WO2012140927A1 - ヒートフロースイッチ - Google Patents

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flow switch
heat flow
nanotube layer
heat
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知典 高橋
春男 大塚
美智子 楠
航 乗松
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日本碍子株式会社
国立大学法人名古屋大学
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    • Y10S977/932Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application

Definitions

  • the technology disclosed in this specification relates to a heat flow switch capable of changing the thermal conductivity by switching between a state in which two members are brought into contact with each other and a state in which these members are not brought into contact with each other.
  • Japanese Published Patent Publication No. 2009-531821 discloses a heat flow switch that switches between a state in which two members are in contact with each other and a state in which they are not in contact with each other. In a state where the two members are brought into contact (hereinafter referred to as a connected state), heat is conducted between these members. When the two members are not in contact with each other, the heat conduction between these members is blocked.
  • the heat flow switch has a low thermal resistance between the two members in the connected state (hereinafter, the thermal resistance between the two members in the connected state is referred to as the thermal resistance of the heat flow switch).
  • the thermal resistance between the two members in the connected state is referred to as the thermal resistance of the heat flow switch.
  • irregularities on the order of nanometers remain on each contact surface. This unevenness is one of the factors that increase the thermal resistance of the heat flow switch. For this reason, further reduction of the thermal resistance of a heat flow switch is desired. Accordingly, the present specification provides a heat flow switch with lower thermal resistance.
  • the heat flow switch disclosed in this specification has a first member and a second member.
  • the first member has a base material and a carbon nanotube layer formed on the surface of the base material.
  • the heat flow switch switches between a connected state in which the carbon nanotube layer of the first member is in contact with the second member and a disconnected state in which the carbon nanotube layer of the first member is not in contact with the second member.
  • switching between the connected state and the disconnected state may be performed electrically or may be performed by other methods.
  • the connected state and the disconnected state may be switched by moving at least one of the first member and the second member by an electrically controlled actuator.
  • you may switch a connection state and a non-connection state using the thermal expansion and thermal contraction of a 1st member and a 2nd member.
  • the first member has a carbon nanotube layer.
  • Carbon nanotubes have extremely high thermal conductivity. Carbon nanotubes are highly elastic. Therefore, the carbon nanotube layer can be elastically deformed. For this reason, even if minute irregularities exist on the contact surface of the second member (the surface in contact with the carbon nanotube layer in the connected state), when the carbon nanotube layer contacts the second member, the carbon nanotube layer It can be deformed according to the unevenness of the two members. Therefore, in this heat flow switch, it is difficult for a gap to occur at the interface between the first member and the second member in the connected state. That is, the carbon nanotube layer can be in close contact with the contact surface of the second member. Thus, in this heat flow switch, the carbon nanotube layer having extremely high thermal conductivity is in close contact with the second member. Therefore, this heat flow switch has a low thermal resistance (thermal resistance between the first member and the second member in the connected state).
  • Japanese Patent Application Publication No. 2009-253123 discloses a technique of connecting a semiconductor element and a heat sink via a carbon nanotube layer in order to reduce the thermal resistance between the semiconductor element and the heat sink.
  • the heat sink is fixed to the semiconductor element (that is, always in a connected state), which is different from the technique in this specification relating to a heat flow switch that switches between a connected state and a disconnected state.
  • switching between a connected state and a disconnected state is repeated, so that pressure is repeatedly applied to the carbon nanotube layer. That is, the technology disclosed in this specification finds that carbon nanotubes have practical durability against repeated pressure, and uses this durability to have a practical level of durability, and A heat flow switch with low thermal resistance is realized.
  • the second member has a base material and a carbon nanotube layer formed on the surface of the base material.
  • the carbon nanotube layer of the first member is the second member. It is preferable to contact the carbon nanotube layer.
  • the carbon nanotube layer when the carbon nanotube layer is also formed on the contact surface of the second member, the carbon nanotube layers of both the first member and the second member can be elastically deformed in the connected state. For this reason, the first member can be more closely attached to the second member. Therefore, according to this configuration, the thermal resistance of the heat flow switch can be further reduced.
  • the carbon nanotubes contained in the carbon nanotube layer of the first member are erected at an angle of 60 ° or more with respect to the surface of the substrate.
  • 0 degree means that the surface of a carbon nanotube and a base material is parallel
  • 90 degrees means that the surface of a carbon nanotube and a base material is perpendicular
  • the carbon nanotube layer of the first member is preferably impregnated with resin.
  • the thermal conductivity of the carbon nanotube layer becomes higher, so that the thermal resistance of the heat flow switch can be further reduced.
  • the thickness of the carbon nanotube layer of the first member is preferably 0.5 ⁇ m or more.
  • the carbon nanotube layer has a thickness of 0.5 ⁇ m or more, the carbon nanotube layer can be suitably deformed according to the shape of the contact surface of the second member.
  • the base material of the first member is preferably made of SiC.
  • connection strength between the carbon nanotube and the base material tends to be high. Therefore, according to said structure, durability of a heat flow switch can be improved.
  • a SiC substrate it is preferable to form a carbon nanotube layer on the substrate surface by heating the SiC substrate in a reduced-pressure atmosphere to oxidize and remove Si atoms on the substrate surface. .
  • the carbon nanotube layer is formed in this way, the connection strength between the carbon nanotube and the substrate can be further improved.
  • the side view of the heat flow switch of Example 1 (non-connection state).
  • FIG. The expanded side view of the contact surface vicinity of the heat flow switch of Example 1 (non-connection state).
  • FIG. The enlarged side view (connection state) of the contact surface vicinity of the conventional heat flow switch.
  • FIG. 1 The expanded side view (connection state) of the contact surface vicinity of the heat flow switch of Example 2.
  • the heat flow switch 10 includes a heat conducting member 20, a heat conducting member 30, a guide 40, and an actuator 50.
  • the heat conducting member 20 has a contact surface 20a.
  • the heat conducting member 30 has a contact surface 30a.
  • the heat conducting member 20 and the heat conducting member 30 are disposed at positions where the contact surface 20a and the contact surface 30a face each other.
  • the heat conducting member 20 is fixed to the guide 40.
  • the heat conducting member 30 is restricted by the guide 40 so that it cannot move in the lateral direction (direction parallel to the contact surface 20a) with respect to the heat conducting member 20. Further, the heat conducting member 30 can be moved forward and backward with respect to the heat conducting member 20 by being guided by the guide 40.
