JPWO2016047428A1

JPWO2016047428A1 - 環状ヘミアセタール化合物の製造方法

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Publication number: JPWO2016047428A1
Application number: JP2016550090A
Authority: JP
Inventors: 玲武田; 渡辺　徹; 徹渡辺; 伊藤　孝之; 孝之伊藤
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2014-09-24
Filing date: 2015-09-07
Publication date: 2017-06-01
Anticipated expiration: 2035-09-07
Also published as: JP6253169B2; WO2016047428A1

Abstract

【課題】穏和な条件で、簡便かつ高収率で、しかも立体選択性に優れ、大量製造が可能な環状ヘミアセタール化合物の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物を酸性条件下で反応させる一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。Ｌはハロゲン原子又は−ＯＳＯ２Ｒａ、ＲＮは−Ｒｂ、−ＯＲｂ又は−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表す。Ｒａはハロゲン原子、脂肪族基、アリール基又はヘテロ環基、Ｒｂ及びＲｃは、水素原子、脂肪族基、アシル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ｒ１は水素原子、脂肪族基、アリール基又はヘテロ環基、Ｘは単結合又は−Ｃ（ＲＸＡ）（ＲＸＢ）−、Ｒ２Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ２Ｂ〜Ｒ４Ｂ、ＲＸＡ及びＲＸＢは、水素原子又は置換基を表す。Ｒ２ＡとＲ２Ｂ、Ｒ３ＡとＲ３Ｂ、ＲＸＡとＲＸＢが、互いに共同して、＝Ｏ、又は＝Ｃ（Ｒｄ）（Ｒｅ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、又、Ｒ２Ａ〜Ｒ４Ａ、Ｒ２Ｂ〜Ｒ４Ｂ、ＲＸＡ及びＲＸＢの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒｄ及びＲｅは、水素原子又は置換基を表す。【選択図】なし

Description

本発明は、環状ヘミアセタール化合物の製造方法に関する。

糖は生体を構成する必須成分（遺伝子や細胞構成成分）であり、またエネルギーになる。自然界における存在量が少ない希少糖の研究が進むにつれ、希少糖のうちのいくつかに食後血糖値上昇抑制作用・脂肪蓄積抑制作用・動脈硬化予防作用・血圧上昇抑制作用・抗酸化作用などの作用があることが報告されている。また、希少糖は、メタボリックシンドローム対策に期待される新たな機能性素材としても注目されている。さらに、植物に対しても、幾つかの希少糖がイネなどの病害虫防御関連遺伝子の発現を誘導すること、また生育調節作用を持つことがわかってきた。
また、Ｌ−ヌクレオシド類似体は優れた抗ウイルス剤として有用であり、Ｌ−リボースから容易に合成することが可能である。しかし、Ｌ−リボースは高価である。そのため、代わりとなるＬ−ヌクレオシド類似体の合成方法や、Ｌ−リボースおよび誘導体の立体選択的な合成の研究が行われている（例えば、非特許文献１参照）。
このため、希少糖を含めた各種糖の誘導体の需要が、従来にも増して高まっている。

一方、有機合成により、糖を合成する研究（非特許文献２、３参照）も知られている。

Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２０１１，６７，ｐ．４０３１−４０３５Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃ，１９６７，ｐ．１１８６〜１１８７Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９８６，ｐ．１１，８８５〜１１，８８７

非特許文献２に記載の方法は、アセタールを酸性条件下で加水分解して、トシレートが脱離し、５員環が形成される反応である。しかし、この方法は収率が低い。一方、非特許文献３に記載の方法は、アセタールを酸性条件下で加水分解し、６員環に環化する反応である。しかし、この方法は環化させる化合物構造が限定されている。また、塩基性条件下で特殊な２，２，２−トリフルオロエタノールを求核剤として用いており、反応条件としても限定されている。
また、医薬、農薬などにおける生理活性物質は、化合物の立体構造により、生体などに及ぼす作用が大きく異なる。このため、一方の立体異性体のみを選択的に合成する必要がある。また、一方の異性体から他方の立体異性体（例えばＤ体−Ｌ体変換）を温和な反応条件で、かつ短工程で変換させることが求められる。

従って、本発明は、穏和な条件で、簡便、かつ高収率で、環状ヘミアセタール化合物を合成できる製造方法を提供することを課題とする。
さらには、糖などのように立体異性体を考慮しなければならない場合であっても適用でき、立体選択性に優れ、大量製造が可能な環状ヘミアセタール化合物の製造方法を提供することを課題とする。

本発明者らは、一方の立体異性体から他方の立体異性体に変換すべく、Ｄ−リボフラノース（Ｄ−Ｒｉｂｏｆｕｒａｎｏｓｅ）からＬ−リキソフラノース（Ｌ−Ｌｙｘｏｆｕｒａｎｏｓｅ）への変換方法を種々検討した。この結果、糖の直鎖構造におけるアルデヒドのカルボニル基をオキシム化したオキシム体から直接環化反応させる方法を見出し、さらに検討することで、本発明に至った。

本発明によれば、以下の手段が提供される：
＜１＞下記一般式（Ｉ）で表される化合物を酸性条件下で反応させる、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。

一般式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｌはハロゲン原子または−ＯＳＯ_２Ｒａを表す。Ｒ^Ｎは−Ｒｂ、−ＯＲｂまたは−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表す。ここで、Ｒａはハロゲン原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表し、ＲｂおよびＲｃは各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ^１は水素原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｘは単結合または−Ｃ（Ｒ^ＸＡ）（Ｒ^ＸＢ）−を表す。Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢは各々独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ^２ＡとＲ^２Ｂ、Ｒ^３ＡとＲ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡとＲ^ＸＢが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄ）（Ｒｅ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよい。ＲｄおよびＲｅは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
＜２＞一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＡ）で表される化合物であり、一般式（ＩＩ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩＡ）で表される化合物である、＜１＞に記載の製造方法。

一般式（ＩＡ）および（ＩＩＡ）において、Ｌ、Ｒ^Ｎ、Ｒ^１、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂは、一般式（Ｉ）および（ＩＩ）におけるＬ、Ｒ^Ｎ、Ｒ^１、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂと同義である。
＜３＞Ｌが、ハロゲン原子または−ＯＳＯ_２Ｒａであって、Ｒ^Ｎが−Ｒｂ、−ＯＲｂまたは−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）であり、ここで、Ｒａが、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基であって、ＲｂおよびＲｃが各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基であり、
Ｒ^１が、水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、Ｘが、単結合または−Ｃ（Ｒ^ＸＡ）（Ｒ^ＸＢ）−であって、Ｒ^２Ａ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢが、各々独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基またはアジド基であり、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂが各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基であり、
ここで、Ｒ^２ＡとＲ^２Ｂ、Ｒ^３ＡとＲ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡとＲ^ＸＢが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄ）（Ｒｅ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよいが、この場合、ＲｄおよびＲｅが、各々独立に、水素原子またはアルキル基である、
＜１＞に記載の製造方法。
＜４＞Ｒ^Ｎが、−ＯＲｂである＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜５＞Ｒ^１が、水素原子である＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜６＞Ｌが、−ＯＳＯ_２Ｒａである＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜７＞Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂの一方が水素原子で、他方が置換基であるか、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂが異なる置換基である＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜８＞Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^２ＢおよびＲ^３Ｂの少なくとも１つが、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜９＞Ｌが、−ＯＳＯ_２Ｒａであり、Ｒ^Ｎが、−ＯＲｂであり、Ｒ^１が水素原子であり、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^２ＢおよびＲ^３Ｂが、各々独立に水素原子、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基であり、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂのいずれか一方が水素原子で他方がアルキル基である＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜１０＞下記一般式（ＩＩＩＡ）で表される化合物から一般式（ＩＡ）で表される化合物を製造した後、反応を行う、＜２＞に記載の製造方法。

