JPWO2015125781A1 - チオラン骨格型糖化合物の製造方法およびチオラン骨格型糖化合物 - Google Patents
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Abstract
Description
例えば、1−(2−デオキシ−2−フルオロ−4−チオ−β−D−アラビノフラノシル)シトシンは、優れた抗腫瘍活性を有し、腫瘍治療剤として有用であることが知られている(特許文献1参照)。
そのため、チオヌクレオシドを合成するルートおよび合成中間体の研究が盛んに行われている。
このうち、チオラン環を形成する反応も多く検討され、提案されている(例えば、特許文献2〜8参照)。
一方、糖化合物ではないものの、ベンゾテトラヒドロチオフェン環の合成(特許文献8参照)や、イミノ糖の合成反応(特許文献9、非特許文献1参照)も知られている。
従って、本発明では、チオラン環を形成する反応において、穏和な条件で、簡便、かつ高収率で、チオヌクレオシド合成中間体を製造する製造方法、少ない工程で、チオ糖骨格を有する化合物を合成できる製造方法を提供することを課題とする。
さらには、抗ウイルス活性または抗腫瘍活性を示すチオヌクレオシド合成中間体として有用なチオラン骨格型糖化合物もしくはその合成中間体の化合物を提供することを課題とする。
<1>下記一般式(I)で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由する下記一般式(II)で表される化合物の製造方法。
ただし、R2がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、R3はアシルオキシ基である。
<2>一般式(II)で表される化合物が、下記一般式(II−1)〜(II−14)のいずれかで表される<1>に記載の製造方法。
<3>R5がアリール基であり、かつR3または−O−C(=O)−R3aがアリールカルボニルオキシ基である<1>または<2>に記載の製造方法。
<4>R5が、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基であり、かつR3または−O−C(=O)−R3aがフェニルカルボニルオキシ基、4−メチルフェニルカルボニルオキシ基、4−フェニルフェニルカルボニルオキシ基もしくは2−ナフチルカルボニルオキシ基である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の製造方法。
<5>一般式(I)で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程で、下記一般式(IIA)で表される化合物を合成した後、一般式(IIA)で表される化合物をアシル化する工程で、下記一般式(IIB)で表される化合物を合成する<1>〜<4>のいずれか1つに記載の製造方法。
<6>R1またはR1aがアセチル基またはアリールカルボニル基である<1>〜<5>のいずれか1つに記載の製造方法。
<7>Xが、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である<1>〜<6>のいずれか1つに記載の製造方法。
<8>硫黄化合物が、Mがアルカリ金属であるMSHまたはM2Sである<1>〜<7>のいずれか1つに記載の製造方法。
<9>下記一般式(II−1)〜(II−14)のいずれかで表される化合物。
<10>R1が、水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基であり、R2a、R3aおよびR5が各々独立に、アリール基である<9>に記載の化合物。
<11>R2a、R3aおよびR5が各々独立に、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基である<9>または<10>に記載の化合物。
<12>下記一般式(II−1A’)、(II−1B)、(II−2A)、(II−2B’)、(II−3)、(II−6B)、(II−9)、(II−13’)または(II−14’)のいずれかで表される化合物。
<13>R1が水素原子、アセチル基、4−メチルベンゾイル基、4−フェニルベンゾイル基または2−ナフトイル基であり、R1bおよびR1cが各々独立に、水素原子、4−メチルベンゾイル基、4−フェニルベンゾイル基または2−ナフトイル基であり、R2a、R3a、R5、R5bおよびR5cが各々独立に、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基であり、R2bが、フェニルメチル基であり、R5dおよびR5eが各々独立に、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基である<12>に記載の化合物。
<14>化合物が、チオヌクレオシド合成中間体である<9>〜<13>のいずれか1つに記載の化合物。
なお、「−O−C(=O)−R3aがアリールカルボニルオキシ基である」とは、−O−C(=O)−R3aが全体でアリールカルボニルオキシ基を表すことを意味する。すなわち、R3aがアリール基である。
さらには、抗ウイルス活性または抗腫瘍活性を示すチオヌクレオシド合成中間体として有用なチオラン骨格型糖化合物もしくはその合成中間体の化合物を提供することができる。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、下記の記載からより明らかになるであろう。
本発明のチオラン骨格型糖化合物の製造方法は、下記一般式(II)で表される立体制御された化合物の製造方法であり、下記一般式(I)で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由する。
ただし、R2がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、R3はアシルオキシ基である。
一般式(II)におけるR1が水素原子の場合、一般式(I)で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程のみで製造することができる。
また、R1がアシル基の場合、硫黄化合物と反応させる工程の後に、アシル化する工程を実施することにより製造することができる。
なお、本発明では、硫黄化合物との反応で得られたOH体をアシル化することが好ましい。
本発明において、「立体制御された」とは、不斉炭素原子において存在する立体配置を特定の配置にして、一般式(II)で表される化合物を製造するものである。
好ましい溶媒は、部分構造にアミド部分またはスルホニル基を有する溶媒、すなわち、アミド類、環状アミド類、尿素類、環状尿素類またはスルホキシド類である。
具体的には、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンおよびジメチルスルホキシドが挙げられる。
硫化水素の塩は、例えば、アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩が挙げられる。
硫黄化合物は、Mがアルカリ金属であるMSHまたはM2Sが好ましい。
硫黄化合物は、例えば、硫化水素、硫化水素ナトリウム、硫化ナトリウム、硫化水素カリウム、硫化水素カルシウムおよび硫化マグネシウムが挙げられ、硫化水素ナトリウムが好ましい。
硫黄化合物は、水和物でもよく、水溶液に溶解させて使用することもできる。
反応時間は、5分間〜50時間が好ましく、5分間〜24時間がより好ましく、5分間〜6時間がさらに好ましい。
なお、アシル化剤のアシル部および一般式(IIB)で表される化合物におけるR1aは、後述のR1におけるアシル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
また、塩基の使用量は、一般式(IIA)で表される化合物に対し、0.2〜5倍モルが好ましい。
反応時間は、5分間〜50時間が好ましく、10分間〜24時間がより好ましく、30分間〜6時間がさらに好ましい。
本発明のチオラン骨格型糖化合物は、前述の一般式(II)で表される化合物である。
一般式(II)において、R1は、水素原子またはアシル基を表し、R2は、水素原子、フッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基を表し、R3は水素原子またはアシルオキシ基を表し、R5は、アルキル基またはアリール基を表す。
ただし、R2がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、R3はアシルオキシ基である。
なお、一般式(II)において、R2は実質的にα側またはβ側のいずれか一方に位置し、R3は実質的にα側またはβ側のいずれか一方に位置し、かつ、CH2−O−C(=O)−R5は実質的にα側またはβ側のいずれか一方に位置する。
アルキルカルボニル基は、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ラウロイル、ミリストイル、パルミトイルおよびステアロイルが挙げられる。なお、R1におけるアシル基はホルミルも含む。
アリールカルボニル基は、例えば、ベンゾイル、4−メチルベンゾイル、4−クロロベンゾイル、4−フェニルベンゾイルおよび2−ナフトイルが挙げられ、4−メチルベンゾイル、4−フェニルベンゾイルまたは2−ナフトイルが好ましい。
R5におけるアルキル基の炭素数は、1〜19が好ましく、アリール基の炭素数は、6〜19が好ましく、6〜15がより好ましい。
アルキル基やアリール基は置換基を有していてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基およびアリールチオ基が挙げられる。
アルキル基は、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−ヘキシル、2−エチルヘキシル、ドデシルおよびオクタデシルが挙げられる。
アリール基は、例えば、フェニル、4−クロロフェニル、4−メチルフェニル、4−フェニルフェニルおよび2−ナフチルが挙げられる。