  • the actuator 50 is connected to the heat conducting member 30 and moves the heat conducting member 30 forward and backward with respect to the heat conducting member 20.
  • the actuator 50 moves the heat conducting member 30 so that the heat conducting member 20 is in non-contact with the heat conducting member 30 as shown in FIG.
  • the state in which the member 20 is in contact with the heat conducting member 30 (hereinafter referred to as a connected state) is switched.
  • the operation of the actuator 50 is electrically controlled by a control circuit (not shown).
  • the guide 40 is made of a heat insulating material.
  • the heat conducting member 20 is mainly composed of SiC, and the heat conducting member 20 has a high thermal conductivity.
  • the heat conductive member 30 is comprised with Cu, and the heat conductivity of the heat conductive member 30 is high.
  • the heat conducting member 20 is connected to a high temperature member (not shown), and the heat conducting member 30 is connected to a low temperature member (not shown). Therefore, heat is conducted from the heat conducting member 20 toward the heat conducting member 30 in the connected state, and heat conduction from the heat conducting member 20 to the heat conducting member 30 is blocked in the non-connected state. That is, heat conduction can be controlled by the heat flow switch 10.
  • FIG. 3 shows an enlarged side view of the heat flow switch 10 in the vicinity of the contact surfaces 20a and 30a.
  • the heat conducting member 20 has a base material 22 and a carbon nanotube layer 24.
  • the base material 22 is made of SiC.
  • a large number of carbon nanotubes 26 are erected on the surface 22 a of the base material 22 on the heat conducting member 30 side. These carbon nanotubes 26 form a carbon nanotube layer 24.
  • the contact surface 20 a described above is formed by the tip of each carbon nanotube 26.
  • unevenness is formed on the contact surface 30 a of the heat conducting member 30.
  • This unevenness is an unevenness having a depth of the order of nanometers and cannot be removed even if the contact surface 30a is planarized.
  • the carbon nanotube layer 24 of the heat conducting member 20 comes into contact with the contact surface 30a of the heat conducting member 30.
  • most of the carbon nanotubes 26 come into contact with the contact surface 30a at the tip portion.
  • Each carbon nanotube 26 is pressurized in the axial direction (longitudinal direction) with its tip contacting the contact surface 30a. Thereby, each carbon nanotube 26 bends. For this reason, the carbon nanotube layer 24 is elastically deformed in accordance with the uneven shape of the contact surface 30a as a whole.
  • FIG. 5 shows an enlarged side view of the vicinity of the contact surface of the conventional heat flow switch.
  • the carbon nanotube layer is not formed on any of the contact surfaces 320a and 330a. Further, the contact surfaces 320a and 330a have irregularities on the order of nanometers. Therefore, in the connected state, a gap 350 is formed at the boundary between the heat conducting member 320 and the heat conducting member 330.
  • the carbon nanotube layer 24 is in close contact with the contact surface 30a.
  • the carbon nanotube 26 has a high thermal conductivity.
  • the carbon nanotube 26 has a very high thermal conductivity in the longitudinal direction (about 3000 W / mK).
  • the base material 22 is comprised by SiC, the heat conductivity of the base material 22 is also high (about 150 W / mK).
  • the carbon nanotubes 26 are erected on the base material 22 made of SiC.
  • the thermal conductivity at the connection portion between the carbon nanotube 26 and the base material 22 is also high. Therefore, the thermal resistance between the heat conducting member 20 and the heat conducting member 30 in the connected state is low. That is, the heat flow switch 10 of Example 1 has a lower thermal resistance than the conventional heat flow switch.
  • the carbon nanotube layer 24 is easily deformed. For this reason, in the connected state, the carbon nanotube layer 24 can be brought into close contact with the heat conducting member 30 even if the force for pressing the heat conducting member 30 toward the heat conducting member 20 is small. That is, with the heat flow switch 10, a low thermal resistance can be obtained even with a small applied pressure. Therefore, the actuator 50 having a small pressurizing ability can be used. As a result, the heat flow switch 10 can be downsized.
  • the heat flow switch 10 repeatedly switches between a connected state and a disconnected state. For this reason, the carbon nanotube 26 is repeatedly pressurized by the heat conducting member 30. However, the carbon nanotube 26 has high durability against repeated pressurization. Therefore, the heat flow switch 10 of Example 1 has sufficient durability.
  • the carbon nanotubes 26 described above are formed by heating the SiC substrate 22 to 1400 ° C. or higher (for example, 1600 ° C.) in a reduced-pressure atmosphere.
  • SiC on the surface side of the base material 22 is decomposed by a reaction formula of SiC (solid) + O (gas) ⁇ SiO (gas) + C (solid). That is, Si atoms in the SiC crystal are selectively oxidized and removed, and C atoms remaining on the surface self-assemble carbon nanotubes.
  • the carbon nanotubes 26 grow substantially perpendicular to the SiC base material 22.
  • the carbon nanotubes 26 are grown by this method, it is considered that the covalent bond is maintained at the connection portion between the carbon nanotubes 26 and SiC. For this reason, high strength is obtained at the connection portion between the carbon nanotube 26 and the base material 22, and high thermal conductivity is obtained at the connection portion.
  • the carbon nanotube 26 has higher durability against repeated pressurization because the strength of the connecting portion with the base material 22 is high. Thereby, the durability of the heat flow switch 10 of the first embodiment is further improved.
  • FIG. 6 shows a state in which a minute foreign object 360 is sandwiched between two heat conducting members 320 and 330 of a conventional heat flow switch.
  • the heat conducting member 320 and the heat conducting member 330 cannot be brought into contact with each other, and the heat resistance of the heat flow switch is significantly increased.
  • the heat flow switch 10 according to the first embodiment as shown in FIG. 7, when the foreign matter 60 is sandwiched between the heat conducting member 20 and the heat conducting member 30, the carbon nanotubes 26 in the region in contact with the foreign matter 60.
  • the heat flow switch 10 can be used even in an environment with a lower degree of cleanliness.
  • the carbon nanotube layer 24 may be impregnated with a resin.
  • the resin enters between the carbon nanotubes 26. Thereby, the thermal conductivity of the carbon nanotube layer 24 can be further increased.
  • the resin to be impregnated is preferably soft enough not to inhibit the deformation of the carbon nanotubes 26, and is preferably a gel-like resin (for example, a gel-like heat conductive grease).
  • the heat flow switch 110 of the second embodiment has the same configuration as the heat flow switch 10 of the first embodiment except for the heat conduction member 30.
  • the heat conducting member 30 includes a base material 32 and a carbon nanotube layer 34.
  • the base material 32 is made of SiC.
  • a large number of carbon nanotubes 36 are erected on the surface 32 a of the base material 32 on the heat conducting member 20 side. These carbon nanotubes 36 form a carbon nanotube layer 34.
  • a contact surface 30 a of the heat conducting member 30 is configured by the tip of each carbon nanotube 36.
  • both the contact surface 20a of the heat conducting member 20 and the contact surface 30a of the heat conducting member 30 are formed of a carbon nanotube layer. Therefore, when the heat flow switch 110 is in the connected state as shown in FIG. 9, both the carbon nanotube layer 24 and the carbon nanotube layer 34 are elastically deformed. Therefore, it is difficult to form a gap at the boundary between the heat conducting member 20 and the heat conducting member 30. For this reason, the heat flow switch 110 has a low thermal resistance.
