WO2012063632A1 - フィルム露光方法 - Google Patents

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WO2012063632A1
WO2012063632A1 PCT/JP2011/074455 JP2011074455W WO2012063632A1 WO 2012063632 A1 WO2012063632 A1 WO 2012063632A1 JP 2011074455 W JP2011074455 W JP 2011074455W WO 2012063632 A1 WO2012063632 A1 WO 2012063632A1
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WO
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film
exposure
mask
alignment mark
alignment
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PCT/JP2011/074455
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French (fr)
Inventor
敏成 新井
和重 橋本
Original Assignee
株式会社ブイ・テクノロジー
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Publication date
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G—PHYSICS
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    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146—Laser beam

Definitions

  • the present invention relates to a film exposure method, and in particular, when a film having an exposure material film formed on an exposure pattern forming region on a film substrate is continuously exposed, the meandering of the film is accurately corrected and stably performed.
  • the present invention relates to a film exposure method capable of exposure.
  • a substrate with a predetermined marking on the surface is used, and this marking is used for exposure.
  • the position of a mask to be determined is determined (for example, Patent Documents 1 to 3), or positioning pins are installed on a pallet on which a substrate is placed (for example, Patent Document 4).
  • the object to be exposed is a film as in the roll-to-roll method, and this film is continuously supplied into the exposure apparatus, the alignment technique in the exposure of the flat plate member as described above is applied. It is difficult. That is, in the roll-to-roll film production line, the film to be exposed is supplied into the exposure apparatus 1 in a process as shown in FIG. 9, for example, to expose a flat substrate or the like. In contrast, the film 1 being conveyed is easily wavy due to its flexibility.
  • processing using the flexibility of the film is performed in every processing step. That is, the film 2 is unwound from the supply reel 80 and supplied to the line, and pretreatment such as dry cleaning and surface modification is performed in the pretreatment section 3, and a predetermined exposure material is applied to the surface by the slit coater 4. Is applied, the applied exposure material is dried by the drying device 5. Then, the film 2 having the exposure material film formed on the surface is supplied to the exposure apparatus 1, and the exposure material film is exposed by the exposure apparatus 1. At this time, the film 2 is supported by, for example, the rollers 9 between the apparatuses and is conveyed by the rotation. Therefore, it is difficult to apply the techniques disclosed in Patent Documents 1 to 4 to the exposure of the roll-to-roll film 2.
  • Patent Document 5 discloses a mask alignment technique with respect to a film. That is, in the technique of Patent Document 5, in the case where exposure is performed twice on a single film, after the first exposure is performed on the film to form a pattern, The position of the mask is adjusted by detecting the pattern formed by the second exposure with the line CCD. In addition, as FIG. 2 of this patent document 5 shows, the both-sides edge part of the width direction of a film is not an exposure area
  • FIG. 10 shows, as an example, a conventional exposure apparatus of a type in which exposure light sources 11 that emit exposure light are arranged to face each other corresponding to one mask 12 and irradiate exposure light from different directions.
  • FIG. 10 Such a type of exposure apparatus is used for exposure of an alignment material film when a colorless and transparent alignment film is formed on a glass substrate such as a liquid crystal display or a film substrate such as a polarizing film. That is, when forming an alignment film by exposure by this exposure apparatus, an exposure target member having a colorless and transparent alignment material film formed on the surface is supplied into the exposure apparatus, and exposure light is directed in different directions for each predetermined region. To form an alignment film oriented in different directions.
  • an area corresponding to one picture element of the film is divided and exposed in the width direction, or the film is divided and exposed in the width direction for each area corresponding to the pixel.
  • An alignment film having a different alignment direction can be formed for each divided region. Due to the characteristics of the alignment direction of the alignment film, the operation at the time of voltage application of the liquid crystal molecules sandwiched between the glass substrates can be varied according to the alignment direction of the alignment film, thereby widening the viewing angle of the display device,
  • the produced film can be used as a polarizing film such as a 3D (Three Dimensional) display. Recently, the exposure technology of such a film has been attracting attention.
  • the film When the film is exposed by such an exposure apparatus, the film is likely to be wavy during conveyance, thereby causing a problem of deviation of the exposure position.
  • the plurality of masks 12 are used, and the masks 12 are arranged in a staggered pattern so as to be aligned in the moving direction of the exposure target member and the width direction perpendicular thereto. Is provided for each mask to perform exposure. Then, the exposure light from the exposure light source 11 is transmitted through each of the masks 121 to 124, and as shown in FIG.
  • the film is formed by the masks 121 and 122 that are spaced apart from each other on the upstream side where the film is supplied. 2 is exposed in the exposure areas A and C, the area B between the exposure areas A and C is exposed with the mask 123 on the downstream side, and the area D adjacent to the exposure area C is exposed with the mask 124. ing. Thereby, the pattern which carried out orientation division
  • Patent Document 5 requires that the exposure operation be performed twice on a single film, and the productivity is poor.
  • the housing portion of the exposure light source 11 has a length of about 2 m in the moving direction of the film for each light source, for example, exposure regions A and C and exposure regions B and D as shown in FIG.
  • the distance between is at least as long as 4 m. Therefore, there is a problem in that the film easily undulates during conveyance from the upstream exposure areas A and C to the downstream exposure areas B and D and easily shifts in the width direction perpendicular to the moving direction. Therefore, in the exposure area downstream of the moving direction of the film, there is a problem that an already exposed area is exposed due to a positional deviation in the width direction of the film, and an unexposed area is also generated. .
  • the film base material to be marked is colorless and transparent, and laser light easily passes through the film in marking with a laser or the like. Therefore, for example, when ultraviolet light having a wavelength of 266 nm is used for the marking, there is a problem that it is difficult to form an alignment mark unless the irradiation energy of the laser light is extremely increased to, for example, about 8 J / cm 2 .
  • the present invention has been made in view of such a problem, and when a film having an exposure material film formed on an exposure pattern formation region on a film substrate is continuously exposed, the alignment mark is formed and formed. It is an object of the present invention to provide a film exposure method that is easy to detect, can accurately correct the meandering of the film, and can be stably exposed.
  • the exposure material is irradiated onto the exposure material film of the film in which the exposure material film is formed in the exposure pattern forming region on the film substrate through a mask.
  • the film exposure method for exposing the pattern of the mask on the film at least one of both side edges in the width direction of the film base is coated with a colored baking material, a colored photocurable material, or a colored ink.
  • a film on which a coating film is formed is supplied, the alignment mark is formed by irradiating the side coating film with a laser beam for alignment marks, and the alignment mark is used to detect film meandering, and the position of the mask It is characterized by adjusting.
  • the exposure material film and / or the side coating film may be applied before the alignment mark laser light is irradiated while the film base material wound on the supply reel is moved from the supply reel to the take-up reel. , Formed on the film substrate.
  • the mask is disposed on the upstream side and the downstream side in the movement direction of the film, and the exposure material film is provided on the upstream side and the downstream side in the movement direction of the film, respectively.
  • Exposing the pattern of the upstream mask and the downstream mask, forming the alignment mark on the side coating film at a position corresponding to the position of the upstream mask in the moving direction of the film By detecting the alignment mark at a position corresponding to the position of the downstream mask in the movement direction, the film meanders until the film moves from the exposure area by the upstream mask to the exposure area by the downstream mask. And detecting the relative position of the downstream mask with respect to the film by meandering the film. Only correction amount that was.
  • a film exposure method for exposing a film having an exposure material film formed in an exposure pattern forming region on a film substrate, using a mask pattern, at least one of both side edges in the width direction of the film substrate.
  • This colored side coating film has a high laser beam absorptivity and facilitates the formation of alignment marks.
  • the alignment mark is formed by removing the side coating film by irradiating the alignment mark laser light, the colored coating film remains around the alignment mark, so the alignment mark is detected clearly and accurately. can do. Therefore, according to the present invention, film meandering detection and mask position adjustment can be performed with high accuracy, and the film can be stably exposed.
  • FIG. 1 is a view showing correction of displacement in the width direction of a film by an alignment mark in a film exposure apparatus according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a film conveyance in the film exposure apparatus according to the embodiment of the present invention
  • FIG. 3 is a diagram showing the relative positional relationship between the pattern by the upstream mask and the pattern by the downstream mask in the film exposure apparatus according to the embodiment of the present invention.
  • the exposure light source 11 that emits exposure light, the mask 12, and the exposure light emitted from the exposure light source 11, as in the conventional exposure apparatus shown in FIGS.
  • the film 2 is irradiated with the exposure light emitted from the mask 12, and the exposure material film 21 formed on the film substrate 20 is exposed in the central region in the width direction of the film.
  • the exposure apparatus 1 has an alignment laser marker 14 (alignment mark laser light source) for forming an alignment mark 2a on the side of the film 2, as shown in FIGS.
  • the exposure apparatus 1 is supplied with a film 2 having a side coating film 22 formed by applying a colored baking material, a colored photocurable material or colored ink to at least one of both side edges.
  • a film 2 having a side coating film 22 formed by applying a colored baking material, a colored photocurable material or colored ink to at least one of both side edges.
  • an exposure material film 21 is formed in a region (an exposure pattern forming region in the present invention) on the film substrate 20 in the same manner as in the conventional case. ing.
  • This exposure material film 21 is colorless and transparent, for example.
  • a side coating film 22 is formed by applying a colored baking material, a colored photocurable material, or colored ink to the side portion of the film substrate 20 to which no exposure material is conventionally applied. ing. Then, laser light is irradiated from the alignment laser marker 14 onto the side coating film 22, and the alignment mark 2a is formed by heat from exposure or laser light irradiation.
  • the exposure apparatus 1 includes, for example, a laser marker 13 (retraction mark forming unit) disposed in the vicinity of a film supply unit such as a transport roller and a mask 12 as illustrated in FIGS.
  • a laser marker 13 retract mark forming unit
  • the film supply unit has a line CCD 15 (film drawing position detection unit) arranged so as to extend in the width direction of the film 2 below.
  • the drawing mark 2b serving as a reference for positioning the mask 12 by the laser marker 13, and the drawing mark 2b is detected by the line CCD 15, whereby the film 2
  • the position of the mask 12 with respect to is adjustable.
  • the film 2 to be exposed is unrolled from the roll-to-roll supply reel 80 and supplied to the slit coater 4, and the surface of the film 2 is predetermined by the slit coater 4.
  • the material is applied in the form of a film.
  • the slit coater 4 applies an exposure material to the center of the film substrate 20, for example, a colored baking material or a colored photocuring material on at least one of both side edges of the film substrate 20. It is comprised so that a property material can be apply
  • the slit coater 4 applies, for example, a colorless and transparent exposure material that becomes an alignment material film (exposure material film 21) to the center of the film base 20 in the width direction, and forms an alignment mark on the side of the film base 20.
  • a colored baking material or a photocurable material to be the side coating film 22 can be applied in a liquid or pasty state.
  • the exposure material, the colored baking material, or the colored photocurable material may be applied by one slit coater 4 or by two slit coaters 4, respectively.
  • the coloring material which can form a baking film on the film base material 20 by baking for example, red and green for optical color filters generally used
  • a blue and / or black resist material can be preferably used.
  • the side coating film in the present invention is used only for the formation of alignment marks for detecting film meandering, in the case of forming the side coating film with a resist material, the steps such as development are performed. Not particularly necessary.
  • a photocurable material for example, a colored photocurable resin can be used.
  • the slit coater 4 applies only the exposure material to the center of the film substrate 20. . Then, colored ink is applied to the side portion of the film substrate 20 by an application device provided upstream or downstream of the slit coater 4 in the moving direction of the film 2, that is, upstream of the drying device 5.
  • an application device provided upstream or downstream of the slit coater 4 in the moving direction of the film 2, that is, upstream of the drying device 5.
  • the colored ink liquid or paste-like ink in general containing pigments and / or dyes can be used, and ink that can form a colored film by volatilizing the solvent component with the drying device 5, for example, oily Ink can be preferably used.
  • ink is permeated into a coating portion formed of a material having moderate flexibility, for example, a felt-like fiber, and exposure of the side portion of the film substrate 20 fed to the coating portion is performed.
  • a structure in which ink is applied in a film form by using a region where no material is applied is used.
  • the film 2 coated with a predetermined material only by the slit coater 4 or by the slit coater 4 and the coating device is supplied to the drying device 5. Then, the exposure material applied to the center of the film and the material that becomes the coating film on the side of the film are baked (baked), dried (volatilization of solvent components), and / or photocured according to the characteristics of each material. Thus, an exposure material film 21 and a side coating film 22 are formed on the film substrate 20, respectively.
  • the film 2 is supplied into the exposure apparatus 1 by a transport device such as a transport roller.
  • the film 2 supplied into the exposure apparatus 1 is formed with an alignment film oriented in a predetermined direction by photo-aligning the exposure material film 21 at the center in the film width direction, as in the prior art.