一般式（ＩＩＩＡ）において、Ｒ^１は、一般式（Ｉ）におけるＲ^１と同義である。Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘは各々独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ^２ＡｘとＲ^２Ｂｘ、Ｒ^３ＡｘとＲ^３Ｂｘが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄｘ）（Ｒｅｘ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよい。ＲｄｘおよびＲｅｘは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
＜１１＞反応を、水存在下で行う＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜１２＞反応を、アルデヒド化合物存在下で行う＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜１３＞反応を、グリオキシル酸存在下で行う＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の製造方法。

本明細書において、各置換基は、特段の断りがない限り、さらに置換基で置換されていてもよい。また、複数の同じ符号の基が存在する場合、これらの複数の基は、特段の断りがない限り、互いに同一であっても異なっていても構わないことを意味する。

本発明により、穏和な条件で、簡便、かつ高収率で、環状ヘミアセタール化合物を合成できる製造方法を提供できる。
しかも、糖などのように立体異性体を考慮しなければならない場合であっても適用でき、立体選択性に優れ、大量製造が可能な環状ヘミアセタール化合物の製造方法を提供することができる。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、下記の記載からより明らかになるであろう。

＜＜環状ヘミアセタール化合物の製造方法＞＞
本発明の製造方法は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を酸性条件下で反応させ、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を合成する製造方法である。

一般式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｌはハロゲン原子または−ＯＳＯ_２Ｒａを表す。Ｒ^Ｎは−Ｒｂ、−ＯＲｂまたは−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表す。ここで、Ｒａはハロゲン原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表し、ＲｂおよびＲｃは各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ^１は水素原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｘは単結合または−Ｃ（Ｒ^ＸＡ）（Ｒ^ＸＢ）−を表す。Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢは各々独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ^２ＡとＲ^２Ｂ、Ｒ^３ＡとＲ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡとＲ^ＸＢが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄ）（Ｒｅ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよい。ＲｄおよびＲｅは各々独立に、水素原子または置換基を表す。

この反応は、下記に示すように、酸性条件下で、一般式（Ｉ）における＞Ｃ＝Ｎ−Ｒ^Ｎが加水分解されて＞Ｃ＝Ｏとなり、この加水分解中間体を経由して環化することにより進行する。

上記のように、反応に関与する部分は、Ｒ^４Ａ、Ｒ^４ＢおよびＬが結合する炭素原子と、＞Ｃ＝Ｎ−Ｒ^Ｎの炭素原子である。Ｒ^４Ａ、Ｒ^４ＢおよびＬが結合する炭素原子は、カルボニルの酸素原子による求核攻撃を受け、絶対立体配座の反転（ワルデン反転；Ｗａｌｄｅｎｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）が起こる。また、一般式（ＩＩ）において、Ｒ^１とＯＨが結合した炭素原子は、環化に際して、α−もしくはβ−アノマーが存在し得る。しかしながら、Ｒ^２Ａ、Ｒ^２Ｂ、Ｘ部分、Ｒ^３Ａ、Ｒ^３Ｂは反応に関与しないため、絶対立体配座は保持される。
なお、上記の加水分解中間体は、上記の反応系（反応液）中に、一時的に生じる中間体である。

本発明においては、Ｒ^２Ａ、Ｒ^２Ｂ、Ｘ部分、Ｒ^３ＡおよびＲ^３Ｂの絶対立体配座は保持され、Ｒ^４Ａ、Ｒ^４ＢおよびＬが結合する炭素原子の絶対立体配座のみが反転する。このため、例えば、Ｄ−リボフラノース誘導体からＬ−リキソフラノース誘導体を合成する、Ｄ体−Ｌ体変換が可能となる。

ここで、Ｂｚはベンゾイル基を表す。

以下に、本発明の製造方法で使用する一般式（Ｉ）で表される化合物、本発明の製造方法で製造される一般式（ＩＩ）で表される化合物、反応条件および一般式（Ｉ）で表される化合物の合成方法の順に説明する。

＜一般式（Ｉ）で表される化合物＞

Ｌは、ハロゲン原子または−ＯＳＯ_２Ｒａを表す。このうち、本発明では、−ＯＳＯ_２Ｒａが好ましい。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、臭素原子またはヨウ素原子がより好ましく、ヨウ素原子がさらに好ましい。

−ＯＳＯ_２ＲａにおけるＲａは、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
Ｒａにおけるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、フッ素原子または塩素原子がより好ましい。
脂肪族基は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基が好ましい。このうち、アルキル基の炭素数は１〜６が好ましく、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシルが挙げられる。アルケニル基の炭素数は２〜６が好ましく、例えば、ビニル、アリル、１−プロペニル、２−プロペニルが挙げられる。アルキニル基の炭素数は２〜６が好ましく、例えば、エチニル、２−プロピニル挙げられる。シクロアルキル基の炭素数は、３〜８が好ましく、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。シクロアルケニル基の炭素数は５〜１０が好ましく、例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニルが挙げられる。
アリール基の炭素数は、６〜２０が好ましく、６〜１２がより好ましく、例えば、フェニル、ナフチルが挙げられる。
ヘテロ環基は、ＳＯ_２の硫黄原子に結合する原子が炭素原子のものが好ましく、ヘテロ環基のヘテロ環を構成するヘテロ原子が、酸素原子、硫黄原子、窒素原子で、５または６員環のものが好ましく、ベンゼン環などの環が縮環していても構わない。またヘテロ環基のヘテロ環は、飽和環でも不飽和環もしくは芳香環のいずれでも構わない。ヘテロ環基の炭素数は０〜２０が好ましい。このようなヘテロ環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、テトラヒドロフラン環、ピロール環、ピペラジン環、モルホリン環が挙げられる。

Ｒａにおける各基はさらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては、上記で挙げた脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基に加えて、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基（−ＮＨ_２以外にアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含む）、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ウレイド基、ウレタン基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルオキシ基、アルキルもしくはアリールのスルフィニルオキシ基、シリル基、シリルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アジド基、ヒドラジノ基が挙げられる。

これらの置換基の炭素数は２５以下が好ましく、１２以下がより好ましい。なかでも、脂肪族部分を有する基の脂肪族部分の炭素数は１〜６が好ましく、アリール部分を有する基のアリール部分の炭素数は６〜２０が好ましく、ヘテロ環部分を有する基のヘテロ環部分の炭素数は０〜２０が好ましい。例えば、アシル基で、アルキルカルボニル基の場合、「アルキル」の炭素数は１〜６が好ましいことになり、カルボニル基の炭素数１を合計すると、「アルキルカルボニル基」の好ましい炭素数は２〜７となる。

Ｒａにおける各基にさらに置換してもよい置換基は、これらのうち、電子求引性の基が好ましく、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ウレイド基、ウレタン基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基が挙げられる。

Ｒａは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基または芳香族ヘテロ環基（ヘテロアリール基）がより好ましく、アルキル基またはアリール基がさらに好ましく、特にアリール基が好ましい。なかでも、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、またはシアノ基が置換したアリール基が好ましい。アリール基に置換するこれらの置換基の数は、１〜５が好ましい。なかでもハロゲン原子が置換する場合、ハロゲン原子の数は２〜５が好ましく、３〜５がより好ましい。

Ｒａで特に好ましいものは、ハロゲン原子が１〜９個置換したアルキル基、ハロゲン原子が１〜５個置換したフェニル基であり、なかでもハロゲン原子が２〜５個置換したフェニル基が好ましく、ハロゲン原子が３〜５個置換したフェニル基が最も好ましい。

Ｒ^Ｎは−Ｒｂ、−ＯＲｂまたは−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表す。ここで、ＲｂおよびＲｃは各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。ＲｂおよびＲｃにおける脂肪族基、アリール基およびヘテロ環基は、Ｒａにおける脂肪族基、アリール基およびヘテロ環基で挙げたものが挙げられ、好ましい。