  • the carbon nanotube layers 24 and 34 may be impregnated with resin.
  • FIG. 10 shows the result of evaluating the thermal resistance (interfacial thermal resistance between the heat conducting member 1 and the heat conducting member 2 shown in FIG. 10) of the heat flow switch having the configuration of the first and second embodiments described above by simulation. ing.
  • Example 1 the heat flow switch having the configuration of Example 1 was evaluated. That is, the structure using a member made of Cu (no carbon nanotube layer) made of Cu as the heat conducting member 2 was evaluated using a member made of SiC formed on a substrate made of SiC as the heat conducting member 1. Went.
  • evaluation was performed by changing the thickness of the carbon nanotube layer between 0.5 ⁇ m and 4 ⁇ m. As shown in Experimental Examples 1 to 4, the result was that the thicker the carbon nanotube layer, the smaller the thermal resistance.
  • Example 5 the heat flow switch having the configuration of Example 2 was evaluated. That is, the heat conducting member in which the carbon nanotube layer is formed on both the heat conducting member 1 and the heat conducting member 2 was evaluated.
  • the thickness of each carbon nanotube layer of the heat conducting members 1 and 2 was 4 ⁇ m. In this case, the result that the thermal resistance was further reduced as compared with Experimental Example 4 was obtained.
  • Experimental Example 6 the configuration in which each carbon nanotube layer of Experimental Example 5 was impregnated with silicon grease was evaluated. In this case, the result that the thermal resistance was further reduced as compared with Experimental Example 5 was obtained.
  • Comparative Example 1 the configuration in which both heat conducting members are made of Cu (no carbon nanotube layer) was evaluated.
  • Comparative Example 2 the configuration in which silicon grease was applied to each contact surface of the heat conducting member of Comparative Example 1 was evaluated.
  • FIG. 10 in the configurations of Experimental Examples 1 to 6, an overwhelmingly low thermal resistance can be obtained as compared with the configurations of Comparative Examples 1 and 2. From the result of FIG. 10, it was found that if the thickness of the carbon nanotube layer is 0.5 ⁇ m or more, a sufficient effect of reducing thermal resistance can be obtained. In particular, it was found that the thermal resistance can be more effectively reduced when the thickness of the carbon nanotube layer is 1.0 ⁇ m or more.
  • the surface of the heat conducting member may be covered with an oxide film having a high thermal resistance, and the thermal resistance between the heat conducting members is May become expensive.
  • the carbon nanotube layer is formed on the contact surface of at least one of the heat conducting members, an oxide film is prevented from being formed on the contact surface. Thereby, it can suppress that the thermal resistance between heat conductive members becomes high.
  • the heat conducting member is a metal, the contact surface may be worn by repeated use.
  • the wear resistance of the carbon nanotube layer constituting the contact surface is high, it is possible to suppress the occurrence of wear.
  • the two heat conducting members are connected with a large force, so that the two heat conducting members made of metal may be adhered to each other. .
  • a low thermal resistance can be obtained without using such a large force, and since the metals are not brought into contact with each other, the problem of adhesion can be prevented. it can.
  • FIGS. 11 and 12 show a heat flow switch 210 having three heat conducting members 220, 230, and 240.
  • the contact surface 220a of the heat conducting member 220 is constituted by the carbon nanotube layer 224, so that the thermal resistance between the heat conducting member 220 and the heat conducting member 230 is reduced in the connected state.
  • the contact surface 240a of the heat conducting member 240 is constituted by the carbon nanotube layer 244, the thermal resistance between the heat conducting member 240 and the heat conducting member 230 is reduced in the connected state.
  • a carbon nanotube layer may be formed on the contact surface on the heat conducting member 230 side.
  • the non-connected state and the connected state were switched by translating one heat conducting member relative to the other heat conducting member.
  • a shearing force may be generated between the heat conducting members by adding torsion or skidding to one of the heat conducting members.
  • the carbon nanotube layer can be more easily adhered to the contact surface of the counterpart, and the thermal resistance can be further reduced.
  • the contact surfaces of both heat conducting members are constituted by a carbon nanotube layer
  • the carbon nanotubes of both heat conducting members are connected to each other so that the contact area can be increased. . For this reason, thermal resistance can further be reduced.
  • the heat flow switch that is switched between the connected state and the disconnected state by the electrically controlled actuator has been described.
  • the technology of the present specification may be applied to a heat flow switch in which a connected state and a disconnected state are switched by thermal deformation of two heat conducting members.
  • the two heat conducting members are not in contact with each other, and when the temperature of at least one heat conducting member rises, the heat conducting member expands and the two heat conducting members You may apply to the heat flow switch which contacts. Or you may connect the member which thermally expands separately from the heat conductive member of a heat flow switch to at least one heat conductive member.
  • the thermal resistance of this heat flow switch can be reduced by providing a carbon nanotube layer on either or both of the contact surfaces of the two heat conducting members.
  • each heat conducting member has a large coefficient of thermal expansion.
  • the thermal expansion coefficient may be different or equal between one heat conducting member and the other heat conducting member.
  • the density of the carbon nanotubes in the carbon nanotube layer is too small, the area where the carbon nanotube layer comes into contact with the counterpart heat conduction member is reduced. Moreover, if the density of the carbon nanotubes in the carbon nanotube layer is too high, each carbon nanotube is difficult to deform, and the elasticity of the carbon nanotube layer is lost. Therefore, on the surface of the base material on which the carbon nanotubes are erected, the density of the carbon nanotubes (the total area of the connection portion between the carbon nanotubes and the base material is divided by the surface area of the base material on which the carbon nanotubes are erected. Value) is 20% or more and preferably 90% or less.
  • the carbon nanotubes are in contact with the counterpart heat conduction member at the tip thereof.
  • the carbon nanotube since the carbon nanotube has extremely high thermal conductivity in the longitudinal direction, it is preferable that the carbon nanotube is in contact with the counterpart at the tip in this way. For this reason, it is preferable that the carbon nanotubes are erected as perpendicular as possible to the base material. For example, if the carbon nanotubes are erected at an angle of 45 ° or more with respect to the surface of the base material, The effect can be exhibited.
  • this angle means an angle ⁇ 1 between the central axis C1 of the carbon nanotube and the surface S1 of the base material.
  • there may be minute irregularities on the surface S1 of the base material it is possible to observe the angle by approximating the entire surface of the base material in a region where the carbon nanotubes are erected in a plane. it can.
  • the base material is composed of SiC, but the base material may be composed of another member.
  • the carbon nanotubes are formed on the surface of the substrate by selectively oxidizing and removing Si atoms by heating SiC as the substrate in a reduced pressure atmosphere, the length of the carbon nanotubes is 4 ⁇ m or less. It is preferable. That is, the thickness of the carbon nanotube layer is preferably 4 ⁇ m or less.

