TWI515704B

TWI515704B - 膜片曝光方法

Info

Publication number: TWI515704B
Application number: TW100140367A
Authority: TW
Inventors: 新井敏成; 橋本和重
Original assignee: V科技股份有限公司
Priority date: 2010-11-10
Filing date: 2011-11-04
Publication date: 2016-01-01
Also published as: JP2012103500A; KR20140006804A; TW201227644A; US20130230799A1; CN103314328B; US8883380B2; KR101781245B1; WO2012063632A1; CN103314328A; JP5685756B2

Description

膜片曝光方法

本發明係關於一種膜片曝光方法，特別是關於一種膜片曝光方法，其對在膜片基材上的曝光圖案形成用區域形成有曝光材料膜之膜片進行連續曝光之際，可高精度地修正膜片的曲折，來穩定地進行曝光。

以往，在對例如平板狀的基板等構件進行曝光之際，為了高精度地管理其曝光位置，遂進行以下方法：使用例如於表面上施加了既定標記的基板，藉由該標記，來決定用於曝光的遮罩之位置(例如專利文獻1至3)，或在載置基板的托板上設置對位用的插針(例如專利文獻4)。

然而，如整捲連續製造方式，在曝光對象為膜片，而將該膜片連續地供給至曝光裝置內之情形，係難以適用如上述平板狀構件的曝光之對位技術。亦即，在整捲連續製造方式的膜片製造產線中，係將成為曝光對象的膜片，在例如如圖9所示的步驟中，供給至曝光裝置1內，而不同於對平板狀的基板等進行曝光之情形，運送中的膜片2，由於其柔軟性，容易產生皺折。

又，在如圖9所示的整捲連續製造方式的膜片製造產線中，在所有加工步驟中，係進行利用膜片的柔軟性之處理。亦即，將膜片2從供給捲筒80捲出而供給至產線，於前處理部3中施以例如乾洗以及表面重組等前處理，以狹縫式塗布機4對表面塗布既定的曝光材料，然後以乾燥裝置5使所塗布的材料乾燥。而將於表面上形成有曝光材料膜的膜片2，供給至曝光裝置1，以曝光裝置1對曝光材料膜進行曝光。此時膜片2，在各裝置之間由例如滾輪9所支撐，藉由其旋轉來運送之。因此，專利文獻1至4所揭示的技術難以適用於整捲連續製造方式的膜片2之曝光。

在以整捲連續製造方式對膜片進行曝光之情形中，為了提高其曝光精度，則維持膜片與遮罩的相對關係位置係相當重要。例如專利文獻5，揭示了相對於膜片之遮罩的對位技術。亦即，專利文獻5的技術，係在對1片膜片分成2次來進行曝光之情形中，對膜片施以第1次曝光來形成圖案，然後在第2次曝光之際，以線性CCD(Charge-coupled Device，電荷耦合元件)偵測由第1次曝光所形成的圖案，藉此調節遮罩的位置。另外，如該專利文獻5的圖2所示，膜片寬度方向的兩側邊緣部並非曝光區域。

圖10，係以一例顯示習知型式的曝光裝置之圖，該曝光裝置係由一對射出曝光光線的曝光光源11對應於1個遮罩12而面對配置，從互不相同的方向照射曝光光線。此種型式的曝光裝置，例如在液晶顯示器等玻璃基板上或偏光膜片等膜片基材上形成無色透明的定向膜之際，用於定向材料膜之曝光。亦即，在藉由該曝光裝置進行曝光來形成定向材料膜之情形，將表面形成有無色透明的定向材料膜之曝光對象構件供給至曝光裝置內，對每個既定區域從不同方向照射曝光光線，以形成定向於互不相同的方向之定向膜。根據該曝光裝置，例如可將對應膜片的1像素之區域於其寬度方向進行2分割來曝光，或可在每個對應畫素之區域將膜片於其寬度方向進行分割來曝光，而在各個分割區域形成定向方向不同之定向膜。由於該定向膜的定向方向之特徵，可使於玻璃基板之間所挾持的液晶分子在施加電壓時的動作因應定向膜的定向方向而有所不同，藉此可擴大顯示裝置之視角；又，所製造的膜片亦可作為3D(Three Dimensional)顯示器等之偏光膜片使用，最近，此種膜片之曝光技術受到人們的注目。

在藉由此種曝光裝置對膜片進行曝光之際，膜片在運送中容易產生皺折，從而發生曝光位置的偏移，以上為其問題點。為了減少該曝光位置的偏移之影響，例如，在如上述的膜片移動方向上並排配置了複數道光源之曝光裝置中，例如如圖10及圖11所示，並非使用1個遮罩來進行曝光，而是使用複數個遮罩12，並將各遮罩12以並列於曝光對象構件的移動方向以及與其垂直的寬度方向之方式配置成交錯狀，對各遮罩逐一設置曝光光源11來進行曝光。而使來自曝光光源11的曝光光線透射過各遮罩121至124，如圖11所示，在膜片受供給而來的上游側，藉由互相隔離而配置的遮罩121及122，在曝光區域A及C對膜片2進行曝光；在下游側，藉由遮罩123對曝光區域A及C之間的區域B進行曝光，藉由遮罩124對曝光區域C所鄰接的區域D進行曝光。藉此，可於膜片2的幾乎整面高精度地形成定向分割的圖案。

[習知技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特開昭62-294252號公報

專利文獻2：日本特開2005-283896號公報

專利文獻3：日本特開2005-316411號公報

專利文獻4：國際公開第08/139643號

專利文獻5：日本特開2006-292919號公報

然而，上述習知技術，有如下的問題點。亦即，專利文獻5的技術，係必須對1片膜片分成2次來進行曝光操作，生產性不佳。

又，在配置複數個遮罩12，並對各遮罩12逐一設置一對曝光光源11之習知曝光裝置中，如圖10所示，內建有曝光光源11之部分(曝光光源11的框體部分)，係對每1光源，例如在膜片的移動方向上具有約2m左右的長度；如圖11所示的曝光區域A及C與曝光區域B及D之間的距離，至少長達4m左右。因此，在從上游側的曝光區域A及C到下游側的曝光區域B及D之運送中，膜片容易產生皺折，容易往與其移動方向垂直之寬度方向偏移，以上皆為其問題點。因此，在膜片移動方向下游側的曝光區域中，膜片的寬度方向之位置偏移，從而已曝光的區域重複曝光，又或造成未曝光的區域，以上亦為其問題點。