  • the side coating film 22 of the film 2 is irradiated with laser light from the alignment laser marker 14, and the alignment mark 2 a is formed by exposure or heat generated by laser light irradiation.
  • the area where the side coating film 22 is formed is, for example, an area of, for example, 25 mm or less, for example, 10 mm from the edge of the film. It is.
  • the alignment mark 2 a formed on the side coating film 22 is used to detect the meandering of the film 2 and adjust the position of the mask 12.
  • a case will be described in which a colored oil-based ink is applied as the material of the side coating film 22 and the solvent component disappears by drying (volatilization), thereby forming a film of ink. .
  • the exposure light source 11 is a light source that emits ultraviolet light in, for example, an alignment division type exposure apparatus, and is a mercury lamp, a xenon lamp, an excimer lamp, an ultraviolet LED, or the like, and emits continuous light or pulsed laser light.
  • a light source is used.
  • an optical system such as a collimator lens and / or a reflecting mirror is disposed on the optical path of the exposure light emitted from the exposure light source 11, and is formed in a pattern formation region on the film 2, for example.
  • the alignment material film (exposure material film 21) is irradiated with exposure light with a predetermined amount of light.
  • the exposure light source 11 can adjust the emission direction of the exposure light by, for example, a control device (not shown), and can thereby adjust the incident angle of the exposure light with respect to the film 2.
  • a control device not shown
  • two exposure light sources 11 are arranged so as to face each other in a moving direction of the film 2 with respect to one exposure region.
  • the alignment material film is irradiated to the alignment material film (exposure material film 21) through the mask 12 with two exposure light beams emitted from the respective exposure light sources 11 and having different pretilt angles, and the alignment material film is perpendicular to the moving direction.
  • the alignment films are exposed to each other, and different alignment films are formed on the film substrate 20 in the divided regions where the alignment directions are adjacent to each other.
  • the orientation of liquid crystal molecules at the time of voltage application Is two directions within one picture element according to the alignment direction of the alignment film, and can widen the viewing angle of a liquid crystal display or the like.
  • a film in which an alignment film having a different alignment direction is formed for each region serving as a pixel adjacent in the width direction can be used as a polarizing film such as a 3D (Three Dimensional) display.
  • the number of exposure light sources 11 is not limited to two for one exposure region, and three or more exposure light sources 11 may be provided.
  • alignment film materials may be aligned in three or more directions by exposure light from different directions.
  • one exposure light source 11 is provided for one exposure area, the exposure light emitted from the exposure light source 11 is divided into two or more by a polarizing plate or the like, and the divided exposure light is irradiated from different directions.
  • You may comprise as follows. For example, by using a polarizing plate, exposure light can be divided into P-polarized linearly-polarized exposure light and S-polarized linearly-polarized exposure light and irradiated from different directions.
  • a plurality of masks 12 are arranged separately from each other on the upstream side and the downstream side in the moving direction of the film 2. For example, as shown in FIG. 2 and FIG. 121, 122) and two on the downstream side (masks 123, 124).
  • the plurality of masks 12 are arranged in a staggered manner so that the exposure areas formed by the upstream masks 121 and 122 and the exposure areas formed by the downstream masks 123 and 124 are adjacent along the moving direction of the film.
  • the pair of exposure light sources 11 is provided. Then, as shown in FIG.
  • the exposure light from the exposure light source 11 is transmitted through the masks 121 and 122 upstream in the moving direction of the film 2 to expose the alignment film material on the film 2 in the exposure areas A and C. To do. Further, the exposure light from the exposure light source 11 is transmitted through the masks 123 and 124 on the downstream side, and the alignment film material on the film 2 is exposed in the exposure regions B and D.
  • the mask 12 includes, for example, a frame body 120 and a pattern forming portion 125 at the center thereof.
  • the pattern forming portion 125 includes a pattern 125 a of a predetermined light transmission region. Is formed. That is, in the pattern forming portion 125, an opening that transmits exposure light is formed corresponding to the pattern shape formed on the film 2, or a light transmissive member is installed.
  • the alignment material film on the surface of the film 2 disposed on the stage 10 is exposed by the transmitted light of the pattern forming unit 121.
  • a pair of exposure light sources 11 is arranged for each mask 12 and emits exposure light having different incident angles.
  • the pattern 125a has a plurality of rectangular opening patterns so as to be arranged in two rows on the upstream side and the downstream side in the moving direction of the film corresponding to two exposure lights having different incident angles.
  • the book is provided.
  • the upstream and downstream light transmission region groups are formed apart from each other so that the irradiation regions of the exposure light do not overlap each other.
  • the upstream pattern and the downstream pattern are formed in a zigzag pattern along the width direction so that the exposure areas of the upstream pattern and the downstream pattern are adjacent to each other.
  • the mask 12 has a width of about 300 ⁇ m and a length so as to extend in the width direction perpendicular to the moving direction of the film 2 on the upstream side (upper side in FIG. 4) of the pattern 125a.
  • a viewing window 12a for a line CCD of about 250 mm is provided, and a line-shaped light shielding pattern 12b having a width of, for example, about 15 ⁇ m is provided in the middle of the viewing window 12a in the longitudinal direction. Then, the position of the light shielding pattern 12 b is detected by a line CCD 15 to be described later and used for positioning the mask 12.
  • the positions and shapes of the viewing window 12a and the light shielding pattern 12b in the present embodiment are merely examples, and the present invention is not limited to these positions and shapes as long as the mask 12 can be accurately positioned. Absent.
  • the positions of the viewing window 12a and the light shielding pattern 12b may be provided in a region between the patterns 125a formed so as to be arranged in two rows.
  • each other for example, N-type
  • a plurality of intersecting slits may be provided instead of the light shielding pattern 12b.
  • Each of the masks 12 is configured such that, for example, a portion of the frame 120 is supported by the mask stage 17, and the entire mask 12 is movable by the movement of the mask stage 17.
  • the mask stage 17 is connected to a mask position control unit 30 as shown in FIG. 5, for example, and the position thereof is controlled, for example, in the horizontal direction (film width direction or film width direction) under the control of the mask position control unit 30. And the longitudinal direction of the film). Thereby, the exposure position of the film 2 by the mask 12 can be adjusted to a horizontal direction.
  • the mask stage 17 can be moved in the vertical direction, for example, and can be adjusted so that, for example, the alignment film material on the film 2 is exposed to a predetermined size.
  • the film transport unit is, for example, a transport roller 9 provided outside the exposure apparatus 1 and inside the exposure apparatus 1, and is driven by a motor or the like.
  • the film 2 unrolled from the supply reel 80 is rotated to rotate the exposure apparatus 1.
  • the film 2 exposed in the exposure apparatus 1 is moved to the take-up reel 81.
  • the alignment laser marker 14 is a laser light source that irradiates and exposes the side coating film 22 with exposure light, or a laser that marks the side coating film 22 by heat generated by the laser light irradiation.
  • a light source for example, a Nd: YAG laser or a laser light source that emits ultraviolet light or the like, for example, a xenon flash lamp or the like.
  • the alignment laser marker 14 is a pulse light source
  • the colored side coating film 22 formed on the side of the film 2 is irradiated with exposure light and subjected to marking by heat from exposure or laser light irradiation,
  • the marking is formed to extend linearly by the movement of the film 2, and the width is 10 to 50 ⁇ m and the length is 150 ⁇ m to 50 mm on the side coating film 22 (particularly, the width is about 20 ⁇ m and the length is 300 ⁇ m).
  • the alignment mark 2a is preferably formed at regular intervals.
  • the alignment laser marker 14 is a light source that emits continuous light
  • the alignment mark 2 a is continuously formed on the side coating film 22 so as to extend in the moving direction of the film 1.
  • the alignment laser marker 14 is provided, for example, so as to be aligned in the film width direction with respect to the masks 121 and 122 on the upstream side in the movement direction of the film 2, and the upstream mask in the movement direction of the film 2.
  • An alignment mark 2a is formed on the side coating film 22 at a position corresponding to the viewing window 121a (and the light shielding pattern 12b) of 121, 122.
  • the region where the alignment mark 2a is formed is, for example, a region within 25 mm from the edge of the film, and is a portion where the film substrate 20 is exposed without forming a material film or the like conventionally. .
  • the alignment mark 2a By forming the alignment mark 2a on the edge of the film corresponding to the position of the viewing window 12a of the upstream masks 121 and 122, the pattern and film formed in the region A and the region C on the upstream side in the moving direction of the film 2, respectively.
  • the distance between the edge 2 and the alignment mark 2a is always constant.
  • the alignment mark 2 a formed on the side coating film 22 of the film at a position corresponding to the position of the upstream masks 121 and 122 in the moving direction of the film 2 is used for detecting the meandering of the film 2. That is, the alignment mark detection unit 16 is arranged at the position corresponding to the position of the downstream masks 123 and 124 in the moving direction of the film 2 so as to be aligned with the downstream masks 123 and 124 in the width direction of the film 2. It is arranged above or below, and is configured to detect the position of the alignment mark 16a at a position corresponding to the position of the downstream masks 123 and 124.
  • the alignment mark detection unit 16 is, for example, a CCD camera. As shown in FIGS.
  • the position of the alignment mark 2a in the film width direction at a position corresponding to the viewing window 12a of the downstream masks 123 and 124. Is detected.
  • the alignment mark 2a is also shifted in the width direction of the film 2 by the same meandering amount. The position of the alignment mark 2a deviated to is detected.
  • the alignment mark detection unit 16 is connected to a mask position control unit 30 as shown in FIG. Then, the detected position in the film width direction of the alignment mark 2 a is transmitted to the mask position control unit 30.
  • the mask position control unit 30 is configured to adjust the positions of the masks 123 and 124 on the downstream side in the moving direction of the film based on the position of the alignment mark 2 a transmitted from the alignment mark detection unit 16. That is, the exposure apparatus 1 according to the present embodiment forms the alignment mark 2a and uses it for detecting the meandering of the film 2, thereby adjusting the positions of the downstream masks 123 and 124 according to the detected meandering amount. Can do.
  • FIG. 5 is a diagram showing the configuration of the mask position control unit 30 as an example.
  • the mask position control unit 30 is connected to, for example, a control unit of a motor provided in the mask stage driving unit, the exposure light source 11 and the film take-up reel 81 (see FIG. 9).
  • the mask position control unit 30 includes an image processing unit 31, a calculation unit 32, a memory 33, a motor drive control unit 34, a light source drive unit 35, a mask stage drive control unit 36, And a control unit 37.
  • the image processing unit 31 performs image processing of the alignment mark 2a imaged by the alignment mark detection unit 16 (CCD camera), and detects, for example, the center position of the alignment mark 2a in the film width direction.
  • the calculating unit 32 calculates, for example, a shift in the film width direction between the center position of the alignment mark 2a to be set and the actual center position of the alignment mark 2a. Further, the calculation unit 32 determines the position of the mask 12 to be set at the start of exposure based on the distance between the position of the film drawing mark 2b detected by the line CCD 15 described later and the position of the light shielding pattern 12b on the mask 12. The deviation in the film width direction from the actual mask 12 position is also calculated.
  • the memory 33 stores, for example, the center position of the alignment mark 2a detected by the image processing unit 31 and the shift amount calculated by the calculation unit 32.
  • the motor drive control unit 34 controls the rotation speed when the motor of the film take-up reel 81 is driven or stopped, or is driven, for example.
  • the light source drive unit 35 controls the turning on / off of the exposure light source 11, the output, or the oscillation frequency.
  • the mask stage drive control unit 36 controls the drive of the mask stage 17 and controls, for example, the movement direction and the movement amount of the mask stage 17.
  • the control unit 37 controls driving of the image processing unit 31, the calculation unit 32, the memory 33, the motor drive control unit 34, the light source drive unit 35, and the mask stage drive control unit 36.
  • the film exposure apparatus 1 adjusts the position of the mask 12, for example, switches on / off the exposure light irradiation by the exposure light source 11, or the rotational speed of the motor provided on the take-up reel 81 for the film 2 Etc. can be controlled.
  • the mask position control unit 30 calculates the amount of the shift.
  • the positions of the downstream masks 123 and 124 are moved outward in the width direction of the film by an amount by which the alignment mark 2a is displaced.
  • the mask position control unit 30 calculates the shift amount, and the position of the alignment marks 2a is shifted from the positions of the downstream masks 123 and 124. Only move inward in the width direction of the film.
  • the laser marker 13 includes a gantry stage 13a, a transport unit 13b, and a marking unit 13c.
  • the gantry stage 13a is located above the portion where the film is supplied with respect to the moving direction of the film. Are arranged so as to extend in the vertical film width direction.
  • the transport unit 13b is supported by the gantry stage 13a and is configured to be able to move along the longitudinal direction on the gantry stage 13a. Further, the position of the transport unit 13b is controlled by a control device (not shown), and thereby the position of the marking unit 13c can be adjusted.