アシル基は、脂肪族のアシル基でも芳香族のアシル基でも構わない。なお、アルキルカルボニル基またはアリールカルボニル基が好ましい。ここで、「脂肪族のアシル基」とは、ＲｂおよびＲｃにおける「脂肪族基」を有するアシル基を意味し、脂肪族基−Ｃ（＝Ｏ）−である。
アシル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、このうち、アリールカルボニル基を含む芳香族のアシル基の炭素数は６〜２０が好ましく、脂肪族のアシル基は２〜１０が好ましい。脂肪族基−Ｃ（＝Ｏ）−の「脂肪族基」、芳香族のアシル基の「芳香族」基部分の「アリール」基は、Ｒａにおける脂肪族基およびアリール基で挙げた好ましい範囲および具体的な例示の基が好ましく適用される。

ＲｂおよびＲｃは、水素原子、脂肪族基（なかでもアルキル基、アルケニル基）、アシル基、アリール基またはヘテロ環基が好ましい。

ここで、＞Ｃ＝Ｎ−Ｒ^Ｎは＞Ｃ＝Ｏであるカルボニル基の保護基であり、酸性条件下で、脱保護され、＞Ｃ＝Ｎ−Ｒ^Ｎが、＞Ｃ＝Ｏになる。Ｒ^Ｎは、一般式（Ｉ）で表される化合物の安定性、すなわち、＞Ｃ＝Ｎ−Ｒ^Ｎの安定性に影響する。この安定性の点では、Ｒ^Ｎは−ＯＲｂまたは−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）が好ましい。一方、＞Ｃ＝Ｎ−Ｒ^Ｎを＞Ｃ＝Ｏに脱保護する反応のしやすさの点では、Ｒ^Ｎは−Ｒｂまたは−ＯＲｂが好ましい。このため、安定性と脱保護のしやすさをともに満足する点で、−ＯＲｂがなかでも好ましい。

ＲｂおよびＲｃは、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基が好ましく、脂肪族基またはアリール基がより好ましく、脂肪族基がさらに好ましく、アルキル基が特に好ましい。ＲｂおよびＲｃにおける脂肪族基は、炭素数１〜６が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基またはイソプロピル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。

Ｒ^１は、水素原子、脂肪族基（好ましくは、アルキル基、アルケニル基）、アリール基またはヘテロ環基を表す。脂肪族基、アリール基およびヘテロ環基は、Ｒａにおける脂肪族基、アリール基およびヘテロ環基で挙げたものが挙げられ、好ましい。
Ｒ^１は、水素原子、脂肪族基（好ましくは、アルキル基、アルケニル基）またはアリール基が好ましく、水素原子または脂肪族基がより好ましく、反応性の観点から、水素原子が最も好ましい。

Ｘは単結合または−Ｃ（Ｒ^ＸＡ）（Ｒ^ＸＢ）−を表す。本発明では、Ｘは単結合が好ましい。

Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢは、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、脂肪族基（好ましくはアルキル基、アルケニル基）、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基またはアジド基が好ましく、脂肪族基（好ましくはアルキル基、アルケニル基）、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シアノ基またはアジド基が好ましい。

ここで、アミノ基は、−ＮＨ_２以外にアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含む。

Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢのうち、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢは、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、脂肪族基（好ましくはアルキル基、アルケニル基）、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基またはアジド基が好ましく、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂは、水素原子、脂肪族基（好ましくはアルキル基、アルケニル基）、アリール基またはヘテロ環基が好ましい。

各基のうち、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基は、Ｒａにおけるハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、炭素数の範囲も含めて好ましい。
また、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基のアルキル部の炭素数、アリール部の炭素数は、Ｒａにおけるアルキル基、アリール基の好ましい範囲の炭素数が好ましい。アシルアミノ基、アシルオキシ基の「アシル」部の炭素数は、ＲｂおよびＲｃにおけるアシル基の好ましい範囲が好ましい。

ここで、アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、ヘプタノイル基、アクリル基、メタクリル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基が挙げられる。

シリルオキシ基の炭素数は３〜２０が好ましく、３〜１０がより好ましい。シリルオキシ基としては、トリアルキルシリルオキシ基、ジアルキルベンジルシリルオキシ基、ジアルキルアリールシリルオキシ基、アルキルジアリールシリルオキシ基、トリアリールシリルオキシ基、トリアルコキシシリルオキシ基、ジアルコキシアルキルシリルオキシ基もしくはアリールシリルオキシ基、アルコキシジアルキルシリルオキシ基もしくはジアリールシリルオキシ基が挙げられる。

アミノ基の炭素数は０〜２０が好ましい。アミノ基は、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジブチルアミノ、オクチルアミノ、フェニルアミノ、ナフチルアミノが挙げられる。

脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基はさらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基、アシル基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ウレイド基、ウレタン基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基が挙げられる。

これらの、さらに置換してもよい置換基の炭素数は２５以下が好ましく、１２以下がより好ましい。なかでも、脂肪族部分を有する基の脂肪族部分の炭素数は１〜６が好ましく、アリール部分を有する基のアリール部分の炭素数は６〜２０が好ましく、ヘテロ環部分を有する基のヘテロ環部分の炭素数は０〜２０が好ましい。

Ｒ^２Ａ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢの各基が有してもよい置換基としては、アルキル基、アリール基またはハロゲン原子が好ましい。

Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^ＸＡのＲ^Ａシリーズの基とＲ^２Ｂ〜Ｒ^４ＢおよびＲ^ＸＢのＲ^Ｂシリーズの基において、Ｒ^Ａシリーズの基とＲ^Ｂシリーズの基のいずれか一方が置換基の場合、残りのシリーズの基は水素原子が好ましい。

ただし、Ｒ^２ＡとＲ^２Ｂにおいては、両方が置換基のものも好ましく、このような置換基としては、一方が、アルキル基およびアリール基から選択される置換基であって、他方が、Ｒ^２ＡとＲ^２Ｂが結合する炭素原子と酸素原子を介して結合する置換基（例えば、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、さらには、Ｒ^２ＡとＲ^２Ｂが結合する炭素原子と隣接する炭素原子上の置換基と連結してメチレンジオキシ環もしくはエチレンジオキシ環を形成する基）が好ましい。

本発明では、Ｘが−Ｃ（Ｒ^ＸＡ）（Ｒ^ＸＢ）−の場合、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢの少なくとも１つは、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基が好ましい。また、Ｘが単結合の場合、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂの少なくとも１つは、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基が好ましい。
Ｒ^２Ａ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３ＡおよびＲ^３Ｂの少なくとも１つは、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基がより好ましい。Ｒ^２Ａ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３ＡおよびＲ^３Ｂが、各々独立に、水素原子、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基であることがさらに好ましい。
本発明では、これらの好ましい基を少なくとも２つ有するものが、さらに好ましい。

ここで、アルコキシ基は、上記のように、無置換のアルコキシ基だけでなく、アリール基が置換したメトキシ基、すなわち−Ｏ−ＣＨ_２−Ａｒが好ましく、ベンジルオキシ基が特に好ましい。なお、Ａｒはアリール基を表し、置換基を有してもよいフェニル基が好ましく、置換基としては、上記で説明した、各基をさらに置換してもよい置換基が挙げられる。

なお、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢのなかでも、Ｒ^４ＡとＲ^４Ｂは、反応で離脱するＬが結合する炭素原子に結合していることから、環化反応に影響を与える。
このため、Ｒ^４ＡとＲ^４Ｂは、Ｌが結合する炭素原子に生じる炭素カチオンの安定性を高める基が好ましく、例えば、アリール基やアリル基のように、この炭素上のカチオンと共役できる基が好ましい。