為了解決此問題點，本案申請者，在日本特願2010-089608號中，提出了一種技術：於習知技術中是例如作為膜片供給用的區域使用而未塗布有曝光材料之膜片基材上的側部形成對準標誌，藉由CCD攝影機在膜片移動方向下游側偵測對準標誌的膜片寬度方向之偏移，根據此偵測訊號，在膜片的寬度方向調節下游側的遮罩123以及124的位置，來修正曝光區域之偏移。

在膜片的邊緣部形成對準標誌之方法，吾人雖可思及在膜片上機械性地開孔，或藉由雷射等來進行標記，但機械性的標記，其加工之際，震動施加於膜片而使加工精度降低，因此不適於實用。又，施加標記的對象之膜片基材，係無色透明，在藉由雷射等來進行標記時，雷射光容易透射膜片。因此，在使用例如波長為266nm的紫外光來進行標記之情形中，若不令雷射光的照射能量極度增加至例如8J/cm²左右，則難以形成對準標誌，以上皆為其問題點。

本發明係鑑於相關問題點所製成，目的在於提供一種膜片曝光方法，其對在膜片基材上的曝光圖案形成用區域形成有曝光材料膜之膜片進行連續曝光之際，容易形成對準標誌以及容易偵測所形成的對準標誌，可高精度地修正膜片的曲折，來穩定地進行曝光。

依本發明的膜片曝光方法，係對在膜片基材上的曝光形成用區域形成有曝光材料膜之膜片的該曝光材料膜，透過遮罩來照射曝光光線，藉此將該遮罩的圖案曝光在該曝光材料膜上；該膜片曝光方法之特徵在於：供給於該膜片基材的寬度方向之兩側邊緣部至少一方塗布了有色煆燒材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成了側部塗布膜之膜片，並對該側部塗布膜照射對準標誌用雷射光以形成對準標誌，而使用該對準標誌來偵測膜片曲折，以調整該遮罩的位置。例如，在將已捲繞於供給捲筒的膜片基材從該供給捲筒移動至捲取捲筒之期間，進行該對準標誌用雷射光之照射前，於該膜片基材上形成該曝光材料膜及/或該側部塗布膜。

在依本發明的膜片曝光方法中，例如該遮罩，係分別配置在該膜片的移動方向之上游側及下游側，在該膜片的移動方向之上游側及下游側，將該上游側遮罩與下游側遮罩的圖案分別曝光在該曝光材料膜上；在與該膜片的移動方向之該上游側遮罩的位置對應之位置，於該側部塗布膜上形成該對準標誌，並在與該膜片的移動方向之該下游側遮罩的位置對應之位置，偵測該對準標誌，藉此偵測在該膜片從利用該上游側遮罩的曝光區域移動至利用該下游側遮罩的曝光區域為止所產生之膜片曲折，依因為該膜片曲折而偏移的量來修正該下游側遮罩相對於該膜片之相對位置。

在本發明中，係藉由遮罩的圖案，對在膜片基材上的曝光圖案形成用區域形成有曝光材料膜之膜片進行曝光；在以上的曝光方法中，供給：於膜片基材的寬度方向之兩側邊緣部至少一方塗布了有色煆燒材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成了側部塗布膜之膜片，並對該側部塗布膜照射雷射光以形成對準標誌。該有色側部塗布膜之雷射光吸收率高，容易形成對準標誌。

又，即使在藉由對準標誌用雷射光之照射來除去側部塗布膜以形成對準標誌之情形，因為於對準標誌的周圍，殘留有色塗布膜，所以可明確且高精度地偵測對準標誌。因此，根據本發明，可高精度地進行修正膜片曲折之偵測及遮罩位置之調整，可穩定地進行曝光。

以下，參照附加的圖式來針對本發明的實施形態進行具體說明。首先，針對依本發明的實施形態的膜片曝光裝置之構造進行說明。圖1係顯示在依本發明的實施形態的膜片曝光裝置中，藉由對準標誌來修正膜片的寬度方向偏移之圖；圖2係顯示在依本發明的實施形態的膜片曝光裝置中，膜片的運送所伴隨之導入標誌的移動之圖；圖3係顯示在依本發明的實施形態的膜片曝光裝置中，由上游側遮罩所形成的圖案與由下游側遮罩所形成的圖案之相對關係位置之圖。依本實施形態的曝光裝置1，與圖10及圖11所示之習知曝光裝置同樣具有：曝光光源11，射出曝光光線；遮罩12；光學系統，將從曝光光源11射出的曝光光線透過遮罩12照射在膜片2；以及膜片運送部，係例如運送滾輪等，用以運送膜片2；並藉由例如準直透鏡及/或反射鏡等光學系統，將從曝光光源11射出的曝光光線透過遮罩12照射在膜片2，以在膜片寬度方向的中央區域中，對在膜片基材20上所形成的曝光材料膜21進行曝光。

曝光裝置1，如圖1至圖3所示，具有：於膜片2的側部形成對準標誌2a之對準用雷射標註器14(對準標誌用雷射光源)。在本發明中，於兩側邊緣部至少一方塗布了有色煆燒材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成側部塗布膜22之膜片2，係供給至曝光裝置1。亦即，該膜片2，如圖1所示，在膜片基材20上的形成定向膜之區域(本發明中的曝光圖案形成用區域)上，與習知技術同樣地形成有曝光材料膜21。該曝光材料膜21，係例如無色透明。而於習知技術中未塗布有曝光材料的膜片基材20之側部上，塗布了有色煆燒材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成側部塗布膜22。而從對準用雷射標註器14對該側部塗布膜22上照射雷射光，藉著由曝光或雷射光的照射所產生的熱來形成對準標誌2a。

在本實施形態中，曝光裝置1，例如如圖2至圖4所示，具有：雷射標註器13(導入標誌形成部)，鄰近運送滾輪等膜片供給部而配置；以及例如線性CCD 15(膜片導入位置偵測部)，以在例如遮罩12的下方往膜片2的寬度方向延伸之方式配置。因此，藉由雷射標註器13，對於從膜片供給部所供給而來的膜片2，形成成為遮罩12定位的基準之導入標誌2b，並藉由線性CCD 15來偵測導入標誌2b，藉此可調整相對於膜片2之遮罩12的位置。

