JP3314414B2 - ホログラフィック露光装置調整方法 - Google Patents
ホログラフィック露光装置調整方法Info
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0476—Holographic printer
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は回折格子とかグリッド偏
光子，精密格子板のような微細条溝を形成した素子を、
ホログラフィック露光法により干渉パターンのホトレジ
ストへの焼着け、エッチングによって形成する場合にお
ける露光装置の調整方法に関する。
光子，精密格子板のような微細条溝を形成した素子を、
ホログラフィック露光法により干渉パターンのホトレジ
ストへの焼着け、エッチングによって形成する場合にお
ける露光装置の調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】回折格子のような微細条溝を形成した素
子の製作法として、レーザ光束を２光束に分け、それら
の２光束を格子基板上に照射して形成される干渉パター
ンを基板上のホトレジストに焼着け、この焼着けられた
パターンを現像した後エッチングによって干渉パターン
を基板面に刻設する回折格子状の素子の製作法がある。
このようなホログラフィック露光法による回折格子等の
製作では、ホログラフィック露光による干渉パターンの
コントラストが最もよくなるよう２光束の光路差を調節
する必要がある。このため従来は露光装置組立の際メジ
ャーを用いて２光束の光路長を測定して調節を行ってい
た。
子の製作法として、レーザ光束を２光束に分け、それら
の２光束を格子基板上に照射して形成される干渉パター
ンを基板上のホトレジストに焼着け、この焼着けられた
パターンを現像した後エッチングによって干渉パターン
を基板面に刻設する回折格子状の素子の製作法がある。
このようなホログラフィック露光法による回折格子等の
製作では、ホログラフィック露光による干渉パターンの
コントラストが最もよくなるよう２光束の光路差を調節
する必要がある。このため従来は露光装置組立の際メジ
ャーを用いて２光束の光路長を測定して調節を行ってい
た。
【０００３】実際にホログラフィック露光法で基板上に
干渉パターンを形成して見ると、基板の或る場所で干渉
パターンのコントラストが最高で、その両側ではコント
ラスト最高の場所から離れるに従ってコントラストが低
下して行くことが観察される。そこでこのコントラスト
最高の場所を基板中央に位置させれば、基板全面でコン
トラストの最高と最低との差が最も小さくなる。このた
め前述したような調節を行うのであるが、単に目視によ
ってはコントラストの最高の場所がどこかは明確には分
からない。従ってメジャーを用い、２光束の光路差が０
になるように露光装置の各素子の位置を設定しているの
である。
干渉パターンを形成して見ると、基板の或る場所で干渉
パターンのコントラストが最高で、その両側ではコント
ラスト最高の場所から離れるに従ってコントラストが低
下して行くことが観察される。そこでこのコントラスト
最高の場所を基板中央に位置させれば、基板全面でコン
トラストの最高と最低との差が最も小さくなる。このた
め前述したような調節を行うのであるが、単に目視によ
ってはコントラストの最高の場所がどこかは明確には分
からない。従ってメジャーを用い、２光束の光路差が０
になるように露光装置の各素子の位置を設定しているの
である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ホログラフィック露光
法における２光束の光路長調節作業は従来上述したよう
にメジャー等を用いて行っていたので、正確な作業は出
来ず、最良のコントラストを持った干渉パターンが形成
されているか否かは不明であった。本発明はこの調節が
容易正確にできる方法を提供しようとするものである。
法における２光束の光路長調節作業は従来上述したよう