一般式(II)において、R5がアリール基であって、かつR3がアリールカルボニルオキシ基である場合がより好ましく、R5がフェニル基、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基であって、かつR3がフェニルカルボニルオキシ基、4−メチルフェニルカルボニルオキシ基、4−フェニルフェニルカルボニルオキシ基または2−ナフチルカルボニルオキシ基である場合がさらに好ましい。
R2aおよびR3aは各々独立に、アリール基が好ましい。
R2bは−CH2−Arが好ましく、フェニルメチル基がより好ましい。
なお、一般式(II−13)および(II−14)においては、R5はアリール基が好ましい。
R2a、R3aおよびR5が各々独立に、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基である化合物がさらに好ましい。
R5b、R5c、R5dおよびR5eにおけるアルキル基およびアリール基は、一般式(II)におけるR5と同義であり、好ましい範囲も同じである。
なお、R1bおよびR1cにおいて、アシル基は、アリールカルボニル基が好ましく、アリールカルボニル基のアリール部は、置換基で置換されたアリール部も好ましい。
アリール部を置換する置換基は、前述のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基およびアリールチオ基等が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基が好ましく、アルキル基またはアリール基がより好ましく、メチル基またはフェニル基がさらに好ましい。
また、R1bおよびR1cは、2−ナフチルカルボニル基も好ましい。
一般式(I)で表される化合物のうち、一般式(II−1)〜(II−14)で表される化合物を合成するための化合物は、下記一般式(I−1)〜(I−14)で表される。
ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
アルキルスルホニルオキシ基における炭素数は1〜10が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜3がさらに好ましく、1が特に好ましい。
アルキルスルホニルオキシ基は、例えば、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスルホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、n−ブチルスルホニルオキシ、t−ブチルスルホニルオキシ、オクチルスルホニルオキシおよびドデシルスルホニルオキシが挙げられる。
アリールスルホニルオキシ基における炭素数は、6〜16が好ましく、6〜12がより好ましく、6〜10がさらに好ましい。
アリールスルホニルオキシ基は、例えば、ベンゼンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ、ナフチルスルホニルオキシ、4−クロロベンゼンスルホニルオキシおよび2,4,5−トリクロロベンゼンスルホニルオキシが挙げられる。
なお、一般式(I−1A)および(I−2)〜(I−14)においても同様に、下記に示す離脱基を適用した化合物が挙げられる。
下記一般式(i)で表される化合物は、一般式(I−1B)に含まれる化合物であり、下記合成スキームで合成することができる。
一般式(II)で表される化合物は、抗腫瘍剤として有用な1−(2−デオキシ−2−フルオロ−4−チオ−β−D−アラビノフラノシル)シトシンや1−(4−チオ−β−D−アラビノフラノシル)シトシンおよびその周辺化合物の製造などに有用な化合物である。
一般式(V)で表されるチオヌクレオシドは、一般式(II)で表される化合物から直接もしくは一般式(III)で表される化合物を経由して、一般式(IV)で表される化合物を合成し、脱保護により合成できる。
すなわち、一般式(V)で表される化合物は、一般式(II)で表される化合物をシリル化された核酸塩基と反応させ、さらに、脱保護することで合成できる。
一般式(IV)において、R2、R3およびR5は一般式(II)におけるR2、R3およびR5と同義であり、好ましい範囲も同じである。B’は核酸塩基または核酸塩基中のアミノ基をアシル基で保護した基を表す。
一般式(V)において、R2’およびR3’は、一般式(II)においてR2がアシルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基、アリルオキシカルボニルオキシ基、アリールメチルオキシ基もしくはアリルオキシ基を表す場合またはR3がアシルオキシ基を表す場合はヒドロキシ基を表し、それ以外の場合は、一般式(II)におけるR2およびR3と同義である。Bは核酸塩基を表す。
なお、B’−SiR3は、シリル化された核酸塩基または核酸塩基中のアミノ基をアシル化して保護した基を表し、Rはアルキル基(好ましくはメチル)を表す。
なお、*はチオラン環の1位に結合する部分を示す。
ここで、一般式(IV)で表される化合物を合成した後、アミノ基をアシル化することにより結晶性を向上させて精製してもよい。
カラムクロマトグラフィー
測定機器:山善株式会社製の分取クロマト装置 W−Prep 2XY(商品名)
クロマト担体:シリカゲル
測定機器:Bruker社製のAVANCE 300(商品名)
全δ値をppmで示した。
測定機器:ウオーターズ社製のSQD(商品名)
カラム:ウオーターズ社製のBEH C18(商品名) 1.7μm,2.1×30mm
溶媒:A液:0.1%ギ酸/水
B液:0.1%ギ酸/アセトニトリル
グラジエントサイクル:0.00min(A液/B液=95/5)、2.00min(A液/B液=5/95)、3.00min(A液/B液=5/95)、3.01min(A液/B液=100/0)、3.80min(A液/B液=100/0)
流速:0.5mL/min
カラム温度:室温
イオン化法:電子スプレーイオン化法(Electron Spray Ionization:ESIポジティブおよびネガティブイオンピークを検出)
検出波長:254nm
〔A〕(3S,4R,5S)−2,4−ビス(4−メチルベンゾイルオキシ)−5−[(4−メチルベンゾイルオキシ)メチル]チオラン−3−イル 4−メチルベンゾアートの合成
1H−NMR(CDCl3)δ値:
2.31(3H,s)、2.36(3H,s)、2.42(3H,s)、2.44(3H,s)、4.29(1H,dt,J=8.6,5.8Hz)、4.53(1H,dd,J=5.9,11.6Hz)、4.70(1H,dd,J=5.7,11.5Hz)、6.00(1H,dd,J=3.6,8.6Hz)、6.17(1H,dd,J=1.8,3.5Hz)、6.28(1H,d,J=1.8Hz)、6.96(2H,d,J=8.0Hz)、7.13(2H,d,J=8.0Hz)、7.24−7.27(4H,m)、7.79(2H,d,J=8.3Hz)、7.80(2H,d,J=8.3Hz)、7.96(2H,d,J=8.2Hz)、7.97(2H,d,J=8.2Hz)
1H−NMR(CDCl3)δ値:
2.36(3H,s)、2.40(3H,s)、2.41(3H,s)、2.43(3H,s)、4.16(1H,dt,J=2.2,6.5Hz)、4.56(2H,d,J=6.5Hz)、5.91(1H,t,J=4.7Hz)、6.07(1H,dd,J=2.2,4.4Hz)、6.69(1H,d,J=4.9Hz)、7.10(2H,d,J=8.5Hz)、7.16(2H,d,J=7.9Hz)、7.24−7.27(4H,m)、7.82(2H,d,J=8.2Hz)、7.86(2H,d,J=8.2Hz)、7.98(2H,d,J=8.2Hz)、7.99(2H,d,J=8.3Hz)
なお、原料である上記(2S,3R,4R)−4−ブロモ−1−オキソ−3,5−ビス((4−メチルフェニル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル 4−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。
2.35−2.45(9H,m)、3.40(2.4H,s)、3.47(0.6H,s)、4.49(0.8H,d,J=6.2,12.8Hz)、4.56−4.63(0.4H,m)、4.68−4.73(1.8H,m)、5.13(0.8H,s)、5.30(0.2H,dd,J=4.4,7.1Hz)、5.37(0.2H,d,J=4.4Hz)、5.64(0.8H,d,J=4.8Hz)、5.69(0.2H,dd,J=3.4,7.1Hz)、5.84(0.8H,dd,J=4.8,6.6Hz)、7.10−7.32(6H,m)、7.77−8.04(6H,m)
2.36−2.40(9H,m)、3.32−3.34(1H,m)、4.51−4.79(3H,m)、5.48(0.33H,dd,J=4.4,6.2Hz)、5.61(0.67H,d,J=2.4Hz)、5.65(0.67H,d,J=4.9Hz)、5.75−5.79(0.66H,m)、5.86(0.67H,dd,J=5.0,6.2Hz)、7.10−7.27(6H,m)、7.77−7.98(6H,m)
2.38−2.41(9H,m)、3.09(0.75H,d,J=5.8Hz)、3.25(0.25H,d,J=6.0Hz)、3.91(2.25H,s)、4.02(0.75H,s)、4.26−4.43(2H,m)、4.59−4.64(1H,m)、5.76(0.75H,dd,J=3.3,7.9Hz)、5.82(0.25H,dd,J=2.8,8.6Hz)、6.13(0.75H,dd,J=3.3,6.9Hz)、6.53(0.25H,dd,J=2.8,6.1Hz)、6.90(0.25H,d,J=6.1Hz)、7.12−7.26(6H,m)、7.59(0.75H,d,J=6.9Hz)、7.84−7.93(6H,m)
2.41−2.43(9H,m)、3.84(2.25H,s)、3.96(0.75H,s)、4.60(0.25,dd,J=7.6,12.8Hz)、4.65(0.75dd,J=7.7,12.7Hz)、4.81(0.75H,dd,J=2.9,12.7Hz)、4.93(0.28H,dd,J=2.7,12.8Hz)、5.40−5.45(0.25H,m)、5.48−5.52(0.75H,m)、5.92(0.75H,dd,J=3.6,5.4Hz)、6.98−6.02(1H,m)、6.52(0.25H,dd,J=4.8,5.6Hz)、6.89(0.25H,d,J=5.6Hz)、7.19−7.35(7H,m)、7.53(0.75H,d,J=6.3Hz)、7.75−8.00(7H,m)