曝光對象的膜片2，例如如圖9所示，將膜片2的基材20從整捲連續製造方式的供給捲筒80捲出而供給至狹縫式塗布機4，以狹縫式塗布機4將既定的材料呈膜狀塗布於表面。在本實施形態中，狹縫式塗布機4，不僅是於膜片基材20的中央塗布曝光材料，更可於例如膜片基材20的兩側邊緣部至少一方塗布有色煆燒材料或有色光硬化性材料。亦即，狹縫式塗布機4，於膜片基材20的寬度方向中央塗布成為定向材料膜(曝光材料膜21)之例如無色透明的曝光材料，並可於膜片基材20的側部以液狀或膏狀之狀態塗布成為對準標誌形成用的側部塗布膜22之有色煆燒材料或光硬化性材料。在此情形，曝光材料，以及有色煆燒材料或有色光硬化性材料，可藉由1台狹縫式塗布機4進行塗布，亦可藉由2台狹縫式塗布機4分別進行塗布。成為側部塗布膜22之煆燒材料，可適當地使用：藉由煆燒(烘烤)可於膜片基材20上形成煆燒膜之有色材料，例如一般常用的光學彩色濾光器用的紅、綠、藍及/或黑色之光阻材料。但是，本發明中的側部塗布膜，因為僅使用於偵測膜片曲折的對準標誌之形成，所以在藉由光阻材料形成側部塗布膜之情形中，並不需要顯影等步驟。又，光硬化性材料，可以使用例如有色光硬化性樹脂。

又，在側部塗布膜22的材料使用有色墨水並於膜片基材的側部塗布墨水之情形，狹縫式塗布機4，僅於膜片基材20的中央塗布曝光材料。而藉由在膜片2的移動方向中之狹縫式塗布機4的上游側或下游側，亦即在較乾燥裝置5更上游側所設置之塗布裝置，於膜片基材20的側部塗布有色墨水。有色墨水，可使用含有顏料及/或染料等之液狀或膏狀的所有墨水，可適當地使用以乾燥裝置5使溶媒成分揮發而可形成有色膜之墨水，例如油性墨水。塗布裝置，可使用如以下構造者，例如：在由具有適當柔軟性的素材例如氈質的纖維等所形成之塗布部浸滲墨水，使該塗布部與受供給而來的膜片基材20側部之未塗布曝光材料的區域接觸，藉此將墨水塗布成膜狀。

將僅藉由狹縫式塗布機4、或是藉由狹縫式塗布機4與塗布裝置塗布了既定的材料之膜片2，供給至乾燥裝置5。而至於在膜片中央所塗布的曝光材料及成為膜片側部的塗布膜之材料，係因應各材料的特性來進行煆燒(烘烤)、乾燥(溶媒成分的揮發)、及/或光硬化，而於膜片基材20上分別形成曝光材料膜21及側部塗布膜22。而將膜片2，藉由運送滾輪等運送裝置，供給至曝光裝置1內。在本發明中，供給至曝光裝置1內的膜片2，與習知技術同樣地藉由使膜片寬度方向中央的曝光材料膜21受到光定向，而形成定向於既定方向之定向膜；並從對準用雷射標註器14對膜片2的側部塗布膜22照射雷射光，藉著由曝光或雷射光的照射所產生的熱來形成對準標誌2a。該側部塗布膜22所形成之區域，係例如從膜片的邊緣部算起25mm以下例如10mm之區域，在習知技術中是未形成材料膜等而露出了膜片基材20之區域。在本發明中，使用於側部塗布膜22所形成的對準標誌2a來偵測膜片2的曲折，以調整遮罩12的位置。另外，在本實施形態中，作為側部塗布膜22的材料係塗布了有色油性墨水，其溶媒成分因乾燥(揮發)而消失，因而藉由墨水而形成膜，並對此情形進行說明。

曝光光源11，係在例如定向分割方式的曝光裝置中射出紫外光之光源，例如水銀燈、氙氣燈、準分子燈以及紫外光LED等，可使用射出連續光或脈衝雷射光之光源。在本實施形態中，在從曝光光源11射出的曝光光線之光路上，配置例如準直透鏡及/或反射鏡等光學系統，俾以既定光量對在例如膜片2上之圖案形成用區域所形成之定向材料膜(曝光材料膜21)照射曝光光線。曝光光源11，例如可藉由未圖示的控制裝置，來調整曝光光線的射出方向，藉此可調整對於膜片2的曝光光線之入射角。本實施形態的曝光裝置1，係對於1的曝光區域分別將2道曝光光源11配置成面對且並排於膜片2的移動方向。藉此，使從各曝光光源11射出的預傾角各不相同之2道曝光光線透過遮罩12照射在定向材料膜(曝光材料膜21)，將定向材料膜在與其移動方向垂直之寬度方向分割以進行曝光，在膜片基材20上，形成在定向方向所鄰接之分割區域互不相同的定向膜。因此，使用例如對成為1像素的區域於其寬度方向進行2分割之定向膜，對在定向膜之間挾持有液晶之表示裝置施加電壓，則施加電壓時的液晶分子的方向，係因應定向膜的定向方向在1像素內成為雙方向，可擴大液晶顯示器等之視角。在每個於寬度方向鄰接的畫素所成為之區域形成定向方向不同的定向膜之膜片，可作為例如3D(Three Dimensional)顯示器等之偏光膜片使用。另外，曝光光源11，對於1處的曝光區域，並不限於2道，亦可設置3道以上，亦可藉由來自互不相同的方向之曝光光線，將例如定向膜材料定向成3方向以上。又，例如，亦可對於1處的曝光區域，設置1道曝光光源11，藉由偏光板等將從曝光光源11射出的曝光光線分割成2道以上，而從互不相同的方向照射所分割的2道曝光光線。例如，藉由偏光板，可將曝光光線分割成P偏光的直線偏光之曝光光線與S偏光的直線偏光之曝光光線，分別從不同的方向進行照射。

在本實施形態中，遮罩12，分別於膜片2的移動方向之上游側及下游側，互相隔離地配置有複數個，例如如圖2及圖3所示，分別於上游側(遮罩121、122)及下游側(遮罩123、124)各設有2個。複數個遮罩12，以利用上游側的遮罩121、122之曝光區域與利用下游側的遮罩123、124之曝光區域，係沿著膜片的移動方向而鄰接之方式，亦即成交錯狀配置；針對各遮罩12，設有上述的1對曝光光源11。而如圖3所示，使來自曝光光源11的曝光光線透射膜片2的移動方向上游側之遮罩121及122，在曝光區域A及C對膜片2上的定向膜材料進行曝光。又，使來自曝光光源11的曝光光線透射下游側之遮罩123及124，在曝光區域B及D對膜片2上的定向膜材料進行曝光。

