除去する操作を2回繰り返した。次いで、有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）イミノ）－２－クロロ－４－フルオロペンチル＝ベンゾアート1.01gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：4.48-4.75(3H,m),5.07(0.4H,s),5.11(1.6H,s),5.52(0.8H,dt,J=46.8,6.0Hz),5.84(0.8H,ddd,J=16.4,6.0,3.2Hz),5.89-6.00(0.2H,m),6.01-6.18(0.2H,m),6.92(0.2H,dd,J=8.1,3.6Hz),7.25-7.34(5H,m),7.39-7.51(4.8H,m),7.53-7.64(2H,m),8.00-8.12(4H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000264
　窒素雰囲気下、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）イミノ）－２－クロロ－４－フルオロペンチル＝ベンゾアート0.610g、ベンズアルデヒド3.00mLおよび濃硫酸0.300mLの混合物を室温で1時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル5mL、20％塩化ナトリウム水溶液5mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、無色油状物0.260gを得た。
　得られた油状物は、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－クロロ－４－フルオロ－５－オキソペンタン－３－イル＝ベンゾアートおよびその水加物の混合物であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：4.69-4.78(3H,m),5.37(1H,dd,J=46.8,4.0Hz),5.85(1H,dt,J=20.8,3.6Hz,7.39-7.53(4H,m),7.54-7.66(2H,m),8.01-8.12(4H,m),9.83(1H,d,J=6.4Hz)
実施例５
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000265
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシオキソラン－３－オール1.70g、テトラヒドロフラン30mL、トリエチルアミン4.24mL、無水酢酸2.8mLおよび４－ジメチルアミノピリジン0.01gの混合物を25℃で2時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加した。有機層を分取し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（アセチルオキシ）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン－２－イル）メチル＝アセタート2.2gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：5.28-5.12(2H,m),5.01(1H,d,J=4.0Hz),4.31(1H,dd,J=3.6,11.2Hz),4.10-4.02(2H,m),3.34(3H,s),2.09(3H,s),2.23(3H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000266
　（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（アセチルオキシ）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン－２－イル）メチル＝アセタート2.1g、トリフルオロ酢酸9mLおよび水1mLの混合物を50℃で8時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび炭酸水素ナトリウム水溶液を添加した。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（アセチルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝アセタートを得た。
　得られた（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（アセチルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝アセタート、メタノール10mL、塩酸Ｏ－メチルヒドロキシルアミン0.85gおよびトリエチルアミン0.7mLの混合物を25℃で0.5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加した。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝1／1）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（アセチルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝アセタート0.35gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.51(0.75H,dd,J=6.8,7.2Hz),7.02(0.25H,dd,J=4.8,10.4Hz),5.93-5.73(1.25H,m),5.36(0.75H,ddd,J=2.8,6.8,45.6Hz),5.12(0.25H,ddd,J=1.6,9.2,29.6Hz),4.97(0.75H,ddd,J=2.4,8.4,26.4Hz),4.05-3.85(3H,m),3.83(0.75H,s),3.80(2.25H,s),2.06(2.25H,s),2.04(0.75H,s),1.99(3H.m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000267
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（アセチルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝アセタート0.35g、アセトニトリル5mL、Ｎ－メチルイミダゾール0.15mLおよび２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド0.41gの混合物を25℃で5時間撹拌した。さらに、２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド0.10gを添加し、25℃で3日間放置した。次いで、Ｎ－メチルイミダゾール1.0mLを添加し、25℃で1日放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加した。有機層を分取し、希塩酸で2回洗浄後、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝3／1）で精製し、無色固体0.44gを得た。得られた固体をメタノールから再結晶し、無色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（アセチルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝アセタート0.29gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.33(1.0H,m),8.23(1.0H,m),7.55(0.75H,dd,J=6.0,7.2Hz),7.05(0.25H,dd,J=4.8,11.2Hz),5.81(0.25H,ddd,J=2.0,4.8,46.4Hz),5.53(0.25H,ddd,J=2.4,5.2,28.4Hz),5.49-5.33(1.5H,m),5.18-5.11(1H,m),4.35-4.12(2H,m),3.81(3H,m),2.07(3H,m),1.86-1.85(3H,m)
実施例６
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000268
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート1.3gおよびトリエチルアミン4.0mLの酢酸エチル4mL溶液に、0～4℃でペンタフルオロベンゼンスルホニルクロリド0.53mLを滴下し、0℃で2時間40分撹拌した。トリエチルアミン0.27mLおよびペンタフルオロベンゼンスルホニルクロリド0.26mLを滴下し、1時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5.4mLおよびジメチルアミノピリジンを加えた。室温で30分間攪拌後、水層を除去し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（ペンタフルオロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンチル＝ベンゾアート1.8gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.86(2.16H,s),3.92(0.84H,s),4.57(1H,dd,J=13.2,7.2Hz),4.80(0.72H,dd,J=12.8,2.8Hz),4.81(0.28H,dd,J=12.8,2.8Hz),5.42(0.72H,ddd,J=45.6,6.4,3.2Hz),5.51-5.60(1H,m),5.83(0.72H,ddd,J=22.8,5.6,3.2Hz),5.90(0.28H,ddd,J=46.8,4.4,2.4Hz),6.00(0.28H,ddd,J=26.0,5.6,2.4Hz),6.84(0.28H,dd,J=11.2,4.4Hz),7.38-8.07(10.72H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-133.79(2F,m),-142.45(1F,m),-157.66(2F,m),-196.43(0.72F,ddd,J=45.6,22.8,6.8Hz),-204.90(0.28F,ddd,J=46.8,26.0,11.2Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000269
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（ペンタフルオロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンチル＝ベンゾアート615mgのジメチルイミダゾリジノン2.2mL溶液に、無水臭化リチウム430mgを加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物に水3mLおよび酢酸エチル3mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート379mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.85(0.51H,s),3.88(2.49H,s),4.52-4.65(2H,m),4.70-4.85(1H,m),5.52(0.83H,ddd,J=46.8,6.4,6.4Hz),5.82(0.83H,ddd,J=16.4,6.4,2.8Hz),5.94(0.17H,ddd,J=24.4,6.0,2.8Hz),6.07(0.17H,ddd,J=47.2,4.4,2.8Hz),6.87(0.17H,dd,J=10.8,4.4Hz),7.41-8.16(10.83H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-193.45(0.83F,ddd,J=46.8,16.4,6.4Hz),-203.28(0.17F,ddd,J=47.2,24.4,10.8Hz)
実施例７
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000270
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート20.0gおよび２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド17.3gのアセトニトリル50mL溶液に、0～4℃で、１－メチルイミダゾール5.1mLを滴下し、室温で22時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mLおよびと水50mLを加え、室温で1時間攪拌した。固形物を濾取し、水50ｍＬで2回、次いで、メタノール25mLで2回洗浄し、白色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンチル＝ベンゾアート28.3gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.85(2.22H,s),3.91(0.78H,s),4.54(1H,dd,J=12.8,6.4Hz),4.73(0.74H,dd,J=12.8,3.2Hz),4.75(0.26H,dd,J=12.8,2.8Hz),5.37-5.52(1.74H,m),5.82(0.74H,ddd,J=22.8,5.6,2.8Hz),5.90(0.26H,brs,J=48.0Hz),6.00(0.26H,ddd,J=26.0,5.6,2.0Hz),6.83(0.26H,dd,J=11.2,4.4Hz),7.38-8.11(12.74H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-196.70(0.74F,ddd,J=45.6,22.8,6.8Hz),-204.90(0.26F,ddd,J=48.0,26.0,11.2Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000271
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンチル＝ベンゾアート421mgのジメチルイミダゾリジノン1.34mL溶液に、無水臭化リチウム291mgを加え、40℃で4時間撹拌した。反応混合物の高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、反応率は98％であり、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアートが生成した。
実施例８
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000272
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート1.0gおよび３－ニトロベンゼンスルホニルクロリド857mgのアセトニトリル5.0mL溶液に、0～4℃で、１－メチルイミダゾール0.30mLを滴下し、室温で15時間30分攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mLを加え、室温で30分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル5.0mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（３－ニトロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンチル＝ベンゾアート1.59gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.84(2.01H,s),3.89(0.99H,s),4.50(1H,dd,J=12.8,6.4Hz),4.73-4.80(1H,m),5.33(0.67H,ddd,J=45.6,6.8,3.2Hz),5.39-5.48(1H,m),5.73-5.87(1H,m),5.95(0.33H,ddd,J=26.4,6.0,2.4Hz),6.80(0.33H,dd,J=11.2,4.4Hz),7.30-8.75(14.67H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-196.64(0.67F,ddd,J=45.6,23.3,6.8Hz),-204.77(0.33F,ddd,J=46.7,26.4,11.2Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000273
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（３－ニトロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンチル＝ベンゾアート103mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド0.34mL溶液に、無水臭化リチウム73.6mgを加え、60℃で5時間30分撹拌した。反応混合物の高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、反応率は98％であり、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアートが生成した。
実施例９
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000274
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアート1.0gおよび２－ニトロベンゼンスルホニルクロリド857mgのアセトニトリル5.0mL溶液に、0～4℃で１－メチルイミダゾール0.30mLを滴下し、室温で15時間30分攪拌した。反応混合物に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mLを加え、室温で30分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル5.0mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２－ニトロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンチル＝ベンゾアート1.44gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.83(2.13H,s),3.90(0.87H,s),4.56(1H,dd,J=12.8,6.0Hz),4.84(1H,dd,J=12.8,2.8Hz),5.42(0.71H,ddd,J=45.6,6.4,3.2Hz),5.39-5.55(1.71H,m),5.87(0.71H,ddd,J=23.6,6.0,2.8Hz),5.93(0.29H,ddd,J=49.2,4.4,2.4Hz),6.80(0.29H,dd,J=11.2,4.4Hz),7.35-8.15(14.71H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-197.12(0.71F,ddd,J=45.6,23.6,6.8Hz),-205.10(0.29F,ddd,J=49.2,26.4,11.2Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000275
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２－ニトロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンチル＝ベンゾアート1.15gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド4mL溶液に、無水臭化リチウム875mgを加え、60℃で3時間撹拌した。反応混合物の高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、反応率は98％であり、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－１－（ベンゾイルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝ベンゾアートが生成した。
実施例１０
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000276
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシオキソラン－３－オール800mg、テトラブチルアンモニウムクロリド67mg、トルエン4mL、水酸化ナトリウム481mg、水4mLおよび４－メチルベンゾイルクロリド1.56gの混合物を5℃で1時間、室温で2.5時間攪拌した。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/ヘキサン=1/10～1/2）で精製し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－メトキシ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート1.61gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.98-7.93(4H,m),7.25-7.20(4H,m),5.79(1H,ddd,J=17.2,6.0,6.0Hz),5.25(1H,ddd,J=52.4,6.4,4.4Hz),5.07(1H,d,J=4.4Hz),4.72(1H,dd,J=11.6,6.4Hz),4.56(1H,dd,J=11.6,6.4Hz),4.38-4.34(1H,m),3.48(3H,s),2.43(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-206.73(1F,dd,J=52.1,17.5Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000277
　（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－メトキシ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート800mg、トリフルオロ酢酸2.2mLおよび水268mgの混合物を50℃で７時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル50mLを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で3回、飽和塩化ナトリウム水溶液で1回洗浄した。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/ヘキサン=1/10～1/2）で精製し、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート720mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.97-7.93(4H,m),7.24-7.21(4H,m),5.68(1H,dd,J=10.0,3.6Hz),5.47(1H,dd,J=22.0,4.4Hz),5.16(1H,d,J=49.2Hz),4.74-4.67(2H,m),4.60-4.56(1H,m),2.93(1H,dd,J=3.4,3.4Hz),2.42(3H,s),2.40(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.09(1F,ddd,J=49.3,22.4,10.4Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000278
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンチル＝４－メチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.97-7.89(4H,m),7.39(0.80H,dd,J=6.8,6.8Hz),7.26-7.21(4H,m),6.83(0.20H,dd,J=11.1,4.7Hz),6.05(0.20H,ddd,J=46.4,4.2,1.5Hz),5.70(0.20H,dd,J=28.2,1.9Hz),5.56(0.80H,ddd,J=45.4,6.9,2.3Hz),5.44(0.80H,ddd,J=26.0,8.4,2.4Hz),4.61(0.80H,dd,J=12.4,3.2Hz),4.57(0.20H,dd,J=11.1,1.9Hz),4.45-4.34(2H,m),3.91(0.60H,s),3.83(2.40H,s),3.03(0.80H,d,J=5.8Hz),2.98(0.20H,d,J=2.4Hz),2.42-2.41(6H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-200.06(0.8F,ddd,J=45.2,25.7,6.9Hz),-207.4(0.2F,ddd,J=46.5,28.2,11.1Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000279
　実施例７（１）と同様にして、白色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－１－（メトキシイミノ）－５－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝４－メチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.06(1H,s),7.83(4H,dd,J=45.8,8.2Hz),7.41-7.39(1.18H,m),7.26-7.20(4H,m),6.83(0.82H,dd,J=11.0,4.6Hz),6.00-5.91(1.41H,m),5.85-5.83(0.41H,m),5.77(0.18H,ddd,22.8,5.9,3.1Hz),5.46(0.09H,ddd,J=28.5,6.5,2.9Hz),5.41-5.36(0.91H,m),4.72-4.65(1H,m),4.56-4.51(1H,m),3.90(2.46H,s),3.86(0.54H,s),2.42(6H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-196.58(0.18F,ddd,J=45.6,22.6,6.7Hz),-204.85(0.82F,ddd,J=46.5,26.3,11.0Hz)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000280
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンチル＝４－メチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.02-7.88(4H,m),7.47(0.86H,dd,J=6.4,6.4Hz),7.28-7.19(4H,m),6.86(0.14H,dd,J=11.2,4.8Hz),6.05(0.14H,ddd,J=47.0,4.7,3.0Hz),5.91(0.14H,ddd,J=24.8,5.7,3.1Hz),5.79(0.86H,ddd,J=17.2,5.7,3.1Hz),5.51(0.86H,ddd,J=46.8,5.2,5.3Hz),4.79-4.70(1.14H,m),4.62-4.54(1.86H,m),3.88(2.58H,m),3.85(0.42H,m),2.43-2.40(6H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-193.52(0.86F,ddd,J=46.7,16.8,6.3Hz),-203.30(0.14F,ddd,J=46.9,24.6,10.8Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000281
　実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－４－フルオロ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－５－オキソペンチル＝４－メチルベンゾアートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.81(1H,d,J=6.0Hz),8.01-7.88(4H,m),7.26-7.18(4H,m),5.80-4.61(5H,m),2.42-2.34(6H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-210.08(1F,ddd,J=47.1,20.8,6.5Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000282
　実施例１（５）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.01-7.87(4H,m),7.26-7.14(4H,m),6.03-5.97(0.54H,m),5.81(0.46H,dt,J=12.1,4.6Hz),5.62(0.46H,dd,J=9.6Hz),5.49(0.54H,dd,J=9.6,5.2Hz),5.37(0.23H,m),5.25(0.50H,m),5.12(0.27H,m),4.68-4.56(1.1H,m),4.48-4.46(0.92H,m),4.19-4.15(0.46H,m),3.74(0.54H,dd,J=12.0,6.8Hz),2.81(0.54H,dd,J=5.8,1.4Hz),2.45-2.37(6.46H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-183.63(0.54F,dd,J=47.4,11.4Hz),-192.74(0.46F,ddd,J=51.2,11.5,5.1Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000283
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート1.35gのテトラヒドロフラン8.1mL溶液に、ジメチルアミノピリジン12mgおよび２-ピコリン622mgを加え、10℃以下で無水酢酸511mgを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、飽和塩化ナトリウム水溶液で3回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物にメタノールを加え、固形物を濾取し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－アセチルオキシ－４－フルオロ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート546mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.88(4H,dd,J=28.0,8.0Hz),7.16(4H,dd,J=32.0,8.0Hz),6.17(1H,d,J=4.4Hz),6.08-6.01(1H,m),5.30(1H,ddd,J=50.8,9.6,4.5Hz),4.66(1H,dd,J=11.2,6.0Hz),4.47(1H,dd,J=11.4,6.6Hz),3.72(1H,dd,J=13.4,6.6Hz),2.42(3H,s),2.36(3H,s),2.12(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-191.83(1F,dd,J=50.8,11.7Hz)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000284
　実施例１（７）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－４－フルオロ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.01-7.86(4H,m),7.27-7.20(4H,m),5.82-5.80(0.5H,m),5.77-5.75(0.5H,m),5.73-5.71(1H,m),5.68-5.67(0.5H,m),5.58-5.56(0.5H,m),4.66-4.60(1H,m),4.57-4.49(1H,m),4.34-4.28(1H,m),2.42(3H,s),2.40(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-163.52(1F,dd,J=46.9,14.4Hz)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000285
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－４－フルオロ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアートの塩化メチレン溶液を用い、実施例２２（２）と同様にして、黄褐色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロ－３－（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアートを得た。
m/z(ESI-positive):540.5[M+H]+
19F-NMR(CDCl3)δ値：-195.82(1F,ddd,J=49.0,23.5,9.2Hz)
（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000286
　実施例１（８）と同様にして、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオランを得た。
実施例１１
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000287
　反応時間を8時間とした以外は実施例１０（１）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（４－クロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン－２－イル）メチル＝４－クロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.02-7.96(4H,m),7.45-7.26(4H,m),5.83(1H,ddd,J=17.2,6.0,6.0Hz),5.25(1H,ddd,J=52.0,6.4,4.4Hz),5.07(1H,d,J=4.4Hz),4.73(1H,dd,J=11.6,4.0Hz),4.56(1H,dd,J=11.6,6.4Hz),4.37-4.33(1H,m),3.48(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-191.75(1F,dd,J=50.6,11.9Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000288
　実施例１０（２）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（４－クロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝４－クロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.01-7.97(4H,m),7.45-7.39(4H,m),5.69(1H,d,J=10.0Hz),5.46(1H,dd,J=21.8,4.2Hz),5.16(1H,d,J=49.2Hz),4.76-4.59(3H,m),2.92(1H,brs)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.45(1F,ddd,J=49.1,21.9,10.1Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000289
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（（４－クロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝４－クロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.98-7.92(4H,m),7.58(0.86H,dd,J=6.0,6.0Hz),7.45-7.39(4H,m),6.82(0.14H,dd,J=11.2,4.6Hz),6.04(0.14H,ddd,J=46.4,4.6,2.0Hz),5.75(0.14H,dd,J=8.2,2.0Hz),5.55-5.50(1.72H,m),4.63-4.54(1H,m),4.46-4.35(2H,m),3.91(0.42H,s),3.85(2.58H,s),3.08(0.86H,d,J=6.6,1.1Hz),2.91(0.25H,d,J=6.0Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-200.31(0.86F,ddd,J=46.5,23.6,5.7Hz),-207.35(0.14F,ddd,J=45.2,29.2,10.4Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000290
　実施例７（１）と同様にして、白色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（（４－クロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝４－クロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.99(1H,s),7.96-7.89(4H,m),7.65(1H,s),7.44-7.40(4H,m),7.35(1H,m),5.62-5.58(1H,m),5.37-5.22(2H,m),4.84-4.79(1H,m),4.68-4.63(1H,m),3.83(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.52(1F,ddd,J=47.4,17.4,6.5Hz)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000291
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－３－（（４－クロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝４－クロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.02-7.91(4H,m),7.46-7.40(5H,m),5.87(1H,ddd,J=6.1,6.1,1.7Hz),5.14(1H,ddd,J=46.8,27.2,11.7Hz),4.65-4.64(2H,m),4.53-4.48(1H,m),3.81(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-171.64(1F,ddd,J=46.6,8.7,5.2Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000292
　反応を60℃で7時間、その後室温で3日間行った以外は、実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－３－（（４－クロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－オキソペンチル＝４－クロロベンゾアートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.80-9.78(1H,m),8.02-7.90(4H,m),7.48-7.39(4H,m),5.80-4.54(5H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-194.14(1F,ddd,J=47.3,18.5,4.4Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000293
　反応を室温で24時間行った以外は、実施例１（５）と同様にして、黄褐色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（４－クロロルフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝４－クロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.00-7.90(4H,m),7.44-7.31(4H,m),6.04-6.01(0.56H,m),5.79(0.44H,dt,J=12.6,5.3Hz),5.68-5.62(0.44H,m),5.48(0.54H,dd,J=8.8,4.4Hz),5.37-5.36(0.22H,m),5.27-5.24(0.50H,m),5.12-5.11(0.28H,m),4.65-4.59(1.3H,m),4.49-4.47(0.7H,m),4.20-4.15(0.44H,m),2.79(0.54H,d,J=4.0Hz),2.37(0.54H,d,J=8.0Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-183.81(0.54F,dd,J=46.7,11.8Hz),-192.29(0.46F,ddd,J=51.6,11.8,4.2Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000294
　実施例１０（８）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－アセチルオキシ－３－（（４－クロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝４－クロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.96(4H,dd,J=14.0,2.4Hz),7.41(4H,dd,J=18.8,8.4Hz),6.23(1H,dd,J=14.0,2.0Hz),5.82(1H,ddd,J=12.0,8.0,3.0Hz),5.38(1H,ddd,J=44.8,3.4,2.3Hz),4.55-4.43(2H,m),4.10-4.07(1H,m),2.12(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-191.76(1F,dd,J=50.8,11.7Hz)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000295
　実施例１（７）と同様にして、黄褐色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－３－（（４－クロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝４－クロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.01(4H,dd,J=16.8,8.4Hz),7.42(4H,dd,J=10.8,8.4Hz),5.82-5.80(0.5H,m),5.77-5.76(0.5H,m),5.74-5.73(1H,m),5.69(0.5H,brs),5.58-5.56(0.5H,m),4.65-4.50(1H,m),4.32-4.26(1H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-163.51(1F,dd,J=47.2,14.5Hz)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000296
　実施例２２（２）と同様にして、淡黄色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（（４－クロロフェニル）カルボニルオキシ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝４－クロロベンゾアートを得た。
m/z(ESI-positive):580.4[M+H]+
19F-NMR(CDCl3)δ値：-196.19(1F,ddd,J=49.1,23.9,8.7Hz)
（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000297
　実施例１（８）と同様にして、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオランを得た。
実施例１２
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000298
　実施例１０（１）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－メトキシ－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝４－メトキシベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.03-7.98(4H,m),6.93-6.88(4H,m),5.45(1H,dd,J=23.2,4.8Hz),5.21-5.03(2H,m),4.71(1H,dd,J=12.0,3.6Hz),4.60(1H,dd,J=12.0,4.4Hz),4.47-4.50(1H,m),3.87(3H,s),3.85(3H,s),3.45(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.34(1F,ddd,J=49.3,23.1,10.5Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000299
　実施例１０（２）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝４－メトキシベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.03-7.97(4H,m),6.94-6.88(4H,m),5.68(1H,dd,J=10.4,3.6Hz),5.45(1H,dd,J=22.2,4.2Hz),5.15(1H,d,J=49.2Hz),4.72-4.55(3H,m),3.34(1H,dd,J=3.4Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-189.89--190.10(1F,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000300
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）ペンチル＝４－メトキシベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.04-7.96(4H,m),7.39(0.70H,dd,J=6.0,6.0Hz),6.94-6.89(4H,m),6.83(0.30H,dd,J=11.0,4.8Hz),6.05(0.30H,ddd,J=46.5,4.8,1.9Hz),5.71-5.62(0.30H,m),5.56(0.70H,ddd,J=45.4,6.9,2.3Hz),5.42(0.70H,ddd,J=26.0,8.4,2.3Hz),4.62-4.54(1H,m),4.42-4.32(2H,m),3.91(0.9H,s),3.87-3.85(6H,m),3.83(2.1H,s),3.06(0.7H,d,J=2.4Hz),3.01(0.3H,d,J=2.4Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-200.11(0.7F,ddd,J=45.2,26.0,6.8Hz),-207.36(0.3F,ddd,J=46.5,28.4,10.9Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000301
　実施例７（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－１－（メトキシイミノ）－５－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝４－メトキシベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.07-8.06(1H,s),7.98-7.82(4H,m),7.43-7.39(1.73H,m),6.93-6.88(4H,m),6.82(0.27H,dd,J=11.0,4.5Hz),5.96-5.95(0.27H,m),5.87(0.27H,ddd,22.7,5.3,2.3Hz),5.75(0.73H,ddd,22.9,5.9,3.1Hz),5.50-5.47(0.36H,m),5.42-5.36(1.36H,m),4.70-4.64(1H,m),4.53-4.48(1H,m),3.90-3.83(9H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-196.63(0.73F,ddd,J=45.6,23.0,6.8Hz),-204.89(0.27F,ddd,J=46.5,26.3,11.0Hz)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000302
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）ペンチル＝４－メトキシベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08-7.94(4H,m),7.46(1H,dd,J=6.5,6.5Hz),6.96-6.89(4H,m),5.77(1H,ddd,J=16.8,6.0,3.2Hz),5.50(1H,ddd,J=46.8,6.3,6.3Hz),4.75-4.69(1H,m),4.57-4.53(2H,m),3.88-3.84(9H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-193.50(1F,ddd,J=46.1,16.9,6.2Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000303
　反応を60℃で14時間行った以外は、実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－４－フルオロ－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）－５－オキソペンチル＝４－メトキシベンゾアートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.85-9.70(1H,m),8.02-7.91(4H,m),6.94-6.86(4H,m),6.07-4.38(5H,m),3.87-3.84(6H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-210.07(1F,ddd,J=47.3,20.9,6.4Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000304
　反応を室温で5時間行った以外は、実施例１（５）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メトキシベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.02-7.93(4H,m),6.93-6.82(4H,m),6.32-5.97(0.54H,m),5.80(0.46H,dt,J=12.2,4.9Hz),5.61(0.46H,dt,J=9.7,9.7Hz),5.48(0.54H,dd,J=9.5,5.0Hz),5.36-5.35(0.23H,m),5.25-5.23(0.50H,m),5.14-5.09(0.27H,m),4.65-4.54(1.3H,m),4.47-4.45(0.7H,m),4.25-4.17(0.46H,m),3.87-3.83(6H,m),3.73(0.54H,d,J=12.3,6.7Hz),2.78(0.54H,d,J=5.3Hz),2.69(0.46H,d,J=8.6Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-183.54(0.54F,dd,J=47.1,11.4Hz),-192.82(0.46F,ddd,J=51.4,11.7,5.1Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000305
　実施例１０（８）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－アセチルオキシ－４－フルオロ－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メトキシベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.98(4H,dd,J=9.8,9.8Hz),6.89(4H,dd,J=16.4,8.8Hz),6.22(1H,dd,J=13.6,1.8Hz),5.81(1H,ddd,J=12.3,8.2,3.0Hz),5.37(1H,ddd,J=45.0,3.5,2.2Hz),4.54-4.40(2H,m),4.15-4.03(1H,m),3.87(3H,s),3.85(3H,s),2.11(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-191.95(1F,dd,J=50.8,11.7Hz)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000306
　実施例１（７）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－４－フルオロ－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メトキシベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.03(4H,dd,J=20.9,8.9Hz),6.91(4H,dd,J=11.3,8.9Hz),5.81-5.79(0.5H,m),5.76-5.74(0.5H,m),5.72-5.71(1H,m),5.68(0.5H,brs),5.58-5.56(0.5H,m),4.64-4.47(1H,m),4.33-4.27(1H,m),3.87(3H,s),3.85(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-163.56(1F,dd,J=47.2,14.8Hz)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000307
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－４－フルオロ－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メトキシベンゾアートの塩化メチレン溶液を用い、実施例２２（２）と同様にして、淡黄色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロ－３－（（４－メトキシフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メトキシベンゾアートを得た。
m/z(ESI-positive):572.5[M+H]+
19F-NMR(CDCl3)δ値：-196.14(1F,ddd,J=49.6,23.7,8.9Hz)
（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000308
　実施例１（８）と同様にして、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオランを得た。
実施例１３
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000309
　実施例１０（１）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－メトキシ－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.21-8.15(4H,m),7.68-7.75(4H,m),5.83(1H,ddd,J=17.2,6.0,6.0Hz),5.28(1H,ddd,J=52.0,6.4,4.4Hz),5.09(1H,d,J=4.4Hz),4.78(1H,dd,J=12.0,4.0Hz),4.62(1H,dd,J=12.0,6.4Hz),4.41-4.37(1H,m),3.49(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-63.16(3F,s),-63.23(3F,s),-206.61(1F,dd,J=52.3,16.9Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000310
　実施例１０（２）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.18(4H,dd,J=7.8,7.8Hz),7.73(4H,dd,J=12.4,4.4Hz),5.72(1H,dd,J=9.8,2.6Hz),5.51(1H,dd,J=21.6,4.0Hz),5.19(1H,d,J=49.2Hz),4.82-4.78(1H,m),4.72-4.64(2H,m),2.85(1H,dd,J=3.2,3.2Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-63.16(3F,s),-63.24(3F,s),-190.66(1F,dddd,J=49.0,21.7,9.6,2.4Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000311
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）ペンチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.19-8.11(4H,m),7.74-7.69(4H,m),7.40(0.64H,dd,J=6.4,6.4Hz),6.83(0.36H,dd,J=11.2,4.4Hz),6.10(0.36H,ddd,J=46.4,4.5,2.0Hz),5.82(0.36H,dd,J=8.1,1.9Hz),5.65(0.32H,dd,J=6.4,2.4Hz),5.57-5.48(0.96H,m),4.67-4.60(1H,m),4.51-4.41(2H,m),3.93(1.08H,s),3.82(1.92H,s),2.88(0.64H,d,J=5.8Hz),2.83(0.36H,d,J=5.9Hz),
19F-NMR(CDCl3)δ値：-63.23(3F,s),-63.28(3F,s),-200.2(0.64F,ddd,J=45.2,25.3,7.2Hz),-207.4(0.36F,ddd,J=46.3,27.5,11.3Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000312
　実施例７（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－１－（メトキシイミノ）－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）－５－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）ペンタン－３－イル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.15-8.05(5H,m),7.75-7.70(4H,m),7.50(1H,s),7.41(0.65H,dd,J=6.6,6.6Hz),6.81(0.35H,dd,J=11.3,4.4Hz),6.02(0.35H,ddd,J=25.7,5.9,2.5Hz),5.95-5.93(0.17H,m),5.86-5.78(0.82H,m),5.51-5.38(1.65H,m),4.81-4.74(1H,m),4.63-4.57(1H,m),3.92(1.95H,s),3.83(1.05H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-63.23(3F,s),-63.30(3F,s),-196.6(0.65F,ddd,J=45.6,21.9,6.9Hz),-204.9(0.35F,ddd,J=46.9,25.9,11.4Hz)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000313
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）ペンチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.23-8.08(4H,m),7.76-7.66(4H,m),7.49(0.82H,dd,J=6.4,6.4Hz),6.87(0.18H,dd,J=11.2,4.8Hz),6.07(0.18H,ddd,47.0,4.6,3.3Hz),5.93(0.18H,ddd,23.8,5.7,3.2Hz),5.83(0.82H,ddd,15.6,6.2,3.0Hz),5.53(0.82H,ddd,46.8,6.3,6.3Hz),4.81-4.70(1H,m),4.81-4.74(1H,m),4.65-4.58(1H,m),3.90(2.46H,s),3.88(0.54H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-63.24(3F,s),-63.27(3F,s),-193.37(0.82F,ddd,J=46.7,15.4,6.4Hz),-202.98(0.18F,ddd,J=47.1,23.5,10.7Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000314
　反応を60℃で8時間、次いで、70℃で2時間行った以外は、実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－オキソ－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）ペンチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.84(1H,d,J=5.6Hz),8.23-8.03(4H,m),7.78-7.57(4H,m),5.89-4.09(5H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-63.28(3F,s),-63.36(3F,s),-210.07(1F,ddd,J=47.1,20.1,5.8Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000315