にメジャー等を用いて行っていたので、正確な作業は出
来ず、最良のコントラストを持った干渉パターンが形成
されているか否かは不明であった。本発明はこの調節が
容易正確にできる方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】ホログラフィック露光装
置で露光すべき基板を置く位置に回折格子を置き、露光
に用いられる２光束を同回折格子に照射し、同回折格子
による上記２光束の同次回折光のうち、一方の光束の正
次の回折光と他方の光束の負次の回折光が同回折格子の
格子面に略垂直で互いに略平行の方向に回折されて互い
に干渉するようにし、上記２光束の光路長を調節しつ
ヽ、上記回折格子からの正負同次回折光の干渉のコント
ラストが最大になるようにホログラフィック露光装置の
２光束の光路長を調節するようにした。
置で露光すべき基板を置く位置に回折格子を置き、露光
に用いられる２光束を同回折格子に照射し、同回折格子
による上記２光束の同次回折光のうち、一方の光束の正
次の回折光と他方の光束の負次の回折光が同回折格子の
格子面に略垂直で互いに略平行の方向に回折されて互い
に干渉するようにし、上記２光束の光路長を調節しつ
ヽ、上記回折格子からの正負同次回折光の干渉のコント
ラストが最大になるようにホログラフィック露光装置の
２光束の光路長を調節するようにした。
【０００６】
【作用】図３Ａに示すように一つの回折格子Ｇに平行光
束を入射させたとき＋１次の回折光が格子面に垂直方向
になるとすると、このときの０次回折光の方向から平行
光束を入射させると、図３Ｂのように−１次回折光が格
子面に垂直の方向となる。そこで一つの回折格子Ｇに図
３Ａ，Ｂに示すように２方向から平行光束を入射させる
と、格子面に垂直な＋１次と−１次の回折光が重なって
干渉する。ホログラフィック露光装置で基板に２光束を
照射するときの２光束間の角度は決まっているので、上
のような関係が成立する回折格子は予め用意しておくこ
とができる。回折格子による２つの正負同次の回折光が
格子面に垂直となるようにできるのは１次回折光に限ら
ない。単に１次回折光を使えば回折光強度が高次のもの
より強いと云うだけのことである。
束を入射させたとき＋１次の回折光が格子面に垂直方向
になるとすると、このときの０次回折光の方向から平行
光束を入射させると、図３Ｂのように−１次回折光が格
子面に垂直の方向となる。そこで一つの回折格子Ｇに図
３Ａ，Ｂに示すように２方向から平行光束を入射させる
と、格子面に垂直な＋１次と−１次の回折光が重なって
干渉する。ホログラフィック露光装置で基板に２光束を
照射するときの２光束間の角度は決まっているので、上
のような関係が成立する回折格子は予め用意しておくこ
とができる。回折格子による２つの正負同次の回折光が
格子面に垂直となるようにできるのは１次回折光に限ら
ない。単に１次回折光を使えば回折光強度が高次のもの
より強いと云うだけのことである。
【０００７】図２によって本発明の作用を説明する。レ
ーザビームＢが半透明鏡ＢＳで２光束に分割され、両光
束が鏡Ｍ１，Ｍ２で反射されて基板Ｓに入射せしめられ
る。半透明鏡ＢＳと鏡Ｍ１，Ｍ２との間にレーザビーム
を拡幅するため集光レンズＬ１，ピンホール（スペイシ
ャルフィルタ）Ｈ，集光レンズＬ２よりなる光学系が入
れてあって、基板Ｓには９０度の角度で交わる２つの平
行光束が入射せしめられる。このため基板Ｓには、この
２光束による干渉縞が生じている。図ではＢＳから基板
面に到る２光束の中心光線の光路長が等しく画いてあ
る。こゝで基板上の中心０から離れたＰ点を考えると、
こゝに到達する２つの光線は図にａ，ｂで示すように、
２（√２）ＯＰの光路差がある。レザービームの単色性
は高いが、それでも或る範囲の波長分布を持っている。
このため、互いの光路差が０である２光束の中心光線が
０点で交わるときは、レザービーム中のどの波長の光も
全て同相で交わるから、基板中心付近では干渉縞のコン
トラストは最も高い。しかし、Ｐ点のように中心から離
れた場所では２光束間に上記したような光路差があるた