在本實施形態中，遮罩12，如圖4所示，由例如框體120與其中央的圖案形成部125所構成；於圖案形成部125，形成有既定的光透射區域之圖案125a。亦即，於圖案形成部125，係對應在膜片2所形成的圖案形狀而形成有透射曝光光線的形狀之開口，或是設置有光透射性的構件。而在例如定向分割方式的曝光裝置中，藉由透射過圖案形成部125的光，對平台10上所配置的膜片2的表面之定向材料膜進行曝光。在本實施形態中，對每個遮罩12配置1對曝光光源11，來分別射出入射角不同的曝光光線。因此，在本實施形態中，圖案125a，係對應入射角不同的2道曝光光線，以於膜片的移動方向之上游側及下游側並排2列之方式，分別設置了複數道矩形的開口圖案。而此等上游側及下游側的光透射區域群，係互相隔離而形成，以免曝光光線的照射區域彼此互相重疊。又，例如上游側圖案與下游側圖案，係沿著其寬度方向形成為交錯狀，以使利用上游側圖案與下游側圖案的曝光區域互相鄰接。

在本實施形態中，在遮罩12，在圖案125a的更上游(圖4中的上方)側，以朝對於膜片2的移動方向垂直的寬度方向延伸之方式，設有寬300μm左右，長250mm左右的線性CCD用之觀察窗12a；於該觀察窗12a的長邊方向的中間設有對曝光光線進行遮光的例如寬15μm左右的線狀的遮光圖案12b。而藉由後述的線性CCD 15偵測遮光圖案12b的位置，來用於遮罩12的定位。另外，在本實施形態中，觀察窗12a及遮光圖案12b的位置及形狀，僅為一例，只要能高精度地進行遮罩12的定位，本發明便不限於此等位置及形狀。例如觀察窗12a及遮光圖案12b的位置，亦可設置於並排2列形成的圖案125a之間的區域等，例如亦可設置互相(例如呈N型)交叉的複數道狹縫，來取代遮光圖案12b。

各遮罩12，例如框體120的部分係由遮罩平台17所支撐，藉由遮罩平台17的移動，遮罩12整體係可移動。遮罩平台17，連接至例如如圖5所示的遮罩位置控制部30，藉由遮罩位置控制部30的控制，可令其位置於例如水平方向(膜片的寬度方向，或是膜片的寬度方向及膜片的長邊方向)移動。藉此，可於水平方向調整利用遮罩12的膜片2的曝光位置。遮罩平台17，亦可於例如鉛直方向移動，藉此可調整成膜片2上的例如定向膜材料以既定大小曝光。

膜片運送部，係例如在曝光裝置1外以及曝光裝置1內所設置的例如運送滾輪9等，係藉由馬達等所驅動，將從供給捲筒80捲出的膜片2，藉由其旋轉來運送至曝光裝置1內，然後使在曝光裝置1內曝光過的膜片2移動至捲取捲筒81。

對準用雷射標註器14(對準標誌用光源)，係將曝光光線照射在側部塗布膜22以進行曝光之雷射光源，或是藉著由雷射光的照射所產生的熱來對側部塗布膜22施加標記之雷射光源，係照射例如Nd-YAG(neodymium doped-yttrium aluminum garnet，摻釹-釔鋁石榴石)雷射或紫外光等之雷射光源，例如氙氣閃光燈等。在對準用雷射標註器14為脈衝光源之情形，將曝光光線照射在已於膜片2之側部形成了有色的側部塗布膜22上，藉著由雷射光的照射所產生的熱來對側部塗布膜22施加標記，藉由膜片2的移動使該標記以呈線狀延伸之方式形成，而於側部塗布膜22上以一定間隔形成寬為10至50μm，長為150μm至50mm(最佳的是寬為20μm左右，長為300μm左右)之對準標誌2a。又，在對準用雷射標註器14為射出連續光的光源之情形，係以在側部塗布膜22上往膜片2的移動方向延伸之方式連續地形成對準標誌2a。在本實施形態中，係使用脈衝雷射光源作為對準用雷射標註器14，並對此情形進行說明。由於雷射光的照射，側部塗布膜22的墨水，係藉著由雷射光的照射所產生的熱來施加標記，但不會對膜片2本身造成變質等影響。在本實施形態中，對準用雷射標註器14，係設置成：與在例如膜片2的移動方向上游側的遮罩121、122，於膜片的寬度方向並排；並在與膜片2的移動方向之上游側遮罩121、122的觀察窗12a(及遮光圖案12b)對應之位置，在側部塗布膜22上形成對準標誌2a。在本實施形態中，形成對準標誌2a之區域，係例如從膜片的邊緣部算起25mm以內的區域，在習知技術中是未形成材料膜等而露出了膜片基材20之部分。於對應上游側遮罩121、122的觀察窗12a之位置之膜片的邊緣部上形成對準標誌2a，因此在膜片2的移動方向上游側的各區域A及區域C所形成之圖案，與在膜片2的邊緣部中對準標誌2a之距離，係常為一定間隔。

在本實施形態中，在與膜片2的移動方向之上游側遮罩121、122的位置對應之位置，於膜片的側部塗布膜22所形成的對準標誌2a，係用於偵測膜片2的曲折。亦即，對準標誌偵測部16，在與膜片2的移動方向之下游側的遮罩123、124的位置對應之位置，以與下游側遮罩123、124於膜片2的寬度方向並排之方式，配置於膜片2的上方或下方；並在對應下游側的遮罩123、124的位置之位置，偵測對準標誌2a之位置。對準標誌偵測部16，為例如CCD攝影機，如圖1至圖3所示，於對應例如下游側遮罩123、124的觀察窗12a之位置，偵測對準標誌2a在膜片寬度方向之位置。例如，在膜片2在移動期間往其寬度方向曲折之情形，隨之而來，對準標誌2a亦以相同的曲折量往膜片2的寬度方向偏移，但對準標誌偵測部16可偵測由於曲折而往寬度方向偏移之對準標誌2a的位置。

對準標誌偵測部16，連接至例如如圖5所示的遮罩位置控制部30；而將偵測到的對準標誌2a在膜片寬度方向中之位置傳送至遮罩位置控制部30。遮罩位置控制部30，根據從對準標誌偵測部16傳送來之對準標誌2a的位置，來對膜片的移動方向下游側的遮罩123及124之位置進行調整。亦即，依本實施形態的曝光裝置1，係將對準標誌2a形成，並將其用於偵測膜片2的曲折，因而可藉由偵測到的曲折量來調整下游側遮罩123、124之位置。

圖5係以一例顯示遮罩位置控制部30的構造之圖。如圖5所示，遮罩位置控制部30，連接至例如遮罩平台驅動部、曝光光源11及膜片捲取捲筒81(參照圖9)所設的馬達之控制部。如圖5所示，遮罩位置控制部30，具有：影像處理部31、演算部32、記憶體33、馬達驅動控制部34、光源驅動部35、遮罩平台驅動控制部36、控制部37。