　反応を6時間行った以外は、実施例１（５）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.18-8.07(4H,m),7.75-7.58(4H,m),6.10-6.06(0.53H,m),5.84(0.47H,dt,13.0,6.0Hz),5.67(0.47H,dd,J=10.2,7.1Hz),5.49(0.53H,dd,J=8.4,4.1Hz),5.40-5.39(0.23H,m),5.30-5.27(0.50H,m),5.17-5.14(0.27H,m),5.17-4.65(1.3H,m),4.55-4.53(0.7H,m),4.22(0.47H,m),3.78(0.53H,dd,J=13.0,6.2Hz),2.91(0.53H,d,J=4.4Hz),2.45(0.47H,d,J=7.0Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-63.28(3F,s),-63.30(3F,s),-184.00(0.47F,dd,J=47.4,11.9Hz),-192.00(0.53F,ddd,J=51.4,11.8,3.7Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000316
　得られた残留物に加える溶媒をメタノールからヘキサンに変更した以外は、実施例１０（８）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－アセチルオキシ－４－フルオロ－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.05(4H,dd,J=22.0,8.0Hz),7.62(4H,dd,J=48.2,8.2Hz),6.19(1H,d,J=4.4Hz),6.11-6.04(1H,m),5.32(1H,ddd,J=50.6,9.1,4.5Hz),4.62(1H,ddd,J=55.6,11.4,6.6Hz),3.78(1H,dd,J=13.6,6.8Hz),2.16(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-63.32(3F,s),-63.33(3F,s),-191.78(1F,dd,J=50.6,11.9Hz)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000317
　実施例１（７）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－４－フルオロ－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.19(4H,dd,J=15.8,8.0Hz),7.72(4H,dd,J=9.0,9.0Hz),5.87-5.85(0.5H,m),5.82-5.80(0.5H,m),5.76(1H,brs),5.71(0.5H,brs),5.61(0.5H,brs),4.68-4.59(2H,m),4.36-4.30(1H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-63.20(3F,s),-63.28(3F,s),-163.52(1F,dd,J=46.9,14.4Hz)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000318
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－４－フルオロ－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートの塩化メチレン溶液を用い、実施例２２（２）と同様にして、淡黄色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロ－３－（（４－（トリフルオロメチル）フェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－（トリフルオロメチル）ベンゾアートを得た。
m/z(ESI-positive):648.5[M+H]+
19F-NMR(CDCl3)δ値：-196.23(1H,ddd,J=49.7,24.5,8.7Hz)
（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000319
　実施例１（８）と同様にして、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオランを得た。
実施例１４
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000320
　実施例１０（１）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－メトキシ－３－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝３－フェニル－２－プロペノアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.74(2H,dd,J=16.0,5.6),7.54-7.51(4H,m),7.42-7.36(6H,m),6.47(2H,dd,J=16.0,6.8Hz),5.63(1H,ddd,J=17.2,6.0,6.0Hz),5.20(1H,ddd,J=52.4,6.4,4.4Hz),5.05(1H,d,J=4.4Hz),4.62(1H,dd,J=11.6,4.0Hz),4.40(1H,dd,J=11.6,7.2Hz),4.31-4.24(1H,m),3.52(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-206.91(1F,dd,J=52.3,16.9Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000321
　反応温度を70℃、反応時間を4時間とした以外は、実施例１０（２）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝３－フェニル－２－プロペノアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.75(2H,dd,J=16.0,8.0Hz),7.54-7.51(4H,m),7.41-7.37(6H,m),6.48(2H,dd,J=16.0,4.4Hz),5.67(1H,dd,J=10.4,2.8Hz),5.51(1H,dd,J=21.6,4.0Hz),5.32(1H,dd,J=22.2,4.2Hz),5.09(1H,d,J=49.2Hz),4.65-4.58(2H,m),4.48-4.42(1H,m),3.15(1H,brs)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.06(1F,ddd,J=49.1,22.1,10.3Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000322
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシ－１－（メトキシイミノ）－５－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）ペンタン－３－イル＝３－フェニル－２－プロペノアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.75(2H,dd,J=19.7,16.1Hz),7.53-7.50(4H,m),7.41-7.37(6.77H,m),6.85(0.23H,dd,J=11.2,4.8Hz),6.48(2H,dd,J=16.0,14.8Hz),6.01(ddd,J=46.4,4.8,2.0Hz),5.57(ddd,J=28.4,8.0,2.0Hz),5.53(ddd,J=45.4,6.6,2.4Hz),5.33(ddd,J=26.0,8.1,2.5Hz),4.50-4.40(1H,m),4.32-4.28(2H,m),3.94(0.7H,s),3.02-2.99(1H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-200.15(0.77F,ddd,J=45.6,26.0,7.2Hz),-207.29(0.23F,ddd,J=46.7,28.2,11.3Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000323
　実施例７（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－１－（メトキシイミノ）－５－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝３－フェニル－２－プロペノアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.17(1H,s),7.78-7.63(3H,m),7.54-7.50(4H,m),7.41-7.36(6.77H,m),6.81(0.23H,dd,J=11.1,4.4Hz),6.33(1.54H,dd,J=77.6,16.0Hz),6.32(0.46H,dd,J=65.2,16.0Hz),5.89(0.23H,m),5.79(0.23H,ddd,19.0,5.5,2.4Hz),5.66(0.77H,ddd,23.6,6.4,3.2Hz),5.37(0.77H,ddd,45.8,6.5,3.1Hz),5.29-5.25(1H,m),4.59-4.55(1H,m),4.43-4.38(1H,m),3.94(0.69H,s),3.89(2.31H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-197.2(0.77F,ddd,J=45.6,23.4,6.9Hz),-205.2(0.23F,ddd,J=46.7,26.4,11.3Hz)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000324
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－１－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）ペンタン－３－イル＝３－フェニル－２－プロペノアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.78(2H,dd,J=28.0,16.0Hz),7.57-7.51(4H,m),7.46(0.87H,dd,J=6.5,6.5Hz),7.41-7.37(6H,m),6.87(0.13H,dd,J=11.0,4.8Hz),6.50(2H,dd,J=29.6,16.0Hz),6.03(0.13H,dd,J=47.2,4.6,3.3Hz),5.75(0.13H,dd,J=25.1,5.8,3.1Hz),5.65(0.87H,ddd,17.6,5.6,3.6Hz),5.53(0.82H,ddd,46.8,6.3,6.3Hz),4.66-4.44(3H,m),3.92(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-193.71(1F,ddd,J=46.7,17.3,6.4Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000325
　反応を40℃で2時間、次いで、70℃で13時間行った以外は、実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－オキソ－１－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）ペンタン－３－イル＝３－フェニル－２－プロペノアートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.86-9.79(1H,m),8.86-7.67(2H,m),7.58-7.26(10H,m),6.53-6.45(2H,m),5.79-4.11(5H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-210.09-210.34(1F,m)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000326
　反応を4時間行った以外は、実施例１（５）と同様にして、褐色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝３－フェニル－２－プロペノアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.76-7.69(2H,m),7.53-7.46(4H,m),7.41-7.31(6H,m),6.45(0.94H,dd,J=15.8,6.2Hz),6.43(1.06H,dd,J=22.8,16.0Hz),5.91-5.84(0.53H,m),5.70(0.47H,dt,11.9,4.8Hz),5.59(0.47H,dd,9.8,9.8Hz),5.45(0.53H,dd,J=9.6,4.8Hz),5.30-5.29(0.23H,m),5.19-5.16(0.50H,m),5.06-5.04(0.27H,m),4.53-4.50(1.3H,m),4.55-4.53(0.7H,m),4.09-4.05(0.47H,m),3.62(0.53H,dd,J=12.3,6.7Hz),2.88(0.53H,d,J=5.4Hz),2.52(0.47H,d,J=9.0Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-183.75(0.48F,dd,J=47.1,11.5Hz),-192.65(0.52F,ddd,J=51.2,11.8,4.6Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000327
　実施例１０（８）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－アセチルオキシ－４－フルオロ－３－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝３－フェニル－２－プロペノアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.71(2H,dd,J=33.8,16.2Hz),7.49-7.29(10H,m),6.42(2H,dd,J=43.2,16.0Hz),6.15(1H,d,J=4.0Hz),5.23-5.86(1H,m),5.22(1H,ddd,J=50.8,8.9,4.5Hz),4.46(1H,ddd,J=58.4,11.3,6.9Hz),3.61(1H,dd,J=13.8,7.0Hz),2.18(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-192.04(1F,dd,J=50.5,12.0Hz)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000328
　実施例１（７）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－４－フルオロ－３－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝３－フェニル－２－プロペノアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.83-7.69(2H,m),7.55-7.45(4H,m),7.42-7.31(6H,m),6.51-6.38(2H,m),5.67-5.66(1.5H,m),5.63-5.61(0.5H,m),4.65-4.59(1H,m),4.54-4.38(2H,m),4.23-4.18(1H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-163.52(1F,dd,J=49.1,15.0Hz)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000329
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－４－フルオロ－３－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝３－フェニル－２－プロペノアートの塩化メチレン溶液を用い、実施例２２（２）と同様にして、黄褐色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロ－３－（（３－フェニル－２－プロペノイル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝３－フェニル－２－プロペノアートを得た。
m/z(ESI-positive):564.5[M+H]+
19F-NMR(CDCl3)δ値：-195.90(1F,ddd,J=49.0,23.5,9.2Hz)
（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000330
　実施例１（８）と同様にして、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオランを得た。
実施例１５
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000331
　反応時間を1時間とした以外は、実施例１０（１）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（２，４－ジクロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン－２－イル）メチル＝２，４－ジクロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.89-7.81(2H,m),7.50-7.47(2H,m),7.34-7.29(2H,m),5.44(1H,dd,J=22.8,4.8Hz),5.20-5.02(2H,m),4.77(1H,dd,J=12.0,3.6Hz),4.61(1H,dd,J=12.0,3.6Hz),4.49(1H,dd,J=8.4,3.6Hz),3.44(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.42(1F,ddd,J=48.9,22.0,10.0Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000332
　実施例１０（２）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（２，４－ジクロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝２，４－ジクロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.87(2H,dd,J=15.6,8.4Hz),7.50(2H,dd,J=11.6,2.0Hz),7.35-7.29(2H,m),5.68(1H,d,J=10.0Hz),5.46(1H,dd,J=21.2,4.0Hz),5.15(1H,d,J=48.8Hz),4.77-4.67(2H,m),4.62-4.58(1H,m),2.87(1H,brs)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.37(1F,ddd,J=48.9,21.4,10.1Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000333
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（（２，４－ジクロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝２，４－ジクロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.84(2H,dd,J=12.0,8.4Hz),7.50-7.48(2H,m),7.44(0.74H,dd,J=7.4,6.2Hz),7.33-7.30(2H,m),6.87(0.26H,dd,J=11.3,4.4Hz),6.03(ddd,J=46.4,4.4,2.0Hz),5.82(dd,J=8.4,2.0Hz),5.63-5.61(0.37H,m),5.54-5.45(1.1H,m),4.60-4.55(1H,m),4.48-4.39(2H,m),3.94(0.8H,s),3.86(2.2H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-200.08(0.74F,ddd,J=44.8,25.0,7.3Hz),-207.25(0.26F,ddd,J=46.3,28.0,11.5Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000334
　実施例７（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（（２，４－ジクロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝２，４－ジクロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.07(1H,s),7.83-7.75(2H,m),7.51-7.42(3.76H,m),7.35-7.26(2H,m),6.85(0.24H,dd,J=11.3,4.4Hz),6.00(0.24H,ddd,J=25.8,5.8,2.4Hz),5.93-5.91(0.12H,m)5.84-5.76(0.88H,m),5.49-5.47(0.38H,m),5.38-5.29(1.14H,m),4.74-4.55(2H,m),3.93(0.72H,s),3.88(2.28H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-197.30(0.88F,ddd,J=45.6,21.6,7.0Hz),-204.36(0.12F,ddd,J=46.7,25.7,11.4Hz)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000335
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－３－（（２，４－ジクロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝２，４－ジクロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.88(2H,dd,J=16.0,9.6Hz),7.51-7.45(2.77H,m),7.35-7.30(2H,m),6.88(0.23H,dd,J=11.4,4.6Hz),6.11-6.09(0.12H,m),5.99-5.94(0.23H,m),5.90-5.88(0.12H,m),5.82(0.77H,ddd,16.0,5.8,3.4Hz),5.50(0.77H,ddd,46.4,6.2,6.2Hz),4.79-4.70(1H,m),4.60-4.54(2H,m),3.93(0.7H,s),3.90(2.3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-193.48(0.77F,ddd,J=46.7,15.9,6.1Hz),-202.59(0.23F,ddd,J=47.1,24.4,11.2Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000336
　反応を70℃で6時間行った以外は、実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－３－（（２，４－ジクロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－オキソペンチル＝２，４－ジクロロベンゾアートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.84(1H,d,J=6.0Hz),7.90-7.82(2H,m),7.50-7.45(2H,m),7.34-7.27(2H,m),5.89-4.05(5H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-209.92(1F,ddd,J=46.5,20.6,5.7Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000337
　反応を4時間行った以外は、実施例１（５）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（２，４－ジクロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝２，４－ジクロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.93-7.78(2H,m),7.50-7.44(2H,m),7.35-7.30(2H,m),6.01-5.95(0.59H,m),5.84(0.41H,dt,11.6,4.3Hz),5.63(0.41H,dd,J=6.0,6.0Hz),5.49(0.59H,dd,J=7.8,3.8Hz),5.37-5.36(0.21H,m),5.26-5.23(0.50H,m),5.13-5.10(0.29H,m),4.71-4.58(1.2H,m),4.53-4.43(0.8H,m),4.20-4.16(0.41H,m),3.74(0.59H,dd,J=12.2,6.7Hz),2.84(0.59H,dd,J=5.5,1.2Hz),2.56(0.41H,d,J=9.0Hz)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-183.85(0.41F,dd,J=47.1,11.1Hz),-192.53(0.59F,ddd,J=51.2,11.3,4.9Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000338
　実施例１０（８）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－アセチルオキシ－３－（（２，４－ジクロロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝２，４－ジクロロベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.79(2H,d,J=8.4Hz),7.46(2H,dd,J=22.8,2.0Hz),7.27(2H,ddd,J=30.4,8.4,2.0Hz),6.16(1H,d,J=4.4Hz),6.03-5.98(1H,m),5.29(1H,ddd,J=50.6,8.8,4.6Hz),4.40(1H,ddd,J=7.06,11.4,6.4Hz),3.73(1H,dd,J=13.6,6.4Hz),2.15(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-192.62(1F,dd,J=50.6,11.5Hz)
実施例１６
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000339
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシオキソラン－３－オール2.2gをピリジン26.4mLに溶解させ、氷浴下で４－ニトロベンゾイルクロリド6.1gを添加した後、室温で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水で2回、飽和塩化ナトリウム水溶液で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物に酢酸エチルを加え、固形物を濾取し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－メトキシ－３－（（４－ニトロフェニル）カルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝４－ニトロベンゾアート4.0gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.38(4H,d,J=8.6Hz),8.25(2H,d,J=8.9Hz),8.22(2H,d,J=8.9Hz),5.72(1H,td,J=11.5,5.8Hz),5.52(1H,ddd,J=51.6,6.5,4.4Hz),5.16(1H,d,J=4.3Hz),4.70(1H,d,J=7.9Hz),4.54-4.50(2H,m),3.35(3H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000340
　実施例１０（２）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（４－ニトロフェニル）カルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝４－ニトロベンゾアートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.39(2H,d,J=5.9Hz),8.36(2H,d,J=5.9Hz),8.21(2H,d,J=5.9Hz),8.19(2H,d,J=5.9Hz),5.53(1H,d,J=10.9Hz),5.43(1H,dd,J=23.1,5.0Hz),5.18(1H,d,J=49.2Hz),4.67(3H,tdd,J=19.2,9.9,4.0Hz),3.31(1H,s)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000341
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（（４－ニトロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝４－ニトロベンゾアートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.33(2H,d,J=2.3Hz),8.30(2H,d,J=2.6Hz),8.17(2H,d,J=4.6Hz),8.14(2H,t,J=3.8Hz),7.63(1H,dd,J=8.3,5.9Hz),6.20(1H,dd,J=22.0,7.1Hz),6.10(1H,d,J=6.6Hz),5.46(1H,dd,J=24.9,8.4Hz),4.40(2H,dt,J=14.0,4.8Hz),3.86(1H,s),3.71(3H,s)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000342
　実施例７（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（（４－ニトロフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロフェニル）スルホニル）オキシ）ペンチル＝４－ニトロベンゾアートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.36(2H,d,J=5.0Hz),8.33(2H,d,J=5.0Hz),8.23(0.75H,s),8.22(0.25H,s),8.18(0.75H,s),8.15(0.25H,s),8.11-8.06(4H,m),7.71(0.25H,dd,J=8.1,5.8Hz),7.51(0.75H,dd,J=8.9,5.6Hz),7.00(0.25H,dd,J=11.6,4.6Hz),6.14(0.25H,dd,J=45.2,4.3Hz),5.75-5.67(1.50H,m),4.85(1H,dd,J=12.4,3.1Hz),4.68(2H,dt,J=26.4,9.1Hz),3.79(0.75H,s),3.75(2.25H,s)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000343
　実施例７（２）と同様にして、白色固体の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－３－（（４－ニトロフェニル）カルボニルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝４－ニトロベンゾアートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.39(2H,d,J=8.9Hz),8.34(2H,d,J=8.9Hz),8.20(2H,d,J=8.9Hz),8.13(2H,d,J=8.9Hz),7.78(0.2H,t,J=6.4Hz),7.64(0.8H,dd,J=7.6,5.0Hz),5.92-5.88(1H,m),5.35(1H,dt,J=46.0,7.3Hz),5.15(1H,dt,J=11.3,4.0Hz),4.72(2H,dt,J=20.0,8.8Hz),3.84(0.6H,s),3.63(2.4H,s)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000344
　実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（４－ニトロフェニル）カルボニルオキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－オキソペンチル＝４－ニトロベンゾアートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：9.67(1H,d,J=8.3Hz),8.38(2H,d,J=6.9Hz),8.34(2H,d,J=8.9Hz),8.21(2H,d,J=8.9Hz),8.12(2H,d,J=8.9Hz),6.55(1H,dd,J=21.3,6.4Hz),5.61(1H,dd,J=45.4,4.8Hz),4.79(2H,ddd,J=42.4,21.1,8.8Hz),4.59-4.40(1H,m)
実施例１７
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000345
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシオキソラン－３－オール4.0gをピリジン40mLに溶解させ、氷浴下で２－ナフトイルクロリド10.1gを添加した後、室温で2時間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸で3回、飽和塩化ナトリウム水溶液で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン=1/9～5/5）で精製し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－メトキシ－３－（（２－ナフトイルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝２－ナフトアート5.7gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.67(1H,s),8.63(1H,s),8.14(1H,d,J=7.9Hz),8.07-8.00(6H,m),7.69-7.59(5H,m),5.55(1H,dd,J=23.9,4.8Hz),5.38(1H,d,J=18.2Hz),5.28(1H,d,J=20.5Hz),4.76-4.68(3H,m),3.42(3H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000346
　実施例１０（２）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（２－ナフトイル）オキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝２－ナフトアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.63(2H,d,J=7.3Hz),8.10-8.03(2H,m),7.90(6H,m),7.56(4H,m),5.76(1H,d,J=10.9Hz),5.61(1H,dd,J=22.1,4.3Hz),5.27(1H,d,J=49.2Hz),4.83(2H,dt,J=11.7,4.0Hz),4.72(1H,dd,J=12.9,6.3Hz),3.09(1H,s)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000347
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）－３－（２－ナフトイルオキシ）ペンチル＝２－ナフトアートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.33(2H,d,J=2.3Hz),8.30(2H,d,J=2.6Hz),8.17(2H,d,J=4.6Hz),8.14(2H,t,J=3.8Hz),7.63(1H,dd,J=8.3,5.9Hz),6.20(1H,dd,J=22.0,7.1Hz),6.10(1H,d,J=6.6Hz),5.46(1H,dd,J=24.9,8.4Hz),4.40(2H,dt,J=14.0,4.8Hz),3.86(1H,s),3.71(3H,s)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000348
　実施例７（１）と同様にして、白色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－３－（２－ナフトイルオキシ）－２－（（（２，４，５－トリクロロフェニル）スルホニル）オキシ）ペンチル＝２－ナフトアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.61(1H,s),8.49(1H,s),8.09(0.3H,s),8.08(0.7H,s),8.03-7.83(8H,m),7.65-7.53(4H,m),7.47(0.7H,t,J=6.8Hz),7.32(0.3H,s),6.89(0.3H,dd,J=11.1,4.5Hz),6.11(0.7H,ddd,J=26.3,5.7,2.7Hz),5.92(1H,dq,J=22.9,3.0Hz),5.57(1H,dq,J=16.0,3.1Hz),5.48(1H,dq,J=20.2,3.2Hz),4.84(1H,ddd,J=12.6,7.9,3.0Hz),4.67(1H,dd,J=12.9,6.3Hz),3.94(0.9H,s),3.86(2.1H,s)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000349
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－３－（２－ナフトイルオキシ）ペンチル＝２－ナフトアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.67(0.2H,s),8.61(0.8H,s),8.57(0.2H,s),8.11(0.8H,t,J=4.3Hz),8.04(1H,dd,J=8.6,1.7Hz),7.92-7.87(7H,m),7.61-7.54(5H,m),6.93(0.2H,dd,J=11.2,4.6Hz),6.04(0.8H,dq,J=21.1,3.1Hz),5.92(1H,dq,J=16.8,3.0Hz),5.61(1H,dt,J=46.7,6.2Hz),4.88-4.82(1H,m),4.78-4.66(2H,m),3.89(2.4H,s),3.86(0.6H,s)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000350
　実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－４－フルオロ－３－（２－ナフトイルオキシ）－５－オキソペンチル＝２－ナフトアートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.88(1H,d,J=6.3Hz),8.60(2H,d,J=14.5Hz),8.02(2H,td,J=8.8,1.8Hz),7.92-7.84(5H,m),7.59-7.51(5H,m),5.95(1H,dt,J=21.4,3.8Hz),5.56(1H,d,J=4.0Hz),5.41(1H,d,J=4.0Hz),4.81-4.69(2H,m)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000351
　実施例１（５）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（（２－ナフトイル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝２－ナフトアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.58(1H,d,J=20.8Hz),8.49(1H,d,J=13.5Hz),8.05(0.5H,dd,J=8.6,1.7Hz),7.97(1H,dt,J=8.3,2.1Hz),7.90-7.82(4H,m),7.71(2H,td,J=13.8,5.9Hz),7.60-7.46(4H,m),7.38(0.5H,t,J=7.6Hz),6.23-6.14(0.5H,m),5.96-5.91(0.5H,m),5.67(0.5H,d,J=10.6Hz),5.42(0.5H,dt,J=32.3,3.1Hz),5.32(0.5H,t,J=6.4Hz),5.19(0.5H,dd,J=7.3,4.0Hz),4.75-4.67(1H,m),4.62(1H,dd,J=14.5,6.3Hz),4.34(0.5H,dd,J=7.8,4.1Hz),3.88(0.5H,dd,J=13.4,6.1Hz),3.05(0.5H,s),2.67(0.5H,s)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000352
　実施例１０（８）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－アセチルオキシ－４－フルオロ－３－（（２－ナフトイル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝２－ナフトアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.60(0.35H,s),8.58(0.35H,s),8.53(0.65H,s),8.42(0.65H,s),8.03(0.70H,d,J=8.6Hz),7.94(1.30H,ddd,J=13.2,8.6,1.7Hz),7.87-7.47(9.35H,m),7.35(0.65H,t,J=6.9Hz),6.19-6.08(2H,m),5.56-5.28(1H,m),4.75(0.70H,dd,J=11.4,7.1Hz),4.60(1.30H,t,J=8.1Hz),4.24-4.21(0.35H,m),3.88(0.65H,q,J=6.8Hz),2.16(1.05H,s),2.16(1.95H,s)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000353
　実施例１（７）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－ブロモ－４－フルオロ－３－（（２－ナフトイル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝２－ナフトアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.65(2H,d,J=27.6Hz),8.11-7.80(8H,m),7.64-7.47(4H,m),5.96(0.5H,brs),5.91(0.5H,brs),5.82(0.5H,brs),5.78(0.5H,brs),5.74(0.5H,brs),5.66(0.5H,brs),4.76-4.62(2H,m),4.48-4.42(1H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-163.66(1F,dd,J=48.0,14.5Hz)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000354
　実施例２２（２）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロ－３－（（２－ナフトイル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝２－ナフトアートを得た。
m/z(ESI-positive):664.6[M+H]+
19F-NMR(CDCl3)δ値：-195.71(1F,ddd,J=49.6,22.7,9.0Hz)
（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000355
　実施例１（８）と同様にして、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオランを得た。
実施例１８
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000356
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシオキソラン－３－オール2.5gをピリジン25mLに溶解させ、氷浴下で４－フェニルベンゾイルクロリド7.2gを添加した後、室温で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水で2回、飽和塩化ナトリウム水溶液で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン=1/9～6/4）で精製し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン－２－イル）メチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラート3.3gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.05(4H,dd,J=8.4,1.8Hz),7.86(2H,d,J=8.6Hz),7.82(2H,d,J=8.6Hz),7.76-7.72(4H,m),7.50-7.45(6H,m),5.48(1H,dd,J=23.8,5.0Hz),5.34(1H,d,J=9.6Hz),5.24(1H,d,J=28.7Hz),4.71-4.59(3H,m),3.40(3H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000357
　実施例１０（２）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.06(4H,t,J=8.6Hz),7.86(2H,d,J=8.6Hz),7.81(2H,d,J=8.6Hz),7.77-7.72(4H,m),7.52-7.45(6H,m),7.07(1H,dd,J=4.0,2.6Hz),5.54(1H,dd,J=10.6,4.3Hz),5.44(1H,dd,J=23.4,4.6Hz),5.15(1H,d,J=49.9Hz),4.68-4.58(3H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000358
　実施例１（１）と同様にして、白色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.09-7.98(4H,m),7.88-7.68(8H,m),7.50-7.44(6H,m),7.12(0.3H,dd,J=10.6,4.6Hz),6.06(1.7H,ddd,J=32.5,14.2,5.6Hz),5.54(2H,tt,J=39.1,7.7Hz),5.15(0.3H,d,J=48.9Hz),4.69-4.57(0.7H,m),4.41-4.26(2H,m),3.88(0.9H,s),3.75(2.1H,s)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000359
　実施例７（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロフェニル）スルホニル）オキシ）ペンチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.14(1H,s),8.05(2H,dd,J=19.7,11.1Hz),7.97(1H,s),7.81(8H,m),7.50(8H,m),7.20(0.5H,dd,J=11.2,4.6Hz),6.09(0.5H,dq,J=48.2,3.1Hz),5.86(1H,dt,J=23.1,3.8Hz),5.68(2H,tt,J=29.9,9.4Hz),4.70(2H,dt,J=27.4,9.7Hz),3.79(3H,s)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000360
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.10-8.01(2H,m),7.95(1H,d,J=8.6Hz),7.88-7.83(3H,m),7.80(1H,d,J=6.6Hz),7.68(5H,m),7.47(6H,m),6.01-5.93(1H,m),5.46(1H,dt,J=47.4,6.9Hz),5.05(1H,t,J=45.2Hz),4.71(3H,ddd,J=25.6,14.5,7.8Hz),3.86(3H,s)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000361
　実施例１（４）と同様にして、白色固体の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－オキソペンチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：9.69(1H,d,J=9.9Hz),8.06(2H,m),8.00(2H,d,J=7.3Hz),7.86(2H,dd,J=8.6,2.6Hz),7.77(2H,dd,J=8.4,4.1Hz),7.70(3H,d,J=12.6Hz),7.53-7.43(7H,m),6.55(1H,dd,J=20.1,5.9Hz),6.06(1H,ddd,J=22.1,5.0,3.3Hz),5.82(1H,dq,J=14.9,4.0Hz),5.01-4.95(1H,m),4.77-4.67(1H,m)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000362
　実施例１（５）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.04(2H,dd,J=8.6,2.3Hz),7.87(2H,t,J=8.4Hz),7.79(2H,dd,J=8.6,3.0Hz),7.71-7.67(2H,m),7.63-7.39(10H,m),6.84(1H,dd,J=6.1,1.8Hz),6.09(0.5H,dt,J=14.2,5.9Hz),5.76(0.5H,dd,J=14.5,6.9Hz),5.66(0.5H,dt,J=14.4,5.4Hz),5.39-5.30(1H,m),5.18(0.5H,dt,J=17.2,5.1Hz),4.48(2H,ddd,J=29.3,15.8,9.3Hz),4.18(0.5H,dd,J=12.9,7.3Hz),3.83(0.5H,dd,J=13.2,7.3Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000363
　実施例１０（８）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－５－アセチルオキシ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.11(0.5H,d,J=8.6Hz),8.07(2H,d,J=8.6Hz),7.98(1.5H,d,J=8.6Hz),7.67-7.38(14H,m),6.25(0.25H,t,J=6.9Hz),6.14(1.5H,tt,J=10.7,3.7Hz),5.89(0.25H,td,J=8.5,4.2Hz),5.42(0.25H,ddd,J=48.0,4.0,2.6Hz),5.33(0.75H,ddd,J=50.7,9.1,4.5Hz),4.69(1H,dd,J=11.4,6.8Hz),4.54(1H,dd,J=10.9,6.6Hz),4.15(0.25H,ddd,J=13.2,6.8,2.1Hz),3.79(0.75H,q,J=6.8Hz),2.17(2.25H,d,J=2.3Hz),2.14(0.75H,s)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000364
　実施例１（７）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－５－ブロモ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.14(2H,dd,J=21.0,8.4Hz),7.69-7.37(16H,m),5.89-5.70(0.5H,m),5.84-5.82(0.5H,m),5.78-5.77(0.5H,m),5.75(0.5H,brs),5.71(0.5H,brs),5.62-5.61(0.5H,m),4.70-4.56(2H,m),4.40-4.34(1H,m)
19F-NMR(282.37MHz,CDCl3)δ値：-163.62(1F,dd,J=48.9,14.3Hz)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000365
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）－５－ブロモ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートの塩化メチレン溶液を用い、実施例２２（２）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロ－３－（（（１，１’－ビフェニル）－４－カルボニル）オキシ）チオラン－２－イル）メチル＝（１，１’－ビフェニル）－４－カルボキシラートを得た。
m/z(ESI-positive):612.6[M+H]+
19F-NMR(CDCl3)δ値：-195.70(1F,ddd,J=49.6,22.7,9.0Hz)
（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000366
　実施例１（８）と同様にして、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオランを得た。
実施例１９
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000367
　反応時間を2時間とした以外は、実施例１０（１）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（２，２－ジメチルプロピオニルオキシ）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン－２－イル）メチル＝トリメチルアセタートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：5.11-5.04(2H,m),4.80(1H,d,J=47.6Hz),4.42(1H,dd,J=12.0,3.6Hz),4.27(1H,dd,J=12.0,4.4Hz),4.17(1H,m),3.39(3H,s),1.21(18H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.55(1F,ddd,J=49.5,23.0,10.5Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000368
　実施例１０（２）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（２，２－ジメチルプロピオニルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝トリメチルアセタートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：5.57(1H,dd,J=10.4,4.0Hz),5.11(1H,dd,J=22.0,3.6Hz),4.92(1H,d,J=49.6Hz),4.42-4.35(2H,m),4.27-4.23(1H,m),2.96(1H,dd,J=11.8,3.2Hz),1.21(9H,s),1.20(9H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.09(1F,ddd,J=49.8,22.6,11.2,Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000369
　実施例１（１）と同様にして、白色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（２，２－ジメチルプロピオニルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝トリメチルアセタートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.29(0.73H,dd,J=8.1,6.4Hz),6.75(0.27H,dd,J=11.3,4.6Hz),5.91(0.27H,ddd,J=46.5,4.6,1.8Hz),5.43(0.73H,ddd,J=45.3,6.4,2.3Hz),5.38(0.27H,ddd,J=28.6,8.7,1.8Hz),4.74(0.73H,ddd,J=25.7,8.8,2.4Hz),4.27-3.91(3H,m),3.91(0.80H,s),3.88(2.20H,s),2.78(0.73H,d,J=6.4Hz),2.73(0.27H,d,J=6.4Hz),1.23(9H,s),1.22(9H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-201.5(0.7F,ddd,J=43.5,23.8,6.2Hz),-208.1(0.3F,ddd,J=46.5,28.7,11.6Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000370
　実施例７（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－５－（２，２－ジメチルプロピオニルオキシ）－２－フルオロ－１－（メトキシイミノ）－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝トリメチルアセタートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.16(1H,s),7.69(1H,s),7.22(0.67H,dd,J=7.8,6.4Hz),6.64(0.33H,dd,J=11.3,4.4Hz),5.73-5.67(0.33H,m),5.63-5.60(0.33H,m),5.36(0.67H,ddd,J=51.9,6.4,3.6),5.38-5.35(0.34H,m),5.19-5.53(1H,m),5.13-5.09(0.33H,m),4.44-4.40(1H,m),4.21-4.16(1H,m),3.90(2.01H,s),3.89(0.99H,s),1.19(9H,s),1.17(9H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-199.40(0.71F,ddd,J=48.0,26.2,8.0Hz),-206.33(0.29F,ddd,J=49.9,30.1,12.4Hz)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000371
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－３－（２，２－ジメチルプロピオニルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝トリメチルアセタートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.38(0.83H,dd,J=6.5,6.5Hz),6.75(0.17H,dd,J=11.2,4.7),5.85(0.17H,ddd,J=47.4,4.7,3.0),5.64(0.17H,m),5.37-5.47(2.25H,m),5.23(0.41H,m),4.57-4.18(2H,m),3.91(2.49H,s),3.89(0.51H,s),1.27(9H,s),1.23(9H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-194.50(0.84F,ddd,J=46.6,16.6,6.6Hz),-203.81(0.16F,ddd,J=47.3,25.7,11.2Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000372
　反応を60℃で8時間行った以外は、実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－３－（２，２－ジメチルプロピオニルオキシ）－４－フルオロ－５－オキソペンチル＝トリメチルアセタートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.72(1H,d,J=6.6Hz),5.58-4.56(5H,m),1.27-1.23(18H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-210.77(1F,ddd,J=46.8,20.9,6.5Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000373
　実施例１（５）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（２，２－ジメチルプロピオニルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝トリメチルアセタートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：5.62-5.44(1.5H,m),5.41(0.5H,m),5.16(0.25H,m),5.06-5.03(0.5H,m),4.94-4.90(0.25H,m),4.38-4.28(1H,m),4.16-4.10(1H,m),3.85(0.5H,dd,J=7.4,7.4),3.42(0.5H,dd,J=13.1,5.7),2.97(0.5H,brs),2.46(0.5H,brs),1.23-1.21(18H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-184.20(0.54F,ddd,J=47.1,11.1,11.1Hz),-193.48(0.46F,ddd,J=51.8,10.9,5.4Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000374