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Abstract

 ヒートフロースイッチ10は、第1部材20と第2部材30を有している。第1部材20が、基材22と、その基材22の表面22aに形成されたカーボンナノチューブ層24を有している。ヒートフロースイッチ10は、第1部材20のカーボンナノチューブ層24が第2部材30に接触する接続状態と、第1部材20のカーボンナノチューブ層24が第2部材30に接触しない非接続状態とを切り換える。

Description

ヒートフロースイッチ
 本出願は、2011年4月12日に出願された日本国特許出願第2011-088535号に基づく優先権を主張する。その出願の全ての内容はこの明細書中に参照により援用されている。
 本明細書が開示する技術は、2つの部材を接触させた状態と、これらを接触させない状態とを切り換えることで、熱伝導率を変更可能なヒートフロースイッチに関する。
 日本国公表特許公報2009-531821号には、2つの部材を接触させた状態と、これらを接触させない状態とを切り換えるヒートフロースイッチが開示されている。2つの部材を接触させた状態(以下、接続状態という)では、これらの部材の間で熱が伝導する。2つの部材を接触させない状態では、これらの部材の間での熱伝導が遮られる。
 ヒートフロースイッチは、接続状態における2つの部材の間の熱抵抗が低いことが好ましい(以下では、接続状態における2つの部材の間の熱抵抗を、ヒートフロースイッチの熱抵抗という。)。ヒートフロースイッチの熱抵抗を低くするためには、2つの部材の各接触面をなるべく平坦に形成する必要がある。各接触面に凹凸が存在すると、接続状態としたときに2つの部材の界面に隙間が生じ、これらの間の熱抵抗が高くなるためである。しかしながら、各接触面を平坦に加工したとしても、各接触面にナノメートルオーダーの凹凸が残ってしまう。この凹凸がヒートフロースイッチの熱抵抗を高める要因の一つとなっている。このため、ヒートフロースイッチの熱抵抗のさらなる低減が望まれている。したがって、本明細書では、熱抵抗がより低いヒートフロースイッチを提供する。
 本明細書が開示するヒートフロースイッチは、第1部材と第2部材を有している。第1部材は、基材と、その基材の表面に形成されたカーボンナノチューブ層を有している。ヒートフロースイッチは、第1部材のカーボンナノチューブ層が第2部材に接触する接続状態と、第1部材のカーボンナノチューブ層が第2部材に接触しない非接続状態とを切り換える。
 なお、接続状態と非接続状態の切り換えは、電気的に行われてもよいし、他の方法により行われてもよい。例えば、電気的に制御されるアクチュエータによって第1部材と第2部材の少なくとも一方を移動させることで、接続状態と非接続状態を切り換えてもよい。また、第1部材と第2部材の熱膨張、熱収縮を利用して、接続状態と非接続状態を切り換えてもよい。
 このヒートフロースイッチでは、第1部材がカーボンナノチューブ層を有している。カーボンナノチューブは極めて高い熱伝導率を有している。また、カーボンナノチューブは弾性が高い。したがって、カーボンナノチューブ層は弾性的に変形することができる。このため、第2部材の接触面(接続状態においてカーボンナノチューブ層と接触する面)に微小な凹凸が存在していても、カーボンナノチューブ層が第2部材と接触する際に、カーボンナノチューブ層が第2部材の凹凸に合わせて変形することができる。したがって、このヒートフロースイッチでは、接続状態において、第1部材と第2部材の界面に隙間が生じ難い。すなわち、カーボンナノチューブ層は、第2部材の接触面に対して密着することができる。このように、このヒートフロースイッチでは、極めて高い熱伝導率を有するカーボンナノチューブ層が第2部材と密着する。したがって、このヒートフロースイッチは熱抵抗(接続状態における第1の部材と第2の部材の間の熱抵抗)が低い。
 なお、日本国公開特許公報2009-253123号には、半導体素子とヒートシンクの間の熱抵抗を低減させるために、カーボンナノチューブ層を介して半導体素子とヒートシンクを接続する技術が開示されている。しかしながら、この技術では、ヒートシンクは半導体素子に固定される(すなわち、常に接続された状態となる)のであり、接続状態と非接続状態とを切り換えるヒートフロースイッチに関する本明細書の技術とは異なる。本明細書が開示するヒートフロースイッチでは接続状態と非接続状態との切り換えが繰り返されるので、カーボンナノチューブ層に繰り返し圧力が加わる。つまり、本明細書に開示の技術は、繰り返し加わる圧力に対してカーボンナノチューブが実用的な耐久性を有することを見出し、この耐久性を利用して、実用レベルの耐久性を有し、かつ、熱抵抗が低いヒートフロースイッチを実現するものである。
 上述したヒートフロースイッチは、第2部材が、基材と、その基材の表面に形成されたカーボンナノチューブ層を有しており、接続状態において、第1部材のカーボンナノチューブ層が、第2部材のカーボンナノチューブ層に接触することが好ましい。
 このように、第2部材の接触面にもカーボンナノチューブ層が形成されていると、接続状態において、第1部材と第2部材の両方のカーボンナノチューブ層が弾性的に変形することができる。このため、第1部材が第2部材に対してより密着することができる。したがって、この構成によれば、ヒートフロースイッチの熱抵抗をより低減させることができる。
 上述したヒートフロースイッチは、第1部材のカーボンナノチューブ層に含まれるカーボンナノチューブの30%以上が、基材の表面に対して60°以上の角度で立設されていることが好ましい。なお、上記の角度は、0°がカーボンナノチューブと基材の表面が平行であることを意味し、90°がカーボンナノチューブと基材の表面が垂直であることを意味する。
 このように、第1部材のカーボンナノチューブ層に含まれるカーボンナノチューブの多くが基材の表面に対して垂直に近い角度で立設されていると、カーボンナノチューブの多くがその先端で第2部材と接触する。したがって、カーボンナノチューブ層が第2部材に密着し易くなる。
 上述したヒートフロースイッチは、第1部材のカーボンナノチューブ層に樹脂が含浸されていることが好ましい。
 このように、カーボンナノチューブ層内のカーボンナノチューブ同士の間の隙間に樹脂が含浸されているとカーボンナノチューブ層の熱伝導率がより高くなるので、ヒートフロースイッチの熱抵抗をより低減させることができる。
 上述したヒートフロースイッチは、第1部材のカーボンナノチューブ層の厚さが0.5μm以上であることが好ましい。
 カーボンナノチューブ層が0.5μm以上の厚さを有すれば、カーボンナノチューブ層が第2部材の接触面の形状に合わせて好適に変形することができる。
 上述したヒートフロースイッチは、第1部材の基材が、SiCにより構成されていることが好ましい。
 SiCの基材を用いると、カーボンナノチューブと基材との接続強度が高くなり易い。したがって、上記の構成によれば、ヒートフロースイッチの耐久性を向上させることができる。なお、SiCの基材を用いる場合には、SiCの基材を減圧雰囲気中で加熱して基材表面のSi原子を酸化除去させることで、基材表面にカーボンナノチューブ層を形成することが好ましい。このようにカーボンナノチューブ層を形成すると、カーボンナノチューブと基材の接続強度をより向上させることができる。
実施例1のヒートフロースイッチの側面図(非接続状態)。 実施例1のヒートフロースイッチの側面図(接続状態)。 実施例1のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図(非接続状態)。 実施例1のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図(接続状態)。 従来のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図(接続状態)。 異物を挟み込んだときの、従来のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図。 異物を挟み込んだときの、実施例1のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図。 実施例2のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図(非接続状態)。 実施例2のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図(接続状態)。 各実験例のヒートフロースイッチの熱抵抗の評価結果を示す表。 変形例のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図(非接続状態)。 変形例のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図(接続状態)。 カーボンナノチューブの立設角度の説明図。
