JPH0823604B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH0823604B2 JPH0823604B2 JP1110944A JP11094489A JPH0823604B2 JP H0823604 B2 JPH0823604 B2 JP H0823604B2 JP 1110944 A JP1110944 A JP 1110944A JP 11094489 A JP11094489 A JP 11094489A JP H0823604 B2 JPH0823604 B2 JP H0823604B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grating
- wavefront
- exposure apparatus
- interference fringes
- accuracy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 A.産業上の利用分野 本発明は、ホログラィック露光法によるグレーティン
グ製作などに用いる露光装置に関する。
グ製作などに用いる露光装置に関する。
B.従来技術 従来の露光装置では、高波面精度グレーティングを製
作する場合、次のように行っていた。まず、平行平面板
を用いて２光束である平面波の面精度を上げるようそれ
ぞれ粗調整する。次に、実際に露光し、それによって製
作されたグレーティングの波面精度を測定し、さらに平
面波を微調整して再度グレーティングを製作し波面精度
を測定する。これを何度もくり返して調整するようにし
ていた。
作する場合、次のように行っていた。まず、平行平面板
を用いて２光束である平面波の面精度を上げるようそれ
ぞれ粗調整する。次に、実際に露光し、それによって製
作されたグレーティングの波面精度を測定し、さらに平
面波を微調整して再度グレーティングを製作し波面精度
を測定する。これを何度もくり返して調整するようにし
ていた。
しかしながら、上記の手順を何回くり返しても、実用
上の回折波面精度はλ（ただしλは光の波長を示す。）
が限界となっていた。すなわち光の波長以上の精度は得
られなかった。
上の回折波面精度はλ（ただしλは光の波長を示す。）
が限界となっていた。すなわち光の波長以上の精度は得
られなかった。
C.発明が解決しようとする課題 前記したように、従来技術では平行平面板を使用して
いるため、平面波の面精度をλまでしか粗調整できなか
った。したがって製作されるグレーティングの回折波面
精度は４λが限界となっていた。また微調整するたびに
グレーティングを製作する必要があり、微調整は非常に
わずらわしく、時間のかかる作業となっていた。
いるため、平面波の面精度をλまでしか粗調整できなか
った。したがって製作されるグレーティングの回折波面
精度は４λが限界となっていた。また微調整するたびに
グレーティングを製作する必要があり、微調整は非常に
わずらわしく、時間のかかる作業となっていた。
本発明の目的は、前記した従来技術の問題点を解消す
るため、分割された２つの光束を、平面グレーティング
の法線に対して対向する方向から入射し、前記２つの光
束の回折光どおしの干渉縞をモニタし、波面精度の調整
をおこなうことにより、きわめて優れた回折波面精度を
出すことにある。
るため、分割された２つの光束を、平面グレーティング
の法線に対して対向する方向から入射し、前記２つの光
束の回折光どおしの干渉縞をモニタし、波面精度の調整
をおこなうことにより、きわめて優れた回折波面精度を
出すことにある。
D.課題を解決するための手段 前記目的を達成するため本発明は下記の構成からな
る。
る。
すなわち本発明は、レーザ光線の発光手段と、レーザ
光線を２つに分割する手段と、分割された光束の光路調
整手段から少なくとも構成される２光束干渉法による平
面波ホログラフィック・グレーティング露光装置と、平
面グレーティングとからなり、前記露光装置に前記分割
された２つの光束を、平面グレーティングの垂直線に対
して対向する方向から入射し、前記２つの光束の回折光
どうしの干渉縞をモニタする手段と、モニタ手段による
干渉縞の形状に応じて前記光路調整手段を微調整し、回
折波面精度の調整をする手段を備えたことを特徴とする
露光装置である。
光線を２つに分割する手段と、分割された光束の光路調
整手段から少なくとも構成される２光束干渉法による平
面波ホログラフィック・グレーティング露光装置と、平
面グレーティングとからなり、前記露光装置に前記分割
された２つの光束を、平面グレーティングの垂直線に対
して対向する方向から入射し、前記２つの光束の回折光
どうしの干渉縞をモニタする手段と、モニタ手段による
干渉縞の形状に応じて前記光路調整手段を微調整し、回
折波面精度の調整をする手段を備えたことを特徴とする
露光装置である。
本発明における特徴的な要件は、分割された２つの光
束を、平面グレーティングの法線に対して対向する方向
から入射し、前記２つの光束の回折光どおしの干渉縞を
モニタし、波面精度の調整をおこなうことにある。
束を、平面グレーティングの法線に対して対向する方向
から入射し、前記２つの光束の回折光どおしの干渉縞を
モニタし、波面精度の調整をおこなうことにある。
すなわち、溝本数Ｎ本/mmの平面波露光装置の露光ホ
ルダーに、既製の高波面精度グレーティング（溝本数Ｎ
本/mm）をセットした形で構成し、露光用の２光束のう
ち一方からは−１次の、もう一方からは−２次の回折光
に注目し、その２つの回折光どおしで干渉縞を観測す
る。この干渉縞は製作されるグレーティングの回折波面
と等価である。したがって、この干渉縞をモニタするこ
とにより露光装置の波面調整がリアルタイムで可能とな