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（２，２－ジメチルプロピオニルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝トリメチルアセタート40mg、ジメチルアミノピリジン0.3mgおよび２-ピコリン19mgのテトラヒドロフラン1.0mL溶液に、10℃以下で無水酢酸14mgを加え、室温で30分攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、飽和塩化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－アセチルオキシ－３－（２，２－ジメチルプロピオニルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝トリメチルアセタート44mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：6.14(0.41H,dd,J=13.8,2.1Hz),6.10(0.59H,d,J=4.5),5.64(0.59H,ddd,J=16.5,9.0,7.7),5.43(0.41H,ddd,J=12.2,3.4,3.4),5.18(0.41H,ddd,J=47.4,3.4,2.1),5.10(0.59H,ddd,J=50.8,9.0,4.5),4.36(0.59H,dd,J=11.5,4.7),4.23(0.41H,dd,J=11.2,7.4),4.12-4.07(1H,m),3.78(0.41H,m),3.42(0.59H,ddd,J=7.7,4.7,4.7),2.16(1.77H,s),2.10(1.23H,s),1.25(5.31H,s),1.23(3.69H,s),1.21(5.31H,s),1.20(3.96H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-187.09(0.44F,ddd,J=50.5,13.9,13.9Hz),-192.57(0.56F,dd,J=50.9,11.8Hz)
実施例２０
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000375
　反応時間を1時間とした以外は、実施例１０（１）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（３，５－ジメチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン－２－イル）メチル＝３，５－ジメチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.67-7.64(4H,m),7.22-7.17(2H,m),5.46(1H,dd,J=23.8,4.8Hz),5.22-5.03(2H,m),4.70(1H,dd,J=12.0,4.0Hz),4.62(1H,dd,J=12.0,4.8Hz),4.52-4.49(1H,m),3.46(3H,s),2.36(6H,s),2.32(6H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.21(1F,ddd,J=49.1,23.1,10.7Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000376
　実施例１０（２）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（３，５－ジメチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝３，５－ジメチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.68(2H,s),7.65(2H,s),7.22(1H,s),7.17(1H,s),5.69(1H,dd,J=10.4,3.8Hz),5.46(1H,dd,J=21.8,3.8Hz),5.16(1H,d,J=49.2Hz),4.71-4.69(3H,m),2.36(6H,s),2.32(6H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-190.45(1F,dddd,J=49.3,22.3,10.9,2.4Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000377
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３－（（３，５－ジメチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝３，５－ジメチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.67(2H,s),7.62(2H,s),7.40(0.80H,dd,J=6.8,6.8Hz),7.23(1H,s),7.20(1H,s),6.84(0.20H,dd,J=11.1,4.6Hz),6.06(0.20H,ddd,J=46.4,4.6,2.0Hz),5.70(0.20H,ddd,J=28.5,8.2,1.9Hz),5.57(0.80H,ddd,J=45.2,6.8,2.4Hz),5.43(0.80H,ddd,J=26.0,8.4,2.4Hz),4.60-4.51(1H,m),4.48-4.34(2H,m),3.92(0.60H,s),3.84(2.40H,s),3.03(0.80H,d,J=6.2Hz),2.98(0.20H,d,J=13.7Hz),2.36(6H,s),2.35(6H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-200.07(0.86F,ddd,J=45.3,26.0,7.0Hz),-207.47(0.14F,ddd,J=46.3,28.4,4.6Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000378
　実施例７（１）と同様にして、白色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（（３，５－ジメチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝３，５－ジメチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.05(1H,s),7.65(2H,s),7.51(2H,s),7.41(1H,dd,J=6.6,6.6Hz),7.37(1H,s),7.23(1H,s),7.20(1H,s),5.78(1H,ddd,J=23.2,6.1,3.0Hz),5.52-5.50(0.50H,m),5.44-5.38(1.50H,m),4.67(1H,dd,J=12.8,2.9Hz),4.53(1H,dd,J=12.9,6.2Hz),3.87(3H,s),2.36(12H,m,)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-196.79(1F,ddd,J=45.7,23.3,6.7Hz)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000379
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－３－（（３，５－ジメチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンチル＝３，５－ジメチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.72(2H,s),7.65(2H,s),7.48(1H,dd,J=6.4,6.4Hz),7.23(1H,s),7.20(1H,s),5.80-5.75(1H,m),5.53(1H,ddd,J=46.8,6.4,6.2Hz),4.76-4.69(1H,m),4.63-4.56(2H,m),3.89(3H,s),2.40(6H,s),2.35(6H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-193.60(1F,ddd,J=46.7,17.3,6.2Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000380
　反応を60℃で11時間行った以外は、実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－３－（（３，５－ジメチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－オキソペンチル＝３，５－ジメチルベンゾアートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.82(1H,d,J=6.3Hz),7.65(2H,s),7.29(2H,s),7.23(1H,s),7.20(1H,s),5.82(1H,ddd,J=21.7,3.5,3.5Hz),5.41(1H,dd,J=46.9,3.5,Hz),4.61-4.19(3H,m),2.37-2.34(12H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-210.09(1F,ddd,J=46.8,21.9,6.7Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000381
　実施例１（５）と同様にして、黄色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（３，５－ジメチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝３，５－ジメチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.65(1H,s),7.61(1H,s),7.59(1H,s),7.57(1H,s),7.21(0.50H,s),7.19(0.50H,s),7.17(0.50H,s),7.12(0.50H,s),6.07-6.00(0.50H,m),5.80(0.50H,ddd,J=12.4,2.5,2.5Hz),5.61(0.50H,ddd,J=9.3,9.3,6.1Hz),5.48-5.46(0.50H,m),5.37-5.36(0.25H,m),5.26-5.23(0.50H,m),5.14-5.11(0.25H,m),4.65-4.56(1.25H,m),4.48-4.46(0.75H,m),4.22-4.16(0.50H,m),3.77-3.72(0.50H,m),2.34-2.33(6H,m),2.32(3H,s),2.25(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-183.72(0.50F,ddd,J=47.7,12.0,12.0Hz),-192.40(0.50F,ddd,J=51.2,11.3,3.7Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000382
　実施例１９（８）と同様にして、黄色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－アセチルオキシ－３－（（３，５－ジメチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝３，５－ジメチルベンゾアートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.64-7.61(2.9H,m),7.53(1.1H,s),7.45(0.45H,s),7.19(0.55H,s),7.16(0.45H,s),7.08(0.55H,s),6.23(0.45H,dd,J=13.8,2.3Hz),6.16(0.55H,d,J=4.5Hz),6.05(0.55H,ddd,J=16.2,9.0,7.3Hz),5.82(0.45H,ddd,J=12.4,4.0,3.8Hz),5.38(0.45H,ddd,J=47.7,3.8,2.3Hz),5.29(0.55H,ddd,J=50.7,9.0,4.5Hz),4.66-4.62(1H,m),4.54-4.41(1.55H,m),4.13-4.07(0.45H,m),2.34-2.31(9H,m),2.23(3H,m)2.17-2.13(3H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-187.11(0.5F,ddd,J=48.1,13.2,13.2Hz),-191.86(0.5F,dd,J=53.8,12.3Hz)
実施例２１
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000383
　反応時間を5時間とした以外は、実施例１０（１）と同様にして、白色固体の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－メトキシ－３－（メトキシカルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝メチルホルマートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：5.11(1H,d,J=10.0Hz),5.03-4.91(2H,m),4.50(1H,dd,J=11.6,7.2Hz),4.33(1H,dd,J=11.6,5.2Hz),4.31-4.29(1H,m),3.83(3H,s),3.81(3H,s),3.41(3H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-191.20(1F,ddd,J=49.1,22.2,10.5Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000384
　実施例１０（２）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（メトキシカルボニルオキシ）オキソラン－２－イル）メチル＝メチルホルマートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：5.59(0.84H,dd,J=10.0,3.6Hz),5.47-5.42(0.16H,m),5.20(0.16H,ddd,J=17.2,4.0,4.0Hz),5.02(0.84H.d,J=48.8Hz),5.05-4.98(16H,m),4.31-4.15(2H,m),4.36-4.32(1H,m),3.84(3H,s),3.80(3H,s),3.50(1H,brs)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-191.10(0.88F,ddd,J=48.9,21.1,10.2Hz),-206.53(0.12F,ddd,J=51.2,16.9,6.0Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000385
　実施例１（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）－３－（メトキシカルボニルオキシ）ペンチル＝メチルホルマートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.42(0.78H,dd,J=6.8,6.8Hz),6.85(0.22H,dd,J=11.2,4.8Hz),5.91(0.22H,ddd,J=46.4,4.8,2.0Hz),5.41(0.78H,ddd,J=45.2,6.8,2.8Hz),5.25-5.15(0.22H,m),5.00(0.78H,ddd,J=24.2,8.2,2.8Hz),4.52-4.19(3H,m),3.89(3H,s),3.83(3H,s),3.81(3H,s),3.08(1H,brs)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-199.93(0.75F,ddd,J=45.2,24.3,4.9Hz),-207.93(0.25F,ddd,J=46.3,27.1,10.5Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000386
　実施例７（１）と同様にして、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－１－（メトキシイミノ）－５－（メトキシカルボニルオキシ）－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝メチルホルマートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.13-8.08(1H,m),7.70-7.68(1H,m),7.39-7.30(0.87H,m),6.83-6.75(0.13H,m),5.80-5.66(0.24H,m),5.54-5.45(0.13H,m),5.36-5.27(0.76H,m),5.19-5.15(0.50H,m),5.12-5.01(1.37H,m),4.54-4.42(1.13H,m),4.34-4.26(0.87H,m),3.93-3.73(9H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-196.34(0.74F,ddd,J=45.3,20.9,6.4Hz),-205.27(0.26F,ddd,J=46.7,25.2,11.1Hz)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000387
　実施例７（２）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－３－（メトキシカルボニルオキシ）ペンチル＝メチルホルマートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.48-7.41(0.80H,m),6.96-6.83(0.20H,m),5.95(0.12H,ddd,J=47.0,4.8,3.4Hz),5.45-5.09(1.88H,m),4.56-4.31(3H,m),3.94-3.80(9H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：193.89(0.71F,ddd,J=46.1,16.6,6.0Hz),203.12(0.29F,ddd,J=47.1,24.5,10.9Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000388
　反応を60℃で9時間行った以外は、実施例１（４）と同様にして、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－４－フルオロ－３－（メトキシカルボニルオキシ）－５－オキソペンチル＝メチルホルマートおよびその水加物の混合物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.78(1H,m),5.48-5.18(2H,m),4.57-4.34(3H,m),3.84-3.80(6H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-210.73(1F,ddd,J=47.3,21.8,6.2Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000389
　実施例１（５）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシ－３－（メトキシカルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝メチルホルマートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：5.57-5.46(1H,m),5.38-5.35(0.80H,m),5.25-5.23(0.20H,m),5.12-5.09(0.70H,m),4.99-4.97(0.30H,m),4.71-4.31(1.30H,m),4.23-4.19(0.70H,m),3.84(3H,s),3.81(3H,s),3.77-3.73(1H,m)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-185.10(0.43F,d,J=46.7Hz),-192.12(0.57F,dd,J=51.5,12.0Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000390
　実施例１９（８）と同様にして、無色油状物の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－アセチルオキシ－４－フルオロ－３－（メトキシカルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝メチルホルマートを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：6.12-6.06(1H,m),5.51(0.60H,ddd,J=15.6,8.8,6.8Hz),5.38-5.31(0.60H,m),5.23-5.19(0.50H,m),5.10-5.07(0.30H,m),4.45(0.60H,dd,J=11.2,5.6Hz),4.32-4.20(1.40,m),3.95-3.84(3.40H,m),3.80-3.79(3H,m),3.54-3.51(0.60H,m),2.17(1.80H,s),2.12(1.20H,s)
19F-NMR(CDCl3)δ値：-187.31(0.37F,ddd,J=47.8,14.1,14.1Hz),-191.72(0.63F,dd,J=50.5,11.3Hz)
実施例２２
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000391
　室温で（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－アセチルオキシ－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート100gの塩化メチレン600mL溶液に、30%臭化水素酸／酢酸溶液94mLを加え、3時間撹拌した。反応混合物に水500mLを加え、10分間撹拌した。有機層を分取し、7％炭酸水素ナトリウム水溶液600mLで洗浄し、（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－ブロモ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートの塩化メチレン溶液620mLを得た。
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000392
　窒素気流下、シトシン66.4gおよび硫酸アンモニウム316mgのトルエン200mL懸濁液に、１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシラザン193gを加え、加熱還流しながら反応混合物が均一溶液になるまで撹拌した。（１）で得られた（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－ブロモ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートの塩化メチレン溶液620mLを70℃で滴下し、塩化メチレンを留去しながら70℃で12時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、４－ジメチルアミノピリジン146mgを加えた後、60℃で無水酢酸122gを滴下し、60℃以上で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、塩化メチレン2000mLおよび2mol/L塩酸600mLを加えた。有機層を分取し、45℃の外浴上で塩化メチレンを留去した。得られた残留物に酢酸プロピル1500mLを加え、80℃に加熱して蒸留成分の留出が止むまで撹拌した。反応混合物を10℃に冷却し、固形物をろ取し、（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート78.0gを得た。
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000393
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（４－アセトアミド－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート800mgのメタノール10mL懸濁液に、22℃で28％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液60mgを加え、5時間撹拌した。反応混合物を5℃に冷却し、メタンスルホン酸140μLおよび水2.4mLを加え、固体を溶解させた後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物にアセトン12.6mLを加え、20℃で90分間撹拌した後、5℃で1時間撹拌した。固形物を濾取し、白色固体の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－ヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオランメタンスルホン酸塩478mgを得た。
実施例２３
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000394
　室温で（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－アセチルオキシ－３－（ベンゾイルオキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート10gの塩化メチレン60mL溶液に、30％臭化水素酸／酢酸溶液9.4mLを加え、3時間撹拌した。反応混合物に水70mLを加え、10分間撹拌した。有機層を分取し、7％炭酸水素ナトリウム水溶液70mLで洗浄し、（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－ブロモ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートの塩化メチレン溶液58mLを得た。
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000395
　窒素気流下、シトシン6.6gおよび硫酸アンモニウム32mgのトルエン20mL懸濁液に、１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシラザン19.3gを加え、加熱還流しながら反応混合物が均一溶液になるまで撹拌した。（１）で得られた（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－ブロモ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートの塩化メチレン溶液58mLを70℃で滴下し、塩化メチレンを留去しながら70℃で10時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、４－ジメチルアミノピリジン15mgを加えた後、60℃でイソ酪酸無水物20mLを滴下し、70～80℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、塩化メチレン30mLおよび2mol/L塩酸30mLを加えた。有機層を分取し、トリエチルアミン6mLを加え、塩化メチレンを留去した。反応混合物を5℃に冷却し、固形物をろ取し、（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（４－（２－メチルプロパンアミド）－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアート5.7gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.07(dd,J=6.8,1.2Hz,6H),2.71(hept,J=6.8Hz,1H),4.07(dd,J=12.0,7.0Hz,1H),4.65(dd,J=9.9,6.5Hz,1H),4.74(dd,11.3,7.5Hz,1H),5.71(ddd,J=49.4,5.4,5.4Hz,1H),5.99(ddd,J=11.1,5.4,5.4Hz,1H),6.63(dd,J=13.5,5.4Hz,1H),7.31(d,J=7.6Hz,1H),7.48(dd,J=7.8,7.8Hz,2H),7.57(dd,J=7.7,7.7Hz,2H),7.66(dd,J=7.5,7.5Hz,1H),7.72(dd,J=7.4,7.4Hz,1H),7.95(dd,J=1.3,8.4Hz,2H),8.01(dd,J=1.3,8.4Hz,2H),8.45(d,J=7.4Hz,1H),10.98(brs,1H)
実施例２４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000396
　実施例２３と同様にして、（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（４－（プロパンアミド）－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.04(t,J=7.4Hz,3H),2.43(q,J=7.4Hz,2H),4.07(dd,J=11.9,6.7Hz,1H),4.65(dd,J=10.5,6.8Hz,1H),4.74(dd,11.3,7.4Hz,1H),5.72(ddd,J=49.3,5.5,5.5Hz,1H),5.99(ddd,J=11.1,5.4,5.4Hz,1H),6.62(dd,J=13.1,5.6Hz,1H),7.30(d,J=7.4Hz,1H),7.48(dd,J=7.8,7.8Hz,2H),7.57(dd,J=7.8,7.8Hz,2H),7.66(dd,J=7.4,7.4Hz,1H),7.72(dd,J=7.6,7.6Hz,1H),7.95(d,J=7.2Hz,2H),8.01(d,J=7.3Hz,2H),8.48(d,J=7.6Hz,1H),10.96(brs,1H)
実施例２５
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000397
　実施例２３と同様にして、（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－（ベンゾイルオキシ）－５－（４－（ブタンアミド）－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝ベンゾアートを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：0.89(t,J=7.4Hz,3H),1.58(qt,J=7.4,7.4Hz,2H),2.39(t,J=7.3Hz,2H),4.08(dd,J=11.9,7.0Hz,1H),4.65(dd,J=10.1,6.7Hz,1H),4.74(dd,11.4,7.4Hz,1H),5.72(ddd,J=49.3,5.5,5.5Hz,1H),5.99(ddd,J=11.2,5.5,5.5Hz,1H),6.62(dd,J=13.2,5.5Hz,1H),7.31(d,J=7.6Hz,1H),7.48(dd,J=7.8,7.8Hz,2H),7.57(dd,J=7.8,7.8Hz,2H),7.66(dd,J=7.4,7.4Hz,1H),7.72(dd,J=7.5,7.5Hz,1H),7.95(dd,J=1.3,8.3Hz,2H),8.01(dd,J=1.3,8.4Hz,2H),8.48(d,J=7.7Hz,1H),10.97(brs,1H)
実施例２６
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000398
　２－デオキシ－２－フルオロ－１－Ｏ－メチル－Ｄ－アラビノフラノシド727mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド15mL溶液に、氷冷下60%水素化ナトリウム438mgを加え、同温度で15分間攪拌した後、ベンジルブロミド1.20mLを加え、5分間攪拌した。さらに室温で1.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～75/25）で精製し、無色油状の２－デオキシ－２－フルオロ－１－Ｏ－メチル－３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－Ｄ－アラビノフラノシド1.35gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、アノマー比は1:1であった。
RT(min):1.80．
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.38-7.25(10H,m),5.11(0.5H,dd,J=6.3,4.3Hz),4.96-4.92(1.5H,m),4.64(2H,ABq,J=21.9,11.2Hz),4.57(2H,s),4.28-4.11(2H,m),3.62-3.50(2H,m),3.40(3H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000399
　２－デオキシ－２－フルオロ－１－Ｏ－メチル－３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－Ｄ－アラビノフラノシド1.35gに、トリフルオロ酢酸1.26mLおよび水0.14mLを加え、55－60℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、水で1回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で2回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～65/35）で精製し、無色油状の２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－Ｄ－アラビノフラノシド954mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、アノマー比は8/2であった。
RT(min):1.54．
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.40-7.25(10H,m),5.48(0.8H,dd,J=9.9,6.6Hz),5.30(0.2H,dq,J=10.4,2.1Hz),4.96(0.2H,dt,J=52.8,4.6Hz),4.95(0.8H,dd,J=50.1,1.3Hz),4.69(0.4H,dd,J=11.2,2.6Hz),4.62(1H,d,5.3Hz),4.60(0.6H,dd,J=3.3,11.2Hz),4.55(2H,s),4.52-4.43(1H,m),4.38-4.27(0.2H,m),4.07-3.97(0.8H,m),3.64-3.44(2H,m),2.99(1H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000400
　２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－Ｄ－アラビノフラノシド954mgのメタノール10mL溶液に、Ｏ－メチルヒドロキシルアンモニウムクロリド325mgおよびトリエチルアミン0.415mLを加え、室温で2時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～70/30）で精製し、無色油状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシ－３，５－ビス（ベンジルオキシ）ぺンタナール　Ｏ－メチルオキシム1.09gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は63：37であった。
RT(min):1.66．
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.51(0.63H,t,J=6.9Hz),7.40-7.20(10H,m),7.01(0.37H,dd,J=11.9,4.6Hz),5.82(0.37H,ddd,J=46.9,4.6,1.3Hz),5.31(0.63H,ddd,J=46.1,6.6,3.3Hz),4.72-4.42(4H,m),3.97(1H,brs),3.91-3.56(1H,m),3.90(1.11H,s,),3.87(1.89H,s),3.71-3.64(2H,m),2.47(1H,brs)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000401
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシ－３，５－ビス（ベンジルオキシ）ぺンタナール　Ｏ－メチルオキシム1.09gのアセトニトリル10.4mL溶液に、室温で２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド1.26gおよび１－メチルイミダゾール0.430mLを加え、室温で14.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。固形物を濾過して取り除いた後、有機層を分取した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル）で精製し、無色油状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－３，５－ビス（ベンジルオキシ）－４－（２，４，５－トリクロロフェノキシ）ペンタナール　Ｏ－メチルオキシム1.50gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は68：32であった。
RT(min):2.22．
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.09(0.32H,s),8.09(0.68H,s),7.43(1H,s),7.40(0.68H,t,J=7.7Hz),7.37-7.15(10H,m),6.88(0.32H,dd,J=11.2,4.6Hz),5.61(0.32H,ddd,J=47.6,4.6,2.4Hz),5.14(0.68H,ddd,J=46.4,6.6,4.0Hz),4.88-4.75(1H,m),4.72-4.54(2H,m),4.45-4.25(2.32H,m),4.20-4.07(0.68H,ddd,J=22.5,5.3,4.0Hz),3.88(3H,s),3.86-3.75(2H,m)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000402
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－３，５－ビス（ベンジルオキシ）－４－（２，４，５－トリクロロフェノキシ）ペンタナール　Ｏ－メチルオキシム1.50gのテトラヒドロフラン6mLおよび１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン5.4mL溶液に、臭化リチウム430mgを加え、60℃で6時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～75/25）で精製し、無色油状の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（ベンジルオキシ）ペンタナール　Ｏ－メチルオキシム662mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は86：14であった。
RT(min):2.00．
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.42(0.86H,t,J=6.9Hz),7.33(10H,m),6.90(0.14H,dd,J=11.2,5.3Hz),5.81(0.14H,dq,J=47.6,2.6Hz),5.32(0.86H,dt,J=46.9,6.6Hz),4.75(1.72H,ABq,40.3,11.2Hz),4.68(0.28H,ABq,19.8,8.6Hz),4.55(0.28H,ABq,12.6,10.6Hz),4.48(1.72H,s),4.33-4.21(0.14H,m),4.19-4.10(1H,m),4.09-3.98(0.86H,m),3.91(2.58H,s),3.90(0.42H,m),3.93-3.83(1H,m),3.83-3.76(0.14H,m),3.71(0.86H,m)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000403
　（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（ベンジルオキシ）ペンタナール　Ｏ－メチルオキシム662mgのテトラヒドロフラン6.6mL溶液に、50％グリオキシル酸水溶液3.3mLを加え、70℃で4.83時間攪拌した。反応混合物に、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、無色油状の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（ベンジルオキシ）ペンタナールおよびその水加物655mgを得た。
RT(min):1.54
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000404
　（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（ベンジルオキシ）ペンタナールおよびその水加物655mgの１－メチルピロリドン6mL溶液に、氷冷下で一硫化水素ナトリウムｎ水和物289mgを加え、同温度で1.25時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、無色油状の２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシドの１－メチルピロリドン溶液を得た。
　1H-NMRを測定した結果、アノマー比は57/43であった。
RT(min):1.66,1.68．
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.39-7.21(10H,m),6.14(0.57H,d,J=5.9Hz),5.77(0.43H,d,J=7.9Hz),5.51-5.40(0.43H,m),5.29-5.23(0.57H,m),5.08(0.43H,ddd,J=50.2,4.6,3.3Hz),4.96(0.57H,ddd,J=52.2,7.9,4.0Hz),4.77-4.57(2H,m),4.54(1.14H,s),4.50(0.86,s),4.42-4.31(0.57H,m),4.17-1.06(0.43H,m),3.88-3.51(2H,m),3.19-3.15(1H,m),3.08(2H,t,J=5.0Hz),2.99(1H,t,J=6.6Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000405
　実施例２６（７）で得られた２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス（ベンジルオキシ）－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシドの１－メチルピロリドン溶液に、テトラヒドロフラン5.4mL、無水酢酸0.293mL、トリエチルアミン0.541mLおよび４－ジメチルアミノピリジン一片を加え、室温で1.25時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=95/5～60/40）で精製し、無色油状の１－アセチル－２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシド394mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は55/45であった。
RT(min):1.89．
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.39-7.22(10H,m),6.05(0.55H,t,J=4.5Hz),6.02(0.45H,dd,J=10.6,3.3Hz),5.20(0.45H,ddd,J=50.1,5.3,3.3Hz),5.14(0.55H,ddd,J=51.0,8.6,4.6Hz),4.80-4.46(4H,m),4.36-4.23(0.55H,m),4.21-4.09(0.45H,m),3.81-3.37(3H,m),2.11(1.65H,s),2.06(1.35H,s)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000406
　１－アセチル－２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシド116.2mgのジクロロメタン2.3mL溶液に、30%臭化水素－酢酸溶液0.119mLを加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、１－ブロモ－２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシドのジクロロメタン溶液を得た。
　シトシン83mgに、室温でＮ，Ｏ－ビストリメチルシリルアセトアミド0.521mLを加え、窒素雰囲気下、80℃で1.5時間攪拌した後、１－ブロモ－２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシドのジクロロメタン溶液を加え、溶媒を留去し、更に80℃で2.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび2mol/L塩酸を加えた。有機層を分取し、水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/メタノール）で精製し、無色油状の１－（３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－２－デオキシ－２－フルオロ－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシン61.3mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は31/69であった。
RT(min):1.30.
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.99(0.69H,dd,J=7.6,1.7Hz),7.83(0.31H,d,J=7.3Hz),7.40-7.24(10H,m),7.21-7.16(1H,m),6.68(0.69H,dd,J=18.5,4.6Hz),6.34(0.31H,dd,J=15.9,2.0Hz),6.20-5.80(1H,brs),5.69(0.31H,d,J=7.3Hz),5.60(0.69H,d,J=7.3Hz),5.15(0.31H,dt,J=47.4,2.5Hz),5.11(0.69H,dt,J=51.0,4.5Hz),4.61(1.38H,ABq,J=12.6,11.7),4.52(1.24H,brs),4.48(1.38H,ABq,12.9,4.8Hz),4.26(1H,m),3.93(0.31H,t,J=5.9Hz),3.70-3.55(2.38H,m),3.53-3.47(0.31H,m)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000407
　１－（３，５－ビス－Ｏ－ベンジル－２－デオキシ－２－フルオロ－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシン9.6mgのジクロロメタン1mL溶液に、氷冷下1mol/L三臭化ホウ素－ジクロロメタン溶液0.065mLを加え、徐々に室温まで昇温しながら、2時間攪拌した。反応混合物にヘキサンを加え、固形物を濾取した。得られた固体をトルエンおよび酢酸エチルで洗浄し、白色固体の１－（２－デオキシ－２－フルオロ－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシン5.3mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は36/64であった。
RT(min):0.22,0.27.
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.02-7.93(1H,m),7.40-7.15(2H,m),6.46(0.64H,dd,J=14.5,5.3Hz),6.15(0.36H,dd,J=17.2,5.9Hz),5.93(0.36H,d,J=4.6Hz),5.84(0.64H,d,J=4.6Hz),5.82-5.71(1H,m),5.26(0.64H,t,J=5.3Hz),5.06(0.36H,dt,J=52.2,5.9Hz),5.03(1H,dd,J=11.2,4.6Hz),4.91(0.64H,dt,J=46.2,5.3Hz),4.29-4.18(0.64H,m),4.15-4.02(0.36H,m),3.82-3.67(0.36H,m),3.65-3.54(1H,m),3.51-3.28(1H,m),3.26-3.15(0.64H,m)
実施例２７
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000408
　３，５－ビス－Ｏ－ベンゾイル－２－デオキシ－２－フルオロ－Ｄ－アラビノフラノシド1.87gのジクロロメタン37.5mL溶液に、室温で３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン0.941mLを加え、氷冷下、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物49mgを加え、同温度で1.5時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～60/40）で精製し、無色油状の３，５－ビス－Ｏ－ベンゾイル－２－デオキシ－２－フルオロ－１－Ｏ－（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－イル）－Ｄ－アラビノフラノシド2.33gを得た。
RT(min):1.96.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.06(4H,m),7.51(6H,m),5.68(1H,d,J=10.6Hz),5.59-5.48(1H,dd,21.9,4.5Hz),5.20(1H,d,J=49.5Hz),5.06-5.02(1H,m),4.77-4.59(2H,m),4.53(1H,q,4.2Hz),3.94-3.84(1H,m),3.64-3.53(1H,m),1.90-1.40(6H,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000409
　３，５－ビス－Ｏ－ベンゾイル－２－デオキシ－２－フルオロ－１－Ｏ－（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－イル）－Ｄ－アラビノフラノシド2.33gのメタノール溶液に、28％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液を加え、室温で1時間攪拌した。溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=50/50～0/100）で精製し、無色油状の２－デオキシ－２－フルオロ－１－Ｏ－（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－イル）－Ｄ－アラビノフラノシド1.08gを得た。
RT(min):0.69.
1H-NMR(CDCl3)δ値：5.58-5.50(1H,m),5.03(1H,brs),4.94(1H,dd,44.7,2.7Hz),4.30-4.07(3H,m),3.92-3.52(3H,m),2.33(1H,d,J=9.2Hz),2.14-2.08(1H,m),1.84-1.54(7H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000410
　２－デオキシ－２－フルオロ－１－Ｏ－（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－イル）－Ｄ－アラビノフラノシド1.08gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド20mL溶液に、氷冷下、60%水素化ナトリウム456mgを加え、同温度で25分間攪拌した後、４－メトキシベンジルクロリド1.43mLを加え、1時間攪拌した。さらに室温で1時間攪拌した後、一晩室温で静置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～60/40）で精製し、無色油状の２－デオキシ－２－フルオロ－１－Ｏ－（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－イル）－３，５－ビス－Ｏ－（４－メトキシベンジル）－Ｄ－アラビノフラノシド1.42gを得た。
1H-NMRを測定した結果、アノマー比は8:2であった。
RT(min):1.92.
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.25-7.20(4H,m),6.90-6.83(4H,m),5.49(0.8H,d,J=12.6Hz),5.40-5.34(0.2H,m),5.12(0.4H,d,J=2.0Hz),4.99-4.89(1.6H,m),4.64-4.62(4H,m),4.22-4.15(1H,m),4.12-3.84(2H,m),3.81(3H,s),3.80(3H,s),3.75-3.63(3H,m),1.89-1.43(6H,m)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000411
　２－デオキシ－２－フルオロ－１－Ｏ－（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－イル）－３，５－ビス－Ｏ－（４－メトキシベンジル）－Ｄ－アラビノフラノシド1.42gのアセトン14.2mL溶液に、2mol/L塩酸1.42mLを加え、50℃で1.25時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～50/50）で精製し、無色油状の２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－（４－メトキシベンジル）－Ｄ－アラビノフラノシド1.14gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、アノマー比は8:2であった。
RT(min):1.50.
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.29-7.17(4H,m),6.92-6.83(4H,m),5.46(0.8H,dd,J=10.2,7.6Hz),5.28(0.2H,ddd,J=11.4,3.9,1.2Hz),4.94(0.2H,dt,J=52.8,4.8Hz),4.91(0.8H,dd,J=50.4,1.3Hz),4.93-4.87(0.2H,d,J=1.3Hz),4.62-4.39(4.8H,m),4.10-3.91(1H,m),3.81(3H,s),3.81(3H,s),3.77-3.67(0.8H,m),3.58-3.43(2.2H,m)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000412
　２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－（４－メトキシベンジル）－Ｄ－アラビノフラノシド1.14gのメタノール11mL溶液に、Ｏ－メチルヒドロキシルアンモニウムクロリド315mgおよびトリエチルアミン0.403mLを加え、室温で1時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=95/5～50/50）で精製し、無色油状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシ－３，５－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）ペンタナール　Ｏ－メチルオキシム1.02gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は69：31であった。
RT(min):1.58.
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.47(0.69H,t,J=6.9Hz),7.29-7.21(2H,m),7.18-7.10(2H,m),7.00(0.31H,dd,J=11.2,4.6Hz),6.87(4H,m),5.80(0.31H,ddd,J=47.1,4.6,2.0Hz),5.35(0.69H,ddd,J=46.2,6.9,3.0Hz),4.56-4.34(4H,m),3.95-3.90(1H,m),3.90(0.93H,m),3.86(2.07H,s),3.82-3.78(1H,m),3.81(3H,s),3.80(3H,s),3.71(0.31H,dd,J=7.8,3.3Hz),3.64-3.56(1.69H,m)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000413
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシ－３，５－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）ぺンタナール　Ｏ－メチルオキシム1.02gのアセトニトリル20mL溶液に、室温で２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド2.03gおよび１－メチルイミダゾール0.772mLを加え、室温で1.75時間、40℃で1.25時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、固形物を濾過して取り除いた。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～75/25）で精製し、無色油状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－４－（２，４，５－トリクロロフェノキシ）ペンタナール　Ｏ－メチルオキシム1.15gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は65：35であった。
RT(min):2.15.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08(0.35H,s),8.08(0.65H,s),7.43(1H,s),7.36(0.65H,t,J=6.9Hz),7.18-7.10(4H,m),6.92-6.80(4.35H,m),5.58(0.35H,dq,J=47.6,2.4Hz),5.10(0.65H,dq,J=46.6,3.5Hz),4.85-4.72(1H,m),4.62-4.46(2H,m),4.40-4.21(2.35H,m),4.08(0.65H,dq,J=23.8,2.9Hz),3.87(1.95H,s),3.87(1.05H,s),3.81(3.90H,s),3.80(2.10H,s),3.81-3.72(2H,m)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000414
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－４－（２，４，５－トリクロロフェノキシ）ペンタナール　Ｏ－メチルオキシム1.15gのテトラヒドロフラン6mLおよび１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン6mL溶液に、臭化リチウム451mgを加え、65℃で7時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび25％臭化リチウム水溶液を加えた。有機層を分取し、12％臭化リチウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～60/40）で精製し、無色油状の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）ペンタナール　Ｏ－メチルオキシム857mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は82：18であった。
RT(min):1.92.
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.40(0.82H,t,J=6.9Hz),7.24(4H,m),6.92-6.83(4.18H,m),5.79(0.18H,ddd,J=50.9,6.0,2.4Hz),5.29(0.82H,dt,J=46.9,6.6Hz),4.66(1.64H,ABq,J=10.5,24.3Hz),4.58(0.36H,ABq,J=18.0,10.5Hz),4.48(0.36H,s),4.42(1.64H,ABq,J=12.0,1.3Hz),4.29-4.06(1H,m),3.98(0.82H,dq,J=17.3,3.3Hz),3.90(3H,s),3.88-3.70(0.18H,m),3.81(1H,s),3.81(3H,s),3.80(3H,s),3.71-3.63(1H,m)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000415
　（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）ペンタナール　Ｏ－メチルオキシム857mgのアセトン17mL溶液に、室温で35%ホルムアルデヒド液4.2mLおよび2mol/L塩酸4.2mLを加え、室温で1.75時間攪拌した。反応混合物に、酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～60/40）で精製し、無色油状の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）ペンタナールおよびその水加物598mgを得た。
RT(min):1.66.
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000416
　（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）ペンタナールおよびその水加物598mgの１－メチルピロリドン6mL溶液に、氷冷下で一硫化水素ナトリウムｎ水和物210mgを加え、同温度で1.5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和食塩水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～30/70）で精製し、無色油状の２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－（４－メトキシベンジル）－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシド453mgを得た。
RT(min):1.58,1.61.
m/z(ESI-positive):409.3[M+H]+
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000417
　２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシド453mgのテトラヒドロフラン9mL溶液に、室温で無水酢酸0.210mL、トリエチルアミン0.462mLおよび４－ジメチルアミノピリジン5mgを加え、同温度で1.5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～50/50）で精製し、無色油状の１－アセチル－２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－（４－メトキシベンジル）－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシド447mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、アノマー比は1／1であった。
RT(min):1.79,1.81.