影像處理部31，進行由對準標誌偵測部16(CCD攝影機)所拍攝的對準標誌2a之影像處理，偵測例如對準標誌2a在膜片寬度方向的中心位置。演算部32，演算例如應設定的對準標誌2a的中心位置與實際的對準標誌2a的中心位置之膜片寬度方向的偏移。又，演算部32，亦藉由後述線性CCD15所偵測到之膜片的導入標誌2b的位置與遮罩12上的遮光圖案12b的位置之距離，來演算在曝光開始之際所應設定的遮罩12的位置與實際的遮罩12的位置之膜片寬度方向的偏移。記憶體33，記憶例如影像處理部31所偵測到的對準標誌2a的中心位置及演算部32所演算的偏移量。馬達驅動控制部34，控制例如膜片捲取捲筒81的馬達驅動或停止、或是在驅動之際的旋轉速度。

光源驅動部35，控制曝光光源11的亮燈或是熄燈、輸出、或振盪頻率。遮罩平台驅動控制部36，控制遮罩平台17的驅動，控制例如遮罩平台17的移動方向及移動量。控制部37，控制此等影像處理部31、演算部32、記憶體33、馬達驅動控制部34、光源驅動部35、以及遮罩平台驅動控制部36之驅動。藉此，膜片曝光裝置1，調整例如遮罩12的位置，或切換曝光光源11的曝光光線之照射的ON/OFF，或是可控制於捲取膜片2的捲取捲筒81所設之馬達的旋轉速度等。

因此，在本實施形態中，例如如圖1所示，在由於曲折使對準標誌2a的位置往膜片的寬度方向外側偏移之情形，遮罩位置控制部30，演算其偏移量，使下游側的遮罩123及124的位置，依對準標誌2a之偏移量，移動至膜片的寬度方向外側。即使在對準標誌2a的位置往膜片的寬度方向內側偏移之情形，遮罩位置控制部30，亦演算其偏移量，使下游側的遮罩123及124的位置，依對準標誌2a之偏移量移動至膜片的寬度方向內側。

雷射標註器13，如圖6所示，由構架台13a、運送部13b、以及標記部13c所構成；構架台13a，係以在膜片受供給而來的部分之上方往對於膜片的移動方向垂直的膜片寬度方向延伸之方式配置。運送部13b，係由構架台13a所支撐，且可在構架台13a上沿著其長邊方向移動。又，運送部13b，係藉由未圖示的控制裝置來控制其位置，藉此可調整標記部13c的位置。

標記部13c，係從例如Nd-YAG雷射等雷射光源射出雷射光，如圖6所示，於從膜片供給部供給而來的膜片2之前端部，形成既定形狀例如十字狀的導入標誌2b。標記部13c，係固定於運送部13b，由控制裝置來控制運送部13b的位置，藉此可調整對於膜片2上的導入標誌2b之形成位置。在本實施形態中，如圖7所示，標記部13c，係以分別對應4個遮罩12之方式，於膜片2的前端部以例如一定間隔形成4個導入標誌2b。

如圖8所示，線性CCD 15(膜片導入位置偵測部)，係以在各遮罩12所設的觀察窗12a及遮光圖案12b的下方往膜片2的寬度方向延伸之方式配置；當將膜片2的前端部運送至位於線性CCD 15的上方(線性CCD 15與遮罩12之間)時，偵測於膜片2的前端部形成的導入標誌2b之位置。又，線性CCD 15，將於遮罩12的觀察窗12a的中間所設之遮光圖案12b偵測為遮罩12的實際位置。線性CCD 15，連接至遮罩位置控制部30，並將偵測到的導入標誌2b及遮光圖案12b的位置傳送至遮罩位置控制部30。

遮罩位置控制部30，亦藉由在與從線性CCD 15傳送來的導入標誌2b及遮光圖案12b的位置演算出的膜片面平行之面中兩者之間的距離，來調整最初對膜片進行曝光之際的遮罩12的位置。亦即，於遮罩位置控制部30，儲存有預先以導入標誌2b的位置為基準，所應設定的遮罩(遮光圖案12b)的位置之資料；如圖8所示，遮罩位置控制部30，以藉由線性CCD 15偵測到的導入標誌2b的位置為基準位置，來移動遮罩平台17的位置，直到使藉由偵測到的遮光圖案12b的位置所決定之遮罩位置位於既定位置為止。因此，在本實施形態的曝光裝置中，即使在曝光開始之際，能以在膜片2預先以高精度形成的導入標誌2b的位置為基準，來調整遮罩12的位置，能以高精度決定膜片應曝光之位置。

在本實施形態中，供給至曝光裝置1的膜片2，係於在習知技術中未形成材料膜等而露出了膜片基材20之側部上，形成有側部塗布膜22。而側部塗布膜22，係在藉由塗布裝置塗布了有色油性墨水之後，以乾燥裝置5等使溶媒成分因揮發而消失所形成。由有色墨水或彩色濾光器用的光阻材料等所形成之側部塗布膜22，在照射例如波長為532nm的雷射光之情形，雷射光吸收率為90至98%，相較於膜片基材及定向膜材料(膜片基材及定向膜材料均是雷射光吸收率趨近0%)係非常高；又，藉由來自對準用雷射標註器14的雷射光之照射，容易藉由曝光或雷射加工來進行標記。因此，相較於將雷射光照射在無色透明的膜片基材以進行標記之情形，容易利用雷射光來進行標記，容易形成對準標誌2a。例如，在對膜片基材20進行標記之情形中，例如在所使用的雷射光採用波長為266nm的紫外光之情形，若不將雷射光的照射能量極度增加至例如8J/cm²左右，則難以形成對準標誌2a。又，在對定向材料膜進行雷射標記之情形中，雖然相較於僅有膜片基材20之情形，可將雷射光的照射能量降低，但對準標誌2a周圍的定向材料膜亦為無色透明，因此必須使用例如SEM等昂貴又大型的偵測裝置，而增加了曝光裝置的成本，並使其大型化，以上皆為其問題點。然而，在如本實施形態藉由有色墨水形成側部塗布膜22之情形，例如在所使用的雷射光採用波長為532nm的紫外光之情形，可將雷射光的照射能量降低至例如0.6J/cm²左右。又，例如在以彩色濾光器用的光阻材料形成側部塗布膜22之情形中，可將雷射光的照射能量降低至1.0J/cm²左右。因此，藉由以如上所述的有色材料形成側部塗布膜22，而容易藉由雷射光實行標記，且因為所形成的對準標誌2a的周圍殘留了有色塗布膜，所以在使用CCD攝影機等便宜又小型的偵測裝置之情形，亦可容易且高精度地偵測所形成的對準標誌2a。因此，藉由以高精度形成的對準標誌2a，可偵測膜片2的曲折來高精度地調整遮罩12的位置，因此可穩定地對膜片進行曝光。