2.41−2.43(9H,m)、3.70(2.31H,s)、3.80(0.69H,s)、4.50−4.77(3H,m)、5.91−6.01(1.75H,m)、6.50(0.25H,t,J=6.4Hz)、6.80(0.25H,d,J=6.2Hz)、7.22−7.28(6H,m)、7.45(0.75H,d,J=6.3Hz)、7.90−8.00(6H,m)
2.41−2.43(9H,m)、(1H,dd,J=6.4,10.4Hz)、4.72−4.82(2H,m)、5.64(1H,dd,J=1.0,7.4Hz)、5.98(1H,dd,J=3.1,7.4Hz)、7.23−7.29(6H,m)、7.92−7.99(6H,m)、9.69(1H,d,J=0.96Hz)
〔A〕(3S,4R,5S)−2,4−ビス(4−フェニルベンゾイルオキシ)−5−[(4−フェニルベンゾイルオキシ)メチル]チオラン−3−イル 4−フェニルベンゾアートの合成
4.26(0.4H,dt,J=1.8,6.4Hz)、4.38(0.6H,dt,J=8.6,5.3Hz)、4.59−4.67(1.4H,m)、4.75(0.6H,dd,J=6.0,11.7Hz)、6.02(0.4H,t,J=4.6Hz)、6.14(0.6H,dd,J=3.6,8.6Hz)、6.22(0.4H,dd,J=1.9,4.3Hz)、6.28(0.6H,dd,J=1.7,3.5Hz)、6.37(0.6H,d,J=1.7Hz)、6.78(0.4H,d,J=4.9Hz)、7.27−7.77(28H,m)、7.96−8.04(4H,m)、8.15−8.26(4H,m)
なお、原料である上記(2S,3R,4R)−4−ブロモ−1−オキソ−3,5−ビス((4−フェニルフェニル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル 4−フェニルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。
3.46(2.61H,s)、3.53(0.39H,s)、4.56−4.62(1H,m)、4.68−4.80(2H,m)、5.20(0.87H,s)、5.39−5.44(0.26H,m)、5.73(0.87H,d,J=4.8Hz)、5.77(0.13H,dd,J=3.5,6.8Hz)、5.93(0.87H,dd,J=4.8,6.6Hz)、7.26−7.77(21H,m)、7.95−8.18(6H,m)
3.28(1H,brs)、4.60−4.86(3H,m)、5.57(0.43H,dd,J=4.4,6.3Hz)、5.6(0.57H,brs)、5.75(0.57H,dd,J=0.8,4.8Hz)、5.84−5.87(0.86H,m)、5.96(0.57H,dd,J=4.8,6.2Hz)、7.37−7.70(21H,m)、7.96−8.22(6H,m)
3.08(0.77H,brs)、3.27(0.23H,brs)、3.94(2.31H,s)、4.06(0.69H,s)、4.32−4.53(2H,m)、4.66−4.72(1H,m)、5.87(0.77H,dd,J=3.3,7.9Hz)、5.92(0.23H,dd,J=2.7,8.7Hz)、6.21(0.77H,dd,J=3.3,6.8Hz)、6.62(0.23H,dd,J=2.8,6.1Hz)、6.97(0.23H,d,J=6.1Hz)、7.38−7.68(21.77H,m)、8.04−8.12(6H,m)
3.88(2.16H,s)、4.00(0.84H,s)、4.68(0.28H,dd,J=7.4,12.8Hz)、4.73(0.72H,dd,J=7.5,12.7Hz)、4.91(0.72H,dd,J=2.9,12.7Hz)、4.93(0.28H,dd,J=2.7,12.8Hz)、5.49−5.54(0.28H,m)、5.56−5.61(0.72H,m)、6.02(0.72H,dd,J=3.7,5.2Hz)、6.07−6.11(1H,m)、6.62(0.28H,dd,J=4.8,5.6Hz)、6.97(0.28H,d,J=5.6Hz)、7.38−7.72(22.72H,m)、7.95−8.18(7H,m)
1H−NMRを測定した結果、約74:26のオキシム異性体混合物であった。
3.75(2.22H,s)、3.86(0.78H,s)、4.60−4.66(1H,m)、4.73−4.78(1H,m)、4.81−4.87(1H,m)、6.01−6.10(1.74H,m)、6.59(0.26H,t,J=6.3Hz)、6.88(0.26H,d,J=6.2Hz)、7.39−7.71(21.74H,m)、8.09−8.19(6H,m)
4.65(1H,dd,J=6.7,11.0Hz)、4.80−4.91(2H,m)、5.74(1H,dd,J=0.8,7.3Hz)、6.08(1H,dd,J=3.1,7.2Hz)、7.39−7.72(21H,m)、8.10−8.19(6H,m)、9.77(1H,d,J=0.8Hz)
〔A〕(3R,4R,5S)−2,4−ビス(4−メチルベンゾイルオキシ)−5−[(4−メチルベンゾイルオキシ)メチル]チオラン−3−イル 4−メチルベンゾアートの合成
1H−NMR(CDCl3)δ値:
2.38−2.42(12H,m)、4.23(1H,dt,J=3.6,7.5Hz)、4.54(1H,dd,J=7.3,11.3Hz)、4.74(1H,dd,J=7.9,11.3Hz)、5.90(1H,t,J=3.3Hz)、6.14(1H,dd,J=2.0,3.2Hz)、6.43(1H,d,J=1.6Hz)、7.15−7.28(8H,m)、7.90−7.98(8H,m)
1H−NMR(CDCl3)δ値:
2.31(3H,s)、2.34(3H,s)、2.38(3H,s)、2.42(3H,s)、3.91(1H,dt,J=7.7,6.2Hz)、4.52(1H,dd,J=6.2,11.5Hz)、4.67(1H,dd,J=6.1,11.5Hz)、5.85(1H,dd,J=4.5,9.8Hz)、6.31(1H,dd,J=7.8,9.8Hz)、6.50(1H,d,J=4.5Hz)、6.95(2H,d,J=8.0Hz)、7.14(2H,d,J=8.0Hz)、7.19(2H,d,J=8.0Hz)、7.22(2H,d,J=8.0Hz)、7.77(2H,d,J=8.2Hz)、7.85(2H,d,J=8.1Hz)、7.87(2H,d,J=8.2Hz)、7.91(2H,d,J=8.2Hz)
なお、原料である上記(2R,3R,4R)−4−ブロモ−1−オキソ−3,5−ビス((4−メチルフェニル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル 4−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。
2.37−2.43(9H,m)、3.36(0.75H,s)、3.48(2.25H,s)、4.43−4.48(0.25H,m)、4.53−4.57(0.75H,m)、4.59−4.69(1H,m)、4.74(0.25H,dd,J=4.5,11.7Hz)、4.83(0.75H,dd,J=3.3,11.7Hz)、5.16(0.75H,s)、5.33(0.25H,d,J=4.5Hz)、5.46(0.25H,dd,J=4.5,6.9Hz)、5.49(0.75H,d,J=1.2Hz)、5.55(0.75H,d,J=5.1Hz)、5.93(0.25H,dd,J=5.1,6.9Hz)、7.16−7.28(6H,m)、7.86−7.98(6H,m)
2.35−2.41(9H,m)、3.36(0.75H,brs)、3.63(0.25H,brs)、4.41−4.46(0.25H,m)、4.62(0.75H,dd,J=5.0,11.3Hz)、4.73−4.83(2H,m)、5.51−5.55(1.75H,m)、5.66(0.75H,d,J=3.9Hz)、5.79−5.86(0.5H,m)、7.13−7.28(6H,m)、7.86−7.98(6H,m)
2.39−2.43(9H,m)、3.41(1H,d,J=5.4Hz)、3.79(2.25H,s)、3.96(0.75H,s)、4.18−4.29(1H,m)、4.34−4.42(1H,m)、4.52−4.60(1H,m)、5.66(0.75H,dd,J=3.4,8.3Hz)、5.84(0.25H,dd,J=2.7,8.4Hz)、6.18(0.75H,dd,J=3.4,6.0Hz)、6.57(0.25H,dd,J=2.7,5.4Hz)、6.76(0.25H,d,J=5.4Hz)、7.19−7.29(6H,m)、7.45(0.75H,d,J=6.0Hz)、7.88−8.01(6H,m)
1H−NMRを測定した結果、約75:25のオキシム異性体混合物であった。
2.40−2.42(9H,m)、3.83(2.25H,s)、3.91(0.75H,s)、4.63−4.78(2H,m)、5.39−5.45(0.25H,m)、5.46−5.53(0.75H,m)、5.93−5.99(1.5H,m)、6.04(0.25H,dd,J=5.1,4.3Hz)、6.34(0.25H,dd,J=4.3,5.1Hz)、6.72(0.25H,d,J=5.1Hz)、7.19−7.27(67H,m)、7.48(0.75H,d,J=5.4Hz)、7.75−7.97(67H,m)
1H−NMRを測定した結果、約80:20のオキシム異性体混合物であった。
2.33−2.41(9H,m)、3.84(2.4H,s)、3.88(0.6H,s)、4.47(0.8H,dd,J=9.9,13.3Hz)、4.57−4.61(0.4H,m)、4.68−4.76(1.8H,m)、6.04−6.12(1.8H,m)、6.43(0.2H,t,J=5.3Hz)、6.76(0.2H,d,J=5.5Hz)、7.10−7.26(6H,m)、7.53(0.8H,d,J=4.7Hz)、7.77−8.00(6H,m)
〔A−1〕(3R,4R,5S)−2−ヒドロキシ−4−((4−フェニルフェニル)カルボニルオキシ)−5−(((4−フェニルフェニル)カルボニルオキシ)メチル)チオラン−3−イル 4−フェニルベンゾアートおよびそのアセチル体
2.67(1H,d,J=4.1Hz)、3.93(1H,dd,J=7.0,13.4Hz)、4.67−4.88(2H,m)、5.67(1H,dd,J=4.1,9.1Hz)、5.70(1H,t,J=4.1Hz)、6.34(1H,dd,J=7.0,9.1Hz)、7.26−7.64(21H,m)、8.00−8.13(6H,m)