め、仮にレザービーム中の或る波長の光では、２光束が
同相であっても、他の波長の光では、波長により２光束
間で少しずつ位相がずれてくるので、干渉縞のコントラ
ストが低くなる。こゝで２光束の一方例えばＭ１，Ｓ間
に光路長可変手段を挿入して光線ａ側の光路長を連続的
に変化させると、基板Ｓ上の干渉縞は基板面上を図の紙
面と平行の方向に移動し、それに伴って干渉縞のコント
ラスト最高の場所も基板面を移動する。従って、本発明
の目的は、この干渉縞のコントラスト最高の場所を基板
面上の所定の場所例えば中央に位置させるよう光路長可
変手段を調整することにある。
ーザビームＢが半透明鏡ＢＳで２光束に分割され、両光
束が鏡Ｍ１，Ｍ２で反射されて基板Ｓに入射せしめられ
る。半透明鏡ＢＳと鏡Ｍ１，Ｍ２との間にレーザビーム
を拡幅するため集光レンズＬ１，ピンホール（スペイシ
ャルフィルタ）Ｈ，集光レンズＬ２よりなる光学系が入
れてあって、基板Ｓには９０度の角度で交わる２つの平
行光束が入射せしめられる。このため基板Ｓには、この
２光束による干渉縞が生じている。図ではＢＳから基板
面に到る２光束の中心光線の光路長が等しく画いてあ
る。こゝで基板上の中心０から離れたＰ点を考えると、
こゝに到達する２つの光線は図にａ，ｂで示すように、
２（√２）ＯＰの光路差がある。レザービームの単色性
は高いが、それでも或る範囲の波長分布を持っている。
このため、互いの光路差が０である２光束の中心光線が
０点で交わるときは、レザービーム中のどの波長の光も
全て同相で交わるから、基板中心付近では干渉縞のコン
トラストは最も高い。しかし、Ｐ点のように中心から離
れた場所では２光束間に上記したような光路差があるた
め、仮にレザービーム中の或る波長の光では、２光束が
同相であっても、他の波長の光では、波長により２光束
間で少しずつ位相がずれてくるので、干渉縞のコントラ
ストが低くなる。こゝで２光束の一方例えばＭ１，Ｓ間
に光路長可変手段を挿入して光線ａ側の光路長を連続的
に変化させると、基板Ｓ上の干渉縞は基板面上を図の紙
面と平行の方向に移動し、それに伴って干渉縞のコント
ラスト最高の場所も基板面を移動する。従って、本発明
の目的は、この干渉縞のコントラスト最高の場所を基板
面上の所定の場所例えば中央に位置させるよう光路長可
変手段を調整することにある。
【０００８】図２で基板Ｓの所に図３で説明したような
回折格子Ｇを置いて、Ｇに入射する２光束の格子面に垂
直な方向の異符号同次の回折光の干渉を面Ｕにおいて観
測すると、上記した２光束の各回折光が互いに完全に平
行であれば、両方の回折光の波面は、格子面に平行で互
いに同相で重なり、Ｕ面は一様な明るさになる。しか
し、Ｕ面の中心から離れた所では、レーザー光中の異な
る波長の光の位相が少しずつずれているので、Ｕ面の明
るさは、中心部に比し暗い。こゝで上記した光路長可変
手段を調整すると、Ｕ面は明暗交互に変化するから、Ｓ
面の干渉縞のコントラストを最も高くしたい位置に対向
するＵ面上で明暗変化を検出し、その変化幅が最大にな
るよう光路長可変手段を調節すればよいことになる。２
つの回折光が平行でないときは、Ｕ面には干渉縞が現
れ、光路長を変えるとこの縞が移動するので、縞のコン
トラストが最も強くなる場所が目的の位置に来るように
しても同じである。
回折格子Ｇを置いて、Ｇに入射する２光束の格子面に垂
直な方向の異符号同次の回折光の干渉を面Ｕにおいて観
測すると、上記した２光束の各回折光が互いに完全に平
行であれば、両方の回折光の波面は、格子面に平行で互
いに同相で重なり、Ｕ面は一様な明るさになる。しか
し、Ｕ面の中心から離れた所では、レーザー光中の異な
る波長の光の位相が少しずつずれているので、Ｕ面の明
るさは、中心部に比し暗い。こゝで上記した光路長可変
手段を調整すると、Ｕ面は明暗交互に変化するから、Ｓ
面の干渉縞のコントラストを最も高くしたい位置に対向
するＵ面上で明暗変化を検出し、その変化幅が最大にな
るよう光路長可変手段を調節すればよいことになる。２
つの回折光が平行でないときは、Ｕ面には干渉縞が現