又，於膜片2的前端部形成導入標誌2b，藉由此導入標誌2b的位置來調整遮罩12的位置，因此在本實施形態中，將曝光區域分為上游側與下游側之情形，不會因膜片2的皺折及寬度方向的偏移，造成曝光區域重疊，或產生未曝光的區域。而因為遮罩12的初始位置，係以在膜片2的前端所形成的導入標誌2b為基準來決定之，所以除了上游側的圖案之外，亦可高精度地形成下游側的圖案。因此可使膜片穩定來進行曝光。

另外，例如射出曝光光線的曝光光源11與形成對準標誌2a的雷射標註器14，係併用同一雷射光，藉此亦可簡化曝光裝置的構造。

又，在本實施形態中，雖於膜片的前端部形成導入標誌2b，並以線性CCD15偵測之，藉此來調整在曝光開始之際的遮罩12的初始位置，但在本發明中，亦可不設置此類構造。

接著，針對本實施形態的膜片曝光中之動作進行說明。首先，在將膜片2供給至曝光裝置1之前，藉由圖9所示的狹縫式塗布機4，在膜片基材20的中央塗布成為定向膜(曝光材料膜21)之曝光材料。又，藉由在膜片的移動方向之狹縫式塗布機4的上游側或下游側所設(乾燥裝置5的上游側)之塗布裝置，於膜片基材20的兩側邊緣部(從邊緣部算起25mm之區域)至少一方，塗布有色墨水。在塗布墨水時，係例如由氈質的纖維等所形成之塗布部浸滲了墨水，使其與膜片基材20的表面接觸，從而將墨水呈膜狀塗布在膜片基材20的表面。因此，液狀或膏狀的曝光材料及有色墨水係呈膜狀塗布在膜片基材20的表面。

又，將膜片2供給至乾燥裝置5，而對表面的液狀或膏狀的曝光材料及有色塗布膜材料(墨水)，因應各材料的特性來進行乾燥(溶媒成分的揮發)、光硬化、及/或煆燒(烘烤)。藉此於膜片基材20的表面，形成曝光材料膜21(定向材料膜)及側部塗布膜22。亦即，雖於膜片基材20的寬度方向之中央，形成既定的定向材料膜，但於從膜片基材20的邊緣部算起25mm之側部，形成由溶媒成分揮發的墨水所形成之膜，以作為對準標誌形成用的側部塗布膜22。而將形成有該2種膜的膜片2，藉由例如運送滾輪9，從其前端部供給至曝光裝置1內。將供給至曝光裝置1內的膜片2，藉由例如運送滾輪等膜片供給部，從其前端部往雷射標註器13的下方供給。

當將膜片2的前端部供給至雷射標註器13的下方，則暫時停止藉由例如運送滾輪供給膜片2。而藉由控制裝置的控制，使雷射標註器13的運送部13b移動至構架台13a上，藉此將標記部13c運送至既定位置。因此，標記部13c，係配置於在例如4個遮罩12分別設置的觀察窗12a的上游側中任一位置。

當確認了標記部13c的位置，則從標記部13c射出雷射光，在膜片2的前端部形成例如十字狀的導入標誌2b。此時，因為膜片2係處於由膜片供給部側的運送滾輪等所支撐之狀態，所以膜片2的前端部不會振動或產生皺折，能以高精度形成導入標誌2b。若1處的導入標誌2b的形成結束，則控制裝置，使例如運送部13b移動至構架台13a上，藉此使標記部13c移動，然後同樣地照射雷射光，於膜片的前端部形成導入標誌2b。而如圖7所示，當膜片的前端部上4個導入標誌2b的形成結束，則停止雷射標註器13的動作，並再次利用運送滾輪等來運送膜片2。

將膜片2，藉由運送滾輪等的運送，如圖8所示，送達至前端部對應曝光區域A及C來配置的遮罩12(遮罩121、122)的下方。於對應各遮罩12的下方之觀察窗12a(以及遮光圖案12b)之位置，以沿著膜片2的寬度方向延伸之方式配置有線性CCD 15；線性CCD 15，當導入標誌2b運送至位於線性CCD 15的上方時，偵測導入標誌2b的位置。又，線性CCD 15，偵測於遮罩12的觀察窗12a的中間所設之遮光圖案12b之位置。藉此測定導入標誌2b與遮罩12的遮光圖案12b之間的距離。而線性CCD 15，將偵測到的導入標誌2b與遮光圖案12b之間的距離之訊號傳送至遮罩位置控制部30。另外，從利用線性CCD 15的偵測步驟到遮罩位置的調整結束為止，例如先停止例如膜片2的運送。

接著，若從線性CCD 15輸入導入標誌2b與遮光圖案12b之間的距離之訊號，則遮罩位置控制部30，首先對在平行於膜片面的面中兩者之間的距離，與預先儲存的資料(以導入標誌2b的位置為基準之遮罩12應設定的初始位置之資料)進行比較。而使遮罩平台17移動，直到使藉由遮光圖案12b的位置所決定之遮罩位置位於既定的初始位置為止。藉此，在曝光區域A及C中的曝光開始之前，以膜片2為基準，來高精度地決定遮罩12(遮罩121、122)的初始位置。

當上游側的遮罩121、122的初始位置確定，則對於在膜片2的側部所形成的側部塗布膜22，開始利用對準用雷射標註器14照射雷射光，使雷射光所照射的區域曝光來進行標記，或藉著由雷射光的照射所產生的熱來進行標記。此時，側部塗布膜22，亦有以下情形發生：於雷射光所照射的區域，墨水被除去，使膜片基材20露出於標記區域。然而，在本實施形態中，雷射光的照射能量低，不會對膜片基材本身造成變質等影響。又，即使在雷射光的照射能量高之情形，雖會對無色透明的膜片基材20帶來些許傷痕，但已形成該側部塗布膜22之區域，因為是沒有用於顯示裝置的影像顯示區域之區域，所以不會有問題。

由在膜片側部所形成的有色墨水所構成之側部塗布膜，其雷射光吸收率，相較於膜片基材及定向膜材料的光之吸收率係非常高。因此，即使將從對準用雷射標註器14所照射之雷射光的照射能量降低至例如0.6J/cm²左右，照射區域的墨水亦容易藉著由雷射光的照射所產生的熱來進行標記。因此，相較於對無色透明的膜片基材照射雷射光以進行標記之情形，容易形成對準標誌2a，其周圍殘留的塗布膜亦為有色，因此可明確且高精度地形成對準標誌2a。

在本實施形態中，對準用雷射標註器14的位置，係在與膜片2的移動方向之上游側遮罩12(遮罩121、122)的觀察窗12a(以及遮光圖案12b)對應之位置。因此，對準標誌2a，係以對於在膜片2的移動方向之上游側遮罩121、122為一定的相對距離之方式，形成於側部塗布膜22上。

