JPH02287501A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH02287501A JPH02287501A JP11094489A JP11094489A JPH02287501A JP H02287501 A JPH02287501 A JP H02287501A JP 11094489 A JP11094489 A JP 11094489A JP 11094489 A JP11094489 A JP 11094489A JP H02287501 A JPH02287501 A JP H02287501A
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- JP
- Japan
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- grating
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- plane
- interference fringes
- wave front
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 claims 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ、産業上の利用分野
本発明は、ホログラフィック露光法によるグレーティン
グ製作などに用いる露光装置に関する。
グ製作などに用いる露光装置に関する。
Ｂ、従来技術
従来の露光装置では、高波面精度グレーティングを製作
する場合、次のように行っていた。まず、平行平面板を
用いて２光束である平面波の面精度を上げるようそれぞ
れ粗調整する。次に、実際に露光し、それによって製作
されたグレーティングの波面精度を測定し、さらに平面
波を微調整して再度グレーティングを製作し波面精度を
測定する。
する場合、次のように行っていた。まず、平行平面板を
用いて２光束である平面波の面精度を上げるようそれぞ
れ粗調整する。次に、実際に露光し、それによって製作
されたグレーティングの波面精度を測定し、さらに平面
波を微調整して再度グレーティングを製作し波面精度を
測定する。
これを何度もくり返して調整するようにしていた。
しかしながら、上記の手順を何回くり返しても、実用上
の回折波面精度はλ（ただしλは光の波長を示す。）が
限界となっていた。すなわち光の波長以上の精度は得ら
れなかった。
の回折波面精度はλ（ただしλは光の波長を示す。）が
限界となっていた。すなわち光の波長以上の精度は得ら
れなかった。
Ｃ１発明が解決しようとする課題
前記したように、従来技術では平行平面板を使用してい
るため、平面波の面精度をλまでしか粗調整できなかっ
た。したがって製作されるグレーティングの回折波面精
度は４λが限界となっていた。また微調整するたびにグ
レーティングを製作する必要があり、微調整は非常にわ
ずられしく、時間のかかる作業となっていた。
るため、平面波の面精度をλまでしか粗調整できなかっ
た。したがって製作されるグレーティングの回折波面精
度は４λが限界となっていた。また微調整するたびにグ
レーティングを製作する必要があり、微調整は非常にわ
ずられしく、時間のかかる作業となっていた。
本発明の目的は、前記した従来技術の問題点を解消する
ため、分割された２つの光束を、平面グレーティングの
法線に対して対向する方向から入射し、前記２つの光束
の回折光どおしの干渉縞をモニタし、波面精度の調整を
おこなうことにより、きわめて優れた回折波面精度を出
すことにある。
ため、分割された２つの光束を、平面グレーティングの
法線に対して対向する方向から入射し、前記２つの光束
の回折光どおしの干渉縞をモニタし、波面精度の調整を
おこなうことにより、きわめて優れた回折波面精度を出
すことにある。
０１課題を解決するための手段
前記目的を達成するため本発明は下記の構成からなる。
すなわち本発明は、レーザ光線の発光手段と、レーザ光
線を２つに分割する手段と、分割された光束の光路調整
手段から少な（とも構成される２光束干渉法による平面
波ホログラフィック・グレーティング露光装置と、平面
グレーティングとからなり、前記分割された２つの光束
を、平面グレーティングの法線に対して対向する方向か
ら入射し、前記２つの光束の回折光どおしの干渉縞をモ
ニタし、波面精度の調整をおこなう構成としたことを特
徴とする露光装置である。
線を２つに分割する手段と、分割された光束の光路調整
手段から少な（とも構成される２光束干渉法による平面
波ホログラフィック・グレーティング露光装置と、平面
グレーティングとからなり、前記分割された２つの光束
を、平面グレーティングの法線に対して対向する方向か
ら入射し、前記２つの光束の回折光どおしの干渉縞をモ