  • the marking unit 13c emits laser light from a laser light source such as an Nd: YAG laser, for example, and has a predetermined shape, for example, a cross shape, at the leading end of the film 2 supplied from the film supply unit as shown in FIG.
  • the pull-in mark 2b is formed.
  • the marking unit 13c is fixed to the conveyance unit 13b, and is configured to be able to adjust the formation position of the drawing mark 2b on the film 2 by controlling the position of the conveyance unit 13b by a control device.
  • the marking portion 13 c has four lead-in marks 2 b at the front end portion of the film 2 so as to correspond to each of the four masks 12, for example, at regular intervals. It is configured to form.
  • the line CCD 15 (film drawing position detection unit) is arranged to extend in the width direction of the film 2 below the viewing window 12a and the light shielding pattern 12b provided in each mask 12.
  • the line CCD 15 detects a light shielding pattern 12 b provided in the middle of the viewing window 12 a of the mask 12 as an actual position of the mask 12.
  • the line CCD 15 is connected to the mask position control unit 30 and is configured to transmit the detected positions of the pull-in mark 2 b and the light shielding pattern 12 b to the mask position control unit 30.
  • the mask position control unit 30 is a mask used when the film is first exposed based on the distance between the drawing mark 2b transmitted from the line CCD 15 and the plane parallel to the film surface calculated from the position of the light shielding pattern 12b.
  • the position of 12 is also adjusted. That is, the mask position control unit 30 stores in advance the position data of the mask (light shielding pattern 12b) to be set with reference to the position of the pull-in mark 2b. As shown in FIG.
  • the unit 30 moves the position of the mask stage 17 using the position of the pull-in mark 2b detected by the line CCD 15 as a reference position until the mask position determined by the detected position of the light shielding pattern 12b reaches a predetermined position.
  • the position of the mask 12 can be adjusted with reference to the position of the pull-in mark 2b formed on the film 2 in advance with high accuracy even when the exposure is started.
  • the position to be exposed can be determined with high accuracy.
  • the film 2 supplied to the exposure apparatus 1 has a side coating film 22 formed on the side where the film substrate 20 is exposed without a material film or the like conventionally formed.
  • the side coating film 22 is formed by applying colored oil-based ink by a coating device and then removing the solvent component by volatilization in the drying device 5 or the like.
  • the side coating film 22 formed of colored ink or a color filter resist material has a laser beam absorptivity of 90 to 98% when irradiated with a laser beam having a wavelength of 532 nm, for example.
  • the alignment film material Compared to the material and the alignment film material (both the film base material and the alignment film material have an absorption rate of laser light of approximately 0%), it is easily exposed or laser-exposed by laser light irradiation from the alignment laser marker 14. Marked by processing. Therefore, compared with the case where marking is performed by irradiating a colorless and transparent film substrate with laser light, marking with the laser light is easy, and the alignment mark 2a can be easily formed. For example, in the case where marking is performed on the film substrate 20, for example, when the laser beam to be used is ultraviolet light having a wavelength of 266 nm, the alignment mark 2a must be set to an extremely large irradiation energy of the laser beam, for example, 8 J / cm 2. The formation of is difficult.
  • the irradiation energy of the laser beam can be reduced as compared with the case of using only the film substrate 20, but the alignment material film around the alignment mark 2a is also colorless and transparent. Therefore, for example, it is necessary to use an expensive and large-sized detection apparatus such as SEM, and there is a problem that the cost of the exposure apparatus is increased and the size is increased.
  • the side coating film 22 is formed of colored ink as in the present embodiment, for example, when the laser light to be used is ultraviolet light having a wavelength of 532 nm, the irradiation energy of the laser light is 0.6 J / It can be reduced to about cm 2 .
  • the laser beam irradiation energy can be reduced to about 1.0 J / cm 2 . Therefore, by forming the side coating film 22 with a colored material as described above, marking with a laser beam is easy, and a colored coating film remains around the formed alignment mark 2a. Even when an inexpensive and small detection device such as a CCD camera is used, the formed alignment mark 2a can be detected easily and accurately. Therefore, since the alignment mark 2a formed with high accuracy can detect the meandering of the film 2 and adjust the position of the mask 12 with high accuracy, the film can be stably exposed.
  • the exposure area is divided into the upstream side and the downstream side by forming a drawing mark 2b at the leading end of the film 2 and adjusting the position of the mask 12 according to the position of the drawing mark 2b.
  • the exposed areas are not overlapped or unexposed areas are not generated due to the undulation of the film 2 and the shift in the width direction. Since the initial position of the mask 12 is determined with reference to the pull-in mark 2b formed at the leading end of the film 2, the downstream pattern can be accurately formed in addition to the upstream pattern. Thereby, a film can be exposed stably.
  • the exposure light source 11 that emits the exposure light and the laser marker 14 that forms the alignment mark 2a can also simplify the configuration of the exposure apparatus by using the same laser light.
  • the initial position of the mask 12 at the start of exposure is adjusted by forming the pull-in mark 2b at the leading end of the film and detecting it by the line CCD 15, but the present invention adjusts the initial position of the mask 12.
  • these configurations may not be provided.
  • an exposure material to be an alignment film (exposure material film 21) is applied to the center of the film substrate 20 by the slit coater 4 shown in FIG. 9.
  • the coating device provided on the upstream side or the downstream side of the slit coater 4 in the moving direction of the film (the upstream side of the drying device 5) can be used for both side edges (regions from the edge to 25 mm) of the film substrate 20. Colored ink is applied to at least one of them.
  • the ink When the ink is applied, for example, the ink is applied to the surface of the film substrate 20 by bringing the ink infiltrated into an application portion formed of felt fiber or the like into contact with the surface of the film substrate 20. Apply in film form. Thereby, a liquid or paste-like exposure material and colored ink are applied to the surface of the film substrate 20 in a film form.
  • the film 2 is conveyed to a drying device 5 where the surface liquid or paste-like exposure material and the colored coating film material (ink) are dried (volatilization of the solvent component) and photocured according to the characteristics of each material. And / or baked (baked).
  • an exposure material film 21 (alignment material film) and a side coating film 22 are formed on the surface of the film substrate 20. That is, a predetermined alignment material film is formed at the center of the film substrate 20 in the width direction, but a side coating film for forming an alignment mark is formed on the side of the film substrate 20 from the edge to 25 mm.
  • a film made of ink in which the solvent component is volatilized is formed.
  • the film 2 on which these two types of films are formed is supplied into the exposure apparatus 1 from the front end portion thereof by, for example, the transport roller 9.
  • the film 2 supplied into the exposure apparatus 1 is supplied from the front end portion to below the laser marker 13 by a film supply unit such as a transport roller.
  • the supply of the film 2 by a conveying device such as a conveying roller is temporarily stopped.
  • the marking part 13c is conveyed to a predetermined position by moving the conveyance part 13b of the laser marker 13 on the gantry stage 13a by control by a control apparatus.
  • the marking part 13c is arrange
  • a laser beam is emitted from the marking portion 13c to form, for example, a cross-shaped pull-in mark 2b at the leading end of the film 2.
  • the control device moves the marking unit 13c, for example, by moving the transport unit 13b on the gantry stage 13a.
  • a pull-in mark 2b is formed at the leading end of the film.
  • the film 2 reaches below the mask 12 (masks 121 and 122) arranged corresponding to the exposure areas A and C, as shown in FIG.
  • a line CCD 15 is arranged at a position corresponding to the viewing window 12a (and the light shielding pattern 12b) below each mask 12 so as to extend in the width direction of the film 2.
  • the line CCD 15 has a pull-in mark 2b and a line CCD 15 The position of the pull-in mark 2b is detected when the sheet is conveyed until it is positioned above. Further, the line CCD 15 detects the position of the light shielding pattern 12 b provided in the middle of the viewing window 12 a of the mask 12.
  • the line CCD 15 transmits a signal indicating the distance between the detected pull-in mark 2 b and the light shielding pattern 12 b to the mask position control unit 30. For example, the conveyance of the film 2 is stopped until the adjustment of the mask position is completed after the detection process by the line CCD 15.
  • the mask position control unit 30 When the signal of the distance between the pull-in mark 2b and the light shielding pattern 12b is input from the line CCD 15, the mask position control unit 30 first stores the distance between the two in a plane parallel to the film surface (the pull-in). Compared with the data of the initial position to be set on the mask 12 with the position of the mark 2b as a reference). Then, the mask stage 17 is moved until the mask position determined by the position of the light shielding pattern 12b reaches a predetermined initial position. Thereby, before the start of exposure in the exposure areas A and C, the initial position of the mask 12 (masks 121 and 122) is accurately determined with reference to the film 2.
  • the side coating film 22 formed on the side portion of the film 2 is started to be irradiated with the laser beam by the alignment laser marker 14 and irradiated with the laser beam.
  • the formed area is marked by exposure, or marked by heat by laser light irradiation.
  • the side coating film 22 may have the ink removed in the region irradiated with the laser light, and the film substrate 20 may be exposed in the marking region.
  • the laser beam irradiation energy is small, and the film substrate itself is not affected by alteration or the like.
  • the colorless and transparent film substrate 20 is slightly scratched, but the region where the side coating film 22 is formed is not included in the image display region of the display device. Since this is an unused area, there is no problem.
  • the side coating film made of colored ink formed on the side of the film has an extremely high laser light absorptance compared to the light absorptivity of the film base material and the alignment film material. Therefore, even when the irradiation energy of the laser beam irradiated from the alignment laser marker 14 is as small as about 0.6 J / cm 2 , the ink in the irradiation region is easily marked by the heat generated by the laser beam irradiation. Therefore, the alignment mark 2a can be easily formed and the coating film remaining around it is colored compared to the case where marking is performed by irradiating a laser beam onto a colorless and transparent film substrate. And it can form with sufficient precision.
  • the position of the alignment laser marker 14 is a position corresponding to the viewing window 12a (and the light shielding pattern 12b) of the upstream mask 12 (masks 121 and 122) in the moving direction of the film 2. Therefore, the alignment mark 2a is formed on the side coating film 22 so that the relative distance to the upstream masks 121 and 122 in the moving direction of the film 2 is constant.
  • the film 2 is transported by a transport roller or the like without starting the exposure. Then, as shown in FIG. 2, the film 2 is transported so that the leading end reaches below the mask 12 (masks 123 and 124) arranged corresponding to the downstream exposure regions B and D.
  • a line CCD 15 is arranged at a position corresponding to the viewing window 12a (and the light shielding pattern 12b) below each mask 12 so as to extend in the width direction of the film 2, as in the upstream case.
  • the line CCD 15 detects the light shielding pattern 12b provided in the middle of the observation window 12a of the mask 12 as the actual position of the mask 12, and thereby the pull-in mark 2b and the mask 12 The distance from the light shielding pattern 12b is measured. Then, a signal of the distance between the detected pull-in mark 2b and the light shielding pattern 12b is transmitted to the mask position control unit 30. For example, the conveyance of the film 2 is stopped from the detection process by the line CCD 15 provided corresponding to the position of the downstream mask 12 until the adjustment of the downstream mask position is completed. At this time, the formation of the alignment mark 2a may be temporarily stopped.
  • the mask position control unit 30 determines the distance between the two in a plane parallel to the film surface. Is compared with data stored in advance (data of the initial position to be set on the mask 12 with reference to the position of the pull-in mark 2b). Then, the position of the downstream mask 12 (123, 124) is adjusted by moving the mask stage 17 until the mask position determined by the position of the light shielding pattern 12b reaches a predetermined initial position. Thereby, before the start of exposure in the exposure regions B and D, the initial position of the downstream mask 12 (masks 123 and 124) is accurately determined with reference to the film 2.
  • the conveyance of the film 2 by the conveyance roller or the like is resumed. Then, the film 2 is transported until the exposure target portion is positioned in the irradiation region of the exposure light transmitted through each mask 12, the exposure light from the exposure light source 11 is transmitted through the mask 12, and the exposure of the film 2 is started. Thereby, the alignment film material (exposure material film 21) on the film 2 is aligned in a predetermined direction according to the irradiation angle of the exposure light.
  • each pattern 2 c is formed in a band shape along the conveyance direction of the film 2.
  • the position of each mask 12 at the start of exposure is adjusted by a pull-in mark 2 b formed at a fixed position with respect to the film 2.
  • the positions of the two upstream masks 121 and 122 and the two downstream masks 123 and 124 are accurately set relative to the film.
  • a pattern formed by the upstream masks 121 and 122 is used.
  • Each mask position is set so that 2c and the pattern 2c formed by the downstream masks 123 and 124 do not overlap each other and are adjacent to each other without forming a gap therebetween.
  • the pattern 2c formed in the exposure areas A and C eventually approaches a position corresponding to the downstream masks 123 and 124.
  • the position of the mask 12 (123, 124) on the downstream side in the moving direction of the film is separated from the position of the mask 12 (121, 122) on the upstream side by about 4 m in the moving direction of the film.
  • the film 2 is displaced in the width direction with respect to the mask 12 due to the meandering of the film 2 on the downstream side in the moving direction of the film. Therefore, the pattern 2 c formed by the upstream masks 121 and 122 is also shifted in the meandering direction of the film 2 and supplied to the exposure areas B and D by the downstream masks 123 and 124.
  • an alignment mark detection unit such as a CCD camera is located at a position corresponding to the viewing window 12a (and the light shielding pattern 12b) of the downstream mask 12 (masks 123 and 124) in the moving direction of the film 2.
  • a film made of colored ink is formed as a side coating film 22 in a predetermined region from the edge of the film 2, and the alignment mark 2a is clear on the side coating film 22. It is formed with high accuracy.
  • the alignment mark 2a is formed so that the relative position in the width direction perpendicular to the moving direction of the film is constant with respect to the upstream masks 121 and 122.
  • the alignment mark 2a is detected at a position corresponding to the downstream masks 123 and 124, and the distance between the alignment mark 2a and the downstream masks 123 and 124 is a constant interval on the downstream side in the moving direction of the film 2.
  • the positions of the downstream masks 123 and 124 are adjusted. That is, as shown in FIG. 1, for example, when the position of the alignment mark 2a is shifted to the outside in the width direction of the film, the mask position control unit 30 shifts the positions of the downstream masks 123 and 124 with respect to the alignment mark 2a. Move the film outward in the width direction by the amount.
  • the mask position control unit 30 shifts the positions of the downstream masks 123 and 124 by the amount by which the alignment mark 2a is shifted. Move inward direction.
  • the exposure area by the downstream mask can be accurately compared to the pattern 2c formed by the upstream mask. Can be adjusted well.
  • a coating film of colored ink is formed around the alignment mark 2a used for adjusting the mask position. Even when an inexpensive and small detection device such as a CCD camera is used, alignment is performed. The mark 2a can be detected clearly and accurately. Therefore, in this embodiment, meandering of the film 2 can be detected with high accuracy without using an expensive and large-sized detection device for detecting the alignment mark 2a. Therefore, in the present embodiment, during continuous exposure, as shown in FIG. 1, even when the film 2 is displaced in the width direction, the mask 12 (123, 124) on the downstream side in the moving direction of the film 2 is used. By correcting the position, stable exposure can be performed without shifting the exposure position on the film 2.
  • the exposure area D is so formed that the pattern formed between the exposure areas A and C is filled in the film 2 with the pattern exposed by the exposure area B and is adjacent to the pattern formed by the exposure area C.
  • a pattern is formed.
  • the pattern already formed by the exposure areas A and C and the pattern formed by the exposure areas B and D do not overlap or leave unexposed portions, and the pattern is accurately formed on the entire surface of the film. Can be formed.
  • the exposure material film 21 and the side coating film 22 are formed on the surface of the film substrate 20.
  • the film 2 on which two types of material films are formed is supplied to the exposure apparatus.
  • the exposure material film 21 and the side coating film 22 are formed on a line different from the line of the exposure apparatus. May be.
  • the exposure material film 21 and / or the side coating film 22 are formed on the surface of the film substrate 20 and are temporarily wound around a take-up reel.
  • the other material film is formed on the same line as the exposure apparatus, or another roll. Performed on the Toroll line.
  • the roll of the film 2 on which the material film is formed is attached to the supply reel 80 in the line of the exposure apparatus 1, and the film 2 on which the two kinds of material films are formed is supplied to the exposure apparatus 1.
  • the alignment laser marker 14 for forming the alignment mark 2a is provided at a position corresponding to the upstream masks 121 and 122 in the film moving direction.
  • the alignment laser marker 14 is, for example, It may be provided upstream of the upstream masks 121 and 122 in the film moving direction.
  • a new alignment mark detection unit 16 is provided so as to be aligned in the width direction of the upstream masks 121 and 122 and the film 2 in correspondence with the positions of the upstream masks 121 and 122 in the moving direction of the film 2. Just do it.
  • the alignment mark detection unit 16 newly disposed may be configured to detect the position of the alignment mark 16a at a position corresponding to the position of the upstream masks 121 and 122.
  • the exposure method by the exposure apparatus in which two masks are arranged on the upstream side and the downstream side respectively has been described.
  • the present invention detects the meandering of the film by forming the alignment mark and the mask. The position is adjusted and is not limited by the number and arrangement of masks.
  • the present invention at least one of both side edges in the width direction of the film base is coated with a colored baking material, a colored photocurable material or colored ink to enhance the laser light absorption rate. Since the film on which the film is formed is supplied and the alignment mark is formed by irradiating the side coating film with the laser beam, the alignment mark can be easily formed. Therefore, the present invention is particularly useful for correcting the meandering of the film in an exposure apparatus that continuously exposes the film.
  • 1 exposure apparatus, 10: stage, 11: exposure light source, 12: mask, 12a: viewing window, 12b: light shielding pattern, 120: frame, 121: (first) mask, (122): second mask , 123: (third) mask, 124: (fourth) mask, 125: pattern forming unit, 125a: (mask) pattern, 13: laser marker, 13a: gantry stage, 13b: transport unit, 13c: marking unit , 14: laser marker for alignment, 15: film drawing position detection unit, 16: alignment mark detection unit, 17: mask stage, 2: film, 2a: alignment mark, 2b: drawing mark, 2c: pattern, 20: film base material , 21: exposure material film, 22: side coating film, 30: mask position control unit, 31: image processing unit, 32: calculation , 33: memory, 34: motor drive controller, 35: light source driving section, 36: a mask stage drive control unit, 37: control unit

Landscapes

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Abstract

　フィルム基材（２０）上の露光パターン形成用領域に露光材料膜（２１）が形成されたフィルム（２）において、その幅方向の両側縁部の少なくとも一方に、有色の焼成材料、有色の光硬化性材料又は有色のインクを塗布して側部塗布膜（２２）を形成し、アライメントマーク形成部（１４）により、レーザ光を照射してアライメントマーク（２ａ）を形成し、このアライメントマーク（２ａ）を使用してフィルム蛇行を検出し、マスク（１２）の位置を調整する。これにより、フィルム基材上の露光パターン形成領域に露光材料膜が形成されたフィルムを連続露光する際に、アライメントマークの形成及び形成したアライメントマークの検出が容易であり、フィルムの蛇行を精度良く補正して、安定的に露光できる。

Description

フィルム露光方法
　本発明は、フィルム露光方法に関し、特に、フィルム基材上の露光パターン形成用領域に露光材料膜が形成されたフィルムを連続露光する際に、フィルムの蛇行を精度良く補正して、安定的に露光できるフィルム露光方法に関する。
　従来、例えば平板状の基板等の部材を露光する際には、その露光位置を精度よく管理するために、例えば表面上に所定のマーキングを施した基板を使用し、このマーキングにより、露光に使用するマスクの位置を決定したり（例えば、特許文献１乃至３）、基板を載置するパレットに位置合わせ用のピンを設置することが行われている（例えば、特許文献４）。
　しかしながら、ロールトゥロール方式のように露光対象がフィルムであり、このフィルムが連続的に露光装置内に供給されてくる場合には、上記のような平板状部材の露光における位置合わせ技術を適用することが難しい。即ち、ロールトゥロール方式のフィルムの製造ラインにおいては、露光対象となるフィルムは、例えば図９に示すような工程で、露光装置１内に供給され、平板状の基板等を露光する場合とは異なり、搬送中のフィルム１には、その柔軟性により、容易に波打ちが発生する。
　また、図９に示すようなロールトゥロール方式のフィルムの製造ラインにおいては、あらゆる加工工程において、フィルムの柔軟性を利用した処理が行われている。即ち、フィルム２は、供給リール８０から巻き解かれてラインに供給され、前処理部３において例えばドライ洗浄及び表面改質等の前処理が施され、スリットコーター４にて表面に所定の露光材料が塗布された後、塗布された露光材料が乾燥装置５にて乾燥される。そして、表面上に露光材料膜が形成されたフィルム２は、露光装置１に供給され、露光材料膜が露光装置１にて露光される。このとき、フィルム２は、各装置間を例えばローラ９により支持されて、その回転により搬送される。よって、特許文献１乃至４に開示された技術をロールトゥロール方式のフィルム２の露光に適用することは困難である。
　ロールトゥロール方式でフィルムを露光する場合においては、その露光精度を高めるために、フィルムとマスクとの相対的位置関係を維持することが重要である。例えば、特許文献５には、フィルムに対するマスクの位置合わせ技術が開示されている。即ち、特許文献５の技術は、１枚のフィルムに露光を２度に分けて行う場合において、フィルムに１回目の露光を施してパターンを形成した後、２回目の露光の際には、１回目の露光により形成されたパターンをラインＣＣＤで検出することにより、マスクの位置を調節するものである。なお、この特許文献５の図２に示されているように、フィルムの幅方向の両側縁部は露光領域ではない。
　図１０は、露光光を出射する露光光源１１が１個のマスク１２に対応して１対ずつ向かい合わせて配置され、互いに異なる方向から露光光を照射する型式の従来の露光装置を一例として示す図である。このような型式の露光装置は、例えば液晶ディスプレイ等のガラス基板上又は偏光フィルム等のフィルム基材上に無色透明の配向膜を形成する際に配向材料膜の露光に使用されている。即ち、この露光装置による露光により配向膜を形成する場合には、表面に無色透明の配向材料膜が形成された露光対象部材を露光装置内に供給し、所定の領域ごとに露光光を異なる方向から照射して、異なる方向に配向した配向膜を形成することが行われている。この露光装置によれば、例えばフィルムの１絵素に対応する領域をその幅方向に２分割して露光したり、画素に対応する領域ごとにフィルムをその幅方向に分割して露光し、各分割領域ごとに配向方向が異なる配向膜を形成することができる。この配向膜の配向方向の特徴により、ガラス基板間に挟持する液晶分子の電圧印加時の動作を配向膜の配向方向に応じて異ならせ、これにより、表示装置の視野角を広げることができ、また、製造したフィルムを３Ｄ（Ｔｈｒｅｅ　Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ）ディスプレイ等の偏光フィルムとしても使用することができ、近時、このようなフィルムの露光技術は注目を集めている。
　このような露光装置によりフィルムを露光する際には、フィルムには、搬送中に波打ちが発生しやすく、これにより、露光位置のずれが発生するという問題点がある。この露光位置のずれの影響を低減するために、例えば、上記のようなフィルムの移動方向に複数の光源を並置した露光装置においては、例えば図１０及び図１１に示すように、１個のマスクを使用して露光するのではなく、複数個のマスク１２を使用し、各マスク１２を露光対象部材の移動方向及びこれに垂直の幅方向に並ぶように千鳥状に配置して、露光光源１１を各マスクごとに設けて露光することが行われている。そして、各マスク１２１乃至１２４に露光光源１１からの露光光を透過させ、図１１に示すように、フィルムが供給されてくる上流側にて、互いに離隔して配置されたマスク１２１及び１２２によりフィルム２を露光領域Ａ及びＣで露光し、下流側にて、露光領域Ａ及びＣ間の領域Ｂをマスク１２３により露光し、露光領域Ｃに隣接する領域Ｄをマスク１２４により露光することが行われている。これにより、フィルム２のほぼ全面に配向分割したパターンを精度良く形成することができる。
特開昭６２－２９４２５２号公報 特開２００５－２８３８９６号公報 特開２００５－３１６４１１号公報 国際公開第０８／１３９６４３号 特開２００６－２９２９１９号公報
　しかしながら、上記従来技術には、以下のような問題点がある。即ち、特許文献５の技術は、１枚のフィルムに露光操作を２度に分けて行う必要があり、生産性が悪い。
　また、複数個のマスク１２が配置され、各マスク１２ごとに露光光源１１が１対ずつ設けられた従来の露光装置においては、図１０に示すように、露光光源１１を内蔵している部分（露光光源１１の筐体部分）は、１光源につき、例えばフィルムの移動方向に約２ｍ程度の長さを有しており、図１１に示すような露光領域Ａ及びＣと露光領域Ｂ及びＤとの間の距離は、少なくとも４ｍ程度と長くなる。よって、上流側の露光領域Ａ及びＣから下流側の露光領域Ｂ及びＤへの搬送中に、フィルムが容易に波打ち、その移動方向に垂直の幅方向にずれやすいという問題点がある。従って、フィルムの移動方向下流側の露光領域において、フィルムの幅方向の位置ずれにより、既に露光された領域が露光されてしまったり、また、未露光の領域も発生してしまうという問題点もある。
　この問題点を解決するために、本願出願人は、特願２０１０－０８９６０８号において、従来では例えばフィルム送給用の領域として使用され露光材料が塗布されていないフィルム基材上の側部にアライメントマークを形成し、フィルムの移動方向下流側にてアライメントマークのフィルム幅方向のずれをＣＣＤカメラにより検出し、この検出信号に基づいて、下流側のマスク１２３及び１２４の位置をフィルムの幅方向に調節して露光領域のずれを補正する技術を提案した。
　フィルムの縁部にアライメントマークを形成する方法としては、フィルムに機械的に穴をあけるか、又はレーザ等によるマーキングを行うことが考えられるが、機械的なマーキングについては、その加工の際に、フィルムに振動が加わって加工精度が低下するため、実用には適しない。また、マーキングを施す対象のフィルム基材は、無色透明であり、レーザ等によるマーキングにおいては、レーザ光がフィルムを透過しやすい。よって、マーキングに例えば波長が２６６ｎｍの紫外光を使用した場合においては、レーザ光の照射エネルギーを例えば８Ｊ／ｃｍ２程度まで極めて大きくしないとアライメントマークの形成が難しいという問題点がある。
　本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、フィルム基材上の露光パターン形成領域に露光材料膜が形成されたフィルムを連続露光する際に、アライメントマークの形成及び形成したアライメントマークの検出が容易であり、フィルムの蛇行を精度良く補正して、安定的に露光できるフィルム露光方法を提供することを目的とする。
　本発明に係るフィルム露光方法は、フィルム基材上の露光パターン形成用領域に露光材料膜が形成されたフィルムの前記露光材料膜に、マスクを介して露光光を照射することにより、前記露光材料膜に前記マスクのパターンを露光するフィルム露光方法において、前記フィルム基材の幅方向の両側縁部の少なくとも一方に、有色の焼成材料、有色の光硬化性材料又は有色のインクが塗布されて側部塗布膜が形成されたフィルムを供給し、この側部塗布膜にアライメントマーク用レーザ光を照射してアライメントマークを形成し、このアライメントマークを使用してフィルム蛇行を検出し、前記マスクの位置を調整することを特徴とする。例えば、前記露光材料膜及び／又は前記側部塗布膜は、供給リールに巻回されたフィルム基材を、前記供給リールから巻取リールまで移動させる間における前記アライメントマーク用レーザ光の照射前に、前記フィルム基材上に形成される。
　本発明に係るフィルム露光方法において、例えば前記マスクは、前記フィルムの移動方向の上流側及び下流側に夫々配置されており、前記フィルムの移動方向の上流側及び下流側で前記露光材料膜に夫々前記上流側マスクと下流側マスクのパターンを露光するものであり、前記フィルムの移動方向における前記上流側マスクの位置に対応する位置で前記側部塗布膜に前記アライメントマークを形成し、前記フィルムの移動方向における前記下流側マスクの位置に対応する位置で前記アライメントマークを検出することにより、前記フィルムが前記上流側マスクによる露光領域から前記下流側マスクによる露光領域まで移動するまでに生じたフィルム蛇行を検出し、前記フィルムに対する下流側マスクの相対的位置を前記フィルム蛇行によりずれた量だけ補正する。
　本発明においては、フィルム基材上の露光パターン形成用領域に露光材料膜が形成されたフィルムをマスクのパターンにより露光するフィルム露光方法において、フィルム基材の幅方向の両側縁部の少なくとも一方に、有色の焼成材料、有色の光硬化性材料又は有色のインクが塗布されて側部塗布膜が形成されたフィルムを供給し、この側部塗布膜にレーザ光を照射してアライメントマークを形成する。この有色の側部塗布膜はレーザ光の吸収率が高く、アライメントマークの形成が容易である。
　また、アライメントマーク用レーザ光の照射により側部塗布膜を除去してアライメントマークを形成する場合においても、アライメントマークの周囲には、有色の塗布膜が残るため、アライメントマークを明瞭且つ精度よく検出することができる。よって、本発明によれば、フィルム蛇行の検出及びマスク位置の調整を精度よく行うことができ、安定的にフィルムを露光することができる。
本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置において、アライメントマークによるフィルムの幅方向のずれの補正を示す図である。 本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置において、フィルムの搬送による引き込みマークの移動を示す図である。 本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置において、上流側マスクによるパターンと下流側マスクによるパターンとの相対的位置関係を示す図である。 本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置において、マスクを示す平面図である。 マスク位置の制御部を一例として示す図である。 引き込みマーク形成部を一例として示す図である。 本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置において、上流側のマスクによる露光工程を示す図である。 本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置において、引き込みマークによるマスク位置の補正を示す図である。 ロールトゥロール方式のフィルム製造ラインの一例を示す図である。 配向分割方式の露光装置を一例として示す斜視図である。 フィルムの移動方向に複数の光源を配置した構成の露光装置を一例として示す図である。
　以下、添付の図面を参照して本発明の実施形態について具体的に説明する。先ず、本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置の構成について説明する。図１は本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置において、アライメントマークによるフィルムの幅方向のずれの補正を示す図、図２は本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置において、フィルムの搬送による引き込みマークの移動を示す図、図３は本発明の実施形態に係るフィルムの露光装置において、上流側マスクによるパターンと下流側マスクによるパターンとの相対的位置関係を示す図である。本実施形態に係る露光装置１は、図１０及び図１１に示す従来の露光装置と同様に、露光光を出射する露光光源１１と、マスク１２と、露光光源１１から出射した露光光をマスク１２を介してフィルム２に照射する光学系と、フィルム２を搬送する例えば搬送ローラ等のフィルム搬送部と、を有しており、例えばコリメータレンズ及び／又は反射鏡等の光学系により、露光光源１１から出射した露光光をマスク１２を介してフィルム２に照射し、フィルムの幅方向中央の領域において、フィルム基材２０上に形成された露光材料膜２１を露光する。
　露光装置１は、図１乃至図３に示すように、フィルム２の側部にアライメントマーク２ａを形成するアライメント用レーザマーカ１４（アライメントマーク用レーザ光源）を有している。本発明においては、露光装置１には、両側縁部の少なくとも一方に有色の焼成材料、有色の光硬化性材料又は有色のインクが塗布されて側部塗布膜２２が形成されたフィルム２を供給する。即ち、このフィルム２は、図１に示すように、フィルム基材２０上の配向膜を形成する領域（本発明における露光パターン形成用領域）には、従来と同様に露光材料膜２１が形成されている。この露光材料膜２１は、例えば無色透明である。そして、従来であれば露光材料が塗布されていないフィルム基材２０の側部には、有色の焼成材料、有色の光硬化性材料又は有色のインクが塗布されて側部塗布膜２２が形成されている。そして、この側部塗布膜２２上にアライメント用レーザマーカ１４からレーザ光を照射して、露光又はレーザ光の照射による熱によりアライメントマーク２ａを形成する。
　本実施形態においては、露光装置１は、例えば図２乃至図４に示すように、搬送ローラ等のフィルム供給部に近接して配置されたレーザマーカ１３（引き込みマーク形成部）と、例えばマスク１２の下方にてフィルム２の幅方向に延びるように配置された例えばラインＣＣＤ１５（フィルム引き込み位置検出部）とを有する。これにより、フィルム供給部から供給されてくるフィルム２に対して、レーザマーカ１３により、マスク１２の位置決めの基準となる引き込みマーク２ｂを形成し、ラインＣＣＤ１５により引き込みマーク２ｂを検出することにより、フィルム２に対するマスク１２の位置を調整可能に構成されている。
　露光対象のフィルム２は、例えば図９に示すように、フィルム２の基材２０がロールトゥロール方式の供給リール８０から巻き解かれてスリットコーター４に供給され、スリットコーター４にて表面に所定の材料が膜状に塗布される。本実施形態においては、スリットコーター４は、フィルム基材２０の中央に露光材料を塗布するのに加えて、例えばフィルム基材２０の両側縁部の少なくとも一方に有色の焼成材料又は有色の光硬化性材料を塗布可能に構成されている。即ち、スリットコーター４は、フィルム基材２０の幅方向中央に配向材料膜（露光材料膜２１）となる例えば無色透明の露光材料を塗布し、フィルム基材２０の側部にアライメントマーク形成用の側部塗布膜２２となる有色の焼成材料又は光硬化性材料を液状又はペースト状の状態で塗布可能に構成されている。この場合には、露光材料、並びに有色の焼成材料又は有色の光硬化性材料は、１台のスリットコーター４により塗布されても、２台のスリットコーター４により夫々塗布されてもよい。側部塗布膜２２となる焼成材料としては、焼成（ベーク）することによりフィルム基材２０上に焼成膜を形成できる有色の材料、例えば一般的に使用されている光学カラーフィルタ用の赤、緑、青及び／又は黒のレジスト材料を好適に使用することができる。但し、本発明における側部塗布膜は、フィルム蛇行の検出用のアライメントマークの形成のみに使用されるものであるため、レジスト材料により側部塗布膜を形成する場合においては、現像等の工程は特に必要としない。また、光硬化性材料としては、例えば有色の光硬化性樹脂を使用することができる。
　又は、側部塗布膜２２の材料として有色のインクを使用し、フィルム基材の側部にインクを塗布する場合には、スリットコーター４は、フィルム基材２０の中央に露光材料のみを塗布する。そして、フィルム２の移動方向におけるスリットコーター４の上流側又は下流側、即ち、乾燥装置５よりも上流側に設けられた塗布装置により、フィルム基材２０の側部に有色のインクを塗布する。有色のインクとしては、顔料及び／又は染料等を含有する液状又はペースト状のインク全般を使用することができ、乾燥装置５で溶媒成分を揮発させて有色の膜を形成できるインク、例えば、油性インクを好適に使用することができる。塗布装置としては、例えば適度な柔軟性を有する素材、例えばフェルト質の繊維等により形成された塗布部にインクを浸透させ、この塗布部を送給されてくるフィルム基材２０の側部の露光材料を塗布しない領域に接触させることにより、インクを膜状に塗布する構成のものを使用する。
　スリットコーター４のみ、又はスリットコーター４及び塗布装置により所定の材料が塗布されたフィルム２は、乾燥装置５に供給される。そして、フィルムの中央に塗布された露光材料及びフィルム側部の塗布膜となる材料が各材料の特性に応じて焼成（べーク）、乾燥（溶媒成分の揮発）、及び／又は光硬化されて、フィルム基材２０上に夫々露光材料膜２１及び側部塗布膜２２が形成される。そして、フィルム２は、搬送ローラ等の搬送装置により、露光装置１内に供給される。本発明においては、露光装置１内に供給されるフィルム２には、従来と同様に、フィルム幅方向中央の露光材料膜２１を光配向させることにより所定の方向に配向した配向膜を形成し、フィルム２の側部塗布膜２２には、アライメント用レーザマーカ１４からレーザ光を照射して、露光又はレーザ光の照射による熱によりアライメントマーク２ａを形成する。この側部塗布膜２２が形成されている領域は例えばフィルムの縁部から例えば２５ｍｍ以下、例えば１０ｍｍの領域であり、従来では材料膜等が形成されずにフィルム基材２０が露出していた領域である。本発明においては、側部塗布膜２２に形成したアライメントマーク２ａを使用してフィルム２の蛇行を検出し、マスク１２の位置を調整する。なお、本実施形態においては、側部塗布膜２２の材料として有色の油性インクが塗布され、その溶媒成分が乾燥（揮発）により消失することにより、インクによる膜が形成されている場合について説明する。
　露光光源１１は、例えば配向分割方式の露光装置においては、紫外光を出射する光源であり、例えば水銀ランプ、キセノンランプ、エキシマランプ及び紫外ＬＥＤ等であって、連続光又はパルスレーザ光を出射する光源が使用される。本実施形態においては、露光光源１１から出射した露光光の光路上には、例えばコリメータレンズ及び／又は反射鏡等の光学系が配置されており、例えばフィルム２上のパターン形成用領域に形成された配向材料膜（露光材料膜２１）に所定の光量で露光光が照射されるように構成されている。露光光源１１は、例えば図示しない制御装置により、露光光の出射方向を調整することができ、これにより、フィルム２に対する露光光の入射角を調整可能に構成されている。本実施形態の露光装置１は、１の露光領域に対して夫々２つの露光光源１１が向かい合わせに、フィルム２の移動方向に並ぶように配置されている。これにより、各露光光源１１から出射した夫々プレチルト角が異なる２つの露光光をマスク１２を介して配向材料膜（露光材料膜２１）に照射し、配向材料膜をその移動方向に垂直の幅方向に分割して露光し、フィルム基材２０上に、配向方向が隣接する分割領域で互いに異なる配向膜を形成する。これにより、例えば１絵素となる領域がその幅方向に２分割された配向膜を使用し、配向膜間に液晶を挟持した表示装置に電圧を印加すれば、電圧印加時の液晶分子の向きは、配向膜の配向方向に応じて１絵素内で２方向となり、液晶ディスプレイ等の視野角を広くできる。また、幅方向に隣接する画素となる領域ごとに配向方向が異なる配向膜が形成されたフィルムは、例えば３Ｄ（Ｔｈｒｅｅ　Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ）ディスプレイ等の偏光フィルムとして使用することができる。なお、露光光源１１は、１カ所の露光領域について２個に限らず、３個以上設けてもよく、互いに異なる方向からの露光光により、例えば配向膜材料を３方向以上に配向させてもよい。また、例えば、１カ所の露光領域について、露光光源１１を１個設け、露光光源１１から出射された露光光を偏光板等により２以上に分割し、分割した露光光を互いに異なる方向から照射するように構成してもよい。例えば、偏光板により、露光光をＰ偏光の直線偏光の露光光とＳ偏光の直線偏光の露光光とに分割して、夫々異なる方向から照射することができる。
　本実施形態においては、マスク１２は、フィルム２の移動方向の上流側及び下流側に夫々複数個、互いに離隔して配置されており、例えば図２及び図３に示すように、上流側（マスク１２１，１２２）及び下流側（マスク１２３，１２４）に夫々２個ずつ設けられている。複数個のマスク１２は、上流側のマスク１２１，１２２による露光領域と下流側のマスク１２３，１２４による露光領域とが、フィルムの移動方向に沿って隣接するように、即ち、千鳥状に配置されており、夫々のマスク１２について、上記の１対の露光光源１１が設けられている。そして、図３に示すように、フィルム２の移動方向の上流側のマスク１２１及び１２２に露光光源１１からの露光光を透過させて、フィルム２上の配向膜材料を露光領域Ａ及びＣで露光する。また、下流側のマスク１２３及び１２４に露光光源１１からの露光光を透過させて、フィルム２上の配向膜材料を露光領域Ｂ及びＤで露光する。
　本実施形態においては、マスク１２は、図４に示すように、例えば枠体１２０とその中央のパターン形成部１２５により構成されており、パターン形成部１２５には、所定の光透過領域のパターン１２５ａが形成されている。即ち、パターン形成部１２５には、フィルム２に形成するパターン形状に対応して、露光光を透過する開口が形成されているか、又は光透過性の部材が設置されている。そして、例えば配向分割方式の露光装置においては、パターン形成部１２１の透過光によりステージ１０上に配置されたフィルム２の表面の配向材料膜を露光する。本実施形態においては、マスク１２ごとに１対の露光光源１１を配置し、夫々入射角の異なる露光光を出射する。従って、本実施形態においては、パターン１２５ａは、入射角度が異なる２つの露光光に対応して、フィルムの移動方向の上流側及び下流側に２列に並ぶように、矩形の開口パターンが夫々複数本設けられている。そして、これらの上流側及び下流側の光透過領域群は、露光光の照射領域同士が互いに重ならないように、互いに離隔して形成されている。また、例えば上流側のパターンと下流側のパターンとによる露光領域が互いに隣接するように、上流側パターンと下流側パターンとは、その幅方向に沿って千鳥状に形成されている。
　本実施形態においては、マスク１２には、パターン１２５ａよりも上流（図４における上）側に、フィルム２の移動方向に対して垂直の幅方向に延びるように、幅が３００μｍ程度、長さが２５０ｍｍ程度のラインＣＣＤ用の覗き窓１２ａが設けられており、この覗き窓１２ａの長手方向の中間に露光光を遮光する例えば幅が１５μｍ程度のライン状の遮光パターン１２ｂが設けられている。そして、後述するラインＣＣＤ１５により遮光パターン１２ｂの位置を検出し、マスク１２の位置決めに使用する。なお、本実施形態における覗き窓１２ａ及び遮光パターン１２ｂの位置及び形状は、一例であり、マスク１２の位置決めを精度よく行うことができる限り、本発明はこれらの位置及び形状により限定されるものではない。例えば覗き窓１２ａ及び遮光パターン１２ｂの位置は、２列に並ぶように形成されたパターン１２５ａ間の領域等に設けられていてもよく、例えば遮光パターン１２ｂの代わりに、互いに（例えばＮ型に）交差する複数本のスリットが設けられていてもよい。
　マスク１２の夫々は、例えば枠体１２０の部分がマスクステージ１７により支持されており、マスクステージ１７の移動によりマスク１２の全体が移動可能に構成されている。マスクステージ１７は、例えば図５に示すようなマスク位置制御部３０に接続されており、マスク位置制御部３０による制御により、その位置を、例えば水平方向（フィルムの幅方向、又はフィルムの幅方向及びフィルムの長手方向）に移動可能に構成されている。これにより、マスク１２によるフィルム２の露光位置を水平方向に調整することができる。マスクステージ１７は、例えば鉛直方向にも移動可能であり、これにより、フィルム２上の例えば配向膜材料が所定の大きさで露光されるように調整可能に構成されている。
　フィルム搬送部は、例えば露光装置１外及び露光装置１内に設けられた例えば搬送ローラ９等であり、モータ等により駆動され、供給リール８０から巻き解かれたフィルム２をその回転により露光装置１内へと搬送し、露光装置１内で露光されたフィルム２を巻取リール８１まで移動させる。
　アライメント用レーザマーカ１４（アライメントマーク用光源）は、側部塗布膜２２に露光光を照射して露光するレーザ光源であるか、又はレーザ光の照射による熱により側部塗布膜２２にマーキングを施すレーザ光源であり、例えばＮｄ：ＹＡＧレーザ又は紫外光等を照射するレーザ光源、例えばキセノンフラッシュランプ等である。アライメント用レーザマーカ１４がパルス光源である場合においては、フィルム２の側部に形成された有色の側部塗布膜２２上に露光光を照射して露光又はレーザ光の照射による熱によりマーキングを施し、フィルム２の移動によりこのマーキングを線状に延びるように形成して、側部塗布膜２２上に、幅が１０乃至５０μｍ、長さが１５０μｍ乃至５０ｍｍ（特に、幅：２０μｍ程度、長さ：３００μｍ程度が好ましい）のアライメントマーク２ａを一定間隔で形成する。又は、アライメント用レーザマーカ１４が、連続光を出射する光源である場合には、側部塗布膜２２上にフィルム１の移動方向に延びるようにアライメントマーク２ａを連続的に形成する。本実施形態においては、アライメント用レーザマーカ１４としてパルスレーザ光源を使用した場合について説明する。レーザ光の照射により、側部塗布膜２２のインクは、レーザ光の照射による熱によりマーキングが施されるが、フィルム２自体に変質等の影響はない。本実施形態においては、アライメント用レーザマーカ１４は、例えばフィルム２の移動方向上流側のマスク１２１，１２２に対し、フィルムの幅方向に並ぶように設けられており、フィルム２の移動方向における上流側マスク１２１，１２２の覗き窓１２ａ（及び遮光パターン１２ｂ）に対応する位置で、側部塗布膜２２上にアライメントマーク２ａを形成する。本実施形態においては、アライメントマーク２ａを形成する領域は、例えばフィルムの縁部から２５ｍｍ以内の領域であり、従来では材料膜等が形成されずにフィルム基材２０が露出していた部分である。アライメントマーク２ａを上流側マスク１２１，１２２の覗き窓１２ａの位置に対応するフィルムの縁部に形成することにより、フィルム２の移動方向上流側の夫々領域Ａ及び領域Ｃで形成されるパターンとフィルム２の縁部におけるアライメントマーク２ａとの距離は、常に一定間隔となる。