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.25-7.18(4H,m),6.90-6.83(4H,m),6.03(0.5H,t,J=3.3Hz),6.01(0.5H,J=13.8,3.3Hz),5.25(0.5H,ddd,J=50.1,5.1,3.3Hz),5.09(0.5H,ddd,J=51.0,8.4,4.8Hz),4.73-4.46(2H,m),4.46(1H,s),4.42(1H,ABq,J=12.0,3.3Hz),4.30-4.07(1H,m),3.80(6H,s),3.79-3.55(1.5H,m),3.50-3.31(1.5H,m),2.10(1.5H,s),2.07(1.5H,s)
（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000418
　シトシン47.2mgおよび１－アセチル－２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－（４－メトキシベンジル）－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシド95.7mgのアセトニトリル1mL溶液に、室温でＮ，Ｏ－ビストリメチルシリルアセトアミド0.277mLを加え、窒素雰囲気下、75℃で2時間攪拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル0.154mLを加え、同温度で1時間攪拌した。反応混合物にジクロロメタンおよび水を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/メタノール=100/0～50/50）で精製した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＮＨカラム、クロロホルム/メタノール=100/0～90/10）で精製し、無色油状の１－（２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－（４－メトキシベンジル）－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシン8.8mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は53／47であった。
RT(min):1.30.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.04(0.47H,dd,J=7.3,1.3Hz),7.90(0.53H,d,J=7.3Hz),7.25-7.19(3H,m),7.13-7.07(1H,m),6.92-6.79(4H,m),6.68(0.47H,dd,J=17.8,4.6Hz),6.36(0.53H,dd,J=15.5,2.3Hz),5.58(0.53H,d,J=7.9Hz),5.52(0.47H,d,J=7.3Hz),5.13(0.53H,dt,J=46.9,2.6Hz),5.09(0.47H,dt,J=50.2,4.6Hz),4.47-4.36(3H,m),4.28-4.19(1H,m),3.89(1H,q,J=6.8Hz),3.83-3.75(1H,m),3.82(1.41H,s),3.81(1.59H,s),3.79(3H,s),3.64-3.42(2H,m)
（１２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000419
　１－（２－デオキシ－２－フルオロ－３，５－ビス－Ｏ－（４－メトキシベンジル）－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシン8.8mgのジクロロメタン2mL溶液に、トリフルオロ酢酸0.2mLを加え、室温で1.5時間攪拌した。反応混合物の溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＮＨカラム、クロロホルム/メタノール=90/10～60/40）で精製し、白色固体の１－（２－デオキシ－２－フルオロ－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシン3.1mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は56／44であった。
RT(min):0.22.
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.02-7.94(1H,m),7.34-7.15(2H,m),6.46(0.44H,dd,J=14.5,5.3Hz),6.15(0.56H,dd,J=17.8,5.9Hz),5.92(0.56H,d,J=5.3Hz),5.87(0.44H,d,J=4.6Hz),5.79(0.56H,d,J=7.3Hz),5.77(0.44H,d,J=7.3Hz),5.24(1H,t,J=5.6Hz),5.06(0.56H,dt,J=52.2,5.9Hz),5.03(1H,dd,J=11.2,4.6Hz),4.91(0.44H,dt,J=46.2,5.3Hz),4.24(0.44H,dt,J=10.7,5.3Hz),4.09(0.56H,dt,J=2.7,6.4Hz),3.82-3.67(0.66H,m),3.65-3.54(1H,m),3.51-3.28(1H,m),3.26-3.15(0.44H,m)
実施例２８
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000420
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシオキソラン－３－オール0.70gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド7.0mL溶液に、氷冷下で水素化ナトリウム0.44gおよび４－メチルベンジルブロミド2.03gを加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物にメタノール2.5mLを加えて反応を停止させた後、酢酸エチルおよびヘキサンを加え、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～60/40）で精製し、無色油状物の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－３－フルオロ－２－メトキシ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）オキソラン1.33gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.23-7.11(8H,m),5.10(0.5H,dd,J=5.9,4.3Hz),4.93-4.91(1.5H,m),4.66-4.52(4H,m),4.23-4.09(2H,m),3.57-3.48(2H,m),3.40(3H,s),2.35(3H,s),2.34(3H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000421
　（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－３－フルオロ－２－メトキシ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）オキソラン1.31gに、酢酸9.8mL、水3.3mLおよび濃硫酸0.56mLを加え、70℃で2時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよびヘキサンを加え、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～30/70）で精製し、無色油状物の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）オキソラン－２－オール0.74gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は22：78であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.21-7.12(8H,m),5.46(0.78H,dd,J=10.1,7.1Hz),5.28(0.22H,dd,J=10.6,2.1Hz),4.94(0.22H,dt,J=52.6,4.8Hz),4.92(0.78H,dd,J=50.4,1.0Hz),4.67-4.42(5H,m),4.30(0.22H,dt,J=17.8,4.8Hz),4.00(0.78H,ddt,J=19.0,3.8,1.0Hz),3.92(0.22H,dd,J=10.6,1.3Hz),3.57-3.42(2H,m),2.97(0.78H,dd,J=7.1,1.0Hz),2.35(6H,s)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000422
　窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）オキソラン－２－オール0.72gにメタノール3.6mLおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩0.20gを加えた後、トリエチルアミン0.34mLを滴下し、室温で16時間撹拌した。反応混合物にＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩0.10gおよびトリエチルアミン0.25mLを加え、さらに50℃で2時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～50/50）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシ－３，５－ビス（（４－メチルベンジル）オキシ）ペンタナール＝Ｏ－メチル＝オキシム0.65gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は67：33であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.48(0.67H,t,J=7.1Hz),7.23-7.11(8H,m),7.00(0.33H,dd,J=11.6,4.6Hz),5.81(0.33H,ddd,J=46.2,4.6,1.8Hz),5.28(0.67H,ddd,J=46.2,7.1,3.1Hz),4.58-4.28(4H,m),3.97-3.82(4.33H,m),3.74-3.60(2.67H,m),2.45(0.33H,d,J=6.9Hz),2.43(0.67H,d,J=6.9Hz),2.35(3H,s),2.34(3H,s)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000423
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシ－３，５－ビス（（４－メチルベンジル）オキシ）ペンタナール＝Ｏ－メチル＝オキシム0.64gに、アセトニトリル6.4mL、２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド0.60gおよびＮ－メチルイミダゾール0.21mLを加え、室温で16時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～70/30）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－１，３－ビス（（４－メチルベンジル）オキシ）ペンタン－２－イル＝２，４，５－トリクロロベンゼンスルホナート1.01gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は66：34であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08(0.34H,s),8.07(0.66H,s),7.40(1H,s),7.38(0.66H,t,J=6.9Hz),7.14-7.05(8H,m),6.88(0.34H,dd,J=11.6,4.6Hz),5.59(0.34H,ddd,J=47.6,4.6,2.6Hz),5.12(0.66H,ddd,J=46.5,6.9,3.8Hz),4.82(0.66H,td,J=5.3,3.3Hz),4.77(0.34H,td,J=5.6,2.4Hz),4.65-4.49(2H,m),4.40-4.23(2.34H,m),4.10(0.66H,ddd,J=23.7,5.3,3.8Hz),3.87(3H,s),3.85-3.82(2H,m),2.35-2.33(6H,m)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000424
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－１，３－ビス（（４－メチルベンジル）オキシ）ペンタン－２－イル＝２，４，５－トリクロロベンゼンスルホナート1.00gに、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン10mLおよび無水臭化リチウム0.82gを加え、50℃で17時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよびｎ－ヘキサンを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～60/40）で精製し、淡黄色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メチルベンジル）オキシ）ペンタナール＝Ｏ－メチル＝オキシム0.56gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は84：16であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.40(0.84H,t,J=6.6Hz),7.23-7.11(8H,m),6.89(0.16H,dd,J=11.2,5.0Hz),5.79(0.16H,ddd,J=47.7,5.0,3.0Hz),5.29(0.84H,dt,J=47.2,6.6Hz),4.77-4.43(4H,m),4.28-4.08(1.16H,m),4.00(0.84H,ddd,J=17.2,6.6,3.3Hz),3.92-3.87(3.16H,m),3.83(0.84H,dd,J=10.2,7.3Hz),3.77(0.16H,ddd,J=11.2,5.9,2.3Hz),3.69(0.84H,ddd,J=10.2,5.9,2.3Hz),2.35(3H,s),2.34(3H,s)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000425
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メチルベンジル）オキシ）ペンタナール＝Ｏ－メチル＝オキシム0.55gにアセトン11mL、2mol/L塩酸2.7mLおよび37％ホルムアルデヒド水溶液1.0mLを加え、室温で4時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～50/50）で精製し、無色油状物0.50gを得た。
　得られた油状物は、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－２－フルオロ－３，５－ビス（（４－メチルベンジル）オキシ）ペンタナールおよびその水加物の混合物であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.76(1H,d,J=6.6Hz),7.23-7.13(8H,m),5.06(1H,dd,J=47.7,3.8Hz),4.66-4.48(4H,m),4.34(1H,td,J=5.9,4.8Hz),4.22(1H,ddd,J=22.6,4.8,3.8Hz),3.94(1H,dd,J=10.9,5.4Hz),3.76(1H,ddd,J=10.9,6.4,2.5Hz),2.35(3H,s),2.34(3H,s)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000426
　実施例２８（６）で得られた無色油状物0.50gの１－メチル－２－ピロリドン4.8mL溶液に、氷冷下で、水硫化ナトリウムｘ水和物0.19gを加え、氷冷下で2時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水、0.5M塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～50/50）で精製し、淡黄色油状物の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）チオラン－２－オール0.36gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は40：60であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.23-7.13(8H,m),5.43(0.40H,ddt,J=12.2,8.9,1.3Hz),5.20-5.03(1.30H,m),4.90(0.30H,dd,J=7.3,4.0Hz),4.72-4.46(4H,m),4.36(0.60H,dd,J=7.4,1.8Hz),4.31(0.40H,dd,J=7.1,4.6Hz),3.95(0.40H,t,J=7.9Hz),3.66-3.37(3.20H,m),3.03(0.40H,dd,J=12.2,1.3Hz),2.35(6H,s)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000427
　窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）チオラン－２－オール0.34gのテトラヒドロフラン3.4mL溶液に、氷冷下で無水酢酸0.17mLおよびトリエチルアミン0.38mLを加え、室温で21時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～60/40）で精製し、無色油状物の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）チオラン－２－イル＝アセタート0.31gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は40：60であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.21-7.12(8H,m),6.03(0.40H,d,J=4.6Hz),6.02(0.60H,dd,J=16.7,3.2Hz),5.17(0.60H,ddd,J=50.1,5.4,3.2Hz),5.09(0.40H,ddd,J=50.9,8.6,4.6Hz),4.74-4.41(4H,m),4.26(0.40H,ddd,J=12.6,8.6,4.9Hz),4.12(0.60H,ddd,J=15.4,6.9,5.4),3.74(0.60H,ddd,J=6.9,5.3,1.1Hz),3.66-3.60(1H,m),3.51-3.34(1.40H,m),2.35(6H,s),2.10(1.80H,s),2.06(1.20H,s)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000428
　窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）チオラン－２－イル＝アセタート0.15gの塩化メチレン0.60mL溶液に、30％臭化水素／酢酸溶液0.14mLを加え、室温で1.5時間撹拌した。反応混合物に塩化メチレンを加え、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－２－ブロモ－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）チオランを含む塩化メチレン溶液を得た。
　別の反応容器に、窒素雰囲気下、シトシン0.10gおよびＮ，Ｏ－ビス(トリメチルシリル)アセトアミド0.58mlを加え、80℃で1.5時間撹拌した。放冷後、反応混合物に（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－２－ブロモ－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）チオランを含む塩化メチレン溶液を加え、60℃で2.5時間撹拌した。反応混合物に塩化メチレンを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0～90/10）で精製し、淡黄色固体の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－２－（４－アミノ－２－オキソ－１，２-ジヒドロピリミジン－１-イル）－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）チオラン72mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は38：62であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08(0.62H,dd,J=7.3,1.7Hz),7.95(0.38H,d,J=7.3Hz),7.23-7.05(8H,m),6.69(0.62H,dd,J=18.0,4.5Hz),6.39(0.38H,dd,J=15.2,2.0Hz),5.56(0.38H,d,J=7.3Hz),5.50(0.62H,d,J=7.3Hz),5.14(0.38H,dt,J=46.6,2.0Hz),5.11(0.62H,dt,J=50.5,4.5Hz),4.63-4.40(4H,m),4.29-4.15(1H,m),3.92(0.38H,t,J=7.6Hz),3.65-3.56(2.24H,m),3.49(0.38H,ddd,J=9.2,6.8,2.0Hz),2.37-2.34(6H,m)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000429
　窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－２－（４－アミノ－２－オキソ－１，２-ジヒドロピリミジン－１-イル）－３－フルオロ－４－（（４－メチルベンジル）オキシ）－５－（（（４－メチルベンジル）オキシ）メチル）チオラン70mgの塩化メチレン4.6mL溶液に、ドライアイス/アセトン冷却下で１mol/L三塩化ホウ素の塩化メチレン溶液3.0mLを加え、同温度で3.5時間撹拌した。反応混合物を0℃まで昇温し、30分間撹拌した。反応混合物にメタノール3.0mLを加え、室温で30分間撹拌した。固形物をろ取し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0～60/40）で精製し、白色固体の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）チオラン－３－オール63mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は24：76であった。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.99(0.76H,dd,J=7.3,1.3Hz),7.97(0.24H,d,J=7.3Hz),7.31-7.20(2H,br),6.46(0.76H,dd,J=14.5,5.0Hz),6.15(0.24H,dd,J=17.5,5.9Hz),5.95(0.24H,d,J=5.0Hz),5.90(0.76H,d,J=5.0Hz),5.80(0.24H,d,J=7.3Hz),5.78(0.76H,d,J=7.3Hz),5.26(0.76H,t,J=5.3Hz),5.18-4.82(1.24H,m),4.29-4.20(0.76H,m),4.14-4.03(0.27H,m),3.80-3.56(2H,m),3.25-3.19(1H,m)
実施例２９
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000430
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシオキソラン－３－オール1.35gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド13mL溶液に、氷冷下で水素化ナトリウム0.97gおよび４－クロロベンジルブロミド4.66gを加え、室温で1時間撹拌した。反応混合物にメタノール5mLを加えて反応を停止させた後、酢酸エチルおよびヘキサンを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～60/40）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（４－クロロベンジル）オキシ）－２－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン3.32gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.33-7.20(8H,m),5.10(0.5H,dd,J=6.1,4.5Hz),4.93-4.91(1.5H,m),4.68-4.52(4H,m),4.13-4.07(2H,m),3.59-3.49(2H,m),3.40(3H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000431
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（４－クロロベンジル）オキシ）－２－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン3.32gに、酢酸27mL、水6.6mLおよび濃硫酸1.06mLを加え、70℃で2時間撹拌した。反応混合物に水4.5mLおよび濃硫酸0.53mLを加え、70℃で5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよびヘキサンを加え、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～30/70）で精製し、無色油状物の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロオキソラン－２－オール2.92gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は18：82であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.35-7.29(4H,m),7.25-7.20(4H,m),5.49(0.82H,dd,J=10.2,6.3Hz),5.31(0.18H,ddd,J=10.2,3.8,2.3Hz),4.95(0.18H,dt,J=52.8,4.6Hz),4.95(0.82H,dd,J=50.2,1.3Hz),4.68-4.48(4H,m),4.43(0.82H,td,J=5.6,4.3Hz),4.26(0.18H,dt,J=17.6,4.6Hz),4.10(0.18H,dt,J=5.0,3.8Hz),3.99(0.82H,ddt,J=19.8,4.3,0.9Hz),3.70(0.18H,dd,J=10.2,1.5Hz),3.62-3.48(2H,m),2.88(0.82H,dd,J=6.6,1.3Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000432
　窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロオキソラン－２－オール2.89gにメタノール14mLおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩0.72gを加えた後、トリエチルアミン1.21mLを滴下し、室温で12時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～50/50）で精製し、白色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３，５－ビス（（４－クロロベンジル）オキシ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシペンタナール＝Ｏ－メチル＝オキシム3.09gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は65：35であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.47(0.65H,t,J=6.9Hz),7.35-7.13(8H,m),6.99(0.35H,dd,J=11.6,4.6Hz),5.80(0.35H,ddd,J=46.9,4.6,1.7Hz),5.28(0.65H,ddd,J=45.9,6.9,3.3Hz),4.62-4.39(4H,m),4.00-3.83(4.35H,m),3.76-3.56(2.65H,m),2.42(0.35H,d,J=6.6Hz),2.40(0.65H,d,J=6.6Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000433
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３，５－ビス（（４－クロロベンジル）オキシ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシペンタナール＝Ｏ－メチル＝オキシム3.08gに、アセトニトリル31mL、２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド2.81gおよびＮ－メチルイミダゾール1.02mLを加え、室温で4.5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～70/30）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１，３－ビス（（４－クロロベンジル）オキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－２－イル＝２，４，５－トリクロロベンゼンスルホナート4.72gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は68：32であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08(0.32H,s),8.07(0.68H,s),7.42(1H,s),7.37(0.68H,t,J=6.7Hz),7.33-7.27(4H,m),7.21-7.08(4H,m),6.87(0.32H,dd,J=11.6,4.6Hz),5.58(0.32H,ddd,J=47.6,4.6,3.0Hz),5.12(0.68H,ddd,J=46.5,6.7,4.2Hz),4.84(0.68H,ddd,J=5.6,4.8,3.0Hz),4.77(0.32H,td,J=5.6,2.3Hz),4.68-4.53(2H,m),4.41-4.29(2.16H,m),4.25(0.16H,dd,J=5.6,2.3Hz),4.10(0.68H,td,J=23.1,4.5Hz),3.88(3H,s),3.86-3.73(2H,m)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000434
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１，３－ビス（（４－クロロベンジル）オキシ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－２－イル＝２，４，５－トリクロロベンゼンスルホナート4.71gに、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン47mLおよび無水臭化リチウム3.64gを加え、50℃で14時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよびヘキサンを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～60/40）で精製し、淡黄色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－３，５－ビス（（４－クロロベンジル）オキシ）－２－フルオロペンタナール＝Ｏ－メチル＝オキシム2.78gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は81：19であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.42(0.81H,t,J=6.6Hz),7.34-7.21(8H,m),6.89(0.19H,dd,J=11.6,4.8Hz),5.79(0.19H,ddd,J=47.6,4.8,3.0Hz),5.31(0.81H,dt,J=47.2,6.6Hz),4.80-4.39(4H,m),4.30-4.11(1.19H,m),4.00(0.81H,ddd,J=16.8,6.6,3.3Hz),3.913(2.43H,s),3.905(0.57H,s),3.89-3.77(1.19H,m),3.70(0.81H,ddd,J=10.2,5.9,2.3Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000435
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－３，５－ビス（（４－クロロベンジル）オキシ）－２－フルオロペンタナール＝Ｏ－メチル＝オキシム2.75gにアセトン55mL、2mol/L塩酸14mLおよび37％ホルムアルデヒド水溶液4.80mLを加え、室温で5.5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=80/20～20/80）で精製し、淡黄色油状物2.56gを得た。
　得られた油状物は、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－３，５－ビス（（４－クロロベンジル）オキシ）－２－フルオロペンタナールおよびその水加物の混合物であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.80(1H,d,J=5.9Hz),7.35-7.15(8H,m),5.13(1H,dd,J=47.6,3.6Hz),4.66-4.44(4H,m),4.37(1H,dt,J=5.9,5.1Hz),4.22(1H,ddd,J=23.0,5.1,3.6Hz),3.94(1H,dd,J=10.9,5.3Hz),3.78(1H,ddd,J=10.9,5.9,2.5Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000436
　実施例２９（６）で得られた淡黄色油状物2.50gの１－メチル－２－ピロリドン25mL溶液に、氷冷下で、水硫化ナトリウムｘ水和物0.91gを加え、氷冷下で1.5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水、0.5mol/L塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～50/50）で精製し、淡黄色油状物の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオラン－２－オール1.92gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は63：37であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.42-7.19(8H,m),5.45(0.37H,ddd,J=11.6,9.2,1.2Hz),5.15(0.63H,ddd,J=8.3,3.6,3.0Hz),5.13(0.37H,dt,J=47.9,1.2Hz),5.01(0.63H,ddd,J=52.2,7.1,4.1Hz),4.72-4.41(4H,m),4.35-4.36(1H,m),3.93(0.37H,t,J=7.8Hz),3.59-3.34(3.26H,m),2.89(0.37H,dd,J=11.6,1.0Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000437
　（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオラン－２－オール1.89gのテトラヒドロフラン19mL溶液に、氷冷下で無水酢酸0.86mLおよびトリエチルアミン1.90mLを加え、室温で24時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～60/40）で精製し、淡黄色油状物の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオラン－２－イル＝アセタート1.77gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は40：60であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.33-7.20(8H,m),6.04(0.40H,d,J=4.3Hz),6.02(0.60H,dd,J=16.8,3.0Hz),5.19(0.60H,ddd,J=50.0,5.4,3.0Hz),5.11(0.40H,ddd,J=50.9,8.3,4.3Hz),4.76-4.41(4H,m),4.24(0.40H,ddd,J=12.2,8.3,6.6Hz),4.12(0.60H,ddd,J=15.4,6.6,5.4),3.75(0.60H,qd,J=6.6,1.0Hz),3.65-3.60(1H,m),3.50(0.60H,dd,J=9.6,6.6Hz),3.47(0.40H,ddd,J=9.7,6.6,1.0Hz),3.37(0.40H,q,J=6.6Hz),2.11(1.8H,s),2.08(1.2H,s)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000438
　窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオラン－２－イル＝アセタート0.20gの塩化メチレン0.80mL溶液に、30％臭化水素／酢酸溶液0.17mLを加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物に塩化メチレンを加え、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－２－ブロモ－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオランを含む塩化メチレン溶液を得た。
　別の反応容器に、窒素雰囲気下、シトシン0.12gおよびＮ，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）アセトアミド0.53mLを加え、80℃で2時間撹拌した。放冷後、反応混合物に（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－２－ブロモ－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオランを含む塩化メチレン溶液を加え、60℃で2時間撹拌した。反応混合物に塩化メチレンを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0～80/20）で精製し、淡黄色固体の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－２－（４－アミノ－２－オキソ－１，２-ジヒドロピリミジン－１-イル）－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオラン0.18gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は36：64であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.01(0.64H,dd,J=7.6,1.8Hz),7.93(0.36H,d,J=7.6Hz),7.36-7.09(8H,m),6.73(0.64H,dd,J=19.2,4.3Hz),6.38(0.36H,dd,J=15.0,2.3Hz),5.54(0.36H,d,J=7.6Hz),5.53(0.64H,d,J=7.6Hz),5.20(0.36H,dt,J=47.2,2.3Hz),5.14(0.64H,dt,J=50.5,4.3Hz),4.65-4.41(4H,m),4.28-4.21(1H,m),3.95-3.89(0.36H,m),3.66-3.60(2.28H,m),3.54-3.48(0.36H,m)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000439
　窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－２－（４－アミノ－２－オキソ－１，２-ジヒドロピリミジン－１-イル）－４－（（４－クロロベンジル）オキシ）－５－（（（４－クロロベンジル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオラン0.17gの塩化メチレン11mL溶液に、ドライアイス/アセトン冷却下で１mol/L三塩化ホウ素の塩化メチレン溶液6.8mLを加え、同温度で3.5時間撹拌した。反応混合物を0℃まで昇温し、30分間撹拌した。反応混合物にメタノール7.5mLを加え、室温で30分間撹拌した。固形物をろ取し、酢酸エチルおよびヘキサンで順次洗浄した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0～60/40）で精製し、白色固体の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）チオラン－３－オール63mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は27：73であった。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.99(0.73H,dd,J=7.3,1.3Hz),7.97(0.27H,d,J=7.3Hz),7.31-7.20(2H,br),6.46(0.73H,dd,J=14.7,5.3Hz),6.15(0.27H,dd,J=17.5,5.9Hz),5.95(0.27H,d,J=5.3Hz),5.89(0.73H,d,J=5.3Hz),5.80(0.27H,d,J=7.3Hz),5.78(0.73H,d,J=7.3Hz),5.26(0.73H,t,J=5.3Hz),5.18-4.82(1.27H,m),4.29-4.20(0.73H,m),4.14-4.03(0.27H,m),3.80-3.54(2H,m),3.25-3.19(1H,m)
実施例３０
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000440
　窒素雰囲気下、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシオキソラン－３－オール1.37gに、塩化メチレン55mL、１－メチルイミダゾール2.60mLを加えた後、氷冷下で（ベンジルオキシ）カルボニルクロリド3.52mLを滴下し、室温で3時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、得られた残留物を酢酸エチルに溶解させ、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=95/5～70/30）で精製し、無色油状物のベンジル＝（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン－２－イル）メチル＝カルボナート2.91gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.40-7.33(10H,m),5.33-5.22(1H,m),5.14(0.5H,dd,J=5.6,4.3Hz),4.97-4.96(1.5H,m),4.53(1H,dd,J=11.2,4.0Hz),4.31(1H,dd,J=11.2,7.6Hz),4.21(1H,ddd,J=7.6,5.1,4.0Hz),3.45(3H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000441
　ベンジル＝（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－メトキシオキソラン－２－イル）メチル＝カルボナート2.58gに、酢酸21mL、水5.2mLおよび濃硫酸0.67mLを加え、70℃で8時間撹拌した。反応混合物に濃硫酸0.30mLを加え、さらに70℃で7時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=95/5～50/50）で精製し、無色油状物のベンジル＝（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝カルボナート1.69gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は20：80であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.40-7.33(10H,m),5.56(0.80H,dd,J=10.2,4.0Hz),5.42(0.20H,ddd,J=8.6,6.6,3.6Hz),5.23-5.14(4.20H,m),5.03(0.80H,dd,J=21.3,4.1Hz),5.02(0.80H,dd,J=48.2,1.0Hz),4.96(0.20H,dt,J=50.9,3.6Hz),4.53-4.43(2H,m),4.34(0.80H,dd,J=12.4,6.8Hz),4.17(0.20H,dd,J=5.9,4.1Hz),3.34(0.20H,dd,J=8.6,2.0Hz),2.70(0.80H,dd,J=4.0,2.8Hz)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000442
　ベンジル＝（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－２－イル）メチル＝カルボナート1.68gにメタノール8.4mLおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩0.37gを加えた後、トリエチルアミン0.61mLを滴下し、室温で2時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=95/5～60/40）で精製し、無色油状物のジベンジル＝（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３－ジイル）＝ジカルボナート1.66gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は77：23であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.41-7.33(10.77H,m),6.82(0.23H,dd,J=11.2,4.6Hz),5.89(0.23H,ddd,J=46.2,4.6,2.1Hz),5.39(0.77H,ddd,J=45.2,6.4,2.8Hz),5.29-5.13(4.23H,m),5.01(0.77H,ddd,J=24.0,8.0,2.9Hz),4.35-4.09(3H,m),3.89(0.69H,s),3.84(2.31H,s),2.62(0.77H,d,J=5.9Hz),2.60(0.23H,d,J=6.9Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000443
　窒素雰囲気下、ジベンジル＝（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３－ジイル）＝ジカルボナート1.66gに、アセトニトリル10mL、２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド1.55gおよびＮ－メチルイミダゾール0.87mLを加え、室温で1.5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～75/25）で精製し、無色油状物のジベンジル＝（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－１，３－ジイル）＝ジカルボナート2.40gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は78：22であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.11(0.22H,s),8.10(0.78H,s),7.51(1H,s),7.43-7.33(10.78H,m),6.78(0.22H,dd,J=11.4,4.5Hz),5.71(0.22H,ddd,J=46.9,4.5,2.8Hz),5.54(0.22H,ddd,J=25.1,5.8,2.8Hz),5.37(0.78H,ddd,J=21.5,5.6,4.0Hz),5.31(0.39H,dd,J=6.3,4.0Hz),5.22-5.03(5.17H,m),5.00(0.22H,td,J=5.8,2.6Hz),4.46-4.39(1H,m),4.36-4.30(1H,m),3.87(0.66H,s),3.85(2.34H,s)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000444
　窒素雰囲気下、ジベンジル＝（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－１，３－ジイル）＝ジカルボナート2.40gに、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン24mLおよび無水臭化リチウム1.65gを加え、50℃で9時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～80/20）で精製し、無色油状物のジベンジル＝（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３－ジイル）＝ジカルボナート1.25gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は79：21であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.42-7.34(10.79H,m),6.82(0.21H,dd,J=11.2,4.8Hz),5.94(0.21H,ddd,J=46.9,4.8,3.1Hz),5.47-5.16(5.79H,m),4.59-4.31(3H,m),3.89(3H,s)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000445
　窒素雰囲気下、ジベンジル＝（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３－ジイル）＝ジカルボナート1.11gにアセトン22mL、2mol/L塩酸5.6mLおよび37％ホルムアルデヒド水溶液1.87mLを加え、室温で4時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=85/15～20/80）で精製し、無色油状物1.07gを得た。
　得られた油状物は、ジベンジル＝（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－４－フルオロ－５－オキソペンタン－１，３－ジイル）＝ジカルボナートおよびその水加物の混合物であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.74(1H,d,J=5.6Hz),7.39-7.31(10H,m),5.38(1H,dt,J=22.0,4.0Hz),5.20-5.13(5H,m),4.62-4.31(3H,m)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000446
　実施例３０（６）で得られた無色油状物1.05gの１－メチル－２－ピロリドン11mL溶液に、氷冷下で、水硫化ナトリウムｘ水和物0.37gを加え、氷冷下で1.5時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水、0.5mol/L塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～40/60）で精製し、淡黄色油状物のベンジル＝（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝カルボナート0.64gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は36：64であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.40-7.31(10H,m),5.53-5.45(1H,m),5.40(0.36H,dtd,J=10.2,2.0,1.0Hz),5.34(0.64H,t,J=4.0Hz),5.27-5.10(4.68H,m),4.95(0.32H,dd,J=7.3,4.0Hz),4.46(0.64H,dd,J=10.6,6.4Hz),4.37(0.64H,dd,J=10.6,6.4Hz),4.22(0.72H,dd,J=7.3,1.0Hz),4.03-3.97(0.36H,m),3.54(0.64H,td,J=6.4,5.3Hz)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000447
　ベンジル＝（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－４－フルオロ－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝カルボナート0.64gのテトラヒドロフラン6.4mL溶液に、氷冷下で無水酢酸0.28mLおよびトリエチルアミン0.61mLを加え、室温で4時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=90/10～40/60）で精製し、淡黄色油状物の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－５－（（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオラン－２－イル＝アセタート0.58gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は40：60であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.39-7.34(10H,m),6.08(0.60H,dd,J=14.5,1.7Hz),6.05(0.40H,d,J=4.3Hz),5.51(0.40H,ddd,J=11.9,8.8,7.1Hz),5.38-5.03(5.60H,m),4.47(0.40H,dd,J=11.1,5.8Hz),4.34-4.20(1.60H,m),3.89(0.60H,q,J=6.4Hz),3.51(0.40H,q,J=6.5Hz),2.11(1.20H,s),2.07(1.80H,s)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000448
　窒素雰囲気下、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－５－（（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）メチル）－３－フルオロチオラン－２－イル＝アセタート100mgの塩化メチレン0.40mL溶液に、30％臭化水素／酢酸溶液0.08mLを加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物に塩化メチレンを加え、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ベンジル＝（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－５－ブロモ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝カルボナートを含む塩化メチレン溶液を得た。
　別の反応容器に、窒素雰囲気下、シトシン59mgおよびＮ，Ｏ－ビス(トリメチルシリル)アセトアミド0.36mlを加え、80℃で1.5時間撹拌した。放冷後、反応混合物にベンジル＝（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－５－ブロモ－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝カルボナートを含む塩化メチレン溶液を加え、60℃で3時間撹拌した。反応混合物に塩化メチレンを加え、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0～80/20）で精製し、白色固体のベンジル＝（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２-ジヒドロピリミジン－１-イル）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝カルボナート15mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は24：76であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.96(0.76H,dd,J=7.3,2.1Hz),7.96(0.24H,d,J=7.3Hz),7.41-7.34(10H,m),6.82(0.76H,dd,J=23.8,4.0Hz),6.35(0.24H,dd,J=15.2,2.3Hz),5.77-5.66(1.24H,m),5.43-5.07(5.76H,m),4.45-4.30(2H,m),4.08(0.24H,t,J=7.6Hz),3.80(0.76H,t,J=7.6Hz)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000449
　ベンジル＝（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（４－アミノ－２－オキソピリミジン－１(２Ｈ)-イル）－３－（（（ベンジルオキシ）カルボニル）オキシ）－４－フルオロチオラン－２－イル）メチル＝カルボナート15mgに、7mol/Lアンモニア／メタノール溶液1.0mLを加え、室温で1.5時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0～65/35）で精製し、白色固体の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（４－アミノ－２－オキソ－１，２－ジヒドロピリミジン－１－イル）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）チオラン－３－オール6.6mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α／β比は26：74であった。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.99(0.74H,dd,J=7.3,1.3Hz),7.97(0.26H,d,J=7.3Hz),7.29-7.19(2H,br),6.46(0.74H,dd,J=14.5,5.0Hz),6.15(0.26H,dd,J=17.5,5.9Hz),5.94(0.26H,d,J=5.0Hz),5.88(0.74H,d,J=5.0Hz),5.79(0.26H,d,J=7.3Hz),5.78(0.74H,d,J=7.3Hz),5.26(0.74H,t,J=5.3Hz),5.17-4.82(1.26H,m),4.29-4.20(0.74H,m),4.14-4.03(0.26H,m),3.79-3.56(2H,m),3.25-3.19(1H,m)
実施例３１
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000450
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－４－フルオロ－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシオキソラン－３－オール1.15g、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド20mL、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルクロロシラン5.33mLおよびイミダゾール2.83gの混合物を室温で1時間撹拌し、室温で1日間放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～9/1）で精製し、無色油状物の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロ－２－メトキシオキソラン3.15ｇを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.59-7.51(8H,m),7.41-7.24(12H,m),4.94(1H,d,J=5.3Hz),4.92(1H,ddd,J=52.8,5.9,4.6Hz),4.32(1H,dt,J=16.5,5.3Hz),4.13-4.07(1H,m),3.38(2H,d,J=5.3Hz),3.29(3H,s),1.06(9H,s),0.97(9H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000451
　（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロ－２－メトキシオキソラン1.66gの塩化メチレン10mL溶液に、室温で30％臭化水素／酢酸1.0mLを滴下し、室温で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、5分間攪拌した。有機層を分取し、10％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物にアセトニトリル10mLおよび10％炭酸水素ナトリウム水溶液10mLを加え、室温で3時間攪拌した後、一晩放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～9/1）で精製し、無色油状物の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロオキソラン－２－オール0.65gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.65-7.24(20H,m),5.37(1H,t,J=9.2Hz),4.76(1H,dd,J=50.2,1.3Hz),4.45(1H,td,J=5.4,2.9Hz),4.38-4.32(1H,m),3.47-4.43(2H,m),3.15(1H, d,J=8.6z),1.07(9H,s),0.91(9H,s)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000452
　（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロオキソラン－２－オール0.65gにＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩0.13gおよびメタノール1.0mLを加えた後、氷冷下でトリエチルアミン0.19mLを滴下し、室温で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～9/1）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３，５－ビス（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシペンタナール＝Ｏ－メチルオキシム0.32gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン/アンチ比は4：1であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.63-7.50(8H,m),7.46-7.28(12.75H,m),6.72(0.25H,dd,J=11.2,4.6Hz),5.73(0.25H,ddd,J=46.6,4.6,2.0Hz),5.10(0.75H,ddd,J=46.1,7.3,4.0Hz),4.10(0.25H,ddd,J=28.1,6.3,1.7Hz),3.98-3.77(2.75H,m),3.76(2.25H,s),3.60-3.50(1.75H,m),2.66(0.25H,dd,J=4.0,1.3Hz),2.55(0.25H,ddd,J=28.1,6.3,1.7Hz),1.01(9H,s),0.97(6.75H,s),0.94(2.25H,s)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000453
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３，５－ビス（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－２－フルオロ－４－ヒドロキシペンタナール＝Ｏ－メチルオキシム0.32g、アセトニトリル2mL、テトラヒドロフラン1mL、Ｎ－メチルイミダゾール0.1mLおよび２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド0.15gの混合物を室温で8時間撹拌し、室温で3日間放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加した。有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～19/1）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３，５－ビス（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－２－フルオロ－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタナール＝Ｏ－メチルオキシム0.24gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.01(1H,s),7.63-7.56(8H,m),7.46-7.28(13H,m),7.15(1H,t,J=6.9Hz),5.01(1H,dt,J=47.6,7.3Hz),4.90(1H,t,J=7.3Hz),4.32(1H,ddd,J=13.2,6.6,1.3Hz),4.03(1H,dd,J=11.2,5.9Hz),3.83(1H,dd,J=11.2,6.6Hz),3.79(3H,s),0.99(9H,s),0.97(9H,s)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000454
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－３，５－ビス（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－２－フルオロ－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタナール＝Ｏ－メチルオキシム236mgのテトラヒドロフラン1.0mL溶液に、無水臭化リチウム114mgおよび１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン1.0mLを加え、50℃で10時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加した。有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～19/1）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－３，５－ビス（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－２－フルオロペンタナール＝Ｏ－メチルオキシム173mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.71-7.53(8H,m),7.46-7.29(12H,m),7.17(0.86H,t,J=7.3Hz),6.57(0.14H,dd,J=10.6,5.3Hz),5.75(0.14H,dt,J=47.3,4.6Hz),5.13(0.86H,dt,J=46.9,6.6Hz),4.26-4.19(1H,m),4.08-4.00(1H,m),3.87-3.78(4.58H,m),3.65(0.42H,s),1.03(9H,s),1.00(9H,s)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000455
　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－３，５－ビス（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－２－フルオロペンタナール＝Ｏ－メチルオキシム173mgのアセトン1.0mL溶液に37％ホルムアルデヒド水溶液0.18mL、水0.20mLおよび濃塩酸0.04mLを加え、室温で48時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加した。有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～7/3）で精製し、無色油状物114mgを得た。
　得られた油状物は、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ブロモ－３，５－ビス（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－２－フルオロペンタナールおよびその水加物の混合物であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.59(1H,d,J=7.9Hz),7.66-7.57(8H,m),7.44-7.27(12H,m),4.93(1H,dd,J=46.9,4.0Hz),4.42(1H,ddd,J=18.5,4.0,2.6Hz),4.16-4.09(2H,m),3.88(1H,ddd,J=12.9,8.9,2.6Hz),1.03(9H,s),1.01(9H,s)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000456
　実施例３１（６）で得られた無色油状物114mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド0.5mL溶液に、0～10℃で、15-18%水硫化ナトリウム水溶液87mgを加え、同温度で30分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、10％塩化ナトリウム水溶液で3回洗浄した。溶媒を減圧留去し、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロテトラヒドロチオフェン－２－オールを含む淡黄色油状物を得た。
　淡黄色油状物は、そのまま次の反応に使用した。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.74-7.22(20H,m),5.43-5.28(1H,m),4.96(0.5H,d,J=48.2Hz),4.86(0.5H,ddd,J=51.5,5.9,4.0Hz),4.60-4.53(1H,m),3.93(0.5H,t,J=7.9Hz),3.48-3.32(2H,m),3.26(0.5H,dd,J=9.2,5.3Hz),1.08(4.5H,s),1.07(4.5H,s),0.92(4.5H,s),0.91(4.5H,s)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000457
　実施例３１（７）で得られた淡黄色油状物のテトラヒドロフラン1.0mL溶液に、ジメチルアミノピリジン0.1mgおよび無水酢酸0.1mLを加え、室温で1時間攪拌し、室温で一晩放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加した。有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～9/1）で精製し、無色油状物の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロテトラヒドロチオフェン－２－イル＝アセタート67mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.60-7.48(8H,m),7.44-7.23(12H,m),6.02(0.5H,dd,J=4.6,1.3Hz),5.96(0.5H,dd,J=16.2,3.0Hz),5.06(0.5H,ddd,J=48.9,5.0,3.0Hz),4.99(0.5H,ddd,J=50.9,8.6,4.6Hz),4.34-4.18(1H,m),3.84-3.77(0.5H,m),3.66-3.60(1H,m),3.41(0.5H,td,J=7.6,3.3Hz),3.31-3.18(1H,m),2.12(1.5H,s),1.89(1.5H,s),1.03(4.5H,s),0.99(4.5H,s),0.95(9H,s)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000458
　（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロテトラヒドロチオフェン－２－イル＝アセタート59mgの塩化メチレン1.0mL溶液に、30％臭化水素／酢酸溶液0.03mLを加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物に塩化メチレンおよび水を添加した。有機層を分取し、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－２－ブロモ－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロテトラヒドロチオフェンを含む淡褐色油状物を得た。
　得られた淡褐色油状物に、シトシン24mgおよびＮ，Ｏ－ビス(トリメチルシリル)アセトアミド0.2mLを加え、80℃で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加した。有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/1～0/1）で精製し、無色油状物の（（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロテトラヒドロチオフェン－２－イル）シトシン43mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α/β比は15/85であった。
1H-NMR(CDCl3+D2O)δ値：8.12(0.15H,d,J=7.3Hz),7.69-7.25(20.85H,m),6.89(0.85H,dd,J=23.1,4.0Hz),6.26(0.15H,dd,J=16.2,2.3Hz),5.71(0.15H,d,J=7.3Hz),5.55(0.85H,d,J=7.3Hz),5.02(0.15H,dt,J=48.2,2.6Hz),4.85(0.85H,dt,J=51.1,3.3Hz),4.42(0.85H,d,J=7.3Hz),4.30(0.15H,dt,J=11.7,3.0Hz),3.88(0.15H,t,J=6.6Hz),3.65-3.48(2.7H,m),3.34(0.15H,t,J=9.2Hz),1.07(7.65H,s),0.99(1.35H,s),0.91(9H,s)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000459
　（（３Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）－４－（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）－５－（（（ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル）オキシ）メチル）－３－フルオロテトラヒドロチオフェン－２－イル）シトシン43mgのテトラヒドロフラン1.0mL溶液に、1mol/Lテトラブチルアンモニウムフルオリド／テトラヒドロフラン溶液0.24mLを加え、室温で2時間攪拌し、一晩放置した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/メタノール＝1/0～2/1）で精製し、白色固体の１－（２－デオキシ－２－フルオロ－４－チオ－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシン14mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、α/β比は16/84であった。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：8.01-7.96(1H,m),7.30-7.22(2H,br),6.46(0.84H,dd,J=14.5,5.3Hz),6.15(0.16H,dd,J=17.2,5.9Hz),5.93(0.16H,d,J=5.3Hz),5.87(0.84H,d,J=4.0Hz),5.80-5.76(1H,m),5.25(0.84H,t,J=5.3Hz),5.17-4.82(1.16H,m),4.29-4.20(0.84H,m),4.15-4.06(0.16H,m),3.80-3.55(2H,m),3.25-3.16(1H,m)
実施例３２
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000460
　１－Ｏ－アセチル－２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－Ｄ－リボフラノース5.0gの酢酸1.3mL懸濁液に、室温で30％臭化水素／酢酸2.9mLを滴下し、室温で3時間攪拌した。反応混合物にトルエン20mLおよび水20mLを加え、5分間攪拌したのち水層を除去した。得られた有機層を10％炭酸水素ナトリウム水溶液20mLで洗浄後、溶媒を減圧留去した。得られた油状物にアセトニトリル10mLおよび10％炭酸水素ナトリウム水溶液10mLを加え、室温で1時間攪拌後、一晩放置した。反応混合物にトルエン20mLおよび水10mLを加え、5分間攪拌したのち水層を除去し、溶媒を減圧留去し、２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－Ｄ－リボフラノースを含む無色油状物を得た。
　無色油状物は、そのまま次の反応に使用した。
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000461
　実施例３２（１）で得られた無色油状物にＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩1.3gおよびメタノール5.0mLを加え、氷冷下でトリエチルアミン1.8mLを滴下し、室温で3時間攪拌した。反応混合物にトルエン10mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液10mLを加え、水層を除去したのち、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～2/1）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート2.7gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン/アンチ比は4：1であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.05-8.01(4H,m),7.99-7.94(2H,m),7.62-7.35(9.8H,m),6.92(0.2H,d,J=5.9Hz),6.57(0.2H,dd,J=5.9,2.6Hz),6.16(0.8H,dd,J=6.6,3.3Hz),5.87(0.2H,dd,J=8.9,3.0Hz),5.81(0.8H,dd,J=7.9,3.3Hz),4.68-4.62(1H,m),4.46-4.31(2H,m),4.03(0.6H,s),3.92(2.4H,s),3.24(0.2H,brs),3.06(0.8H,brs)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000462
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート2.7g、アセトニトリル5mL、Ｎ－メチルイミダゾール0.5mLおよび２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド1.7gの混合物を室温で8時間撹拌し、室温で3日間放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加し、有機層を分取して、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～3/1）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート3.0gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08-7.96(5H,m),7.91-7.88(2H,m),7.64-7.33(10.75H,m),6.91(0.25H,d,J=5.9Hz),6.55(0.25H,t,J=5.3Hz),6.06-5.95(1.75H,m),5.55-5.49(0.75H,m),5.48-5.42(0.25H,m),4.91-4.84(1H,m),4.69-4.62(1H,m),3.97(0.75H,s),3.85(2.25H,s)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000463
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート3.0gのテトラヒドロフラン4.0mL溶液に、無水臭化リチウム1.8gおよび１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン4.0mLを加え、50℃で2時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加し、有機層を分取して、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～4/1）で精製し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート1.5gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.12-7.93(6H,m),7.65-7.36(9.87H,m),6.82(0.13H,d,J=5.9Hz),6.53(0.13H,t,J=6.6Hz),6.14-6.06(0.13mH,m),6.04-5.95(1.74H,m),4.84-4.54(3H,m),3.80(0.39H,s),3.70(2.61H,s)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000464
　（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート1.5gのアセトニトリル5.0mL溶液に50％グリオキシル酸水溶液2.8mLを加え、70℃で16時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を10％炭酸水素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄し、溶媒を減圧留去して油状物1.4gを得た。
　得られた油状物は、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－５－オキソペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアートおよびその水加物の混合物であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.73(1H,d,J=9.2Hz),8.13-7.98(6H,m),7.66-7.39(9H,m),6.03(1H,dd,J=7.3,3.3Hz),5.68(1H,d,J=7.3Hz),4.85-1.74(2H,m),6.03(1H,dd,J=10.6,6.6Hz)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000465
　実施例３２（５）で得られた油状物1.4gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド4.0mL溶液に、0～10℃で、15-18%水硫化ナトリウム水溶液1.2gを加え、同温度で30分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル15mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液15mLを加え、水層を除去した。有機層を10％塩化ナトリウム水溶液15mLで2回洗浄し、２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－Ｄ－リボフラノースの酢酸エチル溶液を得た。
　酢酸エチル溶液は、そのまま次の反応に使用した。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.12-7.88(6H,m),7.63-7.29(9H,m),6.03(1H,dd,J=7.9,3.3Hz),5.88(1H,dd,J=4.0,2.0Hz),5.50(1H,dd,J=4.6,2.0Hz),4.74(1H,dd,J=11.6,6.3Hz),4.61(1H,dd,J=11.9,5.9Hz),4.23(1H,td,J=7.3,5.5Hz),2.64(1H,d,J=4.6Hz)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000466
　実施例３２（６）で得られた酢酸エチル溶液に、ジメチルアミノピリジン1.6mgおよび無水酢酸0.28mLを加え、室温で1時間攪拌し、室温で3日間放置した。反応混合物に水を加え、水層を除去したのち、有機層を水で洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をメタノールで再結晶し、白色固体の１－Ｏ－アセチル－２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノース402mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08-8.02(2H,m),7.98-7.95(2H,m),7.91-7.88(2H,m),7.64-7.58(1H,m),7.55-7.44(4H,m),7.36-7.29(4H,m),6.06(1H,d,J=2.0Hz),5.99(1H,dd,J=4.0,2.0Hz),5.91(1H,dd,J=8.6,4.0Hz),4.73(1H,dd,J=11.2,5.9Hz),4.53(1H,dd,J=11.2,5.9Hz),4.25(1H,dt,J=8.6,5.9Hz),2.12(3H,s)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000467
　１－Ｏ－アセチル－２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノース208mgおよびシトシン67mgのアセトニトリル2.0mL懸濁液に、Ｎ，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）アセトアミド0.44mLを加え、60℃で1時間攪拌した。反応混合物にトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル0.22mLを加え、80℃で4時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/メタノール＝1/0～4/1）で精製し、白色固体の１－（２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノシル）シトシン70mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.14-7.95(6H,m),7.89(1H,d,J=7.3Hz),7.63-7.36(9H,m),6.90(1H,d,J=5.9Hz),5.94-5.89(2H,m),5.59(1H,d,J=7.9Hz),4.79(1H,dd,J=11.9,5.9Hz),4.66(1H,dd,J=11.6,5.0Hz),4.10-4.05(1H,m)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000468
　１－（２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノシル）シトシン70mgのメタノール2.0mL懸濁液に、28%ナトリウムメトキシド／メタノール溶液0.1mLを加え、室温で1時間攪拌し、一晩放置した。反応混合物に酢酸0.2mLを加え、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/メタノール＝1/0～2/1）で精製し、白色固体の１－（４－チオ－β－Ｄ－リボフラノシル）シトシン18mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.97(1H,d,J=7.3Hz),7.14(2H,brd),5.94(1H,d,J=6.6Hz),5.76(1H,d,J=7.3Hz),5.42(1H,brs),5.29(1H,brs),5.14(1H,brs),4.08-3.98(2H,m),3.69-3.51(2H,m),3.20(1H,dd,J=9.2,5.9Hz)
実施例３３
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000469
　２－デオキシ－１－Ｏ－メチル－Ｄ－リボフラノシド6.58gのトルエン44mL溶液に、20％水酸化ナトリウム水溶液22mLおよびテトラブチルアンモニウムクロリド617mgを加えた後、10-25℃で塩化ベンゾイル10.8mLを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～70/30）で精製し、無色油状物の２－デオキシ－３，５－Ｏ－ジベンゾイル－１－Ｏ－メチル－Ｄ－リボフラノシド11.8gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、アノマー比は１：１であった。
RT(min):1.73,1.76.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.13-7.99(4H,m),7.63-7.51(2H,m),7.49-7.38(4H,m),5.67-5.59(0.5H,m),5.49-5.40(0.5H,m),5.24(0.5H,dd,J=5.6,2.3Hz),5.20(0.5H,d,J=4.6Hz),4.70-4.45(3H,m),3.43(1.5H,s),3.37(1.5H,s),2.64-2.50(1H,m),2.36(0.5H,td,J=9.6,4.6Hz),2.21(0.5H,dd,J=14.5,1.3Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000470
　２－デオキシ－３，５－Ｏ－ジベンゾイル－１－Ｏ－メチル－Ｄ－リボフラノシド6.49gの酢酸32.4mL溶液に1mol/L塩酸32.4mLを加え、55℃で2.58時間攪拌した。酢酸20mLおよび1mol/L塩酸20mLを加え、同温度で2.58時間攪拌した。反応混合物に、トルエンおよび水を加えた。有機層を分取し、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、無色油状物の２－デオキシ－３，５－Ｏ－ジベンゾイル－Ｄ－リボフラノシド6.23gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、アノマー比は6：4であった。
RT(min):1.41,1.44.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.11-7.99(4H,m),7.63-7.51(2H,m),7.51-7.37(4H,m),5.80-5.69(1H,m),5.67-5.60(0.4H,m),5.54-5.48(0.6H,m),4.76-4.47(3H,m),3.11-3.03(0.4H,m),2.86(0.6H,t,J=5.3Hz),2.62-2.48(1H,m),2.45-2.25(1H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000471
　２－デオキシ－３，５－Ｏ－ジベンゾイル－Ｄ－リボフラノシド6.23gのメタノール62mL溶液に、Ｏ－メチルヒドロキシルアンモニウムクロリド1.98g、トリエチルアミン3.78mLおよび5-10%塩酸／メタノール溶液3mLを加え、室温で11.7時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、淡黄色油状物の（２Ｒ，３Ｓ）－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３－ジイル　ジベンゾアート6.65gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は64：36であった。
RT(min):1.50.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.04(4H,d,J=7.9Hz),7.62-7.54(2H,m),7.51-7.30(4.64H,m),6.85(0.36H,t,J=5.9Hz),5.47-5.37(1H,m),4.61(1H,d,J=3.3Hz),4.57(1H,d,J=3.3Hz),4.44(0.64H,dd,J=5.9,2.6Hz),4.40(0.36H,dd,J=5.9,2.6Hz),4.29-4.17(1H,m),3.87(1.08,s),3.78(1.92H,s),3.07-2.85(1H,m),2.82(1H,t,J=5.9Hz)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000472
　（２Ｒ，３Ｓ）－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３－ジイル　ジベンゾアート6.65gのアセトニトリル67mL溶液に、室温で２，４，５－トリクロロベンゼンスルホニルクロリド5.51gおよび１－メチルイミダゾール2.14mLを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物に酢酸エチル20mLおよびヘキサン30mLを加え、固形物を濾過して取り除いた。溶媒を減圧留去し、無色油状の（２Ｒ，３Ｓ）－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロフェニル）スルホニル）オキシ）ペンタン－１，３－ジイル　ジベンゾアート8.97gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は54：46であった。
RT(min):2.06.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.00-8.00(1H,each s),7.93(4H,t,J=7.6Hz),7.64-7.54(2H,m),7.50-7.39(5H,m),7.34(0.54H,d,J=4.0Hz),6.80(0.46H,t,J=5.6Hz),5.56-5.49(1H,m),5.42-5.30(1H,m),4.63(1H,brs),4.61(1H,s),3.86(1.38H,s),3.77(1.62H,s),2.99-2.91(1H,m),2.90-2.83(0.46H,m),2.82-2.71(0.54H,m)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000473
　（２Ｒ，３Ｓ）－５－（メトキシイミノ）－２－（（（２，４，５－トリクロロフェニル）スルホニル）オキシ）ペンタン－１，３－ジイル　ジベンゾアート8.97gのテトラヒドロフラン17.9mLおよび１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン16.1mL溶液に、臭化リチウム1.52gを加え、50℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび25％臭化リチウム水溶液を加えた。有機層を分取し、13％臭化リチウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～75/25）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ）－２－ブロモ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３－ジイル　ジベンゾアート4.84gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は55：45であった。
RT(min):1.87.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.11-8.01(4H,m),7.64-7.54(2H,m),7.51-7.37(4.55H,m),6.78(0.45H,t,J=5.3Hz),5.73-5.60(1H,m),4.77-4.67(1H,m),4.64-4.43(2H,m),3.86(1.35H,s),3.75(1.65H,s),3.09-2.87(1H,m),2.84(1H,t,J=6.3)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000474
　（２Ｒ，３Ｓ）－２－ブロモ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３－ジイル　ジベンゾアート3.54gのアセトン35mL溶液に、室温で35%ホルムアルデヒド水溶液7.1mL、水4.3mLおよび濃塩酸1.4mLを加え、30℃で1.5時間攪拌した。反応混合物に、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、無色油状物3.75gを得た。
　得られた無色油状物は、（２Ｒ，３Ｓ）－２－ブロモ－５－オキソペンタン－１，３－ジイル　ジベンゾアートおよびその水加物の混合物であった。
RT(min):1.71,1.81.
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000475
　実施例３３（６）で得られた無色油状物3.75gの１－メチルピロリドン33mL溶液に、氷冷下で一硫化水素ナトリウムｎ水和物720mgの１－メチルピロリドン5mL溶液を加え、同温度で1.42時間撹拌した。一硫化水素ナトリウムｎ水和物249mgを加え、同温度で0.58時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび食塩水を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、２－デオキシ－３，５－Ｏ－ジベンゾイル－４－チオ－Ｄ－リボフラノシドの１－メチルピロリドン溶液を得た。
RT(min):1.56.
m/z(ESI-positive):341.1[M+H-H2O]+
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000476
　実施例３３（７）で得られた２－デオキシ－３，５－Ｏ－ジベンゾイル－４－チオ－Ｄ－リボフラノシドの１－メチルピロリドン溶液にテトラヒドロフラン29.2mL、無水酢酸0.916mLおよび４－ジメチルアミノピリジン10mgを加え、室温で1時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=100/0～75/25）で精製した。得られた固形物にメタノール4mLを加え、固形物を濾取し、白色固体の１－Ｏ－アセチル－２－デオキシ－３，５－Ｏ－ジベンゾイル－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノシド0.942gを得た。
RT(min):1.77.
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.96(4H,dt,J=7.9,1.3Hz),7.71-7.61(2H,m),7.56-7.44(4H,m),6.11(1H,dd,J=5.9,3.3Hz),5.77-5.69(1H,m),4.55-4.40(2H,m),3.99(1H,qd,J=5.9,1.3Hz),2.76-2.54(2H,m),2.01(3H,s)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000477
　シトシン111mgおよび１－Ｏ－アセチル－２－デオキシ－３，５－Ｏ－ジベンゾイル－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノシド200mgのアセトニトリル2mL溶液に、室温でＮ，Ｏ－ビストリメチルシリルアセトアミド0.700mLを加え、窒素雰囲気下、60℃で70分間攪拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル0.361mLを加え、同温度で2.5時間、80℃で2時間攪拌した。反応混合物にジクロロメタンおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/メタノール=100/0～40/60）で精製した後、ＨＰＬＣで精製し、褐色油状物の１－（２－デオキシ－３，５－ビス－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－Ｄ－リボフラノシル）シトシンを得た。
　1H-NMRよりα／β比は、53:47であった。
　得られた褐色油状物を、高速液体クロマトグラフィーで分離し、１－（２－デオキシ－３，５－ビス－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノシル）シトシン13.6mgを得た。
高速液体クロマトグラフィー条件
カラム:Sunfire prep C18 OBD 10μm,19mm×150mm(Waters社)
移動相:0.1%ギ酸－水/0.1%ギ酸アセトニトリル(容積比:70/30～55/45) 
流速:17 mL/min
検出:UV(254nm)
温度:室温
保持時間:α体 7.34 min,β体 8.50min
β体
RT(min):1.25.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.09-8.02(4H,m),7.95(1H,d,J=7.3Hz),7.63-7.54(2H,m),7.45(4H,d,J=7.9Hz),6.71(1H,t,J=7.3Hz),5.80(1H,d,J=7.3Hz),5.75(1H,q,J=3.7Hz),4.59(2H,d,6.6Hz),4.00(1H,td,6.6,3.3Hz),2.99-2.13(2H,brs),2.82(1H,dq,13.9,3.5Hz),2.44-2.33(1H,m)
α体
RT(min):1.19.
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.22(1H,d,J=7.3Hz),8.08(2H,dd,J=7.9,1.3Hz),7.85(2H,dd,J=7.9,1.3Hz),7.62-7.52(2H,m),7.50-7.36(4H,m),6.45(1H,dd,J=7.3,2.0Hz),5.80(1H,d,J=7.3Hz),5.73-5.67(1H,m),4.56-4.38(2H,m),4.24(1H,dt,J=6.9,2.0Hz),2.95-2.82(1H,m),2.66(1H,dt,J=15.2,2.6Hz)
（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000478
　１－（２－デオキシ－３，５－ビス－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノシル）シトシン9.6mgのメタノール1mL溶液に、7mol/Lアンモニア／メタノール溶液1mLを加え、室温で3時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/メタノール=95/5～30/70）で精製し、白色固体の１－（２－デオキシ－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノシル）シトシン4.7mgを得た。
RT(min):0.27.
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：7.931H,d,J=7.3Hz),7.19(1H,brs),7.12(1H,brs),6.35(1H,dd,J=8.6,6.6Hz),5.78(1H,d,J=7.3Hz),5.23(1H,d,J=3.3Hz),5.12(1H,t,J=5.3Hz),4.36-4.29(1H,m),3.64-3.22(3H,m),2.28-2.01(2H,m),1.83(1H,s)
実施例３４
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000479
　１－Ｏ－メチル－２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－Ｌ－リキソース238mgの酢酸1.0mL溶液に、室温で30％臭化水素／酢酸0.2mLを滴下し、室温で2時間攪拌した。反応混合物に塩化メチレンおよび水を加え、5分間攪拌したのち水層を除去した。得られた有機層を10％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、溶媒を減圧留去し、褐色の油状物を得た。
　別途、１－Ｏ－メチル－２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－Ｌ－リキソース238mgの塩化メチレン1.0mL溶液に、室温で30％臭化水素／酢酸0.2mLを滴下し、室温で2時間攪拌した。反応混合物に塩化メチレンおよび水を加え、5分間攪拌したのち水層を除去した。得られた有機層を10％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、溶媒を減圧留去した。得られた油状物にアセトン2.0mLおよび水2.0mLを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加し、有機層を分取して、溶媒を減圧留去し、褐色の油状物を得た。
　上記の２つの操作で得られた褐色油状物を併せ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～3/1）で精製し、２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－Ｌ－リキソースを含む無色油状物462mgを得た。
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000480
　２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－Ｌ－リキソースを含む混合物462mgにＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩125mgおよびメタノール1.0mLを加えた後、氷冷下でトリエチルアミン0.18mLを滴下し、室温で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加し、有機層を分取して、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～3/1）で精製し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート201mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン/アンチ比は、4：1であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08-7.98(6H,m),7.62-7.32(9.8H,m),6.91(0.2H,d,J=5.9Hz),6.56(0.2H,t,J=6.3Hz),6.06(0.8H,t,J=6.9Hz),5.83-5.76(1H,m),4.58-4.44(2H,m),4.39-4.35(1H,m),3.88(0.6H,s),3.74(2.4H,s)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000481
　（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート201mgに、酢酸エチル2.0mLおよびトリエチルアミン0.08mLを加えた後、氷冷下でメタンスルホニルクロリド0.04mLを滴下し、室温で1時間攪拌し、室温で一晩放置した。反応混合物にトリエチルアミン0.2mLおよびメタンスルホニルクロリド0.1mLを添加し、室温で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加し、有機層を分取して、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～3/1）で精製し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（メトキシイミノ）－２－（（メチルスルホニル）オキシ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート197mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.10-8.00(6H,m),7.62-7.41(9.8H,m),6.87(0.2H,d,J=5.9Hz),6.47(0.2H,dd,J=5.9,4.6Hz),6.07-6.03(1H,m),5.95(0.8H,t,J=6.3Hz),5.47(0.8H,dt,J=7.5,3.3Hz),5.39(0.2H,td,J=6.3,3.3Hz),4.85-4.75(1H,m),4.69-4.60(1H,m),4.39-4.35(1H,m),3.91(0.6H,s),3.77(2.4H,s),3.05(2.4H,s),3.01(0.6H,s)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000482
　（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（メトキシイミノ）－２－（（メチルスルホニル）オキシ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート197mgのアセトニトリル1.0mL溶液に50％グリオキシル酸水溶液0.35mLを加え、70℃で9時間攪拌し、室温で一晩放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～1/1）で精製し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－（（メチルスルホニル）オキシ）－５－オキソペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート130mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.73(1H,s),8.11-8.04(6H,m),7.66-7.42(9H,m),6.09(1H,t,J=5.3Hz),5.68(1H,d,J=5.9Hz),5.61-5.56(1H,m),4.81(1H,dd,J=12.6,4.0Hz),4.66(1H,dd,J=12.6,6.6Hz),3.05(3H,s)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000483
　（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－（（メチルスルホニル）オキシ）－５－オキソペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート130mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド0.5mL溶液に、0～10℃で、15-18%水硫化ナトリウム水溶液0.11mLを加え、同温度で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル10mLを加え、10％塩化ナトリウム水溶液10mLで3回洗浄し、２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－Ｄ－リボフラノースの酢酸エチル溶液を得た。
　得られた酢酸エチル溶液に、ジメチルアミノピリジン0.1mgおよび無水酢酸0.025mLを加え、室温で1時間攪拌し、室温で4日間放置した。反応混合物を水で洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をメタノール10mLで再結晶し、白色固体の１－Ｏ－アセチル－２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－β－Ｄ－リボフラノース28mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.06-8.02(2H,m),7.98-7.95(2H,m),7.91-7.88(2H,m),7.64-7.58(1H,m),7.55-7.44(4H,m),7.36-7.29(4H,m),6.06(1H,d,J=1.3Hz),5.99(1H,dd,J=3.6,1.7Hz),5.91(1H,dd,J=8.6,4.0Hz),4.74(1H,dd,J=11.2,5.9Hz),4.53(1H,dd,J=11.2,5.9Hz),4.25(1H,dt,J=8.6,5.9Hz),2.12(3H,s)
実施例３５
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000484
　５－メチル－３－フェノキシオキソラン－２－オン3.8gのトルエン40mL溶液に-78℃で1.5mol/Lジイソブチルアルミニウムヒドリド／トルエン溶液13.5mLを滴下し、15分間攪拌した。反応混合物にメタノール1mLを添加し、室温で20％酒石酸ナトリウムカリウム水溶液50mLを添加し、1時間攪拌し、水層を除去した。水層を酢酸エチル100mLで抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の５－メチル－３－フェノキシオキソラン－２－オール3.9gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：6.85-7.30(5H,m),5.40-5.55(1H,m),4.70-4.80(1H,m),4.45-4.55(1H,m),3.15-3.40(2H,m),1.65-2.60(2H,m),1.35-1.40(3H,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000485
　無色油状物５－メチル－３－フェノキシオキソラン－２－オール3.6gにメタノール20mLおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩1.8gを加え、トリエチルアミン2.79mLを滴下し、室温で5.5時間攪拌した。メタノールを減圧留去後、酢酸エチル100mLおよび水100mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の５－（メトキシイミノ）－４－フェノキシペンタン－２－オール3.65gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：6.65-7.40(6H,m),4.90-5.60(1H,m),4.00-4.20(1H,m),3.70-4.00(3H,m),1.50-2.50(3H,m),1.20-1.30(3H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000486
　５－（メトキシイミノ）－４－フェノキシペンタン－２－オール3.6gのテトラヒドロフラン36mL溶液に、トリエチルアミン3.3mLを加え、0～10℃で、メタンスルホニルクロリド1.2mLを加えた後、15℃以下で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル200mLおよび水200mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、淡黄色油状物の５－（メトキシイミノ）－４－フェノキシペンタン－２－イル　メタンスルホナート4.4gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：6.60-7.40(6H,m),4.90-5.40(2H,m),3.80-4.00(3H,m),2.70-3.10(3H,m),1.90-2.40(2H,m),1.45-1.55(3H,m)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000487
　５－（メトキシイミノ）－４－フェノキシペンタン－２－イル　メタンスルホナート2.0g、36％ホルマリン水溶液4.8mLおよびアセトン60mLの混合物に2mol/L塩酸15mLを加え、室温で4時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、酢酸エチル30mLおよび水30mLを加え、水層を除去した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、無色油状物の５－オキソ－４－フェノキシペンタン－２－イル　メタンスルホナートおよびその水加物の混合物0.66gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.71-9.76(1H,m),7.26-7.33(2H,m),7.01-7.04(1H,m),6.88-6.92(2H,m),5.05-5.15(1H,m),4.67-4.77(1H,m),3.00(1.4H,s),2.83(1.6H,s),2.0-2.4(2H,m),1.48-1.55(3H,m)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000488
　５－オキソ－４－フェノキシペンタン－２－イル　メタンスルホナート0.62gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド6mL溶液に、0～10℃で、硫化水素ナトリウム・ｘ水和物（和光純薬工業株式会社）0.53gを加え、同温度で1時間攪拌をした。反応混合物に酢酸エチル30mLおよび水30mLを加え、水層を除去した。有機層を水30mLで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、無色油状物の５－メチル－３－フェノキシチオラン－２－オール0.34gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.25-7.35(2H,m),6.90-7.00(3H,m),5.40-5.55(1H,m),4.90(1H,m),3.75-3.90(1H,m),2.40-2.70(1H,m),1.90-2.20(2H,m),1.42-1.46(3H,m)
実施例３６
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000489
　２－クロロメチル－４，６－ジベンジルオキシベンズアルデヒド400mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド4.5mL溶液に、0～10℃で、15%硫化水素ナトリウム水溶液1.83gを加え、15℃で1時間攪拌をした。反応混合物に酢酸エチル40mLおよび10%塩化ナトリウム水溶液20mLを加え、水層を除去した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、ヘキサン30mLを加え、固形物をろ取し、白色固体の５，７－ビス（ベンジルオキシ）－１，３－ジヒドロベンゾチオフェン‐１‐オール206mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.30-7.45(10H,m),6.68(1H,dd,J=2.1,6.9Hz),6.48(1H,d,J=8.4Hz),6.47(1H,d,J=8.4Hz),5.14(H,d,J=12.3Hz),5.09(1H,d,J=12.3Hz),5.03(2H,s),4.49(1H,dd,J=2.1,14.7Hz),4.02(1H,d,J=14.7Hz),2.45(1H,d=6.9Hz)
実施例３７
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000490
　５－（ヒドロキシメチル）オキソラン－２－オン13.8gおよび２，４，６－トリス（ベンジルオキシ）－１，３，５－トリアジン19.0gのジオキサン150mL溶液に5～10℃でトリフルオロメタンスルホン酸2.1mLを加え、室温で5時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル400mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液300mLの混合物に加えた。有機層を分取し、水300mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液300mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝2/3～1/1）で精製し、無色油状物の５－（（ベンジルオキシ）メチル）オキソラン－２－オン22.4gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.33-7.28(5H,m),4.68-4.61(1H,m),4.572(1H,s),4.566(1H,s),3.68(1H,dd,J=10.8,4.5Hz),3.58(1H,dd,J=10.8,4.2Hz),2.57-2.42(2H,m),2.35-2.06(2H,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000491
　５－（（ベンジルオキシ）メチル）オキソラン－２－オン9.9gのエタノール12mLおよびテトラヒドロフラン48mL溶液に、窒素雰囲気下、5～10℃でテトラヒドロホウ酸ナトリウム2.3gを加えた後、塩化カルシウム7.0gのエタノール25mL溶液を20分かけて滴下した。反応混合物にテトラヒドロフラン25mLを加え、室温で200分攪拌した。反応混合物に酢酸エチル200mLを加えた後、1mol/L塩酸を滴下した。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100mLで洗浄した後、飽和塩化ナトリウム水溶液100mLで2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、無色油状物の５－（ベンジルオキシ）ペンタン－１，４－ジオール9.4gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.35-7.31(5H,m),4.55(2H,s),3.89-3.81(1H,m),3.71-3.58(2H,m),3.49(1H,dd,J=9.3,3.3Hz),3.36(1H,dd,J=9.3,7.8Hz),2.92(1H,brs),2.55(1H,brs),1.67-1.41(4H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000492
　５－（ベンジルオキシ）ペンタン－１，４－ジオール5.0gのテトラヒドロフラン50mL溶液に、窒素雰囲気下、5～10℃で水素化ナトリウム（60wt% in オイル）0.96gを加え、室温で30分間攪拌した後、5～10℃で、トリイソプロピルシリルクロリド5.3mLを滴下した。反応混合物を室温で1時間攪拌した後、酢酸エチル100mLおよび水100mLの混合物に加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100mL、水100mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液100mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝1/5～1/5）で精製し、無色油状物の１－ベンジルオキシ－５－（（トリイソプロピル）シリルオキシ）ペンタン－２－オール5.4gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.35-7.26(5H,m),4.56(2H,s),3.85-3.79(1H,m),3.72(2H,t,J=5.9Hz),3.49(1H,dd,J=9.3,3.9Hz),3.38(1H,dd,J=9.3,7.2Hz),2.86(1H,d,J=3.3Hz),1.76-1.45(4H,m),1.15-1.00(21H,m)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000493
　１－ベンジルオキシ－５－（（トリイソプロピル）シリルオキシ）ペンタン－２－オール1.5gおよびトリエチルアミン0.7mLの酢酸エチル15mL溶液に5～10℃でメタンスルホニルクロリド0.35mLを滴下し、室温で1時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル100mLおよび1mol/L塩酸50mLの混合物に加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mL、水50mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液50mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、無色油状物の１－ベンジルオキシ－５－（（トリイソプロピル）シリルオキシ）ペンタン－２－イル　メタンスルホナート1.8gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.36-7.26(5H,m),4.92-4.83(1H,m),4.58(1H,d,J=17.6Hz),4.54(1H,d,J=17.6Hz),3.77-3.58(4H,m),3.02(3H,s),1.90-1.52(4H,m),1.15-1.00(21H,m)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000494
　１－ベンジルオキシ－５－（（トリイソプロピル）シリルオキシ）ペンタン－２－イル　メタンスルホナート1.53gのメタノール20mL溶液にp-トルエンスルホン酸0.33gを添加し、室温で1時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル50mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mLの混合物に加えた。有機層を分取し、水10mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液30mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝2/3～3/2）で精製し、無色油状物の１－ベンジルオキシ－５－ヒドロキシペンタン－２－イル　メタンスルホナート0.8gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.36-7.26(5H,m),4.93-4.84(1H,m),4.58(1H,d,J=12.0Hz),4.53(1H,d,J=12.0Hz),3.74-3.57(4H,m),3.02(3H,s),1.84-1.64(4H,m)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000495
　１－ベンジルオキシ－５－ヒドロキシペンタン－２－イル　メタンスルホナート200mgのジクロロメタン2mL溶液に１，１，１－トリアセトキシ－１，１－ジヒドロ－１，２－ベンズヨードキソール－３（１Ｈ）－オン（デス・マーチン・ペルヨージナン）440mgを添加し、室温で1時間攪拌した。反応混合物にデス・マーチン・ペルヨージナン100mgを添加し、室温で1時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル50mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mLの混合物に加え、セライトろ過をした。有機層を分取し、チオ硫酸ナトリウム水溶液30mLで2回洗浄した後、飽和塩化ナトリウム水溶液30mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝1/2～1/1）で精製し、無色油状物の１－ベンジルオキシ－５－オキソペンタン－２－イル　メタンスルホナート141mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.79(1H,s),7.36-7.26(5H,m),4.89-4.80(1H,m),4.57(1H,d,J=13.5Hz),4.52(1H,d,J=13.5Hz),3.67-3.57(2H,m),3.01(3H,s),2.79-2.61(2H,m),2.10-1.83(2H,m)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000496
　１－ベンジルオキシ－５－オキソペンタン－２－イル　メタンスルホナート103mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド3mL溶液に室温で硫化水素ナトリウムn水和物58mgを添加し、室温で2時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル30mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20mLの混合物に加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液20mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝1/3～1/2）で精製し、無色油状物の５－（（ベンジルオキシ）メチル）チオラン－２－オール49mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シス／トランス比は、50:50であった。
　なお、反応開始から、3、30、60、90および120分後に、それぞれ反応混合物約20mgを精密天秤で正確に測り取り、原料である１－ベンジルオキシ－５－オキソペンタン－２－イル　メタンスルホナートの残存量をHPLCで測定した。その結果、3分後の残存量は53％であり、30分以降では、いずれも原料は完全に消費されていた。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.38-7.26(5H,m),5.55-5.45(1H,m),4.59(1H,s),4.56(0.5H,d,J=12.0Hz),4.45(0.5H,d,J=12.0Hz),3.85-3.57(2H,m),3.42-3.31(1H,m),2.72(0.5H,d,J=6.90Hz),2.29-1.87(4.5H,m)
実施例３８
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000497
　２，３，５－トリス（Ｏ－ベンジル）－Ｄ－アラビノフラノース8.02g、アセトニトリル48mLおよび水24mLの混合物に、Ｏ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩3.35gを加えた後、トリエチルアミン3.45mLを滴下し、室温で4時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル80mLおよび8％炭酸水素ナトリウム水溶液50mLを加えた。有機層を分取し、水層を酢酸エチルで2回抽出した。有機層と抽出液を併せ、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－５－（メトキシイミノ）ペンタン－２－オール8.48gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は78:22であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.60(0.22H,d,J=1.5Hz),2.68(0.78H,d,J=1.5Hz),3.56-3.60(2.22H,m),3.67(0.78H,dd,J=7.1,3.6Hz),3.79(0.22H,dd,J=7.5,3.0Hz),3.85(0.66H,s),3.86(2.34H,s),3.97-4.04(1H,m),4.27(0.78H,dd,J=7.8,3.9Hz),4.38-4.65(6H,m),4.93(0.22H,dd,J=6.0,3.0Hz),6.90(0.22H,d,J=6.3Hz),7.23-7.35(15H,m),7.43(0.78H,dd,J=8,1,0.6Hz)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000498
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－２，３，５－トリス（ベンジルオキシ）－４－ヒドロキシペンタナール＝Ｏ－メチルオキシム3.33gのアセトニトリル33mL溶液に、トリエチルアミン1.54mLおよびＮ－メチルイミダゾール0.89mLを加えた後、メタンスルホニルクロリド0.86mLを滴下し、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水40mLおよび酢酸エチル80mLを加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸20mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液20mLの混液、ならびに、5％炭酸水素ナトリウム水溶液20mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液20mLの混液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－５－（メトキシイミノ）ペンタン－２－イル＝メタンスルホナート3.16gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は75:25であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.93(2.25H,s),2.95(0.75H,s),3.80(1H,dd,J=11.4,6.9Hz),3.85(0.75H,s),3.86(2.25H,s),3.90(1H,dd,J=11.4,2.1Hz),3.98(0.75H,t,J=4.5Hz),4.16(0.75H,ddd,J=7.7,4.5,0.6Hz),4.41-4.62(4.25H,m),4.67(2H,dd,J=20.4,11.1Hz),4.80(0.25H,dd,J=7.5,4.5Hz),4.99(1H,m),6.81(0.25H,d,J=6.3Hz),7.24-7.37(15.75H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000499
　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－５－（メトキシイミノ）ペンタン－２－イル＝メタンスルホナート2.06gのアセトン40mL溶液に、窒素雰囲気下、2mol/L塩酸10mLおよび35％ホルムアルデヒド水溶液3.10mLを加え、室温で5時間攪拌した。反応混合物に10％塩化ナトリウム水溶液40mLおよび酢酸エチル40mLを加えた。有機層を分取し、5％炭酸水素ナトリウム水溶液20mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液20mLの混液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－５－オキソペンタン－２－イル＝メタンスルホナート1.50gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.97(1H,s),3.76(1H,dd,J=11.4,6.6Hz),3.89(1H,dd,J=11.4,3.0Hz),4.04(1H,dd,J=3.3,0.9Hz),4.18(1H,dd,J=5.3,3.3Hz),4.47-4.60(4H,m),4.67(2H,dd,J=22.2,11.4Hz),5.97(1H,m),7.20-7.25(2H,m),7.27-7.36(13H,m)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000500
　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－５－オキソペンタン－２－イル＝メタンスルホナート0.10gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド2mL溶液に、硫化水素ナトリウム・ｘ水和物0.06gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水2mLおよび酢酸エチル5mLを加えた。有機層を分取し、10％塩化ナトリウム水溶液5mLで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）メチル）チオラン－２－オール0.02gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.69(1H,d,J=12.6Hz),3.77-3.82(3H,m),4.19(2H,m),4.51-4.67(6H,m),5.26(1H,d,J=12.6Hz),7.22-7.37(15H,m)
実施例３９
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000501
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート0.99gに、酢酸エチル10mLおよびメタンスルホニルクロリド0.19mLを加え、氷冷下でトリエチルアミン0.39mLを滴下し、室温で1時間攪拌した。反応混合物にトリエチルアミン0.19mLおよびメタンスルホニルクロリド0.39mLを添加し、室温で2時間撹拌し、室温で2日放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を添加し、有機層を分取し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～3/1）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（メトキシイミノ）－２－（（メチルスルホニル）オキシ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート1.02gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.11-8.00(6H,m),7.64-7.41(9.75H,m),6.92(0.25H,d,J=5.9Hz),6.55(0.25H,dd,J=5.3,4.0Hz),6.11(0.25H,dd,J=5.9,4.0Hz),6.08-6.02(1.5H,m),5.53-5.46(1H,m),5.01-4.91(1H,m),4.59-4.47(1H,m),3.97(0.75H,s),3.88(2.25H,s),3.17(2.25H,s),3.13(0.75H,s)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000502
　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（メトキシイミノ）－２－（（メチルスルホニル）オキシ）ペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアート1.02gのアセトニトリル3.0mL溶液に50％グリオキシル酸水溶液1.8mLを加え、80℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を10％炭酸水素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～1/1）で精製し、無色油状物317mgを得た。
　得られた油状物は（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）－２－（（メチルスルホニル）オキシ）－５－オキソペンタン－１，３，４－トリイル＝トリベンゾアートおよびその水加物の混合物であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.74(1H,s),8.20-7.96(6H,m),7.66-7.42(9H,m),6.12(1H,dd,J=7.9,2.6Hz),5.87(1H,d,J=2.6Hz),5.64-5.58(1H,m),4.96(1H,dd,J=13.2,2.6Hz),4.49(1H,dd,J=13.2,5.3Hz),3.13(3H,s)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000503
　実施例３９（２）で得られた無色油状物317mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド1.5mL溶液に、0～10℃で、15-18%水硫化ナトリウム水溶液0.27mLを加え、同温度で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル10mLを加え、10％塩化ナトリウム水溶液10mLで3回洗浄し、２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－Ｌ－リキソースの酢酸エチル溶液を得た。
　得られた酢酸エチル溶液に、４－ジメチルアミノピリジン0.4mgおよび無水酢酸0.061mLを加え、室温で1時間攪拌し、室温で一晩放置した。反応混合物を水で洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル＝1/0～3/1）で精製し、無色油状物の１－Ｏ－アセチル－２，３，５－トリ－Ｏ－ベンゾイル－４－チオ－Ｌ－リキソース107mgを得た。得られた化合物は単一のアノマーであった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.05-8.01(2H,m),7.96-7.92(2H,m),7.90-7.87(2H,m),7.64-7.31(9H,m),6.20(1H,d,J=4.0Hz),6.09(1H,dd,J=5.9,4.0Hz),5.94(1H,t,J=3.6Hz),4.77(1H,dd,J=11.2,7.3Hz),4.61(1H,dd,J=11.2,7.3Hz),4.37(1H,q,J=6.8Hz),2.15(3H,s)
実施例４０
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000504
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３,４,５－トリヒドロキシ－２－ヒドロキシメチルオキソラン12.0kgのメタノール1200mL溶液に、15℃以下で、アセチルクロリド720mLを30分かけて滴下し、20～30℃で1時間攪拌した。反応混合物に28%ナトリウムメトキシド／メタノール溶液2100mLおよびトルエン1000mLを加え、メタノールを減圧留去し、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－３,４－ジヒドロキシ－２－ヒドロキシメチル－５－メトキシオキソランのトルエン溶液4500mLを得た。
　得られたトルエン溶液4500mLに、30℃以下で50%水酸化ナトリウム水溶液2400mL、トルエン6000mLおよびテトラブチルアンモニウムクロリド72.0gを加え、15℃以下で４－メチルベンゾイルクロリド3290mLを1時間かけて滴下し、30℃で3時間攪拌した。水層を除去し、有機層を水3000mLおよび10％塩化ナトリウム水溶液3000mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－５－メトキシオキシラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート3.94 kgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.33-2.45(9H,m),3.49(3H,s),4.53-4.57(1H,m),4.60-4.76(1H,m),4.82(1H,dd,J=3.2,12.0Hz),5.16(1H,s),5.44-5.48(1H,m),5.55(1H,d,J=5.6Hz),7.08-7.26(6H,m),7.86-7.97(6H,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000505
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－５－メトキシオキシラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート50.0gの酢酸50mLおよびトルエン25mLの混合液に、25℃で、30%臭化水素／酢酸溶液50mLを加え、同温度で2時間攪拌した。反応混合物にヘキサン100mLを加え、固形物をろ取し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－ブロモ－３,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）オキシラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート37.7gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.44(3H,s),2.42(3H,s),2.37(3H,s),4.72-4.92(3H,m),5.59(1H,d,J=4.4Hz),5.92(1H,s),6.19(1H,s),7.08-7.30(6H,m),7.82-8.03(6H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000506
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－ブロモ－３,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）オキシラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート400gのトルエン950mL、水480mLおよびアセトニトリル600mLの混合液に、25℃で、炭酸水素ナトリウム71.0gを加え、55℃で6時間30分攪拌した。反応混合物に10％炭酸水素ナトリウム水溶液500mLを加え、水層を除去した。有機層を10％塩化ナトリウム水溶液3Lで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－５－ヒドロキシオキシラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート361gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.37-2.45(9H,m),4.73-4.92(3H,m),5.59(1H,d,J=4.4Hz),5.92(1H,s),6.59(1H,s),7.04-7.26(6H,m),7.83-8.03(6H,m)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000507
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－５－ヒドロキシオキシラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート361gのメタノール1080mL溶液にピリジン360mL、p-トルエンスルホン酸・２水和物180gおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩106gを加えた後、トリエチルアミン176mLを25℃で滴下し、同温度で8時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を10％塩化ナトリウム水溶液で2回、塩酸で2回、炭酸水素ナトリウム水溶液で1回および飽和塩化ナトリウム水溶液で1回ずつ順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１,３－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－４－イル＝４－メチルベンゾアート394gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は75：25であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.37-2.43(9H,m),3.40(1H,d,J=8.4Hz),3.79(2.25H,s),4.11(0.75H,s),4.36-4.40(1H,m),4.53-4.59(1H,m),5.66(0.75H,dd,J=3.2,8.4Hz),5.84(0.25H,dd,J=2.8,8.4Hz),6.17(0.75H,dd,J=3.2,6.0Hz)6.57(0.25H,dd,J=2.8,5.2Hz),6.76(0.25H,d,J=5.2Hz),7.06-7.29(6H,m),7.45(0.75H,d,J=6.0Hz),7.89-8.03(6H,m)
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000508
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１,３－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－２－ヒドロキシ－５－（メトキシイミノ）ペンタン－４－イル＝４－メチルベンゾアート338gのアセトニトリル1200mL溶液に、25℃で、（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニルクロリド195gを加えた後、0～10℃で、Ｎ－メチルイミダゾール130mLを40分かけて滴下し、10℃で5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル1500mLおよび水1000mLを加え、水層を除去した。有機層を10％塩化ナトリウム水溶液で2回、塩酸で1回、炭酸水素ナトリウム水溶液で1回および飽和塩化ナトリウム水溶液で1回ずつ順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（メトキシイミノ）－２,５－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝４－メチルベンゾアートを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は75：25であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.37-2.49(9H,m),3.82(2.25H,s),3.96(0.75H,s),4.62-4.80(2H,m),5.35-5.51(1H,m),5.90-6.05(1.75H,m),6.30-6.38(0.25H,m),6.74-6.76(0.25H,m),7.15-7.35(7H,m),7.44-7.49(0.75H,m),7.75-7.99(7H,m)
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000509
　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１－（メトキシイミノ）－２,５－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－４－（（（２，４，５－トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン－３－イル＝４－メチルベンゾアートのテトラヒドロフラン450mLおよび１,２－ジメチルイミダゾール370mL混合溶液に、10℃以下で、臭化リチウム110gを加え、25℃で6時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル800mLおよび水800mLを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－１,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝４－メチルベンゾアートを得た。
　1H-NMRを測定した結果、シン／アンチ比は79：21であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.34-2.41(9H,m),3.38(2.37H,s),3.88(0.63H,s),4.44-4.75(3H,m),6.04-6.11(1.79H,m),6.41-6.44(0.21H,m),6.75(0.21H,d,J=5.6Hz),7.11-7.26(6H,m),7.53(0.79H,d,J=5.2Hz),7.78-7.96(6H,m)
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000510
　（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－２－ブロモ－１,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－５－（メトキシイミノ）ペンタン－３－イル＝４－メチルベンゾアートのアセトニトリル900mL溶液に50％グリオキシル酸水溶液420mLを加え、75℃で12時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル600mLおよび水200mLを加え、水層を除去した。有機層を10％塩化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液の混合液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、褐色油状物337gを得た。
　得られた油状物は、（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）－２－ブロモ－１,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－５－オキソペンタン－３－イル＝４－メチルベンゾアートおよびその水加物の混合物であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.34-2.45(9H,m),4.55-4.85(3H,m),5.78-5.80(1H,m),5.95-6.00(1H,m),7.18-7.26(6H,m),7.89-7.96(6H,m),9.72(1H,s)
（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000511
　実施例４０（７）で得られた油状物337gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド1000mL溶液に、-10℃で、25%硫化水素ナトリウム水溶液584mLを30分かけて滴下し、15℃で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル1000mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で3回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３, ４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）－５－ヒドロキシチオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアートの酢酸エチル溶液を得た。
　得られた酢酸エチル溶液にＮ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン15.0gを加えた後、0℃で、無水酢酸180mLを4回に分けて加え、室温で16時間静置した。反応混合物に水400mLを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で4回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（アセチルオキシ）－３,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート167gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：1.99(1.50H,s),2.04(1.50H,s),2.31-2.45(9H,m),3.78-3.87(1H,m),4.46-4.53(1H,m),4.64-4.71(1H,m),5.66-5.73(1H,m),6.08-6.21(1H,m),6.31(0.50H,d,J=4.4Hz),6.40(0.50H,d,J=4.4Hz),6.96-7.28(6H,m),7.76-7.96(6H,m)
（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000512
　（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（アセチルオキシ）－３,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート25gのトリフルオロ酢酸75mL溶液にトリエチルシラン25mLを加え、室温で8時間30分攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－５－（アセチルオキシ）－３,４－ジ（（４－メチルフェニル）カルボニルオキシ）チオラン－２－イル）メチル＝４－メチルベンゾアート167gを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ値：2.31-2.45(9H,m),3.18(1H,dd,J=5.6,16.0Hz),3.52(1H,d,J=4.8,16.0Hz),3.92(1H,ddd,J=4.8,9.2,10.8Hz),4.57(1H,dd,J=9.2,14.8Hz),4.67(1H,dd,J=10.8,14.8),5.72-5.77(1H,m),5.85-5.88(1H,m),7.15-7.26(6H,m),7.88-7.96(6H,m)
実施例４１
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000513
 　（２Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（ベンジルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）メチル）－２－メトキシオキソラン－３-オン23.2gのテトラヒドロフラン100mL溶液に－40℃で1mol/Lメチルマグネシウムブロミド／テトラヒドロフラン溶液92mLおよび3mol/Lメチルマグネシウムブロミド／ジエチルエーテル溶液23mLを滴下し、同温度で30分攪拌した。1時間かけて0℃まで昇温し、飽和塩化アンモニウム水溶液500mLおよび酢酸エチル500mLを加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液300mLで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（ベンジルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）メチル）－２－メトキシ－３－メチルオキソラン－３－オール12.0gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.37-7.24(10H,m),4.80-4.48(5H,m),4.12(1H,m),3.53-3.42(2H,m),3.44(3H,s),3.38(1H,d,J=0.6Hz),3.34(1H,d,J=4.2Hz),1.31(3H,s).
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000514
 　（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）－４－（ベンジルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）メチル）－２－メトキシ－３－メチルオキソラン－３－オール7.2gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド溶液に、水素化ナトリウム1.2gを加えた後、15℃以下でベンジルブロミド5.1gを滴下し、室温で1.5時間攪拌した。反応混合物に水200mLおよび酢酸エチル200mLを加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸200mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液200mLで順次洗浄し、減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）メチル）－２－メトキシ－３－メチルオキソラン9.0gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.44-7.22(15H,m),4.82-4.46(6H,m),4.70(1H,s),4.27(1H,q,J=3.9Hz),3.59-3.43(3H,m),3.46(3H,s),1.34(3H,s).
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000515
 　（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）メチル）－２－メトキシ－３－メチルオキソラン9.0gの酢酸80mLおよび水20mL溶液に濃硫酸4.9gを室温で滴下した後、70℃で3時間攪拌した。反応混合物を30℃に冷却し、水200mLおよび酢酸エチル200mLを加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸200mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液200mLで順次洗浄し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）メチル）－３－メチルオキソラン－２－オール5.5gを得た。
1H-NMR(dmso-d6)δ値：7.38-7.24(15H,m),6.56(0.64H,d,J=4.8Hz),5.84(0.36H,d,J=6.9Hz),5.01(0.64H,d,J=4.8Hz),4.99(0.36H,d,J=6.9),4.75-4.47(6H,m),4.17(0.36H,m),4.03(0.64H,m),3.79(0.64H,d,J=7.5Hz),3.66(0.36H,d,J=6.0Hz),3.61-3.49(2H,m),1.34(1.92H,s),1.33(1.08H,s).
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000516
 　（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）メチル）－３－メチルオキソラン－２－オール2.0gおよびメタノール10mLの混合物にＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩0.69gを加えた後、トリエチルアミン0.56gを滴下し、室温で6時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残渣に酢酸エチル20mLおよび水20mLを加えた。有機層を分取し、水で2回洗浄し、減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－４－（（メトキシイミノ）メチル）ペンタン－２－オール2.0gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.42(s(1H),7.35-18(15H,m),4.64-4.39(6H,m),4.06(1H,m),3.87(3H,s),3.76-3.68(4H,m),1.58(3H,s).
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000517
 　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－４－（（メトキシイミノ）メチル）ペンタン－２－オール2.0gのアセトニトリル10mL溶液に、トリエチルアミン0.66gおよびＮ－メチルイミダゾール0.53gを加えた後、メタンスルホニルクロリド0.75gを滴下し、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水30mLおよび酢酸エチル50mLを加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸20mLで2回洗浄した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液20mLで順次洗浄し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－５－（メトキシイミノ）－４－メチルペンタン－２－イル＝メタンスルホナート1.7gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.35(1H,s),7.34-7.22(15H,m),5.23(1H,m),4.81-3.39(6H,m),3.96(1H,d,J=1.8Hz),3.89-3.79(2H,m),3.87(3H,s),2.96(3H,s),1.48(3H,s).
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000518
 　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－５－（メトキシイミノ）－４－メチルペンタン－２－イル＝メタンスルホナート0.7gのアセトン14mL溶液に、窒素雰囲気下、2mol/L塩酸3.5mLおよび35%ホルムアルデヒド水溶液1.12gを加え、室温で22時間攪拌した。35%ホルムアルデヒド水溶液1.2gおよびアセトン2mLを加え、40℃で5時間攪拌した。反応混合物に水15mLおよび酢酸エチル20mLを加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液20mLで順次洗浄し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－４－メチル－５－オキソペンタン－２－イル＝メタンスルホナート0.31gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.51(1H,s),7.38-7.24(15H,m),5.09(1H,m),4.77-4.43(6H,m),4.09(1H,d,J=4.5Hz),3.96-3.77(2H,m),2.93(3H,s),1.43(3H,s).
（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000519
 　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）－１，３，４－トリス（ベンジルオキシ）－４－メチル－５－オキソペンタン－２－イル＝メタンスルホナート0.12gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド溶液に、硫化水素ナトリウム・ｘ水和物0.035gを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物に水および酢酸エチル5mLを加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液5mLで洗浄し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－５－（（ベンジルオキシ）メチル）－３－メチルチオラン－２－オール0.05gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.37-7.22(15H,m),5.29(1H,d,J=6.0Hz),4.75-4.37(6H,m),4.02(1H,d,J=6.3Hz),3.94(1H,dd,J=9.3,4.8Hz),3.80(1H,m),3.70(1H,dd,J=9.3,8.1Hz),1.95(1H,d,J=6.3Hz),1.48(3H,s).
実施例４２
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000520
　（２Ｒ,３Ｒ）－２－（（ベンゾイルオキシ）メチル）－４，４－ジフルオロ－５－ヒドロキシオキソラン－３－イル　ベンゾアート190mgをアセトニトリル／水（３／１）の混合溶媒4mLに溶解させた後、Ｏ‐メチルヒドロキシルアミン塩酸塩83.5mgおよびトリエチルアミン0.09mLを加え、2時間撹拌した。反応混合物にピリジニウムパラトルエンスルホナート82mgを加え、69時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、水層を除去した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層と抽出液を併せ、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、無色油状物を得た。この油状物のテトラヒドロフラン3mL溶液に、トリエチルアミン0.42mLを加えた後、0℃でメタンスルホニルクロリド0.12mLを加え、30分撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、水層を除去した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層と抽出液を併せ、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，５Ｅ）‐３‐ベンゾイルオキシ‐４，４‐ジフルオロ‐２‐（メチルスルホニルオキシ）‐５‐（メトキシイミノ）ペンチル　ベンゾアートを202mg得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.10-8.05(4H,m),7.67-7.40(7H,m),6.17(1H,ddd,12.9Hz,10.8Hz,3.0Hz),5.62(1H,ddd,8.4Hz,3.0Hz,2.7Hz),4.89(1H,dd,12.6Hz,2.7Hz),4.60(1H,dd,12.6Hz,8.4Hz),3.90(3H,s),3.06(3H,s)ppm.
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000521
 　（２Ｒ，３Ｒ，５Ｅ）‐３‐ベンゾイルオキシ‐４，４‐ジフルオロ‐２‐（メチルスルホニルオキシ）‐５‐（メトキシイミノ）ペンチル　ベンゾアート202mgのアセトン4mL溶液に1mol/L塩酸および35％ホルムアルデヒド水溶液を加え、室温で72時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=2/3～1/4）で精製し、無色油状物の（３Ｒ，４Ｒ）－５－ベンゾイルオキシ－２，２－ジフルオロ－１，１－ジヒドロキシ－４－（メチルスルホニルオキシ）ペンタン－３－イル　ベンゾアート70.5mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.08-8.02(4H,m),7.64-7.36(6H,m),6.19(1H,ddd,12.9Hz,12.9Hz,2.7Hz),5.70(1H,ddd,8.7Hz,2.4Hz,2.4Hz),5.30(1H,br),4.93(1H,br),4.92(1H,dd,12.6Hz,2.4Hz),4.59(1H,dd,12.6Hz,8.7Hz),3.10(1H,br),3.08(3H,s)ppm.
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000522
　（３Ｒ，４Ｒ）－５－ベンゾイルオキシ－２，２－ジフルオロ－１，１－ジヒドロキシ－４－（メチルスルホニルオキシ）ペンタン－３－イル　ベンゾアート70.5mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド1mL溶液に硫化水素ナトリウム・n水和物17mgを加え、室温で5分撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=5/1～0/1）で精製し、無色油状物の（２Ｒ,３Ｒ）－２－（（ベンゾイルオキシ）メチル）－４，４－ジフルオロ－５－ヒドロキシチオラン－３－イル　ベンゾアート26.5mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.04(2H,d,J=7.2Hz),7.90(0.6H,d,J=7.2Hz),7.82(1.4H,d,J=7.2Hz),7.27-7.65(6H,m),5.98(1H,m),5.36-5.54,(1H,m),4.62(0.6H,d,J=7.5Hz),4.55(0.7H,dd,J=11.4,8.1Hz),4.44(0.7H,d,J=11.4,6.1Hz). 4.28(0.7H,ddd,J=8.1Hz,6.1Hz,6.6Hz),2.80-3.15 (1H,br).
実施例４３
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000523
　５－メチル－４－フェニルオキソラン－２－オン1.2gのエタノール2mLおよびテトラヒドロフラン20mL溶液に、窒素雰囲気下、5～10℃でテトラヒドロホウ酸ナトリウム0.64gを加えた後、塩化カルシウム2.0gのエタノール8mL溶液を滴下し、室温で200分攪拌した。反応混合物に酢酸エチル30mLを加えた後、3mol/L塩酸を20mL滴下した。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の３－フェニルペンタン－１，４－ジオール1.05gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.35-7.15(5H,m),3.95(1H,dqb,J=6.9Hz,6.3H),3.70-3.61(1H,m),3.57-3.46(1H,m),2.69(1H,ddd,J=8.3Hz,8.3Hz,5.1Hz),2.28-2.15(1H,m),2.00-1.80(1H,m),1.04(3H,d,J=6.3Hz).
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000524
　３－フェニルペンタン－１，４－ジオール1.0gおよびイミダゾール0.45ｇのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド20mL溶液に、窒素雰囲気下、5～10℃でトリイソプロピルシリルクロリド1.25mLを滴下し、室温で19時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝1/19～1/10）で精製し、無色油状物の３－フェニル－５－（（トリス（プロパン－２－イル）シリル）オキシ）ペンタン－２－オール1.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.33-7.12(5H,m),4.00-3.89(1H,m),3.76-3.68(1H,m),3.63-3.53(1H,m),2.81-2.78(1H,m),2.75-2.67(1H,m),2.20-2.08(1H,m),1.99-1.88(1,m),1.15-1.00(24H,m).
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000525
 　３－フェニル－５－（（トリス（プロパン－２－イル）シリル）オキシ）ペンタン－２－オール1.0gおよびトリエチルアミン1.67mLの酢酸エチル10mL溶液に5～10℃でメタンスルホニルクロリド0.46mLを滴下し、室温で5.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、黄色油状物の３－フェニル－５－（（トリス（プロパン－２－イル）シリル）オキシ）ペンタン－２－イル　メタンスルホナート1.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.35-7.15(5H,m),4.90(1H,dq,J=6.3Hz,6.8Hz),3.66-3.58(1H,m),3.46-3.35(1H,m),3.10-3.02(1H,m),2.85(3H,s),2.27-2.14(1H,m),1.94-1.81(1H,m),1.31(3H,d,J=6.3Hz),1.09-0.95(21H,m).
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000526
 　３－フェニル－５－（（トリス（プロパン－２－イル）シリル）オキシ）ペンタン－２－イル　メタンスルホナート1.05gのメタノール15mL溶液にp-トルエンスルホン酸一水和物0.24gを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝1/4～1/1）で精製し、無色油状物の５－ヒドロキシ－３－フェニルペンタン－２－イル　メタンスルホナート0.56gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.38-7.16(5H,m),4.92(1H,dq,J=7.8Hz,6.3Hz),3.62-3.53(1H,m),3.44-3.34(1H,m),3.05-2.95(1H,m),2.92(3H,s),2.29-2.16(1H,m),1.99-1.85(1H,m),1.28(3H,d,J=6.3Hz).
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000527
 　５－ヒドロキシ－３－フェニルペンタン－２－イル　メタンスルホナート490mgのジクロロメタン5mL溶液に１，１，１－トリアセトキシ－１，１－ジヒドロ－１，２－ベンズヨードキソール－３（１Ｈ）－オン（デス・マーチン・ペルヨージナン）1.2gを添加し、室温で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝1/10～1/1）で精製し、無色油状物の５－オキソ－３－フェニルペンタン－２－イル　メタンスルホナート414mgを得た
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.69(1H,m),7.38-7.18(5H,m),4.93-4.85(1H,m),3.50-3.43(1H,m),3.15-3.04(1H,m),2.93-2.80(4H,m),1.31(3H,d,J=4.5Hz).
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000528
 　５－オキソ－３－フェニルペンタン－２－イル　メタンスルホナート256mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド3mL溶液に室温で硫化水素ナトリウムn水和物240mgを添加し、室温で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝1/19～1/9）で精製し、無色油状物の５－メチル－４－フェニルチオラン－２－オール80mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.38-7.17(5H,m),5.82-5.72(0.17H,m),5.63-5.58(0.83H,m),3.99-3.90(0.83H,m),3.82-3.51(0.83H,m),3.66-3.47(0.34H,m),2.75-2.68(0.17H,m),2.56-2.31(1.83H,m),1.10(0.51H,d,J=6.9Hz),0.84(2.49H,d,J=6.9Hz).