(実施例1)
 図1に示すように、実施例1のヒートフロースイッチ10は、熱伝導部材20と、熱伝導部材30と、ガイド40と、アクチュエータ50を備えている。熱伝導部材20は接触面20aを有している。熱伝導部材30は接触面30aを有している。熱伝導部材20と熱伝導部材30は、接触面20aと接触面30aとが互いに対向する位置に配置されている。熱伝導部材20は、ガイド40に固定されている。熱伝導部材30は、ガイド40に規制されることによって、熱伝導部材20に対して横方向(接触面20aに平行な方向)に移動不可能とされている。また、熱伝導部材30は、ガイド40に案内されることによって、熱伝導部材20に対して進退動可能とされている。アクチュエータ50は、熱伝導部材30に接続されており、熱伝導部材30を熱伝導部材20に対して進退動させる。アクチュエータ50が熱伝導部材30を移動させることで、図1に示すように熱伝導部材20が熱伝導部材30に対して非接触となっている状態(以下、非接続状態という)と、熱伝導部材20が熱伝導部材30に対して接触している状態(以下、接続状態という)が切り換えられる。アクチュエータ50の動作は、図示しない制御回路によって電気的に制御される。
 ガイド40は、断熱材により構成されている。後に詳述するが、熱伝導部材20は主にSiCにより構成されており、熱伝導部材20の熱伝導率は高い。また、熱伝導部材30はCuにより構成されており、熱伝導部材30の熱伝導率は高い。熱伝導部材20は図示しない高温の部材に接続されており、熱伝導部材30は図示しない低温の部材に接続されている。したがって、接続状態においては熱伝導部材20から熱伝導部材30に向かって熱が伝導し、非接続状態においては熱伝導部材20から熱伝導部材30への熱伝導が遮られる。すなわち、ヒートフロースイッチ10によって、熱伝導を制御することができる。
 図3は、接触面20a及び30aの近傍のヒートフロースイッチ10の拡大側面図を示している。図3に示すように、熱伝導部材20は、基材22と、カーボンナノチューブ層24を有している。基材22は、SiCにより構成されている。基材22の熱伝導部材30側の表面22a上には、多数のカーボンナノチューブ26が立設されている。これらのカーボンナノチューブ26によって、カーボンナノチューブ層24が形成されている。各カーボンナノチューブ26の先端によって、上述した接触面20aが形成されている。
 図3に示すように、熱伝導部材30の接触面30aには、凹凸が形成されている。この凹凸は、深さがナノメートルオーダーの凹凸であり、接触面30aを平坦化加工しても除去することができない凹凸である。
 図4に示すように、ヒートフロースイッチ10を接続状態にすると、熱伝導部材20のカーボンナノチューブ層24が、熱伝導部材30の接触面30aと接触する。このとき、大部分のカーボンナノチューブ26が、その先端部分で接触面30aと接触する。各カーボンナノチューブ26は、先端が接触面30aと接触して軸方向(長手方向)に加圧される。これによって、各カーボンナノチューブ26が撓む。このため、カーボンナノチューブ層24は全体として接触面30aの凹凸形状に合わせて弾性的に変形する。
 一方、図5は、従来のヒートフロースイッチの接触面近傍の拡大側面図を示している。従来のヒートフロースイッチでは、接触面320a、330aの何れにもカーボンナノチューブ層が形成されていない。また、接触面320a、330aには、ナノメートルオーダーの凹凸が存在している。したがって、接続状態において、熱伝導部材320と熱伝導部材330の境界に隙間350が形成されてしまう。
 図4と図5を比較することで明らかなように、実施例1のヒートフロースイッチ10では、接続状態において、熱伝導部材20と熱伝導部材30との境界部に隙間が形成され難い。すなわち、ヒートフロースイッチ10では、カーボンナノチューブ層24が接触面30aに密着する。また、カーボンナノチューブ26は、熱伝導率が高い。特に、カーボンナノチューブ26は、その長手方向において極めて高い熱伝導率を有する(約3000W/mK)。また、基材22はSiCにより構成されているため、基材22の熱伝導率も高い(約150W/mK)。また、カーボンナノチューブ26は、SiCからなる基材22上に立設されている。このような構成では、カーボンナノチューブ26と基材22との接続部分(カーボンナノチューブ層24と基材22の境界)における熱伝導率も高い。したがって、接続状態における熱伝導部材20と熱伝導部材30の間の熱抵抗は低い。すなわち、実施例1のヒートフロースイッチ10は、従来のヒートフロースイッチに比べて熱抵抗が低い。
 また、実施例1のヒートフロースイッチ10では、カーボンナノチューブ層24が容易に変形する。このため、接続状態において、熱伝導部材30を熱伝導部材20に向かって加圧する力が小さくても、カーボンナノチューブ層24を熱伝導部材30に密着させることができる。すなわち、ヒートフロースイッチ10では、小さい加圧力でも、低い熱抵抗が得られる。したがって、加圧能力が小さいアクチュエータ50を使用することができる。これによって、ヒートフロースイッチ10の小型化を図ることができる。
 また、ヒートフロースイッチ10は接続状態と非接続状態との切り換えを繰り返し行う。このため、カーボンナノチューブ26は、熱伝導部材30によって繰り返し加圧される。しかしながら、カーボンナノチューブ26は繰り返される加圧に対して高い耐久性を有している。したがって、実施例1のヒートフロースイッチ10は、十分な耐久性を有している。
 なお、上述したカーボンナノチューブ26は、減圧雰囲気中においてSiCの基材22を1400℃以上(例えば、1600℃)に加熱することによって形成されている。このように基材を加熱すると、SiC(solid)+O(gas)→SiO(gas)+C(solid)の反応式により、基材22の表面側のSiCが分解される。すなわち、SiC結晶中のSi原子が選択的に酸化除去され、表面に残ったC原子がカーボンナノチューブを自己構築する。この方法によれば、SiCの基材22に対して略垂直にカーボンナノチューブ26が成長する。また、この方法でカーボンナノチューブ26を成長させると、カーボンナノチューブ26とSiCの接続部分で共有結合性が維持されると考えられる。このため、カーボンナノチューブ26と基材22との接続部分で高い強度が得られるとともに、その接続部分で高い熱伝導率が得られる。このように、カーボンナノチューブ26は、基材22との接続部分の強度が高いので、繰り返される加圧に対してより高い耐久性を有している。これによって、実施例1のヒートフロースイッチ10の耐久性がより向上されている。
 また、ヒートフロースイッチが接続状態となるときに、ヒートフロースイッチに微小な異物が挟み込まれることがある。図6は、従来のヒートフロースイッチの2つの熱伝導部材320、330の間に、微小な異物360が挟まれた状態を示している。このように異物360が挟まれると、熱伝導部材320と熱伝導部材330とが全面で接触することができず、ヒートフロースイッチの熱抵抗が大幅に高くなる。これに対し、実施例1のヒートフロースイッチ10では、図7に示すように、熱伝導部材20と熱伝導部材30の間に異物60が挟まれると、異物60と接触する領域のカーボンナノチューブ26が圧縮され、異物60と接触しない領域のカーボンナノチューブ26は熱伝導部材30と接触する。このように、異物60が存在する領域を除けば、カーボンナノチューブ26が熱伝導部材30と接触できるので、ヒートフロースイッチ10では異物60を挟み込んだ場合でも熱抵抗が上昇し難い。このため、ヒートフロースイッチ10は、よりクリーン度が低い環境でも使用することができる。
 なお、カーボンナノチューブ層24には、樹脂が含浸されていてもよい。カーボンナノチューブ層24に樹脂を含浸すると、各カーボンナノチューブ26の間に樹脂が入り込む。これによって、カーボンナノチューブ層24の熱伝導率をより高くすることができる。なお、含浸する樹脂は、カーボンナノチューブ26の変形を阻害しない程度に柔らかいことが好ましく、ゲル状の樹脂(例えば、ゲル状の熱伝導グリス)が好ましい。
(実施例2)
 実施例2のヒートフロースイッチ110は、熱伝導部材30以外については、実施例1のヒートフロースイッチ10と同じ構成を有している。図8に示すように、実施例2のヒートフロースイッチ110では、熱伝導部材30が、基材32とカーボンナノチューブ層34を有している。基材32は、SiCにより構成されている。基材32の熱伝導部材20側の表面32a上には、多数のカーボンナノチューブ36が立設されている。これらのカーボンナノチューブ36によって、カーボンナノチューブ層34が形成されている。各カーボンナノチューブ36の先端によって、熱伝導部材30の接触面30aが構成されている。
