WO2013084906A1 - 露光装置、及び構造の生産方法 - Google Patents
露光装置、及び構造の生産方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2013084906A1 WO2013084906A1 PCT/JP2012/081438 JP2012081438W WO2013084906A1 WO 2013084906 A1 WO2013084906 A1 WO 2013084906A1 JP 2012081438 W JP2012081438 W JP 2012081438W WO 2013084906 A1 WO2013084906 A1 WO 2013084906A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- light
- standard sample
- period
- interference
- interference fringes
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 abstract 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70408—Interferometric lithography; Holographic lithography; Self-imaging lithography, e.g. utilizing the Talbot effect
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/7085—Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0402—Recording geometries or arrangements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0486—Improving or monitoring the quality of the record, e.g. by compensating distortions, aberrations
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/60—Systems using moiré fringes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/26—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique
- G03H1/28—Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique superimposed holograms only
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0402—Recording geometries or arrangements
- G03H2001/0413—Recording geometries or arrangements for recording transmission holograms
Abstract
Description
dg=λ/n(sinθd+sinθm) …(1)
dE=dg/[2cosθm/{cos(θd+θm)+cosθm}] …(2)
102、110、116 シャッター
103、104、107、112、114 ミラー
105 2分の1波長板
106 ビームエキスパンダ
108 反射光
109 透過光
111 標準試料
113,115 回転ステージ
117 露光用試料
118 カメラ
201 回折格子
202 蛍光試料
301 第1の干渉縞(干渉露光による干渉縞)
302 第2の干渉縞(回折格子による干渉縞)
303 モアレ縞
Claims (8)
- 構造を生産するための生産方法であって、
凹凸形状と前記凹凸形状の上に塗布された蛍光試料とを有する標準試料に光を照明し、 前記標準試料から発生したモアレ縞を観察し、
前記モアレ縞から干渉縞の周期を得て、
前記干渉縞を用いて基板に対して露光を行うことを特徴とする構造を生産するための生産方法。 - 請求項1に記載の生産方法において、
前記標準試料を回転させることを特徴とする構造を生産するための生産方法。 - 請求項1に記載の生産方法において、
第1の光を前記標準試料へ照明し、第1のモアレ縞を観察し、第1の干渉縞の周期を得て、
前記第1の光とは異なる方向から第2の光を前記標準試料へ照明し、第2のモアレ縞を観察し、前第2の干渉縞の周期を得て、
さらに、前記第2の干渉縞の周期は前記第1の干渉縞の周期とは異なり、
前記第1の干渉縞、及び前記第2の干渉縞を用いて露光を行うことを特徴とする構造を生産するための生産方法。 - 基板に光を照明して形状を形成する露光装置であって、
光を発生する照明系と、
前記光を受光する標準試料と、
カメラと、を有し、
前記標準試料は回折格子と蛍光試料とを有し、モアレ縞を発生し、
前記カメラは前記モアレ縞を観察することを特徴とする露光装置。 - 請求項4に記載の露光装置において、
前記標準試料を搭載するための回転ステージを有することを特徴とする露光装置。 - 請求項5に記載の露光装置において、
前記回転ステージ上に前記標準試料と角度を形成するように配置されたミラーを有することを特徴とする露光装置。 - 請求項6に記載の露光装置において、
前記照明系は前記標準試料に対して異なる方向から2つの光を照明することを特徴とする露光装置。 - 請求項4に記載の露光装置において、
前記蛍光試料は前記照明光の光に対して吸収性を有することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013548255A JP5732548B2 (ja) | 2011-12-09 | 2012-12-05 | 露光装置、及び構造の生産方法 |
EP12855433.4A EP2790206B1 (en) | 2011-12-09 | 2012-12-05 | Exposure device, and production method for structure |
US14/360,987 US9104118B2 (en) | 2011-12-09 | 2012-12-05 | Exposure device and method for producing structure |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011-269520 | 2011-12-09 | ||
JP2011269520 | 2011-12-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2013084906A1 true WO2013084906A1 (ja) | 2013-06-13 |
Family
ID=48574264
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2012/081438 WO2013084906A1 (ja) | 2011-12-09 | 2012-12-05 | 露光装置、及び構造の生産方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9104118B2 (ja) |
EP (1) | EP2790206B1 (ja) |
JP (1) | JP5732548B2 (ja) |
WO (1) | WO2013084906A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019511749A (ja) * | 2016-03-28 | 2019-04-25 | サウジ アラビアン オイル カンパニー | 複合フォトニック構造を構築及び検査するシステム及び方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108766337B (zh) * | 2018-05-30 | 2021-03-02 | 北京京东方专用显示科技有限公司 | 一种莫尔条纹的消除方法、装置及设备 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS623280A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 回折格子露光装置 |
JPH02287501A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-27 | Shimadzu Corp | 露光装置 |
JPH0572409A (ja) * | 1991-09-17 | 1993-03-26 | Fujitsu Ltd | 回折格子の形成方法 |
JPH05141926A (ja) | 1991-11-22 | 1993-06-08 | Fujitsu Ltd | 光学的間隙測定装置 |
JP2000019316A (ja) | 1998-07-07 | 2000-01-21 | Fujitsu Ltd | 回折格子の周期測定方法 |