ニタし、波面精度の調整をおこなう構成としたことを特
徴とする露光装置である。
本発明における特徴的な要件は、分割された２つの光束
を、平面グレーティングの法線に対して対向する方向か
ら入射し、前記２つの光束の回折光どおしの干渉縞をモ
ニタし、波面精度の調整をおこなうことにある。
を、平面グレーティングの法線に対して対向する方向か
ら入射し、前記２つの光束の回折光どおしの干渉縞をモ
ニタし、波面精度の調整をおこなうことにある。
すなわち、溝本数Ｎ本／ ｍｍの平面披露光装置の露光
ホルダーに、既製の高波面精度グレーティング（溝本数
Ｎ本／ ｍｍ ）をセットした形で構成し、露光用の２
光束のうち一方からは一１次の、もう一方からは一２次
の回折光に注目し、その２つの回折光どおして干渉縞を
観測する。この干渉縞は製作されるグレーティングの回
折波面と等価である。したがって、この干渉縞をモニタ
することにより露光装置の波面調整がリアルタイムで可
能となる。
ホルダーに、既製の高波面精度グレーティング（溝本数
Ｎ本／ ｍｍ ）をセットした形で構成し、露光用の２
光束のうち一方からは一１次の、もう一方からは一２次
の回折光に注目し、その２つの回折光どおして干渉縞を
観測する。この干渉縞は製作されるグレーティングの回
折波面と等価である。したがって、この干渉縞をモニタ
することにより露光装置の波面調整がリアルタイムで可
能となる。
より詳しく説明すると、まず理想状態に近いモデルのグ
レーティング（回折格子板）をセットし、次に上記で説
明した通り２つの光束を照射し、干渉縞を測定して直線
状の干渉縞を得るように入射光を調整する。次に直線状
の干渉縞が得られたら、前記の理想状態に近いモデルの
グレーティング（格子板）を取り外し、あらかじめフォ
トレジストを塗布したブランク基板を露光面にセットし
て、露光現像を行なう。以上の操作により作られたグレ
ーティング（回折格子板）の回折波面は、λ／１０以内
まで容易に達成することができる。
レーティング（回折格子板）をセットし、次に上記で説
明した通り２つの光束を照射し、干渉縞を測定して直線
状の干渉縞を得るように入射光を調整する。次に直線状
の干渉縞が得られたら、前記の理想状態に近いモデルの
グレーティング（格子板）を取り外し、あらかじめフォ
トレジストを塗布したブランク基板を露光面にセットし
て、露光現像を行なう。以上の操作により作られたグレ
ーティング（回折格子板）の回折波面は、λ／１０以内
まで容易に達成することができる。
すなわち、回折波面精度がλ／１０以内まで容易に達成
することが可能になった。従来技術ではせいぜいλ程度
であったので、この回折波面精度の向上はきわめて大き
な意義を有する。
することが可能になった。従来技術ではせいぜいλ程度
であったので、この回折波面精度の向上はきわめて大き
な意義を有する。
本発明において、レーザ光線はいかなる種類、波長のも
のでもよい。説明の都合上−例として挙げると、アルゴ
ンレーザ光、ヘリウム・カドミウムレーザ光（これらの
波長は４０００〜５０００人）等であるが、これに限ら
れない。
のでもよい。説明の都合上−例として挙げると、アルゴ
ンレーザ光、ヘリウム・カドミウムレーザ光（これらの
波長は４０００〜５０００人）等であるが、これに限ら
れない。
Ｅ、実施例
以下図面を用いて本発明の一実施態様を説明する。なお
本発明は以下の実施例の記載に限定されるものではない
。
本発明は以下の実施例の記載に限定されるものではない
。
第１図は本発明の露光装置であり、たとえば溝本数は１
２００本／ｍのホログラフィック・グレーティング露光
装置である。この装置は、レーザ。
２００本／ｍのホログラフィック・グレーティング露光
装置である。この装置は、レーザ。
光線の発光手段１と、レーザ光線を２つに分割する手段
２（例えばビーム・スプリッターＢＳ）と、分割された
光束の光路調整手段（例えば平面ミラー Ｍ ＋〜Ｍ５
、スペーシャル・フィルターＳＦ。
２（例えばビーム・スプリッターＢＳ）と、分割された
光束の光路調整手段（例えば平面ミラー Ｍ ＋〜Ｍ５
、スペーシャル・フィルターＳＦ。
軸外放物面鏡ＰＭ）から少なくとも構成される。
ここで溝本数１２００本／ ｍｍの既製の高精度波面タ
イプの平面グレーティングＧを露光面にセットする。入
射光束１は第２図に示すようにブレティングによって、
−２次、−１次、０次、１次、２次、３次の６つの回折
光に分光される。入射光束２についても同様に各次数の
回折光を出す。ここで入射光束１の一１次光と入射光束
２の一２次光（第３図）に注目すると、この２つの回折
光は同一方向に回折しているため第５図（ａ）に示すよ
うな干渉縞がスクリーン上に観測される。この干渉縞が
第５図（ｂ）を経て直線状の干渉縞（第５図（Ｃ）参照
）になるまで露光装置（第１図）のスペーシャル・フィ
ルタＳＦの位置、および軸外放物面鏡ＰＭの回転、あふ
りを調整する。こうして実際に平面グレーティングを露