　本実施形態においては、フィルム２の移動方向における上流側マスク１２１，１２２の位置に対応する位置でフィルムの側部塗布膜２２に形成したアライメントマーク２ａをフィルム２の蛇行の検出に使用する。即ち、アライメントマーク検出部１６は、フィルム２の移動方向における下流側のマスク１２３，１２４の位置に対応する位置で、下流側マスク１２３、１２４とフィルム２の幅方向に並ぶように、フィルム２の上方又は下方に配置されており、下流側マスク１２３，１２４の位置に対応する位置でアライメントマーク１６ａの位置を検出するように構成されている。アライメントマーク検出部１６は、例えばＣＣＤカメラであり、図１乃至図３に示すように、例えば下流側マスク１２３，１２４の覗き窓１２ａに対応する位置にて、アライメントマーク２ａのフィルム幅方向における位置を検出する。例えば、フィルム２が移動する間にその幅方向に蛇行した場合、それに伴って、アライメントマーク２ａも同一の蛇行量だけフィルム２の幅方向にずれるが、アライメントマーク検出部１６は、蛇行により幅方向にずれたアライメントマーク２ａの位置を検出する。
　アライメントマーク検出部１６は、例えば図５に示すようなマスク位置制御部３０に接続されている。そして、検出したアライメントマーク２ａのフィルム幅方向における位置をマスク位置制御部３０に送信する。マスク位置制御部３０は、アライメントマーク検出部１６から送信されたアライメントマーク２ａの位置に基づいて、フィルムの移動方向下流側のマスク１２３及び１２４の位置を調整するように構成されている。即ち、本実施形態に係る露光装置１は、アライメントマーク２ａを形成し、これをフィルム２の蛇行の検出に使用することにより、検出した蛇行量により下流側マスク１２３，１２４の位置を調整することができる。
　図５はマスク位置制御部３０の構成を一例として示す図である。図５に示すように、マスク位置制御部３０は、例えばマスクステージ駆動部、露光光源１１及びフィルム巻取リール８１（図９参照）に設けられたモータの制御部に接続されている。図５に示すように、マスク位置制御部３０は、画像処理部３１と、演算部３２と、メモリ３３と、モータ駆動制御部３４と、光源駆動部３５と、マスクステージ駆動制御部３６と、制御部３７とを備えている。
　画像処理部３１は、アライメントマーク検出部１６（ＣＣＤカメラ）により撮像されたアライメントマーク２ａの画像処理を行い、例えばアライメントマーク２ａのフィルム幅方向における中心位置を検出するものである。演算部３２は、例えば設定すべきアライメントマーク２ａの中心位置と実際のアライメントマーク２ａの中心位置とのフィルムの幅方向のずれを演算する。また、演算部３２は、後述するラインＣＣＤ１５が検出したフィルムの引き込みマーク２ｂの位置とマスク１２上の遮光パターン１２ｂの位置との距離により、露光を開始する際に設定すべきマスク１２の位置と実際のマスク１２の位置とのフィルム幅方向のずれも演算する。メモリ３３は、例えば画像処理部３１が検出したアライメントマーク２ａの中心位置及び演算部３２が演算したずれ量を記憶する。モータ駆動制御部３４は、例えばフィルム巻取リール８１のモータの駆動若しくは停止、又は駆動されている際の回転速度を制御する。
　光源駆動部３５は、露光光源１１の点灯若しくは消灯、出力、又は発振周波数を制御するものである。マスクステージ駆動制御部３６は、マスクステージ１７の駆動を制御するものであり、例えばマスクステージ１７の移動方向及び移動量を制御する。制御部３７は、これらの画像処理部３１、演算部３２、メモリ３３、モータ駆動制御部３４、光源駆動部３５及びマスクステージ駆動制御部３６の駆動を制御する。これにより、フィルムの露光装置１は、例えばマスク１２の位置を調整したり、露光光源１１による露光光の照射のオンオフを切り替えたり、又はフィルム２を巻取リール８１に設けられたモータの回転速度等を制御できるように構成されている。
　これにより、本実施形態においては、例えば、図１に示すように、蛇行によりアライメントマーク２ａの位置がフィルムの幅方向外側にずれた場合、マスク位置制御部３０は、そのずれた量を演算し、下流側のマスク１２３及び１２４の位置を、アライメントマーク２ａがずれた量だけフィルムの幅方向外側に移動させる。アライメントマーク２ａの位置がフィルムの幅方向内側にずれた場合においても、マスク位置制御部３０は、そのずれ量を演算し、下流側のマスク１２３及び１２４の位置を、アライメントマーク２ａがずれた量だけフィルムの幅方向内側に移動させる。
　レーザマーカ１３は、図６に示すように、ガントリーステージ１３ａ、搬送部１３ｂ及びマーキング部１３ｃにより構成されており、ガントリーステージ１３ａは、フィルムが供給されてくる部分の上方にてフィルムの移動方向に対して垂直のフィルム幅方向に延びるように配置されている。搬送部１３ｂは、ガントリーステージ１３ａにより支持されていると共に、ガントリーステージ１３ａ上をその長手方向に沿って移動できるように構成されている。また、搬送部１３ｂは、図示しない制御装置により、その位置が制御されており、これによりマーキング部１３ｃの位置が調整可能である。
　マーキング部１３ｃは、例えばＮｄ：ＹＡＧレーザ等のレーザ光源からレーザ光を出射して、図６に示すように、フィルム供給部から供給されてくるフィルム２の先端部に所定形状、例えば十字状の引き込みマーク２ｂを形成するものである。マーキング部１３ｃは、搬送部１３ｂに固定されており、制御装置により搬送部１３ｂの位置が制御されることにより、フィルム２上への引き込みマーク２ｂの形成位置を調整できるように構成されている。本実施形態においては、図７に示すように、マーキング部１３ｃは、４個のマスク１２の夫々に対応するように、フィルム２の先端部に４個の引き込みマーク２ｂを、例えば一定の間隔で形成するように構成されている。
　図８に示すように、ラインＣＣＤ１５（フィルム引き込み位置検出部）は、夫々のマスク１２に設けられた覗き窓１２ａ及び遮光パターン１２ｂの下方にてフィルム２の幅方向に延びるように配置されており、フィルム２の先端部がラインＣＣＤ１５の上方（ラインＣＣＤ１５とマスク１２との間）に位置するまで搬送されてきたときに、フィルム２の先端部に形成された引き込みマーク２ｂの位置を検出する。また、ラインＣＣＤ１５は、マスク１２の覗き窓１２ａの中間に設けられた遮光パターン１２ｂをマスク１２の実際の位置として検出する。ラインＣＣＤ１５は、マスク位置制御部３０に接続されており、検出した引き込みマーク２ｂ及び遮光パターン１２ｂの位置をマスク位置制御部３０に送信するように構成されている。
　マスク位置制御部３０は、ラインＣＣＤ１５から送信されてきた引き込みマーク２ｂ及び遮光パターン１２ｂの位置から演算されたフィルム面に平行な面における両者間の距離により、フィルムに最初に露光を行う際のマスク１２の位置も調整する。即ち、マスク位置制御部３０には、予め、引き込みマーク２ｂの位置を基準として、設定すべきマスク（遮光パターン１２ｂ）の位置のデータが格納されており、図８に示すように、マスク位置制御部３０は、ラインＣＣＤ１５により検出した引き込みマーク２ｂの位置を基準位置として、検出した遮光パターン１２ｂの位置により決まるマスク位置が所定の位置となるまで、マスクステージ１７の位置を移動させる。これにより、本実施形態の露光装置においては、露光を開始する際においても、フィルム２に予め高い精度で形成した引き込みマーク２ｂの位置を基準として、マスク１２の位置を調整することができ、フィルムの露光すべき位置を高精度で決めることができる。
　本実施形態においては、露光装置１に供給されるフィルム２は、従来では材料膜等が形成されずにフィルム基材２０が露出していた側部に、側部塗布膜２２が形成されている。そして、この側部塗布膜２２は、有色の油性インクが塗布装置により塗布された後、乾燥装置５等にて溶媒成分が揮発により消失して形成されたものである。有色のインク又はカラーフィルタ用のレジスト材料等により形成された側部塗布膜２２は、例えば波長が５３２ｎｍのレーザ光を照射した場合に、レーザ光の吸収率が９０乃至９８％であり、フィルム基材及び配向膜材料（フィルム基材及び配向膜材料共にレーザ光の吸収率はほぼ０％）に比して極めて高く、また、アライメント用レーザマーカ１４からのレーザ光の照射により、容易に露光又はレーザ加工によりマーキングされる。よって、無色透明のフィルム基材にレーザ光を照射してマーキングする場合に比して、レーザ光によるマーキングが容易であり、アライメントマーク２ａの形成が容易である。例えば、フィルム基材２０にマーキングを行う場合においては、例えば使用するレーザ光を波長が２６６ｎｍの紫外光とした場合に、レーザ光の照射エネルギーを例えば８Ｊ／ｃｍ２と極めて大きくしないとアライメントマーク２ａの形成が難しい。また、配向材料膜にレーザマーキングを行う場合においては、フィルム基材２０のみの場合に比してレーザ光の照射エネルギーを小さくできるものの、アライメントマーク２ａの周囲の配向材料膜も無色透明であることから、例えばＳＥＭ等の高価で大型の検出装置を使用する必要があり、露光装置のコストが増大し、大型化するという問題点がある。しかし、本実施形態のように、側部塗布膜２２を有色のインクにより形成した場合、例えば使用するレーザ光を波長が５３２ｎｍの紫外光とした場合に、レーザ光の照射エネルギーを０．６Ｊ／ｃｍ２程度まで小さくすることができる。また、例えば側部塗布膜２２をカラーフィルタ用のレジスト材料で形成した場合においては、レーザ光の照射エネルギーは１．０Ｊ／ｃｍ２程度まで小さくできる。よって、側部塗布膜２２を上記のような有色材料で形成することにより、レーザ光によるマーキングが容易であると共に、形成したアライメントマーク２ａの周囲には、有色の塗布膜が残っているため、ＣＣＤカメラ等の安価で小型の検出装置を使用した場合においても、形成したアライメントマーク２ａを容易に且つ精度よく検出することができる。従って、精度よく形成されたアライメントマーク２ａにより、フィルム２の蛇行を検出してマスク１２の位置を精度良く調整できるため、安定的にフィルムを露光することができる。
　また、フィルム２の先端部に引き込みマーク２ｂを形成し、この引き込みマーク２ｂの位置によってマスク１２の位置を調整することにより、本実施形態においては、露光領域を上流側と下流側とに分けた場合に、フィルム２の波打ち及び幅方向のずれにより、露光領域が重なってしまったり、未露光の領域が発生することはない。そして、マスク１２の初期位置を、フィルム２の先端に形成した引き込みマーク２ｂを基準として決定しているため、上流側のパターンに加えて、下流側のパターンも精度よく形成することができる。これにより、フィルムを安定して露光することができる。
　なお、例えば露光光を出射する露光光源１１とアライメントマーク２ａを形成するレーザマーカ１４とは、同一のレーザ光を兼用することにより、露光装置の構成を簡略化することもできる。
　また、本実施形態においては、フィルムの先端部に引き込みマーク２ｂを形成し、これをラインＣＣＤ１５で検出することにより、露光を開始する際のマスク１２の初期位置を調整しているが、本発明においては、これらの構成は設けられていなくてもよい。
　次に、本実施形態のフィルム露光における動作について説明する。先ず、フィルム２は、露光装置１に供給される前に、図９に示すスリットコーター４により、フィルム基材２０の中央には配向膜（露光材料膜２１）となる露光材料が塗布される。また、フィルムの移動方向におけるスリットコーター４の上流側又は下流側（乾燥装置５の上流側）に設けられた塗布装置により、フィルム基材２０の両側縁部（縁部から２５ｍｍまでの領域）の少なくとも一方には、有色のインクが塗布される。インクの塗布の際には、例えばフェルト質の繊維等により形成された塗布部にインクが浸透されたものを、フィルム基材２０の表面に接触させることにより、フィルム基材２０の表面にインクを膜状に塗布する。これにより、フィルム基材２０の表面には、液状又はペースト状の露光材料及び有色のインクが膜状に塗布される。
　次に、フィルム２は、乾燥装置５に搬送され、表面の液状又はペースト状の露光材料及び有色の塗布膜材料（インク）が各材料の特性に応じて乾燥（溶媒成分の揮発）、光硬化、及び／又は焼成（ベーク）される。これにより、フィルム基材２０の表面には、露光材料膜２１（配向材料膜）及び側部塗布膜２２が形成される。即ち、フィルム基材２０の幅方向の中央には、所定の配向材料膜が形成されるが、フィルム基材２０の縁部から２５ｍｍまでの側部には、アライメントマーク形成用の側部塗布膜２２として、溶媒成分が揮発したインクによる膜が形成される。そして、この２種類の膜が形成されたフィルム２が、例えば搬送ローラ９により、その先端部から露光装置１内に供給される。露光装置１内に供給されたフィルム２は、例えば搬送ローラ等のフィルム供給部により、先端部からレーザマーカ１３の下方へと供給されていく。
　フィルム２の先端部がレーザマーカ１３の下方に供給されたら、例えば、搬送ローラ等の搬送装置によるフィルム２の供給を一旦停止する。そして、制御装置による制御により、レーザマーカ１３の搬送部１３ｂをガントリーステージ１３ａ上で移動させることにより、マーキング部１３ｃを所定の位置まで搬送する。これにより、マーキング部１３ｃは、例えば４個のマスク１２の夫々に設けられた覗き窓１２ａの上流側のいずれかの位置に配置される。
　マーキング部１３ｃの位置が確定したら、マーキング部１３ｃからレーザ光を出射してフィルム２の先端部に、例えば十字状の引き込みマーク２ｂを形成する。このとき、フィルム２はフィルム供給部側の搬送ローラ等により支持された状態であるため、フィルム２の先端部が振動したり波打つことはなく、引き込みマーク２ｂを高精度で形成することができる。１カ所の引き込みマーク２ｂの形成が終了したら、制御装置は、例えば搬送部１３ｂをガントリーステージ１３ａ上で移動させることにより、マーキング部１３ｃを移動させた後、同様に、レーザ光を照射して、フィルムの先端部に引き込みマーク２ｂを形成する。そして、図７に示すように、フィルムの先端部に４個の引き込みマーク２ｂの形成が終了したら、レーザマーカ１３の動作を停止し、搬送ローラ等によるフィルム２の搬送を再開する。
　フィルム２は、搬送ローラ等による搬送により、図８に示すように、先端部が露光領域Ａ及びＣに対応して配置されたマスク１２（マスク１２１，１２２）の下方に到達する。夫々のマスク１２の下方の覗き窓１２ａ（及び遮光パターン１２ｂ）に対応する位置には、フィルム２の幅方向に延びるようにラインＣＣＤ１５が配置されており、ラインＣＣＤ１５は、引き込みマーク２ｂがラインＣＣＤ１５の上方に位置するまで搬送されてきたときに、引き込みマーク２ｂの位置を検出する。また、ラインＣＣＤ１５は、マスク１２の覗き窓１２ａの中間に設けられた遮光パターン１２ｂの位置を検出する。これにより、引き込みマーク２ｂとマスク１２の遮光パターン１２ｂとの間の距離を測定する。そして、ラインＣＣＤ１５は、検出した引き込みマーク２ｂと遮光パターン１２ｂとの間の距離の信号をマスク位置制御部３０に送信する。なお、ラインＣＣＤ１５による検出工程からマスク位置の調整が終了するまでは、例えば、フィルム２の搬送を停止しておく。