2.10(1H,s)、3.94(1H,dd,J=7.2,13.6Hz)、4.60(1H,dd,J=6.0,11.3Hz)、4.72(1H,dd,J=7.1,11.3Hz)、5.79(1H,dd,J=4.5,9.9Hz)、6.30(1H,dd,J=7.7,9.9Hz)、6.40(1H,d,J=4.5Hz)、7.35−7.70(21H,m)、7.96−8.13(6H,m)
1H−NMR(CDCl3)δ値:
4.31−4.37(1H,m)、4.66(1H,dd,J=6.8,11.3Hz)、4.82(1H,dd,J=8.3,11.2Hz)、6.02(1H,t,J=3.4Hz)、6.25(1H,dd,J=2.2,3.1Hz)、6.51(1H,d,J=1.8Hz)、7.35−7.72(28H,m)、8.06−8.17(8H,m)
1H−NMR(CDCl3)δ値:
4.02(0.88H,dt,J=7.9,5.7Hz)、4.32−4.38(0.12H,m)、4.61−4.74(1.88H,m)、4.83(0.12H,dd,J=8.2,11.3Hz)、5.94(0.88H,dd,J=4.5,10.0Hz)、6.03(0.12H,t,J=3.4Hz)、6.25(0.12H,dd,J=2.1,3.3Hz)、6.45(0.88H,dd,J=8.0,10.0Hz)、6.51(0.12H,d,J=1.8Hz)、6.60(0.88H,dd,J=4.5Hz)、7.25−7.72(28H,m)、7.95−8.17(8H,m)
保持時間:2.61min
[M+H] 800.7
なお、得られた1H−NMRスペクトルはブロードであり、δ値を求めることはできなかった。
保持時間:0.21min
[M+H] 260.3
3.57−3.69(2H,m),3.86−3.98(2H,m),4.09(1H,t,J=6.6Hz),5.94(2H,d,J=7.9Hz),6.02(2H,d,J=6.6Hz),8.06(1H,d,J=7.3Hz)
なお、原料である上記(2R,3R,4R)−4−ブロモ−1−オキソ−3,5−ビス((4−フェニルフェニル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル 4−フェニルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。
3.53(3H,s)、4.60(1H,dd,J=3.8,8.5Hz)、4.78(1H,dd,J=4.1,12.0Hz)、4.92(1H,dd,J=3.3,12.0Hz)、5.24(1H,s)、5.56(1H,d,J=1.2Hz)、5.67(1H,d,J=5.0Hz)、7.31−7.70(21H,m)、8.06(2H,d,J=8.6Hz)、8.12(2H,d,J=8.6Hz)、8.16(2H,d,J=8.6Hz)
4.84−5.00(3H,m)、5.73(1H,d,J=4.1Hz)、6.01(1H,s)、6.69(1H,s)、7.32−7.74(21H,m)、8.02(2H,d,J=8.6Hz)、8.12(2H,d,J=8.6Hz)、8.22(2H,d,J=8.6Hz)
3.06(0.77H,d,J=3.7Hz)、3.41(0.23H,d,J=5.5Hz)、4.49−4.54(0.23H,m)、4.72−4.89(2.77H,m)、5.59−5.63(1H,m)、5.67(0.77H,d,J=4.5Hz)、5.74(0.77H,d,J=3.7Hz)、5.87(0.23H,t,J=5.0Hz)、5.95(0.23H,t,J=5.3Hz)、7.33−7.70(21H,m)、8.05−8.18(6H,m)
3.44−3.47(1H,m)、3.83(2.1H,s)、4.00(0.9H,s)、4.26−4.37(1H,m)、4.46−4.52(1H,m)、4.61−4.68(1H,m)、5.76(0.7H,dd,J=3.5,8.1Hz)、5.93(0.3H,dd,J=2.8,8.3Hz)、6.26(0.7H,dd,J=3.5,6.0Hz)、6.66(0.3H,dd,J=2.8,5.2Hz)、6.84(0.3H,d,J=5.2Hz)、7.38−7.73(21.7H,m)、8.05−8.21(6H,m)
3.87(2.1H,s)、3.97(0.9H,s)、4.71−4.87(2H,m)、5.48−5.53(0.3H,m)、5.55−5.59(0.7H,m)、6.02−6.09(1.4H,m)、6.12(0.3H,dd,J=4.4,5.1Hz)、6.42(0.3H,dd,J=4.4,5.2Hz)、6.79(0.3H,d,J=5.2Hz)、7.38−7.71(22.7H,m)、7.94−8.17(7H,m)
3.88(2.4H,s)、3.93(0.6H,s)、4.56(0.8H,dd,J=10.0,13.5Hz)、4.64−4.69(0.4H,m)、4.78−4.85(1.8H,m)、6.11−6.22(1.8H,m)、6.52(0.2H,t,J=5.5Hz)、6.83(0.2H,d,J=5.5Hz)、7.36−7.68(21.8H,m)、7.96−8.19(6H,m)
4.70(1H,dd,J=7.1,11.6Hz)、4.81−4.91(2H,m)、5.90(1H,d,J=5.5Hz)、6.08(1H,dd,J=3.6,5.5Hz)、7.39−7.66(21H,m)、8.04−8.15(6H,m)、9.79(1H,s)
〔A〕(3R,4R,5S)−2,4−ビス((ナフタレン−2−イル)カルボニルオキシ)−5−[((ナフタレン−2−イル)カルボニルオキシ)メチル]チオラン−3−イル ナフタレン−2−カルボキシラートの合成
1H−NMR(CDCl3)δ値:
4.43−4.50(1H,m)、4.76(1H,dd,J=6.9,11.3Hz)、4.97(1H,dd,J=8.4,11.2Hz)、6.16(1H,t,J=2.8Hz)、6.38(1H,dd,J=1.9,2.7Hz)、6.64(1H,d,J=1.2Hz)、7.31−8.14(28H,m)、8.56(1H,s)、8.64(1H,s)、8.66(1H,s)、8.71(1H,s)
1H−NMR(CDCl3)δ値:
4.08−4.17(1H,m)、4.76(1H,dd,J=5.7,11.5Hz)、4.85(1H,dd,J=6.9,11.5Hz)、6.08(1H,dd,J=4.5,9.7Hz)、6.58(1H,dd,J=8.9,9.8Hz)、6.71(1H,d,J=4.5Hz)、7.38−8.04(24H,m)、8.41(1H,s)、8.41(1H,s)、8.56(1H,s)、8.59(1H,s)
なお、原料である上記(2R,3R,4R)−4−ブロモ−1−オキソ−3,5−ビス((ナフタレン−2−イル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル ナフタレン−2−カルボキシラートは、以下のように、複数の工程で合成した。
3.44(0.45H,s)、3.57(2.55H,s)、4.62−4.67(0.15H,m)、4.71(0.85H,dd,J=4.4,8.5Hz)、4.76−4.87(1.15H,m)、5.01(0.85H,dd,J=3.5,12.0Hz)、5.31(0.85H,s)、5.46(0.15H,d,J=4.3Hz)、5.59−5.66(0.15H,m)、5.66(0.85H,d,J=1.2Hz)、5.78(0.85H,d,J=4.9Hz)、6.12−6.20(0.15H,m)、7.41−8.21(18H,m)、8.54−8.79(3H,m)
3.13(0.75H,brs)、3.45(0.25H,brs)、4.59−4.64(0.25H,m)、4.79−4.98(2.75H,m)、5.70−5.73(1H,m)、5.77(0.75H,d,J=4.7Hz)、5.81(0.75H,brs)、5.94(0.25H,brs)、6.06(0.25H,t,J=5.4Hz)、7.31−8.12(18H,m)、8.53−8.69(3H,m)
3.53−3.57(1H,m)、3.82(2.1H,s)、4.01(0.9H,s)、4.39−4.48(1H,m)、4.54−4.61(1H,m)、4.68−4.75(1H,m)、5.86(0.7H,dd,J=3.7,8.0Hz)、6.02(0.3H,dd,J=2.9,8.1Hz)、6.35(0.7H,dd,J=3.7,6.0Hz)、6.74(0.3H,dd,J=2.9,5.2Hz)、6.92(0.3H,d,J=5.2Hz)、7.46−8.16(18.7H,m)、8.57−8.71(3H,m)
1H−NMRを測定した結果、約70:30のオキシム異性体混合物であった。
3.86(2.1H,s)、3.95(0.9H,s)、4.81−4.93(2H,m)、5.58−5.69(1H,m)、6.12−6.21(1.7H,m)、6.52(0.3H,dd,J=4.0,5.1Hz)、6.88(0.3H,d,J=5.2Hz)、7.50−8.10(20.7H,m)、8.59−8.70(3H,m)
3.86(2.4H,s)、3.92(0.6H,s)、4.65(0.8H,dd,J=9.8,13.3Hz)、4.70−4.91(2.2H,m)、6.19−6.27(1.8H,m)、6.60(0.2H,t,J=5.5Hz)、6.90(0.2H,d,J=5.6Hz)、7.25−8.14(18.8H,m)、8.43−8.69(3H,m)
4.79(1H,dd,J=7.2,11.7Hz)、4.89−5.00(2H,m)、5.97(1H,d,J=5.5Hz)、6.16(1H,dd,J=3.7,5.5Hz)、7.43−8.09(18H,m)、8.51(1H,s)、8.53(1H,s)、8.65(1H,s)、9.84(1H,s)
〔A〕(3S,4R,5R)−2,4−ビス(4−フェニルベンゾイルオキシ)−5−[(4−フェニルベンゾイルオキシ)メチル]チオラン−3−イル 4−フェニルベンゾアートの合成
4.31(0.4H,dd,J=7.1,12.3Hz)、4.50(0.6H,dd,J=6.7,13.1Hz)、4.66−4.97(2H,m)、5.81(0.4H,t,J=4.4Hz)、6.21−6.28(1.2H,m)、6.47−6.52(1H,m)、6.71(0.4H,d,J=5.0Hz)、7.36−7.77(28H,m)、7.93−8.26(8H,m)
なお、原料である上記(2S,3R,4S)−4−(メタンスルホニルオキシ)−1−オキソ−3,5−ビス((4−フェニルフェニル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル 4−フェニルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。
3.17(0.75H,s)、3.21(2.25H,s)、3.91(2.25H,s)、4.01(0.75H,s)、4.56(0.25H,dd,J=6.5,12.8Hz)、4.62(0.75H,dd,J=6.8,12.6Hz)、4.98(0.75H,dd,J=2.9,12.6Hz)、5.02(0.25H,dd,J=2.8,12.8Hz)、5.53−5.55(1H,m)、6.07−6.17(1.75H,m)、6.60(0.25H,dd,J=3.9,5.4Hz)、6.97(0.25H,d,J=5.4Hz)、7.39−7.72(21.75H,m)、8.08−8.20(6H,m)
3.17(3H,s)、4.55(1H,dd,J=5.2,12.9Hz)、5.00(1H,dd,J=2.7,12.8Hz)、5.64−5.69(1H,m)、5.93(1H,d,J=2.8Hz)、6.18(1H,dd,J=2.8,8.1Hz)、7.38−7.75(21H,m)、8.07−8.28(6H,m)、9.79(1H,s)
〔A〕(3S,4R,5R)−2−ヒドロキシ−4−((4−メチルフェニル)カルボニルオキシ)−5−(((4−メチルフェニル)カルボニルオキシ)メチル)チオラン−3−イル 4−メチルベンゾアートおよびそのアシル体
2.37−2.43(9H,m)、2.71(0.79H,brs)、2.87(0.21H,d,J=11.7Hz)、4.06−4.12(0.21H,m)、4.44(0.79H,dd,J=7.1,13.5Hz)、4.55−4.70(2H,m)、5.43(0.21H,dd,J=3.8,5.8Hz)、5.65(0.79H,dd,J=3.8,5.8Hz)、5.74−5.75(1H,m)、6.12(0.79H,dd,J=3.7,6.1Hz)、6.33(0.21H,t,J=4.6Hz)、7.12−7.28(6H,m)、7.76−7.93(6H,m)
1H−NMR(CDCl3)δ値:
2.37(3H,s)、2.39(3H,s)、2.41(3H,s)、2.42(3H,s)、4.39(1H,dd,J=7.2,13.2Hz)、4.62(1H,dd,J=7.4,11.1Hz)、4.75(1H,dd,J=7.2,11.1Hz)、6.10−6.17(2H、m)、6.41(1H,d,J=3.4Hz)、7.13(2H,d,J=8.0Hz)、7.17(2H,d,J=8.1Hz)、7.24−7.27(4H,m)、7.78(2H,d,J=7.8Hz)、7.85(2H,d,J=8.2Hz)、7.94−7.97(4H,m)
1H−NMR(CDCl3)δ値:
2.34(3H,s)、2.38(6H,s)、2.43(3H,s)、4.16−4.22(1H,m)、4.58−4.70(2H,m)、5.71(1H,dd,J=4.0,5.1Hz)、6.38(1H,t,J=4.6Hz)、6.62(1H,d,J=5.1Hz)、7.03(2H,d,J=8.0Hz)、7.11(2H,d,J=8.0Hz)、7.15(2H,d,J=8.0Hz)、7.19(2H,d,J=8.0Hz)、7.77(4H,t,J=8.1Hz)、7.83(2H,d,J=8.2Hz)、7.98(2H,d=8.2Hz)
なお、原料である上記(2S,3R,4S)−4−(メタンスルホニルオキシ)−1−オキソ−3,5−ビス((4−メチルフェニル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル 4−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。
2.40−2.42(9H,m)、3.11(0.72H,s)、3.16(2.28H,s)、3.87(2.28H,s)、3.97(0.72H,s)、4.47(0.24H,dd,J=6.7,12.7Hz)、4.53(0.76H,dd,J=7.1,12.6Hz)、4.89(0.76H,dd,J=2.7,12.6Hz)、4.94(0.24H,dd,J=2.8,12.8Hz)、5.43−5.49(1H,m)、5.98−6.08(1.76H,m)、6.51(0.24H,dd,J=4.1,5.5Hz)、6.90(0.24H,d,J=5.5Hz)、7.22−7.27(6H,m)、7.54(0.76H,d,J=6.1Hz)、7.88−7.80(6H,m)
2.40−2.44(9H,m)、3.10(3H,s)、4.46(1H,dd,J=5.4,12.9Hz)、4.92(1H,dd,J=2.5,12.8Hz)、5.55−5.61(1H,m)、5.83(1H,d,J=2.9Hz)、6.07(1H,dd,J=2.8,8.0Hz)、7.21−7.31(6H,m)、7.87−8.08(6H,m)、9.72(1H,s)
〔A〕(3R,4R,5R)−2,4−ビス(4−メチルベンゾイルオキシ)−5−[(4−メチルベンゾイルオキシ)メチル]チオラン−3−イル 4−メチルベンゾアートの合成
2.35−2.45(12H,m)、4.26(0.62H,dt,J=8.3,7.0Hz)、4.40−4.47(1H,m)、4.61(1H,dd,J=6.5,11.6Hz)、4.76(0.38H,dd,J=7.2,10.7Hz)、5.96(0.38H,t,J=4.6Hz)、6.09(0.62H,dd,J=4.5,10.0Hz)、6.17(0.62H,dd,J=7.3,10.0Hz)、6.25(0.38H,dd,J=2.0,4.0Hz)、6.32(0.38H,d,J=1.8Hz)、7.05−7.28(8H,m)、7.76−8.01(8H,m)
なお、原料である上記(2R,3R,4S)−4−(メタンスルホニルオキシ)−1−オキソ−3,5−ビス((4−メチルフェニル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル 4−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。
1H−NMRを測定した結果、約70:30のオキシム異性体混合物であった。
2.38−2.41(9H,m)、3.02(0.9H,s)、3.08(2.1H,s)、3.83(2.1H,s)、3.95(0.9H,s)、4.50−4.59(1H,m)、4.79−4.87(1H,m)、5.38−5.50(1H,m)、6.02(0.7H,s)、6.02(0.7H,dd,J=5.3,13.9Hz)、6.10(0.3H,dd,J=4.0,5.9Hz)、6.38(0.3H,dd,J=4.1,5.1Hz)、6.73(0.3H,d,J=5.2Hz)、7.20−7.27(6H,m)、7.47(0.7H,d,J=5.3Hz)、7.91−8.00(6H,m)
2.41−2.43(9H,m)、3.04(3H,s)、4.54(1H,dd,J=6.0,12.7Hz)、4.87(1H,dd,J=2.8,12.7Hz)、5.47−5.52(1H,m)、5.72(1H,d,J=2.7Hz)、6.05(1H,dd,J=2.7,7.0Hz)、7.23−7.30(6H,m)、7.94(4H,d,J=8.2Hz)、8.01(2H,d,J=8.2Hz)、9.68(1H,s)
〔A〕(3R,4R,5R)−2,4−ビス(4−フェニルベンゾイルオキシ)−5−[(4−フェニルベンゾイルオキシ)メチル]チオラン−3−イル 4−フェニルベンゾアートの合成
1H−NMR(CDCl3)δ値:
4.33−4.39(0.77H,m)、4.44−4.53(1H,m)、4.68−4.79(1H,m)、4.90(0.23H,dd,J=7.4,11.5Hz)、6.03−6.06(0.23H,m)、6.19(0.77H,dd,J=4.5,10.2Hz)、6.28(0.77H,dd,J=7.3,10.2Hz)、6.40−6.42(0.46H,m)、6.63(0.77H,d,J=4.5Hz)、7.36−7.71(28H,m)、7.91−8.18(8H,m)
1H−NMR(CDCl3)δ値:
4.33−4.39(0.23H,m)、4.44−4.53(1H,m)、4.68−4.79(1H,m)、4.92(0.77H,dd,J=7.4,11.4Hz)、6.03−6.06(0.77H,m)、6.19(0.23H,dd,J=4.6,10.2Hz)、6.28(0.23H,dd,J=7.3,10.2Hz)、6.40−6.41(1.54H,m)、6.63(0.23H,d,J=4.5Hz)、7.36−7.71(28H,m)、7.91−8.18(8H,m)
なお、原料である上記(2R,3R,4S)−4−(メタンスルホニルオキシ)−1−オキソ−3,5−ビス((4−フェニルフェニル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル 4−フェニルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。
3.09(0.9H,s)、3.15(2.1H,s)、3.87(2.1H,s)、4.00(0.9H,s)、4.59−4.68(1H,m)、4.87−4.93(1H,m)、5.47−5.57(1H,m)、6.10(0.7H,s)、6.10(0.7H,dd,J=5.4,14.3Hz)、6.18(0.3H,dd,J=4.1,6.0Hz)、6.47(0.3H,dd,J=4.1,5.2Hz)、6.79(0.3H,d,J=5.2Hz)、7.39−7.71(21.7H,m)、8.10−8.19(6H,m)
3.11(3H,s)、4.64(1H,dd,J=5.7,12.7Hz)、4.96(1H,dd,J=3.0,12.7Hz)、5.56−5.61(1H,m)、5.81(1H,d,J=2.6Hz)、6.15(1H,dd,J=2.6,7.2Hz)、7.40−7.73(21H,m)、8.11−8.23(6H,m)、9.75(1H,s)
〔A〕(3R,4R,5R)−2,4−ビス((ナフタレン−2−イル)カルボニルオキシ)−5−[((ナフタレン−2−イル)カルボニルオキシ)メチル]チオラン−3−イル ナフタレン−2−カルボキシラートの合成
1H−NMRを測定した結果、約71:29のアノマー混合物であった。
4.33−4.39(0.71H,m)、4.56−4.64(1H,m)、4.77−4.86(1H,m)、4.99(0.29H,dd,J=7.4,11.4Hz)、6.19−6.22(0.29H,m)、6.33−6.42(1.42H,m)、6.51−6.52(0.58H,m)、6.74(0.71H,d,J=4.2Hz)、7.24−8.12(24H,m)、8.37−8.69(4H,m)
なお、原料である上記(2R,3R,4S)−4−(メタンスルホニルオキシ)−1−オキソ−3,5−ビス((ナフタレン−2−イル)カルボニルオキシ)ペンタン−2−イル ナフタレン−2−カルボキシラートは、以下のように、複数の工程で合成した。
3.08(0.99H,s)、3.15(2.01H,s)、3.87(2.01H,s)、3.99(0.99H,s)、4.69−4.78(1H,m)、4.96−5.04(1H,m)、5.55−5.60(0.33H,m)、5.62−5.67(0.67H,m)、6.17−6.24(1.34H,m)、6.26(0.33H,dd,J=4.2,5.5Hz)、6.56(0.33H,dd,J=4.3,5.2Hz)、6.88(0.33H,d,J=5.2Hz)、7.49−7.63(6.67H,m)、7.81−7.95(9H,m)、8.02−8.12(3H,m)、8.62−8.68(3H,m)
3.09(3H,s)、4.75(1H,dd,J=6.0,12.6Hz)、5.04(1H,dd,J=3.1,12.6Hz)、5.70(1H,m)、5.92(1H,d,J=2.8Hz)、6.22(1H,dd,J=2.8,6.6Hz)、7.46−8.15(18H,m)、8.62(1H,s)、8.68(1H,s)、8.72(1H,s)、9.82(1H,s)
〔A〕(3S,4S,5S)−2−ヒドロキシ−4−(4−メチルベンゾイルオキシ)−5−[(4−メチルベンゾイルオキシ)メチル]チオラン−3−イル 4−メチルベンゾアートおよびそのアセチル体
保持時間:1.99,2.02min
[M+H−H2O] 503.4
保持時間:2.17min
[M+H−AcOH] 503.4
2.08(1H,s),2.34(3H,s),2.38(3H,s),2.38(3H,s),4.15−4.23(1H,m),4.37−4.43(1H,m),4.54−4.60(1H,m),5.94(1H,dd,J=4.5,10.5Hz),6.06(1H,dd,J=7.6,17.7Hz),6.31(1H,d,J=4.5Hz),7.10−7.24(6H,m),7.75−7.92(6H,m)
保持時間:1.77min
[M+H] 614.5
2.34(3H,s),2.37(3H,s),2.39(3H,s),4.28−4.36(1H,m),4.62(1H,dd,J=11.9,4.0Hz),4.91(1H,d,J=6.6Hz),5.79(1H,d,J=7.3Hz),5.97(1H,dd,J=7.9,6.6Hz),6.23(1H,t,J=7.3Hz),6.47(1H,d,J=6.6Hz),7.8(6H,t,J=8.6Hz),7.26(6H,d,J=7.9Hz),7.78(4H,t,J=8.6Hz),7.88(2H,d,J=7.9Hz),8.12(1H,d,J=7.9Hz)
保持時間:0.21min
[M+H] 260.2
3.73−3.81(1H,m),3.84−4.02(2H,m),4.17−4.25(2H,m),5.86(1H,d,J=7.3Hz),5.95(1H,d,J=3.3Hz),8.37(1H,d,J=7.3Hz)
なお、原料である上記(2R,3S,4S)−2−((メタンスルホニル)オキシ)−5−オキソペンタン−1,3,4−トリイル トリス(4−メチルベンゾアート)は、以下のように、複数の工程で合成した。
保持時間:2.05min
[M+H] 612.5
2.35−2.45(9H,m),3.02(0.96H,s),3.08(2.04H,s),3.83(2.04H,s),3.95(0.96H,s),4.49−4.61(1H,m),4.76−4.88(1H,m),5.36−5.56(1H,m),5.97−6.11(1.68H,m),6.35−6.41(0.32H,m),6.72(0.32H,d,J=5.3Hz),7.17−7.31(6H,m),6.72(0.68H,d,J=5.3Hz),7.88−8.01(6H,m)
保持時間:1.90min
[M+H]:583.4
〔A〕(2R,3R,4R)−4−(ベンジルオキシ)−5−ヒドロキシ−2−((4−メチルベンゾイルオキシ)メチル)チオラン−3−イル 4−メチルベンゾアートおよびそのアセチル体
1.94(2.22H,s)、2.16(0.78H,s)、2.33−2.48(6H,m)、4.17−4.32(1H,m)、4.37−4.58(1H,m)、4.58−4.78(3H,m)、5.71(0.74H,dd,J=4.6、5.3Hz)、5.77(0.26H,dd,J=7.6、9.6Hz)、6.04(0.74H,d,J=2.0Hz)、6.16(0.26H,d,J=4.0Hz)、7.04−7.37(9H,m)、7.76−7.95(4H,m)
なお、原料である上記(2S,3R,4R)−4−(ベンジルオキシ)−2−ブロモ−3−(4−メチルベンゾイルオキシ)−5−オキソペンチル 4−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。
2.40(6H,s)、2.85(0.59H,d,J=3.3Hz)、2.97(0.41H,d,J=7.3Hz)、3.45(1.77H,s)、3.54(1.23H,s)、4.34−4.38(0.59H,m)、4.40−4.69(2.41H,m)、4.70−4.78(0.41H,m)、4.82−4.91(0.59H,m)、4.98(0.59H,d,J=2.0Hz)、5.07(0.41H,d,J=4.6Hz)、5.36(0.59H,dd,J=2.6,6.6Hz)、5.52(0.41H,dd,J=5.3,5.9Hz)、7.16−7.25(4H,m)、7.85−7.96(4H,m)
2.36−2.44(6H,m)、2.89−2.94(0.8H,m)、3.01−3.05(0.2H,m)、3.78(0.6H,s)、3.87(2.4H,s)、4.27−4.51(4H,m)、4.56−4.74(1.8H,m)、5.09(0.20H,dd,J=5.3,6.6Hz)、5.50(0.8H,dd,J=2.0,5.9Hz)、5.56(0.2H,dd,J=2.6,5.3Hz)、6.85(0.2H,d,J=6.6Hz)、7.13−7.34(9H,m)、7.44(0.80H,d,J=7.9Hz)、7.80−8.00(4H,m)
〔A〕(2S,3S,4S)−3−(ベンゾイルオキシ)−4−フルオロ−5−ヒドロキシチオラン−2−イル)メチル ベンゾエートおよびそのアセチル体
8.04−7.87(4H,m),7.63−7.50(2H,m),7.48−7.34(4H,m),5.98(0.44H,dq,J=6.0,8.7Hz),5.91(0.56H,ddd,J=4.2,5.1,10.8Hz),5.65(0.44H,ddd,J=3.9,8.1,9.6Hz),5.56(0.56H,ddd,J=1.1,8.7,13.1Hz),5.35(0.56H,ddd,J=1.6,3.5,47.8Hz),5.22(0.44H,ddd,J=3.9,6.1,50.6Hz),4.67(1.12H,d,J=6.9Hz),4.55−4.33(1.32H,m),4.28(0.56H,dd,J=6.9,12.3Hz),2.73(0.44H,dd,J=2.4,8.1Hz),2.52(0.56H,d,J=8.7Hz)
8.07−7.95(3.12H,m),7.87−7.81(0.88H,m),7.62−7.30(6H,m),6.20(0.44H,dd,J=2.2,4.5Hz),6.11(0.56H,dd,J=2.4,16.5Hz),6.01−5.90(0.44H,m),5.91−5.82(0.56H,m),5.54(0.56H,ddd,J=2.4,5.1,48.9Hz),5.44(0.44H,ddd,J=4.5,9.3,50.7Hz),4.67(0.56H,dd,J=6.9,11.7Hz),4.58−4.47(1H,m),4.37(0.44H,dd,J=5.1,11.7Hz),4.24−4.17(1H,m),2.19(1.32H,s),2.01(1.68H,s)
なお、原料である上記(2R,3R,4S)−3−(ベンゾイルオキシ)−4−フルオロ−2−(メタンスルホニルオキシ)−5−オキソペンチル ベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。
8.11−8.03(4H,m),7.66−7.55(2H,m),7.52−7.38(4.75H,m),6.85(0.25H,dd,J=4.5,11.1Hz),6.09−6.00(0.25H,m),5.99−5.74(1H,m),5.56−5.35(1.75H,m),4.87(0.75H,dd,J=2.8,12.8Hz),4.86(0.25H,dd,J=2.8,12.8Hz),4.48(0.75H,dd,J=6.0,12.6Hz),4.46(0.25H,dd,J=6.6,12.6Hz),3.92(0.75H,s),3.85(2.25H,s),3.14(2.25H,s),3.13(0.75H,s)
9.75(1H,d,J=6.9Hz),8.10−8.00(4H,m),7.66−7.55(2H,m),7.51−7.41(4H,m),5.93(1H,ddd,J=1.9,7.1,24.8Hz),5.47(1H,ddd,J=2.8,5.8,7.1Hz),5.30(1H,dd,J=1.9,46.4Hz),4.91(1H,dd,J=2.8,12.9Hz),4.48(1H,dd,J=5.8,12.9Hz),3.14(3H,s)
〔A〕((2S)−5−ヒドロキシチオラン−2−イル)メチル 4−メチルベンゾエートおよびそのアセチル体
7.96−7.90(2H,m),7.28−7.22(2H,m),5.63−5.55(1H,m),4.54(0.55H,dd,J=6.6,11.1Hz),4.40(0.55H,dd,J=6.9,11.1Hz),4.27−4.17(0.90H,m),3.99−3.77(1H,m),2.45−1.95(8H,m)
7.96−7.89(2H,m),7.27−7.20(2H,m),6.20−6.14(1H,m),4.54(0.52H,dd,J=6.4,11.1Hz),4.33(0.52H,dd,J=7.2,11.1Hz),4.28−4.16(0.96H,m),3.91−3.75(1H,m),2.43−1.89(10H,m)
なお、原料である上記(2R)−2−ブロモ−5−オキソペンチル 4−メチルベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。
4.98(1H,s),4.84(1H,d,J=5.9Hz),4.59(1H,d,J=5.9Hz),4.44(1H,t,J=2.7Hz),3.74−3.57(2H,m),3.44(3H,s),3.22(1H,dd,J=2.9,10.4Hz),1.49(3H,s),1.32(3H,s)
7.96(2H,d,J=8.1Hz),7.24(2H,d,J=8.1Hz),5.02(1H,s),4.77(1H,dd,J=0.6,6.0Hz),4.65(1H,d,J=6.0Hz),4.53(1H,dt,J=0.6,6.9Hz),4.36(1H,dd,J=6.9,13.9Hz),4.32(1H,dd,J=6.9,13.9Hz),3.34(3H,s),2.41(3H,s),1.50(3H,s),1.34(3H,s)
7.96(2H,d,J=8.1Hz),7.24(2H,d,J=8.1Hz),4.88(1H,br),4.56(1H,dd,J=3.9,11.9Hz),4.47−4.38(2H,m),4.28−4.21(1H,m),4.11−4.06(1H,m),3.33(3H,s),2.59(1H,d,J=3.3Hz),2.53(1H,d,J=7.1Hz),2.41(3H,s)
7.97(2H,d,J=8.1Hz),7.24(2H,d,J=8.1Hz),6.37(1H,dd,J=5.0,6.3Hz),6.16(1H,dd,J=0.9,5.0Hz),5.16(1H,d,J=0.9Hz),4.74−4.68(1H,m),4.62(1H,dd,J=4.1,11.9Hz),4.45(1H,dd,J=4.7,11.9Hz),3.38(3H,s),2.59(3H,s),2.55(3H,s),2.41(3H,s)
7.97(2H,d,J=8.1Hz),7.23(2H,d,J=8.1Hz),6.23−6.18(1H,m),5.96−5.91(1H,m),5.76−5.73(1H,m),5.06−4.99(1H,m),4.44(1H,dd,J=4.2,11.6Hz),4.36(1H,dd,J=5.6,11.6Hz),3.41(3H,s),2.41(3H,s)
7.98(2H,d,J=8.4Hz),7.24(2H,d,J=8.4Hz),5.03(1H,d,J=3.6Hz),4.49−4.24(3H,m),3.24(3H,s),2.41(3H,s),2.11−1.86(4H,m)
8.00−7.90(2H,m),7.28−7.20(2H,m),5.64(0.5H,d,J=3.9Hz),5.46(0.5H,d,J=3.6Hz),4.64−4.55(0.5H,m),4.47−4.34(2H,m),4.26(0.5H,dd,J=6.0,11.4Hz),2.72(0.5H,br),2.62(0.5H,br),2.41(3H,s),2.33−1.71(4H,m)
7.96−7.90(2H,m),7.44(0.60H,t,J=5.7Hz),7.28−7.22(2H,m),6.72(0.40H,t,J=5.9Hz),4.41−4.21(2H,m),4.07−3.92(1H,m),3.88(1.20H,s),3.82(1.80H,s),2.64−2.31(5H,m),1.84−1.67(2H,m)
8.06(1H,s),7.71(2H,d,J=8.1Hz),7.42−7.36(1.58H,m),7.21(2H,d,J=8.1Hz),6.70(0.42H,t,J=5.5Hz),5.11(0.58H,ddd,J=3.3,6.7,12.8Hz),5.03(0.42H,ddd,J=3.2,6.4,12.8Hz),4.50−4.34(2H,m),3.87(1.26H,s),3.82(1.74H,s),2.58−2.35(5H,m),2.12−1.98(2H,m)
7.98−7.92(2H,m),7.41(0.58H,t,J=5.6Hz),7.29−7.22(2H,m),6.68(0.42H,t,J=5.4Hz),4.63−4.45(2H,m),4.35−4.17(1H,m),3.87(1.26H,s),3.81(1.74H,s),2.70−1.89(7H,m)
9.84(1H,s),7.95(2H,d,J=8.0Hz),7.26(2H,d,J=8.0Hz),4.55(2H,ddd,J=6.3,11.7,28.2Hz),4.36−4.25(1H,m),2.90−2.68(2H,m),2.46−2.32(4H,m),2.18−2.03(1H,m)
〔A〕((2S)−5−ヒドロキシチオラン−2−イル)メチル 4−フェニルベンゾエートおよびそのアセチル体
8.14−8.08(2H,m),7.70−7.59(4H,m),7.51−7.36(3H,m),5.64−5.56(1H,m),4.58(0.53H,dd,J=6.6,11.1Hz),4.44(0.53H,dd,J=6.9,11.1Hz),4.32−4.20(0.94H,m),4.02−3.80(1H,m),2.42−1.97(5H,m)
8.14−8.07(2H,m),7.70−7.59(4H,m),7.51−7.36(3H,m),6.21−6.16(1H,m),4.58(0.54H,dd,J=6.4,11.0Hz),4.42−4.20(1.46H,m),3.94−3.78(1H,m),2.42−1.91(7H,m)
なお、原料である上記(2R)−2−ブロモ−5−オキソペンチル 4−フェニルベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。
8.09(1H,s),7.94−7.88(2H,m),7.71−7.60(4H,m),7.52−7.37(4.65H,m),6.70(0.35H,t,J=5.4Hz),5.19−5.01(1H,m),4.54−4.39(2H,m),3.88(1.05H,s),3.82(1.95H,s),2.63−2.38(2H,m),2.14−1.99(2H,m)
8.16−8.10(2H,m),7.71−7.59(4H,m),7.52−7.37(3.59H,m),6.69(0.41H,t,J=5.5Hz),4.67−4.49(2H,m),4.37−4.20(1H,m),3.88(1.23H,s),3.82(1.77H,s),2.71−1.94(4H,m)
9.85(1H,s),8.16−8.09(2H,m),7.71−7.59(4H,m),7.51−7.37(3H.m),4.68−4.49(2H,m),4.39−4.24(1H,m),2.92−2.70(2H,m),2.48−1.97(2H,m)
〔A〕((2R)−5−ヒドロキシチオラン−2−イル)メチル ベンゾエートおよびそのアセチル体
8.08−8.01(2H,m),7.62−7.54(1H,m),7.48−7.42(2H,m),5.63−5.53(1H,m),4.56(0.53H,dd,J=6.6,11.0Hz),4.42(0.53H,dd,J=6.9,11.0Hz),4.30−4.17(0.94H,m),4.00−3.92(0.47H,m),3.90−3.78(0.53H,m),2.41−1.92(5H,m)
8.08−8.01(2H,m),7.61−7.53(1H,m),7.49−7.41(2H,m),6.20−6.14(1H,m),4.56(0.54H,dd,J=6.5,11.0Hz),4.39−4.18(1.46H,m),3.93−3.76(1H,m),2.41−1.90(7H,m)
なお、原料である上記(2S)−2−(メタンスルホニルオキシ)−5−オキソペンチル ベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。
8.07−8.01(2H,m),7.63−7.56(1H,m),7.50−7.43(2H,m),4.93−4.83(1H,m),4.55(1H,dd,J=3.2,12.2Hz),4.45(1H,dd,J=5.3,12.2Hz),2.73−2.07(4H,m)
8.08−8.04(2H,m),7.62−7.55(1H,m),7.49−7.43(2H,m),5.22(0.22H,ddd,J=3.6,6.1,12.6Hz),4.40(0.78H,dd,J=3.6,11.4Hz),4.28(0.78H,dd,J=7.0,11.4Hz),4.08−3.99(0.78H,m),3.90−3.67(2.44H,m),1.92−1.53(4H,m)
8.09−8.04(2H,m),7.61−7.54(1H,m),7.48−7.41(2H,m),4.37(1H,dd,J=4.2,11.3Hz),4.29(1H,dd,J=6.3,11.3Hz),4.08−3.96(1H,m),3.84−3.70(2H,m),3.16(1H,d,J=4.2Hz),1.87−1.59(4H,m),1.18−1.01(21H,m)
8.10−8.04(2H,m),7.62−7.55(1H,m),7.49−7.43(2H,m),5.09(1H,ddd,J=3.2,6.9,12.9Hz),4.56(1H,dd,J=3.1,12.3Hz),4.43(1H,dd,J=6.9,12.3Hz),3.83−3.70(2H,m),3.03(3H,s),2.01−1.63(4H,m),1.15−0.97(21H,m)
8.10−8.04(2H,m),7.63−7.55(1H,m),7.50−7.42(2H,m),5.11(1H,ddd,J=3.1,6.6,13.1Hz),4.57(1H,dd,J=3.1,12.4Hz),4.43(1H,dd,J=6.9,12.4Hz),3.75(1H,br),3.05(3H,s),1.98−1.70(4H,m),1.41(1H,br)
9.83(1H,s),8.08−8.03(2H,m),7.64−7.56(1H,m),7.51−7.43(2H,m),5.10−5.02(1H,m),4.55(1H,dd,J=3.3,12.4Hz),4.43(1H,dd,J=6.6,12.4Hz),3.04(3H,s),2.82−2.72(2H,m),2.26−1.97(2H,m)