光しその回折波面を測定したところ第５図（Ｃ）で観測
される面精度と同等であり、その回折波面はλ／１０と
なった。
イプの平面グレーティングＧを露光面にセットする。入
射光束１は第２図に示すようにブレティングによって、
−２次、−１次、０次、１次、２次、３次の６つの回折
光に分光される。入射光束２についても同様に各次数の
回折光を出す。ここで入射光束１の一１次光と入射光束
２の一２次光（第３図）に注目すると、この２つの回折
光は同一方向に回折しているため第５図（ａ）に示すよ
うな干渉縞がスクリーン上に観測される。この干渉縞が
第５図（ｂ）を経て直線状の干渉縞（第５図（Ｃ）参照
）になるまで露光装置（第１図）のスペーシャル・フィ
ルタＳＦの位置、および軸外放物面鏡ＰＭの回転、あふ
りを調整する。こうして実際に平面グレーティングを露
光しその回折波面を測定したところ第５図（Ｃ）で観測
される面精度と同等であり、その回折波面はλ／１０と
なった。
すなわち入射光束１と入射光束２の干渉縞をモニターす
ることにより、波面精度はきわめて向上することができ
た。
ることにより、波面精度はきわめて向上することができ
た。
本発明による露光装置は、ホログラフィック・グレーテ
ィングの露光に限らず、精密格子板グリッド偏光子等の
露光工程に用いて効果のあることはもちろんのことであ
り、ホログラフィック露光法でパターン形成する工程を
含む製造技術において有効なことは言うまでもない。応
用例としての一例を挙げれば、分光器の分光素子用、測
長器の更生用など、の精密露光技術一般に応用が可能で
ある。
ィングの露光に限らず、精密格子板グリッド偏光子等の
露光工程に用いて効果のあることはもちろんのことであ
り、ホログラフィック露光法でパターン形成する工程を
含む製造技術において有効なことは言うまでもない。応
用例としての一例を挙げれば、分光器の分光素子用、測
長器の更生用など、の精密露光技術一般に応用が可能で
ある。
Ｆ０発明の効果
本発明により、露光装置によって製作される高波面精度
グレーティングの波面調整精度が飛躍的に向上し、また
２光束の平面波を別々に調整することなく同時に調整で
きるため、調整時間も格段に短縮することができた。よ
り具体的には、露光装置の波面調整がリアルタイムで可
能となり、そのうえ回折波面精度がλ／１０以内まで容
易に達成することが可能になった。
グレーティングの波面調整精度が飛躍的に向上し、また
２光束の平面波を別々に調整することなく同時に調整で
きるため、調整時間も格段に短縮することができた。よ
り具体的には、露光装置の波面調整がリアルタイムで可
能となり、そのうえ回折波面精度がλ／１０以内まで容
易に達成することが可能になった。
第１図は本発明の露光装置の一実施態様を示す図である
。第２〜４図は、本発明の詳細な説明する図である。第
５図は、本発明の装置によって観測される干渉縞の例を
示す。 １：レーザ光線の発光手段 ＢＳ：ビームスプリッタ Ｍ１〜Ｍ５：平面ミラー ＳＦ：スペーシャル・フィルター ＰＭ：軸外放物面鏡 Ｇ：露光面およびグレーティング 第２図 第３図 第４ｗＡ 図面の浄書（内容に変更なし） 第５図 手 続 補 正 書（方パノ １、事件の表示 特願平 号 ２、発明の名称 ｊ軽 光 装 置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 京都市中京区西）京桑原町１番地 （１９９） 株式会社 島津製作所 代表者 取締役社長 西へ條 實 ４、代理人 ５、補正命令の日付 願書に最初に添附した図面第５［Ｚの浄書・別紙のとお
り。 （内容に変更なし）
。第２〜４図は、本発明の詳細な説明する図である。第
５図は、本発明の装置によって観測される干渉縞の例を
示す。 １：レーザ光線の発光手段 ＢＳ：ビームスプリッタ Ｍ１〜Ｍ５：平面ミラー ＳＦ：スペーシャル・フィルター ＰＭ：軸外放物面鏡 Ｇ：露光面およびグレーティング 第２図 第３図 第４ｗＡ 図面の浄書（内容に変更なし） 第５図 手 続 補 正 書（方パノ １、事件の表示 特願平 号 ２、発明の名称 ｊ軽 光 装 置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 京都市中京区西）京桑原町１番地 （１９９） 株式会社 島津製作所 代表者 取締役社長 西へ條 實 ４、代理人 ５、補正命令の日付 願書に最初に添附した図面第５［Ｚの浄書・別紙のとお
り。 （内容に変更なし）
Claims (1)
- （１）レーザ光線の発光手段と、レーザ光線を２つに分
割する手段と、分割された光束の光路調整手段から少な
くとも構成される２光束干渉法による平面波ホログラフ
ィック・グレーティング露光装置と、平面グレーティン
グとからなり、前記分割された２つの光束を、平面グレ
ーティングの垂直線に対して対向する方向から入射し、
前記２つの光束の回折光どおしの干渉縞をモニタし、波
面精度の調整をおこなう構成としたことを特徴とする露
光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1110944A JPH0823604B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1110944A JPH0823604B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02287501A true JPH02287501A (ja) | 1990-11-27 |
| JPH0823604B2 JPH0823604B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=14548510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1110944A Expired - Lifetime JPH0823604B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0823604B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013084906A1 (ja) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 露光装置、及び構造の生産方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61119310A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-06 | Nippon Steel Corp | 傾斜ロ−ル圧延装置 |
| JPS61278139A (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-09 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 回折格子露光装置 |
| JPS623280A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 回折格子露光装置 |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP1110944A patent/JPH0823604B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61119310A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-06 | Nippon Steel Corp | 傾斜ロ−ル圧延装置 |
| JPS61278139A (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-09 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 回折格子露光装置 |
| JPS623280A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 回折格子露光装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013084906A1 (ja) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 露光装置、及び構造の生産方法 |
| JPWO2013084906A1 (ja) * | 2011-12-09 | 2015-04-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置、及び構造の生産方法 |
| US9104118B2 (en) | 2011-12-09 | 2015-08-11 | Hitachi High-Technologies Corporation | Exposure device and method for producing structure |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0823604B2 (ja) | 1996-03-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080306 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090306 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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