　ラインＣＣＤ１５から引き込みマーク２ｂと遮光パターン１２ｂとの間の距離の信号が入力されたら、マスク位置制御部３０は、先ず、フィルム面に平行な面における両者間の距離を予め格納されたデータ（引き込みマーク２ｂの位置を基準としたマスク１２の設定すべき初期位置のデータ）と比較する。そして、遮光パターン１２ｂの位置により決まるマスク位置が所定の初期位置となるまで、マスクステージ１７を移動させる。これにより、露光領域Ａ及びＣにおける露光の開始前に、フィルム２を基準として、マスク１２（マスク１２１，１２２）の初期位置が精度よく決まる。
　上流側のマスク１２１，１２２の初期位置が決まったら、フィルム２の側部に形成された側部塗布膜２２に対して、アライメント用レーザマーカ１４によるレーザ光の照射を開始して、レーザ光が照射された領域を露光によりマーキングするか、又はレーザ光の照射による熱によりマーキングする。このとき、側部塗布膜２２は、レーザ光が照射された領域にてインクが除去され、フィルム基材２０がマーキング領域にて露出する場合もある。しかし、本実施形態においては、レーザ光の照射エネルギーは小さく、フィルム基材自体が変質等の影響を受けることはない。また、レーザ光の照射エネルギーが大きい場合においても、無色透明のフィルム基材２０には若干の傷がつくが、この側部塗布膜２２が形成された領域は、表示装置の画像表示領域には使用されない領域であるから、問題はない。
　フィルム側部に形成された有色インクからなる側部塗布膜は、レーザ光の吸収率が、フィルム基材及び配向膜材料の光の吸収率に比して極めて高い。よって、アライメント用レーザマーカ１４から照射するレーザ光の照射エネルギーが例えば０．６Ｊ／ｃｍ２程度まで小さい場合においても、照射領域のインクはレーザ光の照射による熱により容易にマーキングされる。よって、無色透明のフィルム基材にレーザ光を照射してマーキングする場合に比して、アライメントマーク２ａの形成が容易であり、その周囲に残る塗布膜も有色であるため、アライメントマーク２ａを明瞭かつ精度良く形成することができる。
　本実施形態においては、アライメント用レーザマーカ１４の位置は、フィルム２の移動方向における上流側マスク１２（マスク１２１，１２２）の覗き窓１２ａ（及び遮光パターン１２ｂ）に対応する位置である。よって、アライメントマーク２ａは、フィルム２の移動方向における上流側マスク１２１，１２２に対する相対的距離が一定になるように側部塗布膜２２上に形成される。
　アライメントマーク２ａの形成を開始したら、露光を開始させない状態で、フィルム２を搬送ローラ等により搬送する。そうすると、図２に示すように、フィルム２は、搬送により、先端部が、下流の露光領域Ｂ及びＤに対応して配置されたマスク１２（マスク１２３，１２４）の下方に到達する。夫々のマスク１２の下方の覗き窓１２ａ（及び遮光パターン１２ｂ）に対応する位置には、上流の場合と同様に、フィルム２の幅方向に延びるようにラインＣＣＤ１５が配置されており、ラインＣＣＤ１５は、フィルムの先端部がラインＣＣＤ１５の上方（ラインＣＣＤ１５とマスク１２との間）に位置するまで搬送されてきたときに、フィルム２の先端部に形成された引き込みマーク２ｂの位置を検出する。そして、上流側の場合と同様に、ラインＣＣＤ１５は、マスク１２の覗き窓１２ａの中間に設けられた遮光パターン１２ｂをマスク１２の実際の位置として検出し、これにより、引き込みマーク２ｂとマスク１２の遮光パターン１２ｂとの間の距離を測定する。そして、検出した引き込みマーク２ｂと遮光パターン１２ｂとの間の距離の信号をマスク位置制御部３０に送信する。なお、下流側のマスク１２の位置に対応して設けられたラインＣＣＤ１５による検出工程から下流側のマスク位置の調整が終了するまでは、例えば、フィルム２の搬送を停止する。このとき、アライメントマーク２ａの形成を一時停止させてもよい。
　ラインＣＣＤ１５から引き込みマーク２ｂと下流側マスク１２（１２３，１２４）の遮光パターン１２ｂとの間の距離の信号が入力されたら、マスク位置制御部３０は、フィルム面に平行な面における両者間の距離を予め格納されたデータ（引き込みマーク２ｂの位置を基準としたマスク１２の設定すべき初期位置のデータ）と比較する。そして、遮光パターン１２ｂの位置により決まるマスク位置が所定の初期位置となるまで、マスクステージ１７を移動させて下流側マスク１２（１２３，１２４）の位置を調整する。これにより、露光領域Ｂ及びＤにおける露光の開始前に、フィルム２を基準として、下流側マスク１２（マスク１２３，１２４）の初期位置が精度よく決まる。
　以上のようにして、上流側マスク１２１，１２２及び下流側マスク１２３，１２４の初期位置が決まったら、搬送ローラ等によるフィルム２の搬送を再開する。そして、露光対象部位が各マスク１２を透過した露光光の照射領域に位置するまでフィルム２を搬送し、露光光源１１からの露光光をマスク１２に透過させて、フィルム２の露光を開始する。これにより、フィルム２上の配向膜材料（露光材料膜２１）が露光光の照射角度に応じて所定の方向に配向する。そして、フィルム２を搬送ローラ等により供給しながら、露光光源１１から出射した露光光をフィルム上の配向材料膜に連続的に照射し、露光対象部位を連続露光する。これにより、フィルム２は、露光領域Ａ及びＣにて、上流側マスク１２１，１２２に対応するパターン２ｃが形成され、露光領域Ｂ及びＤにて、下流側マスク１２３，１２４に対応するパターン２ｃが形成され、図３に示すように、各パターン２ｃがフィルム２の搬送方向に沿って帯状に形成されていく。露光開始時の各マスク１２の位置は、フィルム２に対して一定の位置に形成された引き込みマーク２ｂにより調整されている。従って、上流側の２個のマスク１２１，１２２の位置と下流側の２個のマスク１２３，１２４とは、フィルムに対する相対的位置が精度よく設定され、例えば、上流側のマスク１２１，１２２によるパターン２ｃと下流側マスク１２３，１２４によるパターン２ｃとが互いに重なり合うことなく、また、相互間に隙間が形成されずに隣接するように各マスク位置が設定される。
　搬送により、露光領域Ａ及びＣにて形成されたパターン２ｃは、やがて、下流側マスク１２３，１２４に対応する位置へと近づいていく。しかしながら、フィルムの移動方向の下流側のマスク１２（１２３，１２４）の位置は、上流側のマスク１２（１２１，１２２）の位置からフィルムの移動方向に４ｍ程度離隔しており、従って、フィルムへの露光を連続的に行っていくうちに、フィルムの移動方向の下流側においては、フィルム２の蛇行により、フィルム２がマスク１２に対してその幅方向にずれてしまう。よって、上流側マスク１２１，１２２により形成されたパターン２ｃもフィルム２の蛇行方向にずれてしまい、下流側マスク１２３，１２４による露光領域Ｂ，Ｄに供給されてしまう。
　しかしながら、本実施形態においては、フィルム２の移動方向における下流側マスク１２（マスク１２３，１２４）の覗き窓１２ａ（及び遮光パターン１２ｂ）に対応する位置には、例えばＣＣＤカメラ等のアライメントマーク検出部１６が設けられており、フィルム２の縁部から所定の領域には、側部塗布膜２２として有色インクによる膜が形成されており、この側部塗布膜２２には、アライメントマーク２ａが明瞭且つ高精度に形成されている。このアライメントマーク２ａは、上流側マスク１２１，１２２に対して、フィルムの移動方向に垂直な幅方向における相対的な位置が一定となるように形成されている。よって、下流側マスク１２３，１２４に対応する位置でアライメントマーク２ａを検出し、フィルム２の移動方向の下流側において、アライメントマーク２ａと下流側マスク１２３，１２４との距離が一定間隔となるように、下流側マスク１２３，１２４の位置を調整する。即ち、図１に示すように、例えばアライメントマーク２ａの位置がフィルムの幅方向外側にずれた場合、マスク位置制御部３０は、下流側のマスク１２３及び１２４の位置を、アライメントマーク２ａがずれた量だけフィルムの幅方向外側に移動させる。逆に、アライメントマーク２ａの位置がフィルムの幅方向内側にずれた場合においても、マスク位置制御部３０は、下流側のマスク１２３及び１２４の位置を、アライメントマーク２ａがずれた量だけフィルムの幅方向内側に移動させる。このように、本実施形態においては、アライメントマーク２ａを基準として下流側マスク１２３，１２４の位置を調整することにより、下流側マスクによる露光領域を上流側マスクにより形成されたパターン２ｃに対して精度よく調整することができる。
　本実施形態においては、マスク位置の調整に使用するアライメントマーク２ａの周囲には、有色インクによる塗布膜が形成されており、ＣＣＤカメラ等の安価で小型の検出装置を使用した場合においても、アライメントマーク２ａを明瞭且つ精度よく検出することができる。従って、本実施形態においては、アライメントマーク２ａの検出に高価で大型の検出装置を使用することなく、フィルム２の蛇行を高精度で検出できる。よって、本実施形態においては、連続露光の際に、図１に示すように、フィルム２がその幅方向にずれた場合においても、フィルム２の移動方向下流側のマスク１２（１２３，１２４）の位置を補正することにより、フィルム２に対する露光位置がずれることなく、安定した露光を行うことができる。これにより、フィルム２には、露光領域Ａ及びＣ間により形成されたパターン間が露光領域Ｂにより露光されたパターンにより埋められ、露光領域Ｃにより形成されたパターンに隣接するように、露光領域Ｄによるパターンが形成される。そして、既に露光領域Ａ及びＣにより形成されたパターンと露光領域Ｂ及びＤにより形成されたパターンとは、重なったり、未露光の部分が残ったりすることはなく、精度よく、フィルムの全面にパターンを形成することができる。
　なお、本実施形態においては、供給リール８０に巻回されたフィルム基材２０を、巻取リール８１まで移動させる間に、フィルム基材２０の表面上に露光材料膜２１及び側部塗布膜２２を形成し、２種類の材料膜が形成されたフィルム２を露光装置に供給する場合について説明したが、露光材料膜２１及び側部塗布膜２２は、露光装置のラインとは別のラインで形成されてもよい。例えば、他のロールトゥロールのラインにおいて、フィルム基材２０の表面上に露光材料膜２１及び側部塗布膜２２の双方又はいずれか一方を形成し、一旦、巻取リールに巻き取る。露光材料膜２１及び側部塗布膜２２のいずれか一方をフィルム基材２０上に形成する場合には、他方の材料膜の形成は、露光装置と同じラインで行われるか、又は更に他のロールトゥロールのラインで行われる。そして、材料膜が形成されたフィルム２のロールを露光装置１のラインにおける供給リール８０に取り付け、２種類の材料膜が形成されたフィルム２を露光装置１に供給する。
　また、本実施形態においては、アライメントマーク２ａ形成用のレーザマーカ１４は、フィルム移動方向における上流側マスク１２１，１２２に対応する位置に設けられている場合について説明したが、アライメント用レーザマーカ１４は、例えば上流側マスク１２１，１２２よりもフィルム移動方向の上流に設けられていてもよい。この場合においては、フィルム２の移動方向における上流側マスク１２１，１２２の位置に対応させて、上流側マスク１２１、１２２とフィルム２の幅方向に並ぶように、新たなアライメントマーク検出部１６を設ければよい。そして、下流側と同様に、新たに配置したアライメントマーク検出部１６により、上流側マスク１２１，１２２の位置に対応する位置でアライメントマーク１６ａの位置を検出するように構成すればよい。
　更に、本実施形態においては、上流側及び下流側に夫々マスクが２個配置されている露光装置による露光方法を説明したが、本発明は、アライメントマークの形成によりフィルムの蛇行を検出してマスク位置を調整するものであり、マスクの数及び配置等により限定されるものではない。
　本発明においては、フィルム基材の幅方向の両側縁部の少なくとも一方に、有色の焼成材料、有色の光硬化性材料又は有色のインクが塗布されてレーザ光の吸収率を高めた側部塗布膜が形成されたフィルムを供給し、この側部塗布膜にレーザ光を照射してアライメントマークを形成するので、アライメントマークの形成が容易である。よって、本発明は、特に、フィルムを連続露光する露光装置において、フィルムの蛇行の補正に有益である。
　１：露光装置、１０：ステージ、１１：露光光源、１２：マスク、１２ａ：覗き窓、１２ｂ：遮光パターン、１２０：枠体、１２１：（第１の）マスク、（１２２）：第２のマスク、１２３：（第３の）マスク、１２４：（第４の）マスク、１２５：パターン形成部、１２５ａ：（マスク）パターン、１３：レーザマーカ、１３ａ：ガントリーステージ、１３ｂ：搬送部、１３ｃ：マーキング部、１４：アライメント用レーザマーカ、１５：フィルム引き込み位置検出部、１６：アライメントマーク検出部、１７：マスクステージ、２：フィルム、２ａ：アライメントマーク、２ｂ：引き込みマーク、２ｃ：パターン、２０：フィルム基材、２１：露光材料膜、２２：側部塗布膜、３０：マスク位置制御部、３１：画像処理部、３２：演算部、３３：メモリ、３４：モータ駆動制御部、３５：光源駆動部、３６：マスクステージ駆動制御部、３７：制御部

Claims (3)

  1. フィルム基材上の露光パターン形成用領域に露光材料膜が形成されたフィルムの前記露光材料膜に、マスクを介して露光光を照射することにより、前記露光材料膜に前記マスクのパターンを露光するフィルム露光方法において、前記フィルム基材の幅方向の両側縁部の少なくとも一方に、有色の焼成材料、有色の光硬化性材料又は有色のインクが塗布されて側部塗布膜が形成されたフィルムを供給し、この側部塗布膜にアライメントマーク用レーザ光を照射してアライメントマークを形成し、このアライメントマークを使用してフィルム蛇行を検出し、前記マスクの位置を調整することを特徴とするフィルム露光方法。
  2. 前記露光材料膜及び／又は前記側部塗布膜は、供給リールに巻回されたフィルム基材を、前記供給リールから巻取リールまで移動させる間における前記アライメントマーク用レーザ光の照射前に、前記フィルム基材上に形成されることを特徴とする請求項１に記載のフィルム露光方法。
  3. 前記マスクは、前記フィルムの移動方向の上流側及び下流側に夫々配置されており、前記フィルムの移動方向の上流側及び下流側で前記露光材料膜に夫々前記上流側マスクと下流側マスクのパターンを露光するものであり、
    前記フィルムの移動方向における前記上流側マスクの位置に対応する位置で前記側部塗布膜に前記アライメントマークを形成し、前記フィルムの移動方向における前記下流側マスクの位置に対応する位置で前記アライメントマークを検出することにより、前記フィルムが前記上流側マスクによる露光領域から前記下流側マスクによる露光領域まで移動するまでに生じたフィルム蛇行を検出し、前記フィルムに対する下流側マスクの相対的位置を前記フィルム蛇行によりずれた量だけ補正することを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルム露光方法。
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