実施例４４
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000529
 　（３ａＲ，６Ｒ，６ａＲ）－２，２，６－トリメチルテトラヒドロ－２Ｈ－フロ（３，４－ｄ）（１，３）ジオキソル－４－オール12.2gのエタノール10mLおよびテトラヒドロフラン120mL溶液に、窒素雰囲気下、5～10℃でテトラヒドロホウ酸ナトリウム4.0gを加えた後、塩化カルシウム10.3gのエタノール50mL溶液を滴下し、室温で4時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル200mLおよび水300mLを加え、有機層を分取し、水層を酢酸エチル200mLで6回抽出した。有機層と抽出液を併せ、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝1/4～1/1）で精製し、無色油状物の（１Ｒ）－１－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－（ヒドロキシメチル）－２，２－ジメチル－１，３－ジオキソラン－４－イル）エタン－１－オール7.4gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：4.34-4.27(1H,m),4.03-3.71(4H,m),2.73-2.62(2H,m),1.41(3H,s),1.36(3H,s),1.33(3H,d,J=6.0Hz).
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000530
 　（１Ｒ）－１－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－（ヒドロキシメチル）－２，２－ジメチル－１，３－ジオキソラン－４－イル）エタン－１－オール3.5ｇおよびイミダゾール1.63ｇのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド50mL溶液に、窒素雰囲気下、5～10℃でトリイソプロピルシリルクロリド4.46mLを滴下し、室温で23時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の（１Ｒ）－１－（（４Ｒ，５Ｓ）－２，２－ジメチル－５－（（（トリス（プロパン－２－イル）シリル）オキシ）メチル）－１，３－ジオキソラン－４－イル）エタン－１－オール7.1gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：4.29(1H,ddd,J=3.6,5.1,10.2Hz),4.12(1H,br),4.02-3.94(2H,m),3.88(1H,dd,J=10.2,10.2Hz),3.67(1H,dd,J=3.6,10.2Hz),1.40-1.03(30H,m).
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000531
 　（１Ｒ）－１－（（４Ｒ，５Ｓ）－２，２－ジメチル－５－（（（トリス（プロパン－２－イル）シリル）オキシ）メチル）－１，３－ジオキソラン－４－イル）エタン－１－オール1.6gおよびトリエチルアミン2.7mLの酢酸エチル16mL溶液に5～10℃でメタンスルホニルクロリド0.75mLを滴下し、室温で10分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の（１Ｒ）－１－（（４Ｒ，５Ｓ）－２，２－ジメチル－５－（（（トリス（プロパン－２－イル）シリル）オキシ）メチル）－１，３－ジオキソラン－４－イル）エチル　メタンスルホナート1.98gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：5.17(1H,dq,J=3.3,6.6Hz),4.35-4.27(2H,m),3.94-3.82(2H,m),3.02(3H,s),1.51(3H,d,J=6.6Hz),1.47(3H,s),1.37(3H,s),1.17-1.03(21H,m).
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000532
 　（１Ｒ）－１－（（４Ｒ，５Ｓ）－２，２－ジメチル－５－（（（トリス（プロパン－２－イル）シリル）オキシ）メチル）－１，３－ジオキソラン－４－イル）エチル　メタンスルホナート1.98gのテトラヒドロフラン24mL溶液に5～10℃で1mol/Lテトラブチルアンモニウムフルオリド／テトラヒドロフラン溶液5.8mLを添加し、室温で20分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。。減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の（１Ｒ）－１－（（４Ｓ，５Ｓ）－５－（ヒドロキシメチル）－２，２－ジメチル－１，３－ジオキソラン－４－イル）エチル　メタンスルホナート1.8gを得た。
　得られた油状物には、フルオロトリス（プロパン－２－イル）シランが含まれていたが、このまま次の反応に使用した。
1H-NMR(CDCl3)δ値：
4.96(1H,dq,J=6.3,6.3Hz),4.32(1H,dt,J=4.5,6.3Hz),4.17-4.11(1H,m),3.90-3.79(2H,m),3.75(1H,br),3.06(3H,s),1.53(3H,d,J=6.3Hz),1.47(3H,s),1.38(3H,s).
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000533
　（１Ｒ）－１－（（４Ｓ，５Ｓ）－５－（ヒドロキシメチル）－２，２－ジメチル－１，３－ジオキソラン－４－イル）エチル　メタンスルホナート1.8g（フルオロトリス（プロパン－２－イル）シランが含まれている。）およびピリジン1.16mLのジクロロメタン20mL溶液に5～10℃で１，１，１－トリアセトキシ－１，１－ジヒドロ－１，２－ベンズヨードキソール－３（１Ｈ）－オン（デス・マーチン・ペルヨージナン）3gを添加し、室温で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およびチオ硫酸ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、黄色油状物の（１Ｒ）－１－（（４Ｓ，５Ｒ）－５－ホルミル－２，２－ジメチル－１，３－ジオキソラン－４－イル）エチル　メタンスルホナート1.7gを得た。
　得られた油状物には、フルオロトリス（プロパン－２－イル）シランが含まれていたが、このまま次の反応に使用した。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.69(1H,d,J=3.0Hz),4.99(1H,dq,J=5.1,6.6Hz),4.50-4.39(2H,m),3.02(3H,s),1.60(3H,s),1.50(3H,d,J=6.6Hz),1.42(3H,s).
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000534
　（１Ｒ）－１－（（４Ｓ，５Ｒ）－５－ホルミル－２，２－ジメチル－１，３－ジオキソラン－４－イル）エチル　メタンスルホナート0.85g（フルオロトリス（プロパン－２－イル）シランが含まれている。）のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド8mL溶液に5～10℃で硫化水素ナトリウムn水和物0.38gを加え、室温で1.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝1/19～1/4）で精製し、白色固体の（３ａＲ，６Ｓ，６ａＳ）－２，２，６－トリメチルテトラヒドロ－２Ｈ－チエノ（３，４－ｄ）（１，３）ジオキソル－４－オール0.11gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：5.21(1H,s),4.77-4.70(2H,m),3.82(1H,dq,J=3.3,6.9Hz),1.76(1H,br),1.49(3H,s),1.38(3H,d,J=6.9Hz),1.33(3H,s).
実施例４５
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000535
　５－フェニルオキソラン－２－オン1.0gのトルエン12mL溶液に-60℃で1.5mol/Lジイソブチルアルミニウムヒドリド／トルエン溶液4.1mLを滴下し、30分間攪拌した。反応混合物にメタノール1mLを加えた後、室温で20％酒石酸ナトリウムカリウム水溶液40mLを加え、1時間攪拌した。水層を除去し、減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の５－フェニルオキソラン－２－オール0.98gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、得られた油状物は、異性体Aおよび異性体Bの混合物であり、比率は、A:B=56:54であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.46-7.23(5H+5H,m,A+B),5.77-5.75(1H,m,A),5.64-5.62(1H,m,B),5.25(1H,t,J=6.9Hz,A),5.04-4.98(1H,m,B),2.98-2.92(1H,m,B),2.90-2.83(1H,m,B),2.59-2.42(1H,m,A),2.36-2.02(1H+4H,m,A+B),2.21-1.91(1H,m,A),1.86-1.75(1H,m,A).
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000536
 　５－フェニルオキソラン－２－オール0.98gにアセトニトリル12mL、水6mLおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩1.0gを加え、トリエチルアミン1.08mLを滴下し、室温で0.5時間攪拌した。反応混合物にヘキサン、酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の４－（メトキシイミノ）－１－フェニルブタン－１－オール1.10gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、得られた油状物は、異性体Aおよび異性体Bの混合物であり、比率は、A:B=60:40であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.41(1H,t,J=5.9Hz,A),7.38-7.25(5H+5H,m,A+B),6.68(1H,t,J=5.7Hz,A),4.77-4.71(1H,m,A),4.70-4.64(1H,m,B),3.87(3H,s,B),3.81(3H,s,A),2.54-2.25(2H+2H,m,A+B),2.20(1H,d,J=3.6Hz,A),2.17(1H,d,J=3.6Hz,B),2.06-1.80(2H+2H,m,A+B).
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000537
 　４－（メトキシイミノ）－１－フェニルブタン－１－オール0.39gのアセトニトリル4mL溶液に、Ｎ－メチルイミダゾール0.24mLを加えた後、0～10℃で、メタンスルホニルクロリド0.19mLを加え、5℃以下で1.5時間攪拌した。メタンスルホニルクロリド0.24mLを加えた後、反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル=90/10～59/41）で精製し、淡黄色油状物の（４－クロロ－４－フェニルブチリデン）（メトキシ）アミン0.07gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、得られた油状物は、異性体Aおよび異性体Bの混合物であり、比率は、A:B=58:42であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.41-7.30(6H+5H,m,A+B),6.63(1H,t,J=5.4Hz,B),4.92(1H,t,J=6.8Hz,A),4.84(1H,dd,J=6.2,8.0Hz,B),3.86(3H,s,B),3.82(3H,s,A),2.53-2.20(4H+4H,m,A+B).
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000538
 　（４－クロロ－４－フェニルブチリデン）（メトキシ）アミン82mg、36％ホルマリン水溶液0.32mLおよびアセトン4mLの混合物に2mol/L塩酸0.1mLを加え、室温で0.5時間攪拌した。反応混合物にヘキサンおよび水を加え、水層を除去し、減圧下で溶媒を留去し、無色油状物の４－クロロ－４－フェニルブタナール61mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：9.78(1H,t,J=0.9Hz),7.41-7.28(5H,m),4.94(1H,dd,J=6.6,7.5Hz),2.66(2H,t,J=6.9Hz),2.39(2H,dd,J=6.6,7.4Hz),3.86(3H,s,B),3.82(3H,s,A),2.53-2.20(4H+4H,m,A+B).
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000539
 　４－クロロ－４－フェニルブタナール61mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド1mL溶液に、0～10℃で、無水硫化水素ナトリウム32mgを加え、同温度で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝85/15～60/40）で精製し、無色油状物の５－フェニルチオラン－２－オール37mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、得られた油状物は、異性体Aおよび異性体Bの混合物であり、比率は、A:B=68:32であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.45(2H,brd,J=7.8Hz,A),7.39-7.20(3H+5H,m,A+B),5.80(1H,m,B),5.64(1H,t,J=4.2Hz,A),4.80(1H,dd,J=5.0,7.1Hz,B),4.56(1H,dd,J=6.1,10.5Hz,A),2.65-2.00(4H+4H,m,A+B).
実施例４６
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000540
 　ジエチル　２－ブロモ－２－(３－オキソプロピル)マロナート295mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド3mL溶液に、0～10℃で、硫化水素ナトリウム・ｘ水和物80mgを加え、同温度で15分攪拌した後、室温で15分攪拌した。反応混合物に酢酸エチル10mLおよび水10mLを加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸10mL、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液10mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝5/1）で精製し、無色油状物のジエチル　５－ヒドロキシジヒドロチオフェン－２,２（３Ｈ）－ジカルボキシラート29mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.23-1.31(6H,m),2.30(2H,m),2.58(1H,m),2.67(1H,d,J=6.9Hz),2.77(1H,m),4.15-4.30(4H,m),5.62(1H,dt,J=6.9Hz,3.3Hz).
実施例４７
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000541
 　３－ブロモ－２－オキソオキソラン10g、ベンジルアミン6.6g、炭酸カリウム21gおよびアセトニトリル200mlの混合物を70℃で１時間30分攪拌した後、5～10℃で４－メチル安息香酸クロリド7.9mlを滴下し、室温で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル400mLおよび水200mLを加えた。有機層を分取し、水100mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液100mLで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物を酢酸エチル100mLに加熱溶解し、50℃でヘキサン100mLを滴下した。固形物をろ取し、Ｎ－ベンジル－４－メチル－Ｎ－（２－オキソオキソラン－３－イル）ベンズアミド11.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.47-7.15(9H,m),4.85-4.50(3H,m),4.27-4.14(1H,m),4.06-3.89(1H,m),2.71-2.50(1H,m),2.34(3H,s),2.36-2.20(1H,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000542
　Ｎ－ベンジル－４－メチル－Ｎ－（２－オキソオキソラン－３－イル）ベンズアミド2.0gのトルエン30mLおよび塩化メチレン10mL溶液に-60℃で1.5mol/Lジイソブチルアルミニウムヒドリド／トルエン溶液4.4mLを滴下し、30分間攪拌した。反応混合物を15℃に昇温した後、-60℃で1.5mol/Lジイソブチルアルミニウムヒドリド／トルエン溶液6.6mLを滴下し、25分間攪拌した。反応混合物にメタノール1mLを加え、室温で20％酒石酸ナトリウムカリウム水溶液80mLを加えた。水層を除去し、減圧下で溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝60/40～35/65）で精製し、無色油状物のＮ－ベンジル－Ｎ－（２－ヒドロキシオキソラン－３－イル）ベンズアミド0.89gを得た。
　1H-NMRを測定した結果、得られた油状物は、異性体Aおよび異性体Bの混合物であり、比率は、A:B=61:39であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.40-7.10(9H+9H,m,A+B),5.47(1H,brs,A),5.24(1H,dd,J=5.1,7.8Hz,B),4.90-4.48(2H+2H,m,A+B),4.25-3.50(3H+3H,m,A+B),2.35(3H,s,A),2.32(3H,s,B),2.22-1.92(2H+2H,m,A+B).
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000543
　Ｎ－ベンジル－Ｎ－（２－ヒドロキシオキソラン－３－イル）ベンズアミド0.2gにアセトニトリル1.2mL、水0.6mLおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩0.1gを加え、室温で0.5時間攪拌し、11時間静置した。反応混合物にヘキサン、酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝60/40～30/70）で精製し、無色油状物のＮ－ベンジル－Ｎ－（４－ヒドロキシ－１－（メトキシイミノ）ブタン－２－イル）－４－メチルベンズアミド99mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、得られた油状物は、異性体Aおよび異性体Bの混合物であり、比率は、A:B=80:20であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.38-7.15(10H+10H,m,A+B),5.14(1H,q,J=7.2Hz,B),4.86(1H,q,J=6.3Hz,A),4.70-4.50(2H+2H,m,A+B),3.85(3H,s,B),3.79(3H,s,A),3.58(2H+2H,brs,A+B),3.36(3H,s,B),3.35(3H,s,A),2.22-1.88(2H+2H,m,A+B).
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000544
 　Ｎ－ベンジル－Ｎ－（４－ヒドロキシ－１－（メトキシイミノ）ブタン－２－イル）－４－メチルベンズアミド99mgのテトラヒドロフラン3mL溶液に、トリエチルアミン0.083mLを加え、0～10℃で、メタンスルホニルクロリド0.028mLを加えた後、5℃以下で105分間攪拌した。メタンスルホニルクロリド0.028mLを加えた後、酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、減圧下で溶媒を留去し、３－（Ｎ－ベンジル－１－（４－メチルフェニル）ホルムアミド）－４－（メトキシイミノ）ブチルメタンスルホナートを得た。
　1H-NMRを測定した結果、2.90ppmおよび2.93ppmにメタンスルホナートのシグナルが観測された。
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000545
　得られた３－（Ｎ－ベンジル－１－（４－メチルフェニル）ホルムアミド）－４－（メトキシイミノ）ブチルメタンスルホネート、36％ホルマリン水溶液0.23mLおよびアセトン3mLの混合物に2mol/L塩酸0.05mLを加え、室温で75分間攪拌した。反応混合物にヘキサン、酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去し、有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、３－（Ｎ－ベンジル－１－（４－メチルフェニル）ホルムアミド）－４－オキソブチル　メタンスルホナートを得た。
　1H-NMRを測定した結果、9.42ppmにアルデヒドのシグナルが観測された。
（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000546
　３－（Ｎ－ベンジル－１－（４－メチルフェニル）ホルムアミド）－４－オキソブチル　メタンスルホナートのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド3mL溶液に、0～10℃で、無水硫化水素ナトリウム29mgを加え、同温度で1時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝70/30～50/50）で精製し、無色油状物のＮ－ベンジル－Ｎ－（２－ヒドロキシチオラン－３－イル）－４－メチルベンズアミド46mgを得た。
　1H-NMRを測定した結果、得られた油状物は、異性体Aおよび異性体Bの混合物であり、比率は、A:B=57:43であった。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.40-7.14(9H+9H,m,A+B),5.56(1H,brs,B),5.42(1H,brs,A),4.95-4.80(1H,m,B),4.80-4.54(2H+2H,m,A+B),4.16-4.07(1H,m,A),3.10-2.95(1H+1H,m,A+B),2.77-2.64(1H,m,A),2.36(3H,s,B),2.34(3H,s,A),2.28-2.04(2H+2H,m,A+B).
実施例４８
（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000547
 　５－メチル－３－（ピリジン－２－イルスルファニル）オキソラン－２－オン4.3gのテトラヒドロフラン100mL溶液に-78℃で1.5mol/Lジイソブチルアルミニウムヒドリド／トルエン溶液16.4mLを滴下し、7.5時間攪拌した。反応混合物にメタノール15mLを添加し、室温で飽和酒石酸ナトリウムカリウム水溶液100mLを添加し、30分間攪拌し、水層を除去した。水層を酢酸エチル100mLで抽出し、有機層および抽出液を併せ、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、無色油状物の５－メチル－３－（ピリジン－２－イルスルファニル）オキソラン－２－オール2.8gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：
8.36-8.43(1H,m),7.47-7.57(1H,m),7.20-7.32(1H,m),6.99-7.09(1H,m),5.61(0.18H,t,J=5.1Hz),5.43-5.55(0.73H,m),5.35(0.28H,s),5.16(0.27H,d,J=2.1Hz),5.04(0.39H,s),4.86(0.15H,d,J=5.7Hz),4.31-4.58(1H,m),4.01-4.28(1H,m),2.49-2.60(0.40H,m),2.37-2.47(0.16H,m),1.74-2.27(1.02H,m),1.49-1.62(0.42H,m),1.23-1.42(3H,m)
（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000548
　５－メチル－３－（ピリジン－２－イルスルファニル）オキソラン－２－オール1.5gにメタノール8.0mLおよびＯ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩712mgを加えた後、トリエチルアミン1.1mLを滴下し、室温で2時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、酢酸エチル50mLおよび水50mLを加え、水層を除去した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／アセトン＝４／１）で精製し、無色油状物の５－（メトキシイミノ）－４－（ピリジン－２－イルスルファニル）ペンタン－２－オール1.74gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.37-8.45(1H,m),7.48-7.58(1.76H,m),7.14-7.30(1H,m),6.99-7.10(1H,m),6.76-6.82(0.24H,m),5.06-5.19(0.88H,m),4.69-4.79(0.79H,m),3.97-4.12(1H,m),3.82-3.87(3H,m),2.91-3.05(0.33H,m),1.76-2.22(2H,m),1.21-1.29(3H,m)
（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000549
　５－（メトキシイミノ）－４－（ピリジン－２－イルスルファニル）ペンタン－２－オール1.7gのテトラヒドロフラン7.0mL溶液に、トリエチルアミン1.2mLを加え、0～10℃で、メタンスルホニルクロリド602μLを加えた後、15℃以下で1.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル50mLおよび水50mLを加え、水層を除去した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、褐色油状物の５－（メトキシイミノ）－４－（ピリジン－２－イルスルファニル）ペンタン－２－イル　メタンスルホナート2.12gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.39-8.45(1H,m),7.47-7.57(1.8H,m),7.16-7.23(1H,m),7.00-7.07(1H,m),6.89(0.2H,d,J=7.5Hz),4.95-5.16(1H,m),4.67-4.78(1H,m),3.79-3.91(3H,m),3.07(0.87H,s),3.01-3.04(0.59H,m),2.97(1.54H,s),2.39-2.51(0.54H,m),2.05-2.35(1.46H,m),1.48-1.55(3H,m)
（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000550
　５－（メトキシイミノ）－４－（ピリジン－２－イルスルファニル）ペンタン－２－イル　メタンスルホナート2.1g、36％ホルマリン水溶液4.7mLおよびアセトン60mLの混合物に2mol/L塩酸14mLを加え、室温で2時間、50℃で3時間攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、酢酸エチル100mLおよび水100mLを加え、水層を除去した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／アセトン＝３／１）で精製し、無色油状物の５－オキソ－４－（ピリジン－２－イルスルファニル）ペンタン－２－イル　メタンスルホナート0.90gを得た。
（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000551
　５－オキソ－４－（ピリジン－２－イルスルファニル）ペンタン－２－イル　メタンスルホナート0.60mgのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド10mL溶液に、0～10℃で、硫化水素ナトリウム（和光純薬工業株式会社）0.74gを加え、同温度で1.5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル30mLおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mLを加え、水層を除去した。有機層を水30mLおよび飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、淡黄色油状物の５－メチル－３－（ピリジン－２－イルスルファニル）チオラン－２－オール120mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：8.33-8.43(1H,m),7.48-7.58(1H,m),7.20-7.34(1H,m),6.99-7.09(1H,m),5.62-5.70(0.37H,m),5.50-5.59(0.63H,m),4.41-4.53(0.36H,m),4.22-4.30(0.24H,m),4.14-4.21(0.20H,m),3.85-3.94(0.20H,m),3.54-3.80(1H,m),2.45-2.68(0.80H,m),2.33-2.42(0.31H,m),2.22-2.30(0.28H,m),1.99-2.11(0.42H,m),1.77-1.88(0.19H,m),1.50(0.97H,d,J=6.8Hz),1.44(0.89H,d,J=6.4Hz),1.33-1.40(1.14H,m)
　本発明の化合物は、チオヌクレオシドを製造するための中間体として有用であり、本発明の製造法は、チオヌクレオシドの製造法として有用である。

Claims (36)

  1. 一般式［１Ｄ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂは、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいアリール基または置換されてもよい複素環式基を示し；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ２ＡおよびＲ２Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ３ＡおよびＲ３Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａは、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手を形成してもよく；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよい芳香環を形成してもよく；Ｘは、脱離基を示す。）で表される化合物を、硫黄化合物と反応させることを特徴とする、一般式［１Ｅ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様の意味を有する。）で表される化合物の製造法。
  2. 一般式［１Ｄａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂは、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいアリール基または置換されてもよい複素環式基を示し；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ２ＡおよびＲ２Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ３ＡおよびＲ３Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａは、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手を形成してもよく；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよい芳香環を形成してもよく；Ｘは、脱離基を示す。）で表される化合物を、硫黄化合物と反応させることを特徴とする、一般式［１Ｅａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様の意味を有する。）で表される化合物の製造法。
  3. Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂが、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基であり；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂが、同一または異なって、水素原子または一般式［１５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す。）で表される基または置換されてもよいアリール基であり；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂが、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、保護されてもよいアミノ基、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基または置換されてもよい複素環式チオ基であり；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａが、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手であり；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂが、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよいベンゼン環である、請求項１または２に記載の製造法。
  4. Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂが、同一または異なって、水素原子、メチル基または一般式[１８]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
     （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示す。）で表される基である、請求項１～３のいずれか一項に記載の製造法。
  5. 一般式［４Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
     （式中、Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂは、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいアリール基または置換されてもよい複素環式基を示し；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
     （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ２ＡおよびＲ２Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ３ＡおよびＲ３Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａは、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手を形成してもよく；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよい芳香環を形成してもよい。）で表される化合物を、一般式［５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
     （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される化合物またはその塩と反応させ、一般式［１Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、次の（１）または（２）の方法、
    「（１）
    一般式［１Ａａ］で表される化合物を、塩基の存在下、ハロゲン化剤と反応させる方法、
    （２）一般式［１Ａａ］で表される化合物を、塩基の存在下、一般式［６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
     （式中、Ｒ８は、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基を示し；Ｘ１は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応させ、一般式［１Ｂａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｂａ］で表される化合物をアルカリ金属のハロゲン化物と反応させる方法」
    によって、一般式［１Ｃａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
     （式中、Ｒ４ａは、ハロゲン原子を示し；Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｃａ］で表される化合物を、加水分解し、一般式［１Ｄｄ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ４ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｄｄ］で表される化合物を、硫黄化合物と反応させることを特徴とする一般式［１Ｅａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物の製造法。
  6. 一般式［４Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
     （式中、Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂは、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいアリール基または置換されてもよい複素環式基を示し；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
     （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ２ＡおよびＲ２Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ３ＡおよびＲ３Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａは、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手を形成してもよく；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよい芳香環を形成してもよい。）で表される化合物を、一般式［５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
     （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される化合物またはその塩と反応させ、一般式［１Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ａａ］で表される化合物を、塩基の存在下、一般式［６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
     （式中、Ｒ８は、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基を示し；Ｘ１は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応させ、一般式［１Ｂａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｂａ］で表される化合物を、加水分解し、一般式［１Ｄｅ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｄｅ］で表される化合物を、硫黄化合物と反応させることを特徴とする、一般式［１Ｅｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物の製造法。
  7. Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂが、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基であり；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂが、同一または異なって、水素原子、一般式［１５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
     （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す。）で表される基または置換されてもよいアリール基であり；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂが、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基または置換されてもよい複素環式チオ基であり；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａは、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手であり；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂが、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよいベンゼン環である、請求項５または６に記載の製造法。
  8. Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂが、同一または異なって、水素原子、メチル基または一般式[１８]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
    （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示す。）で表される基である、請求項５～７のいずれか一項に記載の製造法。
  9. 一般式［４Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
     （式中、Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂは、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいアリール基または置換されてもよい複素環式基を示し；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
     （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ２ＡおよびＲ２Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ３ＡおよびＲ３Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａは、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手を形成してもよく；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよい芳香環を形成してもよい。）で表される化合物を、一般式［５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
     （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される化合物またはその塩と反応させ、一般式［１Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、次の（１）または（２）の方法、
    「（１）
    一般式［１Ａａ］で表される化合物を、塩基の存在下、ハロゲン化剤と反応させる方法、
    （２）一般式［１Ａａ］で表される化合物を、塩基の存在下、一般式［６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
     （式中、Ｒ８は、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基を示し；Ｘ１は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応させ、一般式［１Ｂａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｂａ］で表される化合物をアルカリ金属のハロゲン化物と反応させる方法」
    によって、一般式［１Ｃａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
     （式中、Ｒ４ａは、ハロゲン原子を示し；Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｃａ］で表される化合物を、加水分解し、一般式［１Ｄｄ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ４ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｄｄ］で表される化合物を、硫黄化合物と反応させ、一般式［１Ｅａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｅａ］で表される化合物を、一般式［７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
     （式中、Ｒ９は、置換されてもよいアシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基を示し；Ｘ２は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［８］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
     （式中、Ｒ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［９Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［９Ａａ］で表される化合物を、保護された核酸塩基と反応させ、必要に応じて、脱保護することを特徴とする、一般式［１１Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
     （式中、Ｂaseは、保護されてもよい核酸塩基を示し；Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表されるチオヌクレオシド誘導体の製造法。
  10. 一般式［４Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
     （式中、Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂは、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいアリール基または置換されてもよい複素環式基を示し；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
     （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ２ＡおよびＲ２Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、同一または異なって、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アジド基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいカルボキシル基、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ２－６アルケニル基、置換されてもよいＣ２－６アルキニル基、置換されてもよいＣ１－６アルコキシ基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基、置換されてもよい複素環式基、置換されてもよい複素環式オキシ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し；またはＲ３ＡおよびＲ３Ｂは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－６アルキリデン基を形成してもよく；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａは、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手を形成してもよく；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよい芳香環を形成してもよい。）で表される化合物を、一般式［５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
     （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される化合物またはその塩と反応させ、一般式［１Ａａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ａａ］で表される化合物を、塩基の存在下、一般式［６］
    （式中、Ｒ８は、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基を示し；Ｘ１は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応させ、一般式［１Ｂａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｂａ］で表される化合物を、加水分解し、
    一般式［１Ｄｅ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｄｅ］で表される化合物を、硫黄化合物と反応させ、一般式［１Ｅｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１Ｅｂ］で表される化合物を、一般式［７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
     （式中、Ｒ９は、置換されてもよいアシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基を示し；Ｘ２は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［８］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
    （式中、Ｒ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［９Ａｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
     （式中、Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［９Ａｂ］で表される化合物を、保護された核酸塩基と反応させ、必要に応じて、脱保護することを特徴とする、一般式［１１Ａｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
     （式中、Ｂaseは、保護されてもよい核酸塩基を示し；Ｒ１Ａ、Ｒ１Ｂ、Ｒ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、前記と同様な意味を有する。）で表されるチオヌクレオシド誘導体の製造法。
  11. Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂが、同一または異なって、水素原子、保護されてもよいカルボキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基であり；Ｒ２ＡおよびＲ２Ｂが、同一または異なって、水素原子、一般式［１５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
     （式中、Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示す。）で表される基または置換されてもよいアリール基であり；Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂが、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基または置換されてもよい複素環式チオ基であり；またはＲ２ＡおよびＲ３Ａは、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し；左側の結合手が、Ｒ２Ａが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手であり；またはＲ２Ａ、Ｒ２Ｂ、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂが、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換されてもよいベンゼン環であり；Ｂａｓｅが、シトシンまたは保護されたシトシンである、請求項９または１０に記載の製造法。
  12. Ｒ１ＡおよびＲ１Ｂが、同一または異なって、水素原子、メチル基または一般式[１８]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
     （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示す。）で表される基である、請求項９～１１のいずれか一項に記載の製造法。
  13. 一般式［４］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
     （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物を、一般式［５］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
     （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される化合物またはその塩と反応させ、一般式［１ａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、次の（１）または（２）の方法、
    「（１）
    一般式［１ａ］で表される化合物を、塩基の存在下、ハロゲン化剤と反応させる方法、
    （２）
    一般式［１ａ］で表される化合物を、塩基の存在下、一般式［６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
     （式中、Ｒ８は、置換されてもよいＣ１－６アルキル基または置換されてもよいアリール基を示し；Ｘ１は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応させ、一般式［１ｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３、Ｒ７およびＲ８は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１ｂ］で表される化合物を、アルカリ金属のハロゲン化物と反応させる方法」
    によって、一般式［１ｃ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
     （式中、Ｒ４ａは、ハロゲン原子を示し：Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１ｃ］で表される化合物を、加水分解し、一般式［１ｄ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ４ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１ｄ］で表される化合物を、硫黄化合物と反応させ、一般式［１ｅ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１ｅ］で表される化合物を、一般式［７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
     （式中、Ｒ９は、置換されてもよいアシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基を示し；Ｘ２は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［８］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
     （式中、Ｒ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［９］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、次の（１）～（４）のいずれかの方法、
    「（１）
    一般式［９］で表される化合物を、保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンと反応させ、一般式［１１］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
     （式中、Ｒ１０は、水素原子または置換されてもよいアシル基を示し；Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１］で表される化合物を、脱保護する方法、
    （２）
    一般式［９］で表される化合物を、保護されたシトシンと反応させ、一般式［１１ａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ａ］で表される化合物を、一般式［１２］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
     （式中、Ｒ１０ａは、置換されてもよいアシル基を示し；Ｘ４は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［１３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
     （式中、Ｒ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［１１ｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ｂ］で表される化合物を、脱保護する方法、
    （３）
    一般式［９］で表される化合物をハロゲン化して、一般式［１０］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
     （式中、Ｘ３は、ハロゲン原子を示し；Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１０］で表される化合物を、保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンと反応させることにより、一般式［１１］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１］で表される化合物を、脱保護する方法、
    （４）
    一般式［９］で表される化合物をハロゲン化して、一般式［１０］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＸ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１０］で表される化合物を、保護されたシトシンと反応させ、一般式［１１ａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ａ］で表される化合物を、一般式［１２］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
     （式中、Ｒ１０ａおよびＸ４は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物、または、一般式［１３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
     （式中、Ｒ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［１１ｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ｂ］で表される化合物を、脱保護する方法」
    によって製造することを特徴とする、一般式［１４］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
     （式中、Ｒ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される１－（２－デオキシ－２－ハロゲノ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシンの製造法。
  14. 一般式［１ｄ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
     （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３は、ハロゲン原子を示し；Ｒ４ａは、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物を、硫黄化合物と反応させ、一般式［１ｅ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１ｅ］で表される化合物を、一般式［７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