また、Ｌが結合する炭素原子に、カルボニルから生じた（立ち上がった）−Ｏ⁻イオンが攻撃するため、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂは立体的に小さな基が好ましく、Ｒ^４ＡとＲ^４Ｂのいずれか一方は水素原子であることがより好ましい。
Ｒ^４ＡとＲ^４Ｂのいずれか一方が、上記の理由で水素原子である場合、残りの一方は、水素原子またはアルキル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。このうち、アルキル基は、無置換のアルキル基に加えて、置換基を有するアルキル基も好ましい。アルキル基は、なかでも、メチル基、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒｙが好ましい。ここで、Ｒｙは、水素原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、カルバモイル基またはスルファモイル基が好ましい。Ｒｙにおけるアリール基、ヘテロ環基およびアルキルもしくはアリールのスルホニル基は、Ｒａにおけるアリール基、ヘテロ環基およびアルキルもしくはアリールのスルホニル基が好ましく挙げられ、Ｒｙにおけるアシル基は、ＲｂおよびＲｃにおけるアシル基が好ましく挙げられる。なお、脂肪族基は、上記の−Ｏ−ＣＨ_２−Ａｒにおける、−ＣＨ_２−Ａｒが好ましい。

ここで、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂの一方が水素原子で、他方が置換基であるか、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂが異なる置換基である場合、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂが結合する炭素原子が不斉炭素原子となり、環化反応で絶対立体配座が反転し、Ｄ体−Ｌ体変換が可能となり、好ましい。

Ｒ^２ＡとＲ^２Ｂ、Ｒ^３ＡとＲ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡとＲ^ＸＢが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄ）（Ｒｅ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよい。ここで、ＲｄおよびＲｅは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
ＲｄおよびＲｅにおける置換基は、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢにおける各基をさらに置換してもよい置換基が挙げられる。ＲｄおよびＲｅは水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。

Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢの少なくとも２つが、互いに結合して形成する環としては、ベンゼン環、シクロアルカン（例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン）、ヘテロ環（好ましくはＲａで挙げたヘテロ環）が挙げられる。なかでも、隣接する炭素原子上の基が、互いに結合して、−Ｏ−Ｃ（Ｒα１）（Ｒβ１）−Ｃ（Ｒα２）（Ｒβ２）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｒα１）（Ｒβ１）−Ｏ−または−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（Ｒα１）（Ｒβ１）−Ｏ−で環を形成するものが好ましい。ここで、Ｒα１、Ｒα２、Ｒβ１およびＲβ２は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。特に、Ｒ^４ＡまたはＲ^４ＢとＲ^３ＡまたはＲ^３Ｂが互いに結合する場合、＊−ＣＨ_２−Ｏ−Ｃ（Ｒα１）（Ｒβ１）−Ｏ−＊＊で環を形成することが好ましく、これ以外のＲ^２Ａ〜Ｒ^３Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢのうち、互いに隣接する炭素原子上の基が互いに結合する場合、−Ｏ−Ｃ（Ｒα１）（Ｒβ１）−Ｃ（Ｒα２）（Ｒβ２）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｒα１）（Ｒβ１）−Ｏ−で環を形成することが好ましく、−Ｏ−Ｃ（Ｒα１）（Ｒβ１）−Ｏ−で環を形成することがより好ましい。なお、＊はＲ^４ＡまたはＲ^４Ｂが結合する炭素原子に結合する結合手であり、＊＊はＲ^３ＡまたはＲ^３Ｂが結合する炭素原子に結合する結合手である。

＜一般式（ＩＩ）で表される化合物＞

一般式（ＩＩ）において、Ｒ^１、Ｘ、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂは一般式（Ｉ）におけるＲ^１、Ｘ、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂと同義であり、好ましい範囲も同じである。

一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（ＩＡ）で表される化合物が好ましい。この場合、反応の結果、得られる化合物は、下記一般式（ＩＩＡ）で表される化合物である。

一般式（ＩＡ）および（ＩＩＡ）において、Ｌ、Ｒ^Ｎ、Ｒ^１、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂは、一般式（Ｉ）および（ＩＩ）におけるＬ、Ｒ^Ｎ、Ｒ^１、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂと同義であり、好ましい範囲も同じである。

以下に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を立体異性体で示す。なお、本発明はこれによって限定されるものではなく、以下の具体例において、立体構造の異なる異性体をも挙げられる。また、代表して記載する一部の立体構造以外にも、当然、同じ置換基を有する異なる立体構造の化合物も例示するものであり、明細書紙面の都合上省略しただけである。

以下に、一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例を立体異性体で示す。
本発明では、上記一般式（Ｉ）で表される化合物から得られる一般式（ＩＩ）で表される化合物が、例示化合物として挙げられるのは当然であるため、省略する。

＜反応条件＞
一般式（ＩＩ）で表される化合物は、一般式（Ｉ）で表される化合物を、酸性条件下で反応させることにより、製造できる。
この反応に使用される溶媒（反応溶媒）としては、例えば、脂肪族炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、アルコール化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、ニトリル化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、芳香族炭化水素化合物、尿素化合物および水が挙げられる。これらの溶媒は混合して使用してもよい。

これらの反応溶媒は、具体的には、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、塩化メチレン、クロロホルム、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、水が挙げられる。

反応溶媒は、水溶性溶媒が好ましく、ニトリル化合物、ケトン化合物またはアルコール化合物が好ましく、ニトリル化合物またはケトン化合物がより好ましく、具体的には、アセトニトリルまたはアセトンが好ましく、なかでもアセトニトリルが好ましい。

本発明では、＞Ｃ＝Ｎ−Ｒ^Ｎを＞Ｃ＝Ｏに脱保護することから、水の存在下で反応を行うことが好ましい。
反応溶媒に含まれる水は、有機溶媒１００ｍＬに対して、１〜７０ｍＬが好ましく、１〜５０ｍＬがより好ましく、１〜２０ｍＬがさらに好ましい。

溶媒の使用量は、特に限定されるものではなく、一般式（Ｉ）で表される化合物に対して、１〜５０倍量（ｖｏｌｕｍｅ／ｗｅｉｇｈｔ、以下、ｖ／ｗと省略して記載する。）であればよく、１〜１５倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。

本発明の反応は、酸性条件下で行うものであり、使用する酸は、有機もしくは無機のいずれでも構わない。無機の酸としては、塩酸、硫酸、リン酸が挙げられ、有機の酸としては、グリオキシル酸を含む脂肪族もしくは芳香族カルボン酸、脂肪族もしくは芳香族スルホン酸が挙げられる。脂肪族もしくは芳香族カルボン酸、脂肪族もしくは芳香族スルホン酸は、具体的には、グリオキシル酸、酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、安息香酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸が挙げられ、グリオキシル酸が好ましい。

酸の使用量は、一般式（Ｉ）で表される化合物に対して、０．１倍モル以上が好ましく、１倍モル以上がより好ましく、１．５倍モル以上が特に好ましい。上限としては、１００倍モル以下が好ましく、６０倍モル以下がより好ましく、４０倍モル以下が特に好ましい。

本発明では、脱保護で生じるＮＨ_２−Ｒ^Ｎを捕獲し、反応の平衡を脱保護側にずらし、反応を促進させるため、カルボニル化合物を添加することが好ましい。カルボニル化合物としては、アセトンおよび２−ブタノンなどのケトン化合物ならびにホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、グリオキサールおよびグリオキシル酸などのアルデヒド化合物が挙げられ、アルデヒド化合物が好ましく、グリオキシル酸がより好ましい。
本発明では、酸と、ＮＨ_２−Ｒ^Ｎを捕獲して反応の平衡を脱保護側にずらすカルボニル化合物とを兼ね備えた化合物を用いてもよい。このような化合物は、スルホ基またはカルボキシ基とカルボニル基を分子内に有する化合物であり、グリオキシル酸は、この両方の機能を備えている。グリオキシル酸以外には、ピルビン酸、２−オキソブタン酸、２−オキソグルタミン酸、アセトンジカルボン酸、アセト酢酸、オキサル酢酸、ケトピン酸、２−ホルミルプロピオン酸などが挙げられる。

カルボニル化合物の使用量は、一般式（Ｉ）で表される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、１倍モル以上がより好ましく、１．５倍モル以上が特に好ましい。上限としては、１００倍モル以下が好ましく、６０倍モル以下がより好ましく、４０倍モル以下が特に好ましい。