れ、光路長を変えるとこの縞が移動するので、縞のコン
トラストが最も強くなる場所が目的の位置に来るように
しても同じである。
【０００９】
【実施例】図１に本発明方法の一実施例を実施したホロ
グラフィック露光装置を示す。１は露光用光源のレーザ
である。レーザ１の出射光束は半透明鏡ＢＳで２光束Ｆ
１，Ｆ２に分割され、これら各光束は夫々複鏡２，３で
転向される。こゝで一方の複鏡２は複鏡の２枚の鏡の挟
角の２等分線の方向即ち図矢印の方向に位置調節可能
で、これを動かすことにより、光束Ｆ１が半透明鏡ＢＳ
から露光基板Ｓに到る光路長が調節される。２光束Ｆ
１，Ｆ２は夫々集光レンズＬ１，ピンホールＨ，凹面鏡
４，５よりなる光束拡幅光学系で断面がレーザビームよ
り拡大された平行光束となり、平面鏡６，７により反射
されて基板Ｓに入射せしめられる。基板に入射する２光
束は基板面中央に立てた垂線に対し互いに対称的な関係
にあり、２光束は基板面で斜交して基板面に干渉縞を形
成する。
グラフィック露光装置を示す。１は露光用光源のレーザ
である。レーザ１の出射光束は半透明鏡ＢＳで２光束Ｆ
１，Ｆ２に分割され、これら各光束は夫々複鏡２，３で
転向される。こゝで一方の複鏡２は複鏡の２枚の鏡の挟
角の２等分線の方向即ち図矢印の方向に位置調節可能
で、これを動かすことにより、光束Ｆ１が半透明鏡ＢＳ
から露光基板Ｓに到る光路長が調節される。２光束Ｆ
１，Ｆ２は夫々集光レンズＬ１，ピンホールＨ，凹面鏡
４，５よりなる光束拡幅光学系で断面がレーザビームよ
り拡大された平行光束となり、平面鏡６，７により反射
されて基板Ｓに入射せしめられる。基板に入射する２光
束は基板面中央に立てた垂線に対し互いに対称的な関係
にあり、２光束は基板面で斜交して基板面に干渉縞を形
成する。
【００１０】上述した装置の調整には基板Ｓの位置に回
折格子Ｇを置く。この回折格子は基板面の上記２光束に
よる干渉縞のピッチの１／２倍の格子溝ピッチのもの
で、この実施例の場合、干渉縞が１２００本／ｍｍであ
るのに対して溝数６００本／ｍｍのものを用いる。こう
すると回折格子に入射する上記２光束の一方の＋１次回
折光と他方の−１次回折光が共に回折格子に立てた垂線
と平行となり、互いに干渉する。この干渉パターンの中
心部の光を回折格子Ｇの中心法線上に配置した受光素子
８により受光する。受光素子８の出力を転向用複鏡２の
調節量を横軸にとって記録すると、図４のような変化が
見られる。そこでこの変化の振幅の最大である複鏡２の
位置で同複鏡を固定すれば調整は終わりである。或は受
光素子８の代わりに一次元アレー状の受光素子を置い
て、複鏡２を動かしたときの、このアレー素子の両端部
の出力の変化の振幅を比較し、両端部の変化の振幅が同
じになるように調節すると云った構成にしてもよい。
折格子Ｇを置く。この回折格子は基板面の上記２光束に
よる干渉縞のピッチの１／２倍の格子溝ピッチのもの
で、この実施例の場合、干渉縞が１２００本／ｍｍであ
るのに対して溝数６００本／ｍｍのものを用いる。こう
すると回折格子に入射する上記２光束の一方の＋１次回
折光と他方の−１次回折光が共に回折格子に立てた垂線
と平行となり、互いに干渉する。この干渉パターンの中
心部の光を回折格子Ｇの中心法線上に配置した受光素子
８により受光する。受光素子８の出力を転向用複鏡２の
調節量を横軸にとって記録すると、図４のような変化が
見られる。そこでこの変化の振幅の最大である複鏡２の
位置で同複鏡を固定すれば調整は終わりである。或は受
光素子８の代わりに一次元アレー状の受光素子を置い
て、複鏡２を動かしたときの、このアレー素子の両端部
の出力の変化の振幅を比較し、両端部の変化の振幅が同
じになるように調節すると云った構成にしてもよい。
【００１１】
【発明の効果】本発明によればホログラフィック露光法
で干渉パターンのコントラストが最も高い状態に装置を
調整して干渉パターンをホトレジストに記録することが
でき、現像して得られるホトレジストパターンの高さが
従来１５０ｎｍ程度であったものを２００ｎｍ以上にす