る。
ルダーに、既製の高波面精度グレーティング（溝本数Ｎ
本/mm）をセットした形で構成し、露光用の２光束のう
ち一方からは−１次の、もう一方からは−２次の回折光
に注目し、その２つの回折光どおしで干渉縞を観測す
る。この干渉縞は製作されるグレーティングの回折波面
と等価である。したがって、この干渉縞をモニタするこ
とにより露光装置の波面調整がリアルタイムで可能とな
る。
より詳しく説明すると、まず理想状態に近いモデルの
グレーティング（回折格子板）をセットし、次に上記で
説明した通り２つの光束を照射し、干渉縞を測定して直
線状の干渉縞を得るように入射光を調整する。次に直線
状の干渉縞が得られたら、前記の理想状態に近いモデル
のグレーティング（格子板）を取り外し、あらかじめフ
ォトレジストを塗布したブランク基板を露光面にセット
して、露光現像を行なう。以上の操作により作られたグ
レーティング（回折格子板）の回折波面は、λ/10以内
まで容易に達成することができる。すなわち、回折波面
精度がλ/10以内まで容易に達成することが可能になっ
た。従来技術ではせいぜいλ程度であったので、この回
折波面精度の向上はきわめて大きな意義を有する。
グレーティング（回折格子板）をセットし、次に上記で
説明した通り２つの光束を照射し、干渉縞を測定して直
線状の干渉縞を得るように入射光を調整する。次に直線
状の干渉縞が得られたら、前記の理想状態に近いモデル
のグレーティング（格子板）を取り外し、あらかじめフ
ォトレジストを塗布したブランク基板を露光面にセット
して、露光現像を行なう。以上の操作により作られたグ
レーティング（回折格子板）の回折波面は、λ/10以内
まで容易に達成することができる。すなわち、回折波面
精度がλ/10以内まで容易に達成することが可能になっ
た。従来技術ではせいぜいλ程度であったので、この回
折波面精度の向上はきわめて大きな意義を有する。
本発明において、レーザ光線はいかなる種類、波長の
ものでもよい。説明の都合上一例として挙げると、アル
ゴンレーザ光、ヘリウム・カドミウムレーザ光（これら
の波長は4000〜5000Å）等であるが、これに限られな
い。
ものでもよい。説明の都合上一例として挙げると、アル
ゴンレーザ光、ヘリウム・カドミウムレーザ光（これら
の波長は4000〜5000Å）等であるが、これに限られな
い。
E.実施例 以下図面を用いて本発明の一実施態様を説明する。な
お本発明は以下の実施例の記載に限定されるものではな
い。
お本発明は以下の実施例の記載に限定されるものではな
い。
第１図は本発明の露光装置であり、たとえば溝本数は
1200本/mmのホログラフィック・グレーティング露光装
置である。この装置は、レーザ光線の発光手段１と、レ
ーザ光線を２つに分割する手段２（例えばビーム・スプ
リッターBS）と、分割された光束の光路調整手段（例え
ば平面ミラーM1〜M5、スペーシャル・フィルターSF、軸
外放物面鏡PM）から少なくとも構成される。
1200本/mmのホログラフィック・グレーティング露光装
置である。この装置は、レーザ光線の発光手段１と、レ
ーザ光線を２つに分割する手段２（例えばビーム・スプ
リッターBS）と、分割された光束の光路調整手段（例え
ば平面ミラーM1〜M5、スペーシャル・フィルターSF、軸
外放物面鏡PM）から少なくとも構成される。
ここで溝本数1200本/mmの既製の高精度波面タイプの
平面グレーティングＧを露光面にセットする。入射光束
１は第２図に示すようにグレーティングによって、−２
次、−１次、０次、１次、２次、３次の６つの回折光に
分光される。入射光束２についても同様に各次数の回折
光を出す。ここで入射光束１の−１次光と入射光束２の
−２次光（第３図）に注目すると、この２つの回折光は
同一方向に回折しているため第５図（ａ）に示すような
干渉縞がスクリーン上に観測される。この干渉縞が第５
図（ｂ）を経て直線状の干渉縞（第５図（ｃ）参照）に
なるまで露光装置（第１図）のスペーシャル・フィルタ
SFの位置、および軸外放物面鏡PMの回転、あふりを調整
する。こうして実際に平面グレーティングを露光しその
回折波面を測定したところ第５図（ｃ）で観測される面
精度と同等であり、その回折波面はλ/10となった。
平面グレーティングＧを露光面にセットする。入射光束
１は第２図に示すようにグレーティングによって、−２
次、−１次、０次、１次、２次、３次の６つの回折光に
分光される。入射光束２についても同様に各次数の回折
光を出す。ここで入射光束１の−１次光と入射光束２の
−２次光（第３図）に注目すると、この２つの回折光は
同一方向に回折しているため第５図（ａ）に示すような
干渉縞がスクリーン上に観測される。この干渉縞が第５
図（ｂ）を経て直線状の干渉縞（第５図（ｃ）参照）に
なるまで露光装置（第１図）のスペーシャル・フィルタ
SFの位置、および軸外放物面鏡PMの回転、あふりを調整
する。こうして実際に平面グレーティングを露光しその
回折波面を測定したところ第５図（ｃ）で観測される面
精度と同等であり、その回折波面はλ/10となった。
すなわち入射光束１と入射光束２の干渉縞をモニター
することにより、波面精度はきわめて向上することがで
きた。
することにより、波面精度はきわめて向上することがで
きた。
本発明による露光装置は、ホログラフィック・グレー
ティングの露光に限らず、精密格子板グリッド偏光子等
の露光工程に用いて効果のあることはもちろんのことで
あり、ホログラフィック露光法でパターン形成する工程
を含む製造技術において有効なことは言うまでもない。
応用例としての一例を挙げれば、分光器の分光素子用、
測長器の更生用など、の精密露光技術一般に応用が可能
である。