反応温度は、０℃以上が好ましく、３０℃以上がより好ましく、５０℃以上がさらに好ましい。上限としては、１２０℃以下が好ましく、１００℃以下がより好ましく、８０℃以下がさらに好ましい。反応時間は、５分間以上が好ましい。上限としては、５０時間以内が好ましく、２４時間以内がより好ましく、６時間以内がさらに好ましい。

＜＜一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法＞＞
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を用いて、合成することが好ましい。

一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ^１は、一般式（Ｉ）におけるＲ^１と同義である。Ｘｘは単結合または−Ｃ（Ｒ^ＸＡｘ）（Ｒ^ＸＢｘ）−を表す。Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４Ａｘ、Ｒ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘ、Ｒ^ＸＡｘおよびＲ^ＸＢｘは各々独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ^２ＡｘとＲ^２Ｂｘ、Ｒ^３ＡｘとＲ^３Ｂｘ、Ｒ^ＸＡｘとＲ^ＸＢｘが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄｘ）（Ｒｅｘ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４Ａｘ、Ｒ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘ、Ｒ^ＸＡｘおよびＲ^ＸＢｘの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよい。ＲｄｘおよびＲｅｘは各々独立に、水素原子または置換基を表す。

ここで、Ｘｘ、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４Ａｘ、Ｒ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘ、Ｒ^ＸＡｘ、Ｒ^ＸＢｘ、ＲｄｘおよびＲｅｘは、一般式（Ｉ）におけるＸ、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡ、Ｒ^ＸＢ、ＲｄおよびＲｅと同義であり、好ましい範囲も同じである。

一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、下記一般式（ＩＩＩＡ）で表される化合物が好ましい。

一般式（ＩＩＩＡ）において、Ｒ^１は、一般式（Ｉ）におけるＲ^１と同義である。Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘは各々独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ^２ＡｘとＲ^２Ｂｘ、Ｒ^３ＡｘとＲ^３Ｂｘが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄｘ）（Ｒｅｘ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよい。ＲｄｘおよびＲｅｘは各々独立に、水素原子または置換基を表す。

ここで、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４Ａｘ、Ｒ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘ、Ｒ^ＸＡｘ、Ｒ^ＸＢｘ、ＲｄｘおよびＲｅｘは、一般式（ＩＩＩ）におけるＲ^２Ａｘ〜Ｒ^４Ａｘ、Ｒ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘ、Ｒ^ＸＡｘ、Ｒ^ＸＢｘ、ＲｄｘおよびＲｅｘと同義であり、好ましい範囲も同じである。

一般式（ＩＩＩ）で表される化合物から、一般式（Ｉ）で表される化合物を合成する合成ルートは、下記の合成ルートが好ましい。

ここで、ＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物におけるＲ^ＮおよびＹ−ＳＯ_２−Ｒａで表される化合物におけるＲａは、一般式（Ｉ）におけるＲ^ＮおよびＲａと同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｙは、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、臭素原子がより好ましい。）を表す。なお、一般式（ＩＩＩ’）、（Ｉ−１）および（Ｉ−２）におけるＲ^１、Ｘｘ、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘは、一般式（ＩＩＩ）におけるＲ^１、Ｘｘ、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘと同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式（ＩＩＩ’）、（Ｉ−１）、（Ｉ−２）におけるＲ^Ｎは一般式（Ｉ）におけるＲ^Ｎと同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式（Ｉ−１）におけるＲａは一般式（Ｉ）におけるＲａと同義であり、好ましい範囲も同じである。

上記のように、まず、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物とＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物を反応させ、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物を得る。その後、Ｒ^４ＡｘおよびＲ^４Ｂｘが結合する炭素原子上の水酸基（−ＯＨ）を、（ａ）Ｙ−ＳＯ_２−Ｒａで表される化合物と反応させて−Ｏ−ＳＯ_２−Ｒａとすることで、一般式（Ｉ−１）で表される化合物を合成するか、または、（ｂ）塩化チオニルのようなハロゲン化剤でハロゲン原子に変換することで、一般式（Ｉ−２）で表される化合物を合成する。

また、一般式（ＩＩＩＡ）で表される化合物から、一般式（ＩＡ）で表される化合物を合成する合成ルートは、下記の合成ルートとして表される。

ここで、一般式（ＩＩＩＡ’）におけるＲ^１、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘは、一般式（ＩＩＩ）におけるＲ^１、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘと同義であり、好ましい範囲も同じである。一般式（ＩＩＩＡ’）におけるＲ^Ｎは一般式（Ｉ）におけるＲ^Ｎと同義であり、好ましい範囲も同じである。

＜一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物の製造＞
一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物と、ＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物を反応させることで合成することが好ましい。
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物としては、例えば、常用されるピラノース化合物またはフラノースを用いることができる。

ＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物は、Ｒ^Ｎが−Ｒｂの場合、ＮＨ_２−Ｒｂで表される第１級アミン化合物である。第１級アミン化合物は、具体的には、メチルアミン、エチルアミン、ビニルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、トルイジン、１−ナフチルアミン、２−アミノピリミジン、２−アミノトリアジンが好ましく、メチルアミンまたはエチルアミンがなかでも好ましい。

ＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物は、Ｒ^Ｎが−ＯＲｂの場合、ＮＨ_２−ＯＲｂで表されるヒドロキシルアミン化合物である。ＮＨ_２−ＯＲｂで表される化合物は、具体的には、ヒドロキシルアミン、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン、Ｏ−エチルヒドロキシルアミン、Ｏ−フェニルヒドロキシルアミン、Ｏ−トリチルヒドロキシルアミン、またはＯ−ベンジルヒドロキシルアミンが好ましく、Ｏ−メチルヒドロキシルアミンまたはＯ−ベンジルヒドロキシルアミンがより好ましく、Ｏ−メチルヒドロキシルアミンがなかでも好ましい。

ＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物は、Ｒ^Ｎが−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）の場合、ＮＨ_２−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）で表されるヒドラジン化合物である。ヒドラジン化合物は、具体的には、ヒドラジン、Ｎ−メチルヒドラジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジン、フェニルヒドラジンが好ましく、Ｎ−メチルヒドラジンまたはＮ，Ｎ−ジメチルヒドラジンがより好ましい。

ＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物は、塩であっても構わない。このような塩としては、例えば塩酸塩などが挙げられる。

一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物は、アルデヒドやケトンのアセタールもしくはケタールとの反応より、高収率で合成することが可能であり、また得られた一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物が安定である。
このため、続く、一般式（Ｉ）で表される化合物を得るための反応条件でも、＞Ｃ＝Ｎ−Ｒ^Ｎ部分が安定である。また、一般式（Ｉ）で表される化合物を、酸性条件下で反応させ、脱保護で得られるアルデヒドもしくはケトン体の中間体を経由して、一般式（ＩＩ）で表される化合物を合成する反応がも、温和な条件で進行する。

反応溶媒は、例えば、脂肪族炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、アルコール化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ニトリル化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、芳香族炭化水素化合物、ヘテロ芳香族化合物および水が挙げられる。これらの溶媒は混合して使用してもよい。溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物に対して、１〜５０倍量（ｖ／ｗ）であればよく、１〜１５倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。

ＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物の使用量は、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物に対して、１倍モル以上が好ましく、２倍モル以上がより好ましく、３倍モル以上が特に好ましい。上限としては、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がより好ましく、３倍モル以下が特に好ましい。ＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物の塩を用いる場合、塩基を添加することが好ましい。塩基としては、有機もしくは無機の塩基が挙げられ、第三級アミン（例えばトリエチルアミン）、窒素原子を環構成原子として有する塩基性のヘテロ環化合物または炭酸水素ナトリウムが好ましい。塩基の使用量は、ＮＨ_２−Ｒ^Ｎで表される化合物に対して、１倍モル以上が好ましく、１．５倍モル以上がより好ましく、２倍モル以上がさらに好ましく、３倍モル以上が特に好ましい。上限としては、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がより好ましく、３倍モル以下が特に好ましい。