ることが可能となり、以後のエッチング工程の作業性が
向上した。
で干渉パターンのコントラストが最も高い状態に装置を
調整して干渉パターンをホトレジストに記録することが
でき、現像して得られるホトレジストパターンの高さが
従来１５０ｎｍ程度であったものを２００ｎｍ以上にす
ることが可能となり、以後のエッチング工程の作業性が
向上した。
【図１】本発明方法を適用した露光装置の平面図
【図２】本発明の作用を説明する原理図
【図３】回折格子の各次数の回折光を示す図
【図４】本発明の実施例における受光素子の出力のグラ
フ
フ
１ レーザ ２，３ 複鏡 ４，５ 凹面鏡 ６，７ 平面鏡 ８ 受光素子 Ｓ 露光すべき基板 Ｇ 回折格子
Claims (1)
- 【請求項１】 ホログラフィック露光装置で露光すべき
基板を置く位置に回折格子を置いて、露光すべき２光束
をこの回折格子に照射したとき、同回折格子によって回
折される上記各光束の互いに同次数反対符号の回折光が
上記回折格子の格子面に略垂直で互いに略平行となるよ
うに回折格子の格子定数を選んで、その回折格子を上記
基板設置位置に置いて、同回折格子中央に立てた垂線に
垂直な面上に形成されている干渉像を受光素子で受光検
出して、この干渉像のコントラストが最高になるように
上記２光束の光路長を調節することを特徴とするホログ
ラフィック露光装置調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21214492A JP3314414B2 (ja) | 1992-07-16 | 1992-07-16 | ホログラフィック露光装置調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21214492A JP3314414B2 (ja) | 1992-07-16 | 1992-07-16 | ホログラフィック露光装置調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0634807A JPH0634807A (ja) | 1994-02-10 |
| JP3314414B2 true JP3314414B2 (ja) | 2002-08-12 |
Family
ID=16617623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21214492A Expired - Fee Related JP3314414B2 (ja) | 1992-07-16 | 1992-07-16 | ホログラフィック露光装置調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3314414B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR200457808Y1 (ko) * | 2011-09-15 | 2012-01-03 | 신현종 | 열연코일의 변형 방지장치 |
| CN103698835B (zh) * | 2013-12-17 | 2015-10-28 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 采用外差式干涉条纹锁定控制的全息光栅曝光方法 |
| US11762135B2 (en) | 2018-06-20 | 2023-09-19 | Shimadzu Corporation | Device and method for producing master diffraction grating |
-
1992
- 1992-07-16 JP JP21214492A patent/JP3314414B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0634807A (ja) | 1994-02-10 |
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