     （式中、Ｒ９は、置換されてもよいアシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基を示し；Ｘ２は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［８］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
     （式中、Ｒ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［９］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、次の（１）～（４）のいずれかの方法、
    「（１）
    一般式［９］で表される化合物を、保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンと反応させ、一般式［１１］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
     （式中、Ｒ１０は、水素原子または置換されてもよいアシル基を示し；Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１］で表される化合物を、脱保護する方法、
    （２）
    一般式［９］で表される化合物を、保護されたシトシンと反応させ、一般式［１１ａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
      （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ａ］で表される化合物を、一般式［１２］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
     （式中、Ｒ１０ａは、置換されてもよいアシル基を示し；Ｘ４は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［１３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
     （式中、Ｒ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［１１ｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ｂ］で表される化合物を、脱保護する方法、
    （３）
    一般式［９］で表される化合物を、ハロゲン化して、一般式［１０］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
     （式中、Ｘ３は、ハロゲン原子を示し；Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１０］で表される化合物を、保護されたシトシンまたは保護されたＮ４－アシルシトシンと反応させることにより、一般式［１１］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１］で表される化合物を、脱保護する方法、
    （４）
    一般式［９］で表される化合物をハロゲン化して、一般式［１０］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＸ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１０］で表される化合物を保護されたシトシンと反応させ、一般式［１１ａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ａ］で表される化合物を、一般式［１２］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
     （式中、Ｒ１０ａおよびＸ４は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物、または、一般式［１３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
     （式中、Ｒ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［１１ｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ｂ］で表される化合物を脱保護する方法」
    によって製造することを特徴とする、一般式［１４］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
     （式中、Ｒ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される１－（２－デオキシ－２－ハロゲノ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシンの製造法。
  15. Ｒ３が、フッ素原子であり；Ｒ１０ａが、アセチル基である、請求項１３または１４に記載の製造法。
  16. Ｒ１ａが、置換されてもよいベンゾイル基；Ｒ２ａが、置換されてもよいベンゾイル基である、請求項１３～１５のいずれか一項に記載の製造法。
  17. （１）～（４）のいずれかの方法が、（４）の方法である、請求項１３～１６のいずれか一項に記載の製造法。
  18. 一般式［１１ｂ］で表される化合物を、固体として単離することを特徴とする、請求項１７に記載の製造法。
  19. 一般式［９］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
     （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３は、ハロゲン原子を示し；Ｒ９は、置換されてもよいアシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基を示す。）で表される化合物、または、一般式［１０］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
     （式中、Ｘ３は、ハロゲン原子を示し；Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を、保護されたシトシンと反応させ、一般式［１１ａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ａ］で表される化合物を、一般式［１２］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
     （式中、Ｒ１０ａは、置換されてもよいアシル基を示し；Ｘ４は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［１３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
     （式中、Ｒ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［１１ｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ｂ］で表される化合物を脱保護することを特徴とする、一般式［１４］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
     （式中、Ｒ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される１－（２－デオキシ－２－ハロゲノ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシンの製造法。
  20. Ｒ３が、フッ素原子であり；Ｒ１０ａが、アセチル基である、請求項１９に記載の製造法。
  21. Ｒ１ａが、置換されてもよいベンゾイル基；Ｒ２ａが、置換されてもよいベンゾイル基である、請求項１９または２０に記載の製造法。
  22. 一般式［１１ｂ］で表される化合物を、固体として単離することを特徴とする、請求項１９～２１のいずれか一項に記載の製造法。
  23. 一般式［１１ａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
     （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物を、一般式［１２］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
     （式中、Ｒ１０ａは、置換されてもよいアシル基を示し；Ｘ４は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［１３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
     （式中、Ｒ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式［１１ｂ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ１０ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式［１１ｂ］で表される化合物を脱保護することを特徴とする、一般式［１４］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
     （式中、Ｒ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される１－（２－デオキシ－２－ハロゲノ－４－チオ－β－Ｄ－アラビノフラノシル）シトシンの製造法。
  24. Ｒ３が、フッ素原子であり；Ｒ１０ａが、アセチル基である、請求項２３に記載の製造法。
  25. Ｒ１ａが、置換されてもよいベンゾイル基；Ｒ２ａが、置換されてもよいベンゾイル基である、請求項２３または２４に記載の製造法。
  26. 一般式［１１ｂ］で表される化合物を、固体として単離することを特徴とする、請求項２３～２５のいずれか一項に記載の製造法。
  27. 一般式［１ｄ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
     （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３は、ハロゲン原子を示し；Ｒ４ａは、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物を、硫黄化合物と反応させることを特徴とする、一般式［１ｅ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａおよびＲ３は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物の製造法。
  28. 一般式［１ｅ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
     （式中、Ｒ１ａは、ヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２ａは、ヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物を、一般式［７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
     （式中、Ｒ９は、置換されてもよいアシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基を示し；Ｘ２は、ハロゲン原子を示す。）で表される化合物、または、一般式［８］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
     （式中、Ｒ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させることを特徴とする、一般式［９］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
     （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３およびＲ９は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物の製造法。
  29. Ｒ３が、フッ素原子である、請求項２７または２８に記載の製造法。
  30. Ｒ１ａが、置換されてもよいベンゾイル基；Ｒ２ａが、置換されてもよいベンゾイル基である、請求項２７～２９のいずれか一項に記載の製造法。
  31. 一般式［１Ｆ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
     （式中、Ｒ１は、水素原子またはヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２は、水素原子またはヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１およびＲ２は、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３Ｃは、水素原子、ハロゲン原子、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す。）で表される基または置換されてもよいＣ１－６アルキル基を示し；Ｒ３Ｄは水素原子、ハロゲン原子、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
     （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基または置換されてもよいＣ１－６アルキル基を示し；Ｒ４は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基を示し；Ｒ５およびＲ６は、一緒になって、一般式［２］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
     （式中、Ｙは、酸素原子または一般式［３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
     （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される基を示す。）で表される基を示し；または、Ｒ４およびＲ５は、一緒になって、硫黄原子を示し；Ｒ６は、ヒドロキシル基を示す。但し、Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、式［２ａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000138
     で表される基である場合、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方は、ハロゲン原子であり、他方は、水素原子であり、Ｒ４は、ハロゲン原子、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基であり；Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、水素原子である場合、他方は、ハロゲン原子、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000139
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基または置換されてもよいＣ１－６アルキル基であり；Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、水素原子であり、他方が、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000140
     （式中、Ｒ３ａは、ヒドロキシル保護基を示す）で表される基である場合、Ｒ２はヒドロキシル保護基であり；
    Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、一般式［３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000141
     （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、一般式［１６］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000142
     （式中、Ｒ３ａは、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり、Ｒ３Ｄ他方が、水素原子であり、Ｒ４が、ヨウ原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である場合、Ｒ１は、置換されてもよいアシル基であり、Ｒ２は、置換されてもよいアシル基であり；
    Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、一般式［３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000143
     （式中、Ｒ７は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり、Ｒ３ＣおよびＲ３Ｄの一方が、水素原子であり、他方が水素原子であり、Ｒ４が、ヒドロキシル基である場合、Ｒ１は、置換されてもよいアロイル基であり、Ｒ２は、置換されてもよいアロイル基である。）で表される化合物。
  32. 一般式［１］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000144
     （式中、Ｒ１は、水素原子またはヒドロキシル保護基を示し；Ｒ２は、水素原子またはヒドロキシル保護基を示し；または、Ｒ１およびＲ２は、一緒になって、置換されてもよいＣ１－３アルキレン基を形成してもよく；Ｒ３は、ハロゲン原子を示し；Ｒ４は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基を示し；Ｒ５およびＲ６は、一緒になって、一般式［２］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000145
     （式中、Ｙは、酸素原子または一般式［３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000146
     （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される基を示す。）で表される基を示し；または、Ｒ４およびＲ５は、一緒になって、硫黄原子を示し；Ｒ６は、ヒドロキシル基を示す。但し、Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、式［２ａ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000147
     で表される基である場合、Ｒ４は、ハロゲン原子、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基である。）で表される化合物。
  33. Ｒ１が、ヒドロキシル保護基であり；Ｒ２が、ヒドロキシル保護基であり；Ｒ３が、フッ素原子である、請求項３２に記載の化合物。
  34. Ｒ４が、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換されてもよいＣ１－６アルキルスルホニルオキシ基または置換されてもよいアリールスルホニルオキシ基であり；Ｒ５およびＲ６が、一緒になって、一般式［２］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000148
     （式中、Ｙは、酸素原子または一般式［３］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000149
     （式中、Ｒ７は、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよい複素環式基または置換されてもよいシリル基を示す。）で表される基を示す。）で表される基である、請求項３２または３３に記載の化合物。
  35. Ｒ４およびＲ５が、一緒になって、硫黄原子であり；Ｒ６が、ヒドロキシル基である、請求項３２または３３に記載の化合物。
  36. 一般式［１Ｇ］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000150
     （式中、Ｒ１Ｃは、メチル基または置換されてもよいアリール基を示し、Ｒ１Ｄは、水素原子を示し、Ｒ２Ｃは、水素原子または置換されてもよいアリール基を示し、Ｒ３Ｅは、水素原子、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基または置換されてもよい複素環式チオ基を示し、または、Ｒ２ＣおよびＲ３Ｅは、一緒になって、一般式［１７］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000151
     （式中、Ｙ１は、置換されてもよいＣ１－６アルキレン基または置換されてもよいシロキサン基を示し、左側の結合手が、Ｒ２Ｃが結合する炭素原子と結合する。）で表される基または結合手を示し、但し、Ｒ１ＣおよびＲ１Ｄの一方がメチル基であり、他方が水素原子であり、Ｒ２Ｃは水素原の場合、Ｒ３Ｅは、置換されてもよいＣ１－６アルキルチオ基、置換されてもよいアリールオキシ基、置換されてもよいアリールチオ基または置換されてもよい複素環式チオ基であり；またはＲ１Ｃは、水素原子を示し;、Ｒ１Ｄは、水素原子を示し、Ｒ２Ｃは、水素原子を示し、Ｒ３Ｅは、置換されてもよいアロイルアミノ基を示し；またはＲ１Ｃは、水素原子を示し、Ｒ１Ｄは、水素原子を示し、Ｒ２ＣおよびＲ３Ｅは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、保護されたヒドロキシル基で置換されたベンゼン環を形成し；またはＲ１Ｃは、保護されてもよいカルボキシル基を示し、Ｒ１Ｄは、保護されてもよいカルボキシル基を示し、Ｒ２Ｃは、水素原子を示し、Ｒ３Ｅは、水素原子を示す。）で表される化合物。
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EP13879640.4A EP2883866B1 (en) 2012-08-13 2013-08-13 INTERMEDIATE FOR SYNTHESIS OF 1-(2-DEOXY-2-FLUORO-4-THIO-beta-D-ARABINOFURANOSYL) CYTOSINE, INTERMEDIATE FOR SYNTHESIS OF THIONUCLEOSIDE, AND METHODS FOR PRODUCING THESE INTERMEDIATES
LTEP13879640.4T LT2883866T (lt) 2012-08-13 2013-08-13 1-(2-deoksi-2-fluor-4-tio-beta-d-arabinofuranozil)citozino sintezės tarpiniai junginiai, tionukleozido sintezės tarpiniai junginiai ir šių tarpinių junginių gamybos būdai
RS20190409A RS58568B1 (sr) 2012-08-13 2013-08-13 Intermedijer za sintezu 1-(2-deoksi-2-fluoro-4-tio-beta-d-arabinofuranozil) citozina, intermedijer za sintezu tionukleozida, i metode za proizvodnju ovih intermedijera
KR1020157003655A KR101770248B1 (ko) 2012-08-13 2013-08-13 1-(2-데옥시-2-플루오로-4-티오-β-D-아라비노푸라노실)시토신의 합성 중간체, 티오뉴클레오시드의 합성 중간체, 및 그들의 제조법
CA2880794A CA2880794C (en) 2012-08-13 2013-08-13 Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-.beta.-d-arabinofuranosyl)cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside, and methods for producing the same
PL13879640T PL2883866T3 (pl) 2012-08-13 2013-08-13 Produkt pośredni do syntezy 1-(2-deoksy-2-fluoro-4-tio-beta-d-arabinofuranosylo)cytozyny, produkt pośredni do syntezy tionukleozydu i sposoby otrzymywania tych produktów pośrednich
SI201331373T SI2883866T1 (sl) 2012-08-13 2013-08-13 INTERMEDIAT ZA SINTEZO 1-(2-DEOKSI-2-FLUORO-4-TIO-beta-D-ARABINOFURANOZIL) CITOZINA, INTERMEDIAT ZA SINTEZO TIONUKLEOZIDA, IN POSTOPKI ZA PROIZVODNJO TEH INTERMEDIATOV
JP2014530560A JP5970550B2 (ja) 2012-08-13 2013-08-13 １−（２−デオキシ−２−フルオロ−４−チオ−β−Ｄ−アラビノフラノシル）シトシンの合成中間体およびチオヌクレオシドの合成中間体ならびにそれらの製造法
BR112015003041-6A BR112015003041B1 (pt) 2012-08-13 2013-08-13 Métodos de produção de compostos intermediários para síntese de 1-(2-desóxi-2-fluoro-4- tio-ss-d-arabinofuranosil)citosina e tionucleosídeo
EP17150141.4A EP3184112B1 (en) 2012-08-13 2013-08-13 SYNTHETIC INTERMEDIATE OF 1-(2-DEOXY-2-FLUORO-4-THIO-ß-D-ARABINOFURANOSYL)CYTOSINE
AU2013303534A AU2013303534B2 (en) 2012-08-13 2013-08-13 Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-beta-D-arabinofuranosyl)cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside, and method for producing the same
MX2015001935A MX2015001935A (es) 2012-08-13 2013-08-13 Intermediario para sintesis de 1-(2-desoxi-2-fluoro-4-tio-beta-d-a rabinofuranosil) citosina, intermediario para sintesis de tionucleosido y metodos para producir estos intermediarios.
DK13879640.4T DK2883866T3 (da) 2012-08-13 2013-08-13 MELLEMPRODUKT TIL SYNTESE AF 1-(2-DEOXY-2-FLUOR-4-THIO-beta-D- ARABINOFURANOSYL)CYTOSIN, MELLEMPRODUKT TIL SYNTESE AF THIONUKLEOSID OG FREMGANGSMÅDER TIL FREMSTILLING AF DISSE MELLEMPRODUKTER
CN201380042642.1A CN104540803B (zh) 2012-08-13 2013-08-13 1-(2-脱氧-2-氟-4-硫代-β-D-阿拉伯呋喃糖基)胞嘧啶的合成中间体和硫代核苷的合成中间体以及它们的制造方法
KR1020167036050A KR20170001722A (ko) 2012-08-13 2013-08-13 1-(2-데옥시-2-플루오로-4-티오-β-D-아라비노푸라노실)시토신의 합성 중간체, 티오뉴클레오시드의 합성 중간체, 및 그들의 제조법
RU2015108790A RU2633355C2 (ru) 2012-08-13 2013-08-13 СИНТЕТИЧЕСКОЕ ПРОМЕЖУТОЧНОЕ СОЕДИНЕНИЕ 1-(2-ДЕЗОКСИ-2-ФТОР-4-ТИО-β-D-АРАБИНОФУРАНОЗИЛ)ЦИТОЗИНА, СИНТЕТИЧЕСКОЕ ПРОМЕЖУТОЧНОЕ СОЕДИНЕНИЕ ТИОНУКЛЕОЗИДА И СПОСОБ ИХ ПОЛУЧЕНИЯ
ES13879640T ES2718307T3 (es) 2012-08-13 2013-08-13 Intermedio para la síntesis de 1-(2-desoxi-2-fluoro-4-tio-beta-d-arabinofuranosil)citosina, intermedio para la síntesis de tionucleósido y métodos para producir estos intermedios
KR1020167036051A KR102010804B1 (ko) 2012-08-13 2013-08-13 1-(2-데옥시-2-플루오로-4-티오-β-D-아라비노푸라노실)시토신의 합성 중간체, 티오뉴클레오시드의 합성 중간체, 및 그들의 제조법
IL237086A IL237086B (en) 2012-08-13 2015-02-04 Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-b-d-arabinofuranosyl)cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside and method for their production
US14/621,119 US9221865B2 (en) 2012-08-13 2015-02-12 Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-β-D-arabinofuranosyl)cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside, and method for producing the same
HK15108880.9A HK1208436A1 (en) 2012-08-13 2015-09-11 Intermediate for synthesis of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio--d- arabinofuranosyl) cytosine, intermediate for synthesis of thionucleoside, and methods for producing these intermediates 1-(2--2--4---d-)
US14/873,966 US9475835B2 (en) 2012-08-13 2015-10-02 Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-β-D-arabinofuranosyl) cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside, and method for producing the same
US15/246,177 US10093645B2 (en) 2012-08-13 2016-08-24 Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-β-D-arabinofuranosyl)cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside, and method for producing the same
US16/045,047 US10570112B2 (en) 2012-08-13 2018-07-25 Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-β-D-arabinofuranosyl)cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside, and method for producing the same
HRP20190572TT HRP20190572T1 (hr) 2012-08-13 2019-03-25 POSREDNIK ZA SINTEZU 1-(2-DEOKSI-2 FLUORO-4-TIO-beta-D-ARABINOFURANOZIL) CITOZINA, POSREDNIK ZA SINTEZU TIONUKLEOZIDA, I METODE ZA PROIZVODNJU OVIH POSREDNIKA
CY20191100465T CY1121617T1 (el) 2012-08-13 2019-05-03 Ενδιαμεσο προϊον για συνθεση της 1-(2-δεοξυ-2-φθορο-4-θειο-βητα-d-αραβινοφουρανοζυλ)κυτοσινης, ενδιαμεσο προϊον για συνθεση του θειονουκλεοζιδιου, και μεθοδοι για παραγωγη αυτων των ενδιαμεσων προϊοντων

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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015125572A1 (ja) * 2014-02-19 2015-08-27 富士フイルム株式会社 チオピラノース化合物およびその製造方法
WO2015125782A1 (ja) * 2014-02-18 2015-08-27 富士フイルム株式会社 チオラン骨格型糖化合物の製造方法およびチオラン骨格型糖化合物
WO2015125781A1 (ja) * 2014-02-18 2015-08-27 富士フイルム株式会社 チオラン骨格型糖化合物の製造方法およびチオラン骨格型糖化合物
WO2015146924A1 (ja) * 2014-03-24 2015-10-01 富士フイルム株式会社 チオラン環もしくはチアン環骨格を有する化合物の製造方法
WO2016047428A1 (ja) * 2014-09-24 2016-03-31 富士フイルム株式会社 環状ヘミアセタール化合物の製造方法
JP2017206491A (ja) * 2016-05-13 2017-11-24 富士フイルム株式会社 ２’−フルオロ−５−メチル−４’−チオアラビノウリジンの製造方法及びその一部の工程を含む方法
KR20180104115A (ko) 2016-02-29 2018-09-19 후지필름 가부시키가이샤 액상 의약 제제
US10093645B2 (en) 2012-08-13 2018-10-09 Fujifilm Corporation Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-β-D-arabinofuranosyl)cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside, and method for producing the same
KR20190034310A (ko) 2016-08-31 2019-04-01 후지필름 가부시키가이샤 항종양제, 항종양 효과 증강제 및 항종양용 키트
WO2019176984A1 (ja) 2018-03-13 2019-09-19 富士フイルム株式会社 抗腫瘍剤、抗腫瘍効果増強剤及び抗腫瘍用キット
US11141421B2 (en) 2018-01-29 2021-10-12 Fujifilm Corporation Antitumor agent for biliary tract cancer and method for treating biliary tract cancer
JP2022502378A (ja) * 2018-09-25 2022-01-11 ザ ユナイテッド ステイツ オブ アメリカ， アズ リプレゼンテッド バイ ザ セクレタリー， デパートメント オブ ヘルス アンド ヒューマン サービシーズ ２’−ハロゲン化−４’−チオ−２’−デオキシ−５−アザシチジンアナログおよびその使用
WO2023008511A1 (ja) 2021-07-29 2023-02-02 富士フイルム株式会社 Ｂａｐ１およびｐｂｒｍ１の少なくとも１つの機能低下を有する腫瘍に対する医薬組成物および抗腫瘍剤

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104203969B (zh) 2012-03-28 2016-08-31 富士胶片株式会社 1-(2-脱氧-2-氟-4-硫代-β-D-阿拉伯呋喃糖基)胞嘧啶的盐
TWI678373B (zh) 2014-10-31 2019-12-01 日商富士軟片股份有限公司 硫代核苷衍生物或其鹽及醫藥組合物
WO2019001292A1 (zh) * 2017-06-29 2019-01-03 四川科伦博泰生物医药股份有限公司 4'-硫代核苷的新型化合物的制备方法和此制备方法中的中间体
WO2019204637A1 (en) * 2018-04-19 2019-10-24 Southern Research Institute 4'-thio-nucleotide and -nucleoside prodrugs for the treatment of cancer
WO2020031179A1 (en) * 2018-08-06 2020-02-13 Beetlebung Pharma Ltd. Methods for synthesis of cannabinoid compounds
CN114380877B (zh) * 2022-01-26 2023-03-28 和德化学(苏州)有限公司 一种2’-脱氧-2’-β-氟-4’-叠氮胞苷的制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997038001A1 (fr) 1996-04-09 1997-10-16 Yamasa Corporation 1-(2-DESOXY-2-FLUORO-4-THIO-β-D-ARABINOFURANOSYL)CYTOSINES
JPH10282039A (ja) * 1997-03-31 1998-10-23 Dainippon Printing Co Ltd 表面プラズモン共鳴バイオセンサー用測定チップ及びその製造方法
JP2006335737A (ja) * 2005-06-03 2006-12-14 Ihara Nikkei Kagaku Kogyo Kk ベンゾ［ｃ］ヘテロ５員環化合物の製造方法
CN101058557A (zh) * 2006-04-17 2007-10-24 中国科学院化学研究所 一种制备多羟基环状硝酮的方法
WO2011074484A1 (en) 2009-12-18 2011-06-23 Libramedicina, Inc. PROCESS FOR PREPARING SUBSTITUTED 1-O-ACYL-2-DEOXY-2-FLUORO-4-THIO-β-D-ARABINOFURANOSES

Family Cites Families (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3116282A (en) 1960-04-27 1963-12-31 Upjohn Co Pyrimidine nucleosides and process
US3243425A (en) 1962-10-29 1966-03-29 Purdue Research Foundation Novel sulfur-containing compounds
JPS53119810A (en) 1977-03-25 1978-10-19 Mitsubishi Chem Ind Ltd Preparation of aldehyde chloride
US4211773A (en) 1978-10-02 1980-07-08 Sloan Kettering Institute For Cancer Research 5-Substituted 1-(2'-Deoxy-2'-substituted-β-D-arabinofuranosyl)pyrimidine nucleosides
US4220774A (en) 1978-10-26 1980-09-02 Omnium Chimique Vincadifformine synthesis process
JPS5692239A (en) 1979-12-27 1981-07-25 Sagami Chem Res Center Preparation of 5-oxohexyl compound
US4803272A (en) 1987-02-24 1989-02-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company S-modified adenosyl-1,8-diamino-3-thiooctane derivatives
IE74701B1 (en) 1989-10-04 1997-07-30 Univ Birmingham Further antiviral pyrimidine nucleosides
WO1991004952A1 (en) 1989-10-06 1991-04-18 Cosan Chemical Corporation Aminocarboxylate salts as corrosion inhibitors in coating applications
SE9003151D0 (sv) 1990-10-02 1990-10-02 Medivir Ab Nucleoside derivatives
JP3138834B2 (ja) 1991-12-26 2001-02-26 生化学工業株式会社 フコピラノース類縁体の製造方法およびその合成中間化合物
GB9218810D0 (en) 1992-09-04 1992-10-21 Univ Birmingham Antiviral pyrimidine nucleosides
WO1996001834A1 (fr) 1994-07-12 1996-01-25 Yamasa Corporation 2'-desoxy-2'-(methylidene substitue ou non substitue)-4'-thionucleoside
JPH0853490A (ja) 1994-08-09 1996-02-27 Yamasa Shoyu Co Ltd ２’−デオキシ−２’，２’−ジハロゲノ−４’−チオヌクレオシド
JP4202327B2 (ja) 1996-04-09 2008-12-24 ヤマサ醤油株式会社 １−（２−デオキシ−２−フルオロ−４−チオ−β−Ｄ−アラビノフラノシル）シトシン
CA2224165A1 (en) 1996-04-09 1997-10-16 Yamasa Corporation 9-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-.beta.-d-arabinofuranosyl)purine derivatives
HUP9601756A3 (en) 1996-06-25 1999-05-28 Richter Gedeon Vegyeszet New anticoagulant glycosides and pharmaceutical compositions containing them
HUP9702348A3 (en) 1997-12-04 2000-12-28 Richter Gedeon Vegyeszet New anticoagulant glycosides and pharmaceutical conew anticoagulant glycosides and pharmaceutical compositions containing them mpositions containing them
WO1999043690A1 (fr) * 1998-02-25 1999-09-02 Rational Drug Design Laboratories Compose de l-4'-arabinofuranonucleoside et composition medicinale le contenant
WO2001066118A1 (en) 2000-03-08 2001-09-13 Southern Research Institute 4'-thio-l-xylo furanosyl nucleosides, precursors thereof, preparation and use thereof
KR100426030B1 (ko) 2000-07-22 2004-04-03 (주) 한켐 락톤계 당화합물에서의 키랄성 전환방법
TWI247609B (en) 2001-01-23 2006-01-21 Nihon Mediphysics Co Ltd Agent for diagnosis of tissue proliferation activity or the treatment of proliferative disease
GB0114286D0 (en) * 2001-06-12 2001-08-01 Hoffmann La Roche Nucleoside Derivatives
EP1478322A4 (en) 2001-06-22 2007-08-08 Pharmasset Ltd Beta 2'-OR 3'-HALONUCLEOSIDE
JP2003172990A (ja) 2001-08-03 2003-06-20 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀乳剤及びハロゲン化銀写真感光材料
CA2478889A1 (en) 2002-08-09 2004-02-19 Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. Aryl 5-thio-.beta.-d-glucopyranoside derivatives and therapeutic agents for diabetes containing the same
AU2003200960B2 (en) 2002-09-18 2005-01-06 Mackinnon, Sebastian Mr System for Ordering, Tracking and Payment of Goods and Services
AU2004238329A1 (en) 2003-05-12 2004-11-25 Purdue Research Foundation Cytotoxic indeno and isoindoloisoquinolones
WO2004106280A1 (ja) 2003-05-28 2004-12-09 Japan Tobacco Inc. ＣａＳＲアンタゴニスト
JPWO2004106352A1 (ja) 2003-05-29 2006-07-20 大正製薬株式会社 アルドヘキソピラノース中間体の製造法
GB0317009D0 (en) 2003-07-21 2003-08-27 Univ Cardiff Chemical compounds
AU2004274021B2 (en) 2003-09-18 2009-08-13 Isis Pharmaceuticals, Inc. 4'-thionucleosides and oligomeric compounds
TW200637839A (en) 2005-01-07 2006-11-01 Taisho Pharmaceutical Co Ltd 1-thio-d-glucitol derivatives
EP1852434B1 (en) 2005-02-21 2011-07-13 Shionogi Co., Ltd. Bicyclic carbamoylpyridone derivative having hiv integrase inhibiting activity
US7888330B2 (en) 2005-11-09 2011-02-15 Wayne State University Phosphoramidate derivatives of FAU
WO2007068113A1 (en) 2005-12-16 2007-06-21 Mcgill University 4'-thioarabinonucleotide-containing oligonucleotides, compounds and methods for their preparation and uses thereof
EP2012799B1 (en) 2006-05-03 2016-08-24 Chimerix, Inc. Metabolically stable alkoxyalkyl esters of antiviral or antiproliferative phosphonates, nucleoside phosphonates and nucleoside phosphates
CN101200463B (zh) 2007-12-11 2011-06-22 复旦大学 全酰化-4-硫代-d-核糖及其制备方法
US8859589B2 (en) 2008-03-12 2014-10-14 Southern Research Institute Use of 4′-thio-2′-deoxynucleosides as anti orthopoxvirus agents
CN101880287B (zh) * 2009-05-05 2012-07-25 上海医药工业研究院 一类四氢噻吩核苷类似物的中间体化合物及其制备方法
GB201016855D0 (en) 2010-10-06 2010-11-17 Nucana Biomed Ltd Chemical compounds
CN104203969B (zh) 2012-03-28 2016-08-31 富士胶片株式会社 1-(2-脱氧-2-氟-4-硫代-β-D-阿拉伯呋喃糖基)胞嘧啶的盐
TWI603966B (zh) 2012-08-13 2017-11-01 富士軟片股份有限公司 １－（２－去氧－２－氟－４－硫－β－Ｄ－阿拉伯呋喃糖基）胞嘧啶之合成中間體、及硫核苷之合成中間體以及彼等之製造法
TWI678373B (zh) 2014-10-31 2019-12-01 日商富士軟片股份有限公司 硫代核苷衍生物或其鹽及醫藥組合物
CN109553651B (zh) 2015-04-03 2021-08-06 四川科伦博泰生物医药股份有限公司 4’-硫代核苷的新型化合物及其制备方法、药物组合物和应用

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997038001A1 (fr) 1996-04-09 1997-10-16 Yamasa Corporation 1-(2-DESOXY-2-FLUORO-4-THIO-β-D-ARABINOFURANOSYL)CYTOSINES
JPH10282039A (ja) * 1997-03-31 1998-10-23 Dainippon Printing Co Ltd 表面プラズモン共鳴バイオセンサー用測定チップ及びその製造方法
JP2006335737A (ja) * 2005-06-03 2006-12-14 Ihara Nikkei Kagaku Kogyo Kk ベンゾ［ｃ］ヘテロ５員環化合物の製造方法
CN101058557A (zh) * 2006-04-17 2007-10-24 中国科学院化学研究所 一种制备多羟基环状硝酮的方法
WO2011074484A1 (en) 2009-12-18 2011-06-23 Libramedicina, Inc. PROCESS FOR PREPARING SUBSTITUTED 1-O-ACYL-2-DEOXY-2-FLUORO-4-THIO-β-D-ARABINOFURANOSES

Non-Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Protective Groups in Organic Synthesis", 2007, JOHN WILEY & SONS, INC, pages: 696 - 926
"Protective Groups in Organic Synthesis", 2007, JOHN WILEY & SONS, INC., pages: 696 - 926
COTTRELL, A.G.: "REACTIONS OF SUGAR CHLOROSULFATES: VII. SOME CONFORMATIONAL ASPECTS", CANADIAN JOURNAL OF CHEMISTRY, vol. 44, no. 13, 1 July 1966 (1966-07-01), pages 1483 - 1491, XP055207781 *
EUROPEAN JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY, 2012, pages 203 - 210
JEAN-BAPTISTE, L. ET AL: "SYNTHESIS OF 2',3'-DIDEOXY-2'-FLUORO-4'-THIONUCLEOSIDES FROM A FLUOROXANTHATE", SYNLETT, vol. 6, 2008, pages 817 - 820, XP055207778 *
JOURNAL OF MEDICINAL CHEMISTRY, vol. 46, 2003, pages 389 - 398
KAWANA M. ET AL: "THE SYNTHESIS OF 2',3'-DIDEOXYCYTIDINE AND ITS 2'-AZIDO ANALOGUE. APPLICATIONS OF THE DEOXYGENATIVE [1,2]-HYDRIDE SHIFT OF SULFONATES WITH MG(OME)2-NABH4", CHEM LETT, 1987, pages 2419 - 2422, XP055253966 *
KHARE K.N. ET AL: "SYNTHESIS OF 4-DEOXY-4-THIOARABINOFURANOSYL DISACCHARIDES, ANALOGS OF MYCOBACTERIAL ARABINOGALACTAN", INDIAN JOURNAL OF CHEMISTRY, vol. 47B, November 2008 (2008-11-01), pages 1748 - 1752, XP055207782 *
OTOTANI ET AL: "PREPARATION AND ANTITUMOR ACTIVITY OF 4'-THIO ANALOGS OF 2,2'-ANHYDRO-1-.BETA.-D-ARABINOFURANOSYLCYTOSINE", J MED. CHEM 0022-2623, vol. 17, no. 5, 1974, pages 535 - 537, XP000651717 *
See also references of EP2883866A4
W. GREENE ET AL.: "Protective Groups in Organic Synthesis", 2007, JOHN WILEY & SONS, INC, pages: 16 - 366
W. GREENE ET AL.: "Protective Groups in Organic Synthesis", 2007, JOHN WILEY & SONS, INC, pages: 533 - 646
W. GREENE ET AL.: "Protective Groups in Organic Synthesis", 2007, JOHN WILEY & SONS, INC, pages: 696 - 926
WANG W-B ET AL: "SYNLETT", no. 3, 2010, pages 488 - 492, XP055195251 *
YOSHIMURA Y ET AL, J. ORG. CHEM LETT, vol. 64, no. 21, 2006, pages 7912 - 7920, XP055195175 *
ZHENG, F. ET AL: "SYNTHESIS OF L-BETA-3'-DEOXY-3',3'-DIFLUORO-4'-THIONUCLEOSIDES", ORGANIC LETTERS, vol. 8, no. 26, December 2006 (2006-12-01), pages 6083 - 6086, XP055207779 *

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10093645B2 (en) 2012-08-13 2018-10-09 Fujifilm Corporation Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-β-D-arabinofuranosyl)cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside, and method for producing the same
US10570112B2 (en) 2012-08-13 2020-02-25 Fujifilm Corporation Synthetic intermediate of 1-(2-deoxy-2-fluoro-4-thio-β-D-arabinofuranosyl)cytosine, synthetic intermediate of thionucleoside, and method for producing the same
JPWO2015125781A1 (ja) * 2014-02-18 2017-03-30 富士フイルム株式会社 チオラン骨格型糖化合物の製造方法およびチオラン骨格型糖化合物
WO2015125782A1 (ja) * 2014-02-18 2015-08-27 富士フイルム株式会社 チオラン骨格型糖化合物の製造方法およびチオラン骨格型糖化合物
WO2015125781A1 (ja) * 2014-02-18 2015-08-27 富士フイルム株式会社 チオラン骨格型糖化合物の製造方法およびチオラン骨格型糖化合物
US9884882B2 (en) 2014-02-18 2018-02-06 Fujifilm Corporation Method for producing thiolane skeleton-type glycoconjugate, and thiolane skeleton-type glycoconjugate
US9815812B2 (en) 2014-02-19 2017-11-14 Fujifilm Corporation Thiopyranose compound and method for producing same
WO2015125572A1 (ja) * 2014-02-19 2015-08-27 富士フイルム株式会社 チオピラノース化合物およびその製造方法
JP2015155380A (ja) * 2014-02-19 2015-08-27 富士フイルム株式会社 チオピラノース化合物およびその製造方法
JP2015193585A (ja) * 2014-03-24 2015-11-05 富士フイルム株式会社 チオラン環もしくはチアン環骨格を有する化合物の製造方法
WO2015146924A1 (ja) * 2014-03-24 2015-10-01 富士フイルム株式会社 チオラン環もしくはチアン環骨格を有する化合物の製造方法
WO2016047428A1 (ja) * 2014-09-24 2016-03-31 富士フイルム株式会社 環状ヘミアセタール化合物の製造方法
JPWO2016047428A1 (ja) * 2014-09-24 2017-06-01 富士フイルム株式会社 環状ヘミアセタール化合物の製造方法
KR20180104115A (ko) 2016-02-29 2018-09-19 후지필름 가부시키가이샤 액상 의약 제제
US11382927B2 (en) 2016-02-29 2022-07-12 Fujifilm Corporation Liquid medicinal preparation
JP2017206491A (ja) * 2016-05-13 2017-11-24 富士フイルム株式会社 ２’−フルオロ−５−メチル−４’−チオアラビノウリジンの製造方法及びその一部の工程を含む方法
US11369625B2 (en) 2016-08-31 2022-06-28 Fujifilm Corporation Anti-tumor agent, anti-tumor effect enhancer, and anti-tumor kit
KR20190034310A (ko) 2016-08-31 2019-04-01 후지필름 가부시키가이샤 항종양제, 항종양 효과 증강제 및 항종양용 키트
US11141421B2 (en) 2018-01-29 2021-10-12 Fujifilm Corporation Antitumor agent for biliary tract cancer and method for treating biliary tract cancer
WO2019176984A1 (ja) 2018-03-13 2019-09-19 富士フイルム株式会社 抗腫瘍剤、抗腫瘍効果増強剤及び抗腫瘍用キット
JP2022502378A (ja) * 2018-09-25 2022-01-11 ザ ユナイテッド ステイツ オブ アメリカ， アズ リプレゼンテッド バイ ザ セクレタリー， デパートメント オブ ヘルス アンド ヒューマン サービシーズ ２’−ハロゲン化−４’−チオ−２’−デオキシ−５−アザシチジンアナログおよびその使用
WO2023008511A1 (ja) 2021-07-29 2023-02-02 富士フイルム株式会社 Ｂａｐ１およびｐｂｒｍ１の少なくとも１つの機能低下を有する腫瘍に対する医薬組成物および抗腫瘍剤
KR20240028451A (ko) 2021-07-29 2024-03-05 후지필름 가부시키가이샤 Bap1 및 pbrm1 중 적어도 하나의 기능 저하를 갖는 종양에 대한 의약 조성물 및 항종양제

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US10570112B2 (en) 2020-02-25
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TWI603966B (zh) 2017-11-01
CA2880794C (en) 2018-08-28
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US20150152131A1 (en) 2015-06-04
JP5970550B2 (ja) 2016-08-17

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