反応温度は、−１０℃以上が好ましく、−５℃以上がより好ましく、０℃以上が特に好ましい。上限としては、１００℃以下が好ましく、８０℃以下がより好ましく、６０℃以下が特に好ましい。反応時間は、５分間以上が好ましい。上限としては、５０時間以内が好ましく、２４時間以内がより好ましく、６時間以内が特に好ましい。

＜一般式（Ｉ）で表される化合物の製造＞
一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物の水酸基をＬに変換することで合成することが好ましい。ここで、Ｌは、ハロゲン原子または−ＯＳＯ_２Ｒａである。

（ａ）スルホニル化反応（一般式（Ｉ−１）で表される化合物の製造方法）
一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物の水酸基を−ＯＳＯ_２−Ｒａに変換する場合、Ｙ−ＳＯ_２−Ｒａ、あるいは、Ｏ（ＳＯ_２−Ｒａ）_２で、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物中の水酸基をスルホニル化することが好ましい。ここで、Ｙはハロゲン原子である。

反応溶媒は、例えば、脂肪族炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、アルコール化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ニトリル化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、芳香族炭化水素化合物、ヘテロ芳香族化合物および水が挙げられる。これらの溶媒は混合して使用してもよい。溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物に対して、１〜５０倍量（ｖ／ｗ）であればよく、１〜１５倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。

Ｙ−ＳＯ_２−Ｒａで表されるスルホニル化剤の使用量は、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物に対して、０．８倍モル以上が好ましく、１倍モル以上がより好ましく、１．２倍モル以上が特に好ましい。上限としては、１０倍モル以下が好ましく、４倍モル以下がより好ましく、２倍モル以下が特に好ましい。

反応が進行するに伴い、ＨＹの酸が発生することから、これを中和するために、塩基を使用することが好ましい。
塩基としては、有機もしくは無機の塩基が挙げられ、例えば、Ｙ−ＳＯ_２−Ｒａと反応しない第三級アミン、窒素原子を環構成原子として有する塩基性のヘテロ環化合物が挙げられ、トリエチルアミン、ピリジンおよびＮ−メチルイミダゾールが好ましい。塩基の使用量は、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物に対して、０．８〜１０倍モルであればよく、０．８〜４．０倍モルが好ましく、１．０〜３．０倍モルがより好ましい。

（ｂ）ハロゲン化反応（一般式（Ｉ−２）で表される化合物の製造方法）
一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物の水酸基をハロゲン原子に変換する場合、ハロゲン化剤で、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物中の水酸基をハロゲン化することが好ましい。

反応溶媒は、例えば、脂肪族炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、ニトリル化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、芳香族炭化水素化合物、尿素化合物および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物に対して、１〜５０倍量（ｖ／ｗ）であればよく、１〜１５倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。

ハロゲン化剤としては、一般的に使用される塩素化剤および臭素化剤などが挙げられる。
塩素化剤としては、塩化ホスホリル、三塩化リン、五塩化リン、Ｖｉｌｓｍｅｉｅｒ試薬（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド−五塩化リン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド−オキシ塩化リン等）、Ｒｙｄｏｎ試薬（Ｐｈ_３ＰＣｌ_２、トリフェニルホスフィン−四塩化炭素）、塩化チオニルおよび塩化スルフリルなどが挙げられ、塩化スルフリル、三塩化リンまたは塩化チオニルが好ましい。
臭素化剤としては、三臭化リン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド−三臭化リン、トリフェニルホスフィン−四臭化炭素およびトリフェニルホスフィンジブロミドなどが挙げられる。

ハロゲン化剤の使用量は、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物に対して、０．８倍モル以上が好ましく、１倍モル以上がより好ましく、１．２倍モル以上が特に好ましい。上限としては、１０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がより好ましく、２倍モル以下が特に好ましい。

反応が進行するに伴い、ＨＹの酸が発生することから、これを中和するために、塩基を使用することが好ましい。
塩基としては、有機もしくは無機の塩基が挙げられ、例えば、第三級アミン、窒素原子を環構成原子として有する塩基性のヘテロ環化合物が挙げられ、トリエチルアミン、ピリジンおよびＮ−メチルイミダゾールが好ましい。塩基の使用量は、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物に対して、０．８倍モル以上が好ましく、１倍モル以上が特に好ましい。上限としては、５０倍モル以下が好ましく、２０倍モル以下がより好ましく、１０倍モル以下が特に好ましい。

この反応では、塩を添加することが好ましい。塩としては、塩化リチウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カルシウム、およびピリジン塩酸塩などが挙げられる。このハロゲン化反応においては、通常、エピマー混合物が得られる。一般式（Ｉ−２）で表される化合物の純度を向上させるために、塩化スルフリルおよび塩化リチウムを併用することが好ましい。
塩の使用量は、一般式（ＩＩＩ’）で表される化合物に対して、０．５倍モル以上が好ましく、０．８倍モル以上がより好ましく、１倍モル以上が特に好ましい。上限としては、２０倍モル以下が好ましく、５倍モル以下がより好ましく、３倍モル以下が特に好ましい。

反応温度は、−５０℃以上が好ましく、−４０℃以上がより好ましく、−３０℃以上が特に好ましい。上限としては、８０℃以下が好ましく、６０℃以下がより好ましく、４０℃以下が特に好ましい。反応時間は、５分間以上が好ましい。上限としては、５０時間以内が好ましく、２４時間以内がより好ましく、６時間以内が特に好ましい。

＜＜一般式（ＩＩ）で表される化合物の用途＞＞
一般式（ＩＩ）で表される化合物は、抗ウイルス剤として有用なＬ−ヌクレオシド〔例えば、いずれもＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２０１１，６７，ｐ．４０３１−４０３５に記載の、Ｂ型肝炎ウイルスに有用な２’−フルオロ−５−メチル−β−Ｌ−アラビノフラノシルリジンやＬ−２’，３’−ジデオキシ−２’，３’−ジデヒドロ−５−フルオロシチジン、耐Ｃ型肝炎ウイルス活性を示す１−（β−Ｌ−リボフラノシル）−１，２，４−トリアゾール−３−カルボキサミドやそのバリンエステル前駆薬〕の製造などに有用な化合物である。

また、自然界における存在量が少ない希少糖の製造に適用することにより、これらの希少糖による食後血糖値上昇抑制作用・脂肪蓄積抑制作用・動脈硬化予防作用・血圧上昇抑制作用・抗酸化作用の研究開発、メタボリックシンドローム対策に期待される新たな機能性素材としての研究に対して、安価で大量に供給することが可能となる。また、植物に対しても、イネなどの病害虫防御関連遺伝子の発現の誘導、生育調節作用の研究に対して、安価で大量に供給することが可能となる。

以下に、実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明する。ただし、本発明がこれによって限定して解釈されるものではない。

なお、合成した化合物は、以下の測定機器を使用して精製または測定を行った。

（使用測定機器）
カラムクロマトグラフィー
測定機器：山善株式会社製の分取クロマト装置Ｗ−Ｐｒｅｐ２ＸＹ（商品名）
クロマト担体：シリカゲル

^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル
測定機器：Ｂｒｕｋｅｒ社のＡＶＡＮＣＥ３００（商品名）
全δ値をｐｐｍで示した。

実施例１
下記反応条件で、例示化合物（Ｉ−３）から、例示化合物（ＩＩ−１）を合成した。

例示化合物（Ｉ−３）１．００ｇ、アセトニトリル１０ｍＬ、５０％グリオキシル酸水溶液１．５１ｍＬ（１０モル等量）の混合物を７０℃で１４時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル２０ｍＬを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝７３／２７〜５２／４８）で精製し、アモルファスの例示化合物（ＩＩ−１）０．３２ｇ（収率５１％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、アノマー比は３：１であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ値：８．１０−７．８７（６Ｈ，ｍ），７．６４−７．２９（９Ｈ，ｍ），６．１４−６．０８（１Ｈ，ｍ），５．７８−５．７１（１Ｈ，ｍ），５．６４（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，５．４Ｈｚ），５．４６（０．２５Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），５．００（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．３Ｈｚ），４．８２−４．６０（２．２５Ｈ，ｍ），３．３０（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ），３．１４（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）

使用した例示化合物（Ｉ−３）は、以下の合成ルートで合成した。

１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−リボフラノース５．０ｇの酢酸１．３ｍＬ懸濁液に、室温で３０％臭化水素／酢酸２．９ｍＬを滴下し、室温で３時間攪拌した。反応混合物にトルエン２０ｍＬおよび水２０ｍＬを加え、５分間撹拌した後、水槽を除去した。得られた有機層を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液２０ｍＬで洗浄後、溶媒を減圧留去した。得られた油状物にアセトニトリル１０ｍＬおよび１０％炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え、室温で１時間攪拌後、一晩放置した。反応混合物にトルエン２０ｍＬおよび水１０ｍＬを加え、５分間攪拌した後、水層を除去し、溶媒を減圧留去し、２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−リボフラノースを含む無色油状物を得た。
無色油状物は、そのまま次の反応に使用した。

上記で得られた無色油状物に、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩１．３ｇおよびメタノール５．０ｍＬを加え、氷冷下でトリエチルアミン１．８ｍＬを滴下し、室温で３時間攪拌した。反応混合物にトルエン１０ｍＬおよび１０％塩化ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え、水層を除去した後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／０〜２／１）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンタン−１，３，４−トリイル＝トリベンゾアート２．７ｇを得た。
^１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、シン／アンチ比は４：１であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ値：８．０５−８．０１（４Ｈ，ｍ），７．９９−７．９４（２Ｈ，ｍ），７．６２−７．３５（９．８Ｈ，ｍ），６．９２（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），６．５７（０．２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，２．６Ｈｚ），６．１６（０．８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，３．３Ｈｚ），５．８７（０．２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，３．０Ｈｚ），５．８１（０．８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，３．３Ｈｚ），４．６８−４．６２（１Ｈ，ｍ），４．４６−４．３１（２Ｈ，ｍ），４．０３（０．６Ｈ，ｓ），３．９２（２．４Ｈ，ｓ），３．２４（０．２Ｈ，ｂｒｓ），３．０６（０．８Ｈ，ｂｒｓ）

（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンタン−１，３，４−トリイル＝トリベンゾアート２．７ｇ、アセトニトリル５ｍＬ、Ｎ−メチルイミダゾール０．５ｍＬおよび２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド１．７ｇの混合物を室温で８時間撹拌し、室温で３日間静置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取して、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／０〜３／１）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−５−（メトキシイミノ）−２−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−１，３，４−トリイル＝トリベンゾアート３．０ｇを得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ値：８．０８−７．９６（５Ｈ，ｍ），７．９１−７．８８（２Ｈ，ｍ），７．６４−７．３３（１０．７５Ｈ，ｍ），６．９１（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），６．５５（０．２５Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），６．０６−５．９５（１．７５Ｈ，ｍ），５．５５−５．４９（０．７５Ｈ，ｍ），５．４８−５．４２（０．２５Ｈ，ｍ），４．９１−４．８４（１Ｈ，ｍ），４．６９−４．６２（１Ｈ，ｍ），３．９７（０．７５Ｈ，ｓ），３．８５（２．２５Ｈ，ｓ）

実施例２
下記反応条件で、例示化合物（Ｉ−２）から、例示化合物（ＩＩ−１）を合成した。

例示化合物（Ｉ−２）０．２６ｇ、アセトニトリル２．６ｍＬ、５０％グリオキシル酸水溶液０．４１ｍＬ（１０モル等量）の混合物を７０℃で２４時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチルを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝７３／２７〜５２／４８）で精製し、アモルファスの例示化合物（ＩＩ−１）０．０８７ｇ（収率５１％）を得た。

なお、例示化合物（Ｉ−２）は、例示化合物（Ｉ−３）の合成において、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンタン−１，３，４−トリイル＝トリベンゾアートに対して、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリドの代わりに２，５−ジクロロベンゼンスルホニルクロリドを用いた以外は、例示化合物（Ｉ−３）と同様にして合成した。

例示化合物（Ｉ−２）
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ値：８．１０−７．９０（７Ｈ，ｍ），７．６４−７．３８（１０Ｈ，ｍ），７．２７−７．２０（２Ｈ，ｍ），６．９０（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．５５（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，５．７Ｈｚ），６．０７−５．９０（１．７５Ｈ，ｍ），５．５６−５．５０（０．７５Ｈ，ｍ），５．４９−５．４３（０．２５Ｈ，ｍ），４．９０−４．８４（１．００Ｈ，ｍ），４．６８−４．５４（１．００Ｈ，ｍ），３．９６（０．７５Ｈ，ｓ），３．８５（２．２５Ｈ，ｓ）

実施例３
下記反応条件で、例示化合物（Ｉ−１）から、例示化合物（ＩＩ−１）を合成した。

例示化合物（Ｉ−１）０．４５ｇ、アセトニトリル４．５ｍＬ、５０％グリオキシル酸水溶液０．７５ｍＬ（１０モル当量）の混合物を７０℃で５時間加熱撹拌した後、１００℃で１９時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチルを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝７３／２７〜５２／４８）で精製し、アモルファスの例示化合物（ＩＩ−１）０．１３６ｇ（収率４３％）を得た。

なお、例示化合物（Ｉ−１）は、例示化合物（Ｉ−３）の合成において、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンタン−１，３，４−トリイル＝トリベンゾアートに対して、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリドの代わりに４−クロロベンゼンスルホニルクロリドを用いた以外は、例示化合物（Ｉ−３）と同様にして合成した。

例示化合物（Ｉ−１）
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ値：８．１０−７．８９（６Ｈ，ｍ），７．８３−７．７６（２Ｈ，ｍ），７．６５−７．５５（３Ｈ，ｍ），７．５０−７．４０（７Ｈ，ｍ），７．３４−７．２８（２Ｈ，ｍ），６．８５（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．５１（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，５．７Ｈｚ），６．０４−５．９２（１．７５Ｈ，ｍ），５．４７−５．４０（０．７５Ｈ，ｍ），５．４０−５．３４（０．２５Ｈ，ｍ），４．９２−４．８３（１．００Ｈ，ｍ），４．６０−４．４８（１．００Ｈ，ｍ），３．９４（０．７５Ｈ，ｓ），３．８５（２．２５Ｈ，ｓ）

実施例４
下記反応により、例示化合物（Ｉ−２１）から、例示化合物（ＩＩ−３）を合成した。

例示化合物（Ｉ−２１）０．７２ｇ、アセトニトリル７．２ｍＬ、５０％グリオキシル酸水溶液１．１５ｍＬ（１０モル等量）の混合物を７０℃で５時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチルを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝６９／３１〜４８／５２）で精製し、油状の例示化合物（ＩＩ−３）０．２６０ｇ（収率５９％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、アノマー比は１：１であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ値：７．３８−７．２８（１５Ｈ，ｍ），５．５１（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），５．２６（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１２．０Ｈｚ），４．８７−４．４４（６Ｈ，ｍ），４．２９−４．２１（１Ｈ，ｍ），４．１６−４．０８（１Ｈ，ｍ），３．９３−３．８９（１Ｈ，ｍ），３．８５−３．６７（２Ｈ，ｍ）

使用した例示化合物（Ｉ−２１）は、以下の合成ルートで合成した。

なお、例示化合物（Ｉ−２１）は、例示化合物（Ｉ−３）の合成において、１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−リボフラノースの代わりに１−Ｏ−アセチル−２，３，５−トリ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−リボフラノースを用いた以外は、例示化合物（Ｉ−３）と同様にして合成した。^１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、異性体比は４：１であった。

化合物（Ｉ−２１’）
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ値：７．４４（０．８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．３７−７．１５（１５Ｈ，ｍ），６．８９（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０２（０．２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，６．６Ｈｚ），４．７９−４．４２（６Ｈ，ｍ），４．３３（０．８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，８．１Ｈｚ），３．８８（２．４Ｈ，ｓ），３．８７（０．６Ｈ，ｓ），３．８９−３．７６（２Ｈ，ｍ），３．６６−３．５４（２Ｈ，ｍ），２．６８（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），２．５８（０．８Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）

例示化合物（Ｉ−２１）
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ値：８．０８（０．８Ｈ，ｓ），８．０６（０．２Ｈ，ｓ），７．３５−７．２２（１４Ｈ，ｍ），７．１６（０．８Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．１０−７．０６（２Ｈ，ｍ），６．６９（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０４−４．９６（１Ｈ，ｍ），４．８１（０．２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，６．６Ｈｚ），４．７４−４．５８（３Ｈ，ｍ），４．４１−４．３２（１Ｈ，ｍ），４．２０（２Ｈ，ｓ），４．０６−３．９４（１．８Ｈ，ｍ），３．８９（２．４Ｈ，ｓ），３．８７（０．６Ｈ，ｓ），３．７４−３．６６（１．２Ｈ，ｍ），３．５２（０．８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０，１１．４Ｈｚ）

実施例５
下記反応条件で、例示化合物（Ｉ−３）から、例示化合物（ＩＩ−１）を合成した。

例示化合物（Ｉ−３）１．００ｇ、アセトン１０ｍＬ、３５％ホルムアルデヒド水溶液１．０８ｍＬ（１０モル当量）、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸０．１４ｍＬの混合物を７０℃で１５時間加熱撹拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル２０ｍＬを加えて、分液した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液を順に用いて洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝７３／２７〜５２／４８）で精製し、アモルファスの例示化合物（ＩＩ−１）０．３８ｇ（収率６０％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、アノマー比は２：１であった。

比較例１
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃ．１９６７，ｐ．１１８６〜１１８７に記載の合成方法を以下に示す。
アセトン６０ｍＬにアセタール化合物（ＶＩＩＩ）１．５ｇを加えた溶液と５Ｎのスルホン酸（１０ｍＬ）を混合し、還流下で６時間加熱撹拌した。得られた生成物をクロロホルムで分離し、シリカゲル５０ｇを使用したクロマトグラフィーで分離した。ベンゼン−エーテル（１９：１）の溶離液から、アセタール化合物（ＶＩＩＩ）とアルデヒド化合物（ＩＸ）の混合物が得られ、ベンゼン−エーテル（８５：１５）の溶離液から、スラリー状の２，３，５−トリ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−リキソフラノース（ＸＩ）２０１ｍｇを得た。また、アセタール化合物（ＶＩＩＩ）とアルデヒド化合物（ＩＸ）の混合物をクロマトグラフィーで、精製を繰り返し、アセタール化合物（ＶＩＩＩ）とアルデヒド化合物（ＩＸ）の混合物８９５ｍｇを得た。
アセタール化合物（ＶＩＩＩ）からの収率を計算すると２０％であった。

なお、Ｂｎはベンジル基（−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_５）であり、Ｔｓはトシル基（−ＳＯ_２Ｃ_６Ｈ_４−ｐ−ＣＨ_３）である。

実施例１〜５および比較例１から明らかなように、本発明の製造方法は、穏和な条件で、簡便かつ高収率で、しかも立体選択性に優れ、大量製造が可能な製造方法であることがわかる。
特に、大量製造を行う場合、１０％以上の収率向上は、大幅なコスト削減になる。
このように、本発明の製造方法を、自然界における存在量が少ない希少糖の製造に適用することで、各種の効果が見いだされつつある希少糖を安価に、大量供給することが可能となり、研究開発の促進に有用であることがわかる。

本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。

本願は、２０１４年９月２４日に日本国で特許出願された特願２０１４−１９４３９４に基づく優先権を主張するものであり、これはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。

Claims

下記一般式（Ｉ）で表される化合物を酸性条件下で反応させる、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。

一般式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｌはハロゲン原子または−ＯＳＯ_２Ｒａを表す。Ｒ^Ｎは−Ｒｂ、−ＯＲｂまたは−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表す。ここで、Ｒａはハロゲン原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表し、ＲｂおよびＲｃは各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ^１は水素原子、脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｘは単結合または−Ｃ（Ｒ^ＸＡ）（Ｒ^ＸＢ）−を表す。Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢは各々独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ^２ＡとＲ^２Ｂ、Ｒ^３ＡとＲ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡとＲ^ＸＢが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄ）（Ｒｅ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよい。ＲｄおよびＲｅは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＡ）で表される化合物であり、前記一般式（ＩＩ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩＡ）で表される化合物である、請求項１に記載の製造方法。

一般式（ＩＡ）および（ＩＩＡ）において、Ｌ、Ｒ^Ｎ、Ｒ^１、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂは、前記一般式（Ｉ）および（ＩＩ）におけるＬ、Ｒ^Ｎ、Ｒ^１、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４ＡおよびＲ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂと同義である。
前記Ｌが、ハロゲン原子または−ＯＳＯ_２Ｒａであって、前記Ｒ^Ｎが−Ｒｂ、−ＯＲｂまたは−Ｎ（Ｒｂ）（Ｒｃ）であり、ここで、Ｒａが、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基であって、ＲｂおよびＲｃが各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アシル基、アリール基またはヘテロ環基であり、
前記Ｒ^１が、水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、前記Ｘが、単結合または−Ｃ（Ｒ^ＸＡ）（Ｒ^ＸＢ）−であって、前記Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢが、各々独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基またはアジド基であり、前記Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂが各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基であり、
ここで、Ｒ^２ＡとＲ^２Ｂ、Ｒ^３ＡとＲ^３Ｂ、Ｒ^ＸＡとＲ^ＸＢが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄ）（Ｒｅ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａ〜Ｒ^４Ａ、Ｒ^２Ｂ〜Ｒ^４Ｂ、Ｒ^ＸＡおよびＲ^ＸＢの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよいが、この場合、ＲｄおよびＲｅが、各々独立に、水素原子またはアルキル基である、
請求項１に記載の製造方法。
前記Ｒ^Ｎが、前記−ＯＲｂである請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
前記Ｒ^１が、水素原子である請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
前記Ｌが、前記−ＯＳＯ_２Ｒａである請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
前記Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂの一方が水素原子で、他方が置換基であるか、Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂが異なる置換基である請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
前記Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^２ＢおよびＲ^３Ｂの少なくとも１つが、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
前記Ｌが前記−ＯＳＯ_２Ｒａであり、前記Ｒ^Ｎが前記−ＯＲｂであり、前記Ｒ^１が水素原子であり、前記Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^２ＢおよびＲ^３Ｂが、各々独立に水素原子、水酸基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基であり、前記Ｒ^４ＡおよびＲ^４Ｂのいずれか一方が水素原子で他方がアルキル基である請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
下記一般式（ＩＩＩＡ）で表される化合物から前記一般式（ＩＡ）で表される化合物を製造した後、前記反応を行う、請求項２に記載の製造方法。

一般式（ＩＩＩＡ）において、Ｒ^１は、前記一般式（Ｉ）におけるＲ^１と同義である。Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘは各々独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ^２ＡｘとＲ^２Ｂｘ、Ｒ^３ＡｘとＲ^３Ｂｘが、互いに共同して、＝Ｏ、または＝Ｃ（Ｒｄｘ）（Ｒｅｘ）で表されるメチリデン基を形成してもよく、また、Ｒ^２Ａｘ〜Ｒ^４ＡｘおよびＲ^２Ｂｘ〜Ｒ^４Ｂｘの少なくとも２つが、互いに結合して環を形成してもよい。ＲｄｘおよびＲｅｘは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
前記反応を、水存在下で行う請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
前記反応を、アルデヒド化合物存在下で行う請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
前記反応を、グリオキシル酸存在下で行う請求項１〜１２のいずれか１項に記載の製造方法。