 実施例2のヒートフロースイッチ110では、熱伝導部材20の接触面20aと熱伝導部材30の接触面30aの両方がカーボンナノチューブ層により形成されている。したがって、図9に示すようにヒートフロースイッチ110を接続状態とすると、カーボンナノチューブ層24とカーボンナノチューブ層34の両方が弾性的に変形する。したがって、熱伝導部材20と熱伝導部材30の境界に隙間がより形成され難い。このため、ヒートフロースイッチ110は、熱抵抗が低い。
 なお、実施例2のヒートフロースイッチ110においても、カーボンナノチューブ層24、34に樹脂が含浸されていてもよい。
 図10は、上述した実施例1、2の構成を有するヒートフロースイッチの熱抵抗(図10に示す熱伝導部材1と熱伝導部材2の間の界面熱抵抗)をシミュレーションにより評価した結果を示している。
 実験例1~4では、実施例1の構成を有するヒートフロースイッチについて評価した。すなわち、熱伝導部材1としてSiCにより構成された基材上にカーボンナノチューブ層が形成されたものを用い、熱伝導部材2としてCuにより構成された部材(カーボンナノチューブ層なし)を用いた構成について評価を行った。また、実験例1~4では、カーボンナノチューブ層の厚さを、0.5μm~4μmの間で変化させて評価を行った。実験例1~4に示すように、カーボンナノチューブ層が厚くなるほど、熱抵抗が小さくなるという結果が得られた。
 実験例5、6では、実施例2の構成を有するヒートフロースイッチについて評価した。すなわち、熱伝導部材1と熱伝導部材2の両方に、カーボンナノチューブ層が形成されている熱伝導部材を採用したものについて評価を行った。実験例5では、熱伝導部材1、2のそれぞれのカーボンナノチューブ層の厚さを4μmとした。この場合には、実験例4よりもさらに熱抵抗が低下するという結果が得られた。また、実験例6では、実験例5の各カーボンナノチューブ層にシリコングリスを含浸した構成について評価を行った。この場合には、実験例5よりもさらに熱抵抗が低下するという結果が得られた。
 さらに、図10に、従来のヒートフロースイッチの構成を有する比較例1、2の評価結果を示した。比較例1では、両方の熱伝導部材がCu(カーボンナノチューブ層なし)により構成されている構成について評価した。また、比較例2では、比較例1の熱伝導部材の各接触面に、シリコングリスを塗布した構成について評価を行った。図10から明らかな様に、実験例1~6の構成では、比較例1及び2の何れの構成に対しても、圧倒的に低い熱抵抗が得られる。図10の結果から、カーボンナノチューブ層の厚さが0.5μm以上であれば十分な熱抵抗の低減効果が得られることが分かった。特に、カーボンナノチューブ層の厚さが1.0μm以上であれば、熱抵抗をより効果的に低減できることが分かった。
 さらに、従来のヒートフロースイッチは、2つの熱伝導部材が金属により構成されているため熱伝導部材の表面が熱抵抗の高い酸化皮膜で覆われることがあり、熱伝導部材間の熱抵抗が経時的に高くなってしまう場合がある。上述した実施例のヒートフロースイッチでは、少なくとも一方の熱伝導部材の接触面にカーボンナノチューブ層により構成されているため、その接触面に酸化被膜が形成されることが防止される。これによって、熱伝導部材の間の熱抵抗が高くなることを抑制することができる。さらに、従来のヒートフロースイッチでは、熱伝導部材が金属であるために、繰り返しの使用により接触面に磨耗が生じることがあった。上述した実施例のヒートスイッチでは、接触面を構成しているカーボンナノチューブ層の耐摩耗性が高いために、磨耗が生じることを抑制することもできる。また、従来のヒートフロースイッチでは、低い熱抵抗を得るために2つの熱伝導部材を大きな力で接続することから、金属により構成された2つの熱伝導部材が互いに癒着してしまうことがあった。上述した実施例のヒートフロースイッチでは、それほど大きな力を用いなくても低い熱抵抗が得られること、及び、金属同士を接触させるわけではないことから、癒着の問題が生じることを防止することができる。
 なお、実施例1、2のヒートフロースイッチは、2つの熱伝導部材を有していたが、3つ以上の熱伝導部材を有するヒートフロースイッチに本明細書が開示する技術を適用することもできる。例えば、図11、12は、3つの熱伝導部材220、230、及び、240を有するヒートフロースイッチ210を示している。このヒートフロースイッチ210では、熱伝導部材220の接触面220aがカーボンナノチューブ層224により構成されているので、接続状態において熱伝導部材220と熱伝導部材230の間の熱抵抗が小さくなる。また、熱伝導部材240の接触面240aがカーボンナノチューブ層244により構成されているので、接続状態において熱伝導部材240と熱伝導部材230の間の熱抵抗が小さくなる。なお、図11、12のヒートフロースイッチ210においては、熱伝導部材230側の接触面にカーボンナノチューブ層が形成されていてもよい。
 また、上述した実施例1、2では、一方の熱伝導部材を他方の熱伝導部材に対して平行移動させることで、非接続状態と接続状態とを切り換えた。しかしながら、非接続状態から接続状態へ切り替えるときに、一方の熱伝導部材にねじりや横滑りなどを加えることで、熱伝導部材間にせん断力が生じるようにしてもよい。このように接続すると、カーボンナノチューブ層が相手方の接触面に対してより密着し易くなり、熱抵抗をさらに低下させることができる。特に両方の熱伝導部材の接触面がカーボンナノチューブ層により構成されている場合には、両熱伝導部材のカーボンナノチューブがお互いに絡まるように接続されるため、結果として接触面積を大きくすることができる。このため、熱抵抗をさらに低下させることができる。
 また、上述した実施例1、2では、電気的に制御されるアクチュエータにより接続状態と非接続状態が切り換えられるヒートフロースイッチについて説明した。しかしながら、2つの熱伝導部材の熱変形によって接続状態と非接続状態が切り換えられるヒートフロースイッチに本明細書の技術を適用してもよい。例えば、ヒートフロースイッチの温度が低い場合には2つの熱伝導部材が互いに非接触となっており、少なくとも一方の熱伝導部材の温度が上昇するとその熱伝導部材が膨張して2つの熱伝導部材が接触するヒートフロースイッチに適用してもよい。または、ヒートフロースイッチの熱伝導部材とは別に熱膨張する部材を少なくとも一方の熱伝導部材に接続してもよい。このようなヒートフロースイッチにおいても、2つの熱伝導部材の接触面の何れかまたは両方にカーボンナノチューブ層を設けることで、このヒートフロースイッチの熱抵抗を低減することができる。なお、このようなヒートフロースイッチにおいては、各熱伝導部材の熱膨張係数が大きいことが好ましい。また、一方の熱伝導部材と他方の熱伝導部材とで、熱膨張係数が異なっていてもよいし、等しくてもよい。
 なお、カーボンナノチューブ層内のカーボンナノチューブの密度が小さすぎると、カーボンナノチューブ層が相手方の熱伝導部材に対して接触する面積が少なくなる。また、カーボンナノチューブ層内のカーボンナノチューブの密度が高すぎると、各カーボンナノチューブが変形し難くなり、カーボンナノチューブ層の弾性が失われる。したがって、カーボンナノチューブが立設されている基材の表面において、カーボンナノチューブの密度(カーボンナノチューブと基材との接続部分の総面積を、カーボンナノチューブが立設されている基材の表面積で除算した値)は、20%以上であり、かつ、90%以下であることが好ましい。また、上述した実施例では、カーボンナノチューブの大部分がその先端で相手側の熱伝導部材と接触することを説明した。上記の通り、カーボンナノチューブはその長手方向において極めて高い熱伝導率を有するため、このようにカーボンナノチューブが先端で相手側と接触することが好ましい。このために、カーボンナノチューブが基材に対してなるべく垂直に立設されていることが好ましいが、例えば、カーボンナノチューブが基材の表面に対して45°以上の角度で立設されていれば、その効果を発揮することができる。但し、カーボンナノチューブ層に含まれるカーボンナノチューブの30%以上が、基材の表面に対して60°以上の角度で立設されていれば、特に高い効果を得ることができる。なお、この角度は、図13に示すように、カーボンナノチューブの中心軸C1と基材の表面S1との間の角度θ1を意味する。なお、基材の表面S1には微小な凹凸が存在していることがあるが、カーボンナノチューブが立設されている領域の基材の表面全体を平面近似して上記の角度を観測することができる。
 また、上述した実施例では、基材がSiCにより構成されていたが、基材が他の部材により構成されていてもよい。但し、基材であるSiCを減圧雰囲気中で加熱してSi原子を選択的に酸化除去させることによって、基材表面にカーボンナノチューブを形成する場合には、カーボンナノチューブの長さが4μm以下であることが好ましい。すなわち、カーボンナノチューブ層の厚さは4μm以下であることが好ましい。
 以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例をさまざまに変形、変更したものが含まれる。
 本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。

Claims (6)

  1.  第1部材と第2部材を有しており、
     第1部材が、基材と、その基材の表面に形成されたカーボンナノチューブ層を有しており、
     第1部材のカーボンナノチューブ層が第2部材に接触する接続状態と、第1部材のカーボンナノチューブ層が第2部材に接触しない非接続状態とを切り換えるヒートフロースイッチ。
  2.  第2部材が、基材と、その基材の表面に形成されたカーボンナノチューブ層を有しており、
     接続状態において、第1部材のカーボンナノチューブ層が、第2部材のカーボンナノチューブ層に接触することを特徴とする請求項1に記載のヒートフロースイッチ。
  3.  第1部材のカーボンナノチューブ層に含まれるカーボンナノチューブの30%以上が、基材の表面に対して60°以上の角度で立設されていることを特徴とする請求項1または2に記載のヒートフロースイッチ。
  4.  第1部材のカーボンナノチューブ層に樹脂が含浸されていることを特徴とする請求項1~3の何れか一項に記載のヒートフロースイッチ。
  5.  第1部材のカーボンナノチューブ層の厚さが0.5μm以上であることを特徴とする請求項1~4の何れか一項に記載のヒートフロースイッチ。
  6.  第1部材の基材が、SiCにより構成されていることを特徴とする請求項1~5の何れか一項に記載のヒートフロースイッチ。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015030238A1 (ja) 2013-09-02 2015-03-05 日本碍子株式会社 セラミックス材料、および熱スイッチ
JP2017024922A (ja) * 2015-07-16 2017-02-02 イビデン株式会社 セラミック複合材およびその製造方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016211790A1 (de) 2016-06-30 2018-01-04 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Hochvoltspeicher für ein Kraftfahrzeug, insbesondere für einen Kraftwagen
US11493551B2 (en) 2020-06-22 2022-11-08 Advantest Test Solutions, Inc. Integrated test cell using active thermal interposer (ATI) with parallel socket actuation
US11549981B2 (en) 2020-10-01 2023-01-10 Advantest Test Solutions, Inc. Thermal solution for massively parallel testing
US11808812B2 (en) 2020-11-02 2023-11-07 Advantest Test Solutions, Inc. Passive carrier-based device delivery for slot-based high-volume semiconductor test system
US11821913B2 (en) 2020-11-02 2023-11-21 Advantest Test Solutions, Inc. Shielded socket and carrier for high-volume test of semiconductor devices
US20220155364A1 (en) 2020-11-19 2022-05-19 Advantest Test Solutions, Inc. Wafer scale active thermal interposer for device testing
US11567119B2 (en) 2020-12-04 2023-01-31 Advantest Test Solutions, Inc. Testing system including active thermal interposer device
US11573262B2 (en) 2020-12-31 2023-02-07 Advantest Test Solutions, Inc. Multi-input multi-zone thermal control for device testing
US11587640B2 (en) 2021-03-08 2023-02-21 Advantest Test Solutions, Inc. Carrier based high volume system level testing of devices with pop structures
US11656273B1 (en) 2021-11-05 2023-05-23 Advantest Test Solutions, Inc. High current device testing apparatus and systems