當開始形成對準標誌2a，則在未開始曝光的狀態下，藉由運送滾輪等運送膜片2。如此，如圖2所示，膜片2，藉由運送，其前端部送達至對應下游的曝光區域B及D而配置的遮罩12(遮罩123、124)的下方。於對應各遮罩12的下方之觀察窗12a(以及遮光圖案12b)之位置，與上游側的情形相同，以沿著膜片2的寬度方向延伸之方式配置有線性CCD 15；線性CCD 15，當膜片的前端部運送至位於線性CCD 15的上方(線性CCD 15與遮罩12之間)時，偵測於膜片2的前端部所形成之導入標誌2b的位置。而與上游側的情形相同，線性CCD 15，將於遮罩12的觀察窗12a的中間所設之遮光圖案12b偵測為遮罩12的實際位置，藉此測定導入標誌2b與遮罩12的遮光圖案12b之間的距離。而將偵測到的導入標誌2b與遮光圖案12b之間的距離之訊號傳送至遮罩位置控制部30。另外，從利用對應下游側的遮罩12之位置所設之線性CCD 15的偵測步驟到遮罩位置的調整結束為止，例如先停止例如膜片2的運送。此時，亦可暫時停止對準標誌2a之形成。

若從線性CCD 15輸入導入標誌2b與下游側遮罩12(123、124)的遮光圖案12b之間的距離之訊號，則遮罩位置控制部30，對在平行於膜片面的面中兩者之間的距離，與預先儲存的資料(以導入標誌2b的位置為基準之遮罩12應設定的初始位置之資料)進行比較。而使遮罩平台17移動以調整下游側遮罩12(123、124)之位置，直到使由遮光圖案12b的位置所決定之遮罩位置位於既定的初始位置為止。藉此，在曝光區域B及D的曝光開始之前，以膜片2為基準，來高精度地決定下游側遮罩12(遮罩123、124)的初始位置。

如上，當上游側遮罩121、122及下游側遮罩123、124的初始位置確定，則再次利用運送滾輪等來運送膜片2。而運送膜片2，直到曝光對象部位位於透射各遮罩12之曝光光線的照射區域為止，使來自曝光光源11的曝光光線透射遮罩12，以開始對膜片2進行曝光。藉此，膜片2上的定向膜材料(曝光材料膜21)係因應曝光光線的照射角度而定向於既定的方向。而一面利用運送滾輪等來供給膜片2，一面將從曝光光源11射出的曝光光線連續地照射在膜片上的定向材料膜，以對曝光對象部位進行連續曝光。藉此，膜片2，在曝光區域A及C，形成對應上游側遮罩121、122的圖案2c；在曝光區域B及D，形成對應下游側遮罩123、124的圖案2c，如圖3所示，各圖案2c係沿著膜片2的運送方向形成為條狀。在曝光開始時各遮罩12的位置，係由對於膜片2在一定的位置上所形成之導入標誌2b來調整。因此，上游側的2個遮罩121、122之位置與下游側的2個遮罩123、124之位置，係高精度地設定其對於膜片之相對位置，例如，設定各遮罩位置，以使上游側遮罩121、122的圖案2c與下游側遮罩123、124的圖案2c不會互相重疊，或是相互之間不會形成間隙而鄰接。

藉由運送，在曝光區域A及C所形成的圖案2c，最終會靠近對應下游側遮罩123、124的位置。然而，膜片的移動方向之下游側的遮罩12(123、124)的位置，從上游側之遮罩12(121、122)的位置算起，於膜片的移動方向距離4m左右，因此在對膜片連續進行曝光時，在膜片的移動方向的下游側中，由於膜片2的曲折，使膜片2對於遮罩12(123、124)在其寬度方向產生偏移。因此，由上游側遮罩121、122所形成的圖案2c亦於膜片2的曲折方向產生偏移，而導致將其供給至利用下游側遮罩123、124的曝光區域B、D。

然而，在本實施形態中，在與膜片2的移動方向之下游側遮罩12(遮罩123、124)的觀察窗12a(以及遮光圖案12b)對應之位置，配置有例如CCD攝影機等對準標誌偵測部16；並從膜片2的邊緣部於既定的區域，形成了由有色墨水所形成的膜以作為側部塗布膜22，於該側部塗布膜22，明確且高精度地形成有對準標誌2a。該對準標誌2a，係以對於上游側遮罩121、122，在垂直於膜片的移動方向之寬度方向為一定的相對位置之方式形成。因此，在對應下游側遮罩123、124之位置偵測對準標誌2a，在膜片2的移動方向之下游側中，調整下游側遮罩123、124的位置，以使對準標誌2a與下游側遮罩123、124的距離為一定間隔。亦即，如圖1所示，在例如對準標誌2a的位置往膜片的寬度方向外側偏移之情形，遮罩位置控制部30，使下游側的遮罩123及124的位置，依對準標誌2a之偏移量移動至膜片的寬度方向外側。相反地，即使在對準標誌2a的位置往膜片的寬度方向內側偏移之情形，遮罩位置控制部30，亦使下游側的遮罩123及124的位置，依對準標誌2a偏移的量移動至膜片的寬度方向內側。因此，在本實施形態中，以對準標誌2a為基準來調整下游側遮罩123、124的位置，藉此可相對於由上游側遮罩所形成的圖案2c來高精度地調整利用下游側遮罩的曝光區域。

在本實施形態中，在用於調整遮罩位置的對準標誌2a之周圍，形成有由有色墨水所形成之塗布膜，即使在使用CCD攝影機等便宜又小型的偵測裝置之情形，亦可明確且高精度地偵測對準標誌2a。因此，在本實施形態中，對準標誌2a之偵測係無須使用昂貴又大型的偵測裝置，便可高精度地偵測膜片2的曲折。因此，在本實施形態中，進行連續曝光之際，如圖1所示，即使在膜片2往其寬度方向偏移之情形，亦可修正膜片2的移動方向下游側之遮罩12(123、124)的位置，藉此相對於膜片2的曝光位置不會偏移，可進行穩定的曝光。因此，於膜片2，在藉由曝光區域A及C之間所形成的圖案之間係受藉由曝光區域B所曝光的圖案所埋覆；並以鄰接於藉由曝光區域C所形成的圖案之方式，形成藉由曝光區域D所形成的圖案。而已藉由曝光區域A及C所形成的圖案與藉由曝光區域B及D所形成的圖案，不會重疊或殘留未曝光的部分，而在膜片的整面高精度地形成圖案。

另外，在本實施形態中，在將已捲繞於供給捲筒80的膜片基材20移動至捲取捲筒81之期間，於膜片基材20的表面上形成曝光材料膜21及側部塗布膜22，並將形成有2種材料膜的膜片2供給至曝光裝置，雖說明了以上之情形，但亦可在與曝光裝置的產線不同的產線形成曝光材料膜21及側部塗布膜22。例如，在其他的整捲連續製造之產線中，於膜片基材20的表面上形成曝光材料膜21及側部塗布膜22雙方或任一方，而暫時捲繞於捲取捲筒。在膜片基材20的表面上形成曝光材料膜21及側部塗布膜22任一方之情形，另一方的材料膜之形成，係在與曝光裝置相同的產線進行，或進而在其他的整捲連續製造之產線進行。而將形成有材料膜之膜片2的輥，安裝在曝光裝置1的產線中之供給捲筒80，以將形成有2種材料膜的膜片2供給至曝光裝置1。

又，在本實施形態中，對準標誌2a形成用之雷射標註器14，係設置在與膜片移動方向之上游側遮罩121、122對應之位置上，雖說明了以上的情形，但雷射標註器14，例如亦可設置在較上游側遮罩121、122更靠膜片移動方向的上游。在此情形，只要以對應在膜片2的移動方向之上游側遮罩121、122之位置，而在膜片2的寬度方向與上游側遮罩121、122並排之方式，設置新的對準標誌偵測部16即可。而與下游側相同，只要可藉由新配置的對準標誌偵測部16，在對應上游側遮罩121、122的位置之位置，偵測對準標誌2a的位置即可。

雖然進而說明了在本實施形態中，利用在上游側及下游側分別配置2個遮罩的曝光裝置之曝光方法，但本發明係藉由對準標誌的形成來偵測膜片的曲折以調整遮罩位置，並不因遮罩的數量及配置等而有所限定。

[產業上利用性]

在本發明中，因為供給：於膜片基材的寬度方向之兩側邊緣部至少一方塗布了有色煆燒材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成了雷射光吸收率提升之側部塗布膜之膜片，並對該側部塗布膜照射雷射光以形成對準標誌，所以容易形成對準標誌。因此，本發明，特別是在對膜片進行連續曝光之曝光裝置中，有益於修正膜片的曲折。

1．．．曝光裝置

2．．．膜片

2a．．．對準標誌

2b．．．導入標誌

2c．．．圖案

3．．．前處理部

4．．．狹縫式塗布機

5．．．乾燥裝置

6．．．溫度調節裝置

9．．．滾輪

10．．．平台

11．．．曝光光源

12．．．遮罩

12a．．．觀察窗

12b．．．遮光圖案

13．．．雷射標註器

13a．．．構架台

13b．．．運送部

13c．．．標記部

14．．．對準用雷射標註器

15．．．膜片導入位置偵測部(線性CCD)

16．．．對準標誌偵測部

17．．．遮罩平台

20．．．膜片基材

21．．．曝光材料膜(定向材料膜)

22‧‧‧側部塗布膜

30‧‧‧遮罩位置控制部

31‧‧‧影像處理部

32‧‧‧演算部

33‧‧‧記憶體

34‧‧‧馬達驅動控制部

35‧‧‧光源驅動部

36‧‧‧遮罩平台驅動控制部

37‧‧‧控制部

80‧‧‧供給捲筒

81‧‧‧捲取捲筒

120‧‧‧框體

121‧‧‧第1遮罩

122‧‧‧第2遮罩

123‧‧‧第3遮罩

124‧‧‧第4遮罩

125‧‧‧圖案形成部

125a‧‧‧(遮罩)圖案

A、B、C、D‧‧‧曝光區域

圖1係顯示在依本發明的實施形態的膜片曝光裝置中，藉由對準標誌來修正膜片的寬度方向偏移之圖。

圖2係顯示在依本發明的實施形態的膜片曝光裝置中，膜片的運送所伴隨之導入標誌的移動之圖。

圖3係顯示在依本發明的實施形態的膜片曝光裝置中，由上游側遮罩所形成的圖案與由下游側遮罩所形成的圖案之相對關係位置之圖。

圖4係顯示在依本發明的實施形態的膜片曝光裝置中，遮罩的平面圖。

圖5係以一例顯示遮罩位置的控制部之圖。

圖6係以一例顯示導入標誌形成部之圖。

圖7係顯示在依本發明的實施形態的膜片曝光裝置中，利用上游側的遮罩之曝光步驟之圖。

圖8係顯示在依本發明的實施形態的膜片曝光裝置中，藉由導入標誌修正遮罩位置之圖。

圖9係顯示整捲連續製造方式的膜片製造產線的一例之圖。

圖10係以一例顯示定向分割方式的曝光裝置之立體圖。

圖11係以一例顯示在膜片移動方向配置了複數道光源的構造之曝光裝置之圖。

2a．．．對準標誌

12．．．遮罩

12a．．．觀察窗

12b．．．遮光圖案

14．．．對準用雷射標註器

16．．．對準標誌偵測部

20．．．膜片基材

21．．．曝光材料膜

22．．．側部塗布膜

123．．．第3遮罩

Claims

一種膜片曝光方法，係對於在膜片基材上的曝光形成用區域形成有曝光材料膜之膜片的該曝光材料膜，透過遮罩來照射曝光光線，藉此將該遮罩的圖案曝光在該曝光材料膜上；該膜片曝光方法之特徵在於：該遮罩係分別配置在該膜片的移動方向之上游側及下游側，在該膜片的移動方向之上游側及下游側，將該上游側遮罩與下游側遮罩的圖案分別曝光在該曝光材料膜上；對於該膜片基材的寬度方向之兩側邊緣部中至少一方，供給塗布了有色煆燒材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成有側部塗布膜之膜片，並對該側部塗布膜照射對準標誌用雷射光以形成對準標誌，而使用該對準標誌來偵測膜片曲折，以調整該遮罩的位置時，在與該膜片的移動方向之該上游側遮罩的位置對應之位置，於該側部塗布膜上形成該對準標誌，並在與該膜片的移動方向之該下游側遮罩的位置對應之位置，偵測該對準標誌，藉此而偵測在該膜片從利用該上游側遮罩的曝光區域移動至利用該下游側遮罩的曝光區域為止所產生之膜片曲折，依因為該膜片曲折而偏移的量來修正該下游側遮罩對於該膜片之相對位置。
如申請專利範圍第1項之膜片曝光方法，其中，在將已捲繞於供給捲筒的膜片基材從該供給捲筒移動至捲取捲筒之期間，進行該對準標誌用雷射光之照射前，於該膜片基材上形成該曝光材料膜及/或該側部塗布膜。