〔A〕((2R)−5−ヒドロキシチオラン−2−イル)メチル 4−フェニルベンゾエートおよびそのアセチル体
8.14−8.08(2H,m),7.70−7.60(4H,m),7.51−7.36(3H,m),5.64−5.56(1H,m),4.59(0.53H,dd,J=6.6,11.1Hz),4.44(0.53H,dd,J=6.9,11.1Hz),4.28(0.47H,dd,J=8.7,11.1Hz),4.23(0.47H,dd,J=6.6,11.1Hz),4.03−3.93(0.47H,m),3.92−3.80(0.53H,m),2.43−1.94(5H,m)
8.14−8.07(2H,m),7.70−7.69(4H,m),7.51−7.36(3H,m),6.22−6.16(1H,m),4.58(0.54H,dd,J=6.6,11.1Hz),4.41−4.20(1.46H,m),3.94−3.79(1H,m),2.42−1.92(7H,m)
なお、原料である上記(2S)−2−(メタンスルホニルオキシ)−5−オキソペンチル 4−フェニルベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。
8.15−8.08(2H,m),7.71−7.59(4H,m),7.52−7.37(3.52H,m),6.74(0.48H,t,J=5.7Hz),4.46−4.37(1H,m),4.33−4.24(1H,m),4.10−3.94(1H,m),3.89(1.44H,s),3.83(1.56H,s),2.67−2.37(3H,m),1.87−1.71(2H,m)
8.17−8.08(2H,m),7.71−7.58(4H,m),7.50−7.36(3.58H,m),6.72(0.42H,t,J=5.5Hz),5.15−5.00(1H,m),4.62−4.41(2H,m),3.88(1.26H,s),3.83(1.74H,s),3.08(1.74H,3H),3.07(1.26H,m),2.63−2.37(2H,m),2.11−1.97(2H,m)
9.84(1H,s),8.15−8.09(2H,m),7.72−7.59(4H,m),7.51−7.37(3H,m),5.13−5.03(1H,m),4.57(1H,dd,J=3.3,12.3Hz),4.46(1H,dd,J=6.6,12.3Hz),3.06(3H,s),2.88−2.67(2H,m),2.25−2.00(2H,m)
なお、本発明の一般式(II)で表される化合物を出発原料とし、常法またはそれに準じた方法により、有用な生理活性物質として期待されるチオヌクレオシドを合成することができる。このように、本発明の一般式(II)で表される化合物の製造方法ならびに本発明の一般式(II)で表される化合物は、有用である。
<5>一般式(I)で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程で、下記一般式(IIA)で表される化合物を合成した後、一般式(IIA)で表される化合物をアシル化する工程で、下記一般式(IIB)で表される化合物を合成する<1>〜<4>のいずれか1つに記載の製造方法。
[0012]
[化3]
[0013]
一般式(IIA)および(IIB)において、R2、R3およびR5は、一般式(II)におけるR2、R3およびR5と同義である。R1aはアシル基を表す。
<6>R1またはR1aがアセチル基またはアリールカルボニル基である<1>〜<5>のいずれか1つに記載の製造方法。
<7>Xが、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である<1>〜<6>のいずれか1つに記載の製造方法。
<8>硫黄化合物が、Mがアルカリ金属であるMSHまたはM2Sである<1>〜<7>のいずれか1つに記載の製造方法。
<9>下記一般式(II−3)〜(II−11)、(II−13)および(II−14)のいずれかで表される化合物。
[0014]
[化4]
[0015]
一般式(II−3)〜(II−11)、(II−13)および(II−14)において、R1は水素原子またはアシル基を表し、R2aおよびR3aは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、R5はアルキル基またはアリール基を表す。R2bは−CH2−Ar、アリル基、−C(=O)OCH2−Arまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Arはアリール基を表す。なお、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手は、α側もしくはβ側のいずれか一方に位置する。
<10>R1が、水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基であり、R2a、R3aおよびR5が各々独立に、アリール基である<9>に記載の化合物。
<11>R2a、R3aおよびR5が各々独立に、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基である<9>または<10>に記載の化合物。
<12>下記一般式(II−1A’)、(II−1B)、(II−2A)、
(II−2B’)、(II−3)、(II−6B)、(II−9)、(II−13’)または(II−14’)のいずれかで表される化合物。
[0016]
[化5]
[0017]
一般式(II−1A’)、(II−1B)、(II−2A)、(II−2B’)、(II−3)、(II−6B)、(II−9)、(II−13’)および(II−14’)において、R1、R1bおよびR1cは各々独立に、水素原子またはアシル基を表す。R2aおよびR3aは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。R2bは−CH2−Ar、アリル基、−C(=O)OCH2−Arまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Arはアリール基を表す。R5、R5b、R5c、R5dおよびR5eは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ただし、R1bおよびR1cがアセチル基の場合、R5bはアリール基であり、R5cは置換基で置換されたアリール基である。
<13>R1が水素原子、アセチル基、4−メチルベンゾイル基、4−フェニルベンゾイル基または2−ナフトイル基であり、R1bおよびR1cが各々独立に、水素原子、4−メチルベンゾイル基、4−フェニルベンゾイル基または2−ナフトイル基であり、R2a、R3a、R5、R5bおよびR5cが各々独立に、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基で
Claims (14)
- 下記一般式(I)で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由する下記一般式(II)で表される化合物の製造方法。
ただし、R2がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、R3はアシルオキシ基である。 - 前記R5がアリール基であり、かつR3または−O−C(=O)−R3aがアリールカルボニルオキシ基である請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記R5が、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基であり、かつR3または−O−C(=O)−R3aがフェニルカルボニルオキシ基、4−メチルフェニルカルボニルオキシ基、4−フェニルフェニルカルボニルオキシ基または2−ナフチルカルボニルオキシ基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記R1またはR1aがアセチル基またはアリールカルボニル基である請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記Xが、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である請求項1〜6のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記硫黄化合物が、Mがアルカリ金属であるMSHまたはM2Sである請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記R1が、水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基であり、R2a、R3aおよびR5が各々独立に、アリール基である請求項9に記載の化合物。
- 前記R2a、R3aおよびR5が各々独立に、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基である請求項9または10に記載の化合物。
- 下記一般式(II−1A’)、(II−1B)、(II−2A)、(II−2B’)、(II−3)、(II−6B)、(II−9)、(II−13’)または(II−14’)のいずれかで表される化合物。
- 前記R1が水素原子、アセチル基、4−メチルベンゾイル基、4−フェニルベンゾイル基または2−ナフトイル基であり、前記R1bおよびR1cが各々独立に、水素原子、4−メチルベンゾイル基、4−フェニルベンゾイル基または2−ナフトイル基であり、前記R2a、R3a、R5、R5bおよびR5cが各々独立に、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基であり、前記R2bが、フェニルメチル基であり、前記R5dおよびR5eが各々独立に、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−フェニルフェニル基または2−ナフチル基である請求項12に記載の化合物。
- 前記化合物が、チオヌクレオシド合成中間体である請求項9〜13のいずれか1項に記載の化合物。
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