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009524190A (ja) * 2006-01-18 2009-06-25 オー・エス・テー・セー・エアロスペース・アクチボラゲット 小型高伝導性熱/電気スイッチ
JP2009523992A (ja) * 2006-01-16 2009-06-25 レクソース サーミオニクス,インコーポレイテッド 高効率吸収式ヒートポンプ及び使用方法
JP2009531821A (ja) 2006-03-30 2009-09-03 レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード 熱スイッチ
JP2009253123A (ja) 2008-04-09 2009-10-29 Sumitomo Electric Ind Ltd 放熱構造の製造方法
WO2010047398A1 (ja) * 2008-10-20 2010-04-29 帝人株式会社 熱伝導性に優れたプリプレグ、プリプレグの製造方法、および成形板
JP2010118502A (ja) * 2008-11-13 2010-05-27 Sumitomo Electric Ind Ltd 放熱構造

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2949283A (en) * 1956-05-11 1960-08-16 Millard F Smith Apparatus for heat transfer
US3489203A (en) * 1967-06-01 1970-01-13 Us Navy Controlled heat pipe
US3531752A (en) * 1968-02-09 1970-09-29 Itek Corp Variable-resistance thermal switch
JPH0615281U (ja) * 1992-07-23 1994-02-25 日本航空電子工業株式会社 Zifコネクタ
US5379601A (en) * 1993-09-15 1995-01-10 International Business Machines Corporation Temperature actuated switch for cryo-coolers
US5875096A (en) * 1997-01-02 1999-02-23 At&T Corp. Apparatus for heating and cooling an electronic device
DE19835305A1 (de) * 1998-08-05 2000-02-10 Inst Luft Kaeltetech Gem Gmbh Selbstauslösender Kryo-Wärmestromschalter
US6400571B1 (en) * 1998-10-21 2002-06-04 Furukawa Electric Co., Ltd. Electronic equipment housing
US6608752B2 (en) * 2001-09-24 2003-08-19 General Electric Company Adaptive heat sink for electronics applications
US7311967B2 (en) * 2001-10-18 2007-12-25 Intel Corporation Thermal interface material and electronic assembly having such a thermal interface material
US6891724B2 (en) * 2002-06-12 2005-05-10 Intel Corporation Increasing thermal conductivity of thermal interface using carbon nanotubes and CVD
US7168484B2 (en) * 2003-06-30 2007-01-30 Intel Corporation Thermal interface apparatus, systems, and methods
US20050061496A1 (en) * 2003-09-24 2005-03-24 Matabayas James Christopher Thermal interface material with aligned carbon nanotubes
US20050099776A1 (en) * 2003-11-12 2005-05-12 Xue Liang A. Passive thermal switch
US7154369B2 (en) * 2004-06-10 2006-12-26 Raytheon Company Passive thermal switch
JP4823213B2 (ja) * 2005-03-17 2011-11-24 富士通株式会社 半導体パッケージ、およびその製造方法
US20110189500A1 (en) * 2006-10-04 2011-08-04 The Regents Of The University Of California Carbon Nanotube Arrays as Thermal Interface Materials
JP4363450B2 (ja) * 2007-02-23 2009-11-11 日本電気株式会社 ディスクアレイ装置
US7752866B2 (en) * 2007-12-07 2010-07-13 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Shape memory thermal conduction switch
US20100039208A1 (en) * 2008-01-15 2010-02-18 Epstein Richard I High-frequency, thin-film liquid crystal thermal switches
JP5239768B2 (ja) * 2008-11-14 2013-07-17 富士通株式会社 放熱材料並びに電子機器及びその製造方法
US8106510B2 (en) * 2009-08-04 2012-01-31 Raytheon Company Nano-tube thermal interface structure
JP4913853B2 (ja) * 2009-08-31 2012-04-11 Smk株式会社 微細コネクタ
US8339787B2 (en) * 2010-09-08 2012-12-25 Apple Inc. Heat valve for thermal management in a mobile communications device
JP5842349B2 (ja) * 2011-03-18 2016-01-13 富士通株式会社 シート状構造体、シート状構造体の製造方法、電子機器及び電子機器の製造方法
US9025333B1 (en) * 2011-05-10 2015-05-05 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Airforce Tunable thermal switch
US8659903B2 (en) * 2011-12-06 2014-02-25 Palo Alto Research Center Incorporated Heat switch array for thermal hot spot cooling
US9080820B2 (en) * 2012-05-22 2015-07-14 The Boeing Company Heat dissipation switch

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009523992A (ja) * 2006-01-16 2009-06-25 レクソース サーミオニクス,インコーポレイテッド 高効率吸収式ヒートポンプ及び使用方法
JP2009524190A (ja) * 2006-01-18 2009-06-25 オー・エス・テー・セー・エアロスペース・アクチボラゲット 小型高伝導性熱/電気スイッチ
JP2009531821A (ja) 2006-03-30 2009-09-03 レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード 熱スイッチ
JP2009253123A (ja) 2008-04-09 2009-10-29 Sumitomo Electric Ind Ltd 放熱構造の製造方法
WO2010047398A1 (ja) * 2008-10-20 2010-04-29 帝人株式会社 熱伝導性に優れたプリプレグ、プリプレグの製造方法、および成形板
JP2010118502A (ja) * 2008-11-13 2010-05-27 Sumitomo Electric Ind Ltd 放熱構造

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2698591A4

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015030238A1 (ja) 2013-09-02 2015-03-05 日本碍子株式会社 セラミックス材料、および熱スイッチ
US9656920B2 (en) 2013-09-02 2017-05-23 Ngk Insulators, Ltd. Ceramic material and thermal switch
JP2017024922A (ja) * 2015-07-16 2017-02-02 イビデン株式会社 セラミック複合材およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20140035715A1 (en) 2014-02-06
JPWO2012140927A1 (ja) 2014-07-28
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EP2698591A1 (en) 2014-02-19

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