ティングの露光に限らず、精密格子板グリッド偏光子等
の露光工程に用いて効果のあることはもちろんのことで
あり、ホログラフィック露光法でパターン形成する工程
を含む製造技術において有効なことは言うまでもない。
応用例としての一例を挙げれば、分光器の分光素子用、
測長器の更生用など、の精密露光技術一般に応用が可能
である。
F.発明の効果 本発明により、露光装置によって製作される高波面精
度グレーティングの波面調整精度が飛躍的に向上し、ま
た２光束の平面波を別々に調整することなく同時に調整
できるため、調整時間も格段に短縮することができた。
より具体的には、露光装置の波面調整がリアルタイムで
可能となり、そのうえ回折波面精度がλ/10以内まで容
易に達成することが可能となった。
度グレーティングの波面調整精度が飛躍的に向上し、ま
た２光束の平面波を別々に調整することなく同時に調整
できるため、調整時間も格段に短縮することができた。
より具体的には、露光装置の波面調整がリアルタイムで
可能となり、そのうえ回折波面精度がλ/10以内まで容
易に達成することが可能となった。
第１図は本発明の露光装置の一実施態様を示す図であ
る。第２〜４図は、本発明の原理を説明する図である。
第５図は、本発明の装置によって観測される干渉縞の例
を示す。 1:レーザ光線の発光手段 BS:ビームスプリッタ M1〜M5：平面ミラー SF:スペーシャル・フィルター PM:軸外放物面鏡 G:露光面およびグレーティング
る。第２〜４図は、本発明の原理を説明する図である。
第５図は、本発明の装置によって観測される干渉縞の例
を示す。 1:レーザ光線の発光手段 BS:ビームスプリッタ M1〜M5：平面ミラー SF:スペーシャル・フィルター PM:軸外放物面鏡 G:露光面およびグレーティング
Claims (1)
- 【請求項１】レーザ光線の発光手段と、レーザ光線を２
つに分割する手段と、分割された光束の光路調整手段か
ら少なくとも構成される２光束干渉法による平面波ホロ
グラフィック・グレーティング露光装置と、平面グレー
ティングとからなり、前記露光装置に前記分割された２
つの光束を、平面グレーティングの垂直線に対して対向
する方向から入射し、前記２つの光束の回折光どうしの
干渉縞をモニタする手段と、モニタ手段による干渉縞の
形状に応じて前記光路調整手段を微調整し、回折波面精
度の調整をする手段を備えたことを特徴とする露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1110944A JPH0823604B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1110944A JPH0823604B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02287501A JPH02287501A (ja) | 1990-11-27 |
| JPH0823604B2 true JPH0823604B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=14548510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1110944A Expired - Lifetime JPH0823604B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0823604B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9104118B2 (en) | 2011-12-09 | 2015-08-11 | Hitachi High-Technologies Corporation | Exposure device and method for producing structure |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61119310A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-06 | Nippon Steel Corp | 傾斜ロ−ル圧延装置 |
| JPS61278139A (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-09 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 回折格子露光装置 |
| JPS623280A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 回折格子露光装置 |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP1110944A patent/JPH0823604B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02287501A (ja) | 1990-11-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080306 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090306 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100306 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100306 Year of fee payment: 14 |