JP2007064966A (ja) | 2005-07-19 | 2007-03-15 | Pentax Corp | 光学素子の光学的調整方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5006716A (en) * | 1989-02-22 | 1991-04-09 | Research Corporation Technologies, Inc. | Method and system for directional, enhanced fluorescence from molecular layers |
US5631731A (en) * | 1994-03-09 | 1997-05-20 | Nikon Precision, Inc. | Method and apparatus for aerial image analyzer |
US7304775B2 (en) * | 2000-03-03 | 2007-12-04 | Coho Holdings, Llc | Actively stabilized, single input beam, interference lithography system and method |
JP4389791B2 (ja) * | 2004-08-25 | 2009-12-24 | セイコーエプソン株式会社 | 微細構造体の製造方法および露光装置 |
JP2008147287A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Minebea Co Ltd | グレーティングの製造方法及びその装置並びに該グレーティングを適用した固体化色素dfbレーザー。 |
JP5402532B2 (ja) * | 2009-10-29 | 2014-01-29 | 大日本印刷株式会社 | ホログラムシート |
-
2012
- 2012-12-05 US US14/360,987 patent/US9104118B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-05 JP JP2013548255A patent/JP5732548B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-05 EP EP12855433.4A patent/EP2790206B1/en not_active Not-in-force
- 2012-12-05 WO PCT/JP2012/081438 patent/WO2013084906A1/ja active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS623280A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 回折格子露光装置 |
JPH02287501A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-27 | Shimadzu Corp | 露光装置 |
JPH0572409A (ja) * | 1991-09-17 | 1993-03-26 | Fujitsu Ltd | 回折格子の形成方法 |
JPH05141926A (ja) | 1991-11-22 | 1993-06-08 | Fujitsu Ltd | 光学的間隙測定装置 |
JP2000019316A (ja) | 1998-07-07 | 2000-01-21 | Fujitsu Ltd | 回折格子の周期測定方法 |
JP2007064966A (ja) | 2005-07-19 | 2007-03-15 | Pentax Corp | 光学素子の光学的調整方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019511749A (ja) * | 2016-03-28 | 2019-04-25 | サウジ アラビアン オイル カンパニー | 複合フォトニック構造を構築及び検査するシステム及び方法 |
US11099135B2 (en) | 2016-03-28 | 2021-08-24 | Saudi Arabian Oil Company | Systems and methods for constructing and testing composite photonic structures |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2790206A1 (en) | 2014-10-15 |
EP2790206A4 (en) | 2015-09-16 |
JP5732548B2 (ja) | 2015-06-10 |
US20140327897A1 (en) | 2014-11-06 |
US9104118B2 (en) | 2015-08-11 |
JPWO2013084906A1 (ja) | 2015-04-27 |
EP2790206B1 (en) | 2017-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102571918B1 (ko) | 위치 계측을 위한 계측 센서 | |
TWI657240B (zh) | 用於檢測裝置之照明源、檢測裝置及檢測方法 | |
JP5554563B2 (ja) | 次数選択されたオーバレイ測定 | |
JP6744986B2 (ja) | 位置センサ、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP7082137B2 (ja) | スペクトル制御干渉法による曲率半径測定 | |
TW201903352A (zh) | 度量衡裝置、微影系統及量測結構之方法 | |
JP5732548B2 (ja) | 露光装置、及び構造の生産方法 | |
JP2007155379A (ja) | 三次元形状計測装置および三次元形状計測方法 | |
CN110927116B (zh) | 一种测量标记结构的方法、装置及系统 | |
JP2006258438A (ja) | 高精度三次元形状測定方法および装置 | |
TWI723331B (zh) | 用於判定在基板上之目標結構之位置的裝置與方法 | |
EP1644699B1 (en) | Methods and apparatus for reducing error in interferometric imaging measurements | |
TWI821175B (zh) | 用於測量工件的平面內畸變的測量系統及方法 | |
JP2004037429A (ja) | シアリング干渉計の校正方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置 | |
JP7350296B2 (ja) | スペクトル制御干渉法に基づく光学アライメント | |
US11982521B2 (en) | Measurement of a change in a geometrical characteristic and/or position of a workpiece | |
US20230341813A1 (en) | Dark field digital holographic microscope and associated metrology method | |
JPH10281739A (ja) | 形状測定装置 | |
TW202125114A (zh) | 空心光纖中改善寬帶輻射之產生 | |
JP2980396B2 (ja) | 試料面位置測定装置 | |
JPH10270347A (ja) | 位置ずれ検出方法及びその装置 | |
KR20210031841A (ko) | 오브젝트 구조를 검출하는 방법 및 그 방법을 수행하기 위한 장치 | |
JPS62255805A (ja) | 露光装置 | |
JPH02256086A (ja) | コピーホログラム作成方法 | |
KR101051072B1 (ko) | 실시간 투과율 측정시스템 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 12855433 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2013548255 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
REEP | Request for entry into the european phase |
Ref document number: 2012855433 Country of ref document: EP |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 14360987 Country of ref document: US |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |